(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光(3)を狭帯域化する狭帯域化ユニット(12)を有するエキシマレーザ(4)に用いられる光学部品を管理する光学部品管理システムにおいて、
エキシマレーザ(4)に用いられるそれぞれの光学部品に対して、既知の波面を入射させた際の出射波面(41)の形状である波面特性Ｗ(X,Y)を測定する波面特性測定手段(20)と、
この波面特性Ｗ(X,Y)に基づいて、エキシマレーザ(4)に用いられる光学部品を組み合わせた光学部品群から出射するレーザ光(3)の波面の形状である合成波面形状Ｋ(X,Y)を演算し、この合成波面形状Ｋ(X,Y)を評価してエキシマレーザ(4)に用いられる光学部品の組み合わせを選定する部品選定手段(50)とを備えたことを特徴とする、光学部品管理システム。
【請求項２】
請求項１に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記部品選定手段(50)は、前記合成波面形状Ｋ(X,Y)が所定の形状となるような前記光学部品の組み合わせセット数が最も多くなるように、エキシマレーザ(4)に用いられる光学部品の組み合わせを選定する手段である
ことを特徴とする、光学部品管理システム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記評価される合成波面形状Ｋ(X,Y)は、前記狭帯域化ユニット(12)内のグレーティング(10)に入射するレーザ光(3)の波面の合成波面形状ＫG(X,Y)である
ことを特徴とする、光学部品管理システム。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記評価される合成波面形状Ｋ(X,Y)は、前記狭帯域化ユニット(12)から出射するレーザ光(3)の波面の合成波面形状ＫU(X,Y)である
ことを特徴とする、光学部品管理システム。
【請求項５】
請求項１に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記評価される合成波面形状Ｋ(X,Y)は、前記エキシマレーザ(4)から出射するレーザ光(3)の波面の合成波面形状ＫL(X,Y)である
ことを特徴とする、光学部品管理システム。
【請求項６】
狭帯域発振を行なう狭帯域発振エキシマレーザ(4)の光学部品管理方法において、
エキシマレーザ(4)に用いられる光学部品に対して、既知の波面を入射させた際の出射波面(41)の形状である波面特性Ｗ(X,Y)を測定し、
前記波面特性Ｗ(X,Y)に基づいてエキシマレーザ(4)に用いられる光学部品を組み合わせた際にこれらの光学部品の組み合わせから出射する波面の形状である合成波面形状Ｋ(X,Y)を演算し、
前記合成波面形状Ｋ(X,Y)が所定の形状となるように前記光学部品を組み合わせたセット数が最も多くなるように、エキシマレーザ(4)に用いられる光学部品を組み合わせるようにしている
ことを特徴とする、光学部品管理システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エキシマレーザ用光学部品の波面特性を把握し、それらの光学部品の最適な組み合わせを選定し、それらの光学部品を管理するシステム及びその選定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、半導体製造装置用の縮小投影露光装置（以下ステッパという）の光源として、エキシマレーザの実用化が進められている。これは、エキシマレーザの波長が短いことから、加工の際にレンズなどの光学素子によって微細なパターンを解像できるので、より精密な加工が可能であることによる。
【０００３】
しかしながら、このエキシマレーザから発振する光は、その波長のスペクトル幅である線幅がステッパ用としては広く、しかも中心波長が変動しているので、そのままではレンズなどの光学素子を透過する際に色収差や焦点ボケが生じて露光ミスの原因となる。そのため、エキシマレーザの共振器内にグレーティングなどの波長選択素子を搭載して、前記線幅を狭くし、かつ前記中心波長を安定化する狭帯域化という技術が不可欠である。この線幅と中心波長の安定性を、波長特性と総称する。
【０００４】
図１３は、本願出願人が特願平９−１７４４７８号（未公開）に開示した技術の一例であり、以下同図に基づいて従来技術を説明する。同図において、エキシマレーザ４のチャンバ１にはレーザガスが封止されており、放電電極２による放電によってエネルギーを供給され、レーザ光３を発振させる。このレーザ光３はリアウィンドウ５から出射し、ビームエキスパンダ９を通過する間にその径を拡げられ、グレーティング１０に入射する。グレーティング１０は、図示しない角度アクチュエータによってレーザ光３の光路に対する角度を制御されており、選択された所定の波長だけを発振させることで前記狭帯域化を行なっている。ビームエキスパンダ９及びグレーティング１０を、狭帯域化ユニット１２と総称する。この狭帯域化ユニット１２によって波長を制御されたレーザ光３はフロントウィンドウ１３を透過し、一部が部分反射ミラーであるフロントミラー１４を透過して図中左方向へ出射する。
【０００５】
ところで、前記従来技術によれば、当初は光軸に対して垂直な波面を持つ平面波であったレーザ光３の波面が、レーザ光３が光学部品の内部を通過したり表面で反射したりする間に歪むことが知られている。これは、光学部品の内部の屈折率分布の不均一性やその表面の加工精度の不均一性などの原因によるものであり、個々の光学部品に特有の波面に関する特性である。
【０００６】
以下、図１４、図１５に基づいて、前記波面の歪みについて説明する。図１４に、図中左方から光軸１８に対して垂直な垂直波面を持つ平面波１９であるレーザ光３が、例えば中央部がわずかにふくらんだ形状をしたウィンドウ１６に入射する場合を示す。ガラスの比屈折率がおよそ１．５程度であるため、ガラス中を透過する際には光速がほぼ２／３に低下し、このウィンドウ１６の中央部を通過する光はその端部を通過する光に比べて長い距離を通過しなければならないために波面の進行が遅れる。すなわち、このウィンドウ１６は、透過するレーザ光３の波面を進行方向に対して中央が凹んだ凹面波２１に変化させる特性を持つ。さらにこのレーザ光３が例えば、同様に中央部がわずかに膨らんだ形状のウィンドウ１６に入射すると、波面の中央はさらに突出し、レーザ光３の波面はさらに曲率半径が小さな凹面波２１ａとなる。
