(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）を重合させて得ることのできるエポキシ基含有重合体（ａ−１）を含有するエポキシ化合物成分（ａ）と、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを反応させた後、飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性樹脂、
（Ｂ）分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）希釈剤、及び
（Ｅ）カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ii）を重合させて得ることのできる生成物（ｅ）とエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）とを反応させて得ることのできるエチレン性不飽和基含有樹脂
を含有して成ることを特徴とする艶消し被膜形成用の感光性樹脂組成物。
【請求項２】
エチレン性不飽和単量体成分（ｉ）がエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）を含有するものであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
エチレン性不飽和単量体成分（ii）がカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ii−２）を含有するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
感光性樹脂（Ａ）の配合重量Ｍａとエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の配合重量Ｍｅとの比率が、Ｍａ：Ｍｅ＝９９：１〜７０：３０であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
エポキシ化合物成分（ａ）がエポキシ基含有重合体（ａ−１）に加えてそれ以外のエポキシ樹脂（ａ−２）を含有するものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
エポキシ樹脂（ａ−２）がフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂及びトリグリシジルイソシアヌレートからなる群から選ばれる少なくとも１種類のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項５に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
エポキシ樹脂（ａ−２）が、トリグリシジルイソシアヌレートを含有するものであることを特徴とする請求項６に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）が、一分子中にカルボキシル基を１個のみ有するものを含有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）が、一分子中にエポキシ基を１個のみ有するものを含有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）が、グリシジル（メタ）アクリレートを含有するものであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
入射角６０°での鏡面光沢度が８０以下となる硬化被膜を形成するものであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物からなることを特徴とするフォトソルダーレジストインク。
【請求項１３】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成して成ることを特徴とするドライフィルム。
【請求項１４】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物又は請求項１２に記載のフォトソルダーレジストインクにて形成された永久被膜を有することを特徴とするプリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光硬化性及び熱硬化性を有する希アルカリ水溶液で現像可能であり、特に艶消し硬化被膜の形成に好適に用いることのできる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物からなるフォトソルダーレジストインク及びドライフィルム、並びにこの感光性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク又はドライフィルムにて形成される硬化被膜を有するプリント配線板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、微細・高密度の導体パターンを有するプリント配線板を製造する際のソルダーレジスト形成材料としては、主として希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクが使用されている。
【０００３】
上記のフォトレジストインクの硬化被膜により形成されるソルダーレジスト被膜としては、はんだ付着を原因とするはんだフロー時のはんだブリッジ発生の防止等の目的のために、表面を艶消しにした艶消しレジスト被膜を形成する場合がある。
【０００４】
このような艶消しレジスト被膜を形成するにあたっては、従来、艶消し剤を配合したソルダーレジスト形成材料を用いることにより行われていた（例えば、特開平９−１５７５７４号参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、艶消し剤を配合したソルダーレジスト形成材料では、充分な艶消し効果を得るために相当量の艶消し剤を配合する必要があり、ソルダーレジスト被膜の耐電蝕性や耐金めっき性の低下、或いはソルダーレジスト被膜と基材との密着性の低下等の問題があった。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、艶消し剤に頼ることなく艶消し硬化被膜を形成することを可能とし、更に得られる硬化被膜が、はんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとなる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物からなるフォトソルダーレジストインク及びドライフィルム、並びにこの感光性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク又はドライフィルムにて形成される硬化被膜を有するプリント配線板を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る感光性樹脂組成物は、
（Ａ）エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）を重合させて得ることのできるエポキシ基含有重合体（ａ−１）を含有するエポキシ化合物成分（ａ）と、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを反応させた後、飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性樹脂、
（Ｂ）分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）希釈剤、及び
（Ｅ）カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ii）を重合させて得ることのできる生成物（ｅ）とエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）とを反応させて得ることのできるエチレン性不飽和基含有樹脂
を含有して成ることを特徴とするものであり、これにより、艶消し剤を配合することなく艶消し硬化被膜を形成することを可能とし、更に得られる硬化被膜が、はんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとなる。
【０００８】
また、請求項２の発明は、エチレン性不飽和単量体成分（ｉ）がエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）を含有することを特徴とするものである。
