(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学記録媒体の光磁気記録層に照射される光の光路上に配された複数のレンズを備え、
上記複数のレンズのうち、上記光学記録媒体側に配されたレンズは、他のレンズよりも熱伝導率の高い部材で形成されているとともに、この光学記録媒体側に配されたレンズの光学記録媒体と対向する面には、上記光磁気記録層に照射される光を透過する透過孔を有する薄膜コイルが形成されていることを特徴とする光磁気記録用光学素子。
【請求項２】
光磁気記録層を有する光学記録媒体を回転駆動させる回転駆動手段と、
上記光学記録媒体の光磁気記録層に向けて光を出射する光源と、
上記光源から出射される光の光路上に配された光学素子と、
上記光学記録媒体の光磁気記録面で反射された戻り光を受光する受光手段と、
上記受光手段により受光された戻り光に基づいて所定の信号を生成する信号処理回路とを備え、
上記光学素子は、上記光源から出射される光の光路上に配された複数のレンズを備え、
上記複数のレンズのうち、上記光学記録媒体側に配されたレンズは、他のレンズよりも熱伝導率の高い部材で形成されているとともに、この光学記録媒体側に配されたレンズの光学記録媒体と対向する面には、上記光磁気記録層に向けて出射された光を透過する透過孔を有する薄膜コイルが形成されていることを特徴とする記録及び／又は再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光磁気ディスク等の光学記録媒体に対して情報信号の記録又は再生を行う記録及び／又は再生装置に用いられる光学素子並びにこの光学素子を用いた記録及び／又は再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁界変調方式により、記録媒体である光磁気ディスクに対して情報信号の記録、再生を行う光ディスク装置として、光磁気ディスクの光磁気記録層側に光学系を配して高ＮＡ化を図ることにより高密度記録を実現し、光学系と磁気コイルとを一体化することにより装置の薄型化を実現した光ディスク装置が提案されている。
【０００３】
この光ディスク装置は、対物レンズとして、図９に示すような２つのレンズを有する光学素子１００を用いている。
【０００４】
この光学素子１００は、２つのレンズのうち光磁気ディスク１０１側のレンズ（以下、この光磁気ディスク１０１側のレンズを先玉レンズ１０２、他方のレンズを後玉レンズ１０３という。）が半球レンズからなり、先玉レンズ１０２の円形平面１０２ａ上に磁界変調用の薄膜コイル１０４が形成されている。
【０００５】
そして、この光学素子１００は、光源から出射され光学素子１００に入射した光が、後玉レンズ１０３及び先玉レンズ１０２により収束され、薄膜コイル１０４の中心孔１０４ａを通過して光磁気ディスク１０１の光磁気記録層に照射されるようになされている。
【０００６】
また、この光学素子１００は、薄膜コイル１０４が所定の装置から供給される記録信号に対応する磁界を発生して、光磁気ディスク１０１の光磁気記録層の光が照射される位置にこの磁界を印加するようになされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来の光ディスク装置に用いられる光学素子１００は、先玉レンズ１０２が、熱伝導率が０．５５〜０．７５Ｗ／ｍ・Ｋ程度と低いガラス部材により形成されていた。そして、光学素子１００は、このガラス部材よりなる先玉レンズ１０２の円形平面１０２ａ上に、薄膜コイル１０４が直接形成されていた。
【０００８】
したがって、この光学素子１００においては、薄膜コイル１０４は、いわば断熱的な状態にあり、薄膜コイル１０４に発生した熱が、先玉レンズ１０２に伝わらずに薄膜コイル１０４自体に蓄積されてしまう場合があった。
【０００９】
先玉レンズ１０２を石英ガラスを用いて形成した場合であっても、石英ガラスの熱伝導率は１．０〜２．０Ｗ／ｍ・Ｋ程度であるので、薄膜コイルに発生した熱を逃がすのに十分ではない。
【００１０】
このように、薄膜コイル１０４が断熱的な状態にあり、薄膜コイル１０４に発生した熱が薄膜コイル１０４自体に蓄積されると、特に、高い変調周波数時において、薄膜コイル１０４からの磁界発生の効率が低下してしまい、さらには薄膜コイル１０４自体が焼損してしまうという問題が生じる。
【００１１】
そこで、本発明は、薄膜コイルに発生した熱を有効に逃がすことによって、磁界発生の低効率化を抑制するとともに、薄膜コイルの焼損を防止するようにした光磁気記録用光学素子並びにこの光学素子を用いた記録及び／又は再生装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる光磁気記録用光学素子は、光学記録媒体の光磁気記録層に照射される光の光路上に配された複数のレンズを備え、上記複数のレンズのうち、上記光学記録媒体側に配されたレンズは、他のレンズよりも熱伝導率の高い部材で形成されているとともに、この光学記録媒体側に配されたレンズの光学記録媒体と対向する面には、上記光磁気記録層に照射される光を透過する透過孔を有する薄膜コイルが形成されている。
