(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空槽と、
前記真空槽内に設けられた低温槽と、
前記低温槽内に設けられたキャリアと、
前記低温槽上に配置された移動子とを有し、
前記キャリアに設けられた高温超伝導体を超伝導臨界温度以下の温度に冷却し、
前記移動子に設けられた搬送用磁石に反発力を及ぼして前記移動子を浮上させ、前記キャリアを移動させて前記移動子を磁気浮上移動させる磁気浮上搬送装置であって、
前記移動子を保持して昇降移動させる昇降機構を有し、
該昇降機構には、前記真空槽内を真空状態にしたままで、前記移動子を保持する部分を昇降移動する方向とは異なる方向に移動させる位置調整機構が設けられたことを特徴とする磁気浮上搬送装置。
【請求項２】
前記位置調整機構は、前記移動子を保持する部分を水平面内の方向で移動させるように構成されたことを特徴とする請求項１記載の磁気浮上搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、移動子を磁気浮上移動させて被搬送物の搬送を行う磁気浮上搬送装置にかかり、特に、移動子の移動軸線方向の修正が容易であり、また移動子を容易に回収できる昇降機構を備えた磁気浮上搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
発明者等は、先に被搬送物の磁気浮上搬送を行う磁気浮上搬送装置を提案した。その磁気浮上搬送装置を図４の符号１０３で示す。
【０００３】
この磁気浮上搬送装置１０３は真空槽１３１を有しており、その真空槽１３１の内部には隔壁１４１が設けられ、高真空領域１３２と低真空領域１３３とに仕切られている。
【０００４】
この隔壁１４１には、略直方体形状の低温槽１１１が、当該隔壁１４１を貫くようにして設けられており、低温槽１１１の大部分が高真空領域１３２内に位置し、ごく一部分が低真空領域１３３内に位置するようにされている。
【０００５】
低温槽１１１の低真空領域１３３内部には冷却装置１２３が配置され、また、室温室１２１が設けられており、該室温室１２１内部には、モーター１２４が配置されている。また、この低真空領域１３３内には接続細管１２２が設けられ、該接続細管１２２によって、低温槽１１１と室温槽１２１との内部空間が接続されている。
【０００６】
真空槽１３１の外部には、支柱１５７1、１５７2が立設されており、その上端部分には、昇降機構１０５1、１０５2の有するプレート１５６1、１５６2が水平に固定されている。
【０００７】
前記プレート１５６1、１５６2には、ねじナット１５５1、１５５2とねじシャフト１５４1、１５４2とで構成されたねじ機構が設けられており、ねじシャフト１５４1、１５４2は鉛直になるようにプレート１５６1、１５６2に挿通されている。ねじシャフト１５４1、１５４2の下端部分には、真空隔壁板１５３1、１５３2が水平になるように、その表面が固定されている。
【０００８】
真空槽１３１の上部には、孔１５８1、１５８2が設けられ、その孔１５８1、１５８2と前記真空隔壁板１５３1、１５３2との間には、ベローズ１５２1、１５２2が設けられ、真空槽１３１内に大気が侵入しないように構成されている。
【０００９】
前記真空隔壁板１５３1、１５３2の裏面には、連結棒１５０1、１５０2が鉛直に固定されており、その下端部分には、ハンガー１５９1、１５９2が設けられている。該ハンガー１５９1、１５９2は移動子１０２を乗せられるように構成されており、その状態で前記ねじナット１５５1、１５５2を回転させると、ハンガー１５９1、１５９2とともに移動子１０２を昇降できるように構成されている。
【００１０】
低温槽１１１の上には、搬送用磁石１１８1、１１８2と搬送アーム１３５とを有し、該搬送アーム１３５先端に被搬送物１３６を載置できるように構成された移動子１０２が配置されている。他方、低温槽１１１の内部には高温超伝導体１０８1、１０８2を有するキャリア１１２が配置されている。
【００１１】
この高温超伝導体１０８1、１０８2の中心間の間隔は、搬送用磁石１１８1、１１８2の中心間の間隔と同じになるようにされている。また、高温超伝導体１０８1、１０８2の中心同士を結ぶ直線は、キャリア１１２が移動する方向に向くように構成されている。