【０００７】
次に図１５には、図中左方から入射した平面波１９を持つレーザ光３が、前記と同様に中央部がわずかに膨らんだウィンドウ１６を通過して前記凹面波２１に変化した後、反射面の中央がわずかにふくらんだ形状をした全反射ミラー２２で反射される場合を示す。凹面波２１は凹面を保った状態で反射され、図中左方向へ向かう凸面波２３となる。そして、前記ウィンドウ１６を再通過することによって平面波１９に戻される。このように、さまざまな特性を有する光学部品を組み合わせることによって、レーザ光３の波面の歪みもさまざまに変化する。
【０００８】
このような凸面波２３や凹面波２１が平坦な形状のグレーティング１０に入射すると、グレーティング１０のそれぞれの溝にレーザ光３が異なる角度で入射することになるので、グレーティング１０による波長選択性能（波長分解能）を低下させてしまう。このため、前記線幅が広がるなどの現象が起きて狭帯域化がうまくゆかず、レーザの波長特性が低下する。
【０００９】
そこで、前記従来技術においては、グレーティング１０に入射するレーザ光３の波面であるグレーティング入射波面１５の凹凸に対し、図示しない曲率アクチュエータによってグレーティング１０を曲げることによってその波長選択特性を補正し、良質な前記波長特性を得るようにしている。これを、波面補正という。
【００１０】
このように、従来のエキシマレーザ４においては、個々の光学部品の波面に関する特性は把握しておらず、検査時に透過率や形状公差等の計測を行なうのみで、これらの検査条件に合格した部品を在庫として保有している。そして、これらの在庫の中から光学部品をランダムに選定し、選定した光学部品を組み立ててエキシマレーザ４を構成している。さらに、これらの部品を組み立てた後で、エキシマレーザ４を発振させながら波面補正等の微調整を行なうことによって、良質の光品位を得るようにしている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来技術における波面補正には次のような問題点がある。従来技術では、グレーティング１０の曲げのみによって前記波面補正を行なっているが、グレーティング１０の表面には精密な溝が刻まれており、その波長選択性能を低下させずに曲げられる曲率の許容範囲には限界がある。そのため、前記グレーティング入射波面１５の歪みが前記許容範囲よりも大きくなった場合は、この方法ではグレーティング入射波面１５に対する波面補正を行なうことができなくなり、エキシマレーザ４の前記波長特性が低下する。
【００１２】
また、従来技術では波面に関する特性を把握していない各々の光学部品をランダムに組み合わせ、結果として生じた波面の歪みに対応して、グレーティング１０で波面補正を行なっている。このため、個々の光学部品が波面を歪める程度は大きくなくても、これらを組み合わせることによって前記波面の歪みが増幅されることがあるため、本来は不必要な波面補正を行なわなければならない場合がある。また、このように組み合わせの選択を誤ると、適切な光学部品を不適切であると判断して放棄することがあるなど、部品購入のコストが増大する。
【００１３】
また、光学部品個々の波面に関する特性が把握されていないため、例えば光学部品の破損などが起きて部品を交換しなければならないような場合には、在庫として所有している部品のうちに、波面に関して好適な部品があるか否か不明である。そのため、常に多数の部品を在庫として保有しておかなければならないため、エキシマレーザ４を維持するためのコストも増大する。
【００１４】
さらに、上記のように交換を行なう場合には、ステッパなどのエキシマレーザ４を光源として使用している機器の設置場所に赴く際に複数個の交換部品を携帯して交換を行なわなければならず、作業者の負荷が増大する。そして、これらの光学部品をランダムに順々に交換し、実際に発振させて調整を行なわなければならないため、調整に要する時間が増大する。また、もし持参した交換部品の中に前記波面に関して好適なものがなければ、再度部品を調達してから交換に赴かなければならず、長時間を要する。
【００１５】
このように、従来技術によれば在庫として所有している光学部品の個々の波面に関する特性を把握しておらず、好適な光学部品か否かが不明である。しかも、それらをランダムに選択してエキシマレーザ４の組み立てや調整を行なっているため、部品の在庫を多く抱える必要がある。
【００１６】
本発明は、上記の問題点に着目してなされたものであり、エキシマレーザの光学部品の波面に関する特性を計測し、その特性に基づいて光学部品を効率的に選定し、組み合わせるための光学部品の管理システム及びその管理方法を提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、
レーザ光３を狭帯域化する狭帯域化ユニット１２を有するエキシマレーザ４の各光学部品をそれぞれ少なくとも１個以上管理する光学部品管理システムにおいて、
それぞれの光学部品に対して既知の波面を入射させた際の出射波面４１の形状である波面特性Ｗ(X,Y) を測定する波面特性測定手段２０と、
この波面特性Ｗ(X,Y) に基づいてこれらの光学部品を組み合わせた光学部品群から出射するレーザ光３の波面の形状である合成波面形状Ｋ(X,Y) を演算し、この合成波面形状Ｋ(X,Y) を評価して光学部品の組み合わせを選定する部品選定手段５０とを備えている。
【００１８】
請求項１に記載の発明によれば、エキシマレーザを構成する光学部品に対して個々の波面特性を測定し、これらの波面特性によりレーザ光の波面の形状である合成波面形状を演算し、この合成波面形状に基づいて光学部品の最適な組み合わせを選定している。これにより、レーザを発振することなしに、これらの光学部品を組み合わせた際に出射するレーザ光の光品位が良質なものになるように組み合わせることが可能となる。
【００１９】
また、請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記部品選定手段５０は、
