(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水相に０．５〜１０重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ又はＩｂ：
【化１】
0003795263.tif 000011
〔式中、
Ｘは、Ｒ又はＡを表し；
Ａは、式IIａ、IIｂ又はIIｃ：
【化２】
0003795263.tif 000012
で示される基を表し；
Ｒは、水素、Ｃ1-6アルキル又はフェニルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素、ヒドロキシ、Ｃ1-6−アルキル又はＣ1-6−アルコキシを表し；
Ｒ3は、Ｃ1-6−アルキルを表し；
Ｒ4は、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
ｒは、０〜２５０の値を有し；
ｓは、０〜２０の値を有し；
ｒ＋ｓは、少なくとも３の値を有し；
ｔは、０〜１０の値を有し；
ｖは、１〜１０の値を有し；そして
ｖ＋ｔは、少なくとも３の値を有し；
ｎは、１〜６の値を有する（ただし、ｓが０であるとき、少なくとも１つのＸは、Ａである）〕で示される１〜３０重量％の直鎖又は環状ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、化粧用光遮蔽組成物。
【請求項２】
水相に０．５〜５重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式IIａ又はIIｂの基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素、メトキシ若しくはエトキシを表すか、又はＲ1及びＲ2の一方は、水素であり、かつもう一方は、メチル、メトキシ若しくはエトキシであり；
Ｒ3は、メチル又はエチルを表し；
Ｒ4は、水素又はメチルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、５〜１５０であり；
ｓは、２〜１０であり；
ｎは、１の値を有する〕で示される２〜２０重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、請求項１記載の化粧用光遮蔽組成物。
【請求項３】
水相に１〜２重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、水素を表し；
Ｒ3は、エチルを表し；
Ｒ4は、水素を表し；
ｒは、６０の統計学的平均であり；
ｓは、４の統計学的平均である〕で示される５重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含むことを特徴とする、少なくとも１つの脂肪相を含有する、請求項２項記載の化粧用光遮蔽組成物。
【請求項４】
該組成物が、更に普通のＵＶ−Ａフィルター及び／又はＵＶ−Ｂフィルターを含有する、請求項１〜３のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、２８０〜３２０nmの間の波長の紫外線（ＵＶ−Ｂ）に対するヒトの表皮の保護のための光安定性化粧用光遮蔽組成物に関する。
【０００２】
詳細には本発明は、親油性ポリシロキサン型ＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び親水性ベンゾイミダゾール型ＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含有する化粧用光遮蔽組成物に関する。
【０００３】
ヨーロッパ特許公報ＥＰ−０８１３８５７には、水相；第１油相；第２油相；水中油型乳剤のための皮膚軟化剤及び油中水型乳剤のための別の皮膚軟化剤；例えばベンゾフェノン誘導体のような親水性ＵＶ−Ａフィルター又は例えばベンゾイミダゾール誘導体のような親水性ＵＶ−Ｂフィルター、及び例えば４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン（パラソル１７８９（PARSOL 1789）（登録商標））のような親油性ＵＶ−Ａフィルター又は例えばオクトクリレン（octocrylene）（ウヴィヌルＮ−５３９（UVINUL N-539）（登録商標））のような親油性ＵＶ−Ｂフィルター、若しくはＷＯ９３／０４６６５に記載されるオルガノシロキサンフィルター若しくはＷＯ９４／０６４０４に記載されるベンゾトリアゾール型のオルガノシロキサンフィルターを含むことを特徴とする、相乗作用性ＵＶ保護活性を有する太陽光線保護組成物（該太陽光線保護組成物は、第１及び第２油相が不相溶性であることを特徴とする）が記載されている。
【０００４】
