(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板表面、またはガラス基板上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆した表面に、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層を積層させてなり、Ａｇ粒子は、平均粒径１００ｎｍ〜０.５ｍｍ、Ａｇ層の厚さ５ｎｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする電波透過性波長選択ガラス。
【請求項２】
Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層は、スパッタリング法により連続層よりなるＡｇ層を成膜させたのち、熱処理することによりＡｇ粒子に変化生成させたものであることを特徴とする請求項１に記載の電波透過性波長選択ガラス。
【請求項３】
連続層よりなるＡｇ層を熱処理することにより生成したＡｇ粒子のＡｇは、熱処理前のＡｇと比較して、Ｘ線回折法で同定したＡｇ（１１１）面の半値幅が８５％以下に減少してなることを特徴とする請求項１に記載の電波透過性波長選択ガラス。
【請求項４】
Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層上に、さらにＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆してなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電波透過性波長選択ガラス。
【請求項５】
光線反射率が、波長が６００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲において最大値を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電波透過性波長選択ガラス。
【請求項６】
式（１）で定義する近赤外域の遮蔽効率（Ｅｓ）が０.３以上であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電波透過性波長選択ガラス。
【式１】
0003734376.tif 000029
ここで、λ：電波透過性波長選択ガラスに入射する電磁波の波長
Ｒｄｐ：電波透過性波長選択ガラスの反射率
Ｉｓｒ：エアーマス１.０における太陽の放射強度
【請求項７】
スパッタリング法により、ガラス基板表面、またはガラス基板上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆した表面に連続層よりなるＡｇ層を成膜したのち、熱処理をすることにより、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層を生成させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電波透過性波長選択ガラスの製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は建造物、自動車などの窓ガラスに到来する電波、および可視光線を効率よく透過させることができるとともに、太陽の熱線を反射して充分な断熱性を発揮できる波長選択ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、日射を遮蔽することを目的として、導電性薄膜を被覆したり、または導電性薄膜を含むフィルムを貼り付けた窓ガラスが普及し始めた。このような窓ガラスを高層ビルに施行するとＴＶ周波数帯域の電波を反射して、ＴＶ画面にゴーストを発生させる原因となるとともに室内アンテナで衛星放送を受信し難くなる。また、住宅用窓ガラス或いは自動車用窓ガラスとして用いた場合には、携帯電話が通じ難くなる可能性があったり、ガラスアンテナの利得が悪化したりする原因となりえる。
【０００３】
