(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理室と、
前記真空処理室内に設置された２組の製膜機器と、
基板を水平姿勢で搬入搬出するローダ／アンローダ部と、
このローダ／アンローダ部との間で基板を受け渡しするとともに、前記真空処理室との間でも基板を受け渡しし、前記真空処理室に対して各々が別個独立に基板を出し入れする複数の搬送台車と、
これらの搬送台車ごとに前記真空処理室にそれぞれ開口形成された搬入出口と、
これらの搬入出口ごとに取り付けられ、各搬入出口を個別に開閉するゲート弁機構と、
を具備し、
前記複数の搬送台車の各々は、基板を立ち姿勢で保持する基板保持機構を備え、
前記複数の搬送台車は、一のガイドレールを走行し、前記２組の製膜機器の一方に対して基板を立ち姿勢で搬入する第１搬送台車と、前記一のガイドレールに平行な他のガイドレールを走行し、前記２組の製膜機器の他方に対して基板を立ち姿勢で搬入する第２搬送台車とを含む
分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【請求項２】
真空処理室と、
前記真空処理室内に設置された２組の製膜機器と、
前記２組の製膜機器に対して別個独立に基板を搬送する２台の搬送台車と、
これらの搬送台車ごとに前記真空処理室にそれぞれ開口形成された搬入出口と、
これらの搬入出口ごとに取り付けられ、各搬入出口を個別に開閉するゲート弁機構と
を具備し、
前記２台の搬送台車の各々は、基板を立ち姿勢で保持する基板保持機構を備え、
前記２台の搬送台車の一方は、一のガイドレールを走行し、前記２組の製膜機器の一方に対して基板を立ち姿勢で搬送し、
前記２台の搬送台車の他方は、前記一のガイドレールに平行な他のガイドレールを走行し、前記２組の製膜機器の他方に対して基板を立ち姿勢で搬送する
分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【請求項３】
上記基板保持機構は、搬送台車本体上に設けられたアームを有し、
前記アームは、搬送台車本体の長手軸に対して基板を７〜１２°傾けて支持する
請求項１又は２の分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【請求項４】
上記搬入出口は、搬送台車による基板の保持搬送姿勢に応じた開口形状をなしている
請求項１乃至３から選択される１請求項の分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【請求項５】
上記ローダ／アンローダ部において、搬送台車はそのガイドレールを軸として回転することにより、基板を水平設置状態から搬送台車にセット／アンセット可能である
請求項１の分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【請求項６】
上記ローダ／アンローダ部において、搬送台車はそのガイドレールと噛み込み連結され、一緒に回転する
請求項１又は５の分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【請求項７】
上記ローダ／アンローダ部は、搬送台車が基板を保持し搬送するための搬送路を挟むように、該搬送路の両側にそれぞれ配置されている
請求項１、５、６から選択される１請求項の分割型トレイレス斜め基板搬送システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の搬送台車を用いて真空処理室に基板をそれぞれ搬送して処理する分割型トレイレス斜め基板搬送システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、ドライエッチング等のプラズマ処理を施すための真空処理システム内において、ガラス基板を真空処理室に対して出し入れする際に基板をトレイ（ホルダ）に固定し、トレイとともに基板を搬送する方法としてトレイ搬送方式が採用されている。しかし、トレイ搬送方式は基板をトレイに固定したり取り外したりするのに時間と労力を要するとともに不純物吸着によるコンタミネーションとなるので、これに代わるものとしてトレイレス斜め搬送台車方式が開発されている。
【０００３】
トレイレス斜め搬送台車方式は、例えば特開平７−１２６８４８号公報（特願平５−２７９４９７号の明細書図面）および特願平１０−３５１３５４号の明細書図面にそれぞれ開示されているように、複数（通常は２枚）のガラス基板を支持する支持機構を備えた搬送台車で支持し、製膜室のヒータまで搬送し、ポジショナーにより基板をヒータ面に押付け、搬送台車は製膜室から退出させる。
