(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一のターンテーブルを有する単一の共通搬送室と、
前記共通搬送室に対して放射状に、且つ、隣り合う二つのなす角が直角より小さくなるように配置された複数の室と、
前記共通搬送室と前記複数の室の各々とをつなぐ複数の台車移動接続室と、
前記複数の室の各々と前記台車移動接続室のうちの対応するものの間に設けられたゲート弁とを具備し、
前記複数の室の１つはロード室であり、前記複数の室の１つはアンロード室であり、前記複数の室の残りは基板を真空雰囲気下で処理する真空処理室であり、
前記台車移動接続室の横断面積は、前記各真空処理室の横断面積よりも小さく、
前記複数の台車移動接続室のうちの少なくとも１つは、搬送台車が基板を保持して待機できるだけのスペースを有し、
基板を保持した搬送台車を、前記ロード室から前記台車移動接続室に移動させ、前記ターンテーブルを所望角度だけ回転させたところで前記ターンテーブルに乗り移させ、更に前記ターンテーブルを所望角度だけ回転させたところで別の前記台車移動接続室に乗り移させて前記台車移動接続室のなかを更に前進させ、前記ゲート弁を開けて前記真空処理室中に進入させる
クラスタ型真空処理システム。
【請求項２】
請求項１に記載されたクラスタ型真空処理システムであって、
前記各台車移動接続室は、前記共通搬送室と、前記ロード室、前記アンロード室、及び前記各真空処理室との間を、基板が線形に移動可能に接続する
クラスタ型真空処理システム。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかに記載されたクラスタ型真空処理システムであって、
前記共通搬送室は、
ターンテーブルと、
前記ターンテーブル上に設けられて搬送台車が走行する可動レールと、
前記可動レール全体を、前記ターンテーブルに対して弾性的に可変となるように支持する弾性支持機構と、
を有し、
前記弾性支持機構は、前記可動レールの横方向に可変となるように、前記可動レールを支持する
クラスタ型真空処理システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の処理室に基板を次々に搬送して処理するクラスタ型真空処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、ドライエッチング等の処理を基板に施すための真空処理システムとして、複数の処理室を直列に並べたインライン型が用いられているが、インライン型システムでは複数の膜を積層する場合に処理完了までに時間がかかる製膜等の真空処理室により全体のタクトタイムが左右され、スループットの向上が望めない。そこで、スループットの向上を図るために、搬送台車を備えた共通の搬送室を中央に置き、その周囲に複数の処理室を配置したクラスタ型真空処理システムが種々提案されている。
【０００３】
図１２に従来のクラスタ型真空処理システムの概要を示す。クラスタ型真空処理システム１００の中央には共通搬送室１３０が設けられ、その周囲に複数の真空処理室１７０Ａ，１７０Ｂ，１７０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆおよび台車待機室１７０Ｃ、ロード室１１０、アンロード室１２０が配置されている。共通搬送室１３０と、その周囲の真空処理室１７０Ａ，１７０Ｂ，１７０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆ、台車待機室１７０Ｃ，ロード室１１０、アンロード室１２０との間にはゲート弁１４がそれぞれ設けられ、ゲート弁１４を開閉して基板Ｇが各室に出し入れされるようになっている。共通搬送室（台車回転室）１３０は専用の搬送台車１０６を備えており、レール付きターンテーブルにより搬送台車１０６の向きを３６０°どの方位にも変えることができるようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のクラスタ型真空処理システム１００においては、専用の搬送台車１０６がある１つの真空処理室１７０Ａへ基板Ｇを搬入して戻ってくるまで、または専用の搬送台車１０６がある１つの真空処理室１７０Ａから処理済みの基板Ｇを搬出してくるまでの間は、中央の共通搬送室１３０が専用の搬送台車１０６に占有されているので、他の真空処理室１７０Ｂ，１７０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆに対しては基板Ｇを出し入れすることができず、これが待機状態となってタクトタイムが長引いてしまう。
