(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
角型基板の端縁に付着した不要な薄膜を洗浄除去する基板端縁洗浄装置であって、
その表面に薄膜が形成された角型基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段によって保持された角型基板の端縁に向けて溶剤を吐出し、前記基板端縁に付着する薄膜を溶解する溶剤吐出手段および前記角型基板の端縁に気体をスポット状に吹き付け、前記溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばす気体吐出手段を有する基板端縁洗浄具と、
前記基板端縁洗浄具を前記基板端縁に沿って移動させる駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された角型基板の端縁に向けて前記溶剤吐出手段によって溶剤を吐出しつつ、前記気体吐出手段が前記角型基板の中央部を通過中には前記気体吐出手段の作動を停止させ、前記気体吐出手段が前記角型基板の角部近傍を通過中には前記気体吐出手段を作動させるように前記溶剤吐出手段、前記気体吐出手段および前記駆動手段を制御する制御手段と、
前記溶剤吐出手段により吐出された溶剤、前記気体吐出手段により吐出された気体および前記溶解物を回収する排気管と、
を備えた基板端縁洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板端縁洗浄装置であって、
前記気体吐出手段が前記角型基板の角部を通過して基板横に至ると前記気体吐出手段の作動を停止させる基板端縁洗浄装置。
【請求項３】
角型基板の端縁に向けて溶剤を吐出し、前記基板端縁に付着する薄膜を溶解する溶剤吐出手段と、前記角型基板の端縁に気体を吹き付けて前記溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばす気体吐出手段と、を備えた基板端縁洗浄具を前記端縁に沿って移動させて、角型基板の端縁に付着した不要な薄膜を洗浄除去する基板端縁洗浄方法であって、
その表面に薄膜が形成された角型基板を保持する保持工程と、
保持された角型基板の端縁に向けて前記溶剤吐出手段によって溶剤を吐出しつつ、前記気体吐出手段による気体吐出を停止した状態で、前記基板端縁洗浄具を前記基板端縁に沿って当該端縁の中央部から角部近傍に向かって移動させて、前記端縁に付着した薄膜を溶解する第１工程と、
前記基板端縁洗浄具が前記角型基板の端縁の角部近傍に至ると、保持された角型基板の端縁に向けて前記溶剤吐出手段によって溶剤を吐出しつつ、前記気体吐出手段により当該端縁に気体を吹き付けて前記溶剤により溶解された溶解物を外方に吹き飛ばしながら、前記基板端縁洗浄具を前記基板端縁に沿って移動させて、前記端縁に付着した薄膜を溶解する第２工程と、
を備え、
前記第１工程および第２工程は、前記溶剤吐出手段により吐出された溶剤、前記気体吐出手段により吐出された気体および前記溶解物を排気管により回収しつつ実行されることを特徴とする基板端縁洗浄方法。
【請求項４】
請求項３に記載の基板端縁洗浄方法であって、
前記基板端縁洗浄具が前記角型基板の端縁の角部を通過して基板横に至ると、前記溶剤吐出手段による溶剤吐出を停止するとともに、前記気体吐出手段による気体吐出を停止する第３工程をさらに備え、
前記第３工程は、前記溶剤吐出手段により吐出された溶剤、前記気体吐出手段により吐出された気体および前記溶解物を排気管により回収しつつ実行されることを特徴とする基板端縁洗浄方法。
【請求項５】
前記基板端縁洗浄具を前記端縁に沿って往復移動させて、各端縁を複数回洗浄することを特徴とする請求項３又は４に記載の基板端縁洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、フォトレジスト液，感光性ポリイミド樹脂，カラーフィルタ用の染色剤などからなる薄膜がその一方主面に塗布された液晶用ガラス基板，フォトマスク用ガラス基板などの角型基板に対し、上記薄膜塗布後に基板の端面（側面）に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解するとともに、その溶剤によって溶解された溶解物をガス吹き付けにより基板の端縁より外方に吹き飛ばす基板端縁洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置やフォトマスクの製造工程においては、角型基板上に薄膜を塗布した後、その基板を複数枚カセットに収納してカセット単位で、あるいは搬送機構により１枚づつ、次の工程に搬送する。このとき、角型基板の端縁がカセット内の収納溝や搬送機構のチャック部に接触して、角型基板の端縁に付着した薄膜が剥離し、パーティクルとなり、基板や装置を汚染してしまうことがある。
【０００３】
