(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドの製造方法において、
上記ガラス融着が酸素濃度２００ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気中で行われる際に、少なくともＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅＯが使用される磁気ヘッド用融着ガラスが使用されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドの製造方法において、
上記ガラス融着が酸素濃度２００ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気中で行われる際に、少なくともＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅ３Ｏ４が使用される磁気ヘッド用融着ガラスが使用されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置又はフロッピーディスク駆動装置或いはハードディスク駆動装置等に搭載される磁気ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に磁気ヘッドは、図６に示すように、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物磁性材料よりなる磁気コア半体３１，３１同士を融着ガラス３２を用いて接合一体化することにより構成されている。従って、磁気ギャップ部３３は、上記融着ガラス３２を融点以上の温度まで加熱・溶融し、上記磁気コア半体３１，３１の間に該融着ガラス３２を融着させることによって構成される。
【０００３】
特に、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置に搭載される磁気ヘッドでは、耐久性が要求されるため、ギャップ接合は融着ガラスによるガラス接合が望ましいとされている。これは、ガラスが化学的に安定なため有機溶剤による洗浄が可能であること、磁気コア半体同士の強固な接合が得られること等の利点を有するからである。
【０００４】
ところが、この磁気ヘッドの製造プロセスにおいて、上記融着ガラスによる磁気コア半体同士の接合を行う際に、図７に示すように、上記融着ガラス３２がコア材と反応し、上記融着ガラス３２と上記磁気コア半体３１，３１の界面が乱れることがある（図７は、上記磁気ヘッドの摺動面側から見た図を表す。）。
【０００５】
また、図８に示すように、磁気コア半体３１，３１の接合面に金属磁性薄膜３４が形成された複合型の磁気ヘッド〔通称、ＭＩＧヘッド（メタル・イン・ギャップヘッド）〕において、上記磁気コア半体３１，３１同士がギャップ材３５を介して融着ガラス３２によりガラス接合された場合には、上記融着ガラス３２中への上記金属磁性薄膜３４の金属拡散によってガラスと金属との反応層３６ができ、ガラスの変質によるヒビ割れやガラスの濁り（ガラスを通して巻線溝の頂点を観察できないため、摺動面から上記巻線溝の頂点までの距離、即ちデプス長を所要寸法に加工できない状態）が生じる。
【０００６】
これに対して、上述のような侵食拡散反応による磁気ヘッドの性能と歩留まりの低下を防止する方法として、例えば特開平１−２８２４８号公報や特開平１−２０３２４１号公報等に開示されるように、上記融着ガラスの成分中に酸化鉄Ｆｅ２Ｏ３を含有させる方法が知られている。
【０００７】
ところが、この方法では、上記融着ガラスとコア材との反応は大幅に改善されるものの、融着後のガラス中に泡が残りやすいという新たな問題が生じている。この泡は、ガラス内部に留まっているだけであれば特に問題とならないが、接合一体化された磁気コアブロックは最終的にヘッド摺動面を上記デプス長が所要寸法となるまで研削加工するため、上記ガラス内部にあった泡が上記ヘッド摺動面に現れ、ガラス部の欠けとして残存することが多々ある。このようなガラス部の欠けは、磁気テープ等の磁気記録媒体を傷つけてドロップアウトが発生する等の悪影響を及ぼす。従って、ガラス中には上述のような泡が皆無であることが望ましい。
【０００８】
特に、上記複合型の磁気ヘッドでは、融着ガラスが通常のフェライトヘッド用の融着ガラスよりも、界面の侵食拡散反応を防止するために必要である酸化鉄Ｆｅ２Ｏ３の含有率が大幅に高いため、ガラス中に泡が発生して残存する確率が高い。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであって、磁気コア同士をガラス融着する際に、融着ガラスとコア材との侵食拡散反応を抑制しつつ、ガラス中に泡が発生するのを防止することが可能な磁気ヘッドを提供する事を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述の目的を達成するために提案されたものである。
【００１１】
