(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の反射電極とを備え、
前記反射電極は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された導電性反射膜からなり、
前記反射電極における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の半透過反射電極と、該半透過反射電極の前記第２基板と反対側に配置された光源とを備え、
前記半透過反射電極の反射部分は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された導電性反射膜からなり、
前記半透過反射電極における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の透明電極と、前記透明電極の前記第２基板と反対側に設けられた反射板とを備え、
前記反射板は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された反射膜からなり、
前記反射板における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の透明電極と、前記透明電極の前記第２基板と反対側に設けられた半透過反射板と、該半透過反射電極の前記第２基板と反対側に配置された光源とを備え、
前記半透過反射板の反射部分は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された反射膜からなり、
前記半透過反射板における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
前記凹部の各々の平面形状は、ティアドロップ状又は鱗状であることを特徴とする請求項１から４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
請求項１に記載の電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記第１基板上に、前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、
該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、
該平坦化膜上に導電性の反射膜を形成することで前記反射電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項２に記載の電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記第１基板上に、前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、
該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、
該平坦化膜上に導電性の半透過反射膜を形成することで前記半透過反射電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項３に記載の電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、
該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、
該平坦化膜上に反射膜を形成することで前記反射板を形成する工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項４に記載の電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、
該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、
該平坦化膜上に半透過反射膜を形成することで前記半透過反射板を形成する工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備することを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
前記電気光学装置の前記第２基板側からなる当該電子機器の表示画面には上下左右があり、
前記反射表面は、下側斜めの方向からの光に対する反射面積よりも上側斜めの方向からの反射面積の方が大きくなるように構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の電子機器。
【請求項１２】
前記電気光学装置の前記第２基板側からなる当該電子機器の表示画面には上下左右があり、
前記反射表面は、正面からの光に対する反射面積よりも左側斜め又は右側斜めの方向からの反射面積の方が大きくなるように構成されていることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一対の基板間に液晶等の電気光学物質が挟持されてなると共に外光を利用して表示を行う反射型或いは半透過反射型の液晶装置等の電気光学装置及びその製造方法、並びにそのような電気光学装置を具備してなる携帯電話等の電子機器の技術分野に属する。
【０００２】
【背景技術】
一般に、反射型の液晶装置等の電気光学装置では、第１基板上にストライプ状等の複数の内面反射電極が設けられる。或いは、第１基板上にストライプ状等の複数の透明電極が設けられ且つその下側又は第１基板の裏側に反射板が設けられる。他方、外光の入射側に配置される透明な対向基板たる第２基板上には、透明電極がストライプ状等に設けられる。そして、外光を第２基板、透明電極、液晶等の電気光学物質などを介して反射電極や反射板で反射することにより、反射型表示を行うように構成されている。
【０００３】
他方、半透過反射型の液晶装置等の電気光学装置では、反射型の電気光学装置における反射電極や反射板の代わりに、光が透過する孔や隙間が開けられる又は半透明である半透過反射電極が設けられる。そして、明所では、バックライトを点灯せずに、反射型の電気光学装置の場合と同様に、外光を半透過反射電極や半透過反射板で反射することにより反射型表示を行い、暗所では、バックライトを点灯させて、光源光を半透過反射電極や半透過反射板を透過させることにより透過型表示を行うように構成されている。
【０００４】
このような反射型や半透過反射型の電気光学装置は、バックライトが不要である低消費電力型の表示装置として、携帯電話、電子手帳、モバイルコンピュータ等の携帯用の各種電子機器に広く用いられている。
