(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（Ｉ）で表される新規ベンゾフラノン誘導体。
【化１】
0003783810.tif 000005
（但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン、又はアミノ基、あるいはR1とR2、R2とR3、R3とR4、又はR4とR5で結合したアルキレンジオキシ基をそれぞれ示し、R6は水酸基、メトキシ基、イソプロピルオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、またはプロピオニルオキシ基を示す。
但し、：
R6が水酸基である場合、
R1〜R5がすべて水素であることはなく、
R1、R2、R4およびR5が水素である場合、R3は水酸基、ハロゲン、メトキシ基ではなく、
R1、R3、R4およびR5が水素である場合、R2は水酸基ではなく、
R3、R4およびR5が水素であり、R1がメトキシ基である場合、R2はメトキシ基ではなく、
R2、R4およびR5が水素であり、R1が水酸基である場合、R3は水酸基ではなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2が水酸基である場合、R3は水酸基でもメトキシ基でもなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2がメトキシ基である場合、R3は水酸基でもメトキシ基でもなく、
R1、R4およびR5が水素である場合、R2とR3は結合したメチレンジオキシ基ではなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4がメトキシ基である場合、R3は水酸基でもメトキシ基でもなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4が水酸基である場合、R3は水酸基ではない。；
R6がメトキシ基である場合、
R1〜R5がすべて水素であることはなく、
R1、R2、R4およびR5が水素である場合、R3は水酸基、メチル基、メトキシ基、ハロゲン、またはアミノ基のいずれでもなく、
R2〜R5が水素である場合、R1は水酸基、メチル基、メトキシ基、塩素、またはアミノ基のいずれでもなく、
R1、およびR3〜R5が水素である場合、R2は水酸基、メチル基、メトキシ基、塩素、またはアミノ基のいずれでもなく、
R2、R4およびR5が水素であり、R1がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基ではなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基でも水酸基でもなく、
R2、R4およびR5が水素であり、R1が水酸基である場合、R3は水酸基ではなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2が水酸基である場合、R3はメトキシ基でも水酸基でもなく、
R1、R4およびR5が水素である場合、R2とR3は結合したメチレンジオキシ基ではなく、
R4およびR5が水素であり、R1およびR2がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基ではなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4がメトキシ基である場合、R3は水酸基ではない；
R6がイソプロピルオキシ基である場合、
R1〜R5がすべて水素であることはない。；
R6がアセトキシ基である場合、
R1、R2、R4およびR5が水素である場合、R3はアセトキシ基ではなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基ではない。
【請求項２】
下記の一般式（II）で表されるベンゾフラノン化合物と下記の一般式（III)で表されるベンズアルデヒド化合物を有機溶媒に溶解し、酸性又は塩基性条件下で加熱還流又は室温で反応した後、反応液から目的物を精製することを特徴とする、請求項１記載の新規ベンゾフラノン誘導体の製造方法。
【化２】
0003783810.tif 000006
（但し、式中R6は水酸基、メトキシ基、イソプロピルオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、またはプロピオニルオキシ基を示す。）
【化３】
0003783810.tif 000007
（但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基又はアラルキルオキシ基、ハロゲン、あるいはアミノ基をそれぞれ示す。
但し、：
R6が水酸基である場合、
R1〜R5がすべて水素であることはなく、
R1、R2、R4およびR5が水素である場合、R3は水酸基、ハロゲン、メトキシ基ではなく、
R1、R3、R4およびR5が水素である場合、R2は水酸基ではなく、
R3、R4およびR5が水素であり、R1がメトキシ基である場合、R2はメトキシ基ではなく、
R2、R4およびR5が水素であり、R1が水酸基である場合、R3は水酸基ではなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2が水酸基である場合、R3は水酸基でもメトキシ基でもなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2がメトキシ基である場合、R3は水酸基でもメトキシ基でもなく、
R1、R4およびR5が水素である場合、R2とR3は結合したメチレンジオキシ基ではなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4がメトキシ基である場合、R3は水酸基でもメトキシ基でもなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4が水酸基である場合、R3は水酸基ではない。；
R6がメトキシ基である場合、
R1〜R5がすべて水素であることはなく、
R1、R2、R4およびR5が水素である場合、R3は水酸基、メチル基、メトキシ基、ハロゲン、またはアミノ基のいずれでもなく、
R2〜R5が水素である場合、R1は水酸基、メチル基、メトキシ基、塩素、またはアミノ基のいずれでもなく、
R1、R3〜R5が水素である場合、R2は水酸基、メチル基、メトキシ基、塩素、またはアミノ基のいずれでもなく、
R2、R4およびR5が水素であり、R1がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基ではなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基でも水酸基でもなく、
R2、R4およびR5が水素であり、R1が水酸基である場合、R3は水酸基ではなく、
R1、R4およびR5が水素であり、R2が水酸基である場合、R3はメトキシ基でも水酸基でもなく、
R1、R4およびR5が水素である場合、R2とR3は結合したメチレンジオキシ基ではなく、
R4およびR5が水素であり、R1およびR2がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基ではなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4がメトキシ基である場合、R3は水酸基ではない；
R6がイソプロピルオキシ基である場合、
R1〜R5がすべて水素であることはない。；
R6がアセトキシ基である場合、
R1、R2、R4およびR5が水素である場合、R3はアセトキシ基ではなく、
R1およびR5が水素であり、R2およびR4がメトキシ基である場合、R3はメトキシ基ではない。）
【請求項３】
請求項１記載の新規ベンゾフラノン誘導体を有効成分とする医薬。
【請求項４】
請求項１記載の新規ベンゾフラノン誘導体を有効成分とする１７β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ阻害剤。
【請求項５】
下記の一般式（Ｉ）で表される新規ベンゾフラノン誘導体を有効成分とする１７β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ阻害剤：
【化４】
0003783810.tif 000008
（但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン、又はアミノ基、あるいはR1とR2、R2とR3、R3とR4、又はR4とR5で結合したアルキレンジオキシ基をそれぞれ示し、R6は水酸基、メトキシ基、イソプロピルオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、またはプロピオニルオキシ基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法に関する。本発明誘導体は１７β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ（以下、１７β−ＨＳＤ）阻害活性を有し、その活性より男性及び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤、具体的には前立腺癌、前立腺肥大症、男性化症、乳癌、乳腺症、子宮癌、子宮内膜症、卵巣癌などの、種々の男性及び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、わが国において、前立腺癌や前立腺肥大等の男性ホルモン依存性疾患および乳癌や子宮内膜症等の女性ホルモン依存性疾患の罹患率の増加が問題となっている。例えば、前立腺癌の死亡率は１９８４年度の統計では人口１０万人あたり３．９人で、米国の非白人の約１／１０であったが、医療技術の向上等による平均余命の上昇ならびに食生活の欧米化等によって漸増しており、１９９３年には人口１０万人あたり６．７人と徐々に欧米のレベルに近づきつつある。因みに２０１５年に於ける前立腺癌死亡者数は１９９０年の死亡者数の約４倍になることが予想されているが、これは全癌中最悪の増加率である。
【０００３】
男性ホルモン依存性疾患は血中男性ホルモンを低下させることで自覚的および他覚的症状の改善が見込まれることが、すでに多くの知見から明らかにされている。このため、これまでに去勢によって血中男性ホルモンを低下させたり、脳下垂体から分泌される性腺刺激ホルモン放出ホルモンＬＨ−ＲＨのアゴニストを投与し、脳下垂体の脱感作によってＬＨ−ＲＨ分泌能を低下させて血中男性ホルモンを去勢レベルまで低めたり、男性ホルモン受容体に拮抗する抗男性ホルモン剤を投与して男性ホルモンの働きを抑えることによってこれらの疾患を治療することが試みられ、事実臨床的効果が広く認められている。しかしながら去勢はＱＯＬの低下を招くことから、現在では非常に限定された症例で実施されているに過ぎない。またＬＨ−ＲＨのアゴニストはアゴニスト特有のフレアー現象（一時的な男性ホルモンの増加）による骨痛や排尿障害等の副作用や、副腎由来の男性ホルモンが存在し続けることによる再燃が問題となっている。さらに抗男性ホルモン剤は、投薬中に男性ホルモン受容体が変異することによって治療効果が低下することが指摘されている。このため、最近ではより効果的な内分泌療法を指向して「男性ホルモン完全遮断療法」が提唱されている。これは幾つかの内分泌療法を組み合わせることによって、血中の男性ホルモンを完全に遮断することを目指すもので、これまで以上の治療効果が期待されている。
【０００４】
男性ホルモン活性を有するＣ19ステロイドの中で最も男性ホルモン活性が強いテストステロンは、１７β−ＨＳＤによってアンドロステンジオンを基質に生合成される。従ってこの１７β−ＨＳＤを阻害することで、直接血中テストステロンを低下させることができるため、上記男性ホルモン依存性疾患に対する高い治療効果が期待できる。またこの酵素は、女性ホルモン活性を有するＣ18ステロイドの中で最も女性ホルモン活性が強いエストラジオールの生合成酵素でもあるので、同様に乳癌や子宮内膜症等の女性ホルモン依存性疾患の治療効果も併せて期待される。
【０００５】
現在までに、１７β−ＨＳＤ阻害剤として、ステロイド化合物や非ステロイド化合物が提示されてきた。非ステロイド化合物としては、例えばバイオケミカルアンドバイオフィジカルリサーチコミュニケーションズ誌（２１５巻、１１３７−１１４４頁、１９９５年）に記載のフラボン類およびイソフラボン類や、ジャーナルオブステロイドバイオケミストリー誌（２３巻、３５７−３６３頁、１９８５年）に記載の脂肪酸が知られている。しかしながら、これらの化合物の活性は決して満足出来るものではなく、さらに活性の高い物質が期待されていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述の状況に鑑み、本発明者らは鋭意探索の結果、新規なベンゾフラノン誘導体に、優れた１７β−ＨＳＤ阻害活性を有することを見出した。よって本発明は、新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法に関する。本発明誘導体は１７β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ（１７β−ＨＳＤ）阻害活性を有し、その活性より男性及び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤、具体的には前立腺癌、前立腺肥大症、男性化症、乳癌、乳腺症、子宮癌、子宮内膜症、卵巣癌などの予防及び／又は治療剤として有用である。
本発明誘導体は、下記の一般式（Ｉ）
【０００８】
【化４】
0003783810.tif 000002
【０００９】
