(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属材料からなる基台にターゲット層が設けられたＸ線管ターゲットにおいて、
電子の衝突により前記ターゲット層に発生した熱を拡散する熱拡散層を有し、
且つ、前記熱拡散層は、次の（イ）及び（ロ）の条件を備えた熱拡散材料を加熱圧縮して形成されていることを特徴とするＸ線管ターゲット。
（イ）  少なくとも基台を形成する金属材料よりも熱伝導率の高いダイヤモンド，キュービックボロンナイトライド，またはこれらの材料と同等の熱伝導率および硬度を有する粒状または粉状の超硬材料を含む。
（ロ）  チタン，銅，または銀の金属粉を混合してある。
【請求項２】
請求項１記載のＸ線管ターゲットの製造方法であって、
ターゲット層を形成する金属材料の裏面に前記熱拡散材料を配置し、これら各材料を加熱圧縮することにより一体化するとともに前記熱拡散材料を固める工程と、
前記工程により一体化した材料を、前記ターゲット層を外側にして基台へ接合する工程と、
を含むＸ線管ターゲットの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載のＸ線管ターゲットの製造方法であって、
基台を形成する金属材料の外側に前記熱拡散材料を配置し、これら各材料を加熱圧縮することにより一体化するとともに前記熱拡散材料を固める工程と、
前記工程により一体化した材料の外側にターゲット層を形成する金属材料を配置し、それら各材料を加熱圧縮することにより一体化する工程と、
を含むＸ線管ターゲットの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載のＸ線管ターゲットの製造方法であって、
基台を形成する金属材料の外側に前記熱拡散材料を配置し、かつ熱拡散材料の外側にターゲット層を形成する金属材料を配置し、それら各材料を加熱圧縮することにより一体化するとともに前記熱拡散材料を固める工程を含むＸ線管ターゲットの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電子銃から発射された電子の衝突に応じてＸ線を発生するＸ線管ターゲットとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のとおり、Ｘ線回折装置をはじめとする各種Ｘ線利用装置のＸ線源に用いられるＸ線管は、電子銃に対向してＸ線管ターゲット（対陰極）を配置し、電子銃から発射された電子をＸ線管ターゲットの表面に衝突させることにより、該Ｘ線管ターゲットの表面からＸ線を発生させる構造となっている。
【０００３】
図８は従来のＸ線管ターゲットを示す断面図である。
同図に示すＸ線管ターゲットは、基台４０が軸Ｏを中心に高速回転する回転ターゲットと称する構造のものであり、基台４０の表面に電子の衝突に応じてＸ線を発生するターゲット層４１が形成されている。
【０００４】
このターゲット層４１に電子が衝突すると同層４１は発熱する。電子銃の出力を上げればターゲット層４１から発生するＸ線量も増大して高い強度のＸ線を得られるが、それに伴いターゲット層４１の発熱量も上昇する。そして、ターゲット層４１の温度が同層４１を形成する金属材料の融点を超えた場合には、同層４１が溶融してＸ線管ターゲットの損壊につながる。したがって、高い強度のＸ線を発生させるためには、ターゲット層４１を効率的に冷却することが必要となる。
【０００５】
従来のＸ線管ターゲットは、基台４０を銅合金や銀合金等の熱伝導率の良好な金属材料で形成するとともに、基台４０の裏面側に配管４２，４３を介して冷却水を循環させることにより、電子の衝突時に発生する熱を吸収してターゲット層４１を冷却するようにしていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
一方、電子銃は少ない出力で高密度の電子をターゲット層に集中して照射するために、その焦点は微小面積に設定されている。例えば、Ｘ線回折装置のＸ線源に用いられるＸ線管では、０．５ｍｍ×１０ｍｍまたは０．１ｍｍ×１ｍｍといった微小焦点の電子銃が一般に用いられている。そのため、ターゲット層４１は局所的に電子が衝突して高熱を発生する。このように局所的に発生した熱は、基台４０の内部に滞留し易く、冷却された基台４０の裏面側まで迅速に伝わっていかないという問題があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、ターゲット層で発生した熱の冷却効率を向上させることにより、いっそう高強度のＸ線を取り出し可能とすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、金属材料からなる基台にターゲット層を設けたＸ線管ターゲットにおいて、電子の衝突によりターゲット層に発生した熱を拡散する熱拡散層を形成したことを特徴とする（請求項１）。
