(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．１〜１０．０重量％のポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体；及び０．１〜１０．０重量％の一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）：
【化１】
0003795277.tif 000009
〔式中、
Ｘは、Ｒ又はＡを表し；
Ａは、式（IIａ）、（IIｂ）又は（IIｃ）：
【化２】
0003795277.tif 000010
で示される基を表し；
Ｒは、水素、Ｃ1-6−アルキル又はフェニルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素、ヒドロキシ、Ｃ1-6−アルキル又はＣ1-6−アルコキシを表し；
Ｒ3は、Ｃ1-6−アルキルを表し；
Ｒ4は、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
ｒは、０〜２５０の値であり；
ｓは、０〜２０の値であり；
ｒ＋ｓは、少なくとも３の値であり；
ｔは、０〜１０の値であり；
ｖは、１〜１０の値であり；そして
ｖ＋ｔは、少なくとも３の値であり；
ｎは、１〜６の値である（ただし、ｓが０である場合には、少なくとも１つのＸはＡであり、そしてｓ＞０である場合には、ＸはＲである）〕で示される線状又は環状ポリシロキサン化合物を含むことを特徴とする、シャンプー組成物。
【請求項２】
Ａが、式（IIａ）又は（IIｂ）の基を表す、請求項１記載のシャンプー組成物。
【請求項３】
式（IIａ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位対式（IIｂ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位の比が、１：１〜１９：１である、請求項２記載のシャンプー組成物。
【請求項４】
式（IIａ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位対式（IIｂ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位の比が、２：１〜９：１である、請求項２記載のシャンプー組成物。
【請求項５】
式（IIａ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位対式（IIｂ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位の比が、４：１である、請求項２記載のシャンプー組成物。
【請求項６】
Ｒが、メチルを表す、請求項１〜５のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項７】
Ｒ1及びＲ2が、各々独立に、水素、メトキシ又はエトキシを表す、請求項１〜６のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項８】
Ｒ1及びＲ2が、水素を表す、請求項７記載のシャンプー組成物。
【請求項９】
Ｒ1及びＲ2の一方が、水素を表し、かつもう一方が、メトキシ又はエトキシを表す、請求項７記載のシャンプー組成物。
【請求項１０】
Ｒ3が、メチル又はエチルを表す、請求項１〜９のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１１】
Ｒ4が、水素又はメチルを表す、請求項１〜１０のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１２】
Ｒ5及びＲ6が、水素を表す、請求項１〜１１のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１３】
ｎが、１である、請求項１〜１２のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１４】
ポリシロキサン化合物の濃度が、０．１〜３．０重量％であり、かつポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体の濃度が、０．１〜５．０重量％である、請求項１〜１３のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１５】
ポリシロキサン化合物の濃度が、０．１〜３．０重量％であり、かつポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体の濃度が、０．５〜２重量％である、請求項１〜１３のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１６】
ポリシロキサン化合物が、一般式（Ｉａ）を有しており、かつ
Ａが、式（IIａ）又は（IIｂ）の基を表し；
Ｘが、メチルを表し；
Ｒが、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2が、水素、メトキシ又はエトキシを表すか、あるいはＲ1及びＲ2の一方が、水素であり、かつもう一方が、メトキシ又はエトキシであり；
Ｒ3が、メチル又はエチルを表し；
Ｒ4が、水素又はメチルを表し；
Ｒ5及びＲ6が、水素を表し；
ｒが、５〜１５０であり；
ｓが、２〜１０であり；
ｎが、１の値である、請求項１〜１５のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【請求項１７】
