(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の露光法と第２の露光法を併用する露光工程のパターンデータ作成方法であって、前記第２の露光法のパターンデータに付加する重ねしろを作成する際に、前記第２の露光法のパターンデータを所望の方向に所望の寸法だけ移動させ、前記第１の露光法のパターンデータと論理積（ＡＮＤ）をとることで重ねしろを作成することを特徴とするパターンデータ作成方法。
【請求項２】
第１の露光法と、前記第１の露光法より解像度が高い第２の露光法を併用する露光工程のパターンデータ作成方法であって、前記第２の露光法のパターンデータに付加する重ねしろを作成する際に、前記第２の露光法のパターンデータを所望の寸法だけパターン輪郭線を広げ、前記第１の露光法のパターンデータと論理積（ＡＮＤ）をとることで重ねしろを作成することを特徴とするパターンデータ作成方法。
【請求項３】
第１の露光法と、前記第１の露光法より解像度が高い第２の露光法を併用する露光工程のパターンデータ作成方法であって、前記第２の露光法のパターンデータに付加する重ねしろに対して、前記第１の露光法のパターンと、重ねしろを持たない前記第２の露光法のパターンの境界線に、垂直な方向の重ねしろの他に、更に本来の設計パターン上だけに生成された、境界線に平行な重ねしろを付加することを特徴とするパターンデータ作成方法。
【請求項４】
前記第１の露光法と前記第２の露光法の相対的な位置ずれが、前記第２の露光法のパターンデータの短辺長さより大きくなった場合に、前記第１の露光法と前記第２の露光法によって形成されたパターンが断線する場所に限定して、境界線に平行な重ねしろを付加することを特徴とする請求項３記載のパターンデータ作成方法。
【請求項５】
前記第１の露光法のパターンと重ねしろを持たない前記第２の露光法のパターンの境界線に平行な方向の重ねしろを作成する過程に、境界線に垂直な重ねしろを境界線に垂直な方向に移動させる操作と、移動させた重ねしろを太らせる操作と、太らせたパターンと前記第１の露光法のパターンとの論理積（ＡＮＤ）をとる操作とを含むことを特徴とする請求項３記載のパターンデータ作成方法。
【請求項６】
境界線に平行な方向の重ねしろが必要な境界線に垂直な重ねしろを選別する過程において、境界線に垂直な重ねしろを境界線に平行な方向に移動させる操作と、移動させた重ねしろと前記第１の露光法のパターンとの論理積（ＡＮＤ）をとる操作と、論理積（ＡＮＤ）をとった結果を境界線に平行な方向に移動させる操作と、論理積（ＡＮＤ）をとった結果を移動させたパターンを、もとの境界線に垂直な重ねしろから除く操作とを含むことを特徴とする請求項４記載のパターンデータ作成方法。
【請求項７】
前記第１の露光法として光露光、前記第２の露光法として電子線露光を用いることを特徴とする請求項１〜６いずれか記載のパターンデータ作成方法
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はパターンデータ作成方法に関し、特に第１の露光法と第２の露光法を併用して露光する露光方法において、それぞれの露光方法の位置ずれに伴う断線の発生を防ぐパターンデータ作成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
リソグラフィー技術の１つに、２つの露光法（第１の露光法と第２の露光法）を併用して用いる露光方法がある。その中で、同一の感光材料を露光する方法は、イントラレベル・ミックス・アンド・マッチ（Intra-Level Mix ＆ Match，IL M＆M ）と呼ばれる。第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いるIL M＆M では、ある基準寸法Ｌth以下のパターン（＝光露光の解像度以下のパターン）を解像度に優れた電子線露光で露光し、残りのパターンをスループットの高い光露光で露光することによって、解像度とスループットを両立させることが可能である（以下、本明細書では、２つの露光法のうち、解像度が優れている露光法を第２の露光法とする）。
【０００３】
このようなIL M＆M では、少なくとも、いずれかの露光パターンデータに重ねしろを設けなければならない。なぜなら、それぞれの露光パターンは多かれ少なかれ設計位置からずれてしまうので、異なる露光方法で露光されたパターンが接する境界領域で、パターンの断線がおこるからである。パターンの断線は集積回路の誤動作につながる致命的な欠陥となる。
【０００４】
IL M＆M において、重ねしろを付加した露光パターンデータの作成方法は、例えば、１９９５年にELSEVIERから発行されたマイクロエレクトロニック・エンジニアリング（Microelectronic Engineering ）第２７巻の第２３１頁から第２３４頁に掲載された“Electron beam/DUV intra-level mix-and-match lithography for random logic 0.25 μm CMOS”と題するR.Jonckheereによる論文に示されている方法がある。
【０００５】
この論文では、０．４μｍ以下のパターンを解像度に優れた電子線露光で露光し、残りのパターンをスループットの高いＫｒＦ露光で露光するIL M＆M を、ＣＭＯＳ作製工程のゲート露光工程に適用した例が述べられている。電子線露光パターンとＫｒＦ露光パターンの境界領域では、ＫｒＦ露光パターンが０．１μｍだけ電子線露光パターンに設計上重なるように重ねしろが付加されている。
【０００６】
しかし、このように、重ねしろを解像度が劣る光露光パターンデータに付加する方法は、重ねしろを付加した部分が本来の設計で規定されている寸法から大きく変化してしまう。また、付加した重ねしろによって、下地に対する位置合わせマージンが減少する問題も生じる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このため、例えば、特開平１１−２０４４０７号公報に示されているように、重ねしろを解像度に優れた電子線露光パターンデータに付加する方法が考えられた。特開平１１−２０４４０７号公報では、０．２５μｍ以下のパターンを電子線露光で露光し、残りのパターンをＫｒＦ露光で露光するIL M＆M が述べられている。
【０００８】
図１７は、特開平１１−２０４４０７号公報のパターンデータ作成手順を説明する図である。図１７に示すように、このパターンデータ作成方法では、まず、設計パターンデータＤ１から、ある基準寸法Ｌth以上のパターンを抜き出し（Ｐ１）、光パターンデータＤ２とする。この光露光パターンデータＤ２はその後レチクル作製用データに変換され、最終的に光露光用レチクルが作製される。
【０００９】
次に、電子線露光パターンデータの作成方法について説明する。まず、設計パターンデータＤ１をΔＷ１（＞０）だけ細らせる（Ｐ２）。次に、Ｌth−２ΔＷ１を基準寸法とし、これより小さいパターンを抜き出し（Ｐ３）、重ねしろをもたない電子線露光パターンデータＤ３とする。その後、抜き出した電子線露光パターンデータＤ３をΔＷ２（＞０）だけ太らせる（Ｐ４）。こうして、電子線露光パターンデータ（重ねしろあり）Ｄ４ができあがる。その後、重ねしろを持つ電子線露光パターンデータＤ４は、使用する電子線描画装置用データに変換され、電子線描画に用いられる。
【００１０】
