(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶剤が貯溜されワークを浸漬して洗浄する洗浄槽と、
上記洗浄槽の上方にワーク出入口とを備え、
上記洗浄槽に水分離槽が隣設された洗浄装置であって、
上記洗浄槽の液面と上記水分離槽の液面との間に蒸気層を形成し、
上記蒸気層と上記ワーク出入口との間であって上記ワーク出入口に対してオフセットした位置に蒸気冷却ジャケットを備えて上記蒸気層と上記ワーク出入口との間に乾燥領域を形成し、
上記蒸気冷却ジャケットによって液化した溶剤を上記水分離槽に流下させるよう構成し、
上記水分離槽における上記洗浄槽寄りの部分には上記洗浄槽に対して水分離後の溶剤を還流するための隔壁とオーバーフロー部を備え、
上記水分離槽の上方部に上記蒸気層の蒸気を冷却する冷却手段を備えると共に、
上記冷却手段の一部を上記水分離槽の溶剤液中に浸漬した
洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばＡＫ−２２５（商品名）、ＨＦＣ、ＨＣＦＣ、ＨＣＦＣ、メチレンクロライドなどの有機溶剤やＰＦＣなどのフッ素系不活性溶剤その他の溶剤（次世代溶剤を含む）を用いてワーク（電子部品、精密部品、プリント配線基板、金属部品その他の各種ワーク）を洗浄処理するような洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上述例の洗浄装置としては次の如き構成の装置がある。
すなわち、溶剤が貯溜された洗浄槽を設け、この洗浄槽の液面と冷却コイルまたは冷却ジャケットなどの冷却手段との間に溶剤の蒸気層を形成し、さらに蒸気層上部にはワーク出入口と連通する乾燥層が形成された洗浄装置である。
【０００３】
而して、ワークの洗浄に際してはワーク出入口からワークを洗浄槽の溶剤液中に浸漬して洗浄し、浸漬後のワークを蒸気層まで持上げて、ワークの表面に付着した不純物を溶剤蒸気にて除去すると共に、溶剤の持出しを防止すべくワークを蒸気乾燥し、この後、ワークを乾燥層まで持上げて、ワークを乾燥処理するものである。
この従来装置においては溶剤ロスを防止するために上述の洗浄装置に図２に示す如き回収装置９０を別途設けて、溶剤が回収されていた。
【０００４】
つまり上述の乾燥層に連通する溶剤ガス回収ライン９１にエアポンプ９２を介設し、このエアポンプ９２の吐出ライン９３を回収槽９４のインレットポート９５に接続し、この回収槽９４の内部には冷凍サイクルのエバポレータとして作用する冷却コイル９６を配設して、溶剤ガスを液化再生し、回収槽９４の底部に設けられたアウトレットポート９７には送液ポンプ９８が介設されたリターンライン９９を接続して、回収された液化溶剤を再利用すべく構成した回収装置である。
このように従来の洗浄装置においては別途設けられた回収装置９０が必要となる関係上、装置全体が複雑化することは勿論、装置が大型化し、かつコストアップする問題点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
この発明の請求項１記載の発明は、冷却手段の冷却能力向上を図り、回収装置を用いることなく溶剤ロスを僅少として、また、冷却手段の一部を水分離槽の溶剤液中に浸漬することで、水分離槽の冷却を実行し、水分離を促進して、水分離槽の溶剤温度低下を図って、さらに、冷却効果を高めることができる洗浄装置の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項１記載の発明は、溶剤が貯溜されワークを浸漬して洗浄する洗浄槽と、上記洗浄槽の上方にワーク出入口とを備え、上記洗浄槽に水分離槽が隣設された洗浄装置であって、上記洗浄槽の液面と上記水分離