(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0003808175.tif 000034
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数２以上の置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。但し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10の全てが水素原子である場合を除く）で表されるキノリン化合物および／またはその互変異性体。
【請求項２】
一般式（２）
【化２】
0003808175.tif 000035
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29およびＲ30は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。Ｘ1 、Ｘ2 は各々独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す。）で表されるハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体。
【請求項３】
一般式（３）
【化３】
0003808175.tif 000036
（式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49およびＲ50は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。)で表される亜鉛錯体および／またはその互変異性体。
【請求項４】
一般式（２）
【化４】
0003808175.tif 000037
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29およびＲ30は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。Ｘ1 、Ｘ2 は各々独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す。）で表されるハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体を無機酸で処理することを特徴とする一般式（４）
【化５】
0003808175.tif 000038
（式中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59およびＲ60は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるキノリン化合物および／またはその互変異性体の製造方法。
【請求項５】
一般式（３）
【化６】
0003808175.tif 000039
（式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49およびＲ50は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。)で表される亜鉛錯体および／またはその互変異性体を無機酸で処理することを特徴とする請求項４記載の一般式（４）
【化７】
0003808175.tif 000040
（式中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59およびＲ60は、前記と同じである。）で表されるキノリン化合物および／またはその互変異性体の製造方法。
【請求項６】
請求項１記載の一般式（１）のキノリン化合物および／またはその互変異性体を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
請求項１記載の一般式（１）のキノリン化合物および／またはその互変異性体を含有する蛍光材料。
【請求項８】
一般式（５）
【化９】
0003808175.tif 000041
（式中、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ3 、Ｙ4 、Ｙ5 およびＹ6 は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるキノリン誘導体の１種又は２種と、一般式（６）
【化１０】
0003808175.tif 000042
（式中、Ｙ7 、Ｙ8 、Ｙ9 およびＹ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるフタルイミド誘導体の１種又は２種を、有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることを特徴とする請求項２記載の一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体の製造方法。
【請求項９】
一般式（４）
【化１２】
0003808175.tif 000043
（式中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59およびＲ60は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるキノリン化合物および／またはその互変異性体を有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることを特徴とする請求項２記載の一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体の製造方法。
【請求項１０】
請求項２記載の一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１１】
請求項２記載の一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体を含有する紫外線吸収材料。
【請求項１２】
請求項２記載の一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体および／またはその互変異性体を有機アミン中で加熱することを特徴とする請求項３記載の一般式（３）の亜鉛錯体および／またはその互変異性体の製造方法。
【請求項１３】
一般式（５）
【化９】
0003808175.tif 000044
（式中、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ3 、Ｙ4 、Ｙ5 およびＹ6 は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるキノリン誘導体の１種又は２種と、一般式（６）
【化１０】
0003808175.tif 000045
（式中、Ｙ7 、Ｙ8 、Ｙ9 およびＹ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換アルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるフタルイミド誘導体の１種又は２種を、有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることを特徴とする請求項３記載の一般式（３）の亜鉛錯体および／またはその互変異性体の製造方法。
【請求項１４】
請求項３記載の一般式（３）の亜鉛錯体および／またはその互変異性体を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１５】
請求項３記載の一般式（３）の亜鉛錯体および／またはその互変異性体を含有する紫外線吸収材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エレクトロルミネッセンス素子の発光層に用いるのに適したキノリン化合物、および該化合物を用いたエレクトロルミネッセンス素子、蛍光材料、ならびに該化合物の製造方法に関する。
また、本発明は、エレクトロルミネッセンス素子の発光層、あるいは紫外線吸収材料に用いるのに適したハロゲン化亜鉛錯体、および該化合物を用いたエレクトロルミネッセンス素子、紫外線吸収材料ならびに該化合物の製造方法に関する。
さらに、本発明は、エレクトロルミネッセンス素子の発光層、あるいは紫外線吸収材料に用いるのに適した亜鉛錯体、および該化合物を用いたエレクトロルミネッセンス素子、紫外線吸収材料ならびに該化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等を用途にした蛍光あるいは発光性色素の研究が盛んである。
古くから蛍光性を持つ色素として、下記式（７）
【化１６】
0003808175.tif 000002
のキノリン化合物が知られている。Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．，ｖｏｌ．３１５，ｐ．３０３（１９０１）およびＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．，ｖｏｌ．１００，ｐ．２２６１〜２２７３（１９６７）に記されている。
【０００３】
一方、ＥＬ素子は、近年大きな進歩を遂げ、筒井、斉藤らにより、発光層、正孔輸送層が検討され、実用化に近づいている（Ｊａｐａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｙｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ，ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．２，Ｌ２６９（１９８８）；ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．４，Ｌ７１３（１９８８）など）。
また、紫外から可視領域での発色を示す芳香族化合物が、蛍光性色素として知られている（Ｉ．Ｂ．Ｂｅｒｌｍａｎ，Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｆｌｕｏｒｅｎｓｃｅｎｃｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ  ｏｆ  Ａｒｏｍａｔｉｃ  Ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ発行）。
また、紫外線吸収材料として、酸化チタン、酸化亜鉛などの無機化合物、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、トリアジン構造を持つ有機化合物が知られている（特開昭６４−２０２４８号公報など）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第１の目的は、ＥＬ材料として優れた色素、およびその有用な製造方法を提供することである。
また、本発明の第２の目的は、蛍光材料として優れた色素、およびその有用な製造方法を提供することである。
さらに、本発明の第３の目的は、紫外線吸収材料として優れた色素、およびその有用な製造方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
これらの目的を達成する本発明は次の通りである。
（１）一般式（１）
【化１７】
0003808175.tif 000003
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数２以上の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。但し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10の全てが水素原子である場合を除く。〕で表されるキノリン化合物およびその互変異性体。
【０００６】
（２）一般式（２）
【化１８】
0003808175.tif 000004
（式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表し、Ｘ1 、Ｘ2 は各々独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す。〕で表されるハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体。
【０００７】
（３）一般式（３）
【化１９】
0003808175.tif 000005
（式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。〕で表される亜鉛錯体およびその互変異性体。
【０００８】
（４）Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ）１２．８°、１５．２°、１８．３°、２２．５°、２５°、２８．４°にピークを持つ式（７）