前記合成波面形状Ｋ(X,Y) が所定の形状となるような前記各光学部品の組み合わせセット数が最も多くなるように光学部品の組み合わせを選定している。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、前記合成波面形状に基づいて光学部品を組み合わせ、その中からセット数が最大になるような光学部品の組み合わせを選択している。これにより、波面が好適な光学部品の組み合わせを、最大個数得ることができ、光学部品を効率的に使用することができる。
【００２１】
また、請求項３に記載の発明は、
請求項１又は２に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記合成合成波面形状Ｋ(X,Y) が、前記狭帯域化ユニット１２内のグレーティング１０に入射するレーザ光３の波面であるグレーティング入射波面１５の合成波面形状ＫG(X,Y)である。
【００２２】
請求項３に記載の発明によれば、個々の光学部品の波面特性に基づいて前記グレーティングに入射するグレーティング入射波面の合成波面形状を演算し、この合成波面形状に基づいてグレーティングによる波面補正が好適に行なえるように光学部品の組み合わせを管理している。これにより、前記波面補正が行なえないということがなく、グレーティングの波長選択性能を充分に発揮できる。また、個々の光学部品の波面特性を把握し、これらの光学部品を組み合わせた際に出射するレーザ光のグレーティング入射波面の合成波面形状が良質なものになるように組み合わせたセット数が最大になるように光学部品を最適に組み合わせることができるので、光学部品を効率よく使用することができる。
【００２３】
また、請求項４に記載の発明は、
請求項１又は２に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記合成波面形状Ｋ(X,Y) が、前記狭帯域化ユニット１２から出射するレーザ光３の波面であるユニット波面３４の合成波面形状ＫU(X,Y)である。
【００２４】
請求項４に記載の発明によれば、個々の光学部品の波面特性に基づいて狭帯域化ユニットから出射するユニット波面の合成波面形状を演算し、この合成波面形状に基づいて波長特性が良好になるように光学部品の組み合わせを管理している。これにより、狭帯域化ユニットから出射する波面が常に良好な波長特性を持つので、狭帯域化されたエキシマレーザの光品位をより良質なものにすることができる。また、個々の光学部品の波面特性を把握し、これらを組み合わせた際に出射するレーザ光のユニット波面の合成波面形状が良質なものになるように組み合わせたセット数が最大になるように光学部品を最適に組み合わることができるので、光学部品を効率的に使用することができる。
【００２５】
また、請求項５に記載の発明は、
請求項１に記載の光学部品管理システムにおいて、
前記合成波面形状Ｋ(X,Y) が、前記エキシマレーザ４から出射するレーザ光３の波面であるレーザ波面３９の合成波面形状ＫL(X,Y)である。
【００２６】
請求項５に記載の発明によれば、個々の光学部品の波面特性に基づいてエキシマレーザから出射するレーザ波面の合成波面形状を演算し、この合成波面形状に基づいて波長特性が良好になるように光学部品の組み合わせを管理している。このように、個々の光学部品の波面特性を把握し、これらを組み合わせた際に出射するレーザ光のレーザ波面の合成波面形状が良質なものになるように組み合わせたセット数が最大になるように光学部品を最適に組み合わせることができるので、光学部品を効率的に使用することができる。
【００２７】
また、請求項６に記載の発明は、
狭帯域発振を行なう狭帯域発振エキシマレーザ４の光学部品管理方法において、
それぞれの光学部品に対して、既知の波面を入射させた際の出射波面４１の形状である波面特性Ｗ(X,Y) を測定し、
このそれぞれの波面特性Ｗ(X,Y) に基づいて各光学部品を組み合わせた際にこれらの光学部品の組み合わせから出射する波面の形状である合成波面形状Ｋ(X,Y) を演算し、
この合成波面形状Ｋ(X,Y) が所定の形状となるように前記各光学部品を組み合わせたセット数が最も多くなるように、光学部品を組み合わせるようにしている。
【００２８】
請求項６に記載の発明によれば、各光学部品に対して波面特性を測定し、これらの光学部品を組み合わせた際にこれらの光学部品から出射するレーザ光の合成波面形状を演算によって導き、これが所定の形状となるように組み合わせたセット数が最も多くなるように、管理している光学部品を組み合わせている。光学部品の合成波面形状は波長特性に対して最適形状を有するので、良質な光品位のレーザ光が得られるように組み合わせたセット数が最も多くなるような光学部品の最適な組み合わせを得ることができ、光学部品を効率的に使用することができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
まず、図１に基づいて、複数の光学部品の中から波長特性が好適になるような光学部品の組み合わせを選定し、光学部品を効率的に使用するための光学部品の管理システム及び管理方法について、概略を説明する。
【００３０】
図１は、本発明に係わる光学部品を管理する管理システムの構成の一例である。エキシマレーザ４を構成する光学部品には前記従来技術で記載されたプリズム７、グレーティング１０などさまざまな種類があり、これら各々の光学部品について１個以上の部品が保有されている。ここでまず、所有する個々の光学部品に識別番号（以下ＩＤ番号という）を設定し、キーボード等の光学部品データ入力手段５１よりそれらのＩＤ番号を入力する。
【００３１】
これらのＩＤ番号に相当する光学部品を測定対象８とし、干渉計等の波面特性測定手段２０によってこれらすべての光学部品の波面特性を測定し、このＩＤ番号と波面特性とをデータベース記憶手段５２に記憶する。この波面特性は、これらの光学部品に既知の波面（例えば平面波）を入射させたときに出射される波面の形状を表したものであり、光軸に垂直な平面をＸ−Ｙ平面としたときにＸ，Ｙ軸の関数として表すことができる。この波面特性を、波面形状演算手段５３によって光路に沿って加え合わせることにより、どの光学部品とどの光学部品とを組み合わせれば、どのような波面が出力されるかという合成波面形状がＸ，Ｙ軸の関数として求められる。この合成波面形状は、エキシマレーザ４の前記波長特性に密接な関係があり、この波面の形状が所定の許容範囲内に入っているようにすれば、良好な波長特性を得ることができる。そこで、評価判定手段５４によって、管理システム内に保有している光学部品のすべての組み合わせについて、この合成波面形状が所定の許容範囲内に入っているか否かを判定する。これにより、波長特性を良好にすることができる光学部品の組み合わせを設定することが可能となる。
