(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隙を介してシール材によって対向して貼り合わされた第１および第２の基板の間には前記シール材によって囲まれた電気光学物質封入領域内に電気光学物質が封入され、前記第１および前記第２の基板の互いに同一方向に位置する各基板辺付近において前記第１の基板には第１の端子形成領域が形成され、前記第２の基板には第２の端子形成領域が形成され、前記第１の端子形成領域および前記第２の端子形成領域で前記第１および前記第２の基板間の導通が成されている電気光学パネルにおいて、
前記第１の基板には、前記第１の端子形成領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第１の入力用端子と、該複数の第１の入力用端子の形成領域に隣接する領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第２の入力用端子と、該第２の入力用端子から前記第２の基板の前記第２の端子形成領域と平面的に重なる位置まで配線された第１の基板間導通用端子と、前記第１の入力用端子から前記電気光学物質封入領域に配線された複数列の第１の電極パターンと、がそれぞれ前記第２の基板と対向する側の面上に形成され、
前記第２の基板には、前記第２の端子形成領域において、前記第１の基板間導通用端子及び前記シール材と平面的に重なる位置に対応して配置されるとともに、前記シール材に含有されてなる導通剤を介して前記第１の基板間導通用端子と導電接続されてなる複数の第２の基板間導通用端子と、該第２の基板間導通用端子から配線されるとともに、前記電気光学物質封入領域内で前記第１の電極パターンに対して交差する方向に延びた複数列の第２の電極パターンと、がそれぞれ前記第１の基板との対向面上に形成され、
前記第１の基板には、前記第１の入力用端子の形成領域と前記第２の入力用端子の形成領域との境界領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある絶縁分離領域が当該入力用端子の１ピッチ分よりも広い幅寸法をもって形成されてなるとともに、前記絶縁分離領域に前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第１のダミー端子が形成されてなり、且つ前記シール材の形成領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子が形成されてなり、
前記第２のダミー端子は、前記シール材の形成領域のうち、前記第１の電極パターンの形成領域と、前記第１の電極パターンの形成領域よりも外側に位置する前記第１の基板間導通用端子の形成領域と、の間に相当する領域に形成されていることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項２】
所定の間隙を介してシール材によって対向して貼り合わされた第１および第２の基板の間には前記シール材によって囲まれた電気光学物質封入領域内に電気光学物質が封入され、前記第１および前記第２の基板の互いに同一方向に位置する各基板辺付近において前記第１の基板には第１の端子形成領域が形成され、前記第２の基板には第２の端子形成領域が形成され、前記第１の端子形成領域および前記第２の端子形成領域で前記第１および前記第２の基板間の導通が成されている電気光学パネルにおいて、
前記第１の基板には、前記第１の端子形成領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第１の入力用端子と、該複数の第１の入力用端子の形成領域に隣接する領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第２の入力用端子と、該第２の入力用端子から前記第２の基板の前記第２の端子形成領域と平面的に重なる位置まで配線された第１の基板間導通用端子と、前記第１の入力用端子から前記電気光学物質封入領域に配線された複数列の第１の電極パターンと、がそれぞれ前記第２の基板と対向する側の面上に形成され、
前記第２の基板には、前記第２の端子形成領域において、前記第１の基板間導通用端子及び前記シール材と平面的に重なる位置に対応して配置されるとともに、前記シール材に含有されてなる導通剤を介して前記第１の基板間導通用端子と導電接続されてなる複数の第２の基板間導通用端子と、該第２の基板間導通用端子から配線されるとともに、前記電気光学物質封入領域内で前記第１の電極パターンに対して交差する方向に延びた複数列の第２の電極パターンと、がそれぞれ前記第１の基板との対向面上に形成され、
前記第１の基板には、前記第１の入力用端子の形成領域と前記第２の入力用端子の形成領域との境界領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある絶縁分離領域が当該入力用端子の１ピッチ分よりも広い幅寸法をもって形成されてなるとともに、前記絶縁分離領域に前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第１のダミー端子が形成されてなり、
前記第２の基板には、前記シール材の形成領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子が形成されてなり、
前記第２のダミー端子は、前記シール材の形成領域のうち、前記第１の電極パターンの形成領域と、前記第１の電極パターンの形成領域よりも外側に位置する前記第２の基板間導通用端子の形成領域と、の間に相当する領域に形成されていることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項３】
