(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース定盤と、
測定対象物である薄板を支持して前記ベース定盤上を目視で確認しながら手動で移動させ得ると共に顕微鏡の直下の位置でベース定盤に固定されるステージ部と、
このステージ部を支持した状態でベース定盤上に設けられ、ステージ部を案内してそのＸ軸方向及びＹ軸方向への移動を安定させるガイド機構と、
前記薄板に形成され、視界を遮る種々のデバイスと
を備えてなるマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
手動で自由に移動させ得る前記ステージ部の位置を検出する位置検出手段と、
この位置検出手段で検出した前記ステージ部の位置を表示する表示手段とを備え、
前記ステージ部が、エアーベアリング機構が組み込まれたステージベースと、支持した前記薄板のＹ軸方向を微調整するＹ微調機構と、Ｘ軸方向を微調整するＸ微調機構と、回転方向を微調整するθ微調機構とを備えて構成され、
目視で確認しながら前記ステージ部を手動で前記顕微鏡の直下の位置まで移動させる第１工程と、前記測定対象物である薄板の測定位置が顕微鏡の視野に入るように前記ステージ部のＹ微調機構、Ｘ微調機構で微調整する第３工程との間に、前記ステージ部の位置を表示して、視界を遮る前記種々のデバイスの存在を無視できる前記表示手段を見ながら、前記ステージ部を移動させてステージ部の位置合わせを行う第２工程を備えたことを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項２】
請求項１に記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記ガイド機構が、前記ステージ部を案内してＸ軸方向への移動を安定させるＸ軸ガイド及びＸ軸レールを備えたＸ方向ガイド部と、前記ステージ部を案内してＹ軸方向への移動を安定させるＹ軸ガイド及びＹ軸レールを備えたＹ方向ガイド部とからなり、
前記位置検出手段が、Ｘ方向ガイド部のＸ軸ガイドの位置を検出するＸ軸ガイド位置検出部と、Ｙ方向ガイド部のＹ軸ガイドの位置を検出するＹ軸ガイド位置検出部とからなる
ことを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項３】
請求項２に記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、先端を前記Ｘ軸ガイドに取り付けられたＸ軸線材と、前記Ｘ軸レール側に取り付けられ、前記Ｘ軸線材の基端側を巻き取ると共に前記Ｘ軸ガイドの移動に伴って変化するＸ軸線材の繰り出し量からＸ軸ガイドの位置を検出するＸ軸線材繰り出し量検出部とからなり、
前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、先端を前記Ｙ軸ガイドに取り付けられたＹ軸線材と、前記Ｙ軸レール側に取り付けられ、前記Ｙ軸線材の基端側を巻き取ると共に前記Ｙ軸ガイドの移動に伴って変化するＹ軸線材の繰り出し量からＹ軸ガイドの位置を検出するＹ軸線材繰り出し量検出部とからなる
ことを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項４】
請求項２に記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、前記Ｘ軸ガイド側に固定されたＸ軸リードナットと、前記Ｘ軸レールに沿って取り付けられ、周囲にネジ山が形成されて前記Ｘ軸リードナットが螺合されるＸ軸リードスクリューと、このＸ軸リードスクリューに連結されて回転数を正確に検出しながら駆動するロータリーエンコーダとからなり、
前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、先端を前記Ｙ軸ガイドに取り付けられたＹ軸リードナットと、前記Ｙ軸レールに沿って取り付けられ、周囲にネジ山が形成されて前記Ｙ軸リードナットが螺合されるＹ軸リードスクリューと、このＹ軸リードスクリューに連結されて回転数を正確に検出しながら駆動するロータリーエンコーダとからなる
ことを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項５】
請求項２に記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、前記Ｘ軸レールに沿って配設されたＸ軸メインスケールと、前記Ｘ軸ガイドに取り付けられ、Ｘ軸ガイドの移動に伴って前記Ｘ軸メインスケールとの間でモアレ縞を生じるＸ軸インデックススケールと、このＸ軸インデックススケールに設けられ、モアレ縞を測定してＸ軸ガイドの位置を検出するＸ軸モアレ縞測定部とからなり、
前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、前記Ｙ軸レールに沿って配設されたＹ軸メインスケールと、前記Ｙ軸ガイドに取り付けられ、Ｙ軸ガイドの移動に伴って前記Ｙ軸メインスケールとの間でモアレ縞を生じるＹ軸インデックススケールと、このＹ軸インデックススケールに設けられ、モアレ縞を測定してＹ軸ガイドの位置を検出するＹ軸モアレ縞測定部とからなる
ことを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項６】
請求項２に記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、前記Ｘ軸ガイドに設けられ、Ｘ軸レールに沿って移動するＸ軸ガイドの移動量を直接に測定するＸ軸リニアエンコーダからなり、
前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、前記Ｙ軸ガイドに設けられ、Ｙ軸レールに沿って移動するＹ軸ガイドの移動量を直接に測定するＹ軸リニアエンコーダからなる
ことを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記表示手段が、検査対象の薄板を模したマップを表示画面に固定して表示すると共に、手動によるステージ部の移動に合わせて位置合わせ点をマップ上で相対的に移動させることを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載のマニュアルプローバの位置合わせ方法において、
