(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液中に複数の基板を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルと、
前記第１処理液吐出ノズルに処理液を送給する第１送給配管に設けられ、前記第１送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第１流量調整手段と、
前記第２処理液吐出ノズルに処理液を送給する第２送給配管に設けられ、前記第２送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第２流量調整手段と、
前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を個別に制御して前記第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルのそれぞれからの処理液吐出流量を調整する吐出流量制御手段と、
を備え、
前記吐出流量制御手段は、前記第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第１処理液吐出ノズルから所定吐出流量にて所定時間の処理液吐出を行わせた後、前記第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第２処理液吐出ノズルから前記所定吐出流量にて前記所定時間の処理液吐出を行わせることを繰り返すように前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
処理液中に複数の基板を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルと、
前記第１処理液吐出ノズルに処理液を送給する第１送給配管に設けられ、前記第１送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第１流量調整手段と、
前記第２処理液吐出ノズルに処理液を送給する第２送給配管に設けられ、前記第２送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第２流量調整手段と、
前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を個別に制御して前記第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルのそれぞれからの処理液吐出流量を調整する吐出流量制御手段と、
を備え、
前記吐出流量制御手段は、前記第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第１処理液吐出ノズルから所定吐出流量にて所定時間の処理液吐出を行わせた後、前記第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第２処理液吐出ノズルから前記所定吐出流量にて前記所定時間の処理液吐出を行わせた後、さらに前記所定時間の前記第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出流量と前記第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出流量とが等しくなることを繰り返すように前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、
前記第１送給配管および第２送給配管が合流した元配管に設けられ、前記元配管内を通過する処理液の流量を調整する総流量調整手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
処理液中に複数の基板を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置であって、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する２本の処理液吐出ノズルと、
前記２本の処理液吐出ノズルのそれぞれから吐出される処理液吐出流量を同一のパターンにて周期的に変化させる手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理液中に複数の半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、基板の製造工程においては、基板をエッチング液等の薬液や純水中に順次浸漬させることにより薬液処理や洗浄処理を繰り返し、一連の基板処理を進行させている。一般に、このような基板処理を行う装置としては、薬液を貯留する薬液槽や純水を貯留する水洗槽からなる複数の処理槽を備え、それぞれの処理槽において薬液処理や洗浄処理を行う多槽式の装置と、一つの処理槽において薬液処理や洗浄処理を繰り返すワンバスタイプの装置とが使用されている。なお、本明細書ではフッ酸、塩酸、アンモニア水、過酸化水素水等の薬液および純水を総称して「処理液」とする。
【０００３】
ワンバスタイプの装置において、純水による洗浄処理の後薬液によるエッチング処理を行う際には、処理槽内に貯留されている純水中に処理液吐出ノズルから薬液を吐出し、処理槽内を徐々に純水から薬液に置換する。逆に、薬液によるエッチング処理の後純水による洗浄処理を行う際には、薬液中に処理液吐出ノズルから純水を吐出し、処理槽内を徐々に薬液から純水に置換する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図８は、従来の基板処理装置における処理液吐出ノズルからの処理液吐出の様子を示す図である。ここでは、純水による基板Ｗの洗浄処理が終了した後に、処理槽１０１中にフッ酸等の薬液を吐出する場合について説明する。
