(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板よりなる第１の基板と、第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間には、液晶組成物と、マトリクス状に設けられた複数の画素と、マトリクス状に設けられた複数のスペーサとが設けられ、
前記第１の基板の第１の辺側に設けられた走査信号線駆動回路と、前記第１の辺に対向する第２の辺側に設けられた画素電位制御回路と、第３の辺側に設けられた映像信号線駆動回路と、
前記複数のスペーサと同じ材料で形成され、前記複数の画素が形成された表示領域の周囲を囲み、液晶組成物を内部に保持する周辺枠と、
前記周辺枠の外側に充填されるシール材とを有する液晶表示装置であって、
前記第１の基板の前記周辺枠で囲まれた内部の領域に前記走査信号線駆動回路の一部と前記映像信号線駆動回路の一部とが形成された第１の領域を有し、
前記第２の基板の光が入射する側に設けられ、前記第１の領域と前記シール材が充填された領域とを遮光する遮光枠とを有し、
前記シール材が充填される前記周辺枠の外側の４辺において、前記シール材が充填される領域の幅が等しいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記遮光枠は、金属であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記遮光枠には位置あわせマークが設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記遮光枠は透明な基板に遮光パターンを設けたものであることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記遮光枠の光が入射する側には、遮光板が設けられていることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に同一基板上に駆動回路と表示部とが設けられる駆動回路一体型の液晶表示装置に適用して有効な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、小型表示装置から所謂ＯＡ機器等の表示端末用に広く普及している。この液晶表示装置は、基本的には少なくとも一方が透明な基板（例えばガラス板やプラスチック基板等）からなる一対の絶縁基板の間に液晶組成物の層（液晶層）を挟持して所謂液晶パネル（液晶表示素子または液晶セルとも言う）を構成する。
【０００３】
この液晶パネルは、画素形成用の各種電極に選択的に電圧を印加して所定画素部分の液晶組成物を構成する液晶分子の配向方向を変化させて画素形成を行う。液晶パネルの中で画素がマトリックス状に配置されたものが知られている。画素がマトリックス状に配置された液晶パネルは、単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方式との２つの方式に大きく分類されている。単純マトリクス方式は、一対の絶縁基板のそれぞれに形成した交差する２本のストライプ状電極の交差点で画素を形成する。また、アクティブマトリクス方式は画素電極と画素選択用のアクティブ素子（例えば、薄膜トランジスタ）を有し、このアクティブ素子を選択することにより、当該アクティブ素子に接続した画素電極と該画素電極に対向する基準電極とで画素を形成する。
【０００４】
アクティブマトリクス型液晶表示装置は、ノート型パソコン等の表示装置として広く使用されている。一般に、アクティブマトリクス型液晶表示装置は、一方の基板に形成した電極と他方の基板に形成した電極との間に液晶層の配向方向を変えるための電界を印加する、所謂縦電界方式を採用している。また、液晶層に印加する電界の方向を基板面とほぼ平行な方向とする、所謂横電界方式（ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式とも言う）の液晶表示装置が実用化されている。
【０００５】
一方、液晶表示装置を用いる表示装置として、液晶プロジェクタが実用化されている。液晶プロジェクタは光源からの照明光を液晶パネルに照射し、液晶パネルの画像をスクリーンに投写するものである。液晶プロジェクタに用いられる液晶パネルには反射型と透過型とがあるが、液晶パネルを反射型とした場合には、画素のほぼ全域を有効な反射面とすることができ、液晶パネルの小型化、高精細化、高輝度化において、透過型に比較して有利である。
【０００６】
また、液晶プロジェクタ用のアクティブマトリクス型液晶表示装置として、小型でかつ、高精細な液晶表示装置を実現できることから、画素電極を形成した基板上に、画素電極を駆動する駆動回路をも形成する所謂駆動回路一体型液晶表示装置が知られている。
【０００７】
さらには、駆動回路一体型液晶表示装置において、画素電極及び、駆動回路を絶縁基板ではなく、半導体基板上に形成した反射型液晶表示装置（Liquid  Crystal  on  Silicon、以下LCOSとも呼ぶ）が知られている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
駆動回路一体型液晶表示装置では、小型化、高精細化、又は多階調化により、駆動回路の規模が大きくなってきている。さらに、階調電圧を画素電極に供給する方法として、デジタルデータである表示データの値から階調電圧を選択する所謂デジタル−アナログ変換（以下Ｄ／Ａ変換とも呼ぶ）の方法を用いる場合に、多階調化が進むと表示データのビット数が増加し、それに伴い、回路規模が大きくなるという問題が顕著になっている。
【０００９】
また、回路規模の増加に伴い駆動回路が占有する面積が増大し、駆動回路を配置する位置について検討が必要となってきた。
【００１０】
さらに、回路規模の増加にともない、液晶表示装置を小型化するためのパッケージ方法について検討が必要となってきている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
画素が形成された表示領域と同一基板上に、画素を駆動する駆動回路を形成した液晶パネルにおいて、液晶組成物を内部に保持する周辺枠を設け、周辺枠の内部領域に駆動回路を形成する領域も設ける。
【００１２】
また、周辺枠内部で駆動回路が設けられる領域には、外部から観察されないように遮光枠が設けられる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【００１４】
図１は、本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示すブロック図である。
【００１５】
本実施の形態の液晶表示装置は、液晶パネル（液晶表示素子）１００と、表示制御装置１１１とで構成される。液晶パネル１００は、マトリックス状に画素部１０１が設けられた表示部１１０と、水平駆動回路（映像信号線駆動回路）１２０と、垂直駆動回路（走査信号線駆動回路）１３０と、画素電位制御回路１３５と、検査用走査回路１３７から構成される。また、表示部１１０と水平駆動回路１２０と垂直駆動回路１３０と画素電位制御回路１３５と検査用走査回路１３７とは同一基板上に設けられている。画素部１０１には画素電極と対向電極と両電極に挟まれて液晶層が設けられる（図示せず）。画素電極と対向電極の間に電圧を印加することにより、液晶分子の配向方向等が変化し、それに伴い液晶層の光に対する性質が変化することを利用して表示が行われる。
【００１６】
前述したように、表示部１１０と水平駆動回路１２０と垂直駆動回路１３０と画素電位制御回路１３５と検査用走査回路１３７とは同一基板上に設けられるが、表示部１１０に対して、水平駆動回路１２０と垂直駆動回路１３０と画素電位制御回路１３５と検査用走査回路１３７等の駆動回路により占有される面積が広くなると、表示が行われる面積に対して表示が行われない面積が広くなるという問題が生じる。
【００１７】
なお、本発明は画素電位制御回路１３５を有する液晶表示装置に適用して有効であるが、画素電位制御回路１３５を有する液晶表示装置に限られるものではない。また、本発明は検査用走査回路１３７を有する液晶表示装置に適用して有効であるが、検査用走査回路１３７を有する液晶表示装置に限られるものではない。
【００１８】
表示制御装置１１１には外部装置（例えばパーソナルコンピュータ等）から外部制御信号線４０１が接続している。表示制御装置１１１は外部から外部制御信号線４０１を経て送信されてくるクロック信号、ディスプレイタイミング信号、水平同期信号、垂直同期信号等の制御信号を用い、水平駆動回路１２０および、垂直駆動回路１３０、画素電位制御回路１３５を制御する信号を出力する。
【００１９】
また、表示制御装置１１１は映像信号制御回路４００を有している。映像信号制御回路４００には表示信号線４０２が接続しており、外部装置から表示信号が入力する。表示信号は液晶パネル１００に表示する映像を構成するよう一定の順番で送られてくる。例えば、液晶パネル１００の左上に位置する画素を先頭に、１行分の画素データが順番に送られ、上から下に向けて各行のデータが外部装置から順次送られてくる。映像信号制御回路４００は表示信号を基に映像信号を形成し、液晶パネル１００が映像を表示するタイミングに合わせて映像信号を水平駆動回路１２０に供給する。
【００２０】
１３１は表示制御装置１１１から出力する制御信号線であり、１３２は映像信号伝送線である。映像信号伝送線１３２は表示制御装置１１１から出力して、表示部１１０の周辺に設けられた水平駆動回路１２０に接続する。水平駆動回路１２０からは垂直方向（図中Y方向）に、複数本の映像信号線（ドレイン信号線または垂直信号線ともいう）１０３が延びている。また複数本の映像信号線１０３は、水平方向（X方向）に並んで設けられている。映像信号線１０３により映像信号が画素部１０１に伝えられる。
【００２１】
また、表示部１１０の周辺には垂直駆動回路１３０も設けられている。垂直駆動回路１３０からは水平方向（X方向）に複数本の走査信号線（ゲート信号線または水平信号線ともいう）１０２が延びている。また複数本の走査信号線１０２は、垂直方向（Y方向）に並んで設けられている。走査信号線１０２により画素部１０１に設けられたスイッチング素子をオン／オフする走査信号が伝えられる。
【００２２】
さらに、表示部１１０の周辺には画素電位制御回路１３５が設けられている。画素電位制御回路１３５からは水平方向（X方向）に複数本の画素電位制御線１３６が延びている。また複数本の画素電位制御線１３６は、垂直方向（Y方向）に並んで設けられている。画素電子制御線１３６により画素電極の電位を制御する信号が伝えられる。
【００２３】
また、表示部１１０の周辺には検査用走査回路１３７が設けられている。検査用走査回路１３７には前述した映像信号線１０３が接続され、映像信号線１０３に検査用の信号が出力可能となっている。
【００２４】
