(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、
複数の励起エネルギー光を発生して標的部材上の複数箇所に照射する励起エネルギー光発生部と、
前記複数の励起エネルギー光の照射を複数箇所で受けることにより複数のＸ線源が形成される標的部材と、
前記複数のＸ線源からのＸ線を被照明物に照射する照明光学系とを備えた照明装置において、
前記複数のＸ線源が曲面上に配列され、
前記曲面の形状と前記Ｘ線源の配列が前記被照明物上での開口数が照明位置によらず等しくなるように設定されていることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記曲面が円筒面であることを特徴とする請求項１に記載の
照明装置。
【請求項３】
前記標的部材はその形態がテープ状であり、前記曲面に沿って設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記標的部材はその形態が粒子状であり、複数の標的部材が前記曲面を形成することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明装置。
【請求項５】
前記標的部材が液体又は気体であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被照明物体を照明する照明装置（例えば露光装置用）に関するものであり、特に、Ｘ線光学系等のミラープロジェクション方式によりフォトマスク（マスク又はレチクル）上の回路パターンを、反射型の結像装置を介してウエハ等の基板上に転写する装置である軟Ｘ線投影露光装置用に用いて好適な照明装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造用の露光装置は、物体面としてのフォトマスク（以下、マスクと称する）面上に形成された回路パターンを結像装置を介してウエハ等の基板上に投影転写するものである。
【０００３】
基板にはレジストが塗布されており、露光することによってレジストが感光し、レジストパターンが得られる。所望の面積にレジストパターンを得るためには、マスクを均一な光強度と均一な広がり角の光で照明しなければならない。従って、かかる露光装置の照明装置は、この条件を満たすためにケーラー照明光学系を採用してきた。
【０００４】
また、露光光がＸ線の場合、その結像装置は反射鏡で構成され、結像光学系の軸外にある円弧状の良像領域のみが利用されて、マスク上の円弧領域のみがウエハ上に投影転写される。従って、マスク全体の回路パターンのウエハ上への転写は、マスクとウエハを一定方向に走査することにより行われている。
【０００５】
この種の露光においては、マスク上の円弧領域全体を、均一で、しかも一定の開口数で照明できる照明光学系が望まれており、本願出願人と同一人により出願された特開平７−２３５４７１号公報には、マスクを円弧状に均一照明できる照明光学系が開示されている。
【０００６】
この特開平７−２３５４７１号公報に開示されている光学系を、図６及び図７に示す。光源（又は光源像）１１０から射出したＸ線１２０（１２１、１２２）は特殊反射鏡１３０で反射されて、マスク上の円弧領域１４０に照射される。
【０００７】
前記光源を形成する方法の例として、本願出願人と同一人により出願された特開平８−１４８４１４号公報には、照明強度が高い照明装置が提案されている。これは、図８に示すように、励起エネルギー光発生部１０１、標的部材１０３、及び照明光学系１０４を主要構成部として構成される。
【０００８】
励起エネルギー光発生部１０１から射出した励起エネルギー光１０２は標的部材１０３上の異なる複数の箇所に照射される。励起エネルギー光１０２が照射された標的部材上の複数の箇所からはＸ線１２０がそれぞれ発生し、複数のＸ線源１１０が形成される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図９に示すごとく、光源１１０から射出するＸ線１２１、１２２について、サジタル方向（紙面方向）での平行光束に着目すると、射出角が０度の時の平行光束１２１の径がＰ（０）＝ｑであるとき、射出角がθの時の平行光束１２２の径はＰ（θ）＝ｑＣＯＳθとなり、射出角θが大きくなるに従い紙面方向の光束径Ｐ（θ）が小さくなる。