本発明は、一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドの製造方法において、上記ガラス融着が酸素濃度２００ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気中で行われる際に、少なくともＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅＯが使用される磁気ヘッド用融着ガラスを使用するようにしたものであり、また、上記酸化鉄成分としてＦｅ３Ｏ４が使用される磁気ヘッド用融着ガラスを使用するようにしたものである。
【００１２】
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法においては、従来融着ガラスに含有される酸化鉄成分の原料としてＦｅ２Ｏ３を使用していたところを、２価の鉄イオン（Ｆｅ２＋）を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物に置き換えて、Ｆｅの総イオン数が前者と同数となるように含有させたガラスにより磁気コア同士の融着が行われる。
【００１３】
上記２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物としては、例えばＦｅＯ、Ｆｅ３Ｏ４等が挙げられる。
【００１４】
一般に、磁気ヘッドのガラス融着工程は、不活性ガス雰囲気中で行われる。これにより、コア材のフェライト表面にα−ヘマタイトが発生してヘッドの疑似ギャップになったり、或いは磁気コアの接合面に金属磁性薄膜が形成されたＭＩＧヘッド（メタル・イン・ギャップヘッド）の上記金属磁性薄膜が酸化して磁気特性が劣化したりすること等が防止される。ただし、融着時のガラスの濡れ性が悪い場合は、上記α−ヘマタイトや酸化の問題が起こらない範囲で（コア材によって酸素分圧の許容量が異なる）一般に数十〜２００ｐｐｍオーダーの酸素分圧の雰囲気中で融着が行われることが好ましい。これにより、磁気コアのガラスとの被着表面のごく薄い層が酸化されてガラスの濡れ性（ガラスと被着表面との相性）が改善される。
【００１５】
【作用】
通常融着ガラス中に含有されているＦｅ２Ｏ３は、鉄イオンとして３価のイオン（Ｆｅ３＋）のみしか有していない。このため、該Ｆｅ２Ｏ３は、２価の鉄イオン（Ｆｅ２＋）を有しているＦｅＯ（Ｆｅ２＋のみ）やＦｅ３Ｏ４（Ｆｅ２＋とＦｅ３＋）と比較して、ガラス中において平衡酸素分圧が高い。従って、２００ｐｐｍ以下の酸素分圧で５００〜８００℃の加熱を行うガラス融着においては、ガラス中のＦｅ３＋にとって、酸素分圧が低すぎるため、下記（１）式で表される反応（酸素分圧を平衡状態に近づけようとする方向の鉄イオンと酸素イオンの電子のやり取り）が促進されやすい。
【００１６】
４Ｆｅ３＋  ＋  ２Ｏ２−  →  ４Ｆｅ２＋  ＋Ｏ２↑  ・・・（１）
このため、ガラス中に発生する酸素ガスが融着後のガラス中に残り易く、泡の発生が多くなる。
【００１７】
これに対して、融着ガラスの酸化鉄成分としてＦｅＯを使用した場合、ＦｅＯはＦｅ２＋とＯ２−の形でガラス中にとけ込んでいる（鉄イオンの１００％が２価である。）。上述のように、Ｆｅ２＋はＦｅ３＋と比較して平衡酸素分圧が低いため、２００ｐｐｍ以下の酸素分圧で５００〜８００℃の加熱を行うガラス融着の環境下でも、比較的安定していて価数の変化が起こりにくい。従って、自ら酸素（ガラス中の泡）を生成することはない。
【００１８】
また、Ｆｅ３Ｏ４を使用した場合には、Ｆｅ３Ｏ４はＦｅ２＋とＦｅ３＋とＯ２−の形でガラス中にとけ込んでいて、２価と３価のイオンの両方が存在する（原料投入時で２価と３価が１：２の割合で存在する。）。このガラスを上述のようなガラス融着の環境下に置いた場合、このガラス中に存在する鉄イオンの２価と３価の割合（原料投入時で２価の酸化鉄の割合が約３３ｍｏｌ％）において酸素分圧の平衡状態が保たれているため、価数の変化が起こり難い。従って、この場合も自ら酸素（ガラス中の泡）を生成することはない。
【００１９】
このことから、上記融着ガラスに含有させる酸化鉄成分として、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を使用することにより、ガラス融着時におけるガラス中の泡の発生を抑制することができる。
【００２０】
【実施例】
以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本発明がこの実施例に限定されるものでないことは言うまでもない。
【００２１】
本実施例にかかる磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されたＭＩＧ（メタル・イン・ギャップ）ヘッドにおいて、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を酸化鉄成分として含む融着ガラスにより上記磁気コア半体同士が接合一体化されてなるものである。
【００２２】
先ず、この磁気ヘッドの構成について説明する。
【００２３】
この磁気ヘッドにおいては、図１に示すように、一対の磁気コア半体Ａ，Ｂがギャップ材１，２を介して接合され、該磁気コア半体Ａ，Ｂの突き合わせ面に磁気ギャップｇが形成される。
