(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された入力データ情報に含まれる図形データを、ブロック単位に分割してマスク製造データに変換処理を行う処理部と、
前記入力データ情報および前記処理部による分割処理の処理結果情報を、更新登録可能な最適化条件ファイルを有する記憶部とを備えた計算機を用い、
前記ブロック内に存在する図形データが前記最適化条件ファイルに登録された図形データに近似する場合には最適化条件ファイルの処理結果情報を援用して図形処理を行い、それ以外の場合には、ブロック内に存在する図形データのデータ量が、変換処理を行う処理部における記憶容量を越えているか否かを判断すべく前記ブロック内の図形データを走査することにより図形データの疎密や性質を判定して、当該処理部が処理可能なデータ量になるように最適なブロックに分割して図形処理を行い、前記入力データ情報および処理結果情報を最適化条件ファイルに登録しておくことを特徴とする図形処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、任意のブロック単位に分割された図形データを処理部において処理可能なデータ量になるように最適なブロックに分割して図形データをマスク製造データに変換処理する図形処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、例えばＬＳＩ設計用の図形データを描画（露光）用のマスク製造データに変換処理し、該マスク製造データに基づき電子ビーム描画装置によりレチクル，マスク，ウェハなどに対して回路設計パターンを描画してＬＳＩを製造する方法が用いられている。また、近年のＬＳＩの大規模化（ＶＬＳＩ，ＵＬＳＩの出現）、高密度化に伴い、ＬＳＩ製造用の描画データ（露光データ）作成に対する処理時間の短縮化の要望が高まっている。
このため、集積回路パターンを多数のデータ処理対象領域に分割し、各処理対象領域を複数のプロセッサ（ＣＰＵ）に割り当てて並列処理が行われている。
【０００３】
例えば、図６のフローチャートに示すように、チップ領域に存在する回路パターンを示す図形データの全体をレイヤー単位に任意のブロックに分割して、複数のプロセッサによりブロック単位に図形処理を行わせ、各プロセッサのメモリー容量を越えるデータ量が割り当てられてオーバーフローを生じた場合には、当該ブロック内の図形データを再分割して再度図形処理を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このように、チップ領域をブロック分割して図形処理する方法は種々存在するが、その分割基準は特になく、分割されたブロック内の図形処理の途中でオーバーフローを生じたらそこで処理全体が終了してしまったり、或いはその時点で当該ブロックを再分割して最初から図形処理を施すため、図形処理の効率が非常に悪かった。また、最初からオーバーフローを起こしそうなブロックに合わせて全てのブロックを細かくすると、データの入出力処理に時間がかかり、処理速度の低下を招く。
【０００５】
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、入力図形データのファイル情報を有効利用を図ることによるブロック内のデータ処理の効率化と、ブロック分割の最適化を図ることにより、データ変換処理の高速化を実現した図形処理方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次の構成を備える。
すなわち、入力された入力データ情報に含まれる図形データを、ブロック単位に分割してマスク製造データに変換処理を行う処理部と、前記入力データ情報および前記処理部による分割処理の処理結果情報を、更新登録可能な最適化条件ファイルを有する記憶部とを備えた計算機を用い、前記ブロック内に存在する図形データが前記最適化条件ファイルに登録された図形データに近似する場合には最適化条件ファイルの処理結果情報を援用して図形処理を行い、それ以外の場合には、ブロック内に存在する図形データのデータ量が、変換処理を行う処理部における記憶容量を越えているか否かを判断すべく前記ブロック内の図形データを走査することにより図形データの疎密や性質を判定して、当該処理部が処理可能なデータ量になるように最適なブロックに分割して図形処理を行い、前記入力データ情報および処理結果情報を最適化条件ファイルに登録しておくことを特徴とする。
【０００７】
上記構成によれば、ブロック内に存在する図形データが最適化条件ファイルに登録された図形データに近似する場合、例えばマスク名によって特定されるデータ量，セル数等が所定基準値以内の場合には最適化条件ファイルの処理結果情報を援用して図形処理を行う。