【００１０】
従って、射出角が０度の時の平行光束１２１の断面は、例えば図１０（ａ）に示すごとく、ほぼ円形状となっているのに対し、射出角がθの時の平行光束１２２の断面は、図１０（ｂ）に示す如く、図９の紙面と垂直な方向（メリジオナル方向）ではＰ（０）の長径を有し、図９の紙面方向（サジタル方向）ではＰ（θ）の短径を有する楕円形状となる。
【００１１】
この結果、図１１に示すように、射出角が０度の平行光束１２１が特殊反射鏡１３０により集光作用を受けたときの集光光束１２４の集光状態は、被照射面上に形成される円弧照明領域ＢＦ内の集光点ｐ１に対して常に等しい角度を張りながら円錐状に集光されるのに対し、射出角がθの平行光束１２２が特殊反射鏡１３０により集光作用を受けたときの集光光束１２５は、被照射面上の円弧照明領域ＢＦ内の集光点ｐ２に楕円錘状に集光される。
【００１２】
このため、集光点ｐ２の半径方向Ｒでは集光点ｐ２に対する集光光束の張る角度は、上記平行光束１２１の集光光束と等しくなるが、集光点ｐ２の接線方向Ｔでは集光点ｐ２に対する集光光束の張る角度は、集光点ｐ２の半径方向Ｒの場合よりも小さくなる（ＣＯＳθ倍となる）という問題点がある。また、この問題点はサジタル方向に対して射出角θが大きい平行光束について顕著となる。
【００１３】
このような、断面形状の異なる平行光束を集光する照明装置で被照明物体を照明し、さらにその像を結像装置で結像させると、一般に、その解像度は像面内で不均一になる。これは、被照明物体の一部が結像光学系の要求する開口数を満たさない条件で照明されるために生じる。
【００１４】
このような問題を解決する方法として、特開平６−２６７８９４号公報には、、新たに再結像光学系を設ける方法が開示されている。しかし、この光学系は複数個のレンズで構成されるため、レンズが使用できないＸ線領域では役にたたない。また、この光学系を全て反射鏡で構成したとしても、反射鏡は複数個必要となる為、反射後に得られるＸ線光量は極めて小さくなってしまう。
【００１５】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、従来よりも格段に照明効率が高く、円弧状に形成される照明領域でのＸ線の開口数が照明位置によらずほぼ一様となる高性能な照明装置を提供することを目的としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための第１の手段は、少なくとも、励起エネルギー光を発生して標的部材上の複数箇所に照射する励起エネルギー光発生部と、前記励起エネルギー光の照射を複数箇所で受けることにより複数のＸ線源が形成される標的部材と、前記複数のＸ線源からのＸ線を被照明物に照射する照明光学系とを備えた照明装置において、前記複数のＸ線源が曲面上に配列されていることを特徴とする照明装置（請求項１）である。
【００１７】
この装置においては、複数のＸ線源が曲面上に配列されているので、円弧状に形成される照明領域での開口数が照明位置によらずほぼ一様となる。よって、被照明物体の一部が結像光学系の要求する開口数を満たさないようなことが発生せず、解像度が像面内で不均一になることがない。
【００１８】
前記課題を解決するための第２の手段は、第１の手段において、前記曲面が円筒面である照明装置（請求項２）である。
【００１９】
円筒面は製作しやすく、また、容易に、円弧状に形成される照明領域でのＸ線の開口数が照明位置によらずほぼ一様となるようにすることができる。
【００２０】
前記課題を解決するための第３の手段は、第１の手段又は第２の手段において、標的部材の形態がテープ状であり、前記曲面に沿って設けられている照明装置（請求項３）である。
【００２１】
このようにすれば、円弧状に形成される照明領域での開口数が照明位置によらずほぼ一様となることに加えて、標的部材の消耗度に合わせてテープ状の標的部材を移動させ、新しい部分で励起エネルギー光を受けることができ、照明装置を長時間使用することができる。
