(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（イ）下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を酸性水媒体中で加熱し、下記一般式（II）で表わされる化合物を含有する生成物を得、
（ロ）次いで、得られた生成物を有機溶媒を含有する媒体中に一旦溶解し、
（ハ）媒体中より生成物を分離し、
（ニ）さらに、得られた生成物を酸性水媒体中で加熱し、
（ホ）その後、得られた酸性水媒体中から生成物を分離する、とする工程において、
上記（イ）〜（ニ）の工程を行った後、（ロ）〜（ニ）の工程を少なくとも１回以上繰り返し行い、最後に（ホ）の工程を行って下記一般式（II）で表わされるフタル酸誘導体を含有する生成物を得ることを特徴とする製造方法。
【化１】
0003739119.tif 000004
【化２】
0003739119.tif 000005
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）の化合物が、１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンであり、前記一般式（II）の化合物が、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンである請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記（ロ）の工程の有機溶媒を含有する媒体が、少なくとも５０％重量以上のケトン類を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、下記一般式（II）で表わされるフタル酸誘導体の製造方法に関するものである。
【０００２】
本発明にかかるフタル酸誘導体は、光学材料、配線基板材料、感光材料、液晶材料などの中間原料として有用である。特に、光学材料、配線基板材料として用いられるポリイミドの中間体として有用である。
【０００３】
【従来の技術】
従来、フタル酸誘導体としては、例えば、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンの製造方法について特開平５−１１４８号に、１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを６０％硫酸水溶液中１５０℃で１５時間反応する方法が開示されている。しかしながら、後記の参考例１からわかるようにこの方法では、その純度が９５％未満のものしか得られず、実用的な材料としては問題を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、フタル酸誘導体を工業的に可能で、かつ高収率な方法で高純度のフタル酸誘導体を得ることのできる製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、下記一般式（Ｉ）で表わされるフタロニトリル誘導体の加水分解反応により得られるフタル酸誘導体の製造方法について鋭意検討を行った結果、フタル酸誘導体の純度を低下させている原因が何かを突き止め、その対策方法を見いだし本発明を完成するに至った。
【０００６】
まず、純度を低下させている原因が何かを突き止めるため、硫酸水溶液での加水分解反応の分析を行った。その結果、フタロニトリル誘導体の加水分解における反応中間体のフタルアミド誘導体などが、かなり生成物中に残存していることがわかった。その反応中間体のフタルアミド誘導体などが残存する理由について説明する。まず、加水分解反応の反応形態は、フタリニトリル誘導体が固体で分散している硫酸水溶液を加熱し、徐々にフタロニトリル誘導体がとけて，有機相、水相の二相状態で反応が進行する。その後、反応の進行と共に反応中間体のフタルアミド誘導体などあるいは目的物のフタル酸誘導体が析出してくる。その際水溶液と接触しているフタルアミド誘導体などは、さらに反応が進行し目的物のフタル酸誘導体となるが、フタル酸誘導体の内部に取り込まれて水溶液と接触していないフタルアミド誘導体はそれ以上反応が進行しなくなる。そのためフタル酸誘導体の純度が低下してしまう結果となった。
【０００７】
そこで、本発明者らは、その製造方法として、生成物を一旦溶解した後析出させ取り出すことで、内部に取り込まれたフタルアミド誘導体を固体表面に析出させ、その後さらに加水分解することによりフタル酸誘導体とすることで、純度の向上を行うことを検討した結果、下記に示す製造方法を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明の目的は、（１）  （イ）下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を酸性水媒体中で加熱し、下記一般式（II）で表わされる化合物を含有する生成物を得、
（ロ）次いで、得られた生成物を有機溶媒を含有する媒体中に一旦溶解し、
（ハ）媒体中より生成物を分離し、
（ニ）さらに、得られた生成物を酸性水媒体中で加熱し、
（ホ）その後、得られた酸性水媒体中から生成物を分離する、とする工程において、