【００３２】
この判定結果に基づき、最適組み合わせ設定手段５５により、すべての光学部品の組み合わせのうち波面の形状が所定の許容範囲に入るような光学部品の組み合わせのセット数が最も多く得られるように光学部品を最適に組み合わせ、最適組み合わせ記憶手段５６によりこの光学部品の最適な組み合わせを記憶する。そして、この最適な組み合わせを組み合わせ表示手段５７によって表示して、どのように光学部品を組み合わせればよいかを作業者に通知する。
【００３３】
これらの光学部品データ入力手段５１、データベース記憶手段５２、波面形状演算手段５３、評価判定手段５４、最適組み合わせ設定手段５５、最適組み合わせ記憶手段５６、組み合わせ表示手段５７は例えばＣＰＵ、メモリ、キーボード、ディスプレイ、プリンタ等からなり、例えばパソコンで構成されてもよく、これらを総称して部品選定手段５０という。
【００３４】
以下、図を参照しながら、本発明に係わる実施形態を詳細に説明する。なお、図において同一の符号を付したものは同一の構成を表すものとする。
【００３５】
図２〜図４に基づいて、第１の実施形態を説明する。図２は、本実施形態に係わる光学部品管理システムによって管理される部品が使用されている狭帯域化ユニット１２の構成図である。前記図１３に示したビームエキスパンダ９は、本図に示すように例えばプリズム７Ａ及びプリズム７Ｂから構成されている。また、このビームエキスパンダ９に入射した入射波面３２がこれを通過することによって歪み、グレーティング１０に入射するレーティング波面１５になるものとする。
【００３６】
図３に、光学部品から出射する前記波面特性を計測するための波面特性測定手段２０の構成図を示す。同図において、例えばＫｒＦエキシマレーザの発振波長である２４８nmの発振波長に近い発振波長を持つアルゴン倍波レーザ２５から発振したレーザ光２９を基準光とし、このレーザ光２９を拡散レンズ２６、ビームスプリッタ２８及びコリメータレンズ２７を透過させて拡大し、拡大された平面波４０を部分透過ミラーからなる参照ミラー３１に入射させる。この参照ミラー３１は両面が平行に精密研磨されており、透過或いは反射による波面の歪みを最小限に抑えている。
【００３７】
前記レーザ光２９は、前記参照ミラー３１で一部が反射されて参照光となり、一部は参照ミラー３１を透過して、測定対象８であるプリズム７に入射する。プリズム７を透過した光の波面を出射波面４１とすると、これがミラー２４に垂直に入射して反射され、前記プリズム７を逆向きに透過して参照ミラー３１に逆向きに入射し、波面４２を有した測定光となる。ミラー２４は、前記参照ミラー３１と同様にその表面が平坦に精密研磨されており、入射した光の波面をそのままの形で反射するようにしている。
【００３８】
ここで、前記参照光と測定光とはビームスプリッタ２８で図中下向きに反射され、結像レンズ３５を通過して波面情報を含む干渉縞３３をＣＣＤカメラ３６に結像する。また前記参照ミラー３１は、例えばＣＰＵを備えた干渉計コントローラ３８からの指令に基づいて、ピエゾ素子を使ったピエゾアクチュエータ３０を駆動することによって図中Ｚ軸方向に微動可能であり、この移動に伴って前記干渉縞３３が移動する。この干渉縞３３の像を前記干渉計コントローラ３８で分析することによって、測定光の波面４２の形状を知ることができる。また、ここから出射波面４１の形状を演算することができる。
【００３９】
この出射波面４１の形状は、前記プリズム７に平面波４０を入射させたときにどのような波面が出射するかを表したもので、図中Ｘ，Ｙ軸の関数として表すことができる。この関数をプリズム７の波面特性Ｗp(X,Y)と呼び、各プリズム７Ａ，７Ｂに特有のものである。干渉計コントローラ３８での演算によって、この波面特性Ｗp(X,Y)を曲面で近似して、出射波面４１の曲率半径Ｒp を算出することも可能である。
【００４０】
そして、前記波面形状演算手段５３によって、各プリズム７Ａ，７Ｂの波面特性Ｗp(X,Y)から、これらのプリズム７Ａ及び７Ｂを通過してグレーティング１０に入射するグレーティング入射波面１５の形状を求めることができる。すなわち、前記波面特性測定手段２０による測定によってプリズム７Ａ，７Ｂの波面特性Ｗ(X,Y) がそれぞれ波面特性ＷpA(X,Y) ，波面特性ＷpB(X,Y) であったとすると、前記グレーティング入射波面１５の形状は、図中Ｘ，Ｙ軸の関数として表すことができ、この関数を合成波面形状ＫG(X,Y)と呼んで、次の数１で表される。
【数１】
ＫG(X,Y)＝ＷpA(X,Y) ＋ＷpB(X,Y)
【００４１】
こうして求めた合成波面形状ＫG(X,Y)から、同じく波面形状演算手段５３によってグレーティング入射波面１５の曲率半径ＲG を演算することができる。この曲率半径ＲG を所定の許容範囲内に収めることができれば、グレーティング１０の波長選択特性を低下させることなしに前記波面補正を良好に行なうことが可能である。また、グレーティング１０を曲げることなく良好な波長特性を得ることも可能である。
【００４２】
図４に、各光学部品の前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定して、グレーティング入射波面１５を所定の形状に収めるとともに、プリズム７を効率的に使用し、管理するための手順の一例をフローチャートで示す。
【００４３】
まず、所有しているすべてのプリズム７にＩＤ番号をつけ（ステップＳ１）、前記光学部品データ入力手段５１によって、プリズム７につけられたＩＤ番号を入力する（ステップＳ２）。そして、前記図３に示した波面特性測定手段２０により、すべてのプリズム７の前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定し（ステップＳ３）、これらの波面特性Ｗ(X,Y) を前記ＩＤ番号と関連づけてデータベース記憶手段５２に記憶する（ステップＳ４）。すなわち、プリズム７Ａ，７Ｂを、それぞれＨ個、ｉ個所有しているとすると、それぞれの波面特性ＷpA1(X,Y)〜ＷpAH(X,Y)、波面特性ＷpB1(X,Y)〜ＷpBi(X,Y)が記憶されることになる。
