(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物を加工するワイヤ電極と、前記ワイヤ電極を下部で支持する下部ガイドと、前記ワイヤ電極を上部で支持する上部ガイドと、前記下部ガイド及び前記上部ガイド内に位置し前記ワイヤ電極に給電する給電ダイスを有するワイヤ放電加工装置において、前記下部ガイドの上部に位置し加工液を噴出する下部ノズル内に、円盤状の下部ワイヤガイドホルダーと、前記下部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し前記下部ワイヤーガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを備え、前記下部ワイヤガイドホルダーの直下に溝が形成された下部ブロックを設け、前記溝に配置され、前記下部ワイヤガイドホルダーの直下に前記給電ダイスを配置したことを特徴とするワイヤ放電加工装置。
【請求項２】
前記下部ガイド及び前記上部ガイドに前記給電ダイスの中央に係合し前記給電ダイスを回転可能とする軸を設けたことを特徴とする請求項１記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項３】
給電ダイスは円盤状であり、その外周に多数の溝を有することを特徴とする請求項２記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項４】
軸は給電ダイスの溝と対応する溝を有し、下部ガイド及び上部ガイドに前記軸の溝にボールが収まることにより前記軸の位置決めを行う支持ブロックを設けたことを特徴とする請求項３記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項５】
軸の先端に前記軸を回転させるノブを設けたことを特徴とする請求項４記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項６】
下部ガイド及び上部ガイドに、軸に接触し前記軸の位置を固定するボルトと、前記ボルトを収納する通路とを設けたことを特徴とする請求項５記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項７】
被加工物を加工するワイヤ電極と、前記ワイヤ電極を下部で支持する下部ガイドと、前記ワイヤ電極を上部で支持する上部ガイドと、前記下部ガイド及び前記上部ガイド内に位置し前記ワイヤ電極に給電する給電ダイスを有するワイヤ放電加工装置において、前記上部ガイドの上部ノズル上方に、スプリングを介して前記ワイヤ電極挿入用のジェットノズルを前記上部ノズルと前記ジェットノズルの噴出口が同一軸となるように設け、前記ジェットノズル内部に、円盤状の上部ワイヤガイドホルダーと、前記上部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し前記上部ワイヤーガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを備え、前記上部ワイヤガイドホルダーの直上に溝が形成された上部ブロックを設け、前記溝に配置され、前記上部ワイヤガイドホルダーの直上に前記給電ダイスを設けたことを特徴とするワイヤ放電加工装置。
【請求項８】
前記下部ガイド及び前記上部ガイドに、前記ワイヤ電極が通過するワイヤ通路に冷却用液を供給する絶縁体で構成された通路を設けたことを特徴とする請求項１または７記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項９】
前記下部ガイド及び前記上部ガイドに、前記下部ガイドの下部ノズル及び前記上部ガイドの上部ノズルに加工液を供給する通路と前記ワイヤ電極が通過するワイヤ通路に冷却用液を供給する通路を設けたことを特徴とする請求項１または７記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項１０】
前記下部ガイドの下方に前記ワイヤ電極を通過させる中央通路と前記中央通路に接続され、下方方向に傾斜している傾斜通路とを有する負圧発生装置と、前記負圧発生装置に加工液を供給する配管を設けたことを特徴とする請求項１または７記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項１１】
前記下部ガイドの上端に加工液を噴出させる噴出口の先端部が平面状である下部ノズルを設けたことを特徴とする請求項１または７記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項１２】
下部ノズル内にあって噴出口の直下に網を設けたことを特徴とする請求項１１記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項１３】
前記下部ガイドの上部に位置し加工液を噴出する下部ノズル内に空間を挟んだ二層構成の下部ワイヤガイドホルダーと前記下部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し前記下部ワイヤーガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを設け、前記下部ワイヤガイドホルダーの下層部に加工液を前記下部ワイヤガイドホルダーの空間内に供給する加工液供給口を設けたことを特徴とする請求項１または７記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項１４】
下部ワイヤガイドホルダーの上層部の外周に下部ノズル内部に加工液を供給する通路を設けたことを特徴とする請求項１３記載のワイヤ放電加工装置。
【請求項１５】
前記下部ガイドの下部ノズル噴出口に下方向に向かって徐々に径が小さくなるような三角錐形状の傾斜ノズルを設けたことを特徴とする請求項１または７記載のワイヤ放電加工装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ワイヤ電極に給電し被加工物を加工するワイヤ放電加工装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図１はワイヤ放電加工装置の概要を示す図である。
図中、１は機械のベースであるベッドで、ＸＹ軸駆動装置が積載されている。２はＸ軸テーブルで、ベッド１に固定されたＸ軸ガイド３に移動自在に支持されるＸ軸スライド４を介して移動方向に自在に支持される。５はＸ軸ボールネジ、６は被加工物を固定するテーブル、７は加工液を留める加工槽、８はＺ軸装置９を支持するコラムで下部アーム１０ａが固定されている。さらに、コラム８は固定もしくは下部アーム１０ａの長手軸方向に沿って移動可能である。この下部アーム１０ａの先端部には下部ガイド１１ａが取り付き、内部のローラにおいてワイヤ電極１２の方向変換を行う。