【０００５】
純水による洗浄処理の終了時点では、処理槽１０１中に純水が貯留された状態となっており、その純水中に複数の基板Ｗがそれぞれの主面を鉛直方向に沿わせた状態（主面法線方向を水平方向に沿わせた状態）で相互に所定の間隔を隔てて並べられて浸漬されている。処理槽１０１の底部近傍には２本の処理液吐出ノズル１１０ａ，１１０ｂが相互に平行に配設されている。各処理液吐出ノズル１１０ａ，１１０ｂには等間隔にて複数の吐出孔が処理槽１０１の中央底部に向けて形成されている。また、各処理液吐出ノズル１１０ａ，１１０ｂは図外の送給配管に接続されており、その送給配管から送給された薬液は各処理液吐出ノズル１１０ａ，１１０ｂの吐出孔から処理槽１０１の中央底部に向けて吐出される。
【０００６】
処理液吐出ノズル１１０ａから吐出された薬液と処理液吐出ノズル１１０ｂから吐出された薬液とは、処理槽１０１の中央底部近傍において合流し、その合流した薬液の流れが上昇し、やがて処理槽１０１中を循環する。このようにして、処理槽１０１に貯留されていた純水が徐々に薬液に置換されることとなる。
【０００７】
しかしながら、処理液吐出ノズル１１０ａから吐出される薬液の流量と処理液吐出ノズル１１０ｂから吐出される薬液の流量とは必ずしも均一ではない。その結果、例えば処理液吐出ノズル１１０ａからの流量の方が多い場合には、図８に示すように、合流した薬液の流れが処理液吐出ノズル１１０ｂの側に偏って上昇し、不均一な流れを形成する。このような不均一な流れが形成されると、薬液の流れが通過する領域においては急速に薬液に置換されて薬液濃度が短時間で上昇する一方で、同図中領域Ｒ８がいわゆるよどみ部分となり、薬液への置換が殆ど行われずに長時間にわたって薬液濃度が他の部分よりも低くなる。
【０００８】
すなわち、処理液吐出ノズル１１０ａから吐出される薬液の流量と処理液吐出ノズル１１０ｂから吐出される薬液の流量とが不均一であると、処理槽１０１内の薬液置換効率が低下することとなり、処理槽１０１全体としての薬液濃度が長時間にわたって不均一となり、その結果均一なエッチングを行うことができないという問題が生じるのである。
【０００９】
また、上記とは逆に、基板Ｗの薬液処理が終了した後に、処理槽１０１中に純水を吐出する場合であっても、処理液吐出ノズル１１０ａから吐出される純水の流量と処理液吐出ノズル１１０ｂから吐出される純水の流量とが不均一であると、図８の領域Ｒ８のよどみ部分においては長時間にわたって薬液濃度が低下せず、処理槽１０１内の純水置換効率が低下することとなり、水洗時間に長時間を要するという問題が生じる。
【００１０】
さらに、基板Ｗの洗浄処理を行うと処理槽１０１内にパーティクルが漂うこととなるが、処理槽１０１内の処理液置換効率が低いことは、処理槽１０１内におけるパーティクルが完全には排出されにくいことを意味するため、パーティクル排出効率が低下するという問題も発生するのである。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、処理槽内において均一な処理液の流れを形成することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、処理液中に複数の基板を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルと、前記第１処理液吐出ノズルに処理液を送給する第１送給配管に設けられ、前記第１送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第１流量調整手段と、前記第２処理液吐出ノズルに処理液を送給する第２送給配管に設けられ、前記第２送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第２流量調整手段と、前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を個別に制御して前記第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルのそれぞれからの処理液吐出流量を調整する吐出流量制御手段と、を備え、前記吐出流量制御手段に、前記第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第１処理液吐出ノズルから所定吐出流量にて所定時間の処理液吐出を行わせた後、前記第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第２処理液吐出ノズルから前記所定吐出流量にて前記所定時間の処理液吐出を行わせることを繰り返すように前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を制御させている。
【００１３】