（但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン、又ははアミノ基、あるいはR1とR2、R2とR3、R3とR4、又はR4とR5で結合したアルキレンジオキシ基をそれぞれ示し、R6は水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキルオキシ基又はアラルキルオキシ基、あるいは炭素数１〜７のカルボン酸エステルを示す。）で表される新規ベンゾフラノン誘導体である。
また本発明は、新規ベンゾフラノン誘導体を製造するにあたり、下記の一般式（II）で表されるベンゾフラノン化合物と下記の一般式（III)で表されるベンズアルデヒド化合物を有機溶媒に溶解し、酸性又は塩基性条件下で加熱還流又は室温で反応した後、反応液から目的物を精製することを特徴とする。
【００１０】
【化５】
0003783810.tif 000003
（但し、式中R6は水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキルオキシ基又はアラルキルオキシ基、あるいは炭素数１〜７のカルボン酸エステルを示す。）
【００１１】
【化６】
0003783810.tif 000004
（但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基又はアラルキルオキシ基、ハロゲン、あるいはアミノ基をそれぞれ示す。）
【００１２】
【発明の実施の形態】
一般式（Ｉ）で表される、本発明誘導体である新規ベンゾフラノン誘導体は、具体的には以下の化合物が挙げられる。（化合物の番号は、図１〜６に記載の実施例の番号に一致する。）
(1) ２−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(2) ２−〔（３−クロロ−６−アミノフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(3) ２−〔（４−クロロ−３−アミノフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(4) ２−〔（４，６−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(5) ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(6) ２−〔（２，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(7) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(8) ２−〔（インド−ル）−３−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(9) ２−〔（４−イソプロピルフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(10)  ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(11)  ２−〔（３，４−ジエトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(12)  ２−〔（３−メトキシ−４−エトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(13)  ２−〔（３−メトキシ−４−ベンジルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(14)  ２−〔（４−メトキシ−３−ベンジルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(15)  ２−〔（３，４−ジベンジルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(16)  ２−〔（３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(17)  ２−〔（３−エトキシ−４−ベンゾルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(18)  ２−〔（３−フェノキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(19)  ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(20)  〔Ｅ〕−２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(21)  ２−〔（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(22)  ２−〔（３，４−ジメチルフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(23)  ２−〔（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(24)  ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(25)  ６−アセトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(26)  ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(27)  ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(28)  ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(29)  ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(30)  ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(31)  ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(32)  ６−ベンゾイルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(33)  ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(34)  ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(35)  ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(36)  ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(37)  ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(38)  ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(39)  ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(40)  ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(41)  ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(42)  ６−プロピオニルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(43)  ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(44)  ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(45)  ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(46)  ２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(47)  ２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(48)  ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(49)  ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(50)  ６−イソプロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(51)  ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(52)  ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(53)  ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(54)  ２−〔（２、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(55)  ２−〔（３−メトキシ−４−プロピルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(56)  ２−〔（３−メトキシ−４−ブトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(57)  ２−〔（３−メトキシ−４−ペンチルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(58)  ２−〔（３−メトキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(59)  ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−エトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(60)  ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−プロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(61)  ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ブトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(62)  ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ペンチルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(63)  ６−エトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(64)  ６−プロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(65)  ６−ブトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(66)  ６−ペンチルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(67)  ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヘキシルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(68)  ６−ヘキシルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
(69)  メチル−２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イル｝オキシ）プロピオネート
(70)  ２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イル｝オキシ）プロピオン酸
(71)  メチル−２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベンゾエート
(72)  ２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベンゾエート
(73)  ２−〔１−（１Ｈ−５−インドリル）メチリデン〕−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−３−オン
【００１３】
本発明誘導体は、上述の化合物の他これらの化合物の立体異性体、及び酸又は塩基と形成される塩を含む。塩基の塩としては、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムなどの無機塩基、低級アルキルアミン、低級アルコールアミンなどの有機塩基、リジン、アルギニン、オルニチンなどの塩基性アミノ酸との塩やアンモニウム塩などが挙げられる。さらに水和物、低級アルコールなどの溶媒和物や結晶多形を形成する場合もある。
【００１４】