水平駆動回路１２０は、水平シフトレジスタ１２１と、映像信号選択回路１２３とから構成される。表示制御装置１１１から制御信号線１３１や映像信号伝送線１３２が水平シフトレジスタ１２１と映像信号選択回路１２３とに接続され、制御信号や映像信号が送信されている。なお、各回路の電源電圧線については表示を省略したが、必要な電圧が供給されているものとする。
【００２５】
表示制御装置１１１は、外部から垂直同期信号入力後に、第１番目のディスプレイタイミング信号が入力されると、制御信号線１３１を介して垂直駆動回路１３０にスタートパルスを出力する。次に、表示制御装置１１１は水平同期信号に基づいて、１水平走査時間（以下１ｈと示す）毎に、走査信号線１０２を順次選択すようにシフトクロックを垂直駆動回路１３０に出力する。垂直駆動回路１３０は、シフトクロックに従い走査信号線１０２を選択し、走査信号線１０２に走査信号を出力する。すなわち、垂直駆動回路１３０は図１中上から順番に１水平走査時間１ｈの間、走査信号線１０２を選択する信号を出力する。
【００２６】
また、表示制御装置１１１は、ディスプレイタイミング信号が入力されると、これを表示開始と判断し、映像信号を水平駆動回路１２０に出力する。表示制御装置１１１から映像信号は順次出力されるが、水平シフトレジスタ１２１は表示制御装置１１１から送られてくるシフトクロックに従いタイミング信号を出力する。タイミング信号は、映像信号選択回路１２３が各映像信号線１０２に出力すべき映像信号を取り込むタイミングを示している。
【００２７】
映像信号がアナログ信号の場合、映像信号選択回路１２３は各映像信号線１０３毎に映像信号を取込み、保持する回路（サンプルホールド回路）を有しており、このサンプルホールド回路はタイミング信号を入力すると映像信号を取り込む。表示制御装置１１１は特定のサンプルホールド回路にタイミング信号が入力するタイミングに合せて、該当するサンプルホールド回路が取り込むべき映像信号を出力する。映像信号選択回路１２３はタイミング信号に従いアナログ信号の中から一定の電圧を映像信号（階調電圧）として取り込み、該取り込んだ映像信号を映像信号線１０３に出力する。映像信号線１０３に出力された映像信号は垂直駆動回路１３０からの走査信号が出力されるタイミングに従い画素部１０１の画素電極に書き込まれる。
【００２８】
なお、アナログ信号の場合では、映像信号を複数相に相展開して表示制御装置１１１から映像信号選択回路１２３に出力し、サンプルホールド回路が映像信号を取り込む期間に余裕をもたせる方法を用いることも可能である。
【００２９】
次に、映像信号がデジタル信号の場合には、表示制御装置１１１からは各映像信号線１０３に出力すべき階調電圧を示すデジタルデータが出力しており、映像信号選択回路１２３はタイミング信号に合せて映像信号を記録する。その後、映像信号の値に従い映像信号線１０３に出力すべき階調電圧を選択し出力する。映像信号選択回路１２３はいわゆるデジタル−アナログ変換回路の機能を有しており、階調数が増加するとデジタル信号の数が増加し回路規模が大きくなるといった問題がある。
【００３０】
画素電位制御回路１３５は、表示制御装置１１１からの制御信号にもとづき、画素電極に書き込まれた映像信号の電圧を制御する。映像信号線１０３から画素電極に書き込まれた階調電圧は、対向電極の基準電圧に対してある電位差を有している。画素電位制御回路１３５は画素部１０１に制御信号を供給して画素電極と対向電極との間の電位差を変化させる。なお、画素電位制御回路１３５については後で詳述する。
【００３１】
検査用走査回路１３７は、液晶パネル１００をチップまたはウエハの状態で動作チェックし、良不良を検査するための回路である。検査用走査回路１３７を液晶パネル１００上に設けることで、検査用の信号を液晶パネルに入力する事や入力した信号を外部に取り出して検査することが可能である。なお、検査用走査回路１３７についても後で詳述する。
【００３２】
次に図２を用いて、液晶表示装置の表示部１１０周辺のレイアウトについて説明する。図２は表示部１１０が設けられる基板１の概略ブロック図である。基板１は後に詳述するがシリコン基板であり、基板１上には回路が半導体プロセスにより形成される。なお、図２は各回路等の配置を示しており、図を解り易くするために信号線、液晶層等は省略して示している。
【００３３】
図中表示部１１０の左右（図中Ｘ方向）には垂直駆動回路１３０と画素電位制御回路１３５とが配置されている。また、表示部１１０の上下（Ｙ方向）には水平駆動回路１２０と検査用走査回路１３７とが配置されている。各回路の中で水平駆動回路１２０が若干大きくなる可能性があるが、表示部１１０の４辺に各回路を配置することで、表示部１１０と基板１の端辺との間は、ほぼ同じ間隔に設けることが可能となっている。
【００３４】
入出力端子パッド部１３は、液晶パネル１００に信号を入出力するための端子が設けられる領域である。入出力端子パッド部１３からは各回路までに配線が設けられる領域が必要であり、一定の幅で配線領域が形成される。図２では、入出力端子パッド部１３を検査用走査回路１３７側に形成しているが、引き回しするための配線長さを考慮すると、水平駆動回路１２０側に設ける事も有効である。
【００３５】
次に、図３を用いて、基板１と透明基板２とを組合わせた様子を示す。透明基板２はガラス、樹脂等の透明な基板で、１１は周辺枠である。透明基板２と基板１は、間に周辺枠１１を挟み組合され、液晶パネル１００を形成する。周辺枠１１は表示部１１０の周辺に形成されている。基板１と透明基板２と周辺枠１１とで囲まれた内部に液晶組成物が保持される。なお、周辺枠１１については後で詳述する。１６は基板１の外周を示し、１７は透明基板２の外周を示す。
【００３６】
図３において、垂直駆動回路１３０と画素電位制御回路１３５と水平駆動回路１２０と検査用走査回路１３７を点線で示した。実際は、基板１の表面は遮光膜で覆われており外部からは見えないが、周辺枠との位置関係を示すために図３では点線で示している。表示部１１０の周辺には、前述したように各回路が形成されており、周辺枠１１は各回路と一部重なるように形成されている。周辺枠１１の外側には、基板１と透明基板２との間の隙間が形成されている。この隙間にシール材が充填される。
【００３７】
図４にシール材１２が充填された様子を示す。図中表示部１１０の上側では、周辺枠１１の外側から基板１の外周１６までシール材１２が充填されている。また、表示部１１０の下側では、周辺枠１１の外側から透明基板２の外周１７までシール材１２が充填されている。シール材１２が充填される領域は、表示部１１０の上側では水平駆動回路１２０が形成される領域と重なり、表示部１１０の下側では検査用走査回路１３７が形成される領域と重なっている。表示部１１０の上下の位置に、水平駆動回路１２０と検査用走査回路１３７とを設けることで、シール材１２が設けられる領域の幅Ｌ１とＬ３とは、ほぼ同じ長さとなっている。同じく表示部１１０を挟んで左右の対向する辺にシール材１２が設けられているが、垂直駆動回路１３０と画素電位制御回路１３５とが設けられることで、シール材１２が設けられる幅Ｌ２とＬ４とは、ほぼ同じ長さとなっている。
【００３８】
次に図５を用いて、画素部１０１について説明し、さらには、表示部１１０の周辺に設けられる画素電位制御回路１３５、検査用走査回路１３７について説明する。図５は画素部１０１の等価回路を示す回路図である。画素部１０１は表示部１１０の隣接する２本の走査信号線１０２と、隣接する２本の映像信号線１０３との交差領域（４本の信号線で囲まれた領域）にマトリックス状に配置される。ただし、図５では図を簡略化するため１つの画素部だけを示している。各画素部１０１は、アクティブ素子３０と画素電極１０９を有している。また、画素電極１０９には画素容量１１５が接続されている。画素容量１１５の一方の電極は画素電極１０９に接続され、他方の電極は画素電位制御線１３６に接続されている。さらに画素電位制御線１３６は画素電位制御回路１３５に接続されている。なお、図５においては、アクティブ素子３０はｐ型トランジスタで示している。
【００３９】
前述したように、走査信号線１０２には垂直駆動回路１３０から走査信号が出力している。この走査信号によりアクティブ素子３０のオン・オフが制御される。映像信号線１０３には映像信号として階調電圧が供給されており、アクティブ素子３０がオンになると、映像信号線１０３から画素電極１０９に階調電圧が供給される。画素電極１０９に対向するように対向電極１０７（コモン電極）が配置されており、画素電極１０９と対向電極１０７との間には液晶層（図示せず）が設けられている。なお、図５に示す回路図上では画素電極１０９と対向電極１０７との間は等価的に液晶容量１０８が接続されているように表示した。画素電極１０９と対向電極１０７との間に電圧を印加することにより、液晶分子の配向方向等が変化し、それに伴い液晶層の光に対する性質が変化することを利用して表示が行われる。
【００４０】
液晶表示装置の駆動方法としては、液晶層に直流電流が印加されないように交流化駆動が行われる。交流化駆動を行うためには、対向電極１０７の電位を基準電位とした場合に、映像信号選択回路１２３からは基準電位に対して正極性と負極性の電圧が階調電圧として出力する。しかしながら、映像信号選択回路１２３を正極性と負極性の電位差に耐えるような高耐圧な回路とすると、アクティブ素子３０をはじめとし回路規模が大きくなるという問題や、動作速度が遅くなるといった問題が生じることとなる。
【００４１】
そこで、映像信号選択回路１２３から画素電極１０９に供給する映像信号は、基準電位に対して同極性の信号を用いながらも交流化駆動を行うことを検討した。例えば、映像信号選択回路１２３から出力する階調電圧は、基準電位に対し正極性の電圧を用い、基準電位に対し正極性の電圧を画素電極に書き込んだ後に、画素電位制御回路１３５から画素容量１１５の電極に印加している画素電位制御信号の電圧を引き下げることにより、画素電極１０９の電圧も降下させて、基準電位に対して負極性の電圧を生じることができる。このような駆動方法を用いると、映像信号選択回路１２３が出力する最大値と最小値との差が小さいため、映像信号選択回路１２３は低耐圧の回路とすることが可能となる。なお１例として、画素電極１０９に正極性の電圧を書き込んで画素電位制御回路１３５により負極性の電圧を生じさせる場合について説明したが、負極性の電圧を書き込んで正極性の電圧を生じさせるには、画素電位制御信号の電圧を引き上げることにより可能である。
【００４２】
次に図６を用いて、画素電極１０９の電圧を変動させる方法について説明する。図６は説明のため液晶容量１０８を第１のコンデンサ５３で表わし、画素容量１１５を第２のコンデンサ５４で表わし、アクティブ素子３０をスイッチ１０４で示したものである。画素容量１１５の画素電極１０９に接続される電極を電極５６とし、画素容量１１５の画素電位制御線１３６に接続される電極を電極５７とする。また、画素電極１０９と電極５６とが接続された点を節点５８で示す。ここでは説明のため、他の寄生容量は無視できるものとして、第１のコンデンサ５３の容量はＣＬで、第２のコンデンサ５４の容量はＣＣとする。
