(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に液晶を挟持し、各基板の対向面にはそれぞれ電極が形成され、一方の前記基板の前記対向面には、前記電極とは別の層からなり、かつ、金属膜から成る反射層が配設されている半透過反射型の液晶装置であって、
前記電極同士が対向してなる複数の画素を有し、
前記反射層は前記画素間に設けられるとともに、前記反射層の縁部が前記画素の周縁部より内側に設けられ、
前記画素間における前記反射層の上に遮光層が形成される
ことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記遮光層の縁部は、前記画素の周縁部より外側に位置するとともに互いに重ならないように配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記一方の前記基板の前記反対側には光源が配設されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記電極の一方はマトリクス状に配設された複数の画素電極から成ることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記反射層の反射率は８５％以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記反射層はアルミニウム、銀又はこれらの合金から成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の液晶装置。
【請求項７】
前記一方の基板における電極と反射層の間には、カラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶装置。
【請求項８】
前記カラーフィルタ層は、各画素に対応して配設された着色層と、各画素間に配設された遮光層と、からなることを特徴とする請求項７記載の液晶装置。
【請求項９】
前記カラーフィルタ層の前記着色層の各々が、前記画素間で重なり部分を有し、前記重なり部分が前記遮光層となることを特徴とする請求項８記載の液晶装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置及びこれを用いた電子機器に関するものであり、より詳しくは、反射型表示と透過型表示の機能を兼ね備えた液晶装置に関するものである。
【０００２】
【背景技術】
液晶表示装置は、互いに対向する一対の基板間に液晶を配して成る非発光形のディスプレイであり、液晶の配向状態に応じて液晶を通過する光を変調させて表示を行うものである。かかる液晶表示装置の表示方式としては、透過型と反射型のものが知られている。
【０００３】
このうち、図１２に示す透過型の表示方式は、基板２２０と対向基板２４０との対向面にそれぞれＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極２８０、２８０を配設し、液晶２６０における液晶分子の配向状態を制御することで、基板２２０の外側に設けた光源（バックライト）４００から照射された光を、液晶２６０で変調することによって画像表示を行うようになっている。一方、図１３に示す反射型の表示方式は、例えば基板２２０の外側に光反射性を有する反射金属膜３００を設け、対向基板２４０側から入射した外部光４２０を、液晶２６０を介して当該金属膜３００で反射させて入射側へ戻った光を、液晶２６０で変調することにより画像を表示する。そして、上記した反射型の場合、透過型のようなバックライト等の光源を設けなくとも、蛍光灯や自然光等の外部光により表示を行うことができ、消費電力の点で有利であるので、携帯型表示機器等への使用が広く行われている。
【０００４】
ところが、反射型の液晶表示装置においては、外部光がほとんどない場合に表示が困難になるという問題がある。このようなことから、近年、反射型と透過型を兼ね備えた表示方式も提案されており、外部光に応じて反射型と透過型のいずれかの表示方式に切り替えることにより、消費電力を低減しつつ、周囲が暗い場合でも明瞭な表示を行うことができるようになっている。
【０００５】