Ｒ1及びＲ2が、水素を表し；
Ｒ3が、エチルを表し；
Ｒ4が、水素を表し；
ｒが、６０の統計的平均値であり；
ｓが、４の統計的平均値である、請求項１６記載のシャンプー組成物。
【請求項１８】
該組成物が、更に一般的なＵＶ−Ａフィルター及び／又はＵＶ−Ｂフィルターを含有する、請求項１〜１７のいずれか１項記載のシャンプー組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、毛髪を洗浄するとき除去されることに抵抗性の遮光剤を含有するシャンプー組成物に関する。
【０００２】
更に詳細には、本発明は、沈着増強剤及び２８０〜３２０nmの間の波長の紫外線（ＵＶ−Ｂ）に対する毛髪の保護用の遮光剤を含有するシャンプー組成物に関する。
【０００３】
ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０３８６８９８ Ａ１は、高レベルの遮光剤を、アニオン性界面活性剤、沈着増強剤としてポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体及びｐ−メトキシケイ皮酸型の水不溶性遮光剤を含有するシャンプーを用いて、毛髪表面に沈着させることを教示している。
【０００４】
今やシャンプー組成物中の遮光剤の染着性（substantivity）は、上に引用されたヨーロッパ特許に記載されるｐ−メトキシケイ皮酸型の遮光剤の代わりに、親油性ポリシロキサン型ＵＶ−Ｂ遮蔽剤を使用することにより改善されることが見い出された。
【０００５】
「染着性（substantivity）」という用語は、本明細書の文脈において、毛髪からの除去に対する抵抗性を意味する。染着性は、反復される水中暴露の下で、公表される保護の程度がいかに有効に維持されるかを反映する、遮光剤の特性を示している。
【０００６】
即ち本発明は、約０．１〜約１０．０重量％のポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体；及び約０．１〜約１０．０重量％の一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）：
【０００７】
【化３】
0003795277.tif 000002
【０００８】
〔式中、
Ｘは、Ｒ又はＡを表し；
Ａは、式（IIａ）、（IIｂ）又は（IIｃ）：
【０００９】
【化４】
0003795277.tif 000003
【００１０】
で示される基を表し；
Ｒは、水素、Ｃ1-6−アルキル又はフェニルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素、ヒドロキシ、Ｃ1-6−アルキル又はＣ1-6−アルコキシを表し；
Ｒ3は、Ｃ1-6−アルキルを表し；
Ｒ4は、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
ｒは、０〜２５０の値であり；
ｓは、０〜２０の値であり；
ｒ＋ｓは、少なくとも３の値であり；
ｔは、０〜１０の値であり；
ｖは、０〜１０の値であり；そして
ｖ＋ｔは、少なくとも３の値であり；
ｎは、１〜６の値である（ただし、ｓが０である場合には、少なくとも１つのＸはＡであり、そしてｓ＞０である場合には、ＸはＲである）〕で示される線状又は環状ポリシロキサン化合物を含むことを特徴とする、シャンプー組成物に関する。
【００１１】
「Ｃ1-6−アルキル」という用語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、ペンチル及びネオペンチルのような基を意味する。「Ｃ1-6−アルコキシ」という用語は、それらに対応するアルコキシ基を意味する。
【００１２】
残基Ｒは、好ましくはメチルである。
【００１３】
残基Ｒ1及びＲ2は、好ましくは水素、メトキシ又はエトキシ、更に好ましくは水素であるか、あるいはＲ1及びＲ2の一方は、水素であり、かつもう一方は、メトキシ又はエトキシである。
【００１４】
残基Ｒ3は、好ましくはメチル又はエチル、更に好ましくはエチルである。
【００１５】
好ましくは、Ｒ4は、水素又はメチルであり、Ｒ5及びＲ6は、水素であり、そしてｎは、１である。
【００１６】
一般式（IIａ）及び（IIｂ）のＡ基を有するポリシロキサン化合物及びこれらの調製法は、ヨーロッパ特許ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１に記載されている。これらのポリシロキサン化合物は好ましい。
【００１７】
一般式（IIｃ）のＡ基を有するポリシロキサン化合物及びこれらの調製法は、ヨーロッパ特許ＥＰ ０３５８５８４ Ｂ１に記載されている。
【００１８】
式（Ｉａ）の線状ポリシロキサン化合物において、残基Ａを有する発色団は、ポリシロキサンの末端基に連結して（Ｘ＝Ａ）いても、又は統計的に分布して（Ｘ＝Ｒ）いてもよい。
【００１９】
残基Ａを有する発色団が統計的に分布している、線状ポリシロキサン化合物は好ましい。好ましい該ポリシロキサン化合物は、少なくとも１つの発色団残基を有する単位を有しており（ｓ＝１）、好ましくはｓは、約２〜約１０の値、更に好ましくは約４の統計的平均値である。ポリシロキサン化合物中に存在する他のシリコーン単位の数（ｒ）は、好ましくは約５〜約１５０、更に好ましくは約６０の統計的平均値である。
【００２０】