前記表示手段が、位置合わせ点の方向と距離を表示することを特徴とするマニュアルプローバの位置合わせ方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＩＣウエハや液晶板等のように、薄板の表面に回路を構成した回路板の回路の特性試験等を行う際に用いるマニュアルプローバの位置合わせ方法に関し、特に薄板を支持して手動で移動させる際の位置合わせ作業の操作性を向上させたマニュアルプローバの位置合わせ方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、マニュアルプローバ１は、図２〜図４に示すように構成されている。
【０００３】
図中の２はベース定盤である。ベース定盤２上の後方（図３の右方）にはＺ軸ベース３が設けられている。このＺ軸ベース３は、ベース定盤２から立ち上がった縦壁状に形成されている。このＺ軸ベース３の上部には、Ｚ軸ベース３に摺動可能に支持された後述のベースプレート７を上下方向に昇降させるためのＺアップレバー４が設けられている。Ｚ軸ベース３の前面にはＺスライド板５が固着されている。このＺスライド板５の両側にはＺスライドガイド６が摺動可能に取り付けられている。このＺスライドガイド６にベースプレート７が固定されている。これにより、ベースプレート７はＺスライドガイド６及びＺスライド板５を介してＺ軸ベース３に昇降可能に支持されている。このベースプレート７は、ベース定盤２の上方を覆って後述する探針１３等を支持するためのものである。このベースプレート７の下面には、スペーサ８を介してパージ板９が設けられている。このパージ板９は、高低温測定時に、後述するチャックトップ２９の上側面を覆ってこのチャックトップ２９の上側面を一定温度に維持するために使用するものである。ベースプレート７の上面にはリングプレート１１が固着されている。このリングプレート１１は鉄系板材で構成され、マグネットが吸着できるようになっている。リングプレート１１上にはマニピュレータ１２が取り付けられている。このマニピュレータ１２にはマグネットが内蔵され、このマグネットでマニピュレータ１２がリングプレート１１に固着されるようになっている。マニピュレータ１２は、チャックトップ２９上の半導体ウエハ２０の表面に延びる探針１３を支持している。マニピュレータ１２には、Ｘ・Ｙ・Ｚ方向の移動機構（図示せず）が設けられ、探針１３の微調整を行うことができるようになっている。ベースプレート７には切欠き穴１４が設けられ、探針１３はこの切欠き穴１４から半導体ウエハ２０の表面まで挿入される。
【０００４】
Ｚ軸ベース３の上端部にはＸ・Ｙ移動機構を有する顕微鏡スキャナー１７が取り付けられている。この顕微鏡スキャナー１７には顕微鏡アーム１８の一端が固定され、顕微鏡アーム１８をＸ・Ｙ方向に微調整できるようになっている。顕微鏡アーム１８の他端には顕微鏡１９が取り付けられている。この顕微鏡１９は顕微鏡スキャナー１７によって位置の調整が行われるようになっている。
【０００５】
ベース定盤２の上面には、測定対象物である半導体ウエハ２０を支持してベース定盤２上を移動し、測定位置で固定されるステージ部２１と、このステージ部２１の移動を案内するガイド機構２２とが設けられている。
【０００６】
ステージ部２１は、最下側に位置するステージベース２５と、このステージベース２５の上側に位置し、Ｙ軸方向を微調整するＹ微調機構２６と、このＹ微調機構２６の上側に位置し、Ｘ軸方向を微調整するＸ微調機構２７と、Ｘ微調機構２７の上側に位置し、回転方向を微調整するθ微調機構２８と、このθ微調機構２８の上側に位置し、その上側面に載置された半導体ウエハ２０を支持するチャックトップ２９とから構成されている。
【０００７】
ステージベース２５にはエアーベアリング機構（図示せず）が組み込まれている。ステージ部２１はこのエアーベアリング機構によってベース定盤２上を自由に移動し得るようになっている。さらに、ステージベース２５にはベースグリップ３１が固定されている。このベースグリップ３１は、作業者がこれを手で持ってステージ部２１をベース定盤２上の任意の位置に移動させるためのものである。このベースグリップ３１にはドライブハンドル３２が回転可能に取り付けられている。このドライブハンドル３２は、ベルト３２Ａを介してθ微調機構２８に連結され、ドライブハンドル３２を回動することにより、チャックトップ２９が連動してθ微調整ができるようになっている。さらに、ベースグリップ３１には第１グリップスイッチ３３及び第２グリップスイッチ３４が設けられている。このグリップスイッチ３３，３４はエアーベアリング機構と後述するＹ軸ガイド４２及びＸ軸ガイド４５のブレーキ機構（図示せず）をそれぞれ制御するスイッチである。このグリップスイッチ３３，３４を適宜操作することでエアーベアリング状態にしてステージ部２１を移動させ、離すことで各ブレーキ機構が作動すると共にエアーベアリング状態が解除され、さらに真空引きされてステージベース２５がベース定盤２に固着されるようになっている。
【０００８】
Ｙ微調機構２６にはＹ方向調整用マイクロヘッド３５が設けられている。Ｘ微調機構２７にはＸ方向調整用マイクロヘッド３７が設けられている。半導体ウエハ２０を高低温測定する場合は、チャックトップ２９として温度調整機構を組み込んだホットチャック（図示せず）が搭載される。
【０００９】
ガイド機構２２は、Ｙ方向ガイド部３８とＸ方向ガイド部３９と前記エアーベアリング機構（図示せず）とから構成されている。Ｙ方向ガイド部３８は、ベース定盤２の左右両側部にそれぞれ配設されたＹ軸レール４１と、各Ｙ軸レール４１に摺動可能に取り付けられたＹ軸ガイド４２とから構成されている。Ｘ方向ガイド部３９は、一端がＹ方向ガイド部３８の各Ｙ軸ガイド４２に固定され、この２つのＹ軸ガイド４２に支持されてＹ軸方向に移動するＸ軸レール４３と、このＸ軸レール４３に摺動可能に取り付けられたＸ軸ガイド４５とから構成されている。このＸ軸ガイド４５にステージ部２１のステージベース２５が固定され、このステージ部２１のＹ方向への移動がＹ方向ガイド部３８によって、Ｘ方向への移動がＸ方向ガイド部３９によってそれぞれ案内されるようになっている。
【００１０】
Ｙ軸ガイド４２及びＸ軸ガイド４５には各グリップスイッチ３３，３４で操作されるブレーキ機構（図示せず）がそれぞれ設けられている。