【０００３】
１３ａはＺ軸装置９の先端部に固定されている上部ガイドである。１４はＹ軸ガイドでベット１の上に固定されＹ軸スライド１５が係合し軸方向に移動自在に支持する。１６はＹ軸ボールネジ、１７及び１８はそれぞれＹ軸及びＸ軸モーターである。１９はワイヤ電極１２を回収する回収ローラ２０を支持するワイヤ回収でコラム８に固定される。２１は回収されたワイヤ電極１１を収納する回収箱である。２２はワイヤボビン、２３はベッドの下方に配置されるパッド、２４は機械全体の傾斜を調整するレベリングボルトである。次に下部ガイド１１ａの詳細について説明する。
【０００４】
図１５、図１６は図１のワイヤ放電加工装置における、従来の下部ガイドを示す図である。図１５は下部ガイド１１ａの一部を水平断面にして示す図であり、図１６は下部ガイド１１ａの軸方向の縦断面図である。
【０００５】
下部アーム１０ａの先端には絶縁板２０１を介してボルト２０２で下部ガイド１１ａが固定されている。この取り付け面は下部アーム１０ａ先端に対して垂直方向である。この下部ガイド１１ａは下部ノズル２０３、給電ダイス２０４、下部ワイヤガイドホルダー２０５、ガイド支持板２０６及び下部ブロック２０７で主に構成されており、下部アーム１０ａへの固定は下部ブロック２０７により主体的に担当されている。
【０００６】
下部ワイヤガイドホルダー２０５は細長い円筒状をし、その上方先端部にはワイヤ電極を精密に案内するワイヤガイド２０５ａを有し、下部ブロック２０７にねじ込まれて固定されている。下部ブロック２０７はローラ２０８を含み、ワイヤ電極１２の方向変換をワイヤ通路２０７ｃで行っている。ワイヤ通路２０７ｃは、テーパ状のワイヤ入り口２０７ａと出口２０７ｂをもつ。出口２０７ｂには回収パイプ２０９が接続されている。さらに、下部搬送水流出口２１０が設けられローラ２０８により方向変換したワイヤ電極１２をワイヤ回収１４まで搬送するための搬送水流が噴出するようになっている。
【０００７】
ガイド支持板２０６は給電ダイス２０４を内蔵する。給電ダイス２０４は給電ダイス押さえ板２１１にてガイド支持板２０６との間において固定さている。また、ガイド支持板２０６は給電ダイス２０４を取り出す為に引き出し板２１２を内蔵する。２１３は下部補助ガイドで下部ワイヤガイドホルダー２０５とあわせてワイヤ電極１２を給電ダイス２０４に押し付け給電させる構造となっている。
【０００８】
下部ノズル２０３は加工液を噴出する部分で、その内部には配管２１４により加工液が高圧流体として供給される。２１５はスプリング、２１６は下部ノズル２０３の押さえ板である。下部ノズル２０３は加工中は内部に供給された加工液によりスプリング２１５を圧縮させて上昇し押さえ板２１６にて止まり、被加工中は加工液が供給されないので下に戻る。また、下部ノズル２０３は加工液が供給されず下に戻った時に下部ワイヤガイドホルダー２０５と接触しない様に、上面が先端に向かって断面積が徐々に減少していく形状になっている。
【０００９】
２１７はガイド支持板２０６に接続される配線で電源からの加工電流を給電ダイス２０４に供給する。当然ながら、ガイド支持板２０６は導電性の材料で構成されている。２１８はボルトでガイド支持板２０６を下部ブロック２０７に固定する役目を持つ。下部ワイヤガイドホルダー２０５の先端部でワイヤガイド２０５ａの近傍には通路２１９が設けられている。これは給電ダイス２０４とワイヤ電極１２が接触通電することによる放電により発生する熱やワイヤ電極１２に電流が流れることにより発生するジュール熱を冷却する加工液を通すためのものであり、配管２１４の一部を分岐して構成され、下部ノズル２０３の内部の圧力を低下させることなく加工液を供給する。また、冷却用の加工液は下部補助ガイド２１３及び回収パイプ２０９を通り下流方向へ流され回収される。
【００１０】
２２０は配線２１７が接続される端子であり、ガイド支持板２０６の側面に配置されている。２２１は配管２１４が接続するパイプエンドであり、ガイド支持板２０６の側面に配置されている。２２２は下部ノズル２０３内に位置する整流板であり、パイプエンド２２１から下部ノズル２０３の内部に送られる加工液の整流化を行っている。２２３はボルトである。
【００１１】
さらに上部ガイド１３ａの詳細について説明する。
図１７は図１における上部ガイド１３ａの軸方向の縦断面図である。
上部ガイド１３ａはＺ軸装置９の先端部に取り付け板２５０を介して固定されている。２５１は上部ブロックであり、給電ダイス２５２、上部ワイヤガイドホルダー２５３、ハウジング２５４、ジェットノズル２５５及び上部ノズル２５６が付帯している。上部ワイヤガイドホルダー２５３は細長い円筒状をし、その下方先端部にはワイヤ電極を精密に案内するワイヤガイド２５３ａを有し、上部ブロック２５１にねじ込まれて固定されている。
【００１２】
２５５はワイヤ電極１２を水中ジェットで案内し挿入するためのジェットノズルであり、上下方向に移動自在にスプリング２５７を介してハウジング２５４と上部ワイヤガイドホルダー２５３の間の空間に収納されている。
【００１３】
２５８は加圧した加工液を供給する加工液通路である。この上部ガイド１３ａに供給された加工液は、まずハウジング２５４と上部ノズル２５６で囲まれた空間２５４ａに入り後にハウジング２５４の加工液通路２５４ｂを通過し、ハウジング２５４と上部ノズル２５６の先端部で囲まれた空間２５４ｃに送られ、上部ノズル２５６の先端部に設けられた噴出口２５６ａより吹き出る。なお、この様な加工液搬送方法は特開昭５７―１２１４２１号公報にも記載されている。また、上部ワイヤガイドホルダー２５３にも下部ワイヤガイドホルダー２０５と同様に通路２５９がワイヤガイド２５３ａの上部近傍に設けられており、加工中の上部ノズル２５６による内部の静圧を利用して加工液を取り込み、上部ワイヤガイドホルダー２５３内部のワイヤ電極１２の冷却及び給電ダイス２５２の接触通電部分の冷却に用いられている。
【００１４】
２６０はジェット配管であり取り付け板２５０及び上部ブロック２５１内部を通り、上部ワイヤガイドホルダー２５３と上部ブロック２５１の取り付け部分に通じている。ジェット配管２６０内部には加工液が流れ、その加工液はジェットノズル２５５の内部の空間に一度溜められた後、ジェットノズル２５５の先端部より小径のジェット水流として噴出し、ワイヤ電極１２を下部ガイド１１ａへ供給するように構成されている。２６１は上部補助ガイド、２６２は給電ダイス２５２の給電ダイス押さえ板、２６３は引き出し板である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のワイヤ放電加工装置の下部ガイド１１ａにおいては、ワイヤ電極は上部ガイド１３ａから下部ガイド１１ａに送られており、給電ダイス２０４により加工電流がワイヤ電極１２に供給され被加工物へ伝わり加工に供される。この場合、給電ダイス２０４とワイヤ電極１２との接触部では微少の放電により発熱し、またワイヤ電極１２に電流が流れることによりジュール熱も発生する為、この熱によりワイヤ電極１２が切断されるのを避けるべく通路２１９を通じてノズル２０３の内部静圧を利用して加工液をワイヤ電極１２に沿って流し冷却している。しかしながら、給電ダイス２０４と被加工物の間には距離がある為、ワイヤ電極１２自体の抵抗及び温度上昇による抵抗増大により加工電流は制限されてしまい加工能率が低下するという問題があった。