【０００５】
また、台車待機室１７０Ｃに搬送台車１０６を待機させておく場合は、ゲート弁１４を開閉して台車１０６を通過させる構造であるため、待機状態から使用状態に台車１０６を移行させるのに時間が掛かるという問題点がある。
【０００６】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであって、各真空処理室に基板を迅速に搬送することができ、搬送台車を円滑かつ迅速に待機状態から使用状態に移行させることができる高スループットのクラスタ型真空処理システムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、製膜等の真空処理におけるスループットの向上を図るために、トレイレス斜め搬送台車方式を活用したクラスタ型真空処理システムとして先に特願平１０−３６０４９５号および特願平１１−２５９０３４号をそれぞれ提案している。これらは基板を高スループットで処理することができるシステムであるが、本発明者らは搬送台車による基板搬送のタクトタイムの短縮化を図り、更にスループットの向上を目指して下記のクラスタ型真空処理システムを提案する。
【０００８】
本発明に係るクラスタ型真空処理システムは、複数の処理室に基板を次々に搬送して処理するクラスタ型真空処理システムであって、中央に位置する共通搬送室と、この共通搬送室の周囲に配置され、共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に設けられ、基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬入されるロード室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬出されるアンロード室と、前記真空処理室、前記共通搬送室、前記ロード室、前記アンロード室の相互間で基板を搬送するための少なくとも３つの搬送台車と、を具備することを特徴とする。
【０００９】
この場合に、さらに、上記真空処理室、上記ロード室、上記アンロード室の各々と上記共通搬送室との間にそれぞれ設けられた台車移動接続室を有することが好ましい。このような台車移動接続室を介して真空処理室、ロード室、アンロード室の各々を共通搬送室にそれぞれ接続すると、共通搬送室の容積が小さくなり、真空排気ポンプの負担を軽減することができる。
【００１０】
上記共通搬送室は、ターンテーブルと、このターンテーブル上に設けられて上記搬送台車が走行する可動レールと、この可動レールを前記ターンテーブルに対して可変に支持する弾性支持機構と、を有することが好ましい。このようにすると、搬送台車が共通搬送室と真空処理室との間を移動する際に、弾性支持機構により支持された可動レールが変位し、真空処理室側の固定レールとの間に生じる回転ずれθおよび位置ずれδが共に解消されるので、搬送台車は大きな振動を生じることなく可動レールと固定レールとの間を円滑に移動することができる。
【００１１】
さらに、上記真空処理室は保守点検用の扉を有することが好ましい。このような扉の開閉は手動であっても電動であってもいずれでもよい。
【００１２】
さらに、上記共通搬送室にゲート弁を介することなく直接連通し、上記搬送台車が待機しておく台車待機室を有することが好ましい。このような台車待機室を設けることにより、搬送台車は共通搬送室から台車待機室へ迅速に移動することができ、共通搬送室内で複数の搬送台車が相互に干渉することが有効に回避されるようになる。
【００１３】
