(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源と、
前記各光源からの光ビームを像面上の該各光源に対応する定位置の集光点に結像させて、且つ、該定位置集光点が該像面の副走査方向において異なる位置に位置するように結像させて、該像面をそれら光ビームで主走査方向に走査する光学系と、
前記各光源からの光路のうち少なくとも一つに配置され、その光路における光ビームの、少なくとも前記副走査方向に対応する方向における幅を所定幅に規制するビーム規制部材とを備えており、
前記ビーム規制部材は、前記各光源からの光ビームの前記像面への入射方向を、前記像面上の各光源に対応する集光点の定位置を変えることなく平行化するように副走査対応方向に位置調整可能に設けられていることを特徴とする光ビーム走査装置。
【請求項２】
前記各光源からの光ビームを像面上の該各光源に対応する定位置の集光点に結像させて、且つ、該定位置集光点が該像面の副走査方向において異なる位置に位置するように結像させて、該像面をそれら光ビームで主走査方向に走査する光学系は、前記複数の光源からの光ビームを合成するビーム合成素子を含み、該ビーム合成素子からの合成光ビームを前記像面の定位置集光点に結像させ、且つ、該像面を該合成光ビームで走査する光学系であり、前記ビーム規制部材は、前記各光源から前記ビーム合成素子に到る複数の光路のうち少なくとも一つに配置されている請求項１記載の光ビーム走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像データに基づいて光ビームを像面に照射して該像面に画像を記録する光ビーム走査装置、例えばレーザー走査装置として利用できる光ビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
画像データに基づいて光ビームを記録媒体表面のような像面に照射して該像面に画像を記録する光ビーム走査装置は、従来より、例えばデジタル複写機、レーザープリンタ等の画像形成装置におけるレーザー走査装置などに利用されている。
【０００３】
デジタル複写機、レーザープリンタ等の画像形成装置においては、一般的には、記録媒体、例えば、表面が移動する感光体等の静電潜像担持体表面を帯電させる。その帯電域を、レーザ走査装置により画像情報による画像データに基づいてレーザビーム走査して静電潜像を形成する。その潜像を現像して可視トナー像とし、このトナー像を紙等の被転写体に転写し定着させる。
【０００４】
かかるレーザー走査装置では、今日、描画速度の高速化が望まれている。
従来の光ビーム走査装置の分野では、例えば特開昭６３−１３０１５号公報が教えるレーザー走査装置のように、独立に変調される複数のビームを合成して該合成ビームを構成している個々の光ビームを感光体上の異なる所定位置（感光体表面移動方向と同じ副走査方向において互いに異なる所定位置）に照射することで、主走査方向に平行な複数ライン分に付き同時に描画していく高速描画技術が知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、特開昭６３−１３０１５号公報が教えるレーザー走査装置では、感光体表面に照射される合成ビームを構成している個々の光ビームを平行化することに配慮されておらず、図８に例示するように、個々の光ビームＢ１、Ｂ２は異なる入射角度θ１、θ２で像面である感光体表面Ｓに照射される。
【０００６】
そのため、感光体の表面移動に伴って感光体表面のうねり、局所的変形、湾曲等により像面Ｓが正規の位置Ｐｏからずれて位置Ｐｆに前進したり、位置Ｐｂへ後退すると、像面Ｓ上での光ビーム位置が副走査方向Ｙにずれ、像面上での光ビーム間隔が正規のものＬｏから、より長いＬｆや短いＬｂに変動し、このため、感光体上に形成される静電潜像が不正確となり、ひいては転写紙等に形成される最終画像が劣化するという問題がある。