【０００８】
微少面積（焦点）の電子の照射によってターゲット層の局所に発生した熱も熱拡散層により拡散されて基台の一部に滞留することがなくなり、迅速な冷却が可能となる。
【０００９】
熱拡散層は、少なくとも基台を形成する金属材料よりも熱伝導率の高い超硬材料か、または少なくとも基台を形成する金属材料よりも熱伝導率の高い粒状または粉状の超硬材料を含む熱拡散材料で構成することが好ましい（請求項２，４）。
【００１０】
基台を形成する金属材料も、銅合金や銀合金等の熱伝導率の高い金属材料が用いられるが、超硬材料の中にはこれらの金属材料よりもさらに熱伝導率の高いものが存在する。例えば、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、キュービックボロンナイトライド（ＣＢＮ）は極めて熱伝導率が高く、本発明の熱拡散層を形成する材料として好適である（請求項３，５）。
【００１１】
このうち、ダイヤモンドライクカーボンは、化学的気相成長法（ＣＶＤ）等の薄膜形成法をもって成膜することができる。また、キュービックボロンナイトライドは、粒状または紛状の形態で提供される。なお、上述した超硬材料と同等の熱伝導率および硬度を有する超硬材料であれば、本発明の熱拡散層に適用することができることは勿論である。
【００１２】
本発明のＸ線管ターゲットは、例えば、次の第１乃至第４の方法により製造することができる。
すなわち、第１の方法は、ターゲット層を形成する金属材料の表面に、超硬材料の薄膜を気相合成して熱拡散層を形成する工程と、熱拡散層の裏面を基台に接合する工程と、を含む製造方法である（請求項６）。
【００１３】
第２の方法は、ターゲット層を形成する金属材料の裏面に熱拡散材料を配置し、これら各材料を加熱圧縮することにより一体化するとともに熱拡散材料を固める工程と、この工程により一体化した材料を、ターゲット層を外側にして基台へ接合する工程と、を含む製造方法である（請求項７）。
【００１４】
第３の方法は、基台を形成する金属材料の外側に熱拡散材料を配置し、これら各材料を加熱圧縮することにより一体化するとともに熱拡散材料を固める工程と、この工程により一体化した材料の外側にターゲット層を形成する金属材料を配置し、それら各材料を加熱圧縮することにより一体化する工程と、を含む製造方法である（請求項８）。
【００１５】
第４の方法は、基台を形成する金属材料の外側に熱拡散材料を配置し、かつ熱拡散材料の外側にターゲット層を形成する金属材料を配置し、それら各材料を加熱圧縮することにより一体化するとともに熱拡散材料を固める工程を含む製造方法である（請求項９）。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの構成例を示す部分断面図である。Ｘ線管ターゲットは、いわゆる回転ターゲットまたは固定ターゲットの形態に構成され、基台１０の一部に熱拡散層１１を介してターゲット層１２が接合されている。基台１０は、熱伝導率の高い金属材料、例えば、銅合金や銀合金で形成してある。ターゲット層１２は、電子の衝突によりＸ線を発生させるモリブデン、クロム、タングステン、金、銀、銅、鉄等の金属材料で形成してある。
【００１７】
熱拡散層１１は、ターゲット層１２の裏面に接しており、電子が衝突したときターゲット層１２に発生する熱を拡散する機能を有している。図１（ａ）（ｂ）に示す構成では、ダイヤモンド等の熱伝導率の高い超硬材料からなる薄膜によって熱拡散層１１を形成してある。一方、図１（ｃ）（ｄ）に示す構成では、ダイヤモンド等の熱伝導率の高い超硬材料の粒体または粉体を含む層によって熱拡散層１１を形成してある。また、図１（ａ）（ｃ）に示す構成は、熱拡散層１１を基台１０とターゲット層１２の間に挟み込んであり、図１（ｂ）（ｄ）に示す構成では、ターゲット層１２の裏面に熱拡散層１１を形成するとともに、熱拡散層１１の周縁部を基台１０に接合してある。
【００１８】