なお、搬送台車は、垂直軸に対して７°〜１２°傾けて基板を支持することが好ましく、基板を約１０°傾けて支持することが最も好ましい。基板の傾斜角θ１が７°を下回ると、搬送中に台車上で基板が不安定になり反対側へ倒れるおそれがあるので、傾斜角θ１の下限値は７°とする。一方、基板の傾斜角θ１が１２°を上回ると、搬送スペースや製膜ユニット内デッドスペースが大きくなり処理室内のデッドスペースが増加して真空ポンプに過大な負荷がかかるようになるので、傾斜角θ１の上限値は１２°とする。しかし、デッドスペースの増大や真空ポンプの過負荷が大きな問題とならない場合は、傾斜角θ１を１２°以上に、例えば２０°〜３０°とすることも可能である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照しながら本発明の種々の好ましい実施の形態について説明する。
【００１５】
図１及び図２に示すように、クラスタ型真空処理システム１は中央に台車回転室としての共通搬送室３０を備え、その周囲を取り囲むようにロード室１０、アンロード室２０、５つの製膜室（真空処理室）７０Ａ〜７０Ｅ、予備室８０が配置されている。これら各室１０，２０，７０Ａ〜７０Ｅ，８０はゲート弁１４を介して台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈにそれぞれ連通し、さらに各台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈは共通搬送室３０にそれぞれ連通している。
【００１６】
ロード室１０には２台の搬送台車６Ａ，６Ｂが、アンロード室２０にも２台の搬送台車６Ｃ，６Ｄが、共通搬送室３０には２台の搬送台車６Ｅ，６Ｆがそれぞれ設けられ、システム全体では合計少なくとも６台の搬送台車６Ａ〜６Ｆが各所に配置されている。
【００１７】
台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈは、ロード室１０、アンロード室２０、製膜室７０Ａ〜７０Ｅ、予備室８０より狭くなっている。すなわち、台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈの内部通路は搬送台車６Ａ〜６Ｆが基板Ｇを保持した状態で通過できるぎりぎりの広さに形成されている。これらの台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈを製膜室７０Ａ〜７０Ｅ、予備室８０、ロード室１０、アンロード室２０の各々と共通搬送室３０との間に設けることにより、共通搬送室３０の容積を限界近くまで小さくすることができるので、真空排気装置（図示せず）の負担が大幅に軽減されるようになる。
【００１８】
なお、各製膜室７０Ａ〜７０Ｅ（予備室８０）の横断面積に対する各台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈの横断面積の比率は１：０．５〜０．８の範囲とすることが好ましく、ロード室１０（アンロード室２０）の横断面積に対する各台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈの横断面積の比率は１：０．７〜０．９の範囲とすることが好ましい。また、中央の共通搬送室３０は、隣り合うゲート弁１４の相互干渉を生じない範囲で、かつ、搬送台車６Ｅ，６Ｆが回転できる最小のスペースとすることが望ましい。
【００１９】
製膜室７０Ａ〜７０Ｅおよび予備室８０の最外部には扉７７がそれぞれ取り付けられ、扉７７を開けて各室の内部をメンテナンスできるようになっている。扉７７は手動または電動で開閉できるように各室７０Ａ〜７０Ｅ，８０に取り付けられ、各室を構成するフレーム壁と扉７７との間にシール部材が介装されている。
【００２０】
次に、図３を参照しながらロード室１０およびローラ式ローダ５Ａについて説明する。なお、アンロード室２０はロード室１０と実質的に同じであり、ローラ式アンローダ５Ｂはローラ式ローダ５Ａと実質的に同じであるので、両者についての説明は省略する。
【００２１】
ローラ式ローダ５Ａはロード１０の前方側に設けられている。このローラ式ローダ５Ａは、２台の搬送台車６Ａ，６Ｂが走行するためのレール８Ａ，８Ｂを有する搬送部４を中央に備え、この搬送部４の両側に１対のローラテーブル２Ａ，２Ｂを備えている。各搬送台車６Ａ，６Ｂは、それぞれ独立に基板Ｇを１枚ずつ保持し搬送するようになっている。各レール８Ａ，８Ｂの延長線上にロード室１０内の各レール１８Ａ，１８Ｂがそれぞれ設けられ、各搬送台車６Ａ，６Ｂはレール８Ａ，８Ｂからレール１８Ａ，１８Ｂに乗り移れるようになっている。