このような事情から現状では、ガラス基板に電気抵抗の比較的高い透明な熱線反射膜を被覆して、可視光線の透過を一部させるとともに、電波の反射を低減させて電波障害を防止することが行なわれている。
【０００４】
また、導電性膜付きガラスの場合には、ガラス基板に被覆させた導電性膜を、入射電波の電界方向に平行な導電性膜の長さを電波の波長の１／２０倍以下になるように分割し、電波障害を防止することが特許第２６２０４５６号公報に示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の電気抵抗の比較的高い透明な熱線反射膜を被覆する方法は、電波の反射を低減して電波障害を防止することは出来るが、熱線遮蔽性能が十分ではなく、生活の快適性において問題があった。また、特許第２６２０４５６号公報に示された導電性膜を分割する方法は、分割する長さが太陽光の大部分を占める可視光、近赤外光の波長より非常に大きいので、これらの光は全て反射してしまい、電波障害を防止し充分な日射遮蔽性能を有する電波透過性波長選択スクリーンガラスは得られるが、可視光の透過性が確保できないという問題がある。さらに、開口部のサイズが２ｍ×３ｍのように大きな窓では、例えば、衛星放送波を透過させるためには、衛星放送の波長約２５ｍｍの１／２０、少なくとも導電膜を１.２５ｍｍ平方に、好ましくは０.５ｍｍ平方に切断しなければならない。大面積の導電性膜をこのような小さいセグメントに、例えば、イットリウム−アルミニウム−ガーネットレーザで切断するには、長時間を要し現実的でない等の問題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記従来の問題点に鑑みて研究したものであって、ＴＶ放送、衛星放送、携帯電話それぞれの周波数帯域の電波に対して反射率を低減させて、電波障害を防止するとともに、充分な日射遮蔽性能と可視光線透過性を有する電波透過性波長選択ガラスを提供することを目的とする
【０００７】
すなわち、本発明の電波透過性波長選択ガラスは、  ガラス基板表面、またはガラス基板上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆した表面に、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層を積層させてなり、Ａｇ粒子は、平均粒径１００ｎｍ〜０.５ｍｍ、Ａｇ層の厚さ５ｎｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする電波透過性波長選択ガラスである。
【０００８】
【０００９】
さらに、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層は、スパッタリング法により連続層よりなるＡｇ層を成膜させたのち、熱処理することによりＡｇ粒子に変化生成させたものでが好適であり、また、連続層よりなるＡｇ層を熱処理することにより生成したＡｇ粒子のＡｇは、熱処理前のＡｇと比較して、Ｘ線回折法で同定したＡｇ（１１１）面の半値幅が８５％以下に減少してなることが好ましい。
【００１０】
またさらに、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆してなることもでき、電波透過性波長選択ガラスの反射率は、波長が６００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲において最大値を有することが好ましい。
【００１１】
また、式（１）で定義する近赤外域の遮蔽効率（Ｅｓ）が０.３以上であることが好ましい。
【００１２】
【式１】
0003734376.tif 000002
【００１３】
ここで、
λ  ：電波透過性波長選択ガラスに入射する電磁波の波長
Ｒｄｐ：電波透過性波長選択ガラスの反射率
Ｉｓｒ：エアーマス１.０における太陽の放射強度
