(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機及び／または有機充填材、一般式（１）のビスアシルホスフィンオキサイド化合物または一般式（２）のアシルホスフィンオキサイド化合物、及び重合性不飽和化合物を含有することを特徴とする光硬化性パテ材組成物。
一般式（１）；
【化１】
0003785687.tif 000017
（式中、Ｒ1 〜Ｒ3 はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基，アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す）
一般式（２）；
【化２】
0003785687.tif 000018
（式中、Ｒ4 〜Ｒ6 はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基，アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す）
【請求項２】
さらに近赤外光領域に感光性を有する化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載の光硬化性パテ材組成物。
【請求項３】
近赤外光領域に感光性を有する化合物が、一般式（３）で表される近赤外光領域に吸収をもつ陽イオン染料、一般式（４）で表されるホウ素系触媒の組み合わせである、請求項２記載の組成物。
一般式（３）；
Ｄ+ ・ Ａー（式中、Ｄ+ は近赤外光領域に吸収をもつ、陽イオン色素、Ａー は、各種陰イオンを示す）
一般式（４）
【化３】
0003785687.tif 000019
（式中、Ｚ+ は任意の陽イオンを示し、Ｒ7 〜Ｒ10はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環基、ハロゲン原子、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換シリル基を示す）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の組成物を充填した後、組成物中の化合物の感光波長の光を照射することによって、硬化せしめることを特徴とする硬化方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な光硬化性組成物及びその硬化方法に関する。更に詳しくは顔料及び隠ぺい率が高い添加物、充填物、染料などが含まれていても、また厚みが１ｃｍ程度であり光透過性が良好でなくとも、短時間かつ低温で光硬化が可能な１液型の光硬化性パテ材組成物及びその光照射による硬化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来自動車などの補修、建材などの継ぎ目部分のシールあるいは鉄道車両の塗装工程で車体外板の凹凸を埋め、外観を向上させる等の目的で、二液性のパテ材が用いられてきた。例えば不飽和ポリエステル樹脂等のラジカル硬化性樹脂を過酸化物などの硬化剤を用いて硬化させるものであるが、二液性であるため秤量の手間、硬化剤の入れ忘れ、二液を混合した後の作業時間の制限あるいは使用しなかった混合物の廃棄の問題などがあり、改善が期待されていた。これらの問題点を解決する方法として、一液性のパテ材も提案されているが、物性の問題、硬化時間が長い、あるいは高温が必要などの問題点があった。
【０００３】
一方、紫外光を用いる光硬化反応は、塗膜の硬化や印刷、樹脂凸版、プリント基盤作成用、レジストまたはフォトマスク、白黒またはカラーの転写発色用シートもしくは発色シート作成などの多方面の用途にわたり使用され、特に最近では地球環境問題、省エネルギー、労務コストの上昇に対応する省力化等の観点から、光重合の特徴である常温でも重合可能であること、即乾性、無溶剤化の可能性などが注目され、盛んに開発が行われている。一液性パテ用途に対しても、紫外光硬化の応用が検討されているが（例えば特公昭６０−３０６９０号）、硬化物の厚みが大きい場合、あるいは隠ぺい率が高い顔料などの添加物を含有した場合等では、紫外光の透過性が低いので紫外線が硬化系の内部まで十分に到達せず、硬化系内部の硬化が不十分であるという問題点を有していた。
【０００４】
また、紫外光の光源は高圧水銀ランプをはじめとして必ずしも安価でない上、オゾン発生、皮膚ガンの可能性など安全面においても充分満足すべき方法とはいえなかった。
【０００５】
本発明で用いられるビスアシルホスフィンオキサイド系重合開始剤を重合開始剤として用いた例としては、特開昭６１−１３０２９６号、特開平２−１４０１号、特開平５−３４５７９０号等があげられる。しかし、ビスアシルホスフィンオキサイド系重合開始剤をパテ材に応用している例はない。
【０００６】