【００２２】
左右一対のローラテーブル２Ａ，２Ｂは搬送部４を間に挟むように設けられている。各ローラテーブル２上には複数の送りローラ３がそれぞれ並べられ、この上に水平に載置されたガラス基板Ｇがレール８Ａ，８Ｂと平行に送られるようになっている。
【００２３】
ロード室１０の前面には左右一対の搬入出口１２Ａ，１２Ｂが形成され、右方の搬入出口１２Ａはシリンダ１４Ａを備えたゲート弁機構により開閉され、左方の搬入出口１２Ｂはシリンダ１４Ｂを備えたゲート弁機構により開閉されるようになっている。同様に、ロード室１０の後面にも左右一対の搬入出口（図示せず）が形成され、シリンダ１４を備えたゲート弁機構によりそれぞれ開閉されるようになっている。
【００２４】
次に、図４及び図５を参照しながら共通搬送室３０について説明する。
【００２５】
共通搬送室３０の床部はターンテーブル３１で構成されており、ターンテーブル３１によりレール３８上の搬送台車６Ｅ，６Ｆが水平面内で回転され、搬送台車６Ｅ，６Ｆの向きが３６０°どの方位にも変えられるようになっている。可動レール３８は所定間隔ごとに並ぶ複数のボルト３２によりターンテーブル３１に締結されている。なお、図４にはレール３８を１本のみ示しているが、実際には２本の可動レール３８がターンテーブル３１の上に並んでいる。
【００２６】
ところで、搬送台車６Ａ〜６Ｆが台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈから共通搬送室３０に出入りするときは、ターンテーブル３１を回転させて可動レール３８を固定レール１８Ａ，１８Ｂの延長線上に揃え、搬送台車６Ａ〜６Ｆを固定レール１８Ａ，１８Ｂから可動レール３８へ、又は可動レール３８から固定レール１８Ａ，１８Ｂへ乗り移させる必要があるが、両レール３８，１８Ａ，１８Ｂは完全に延長線上に揃わず、回転ずれ角θおよび位置ずれ角δを生じるので、搬送台車６Ａ〜６Ｆが両レール３８，１８Ａ，１８Ｂ間で円滑に乗り移ることが困難になるとともに、搬送台車上の基板Ｇに大きな振動が伝わるようになり確実な搬送ができないおそれを生じる。
【００２７】
そこで、図５に示すように、レール３８とボルト３２との間にスプリング３３を介装し、ターンテーブル３１に対してレール３８が横方向に±１〜３ｍｍ程度動けるように弾性的に支持し、回転ずれ角θおよび位置ずれ角δを解消するようにしている。各スプリング３３はレール３８内の横孔内に挿入され、一端側はボルト３２に取り付けられ、他端側はストッパ３４に取り付けられている。
【００２８】
図６に示すように、ローラ式ローダ５Ａの各レール８Ａ，８Ｂおよびローラ式アンローダ５Ｂの各レール８Ｃ，８Ｄはレール回動機構９により長手軸まわりに回動自在に支持されている。レール回動機構の回転軸９ａは、一端が各レール８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄの端部にそれぞれ連結固定され、他端が軸受９ａにより支持されている。回転軸９ａの適所に回り止め付きの固定リング９ｃが取り付けられている。固定リング９ｃの外周にはレバー９ｄが連結されており、レバー９ｄを回すと、これに伴い固定リング９ｃ及び回転軸９ａと共にレール８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄが回動するようになっている。
【００２９】
レバー９ｄは図示しない油圧駆動装置により駆動される揺動機構（図示せず）に連結され、そのストローク角はおよそ８０°である。レバー９ｄが定位置にあるときは、図３に示す搬送台車６Ｂのように台車上の基板Ｇはほぼ直立する。このとき基板Ｇは垂直軸に対して７°〜１２°傾斜した状態で搬送台車６Ｂにそれぞれ保持され、搬送可能な状態となる。一方、レバー９ｄが定位置から約８０°回された位置にあるときは、図３に示す搬送台車６Ａのように台車上の基板Ｇはほぼ水平になる。このとき基板Ｇはローラテーブル２から搬送台車６Ａ上に積み込み可能な状態となる。なお、ガラス基板Ｇの大きさは例えば１ｍ角である。１ｍ角サイズのガラス基板Ｇは、重量が１０ｋｇｆを上回り、かなりな重量物となる。従って本ローラ式ローダによって簡便に基板搬送台車に基板をセット／アンセットすることが可能になる。