【００１６】
この光学素子は、複数のレンズが光学記録媒体の光磁気記録層に照射される光を収束して光磁気記録層に照射させる。
【００１７】
また、この光学素子は、記録時においては、薄膜コイルが、所定の強度の磁界を光磁気記録層の光が照射された箇所に印加する。このとき、薄膜コイルに発生した熱は、複数のレンズのうち光学記録媒体側に配されたレンズに伝わり、このレンズに吸収される。
【００２３】
また、本発明にかかる記録及び／又は再生装置は、光磁気記録層を有する光学記録媒体を回転駆動させる回転駆動手段と、上記光学記録媒体の光磁気記録層に向けて光を出射する光源と、上記光源から出射される光の光路上に配された光学素子と、上記光学記録媒体の光磁気記録面で反射された戻り光を受光する受光手段と、上記受光手段により受光された戻り光に基づいて所定の信号を生成する信号処理回路とを備え、上記光学素子は、上記光源から出射される光の光路上に配された複数のレンズを備え、上記複数のレンズのうち、上記光学記録媒体側に配されたレンズは、他のレンズよりも熱伝導率の高い部材で形成されているとともに、この光学記録媒体側に配されたレンズの光学記録媒体と対向する面には、上記光磁気記録層に向けて出射された光を透過する透過孔を有する薄膜コイルが形成されている。
【００２５】
この記録及び／又は再生装置によれば、記録時においては、光源から出射された光が光学素子の複数のレンズにより収束され、回転駆動手段により回転駆動される光学記録媒体の光磁気記録層に照射される。そして、光学素子の薄膜コイルが、所定の強度の磁界を記録媒体の光磁気記録層の光が照射された箇所に印加することにより、所定の情報信号が記録媒体に記録される。
【００２６】
このとき、薄膜コイルに発生した熱は、複数のレンズのうち光学記録媒体側に配されたレンズに伝わり、このレンズに吸収される。
【００２７】
また、この記録及び／又は再生装置によれば、再生時においては、光源から出射された光が光学素子の複数のレンズにより収束され、回転駆動手段により回転駆動される光学記録媒体の光磁気記録層に照射される。そして、光学記録媒体の光磁気記録層で反射された戻り光が受光手段により受光され、信号処理回路に供給されて所定の信号が生成される。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２９】
本発明に係る記録及び／又は再生装置（以下、光ディスク装置１という）は、図１に示すように、光磁気ディスク２を回転駆動させるスピンドルモータ３と、このスピンドルモータ３により回転駆動される光磁気ディスク２に対して所定の信号を記録するとともにこの光磁気ディスク２に記録された信号を読み取ってＭＯ再生信号及び制御信号を生成するための受光信号を出力するヘッド４と、ヘッド４から出力された受光信号を入力して制御信号を生成する制御信号生成部５と、制御信号生成部５から供給される制御信号に基づいてヘッド４を光磁気ディスク２の径方向又は光磁気ディスク２に接離する方向に移動させる駆動用アクチュエータ６とを備えている。
【００３０】
スピンドルモータ３は、図示しない電源に接続されており、この電源から駆動電流が供給されると、保持した光磁気ディスク２を所定の速度で回転駆動させる。
【００３１】
ヘッド４は、図示しない所定の装置から記録信号が供給されると、光磁気ディスク２の光磁気記録層に光を照射させるとともに、記録信号に応じた磁界を発生して、光磁気記録層の光が照射された箇所に、所定の信号を記録する。また、ヘッド４は、光磁気ディスク２の光磁気記録層に光を照射させ、その戻り光を検出することにより、光磁気ディスク２に記録されたデータを読み取ってＭＯ再生信号として出力するとともに、受光信号を制御信号生成部５に供給する。
【００３２】
制御信号生成部５は、フォーカスマトリックス回路８と、トラッキングマトリックス回路１１と、位相補償回路９，１２と、アンプ７，１０，１３とを備えている。
【００３３】
フォーカスマトリックス回路８は、アンプ７を介してヘッド４より供給された受光信号に基づいてフォーカスエラー信号を生成し、このフォーカスエラー信号を位相補償回路９に供給する。
【００３４】
位相補償回路９は、フォーカスマトリックス回路８より供給されたフォーカスエラー信号の位相補償を行い、位相補償された信号をアンプ１０を介して駆動用アクチュエータ６に供給する。
【００３５】
トラッキングマトリックス回路１１は、アンプ７を介してヘッド４より供給された受光信号に基づいてトラッキングエラー信号を生成し、このトラッキングエラー信号を位相補償回路１２に供給する。
【００３６】
位相補償回路１２は、トラッキングマトリックス回路１１より供給されたトラッキングエラー信号の位相補償を行い、位相補償された信号をアンプ１３を介して駆動用アクチュエータ６に供給する。