【００２２】
前記課題を解決するための第４の手段は、第１の手段又は第２の手段において、粒子状の標的部材が使用され、複数の標的部材が曲面を形成するように構成されている照明装置（請求項４）である。
【００２３】
このようにすれば、円弧状に形成される照明領域での開口数が照明位置によらずほぼ一様となることに加えて、標的部材を連続的に供給できる上に、標的部材からの飛散物の量を少なくすることができる。
【００２４】
前記課題を解決するための第５の手段は、第１の手段又は第２の手段において、標的部材が液体又は気体である照明装置（請求項５）である。
【００２５】
ここにおいて、「液体又は気体である」とは、常温、常圧で液体又は気体であることをいい、標的部材として使用される時点では、それぞれ固体、液体となっていることもありうる。
【００２６】
これにより、円弧状に形成される照明領域での開口数が照明位置によらずほぼ一様となることに加えて、飛散物の発生を少なくすることができる。
【００２７】
【発明実施の形態】
以下、本発明の実施の形態の例を図を用いて説明する。
図１は、本発明の実施の形態にかかる照明装置の一例を示す概略構成図である。当該照明装置は、少なくとも励起エネルギー光発生部１と標的部材２と照明光学系３で構成される。励起エネルギー光発生部１から射出した励起エネルギー光５は、標的部材２上の異なる複数の箇所に照射される。励起エネルギー光５を照射した部分からはＸ線が発生するため、Ｘ線７は標的部材２上の複数箇所から発生する。すなわち、Ｘ線光源は微小な複数の光源６から構成される。光源６から射出したＸ線７は、照明光学系３を透過した後、Ｘ線８としてマスク４上に照射される。
【００２８】
図２は、図１における標的部材２付近を拡大した図である。複数の光源６（６１〜６６）を曲面上に配列することで、Ｘ線７（７１〜７３）の光束の幅を制御することができる。例えば、光束７１は光源６１と光源６４及びその間に存在する光源６２と光源６３を含む光源（光源６２と光源６３以外は不図示）から射出するＸ線で構成され、光束７２は光源６２と光源６５及びその間に存在する光源６３と光源６４を含む光源（光源６３と光源６４以外は不図示）から射出するＸ線で構成され、光束７３は光源６３と光源６６及びその間に存在する光源６４と光源６５を含む光源（光源６４と光源６５以外は不図示）から射出するＸ線で構成される。
【００２９】
このようにすることで、光束７１のサジタル方向の幅ｐ１は光源６１と光源６４の間隔により決まり、光束７２のサジタル方向の幅ｐ２は光源６２と光源６５の間隔により決まり、光束７３のサジタル方向の幅ｐ３は光源６３と光源６６の間隔により決まる。従って、光源を所望の曲面上に形成することで、照明光学系に向かって射出するＸ線の光束の幅を所望の幅にすることができる。
【００３０】
この曲面は、マスク４上に照射するＸ線８が、マスクを略均一な開口数で照明するような形状にすることが好ましい。
【００３１】
特に照明光学系として図６及び７に示すような光学系を用いる場合は、前記曲面の形状を円筒形状とすることが好ましい。このようにすることで、光源から射出したＸ線は、その光束の幅が全て等しくなり、円弧照明領域１４０を、均一な開口数で照明することができる。
【００３２】
図２を用いて説明すると、標的部材２の表面が円筒面であり、従って光源６１〜６６が円筒面上に配列されている場合は、光源６１と光源６４の間隔、光源６２と光源６５の間隔、光源６３と光源６６の間隔は、円筒形状の断面形状である円形の直径に等しくなるため、平行光束７１、平行光束７２及び平行光束７３は同じ幅の光束を形成する。つまり各平行光束の幅が等しく（又はほぼ等しく）なるような曲面の形状となっている。
【００３３】
よって、図１１において円弧照明領域ＢＦに集光されるＸ線は、どの部分においても集光点に対して常に等しい角度を張りながら円錐状に集光されるので、照明領域での開口数が照明位置によらず等しくなる。
【００３４】