全シロキサン単位の２０％以下、好ましくは１０％未満が、発色団残基を有する単位である、ポリシロキサン化合物が、化粧品としての性質に関して好ましい。
【００２１】
式（IIａ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位対式（IIｂ）の発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位の比は、約１：１〜約１９：１、好ましくは約２：１〜約９：１、更に好ましくは約４：１である。
【００２２】
シャンプー組成物中のポリシロキサン化合物の濃度は、好ましくは約０．１〜約１０．０重量％、更に好ましくは約０．１〜約３．０重量％である。
【００２３】
グアー植物の種子の主成分であるポリガラクトマンナンガムは、既知の安定化剤、増粘剤及び塗膜形成剤である。グアー植物抽出物の水溶性画分は、（１→６）−結合により結合したα−Ｄ−ガラクトピラノシル単位と共に（１→４）−β−Ｄ−マンノピラノシル単位の線状鎖よりなる。ポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体は、ポリガラクトマンナンのヒドロキシル基と反応性第４級アンモニウム化合物との間の反応により得られる。適切な誘導体の一例は、商品名コスメディア・グアー（COSMEDIA GUAR）Ｃ２６１の下でヘンケル（Henkel）から市販されているヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムグアーである。
【００２４】
ポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体の濃度は、好ましくは約０．１〜約１０．０重量％、更に好ましくは約０．１〜約５．０重量％、最も好ましくは約０．５〜約２重量％である。
【００２５】
上で定義されるようなポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体対ポリシロキサン化合物の比は、決定的に重要ではない。例えばこの比は、約１：１０〜約１０：１、好ましくは約１：１である。
【００２６】
シャンプー組成物の主成分は、蓄積した表面油分を乳化し、かつこれらを濯ぎ工程で除去する、水／アニオン性界面活性剤システムである。このため本シャンプー組成物は更に、アニオン性界面活性剤を含むことを特徴とする。
【００２７】
適切なアニオン性界面活性剤は、Ｃ10-18−アルキルエーテル硫酸塩、Ｃ10-18−アルキル硫酸塩、硫酸脂肪族アルコールエステル及びこれらの塩（例えば、アンモニウム、ナトリウム、カリウム又はモノ−、ジ−若しくはトリエタノールアミン塩）である。Ｃ10-18−アルキルエーテル硫酸塩の例は、硫酸ラウリルエーテルナトリウム、硫酸ラウリルエーテルカリウム、硫酸ラウリルエーテルアンモニウムである。Ｃ10-18−アルキル硫酸塩の例は、ラウリル硫酸ナトリウム（ナトリウムラウレススルファート（Sodium Laureth Sulfate））、ラウリル硫酸カリウム及びラウリル硫酸アンモニウムである。ナトリウムラウレススルファートは、ヘンケルから商品名テキサポン（TEXAPON）Ｎ２５及びテキサポンＮ２８の下で入手可能である。
【００２８】
更に別の適切なアニオン性界面活性剤は、α−オレフィンスルホン酸塩、アルキルモノグリセリドスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルサルコシン酸塩、アルキルモノグリセリド硫酸塩、モノアルキルエーテルスルホコハク酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩などを含む。シャンプー中に存在するアニオン性界面活性剤の量は、遮光剤の染着性に影響する。アニオン性界面活性剤は、約５〜約４０重量％、好ましくは約１５重量％の範囲内の濃度で使用することができる。
【００２９】
シャンプー組成物はまた、シャンプーにおいて普通に使用される他の成分を含んでいてもよい。そのような成分の例は、以下のものがある：
【００３０】
Ｃ10-18−アルキル若しくは−アルキルアミド−プロピルベタイン、Ｃ10-18−脂肪酸アルカノールアミド又はこれらの混合物のような、共同界面活性剤。このような共同界面活性剤の例は、商品名テゴ−ベタイン（TEGO-BETAIN）Ｌ７の下でＴｈ．ゴルトシュミット（Th. Goldschmidt）から、又は商品名デハイトン（DEHYTON）Ｋの下でヘンケル（Henkel）から入手可能なコカミドプロピルベタインである；
【００３１】
例えば、ジアルカノールアミンアルキルホスファート（アンフィゾール（Amphisols））又はポリオキシエチレン誘導体、例えば、ＩＣＩから商品名トゥイーン８０の下で入手可能なポリソルベート８０のような、乳化剤。乳化剤は、上述のＵＶフィルターの染着性を増大させる助けとなる；
【００３２】
例えば、アライド・コロイド（Allied Colloids）から商品名サルケア（SALCARE）ＳＣ−１０の下で入手可能なポリクォーターニウム−７（Polyquaternium-7）のような、カチオン性ポリマー。カチオン性ポリマーもまた、上述のＵＶフィルターの染着性を増大させる助けとなる；
【００３３】
例えば、ヘンケル（Henkel）から入手可能なユーパーラン（EUPERLAN）ＰＫ−３０００ ＯＫ（ジステアリン酸グリコール、グリセリン及びラウレス（Laureth）−４を含有する製品）のような、パール化剤（Pearlizers）；
【００３４】
