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(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
強酸を溶媒として、フェニルホスホン酸をＮ−クロロイミド型クロル化剤で塩素化しクロロフェニルホスホン酸類を得ることを特徴とするフェニルホスホン酸の塩素化方法。
【請求項２】
Ｎ−クロロイミド型クロル化剤がトリクロロイソシアヌル酸、ジクロロイソシアヌル酸のナトリウム塩或いはカリウム塩である請求項１記載のフェニルホスホン酸の塩素化方法。
【請求項３】
強酸が硫酸、発煙硫酸及び三酸化硫黄の中から選ばれた少なくとも一種の化合物である請求項１又は２記載のフェニルホスホン酸の塩素化方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリエステルやポリウレタン等の各種繊維の難燃剤及び又はその中間体として有用なクロロフェニルホスホン酸類を得るフェニルホスホン酸の塩素化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
カナディアン・ジャーナル・ケミストリ，６５巻，１７２９頁（１９８７年）〔Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，６５，１７２９（１９８７）〕に於て、無水臭化ニッケルの存在下、クロロヨードベンゼン又はクロロブロモベンゼンとトリエチルフォスファイトを１８０℃で反応させた後、濃塩酸で還流することにより、ハロゲン化フェニルホスホン酸を得ている。
【０００３】
【化１】
0003817782.tif 000002
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記製造法では、原料となるクロロヨードベンゼンやクロロブロモベンゼンが高価であり、又、臭化ニッケルも使用後の処理の点で好ましくなく、かつ高温を要する。さらに目的物を得るためには、過剰量の濃塩酸による加水分解が必要で２工程を要する。
【０００５】
本発明者は、この従来技術の問題を解決するために研究を行い本発明を完成した。本発明の目的は、安価な原料から温和な条件下で１工程で目的とするハロゲン化フェニルホスホン酸類を得るフェニルホスホン酸の塩素化方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、強酸を溶媒として、フェニルホスホン酸を直接塩素化イソシアヌル酸で塩素化しクロロフェニルホスホン酸類を得ることを特徴とするフェニルホスホン酸の塩素化方法に関する。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、更に本発明を詳細に説明する。
原料のフェニルホスホン酸は、日産化学工業（株）で製造している製品を使用することができる。Ｎ−クロロイミド型クロル化剤としては、Ｎ−クロロサクシイミド、Ｎ−クロログルタルイミド、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、トリクロロイソシアヌル酸、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム塩及びジクロロイソシアヌル酸カリウム塩を挙げることができる。これらの中で特に好ましいものは、安価で入手容易なトリクロロイソシアヌル酸である。
【０００８】
その使用量は、フェニルホスホン酸に塩素原子１個入れる場合は、フェニルホスホン酸に対し有効塩素元素当たり１〜１５倍が好ましく、塩素原子２個入れる場合は、有効塩素元素当たり２〜２０倍が好ましい。
溶媒として用いる強酸としては、硫酸、発煙硫酸及び三酸化硫黄等の無機強酸或いはトリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の有機の強酸が挙げられる。これらの酸は組み合わせて使うことも可能である。反応収率及びコストの面で無機強酸が好ましい。溶媒の使用量は、反応基質に対し１〜５０重量倍が可能で有るが、より好ましくは、２〜１０重量倍が適切である。
【０００９】
反応温度は、２０〜１８０℃間が、特には、３０〜１５０℃が好ましく、更には、塩素原子１個入れる場合は、５０〜１００℃が好ましく、塩素原子２個入れる場合は８０〜１５０℃が好ましい。
反応時間は、液体クロマトグラフィーによる反応液の分析により決定することができる。
【００１０】
反応は、常圧でも加圧でも可能であり、また回分式でも連続式でも行う事ができる。
反応後、反応液を水で希釈した後有機溶媒等で抽出することにより生成物を分離することができる。得られた生成物は、再結晶法等で精製することができる。以下実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００１１】
【実施例】
〔実施例１〕
フェニルホスホン酸０．７９ｇ（５ミリモル）、トリクロロイソシアヌル酸（有効塩素量９０％）０．５６ｇ（２．２ミリモル）及び９７％硫酸５ｇを５０ｍｌ反応フラスコに仕込み、６０℃で４時間撹拌した。
【００１２】
冷却後氷に反応液を滴下した。濾過により析出した結晶を除いた後、濾液に酢酸エチルを添加し抽出した。この酢酸エチル溶液を濃縮、乾燥すると結晶１．２ｇが得られた。
この結晶を液体クロマトグラフィーで分析すると８１．８％の純度であった。この結晶を酢酸エチルとヘプタンの混合液で再結晶を繰り返し、純度９３．１％の結晶０．６ｇを得た。この結晶の分析結果は、以下の通りであった。
【００１３】
ＭＡＳＳ（ｍ／ｅ（％））：１９２（Ｍ+ ，２８），１７３（３），１６３（９），１３９（９），１２８（１００），１１１（１０），９４（８），７５（３０），６５（２６），５０（２０）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｄ6 −ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：７．７６〜７．７０（２Ｈ，ｍ），７．６６〜７．６３（１Ｈ，ｍ），７．６０〜７．５４（１Ｈ，ｍ）
以上から、主生成物は、３−クロロフェニルホスホン酸（３−ＣＰＰと略記する。）であることを確認した。
【００１４】
〔実施例２〕
実施例１に於て、トリクロロイソシアヌル酸０．８６ｇ（３．４ミリモル）、反応温度１４０℃とした他は同様に反応させた後、後処理を行った。酢酸エチルで抽出、濃縮後乾燥して得られた結晶は、１．３ｇで液体クロマトグラフィーでの純度は９０．１％であった。
【００１５】
この結晶を酢酸エチルとヘプタンの混合液で再結晶を繰り返し、純度９６．６％の結晶０．７ｇを得た。この結晶の分析結果は以下の通りであった。