次に、図１７の作成手順によって、どのように重ねしろを付加した電子線露光パターンデータＤ４が作成されるかを、図１８を用いて説明する。図１８では、図１８（Ａ）に示す様に、最小寸法Ｌ１が２ΔＷ１以下の設計パターン１と最小寸法Ｌ２が２ΔＷ１より大きい設計パターン２の２つの場合を扱う。なお、Ｌ１とＬ２は電子線露光パターンと光露光パターンを分離する際の基準寸法Ｌthより、共に小さいとする。
【００１１】
まず、設計パターン１、２をΔＷ１（＞０）だけ細らせる操作（図１７のＰ２）を行う。すると、図１８（Ｂ）に示されるように、パターンが細る。しかし、設計パターン１は、最小寸法Ｌ１が２ΔＷ１より小さいため、電子線露光パターンとなる部分が消滅してしまい、光露光パターンとなる部分３、４だけになる。一方、設計パターン２は、Ｌth−２ΔＷ１を基準寸法とすることにより、光露光パターンとなる部分５、６と電子線露光パターンとなる部分７とを分離することができる。
【００１２】
次に、電子線露光パターンとなる部分７に対して、ΔＷ２（＞０）だけ太らせる操作（図１７のＰ４）を行う。すると、図１８（Ｃ）のように、ΔＷ１＋ΔＷ２の重ねしろ９、１０を有する電子線露光パターン８が得られる。ここに、ΔＷ１＝ΔＷ２ならば、重ねしろの部分以外の設計パターン寸法を変化させることはない。
【００１３】
このように、図１７で示された作成手順を用いれば、設計パターンデータＤ１から重ねしろを付加した電子線露光パターンデータＤ４を得ることができる。しかし、図１７の作成手順は、最小寸法が２ΔＷ１以下のパターンに対しては、図１８で示したように、パターンが消失してしまうため、適用できない。ΔＷ１を２ΔＷ１が最小寸法以下になるように設定することも可能である。しかし、この場合、重ねしろの大きさがΔＷ１＋ΔＷ２であるため、必要な重ねしろの大きさを得ることができなくなる。また、ΔＷ１を小さくして、ΔＷ２をその分大きくすれば、必要な重ねしろの大きさは得ることができるが、パターン操作後に、重ねしろの部分以外の設計寸法を変化させてしまうことになる。
【００１４】
このような問題を回避するするため、図１９に示すように、特開平１１−２０４４０７号公報に示された例では、ΔＷ１を最小寸法パターンが消失しない程度に小さくし、生成する重ねしろが小さくなる欠点を許容する代わり、この後に電子線露光パターンデータの短辺をΔＷ３だけ移動させる操作Ｐ５を行うことによって、必要な大きさの重ねしろΔＷ１＋ΔＷ２＋ΔＷ３を得る方法が示されている。しかし、この方法を、現在一般に用いられているＣＡＤシステムで行うことはできない。なぜなら、通常のパターン操作では、すべての図形の短辺位置だけを任意の量移動させる機能がないからである。現在のＣＡＤシステムでも、指定した図形を別の図形に置き換えることは可能である。
【００１５】
しかし、長辺の長さが様々である電子線露光パターンデータを全てもらすことなく指定し、必要な重ねしろを持つパターンに置き換えることは、集積回路のような膨大なパターンを扱う場合、現実的に不可能である。故に、特開平１１−２０４４０７号公報の上述した方法は、現在一般に用いられているＣＡＤシステムで、実質的に、行うことはできない。
【００１６】
また、仮にできたとしても、電子線露光パターンが光露光パターンと接することがなく、単独で存在している場合、問題が生じる。図２０は、重ねしろを持たない電子線露光パターン１１が光露光パターン１２、１３と接する場合と、重ねしろをもたない電子線露光パターン１６が光露光パターンと接することなく単独で存在している場合について、図１９の方法を適用した例である。図１９のＰ４の操作まで行うと、電子線露光パターン１１は、重ねしろΔＷ１＋ΔＷ２が付加された電子線露光パターン１４になる。
【００１７】
一方、単独で存在する電子線露光パターン１６は、全く同じ電子線露光パターン１７になる。この後、短辺位置をΔＷ３だけ移動させる操作（図１９のＰ５）を行うと、電子線露光パターン１４は、重ねしろの大きさがΔＷ１＋ΔＷ２＋ΔＷ３になった電子線露光パターン１５になり、必要な大きさの重ねしろが得られる。しかし、電子線露光パターン１７は、本来、重ねしろを付加する必要がないにもかかわらず、重ねしろをもたない電子線露光パターン１６に対して、２ΔＷ３だけ長くなった電子線露光パターン１８になる。このように、図１９の方法は、光露光パターンと接することなく単独で存在する電子線露光パターンの寸法を変化させてしまう問題を持っている。
【００１８】
図１７、図１９に示す方法のもう１つの問題は、図２１のように設計パターンデータＤ１が旗型パターン１９を含む場合に限って生じる可能性がある問題である。設計パターンデータＤ１が非旗型パターン２０だけからなる場合、問題は生じない。旗型パターン１９の場合、図２２に示すように、電子線露光パターン２１と光露光パターン２２、２３の相対的な位置ずれが、電子線露光パターン２１の短辺長さよりも小さい場合、パターンは断線しない。しかし、電子線露光パターン２４と光露光領域２２、２３の相対的な位置ずれが、電子線露光パターン２４の短辺長さよりも大きい場合、パターンが断線してしまう。このような問題は、パターンの微細化が進み、電子線露光パターンの短辺長さが小さくなるほど、深刻な問題になる。
【００１９】
従来技術の第１の問題点は、微細なパターンに重ねしろを付加できないことである。従来の方法では、パターン作成の最初の寸法操作で、必ずΔＷ１（＞０）だけパターンを細らせる操作を行わなければならない。このため、２ΔＷ１以下のパターンに対しては、ΔＷ１だけパターンを細らせる操作を行った段階でパターンデータが消失してしまい、重ねしろを付加することができない。また、この問題を回避しようとする方法では、現在一般に用いられているＣＡＤシステムを用いて実質的に行うことができず、仮にできた場合でも、一部のパターンの寸法が異なる結果が生じる。
【００２０】
第２の問題点は、設計パターンデータが旗型パターンを含み、かつ境界領域で２つの露光方法で露光されたパターンの相対的な位置ずれが、解像度に優れた露光法のパターン短辺よりも大きい場合、パターン断線が生じることである。
【００２１】
本発明の第１の目的は、どのような微細なパターンに対しても適用でき、また異なる露光方法の境界領域に重ねしろを付加する以外は、設計パターンの寸法を変化させないパターンデータ作成方法を提供することである。
【００２２】
本発明の第２の目的は、設計パターンデータが旗型パターンを含む場合に、パターン断線が生じないようなパターンデータ作成方法を提供することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターンデータ作成法は、第１の露光法と第２の露光法を併用する露光工程のパターンデータ作成方法において、第２の露光法のパターンデータに付加する重ねしろを作成する際に、第２の露光法のパターンデータを、所望の方向に所望の寸法だけ移動させ、第１の露光法のパターンデータと論理積（ＡＮＤ）をとることで重ねしろを作成することを特徴とする。
【００２４】
もしくは、第１の露光法と、この第１の露光法より解像度が高い第２の露光法を併用する露光工程のパターンデータ作成方法において、第２の露光法のパターンデータに付加する重ねしろを作成する際に、第２の露光法のパターンデータを所望の寸法だけパターン輪郭線を広げ、第１の露光法のパターンデータと論理積（ＡＮＤ）をとることで重ねしろを作成することを特徴とする。
【００２５】