かかる反射・透過型の液晶表示装置としては、特開平７−２９４８９６号公報に記載の技術が知られている。この液晶表示装置は、図１４に示すように各基板２２０Ａ、２４０Ａの対向面にそれぞれ透明電極２８０Ａ、２８０Ｂを設け、さらに、基板２２０Ａの外側に半透過反射板６２０とバックライト５００を配設することにより、反射・透過の兼用表示が可能となっている。また、対向基板２４０Ａ側の透明電極２８０Ｂはマトリクス状の画素電極となっていて、各画素電極の間には拡散反射膜６００が配設されている。
【０００６】
そして、透過表示時には、バックライト５００からの光は、上下の電極２８０Ｂ、２８０Ａで挟まれた画像表示領域Ｄ１０から透過光Ｐ１０として出射され、一方で領域Ｄ２０における透過光Ｐ２０は拡散反射膜６００で反射され、外部へ漏れないようになっている。つまり、透過表示時には拡散反射膜６００がブラックマスクとなるので、高コントラストの画像を得ることができる。
また、反射表示時には、外部光４２０は表示領域Ｄ１０に入射し、半透過反射板６２０で反射されて反射光Ｒ１０として出射される。さらに、領域Ｄ２０に入射された光も反射膜６００で反射され、反射光Ｒ２０として出射される。つまり、反射表示時には、拡散反射膜６００からの反射光により光量が増えるので、反射表示を明るくすることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
図１４に記載したように基板の外側に半透過反射板を設ける外部反射型の液晶装置では、半透過反射板と、透過表示時の遮光層として機能する拡散反射層がそれぞれ別々の構成となっている。さらに、図１４に記載した拡散反射層６００は、反射表示時の明るさを向上させることができるものの、反射表示時にはブラックマスクとなる部分がないので、そのため反射表示時のコントラストの低下は避けられない。
【０００８】
本発明は、上述した課題を解決するためのもので、まず第１に、半透過反射型の液晶装置であって、反射層を、液晶層を挟持する一対の基板のうち、一方の基板の他方の基板と対向する面（液晶層側の面）に配設することにより、透過表示用に別途ブラックマスクを設けることなく、透過表示時にはこの反射層がブラックマスクの機能を兼ねるようにし、透過表示時のコントラスト向上を図ることのできる半透過反射型を提供することを第１の目的とする。
【０００９】
さらに、反射表示時も明瞭な表示を行うことができる液晶装置を提供することを第２の目的とする。
【００１０】
そして、本発明の液晶装置を用いた電子機器の提供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の液晶装置は、一対の基板間に液晶を挟持し、各基板の対向面にはそれぞれ電極が形成され、一方の前記基板の前記対向面には、前記電極とは別の層からなり、かつ、金属膜から成る反射層が配設されている半透過反射型の液晶装置であって、前記電極同士が対向してなる複数の画素を有し、前記反射層は前記画素間に設けられるとともに、前記反射層の周縁部が前記画素の周縁部より内側に設けられ、
前記反射層の上に遮光層が形成されることを特徴とする。
【００１２】
このような構成によれば、半透過反射の液晶装置において、反射層が透過表示時の遮光層として機能させることができるので、透過表示時用に別途遮光層を設けることなく、透過表示時に高コントラストを達成することができる。
【００１３】
前記遮光層の周縁部は、前記画素の周縁部より外側に位置するとともに互いに重ならないように配置されることを特徴とする。
また、本発明においては、前記一方の基板の外側に光源が配設されていることが好ましい。
【００１４】
そして、前記電極の一方はマトリクス状に配設された複数の画素電極から成り、かつ、前記窓の周縁部は各画素電極の周縁部より内側に位置していることが好ましい。
【００１５】
さらに、前記各画素電極の周縁部より外側における前記一方の基板には、遮光層が形成されていることが好ましい。
【００１６】
前記窓は、前記各画素電極に対してそれぞれ１つ以上設けられていることが好ましい。
【００１７】
本発明においては、前記窓の総面積は、全画素面積に対して１０〜６０％の割合になっていることが好ましい。
【００１８】
また、前記反射層の反射率は８５％以上であることが好ましい。
【００１９】
そして、前記反射層はアルミニウム、銀又はこれらの合金から成ることが好ましい。