【００１２】
以上の構成の従来技術の磁気浮上搬送装置１０３によって被搬送物１３６の搬送を行う場合を説明する。
【００１３】
先ず、搬送を行う前に移動子１０２が移動する方向を調節するため、真空槽１１１内に大気を導入し、室温の状態でキャリア１１２と移動子１０２とを対向させ、搬送用磁石１１８1、１１８2の中心が高温超伝導体１０８1、１０８2の中心を通る鉛直線上に位置するようにしてハンガー１５０1、１５０2に乗せる。
【００１４】
次に、真空槽１３１内を真空排気して高真空状態にした後、ねじナット１５５1、１５５2を回転させて移動子１０２を昇降させ、低温槽１１１から所定の高さのところで保持しておく。
【００１５】
その状態で冷却装置１２３を起動し、冷却パイプ１１３によって低温槽１１１内に充填された冷却媒体ガスを冷却する。
【００１６】
前記冷却媒体ガスによって高温超伝導体１０８1、１０８2が超伝導臨界温度以下の温度にされた後、ねじナット１５５1、１５５2を回してキャリア１０２を降下させて行くと、高温超伝導体１０８1、１０８2から搬送用磁石１１８1、１１８2に及ぼされる反発力による浮上力と、移動子１０２全体の加重とが釣り合うところで移動子１０２が磁気浮上する。
【００１７】
移動子１０２が磁気浮上した状態でモーター１２４を起動し、接続細管１２２に挿入された回転シャフト１１７を回転させ、ボールねじ１１４によってキャリア１１２を移動させると、高温超伝導体１０８1、１０８2の拘束力によって搬送用磁石１１８1、１１８2がキャリア１１２の動きに追随して移動され、かくて移動子１０２の磁気浮上移動が行われる。
【００１８】
その磁気浮上移動により、搬送アーム１３５先端に載置した被搬送物１３６を、搬送先である測定装置１６０内に設けられた搬出入室１６１内に搬入し、その内部に設けられたピックアップ機構(図示せず)によって持ち上げた後、該搬出入室１６１内から搬送アーム１３５を抜き出し、真空槽１３１と測定装置１６０との間の仕切バルブを閉じ、被搬送物１３６の搬送作業を終了する。
【００１９】
このような磁気浮上搬送装置１０３では、移動子１０２を非接触で移動できることから、接触搬送によるパーティクル発生を嫌う高精度分析技術等、超清浄雰囲気を必要とする技術分野では広く使用されるに到っている。
【００２０】
しかしながら、従来技術の昇降機構１０５1、１０５2では、移動子１０２を昇降移動させることしかできない。従って、移動子１０２の移動軸線の向きが不正確であり、正しい方向からずれていた場合には、被搬送物１３６を正確な位置に搬送できなくなってしまう。
【００２１】
かかる場合、搬送アーム１３５を搬出入室１６１内に挿入し、その先端の位置を観察しながら低温槽１１１を動かせば、磁気浮上をしている移動子１０２は低温槽１１１の動きに追随して動かすことができるので、それによって移動子１０２の移動方向のずれ修正を行うことができる。
【００２２】
しかしながら移動子１０２のずれ量が、低温槽１１１を動かすことで修正できる範囲を超えている場合がある。そのようにずれが大きいときは、一旦アーム１３５を搬出入室１６１から抜き出し、移動子１０２を所定位置に戻した後、昇降機構１０５1、１０５2を動作させ、ハンガー１５９1、１５９2によって移動子１０２を持ち上げ、次いで低温槽１１１のを常温まで昇温させた後、真空槽１３１内に大気を導入して移動子１０２を配置し直していた。
【００２３】
そのような移動子１０２の再配置を行った後、再度真空槽１３１内を高真空状態まで真空排気するとともに低温槽１１１内を冷却し、高温超伝導体１０８1、１０８2を超伝導臨界温度以下の温度にして移動子１０２を磁気浮上移動させていた。
【００２４】
このように、移動子１０２の正確な位置合わせを行うためには、真空槽１３１内が良質な高真空状態に保たれている場合であっても、真空槽１３１内を真空から大気に戻さなければならない。しかし、真空槽１３１内に大気を導入し、移動子１０２を再配置する際にも、低温槽１１１内にある高温超伝導体１０８1、１０８2の位置は視認できない。従って、移動子１０２を再配置しても、そのずれ量が低温槽１１１を動かすことで修正できる程度まで小さくなっているとは限らない。再配置によっても被搬送物１３６を正しい位置に搬送できない場合は、再度真空槽１３１内に大気を導入し、移動子１０２の再々配置を行わなければならず、真空槽１３１内を高真空状態に戻すために長時間を要していた。