図２は本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第１の製造方法を示す工程図である。
同図に示す製造方法では、ターゲット層１２を形成する板状の金属材料１２ａの表面に、超硬材料の薄膜を気相合成して熱拡散層１１を形成し（同図（ａ））、この熱拡散層１１の裏面を基台１０に接合している（同図（ｂ））。
【００１９】
超硬材料の薄膜を気相合成する手法としては、各種の化学的気相成長法（ＣＶＤ）が適用できる。この種の気相合成により得られる超硬材料の薄膜としては、例えばダイヤモンド薄膜やダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）がある。これらの超硬材料からなる薄膜は、熱伝導率が極めて高く、優れた熱拡散性能を示す。なお、ダイヤモンドの気相合成は、３０〜２００Ｔｏｒｒの高ガス圧で温度８００〜９００°Ｃの雰囲気下で行われる。したがって、高ガス圧下でのプラズマ発生制御や不純物の混入抑制、基板材料となるターゲット層１２を形成する金属材料１２ａの耐熱性等に考慮が必要である。
【００２０】
図２に示した製造方法では、固定ターゲットの形態をした基台１０に、加熱圧縮やろう付け等の手法をもってターゲット層１２を接合している。なお、加熱圧縮をもって基台１０へ接合する場合には、接合される熱拡散層１１の裏面に接合剤としてのチタンをメッキまたは蒸着を施しておくことが好ましい。
【００２１】
図３は本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第２の製造方法を示す工程図である。
同図に示す製造方法は、ターゲット層１２を形成する金属材料１２ａの裏面に熱拡散材料１１ａを配置して加熱圧縮する工程（同図（ａ））と、この加熱圧縮工程によって得られた塊からターゲット層１２と熱拡散層１１の積層体１３を切り出す工程（同図（ｂ））と、切り出した積層体１３を基台１０へ接合する工程（同図（ｃ））とから構成されている。
【００２２】
加熱圧縮の工程（同図（ａ））では、まず加圧に耐えうる鉄製の容器２０の底部にターゲット層１２を形成する板状の金属材料１２ａを配置し、その上に熱拡散材料１１ａを充填する。熱拡散材料１１ａとしては、ダイヤモンド粉を接合剤となる金属粉等と混合した粉末材料が用いられる。接合剤となる金属粉としては、チタン、銅、銀等があり、適宜の配合量でタイヤモンド粉と混合する。
【００２３】
例えば、本発明者は、Ｃｕ＋Ｔｉ（１〜２％）、Ｃｕ＋Ａｇ（５０％）＋Ｔｉ（１〜２％）、Ａｇ＋Ｔｉ（２〜５％）の割合にそれぞれ混合した金属粉へ直径５μｍ以下のダイヤモンド粉を、金属粉：ダイヤモンド粉の割合を１０：１、１０：２の割合にそれぞれ混合して各種の熱拡散材料１１ａを製作した。これらの熱拡散材料１１ａを用いて後述する加熱圧縮を実施したところ、いずれも好ましい冷却特性を有するＸ線管ターゲットを製造することができた。
【００２４】
ターゲット層１２を形成する金属材料１２ａと熱拡散材料１１ａを充填した後、容器２０の開口部を鉄製の蓋体２１によって閉塞するとともに、蓋体２１と容器２０を溶接して一体化する。蓋体２１には、容器２０内部の空気を排気するための吸引口２２が設けてあり、この吸引口２２を図示しない真空ポンプに連通させ、容器２０の内部を真空びきする。これにより容器２０の内部に存在していた空気を放出し、後に作用させる圧力が容器２０内部の金属材料１２ａおよび熱拡散材料１１ａへ均一に伝わるようにする。
【００２５】
充分な真空びきを行った後、吸引口２２を閉塞して真空ポンプから切り離し、容器２０を加圧装置の加圧室内に挿入配置する。加圧装置としては、内部に加熱手段を有するホットプレス装置を用いる。一般にＨＩＰ(熱間均等加圧装置)と称されているホットプレス装置を利用すれば、容器２０の周囲から充分な圧力を作用させることができる。
【００２６】
図４は上記ＨＩＰの構成を模式的に示した図である。加圧室３０内には、ヒータ３１が設置してあり、コンピュータ制御によって加圧室３０内を所望の一定温度に保持することができる。加圧室３０内の不純ガスは、排気管３２を介して吸引除去することができ、一方、Ｎ２ガス等の不活性ガスをガス供給管３３を介して加圧室３０内に充填することができるようになっている。
【００２７】