【０００５】
また特に上述した反射電極、半透過反射電極、反射板及び半透過反射板には夫々、例えば、特開平５−３２３３７１号公報に記載されているように、相転移型ゲストホスト方式における表示画面に垂直な方向へ散乱する光の強度を増加させる目的や反射型表示を鏡面表示としない目的のために、その反射表面に凹凸を付ける技術が開発されている。このように凹凸が付けられた反射表面で外光を反射すれば、鏡面表示と比べて違和感のない反射型表示を行うことや、より明るい相転移型ゲストホスト方式の反射型表示を行うことができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来技術における反射表面に付けられる凹凸は、平面内で等方的に形成されている。例えば、上述の特開平５−３２３３７１号公報では、凹凸を均一に且つ再現性良く形成するものであり、反射表面に付けられる凹凸は夫々、平面形状が円形であり、平面内で完全に等方的である。即ちこのように構成された電気光学装置では、本来光源の存在しない方向からの光であっても、光源の存在する方向からの光であっても、これらを同等に反射或いは散乱することになる。
【０００７】
これに対し、例えば携帯電話等の電子機器を例にとれば、使用者が実際に目で反射型表示を見る際には、使用者自体の目に近い顔、頭、首、体等の陰になった状態で反射型表示が行われる。即ち、使用者の頭上や顔の左右を介して背後から入射する比較的強い外光ではなく、使用者の顔や体の方向からのかなり弱い外光を中心に反射や散乱して反射型表示が行われることになる。このため、反射型表示を明るくすることは本質的に困難であるという問題点がある。
【０００８】
本発明は上記問題点に鑑みなされたものであり、実際に使用者により使用される状態において使用者の目から見て明るい反射型表示を可能とする電気光学装置及びその製造方法を提供することを課題とし、更にそのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【０００９】
本発明の第１電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の反射電極とを備え、前記反射電極は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された導電性反射膜からなり、前記反射電極における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されている。
【００１０】
本発明の第１電気光学装置によれば、透明な第２基板側から外光が入射されると、第２基板及び電気光学物質を介して、第１基板上に設けられた表示用の反射電極により反射され、再び、電気光学物質及び第２基板を介して、第２基板側から外光が出射される。従って、例えば第２基板に偏光板等を設ければ、反射型電気光学装置における反射型表示を行なえる。そして特に、反射電極の反射表面は凹部を形成する絶縁膜、この絶縁膜上に形成された有機膜、さらにこの有機膜上に形成された導電性反射膜から凹状に形成され、第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が増加されると共に反対の第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が減少されている。即ち、前述した従来の反射電極等に凹凸を等方的に形成するのではなく、光学的な異方性を持つように凹凸を形成することにより、限られた面積の反射表面おいて、第２の方向側に傾いて入射される光を選択的に弱く反射させ、その分だけ第１の方向側に傾いて入射される光を選択的に強く反射させる。従って、当該電気光学装置が実際に使用者によって使用される際に、経験的に強い外光が入射しやすい方向を第１の方向に合わせると共に経験的に強い外光が入射しにくい方向を第２の方向に合わせるように当該電気光学装置を配置すれば、反射表面が平坦である場合と比較して或いは反射表面に凹凸が等方的に形成された場合と比較して、使用者の視点から見て、有効な反射面積が増加されることになるので、より明るい反射型表示が実現される。
【００１１】
尚、上述した本発明の第１電気光学装置及び後述する第２から第４電気光学装置においては、第２基板には、例えばパッシブマトリクス駆動方式の場合には透明なストライプ状電極が設けられたり、ＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の場合には全面に透明な対向電極が設けられたり、横電界駆動方式の場合には何らの表示用の電極も設けられなかったりなど、駆動方式に応じて各種の透明電極等が設けられたりする。更にカラー表示の場合には、カラーフィルタが設けられたり、色補正用の位相差板等が取り付けられたりする。
【００１２】
本発明の第２電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の半透過反射電極と、該半透過反射電極の前記第２基板と反対側に配置された光源とを備え、前記半透過反射電極の反射部分は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された導電性反射膜からなり、前記半透過反射電極における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されている。
【００１３】
本発明の第２電気光学装置によれば、透明な第２基板側から外光が入射されると、第２基板及び電気光学物質を介して、第１基板上に設けられた表示用の半透過反射電極により反射され、再び、電気光学物質及び第２基板を介して、第２基板側から外光が出射される。従って、例えば第２基板に偏光板等を設ければ、半透過反射型電気光学装置における反射型表示を行なえる。そして特に、半透過反射電極の反射表面は凹部を形成する絶縁膜、この絶縁膜上に形成された有機膜、さらにこの有機膜上に形成された導電性反射膜から凹状に形成され、第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が増加されると共に第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が減少されている。従って、当該電気光学装置が実際に使用者によって使用される際に、経験的に強い外光が入射しやすい方向を第１の方向に合わせると共に経験的に強い外光が入射しにくい方向を第２の方向に合わせるように当該電気光学装置を配置すれば、使用者の視点から見て、より明るい反射型表示が実現される。
