(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の抵抗膜間に入力領域とその周囲を取り囲む非入力領域とを有し、該入力領域において該２枚の抵抗膜が、所定の配列ピッチを有するドットスペーサを介し対向し、該非入力領域において該２枚の抵抗膜が、所定の配列ピッチを有する円形または多角形からなるドット状絶縁層を介し対向してなる座標入力パネルであって、
前記ドット状絶縁層は、少なくとも該入力領域に隣接した該非入力領域に、予め設定されたピッチに基づいて配列された該配列ピッチが、該入力領域に隣接した領域では粗く、該入力領域から離れるに伴い密になっており、かつ、該入力領域に隣接した領域の該配列ピッチは、該入力領域の該ドットスペーサの配列ピッチより密になっていることを特徴とする座標入力パネル。
【請求項２】
２枚の抵抗膜間に入力領域とその周囲を取り囲む非入力領域とを有し、該入力領域において該２枚の抵抗膜が、所定の配列ピッチを有するドットスペーサを介し対向し、該非入力領域において該２枚の抵抗膜が、所定の配列ピッチを有する円形または多角形からなるドット状絶縁層を介し対向してなる座標入力パネルであって、
前記ドット状絶縁層は、少なくとも該入力領域に隣接した該非入力領域に、予め設定されたピッチに基づいて配列された該ドット状絶縁層の外形と配列ピッチが、該入力領域に隣接した領域では小さく、該入力領域から離れるに伴い増大するようになっており、かつ、該入力領域に隣接した領域の該ドット状絶縁層の外形と配列ピッチは、該入力領域の該ドットスペーサの外形と配列ピッチより小さいことを特徴とする座標入力パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はパソコンやワープロ等の情報処理装置に対して手軽に座標情報を入力するための座標入力装置に係り、特に外部から印加される力に対する抵抗膜または導電膜の耐久性向上を図った座標入力パネルの構造に関する。
【０００２】
座標入力パネルは入力領域に適宜配置されたスペーサを介し対向する２枚の抵抗膜または導電膜（以下抵抗膜と略称する）を有し、入力領域の周囲を取り囲む非入力領域では間に設けられた絶縁層によって２枚の抵抗膜が絶縁されている。
【０００３】
抵抗膜は可撓性を有するフィルム等で外側が保護されているが極めて薄いため外力が印加されると損傷を受けやすく、例えば絶縁層に沿って入力ペンが摺動したり外力が印加されると絶縁層のエッジに押し付けられて抵抗膜が切断される。
【０００４】
このように抵抗膜が損傷を受けると入力位置がずれる等、座標入力パネルとしての基本特性を満足できないこともある。そこで外部から印加される力に対する抵抗膜の耐久性向上を可能にしてなる座標入力パネルの開発が要望されている。
【０００５】
【従来の技術】
図７は従来の座標入力パネルを示す側断面図である。
図７(a) において従来の座標入力パネル１はそれぞれ可撓性を有するフィルム11上に生成された２枚の抵抗膜12を有し、２枚の抵抗膜12は所定の間隔で入力領域２内に配置された絶縁材料からなるドットスペーサ13を介して相対している。
【０００６】
また、入力領域２の周囲を取り囲む非入力領域３では層間に設けられた絶縁層14によって２枚の抵抗膜12が絶縁され、座標入力パネル１の入力領域２および非入力領域３の一部は装置上面に設けられた化粧パネル４の枠内に露出している。
【０００７】
座標値の入力に際して例えば図７(b) に示す如く入力ペン５を用いて座標入力パネル１の入力領域２を押下すると、上部のフィルム11が撓み常時隙間を介して相対している２枚の抵抗膜12が接触し押下された入力点の座標値が出力される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の座標入力パネルは非入力領域に設けられた絶縁層のエッジ部が入力領域と非入力領域との境界にあり、例えば絶縁層に沿って入力ペンが摺動したり外力が印加されると絶縁層のエッジに押し付けられて抵抗膜が切断される。
【０００９】
このように非入力領域全体に絶縁層が設けられると絶縁層のエッジ部が入力領域と非入力領域との境界に介在するため、可撓性を有するフィルム上に生成された極めて薄い抵抗膜は外力が印加されると切断されるという問題があった。
【００１０】
本発明の目的は外部から印加される力に対する抵抗膜の耐久性向上を可能にしてなる座標入力パネルを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の座標入力パネルの第１の実施例を示す斜視図である。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表している。
【００１２】
