(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
印加磁界があるときに電気抵抗の変化を示す磁気トンネル結合素子であって、
前記素子にとって有効な範囲の印加磁界よりも実質的に大きな保磁力を持つ第１強磁性層と、前記第１強磁性層上にこれと接触して形成され、前記第１強磁性層よりも実質的に大きな磁化を有し、且つ前記第１強磁性層よりも薄い界面強磁性層とを含み、前記印加磁界があるときに磁気モーメントが所定の方向に固定される多層構造と、
前記印加磁界があるとき磁気モーメントが自由に回転可能な自由強磁性層と、
前記界面強磁性層と前記自由強磁性層との間にそれらと接触して配置され、前記多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことができる絶縁トンネル層と、
前記多層構造、トンネル層及び自由強磁性層が形成された基板とを含み、
前記界面強磁性層の厚みが約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲である
磁気トンネル接合素子。
【請求項２】
前記第１強磁性層の物質は、Ｃｏと、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｍ、Ｒｅ、Ｒｕ及びＢのいずれか１つまたは複数との合金を含む、請求項１記載の磁気トンネル接合素子。
【請求項３】
前記第１強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｐｔ及びＣｒを含む合金であり、
前記素子は前記合金（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金）の下にこれと接触して形成された下位層を含み、前記下位層は、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｖ合金、Ｔａ、Ｔｉ−Ｗ合金、Ｔａ−Ｗ合金、Ｗ及びＭｏからなるグループから選択された物質により形成される、請求項１記載の磁気トンネル接合素子。
【請求項４】
前記界面強磁性層は、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅからなるグループから選択される、請求項１記載の磁気トンネル接合素子。
【請求項５】
２つの磁気状態を有し、メモリ・セルの不揮発性磁気メモリ・アレイに使用でき、前記アレイは読取り／書込み回路に接続されて、個々のメモリ・セルの磁気状態を変化させ且つ検出する磁気トンネル接合メモリ・セルであって、
前記読取り／書込み回路からの電流により生じる印加磁界よりも実質的に大きな保磁力を有する第１強磁性層と、前記第１強磁性層上にこれと接触して形成され、前記第１強磁性層よりも実質的に大きな磁化を有し、且つ前記第１強磁性層よりも薄い界面強磁性層とを含み、前記印加磁界があるとき磁気モーメントが所定の方向に固定される多層構造と、
磁気モーメントが前記印加磁界下で前記多層構造の磁気モーメントにほぼ平行な方向と逆平行な方向との間で自由に回転可能な自由強磁性層と、
前記界面強磁性層と自由強磁性層との間にこれらと接触して配置され、前記自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことができる絶縁トンネル・バリア層と、
前記多層構造、トンネル層及び自由強磁性層が形成された基板とを含み、
前記界面強磁性層の厚みは約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲であり、
前記多層構造と自由強磁性層が前記読取り／書込み回路に接続されたとき、前記多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向で前記絶縁トンネル・バリア層を流れる電流に対する電気抵抗が、前記自由強磁性層の前記平行または逆平行な磁気モーメントにより決定され、前記電気抵抗の値により前記メモリ・セルの磁気状態が決定可能になる
磁気トンネル接合メモリ・セル。
【請求項６】
外部磁界を検出する磁気トンネル接合磁界センサであって、
検出される外部磁界の範囲の印加磁界よりも実質的に大きな保磁力を有する第１強磁性層と、前記第１強磁性層上にこれと接触して形成され、前記第１強磁性層よりも実質的に大きな磁化を有し、且つ前記第１強磁性層よりも薄い界面強磁性層とを含み、前記印加磁界があるとき磁気モーメントが所定の方向に固定される強磁性多層構造と、
印加磁界がないとき前記多層構造のモーメントに対してほぼ垂直な方向を向き、前記印加磁界があるとき該垂直な方向から離れるように自由に回転可能な磁気モーメントを有する自由強磁性層と、
前記界面強磁性層と自由強磁性層との間にこれらと接触して配置され、前記多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことができる絶縁トンネル・バリア層と、
前記多層構造、トンネル・バリア層及び自由強磁性層が形成された基板とを含み、
前記界面強磁性層の厚みは約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲であり、
前記多層構造と自由強磁性層が、検出される外部磁界下にあるとき、前記自由強磁性層の磁気モーメントが前記多層構造のモーメントに対してその向きを変え、前記多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向で前記絶縁トンネル・バリア層を流れる電流に対する電気抵抗が変化し、外部磁界が検出可能になる、
磁気トンネル接合磁界センサ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、メモリや外部磁界を検出するため用いられる磁気トンネル接合（ＭＴＪ）素子に関し、有効範囲内の印加磁界があるときにモーメントが回転しない固定強磁性層として強磁性層の多層構造を使用するＭＴＪ素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気トンネル接合（ＭＴＪ）は、薄い絶縁層で分離された２つの強磁性電極を含む素子である。絶縁層は、強磁性電極間で電荷キャリアの量子力学的トンネル効果が起こるのに充分な薄さである。トンネル効果のプロセスは電子スピンに依存する。つまり接合部のトンネル効果電流は、強磁性物質のスピンに依存する電子的性質に依存し、２つの強磁性電極の磁気モーメント（磁化方向）の相対的向きの関数である。２つの強磁性電極は、それらのモーメントの相対的向きを外部磁界で変えられるように磁界に対する応答が異なるように設計される。
【０００３】
１９９３年以前の頃の強磁性電極間のトンネル効果の実験結果が、R．Meserveyらによる"Spin-polarized Electron Tunneling"、Physics Reports、Vol．238、pp．214-217で解説されており、室温ではせいぜい１％乃至２％のオーダのごくわずかな応答しか示されていない。妥当と思われる大きさの応答を示しているのは、走査トンネル顕微鏡を用いた２つの実験だけである。１つは１００％スピン偏極したＣｒＯ2チップを採用し、室温で４０％の偏極電流変調を示したが、これはR．Wiesendangerらによる"Observation of Vacuum Tunneling of Spin-polarized Electrons with the Scanning Tunneling Microscope"、Physics Review Letters、Vol．65、1990、page 247に述べられているとおりである。
【０００４】