Ｘ線源が形成される標的部材は、例えば図３に示すような曲面形状を有する固体部材２１でよい。複数の光源６が配列される形状は、標的部材２１の表面形状で決めることができる。所望の曲面形状を有する標的部材２１を用意すればよいため、光源６が配列される曲面形状の制御は容易である。
【００３５】
Ｘ線源を長時間使用するような場合、標的部材が消耗するため、新しい部材を供給できることが好ましい。図４に示すように、テープ状の標的部材２２を、曲面に沿って移動可能に設けることにより、標的部材を連続的に供給できる。テープ状標的部材２２は、例えば所望の表面形状を有する基板２３に押しつけたり巻きつけることで、所望の曲面形状を容易に作り出すことができる。
【００３６】
また、標的部材としては図５に示すように粒子状の標的部材２４を用いてもよい。粒子状標的部材２４は、標的部材供給部（例えばノズル）２５で供給し、粒子状標的部材２４を所望の曲面状に配列させればよい。粒子状標的部材２４の位置は、例えばノズル位置、ノズルから粒子を射出する角度、粒子の射出速度等で制御することができるため、Ｘ線源を所望の曲面形状に配置することは容易である。この方法の場合、標的部材を連続的に供給できる上に、標的部材からの飛散物の量を低く抑えることができるという利点もある。
【００３７】
また、励起エネルギー光発生部１としてパルスレーザを用い、Ｘ線をパルス的に発生させる場合には、ノズル２５からの粒子状標的部材２４の供給とパルスレーザ光の発生タイミングを同期させることにより、断続的に供給される粒子状標的部材２４にパルスレーザ光を照射してＸ線を発生させることができる。
【００３８】
照明光学系３は、マスク４を均一な強度且つ均一な広がり角のＸ線で照明するものが好ましい。特に、標的部材２を照明光学系３の前焦点位置付近に配置するのが好ましい。このとき、各Ｘ線源６から射出したＸ線７は、照明光学系３を通過した後、平行光等に変換されて、マスク４に照射される。さらに、各光源６から射出したＸ線７はマスク４上に異なる角度で照射される。従って、マスク４はケーラー照明、あるいはケーラー照明に類似した形態で照明される。
【００３９】
また、照明光学系３は、反射鏡で構成することが好ましく、さらに反射鏡表面には反射率を増大させるための多層膜を設けることが好ましい。
【００４０】
既に述べたように、励起エネルギー光５は標的部材２の複数箇所に照射され、各箇所からＸ線７が発生する。このとき、励起エネルギー光５の照射は、すべての箇所を同時に照射してもよいし、別々あるいは順次に照射してもよい。
【００４１】
照射する場所は、照明光学系に要求される仕様（例えば、マスクを照明するＸ線の強度や広がり角、及びこれらの均一性など）に基づいて考えればよい。
【００４２】
従来の露光装置のように、マスクを一括で照明するときは、微小光源が二次元的に配列するようにすればよい。また、軟Ｘ線露光装置の場合、結像光学系の設計上の制限で、輪帯状あるいは帯状の視野を走査して露光する場合がある。このときは、特開平７−２３５４７０号公報に記載されているように、臨界−ケーラー照明することが好ましく、微小光源を一次元的に配列すればよい。すなわち、標的部材２を一次元的に配列するか、面状に配列された標的部材２を一次元的（線状）の励起エネルギー光で照射すればよい。
【００４３】
標的部材２の複数箇所に励起エネルギー光を照射するための励起エネルギー光発生部としては、励起エネルギー光導波経路を変化させることができる励起エネルギー光発生源、励起エネルギー光を複数の標的エネルギー光に分割することができる励起エネルギー光発生源、又は複数の励起エネルギー光発生源等を有する励起エネルギー光発生部を用いることが好ましい。
【００４４】
励起エネルギー光の導波経路を光学素子を動かすことで変化させる場合は、例えば、光学素子を振動させればよい。
【００４５】
励起エネルギー光を複数の励起エネルギー光に分割する場合は、例えばビームスプリッター等のレーザー光学素子を用いればよい。また、レーザー光を複数のレーザー光に分割する他の例として、マイクロレンズアレイ等の光学素子を用いればよい。
【００４６】
微小光源から射出するＸ線の強度は、主にレーザー光の強度により決まる。従って、微小光源の強度は、各レーザー光の強度を制御することで、自由に調整することが可能である。