【００２４】
上記磁気コア半体Ａ，Ｂは、フェライト等の酸化物磁性材料よりなる基板３，４から構成され、該基板３，４の上記突き合わせ面となる表面にアモルファス合金等よりなる金属磁性薄膜５，６が被着される。
【００２５】
上記基板３，４のうち少なくとも一方には、図示しないコイルを巻回するための巻線溝７が形成されており、上記コイルを巻回することで上記磁気コア半体Ａ，Ｂからなる閉磁路に信号を供給し、或いは読み取った磁気信号を電気信号として取り出せるようになっている。この巻線溝７は、断面略矩形状をなし、その頂点Ｐと円弧状に研削加工されたこの磁気ヘッドの摺動面Ｃ間の距離、即ちデプス長Ｌが所定寸法となるような位置に設けられている。
【００２６】
もちろん、これら磁気コア半体Ａ，Ｂは、閉磁路が構成できればよいので、酸化物磁性材料よりなる基板のみであっても良く、さらにはセラミクス等の非磁性材料よりなる基板に上記金属磁性薄膜が被着されたものであっても良い。
【００２７】
上記金属磁性薄膜５，６としては、上記アモルファス合金の他に、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金等がいずれも使用可能である。更には、耐食性や耐摩耗性等の一層の向上を図るために、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｅ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｈｆ、Ｖ等の少なくとも一種を添加したものであっても良い。
【００２８】
これら金属磁性薄膜５，６を上記基板３，４上に形成する方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術が使用可能である。
【００２９】
これら金属磁性薄膜５，６が膜付けされた上記磁気コア半体Ａ，Ｂの接合面には、上記金属磁性薄膜と後述の融着ガラス９との反応を防止するためのＳｉＯ２膜１，２がそれぞれ形成されている。該ＳｉＯ２膜１，２を成膜する方法としては、例えばスパッタリング法や真空蒸着法等のＰＶＤ法が使用可能であるが、特にこれに限定されるものではない。これらＳｉＯ２膜１，２の膜厚のトータルが該磁気ヘッドの磁気ギャップ長ｇに相当する。
【００３０】
なお、上記ＳｉＯ２膜１，２は、上記金属磁性薄膜５，６と密着性が悪い場合には他の非磁性ギャップ材に替えても差し支えない。或いは、該ＳｉＯ２膜１，２を替えずに、該ＳｉＯ２膜１，２と上記金属磁性薄膜５，６との間に更にＳｉＯ２等と相性の良い金属層を介在させても良い。
【００３１】
また、上記基板３，４のギャップ形成面の両側面には、トラック幅規制溝８が形成される。従って、図２に示すように、この磁気ヘッドのトラック幅ｔは、該トラック幅規制溝８に挟まれた部分の基板３または４の長さと該トラック幅規制溝８の内側の表面（基板３，４の側面）に膜付けされた上記金属磁性薄膜５または６の膜厚の和に相当する。
【００３２】
このトラック幅規制溝８内には、融着ガラス９が充填されており、この融着ガラス９によって上記磁気コア半体Ａ，Ｂ同士がガラス融着され、接合一体化されるようになされている。
【００３３】
この融着ガラス９として、本実施例では、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を酸化鉄成分として含む融着ガラスを使用する。これにより、ガラス融着時におけるガラス中の泡の発生が抑えられ、該磁気ヘッドと媒体との摺接がなされた時に、媒体が損傷することがなくなり、ドロップアウトが低下する。
【００３４】
以上のような構成を有する磁気ヘッドは、次のようにして作製した。
【００３５】
即ち、図３に示すように、少なくとも一方に図示しないコイルと巻回するための巻線溝１３とガラス融着用溝１４が互いに平行に形成されてなる一対の略直方体状のコアブロック１１，１２を用意し、これらコアブロック１１，１２の突き合わせ面となる一面には、複数のトラック幅規制溝１５を上記巻線溝１３及びガラス融着用溝１４の延在する方向（横方向）と直交する方向（縦方向）に設けた。
【００３６】
更に、上記コアブロック１１，１２の上記突き合わせ面となる一側面上に（上記巻線溝１３，ガラス融着用溝１４及びトラック幅規制溝１５が形成された面には該巻線溝１３，ガラス融着用溝１４及びトラック幅規制溝１５内を含み）金属磁性薄膜１９（Ｆｅ６２．５Ｓｉ１９Ｒｕ８Ｇａ１０．５、数値は原子％を表す。）とＳｉＯ２膜２０（但し、図３及び図４中では省略した。）を形成した。
【００３７】
次いで、上記コアブロック１１，１２の上記金属磁性薄膜１９が形成された面同士を上記ＳｉＯ２膜２０を介して突き合わせ、各トラック幅ｔ同士がそろうように重ね合わせた。
【００３８】
そして、上記ガラス融着用溝１４内にロッド状のガラス１６を挿入し、所定の条件にて加熱溶融してガラス融着を行った。
【００３９】
この結果、上記ガラス棒１６が溶融し、これが上記トラック幅規制溝１５内に充填され、上記コアブロック１１，１２がガラス１７により接合一体化されてギャップ接合が行われ、図４に示すようなフェライトブロック１８が得られた。
【００４０】