また、薄膜塗布の際に、フォトレジスト液などの塗布液の一部が基板裏面に回り込み、基板裏面の端縁に残存してしまうことがある。このように角型基板の裏面側で薄膜が残存すると、後工程の装置を汚染したり、露光時に基板が傾き、部分的に焦点が合わないなどの問題が生じ、歩留り低下の原因となっていた。
【０００４】
そこで、このような問題を解決するため、従来より基板端縁に付着した不要の薄膜を洗浄除去する装置、すなわち基板端縁洗浄装置が提案されている。例えば、特開平５−１７５１１７号公報では、その表面にレジスト膜（薄膜）が形成された角型基板をチャック部により保持するとともに、基板端縁に向けて溶剤を吐出する溶剤ノズルと同じく基板端縁に向けてガスを吐出するガスノズルとを一体的に基板端縁に沿って移動させることにより、基板端縁の不要レジスト膜を溶解除去する基板端縁洗浄装置が開示されている。この従来例によれば、溶剤ノズルからの溶剤により基板端縁のレジスト膜が溶解され、その溶解物がガスノズルからのガスにより基板端縁から外方に吹き飛ばされ、その結果、基板端縁の不要レジスト膜が除去される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記基板端縁洗浄装置では、角型基板の角部を良好に洗浄するために、溶剤を吐出するとともに、ガスを吐出させて溶剤により溶解された溶解物を強制的に基板端縁から外方に吹き飛ばしているが、ガスノズルが基板端縁に沿って移動する間、常時ガスを吐出し続けているため、角型基板の角部のみならず端縁中央部、つまり基板の角部と角部で挟まれた端縁領域にもガスが供給される。そのため、端縁中央部へのガス吐出により端縁中央部における洗浄境界面に「むら」が生じてしまうという問題が発生する。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、気体吐出手段から吐出された気体による洗浄境界面のむらを発生させることなく、角型基板の端縁を良好に洗浄することができる基板端縁洗浄装置及び基板端縁洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、角型基板の端縁に付着した不要な薄膜を洗浄除去する基板端縁洗浄装置であって、その表面に薄膜が形成された角型基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段によって保持された角型基板の端縁に向けて溶剤を吐出し、前記基板端縁に付着する薄膜を溶解する溶剤吐出手段および前記角型基板の端縁に気体をスポット状に吹き付け、前記溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばす気体吐出手段を有する基板端縁洗浄具と、前記基板端縁洗浄具を前記基板端縁に沿って移動させる駆動手段と、前記基板保持手段に保持された角型基板の端縁に向けて前記溶剤吐出手段によって溶剤を吐出しつつ、前記気体吐出手段が前記角型基板の中央部を通過中には前記気体吐出手段の作動を停止させ、前記気体吐出手段が前記角型基板の角部近傍を通過中には前記気体吐出手段を作動させるように前記溶剤吐出手段、前記気体吐出手段および前記駆動手段を制御する制御手段と、前記溶剤吐出手段により吐出された溶剤、前記気体吐出手段により吐出された気体および前記溶解物を回収する排気管とを備えている。
また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る基板端縁洗浄装置であって、前記気体吐出手段が前記角型基板の角部を通過して基板横に至ると前記気体吐出手段の作動を停止させる。
また、請求項３の発明は、角型基板の端縁に向けて溶剤を吐出し、前記基板端縁に付着する薄膜を溶解する溶剤吐出手段と、前記角型基板の端縁に気体を吹き付けて前記溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばす気体吐出手段とを備えた基板端縁洗浄具を前記端縁に沿って移動させて、角型基板の端縁に付着した不要な薄膜を洗浄除去する基板端縁洗浄方法であって、その表面に薄膜が形成された角型基板を保持する保持工程と、保持された角型基板の端縁に向けて前記溶剤吐出手段によって溶剤を吐出しつつ、前記気体吐出手段による気体吐出を停止した状態で、前記基板端縁洗浄具を前記基板端縁に沿って当該端縁の中央部から角部近傍に向かって移動させて、前記端縁に付着した薄膜を溶解する第１工程と、前記基板端縁洗浄具が前記角型基板の端縁の角部近傍に至ると、保持された角型基板の端縁に向けて前記溶剤吐出手段によって溶剤を吐出しつつ、前記気体吐出手段により当該端縁に気体を吹き付けて前記溶剤により溶解された溶解物を外方に吹き飛ばしながら、前記基板端縁洗浄具を前記基板端縁に沿って移動させて、前記端縁に付着した薄膜を溶解する第２工程とを備え、前記第１工程および第２工程は、前記溶剤吐出手段により吐出された溶剤、前記気体吐出手段により吐出された気体および前記溶解物を排気管により回収しつつ実行される。