【０００４】
図８に示すように、従来のトレイレス斜め搬送台車方式の基板搬送システム１００では、自走式の搬送台車１０６が搬送部１０４上のレール１０８に沿って真空処理室１１０に向けて基板Ｇを搬送し、シリンダ１１４でゲート弁を開け、開口した搬入出口１１２を通って台車１０６が真空処理室１１０内のレール１１８上に乗り移り、真空処理室１１０内に基板Ｇを搬送するようになっている。搬送台車１０６は２枚の基板Ｇを斜めに支持するＶ型支持機構１０７を備えており、各基板Ｇを台車左右の外側に持たせ掛け、搬送中の基板Ｇが安定しているので、特に大型の基板Ｇを搬送するのに有利である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板搬送システムでは、更に基板が大型化すると、次の（１），（２）のような不都合を生じる。
【０００６】
（１）真空処理室１１０の基板搬入出口１１２が広くなるため、これを開閉するゲート弁が特殊仕様となり装置コストが上昇するとともに、ゲート弁駆動用エアシリンダ１１４が大型化することに伴い装置全体が大型化し大重量化する。
【０００７】
（２）搬送台車１０６に基板Ｇを斜めに積み下ろしするためには基板保持力（吸着力や把持力）が大きな保持ハンドを持つ大型の多軸ロボットが必要となるため、装置コストが上昇する。
【０００８】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであって、大きな保持力を要することなく大型の基板を保持し、真空処理室の内外へ搬送することができ、真空処理室のゲート弁駆動用シリンダを小型軽量化することができる分割型トレイレス斜め基板搬送システムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る分割型トレイレス斜め基板搬送システムは、基板を減圧下で処理する真空処理室と、基板を水平姿勢で搬入搬出するローダ／アンローダ部と、このローダ／アンローダ部との間で基板を受け渡しするとともに、前記真空処理室との間でも基板を受け渡しし、前記真空処理室に対して各々が別個独立に基板を出し入れする複数の搬送台車と、これらの搬送台車ごとに前記真空処理室にそれぞれ開口形成された搬入出口と、これらの搬入出口ごとに取り付けられ、各搬入出口を個別にそれぞれ開閉するゲート弁機構と、搬送台車上にて基板を立ち姿勢で保持する基板保持機構と、を具備することを特徴とする。
【００１０】
なお、上記基板保持機構は、搬送台車本体上に直立するように設けられた複数のアームと、各アームの基部近傍に取り付けられて基板を支持する支持カムと、各支持カムを間欠的に回転させる間欠回転駆動機構と、各アームの先端近傍に取り付けられて基板を支持する保持部材と、各保持部材を揺動させる揺動機構と、を有することが好ましい。
【００１１】
上記アームは、搬送台車本体の長手軸に対して基板を７〜１２°傾けて支持することが好ましく、基板を約１０°傾けて支持することが最も好ましい。基板の傾斜角が７°を下回ると、搬送中に台車上で基板が不安定になり反対側へ倒れるおそれがあるので、傾斜角の下限値は７°とする。一方、基板の傾斜角が１２°を上回ると、ゲート弁の開口幅が広くなるとともに、搬送スペースや製膜ユニット内スペースが大きくなり、処理室内のデッドスペースが増加して真空ポンプに過大な負荷がかかるようになるので、傾斜角の上限値は１２°とする。しかし、デッドスペースの増大や真空ポンプの過負荷が大きな問題とならない場合は、傾斜角を１２°以上に、例えば２０°〜３０°とすることも可能である。
【００１２】
また、上記搬入出口は、搬送台車による基板の保持搬送姿勢に応じた開口形状をなしていることが好ましく、さらに、縦長の平行四辺形状をなしていることが好ましい。
【００１３】
上記ローダ／アンローダ部は、搬送台車が基板を保持し搬送するための搬送路を挟むように、該搬送路の両側にそれぞれ配置されていることが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照しながら本発明の好ましい実施の形態について説明する。
【００１５】
図１に示すように、分割型トレイレス斜め基板搬送システム１は、真空処理室１０と、この真空処理室１０の前後に設けられた搬送部４，２４と、この搬送部４，２４の両側に設けられたローラテーブル２，２２とを備えている。