磁気抵抗応答が１８％とかなり大きいＭＴＪ素子が、T．Miyazakiらによる"Giant Magnetic Tunneling Effect in Fe/Al2O3/Fe Junction"、Journal of Magnetism and Magnetic Materials、Vol．139、No．L231、1995で報告されている。しかし著者が報告しているのは、結果としての１８％の磁気抵抗を再現できなかったということである。同時期に作製された他の接合は、応答がわずか１％乃至６％である。この他の報告によると、ＭＴＪ素子の磁気抵抗はＣｏＦｅ／Ａｌ2Ｏ3／Ｃｏの大きな接合部で室温で最大１８％であり、これはJ．S．Mooderaらによる"Large Magnetoresistance at Room Temperature in Ferromagnetic Thin Film Tunnel Junctions"、Physics Review Letters、Vol．74、1995、page 3273及びJ．S．MooderaとL．R．Kinderによる"Ferromagnetic-Insulato-Ferromagnetic Tunneling: Spin Dependent Tunneling and Large Magnetoresistance in Trilayer Junctions"、Journal of Applied Physics、Vol．79、1996、page 4724に述べられている。著者らは、表面あらさの減少がよい結果をもたらす鍵であるとの仮説を立てた。これを実現するためベース電極の成長をみる極端な尺度に依り、低温工学的に冷却した基板への蒸着、シード層の使用及びベース電極をきわめて薄くする処理を組み合わせた。Ａｌ層を低温工学的に冷却してからこれを暖め、プラズマ酸化させ、Ａｌのほとんどを消費することによってトンネル・バリアが形成された。これらの文献の最初のものでは、室温で最大の接合磁気抵抗変化が観測されたのは１１．８％と報告されている。次の文献では、室温で最大の接合磁気抵抗変化は１８％と報告され、多くの接合部に、室温で１４％乃至１７％の範囲の磁気抵抗変化があったと報告されている。接合抵抗は、断面積が２００×３００μｍ2の接合部で数百Ωから数十ｋΩの範囲だった。
【０００５】
従って、ＭＴＪ素子を有益な程度まで大きい磁気抵抗応答をもたせて室温で作製することが困難であることは明らかである。室温での予測された大きさの磁気抵抗応答の最初の観測は、スピン偏極した走査トンネル顕微鏡で行われた。従来技術では後に、予測された大きさのＭＴＪ応答を室温で再現可能に実現したのは、Mooderaと協力者だけである。ただしこれは、風変わりで非実際的な薄膜被着法を用いて作製された大きい素子についてのみであった。
【０００６】
従来の技術のＭＴＪ素子に見られる他の問題は、磁気抵抗応答と磁界が、磁界に対して理想的なステップ状の応答を示していないことである。T．Miyazakiらによる"Large Magnetoresistance Effect in Fe/Al-Al2O3/Co Magnetic Tunneling Junction"、Journal of Magnetism and Magnetic Materials、Vol．98、No．L7 （1991）は、ステップ状の磁気抵抗応答をどのようにして実現することができたかを示しているが、これは限定された印加磁界範囲に関してのみである。印加磁界の偏位が瞬間的に大きすぎる場合、磁気抵抗応答特性は反転し得る。
【０００７】
最近、ＩＢＭの１９９６年３月１８日付け米国特許出願番号第０８／６１８３００号では、ＭＴＪ素子の２つの強磁性層の１つを磁気的に硬化する、または磁気的にピン止めするため、反強磁性交換バイアス層を使用することにより、室温磁気抵抗応答が大きく、磁気応答が制御されたＭＴＪ素子を作製する方法が明らかにされている。このＭＴＪ素子は磁気信号に対する磁気抵抗応答が曖昧ではなく制御され、大量生産が可能である。ただし、反強磁性交換バイアス層を取り入れたこのような素子は、交換バイアス物質のブロッキング温度によって定義される限られた温度範囲でしか動作しない。またこのような素子の熱安定性は、隣接した層と接触した交換バイアス層の熱安定性によって制限される。従来から周知のＭＴＪ素子は比較的単純な素子であり、ＭＴＪ要素は、それぞれ保磁力が明確に異なる２つの強磁性層を組み込んでいる。これらの層の１つ、硬質強磁性層または固定強磁性層は、もう１つの検出強磁性層または軟質強磁性層よりも保磁力をかなり高くするよう選択される。ただしこのような従来のＭＴＪ素子は、ゼロ磁界で充分に画成された２つの磁気状態を示さないか、磁気抵抗の値が低いかのいずれかである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ゼロ磁界で充分に定義された２つの状態及び高い磁気抵抗を示すように高温で安定しており、高保磁力、高残留磁化、高スピン偏極と、所望の特性を全て備えた固定強磁性層を持つＭＴＪ素子を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、２つのＭＴＪ電極のうち１つの保磁力の大きい１つの硬質強磁性層の代わりに、強磁性層の多層構造を使用するメモリ・セルとしてまたは外部磁界センサとして使用可能なＭＴＪ素子である。素子のＭＴＪ要素は保磁力が大きく、有効範囲内の印加磁界があるとき、そのモーメントが固定された状態が保たれる強磁性多層構造、及び強磁性多層構造と自由強磁性層の間に位置しそれと接触した絶縁トンネル・バリア層で構成される。固定強磁性多層構造は２つの層で構成される。保磁力が印加磁界より大きい第１強磁性層、及びスピン・フィルタ効果が大きく、第１強磁性層と絶縁トンネル・バリア層の間に位置しそれと接触した薄い強磁性界面層である。多層構造の第１強磁性層の物質は磁化を弱くすることができ、よってスピン・フィルタ効果も弱くすることができる。スピン・フィルタ効果は界面層により得られるからである。多層構造の界面の強磁性層は、保磁力は比較的弱いが、多層構造全体の保磁力が劣化しないように薄くされる。このＭＴＪ素子はトンネル磁気抵抗応答がよく、ゼロ磁界で充分画成された２つの磁気状態を示し、高い動作温度でも安定である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明を理解を助けるために、従来の技術のＭＴＪ要素について図１乃至図６を参照しながら説明するが、これはＩＢＭの１９９６年３月１８日付け米国特許出願番号第０８／６１８３００号に述べられ図示されている型のＭＴＪ素子に組み込まれる。
【００１１】
図１と図２は、磁気メモリ・セルの用途に適したＭＴＪ素子を示す。図１に断面を図２に平面を示したＭＴＪ素子は理解を助けるため、ベース電極スタック１０、絶縁トンネル・バリア層２０、及び上部電極スタック３０を含む従来の技術のＭＴＪ要素と共に示している。ＭＴＪは基板９上に形成される。ＭＴＪ素子はコンタクト・ホールが開けられた絶縁層４０及び電気リードとして働く上部配線層５０により完全になる。電極スタック１０、３０はそれぞれ、強磁性層がトンネル・バリア層２０の両側に位置しトンネル・バリア層２０と接触する。基板９上に形成されるベース電極スタック１０は、基板９上に堆積されたシード層１２と下位層１４、及び下位層１４上に形成された"固定"強磁性層１８を含む。強磁性層１８が固定層と呼ばれるのは、保磁力の大きい物質から形成されるからである。この物質のモーメント（磁化方向）は、ＭＴＪ素子にとって所望の範囲の印加磁界、つまりメモリ・アレイの読取り／書込み回路からメモリ・セルに印加された書込み電流により生じる磁界があるとき、回転を妨げられる。上部電極スタック３０は"自由（フリー）"強磁性層３２と、自由層３２上に形成された保護層３４を含む。自由強磁性層３２のモーメントは固定されず、従って有効範囲の印加磁界があるとき自由に回転する。電極スタック１０、３０の強磁性層１８、３２は両方とも磁化容易方向が、ベース電極１０（図２）の延長部１１、１３として形成される下部配線層の長さに平行な同じ方向で互いにほぼ平行になるよう作製される。この方向は図２で矢印３３として示している。トンネル・バリア層２０の真下のスタック１０固定強磁性層１８はモーメントが固定されるが、これは層が保磁力の大きい、つまり有効範囲の印加磁界よりもかなり大きい物質から形成されるからである。メモリ・セルの読取りや書込みの操作でメモリ・セルに印加される磁界に匹敵する大きさの磁界については、固定強磁性層１８のモーメントに考えられる向きは１つしかない。上部電極スタック３０の自由強磁性層３２は磁気特性が異方性であるが、磁化方向は固定されない。むしろその磁化方向は所望の範囲の磁界が印加されることによりその容易方向のいずれかに沿って安定に配向される。