また、図形データが最適化条件ファイルに登録された図形データと異なる場合例えばデータ量，セル数等が所定基準値以上の場合には、ブロック内に存在する図形データのデータ量が、変換処理を行うプロセッサにおける記憶容量を越えているか否かを判断するため前記ブロック内の図形データを走査することにより、図形データの疎密や性質、例えば図形の数や斜線の有無等を判定して、当該プロセッサが処理可能なデータ量になるように最適なブロックに分割して図形データをマスクデータに変換処理する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
次に本発明に係る図形処理方法の一実施例について図面を参照して説明する。図１は図形処理方法に係るシステム全体の処理の流れを示すフローチャート、図２はブロック最適化条件ファイルの内容と入力図形データとの一致判断基準を示す説明図、図３は処理実績のある図形データと新規入力図形データとの比較説明図、図４はブロックの最適分割手順を示すフローチャート、図５はブロック内の図形データの疎密と斜線の有無の判断例を示す説明図である。
【０００９】
先ず、図１に示すシステム全体の処理の流れを示すフローチャートを基に、図２〜図５を参照しながら本発明に係る図形処理方法について説明する。
【００１０】
本実施例においては、図形データの変換処理を行う計算機には、入力された図形データをブロック単位に分割してマスク製造データに変換処理を行うプロセッサと、前記入力データ情報、前記プロセッサにより分割する図形データの最適化情報、処理結果情報等を記憶し、最適化情報の更新登録可能な最適化条件ファイルを有するメモリと、を備えている。
上記プロセッサは、ＬＳＩのチップ領域に存在する図形データをレイヤー単位に任意のブロックに分割し、分割された任意のブロック内の図形データ量が各プロセッサのメモリ容量を越えないように、該ブロック内の図形データを最適なデータ量となるように分割処理を行う。
【００１１】
ＬＳＩのチップ領域は描画ユニットのブロック単位に分割されて各ブロックには番号が付与されている。
図１において、上記ブロック内の入力図形データはプロセッサにおいて、先ずブロック最適化ファイル（ディスクファイルや磁気テープ等）１より過去に入力処理された図形データ情報を呼び出して、両者を比較して図形データが近似しているか否かを判断する。
具体的には、ブロック最適化ファイル１には、図２に示すように、入力データ情報、過去に処理実績のある最適化情報としての図形データ、例えばａ．マスク名、ｂ．データ量、ｃ．セル数など、処理結果情報等が順次ファイルされている。ここに、新規入力図形データ（情報量ａ．ｂ．ｃ．）が入力されると、ブロック最適化ファイル１内のこれに近い情報量を持つファイルデータを階層的にピックアップして新規入力図形データがブロック条件の相違の基準（情報量ａ＝ｌａｙｏｕｔ ＊、ｂ＝ｂ±１０Ｍｂｙｔｅ、ｃ＝ｃ）以下であるか否かを判断する。
【００１２】
上記新規入力図形データが、ファイルされた図形データに近似する場合、例えば、図３に示すように一度図形処理した図形データＡに対して、配線ミス或いは配線の変更などの理由で一部だけを修正した図形データＢを新規に図形処理する場合には、図形データＡを処理した時のファイルデータをそのまま使用して図形処理を行う。即ち、データの改変部分のみブロック分割して変換処理をすれば足り、共通部分については処理結果情報を援用すれば良い。
これによって、ＬＳＩの回路パターンの改版等で共通部分の多い図形データを、改めてデータ量等を検証することなく図形処理できるため、処理の高速化に寄与することができる。
【００１３】
また上記新規入力図形データが、ファイルされた図形データとの相違量の基準を越えている場合には、ブロック内に存在する図形データのデータ量が、変換処理を行うプロセッサにおけるメモリ容量を越えているか否かを判断するため、前記ブロック全体の図形データを走査することにより、図形データの疎密や性質、例えば、図形の頂点の数や斜線の有無等を判定して、処理可能なデータ量になるように最適なブロックに分割する。
【００１４】
具体例を、図４に示すフローチャートに基づき図５を参照しながら説明する。前述したように、ＬＳＩチップ領域を描画装置の描画ユニットのブロック単位に分割し、各ブロックに番号を付与した後、図５に示すように、ブロック内を垂直線Ｖにより図の左側から右側に走査して交差する図形の数Ｃをカウントする。また、同時に交差する図形の頂点に対して、ｘ，ｙいずれかが一致するか判断しながら一致しなければ斜線と判断して斜線の数Ｄをカウントする。