また、本発明で用いられるアシルホスフィンオキサイド系重合開始剤を重合開始剤として用いた例としては、特公昭６０−８０４７号、特公昭６３−４０７９９号等が挙げられる。しかし、アシルホスフィンオキサイド系重合開始剤をパテ材に応用している例はない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は新規な光硬化性パテ材組成物及びその硬化方法、さらに詳しくは、従来の二液性パテ材の問題点である秤量の手間、硬化剤の入れ忘れ、二液混合後の作業時間の制限、混合物の廃棄の問題など、あるいは一液性パテ材の物性、硬化時間、硬化温度などの問題、更には紫外光硬化性パテ材の光硬化性、光源の安全性などの各種問題点を解決する、光硬化性パテ材に好適な組成物及びその硬化方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記問題点を解決すべく検討を重ねた結果、従来用いられてきた一液性の光硬化性パテ材における紫外光重合開始剤に変えて、より長波長領域に吸収を有する、特定の構造を有する可視光重合開始剤を用いることによって上記の一液性パテ材の問題が解決することを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明によると、一般式（１）で表される化合物からなる光重合開始剤または一般式（２）で表される化合物との組み合わせからなる光重合開始剤を用い、重合性不飽和結合を有する化合物、及び充填材と混合することで、光反応による短時間でかつ低温で硬化が可能な新規パテ材組成物が得られる。
【００１０】
一般式（１）；
【化４】
0003785687.tif 000002
（式中、Ｒ1 〜Ｒ3 はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基，アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す）
【００１１】
一般式（２）；
【化５】
0003785687.tif 000003
（式中、Ｒ4 〜Ｒ6 はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換複素環基を示す）
【００１２】
本発明でのパテ材とは、車両用などのように外観を高める用途に用いる充填物、あるいは建材用、硝子用などのように密閉性を高めるために用いる充填材等をあらわす。詳しくは、例えば、図解  プラスチックス用語辞典（日刊工業新聞社昭和６３年６月３０日  初版７刷発行）「パテ」の項に記載がある。
【００１３】
本発明で用いる光重合開始剤の特徴の一つとして、一般式（１）で表されるビスアシルホスフィンオキサイド化合物または一般式（２）で表される化合物からなる光重合開始剤を使用することがあげられる。一般式（１）または一般式（２）で表される開始剤は、従来のＵＶ開始剤よりも長波長領域に感光性があり（４００ｎｍ以上の可視光領域）、光の透過性に優れる上、光照射により開裂してアシルラジカルとホスフィノイルラジカルを発生するので、従来のＵＶ開始剤よりも重合開始効率が高いとされている。また、本発明で一般式（１）で表される化合物または一般式（２）で表される化合物と併用することができる近赤外光領域に感光性を有する重合開始剤は、一般式（１）または一般式（２）で表される開始剤よりもさらに長波長領域に感光性を有することから、さらに光の透過性が優れている。
【００１４】
本発明で用いられる一般式（１）のビスアシルホスフィンオキサイド化合物の具体例としては、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−１−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−クロルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４−ジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−デシルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−オクチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−エトキシビフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−メトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２−クロル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００１５】
本発明で用いられる一般式（２）のアシルホスフィンオキサイド化合物の具体例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジフェニルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジクロルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２−フェニル−６−メチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジブロムベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，８−ジメチルナフタリン−１−カルボニル−ジフェニルホスフィンオキサイド、１，３−ジメトキシナフタリン−２−カルボニル−ジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニルホスフィン酸メチルエステル、２，６−ジメチルベンゾイル−フェニルホスフィン酸メチルエステル、２，６−ジクロルベンゾイル−フェニルホスフィン酸エチルエステル等を挙げることができる。