【化２０】
0003808175.tif 000006
で表されるキノリン化合物。
【０００９】
（５）ブラッグ角（２θ）１２．８°のピーク強度比が、１５．２°に対して０．７以下である式（７）のキノリン化合物。
【００１０】
（６）一般式（５）
【化２１】
0003808175.tif 000007
（式中、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ3 、Ｙ4 、Ｙ5 、Ｙ6 は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるキノリン誘導体と一般式（６）
【化２２】
0003808175.tif 000008
（式中、Ｙ7 、Ｙ8 、Ｙ9 、Ｙ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるフタルイミド誘導体を、有機塩基性溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させ、その後無機酸で処理することを特徴とする
【００１１】
一般式（４）
【化２３】
0003808175.tif 000009
（式中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59、Ｒ60は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。）で表されるキノリン化合物およびその互変異性体の製造方法。
【００１２】
（７）一般式（６）のフタルイミド誘導体のモル比が、一般式（５）のキノリン誘導体に対して０．５〜２．０である一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体の製造方法。
【００１３】
（８）一般式（６）のフタルイミド誘導体のモル比が、一般式（５）のキノリン誘導体に対して１．１〜２．０である一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体の製造方法。
（９）前記一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を無機酸で処理することを特徴とする前記一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体の製造方法。
（１０）前記一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体を無機酸で処理することを特徴とする一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体の製造方法。
【００１４】
（１１）前記一般式（４）の化合物およびその互変異性体を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子。
（１２）一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体を含有する蛍光材料。
【００１５】
（１３）一般式（５）で表されるキノリン誘導体の１種又は２種と、一般式（６）で表されるフタルイミド誘導体の１種又は２種を、有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることを特徴とする一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体の製造方法。
（１４）一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体を有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることを特徴とする一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体の製造方法。
【００１６】
（１５）一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子。
（１６）一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を含有する紫外線吸収材料。
【００１７】
（１７）一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を有機アミン中で加熱することを特徴とする一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体の製造方法。
（１８）一般式（５）で表されるキノリン誘導体の１種又は２種と一般式（６）で表されるフタルイミド誘導体の１種又は２種を、有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることを特徴とする一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体の製造方法。
【００１８】
（１９）一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子。
（２０）一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体を含有する紫外線吸収材料。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係るキノリン化合物およびその互変異性体、およびこれらの化合物を配位子とするハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体、ならびに亜鉛錯体およびその互変異性体は、次の反応工程に示すようなＡ工程、Ｂ工程、Ｃ工程、Ｄ工程、Ｅ工程、Ｆ工程およびＧ工程により製造される。
【００２０】
【化２４】
0003808175.tif 000010
【００２１】
〔Ａ工程〕一般式（５）で表されるキノリン誘導体と一般式（６）で表されるフタルイミド誘導体を、有機塩基性溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させ、その後無機酸で処理することにより、一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体を得ることができる。
〔Ｂ工程〕一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を無機酸で処理することにより、一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体を得ることができる。
【００２２】
〔Ｃ工程〕一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体を無機酸で処理することにより、一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体を得ることができる。
〔Ｄ工程〕一般式（５）で表されるキノリン誘導体の１種又は２種と一般式（６）で表されるフタルイミド誘導体の１種又は２種を、有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることにより、一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を得ることができる。
〔Ｅ工程〕一般式（４）のキノリン化合物およびその互変異性体を有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることにより、一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を得ることができる。
【００２３】
〔Ｆ工程〕一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体およびその互変異性体を有機アミン中で加熱することにより、一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体を得ることができる。
〔Ｇ工程〕一般式（５）で表されるキノリン誘導体の１種又は２種と一般式（６）で表されるフタルイミド誘導体の１種又は２種を、有機溶媒中、ハロゲン化亜鉛と反応させることにより、一般式（３）の亜鉛錯体およびその互変異性体を得ることができる。
【００２４】
Ａ工程は、一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体を単離することなくＤ工程とＢ工程を続けて行い、一般式（４）のキノリン化合物を得るものである。または、一般式（２）のハロゲン化亜鉛錯体および一般式（３）の亜鉛錯体を単離することなくＤ工程、Ｆ工程、Ｃ工程を続けて行い、一般式（４）のキノリン化合物を得るものである。
【００２５】
本発明の化合物（１）の置換基として表されるＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、炭素数２以上の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表す。
【００２６】
また、本発明の化合物（２）、（３）、（４）およびこれらの中間体であるキノリン誘導体（５）、フタルイミド誘導体（６）の置換基として表されるＲ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、Ｒ59、Ｒ60、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ3 、Ｙ4 、Ｙ5 、Ｙ6 、Ｙ7 、Ｙ8 、Ｙ9 およびＹ10は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換アリール基、置換または無置換アルコキシ基、置換または無置換アリールオキシ基、置換または無置換Ｎ−アルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換または無置換Ｎ−アリールアミノ基、置換または無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、置換または無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基を表し、Ｘ1 、Ｘ2 は各々独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す。
具体例として、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２７】
置換または無置換アルキル基の例としては、炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、
【００２８】
１，１−ジメチルペンチル基、１，２−ジメチルペンチル基、１，３−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３，４−ジメチルペンチル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１，１，３−トリメチルブチル基、１，２，３−トリメチルブチル基、１，２，２−トリメチルブチル基、１，３，３−トリメチルブチル基、２，３，３−トリメチルブチル基、１−エチル−１−メチルブチル基、１−エチル−２−メチルブチル基、１−エチル−３−メチルブチル基、２−エチル−１−メチルブチル基、２−エチル−３−メチルブチル基、１−ｎ−プロピルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルブチル基  １−ｉｓｏ−プロピル−２−メチルプロピル基、メチルシクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、６−メチルヘプチル基、
【００２９】
１，１−ジメチルヘキシル基、１，２−ジメチルヘキシル基、１，３−ジメチルヘキシル基、１，４−ジメチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、２，２−ジメチルヘキシル基、２，３−ジメチルヘキシル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、３，３−ジメチルヘキシル基、３，４−ジメチルヘキシル基、３，５−ジメチルヘキシル基、４，４−ジメチルヘキシル基、４，５−ジメチルヘキシル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基  ４−エチルヘキシル基、１−ｎ−プロピルペンチル基、２−ｎ−プロピルペンチル基、１−ｉｓｏ−プロピルペンチル基、２−ｉｓｏ−プロピルペンチル基、１−エチル−１−メチルペンチル基、１−エチル−２−メチルペンチル基、１−エチル−３−メチルペンチル基、１−エチル−４−メチルペンチル基、２−エチル−１−メチルペンチル基、２−エチル−２−メチルペンチル基、２−エチル−３−メチルペンチル基、２−エチル−４−メチルペンチル基、３−エチル−１−メチルペンチル基、３−エチル−２−メチルペンチル基、３−エチル−３−メチルペンチル基、３−エチル−４−メチルペンチル基、