【００２５】
ところで、このような移動子１０２の移動軸線のずれは、搬送用磁石１１８1、１１８2の中心が、高温超伝導体１０８1、１０８2の中心を通る鉛直線上に位置せず、ずれている場合に生じてしまう。そのようなずれは、高温超伝導体１０８1、１０８2から搬送用磁石１１８1、１１８2に及ぼす反発力と拘束力の大きさに影響を与えるため、反発力と拘束力が弱まった場合は移動子１０２の磁気浮上移動が不安定になってしまうという問題がある。
【００２６】
かかる場合、中心同士のずれをそのままにして、低温槽１１１の向きを変えて移動方向を修正するだけでは、搬送用磁石１１８1、１１８2と高温超伝導体１０８1、１０８2との相対的な位置関係は変わらないため、中心位置同士のずれ量は小さくならず、移動子１０２の磁気浮上移動を安定にすることができないという問題があった。
【００２７】
更に、そのような不安定な磁気浮上移動では、その最中に高温超伝導体１０８1、１０８2の温度が上昇し、搬送用磁石１０８1、１０８2に及ぼされる反発力と拘束力が弱まった場合には、移動子１０２が低温槽１１１上に落下してしまう。
【００２８】
かかる事態を回復させるためには、先ず、低温槽１１１内部を高温超伝導体１０８1、１０８2の超伝導臨界温度以上の温度まで昇温させた後、キャリア１１２をその行程の一端まで移動させ、次いで、高温超伝導体１０８1、１０８2を超伝導臨界温度以下の温度まで冷却した後、移動子１０２をキャリア１１２に追随移動させ、移動子１０２を所定位置まで戻した後、その移動子１０２を昇降機構１０５1、１０５2によって持ち上げて回収し、真空槽１３１内に大気を導入し、移動子１０２の再配置を行っていた。
【００２９】
しかしながら移動子１０２が落下した位置が移動軸線の方向に対して大きくずれていると、図４のＩＩ-ＩＩ線断面側から見た図５に示したように、ハンガー１５９1、１５９2が移動子１０２に当たってしまい、従来技術の昇降機構１０５1、１０５2によっては移動子１０２を回収できなくなってしまうという問題が生じてしまった。
【００３０】
他方、真空槽１３１内に大気を導入せず、移動子１０２が磁気浮上した状態で低温槽１１１を水平面内で動かし、移動子１０２のずれを修正する場合には、修正後、移動子１０２を磁気浮上移動させようとしても、図６(図５と同じ方向から見た図)に示すように、移動子１０２がハンガー１５９1、１５９2に当たってしまい、磁気浮上移動が行えなくなる場合もあった。
【００３１】
以上説明したように、従来技術の磁気浮上搬送装置１０３では、移動子１０２の移動方向の調整が困難であり、移動子１０２を配置する度に真空槽１３１内に大気を導入し、再び真空排気して良質な高真空状態にするという作業を繰り返さなければならず、作業に長時間を要し、その解決が望まれていた。
【００３２】
【発明が解決しようとする課題】
この発明の目的は、従来の上記諸問題を解決して、真空槽内に大気を導入しなくても移動子の位置を調整することができる磁気浮上搬送装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、落下した移動子を確実に回収できる磁気浮上搬送装置、移動子の磁気浮上移動を確実に行うことができる磁気浮上搬送装置を提供することにある。
【００３３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、真空槽と、前記真空槽内に設けられた低温槽と、前記低温槽内に設けられたキャリアと、前記低温槽上に配置された移動子とを有し、前記キャリアに設けられた高温超伝導体を超伝導臨界温度以下の温度に冷却し、前記移動子に設けられた搬送用磁石に反発力と拘束力を及ぼして前記移動子を浮上させ、前記キャリアを移動させて前記移動子を磁気浮上移動させる磁気浮上搬送装置であって、前記移動子を保持して昇降移動させる昇降機構を有し、該昇降機構には、前記真空槽内を真空状態にしたままで、前記移動子を保持する部分を、昇降移動する方向とは異なる方向に移動させる位置調整機構が設けられたことを特徴とする。
【００３４】
その場合、請求項２記載の発明のように、前記位置調整機構は、前記移動子を保持する部分を水平面内の方向で移動させるのが好ましい。