続いて、図５に示すように、このフェライトブロック１８を上記巻線溝１３とガラス融着用溝１４の間（Ｉ−Ｉ線断面）で切断し上記ガラス融着用溝１４が形成された部分２１を除去するとともに、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（上記巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）から円筒研磨を行い、得られた面と上記巻線溝１３の頂点Ｐ間の距離、即ちデプス長Ｌが１５μｍをなるように加工した。
【００４１】
更に、上記ガラス融着用溝１４が形成された部分２１が除去されたフェライトブロック１８を各トラック幅規制溝１５の略中央部（Ｉ１−Ｉ１、Ｉ２−Ｉ２、Ｉ３−Ｉ３線断面）で切断し、ヘッドチップ２２を得た。
【００４２】
従来例１
先ず、実施例に先立ち、上記磁気コア半体同士をガラス融着する際に、下記表１に示す試料１及び試料２の組成を有するガラスを融着ガラスとしてそれぞれ使用してメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドを作製し、得られた磁気ヘッドにおける上記融着ガラス中の泡の発生状況を観察した。
【００４３】
【表１】
0003833730.tif 000002
【００４４】
この結果、上記融着ガラスとして上記試料１の組成のガラスを使用した場合では、該ガラス中に含まれる酸化鉄成分の働きによりガラスと金属磁性薄膜との界面での侵食拡散反応は抑えられた（これらガラスと金属磁性薄膜との間には、上述のようにＳｉＯ２膜が介在されているが、該ＳｉＯ２膜単独では侵食拡散反応の防止効果は殆ど期待することはできない。）。
【００４５】
しかしながら、この場合、上記ガラス融着後、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（上記巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）を研削加工し、デプス長が所定寸法となるようにした際に、トラック幅規制溝内の融着ガラス中に存在していた泡が多く現れた（詳細な数値は後述）。
【００４６】
これに対して、上記融着ガラスとして上記試料２の組成のガラスを使用した場合には、上述のような融着ガラス中の泡の存在は殆ど見られなかったが、該融着ガラスと上記金属磁性薄膜との界面での侵食拡散反応を抑制することができず、磁気ヘッドの性能や歩留まりが低下した。
【００４７】
そこで、この結果に基づき、次のように酸化鉄成分として２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を含有したガラスを融着ガラスとして使用して磁気ヘッドを作製した。
【００４８】
実施例１
本実施例では、上記磁気コア半体同士をガラス融着する際に、上記試料１の組成のガラス中に含まれるＦｅ２Ｏ３をＦｅＯに置換して秤量したガラス（これを試料３とする。）を融着ガラスとして使用して上述のような手順によりメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドを作製した。
【００４９】
ここで、コア材との侵食拡散反応の抑制効果は鉄の総イオン数で決まるので、下記（２）式により、ＦｅＯはＦｅ２Ｏ３の２倍のモル数で秤量した。
【００５０】
４ＦｅＯ  ＋  Ｏ２  →  ２Ｆｅ２Ｏ３        ・・・（２）
そして、上記ガラス融着後、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（上記巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）から研磨し、上記デプス長が所定寸法となるように加工して、得られた磁気ヘッドにおける上記トラック幅規制溝中の融着ガラス表面に現れた泡（ガラス欠けでもある。）の数を調べた。この結果を下記表２に示す。
【００５１】
なお、表２中、泡の数は、１つのトラック幅規制溝中の融着ガラス中に観察された直径１０μｍ以上の泡の平均個数を表す。また、比較のため、試料１の組成のガラスを用いた磁気ヘッドについても、同様に泡の数を表２に示す。
【００５２】
【表２】
0003833730.tif 000003
【００５３】
表２から明らかなように、融着ガラスが含有する酸化鉄成分の原料として、ＦｅＯのように２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上（ここでは、１００ｍｏｌ％）含む酸化鉄化合物を使用することにより、融着ガラスとコア材との侵食拡散反応が抑えられるとともに、該融着ガラス中の泡の発生が著しく少なくなることが判った。
【００５４】
実施例２
更に、他の実施例では、上記磁気コア半体同士をガラス融着する際に、上記試料１の組成のガラス中に含まれるＦｅ２Ｏ３をＦｅ３Ｏ４に置換して秤量したガラス（これを試料４とする。）を融着ガラスとして使用して上述のような手順によりメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドを作製した。
【００５５】
