(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板表面に形成したグレーティングと、このグレーティングを覆う半導体層とから成るポラリトン・光子相互作用部と、このポラリトン・光子相互作用部に自由空間から照射する特定の波長を有する被制御光と、この被制御光の上記ポラリトン・光子相互作用部における透過率を制御する制御光とから成ることを特徴とする、励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項３】
前記制御光は、前記半導体層の実励起を伴わずに光学的シュタルク効果を生起する波長を有することを特徴とする、請求の範囲第１項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項４】
前記グレーティングの周期は、前記被制御光の前記半導体層における波長のｍ／２、（ｍは正の整数）の長さに形成されていることを特徴とする、請求の範囲第１項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項５】
前記半導体層は、前記グレーティングの溝の一定の深さに積層されていることを特徴とする、請求の範囲第１項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項６】
前記半導体層には、励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな半導体層を用いることを特徴とする、請求の範囲第１項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項７】
前記励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな半導体層は、半導体量子井戸とこの半導体量子井戸を隔てる誘電率の小さなバリア層とを構成単位とする多重量子井戸構造を有する半導体層であることを特徴とする、請求の範囲第６項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項８】
前記励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな多重量子井戸構造は、化学式：（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ３）２ＭＸ４
（但し、Ｍ＝Ｐｂ，Ｓｎ、Ｘ＝Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ、ｎは正の整数）
で表される無機−有機層状ペロブスカイト半導体であることを特徴とする、請求の範囲第７項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項９】
前記ポラリトン・光子相互作用部の上面に、光閉じ込め用の高屈折率透明物質を設けたことを特徴とする、請求の範囲第１項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【請求項１０】
前記光閉じ込め用の高屈折率物質は、ポリマーであることを特徴とする、請求の範囲第９項記載の励起子ポラリトン光スイッチ。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、周期構造を有する導波路と励起子ポラリトンによる狭帯域吸収線を利用した光スイッチに関するものである。
技術背景
光ディジタル通信においては、情報伝達速度、すなわちビットレートの高速化に対する要求はとどまるところを知らない。従来は、発光源として、レーザーダイオードを使用し、レーザーダイオードの電流あるいは電圧を制御してレーザーダイオードの発光をｏｎ，ｏｆｆし、１及び０の光ディジタル信号を生成している。しかしながら、レーザーダイオードの電流あるいは電圧を制御して行う光ディジタル信号の生成方法では、寄生容量、インダクタンス等の微小化、電子走行速度の高速化に限界があるため、この方式によるビットレートの向上には限界がある。