また、本発明の電波透過性波長選択ガラスの製法は、スパッタリング法によりガラス基板表面、またはガラス基板上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆した表面に連続層よりなるＡｇ層を成膜したのち、熱処理をすることにより、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層を生成させてなることを特徴とする電波透過性波長選択ガラスの製法である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の電波透過性波長選択ガラスは、ガラス基板表面、またはガラス基板上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆した表面に、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層を被覆してなるものであり、その代表的な製法としては、スパッタリング法により、ガラス基板表面、またはガラス基板上にＡｌＮ層（窒化アルミ層）を被覆した表面に連続層のＡｇよりなるＡｇ層を成膜したのち、熱処理をすることにより、該連続層のＡｇよりなるＡｇ層中のＡｇをＡｇ粒子に変化させて作製することができる。
【００１５】
得られた波長選択ガラスは、ＴＶ放送、衛星放送、携帯電話それぞれの周波数帯域の電波に対して反射率を低減させて、電波障害を防止するとともに、充分な日射遮蔽性能と可視光線透過性を有する電波透過性波長選択ガラスである。
【００１６】
前記波長選択ガラスの反射率（Ｒｄｐ）は、下記（２）式で示されるような理論式により、銀の形状から算出することができる。
（この理論式は、本発明者が、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｖｏｌｕｍｅ  ８４，  Ｎｕｍｂｅｒ  １１，  ６２８５−８２９０（１９９８）ですでに発表している。）
【００１７】
【式２】
0003734376.tif 000003
【００１８】
ここで、
Ｒｄｐ：  電波透過性波長選択ガラスの反射率
λ  ：  電波透過性波長選択ガラスに入射する電磁波の波長［ｎｍ］
ＡＲ：  Ａｇ粒子が占める面積率
Ｒｍｓ：  厚みＤのＡｇ粒子の反射率
Ｄ  ：  Ａｇ粒子の平均厚み ［ｎｍ］
Ｅｓｇ：  分割係数
（板ガラス基板、または誘電体膜上に無限繰り返しに配列した
完全導体からなる正方形セグメントの長さと入射光の波長の
比がＬｉ／λ、前記セグメントが占める面積率がＡＲの系の
反射率）
Ｌｉ：  Ａｇ粒子の粒径 ［ｎｍ］
Ｓｒ：  粒径ＬｉのＡｇ粒子の面積率
ｎi：  粒径ＬｉのＡｇ微粒子の数
以下に、本発明の波長選択ガラスの反射率（Ｒｄｐ）が、上記（２）式で示される理論式により、銀の形状から算出することができることを、以下に示す式（３）〜（１４）により説明する。
【００１９】
以下、順を追って、完全導体セグメントを誘電体基板上に周期的に固定した系の反射率を算出する電気的な積分方程式を導く方法について説明する。
先ず、理論式による分割係数Ｅｓｇの求め方について説明する。
（１）誘起電流分布
下記の計算では、導電体セグメントおよび誘電体基板からの放射が電磁界を誘起すると仮定する。
【００２０】
ここで論ずる周期アレーと電磁波の状態を図１に幾何学的に示す。ｘ軸、ｙ軸の周期単位ａ、ｂそれぞれの無限周期アレーを誘電体基板上に固定する。基板の厚さはｄ、誘電率はεｒである。（θｉ，φｉ）方向から伝搬してきた電界強度Ｅiの入射平面波で、周波数選択スクリーンを照射すると仮定する。αは、（θｉ，φｉ）面内での偏波角である。
【００２１】
【式３】
0003734376.tif 000004
【００２２】
電流Ｊｃは、入射波によって導電体表面に誘起されると仮定する。この電流は入射波の位相に比例する。そして構造が周期的であるので、電流はフーリエ級数展開が可能である。従って、電流分布は次のように表現できる。
【００２３】
【式４】
0003734376.tif 000005
【００２４】
【式５】
0003734376.tif 000006
【００２５】
【式６】
0003734376.tif 000007
【００２６】
任意形状の導電体はワイヤーセグメントで電気的に近似できる。
電流分布は区分的正弦波（ＰＷＳ）函数で表現できる。
【００２７】
【式７】
0003734376.tif 000008
【００２８】
【式８】