加圧室３０内に容器２０を挿入配置し、その周囲から均等に圧力を加えるとともに、所定の温度に加熱する。この加熱圧縮を適宜の時間継続することにより、熱拡散材料が焼結するとともに、熱拡散材料１１ａとターゲット層１２を形成する金属材料１２ａとが接合して一体化する。
【００２８】
また、容器２０と蓋体２１も加熱圧縮の作用によって金属材料１２ａおよび熱拡散材料１１ａと接合してしまい一個の塊となる。そこで、この塊を機械加工等によって切断または研削することにより、ターゲット層１２と熱拡散層１１の積層体１３を切り出す（図３（ｂ））。熱拡散層１１は、熱拡散材料１１ａが焼結して形成されたものである。
【００２９】
上記の工程により形成されたターゲット層１２と熱拡散層１１の積層体１３を、固定ターゲットの形態をした基台１０にろう付けする。このときターゲット層１２を外側に配置し、熱拡散層１１の裏面を基台１０に接合する。以上の工程をもって、図３（ｃ）に示すようなＸ線管ターゲットが完成する。
【００３０】
図５は本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第３の製造方法を示す工程図である。
同図に示す製造方法は、基台１０を形成する金属材料１０ａの外側に熱拡散材料１１ａを配置し、これら各材料１０ａ，１１ａを加熱圧縮することにより一体化するとともに熱拡散材料１１ａを固める第１加熱圧縮工程（同図（ａ））と、この第１加熱圧縮工程によって得られた塊から熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出す工程（同図（ｂ））と、該基台１０における熱拡散層１１の外側にターゲット層１２を形成する金属材料１２ａを配置し加熱圧縮する第２加熱圧縮工程（同図（ｃ））と、この第２加熱圧縮工程によって得られた塊からターゲット層１２および熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出す工程（同図（ｄ））とから構成されている。
【００３１】
第１加熱圧縮工程（同図（ａ））では、まず加圧に耐えうる鉄製の容器２０の内部に基台１０を形成する円柱状の金属材料１０ａを配置し、この金属材料と容器２０の内周との間に、粉末状の熱拡散材料１１ａを充填する。熱拡散材料１１ａは、図３に示した製造方法で用いたものと同様である。
【００３２】
基台１０を形成する金属材料１０ａと熱拡散材料１１ａとを容器２０内に配置した後、容器２０の開口部を鉄製の蓋体２１によって閉塞するとともに、蓋体２１と容器２０を溶接して一体化する。蓋体２１には、図３に示した製造方法と同じく容器２０内部の空気を排気するための吸引口２２が設けてあり、この吸引口２２を図示しない真空ポンプに連通させ、容器２０の内部を真空びきする。
【００３３】
充分な真空びきを行った後、吸引口２２を閉塞して真空ポンプから切り離し、容器２０を加圧装置の加圧室内に挿入配置する。加圧装置としては、図４に示したようなＨＩＰを用い、加圧室３０内に容器２０を挿入配置した後、その周囲から均等に圧力を加えるとともに、所定の温度に加熱する。この加熱圧縮を適宜の時間継続することにより、熱拡散材料１１ａが焼結するとともに、熱拡散材料１１ａと基台１０を形成する金属材料１０ａとが接合して一体化する。
【００３４】
また、容器２０と蓋体２１も加熱圧縮の作用によって金属材料１０ａおよび熱拡散材料１１ａと接合してしまい一個の塊となる。そこで、この塊を機械加工等によって切断または研削することにより、熱拡散層１１が外周に形成された基台１０を円柱形状に切り出す（図５（ｂ））。熱拡散層１１は、熱拡散材料１１ａが焼結して形成されたものである。
【００３５】
次いで、第２加熱圧工程（図５（ｃ））を実施する。この工程では、熱拡散層１１が形成された基台１０の外周に、ターゲット層１２を形成する管状の金属材料１２ａを配置するとともに、さらにこの金属材料１２ａの外周に鉄製の環状部材１４を外嵌する。ここで、ターゲット層１２を形成する金属材料１２ａの内周面には、接合剤としてのチタンを０．２μｍ程度の厚さでメッキまたは蒸着しておく。また、基台１０と環状部材１４の間は、溶接して一体化しておく。
【００３６】
このようにして熱拡散層１１が形成された基台１０、ターゲット層１２を形成する管状の金属材料１２ａ、および鉄製の環状部材１４を組み合わせた処理対象を、加圧装置の加圧室内に挿入配置する。加圧装置としては、第１加熱圧縮工程と同様、図４に示したようなＨＩＰを用い、加圧室３０内に処理対象を挿入配置した後、その周囲から均等に圧力を加えるとともに、所定の温度に加熱する。この加熱圧縮を適宜の時間継続することにより、接着剤としてのチタンが液相拡散して基台１０とターゲット層１２を形成する管状の金属材料１２ａとが接合される。