槽の液面との間に蒸気層を形成し、上記蒸気層と上記ワーク出入口との間であって上記ワーク出入口に対してオフセットした位置に蒸気冷却ジャケットを備えて上記蒸気層と上記ワーク出入口との間に乾燥領域を形成し、上記蒸気冷却ジャケットによって液化した溶剤を上記水分離槽に流下させるよう構成し、上記水分離槽における上記洗浄槽寄りの部分には上記洗浄槽に対して水分離後の溶剤を還流するための隔壁とオーバーフロー部を備え、上記水分離槽の上方部に上記蒸気層の蒸気を冷却する冷却手段を備えると共に、上記冷却手段の一部を上記水分離槽の溶剤液中に浸漬した洗浄装置の提供を目的とする。
【０００７】
【発明の作用及び効果】
この発明の請求項１記載の発明によれば、冷却手段が溶剤液中に浸漬されているので、冷却手段を構成するコイルや冷却管の面積と液化された再生溶剤とで冷却面積の増大を図ることができ、冷却コイル等の冷却手段の冷却能力の向上を図ることができる。したがって冷却による液剤ガス回収率を大幅に高めることができるので、従来のような回収装置を用いることなく溶剤ロスの僅少化を達成することができる効果がある。
また冷却手段を構成する冷却管表面温度に変動が発生しても溶剤を冷却することで、ほぼ一定の冷却効果を確保することができる。
【０００８】
さらに、冷却手段の一部を水分離槽の溶剤液中に浸漬させたので、この冷却手段の一部により水分離槽の冷却が実行され、水分離が促進すると共に、水分離槽の溶剤温度低下を図って、冷却効果を高めることができる効果がある。
【０００９】
【実施例】
この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳述する。
図面は洗浄装置を示し、図１において、この洗浄装置１１は上面にワーク出入口１２が形成されたタンク１３の下部に洗浄槽１４と水分離槽１５とが隣設形成されている。
上述のワーク出入口１２に対して一側にオフセットされた位置には冷却手段としての冷却ジャケット１６を配設し、この冷却ジャケット１６の下部には液化溶剤Ａを受ける深さ３０mm以上の受け樋１７が外部ケーシング１８と一体もしくは一体的に形成され、冷却ジャケットコイルを１本以上液中に漬けるように構成している。
【００１０】
上述の受け樋１７の液化溶剤Ａ中には冷却ジャケット１６の一部を浸漬している。また受け樋１７で受けた液化溶剤Ａは水分離槽１５に流下するように構成している。
【００１１】
一方、上述のワーク出入口１２に対して他側にオフセットされた水分離槽１５の上方部には冷却手段としての冷却コイル１９を配設し、この冷却コイル１９の一部を水分離槽１５の液化溶剤Ａ中に浸漬している。
【００１２】
ところで、上述の洗浄槽１４には溶剤Ｂ（液化溶剤Ａと同一の溶剤）を貯溜すると共に、この溶剤Ｂの液面ｂと冷却手段（冷却ジャケット１６、冷却コイル１９）との間には該溶剤Ｂの蒸気層Ｃ（図示の便宜上、多点を施して示す）を形成し、この蒸気層Ｃとワーク出入口１２との間を乾燥領域Ｄに設定している。
【００１３】
上述の洗浄槽１４には溶剤Ｂを所定温度に加熱して蒸気層Ｃを形成する加熱手段としてのヒータ２０を配設する一方、水分離槽１５における洗浄槽１４寄りの部分には隔壁２１を取付け、水分離後の液化溶剤Ａ（再生溶剤）をオーバーフロー部２２を介して洗浄槽１４に還流すべく構成している。
【００１４】
また上述の冷却ジャケット１６および冷却コイル１９により形成される冷却領域Ｅ（冷却ゾーン）と、蒸気層Ｃ上部においてワーク出入口１２に連通する乾燥領域Ｄとを仕切る逆Ｌ字状の仕切板２３，２４（完全な盲板またはした半分がパンチングメタル構造の板）を設け、これら各仕切板２３，２４により装置開口部を２領域Ｄ，Ｅに区分けしている。
【００１５】