【００４３】
まず図６（ａ）に示すように、第２のコンデンサ５４の電極５７には外部から電圧Ｖ１を印加する。次に、走査信号によりスイッチ１０４がオンになると、映像信号線１０３から電圧が画素電極１０９及び電極５６に供給される。ここで、節点５８に供給された電圧をＶ２とする。
【００４４】
次に、図６（ｂ）に示すように、スイッチ１０４がオフになった時点で、電極５７に供給している電圧（画素電位制御信号）をＶ１からＶ３に降下させる。このとき、第１のコンデンサ５３と第２のコンデンサ５４とに充電された電荷の総量は変化しないことから、節点５８の電圧が変化して、節点５８の電圧は、Ｖ２−｛ＣＣ／（ＣＬ＋ＣＣ）｝×（Ｖ１−Ｖ３）となる。
【００４５】
ここで、第１のコンデンサ５３の容量ＣＬが第２のコンデンサ５４の容量ＣＣに比べて充分小さい場合（ＣＬ＜＜ＣＣ）は、ＣＣ／（ＣＬ＋ＣＣ）≒１となり節点５８の電圧はＶ２−Ｖ１＋Ｖ３となる。ここでＶ２＝０、Ｖ３＝０とすると、節点５８の電圧は−Ｖ１となる。
【００４６】
前述した方法によれば、画素電極１０９に映像信号線１０３から供給する電圧は対向電極１０７の基準電位に対し正極性にして、負極性の信号は電極５７に印加する電圧（画素電位制御信号）を制御することにより作り出すことができる。このような方法で負極性の信号を作り出すと、映像信号選択回路１２３からは負極性の信号を供給する必要が無くなり、周辺回路を低耐圧の素子で形成することが可能となる。
【００４７】
次に図７を用いて、画素電位制御回路１３５の回路構成を示す。ＳＲは双方向シフトレジスタであり、上下双方向に信号をシフトすることが可能である。双方向シフトレジスタＳＲはクロックドインバータ６１、６２、６５、６６で構成されている。６７はレベルシフタで、６９は出力回路である。双方向シフトレジスタＳＲ等は電源電圧ＶＤＤで動作している。レベルシフタ６７は双方向シフトレジスタＳＲから出力する信号の電圧レベルを変換する。レベルシフタ６７からは電源電圧ＶＤＤより高電位である電源電圧ＶＢＢと電源電圧ＶＳＳ（ＧＮＤ電位）との間の振幅を有する信号が出力される。出力回路６９は電源電圧ＶＰＰとＶＳＳが供給されており、レベルシフタ６７からの信号に従い、電圧ＶＰＰとＶＳＳとを画素電位制御線１３６に出力する。前述した画素電位制御信号の電圧Ｖ１が電源電圧ＶＰＰで、電圧Ｖ３が電源電圧ＶＳＳとなる。なお、図７では出力回路６９をｐ型トランジスタとｎ型トランジスタからなるインバータで示している。ｐ型トランジスタに供給する電源電圧ＶＰＰとｎ型トランジスタに供給する電源電圧ＶＳＳの値を選ぶことで、電圧ＶＰＰとＶＳＳとを画素電位制御信号として出力することが可能である。
【００４８】
ただし、ｐ型トランジスタを形成するシリコン基板には基板電圧が供給されているので、電源電圧ＶＰＰの値は基板電圧に対して適切な値が設定される。
【００４９】
２６はスタート信号入力端子で、制御信号の一つであるスタート信号を画素電位制御回路１３５に供給する。図７に示す双方向シフトレジスタＳＲ１からＳＲｎは、スタート信号が入力すると外部から供給されるクロック信号のタイミングに従い、順番にタイミング信号を出力する。レベルシフタ６７はタイミング信号に従い電圧ＶＳＳと電圧ＶＢＢを出力する。出力回路６９はレベルシフタ６７の出力に従い電圧ＶＰＰと電圧ＶＳＳを画素電位制御線１３６に出力する。画素電位制御信号のタイミングとなるように、スタート信号およびクロック信号を双方向シフタレジスタＳＲに供給することで、画素電位制御回路１３５から希望するタイミングで画素電位制御信号を出力することが可能である。なお２５はリセット信号入力端子である。
【００５０】
なお、双方向シフトレジスタＳＲはクロックドインバータで構成しており、タイミング信号を順番に出力することが可能である。また画素電位制御回路１３５を双方向シフトレジスタＳＲで構成することで、画素電位制御信号を双方向に走査することが可能である。すなわち、垂直駆動回路１３０も同様の双方向シフトレジスタにより構成されており、本発明による液晶表示装置は上下双方向の走査が可能である。そのため、表示する像を上下逆転する場合などに、走査方向を反転して図中下から上に走査する。そこで垂直駆動回路１３０が下から上に走査する場合には、画素電位制御回路１３５も下から上に走査するよう対応する。なお、水平シフトレジスタ１２１と検査用走査回路も同様の双方向シフトレジスタにより構成されている。
【００５１】
次に、図８を用いて検査用走査回路１３７について説明する。検査用走査回路１３７は映像信号線１０３を選択して検査信号入出力端子１４８と接続する機能を有している。検査用走査回路１３７は双方向シフトレジスタＴＳＲを有しており、検査用クロック端子１４７から入力するクロック信号に同期してアナログスイッチ６８をオン状態にするタイミング信号を出力する。６７はレベルシフト回路でタイミング信号の電圧レベルを、アナログスイッチ６８を駆動する電圧レベルに変換する。１４９は検査用リセット端子で双方向シフトレジスタＴＳＲをリッセトする信号が入力する。
【００５２】
アナログスイッチ６８がオン状態となると、映像信号線１０３と検査信号入出力端子１４８とは電気的に接続され、検査信号入出力端子１４８から映像信号線１０３に検査信号を入力することや、映像信号線１０３から信号を検査信号入出力端子１４８に読み出すことが可能となる。
【００５３】
検査用走査回路１３７を用いると、液晶パネル１００を完成させる前のウエハやチップの状態で検査が可能である。例えば図５に示した垂直走査回路１３０を動作させて、アクティブ素子３０をオン状態にし、画素電極１０９に信号を書き込む状態にし、検査用走査回路１３７から検査用信号を映像信号線１０３に出力する。検査用信号の電圧を増減させて、それに伴う電流値をモニターすれば、液晶パネル１００内部の短絡、断線、アクティブ素子の性能を検査することが可能である。
【００５４】
以上説明したように、表示部１１０の周辺に水平走査回路１２０、垂直走査回路１３０の他に、画素電位制御回路１３５、検査用走査回路１３７等の回路を配置することで、シール材１２を充填する領域を表示部１１０の４辺に均等に設けることが可能となっている。しかしながら、水平駆動回路１２０にデジタル−アナログ変換回路を用いた場合に、回路規模が大きくなり、シール材１２を充填する領域が均等に設けることができないといった問題点が発生した。
【００５５】
次に図９を用いて水平駆動回路１２０に、映像信号がデジタル信号で入力され、電圧選択回路１２３でデジタル−アナログ変換される場合の液晶パネル１００のブロック図を示す。
【００５６】
前述したように、画素電極１０９に供給される階調電圧は電圧選択回路１２３から出力する。液晶パネル１００の表示する階調数が増加した場合に、電圧選択回路１２３は多くの階調数の中から映像信号線１０３に出力する電圧を選択することになる。また、表示制御装置１１１から電圧選択回路１２３に接続されている表示データ線１３２で伝えられるデータ量も増加する。そのため、液晶パネル１００の表示する階調数が増加した場合に、表示データ線１３２の本数が増加しそれに伴い電圧選択回路１２３の回路規模が大きくなってしまうという問題が生じる。そこで、電圧選択回路１２３をなるべく小さな回路で構成し、液晶パネル内に効率よく配置することが必要である。また、特に駆動回路が表示部と同一基板上に形成される、図２に示すような駆動回路一体型の液晶表示装置において、駆動回路の形成領域が増加した場合の問題点についても説明する。
【００５７】
図９において、電圧選択回路１２３には表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６とが設けられており、表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６とは、映像信号線１０３の延長線上に並ぶように設けられている。
【００５８】
表示制御回路１１１（図示せず）から水平駆動回路１２０には表示データ線１３２が３本の表示データ線（３２１〜３２３）として接続されている。この表示データ線（３２１〜３２３）は、映像信号のビット単位に信号線を設けたものである。
【００５９】
表示データ線（３２１〜３２３）には順次表示データが出力されており、水平シフトレジスタ１２１からは表示データを取り込むタイミング信号が出力されている。タイミング信号線３２９が水平シフトレジスタ１２１から電圧選択回路１２３に接続されており、このタイミング信号線３２９によりタイミング信号が電圧選択回路１２３に伝えられる。ＨＳＲ１からＨＳＲｎは双方向シフトレジスタである。水平シフトレジスタ１２１は双方向シフトレジスタＨＳＲで構成されている。双方向シフトレジスタＨＳＲからタイミング制御信号線１３１の信号（シフトクロック）に従いタイミング信号が出力する。タイミング信号は映像信号線毎に表示データ信号線（３２１〜３２３）に出力された表示データを表示データ演算回路３２５に取り込むタイミングを示している。なお、双方向シフトレジスタＨＳＲ０とＨＳＲｎ＋１はダミーの双方向シフトレジスタである。また、図９では液晶パネル１００と同一基板上に電圧発生回路１１２が設けられており、電圧発生回路１１２から階調電圧線１３３が階調電圧出力回路３２６に接続されている。
【００６０】
表示部１１０には映像信号線１０３が略等間隔で複数本（ｎ本）設けられている。この映像信号線１０３の間隔は、表示部１１０に設けられた画素電極１０９の幅と略同じである。すなわち、一定の面積の表示部１１０内において、設けられる画素数は規格で定められている。そのため、表示部１１０の大きさと画素数により、画素が設けられる領域の大きさが定まる。映像信号線の間隔も画素を設ける領域の大きさに従い選ばれている。例えば、表示部１１０の図中横方向（Ｘ方向）の画素数をｎ個とし、表示部１１０の横幅をＷとした場合に画素ピッチはＷ／ｎとなり、映像信号線１０３の間隔は画素ピッチとほぼ同じＷ／ｎになる。また、映像信号線１０３の延長線上に設けられる表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６の幅も画素ピッチＷ／ｎとほぼ同じになるよう設けられる。
【００６１】
１本の映像信号線１０３の延長線上には、当該映像信号線１０３に階調電圧を出力するために、表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６が設けられる。例えば、任意の１本の映像信号線を中心に考えると、隣り合う映像信号線１０３の延長線上にも同じく表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６が設けられている。そのため、表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６の幅を、画素ピッチの幅内に収めないと、隣の表示データ演算回路３２５または階調電圧出力回路３２６と重なってしまうという問題が生じる。すなわち、表示部を小さくした場合や、画素数を増加させた場合に、画素ピッチ内に駆動回路を形成するためには、回路の幅も考慮しなくてはいけないという問題が生じる。