【００３７】
駆動用アクチュエータ６は、フォーカスマトリックス回路８から位相補償回路９及びアンプ１０を介して供給されるフォーカスエラー信号に基づいて、ヘッド４を光磁気ディスク２に接離する方向に移動させ、フォーカシング制御を行う。また、駆動用アクチュエータ６は、トラッキングマトリックス回路１１から位相補償回路１２及びアンプ１３を介して供給されるトラッキングエラー信号に基づいて、ヘッド４を光磁気ディスク２の径方向に移動させ、トラッキング制御を行う。
【００３８】
ここで、ヘッド４の詳細について説明する。
【００３９】
ヘッド４は、図２に示すように、所定のレーザ光を出射する半導体レーザ２１を備え、この半導体レーザ２１から出射されるレーザ光が、まずコリメータレンズ２２に入射するようになされている。
【００４０】
コリメータレンズ２２は、半導体レーザ２１から出射されるレーザ光を平行光線に整えるもので、このコリメータレンズ２２を透過したレーザ光は、平行光線に整えられた状態で整形プリズム２３を介して、第１のビームスプリッタ２４に入射するようになされている。
【００４１】
第１のビームスプリッタ２４は、整形プリズム２３からのレーザ光を、２つのレンズからなる対物レンズと薄膜コイルとを有する光学素子（以下、光磁気ヘッド部２５という）に向けて透過させるとともに、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａで反射され、光磁気ヘッド部２５を透過するレーザ光（戻り光）を第２のビームスプリッタ２６に向けて反射させるようになされている。
【００４２】
光磁気ヘッド部２５は、対物レンズが、第１のビームスプリッタ２４からのレーザ光を収束して光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射させるとともに、データ記録時においては、薄膜コイルが、アンプ３６を介して供給される記録信号に対応する強度の磁界を、光磁気記録層２ａのレーザ光の照射位置に印加するようになされている。
【００４３】
また、この光磁気ヘッド部２５は、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａで反射されるレーザ光（戻り光）を第１のビームスプリッタ２４に入射させるようになされている。第１のビームスプリッタ２４に入射した戻り光は、上述したように第１のビームスプリッタ２４により反射され、第２のビームスプリッタ２６に入射する。
【００４４】
第２のビームスプリッタ２６は、第１のビームスプリッタ２４により反射される戻り光を、所定の割合で第１の集光レンズ２７に向けて反射するとともに、１／２波長板３０を介して第２の集光レンズ３１に向けて透過させるようになされている。
【００４５】
第１の集光レンズ２７は、第２のビームスプリッタ２６により反射される平行光線の戻り光を収束光にし、この収束光を非点収差を与えるシリンドリカルレンズ２８を介して、第１の光検出器２９に入射させるようになされている。
【００４６】
第１の光検出器２９は、４分割された受光部を有し、それぞれの受光部に入射する戻り光を電気信号（受光信号）に変換し、上述した制御信号生成部５のアンプ７に供給する。
【００４７】
第２の集光レンズ３１は、第２のビームスプリッタ２６から１／２波長板３０を介して供給される平行光線の戻り光を収束光にし、第３のビームスプリッタ３２に入射させるようになされている。
【００４８】
第３のビームスプリッタ３２は、第２の集光レンズ３１により収束光とされた戻り光の一部を第２の光検出器３３に向けて透過させるとともに、戻り光の他の部分を第３の光検出器３４に向けて反射させる。
【００４９】
第２の光検出器３３及び第３の光検出器３４は、第３のビームスプリッタ３２から入射する戻り光をその光量に対応する電気信号に変換して、それぞれ差動アンプ３５に供給するようになされている。
【００５０】
差動アンプ３５は、第２の光検出器３３から供給される電気信号と第３の光検出器３４から供給される電気信号の差を計算し、その計算結果をＭＯ再生信号として、図示しない所定の装置に供給するようになされている。
【００５１】
本発明に係る光ディスク装置１は、以上のように構成されることにより、光磁気ディスク２に対して所定の情報信号を記録し、又は光磁気ディスク２から所定の情報信号を読み取ることが可能とされている。
【００５２】
なお、この光ディスク装置１は、光磁気ディスクに限らず、相変化を利用した相変化型光ディスクや読み出し専用の光ディスク等にも対応可能である。光ディスク装置１は、相変化型光ディスクに情報信号を記録する場合は、ヘッド４が相変化型光ディスクの記録層にレーザ光を照射させ、この記録層の相変化を利用して情報信号を記録し、相変化型光ディスクから情報信号を読み取る場合は、ヘッド４が相変化型光ディスクの記録層にレーザ光を照射させ、記録層の状態による戻り光の違いから再生信号を得るようにする。