【００１６】
さらに、本発明で用いる光重合開始剤のもう一つの特徴として、一般式（１）または一般式（２）の光重合開始剤と近赤外光領域に感光性を有する化合物を併用できることである。併用する近赤外光領域に感光性を有する化合物の例としては、一般式（３）の近赤外光吸収性陽イオン色素と、一般式（４）のホウ素系化合物との組み合わせが挙げられる。
【００１７】
一般式（３）；
Ｄ+   ・  Ａー
（式中、Ｄ+ は近赤外光領域に吸収をもつ、陽イオン色素、Ａー は、各種陰イオンを示す）
【００１８】
一般式（４）
【化６】
0003785687.tif 000004
（式中、Ｚ+ は任意の陽イオンを示し、Ｒ7 〜Ｒ10はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環基、ハロゲン原子、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換シリル基を示す）
【００１９】
本発明の一般式（３）の陽イオン色素は、具体的には７４０ｎｍから２０００ｎｍの範囲の任意の波長領域に吸収を持つ色素であり、好ましくは７８０ｎｍから１５００ｎｍの範囲である。
【００２０】
本発明の陽イオン（Ｄ+ ）の好ましいものとしては例えばメチン、ポリメチン、インドリン、シアニン、キサンテン、オキサジン、チアジン、ジアリールメタン、トリアリールメタン、ピリリウム系陽イオン色素の陽イオンなどが挙げられる。かかる陽イオン色素の代表例としては、例えば表１に示すような陽イオンが挙げられる。
【００２１】
【表１】
0003785687.tif 000005
【００２２】
【表１】
0003785687.tif 000006
【００２３】
カウンターアニオンであるＡ- は任意の陰イオンであるが、下記一般式（５）に示す４配位ホウ素アニオンが特に好ましい。
【００２４】
一般式（５）；
【化７】
0003785687.tif 000007
（式中、Ｒ11〜Ｒ14はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環基、ハロゲン原子、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基または置換シリル基を示す）
【００２５】
具体例としては、ｎ−ブチルトリフェニルホウ素イオン、ｎ−オクチルトリフェニルホウ素イオン、トリフェニルシリルトリフェニルホウ素イオン、ジ−ｎ−ドデシルジフェニルホウ素イオン、テトラフェニルホウ素イオン、トリ−ｎ−ブチル（ジメチルフェニルシリル）ホウ素イオンなどが挙げられ、更に詳細には本発明者らが先に出願した（特開平６−７５３７４号）特許明細書に記載された陰イオン等が挙げられる。
【００２６】
また、一般式（４）で表されるホウ素系触媒において、陰イオンである４配位ホウ素イオンの具体例な例としては、ｎ−ブチルトリフェニルホウ素イオン、ｎ−オクチルトリフェニルホウ素イオン、トリフェニルシリルトリフェニルホウ素イオン、ｎ−ブチルトリアニシルホウ素イオン、ｎ−ブチルトリ（ｐ−フルオロフェニル）ホウ素イオン、ｎ−ブチルトリ（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ホウ素イオン、ジ−ｎ−ドデシルジフェニルホウ素イオン、テトラフェニルホウ素イオン、トリフェニルナフチルホウ素イオン、テトラブチルホウ素イオン、トリ−ｎ−ブチル（ジメチルフェニルシリル）ホウ素イオンなどが挙げられる。また式中に記載の陽イオン（Ｚ+ ）は一般式（６）
【００２７】
一般式（６）
【化８】
0003785687.tif 000008
（式中、Ｒ15〜Ｒ18はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置換アルケニル基または置換アルキニル基を示す）
【００２８】
で表わされる４級アンモニウム陽イオンまたは４級ピリジニウム陽イオン、４級キノリニウム陽イオン、ジアゾニウム陽イオン、テトラゾリウム陽イオン、ホスホニウム陽イオン、（オキソ）スルホニウム陽イオン、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウム、カルシウム等の金属陽イオン、フラビリウム、ピラニウム塩などの有機酸素陽イオン、トロピリウム、シクロプロピリウム等の炭素陽イオン、ヨードニウム等のハロゲニウム陽イオン、砒素、コバルト、クロム、パラジウム、チタン、スズ、アンチモンなどの金属化合物の陽イオン等が挙げられ、特開昭６−７５３７４号特許明細書中に詳細な記載がある。これら陽イオン色素およびホウ素系触媒は単独または２種以上を混合して用いることもできる。
【００２９】