【００１１】
また、必要に応じてマニュアルプローバ１全体を覆うシールドケース４６が設けられる。このシールドケース４６には扉４６Ａが設けられている。
【００１２】
以上のように構成されたマニュアルプローバ１では、次のようにして半導体ウエハ２０の検査が行われる。
【００１３】
シールドケース４６が設けられているときには、作業者がこのシールドケース４６の扉４６Ａを開く。
【００１４】
ステージ部２１の各グリップスイッチ３３，３４を押してブレーキを解除すると共にエアーベアリング状態にし、ステージ部２１をガイド機構２２に案内された状態で移動させる。このガイド機構２２では、Ｙ方向がＹ方向ガイド部３８で、Ｘ方向がＸ方向ガイド部３９でそれぞれ案内されて、ステージ部２１が安定して移動する。
【００１５】
これにより、ステージ部２１を手元に移動させ、グリップスイッチ３３，３４から手を離して、ステージ部２１のエアーベアリング状態を解除して真空引きさせると共にブレーキをロックする。これにより、ステージ部２１がベース定盤２上に固定される。この状態で、半導体ウエハ２０をステージ部２１のチャックトップ２９に載置して、バキュームスイッチ３６をオンして、半導体ウエハ２０を真空引きでチャックトップ２９に固定する。
【００１６】
次いで、グリップスイッチ３３，３４を手で押して、ブレーキを解除すると共にエアーベアリング状態にし、ステージ部２１のチャックトップ２９に載置した半導体ウエハ２０の測定部位が顕微鏡１９の直下に位置するように、作業者が目視でステージ部２１を移動させる（第１工程）。このとき、ステージ部２１は、ガイド機構２２のＹ方向ガイド部３８とＸ方向ガイド部３９で支持されて安定して移動する。ステージ部２１の位置合わせが済んだところで、グリップスイッチ３３，３４から手を離してステージ部２１を固定する。
【００１７】
次いで、顕微鏡１９の対物レンズの中心がベースプレート７の切欠き穴１４の中心に位置するように、顕微鏡スキャナー１７で調整する。次いで、顕微鏡１９の焦点を半導体ウエハ２０の測定面に合わせる。このとき、半導体ウエハ２０の測定位置が顕微鏡１９の視野に入るように、第２工程として、Ｙ方向調整用マイクロヘッド３５とＸ方向調整用マイクロヘッド３７とを回動してＹ方向とＸ方向を微調整する。さらに、ドライブハンドル３２を回動してチャックトップ２９のθ微調整を行う。
【００１８】
高低温測定時には、チャックトップ２９の温度設定を行う。高温測定の場合には、パージ板９で覆われたチャックトップ２９が設定温度に加熱される。低温測定の場合には、チャックトップ２９が設定された低い温度に冷やされるが、半導体ウエハ２０及び探針１３等の結露を防止するために、チャックトップ２９とパージ板９との間に、窒素ガス又はドライエアーを充填させる。
【００１９】
次いで、探針１３をマニピュレータ１２に取り付け、マニピュレータ１２をリングプレート１１上に装着する。マニピュレータ１２のＸ・Ｙ・Ｚ方向の調整を行って、探針１３が半導体ウエハ２０の測定位置に接するように設定する。次いで、Ｚアップレバー４を下方に動かしてベースプレート７を１００μｍ程度下降させ、探針１３にオーバードライブをかける。
【００２０】
シールドケース４６を使用している場合はその扉４６Ａを閉める。
【００２１】
次いで、測定を行う。
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】
近年の半導体ウエハ２０のサイズの拡大に伴って装置が大型化し、ステージ部２１のＸ方向及びＹ方向への移動ストロークが大きくなった。これにより、ステージ部２１がベース定盤２上の奥部に移動した場合には、作業者からの距離が遠くなる。また、シールドケース４６やその他のカバー等によって視界が遮られることがある。さらに、デバイス数の増加によって種々のデバイスが視界を遮ることもある。このため、探針１３等の位置決め目標を目視で確認することが難しくなった。
【００２３】
この結果、ステージ部２１の位置決めが難しくなって位置決め作業に時間を要し、測定作業の効率が悪いという問題点がある。
【００２４】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたもので、目視によるステージ部の位置決めの困難性を解消したマニュアルプローバの位置合わせ方法を提供することを目的とする。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
第１の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、ベース定盤と、測定対象物である薄板を支持して前記ベース定盤上を目視で確認しながら手動で移動させ得ると共に顕微鏡の直下の位置でベース定盤に固定されるステージ部と、このステージ部を支持した状態でベース定盤上に設けられ、ステージ部を案内してそのＸ軸方向及びＹ軸方向への移動を安定させるガイド機構と、前記薄板に形成され、視界を遮る種々のデバイスとを備えてなるマニュアルプローバの位置合わせ方法において、手動で自由に移動させ得る前記ステージ部の位置を検出する位置検出手段と、この位置検出手段で検出した前記ステージ部の位置を表示する表示手段とを備え、前記ステージ部が、エアーベアリング機構が組み込まれたステージベースと、支持した前記薄板のＹ軸方向を微調整するＹ微調機構と、Ｘ軸方向を微調整するＸ微調機構と、回転方向を微調整するθ微調機構とを備えて構成され、目視で確認しながら前記ステージ部を手動で前記顕微鏡の直下の位置まで移動させる第１工程と、前記測定対象物である薄板の測定位置が顕微鏡の視野に入るように前記ステージ部のＹ微調機構、Ｘ微調機構で微調整する第３工程との間に、前記ステージ部の位置を表示して、視界を遮る前記種々のデバイスの存在を無視できる前記表示手段を見ながら、前記ステージ部を移動させてステージ部の位置合わせを行う第２工程を備えたことを特徴とする。
【００２６】
前記構成により、ステージ部を、位置検出手段によって検出されて表示手段に表示されたステージ部の位置を確認しながら移動させる。これにより、前記種々のデバイスが視界を遮る位置が目的位置の場合でも、ステージ部を目的位置に容易に移動させることができるようになる。
【００２７】