【０００９】
また請求項３の発明は、エチレン性不飽和単量体成分（ii）がカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ii−２）を含有することを特徴とするものである。
【００１０】
また請求項４の発明は、感光性樹脂（Ａ）の配合重量Ｍａとエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の配合重量Ｍｅとの比率が、Ｍａ：Ｍｅ＝９９：１〜７０：３０であることを特徴とするものである。
【００１１】
また請求項５の発明は、エポキシ化合物成分（ａ）がエポキシ基含有重合体（ａ−１）に加えてそれ以外のエポキシ樹脂（ａ−２）を含有することを特徴とするものである。
【００１２】
また請求項６の発明は、エポキシ樹脂（ａ−２）がフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂及びトリグリシジルイソシアヌレートからなる群から選ばれる少なくとも１種類のエポキシ樹脂であることを特徴とするものである。
【００１３】
また請求項７の発明は、エポキシ樹脂（ａ−２）が、トリグリシジルイソシアヌレートを含有することを特徴とするものである。
【００１４】
また請求項８の発明は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）が、一分子中にカルボキシル基を１個のみ有するものを含有することを特徴とするものである。
【００１５】
また請求項９の発明は、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）が、一分子中にエポキシ基を１個のみ有するものを含有することを特徴とするものである。
【００１６】
また請求項１０の発明は、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）が、グリシジル（メタ）アクリレートを含有することを特徴とするものである。
【００１７】
また請求項１１の発明は、入射角６０°での鏡面光沢度が８０以下となる硬化被膜を形成することを特徴とするものである。
【００１８】
また請求項１２に係るフォトソルダーレジストインクは、請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物からなることを特徴とするものである。
【００１９】
また請求項１３に係るドライフィルムは、請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成することを特徴とするものである。
【００２０】
また請求項１４に係るプリント配線板は、請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物又は請求項１２に記載のフォトソルダーレジストインクによって形成された永久被膜を有することを特徴とするものである。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明にて使用する感光性樹脂（Ａ）は、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）を重合させて得ることのできるエポキシ基含有重合体（ａ−１）を含有するエポキシ化合物成分（ａ）と、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを反応させた後、飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られるものである。
【００２２】
上記の感光性樹脂（Ａ）を調製するための成分のうち、エポキシ化合物成分（ａ）はエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）を重合させて得ることのできるエポキシ基含有重合体（ａ−１）を含有するものである。このエポキシ化合物成分（ａ）の構成成分における一分子中でのエポキシ基の個数は特に制限されず、一分子中に１以上のエポキシ基を有していればよい。
【００２３】
エチレン性不飽和単量体成分（ｉ）は、必須成分としてエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）を含有する。またこのエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）は、任意成分として、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）を含有するものであってもよい。
【００２４】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類、（メタ）アクリレートの脂環エポキシ誘導体、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート及びモノアリルジグリシジルイソシアヌレート等を挙げることができこれらはそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。特に、汎用されて入手が容易なグリシジル（メタ）アクリレートを用いるのが好ましい。
【００２５】
（ｉ−１）成分のエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体は、上記エポキシ基含有重合体（ａ−１）にエポキシ基を導入すると共に、これにカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）を付加することでエポキシ基含有重合体（ａ−１）にエチレン性不飽和二重結合による光硬化性を付与することを主たる目的として配合される。
【００２６】
尚、本明細書において、（メタ）アクリル酸とはアクリル酸とメタクリル酸を総称し、（メタ）アクリ−とはアクリ−とメタクリ−を総称したものである。
【００２７】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）は任意成分であり、必要に応じ、例えば本発明の組成物の光硬化性の調整、及び硬化膜物性の調整のために使用される。（ｉ−２）成分は特に制限されず上記（ｉ−１）成分と共重合可能なエチレン性不飽和単量体であればよい。
【００２８】
この（ｉ−２）成分としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の直鎖、分岐或いは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル及びヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のエチレングリコールエステル系（メタ）アクリレート、及び同様なプロピレングリコール系（メタ）アクリレート、ブチレングリコール系モノ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等、及びベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系の（メタ）アクリレート、及び（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド系化合物、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド等のマレイミド系化合物、及びビニルピロリドン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテル等が挙げられる。
【００２９】
また、この（ｉ−２）成分としては、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を用いることもできる。例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯＰＯ変性ジメタクリレート、ビスフェノールＡＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＥＯＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、シクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート等の１分子中にエチレン性不飽和基を２個有する化合物、並びにトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及び多塩基酸とヒドロキシ（メタ）アルキルアクリレートとのジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等、及びポリエステル（メタ）アクリレート等の１分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物である。