【００３０】
次に、図７及び図８を参照しながら搬送台車の基板保持機構について説明する。なお、各搬送台車６Ａ〜６Ｆの構成は実質的に同じであるので、これらを代表して第１の搬送台車６Ａについて述べる。
【００３１】
搬送台車６Ａは、台車本体６１と、２本のアーム６２と、一対の支持カム６３と、間欠回転駆動機構６５と、一対の保持部材６６と、一対のストッパ６８とを備えている。台車本体６１は図示しない進退駆動機構によりレール８Ａに噛み込み連結されており、保持した基板Ｇが水平姿勢となる約８０°回動した場合であっても台車本体６１はレール８Ａから外れないようになっている。
【００３２】
２本のアーム６２は台車本体６１の長手直交軸に対して約１０°傾斜するように台車本体６１の上に直立して設けられている。アーム６２の相互間隔は基板Ｇの長辺より少し大きく、これら２本のアーム６２の間に基板Ｇがもたせ掛けられるようになっている。アーム６２は基板Ｇの重量に耐えられるように台車本体６１に強固に締結されている。アーム６２と台車本体６１は例えばステンレス鋼のような高強度で強靭な金属材料でつくられている。
【００３３】
各アーム６２の上部には保持部材６６および揺動軸６７が取り付けられ、各アーム６２の下部には支持カム６３および間欠回転駆動機構６５が取り付けられている。上部保持部材６６は揺動軸６７まわりに揺動可能に支持され、基板Ｇ支持カム６３は基板Ｇの下部を支持し、回転軸６４により間欠回転駆動機構６５に連結されている。支持カム６３は上面に凹所６３ａを有する厚みのある板カムである。
【００３４】
間欠回転駆動機構６５は、例えばゼネバストップのような機構からなり、支持カム６３を軸６４まわりに所望角度だけ間欠的に回転させうるようになっている。支持カム６３は、基板Ｇを保持搬送するときは図８の（ａ）に示すように凹所６３ａで基板Ｇの下端に接触しているが、基板Ｇを真空処理室内のヒータカバー７３に受け渡すときは図８の（ｂ）に示すように凹所６３ａから基板Ｇの下端が外れるように軸６４まわりに回転される。基板Ｇは受け渡し前後で落差ｈを生じるので、ヒータカバー７３は支持突起７３ａが基板Ｇの下端より少し下方に位置するように台車６Ａに接近するようになっている。
【００３５】
なお、ストッパ６８は基板Ｇの側端部に当接するようにアーム６２の適所に取り付けられ、これにより搬送中の基板Ｇが進行方向（Ｙ軸方向）に位置ずれするのを防止するようになっている。
【００３６】
予備室８０は、製膜室として使用されるのは勿論のことであるが、搬送台車６Ａ〜６Ｆを一時待機（退避）させておく待機室として用いてもよいし、製膜処理前の基板Ｇを予備的に加熱する予備加熱室または冷却する冷却室として用いてもよい。
【００３７】
次に、図９及び図１０を参照しながら製膜室について説明する。なお、各製膜室７０Ａ〜７０Ｅの構成は実質的に同じであるので、これらを代表して第１の製膜室７０Ａについて述べる。
【００３８】
図９に示すように、真空処理室としての製膜室７０Ａの中央には製膜ユニット７１が設置されている。製膜ユニット７１はプラズマＣＶＤ製膜に必要な機器要素７１ａ〜７１ｄを２組ずつ備えるものであり、このユニット７１の両面にカバー７３を介してヒータユニット７２が対面配置されている。各ヒータユニット７２は図示しない製膜室開閉扉上にそれぞれ搭載される。ヒータカバー７３はＸ軸方向に延び出すレールに沿って製膜ユニット７１に向けて搬送され、押し付けられるようになっている。
【００３９】
ヒータユニット７２は片面発熱型の面状ヒータエレメントを備え、図示しない上部または背面支持機構により吊り下げられている。ヒータカバー７３はヒータエレメントの発熱面を保護するためのものであり、例えば４つのボールスクリュウ機構によりヒータユニット７２に対して可動に支持されている。ボールスクリュウ機構は、ナット７４、ステッピングモータ７５、スクリュウ７６を具備し、ヒータ７２（固定）から製膜ユニット７１（固定）までの間でヒータカバー７３を移動させるための機構である。ナット７４はヒータカバー７３の四隅近傍にそれぞれ取り付けられ、モータ７５で回転駆動されるスクリュウ７６に螺合されている。本実施形態ではボールスクリュウ機構によるヒータカバー７３の移動量は最大７０ｍｍである。このような可動ヒータカバー７３と製膜ユニット７１との間に基板Ｇが搬送台車６Ａ〜６Ｆによって搬入されるようになっている。