【００５３】
また、この光ディスク装置１は、読み出し専用の光ディスクから情報信号を読み取る場合は、ヘッド４が読み出し専用の光ディスクの信号記録層にレーザ光を照射させ、その戻り光を検出して再生信号を得るようにする。
【００５４】
次に、本発明の要部であるヘッド４の光磁気ヘッド部２５について説明する。
【００５５】
この光磁気ヘッド部２５は、図３に示すように、第１のビームスプリッタ２４を透過したレーザ光の光路上に配された２つのレンズを備え、この２つのレンズが半導体レーザ２１から出射されたレーザ光を収束する対物レンズを構成している。なお、以下の説明においては、この２つのレンズのうち、光磁気ディスク２側に配されたレンズを先玉レンズ４１といい、他方のレンズを後玉レンズ４２という。
【００５６】
先玉レンズ４１及び後玉レンズ４２は、ともに使用するレーザ光に対して透明な青板ガラスや石英ガラス等が所定の形状に成形されてなり、それぞれレンズホルダ４３に支持されて、第１のビームスプリッタ２４を透過したレーザ光の光路上に配設されている。特に先玉レンズ４１は、半球状に形成され、円形平面が光磁気ディスク２と対向するようにレンズホルダ４３に支持されている。なお、先玉レンズ４１の球面形状は、後玉レンズ４２の形状や設置位置、光磁気ディスク２の基板厚や屈折率等に応じて、光磁気記録層に照射されるレーザ光が球面収差の影響を受けないように最適化されている。
【００５７】
また、これら先玉レンズ４１及び後玉レンズ４２は、レンズホルダ４３に支持された状態で、駆動用アクチュエータ６により、光磁気ディスク２の径方向及び光磁気ディスク２に接離する方向に一体に移動され、これによりトラッキング制御やフォーカシング制御が行われるようになされている。なお、フォーカシング制御を行う際は、先玉レンズ４１又は後玉レンズ４２が他方のレンズに対して接離する方向に移動操作され、球面収差を補正するようになされている。
【００５８】
光磁気ヘッド部２５には、先玉レンズ４１の光磁気ディスク２側に位置して、コイル支持基板４４が設けられている。
【００５９】
このコイル支持基板４４は、例えば酸化アルミニウムのように、使用するレーザ光に対して透明で且つ青板ガラスや石英ガラスに比べて熱伝導率の高い部材が平板状に成形されてなり、主面が後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束されるレーザ光の光軸に対して略垂直となるように、すなわち、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに対して略平行となるように、上記レンズホルダ４３に支持されて、先玉レンズ４１の光磁気ディスク２側に配設されている。
【００６０】
ここで、酸化アルミニウムの熱伝導率は、２１Ｗ／ｍ・Ｋ程度であり、後述する薄膜コイルに発生した熱が伝わるには十分な値である。なお、コイル支持基板４４に用いられる部材としては、透明で、且つ酸化アルミニウムと同程度の熱伝導率を有する部材であればいかなるものを用いてもかまわない。
【００６１】
コイル支持基板４４の光磁気ディスク２と対向する主面上には、図４及び図５に示すように、コイル支持基板４４を透過するレーザ光の反射を防止するための透明誘電体膜４５を介して、磁界発生のためのコイル部４６が形成されている。
【００６２】
透明誘電体膜４５の材料としては、例えば酸化シリコン、酸化タングステン、フッ化マグネシウム、窒化シリコン等が用いられる。
【００６３】
コイル部４６は、コイル支持基板４４の主面上に透明誘電体膜４５を介して形成された磁性体コア４７と、この磁性体コア４７上に形成されたスパイラル形状の薄膜コイル４８とを有している。このコイル部４６は、薄膜コイル４８に隣接して磁性体コア４７が設けられることにより、磁界効率が高められている。
【００６４】
磁性体コア４７の材料としては、例えばＮｉ−Ｆｅ合金、Ｃｏ系アモルファス合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｃ合金とＮｉ−Ｆｅ合金の積層体、Ｆｅ−Ｔａ−Ｎ合金、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等、広範囲の材料を使用することができ、これらを２種以上組み合わせて使用することも可能である。なお、磁性体コア４７を導電性を有する材料により形成すれば、この磁性体コア４７を介して薄膜コイル４８を一方の電極に接続させることが可能で、別に引き出し線を設けて薄膜コイル４８を一方の電極に接続させる必要がない。したがって磁性体コア４７を導電性を有する材料により形成し、この磁性体コア４７を介して薄膜コイル４８を一方の電極に接続させるようにすれば、コイル部４６の厚みを薄くすることができ、高ＮＡ化に対応させる上で有利となる。
【００６５】