【００３０】
１，１，２−トリメチルペンチル基、１，１，３−トリメチルペンチル基、１，１，４−トリメチルペンチル基、１，２，２−トリメチルペンチル基、１，２，３−トリメチルペンチル基、１，２，４−トリメチルペンチル基、１，３，４−トリメチルペンチル基、２，２，３−トリメチルペンチル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、２，３，４−トリメチルペンチル基、１，３，３−トリメチルペンチル基、２，３，３−トリメチルペンチル基、３，３，４−トリメチルペンチル基、１，４，４−トリメチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、３，４，４−トリメチルペンチル基、１−ｎ−ブチルブチル基、１−ｉｓｏ−ブチルブチル基、１−ｓｅｃ−ブチルブチル基、１−ｔｅｒｔ−ブチルブチル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルブチル基、１−ｎ−プロピル−１−メチルブチル基、１−ｎ−プロピル−２−メチルブチル基、１−ｎ−プロピル−３−メチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピル−１−メチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピル−２−メチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピル−３−メチルブチル基、
【００３１】
１，１−ジエチルブチル基、１，２−ジエチルブチル基、１−エチル−１，２−ジメチルブチル基、１−エチル−１，３−ジメチルブチル基、１−エチル−２，３−ジメチルブチル基、２−エチル−１，１−ジメチルブチル基、２−エチル−１，２−ジメチルブチル基、２−エチル−１，３−ジメチルブチル基、２−エチル−２，３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルシクロヘキシル基、１，３−ジメチルシクロヘキシル基、１，４−ジメチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、
【００３２】
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、クロロエチル基、ブロモエチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラクロロエチル基、ヘキサフルオロ−ｉｓｏ−プロピル基等のハロゲン原子が１〜２１個置換した炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のハロゲン化アルキル基、
【００３３】
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ペントキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、シクロヘキシルオキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、ペントキシエチル基、ヘキシルオキシエチル基、シクロヘキシルオキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、ブトキシプロピル基、ペントキシプロピル基、ヘキシルオキシプロピル基、シクロヘキシルオキシプロピル基、メトキシエトキシプロピル基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が置換したアルキル基、
【００３４】
メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、ペンチルチオメチル基、ヘキシルチオメチル基、シクロヘキシルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、ブチルチオエチル基、ペンチルチオエチル基、ヘキシルチオエチル基、シクロヘキシルチオエチル基、メトキシエチルチオエチル基、メチルチオプロピル基、エチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基、ブチルチオプロピル基、ペンチルチオプロピル基、ヘキシルチオプロピル基、シクロヘキシルチオプロピル基、メトキシエチルチオプロピル基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が置換したアルキル基、
【００３５】
Ｎ−メチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル基、Ｎ−プロピルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノメチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ−メチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、Ｎ−エチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル基、Ｎ−プロピルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノエチル基、Ｎ−メチルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル基、Ｎ−エチルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル基、Ｎ−プロピルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノプロピル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミノプロピル基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のＮ−アルキルアミノアルキル基又はＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル基が置換したアルキル基が挙げられる。
【００３６】
置換又は無置換のアリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、２−メチルフェニル基、及び３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，６−ジメチルフェニル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，５−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２−エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、２−メチル−１−ナフチル基、３−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、５−メチル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、７−メチル−１−ナフチル基、８−メチル−１−ナフチル基、１−メチル−２−ナフチル基、３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチル基、５−メチル−２−ナフチル基、６−メチル−２−ナフチル基、７−メチル−２−ナフチル基、８−メチル−２−ナフチル基、２−エチル−１−ナフチル基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が置換したアリール基、
【００３７】
３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，６−ジメトキシフェニル基、２，３，４−トリメトキシフェニル基、２，３，５−トリメトキシフェニル基、２，３，６−トリメトキシフェニル基、２，４，５−トリメトキシフェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、３，４，５−トリメトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、３−メトキシ−１−ナフチル基、４−メトキシ−１−ナフチル基、５−メトキシ−１−ナフチル基、６−メトキシ−１−ナフチル基、７−メトキシ−１−ナフチル基、８−メトキシ−１−ナフチル基、１−メトキシ−２−ナフチル基、３−メトキシ−２−ナフチル基、４−メトキシ−２−ナフチル基、５−メトキシ−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、７−メトキシ−２−ナフチル基、８−メトキシ−２−ナフチル基、２−エトキシ−１−ナフチル基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が置換したアリール基、
【００３８】
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ヨードフェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニル基であるハロゲン原子が置換したフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基であるハロゲン化アルキル基が置換したフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノフェニル基、Ｎ−トリル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−クロロフェニル−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェニル基またはＮ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル基であるＮ−モノ置換アミノ置換フェニル基、Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノフェニル基、他にメチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、メチルチオナフチル基またはフェニルチオフェニル基であるアルキルチオアリール基、アリールチオアリール基などが挙げられる。
【００３９】
置換又は無置換アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、１−メチルブトキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１−エチルプロポキシ基、２−エチルプロポキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、エチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基等の直鎖、分岐または環状の炭素数１〜１０のアルコキシ基、
【００４０】
フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、ヘキサフルオロエトキシ基、フルオロプロポキシ基、トリフルオロプロポキシ基、ヘキサフルオロプロポキシ基、クロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、クロロエトキシ基、トリクロロエトキシ基等のハロゲン原子が１〜２１個置換した直鎖、分岐または環状の炭素数１〜１０のハロゲン化アルコキシ基、
【００４１】
メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、ブトキシメトキシ基、シクロヘキシルオキシメトキシ基、メトキシメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、シクロヘキシルオキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロポキシエトキシエトキシ基、ブトキシエトキシエトキシ基、メトキシメチルエトキシ基、エトキシメチルエトキシ基、プロポキシメチルエトキシ基、ブトキシメチルエトキシ基、シクロヘキシルオキシメチルエトキシ基、メトキシエトキシメチルエトキシ基、エトキシエトキシメチルエトキシ基、プロポキシエトキシメチルエトキシ基、ブトキシエトキシメチルエトキシ基、２−〔（２’−メトキシ）プロポキシ〕プロポキシ基、メトキシプロポキシ基、エトキシプロポキシ基、エトキシプロポキシ基等の直鎖、分岐または環状の炭素数１〜１０のアルコキシアルコキシ基、