ＭＡＳＳ（ｍ／ｅ（％））：２２７（Ｍ+ ，２０），１９３（７０），１７５（３０），１６４（１００），１４７（２２），１３０（４８），１１１（４８），９３（５２），７６（９０）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｄ6 −ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：７．８８〜７．８１（１Ｈ，ｍ），７．６７〜７．５８（２Ｈ，ｍ）
以上から、主生成物は、３，５−ジクロロフェニルホスホン酸（３，５−ＤＣＰＰと略記する。）であることを確認した。
【００１６】
〔実施例３〕
実施例１に於て、トリクロロイソシアヌル酸を０．４７ｇ（１．９ミリモル）、反応温度４５℃、反応時間９時間とした他は、同様に反応させた。この反応液を液体クロマトグラフィーで分析した結果、３−ＣＰＰが７１面積％で、３，５−ＤＣＰＰが１３面積％であった。
【００１７】
〔実施例４〕
実施例１に於て、トリクロロイソシアヌル酸を０．７４ｇ（２．９ミリモル）、溶媒を１０％発煙硫酸、反応温度を９５℃、さらに反応時間を１時間に変えた他は同様に反応させた。この反応液を液体クロマトグラフィーで分析した結果、３−ＣＰＰが３２面積％で、３，５−ＤＣＰＰが６８面積％であった。
【００１８】
〔実施例５〕
実施例１に於て、トリクロロイソシアヌル酸０．４３ｇ（１．７ミリモル）、反応温度７０℃、さらに反応時間７時間とした他は同様に反応させた。この反応液を液体クロマトグラフィーで分析した結果、未反応フェニルホスホン酸が１２．７面積％、３−ＣＰＰが７６．８面積％及び３，５−ＤＣＰＰが４．２面積％であった。
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷房装置のコンプレッサーを、便器洗浄タンク内の洗浄水が排水された時にも洗浄水が残留する止水域の水中に浸漬させて配設したことを特徴とする便器用冷房装置。
【請求項２】
便器洗浄タンク内に前記洗浄タンクの防露材を設置し、該防露材内に冷房装置のコンプレッサーが埋設されていることを特徴とする便器用冷房装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、便器用冷房装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】
便器に冷房装置を組込むに際し、冷房装置のコンプレッサーからの振動音を消すためにスプリングやゴム等のクッション材を用いる必要があった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記従来の問題点に鑑み案出したものであって、その第１の要旨は、冷房装置のコンプレッサーを、便器洗浄タンク内の洗浄水が排水された時にも洗浄水が残留する止水域の水中に浸漬させて配設したことである。
また、第２の要旨は、便器洗浄タンク内に前記洗浄タンクの防露材を設置し、該防露材内に冷房装置のコンプレッサーが埋設されていることである。
【０００４】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図１は、第１実施例を示す概略構成図であり、便座１及び便蓋２の後方に設けられるタンクカバー３内には、洗浄水Ｗを貯留する洗浄タンク４が設けられ、タンクカバー３内に冷房装置５が組み込まれて、冷房装置５を構成する凝縮器６とコンプレッサー７が洗浄タンク４の洗浄水Ｗ中に浸漬状態で配設されたものとなっており、洗浄タンク４の上方のタンクカバー３内に蒸発器８とファン９が設けられ、タンクカバー３に形成された送風口１０から冷風を前方側へ吹き出し可能に構成されており、蒸発器８及び送風口１０で発生する水滴を水受け１１で回収して、洗浄タンク４内に導くように構成されている。
【０００５】
本例では、冷房装置５を構成するコンプレッサー７を洗浄タンク４内の洗浄水Ｗ中に浸漬状態で配設したものであるため、洗浄水Ｗによりコンプレッサー７から発せられる振動音を良好に吸音し、外部への振動音の伝播を良好に遮音して、消音効果の高められた冷房装置付き便器を構成することができるものとなる。
【０００６】
なお、このコンプレッサー７は、図２に示すように洗浄タンク４の底側に配設することが好ましく、洗浄タンク４の底側の止水域Ｗａ内にコンプレッサー７を配設すると、コンプレッサー７は常に水没状態となり、より良好な消音効果が得られるものとなる。
即ち、図２において、洗浄タンク４の底側には図示しない便器本体に連通する排水金具が設けられており、この排水金具１５には球弁１０が開閉可能に覆設され、排水金具１５からはオーバーフロー管１７が立設されたものとなっており、この排水金具１５の上面位置から下部の洗浄タンク４の底側には、洗浄タンク４内の洗浄水Ｗが全部排水された時にも必ず洗浄水が残留して止水域Ｗａを形成するため、この止水域Ｗａ内に、即ち排水金具１５の上面より下方に、コンプレッサー７を配設することが好ましい。
【０００７】
次に、図３は第２実施例を示すものであり、図３では、洗浄水Ｗを貯留する洗浄タンク４の内壁の側面から底面に亘り、クッション性を有する緩衝材１２を貼着したものであり、この緩衝材１２の上部側の一部に内側へ突出して包囲部１２ａを形成させ、この包囲部１２ａ内に冷房装置５のコンプレッサー７を埋込状に配置させたものである。このように緩衝材１２内にコンプレッサー７を埋設させておけば、緩衝材１２によりコンプレッサー７から発せられる音を吸音させて良好な消音効果を得ることができるものとなる。
【０００８】
なお、図４では、洗浄タンク４の内側に防露材１３を貼着したものであり、この防露材１３の底側のコーナー部に包囲部１３ａを形成させ、この包囲部１３ａ内にコンプレッサー７を埋込状に配設したものであり、このように洗浄タンク４に貼着される防露材１３を利用して、この防露材１３内にコンプレッサー７を埋設させても、防露材１３により良好にコンプレッサー７から発する振動音を吸音させて良好な吸音効果を得ることができるものとなる。
即ち、防露材１３は、例えば発泡材で形成されて遮音効果が大であるため、この性質を利用して、防露材１３内にコンプレッサー７を埋設させて吸音させるとともに、良好に遮音効果を発揮させて、コンプレッサー７から発せられる音の外部への漏れを極めて少なくすることができるものとなる。
【０００９】
なお、図５は、防露材１３の底側中央部に上方へ立ち上げ状に包囲部１３ｂを形成させて、この包囲部１３ｂ内にコンプレッサー７を埋設させたものである。
【００１０】
【発明の効果】
本発明の便器用冷房装置は、冷房装置のコンプレッサーを、便器洗浄タンク内の洗浄水が排水された時にも洗浄水が残留する止水域の水中に浸漬させて配設したことにより、コンプレッサーを水で良好に冷却させることができ、しかも、洗浄水によりコンプレッサーから発せられる振動音を良好に吸音し、外部への振動音の伝播を良好に遮音して、消音効果の高められた冷房装置付き便器を構成することができる効果を有する。