更に別の特徴として、第１の露光法と、前記第１の露光法より解像度が高い第２の露光法を併用する露光工程のパターンデータ作成方法であって、前記第２の露光法のパターンデータに付加する重ねしろに対して、前記第１の露光法のパターンと、重ねしろを持たない前記第２の露光法のパターンの境界線（なお、本明細書において、単に境界線と言えば、第１の露光法のパターンと重ねしろをもたない第２の露光法のパターンとの境界線を示す）に、垂直な方向の重ねしろの他に、更に本来の設計パターン上だけに生成された、境界線に平行な重ねしろも、付加することがある。
【００２６】
この際に、第１の露光法と第２の露光法の相対的な位置ずれが、第２の露光法のパターンデータの短辺長さより大きくなった場合に、第１の露光法と第２の露光法によって形成されたパターンが断線する場所に限定して、境界線に平行な重ねしろを付加できることも特徴の１つである。
【００２７】
第１の露光法のパターンと重ねしろを持たない第２の露光法のパターンの境界線に平行な方向の重ねしろを作成する過程では、境界線に垂直な重ねしろを境界線に垂直な方向に移動させる操作と、移動させた重ねしろを太らせる操作と、太らせたパターンと第１の露光法のパターンとの論理積（ＡＮＤ）をとる操作を含むことを特徴としている。
【００２９】
さらに、境界線に平行な方向の重ねしろが必要な境界線に垂直な重ねしろを選別する過程では、境界線に垂直な重ねしろを境界線に平行な方向に移動させる操作と、移動させた重ねしろと第１の露光法のパターンとの論理積（ＡＮＤ）をとる操作と、論理積（ＡＮＤ）をとった結果を境界線に平行な方向に移動させる操作と、論理積（ＡＮＤ）をとった結果を移動させたパターンを、もとの境界線に垂直な重ねしろから除く操作を含むことを特徴としている。
【００３０】
本発明のパターンデータ作成方法では、主に、第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いることを想定している。
【００３１】
本発明の作用を述べる。第１の露光法のパターンデータと重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータに分離した後、重ねしろを発生させる過程で、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータに対して、寸法を細らせる操作を行わなければ、どんなに微細なパターンが含まれていても、パターンが消失することはない。従って、扱えるパターンの大きさに制限を課す必要がなくなる。
【００３２】
また、重ねしろを発生させる際に、発生させる重ねしろの大きさ分だけ、設計位置から移動させた、もしくは太らせた第２の露光法のパターンデータと、第１の露光法のパターンデータが重なる領域を、重ねしろとして用いれば、重ねしろは必ず第１の露光法のパターンと重ねしろを持たない第２の露光法のパターンの境界領域にのみに発生する。従って、第１の露光法のパターンに接しない第２の露光法のパターンが存在しても、この第２の露光法のパターンには重ねしろが付加されず、設計寸法から変化することはない。
【００３３】
さらに、設計パターンデータに、旗型パターンが含まれる場合、境界線に垂直な方向だけでなく、平行な方向にも、重ねしろを設けておけば、第２の露光法のパターンがその短辺長さ分だけ平行な方向に位置ずれをおこしても、平行な方向の重ねしろが第１の露光法のパターンと第２の露光法のパターンをつなぎ、パターン断線を防ぐことができる。この際、必要な部分だけに、境界線に平行な重ねしろを加えれば、スループットの低下も最小限におさえることができる。
【００３４】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態であるパターンデータ作成方法の手順を示す図である。パターンデータ作成方法は、設計パターンデータＤ１から、第１の露光法のパターンデータＤ２と重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４を分離する過程Ｐ１１と、第１の露光法のパターンデータＤ２と重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４から、境界線に垂直な重ねしろＤ５、Ｄ６、Ｄ７、Ｄ８を発生させる過程Ｐ１２と、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４と境界線に垂直な重ねしろＤ５、Ｄ６、Ｄ７、Ｄ８を足しあわせる過程Ｐ１３の３つの過程からなる。境界線に垂直な重ねしろを発生させる過程Ｐ１２で出力データが、２次元平面の各方向、＋Ｘ方向、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、−Ｙ方向の４つ（Ｄ５、Ｄ６、Ｄ７、Ｄ８）存在するのは、各方向について等価なパターン操作を行うためである。
【００３５】
次に、設計パターンデータＤ１から、第１の露光法のパターンデータＤ２と重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４を分離する過程Ｐ１１を、図２を用いて説明する。過程Ｐ１１は図２に示す３つの操作Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３から構成される。まず、設計パターンデータＤ１に対して、Ｌth／２だけ細らせる操作Ｓ１を行う。ここに、Ｌthは、第１の露光法のパターンデータと第２の露光法のパターンデータを分離する際の基準となる寸法である。操作Ｓ１により、パターンの輪郭線がＬth／２だけ内側に移動する。従って、パターン寸法がＬth以下のパターンは、操作Ｓ１によって消滅する。
【００３６】
次に、操作Ｓ１を行った結果のパターンに対して、Ｌth／２だけ太らせる操作Ｓ２を行う。操作Ｓ２を行うと、設計パターンの寸法がＬthより大きいパターンは操作Ｓ１で細らせた分、操作Ｓ２で太らせたことになるので、設計パターンに戻る。設計パターンの寸法がＬth以下のパターンはすでに消滅しているので、操作Ｓ２の影響を受けず、消滅したままである。従って、設計パターンデータＤ１からパターン寸法がＬthより大きいパターンを選別できる。選別したＬthより大きいパターンを第１の露光法のパターンデータＤ２とする。さらに、設計パターンデータＤ１から第１の露光法のパターンデータＤ２をひくと、パターン寸法がＬth以下のパターンが残るので、これを第２の露光法のパターンデータＤ４とする。ただし、この段階で、第２の露光法のパターンデータＤ４は重ねしろを持たない。
【００３７】
次に、図３により、第１の露光法のパターンデータＤ２と重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４から、境界線に垂直な重ねしろＤ５、Ｄ６、Ｄ７、Ｄ８を発生させる過程Ｐ１２について説明する。過程Ｐ１２は、Ｘ方向、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、−Ｙ方向の各方向について、それぞれ２つの操作から構成される。各方向の操作は等価であるので、ここでは、＋Ｙ方向について説明する。
【００３８】