【００１６】
なお、従来の構成では図示のごとく下部ワイヤガイドホルダー２０５が円筒状で長く、さらに下部ワイヤガイドホルダー２０５の下方に給電ダイス２０４が配置されており給電ダイス２０４を下部ノズル２０３の先端に接近させるのはきわめて困難である。同様の問題は上部ガイド１３ａでも発生していた。
【００１７】
また、給電ダイス２０４は給電ダイス押さえ板２１１によりガイド支持板２０６に対して押し当てガイド支持板２０６との接触を確実にし配線２１７より供給される加工電流をワイヤ電極１２へ接触給電する。この場合、一定時間給電加工すると給電ダイス２０４は微少放電の影響により消耗してしまい、定期的に給電ダイス２０４のワイヤ電極１２に接触する給電面を交換する必要がある。この交換においては、給電ダイス押さえ板２１１を取り除き、引き出し板２１２により外部へ給電ダイス２０４を引き出し新しい位置を割り出した後に逆の順序で固定する必要があり、手間がかかると同時に装置を止めなければならないという問題があった。同様の問題は上部ガイド１３ａでも発生していた。
【００１８】
また、上部ワイヤガイドホルダー２５３のワイヤガイド２５３ａはワイヤ電極１２の径が異なればそれにあったものに交換する必要があり、ジェットノズル２５５についても同様に被加工物に設けられた挿入穴の径により最適なものを選択するのが挿入の信頼性を上げるうえで重要である。ワイヤガイド２５３ａやジェットノズル２５５を交換する場合、上部ノズル２５６、ハウジング２５４及びジェットノズル２５５を外し、その後に上部ワイヤガイドホルダー２５３を工具などにより上部ブロック２５１より外し、据え付け時には、逆の順序を行う必要があって、分解及び据え付けに手間がかかるという問題があった。
【００１９】
また、下部ガイド１１ａではワイヤ電極１２の冷却の為に、下部ノズル２０３の内部より背圧を利用して通路２１９から加工液をワイヤ電極１２に沿って流すが、被加工物と下部ノズル２０３が治具などとの干渉防止及び形状に段差があるなどの理由で被加工物と下部ノズル２０３が離れて配置し加工する場合があり、十分な背圧が得られず冷却流量が不足するという問題があった。さらに、この解決の為に通路２１９を大きくすることも可能であるが、被加工物と下部ノズル２０３の密着加工では冷却流量が多すぎてワイヤ電極１２の振動など二次障害が発生し、あるいは加工状態に応じて通路２１９の径が異なるガイドに交換する必要があるなどきわめて不便である。同様の問題は上部ガイドでも発生している。
【００２０】
また、冷却用の通路２１９は一般的に１ｍｍ以下の小径にて構成する場合が多いが、加工電流が流れる磁場の影響で下部ワイヤガイドホルダー２０５が磁化されると加工液中に含まれる加工スラッジや金属粉が堆積し、長時間使用していると目詰まりが起き冷却流量が不足する。これを回避する為に定期的に清掃しなければならないという問題があった。特に、背圧が作用しにくい非密着加工時に目詰まりは発生しやすい。なお、これは水中における導電体の局部電池の作用も働いているものと推定され、この現象の解消は困難である。
【００２１】
また、下部ガイド１１ａを通過し挿入されるワイヤ電極１２はローラ２０８によりワイヤ回収１４に向かって向きを変え下部搬送水流により送られるが、図１６に示すごとく下部搬送水流噴出口２１０は回収パイプ２０９の同一線上に設けらており下部補助ガイド２１３を通過した後にローラ２０８までの間のワイヤ搬送はワイヤ電極１２自体の剛性による直線性に委ねられることになる。従って、途中において座屈することもありワイヤ入り口２０７ａだけではその座屈などによる障害は避けられないという問題があった。
【００２２】
また、下部ガイド１１ａの下部ノズル２０３の形状は先端に向かって断面積が徐々に減少していく構成になっており、整流板２２２を通過した後の加工液の流れは一端下部ノズル２０３内部の空間に溜められ、その後噴出口より吹き出ていくが動圧が完全に静圧に変換することなく噴出するため噴出口において水流の速度成分が均等にならず乱流をなし、方向が定まらずに噴出してしまう。このため加工が不完全になり、さらに加工液流量が少ない場合は偏った流れになり加工性能に大きな影響を与えるという問題があった。
【００２３】
特に、微細流量を流す必要のある加工電流の小さな加工条件、あるいはワイヤ電極１２が小径になった場合などは加工噴流の乱れはきわめて性能に大きく影響するため均質な流量を持った噴流が必要であり、下部ノズル２０３内部の空間の容積だけでは十分な静圧変換は行われない。さらに、下部ノズル２０３内部の加工液の静圧を十分にするためには流速を落とした状態でまんべんに下部ノズル２０３内部に加工液を供給する必要があり、従来の数カ所の噴出口ではこれを実現させるのに難しい。
【００２４】
また、上部ガイド１３ａからジェット水流により送給されるワイヤ電極１２は下部ガイド１１ａの先端部に設けられたテーパ状の案内により下部ガイド１１ａに導かれていくが、被加工物の形状あるいはワイヤ通過穴の形状などによりジェット水流が下方に向かって直進するとは限らず、偏向した場合に下部ガイド１１ａにワイヤ電極１２が挿入されず機械の停止を発生させたり、加工形状に制約を及ぼすという問題があった。
【００２５】
なお、従来例として特開昭６０―１０４６１８号公報に記載されたワイヤ放電加工装置もある。このワイヤ放電加工装置でも、ワイヤホルダーは長い筒状の形をしており、給電ダイスとノズルの先端にかなり距離があり加工電流が制限されるという問題は解決されない。
【００２６】
また、従来例として特開平４―３０９１９号公報に記載されたワイヤ放電加工装置もある。このワイヤ放電加工装置の下部ガイドにおいては、下部ワイヤガイドホルダーに相当する部分は円筒状ではなく直方体の形状をし、その下方に給電ダイスがもうけられている構造ではあるが、給電ダイスとノズルの先端にはかなり距離があり加工電流が制限されるという問題は解決されていない。
【００２７】
また、従来例として実開昭６１―８９４３３号公報に記載された複数の溝を有するワイヤ放電加工装置の給電チップもある。この給電チップを使用しても、接触放電により給電チップが消耗した場合にはこの給電チップを取り出して位置を割り出した後、逆の順序で固定する必要があり手間がかかるという問題は解決されていない。