【００１１】
また、便器洗浄タンク内に前記洗浄タンクの防露材を設置し、該防露材内に冷房装置のコンプレッサーが埋設されていることにより、防露材により良好にコンプレッサーから発する振動音を吸音させて良好な吸音効果を得ることができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  第１実施例を示す洗浄水中にコンプレッサーを配設した状態の便器用冷房装置の概略構成図である。
【図２】  コンプレッサーを止水域内に配置した状態の概略構成図である。
【図３】  第２実施例を示し、緩衝材内にコンプレッサーを埋設した状態の便器用冷房装置の概略構成図である。
【図４】  さらに防露材中にコンプレッサーを埋設した状態の便器用冷房装置の概略構成図である。
【図５】  図４の変形例の要部断面構成図である。
【符号の説明】
１  便座
３  タンクカバー
４  洗浄タンク
５  冷房装置
６  凝縮器
７  コンプレッサー
８  蒸発器
９  ファン
１０  送風口
１１  水受け
１２  緩衝材
１２ａ  包囲部
１３  防露材
１３ａ，１３ｂ  包囲部
Ｗａ  止水域
【図１】
0003817709.tif 000002
【図２】
0003817709.tif 000003
【図３】
0003817709.tif 000004
【図４】
0003817709.tif 000005
【図５】
0003817709.tif 000006
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスを流す流路と、この流路を流れるガスの流量を測定する超音波センサと、この超音波センサを駆動する超音波センサ駆動回路と、前記ガスが流れる流路の圧力を測定する圧力センサと、通常のガス使用時にガス通路内の圧力の最大値を記録しておき、流量計測値が所定の流量以下で、ガス通路内の圧力が前記最大値以上の圧力である時に計測した流量をガス未使用時のデータとして設定する零点補正手段と、異常時にガス通路を遮断する遮断弁と、前記遮断弁を動作させるための遮断弁駆動回路と、前記遮断弁と前記超音波センサを制御する制御回路を備えたガス保安装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガス流量を計測し、異常流量が計測された場合にはガス通路を遮断し、ガス使用上の安全性を確保するガス保安装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ガスの使用量を計測するガスメータに、多量の流量が計測された場合や、通常ではありえないほどの長時間使用があった場合には、異常と判定してガス通路を遮断し、安全性を確保する保安装置が内蔵されたものが普及している。
【０００３】
この種のガス保安装置の流量測定方式では、所定の時間内にメータを通過した体積より流量を測定する膜式メータと、所定の時間間隔で超音波センサを動作させて瞬時流量を測定するメータが一般的である。
【０００４】
従来の超音波センサを利用したガス保安装置を図３にもとづき説明する。図において、通常のガス使用量を測定する場合、制御回路４から所定の時間間隔で超音波センサ駆動回路３に動作信号を送り、超音波センサ１を動作させて流路２を流れているガスの瞬時流量を測定する。そして、超音波センサ駆動回路３から返信される瞬時流量データを基に積算ガス使用量を計測している。また、計測されたガスの使用量が異常かどうかを制御回路４で判断し、異常と判断した場合は遮断弁駆動回路６に動作信号を送信して、遮断弁７を閉じてガスを止める。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、超音波センサを利用した流量計測方式では超音波センサ等の経時変化によって零点がズレて流量計測値の誤差が徐々に大きくなる可能性があるという課題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本発明ではガス未使用である状態を理論的に確認し、ガス未使用状態の流量を計測して、この計測値を零点に設定することで零点とのズレを補正する。これによって正確な流量計測が可能になる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明のガス保安装置は、ガスを流す流路と、この流路を流れるガスの流量を測定する超音波センサと、この超音波センサを駆動する超音波センサ駆動回路と、前記ガスが流れる流路の圧力を測定する圧力センサと、通常のガス使用時にガス通路内の圧力の最大値を記録しておき、流量計測値が所定の流量以下で、ガス通路内の圧力が前記最大値以上の圧力である時に計測した流量をガス未使用時のデータとして設定する零点補正手段と、異常時にガス通路を遮断する遮断弁と、前記遮断弁を動作させるための遮断弁駆動回路と、前記遮断弁と前記超音波センサを制御する制御回路を備えたものである。
【０００８】
すなわち、一般的にガス未使用時は周囲の温度変化の影響でガス使用時に比べてガス通路内の圧力が高くなることが多いことを利用し、通常のガス使用時にガス通路内の圧力の最大値を記録しておき、流量計測値が所定の流量以下で、ガス通路内の圧力が前記最大値
以上の圧力である時に計測した流量をガス未使用時のデータとして設定することによって零点補正ができるようにしたものである。
【０００９】
【実施例】
先ず、本発明の参考実施例について図１を用いて説明する。
【００１０】
（参考実施例）
図１に示す参考実施例にあって、従来例と同一の作用・動作を発揮する構成については同一符号を付し、説明は従来例のものを援用する。
【００１１】
基本的な構成は従来例と同じで、差異は零点補正手段を追加したことである。参考実施例による零点補正手段では、所定の期間を零点測定期間と設定し、この期間中に超音波センサ１で計測した最低流量をガス未使用時の流量として記録する。そして、前記零点測定期間後に記録されたガス未使用時の流量を超音波センサ１で測定する流量の零点として制御回路４で設定することによって、本発明のガス保安装置の零点補正が可能になる。
【００１２】
（実施例１）
図２は本発明の実施例を示すもので、従来例と同一の作用・動作を発揮する構成については同一符号を付し、説明は従来例のものを援用する。
【００１３】
本実施例１と従来例との差異はガス通路の圧力を測定する圧力センサと零点補正手段を追加したことである。
【００１４】
すなわち、本実施例１では、まず、通常のガス使用時にガス通路内の圧力を圧力センサ８で測定し、測定した圧力の最大値を記録しておく。つぎに、零点補正期間中に前記最大値以上の圧力を計測した時、超音波センサ１で流路２内の流量を測定し、測定した値を超音波センサ１の零点として制御回路４で設定することによって、ガス保安装置の零点補正が可能になる。また、測定後のガス通路の圧力を再度測定し、ガスが測定中に使用されていないことを確認している。