請求項１または２において、前記第１のダミー端子は、前記第１の入力用端子及び前記第２の入力用端子と等しいピッチで形成されてなることを特徴とする電気光学パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学物質表示装置に用いる電気光学パネルに関するものである。さらに詳しくは、電気光学パネルを構成する各基板における電極構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図９は、従来の電気光学パネルの分解斜視図である。図１０および図１１はそれぞれ、図９に示す電気光学パネルを構成する一方の基板である第１の基板１０の左下方に形成した端子を拡大して示す平面図、および図９に示す電気光学パネルを構成する他方の基板である第２の基板２０の左下方に形成した端子を拡大して示す平面図である。図１２は、図１０に示す第１の基板１０と、図１１に示す第２の基板２０とを貼り合わせた電気光学パネルの左下方に位置する基板間導通部分を拡大して示す平面図である。
【０００３】
電気光学パネルのうち、電気光学物質として液晶を用いたパッシブマトリクスタイプの液晶表示装置に用いる電気光学パネルは、図９に示すように、所定の間隙を介してシール材３０によって貼り合わされた一対の基板間には、シール材３０によって囲まれた電気光学物質封入領域３５が形成され、この電気光学物質封入領域３５内には液晶などといった電気光学物質（図示せず。）が封入される。
【０００４】
このような構成の電気光学パネル１では、外部からの信号入力および第１の基板１０と第２の基板２０の基板間導通のいずれもが、第１の基板１０および第２の基板２０において同一方向に位置する各基板辺１０１、２０１付近で第１の基板１０および第２の基板２０のそれぞれに形成されている第１の端子形成領域１１および第２の端子形成領域２１で行われる。従って、フレキシブル基板（図示せず。）などが接続される第１の基板１０において、第１の端子形成領域１１の基板辺１０１に近い部分は、第２の基板２０から張り出した部分１５に形成され、表面が開放（第２の基板２０と対向されていない）状態にある。これに対して、第１の端子形成領域１１の両端部のうち電気光学物質封入領域３５の側に位置する部分（第２の外部入力用端子８２の形成部分）は、第２の基板２０の側の対向面に形成された第２の基板間導通用端子７０との基板間導通用に用いられるので、第２の基板２０との重なり部分に対応して第２の基板２０と対向される側の表面に形成されている。また、第２の基板２０において、第２の端子形成領域２１は、第１の基板１０の側との基板間導通に用いられるので、第１の基板１０との重なり部分の対向面に対応して形成されている。
【０００５】
第１の基板１０には、基板辺１０１に沿って形成されている第１の端子形成領域１１の中央領域には同様に、第２の基板２０と対向される側の表面上に第１の外部入力用端子８１が形成され、この第１の外部入力用端子８１からは、同基板で対向する基板辺１０２に向かって複数列の画素駆動用の第１の電極パターン４０が延びて配線形成されている。また、第１の端子形成領域１１において、第１の外部入力用端子８１の外側（第１の端子形成領域１１の両端部）に相当する領域には、基板辺１０１に沿って第１の外部入力用端子８１と同様、第２の基板２０と対向される側の表面上に複数の第２の外部入力用端子８２が配列して形成されている。これらの第２の外部入力用端子８２からは、第２の基板２０の第２の端子形成領域２１と重なる位置まで第１の基板間導通用端子６０が延びて配線形成されている。第１の電極パターン４０、第１の外部入力用端子８１、第２の外部入力用端子８２、および第１の基板間導通用端子６０は、いずれもＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ／透明導電膜）などによって第２の基板２０と対向される側の表面上に形成されている。
【０００６】
これに対して、第２の基板２０では、第２の端子形成領域２１のうち、第１の基板１０上の第１の基板間導通用端子６０に重なる位置には基板辺２０１に沿って複数の第２の基板間導通用端子７０が形成されている。これらの第２の基板間導通用端子７０からは、平面的に第１の電極パターン４０の形成領域の両側に相当する領域を回り込んで電気光学物質封入領域３５内で第１の電極パターン４０と交差する複数列の画素駆動用の第２の電極パターン５０が延びて配線形成されている。第２の電極パターン５０、および第２の基板間導通用端子７０も、ＩＴＯ膜などの透明電極によって形成されている。
【０００７】
このように、第２の基板２０では、第１の基板１０に形成されている第１の電極パターン４０の形成領域を平面的に避けてその両側に相当する領域を回り込むように第２の電極パターン５０を第２の基板間導通用端子７０から延ばす必要があるため、図１０に示すように、第１の基板１０では、第２の外部入力用端子８２から基板辺１０１と同基板で対向する基板辺１０２に向けて第１の基板間導通端子６０が直線的に延びているが、図１１に示すように、第２の基板２０では、基板辺２０１と同基板で対向する基板辺２０２に向けて直線的に延びている第２の基板間導通用端子７０の端からは外側に向かって斜めに延びる第２の電極パターン５０が形成される。
【０００８】
