(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源と相対移動するスケールと、光検出手段と、信号処理回路とを備え、
前記スケールは反射スリットが所定のデューティ比で配置されたインクリメンタルパターンを有し、
前記光源は前記インクリメンタルパターンに光を照射して回折光と反射光と透過光とを生じさせ、
前記光検出手段は前記回折光と前記反射光と前記透過光とを検出し、
前記信号処理装置は前記回折光の明暗の変化から、前記光源と前記スケールとの相対移動量を所定の基準位置を基準として測定する移動量測定装置であって、
前記インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なるデューティ比を持つ２つの回折パターンが接続して構成され、
前記光検出手段により前記反射光の光強度と前記透過光の光強度のいずれか一方又は両方を測定し、前記２つの回折パターンの接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とする移動量測定装置。
【請求項２】
光源と、前記光源と回転軸線を中心として相対的に移動する円形スケールと、光検出手段と、信号処理回路とを備え、
前記円形スケールは、反射スリットが所定のデュティー比で周方向に配置された円形インクリメンタルパターンを有し、
前記光源は前記円形インクリメンタルパターンに光を照射して回折光と反射光と透過光とを生じさせ、
前記光検出手段は前記回折光と前記反射光と前記透過光とを検出し、
前記信号処理装置は前記回折光の明暗の変化から、前記光源と前記円形スケールとの相対移動量を所定の基準位置を基準として測定する移動量測定装置であって、
前記円形インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なるデューティ比を持つ２つの回折パターンが２つの接続部分で環状に接続して構成され、
前記２つの接続部分のうちのいずれか一方の接続部分の表面に反射防止膜が成膜され、
前記光検出手段により前記反射光の光強度と前記透過光の光強度とを測定し、前記反射防止膜が成膜されていない接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とする移動量測定装置。
【請求項３】
光源と相対移動するスケール上に所定のデューティ比で配置された反射スリットで構成されたインクリメンタルパターンに、前記光源から光を照射して、回折光と反射光と透過光とを生じさせ、
前記回折光の明暗の変化を検出して前記光源と前記スケールとの相対移動量を所定の基準位置を基準として測定する移動量測定方法であって、
前記インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なる２つのデューティ比を持つ回折パターンを接続して構成し、
前記反射光の光強度と前記透過光の光強度のいずれか一方又は両方の大きさを測定し、前記２つ回折パターンの接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とする移動量測定方法。
【請求項４】
回転軸線を中心として光源と相対的に移動する円形スケール上に所定のデューティ比で周方向に配置された反射スリットで構成された円形インクリメンタルパターンに、前記光源から光を照射して、回折光と反射光と透過光とを生じさせ、
前記回折光の明暗の変化を検出して前記光源と前記円形スケールとの相対移動量を所定の基準位置を基準として測定する移動量測定方法であって、
前記円形インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なる２つのデューティ比を持つ回折パターンを２つの接続部分で環状に接続して構成し、
前記２つの接続部分のうちのいずれか一方の表面に反射防止膜を成膜し、