【００１６】
一般に搬送部４，２４と真空処理室１０の前後の間にはロード室、アンロード室（図示せず）が存在し、真空処理室１０を大気圧に戻すことなく真空状態で基板Ｇを基板搬送台車６Ａ，６Ｂとともに搬入、搬出するシステムとすることがあるが、ここでは簡略化のために説明を省略する。
【００１７】
第１の搬送部４は、真空処理室１０の上流側（前方）に設けられ、それぞれが真空処理室１０に基板Ｇを１枚ずつ搬送する２台の搬送台車６Ａ，６Ｂを備えている。この搬送部４には真空処理室１０に向けてＹ軸方向に延び出す２本のリニアガイドレール８Ａ，８Ｂが敷設されている。一方のレール８Ａ上には第１の搬送台車６Ａが走行可能に設けられ、他方のレール８Ｂ上には第２の搬送台車６Ｂが走行可能に設けられている。各レール８Ａ，８Ｂの延長線上に真空処理室１０内の各レール１８Ａ，１８Ｂがそれぞれ設けられている。
【００１８】
左右一対のローラテーブル２が第１の搬送部４を間に挟むように設けられている。各ローラテーブル２上には複数の送りローラ３がそれぞれ並べられ、この上に水平に載置されたガラス基板Ｇがレール８Ａ，８Ｂと平行に送られるようになっており、ローダ（基板搬入器）として機能する。
【００１９】
第２の搬送部２４は、真空処理室１０の下流側（後方）に設けられ、それぞれが真空処理室１０から基板Ｇを１枚ずつ搬出する２台の搬送台車６Ｃ，６Ｄを備えている。この第２の搬送部２４は、実質的に第１の搬送部４と同じであり、Ｙ軸方向に延び出す２本のリニアガイドレール２８Ａ，２８Ｂと第３及び第４の搬送台車６Ｃ，６Ｄとを備えている。一方のレール２８Ａ上には第３の搬送台車６Ｃが走行可能に設けられ、他方のレール２８Ｂ上には第４の搬送台車６Ｄが走行可能に設けられている。各レール２８Ａ，２８Ｂは真空処理室１０内の各レール１８Ａ，１８Ｂの延長線上にそれぞれ設けられている。
【００２０】
左右一対のローラテーブル２２が第２の搬送部２４を間に挟むように設けられている。これらのローラテーブル２２は実質的に上記のローラテーブル２と同じであり、アンローダ（基板搬出器）として機能する。
【００２１】
図２に示すように、真空処理室１０の前面には左右一対の搬入出口１２Ａ，１２Ｂが形成され、右方の搬入出口１２Ａはシリンダ１４Ａ及びゲート１６Ａを備えたゲート弁機構により開閉され、左方の搬入出口１２Ｂはシリンダ１４Ｂ及びゲート１６Ｂを備えたゲート弁機構により開閉されるようになっている。同様に、真空処理室１０の後面にも左右一対の搬入出口１２Ｃ，１２Ｄが形成され、右方の搬入出口１２Ｃはシリンダ１４Ｃ及びゲート１６Ｃを備えたゲート弁機構により開閉され、左方の搬入出口１２Ｄはシリンダ１４Ｄ及びゲート１６Ｄを備えたゲート弁機構により開閉されるようになっている。
【００２２】
各搬入出口１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄは縦長の平行四辺形状をなし、各ゲート１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄは搬入出口１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄよりも若干大きい縦長の平行四辺形状をなしている。各ゲート１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄは各シリンダ１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄのピストンロッド１４ａにそれぞれ連結され、基台１１上に形成されたガイド溝に沿ってそれぞれが水平にスライドするようになっている。搬入出口１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄは、搬送台車６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄに支持された基板Ｇがそれぞれ通過できるぎりぎりの大きさに開口形成されている。すなわち、各搬入出口１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄの開口面積は、図８に示す従来装置１００における搬入出口１１２の開口面積の約２５％〜５０％にすぎない。このように搬入出口の各々が小さくなるので、ゲート弁駆動用シリンダ１４Ａ〜１４Ｄの各々を小型軽量とすることができる。
【００２３】