このように構成した第１の基板１０および第２の基板２０については、図１０に示すように第１の基板１０にシール材３０を形成し、あるいは図１１に示すように、第２の基板２０にシール材３０を形成し、しかる後に、このシール材３０によって第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせる。その結果、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との交差部分によって画素がマトリクス状に形成される（図９参照。）。ここで、シール材３０には導通剤が配合されているので、シール材３０を介して対向配置されている第１の基板間導通用端子６０と第２の基板間導通用端子７０とは、シール材３０に配合されている導通剤によって電気的に接続する。
【０００９】
従って、第１の基板１０および第２の基板２０の双方にフレキシブル配線基板などを接続しなくても、一方の基板（第１の基板１０）上に各端子が一括して基板辺１０１に沿って配列されるので、第１の基板１０の第１の外部入力用端子８１および第２の外部入力用端子８２に対してフレキシブル配線基板などを接続するだけで、第１の外部入力用端子８１を介して第１の電極パターン４０に画像データ信号を供給することができ、かつ、第２の外部入力用端子８２、第１の基板間導通用端子６０、導通剤および第２の基板間導通用端子７０を介して、走査信号を第２の電極パターン５０に供給することができる。
【００１０】
このように構成した電気光学パネル１については、第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２にフレキシブル配線基板を接続する前に、第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２に対してそれぞれ検査電極を当てて所定の信号を入力し、点灯検査を行う。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の電気光学パネル１のままで、画素数を増やしていくと、第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２が増える分、第１の外部入力用端子８１の形成領域と第２の外部入力用端子８２の形成領域との境界領域にかなり狭い隙間しかなくなるので、点灯検査を行う際に簡単な構造の検査治具では第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２のそれぞれに検査電極を押し当てることが困難になる。すなわち、第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２に検査電極を押し当てた際に、わずかな位置ずれによって、第１の外部入力用端子８１の側と第２の外部入力用端子８２の側とが短絡してしまい、点灯検査を行えなくなる。
【００１２】
そこで、本発明の課題は、画素数の増大しても簡単な検査治具で点灯検査を行うことのできる電気光学パネルを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学パネルは、所定の間隙を介してシール材によって対向して貼り合わされた第１および第２の基板の間には前記シール材によって囲まれた電気光学物質封入領域内に電気光学物質が封入され、前記第１および前記第２の基板の互いに同一方向に位置する各基板辺付近において前記第１の基板には第１の端子形成領域が形成され、前記第２の基板には第２の端子形成領域が形成され、前記第１の端子形成領域および前記第２の端子形成領域で前記第１および前記第２の基板間の導通が成されている電気光学パネルにおいて、前記第１の基板には、前記第１の端子形成領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第１の入力用端子と、該複数の第１の入力用端子の形成領域に隣接する領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第２の入力用端子と、該第２の入力用端子から前記第２の基板の前記第２の端子形成領域と平面的に重なる位置まで配線された第１の基板間導通用端子と、前記第１の入力用端子から前記電気光学物質封入領域に配線された複数列の第１の電極パターンと、がそれぞれ前記第２の基板と対向する側の面上に形成され、前記第２の基板には、前記第２の端子形成領域において、前記第１の基板間導通用端子及び前記シール材と平面的に重なる位置に対応して配置されるとともに、前記シール材に含有されてなる導通剤を介して前記第１の基板間導通用端子と導電接続されてなる複数の第２の基板間導通用端子と、該第２の基板間導通用端子から配線されるとともに、前記電気光学物質封入領域内で前記第１の電極パターンに対して交差する方向に延びた複数列の第２の電極パターンと、がそれぞれ前記第１の基板との対向面上に形成され、 前記第１の基板には、前記第１の入力用端子の形成領域と前記第２の入力用端子の形成領域との境界領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある絶縁分離領域が当該入力用端子の１ピッチ分よりも広い幅寸法をもって形成されてなるとともに、前記絶縁分離領域に前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第１のダミー端子が形成されてなり、且つ前記シール材の形成領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子が形成されてなり、前記第２のダミー端子は、前記シール材の形成領域のうち、前記第１の電極パターンの形成領域と、前記第１の電極パターンの形成領域よりも外側に位置する前記第１の基板間導通用端子の形成領域と、の間に相当する領域に形成されていることを特徴とする。