【００３５】
上述した本発明の構成によれば、低温槽内に移動可能に設けられたキャリアをその超伝導臨界温度以下の温度まで冷却し、該キャリアに設けた高温超伝導体から低温槽上に配置した移動子に設けた搬送用磁石に反発力を及ぼし、移動子を磁気浮上させる。そして、キャリアを移動させ、拘束力によってキャリアの移動方向と同じ方向に移動子を追随移動させ、移動子に配置した被搬送物の磁気浮上搬送を行う。
【００３６】
その磁気浮上搬送は、真空槽内を高真空状態にし、清浄な雰囲気で行う必要があるが、移動子を保持して昇降させる昇降機構に、真空槽内の真空状態を維持したまま、昇降する方向とは異なる方向、特に水平面内の方向で、昇降機構の移動子を保持する部分を移動さる位置調整機構を設けたので、移動子の移動方向を修正する際にも、真空槽内に大気を導入する必要がなく、清浄な雰囲気を維持することができる。
【００３７】
また、その位置調整機構を用いれば、落下した移動子を確実に回収でき、また、移動子が磁気浮上移動する際には昇降機構の移動子を保持する部分が邪魔にならないようにすることができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下、この発明装置の好適な実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図１を参照し、符号３は、本発明の磁気浮上搬送装置の一例であり、真空槽３１と低温槽１１とを有している。
【００３９】
真空槽３１は直径約１５ｃｍの円筒形形状をしたステンレススチールで構成されており、その内部には隔壁４１が設けられ、内部空間が高真空領域３２と低真空領域３３とに仕切られている。
【００４０】
低温槽１１は、長手方向の全長が約２ｍの略直方体形状に成形されたステンレススチールで構成されており、その低温槽１１は隔壁４１に、当該隔壁４１を貫くようにして設けられており、その大部分が高真空領域３２内に位置し、ごく一部分が低真空領域３３内に位置するようにされている。
【００４１】
低真空領域３３内には冷却装置２３が配置され、また、室温室２１が設けられており、その室温室２１内にはモーター２４が配置されている。また、この低真空領域３３内には、接続細管２２も配置されており、その接続細管２２によって、室温室２１の内部空間と低温槽１１の内部空間とが接続されている。
【００４２】
室温室２１は大気と遮断できるように構成されており、その室温室２１にガス導入孔が設置され、低温槽１１内に冷却媒体ガス(ヘリウムガス)が充填されており、その低温槽１１と、接続細管２２と、室温室２１の各内部空間に同じ冷却媒体ガスが充満されている。
【００４３】
低温槽１１内には、冷却装置２３に接続された冷却パイプ１３が引き回されるとともにキャリア１２が配置されており、前記冷却装置２３により、前記冷却パイプ１３内部に封入された冷却媒体(ヘリウムガス)を冷却しながら循環させると、低温槽１１内に充満された冷却媒体ガスが冷却され、その冷却媒体ガスを介してキャリア１２が冷却され、該キャリア１２に設けられた二個の高温超伝導体８1、８2を超伝導臨界温度以下の温度にできるように構成されている。その冷却の際には、低温槽１１周囲に設けられた熱遮蔽板３７によって、真空槽３１壁面からの熱輻射が低温槽１１に直接到達せず、冷却効率が高まるようにされている。
【００４４】
また、低温槽１１の底面には支持基板１６が設けられ、該支持基板１６上にはボールねじ１４が水平に支持されている。前記キャリア１２は、このボールねじ１４の可動部分に固定されるとともに、低温槽１１の壁面に水平に配設されたリニアガイド１０に移動可能に取り付けられている。
【００４５】
前記モーター２４の回転軸は回転シャフト１７に取り付けられ、その回転シャフト１７は、接続細管２２内に挿通されて、前記ボールねじ１４のシャフト部分に取り付けられており、モーター２４を動作させ、回転シャフト１７を回転させると、キャリア１２はリニアガイド１０に沿った一定の移動軸線方向に往復移動できるようにされている。
【００４６】
真空槽３１の外部には、二本の支柱５７1、５７2がキャリア１２の移動方向と平行な方向に配置され、該真空槽３１の槽壁に立設されており、各支柱５７1、５７2の上端部分には、昇降機構５1、５2が有するプレート５６1、５６2が水平に固定されている。