他方、光源を点灯すると、光源光が半透過反射電極、電気光学物質及び透明な第２基板を介して第２基板側から出射される。この際、光源光は、半透過反射電極に形成された凹凸による影響は特に受けない。従って、例えば第１基板や第２基板に偏光板等を設ければ、半透過反射型電気光学装置における透過型表示を行なえる。
【００１４】
本発明の第３電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の透明電極と、前記透明電極の前記第２基板と反対側に設けられた反射板とを備え、前記反射板は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された反射膜からなり、前記反射板における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されている。
【００１５】
本発明の第３電気光学装置によれば、透明な第２基板側から外光が入射されると、第２基板、電気光学物質及び表示用の透明電極を介して、第１基板上の第２基板と反対側又は同じ側に設けられた反射板により反射され、再び、透明電極、電気光学物質及び第２基板を介して、第２基板側から外光が出射される。従って、例えば第２基板に偏光板等を設ければ、反射型電気光学装置における反射型表示を行なえる。そして特に、反射板の反射表面は凹部を形成する絶縁膜、この絶縁膜上に形成された有機膜、さらにこの有機膜上に形成された反射膜から凹状に形成され、第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が増加されると共に第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が減少されている。従って、当該電気光学装置が実際に使用者によって使用される際に、経験的に強い外光が入射しやすい方向を第１の方向に合わせると共に経験的に強い外光が入射しにくい方向を第２の方向に合わせるように当該電気光学装置を配置すれば、使用者の視点から見て、より明るい反射型表示が実現される。
【００１６】
本発明の第４電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の第１基板及び透明な第２基板と、該第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上における前記第２基板に対向する側に設けられた表示用の透明電極と、前記透明電極の前記第２基板と反対側に設けられた半透過反射板と、該半透過反射電極の前記第２基板と反対側に配置された光源とを備え、前記半透過反射板の反射部分は凹部を形成する絶縁膜、該絶縁膜上に形成された有機膜、該有機膜上に形成された反射膜からなり、前記半透過反射板における前記第２基板に対向する側の反射表面は、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、前記反射表面の法線方向から第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記反射表面の法線方向から前記第１の方向とは異なる第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹状に形成されている。
【００１７】
本発明の第４電気光学装置によれば、透明な第２基板側から外光が入射されると、第２基板、電気光学物質及び表示用の透明電極を介して、第１基板上の第２基板と反対側又は同じ側に設けられた半透過反射板により反射され、再び、透明電極、電気光学物質及び第２基板を介して、第２基板側から外光が出射される。従って、例えば第２基板に偏光板等を設ければ、半透過反射型電気光学装置における反射型表示を行なえる。そして特に、半透過反射板の反射表面は凹部を形成する絶縁膜、この絶縁膜上に形成された有機膜、さらにこの有機膜上に形成された反射膜から凹状に形成され、第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が増加されると共に第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積が減少されている。従って、当該電気光学装置が実際に使用者によって使用される際に、経験的に強い外光が入射しやすい方向を第１の方向に合わせると共に経験的に強い外光が入射しにくい方向を第２の方向に合わせるように当該電気光学装置を配置すれば、使用者の視点から見て、より明るい反射型表示が実現される。
他方、光源を点灯すると、光源光が半透過反射板、透明電極、電気光学物質及び透明な第２基板を介して第２基板側から出射される。この際、光源光は、半透過反射板に形成された凹凸による影響は特に受けない。従って、例えば第１基板や第２基板に偏光板等を設ければ、半透過反射型電気光学装置における透過型表示を行なえる。
【００１９】
本発明の第１から第４の電気光学装置における各凹部は、反射表面の任意の法線に対して非対称な形状を持つ。即ち各凹部はその重心等の中心に対して非対称に形成されており、これにより光学的な異方性を持つ。このような凹部を反射表面に複数設けることで比較的容易に明るい反射型表示を行える。
この態様では、前記凹部の各々の平面形状は、ティアドロップ状又は鱗状であるように構成してもよい。
このように構成すれば、ティアドロップ状又は鱗状の凹部を反射表面に複数設けることで比較的容易に明るい反射型表示を行える。
【００２０】
本発明の第１から第４の電気光学装置における前記反射表面は、凹部を形成する凹凸膜上に形成された不完全な平坦化膜と、さらにこの平坦化膜上に形成された反射膜からなる。
この態様によれば、凹凸絶縁膜、不完全な平坦化有機膜及び反射膜の３層から、例えばティアドロップ状、鱗状等の凹部を有する、高精度或いは高再現性の反射電極、半透過反射電極、反射板又は半透過反射板を構成できる。
【００２１】
本発明の第１製造方法は上記課題を解決するために、上述した本発明の第１電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板上に、前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、該平坦化膜上に導電性の反射膜を形成することで前記反射電極を形成する工程とを含む。
【００２２】
本発明の第１製造方法によれば、凹凸膜、不完全な平坦化膜及び反射膜の３層から、例えばティアドロップ状、鱗状等の凹部や凸部を有する反射電極を、高精度或いは高再現性で製造できる。よって上述した第１電気光学装置を比較的容易に製造できる。