0003734376.tif 000009
【００２９】
（２）放射界（反射電界と反射磁界）
散乱体表面の誘起磁流・誘起電流が放射する電界を反射電界という。この反射電界は、グリーン函数を用いると式（９）で表現できる。
【００３０】
【式９】
0003734376.tif 000010
【００３１】
（３）電力反射率
【００３２】
【式１０】
0003734376.tif 000011
【００３３】
【式１１】
0003734376.tif 000012
【００３４】
【式１２】
0003734376.tif 000013
【００３５】
以上、分割係数Ｅｓｇの求め方について説明した。
次に、（２）式の粒径分布（Ａｇ粒子の粒径、面積率、粒子の数）について求める。
（４）Ａｇ粒子の平均粒径
【００３６】
【式１３】
0003734376.tif 000014
【００３７】
Ａｇ粒子の平均粒径（ｌ）は次のように計算できる。
【００３８】
【式１４】
0003734376.tif 000015
【００３９】
後述の実施例２で述べるように、近赤外域の遮蔽効率が０．３以上を確保するためには、Ａｇ粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上およびＡｇ粒子の厚みが５ｎｍ以上であることが好ましい。なお、Ａｇ粒子の平均粒径が０．５ｍｍ以上になると電波障害の問題が発生するので好ましくない。
次に、前記で示した分割係数Ｅｓｇと粒径分布から反射率を求める方法について説明する。
（５）Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層を積層したＡｌＮ層の反射率の理論式
Ａｇ層の反射率は、銀原子のプラズマ振動の影響を受ける。それ故、銀を分散させたＡｌＮ層の反射率（Ｒｄｐ）は表面抵抗率（Ｒｓｑ）、入射波の波長（λ）と銀の粒径に依存する。Ｒｄｐに対する粒径の影響を、分割係数（Ｅｓｇ）の項で表現する。
【００４０】
厚さ４０ｎｍのＡｌＮ層上に完全導体の正方形セグメントを周期的に固定した系の反射率の理論値をＥｓｇと定義する。理論値は、式（１２）を用いて算出する。この係数は、Ｌ／λと面積率（ＡＲ）に依存する。Ｌ／λは、セグメントの大きさ（Ａｇ粒子の粒径に対応する）と図２に示した入射光の波長の比である。なお、図２は、ＡＲ＝２２／３2の分割係数（Ｅｓｇ）とＬ／λ（セグメントの大きさと入射光の波長の比を示す図である。
【００４１】
ＡＲは、Ｌ／ａ、すなわちセグメントの面積と図１に示した単位セル（最小繰り返し単位）の面積の比である。ＡＲ＝２／３（＝０．４４４）にもかかわらず、図２のＥｓｇはＬ／λ＝０．５２５で、１．０に近づく。これは、導体のＲｓｑと基板の誘電損率が無視できるほどに小さい場合、共鳴周波数において入射波のエネルギーが単位セル上の誘起電流に全て変換されることに起因する。
Ｒｄｐは、ＲｍｓとＥｓｇの積に等しいと仮定して、Ｒｄｐを求める式（２）を提案する。ＲｍｓはＡｌＮ(３０ｎｍ)/Ａｇ(Ｄｎｍ)/ＡｌＮ(１０ｎｍ)多層膜の反射率である。なお、ＤはＡｇ粒子の平均厚みである。
【００４２】
【式２】
0003734376.tif 000016
【００４３】
ここで、
Ｒｄｐ：  電波透過性波長選択ガラスの反射率
λ  ：  電波透過性波長選択ガラスに入射する電磁波の波長［ｎｍ］
ＡＲ：  Ａｇ粒子が占める面積率
Ｒｍｓ：  厚みＤの銀膜の反射率
Ｄ  ：  Ａｇ粒子の平均厚み ［ｎｍ］
Ｅｓｇ：  分割係数
（板ガラス基板、または誘電体膜上に無限繰り返しに配列した  
完全導体からなる正方形セグメントの長さと入射光の波長の    
比がＬｉ／λ、前記セグメントが占める面積率がＡＲの系の
反射率）
Ｌｉ：Ａｇ粒子の粒径 ［ｎｍ］
Ｓｒ：粒径ＬｉのＡｇ粒子の面積率
ｎi：粒径ＬｉのＡｇ微粒子の数
【００４４】
【式１５】
0003734376.tif 000017
【００４５】
ここで、ＡＲoは、薄膜の全面積に対するＡｇ粒子の占める割合である。ＲｍｓはＲｓｑとλの函数である。そして、ＥｓｑはＬ／λに依存するので、式（２）は、ＲｄｐがＲｓｑ、λとＬに依存することを示している。Σの項はＡｇ粒子の粒径分布のＲｄｐへの影響を描写している。  図２に示したように、Ｌ／λの増大に対するＥｓｑの変化が非線形のため、Σの項が必要である。