磁性体コア４７は、例えば、上述した材料がスパッタ等により１μｍ以上の厚さでコイル支持基板４４の主面上に成膜され、エッチングプロセスにより所定径の中心孔４７ａを有する円環状に成形されてなる。この磁性体コア４７の中心孔４７ａは、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束されたレーザ光を通過させて、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射させるためのものであり、例えば直径が１２８μｍ程度に設定される。
【００６６】
なお、磁性体コア４７のコイル支持基板４４に対する密着性を向上させるために、コイル支持基板４４の主面上にＣｒ膜等の接着層を形成し、この接着層を介してコイル支持基板４４上に磁性体コア４７を形成するようにしてもよい。
【００６７】
薄膜コイル４８は、所定の装置から供給される記録信号に対応する磁界を発生し、この磁界を光学記録媒体２の光磁気記録層２ａのレーザ光が照射される位置に印加するもので、中心孔を有するスパイラル形状をなすように、磁性体コア４７上に形成されている。
【００６８】
この薄膜コイル４８は、例えばＣｕ、Ａｇ、Ａｕから選ばれる１種、あるいはこれらのうち少なくとも１種を含む合金等の導電性を有する材料が、磁性体コア４７上に所定の厚さで成膜された後に、フォトリソグラフィ技術を用いて、この導電性を有する材料が中心孔を有するスパイラル形状にエッチングされることにより形成される。
【００６９】
そして、この薄膜コイル４８は、絶縁材料からなる絶縁層４９中に埋め込まれた形とされて保護が図られているとともに、スパイラル形状の外周部から、この薄膜コイル４８に駆動電流を供給するための一方の電極５０ａが引き出されている。
【００７０】
また、この薄膜コイル４８は、磁性体コア４７が導電性を有する材料を用いて形成されている場合は、スパイラル形状の内周部をこの磁性体コア４７を介して他方の電極５０ｂに接続させる。
【００７１】
薄膜コイル４８の保護を図るための絶縁層４９の材料としては、例えば、レジスト材料、ポリイミド、アクリル樹脂等が用いられる。そして、絶縁層４９も薄膜コイル４８の形状に応じて中心部に中心孔が設けられており、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束されたレーザ光がこの中心孔を通過するようになされている。
【００７２】
薄膜コイル４８は、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに対して略平行となるように、コイル支持基板４４上に形成される。したがって、この薄膜コイル４８を流れる電流の方向は、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに対して略平行となるので、薄膜コイル４８は、中心孔を貫いて光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａにほぼ垂直な磁界を発生し、この磁界を光磁気記録層２ａに印加する。
【００７３】
なお、以上は、薄膜コイル４８を単層のコイルにより構成した例について説明したが、光磁気ヘッド部２５に用いられる薄膜コイル４８は、図６に示すように、上層コイル４８ａと下層コイル４８ｂの２層構造とされ、それぞれのコイルが絶縁層４９中に埋め込まれた形とされてもよい。
【００７４】
この場合は、上層コイル４８ａのスパイラル形状の外周部及び下層コイル４８ｂのスパイラル形状の外周部から、この薄膜コイル４８に駆動電流を供給するための一対の電極５０ａ，５０ｂを引き出すとともに、上層コイル４８ａのスパイラル形状の内周部と下層コイル４８ｂのスパイラル形状の内周部とを接続させ、上層コイル４８ａと下層コイル４８ｂとを電気的に導通させる。
【００７５】
ところで、この光磁気ヘッド部２５においては、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束されるレーザ光は、図７に示すように、コイル部４６の中心孔、詳しくは、コイル部４６の磁性体コア４７の中心孔４７ａを通過する際に、ビーム径が決定されることが望ましい。すなわち、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束されたレーザ光は、ビーム径が磁性体コア４７の中心孔４７ａの径よりも大とされた状態でコイル支持基板４４を透過し、磁性体コア４７の中心孔４７ａを通過する際に、この磁性体コア４７の中心孔４７ａをアパーチャとして、外周側の一部が磁性体コア４７によりけられることによって、磁性体コア４７の中心孔４７ａを通過するレーザ光のビーム径が決定されて光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射されることが望ましい。
【００７６】