第２の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記ガイド機構が、前記ステージ部を案内してＸ軸方向への移動を安定させるＸ軸ガイド及びＸ軸レールを備えたＸ方向ガイド部と、前記ステージ部を案内してＹ軸方向への移動を安定させるＹ軸ガイド及びＹ軸レールを備えたＹ方向ガイド部とからなり、前記位置検出手段が、Ｘ方向ガイド部のＸ軸ガイドの位置を検出するＸ軸ガイド位置検出部と、Ｙ方向ガイド部のＹ軸ガイドの位置を検出するＹ軸ガイド位置検出部とからなることを特徴とする。
【００２８】
前記構成により、Ｘ軸ガイド位置検出部でＸ軸ガイドの位置を検出し、Ｙ軸ガイド位置検出部でＹ軸ガイドの位置を検出することで、ステージ部の位置を正確に特定することができる。
【００２９】
これにより、ステージ部を、その位置を確認しながら、目的位置に容易に移動させることができるようになる。
【００３０】
第３の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、先端を前記Ｘ軸ガイドに取り付けられたＸ軸線材と、前記Ｘ軸レール側に取り付けられ、前記Ｘ軸線材の基端側を巻き取ると共に前記Ｘ軸ガイドの移動に伴って変化するＸ軸線材の繰り出し量からＸ軸ガイドの位置を検出するＸ軸線材繰り出し量検出部とからなり、前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、先端を前記Ｙ軸ガイドに取り付けられたＹ軸線材と、前記Ｙ軸レール側に取り付けられ、前記Ｙ軸線材の基端側を巻き取ると共に前記Ｙ軸ガイドの移動に伴って変化するＹ軸線材の繰り出し量からＹ軸ガイドの位置を検出するＹ軸線材繰り出し量検出部とからなることを特徴とする。
【００３１】
前記構成により、ステージ部の移動に伴ってＸ軸ガイドが移動する。このＸ軸ガイドの移動に伴って変化するＸ軸線材の繰り出し量をＸ軸線材繰り出し量検出部で検出して、Ｘ軸ガイドの位置を検出する。
【００３２】
Ｙ軸ガイド位置検出部では、ステージ部の移動に伴ってＹ軸ガイドが移動する。このＹ軸ガイドの移動に伴って変化するＹ軸線材の繰り出し量をＹ軸線材繰り出し量検出部で検出して、Ｙ軸ガイドの位置を検出する。
【００３３】
これにより、ステージ部の位置を正確に特定することができる。
【００３４】
第４の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、前記Ｘ軸ガイド側に固定されたＸ軸リードナットと、前記Ｘ軸レールに沿って取り付けられ、周囲にネジ山が形成されて前記Ｘ軸リードナットが螺合されるＸ軸リードスクリューと、このＸ軸リードスクリューに連結されて回転数を正確に検出しながら駆動するロータリーエンコーダとからなり、前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、先端を前記Ｙ軸ガイドに取り付けられたＹ軸リードナットと、前記Ｙ軸レールに沿って取り付けられ、周囲にネジ山が形成されて前記Ｙ軸リードナットが螺合されるＹ軸リードスクリューと、このＹ軸リードスクリューに連結されて回転数を正確に検出しながら駆動するロータリーエンコーダとからなることを特徴とする。
【００３５】
前記構成により、ステージ部の移動に伴うＸ軸ガイドの移動によりＸ軸リードナットが移動する。このＸ軸リードナットに移動によりＸ軸リードスクリューが回転される。このＸ軸リードスクリューの回転がロータリーエンコーダで検出されて、ステージ部のＸ軸方向の位置が特定される。
【００３６】
Ｙ軸方向も同様に、Ｙ軸リードナットの移動によりＹ軸リードスクリューが回転される。この回転がロータリーエンコーダによって検出され、ステージ部のＹ軸方向の位置が特定される。
【００３７】
これにより、ステージ部の位置を正確に特定することができる。
【００３８】
第５の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、前記Ｘ軸レールに沿って配設されたＸ軸メインスケールと、前記Ｘ軸ガイドに取り付けられ、Ｘ軸ガイドの移動に伴って前記Ｘ軸メインスケールとの間でモアレ縞を生じるＸ軸インデックススケールと、このＸ軸インデックススケールに設けられ、モアレ縞を測定してＸ軸ガイドの位置を検出するＸ軸モアレ縞測定部とからなり、前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、前記Ｙ軸レールに沿って配設されたＹ軸メインスケールと、前記Ｙ軸ガイドに取り付けられ、Ｙ軸ガイドの移動に伴って前記Ｙ軸メインスケールとの間でモアレ縞を生じるＹ軸インデックススケールと、このＹ軸インデックススケールに設けられ、モアレ縞を測定してＹ軸ガイドの位置を検出するＹ軸モアレ縞測定部とからなる
ことを特徴とする。
【００３９】
前記構成により、Ｘ軸ガイドの移動に伴ってＸ軸インデックススケールが移動し、Ｘ軸メインスケールとの間でモアレ縞を生じさせる。これをＸ軸モアレ縞測定部で測定してステージ部のＸ軸方向の位置を特定する。
【００４０】
Ｙ軸方向も同様に、Ｙ軸ガイドの移動に伴ってＹ軸インデックススケールが移動し、Ｙ軸メインスケールとの間でモアレ縞を生じさせる。これをＹ軸モアレ縞測定部で測定してステージ部のＹ軸方向の位置を特定する。
【００４１】
第６の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記位置検出手段のＸ軸ガイド位置検出部が、前記Ｘ軸ガイドに設けられ、Ｘ軸レールに沿って移動するＸ軸ガイドの移動量を直接に測定するＸ軸リニアエンコーダからなり、前記位置検出手段のＹ軸ガイド位置検出部が、前記Ｙ軸ガイドに設けられ、Ｙ軸レールに沿って移動するＹ軸ガイドの移動量を直接に測定するＹ軸リニアエンコーダからなることを特徴とする。
【００４２】
前記構成により、Ｘ軸リニアエンコーダでＸ軸ガイドの移動量が直接に測定される。また、Ｙ軸リニアエンコーダでＹ軸ガイドの移動量が直接に測定される。
【００４３】
第７の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記表示手段が、検査対象の薄板を模したマップを表示画面に固定して表示すると共に、手動によるステージ部の移動に合わせて位置合わせ点をマップ上で相対的に移動させることを特徴とする。
【００４４】