また、本発明の電気光学パネルは、所定の間隙を介してシール材によって対向して貼り合わされた第１および第２の基板の間には前記シール材によって囲まれた電気光学物質封入領域内に電気光学物質が封入され、前記第１および前記第２の基板の互いに同一方向に位置する各基板辺付近において前記第１の基板には第１の端子形成領域が形成され、前記第２の基板には第２の端子形成領域が形成され、前記第１の端子形成領域および前記第２の端子形成領域で前記第１および前記第２の基板間の導通が成されている電気光学パネルにおいて、前記第１の基板には、前記第１の端子形成領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第１の入力用端子と、該複数の第１の入力用端子の形成領域に隣接する領域で当該基板辺に沿って配列する複数の第２の入力用端子と、該第２の入力用端子から前記第２の基板の前記第２の端子形成領域と平面的に重なる位置まで配線された第１の基板間導通用端子と、前記第１の入力用端子から前記電気光学物質封入領域に配線された複数列の第１の電極パターンと、がそれぞれ前記第２の基板と対向する側の面上に形成され、前記第２の基板には、前記第２の端子形成領域において、前記第１の基板間導通用端子及び前記シール材と平面的に重なる位置に対応して配置されるとともに、前記シール材に含有されてなる導通剤を介して前記第１の基板間導通用端子と導電接続されてなる複数の第２の基板間導通用端子と、該第２の基板間導通用端子から配線されるとともに、前記電気光学物質封入領域内で前記第１の電極パターンに対して交差する方向に延びた複数列の第２の電極パターンと、がそれぞれ前記第１の基板との対向面上に形成され、 前記第１の基板には、前記第１の入力用端子の形成領域と前記第２の入力用端子の形成領域との境界領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある絶縁分離領域が当該入力用端子の１ピッチ分よりも広い幅寸法をもって形成されてなるとともに、前記絶縁分離領域に前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第１のダミー端子が形成されてなり、前記第２の基板には、前記シール材の形成領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子が形成されてなり、前記第２のダミー端子は、前記シール材の形成領域のうち、前記第１の電極パターンの形成領域と、前記第１の電極パターンの形成領域よりも外側に位置する前記第２の基板間導通用端子の形成領域と、の間に相当する領域に形成されていることを特徴とする。
【００１４】
本発明の実施の形態では、第１の外部入力用端子と第２の外部入力用端子との境界領域には、外部入力端子の１ピッチ分以上の幅寸法をもつ絶縁分離領域が形成されているので、第１の外部入力用端子および第２の外部入力用端子のそれぞれに検査電極を当てて点灯検査を行う際に、検査電極の位置が多少ずれても、第１の外部入力用端子の側と第２の外部入力用端子の側との間で短絡するおそれがない。それ故、点灯検査を簡単な構造の検査治具を用いて手間をかけずに行うことができる。
【００１５】
本発明の実施の形態において、前記絶縁分離領域には、たとえば、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第１のダミー端子が前記第１の外部入力端子と並列に形成されていてもよい。また、前記絶縁分離領域は、いずれの端子も形成されていない領域であってもよい。
【００１６】
本発明において、前記第１および第２の基板の少なくとも一方の基板には、前記シール材の形成領域のうち、前記基板間導通用端子の形成領域と前記第１の電極パターンの形成領域の間に相当する領域に、前記第１および第２の電極パターンのいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子が形成されることもある。このように構成すると、前記基板間導通用端子の形成領域と前記第１の電極パターンの形成領域の間に相当する領域は、第２のダミー端子が形成される分だけは底上げされた状態になって平坦化される。従って、第１の基板と第２の基板とはシール材によって一定の隙間を介して貼り合わされる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【００１８】
（全体構成）
図１および図２はそれぞれ、本形態の表示装置に用いた電気光学パネルの外観を示す斜視図、およびこの電気光学パネルを分解した様子を模式的に示す斜視図である。なお、図１および図２には、電極パターンおよび端子などを模式的に示してあるだけなので、詳細は図３および図５を参照して後述する。
【００１９】
図１および図２において、本形態の電気光学パネル１は、パッシブマトリクスタイプの液晶パネルである。ここに示す電気光学パネル１では、第２の基板２０の外側表面に偏光板（図示せず。）が粘着剤などによって貼られ、第１の基板１０の外側表面にも偏光板（図示せず。）が粘着剤などで貼られる。電気光学パネル１を反射型として構成する際には、偏光板の外側に、あるいは偏光板の代わりに反射板（図示せず。）が貼られる。
【００２０】
この電気光学パネル１において、所定の間隙を介してシール材３０によって対向して貼り合わされた矩形の一対の基板間には、シール材３０によって囲まれた電気光学物質封入領域３５が区画形成されている。このシール材３０には、その途切れ部分によって注入口３９が形成され、この注入口３９から電気光学物質封入領域３５内に電気光学物質としての液晶が注入され、注入後に封止材で封止されている。ここで、前記の一対の基板のうち、縦方向の第１の電極パターン４０が対向する側の表面に形成されている方の基板を第１の基板１０とし、横方向の第２の電極パターン５０が第１の基板１０との対向面に形成されている方の基板を第２の基板２０とする。