【００２０】
さらに、前記一方の基板における電極と反射層の間には、カラーフィルタ層が形成されていることが好ましい。
【００２１】
本発明の電子機器は、前記液晶表示装置を備えたことを特徴とする。
【００２２】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態に係る液晶装置について、図１、図２に基づいて説明する。
【００２３】
なお、本発明における「液晶装置」とは、少なくとも一対の基板間に液晶を有し、各基板の対向面にはそれぞれ電極を備え、さらに後述する反射層を備えたものをいうが、電極の種類、形状等については制限はなく、液晶表示の方式（アクティブマトリクス型、あるいはパッシブマトリクス型等）に応じて適宜電極を配設すればよい。又、アクティブマトリクス型の液晶装置の場合、画素制御用の素子についても制限はなく、液晶装置の動作方式（ＴＦＴ（Thin Film Transistor)方式、ＴＦＤ(Thin Film Diode)方式等）に応じて適宜素子を配設すればよい。その他のカラーフィルタ等についても、必要に応じて基板上に配設する。
【００２４】
図１に示すように、本発明の液晶装置５０は、アクティブマトリクス型のＴＦＤ（Thin Film Diode）液晶装置をなし、一方の基板８と他方の基板３８が所定の間隔で対向配置され、各基板８、３８は、その対向面間に図示しない液晶層を介在させている。ここで、他方の基板３８は素子基板となっていて、ガラス等から成る透明な基板３０の下面（対向面）にマトリクス状に例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極から成る複数の画素電極３２、及び該画素電極３２を制御するためのＴＦＤ３６が設けられている。各画素電極３２は、略矩形状に形成され、そのうち一の隅部のＴＦＤ素子３６が配設される部分は切欠部となっている。ＴＦＤ３６は、各列あるいは各行毎、データ線あるいは走査線となる配線３４に接続される。そして、信号線と、基板８側に設けられる対向電極２２（配線３４がデータ線の場合には走査電極、配線３４が走査線の場合にはデータ電極となる。）とに印加された信号に基づいて、各画素に対応する液晶の配向状態を表示状態、非表示状態またはその中間状態に切り替えて表示動作の制御を行うことができるようになっている。
【００２５】
また、一方の基板８はカラーフィルタ基板になっていて、ガラス等から成る透明な基板２上に金属膜から成る反射層４が、シール材内部の画素領域ほぼ全面にわたって形成されている。そして、反射層４の上には、ＲＧＢそれぞれの着色層１４、１２、１０を有するカラーフィルタ層、及び、ＩＴＯなどの透明な材料から成り、基板３８側の信号電極の延在する方向と直交する方向に延在し、走査線あるいはデータ線となるストライプ状の対向電極２２が形成されている。各画素電極３２と各対向電極が交差する部分が、各画素（ドット）を構成している。
【００２６】
また、  各着色層１０、１２、１４は、他方の基板３８の画素電極３２と対向する位置、すなわち、各画素に対応して、マトリクス状に配設され、青色の着色層（図示「Ｂ」）１０、緑色の着色層（図示「Ｇ」）１２、赤色の着色層（図示「Ｒ」）１４から構成されている。
【００２７】
さらに、各着色層１０、１２、１４の中心付近、すなわち、各画素の中心付近において、反射層４は矩形状の小さな窓４ａを有している。一方の基板８の外側には、光源（バックライト）７０が配設され、光源から放たれた光は、基板８の対向面とは反対側（外側）の面から基板８に入射し、さらに、他方の基板３８側へ透過するようになっている。つまり、この液晶装置５０では、各画素周縁部では反射層４による反射表示を行い、その中心部の窓４ａの部分では透過表示を行うようになっている。
ここで、各着色層は光の３原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を構成しているので、いずれかの方向において、Ｒ、Ｇ、Ｂが交互に配設されていることが好ましい。例えばこの実施形態ではカラーフィルタ側基板８の左から右（ＡからＡ’）へ向かってB、Ｇ、Rが交互に配設されているが、これと直角な方向にＲ、Ｇ、Ｂが交互に配設されていてもよい。また、着色層１０、１２、１４は、各画素毎にそれぞれ離間配置され、各着色層の間（他方の基板３８の画素電極３２が形成されていない領域）には、反射表示時に遮光層として機能する遮光層６が形成され、各着色層１０、１２、１４と遮光層６とからカラーフィルター層を構成している。カラーフィルタ層の上に、図示しない保護層２０を形成し、該保護層の上に対向電極２２を形成する。