【００４４】
次に、波面形状演算手段５３により、数１に基づいてＨ個のプリズム７Ａとｉ個のプリズム７Ｂとのすべての組み合わせ（この場合はＨ×ｉ通り）について、前記グレーティング入射波面１５の合成波面形状ＫG(X,Y)をそれぞれ求める（ステップＳ６）。そして、同じく波面形状演算手段５３により、これらすべての合成波面形状ＫG(X,Y)に対してグレーティング入射波面１５の前記曲率半径ＲG を求め（ステップＳ８）、前記評価判定手段５４によって、このすべての曲率半径ＲG が、それぞれグレーティング１０の波長選択特性が低下しない前記許容範囲内に収まるか否かを判定する（ステップＳ１０）。この曲率半径ＲG が許容範囲内にある組み合わせを、グレーティング入射波面１５に関するプリズム７の好適な組み合わせという。
【００４５】
この判定結果に基づき、前記最適組み合わせ設定手段５５により、これらすべての組み合わせのうち、前記好適な組み合わせのセット数が最大となるような組み合わせを設定する（ステップＳ１２）。これを、プリズム７Ａとプリズム７Ｂとの最適組み合わせという。この最適組み合わせを前記最適組み合わせ記憶手段５６に記憶し（ステップＳ１４）、前記組み合わせ表示手段５７によって作業者に通知する（ステップＳ１６）。これにより、プリズム７Ａとプリズム７Ｂとを、最も効率良く使用することができる。
【００４６】
このとき、新たにプリズム７Ａやプリズム７Ｂを購入する際には、これにＩＤ番号をつけてその波面特性Ｗp(X,Y)を測定する。そして、例えばプリズム７Ａを新たに購入した場合は、前記最適組み合わせの中に入らなかったプリズム７Ｂと組み合わせて、上記図４に示した手順によって前記合成波面形状ＫG(X,Y)を求め、これが前記許容範囲内に入るか否かを判定して、新たに組み合わせを設定すればよい。また或いは、これまでに在庫として所有しているすべてのプリズム７と合わせて、すべての組み合わせについて上記手順をスタートから行ない、新たに前記最適組み合わせを設定してもよい。或いは、前記最適組み合わせの中に入らなかったプリズム７Ｂの波面特性ＷpB(X,Y) から、前記グレーティング入射波面１５の曲率半径ＲG が所定の許容範囲内に入るようなプリズム７Ａの波面特性ＷA(X,Y)を逆算し、その条件に合致するプリズム７Ａを購入するようにしても良い。
【００４７】
このように本実施形態によれば、前記グレーティング入射波面１５の形状がグレーティング１０によって波面補正を行なうことができる許容範囲内にあるようにプリズム７を組み合わせているので、常に波面補正を良好に行なうことができる。
【００４８】
また、プリズム７を組み合わせる際に、前記曲率半径ＲG が許容範囲内に入るような組み合わせが最大になるようにすることにより、適切な光学部品を不適切であると判断して放棄するなどということが減り、プリズム７の在庫を有効に使うことができる。
【００４９】
また、光学部品を常に組み合わせた形で在庫として持つことができるので、例えばプリズム７Ｂが破損するなどで交換する必要がある際には、プリズム７Ａとプリズム７Ｂとを組み合わせた状態で両方を交換すればよく、常に好適なグレーティング入射波面１５を得られる状態でプリズム７を組み合わせられる。或いは、最初にプリズム７Ａをエキシマレーザ４に組み立てた際にこの波面特性ＷpA(X,Y) が前記データベース記憶手段５２に記憶されているので、この波面特性ＷA(X,Y)から曲率半径ＲG が許容範囲内に入るプリズム７Ｂの波面特性ＷB(X,Y)を逆算し、これを満たすプリズム７Ｂを選択して交換すればよい。これにより、常に前記グレーティング入射波面１５の合成波面形状ＫG(X,Y)が適切な範囲に入っている状態で交換を行なえるので、グレーティング１０による波面補正が良好に行なえ、調整に要する時間が短縮される
【００５０】
次に図５〜図８に基づいて、第２の実施形態を説明する。図５に、前記図３のプリズム７の代わりに前記グレーティング１０やミラー３７を測定対象８として設置し、前記波面特性測定手段２０によってグレーティング１０の波面特性Ｗg(X,Y)やミラー３７の波面特性Ｗm(X,Y)を測定する際の構成を示す。このように、フィゾー干渉計を前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定する波面特性測定手段２０として利用し、前記狭帯域化ユニット１２やエキシマレーザ４を構成する各光学部品の波面特性Ｗ(X,Y) を測定することができる。
【００５１】
図６に、本実施形態に係わるエキシマレーザ４の構成図を示す。同図に示すように、このエキシマレーザ４の前記狭帯域化ユニット１２は、プリズム７Ａ，７Ｂ，７Ｃ、ミラー３７、及びグレーティング１０から構成されている。前記実施形態と同様にリアウィンドウ５から出射したレーザ光３は、プリズム７Ａ，７Ｂを通過する間にその径を拡げられ、ミラー３７で反射してプリズム７Ｃによって再度その径を拡げられ、グレーティング１０に入射する。ミラー３７は図示しない回転アクチュエータによって図中矢印方向に回転可能であり、この回転によってグレーティング１０の選択波長を変更することができる。グレーティング１０は、図示しない角度アクチュエータによってレーザ光３の光路に対する角度を制御されており、選択された所定の波長だけを発振させることで前記狭帯域化を行なっている。また、前記実施形態と同様に、図示しない曲率アクチュエータによってグレーティング１０を曲げて前記波面補正を行なうことが可能である。
【００５２】
このとき、狭帯域化ユニット１２から出射するレーザ光３の波面をユニット波面３４とし、その波面の形状を合成波面形状ＫU(X,Y)、エキシマレーザ４から出射するレーザ光３の波面をレーザ波面３９とし、その波面の形状を合成波面形状ＫL(X,Y)とする。このユニット波面３４の合成波面形状ＫU(X,Y)は、前記数１と同様に狭帯域化ユニット１２を構成する各光学部品（以下これらをユニット部品という）の波面特性Ｗ(X,Y) を、光路に沿った順序で加えることによって求められる。
【００５３】