上述のヨーロッパ特許公報は、組合せたフィルター物質が、相乗作用性紫外線保護活性を有することを一般的に言及しているだけであり、特異的な相乗作用に到達するための特異的なフィルターの組合せを選択するための指標を何ら示していない。更には、ＷＯ９３／０４６６５又はＷＯ９４／０６４０４に記載されるオルガノシロキサンは、ベンゾマロナート型の発色団残基を含有するオルガノシロキサンに具体的に言及していない。
【０００５】
今や、親油性ＵＶ−Ｂ遮蔽剤としてベンゾマロナート型の発色団残基を有するポリシロキサン及び親水性ベンゾイミダゾール型ＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含有する日焼け止め組成物が、相乗作用的に保護指数を強化することを見い出した。
【０００６】
更に詳細には本発明は、水相に約０．５〜１０重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ又はＩｂ：
【０００７】
【化３】
0003795263.tif 000002
【０００８】
〔式中、
Ｘは、Ｒ又はＡを表し；
Ａは、式IIａ、IIｂ又はIIｃ：
【０００９】
【化４】
0003795263.tif 000003
【００１０】
で示される基を表し；
Ｒは、水素、Ｃ1-6アルキル又はフェニルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素、ヒドロキシ、Ｃ1-6−アルキル又はＣ1-6−アルコキシを表し；
Ｒ3は、Ｃ1-6−アルキルを表し；
Ｒ4は、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
ｒは、０〜２５０の値を有し；
ｓは、０〜２０の値を有し；
ｒ＋ｓは、少なくとも３の値を有し；
ｔは、０〜１０の値を有し；
ｖは、０〜１０の値を有し；そして
ｖ＋ｔは、少なくとも３の値を有し；
ｎは、１〜６の値を有する（ただし、ｓが０であるとき、少なくとも１つのＸは、Ａである）〕で示される約１〜３０重量％の直鎖又は環状ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、化粧用光遮蔽組成物に関する。
【００１１】
「Ｃ1-6−アルキル」という用語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、ペンチル及びネオペンチルのような基を意味する。「Ｃ1-6−アルコキシ」という用語は、その対応するアルコキシ基を意味する。
【００１２】
Ｒ残基は、好ましくはメチルである。
【００１３】
Ｒ1及びＲ2残基は、好ましくは水素、メトキシ若しくはエトキシ、更に好ましくは水素であるか、又はＲ1及びＲ2の一方は、水素であり、かつもう一方は、メチル、メトキシ若しくはエトキシである。
【００１４】
Ｒ3残基は、好ましくはメチル又はエチル、更に好ましくはエチルである。
【００１５】
好ましくは、Ｒ4は、水素又はメチルであり、Ｒ5及びＲ6は、水素であり、そしてｎは、１である。
【００１６】
２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸の適切な塩は、ナトリウム−又はカリウム塩のようなアルカリ塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、第一級、第二級及び第三級アミンの塩（例えば、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩など）である。
【００１７】
一般式IIａ及びIIｂのＡ基を有するポリシロキサン化合物及びその調製法は、ヨーロッパ特許ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１に記載されている。これらのポリシロキサン化合物は好ましい。
【００１８】
一般式IIｃのＡ基を有するポリシロキサン化合物及びその調製法は、ヨーロッパ特許ＥＰ ０３５８５８４ Ｂ１に記載されている。
【００１９】
式Ｉａの直鎖ポリシロキサン化合物において、残基Ａを担持する発色団は、ポリシロキサンの末端基に連結されていても（Ｘ＝Ａ）、又は統計学的に分布していてもよい。
【００２０】
残基Ａを担持する発色団が統計学的に分布している、直鎖ポリシロキサン化合物が好ましい。該好ましいポリシロキサン化合物は、発色団残基を担持する少なくとも１つの単位（ｓ＝１）を有し、好ましくはｓは、約２〜約１０の値、更に好ましくは約４の統計学的平均を有する。ポリシロキサン化合物に存在するもう一方のシリコーン単位のｒの数は、好ましくは約５〜約１５０、更に好ましくは約６０の統計学的平均である。
【００２１】