前記構成により、ステージ部の移動に伴って、マップ上を位置合わせ点が相対的に移動する。これにより、ステージ部を容易に位置合わせすることができる。
【００４５】
第８の発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法は、前記表示手段が、位置合わせ点の方向と距離を表示することを特徴とする。
【００４６】
前記構成により、表示画面に表示される方向と距離に従ってステージ部を移動させるだけで、容易にかつ確実に位置合わせをすることができるようになる。
【００４７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るマニュアルプローバの位置合わせ方法について、添付図面を参照しながら説明する。
【００４８】
［第１実施形態］
図１は本実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図、図５は本実施形態に係るマニュアルプローバを示す正面図、図６は本実施形態に係るマニュアルプローバを示す側面図、図７は本実施形態に係るマニュアルプローバを示す平面図である。
【００４９】
本実施形態に係るマニュアルプローバ５１は、図５から図７に示すように構成されている。本実施形態に係るマニュアルプローバ５１の全体構成は前記従来のマニュアルプローバ１とほぼ同様であるため、同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。本実施形態のマニュアルプローバ５１は、半導体ウエハ２０の大型化に伴って装置全体が大型化されている。
【００５０】
本実施形態に係るマニュアルプローバ５１の特徴は、作業者が半導体ウエハ２０の検査を行うときに、ステージ部２１の位置を正確に認識することができるようにした点になる。これは、半導体ウエハ２０の大型化による装置の大型化に伴って、目視によるステージ部２１の位置決めが困難になるのを防止するためである。
【００５１】
このため本実施形態では、手動で自由に移動させ得るステージ部２１の位置を検出する位置検出手段５２と、この位置検出手段５２で検出したステージ部２１の位置を表示する表示手段５３を設けている。
【００５２】
位置検出手段５２は、Ｙ方向ガイド部３８のＸ軸ガイド４５の位置を検出するＸ軸ガイド位置検出部としてのＸ軸リニアエンコーダ５５と、Ｙ方向ガイド部３８のＹ軸ガイド４２の位置を検出するＹ軸ガイド位置検出部としてのＹ軸リニアエンコーダ５６とから構成されている。
【００５３】
Ｘ軸リニアエンコーダ５５は、先端がフック部５７によってＸ軸ガイド４５に取り付けられたＸ軸線材であるＸ軸ワイヤ５８と、Ｘ軸レール４３の端部にＸ軸スペーサ５９Ａを介して取り付けられ、Ｘ軸ワイヤ５８の基端側を巻き取ると共にＸ軸ガイド４５の移動に伴って変化するＸ軸ワイヤ５８の繰り出し量又は巻き取り量からＸ軸ガイド４５の位置を検出するＸ軸線材繰り出し量検出部としてのＸ軸リニアスケールエンコーダ部５９とから構成されている。
【００５４】
Ｘ軸リニアスケールエンコーダ部５９は、Ｘ軸ワイヤ５８を巻き取ったり繰り出したりするＸ軸ワイヤ巻回部６０と、このＸ軸ワイヤ巻回部６０に巻き取ったり繰り出したりするときにＸ軸ワイヤ５８の移動量を検出して電気信号に変換するＸ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１とから構成されている。Ｘ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１は表示手段５３に接続され、Ｘ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１からの検出値が表示手段５３に送信されるようになっている。Ｘ軸ワイヤ巻回部６０は、Ｘ軸ワイヤ５８を常に一定の張力で引くように設定されている。これは、Ｘ軸ワイヤ５８の弛みによるＸ軸ガイド４５の位置の測定誤差を最小限に抑えるためである。
【００５５】
Ｙ軸リニアエンコーダ５６は、先端がフック部６３によってＹ軸ガイド４２に取り付けられたＹ軸線材であるＹ軸ワイヤ６４と、Ｙ軸レール４１側であるベース定盤２に取り付けられ、Ｙ軸ワイヤ６４の基端側を巻き取ると共にＹ軸ガイド４２の移動に伴って変化するＹ軸ワイヤ６４の繰り出し量又は巻き取り量からＹ軸ガイド４２の位置を検出するＹ軸線材繰り出し量検出部としてのＹ軸リニアスケールエンコーダ部６５とから構成されている。
【００５６】
Ｙ軸リニアスケールエンコーダ部６５は、Ｙ軸ワイヤ６４を巻き取ったり繰り出したりするＹ軸ワイヤ巻回部６６と、このＹ軸ワイヤ巻回部６６に巻き取ったり繰り出したりするときにＹ軸ワイヤ６４の移動量を検出して電気信号に変換するＹ軸ワイヤ繰り出し量検出部６７とから構成されている。Ｙ軸ワイヤ繰り出し量検出部６７は、前記Ｘ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１と同様に、表示手段５３に接続され、Ｙ軸ワイヤ繰り出し量検出部６７からの検出値が表示手段５３に送信されるようになっている。Ｙ軸ワイヤ巻回部６６は、Ｙ軸レール４１の端部に臨ませた位置にＹ軸スペーサ６６Ａを介して取り付けられ、前記Ｘ軸ワイヤ巻回部６０と同様に、Ｙ軸ワイヤ６４を常に一定の張力で引くように設定されている。
【００５７】
表示手段５３には、Ｘ方向位置表示部７１とＹ方向位置表示部７２とが上下に配列して設けられている。Ｘ方向位置表示部７１は、Ｘ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１からの検出値に基づいてステージ部２１のＸ方向の位置を表示する。Ｙ方向位置表示部７２は、Ｙ軸ワイヤ繰り出し量検出部６７からの検出値に基づいてステージ部２１のＹ方向の位置を表示する。
【００５８】
［マニュアルプローバの位置合わせ方法］
以上のように構成されたマニュアルプローバ５１では、次のようにして半導体ウエハ２０の検査が行われる。
【００５９】
マニュアルプローバ５１による測定作業の全体的な動作は前述した従来のマニュアルプローバ１とほぼ同様である。このため、本案の特徴部分を中心に説明する。
【００６０】
ステージ部２１をガイド機構２２に案内された状態で手元に移動させ、ベース定盤２上に固定する。この状態で、ステージ部２１のチャックトップ２９に半導体ウエハ２０を固定する。
【００６１】