まず、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４を＋Ｙ方向にΔＷｙ⊥（＞０）移動させる操作Ｓ６を行う。ここに、ΔＷｙ⊥は、最終的に、＋Ｙ方向の境界線に垂直な重ねしろの大きさになるので、必要な量を指定する。次に、操作Ｓ６の結果のパターンと第１の露光法のパターンデータＤ２との論理積（ＡＮＤ）をとる操作Ｓ１０を行うことで、２つのパターンの重なっている部分を抜き出し、これを＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ７とする。仮に、重ねしろのない第２の露光法のパターンデータＤ４に、第１の露光法のパターンと接しない第２の露光法のパターンが含まれていても、このパターンに対しては、操作Ｓ１０を行ったとき、重ねしろが生じない。従って、不必要な重ねしろが付加されてパターン寸法が変化する従来技術の問題は生じない。
【００３９】
−Ｙ方向については、重ねしろのない第２の露光法のパターンデータＤ４の移動方向を、＋Ｙ方向の場合と逆にして操作Ｓ７を行い、その後、第１の露光法のパターンデータＤ２とＡＮＤをとる操作Ｓ１１を行えばよい。
【００４０】
＋Ｘ方向の場合、重ねしろのない第２の露光法のパターンデータＤ４を、＋Ｘ方向に、ΔＷｘ⊥（＞０）平行移動させる操作Ｓ４を行い、その後、第１の露光法のパターンデータＤ２とＡＮＤをとる操作Ｓ８を行えばよい。
【００４１】
−Ｘ方向の場合、重ねしろのない第２の露光法のパターンデータＤ４の移動方向を、＋Ｘ方向と逆にして操作Ｓ５を行い、その後、第２の露光法のパターンデータＤ２とＡＮＤをとる操作Ｓ９を行えばよい。
【００４２】
重ねしろのない第２の露光法のパターンデータＤ４、＋Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ５、−Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ６、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ７、−Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ８から重ねしろを有する第２の露光法のパターンデータＤ９を作成する過程Ｐ１３は、単純に、これらのパターンの論理和（ＯＲ）をとるだけである。
【００４３】
なお、本実施形態では、予め重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４に対して、ある方向の重ねしろ⊥が不要であることが既知である場合（例えば、集積回路のゲート露光工程で、ゲート幅の方向がすべて同一の方向である場合）、特定の方向の操作は省略することが可能である。
【００４４】
また、本実施形態では、設計パターンデータＤ１に旗型パターンが含まれる場合は、第２の問題点がひきつづき残る。したがって、設計パターンＤ１に旗型パターンが含まれない場合、もしくは、第１の露光法のパターンと第２の露光法のパターンの境界領域において、その相対的な位置ずれが、第２の露光法のパターンの短辺寸法Ｌより小さくなる場合に適用可能である。
【００４５】
図４は集積回路のゲート露光工程に対して第１の実施形態を適用した実施例である。第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いる。まず、図４（Ａ）に示す様に、設計パターン３１から、光露光パターン３４、３５と重ねしろをもたない電子線露光パターン３６を生成する過程Ｐ１１を行う。設計パターン３１をＬth／２だけ細らせる操作Ｓ１を行うことで、設計パターン３１から、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６となる部分が消失する。
【００４６】
次に、パターン３２、３３を、Ｌth／２太らせる操作Ｓ２を行うことで、光露光パターン３４、３５が得られる。次に、設計パターン３１から、光露光パターン３４、３５をひく操作Ｓ３を行うことで、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６が得られる。
【００４７】
次に、光露光パターン３４、３５と重ねしろをもたない電子線露光パターン３６の境界線に垂直な方向の重ねしろを生成する過程Ｐ１２を行う。図４（Ｂ）に示す様に、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６を＋Ｘ方向に、ΔＷｘ⊥だけ移動させる操作Ｓ４を行い、パターン３７を得る。その後、パターン３７と光露光パターン３４、３５のＡＮＤをとる操作Ｓ８を行う。しかし、この場合、＋Ｘ方向の重ねしろ⊥は発生しない。
【００４８】
次に、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６を−Ｘ方向にΔＷｘ⊥だけ移動させる操作Ｓ５を行い、パターン３８を得る。その後、パターン３８と光露光パターン３４、３５のＡＮＤをとる操作Ｓ９を行う。この場合も、−Ｘ方向の重ねしろ⊥は発生しない。次に、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６を＋Ｙ方向にΔＷｙ⊥だけ移動させる操作Ｓ６を行い、パターン３９を得る。その後、パターン３９と光露光パターン３４、３５のＡＮＤをとる操作Ｓ１０を行うと、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０が得られる。
【００４９】
次に、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６を−Ｙ方向に、ΔＷｙ⊥だけ移動させる操作Ｓ７を行い、パターン４１を得る。その後、パターン４１と光露光パターン３４、３５のＡＮＤをとる操作Ｓ１１を行うと、−Ｙ方向の重ねしろ⊥４２が得られる。
【００５０】
最後に、図４（Ｃ）に示す如く、重ねしろをもたない電子線露光パターン３６と＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、−Ｙ方向の重ねしろ⊥４２を足しあわす過程Ｐ１３を行い、重ねしろを持つ電子線露光パターン４３を得る。このようにして得られた電子線露光パターン４３は、重ねしろが光露光パターン３４、３５に重なる位置にのみ、大きさΔＷｙ⊥の重ねしろを持つ。
【００５１】
次に、本発明の第２の実施の形態を説明する。図５はこの第２の実施の形態であるパターンデータ作成方法の手順を示す図である。本実施の形態のパターンデータ作成方法の構成は、第１の実施の形態とほぼ同様であるが、境界線に垂直な重ねしろを作成する過程Ｐ１２と、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータと各方向の重ねしろの和（ＯＲ）をとる過程Ｐ１５の間に、境界線に平行な重ねしろを作成する過程Ｐ１４が挿入されていることが異なっている。
【００５２】
過程Ｐ１４では、第１の露光法のパターンデータＤ２、＋Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ５、−Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ６、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ７、−Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ８から、＋Ｘ方向の重ねしろ／／Ｄ１０、−Ｘ方向の重ねしろ／／Ｄ１１、＋Ｙ方向の重ねしろ／／Ｄ１２、−Ｙ方向の重ねしろ／／Ｄ１３を作成する。
【００５３】