すなわち、プリズム７Ａ，７Ｂ，７Ｃ、ミラー３７、及びグレーティング１０の計測された波面特性Ｗ(X,Y) を、それぞれ波面特性ＷpA(X,Y) ，ＷpB(X,Y) ，ＷpC(X,Y) ，Ｗm(X,Y)，Ｗg(X,Y)とすると、前記合成波面形状ＫU(X,Y)は次の数２で表される。
【数２】
ＫU(X,Y)＝ＷpA(X,Y) ＋ＷpB(X,Y) ＋Ｗm(X,Y)＋ＷpC(X,Y) ＋Ｗg(X,Y)＋ＷpC(X,Y) ＋Ｗm(X,Y)＋ＷpB(X,Y) ＋ＷpA(X,Y)
【００５４】
ここで、このユニット波面３４の曲率半径Ｒを曲率半径ＲU 、その逆数を平面度ＦU とすると、この平面度ＦU はエキシマレーザ４の波長特性に対して最適値を持つ。図７に、エキシマレーザ４の前記線幅と、前記ユニット波面３４の平面度ＦU との関係を示す。前記平面度ＦU が０になる点が、前記ユニット波面３４が平面波となる点である。同図より、平面度ＦU が、エキシマレーザ４の線幅に対して最適平面度ＦUop を持つことがわかる。すなわち、エキシマレーザ４の線幅を最小にするためには、平面度ＦU を最適平面度ＦUop に一致させれば前記ユニット波面３４を最適化でき、前記線幅が最小となる。また、線幅を例えばステッパの露光に必要な線幅許容値以下に抑えるためには、前記平面度ＦU を所定の許容範囲内に収めるようにすればよい。
【００５５】
さらに、エキシマレーザ４の前記中心波長の安定性（線幅純度ともいう）に関しても、やはり同様の最適平面度ＦUop2が存在する。すなわち、前記波面特性を例えばステッパの露光に必要な許容範囲内に収めるためには、前記線幅と中心波長の安定性を共に所定の許容範囲内に収めるようにすればよく、そのためには前記平面度ＦU を所定の許容範囲内に収めるようにすればよい。
【００５６】
図８に、前記ユニット部品のプリズム７Ａ〜７Ｃ、ミラー３７及びグレーティング１０の前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定して、前記ユニット波面３４に関する前記好適な組み合わせを得るとともに、光学部品を効率的に使用し、管理するための手順の一例をフローチャートで示す。
【００５７】
まず、所有しているすべてのプリズム７Ａ〜７Ｃ、ミラー３７及びグレーティング１０にＩＤ番号をつけ（ステップＳ２１）、前記光学部品データ入力手段５１によって、これらの光学部品につけられたＩＤ番号を入力する（ステップＳ２２）。そして、前記図３及び図５に示した波面特性測定手段２０によりこれらの光学部品の前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定し（ステップＳ２３）、これらの波面特性Ｗ(X,Y) を前記ＩＤ番号と関連づけてデータベース記憶手段５２に記憶する（ステップＳ２４）。すなわち、プリズム７Ａ，７Ｂ，７Ｃ、ミラー３７及びグレーティング１０を、それぞれＨ個、ｉ個、Ｊ個、Ｒ個、Ｑ個所有しているとすると、それぞれの波面特性ＷpA1(X,Y)〜ＷpAH(X,Y)，波面特性ＷpB1(X,Y)〜ＷpBi(X,Y)、波面特性ＷpC1(X,Y)〜ＷpCJ(X,Y)、波面特性Ｗm1(X,Y) 〜ＷmR(X,Y) 、及び波面特性Ｗg1(X,Y) 〜ＷgQ(X,Y) が記憶されることになる。
【００５８】
次に、波面形状演算手段５３により、数２に基づいてＨ個のプリズム７Ａ、ｉ個のプリズム７Ｂ、Ｊ個のプリズム７Ｃ、Ｒ個のミラー３７、及びＱ個のグレーティング１０のすべての組み合わせ（この場合はＨ×ｉ×Ｊ×Ｒ×Ｑ通り）について、ユニット波面３４の合成波面形状ＫU(X,Y)をそれぞれ求める（ステップＳ２６）。そして、同じく波面形状演算手段５３により、これらすべての合成波面形状ＫU(X,Y)に対して、ユニット波面３４の前記平面度ＦU を求め（ステップＳ２８）、このすべての平面度ＦU が、それぞれエキシマレーザ４の線幅が例えばステッパの露光に必要な線幅許容値以下になるような前記許容範囲内に収まるか否かを判定する（ステップＳ３０）。
【００５９】
この判定結果に基づき、前記最適組み合わせ設定手段５５により、これらすべての組み合わせのうち、前記ユニット波面３４に関する好適な組み合わせのセット数が最大となるような組み合わせを設定する（ステップＳ３２）。これを、前記ユニット部品の最適組み合わせという。この最適組み合わせを前記最適組み合わせ記憶手段５６に記憶し（ステップＳ３４）、前記組み合わせ表示手段５７によって作業者に通知する（ステップＳ３６）。これにより、狭帯域化ユニット１２を構成する光学部品を、最も効率良く使用することができる。
【００６０】
このとき、新たに前記ユニット部品を購入する際には、これにＩＤ番号をつけてその波面特性Ｗ(X,Y) を測定する。そして、例えばプリズム７Ａを新たに購入した場合は、前記最適組み合わせの中に入らなかったユニット部品と組み合わせて、上記図８に示した手順によって前記合成波面形状ＫU(X,Y)を求め、これが前記許容範囲内に入るか否かを判定して、新たに組み合わせを設定すればよい。また或いは、前記ユニット部品のすべての在庫と合わせて、すべての組み合わせについて前記手順をスタートから行ない、新たに前記最適組み合わせを設定してもよい。或いは、前記最適組み合わせの中に入らなかったユニット部品の波面特性Ｗ(X,Y) から、前記ユニット波面３４の平面度ＦU が所定の許容範囲内に入るようなプリズム７Ａの波面特性ＷA(X,Y)を逆算し、その条件に合致するプリズム７Ａを購入するようにしても良い。
【００６１】
このように本実施形態によれば、前記ユニット波面３４の形状がステッパの露光に必要な波長特性になるように光学部品を組み合わせているので、常に良好な品位のエキシマレーザ４を得ることができる。
【００６２】
また、これらのユニット部品を組み合わせる際に、前記平面度ＦU が許容範囲内に入るような組み合わせが最大になるようにすることにより、適切な光学部品を不適切であると判断して放棄するなどということが減り、部品購入のコストが減少するとともに、光学部品の在庫を有効に使うことができる。
【００６３】