また、請求項２の発明は、処理液中に複数の基板を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルと、前記第１処理液吐出ノズルに処理液を送給する第１送給配管に設けられ、前記第１送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第１流量調整手段と、前記第２処理液吐出ノズルに処理液を送給する第２送給配管に設けられ、前記第２送給配管内を通過する処理液の流量を調整する第２流量調整手段と、前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を個別に制御して前記第１処理液吐出ノズルおよび第２処理液吐出ノズルのそれぞれからの処理液吐出流量を調整する吐出流量制御手段と、を備え、前記吐出流量制御手段に、前記第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第１処理液吐出ノズルから所定吐出流量にて所定時間の処理液吐出を行わせた後、前記第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに前記第２処理液吐出ノズルから前記所定吐出流量にて前記所定時間の処理液吐出を行わせた後、さらに前記所定時間の前記第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出流量と前記第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出流量とが等しくなることを繰り返すように前記第１流量調整手段および第２流量調整手段を制御させている。
【００１７】
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発明に係る基板処理装置において、前記第１送給配管および第２送給配管が合流した元配管に設けられ、前記元配管内を通過する処理液の流量を調整する総流量調整手段をさらに備える。
【００１９】
また、請求項４の発明は、処理液中に複数の基板を浸漬することによって基板処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する２本の処理液吐出ノズルと、前記２本の処理液吐出ノズルのそれぞれから吐出される処理液吐出流量を同一のパターンにて周期的に変化させる手段と、を備える。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２１】
＜１．第１実施形態＞
図１は、本発明に係る基板処理装置の一例を示す斜視図である。また、図２は、図１の基板処理装置の構成を示す図である。なお、図１にはＺ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を付している。第１実施形態の基板処理装置は、１つの処理槽において純水による洗浄処理とフッ酸等の薬液による薬液処理との双方を行ういわゆるワンバスタイプの基板処理装置である。
【００２２】
この基板処理装置は、処理槽１０の内部に２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂを設けるとともに、それら処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂに処理液を送給する送給配管を接続して構成されている。そして、各処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂに接続された送給配管２５ａ，２５ｂには、それぞれを通過する処理液の流量を調整する流量調整バルブ３０ａ，３０ｂが設けられている。
【００２３】
処理槽１０は、断面５角形形状の長尺の槽である。処理槽１０の内部には処理液を貯留することができる。そして、図示を省略するリフターが複数の基板Ｗをそれぞれの主面を鉛直方向に沿わせて相互に所定の間隔を隔てて積層した状態にて保持しつつ昇降することによって、それら複数の基板Ｗを処理槽１０内の処理液中に浸漬したり、処理液から引き揚げたりすることができる。
【００２４】
処理槽１０の底部近傍には、それぞれが処理液を吐出する２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂが配設されている。２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂは、相互に平行に、かつ処理槽１０内の対称位置に配設されている。ここで「対称位置」とは、処理槽１０の回転対称性を有する断面の対称軸に関して対称な位置という意味である。より詳細に説明すると、図２に示すように、処理槽１０をＹＺ平面で切断した断面は、対称軸Ｓ１のまわりに１８０°（π）回転させても不変であり、すなわち図２に示す断面は処理槽１０の２回回転対称性を有する断面である。そしてその断面の対称軸Ｓ１に関して対称な位置が「対称位置」であり、２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂはそのような位置に配設される。
【００２５】
２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂは、ともに円筒表面に複数の吐出孔がＸ方向に沿って１列に等間隔に形成されたものである。２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂのそれぞれにおいて、吐出孔は処理槽１０の底部中心に向けて形成されており、吐出孔と円筒中心軸とを結ぶ線が鉛直方向となす角度（α）は等しい。
【００２６】
処理液吐出ノズル２０ａ（第１処理液吐出ノズル）は処理槽１０外部の送給配管２５ａ（第１送給配管）と接続され、同様に処理液吐出ノズル２０ｂ（第２処理液吐出ノズル）は処理槽１０外部の送給配管２５ｂ（第２送給配管）と接続されている。そして、送給配管２５ａと送給配管２５ｂとが合流して元配管２８を形成する。元配管２８は、図外の純水供給源と接続されている。また、元配管２８は、それぞれバルブ８１，８２，８３，８４を介して異なる４つの薬液供給源とも接続されている。４つの薬液供給源としては例えば、フッ酸、塩酸、アンモニア水および過酸化水素水の供給源とすれば良い。なお、薬液供給源の数は任意のものとすることができ、その種類についても上記のものに限定されるものでないことは勿論である。
【００２７】