このように、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射されるレーザ光のビーム径が、このレーザ光がコイル部４６の中心孔、詳しくは、コイル部４６の磁性体コア４７の中心孔４７ａを通過する際に決定されるようにすることにより、光軸の倒れや光磁気ヘッド部２５の組立誤差により、レーザ光の中心が光磁気ヘッド部２５の中心軸からずれた場合であっても、ビーム径の変動を許容範囲程度に少なくすることができる。
【００７７】
また、以上は後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により集束されたレーザ光を、コイル支持基板４４を透過させ、コイル部４６の中心孔を通過させて光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射させるようにした例について説明したが、本発明に係る光磁気ヘッド部は、この例に限定されるものではなく、コイル支持基板４４にレーザ光を通過させるための貫通孔を設け、後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により集束されたレーザ光が、コイル支持基板４４の内部を透過せずに、この貫通孔を通過し、コイル部４６の中心孔を通過して光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射されるような構成としてもよい。
【００７８】
以上のように光磁気ヘッド部を構成した場合は、熱伝導率の高い部材であれば、使用するレーザ光に対して透明でない部材も、コイル支持基板４４の材料として用いることができる。
【００７９】
なお、コイル支持基板４４を、使用するレーザ光に対して透明でない部材を用いて形成したときは、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射されるレーザ光のビーム径が、このコイル支持基板４４に設けられた貫通孔を通過する際に決定される。
【００８０】
以上のように構成される光磁気ヘッド部２５は、上述したように、コイル部４６が熱伝導率の高い部材よりなるコイル支持基板４４上に設けられているので、薄膜コイル４８に駆動電流が供給されて発熱しても、この熱がコイル支持基板４４に有効に伝達され、薄膜コイル４８に熱が蓄積されない。
【００８１】
したがって、この光磁気ヘッド部２５は、特に、高い変調周波数時において、薄膜コイル４８の熱による発生磁界の低効率化を招くことがなく、また、薄膜コイル４８の断線等の損傷も抑制される。
【００８２】
なお、以上は、先玉レンズ４１の光磁気ディスク２と対向する側に、熱伝導率の高い部材よりなるコイル支持基板４４がレンズホルダ４３に支持された状態で配設され、このコイル支持基板４４上にコイル部４６が設けられた光磁気ヘッド部２５について説明したが、先玉レンズ４１の円形平面４１ａ上に、ＡｌＯ等の熱伝導率の高い材料をスパッタ等により成膜してコイル支持部を形成し、このコイル支持部上にコイル部４６を設けるようにしても同様の効果が得られる。
【００８３】
また、コイル支持基板４４を設けずに、先玉レンズ４１をＡｌＯ等の熱伝導率の高い部材で形成し、この先玉レンズ４１の円形平面４１ａ上にコイル部４６を設けるようにしても同様の効果が得られる。
【００８４】
また、以上はコイル支持基板４４上に磁性体コア４７が形成され、この磁性体コア４７上に薄膜コイル４８が形成される例について説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、コイル支持基板４４上に磁性体コア４７を介さずに薄膜コイル４８が形成されるようにしてもよい。この場合は、薄膜コイル４８を保護する絶縁層４９の中心孔が、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射されるレーザ光のビーム径を決定することになる。
【００８５】
次に、以上のように構成される光ディスク装置１の記録再生動作について説明する。
【００８６】
この光ディスク装置１は、所定のデータを光磁気ディスク２に記録する際は、スピンドルモータ３が装着された光磁気ディスク２を回転駆動させるとともに、ヘッド４の半導体レーザ２１からレーザ光が出射される。
【００８７】
半導体レーザ２１から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ２２、整形レンズ２３及び第１のビームスプリッタ２４を介して光磁気ヘッド部２５に入射する。そして、光磁気ヘッド部２５に入射したレーザ光は、光磁気ヘッド部２５の後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束され、コイル部４６の磁性体コア４７に設けられた中心孔４７ａ及び薄膜コイル４８の中心孔を通過して、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａに照射される。
【００８８】