【００１５】
【発明の効果】
以上のように本発明のガス保安装置によれば、ガス未使用時の流量を正確に計測できるため、零点補正が可能になり、超音波センサの経時変化等の影響を受けることなく、正確な流量計測が可能になる。しかも、ガスの配管漏れの影響を受けることもないため、さらに正確な零点補正が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例１におけるガス保安装置を示す構成図
【図２】  本発明の実施例２におけるガス保安装置を示す構成図
【図３】  従来のガス保安装置を示す構成図
【符号の説明】
１  超音波センサ
２  流路
３  超音波センサ駆動回路
４  制御回路
５  零点補正手段
６  遮断弁駆動回路
７  遮断弁
８  圧力センサ
【図１】
0003817934.tif 000002
【図２】
0003817934.tif 000003
【図３】
0003817934.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
練習弾が標的に当たった時に破裂して衝突場所を光学的にマークするためのマーキング剤を収容したヘッドを有し、マーキング剤が練習用発射体のヘッドに設けられた破断可能なフード（3）内に収容されており、マーキング剤は複数の化学薬品成分から成り、各成分は別々の脆い区画内に収容されていて、各区画が破断した時に各成分が混合して互いに化学反応して光学的なマーキングが行われる演習弾において、
上記区画（4、5）が初期加速度および／またはツイスト安定化演習弾（1）を用いた場合には遠心力によって破断するように設計されており、フード（3）が光学的に透明な材料で作られていて演習弾（1）の軌道が見えるようになっていることを特徴とする演習弾。
【請求項２】
光学的マーキング効果が赤外線領域で見える請求項1に記載の演習弾。
【請求項３】
光学的マーキング剤が可視光および赤外線領域の光を出す請求項１に記載の演習弾。
【請求項４】
区画（4、5）は隔壁によって互いに分離され、隔壁が所定の破壊点を予め有している請求項１〜３のいずれか一項に記載の演習弾。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明はマーキング剤を含む演習弾に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この類の演習弾、例えば模擬弾や演習弾を使用する場合には、衝撃点にマークを付けて最適演習結果を確認することが重要である。そのため、演習弾の頭部（ヘッド）にはマーキング剤、好ましくは赤い色をした粉末を収容した室が付けられている。このヘッドは、演習弾がターゲットに衝突した時に破断して着色粉末を放出できるような材料で作られている。この粉末は衝突点の周りの一定半径内に散乱し、従って、光学的なマークがされる。しかし、この着色粉末は十分に明るい状態下でしか見えない。すなわち、弱い光の下や夜では強力な夜間監視機器を用いないと見えない。
米国特許第5,018,450に記載の演習弾では、マーキング剤が練習用発射体のヘッドの脆いフード内に収容されている。このマーキング薬剤は、区画が爆発したように、練習用発射体が標的に当たときに、互いに混合して化学反応する別々の脆い区画内に収容された化学成分であり、上記化学反応によって光学的なマーキング行われる。この種の練習用発射体は夜間でも衝撃したことが見える。
ドイツ特許第DE-AS 11 99 660に記載の演習弾はバレル形の兵器から発射される。そのマーキング薬剤は複数の別々の脆い区画内に収容された化学物質成分から成る。この練習用発射体では練習用発射体が銃口から出たときに区画が破断するように設計されていて、練習用発射体がバーレルの銃口から出た時に遠くからマッシュルーム形の煙の雲が見えるようになっている。すなわち、実弾演習演習により近い方法でシミュレーションができるようになっている。
【０００３】
【発明が解決する課題】
本発明の目的は、気象状況が悪い時でも十分に見ることができる、上記種類のマーキング剤放出式演習弾を提供することにある。
【０００４】
【発明が解決する課題】
本発明の上記目的は特許請求の範囲の請求項1に記載の特徴によって達成される。
【０００５】
【実施の態様】
本発明では、化学薬品成分を収容した区画が初期加速度および／またはツイスト加速度期のような早期に破断する。各区画は光学的に透明な材料で作られたフード内に収容され且つ練習用発射体のヘッドに位置している。衝撃時にはフードが衝撃点で破断し、マーキング薬剤を放出して衝突点を識別することができる。同時に、光学的に透明なフードを用いることによって化学反応成分の熱発光効果によるマーキングによって練習用発射体の全飛行軌道を知ることができる。化学薬品成分は、練習用発射体の全の飛行軌道に沿って光学的に追跡でき、しかも衝撃点でのマーキングができるような長時間持続する発光効果を出すように選択される。
【０００７】
化学反応の持続時間や、放射光の周期および輝度は化学反応成分を適切に選択することにより広範囲に調整することができる。反応は演習弾の飛行軌道を光学的に追跡できるようにするために持続する発光であるのが好ましい。本発明は、化学反応した時に可視光線または赤外線を出すような出発原料を用いるのが好ましい。赤外線を出す場合にはマーキング光を暗視機器で見ることができる。
スイス特許第CH 381 565に記載の練習用発射体は頭部に透明なフードを有している。このフードは着色粉末のようなマーキング原料を収容し、衝撃点で破断する。しかし、この光学的に透明なフードは各種発射体の粉末の色を識別するためのもの、すなわち、練習用発射体か、実弾かを区別するためのものに過ぎず、発射体の飛行軌道を追跡することはできない。
【０００８】
以下、本発明の典型的な実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。
【０００９】
【実施例】
図1は弾薬筒2に収容された練習用発射体１を示している。この練習用発射体1のヘッドはプラスチックのような透明材料で作られたフード3を有している。このフード3は第１区画4および第2区画5を覆っている。２つの区画は左右に配置され、隔壁6によって互いに分離されている。第１区画には酸化剤のような第１の化学薬品成分7が充填され、第2区画には還元剤のような第2の化学薬品成分８が充填されている。
【００１０】