本発明の第２製造方法は上記課題を解決するために、上述した本発明の第２電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板上に、前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、該平坦化膜上に導電性の半透過反射膜を形成することで前記半透過反射電極を形成する工程とを含む。
【００２３】
本発明の第２製造方法によれば、凹凸膜、不完全な平坦化膜及び半透過反射膜の３層から、例えばティアドロップ状、鱗状等の凹部や凸部を有する半透過反射電極を、高精度或いは高再現性で製造できる。よって上述した第２電気光学装置を比較的容易に製造できる。
本発明の第３製造方法は上記課題を解決するために、上述した本発明の第３電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、該平坦化膜上に反射膜を形成することで前記反射板を形成する工程とを含む。
【００２４】
本発明の第３製造方法によれば、凹凸膜、不完全な平坦化膜及び反射膜の３層から、例えばティアドロップ状、鱗状等の凹部や凸部を有する反射板を、高精度或いは高再現性で製造できる。よって上述した第３電気光学装置を比較的容易に製造できる。
本発明の第４製造方法は上記課題を解決するために、上述した本発明の第４電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記第１の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を増加させると共に前記第２の方向側に傾いて入射される光に対する反射面積を減少させる凹凸膜を形成する工程と、該凹凸膜上に平坦化膜を不完全に形成する工程と、該平坦化膜上に半透過反射膜を形成することで前記半透過反射板を形成する工程とを含む。
【００２５】
本発明の第４製造方法によれば、凹凸膜、不完全な平坦化膜及び半透過反射膜の３層から、例えばティアドロップ状、鱗状等の凹部や凸部を有する半透過反射板を、高精度或いは高再現性で製造できる。よって上述した第４電気光学装置を比較的容易に製造できる。
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の第１から第４電気光学装置（但し、その各種態様を含む）のいずれか一つを具備する。
【００２６】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の第１から第４電気光学装置のいずれか一つを具備するので、明るい反射型表示が可能な、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネル、投射型表示装置などの各種電子機器を実現できる。
【００２７】
本発明の電子機器の一態様では、前記電気光学装置の前記第２基板側からなる当該電子機器の表示画面には上下左右があり、前記反射表面は、下側斜めの方向からの光に対する反射面積よりも上側斜めの方向からの反射面積の方が大きくなるように構成されている。
【００２８】
この態様によれば、携帯電話、電子手帳等の各種電子機器において、表示画面に顔を近づけた使用者の頭や体の方向から入射される光よりも、その頭上を介して背後から入射される光の方を反射表面で優先的に反射することにより、明るい反射型表示を行なえる。
本発明の電子機器の他の態様では、前記電気光学装置の前記第２基板側からなる当該電子機器の表示画面には上下左右があり、前記反射表面は、正面からの光に対する反射面積よりも左側斜め又は右側斜めの方向からの反射面積の方が大きくなるように構成されている。
【００２９】
この態様によれば、携帯電話、電子手帳等の各種電子機器において、表示画面に顔を近づけた使用者の頭や体の方向から入射される光よりも、その左側や右側を介して背後から入射される光の方を反射表面で優先的に反射することにより、明るい反射型表示を行なえる。
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。
（第１実施形態）
先ず、本発明による電気光学装置の第１実施形態の構成について、図１から図６を参照して説明する。第１実施形態は、本発明をパッシブマトリクス駆動方式の反射型液晶装置に適用したものである。尚、図１は、第１実施形態の反射型液晶装置を対向基板上に形成されるカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見た様子を示す図式的平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ’断面をカラーフィルタを含めて示す反射型液晶装置の図式的断面図であり、図３は、第１実施形態に係る反射電極の一例における反射表面を拡大して示す図式的拡大平面図であり、図４は、この反射電極の一例における断面を拡大して示す拡大断面図である。図５は、第１実施形態に係る反射電極の他の例における反射表面を拡大して示す図式的拡大平面図であり、図６は、第１実施形態の反射型液晶装置とこれを実際に見る使用者との位置関係を示す概念図である。尚、図１では、説明の便宜上ストライプ状電極を縦横６本づつ図式的に示しているが実際には、多数本の電極が存在しており、図２から図５においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００３１】
図１及び図２において、第１実施形態における反射型液晶装置は、第１基板１０と、第１基板１０に対向配置された透明の第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０間に挟持された液晶層５０と、第１基板１０の第２基板２０に対向する側（即ち、図２で上側表面）に配置された複数のストライプ状の反射電極１４と、反射電極１４上に配置された配向膜１５とを備える。反射型液晶装置は、第２基板上の第１基板１０に対向する側（即ち、図２で下側表面）に配置されたカラーフィルタ２３と、カラーフィルタ２３上に配置されたカラーフィルタ平坦化膜２４と、カラーフィルタ平坦化膜２４上に反射電極１４と相交差するように配置された複数のストライプ状の透明電極２１と、透明電極２１上に配置された配向膜２５とを備えて構成されている。カラーフィルタ２３の位置は反射電極１４と第１の基板１０の間に形成しても良い。第１基板１０及び第２基板２０は、液晶層５０の周囲において、シール材３１により貼り合わされており、液晶層５０は、シール材３１及び封止材３２により、第１基板１０及び第２基板２０間に封入されている。更に反射型液晶装置は、第２基板２０の液晶層５０と反対側に、偏光板１０５、第１位相差板１０６及び第２位相差板１１６を備えている。