【００４０】
製膜ユニット７１は、図１０に示すように、ポジショナー７１ａと、ガス供給機能付きラダー電極７１ｂと、製膜ユニットカバー７１ｃと、製膜ユニット温度制御ヒータ７１ｄと、排気通路７１ｅとを備えている。電極７１ｂには図示しない高周波電源およびガス供給源がそれぞれ接続されている。高周波電源は所定周波数の高周波を電極７１ｂに印可し、電極７１ａと基板Ｇとの間にプラズマを生じさせるようになっている。ガス供給源（図示せず）には反応性ガスとして例えばシランを主成分とするプロセスガスが収容されている。製膜ユニットカバー７１ｃは電極７１ｂの背後を覆うように配置されている。
【００４１】
製膜ユニット温度制御ヒータ７１ｂは製膜ユニット７１の中央に設けられている。ヒータ７１ｄの電源は図示しないコントローラに接続され、製膜ユニット７１をＣＶＤ製膜に適した温度にするように制御される。排気通路７１ｅは製膜ユニット７１の中央上部に連通し、製膜ユニット７１の内部を排気するようになっている。
【００４２】
次に、上記実施形態のクラスタ型真空処理システム１を用いて基板Ｇを搬送し、処理する場合について概要を説明する。
【００４３】
製膜予定面を上向きにしてガラス基板Ｇがローダ部としてのローラテーブル２上を搬送されてくると、図示しないセンサが基板Ｇを検知し、この検知信号に基づき送りローラ３が停止され、基板Ｇが所定の受け渡し位置で停止する。この受け渡し位置には、シリンダ１４Ａが駆動してゲート１６Ａを移動させて搬入出口１２Ａを開けた状態で、搬送台車６Ａが待機しており、基板Ｇは２本のアーム６１の真上に位置することになる。
【００４４】
次いで、支持カム６３および保持部材６６により基板Ｇをアーム６１に保持する。基板Ｇの保持動作が完了すると、レール回動機構９により搬送台車６Ａとともに基板Ｇを直立させる。そして、ロード室１０に向けて搬送台車６Ａを走行させる。搬送台車６Ａが接近したことをセンサ（図示せず）で検知すると、搬送台車６Ａはレール８Ａからレール１８Ａの上に乗り移り、この台車の乗り移りが完了したことをセンサ（図示せず）で検知すると、シリンダ１４Ａが駆動してゲート１６Ａを移動させ、搬入出口１２Ａを閉じる。
【００４５】
ロード室１０の後面側のゲート弁を開け、さらに搬送台車６Ａを台車移動接続室４０Ｆに移動させる。ターンテーブル３１を所望角度だけ回転させ、可動レール３８を固定レール１８Ａの延長線上にほぼ揃えたところで、搬送台車６Ａを前進させて可動レール３８の上に乗り移させる。さらに、ターンテーブル３１を所望角度だけ回転させ、可動レール３８を台車移動接続室４０Ａの固定レール１８Ａの延長線上に揃える。
【００４６】
搬送台車６Ａを前進させて固定レール１８Ａの上に乗り移させ、台車移動接続室４０Ａのなかを更に前進させる。ゲート弁１４を開け、搬送台車６Ａを第１の製膜室７０Ａ内に進入させ、台車６Ａを所定位置に停止させ、ゲート弁１４を閉じる。
【００４７】
次いで、ボールスクリュウ機構によりヒータカバー７３を台車６Ａ上の基板Ｇに前進近接させるとともに、支持カム６３および保持部材６６のそれぞれを揺動回転させ、台車のアーム６１から基板Ｇを解放し、ヒータカバー７３の支持突起７３ａの上に基板Ｇを移載する。
【００４８】
基板Ｇの受け渡し動作が完了すると、搬送台車６Ａを真空処理室より外の台車移動接続室４０Ａへ搬出し、ヒータカバー７３を製膜ユニット７１に向けて前進させ、基板Ｇの周縁部を全周にわたりポジショナー７１ａに押し付ける。
【００４９】
製膜ユニット７１の内部を排気しながらプロセスガスを供給するとともに、電極７１ｂに高周波を印可して電極７１ｂと基板Ｇとの間に高周波プラズマを生成する。これにより基板Ｇの表面に所望の膜が製膜される。
【００５０】
製膜処理が完了すると、シリンダ１４Ｃによりゲート１６Ｃを移動させ搬入出口１２Ｃを開け、搬送台車６Ｃを真空処理室内に搬入し、上記と逆の動作をすることにより基板Ｇをヒータカバー７３から搬送台車６Ｃに受け渡す。搬送台車６Ｃはアンロード室２０を退出し、上記と逆の動作をすることによって基板Ｇをローラテーブル２２に移載する。そして、基板Ｇはアンローダ部としてのローラテーブル２２により次工程へ搬出される。
【００５１】
