(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される液晶性フマル酸ジエステル。
0003832301.tif 000022
式中、Ｒ１は炭素数１から２０を有する直鎖アルキルであり、またＲ１は１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルであり；Ａ１、Ａ２およびＡ３は独立にシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり；Ｚ１およびＺ２は独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｒ２は水素、炭素数１から２０のアルキル、１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９のアルキル、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｆ、または−Ｃｌであり；ｍおよびｎは独立に０、１または２である。但し、ｍが０であるとき、Ｒ１は炭素数３から２０を有する直鎖アルキル、または１つもしくは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−もしくは−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルである。
【請求項２】
Ａ２がシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり、Ｚ１およびＺ２は単結合であり、ｍおよびｎが０である請求項１記載の液晶性フマル酸ジエステル。
【請求項３】
Ａ１およびＡ２が独立にシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり、Ｚ１およびＺ２は単結合であり、ｍは１であり、ｎは０である請求項１記載の液晶性フマル酸ジエステル。
【請求項４】
Ａ１、Ａ２およびＡ３は独立にシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり、Ｚ１およびＺ２は単結合であり、ｍおよびｎは１である請求項１記載の液晶性フマル酸ジエステル。
【請求項５】
請求項１に記載された化合物（１）の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。
【請求項６】
式（２）で表される反復単位の少なくとも１つを含有する高分子体。
0003832301.tif 000023
式中、Ｒ１は炭素数１から２０を有する直鎖アルキルであり、またＲ１は１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルであり；Ａ１、Ａ２およびＡ３は独立にシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり；Ｚ１およびＺ２は独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｒ２は水素、炭素数１から２０のアルキル、１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９のアルキル、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｆ、または−Ｃｌであり；ｍおよびｎは独立に０、１または２であり、Ｘは正の整数である。但し、ｍが０であるとき、Ｒ１は炭素数３から２０を有する直鎖アルキル、または１つもしくは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−もしくは−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルである。
【請求項７】
請求項６に記載された高分子体からなる液晶性薄膜。
【請求項８】
請求項６に記載された高分子体からなり、厚さが５０μｍ以下、光の透過率が８０％以上、ヘイズ値が１．５％以下である光学異方性薄膜。
【請求項９】
請求項８に記載された光学異方性薄膜を位相差板としての使用。
【発明の詳細な説明】
【本発明の属する技術分野】
【０００１】
本発明は重合しうる特定の液晶性フマル酸ジエステル、この高分子体、この高分子体からなる位相差板、偏光板、液晶配向膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】
重合性の液晶性化合物を配向させた状態で光重合させると、均一な配向状態が固定化されるので、光学異方性を示す高分子体が得られる（特開平８−３１１１号公報）。反応性の高さ、高分子体の透明性などの点からアクリレートの高分子体が一般的に用いられる（特開平７−１７９１０号公報、特開平９−３１６０３２号公報）。しかし、この高分子体は機械的な強度と耐熱性が充分でない。そこで、耐熱性を向上するために多官能性のアクリレートを添加して架橋を行う方法が報告された（特開平１１−８００８１）。
【０００３】
一方、フマル酸ジエステルを重合して得られる高分子体はアクリレートの高分子体に較べて機械的強度と耐熱性に優れる。ポリメチレン主鎖の炭素総てに置換基が結合しているからである。フマル酸ジエステルの高分子体は透明性に優れているので光学材料に適している。ところが、ケミストリーエクスプレス（Chemistry Express）、Vol. 5、No. 8、pp625 (1990)、ケミストリーレターズ（Chemistry Letters） 、pp1697 (1990) に開示された液晶性フマル酸ジエステルは重合反応性が極めて低いので、光学異方性を示す高分子体を収率よく製造するのが困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は重合しうる液晶性フマル酸ジエステル、および機械的強度と耐熱性に優れた、その高分子体を提供することにある。本発明の別の目的は高い重合反応性を有する液晶性フマル酸ジエステルと、高分子量の高分子体を提供することにある