上記ＣとＤの数により、データ密度が密の部分及び斜線、特に４５°×ｎ以外の任意角を含んだ図形データの存在などにより、プロセッサのメモリがオーバーフローするブロックに対してフラグをたてる。そして、フラグがたてられたブロックをプロセッサのメモリ容量に応じて分割数を計算してブロックを更に分割した後、図形処理を行う。
また上記走査の結果、図形データ量がプロセッサのメモリ容量の許容範囲内にあれば、そのまま図形処理が行われる。
【００１５】
これによって、図形処理におけるオーバーフローの発生がなくなるので、最初から図形処理をやり直す手間が省け、無駄な処理時間を無くして処理の高速化に寄与することができる。また、ブロック単位の入出力データ量を最小限にできるので処理速度も向上する。
【００１６】
次に各プロセッサにより処理されたレイヤー単位の複数のブロックデータは、図形間の重なりを除去すべく論理処理（ＯＲ処理）が施されて、１つの単位マスクデータが得られる。そして、各計算機により作成した単位マスクデータを合成してＬＳＩ１チップ分のマスク製造データが得られる。
【００１７】
ここで、図形処理後に行うブロック最適化条件ファイルの更新について説明する。図１において、図形処理後、前述したブロック最適化条件ファイル１を使用したか否かを判断する。使用していない場合には、ファイルデータと異なる図形データを処理したものとして、処理結果やブロックの最適化情報をファイル１に登録する。
【００１８】
また、上記ブロック最適化条件ファイル１を使用して図形処理を行った場合であって、処理結果情報がファイル内の処理結果情報の基準外となる場合には最適化情報の変更を行い、更新した最適化情報をファイル１内に登録する。また、処理結果情報がファイル内の処理結果情報の基準内にある場合には最適化情報は更新しない。
【００１９】
このように、予め図形データ分布が分かっているもの、例えば一度処理済みの図形データや、改版等のように一部の図形データのみを変更した場合には、ブロック最適化条件ファイル１内の処理結果情報をそのまま適用できるので、走査によるプロセッサのメモリ容量の判断が不要となるため、変換処理の高速化を実現できる。
【００２０】
なお、図形データ処理に用いるプロセッサは、シングルプロセッサ機やマルチプロセッサ機のうちいずれか或いは双方を使用してもよく、装置構成としては、スタンドアロンによるもの、或いは複数の処理装置を用いて並列処理を行うものなど、種々の構成を採用できる。また並列処理を行う場合には、クラスタ構成の疎結合システム、１台のマルチプロセッサ機による密結合のシステム、或いは超並列機等による構成であっても良い。また、システムに装備されるプロセッサの数は、サーバやハードによるもの以外は持たなくてもよく、既存の装置構成によりシステムを構築できる。
【００２１】
以上、本発明の好適な実施例について種々述べてきたが、本発明は上述の実施例に限定されるのではなく、発明の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
【００２２】
【発明の効果】
本発明は前述したように、図形処理における処理部のオーバーフローの発生がなくなるので、最初から図形処理をやり直す手間が省け、無駄な処理時間を無くして処理の高速化に寄与することができる。また、ブロック単位の入出力データ量を最小限にできるので処理速度も向上する。
また、予め図形データ分布が分かっているもの、例えば一度処理済みの図形データや、改版等のように一部の図形データのみを変更した場合には、ブロック最適化条件ファイル内に処理結果情報が残っているため、走査による処理部の記憶容量の判断が不要になるため、変換処理の高速化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図形処理方法に係るシステム全体の処理の流れを示すフローチャートである。
【図２】ブロック最適化条件ファイルの内容と入力図形データとの一致判断基準を示す説明図である。
【図３】処理実績のある図形データと新規入力図形データとの比較説明図である。
【図４】ブロックの最適分割手順を示すフローチャートである。
【図５】ブロック内の図形データの疎密と斜線の有無の判断例を示す説明図である。
【図６】従来の図形処理方法に係るシステム全体の処理の流れを示すフローチャートである。
【符号の説明】
１  ブロック最適化条件ファイル
【図１】
0003747089.tif 000002
【図２】
0003747089.tif 000003
【図３】
0003747089.tif 000004
【図４】
0003747089.tif 000005
【図５】
0003747089.tif 000006
【図６】
0003747089.tif 000007