ここで、上述の溶剤Ｂとしては化学式ＣＦ３  ＣＦ２  ＣＨｃｌ２  ｃｃｌＦ２  ＣＦ２  ＣＨｃｌＦで表わされるＡＫ−２２５（商品名）、ＨＦＥ、ＨＣＦＣ、ＨＦＣ、メチレンクロライドなどの有機溶剤やＰＦＣなどのフッ素系不活性溶剤その他の代替フロン溶剤あるいは次世代溶剤を用いることができる。
また上述の冷却ジャケット１６および冷却コイル１９は冷凍サイクルのエバポレータとしての作用するものである。
【００１６】
このように構成した洗浄装置１１によりワーク（図示せず）を洗浄するには、ワーク出入口１２からワークを洗浄槽１４の溶剤Ｂ液中に浸漬して洗浄し、浸漬後のワークを蒸気層Ｃまで持上げて、ワークの表面に付着した不純物を溶剤蒸気にて除去すると共に、溶剤の持出しを防止すべくワークを蒸気乾燥し、この後、ワークを乾燥層Ｄまで持上げて、ワークを乾燥処理する。
【００１７】
ところで、冷却手段としての冷却ジャケット１６および冷却コイル１９の一部が液化溶剤Ａ（溶剤Ｂが蒸気化、ガス化された後、冷却により液化再生したもの）の液中に浸漬されているので、冷却手段を構成するコイルや冷却管の面積と液化された再生溶剤Ａとで冷却面積の増大を図ることができ、冷却ジャケット１６や冷却コイル１９の冷却能力の向上を図ることができる。
【００１８】
したがって、冷却による液剤ガス回収率を大幅に高めることができるので、従来のような回収装置を用いることなく溶剤ロスの僅少化を達成することができる効果がある。
また冷却手段（冷却ジャケット１６、冷却コイル１９）を構成する冷却管表面温度に変動が発生しても溶剤Ａを冷却することで、ほぼ一定な冷却効果を確保することができる。
【００１９】
さらに冷却コイル１９の一部を水分離槽１５の溶剤Ａ液中に浸漬させたので、この冷却コイル１９の一部により水分離槽１５の冷却が実行され、水分離が促進すると共に、水分離槽１５の溶剤温度低下を図って、冷却効果を高めることができる効果がある。
【００２０】
加えて、ワーク出入口１２（開口部）に連通する乾燥領域Ｄと、冷却手段（冷却ジャケット１６、冷却コイル１９）で形成される冷却領域Ｅとを仕切り手段としての仕切板２３，２４で仕切って区分けしたので、乾燥領域Ｄの冷却と、乾燥領域Ｄからの溶剤ガスの回収とを促進することができて、洗浄工程で溶剤ロスの少ない洗浄装置と成すことができる効果がある。また上述の仕切板２３，２４により溶剤ガスを冷却領域Ｅ内に吸い込むことができ、乾燥領域Ｄでの風の乱れや対流を防止することができる。
なお、上述の洗浄槽１４は沸騰洗浄槽および超音波洗浄槽の複数槽構成としてもよく、洗浄槽１４の図示左側にその液面が蒸気層Ｃと連通する蒸溜槽を設けてもよい。
【００２１】
この発明の構成と、上述の実施例との対応において、
この発明の冷却手段は、実施例の冷却コイル１９に対応し、
以下同様に、
洗浄装置は、洗浄装置１１に、
洗浄槽は、洗浄槽１４に、
ワーク出入口は、ワーク出入口１２に、
水分離槽は、水分離槽１５に、
蒸気層は、蒸気層Ｃに、
蒸気冷却ジャケットは、冷却ジャケット１６に、
乾燥領域は、乾燥領域Ｄに、
隔壁は、隔壁２１に、
オーバーフロー部は、オーバーフロー部２２に対応するも、
この発明は、上記実施例の構成のみに限定されるものではない。
【００２２】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の洗浄装置を示す断面図。
【図２】  従来の洗浄装置に付随する回収装置の説明図。
【符号の説明】
１２…ワーク出入口
１４…洗浄槽
１５…水分離槽
１６…冷却ジャケット
１７…受け樋
１９…冷却コイル
２３，２４…仕切り板
Ａ…液化溶剤
Ｂ…溶剤
Ｃ…蒸気層
Ｄ…乾燥領域
Ｅ…冷却領域
【図１】
0003808956.tif 000002
【図２】
0003808956.tif 000003