また、ＬｉＮｂＯ３（ニオブ酸リチウム）等の光学結晶を用いた光変調器にレーザー光を入射させ、電気光学効果によって、高速に光ディジタル信号を生成する方法も試みられているが、この方法では、光波の伝搬速度と光波のｏｎ，ｏｆｆを制御するマイクロ波の伝搬速度との速度整合に限界があり、生成可能なビットレートもギガＨｚオーダー止まりである。また、マイクロ波の伝搬損失も無視できなくなるため、０及び１信号の光強度比、すなわち消光比が良くないといった課題がある。
このような中で、近年の結晶成長技術や半導体微細加工技術の進歩により半導体量子構造を意のままに製作できるようになった。これに伴い、フォトニック結晶や半導体微小共振器を用いた、幅射場と物質系の相互作用に関する研究が盛んに行われている。これらの研究の成果は基礎物理学の理解に寄与するだけでなく、高性能の光デバイスへの応用も可能である。
本発明は、以上の点にかんがみ、周期構造を有する導波路と、輻射場と物質系の相互作用の一つである励起子ポラリトンの励起を光スイッチに適用し、消光比が良く、テラＨｚオーダーの速度で動作可能な光スイッチを提供することを目的とする。
発明の開示
上記目的を達成するために、本発明の光スイッチは、透明基板表面に形成したグレーティングと、グレーティングを覆う半導体層とから成るポラリトン・光子相互作用部と、ポラリトン・光子相互作用部に自由空間から照射する特定の波長を有する被制御光と、被制御光のポラリトン・光子相互作用部における透過率を制御する制御光とから成ることを特徴としている。
上記制御光は、半導体層の実励起を伴わずに光学的シュタルク効果を生起する波長を有することを特徴とする。
また、グレーティングの周期は、好ましくは、被制御光の半導体層における波長のｍ／２（ｍは正の整数）の長さに形成されている。
さらに、半導体層は、グレーティングの溝の一定の深さに積層しても良い。
半導体層には、好ましくは、励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな半導体層を使用する。これら励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな半導体層は、半導体量子井戸とこの半導体量子井戸を隔てる誘電率の小さなバリア層とを構成単位とする多重量子井戸構造を有する半導体層であることが好ましい。
また、上記励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな多重量子井戸構造は、化学式：（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ３）２ＭＸ４（但し、Ｍ＝Ｐｂ，Ｓｎ、Ｘ＝Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ、ｎは正の整数）で表される無機−有機層状ペロブスカイト半導体であることを特徴としている。
本発明では、好ましくは、ポラリトン・光子相互作用部の上面に、光閉じ込め用の高屈折率透明物質が設けられる。上記光閉じ込め用の高屈折率物質は、好ましくはポリマーである。
上記構成の本発明の光スイッチでは、被制御光をポラリトン・光子相互作用部に垂直に入射すれば、グレーティングの周期方向に被制御光による定在波が形成される。この定在波の光子は、半導体の励起子と強く結合して、励起子ポラリトンを形成し、吸収される。すなわち、被制御光はポラリトン・光子相互作用部を透過しない。
一方、被制御光と制御光を同時にポラリトン・光子相互作用部に入射させれば、制御光により半導体層の励起子エネルギーが光学的シュタルク効果によって高速に変化し、励起子と光が強結合した状態であるポラリトンの分散関係が変化し、半導体の励起子と強く結合する定在波の光子エネルギーが変化する。すなわち、被制御光は励起子と強結合しなくなり、ポラリトン・光子相互作用部を透過する。グレーティング周期によって、定在波を形成する光の波長を選択できる。
また、グレーティング溝の本数を多くすれば、定在波を形成する光波長半値幅を極めて厳しくすることができる。さらにまた、透過率を制御する制御手段が、３次の光学非線形効果、好ましくは、光学的シュタルク効果なので、超高速に被制御光の透過、不透過を制御できる。