【００３７】
また、鉄製の環状部材１４も加熱圧縮の作用によって基台１０およびターゲット層１２を形成する管状の金属材料１２ａと接合してしまい一個の塊となる。そこで、この塊を機械加工等によって切断または研削することにより、ターゲット層１２および熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出すとともに、その基台１０を回転ターゲットの形態に加工する（図５（ｄ））。このようにしてターゲット層１２の裏面側に熱拡散層１１が形成されたＸ線管ターゲットが完成する。
【００３８】
図６は本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第４の製造方法を示す工程図である。
上述した第３の製造方法では、２回の加熱圧縮工程が必要となり作業工数が多い。第４の製造方法ではこの点を改善し、１回の加熱圧縮工程によりＸ線管ターゲットを製造できるようにしてある。
【００３９】
この第４の製造方法は、基台１０を形成する金属材料１０ａの外側に一定の隙間をあけてターゲット層１２を形成する環状の金属材料１２ａを配置するとともに、基台１０を形成する金属材料１０ａとターゲット層１２を形成する環状の金属材料１２ａとの隙間に、熱拡散層１１を形成する熱拡散材料１１ａを充填し、これら各材料１０ａ，１１ａ，１２ａを加熱圧縮することにより一体化するとともに熱拡散材料１１ａを固める加熱圧縮工程（図６（ａ））と、この加熱圧縮工程によって得られた塊からターゲット層１２および熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出す工程（図６（ｂ））とから構成されている。
【００４０】
熱拡散工程（同図（ａ））では、まず加圧に耐えうる鉄製の容器２０の内部に基台１０を形成する円柱状の金属材料１０ａを配置するとともに、その外周に一定の隙間をあけてターゲット層１２を形成する管状の金属材料１２ａを配置する。そして、各金属材料１２ａの隙間に、粉末状の熱拡散材料１１ａを充填する。熱拡散材料１１ａは、図３に示した製造方法で用いたものと同様である。
【００４１】
その後、容器２０の開口部を鉄製の蓋体２１によって閉塞するとともに、蓋体２１と容器２０を溶接して一体化する。蓋体２１には、図３に示した製造方法と同じく容器２０内部の空気を排気するための吸引口２２が設けてあり、この吸引口２２を図示しない真空ポンプに連通させ、容器２０の内部を真空びきする。
【００４２】
充分な真空びきを行った後、吸引口２２を閉塞して真空ポンプから切り離し、容器２０を加圧装置の加圧室３０内に挿入配置する。加圧装置としては、図４に示したようなＨＩＰを用い、加圧室３０内に容器２０を挿入配置した後、その周囲から均等に圧力を加えるとともに、所定の温度に加熱する。この加熱圧縮を適宜の時間継続することにより、熱拡散材料１１ａが焼結するとともに、ターゲット層１２を形成する金属材料１２ａと熱拡散材料１１ａ、および熱拡散材料１１ａと基台１０を形成する金属材料１０ａとが互いに接合して一体化する。
【００４３】
また、容器２０と蓋体２１も加熱圧縮の作用によって各金属材料１０ａ，１２ａと接合してしまい一個の塊となる。そこで、この塊を機械加工等によって切断または研削することにより、ターゲット層１２および熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出すとともに、その基台１０を回転ターゲットの形態に加工する（図６（ｂ））。熱拡散層１１は、熱拡散材料１１ａが焼結して形成されたものである。このようにしてターゲット層１２の裏面側に熱拡散層１１が形成されたＸ線管ターゲットが完成する。
【００４４】
図７は本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第５の製造方法を示す工程図である。
この第５の製造方法は、基台１０を形成する円柱状をした金属材料１０ａの外周面に、超硬材料の薄膜を気相合成して熱拡散層１１を形成する工程（同図（ａ））と、この熱拡散層１１が形成された基台１０の外周にターゲット層１２を形成する金属材料１２ａを加熱圧縮することにより一体化する加熱圧縮工程（同図（ｂ））と、この加熱圧縮工程によって得られた塊からターゲット層１２および熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出す工程（同図（ｃ））とから構成されている。