上記課題は、２枚の抵抗膜間に入力領域とその周囲を取り囲む非入力領域とを有し、該入力領域において該２枚の抵抗膜が、所定の配列ピッチを有するドットスペーサを介し対向し、該非入力領域において該２枚の抵抗膜が、所定の配列ピッチを有する円形または多角形からなるドット状絶縁層を介し対向してなる座標入力パネルであって、前記ドット状絶縁層は、少なくとも該入力領域に隣接した該非入力領域に、予め設定されたピッチに基づいて配列された該配列ピッチが、該入力領域に隣接した領域では粗く、該入力領域から離れるに伴い密になっており、かつ、該入力領域に隣接した領域の該配列ピッチは、該入力領域の該ドットスペーサの配列ピッチより密になっている本発明の座標入力パネルによって達成される。
【００１３】
このように絶縁層が少なくとも入力領域に隣接した非入力領域に、予め設定されたピッチに基づいて配列された、円形または多角形からなるドット状絶縁層を具えてなる本発明の座標入力パネルは、入力領域と非入力領域との境界に沿って延伸されていた絶縁層のエッジ部がなくなり、例えば絶縁層に沿って入力ペンが摺動したり外力が印加される等の事態が生じても、印加された外力によって抵抗膜が切断されるという事故を大幅に減少させることができる。
【００１４】
即ち、外部から印加される力に対する抵抗膜の耐久性向上を可能にしてなる座標入力パネルを実現することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下添付図により本発明の実施例について説明する。図２は本発明の第２の実施例を示す斜視図、図３は本発明の第３の実施例を示す斜視図、図４は本発明の第４の実施例を示す斜視図、図５は本発明の第５の実施例を示す斜視図、図６は本発明の変形例を示す斜視図である。
【００１６】
本発明になる座標入力パネルの第１の実施例は図１に示す如く入力領域２の周囲の非入力領域３において抵抗膜12間が、厚さ１〜８μm の透明なアクリル樹脂からなる４角形のドット状絶縁層61を具えた絶縁層６によって絶縁されている。
【００１７】
ドット状絶縁層61は一方の抵抗膜12上にフォトリソ法を利用してドットスペーサ13を形成する際に同時に形成され、一辺が50μm のドット状絶縁層61は入力領域２と非入力領域３との境界線に対し垂直に 100μm ピッチで配置されている。
【００１８】
入力領域２におけるドットスペーサ13の配列ピッチは 1.0〜 1.5mmでそのときの入力荷重が10〜30g であることから、ドット状絶縁層61が 100μm ピッチで配置されてなる非入力領域３の入力荷重は十分に大きく誤入力されることはない。
【００１９】
しかも、絶縁層に沿って入力ペンが摺動したり外力が印加される等の事態が生じても直線状エッジ部の長さは僅かで、印加された外力によって絶縁層のエッジ部に押し付けられて抵抗膜が切断されるという事故を減少させることができる。
【００２０】
本発明になる座標入力パネルの第２の実施例は図２に示す如く入力領域２の周囲の非入力領域３において抵抗膜12間が、厚さが１〜８μm の透明なアクリル樹脂からなる円形のドット状絶縁層62を具えた絶縁層６によって絶縁されている。
【００２１】
ドット状絶縁層62は一方の抵抗膜12上にフォトリソ法を利用してドットスペーサ13を形成する際に同時に形成され、外径が50μm のドット状絶縁層62は入力領域２と非入力領域３との境界線に対し垂直に 100μm ピッチで配置されている。
【００２２】
入力領域２におけるドットスペーサ13の配列ピッチは 1.0〜 1.5mmでそのときの入力荷重が10〜30g であることから、ドット状絶縁層62が 100μm ピッチで配置されてなる非入力領域３の入力荷重は十分に大きく誤入力されることはない。
【００２３】
しかも、第１の実施例は入力領域２と非入力領域３との境界にドット状絶縁層61が有する直線状のエッジ部が残るが、第２の実施例は入力領域２と非入力領域３との境界に介在するのは円弧状エッジ部で耐久性の一層の向上が可能になる。
【００２４】
本発明になる座標入力パネルの第３の実施例は図３に示す如く第１の実施例におけるドット状絶縁層61の配列を変え、４角形のドット状絶縁層61の配列方向が入力領域２と非入力領域３との境界線に対し垂直な方向から30度傾斜している。
【００２５】
ドット状絶縁層61の配列方向を垂直な方向から傾斜させることにより、入力領域２と非入力領域３との境界線に対し垂直な方向のピッチが縮小され、化粧パネルのエッジ部等が非入力領域３に強く押し付けられても誤動作することはない。
【００２６】
本発明になる座標入力パネルの第４の実施例は図４に示す如く、第１の実施例と同一形状のドット状絶縁層61を用い、ドット状絶縁層61の配列ピッチが入力領域２と非入力領域３との境界から離れるに伴って密になるよう構成されている。
【００２７】
即ち、入力領域２に面した部分は非入力領域３との境界線に沿って50μm のドット状絶縁層61が粗く配列されており、境界線から離れるに伴い境界線と平行な方向および境界線に対し垂直な方向における配列ピッチを徐々に密にしている。
【００２８】
入力領域２に面した部分におけるドット状絶縁層61の配列ピッチを粗くすることにより直線状エッジ部が益々縮小され、印加された外力により絶縁層のエッジ部に押し付けられて抵抗膜が切断されるという事故を減少させることができる。
