(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
0003837439.tif 000023
［式中Ｒ1はカルボキシレート又はカルボキシル基を示す。Ｒ2はアシルアミノ基を示す。Ｒは
【化２】
0003837439.tif 000024
を示す。ここでＲ3はスルホ低級アルキル基又は基−（ＣＨ2）n−Ａ（基中、Ａは環が置換されてもよいスルホフェニル基、ｎは１〜５の整数示す。）を示す。Ｂ-は陰イオンを示す。ｆはＲ1がカルボキシレートを示す場合には０を、Ｒ1がカルボキシル基を示す場合には１を示す。Ｃで表わされる環は低級アルキル基で置換されることのある窒素数４以下の５員複素環を示す。］
で表されるセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル又はその非毒性塩。
【請求項２】
Ｒが
【化３】
0003837439.tif 000025
（Ｒ3、Ｂ-及びｆは前記に同じ）である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒが
【化４】
0003837439.tif 000026
（Ｒ3、Ｃ、Ｂ-及びｆは前記に同じ）である請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｃで表わされる環がオキサゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チアジアゾール、トリアゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール又はテトラゾールである請求項３記載の化合物。
【請求項５】
７−［２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホフェネチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メトキシ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、及び７−［  ２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩から選ばれる少なくとも一種の化合物。
【請求項６】
請求項１記載の化合物と薬学的に許容される担体とからなる、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌が起こす感染症を治療するための医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れた抗菌作用を有する新規セフェム化合物、及び該化合物を含む医薬組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
第３世代のセファロスポリンの広範な使用に伴い、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）が起こす感染症が重要な問題となっている。第３世代のセファロスポリンはグラム陰性桿菌に対する抗菌力は強いもののグラム陽性球菌に対する抗菌力が低下しているため、β−ラクタム系抗生物質に耐性の黄色ブドウ球菌が増加し、難治性感染症として深刻な問題となっている。現在ＭＲＳＡの引き起こす感染症の治療薬として有効なものとしては、ポリペプチド系抗生物質であるバンコマイシンのみであるが、バンコマイシンは湿疹、腎毒性の副作用等があり慎重な投与が必要である。
【０００３】
抗菌作用を有する３−チオビニルセファロスポリン誘導体としては、例えば、特公昭６２−１７５９２号公報及び特開昭５９−１３０２９２号公報（欧州特許公開第１１１２８１号明細書）に記載された化合物が知られている。特に、後者の公報中にはセファロスポリン骨格の３位にチオビニル−第４級アンモニウム塩を有する化合物が記載されている。しかしながら、これら先行技術には３−チオビニルセファロスポリン誘導体がＭＲＳＡに有効であるとの開示も示唆もない。
【０００４】
第４級アンモニウム塩を有するセファロスポリン化合物も数多く知られている（特開昭５９−１３０２９２号公報、国際公開ＷＯ９４／０６８０４号公報等参照）。これらの化合物は優れた抗菌活性を示すが、水に対する溶解度が低く、医薬品としての開発が断念されている。更に、一般的に従来のセファロスポリン系化合物においては、ＭＲＳＡを含むグラム陽性菌に対する抗菌活性は水溶性が高くなればその抗菌活性は低下し、逆に抗菌活性が高くなると水溶性が悪くなる等、水溶性と抗菌活性とは相反する関係にあり、高い水溶性と強い抗菌活性とを兼備するセファロスポリン系化合物の開発は非常に困難であった。近年、高い水溶性と強い抗菌活性とを兼備するセフェム化合物の開発もなされているが、斯かるセフェム化合物は極めて毒性が高く安全性の点で問題がある。而してＭＲＳＡに対して優れた抗菌活性を発現し、水に対する溶解性が高く、しかも低毒性で安全性の高いセフェム化合物の開発が要望されているが、斯かる要望を満足するセフェム化合物は未だ開発されるに至っていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、優れた抗菌力を有するセフェム化合物、殊にＭＲＳＡに対して有効であり且つ水溶性が高く、低毒性で安全性の高い新規なセフェム化合物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記課題を解決するために、種々のセフェム化合物を合成し、検討した結果、セファロスポリン骨格の３位にチオビニル−第４級アンモニウム塩を有する化合物にスルホン酸基を導入したセフェム化合物が高い水溶性及び低毒性を示し、且つ優れた抗菌活性、特にＭＲＳＡを含むグラム陽性菌に対して強い抗菌活性を有することを見い出し、ここに本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明によれば、一般式
【０００８】
【化５】
0003837439.tif 000002
【０００９】
［式中Ｒ1はカルボキシレート又はカルボキシル基を示す。Ｒ2はアシルアミノ基を示す。Ｒは
【００１０】
【化６】
0003837439.tif 000003
【００１１】
を示す。ここでＲ3はスルホ低級アルキル基又は基−（ＣＨ2）n−Ａ（基中、Ａは環が置換されてもよいスルホフェニル基、ｎは１〜５の整数示す。）を示す。Ｂ-は陰イオンを示す。ｆはＲ1がカルボキシレート（ＣＯＯ-）を示す場合には０を、Ｒ1がカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を示す場合には１を示す。Ｃで表わされる環は低級アルキル基で置換されることのある窒素数４以下の５員複素環基を示す。］
で表されるセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒性塩が提供される。
【００１２】
本発明によれば、Ｒが
【００１３】
【化７】
0003837439.tif 000004
【００１４】
（Ｒ3、Ｂ-及びｆは前記に同じ）である上記一般式（１）のセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒性塩が提供される。
【００１５】
本発明によれば、Ｒが
【００１６】
【化８】
0003837439.tif 000005
【００１７】
（Ｒ3、Ｃ、Ｂ-及びｆは前記に同じ）である上記一般式（１）のセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒性塩が提供される。
【００１８】
本発明によれば、Ｃで表わされる環がオキサゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、ピラゾール、ピロール、イミダゾール、チアジアゾール、トリアゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール、テトラゾール等の１個の酸素原子又は硫黄原子を含有することのある窒素数４以下の５員複素環である上記一般式（１）のセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒性塩が提供される。
【００１９】
更に本発明によれば、上記一般式（１）のセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒性塩から選ばれる少なくとも１種と薬学的に許容される担体とからなる、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌が起こす感染症を治療するための医薬組成物が提供される。
【００２０】
上記一般式（１）で表されるセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒性塩は、高い水溶性及び低毒性を示し、且つ優れた抗菌活性、特にＭＲＳＡを含むグラム陽性菌に対して強い抗菌活性を発現し得る化合物である。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本明細書において示される基は、より具体的にはそれぞれ次の通りである。