【００４６】
ＡｌＮ層中のＡｇの全重量は、Ａｇ層の熱処理の間一定に保たれるので、ＤとＬは、式（１６）と（１７）で表現できる。
【００４７】
【式１６】
0003734376.tif 000018
【００４８】
【式１７】
0003734376.tif 000019
【００４９】
ここで、Ｌm は、セグメントの平均長さ、Ｄ0は、成膜直後の多層膜中のＡｇ層の厚さである。
なお、Ａｇは紫外線領域にプラズマ振動数が存在し、さらに、この周波数の低周波数側に、「銀の窓」と呼ばれるＡｇの消衰係数が無限小になる領域があるので、Ａｇ粒子の厚みと、誘電体干渉膜の膜厚を制御すれば、可視光の透過性が確保できる。
【００５０】
加熱によりＡｇ層は、粒子状に分散した状態に変化する。この粒径は、前記した０.５ｍｍよりはるかに小さく、また、Ａｇ膜の厚み、熱処理条件などを制御することより、近赤外線を選択的に反射するガラスが得られる。
【００５１】
【実施例】
以下、本発明の実施の１例を述べる。但し、本発明は、これに限定するものではない。
実施例１
電波透過性波長選択ガラスは、ＤＣマグネトロン・スパッタリング法により成膜した。
（１）スパッタリング前に、真空槽を２×１０-4Ｐａまで真空引きした。
なお、スパッタリング中、ターゲット−ガラス基板間の距離は９０ｍｍに固定した。
（２）最下層のＡｌＮ層は、純Ａｌターゲット（直径１２９ｍｍ、厚み１０ｍｍ）を用いて、反応スパッタで堆積させた。なお、異常放電を防止するために、周波数１０ｋＨｚの矩形パルス波をカソードに印加した。スパッタリング中、Ｎ２／Ａｒガス流量比を２０／８０に調整する方法で混合ガスの圧力を０．７Ｐａに制御した。
（３）アルゴンのガス圧０．７Ｐａで、純Ａｇターゲット（直径１２９ｍｍ、厚み５ｍｍ）を用いて、中間層のＡｇ層を堆積させた。
（４）  最上段のＡｌＮ層を積層する前に、スパッタリング真空槽内で、成膜直後のＡｌＮ／Ａｇ層を２×１０-4Ｐａ、２００℃で加熱処理した。
（５）最上層のＡｌＮ層は、最下層のＡｌＮ層と同じ方法により、純Ａｌターゲット（直径１２９ｍｍ、厚み１０ｍｍ）を用いて、反応スパッタで堆積させた。
【００５２】
前記（３）或いは（４）の工程を終了したガラス基板／ＡｌＮ層／Ａｇ層からなるサンプルについて、下記に示す方法により、Ａｇ粒子の粒径分布の測定を行った。
Ａ.Ａｇ粒子の粒径分布
（４）の工程を終了したガラス基板／ＡｌＮ層／Ａｇ層からなるサンプルの表面の状態を、日立Ｓ−４１５を用いた走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した結果を図３に示す。
なお、図３の各粒子の大きさをＭａｒｔｉｎ法で読み取った粒径分布を表１に示す。
【００５３】
結果、面積比（Ａｇ粒子が占める面積と全面積の比と定義）は０.２０であった。
表１の粒径（ｌ）と数（ｎ）を式（１３）と（１４）に代入した結果、平均粒径は８７ｎｍとなった。粒径分布は、表２にＳｒの関数として示す。
【００５４】
（４）の工程を終了したガラス基板／ＡｌＮ層／Ａｇ層からなるサンプルの表面の状態を、セイコ製ＳＰＡー２５０を用いた原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察した結果、平均粒子径は１６８ｎｍで、面積率は０.３８であった。
【００５５】
【表１】
0003734376.tif 000020
【００５６】
【表２】
0003734376.tif 000021
【００５７】
Ｂ.結晶の配向性
前記（３）および（４）の工程を終了したガラス基板／ＡｌＮ層／Ａｇ層からなるサンプルについて、銀結晶の配向性を評価した。なお、測定は、ＣｕＫαの特性Ｘ線を用い理学製ＲＩＮＴ−１５００のＸ線回折（ＸＲＤ）法で測定した。
【００５８】