【００１２】
図３は図１と同様の従来技術のＭＴＪの断面であるが、これは先に引用した出願で実施例として述べられ図示されているＭＴＪメモリ・セルに組み込まれている。ベース電極スタック１０'、絶縁トンネル・バリア２０'及び上部電極スタック３０'は全て断面積が同じである。ベース電極スタック１０'は、基板９上に形成された配線リード１１'上に形成される。絶縁層４０'はＭＴＪ全体を囲み、リード１１'まで延びる。絶縁層４０'と保護層３４'は基本的にコプラナである。従って電気リード５０'はＭＴＪ要素の上部の平坦化層として形成される。この構造により、ダイオード、トランジスタ等の電子素子の上部にメモリ・セルを容易に作製でき、個々の磁気セルを流れる検出電流が操作される。
【００１３】
ＭＴＪメモリ・セルが読取り／書込み回路に接続されたメモリ・セルのアレイにあるとき、セルへの書込みは上部５０と下部１１、１３の電極配線層（図１、図２）に書込み電流を流すことによって行われる（またはＭＴＪセル付近に位置するこれら、或いは他の書込み線やビット線の組み合わせに電流を流すことによって）。これらのライン両方に充分に大きい電流が流れるとき、自由強磁性層３２付近に生じる組み合わせ磁界により、自由強磁性層３２の磁化方向が、固定強磁性層１８の磁化方向に対して平行から逆平行（またはその逆に）に回転する。電流のレベルは、電流のレベルにより生成される組み合わせ磁界が自由強磁性層のスイッチング磁界を超えるように選択される。組み合わせ書込み電流により生じるこの磁界は、固定強磁性層の磁化を回転させるのに必要な磁界よりもかなり小さくなるよう選択される。書込み電流は配線層５０及び１１、１３に比べて抵抗が大きいＭＴＪを垂直方向には流れない。ＭＴＪメモリ・セルは、固定強磁性層からトンネル接合バリアを経て自由強磁性層（またはその逆に）ＭＴＪに垂直に検出電流を流すことによって読取られる。メモリ・セルの状態は書込み電流よりもかなり小さい検出電流がＭＴＪに垂直に流れたときのメモリ・セルの抵抗を測定することによって決定される。この検出電流または読取り電流の自己磁界は無視でき、メモリ・セルの磁気状態に影響を与えない。
【００１４】
トンネル・バリアを横切る電荷キャリアのトンネリングの可能性は、２つの強磁性層の磁気モーメントの相対的アライメントに依存する。トンネル電流はスピン偏極する。つまり一方の強磁性層から流れる電流は、１つのスピン型（強磁性層の磁化方向によりスピン・アップまたはスピン・ダウン）の電子が支配的構成要素である。電流のスピン偏極の程度は、強磁性層とトンネル・バリアの界面での強磁性層を構成する磁性物質の電子特性によって決定される。第１強磁性層のトンネル・バリアは従ってスピン・フィルタとして働く。電荷キャリアのトンネリングの可能性は、第２強磁性層の電流のスピン偏極と同じスピン偏極の電子状態が得られるかどうかに依存する。通常、第２強磁性層の磁気モーメントが、第１強磁性層の磁気モーメントに平行なときは、第２強磁性層の磁気モーメントが、第１強磁性層のそれに逆平行に整列しているときよりも多くの電子状態が得られる。従って電荷キャリアのトンネリングの可能性は、両方の層の磁気モーメントが平行なとき最大で磁気モーメントが逆平行なとき最低である。モーメントが、平行でも逆平行でもなく配列されるとき、トンネリングの可能性は中間値をとる。従ってＭＴＪメモリセルの電気抵抗は、電流のスピン偏極と両方の強磁性層の電子特性に依存する。その結果、自由強磁性層の２つの可能な磁化方向により、メモリ・セルの２つの可能なビット状態（０または１）が一意に定義される。
【００１５】
図４、図５はそれぞれ、先に引用したＩＢＭの出願に述べられているように、外部磁界センサとして用いられるＭＴＪ素子に組み込まれる従来技術のＭＴＪの断面と平面を示す。ＭＴＪは図１、図２に似ているが、上部接合電極スタック７０は、トンネル・バリア層２０に隣接した強磁性層７２を含む。トンネル・バリア層２０の磁化容易方向は、下部電極スタック１０のピン止め強磁性層１８の磁化に対して平行ではなく垂直に並ぶ。これによりＭＴＪ素子は、磁気記録ディスク等の磁性媒体から、磁気的に記録されたデータを検出するセンサとして働く。上部配線層５０は先に引用した出願に述べられているように、保護層７４上に形成され、平坦化絶縁層４０により接合部から離隔している。印加外部磁界が弱い場合、下部電極１０の硬質強磁性層１８の磁化方向（矢印１９）は固定され、自由強磁性層７２の磁化方向（矢印７３）は、矢印１９の方向に向かうかまたはそこから離れるよう基板９の平面で自由回転する。
【００１６】
先に述べたＭＴＪメモリ・セルとＭＴＪ磁界センサは両方とも、従来技術のＭＴＪ要素の共通の要素、つまり保磁力の大きい硬質固定強磁性層を持つ下部電極１０、自由強磁性層を持つ上部電極３０及びトンネル・バリア２０を含む。これら共通要素をここでは"ＭＴＪ要素"と呼ぶ。先に述べたメモリや磁界検出用のＭＴＪ素子に用いられるＭＴＪ要素の基本薄膜構造は、層の順序やそれらの組成に関しては同じである。従来の技術の基本ＭＴＪ要素を構成する層が図６に示してある。この要素は、それぞれ下位層１４、固定強磁性層１８としての５ｎｍのＴａ、１０ｎｍのＣｏ50Ｆｅ50で構成される下部電極１０を持つ。電極１０は基板９上の電気リード層１１上に形成される。トンネル・バリア２０はアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）を形成するため６００秒プラズマ酸化した１．６ｎｍ厚のＡｌ層である。上部電極スタック３０は自由強磁性層３２としての２０ｎｍのＮｉ60Ｆｅ40の単層で構成される。電気リード５０は保護層（図１の層３４）を使用せずに、強磁性層３２上に直接、２０ｎｍのＣｕ層として形成される。このＭＴＪ要素は、最初に基板の表面に平行に印加される磁界で下部電極１０を被着することによって作製される。次にトンネル・バリア層２０を形成するため、１．６ｎｍのＡｌ層が被着され、次にプラズマ酸化により公称Ａｌ2Ｏ3の層が作られる。その後、上部電極スタック３０が形成される。様々な層が従来のスパッタリング法を用いたＤＣマグネトロン・スパッタ蒸着により室温で基板と被着される。通常、被着速度はＡｌを除く全ての層で２Å／秒、Ａｌは１Å／秒で被着される。Ａｌで被着速度が低いとＡｌ層が平滑になる。下部電極スタック１０の層が平滑であること、またＡｌ2Ｏ3層２０に他の場合は接合部を電気的に短絡させるピンホールがないことは重要である。
【００１７】