【００３０】
これら（ｉ−２）成分はそれぞれ一種単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、直鎖又は分岐の脂肪族、芳香族、あるいは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、マレイミド系化合物等が、感光性樹脂組成物の油性の調節並びに最終的に形成されるレジストの硬度の調節が容易である等の点で特に好適である。
【００３１】
また、（ｉ−２）成分として１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を用いる場合には、上記の化合物のうち、ジ（メタ）アクリレートを好適に用いることができ、特にオキシアルキレン単位やビスフェノール骨格を有するものが好適である。これらは、エポキシ基含有重合体（ａ−１）に含まれることによりその主鎖を強固にし、はんだ耐熱性の改良、軟化点の調節、現像幅の向上等が可能となる。なお、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を使用する場合、その配合量は、エポキシ基含有重合体（ａ−１）の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）の全量中で０．１〜１０モル％の範囲であることが好ましい。
【００３２】
ここで現像幅とは、現像可能性を保持し得る予備乾燥条件の幅を意味するものであり、予備乾燥管理幅あるいは予備乾燥許容範囲ともいう。
【００３３】
上述のエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）を用いる場合は、その含有率は特に限定するものではないが、エチレン性不飽和単量体成分（ｉ）の全量中で、エチレン性不飽和単量体（ｉ−２）が１〜６０モル％、特に好ましくは１〜５５モル％、更に好ましくは１０〜５０モル％とすることが好ましく、この範囲において、感光性樹脂（Ａ）中へのエチレン性不飽和基の導入量を充分確保することができると共に、硬化被膜の硬度、親水性等の調整を特に容易に行うことができるものである。
【００３４】
上記エポキシ基含有重合体（ａ−１）は、公知の重合方法、例えば溶液重合やエマルジョン重合等により得られる。溶液重合を用いる場合について説明すれば、例えば、上記（ｉ−１）成分及び必要に応じて配合される（ｉ−２）成分とからなるエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）を、適当な有機溶剤中で重合開始剤を添加して、窒素気流下に加熱撹拌する方法や還流下での重合法等により重合させるものである。
【００３５】
上記有機溶剤として、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で又は混合して用いることができる。
【００３６】
前記重合のための重合開始剤としては、例えば、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の過酸化物及びアゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスシアノバレロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられこれらはそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。
【００３７】
本発明の感光性樹脂（Ａ）の生成に用いられるエポキシ化合物成分（ａ）は上記エポキシ基含有重合体（ａ−１）を必須成分とするものであるが、任意成分としてこれ以外のエポキシ樹脂（ａ−２）を含有していてもよい。このようなエポキシ樹脂（ａ−２）はエポキシ基を１個のみ有するものでもよいが、後述する（Ｂ）分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物として列挙されるものを用いるのが好ましい。エポキシ樹脂（ａ−２）は、それぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。特に、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、及びトリグリシジルイソシアヌレートの群から選ばれる少なくとも１種類のエポキシ樹脂を用いるのが好ましい。特に、耐熱性や現像幅において有利である点からトリグリシジルイソシアヌレートが最適である。
【００３８】
なお、特に限定するものではないが、任意成分として（ａ−１）以外のエポキシ樹脂（ａ−２）を含有する場合、エポキシ化合物成分（ａ）の全量中でエポキシ基含有重合体（ａ−１）の配合量は、好ましくは９９〜６５重量％、特に好ましくは９８〜８０重量％とするものである。
【００３９】
本発明の感光性樹脂（Ａ）は、上記エポキシ化合物成分（ａ）に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｃ）を付加反応させることによって得ることができる。
【００４０】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−プロペノイックアシッド，３−（２−カルボキシエトキシ）−３−オキシプロピルエステル、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のエチレン性不飽和基を１個のみ有するもの、並びにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する多官能アクリレートに二塩基酸無水物を反応させて得られるもののような、エチレン性不飽和基を複数有するものが挙げられ、これらをそれぞれ単独で、又は組み合わせて用いることができる。
【００４１】
これらの中でもカルボキシル基を１個のみ有するものが好ましく、特に（メタ）アクリル酸を用いるか、（メタ）アクリル酸を主成分とするのが好ましい。（メタ）アクリル酸により導入されるエチレン性不飽和基は光反応性に優れるので、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）として（メタ）アクリル酸を用いるのが好ましいものである。
【００４２】
このように一分子中にカルボキシル基を１個のみ有するものを配合する場合には、その配合量がカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）中で５０〜１００重量％の範囲とすることが好ましい。
【００４３】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）の配合量は、好ましくは上記感光性樹脂（Ａ）の生成に使用されるエポキシ化合物成分（ａ）のエポキシ基１モル当たりカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）のカルボキシル基が０．７〜１．２モルとなる量、特に好ましくは０．９〜１．１モルの範囲とするものである。また、０．９５〜１．１モルの範囲が最適である。この範囲において、本発明の感光性樹脂組成物は特に広い現像幅を示し、また、未反応のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）の残存の影響が特に少ないものとなる。
【００４４】
また飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）としては、例えば、無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水グルタル酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物、及び無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物等の三塩基酸以上の酸無水物が挙げられ、これらはそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。
【００４５】