【００２８】
ここで、反射層４となる金属膜としては特に制限はないが、例えばアルミニウム、銀、あるいはこれらの合金（例えばアルミニウム−パラジウム−銅合金、銀ーパラジウム−銅合金）等の高反射率の材料を用いることができる。特に、反射層４の反射率が８５％以上、より好ましくは９０％以上になっていることが好ましい。さらに、反射層４の表面に膜厚８０ｎｍ程度の透明なシリコン酸化膜やシリコン窒化膜を設け、カラーフィルタ層との密着性を向上させることもできる。カラーフィルタ層の各着色層１０、１２、１４および遮光層６は、例えば染色法や顔料分散法によって製造することができる。
【００２９】
上記した液晶装置５０の断面構造は、図２に示すようになっている。
【００３０】
この図において、窓４ａの周縁部は、各画素電極３２の周縁部３２ａより内側、すなわち、各画素より内側に位置している。また、遮光層６は、基板２上に形成された反射層４の上に形成されることとなる。そして、遮光層６の周縁部６ａは、各画素電極３２の周縁部３２ａより若干外側に位置し、互いに重ならない状態で配置される。よって、周縁部６ａと周縁部３２ａとの間には、対向する画素電極が存在しない状態で反射層４が形成されている（図示領域Ｄ４）。そして、カラーフィルタ層上に、例えばアクリル系樹脂から成る保護層２０を介して対向電極２２が形成されている。
【００３１】
このように、反射層４と対向電極２２とを別の層から構成することにより、反射層４の窓４ａの大きさは、液晶駆動領域に関係なく設定することができる。従って、反射層４の窓４ａの開口率を変化させることにより、反射表示と透過表示とで画像表示領域の大きさを変化させることができるので、反射表示に重きをおくか、あるいは、透過表示に重きをおくか、によって、開口率を自由に設定することができる。
【００３２】
以下、反射表示と透過表示に分けて説明する。
【００３３】
まず、反射表示は以下のようにして行われる。他方の基板３８の外側から入射した外部光８０は、液晶層４０を経て対向電極２２の下に位置する反射層４の上面で反射し、各画素に対応する液晶の配向状態により変調され、他方の基板３８側に出射して画像表示される。そして、１つの画素について、正味の反射時の画像表示領域は、画素電極３２と反射層４で挟まれた部分（図示領域Ｄ１）となっている。、反射層４の形成領域のうち、画素電極３２と対向電極２２が重ならない部分（図示領域Ｄ４＋Ｄ３）は液晶が駆動しない非駆動領域となるが、遮光層６（図示領域Ｄ３）では入射光８０が反射されないので、黒表示がなされて、反射時のコントラストを向上させることが可能となる。
【００３４】
次に、透過表示は以下のように行われる。まず、光源（バックライト）７０から放たれ、基板２を通って反射層４に到達した光７０ａは、窓４ａからのみ透過し、窓４ａに対応する部分の液晶４０で変調され、他方の基板３８に出射し、画像表示される。そして、１つの画素について、正味の透過時の画像表示領域は、画素電極３２と窓４ａで挟まれた部分（図示領域Ｄ２）となっている。これに対し、金属膜である反射層４は光をほとんど透過させないため、窓４ａ以外の部分では、光７０ａは反射層４の下面で基板２側へ反射し、他方の基板３８に到達することができない。つまり、窓４ａ以外の部分では光漏れを生じることなく確実な黒表示がなされ、反射層４が遮光機能を有し、透過表示時のコントラストを向上させることができる。
【００３５】
本実施例の半透過反射型の液晶装置によれば、透過表示時に反射層４が遮光機能を兼ねるので、透過表示用に、別途窓４ａ以外の部分を遮光する層を設けることなく、半透過表示の高コントラストを得ることができる。
【００３６】
さらに、本実施例の半透過反射型の液晶装置では、上述したように、各基板に配設された液晶を駆動するための電極３２、２２の面積は反射射表示と透過表示とで一定なので、各表示毎に液晶層の駆動領域／非駆動領域が変化することはない。しかしながら、上記したように、反射層に形成された窓が反射表示時には非表示部となり、透過表示時には表示部に転化することにより、反射表示と透過表示とで画像表示領域の大きさを変化させることができる。すなわち、液晶の配向状態によるオン、オフ比を充分にとりながら、所望の窓の面積を設定することができる。