本発明誘導体は、以下の方法により製造することができる。例えば、前記ベンゾフラノン化合物（II) と前記ベンズアルデヒド化合物（III)をメタノール、エタノール、又はプロパノールなどの溶媒に溶解し、濃塩酸を加え１〜２４時間加熱還流した後冷却し、析出した結晶を濾過することにより、目的とする本発明誘導体である新規ベンゾフラノン誘導体（Ｉ）が得られる。又、結晶が析出しない場合は、水１００〜４００ｍｌを加え結晶を析出させ、濾過後乾燥することにより、目的とする本発明誘導体が得られる。あるいは、メタノール、エタノール、又はプロパノールなどの溶媒中に水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムなどを加え、１〜２４時間攪拌した後塩酸で酸性とし、析出した結晶を濾過することにより、目的とする本発明誘導体を得ることもできる。さらには、メタノール、エタノール、プロパノール、又はエーテルなどの有機溶媒の塩化水素ガス飽和の溶液中で冷却、室温で放置、あるいは加熱し、１〜２４時間攪拌を行い、水を加えて目的化合物を結晶として析出させ、析出した結晶を濾過することにより、目的とする本発明誘導体を得ることもできる。
【００１５】
本発明誘導体は、ヒト及び動物に対し、医薬として経口的及び非経口的に安全に投与される。非経口的投与には、例えば静脈注射、筋肉内注射、皮下注射、腹腔内注射、経皮投与、経肺投与、経鼻投与、経腸投与、口腔内投与、経粘膜投与等が挙げられ、これらの製剤が投与される。例えば注射剤、坐剤、エアゾール剤、経皮吸収テープなどが挙げられる。経口投与製剤として例えば錠剤（糖衣錠、コーティング錠、バッカル錠を含む）、散剤、カプセル剤（ソフトカプセルを含む）、顆粒剤（コーティングされたものも含む）、丸剤、トローチ剤、液剤、又はこれらの製剤学的に許容され得る徐放化製剤等が挙げられる。経口投与用液剤には懸濁剤、乳剤、シロップ剤（ドライシロップを含む）、エリキシル剤などが挙げられる。これらの製剤は公知の製剤学的製法に準じ、製剤として薬理学的に許容され得る担体、賦形剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤等と共に医薬組成物として投与される。
【００１６】
これらの製剤に用いる担体や賦形剤としては、例えば乳糖、ブドウ糖、白糖、マンニトール、馬鈴薯デンプン、トウモロコシデンプン、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸カルシウム、結晶セルロース、カンゾウ末、ゲンチアナ末など、結合剤としては例えばデンプン、トラガントゴム、ゼラチン、シロップ、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなど、崩壊剤としては例えばデンプン、寒天、ゼラチン末、カルボキシメチルセルロースナトリウム、カルボキシメチルセルロースカルシウム、結晶セルロース、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、アルギン酸ナトリウムなど、滑沢剤としては例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、水素添加植物油、マクロゴールなど、着色剤としては医薬品に添加することが許容されているものを、それぞれ用いることができる。
【００１７】
錠剤、顆粒剤は必要に応じ白糖、ゼラチン、ヒドロキシプロピルセルロース、精製セラック、ゼラチン、グリセリン、ソルビトール、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、フタル酸セルロースアセテート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、メチルメタクリレート、メタアクリル酸重合体などで被膜しても良く、又これらの２種以上を用いた層で被膜しても良い。さらにエチルセルロースやゼラチンのような物質のカプセルでも良い。又、注射剤を調製する場合は、主薬に必要に応じｐＨ調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加して、常法により各注射剤とする。
本発明誘導体を患者に投与する場合、症状の程度、患者の年齢、健康状態、体重などの条件によって異なり特に限定はされないが、成人１日当たり約１ｍｇ〜１０００ｍｇ、好ましくは５０〜２００ｍｇを経口或いは非経口的に１日１回若しくはそれ以上投与すれば良い。
【００１８】
【実施例】
以下の実施例をもって本発明をより詳細に説明するが、これらは単に例示するのみであり、これらによって本発明は何ら限定されるものではない。
実施例１
２−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−ヒドロキシベンズアルデヒド０．８１３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水を４００ｍｌ加え１時間放置した。析出した結晶をロ別した。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物１．２０ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２５５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．６７（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．８３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，２．５，０．９Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），７．３８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１，２．１Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），９．６４（１Ｈ，ｓ），１１．２０（１Ｈ，ｓ）
【００１９】
実施例２
２−〔（３−クロロ−６−アミノフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−クロロ−６−アミノベンズアルデヒド１．２４ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物１、４２ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８，２．４Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．６３（１Ｈ，ｓ）
【００２０】
実施例３
２−〔（３−クロロ−４−アミノフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−クロロ−４−アミノベンズアルデヒド１．２４ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物１．７５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５，Ｈｚ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｓ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｓ）
【００２１】
実施例４
２−〔（４，６−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、４、６−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水４００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．８３（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），６．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｓ）７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８）
【００２２】
実施例５
２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３、５−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．４２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．７７（６Ｈ，ｓ），６．５５（１Ｈ，ｍ），６．６７（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７０９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００２３】
実施例６
２−〔（２，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、２、５−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水４００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２１ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．７６（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ）），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．９９（３Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）
【００２４】
実施例７
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
製造例１
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、１，４−ベンゾジオキサン−６−カルボキジアルデヒド１．２１ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．１７ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；４．２８（４Ｈ，ｍ），６．６７（１Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，８．２Ｈｚ），１１．９６（１Ｈ，ｓ）
製造例２
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン５０ｇ、１、４−ベンゾジオキサン−６−カルボキシアルデヒド６０ｇを酢酸１０００ｍｌに入れた後、濃塩酸５５ｍｌを加え２時間攪拌した。析出した結晶をロ別後、６０℃で五酸化リン上、１８時間乾燥して目的物９７．６ｇを得た。
ＭＡＳＳ、ＮＭＲ共に前記と同様の結果が得られた。
【００２５】
実施例８
２−〔（インド−ル）−３−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、インドール−３−カボキシアルデヒド１．１５ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．４９５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２７８（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１２．０８（１Ｈ，ｓ）
【００２６】
実施例９
２−〔（４−イソプロピルフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、シナムアルデヒド１．０９ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．６６ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２８１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．２０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）２．９１（１Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，１．８Ｈｚ），６．７４（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．１２（１Ｈ，ｓ）
【００２７】
実施例１０
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシベンズアルデヒド１．１２５ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２６９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．７８（３Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．４Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）１１．１８（１Ｈ，ｓ）
【００２８】
実施例１１
２−〔（３，４−ジエトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３，４−ジエトキシベンズアルデヒド１．５８ｍｌをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２７ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２６（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．３３（３Ｈ，ｔ），１．３５（３Ｈ，ｔ），４．０６（４Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．０８（１Ｈ，ｓ）