元配管２８は純水供給源および薬液供給源に接続されているため、純水および薬液の双方を送給することができる。例えば、バルブ８１，８２，８３，８４の全てを閉鎖すれば、元配管２８は純水を送給することができる。また、薬液供給源からのバルブ（図示省略）を閉鎖するとともに、バルブ８１を開放すれば、元配管２８は例えばフッ酸を送給することができる。
【００２８】
さらに、元配管２８には、薬液が流入する部分よりも下流側に総流量調整バルブ３３および流量計３４が設けられている。総流量調整バルブ３３は、元配管２８内を通過する処理液の流量を調整する。流量計３４は、元配管２８内を通過する処理液の流量を計測する。
【００２９】
元配管２８を通過した処理液は、送給配管２５ａおよび送給配管２５ｂの双方に流入する。送給配管２５ａには、流量調整バルブ３０ａおよび流量計３１ａが設けられている。一方、送給配管２５ｂには、流量調整バルブ３０ｂおよび流量計３１ｂが設けられている。流量調整バルブ３０ａは、送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量を調整する機能を有する。流量計３１ａは、送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量を計測する機能を有する。また、同様に、流量調整バルブ３０ｂは、送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量を調整する機能を有する。流量計３１ｂは、送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量を計測する機能を有する。
【００３０】
流量調整バルブ３０ａおよび流量計３１ａはいずれもバルブ駆動部３２ａと電気的に接続されている。一方、流量調整バルブ３０ｂおよび流量計３１ｂはいずれもバルブ駆動部３２ｂと電気的に接続されている。さらに、総流量調整バルブ３３および流量計３４はいずれもバルブ駆動部３５と電気的に接続されている。そして、これらバルブ駆動部３２ａ，３２ｂ，３５は制御部４０と電気的に接続されている。
【００３１】
制御部４０は、コンピュータを用いて構成されており、ＣＰＵやメモリ等を備えるとともに、所定の処理プログラムに基づいてバルブ駆動部３２ａ，３２ｂ，３５のそれぞれに指示を与える。バルブ駆動部３２ａは、送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量が制御部４０から指示された流量となるように、流量調整バルブ３０ａを開閉駆動させる。より具体的には、流量計３１ａによって検出された送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量が制御部４０から指示された流量よりも多い場合はバルブ駆動部３２ａが流量調整バルブ３０ａをより閉じるように駆動させ、少ない場合はバルブ駆動部３２ａが流量調整バルブ３０ａをより開くように駆動させる。
【００３２】
同様に、バルブ駆動部３２ｂは、送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量が制御部４０から指示された流量となるように、流量調整バルブ３０ｂを開閉駆動させる。すなわち、流量計３１ｂによって検出された送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量が制御部４０から指示された流量よりも多い場合はバルブ駆動部３２ｂが流量調整バルブ３０ｂをより閉じるように駆動させ、少ない場合はバルブ駆動部３２ｂが流量調整バルブ３０ｂをより開くように駆動させる。
【００３３】
さらに、バルブ駆動部３５は、元配管２８内を通過する処理液の流量が制御部４０から指示された流量となるように、総流量調整バルブ３３を開閉駆動させる。すなわち、流量計３４によって検出された元配管２８内を通過する処理液の流量が制御部４０から指示された流量よりも多い場合はバルブ駆動部３５が総流量調整バルブ３３をより閉じるように駆動させ、少ない場合はバルブ駆動部３５が総流量調整バルブ３３をより開くように駆動させる。
【００３４】
上記構成を有する基板処理装置における一般的な基板処理内容の概要は、純水による洗浄処理と薬液による薬液処理とを交互に行うというものである。より詳細には、例えば処理槽１０に純水を貯留しつつその純水中に複数の基板Ｗを浸漬することによって洗浄処理を行った後、処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂから薬液を吐出して処理槽１０内を薬液に置換することによって薬液処理を行い、さらにその後再び処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂから純水を吐出して処理槽１０内を純水に置換することによって洗浄処理を行うという工程を繰り返すのである。
【００３５】
なお、第１実施形態においては、流量調整バルブ３０ａが第１流量調整手段に、流量調整バルブ３０ｂが第２流量調整手段に、制御部４０が吐出流量制御手段にそれぞれ相当する。
【００３６】
以上のような構成とすることによって、処理液吐出ノズル２０ａおよび処理液吐出ノズル２０ｂのそれぞれから処理槽１０内に吐出する処理液の流量を任意に調整することができる。具体的には、制御部４０からの指示に基づいてバルブ駆動部３２ａが流量調整バルブ３０ａを開閉動作させることにより、送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量を調整して、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量を任意に調整する。同様に、制御部４０からの指示に基づいてバルブ駆動部３２ｂが流量調整バルブ３０ｂを開閉動作させることにより、送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量を調整して、処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量を任意に調整する。