【００２８】
また、従来例として実開昭５９―１１６１２６号公報に記載されたワイヤ放電加工装置もある。このワイヤ放電加工装置の下部ノズルの形状は、先端に向かって断面積が徐々に減少していく構成になっており、仕切り板を設けたとしても噴出口において水流の速度成分が均等にならず乱流をなし、方向が定まらずに噴出してしまうという問題を十分には解決されない。
【００２９】
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、第一の目的は給電ダイスと被加工物との距離を短かくし、給電ダイスとワイヤ電極が接触することにより発生する熱及びワイヤ電極のジュール熱によりワイヤ電極が切断されることを防止できるワイヤ放電加工装置を得ることである。
【００３０】
第二の目的は、給電ダイスのワイヤ電極との接触面を容易にかえることができるワイヤ放電加工装置を得ることである。
【００３１】
第三の目的は、上部ガイドのワイヤガイド及びジェットノズルの取り外し及び据え付けが容易にできるワイヤ放電加工装置を得ることである。
【００３２】
第四の目的は、ワイヤ電極と給電ダイスとが通電することにより発生する熱を冷却する冷却液を、常に十分にワイヤ電極に流すことができるるワイヤ放電加工装置を得ることである。
【００３３】
第五の目的は、ワイヤ電極挿入時に下部ノズル内でワイヤ電極が座屈することを防止できるワイヤ放電加工装置を得ることである。
【００３４】
第六の目的は、下部ノズルの噴出口から噴出する加工噴流が乱れることを防止できるワイヤ放電加工装置を得ることである。
【００３５】
第七の目的は、ワイヤ電極を上部ガイドから下部ガイド内に容易に挿入できるワイヤ放電加工装置を得るものである。
【００３６】
【課題を解決するための手段】
この発明は、下部ガイドの上部に位置し加工液を噴出する下部ノズル内に円盤状の下部ワイヤガイドホルダーと、下部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し下部ワイヤガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを備え、下部ワイヤガイドホルダーの直下に溝が形成された下部ブロックを設け、この溝に配置され、下部ワイヤガイドホルダーの直下に給電ダイスを配置したワイヤ放電加工装置とした。
【００３７】
また、下部ガイド及び上部ガイドに給電ダイスの中央に係合し、給電ダイスを回転可能とする軸を設けた。
さらに、給電ダイスを円盤状とし、外周に多数の溝を設けた。
さらに、軸に給電ダイスの溝と対応する溝を形成し、軸の溝にボールが収まることにより軸の位置決めを行う支持ブロックを設けた。
さらに、軸の先端に軸を回転させるノブを設けた。
さらに、下部ガイド及び上部ガイドに、軸に接触し軸の位置を固定するボルトと、ボルトを収納する通路を設けた。
【００３８】
また、この発明は、上部ガイドの上部ノズル上方にスプリングを介してワイヤ電極挿入用のジェットノズルを、上部ノズルとジェットノズルの噴出口が同一軸となるように設け、ジェットノズル内部に円盤状の上部ワイヤガイドホルダーと上部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し、上部ワイヤガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを備え、上部ワイヤガイドホルダーの直上に溝が形成された上部ブロックを設け、この溝に配置され、上部ワイヤガイドホルダーの直上に給電ダイスを設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００３９】
また、この発明は下部ガイド及び上部ガイドにワイヤ電極が通過するワイヤ通路に冷却用液を供給する絶縁体で構成された通路を設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００４０】
また、この発明は下部ガイドの下部ノズル及び上部ガイドの上部ノズルに加工液を供給する通路とワイヤ電極が通過するワイヤ通路に冷却用液を供給する通路を設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００４１】
また、この発明は下部ガイドの下方にワイヤ電極を通過させる中央通路と中央通路に接続され、下方方向に傾斜している傾斜通路とを有する負圧発生装置と、負圧発生装置に加工液を供給する配管を設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００４２】
また、この発明は下部ガイドの上端に加工液を噴出させる噴出口の先端部が
平面状である下部ノズルを設けたワイヤ放電加工装置とした。
さらに、下部ノズル内にあって噴出口の直下に網を設けた。
【００４３】
また、この発明は下部ガイドの上部に位置し加工液を噴出する下部ノズル内に空間を挟んだ二層構成の下部ワイヤガイドホルダーと、下部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し下部ワイヤガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを設け、下部ワイヤガイドホルダーの下層部に加工液を下部ワイヤガイドホルダーの空間内に供給する加工液供給口を設けたワイヤ放電加工装置とした。
さらに、下部ワイヤガイドホルダーの上層部の外周に下部ノズル内部に加工液を供給する通路を設けた。
【００４４】
また、この発明は下部ガイドの下部ノズル噴出口に下方に向かって徐々に径が小さくなるような三角錐状の傾斜ノズルを設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００４５】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１は、ワイヤ放電加工装置の概要を示す図である。
図中、１は機械のベースであるベッドで、ＸＹ軸駆動装置が積載されている。２はＸ軸テーブルで、ベッド１に固定されたＸ軸ガイド３に移動自在に支持されるＸ軸スライド４を介して移動方向に自在に支持される。５はＸ軸ボールネジ、６は被加工物を固定するテーブル、７は加工液を留める加工槽、８はＺ軸装置９を支持するコラムで下部アーム１０が固定されている。さらに、コラム８は固定もしくは下部アーム１０の長手軸方向に沿って移動可能である。この下部アーム１０の先端部は上面３分の１程度が切り欠いた形状になっている。１１は下部ガイドであり、下部アーム１０の先端の切り欠いた部分に下方半分程度が収納されるように下部アーム１０に載置固定されている。また、下部アーム１０の先端方向で、下部ガイド１１の下方向にはローラがとりついており、ワイヤ電極１２の方向変換を行う。
【００４６】