【００３２】
第１基板１０は、透明でも不透明でもよいため、例えば石英基板や半導体基板等からなり、第２基板２０は、可視光に対して透明或いは少なくとも半透明であることが要求されており、例えばガラス基板や石英基板等からなる。
【００３３】
反射電極１４は、例えばアルミニウムを主成分とする導電性の反射膜を含んでなる。この反射膜は、蒸着やスパッタ等により形成される。
【００３４】
本実施形態では特に、反射電極１４の反射表面（図２で上側の表面）には、光学的な異方性を持つ凹凸状に形成されているが、この構成及び作用については、図３から図６を参照して後述する。
透明電極２１は、例えばＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜からなる。
【００３５】
配向膜１５及び２５は夫々、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなり、スピンコート又はフレキソ印刷により形成され、ラビング処理等の所定の配向処理が施されている。
【００３６】
液晶層５０は、反射電極１４及び透明電極２１間で電界が印加されていない状態で配向膜１５及び２５により所定の配向状態をとる。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合したＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶からなる。
【００３７】
シール材３１は、例えば光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤である。
【００３８】
封止材３２は、シール材３１の注入口を介して液晶を真空注入した後に、当該注入口を封止する樹脂性接着剤等からなる。
【００３９】
カラーフィルタ２３は、青色光、緑色光及び赤色光を画素毎に夫々透過する色材膜と共に各画素の境界にブラックマスク或いはブラックマトリクスと称される遮光膜が形成されて各画素間の混色を防止するように構成されたデルタ配列、ストライプ配列、モザイク配列、トライアングル配列等の公知のカラーフィルタである。また図１及び図２では省略しているが、シール材５２の内側に並行して、例えばカラーフィルタ２３中の遮光膜と同じ或いは異なる材料から成る画像表示領域の周辺を規定する額縁としての遮光膜が設けられてもよい。或いはこのような額縁は、反射型液晶装置を入れる遮光性のケースの縁により規定してもよい。
【００４０】
図２から図４に示すように第１実施形態では特に、反射電極１４における液晶層５０に面する側の反射表面には、該反射表面が平坦であると仮定した場合と比較して、反射表面の法線方向Ｄ０から第１の方向Ｄ１（図３参照）側に傾いて入射される光（例えば図３で紙面に向かって手前上方から斜め下方に進行する光）に対する反射面積を増加させると共に、反射表面の法線方向Ｄ０から第２の方向Ｄ２（図３参照）側に傾いて入射される光（例えば図３で紙面に向かって手前下方から斜め上方に進行する光）に対する反射面積を減少させる、ティアロロップ状の凹部１４ｄが多数形成されている。
より具体的には、反射電極１４は、図４に示すように、(i)例えば数μｍ程度の深さｈ１を有するティアドロップ状の凹部１４Ｄが、数μｍ程度のピッチで多数掘られた、例えば酸化シリコン、窒化シリコン等を主成分とする絶縁膜１４ａと、(ii)この上に形成されており絶縁膜１４ａを不完全に平坦化する有機平坦化膜１４ｂと、(iii)この上に形成されており例えば０．数μｍ程度の深さｈ２を有するティアドロップ状の凹部１４ｄが数μｍ程度のピッチで多数設けられた、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）、Ｃｒ（クロム）等の導電性の反射膜１４ｃとの３層から構成されている。そして、反射電極１４を構成する３層のうち最上層たる反射膜１４ｃにある凹部１４ｄは夫々、図３で上部が鋭角に窪んでいるので、図３で紙面に向かって手前下方から斜め上方に進行する光は、相対的に反射される割合が小さくなる。これに対し、反射膜１４ｃにある凹部１４ｄは夫々、図３で下部が鈍角に窪んでいるので、図３で紙面に向かって手前上方から斜め下方に進行する光は、相対的に反射される割合が大きくなる。
尚、図５に示す他の例のように、反射電極１４に、ティアドロップ状の凹部１４ｄではなく、例えば０．数μｍ程度の深さを持つ鱗状の凹部１４ｄ’を設けても同様に作用する。
【００４１】
そして本実施形態では図６に示すように、当該電気光学装置２００が実際に使用者３００によって使用される際に、強い外光が入射しやすい方向Ｄ３を第１の方向Ｄ１（図３参照）に合わせると共に強い外光が入射しにくい方向Ｄ４を第２の方向Ｄ２（図３参照）に合わせるように、上述の如く光学的な異方性を持つ凹部１４ｄ（又は凹部１４ｄ’）が反射電極１４の反射表面に形成された電気光学装置を配置する。すると、反射表面が平坦である場合と比較して或いは反射表面に凹凸が等方的に形成された場合と比較して、使用者３００の視点から見て、使用者３００の体の陰となっている方向Ｄ４からの弱い外光が余り反射されず、その分だけ使用者３００の体の陰となっていない方向Ｄ３からの強い外光が多く反射されることになる。
次に、以上の如く構成された第１実施形態の反射型液晶装置の動作について図２を参照して説明する。第１実施形態の反射型液晶装置は、ノーマリーブラックモードのパッシブマトリクス駆動方式により駆動される。
【００４２】
図２において、偏光板１０５の側（即ち、図２で上側）から外光が入射すると、偏光板１０５、透明な第２基板２０及び液晶層５０を介して第１基板１０上に設けられた反射電極１４により反射され、再び液晶層５０、第２基板２０及び偏光板１０５を介して偏光板１０５側から出射される。ここで、外部回路から反射電極１４及び透明電極２１に、画像信号及び走査信号を所定タイミングで供給すれば、反射電極１４及び透明電極２１が交差する個所における液晶層５０部分には、行毎又は列毎若しくは画素毎に電界が順次印加される。従って、この印加電圧により液晶層５０の配向状態を各画素単位で制御することにより、透過軸及び吸収軸が固定された偏光板１０５を透過する光量を各画素単位で変調し、カラーの階調表示が可能となる。
【００４３】
そして特に本実施形態によれば、図６に示したように使用者３００の視点から見て、使用者３００の体の陰となっていない方向Ｄ３からの強い外光が多く反射されるので、明るい反射型表示が可能となる。
加えて、反射電極１４の反射表面に凹凸を形成することにより、反射型表示における鏡面感を無くし、散乱面（白色面）に見せることも可能となり、更に凹凸による散乱によって視野角も広がる。