【００２９】
実施例１２
２−〔（３−メトキシ−４−エトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデヒド１．３３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．５５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３１３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．３３（３Ｈ，ｔ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｑ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），１１．０９（１Ｈ，ｓ）
【００３０】
実施例１３
２−〔（３−メトキシ−４−ベンジルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシ−４−ベンジルオキシベンズアルデヒド１．７９ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．６３ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３７５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．８４（３Ｈ，ｓ），５．１４（２Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３３〜７．６０（８Ｈ，ｍ），１１．１１（１Ｈ，ｓ）
【００３１】
実施例１４
２−〔（４−メトキシ−３−ベンジルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、４−メトキシ−３−ベンジルオキシベンズアルデヒド１．７９ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．６９ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３７５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．８３（３Ｈ，ｓ），５．１８（２Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８，０．６Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３３〜７．６４（８Ｈ，ｍ），１１．１２（１Ｈ，ｓ）
【００３２】
実施例１５
２−〔（３，４−ジベンジルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３，４−ジベンジルオキシベンズアルデヒド２．３５ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．８２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；４５１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；５．２０（２Ｈ，ｓ），５．２２（２Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８，０．６Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３１〜７．５１（１１Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）１１．１５（１Ｈ，ｓ）
【００３３】
実施例１６
２−〔（３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−エトキシ−４−ヒドロキベンズアルデヒド１．２２ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．１９ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．３５（３Ｈ，ｔ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｑ），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００３４】
実施例１７
２−〔（３−エトキシ−４−ベンゾルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−エトキシ−４−ベンゾロキシベンズアルデヒド１．８０ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．３３ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３８９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．３４（３Ｈ，ｔ），４．０８（３Ｈ，ｓ），５．１４（２Ｈ，ｓ），６．７０〜６．７３（３Ｈ，ｍ）６．７９（１Ｈ，ｓ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３９〜７．６０（８Ｈ，ｍ），１１．１１（１Ｈ，ｓ）
【００３５】
実施例１８
２−〔（３−フェノキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−フェノキシベンズアルデヒド１．２７ｍｌをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．１０ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３３１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．２Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｓ），７．０２〜７．２１（３Ｈ，ｍ），７．４１〜７．６７（６Ｈ，ｍ），１１．２３（１Ｈ，ｓ）
【００３６】
実施例１９
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メチル−４−メトキシベンズアルデヒド１．１１ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２８３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；２．１８（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），６．６８（１Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．６Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），１１．１１（１Ｈ，ｓ）
【００３７】
実施例２０
〔Ｅ〕−２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３，４−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇを酢酸２０ｍｌに溶解した後、濃塩酸１．１ｍｌを加え１８時間攪拌後メタノール１５ｍｌ加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．８２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．８Ｈｚ）６．７４（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５５（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），１１．０９（１Ｈ，ｓ）
【００３８】
実施例２１
２−〔（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒド１．３３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水１５０ｍｌを加えた。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９９ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３１３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２）
【００３９】
実施例２２
２−〔（３，４−ジメチルフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３、４−ジメチルベンズアルデヒド１．０７ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水２００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２１ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２６７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；２．２４（３Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），６．６７（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），７．６６（２Ｈ，ｍ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）
【００４０】
実施例２３
２−〔（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メチル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド１．００ｇをメタノ−ル７０ｍｌに溶解した後、濃塩酸６０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水２５０ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２６８（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；２．１８（３Ｈ，ｓ），６．６５（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），７．６６（２Ｈ，ｍ）
【００４１】
実施例２４
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、２Ｎ−塩酸５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌとふりまぜた後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粗目的化合物の粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で４００ｍｌで溶出）で分画した後、減圧下４０℃で濃縮乾固し、それに酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌを加えると、結晶が析出した。この、結晶をロ別し結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３５５．２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．３２（３Ｈ，ｓ），４．２７（４Ｈ，ｍ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００４２】
実施例２５
６−アセトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粗目的化合物の粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画した。、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物５３９．５ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３８３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．３３（３Ｈ，ｓ），６．０２（２Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００４３】
実施例２６
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．１７２ｍｌを加え２．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物３７１．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．３３（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００４４】
実施例２７