【００３７】
すなわち、吐出流量制御手段たる制御部４０は、流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを個別に制御して処理液吐出ノズル２０ａおよび処理液吐出ノズル２０ｂのそれぞれからの処理液吐出流量を調整することができる。従って、元配管２８から送給配管２５ａおよび送給配管２５ｂのそれぞれに流入する処理液の流量が異なったとしても、それに関わらず処理液吐出ノズル２０ａおよび処理液吐出ノズル２０ｂのそれぞれから処理槽１０に吐出する処理液の流量を所定の値にすることができるのである。
【００３８】
そして、第１実施形態においては、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とが等しくなるようにしている。制御部４０は、送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量と送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量とが等しくなるように流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを個別に制御し、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とが等しくなるようにしているのである。
【００３９】
図３は、第１実施形態における処理液吐出ノズルからの処理液吐出の様子を示す図である。各処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂの吐出孔から処理槽１０の中央底部に向けて処理液が吐出される。処理液吐出ノズル２０ａから吐出された処理液と処理液吐出ノズル２０ｂから吐出された処理液とは、処理槽１０の中央底部近傍において合流し、その合流した薬液の流れがほぼ鉛直方向に沿って真上に上昇し、やがて処理槽１０中を循環する。
【００４０】
上述したように、２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂは処理槽１０内の対称位置に配設されている。そして、２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂのそれぞれにおいて、その吐出孔と円筒中心軸とを結ぶ線が鉛直方向となす角度は等しい。従って、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とを等しくすれば、処理槽１０内において対称な流れを形成させることができるのである。ここで「対称な流れ」とは、既述した「対称位置」と同じく、処理槽１０の回転対称性を有する断面の対称軸Ｓ１に関して対称な流れを意味する。
【００４１】
以上のように、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とを等しくして処理槽１０内において対称な流れを形成すれば、処理槽１０内の処理液の流れを均一にすることができ、その結果処理液置換効率を向上させることができる。従って、例えば、純水による洗浄処理の後、処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂから薬液を吐出したときには、処理槽１０内の薬液置換効率が向上することとなり、処理槽１０全体としての薬液濃度が短時間のうちに均一となり、その結果均一なエッチング等の薬液処理を行うことができるのである。
【００４２】
図４は、第１実施形態の基板処理装置にてエッチング処理を行ったときの結果を示す図である。同図は、１枚の基板Ｗについてエッチング処理によって削られた程度の面内均一性を示している。均一性は以下の数１によって算出される。
【００４３】
【数１】
0003739651.tif 000002
【００４４】
数１において、”ＭＡＸ”はエッチング処理によって削られた最大量を、”ＭＩＮ”はエッチング処理によって削られた最小量を、”ＡＶＥ”は削られた平均量をそれぞれ示している。数１によって算出された均一性の値が大きいことは、エッチング処理によって削られた最大量と最小量との差が大きいことを示しており、不均一な薬液処理が行われたこととなる。つまり、均一性の値が小さいほど、均一な薬液処理が行われていることになるのである。
【００４５】
また、図４において、スロット１、スロット２６、スロット５２は処理槽１０に浸漬されている１組の基板Ｗ（ロット）における基板位置を示している。具体的には、スロット１は処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂの最も先端側（図１の最も（＋Ｘ）側）の基板Ｗを示し、スロット５２は送給配管２５ａ，２５ｂに最も近い側（図１の最も（−Ｘ）側）の基板Ｗを示し、スロット２６はそれらの中間位置の基板Ｗを示している。さらに、図４において、ハッチングを付していない方が従来の基板処理装置における均一性の結果であり、ハッチングを付した方が第１実施形態の基板処理装置における均一性の結果である。
【００４６】
図４から明らかなように、処理槽１０内に浸漬されたロットにおける基板Ｗの位置にかかわらず、本実施形態の基板処理装置によるエッチング処理の均一性の方が従来よりも小さくなっている。つまり、より均一なエッチング処理が行われている。