【００２９】
また、境界線から離れるに伴い配列ピッチが密になるようドット状絶縁層61が配列されているため外力に対して強く、入力ペンや化粧パネルのエッジ部等が非入力領域３に強く押し付けられた場合も抵抗膜12が撓み誤動作することはない。
【００３０】
更に、入力領域２に面した部分のドット状絶縁層61の配列ピッチが粗いため境界部分での入力パネルの透明度が高く、ディスプレイ装置の上に座標入力パネルを重置した際に入力領域と非入力領域との境界が目立たないという効果がある。
【００３１】
本発明になる座標入力パネルの第５の実施例は図５に示す如くドット状絶縁層61の形状と配列ピッチを共に変化させ、入力領域２と非入力領域３との境界から離れるに伴ってドット状絶縁層61の形状と配列ピッチとを共に増大させている。
【００３２】
即ち、入力領域２に面した部分では非入力領域３との境界線に沿って微小なドット状絶縁層61が密に配列されており、境界線から離れるに伴いドット状絶縁層61の形状を徐々に大きくすると同時にその配列ピッチも徐々に大きくしている。
【００３３】
入力領域２に面した部分におけるドット状絶縁層61の配列ピッチを粗くすることにより直線状エッジ部が益々縮小され、印加された外力により絶縁層のエッジ部に押し付けられて抵抗膜が切断されるという事故を減少させることができる。
【００３４】
入力領域２に面した部分におけるドット状絶縁層61は小さく配列ピッチが密であっても直線状エッジ部が益々縮小され、印加された外力により絶縁層のエッジ部に押し付けられて抵抗膜が切断されるという事故を減少させることができる。
【００３５】
また、境界線から離れるに伴い配列ピッチが密になるようドット状絶縁層61が配列されているため外力に対して強く、入力ペンや化粧パネルのエッジ部等が非入力領域３に強く押し付けられた場合も抵抗膜12が撓み誤動作することはない。
【００３６】
また、境界線から離れるに伴い配列ピッチが大きくなってもドット状絶縁層61の形状が大きくなり外力に対して強く、入力ペンや化粧パネルのエッジ部等が非入力領域３に強く押し付けられた場合も抵抗膜12が撓み誤動作することはない。
【００３７】
更に、入力領域に面した部分の配列が密であってもドット状絶縁層が小さいため入力パネルの境界部分は透明度が高く、ディスプレイ装置上に座標入力パネルを重置した際に入力領域と非入力領域との境界が目立たないという効果がある。
【００３８】
本発明になる座標入力パネルの変形例は図６に示す如くドット状絶縁層61に代えて直線状絶縁層63が形成されており、入力領域２と非入力領域３との境界線から外側に延伸された直線状絶縁層63は境界線に沿って等間隔に配列されている。
【００３９】
直線状絶縁層63を有する絶縁層６は境界線と平行なエッジ部が短く印加された外力に起因する抵抗膜の切断が減少する。また、境界線に対し垂直な方向に隙間がなく化粧パネルのエッジ部等が強く押し付けられても誤動作することはない。
【００４０】
このように絶縁層が少なくとも入力領域に隣接した非入力領域に、予め設定されたピッチに基づいて配列された、円形または多角形からなるドット状絶縁層を具えてなる本発明の座標入力パネルは、入力領域と非入力領域との境界に沿って延伸されていた絶縁層のエッジ部がなくなり、例えば絶縁層に沿って入力ペンが摺動したり外力が印加される等の事態が生じても、印加された外力によって抵抗膜が切断されるという事故を大幅に減少させることができる。
【００４１】
即ち、外部から印加される力に対する抵抗膜の耐久性向上を可能にしてなる座標入力パネルを実現することができる。
【００４２】
【発明の効果】
上述の如く本発明によれば外部から印加される力に対する抵抗膜の耐久性向上を可能にしてなる座標入力パネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の座標入力パネルの第１の実施例を示す斜視図である。
【図２】  本発明の第２の実施例を示す斜視図である。
【図３】  本発明の第３の実施例を示す斜視図である。
【図４】  本発明の第４の実施例を示す斜視図である。
【図５】  本発明の第５の実施例を示す斜視図である。
【図６】  本発明の変形例を示す斜視図である。
【図７】  従来の座標入力パネルを示す側断面図である。
【符号の説明】
１  座標入力パネル                ２  入力領域
３  非入力領域                    ６  絶縁層
12  抵抗膜                        13  ドットスペーサ
61、62  ドット状絶縁層            63  直線状絶縁層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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