また、請求項４の発明は、請求項３の発明に係る基板端縁洗浄方法であって、前記基板端縁洗浄具が前記角型基板の端縁の角部を通過して基板横に至ると、前記溶剤吐出手段による溶剤吐出を停止するとともに、前記気体吐出手段による気体吐出を停止する第３工程をさらに備え、前記第３工程は、前記溶剤吐出手段により吐出された溶剤、前記気体吐出手段により吐出された気体および前記溶解物を排気管により回収しつつ実行される。
また、請求項５の発明は、請求項３又は４の発明に係る基板端縁洗浄方法であって、前記基板端縁洗浄具を前記端縁に沿って往復移動させて、各端縁を複数回洗浄する。
【０００８】
【作用】
この発明では、気体吐出手段が溶剤ノズルと一体的に角型基板の端縁に沿って移動し、前記角型基板の角部近傍に位置したときにのみ、作動し、前記角型基板の端縁表面に気体をスポット状に吹き付け、前記溶剤ノズルから吐出された溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばす。それ以外、つまり前記気体吐出手段が前記角型基板の端縁中央部を移動する際には、前記気体吐出手段からの気体の吐出が停止される。
【０００９】
【実施例】
図１は、この発明にかかる基板端縁洗浄装置の一実施例を示す概略側面図であり、図２は上記基板端縁洗浄装置の概略平面図である。この基板端縁洗浄装置では、基板保持部２が設けられており、例えば回転塗布によりその表面に薄膜が形成された基板１が、基板保持部２の上部に載置されるとともに、図示を省略する吸着機構により真空吸着され、保持される。また、基板保持部２により保持された基板１の端縁に沿って４つの基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが移動自在に配置されている。なお、以下の説明の便宜から、図２において右下位置および左上位置を原点位置とし、左右方向に往復移動する基板端縁洗浄具６ａ，６ｃをそれぞれ「前側基板端縁洗浄具」および「後側基板端縁洗浄具」と称するとともに、右上位置および左下位置を原点位置とし、上下方向に往復移動する基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄをそれぞれ「右側基板端縁洗浄具」および「左側基板端縁洗浄具」と称する。
【００１０】
図３は、基板端縁洗浄具を示す側面図であり、図４は図３のＡ−Ａ線矢視図である。これらの図に示すように、各基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄでは、ケーシング本体１９内に溶剤パイプ２０とガスパイプ２１とが水平姿勢で取り付けられている。この溶剤パイプ２０には、８本の溶剤ノズル３ａと溶剤供給管２２が接続されており、溶剤タンク（図示省略）からの溶剤を角型基板１の表面端縁に向けて吐出可能となっている。また、ガスパイプ２１には、８本のガスノズル４ａとガス供給管２３とが接続されている。これらのガスノズル４ａは溶剤ノズル３ａよりも基板内側、つまり図３の右手側に配設されており、次に説明するガス供給制御部を介して、基板端縁に向けて窒素ガスや空気などのガスをスポット状に吐出して、溶剤および溶剤により溶解された溶解物を基板端縁から外方に吹き飛ばすことができるようになっている。
【００１１】
図５はガス供給制御部を示す概略図である。同図に示すように、この実施例では、窒素ガス供給源（図示省略）からの窒素ガスを２つの経路に分割し、一方を前後ガス供給制御部３０ａを介して前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃのガスノズル４ａに供給するとともに、他方を左右ガス供給制御部３０ｂを介して右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄのガスノズル４ａに供給するようになっている。
【００１２】
前後ガス供給制御部３０ａは、電磁弁３１と接続されたエアー弁３２、流量計３３、マニホールド３４およびフィルタ３５ａ，３５ｃで構成されており、窒素ガス供給源からの窒素ガスがエアー弁３２および流量計３３を介してマニホールド３４に与えられる。そして、マニホールド３４から伸びる２本の分岐端の一方がフィルタ３５ａを介して前側基板端縁洗浄具６ａに接続されるとともに、他方がフィルタ３５ｃを介して後側基板端縁洗浄具６ｃに接続されている。このため、後述するように前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃの移動に応じて電磁弁３１を制御することにより、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃにおけるガスノズル４ａによる溶解物の吹き飛ばし処理を制御することができる。
【００１３】
また、左右ガス供給制御部３０ｂも、上記前後ガス供給制御部３０ａと同様に構成されており、左右ガス供給制御部３０ｂによって右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄにおけるガスノズル４ａによる溶解物の吹き飛ばし処理を制御することができるようになっている。