【００３７】
すなわち、上記反射層は電極とは別に形成され、電極としての機能を有していないので、この反射層に形成させる窓の開口面積を自由に調整し、例えば窓の開口面積を相対的に小さくすれば、反射モードで明るい表示を行なうことができ、窓の開口面積を相対的に大きくすれば、透過モードで明るい表示を行うことができる。つまり、液晶装置の用途等に応じて、反射表示と透過表示とで画像表示領域の大きさを任意に設定することができる。ここで、反射表示と透過表示の双方を適切に行うためには、窓４ａの総面積（各窓の開口面積の総和）が総画素面積に対して１０〜６０％の割合になっていることが好ましい。窓４ａの総面積が１０％未満である場合は、透過表示時の明るさが不充分になるおそれがあり、６０％を超えると、反射表示時の明るさが不充分になるおそれがあるからである。
【００３８】
また、反射表示時のコントラストをそれほど必要としない場合には、各画素電極３２の間（周縁部より外側）に、必ずしも遮光層６を形成する必要はない。遮光層６がある場合には、遮光層を形成すると他方の基板３８側からの入射光がこの部分で吸収され、漏れ光として反射されることがないので、反射表示時のコントラストをより向上させることができる。なお、上記した実施形態において、遮光層６は、基材となるフォトレジストに、光の３原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）をなす各色素とカーボンブラック等の黒色粒子を含有して成るが、例えば、各着色層１０、１２、１４を遮光層の形成領域に延設させ、各着色層を重ねることにより遮光層とすることもできる。このように、各着色層を重ねて、この重ね部分で遮光層を構成する場合には、反射表示時用の遮光層形成工程を省略、すなわち、遮光層６を形成する工程を省略できる。この場合、透過表示用には反射層４が遮光の機能を有するので、透過表示用の遮光層を形成する必要もなく、また、反射表示用の遮光層を形成する必要もなくなる。すなわち、簡易なプロセスかつ簡単な構造で、反射表示時にも透過表示時にも、コントラストを向上させることができる。本発明の液晶装置は、例えば図３〜図５に示すようにして製造することができる。なお、図３〜図５は、各工程における液晶装置５０の各層を、図２と同様に図１のＡ−Ａ’断面に対応させて示す工程図である。なお、以下の説明で「反射層４の上に形成する」という場合、この反射層４には窓４ａが含まれていてもよいこととする。
【００３９】
まず、石英やガラスなどから成り、表面にアルミニウム膜（膜厚約１００〜２００ｎｍ）から成る反射層４が形成された基板２を用意する。基板２の他方の基板３０と対向する対向面のうち、少なくとも反射層４が形成される基板表面は複数の凹凸を有する散乱面であることが好ましい。反射層４は、例えばスパッタリングによって形成することができる。そして、例えば、所定のレジストをマスクとし、反射層４の一部をエッチング除去することにより、反射層４の所定位置に窓４ａを形成する。なお、基板２の表面に例えばシリコン酸化膜等から成る下地保護層を予め形成しておいてもよい。
【００４０】
そして、図３（１）に示すように、窓４ａを含む反射層４の表面に、青色、赤色、緑色の各顔料及びカーボンブラックを分散させた黒色のフォトレジスト（感光性樹脂）を塗布し、遮光層形成用膜１０６を形成する。
【００４１】
次に、図３（２）に示すように、この遮光層形成用膜１０６上に所定のマスク１８０ａを配設して露光を行い、未露光部のレジストをアルカリ等で除去してパターニングを行う。そして、残った膜を適宜焼成することにより、図３（３）に示す遮光層６を形成する。
【００４２】
次に、図３（４）に示すように、遮光層６の上及び表出した反射層４（窓４ａを含む）の上に、青色の着色層形成用膜１１０を形成する。膜１１０としては、所定のフォトレジストに青色顔料を分散させたものを用いることができる。また、以下の緑色及び赤色の着色層形成用膜は、上記した青色顔料に代えて、それぞれ緑色及び赤色の顔料をフォトレジストに分散させたものを用いればよい。