例えば、商品名セチオール（CETIOL）HEの下でヘンケル（Henkel）から入手可能なＰＥＧ−７グリセリルココアート（Glyceryl Cocoate）のようなリファッティング剤（Refatting agent）；
【００３５】
例えば、ヘキスト（Hoechst）から商品名ゲナポール（GENAPOL）Ｌ−３の下で入手可能なラウレス−３（Laureth-3）又はヘンケル（Henkel）から商品名デハイドール（DEHYDOL）ＬＳ−２の下で入手可能なラウレス−２のような粘度調整剤。
【００３６】
上に列挙される一般に使用される成分は、約０．１〜約２０．０重量％の量で加えることができる。
【００３７】
シャンプーにおいて一般に使用される更に別の成分の例は、起泡増進剤、乳白剤、芳香剤、染料、着色料、コンディショニング剤、保存料、タンパク質、緩衝化剤である。
【００３８】
一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）のポリシロキサン化合物に加えて、本シャンプー組成物は、他の既知のＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂフィルターを約０．１〜約１０．０重量％の量で含有してもよい。
【００３９】
適切なＵＶ−Ｂフィルター、即ち、約２９０〜３２０nmの間に最大吸収のある物質は、例えば、以下の有機化合物である：
【００４０】
・  ｐ−アミノ安息香酸エチル、プロピル、ブチル及びイソブチルなどのような、ｐ−アミノ安息香酸誘導体；
・  ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル（オクトクリレン（octocrylene））、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルなどのような、アクリル酸エステル類；
・  メト硫酸メチルアニリニウムなどのような、アニリン誘導体；
・  アントラニル酸メンチルなどのような、アントラニル酸誘導体；
・  ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４などのような、ベンゾフェノン誘導体；
・  ４−メチルベンジリデンショウノウ（パラソル（PARSOL）５０００）、３−ベンジリデンショウノウ、メト硫酸ショウノウベンザルコニウム、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ、スルホベンジリデンショウノウ、スルホメチルベンジリデンショウノウ、テレフタリデンジショウノウスルホン酸などのような、ショウノウ誘導体；
・  メトキシケイ皮酸オクチル（パラソル（PARSOL）ＭＣＸ）、メトキシケイ皮酸エトキシエチル、メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン（パラソル・ヒドロ（PARSOL Hydro））、メトキシケイ皮酸イソアミルなどのような、ケイ皮酸エステル誘導体、並びにシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体；
・  トリオレイン酸ジガロイルなどのような、没食子酸；
・  ２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸及びその塩（パラソル（PARSOL）ＨＳ）のような、イミダゾール誘導体。２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸の塩は、例えば、ナトリウム−又はカリウム塩のようなアルカリ塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、第１級、第２級及び第３級アミンの塩（モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩など）である；
・  サリチル酸イソプロピルベンジル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル（ネオ・ヘリオパン（NEO HELIOPAN）ＯＳ）、サリチル酸イソオクチル、サリチル酸ホモメンチル（ホモサレート（homosalate）、ヘリオパン（HELIOPAN））などのような、サリチル酸エステル誘導体；
・  ヒドロキシジブチルフェニルベンゾトリアゾール（ケミソルブ（KEMISORB）７２）などのような、トリアゾール誘導体；
・  オクチルトリアゾン（ユヴィヌル（UVINUL）Ｔ−１５０）、ジオクチルブタミドトリアゾン（ユヴァソルブ（UVASORB）ＨＥＢ）などのような、トリアゾン誘導体；
・  ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０３５８５８４ Ｂ１、ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１及びＥＰ ０７０９０８０ Ａ１に記載されるような、ベンズマロン酸基を含有するオルガノシロキサン化合物；及び
・  例えば、微粒子化ＴｉＯ2のような、顔料。「微粒子化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒子径を意味する。ＴｉＯ2粒子はまた、例えば、酸化アルミニウム若しくはジルコニウムのような金属酸化物により、又は例えば、ポリオール、メチコン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランのような有機コーティング剤によりコーティングしてもよい。このようなコーティングは、当該分野において周知である。