図７は、磁界がＭＴＪ要素の層に対して平行に要素の磁化容易方向に沿って印加されたとき、図６の従来技術のＭＴＪ要素のトンネル抵抗（磁気抵抗ＭＲ）の変化を示す。抵抗は、トンネル・バリア２０に沿った層に垂直に電流を流すことによって測定される。図７に示すようにトンネル磁気抵抗曲線は、メモリ用途について有効な場の範囲、つまり約±３００Ｏｅでかなりのヒステリシスを示す。確かに磁気抵抗曲線は約２００Ｏｅの正磁界と負磁界で２つの"こぶ"を示している。図７で磁界は最初＋１２００Ｏｅにセットされた。これは磁界に平行な上部と下部の強磁性層のモーメントを揃えるのに充分である。磁界が０以下になるとＭＴＪ要素の抵抗が大きく変化する。これは上部電極の自由強磁性層３２のモーメントが、下部電極の固定強磁性層１８のモーメントの向きに対してその向きを大きく変えるために生じる。大きい正磁界では、自由強磁性層と固定強磁性層のモーメントは互いに平行であるが、小さい負磁界では、モーメントは互いにほぼ逆平行であり、ＭＴＪ要素の抵抗は大きい正磁界の抵抗より約１３％大きい。負磁界が約−４００Ｏｅとあまり大きくなく、Ｃｏ50Ｆｅ50の固定強磁性層１８の保磁力におよそ対応すると、下部電極のこの層の磁気モーメントは印加磁界に対して平行になり、従って上部電極３０の強磁性層３２のモーメントに対して平行になるよう回転し、よってＭＴＪ要素の抵抗が減少する。これは約−２５０Ｏｅ付近のトンネル磁気抵抗曲線にあるこぶを説明する。磁界が大きい負磁界から正磁界に増加する際、層１８、３２の磁気モーメントの向きの同様な変化のシーケンスは、約＋２５０Ｏｅ付近の小さい正磁界でのこぶを説明する。従来技術のＭＴＪ要素でトンネル磁気抵抗曲線の形は、メモリや磁界検出の用途のいずれにも適していないが、これはＭＴＪ要素がゼロ磁界で充分に画成された２つの磁気状態を示さないからである。同様の構造は文献に述べられており、全て図７のものと同様のトンネル磁気抵抗曲線を示している。例えばJ．S．MooderaとL．S．Kinderによる"Ferromagnetic-Insulator-Ferromagnetic Tunneling：Spin Dependent Tunneling and Large Magnetoresistance in Trilayer Junctions"、Journal of Applied Physics、Vol．79、1996、page 4724は、２重こぶのトンネル磁気抵抗と磁界の曲線を示すＣｏＦｅ／Ａｌ2Ｏ3／ＣｏとＦｅ70Ｐｔ30／Ａｌ2Ｏ3／ＮｉＦｅの構造について述べている。J．S．Mooderaらによる"Geometrically Enhanced Magnetoresistance in Ferromagnet-Insulator-Ferromagnet Tunnel Junctions"、Applied Physics Letters、Vol．69、1996、page 708は、同様のＣｏＦｅ／ＡｌＮ／Ｎｉ80Ｆｅ20接合部について述べている。ここではＭＴＪ要素の応答が±２０Ｏｅと小さい印加磁界についても、磁界のサイクリングに対して安定していないことを明らかにしている。同様にT．Miyazakiらによる"Large Magnetoresistance Effect in 82Ni-Fe/Al-Al2O3/Co Magnetic Tunneling Junction"、Journal of Magnetism and Magnetic Materials、Vol．98、No．L7、1991は、±６０Ｏｅの磁界偏位に対して安定ではないＮｉ82Ｆｅ18／Ａｌ2Ｏ3／ＣｏのＭＴＪ要素についてトンネル磁気抵抗曲線を示している。
【００１８】
図６の構造に従った、また図７の望ましくないトンネル磁気抵抗応答を持つ従来技術のＭＴＪ要素の代わりに求められるのは、硬質固定強磁性層のための保磁力と残留モーメントが大きいだけでなく、トンネル・バリアでこの強磁性層から電子トンネル効果を起こす強力なスピン・フィルタ効果を引き起こすＭＴＪ要素である。図８は本発明に従ったＭＴＪ要素の構造を示す。下部電極１１０はＣｒの界面層１１４、及び固定強磁性層として働く多層構造を含む。多層構造は基板９上の下部リード層１１１上に形成され、２つの層、保磁力の大きい硬質強磁性層１１７と薄い界面強磁性層１１９、から形成される。アルミナ・トンネル・バリア層１２０上に形成される上部電極１３０は、好適には自由強磁性層１３２として使用できるＮｉ40Ｆｅ60またはＣｏ単層である。Ａｌの電気リード層１５０は、保護層を使用せずにＣｏの自由層１３２上に形成される。
【００１９】
界面強磁性層１１９は、硬質強磁性層１１７とトンネル・バリア１２０の界面に位置する。界面層１１９は、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅの３元合金等、強力なスピン・フィルタ効果を生じるように選択される。強力なスピン・フィルタ効果を生じる強磁性物質はトンネル効果電子のスピン偏極が大きい、つまり強磁性／トンネル・バリア／超伝導電極の接合部で電子のトンネル効果を調べる実験で、１つのスピン型（アップまたはダウン）の電子のプレポンデランス（preponderance）が大きい物質である。トンネル効果電子のスピン偏極は、例えばR．MeserveyとP．M．Tedrowによる"Spin-polarized Electron Tunneling"、Physics Reports、Vol．238、1994、page 200-214に述べられているような、様々な大磁界での接合コンダクタンスの電圧依存性から類推することができる。原則として、強磁性の３ｄ遷移金属と合金については、トンネル効果電子のスピン偏極は金属の磁化より大きいことがわかっている。MeserveyとTedrowは、０．４ＫでのＮｉ、Ｃｏ及びＦｅのスピン偏極の値をそれぞれ２３％、３５％及び４０％と報告している。かなり小さいスピン偏極が例えば希土類金属に見られるが、これはどのような場合でも、キュリー温度が通常は室温より低く、よって有効なメモリ・セルや磁界検出素子の動作温度の範囲では磁性を示さない。
【００２０】
スピン・フィルタ効果の大きい界面強磁性層１１９は、層１１７の下位の硬質磁性物質の高保磁力が大きく劣化しないよう充分に薄くされる。これは、層１１７、１１９の多層構造のモーメントが固定した状態にとどまり、有効範囲内の印加磁界があるとき回転しないようにするために重要なことである。ただし界面層１１９はまた、スピン・フィルタ効果が大きくなるように充分厚くなければならない。適切な厚みの範囲は０．８ｎｍ−２．０ｎｍとされている。
【００２１】
図９と図１０は、図８に示した層を形成する物質、つまり１１４（１５ｎｍのＣｒ）／１１７（１０ｎｍのＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13）／１１９（２ｎｍのＣｏ）／１２０（１２０秒プラズマ酸化した１．２ｎｍのＡｌ）／１３２（１５ｎｍのＣｏ）／１５０（１５ｎｍのＡｌ）を持つ図８に従ったＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗曲線である。
【００２２】
図９からわかるように、下部の固定強磁性多層構造を形成する１０ｎｍのＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／２ｎｍのＣｏ多層構造は、１９００Ｏｅを超える比較的高い保磁力を示す。これはメモリ・セル用途で読取り／書込み回路により印加される有効磁界強度をゆうに超える。図９はまた、図７にトンネル磁気抵抗曲線を示した従来の技術のＭＴＪと異なり、固定強磁性層としての多層構造を持つＭＴＪが、ゼロ磁界付近に充分画成された２つの状態を持つことを示す。
【００２３】