上記飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）は、感光性樹脂に酸価を与え、希アルカリ水溶液による再分散、再溶解性をもたせることと、熱硬化性をもたせることを主たる目的として使用される。その使用量は、該飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を付加してなる感光性樹脂（Ａ）の酸価が好ましくは２５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に好ましくは４５〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲になるように選択することが好ましい。この範囲で本発明の光硬化性組成物は特に良好な現像性を示すと共に、これにより形成される硬化被膜は電気特性、耐電蝕性又は耐水性に特に優れたものとなる。なお、酸価が５０〜８５ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であるときに最適な結果が得られる。
【００４６】
上記カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）及び飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）の付加反応は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）の付加反応は、例えばエポキシ化合物成分（ａ）に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）、熱重合禁止剤であるメトキシハイドロキノン及び触媒である第３級アミン類、第４級アンモニウム塩類若しくはトリフェニルスチビン等を加え撹拌混合し、常法により、好ましくは６０〜１５０℃、特に好ましくは８０〜１２０℃の反応温度で反応させる。飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）の付加反応も、上記と同様の方法で行うことができる。
【００４７】
上記のように調製される感光性樹脂（Ａ）の重量平均分子量は特に限定されるものではないが、好ましい範囲は重量平均分子量が３０００〜４０００００である。この範囲で本発明の感光性樹脂組成物は、特に優れた感度と解像性を兼ね備えたものとなり得る。
【００４８】
本発明に使用する感光性樹脂（Ａ）の配合量は、組成物の良好な感度や作業特性並びに最終的に形成されるレジストの良好な物性を確保するために、同時に配合される希釈剤（Ｄ）中の有機溶剤を除外した本発明の感光性樹脂組成物の成分全量中で１０〜８０重量％であることが望ましく、この範囲において、本発明の感光性樹脂組成物は硬化性が特に優れると共に、予備乾燥被膜の粘着性が特に低減されたものとなる。
【００４９】
１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（Ｂ）としては、例えば、溶剤難溶性エポキシ化合物、溶剤可溶性エポキシ化合物等が挙げられ、具体的にはフェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ハイドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、テトラブロムビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＤ、ビフェノール系化合物、ジヒドロキシナフタレン等のフェノール類を塩基性触媒の存在下、ホルムアルデヒドと反応させて得られる各種フェノールノボラック樹脂に、エピハロヒドリンを反応させて得られるフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、並びにビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、ＹＸ４０００（油化シェルエポキシ社製）、ソルビトールポリグリシジルエーテル、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂（例えばダイセル化学工業社製「ＥＨＰＥ−３１５０」）、ポリオールポリグリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、トリス（ヒドロキシフェニル）メタンベースの多官能エポキシ樹脂（日本化薬社製ＥＰＰＮ−５０２Ｈ、並びにダウケミカル社製タクテックス−７４２及びＸＤ−９０５３等）、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂及びエポキシ基を有するビニル重合ポリマー等が挙げられ、これらは単独で又は組み合わせて又は架橋変性等を行って用いることができる。特に、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、ＹＸ４０００等が望ましい。
【００５０】
組成物中におけるエポキシ化合物（Ｂ）の配合量は、同時に配合される希釈剤（Ｄ）中の有機溶剤を除外した本発明の感光性樹脂組成物の成分全量中で０．１〜５０重量％であることが望ましく、この範囲において本発明の感光性樹脂組成物は、特に優れた熱硬化性を示すと共に、特に広い現像幅を有するものとなる。
【００５１】
光重合開始剤（Ｃ）としては、例えば、ベンゾインとそのアルキルエーテル類、アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン類、２−メチルアントラキノン等のアントラキノン類、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類、２，４−ジイソプロピルキサントン等のキサントン類、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン等の窒素原子を含むもの、及び（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられ、これらはｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート等の第三級アミン系等の公知の光重合促進剤及び増感剤等と併用しても良い。また、可視光、近赤外線露光用等の光重合開始剤も使用可能である。これらの光重合開始剤は各々単独で又は適宜互いに組み合わせて配合される。
【００５２】
組成物中における光重合開始剤（Ｃ）の配合量は、光硬化性と得られる硬化被膜（永久被膜）の物性の良好なバランスを得るために、同時に配合される希釈剤（Ｄ）中の有機溶剤を除外した本発明の感光性樹脂組成物の成分全量中で０．１〜３０重量％であることが望ましく、この範囲において、本発明の感光性樹脂組成物は、特に優れた光硬化性を示すと共に、その硬化被膜の耐熱性、耐電蝕性が特に優れたものとなる。
【００５３】
希釈剤（Ｄ）としては、光重合性のエチレン性不飽和単量体（Ｄ−１）又は有機溶剤（Ｄ−２）を単独で又は併せて使用することができる。上記光重合性のエチレン性不飽和単量体（Ｄ−１）として、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、及びジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、並びにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のモノ又はジペンタエリスリトールに（メタ）アクリル酸をエステル結合させた構造を有する化合物、並びにイソボニル（メタ）アクリレート、シクロペンタニルモノ（メタ）アクリレート、シクロペンテニルモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、シクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロペンテニルジ（メタ）アクリレート及び多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等、及びポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート単量体等が挙げられる。光重合性のエチレン性不飽和単量体は各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００５４】
また、上記有機溶剤（Ｄ−２）としては、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、２−ブチルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、２級あるいは多価のアルコール類、及びメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、スワゾールシリーズ（丸善石油化学社製）、ソルベッソシリーズ（エクソン・ケミカル社製）等の石油系芳香族系混合溶剤及びセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、及びカルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、及びプロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類、及びジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらは各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００５５】
上記の希釈剤（Ｄ）として用いられる光重合性のエチレン性不飽和単量体（Ｄ−１）は、感光性樹脂（Ａ）等を希釈し、塗布し易い状態にすると共に酸価を調整し、光重合性を与える。また、上記の希釈剤（Ｄ）として用いられる有機溶剤（Ｄ−２）は、感光性樹脂（Ａ）等を溶解、希釈し、液状として塗布可能にすると共に乾燥により造膜させる。
【００５６】
尚、上記希釈剤（Ｄ）としては、上記の光重合性のエチレン性不飽和単量体（Ｄ−１）は、本発明の感光性樹脂組成物に必ずしも配合する必要はないが、配合する場合におけるその合計量は、希釈剤（Ｄ）として同様に配合されている有機溶剤を除外した本発明の感光性樹脂組成物の成分全量中で５０重量％以下であることが望ましい。これを５０重量％を超えて配合した場合は予備乾燥被膜の表面粘着性が強くなり過ぎ、パターンを描いたネガマスクを乾燥した塗膜表面に直接当てがって露光するときにネガマスクの汚損等の問題を生じ易い。
【００５７】
一方、上記光重合性のエチレン性不飽和単量体と同様に希釈剤（Ｄ）として用いられる有機溶剤（Ｄ−２）は、希アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物として用いる場合の必須成分であり、予備乾燥時に速やかに揮散し、予備乾燥被膜に残存しないように選択する必要がある。組成物中における有機溶剤の配合量は、本発明の感光性樹脂組成物の成分全量中で５％以上配合することが望ましく、これより少ない場合は組成物の塗布が困難となり易い。尚、その好適な配合量は塗布方法により異なるので、該塗布方法に応じて適宜調節する必要があるため、配合量の上限は特に限定するものではない。
【００５８】
本発明に使用するエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ii）を重合させて得ることのできる生成物（ｅ）とエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）とを反応させて得ることのできるエチレン性不飽和基含有樹脂である。
【００５９】
エチレン性不飽和単量体成分（ii）は、必須成分としてカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）を含有する。またこのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）に加えて、任意成分としてこのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ii−２）を含有するものであってもよい。
【００６０】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）としては、例えば、上述の感光性樹脂（Ａ）の生成に用いられるカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）として列挙されるものを使用することができる。これらはそれぞれ単独で、又は組み合わせて用いることができる。
【００６１】
１分子中のエチレン性不飽和基の個数は限定されるものではないが、エチレン性不飽和基が１個のもののみを用いるか、主成分として用いることが、合成の容易さの点で好ましく、（メタ）アクリル酸を用いるか、（メタ）アクリル酸を主成分とするのが重合体生成が容易な点から特に好ましい。このようにエチレン性不飽和基が１個のものを配合する場合には、その配合量は、エチレン性不飽和単量体（ii−１）中において７０〜１００重量％の範囲とすることが好ましい。
【００６２】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ii−２）は任意成分であり、必要に応じ、例えば本発明の組成物の光硬化性の調整、及び硬化膜物性の調整のために使用される。
【００６３】
このエチレン性不飽和単量体（ii−２）としては、特に制限されず、成分（ii−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体であればよい。例えば、上述の感光性樹脂（Ａ）の生成に用いられるエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）として列挙されるものを使用することができる。これらはそれぞれ単独で、又は組み合わせて用いることができる。これらの中でも、直鎖又は分岐の脂肪族、芳香族、あるいは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、マレイミド系化合物等が、感光性樹脂組成物の油性の調節並びに最終的に形成される硬化被膜の硬度の調節が容易である等の点で特に好適である。
【００６４】
また、（ii−２）成分として１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を用いる場合には、（ｉ−２）成分として列挙された化合物のうち、ジ（メタ）アクリレートを好適に用いることができ、特にオキシアルキレン単位やビスフェノール骨格を有するものが好適である。これらは、重合による生成物（ｅ）に含まれることによりその主鎖を強固にし、はんだ耐熱性の改良、軟化点の調節、現像幅の向上等が可能となる。なお、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を使用する場合、その配合量は、重合による生成物（ｅ）の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分（ii）の全量中で０．１〜１０モル％の範囲であることが好ましい。
【００６５】
なお、エチレン性不飽和単量体成分（ii）としてエチレン性不飽和単量体（ii−２）を含ませる場合、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）の配合量はエチレン性不飽和単量体成分（ii）の全量中で１０〜８０重量％であることが好ましく、特に１０〜７０重量％が好適である。
【００６６】
本発明に使用するエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ii）を重合させて得ることのできる生成物（ｅ）にエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）を付加反応させて得ることができる。
【００６７】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）としては、例えば、上述の感光性樹脂（Ａ）の生成に用いられるエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）として列挙されるものを使用することができる。これらはそれぞれ単独で、又は組み合わせて用いることができる。１分子中のエポキシ基の個数は限定されるものではないが、ゲル化の問題を生じにくい点から、エポキシ基を１つのみ有するものだけを用いるか、エポキシ基を１つのみ有するものを主成分として含有するものを用いることが好ましい。エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）として、グリシジル（メタ）アクリレートのみを用いるか、グリシジル（メタ）アクリレートを主成分とするものを用いるのが特に好ましい。このようなゲル化を効果的に防止するためには、エポキシ基を１つのみ有するものを、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）中に６０〜１００重量％の範囲で含有させることが好ましい。
【００６８】
上記付加反応の方法は特に限定されるものではなく、上述の感光性樹脂（Ａ）の生成の際のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）や飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）の付加反応と同様の、公知の方法を用いて行うことができる。