【００４３】
そして、所定のマスクを用いて青色の着色層形成用膜１１０を露光・現像・パターニングし、図４（５）に示す青色の着色層１０を形成する。次に、図４（６）に示すように、青色の着色層１０の上、遮光層６の上及び表出した反射層４（窓４ａを含む）の上に、緑色の着色層形成用膜１１２を形成し、所定のマスクを用いて露光・現像・パターニングを行い、図４（７）に示す緑色の着色層１２を形成する。以下、同様にして、図４（８）に示す赤色の着色層１４を形成する。
【００４４】
さらに、図５（９）に示すように、各着色層１０、１２、１４、及び遮光層６の上に、アクリル系樹脂から成る保護層２０（膜厚約１〜４μｍ）を形成し、その上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）から成るストライプ状の対向電極２２（膜厚約１００〜３００ｎｍ）を形成することにより、一方の基板８が製造される。これらに加えて、一方の基板８の表面に適宜配向膜を形成してもよい。なお、上記した例では、青色の着色層、緑色の着色層、赤色の着色層の順に形成したが、各着色層の形成順序は特に制限されることはない。
【００４５】
なお、一方の基板８に対向配置される他方の基板３８については工程図を省略するが、概略以下のようにして製造することができる。まず、ガラス等の所定の基板３０の表面に例えばタンタル膜をスパッタリングし、熱酸化させて酸化タンタルから成る下地膜を形成する。そして、その上に、タングステンを含むタンタルを成膜し、所定のパターニングを行って、タンタルによる配線３４及び該配線３４から直角方向に延設されてＴＦＤを構成する片状部を形成した後、この配線３４と片状部を酸化させてこれらの表面に絶縁膜を形成する。そして、該絶縁膜の上にクロム等から成る導電膜をスパッタリングにより成膜して、適宜パターニングすることにより、片状部と交差する導電膜を形成する。この片状部、絶縁膜、及び導電膜からＴＦＤ３６が構成される。さらに、前記導電膜と一部重なるようにしてＩＴＯから成る画素電極３２をマトリクス状に形成し、基板３８を製造する。このとき、配線３４が、タンタル、クロム、ＩＴＯが積層されたものとしてもよい。
【００４６】
そして、各基板８、３８を所定のスペーサ、シール材を介して対向配置して、圧着するとともに、シール材で囲まれたギャップに、シール開口部から液晶を注入し、最後に開口部を封止する。なお、各基板８、３８の間隔は、シール材に含まれるグラスファイバ、及びシール材の内側に配置されるビーズ状スペーサによって、例えば５μｍ程度に規定されている。さらに、走査信号やデータ信号を供給する駆動回路を適宜各基板８、３８に実装し、所定のバックライト７０を装着することにより、液晶装置５０とすることができる。本実施形態では、バックライトを簡略な構成で示したが、液晶パネルの大きさに応じた面状光源とすることが好ましい。
【００４７】
図６では、本実施形態１による透過表示を主体とする半透過反射型液晶装置５０Ａを示す。一方の基板８Ａにおける窓４ｂを遮光層６Ａの周縁部に沿うように開口させ、窓の開口面積を大きくとっている。このようにすると、透過表示時の画像表示領域の割合が大きくなり、透過表示時の明瞭な画像表示を行うことができる。なお、この液晶装置５０Ａの場合、他方の基板３８については、前記図１に示した実施形態と同じものが用いられる。
【００４８】
（第２の実施形態）
上記第１の実施形態形態では、一方の基板側でなく、他方の基板側に画素電極とその制御素子が設けられた場合について説明したが、第２の実施形態として、反射層が配設される基板側に、画素電極とこれを駆動する素子が形成される場合について説明する。
【００４９】
図７では、ＴＦＴ駆動型の液晶装置５０Ｂを説明する。
【００５０】
この図において、ＴＦＴ型の液晶装置５０Ｂは、一方の基板８Ｂ及び他方の基板３８Ｂを備え、各基板８Ｂ、３８Ｂの間には液晶４０が介在されている。そして、他方の基板３８Ｂの表面（下面）の全体には、ＩＴＯから成る対向電極２２Ｂが設けられている。
【００５１】