【００４７】
また、薬液による薬液処理の後、処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂから純水を吐出したときには、処理槽１０内の純水置換効率が向上することとなり、処理槽１０全体としての薬液濃度が均一かつ短時間のうちに低下し、洗浄時間を短時間で完了させることができる。
【００４８】
さらに、基板Ｗの洗浄処理を行うと処理槽１０内にパーティクルが漂うこととなるが、処理槽１０内の処理液置換効率が向上すれば、従来の基板処理装置における処理槽１０１内のパーティクルが短時間のうちに完全に排出されることとなるため、パーティクル排出効率も向上することとなるのである。
【００４９】
また、第１実施形態の基板処理装置では、元配管２８内を通過する処理液の流量を調整する総流量調整バルブ３３が設けられている。元配管２８内を通過する処理液の流量は、処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂの双方から吐出される処理液の流量の総和であり、総流量調整バルブ３３は処理槽１０内に吐出される処理液の総流量を調整する機能を有している。従って、総流量調整バルブ３３によって元配管２８内を通過する処理液の流量を調整することにより、処理槽１０に必要な処理液の総流量を容易に確保することができる。
【００５０】
＜２．第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態の基板処理装置の構成は第１実施形態と同じである。第１実施形態では処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とを等しくしていたのに対して、第２実施形態では処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とを周期的に変化させている。すなわち、制御部４０が一定のパターンに基づいて流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを個別に制御することにより、送給配管２５ａ内を通過する処理液の流量と送給配管２５ｂ内を通過する処理液の流量とが周期的に変化するようにしているのである。
【００５１】
図５は、第２実施形態における流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂの開閉パターンを示す図である。時刻ｔ０から処理液吐出を開始するものとし、時刻ｔ０においては制御部４０が流量調整バルブ３０ａを開放させるとともに、流量調整バルブ３０ｂを閉鎖させる。次に、時刻ｔ１においては制御部４０が流量調整バルブ３０ａを閉鎖させるとともに、流量調整バルブ３０ｂを開放させる。以降、同様の開閉が繰り返され、時刻ｔ２，ｔ４，ｔ６のそれぞれでは流量調整バルブ３０ａが開放されるとともに、流量調整バルブ３０ｂが閉鎖され、時刻ｔ３，ｔ５，ｔ７のそれぞれでは流量調整バルブ３０ａが閉鎖されるとともに、流量調整バルブ３０ｂが開放される。なお、ある開閉切り換え時刻から次の開閉切り換え時刻までの時間間隔は常に一定（Ｔ１）である。
【００５２】
図５に示す開閉パターンによれば、時刻ｔ０から時刻ｔ１の間は流量調整バルブ３０ａのみが開放され、流量調整バルブ３０ｂが閉鎖されているため、処理液吐出ノズル２０ａからのみ所定の吐出流量ＦＬにて処理液が吐出され、処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出は停止される。一方、時刻ｔ１から時刻ｔ２の間は流量調整バルブ３０ｂのみが開放され、流量調整バルブ３０ａが閉鎖されているため、処理液吐出ノズル２０ｂからのみ所定の吐出流量ＦＬにて処理液が吐出され、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出は停止される。そして、以降同様の処理液吐出パターンが繰り返される。
【００５３】
すなわち、処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出を停止するとともに処理液吐出ノズル２０ａから所定吐出流量（ＦＬ）にて所定時間（Ｔ１）の処理液吐出を行わせた後、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出を停止するとともに処理液吐出ノズル２０ｂから上記所定吐出流量（ＦＬ）にて上記所定時間（Ｔ１）の処理液吐出を行わせることを繰り返すように制御部４０が流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを制御する。
【００５４】
このように第２実施形態においては、処理液吐出ノズル２０ａから吐出される処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂから吐出される処理液吐出流量とが半周期（半波長）だけ位相の異なる同一のパターンにて周期的に変化するように制御部４０が流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを制御している。従って、ある時点だけ見れば処理液吐出ノズル２０ａまたは処理液吐出ノズル２０ｂのいずれか一方からのみの処理液吐出が行われることとなるため、処理槽１０内の処理液の流れは均一ではないものの、流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンの一周期（Ｔ２）の全体においては、処理液吐出ノズル２０ａおよび処理液吐出ノズル２０ｂのそれぞれから等しい吐出流量にて同じ時間だけ処理液が吐出されるため、全体として処理槽１０内の処理液の流れが均一になる。特に、処理液吐出形態を切り換えることによって処理槽１０内の撹拌効果が得られるため、わずかなよどみ部分も存在しなくなり、処理槽１０内の全体としての処理液の流れが均一になる。