【０００７】
そこで本発明は、格別装置構造の複雑化や価格高騰を招くことなく、画像劣化を抑制して像面に高速描画できる光ビーム走査装置を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため本発明は、
複数の光源と、
前記各光源からの光ビームを像面上の該各光源に対応する定位置の集光点に結像させて、且つ、該定位置集光点が該像面の副走査方向において異なる位置に位置するように結像させて、該像面をそれら光ビームで主走査方向に走査する光学系と、
前記各光源からの光路のうち少なくとも一つに配置され、その光路における光ビームの、少なくとも前記副走査方向に対応する方向における幅を所定幅に規制するビーム規制部材とを備えており、
前記ビーム規制部材は、前記各光源からの光ビームの前記像面への入射方向を、前記像面上の各光源に対応する集光点の定位置を変えることなく平行化するように副走査対応方向に位置調整可能に設けられていることを特徴とする光ビーム走査装置を提供する。
【０００９】
本発明の光ビーム走査装置によると、光源を複数使用し、複数の光源から射出される複数の光ビームで像面に一度に複数画素を描画しつつ該像面を主走査方向に走査できるので、それだけ高速描画できる。
そして、前記ビーム規制部材の副走査対応方向における位置を像面上の各光源に対応する集光点の定位置を変えることなく調整して、像面へ入射される複数の光ビームを平行化することができ、そうすることで、たとえ像面がそれを構成している記録媒体表面等のうねり、局所的変形、湾曲等により正規の位置からずれて前進したり、後退しても、像面上での各光ビーム位置の副走査方向におけるずれは抑制され、それだけ画像の劣化が抑制され、良好な画像を得ることができる。
【００１０】
複数の光ビームの像面への入射方向の平行化は、これを達成できる個数のビーム規制部材を設ければ足り、且つ、各ビーム規制部材は構造簡単なもので足りるから、格別の装置構造の複雑化や価格高騰を招くことはない。
本発明に係る光ビーム走査装置は、複写機、プリンタ、ファクシミリ機等の画像形成装置において像面を提供する感光体に画像データに基づいて静電潜像を精度よく高速描画することに利用できる。
【００１１】
本発明に係る光ビーム走査装置は、前記各光源からの光ビームを像面上の該各光源に対応する定位置の集光点に結像させて、且つ、該定位置集光点が該像面の副走査方向において異なる位置に位置するように結像させて、該像面をそれら光ビームで主走査方向に走査する光学系として、前記複数の光源からの光ビームを合成するビーム合成素子を含み、該ビーム合成素子からの合成光ビームを前記像面の定位置集光点に結像させ、且つ、該像面を該合成光ビームで走査する光学系を採用できる。この場合、前記ビーム規制部材は、前記各光源から前記ビーム合成素子に到る光路のうち少なくとも一つに配置する。
【００１２】
このタイプの光ビーム走査装置は、前記各光源をレーザ光源とし、前記光学系を前記ビーム合成素子（代表例としてはビームスプリッタ）からの合成光ビームを像面に導くとともに該合成光ビームで像面を走査するための回転偏向器を含む構成としてレーザ走査装置とすることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図１は本発明に係る光ビーム走査装置の１例であるレーザー走査装置を搭載した画像形成装置の概略構成を示す側面図である。
図１に示す画像形成装置は、電子写真方式の画像形成装置であり、中央にドラム形状の感光体１（記録媒体の１例）を備えている。
【００１４】