図６は境界線に平行な重ねしろを作成する過程Ｐ１４の構成を説明する図である。過程Ｐ１４は、＋Ｘ方向、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、−Ｙ方向の各方向について、それぞれ４つの操作から構成される。各方向の操作は等価であるので、ここでは、＋Ｙ方向を例に説明する。まず、図５の＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ７を−Ｙ方向にΔＷｙ⊥だけ移動させる操作Ｓ１４を行う。この操作によって、重ねしろ⊥Ｄ７は、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンＤ４の端に位置することになり、第１の露光法のパターンＤ２との重なりはなくなる。
【００５４】
次に、操作Ｓ１４の結果得られたパターンに対して、ΔＷｙ／／（＞０）だけ太らせる操作Ｓ１８を行う。ΔＷｙ／／は、最終的に、境界線に平行な重ねしろの大きさとなるので、必要な重ねしろの大きさとする。続いて、第１の露光法のパターンデータＤ２とＡＮＤをとる操作Ｓ２２を行うことにより、境界線に平行な重ねしろとなる部分を得ることができる。しかし、この段階では、既に前過程Ｐ１３で作成してある、境界線に垂直な＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ７と重なってしまうことになるので、重ならないように、＋Ｙ方向へΔＷｙだけ移動させる操作Ｓ２６を行い、＋Ｙ方向の重ねしろ／／Ｄ１２とする。
【００５５】
−Ｙ方向の重ねしろ／／Ｄ１３を作成する場合には、＋Ｙ方向の重ねしろ／／Ｄ１２を作成する場合と、移動方向を逆にすればよい。＋Ｘ方向の重ねしろ／／Ｄ１０を作成する場合は、まず−Ｘ方向にΔＷｘ〓（＞０）だけ移動させる操作Ｓ１２を行い、次に、ΔＷｘ／／太らせる操作Ｓ１６を行い、第１の露光法のパターンデータＤ２とＡＮＤをとる操作Ｓ２０を行う。さらに、＋Ｘ方向にΔＷｘ⊥だけ移動させる操作Ｓ２４を行い、＋Ｘ方向の重ねしろ／／Ｄ１０とする。なおΔＷｘ／／については、Ｙ方向の時と同様に、境界線に平行な重ねしろに必要な大きさとする。
【００５６】
−Ｘ方向の重ねしろ／／Ｄ１１を作成する場合は、＋Ｘ方向の重ねしろ／／Ｄ１０を作成する場合と、移動方向を逆にすればよい。
【００５７】
なお、本実施形態では、あらかじめ、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４に対して、ある方向の重ねしろ⊥が不要であることが既知である場合（例えば、集積回路のゲート露光工程で、ゲート幅の方向がすべて同一の方向である場合）、または、過程Ｐ１２の結果、境界線に垂直な重ねしろがある方向だけ生成されなかった場合、この方向の操作は省略することが可能である。
【００５８】
以上、説明してきたように、本実施形態では、設計パターンデータＤ１に旗型パターンが含まれる場合、第１の露光法のパターンと第２の露光法のパターンの境界領域において、その相対的な位置ずれが、第１の露光法のパターンの短辺寸法Ｌより大きくても、境界線に平行な重ねしろが有効に働き、パターン断線を防ぐことが可能である。
【００５９】
なお、本実施形態を適用する露光パターンが電気的な導通を必要とするものの、微細加工に用いられる場合（例えば、集積回路のゲート露光工程に用いられる場合）、境界線に平行な重ねしろの大きさΔＷｘ／／、ΔＷｙ／／は、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４の短辺長さＬ以上である大きいことが好ましい。なぜなら、旗型パターンにおいて、境界線に平行な重ねしろ部分のみで、第１の露光法のパターン部分と重ねしろを第２の露光法のパターン部分との導通がとれている場合、ΔＷｘ／／、ΔＷｙ／／が、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４の短辺長さＬより小さいと、境界線に平行な重ねしろの部分が抵抗を決めることになり、設計性能を満たすことができなくなるからである。
【００６０】
図７、図８は具体的なパターン（図４の設計パターン３１）に対し、第２の実施の形態を適用した実施例である。第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いる。図５において、境界線に垂直な重ねしろを作成する過程Ｐ１２までは、図４と同じである。図７は図５の境界線に平行な重ねしろを作成する過程Ｐ１４を示している。また、過程Ｐ１４において、各方向の操作は等価なので、＋Ｙ方向について示している。まず、図７（Ａ）に示す様に、図４の＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０を−Ｙ方向にΔＷｙ⊥だけ移動させる操作Ｓ１４を行い、パターン５１を得る。
【００６１】
次に、図７（Ｂ）に示す様に、パターン５１をΔＷｙ／／だけ太らせる操作Ｓ１８を行い、パターン５２を得る。そして、パターン５２に対して、光露光パターン３４とＡＮＤをとる操作２２を行うことで、パターン５３を得る。最後に、図７（Ｃ）に示す様に、パターン５３を＋Ｙ方向にΔＷｙ⊥だけ移動させることで、境界線に平行な重ねしろ５４を作成することができる。
【００６２】
図８は具体的なパターン（図４の設計パターン３１）に対して重ねしろをもたない電子線露光パターン３６と各方向の重ねしろを足しあわせる過程Ｐ１５を示している。図５の設計パターン３１に対しては、図５の過程Ｐ１４までを経ることによって、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、＋Ｙ方向の重ねしろ／／５４、−Ｙ方向の重ねしろ⊥４２、−Ｙ方向の重ねしろ／／５５が作成される。重ねしろをもたない電子線露光パターン３６とこれらの重ねしろを足しあわせることによって、最終的に、重ねしろをもつ電子線露光パターン５６が得られる。
【００６３】
電子線露光パターン５６は、図９に示すように、境界線に平行な重ねしろのため、Ｘ方向にずれても、その相対的なずれの量がＬ＋ΔＷｙ／／までなら、光露光パターン３４、３５と断線せず（図９（Ａ）参照）、境界線に垂直な重ねしろのため、Ｙ方向にずれても、その相対的なずれの量がΔＷｙ⊥までなら、パターン寸法が変わることなく、光露光パターン３４、３５と断線しない（図９（Ｂ）参照）。
【００６４】
次に、本発明の第３の実施の形態につき説明する。図１０はこの第３の実施の形態であるパターンデータ作成方法の手順を示す図である。本実施の形態のパターンデータ作成方法の構成は、第２の実施の形態とほぼ同様であるが、境界線に垂直な重ねしろを作成する過程Ｐ１２と、境界線に平行な重ねしろを作成する過程Ｐ１７との間に、境界線に垂直な重ねしろを選別する過程Ｐ１６が挿入されていることが異なっている。
【００６５】
過程Ｐ１６では、＋Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ５、−Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ６、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ７、−Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ８から、第１の露光法のパターンデータＤ２を用いて、旗パターンに関係しない、境界線に垂直な重ねしろを判定した上で取り除き、＋Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ１５、−Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ１６、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１７、−Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１８とする。過程Ｐ１７は、第２の実施の形態の過程Ｐ１４と、入力データが異なるだけで、操作そのものは同じである。