【００２２】
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基等を例示できる。
【００２３】
スルホ低級アルキル基としては、スルホメチル、２−スルホエチル、３−スルホプロピル、４−スルホブチル、５−スルホプロピル基等の炭素数１〜５のスルホ低級アルキル等基を例示できる。
【００２４】
Ａで表される環が置換されてもよいスルホフェニル基の置換基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基、塩素、臭素、沃素、フッ素原子等のハロゲン原子、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル等のハロゲン化メチル基、アセトキシ等のアルカノイルオキシ基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基等が例示できる。
【００２５】
Ｃで表わされる環は低級アルキル基で置換されることのある窒素数４以下の５員複素環であり、その具体例としては、オキサゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、オキサチアゾール、チアジアゾール、オキサチアジアゾール、ピラゾール、ピロール、イミダゾール、トリアゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール、テトラゾール等の１個の酸素原子又は硫黄原子を含有することのある窒素数４以下の５員複素環を挙げることができる。これらの複素環の窒素原子や炭素原子上には低級アルキル基が１個置換していてもよい。
【００２６】
Ｒ2で示されるアシルアミノ基としては、基Ｒ4ＣＨ2ＣＯＮＨ−（基中、Ｒ4は窒素原子、硫黄原子又は酸素原子を含有していてもよい、置換基を有し又は有しない５〜６員環芳香環基を示す。）、基
【００２７】
【化９】
0003837439.tif 000006
【００２８】
［基中、Ｒ5はアミノ又は保護されたアミノ基を、Ｒ6は水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、カルボキシ低級アルキル基を、ＺはＣＨ又はＮをそれぞれ示す。］
等を例示できる。
【００２９】
ここでＲ4を構成する５〜６員環芳香環基としては、具体的には、フェニル、チエニル、フリル、ピラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、トリアゾリル、オキサゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリル、オキサチアゾリル、オキサチアジアゾリル基等を例示できる。
【００３０】
また上記５〜６員環芳香環基に置換していてもよい置換基としては低級アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、カルバモイル基等が例示できる。ここで低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基等を例示できる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、沃素原子が例示できる。
【００３１】
Ｒ5で示される保護されたアミノ基としては、緩和な条件で容易に除去できる保護基を広く使用でき、具体的にはトリメチルシリル基等のトリ低級アルキルシリル基、ホルミル基、トリフルオロアセチル基、アセチル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、メトキシアセチル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のアシル系保護基、ベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等のアラルキル基系の保護基を例示できる。
【００３２】
Ｒ6で示される低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基等を例示でき、シクロ低級アルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等を例示でき、低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、クロチル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の炭素数２〜６のアルケニル基等を例示でき、低級アルキニル基としては、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、２−ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、２−ペンチニル、２−ヘキシニル基等の炭素数２〜６のアルキニル基等を例示でき、カルボキシ低級アルキル基としては、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキシブチル、５−カルボキシペンチル、６−カルボキシヘキシル基等のアルキル部分の炭素数が１〜６のカルボキシアルキル基等を例示できる。
【００３３】
Ｂ-で示される陰イオンとしては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸残基、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、２−クロロエタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、ｐ−エチルスルホン酸、ｐ−クロルスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸等の有機酸の酸残基等を例示できる。
【００３４】
セフェムカルボキシ保護エステルには、セフェム合成において汎用される保護エステル及び薬学的に許容される保護エステルが包含される。セフェム合成において汎用される保護エステルとは、β−ラクタム化合物に種々の化学的修飾を施す際に安定であり、且つ後記の薬学的に許容される保護エステルに導く際には容易に脱離させることができるエステルである。薬学的に許容される保護エステルとは、in vivoで容易に加水分解され得るものであり、ヒトの血中や組織において迅速に分解され得る非毒性のエステルである。これらエステルとしては、抗生物質の分野で通常用いられている公知のものでよく、具体的には例えば特開昭４９−８１３８０号公報及びエッチ．イー．フライン編セファロスポリン  アンドペニシリンズ、ケミストリー  アンド  バイオロジー（１９７２年  アカデミックプレス発行）に記載のものをいずれも使用できる。好ましいものとしては、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−シクロプロピルメチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル基等の炭素数１〜１８のアルキル基、ヨードデシル、クロルメチル、２，２−ジブロモエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル基等の塩素、臭素又は沃素原子が１〜３個置換したハロゲノ低級アルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−メトキシベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチル基等のニトロ基又はアルコキシ基が置換していてもよいフェニル基が１〜３個置換したメチル基、メトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロピルオキシメチル、イソプロピルオキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、イソブトキシメチル基等の低級アルコキシメチル基、アセトキシメチル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、ｎ−ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、１−アセトキシエチル、ピバロイルオキシエチル、ピバロイルオキシプロピル、１−プロピオニロキシブチル基等の低級アルキルカルボニルオキシ低級アルキル基、シクロペンチルカルボニルオキシメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル基等の炭素数５〜７のシクロアルキルカルボニルオキシ−低級アルキル基、ベンジルカルボニルオキシメチル基等のベンジルカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンゾイルオキシメチル、ベンゾイルオキシエチル基等のベンゾイルオキシ低級アルキル基、メトキシ−カルボニルオキシメチル、１−エトキシ−カルボニルオキシエチル、３−メトキシ−カルボニルオキシプロピル基等の低級アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンジルオキシメチル、ベンジルオキシエチル基等のベンジルオキシ低級アルキル基等の他、２−シアノ−１，１−ジメチルエチル、ブロモベンゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ジメチルアミノメチル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル、スクシンイミドメチル、１，１−ジメチル−２−プロペニル、１，３−ジメチル−３−ブテイル、３−フタリジル、クロトノラクトン−４−イル、γ−ブチロラクトン−４−イル、テトラヒドロピラ��ル、ジメチルアミノエチル、ジメチルクロロシリル、トリクロロシリル、（２−オキソ−１，３−ジオキソデン−４−イル）メチル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソデン−４−イル）メチル、（５−フェニル−２−オキソ−１，３−ジオキソデン−４−イル）メチル、ピリジン−１−オキサイド−２−メチル、キノリン−１−オキサイド−２−メチル基等を例示できる。
【００３５】
一般式（１）の化合物の非毒性塩としては、医薬上許容される塩類、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩等の有機カルボン酸塩、メタンスルホン酸塩、ヒドロキシメタンスルホン酸塩、タウリン塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩、アルギニン塩、リジン塩、セリン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン塩等のアミノ酸塩、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。また、本発明のセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル又はその非毒性塩は、水和物に代表される溶媒和物として存在することもある。
【００３６】
上記一般式（１）の化合物及びその非毒性塩の中で好ましいものは、７−［２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホフェネチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メトキシ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、及び７−［  ２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩から選ばれる少なくとも一種の化合物である。これらの中でも特に好ましい化合物は、７−［２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−２−メチル−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩である。
【００３７】
本発明において、本発明の化合物（１）及び原料化合物には、シス異性体、トランス異性体、及びシス，トランス混合物が包含されるものとする。
【００３８】
本発明化合物（１）については、例えばシス異性体は下記一般式（２）で表される部分構造を有する幾何異性体を意味し、トランス異性体は下記式（３）で表される部分構造を有する他の幾何異性体を意味する。
【００３９】
【化１０】
0003837439.tif 000007
【００４０】
また、本発明において、Ｒ2で示されるアシルアミノ基が基
【００４１】
【化１１】
0003837439.tif 000008
【００４２】
である場合、Ｃ＝Ｎ−ＯＲ6部分の二重結合の存在に起因する幾何異性体（シン異性体及びアンチ異性体）が存在するが、本発明の化合物にはいずれの異性体又はそれらの混合物が包含される。
【００４３】
本発明化合物（１）について、例えばシン異性体は下記式（４）で表される部分構造を有する幾何異性体を意味し、アンチ異性体は下記式（５）で表される部分構造を有する幾何異性体を意味する。
【００４４】
【化１２】
0003837439.tif 000009
【００４５】
本発明の化合物（１）及びその塩は、種々の方法によって製造されるが、その好ましい方法を示せば下記製造法−１に従い製造される。
【００４６】
【化１３】
0003837439.tif 000010
【００４７】
［式中、Ｒ7はセフェムカルボキシ保護基を、Ｒ’は
【００４８】
【化１４】
0003837439.tif 000011
【００４９】
を示す。ここでＲ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ｎ、Ｂ-及びＣは前記に同じ。〕
上記製造法−１によれば、一般式（１）で表される本発明の化合物は、一般式（６）で表されるアミン化合物と必要ならばオキシム基又はアミノ基が保護されたカルボン酸化合物又はそのカルボキシ基が活性化された反応性誘導体とを通常のアミド結合生成反応させ、次いで得られる生成物から保護基を除去することにより製造できる。
【００５０】
ここでＲ7で示されるセフェムカルボキシ基の保護基としては、トリメチルシリル基等のトリ低級アルキルシリル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｐ−ニトロベンジル基、フェナシル基等の通常この分野に用いられる、容易に除去し得るカルボキシ基の保護基を例示できる。アミノ基の保護基としては、緩和な条件で容易に除去できる保護基を広く使用でき、具体的にはトリメチルシリル基等のトリ低級アルキルシリル基、ホルミル基、トリフルオロアセチル基、アセチル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、メトキシアセチル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のアシル系保護基、ベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等のアラルキル基系の保護基を例示できる。オキシム保護基としては、アセチル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル基等の緩和な条件で容易に除去し得るこの分野で一般的に使用される保護基を例示できる。
【００５１】
一般式（６）で表されるアミン化合物とカルボン酸化合物又はその反応性誘導体との反応には、通常用いられている公知のアミド結合生成反応の条件が適用できる。
【００５２】
カルボン酸化合物の反応性誘導体の例としては、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハライド、置換リン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、炭酸アルキル、有機カルボン酸等の酸との酸無水物及び対称酸無水物、イミダゾール、ジメチルピラゾール等との活性酸アミド、ｐ−ニトロフェニルエステル、フェニルチオエステル、カルボキシメチルチオエステル又はＮ−ヒドロキシピペリジン、Ｎ−ヒドロキシサクシノイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒドロキシ化合物とのエステル等の活性エステルが挙げられる。
【００５３】
上記反応において、カルボン酸化合物を遊離のカルボン酸の状態で使用する場合には、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の縮合剤を用いることが好ましい。
【００５４】
上記反応で用いられる溶媒は反応に関与しなければ特に制限はなく、また反応温度は通常冷却下又は室温付近で行われる。溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン等のアミン類、酢酸エチル、ギ酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン等やこれらの混合溶媒を例示できる。
【００５５】