【００６９】
エチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）は、酸価を有さないかカルボキシル基の由来の酸価が５００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものとなっていると、現像性及び硬化性が良好となって好ましいものであり、特に好ましくは０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇである。また、０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇにおいて最適な結果が得られる。
【００７０】
したがって、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）の付加量は、所望の酸価により決定される。
【００７１】
本発明の感光性樹脂組成物には、上記各成分の他に、例えばブロックドイソシアネートやアミノ樹脂等の熱硬化成分、ビスフェノールＡ型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、脂環型エポキシ樹脂等のようなエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加したもの、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、脂環型エポキシ樹脂等のようなエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加し、これらにさらに無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の飽和もしくは不飽和多塩基酸無水物を付加したもの、無水マレイン酸とその他のエチレン性不飽和単量体との共重合体にヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、エポキシ基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られる光硬化性重合体、スチレン−（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のエチレン性不飽和化合物の共重合体、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を単量体単位の一つとしたビニル共重合体に（メタ）アクリル酸を付加した光硬化性重合体、或いはスチレン−マレイン酸樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂等の高分子化合物を加えることができる。
【００７２】
また上記組成物には、必要に応じてエポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤類、充填剤、着色剤、レベリング剤、密着性付与剤、チクソトロピー剤、重合禁止剤、ハレーション防止剤、難燃剤、消泡剤、分散安定化剤、高分子分散剤及び酸化防止剤等の各種添加剤を加えても良い。
【００７３】
このような本発明の感光性樹脂組成物では、艶消し剤の効果に頼らずに、充分な艶消し効果を発揮できて、例えば硬化被膜によりプリント配線板のソルダーレジスト被膜を形成すると、ソルダーレジスト被膜へのはんだ付着を防止し、はんだフロー時のはんだブリッジ発生等を抑制することができる。また硬化被膜は基材と優れた密着性を有し、これをソルダーレジストとして用いる場合には耐電蝕性や耐金めっき性にも優れるものである。
【００７４】
すなわち、従来、艶消し硬化被膜の形成は、感光性樹脂組成物中に粉末状シリカ、タルク、カオリン、ポリエチレン、ポリアミド等の艶消し剤を配合することにより達成されていた。しかしながら、充分な艶消し効果を得るためには相当量の艶消し剤を配合する必要があり、硬化被膜の基材との密着性の低下等の問題があった。とくに、硬化被膜をソルダーレジストとして用いる場合には耐電蝕性や耐金めっき性の低下という問題が生じていた。
【００７５】
これに対して、本発明の感光性樹脂組成物においては、艶消し剤の効果に頼らずに、感光性樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）を組み合わせることにより充分な艶消し効果を発揮できるものであり、またその硬化被膜の耐電蝕性や耐金めっき性、或いは硬化被膜と基材との密着性を、優れたものとすることができるものである。
【００７６】
このような利点は、両樹脂が硬化被膜中で適度な相分離状態を形成することに起因するものと推定される。
【００７７】
なお、感光性樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の配合比は特に限定されるものではないが、好ましくは感光性樹脂（Ａ）の配合重量Ｍａとエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の配合重量Ｍｅとの比率Ｍａ：Ｍｅが、９９：１〜７０：３０、特に好ましくは９８：２〜８５：１５となるようにする。このような比率で感光性樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）とを配合すると、硬化被膜の性質を均質に維持しながら、優れた艶消し効果が得られるものである。
【００７８】
この本発明の感光性樹脂組成物にて硬化被膜を形成する場合には、その光沢度がＪＩＳ  Ｚ８７４１による入射角６０°での鏡面光沢度が８０以下であるようにすることが好ましく、特に７０以下が好ましい。また、はんだブリッジ発生を特に効果的に防止するためには、光沢度が５０以下であることが好ましい。このとき鏡面光沢度の下限は特に制限されず、０を超える範囲において所望の性能を発揮するような鏡面光沢度を得るようにすれば良いが、実用上の下限値は１である。
【００７９】
このように硬化被膜の光沢度を調整するためには、感光性樹脂組成物の組成を調整するものであるが、感光性樹脂（Ａ）の配合重量Ｍａとエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の配合重量Ｍｅとの比率を、Ｍａ：Ｍｅ＝９９：１〜７０：３０の範囲で変更することにより容易に制御可能である。
【００８０】
なお、硬化被膜の耐電蝕性や耐金めっき性、或いは硬化被膜と基材との密着性を高いレベルで維持するためには、粉末状シリカ、タルク、カオリン、ポリエチレン、ポリアミド等の一般の公知慣用の艶消し剤類が、本発明の組成物に含有されていないことが好ましいが、このような硬化被膜の特性を充分に維持できる範囲内においては、このような艶消し剤類を添加することができる。このように艶消し剤類を配合する場合には、組成物中の他の成分や、艶消し剤類等の種類、硬化被膜に要求される特性等にもよるが、艶消し剤類の配合量を組成物全量に対して６重量％以下とすることが好ましい。
【００８１】
本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、各配合成分及び添加剤等を三本ロール、ボールミル、サンドミル等を用いる公知の混練方法によって調製される。その場合に、上記（Ａ）〜（Ｅ）成分の内の一部、例えば（Ｄ）成分の一部及び（Ｂ）成分を予め混合して分散させておき、これとは別に（Ａ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び（Ｅ）成分の一部を予め混合して分散させておき、使用時に本発明の感光性樹脂組成物の配合組成になるように混合調製する方法を採っても良い。
【００８２】
本発明の感光性樹脂組成物の使用法は特に限定されるものではないが、例えばこれをフォトソルダーレジストインクとして用い、プリント配線板等の基板上へ硬化被膜（永久被膜）からなるレジストパターンを形成することができる。このときは、基板上にこのフォトソルダーレジストインクを適宜のパターン形状に硬化成形することによって硬化被膜を形成し、この硬化被膜によってレジストパターンを形成するものである。基板上へレジストパターンを形成するための最も一般的な方法を例示すれば以下の通りである。
【００８３】
例えば、基板上にフォトソルダーレジストインクを浸漬法、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、カーテンコーター又はスクリーン印刷等により塗布した後、希釈剤たる有機溶剤を揮発させるために例えば６０〜１２０℃で予備乾燥を行ない、予備乾燥被膜を形成する。