【００６６】
図１１は境界線に垂直な重ねしろを選別する過程Ｐ１６の構成を説明する図である。過程Ｐ１６は、＋Ｘ方向、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、−Ｙ方向について、それぞれ９つの操作から構成される。各方向の操作は等価であるので、ここでは、＋Ｙ方向を例に説明する。まず、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１７を−Ｘ方向へＬ移動させる操作Ｓ４６を行う。ここに、Ｌは第２の露光法のパターンデータＤ４の短辺長さである。
【００６７】
次に、操作Ｓ４６の結果生じたパターンと第１の露光法のパターンデータＤ２とのＡＮＤをとる操作Ｓ５０を行う。操作Ｓ５０によってパターンが生じるなら、その重ねしろ⊥には、境界線に平行な重ねしろは不要である。なぜなら、−Ｘ方向へＬの相対的な位置ずれをおこしたとき、第１の露光法のパターンデータＤ２と重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４は、断線しないからである。
【００６８】
次に、−Ｘ方向へＬの相対的な位置ずれに対して、境界線に平行な重ねしろをくわえる必要のない重ねしろ⊥を除く。このために、まず操作Ｓ５０によって生じたパターンを、＋Ｘ方向へＬ移動させる操作Ｓ５４を行う。その後、もとの＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１７から、操作Ｓ５４によって生じたパターンをひく操作Ｓ５８を行う。操作Ｓ５８を行ったとき、−Ｘ方向へＬの相対的な位置ずれに対して旗パターンの問題が生じるならば、その重ねしろ⊥は消失しない。なぜなら、操作Ｓ５０を行った際に、パターンが発生しないからである。これまでは、−Ｘ方向へＬの相対的な位置ずれが生じたとき、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１７だけで十分かどうかを調べてきた。
【００６９】
次に、＋Ｘ方向へＬの相対的な位置ずれが生じたとき、＋Ｙ方向の重ねしろＤ１７だけで十分かどうかを調べる。このためには、先ほどの場合と、重ねしろの移動方向を逆にして、等価な操作Ｓ４７、Ｓ５１、Ｓ５５、Ｓ５９を行えばよい。最後に、操作Ｓ５８の結果生じたパターンと操作Ｓ５９の結果生じたパターンを足しあわせることで、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１７のうち、旗パターンに関係する部分を選択的に取り出すことができ、これを＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ２１とする。−Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１８については、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥Ｄ１７の場合と同じ操作を行えばよい。＋Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ１５と−Ｘ方向の重ねしろ⊥Ｄ１６に対しては、重ねしろの移動方向をＹ方向にし、等価な操作を行えばよい。
【００７０】
なお、本実施の形態では、あらかじめ、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４に対して、ある方向の重ねしろ⊥が不要であることが既知である場合（例えば、集積回路のゲート露光工程で、ゲート幅の方向がすべて同一の方向である場合）、または、過程Ｐ１２の結果、境界線に垂直な重ねしろがある方向だけ生成されなかった場合、過程１６を行う前に、既に選別すべき境界線に垂直な重ねしろが存在しないので、この方向の操作は省略することが可能である。
【００７１】
また、本実施の形態による境界線に垂直なパターンの選別方法は、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４のパターン短辺長さＬがすべて同じである場合のみに適用できる。従って、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４が種々の短辺長さを持つパターンを含む場合、本実施形態は直接適用できない。この場合、図１０の、設計パターンデータＤ１から重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４と、第１の露光法のパターンデータＤ２を分離する過程Ｐ１１の後で、さらに重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４を、パターン短辺の長さ毎に、複数のパターンデータに分割する必要がある。その後、分割したそれぞれの第２の露光法のパターンデータに対して図１０のＰ１１から後の過程を行えばよい。
【００７２】
以上説明してきたように、本実施の形態では、非旗型パターンに対して、境界線に平行な重ねしろを付加しないので、第２の露光法スループットの低下を最小限におさえられる。
【００７３】
なお、本実施形態を適用する露光パターンが電気的な導通を必要とするものの微細加工に用いられる場合、第２の実施形態と同じ理由で、境界線に平行な重ねしろの大きさΔＷｘ／／、ΔＷｙ／／は、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４の短辺長さＬ以上である大きいことが好ましい。
【００７４】
図１２は具体的なパターンに対し、境界線に平行な重ねしろを選別する過程Ｐ１６を適用した実施例を示している。図１２は過程Ｐ１６のうち＋Ｙ方向の場合のみを示している。旗型パターンの例として、設計パターン３１を、非旗型パターンの例として設計パターン７０を取り上げ、それぞれの操作が旗型パターンと非旗型パターンにどのように作用するかを比較して示している。なお、第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いる。
【００７５】
図１２（Ａ）の設計パターン３１と７０に対して、図１０の過程Ｐ１２まで行うと、図１２（Ｂ）に示す＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、７１ができる。まず、図１２（Ｃ）に示す様に、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、７１を−Ｘ方向にＬだけ移動させる操作Ｓ４６を行い、パターン７３、７４を得る。その後、これらのパターンと光露光パターン３４、６９のＡＮＤをとる操作Ｓ５０を行う。
【００７６】