【００４２】
Ｎ−メチルアミノメトキシ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ基、Ｎ−エチルアミノメトキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメトキシ基、Ｎ−メチルアミノエトキシ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシ基、Ｎ−エチルアミノエトキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエトキシ基、Ｎ−メチルアミノプロポキシ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノプロポキシ基、Ｎ−メチルアミノブトキシ基等の直鎖、分岐または環状の炭素数１〜１０のＮ−アルキルまたはＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコキシ基、
【００４３】
メチルチオメトキシ基、エチルチオメトキシ基、プロピルチオメトキシ基、メチルチオエトキシ基、エチルチオエトキシ基、プロピルチオエトキシ基等の直鎖、分岐または環状の炭素数１〜１０のアルキルチオアルコキシ基、
【００４４】
フェノキシエトキシ基、ナフチルオキシエトキシ基、トリルオキシエトキシ基またはエチルフェノキシエトキシ基であるアリールオキシアルコキシ基が挙げられる。
【００４５】
置換又は無置換アリールオキシ基の例としては、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アンスラニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、及び３−メチルフェニルオキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、２，３−ジメチルフェニルオキシ基、２，４−ジメチルフェニルオキシ基、２，５−ジメチルフェニルオキシ基、２，６−ジメチルフェニルオキシ基、３，４−ジメチルフェニルオキシ基、３，５−ジメチルフェニルオキシ基、３，６−ジメチルフェニルオキシ基、２，３，４−トリメチルフェニルオキシ基、２，３，５−トリメチルフェニルオキシ基、２，３，６−トリメチルフェニルオキシ基、２，４，５−トリメチルフェニルオキシ基、２，４，６−トリメチルフェニルオキシ基、３，４，５−トリメチルフェニルオキシ基、２−エチルフェニルオキシ基、プロピルフェニルオキシ基、ブチルフェニルオキシ基、ヘキシルフェニルオキシ基、シクロヘキシルフェニルオキシ基、オクチルフェニルオキシ基、２−メチル−１−ナフチルオキシ基、３−メチル−１−ナフチルオキシ基、４−メチル−１−ナフチルオキシ基、５−メチル−１−ナフチルオキシ基、６−メチル−１−ナフチルオキシ基、７−メチル−１−ナフチルオキシ基、８−メチル−１−ナフチルオキシ基、１−メチル−２−ナフチルオキシ基、３−メチル−２−ナフチルオキシ基、４−メチル−２−ナフチルオキシ基、５−メチル−２−ナフチルオキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基、７−メチル−２−ナフチルオキシ基、８−メチル−２−ナフチルオキシ基、２−エチル−１−ナフチルオキシ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が置換したアリールオキシ基等が挙げられ、
【００４６】
また、３−メトキシフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、２，３−ジメトキシフェニルオキシ基、２，４−ジメトキシフェニルオキシ基、２，５−ジメトキシフェニルオキシ基、２，６−ジメトキシフェニルオキシ基、３，４−ジメトキシフェニルオキシ基、３，５−ジメトキシフェニルオキシ基、３，６−ジメトキシフェニルオキシ基、２，３，４−トリメトキシフェニルオキシ基、２，３，５−トリメトキシフェニルオキシ基、２，３，６−トリメトキシフェニルオキシ基、２，４，５−トリメトキシフェニルオキシ基、２，４，６−トリメトキシフェニルオキシ基、３，４，５−トリメトキシフェニルオキシ基、２−エトキシフェニルオキシ基、プロポキシフェニルオキシ基、ブトキシフェニルオキシ基、ヘキシルオキシフェニルオキシ基、シクロヘキシルオキシフェニルオキシ基、オクチルオキシフェニルオキシ基、２−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、３−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、４−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、５−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、６−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、７−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、８−メトキシ−１−ナフチルオキシ基、１−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、３−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、４−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、５−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、６−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、７−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、８−メトキシ−２−ナフチルオキシ基、２−エトキシ−１−ナフチルオキシ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が置換したアリールオキシ基等が挙げられ、
【００４７】
クロロフェニルオキシ基、ジクロロフェニルオキシ基、トリクロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、ジブロモフェニルオキシ基、ヨードフェニルオキシ基、フルオロフェニルオキシ基、ジフルオロフェニルオキシ基、トリフルオロフェニルオキシ基、テトラフルオロフェニルオキシ基またはペンタフルオロフェニルオキシ基であるハロゲン原子が置換したフェニルオキシ基、あるいはトリフルオロメチルフェニル基が置換したフェニルオキシ基であるアリールオキシ基である。
【００４８】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニルオキシ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノフェニルオキシ基、Ｎ−トリル−Ｎ−エチルアミノフェニルオキシ基、Ｎ−クロロフェニル−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェニルオキシ基またはＮ，Ｎ−ジトリルアミノフェニルオキシ基であるＮ−モノ置換アミノアリールオキシ基またはＮ，Ｎ−ジ置換アミノアリールオキシ基が挙げられる。
【００４９】
メチルチオフェニルオキシ基、エチルチオフェニルオキシ基、メチルチオナフチルオキシ基またはシクロヘキシルチオフェニルオキシ基であるアルキルチオアリールオキシ基、あるいはフェニルチオフェニルオキシ基、ナフチルチオフェニルオキシ基またはフェニルチオナフチルオキシ基であるアリールチオアリールオキシ基が挙げられる。
【００５０】
置換又は無置換Ｎ−アルキルアミノ基の例としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｉｓｏ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−１−メチルブチルアミノ基、Ｎ−２−メチルブチルアミノ基、Ｎ−３−メチルブチルアミノ基、Ｎ−１，１−ジメチルブチルアミノ基、Ｎ−１，２−ジメチルブチルアミノ基、Ｎ−２，２−ジメチルブチルアミノ基、Ｎ−１−エチルプロピルアミノ基、Ｎ−２−エチルプロピルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘプチルアミノ基、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−２−エチルヘキシルアミノ基、Ｎ−エチルシクロヘキシルアミノ基、Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミノ基、Ｎ−ｎ−ノニルアミノ基、Ｎ−３，５，５−トリメチルヘキシルアミノ基、Ｎ−ｎ−デシルアミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のアルキルアミノ基、
【００５１】
Ｎ−メトキシメチルアミノ基、Ｎ−エトキシメチルアミノ基、Ｎ−メトキシエチルアミノ基、Ｎ−エトキシエチルアミノ基、Ｎ−ｎ−プロポキシエチルアミノ基、Ｎ−ｉｓｏ−プロポキシエチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブトキシエチルアミノ基、Ｎ−ｉｓｏ−ブトキシエチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘキシルオキシ−エチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルオキシエチルアミノ基、Ｎ−２−メトキシプロピルアミノ基、Ｎ−メトキシ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ−２−エトキシプロピルアミノ基、Ｎ−エトキシ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ−２−プロポキシプロピルアミノ基、Ｎ−プロポキシ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキルアミノ基、
【００５２】
Ｎ−メチルチオメチルアミノ基、Ｎ−エチルチオメチルアミノ基、Ｎ−メチルチオエチルアミノ基、Ｎ−エチルチオエチルアミノ基、Ｎ−ｎ−プロピルチオエチルアミノ基、Ｎ−ｉｓｏ−プロピルチオエチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチルチオエチルアミノ基、Ｎ−ｉｓｏ−ブチルチオエチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルチオエチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘキシルチオエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルチオエチルアミノ基、Ｎ−２−メチルチオプロピルアミノ基、Ｎ−メチルチオ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ−２−エチルチオプロピルアミノ基、Ｎ−エチルチオ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ−２−プロピルチオプロピルアミノ基、Ｎ−プロピルチオ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ−メチルチオエトキシエチルアミノ基、Ｎ−エチルチオエチルチオエチルアミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のアルキルチオアルキルアミノ基、
【００５３】
Ｎ−メチルアミノメチルアミノ基、Ｎ−メチルアミノエチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノメチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のＮ−アルキルアミノアルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキルアミノ基等を挙げることができる。
【００５４】