１３はＺ軸装置の先端部に固定されている上部ガイドである。１４はＹ軸ガイドでベット１の上に固定されＹ軸スライド１５が係合し軸方向に移動自在に支持する。１６はＹ軸ボールネジ、１７及び１８はそれぞれＹ軸及びＸ軸モーターである。１９はワイヤ電極を回収するローラー２０を支持するワイヤ回収でコラム８に固定されている。２１は回収されたワイヤ電極１２を収納する回収箱である。２２はワイヤボビン、２３はベッドの下方に配置されるパッド、２４は機械全体の傾斜を調整するレベリングボルトである。次に下部ガイド１１の詳細について説明する。
【００４７】
図２、図３、図４は図１のワイヤ放電加工装置における、下部ガイド１１を示す図である。図２は下部ガイド１１の軸方向の縦断面図、図３は下部ブロックの一部水平断面図、図４は下部ガイド１１の軸方向の横断面図である。
【００４８】
下部アーム１０の先端には絶縁板１０１を介してボルト１０２にて下部ガイド１１が固定されている。この取り付け面は下部アーム１０の先端において水平方向に実施されている。この下部ガイド１１は下部ノズル１０３、給電ダイス１０４、下部ワイヤガイドホルダー１０５及び下部ブロック１０６で主に構成されており、下部アーム１０への固定は下部ブロック１０６により主体的に担当されている。下部ワイヤガイドホルダー１０５は薄い円盤状をしており中央に下部ワイヤガイドホルダー１０５と同じ厚さの円盤状のワイヤガイド１０５ａを有し、ボルト１０５ｃにより下部ブロック１０６に固定されている。また、下部ワイヤガイドホルダー１０５は外周部にＯリング１０５ｂを有し、下部ノズル１０３が上下に移動可能に接している。
【００４９】
給電ダイス１０４は下部ブロック１０６の上部で下部ワイヤガイドホルダー１０５の直下に設けられた溝１０６ｄに、下部ワイヤガイドホルダー１０５と接触するように配置されている。１０６ｂは下部ノズル１０３と精密に嵌合する下部ブロック１０６の側壁である。１０６ａは下部ブロック１０６内のワイヤ電極１２が通過するワイヤ通路である。下部アーム１０の先端には下部ガイド１１の下方に位置するように方向変換用のローラ１０７が設置されている。
【００５０】
１０８はワイヤ電極１２の回収パイプであり、下部アーム１０内を通りローラ１０７において９０度上方へ曲がり直進してワイヤ入り口１０９へ接続される。ワイヤ入り口１０９は下部補助ガイド１１０に接続され、ワイヤ電極１２を下流に導く役割を有する。また、回収パイプ１０８のローラ１０７と接する部位では、回収パイプ１０８の一部にローラ１０７が食い込んだ状態で係合し、ワイヤ電極１２はローラ１０７の表面に接触して方向変換される。ローラ部以外では、ワイヤ電極１２は搬送水流により回収パイプ１０８に接することなく送られる。
【００５１】
１１１は下部ノズル１０３の内部につながる加工液の通路であり、下部アーム１０の垂直な切り欠き面に対向する下部ブロック１０６の一端面にある配管接続口から下部ワイヤガイドホルダー１０５の噴出口まで続いている。１１２は下部ノズル１０３に加工液を供給する配管であり、下部アーム１０内部を通り、下部ブロック１０６の一端面に形成された通路１１１の接続口に接続されている。１１２ａは配管１１２を下部ブロック１０６の一端面の配管接続口に固定するためのＯリングである。
【００５２】
１１３は給電ダイス１０４に給電する配線であり、下部アーム１０内部を通り、下部アーム１０の垂直な切り欠き面に対向する下部ブロック１０６の一端面にある端子１１４に接続されている。１１５はスプリング、１１６はノズル１０３の押さえ板である。下部ノズル１０３は加工中は内部に供給された加工液によりスプリング１１５を圧縮させて上昇し押さえ板１１６にて止まり、被加工中は加工液が供給されないので下に戻る。１１７は給電ダイス１０４とワイヤ電極１２が接触通電することによる放電により発生する熱やワイヤ電極１２に電流が流れることにより発生するジュール熱を冷却する加工液を通すための通路であり、下部ブロック１０６内に加工液の通路１１１から分岐して形成されている。また、その構成素材はセラミックあるいは樹脂などの絶縁性材料である。
【００５３】
１１８は配線１１３とは異なる配線であり、下部アーム１０の窓１１９を通りＸ軸テーブル２上の端子１１８ａに接続している。１２０は給電ダイス１０４の下面中央に係合し下方に延びている軸である。１２１は軸１２０の先端に固定されているノブである。１２２は軸の位置決めを行う支持ブロックであり、下部ブロック１０６の下方で、下部補助ガイド１１０と絶縁板１０１に挟まれる位置に配置されている。１２３は給電ダイス１０４に系合した軸１２０を下部ブロック１０６に固定するボルトであり、給電ダイス１０４の下方に軸１２０に垂直に接する様に配置されている。１０６ｃは、軸１２０を固定しているボルト１２３を動かす為の通路である。１０７ａはローラ１０７のローラ軸である。
【００５４】
さらに上部ガイドの詳細について説明する。
図５は図１における上部ガイド１３の軸方向の縦断面図である。
上部ガイド１３はＺ軸装置の先端に取り付け板１５０を介して固定されている。１５１は上部ブロックである。１５１ａは上部ブロック１５１内にあるワイヤ電極１２を通すワイヤ通路である。１５２は薄い円盤状をした上部ワイヤガイドホルダーであり、中央にワイヤガイド１５２ａを有しボルトにより上部ブロック１５１に固定されている。給電ダイス１５３は上部ブロック１５１内に、上部ワイヤガイドホルダー１５２の直上に位置するように設けらえている。
【００５５】
１５４はジェットノズルで、上部ブロック１５１の下部に精密に嵌合し、通路１５５の噴出口１５５ａから吹き出される加工液をシールしている。さらに、上部ノズル１５６は内部にスプリング１５７を有してジェットノズル１５４を常に上方に押し上げており、加工液が噴出口１５５ａより吹き出す場合にのみ下方に進出する様に構成されている。噴出した加工液は噴出口１５４ａよりジェット水流１５８となり下部ガイド１１へ向かってワイヤ電極１２を案内しながら送給されることになる。１５２ｂは上部ワイヤガイドホルダー１５２の外周部に設けられたＯリングであり、ジェットノズルが上下に移動可能となるように接している。１５６ｂは上部ノズル１５６を下部ブロック１５１に固定するボルトである。
【００５６】
１５９は加工液通路で上部ノズル１５６とジェットノズル１５４の間の空間に高圧の加工液を供給している。この加工液は噴出口１５６ａより加工液噴流１６０となって被加工物に向かって流出する。なお、上部ノズル１５６の噴出口１５６ａとジェットノズル１５４の噴出口１５４ａは同一軸となるように構成されている。１６１は給電ダイス１５３とワイヤ電極１２が接触通電することによる放電により発生する熱やワイヤ電極１２に電流が流れることにより発生するジュール熱を冷却する加工液を通すための通路であり、加工液通路１５９から分岐して形成されている。また、その構成素材はセラミックあるいは樹脂などの絶縁性材料である。