【００４１】
本組成物は、更に以下のようなＵＶ−Ａフィルターを含有してもよい：
・  ４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−メタン（パラソル（PARSOL）１７８９）、ジメトキシジベンゾイルメタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなどのような、ジベンゾイルメタン誘導体；
・  ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０６９３４８３ Ａ１、ＥＰ ０７０４４３７ Ａ２、ＥＰ ０７０４４４４ Ａ１及びＥＰ ０７８０３８２ Ａ１に記載されるような、トリアジン化合物；
・  ２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール（ティノソルブ（TINOSORB）Ｍ）などのような、ベンゾトリアゾール誘導体；及び
・  例えば、微粒子化ＺｎＯのような顔料。「微粒子化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒子径を意味する。ＺｎＯ粒子はまた、例えば、酸化アルミニウム若しくはジルコニウムのような金属酸化物により、又は例えば、ポリオール、メチコン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランのような有機コーティング剤によりコーティングしてもよい。このようなコーティングは、当該分野において周知である。
【００４２】
本発明の適切なシャンプー組成物は、例えば、以下の活性成分％のレベルの成分を含有する：
アニオン性界面活性剤                〜１１．０
両性界面活性剤                      〜３．０
パール化剤                          〜２．０
増粘剤                              〜０−３．０
ＵＶフィルター                      〜０．２５−１．０
沈着増強剤                          〜０．１−３．０
脱塩水                              十分な量
【００４３】
好ましいシャンプー組成物は、
約０．１〜約１０．０重量％のポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体；及び
約０．１〜約１０．０重量％の一般式（Ｉａ）〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式（IIａ）又は（IIｂ）の基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素、メトキシ又はエトキシを表すか、あるいはＲ1及びＲ2の一方は、水素であり、かつもう一方は、メトキシ又はエトキシであり；
Ｒ3は、メチル又はエチルを表し；
Ｒ4は、水素又はメチルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、約５〜約１５０であり；
ｓは、約２〜約１０であり；
ｎは、１の値である〕の線状ポリシロキサン化合物を含むことを特徴とする。
【００４４】
更に好ましいシャンプー組成物は、
約０．１〜約１０重量％のポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体；及び
約０．１〜約１０重量％の一般式（Ｉａ）〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式（IIａ）又は（IIｂ）の基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素を表し；
Ｒ3は、エチルを表し；
Ｒ4は、水素を表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、約６０の統計的平均値であり；
ｓは、約４の統計的平均値であり；
ｎは、１の値である〕の線状ポリシロキサン化合物を含有する。
【００４５】
Ａが、式（IIａ）又は（IIｂ）の残基である、ポリシロキサン化合物（Ｉａ）又は（Ｉｂ）は、ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１に記載されるように、以下の反応スキームにより、対応するベンザルマロン酸類のシリル化により調製することができる：
【００４６】
【化５】
0003795277.tif 000004
【００４７】
〔式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、上記と同義である〕。
【００４８】
Ａが水素を表すポリシロキサンと４−（２−プロピニルオキシ）フェニルメチレンジエチルエステルの間の反応は、ケイ素結合水素原子の脂肪族不飽和を含有する基への付加のための既知の方法を利用して実施することができる。このような反応は、一般に白金属の金属又はこのような金属の錯体により触媒される。利用することができる触媒の例は、白金担持炭素、クロロ白金酸、アセチルアセトン酸白金、不飽和化合物（例えば、オレフィン及びジビニルジシロキサン）との白金化合物の錯体、ロジウム及びパラジウム化合物の錯体並びに無機基質上に支持された白金化合物の錯体である。付加反応は、減圧、常圧又は加圧して行われる。溶媒（例えば、トルエン又はキシレン）は反応混合物中で使用することができるが、溶媒の存在は必須ではない。また、例えば、約５０℃〜１５０℃の高い反応温度で反応を行うのが好ましい。