【００４４】
尚、上述した実施形態では、反射電極１４に、凹部１４ｄ又は１４ｄ’を多数設けるようにしたが、これに代えて又は加えて、反射電極１４に、ティアドロップ状、鱗状等の凸部を多数設けることによっても、類似の効果が得ることが可能である。
（第２実施形態）
次に、本発明による液晶装置の第２実施形態について、図７及び図８を参照して説明する。第２実施形態は、本発明を半透過反射型液晶装置に適用したものである。ここに図７は、第２実施形態の構成を示す図式的断面図であるが、図２に示した第１実施形態と同様の構成要素については同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略する。
【００４５】
図７において、第２実施形態における半透過反射型液晶装置は、第１実施形態における反射電極１４に代えて半透過反射電極２１４を備えて構成されており、第１実施形態の構成に加えて、第１基板１０の液晶層５０と反対側に、偏光板１０７及び位相差板１０８を備えている。更に、偏光板１０７の外側には、蛍光管１１９と蛍光管１１９からの光を偏光板１０７から液晶パネル内に導くための導光板１１８とを備えて構成されている。その他の構成については、第１実施形態の場合と同様である。
【００４６】
半透過反射電極２１４はＡｇやＡｌなどにより形成され、その表面は第２基板２０の側から入射する光を反射する反射面となっている。半透過反射電極２１４には第１基板１０側からの光源光を透過するためのスリットや開口部が設けてある。
【００４７】
ここで、半透過反射電極２１４のスリットや開口部の各種具体例について図８を参照して説明する。
【００４８】
図８（ａ）に示すように、各画素毎に４つの矩形スロットを４方に配置してもよいし、図８（ｂ）に示すように各画素毎に５つの矩形スロットを横並びに配置してもよいし、図８（ｃ）示すように各画素毎に多数の円形開口（例えば、２μｍ径の開口）を離散配置してもよいし、図８（ｄ）示すように各画素毎に１つの比較的大きな矩形スロットを配置してもよい。このような開口部は、レジストを用いたフォト工程／現像工程／剥離工程で容易に作製することができる。開口部の平面形状は図示のほかにも、正方形でもよいし、或いは、多角形、楕円形、不規則形でもよいし、複数の画素に跨って延びるスリット状でもよい。また、反射層を形成するときに同時に開口部を開孔することも可能であり、このようにすれば製造工程数を増やさず済む。特に、図８（ａ）、（ｂ）又は（ｄ）に示した如きスリットの場合、スリットの幅は、好ましくは約３〜２０μｍとされる。このように構成すれば、反射型表示時にも透過型表示時にも、明るく高コントラストな表示が可能となる。尚、このようなスリットや開口部を設ける以外に、例えば、間隙を光が透過可能なように第２基板２０に垂直な方向から平面的に見て相互に分断された単一層の半透過反射電極２１４としてもよい。
【００４９】
再び図７に戻り、第２実施形態では特に、上述の如くスリット等が開口された半透過反射電極２１４における液晶層５０に面する側の反射表面には、第１実施形態における反射電極１４の場合と同様に、ティアロロップ状、鱗状等の凹部２１４ｄが多数形成されている。これにより、第２実施形態における反射型表示時には、第１実施形態の場合とほぼ同様に、使用者の視点から見て、使用者の体の陰となっている方向からの弱い外光が余り反射されず、その分だけ使用者の体の陰となっていない方向からの強い外光が多く反射されることになる。他方、蛍光管１１９を点灯すると、これから発せられる光は、半透過反射電極２１４に形成された凹部２１４ｄによる影響は特に受けない。
蛍光管１１９と共にバックライトを構成する導光板１１８は、裏面全体に散乱用の粗面が形成され、或いは散乱用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板などの透明体であり、光源である蛍光管１１９の光を端面にて受けて、図の上面からほぼ均一な光を放出するようになっている。
【００５０】
透過型表示時に点灯される光源としては、小型の液晶装置用には、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）素子、ＥＬ（Electro-Luminescence）素子等が適しており、大型の液晶装置用には、導光板を介して側方から光を導入する蛍光管１１９等が適している。第１基板１０と導光板１１８との間には、更に、反射偏光子を光の有効利用目的で配置してもよい。
【００５１】
次に、以上の如く構成された第２実施形態の半透過反射型液晶装置の動作について図７を参照して説明する。第２実施形態の半透過反射型液晶装置は、ノーマリーブラックモードのパッシブマトリクス駆動方式により駆動される。
【００５２】
まず、反射型表示について説明する。
【００５３】
この場合には第１実施形態の場合と同様に、図７において、偏光板１０５の側（即ち、図７で上側）から外光が入射すると、偏光板１０５、透明な第２基板２０及び液晶層５０を介して第１基板１０上に設けられた半透過反射電極２１４により反射され、再び液晶層５０、第２基板２０及び偏光板１０５を介して偏光板１０５側から出射される。ここで、外部回路から半透過反射電極２１４及び透明電極２１に、画像信号及び走査信号を所定タイミングで供給すれば、半透過反射電極２１４及び透明電極２１が交差する個所における液晶層５０部分には、行毎又は列毎若しくは画素毎に電界が順次印加される。従って、この印加電圧により液晶層５０の配向状態を各画素単位で制御することにより、偏光板１０５を透過する光量を変調し、カラーの階調表示が可能となる。
【００５４】
次に透過型表示について説明する。
【００５５】
この場合には、図７において第１基板１０の下側から偏光板１０７を介して光源光が入射すると、半透過反射電極２１４の開口部を透過し、液晶層５０、第２基板２０及び偏光板１０５を介して偏光板１０５側から出射される。ここで、外部回路から半透過反射電極２１４及び透明電極２１に、画像信号及び走査信号を所定タイミングで供給すれば、半透過反射電極２１４及び透明電極２１が交差する個所における液晶層５０部分には、行毎又は列毎若しくは画素毎に電界が順次印加される。これにより液晶層５０の配向状態を各画素単位で制御することにより、光源光を変調し、階調表示が可能となる。
【００５６】
（第３実施形態）
次に、本発明による液晶装置の第３実施形態について、図９を参照して説明する。ここに図９は、第３実施形態の構成を示す断面図であるが、図２に示した第１実施形態と同様の構成要素については同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略する。