光ディスク装置１は、このように光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａにレーザ光を照射させることにより、このレーザ光を熱源として、レーザ光が照射された箇所の磁性材料の温度をキュリー温度または補償温度以上まで上昇させて、その箇所の磁化を消失させる。
【００８９】
そして、光ディスク装置１は、記録するデータに対応して変調された記録信号が、アンプ３６を介して光磁気ヘッド部２５に供給されると、薄膜コイル４８がその記録信号に対応する磁界を発生し、この磁界を光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａのレーザ光が照射された箇所に印加する。
【００９０】
このようにして、光ディスク装置１は、所定のデータ（記録信号）を光磁気ディスク２に記録する。そして、この記録動作時において、薄膜コイル４８に発生した熱は、コイル支持基板４４に有効に伝達され、コイル支持基板４４により吸収される。なお、光ディスク装置１は、この記録動作時においても、後述する再生動作時と同様に、フォーカシング制御及びトラッキング制御を行うようになされている。
【００９１】
この光ディスク装置１は、光磁気ディスク２に記録されたデータを読みとる際は、記録動作時と同様に、スピンドルモータ３が装着された光磁気ディスク２を回転駆動させるとともに、ヘッド４の半導体レーザ２１からレーザ光が出射される。
【００９２】
半導体レーザ２１から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ２２、整形レンズ２３及び第１のビームスプリッタ２４を介して光磁気ヘッド部２５に入射する。そして、光磁気ヘッド部２５に入射したレーザ光は、光磁気ヘッド部２５の後玉レンズ４２及び先玉レンズ４１により収束され、コイル部４６の磁性体コア４７に設けられた中心孔４７ａ及び薄膜コイル４８の中心孔を通過して、光磁気ディスク２の光磁気記録層２ａの所定の位置に照射される。
【００９３】
光磁気記録層２ａで反射された戻り光は、第２のビームスプリッタ２６、１／２波長板３０、第２の集光レンズ３１及び第３のビームスプリッタ３２を介して、第２の光検出器３３及び第３の光検出器３４に入射し、検出される。この光磁気記録層２ａからの戻り光の偏波面は、カー効果により、光磁気記録層２ａの磁化の向き（記録されているデータの値に対応する）によって互いに反対方向に回転している。そして、この光磁気記録層２ａからの戻り光は、第３のビームスプリッタ３２を介して第２の光検出器３３及び第３の光検出器３４に入射することにより、その偏波面の向きと光磁気記録層２ａに照射された光の偏波面の向きとの間にみられる回転角（カー回転角）の変化が光の強度変化に変換され、この強度変化が検出される。
【００９４】
第２の光検出器３３及び第３の光検出器３４は、入射した戻り光の強度に対応する電気信号を差動アンプ３５に出力し、差動アンプ３５は、第２の光検出器３３と第３の光検出器３４との出力の差を計算し、ＭＯ再生信号として出力する。
【００９５】
また、光磁気記録層２ａで反射された戻り光の一部は、第２のビームスプリッタ２６により反射され、第１の集光レンズ２７及びシリンドリカルレンズ２８を介して第１の光検出器２９に入射する。
【００９６】
第１の光検出器２９は、入射した戻り光を電気信号に変換し、この電気信号を制御信号生成部５のアンプ７を介して、フォーカスマトリックス回路８及びトラッキングマトリックス回路１１に供給する。
【００９７】
フォーカスマトリックス回路８及びトラッキングマトリックス回路１１は、この信号に基づいてフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号をそれぞれ生成し、これらフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号を、アンプ１０，１３を介して駆動用アクチュエータ６に供給する。
【００９８】
駆動用アクチュエータ６は、これらフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号に対応して、光磁気ヘッド部２５を光磁気ディスク２に接離する方向又は光磁気ディスク２の径方向に移動させ、フォーカシング制御及びトラッキング制御を行う。
【００９９】
以上説明したように、この光ディスク装置１に用いられる光磁気ヘッド部２５は、コイル部４６が熱伝導率の高い部材よりなるコイル支持基板４４上に設けられているので、薄膜コイル４８に駆動電流が供給されて発熱しても、この熱がコイル支持基板４４に有効に伝達され、薄膜コイル４８に熱が蓄積されない。
【０１００】
したがって、この光磁気ヘッド部２５を用いた光ディスク装置１は、特に、高い変調周波数時において、薄膜コイル４８の熱による発生磁界の低効率化を招くことがなく適切な記録動作が行え、また、薄膜コイル４８の断線等の損傷も抑制される。
【０１０１】