さらに、半導体層に励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな半導体層を使用しているので、定在波の光子は、ほとんど全て励起子ポラリトンに変換され、消光比がよい。
励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな半導体層は、半導体量子井戸とこの半導体量子井戸を隔てる誘電率の小さなバリア層とを構成単位とする多重量子井戸構造を有する半導体層を用いるので、励起子振動子強度と束縛エネルギーが極めて大きい。
さらに、化学式：（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ３）２ＭＸ４（ただし、Ｍ＝Ｐｂ，Ｓｎ、Ｘ＝Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ、ｎは正の整数）で表される無機−有機層状ペロブスカイト半導体は、励起子振動子強度と励起子束縛エネルギーの大きな多重量子井戸構造を実現する。
さらに、ポラリトン・光子相互作用部の上面に、光閉じ込め用の高屈折率透明物質を設け、ポラリトン・光子相互作用部への光の閉じ込めを良くすることによって、さらに消光比が良くなる。
上記の構成により、本発明の光スイッチは、極めて高速に、すなわち、テラＨｚオーダーで動作可能であり、かつ、消光比が良い。
発明を実施するための最良の形態
以下、図面に基づき本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面において実質的に同一の部材には同一の符号を用いて説明する。
図１は、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの構成及び動作を示す模式図である。図１（ａ）は励起子ポラリトン光スイッチの構成を示す模式断面図で、図１（ｂ）は制御光をｏｎ，ｏｆｆした場合の透過光強度のディップの変化を示すグラフである。
図１（ａ）において、本発明の励起子ポラリトン光スイッチ１は、透明基板２の表面に形成したグレーティング周期Λを有するグレーティング３と、このグレーティング３を覆って積層した半導体層４とで構成されている。半導体層４で覆われたグレーティング３の部分をポラリトン・光子相互作用部５と呼ぶ。
本発明の励起子ポラリトン光スイッチ１を動作させるには、励起子ポラリトン光スイッチ１の外側から特定の波長の制御光６と、特定の波長の被制御光７とを入射させる。
図１（ｂ）は、制御光６を照射している場合と照射していない場合のそれぞれの場合について、ポラリトン・光子相互作用部５の光透過率の光子エネルギー依存性を示したものである。図１（ｂ）において、横軸は光子エネルギーであり、縦軸は光透過率を示す。実線及び点線は、それぞれ、制御光６を照射している場合（実戦図示）と照射していない場合（点線図示）の、ポラリトン・光子相互作用部５の光透過率の光子エネルギー依存性を示している。７ａ及び７ｂのディップは、それぞれ、制御光６を照射している場合と照射していない場合の励起子ポラリトンの吸収ディップであり、８ａ及び８ｂのディップは、それぞれ、制御光６を照射している場合と照射していない場合の半導体層４の励起子の吸収ディップである。
本発明の励起子ポラリトン光スイッチ１を動作させるには、被制御光７の光子エネルギーを、制御光６を照射していない場合の励起子ポラリトンの吸収ディップ７ｂに一致させておく。被制御光７は、制御光６を照射していない場合には励起子ポラリトン吸収ディップ７ｂによって吸収されるため、ポラリトン・光子相互作用部１を透過しない。制御光６を照射している場合には、励起子ポラリトン吸収ディップは７ａにずれるため、被制御光７は吸収されずにポラリトン・光子相互作用部５を透過する。
また、上記と反対に、被制御光７の光子エネルギーを、制御光６を照射している場合の励起子ポラリトン吸収ディップ７ａに一致させておいても良い。この場合、被制御光７は、制御光６を照射している間は、励起子ポラリトン吸収ディップ７ａによって吸収されるため、ポラリトン・光子相互作用部５を透過しない。制御光６を照射していない場合には、励起子ポラリトン吸収ディップは７ｂにずれるため被制御光７は吸収されずにポラリトン・光子相互作用部５を透過する。このように、本発明の励起子ポラリトン光スイッチ１は、制御光６のｏｎ，ｏｆｆによって被制御光７の透過、非透過を制御する。