更に用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類によっては塩基性化合物の存在下に反応を行うことが好ましい場合もある。斯かる塩基性化合物としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン類、ピリジン、ピコリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセン−７等の有機塩基、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を例示できる。上記反応において一般式（６）で表されるアミン化合物に対するカルボン酸化合物又はその反応性誘導体の使用量は、通常１〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜３倍モル量程度がよい。また一般式（６）で表わされるアミン化合物に対する塩基性化合物の使用量は、通常１〜３０倍モル量程度、好ましくは２〜１０倍モル量程度とするのがよい。反応時間は通常１〜２４時間程度、好ましくは１〜６時間程度である。
【００５６】
上記で得られたアミド結合生成物から保護基を除去するには、例えば保護基がトリ低級アルキルシリル基等である場合には、水で処理することにより行うことができる。また、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の保護基である場合には、ギ酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、アニソール−トリフルオロ酢酸、酢酸、フェノール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。
【００５７】
上記反応終了後、各種の合成吸着剤やイオン交換樹脂、より具体的にはダイヤイオンＨＰ−２０、ＨＰ−２１、ＳＰ−２０７、ＣＨＰ−２０Ｐ（三菱化成工業）等のハイポーラスポリマー、アンバーライトＸＡＤ−２（ローム＆ハス社）等を用いたカラムグラフィーにより精製することにより、一般式（１）の本発明化合物を得ることができる。
【００５８】
【化１５】
0003837439.tif 000012
【００５９】
［式中Ｒ2aはオキシム基又はアミノ基が保護されたＲ2を示す。Ｒ8はハロゲン原子、低級アシルオキシ基又はスルホニルオキシ基を示す。Ｒ、Ｒ2、Ｒ3、Ｂ-及びＣは前記に同じ）
上記製造法−２によれば、一般式（１）で表される本発明化合物は、一般式（７）で表されるセファロスポリン化合物又はその塩類と一般式（８）又は（９）で表されるメルカプト化合物とを反応させ、次いで得られた化合物から保護基を除去することにより、一般式（１）の本発明化合物を得ることができる。
【００６０】
化合物（７）と化合物（８）又は化合物（９）との反応は、通常アセトン等のケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、水、リン酸緩衝液等の有機溶媒又は親水性有機溶媒と水との混合液中で行われる。上記反応の反応系内に塩基や塩類を添加することによって反応を促進させることもできる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン等のトリアルキルアミン等の有機アミンを挙げることができる。また塩類としてはテトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩が例示できる。化合物（７）と化合物（８）又は化合物（９）との使用割合としては、特に限定されるものではないが、通常化合物（７）に対して化合物（８）又は化合物（９）を１〜２０当量、好ましくは１〜５当量用いるのがよい。該反応は通常冷却下又は室温付近で行われる。
【００６１】
斯くして得られた化合物は製造法−１において示した方法により保護基の除去を行うことができ、一般式（１）の本発明化合物が容易に製造される。
【００６２】
化合物（８）においては、チオール基の結合位置によって、互変異性平衡の状態にあり、次のような関係にあり、そのような異性体は化合物それ自体同じ範疇に含まれる。このような互変異性体型を含む化合物（８）は便宜上一方の表現を用いるが他方の異性体をも包含することは言うまでもない。
【００６３】
【化１６】
0003837439.tif 000013
【００６４】
上記反応終了後、各種の合成吸着剤やイオン交換樹脂、より具体的にはダイヤイオンＨＰ−２０、ＨＰ−２１、ＳＰ−２０７、ＣＨＰ−２０Ｐ（三菱化成工業）等のハイポーラスポリマー、アンバーライトＸＡＤ−２（ローム＆ハス社）等を用いたカラムグラフィーにより精製することにより、一般式（１）の本発明化合物を得ることができる。
【００６５】
また、上記で得られる一般式（１）の化合物は、公知の方法に従い、所望の生理学的に受容され且つ代謝上不安定な無毒のエステルへと変換され得る。
【００６６】
また、一般式（１）の化合物の非毒性塩は、上記で得られる一般式（１）の化合物に例えば塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸等の無機酸、クエン酸、マレイン酸、乳酸、酒石酸等の有機カルボン酸、メタンスルホン酸、ヒドロキシメタンスルホン酸、タウリン、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸、アルギニン、リジン、セリン、アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン等のアミノ酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸化物等を慣用の方法に従い作用させることにより、容易に製造され得る。
【００６７】
本発明の化合物（１）は、適当な製剤用担体を用いて通常の方法に従い、医薬組成物とされる。ここで用いられる担体としては、通常の薬剤に汎用される各種のもの、例えば賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味剤、矯臭剤、界面活性剤等が挙げられる。
【００６８】
本発明医薬組成物を人を含む哺乳動物の感染症、殊にメチシリン耐性黄色ブドウ球菌の引き起こす感染症の治療剤として使用する際の投与単位形態としては特に限定されず、治療目的に応じて適宜選択でき、具体的には注射剤、坐剤、点眼剤、軟膏剤、エアゾール剤等の非経口剤、錠剤、被覆錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、液剤、丸剤、懸濁剤、乳剤等の経口剤を例示できる。
【００６９】
上記各種薬剤は、この分野で通常知られた製剤方法により製剤化される。錠剤、散剤、顆粒剤等の経口用固形製剤の形態に成形するに際しては、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸、メチルセルロース、グリセリン、アルギン酸ナトリウム、アラビアゴム等の賦形剤、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、エチルセルロース、水、エタノール、リン酸カリウム等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン酸、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用できる。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠、二重錠、多層錠等とすることができる。
【００７０】
丸剤の形態に成形するに際しては、担体として例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン等の結合剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用できる。
【００７１】
カプセル剤は上記で例示した各種の担体と混合し、硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して調製される。
【００７２】
坐剤の形態に成形するに際しては、担体として例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、ラノリン、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド、ウィテップゾール（登録商標ダイナマイトノーベル社）等に適当な吸収促進剤を添加して使用できる。
【００７３】
注射剤の形態に成形するに際しては、担体として例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等の希釈剤、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウム等のｐＨ調整剤及び緩衝剤、ピロ亜硫酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸、チオグリコール酸、チオ乳酸等の安定化剤等を使用できる。なお、この場合等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖又はグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤、無痛化剤、局所麻酔剤等を添加してもよい。これらの担体を添加して、常法により皮下、筋肉内、静脈内用注射剤を製造することができる。