【課題を解決するための手段】
本発明者は上記の目的を達成するために鋭意検討したところ、特定のフマル酸ジエステルが優れた液晶性と高い反応性とをあわせ持つことを見いだし、本発明を完成させた。なお、「液晶性」の用語は、（１）化合物が液晶相を有する、（２）化合物が液晶相を有しないが、他の液晶性化合物と混合したときにその液晶相を阻害しない、の両者を意味する。（２）の化合物は液晶組成物の成分として活用できるからである。
【０００５】
本発明の化合物における第１の特徴は、フマル酸に結合した基の少なくとも一方が剛直な基であり、これが液晶性に寄与する点にある。剛直な基はメチレン鎖などのスペーサーを介さずにフマル酸に結合しているので、高分子体では拘束される。これによって本発明の高分子体は良好な液晶性を有し、機械的な強度と耐熱性に優れると解釈される。
【０００６】
第２の特徴は、フマル酸に対して少なくとも１つのシクロヘキシレンが直接結合している点である。下記の液晶性のフマル酸ジエステルがモレキュラークリスタルズアンドリキッドクリスタルズ（Mol. Cryst. Liq. Cryst.）, 1975, Vol. 30, 201 に報告された。
0003832301.tif 000002
ところが、この化合物の重合性は極めて低いので高分子体が得られない（比較例１を参照）。したがって、シクロヘキシレンが高い重合性に寄与していると考えられる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の化合物をより具体的に説明する。本発明の化合物は式（１）で表される化合物である。なお、式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と表記することがある。
0003832301.tif 000003
【０００８】
式中、Ｒ１は炭素数１から２０を有する直鎖アルキルであり、またＲ１は１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルであり；Ａ１、Ａ２およびＡ３は独立にシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり；Ｚ１およびＺ２は独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｒ２は水素、炭素数１から２０のアルキル、１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９のアルキル、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｆ、または−Ｃｌであり；ｍおよびｎは独立に０、１または２である。但し、ｍが０であるとき、Ｒ１は炭素数３から２０を有する直鎖アルキル、または１つもしくは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−もしくは−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルである。
【０００９】
好ましいＲ１は直鎖アルキルまたは１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられた直鎖アルキルである。具体的な例はメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、メトキシメチル、メトキシエチルである。但し、ｍが０であるときには、メチルおよびエチルは含まれない。
【００１０】
好ましいＡ１、Ａ２とＡ３の構造を次に例示する。
0003832301.tif 000004
【００１１】
好ましいＺ１およびＺ２は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−，−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−である。これらの化合物は広い液晶相の温度範囲を有する。さらに好ましいＺ１およびＺ２は−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−である。これらの化合物は比較的低い粘性を有する。
【００１２】
好ましいＲ２は水素、アルキル、１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられたアルキル、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＯＣＦ３、または−Ｆである。具体的な例はメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、およびデシルオキシである。
【００１３】
好ましい化合物（１）は、Ｚ１およびＺ２が単結合であり、ｍおよびｎが０である化合物、Ｚ１およびＺ２が単結合であり、ｍが１であり、ｎが０である化合物、Ｚ１およびＺ２が単結合であり、ｍとｎが１である化合物である。
本発明の高分子体は化合物（１）の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物を重合させることによって得られる。すなわち、式（２）で表される反復単位の少なくとも１つを含有する高分子体である。この高分子体を高分子体（２）と表記することがある。