【００１４】
図３，図４に戻って、各基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄには、ノズルブロック１０が設けられ、さらにこのノズルブロック１０に排気管５が固定されている。そして、排気管５に８本の溶剤ノズル３ｂが取り付けられ、溶剤供給管２６を介して溶剤を基板１の裏面側から基板端縁に向けて吐出可能となっている。なお、図３および図４において、符号２７はチューブであり、これらチューブ２７により、ノズルブロック１０に固定された中継ブロック２４と、溶剤供給管２２，２６、ガス供給管２３および排気管５に接続された吸気管２５それぞれとが接続されている。
【００１５】
図１に示すように、排気管５には、接続チューブ７およびドレンタンク８を介して真空吸引源９が接続されており、ガスノズル４ａからのガス、溶剤および溶解物を回収可能となっている。
【００１６】
また、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄのノズルブロック１０には、支持アーム１１がそれぞれ取り付けられており、固定フレーム１２に付設した上下一対のガイド１３，１３を介して角型基板１の端縁に沿って往復移動可能となっている。
【００１７】
基板保持部２に保持された角型基板１の一つの角部に対応する箇所で正逆転可能な電動モータ１４がモータブラケット１５により支持されるとともに、この電動モータ１４の駆動軸に駆動プーリー１６が連動連結されている。そして、上記角型基板１の角部に対応する４つの箇所のうち、電動モータ１４に最も近接する箇所に１つの遊転プーリー１７が、また残りの３箇所に２個づつの遊転プーリ１７，１７がそれぞれ設けられるとともに、駆動プーリー１６および遊転プーリー１７の間に一対のワイヤー１８，１８が巻回されている。また、ワイヤー１８，１８の所定部分に支持アーム１１がそれぞれ連結されている。このため、電動モータ１４を駆動すると、その回転方向に応じて４つの基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが角型基板１の端縁に沿って移動する。このように、この実施例では、電動モータ１４と、複数のプーリー１６，１７と、ワイヤー１８とで基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを基板端縁に沿って往復移動させる駆動手段が構成されている。
【００１８】
次に、上記のように構成された基板端縁洗浄装置の動作について、図６ないし図１２を参照しつつ説明する。なお、これらの図において、各基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを示すブロック内に記載された印はガスノズル４ａからのガスの吐出状態を示すものであり、「○」はガスノズル４ａからガスが吐出している状態（以下「ガス吐出状態」という）を示す一方、「×」はガスノズル４ａからガスが吐出していない状態（以下「ガス吐出停止状態」という）を示している。
【００１９】
まず、表面に薄膜が形成された角型基板１が基板端縁洗浄装置に搬送され、基板保持部２上に保持され、基板端縁洗浄を行う直前においては、図６に示すように、各基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄはそれぞれ所定の原点位置に位置しており、溶剤ノズル３ａ，３ｂからの溶剤吐出は停止されるとともに、ガスノズル４ａもガス吐出停止状態となっている。
【００２０】
次に、装置に開始指令が与えられると、溶剤ノズル３ａ，３ｂからの溶剤の吐出が開始されるとともに、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄがそれぞれ「左方向」「下方向」「右方向」「上方向」に移動し始める。そして、図７に示すように、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃが角型基板１の角部に差し掛かると同時にガスノズル４ａにガスを供給して、溶剤による基板端縁洗浄を行うとともに、スポット状のガスにより溶剤および溶解物を基板端縁から外方に吹き飛ばす。この動作を、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃが基板１の角部から一定のガス吐出範囲ＲF1，ＲB1（ＲF1＝ＲB1）を通過する間、行う。こうすることによって、基板端縁の角部に存在する不要薄膜を良好に洗浄除去することができる。なお、このとき、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄは角型基板１の角部に差し掛かっていないため、ガス吐出停止状態となっている。
【００２１】