次に、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの動作原理を説明する。
始めに、被制御光のグレーティング中における分散関係を説明する。図２は、被制御光７のグレーティング導波路３中における分散関係を示す図である。図２において、横軸は、グレーティング導波路３を伝搬する空間高調波の伝搬ベクトルｋｘを表し、縦軸は光子エネルギーＥを示す。実線１０は、このグレーティング導波路３を導波する光波モードの分散関係を単純化して示したものであり、この直線は、ｈをプランクの定数、ｃを真空中の光速、ｎ＊を有効屈折率として、
Ｅ＝ｈｃｋｘ／２πｎ＊    （１）式
である。点線１１は、逆格子ベクトルＧｍ（＝２πｍ／Λ、ｍは整数、Λはグレーティング周期）によって回折された複数の空間高調波の分散関係を表す。これらの直線の交点において空間高調波は結合し、定在波を生じ、定在波のエネルギーは定在波生成の条件、ｋｘ−（−ｋｘ）＝Ｇｍと、（１）式とを組み合わせることにより求められ、
Ｅ＝ｈｃｍ／２ｎ＊Λ      （２）式
となる。
次に、ポラリトン・光子相互作用部５に存在する定在波と励起子ポラリトンの相互作用を説明する。
励起子ポラリトンは、光子と半導体の励起子との強結合状態である。
図３は励起子ポラリトンの分散関係を示す図である。図３（ａ）は、グレーティングのない導波路における励起子ポラリトンの分散関係と、この導波路を導波する光波モードの分散関係を示す図である。実線１２ａ及び１２ｂは、励起子ポラリトンの分散関係を示し、点線１０は、この導波路を導波する光波モードの分散関係を示す。また、Ｅ０は励起子吸収エネルギーを示す。励起子ポラリトンは、光子と半導体の励起子との強結合状態であり、その固有状態は２つあり、それぞれの固有状態に起因する分散関係は、それぞれ、ポラリトン上枝モード（１２ａ）、下枝モード（１２ｂ）と呼ばれている。
図３（ｂ）は、グレーティングのある導波路、すなわち本発明のポラリトン・光子相互作用部５における励起子ポラリトンの分散関係と、この導波路を導波する光波モードの分散関係を示す。実線１２ａ及び１２ｂは、励起子ポラリトンの分散関係を示し、点線１１は、グレーティングのある導波路を導波する光波モードの分散関係を示す。ΔＥは、上記（２）式で示される定在波のエネルギーと励起子吸収エネルギーＥ０との離調エネルギー、
ΔＥ＝ｈｃｍ／２ｎ＊Λ−Ｅ０        （３）式
を示す。ΔＥが負の場合は、定在波のエネルギーと近接する励起子ポラリトンの下枝モード１２ｂに対応する励起子ポラリトンが励起され定在波は吸収される。このように、ポラリトン・光子相互作用部５において定在波を形成する被制御光７は、励起子ポラリトンを励起して吸収される。
次に、制御光による透過率の制御を説明する。
制御光６による励起子ポラリトン吸収ディップ位置の制御は、３次の光学非線形効果を生ずる波長の光を使用して行う。すなわち、この波長の制御光６を半導体層４に照射することによって励起子エネルギーが高速に変化し、励起子と光が強結合した状態であるポラリトンの分散関係が変化し、半導体の励起子と強く結合する定在波の光子エネルギーが変化する。この現象は、フェムト秒オーダーであるため、本発明の励起子ポラリトン光スイッチはテラＨｚ帯で動作させることができる。
次に、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの消光比について説明する。
すなわち、消光比が良いためには、ポラリトン・光子相互作用部５において定在波を形成する被制御光７が、励起子ポラリトンと強結合する確率が高くなければならない。
このためには、半導体層４が、多重量子井戸構造を有すること、励起子振動子強度ｆｅｘが大きいこと、及び励起子束縛エネルギーＥｂが大きいことが必要である。本発明の励起子ポラリトン光スイッチに用いる半導体層４は、多重量子井戸構造を有し、励起子振動子強度ｆｅｘが大きく、かつ励起子束縛エネルギーＥｂが大きい。
本発明の励起子ポラリトン光スイッチに用いる半導体層４は、
化学式：（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ３）２ＭＸ４