【００４９】
新規なシャンプー組成物の製造は、いわゆる「コールドプロセス」又は「ホットプロセス」により、それ自体既知の方法で行うことができる。
【００５０】
コールドプロセスにおいて、界面活性剤は撹拌下で脱イオン水に溶解する。次にポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体、一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）のポリシロキサン化合物及び上に列挙された他の成分を加える。この混合物は、一様な溶液が得られるまで撹拌する。pHを６〜７に調整する。例えば、塩化ナトリウムのような塩又は他の粘度調節剤を加えて、流動性を調整する。場合により芳香剤及び保存料を加える。
【００５１】
ホットプロセスは、以下の工程を含むことを特徴とする：
Ａ：  界面活性剤化合物は、撹拌下で、かつ場合により加熱下で脱イオン水に溶解する。
Ｂ：  油溶性成分（ポリガラクトマンナンガムのカチオン性誘導体、一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）のポリシロキサン化合物及び上に列挙された他の成分）を、成分の融点より約１０℃高い温度まで加熱する。油溶性成分は、一緒に又は別々に加えてよい。撹拌下でＢ相をＡ相に加える。次にこの組成物を冷却する。pHを６〜７に調整する。場合により芳香剤及び保存料を加える。
Ｃ：  塩又は粘度調節剤を加えて、流動性を調整する。
【００５２】
乳化プロセスにより達成される粒子の微細な分布のため、ホットプロセスの方が一般に安定性が良好である。
【００５３】
洗い落ち抵抗性試験では、液体洗剤の溶液による毛髪からの洗い落ちに抵抗する遮光剤の能力を測定する。本試験は、以下のように行われる：毛髪の房は、ＵＶフィルター含有シャンプーで洗浄し、次に乾燥して、ガラス容器で、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中に浸漬し、この容器を超音波浴に１時間入れて、毛髪から遮光剤を抽出する。ＴＨＦを取り出し、毛髪の房をＴＨＦで濯ぐ。合わせた抽出物中の遮光剤含量は、ＨＰＬＣクロマトグラフィーを使用して測定する。染着性は、毛髪１ｇ当たりの遮光剤μgで与えられる。
【００５４】
以下の表により、本発明を更に詳細に説明する。
【００５５】
以下の表に列挙されるシャンプー組成物において、以下のＵＶフィルターを選択した：
パラソル（PARSOL）ＳＬＸ：一般式（Ｉａ）〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式（IIａ）又は（IIｂ）の基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素を表し；
Ｒ3は、エチルを表し；
Ｒ4は、水素を表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、約６０の統計的平均値であり；
ｓは、約４の統計的平均値であり；
ｎは、１の値である〕の化合物。
パラソル（PARSOL）ＭＣＸ：ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル。
【００５６】
【表１】
0003795277.tif 000005
【００５７】
表１は、コールドプロセスにより調製したシャンプー組成物（実施例１）中のパラソル（PARSOL）ＳＬＸの染着性が、対応するシャンプー組成物（実施例２）中のパラソル（PARSOL）ＭＣＸの染着性に比較して改善されていることを示す。
【００５８】
【表２】
0003795277.tif 000006
【００５９】
表２は、異なる濃度のパラソル（PARSOL）ＳＬＸを使用するホットプロセスにより調製したシャンプー処方中のパラソルＳＬＸ及びコスメディア・グアー（COSMEDIA GUAR）Ｃ２６１の染着性を示す（実施例３〜８）。
【００６０】
【表３】
0003795277.tif 000007
【００６１】
表３は、異なる濃度の界面活性剤テキサポン（TEXAPON）Ｎ２８及びテゴ−ベタイン（TEGO-BETAIN）Ｌ７を使用するホットプロセスにより調製したシャンプー処方中のパラソル（PARSOL）ＳＬＸの染着性を示す（実施例９〜１２）。
【００６２】
【表４】
0003795277.tif 000008
【００６３】
表４は、ホットプロセス（実施例１３及び１５）及びコールドプロセス（実施例１４及び１６）により調製したシャンプー処方中のパラソル（PARSOL）ＳＬＸの染着性を示す。
【００６４】
染着性試験は、以下のように行った：
フィッシャー＆ミラー・ラウプハイム（Fischer ＆ Miller Laupheim）（ドイツ）から入手したブロンド・コーカシアン（Blond Caucasian）の未婚女性の未処理毛髪をＵＶフィルター含有シャンプーで洗浄した。次に各毛髪の房を乾燥して、６０mlの褐色のガラス容器に導入した。３０mlのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を添加後、容器を超音波浴に１時間入れて、ＵＶフィルターを抽出した。次いでＴＨＦを留去して、ＨＰＬＣクロマトグラフィーによりそのＵＶフィルター含量について残渣を分析した。