感光体１の周囲には、メインチャージャ２、レーザー走査装置３、現像装置４、転写チャージャ６、クリーニングブレード７及び除電用ランプ８がこの順に配置されている。感光体１は、図中Ａ方向に回転駆動される。転写チャージャ６は感光体１に臨み、図中転写部Ｐを形成している。転写部Ｐでは転写チャージャ６に接続された電源ＰＷ３から転写用電圧を印加でき、これにより感光体１上のトナー像を記録紙Ｔに転写できる。
【００１５】
転写部Ｐの図中右方にはガイド板１０及びタイミングローラ対１１が順次設けられ、さらに図示を省略した給紙部が設けられている。また、左方にはガイド板１２、定着ローラ対１３が順次設けられ、さらに図示を省略した排出ローラ対及び排紙トレイが設けられている。
メインチャージャ２は電源ＰＷ１から高電圧を印加でき、これにより感光体１を帯電させることができる。
【００１６】
現像装置４は現像ローラ４１及び装置ケース４２を含んでおり、装置ケース４２は現像剤Ｄを収容する。現像剤Ｄはトナーを含んでいる。現像ローラ４１は回転駆動され、電源ＰＷ２から現像バイアス電圧を印加できる。これにより感光体１上の静電潜像を現像できる。
図２にレーザー走査装置３及び感光体１の概略構成の斜視図を示す。
【００１７】
レーザー走査装置３は、図２に示すようにレーザー合成部３００、シリンダレンズ３６及び偏向器３７が順次配置されている。また、この配置方向に対して垂直方向に偏向器３７から結像光学系３８が配置されている。
レーザービームＢ１、Ｂ２はレーザー合成部３００から射出され、シリンダレンズ３６を介して偏向器３７に入射後、偏向器３７にて感光体１の主走査方向にそれぞれ偏向され、結像光学系３８を介して感光体１の表面（像面）Ｓの副走査方向Ｙにおいてわずかに異なる所定位置Ｓ１、Ｓ２にそれぞれ集光される。
【００１８】
レーザー合成部３００では、レーザー光源３１ａ、コリメータレンズ３２ａ、ビーム規制板３３ａ及びビームスプリッタ３４が順次配置され、さらにレーザー光源３１ｂ、コリメータレンズ３２ｂ、ビーム規制板３３ｂ及びスプリッタ３４をこえて遮光板３５が順次配置されている。光源３１ａ、レンズ３２ａ、規制板３３ａの並んでいる方向と、光源３１ｂ、レンズ３２ｂ、規制板３３ｂ、遮光板３５が並んでいる方向は互いに直交している。
【００１９】
各レーザー光源３１ａ、３１ｂは同じものであり、ここでは半導体レーザーからなっている。レーザービームをコリメータレンズ３２ａ、３２ｂに向けてそれぞれ射出できる。
各コリメータレンズ３２ａ、３２ｂは同じものであり、光源３１ａ、３１ｂからのレーザ光線をそれぞれ平行な光束にできる。
【００２０】
ビーム規制板３３ａ、３３ｂには、それぞれ開口３３１が設けられており、レンズ３２ａ、３２ｂを通過してくるビームＢａ、Ｂｂを開口３３１を介してビームスプリッタ３４にそれぞれ入射できる。
図３にビーム規制板３３ａ、３３ｂにおける開口３３１の形状を示す。
図３に示すように開口３３１は楕円形状をしており、副走査方向Ｙに対応する副走査対応方向Ｙ’については狭く、主走査方向Ｘに対応する主走査対応方向Ｘ’については広くなっている。従って、図２に示すコリメータレンズ３２ａ、３２ｂにてそれぞれ円形状の光束にされたビームＢａ、Ｂｂを開口３３１にそれぞれ通過させることで、副走査対応方向Ｙ’について光束幅を規制できる。
【００２１】
また、規制板３３ａ、３３ｂには、図３に示すように支持部材３３３にネジ３３４で固定するための一対の長孔３３２が設けられている。長孔３３２はＹ’方向に延びている。ネジ３３４はこの長孔３３２を貫通して支持部材３３３に螺着されている。各規制板３３ａ、３３ｂはこの長孔３３２により、その固定位置を副走査対応方向Ｙ’にそれぞれ調整できる。規制板３３ａ、３３ｂはそれぞれ予め適正位置に調整される。
【００２２】
なお、図３中、３３３ａは支持部材３３３に設けられた大きい開口で、開口３３１は移動してもこの開口３３３ａ内に位置する。