上記（イ）〜（ニ）の工程を行った後、（ロ）〜（ニ）の工程を少なくとも１回以上繰り返し行い、最後に（ホ）の工程を行って下記一般式（II）で表わされるフタル酸誘導体を含有する生成物を得ることを特徴とする製造方法により達成される。
【０００９】
【化３】
0003739119.tif 000002
【００１０】
【化４】
0003739119.tif 000003
【００１１】
また、本発明の他の目的は、（２）  前記一般式（Ｉ）の化合物が、１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンであり、前記一般式（II）の化合物が、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンである上記（１）に示す製造方法によっても達成される。
【００１２】
さらに、本発明の他の目的は、（３）  前記（ロ）の工程の有機溶媒を含有する媒体が、少なくとも５０％重量以上のケトン類を含有することを特徴とする上記（１）または（２）に示す製造方法によっても達成される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明につき、それぞれの工程について詳しく説明する。
【００１４】
（１）  工程（イ）について
この工程は、上記一般式（Ｉ）で表されるフタロニトリル誘導体（以下、単にフタロニトリル誘導体ともいう）を酸性条件で加水分解し、上記一般式（II）で表されるフタル酸誘導体（以下、単にフタル酸誘導体ともいう）を含有する生成物を得る工程である。
【００１５】
本工程では、通常８０％以上のフタル酸誘導体を含有する生成物を得るように反応を行うが、好ましくは８７％以上のフタル酸誘導体を含有する生成物を得るように反応を行う。
【００１６】
反応の形態は、反応開始時にフタロニトリル誘導体と酸性水媒体を一括で投入した後に所定時間反応を行っても良いし、反応中に酸性水媒体中にフタロニトリル誘導体を数回に分割して投入しても良い。分割して投入する場合の投入方法としては、粉体のままで行っても良いし、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、アセトニトリル等の溶媒に溶解させて行っても良い。
【００１７】
本工程で使用される酸性水媒体としては、例えば、リン酸水溶液、硫酸水溶液、塩酸水溶液などの無機酸水溶液を用いて反応を行うことが好ましく、特に硫酸水溶液が好ましい。硫酸水溶液を用いることで、効率よく高収率で目的物を得ることができる。
【００１８】
例えば、反応に硫酸水溶液を用いた場合について詳しく説明する。
【００１９】
まず、本工程における硫酸の濃度は、４０〜８５重量％の範囲の硫酸水溶液を用いることが好ましく、特に５０〜８０重量％の範囲の硫酸水溶液を用いることが好ましい。硫酸の濃度が、高い場合には反応中間体のアミドあるいはフタル酸誘導体の無水物などが生成し易くなり純度が低下することや、反応終了後硫酸を除去することが困難になる。また、低い場合には反応温度を十分に上げられなくなり反応速度が低下し生産性が悪くなってしまう。
【００２０】
本工程において、フタロニトリル誘導体の硫酸水溶液に対する濃度は、５〜５０重量％の範囲の濃度で行うことが好ましい。濃度が高い場合には、反応の制御が困難になり、低い場合には生産性が悪くなってしまい好ましくない。
【００２１】
また、本工程における反応温度は、１２０〜１８０℃の範囲で行うことが好ましく、特に１４０〜１７０℃の範囲で行うことが好ましい。反応温度が高い場合には、反応の制御が困難になり、低い場合には反応速度が低下し生産性が悪くなってしい好ましくない。
【００２２】
本工程における反応時間は、反応温度などによるが通常１〜２４時間で行うことができる。
【００２３】
反応終了後、反応液中に生成物のフタル酸誘導体が析出してくるが、次工程（ロ）に用いる時、反応液をそのまま用いても良いし、濾過し濾物のみを用いても良い。
【００２４】
工程（ロ）、（ハ）について
これらの工程は、前工程（イ）で得られた生成物または、工程（ニ）で得られた反応液を有機溶媒を含有する媒体中に一旦溶解し（工程（ロ））、媒体中より生成物を分離する（工程（ハ））ことで、フタル酸誘導体の内部に取り込まれたフタルアミド誘導体などを固体の表面に出させる工程である。
【００２５】
本工程では、その方法として、工程（イ）の反応溶液に直接水と２層状態になる有機溶媒を加え生成物を溶解させ（工程（ロ））、その後有機層を分液し蒸発乾固する（工程（ハ））方法がある。
【００２６】
加える有機溶媒としては、水と２層状態になり、生成物と反応しないものであれば特に限定されるものではないが、脂肪酸エステル類、ケトン類、エーテル類、ベンゾニトリル類が好ましく、特に脂肪酸エステル類、ケトン類が好ましい。例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。使用する有機溶媒の量は、生成物を溶解し得る量以上であれば問題ない。その後、媒体中より有機層を分液し、必要であれば有機層を水洗してもよい。その後、蒸発乾固し生成物を得、次工程（ニ）に使用する。
【００２７】
本工程（ロ）、（ハ）では、また別の方法として、工程（イ）の反応溶液を一旦瀘過し得られた瀘物に有機溶媒を含有する媒体を加え溶解させ（工程（ロ））、その後加えた有機溶媒が水と２層状態になるものであれば分液し、有機層を蒸発乾固することで生成物を得、加えた有機溶媒が水と２層状態にならないものであれば水を固体が析出するまでその後加え瀘過、乾燥により生成物を得る（工程（ハ））ことができる。