0003832301.tif 000005
式中、Ｒ１は炭素数１から２０を有する直鎖アルキルであり、またＲ１は１つまたは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルであり；Ａ１、Ａ２およびＡ３は独立にシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１つから４つの水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１つから４つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはジオキサン−２，５−ジイルであり；Ｚ１およびＺ２は独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｒ２は水素、炭素数１から２０のアルキル、１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９のアルキル、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｆ、または−Ｃｌであり；ｍおよびｎは独立に０、１または２であり、Ｘは正の整数である。但し、ｍが０であるとき、Ｒ１は炭素数３から２０を有する直鎖アルキル、または１つもしくは隣り合わない２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＦ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−もしくは−ＣＯ−で置き換えられた炭素数１から１９の直鎖アルキルである。
【００１４】
本発明は高分子体（２）の薄膜にも係わる。この薄膜は写真フイルムのように支持体を必要としない薄膜および液晶配向膜のようにガラス板を支持体として必要とする薄膜を含む。本発明は厚さが５０μｍ以下、光の透過率が８０％以上、ヘイズ値が１．５％以下である高分子体（２）の光学異方性薄膜、その位相差板に係わり、厚さ１００ｎｍ以下である高分子体（２）の薄膜、その液晶配向膜に係わる。
【００１５】
[化合物の製造方法]
本発明の化合物（１）は、次の方法に従って製造できる。無水マレイン酸を置換シクロヘキサノールでエステル化してマレイン酸モノエステル（ａ）を得る。化合物（ａ）をフマル酸モノエステル（ｂ）に異性化する。ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等の縮合剤の存在下でフマル酸モノエステル（ｂ）をアルコール誘導体（またはフェノール誘導体）でエステル化して、目的の化合物（１）を製造する。
0003832301.tif 000006
【００１６】
化合物（１）はマレイン酸モノエステル（ａ）をアルコール誘導体（またはフェノール誘導体）でエステル化した後、モルホリンなどの塩基を用いて異性化する方法によっても製造できる
0003832301.tif 000007
以上の製造方法により以下に示す化合物［１］〜［１３５］を製造する。
【００１７】
0003832301.tif 000008
【００１８】
0003832301.tif 000009
【００１９】
0003832301.tif 000010
【００２０】
0003832301.tif 000011
【００２１】
0003832301.tif 000012
【００２２】
0003832301.tif 000013
【００２３】
0003832301.tif 000014
【００２４】
0003832301.tif 000015
【００２５】
0003832301.tif 000016
【００２６】
0003832301.tif 000017
なお、上記の化合物例のうち、［１］、［２］、［６］、［２１］、［２２］、［２６］、［４１］、［４２］、［４６］、［６１］、［６２］および［６６］の化合物は参考例である。
【００２７】
[共重合体の製造方法]  化合物（１）は単体で重合することによって高分子体（２）に誘導できる。化合物（１）は、下記の式（３）で示される液晶性を示さないフマル酸ジエステル（以下、化合物（３）という）またはビニル系単量体と共重合することもできる。最初に、共重合に適した化合物（３）を示す。
0003832301.tif 000018
【００２８】
化合物（３）において、Ｒ３またはＲ４は１価の脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素である。これらの基は水素の代わりにハロゲンを有してもよいし、炭素の代わりに硫黄（Ｓ）、窒素（Ｎ）、リン（Ｐ）およびケイ素（Ｓｉ）等のヘテロ原子を含有してもよい。これらの炭化水素基は非環式、単環式、縮合多環式、または架橋環式である。脂肪族炭化水素基の好ましい炭素数は１〜１４であり、芳香族炭化水素の好ましい炭素数は６〜２０である。これらの１価基の具体例を直鎖アルキル、分岐アルキル、シクロアルキル、アリール、ハロゲンまたはヘテロ原子を含有するアルキルの順に示す。
【００２９】
直鎖アルキルの具体例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシルである。分岐アルキルの具体例は、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−アミル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ｓｅｃ−ヘキシル、４−メチル−２−ペンチル、ｓｅｃ−ヘプチル、ｓｅｃ−オクチルである。シクロアルキルの具体例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル、ジメチルアダマンチルである。アリールの具体例は、フェニル、ベンジル、１−フェニル−１−エチル、３−フェニルプロピル、１−フェニル−２−プロピル、１−フェニル−１−プロピルである。