２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３４１．３ｍｇを得た。ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３４１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．３２（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，０．６Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００４５】
実施例２８
２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２４９．１ｍｇを得た。ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３４１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．３２（３Ｈ，ｓ），３．８２（６Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，ｍ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００４６】
実施例２９
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物４３６．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．２４（３Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｓ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）
【００４７】
実施例３０
２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２９４．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；４０３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；３．９１（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｍ），７．５２（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．１９（２Ｈ，ｍ）
【００４８】
実施例３１
２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３８８．５ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；４０３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；３．８３（６Ｈ，ｓ），６．５２（１Ｈ，ｂｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）８．１９（２Ｈ，ｄＪ＝７．３Ｈｚ）
【００４９】
実施例３２
６−ベンゾイルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物を、酢酸エチル１０ｍｌ，ヘキサン２０ｍｌで溶解後、析出した結晶をロ別後結晶は、五酸化リン上、６０℃で６時間減圧下乾燥し目的化合物１８２．３ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３８７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；６．０２（２Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｍ），７．５２（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）８．１９（２Ｈ，ｄＪ＝７．９Ｈｚ）
【００５０】
実施例３３
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた得られた結晶は、五酸化リン上、６０℃で２時間減圧下乾燥し目的化合物４１１．２ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；４０１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；４．３０（４Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６２（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．２Ｈｚ）
【００５１】
実施例３４
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、ヘキサン１０ｍｌ，酢酸エチル５ｍｌに溶解し、析出した結晶をロ別したのち五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物３２１．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３８７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．２５（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６２（２Ｈ，ｍ），７．７６〜７．８４（２Ｈ，ｍ），７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．２Ｈｚ）
【００５２】
実施例３５
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、ヘキサン１０ｍｌ，酢酸エチル５ｍｌに溶解し、析出した結晶をロ別したのち五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２２１．５ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３７３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；３．８５（３Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．７Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２８〜７．６７（７Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．２Ｈｚ）
【００５３】
実施例３６
２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた結晶を、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２００．５ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３７３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；３．８４（３Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．５０〜７．８７（６Ｈ，ｍ），７．９９（２Ｈ，ｍ）
【００５４】
実施例３７
２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、次いで飽和食塩水５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル４ｍｌ／ヘキサン１０ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物２５１．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８５（３Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９２（２Ｈ，ｍ），７．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，０．６Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｍ），７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５５】
実施例３８
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、次いで飽和食塩水５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で４００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル５ｍｌ／ヘキサン５ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物２７７．８ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８５（３Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９２（２Ｈ，ｍ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｍ），７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５６】
実施例３９
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５２５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で３５０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ／ヘキサン５ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物３２２．９ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２４（３Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８６（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．４Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６９（２Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００５７】
実施例４０
２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５２５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル５ｍｌ／ヘキサン１０ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物２７５．１ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３５５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８２（６Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｓ，），６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５８】
実施例４１
２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５２５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物３１１．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３５５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９２（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），６．８４（１Ｈ，ｓ，），６．９２（２Ｈ，ｍ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００５９】
実施例４２
６−プロピオニルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニイル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル１ｍｌ／ヘキサン１０ｍｌで再結晶後、結晶をロ別し五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３００．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），５．９８（２Ｈ，ｓ），６．７５（１Ｈ，ｓ，），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．４Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００６０】
実施例４３