図９、図１０をここで図１１、図１２と比較する。図１１は、２０ｎｍのＣｒ／１０ｎｍのＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／１２０秒酸化した１．２ｎｍのＡｌ／１５ｎｍのＣｏ／１５ｎｍのＡｌという形の構造を持つＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗と磁界の曲線である。従って、本発明のＭＴＪとは異なり、図１１、図１２に応答を示しているＭＴＪは固定強磁性層としての多層構造を持たない。その代わり、下部電極の固定強磁性層は、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13の単層を含む。図１１からわかるように、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13層の保磁力は２２００Ｏｅを超え、これは本発明の多層構造（図９）の保磁力よりも約３００Ｏｅ大きい。
【００２４】
図１２は、図１１に示したものと同じＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗と磁界の曲線を示し、素子に印加された磁界は±３００Ｏｅの範囲に限られる。トンネル磁気抵抗と磁界の曲線はゼロ磁界で充分に画成された２つの状態を示している。しかしＭＴＪのトンネル磁気抵抗はかなり小さく、約２．５％である。図１２のトンネル磁気抵抗曲線の大きさを図１０と比較すると、固定強磁性層として多層構造を持つ本発明のＭＴＪは、磁気抵抗応答がほぼ５倍（２．５％から約１２％）大きいことがわかる。更にこれはゼロ磁界付近に充分に画成された２つの状態のある優れた磁気応答曲線を保ったまま実現される。従って、この改良点は、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13層に求められる性質を事実上変えていないＣｏ界面層によると考えられる。
【００２５】
図８の構造の磁性と磁気抵抗の性質は、構造が成長した磁界によって影響をうけ、また構造が"セット"された磁界にも影響を受ける。上部電極のＣｏ自由強磁性層の磁気異方性は小さく１軸であり、方向はこの層が成長した磁界によって決定される。これは、自由層のモーメントが多少とも容易に飽和する膜の平面の"容易"方向と"困難"方向につながる。ここで、膜の平面内のＣｏ自由層の容易方向と困難方向は、それぞれΦ＝０度、９０度と定義される。本発明のＭＴＪ要素の動作は、大部分、大きい磁界（ここでは５０００Ｏｅ）がサンプルの平面で印加され、下部電極のＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／Ｃｏ多層構造のモーメントがセットされる方向によって決定される。これは図１３乃至図１８に示している。これらの図は、図８と同じＭＴＪ要素について磁気抵抗と磁界の３組の曲線である。各組（図１３、図１４、図１５、図１６及び図１７、図１８）は、最初はＣｏ層の容易方向に沿って（Φ＝０度）、第２にＣｏ層の困難方向に沿って（Φ＝９０度）、そして第３に反対方向の容易方向に沿って（Φ＝１８０度）印加された大きい設定磁界に対応する。印加磁界は最初＋５０００Ｏｅから−５０００Ｏｅに、更に再び＋５０００Ｏｅにスイープされる。各組の２番目の図は、印加（検出）磁界が、セット磁界と同じ方向で±３００Ｏｅに限られたＭＴＪの応答を示す。±５０００Ｏｅと±３００Ｏｅの両方で、スイープされた磁界について、応答は、平面内の３つの全ての方向できわめてよく似ているが、Ｃｏ自由層の１軸異方性はわずかに低磁界応答に影響を与え、容易方向に沿って印加された磁界については、低磁界での応答がより方形になる（図１４、１８を図１６と比較）。これらのデータは、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／Ｃｏの固定強磁性多層構造のモーメントが、いずれの場合も残留モーメントが同様なサンプルの平面で、いずれの方向でもセットできることを示す。これはまたサンプルの平面の全ての方向について得られた磁気抵抗の値が同一であることにも示されている。
【００２６】
サンプルの平面の任意の方向に固定層をセットする可能性はまた、図１９乃至図２２及び図２３に示されている。図１９乃至図２２は、＋５０００Ｏｅの大きな磁界を印加することによって、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／Ｃｏ多層構造のモーメントがΦ＝９０度、つまりサンプルの平面内のＣｏ自由層の硬質磁気異方性方向に沿ってセットされたときの図８のＭＴＪのトンネル磁気抵抗データを示す。その後、検出磁界、Ｈが±３００Ｏｅ、つまりメモリや読取りヘッドの用途にＭＴＪ素子を使用できる磁界範囲に限られた、サンプルの平面の４つの直交方向について一連のＭＲとＨループが取られる。ここで先に定義したように、ΦはＣｏ自由層の容易方向に対して測定したサンプルの平面内の印加磁界Ｈの方向である。磁界がＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／Ｃｏ多層構造のモーメントがセットされている方向と同じ方向（これらのデータではΦ＝９０度）に印加されたとき、ＭＴＪの抵抗は負磁界で最大である（図１９）。対照的に、磁界がセット磁界の方向と反対の方向（Φ＝２７０度）に沿って印加されたとき、ＭＴＪ抵抗は正磁界で最大である。磁界がセット磁界の方向に直交する方向（ここではΦ＝１８０度または０度）に配向されると、ＭＲはほとんど観測されない。これらのデータは従って、セット磁界の方向（Φ＝９０度）に沿って並び、基本的には、範囲が±３００Ｏｅに限られる検出磁界がサンプルの平面の任意の方向に印加されたときこの方向に沿って固定された、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／Ｃｏ多層構造のモーメントで一貫している。対照的に任意の方向Φに沿って、ある検出磁界（範囲は±３００Ｏｅの範囲に制限）を印加することは、この方向に平行または逆平行な自由層のモーメントを回転させるのに充分である。単純なトンネル・モデルでは、ＭＴＪ要素のＭＲは、Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13／Ｃｏ多層構造の固定モーメントと、自由Ｃｏ層のモーメントの角度の余弦に比例する。従って検出磁界の印加により自由層のモーメントが、固定層のモーメントのそれに平行または逆平行に揃うと、大きい正負いずれかのＭＲが観測される。対照的に自由層のモーメントが、検出磁界の印加により、固定層のそれとほぼ直交する膜の平面でのある方向に揃うときは、図２１、図２２に示すようにＭＲはほとんどみられない。図２３は、固定モーメントの方向の３つの設定（Φ＝０度、９０度及び１８０度）について、±３００Ｏｅの範囲に制限されたサンプル平面の検出磁界の方向Φに対するＭＲの依存性の測定値を詳しく示す。図２３からわかるようにΦに対するＭＲの依存性は、単純なｃｏｓ（Φ＋Φ0）依存性によりうまく説明される。ここでΦ0はＣｏ自由層の容易方向に対して固定多層構造のモーメントがセットされる角度である。固定層のモーメントがΦ＝０度、９０度及び１８０度に沿ってセットされるとき、ＭＲはそれぞれｃｏｓ（Φ）、ｃｏｓ（Φ−９０度）及びｃｏｓ（Φ−１８０度）と変化し、図１９乃至図２２に示したデータと一致する。
【００２７】
本発明では、薄い界面層を持つ固定強磁性多層構造により、磁化の弱い（よってスピン・フィルタ効果も弱い）強磁性物質を保磁力の大きい硬質強磁性層に使用する可能性が出てくる。硬質強磁性層は従って、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｓｍ合金、Ｃｏ−Ｒｅ合金、Ｃｏ−Ｒｕ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ合金（Ｘ＝Ｐｔ、Ｐｄ、またはＣｒ）、更にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ−Ｂ等、多種多様な第４合金等、Ｃｏ合金その他の元素を含め、様々な強磁性物質から形成することができる。低磁化物質を使用することはＭＴＪ要素にとって大きい利点になる。固定強磁性層と自由強磁性層の間の静磁相互作用が少なくなるからである。またメモリ・セルの用途については、モーメントが低くなることから、メモリ・セルのアレイで隣接したＭＴＪ要素の間の静磁相互作用が減少する。