弾薬発射時の加速度等によって加わる力によって隔壁が破断されると、２つの化学薬品成分が化学反応を起こし、化学発光で（chemoluminescently）生じた光が発射体の飛行中に透明なフードを介して見えるようになる。ターゲットに当たると、フードが破断し、反応生成物が衝突点の近に散乱し、光を出して衝突点が光学的にマークされ、遠くからでも見えるようになる。
【００１１】
図2は第１の化学薬品成分7を収容した第１区画4と、第2の化学薬品成分8を収容した第2区画5とが縦方向に上下に配置されたヘッドと透明なフード3とを有する本発明の他の実施例の演習弾1を示している。各区画は隔壁6によって縦方向に分離されている。この隔壁6は例えば回転練習弾に捻り力が加わることによって生じる遠心力によって破断して化学反応が起こり、マーキング手段となることができる。
上記両方の実施例とも、隔壁には所定の破壊点11を形成することができる（図１にのみ図示）。
【図面の簡単な説明】
【図１】  練習カートリッジの形をした演習弾とその収容容器の縦断面。
【図２】  本発明の他の実施例の演習弾の縦断面。
【図１】
0003817626.tif 000002
【図２】
0003817626.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡散フイルム（６）を設けたファイバー拡大ディスプレイ部（５）に、ファイバー収束アパーチャー部（４）より引き出したファイバー細線（８）を接続する、さらに前記アパーチャー部に片側平面丸凸レンズ大（３）を設け、これに一定の距離を置いて片側平面丸凸レンズ小（２）を設け、前記レンズ小に直結して中継用ファイバー太線（７）を設け、この中継用ファイバー太線（７）の反対一端に、別の片側平面丸凸レンズ小（２）を直結して設ける、さらに一定の距離を置いて、片側平面角凸レンズ大（１）を設け、これに画像などを照射するプロジェクター（９）を装着してなる、光ファイバーシステム看板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、宣伝広告用光ファイバーディスプレー技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、大型の宣伝広告はビル等のネオンサインによるシステムを利用する企業が大半であるが、最近ではテレビ画像を大型化した様なスタイルが取り入れられた液晶タイプ、ＬＥＤタイプ等、技術開発が進んでいるようであるが、看板としての実用ディスプレイ装置は実現されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
これは次のような問題点があった。
ビル等に設置する大型のディスプレイ画像は、遠方まで一般大衆に見せる必要があるが、特に日中の明るい時期に、この条件を満たす装置は無かった。
本発明は、これらの問題点を除くためになされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
拡散フイルム（６）を設けたファイバー拡大ディスプレイ部（５）は、大型の光ファイバーディスプレイの映像看板になっており、標準サイズで４．８ｍヨコ×３．６ｍタテのサイズで４８万画素を誇っている。これに収束アパーチャー部（４）より引き出したファイバー細線（８）を接続する。この収束アパーチャー部（４）はファイバーパイプ細線を幾重にも積層したものである。さらに前記アパーチャー部に片側平面丸凸レンズ大（３）の平面側を向けて設ける。これに一定の距離を置いて片側平面丸凸レンズ小（２）を設け１組のレンズセットとし、前記レンズ小に直結して中継用ファイバー太線（７）を設ける。この中継用ファイバー太線（７）の反対一端に、別の片側平面丸凸レンズ小（２）を直結して設ける。つまり、中継用ファイバー太線（７）の両端に片側平面丸凸レンズ小（２）の平面側で直結される事になる。さらに一定の距離を置いて、片側平面角凸レンズ大（１）を設けて１組レンズセットとし、図１のごとく、これに画像などを照射するプロジェクター（９）を装着する。
本発明は、以上のような構成よりなる光ファイバーシステム看板である。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
プロジェクター（９）より映写された、片側平面角凸レンズ大（１）の平面部の画像は、ここで透過されて縮小され焦点を通り越して拡大されつつ更に、片側平面丸凸レンズ小（２）を透過することにより、光は平行線となるために画像はファイバー太線（７）の中を平行移動して、もう一方の片側平面丸凸レンズ小（２）の平行面に投影される。そして前記レンズ小（２）を透過した画像は縮小されて焦点を通過して拡大されつつ片側平面丸凸レンズ大（３）を透過し、前記レンズ大（３）の平面上に映写されて平行線となり、ファイバー収束アパーチャー部（４）のファイバー細線（８）を透過し、ファイバー拡大ディスプレイ部（５）に固定されたファイバー細線（８）の一端より拡散フィルム（６）の面に投影される。
【０００６】
【発明の効果】
以下、図面番号で説明する。
▲１▼光ファイバーディスプレイは４８００００画素の鮮明高画質で、外光の反射率が低く日中の屋外の明るさに於いても、画像が映し出される。最近、光ファイバーディスプレイが開発されてきているが、これらは収束アパーチャー部（４）にプロジェクター（９）より直接又は鏡等を介して映像を送っている為、前記（４）から前記（９）までの距離に制限があり、全体の小型化が難しかった。
▲２▼（９）（１）（２）（７）の映像送給部分と（７）（２）（３）（４）（８）（５）（６）の看板部分とに、２分割出来る。さらにファイバー太線（７）の長さにより自由に変化出来るので、小型化が可能。
▲３▼上記▲２▼のように、２分割出来るので、映像送給部分を別室に設けて、看板部分を屋外に設置し、管理する事が出来る。
▲４▼看板の厚みは、従来よりも薄く出来る。
▲５▼（９）と（１）の距離を短くし、更に（１）を細かく分割し、強い光による映像を送る事により、拡散フイルム（６）に鮮明な画像が得られる。
▲６▼（１）〜（５）の部分を数多く積み上げるだけで、超大型のディスプレイが完成する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の説明図である。
【符号の説明】
１  片側平面角凸レンズ大
２  片側平面丸凸レンズ小
３  片側平面丸凸レンズ大
４  ファイバー収束アパーチャー部
５  ファイバー拡大ディスプレイ部
６  拡散フイルム
７  中継用ファイバー太線
８  ファイバー細線
９  プロジェクター
【図１】
0003817692.tif 000002