一方、素子基板である一方の基板８Ｂは以下のように構成されている。まず、基板２の表面には、後述する画素電極３２Ｂに対応する位置にマトリクス状に反射層４Ｂが複数個形成され、各反射層４Ｂの中央部分には矩形状の窓４ｄが形成されている。又、反射層４Ｂの縦の辺（図の紙面手前から奥の方向）に沿って走査線３４Ｂが延設され、反射層４Ｂの横の辺（図の左右方向）に沿ってデータ線２４が延設されている。さらに、反射層４Ｂに隣接して各画素電極３２Ｂを制御するＴＦＴ３６Ｂが配設されている。ＴＦＴ３６Ｂは、その一端部が走査線３４Ｂに接続され、他端部はスルーホール３３を介して画素電極３２Ｂに接続され、データ線２４から延びる片状部がＴＦＴ３６Ｂの上に形成されている。そして、データ線２４に供給されるデータ信号によりＴＦＴ３６Ｂのオン・オフ動作が行われ、走査線３４Ｂから画素電極３２Ｂへ供給される画像信号が制御されている。
【００５２】
そして、反射層４Ｂの上には各着色層１０Ｂ、１２Ｂ、１４Ｂからなるカラーフィルタ層が形成され、基板２における反射層４Ｂ以外の部分（ＴＦＴ３６Ｂの上を含む）には、各着色層１０Ｂ、１２Ｂ、１４Ｂを重ねて形成され、遮光層６Ｂが形成されている。さらに、各着色層１０Ｂ、１２Ｂ、１４Ｂ、及び遮光層６Ｂの上には保護層２０Ｂが形成され、その上には、各反射層４Ｂに対応した位置にＩＴＯから成る画素電極３２Ｂがマトリクス状に形成されている。
【００５３】
本実施形態でも第１の実施形態で述べたように、透過表示時には、反射層が遮光としての機能を有するので、透過表示用に遮光層を別途設けることなく、透過表示時のコントラストの向上を図ることができる。さらに、カラーフィルタ層では、各着色層を重ねた部分で反射時用に遮光層を形成しているので、別途遮光層を設けることなく、反射表示時のコントラスト向上を図ることができる。
【００５４】
（第３の実施形態）
次に第３の実施形態を図８に基づいて説明する。第３の実施形態が第１の実施形態と異なる点は、カラーフィルター層が遮光層６を有していない点、画素以外の部分（画素電極が存在しない部分に対応する一方の基板８ｃの位置）で、反射層が形成されない点である。その他の点では、第１の実施形態と同様であるので、液晶装置、液晶装置液晶装置自体及び他方の基板３８についての説明を省略する。
【００５５】
図８において、液晶装置５０Ｃを構成する一方の基板８Ｃは、以下のようになっている。まず、基板２上には、他方の基板３８の画素電極３２に対応する位置にマトリクス状に反射層４Ｃが形成され、各反射層４Ｃの中央部分には矩形状の窓４ｅが形成されている。そして、各反射層４Ｃの上に各カラーフィルタ層１０Ｃ、１２Ｃ、１４Ｃがそれぞれ形成され、各カラーフィルタ層の周縁部は反射層４Ｃの端縁部を覆っている。そして、各カラーフィルタ層及び基板２の上に保護層２０Ｃが形成され、その上に短冊状のデータ線（電極）２２Ｃが形成されている。ここで、この液晶装置８Ｃには遮光層が形成されていないが、各反射層４Ｃの間では入射光が反射することがないので、この部分は反射表示時に遮光機能を有する部分となる。すなわち、反射表示時には、各画素間の反射層開口部全体を遮光部分として機能させることができる。従って、実施形態１の液晶装置と同様に、透過表示時には、反射層を遮光機能を有する膜とすることができるとともに、反射表示時には、各画素間の反射層が形成されない部分を遮光部分として機能させるので、別途遮光層を設けることなく、透過時と反射時双方でコントラストを向上させることができる。
【００５６】
［電子機器］
以下、本発明の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
【００５７】
図９は、携帯電話の一例を示した斜視図である。
【００５８】
図９において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。
【００５９】
図１０は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。
【００６０】
図１０において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。
【００６１】
図１１は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。
【００６２】
図１１において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。
【００６３】