前記反射光の光強度と前記透過光の光強度とを測定し、前記反射防止膜が成膜されていない接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とする移動量測定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学式インクリメンタルパターンを用いた移動量測定装置、及び移動量測定方法にかかり、特に、インクリメンタルパターンの所定の基準位置を基準としてインクリメンタルパターンの移動量を求める移動量測定装置、及び移動量測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光学式エンコーダの基準位置(零点)の設定、検出技術には、例えば特開昭59-224515号公報に開示されているように、半導体レーザから照射されるレーザ光を透明ガラスであるディスク上の円周方向に形成されたインクリメンタルパターンに照射して該ディスクの回転量を求める際、レーザ光を予めインクリメンタルパターンに照射して複数の光束に分割しておき、それらのうちの一つの光束を、前記インクリメンタルパターンに照射すると共に、前記インクリメンタルパターンとは別の零点パターン(基準位置を示すマーク)を、インクリメンタルパターンとは異なるトラック上に設け、該零点パターンのあるトラックに前記光束の一つを照射して零点信号を得るものがあった。
【０００３】
また、特開平2-85718号公報に開示されているように、零点パターンを反射スリットで構成し、該反射スリットにレーザ光を照射したときに、並んで設けられた２つの受光器に前記反射スリットで反射されずに該２つの受光器に入射した光の光量が等しくなったときを零点とするものがあった。
【０００４】
しかしながら従来技術では、インクリメンタルパターンとは別に零点パターンを設けており、更に、この零点パターンを検出するため、インクリメンタル信号検出用の光学系とは別に光学系を設ける必要が生じ、装置が大型化し、コスト増を招いていた。
【０００５】
しかも、インクリメンタルパターンと零点パターンとが設けられたディスクはガラス製であり、一方、それぞれのパターンを検出する光学系が設けられた支持部材は金属製であり、両者は線膨張係数が異なるため、温度変化によりインクリメンタル信号が発生するタイミングと零点信号が発生するタイミングとが相対的に変動し、基準位置を示す信号がドリフトしてしまうという不都合があった。
【０００６】
また、零点の検出精度を向上させるためには、零点パターンを微細化する必要があるが、微細化するとごみ等の付着による影響が大きくなり、検出ミスが頻繁に発生するという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記従来技術の不都合に鑑みて創作されたもので、その課題は、温度変化があっても基準位置がドリフトせず、簡便な光学系により正確に基準位置を設定することができる移動量測定装置、及び移動量測定方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために請求項１記載の発明装置は、光源と、前記光源と相対移動するスケールと、光検出手段と、信号処理回路とを備え、前記スケールは反射スリットが所定のデューティ比で配置されたインクリメンタルパターンを有し、前記光源は前記インクリメンタルパターンに光を照射して回折光と反射光と透過光とを生じさせ、前記光検出手段は前記回折光と前記反射光と前記透過光とを検出し、前記信号処理装置は前記回折光の明暗の変化から、前記光源と前記スケールとの相対移動量を所定の基準位置を基準として測定する移動量測定装置であって、前記インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なるデューティ比を持つ２つの回折パターンが接続して構成され、前記光検出手段により前記反射光の光強度と前記透過光の光強度のいずれか一方又は両方を測定し、前記２つの回折パターンの接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とし、
請求項２記載の発明装置は、光源と、前記光源と回転軸線を中心として相対的に移動する円形スケールと、光検出手段と、信号処理回路とを備え、前記円形スケールは、反射スリットが所定のデュティー比で周方向に配置された円形インクリメンタルパターンを有し、前記光源は前記円形インクリメンタルパターンに光を照射して回折光と反射光と透過光とを生じさせ、前記光検出手段は前記回折光と前記反射光と前記透過光とを検出し、前記信号処理装置は前記回折光の明暗の変化から、前記光源と前記円形スケールとの相対移動量を測定する移動量測定装置であって、前記円形インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なるデューティ比を持つ２つの回折パターンが２つの接続部分で環状に接続して構成され、前記２つの接続部分のうちのいずれか一方の接続部分の表面に反射防止膜が成膜され、前記光検出手段により前記反射光の光強度と前記透過光の光強度とを測定し、前記反射防止膜が成膜されていない接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とし、