【００２８】
多層構造の硬質強磁性層１１７の保磁力は、それが形成された下位層１１４の影響を強く受ける。Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金の場合、好適な下位層物質はＣｒが１０−５０ｎｍ厚の薄い層である。この他Ｃｒ−Ｖ合金、Ｔａ、Ｔａ−Ｗ合金、Ｔｉ−Ｗ合金、Ｗ、Ｍｏ等の下位層も使用できる。
【００２９】
本発明では、スピン・フィルタ効果のある薄い界面層を持つ固定強磁性多層構造により、高温に対して安定なＭＴＪ要素が得られるというもう１つの利点が得られる。固定強磁性層のモーメントが、反強磁性層との界面の交換結合によりピン止めされたＭＴＪ要素は、先に引用した出願に述べられているように、反強磁性物質のブロッキング温度によって定義される限られた温度範囲でしか動作しない。またこのようなＭＴＪの熱安定性は、反強磁性層によりピン止めされた強磁性層や、反強磁性層の適切な動作に必要なシード層等、隣接した層と接触した反強磁性層の熱安定性により制限される。
【００３０】
ここに述べ図示したＭＴＪ素子は、基板付近の下部に固定多層構造があるが、この素子はまた、自由強磁性層を最初に被着し、続いてトンネル・バリア層、スピン・フィルタ効果を持つ界面層、及び硬質強磁性層を被着することによっても形成できる。こうしたＭＴＪ素子は、層が基本的には図８に示したＭＴＪ素子とは反転したものになる。
【００３１】
まとめとして、本発明の構成に関して以下の事項を開示する。
【００３２】
（１）印加磁界があるときに磁気トンネル結合素子の電気抵抗の変化を検出する電気回路へ接続する該素子であって、
二つの強磁性層を含む多層構造であって、
前記素子にとって有効な範囲の印加磁界よりも実質的に大きな保磁力を持つ第１強磁性層と、
該第１強磁性層上に形成されそれと接触した界面強磁性層であって、該第１強磁性層よりも実質的に大きな磁化を有し、前記多層構造が第１の強磁性層の保持力よりも実質的に小さくない保持力を有するように、第１の強磁性層の厚さに比して十分に薄い界面強磁性層と
を含み、それによって、
該多層構造の磁気モーメントは有効範囲の印加磁界があるときに所定の方向に固定される、該多層構造と、
有効範囲の印加磁界があるとき磁気モーメントが自由に回転する自由強磁性層と、
前記多層構造の前記界面強磁性層と前記自由強磁性層の間に位置してそれらと接触し、前記多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことのできる絶縁トンネル層と、
前記多層構造、トンネル層及び自由強磁性層が形成された基板と、
を含む、磁気トンネル接合素子。
（２）前記多層構造と自由強磁性層のモーメントは、印加磁界があるとき互いにほぼ平行か逆平行である、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（３）前記自由強磁性層のモーメントは、印加磁界があるとき前記多層構造のモーメントに対してほぼ垂直である、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（４）前記多層構造は、前記基板と絶縁トンネル層の間に位置する、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（５）前記自由強磁性層は、前記基板と絶縁トンネル層の間に位置する、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（６）前記自由強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｃｏの合金及びＮｉ−Ｆｅの合金で構成されたグループから選択される、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（７）前記多層構造の第１強磁性層の物質は、Ｃｏ及びＣｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｍ、Ｒｅ、Ｒｕ及びＢのいずれかまたは複数との合金を含む、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（８）前記多層構造の第１強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｐｔ及びＣｒを含む合金であり、
さらに下位層を含み、該下位層に接触して前記合金（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金）が形成され、該下位層は、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｖ合金、Ｔａ、Ｔｉ−Ｗ合金、Ｔａ−Ｗ合金、Ｗ及びＭｏからなるグループから選択された物質により形成される、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（９）前記界面強磁性層の物質はＣｏである、（１）記載の磁気トンネル接合素子。
（１０）前記界面強磁性層の厚みは約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲である、（９）記載の磁気トンネル接合素子。
（１１）２つの磁気状態を有し、メモリ・セルの不揮発性磁気メモリ・アレイに使用でき、該アレイは読取り／書込み回路に接続されて、該アレイの個々のメモリ・セルの磁気状態を変化させ且つ検出する、磁気トンネル接合メモリ・セルであって、
前記読取り／書込み回路からの電流により生じた印加磁界があるとき磁気モーメントが所定の方向に固定される固定強磁性多層構造であって、
前記印加磁界よりも実質的に大きな保磁力を有する第１の強磁性層と、
該第１強磁性層上に形成されそれと接触した界面強磁性層であって、該第１強磁性層よりも実質的に大きな磁化を有し、前記多層構造が第１の強磁性層の保持力よりも実質的に小さくない保持力を有するように、第１の強磁性層の厚さに比して十分に薄い界面強磁性層と
を含み、それによって、該固定多層構造の磁気モーメントは、前記印加磁界があるとき前記所定の方向に固定された状態にとどまる、
該固定強磁性多層構造と、
磁気モーメントが、前記印加磁界下で前記固定多層構造の磁気モーメントにほぼ平行な方向と逆平行な方向の間で自由に回転可能な自由強磁性層と、
前記多層構造の界面強磁性層と自由強磁性層の間に位置してそれと接触し、前記固定多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことのできる、絶縁トンネル・バリア層と、
前記固定多層構造、トンネル層及び自由強磁性層が形成された基板と、
を含み、それによって前記固定多層構造と自由強磁性層が前記読取り／書込み回路に接続されたとき、前記固定多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向で前記絶縁トンネル・バリア層を流れる電流に対する電気抵抗が、前記自由強磁性層の前記平行または逆平行な磁気モーメントにより決定され、よって前記電気抵抗の値により、前記メモリ・セルの磁気状態が決定可能になる、
磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１２）前記多層構造は前記基板と絶縁トンネル・バリア層の間に位置する、（１１）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１３）前記自由強磁性層は前記基板と絶縁トンネル・バリア層の間に位置する、（１１）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１４）前記自由強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｃｏの合金及びＮｉ−Ｆｅの合金で構成されたグループから選択される、（１１）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１５）前記多層構造の第１強磁性層の物質は、Ｃｏ及びＣｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｍ、Ｒｅ、Ｒｕ及びＢのいずれかまたは複数との合金を含む、（１１）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１６）前記多層構造の第１強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｐｔ及びＣｒを含む合金であり、
さらに下位層を含み、該下位層に接触して前記合金（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金）が形成され、該下位層は、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｖ合金、Ｔａ、Ｔｉ−Ｗ合金、Ｔａ−Ｗ合金、Ｗ及びＭｏからなるグループから選択された物質により形成される、（１１）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１７）前記界面強磁性層の物質はＣｏである、（１１）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１８）前記界面強磁性層の厚みは約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲である、
（１７）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（１９）２つの磁気状態を有し、メモリ・セルの不揮発性磁気メモリ・アレイに使用でき、該アレイは読取り／書込み回路に接続されて、該アレイの個々のメモリ・セルの磁気状態を変化させ且つ検出する、磁気トンネル接合メモリ・セルであって、
基板と、
前記読取り／書込み回路からの電流により生じた印加磁界があるとき磁気モーメントが所定の方向に固定される固定強磁性多層構造であって、
前記基板上に形成されたＣｏ、Ｐｔ及びＣｒを含む合金からなり、前記印加磁界よりも実質的に大きな保持力を有する強磁性層と、
該強磁性層（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ層）上に形成されてそれと接触し、Ｃｏを必須の要素とする界面強磁性層（Ｃｏ層）であって、該界面強磁性層は、該強磁性層（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ層）よりも実質的に大きな磁化を有し、前記多層構造が該強磁性層（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ層）の保持力よりも実質的に小さくない保持力を有するように、該強磁性層（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ層）の厚さに比して十分に薄い界面強磁性層（Ｃｏ層）と
を含み、それによって、該固定多層構造の磁気モーメントは、前記印加磁界があるとき前記所定の方向に固定された状態にとどまる、
該固定強磁性多層構造と、
磁気モーメントが前記印加磁界下で前記固定多層構造の磁気モーメントにほぼ平行な方向と逆平行な方向の間で自由に回転可能な自由強磁性層と、
前記多層構造の界面強磁性層（Ｃｏ層）と自由強磁性層の間に位置してそれと接触し、前記固定多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことのできる、絶縁トンネル・バリア層と
を含み、
それによって前記固定多層構造と自由強磁性層が前記読取り／書込み回路に接続されたとき、前記固定多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向で前記絶縁トンネル・バリア層を流れる電流に対する電気抵抗が、前記自由強磁性層の前記平行または逆平行なモーメントにより決定され、よって前記電気抵抗の値により、前記メモリ・セルの磁気状態が決定可能になる、
磁気トンネル接合メモリ・セル。
（２０）前記自由強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｃｏの合金及びＮｉ−Ｆｅの合金で構成されたグループから選択される、（１９）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（２１）さらに下位層を含み、該下位層に接触して前記合金（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金）が形成され、該下位層は、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｖ合金、Ｔａ、Ｔｉ−Ｗ合金、Ｔａ−Ｗ合金、Ｗ及びＭｏからなるグループから選択された物質により形成される、（１９）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（２２）前記界面強磁性層（Ｃｏ層）の厚みは約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲である、（１９）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（２３）外部磁界を検出する磁気トンネル接合磁界センサであって、
検出される外部磁界の範囲の印加磁界があるとき磁気モーメントが所定の方向に固定される固定強磁性多層構造であって、
前記印加磁界よりも実質的に大きな保磁力を有する第１の強磁性層と、
該第１強磁性層上に形成されそれと接触した界面強磁性層であって、該第１強磁性層よりも実質的に大きな磁化を有し、前記多層構造が第１の強磁性層の保持力よりも実質的に小さくない保持力を有するように、第１の強磁性層の厚さに比して十分に薄い界面強磁性層と
を含み、それによって、該固定多層構造の磁気モーメントは、前記印加磁界があるとき前記所定の方向に固定された状態にとどまる、
該固定強磁性多層構造と、
磁気モーメントが、印加磁界がないとき前記固定多層構造のモーメントに対してほぼ垂直な方向を向き、検出される外部磁界の範囲の印加磁界があるとき該垂直な方向から離れるように自由に回転可能な、自由強磁性層と、
前記界面強磁性層と自由強磁性層の間に位置してそれと接触し、前記固定多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向にトンネル電流を流すことのできる、絶縁トンネル・バリア層と、
前記固定多層構造、トンネル・バリア層及び自由強磁性層が形成された基板と、を含み、それによって前記固定多層構造と自由強磁性層が、検出される外部磁界下にあるとき、前記自由強磁性層の磁気モーメントは、前記固定多層構造のモーメントに対してその向きを変え、前記固定多層構造と自由強磁性層に対してほぼ垂直な方向で前記絶縁トンネル・バリア層を流れる電流に対する電気抵抗が変化し、よって外部磁界が検出可能になる、
磁気トンネル接合磁界センサ。
（２４）前記多層構造は前記基板と絶縁トンネル・バリア層の間に位置する、（２３）記載の磁気トンネル接合磁界センサ。
（２５）前記自由強磁性層は前記基板と絶縁トンネル・バリア層の間に位置する、（２３）記載の磁気トンネル接合磁界センサ。