ビームスプリッタ３４は、規制板３３ａを通過してくるビームを透過し、規制板３３ｂを通過してくるビームの一部をシリンダレンズ３６の方に導くことができる。また、規制板３３ａを通過してくるビームＢａの残りを遮光板３５の方に導き、規制板３３ｂを通過してくるビームＢｂの残りを遮光板の方へ透過することができる。
【００２３】
スプリッタ３４から２方向に射出されるビームのうち、一方向のビームＢ１’、Ｂ２’は遮光板３５によって遮られ、他方の合成ビームＢ１、Ｂ２はレンズ３６に入射される。
シリンダレンズ３６は、スプリッタ３４からのビームＢ１、Ｂ２を偏光器３７の反射面近傍にそれぞれ集光できる。
【００２４】
偏向器３７は回転多面鏡（ここでは８面体のポリゴンミラー）を含んでおり、図示を省略したポリゴンモータの回転駆動により図中Ｃ方向に高速回転される。これにより、レンズ３６を通過してくるビームＢ１、Ｂ２を結像光学系３８の方に向けて、主走査対応方向Ｘ’にそれぞれ偏向できる。
結像光学系３８は結像用レンズ群３８１及び反射ミラー３８２を含んでいる。レンズ群３８１はいずれも長尺レンズであり、これらのレンズ群の構成によりｆ−θ特性を有する。ミラー３８２はレンズ群３８１を通過してくるビームＢ１、Ｂ２を反射して感光体１にそれぞれ導くことができる。これにより、結像光学系３８は偏向器３７からのビームＢ１、Ｂ２を感光体１にそれぞれ結像できる。
【００２５】
図１に示すように、クリーニングブレード７はブレード形状のもので、感光体１に接触配置されている。これにより感光体１上に付着した、記録紙Ｔに転写されずに残った転写残トナーを除去できる。
除電ランプ８は感光体１に光照射でき、これにより感光体１上の電荷を光除電できる。
【００２６】
以上説明した画像形成装置によると、感光体１が回転駆動され、メインチャージャ２によって一様に帯電される。
レーザー走査装置３では、図２に示すようにレーザ光源３１ａ、３１ｂからレーザービームが射出される。これらのビームは図示を省略した画像読み取り装置等から送られてくる画像情報に基づきそれぞれ変調される。
【００２７】
光源３１ａ、３１ｂからそれぞれ射出されたビームはコリメータレンズ３２ａ、３２ｂによってそれぞれ平行な光束Ｂａ、Ｂｂにされた後、ビーム規制板３３ａ、３３ｂに入射される。この規制板３３ａ、３３ｂの作用についてはのちほど詳しく説明する。
ビーム規制板３３ａ、３３ｂを通過したビームはビームスプリッタ３４にて同じ方向のビームＢ１、Ｂ２に合成される。光源３１ａから発し、スプリッタ３４から射出されたビームＢ１はシリンダレンズ３６を介して偏向器３７鏡面の上部に入射される。また、光源３１ａから発し、スプリッタ３４から射出されたビームＢ２はシリンダレンズ３６を介して偏向器３７鏡面の下部、すなわち、ビームＢ１の入射位置より下方に入射される。
【００２８】
偏向器３７は、その回転によりビームＢ１、Ｂ２を結像用レンズ群３８１に向けて主走査対応方向Ｘ’にそれぞれ偏向する。レンズ群３８１を通過したビームＢ１、Ｂ２は反射ミラー３８２に反射され感光体１にそれぞれ照射される。
このようにしてビームＢ１、Ｂ２は感光体１の像面Ｓの副走査方向Ｙにおいてわずかに異なる所定位置Ｓ１、Ｓ２に集光され、感光体１上に２ラインの静電潜像を同時に描画する。
【００２９】
このレーザ走査装置３によると、２つの光源３１ａ、３１ｂを使用し、光源３１ａ、３１ｂに由来する２つのレーザービームＢ１、Ｂ２で感光体１の像面Ｓに一度に２つの画素を描画しつつ像面Ｓを主走査方向Ｘに走査するとともに像面Ｓの移動にて相対的に副走査方向Ｙに走査できるので、それだけ高速描画できる。