請求項３記載の発明方法は、光源と相対移動するスケール上に所定のデューティ比で配置された反射スリットで構成されたインクリメンタルパターンに、前記光源から光を照射して、回折光と反射光と透過光とを生じさせ、前記回折光の明暗の変化を検出して前記光源と前記スケールとの相対移動量を所定の基準位置を基準として測定する移動量測定方法であって、前記インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なる２つのデューティ比を持つ回折パターンを接続して構成し、前記反射光の光強度と前記透過光の光強度のいずれか一方又は両方の大きさを測定し、前記２つ回折パターンの接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とし、
請求項４記載の発明方法は、回転軸線を中心として光源と相対的に移動する円形スケール上に所定のデューティ比で周方向に配置された反射スリットで構成された円形インクリメンタルパターンに、前記光源から光を照射して、回折光と反射光と透過光とを生じさせ、前記回折光の明暗の変化を検出して前記光源と前記円形スケールとの相対移動量を基準位置を基準として測定する移動量測定方法であって、前記円形インクリメンタルパターンは、和が１となり且つ互いに異なる２つのデューティ比を持つ回折パターンを２つの接続部分で環状に接続して構成し、前記２つの接続部分のうちのいずれか一方の表面に反射防止膜を成膜し、前記反射光の光強度と前記透過光の光強度とを測定し、前記反射防止膜が成膜されていない接続部分を検出して前記基準位置を設定することを特徴とする。
【０００９】
光源に固定されたレーザ発生器を使用し、該レーザ発生器と相対移動するインクリメンタルパターン(回折格子)にレーザ光を照射すると回折光が発生するので、該回折光の明暗の変化を検出すれば、インクリメンタルパターンと光源との相対移動量を測定することができる。
【００１０】
これを図面を用いて説明する。図５(ａ)を参照し、１０１はガラススケールであり、その表面に幅ωの反射スリット１０２がピッチＰで配置されたインクリメンタルパターン１０３が設けられており、該インクリメンタルパターン１０３に、入射レーザ光ＬIが照射されている。
【００１１】
前記入射レーザ光ＬIの一部は反射されて回折の次数が０である反射光ＬRとなり、残りは回折の次数が０である透過光ＬTと、次数ｍの透過回折光ＬDmとなっているものとする。
【００１２】
前記入射光ＬIの光強度をＩI、前記次数ｍの透過回折光ＬDmの光強度をＩDmとすると、前記入射光ＬIに対する前記ｍ次透過回折光ＬDmの回折効率ηmは次式で表わすことができる。
【００１３】
ηm ＝ ＩI／ＩDm                                            (１)
ところで、一般に、前記回折効率ηmは、前記反射スリットの幅ωとピッチＰから、
ηm ＝ ｓｉｎ2(π・ｍ・ω／Ｐ)／(π2・ｍ2)                  (２)
と表わすことができる。ここで、ω／Ｐはデューティ比と呼ばれる量であり、φで表わすものとする。
【００１４】
ところで、一般的に、インクリメンタルパターンの移動量を測定するための回折光には、光量の問題等から、一般には±１次の回折光が使用されているので、１次透過回折光の回折効率に着目すると、(２)式で、ｍ＝１であり、互いに異なる２つのデュティー比φA、φBを持つインクリメンタルパターン(回折パターン)の１次透過回折光の回折効率η1A、η1Bは、
η1A ＝ ｓｉｎ2(π・φA)／π2                               (３)
η1B ＝ ｓｉｎ2(π・φB)／π2                               (４)
と表わせる。
【００１５】
ここで、前記相異なる２つのデューティー比φA、φBの間に、
φA ＋ φB ＝ １  (但し、０＜φA＜φB＜１)                 (５)