【００７４】
液体製剤は水性又は油性の懸濁液、溶液、シロップ、エリキシル剤であってもよく、これらは通常の添加剤を用いて常法に従い、調製される。
【００７５】
軟膏剤、例えばペースト、クリーム及びゲルの形態に調製するに際しては、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
【００７６】
上記製剤中に含有されるべき本発明化合物（１）の量としては、剤型、投与経路、投与計画等により異なり一概には言えず広い範囲内から適宜選択されるが、通常製剤中に１〜７０重量％程度とするのがよい。
【００７７】
上記製剤の投与方法は、例えば経腸投与、経口投与、直腸投与、口腔内投与、経皮投与等特に制限されず、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患者の症状の程度等に応じて適宜決定される。例えば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には、経口投与される。また注射剤の場合には単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される。軟膏剤は、皮膚、口腔内粘膜等に塗布される。
【００７８】
本発明の化合物（１）の投与量は、用法、患者の年齢、状態、病気の種類、投与する本発明化合物（１）の種類等に応じて適宜選択される。一般に本発明化合物（１）は、１日１００ｍｇから約１０ｇ、更にはそれ以上の量が患者に投与できる。病原菌感染症の治療には、本発明化合物（１）の１回当りの平均投与量として約５０ｍｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、１０００ｍｇ、２０００ｍｇの量が使用できる。
【００７９】
【実施例】
以下に実施例及び試験例を挙げ、本発明を具体的に説明する。
【００８０】
実施例１
【００８１】
【化１７】
0003837439.tif 000014
【００８２】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル７６７ｍｇ（０．６４ミリモル）、１−（２−スルホエチル）−４−チオピリドン・トリエチルアミン塩（２９４ｍｇ）をジメチルホルムアミド（３．８ｍｌ）に溶解し、２５℃で３．５時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（５．０ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（９４０ｍｇ）を得た。
【００８３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．５５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），４．６３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．４５（３２Ｈ，ｍ），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），９．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【００８４】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩９４０ｍｇ（０．６５ミリモル）をクロロホルム（５．０ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２．２ｍｌ）及び濃塩酸（０．２２ｍｌ）を加え２５℃にて３．５時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（５．０ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（５．０ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（１５ｍｌ）及びアセトン（４５ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（４８５ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（７ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（２７８ｍｇ）を得た。
【００８５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．５５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），３．７９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），４．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ），６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｓ），７．１２（２Ｈ，ｂｒｓ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．３５（１Ｈ，ｓ）。
【００８６】
実施例２
【００８７】
【化１８】
0003837439.tif 000015
【００８８】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル１．２ｇ（１．０ミリモル）、１−（４−スルホフェネチル）４−チオピリドン・トリエチルアミン塩      ４２０ｍｇ（１．１ミリモル）をジメチルホルムアミド（６ｍｌ）に溶解し、２５℃で４．０時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１２０ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［  ２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホフェネチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．０９ｇ）を得た。
【００８９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．７５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．１４（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．７２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．１Ｈｚ），６．５９（１Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．４５（３６Ｈ，ｍ），８．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），９．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【００９０】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホフェネチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩１．０８ｇ（０．７２ミリモル）をクロロホルム（３．９ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２．６ｍｌ）及び濃塩酸（０．１８１ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（３．９ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（３．９ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（５．５ｍｌ）及びアセトン（２０ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（５７２ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（１２ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホフェネチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（２９０ｍｇ）を得た。