【００２８】
水と２層状態になる有機溶媒を用いる場合、加える有機溶媒としては、生成物と反応しないものであれば特に制限されるものでないが、脂肪酸エステル類、ケトン類、エーテル類、ベンゾニトリル類が好ましく、特に脂肪酸エステル類、ケトン類が好ましい。例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。使用する有機溶媒の量は、生成物を溶解し得る量以上であれば問題はない。その後、有機層を分液し、必要であれば有機層を水洗してもよい。その後、有機層を蒸発乾固し生成物を得、次工程（ニ）に使用する。
【００２９】
水と２層状態ならないものを用いる場合、加える有機溶媒としては、生成物と反応しないものであれば特に限定されるものではないが、ケトン類、アセトニトリル類、アルコール類が好ましく、特にケトン類が好ましい。例えば、アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノールなどが挙げられる。使用する有機溶媒の量は、生成物を溶解し得る量以上であれば問題ない。その後、水を固体が析出するまで加え、瀘過、乾燥により生成物を得、次工程（ニ）に使用する。
【００３０】
水の量は、固体が析出する量以上加えれば問題ないが、例えば、有機溶媒がアセトンの場合、重量で５倍以上の水を用いればよい。
【００３１】
（３）  工程（ニ）について
この工程は、工程（ハ）で得られた生成物をさらに加水分解する工程である。
【００３２】
反応の形態は、反応開始時に工程（ハ）で得られた生成物と酸性水媒体を一括で投入した後に所定時間反応を行ってもよいし、反応器中の酸性水媒体中に工程（ハ）で得られた生成物を数回に分割して投入しても良い。分割して投入する場合の投入方法としては、粉体のままで行っても良いし、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、アセトニトリルなどの溶媒に溶解させて行っても良い。
【００３３】
本工程に使用される酸性水媒体としては、リン酸水溶液、硫酸水溶液、塩酸水溶液などの無機酸水溶液を用いて反応を行うことが好ましく、特に硫酸水溶液が好ましい。硫酸水溶液を用いることで、効率よく高収率で目的物を得ることができる。
【００３４】
例えば、反応に硫酸水溶液を用いる場合について詳しく説明する。
【００３５】
まず、本工程における硫酸の濃度は、４０〜８５重量％の範囲の硫酸水溶液を用いることが好ましく、特に５０〜８０重量％の範囲の硫酸水溶液を用いることが好ましい。硫酸の濃度が、高い場合には反応中間体のアミドあるいはフタル酸誘導体の無水物などが生成し易くなり純度が低下することや、反応終了後硫酸を除去することが困難になる。また、低い場合には反応温度を十分に上げられなくなり反応速度が低下し生産性が悪くなってしまう。
【００３６】
本工程において、前工程（ハ）で得られた生成物の硫酸水溶液に対する濃度は、５〜５０重量％の範囲の濃度で行うことが好ましい。濃度が高い場合には、反応の制御が困難になり、低い場合には生産性が悪くなってしまい好ましくない。
【００３７】
また、本工程における反応温度は、１２０〜１８０℃の範囲で行うことが好ましく、特に１４０〜１７０℃の範囲で行うことが好ましい。反応温度が高い場合には、反応の制御が困難になり、低い場合には反応速度が低下し生産性が悪くなってしい好ましくない。
【００３８】
本工程における反応時間は、反応温度などによるが通常１〜２４時間で行うことができる。
【００３９】
反応終了後、目的物のフタル酸誘導体の目標とする純度により、所定回数、上述の（ロ）〜（ニ）の工程を繰り返し、最終工程の（ホ）の工程を行う。
【００４０】
（４）  工程（ホ）について
この工程は、工程（ニ）で得られた生成物を反応液（酸性水媒体）中から分離する工程である。
【００４１】
本工程では、その方法として、工程（ニ）の反応液に直接水と２層状態になる有機溶媒を加え溶解させ、その後有機層を分液し蒸発乾固する方法がある。加える有機溶媒としては、水と２層状態になり、生成物と反応しないものであれば特に限定されるものではないが、脂肪酸エステル類、ケトン類、エーテル類、ベンゾニトリル類が好ましく、特に脂肪酸エステル類、ケトン類が好ましい。例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。使用する有機溶媒の量は、生成物を溶解し得る量以上であれば問題ない。その後、有機層を分液し、必要であれば有機層を水洗してもよい。その後、蒸発乾固し生成物を得る。
【００４２】