次いで、グリップスイッチ３３，３４を手で押して、第１工程としてステージ部２１を顕微鏡１９の直下の位置まで移動させる。このとき、ステージ部２１は、ガイド機構２２のＹ方向ガイド部３８とＸ方向ガイド部３９で支持されて安定して移動する。
【００６２】
さらに、ステージ部２１の移動に伴ってＸ方向ガイド部３９のＸ軸ガイド４５も移動する。このＸ軸ガイド４５の移動によってＸ軸ワイヤ５８がＸ軸ワイヤ巻回部６０から繰り出され又は巻き取られ、その繰り出し量がＸ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１で検出されて表示手段５３に送信される。
【００６３】
表示手段５３では、Ｘ軸ワイヤ繰り出し量検出部６１からの検出値により、ステージ部２１のＸ軸方向の移動量をＸ方向位置表示部７１に表示する。このＸ方向位置表示部７１では数字が表示されるが、その数字はステージ部２１の移動距離を表す数字である。この場合、出発点を０にして、何センチ移動したかを表示したり、移動目標位置を座標軸の原点に設定して、原点まで何センチかを表示したりする。
【００６４】
Ｙ方向も同様である。即ち、ステージ部２１の移動に伴ってＹ方向ガイド部３８のＹ軸ガイド４２が移動する。このＹ軸ガイド４２の移動によってＹ軸ワイヤ６４がＹ軸ワイヤ巻回部６６から繰り出され又は巻き取られ、その繰り出し量がＹ軸ワイヤ繰り出し量検出部６７で検出されて表示手段５３に送信される。表示手段５３のＹ方向位置表示部７２では、前記Ｘ方向位置表示部７１の場合と同様にして、ステージ部２１のＹ方向位置が移動距離の変化として表示される。
【００６５】
作業者は、第２工程として、ステージ部２１を手で持って、表示手段５３を見ながら位置合わせを行う。ステージ部２１の位置合わせが済んだところで、グリップスイッチ３３，３４から手を離してステージ部２１を固定する。
【００６６】
次いで、第３工程の微調整（前記従来技術の第２工程）を行って、顕微鏡１９を合わせる。高低温測定時にはチャックトップ２９の温度設定を行い、窒素ガス等を充填させる。次いで、探針１３を半導体ウエハ２０の測定位置に接触させて測定を行う。
【００６７】
［効果］
以上のように、ステージ部２１の位置合わせの際に表示手段５３によってステージ部２１の正確な位置を表示するようにしたので、ステージ部２１の位置合わせを、目視によらずに、短時間で正確にかつ極めて容易に行うことができるようになる。
【００６８】
この結果、半導体ウエハ２０のサイズの拡大に伴ってマニュアルプローバ５１が大型化した場合でも、ステージ部２１の位置合わせ作業を容易に行うことができ、半導体ウエハ２０の測定作業性が大幅に向上する。
【００６９】
［第２実施形態］
次の本発明の第２実施形態について添付図面を参照して説明する。図８は第２実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【００７０】
本実施形態に係るマニュアルプローバ７５の全体構成は、前記第１実施形態のマニュアルプローバ５１と同様であるため、その説明を省略する。本実施形態に係るマニュアルプローバ７５の特徴は位置検出手段７６にある。
【００７１】
位置検出手段７６は、Ｘ軸ガイド位置検出部７７とＹ軸ガイド位置検出部７８とから構成されている。
【００７２】
Ｘ軸ガイド位置検出部７７は、Ｘ軸ガイド４５側に固定されたＸ軸リードナット８０と、Ｘ軸レール４３に沿って各Ｙ軸ガイド４２に掛け渡した状態で取り付けられ、周囲にネジ山が形成されてＸ軸リードナット８０が螺合されるＸ軸リードスクリュー８１と、このＸ軸リードスクリュー８１に連結されて回転数を正確に検出するロータリーエンコーダ８２とから構成されている。Ｘ軸リードスクリュー８１は、一方を軸受８３で回転可能に支持され、他方をエンコーダ取り付け金具８４で回転可能に支持されている。さらに、エンコーダ取り付け金具８４には、Ｘ軸リードスクリュー８１にカップリング８２Ａを介して連結されたロータリーエンコーダ８２が取り付けられている。
【００７３】
この構成により、Ｘ軸リードナット８０がＸ軸ガイド４５と共に移動すると、このＸ軸リードナット８０が螺合されたＸ軸リードスクリュー８１が回転し、その回転がロータリーエンコーダ８２で検出されるようになっている。そして、このロータリーエンコーダ８２は表示手段５３に連結されている。
【００７４】
Ｙ軸ガイド位置検出部７８は、Ｙ軸ガイド４２に固定されたＹ軸リードナット８５と、Ｙ軸レール４１に沿ってベース定盤２側に取り付けられ、周囲にネジ山が形成されてＹ軸リードナット８５が螺合されるＹ軸リードスクリュー８６と、このＹ軸リードスクリュー８６に連結されて回転数を正確に検出するロータリーエンコーダ８７とから構成されている。Ｙ軸リードスクリュー８６は、一方を軸受８８で回転可能に支持され、他方をエンコーダ取り付け金具８９で回転可能に支持されている。さらに、エンコーダ取り付け金具８９には、Ｙ軸リードスクリュー８６にカップリング８７Ａを介して連結されたロータリーエンコーダ８７が取り付けられている。
【００７５】
この構成により、Ｙ軸リードナット８５がＹ軸ガイド４２と共に移動すると、このＹ軸リードナット８５が螺合されたＹ軸リードスクリュー８６が回転し、その回転がロータリーエンコーダ８７で検出されるようになっている。そして、このロータリーエンコーダ８７は表示手段５３に連結されている。
【００７６】
［マニュアルプローバの位置合わせ方法］
以上のように構成されたマニュアルプローバ７５では、次のようにして半導体ウエハ２０の検査が行われる。ここでは、位置検出手段７６の作用を中心に説明する。
【００７７】
ステージ部２１の移動によってＸ方向ガイド部３９のＸ軸ガイド４５とＹ方向ガイド部３８のＹ軸ガイド４２が移動する。
【００７８】
Ｘ軸ガイド４５の移動により、このＸ軸ガイド４５に固定されたＸ軸リードナット８０がＸ軸リードスクリュー８１に螺合した状態で移動される。これにより、Ｘ軸リードスクリュー８１が回転される。このＸ軸リードスクリュー８１の回転はロータリーエンコーダ８２によって検出され、その検出値が表示手段５３に送信される。
【００７９】
表示手段５３では、前記第１実施形態と同様にして、ステージ部２１のＸ軸方向の移動量がＸ方向位置表示部７１に表示される。
【００８０】