【００５７】
図９に示すように、第３実施形態では、第１実施形態における反射電極１４に代えて、ストライプ状の透明電極３４及び反射板３５が設けられている。その他の構成については第１実施形態の場合と同様である。尚、反射板３５の位置は、透明電極３４よりも液晶層５０から遠い位置であれば、図９において第１基板１０の上側でも下側でもよい。
第３実施形態では特に、反射板３５における液晶層５０に対向する側の反射表面には、第１実施形態における反射電極１４の場合と同様に、ティアロロップ状、鱗状等の凹部３５ｄが多数形成されている。
従って第３実施形態における反射型表示時には、第１実施形態の場合とほぼ同様に、使用者の視点から見て、使用者の体の陰となっている方向からの弱い外光が余り反射されず、その分だけ使用者の体の陰となっていない方向からの強い外光が多く反射されることになる。
（第４実施形態）
次に、本発明による液晶装置の第４実施形態について、図１０を参照して説明する。ここに図１０は、第４実施形態の構成を示す断面図であるが、図７に示した第２実施形態と同様の構成要素については同様の参照符号を付し、その説明は適宜省略する。
【００５８】
図１０に示すように、第４実施形態では、第２実施形態における半透過反射電極２１４に代えて、ストライプ状の透明電極２３４及び半透過反射板２３５が設けられている。半透過反射板２３５には、第２実施形態と同様に図８に示した如きスリットや開口部が設けられている。その他の構成については第２実施形態の場合と同様である。尚、半透過反射板２３５の位置は、透明電極２３４と導光板１１８との間の位置であれば、図１０において第１基板１０の上側でも下側でもよい。
第４実施形態では特に、半透過反射板２３５における液晶層５０に対向する側の反射表面には、第２実施形態における半透過反射電極２１４の場合と同様に、ティアロロップ状、鱗状等の凹部２３５ｄが多数形成されている。
従って第４実施形態における反射型表示時には、第２実施形態の場合とほぼ同様に、使用者の視点から見て、使用者の体の陰となっている方向からの弱い外光が余り反射されず、その分だけ使用者の体の陰となっていない方向からの強い外光が多く反射されることになる。他方、蛍光管１１９を点灯すると、これから発せられる光は、半透過反射板２３５に形成された凹部２３５ｄによる影響は特に受けない。
以上説明した第１から第４実施形態では、反射電極１４、半透過反射電極２１４、透明電極３４又は透明電極２３４の第１基板１０上の端子領域に引き出された端子部及び透明電極２１の第２基板１０上の端子領域に引き出された端子部には、例えばＴＡＢ（Tape Automated bonding）基板上に実装され、反射電極１４、半透過反射電極２１４、透明電極３４又は透明電極２３４並びに透明電極２１に画像信号や走査信号を所定タイミングで供給するデータ線駆動回路や走査線駆動回路を含む駆動用ＬＳＩを、異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。或いは、シール材３１の外側の第１基板１０又は第２基板２０上の周辺領域に、このようなデータ線駆動回路や走査線駆動回路を形成して所謂駆動回路内蔵型の反射型液晶装置として構成してもよく、更に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成して所謂周辺回路内蔵型の反射型液晶装置としてもよい。
【００５９】
また以上説明した各実施形態では、パッシブマトリクス駆動方式以外にも、ＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式、ＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）アクティブマトリクス駆動方式、セグメント駆動方式等の公知の各種駆動方式を採用可能である。この際、第１基板１０上には、駆動方式等に応じて適宜、複数のストライプ状の透明電極、マトリクス状の画素電極等が形成され、第２基板２０上には駆動方式等に応じて適宜、複数のストライプ状やセグメント状の透明電極が形成されたり、第２基板２０のほぼ全面に透明電極が形成されたりする。或いは、第２基板２０上に対向電極を設けることなく、第１基板１０上の相隣接する反射電極１４間における基板に平行な横電界で駆動してもよい。また、ノーマリーブラックモードに限らずにノーマリーホワイトモードを採用してもよい。更に、第２基板２０上に１画素1個対応するようにマイクロレンズを形成してもよい。このようにすれば、入射光の集光効率を向上することで、明るい液晶装置が実現できる。更にまた、第２基板２０上に、何層もの屈折率の相違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、ＲＧＢ色を作り出すダイクロイックフィルタを形成してもよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によれば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。
【００６０】
加えて以上説明した各実施形態では、反射電極１４、半透過反射電極２１４、透明電極３４又は透明電極２３４における凹凸の反射表面上に透明な平坦化膜をスピンコート等により形成して、このような凹凸が配向膜１５表面に段差を引き起こして、液晶の配向不良の如き動作不良が発生しないようにすることが望ましい。
（製造プロセス）
次に図１１を参照して、上述した各実施形態における電気光学装置を製造する製造プロセスを、第１実施形態における反射電極１４の形成プロセスを中心として説明を加える。ここに図１１は、反射電極１４の形成プロセスのフローチャートである。
【００６１】
先ず図１１のステップＳ１では、ガラス基板、石英基板等の第１基板１０を用意し、この上に、例えば酸化シリコン、窒化シリコン等を主成分とする絶縁膜１４ａを常圧又は減圧ＣＶＤ法等により形成する。この際、絶縁膜１４ａの膜厚は、後工程で掘られる凹部１４Dの深さｈ１よりも厚くすること、例えば３μｍ以上程度に厚く積むことで、この凹部１４Ｄの突き抜けを防止するのが好ましい。
次にステップＳ２では、この絶縁膜１４ａに対して、例えば、２〜３μｍ程度の深さｈ１を有するティアドロップ状の凹部１４Ｄを、フォトリソグラフィ及びエッチングにより形成する。この際、凹部１４Ｄのピッチは、５μｍ程度とする。より具体的には、ＣＡＤ（Computer Aided Design）でティアドロップを多角形で近似して描いて、マスクを形成した後に、このマスクを用いて、ティアドロップ状の凹部１４Ｄをエッチングにより掘る。このステップＳ２におけるエッチングは、ドライエッチングでもよいし、ウエットエッチングでもよいし、両者を組み合わせてもよい。