但し、Ｍ＝Ｐｂ，Ｓｎ、
Ｘ＝Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ
ｎは正の整数、
で表される無機−有機層状ペロブスカイト半導体である（以下、Ｃｎ−ＭＸ４と呼ぶ）。
図４は、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの半導体層４に用いるＣｎ−ＭＸ４の構造を示す概略図である。図４（ａ）は単位胞の立体構造（アルキル鎖を省略して示している）を示す。図４（ｂ）はａｂ軸方向における結晶構造の投影概略図である。
図中の単位胞には、四つの化学単位が含まれている。〔ＭＸ６〕４−八面体１３の頂点にはＸ−イオンが位置し、また、その中心（黒丸）にはＭ２＋イオンが位置しており、これらはイオン結合している。アルキルアンモニウム鎖１４のＮＨ３部分は、Ｘ−イオンと同じ高さで水素結合によって四つのＸ−イオンのほぼ中央に位置し、アルキルアンモニウム鎖１４は〔ＭＸ６〕４−八面体１３の層から外側に向かってのびている。そして、〔ＭＸ６〕４−八面体１３とアルキルアンモニウム鎖１４の層からなる電気的に中性な層は、ファンデルワールス力によって結合している。
〔ＭＸ６〕４−八面体１３層は、直接遷移型の半導体であり、例えば、ＭがＰｂの場合の最上位の価電子帯は、Ｘ−の５ｐ軌道が混成したＰｂ２＋の６ｓ軌道より構成されており、また、最下位の伝導帯は、Ｐｂ２＋の６ｐ軌道から構成されている。このため、励起子振動子強度ｆｅｘが大きく、従って強い励起子吸収を示す。すなわち、本発明で用いる半導体層４は、励起子振動子強度ｆｅｘが大きい。
この〔ＭＸ６〕４−八面体１３層を互いに隔てるアルキルアンモニウム鎖１４層は誘電率の小さな絶縁体である。このため、アルキルアンモニウム鎖１４層は、半導体である〔ＭＸ６〕４−八面体１３層のバリア層として機能することができ、半導体である〔ＭＸ６〕４−八面体１３層とバリア層であるアルキルアンモニウム鎖１４層とで量子井戸を形成する。この量子井戸がＣ軸方向に積層して多重量子井戸構造を形成する。このように、本発明で用いる半導体層４は、多重量子井戸構造を有している。
さらに、バリア層であるアルキルアンモニウム鎖１４層の誘電率が小さく、このため励起子束縛エネルギーが大きい。
図５は上記量子井戸層における励起子の電気力線の分布を示したものである。ｅは電子を示し、ｈは正孔を示す。εｗは量子井戸である〔ＭＸ６〕４−八面体１３層の誘電率を示し、εｂはバリア層であるアルキルアンモニウム鎖１４層の誘電率を示す。
図５の電気力線の分布から明らかなように、励起子を構成する電子ｅと正孔ｈは誘電率の小さいバリア層であるアルキルアンモニウム鎖１４層を通じてクーロン相互作用が有効に作用するから、励起子束縛エネルギーＥｂが大きくなる。
図６に、本発明の実施例で用いた、Ｍ＝Ｐｂ、Ｘ＝Ｉ、アルキルアンモニウム鎖＝（Ｃ６Ｈ５Ｃ２Ｈ４ＮＨ３）であるヨウ化鉛系層状ペロブスカイト半導体（以下、ＰｈＥ−ＰｂＩ４と呼ぶ）の励起子束縛エネルギーＥｂ、バンドギャップＥｇ、励起子吸収エネルギーＥｅｘ、励起子振動子強度ｆｅｘ、量子井戸幅Ｌｗｅｌｌ、量子井戸誘電率εｗ、及びバリア層の誘電率εｂの実測値を示す。
本発明の励起子ポラリトン光スイッチは、上記図６に示したように、励起子束縛エネルギーＥｂ及び励起子振動子強度ｆｅｘが大きく、かつ多重量子井戸構造を有した半導体層４を用いるので、消光比が高く、さらには、室温で動作可能である。
次に、本発明の実施例を説明する。
図７は本実施例に用いた励起子ポラリトン光スイッチの構成を示す図である。図７の構成は、グレーティング３の溝が溝の上端より低い一定深さまで半導体層４で埋められていること、及び光の閉じ込めを良くするために、この表面が高屈折率の透明誘電体層９、例えばポリスチレン層９で覆われていることが、図１に示した励起子ポラリトン光スイッチの構成と異なる。この例では、グレーティング３は石英基板２の表面をエッチングで削って形成した。グレーティングの深さｈは０．３μｍ、ライン・アンド・スペース比ｒは１：４、面積Ｓは１．５ｍｍ×１．５ｍｍである。そして、グレーティング周期Λが７００ｎｍ、６８０ｎｍ、６６０ｎｍ、６４０ｎｍ、及び６２０ｎｍのものを作製した。半導体層４にはＰｈＥ＿ＰｂＩ４を用いている。