Ｙ方向も同様である。即ち、ステージ部２１の移動に伴うＹ軸ガイド４２の移動によって、Ｙ軸リードナット８５がＹ軸リードスクリュー８６に螺合した状態で移動する。これにより、Ｙ軸リードスクリュー８６が回転される。このＹ軸リードスクリュー８６の回転はロータリーエンコーダ８７によって検出され、その検出値が表示手段５３に送信される。
【００８１】
表示手段５３では、前記第１実施形態と同様にして、ステージ部２１のＹ軸方向の移動量がＹ方向位置表示部７２に表示する。
【００８２】
作業者は、表示手段５３を見ながら、ステージ部２１の位置合わせを行う。ステージ部２１の位置合わせが済んだところで、ステージ部２１を固定して、探針１３で測定を行う。
【００８３】
［効果］
この場合も、前記第１実施形態と同様に、表示手段５３によってステージ部２１の正確な位置を表示するようにしたので、ステージ部２１の位置合わせを、目視によらずに、短時間で正確にかつ極めて容易に行うことができ、半導体ウエハ２０の測定作業性が大幅に向上する。
【００８４】
［第３実施形態］
次の本発明の第３実施形態について添付図面を参照して説明する。図９は第３実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【００８５】
本実施形態に係るマニュアルプローバ９１の全体構成は、前記第１実施形態のマニュアルプローバ５１と同様であるため、その説明を省略する。本実施形態に係るマニュアルプローバ９１の特徴は位置検出手段９２にある。
【００８６】
位置検出手段９２は、Ｘ軸ガイド位置検出部９３とＹ軸ガイド位置検出部９４とから構成されている。
【００８７】
Ｘ軸ガイド位置検出部９３は、Ｘ軸レール４３に沿って配設されたＸ軸メインスケール９６と、Ｘ軸ガイド４５にインデックス取り付け金具９７を介して取り付けられた状態でＸ軸ガイド４５の移動に伴ってＸ軸メインスケール９６との間でモアレ縞を生じるＸ軸インデックススケール（図示せず）と、このＸ軸インデックススケールに一体的に設けられ、モアレ縞を測定してＸ軸ガイド４５の位置を検出するＸ軸モアレ縞測定部（図示せず）とから構成されている。Ｘ軸メインスケール９６は、メイン取付金具９９に支持された状態で固定台１００を介して各Ｙ軸ガイド４２に固定されている。Ｘ軸モアレ縞測定部は表示手段５３に連結されている。
【００８８】
Ｙ軸ガイド位置検出部９４は、Ｙ軸レール４１に沿って配設されたＹ軸メインスケール１０１と、Ｙ軸ガイド４２に取り付けられ、Ｙ軸ガイド４２の移動に伴ってＹ軸メインスケール１０１との間でモアレ縞を生じるＹ軸インデックススケール１０２と、このＹ軸インデックススケール１０２に設けられ、モアレ縞を測定してＹ軸ガイド４２の位置を検出するＹ軸モアレ縞測定部（図示せず）とから構成されている。Ｙ軸メインスケール１０１は、メイン取付金具１０４に支持された状態で固定台１０５を介してベース定盤２に固定されている。Ｙ軸インデックススケール１０２はインデックス取り付け金具１０６を介してＹ軸ガイド４２に取り付けられている。Ｙ軸モアレ縞測定部は表示手段５３に連結されている。
【００８９】
［マニュアルプローバの位置合わせ方法］
以上のように構成されたマニュアルプローバでは、次のようにして半導体ウエハ２０の検査が行われる。ここでは、位置検出手段９２の作用を中心に説明する。
【００９０】
ステージ部２１の移動によってＸ方向ガイド部３９のＸ軸ガイド４５とＹ方向ガイド部３８のＹ軸ガイド４２が移動する。
【００９１】
Ｘ軸ガイド４５の移動により、このＸ軸ガイド４５にインデックス取り付け金具９７で固定されたＸ軸インデックススケールがＸ軸メインスケール９６に面した状態で移動される。これにより、モアレ縞が発生する。Ｘ軸モアレ縞測定部では、このモアレ縞を測定してＸ軸ガイド４５の位置を検出する。そして、この検出値が表示手段５３に送信される。
【００９２】
表示手段５３では、前記第１実施形態と同様にして、ステージ部２１のＸ軸方向の移動量がＸ方向位置表示部７１に表示する。
【００９３】
Ｙ方向も同様である。即ち、ステージ部２１の移動に伴うＹ軸ガイド４２の移動によって、このＹ軸ガイド４２に固定されたＹ軸インデックススケール１０２がＹ軸メインスケール１０１に面した状態で移動される。これにより、モアレ縞が発生する。Ｙ軸モアレ縞測定部では、このモアレ縞を測定してＹ軸ガイド４２の位置を検出する。そして、この検出値が表示手段５３に送信される。
【００９４】
表示手段５３では、前記第１実施形態と同様にして、ステージ部２１のＹ軸方向の移動量がＹ方向位置表示部７２に表示する。
【００９５】
作業者は、表示手段５３を見ながら、ステージ部２１の位置合わせを行う。ステージ部２１の位置合わせが済んだところで、ステージ部２１を固定して、探針１３で測定を行う。
【００９６】
［効果］
この場合も、前記第１実施形態と同様に、表示手段５３によってステージ部２１の正確な位置を表示するようにしたので、ステージ部２１の位置合わせを、目視によらずに、短時間で正確にかつ極めて容易に行うことができ、半導体ウエハ２０の測定作業性が大幅に向上する。
【００９７】
［第４実施形態］
次の本発明の第４実施形態について添付図面を参照して説明する。図１０は第４実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【００９８】
本実施形態に係るマニュアルプローバ１１１の全体構成は、前記第１実施形態のマニュアルプローバ５１と同様であるため、その説明を省略する。本実施形態に係るマニュアルプローバ１１１の特徴は位置検出手段１１２にある。
【００９９】
位置検出手段１１２は、Ｘ軸ガイド位置検出部１１３とＹ軸ガイド位置検出部１１４とから構成されている。
【０１００】
Ｘ軸ガイド位置検出部１１３はＸ軸リニアエンコーダ１１５によって構成されている。このＸ軸リニアエンコーダ１１５は、Ｘ軸ガイド４５に一体的に設けられ、Ｘ軸レール４３に沿って移動するＸ軸ガイド４５の移動量を直接に測定する。Ｘ軸リニアエンコーダ１１５は表示手段５３に連結され、Ｘ軸ガイド４５の移動量としての測定値を送信する。
【０１０１】
Ｙ軸ガイド位置検出部１１４はＹ軸リニアエンコーダ１１６によって構成されている。このＹ軸リニアエンコーダ１１６は、Ｙ軸ガイド４２に一体的に設けられ、Ｙ軸レール４１に沿って移動するＹ軸ガイド４２の移動量を直接に測定する。Ｙ軸リニアエンコーダ１１６は表示手段５３に連結され、Ｙ軸ガイド４２の移動量としての測定値を送信する。
【０１０２】