【００６２】
そこで、表示データ演算回路３２５と階調電圧出力回路３２６を、画素ピッチの幅内に効率よく収めるために、本実施の形態では、表示データ演算回路３２５の配置を表示データ線の配置に合わせて表示データ線毎に分割して、映像信号線１０３の延長線上に並べて設けている。
【００６３】
図９に示すように、表示データ線（３２１〜３２３）は表示制御回路１１１から出力して、表示データ演算回路３２５に接続している。本実施の形態では８階調の表示データに対応する３ビットの場合を示しており、表示データ線（３２１〜３２３）は３本である。なお、本実施の形態では説明を簡明にするため、表示データ線数が３本の場合について述べるが、表示データ線数は、表示データに従い任意に選ぶことが可能である。
【００６４】
表示データ演算回路３２５は各表示データ線（３２１〜３２３）毎、分割して設けられており、表示データの各ビット毎の値に対して演算を行い、演算結果を階調電圧出力回路３２６に伝達する。階調電圧出力回路３２６は表示データ演算回路３２５での演算結果をもとに表示データに従った階調電圧を出力する。
【００６５】
前述したように映像信号線１０３の間隔は、表示部１１０に設けられた画素電極１０９の大きさで制限される。対して隣合う表示データ線の間隔は、表示データ演算回路３２５が設けられるように、十分に広くとることが可能である。図９に示すように、表示データ演算回路３２５は映像信号線１０３の延長線上（図中Y方向）に各表示データ線に対応する構成毎分割して、一列に並んで設けることで、映像信号線１０３の間隔内に収まることが可能である。ただし、表示データ線の間隔は無制限に広くとれるわけではなく、なるべく、小さくすることが必要である。
【００６６】
次に図１０を用いて表示データ線毎に分割して設けられる電圧選択回路１２３について詳細に説明する。図１０は、電圧選択回路１２３の回路構成を示す概略ブロック図である。なお、図１０では、図面が複雑になることを避けて、１本の映像信号線１０３について、電圧選択回路１２３の構成を示している。
【００６７】
電圧選択回路１２３には前述したように表示データ線毎に表示データ演算回路３２５が設けられている。各表示データ演算回路３２５には、時間制御信号線１３４（１６１〜１６３）が接続されている。なお、時間制御線１３４（１６１〜１６３）は、図示していない表示制御装置１１１から供給されている。同図において、１２２は表示データ保持回路である。表示データ保持回路１２２は水平シフトレジスタ１２１から出力するタイミング信号線３２９の信号に従って、表示データ線（３２１〜３２３）の表示データを記録する。
【００６８】
また、３３１、３３２、３３３は演算伝達回路であり、表示データ保持回路１２２の出力と、時間制御信号線（１６１〜１６３）の信号との間で演算を行い、演算結果を演算結果信号線１５２に出力する。演算伝達回路（３３１〜３３３）は、演算結果信号線１５２で直列に接続されている。また、階調電圧出力回路３２６も演算結果信号線１５２で演算伝達回路（３３１〜３３３）と直列に接続されている。階調電圧出力回路３２６は演算伝達回路（３３１〜３３３）が伝達する演算結果に従い、電圧バスライン１５１上の階調電圧を選択して映像信号線１０３に出力する。なお、電圧バスライン１５１は図９において階調電圧線１３３で示した信号線の内で、時間と共に電圧値が変化するものを示している。また、図１０では電圧バスラインを１本の配線で示したが、複数本の配線で構成することも可能である。
【００６９】
本実施の形態では、演算伝達回路（３３１〜３３３）と階調電圧出力回路３２６とが、表示データ線の本数よりも少ない演算結果信号線１５２で接続されているため、図中縦方向の配線が省略可能になっている。すなわち、3本の表示データ線（３２１〜３２３）で伝達されるデータを演算伝達回路（３３１〜３３３）で演算しその結果を１本の演算結果信号線１５２で縦方向に伝えており、配線数が少なくなっている。また、演算伝達回路（３３１〜３３３）を縦に並べて設けることで、映像信号線１０３に階調電圧を出力する構成の幅を狭くすることが可能になっている。
【００７０】
次に、階調電圧出力回路３２６により階調電圧が選択され、映像信号線１０３に出力される方法について説明する。階調電圧出力回路３２６には、電圧バスライン１５１が接続されている。電圧バスライン１５１の電圧値は、時間に従い変化しており、また、電圧値の変化は一定の周期で繰り返されている。そこで、時間に従い変化する電圧バスライン１５１上の電圧が希望の電圧値である時に、階調電圧出力回路３２６により電圧バスライン１５１と映像信号線１０３とを電気的に接続し、電圧バスライン１５１上の電圧が希望の電圧値ではない時に、電圧バスライン１５１と映像信号線１０３とを電気的に切断することで、希望の電圧を映像信号線上に階調電圧として出力することができる。
【００７１】
以下簡単に電圧選択回路１２３の動作について説明する。まず、表示データ保持回路１２２に水平シフトレジスタ１２１が出力するタイミング信号により表示データが保持される。次に、演算伝達回路（３３１〜３３３）には表示データ保持回路１２２の値が伝えられる。時間制御信号線（１６１〜１６３）の時間制御信号の値は時間に従い変化しており、演算伝達回路（３３１〜３３３）では表示データ保持回路１２２の値と時間制御信号線（１６１〜１６３）の時間制御信号の値との間で演算が行われる。演算伝達回路（３３１〜３３３）の演算結果は階調電圧出力回路３２６に伝達される。電圧バスライン１５１の電圧が表示データの示す階調電圧と一致した時に、演算伝達回路（３３１〜３３３）の演算結果が出力され、階調電圧出力回路３２６は電圧バスライン１５１から映像信号線１０３に階調電圧を出力する。
【００７２】
次に以下、図１１、図１２に示す各信号のタイミングチャートを用いて、図９、図１０に示す回路の動作について説明する。
【００７３】
まず図１１に、表示データ線（３２１〜３２３）に出力される表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）と、水平シフトレジスタ１２１から出力されるタイミング信号ＨＳＲ１〜ＨＳＲ３を示す。図９の表示データ線（３２１〜３２３）には表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）が出力され、水平シフトレジスタ１２１からは順番にタイミング信号（ＨＳＲ１〜ＨＳＲ３）が出力する。なお、図１１においてはタイミング信号を、ＨＳＲ１からＨＳＲ３の３個の信号で示したが、タイミング信号は映像信号線の数に合わせて必要な数が水平シフトレジスタから出力するものとする。
【００７４】
表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）はＤＤ１が最下位ビットである３ビットのデータを表わしている。タイミング信号ＨＳＲ１が出力している期間の各ビットの値は、表示データＤＤ１の値はハイレベルであり、表示データＤＤ２の値はロウレベルであり、表示データＤＤ３の値はハイレベルとなっている。本実施例の場合では表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）は、ハイレベルを「１」でロウレベルを「０」で表現することとしており、タイミング信号ＨＳＲ１が出力している期間の表示データの値は下位ビットから（１，０，１）となる。
【００７５】
図１１において、表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）が（１，０，１）の状態で、タイミング信号線３２９にタイミング信号ＨＳＲ１が出力すると、表示データ保持回路１２２に表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）が取り込まれる。
【００７６】
次に、表示データ保持回路１２２に表示データが取り込まれた後の動作について、図１２を用いて説明する。図１２においてＲＭＰは階調電圧であり、図１０の電圧バスライン１５１に電圧発生回路１１２（図示せず）から供給される。階調電圧ＲＭＰは図１２に示すように、時間と共に電圧が階段状に変化する。なお、図１２では、表示データ（１，１，１）の場合に階調電圧Ｖ０が画素電極に書き込まれ、表示データ（０，０，０）の場合に階調電圧Ｖ７が書き込まれるものとする。
【００７７】
図１２においては、表示データ保持回路１２２に表示データ（ＤＤ１〜ＤＤ３）として（１，０，１）が取り込まれた場合を説明する。前述したように、図１２においてＲＭＰは階調電圧であり、時間と共に電圧が階段状に変化する。また時間制御パルス（ＤＡ１〜ＤＡ３）も階調電圧ＲＭＰの値に同期してデータ値が変化している。本実施例では図１０において演算伝達回路（３３１〜３３３）は表示データ保持回路１２２の値と時間制御パルス（ＤＡ１〜ＤＡ３）の値が同じ値になった時に、オン状態となって演算結果信号線１５２に定電圧線１５３から供給される電圧を次の段の演算伝達回路に伝える場合について説明する。ただし演算伝達回路（３３１〜３３３）は表示データ保持回路１２２の値に対して、時間制御パルス（ＤＡ１〜ＤＡ３）の値が反転した値の場合にオン状態になる等種々の形態をとることが可能である。
【００７８】
図１２においてｔ０のタイミングでは、全ての時間制御パルス（ＤＡ１〜ＤＡ３）がロウレベルであるため、演算伝達回路（３３１〜３３３）は全てオフである。その後、時間が経過し時間制御パルス（ＤＡ１〜ＤＡ３）の値が表示データと同じ（１、０、１）となると、演算伝達回路（３３１〜３３３）がすべてオン状態となり、定電圧線１５３により供給された電圧が、演算結果信号線１５２により階調電圧出力回路３２６に伝えられる。階調電圧出力回路３２６は定電圧線１５３の電圧が伝えられると電圧バスライン１５１と映像信号線１０３との電気的接続を切断する。そのため、映像信号線１０３には切断時の電圧バスライン１５１の電圧Ｖ５が保持される。
【００７９】
以上、電圧選択回路１２３にデジタル−アナログ変換方式を用いた場合について説明したが、デジタル−アナログ変換方式とした場合には回路規模が増大するという問題がある。また、電圧選択回路１２３のＸ方向の幅は画素ピッチで限られているため、回路の形成領域はＹ方向に長くなってしまう。前述したように周辺枠１１の外側にはシール材１２が表示部１１０の４辺で均等な幅で充填されているが、４辺のうち、形成される回路規模が増大する辺があると、シール材１２の充填される領域の幅に差が生じる。シール材１２の充填される領域の幅に差が生じると、シール材１２の充填時間に差が出たり、充分に充填されないといった問題や、液晶パネル組み立て時に充填領域に漏れた液晶組成物を充分に除去できない問題が発生する。