ここで注意すべきことは、パターン７３に対して、光露光パターン３４とＡＮＤをとる操作Ｓ５０を行うと、パターンが生じないのに対し、パターン７４に対して、光露光パターン６９とＡＮＤをとる操作Ｓ５０を行うと、パターンが生じることである。これは、旗型パターン３１の場合、境界線に平行な重ねしろがなければ、−Ｘ方向にＬの相対的な位置ずれが生じた際、断線することを示している。一方、非旗型パターン７０の場合、境界線に平行な重ねしろがなくても、−Ｘ方向にＬの相対的な位置ずれが生じた際、断線しないことを示している。
【００７７】
次に、図１２（Ｄ）に示す様に、操作Ｓ５０の結果のパターンを＋Ｘ方向にＬだけ移動させる操作Ｓ５４を行い、パターン７７を得る。旗型パターン３１に対しては、操作Ｓ５０の結果、パターンが生じないので、操作Ｓ５４を行ってもパターンはない。次に、図１２（Ｅ）に示す様に、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、７１から、操作Ｓ５４の結果、得られたパターン７７をひく操作Ｓ５８を行う。この結果、パターン８０が得られる。パターン８０は、−Ｘ方向にＬの相対的な位置ずれが生じたとき、断線を防ぐために、さらに境界線に平行な重ねしろを付加しなければならない重ねしろ⊥である。
【００７８】
さらに、図１２（Ｃ´）に示す様に、今度は、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、７１を＋Ｘ方向にＬだけ移動させる操作Ｓ４７を行い、パターン７５、７６を得る。その後、これらのパターンと光露光パターン３４、６９のＡＮＤをとる操作Ｓ５１を行う。この結果、今度は、旗型パターンに対してもパターンが生じる。これは、＋Ｘ方向にＬだけ相対的な位置ずれをおこしたときに、旗型パターンの境界線に平行な重ねしろが、断線を防ぐために有効ではないことを示している。
【００７９】
そして、図１２（Ｄ´）に示す様に、Ｓ５１の結果得られたパターンを−Ｘ方向にＬだけ移動させる操作Ｓ５５を行い、パターン７８、７９を得る。これらのパターンを、図１２（Ｅ´）に示す様に、＋Ｙ方向の重ねしろ⊥４０、７１からひく操作Ｓ５９を行うと、パターンは残らない。これは、＋Ｘ方向へＬの相対的な位置ずれに対しては、境界線に平行な重ねしろが必要でないことを示している。
【００８０】
最後に、図１２（Ｆ）に示す様に、操作Ｓ５８の結果得られたパターン８０と、操作Ｓ５９の結果得られたパターン（パターンなし）とを足しあわせる操作Ｓ６２を行い、パターン８１を得る。操作Ｓ６２では、−Ｘ方向にＬだけ相対的な位置ずれが起たとき、境界線に平行な重ねしろが必要な重ねしろ⊥８０と、＋Ｘ方向にＬだけ相対的な位置ずれがおきたとき、境界線に平行な重ねしろが必要な重ねしろ⊥（なし）を足すことによって、境界線に平行な方向（±Ｘ方向）に、相対的な位置ずれＬが生じたとき、境界線に平行な重ねしろが必要な重ねしろ⊥を得ている。この後、−Ｙ方向についても同様な操作を行う。
【００８１】
さらに、これらの結果をもとに図１０の過程Ｐ１７を行うと、旗型パターン上のみに、境界線に平行な重ねしろ８３、８４が得られる。最後に、図１３に示す様に、重ねしろを持たない電子線露光パターン３６、８２と境界線に垂直な重ねしろ４０、４２、７１、７２と境界線に平行な重ねしろ８３、８４を足しあわせる過程Ｐ１７を行うことによって、重ねしろを持つ電子線露光パターン８５、８６を得ることができる。
【００８２】
次に、本発明の第４の実施の形態について説明する。図１４はこの第４の実施の形態であるパターンデータ作成方法の手順を示す図である。本実施形態のパターンデータ作成方法は、設計パターンデータＤ１から第１の露光法のパターンデータＤ２、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４を作成する過程Ｐ１１と、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４をΔＷ（＞０）太らせる過程Ｐ１９と、過程Ｐ１９の結果と第１の露光法のパターンデータＤ２のＡＮＤをとり、重ねしろＤ２４を生成する過程Ｐ２０と、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４と重ねしろＤ２０を足しあわせ、重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータＤ２５を作成する過程Ｐ２１とからなる。
【００８３】
過程Ｐ１１は第１の実施の形態と同じであるので、ここでは、残りの過程Ｐ１９からＰ２１までを説明する。過程Ｐ１９では、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４をΔＷ太らせる。これによって、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４のうち、もともと第１の露光法のパターンＤ２と接していたパターンは、第１の露光法のパターンＤ２と重なる部分を持つようになる。次に、過程Ｐ２０を行い、過程Ｐ１９の結果と第１の露光法のパターンデータＤ２とのＡＮＤをとると、この重なりをとりだすことができ、これを重ねしろＤ２４とする。最後の過程Ｐ２１は、単純に、重ねしろをもたない第２の露光法のパターンデータＤ４と重ねしろＤ２４を足しあわすだけである。
【００８４】
以上、説明してきたように、本実施形態のパターンデータ作成方法は、最初に、重ねしろのない第２の露光法のパターンデータＤ４を太らせ、第１の露光法のパターンデータＤ２とのＡＮＤをとることだけで、重ねしろを生成するため、各方向ごとに重ねしろを作成する前３つの実施の形態に比較して、極めて少ないパターン操作で重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータＤ２１を作成することができる。
【００８５】
一方、重ねしろは、境界線に垂直な重ねしろがなく、重ねしろを持たない第２の露光法のパターンデータＤ４に、直接、境界線に平行な重ねしろが付加された形になる。このため、第２の露光法のパターンが境界線に垂直な方向に位置ずれを起すと、パターン寸法が劣化する。しかし、実質的に、パターンの劣化が問題にならない場合もあるので、その場合、本実施の形態を適用することができる。この例については後述する。
【００８６】
なお、本実施形態を適用する露光パターンが電気的な導通を必要とするものの微細加工に用いられる場合、第２、３の実施の形態と同じ理由で、ΔＷは第２の露光法のパターンデータの短辺長さＬ以上であることが好ましい。
【００８７】
次に、本実施形態のパターンデータ作成方法を、図４の設計パターン１０に対して適用した実施例を、図１５を用いて説明する。第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いる。過程Ｐ１１は図４と同じであるので、過程Ｐ１９からＰ２１までを説明する。
【００８８】
まず、図１５（Ａ）に示す様に、重ねしろを持たない電子線露光パターン３６をΔＷ太らせる過程Ｐ１９を行うと、パターン１１０になる。パターン１１０は、光露光パターン３４、３５と重なりを持つので、パターン１１０と光露光パターン３４、３５とのＡＮＤをとる過程Ｐ２０を行うことにより、重ねしろ１１１、１１２を得ることができる。重ねしろ１１１、１１２は境界線に平行な方向に対して相対的な位置ずれがＬ＋ΔＷまでなら、断線を防ぐことができ、境界線に垂直な方向に対して、相対的な位置ずれがΔＷまでなら、断線を防ぐことができる。
【００８９】
最後に、図１５（Ｂ）に示す様に、重ねしろを持たない電子線露光パターン３６と重ねしろ１１１、１１２を足しあわす過程Ｐ２１を行うことにより、重ねしろをもつ電子線露光パターン１１３が得られる。