一般式（３）の陽イオン色素と一般式（４）のホウ素系触媒を組み合わせることで、近赤外光によって分解が起こり陽イオン色素の色が消色するとともに重合が開始され、隠ぺい性の高い組成物を硬化することができる。陽イオン色素の消色反応は不可逆反応であり、陽イオン色素の色が硬化物の色相を損なうことがない。一般式（３）で表される陽イオン色素、一般式（４）で表されるホウ素系触媒を併用する場合、一般に１０：１〜１：５０（モル比）の割合で使用されるが、硬化反応及び色素の消色反応を完全に行わせるためには、ホウ素系触媒を陽イオン色素よりも大量に用いる方が好ましい。
【００３０】
上記の一般式（１）で表される開始剤または一般式（２）で表される開始剤は、重合性不飽和化合物総量１００重量部に対して０．０１重量部以上用いることにより本発明の目的を達成することが出来る。それ以下だと重合が充分に行われないおそれがある。好ましくは０．０３〜２０重量部の範囲である。さらに好ましくは０．０５〜１５重量部の範囲である。大量に用いすぎることは経済的観点上好ましくない。また、開始剤は、一種のみでも、二種以上用いてもかまわない。
【００３１】
一般式（１）で表されるビスアシルホスフィンオキサイド化合物または一般式（２）で表されるアシルホスフィンオキサイド化合物である光重合開始剤は、２００〜５００ｎｍの波長領域を含む光で感光する光重合開始剤であるばかりでなく、硬化性組成物中で４０℃以下では極めて安定であることがわかった。このため、本発明による光硬化性組成物は、従来にない保存安定性を有し、６ヶ月以上経過後も十分な硬化性を維持している。
【００３２】
本発明に使用される光の必須波長は、４００〜５００ｎｍの波長領域である。４００ｎｍより短い波長の光のみでは、光の透過性が極端に悪くなり、さらに、安全上好ましくない。また、５００ｎｍより長い波長の光のみでは、一般式（１）で表されるビスアシルホスフィンオキサイド化合物または一般式（２）で表されるアシルホスフィンオキサイドの感光性がないので好ましくない。
【００３３】
また、近赤外光領域に感光性を有する化合物と本発明で用いる一般式（１）または一般式（２）の光重合開始剤との併用比（重量比）は、硬化物の厚みにより異なり一概にはいえないが、硬化厚みが１ｃｍを越える場合には、深部を硬化させるために１／３０以上であることが望ましい。さらに好ましくは、１／２０以上である。
【００３４】
本発明に用いられる重合性不飽和化合物としては、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、硬化性（メタ）アクリル樹脂が代表的なものである。
不飽和ポリエステルとしては、酸またはその無水物と、アルコールを公知の方法で反応させて得られるものでよい。
【００３５】
酸またはその無水物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸等の活性不飽和結合を有していない飽和多塩基酸またはその無水物とフマル酸、無水マレイン酸、マレイン酸、イタコン酸等の活性不飽和結合を有している不飽和多塩基酸またはその無水物、さらに必要に応じて安息香酸、アビエチン酸、ジシクロペンテニルマレイン酸のハーフエステルのごときモノカルボン酸が挙げられる。また、アルコールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物等の多価アルコールが挙げられる。
【００３６】
また、ビニルエステル樹脂としては、公知の方法により製造されるもので、エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート、あるいは飽和ジカルボン酸及び／または不飽和ジカルボン酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシル基のポリエステルにα，β−不飽和カルボン酸エステル基を含有するエポキシ化合物を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３７】
ビニルエステル樹脂の原料となるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル及びその高分子量同族体、ノボラック型ポリグリシジルエーテル類等が挙げられる。
【００３８】
また、飽和ジカルボン酸としては、活性不飽和基を有していないジカルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバチン酸等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸としては、活性不飽和基を有しているジカルボン酸、例えばフマル酸、マレイン酸、無水フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。
【００３９】
さらに、多価アルコール成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物等の多価アルコールが挙げられる。
【００４０】
α，β−不飽和カルボン酸エステル基を含有するエポキシ化合物としては、グリシジルメタクリレートが代表例として挙げられる。
【００４１】