【００８０】
次に、周辺枠１１、表示部１１０を説明するために、まず反射型液晶表示装置について説明する。反射型液晶表示素子の一つとして電界制御複屈折モード（ELECTRICALLY CONTROLLED BIREFRINGENCE MODE）が知られている。電界制御複屈折モードでは、反射電極と対向電極との間に電圧を印加し液晶組成物の分子配列を変化させ、その結果として液晶パネル中の屈折率異方性を変化させる。電界制御複屈折モードは、この屈折率異方性の変化を光透過率の変化として利用し像を形成するものである。
【００８１】
さらに図１３を用いて、電界制御複屈折モードの１つである単偏光板ツイステッドネマティックモード（ＳＰＴＮ）について説明する。９は偏光ビームスプリッタで光源（図示せず）からの入射光Ｌ１を２つの偏光に分割し、直線偏光となった光Ｌ２を出射する。図１３では、液晶パネル１００に入射させる光に、偏光ビームスプリッタ９を透過した光（Ｐ偏光波）を用いる場合を示しているが、偏光ビームスプリッタ９で反射した光（Ｓ偏光波）を用いることも可能である。液晶組成物３は液晶分子長軸が駆動回路基板１と透明基板２に対して平行に配列し、誘電異方性が正のネマティク液晶を用いる。また、液晶分子は配向膜７、８により約９０度ねじれた状態で配向している。
【００８２】
まず図１３（ａ）に電圧が印加されていない場合を示す。液晶パネル１００に入射した光は液晶組成物３の複屈折性により楕円偏光となり反射電極５面では円偏光となる。反射電極５で反射した光は再度液晶組成物３中を通過し再び楕円偏光となり出射時には直線偏光に戻り、入射光Ｌ２に対して９０度位相が回転した光Ｌ３（Ｓ偏光波）として出射する。出射光Ｌ３は再び偏光ビームスプリッタ９に入射するが、偏光面で反射され出射光Ｌ４となる。この出射光Ｌ４をスクリーン等に照射して表示を行う。この場合、電圧を印加していない場合に光が出射する所謂ノーマリーホワイト（ノーマリオープン）と呼ばれる表示方式となる。
【００８３】
対して図１３（ｂ）に液晶組成物３に電圧が印加されている場合を示す。液晶組成物３に電圧が印加されると、液晶分子が電界方向に配列するため、液晶内で複屈折が起こる割合が減少する。そのため、直線偏光で液晶パネル１００に入射した光Ｌ２はそのまま反射電極５で反射され入射光Ｌ２と同じ偏光方向の光Ｌ５として出射する。出射光Ｌ５は偏光ビームスプリッタ９を透過し光源に戻る。そのため、スクリーン等に光が照射されないため、黒表示となる。
【００８４】
単偏光板ツイステッドネマティクモードでは、液晶分子の配向方向が基板と平行であるため、一般的な配向方法を用いることができ、プロセス安定性が良い。またノーマリーホワイトで使用するため、低電圧側でおこる表示不良に対して裕度を持たせることができる。すなわち、ノーマリーホワイト方式では、暗レベル（黒表示）が高電圧を印加した状態で得られる。この高電圧の場合には液晶分子のほとんどが基板面に垂直な電界方向に揃っているので、暗レベルの表示は、低電圧時の初期配向状態にあまり依存しない。さらに、人間の目は、輝度ムラを輝度の相対的な比率として認識し、かつ、輝度に対し対数スケールに近い反応を有する。そのため、人間の目は暗レベルの変動には敏感である。こうした理由から、ノーマリーホワイト方式は、初期配向状態による輝度ムラに対して有利な表示方式である。
【００８５】
しかしながら、上述した電界制御複屈折モードでは高いセルギャップの精度が求められる。すなわち、電界制御複屈折モードでは、光が液晶層中を通過する間に生じる異常光と常光との間の位相差を利用しているため、透過光強度は異常光と常光との間のリタデーションΔｎ・ｄに依存する。ここで、Δｎは屈折率異方性で、ｄはスペーサ４によって形成される透明基板２と駆動回路基板１との間のセルギャップである。
【００８６】
このため、本実施例の場合、表示ムラを考慮しセルギャップ精度は、±０．０５μｍ以下とした。また、反射型液晶表示素子では液晶に入射した光は反射電極で反射し再度液晶層を通過するため、同じ屈折率異方性Δｎの液晶を用いる場合、透過型液晶表示素子に対してセルギャップｄは半分になる。一般の透過型液晶表示素子の場合セルギャップｄは５〜６μｍ程度であるのに対し、本実施例では約２μｍである。
【００８７】
本実施例では高いセルギャップ精度と、より狭いセルギャップに対応するため、従来からあるビーズ分散法に代わり柱状のスペーサを駆動回路基板１上に形成する方法を用いた。
【００８８】
図１４に駆動回路基板１上に設けられた反射電極５とスペーサ４との配置を説明する模式平面図を示す。一定の間隔を保つように多数のスペーサ４が駆動回路基板全面にマトリックス状に形成されている。反射電極５は液晶表示素子が形成する像の最小の画素である。図１４では簡略化のため、符号５で示す縦４画素、横５画素で示した。
【００８９】
図１４では縦４画素、横５画素の画素が、有効表示領域を形成している。液晶表示素子で表示する像はこの有効表示領域に形成される。有効表示領域の外側にはダミー画素１１３が設けられている。このダミー画素１１３の周辺にスペーサ４と同じ材料で周辺枠１１が設けられている。さらに、周辺枠１１の外側にはシール材１２が塗布される。１３は外部接続端子で液晶パネル１００に外部からの信号を供給するのに用いられる。
【００９０】
スペーサ４と周辺枠１１の材料には、樹脂材料を用いた。樹脂材料として例えば、株式会社ＪＳＲ製の化学増幅型ネガタイプレジスト「ＢＰＲ−１１３」（商品名）を用ることができる。反射電極５が形成された駆動回路基板１上にスピンコート法等でレジスト材を塗布し、マスクを用いてレジストをスペーサ４と周辺枠１１のパターンに露光する。その後除去剤を用いレジストを現像してスペーサ４と周辺枠１１とを形成する。
【００９１】
スペーサ４と周辺枠１１とをレジスト材等を原料として形成すると、塗布する材料の膜厚でスペーサ４と周辺枠１１の高さを制御でき、高い精度でスペーサ４と周辺枠１１を形成することが可能である。また、スペーサ４の位置はマスクパターンで決めることができ、希望する位置に正確にスペーサ４を設けることが可能である。液晶プロジェクタでは画素上にスペーサ４が存在すると、拡大投映された像にスペーサによる影が見えてしまう問題がある。スペーサ４をマスクパターンによる露光、現像で形成することで、映像表示した際に、問題とならない位置にスペーサ４を設けることができる。
【００９２】
また、スペーサ４と同時に周辺枠１１を形成しているので、液晶組成物３を駆動回路基板１と透明基板２との間に封入する方法として、液晶組成物３を駆動回路基板１に滴下しその後透明基板２を駆動回路基板１に貼り合せる方法を用いることができる。この液晶パネル組み立て時に液晶組成物３が周辺枠１１より外側に漏れ出し、シール材１２を充填する領域に残ってしまう不具合がある。そのため、シール材１２充填領域の液晶組成物３を除去する作業が必要となる。
【００９３】
液晶組成物３を駆動回路基板１と透明基板２の間に配置し、液晶パネル１００を組立てた後は、周辺枠１１により囲まれた領域内に液晶組成物３が保持される。また、周辺枠１１の外側にはシール材１２が塗布され、液晶組成物３を液晶パネル１００内に封入する。前述したように、周辺枠１１はマスクパターンを用いて形成されるので、高い位置精度で駆動回路基板１上に形成することができる。そのため、液晶組成物３の境界を高い精度で定めることが可能である。また、周辺枠１１はシール材１２の形成領域の境界も高い精度で定めることが可能である。
【００９４】
シール材１２は駆動回路基板１と透明基板２とを固定する役目と、液晶組成物３にとって有害な物質が進入することを阻止する役目がある。流動性があるシール材１２を塗布した場合に、周辺枠１１はシール材１２のストッパとなる。シール材１２のストッパとして、周辺枠１１を設けることで、液晶組成物３の境界やシール材１２の境界での設計裕度を広くすることができ、液晶パネル１００の端辺から有効表示領域までの間を狭く（挟額縁化）することが可能である。
【００９５】
有効表示領域を囲むように周辺枠１１が形成されていることから、駆動回路基板１をラビング処理する際に、周辺枠１１により周辺枠１１の近傍がうまくラビングできない問題がある。ラビング処理は液晶組成物３を一定の方向に配向するための処理である。本実施例の場合、駆動回路基板１にスペーサ４、周辺枠１１が形成された後に、配向膜７を塗布する。その後、液晶組成物３が一定方向に配向するよう、配向膜７が布等を用いて擦られラビング処理が行われる。
【００９６】
ラビング処理において、周辺枠１１が駆動回路基板１より突出しているため、周辺枠１１の近傍の配向膜７は、周辺枠１１による段差により充分に擦られない。そのため、周辺枠１１の近傍には液晶組成物３の配向が不均一な部分が生じやすい。液晶組成物３の配向不良による表示ムラを目立たなくするため、周辺枠１１の内側数画素をダミー画素１１３とすることで、表示に寄与しない画素としている。
【００９７】
ところが、ダミー画素１１３を設け、画素５と同じように信号を供給すると、ダミー画素１１３と透明基板２との間には液晶組成物３が存在するため、ダミー画素１１３による表示も観察されてしまうという問題が生じる。ノーマリホワイトで使用する場合、液晶組成物３に電圧を印加しないと、ダミー画素１１３が白く表示される。そのため、表示領域の境が明確でなくなり、表示品質をそこなう。ダミー画素１１３を遮光することも考えられるが、画素と画素の間隔は数μｍのため、表示領域の境に精度良く遮光枠を形成することは困難である。そこで、ダミー画素１１３には黒表示となるような電圧を供給し、表示領域を囲む黒枠として観察されるようにした。
【００９８】
図１５にダミー画素１１３の駆動方法について説明する。ダミー画素１１３には黒表示となるような電圧を供給するために、ダミー画素が設けられた領域は一面黒表示となる。一面黒表示となるならば、表示領域に設けた画素と同じように個別に設ける必要がなく、複数のダミー画素を電気的に接続して設けることができる。また、駆動に必要な時間を考えると、ダミー画素のために書き込み時間を設けことは無駄である。そこで、複数のダミー画素の電極を連続して設けて１つのダミー画素電極とすることが可能である。しかしながら、複数のダミー画素を接続して１つのダミー画素とすると画素電極の面積が増加することから、液晶容量が大きくなってしまう。前述したように液晶容量が大きくなると画素容量を用いて画素電圧を引き下げる効率が低下する。
【００９９】