基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの移動が進むと、図８に示すように、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃがガス吐出範囲ＲF1，ＲB1を通過してしまう一方、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄがそれぞれ角型基板１の角部から一定のガス吐出範囲ＲR1，ＲL1（ＲR1＝ＲL1）に入る。ここでは、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃがガス吐出範囲ＲF1，ＲB1を通過した時点で前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃへのガスの供給が停止され、ガス吐出停止状態となる。ただし、このガス吐出停止状態にあっても、溶剤ノズル３ａ，３ｂから溶剤が基板端縁に吐出され、不要な薄膜の洗浄除去が行われる。一方、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄが角型基板１の角部に差し掛かると同時にガスを供給して、溶剤による基板端縁洗浄を行うとともに、スポット状のガスにより溶剤および溶解物を基板端縁から外方に吹き飛ばす。この動作をガス吐出範囲ＲR1，ＲL1に位置する間連続して行い、基板端縁の角部に存在する不要薄膜を良好に洗浄除去する。
【００２２】
そして、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの移動がさらに進み、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄがガス吐出範囲ＲR1，ＲL1を通過すると、ガス供給が止まり、ガス吐出停止状態となる（図９）。なお、この場合（ガス吐出停止状態）においても、溶剤ノズル３ａ，３ｂから溶剤が基板端縁に向けて吐出されて、基板端縁洗浄処理が行われている。
【００２３】
その後、図１０に示すように、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃが次の角部の手前、つまりガス吐出範囲ＲF2，ＲR2（ＲF1＝ＲR1＝ＲF2＝ＲR2）に差し掛かると同時に、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃにガスを再度供給する。これにより、溶剤による基板端縁洗浄を行うとともに、スポット状のガスにより溶剤および溶解物を基板端縁から外方に吹き飛ばす。なお、この動作を、ガス吐出範囲ＲF2，ＲB2を移動している間連続して行う。
【００２４】
また、図１１に示すように、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃが角型基板１の角部を通過すると、ガス供給を停止して、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃはガス吐出停止状態となる。一方、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄが次の角部の手前、つまりガス吐出範囲ＲR2，ＲL2（ＲR1＝ＲL1＝ＲR2＝ＲL2）に差し掛かると同時に、再度ガス供給を行い、上記と同様にして溶剤およびガス吐出による洗浄除去処理を行う。
【００２５】
そして、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄが角型基板１の角部を通過すると、ガス供給を停止して、右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄは再度ガス吐出停止状態となる。
【００２６】
こうして、片道の端縁洗浄処理が完了する（図１２）と、電動モータ１４が反転動作し、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄがそれぞれ「右方向」「上方向」「左方向」「下方向」に移動し始める。なお、この実施例では、片道の端縁洗浄処理が完了した時点においても、溶剤ノズル３ａ，３ｂから溶剤を吐出し続けている。
【００２７】
そして、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを移動させながら、上記のように各基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが対応するガス吐出範囲を移動する間、ガスを基板端縁に向けて吐出させる。また、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが原点位置（図６）に戻った時点で、溶剤の供給を停止して、一連の端縁洗浄処理を終了する。最後に、上記処理を受けた基板１が図示を省略する基板搬送機構により次の処理工程に搬出される。
【００２８】