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオンニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、２Ｎ−塩酸５０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出後飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた得られた結晶は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、五酸化リン上、６０℃で２時間減圧下乾燥し目的化合物２７２．９ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３５３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．２６（２Ｈ，ｍ），６．７５（１Ｈ，ｓ，），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００６１】
実施例４４
２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル１ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物４６２．９ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．６７（２Ｈ，ｍ，），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００６２】
実施例４５
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水２０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１８７．２ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８４（３Ｈ，ｓ），４．６５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．６７（２Ｈ，ｍ，），６．７４（１Ｈ，ｓ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），７．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００６３】
実施例４６
２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン５ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物６２２．７ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：３４１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．３６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８８（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．６５（２Ｈ，ｍ，），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２、１．８Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）
【００６４】
実施例４７
２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出し後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３１６．１ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：３４１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．６５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｍ，），６．６７（３Ｈ，ｍ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００６５】
実施例４８
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．６１ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン５ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２７５．１ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．４０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２５（３Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．６６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．７５（１Ｈ，ｓ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６９（３Ｈ，ｍ）
【００６６】
実施例４９
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
製造例１
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル４ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物４２２．７ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：３３９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．３９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．２８（４Ｈ，ｍ），４．６２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．４８（３Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
製造例２
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１０ｇ、炭酸カリウム２７．６ｇをジメチルホルムアミド１００ｍｌに加えた後、２−ブロモプロパン１１．８ｍｌを加え、１時間６０℃で攪拌した。本反応溶液は、冷却後、酢酸エチル２００ｍｌを加え、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧濃縮し、油状物を得た。本油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で目的物を分離した。目的画分に、ヘキサン５０ｍｌを加え、室温で２時間放置後、結晶をロ別した。本結晶は、６０℃で五酸化リン上、７時間乾燥して、６−イソプロピルオキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン６．３７ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：１９３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．２９（６Ｈ，ｄ），４．７３−４．７９（３Ｈ，ｍ），６．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
このようにして得られた６−イソプロピルオキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン０．５ｇ、１、４−ベンゾジオキサン−６−カルボキシアルデヒド０．６ｇを酢酸１０ｍｌに溶解後、濃塩酸０．５ｍｌを加え、１８時間攪拌した。析出した結晶をロ別後、本結晶をメタノール５０ｍｌに溶解した。メタノール溶液に水１００ｍｌを加え、目的物を酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和炭酸水素ナトリウム溶液１００ｍｌで２回、水１００ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水した。本溶液を、４０℃で減圧濃縮し油状物を得た。油状物に、メタノール２０ｍｌを加え、析出した結晶をロ別後、結晶は６０℃で五酸化リン上、４時間乾燥して、目的化合物０．７５ｇを得た。
製造例３
６−イソプロピルオキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン０．５ｇ、１、４−ベンゾジオキサン−６−カルボキシアルデヒド０．６ｇをエタノール１０ｍｌに懸濁後、ピペリジン２滴を加え、４時間攪拌した。析出した結晶をロ別後、本結晶をエタノール１０ｍｌで２回洗浄後、五酸化リン上、４時間乾燥して、目的化合物０．３７ｇを得た。
【００６７】
実施例５０
６−イソプロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル５ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物５１９．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．３９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．００（２Ｈ，ｓ），６．４８（３Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００６８】
実施例５１
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．４７７ｇ及び炭酸カリウム０．５８３ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液にメチル  ｐ−トルエンスルフォネート０．３１４ｇを加え６０℃、２時間攪拌後、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出したのち、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシムで脱水ロ別し、４０℃で減圧濃縮し粗目的化合物を粉末で得た。得られた粉末は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３７１．６ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：２９７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．２３（３Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６４（３Ｈ，ｍ）
【００６９】
実施例５２
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液にメチル  ｐ−トルエンスルフォネ−ト０．３１４ｇを加え６０℃、２時間攪拌後、水１００ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２２６．２ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：３１１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；３．８９（３Ｈ，ｓ），４．２８（４Ｈ，ｍ），４．７２（３Ｈ，ｍ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７０】
実施例５３
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．４５２ｇ及び炭酸カリウム０．５８３ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液にメチル  ｐ−トルエンスルフォネート０．３１４ｇを加え６０℃、２時間攪拌後、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出したのち、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシムで脱水ロ別し、４０℃で減圧濃縮し粗目的化合物を粉末で得た。得られた粉末は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３７７．２ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ：２８３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；３．８４（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），６．７２（３Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｍ），７．４２（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７１】
実施例５４
２−〔（２、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、２、６−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水４００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．８３（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），６．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．４Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００７２】