ところで、各ビームＢ１、Ｂ２の感光体１の像面Ｓに集光する位置Ｓ１、Ｓ２は、レーザー走査装置３の組立時に、光源３１ａ、３１ｂの副走査対応方向Ｙ’の位置を調節することによって、所望の位置に合わせることが可能である。ところが、ビーム規制板３３ａ、３３ｂが設けられていない場合、既述のとおり、図８に示すように個々のビームＢ１、Ｂ２は異なる入射角度θ１、θ２で感光体１の像面Ｓに照射される。感光体１の回転に伴って感光体１表面のうねり、局所的変形、湾曲等により感光体１の像面Ｓが正規の位置Ｐｏからずれて位置Ｐｆに前進したり、位置Ｐｂへ後退すると、像面Ｓ上での光ビーム位置が副走査方向Ｙにずれ、像面Ｓ上での光ビーム間隔が正規のものＬｏから、より長いＬｆや短いＬｂに変動し、このため光源３１ａ、３１ｂの副走査対応方向Ｙ’の位置を所定の位置に合わせていても、感光体１上に形成される静電潜像が不正確となることがある。
【００３０】
なお、図８では、ビームＢ１、Ｂ２の感光体１の像面Ｓに対する入射角度θ１、θ２の実際に問題になる角度差は０．１度程度より小さいので、図示のような模式図で誇張して示す。また、後述する図４、図５についても、同様の理由から模式図で示す。
しかし、ここではビーム規制板３３ａ、３３ｂによりこの問題が解消されている。
【００３１】
図４（Ａ）に例示するようにレーザー光源３１と光学系３８０を用いて光源３１から光学系３８０にレーザビームＢを照射すると該ビームは集光点Ｓ０に結像する。このとき図４（Ｂ）に示すように光路にビーム規制板３３を配置すると、光源３１からのビームは規制板３１の開口幅（副走査対応方向Ｙ’の幅）に規制され、且つ、その開口位置に応じた光路に規制されて集光点Ｓ０に結像する。図４（Ｃ）に示すように規制板３３をＹ’方向に移動させると、規制板３３を通過したビームの方向も、移動した開口位置に対応して移動する。
【００３２】
規制板３３ａ、３３ｂはこの原理を利用して、感光体１の像面Ｓに向かうビームＢ１、Ｂ２を互いに平行化するものである。
すなわち、ビーム規制板３３ａ、３３ｂを副走査対応方向Ｙ’に必要に応じ動かして位置調整することで、感光体１の像面ＳへのビームＢ１、Ｂ２入射方向を平行化することができる。なお、この場合、規制板３３ａ、３３ｂのうちいずれか一方を固定したままにして他方のみを調整できるようにしてもよい。また、本例では各ビームＢ１、Ｂ２をそれぞれ規制するために規制板３３ａ、３３ｂを設けて入射方向を調整しているが、いずれか一方に対してだけビーム規制板を設けて入射方向を調整してもよい。
【００３３】
図５はビーム規制板３３ａ、３３ｂによって調整され、感光体１の像面Ｓへのビーム入射方向が平行化された感光体１付近のビームＢ１、Ｂ２の状態を示す模式図である。
図５に示すように、このレーザー走査装置３によると、図２に示す規制部材３３ａ、３３ｂの副走査対応方向Ｙ’における位置を調整して、感光体１の像面Ｓへ入射される２つのビームＢ１、Ｂ２を平行化することができ、そうすることで、たとえ像面Ｓがそれを構成している感光体１表面等のうねり、局所的変形、湾曲等により正規の位置Ｐｏからずれて位置Ｐｆに前進したり、位置Ｐｂへ後退しても、像面Ｓ上での各光ビーム位置の副走査方向Ｙにおけるずれ（光ビーム間隔Ｌｆ’やＬｂ’と位置Ｐｏにおける正規光ビーム間隔Ｌｏとの差やＹ方向での位置ずれ）は抑制されるので、感光体１上の静電潜像領域全域でビーム間隔を実質上一定に保つことができ、それだけ画像の劣化が抑制され、良好な画像を得ることができる。
【００３４】
また、２つの光ビームの像面Ｓへの入射方向の平行化は、これを達成できるビーム規制部材３３ａ及び（又は）３３ｂを設ければ足り、且つ、各ビーム規制部材３３ａ、３３ｂは構造簡単なもので足りるから、格別の装置構造の複雑化や価格高騰を招くことはない。