結果、（３）の工程が終了した成膜直後のガラス基板／ＡｌＮ層／Ａｇ層のサンプルにおけるＡｇ層は、基板に平行にＡｇ（１１１）面が成長した多結晶銀を含むことを示している。また、（４）の工程の熱処理を行うことにより、前記図３で示すようにＡｇ連続層が不連続な粒子に変化すると、Ａｇ（２００）面の回折ピークの強度は多少増加した。また、表３は、Ａｇ（１１１）面の面間隔が２時間の熱処理の結果、２３６.６から２３５.９ｐｍに減少することを示している。ピークの半値幅もまた減少する傾向を示した。
【００５９】
【表３】
0003734376.tif 000022
【００６０】
Ｃ.反射率
（３）の工程が完了した成膜直後の試料と、（４）の工程を完了した熱処理試料の反射率スペクトルを測定した。
なお、反射スペクトルは日立製３４０分光光度計を用いて、室温で、３５０から１８００ｎｍの範囲で測定した結果を図４に示す。
【００６１】
Ａｇ層の厚さを（３）の工程が完了した成膜直後の試料の反射率曲線から求める。４端子マトリックス法で計算した反射率の理論曲線は、図５に示したように、成膜直後のＡｇ層の厚さが８ｎｍのとき、測定値とよく一致した。
なお、図５は、成膜直後の試料の実験値（○）と理論値（ー）との反射スペクトルの比較を示した図である。理論値は、Ａｇ層の厚さを８ｎｍと仮定して計算した。
【００６２】
一方、表３で、加熱時間が０時間のＡｇ（１１１）ピークの半値幅を式（１８）［Ｓｃｈｅｒｒｅｒの式］に代入して成膜直後のＡｇ層中の結晶の厚みを求めた結果、その値は１０ｎｍとなった。Ａｇ層の厚さは、結晶の大きさに等しいことになる。すなわち、Ａｇ層は基板に平行なＡｇ（１１１）面が成長した多結晶銀から構成されていることを示している。
【００６３】
【式１８】
0003734376.tif 000023
【００６４】
ここで、ＣＴ  ：  結晶の厚み    ［Å］
λ    ：  照射Ｘ線の波長［Å］
Δ（２θ）：  半値幅  ［ｒａｄｉａｎ］
θ  ：  Ｘ線の入射角度［ｒａｄｉａｎ］
図４に示した（４）の工程を完了した熱処理試料の反射率曲線から、Ａｇ層の熱処理によって波長が７８０ｎｍより小さい入射波の反射率は増大し、７８０ｎｍより長い入射波の反射率は減少することが示された。この現象は、粒径が入射波の波長より小さいＡｇ粒子の分散によると考えられる。
図６に示した曲線は、Ａｇ粒子の面積平均粒径１３０ｎｍ、Ａｇ粒子の厚み１８ｎｍ、面積率０．４４４の波長選択膜の反射率について３５０ｎｍ〜１８００ｎｍの波長範囲で、理論式（２）から求めた理論曲線である。この曲線は、図６に黒丸で示した実施例の値とよく一致している。ところが、表４に示したように、ＳＥＭで観測した平均粒径は、理論粒径より小さい値である。この差は、ＳＥＭ観察では銀の粒径を過小に見積もることに原因がある。すなわち、Ａｇ層の厚さ約３ｎｍの粒子の裾野から散乱された２次電子の強度は弱いので、粒子の裾野として検出できなかったためと考えられる。また、表４に示したようにＡｇ層の厚みはＸ線的に求めた測定値と一致する。本実施例で、理論式（２）の妥当性が証明できた。
【００６５】
【表４】
0003734376.tif 000024
【００６６】
実施例２
実施例１で、理論式（２）の妥当性が証明できたので、式（２）の理論値から、波長選択膜に適したＡｇ粒子の形状を求める。
先ず、Ａｇ粒子より構成されるＡｇ層の遮弊効率（Ｅs）は式（１）で定義される。
式（２）のＳｒはセグメントの種々の平均サイズ（Ｌi）に対して一定であると仮定して、ＡＲ＝０.４４４、Ｄ０＝８nmのＡｇ粒子系の最大遮蔽効率を式（２）で計算する。図７に示したようにＬｉ＝３７５nmのとき、可視光および放送波領域で、断熱ガラスの透明性を確保しながら、遮蔽効率は最大となる。
なお図７は、Ａｇ粒子系の遮弊効率とセグメントの平均サイズを示す図である。遮弊効率は、ＡＲ＝２２／３２、Ｄｉ＝１８ｎｍと仮定して、式（２）から算出した。
Ｄｉ＝３７５ｎｍの反射スペクトルの理論曲線を図９に示す。
Ａｇ粒子分散ＡｌＮ膜で、３７５ｎｍの理論反射スペクトル（−）とＬｍ＝１３０ｎｍの測定反射スペクトル（●）の比較を示す図である。理論値はＡＲ＝２２／３２、Ｌｉ＝１８ｎｍと仮定して、式（２）から算出した。
【００６７】
Ｌｍ＝Ｌｉが１３０ｎｍから３７５ｎｍまで増大することにより、反射が最大となる位置は、長波長側にシフトする。これは、近赤外線のみを反射する波長選択スクリーンはＡｇ粒子の大きさを調整することにより設計できることを示している。