【００４７】
レーザー光の発生源を複数用いる場合は、個々のレーザー光を別々のレーザー光源で供給するため、レーザー光の強度を大きくすることが可能である。従って、微小光源から発生するＸ線の強度を大きくできるという特徴を有する。つまり、軟Ｘ線縮小露光装置のスループットを大きくしたければ、この方法を採用するとよい。
【００４８】
以上は、レーザー光発生源について説明したが、これらは代表的な例であり、光学的な配置等は既に示したものに限らない。レーザー光の導波経路を変えたりレーザー光を分割するときは、光学素子が必要になる場合があるが、これが、レーザー光の強度を低減させることはない。一般に、レーザー用光学素子のレーザー光の反射率及び透過率はほぼ１００％だからである。従って、各Ｘ線源６からは高強度のＸ線が射出される。
【００４９】
標的部材２の材料は、発生させるＸ線により異なり、Ｘ線の発生効率が高い材料を使うことが好ましい。例えば波長１３ｎｍのＸ線を発生させるためには錫、アンチモン、鉛、タングステン、タンタル、金などが好ましい。
【００５０】
また、融点が低い材料や常温で液体または気体である材料を用いてもよい。これらは冷却等して固化したもの、又は凝結したものを用いてもよいし、液体又は気体のまま用いてもよい。この場合、飛散物（デブリ）の発生を低く抑えることができるため好ましい。
【００５１】
励起エネルギー光５を標的部材２に照射して軟Ｘ線を発生させる場合、レーザープラズマＸ線源を用いることが好ましい。これは、励起エネルギー光としてレーザー光を用いたもので、高強度の軟Ｘ線を発生させることができる。
【００５２】
さらに、レーザー光としては高強度レーザーが好ましく、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、ガラスレーザー、チタンサファイヤレーザーなどの各レーザー光が高強度の各Ｘ線源を得る上で好ましい。
【００５３】
また、ターゲットに照射する励起エネルギー光はレーザー光に限らない。電子線等のように軟Ｘ線を発生できるものであればよい。軟Ｘ線光学系は、Ｘ線の空気等による吸収が大きいため、真空中に置かれることが多い。従って、照射装置に電子線を用いることは容易である。
【００５４】
本発明による照明装置は、Ｘ線用のインテグレータを使わずに、従来の照明装置の二次光源に相当する光源を形成できるうえに、光源から射出する光束の幅を制御できる点が優れてる。
【００５５】
レーザー光は、光学系による強度の損失が極めて小さいため、高強度のＸ線光源を得ることが可能であり、さらに本発明の装置によれば、マスク上の各照明点を所望の開口数で照明することができる。従って、本発明による照明装置を用いることにより、高強度で、均一な照明光を供給することが可能であり、高スループットで大面積を露光できる軟Ｘ線露光装置を提供することができる。
【００５６】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５７】
【実施例】
＜第一実施例＞
図１及び２は、本実施例の照明装置の概略構成図及びその光源付近の拡大図である。
当該照明装置は励起エネルギー光発生部１と標的部材２と照明光学系３を主要構成部として構成される。
励起エネルギー光発生部１からは複数の励起エネルギー光５が射出されて、標的部材２上の異なる複数の箇所に照射される。励起エネルギー光５にはＹＡＧレーザー光を用い、ビームスプリッタ（不図示）により複数のレーザー光に分割した。
【００５８】
標的部材２は円筒形状とし、材料には錫を用いた。励起エネルギー光５を照射した部分からは、少なくとも波長１３ｎｍのＸ線が発生し、Ｘ線７は標的部材２上の複数箇所から発生する。このようにして、円筒面上に配列した微小な複数の光源６を構成した。
【００５９】
Ｘ線光源から射出したＸ線７は照明光学系３を経て、Ｘ線８としてマスク４に照射される。照明光学系３は表面にＭｏ／Ｓｉ多層膜を備えた反射鏡で構成され、波長１３ｎｍ付近のＸ線を反射する。
【００６０】