総シロキサン単位の２０％以下、好ましくは１０％未満が、発色団残基を担持する単位であるポリシロキサン化合物が、化粧品の性質に関して好ましい。
【００２２】
式IIａの発色団残基Ａを有するポリシロキサン単位対式IIｂの発色団残基Ａを有するものの比は、決定的に重要ではない。該比は、約１：１〜約１９：１、好ましくは約２：１〜約９：１、更に好ましくは約４：１であろう。
【００２３】
化粧用光遮蔽組成物中のポリシロキサン化合物の濃度は、好ましくは約２〜２０重量％、更に好ましくは約５重量％である。
【００２４】
２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸又はその塩の濃度は、好ましくは約０．５〜５重量％、更に好ましくは約１〜２重量％である。
【００２５】
２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸又はその塩対上記と同義のポリシロキサン化合物の比は、決定的に重要ではない。例えばこの比は、約１：１〜約１：２０、好ましくは約１：５である。
【００２６】
即ち、好ましい化粧用光遮蔽組成物は、水相に約０．５〜５重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式IIａ又はIIｂの基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素、メトキシ若しくはエトキシを表すか、又はＲ1及びＲ2の一方は、水素であり、かつもう一方は、メチル、メトキシ若しくはエトキシであり；
Ｒ3は、メチル又はエチルを表し；
Ｒ4は、水素又はメチルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、約５〜約１５０であり；
ｓは、約２〜約１０であり；
ｎは、１の値を有する〕で示される約２〜２０重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する。
【００２７】
更に好ましい化粧用光遮蔽組成物は、水相に約１〜２重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式IIａ又はIIｂの基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素を表し；
Ｒ3は、エチルを表し；
Ｒ4は、水素を表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、約６０の統計学的平均であり；
ｓは、約４の統計学的平均であり；
ｎは、１の値を有する〕で示される約５重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する。
【００２８】
Ａが、式IIａ又はIIｂの残基である、ポリシロキサン化合物Ｉａ又はＩｂは、ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１に記載されているように、下記反応スキーム：
【００２９】
【化５】
0003795263.tif 000004
【００３０】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、上記と同義である〕により対応するベンザルマロナートのシリル化により調製することができる。
【００３１】
４−（２−プロピニルオキシ）フェニルメチレンジエチルエステルのシリル化は、脂肪族不飽和を含有する基へのケイ素結合水素原子の付加のための既知の方法を利用して行うことができる。このような反応は、一般に白金属金属又はこのような金属の錯体により触媒される。利用することができる触媒の例は、白金担持炭素、クロロ白金酸、白金アセチルアセトナト、白金化合物と不飽和化合物（例えば、オレフィン及びジビニルジシロキサン）との錯体、ロジウム及びパラジウム化合物の錯体並びに無機基質上に支持された白金化合物の錯体である。付加反応は、減圧、常圧又は加圧下で行われる。反応混合物中の溶媒（例えば、トルエン又はキシレン）を使用することができるが、溶媒の存在は必須ではない。また、反応は高い反応温度（例えば、約５０℃〜１５０℃）で行うことが好ましい。
【００３２】
この新規な光遮蔽組成物の製造は、上記と同義のポリシロキサン化合物及び２−フェニル−ベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を、場合により他の既知のＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂフィルターと組合せて、光遮蔽剤について一般的な化粧品基剤に組み込むことを特徴とする。
【００３３】
適切なＵＶ−Ｂフィルター、即ち、約２９０〜３２０nmの間に最大吸収を有する物質は、例えば、物質の広い分類に属する下記の有機化合物である：