図８は本実施例の透過スペクトル測定に用いた測定系を示す図である。光源には白色光源であるハロゲンランプ１５を使用し、ハロゲンランプ１５の出力光１６を、ピンホール１７に集光し、ピンホール１７からの出力光１６を偏光板１８を通して偏光した。偏光方向は励起子ポラリトン光スイッチ１のグレーティング３の溝に平行方向である。偏光した出力光１６をアイリス１９を介し、励起子ポラリトン光スイッチ１の表面に集光した。励起子ポラリトン光スイッチ１を透過する光１６を光ファイバー集光器２０で集光し、分光計２１で透過率スペクトルを測定した。
図９は、本実施例の励起子ポラリトン光スイッチの透過率スペクトルを示す図である。横軸は光子エネルギーを示し、縦軸は透過率を示す。測定した試料は、グレーティング周期Λが、７００ｎｍ、６８０ｎｍ、６６０ｎｍ、６４０ｎｍ及び６２０ｎｍのもの、そして比較のためのグレーティングがないものの６種類である。
図９から明らかなように、励起子吸収ディップ８ｂの低エネルギー側に吸収ディップ７ｂが現れ、グレーティング周期Λが大きくなるに従って低エネルギー側にシフトしている。このことから、この吸収ディップは励起子ポラリトン吸収ディップであることがわかる。
次に、本実施例の励起子ポラリトン光スイッチの動作速度を説明する。
図１０は、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの動作速度を測定するための測定系を示す図である。
Ｅｒドープ・ファイバーレーザーとチタンサファイヤ再生増幅器からなるレーザー光源３０で波長７６０ｎｍ、時間半値幅１５０ｆｓのレーザーパルス３１を発生させ、このレーザーパルス３１を２つに分けて、一方を重水セル３２に照射して白色光３３を発光させる。もう一方のレーザー光は光パラメトリック発振器３４で波長５３８ｎｍの制御光６に変換する。この制御光６は光路の長さを調整して遅延時間を調整する遅延時間調整器３５により白色光３３に対する遅延時間が調整される。白色光３３と白色光３３に対して種々の遅延時間を有する制御光６とを、恒温器３６に配置した励起子ポラリトン光スイッチ１に照射して、励起子ポラリトン光スイッチ１を透過する白色光３３を光ファイバ集光器３７で集光し分光器２１に導いて透過スペクトルを測定する。なお、白色光３３の一部を光ファイバ集光器３７で取り出し、透過スペクトルを正規化する。
制御光６は、中心波長５３８ｎｍ、光エネルギー密度３０μＪ／ｃｍ２、時間半値幅２００ｆｓ、くり返し周波数１ｋＨｚである。制御光６は、励起子ポラリトン光スイッチ１の表面の法線方向から３°傾けて入射している。偏光方向はグレーティング溝に平行方向である。測定は室温で行った。差分透過スペクトルは、制御光の照射のない状態の透過率スペクトルからの差で表したスペクトルである。
図１１は、本実施例の励起子ポラリトン光スイッチの透過率の時間変化を示す図である。図１１（ａ）は、制御光６を照射しない状態での励起子ポラリトン光スイッチ１の線形透過率と、制御光６のスペクトルを示している。図において横軸は波長を表し、左の縦軸は透過率、右の縦軸は光強度を表している。同（ｂ）は、制御光の遅延時間を約５３ｆｓづつ変化させて測定した差分スペクトルを示している。図において横軸は波長を表し、縦軸は差分透過率を表している。
図１１（ａ）において、５２０ｎｍを中心とした幅の広いディップ８ｂは半導体層の励起子吸収によるものであり、５３５ｎｍと５５０ｎｍの鋭いディップ７ｂ、７ｂ’は励起子ポラリトンの吸収ディップである。図１１（ｂ）において、点線ＡとＢの間の差分スペクトルの遅延時間による変化は、図１１（ａ）におけるディップ７ｂが制御光６の照射を受けてシフトしていく様子を表している。
図から明らかなように、時間の経過と共にディップ７ｂの中心（点線ＡとＢの中心）より長波長側で透過率の増加が起こり、ディップの中心より短波長側で透過率の減少が生じることから、ディップ７ｂは、制御光６の照射によって高エネルギー側にシフトすることがわかる。
図１２は、図１１に示した点線Ａ（波長：５３３．５ｎｍ）及び点線Ｂ（波長Ｂ：５３６．７）における差分透過率の遅延時間依存性を示す図である。図において、横軸は遅延時間を示し、縦軸は差分透過強度を示している。