【００９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．１８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７６（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．６８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．１Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｓ），７．１２（２Ｈ，ｂｒｓ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｓ）。
【００９２】
実施例３
【００９３】
【化１９】
0003837439.tif 000016
【００９４】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル１．２ｇ（１．０ミリモル）、１−（４−スルホベンジル）−４−チオピリドン  ・トリエチルアミン塩  ５２３ｍｇ（１．９ミリモル）をジメチルホルムアミド（６ｍｌ）に溶解し、２５℃で６．０時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１２０ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［  ２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．０５ｇ）を得た。
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．７３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．１５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６８（２Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｓ），７．４５（３６Ｈ，ｍ），８．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），８．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【００９６】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩１．０４ｇ（０．７０ミリモル）をクロロホルム（３．９ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２．６ｍｌ）及び濃塩酸（０．１７３ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（３．９ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（３．９ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（５．５ｍｌ）及びアセトン（２０ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（５６５ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（２０ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（３２０ｍｇ）を得た。
【００９７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．５３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７４（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ），５．６８（２Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｓ），７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ），７．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｓ）。
【００９８】
実施例４
【００９９】
【化２０】
0003837439.tif 000017
【０１００】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル１．２ｇ（１．０ミリモル）、１−（２−メチル−４−スルホベンジル）−４−ピリドン・トリエチルアミン塩    ４４０ｍｇ（１．１ミリモル）をジメチルホルムアミド（６ｍｌ）に溶解し、２５℃で５．５時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１２０ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［  ２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．０４ｇ）を得た。
【０１０１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
２．２５（３Ｈ，ｓ），３．７４（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），４．１５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．７７（２Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ），，６．６１（１Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．４５（３５Ｈ，ｍ），８．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），９．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０１０２】
７−［  ２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩１．０３ｇ（０．６９ミリモル）をクロロホルム（３．９ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２．６ｍｌ）及び濃塩酸（０．１７６ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（３．９ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（３．９ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（５．５ｍｌ）及びアセトン（２０ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（５２２ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（１００ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（２８２ｍｇ）を得た。
【０１０３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
２．２６（３Ｈ，ｓ），３．５３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ），５．７４（２Ｈ，ｓ），６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｓ），７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．１Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），８．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｓ）。
【０１０４】
実施例５
【０１０５】
【化２１】
0003837439.tif 000018
【０１０６】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル１．２ｇ（１．０ミリモル）、１−（２−メトキシ−４−スルホベンジル）−４−ピリドン・トリエチルアミン塩  ４６０ｍｇ（１．１ミリモル）を（６ｍｌ）に溶解し、２５℃で４．５時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１２０ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［  ２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メトキシ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．１３ｇ）を得た。