【００４５】
超硬材料の薄膜を気相合成する手法としては、第１の製造方法と同様、各種の化学的気相成長法（ＣＶＤ）が適用でき、基台１０を形成する金属材料１０ａを回転しながらその周面に熱拡散材料１１ａの薄膜を均一に気相合成していく（図７（ａ））。
【００４６】
気相合成された熱拡散材料１１ａの薄膜には、さらに接合剤としてのチタンをメッキまたは蒸着しておく。
【００４７】
次いで、加圧に耐えうる鉄製の容器２０の内部に、熱拡散材料１１ａの薄膜を形成した基台１０を配置するとともに、その外周にターゲット層１２を形成する管状の金属材料１２ａを配置する。その後、容器２０の開口部を鉄製の蓋体２１によって閉塞するとともに、蓋体２１と容器２０を溶接して一体化する。蓋体２１には、図３に示した製造方法と同じく容器２０内部の空気を排気するための吸引口２２が設けてあり、この吸引口２２を図示しない真空ポンプに連通させ、容器２０の内部を真空びきする。
【００４８】
充分な真空びきを行った後、吸引口２２を閉塞して真空ポンプから切り離し、容器２０を加圧装置の加圧室内に挿入配置する。加圧装置としては、図４に示したようなＨＩＰを用い、加圧室３０内に容器２０を挿入配置した後、その周囲から均等に圧力を加えるとともに、所定の温度に加熱する。この加熱圧縮を適宜の時間継続することにより、ターゲット層１２を形成する金属材料１２ａが熱拡散材料１１ａの薄膜を形成した基台１０の外周面に接合して一体化する。
【００４９】
また、容器２０と蓋体２１も加熱圧縮の作用によって接合してしまい一個の塊となる。そこで、この塊を機械加工等によって切断または研削することにより、ターゲット層１２および熱拡散層１１が形成された基台１０を切り出すとともに、その基台１０を回転ターゲットの形態に加工する（図７（ｃ））。このようにしてターゲット層１２の裏面側に熱拡散層１１が形成されたＸ線管ターゲットが完成する。
【００５０】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、Ｘ線管ターゲットは任意の形状に形成でき、製造方法についても適宜工程を組み替えて実施することが可能である。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば熱拡散層を形成したことにより、微少面積（焦点）の電子の照射によってターゲット層の局所に発生した熱も熱拡散層により拡散されて基台の一部に滞留することがなくなる結果、冷却効率が向上していっそう高強度のＸ線が取り出し可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの構成例を示す部分断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第１の製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第２の製造方法を示す工程図である。
【図４】ＨＩＰの構成を模式的に示した図である。
【図５】本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第３の製造方法を示す工程図である。
【図６】本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第４の製造方法を示す工程図である。
【図７】本発明の実施形態に係るＸ線管ターゲットの第５の製造方法を示す工程図である。
【図８】従来のＸ線管ターゲットを示す断面図である。
【符号の説明】
１０：基台
１１：熱拡散層
１１ａ：熱拡散材料
１２：ターゲット層
２０：容器
２１：蓋体
２２：吸引口
３０：加圧室
３１：ヒータ
３２：排気管
３３：ガス供給管
【図１】
0003731136.tif 000002
【図２】
0003731136.tif 000003
【図３】
0003731136.tif 000004
【図４】
0003731136.tif 000005
【図５】
0003731136.tif 000006
【図６】
0003731136.tif 000007
【図７】
0003731136.tif 000008
【図８】
0003731136.tif 000009