このＸ線により、マスク４上の一部を長さ１２０ｍｍ、幅５ｍｍの領域に亙って円弧状に照射した。このとき、標的部材２を照明光学系３の前焦点位置付近に配置することにより、マスク４はケーラー照明される。
【００６１】
この結果、マスク４上の円弧状の照明領域全面を均一な開口数で照明することができた。また、本発明による照明装置を備えた露光装置でレジストを露光したところ、露光領域全面にわたって、所望の形状のレジストパターンを得ることができた。一方、従来の照明装置を備えた露光装置では、露光領域の一部で所望の形状のレジストパターンが得られなかった。
【００６２】
＜第二実施例＞
図１及び２は、本実施例の照明装置の概略構成図及びその光源付近の拡大図である。
該照明装置は励起エネルギー光発生部１と標的部材２と照明光学系３を主要構成部として構成される。
励起エネルギー光発生部１からは複数の励起エネルギー光５が射出されて、標的部材２上の異なる複数の箇所に照射される。励起エネルギー光５にはＹＡＧレーザー光を用い、ビームスプリッタ（不図示）により複数のレーザー光に分割した。
【００６３】
標的部材は図４の２２に示すようなテープ状の薄板とし、材料にはタングステンを用いた。テープ状標的部材２２は円筒形状の基板２３に巻き付けて、その表面形状が円筒形状の一部を形成するようにした。さらに、テープ状標的部材２２はその長手方向に位置をずらすことにより、連続的に供給できるようにした。励起エネルギー光５を照射した部分からは、少なくとも波長１３ｎｍのＸ線が発生し、Ｘ線７はテープ状標的部材２２上の複数箇所から発生する。このようにして、円筒面上に配列した微小な複数の光源６を構成した。
【００６４】
Ｘ線光源から射出したＸ線７は照明光学系３を経て、Ｘ線８としてマスク４に照射される。照明光学系３は表面にＭｏ／Ｓｉ多層膜を備えた反射鏡で構成され、波長１３ｎｍ付近のＸ線を反射する。
【００６５】
このＸ線により、マスク４上の一部を長さ１２０ｍｍ、幅５ｍｍの領域に亙って円弧状に照射した。このとき、テープ状標的部材２２を照明光学系３の前焦点位置付近に配置することにより、マスク４はケーラー照明される。
【００６６】
この結果、マスク４上の円弧状の照明領域全面を均一な開口数で照明することができた。また、本発明による照明装置を備えた露光装置でレジストを露光したところ、露光領域全面にわたって、所望の形状のレジストパターンを得ることができた。一方、従来の照明装置を備えた露光装置では、露光領域の一部で所望の形状のレジストパターンが得られなかった。
【００６７】
＜第三実施例＞
図１及び２は、本実施例の照明装置の概略構成図及びその光源付近の拡大図である。
該照明装置は励起エネルギー光発生部１と標的部材２と照明光学系３を主要構成部として構成される。
励起エネルギー光発生部１からは複数の励起エネルギー光５が射出されて、標的部材２上の異なる複数の箇所に照射される。励起エネルギー光５にはＹＡＧレーザー光を用い、ビームスプリッタ（不図示）により複数のレーザー光に分割した。
【００６８】
標的部材は図５の２４に示すように直径１００μｍ程度の氷の粒子とした。粒子状標的部材２４はノズル２５から供給し、複数の氷の粒子により円筒面が形成されるようにした。粒子に励起エネルギー光５を照射すると、少なくとも波長１３ｎｍのＸ線が発生し、Ｘ線７は粒子状標的部材２４上の複数箇所から発生する。このようにして、円筒面上に配列した微小な複数の光源６を構成した。
【００６９】
Ｘ線光源から射出したＸ線７は照明光学系３を経て、Ｘ線８としてマスク４に照射される。照明光学系３は表面にＭｏ／Ｓｉ多層膜を備えた反射鏡で構成され、波長１３ｎｍ付近のＸ線を反射する。
【００７０】
このＸ線により、マスク４上の一部を長さ１２０ｍｍ、幅５ｍｍの領域に亙って円弧状に照射した。このとき、標的部材２を照明光学系３の前焦点位置付近に配置することにより、マスク４はケーラー照明される。
【００７１】
この結果、マスク４上の円弧状の照明領域全面を均一な開口数で照明することができた。また、本発明による照明装置を備えた露光装置でレジストを露光したところ、露光領域全面にわたって、所望の形状のレジストパターンを得ることができた。一方、従来の照明装置を備えた露光装置では、露光領域の一部で所望の形状のレジストパターンが得られなかった。