【０１０７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．７２（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．１３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），，５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．６２（２Ｈ，ｓ），５．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ），６．６０（１Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．４５（３５Ｈ，ｍ），８．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），９．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０１０８】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メトキシ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩１．１２ｇ（０．７５ミリモル）をクロロホルム（４．２ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２．８ｍｌ）及び濃塩酸（０．１８７ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（４．２ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（４．２ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（５．８ｍｌ）及びアセトン（２１ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（５６５ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（１００ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−メトキシ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（２８８ｍｇ）を得た。
【０１０９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．５２（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７８（３Ｈ，ｓ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．６１（２Ｈ，ｓ），５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ），，６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｓ）。
【０１１０】
実施例６
【０１１１】
【化２２】
0003837439.tif 000019
【０１１２】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル１．２ｇ（１．０ミリモル）、１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリドン・トリエチルアミン塩４５０ｍｇ（１．１ミリモル）をＤＭＦ（６ｍｌ）に溶解し、２５℃で３．５時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１２０ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（８２３ｍｇ）を得た。
【０１１３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．８５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．２２（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．９４（２Ｈ，ｓ），６．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，７．８Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），７．１１（１Ｈ，ｓ），７．４５（３５Ｈ，ｍ），８．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｓ），８．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）。
【０１１４】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩８１０ｍｇ（０．５４ミリモル）をクロロホルム（３ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２ｍｌ）及び濃塩酸（０．１３６ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（３ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（３ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（４．２ｍｌ）及びアセトン（１５．３ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（３８７ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（１１０ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（１４２ｍｇ）を得た。
【０１１５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．６５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．８５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，７．８Ｈｚ），５．８１（２Ｈ，ｓ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｓ），７．２４（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），，７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｍ），７．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．２Ｈｚ），８．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），９．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｓ）。
【０１１６】
実施例７
【０１１７】
【化２３】
0003837439.tif 000020
【０１１８】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル  １．２ｇ（１．０ミリモル）、１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリドン・トリエチルアミン塩５００ｍｇ（１．１ミリモル）をジメチルホルムアミド（６ｍｌ）に溶解し、２５℃で４．０時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１２０ｍｌ）を加え水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解後ジイソプロピルエーテル（６０ｍｌ）中へ滴下し、生成した沈殿物を減圧下乾燥して、粉末として７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．０ｇ）を得た。
【０１１９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．８６（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．３０（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．０８（２Ｈ，ｓ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），７．１３（１Ｈ，ｓ），７．４５（３５Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｓ），８．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．９２（１Ｈ，ｓ），８．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１２０】