【００２１】
（基板の構成）
図３および図４はそれぞれ、図２に示す電気光学パネルの第１の基板１０に形成した電極パターンおよび端子を示す平面図、およびこの第１の基板１０の基板辺１０１側に位置する端子形成領域１１の左側端部に形成された第１の基板間導通用端子６０を拡大して示す平面図である。図５および図６はそれぞれ、図２に示す電気光学パネルの第２の基板２０に形成した電極パターンおよび端子を示す平面図、およびこの第２の基板２０の基板辺２０１側に位置する端子形成領域２１の左側端部に形成された第２の基板間導通用端子７０を拡大して示す平面図である。図７および図８はそれぞれ、図３に示す第１の基板１０と図５に示す第２の基板２０とを貼り合わせて液晶パネル１を形成した状態の平面図、およびこの液晶パネル１の左下方に位置する基板間導通部分の平面図である。詳しくは後述するように、第１の基板１０の第１の端子形成領域１１は、第１および第２の外部入力端子８１、８２を介してフレキシブル基板２との電気的な接続と、第２の基板２０に形成されている第２の端子形成領域２１との電気的な接続とを行うための領域であり、第１の端子形成領域１１に形成されている第１の基板間導通用端子６０、および第２の端子形成領域２１に形成されている第２の基板間導通用端子７０は、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせたときに基板間導通用端子同士が導電接続して第１の基板１０から第２の基板２０への信号供給を可能とするものである。
【００２２】
図１および図２に示すように、本形態の電気光学パネル１では、外部からの信号入力および基板間の導通のいずれもが、第１の基板１０および第２の基板２０において同一方向に位置する各基板辺１０１、２０１（下辺）付近で第１の基板１０および第２の基板２０のそれぞれに形成されている第１の端子形成領域１１および第２の端子形成領域２１で行われる。従って、第１の基板１０は、第２の基板２０の基板辺２０１から端部が外側に張出し、かつ、第２の基板２０と対向される側の表面に第１の端子形成領域１１が形成されている。この第１の端子形成領域１１の略表面全体は、開放（第２の基板２０と対向されていない）状態にあって、そこに形成されている第１および第２の外部入力端子８１、８２に対してフレキシブル基板２が電気的に接続される。
【００２３】
また、第１の端子形成領域１１の両端部において第２の外部入力用端子８２が形成されている部分では、電気光学物質封入領域３５の側に位置する部分で導通剤を介して第２の基板２０の側と基板間導通（導電接続）が行われるので、第２の基板２０との重なる部分まで対応して配線され、第１の基板間導通用端子６０を形成している。
【００２４】
また、第２の基板２０において、第２の端子形成領域２１は第１の基板１０側の第１の基板間導通用端子６０と導通剤を介して基板間導通（導電接続）が行われるので、第１の基板１０との対向面で、かつ、第１の基板間導通用端子６０と平面的に重なる部分に対応して第２の基板間導通用端子７０が形成されている。
【００２５】
図３において、第１の基板１０には、基板辺１０１に沿って第２の基板２０と対向される側の表面には第１の端子形成領域１１が形成され、第１の端子形成領域１１には、中央領域で並んで配列する複数の第１の外部入力用端子８１と、第１の外部入力用端子８１が形成されている領域の両側（両端）に相当する領域で並んで配列する複数の第２の外部入力用端子８２とが形成されている。第１の基板１０において、第１の外部入力用端子８１からは、同基板で基板辺１０１と対向する基板辺１０２の方向に向かって、複数列の第１の電極パターン４０が延在形成されており、これらの電極パターン４０は、第１の外部入力用端子８１から基板辺１０２の方向に向けて直線的に延びた後、電気光学物質封入領域３５内で、両側に向けて斜めに延び、しかる後に、対向する基板辺１０２の方向に向けて直線的に延びている。また、第１の基板１０上において、外装ケースなどの窓枠の内周縁８０によって画像表示領域の見切りが行われている位置が実線Ｌ２で示され、シール材３０が形成される領域については、図３に二重線Ｌ１で示されている。
【００２６】
また、図４に示すように、第１の外部入力端子８１と第２の外部入力端子８２との境界領域において、第１の基板１０には、第１の外部入力端子８１の形成領域と第２の外部入力端子８２の形成領域との境界領域８３に第１および第２の電極パターン４０、５０のいずれとも電気的に絶縁状態にある絶縁分離領域８４が外部入力端子８１、８２の１ピッチ分よりも広い幅寸法をもって形成されている。本形態では、この絶縁分離領域８４には端子などが一切、形成されていない。
【００２７】
また、第１の基板１０では、第２の外部入力用端子８２のうち、中央寄り（内側）に形成されている第２の外部入力用端子８２Ａからは、第２の基板２０の第２の端子形成領域２１に設けられた第２の基板間導通用端子７０と平面的に重なる位置まで第１の基板間導通用端子６０が、対向する基板辺１０２に向けて直線的に延びている。これに対して、第２の外部入力用端子８２のうち、両端部（外側）に形成されている第２の外部入力用端子８２Ｂからも、第２の基板２０の第２の端子形成領域２１に設けられた第２の基板間導通用端子７０と平面的に重なる位置まで第１の基板間導通用端子６０が延びているが、この第１の基板間導通端子６０は、第１の基板１０の基板辺１０１と対向する基板辺１０２に向けて直線的に延びた直線端子部分６１と、この直線端子部分６１の先端から外側に向かって斜めに延びた斜め端子部分６２とを有している。ここで、斜め端子部分６２を備える複数の第１の基板間導通用端子６０では、外側に位置する端子の方が内側に位置する端子と比較して直線端子部分６１が短い。