図９ないし図１１に示す電子機器は、上記の液晶装置を用いた液晶表示部を備えたものであるので、反射と透過の兼用表示が可能であり、消費電力を低減しつつ明瞭な表示が可能な電子機器を実現することができる。
【００６４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、透過表示時に反射層を遮光機能を有する膜として機能させることができるので、透過表示用のブラックマスクを別途設けることなく、透過表示時に高いコントラストを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の液晶装置を示す斜視図である。
【図２】  図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図３】  液晶装置の製造プロセスを示す工程断面図である。
【図４】  図３に続く工程断面図である。
【図５】  図４に続く工程断面図である。
【図６】  本発明の液晶装置の別の例を示す斜視図である。
【図７】  本発明の液晶装置のさらに別の例を示す部分断面図である。
【図８】  本発明の液晶装置の他の例を示す部分断面図である。
【図９】  本発明の電気光学装置を備えた電子機器の一例を示す斜視図である。
【図１０】  同、電子機器の他の例を示す斜視図である。
【図１１】  同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図である。
【図１２】  従来の透過表示型の液晶装置を示す部分断面図である。
【図１３】  従来の反射表示型の液晶表示装置を示す部分断面図である。
【図１４】  従来の反射・透過兼用表示型の液晶表示装置を示す部分断面図である。
【符号の説明】
２、３０                                      基板
４、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ                          反射層
４ａ、４ｂ、４ｄ、４ｅ                        窓
６、６Ａ、６Ｂ、６Ｃ                          遮光層
８、８Ａ、８Ｂ、８Ｃ                          一方の基板
１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ                  青色の着色層
１２、１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃ                  緑色の着色層
１４、１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ                  赤色の着色
２２、２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、３２、３２Ａ    電極
３８、３８Ｂ                                  他方の基板
４０                                          液晶
５０、５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃ                  液晶装置
【図１】
0003832172.tif 000002
【図２】
0003832172.tif 000003
【図３】
0003832172.tif 000004
【図４】
0003832172.tif 000005
【図５】
0003832172.tif 000006
【図６】
0003832172.tif 000007
【図７】
0003832172.tif 000008
【図８】
0003832172.tif 000009
【図９】
0003832172.tif 000010
【図１０】
0003832172.tif 000011
【図１１】
0003832172.tif 000012
【図１２】
0003832172.tif 000013
【図１３】
0003832172.tif 000014
【図１４】
0003832172.tif 000015