【００８４】
次にパターンを描いたネガマスクを予備乾燥被膜表面に直接又は間接的に当てがい、ケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射した後、現像によりパターンを形成し、さらに例えば１２０〜１８０℃で３０〜９０分程度の加熱によりエポキシ化合物を硬化させることで、被膜強度、硬度及び耐薬品性等が向上された硬化被膜が、レジストパターンとして形成される。
【００８５】
上記現像工程で使用されるアルカリ溶液としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、炭酸アンモニウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸水素アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化アンモニウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などを例示することができる。また、上記アルカリ以外でもモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の有機アミンを使用することができ、これらは、単独でも組み合わせても用いることができる。このアルカリ溶液の溶媒としては、水単独のみならず、例えば水と低級アルコール類等の親水性のある有機溶媒の混合物を用いることも可能である。
【００８６】
また、本発明の感光性樹脂組成物又はフォトソルダーレジストインクを支持体の表面に成膜していわゆるドライフィルムレジストとし、支持体とドライフィルムレジストとからなるドライフィルムを形成することもできる。この場合、膜の厚さは１０〜１００μｍとすることが好ましく、支持体としては好ましくはポリエチレンテレフタレート等の厚さ５〜１００μｍのフィルムが用いられる。感光性樹脂組成物又はフォトソルダーレジストインクの被膜は好ましくは支持体フィルム上に感光性樹脂組成物又はフォトソルダーレジストインクを塗布乾燥等することにより形成される。
【００８７】
このようなドライフィルムは、ドライフィルムレジストを支持体からプリント配線板等の基板の表面に転写し、フォトソルダーレジストインクを用いた場合と同様にして露光現像することにより、硬化被膜からなるレジストパターンを形成することができる。
【００８８】
本発明の組成物は、フォトソルダーレジストインクに特に好適に用いられるが、これに限定されるものではなく、例えばカラーフィルタ保護被膜の形成用として、また着色剤として例えばアゾレーキ系、不溶性アゾ系、フタロシアニン系等の有機顔料、及びミロリブルー、酸化鉄、コバルト系等の無機顔料、及び油溶性染料、塩基性染料、分散性染料等の適当な顔料又は染料を選択することによりカラーフィルタ画素子調製用組成物として用いることもできる。
【００８９】
【実施例】
下記に、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、下記に示される「部」及び「％」は、全て重量基準である。
【００９０】
〔合成例１〕
還流冷却器に、温度計、窒素置換用ガラス管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、グリシジルメタクリレート１００部、カルビトールアセテート１００部、ラウリルメルカプタン０．２部、アゾビスイソブチロニトリル３部を加え、窒素気流下で加熱、攪拌しつつ８０℃において５時間重合を行い、５０％共重合体溶液を得た。次に、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸５０．７部、ジメチルベンジルアミン０．２部、を加えて１００℃で２４時間付加反応を行い、続いて、テトラヒドロ無水フタル酸７６部、カルビトールアセテート１２７部を加え、１００℃で３時間反応させ、感光性樹脂の５０％溶液（Ａ−１）を得た。この溶液中の樹脂分について酸価を測定したところ１２４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００９１】
〔合成例２〕
還流冷却器に、温度計、窒素置換用ガラス管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、グリシジルメタクリレート７０部、メチルメタクリレート３０部、カルビトールアセテート１００部、ラウリルメルカプタン０．２部、アゾビスイソブチロニトリル３部を加え、窒素気流下で加熱、攪拌しつつ８０℃において５時間重合を行い、５０％共重合体溶液を得た。次に、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸３７部、ジメチルベンジルアミン０．２部、を加えて１００℃で２４時間付加反応を行い、続いて、テトラヒドロ無水フタル酸４５部、カルビトールアセテート８２部を加え、１００℃で３時間反応させ、感光性樹脂の５０％溶液（Ａ−２）を得た。この溶液中の樹脂分について酸価を測定したところ９３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００９２】
〔合成例３〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート（７０部、ＮＫエステル９Ｇ（商品名、新中村化学工業株式会社製、ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（ｎ＝９）分子量＝５３６）１０部、メチルメタクリレート２０部、カルビトールアセテート１００部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱、撹拌しつつ８０℃において５時間重合をおこない、５０％共重合体溶液を得た。
【００９３】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸３７部、ジメチルベンジルアミン０．２部を加え、１００℃で２４時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸４５部及びカルビトールアセテート８２部を加えて１００℃で３時間反応させ、５０％の感光性樹脂溶液（Ａ−３）を得た。この溶液中の樹脂分について酸価を測定したところ９３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００９４】
〔合成例４〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート１００部、カルビトールアセテート１００部、ラウリルメルカプタン０．２部、アゾビスイソブチロニトリル３部を加え、窒素気流下に加熱、撹拌しつつ８０℃において５時間重合をおこない、５０％のエポキシ基含有共重合体溶液を得た。
【００９５】
続いて、上記５０％のエポキシ基含有共重合体溶液に、ＴＥＰＩＣ−Ｓ（日産化学社製トリグリシジルイソシアヌレート）１０部、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸４３部、ジメチルベンジルアミン０．２部を加え、１００℃で２４時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸７６部及びカルビトールアセテート１２９部を加えて１００℃で３時間反応させ、５０％の感光性樹脂溶液（Ａ−４）を得た。この溶液中の樹脂分について酸価を測定したところ１２３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００９６】
〔合成例５〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート７０部、ＮＫエステル９Ｇ（商品名、新中村化学工業株式会社製、ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（ｎ＝９）分子量＝５３６）１０部、メチルメタクリレート２０部、カルビトールアセテート１００部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱、撹拌しつつ８０℃において５時間重合をおこない、５０％のエポキシ基含有共重合体溶液を得た。
【００９７】