【実施例】
本発明の効果を確認すべく、酸化アルミニウムを用いてコイル支持基板を形成した光磁気記録用光学素子（光磁気ヘッド部）を作製し、これを光ディスク装置に用いた場合の再生特性を評価するとともに、この光学素子の温度上昇特性を、青板ガラスを用いてコイル支持基板を形成した光学素子を比較対象として評価した。
【０１０２】
（光学素子の作製）
まず、所定の厚さのコイル支持基板となる酸化アルミニウム基板上に、光学素子に入射したレーザ光の反射を防止するための酸化シリコン膜を形成し、酸化シリコン膜が形成された酸化アルミニウム基板上に、接着層となるＣｒ膜を介して、スパッタにより、磁性体コアの材料となるＣｏＰｄＺｒを厚さ２．５μｍ程度に成膜した。
【０１０３】
そして、エッチングプロセスにより、ＣｏＰｄＺｒ膜を中心孔を有する円環状に成形して、磁性体コアを形成した。ここで、磁性体コアの中心孔の径は、約１２８μｍとした。この値は、光磁気ディスクのカバーガラスの厚さが２０μｍ、コイル支持基板の光磁気ディスク対向面と光磁気ディスクの表面間の距離が３０μｍ程度とされた環境下で、ＮＡが約０．８５となる値である。
【０１０４】
次に、磁性体コア上に、薄膜コイルの材料となるＣｕをメッキにより成膜した。そして、フォトリソグラフィ技術を用いて、Ｃｕ膜を中心孔を有するスパイラル形状にエッチングして、薄膜コイルを形成した。
【０１０５】
このようにして磁性体コア及び薄膜コイルが形成された酸化アルミニウム基板を所定の大きさに切断して、先玉レンズ及び後玉レンズとともにレンズホルダに取り付け、光学素子を作製した。このとき、各部品の傾き、偏心、高さ等は、収差が最小となるように調整した。
【０１０６】
（評価）
以上のように作製された光学素子を光ディスク装置に搭載し、この光ディスク装置で１０ＧＢｙｔｅの光ディスクＲＯＭ（トラックピッチ：０．５μｍ，ピット長：０．１７μｍ／ｂｉｔ）を再生したところ、ジッターが約７％と、十分な再生特性が得られることが分かった。
【０１０７】
また、以上のように作製された光学素子の薄膜コイルに、電流の大きさをかえて発生磁界を変化させた場合の温度上昇を測定したところ、図８に示すように、コイル基板に青板ガラスを用いた場合（比較例）に比して、温度上昇が飛躍的に抑えられることが分かった。
【０１０８】
【発明の効果】
また、本発明に係る光磁気記録用光学素子は、光学記録媒体側に配されたレンズが熱伝導率の高い部材により形成され、このレンズ上に光磁気記録層に照射される光を透過する透過孔を有する薄膜コイルが形成されるようになされているので、薄膜コイルに発生した熱は光学記録媒体側に配されたレンズに有効に伝達され、薄膜コイルに蓄積されることはない。
【０１１１】
したがって、この光磁気記録用光学素子は、特に、高い変調周波数時において、薄膜コイルの熱による発生磁界の低効率化を招くことがなく、また、薄膜コイルの断線等の損傷も抑制される。
【０１１４】
また、本発明に係る記録及び／又は再生装置は、光学素子の光学記録媒体側に配されたレンズが熱伝導率の高い部材により形成され、このレンズ上に光磁気記録層に向けて出射された光を透過する透過孔を有する薄膜コイルが形成されるようになされているので、薄膜コイルに発生した熱は光学記録媒体側に配されたレンズに有効に伝達され、薄膜コイルに蓄積されない。
【０１１５】
したがって、この記録及び／又は再生装置は、特に、高い変調周波数時において、薄膜コイルの熱による発生磁界の低効率化を招くことがなく適切な記録動作が行え、また、薄膜コイルの断線等の損傷も抑制される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る記録及び／又は再生装置の構成を示すブロック図である。
【図２】ヘッドの構成を示す模式図である。
【図３】本発明に係る光学素子を示す縦断面図である。
【図４】コイル部を示す平面図である。
【図５】同コイル部を示す図であり、図４におけるＡ−Ａ線断面図である。
【図６】コイル部の他例を示す縦断面図である。
【図７】レーザ光のビーム径がコイル部の中心孔を通過する際に決定されることを説明する模式図である。
【図８】本発明に係る光学素子の温度上昇特性を比較例と比較して説明する図である。
【図９】従来の光学素子を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１  光ディスク装置、２  光磁気ディスク、２ａ  光磁気記録層、３  スピンドルモータ、４  ヘッド、５  制御信号生成部、６  駆動用アクチュエータ、２５  光磁気ヘッド部、４１  先玉レンズ、４２  後玉レンズ、４４  コイル支持基板、４６  コイル部、４７  磁性体コア、４８  薄膜コイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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