【００５５】
その結果、第１実施形態と同じように、均一な薬液処理を行うことができるとともに、洗浄時間を短縮でき、さらにはパーティクル排出効率も向上することとなるのである。
【００５６】
＜３．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記の例に限定されるものではない。例えば、第２実施形態における流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンは図５に示した形態に限定されるものではない。図６は、流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンの他の例を示す図である。
【００５７】
図６に示す開閉パターンでは、時刻ｔ０から時刻ｔ１の間は流量調整バルブ３０ａのみが開放され、流量調整バルブ３０ｂが閉鎖されているため、処理液吐出ノズル２０ａからのみ所定の吐出流量ＦＬにて処理液が吐出され、処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出は停止される。次に、時刻ｔ１から時刻ｔ２の間は流量調整バルブ３０ｂのみが開放され、流量調整バルブ３０ａが閉鎖されているため、処理液吐出ノズル２０ｂからのみ所定の吐出流量ＦＬにて処理液が吐出され、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出は停止される。さらにその後、時刻ｔ２から時刻ｔ３の間は流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの双方が閉鎖されて処理液吐出が全て停止され、時刻ｔ３から時刻ｔ４の間は流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの双方が半分だけ開放されて処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とが等しくされる。そして、以降同様の処理液吐出パターンが繰り返される。
【００５８】
すなわち、処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出を停止するとともに処理液吐出ノズル２０ａから所定吐出流量（ＦＬ）にて所定時間（Ｔ１）の処理液吐出を行わせた後、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出を停止するとともに処理液吐出ノズル２０ｂから上記所定吐出流量（ＦＬ）にて上記所定時間（Ｔ１）の処理液吐出を行わせた後、さらに上記所定時間（Ｔ１）の処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量（ＦＬ／２）と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とが等しくなることを繰り返すように制御部４０が流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを制御する。
【００５９】
このようにすれば、流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンの一周期（Ｔ３）の全体においては、処理液吐出ノズル２０ａおよび処理液吐出ノズル２０ｂのそれぞれから等しい吐出流量にて同じ時間だけ処理液が吐出されるため、全体として処理槽１０内の処理液の流れが均一になる。また、第２実施形態と同様に、処理液吐出形態を切り換えることによって処理槽１０内の撹拌効果が得られるため、わずかなよどみ部分も存在しなくなり、処理槽１０内の全体としての処理液の流れが均一になる。
【００６０】
また、流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンを図７のようにしても良い。図７に示す開閉パターンでは、時刻ｔ０から時刻ｔ１の間は流量調整バルブ３０ａが徐々に開放される一方で、流量調整バルブ３０ｂが徐々に閉鎖される。次に、時刻ｔ１から時刻ｔ２の間は流量調整バルブ３０ａが徐々に閉鎖される一方で、流量調整バルブ３０ｂが徐々に開放される。以降同様の処理液吐出パターンが繰り返される。
【００６１】
すなわち、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量を連続的に増加させるとともに処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量を連続的に減少させた後、処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量を連続的に減少させるとともに処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量を連続的に増加させることを繰り返し、かつ処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量との総和が常に一定となるように制御部４０が流量調整バルブ３０ａおよび流量調整バルブ３０ｂを制御する。
【００６２】
このようにしても流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンの一周期（Ｔ２）の全体においては、処理液吐出ノズル２０ａおよび処理液吐出ノズル２０ｂのそれぞれから等しい吐出流量にて処理液が吐出されるため、全体として処理槽１０内の処理液の流れが均一になる。また、第２実施形態と同様に、処理液吐出形態を切り換えることによって処理槽１０内の撹拌効果が得られるため、わずかなよどみ部分も存在しなくなり、処理槽１０内の全体としての処理液の流れが均一になる。