（２６）前記自由強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｃｏの合金及びＮｉ−Ｆｅの合金で構成されたグループから選択される、（２３）記載の磁気トンネル接合磁界センサ。
（２７）前記多層構造の第１強磁性層の物質は、Ｃｏ及びＣｒ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｍ、Ｒｅ、Ｒｕ及びＢのいずれかまたは複数との合金を含む、（２３）記載の磁気トンネル接合磁界センサ。
（２８）前記多層構造の第１強磁性層の物質は、Ｃｏ、Ｐｔ及びＣｒを含む合金であり、さらに下位層を含み、該下位層に接触して前記合金（Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金）が形成され、該下位層は、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｖ合金、Ｔａ、Ｔｉ−Ｗ合金、Ｔａ−Ｗ合金、Ｗ及びＭｏからなるグループから選択された物質により形成される、（１９）記載の磁気トンネル接合メモリ・セル。
（２９）前記界面強磁性層の物質はＣｏである、（２３）記載の磁気トンネル接合磁界センサ。
（３０）前記中間強磁性層（Ｃｏ層）の厚みは約０．８ｎｍ乃至２．０ｎｍの範囲である、（２３）記載の磁気トンネル接合磁界センサ。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の技術のＭＴＪを使用しているが、先に引用した出願に従って絶縁層に開けられた自己整合コンタクト・ホールのある構造を持つＭＴＪメモリ・セルの断面図である。
【図２】従来の技術のＭＴＪを使用しているが、先に引用した出願に従って絶縁層に開けられた自己整合コンタクト・ホールのある構造を持つＭＴＪメモリ・セルの平面図である。
【図３】図１と同様であるが、平坦化された自己整合コンタクト・ホールを持ち、ＭＴＪの全ての層が、先に引用した出願に従い、同じ連続した側面を持つＭＴＪ素子の断面図である。
【図４】従来の技術のＭＴＪを使用しているが、先に引用した出願に従って平坦化された自己整合コンタクト・ホールのある構造を持つＭＴＪ磁界検出素子の断面図である。
【図５】従来の技術のＭＴＪを使用しているが、先に引用した出願に従って平坦化された自己整合コンタクト・ホールのある構造を持つＭＴＪ磁界検出素子の平面図である。
【図６】磁気的に硬質な強磁性層と磁気的に軟質な強磁性層を２つの電極とした従来の技術のＭＴＪを構成する層の図である。
【図７】図６に示した従来技術のＭＴＪの典型的な磁気抵抗応答曲線を示す図である。
【図８】スピン・フィルタ効率の高い強磁性界面層を含む固定強磁性多層構造を持つ本発明に従ったＭＴＪを構成する層の図である。
【図９】本発明に従った、図８に示したＭＴＪのトンネル磁気抵抗と印加磁界の曲線であり、±５０００Ｏｅの範囲の検出磁界のＭＴＪの応答を示す図である。
【図１０】本発明に従った図８に示したＭＴＪのトンネル磁気抵抗と印加磁界の曲線であり、±３００Ｏｅの範囲の検出磁界について図９と同じＭＴＪの応答を示す図である。
【図１１】本発明のＭＴＪと同様のＭＴＪのトンネル磁気抵抗と印加磁界の曲線であるが、固定多層構造の代わりにＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13の１つの固定強磁性層を持ち、±５０００Ｏｅの範囲の検出磁界のＭＴＪの応答を示す図である。
【図１２】本発明のＭＴＪと同様のＭＴＪのトンネル磁気抵抗と印加磁界の曲線であるが、固定多層構造の代わりにＣｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13の１つの固定強磁性層を持ち、±３００Ｏｅの範囲の検出磁界について図１１と同じＭＴＪの応答を示す図である。
【図１３】ＭＴＪ要素の平面内の特定の方向に沿って印加された検出磁界に対する本発明のＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗応答曲線であり、±５０００Ｏｅの範囲の検出磁界について応答曲線を示す図である。
【図１４】ＭＴＪ要素の平面内の特定の方向に沿って印加された検出磁界に対する本発明のＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗応答曲線であり、範囲が±３００に限定されているが同じ方向での検出磁界について応答曲線を示す図である。
【図１５】ＭＴＪ要素の平面内の特定の方向に沿って印加された検出磁界に対する本発明のＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗応答曲線であり、±５０００Ｏｅの範囲の検出磁界について応答曲線を示す図である。
【図１６】ＭＴＪ要素の平面内の特定の方向に沿って印加された検出磁界に対する本発明のＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗応答曲線であり、範囲が±３００に限定されているが同じ方向での検出磁界について応答曲線を示す図である。
【図１７】ＭＴＪ要素の平面内の特定の方向に沿って印加された検出磁界に対する本発明のＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗応答曲線であり、±５０００Ｏｅの範囲の検出磁界について応答曲線を示す図である。
【図１８】ＭＴＪ要素の平面内の特定の方向に沿って印加された検出磁界に対する本発明のＭＴＪ要素のトンネル磁気抵抗応答曲線であり、範囲が±３００に限定されているが同じ方向での検出磁界について応答曲線を示す図である。
【図１９】Ｃｏ自由層の硬質方向に沿って５０００Ｏｅの磁界を印加することによってＭＴＪの硬質強磁性層がセットされた後に取られ、ＭＴＪ平面内の特定の方向の±３００Ｏｅの範囲の磁界に対して、本発明のＭＴＪの典型的な応答曲線を示す図である。
【図２０】Ｃｏ自由層の硬質方向に沿って５０００Ｏｅの磁界を印加することによってＭＴＪの硬質強磁性層がセットされた後に取られ、ＭＴＪ平面内の特定の方向の±３００Ｏｅの範囲の磁界に対して、本発明のＭＴＪの典型的な応答曲線を示す図である。
【図２１】Ｃｏ自由層の硬質方向に沿って５０００Ｏｅの磁界を印加することによってＭＴＪの硬質強磁性層がセットされた後に取られ、ＭＴＪ平面内の特定の方向の±３００Ｏｅの範囲の磁界に対して、本発明のＭＴＪの典型的な応答曲線を示す図である。
【図２２】Ｃｏ自由層の硬質方向に沿って５０００Ｏｅの磁界を印加することによってＭＴＪの硬質強磁性層がセットされた後に取られ、ＭＴＪ平面内の特定の方向の±３００Ｏｅの範囲の磁界に対して、本発明のＭＴＪの典型的な応答曲線を示す図である。
【図２３】ＭＴＪ素子の平面で、強磁性自由層の容易方向に対して検出磁界の方向が取る角度の関数としての本発明のＭＴＪ要素の磁気抵抗応答であり、硬質層の３つの強磁性モーメント設定に対応した３つの曲線を示す図である。
【符号の説明】
９  基板
１０  ベース電極スタック
１１、１３  延長部
１２  シード層
１４  界面層
１８  固定強磁性層
２０  絶縁トンネル・バリア層
３０  上部電極スタック
３２  自由強磁性層
３４  保護層
４０  絶縁層
５０  上部配線層
７０  上部接合電極スタック
７２  強磁性層
１１０  下部電極
１１７  硬質強磁性層
１１９  界面強磁性層
１２０  アルミナ・トンネル・バリア層
１３０  上部電極
１５０  電気リード層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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