置換又は無置換のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、例としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｓｅｃ−ブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ペンチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（１−メチルブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチルブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチルブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（１，１−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（１，２−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２，２−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（１−エチルプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチルプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ヘキシル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（シクロヘキシル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ヘプチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（メチルシクロヘキシル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−オクチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチルヘキシル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ジメチルシクロヘキシル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ノニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（３，５，５−トリメチルヘキシル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−デシル）アミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−オクチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−（シクロヘキシル）−Ｎ−エチルアミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、
【００５５】
Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロポキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−プロポキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ブトキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−ブトキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ヘキシルオキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（シクロヘキシルオキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メトキシプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシ−ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エトキシプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシ−ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−プロポキシプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシ−ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシエトキシエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシエトキシエチル）アミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−（メトキシエチル）アミノ基、Ｎ−（プロピルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルオキシエチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−（エトキシエトキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ基またはＮ−（シクロヘキシルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ基である炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のＮ，Ｎ−ジアルコキシアルキルアミノ基またはＮ−アルコキシアルキル−Ｎ−アルキルアミノ基、
【００５６】
Ｎ，Ｎ−ジ（メチルチオメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エチルチオメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（メチルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エチルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−プロピルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ブチルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−ブチルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ヘキシルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（シクロヘキシルチオエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチルチオプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（メチルチオ−ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−エチルチオプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エチルチオ−ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−プロピルチオプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（プロピルチオ−ｉｓｏ−プロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（エチルチオエチルチオエチル）アミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のアルキルチオ基が置換したＮ，Ｎ−ジアルキルチオアルキルアミノ基、
【００５７】
Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ−メチルアミノメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ−メチルアミノエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ−エチルアミノメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ−エチルアミノエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル）アミノ基等の炭素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のＮ，Ｎ−ジ（Ｎ−アルキルアミノアルキル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル）アミノ基等が挙げられる。
【００５８】
置換又は無置換Ｎ−アリールアミノ基は、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−トリルアミノ基、Ｎ−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−トリフルオロフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−メチルナフチルアミノ基またはＮ−クロロナフチルアミノ基である。
【００５９】
置換又は無置換Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基は、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジクロロフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジトリフルオロフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジナフチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルナフチルアミノ基またはＮ，Ｎ−ジクロロナフチルアミノ基である。
【００６０】
置換又は無置換Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基は、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−トリルアミノ基、Ｎ−メトキシエチル−Ｎ−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−トリフルオロフェニルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−２−エチルヘキシル−Ｎ−メチルナフチルアミノ基またはＮ−メチル−Ｎ−クロロナフチルアミノ基である。
【００６１】
Ｒ1 〜Ｒ10の置換基の好ましい例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、アミノ基が挙げられる。Ｒ11〜Ｒ10、Ｙ1 〜Ｙ10の置換基の好ましい例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基が挙げられる。また、Ｘ1 、Ｘ2 の好ましい例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
【００６２】
本発明の方法において、Ａ工程で用いる有機塩基性溶媒の具体的な例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン等のアニリン類、ピリジン等のピリジン類、キノリン、メチルキノリン、イソキノリン等のキノリン類、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、Ｎ−エチルモルホリン等の環状アミン類が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンである。これらは、単独または２種以上の混合で用いてもよい。その使用量は、一般式（５）のキノリン誘導体１重量部に対して１〜５０重量部であり、好ましくは、４〜２１重量部である。
【００６３】
本発明の方法において、Ｄ工程、Ｅ工程、Ｇ工程で用いる有機溶媒の具体的な例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン等のアニリン類、ピリジン等のピリジン類、キノリン、メチルキノリン、イソキノリン等のキノリン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、ニトロベンゼン等のニトロ芳香族炭化水素が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ジクロロベンゼン、キノリンである。これらは、単独または２種以上の混合で用いてもよい。その使用量は、一般式（５）のキノリン誘導体または一般式（５）のキノリン化合物に対して１〜５０重量部であり、好ましくは、４〜１６重量部である。