実施例５５
２−〔（３−メトキシ−４−プロピルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシ−４−プロピルオキシベンズアルデヒド１．５５ｇをメタノ−ル７０ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７４ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．９７（３Ｈ，ｔ），１．３７（２Ｈ，ｍ），３．８３（３Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５３〜７．５５（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７３】
実施例５６
２−〔（３−メトキシ−４−ブトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシ−４−ブトキシベンズアルデヒド１．６６ｇをメタノ−ル６０ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９７ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３４１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．９０（３Ｈ，ｔ），１．４０（２Ｈ，ｍ），１．６８（２Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５０〜７．５３（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７４】
実施例５７
２−〔（３−メトキシ−４−ペンチルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシ−４−ペンチルオキシベンズアルデヒド１．７７ｇをメタノ−ル６０ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３５５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．８５（３Ｈ，ｔ），１．３３（４Ｈ，ｍ），１．７０（２Ｈ，ｍ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５０〜７．５３（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７５】
実施例５８
２−〔（３−メトキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３−メトキシ−４−ヘキシルオキシベンズアルデヒド１．８８ｇをメタノ−ル６０ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．３４ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３６９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．８３（３Ｈ，ｔ），１．２６（４Ｈ，ｍ），１．３７（４Ｈ，ｍ），１．６７（２Ｈ，ｍ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５０〜７．５３（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７６】
実施例５９
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−エトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに入れた後、よう化エタン０．４８ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル１００ｍｌを加え水５０ｍｌで３回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下４０ｍｌまで濃縮した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７４ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．４４（３Ｈ，ｔ），４．１０（２Ｈ，ｑ），４．２８（４Ｈ，ｍ），６．６８（３Ｈ，ｍ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７７】
実施例６０
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−プロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに入れた後、よう化プロパン０．５９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下濃縮した。得られた結晶は、酢酸エチル１５ｍｌを加え６０℃で溶解後、５℃に２時間放置した後、析出した結晶をロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．６８ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３３８（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．９７（３Ｈ，ｔ），１．７７（２Ｈ，ｍ），３．９３（２Ｈ，ｑ），４．２２（４Ｈ，ｍ），６．６３（３Ｈ，ｍ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７８】
実施例６１
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ブトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに入れた後、１−よう化ブタン０．７０ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル２００ｍｌを加えた後、水５０ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下４０ｍｌまで濃縮した。析出した結晶をロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７４ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３５２（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．９７（３Ｈ，ｔ），１．４８（２Ｈ，ｍ），１．７７（２Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），４．２８（４Ｈ，ｍ），６．６８−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７９】
実施例６２
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ペンチルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに入れた後、１−よう化ペンタン０．７９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル２００ｍｌを加えた後、水１００ｍｌで３回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下２０ｍｌまで濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３６６（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．９２（３Ｈ，ｔ），１．４０（４Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），４．２８（４Ｈ，ｍ），６．６８−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００８０】
実施例６３
６−エトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液によう化エタン０．４８ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０ｍｌまで減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．６５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．４５（３Ｈ，ｔ），４．１０（２Ｈ，ｑ），６．００（２Ｈ，ｓ），６．６８−６．７０（３Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００８１】
実施例６４
６−プロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化プロパン０．５９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０ｍｌまで減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．６１ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．０４（３Ｈ，ｔ），１．８２（２Ｈ，ｍ），３．９９（２Ｈ，ｑ），６．００（２Ｈ，ｓ），６．７０（３Ｈ，ｍ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
【００８２】
実施例６５
６−ブトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化ブタン０．７０ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、１０ｍｌまで減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．８４ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．９７（３Ｈ，ｔ），１．４８（２Ｈ，ｍ），１．７８（２Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），５．９９（２Ｈ，ｓ），６．６８−６．７０（３Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．５Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８３】
実施例６６
６−ペンチルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化ペンタン０．７９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、１５ｍｌまで減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９７ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３５３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．９３（３Ｈ，ｔ），１．４３（４Ｈ，ｍ），１．８２（２Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），６．００（２Ｈ，ｓ），６．６９−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．８Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８４】
実施例６７
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヘキシルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに入れた後、１−よう化ヘキサン０．８９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル２００ｍｌを加えた後、水１００ｍｌで３回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。本酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下２０ｍｌまで濃縮した後、ヘキサン１００ｍｌを加えた。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．８３ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３８１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．８９（３Ｈ，ｔ），１．３３（４Ｈ，ｍ），１．４４（２Ｈ，ｍ），１．７８（２Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｑ），４．２７（４Ｈ，ｍ），６．６８−６．７０（３Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８５】