【００２８】
図５に示すように、第２の基板２０では、第２の端子形成領域２１のうち、第１の基板１０の第１の基板間導通用端子６０に対応して平面的に重なる位置には基板辺２０１に沿って複数の第２の基板間導通用端子７０が形成されている。これらの第２の基板間導通用端子７０からは、平面的に第１の電極パターン４０の形成領域の両側に相当する領域を回り込んで配線され、電気光学物質封入領域３５内で第１の基板１０に形成された第１の電極パターン４０と平面的に交差するように延びた複数列の画素駆動用の第２の電極パターン５０が形成されている。なお、図５にも、第２の基板２０上における外装ケースなどの窓枠の内周縁８０によって画像表示領域の見切りが行われている位置が実線Ｌ２で示され、シール材３０が形成される領域については二重線Ｌ１で示されている。
【００２９】
このような第２の基板２０では、第１の基板１０に形成されている第１の電極パターン４０の形成領域を避けてその両側に相当する領域を回り込むように第２の基板間導通用端子７０から第２の電極パターン５０を配線形成する必要がある。そのため、本形態では、第２の基板間導通用端子７０のうち、中央寄りに形成されている第２の基板間導通用端子７０Ａは、基板辺２０１と対向する基板辺２０２に向かって直線的に形成されているが、外側に形成されている第２の基板間導通用端子７０Ｂについては、図６に示すように、基板辺２０２に向けて直線的に延びる直線端子部分７１と、この直線端子部分７１の配線される側の端で屈曲して外側に向けて斜めに延びる斜め端子部分７２とが形成されている。これら斜め端子部分７２を備える複数の第２の基板間導通用端子７０でも、外側に位置する端子の方が内側に位置する端子と比較して直線端子部分７１が短い。なお、本実施例の各説明で述べる外側とは、基板辺２０１、１０１、及びこれらに対向する基板辺２０１、１０２のそれぞれとは対向しない他の基板辺の側を示すものである。
【００３０】
このように構成した第１の基板１０と第２の基板２０とを用いて電気光学パネル１を構成するにあたっては、図１および図２に示すように、第１の基板１０と第２の基板２０とを、ギャップ材および導通剤を含有するシール材３０を介して貼り合わせる。この際には、図４に示すように、第１の基板１０において第１の基板間導通用端子６０が形成されている領域にシール材３０を形成する。あるいは、図６に示すように、第２の基板２０において第２の基板間導通用端子７０が形成されている領域にシール材３０を形成する。
【００３１】
しかる後に、第１の基板１０と第２の基板２０とをシール材３０を介して貼り合わせると、図７に示すように、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との交差部分によって画素５０がマトリクス状に形成され、画像を表示する領域（画像表示領域／画素がマトリクス状に配列されている領域）を構成する。
【００３２】
また、図８に示すように、第１の基板１０に形成されている第１の基板間導通用端子６０と、第２の基板２０に形成されている第２の基板間導通用端子７０とが平面的に重なり、この部分ではシール材３０に配合されていた導通剤によって導通が図られる。ここで用いたシール材３０にはギャップ材および導通剤が配合されている。この導通剤（導電粒子）は、Ｎｉ、ハンダ等の金属粒子や、球又は棒状のプラスチックやガラスに金属メッキを施したものや、たとえば、弾性変形可能なプラスチックビーズの表面にめっきを施した粒子であり、その粒径は約６．６μｍである。これに対して、シール材３０に含まれるギャップ材の粒径は約５．６μｍである。それ故、第１の基板１０と第２の基板２０とを重ねた状態でその間隙を狭めるような力を加えながらシール材３０を溶融、硬化させると、シール材３０は第１および第２の基板間導通用端子６０、７０が形成されている範囲内で広がるとともに、導電材は、第１の基板１０と第２の基板２０との間、すなわち、第１の基板間導通用端子６０と第２の基板間導通用端子７０との間で押し潰された状態で両端子間を導通させる。
【００３３】
このため、図１に示すように、第１の基板１０の第１の端子形成領域１１に対してフレキシブル基板２を異方性導電材などを用いて実装した後、このフレキシブル基板２を介して第１の基板１０の第１の外部入力用端子８１および第２の外部入力用端子８２に信号入力すると、第１の基板１０に形成されている第１の電極パターン４０には第１の外部入力用端子８１を介して表示画像に基づいたデータ信号を印加することができる。また、第２の基板２０に形成されている第２の電極パターン５０には、第２の外部入力用端子８２、第１の基板間導通用端子６０、導通剤および第２の基板間導通用端子７０を介して走査信号を印加することができる。よって、これらの画像データおよび走査信号によって、各画素において第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との間に位置する電気光学物質の配向状態を制御することができるので、所定の画像を表示することができる。
【００３４】