一般的に、感光体の像面へ入射される複数の光ビームを平行化する場合には、結像光学系をテレセントリック系にすればよく、そのため通常は光路上の適当な位置で光束規制を行う。すなわち、計算によって、感光体の像面側の集光点から結像光学系に平行光を入射させた場合に集光する位置を求め、その位置で光束規制を行う。つまり、結像光学系の特性によって光束規制の位置が決まってしまう。そのため、光束規制を行う部材の配置上の困難を生じる可能性が高い。
【００３５】
しかし、レーザー走査装置３によると、図２に示すようにビーム規制部材３３ａ、３３ｂの副走査対応方向Ｙ’における位置を調整して、感光体１の像面Ｓへ入射される２つのビームＢ１、Ｂ２を平行化することができるので、そのような制約は生じない。
再び図１に戻るが、レーザー走査光学装置３により描画された感光体１上の静電潜像は、感光体１の回転に伴って現像装置４に移行する。現像装置４では、感光体１上の静電潜像に現像ローラ４１の回転に伴って現像剤Ｄを供給して該潜像を現像バイアス電圧印加のもとに現像し、可視トナー像とする。
【００３６】
感光体１上の可視トナー像は転写部Ｐに移行する。転写部Ｐに移行したトナー像は記録紙Ｔに転写される。記録紙Ｔは図示を省略した給紙ローラによって図示を省略した給紙トレイから送り出され、タイミングローラ対１１に送られる。タイミングローラ対１１は、感光体１上のトナー像と同期をとって、記録紙Ｔを送り出す。記録紙Ｔはガイド板１０に支持され転写部Ｐに移行する。
【００３７】
転写部Ｐでは、転写チャージャ６が記録紙Ｔに電源ＰＷ３から電圧を印加する。これにより感光体１上のトナー像は記録紙Ｔに転写される。
感光体１には記録紙Ｔに転写されずに残った残留トナーが保持されているが、クリーニングブレード７がこの残留トナーを除去する。そのあと除電用ランプ８から感光体１に光が照射され、感光体１上の残留電位は除去される。そして、感光体１は次の画像形成に備えられる。
【００３８】
記録紙Ｔは転写部Ｐでトナー像転写後、定着ローラ対１３に運ばれ、ここでトナー像が記録紙Ｔに定着される。そのあと図示を省略した排紙ローラ対にて排紙トレイへ排出される。
図６にビーム規制板３３ａ、３３ｂにおける開口３３１の変形例３３１’の形状を示す。ビーム規制板３３ａ、３３ｂにおいて、この開口３３１’をそれぞれ設けることができる。
【００３９】
この開口３３１’は、図６に示すように長方形の形状をしており、開口３３１’に入射する光束の幅と比較して副走査対応方向Ｙ’については狭く、主走査対応方向Ｘ’については広くなっている。従ってこの場合、主走査対応方向Ｘ’については光束規制は行わない。この開口３３１’を設けたビーム規制板３３ａ、３３ｂがレーザー走査装置３に設置される場合も、図３に示す開口３３１と同様の効果を奏することができる。
【００４０】
図７にレーザー走査装置３の他の例を示す。
図７に示すレーザー走査装置は、図１及び図２に示すレーザー走査装置３においてビームスプリッタ３４と偏光器３７との間の光路上、ここでは、シリンダレンズ３６と偏光器３７との間の光路上にビーム規制板３３ｃを設けてある。なお、スプリッタ３４とレンズ３６との間の光路上にこの板３３ｃを設けてもよい。
【００４１】
ビーム規制板３３ｃは図２に示すビーム規制板３３ａ、３３ｂと同様のものであり、図３又は図６に示す開口３３１又は３３１’と同じ開口が設けられている。なお、規制板３３ｃによるビームＢ１、Ｂ２の光束幅規制方向は主走査対応方向Ｘ’にしてある。他の点は図１及び図２の装置と同様であり、同じ構成、作用を有する部品には同じ参照符号を付してある。
【００４２】
このレーザー走査装置では、スプリッタ３４にて合成後のビームＢ１、Ｂ２について、規制板３３ｃにより主走査対応方向Ｘ’にも光束規制を行うようにしている。しかし主走査対応方向Ｘ’についても副走査対応方向Ｙ’の光束規制と同様にビームＢ１、Ｂ２の感光体１上の集光位置Ｓ１、Ｓ２を一定に保つことができる。これは、感光体１上の集光位置Ｓ１、Ｓ２が副走査方向Ｙについてはわずかに（本例では１ライン分）ずれているのに対し、主走査方向Ｘについては同じ位置になるように調節されているからである。