そこで、ダミー画素１１３も有効表示領域の画素と同様に個別に設けることとした。しかしながら、有効画素と同様に１ライン毎の書き込みを行った場合、新たに設けた複数行のダミー行を駆動する時間が長くなる。そして、その分有効画素に書き込みを行う時間が短くなってしまうという問題が生じる。対して高精細表示を行う場合には、高速の映像信号（ドットクロックの高い信号）が入力するため、ますます画素の書き込み時間に対する制限が生じてくる。そこで１画面の書き込み期間中に数ライン分の書き込み時間を節約するために、図１５に示すようにダミー画素１１３については垂直駆動回路１３０の垂直双方向シフトレジスタＶＳＲから複数行分のタイミング信号を出力させて、複数のレベルシフタ６７と出力回路６９に入力させ走査信号を出力するようにした。また、同じく画素電極制御回路１３５についても双方向シフトレジスタＳＲから複数行分のタイミング信号を出力させて、複数のレベルシフタ６７と出力回路６９に入力させ画素電極制御信号を出力するようにした。
【０１００】
なお、ダミー画素１１３を複数行同時に書き込む場合について説明したが、ダミー画素１１３を１行毎書き込むようにしても良い。また表示部１１０は、有効表示領域とダミー画素１１３とを含む領域を示している。
【０１０１】
次に、図１６を用いて、水平駆動回路１２０の回路面積が増加した状態を説明する。水平駆動回路１２０は表示データを入力し階調電圧を出力する回路であるために、液晶パネル１００の階調数や画素数が増加すると回路規模も増加する。特に水平駆動回路１２０にデジタル−アナログ変換する方式を選ぶと、前述したように、各映像信号線毎の回路幅は画素ピッチ内に収まる必要があるため、図中Ｙ方向に回路の幅が増加する。またデジタル−アナログ変換方式では階調数が増加すると、データ信号線、データ信号線毎に設けられる変換回路（図９に示す表示データ演算回路３２５）の数も増加し回路の幅が増加することとなる。
【０１０２】
さらに、前述したようなデジタル−アナログ変換回路を用いると、ランプ電圧を発生させるためのランプ電圧発生回路１３８や時間制御パルス等を発生するＤＡ信号生成回路１３９を設ける領域が必要となり、垂直駆動回路１３０に隣接する領域も図中Ｘ方向の幅が広くなる。また、入出力端子パッド部１３を表示部１１０に対して図中横方向（Ｘ方向）に設ける場合には、さらに垂直駆動回路１３０横の回路領域は図中Ｘ方向に幅が広くなる。
【０１０３】
図１６に示すように回路形成領域の面積が増加すると、シール材１２の充填する領域の幅が均等でなくなる。図１７に図１６で示す基板１に周辺枠１１を挟み透明基板２を重ね合せシール材１２を充填した状態を示す。図１７は表示部１１０の周囲に周辺枠１１を形成し、周辺枠１１外側にシール材１２を充填している。
【０１０４】
図１６で示したように、水平駆動回路１２０を形成する領域の幅が増加しているため、シール材１２を充填する幅Ｌ１が幅Ｌ３に比較して広くなっている。また、ランプ電圧発生回路１３８やＤＡ信号生成回路１３９を設ける領域が必要なため、シール材１２を充填する幅Ｌ４が幅Ｌ２に比較して広くなっている。基板１と透明基板２とのわずかな隙間（ギャップｄが２μｍの場合には約２μｍの隙間）を毛細管現象により、シール材１２は充填されるため、充填される幅が均一でないと、速く充填完了する領域と遅く完了する領域が生じ充分に充填されない領域が発生する。
【０１０５】
次に、図１８に周辺枠１１の形成領域を外側に広げシール材１２を充填する幅を均等にした場合を示す。図１８では、周辺枠１１の内壁１８を表示部１１０より外側に設け、水平駆動回路１２０や垂直駆動回路１３０の形成領域上に内壁１８を設けている。図１８に示す構成では、シール材１２を充填する幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は略均等な長さになっている。このため、シール材１２の充填は良好であるが、液晶組成物が駆動回路の形成領域の上に設けられることによる問題が発生する。
【０１０６】
液晶組成物は一定の電圧がかかった状態では、劣化するという性質があるため、駆動回路上に液晶組成物を設けると、駆動回路から発生する電界のため、液晶組成物が劣化してしまう。そのため、駆動回路上面には導電層を形成し、対向電極と同電位として液晶組成物に電圧がかからないようにしている。また、表示部１１０の外側で周辺枠の内壁１８までの間は、外部から観察されないよう遮光枠で覆うこととした。とくに、ノーマリーホワイトの駆動方法では、液晶組成物に電界がかからない状態で白表示であるため、遮光枠により隠す必要がある。なお、遮光枠をふくめて液晶表示装置の組み立て方法については後で詳述する。
【０１０７】
次に図１９を用いて、本発明による反射型液晶表示装置ＬＣＯＳの画素部を説明する。図１９は本発明の一実施例である反射型液晶表示装置の模式断面図である。図１９において、１００は液晶パネル、１は第１の基板である駆動回路基板、２は第２の基板である透明基板、３は液晶組成物、４はスペーサである、スペーサ４は駆動回路基板１と透明基板２との間に一定の間隔であるセルギャップ(cell gap)ｄを形成している。このセルギャップｄに液晶組成物３が挟持されている。５は反射電極（画素電極）で駆動回路基板１に形成されている。６は対向電極で反射電極５との間で液晶組成物３に電圧を印加する。７、８は配向膜で液晶分子を一定方向に配向させる。３０はアクティブ素子で反射電極５に階調電圧を供給する。
【０１０８】
３４はアクティブ素子３０のソース領域、３５はドレイン領域、３６はゲート電極である。３８は絶縁膜、３１は画素容量を形成する第１の電極で、４０は画素容量を形成する第２の電極である。絶縁膜３８を介し第１の電極３１と第２の電極４０とは容量を形成する。図１９では、第１の電極３１と第２の電極４０とを画素容量を形成する代表的な電極として示しており、他にも画素電極と電気的に接続した導体層と画素電位制御信号線と電気的に接続した導体層とが、誘電体層を挟んで対向していれば画素容量を形成することが可能である。
【０１０９】
４１は第１の層間膜、４２は第１の導電膜である。第１の導電膜４２はドレイン領域３５から第２の電極４０とを電気的に接続している。４３は第２の層間膜、４４は第１の遮光膜、４５は第３の層間膜、４６は第２の遮光膜である。第２の層間膜４３と第３の層間膜４５にはスルーホール４２ＣＨが形成され、第１の導電膜４２と第２の遮光膜４６が電気的に接続されている。４７は第４の層間膜、４８は反射電極５を形成する第２の導電膜である。アクティブ素子３０のドレイン領域３５から第１の導電膜４２、スルーホール４２ＣＨ、第２の遮光膜４６を介して階調電圧は反射電極５に伝えられる。
【０１１０】
本実施の形態の液晶表示装置は反射型であり、大量の光が液晶パネル１００に照射される。遮光膜は駆動回路基板の半導体層に光が入射しないよう遮光している。反射型液晶表示装置において液晶パネル１００に照射された光は、透明基板２側（図１９中上側）から入射し、液晶組成物３を透過し反射電極５で反射し再度液晶組成物３、透明基板２を透過して液晶パネル１００から出射する。しかしながら、液晶パネル１００に照射される光の一部は、反射電極５の隙間から駆動回路基板側に漏れ込む。第１の遮光膜４４と第２の遮光膜４６はアクティブ素子３０に光が入射しないように設けられている。本実施例では、この遮光膜を導電層で形成し、第２の遮光膜４６を反射電極５に電気的に接続し、第１の遮光膜４４に画素電位制御信号を供給することで、遮光膜を画素容量の一部としても機能するようにしている。
【０１１１】
なお、第１の遮光層４４に画素電位制御信号を供給すると、階調電圧が供給される第２の遮光膜４６と映像信号線１０３を形成する第１の導電層４２や走査信号線１０２を形成する導電層（ゲート電極３６と同層の導電層）との間に電気的シールド層として第１の遮光膜４４を設けることができる。このため、第１の導電層４２やゲート電極３６等と第２の遮光膜４６や反射電極５との間の寄生容量成分が減少する。前述したように液晶容量ＣＬに対して画素容量ＣＣは充分大きくする必要があるが、第１の遮光膜４４を電気的シールド層として設けると、液晶容量ＬＣと並列に接続される寄生容量も小さくなりより効率的である。さらに信号線からの雑音の飛び込みを減少することも可能となる。
【０１１２】
また、液晶表示素子を反射型とし、駆動回路基板１の液晶組成物３側の面に反射電極５を形成した場合、駆動回路基板１として不透明なシリコン基板等を用いることが可能である。また、アクティブ素子３０や配線を反射電極５の下に設けることができ、画素となる反射電極５を広くし、所謂高開口率を実現することができる利点がある。また、液晶パネル１００に照射される光による熱を駆動回路基板１の裏面から放熱できるといった利点もある。
【０１１３】
次に遮光膜を画素容量の一部として利用することについて説明する。第１の遮光膜４４と第２の遮光膜４６とは第３の層間膜４５を介して対向しており、画素容量の一部を形成している。４９は画素電位制御線１３６の一部を形成する導電層である。導電層４９により第１の電極３１と第１の遮光膜４４とは電気的に接続されている。また、導電層４９を用いて画素電位制御回路１３５から画素容量までの配線を形成することが可能である。ただし、本実施例では第１の遮光膜４４を配線として利用した。図２０に第１の遮光膜４４を画素電位制御線１３６として利用する構成について示す。
【０１１４】
図２０は第１の遮光膜４４の配置を示す平面図である。４６は第２の遮光膜であるが、位置を示すために点線で示している。４２ＣＨはスルーホールで、第１の導電膜４２と第２の遮光膜４６とを接続している。なお、図２０は第１の遮光膜４４を解り易く示すために、他の構成は省略している。第１の遮光膜４４は、画素電位制御線１３６の機能を有しており図中Ｘ方向に連続して形成されている。第１の遮光膜４４は遮光膜として機能するために表示領域全面を覆うように形成されているが、画素電位制御線１３６の機能も持たせるために、Ｘ方向に延在し（走査信号線１０２と並列の方向）、Ｙ方向に並んでライン状に形成され、画素電位制御回路１３５に接続される。また、画素容量の電極としても働くために、第２の遮光膜４６となるべく広い面積で重なるように形成されている。さらに、遮光膜として漏れる光が少なくなるように、隣接する第１の遮光膜４４の間隔はなるべく狭くなるよう形成されている。
【０１１５】
次に、図２１、図２２を用いて駆動回路基板１上に設けられるアクティブ素子３０とその周辺の構成を詳細に説明する。図２１、図２２において図１９と同じ符号は同じ構成を示す。図２２はアクティブ素子３０周辺を示す概略平面図である。図２１は図２２のＩ−Ｉ線における断面図であるが、図２１と図２２との各構成間の距離は一致していない。また図２２は走査信号線１０２とゲート電極３６、映像信号線１０３とソース領域３５、ドレイン領域３４、画素容量を形成する第２の電極４０、と第１の導電層４２と、コンタクトホール３５ＣＨ、３４ＣＨ、４０ＣＨ，４２ＣＨの位置関係を示すもので、その他の構成は省略した。
【０１１６】
図２１において、１は駆動回路基板であるシリコン基板、３２はシリコン基板１にイオン打ち込みで形成した半導体領域（ｐ型ウエル）、３３はチャネルストッパ、３４はｐ型ウエル３２にイオン打ち込みで導電化し形成したドレイン領域、３５はｐ型ウエル３２にイオン打ち込みで形成したソース領域、３１はｐ型ウエル３２にイオン打ち込みで導電化し形成した画素容量の第１の電極である。なお、本実施例ではアクティブ素子３０をｐ型トランジスタで示したが、ｎ型トランジスタとすることも可能である。