このように形成した電気光学パネル１については、第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２にフレキシブル基板２を接続する前に、図１および図７に示すように、電気光学パネル１に検査治具３００を押し当てて、検査治具３００にベタの電極として形成されている検査電極３０１、３０２を第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２に対してそれぞれ接触させ、検査電極３０１、３０２から信号の印加を行い、電気光学パネル１の全点灯検査を行う。ここで、電気光学パネル１では、画素数の増大に伴って第１の外部入力端子８１および第２の外部入力端子８２が増えると、その分、第１の外部入力用端子８１の形成領域と第２の外部入力用端子の形成領域８２との境界領域８３にかなり狭い隙間しかなくなるが、本形態では、第１の外部入力用端子８１と第２の外部入力用端子８２との境界領域８３には、外部入力端子８１、８２の１ピッチ分以上の幅寸法をもつ絶縁分離領域８４が確保されているので、第１の外部入力用端子８１および第２の外部入力用端子８２のそれぞれに検査電極３０１、３０２を当てて点灯検査を行う際に、検査電極３０１、３０２の位置が多少ずれても、第１の外部入力用端子８１の側と第２の外部入力用端子８２の側との間で短絡するおそれがない。それ故、点灯検査を簡単な構造の検査治具３００を用いて手間をかけずに行うことができる。
【００３５】
また、本形態では、第１の基板１０と第２の基板２０との間で基板間導通を行うための第１および第２の基板間導通用端子６０、７０のうち、少なくとも外側に位置する第１および第２の基板間導通用端子６０、７０自身が斜め外側に向けて延びている。従って、基板間導通用端子を対向する基板辺に向けてただ直線的に延ばした後、その先端から第２の電極パターンを外側に斜めに引き回す従来の構成（図９ないし図１２を参照。）と比較して、第２の基板間導通用端子７０の形成領域の両側でデッドスペース９０となる領域を狭めることができる。このため、従来であればデッドスペース９０となっていた第２の基板間導通用端子７０の形成領域の両側についても電極パターン５０の引回しに利用することになるので、電気光学物質封入領域３５の外周領域（額縁領域）を狭くすることができる。これはすなわち、現状と同等の画像を表示する領域（画像表示領域／画素がマトリクス状に配列されている領域）を確保した上で電気光学パネル１の外形を小さくすることができる。換言すると、従来の電気光学パネル１の外形で画像を表示する領域（画像表示領域／画素がマトリクス状に配列されている領域）を広く確保することができる。
【００３６】
さらに、本形態では、斜め端子部分６２、７２を備える複数の第１の基板間導通用端子６０および第２の基板間導通用端子７０では、外側に位置する端子の方が内側に位置する端子と比較して直線端子部分６１、７１が短い。このため、第２の基板間導通用端子７０における直線端子部分７１と斜め端子部分７２との境界（屈曲部分）を結んだ線は斜め外側に向くので、斜め端子部分７２からそのまま第２の電極パターン５０を延設することができる。従って、第２の電極パターン５０については、十分に幅の広いパターンとして、あるいは隣接するパターンとの間に十分な隙間をもつパターンとして形成することができる。
【００３７】
［その他の実施の形態］
上記形態では、第１の基板１０において、第１の外部入力端子８１と第２の外部入力端子８２との境界領域８３を絶縁分離領域８４とするにあたっては、端子の形成されていない領域としたが、図４および図８に一点鎖線で示すように、第１の外部入力端子８１と第２の外部入力端子８２との境界領域８３については、第１および第２の電極パターン４０、５０のいずれとも電気的に絶縁状態にある第１のダミー端子８５が他の外部入力端子８１、８２と等しいピッチで形成された絶縁分離領域８４が形成されている構成であってもよい。
【００３８】
また、第１の基板１０において、シール材３０の形成領域のうち、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせたときに基板間導通用端子６０、７０の形成領域と第１の電極パターン４０の形成領域の間に相当する領域に、第１および第２の電極パターン４０、５０のいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子８６を形成してもよい。あるいは、第２の基板２０において、シール材３０の形成領域のうち、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせたときに基板間導通用端子６０、７０の形成領域と第１の電極パターン４０の形成領域の間に相当する領域に、第１および第２の電極パターン４０、５０のいずれとも電気的に絶縁状態にある第２のダミー端子７６を形成してもよい。このように構成すると、シール材３０の形成領域では、第１の基板１０あるいは第２の基板２０が第２のダミー端子７６、８６によって底上げされた構造になって平坦化される。それ故、第１の基板１０と第２の基板２０とは均等な隙間をもって貼り合わされる。
【００３９】
また、上記の実施の形態では、斜め端子部分６２、７２を備える複数の第１および第２の基板間導通用端子６０、７０において、斜め端子部分６２、７２の幅について規定しなかったが、第１および第２の基板間導通用端子６０、７０のうち、内側に形成された基板間導通端子よりも外側に形成された基板間導通端子の方で斜め端子部分６２、７２の幅を広くすることが好ましい。たとえば、第１および第２の基板間導通用端子６０、７０のうち、内側に形成された基板間導通端子の斜め端子部分６２、７２については、たとえば、０．０８５９ｍｍの幅とし、外側に形成された基板間導通端子の斜め端子部分６２、７２については、０．０９００ｍｍの幅とする。本実施例の各説明で述べる外側とは、基板辺２０１、１０１、及びこれらに対向する基板辺２０１、１０２のそれぞれとは対向しない他の基板辺の側を示すものである。このように構成すると、外側に位置する第２の基板間導通用端子７０から延びる第２の電極パターン５０は、引回し距離が長くなるが第１および第２の基板間導通用端子６０、７０の幅を広く形成することができる。すなわち、この端子同士は広い面積をもって導通することになる。