の関係が成立している場合には、(３)、(４)式から、η1A、η1Bの間に、
η1A ＝ ｓｉｎ2(π・φA)／π2 ＝ ｓｉｎ2(π−π・φB)／π2
＝ ｓｉｎ2(π・φB)／π2 ＝ η1B                      (７)
が成立する。
【００１６】
このように、和が１であり互いに異なる２つのデューティ比φA、φBを持つ回折パターンに関しては、その１次透過回折光の効率η1A、η1Bは相等しい。
【００１７】
そして、前記(５)式が成立する限り、和が１であり且つ互いに異なる２つのデューティ比を持つ２つの回折パターンに関しては、２次、３次等、ｍ次の透過回折光の回折効率ηmA、ηmBも等しくなる。
【００１８】
デューティ比φと回折効率ηmの関係を３次まで図５（ｂ）のグラフに示す。回折効率ηmは、φ＝０．５を中心として左右対称になっていることがわかる。
【００１９】
なお、前記デューティー比φのインクリメンタルパターンに関しては、反射率Ｒと透過率Ｔとは、
次式で表わせる。
【００２０】
Ｒ ＝ (ω／Ｐ)2 ＝ φ2                                    (１１)
Ｔ ＝ (１−φ)2                                           (１２)
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
【００２２】
図３(ａ)を参照し、５０は本発明装置の一実施の形態である移動量測定装置である。
【００２３】
該移動量測定装置５０は、光源５１と、例えば無色透明なガラス製のスケール５２と、図示しない光検出手段と、信号処理回路５４とを備えており、前記光源５１は固定されており、前記スケール５２は前記光源５１に対して相対的に直線運動するように構成されている。
【００２４】
前記スケール５２はインクリメンタルパターン５５を有しており、該インクリメンタルパターン５５は、２つの回折パターン５５a、５５bが接続部５７で接続されて構成されている。
【００２５】
前記回折パターン５５aは、例えばアルミニウム薄膜からなる幅ωAの反射スリットがピッチＰ（数ミクロン〜数十ミクロン）で配置されて構成されており、前記回折パターン５５bは、幅ωBの反射スリットがピッチＰで配置されて構成されている。前記幅ωAと幅ωBとは互いに異なっており、且つその和ωA＋ωBの値が前記ピッチＰと等しくなるように選択されている。
【００２６】
従って、前記回折パターン５５a、５５bのデューティ比φA(＝ωA／Ｐ)、φB(＝ωB／Ｐ)は、和が１となり且つ互いに異なる値である。
【００２７】
ここで、前記幅ωA、ωBの間に、
ωA ＜ ωB                                               (２１)
の関係が成立する場合には、必然的に、
φA ＜ ０．５    ，    ０．５ ＜ φB                     (２２)
の関係が成立する。
【００２８】
また、前記回折パターン５５aにレーザ光が照射されたときに作られる反射光ＬRAの光強度をＩRA、透過光ＬTAの光強度をＩTA、１次透過回折光(以下、「回折光」と呼ぶ。)ＬDAの光強度をＩDAとし、前記回折パターン５５bで作られる反射光ＬRBの光強度をＩRB、透過光ＬIBの光強度をＩTB、回折光ＬDBの光強度をＩDBとすると、それらの関係は、次表のようになる。
【００２９】
0003808192.tif 000002
上記表１から、前記インクリメンタルパターン５５上での、前記光強度ＩRA、ＩRB、ＩTA、ＩTB、ＩDA、ＩDBの分布を図示すると、図３(ｂ)のようになる。
【００３０】
ここで、前記回折光の光強度ＩDA、ＩDBは相等しいので、前記回折パターン５５aと前記回折パターン５５bとで作られる明暗パターンの形状及び光の強度分布とは同じになる。従って、前記信号処理回路５４で前記回折光ＩDA、ＩDBを検出し、その明暗の変化を計数して移動量を求める際にも前記接続部５７で測定が不安定になることはない。
【００３１】
また、前記透過光の光強度ＩTと前記反射光の光強度ＩRとは、前記接続部分５７で相等しい大きさになるので、両光強度を測定し、比較器で比較すれば、該接続部５７の位置が検出できる。従って、該接続部分５７の位置を基準位置に設定すれば、前記スケール５２の移動量を、該基準位置からの移動量として求めることができるようになる。