【０１１７】
３６はゲート電極、３７はゲート電極端部の電界強度を緩和するオフセット領域、３８は絶縁膜、３９はトランジスタ間を電気的に分離するフィールド酸化膜、４０は画素容量を形成する第２の電極で絶縁膜３８を介しシリコン基板１に設けた第１の電極２１との間で容量を形成する。ゲート電極３６と第２の電極４０は、絶縁膜３８上にアクティブ素子３０のしきい値を低くするための導電層と低抵抗の導電層とを積層した２層膜からなっている。２層膜としては例えばポリシリコンとタングステンシリサイドの膜を用いることができる。４１は第１の層間膜、４２は第１の導電膜である。第１の導電膜４２は接触不良を防止するバリアメタルと低抵抗の導電膜の多層膜からなっている。第１の導電膜として、例えばチタンタングステンとアルミの多層金属膜をスパッタで形成して用いることができる。
【０１１８】
図２２において１０２は走査信号線である。走査信号線１０２は、図２２中、Ｘ方向に延在しＹ方向に並設されていて、アクティブ素子３０をオン・オフする走査信号が供給される。走査信号線１０２はゲート電極と同じ２層膜からなっており、例えばポリシリコンとタングステンシリサイドを積層した２層膜を用いることができる。映像信号線１０３はＹ方向に延在しＸ方向に並設されていて、反射電極５に書き込まれる映像信号が供給される。映像信号線１０３は第１の導電膜４２と同じ多層金属膜からなっており、例えばチタンタングステンとアルミの多層金属膜を用いることができる。
【０１１９】
映像信号は絶縁膜３８と第１の層間膜４１に開けられたコンタクトホール３５ＣＨを通り第１の導電膜４２によりドレイン領域３５に伝わる。走査信号線１０２に走査信号が供給されると、アクティブ素子３０はオンになり、映像信号は半導体領域（ｐ型ウエル）３２からソース領域３４に伝わり、コンタクトホール３４ＣＨを通り第１の導電膜４２に伝わる。第１の導電膜４２に伝わった映像信号は、コンタクトホール４０ＣＨを通り画素容量の第２の電極４０に伝わる。
【０１２０】
また、図２１に示すように映像信号はコンタクトホール４２ＣＨを通り反射電極５へと伝わっていく。コンタクトホール４２ＣＨはフィールド酸化膜３９の上に形成されている。フィールド酸化膜３９は膜厚が厚いため、フィールド酸化膜の上は他の構成に比較して高い位置となっている。コンタクトホール４２ＣＨはフィールド酸化膜３９上に設けられることで、上層の導電膜により近い位置とすることができ、コンタクトホールの接続部の長さを短くしている。
【０１２１】
さらに図２１に示すように、第２の層間膜４３は、第１の導電膜４２と第２の導電膜４４とを絶縁している。第２の層間膜４３は、各構成物により生じている凹凸を埋める平坦化膜４３Ａとその上を覆う絶縁膜４３Ｂとの２層で形成されている。平坦化膜４３ＡはＳＯＧ（spin on grass）を塗布して形成している。絶縁膜４３ＢはＴＥＯＳ膜であり、反応ガスとしてＴＥＯＳ（Tetraethylorthosilicate）を用いＳｉＯ２膜をＣＶＤにより形成したものである。
【０１２２】
第２の層間膜４３の形成後、ＣＭＰ（ケミカル・メカニカル・ポリシング）により第２の層間膜４３は研磨される。第２の層間膜４３はＣＭＰにより研磨することで平坦化する。平坦化された第２の層間膜の上に第１の遮光膜４４が形成される。第１の遮光膜４４は第１の導電膜４２と同じタングステンとアルミの多層金属膜で形成している。
【０１２３】
第１の遮光膜４４は駆動回路基板１の略全面を被っており、開口はコンタクトホール４２ＣＨの部分だけある。第１の遮光膜４４の上に第３の層間膜４５がＴＥＯＳ膜で形成されている。さらに第３の層間膜４５の上に第２の遮光膜４６が形成されている。第２の遮光膜４６は第１の導電膜４２と同じタングステンとアルミの多層金属膜で形成している。第２の遮光膜４６はコンタクトホール４２ＣＨで第１の導電膜４２と接続されている。コンタクトホール４２ＣＨでは、接続をとるために第１の遮光膜４４を形成する金属膜と第２の遮光膜４６を形成する金属膜とが積層されている。
【０１２４】
第１の遮光膜４４と第２の遮光膜４６を導電膜で形成し、間に第３の層間膜４５を絶縁膜（誘電膜）で形成し、第１の遮光膜４４に画素電位制御信号を供給し、第２の遮光膜４６に階調電圧を供給すると、第１の遮光膜４４と第２の遮光膜４６とで画素容量を形成することができる。また、階調電圧に対する第３の層間膜４５の耐圧と、膜厚を薄くして容量を大きくすることを考慮すると、第３の層間膜４５は１５０ｎｍから４５０ｎｍが好ましく、より好ましくは、約３００ｎｍである。
【０１２５】
次に、図２３に駆動回路基板１に透明基板２を重ね合わせた図を示す。駆動回路基板１の周辺部には、周辺枠１１が形成されており、液晶組成物３は周辺枠１１と駆動回路基板１と透明基板２とに囲まれた中に保持さる。重ね合わされた駆動回路基板１と透明基板２との間で周辺枠１１の外側には、シール材１２が塗布される。シール材１２により駆動回路基板１と透明基板２とが接着固定され液晶パネル１００が形成される。１３は外部接続端子である。
【０１２６】
次に図２４に示すように、液晶パネル１００に外部からの信号を供給するフレキシブルプリント配線板８０が外部接続端子１３に接続される。フレキシブルプリント配線板８０の両外側の端子は他の端子に比較して長く形成され、透明基板２に形成された対向電極５に接続され、対向電極用端子８１を形成している。すなわち、フレキシブルプリント配線板８０は、駆動回路基板１と透明基板２の両方に接続されている。なお、図２４は図４に示す液晶パネル１００にフレキシブルプリント基板８０を接続した様子を示している。
【０１２７】
従来の対向電極５への配線は駆動回路基板１に設けられた外部接続端子にフレキシブルプリント配線板が接続され、駆動回路基板１を経由して対向電極５に接続されるものであった。本実施例の透明基板２にはフレキシブルプリント配線板８０との接続部８２が設けられ、フレキシブルプリント配線板８０と対向電極５とが直接接続される。すなわち、液晶パネル１００は透明基板２と駆動回路基板１とが重ね合わされて形成されるが、透明基板２の一部は駆動回路基板１より外側に出て接続部８２を形成しており、この透明基板２の外側に出た部分でフレキシブルプリント配線板８０と接続されている。
【０１２８】
図２５、図２６に液晶表示装置２００の構成を示す。図２５は液晶表示装置２００を構成する各構成物の分解組立て図である。また図２６は液晶表示装置２００の平面図である。
【０１２９】
図２５に示すように、フレキシブルプリント配線板８０が接続された液晶パネル１００は、ヒートシンクコンパウンド７１を間に挟んで、放熱板７２に配置される。ヒートシンクコンパウンド７１は高熱伝導性であり、放熱板７２と液晶パネル１００との隙間を埋めて、液晶パネル１００の熱が放熱板７２に伝わり易すくする役目を持つ。７３はモールドで、放熱板７２に接着固定されている。
【０１３０】
また図２５に示すように、フレキシブルプリント配線板８０はモールド７３と放熱板７２との間を通りモールド７３の外側に取り出されている。７５は遮光板で、光源からの光が液晶表示装置２００を構成する他の部材にあたることを防いでいる。７６は遮光枠で液晶表示装置２００の表示部１１０の外枠を形成する。
【０１３１】
次に、図２７に図１８の液晶パネル１００にフレキシブルプリント配線板８０を接続した状態を示す。フレキシブルプリント配線板８０は液晶パネル１００の外部接続端子１３と接続されている。表示部１１０は液晶パネル１００の中心よりも図中右上に偏って形成されている。すなわち、表示部１１０の中心と液晶パネル１００の中心が一致していない。
【０１３２】
次に、図２８に液晶表示装置２００の組立図を示す。８５はパッケージで、Ｓｎメッキを施した４２アロイで形成されている。パッケージ８５には凹部８６が形成されており、凹部８６内に液晶パネル１００が収納される。７１はヒートシンクコンパウンドで液晶パネル１００からの熱をパッケージ８５に伝えて放熱する役割がある。８７は取り付け穴で液晶表示装置２００を外部装置に固定する。遮光枠７６には表示部１１０に対応するように開口が形成されている。８９は外形基準溝で液晶表示装置２００の外形寸法の基準を示す。
【０１３３】
液晶表示装置２００の組み立ては、図２７に示す、液晶パネル１００にフレキシブルプリント配線板８０が接続されたものに、遮光枠７６を接着したものを準備する。次に、パッケージ８５の凹部８６にヒートシンクコンパウンド７１を塗布する。その後、凹部８６に液晶パネル１００を載置し、遮光枠７６とパッケージ８５とを柔軟性のある接着剤で接着する。
【０１３４】
図２９（ａ）に液晶パネル１００に遮光枠７６を接着した様子を示す。遮光枠７６は表示部１１０の外側を遮光するものである。表示部１１０の外側を遮光しないとスクリーンに表示部１１０外側が映り込んでしまい、表示品質を低下させる。また、コントラスト低下の原因にもなる。遮光枠７６にはＣｒ等の金属膜で遮光パンターン９６が形成されている。遮光枠７６はガラス、樹脂等の透明な基板からなり、透明接着剤９１で透明基板２に接着される。遮光枠７６の表面（図中上側）には反射を抑えるため反射防止膜９２が形成されている。
【０１３５】
遮光枠９７の厚みｔ１は、透明基板２の厚みｔ２と異ならせている。厚みｔ１とｔ２を異ならせておくと、遮光枠９７の遮光パターン９６上の表面に異物が付着しても、図中矢印で示すように、異物で反射する光の光路長は、基板１で反射される光（図中点線で示す）の光路長と異なるため、デフォーカスされて目立たなくなる。
【０１３６】
図２９（ｂ）は、透明基板２に直接遮光パターン９６と反射防止膜９２をもうけたものである。ガラス板等で遮光枠を構成していないため、遮光枠と透明基板２との間に異物等を挟み込む可能性が減少する。図２９（ｃ）はさらに、遮光パターン９６を透明基板２と基板１との間に設けたものである。このような構成にすると、遮光枠を液晶パネル１００に貼り合せる作業を省略することが可能になる。
【０１３７】
図３０（ａ）は、液晶表示装置２００の平面概略図で、図３０（ｂ）は断面概略図である。７９は組み立て時の位置合わせマークである。遮光枠７６には表示部１１０を表示するように開口が形成されている。図２７では表示部１１０が液晶パネル１００の左上側に偏っていたが、遮光枠７６に対して表示部１１０は図中左右が均等な位置にくるよう形成されている。ただし、上下はフレキシブルプリント配線板８０を液晶パネル１００に接続し、遮光枠７６外に取り出すために、上側長さＬ５に対して下側（フレキシブルプリント配線板取り出し側）の長さＬ６が長くなっている。なお、外形基準溝８９から表示部１１０の中心までの距離Ｌ７とＬ８は同じ長さになっている。すなわち、表示部１１０の中心と液晶表示装置２００の中心は一致している。
【０１３８】