【００４７】
前記プレート５６1、５６2上には、ねじナット５５1、５５2が回転可能に設けられており、該ねじナット５５1、５５2には、ねじシャフト５４1、５４2が螺合され、プレート５６1、５６2に貫通されており、ねじナット５５1、５2を回転させるとねじシャフト５４1、５４2を鉛直に上下移動できるように構成されている。
【００４８】
このねじシャフト５４1、５４2の下端部分には、Ｘステージで構成された位置調整機構７1、７2が配置され、その不動部分にあたる表面が固定されており、前記各位置調整機構７1、７2の可動部分に当たる裏面には、気体を通さない真空隔壁板５３1、５３2の表面が密着固定され、キャリア１２の移動軸線方向とは垂直な方向にスライド可能に構成されている。
【００４９】
真空槽３１の上部には孔５８1、５８2が開けられており、該孔５８1、５８2と前記真空隔壁板５３1、５３2との間には、伸縮自在のベローズ５２1、５２2が設けられ、真空槽３１内に大気が侵入しないように構成され、高真空状態を維持できるようにされている。
【００５０】
前記真空隔壁板５３1、５３2の裏面には、連結棒５０1、５０2が鉛直に固定されており、各連結棒５０1、５０2の下端部分は低温槽１１と熱遮蔽板３７との間に位置するようにされ、その部分には、ハンガー５９1、５９2が設けられている。
【００５１】
このハンガー５９1、５９2は、キャリア１２が移動する方向に沿う低温槽１１の長手方向に配列されており、低温槽１１の長手方向から移動子２を挿入するとその移動子２を、二個のハンガー５９1、５９2に亘って乗せられるように構成されている。
【００５２】
該移動子２には、所定間隔で固定された二個の搬送用磁石１８1、１８2が設けられており、他方、前述したキャリア１２には、前記搬送用磁石１８1、１８2と同じ中心間隔で固定された二個の高温超伝導体８1、８2が設けられている。
【００５３】
この移動子２は、低温槽１１の長手方向に伸びる搬送アーム３５を有しており、その先端部分はＵ字形状に成形され、分析試料が納められた被搬送物３６を載置できるように構成されている。
【００５４】
この移動子２による被搬送物３６の搬送手順を説明する。
先ず、キャリア１２を所定位置に置き、ハンガー５９1、５９2に移動子２を保持させた状態で真空槽３１内を真空排気する。そして移動子２の移動方向を調整するために、位置調整機構７1、７2をスライドさせて移動子２を動かし、高温超伝導体８1、８2の中心を通る鉛直線上に搬送用磁石１８1、１８2の中心が、それぞれ正確に位置するようにする。
【００５５】
次に、ねじナット５５1、５５2を回して移動子２を上下に動かし、移動子２が低温槽１１と非接触となる所定の高さに保持して搬送用磁石１８1、１８2の磁束が高温超伝導体８1、８2に及ぶようにしておく。
【００５６】
その状態で冷却装置２３を動作させ、冷却パイプ１３によって低温槽１１内に充満された冷却媒体ガスを介してキャリア１２を冷却し、高温超伝導体８1、８2を高温超伝導臨界温度以下の温度にする。
【００５７】
次いで昇降機構５1、５2のねじナット５５1、５５2を回転させ、ハンガー５９1、５９2を下降させて行くと、それに保持された移動子２は、高温超伝導体８1、８2の反発力によって搬送用磁石１８1、１８2に加えられた浮上力と、移動子２全体の荷重とが釣り合うところで磁気浮上する。
【００５８】
その状態からハンガー５９1、５９2をわずかに降下させ、ハンガー５９1、５９2と移動子２とを非接触の状態にした後、モーター２４を動作させてキャリア１２を移動させると、高温超伝導体の拘束力によって、移動子２がキャリア１２に追随して移動され、かくて搬送アーム３５先端に載置された被搬送物３６の磁気浮上搬送が行われる。
【００５９】
このように、真空槽３１内に大気を導入しなくても移動子２の移動方向を調節することができるので、簡単な作業で被搬送物３６を正確な位置に搬送することができる。
【００６０】
ところで、この実施例の磁気浮上搬送装置３において、移動子２を磁気浮上移動させている最中に、低温槽１１内の温度が上昇し、高温超伝導体８1、８2が及ぼす磁気反発力が弱まるか、失われるかしてしまった場合には、移動子２は低温槽１１上に落下してしまう。
