(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、式（１）で表わされるフッ素系シラン化合物層を設けてなるシリコーン系粘着剤保護用離形フィルム。
【化１】
ＣＦ３(ＣＦ２)ｎＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ(ＯＸ)３      （１）
（上記式中、Ｘは低級アルキル基、ｎは０〜１０の数を表わす。）
【請求項２】
式（１）中のＸがメチル基またはエチル基、かつｎが０〜７の数である請求項１記載の離形フィルム。
【請求項３】
ポリエステルフィルムが、ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムである請求項１記載の離形フィルム。
【請求項４】
ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムである請求項１記載の離形フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、離形フィルムに関し、さらに詳しくはシリコーン粘着剤層を保護し、離型層を形成する硬化物が粘着剤層へ転写されることがなく、かつ良好な離形性を有する離形フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
耐熱性工業用テープとして、フッ素系基材にシリコーン系粘着剤を組合せたものが上市されている。かかるテープは、フッ素系基材自体にシリコーン系粘着剤に対する離形性があるため離形剤を新たにコーティングすることが不要な簡便な理想的な粘着テープである。しかし、フッ素系基材が高価であり汎用的ではない。
【０００３】
フッ素系基材に代えて、従来から知られている安価なフィルム（例えば、ポリエステルフィルム）を基材に使用することが試みられている。しかし、これらのフィルムの多くはフィルム自身に離形性がないために、シリコーン系粘着剤に対する離型層を新たに設ける必要がある。さらに、一般的に広く用いられている硬化型シリコーン離形剤は、シリコーン系粘着剤に対して効果がない。非シリコーン系離形剤としてワックス、ポリビニルカーバメイト等が知られているが良好な剥離特性が得られない問題がある。
【０００４】
近年、シリコーン系粘着剤に対し優れた剥離特性を示すフッ素含有シリコーン離形剤が適用されつつあるがコストが高い欠点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を改良し、シリコーン系粘着剤に対し適度の力で剥離が可能でかつ安価なシリコーン系粘着剤保護用離形フィルムを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、式（１）で表わされるフッ素系シラン化合物層を設けてなるシリコーン系粘着剤保護用離形フィルムである。
【０００７】
【化２】
ＣＦ3(ＣＦ2)nＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＸ)3      （１）
（上記式中、Ｘは低級アルキル基、ｎは０〜１０の数を表わす。）
【０００８】
本発明の離形フィルムの基材フィルムには、ポリエステルフィルムを使用する。透明性が要求される用途には透明性の良好なポリエステルフィルムを用いることが好ましく、特に二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましい。また、遮光性が要求される用途には無機顔料を配合したポリエステルフィルムを用いることが好ましく、特にＴｉＯ2、ＳｉＯ2の如き顔料を配合した二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましい。
【０００９】
かかるポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸成分とジオール成分とからなる結晶性の線状飽和ポリエステルであって、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等が例示される。これらの中、ポリエチレン−２，６−ナフタレートまたはポリエチレンテレフタレートが好ましく、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが特に好ましい。
また、ポリエステルには、上記以外の改良剤を配合することもできる。
【００１０】