［マニュアルプローバの位置合わせ方法］
以上のように構成されたマニュアルプローバでは、次のようにして半導体ウエハ２０の検査が行われる。ここでは、位置検出手段１１２の作用を中心に説明する。
【０１０３】
ステージ部２１の移動によってＸ方向ガイド部３９のＸ軸ガイド４５とＹ方向ガイド部３８のＹ軸ガイド４２が移動する。
【０１０４】
Ｘ軸ガイド４５の移動により、このＸ軸ガイド４５に一体的に設けられたＸ軸リニアエンコーダ１１５がＸ軸ガイド４５の位置を検出する。そして、この検出値が表示手段５３に送信される。
【０１０５】
表示手段５３では、前記第１実施形態と同様にして、ステージ部２１のＸ軸方向の移動量がＸ方向位置表示部７１に表示する。
【０１０６】
Ｙ方向も同様である。即ち、ステージ部２１の移動に伴うＹ軸ガイド４２の位置をＹ軸リニアエンコーダ１１６で検出し、その検出値を表示手段５３に送信する。
【０１０７】
表示手段５３では、前記第１実施形態と同様にして、ステージ部２１のＹ軸方向の移動量がＹ方向位置表示部７２に表示する。
【０１０８】
作業者は、表示手段５３を見ながら、ステージ部２１の位置合わせを行う。ステージ部２１の位置合わせが済んだところで、ステージ部２１を固定して、探針１３で測定を行う。
【０１０９】
［効果］
この場合も、前記第１実施形態と同様に、表示手段５３によってステージ部２１の正確な位置を表示するようにしたので、ステージ部２１の位置合わせを、目視によらずに、短時間で正確にかつ極めて容易に行うことができ、半導体ウエハ２０の測定作業性が大幅に向上する。
【０１１０】
［変形例］
（１）  前記各実施形態では、表示手段５３を、Ｘ方向の位置を数字で表示するＸ方向位置表示部７１と、Ｙ方向の位置を数字で表示するＹ方向位置表示部７２とから構成したが、数字による表示以外にも、マップで表示してもよい。例えば、図１１に示すように、コンピュータ１１８によって表示手段を構成し、その表示画面１１９に検査対象の半導体ウエハ２０を模したマップ１２０を固定して表示させる。そして、位置合わせ点である探針１３を表す点１２１を、固定したマップ１２０に対して相対的に移動させて表示する。これにより、半導体ウエハ２０の測定対象位置と探針１３とを容易に合わせることができる。
【０１１１】
また、表示画面１１９において、位置合わせする目的位置の方向を矢印等で表し、目的位置までの距離を数字で表すようにしてもよい。
【０１１２】
これらの場合も、前記実施形態同様の作用、効果を奏することができる。
【０１１３】
（２）  Ｘ軸ガイド位置検出部及びＹ軸ガイド位置検出部としては、前記各実施形態以外にも、受光素子と発光素子を用いて構成してもよい。この場合、図９に示すメイン取付金具９９，１０４で支持されたメインスケール９６，１０１の代わりに、一定間隔毎にスリットを設けた長板をレール４１，４３に沿って設け、ガイド４２，４５側に受光素子と発光素子を設けるようにしてもよい。受光素子と発光素子は長板のスリットを挟んで配設され、ガイド４２，４５の移動が、受光素子と発光素子との間での光の断接によって検出できるようにする。スリットの間隔は、必要に応じて数ｍｍ程度或いはもっと狭く設定される。
【０１１４】
また、ベース定盤２の表面のレール４１，４３に沿った部分に一定間隔毎に光を乱反射させる溝等を設け、ガイド４２，４５側にその溝等に向けて、受光素子と発光素子を配設するようにしてもよい。
【０１１５】
これらの場合も、前記各実施形態同様の作用、効果を奏することができる。
【０１１６】
【発明の効果】
以上、詳述したように本発明によれば、次のような効果を奏する。
【０１１７】
ステージ部の位置合わせの際に表示手段によってステージ部の正確な位置を表示するようにしたので、ステージ部の位置合わせを、目視によらずに、短時間で正確にかつ極めて容易に行うことができるようになる。
【０１１８】
この結果、薄板のサイズの拡大に伴ってマニュアルプローバが大型化した場合でも、ステージ部の位置合わせ作業を容易に行うことができ、薄板の測定作業性が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【図２】  従来のマニュアルプローバを示す正面図である。
【図３】  従来のマニュアルプローバを示す側面図である。
【図４】  従来のマニュアルプローバを示す平面図である。
【図５】  第１実施形態に係るマニュアルプローバを示す正面図である。
【図６】  第１実施形態に係るマニュアルプローバを示す側面図である。
【図７】  第１実施形態に係るマニュアルプローバを示す平面図である。
【図８】  本発明の第２実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【図９】  本発明の第３実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【図１０】  本発明の第４実施形態に係るマニュアルプローバの要部を示す斜視図である。
【図１１】  表示手段の変形例を示す正面図である。
【符号の説明】
２：ベース定盤、２０：半導体ウエハ、２１：ステージ部、４１：Ｙ軸レール、４２：Ｙ軸ガイド、４３：Ｘ軸レール、５１：マニュアルプローバ、５２：位置検出手段、５３：表示手段、５５：Ｘ軸リニアエンコーダ、５６：Ｙ軸リニアエンコーダ、５７：フック部、５８：Ｘ軸ワイヤ、５９：Ｘ軸リニアスケールエンコーダ部、６０：Ｘ軸ワイヤ巻回部、６１：Ｘ軸ワイヤ繰り出し量検出部、６３：フック部、６４：Ｙ軸ワイヤ、６５：Ｙ軸リニアスケールエンコーダ部、６６：Ｙ軸ワイヤ巻回部、６７：Ｙ軸ワイヤ繰り出し量検出部、７１：Ｘ方向位置表示部、７２：Ｙ方向位置表示部。
【図１】
0003808618.tif 000002
【図２】
0003808618.tif 000003
【図３】
0003808618.tif 000004
【図４】
0003808618.tif 000005
【図５】
0003808618.tif 000006
【図６】
0003808618.tif 000007
【図７】
0003808618.tif 000008
【図８】
0003808618.tif 000009
【図９】
0003808618.tif 000010
【図１０】
0003808618.tif 000011
【図１１】
0003808618.tif 000012