【００６１】
このときは、先ず、低温槽１１内の温度を一旦常温まで上昇させた後、キャリア１２をその行程の一端まで移動させ、再度高温超伝導体８1、８2を超伝導臨界温度以下の温度まで冷却した後、キャリア１２を移動させ、移動子２をキャリア１２の移動に追随移動させて所定の位置まで戻す必要がある。
【００６２】
しかしながら移動子２が落下の際にその移動軸線から大きくずれてしまい、それを昇降機構５1、５2の位置に戻すことはできても、磁気浮上搬送を行ったときの状態のハンガー５９1、５９2では保持できなくなっている場合がある。
【００６３】
本発明の磁気浮上搬送装置３では、そのような事態を回復するために、図１のＩ-Ｉ線断面側から見た図２に示すように、位置調整機構７1、７2に設けられた不動部分に当たる固定ステージ７１1、７１2に対して、可動部分に当たる可動ステージ７２1、７２2を水平面内でスライドさせ、ハンガー５９1、５９2を移動子２が移動する方向とは垂直な方向に動かすと、ハンガー５９1、５９2内に移動子２を納めて回収することができる。
【００６４】
他方、当初から移動子２の移動方向がずれており、そのずれを軸調整機構(図示せず)を用い、低温槽１１を動かして修正した場合には、ハンガー５９1、５９2の上下動の移動軸線と、移動子２の磁気浮上移動方向の移動軸線とが交差しなくなってしまい、そのままの状態ではハンガー５９1、５９2内に移動子２を収納できなくなってしまう。その場合にも、図３(図２と同じ方向から見た図)に示すように、可動ステージ７２1、７２2をスライドさせ、ハンガー５９1、５９2の位置を調節すれば、移動子２が各ハンガー５９1、５９2に当たることはなく、磁気浮上移動が可能となる。
【００６５】
以上は、Ｘステージで構成された位置調整機構７1、７2を用い、移動子２の移動方向とは垂直な方向にハンガー５９1、５９2を動かして位置調整を行う場合を説明したが、Ｘステージに代え、Ｘ-Ｙステージを用いればハンガー５９1、５９2を二方向に動かすことができるので、位置調整が一層簡単になって都合がよい。
【００６６】
また、上記位置調整機構７1、７2は真空槽３１の外部に配置したが、本発明はそれに限定されるものではなく、真空槽３１内の高真空状態を維持したままハンガー５９1、５９2の位置を調整することができれば、位置調整機構を真空槽３１内に設けることも可能である。但し、ダスト発生の防止や取付と操作の容易性からは真空槽３１の外部に設けることが望ましい。
【００６７】
なお、上記実施例は、搬送用磁石と高温超伝導体とを二個ずつ用いたが、その数に限定されるものではなく、増減させることは自由である。
【００６８】
【発明の効果】
真空槽内に大気を導入しなくても移動子の位置を調整することができるので、移動子の移動軸線方向の調節を短時間で簡単に行うことができる。
低温槽上に落下した移動子を確実に回収できるので、真空槽内に大気を導入して移動子を回収する必要がない。
また、ハンガーの位置を移動子が当たらないように調整できるので、磁気浮上搬送を確実に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施例の磁気浮上搬送装置を説明するための図
【図２】  その位置調整機構で移動子を回収する場合を説明するための図
【図３】  その位置調整機構でハンガーに移動子が当たらないようにする場合を説明するための図
【図４】  従来技術の磁気浮上搬送装置を説明するための図
【図５】  その位置調整機構で移動子を回収する場合を説明するための図
【図６】  その位置調整機構でハンガーに移動子が当たらないようにする場合を説明するための図
【符号の説明】
２…移動子    ３…磁気浮上搬送装置    ５1、５2…昇降機構
７1、７2…位置調整機構    ８1、８2…高温超伝導体    １１…低温槽
１２…キャリア    １８1、１８2…搬送用磁石    ３１…真空槽
【図１】
0003739475.tif 000002
【図２】
0003739475.tif 000003
【図３】
0003739475.tif 000004
【図４】
0003739475.tif 000005
【図５】
0003739475.tif 000006
【図６】
0003739475.tif 000007