本発明において用いられるポリエステルフィルムは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、二軸延伸ポリエステルフィルムは、ポリエステルを乾燥後、Ｔｍ〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｍ：ポリエステルの融点）で押出機にて溶融し、ダイ（例えばＴ−ダイ、Ｉ−ダイ等）から回転冷却ドラム上に押出し、４０〜９０℃で急冷して未延伸フィルムを製造し、ついで該未延伸フィルムを（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で縦方向に２．５〜８．０倍の倍率で延伸し、横方向２．５〜８．０倍の倍率で延伸し、必要に応じて１８０〜２５０℃の温度で１〜６０秒間熱固定することにより製造できる。フィルムの厚みは５〜２５０μｍの範囲が好ましい。
【００１１】
かかるポリエステルフィルムの少なくとも片面に、フッ素系シラン化合物層を設ける。
フッ素系シラン化合物としては、下記式（１）で表わされる化合物である。
【００１２】
【化３】
ＣＦ3(ＣＦ2)nＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＸ)3      （１）
（上記式中、Ｘは低級アルキル基、ｎは０〜１０の数を表わす。）
【００１３】
式（１）中、Ｘがメチル基またはエチル基であることが好ましく、ｎが０〜７であることが好ましい。
【００１４】
かかるフッ素系シラン化合物を、数％のアルコール（例えばメタノール、エタノール）で希釈した塗液を、乾燥後の塗膜厚みが０．０１〜０．２μｍの範囲になる量基材フィルム表面に塗布する。
【００１５】
乾燥後の塗膜厚みが０．０１μｍ未満であると有効な剥離特性が示せない。他方、０．２μｍを超えると離形フィルムの耐ブロッキング性が低下する。
【００１６】
本発明においてはポリエステルフィルムの少なくとも片面に、フッ素系シラン化合物からなる離形層を設けるが、ポリエステルフィルムと離型層の接着性を高めるため、両者の間にアンカーコート層を設けることができる。
【００１７】
かかるアンカーコート層としては、（１）シランカップリング剤層、（２）ＳｉＯX蒸着層、あるいは（３）ＳｉＯX湿式膜を好ましく用いることができる。
【００１８】
（１）シランカップリング剤としては、一般式Ｙ−Ｓｉ−Ｘ3で示されるものを挙げることができる。ここで、Ｙはアミノ基、エポキシ基、ビニル基、メタクリル基、またはメルカプト基等で代表される官能基、Ｘはアルコキシ基で代表される加水分解性の官能基を示す。アンカーコート層の厚みは０．０１〜５μｍの範囲が好ましく、０．０２〜２μｍの範囲であることが特に好ましい。アンカーコート層の厚みが上記の範囲内であると、フッ素系シラン化合物層とポリエステルフィルムの密着性が良好となり、またアンカーコート層を設けたフィルムがブロッキングし難いためフィルムを取り扱う際に支障が生じ難い利点がある。
【００１９】
（２）ＳｉＯX蒸着層をポリエステルフィルム表面に設ける方法としては、ＳｉＯを蒸着源とした真空蒸着法、ＳｉＯ2基板をターゲットに用いたスパッター法、あるいはオルガノシロキサンを出発原料としたプラズマＣＶＤ法などが挙げられる。これらの方法の中、ＳｉＯを蒸着源とした真空蒸着法がコスト面で優れるので好ましい。
【００２０】
また、ＳｉＯX層の形成は、単独の方法で実施してもよいし、２種以上の方法を併用して実施してもよい。
【００２１】
かかるＳｉＯX層の厚みは、４０〜１００ｎｍの範囲が好ましく、５０〜８０ｎｍの範囲がさらに好ましい。厚みが４０ｎｍ未満であると効果が低く、他方、１００ｎｍを超えるとＳｉＯX層の剛性が増し、離形フィルムを屈曲した際、ポリエステルフィルムから剥離しやすくなる。
【００２２】
（３）ＳｉＯX湿式膜をポリエステルフィルム表面に設ける方法としては、Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)4のアルコール溶液を塗布・乾燥させる方法、あるいはポリシラザンの有機溶剤溶液を塗布・乾燥させる方法などが挙げられる。
【００２３】
前述のフッ素系シラン化合物層、およびアンカーコート層（シランカップリング剤層またはＳｉＯX湿式膜層）をポリエステルフィルム表面に形成させる方法としては、任意の公知の方法を用いることができる。例えば、各々の化合物を含む塗液を調製し、ポリエステルフィルム表面に塗布・乾燥する方法が好ましく挙げられる。この場合の塗布方法としてはバーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法またはグラビアロールコート法等の従来から知られている方法が利用できる。
【００２４】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳述する。なお、実施例中に「部」とあるのは「重量部」を示す。また、本発明における物性値及び特性値は、下記の方法にて測定した。