次にステップＳ３では、この上にスピンコート等により、絶縁膜１４ａを不完全に平坦化する有機平坦化膜１４ｂを形成する。ここに「不完全に平坦化する」とは、凹部１４Ｄ上に形成された有機平坦化膜１４ｂ部分における凹部１４ｄの深さが、例えばこの凹部１４Ｄの十分の一程度まで平坦化すると共にそれを超える平坦化は行なわない意味である。
次にステップＳ４では、この上に例えばＡｌ、Ａｇ、Ｃｒ等の導電性の反射膜１４ｃをスパッタリング等により積層することにより、例えば０．２〜０．３μｍ程度の深さｈ２を有すると共にピッチが５μｍ程度である、ティアドロップ状の凹部１４ｄが多数形成される。
その後、スピンコート又はフレキソ印刷によりポリイミド薄膜などの有機薄膜を全面に形成後、ラビング処理等の所定の配向処理を施すことで、配向膜１５を形成する。そして、このように反射電極１４、配向膜１５等が形成された第１基板１０と、別途カラーフィルタ２３、透明電極２１等が形成された第２基板２０とをシール材３１により相接着し、両基板間に注入口を介して液晶を真空吸引し、注入口を封止材により封止する。
【００６２】
加えて、図７及び図８に示した第２実施形態の電気光学装置を製造する場合には、反射電極のパターニングに若干変更して、図８に示したスリットや開口部を開けるように製造すればよい。更に、図９及び図１０に夫々示した第３及び第４実施形態の電気光学装置を製造する場合には、反射板や半透過反射板を取り付ける前に又は反射板や半透過反射板を第１基板１０上に形成した後に、ステップＳ１〜Ｓ４と同様の手法により、凹部を形成すればよい。
以上説明した製造プロセスによれば、上述した実施形態の電気光学装置を比較的容易に製造できる。
【００６３】
尚、反射電極１４や半透過反射電極２１４に形成する凹凸形状は、反射電極１４や半透過反射電極２１４の下地に感光性のアクリル樹脂等を用いて形成したり、下地の基板自身をフッ酸によって荒らすこと等によって形成してもよい。
【００６４】
加えて、反射電極１４又は半透過反射電極２１４に凹凸形状を形成後に、その凹凸表面上に透明な平坦化膜を形成して、液晶層５０に面する表面（配向膜１５の表面）を平坦化しておくことにより、液晶の配向不良を防いでもよい。
（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態について、図１２を参照して説明する。第５実施形態は、上述した本発明の第１から第４実施形態の液晶装置を適用した各種の電子機器からなる。
【００６５】
先ず、第１から第４実施形態における液晶装置を、例えば図１２（ａ）に示すような携帯電話１０００の表示部１００１に適用すれば、明るい反射型のカラー表示を行う省エネルギ型の携帯電話を実現できる。
【００６６】
また、図１２（ｂ）に示すような腕時計１１００の表示部１１０１に適用すれば、明るい反射型のカラー表示を行う省エネルギ型の腕時計を実現できる。
【００６７】
更に、図１２（ｃ）に示すようなパーソナルコンピュータ（或いは、情報端末）１２００において、キーボード１２０２付きの本体１２０４に開閉自在に取り付けられるカバー内に設けられる表示画面１２０６に適用すれば、明るい反射型のカラー表示を行う省エネルギ型のパーソナルコンピュータを実現できる。
【００６８】
第５実施形態では好ましくは、図６で説明したように、表示画面に顔を近づけた使用者の頭や体の方向から入射される光よりも、その頭上若しくは右側又は左側を介して背後から入射される光の方を反射表面で優先的に反射するように、第１から第４実施形態の電気光学装置を、電子機器に上下左右に応じて当該電子機器に実装するのが好ましい。これにより、明るい反射型表示を行なえる。
以上図１２に示した電子機器の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、エンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等などの電子機器にも、第１から第４実施形態の液晶装置を適用可能である。
【００６９】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴なう電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態であるパッシブマトリクス駆動方式の反射型液晶装置を、対向基板上に形成されるカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見た様子を示す図式的平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面をカラーフィルタを含めて示す反射型液晶装置の図式的断面図である。
【図３】第１実施形態に係る反射電極の一例における反射表面を拡大して示す図式的拡大平面図である。
【図４】第１実施形態に係る反射電極の一例における断面を拡大して示す拡大断面図である。
【図５】第１実施形態に係る反射電極の他の例における反射表面を拡大して示す図式的拡大平面図である。
【図６】第１実施形態の反射型液晶装置とこれを実際に見る使用者との位置関係を示す概念図である。
【図７】本発明の第２実施形態であるパッシブマトリクス駆動方式の半透過反射型液晶装置の図式的平面図である。
【図８】第２実施形態の半透過反射層に設けられるスリットや開口部に係る各種具体例を示す拡大平面図である。
【図９】本発明の第３実施形態であるパッシブマトリクス駆動方式の反射型液晶装置の、断面図である。
【図１０】本発明の第４実施形態であるパッシブマトリクス駆動方式の半透過反射型液晶装置の断面図である。
【図１１】本実施形態に係る製造プロセスを示すフローチャートである。
【図１２】本発明の第５実施形態である各種電子機器の外観図である。
【符号の説明】
１０…第１基板
１４…反射電極
１４ｄ…凹部
１５…配向膜
２０…第２基板
２１…透明電極
２３…カラーフィルタ
２５…配向膜
３１…シール材
３２…封止材
３５…反射板
３５ｄ…凹部
１０５…偏光板
１０６…第１位相差板
１１６…第２位相差板
２１４…半透過反射電極
２３５…半透過反射板
２３５ｄ…凹部
【図１】
0003783575.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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