本実施形態では各ゲート１６Ａ,１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄを縦長の平行四辺形としているが、縦長の長方形のゲートを斜めにセットした状態で移動するようにしたゲート弁機構を採用するようにしてもよい。
【００２４】
図３に示すように、搬送部の各レール８Ａ，８Ｂ，２８Ａ，２８Ｂはレール回動機構９により長手軸まわりに回動自在に支持されている。レール回動機構の回転軸９ａは、一端が各レール８Ａ，８Ｂ，２８Ａ，２８Ｂの端部にそれぞれ連結固定され、他端が軸受９ａにより支持されている。回転軸９の適所に回り止め付きの固定リング９ｃが取り付けられている。固定リング９ｃの外周にはレバー９ｄが連結されており、レバー９ｄを回すと、これに伴い固定リング９ｃ及び回転軸９ａと共にレール８Ａ，８Ｂ，２８Ａ，２８Ｂが回動するようになっている。
【００２５】
レバー９ｄは図示しない油圧駆動装置により駆動される揺動機構（図示せず）に連結され、そのストローク角はおよそ８０°である。レバー９ｄが定位置にあるときは、図１に示す第２及び第４の搬送台車６Ｂ，６Ｄのように台車上の基板Ｇはほぼ直立する。このとき基板Ｇは垂直軸に対して７°〜１２°傾斜した状態で搬送台車６Ｂ，６Ｄにそれぞれ保持され、搬送可能な状態となる。一方、レバー９ｄが定位置から約８０°回された位置にあるときは、図１に示す第１及び第３の搬送台車６Ａ，６Ｃのように台車上の基板Ｇはほぼ水平になる。このとき基板Ｇはローラテーブル２から搬送台車６Ａ上に積み込み可能な状態となるか、又は搬送台車６Ｃからローラテーブル２２上に積み下ろし可能な状態となる。なお、ガラス基板Ｇの大きさは例えば１ｍ角である。板厚４ｍｍの１ｍ角サイズのガラス基板Ｇは、重量が１０ｋｇｆを上回り、かなりな重量物となるため、従来の如く基板保持力（吸着力や把持力）が大きなハンドを持つ大型多軸ロボットでの対応は難しく、本発明に係る装置を使用することが望ましい。
【００２６】
次に、図４及び図５を参照しながら搬送台車の基板保持機構について説明する。なお、４つの搬送台車６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄの構成は実質的に同じであるので、これらを代表して第１の搬送台車６Ａについて述べる。
【００２７】
搬送台車６Ａは、台車本体６１と、２本のアーム６２と、一対の支持カム６３と、間欠回転駆動機構６５と、一対の保持部材６６と、一対のストッパ６８とを備えている。台車本体６１は図示しない進退駆動機構によりレール８Ａに噛み込み連結されており、保持した基板Ｇが水平姿勢となる約８０°回動した場合であっても台車本体６１はレール８Ａから外れないようになっている。
【００２８】
これにより搬送台車６Ａとレール８Ａとのガイドした位置関係を損なうことなく保つことができるので、機構の簡便化と信頼性の向上を図ることができる。
【００２９】
２本のアーム６２は台車本体６１の長手直交軸に対して約１０°傾斜するように台車本体６１の上に直立して設けられている。アーム６２の相互間隔は基板Ｇの長辺より少し大きく、これら２本のアーム６２の間に基板Ｇがもたせ掛けられるようになっている。アーム６２は基板Ｇの重量に耐えられるように台車本体６１に強固に締結されている。アーム６２と台車本体６１は例えばステンレス鋼のような高強度で強靭な金属材料でつくられている。
【００３０】
各アーム６２の上部には保持部材６６および揺動軸６７が取り付けられ、各アーム６２の下部には支持カム６３および間欠回転駆動機構６５が取り付けられている。上部保持部材６６は揺動軸６７まわりに揺動可能に支持され、基板Ｇ支持カム６３は基板Ｇの下部を支持し、回転軸６４により間欠回転駆動機構６５に連結されている。支持カム６３は上面に凹所６３ａを有する厚みのある板カムである。
【００３１】
間欠回転駆動機構６５は、例えばゼネバストップのような機構からなり、支持カム６３を軸６４まわりに所望角度だけ間欠的に回転させうるようになっている。支持カム６３は、基板Ｇを保持搬送するときは図５の（ａ）に示すように凹所６３ａで基板Ｇの下端に接触しているが、基板Ｇを真空処理室内のヒータカバー７３に受け渡すときは図５の（ｂ）に示すように凹所６３ａから基板Ｇの下端が外れるように軸６４まわりに回転される。基板Ｇは受け渡し前後で落差ｈを生じるので、ヒータカバー７３は支持突起７３ａが基板Ｇの下端より少し下方に位置するように台車６Ａに接近するようになっている。
【００３２】