【００３２】
なお、前記接続部分５７を検出する際、前記反射光の光強度だけを測定し、それが(ＩRA＋ＩRB)／２ の値になったときの位置を前記基準位置に設定してもよいし、前記透過光の光強度だけを測定し、それが(ＩTA＋ＩTB)／２ の値になったときの位置を前記基準位置に設定してもよい。
【００３３】
次に、本発明の他の実施の形態を説明する。
【００３４】
図１を参照し、２は本発明の一実施の形態の移動量測定装置であり、レーザ光を射出する光源３と、円形スケール４と、受光素子１１、１２、１３、１４を有する光検出手段とを備えている。
【００３５】
前記光源３は前記円形スケール４の上に配置され、図示しない装置筺体に固定されており、前記円形スケール４は、回転軸線１７を中心として回転移動可能に設けられ、前記光源３と前記円形スケール４とは、相対的に移動し得るように構成されている。
【００３６】
前記光源３から射出したレーザ光Ｂ1は、偏光ビームスプリッター２１に入射すると略等光量の反射光束Ｂ2と、透過光束Ｂ3に分割される。
【００３７】
前記反射光束Ｂ2と前記透過光束Ｂ3とは直線偏光光であり、前記反射光束Ｂ2は1/4波長板２２1を透過して円偏光光Ｂ4となり、プリズム２３1を介して、入射レーザ光ＬIとして前記スケール４の表面に照射される。該スケール４の表面には、図２に示すように、周方向に反射スリット６が配置されたインクリメンタルパターン５が設けられており、前記入射レーザ光ＬIが該インクリメンタルパターン５に入射すると、その一部は前記反射スリット６で反射され、回折の次数が０である反射光ＬRとなり、受光素子１４に入射する。また、前記入射レーザ光ＬIのうち、前記反射スリット６で反射されなかったものの一部は回折の次数が１である回折光ＬDと回折の次数が０である透過光ＬTとなる。前記透過光ＬTは受光手段の備える受光素子１３で受光される。
【００３８】
一方、前記回折光ＬDは反射手段２４1で反射され反射光束Ｂ6となり、前記入射レーザ光ＬI、及び前記円偏光光Ｂ4と同じ光路を逆進して前記1/4波長板２２1に再入射し、これを透過して透過光束Ｂ7となる。該透過光束Ｂ7の偏光方位は、前記反射光束Ｂ2の偏光方位に対して９０°異なっているので、前記偏光ビームスプリッタ２１に再入射すると、今度は透過して1/4波長板２５に入射する。
【００３９】
前記透過光束Ｂ3は、前記反射光束Ｂ2と同様に、1/4波長板２２2とプリズム２３2を介して、前記円形スケール４上の、前記入射レーザ光ＬIとは回転軸線１７を挟んで反対側の位置に入射する。そして、インクリメンタルパターン５を透過した光は反射手段２４2で反射され、前記1/4波長板２２2で直線偏光の透過光束Ｂ14にされて前記偏光ビームスプリッタ２１に入射する。該透過光束Ｂ14の偏光面の方位は前記透過光束Ｂ3の偏光面の方位と９０°異なっているので、前記偏光ビームスプリッタ２１で反射され、前記1/4波長板２５に入射する。
【００４０】
前記偏光ビームスプリッタ２１から前記1/4波長板２５までの光路は、前記透過光束Ｂ7と前記透過光束Ｂ14とで共通するので、２つの透過光束Ｂ7、Ｂ14が重なり合い、前記1/4波長板２５を透過して円偏光光の干渉光Ｂ20となる。
【００４１】
該干渉光Ｂ20が光分割手段２６に入射すると２つの光束に分割され、それぞれの光束は、それらの偏光面に対してそれぞれ４５°だけ偏光方位が傾けて配置された偏光板３１、３２を透過して、互いに偏光方位が９０°異なる２つの直線偏光光Ｂ21、Ｂ22となって、それぞれ受光素子１１、１２に入射する。
【００４２】
前記受光素子１１、１２は、それぞれ前記スケール４が回転した場合に前記インクリメンタルーパターン５の移動により作られる明暗の変化を検出し、図示しない信号処理装置により前記円形スケール４の移動量(回転量)を算出する。
【００４３】
前記インクリメンタルパターン５の反射スリット６は、図３(ａ)に示したインクリメンタルパターン５５を構成する反射スリットと同様に、ωA、ωBの幅を有する２種類の反射スリット６a、６bがピッチＰで配置された２種類の回折パターン５a、５bを２つの接続部分７1、７2で環状に接続して構成されており、該回折パターン５a、５bは、それぞれφA、φB(φA＋φB＝１、φA＜φB)のデューディ比を有している。
【００４４】