【００６４】
本発明の方法において、Ｆ工程で用いる有機アミンの具体的な例としては、ピリジン、ピコリン、ルチジン等のピリジン類、キノリン、イソキノリン等のキノリン類、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペリジン等の含窒素環状アミン類が挙げられる。好ましくは、ピリジン、ピコリン、ルチジンである。これらは、単独または２種以上の混合で用いてもよい。その使用量は、キノリン誘導体またはハロゲン化亜鉛錯体に対して３〜１００重量部であり、好ましくは、５〜５０重量部である。
【００６５】
本発明の方法において、Ａ工程、Ｂ工程、Ｃ工程で用いる無機酸の具体的な例としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸が挙げられる。好ましくは、塩酸、硫酸である。その使用量は、Ａ工程の場合、キノリン誘導体に対して１〜２００モル比、好ましくは６〜３５モル比である。Ｂ工程の場合、ハロゲン化亜鉛錯体に対して２〜２００モル比である。Ｃ工程の場合、亜鉛錯体に対して２〜２００モル比である。有機塩基性溶媒、有機溶媒等の様に、無機酸との塩を形成するものが含まれていると、これらを中和するため、過剰に無機酸が必要である。
【００６６】
本発明の方法において、Ａ工程、Ｄ工程、Ｅ工程、Ｇ工程で用いるハロゲン化亜鉛の具体的な例としては、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛が挙げられる。好ましくは、塩化亜鉛、臭化亜鉛である。その使用量は、Ａ工程、Ｄ工程、Ｇ工程の場合、キノリン誘導体に対して０．１〜５０モル比、好ましくは、０．５〜１０モル比である。Ｅ工程の場合、キノリン化合物に対して０．１〜５０モル比、好ましくは、０．２〜１０モル比、更に好ましくは、０．５〜２．５モル比である。
【００６７】
本発明の方法において、Ａ工程で用いるフタルイミド誘導体の使用量は、キノリン誘導体に対して０．２〜１０モル比であり、好ましくは、０．５〜２モル比、さらに好ましくは１．１〜２．０モル比である。過剰のキノリン誘導体を使用すると、残存するキノリン誘導体あるいはその不純物が充分除去できないため、一般式（４）のキノリン化合物の蛍光性を低下させることがある。Ｄ工程、Ｇ工程で用いるフタルイミド誘導体の使用量は、キノリン誘導体に対して０．２〜１０モル比であり、好ましくは、０．５〜２モル比である。
【００６８】
本発明の方法において、Ａ工程、Ｄ工程、Ｅ工程でハロゲン化亜鉛との反応温度は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１３０〜１８０℃である。その反応時間は、通常５〜５０時間である。Ｇ工程でのハロゲン化亜鉛との反応温度は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１１０〜１８０℃である。その反応時間は、通常５〜５０時間である。
【００６９】
本発明の方法において、Ａ工程、Ｂ工程、Ｃ工程で、無機酸で処理する温度は、５０〜１００℃、好ましくは８０〜９５℃である。その処理時間は、通常０．１〜１０時間である。
本発明の方法において、Ｆ工程で、有機アミンで加熱する温度は、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。その処理時間は、通常０．１〜１０時間である。
【００７０】
反応終了後の処理としては、Ａ工程、Ｂ工程、Ｃ工程では、析出した固体をそのまま濾取し、洗浄、乾燥、必要に応じて極性溶媒によるスラッジングまたは再結晶等の精製を行う。Ｄ工程、Ｅ工程、Ｆ工程、Ｇ工程では、析出した固体をそのまま濾取、または蒸留等で溶媒を留去後固体を濾取し、洗浄、乾燥、必要に応じて極性溶媒によるスラッジング等の精製を行う。
【００７１】
また、本発明の方法により得られた式（７）のキノリン化合物は、そのＸ線回折スペクトルを測定すると、ブラッグ角（２θ）１２．８°、１５．２°１８．３°、２２．５°、２５°、２８．４°に少なくともピークを有する結晶として得られる。とりわけ、１５．２°のピークに対する１２．８°のピーク強度比が、０．７以下である結晶は、Ｒｕｍｏｇｅｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ（登録商標）に対して、固体状態での輝度が１８０％以上になる優れた発光性のある化合物となる。
エレクトロルミネッセンス表示素子の作製方法としては、特開昭５８−１９４３９３号公報；Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，５１（１２），９１３（１９８７）；Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６５（７）３６１０（１９８９）；Ｊａｐａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｙｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｖｏｌ  ２７  Ｎｏ．２  Ｌ２６９（１９８８）、ｖｏｌ  ２７  Ｎｏ．４  Ｌ７１３（１９８８）等の公知の文献記載の方法が利用できる。
【００７２】
詳しくは、ＥＬ素子は図９に示すように、ガラス基板（ＩＴＯガラス基板）５上に陽極４、有機化合物からなる正孔輸送層３、本発明に係る化合物からなる発光層２および金属陰極１が順に積層された構造を有している。更に、図１０に示す様に、ガラス基板（ＩＴＯガラス基板）５上に陽極４、有機化合物からなる正孔輸送層３、本発明に係る化合物からなる発光層２、電子輸送層６および金属陰極１が順に積層された構造を有していてもよい。上記素子構造に於ける正孔輸送層３に使用可能な正孔輸送性化合物は、少なくとも１つの芳香族環を結合する第３級アミンを含む化合物、または正孔輸送性を有する他の低分子化合物あるいは高分子体であり、好ましくは、一般式（８）または（９）で示されるトリフェニルアミン誘導体、またはピラゾリン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリシランである。その使用に際しては、単独または２種類以上の化合物を混合してもよい。
【００７３】
【化２５】
0003808175.tif 000011
〔式（８）中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｋは各々独立に０、１、２、３の整数を表す。〕
【化２６】
0003808175.tif 000012
〔式（９）中、ｌ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ、ｚ、α、βは、各々独立に０又は１を表し、Ａは環を形成しない２個の水素原子、−ＣＨ2 −、−Ｃ（ＣＨ3)2 −を表す。〕
正孔輸送層、発光層、陰極及び陽極は、蒸着、スパッタリング、塗布等の一般的に知られている薄膜形成方法により、作成することが出来る。
【００７４】
本発明のＥＬ素子に使用する陽極材料としては、仕事関数がなるべく大きなものがよく、例えば、ニッケル、金、白金、パラジウム、セレン、イリジウムやこれらの合金、あるいは、酸化錫、ＩＴＯ、ヨウ化銅が好ましい。ポリフェニレンスルフィドあるいはポリアニリン等の伝導電性ポリマーも使用出来る。
一方、陰極材料としては、仕事関数の小さなもの、銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、インジウム、クロム、リチウムあるいはこれらの合金が用いられる。また、陽極又は陰極として用いられる材料の内一方は、素子の発振波長領域において透過率が５０％以上である事が望ましい。
本発明に使用する透明電極基板としては、ガラス、プラスチックフィルムが用いられる。
【００７５】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はその要旨を越えないかぎり、以下の実施例に限定されるものではない。
実施例１：Ａ工程実験例
フタルイミド１５ｇ（０．１０２モル）、キナルジン７．３ｇ（０．０５１モル）、塩化亜鉛２９．２ｇ（０．２１４モル）とＮ，Ｎ‐ジメチルアニリン１５０ｇを反応器にいれ、窒素通気下に１５０℃で、３０時間加熱した。１０％塩酸水溶液６５０ｇに排出し、９５℃で１時間処理した。５０℃に冷却後、濾過、水洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥し、式（７）のキノリン化合物を１１．９ｇ得た。純度は１００％であった。キナルジンに対する純度換算収率は８６％であった。
【化２７】
0003808175.tif 000013
この化合物（７）のＸ線回折スペクトルを図１に示す。ブラック角１２．８°のピークの強度比は、１５．２°に対して０．４６であった。この結晶を固体状態のまま、蛍光光度計（ヘキサ科学製ＵＭ−２Ｓ型）で測定するとＲｕｍｏｇｅｎＢｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗに対する輝度は２２０％であった。
【００７６】
実施例２：Ａ工程実験例
フタルイミド１５ｇ（０．１０２モル）、キナルジン１３．２ｇ（０．０９２３モル）、塩化亜鉛２９．２ｇ（０．２１４モル）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン１５０ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１５０℃で、３０時間加熱した。１０％塩酸水溶液６５０ｇに排出し、９５℃で１時間処理した。５０℃に冷却後、濾過、水洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥して式（７）のキノリン化合物を１９．４ｇ得た。純度は１００％であった。フタルイミドに対する純度換算収率は７７％であった。
この化合物のＸ線回折スペクトルを図２に示す。ブラック角１２．８°のピークの強度比は、１５．２°に対して０．４９であった。この結晶を固体状態のまま、蛍光光度計（ヘキサ科学製ＵＭ−２Ｓ型）で測定するとＲｕｍｏｇｅｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗに対する輝度は２０４％であった。
【００７７】
実施例３：Ａ工程実験例
フ夕ルイミド１５ｇ（０．１０２モル）、キナルジン１４．６ｇ（０．１０２モル）、塩化亜鉛２９．２ｇ（０．２１４モル）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン１５０ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１５０℃で、３０時間加熱した。１０％塩酸水溶液６５０ｇに排出し、９５℃で１時間処理した。５０℃に冷却後、固体部分を濾取、水洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥し、式（７）のキノリン化合物を２０．９ｇ得た。純度は１００％であった。フタルイミドに対する純度換算収率は７５％であった。
この化合物のＸ線回折スペクトルを図３に示す。ブラック角１２．８°のピークの強度比は、１５．２°に対して０．７０であった。この結晶を固体状態のまま、蛍光光度計（ヘキサ科学製ＵＭ−２Ｓ型）で測定するとＲｕｍｏｇｅｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗに対する輝度は１８９％であった。
【００７８】
実施例４：Ａ工程実験例
（製造例−４）
フタルイミド５０．０ｇ（０．３４０モル）、キナルジン９７．３ｇ（０．６８０モル）、塩化亜鉛９９．０ｇ（０．７２６モル）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン４００ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１８０℃で、１０時間加熱した。１０％塩酸水溶液１７２０ｇ中に排出し、１００℃で１時間処理した。室温に冷却後、濾過、メタノール２０００ｇで洗浄した。濾塊を取り出し、メタノール５００ｇでスラッジをし、濾過、メタノールで洗浄、取り出した。続いて、乾燥し、式（７）のキノリン化合物を８０ｇ得た。純度は９７％であった。フタルイミドに対する純度換算収率は８４％であった。