実施例６８
６−ヘキシルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造
６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化ヘキサン０．８９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エチル溶液を、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０ｍｌまで減圧濃縮した後ヘキサン１００ｍｌを加えた。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．８２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３６７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；０．８９（３Ｈ，ｔ），１．３３（４Ｈ，ｍ），１．４４（２Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｍ），４．０４（２Ｈ，ｑ），６．０１（２Ｈ，ｓ），６．６９−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．５Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
【００８６】
実施例６９
メチル−２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イル｝オキシ）プロピオネートの製造
２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０ｇ、炭酸カリウム１．１６ｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに入れた後、メチル  ２−ブロモプロピオネート０．６７ｇを加え１１０℃、１６時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル１５０ｍｌを加えた後、水１５０ｍｌで２回、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した。本酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下濃縮した油状物を得た。油状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で目的物を分画し、油状物として目的物を得た。本油状物は、酢酸エチル２０ｍｌに溶解後、析出した結晶をロ別し目的化合物０．４２１ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３８３（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；１．６５（３Ｈ，ｄ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．２８（４Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｍ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００８７】
実施例７０
２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イル｝オキシ）プロピオン酸の製造
メチル  ２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イル｝オキシ）プロピオネート１００ｍｇをメタノール１０ｍｌと１、４−ジオキサン１５ｍｌの混合液に溶解した後、４Ｎ−水酸化ナトリウム１０ｍｌを加え、室温で１時間攪拌した。本反応液を２Ｎ−塩酸でｐＨ４とした後、酢酸エチル１５０ｍｌで目的物を抽出した。本酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水で１０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水後、４０℃で２０ｍｌまで減圧濃縮した。析出した結晶は、ロ別後、６０℃で減圧乾燥し目的化合物４７．７ｍｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３６９（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．５５（３Ｈ，ｄ），４．２８（４Ｈ，ｍ），５．１３（１Ｈ，ｍ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８８】
実施例７１
メチル−２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベンゾエートの製造
２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、バニリンアセテート２．１７ｇをジクロルメタン２５ｍｌに溶解し、酸化アルミニウム（メルク社製、ｃａｔ．ｎｏ．１０７６）２４．３ｇを加え、１．５時間攪拌した後、酸化アルミニウムを、ジクロルメタン１００ｍｌで３回洗浄し、このジクロルメタン溶液と反応溶液を一緒にして、４０℃で減圧濃縮した。濃縮物は、メタノール４０ｍｌに溶解し、室温に２時間放置後、析出した結晶をロ別した。得られた結晶を６０℃で２時間減圧乾燥し、目的化合物１．４４ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＣＤＣｌ3 ）；２．２８（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．５Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７８〜７．８１（３Ｈ，ｍ）
【００８９】
実施例７２
２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベンゾエートの製造
メチル  ２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベンゾエート０．６ｇは、メタノール５ｍｌ及び１、４−ジオキサン１０ｍｌの混液に溶解した後、４Ｎ−水酸化ナトリウム２ｍｌを加え５時間攪拌した後、反応溶液を２Ｎ−塩酸でｐＨ２とした後、析出した結晶をロ別した。得られた結晶を６０℃で４時間減圧乾燥し、目的化合物０．４５ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２９７（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．８７（３Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７４−７．７７（２Ｈ，ｍ）
【００９０】
実施例７３
２−〔１−（１Ｈ−５−インドリル）メチリデン〕−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−３−オンの製造
２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、４−ホルミルインドール１．２９ｇをジクロルメタン２５ｍｌに溶解し、酸化アルミニウム（メルク社製、ｃａｔ．ｎｏ．１０７６）２４．０ｇを加え、２時間攪拌した後、酸化アルミニウムを、ジクロルメタン１５０ｍｌで２回洗浄し、このジクロルメタン溶液と反応溶液を一緒にして、４０℃で減圧濃縮した。濃縮物は、メタノール２０ｍｌに溶解し、室温に２時間放置後、析出した結晶をロ別した。得られた結晶を６０℃で２時間減圧乾燥し、目的化合物１．２２ｇを得た。
ＦＡＢ  ＭＡＳＳ；２６２（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ  ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｍ），７．７６〜７．８３（３Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）
【００９１】
試験例１
in vitro  １７β−ＨＳＤ阻害活性試験
実施例１〜７３で得られた化合物（以下、被験物質）の１７β−ＨＳＤ阻害活性を試験した。即ち、被験物質をそれぞれエタノールに溶解し、最終濃度が２６０ｎＭとなるように試験管に入れ、窒素ガスにより乾固させた。これに１００ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭエチレンジアミンテトラ酢酸、０．５ｍＭ還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチドリン酸（全て和光純薬社）、１μＭ〔４−14Ｃ〕エストロン（NEN Research Products 社）を含む１０ｍＭリン酸緩衝液（ｐＨ７．５）５９０μl 、及びＥ．Ａ．Ｔｈｏｍｐｓｏｎらの方法（Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．、２４９巻、５３６４〜５３７２頁、１９７４年）に準じてヒト胎盤より得られたミクロソーム画分１０μl を加え、３７℃、３０分間振盪下で反応させた。反応終了後、直ちにジクロロメタン２mlを加えて充分攪拌し、 ３０００ｒｐｍで５分間遠心処理を行い、得られた下層（ジクロロメタン層）を別の試験管に移し、窒素ガスにて乾固させた。これに２０μｇのエストロン及び２０μｇのエストラジオールを含むエタノール１００μl を添加し、うち２０μl をＴＬＣプレート（シリカゲル６０Ｆ254 、メルク社）にスポットした。このＴＬＣプレートをベンゼン：アセトン（４：１）にて展開した後、紫外線下でエストロン、エストラジオールに相当するスポットを切り出し、液体シンチレーションカクテル（フィルターカウント（登録商標）；ヒューレットパッカード社）を加え、液体シンチレーションカウンターにて残存している〔４−14Ｃ〕エストロン量、及び１７β−ＨＳＤ酵素活性によって生成された〔４−14Ｃ〕エストラジオール量を求めた。又、被験物質を加えないで同様の操作を行ったものを対照群とした。対照群の１７β−ＨＳＤ酵素活性を阻害率０％として、被験物質の１７β−ＨＳＤ酵素阻害率を百分率にて求めた。結果を図１〜８に示す。
【００９２】
試験例２
in vivo 血清エストラジオール量測定試験
性腺刺激ホルモン処置幼若雌ラットを用いて、血清エストラジオール量を測定した。即ち、１４日齢のＳＤ系雌ラットを哺乳親とともに予備飼育し、２０日齢にて離乳させ、翌２１日齢に体重１kgあたり生理食塩水に溶解させた妊馬血清性性腺刺激ホルモンを６００国際単位皮下投与した。２４時間後に、生理食塩水に溶解させた０．５％カルボキシルメチルセルロースに被験物質を懸濁させたものを、体重１kgあたり１００mg単回経口投与した。被験物質投与４及び２４時間後にエーテル麻酔下にて後大静脈より全採血を行い、３０００ｒｐｍ、３０分間の遠心処理にて血清を分離した。被験物質投与ラットの血清中に含まれるエストラジオール量の測定には、Ｅ２キット「第一」II（第一ラジオアイソトープ研究所社）を用いた。被験物質投与ラットの血清または標準曲線用の既知濃度のエストラジオール（和光純薬社）を １００μl ずつ試験管に添加し、３mlのジエチルエーテルを加え、充分に攪拌したのち暫く静置した。エーテル層と水層が明確に分離したらドライアイス−メタノールに底部を浸して水層のみを凍結させ、エーテル層を別の試験管に移し、37℃にて窒素ガスで乾固させた。ここにキットに含まれる１００μl 125I- エストラジオールと抗エストラジオール抗体を加え、室温で９０分反応させた。反応終了後二次抗体を１ml加え、室温でさらに１５分反応させたのち、３０００ｒｐｍで１５分間遠心処理を行い、上清をアスピレーターで完全に除去し、γカウンターにて沈渣に存在する125I- エストラジオールを測定した。既知濃度のエストラジオールによる125I- エストラジオール量から標準曲線を描き、被験物質投与ラットの血清中に含まれるエストラジオール量を定量した。結果を図１〜８に示す。
【００９３】
【発明の効果】
以上の結果より、本発明誘導体（被験物質）が、優れた１７β−ＨＳＤ阻害活性を有することが確認された。従って、本発明により、新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法が提供される。本発明誘導体は１７β−ＨＳＤ阻害活性を有し、その活性より男性及び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤、具体的には前立腺癌、前立腺肥大症、男性化症、乳癌、乳腺症、子宮癌、子宮内膜症、卵巣癌などの予防及び／又はとして有用である。
【００９４】
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施例の結果を示す図。
【図２】  実施例の結果を示す図。
【図３】  実施例の結果を示す図。
【図４】  実施例の結果を示す図。
【図５】  実施例の結果を示す図。
【図６】  実施例の結果を示す図。
【図７】  実施例の結果を示す図。
【図８】  実施例の結果を示す図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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