また、ユニット部品を常に組み合わせた形で在庫として持つことができるので、例えばプリズム７Ｃが破損するなどで交換する必要がある際には、これを他のユニット部品と組み合わせた状態ですべて交換すればよい。或いは、交換を必要としないユニット部品に関しては波面特性Ｗ(X,Y) がすでに前記データベース記憶手段５２に記憶されているので、これらの波面特性Ｗ(X,Y) から平面度ＦU が許容範囲内に入るプリズム７Ｃの波面特性ＷpC(X,Y) を逆算し、これを満たすプリズム７Ｃを選択して交換してもよい。これにより、常に前記ユニット波面３４の合成波面形状ＫU(X,Y)が適切な範囲に入っている状態で交換を行なえるので、調整に要する時間が短縮される。
【００６４】
次に、図９、図１０に基づいて、第３の実施形態を説明する。前記図６に示したエキシマレーザ４から出射するレーザ光３の波面であるレーザ波面３９の波面の形状を合成波面形状ＫL(X,Y)とすると、この合成波面形状ＫL(X,Y)は、前記数２と同様にエキシマレーザ４を構成する各光学部品（以下これをレーザ部品という）の波面特性Ｗ(X,Y) を、光路に沿った順序で加えることによって求められる。すなわち、フロントミラー１４、フロントウィンドウ１３、リアウィンドウ５、プリズム７Ａ，７Ｂ，７Ｃ、ミラー３７、及びグレーティング１０の波面特性Ｗ(X,Y) を、それぞれ波面特性Ｗfm(X,Y) ，Ｗfw(X,Y) ，Ｗrw(X,Y) ，ＷpA(X,Y) ，ＷpB(X,Y) ，ＷpC(X,Y) ，Ｗm(X,Y)，Ｗg(X,Y)とすると、前記合成波面形状ＫL(X,Y)は前記波面形状演算手段５３によって次の数３で表される。
【数３】
ＫL(X,Y)＝Ｗrw(X,Y) ＋Ｗfw(X,Y) ＋Ｗfm(X,Y) ＋ＷpA(X,Y) ＋ＷpB(X,Y) ＋Ｗm(X,Y)＋ＷpC(X,Y) ＋Ｗg(X,Y)＋ＷpC(X,Y) ＋Ｗm(X,Y)＋ＷpB(X,Y) ＋ＷpA(X,Y) ＋Ｗrw(X,Y) ＋Ｗfw(X,Y) ＋Ｗfm(X,Y)
【００６５】
ここで、このレーザ波面３９の曲率半径Ｒを曲率半径ＲL 、その逆数を平面度ＦL とすると、この平面度ＦL はエキシマレーザ４の波長特性に対して最適値を持つ。図９に、エキシマレーザ４の前記線幅と、前記レーザ波面３９の平面度ＦL との関係を示す。前記平面度ＦL が０になる点が、前記レーザ波面３９が平面波となる点である。同図より、平面度ＦL がエキシマレーザ４の線幅に対して最適平面度ＦLop を持つことがわかる。すなわち、エキシマレーザ４の線幅を最小にするためには、平面度ＦL を最適平面度ＦLop に一致させれば前記レーザ波面３９を最適化でき、前記線幅が最小となる。また、線幅を例えばステッパの露光に必要な線幅許容値以下に抑えるためには、前記平面度ＦL を所定の許容範囲内に収めるようにすればよい。
【００６６】
さらに、エキシマレーザ４の前記中心波長の安定性に関しても、やはり同様の最適平面度ＦLop2が存在する。すなわち、前記波面特性を例えばステッパの露光に必要な許容範囲内に収めるためには、前記線幅と中心波長の安定性を共に所定の許容範囲内に収めるようにすればよく、そのためには前記平面度ＦL を所定の許容範囲内に収めるようにすればよい。
【００６７】
図１０に、レーザ部品であるフロントミラー１４、フロントウィンドウ１３、リアウィンドウ５、プリズム７Ａ〜７Ｃ、ミラー３７及びグレーティング１０の前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定して、前記レーザ波面３９に関する前記好適な組み合わせを得るとともに、光学部品を効率的に使用し、管理するための手順の一例をフローチャートで示す。
【００６８】
まず、所有しているすべてのフロントミラー１４、フロントウィンドウ１３、リアウィンドウ５、プリズム７Ａ〜７Ｃ、ミラー３７及びグレーティング１０にＩＤ番号をつけ（ステップＳ４１）、前記光学部品データ入力手段５１によって、これらの光学部品につけられたＩＤ番号を入力する（ステップＳ４２）。そして、前記図３及び図５に示した波面特性測定手段２０によりこれらの光学部品の前記波面特性Ｗ(X,Y) を測定し（ステップＳ４３）、これらの波面特性Ｗ(X,Y) を前記ＩＤ番号と関連づけてデータベース記憶手段５２に記憶する（ステップＳ４４）。
【００６９】
次に、波面形状演算手段５３により、数３に基づいてフロントミラー１４、フロントウィンドウ１３、リアウィンドウ５、プリズム７Ａ、プリズム７Ｂ、プリズム７Ｃ、ミラー３７、及びグレーティング１０のすべての組み合わせについて、前記レーザ波面３９の合成波面形状ＫL(X,Y)をそれぞれ求める（ステップＳ４６）。そして、同じく波面形状演算手段５３により、これらすべての合成波面形状ＫL(X,Y)に対して、レーザ波面３９の前記平面度ＦL を求める（ステップＳ４８）。このすべての平面度ＦL が、それぞれ、エキシマレーザ４の線幅が例えばステッパの露光に必要な線幅許容値以下になるような前記許容範囲内に収まるか否かを判定する（ステップＳ５０）。
【００７０】
この判定結果に基づき、前記最適組み合わせ設定手段５５により、これらすべての組み合わせのうち、レーザ波面３９に関する前記好適な組み合わせのセット数が最大となるような組み合わせを設定する（ステップＳ５２）。これを、前記レーザ部品の最適組み合わせという。この最適組み合わせを前記最適組み合わせ記憶手段５６に記憶し（ステップＳ５４）、前記組み合わせ表示手段５７によって作業者に通知する（ステップＳ５６）。これにより、レーザ部品を、最も効率良く使用することができる。
【００７１】
このとき、新たにレーザ部品を購入する際には、これにＩＤ番号をつけてその波面特性Ｗ(X,Y) を測定する。そして、例えばプリズム７Ａを新たに購入した場合は、前記最適組み合わせの中に入らなかったレーザ部品と組み合わせて、上記図１０に示した手順によって前記合成波面形状ＫL(X,Y)を求め、これが前記許容範囲内に入るか否かを判定して、新たに組み合わせを設定すればよい。また或いは、レーザ部品のすべての在庫と合わせて、すべての組み合わせについて前記手順をスタートから行ない、新たに前記最適組み合わせを設定してもよい。或いは、前記最適組み合わせの中に入らなかったレーザ部品の波面特性Ｗ(X,Y) から、前記レーザ波面３９の平面度ＦL が所定の許容範囲内に入るようなプリズム７Ａの波面特性ＷA(X,Y)を逆算し、その条件に合致するプリズム７Ａを購入するようにしても良い。
【００７２】