【００３０】
ハロゲンを含有するアルキルの具体例はトリフルオロメチル、トリフルオロメチルエチル、ヘキサフルオロイソプロピル、パーフルオロイソプロピル、パーフルオロブチルエチル、パーフルオロオクチルエチル、２−クロロエチル、１−ブトキシ−２−プロピルである。ヘテロ原子を含有するアルキルの具体例はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ、メトキシメチル、メトキシエチル等のアルコキシアルキル、シアノメチル、シアノエチル、シアノブチル等のシアノアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシエチル、ヒドロキシエチルチオエチル（ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−）、ヒドロキシブチル等のヒドロキシアルキル、トリメチルシリル、トリメチルシロキシプロピル等の含ケイ素基である。
【００３１】
化合物（３）のＲ３とＲ４が対称（Ｒ３＝Ｒ４）であるフマル酸ジエステルは共重合性がよく、化合物（１）との共重合に適している。好ましい化合物（３）はフマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジシクロヘキシル、フマル酸ジ１−フェニル−２−プロピル、フマル酸ジｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジｔ−ブチル、フマル酸ジ２−エチルヘキシルである。なかでも、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジｓｅｃ−ブチルは特に好ましい。
【００３２】
Ｒ３とＲ４が非対称の場合（Ｒ３≠Ｒ４）、好ましいＲ３はイソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルである。好ましいＲ４は炭素数１〜１２のアルキル、シクロアルキル、アリールである。アリールとしては１−フェニル−２−エチル、１−フェニル−２−プロピルが好ましい。また好ましいＲ４はトリフルオロメチル、トリメチルシリル、シアノ、ヒドロキシを含有するアルキル、シクロアルキル、またはアリールである。
【００３３】
非対称なフマル酸ジエステルの具体例を示す。化合物（３）のＲ３とＲ４とを明確に区別するために、＝の記号を用いた。具体例はフマル酸イソプロピル＝メチル、フマル酸イソプロピル＝エチル、フマル酸イソプロピル＝プロピル、フマル酸イソプロピル＝ブチル、フマル酸イソプロピル＝ｓｅｃ−ブチル、フマル酸イソプロピル＝ｔ−ブチル、フマル酸イソプロピル＝イソアミル、フマル酸イソプロピル＝ｓｅｃ−アミル、フマル酸イソプロピル＝ｓｅｃ−ヘキシル、フマル酸イソプロピル＝４−メチル−２−ペンチル、フマル酸イソプロピル＝２−エチルヘキシル、フマル酸イソプロピル＝オクチル、フマル酸イソプロピル＝シクロヘキシル、フマル酸イソプロピル＝ノニル、フマル酸ｔ−ブチル＝ｓｅｃ−ブチル、フマル酸ｔ−ブチル＝シクロヘキシル、フマル酸ｔ−ブチル＝４−メチル−２−ペンチル、フマル酸ｔ−ブチル＝２−エチルヘキシル、フマル酸イソプロピル＝シクロヘキシル、フマル酸イソプロピル＝シクロペンチル等のジアルキルエステルである。
【００３４】
具体例はフマル酸イソプロピル＝２−フェニル−１−エチル、フマル酸イソプロピル＝３−フェニルプロピル、フマル酸イソプロピル＝１−フェニル−２−プロピル、フマル酸イソプロピル＝１−フェニル−１−プロピル等のアリールを含有したエステルであり、フマル酸イソプロピル＝（トリメチルシリル）プロピル、フマル酸ｔ−ブチル＝（トリメチルシリル）プロピル、フマル酸シクロヘキシル＝（トリメチルシリル）プロピル、フマル酸イソプロピル＝（３−トリス（トリメチルシロキシ）シリル）プロピル、フマル酸イソプロピル＝３−（ペンタメチル）ジシロキサニル）プロピル等のケイ素を含有したエステルであり、フマル酸Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル＝イソプロピル、フマル酸ｔ−ブチル＝１−ブトキシ−２−プロピル、フマル酸２−シアノエチル＝イソプロピル、フマル酸２−ヒドロキシエチル＝イソプロピル、フマル酸グリシジル＝イソプロピル、フマル酸イソプロピル＝ジエチルホスフォメチル、フマル酸２−メチルチオエチル＝イソプロピル、フマル酸イソプロピル＝２−ヒドロキシエチルチオエチル＝イソプロピル等のヘテロ原子を含有したエステルであり、フマル酸パーフルオロオクチルエチル＝イソプロピル、フマル酸トリフルオロメチル＝イソプロピル、フマル酸ペンタフルオロエチル＝イソプロピル、フマル酸ヘキサフルオロイソプロピル＝イソプロピル等のハロゲンを含有したエステルである。
【００３５】
好ましい非対称フマル酸ジエステルはフマル酸イソプロピル＝エチル、フマル酸イソプロピル＝ブチル、フマル酸イソプロピル＝ブチル、フマル酸イソプロピル＝アミル、フマル酸イソプロピル＝ｓｅｃ−ブチル、フマル酸イソプロピル＝ｔ−ブチル、フマル酸イソプロピル＝シクロヘキシル、フマル酸イソプロピル＝シクロペンチル、フマル酸イソプロピル＝１−フェニル−２−プロピル、フマル酸イソプロピル＝パーフルオロイソプロピルである。これらのうち、フマル酸イソプロピル＝２−ヒドロキシエチル、フマル酸イソプロピル＝２−シアノエチルが性能の点から特に好ましい。