また、硬化性アクリル樹脂は、例えばジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の（メタ）アクリレートやヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと少なくとも２つ以上イソシアネート基を有する化合物との反応でできるウレタンアクリレート等が含まれ、多価アルコールとエチレンオキサイドとの付加物にアクリル酸および／またはメタクリル酸を反応せしめた生成物；前記の多価アルコールとプロピレンオキサイドとの付加物にアクリル酸および／またはメタクリル酸を反応せしめた生成物；前記の多価アルコールとε−カプロラクトンとの付加物にアクリル酸および／またはメタクリル酸を反応せしめた生成物等のオリゴマー類も含まれる。
【００４２】
また、重合性不飽和化合物として、不飽和ポリエステル樹脂、硬化性（メタ）アクリル樹脂、ビニルエステル樹脂以外にも以下の樹脂を使用することもできる。その樹脂とは、ポリエステルの末端水酸基と（メタ）アクリル酸を縮合させた樹脂、エチレン性不飽和基を含有するポリウレタン樹脂、エチレン性不飽和基を含有するエポキシ樹脂、エチレン性不飽和基を含有する含リンエポキシ樹脂、エチレン性不飽和基を含有するシリコーン樹脂、エチレン性不飽和基を含有するメラミン樹脂等が挙げられる。
【００４３】
本発明に使用される充填材としては粉末、球状、ウイスカー状、鱗片状等の各種形状の有機物、無機物、或いはそれらの複合物、混合物が挙げられる。
【００４４】
無機充填材の具体例としては、例えば炭酸カルシウム、タルク、クレー、ガラス粉、シリカ、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アスベスト、アルミナ等の公知のものが使用される。これらの無機充填材を二種類以上組み合わせて使用することもできる。
【００４５】
また、有機充填材の具体例としては、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニリデンマイクロバルーン、ポリアクリロニトリルマイクロバルーン等が使用できる。これらの有機充填材を、二種類以上組み合わせて使用することもできる。さらに、有機充填材と無機充填材を併用してもよい。
【００４６】
これら無機充填材及び／または有機充填材の使用量は、樹脂と下記の反応性希釈剤を合わせた総量１００重量部に対して１〜５００重量部、好ましくは、５０〜３００重量部である。充填材が少なすぎると、硬度等の硬化物の要求物性が不十分であったり、重合時の収縮による内部応力の増加などがあり好ましくない。また充填材が多すぎると光の透過性が低下して硬化反応が十分に進行しなかったり、硬化物の可撓性が低下し、脆くなるおそれがある。
【００４７】
また、本発明の組成物には、重合性不飽和化合物と充填材との混練性、含浸性を高めたり、成形製品の硬度、強度、耐薬品性、耐水性を調整したりする目的のために、スチレンモノマーやメチルメタクリレート等の反応性希釈剤を添加することが出来る。反応性希釈剤の使用量には特に制限はないが、一般に不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂あるいは硬化性（メタ）アクリル樹脂１００重量部に対して０〜２５０重量部、好ましくは、２０〜１５０重量部である。使用量が２５０部を越えると、硬化物の溶剤等に対する耐薬品性が極端に悪くなってしまう。
【００４８】
反応性希釈剤として使用されるモノマーは、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、クロロスチレン等の芳香族モノマー、メチルメタクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン等のＮ−置換アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、ビニルピリジン類などの含窒素不飽和モノマー、（メタ）アクリル酸、酢酸ビニルなどが挙げられる。さらに該反応性希釈剤として、含リン重合性不飽和モノマー、ブチルイソシアネート、フェニルイソシアネートなどのイソシアネート化合物と２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基含有モノマーとの付加物、リン酸と上記水酸基含有モノマーとの付加物なども使用できる。
【００４９】
さらに、本発明の組成物には各種顔料、一般に塗料用添加剤等として用いられているレベリング剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤、重合禁止剤、酸化防止剤等を必要に応じて、本発明の組成物の保存安定性を損なわない程度に添加してもよい。
本発明の組成物の硬化は一般に次のような手順で行われる。まず、重合性化合物、充填材、重合開始剤、及び必要に応じて加えられる各種添加剤を十分に混練して組成物を得る。次いで、該組成物を被塗布体に所望の厚みに肉盛りし、必要に応じて任意に定められるが、一般には１ｍｍ〜１ｃｍの範囲である。必要以上に厚すぎると、硬化に必要以上の時間を要したり、場合によっては組成物深部の硬化が不十分になるおそれもあるので好ましくない。
【００５０】