−  ｐ−アミノ安息香酸エチル、プロピル、ブチル、及びイソブチルなどのような、ｐ−アミノ安息香酸誘導体；
−  ２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート（オクトクリレン（octocrylene））、エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラートなどのようなアクリラート；
−  メチルアニリニウムメトスルファートなどのようなアニリン誘導体；
−  アントラニル酸メンチルなどのようなアントラニル酸誘導体；
−  ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４などのようなベンゾフェノン誘導体；
−  メチルベンジリデンショウノウ（パラソル５０００（PARSOL 5000））、
３−ベンジリデンショウノウ、ショウノウベンザルコニウムメトスルファート、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ、スルファベンジリデンショウノウ、スルホメチルベンジリデンショウノウ、テレフタリデン二ショウノウスルホン酸などのようなショウノウ誘導体；
−  メトキシケイ皮酸オクチル（パラソルＭＣＸ（PARSOL MCX））又はメトキシケイ皮酸エトキシエチルなどのようなシンナマート誘導体、更にはシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体；
−  トリオレイン酸ジガロイルなどのような没食子酸；
−  サリチル酸イソプロピルベンジル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル（ネオ・ヘリオパンＯＳ（Neo Heliopan OS））、サリチル酸イソオクチル又はサリチル酸ホモメンチル（ホモサレート（homosalate）、ヘリオパン（Heliopan））などのようなサリチラート誘導体；
−  ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール）（ティノソルブＭ（TINOSORB M））などのようなトリアゾール誘導体；
−  オクチルトリアゾン（ウヴィヌルＴ−１５０（Uvinul T-150））、ジオクチルブタミドトリアゾン（ウヴァソルブＨＥＢ（Uvasorb HEB））などのようなトリアゾン誘導体；
−  微粒化ＴｉＯ2、ＺｎＯなどのような顔料。
【００３４】
「微粒化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒径を意味する。ＴｉＯ2粒子はまた、例えば酸化アルミニウム若しくはジルコニウムのような金属酸化物により、又は例えばポリオール、メチコーン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランのような有機コーティング剤によりコーティングしてもよい。このようなコーティングは、当該分野でよく知られている。
【００３５】
本処方は、更に、
−  ４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−メタンなどのようなジベンゾイルメタン誘導体；
−  ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０６９３４８３ Ａ１、ＥＰ ０７０４４３７ Ａ２、ＥＰ ０７０４４４４ Ａ１及びＥＰ ０７８０３８２ Ａ１に記載されたトリアジン化合物（例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ・ホールディング・スイス（Ciba Speciality Chemicals Holding Switzerland）から商品名ティノソルブＳ（TINOSORB S）の下で入手可能な２，２′−〔６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル〕ビス〔５−（２−エチルヘキシル）オキシ〕−）、
のようなＵＶ−Ａフィルターを含有してもよい。
【００３６】
本発明の範囲における光遮蔽組成物について一般的な化粧品基剤としては、化粧品の要求に対応する任意の従来調製物を使用することができる（例えば、クリーム、ローション、乳液、軟膏、ゲル、液剤、スプレー、スティック及びミルク）；「日焼け止め剤、開発、評価及び規制の側面（Sunscreens, Development, Evaluation and Regulatory Aspects）」、N.Y. Lowe、N.A. Shaath編、マーセル・デッカー社（Marcel Dekker, Inc.）、ニューヨーク及びバーゼル、１９９０年も参照のこと。