ここで、コア材との侵食拡散反応の抑制効果は鉄の総イオン数で決まるので、下記（３）式により、Ｆｅ３Ｏ４はＦｅ２Ｏ３の２／３倍のモル数で秤量した。
【００５６】
４Ｆｅ３Ｏ４  ＋  Ｏ２  →  ６Ｆｅ２Ｏ３        ・・・（３）
そして、上記ガラス融着後、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（上記巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）から研磨し、上記デプス長が所定寸法となるように加工して、得られた磁気ヘッドにおける上記トラック幅規制溝中の融着ガラス表面に現れた泡（ガラス欠けでもある。）の数を調べた。この結果を上記表２に併せて示す。
【００５７】
表２に示すように、融着ガラスが含有する酸化鉄成分の原料として、Ｆｅ３Ｏ４のように２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上（ここでは、約３３ｍｏｌ％）含む酸化鉄化合物を使用することにより、融着ガラスとコア材との侵食拡散反応が抑えられるとともに、該融着ガラス中の泡の発生が著しく少なくなることが判った。
【００５８】
なお、ここでは、泡の個数で調べたが、実際には試料１の泡の方が、試料３や試料４の泡よりも体積が大きいので、体積比では更に差が大きくなる。
【００５９】
また、理想的には上述のような融着ガラス中の泡は皆無であることが好ましいが、各ヘッドにおいて許容できるガラス欠け部分の面積や個数があり、ヘッドの実用性や歩留まりを考慮すると、上記融着ガラスに含有させる酸化鉄成分として、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物（ＦｅＯやＦｅ３Ｏ４等）を使用したガラスは、上記泡の防止において有利であることが判った。
【００６０】
本実施例では、上述のようなＭＩＧヘッドに適用した場合について説明したが、この他フェライトヘッドに適用してもガラスとコア材との界面が乱れることがなく、ガラス中の泡の発生を防止することができ、上述と同様の効果を得ることができる。
【００６１】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明においては、一対の磁気コア半体同士のギャップ接合をガラス融着により行う際に、酸化鉄成分として２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含むＦｅＯやＦｅ３Ｏ４等の酸化鉄化合物を含有するガラスを使用しているので、フェライトヘッドではガラスとコア材との界面の乱れが抑制でき、またＭＩＧヘッドではガラス中へ金属磁性薄膜が侵食拡散反応を起こしてガラスの変質によるひび割れやガラスの濁りが生じるのを抑えることができるとともに、両者ともガラス中に実用的に問題となるような泡が残らないようにすることが可能となる。
【００６２】
従って、本発明によれば、上述のようなガラス中の泡がヘッドの摺動面に現れて、ガラス部の欠けとして残存することを極力防止することができる。この結果、上記ガラス部の欠けにより磁気テープ等の磁気記録媒体が損傷を受け、ドロップアウトが発生する等のトラブルを回避することができる。
【００６３】
特に、ＭＩＧヘッド用の融着ガラスは、フェライトヘッド用の融着ガラスよりも界面の侵食拡散反応を防止するために必要とする酸化鉄Ｆｅ２Ｏ３の含有率が大幅に高いため、ガラス中に泡が発生して残る確率が高いので、本発明による効果は非常に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる磁気ヘッドの一構成例示す斜視図である。
【図２】本発明にかかる磁気ヘッドの摺動面側から見た一構成例を示す平面図である。
【図３】本発明にかかる磁気ヘッドの製造工程を説明する図であり、ガラス棒を融着用ガラス溝に挿入する工程を示す斜視図である。
【図４】ガラス融着後のフェライトブロックを示す斜視図である。
【図５】デプス長を所定寸法に研削加工する工程及びヘッドチップへの切断工程を示す要部拡大斜視図である。
【図６】従来の磁気ヘッドの一構成例を示す斜視図である。
【図７】従来のＭＩＧヘッドにおいて融着ガラスとコア材が反応をおこした状態を模式的に示す平面図である。
【図８】従来のＭＩＧヘッドにおいて融着ガラスと金属磁性薄膜が反応をおこした状態を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
Ａ，Ｂ  磁気コア半体
１，２  ＳｉＯ２膜
３，４  基板
５，６  金属磁性薄膜
７  巻線溝
８  トラック幅規制溝
９  融着ガラス
【図１】
0003833730.tif 000004
【図２】
0003833730.tif 000005
【図３】
0003833730.tif 000006
【図４】
0003833730.tif 000007
【図５】
0003833730.tif 000008
【図６】
0003833730.tif 000009
【図７】
0003833730.tif 000010
【図８】
0003833730.tif 000011