この式（７）の化合物のＸ線回折スペクトルを図４に示す。ブラッグ角１２．８°のピークの強度比は、１５．２°に対して０．６９であった。この結晶を固体状態のまま、蛍光光度計（ヘキサ科学製ＵＭ−２Ｓ型）で測定するとＲｕｍｏｇｅｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗに対する輝度は１８０％であった。
【００７９】
（ＥＬ素子製造例−４）
ＩＴＯガラス基板上に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジトリル−１，１’−ジフェニル−４，４’−ジアミンを５×１０-5ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層する。次いで、式（７）のキノリン化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧１９Ｖ、電流密度２６ｍＡ／ｃｍ2 においては、安定で、輝度１１５Ｃｄ／ｍ2 の緑色の発光であった。
（蛍光材料製造例−４）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに上記式（７）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを蛍光光度計（日本分光製ＦＰ−７７０）で測定すると、入ｅｍ＝５２３ｎｍであった。
【００８０】
実施例５：Ａ工程実験例
フタルイミド１０ｇ（０．０６８モル）、キナルジン１８．７４ｇ（０．１３１モル）、塩化亜鉛２３．６ｇ（０．１７３モル）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン２５０ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１５０℃で１０時間加熱した。１０％塩酸水溶液６４０ｇに排出し、１００℃で１時間処理した。４０℃に冷却後、固体部分を濾取、水洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥し、式（７）のキノリン化合物を１５．０ｇ得た。純度は９８．２％であった。フタルイミドに対する純度換算収率は８０％であった。
【００８１】
実施例６：Ａ工程実験例
６−イソプロピルキナルジン９２．５ｇ（０．４９７モル）と３−ニトロフタルイミド４８ｇ（０．２５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアニリン３８４ｇに懸濁させ、塩化亜鉛７２．３ｇ（０．５３モル）を加えた後、窒素通気下に１５０℃で１０時間加熟した。１０％塩酸水溶液１２６５ｇに排出し、１００℃で１時間処理した。４０℃に冷却後、固体部分を濾取、水洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥し、式（１０）のキノリン化合物を６９．６ｇ得た。純度は９７％であった。３−ニトロフタルイミドに対する純度換算収率は７５％であった。
【化２８】
0003808175.tif 000014
ＭＳスペクトルの結果は以下のとおりてあった。
ｍ／ｅ＝３５８
元素分折の結果は以下のとおりであった。
0003808175.tif 000015
【００８２】
（ＥＬ素子製造例−６）
ＩＴＯガラス基板上に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジトリル−１，１’−ジフェニル−４，４’−ジアミンを５×１０-5ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層する。次いで、式（１０）のキノリン化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧１９Ｖ、電流密度２６ｍＡ／ｃｍ2 においては、安定で、輝度１１５Ｃｄ／ｍ2 の緑色の発光であった。
（蛍光材料製造例−６）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに上記式（１０）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを蛍光光度計（日本分光製ＦＰ−７７０）で測定すると、３７５ｎｍで励起させることにより５２０ｎｍでの発光が確認された。
【００８３】
実施例７
（製造例−７）：Ａ工程実験例
５−フェニルキナルジン２１９ｇ（１．００モル）、３，４，５，６−テトラクロロフタルイミド１４３ｇ（０．５０２モル）、臭化亜鉛１３６ｇ（０．６０４モル）とＮ，Ｎ−ジエチルアニリン２０００ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１８０℃で、１５時間加熟した。５％塩酸水溶液１０リットル中に排出し、８０℃で２時間処理した。室温に冷却後、濾過、メタノール４０００ｇで洗浄した。濾塊を取り出し、メタノール１０００ｇでスラッジをし、濾過、メタノールで洗浄、取り出した。続いて、乾燥し、下記式（１１）の化合物を２２０ｇ得た。純度は９８％であった。純度換算収率は８８％であった。
【化２９】
0003808175.tif 000016
ＭＳスペクトルの結果は以下のとおりであった。
ｍ／ｅ＝４８６
元素分析の結果は以下のとおりであった。
0003808175.tif 000017
【００８４】
（ＥＬ素子製造例−７）
ＩＴＯ透明電極を形成したガラス基板上に、１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサノンを５０ｎｍ膜厚に積層した。その後、式（１１）のキノリン化合物を５０ｎｍ膜厚に積層した。続いて、２，２’，６，６’−テトラメチルジフェノキノンを５０ｎｍの膜厚で積層した。インジウムを１５０ｎｍに積層し背面電極を作成した。８Ｖの電圧をかけたところ、２８０Ｃｄ／ｍ2 の発光が得られた。
（蛍光材料製造例−７）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１１）のキノリン化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを蛍光光度計（日本分光製ＦＰ−７７０）で測定すると、３８３ｎｍで励起させることにより５３０ｎｍでの発光が確認された。
【００８５】
実施例８：Ａ工程実験例
（製造例−８）
６−Ｎ, Ｎ−ジトリルアミノキナルジン３３８ｇ（１．００モル）、３−エトキシフタルイミド９５ｇ（０．５０８モル）、酢酸亜鉛１８３ｇ（０．９９７モル）とｏ−ジクロロベンゼン６０００ｇ、イソキノリン２００ｇを反応器にいれ、窒素通気下に１８０℃で、１５時間加熱した。５％塩酸水溶液１０リットル中に排出し、８０℃で２時間処理した。室温に冷却後、濾過、メタノール５０００ｇで洗浄した。濾塊を取り出し、メタノール４０００ｇでスラッジをし、濾過、メタノールで洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥し、式（１２）の化合物を２００ｇ得た。純度は９８％であった。純度換算収率は７７％であった。
【化３０】
0003808175.tif 000018
ＭＳスペクトルの結果は以下のとおりであった。
ｍ／ｅ＝４８７
元素分析の結果は以下のとおりであった。
0003808175.tif 000019
【００８６】
（ＥＬ素子製造例−８）
ＩＴＯガラス基板上に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（４−ジトリルアミノフェニル）−１，４−フェニレンジアミンを５×１０-6ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層した。次いで、式（１２）のキノリン化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧９Ｖにおいては、安定で、輝度１１８Ｃｄ／ｍ2 の発光であった。
（蛍光材料製造例−８）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１２）のキノリン化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを蛍光光度計（日本分光製ＦＰ−７７０）で測定すると、３８０ｎｍで励起させることにより５３０ｎｍでの発光が確認された。
【００８７】
実施例９〜１５：Ａ工程実験例
表１に示すフタルイミド系化合物とキナルジン系化合物を用いて実施例１と同様に反応を行った。得られたキノリン誘導体の純度換算収率を表１に示す。
【００８８】
【表１】
0003808175.tif 000020
【００８９】
実施例１６
（製造例‐１６）：Ｄ工程実験例
キナルジン１４３ｇ（１．００モル）、フタルイミド７８ｇ（０．５３１モル）、塩化亜鉛１３６．３ｇ（１．００モル）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２０００ｇを反応器にいれ、窒素通気下に１８０℃で、１５時間加熱した。室温に冷却後、濾過、メタノール４０００ｇで洗浄した。濾塊を取り出し、ＤＭＦ３０００ｇでスラッジをし、濾過、メタノールで洗浄、取り出した。続いて、乾燥し、式（１３）の化合物を１２０ｇ得た。純度は９７％であった。純度換算収率は６５％であった。
【化３１】
0003808175.tif 000021
化合物（１３）のＮＭＲチャートを図５に示す。
また、元素分折の結果は、以下のとおりであった。
0003808175.tif 000022
【００９０】
（ＥＬ素子製造例−１６）
ｌＴＯガラス基板上に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジトリル−１，１’−ジフェニル−４，４’−ジアミンを５×１０-5ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層する。次いで、式（１３）の化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧１９Ｖ、電流密度２６ｍＡ／ｃｍ2 においては、安定で、輝度１１５Ｃｄ／ｍ2 の発光であった。
（紫外線吸収材料製造例−１６）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１３）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを分光光度計（島津製ＵＶ−３１００ＰＣ）で３８０ｎｍにおける紫外線透過率を測定すると、２％であった。
【００９１】
実施例１７
（製造例−１７）：Ｄ工程実験例
５−フェニルキナルジン２１９ｇ（１．００モル）、３，４，５，６−テトラクロロフタルイミド１４２．５ｇ（０．５モル）、臭化亜鉛１３６ｇ（０．６０４モル）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２０００ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１８０℃で、１５時間加熱した。室温に冷却後、濾過、メタノール４０００ｇで洗浄した。濾塊を取り出し、ＤＭＦ３０００ｇでスラッジをし、濾過、メタノールで洗浄、取り出した。続いて、乾燥し、式（１４）の化合物を２００ｇ得た。純度は９７％であった。純度換算収率は６５％であった。
【化３２】
0003808175.tif 000023
また、元素分折の結果は、以下のとおりであった。
0003808175.tif 000024
【００９２】
（ＥＬ素子製造例−１７）
ＩＴＯ透明電極を形成したガラス基板上に、１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサノンを５０ｎｍ膜厚に積層した。その後、式（１４）の化合物を５０ｎｍ膜厚に積層した。続いて、２，２’，６，６’−テトラメチルジフェノキノンを５０ｎｍの膜厚で積層した。インジウムを１５０ｎｍに積層し背面電極を作成した。８Ｖの電圧をかけたところ、３００Ｃｄ／ｍ2 の発光が得られた。
（紫外線吸収材料製造例−１７）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１４）の化合物をを加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを分光光度計（島津製ＵＶ−８１００ＰＣ）で３８０ｎｍにおける紫外線透過率を測定すると、４％であった。
【００９３】
実施例１８
（製造例−１８）：Ｄ工程実験例
６−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノキナルジン３３８ｇ（１．００モル）、３−エトキシフタルイミド９５ｇ（０．５モル）、塩化亜鉛１３６．３ｇ（１．００モル）、ｏ−ジクロロベンゼン６０００ｇとイソキノリン２００ｇを反応器に入れ、窒素通気下に１３０℃で、４５時間加熱した。５％塩酸水溶液１０リットル中に排出し、８０℃で２時間処理した。室温に冷却後、濾過、メタノール５０００ｇで洗浄した。濾塊を取り出し、メタノール４０００ｇでスラッジをし、濾過、メタノールで洗浄した。濾塊を取り出し、乾燥し、式（１５）の化合物を１６０ｇ得た。純度は９８％であった。純度換算収率は５４％であった。