なお、ストッパ６８は基板Ｇの側端部に当接するようにアーム６２の適所に取り付けられ、これにより搬送中の基板Ｇが進行方向（Ｙ軸方向）に位置ずれするのを防止するようになっている。
【００３３】
次に、図６及び図７を参照しながら真空処理室１０について説明する。
【００３４】
真空処理室１０の中央には製膜ユニット７１が設置されている。製膜ユニット７１はプラズマＣＶＤ製膜に必要な機器要素７１ａ〜７１ｄを２組ずつ備えるものであり、このユニット７１の両面にカバー７３を介してヒータ７２が対面配置されている。
【００３５】
ヒータ７２は片面発熱型の面状ヒータエレメントからなり、図示しない上部または背面支持機構により吊り下げられている。ヒータカバー７３はヒータ７２の発熱面を保護するためのものであり、例えば４つのボールスクリュウ機構によりヒータ７２に対して可動に支持されている。ボールスクリュウ機構は、ナット７４、ステッピングモータ７５、スクリュウ７６を具備し、ヒータ７２（固定）から製膜ユニット７１（固定）までの間でヒータカバー７３を移動させるための機構である。ナット７４はヒータカバー７３の四隅近傍にそれぞれ取り付けられ、モータ７５で回転駆動されるスクリュウ７６に螺合されている。本実施形態ではボールスクリュウ機構によるヒータカバー７３の移動量は最大７０ｍｍである。このような可動ヒータカバー７３と製膜ユニット７１との間に基板Ｇが搬送台車６Ａ〜６Ｄによって搬入されるようになっている。
【００３６】
製膜ユニット７１は、図７に示すように、ポジショナー７１ａと、ガス供給機能付きラダー電極７１ｂと、製膜ユニットカバー７１ｃと、製膜ユニット温度制御ヒータ７１ｄと、排気通路７１ｅとを備えている。電極７１ｂには図示しない高周波電源およびガス供給源がそれぞれ接続されている。高周波電源は所定周波数の高周波を電極７１ｂに印可し、電極７１ａと基板Ｇとの間にプラズマを生じさせるようになっている。ガス供給源（図示せず）には反応性ガスとして例えばシランを主成分とするプロセスガスが収容されている。製膜ユニットカバー７１ｃは電極７１ｂの背後を覆うように配置されている。
【００３７】
製膜ユニット温度制御ヒータ７１ｂは製膜ユニット７１の中央に設けられている。ヒータ７１ｄの電源は図示しないコントローラに接続され、製膜ユニット７１をＣＶＤ製膜に適した温度にするように制御される。排気通路７１ｅは製膜ユニット７１の中央上部に連通し、製膜ユニット７１の内部を排気するようになっている。
【００３８】
次に、上記の分割型トレイレス斜め基板搬送システム１を用いて基板Ｇを真空処理室１０に搬送し、製膜処理する場合について概略説明する。
【００３９】
製膜予定面を上向きにしてガラス基板Ｇがローダ部としてのローラテーブル２上を搬送されてくると、図示しないセンサが基板Ｇを検知し、この検知信号に基づき送りローラ３が停止され、基板Ｇが所定の受け渡し位置で停止する。この受け渡し位置にはシリンダ１４Ａが駆動してゲート１６Ａを移動させ、搬入出口１２Ａを開けて搬送台車６Ａが待機しており、基板Ｇは２本のアーム６１の真上に位置することになる。
【００４０】
次いで、支持カム６３および保持部材６６により基板Ｇをアーム６１に保持する。基板Ｇの保持動作が完了すると、レール回動機構９により搬送台車６Ａとともに基板Ｇを直立させる。そして、真空処理室１０に向けて搬送台車６Ａを走行させる。搬送台車６Ａが接近したことをセンサ（図示せず）で検知すると、ボールスクリュウ機構によりヒータカバー７３を台車６Ａ上の基板Ｇに前進近接させるとともに、支持カム６３および保持部材６６のそれぞれを揺動回転させ、台車のアーム６１から基板Ｇを解放し、ヒータカバー７３の支持突起７３ａの上に基板Ｇを移載する。基板Ｇの受け渡し動作が完了すると、搬送台車６Ａはレール８Ａからレール１８Ａの上に乗り移り、この台車の乗り移りが完了したことをセンサ（図示せず）で検知すると、シリンダ１４Ａが駆動してゲート１６Ａを移動させ、搬入出口１２Ａを閉じる。次いで、ヒータカバー７３を製膜ユニット７１に向けて前進させ、基板Ｇの周縁部をポジショナー７１ａに押し付ける。これにより、基板Ｇとヒータカバー７３との密着度が向上する。
【００４１】
製膜ユニット７１の内部を排気しながらプロセスガスを供給するとともに、電極７１ｂに高周波を印可して電極７１ｂと基板Ｇとの間に高周波プラズマを生成する。これにより基板Ｇの表面に所望の膜が製膜される。
【００４２】