ここで、前記インクリメンタルパターン５の上に反射防止膜（例えばフッ化マグネシウムを蒸着させて形成する）が全く成膜されていない場合には、発光素子３から照射され、前記受光素子１３、１４が受光する透過光ＬTの光強度ＩTと反射光ＬRの光強度ＩRは、図４(ａ)のようになり、前記スケール４が時計回りと反時計回りと自在に回転する場合には、前記光強度ＩD、ＩTを測定するだけでは、前記２つの接続部分の位置Ｐ1、Ｐ2を区別することができない。
【００４５】
しかし、  前記２つの接続部分７1、７2のうち、前記接続部分７2を中心とする範囲Ｕを除く部分に反射防止膜８が成膜されており、この場合、反射防止膜８が成膜されていない部分と比較すると、透過光の光強度ＩTと１次回折光ＬDの光強度には変化がないが、反射防止膜で反射された反射光ＬR’の光強度は反射防止膜のない部分で反射された反射光ＬRの光強度より小さくなる。このようなインクリメンタルパターンにレーザ光が照射された場合の反射光の光強度ＩR、ＩR’と、透過光の光強度ＩTを図４(ｂ)に示す。
【００４６】
この場合、前記光強度ＩRと、前記光強度ＩR’の中間のレベルにスレッショルドレベルＳRを設定しておき、前記受光素子１４が該スレッショルドレベルＳRを超える光強度の反射光を受光した場合に信号Ｃ1がハイになるようにする。
【００４７】
更に、前記透過光ＬTの光強度ＩTを低レベル側にシフトさせ、透過光のスレッショルドレベルＳTを設定すると、該透過光のスレッショルドレベルＳTは、前記反射光のスレッショルドレベルＳRと２点で交差するので、この２点で信号Ｃ2を出力するようにする。
【００４８】
そして、前記信号Ｃ1と前記信号Ｃ2とのアンドをとり、信号Ｃ3にすると、該信号Ｃ3は、前記反射防止膜８が成膜されていない範囲Ｕ内で出力されるので、前記接続部分７2の位置を、接続部分７1と区別して検出することができる。従って、その位置を基準位置に設定すれば、円形スケールの１周につき１つの基準位置を設定することができるので、該円形スケール４の移動量を基準位置からの移動量として求めることができる。
【００４９】
なお、本発明の動作原理、及び本実施の形態では、移動量を測定する回折光に１次透過回折光を用いたが２次、３次等、より高次の回折光を用いることも可能である。
【００５０】
【発明の効果】
移動量を求めるインクリメンタルパターン上で基準位置を検出することができるので、温度変化により基準位置がドリフトすることはない。
【００５１】
インクリメンタルパターンの他に、基準位置を示すパターンを設けなくても済むので、基準位置を示すマークにごみが付着して基準位置を読み誤るということがなく、スケール上に移動量検出のために使用されない無効領域を設けなくてよく、更に、移動量検出に用る光学系と別プリズム等の光学系を設けなくても済み光学系が簡便となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態を示す図
【図２】本発明の一実施の形態のインクリメンタルパターン
【図３】  (ａ)は本発明の動作原理を説明するためのインクリメンタルパターン
(ｂ)は本発明の動作原理を説明するための光強度のグラフ
【図４】  (ａ)はインクリメンタルパターン上に反射防止膜を設けない場合の光強度のグラフ
(ｂ)は一つの接続部分表面を除いてインクリメンタルパターン上に反射防止膜を成膜した場合の反射光と透過光の光強度を示すグラフ
(ｃ)は（ｂ）を信号処理するためのタイミングチャート
【図５】  (ａ)は本発明の測定原理を説明するための図
(ｂ)はデューティ比φと回折効率ηmの関係を示すグラフ
【符号の説明】
２・５０  移動量測定装置
４  円形スケール
５  円形インクリメンタルパターン
５a・５b・５５a・５５b  和が１であり且つ互いに異なるデューティ比を持つ２つの回折パターン
１２・５１  光源
１７  回転軸線
５２  スケール
５４  信号処理回路
５５  インクリメンタルパターン
７1・７2・５７  接続部分
ｍ  次数
η  回折効率
φ  デューティ比
ＬD  回折光(１次透過回折光)
ＬR  反射光
ＬT  透過光
ＩD  回折光の光強度
ＩR  反射光の光強度
ＩT  透過光の光強度
【図１】
0003808192.tif 000003
【図２】
0003808192.tif 000004
【図３】
0003808192.tif 000005
【図４】
0003808192.tif 000006
【図５】
0003808192.tif 000007