【００４０】
また、第２の電極パターン５０において、対向する基板辺２０２に向けて第２の基板間導通用端子７０から延びて配線形成される領域において、外側を通って配線される第２の電極パターン５０Ａ（図５参照）の幅を内側を通って配線される第２の電極パターン５０Ｂの幅よりも広くしてもよい。このように構成すると、外側に位置する第２の基板間導通用端子７０から延びる第２の電極パターン５０は、引回し距離が長い分、内側に位置する第２の基板間導通用端子７０から延びる第２の電極パターン５０より幅が太く形成されるため、電気的な配線抵抗（配線長／幅）の差が抑えられている。このような外側に位置する第２の電極パターン５０の幅を広くすることにより、引回し距離の長短に起因する電気的な抵抗の差を圧縮できる。それ故、品位の高い表示を行うことができる。
【００４１】
また、本実施例の効果として、外側に位置する第２の基板間導通用端子７０から延びる第２の電極パターン５０ほど、画像を表示する領域（画像表示領域／画素がマトリクス状に配列されている領域）に至るまでの引回し距離が長くなるが、外側に位置する第２の基板間導通用端子７０の斜め端子部分７２ほど端子部分の幅を内側に位置する斜め端子部分の幅よりある程度太く形成することが可能なため、結果として外側の引き回し距離の長い電極パターン（及び斜め端子部分）の配線抵抗（配線長／幅）が抑えられ、内側と外側の引き回しによる配線抵抗の差を低く抑えることができる。それ故、第２の電極パターン５０の配線距離の長短に起因する電気的な抵抗の差を圧縮できるので、品位の高い表示を行うことができる。
【００４２】
さらにまた、第１の基板間導通用端子６０および第２の基板間導通用端子７０は広い面積をもっているので、これらの端子の間に、シール材３０中に含まれる数多くの導電粒子を確保することができる。これにより電気的に導通がなされるので、基板間導通部分（両端子間）での電気的な接触抵抗が小さいとともに、多数の導電粒子によって導電接続がなされるので接続信頼性が十分に確保されるものである。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る電気光学パネルでは、第１の外部入力用端子と第２の外部入力用端子との境界領域には、外部入力端子の１ピッチ分以上の幅寸法をもつ絶縁分離領域が形成されているので、第１の外部入力用端子および第２の外部入力用端子のそれぞれに検査電極を当てて点灯検査を行う際に、検査電極の位置が多少ずれても、第１の外部入力用端子の側と第２の外部入力用端子の側との間で短絡するおそれがない。それ故、点灯検査を簡単な構造の検査治具を用いて手間をかけずに行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した電気光学パネルの外観を示す斜視図である。
【図２】図１に示す電気光学パネルを分解した様子を模式的に示す斜視図である。
【図３】図２に示す電気光学パネルの第１の基板に形成した電極パターンおよび端子を示す平面図である。
【図４】図２に示す電気光学パネルの第１の基板の下辺側に形成した端子のうち、端子形成領域の左側端部に形成された第１の基板間導通用端子を拡大して示す平面図である。
【図５】図２に示す電気光学パネルの第２の基板に形成した電極パターンおよび端子を示す平面図である。
【図６】図２に示す電気光学パネルの第２の基板の下辺側に形成した端子のうち、端子形成領域の左側端部に形成された第２の基板間導通用端子を拡大して示す平面図である。
【図７】図３に示す第１の基板と図５に示す第２の基板とを貼り合わせて液晶パネルを形成した状態の平面図である。
【図８】図３に示す第１の基板と図５に示す第２の基板とを貼り合わせた液晶パネルの左下方に位置する基板間導通部分の平面図である。
【図９】従来の電気光学パネルを分解した様子を模式的に示す斜視図である。
【図１０】図９に示す電気光学パネルの第１の基板の下方に形成した端子のうち、端子形成領域の左側端部に形成された第１の基板間導通用端子を拡大して示す平面図である。
【図１１】図９に示す電気光学パネルの第２の基板の下方に形成した端子のうち、端子形成領域の左側端部に形成された第２の基板間導通用端子を拡大して示す平面図である。
【図１２】図９に示す電気光学パネルの左下方に位置する基板間導通部分の平面図である。
【符号の説明】
１  電気光学パネル
２  フレキシブル基板
１１  第１の端子形成領域
１２  第２の端子形成領域
２０  第２の基板
１０  第１の基板
３０  シール材
３５  電気光学物質封入領域
４０  第１の電極パターン
５０  第２の電極パターン
６０  第１の基板間導通用端子
６１  第１の基板間導通用端子の直線端子部分
６２  第１の基板間導通用端子の斜め端子部分
７０  第２の基板間導通用端子
７１  第２の基板間導通用端子の直線端子部分
７２  第２の基板間導通用端子の斜め端子部分
７６、８６  第２のダミー端子
８１  第１の外部入力用端子
８２  第２の外部入力用端子
８３  第１の外部入力用端子と第２の外部入力用端子との境界領域
８４  絶縁分離領域
８５  第１のダミー端子
１０１、２０１  端子が形成されている方の基板辺
１０２、２０２  端子が形成されている方の基板辺に対向する基板辺
３００  検査治具
３０１、３０２  検査電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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