【００４３】
【発明の効果】
本発明によると、格別装置構造の複雑化や価格高騰を招くことなく、画像劣化を抑制して像面に高速描画できる光ビーム走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光ビーム走査装置の１例のレーザー走査装置を搭載した画像形成装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】レーザー走査装置及び感光体の概略構成の斜視図である。
【図３】ビーム規制板における開口の形状等を示す図である。
【図４】図（Ａ）はビーム規制板を設けていないときの光源から光学系を経て集光点に集光されるレーザービームの状態を示す模式図であり、図（Ｂ）は図（Ａ）において光源と光学系との間にビーム規制板を設けたときのレーザービームの状態を示す模式図であり、図（Ｃ）は図（Ｂ）においてビーム規制板が副走査対応方向に移動したときのレーザービームの状態を示す模式図である。
【図５】ビーム規制板によって感光体の像面へのビーム入射方向が平行化されたときの感光体付近のレーザービームの状態を示す模式図である。
【図６】ビーム規制板における開口の変形例の形状を示す図である。
【図７】レーザー走査装置の他の例を示す図である。
【図８】感光体表面に照射される２つの光ビームの平行化を配慮してない感光体付近の光ビームの状態を示す模式図である。
【符号の説明】
１  ドラム形状の感光体（記録媒体の１例）
２  メインチャージャ
３  レーザー走査装置
３１、３１ａ、３１ｂ  レーザー光源
３２ａ、３２ｂ  コリメータレンズ
３３ａ、３３ｂ、３３ｃ  ビーム規制板
３３１、３３１’  ビーム規制板３３ａ、３３ｂにおける開口
３３２  長孔
３３３  支持部材
３３４  ネジ
３３３ａ  支持部材３３３に設けられた大きい開口
３４  ビームスプリッタ
３５  遮光板
３６  シリンダレンズ
３７  偏向器
３８  結像光学系
３８０  光学系
３８１  結像用レンズ群
３８２  反射ミラー
３００  レーザー合成部
４  現像装置
４１  現像ローラ
４２  装置ケース
６  転写チャージャ
７  クリーニングブレード
８  除電用ランプ
１０  ガイド板
１１  タイミングローラ対
１２  ガイド板
１３  定着ローラ対
Ｂ、Ｂａ、Ｂｂ、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’、Ｂ２’  レーザービーム
Ｐｏ  像面Ｓの正規の位置
Ｐｆ  正規の位置から前進した位置
Ｐｂ  正規の位置から後退した位置
Ｌｏ  正規の位置Ｐｏでの光ビーム間隔
Ｌｆ、Ｌｆ’  正規の位置Ｐｏから前進した位置Ｐｆでの光ビーム間隔
Ｌｂ、Ｌｂ’  正規の位置Ｐｏから後退した位置Ｐｂでの光ビーム間隔
Ｓ  感光体１の像面
Ｓ０、Ｓ１、Ｓ２  集光点
θ１  レーザービームＢ１の感光体１の像面Ｓに対する入射角度
θ２  レーザービームＢ２の感光体１の像面Ｓに対する入射角度
Ｄ  現像剤
Ｐ  転写部
ＰＷ１、ＰＷ２、ＰＷ３  電源
Ｔ  記録紙
【図１】
0003747628.tif 000002
【図２】
0003747628.tif 000003
【図３】
0003747628.tif 000004
【図４】
0003747628.tif 000005
【図５】
0003747628.tif 000006
【図６】
0003747628.tif 000007
【図７】
0003747628.tif 000008
【図８】
0003747628.tif 000009