【化３３】
0003808175.tif 000025
また、元素分折の結果は、以下のとおりであった。
0003808175.tif 000026
【００９４】
（ＥＬ素子製造例−１８）
ＩＴＯガラス基坂上に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（４−ジトリルアミノフェニル）−１，４−フェニレンジアミンを５×１０-6ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層した。次いで、式（１５）の化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧９Ｖにおいては、安定で、輝度１２０Ｃｄ／ｍ2 の発光であった。
（紫外線吸収材料製造例−１８）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１５）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを分光光度計（島津製ＵＶ‐３１００ＰＣ）で３７０ｎｍにおける紫外線透過率を測定すると、３％であった。
【００９５】
実施例１９：Ｆ工程実験例
式（１３）の化合物２０ｇ（０．０２９５モル）をピリジン２００ｇに添加し、１１０〜１１５℃にて８時間加熱攪拌した。冷却後、結晶を濾別し、その後、水洗を十分にした。結晶は乾燥器で乾燥した。式（１６）の化合物を１４．９ｇ得た。
【化３４】
0003808175.tif 000027
この式（１６）の化合物のＮＭＲチャートを図６に，ＩＲスペクトルを図７に、ＭＳスペクトルを図８に示す。
また、元素分祈の結果は、以下のとおりであった。
0003808175.tif 000028
【００９６】
（ＥＬ素子製造例−１９）
ＩＴＯガラス基板上に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジトリル−１，１−ジフェニル−４，４’−ジアミンを５×１０-5ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層する。次いで、式（１６）の化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧１９Ｖ、電流密度２６ｍＡ／ｃｍ2 においては、安定で、輝度１１５Ｃｄ／ｍ2 の発光であった。
（紫外線吸収材料製造例−１９）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１６）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを分光光度計（島津製ＵＶ−３１００ＰＣ）で３８０ｎｍにおける紫外線透過率を測定すると、５％であった。
【００９７】
実施例２０：Ｆ工程実験例
式（１４）の化合物２０ｇ（０．０１６７モル）をγ−ピコリン２００ｇに添加し、１１０〜１１５℃にて８時間加熱攪拌した。冷却後、結晶を濾別し、その後、水洗を十分にした。結晶は乾燥器で乾燥した。式（１７）の化合物を１３．５ｇ得た。
【化３５】
0003808175.tif 000029
ＭＳスペクトルの結果は以下のとおりであった。
ｍ／ｅ＝ｌ０３５
元素分折の結果は以下のとおりであった。
0003808175.tif 000030
【００９８】
（ＥＬ素子製造例−２０）
ＩＴＯ透明電極を形成したガラス基板上に、１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサノンを５０ｎｍ膜厚に積層した。その後、式（１７）の化合物を５０ｎｍ膜厚に積層した。続いて、２，２’，６，６’−テトラメチルジフェノキノンを５０ｎｍの膜厚で積層した。インジウムを１５０ｎｍに積層し背面電極を作成した。８Ｖの電圧をかけたところ、３００Ｃｄ／ｍ2 の発光が得られた。
（紫外線吸収材料製造例−２０）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１７）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを分光光度計（島津製ＵＶ−３１００ＰＣ）で３７０ｎｍにおける紫外線透過率を測定すると、４％であった。
【００９９】
実施例２ｌ
（製造例２ｌ）
式（１５）の化合物２０ｇ（０．０１７３モル）をγ−ピコリン２００ｇに添加し、１１０〜１１５℃にて８時間加熱攪拌した。冷却後、結晶を濾別し、その後、水洗を十分にした。結晶は乾燥器で乾燥した。式（１８）の化合物を１３．５ｇ得た。
【化３６】
0003808175.tif 000031
ＭＳスペクトルの結果は以下のとおりであった。
ｍ／ｅ＝１０３８
元素分折の結果は以下のとおりであった。
0003808175.tif 000032
【０１００】
（ＥＬ素子製造例−２１）
ＩＴＯガラス基板上に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（４−ジトリルアミノフェニル）−１，４−フェニレンジアミンを５×１０-6ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加熱法により５０ｎｍ積層した。次いで、式（１８）の化合物を５０ｎｍ積層し、更に、６×１０-5ｔｏｒｒの真空下アルミニウム電極を１５０ｎｍ蒸着した。この素子のＩＴＯ側にプラス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のＩＴＯガラス基板面からの発光を観察した。電圧９Ｖにおいては、安定で、輝度１２０Ｃｄ／ｍ2 の発光であった。
（紫外線吸収材料製造例−２ｌ）
ポリエチレンテレフタレート樹脂パウダーに式（１８）の化合物を加え、２８０℃で熱プレスし、冷却し、厚さ０．５ｍｍのシートを作成した。このシートを分光光度計（島津製ＵＶ−３１００ＰＣ）で３７５ｎｍにおける紫外線透過率を測定すると、２％であった。
【０１０１】
実施例２２：Ｂ工程実験例
式（１３）の化合物２５ｇ（０．０３６９モル）を１０％塩酸水溶液１０００ｇに加え、９５℃で１時間加熟攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（７）の化合物１７ｇを得た。純度は９９％であった。
【０１０２】
実施例２３：Ｂ工程実験例
式（１４）の化合物２５ｇ（０．０２０９モル）を１０％塩酸水溶液１０００ｇに加え、９５℃で１時間加熱攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（１１）の化合物１６ｇを得た。純度は９８％であった。
【０１０３】
実施例２４：Ｂ工程実験例
式（１５）の化合物２５ｇ（０．０２１６モル）を１０％塩酸水溶液８００ｇに加え、９５℃で１時間加熱攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（１２）の化合物１８ｇを得た。純度は９７％であった。
【０１０４】
実施例２５：Ｃ工程実験例
式（１６）の化合物３５ｇ（０．０５７６モル）を１０％塩酸水溶液１２００ｇに加え、９５℃で１時間加熱攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（７）の化合物２９ｇを得た。純度は１００％であった。
【０１０５】
実施例２６：Ｃ工程実験例
式（１７）の化合物３５ｇ（０．０３３８モル）を１０％塩酸水溶液１３２０ｇに加え、９５℃で１時間加熱攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（１１）の化合物３１ｇを得た。純度は９９％であった。
【０１０６】
実施例２７：Ｃ工程実験例
式（１８）の化合物３５ｇ（０．０３２２モル）を１０％塩酸水溶液９６０ｇに加え、９５℃で１時間加熱攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（１２）の化合物３２ｇを得た。純度は９９％であった。
【０１０７】
実施例２８：Ｅ工程実験例
式（７）の化合物２０ｇ（０．０７３５モル）と塩化亜鉛２５．２ｇ（０．１８５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２００ｇに加え、１８０℃で７時間加熱攪拌した。冷却後、メタノール８００ｍｌに加え、室温で１時間攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（１３）の化合物１５．５ｇを得た。純度は９８％であった。
【０１０８】
実施例２９：Ｅ工程実験例
式（１２）の化合物２０ｇ（０．０３９１モル）と塩化亜鉛５．６ｇ（０．０４１１モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２００ｇに加え、１５０℃で２７時間加熱攪拌した。冷却後、メタノール８００ｍ１に加え、室温で１時間攪拌した。濾塊を取り出し、水洗浄後、乾燥させると式（１５）の化合物２８．９ｇを得た。純度は９９％であった。
【０１０９】
実施例３０：Ｇ工程実験例
フタルイミド５０ｇ（０．３４モル）、キナルジン９７．３ｇ（０．６８モル）、塩化亜鉛９９ｇ（０．７３モル）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン４００ｇを反応器にいれ、窒素通気下に１８０℃で１０時間加熱した。ピリジン１７２０ｇ中に排出し、１１０℃で９時間処理した。室温に冷却後、濾過、水洗浄後、乾燥させると式（１６）の化合物９５ｇ得た。純度は９９％であった。
【０１１０】
実施例３１：Ｇ工程実験例
５−フェニルキナルジン２１９ｇ（１モル）、３，４，５，６−テトラクロロフタルイミド１４３ｇ（０．５モル）、臭化亜鉛１３６ｇ（０．６０４モル）とＮ，Ｎ−ジエチルアニリン２０００ｇを反応器にいれ、窒素通気下に１８０℃で１５時間加熱した。冷却後、γ−ピコリン１００ｇに排出し、１１０℃で６時間処理した。室温に冷却後、水洗浄後、乾燥させると式（１７）の化合物２９８ｇを得た。純度は９９％であった。
【０１１１】
比較例１
実施例１の化合物（７）の代わりに、下記式の化合物を積層したＥＬ素子の発光強度は、８０Ｃｄ／ｍ2 であった。
【化３７】
0003808175.tif 000033
【０１１２】
【発明の効果】
本発明により、一般式（２）、（３）および（４）の化合物、ならびにこれらの互変異性体がＥＬ材料として強い発光強度を示す色素として、また一般式（２）および（３）、ならびにこれらの互変異性体が紫外線吸収材料として４００ｎｍ以下に吸収を有する特異的な色素として、さらに一般式（４）の化合物および互変異性体が蛍光材料として強い発光強度を示す優れた色素として提供される。また、本発明の方法により、これらの有用な色素が一般式（５）のキノリン誘導体および一般式（６）から直接、またこれらから得られる一般式（４）を経て、互いに関連のある製造プロセスにより製造できる。
すなわち、本発明はＥＬ材料、紫外線吸収材料および蛍光材料として優れた色素、ならびにこれらを製造する有用な製造方法を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られた式（７）のキノリン化合物のＸ線回折スペクトルである。
【図２】実施例２で得られた式（７）のキノリン化合物のＸ線回折スペクトルである。
【図３】実施例３で得られた式（７）のキノリン化合物のＸ線回折スペクトルである。
【図４】実施例４で得られた式（７）のキノリン化合物のＸ線回折スペクトルである。
【図５】実施例１６で得られた式（１３）の塩素化亜鉛錯体のＮＭＲチャートである。
【図６】実施例１８で得られた式（１６）の亜鉛錯体のＮＭＲチャートである。
【図７】実施例１８で得られた式（１６）の亜鉛錯体のＩＲスペクトルである。
【図８】実施例１８で得られた式（１６）の亜鉛錯体のＭＳスペクトルである。
【図９】本発明の化合物を適用するＥＬ素子の一つの態様を示す図である。
【図１０】本発明の化合物を適用するＥＬ素子の他の態様を示す図である。
【符号の説明】
１  金属陰極
２  発光層
３  正孔輸送層
４  陽極
５  ガラス基板（ＩＴＯガラス基板）
６  電子輸送層
【図１】
0003808175.tif 000046
【図２】
0003808175.tif 000047
【図３】
0003808175.tif 000048
【図４】
0003808175.tif 000049
【図５】
0003808175.tif 000050
【図６】
0003808175.tif 000051
【図７】
0003808175.tif 000052
【図８】
0003808175.tif 000053
【図９】
0003808175.tif 000054
【図１０】
0003808175.tif 000055