このように本実施形態によれば、前記レーザ波面３９の形状がステッパの露光に必要な波長特性になるように光学部品を組み合わせているので、常に良好な品位のエキシマレーザ４を得ることができる。
【００７３】
また、前記レーザ部品を組み合わせる際に、前記平面度ＦL が許容範囲内に入るような組み合わせが最大にようにすることにより、適切な光学部品を不適切であると判断して放棄するなどということが減り、部品購入のコストが減少するとともに、光学部品の在庫を有効に使うことができる。
【００７４】
また、光学部品を常に組み合わせた形で在庫として持つことができるので、例えばフロントウィンドウ１３が破損するなどで交換する必要がある際には、これを他のレーザ部品と組み合わせた状態ですべて交換すればよい。或いは、交換を必要としないレーザ部品に関しては波面特性Ｗ(X,Y) がすでに前記データベース記憶手段５２に記憶されているので、これらの波面特性Ｗ(X,Y) から平面度ＦL が許容範囲内に入るフロントウィンドウ１３の波面特性Ｗfw(X,Y) を逆算し、これを満たすフロントウィンドウ１３を選択して交換してもよい。これにより、常に前記レーザ波面３９の合成波面形状ＫL(X,Y)が適切な範囲に入っている状態で交換を行なえるので、調整に要する時間が短縮される。勿論、最初にエキシマレーザ４を組み立てる際にも、同様に前記好適な光学部品を選んで組み立てるので、組み立て後の調整が簡単になる。
【００７５】
以上説明したように本発明によれば、エキシマレーザ４の光学部品の波面特性Ｗ(X,Y) を計測し、この波面特性Ｗ(X,Y) を足し合わせてこれらの光学部品から出力する波面の形状である合成波面形状Ｋ(X,Y) を演算し、これが所定の形状となるような好適な光学部品の組み合わせのセット数が最も多くなるように、所有するすべての光学部品を管理している。これにより、光学部品を効率的に利用できるとともに、好適な光学部品の組み合わせを常に提供できるので、エキシマレーザ４の組み立て及び調整に要する時間を短縮することができる。
【００７６】
以上の各実施形態の説明においては、前記合成波面形状Ｋ(X,Y) から求めた波面の曲率半径Ｒ、又はその逆数である平面度Ｆを演算して、これが許容範囲内に入るようにしているが、このとき図１１に示すように、曲率半径Ｒの代わりにレーザ光３の波面の測定点４３の最大値と最小値の差であるＰＶ値ＰV を算出し、このＰＶ値或いはその逆数を所定の許容範囲内に収めるようにしてもよい。また、同様に図１２に示すように波面の近似曲線４４と測定点４３との距離の自乗の総和の平方根であるｒｍｓ値を算出し、これを許容範囲内に収めるようにしてもよい。これらの値は、前記干渉計コントローラ３８で干渉縞３３を分析することによって求めることができる。
【００７７】
また、以上の実施形態の説明においては、波面特性測定手段２０としてフィゾー干渉計を使用しているが、本発明はこれに限定されず、前記波面特性を測定できるものであればよく、例えばマイケルソン干渉計等を使用してもよい。
【００７８】
また、前記波面特性測定手段２０から入射させる波面は平面波４０として説明したが、これは波面の形状が既知の波面であればよい。
【００７９】
また、狭帯域化ユニット１２やエキシマレーザ４の構成としては前記図２及び図６に示したようなものはあくまでも一実施形態であって本発明はこれに束縛されることはなく、他の構成を有するエキシマレーザ４でもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】光学部品管理システムの構成図。
【図２】本発明の第１の実施形態に係わる光学部品管理システムによって管理される部品が使用されている狭帯域化ユニット１２の構成図。
【図３】波面特性測定の説明図。
【図４】光学部品を管理するための手順の一例を示したフローチャート。
【図５】第２の実施形態に係わる波面特性測定の説明図。
【図６】エキシマレーザの構成図。
【図７】エキシマレーザの波面と線幅との関係の説明図。
【図８】光学部品を管理するための手順の一例を示したフローチャート。
【図９】第３の実施形態に係わるエキシマレーザの波面と線幅との関係の説明図。
【図１０】光学部品を管理するための手順の一例を示したフローチャート。
【図１１】ＰＶ値の説明図。
【図１２】ｒｍｓ値の説明図。
【図１３】従来技術によるエキシマレーザの構成図。
【図１４】波面の歪みの説明図。
【図１５】波面の歪みの説明図。
【符号の説明】
１…チャンバ、２…放電電極、３…レーザ光、４…エキシマレーザ、５…リアウィンドウ、７…プリズム、８…測定対象、９…ビームエキスパンダ、１０…グレーティング、１２…狭帯域化ユニット、１３…フロントウィンドウ、１４…フロントミラー、１５…グレーティング入射波面、１６…ウィンドウ、１８…光軸、１９…平面波、２０…波面特性測定装置、２１…凹面波、２２…全反射ミラー、２３…凸面波、２４…ミラー、２５…アルゴン倍波レーザ、２６…拡散レンズ、２７…コリメータレンズ、２８…ビームスプリッタ、２９…レーザ光、３０…ピエゾアクチュエータ、３１…参照ミラー、３２…入射波面、３３…干渉縞、３４…ユニット波面、３５…結像レンズ、３６…ＣＣＤカメラ、３７…ミラー、３８…干渉計コントローラ、３９…レーザ波面、４０…平面波、４１…出射波面、４２…波面、４３…測定点、４４…近似曲線、５０…部品選定手段、５１…光学部品データ入力手段、５２…データベース記憶手段、５３…波面形状演算手段、５４…評価判定手段、５５…最適組み合わせ設定手段、５６…最適組み合わせ記憶手段、５７…組み合わせ表示手段。
【図１】
0003785787.tif 000002
【図２】
0003785787.tif 000003
【図３】
0003785787.tif 000004
【図４】
0003785787.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0003785787.tif 000009
【図９】
0003785787.tif 000010
【図１０】
0003785787.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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