【００２５】
１．剥離強度
フィルムの離形層面にポリエステル粘着テープ（ニットー３３６）を貼り合わせ、５ｋｇの圧着ローラーで圧着し２０時間放置後、離形層と粘着テープとの剥離力を引張り試験機にて測定した。
【００２６】
２．残存接着率
ポリエステル粘着テープ（ニットー３１Ｂ）をＪＩＳ  Ｇ４３０５に規定する冷間圧延ステンレス板（ＳＵＳ３０４）に貼り付けた後の剥離力を測定し、基礎接着力（ｆ0）とした。また、前記ポリエステル粘着テープをサンプルフィルムの離形層塗設面に貼り合わせ、５ｋｇの圧着ローラーで圧着し３０秒間放置した後粘着テープを剥がした。そして、この剥がした粘着テープを上記のステンレス板に貼り、該貼合部の剥離力を測定し残留接着力（ｆ）とした。得られた基礎接着力と残留接着力とから下記式を用いて残留接着率を求めた。
【００２７】
【数１】
残留接着率（％）＝（ｆ／ｆ0）×１００
【００２８】
［実施例１］
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール７０部、エステル交換触媒として酢酸カルシウム１水塩０．０２８部及び酢酸マグネシウム４水塩０．０４３部を反応器に仕込み、内温を１４５℃から徐々に上げながらエステル交換反応を行った。なお、エステル交換反応時の内温が１９０℃になった時点で平均粒径０．１μｍの二酸化ケイ素の１０ｗｔ％エチレングリコールスラリー０．０３部を添加した。エステル交換反応率が９５％となった時点で、安定剤としてトリメチルフォスフェート０．０１４部を添加し、さらに重合触媒としてテトラブチルチタネート０．０３部を添加した。次いで、反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９０℃）にて重縮合反応を行い、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートを得た。このポリエチレンテレフタレートを常法に従って溶融押出し、急冷して厚さ１３８μｍの未延伸フィルムを作成し、次いで該未延伸フィルムを縦方向に９０℃で３．４倍、横方向に１２０℃で４．０倍の逐次二軸延伸を行い、さらに２２０℃で３０秒間熱固定を行って、厚さ２５μｍの二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを作成した。
【００２９】
この二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に高周波誘導加熱法を用いて、ＳｉＯXを蒸着した。水晶振動子により該層厚を測定したところ７０ｎｍであった。
【００３０】
このＳｉＯX層の表面に、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（東芝シリコーン（株）製、ＴＳＬ８２３３）のメタノール２％溶液を塗布量（ｗｅｔ）８ｇ／ｍ2で塗布し、１３０℃、１分間の条件で乾燥、硬化処理して離形フィルムを得た。この離形フィルムの特性を表１に示す。
【００３１】
［実施例２］
ポリエチレンテレフタレートの代わりに、固有粘度０．６２のポリエチレン−２，６−ナフタレートを用いるほかは実施例１と同じ方法で離形フィルムを作成した。この離形フィルムの特性を表１に示す。
【００３２】
［実施例３］
ＳｉＯX層を設けない以外は実施例１と同じ方法で離形フィルムを作成した。この離形フィルムの特性を表１に示す。
【００３３】
［比較例１］
ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン層を設ける代わりに、ポリジメチルシロキサンとジメチルハイドロジェンシランの混合溶液に白金触媒を加えて付加反応させるタイプの硬化型シリコーン（信越シリコーン（株）製ＫＳ−８４７（Ｈ））をメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びトルエンの混合溶剤中に溶解させたシリコーン樹脂塗液を塗布量（ｗｅｔ）８ｇ／ｍ2で塗布し、１３０℃、３０秒の条件で乾燥、硬化処理して塗膜厚み０．２４μｍの離形フィルムを得た。この離形フィルムの特性を表１に示す。
【００３４】
［比較例２］
実施例３においてヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン層を設ける代わりに、比較例１と同じ硬化型シリコーンを設けた。この離形フィルムの特性を表１に示す。
【００３５】
【表１】
0003833353.tif 000002
【００３６】
【発明の効果】
本発明によれば、シリコーン系粘着剤層に対し、適度の力で剥離が可能でかつ安価な離形フィルムを得ることができる。この離形フィルムはシリコーン系粘着剤を用いた工業用テープの離形フィルムとして極めて有用である。