本工程では、また別の方法として、工程（ニ）の反応溶液を一旦瀘過し得られた瀘物に有機溶媒を含有する媒体を加え溶解させ、その後加えた有機溶媒層が水層と２層状態になるものであれば分液し、有機層を蒸発乾固し、生成物を得、加えた有機溶媒が水と２層状態にならないものであれば水を固体が析出するまで加えその後瀘過、乾燥して生成物を得ることができる。水と２層状態になる有機溶媒を用いる場合、加える有機溶媒としては、生成物と反応しないものであれば特に制限されるものではないが、脂肪酸エステル類、ケトン類、エーテル類、ベンゾニトリル類が好ましく、特に脂肪酸エステル類、ケトン類が好ましい。例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。使用する有機溶媒の量は、生成物を溶解し得る量以上であれば問題ない。その後、有機層を分液し、必要であれば有機層を水洗してもよい。その後、蒸発乾固し生成物を得る。水と２層状態にならないものを用いる場合、加える有機溶媒としては、生成物と反応しないものであれば特に制限されるものではないが、ケトン類、アセトニトリル類、アルコール類が好ましく、特にケトン類が好ましい。例えば、アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノールなどが挙げられる。使用する有機溶媒の量は、生成物を溶解し得る量以上であれば問題ない。その後、水を固体が析出するまで加え、瀘過、乾燥により生成物を得る。水の量は、固体が析出する量以上加えれば問題ないが、例えば、溶媒がアセトンの場合、重量で５倍以上の水を用いれば良い。
【００４３】
以上の工程を行うことで、高純度のフタル酸誘導体を高収率で得ることが可能となった。
【００４４】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
【００４５】
実施例１
（１）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン１０ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加え瀘過し、さらに瀘物を水１０ｍｌで２回洗浄した。瀘物を１００ｍｌビーカーに取り出し、アセトン８ｍｌを加え溶解させた。水８０ｍｌを加え固体を析出させ、析出した固体を瀘過、乾燥し生成物１０．８ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９１．８％含有することが分かった。
【００４６】
（２）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに上記生成物（１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９１．８％含有）１０．８ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加え瀘過し、さらに瀘物を水１０ｍｌで２回洗浄した。瀘物を１００ｍｌビーカーに取り出し、アセトン８ｍｌを加え溶解させた。水８０ｍｌを加え固体を析出させ、析出した固体を瀘過、乾燥し生成物１０．３ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９６．４％含有することが分かった。
【００４７】
（３）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに上記生成物（１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９６．４％含有）１０．３ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加え瀘過し、さらに瀘物を水１０ｍｌで２回洗浄した。瀘物を１００ｍｌビーカーに取り出し、アセトン８ｍｌを加え溶解させた。水８０ｍｌを加え固体を析出させ、析出した固体を瀘過、乾燥し生成物９．８ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９９．２％含有することが分かった。
【００４８】
実施例２
７０重量％硫酸水溶液９０ｇの代わりに５０％硫酸水溶液９０ｇを用いた以外は実施例１と同様の方法で反応を行い、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９．６ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ純度は９９．１％であった。
【００４９】
実施例３
７０重量％硫酸水溶液９０ｇの代わりに８０％硫酸水溶液９０ｇを用いた以外は実施例１と同様の方法で反応を行い、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９．８ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ純度は９９．０％であった。
【００５０】
実施例４
（１）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度まで加熱する。そこへ１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン１０ｇを１時間かけて投入し、その後、還流温度で５時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加え瀘過し、さらに瀘物を水１０ｍｌで２回洗浄した。瀘物を１００ｍｌビーカーに取り出し、アセトン８ｍｌを加え溶解させた。水８０ｍｌを加え固体を析出させ、析出した固体を瀘過、乾燥し生成物１０．７ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９２．１％含有することが分かった。
【００５１】