反射率の理論値は、８００ｎｍ以下の波長域で５〜６箇所鋭く減少している。セグメントは周期的に配列されているので、図２の場合、Ｌ／λ＝０．６２６で反射率が鋭く減少する。
【００６８】
次に、代表例として、Ａｇ粒子の平均粒径が３７５ｎｍの場合の波長選択ガラスの近赤外域の遮蔽効率および可視光の透過率のＡｇ粒子の厚み依存性を理論式（２）から求めた結果を表５と表６に示す。なお、面積率は、代表値として０．４４４と０．８２６を用いた。
【００６９】
表５と表６より、近赤外域の遮蔽効率が０．３以上を確保するためには、Ａｇ粒子の厚みが５ｎｍ以上必要であることがわかる。一方、Ａｇ粒子の厚みが３０ｎｍを越えると近赤外域の遮蔽効率は、可視光の透過性を有しながら飽和に達する。
【００７０】
式（１８）のＳｃｈｅｒｒｅｒの式から求められるＡｇ層の厚さは、Ａｇの（１１１）面の回折ピークの半値幅に逆比例するので、Ａｇ層の厚さの測定限界は、半値幅の検出限界値で決まる。この値は、現在のＸ線回折装置では、０．０１度程度である。この値を式（１８）に代入すると、１μｍとなる。すなわち、Ｓｃｈｅｒｒｅｒの式は、Ａｇ層の厚さが１μｍ以下の場合にのみ適応できる。従って、Ａｇ層の好ましい厚みは、５ｎｍ〜１μｍの範囲である。なお、ＣｕＫαの特性Ｘ線の波長は、１．５４０５Å、Ａｇの（１１１）面に対応するＸ線の入射角度は、３８．１２／２度である。
【００７１】
【表５】
0003734376.tif 000025
【００７２】
【表６】
0003734376.tif 000026
【００７３】
代表例として、Ａｇ粒子の厚みが２０ｎｍの場合の波長選択ガラスの近赤外域の遮蔽効率および可視光透過率のＡｇ粒子の面積平均粒径依存性を理論式（２）から求めた結果を表７と表８に示す。表７、および表８より、近赤外域の遮蔽効率が０．３以上を確保するためには、Ａｇ粒子の粒径が１００ｎｍ以上必要であることがわかる。粒径の増大に伴い遮蔽効率は増大するが、面積率によって異なるが、ある粒径以上になると減少する。しかし、遮蔽効率が０．３以下にはならない。ところが、粒径が、現在使用されている放送波の内、最も波長の短い衛星放送波の波長の１／２０以上になると電波障害が問題となる（特許登録番号２６２０４５６参照）ので、Ａｇ粒子の粒径は０．５ｍｍ以下が望ましい。
【００７４】
【表７】
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【００７５】
【表８】
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【００７６】
【発明の効果】
本発明は、ＴＶ放送、衛星放送、携帯電話それぞれの周波数帯域の電波に対して反射率を低減させるとともに、充分な日射遮蔽性能と可視光線透過性を有するので、ＴＶ画面にゴーストを発生させたり、携帯電話が通じなくなったり、或いはガラスアンテナの利得が悪くなったり等の電波障害がなく、且つ日射を充分に遮蔽される等快適な生活をすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】散乱体の幾何学的図面を示す。
【図２】ＡＲ＝２２／３２の分割係数（Ｅｓｇ）とＬ／λ（セグメントの大きさと入射光の波長の比）との関係を示す図である。
【図３】銀分散ＡｌＮ層のＳＥＭ顕微鏡写真を示す図である。
【図４】熱処理前後の反射率を示す図である。
【図５】成膜直後の試料の実験（○）と理論（−）反射スペクトルの比較を示す図である。
【図６】銀分散ＡｌＮ膜の反射スペクトルの実験値（●）と理論値（−）比較を示す図である。
【図７】Ａｇ粒子系の遮蔽効果とセグメントの平均サイズとの関係を示す図である。
【図８】Ａｇ粒子分散ＡｌＮ膜で、Ｌｍ＝３７５ｎｍの理論反射スペクトル（−）と
Ｌｍ＝１３０ｎｍの測定反射スペクトル（●）の比較を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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