【００３６】
次に、ビニル系単量体を例示する。このビニル系単量体は化合物（１）と共重合し、生成した共重合体に皮膜形成性と機械的強度を付与することができれば特に限定されない。好ましいビニル系単量体はオレフィン系炭化水素を主体とするビニル系モノマーである。具体例は酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２−ジメチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン酸ビニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メチルブタン酸ビニル等のカルボン酸ビニルであり、Ｎ−ビニルアセトアミド等のビニルアセトアミドであり、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸ビニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸ビニル等の芳香族ビニル系単量体であり、スチレン、ｏ−、ｍ−、ｐ−クロロスチレン、ｏ−、ｍ−、ｐ−クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体であり、塩化ビニル、フッ化ビニル等のハロゲン化ビニルである。
【００３７】
具体例はエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテル等のビニルエーテルであり、α、β−ビニルナフタレン等のナフタレン誘導体であり、メチルビニルケトン、イソブチルビニルケトン等のアルキルビニルケトンであり、ブタジエン、イソプレン等のジエンであり、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルであり、ジメチルイタコネート、ジエチルイタコネート、ジブチルイタコネート、ジイソプロピルイタコネート等のイタコネートである。
【００３８】
好ましいビニル系単量体のその他の具体例は液晶性を有するアクリル酸誘導体である。この誘導体は高分子体（２）の液晶相の温度範囲を調節するために用いる。共重合に適したアクリル酸誘導体の代表例を示す。
【００３９】
0003832301.tif 000019
【００４０】
非対称の化合物（３）、対称の化合物（３）またはビニル系単量体は、化合物（１）との共重合に用いられる。高分子体（２）の液晶性を損なわないように配慮しながら、これらの化合物の１つを共重合の成分として用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。製造された高分子体（２）は、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体、グラフト重合体等のいずれであってもよい。
【００４１】
[高分子体の用途]
化合物（１）は重合性を有する。熱重合の高分子体（２）は各種の保護膜、液晶表示素子の配向膜などへの応用が可能である。光重合の高分子体（２）は熱重合のそれと同様な応用のほかに、偏光を用いることによりラビングレスの配向膜などへの応用が可能である。
高分子体（２）は光学異方性を有するため、単独で位相差板として使用するか、他の位相差板と組み合わせることにより、偏光板、円偏光板、楕円偏光板、色補償板、視覚補償板などへの応用が可能である。
【００４２】
[高分子体の製造方法]
高分子体（２）を製造するには、用途に適した重合方法を選択する。例えば、位相差板、偏光板などの光学異方性薄膜を製造するには、液晶状態を保持した温度で敏速に重合させことが必要なため、紫外線または電子線等のエネルギーを照射して重合させる方法が好ましい。その際、化合物（１）の単量体に光ラジカル重合開始剤を加えて重合性液晶組成物を調製する。必要に応じて化合物（３）およびビニル系単量体の一方または両方をさらに添加してもよい。
【００４３】
光ラジカル重合開始剤には２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１、２，４−ジエチルキサントンとｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチルの混合物などがあげられる。
【００４４】
光学異方性薄膜を製造するには配向処理したガラス板に前述の重合性液晶組成物を注入し、配向状態とした後、紫外線により重合（紫外線硬化）させる方法、あるいは、ラビング処理したトリアセチルセルロースの薄膜に重合性液晶組成物を塗布して配向させ、紫外線硬化させる方法が好ましい。後者の方法の場合は、塗布時のレベリング性、配向性を調整するために重合性液晶組成物に有機溶剤を加え、塗布した後、溶剤を除去して紫外線硬化することもできる。
【００４５】
好ましい有機溶剤はアニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２，６−ジメチル−４−ヘプタノン、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、酢酸メチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メチル等である。
【００４６】