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物溶融炉の炉底部の側面に形成された出湯口の下方に、廃棄物溶融炉から排出される溶融物を水砕する水砕水槽が配置され、出湯口には、水砕樋が水砕水槽に向けて傾斜して設けられ、水砕樋の溶融物流下口に対向して、溶融物の水砕槽への着水位置を一定にする縦樋を垂直に配置するとともに、縦樋の流路の幅を水砕樋の流路の幅より大きくしたことを特徴とする廃棄物溶融炉の出湯装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般廃棄物である都市ごみ、各種産業廃棄物等の廃棄物をシャフト炉式熱分解廃棄物溶融炉で熱分解溶融処埋し、溶融物を水砕水槽へ導入する出湯装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
廃棄物には、一般廃棄物である都市ごみ、各種産業廃棄物又はそれらを乾燥、焼却、破砕処理によって得られた中間処理物、焼却灰やそれを一度埋立て処理した後、再度掘り起こした土砂分を含む埋立ごみ、汚泥があり、これらの廃棄物の処理方法として、廃棄物をシャフト炉式熱分解廃棄物溶融炉内で、乾燥・予熱、熱分解、燃焼・溶融し、溶融物をスラグやメタルとして取り出す廃棄物溶融処理方法が知られている。
【０００３】
一般廃棄物、産業廃棄物等を熱分解溶融処埋して排出される溶融物には、スラグ分と金属分が含まれる。従来の溶融物の処理方法は、廃棄物溶融炉から排出される溶融物を水砕水槽に流下させ、スラグ分と金属分を同時に水砕処理するものである（特開昭５７−６８１２６号公報参照）。廃棄物溶融炉内で熱分解され、溶融され、出湯口から排出される溶融物は、水砕樋を流れて水砕水槽内へ流下し、水砕水槽内で水砕され、水砕処理物は掻き上げて取り出される。
【０００４】
図２は従来の出湯装置の概略図である。図２において、廃棄物溶融炉１の側部に形成された出湯口２の下方には、樋状の水砕樋３が水砕水槽４に向けて傾斜して設けられている。水砕水槽４には、水砕水槽４内に水流を形成する水砕ノズル８が設置されている。
【０００５】
このような構成において、廃棄物溶融炉１の出湯口２から排出される溶融物は、水砕樋３を流れて水砕水槽４内に落下し、水砕水槽４内では、水砕ノズル８の水流により分散される。
【０００６】
なお、廃棄物溶融炉の出湯口が下部に形成されている方式では、例えば、特開平１１−２２９４８号に、幅方向が湾曲面形状で緩やかな上部流と先細りした下流部からなり、流路が曲線形状をした樋部により、溶融物を下流部の先端から一本流にして落下させることが記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の傾斜した水砕樋においては、廃棄物溶融炉内の溶融物の溜まり量の変動、及び炉内圧の変動により出湯口から排出される溶融物の飛距離が異なり、特に溶融物の出始めは、水砕樋を超えて遠方に飛び出し、また、溶融物が太い丸棒状になって落下するため、水砕水槽に着水した際に分散し切れずに大塊が発生する原因となってた。
【０００８】
そこで、本発明は、廃棄物溶融炉の出湯口から排出される溶融物の着水位置を一定にし、水砕水槽内の水砕ノズルの水流による分散効率をよくし、水砕物の粒度を揃えることができる出湯装置を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の廃棄物溶融炉の出湯装置は、廃棄物溶融炉の炉底部の側面に形成された出湯口の下方に、廃棄物溶融炉から排出される溶融物を水砕する水砕水槽が配置され、出湯口には、水砕樋が水砕水槽に向けて傾斜して設けられ、水砕樋の溶融物流下口に対向して、溶融物の水砕槽への着水位置を一定にする縦樋を垂直に配置するとともに、縦樋の流路の幅を水砕樋の流路の幅より大きくしたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の出湯装置の概略図である。図１において、廃棄物溶融炉１の炉底部の側面に形成された出湯口２の下方には、下向きに樋状の水砕樋３が水砕水槽４に向けて傾斜して設けられている。
【００１１】
水砕樋３の溶融物流下口５に対向して、垂直に縦樋６が配置される。水砕樋３と縦樋６の下部には水砕水槽４が配置される。
水砕樋３と縦樋６とは、フード７で囲われる。水砕水槽４内には、水流を形成する水砕ノズル８が設置されている。
【００１２】
縦樋６は、内面の流路が断面凹状で幅広に形成され、水砕樋３の流路の幅より大きい寸法とする。また、縦樋６の上部のレベルは、出湯口２から噴出する溶融物Ｓが縦樋６の上部を越えないレベルにし、廃棄物溶融炉１の出湯口２のレベルとほぼ同じレベルにすることが好ましく、一方、縦樋６の下部のレベルは、溶融物流下口５のレベルより下方で、水砕水槽４の水面より上部に位置するようにする。
【００１３】
上記構成において、廃棄物溶融炉１の出湯口２を開けて溶融物Ｓの出湯を開始すると、出湯口２より溶融物Ｓが噴出する。廃棄物溶融炉１内の溶融物Ｓの溜まり量の変動、及び炉内圧の変動により排出される溶融物Ｓの飛距離は異なってくるが、通常、溶融物Ｓの出始めでは、水砕樋３を超えて遠方に飛び、溶融物Ｓは縦樋６に当たる。縦樋６に衝突した溶融物Ｓは、幅広の流路により横へ広がるため、丸棒状から薄板状になって、縦樋６の下端から水砕水槽４の水面へ落下する。
【００１４】
溶融物Ｓの飛距離が小さくなれば、溶融物Ｓは水砕樋３に流下し、縦樋６に衝突することによって薄板状となり、縦樋の下端から水砕水槽４の水面へ落下する。
【００１５】
溶融物Ｓは、縦樋６の下端から水砕水槽４の水面へ落下するため、縦樋６の延長線上の定位置に着水させることができる。
【００１６】
水砕水槽４へ落下した溶融物Ｓは、水砕ノズル８の水流によって分散し水砕される。この際、単位当たりのスラグ落下量と水砕水量とが均一となるため、径の揃った水砕物が得られる。
【００１７】
【発明の効果】
本発明によれば、溶融物を縦樋に衝突させ飛距離を規制することにより、水砕水槽への着水位置を一定にすることができるため、水砕物の粒度を揃えることができる。さらに、溶融物の着水時の形状を薄く広くなった薄板状とすることにより、水砕ノズルからの水による分散効率をよくし、粒度を一定化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の出湯装置の概略図である。
【図２】  従来の出湯装置の概略図である。
【符号の説明】
１： 廃棄物溶融炉
２： 出湯口
３： 水砕樋
４： 水砕水槽
５： 溶融物流下口
６： 縦樋
７： フード
８： 水砕ノズル
Ｓ： 溶融物
【図１】
0003856362.tif 000002
【図２】
0003856362.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
温水タンクと、この温水タンク上流に配置される電磁弁と、この電磁弁および前記温水タンクの下流に配置され、電動機により駆動する洗浄ノズルとを備え、
上記温水タンクが、その内部の水を加熱する温水ヒータと、この水の温度を測定する過温検知手段とを有し、