次に図３１を用いて、位置合わせマーク及び基板１、透明基板２との位置関係を説明する。７９Ａは基板１側に形成された位置合わせマークであり、７９Ｂは遮光枠側に設けられた位置合わせマークである。遮光枠７６には金属膜等が形成され不透明なため、位置合せを行うには、遮光枠７６に位置合わせマーク７９Ｂのように開口を開ける必要がある。なお、位置合せマーク７９Ａは透明基板２に設けても良い。
【０１３９】
遮光枠７６は、表示部１１０に沿って形成されているが、前述したように表示部１１０から周辺枠１１との間には、水平駆動回路１２０や、垂直駆動回路１３０が形成された領域上に液晶組成物が存在する領域が設けられる。また、駆動回路と液晶組成物が重なる領域を遮光枠７６で覆い観察されないようにしている。
【０１４０】
図３２に遮光枠７６の一部を省略し、遮光枠７６と水平駆動回路１２０と垂直駆動回路１３０等の位置関係を示す。図３２（ａ）は、液晶表示装置２００の平面概略図で、図３２（ｂ）は断面概略図である。シール材１２の充填領域の幅を均等にするために、表示部１１０は液晶パネル１００の中心よりも偏って形成されている。また、駆動回路の形成領域の上に液晶組成物が存在するため、遮光枠７６で覆って観察されないようにしている。なお、図３２では、パッケージ８５の取り付け穴８７形成部を折り曲げ、パッケージ底面と同じ高さに取り付け穴８７が位置するようにしている。パッケージ８５に折り曲げ部８８を設け、取り付け穴８７の位置を底面側にすることで、液晶表示装置２００の取りつけが容易になる。特にパッケージ８５と外部装置とを半田付けする場合には、折り曲げ部８８の底面側で半田付けすることが可能となる。
【０１４１】
また、折り曲げ部８８を設け底面側で外部装置に取り付ける場合では、遮光枠７６により液晶表示装置２００の全面を覆い隠すことができ、強い光が液晶表示装置２００にあたることが防止可能である。
【０１４２】
図３３にパッケージ８５を枠状に形成し、放熱板７２に接着した液晶表示装置２００を示す。図３３（ａ）は、液晶表示装置２００の平面概略図で、図３３（ｂ）は断面概略図である。フレキシブルプリント配線板８０はパッケージ８５と放熱板７２との間から外部に取り出されている。８８は位相差板取り付け部である。パッケージ８５は底に開口が開いた皿型形状である。パッケージ８５を皿状にすることで、放熱板７２との接続部を放熱板７２の端部から離すことが可能となっている。放熱板７２は金属板等からなり、端部の平坦度が低いが、パッケージ８５を皿状にすることで平坦度の低い端部との接続を避け、放熱板７２も小型化することが可能である。また、遮光枠７６によりパッケージ８５が覆われており、強い光がパッケージ８５にあたることを防止している。
【０１４３】
次に、図３４にパッケージ８５の形状を変えた実施例を示す。図３４（ａ）は、液晶表示装置２００の平面概略図で、図３４（ｂ）は断面概略図である。パッケージ８５の形状は応力の発生を抑えるような形状となっている。電界制御複屈折モードを用いる液晶表示装置では、ギャップｄの変化を極力抑える必要があるため、応力による変形が液晶パネル１００に加わらない構造としている。パッケージ８５を樹脂で形成し、樹脂の厚みを薄く均一なものとして、応力を緩和吸収している。
【０１４４】
以上、本発明者によってなされた発明を、前記発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【０１４５】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである。
【０１４６】
本発明によれば表示部周辺の駆動回路が大きくなり、形成領域が広がってもシール材を均一に塗布することが可能であり、信頼性が高く、製造が容易な反射型液晶表示装置を実現できる。
【０１４７】
本発明によれば、表示部周辺を遮光する遮光枠を含めて、小型で信頼性の高い反射型液晶表示装置を実現できる。。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施の形態である液晶表示装置の表示部周辺回路のレイアウトを示すブロック図である。
【図３】本発明の実施の形態である液晶表示装置の表示部周辺回路のレイアウトを示すブロック図である。
【図４】本発明の実施の形態である液晶表示装置の表示部周辺回路のレイアウトとシール材塗布領域を示すブロック図である。
【図５】本発明の実施の形態である液晶表示装置の回路構成を示すブロック図である。
【図６】画素電位を制御する方法を説明する概略回路図である。
【図７】画素電位制御回路の構成を示す概略回路図である。
【図８】検査用走査回路の構成を示す概略回路図である。
【図９】本発明の実施の形態の液晶表示装置の電圧選択回路の概略構成を示す回路図である。
【図１０】本発明の実施の形態の液晶表示装置の電圧選択回路の概略構成を示す回路図である。
【図１１】本発明の実施の形態の液晶表示装置の動作を説明するタイミング波形図である。
【図１２】本発明の実施の形態の液晶表示装置の動作を説明するタイミング波形図である。
【図１３】本発明による液晶表示装置の一実施の形態を説明する概略図である。
【図１４】本発明による液晶表示装置の一実施の形態を説明する表示部の概略平面図である。
【図１５】本発明による液晶表示装置の一実施の形態を説明するダミー画素を含む表示部の概略平面図である。
【図１６】本発明の実施の形態である液晶表示装置の表示部周辺回路のレイアウトを示すブロック図である。
【図１７】本発明の実施の形態である液晶表示装置の表示部周辺回路のレイアウトとシール材塗布領域を示すブロック図である。
【図１８】本発明の実施の形態である液晶表示装置の表示部周辺回路のレイアウトとシール材塗布領域を示すブロック図である。
【図１９】本発明による液晶表示装置の画素部の構成を示すの概略断面図である。
【図２０】本発明による液晶表示装置の画素部の構成を示すの概略平面図である。
【図２１】本発明による液晶表示装置の一実施の形態を説明するアクティブ素子周辺の概略断面図である。
【図２２】本発明による液晶表示装置の一実施の形態を説明するアクティブ素子周辺の概略平面図である。
【図２３】本発明による液晶表示装置の模式組立て図である。
【図２４】本発明の実施の形態である液晶表示装置の液晶パネルにフレキシブルプリント基板を接続した状態を示す概略図である。
【図２５】本発明による液晶表示装置の模式組立て図である。
【図２６】本発明の実施の形態である液晶表示装置を示す概略図である。
【図２７】本発明の実施の形態である液晶表示装置の液晶パネルにフレキシブルプリント基板を接続した状態を示す概略図である。
【図２８】本発明による液晶表示装置の模式組立て図である。
【図２９】本発明による液晶パネルの概略断面図である。
【図３０】本発明の実施の形態である液晶表示装置を示す概略図である。
【図３１】本発明による液晶表示装置の遮光枠の部分拡大図である。
【図３２】本発明の実施の形態である液晶表示装置を示す概略図である。
【図３３】本発明の実施の形態である液晶表示装置を示す概略図である。
【図３４】本発明の実施の形態である液晶表示装置を示す概略図である。
【符号の説明】
１…基板（駆動回路基板、シリコン基板）、２…透明基板、３…液晶組成物、４…スペーサ、５…反射電極、６…対向電極、７、８…配向膜、９…偏光ビームスプリッタ、１１…周辺枠、１２…シール材、１３、１４…外部接続端子、１６…基板外周、１７…透明基板外周、１８…周辺枠内壁、２５…走査リセット信号入力端子、２６…走査スタート信号入力端子、２７…走査終了信号出力端子、２８…リセット用トランジスタ、３０…アクティブ素子（スイッチング素子）、３４…ソース領域、３５…ドレイン領域、３６…ゲート領域、３８…絶縁膜、３９…フィールド酸化膜、４１…第１の層間膜、４２…第１の導電膜、４３…第２の層間膜、４４…第１の遮光膜、４５…第３の層間膜、４６…第２の遮光膜、４７…第４の層間膜、４８…第２の導電膜、６１〜６２…クロックドインバータ、６５〜６６…クロックドインバータ、７１…クッション材、７２…放熱板、７３…モールド、７４…保護用接着材、７５…遮光板、７６…遮光枠、８０…フレキシブル配線板、８５…パッケージ、８６…凹部、８７…取付け穴、８９…外形基準溝、９１…透明接着剤、９２…反射防止膜、９６…遮光パターン、１００…液晶パネル、１０１…画素部、１０２…走査信号線、１０３…映像信号線、１０４…スイッチング素子、１０７…対向電極、１０８…液晶容量、１０９…画素電極、１１０…表示部、１１１…表示制御装置、１１３…ダミー画素、１２０…水平駆動回路、１２１…水平シフトレジスタ、１２２…表示データ保持回路、１２３…電圧選択回路、１３０…垂直駆動回路、１３１…制御信号線、１３２…表示データ線、１３５…画素電位制御回路、１３７…検査用走査回路、１３８…ランプ電圧発生回路、１３９…ＤＡ信号発生回路。
【図１】
0003811644.tif 000002
【図２】
0003811644.tif 000003
【図３】
0003811644.tif 000004
【図４】
0003811644.tif 000005
【図５】
0003811644.tif 000006
【図６】
0003811644.tif 000007
【図７】
0003811644.tif 000008
【図８】
0003811644.tif 000009
【図９】
0003811644.tif 000010
【図１０】
0003811644.tif 000011
【図１１】
0003811644.tif 000012
【図１２】
0003811644.tif 000013
【図１３】
0003811644.tif 000014
【図１４】
0003811644.tif 000015
【図１５】
0003811644.tif 000016
【図１６】
0003811644.tif 000017
【図１７】
0003811644.tif 000018
【図１８】
0003811644.tif 000019
【図１９】
0003811644.tif 000020
【図２０】
0003811644.tif 000021
【図２１】
0003811644.tif 000022
【図２２】
0003811644.tif 000023
【図２３】
0003811644.tif 000024
【図２４】
0003811644.tif 000025
【図２５】
0003811644.tif 000026
【図２６】
0003811644.tif 000027
【図２７】
0003811644.tif 000028
【図２８】
0003811644.tif 000029
【図２９】
0003811644.tif 000030
【図３０】
0003811644.tif 000031
【図３１】
0003811644.tif 000032
【図３２】
0003811644.tif 000033
【図３３】
0003811644.tif 000034
【図３４】
0003811644.tif 000035