【００５７】
１６２は給電ダイス１５３の上面中央に係合し上方に延びている軸である。１６３は軸１６２の先端に固定されているノブである。１６４は軸の位置決めを行う支持ブロックである。１６５は軸１６２を上部ブロック１５１に固定するボルトである。１５１ｂはボルト１６５を動かす為の通路である。１６６は給電ダイス１５３に給電する配線であり、上部ブロック１５１の一端面にある端子１５１ｃに接続されている。１６７は上部補助ガイドである。
【００５８】
次に、上部ガイド１３における給電ダイス１５３、軸１６２、ノブ１６３、支持ブロック１６４、軸１６２を固定するボルト１６５の関係を図６、図７、図８を用いて詳述する。図６は給電ダイス及び軸周辺の軸方向の一部縦断面図であり、図７は軸と軸を固定するボルトの軸方向の概念図であり、図８は給電ダイスの上面図である。
【００５９】
給電ダイス１５３は外周に溝１５３ａを有しその部分においてワイヤ電極１２と接触し、給電する構造になっている。軸１６２は給電ダイス１５３の上面中央で係合し、キー１６８により連結されている。また、軸１６２の上方部には給電ダイスの溝１５３ａに対応した同一本数の溝１６２ａが刻まれている。軸の溝１６２ａには支持ブロック１６４の内部に設けられた室１６９の中のボール１７０が収まり、さらにボール１７０はスプリング１７１で軸１６２に向かって押されている。
【００６０】
この場合、給電ダイス１５３のワイヤ電極１２と接触する溝を変えるには、まずドライバー等を上部ブロック１５１の通路１５１ｂに挿入しボルト１６５を緩める。この状態で、ノブ１６３を回転させればボール１７０は軸の溝１６２ａの溝から溝に移動する時に前進・後退し、軸の溝１６２ａの位置で給電ダイスの溝１５３ａの位置が割り出せ、ボルト１６５を締め込むことにより給電ダイス１５３は上部ブロック１５１に押しつけらる。これにより、ワイヤ電極１２が給電ダイスの溝１５３ａに接触し、配線１６６により給電される加工電流を正確にロスなくワイヤ電極１２に伝達することができる。なお、下部ガイド１１の給電ダイス１０４、軸１２０、ノブ１２１、支持ブロック１２２、軸１２０を固定するボルト１２３の構成及びそれぞれの関係も上部ガイドにおけるものと同様になっている。
【００６１】
このように、下部ガイド１１において下部ワイヤガイドホルダー１０５を薄い円盤状とし、その中央に下部ワイヤガイドホルダー１０５と同じ厚さの円盤状のワイヤガイド１０５ａを有する構成とし、さらに下部ワイヤガイドホルダー１０５の直下に給電ダイス１０４が位置するようにしたので、給電ダイス１０４のワイヤ電極１２との接触部分をワイヤガイド１０５ａにきわめて接近でき、給電ダイス１０４の上方でワイヤ電極１２を短く配置できるから抵抗が減少し、加工電流を増大させ加工性能を大きく改善できる。上部ガイド１３においても、上部ワイヤガイドホルダー１５２を薄い円盤状としその中央に上部ワイヤガイドホルダー１５２と同じ厚さの円盤状のワイヤガイド１５２ａを有する構成とし、さらにその直上に給電ダイス１５３が位置するようにしたので同様の効果を得ることができる。
【００６２】
また、下部ガイド１１及び上部ガイド１３において、給電ダイス１０４及び１５３とワイヤ電極１２が接触通電することによる放電により発生する熱やワイヤ電極に電流が流れることにより発生するジュール熱を冷却する加工液を通すための通路１１７及び１６１を絶縁性材料で形成してあるので、通路１１７及び１６１が磁化されることにより金属類が付着し目詰まりが発生して十分な冷却液が得られずワイヤ電極１２が断線するという現象を防止でき、加工を継続的に実施することができる。
【００６３】
また、上部ガイド１３において上部ワイヤガイドホルダー１５２及びジェットノズル１５４を交換する場合には、上部ノズル１５６をボルト１５６ｂを緩めて取り外すことでスプリング１５７で上方に押し上げられてあったジェットノズル１５４も同時に取り外すことができ、上部ワイヤガイドホルダー１５２は簡単にボルトなどで締結部品を緩めることにより取り外しが可能となり、ワイヤガイド１５２ａを径の異なる別のものに容易に交換できる。組み立てはこの逆をすればよい。このように、従来の４部品構成から３部品構成になり、交換が容易となって作業効率を上げることができる。
【００６４】
また、下部ガイド１１及び上部ガイド１３の給電ダイス１０４及び１５３にノブ１２１及び１６３を有する軸１２０及び１６２を設け、給電ダイス１０４及び１５３と軸１２０及び１６２に溝を形成し、また支持ブロック１２２及び１６４を設けたので、加工が進み給電ダイス１０４及び１５３の消耗が進行して給電のための接触が維持できなくなっても、ノブ１２１及び１６３を手で回すことによりワイヤ電極１２と接触する溝を別のものにでき、従来のように給電ダイスを一旦外部に取り出す必要もなく、時間の短縮と作業の効率化を図ることができる。
【００６５】
実施の形態２．
図９はこの発明の実施の形態２におけるワイヤ放電加工装置の上部ガイド１３の軸方向の縦断面図であり、実施の形態１の図５で示す上部ガイド１３におけて、給電ダイス１５３とワイヤ電極１２が接触通電することによる放電により発生する熱やワイヤ電極１２に電流が流れることにより発生するジュール熱を冷却する加工液を通すための通路を別の構成としたものである。
【００６６】
１７２は冷却液を流す冷却用通路であり、上部ブロック１５１のＺ軸装置９に接する側面からワイヤ通路１５１ａの給電ダイス１５３とワイヤ電極１２の接触部に通じる様に形成されている。また、この冷却用通路１７２には加工液通路１５９とは別の独立した配管より加工液が供給される。
【００６７】
このような構成にすることにより、加工液通路１５９の一部より分岐して通液していた従来例とは異なり、別配管から加工液を供給するために通液量を変化なく一定に保つことができ、加工中にワイヤ電極１２が断線する頻度を小さくすることができる。なお、下部ガイド１１においても同様な構成にすることができ、同様の効果を得ることができる。
【００６８】
実施の形態３．
図１０は発明の実施の形態３における下部ガイド１１の軸方向の横断面図であり、実施の形態１の図２で示す下部ガイド１１において、ワイヤ電極１２を吸引する負圧発生装置を設けたものである。
【００６９】
１２４は負圧発生装置であり、下部補助ガイド１１０の下半分を覆うような形で下部ブロック１０６に嵌め込まれている。また、負圧発生装置１２４は、上面中央から下面中央に垂直に延びる中央通路１２４ａを有しており、この中央通路１２４ａは下部補助ガイド１１０のワイヤ出口に接続しワイヤ電極１２を通過させている。さらに、負圧発生装置１２４は中央通路１２４ａに結合し、下方方向に向けて傾斜している傾斜通路１２４ｂを有している。
【００７０】