均一な膜厚に塗布する方法としては、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコード法、デップコート法、スプレーコート法、メニスカスコート法などが挙げられる。光学異方性薄膜の厚さは所望とする位相差値により異なり、位相差値は光学異方性薄膜の複屈折率により異なるが、好ましくは０．０５〜５０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５〜１０μｍ程度である。光学異方性薄膜のヘイズ値は１．５％以下、透過率で８０％以上であることが好ましく、より好ましくはヘイズ値で１．０％、透過率で８５％以上である。可視光領域で透過率がこれらを満たすことが好ましい。ヘイズ値がこれ以上の場合には、偏光性能に問題を生じ、透過率が低いと液晶表示素子に用いた場合に明るさの損失の点で許容できない。
【００４７】
配向膜などを製造するには熱による重合が好ましい。製造には化合物（１）の単量体および必要に応じてその他の単量体とを、ラジカル重合開始剤の存在下で０〜１５０℃の反応温度で１〜１００時間程度重合させることによって得られる。重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、２，２′−アゾビスイソ酪酸ジメチル（ＭＡＩＢ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル（ＡＣＮ）等が挙げられる。
配向膜の製造には、上述の方法により得られた高分子体を有機溶媒に溶解してスピンコート法もしくはラングミュアー・ブロージェット法、印刷法などにより薄膜を形成する。膜厚は１〜１００ｎｍが液晶の配向制御の点で好ましい。
【００４８】
【実施例】
以下、実施例により本発明の詳細を説明する。実施例中に記載した相転移温度においてＣは融点、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を示す。
実施例１．液晶性フマル酸ジエステルの製造
第１段階：無水マレイン酸６３ｇ、トランス−ｎ−ブチルシクロヘキサノール１００ｇ、酢酸ナトリウム５ｇをフラスコに仕込み、７０℃で３時間加熱攪拌した。室温まで冷やした後、水２００ｍｌを加え激しく攪拌するとスラリーが得られた。濾過して得られた結晶を風乾し、シクロヘキサンで再結晶して、１１０ｇのマレイン酸モノ−トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシルを得た。融点６６℃。
【００４９】
第２段階：マレイン酸モノ−トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシル９０ｇ、水５０ｍｌを３００ｍｌのフラスコに仕込み、８０℃まで加熱攪拌した。そこへテトラエチルアンモニウムブロマイド２ｇ、過酸化カリウム２ｇを加え２時間攪拌をつづけた。加熱を止めて室温までもどし、反応混合物を水４００ｍｌに注ぎ込むと結晶が得られた。濾過して得られた結晶を風乾し、シクロヘキサンから再結晶して、８０ｇのフマル酸モノ−トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシルを得た。融点６８℃。
【００５０】
第３段階：フマル酸  モノ−トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシル１０ｇ、トランス−４−（トランス−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノール１０ｇを塩化メチレン１５０ｍｌに溶かし５℃まで冷やし、そこへジメチルアミノピリジン２ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１０ｇを加え室温で１２時間攪拌した。水５０ｍｌを加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、エタノールと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶して６ｇのフマル酸  トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシル  トランス−４−（トランス−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル［８９］を得た。
【００５１】
実施例２．液晶性フマル酸ジエステルの製造
フマル酸  モノ−トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシル１０ｇ、ｐ−シアノフェノール４．７ｇを塩化メチレン１５０ｍｌに溶かし５℃まで冷やし、そこへジメチルアミノピリジン２ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１０ｇを加え室温で１２時間攪拌した。水５０ｍｌを加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶して５ｇのフマル酸  トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシル  ４−シアノフェニル［６４］を得た。
【００５２】
実施例３．液晶性フマル酸ジエステルの製造
第１段階：無水マレイン酸１２ｇ、トランス−４−（トランス−４―ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノール３０ｇ、酢酸ナトリウム２ｇをフラスコに仕込み、９０℃で３時間加熱攪拌した。室温まで冷やした後、水１００ｍｌを加え激しく攪拌するとスラリーが得られた。濾過して得られた結晶を風乾し、アセトンから再結晶して、３０ｇのマレイン酸モノ−トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルを得た。融点１１６〜１１８℃。
【００５３】