図から明らかなように、時間半値幅は約２００ｆｓであり、制御光６の時間半値幅と同じである。
この結果から、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの動作可能な周波数は、少なくとも、５ＴＨｚ以上であることがわかる。また、この図のピーク値とバックグラウンド値とから消光比が非常に高いことがわかる。
制御光の照射によって、ディップが超高速にシフトする現象はつぎのように考えられる。従来から励起子吸収エネルギーよりも低エネルギーの光を高強度に照射すると、励起子吸収エネルギーが高速に高エネルギー側にシフトすることが知られていた。この現象は、光学的シュタルク効果と呼ばれ、励起子が光子をまとったドレスト状態として理解されている。
制御光の照射によって、ディップが超高速にシフトする現象は、光学的シュタルク効果により、励起子エネルギーが超高速に変化し、励起子エネルギーが変化すると励起子と光が強結合した状態であるポラリトンの分散関係が変化し、ディップのエネルギーが変化すると考えられる。
産業上の利用可能性
以上の説明から理解できるように、本発明の光スイッチによれば、消光比が良く、かつテラＨｚオーダーの超高速で動作可能な光スイッチを提供することができる。したがって、本発明は超高速の光スイッチとして用いられることにより極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
本発明は、以下の詳細な説明及び本発明の幾つかの実施の形態を示す添付図面に基づいて、より良く理解されるものとなろう。なお、添付図面に示す実施の形態は本発明を特定又は限定することを意図するものではなく、単に本発明の説明及び理解を容易とするためだけに記載されたものである。
図中、
図１は、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの構成及び動作を示す模式図であり、図１（ａ）は励起子ポラリトン光スイッチの構成を示し、図１（ｂ）は制御光をｏｎ，ｏｆｆした場合の吸収ディップの変化を示すグラフである。
図２は、被制御光のグレーティング中における分散関係を示す図である。
図３は、励起子ポラリトンの分散関係を示す図である。
図４は、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの半導体層に用いるＣｎ−ＭＸ４の構造を示す概略図であり、図４（ａ）は単位胞の立体構造（アルキル鎖を省略して示している）を示し、図４（ｂ）はａｂ軸方向における結晶構造の投影概略図である。
図５は、本発明の励起子ポラリトン光スイッチの半導体層の量子井戸層における励起子の電気力線の分布を示したものである。
図６は、本発明の実施例で用いたＰｈＥ−ＰｂＩ４の励起子束縛エネルギーＥｂ、バンドギャップＥｇ、励起子吸収エネルギーＥｅｘ、励起子振動子強度ｆｅｘ、量子井戸幅Ｌｗｅｌｌ、量子井戸誘電率εｗ、及びバリア層の誘電率εｂの実測値を示す図である。
図７は、本実施例に用いた励起子ポラリトン光スイッチの構成を示す模式断面図である。
図８は、本実施例の透過スペクトル測定に用いた測定系を示す図である。
図９は、本実施例の励起子ポラリトン光スイッチの透過率スペクトルを示す図である。
図１０は、本実施例の励起子ポラリトン光スイッチの動作速度を測定するための測定系を示す概略図である。
図１１は、本実施例の励起子ポラリトン光スイッチの透過率の時間変化を示すもので、図１１（ａ）は、線形透過率と制御光のスペクトルを示している。図において横軸は波長を表し、左の縦軸は透過率、右の縦軸は光強度を表している。また、図１１（ｂ）は、制御光の遅延時間を約５３ｆｓづつ変化させて測定した差分スペクトルを示している。図において横軸は波長を表し、縦軸は差分透過率を表している。
図１２は、図１１に示した点線Ａ（波長：５３３．５ｎｍ）及び点線Ｂ（波長Ｂ：５３６．７）の差分透過率の遅延時間依存性を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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