（２）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに上記生成物（１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９２．１％含有）１０．７ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加え瀘過し、さらに瀘物を水１０ｍｌで２回洗浄した。瀘物を１００ｍｌビーカーに取り出し、アセトン８ｍｌを加え溶解させた。水８０ｍｌを加え固体を析出させ、析出した固体を瀘過、乾燥し生成物１０．４ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９６．２％含有することが分かった。
【００５２】
（３）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに上記生成物（１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９６．２％含有）１０．４ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加え瀘過し、さらに瀘物を水１０ｍｌで２回洗浄した。瀘物を１００ｍｌビーカーに取り出し、アセトン８ｍｌを加え溶解させた。水８０ｍｌを加え固体を析出させ、析出した固体を瀘過、乾燥し生成物９．４ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９９．１％含有することが分かった。
【００５３】
実施例５
（１）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン１０ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水１００ｍｌを加え、さらにメチルイソブチルケトン２００ｍｌ加え析出している固体を溶解させる。有機層を分液し、水２０ｍｌで２回洗浄した。有機層を蒸発乾固し生成物１０．９ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９１．５％含有することが分かった。
【００５４】
（２）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに上記生成物（１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９１．５％含有）１０．９ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水１００ｍｌを加え、さらにメチルイソブチルケトン２００ｍｌ加え析出している固体を溶解させる。有機層を分液し、水２０ｍｌで２回洗浄した。有機層を蒸発乾固し生成物１０．６ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９５．９％含有することが分かった。
【００５５】
（３）撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに上記生成物（１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン９５．９％含有）１０．６ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水１００ｍｌを加え、さらにメチルイソブチルケトン２００ｍｌ加え析出している固体を溶解させる。有機層を分液し、水２０ｍｌで２回洗浄した。有機層を蒸発乾固し生成物１０．２ｇを得た。液体クロマトグラフィーにより分析を行ったところ１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを９９．０％含有することが分かった。
【００５６】
比較例１
撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン１０ｇおよび７０重量％硫酸水溶液９０ｇを加え、還流温度で６時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し水２００ｍｌを加えた後、析出している生成物を瀘過し、さらに水１０ｍｌで２回洗浄を行った。その後、瀘物を乾燥することで１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを１０．６ｇ得た。得られた化合物の純度は、液体クロマトグラフィーによる分析の結果９１．８％であった。
【００５７】
参考例１
撹拌装置、冷却還流管および温度計を備えた２００ｍｌ三ッ口フラスコに１，４−ビス（３，４−ジシアノトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン１０ｇおよび６０重量％硫酸水溶液１８．５ｍｌを加え、１５０℃で１５時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、析出している生成物を瀘過し、さらに水洗浄を行った。その後、瀘物を乾燥することで１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを１０．３ｇ得た。得られた化合物の純度は、液体クロマトグラフィーによる分析の結果９１．８％であった。