製膜処理が完了すると、シリンダ１４Ｃによりゲート１６Ｃを移動させ搬入出口１２Ｃを開け、搬送台車６Ｃを真空処理室内に搬入し、上記と逆の動作をすることにより基板Ｇを搬送台車６Ｃに受け渡す。搬送台車６Ｃは真空処理室１０を退出し、上記と逆の動作をすることによって基板Ｇをローラテーブル２２に移載する。そして、基板Ｇはアンローダ部としてのローラテーブル２２により次工程へ搬出される。
【００４３】
なお、上記実施形態では１ｍ角サイズの基板を支持し搬送する場合について説明したが、本発明はこれのみに限られることなく更に大型の基板、例えば１．２ｍ角〜１．５ｍ角サイズの大型基板を保持し搬送することも可能である。
【００４４】
また、上記実施形態では製膜予定面を上向きにして基板をローダ／アンローダ部に搬入搬出する場合について説明したが、本発明はこれのみに限られることなく、製膜ユニット７１とヒータカバー７３の傾斜方向を直交軸に対して逆方向へ約１０°傾斜させることで、製膜予定面を下向きにして基板をローダ／アンローダ部に搬入搬出することも可能である。
【００４５】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、基板を真空処理室に対して全く別個独立の２つの搬送手段により搬送し、基板を同時並行処理することができるので、一方のヒータや製膜ユニットにトラブルが生じた場合であっても他方のヒータおよび製膜ユニットには直接の影響が及ばず、半分の処理能力での稼動が可能となり、システム全体を停止する必要がない。このため、設備稼働率が大幅に向上する。
【００４６】
また、真空処理室を複数個並列に構成した実施形態において、ある１つの処理室をメンテナンスする必要が生じた場合であっても他の処理室には直接の影響が及ばない。このため、システム全体を完全に停止することなく従来に比べて設備の信頼性が向上する。
【００４７】
また、真空処理室の基板搬入出口を小さくできるので、ゲート弁駆動用シリンダが小型軽量になり、装置コストを低減することができるとともに、装置を全体として小型化することができるので、大型基板を処理するために適している。
【００４８】
さらに、従来の吸着パッドやメカニカルチャックで基板を保持するハンドをもつ多軸駆動ロボットが不要になるので、大型基板の搬送を低コストで実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る分割型トレイレス斜め基板搬送システムを示す全体斜視図。
【図２】真空室の基板搬入出口に設けられたゲート弁を示す正面図。
【図３】搬送台車用レールの回動機構を示す斜視図。
【図４】基板を保持した搬送台車を示す斜視図。
【図５】（ａ）は搬送時の基板の支持状態を説明するために搬送台車の一部を拡大して示す部分拡大図、（ｂ）は移載時の基板の支持状態を説明するために搬送台車およびヒータカバーの一部を拡大して示す部分拡大図。
【図６】製膜室の内部を透視して示す分解斜視図。
【図７】製膜室内の製膜ユニットおよびヒータユニットの一部を切り欠いて内部を示す分解斜視図。
【図８】従来の基板搬送システムを示す斜視図。
【符号の説明】
１…分割型トレイレス斜め基板搬送システム、
２，２２…ローラテーブル（ローダ／アンローダ部）、
４，４４…搬送部、
６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ…搬送台車、
６１…台車本体、
６２…アーム、
６３…支持カム、
６４…回転軸、
６５…間欠回転駆動機構、
６６…保持部材、
６７…揺動軸、
６８…ストッパ、
８Ａ，８Ｂ，１８Ａ，１８Ｂ，２８Ａ，２８Ｂ…リニアガイドレール、
９…レール回動機構、
１０…真空処理室（製膜室）、
１２Ａ，１２Ｂ…基板搬入出口、
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ…ゲート弁駆動用シリンダ、
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ…ゲート、
７１…製膜ユニット、
７１ａ…ポジショナー（周囲外枠）、
７１ｂ…ガス供給機能付ラダー電極、
７１ｃ…製膜ユニットカバー、
７１ｄ…製膜ユニット温度制御ヒータ、
７１ｅ…排気通路、
７２…ヒータ、
７３…ヒータカバー、
７３ａ…支持突起、
７４…ナット、
７５…モータ、
７６…スクリュウ、
Ｇ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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