【００６３】
換言すれば、２本の処理液吐出ノズル２０ａ，２０ｂのそれぞれから吐出された処理液によって処理槽１０内に形成される流れが所定の時間幅において均一となるような流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの開閉パターンを採用することができるのである。なお、第１実施形態も処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とが等しくなるように流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの双方を一定に開放しておくような流量調整バルブ３０ａ，３０ｂの一種の開閉パターンであるとみなすことができる。
【００６４】
また、上記各実施形態においては、制御部４０がバルブ駆動部３２ａ，３２ｂを介して流量調整バルブ３０ａ，３０ｂを自動的に制御するようにしていたが、装置のオペレータが流量計３１ａ，３１ｂを目視にて確認しつつ流量調整バルブ３０ａ，３０ｂを手動にて開閉するようにしても良い。この場合であっても処理液吐出ノズル２０ａからの処理液吐出流量と処理液吐出ノズル２０ｂからの処理液吐出流量とを等しくすれば、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６５】
さらに、上記各実施形態においては、本発明に係る基板処理装置をいわゆるワンバスタイプの装置として説明したが、これに限定されるものではなく、本発明に係る技術はいわゆる多槽式の装置に適用することもできる。多槽式の基板処理装置には、薬液のみを貯留する薬液槽および純水のみを貯留する水洗槽が備えられており、それぞれの槽において新たなロットの処理を行うときには液交換を行う。このときに、本発明に係る技術を適用すれば、槽内の液置換効率が向上するため、迅速に液交換を行うことができ、スループットが向上することとなる。また、上述と同様に、パーティクル排出効率も向上する。
【００６６】
【発明の効果】
以上、説明したように、請求項１の発明によれば、第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに第１処理液吐出ノズルから所定吐出流量にて所定時間の処理液吐出を行わせた後、第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに第２処理液吐出ノズルから上記所定吐出流量にて上記所定時間の処理液吐出を行わせることを繰り返すように吐出流量制御手段が第１流量調整手段および第２流量調整手段を制御するため、その繰り返しの一周期全体においては、処理槽内において均一な処理液の流れを形成することができる。
【００６７】
また、請求項２の発明によれば、第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに第１処理液吐出ノズルから所定吐出流量にて所定時間の処理液吐出を行わせた後、第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出を停止するとともに第２処理液吐出ノズルから上記所定吐出流量にて上記所定時間の処理液吐出を行わせた後、さらに上記所定時間の第１処理液吐出ノズルからの処理液吐出流量と第２処理液吐出ノズルからの処理液吐出流量とが等しくなることを繰り返すように吐出流量制御手段が第１流量調整手段および第２流量調整手段を制御するため、その繰り返しの一周期全体においては、処理槽内において均一な処理液の流れを形成することができる。
【００７１】
また、請求項３の発明によれば、第１送給配管および第２送給配管が合流した元配管に設けられ、元配管内を通過する処理液の流量を調整する総流量調整手段を備えるため、処理槽に必要な処理液の総流量を容易に確保することができる。
【００７３】
また、請求項４の発明によれば、処理液を貯留する処理槽と、処理槽内の対称位置に設けられ、それぞれが処理液を吐出する２本の処理液吐出ノズルと、２本の処理液吐出ノズルのそれぞれから吐出される処理液吐出流量を同一のパターンにて周期的に変化させる手段と、を備えるため、その周期的な変化の一周期全体においては、処理槽内において均一な処理液の流れを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一例を示す斜視図である。
【図２】図１の基板処理装置の構成を示す図である。
【図３】第１実施形態における処理液吐出ノズルからの処理液吐出の様子を示す図である。
【図４】第１実施形態の基板処理装置にてエッチング処理を行ったときの結果を示す図である。
【図５】第２実施形態における流量調整バルブの開閉パターンを示す図である。
【図６】流量調整バルブの開閉パターンの他の例を示す図である。
【図７】流量調整バルブの開閉パターンの他の例を示す図である。
【図８】従来の基板処理装置における吐出ノズルからの処理液吐出の様子を示す図である。
【符号の説明】
１０  処理槽
２０ａ，２０ｂ  処理液吐出ノズル
２５ａ，２５ｂ  送給配管
２８  元配管
３０ａ，３０ｂ  流量調整バルブ
３３  総流量調整バルブ
３２ａ，３２ｂ，３５  バルブ駆動部
４０  制御部
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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