【００７２】
以上の実施例は、本発明の例であり、本発明を限定するものではない。本実施例では、標的部材に氷の粒子を用いたが、これに限らず、ノズルからガスを噴出させて、噴出したガスか或いは断熱膨張により生じたクラスターを標的部材として用いてもよい。微小光源の個数や配置も本実施例に示されたものに限らず、一次元的に配列した光源も容易に作り出せ、本発明に使用できることは言うまでもない。従って、本発明は臨界−ケーラー照明にも適応できる。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明した如く、本発明によれば、少なくとも、励起エネルギー光を発生して標的部材上の複数箇所に照射する励起エネルギー光発生部と、前記励起エネルギー光の照射を複数箇所で受けることにより複数のＸ線源が形成される標的部材と、前記複数のＸ線源からのＸ線を被照明物に照射する照明光学系とを備えた照明装置において、前記複数のＸ線源が曲面上に配列されているので、高い照明効率かつ均一な開口数で、被照射面をケーラー照明することができる。つまり、被照射面を均一な強度且つ均一な広がりを有するＸ線で照明することができる。
【００７４】
また、本発明の照明装置は、従来の照明装置の二次光源に相当する光源を、Ｘ線用のインテグレータを用いずに形成することができるため、従来のものに比べてＸ線の通過率（使用効率）が高く、さらにその作製が容易であるという利点を有する。これにより、高いスループットで、マスクのパターンを忠実に基板上に転写することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例である照明装置の概略図である。
【図２】図１に示す照明装置の光源付近の構造を示す拡大図である。
【図３】本発明による照明装置に用いられる標的部材の一例を示す概略図である。
【図４】本発明による照明装置に用いられる標的部材の他の例を示す概略図である。
【図５】本発明による照明装置に用いられる標的部材の第３の例を示す概略図である。
【図６】本発明の実施の形態である照明装置の光学系の一例を示す概略図であり、光源と特殊反射鏡及び被照射面のメリジオナル方向の断面図である。
【図７】本発明の実施の形態である照明装置の光学系の一例を示す概略図であり、光源と特殊反射鏡及び被照射面の斜視図である。
【図８】従来の照明装置の概略図である。
【図９】従来の照明装置の一部を示す図であり、光源と光源から照明光学系に向かうＸ線のサジタル方向の部分断面図である。
【図１０】従来の照明装置に於ける平行光束の断面を示す図であり、（ａ）は光源から０度の射出角で射出する平行光束の断面図、（ｂ）光源からθの射出角で射出する平行光束の断面図である。
【図１１】従来の照明装置において、被照明面上に集光される光束の様子を示す説明図である。
【符号の説明】
１．．．励起エネルギー光発生部（励起エネルギー光照射装置）
２．．．標的部材
２１．．．表面が曲面形状の標的部材
２２．．．テープ状標的部材
２３．．．標的部材の基板
２４．．．粒子状標的部材
２５．．．標的部材供給部（例えばノズル）
３．．．照明光学系
４．．．被照射物（例えばマスク）
５．．．励起エネルギー光（例えばレーザー光）
６、６１、６２、６３、６４、６５、６６．．．微小な光源（二次光源、各Ｘ線源）
７、８．．．Ｘ線
７１、７２、７３．．．Ｘ線（平行光束）
１０１．．．励起エネルギー光発生部
１０２．．．励起エネルギー光
１０３．．．標的部材
１０４．．．照明光学系
１０５．．．被照射物
１１０．．．Ｘ線源（光源）
１２０、１２３．．．Ｘ線
１２１、１２２．．．Ｘ線（平行光束）
１２４、１２５．．．Ｘ線（集光光束）
１３０．．．特殊反射鏡
１４０．．．マスク上の円弧領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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