上記実施形態によれば、台車移動接続室を設けることにより共通搬送室の容積が小さくなるので、共通搬送室内の真空排気時間が短縮される。
【００５２】
次に、図１１を参照しながら本発明の他の実施形態について説明する。なお、本実施形態が上記実施形態と重複する部分についての説明は省略する。
【００５３】
本実施形態のクラスタ型真空処理システムは、多角形状の共通搬送室１３０を中央に備え、この共通搬送室１３０を取り囲むようにして多角形の各辺にロード室１１０、５つの製膜室１７０Ａ，１７０Ｂ，１７０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆ、アンロード室１２０および台車待機室１９０が設けられている。このうち台車待機室１９０はゲート弁１４を介することなく共通搬送室１３０に直接連通している。各搬送台車６Ｅ，６Ｆは、他の搬送台車６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄが共通搬送室１３０に入っているときは台車待機室１９０にて待機するようになっている。
【００５４】
このようにゲート弁を持たない台車待機室１９０を用いることにより搬送台車を共通搬送室１３０から素早く退避させることができるので、基板Ｇの搬送時間が短縮化され、スループットが向上する。
【００５５】
なお、上記実施形態では１ｍ角サイズの基板を支持し搬送する場合について説明したが、本発明はこれのみに限られることなく更に大型の基板、例えば１．２ｍ角〜１．５ｍ角サイズの大型基板を保持し搬送することも可能である。
【００５６】
また、上記実施形態では製膜予定面を上向きにして基板をローダ／アンローダ部に搬入搬出する場合について説明したが、本発明はこれのみに限られることなく、製膜ユニット７１とヒータカバー７３との傾斜方向を垂直軸に対して逆に約１０°傾斜させることで、製膜予定面を下向きにして基板をローダ／アンローダ部に搬入搬出することも可能である。
【００５７】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、台車移動接続室を設けることにより共通搬送室の容積が小さくなるので、共通搬送室内の真空排気時間が大幅に短縮される。
【００５８】
また、ゲート弁を持たない台車待機室を設けているので、搬送台車を共通搬送室から台車待機室に素早く退避させることができ、基板の搬送時間が短縮化され、スループットが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るクラスタ型真空処理システムを示す全体斜視図。
【図２】本発明の実施形態に係るクラスタ型真空処理システムを示す平面図。
【図３】搬送台車、ローダ部およびロード室を示す斜視図。
【図４】共通搬送室内のレールと搬送路のレールとの整合を説明するための平面模式図。
【図５】共通搬送室内のレールを示す部分拡大断面図。
【図６】搬送台車用レールの回動機構を示す斜視図。
【図７】基板を保持した搬送台車を示す斜視図。
【図８】（ａ）は搬送時の基板の支持状態を説明するために搬送台車の一部を拡大して示す部分拡大図、（ｂ）は移載時の基板の支持状態を説明するために搬送台車およびヒータカバーの一部を拡大して示す部分拡大図。
【図９】製膜室の内部を透視して示す分解斜視図。
【図１０】製膜室内の製膜ユニットおよびヒータユニットの一部を切り欠いて内部を示す分解斜視図。
【図１１】本発明の他の実施形態に係るクラスタ型真空処理システムを示す平面図。
【図１２】従来の装置を示す平面図。
【符号の説明】
６Ａ〜６Ｆ…搬送台車、
８Ａ〜８Ｄ，１８Ａ，１８Ｂ，３８…レール、
９…レール回動機構、
１０…ロード室、
２０…アンロード室、
３０…共通搬送室（台車回転室）、
７０Ａ〜７０Ｅ…製膜室（真空処理室）、
７１…製膜ユニット、
７１ａ…ポジショナー（周囲外枠）、７１ｂ…ガス供給機能付ラダー電極、
７１ｃ…製膜ユニットカバー、７１ｄ…製膜ユニット温度制御ヒータ、
７１ｅ…排気通路、
７２…ヒータユニット、７３…ヒータカバー、
８０…予備室、
Ｇ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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