本発明硬化に使用される光源としては、組成物中の開始剤の感光波長領域に分光分布を有しかつ光反応を生起し得る強度の光照射ができる光源であればよく、キセノンランプ、ハロゲンランプ、白熱灯、メタルハライドランプ、太陽光等を使用することができる。開始剤の感光波長に適合させるために、二種以上の光源を併用することもできる。
【００５１】
本発明の組成物の硬化に必要な光強度は、開始剤の感光性（光感度）、重合性化合物の硬化性、充填材の種類、量、塗布する組成物の厚みなどにより異なるが、一般には１０ｍＪ／ｃｍ2 以上、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ2 以上である。光強度が低すぎると光反応が十分に進行せず、組成物の硬化反応が不十分であったり、深さ方向の硬化が不均一になったりするおそれがある。
【００５２】
また、光照射時間としては、光源の有効な波長領域、出力、照射距離、成形材料の厚さ等が異なるため、一概に規定できないが、０．０１時間以上、好ましくは０．１６時間以上照射すればよい。
【００５３】
また、光硬化反応の際には、酸素による組成物表面の重合阻害を低減するために低酸素濃度下で光照射することが好ましい。例えば、本発明の組成物を塗装した後、光透過性のフィルムなどでパテ材の表面をカバーして光照射したり、窒素、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気、あるいは空気中上記不活性ガスを組成物表面にブローすることにより酸素濃度を低減し、硬化を促進させることも可能である。
【００５４】
本発明のパテ材組成物は、基本的には一液で使用されるが、場合によっては開始剤を使用直前に混合する、従来の二液で使用することも勿論可能である。
【００５５】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。また、実施例及び比較例中の「部」は、特に記載のない場合、重量部を表す。
【００５６】
（実施例１〜３）
不飽和基当量、約３５０の不飽和ポリエステル樹脂、商品名：リゴラック２１４１［昭和高分子（株）製］（スチレン含）  ５０部、表２に記載した開始剤と充填材〔タルク（平均粒径１０μｍ）  ５０部〕を添加し、高速デゾルバーで１５分間撹拌することによって十分に混練りした。混練り直後の組成物、混練り後２５℃で３ヶ月間暗所保存していたもの及び混練り後２５℃で６ヶ月間暗所保存していたものを硬化実験に用いた。
【００５７】
（比較例１）
開始剤に紫外光重合開始剤である２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（構造式及び添加量は表２参照）を用いた以外は実施例１と同様の操作を行った。
【００５８】
（比較例２）
不飽和基当量、約３５０の不飽和ポリエステル樹脂、商品名：リゴラック２１４１［昭和高分子（株）製］（スチレン含）  ５０部、光重合開始剤であるカンファーキノン１部と還元剤Ｎ, Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン１部の組み合わせ、熱重合開始剤アゾビスイソブチロニトリル１部及び充填材〔タルク（平均粒径１０μｍ）  ５０部〕を添加し、高速デゾルバーで１５分間撹拌することによって十分に混練りした。混練り後２５℃で３ヶ月間暗所保存していたものはゲル化していた。
【００５９】
（実施例４〜５）
ビニルエステル樹脂、商品名：ＥＢＥＣＲＹＬ３７０２［ダイセルＵＣＢ（株）製］３５部、イソボルニルアクリレート１５部に、表２に記載した開始剤と充填材〔タルク（平均粒径１０μｍ）  ５０部〕を添加し、高速デゾルバーで１５分間撹拌することによって十分に混練りした。混練り直後の組成物と混練り後２５℃で３ヶ月間暗所保存していたもの及び混練り後２５℃で６ヶ月間暗所保存していたものを以下に示す方法で硬化させた。
【００６０】
（比較例３）
開始剤に紫外光重合開始剤である１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（構造式及び添加量は表２参照）を用いた以外は実施例４と同様の操作を行った。
【００６１】
（実施例６〜９）
ビニルエステル樹脂、商品名：エポキシエステル３００２Ｍ［共栄社化学（株）製］３５部、ジシクロペンテニルアクリレート１５部に、表２に記載した開始剤と充填材〔タルク（平均粒径１０μｍ）  ５０部〕を添加し、高速デゾルバーで１５分間撹拌することによって十分に混練りした。混練り直後の組成物と混練り後２５℃で３ヶ月間暗所保存していたもの及び混練り後２５℃で６ヶ月間暗所保存していたものを硬化実験に用いた。
【００６２】
（比較例４）
開始剤に紫外光重合開始剤である１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（構造式及び添加量は表２参照）を用いた以外は実施例６と同様の操作を行った。
【００６３】
（実施例１０〜１１）
ビニルエステル樹脂、商品名：ＳＰ−１５２９Ｘ［昭和高分子（株）製］２５部、シクロヘキシルアクリレート２５部、表２に記載した開始剤と充填材〔ポリスチレンゲル（平均粒径１０μｍ）  ５０部〕を添加し、高速デゾルバーで１５分間撹拌することによって十分に混練りした。混練り直後の組成物と混練り後２５℃で３ヶ月間暗所保存していたもの及び混練り後２５℃で６ヶ月間暗所保存していたものを硬化実験に用いた。