【００３７】
以上のように、本発明は、水相に約０．５〜１０重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ又はＩｂ：
【００３８】
【化６】
0003795263.tif 000005
【００３９】
〔式中、
Ｘは、Ｒ又はＡを表し；
Ａは、式IIａ、IIｂ又はIIｃ：
【００４０】
【化７】
0003795263.tif 000006
【００４１】
で示される基を表し；
Ｒは、水素、Ｃ1-6アルキル又はフェニルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素、ヒドロキシ、Ｃ1-6−アルキル又はＣ1-6−アルコキシを表し；
Ｒ3は、Ｃ1-6−アルキルを表し；
Ｒ4は、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素又はＣ1-6−アルキルを表し；
ｒは、０〜２５０の値を有し；
ｓは、０〜２０の値を有し；
ｒ＋ｓは、少なくとも３の値を有し；
ｔは、０〜１０の値を有し；
ｖは、０〜１０の値を有し；そして
ｖ＋ｔは、少なくとも３の値を有し；
ｎは、１〜６の値を有する（ただし、ｓが０であるとき、少なくとも１つのＸは、Ａである）〕で示される約１〜３０重量％の直鎖又は環状ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、化粧用光遮蔽組成物に関する（１）。
【００４２】
また、本発明は、Ａが、式IIａ又はIIｂの残基である、前記（１）記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（２）。
【００４３】
更に、本発明は、式IIａの発色団残基を有するオルガノシロキサン化合物対式IIｂの発色団残基を有するオルガノシロキサン化合物の比が、約１：１〜約１９：１、好ましくは約２：１〜約９：１、更に好ましくは約４：１である、前記（１）又は（２）記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（３）。
【００４４】
また、本発明は、Ｒが、メチルである、前記（１）〜（３）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（４）。
【００４５】
更に、本発明は、Ｒ1及びＲ2が、水素、メトキシ若しくはエトキシであるか、又はＲ1及びＲ2の一方が、水素であり、かつもう一方が、メチル、メトキシ若しくはエトキシである、前記（１）〜（４）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（５）。
【００４６】
また、本発明は、Ｒ3が、メチル又はエチルである、前記（１）〜（５）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（６）。
【００４７】
更に、本発明は、Ｒ4が、水素又はメチルであり；Ｒ5及びＲ6が、水素であり；そしてｎが、１である、前記（１）〜（６）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（７）。
【００４８】
また、本発明は、水相に約０．５〜５重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、
Ｘは、メチルを表し；
Ａは、式IIａ又はIIｂの基を表し；
Ｒは、メチルを表し；
Ｒ1及びＲ2は、水素、メトキシ若しくはエトキシを表すか、又はＲ1及びＲ2の一方は、水素であり、かつもう一方は、メチル、メトキシ若しくはエトキシであり；
Ｒ3は、メチル又はエチルを表し；
Ｒ4は、水素又はメチルを表し；
Ｒ5及びＲ6は、水素を表し；
ｒは、約５〜約１５０であり；
ｓは、約２〜約１０であり；
ｎは、１の値を有する〕で示される約２〜２０重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、前記（１）〜（７）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（８）。
【００４９】
更に、本発明は、水相に約１〜２重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、
Ｒ1及びＲ2は、水素を表し；
Ｒ3は、エチルを表し；
Ｒ4は、水素を表し；
ｒは、約６０の統計学的平均であり；
ｓは、約４の統計学的平均である〕で示される約５重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、前記（８）記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（９）。