以上のように、この実施例にかかる基板端縁処理装置によれば、ガス供給制御部３０ａ，３０ｂを設け、角型基板１の角部近傍、つまりガス吐出範囲を移動する間、ガスノズル４ａからガスを基板端縁に吐出する一方、それ以外、つまり基板端縁中央部に沿って移動する間ではガス吐出を停止するようにしているので、角型基板１の端縁中央部における洗浄境界面にむらを発生させることなく、角型基板１の端縁全体を良好に洗浄することができる。
【００２９】
なお、上記実施例では、前側および後側基板端縁洗浄具６ａ，６ｃに設けられたガスノズル４ａへのガスの供給を１つの前後ガス供給制御部３０ａにより、また右側および左側基板端縁洗浄具６ｂ，６ｄに設けられたガスノズル４ａへのガスの供給を１つの左右ガス供給制御部３０ｂにより、それぞれ制御するようにしているが、この組み合わせはこれに限定されるものではなく、例えば基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄに対してそれぞれ専用のガス供給制御部を設けてもよい。
【００３０】
また、上記実施例では、ガス吐出範囲ＲF1，ＲF2，ＲB1，ＲB2をすべて同一広さとしているが、ガス吐出範囲ＲF1，ＲB1とガス吐出範囲ＲF2，ＲB2とを異なる広さに設定してもよい。この点については、ガス吐出範囲ＲR1，ＲR2，ＲL1，ＲL2も同じである。さらに、基板端縁洗浄具６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄに対してそれぞれ専用のガス供給制御部を設けた場合には、ガス吐出範囲ＲF1，ＲF2，ＲB1，ＲB2，ＲR1，ＲR2，ＲL1，ＲL2の大きさをそれぞれ任意に設定することができる。
【００３１】
さらに、上記実施例では、８本のガスノズル４ａを設けているが、ガスノズル４ａの本数は任意であり、例えば８本のガスノズルのうち両端部の２本のみを残し、その他のガスノズルを省略してもよい。
【００３２】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、気体吐出手段が角型基板の角部近傍に移動したときにのみ、前記気体吐出手段を作動させて、基板端縁に気体をスポット状に吹き付け、溶剤吐出手段からの溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばすようにしているので、気体吐出手段から吐出された気体による洗浄境界面のむらを発生させることなく、角型基板の端縁を良好に洗浄することができる。
またこの発明によれば、角型基板の角部近傍を洗浄する際には、基板端縁に気体を吹き付けて溶剤により溶解された溶解物を前記基板端縁から外方に吹き飛ばすようにし、端縁の中央部近傍を洗浄する際には、気体の吹き付けを停止しているので、気体吐出による洗浄境界面のむらを発生させることなく、角型基板の端縁を良好に洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明にかかる基板端縁洗浄装置の一実施例を示す概略側面図である。
【図２】図１の基板端縁洗浄装置の概略平面図である。
【図３】基板端縁洗浄具を示す側面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ線矢視図である。
【図５】ガス供給制御部を示す概略図である。
【図６】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【図７】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【図８】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【図９】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【図１０】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【図１１】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【図１２】図１の基板端縁洗浄装置の動作を示す図である。
【符号の説明】
１  角型基板
２  基板保持部
３ａ，３ｂ  溶剤ノズル
４ａ  ガスノズル
３０ａ，３０ｂ  ガス供給制御部
【図１】
0003795088.tif 000002
【図２】
0003795088.tif 000003
【図３】
0003795088.tif 000004
【図４】
0003795088.tif 000005
【図５】
0003795088.tif 000006
【図６】
0003795088.tif 000007
【図７】
0003795088.tif 000008
【図８】
0003795088.tif 000009
【図９】
0003795088.tif 000010
【図１０】
0003795088.tif 000011
【図１１】
0003795088.tif 000012
【図１２】
0003795088.tif 000013