なお、中央通路１２４ａの下方には回収パイプ１０８が接続されている。１２５は負圧発生装置１２４の傾斜通路１２４ｂに加工液を供給するための下部ブロック１０６に形成された通路であり、下部アーム１０の垂直な切り欠き面に対向する下部ブロック１０６の一端面から負圧発生装置１２４の側面の傾斜通路口１２４ｃに通じるように形成されている。
【００７１】
１２６は通路１２５に加工液を供給する為の配管である。ワイヤ電極１２は上部ガイド１３のジェット水流１５８により下部ガイド１１に送られ、ワイヤガイド１０５ａ及びワイヤ通路１０６ａを通過して下部補助ガイド１１０に到達する。この時点で、負圧発生装置１２４では通路１２５から供給される加工液が傾斜通路１２４ｂを通って中央通路１２４ａの下方に向かい噴出し、下部補助ガイド１１０の方向に負圧を発生させ、ワイヤ電極１２を吸引する。吸引されたワイヤ電極１２は、傾斜通路１２４ｂから噴出した加工液と共に回収パイプ１０８内に送りこまれローラ１０７を経由して搬送されていく。
【００７２】
これにより、下部補助ガイド１１０を通過したワイヤ電極１２は正確に下部ローラ１０７を通り回収パイプ１０８内を導かれることになる。
【００７３】
実施の形態４．
図１１はこの発明の実施の形態４における下部ガイド１１の軸方向の横断面図であり、実施の形態３の図１０における下部ガイド１１において、下部ノズルの先端部分を平らな形状にしたものである。
【００７４】
図において、１２７は下部ノズルであり、加工液を噴出する噴出口１２７ａが存在する先端部分が平らとなるように構成されている。また、ノズル内部で加工液を溜める空間は上面及び下面が平面となる円筒状になっている。下部ノズル１２７は加工中は内部に供給された加工液によりスプリング１１５を圧縮させて上昇し押さえ板１１６にて止まり、被加工中は加工液が供給されないので下に戻る。なお、下に戻った場合でも、下部ワイヤガイドホルダー１０５は薄い円盤状となっている為、下部ノズル１２７との接触は考慮する必要がない。
【００７５】
このような構成においては、従来のような動圧の影響が主体となり流速がばらつき旋回して噴出することはなく、下部ノズル１２７内部に充満した加工液は動圧が減少して静圧へ変換される比率が大きくなり噴出口１２７ａより圧力が均一となって上方へ吹き出るようになり、加工性能が向上する。
【００７６】
実施の形態５．
図１２は、この発明の実施の形態５における下部ガイド１１の軸方向の横断面図であり、実施の形態４の図１１における下部ガイドにおいて、下部ノズルの内部で噴出口の真下に網を設けたものである。
【００７７】
図において、１２８は金網であり、下部ノズル１２７内で噴出口１２７ａの直下に位置するように配置されている。また、金網１２８は噴出口１２７ａよりも大きく、噴出口１２７ａを内側で覆うような曲面で形成され、加工液は金網１２８を通過しなければ噴出口１２７ａに到達することができない構成になっている。
【００７８】
このような構成においては、下部ノズル１２７内部に充満した加工液は金網１２８通過時に流速が減じられ、さらに金網１２８通過により静圧となるので、噴出口１２７ａより加工液をより確実に上方へ噴出させることができる。これにより、加工精度が向上し、加工物の加工面に筋ができたり、加工面が荒くなるのを防止することができる。特に、きわめて加工速度の遅いあるいは小径ワイヤ電極を使用しての加工には有効である。
【００７９】
実施の形態６．
図１３はこの発明の実施の形態６における下部ガイド１１の軸方向の横断面図であり、実施の形態５の図１２における下部ガイド１１において、下部ワイヤガイドホルダーの形状を変更したものである。
【００８０】
１２９は下部ワイヤガイドホルダーであり、円盤状の形状をなし、その中央部に下部ワイヤガイドホルダー１２９と同じ厚さの円盤状のワイヤガイド１２９ａを有しており、このワイヤガイド１２９ａと接し固定する部分以外は内部に空間１２９ｂを持つようなニ層構成となっている。下部ワイヤガイドホルダー１２９の二層のうち下層には加工液を供給する通路１１１が接続され、空間１２９ｂに加工液を供給する様に構成されている。また、上層の外周部には下部ノズル１２７内部に通じる通路である吹き出し口１２９ｃが外周にわたって設けられ、下部ノズル１２７の内壁に沿って加工液を噴出する。
【００８１】
このような構成にすることにより、加工液は十分整流化された後に下部ノズル１２７内部に供給されるので、加工液の乱れによるワイヤ電極１２の振動が減少し加工精度を向上させ、また被加工物の加工面の面荒さの発生も防止できる。
【００８２】
実施の形態７．
図１４はこの発明の実施の形態７における下部ガイド１１の軸方向の横断面図であり、実施の形態６の図１３においる下部ガイドにおいて、ノズルの吹き出し口に三角錐型の傾斜ノズルを設置したものである。
【００８３】
図中、１３０は三角錐状の傾斜ノズルであり、下部ノズル１２７の加工液噴出口１２７ａに下方向に向かって徐々に径が小さくなるように設置されている。また、傾斜ノズル１３０の先端は下部ワイヤガイドホルダー１２９のワイヤガイド１２９ａのすぐ上に位置している。
【００８４】
このような構成にすることにより、上部ガイド１３より送られたワイヤ電極１２は傾斜ノズル１３０のテーパ状の案内面を通りワイヤガイド１２９ａまで導びかれるので、ワイヤ電極１２の挿入が容易になる。
【００８５】
【発明の効果】
この発明は、下部ガイドの上部に位置し加工液を噴出する下部ノズル内に円盤状の下部ワイヤガイドホルダーと、下部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し下部ワイヤガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを備え、下部ワイヤガイドホルダーの直下に溝が形成された下部ブロックを設け、この溝に配置され、下部ワイヤガイドホルダーの直下に給電ダイスを配置したワイヤ放電加工装置とした。
【００８６】
このことによって、給電ダイスのワイヤ電極との接触部が下部ワイヤガイドホルダーのワイヤガイドにきわめて接近することになり、ワイヤ電極を短く配置できることから抵抗を減少させ加工電流を増大させることができ、加工性能を大きく改善できる。
【００８７】
また、下部ガイド及び上部ガイドに給電ダイスの中央に係合し、給電ダイスを回転可能とする軸を設けた。
さらに、給電ダイスを円盤状とし、外周に多数の溝を設けた。
さらに、軸に給電ダイスの溝と対応する溝を形成し、軸の溝にボールが収まることにより軸の位置決めを行う支持ブロックを設けた。
さらに、軸の先端に軸を回転させるノブを設けた。
さらに、下部ガイド及び上部ガイドに、軸に接触し軸の位置を固定するボルトと、ボルトを収納する通路を設けた。
【００８８】
このことによって、給電ダイスを取り出すことなしに位置決めができ、給電ダイス消耗時の位置変更が装置を停止させることなく容易にできるようになった。
【００８９】