【００５０】
また、本発明は、該組成物が、更に普通のＵＶ−Ａフィルター及び／又はＵＶ−Ｂフィルターを含有する、前記（１）〜（９）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（１０）。
【００５１】
更に、本発明は、紫外線の吸収剤としての前記（１）〜（１０）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物の使用に関する（１１）。
【００５２】
下記実施例により本発明を更に詳細に説明する。
【００５３】
実施例１
ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１に記載されているプロパン二酸｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレン｝ジエチルエステルの調製。
アセトン（２．９６ml）中の４−ヒドロキシベンズアルデヒド（４２５．８ｇ）及びＫ2ＣＯ3（８０７．６ｇ）の撹拌懸濁液に、約６０℃の還流温度で窒素雰囲気下、２時間かけて３−ブロモ−プロピン（５０２．４ｇ）を滴下により加えた。反応物を３時間以上加熱還流した。室温に冷却後、反応混合物を濾過し、過剰のＫ2ＣＯ3を除去してアセトンで数回洗浄した。濾液を、ＮａＨＣＯ3とＮａＣｌの飽和水溶液で洗浄した。水相をジエチルエーテルで抽出した。合わせた有機抽出物をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、濾過して１lの容量まで濃縮した。この溶液を冷蔵庫に一晩保存した。結晶を濾取して、冷ジエチルエーテルで洗浄した。濾液を冷蔵庫に一晩保存して、更に幾らかを結晶化させて取り出した。この操作を３回繰り返して、４−（２−プロピニルオキシ）ベンズアルデヒド１，３８５ｇを収率８３％で得た。この物質をガスクロマトグラフィーにより分析すると、純度９９．９％であることが判った。生じた化合物（４４９．２ｇ）を少量ずつ、マロン酸ジエチル（４４８．５ｇ）、ピペリジン（２３．８４ｇ）、トルエン（１，４００ml）及び酢酸（５９ｇ）の撹拌溶液に約５０℃で加えた。酢酸は、３等分してそれぞれ１、１．５、及び２時間後に加えた。反応混合物を加熱還流した。４時間後、混合物を室温まで冷却させて、ＮａＨＣＯ3とＮａＣｌの飽和水溶液で洗浄して、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、濾過して濃縮し、暗褐色の油状生成物８５３．４ｇを得た。ジエチルエーテル（４５８ml）及びｈ−ヘキサン（３５８ml）を加えて、溶液を冷蔵庫に一晩保存した。溶液を濾過して、４５．５〜４８℃の融点を有する明褐色の結晶５６４．８ｇ（収率６７％）を得た。エタノール及びｎ−ヘキサン中で再結晶して、明褐色の結晶として標題化合物５４３ｇを得た。この物質をガスクロマトグラフィーにより分析すると、純度９９．９％であることが判った。
【００５４】
実施例２
ＥＰ ０５３ ４３１ Ｂ１に記載されている一般式Ｉａ〔式中、Ｒはメチルを意味し、ｓは０であり、ｒは２０であり、ＸはＡであり、そしてＡは式IIａ及びIIｂ（式中、Ｒ1及びＲ2は水素であり、Ｒ3はエチルであり、そしてＲ4、Ｒ5及びＲ6は水素であり、ｎは１である）のベンザルマロナート残基を意味する〕のオルガノシロキサン化合物の調製。
｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステル５ｇをトルエン２０ｇに溶解して、窒素下で約８０℃に加熱した。次に２０の重合度及び１０mpc  ＳｉＨ基（ＳｉＨ  ３．６２％）を有するヒドロシロキサン１３．２ｇを滴下により加え、その前に白金−ジビニル−テトラメチル−ジシロキサン錯体も加えて、ヒドロシロキサンのＳｉＨ  １モル当たりＰｔ  １０-4モルにした。混合物を加熱還流し、赤外分光分析で全てのＳｉＨが消失するまで維持した。次にこれを室温まで冷却させた。次いでトルエンを蒸発させて、洗浄後、平均構造Ａ−〔（ＣＨ3)2ＳｉＯ〕20−Ａ〔式中、Ａは、式IIa1及びIIb1：
【００５５】
【化８】
0003795263.tif 000007
【００５６】
で示される残基である〕を有する僅かに褐色のポリマー１６．５ｇを得た。
【００５７】
実施例３
ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０７０９０８０ Ａ１に記載されている一般式Ｉａ〔式中、Ｒはメチルを意味し、ｒは５９であり、ｓは４であり、Ｘはメチルであり、そしてＡは式IIａ及びIIｂ（式中、Ｒ1及びＲ2は水素であり、Ｒ3はエチルであり、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は水素である）のベンザルマロナート残基を意味する〕を有するオルガノシロキサン化合物の調製。
｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステル１３．２８ｇをトルエン７５ｇに溶解して、窒素下で約７０℃に加熱した。次に６５の重合度及び６mpc  ＳｉＨ基（ＳｉＨ  ２．３６％）を有するヒドロシロキサン４４ｇを滴下により加え、その前に白金−ジビニル−テトラメチル−ジシロキサン錯体も加えて、ヒドロシロキサンのＳｉＨ  １モル当たりＰｔ  １０-4モルにした。混合物を加熱還流し、赤外分光分析で全てのＳｉＨが消失するまで維持した。次にこれを室温まで冷却させた。次いでトルエンを蒸発させて、洗浄後、平均構造（ＣＨ3)3ＳｉＯ−〔（ＣＨ3)2ＳｉＯ〕59−〔（ＣＨ3）ＡＳｉＯ〕4−Ｓｉ（ＣＨ3)3〔式中、Ａは、式IIa1及びIIb1：
【００５８】
【化９】
0003795263.tif 000008
【００５９】
を有する〕を有する褐色の粘性ポリマー５２ｇを得た。残基IIa1を有する化合物対残基IIb1を有する化合物の比は、約４：１である。
【００６０】
実施例４
適切な化粧用光遮蔽組成物
実施例３の式Ｉａのポリシロキサン５重量％及び２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸１重量％を含むことを特徴とする日焼け止めＯ／Ｗローションを下記成分により調製した：
【００６１】
【表１】
0003795263.tif 000009
【００６２】
ＣＴＦＡ：化粧品、洗面用化粧品及び香水協会（Cosmetic, Toiletry and Fragrance Association）。
パートＡ：反応容器に加え、その中で融解した。
パートＢ：混合し、中和してホットプレートで８５℃に加熱した。
パートＣ：５０℃で加えた。
【００６３】
実施例５
太陽光線保護指数（Sun Protection Factor）の測定
太陽光線保護指数の測定は、ＣＯＬＩＰＡプロトコール（ヨーロッパ化粧品、洗面用化粧品及び香水協会（the European Cosmetic, Toiletry and Perfumery Association）、太陽光線保護指数試験法（Sun Protection Factor Test method）、１９９４年１０月）により実施した。
【００６４】
５．０〜５．５mW/cm2の範囲のランプ輝度を有する太陽光線シミュレーターＳＵ２０００を使用した。照射面積６×１cm2；線量進行（dose progression）２５％。
【００６５】
実施例４に記載されているのと同じ化粧品基剤を使用して、下記のフィルターの組合せを処方して、同一の分布特性を有する安定な日焼け止めローションが生成した。
【００６６】
ヒトのインビボＳＰＦ測定のためのＣＯＬＩＰＡプロトコールにより、５０cm2の適用面積に、２mg/cm2の適用線量を使用した。
【００６７】
比較として下記の日焼け止め組成物を試験した：
【００６８】
実施例３のポリシロキサン化合物及び第２の既知の親油性ＵＶ−Ｂフィルター（即ち２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナマート（ＯＭＣ）（商品名パラソルＭＣＸ（PARSOL MCX）の下で入手可能））を含有する日焼け止め組成物。
【００６９】
実施例３のポリシロキサン化合物及び第２の既知の親水性ＵＶ−Ｂフィルター（即ちｐ−メトキシケイ皮酸のジエタノールアミン塩（ＭＣ−ＤＥＡ）（商品名パラソルヒドロ（PARSOL Hydro）の下で入手可能））を含有する日焼け止め組成物。
【００７０】
結果は下記の表に示す。
【００７１】
【表２】
0003795263.tif 000010
【００７２】
Ｐ３：実施例３のポリシロキサン。
ＰＢＳＡ：２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸
ＯＭＣ：２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナマート
ＭＣ−ＤＥＡ：ｐ−メトキシケイ皮酸のジエタノールアミン塩。
【００７３】
インビボＳＰＦ：ボランティア５名の測定の平均値。
予測ＳＰＦ：１０重量％  Ｐ３のインビボＳＰＦ値（４．７）を他のフィルターの２重量％の対応する値のインビボＳＰＦ値に加えて２で割った計算値。
相乗作用性：予測（計算）ＳＰＦからのインビボＳＰＦの偏差％。
【００７４】
本発明のＰＢＳＡとポリシロキサンの組合せが、ＳＰＦの不均衡な増大を示した。通常、フィルター組合せのＳＰＦは、単一フィルターの性能からの計算値に非常に近いため、この組合せにおける相乗作用が証明された。