上記過温検知手段にて水温が設定温度以上となれば、上記電磁弁を開放したまま上記電動機を駆動させて洗浄ノズルを本体内に収納する人体局部洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、用便後等に人体局部を温水により洗浄する人体局部洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
人体局部洗浄装置は、温水により人体局部を洗浄するものであり、洗浄に使用する温水は、装置本体内に設置される温水タンクにて上水を昇温させることにより生み出している。温水の温度は、洗浄を行なう場所が非常にデリケートな場所であるため、温度管理を厳重に行なう必要がある。
【０００３】
図２を用いて、その制御方法を述べると、給水された冷水は、電磁弁１を介して温水タンク２に入り、温水ヒータ４によって温められ、その後洗浄ノズル５から噴出される。洗浄の開始は、洗浄スイッチ１２からの指令を第１の制御手段１０が受け、電磁弁１を開弁することにより行なわれ、温水タンク２内の温度管理は、温水タンク内に設けた温度センサ３からの情報を第２の制御手段１１が受け、温水ヒータ４をＯＮ−ＯＦＦさせることにより行なっている。
【０００４】
前述した温度センサ３からの情報は、第２の制御手段１１に送られる以外に、過温検知手段８にも送られ、万一予め設定していた設定温度以上に温水タンク内の温度が上昇するようなことがあれば、第１の制御手段１０に信号を送り、電磁弁１を遮断すると共に、洗浄ノズル５を本体内に収納するようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述したような人体局部洗浄装置においては、過温検知手段８が異常高温を検知した際に、電磁弁１を遮断することにより洗浄水流路を閉じてしまうために、該洗浄水流路及び洗浄ノズル５内に熱水が残ってしまう。
【０００６】
従って、次回使用者が人体局部洗浄装置を使用する際に、過温検知手段８が作動しないようなことがあれば、電磁弁１が開き、洗浄水流路及び洗浄ノズル５内の熱水が噴出してしまうことになる。次回使用者がいないような場合（又は数１０分程度後の使用者しかいない場合）であっても、熱水は器具内部に留まるために、器具を破損させる恐れがある。
【０００７】
本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものであり、温水タンク３内の洗浄水が異常高温になった場合でも、使用者に対して熱水が噴出されることがなく、熱水が器具内部に留まることもない人体局部洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、図１に示すように、温水タンクと、この温水タンク上流に配置される電磁弁と、この電磁弁および前記温水タンクの下流に配置され、電動機により駆動する洗浄ノズルとを備え、上記温水タンクが、その内部の水を加熱する温水ヒータと、この水の温度を測定する過温検知手段とを有し、上記過温検知手段にて水温が設定温度以上となれば、上記電磁弁を開放したまま上記電動機を駆動させて洗浄ノズルを本体内に収納することを特徴とする人体局部洗浄装置である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明に用いる制御器は、マイコンを適宜使用できるものであり、図１では第２の制御手段１１として記載されている。制御器は、図面から明らかなように、温水タンク２内の水を所定温度に保つために、温度センサ３からの水温情報を基に温水ヒータ４のＯＮ−ＯＦＦを行なっている。
【００１０】
過温検知手段８は、温度センサ３からの水温情報から、温水タンク２内の水温が予め設定されている温度より高いか、低いかを判定するものであり、万一設定温度以上であるとの判断を行なうと、第１の制御手段１０へその信号を送る。
【００１１】
第１の制御手段１０は、前述した過温検知手段８からの信号を受け、電磁弁１を閉じることなく、洗浄ノズル５を電動機７を用いて収納させ、位置検出センサ６にて確認を行なう。図１では、便宜上第１の制御手段１０及び第２の制御手段１１を分けて記載してあるが、２つを同一のマイコンを使用して制御する制御部９としても何等問題はない。
【００１２】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図１に沿って説明する。本発明に用いられる人体局部洗浄装置は、第１の制御手段１０によって弁の開閉を制御される電磁弁１から冷水を給水し、樹脂製の温水タンク２内で第２の制御手段１１により制御される温水ヒータ４（シーズヒータを使用）により昇温させた後、洗浄ノズル５より噴出させる。温水タンク２内の水の温度は、使用者が適宜選択する水温（４０℃前後）にて一定に保たれるが、何等かの理由により異常高温（４５℃以上）になった場合には、直ちに過温検知手段８から第１の制御手段１０に信号が送られる。
【００１３】
異常高温であるとの信号を受けた第１の制御手段１０は、電磁弁１を閉じることなく、電動機７を駆動させて洗浄ノズル５を収納させ、熱水が人体局部に噴出されるのを阻止すると同時に、器具内部からも排出する。
【００１４】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、万一温水タンク内にて異常高温の水が作られても、人体局部に対して噴出されることなく、器具内部に留まることもないために、安全であり、耐久性のある人体局部洗浄装置を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を示す制御ブロック図である。
【図２】従来例を示す制御ブロック図である。
【符号の説明】
１．電磁弁  ２．温水タンク  ３．温度センサ  ４．温水ヒータ  ５．洗浄ノズル  ６．位置検出センサ  ７．電動機  ８．過温検知手段  ９．制御部  １０．第１の制御手段  １１．第２の制御手段  １２．洗浄スイッチ
【図１】
0003856165.tif 000002
【図２】
0003856165.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を照射するＸ線発生部と、Ｘ線発生部をアームを介して支持する本体と、本体を走行させる移動台車とを有する移動型Ｘ線装置であって、
この装置は回診用の移動型Ｘ線装置であり、
本体に設けられた第１設定機構と、
Ｘ線発生部に設けられた第２設定機構とを具えて、いずれの設定機構でもＸ線条件の設定ができるように構成され、
前記第１設定機構及び前記第２設定機構は、Ｘ線条件を表示する表示パネルを有し、