また、この発明は、上部ガイドの上部ノズル上方にスプリングを介してワイヤ電極挿入用のジェットノズルを、上部ノズルとジェットノズルの噴出口が同一軸となるように設け、ジェットノズル内部に円盤状の上部ワイヤガイドホルダーと上部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し、上部ワイヤガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを備え、上部ワイヤガイドホルダーの直上に溝が形成された上部ブロックを設け、この溝に配置され、上部ワイヤガイドホルダーの直上に給電ダイスを設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００９０】
このことによって、ジェットノズル及び上部ワイヤガイドホルダーの取り出し及び据え付けが容易になった。
【００９１】
また、この発明は下部ガイド及び上部ガイドにワイヤ電極が通過するワイヤ通路に冷却用液を供給する絶縁体で構成された通路を設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００９２】
このことによって、冷却用の加工液を通す通路が目詰まりすることはなく、加工中のワイヤ電極の断線を防止し加工効率が向上するようになった。
【００９３】
また、この発明は下部ガイドの下部ノズル及び上部ガイドの上部ノズルに加工液を供給する通路とワイヤ電極が通過するワイヤ通路に冷却用液を供給する通路を設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００９４】
このことによって、加工の状態により通液量が変化することなく、常に一定の冷却液を流すことが可能になり、加工中のワイヤ電極の断線頻度を減少させ加工効率を向上できるようになった。
【００９５】
また、この発明は下部ガイドの下方にワイヤ電極を通過させる中央通路と中央通路に接続され、下方方向に傾斜している傾斜通路とを有する負圧発生装置と、負圧発生装置に加工液を供給する配管を設けたワイヤ放電加工装置とした。
【００９６】
このことによって、ワイヤ電極を正確に下部ローラを介して回収パイプ内を導くことができ、ワイヤ電極の挿入がきわめて容易になった。
【００９７】
また、この発明は下部ガイドの上端に加工液を噴出させる噴出口の先端部が
平面状である下部ノズルを設けたワイヤ放電加工装置とした。
さらに、下部ノズル内にあって噴出口の直下に網を設けた。
【００９８】
このことによって、噴出口より吹き出る加工液の方向性が均一となり加工が安定するようになった。
【００９９】
また、本発明は下部ガイドの上部に位置し加工液を噴出する下部ノズル内に空間を挟んだ二層構成の下部ワイヤガイドホルダーと、下部ワイヤガイドホルダーの中央部に位置し下部ワイヤガイドホルダーと同じ厚さのワイヤガイドとを設け、下部ワイヤガイドホルダーの下層部に加工液を下部ワイヤガイドホルダーの空間内に供給する加工液供給口を設けたワイヤ放電加工装置とした。
さらに、下部ワイヤガイドホルダーの上層部の外周に下部ノズル内部に加工液を供給する通路を設けた。
【０１００】
このことによって、加工液はノズル内部で十分拡散し流量が均一となり、噴出口から吹き出る加工液は整流化され、加工液の乱れによるワイヤ電極の振動が減少し加工精度の向上や被加工物の切断面の面荒さを改善ができる。
【０１０１】
また、この発明は下部ガイドの下部ノズル噴出口に下方に向かって徐々に径が小さくなるような三角錐状の傾斜ノズルを設けたワイヤ放電加工装置とした。
【０１０２】
このことによって、下部ガイドへのワイヤ電極の挿入を容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明にかかるワイヤ放電加工装置の概要図である。
【図２】この発明の実施の形態１における下部ガイドの軸方向の縦断面図である。
【図３】この発明の実施の形態１における下部ブロックの一部の水平断面図である。
【図４】この発明の実施の形態１における下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図５】この発明の実施の形態１における上部ガイドの軸方向の縦断面図である。
【図６】この発明の実施の形態１における給電ダイス及び軸周辺の軸方向の一部の縦断面図である。
【図７】この発明の実施の形態１における軸と軸を固定するボルトの軸方向の概念図である。
【図８】この発明の実施の形態１における給電ダイスの上面図である。
【図９】この発明の実施の形態２における上部ガイドの軸方向の縦断面図である。
【図１０】この発明の実施の形態３における下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図１１】この発明の実施の形態４における下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図１２】この発明の実施の形態５における下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図１３】この発明の実施の形態６における下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図１４】この発明の実施の形態７における下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図１５】従来例におけるワイヤ放電加工装置の下部ガイドの軸方向の縦断面図である。
【図１６】従来例におけるワイヤ放電加工装置の下部ガイドの軸方向の横断面図である。
【図１７】従来例におけるワイヤ放電加工装置の上部ガイドの軸方向の縦断面図である。
【符号の説明】
１１  下部ガイド、  １２  ワイヤ電極、  １３  上部ガイド、
１０３  下部ノズル、  １０４  給電ダイス、
１０５  下部ワイヤガイドホルダー、  １０５ａ  ワイヤガイド、
１１７  通路、  １２０  軸、  １２１  ノブ、  １２２  支持ブロック、
１２３  ボルト、  １２４  負圧発生装置、  １２７  下部ノズル、
１２８  金網（網）、  １２９  下部ワイヤガイドホルダー  、
１２９ａ  ワイヤガイド、  １３０  傾斜ノズル、
１５２  上部ワイヤガイドホルダー、  １５２ａ  ワイヤガイド、
１５３  給電ダイス、  １５４  ジェットノズル、  １５７  スプリング、
１５９  加工液通路（通路）、  １６１  通路、  １６２  軸、
１６３  ノブ、  １６４  支持ブロック、  １６５  ボルト、
１７２  冷却用通路（通路）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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