【００６４】
【表２】
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【００６５】
【表２】
0003785687.tif 000010
【００６６】
【表２】
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【００６７】
【表２】
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【００６８】
【表２】
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【００６９】
硬化実験
実施例１〜１１で製造した組成物を、深さ１ｃｍの凹型のアルミ板の凹部が埋まるまで充填し、１．５ｋＷハロゲンランプを用いて、照射距離２０ｃｍで２０分間照射し、その後室温放置した後、硬化物をアルミ板からはがし、その後表面（光照射面）と裏面（光を照射する裏側の面）の硬度をバーコール硬度計（硬質）で測定した。その結果を表３に示す。
【００７０】
比較例１、比較例３及び比較例４で製造した組成物を、深さ１ｃｍの凹型のアルミ板の凹部が埋まるまで充填し、１００Ｗの高圧水銀ランプを用いて、照射距離４ｃｍで６０分間照射し、その後室温放置した後、硬化物をアルミ板からはがし、その後表面（光照射面）と裏面（光を照射する裏側の面）の硬度をバーコール硬度計（硬質）で測定した。その結果を表３に示す。
【００７１】
【表３】
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【００７２】
試験塗板の性能試験
試験塗板の作製
実施例１〜１１で製造した組成物を、下記に示す各試験板上に５ｍｍ厚になるようにヘラで塗布し、１．５ｋＷハロゲンランプを用いて、照射距離２０ｃｍで１０分間照射した。得られた試験塗板の性能試験結果を、混練り直後の組成物を硬化した場合を表４に、混練り後２５℃で６ヶ月間暗所保存していた組成物を硬化した場合を表５示す。
【００７３】
【表４】
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【００７４】
【表５】
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【００７５】
試験板の作製：アルミ板（日本テストパネル社製，ＪＩＳ．Ｈ．４０００）、鉄板（日本テストパネル社製，ＳＰＣＣ−ＳＢ）、亜鉛処理板（日本テストパネル社製，ＳＰＧＣ）及び電気亜鉛処理板（新日鉄社製シルバーアロイ）を用い、表面を耐水ペーパー＃１５０で軽く研磨して、４種の試験板とした。
【００７６】
試験方法
▲１▼乾燥性：試験塗板の表面タック及び内部の硬化を指触にて調べた。
○：表面にタックはなく、内部も硬化良好。
△：表面に若干タックはあるものの内部は硬化良好。
×：表面にタックはないが内部は硬化不良。
【００７７】
▲２▼付着性：各試験塗板を中央部より９０°角に折り曲げた際の硬化物の付着性を調べ、次のようにして評価した。
○：硬化物が完全に付着している。
△：硬化物の付着が５０以上９０未満である。
×：硬化物の付着が５０％未満しかみられない。
【００７８】
▲３▼研磨性：試験塗板の表面を耐水ペーパー＃１５０を用いて研磨し、研磨のしやすさを比較し、次のようにして評価した。
○：軽く研磨しても、よくパテ塗膜が削れる。
△：硬化物塗膜が削れるが、研磨がやや重く感じる。
×：研磨が重く硬化物塗膜がよく削れない。
【００７９】
▲４▼耐水性：鉄板（日本テストパネル社製，ＳＰＣＣ−ＳＢ）を試験板に用いて、上記の方法で作製した試験塗板を耐水ペーパー＃２４０、＃１５０及び＃４００の順に研磨し、表面を平滑にした。研磨した硬化物塗膜上に市販アクリルウレタン塗料（商品名：ハイアート  イサム塗料社製）をスプレー塗布（乾燥膜厚５０μｍ）し、常温（２０℃）で３０分放置後、６０℃の乾燥機で６０分乾燥させた。冷却後、ブリスタリングボックス（ＲＨ９９％、温度５０℃）に４８時間入れ、塗膜表面の状態（ブリスター、直径が２ｍｍ程度の発泡）及び９０°角に折り曲げた際の硬化物の付着性を調べた。ブリスターは下記のように評価し、硬化物の付着性は▲２▼と同様に行った。
○：ブリスターの発生なし。
△：塗膜の５０％以上にブリスターが発生している。
【００８０】
実施例の結果より、厚さ１ｃｍの硬化物の硬度が表面と裏面共に発現されており、さらに、組成物の充填直後の硬化性と、充填後室温暗所で３ヶ月間保存後の硬化性が変わらないのは、本発明の実施例のみであった。また、表３の結果より、硬化物の性能（乾燥性、付着性、研磨性、耐水性）が、良好に発現されているのは、本発明の実施例のみであった。
【００８１】
【発明の効果】
本発明により、一般式（１）で表されるビスアシルホスフィンオキサイド化合物及び／または一般式（２）で表されるアシルホスフィンオキサイドを重合開始剤として用いることにより、重合性化合物、充填材からなる、表面、裏面共に充分な硬度を発現することができ、かつ室温で６ヶ月以上の保存安定性がある、一液型パテ材に好適な組成物、及び硬化方法を提供できる。