【００９０】
図１６は、境界線に垂直な方向に位置ずれが起おき、パターン寸法が劣化しても、実質的にパターンの劣化が問題にならない例である。第１の露光法として光露光、第２の露光法として電子線露光を用いる。図１６は本実施の形態を集積回路のゲート露光工程に適用し、電子線露光パターン１１４が境界線に垂直な方向にずれ、光露光パターン３４、３５との間に、相対的な位置ずれｓを生じさせたものである。このとき、電子線露光パターン１１４と光露光パターン３４の境界領域で、重ねしろのためにパターン寸法の劣化が生じている。
【００９１】
しかし、光露光パターン３４、３５とフィールド１１５との距離Ｄが、相対的な位置ずれｓより大きければ、電子線露光パターン１１４と光露光パターン３４の境界領域で生じているパターンの劣化は実質的に問題にならない。なぜなら、実際にデバイスの性能を決定するフィールド上では、パターン寸法の劣化が起っていないからである。
【００９２】
なお、本発明は上記各実施の形態に限定されることなく、本発明の技術思想の範囲内において、適宜変更され得ることは明らかである。
【００９３】
【発明の効果】
本発明によれば、どんなに微細なパターンであっても、パターン寸法を劣化させることなく、設計パターンデータから、第１の露光法のパターンデータと重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータとを作成することができるという効果がある。また、設計パターンデータに旗型パターンが含まれる場合、旗型パターンが断線することのないような重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータを作成できるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態のパターンデータ作成方法を示す流れ図である。
【図２】図１のＰ１１過程の詳細を示す流れ図である。
【図３】図１のＰ１２過程の詳細を示す流れ図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態を具体的なパターンに適用した実施例を表す図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態のパターンデータ作成方法を示す流れ図である。
【図６】図５のＰ１４過程の詳細を示す流れ図である。
【図７】図５のＰ１４過程を具体的なパターンに適用した実施例を表す図である。
【図８】図５のＰ１５過程を具体的なパターンに適用した実施例を表す図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態の効果を示すための図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態のパターンデータ作成方法を示す流れ図である。
【図１１】図１０のＰ１６過程の詳細を示す流れ図である。
【図１２】図１０のＰ１６過程を具体的なパターンに適用した実施例を表す図である。
【図１３】図１０のＰ１７過程を具体的なパターンに適用した実施例を表す図である。
【図１４】本発明の第４の実施の形態のパターンデータ作成方法を示す流れ図である。
【図１５】図１４のＰ１８、Ｐ１９、Ｐ２０過程を具体的なパターンに適用した実施例を表す図である。
【図１６】図１４により作成した重ねしろを持つ電子線露光パターンが位置ずれした図である。
【図１７】従来のパターンデータ作成方法を示す流れ図である。
【図１８】従来のパターンデータ作成方法を具体的なパターンに適用した図である。
【図１９】従来のパターンデータ作成方法で、特に微細パターン向けのパターンデータ作成方法を示す流れ図である。
【図２０】従来のパターンデータ作成方法で、特に微細パターン向けのパターンデータ作成方法を具体的なパターンに適用した図である。
【図２１】特徴的な２種類のパターンである、旗型パターンと非旗型パターンを示した図である。
【図２２】従来のパターンデータ作成方法が、旗型パターンに対して問題を生じる場合があることを示す図である。
【符号の説明】
Ｄ１  設計パターンデータ
Ｄ２  第１の露光法のパターンデータ
Ｄ４  第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）
Ｄ９  実施形態１の方法によって作成された、重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータ
Ｄ１４  第２の実施の形態の方法によって作成された、重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータ
Ｄ２３  第３の実施の形態の方法によって作成された、重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータ
Ｄ２５  第４の実施の形態の方法によって作成された、重ねしろを持つ第２の露光法のパターンデータ
Ｐ１１  第１の露光法のパターンデータと第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）の分離過程
Ｐ１２  第１の露光法のパターンデータと第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）の境界線に垂直な重ねしろの作成過程
Ｐ１３  第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）と、実施形態１の方法で作られた各方向の重ねしろの和（ＯＲ）をとる過程
Ｐ１４  第１の露光法のパターンデータと第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）の境界線に平行な重ねしろの作成過程
Ｐ１５  第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）と、実施形態２の方法で作られた各方向の重ねしろの和（ＯＲ）をとる過程
Ｐ１６  第１の露光法のパターンデータと第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）の境界線に垂直な重ねしろの選別過程
Ｐ１７  第１の露光法のパターンデータと第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）の境界線に平行な重ねしろの作成過程
Ｐ１８  第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）と、実施形態３の方法で作られた各方向の重ねしろの和（ＯＲ）をとる過程
Ｐ１９  第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）をΔＷ太らせる過程
Ｐ２０  第１の露光法のパターンデータとΔＷ太らせた第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）の論理積（ＡＮＤ）をとる過程
Ｐ２１  第２の露光法のパターンデータ（重ねしろなし）と、実施形態４の方法で作られた各方向の重ねしろの和（ＯＲ）をとる過程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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