第２段階：マレイン酸モノ−トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル１０ｇ、トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノール７．１ｇを塩化メチレン１５０ｍｌに溶かし５℃まで冷やし、そこへジメチルアミノピリジン２ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド塩酸塩６．９ｇを加え室温で１２時間攪拌した。水５０ｍｌを加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して無色結晶を得た。得られた無色結晶をシクロヘキサン５０ｍｌに溶解し、そこへモルホリン１ｍｌを加え８時間還流した。室温まで冷やすと結晶が析出したので濾過して分取し、さらにヘプタンとテトラヒドロフランの混合溶媒から再結晶して３ｇのフマル酸ジ−トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル［１２１］を得た。
【００５４】
実施例１から３と同様の方法で製造した化合物［１１］〜［１２１］の相転移温度を示す。
0003832301.tif 000020
【００５５】
実施例４．重合性液晶組成物の調製
以下の組成を持つ液晶組成物（ＭＩＸ１）を調製した。
0003832301.tif 000021
【００５６】
液晶組成物（ＭＩＸ１）は室温でネマチック相を示し、透明点は１４５℃であった。ネマチック相の温度範囲が広い組成物が得られた。液晶性を示さない化合物［１１］、［３１］との組成物においても、液晶組成物（ＭＩＸ１）は液晶相を示した。このことから、化合物［１１］、［３１］は潜在的に液晶性を持つことが判る。
【００５７】
実施例５．光学異方体薄膜の製造
液晶組成物（ＭＩＸ１）１００ｍｇに光重合開始剤２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン４ｍｇを添加して重合性液晶組成物を調製した。セルギャップが４μｍとなるようにアンチパラレルの配向処理したガラス基板を張り合わせたセルを作製した。このセルに前記の重合性液晶組成物を１５０℃で注入した。注入したセルを５０℃に冷却し、偏光顕微鏡で液晶が配向していることを確認した。同温度を保持したまま、４Ｗ紫外線ランプを用いて５分間紫外線を照射した。照射後セルを室温に戻してガラスを剥離して光学異方性薄膜を得た。得られた薄膜は均一な相構造を保持しており、ムラがなく機械的強度が強かった。ヘイズ値は０．３％、光透過率は９０％であり、光散乱が小さく、優れた光学異方特性を有する光学異方性薄膜を得ることができた。
【００５８】
実施例６．配向膜の製造
フマル酸  トランス−ｎ−ブチルシクロヘキシル  トランス−４−（トランス−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルを２ｇ、ジイソプロピルフマル酸１ｇ、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル０．１ｇ、ベンゼン２ｍｌをアンプルにとり、一旦、−６０℃に冷却して真空ポンプで十分脱気を行い封管した。封管したアンプルを７０℃の水浴で２４時間反応させた後、メタノール１５０ｍｌで３回再沈殿を行い１．９ｇの共重合物を得た（収率９５％）。ＧＰＣによる重量平均分子量（Ｍｗ）は６５０００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１８であった。融点（Ｔｍ）は２８０℃以上であり耐熱性に優れている。重合物をクロロホルムに溶解して１重量％の溶液を調製した。ＩＴＯ膜を有するガラス基板にこの溶液をスピンコートした後、十分乾燥させ薄膜を得た（膜厚３０ｎｍ）。この薄膜の鉛筆硬度は３Ｈであった。ついてラビングによる配向処理を行いツイステッドネマチック用の液晶表示素子を作製した。偏光板を取り付け液晶配向性、電気応答性を調べた。その結果、液晶が均一に配向しており本発明の高分子体が配向膜として優れていることが判った。また電界に対する光学応答も早く液晶表示素子として優れていることが判った。
【００５９】
比較例１
トルエン３０ｍｌにｐ−ｎ−ブチルオキシフェノール３．３ｇ、フマル酸０．６ｇ、硫酸０．２ｇを加え４８時間還流した。生成した水はディーン・スタークによって分離除去した。反応混合物にエーテルと水を加え分液し、有機層を飽和炭酸ナトリウム水で中和した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーと再結晶で精製してジｐ−ｎ−ブチルオキシフェニルフマル酸２ｇを得た。このものは液晶相を示し、その相転移温度はＣ  １０４．５  Ｎ  １３７  Ｉであった。次にジｐ−ｎ−ブチルオキシフェニルフマル酸２ｇ、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル０．０８ｇ、ベンゼン１ｍｌをアンプルにとり、一旦、−６０℃に冷却して真空ポンプで十分脱気を行い封管した。封管したアンプルを７０℃の水浴で２４時間反応させた後、メタノールで再沈殿を行った。高分子体は得られず原料が回収された。ジｐ−ｎ−ブチルオキシフェニルフマル酸は全く重合しないことが判った。
【００６０】
【発明の効果】
本発明のフマル酸ジエステル（１）は液晶性を示し、従来の液晶性フマル酸誘導体よりも格段に重合反応性が高く、高分子量の高分子体が高収率で得られる。フマル酸ジエステル（１）を液晶状態で光重合することにより、均一でムラがなく機械的強度と耐熱性に優れた光学異方体薄膜が得られる。単独重合または共重合で得た高分子体は、液晶表示素子の位相差板、配向膜、偏光板の材料として有用である。