前記第１設定機構又は前記第２設定機構の一方でＸ線条件を設定すると、他方の設定機構の表示パネルの表示が一方の表示パネルの表示と同じように変化することを特徴とする移動型X線装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は移動型X線装置に関するものである。特に、X線条件の設定操作をX線発生部側で行うことができるX線装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
移動型X線装置は、モータで走行する移動台車1と、台車上に設置された本体2と、X線を照射するX線発生部3と、本体2に対してX線発生部3を可動に取り付けるアーム4を具える。X線発生部3には、X線管装置31およびX線の照射範囲を制限するX線絞りとが含まれる。
【０００３】
撮影時、病室あるいは手術室のベッドサイドにX線装置を移動して被検者のX線撮影を行う。その際、本体2の後部に設置された操作器よりX線条件の設定等を行う。図４に示すように、操作器10で設定されたX線条件は、インターフェースを介してCPU20で指令信号とされる。この指令に基づき、高電圧制御器21から所定の電圧がX線管装置31に印加され、設定した条件のX線が照射される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の移動型X線装置では、次のように操作性に問題があった。
【０００５】
すなわち、ベッドサイドではX線装置本体やX線発生部またはアームに取り付けられた把手を握り、撮影のためにX線の照射位置あわせを行う。このとき、X線条件の設定を行うためには、本体後部に位置する操作器まで戻って操作しなければならず、操作者にとって非常に煩わしい操作となる。
【０００６】
従って、本発明の主目的は、X線装置本体の後部に戻らなくてもX線条件の設定を行うことができる移動型X線装置に関するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、X線発生部側にもX線条件の設定を行う操作器を設けることで上記の目的を達成する。
【０００８】
すなわち、本発明X線装置は、X線を照射するX線発生部と、X線発生部をアームを介して支持する本体と、本体を走行させる移動台車と、前記X線発生部に設けられたX線条件の設定機構とを具えることを特徴とする。
【０００９】
本体だけでなく、X線発生部側にもX線条件を設定する操作器を設けることで、本体の操作器に戻ることなくX線発生部側でX線条件の設定ができ、同時にX線の照射位置合わせも行うことができる。
【００１０】
特に、設定機構は、本体に設けられた第１設定機構と、X線発生部に設けられた第２設定機構の２つとし、いずれの設定機構でもX線条件の設定ができるように構成することが好適である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
図１は本発明移動型X線装置の全体構成を示す概略図である。
このX線装置は、走行用モータで走行する移動台車1と、台車上に設置された本体2と、本体に対してX線発生部3を可動自在に取り付けるアーム7とを具える。
【００１２】
移動台車1はX線装置を移動自在にする車輪が設けられて、この車輪をモータ等で駆動することでX線装置を走行させる。本体2は走行用モータやX線発生部3の制御を行う制御機構が内蔵されている。X線発生部3には、X線管装置31と、X線の照射範囲を制限するX線絞りとが含まれる。本体2には回転自在の支柱5が設けられ、この支柱5に上下動自在のスライダ6を介してアーム7が取り付けられている。このアーム7は関節状に折り曲げることができ、先端に装着されたX線発生部3の位置を調整することができる。X線発生部3の位置調整を行い易いよう、X線管装置31に近接して把手8が設けられている。また、X線発生部3と本体2とはケーブル9で接続され、本体中の制御機構よりX線発生部3の制御を行うことができる。
【００１３】
撮影時、X線装置を被検者のいる病院内の所定の場所へ移動し、X線管装置の位置決めをおこなった後、X線条件の設定を行って撮影が行われる。X線条件には、管電圧、管電流、管電流(mA)と時間(sec)の積であるmAs値などが含まれる。
【００１４】
ここで、X線条件の設定には、２つの設定機構（操作器）を用いることができる。本体後部の上面には第１操作器10が、X線発生部3には第２操作器11が設けられている。第２操作器11は、X線管装置31、それを支持するアーム7またはX線絞りのいずれかもしくはこれらの近傍に設ける。いずれの操作器10、11も、管電圧、管電流、mAs値などのX線条件が表示される表示パネルを有している。
【００１５】
図２に本発明装置の制御機構の回路ブロック図を示す。各操作器10、11で設定されたX線条件は、インターフェースを介してCPU20で指令信号とされる。この指令に基づき、高電圧制御器21から所定の電圧がX線管装置31に印加され、設定した条件のX線が照射される。その際、いずれの操作器10、11でX線条件を設定しても、その設定条件にてX線の照射が行われるようにプログラムする。
【００１６】
図1において、第１操作器10でX線条件の設定を行うと、CPU20により第１操作器10上に、管電圧、管電流、あるいはmAs値の設定値が表示される。それと同時に、高電圧制御器21に設定信号が入力され、設定の条件で撮影が可能となる。
【００１７】
また、第２操作器11でX線条件の設定を行うと、第１操作器10での設定と全く同様に、CPU20を介して管電圧、管電流、mAs値の設定値が表示され、高電圧制御器10に信号が入力される。その際、第１操作器10上の表示も第２操作器11と全く同じように変化される。
【００１８】
以上により、X線管装置31付近に設置された第２操作器11を操作することにより、X線条件の設定が行えるため、X線撮影の位置決めをおこなった後、第１操作器10の場所まで戻る煩わしさがなくなる。
【００１９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明X線装置は、X線条件の設定機構をX線発生部に設けることで、撮影位置合わせ操作の後、すぐにX線条件の設定が行えるため、撮影の効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明移動型X線装置の概略図である。
【図２】本発明移動型X線装置の回路ブロック図である。
【図３】従来の移動型X線装置の概略図である。
【図４】従来の移動型X線装置の回路ブロック図である。
【符号の説明】
1  移動台車
2  本体
3  X線発生部
4  アーム
5  支柱
6  スライダ
7  アーム
8  把手
9  ケーブル
10  第１操作器
11  第２操作器
21  高電圧制御器
31  X線管装置
【図１】
0003856664.tif 000002
【図２】
0003856664.tif 000003
【図３】
0003856664.tif 000004
【図４】
0003856664.tif 000005