７−［２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩９９３ｍｇ（０．６４ミリモル）をクロロホルム（３．６ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（２．４ｍｌ）及び濃塩酸（０．１６１ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（３．６ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（３．６ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（５．０ｍｌ）及びアセトン（１８ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（５１５ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（３０ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（２１０ｍｇ）を得た。
【０１２１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．６７（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ），６．０６（２Ｈ，ｓ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｓ），７．２４（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），，７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｓ），８．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｓ）。
【０１２２】
実施例８
【０１２３】
【化２４】
0003837439.tif 000021
【０１２４】
７−［２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−［（Ｅ）−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル２．０ｇ（３．０ミリモル）、１−（２−スルホエチル）−４−チオピリドン・トリエチルアミン塩  （１．０６ｇ）をジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）に溶解し、２５℃で２．５時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（２００ｍｌ）、水（１００ｍｌ）を加え、生じた不溶分ろ別し酢酸エチルで洗浄を行なった後に、減圧下乾燥して、粉末として７−［  ２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．０ｇ）を得た。
【０１２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７８（２Ｈ，ｓ），４．２０（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ），７．４５（１６Ｈ，ｍ），８．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０１２６】
７−［２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩１．０ｇ（１．３６ミリモル）をクロロホルム（６．０ｍｌ）に溶解し、８８％ギ酸（４．０ｍｌ）及び濃塩酸（０．２２７ｍｌ）を加え２５℃にて３時間撹拌した。反応終了後クロロホルム（５．０ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（６．０ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル（７５ｍｌ）及びアセトン（１５０ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸塩として脱保護体（７００ｍｇ）を得た。次にこれを重曹水溶液（３５ｍｌ）として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−［  ２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（２５７ｍｇ）を得た。
【０１２７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐｍ；
３．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５５（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．７５（２Ｈ，ｓ），３．７９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），４．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ），６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），６．９３（２Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），９．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０１２８】
試験例１
本発明化合物（１）の有用性を示すために、本発明の代表的化合物の寒天平板希釈法により各種細菌に対する抗菌力試験を行ない、各種細菌に対する菌発育最小阻止濃度（ＭＩＣ値）をＦＭＯＸ（フロモキセフ）と比較して試験した結果を示す。尚、試験化合物は以下の通りである。
【０１２９】
試験化合物
（ａ）  ７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（実施例１）
（ｂ）  ７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（４−スルホフェネチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（実施例２）
（ｃ）  ７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−フルオロ−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（実施例６）
（ｄ）  ７−［  ２−オキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−トリフルオロメチル−４−スルホベンジル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（実施例７）
（ｅ）  ７−［  ２−（２−チエニル）アセトアミド］−３−｛（Ｅ）−２−［１−（２−スルホエチル）−４−ピリジニオ］チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（実施例８）
【０１３０】
【表１】
0003837439.tif 000022
【０１３１】
試験例２（水に対する溶解性試験）
実施例１〜実施例８で得られた各化合物について、水に対する溶解性を調べたところ、いずれの化合物も２０℃の水１００ｇに２０ｇ以上溶解した。また比較化合物として、国際公開ＷＯ９４／０６８０４号公報記載の下記化合物の溶解性も調べたところ、２０℃の水１００ｇに０．１ｇ溶解した。
【０１３２】
比較化合物１：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート（トランス異性体）
比較化合物２：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート（トランス異性体）
以上の結果より、本発明の化合物は、比較化合物と比較して２００倍以上の水溶解性を示した。この結果より、本発明薬剤を注射、点滴等により患者に投与するとき、溶媒量、投与時間が少なくて済み、患者への負担の軽減につながる他、溶解性を高めるために溶解補助剤等を混入させる必要がなく、製剤としての操作性の向上が考えられる。また、本発明薬剤を製造するに当たっては、大量生産が可能になる他、凍結乾燥の時間が短縮できる等の生産性の向上が示唆される。