続いて、上記５０％のエポキシ基含有共重合体溶液に、ＴＥＰＩＣ−Ｓ（日産化学社製トリグリシジルイソシアヌレート）２０部、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸５０部、ジメチルベンジルアミン０．２部を加え、１００℃で２４時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸４５部及びカルビトールアセテート１１５部を加えて１００℃で３時間反応させ、５０％の感光性樹脂溶液（Ａ−５）を得た。この溶液中の樹脂分について酸価を測定したところ７７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００９８】
〔合成例６〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸２０部、メチルメタクリレート８０部、カルビトールアセテート１００部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱し、７５℃において５時間重合を行ない、５０％共重合体溶液を得た。
【００９９】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、グリシジルメタクリレート１５部、ジメチルベンジルアミン２．０部を加え、８０℃で２４時間付加反応を行なった後、カルビトールアセテート１３部を加えて５０％エチレン性不飽和基含有樹脂溶液（Ｅ−１）を得た。得られたエチレン性不飽和基含有樹脂の酸価は６２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１００】
〔合成例７〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸３０部、メチルメタクリレート５０部、ブチルメタクリレート２０部、カルビトールアセテート１００部、ラウリルメルカプタン０．５部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱し、７５℃において５時間重合を行ない、５０％共重合体溶液を得た。
【０１０１】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、グリシジルメタクリレート２８．４部、ジメチルベンジルアミン２．０部を加え、８０℃で２４時間付加反応を行なった後、カルビトールアセテート１３部を加えて５０％エチレン性不飽和基含有樹脂溶液（Ｅ−２）を得た。得られたエチレン性不飽和基含有樹脂の酸価は６５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０２】
〔合成例８〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸１０部、メチルメタクリレート５０部、ｔ−ブチルメタクリレート４０部、カルビトールアセテート１００部、ラウリルメルカプタン０．５部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱し、７５℃において５時間重合を行ない、５０％共重合体溶液を得た。
【０１０３】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、グリシジルメタクリレート８．７部、ジメチルベンジルアミン２．０部を加え、８０℃で２４時間付加反応を行なった後、カルビトールアセテート１３部を加えて５０％エチレン性不飽和基含有樹脂溶液（Ｅ−３）を得た。得られたエチレン性不飽和基含有樹脂の酸価は３０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０４】
〔合成例９〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸２０部、メチルメタクリレート７０部、ＮＫエステル９Ｇ（商品名、新中村化学工業株式会社製、ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（ｎ＝９）分子量＝５３６）１０部、カルビトールアセテート１００部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱し、７５℃において５時間重合を行ない、５０％共重合体溶液を得た。
【０１０５】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、グリシジルメタクリレート１５部、ジメチルベンジルアミン２．０部を加え、８０℃で２４時間付加反応を行なった後、カルビトールアセテート１３部を加えて５０％エチレン性不飽和基含有樹脂溶液（Ｅ−４）を得た。得られたエチレン性不飽和基含有樹脂の酸価は６２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０６】
〔合成例１０〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、メタクリル酸２０部、メチルメタクリレート８０部、カルビトールアセテート１００部、アゾビスイソブチロニトリル４部を加え、窒素気流下に加熱し、７５℃において５時間重合を行ない、５０％共重合体溶液を得た。
【０１０７】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、グリシジルメタクリレート３３部、ジメチルベンジルアミン２．０部を加え、８０℃で２４時間付加反応を行なった後、カルビトールアセテート１３部を加えて５０％エチレン性不飽和基含有樹脂溶液（Ｅ−５）を得た。得られたエチレン性不飽和基含有樹脂の酸価は０．５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０８】
〔比較合成例１〕
エピクロンＮ−６９５（商品名、大日本インキ化学工業社製  クレゾールノボラックエポキシ樹脂、エポキシ当量  ２１４）２１４部をカルビトールアセテート６０部に加熱溶解したものに、撹拌下にアクリル酸７４部、ハイドロキノン０．１部及びベンジルジメチルアミン０．７部を加え、常法により９０〜１００℃で２４時間反応させた。この反応液にカルビトールアセテート９５部を加え、撹拌後に冷却し、エポキシアクリレート溶液を得た。続いてテトラヒドロ無水フタル酸２６部及びカルビトールアセテート１５９部を加えて１００℃で３時間反応させ、５０％参考樹脂溶液（Ｅ’−１）を得た。この溶液中の樹脂分について酸価を測定したところ３１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０９】
〔実施例１乃至１５及び比較例１乃至３〕
上記合成例で生成された感光性樹脂溶液に、表１に示す各配合組成の配合成分を３本ロールで混練し、実施例１乃至１５及び比較例１乃至３の希アルカリ水溶液で現像可能な液状感光性樹脂組成物を得た。各感光性樹脂組成物及びそれにより最終的にソルダーレジストの形成されたプリント配線板の各性能を下記の試験方法で評価した。
【０１１０】
【表１】
0003771844.tif 000002
【０１１１】
（注１）エポキシ当量１８６の油化シェルエポキシ社製のエポキシ化合物
（注２）エポキシ当量１００の日産化学工業社製のトリグリシジルイソシアヌレート
（注３）エポキシ当量２１５の大日本インキ化学工業社製のクレゾールノボラック型樹脂
（注４）チバガイギー社製の光重合開始剤
（注５）日本化薬社製の光重合開始剤
（注６）モンサント社製のレベリング剤
（注７）丸善石油社製の芳香族系溶剤
各感光性樹脂組成物により製造されるプリント配線板の性能を確認するため、順次下記(I)から(V)の工程を経ることによりテストピースを作成した。
【０１１２】
(I)＜塗布工程＞
感光性樹脂組成物を、厚み３５μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板及びこれを予めエッチングしてパターンを形成しておいたプリント配線基板の全面にスクリーン印刷により塗布し、基板表面にレジストインク層を形成させた。
【０１１３】
(II)＜予備乾燥工程＞
塗布工程の後、基板表面のレジストインク層中の溶剤を揮発させるために８０℃で予備乾燥を２０分行ない、膜厚２０μｍの乾燥塗膜を得た。
【０１１４】
(III)＜露光工程＞
その後、パターンを描いたマスクを乾燥塗膜表面に直接当てがうとともに各感光性樹脂組成物における最適露光量の紫外線を照射し、基板表面上の乾燥塗膜の選択的露光を行った。
【０１１５】
(IV)＜現像工程＞
露光工程後の乾燥塗膜において、選択的に未露光となっている部分を、炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより除去し、基板上に露光硬化された乾燥塗膜のパターンを形成させた。
【０１１６】
(V)＜ポストベーク工程＞
現像工程で得られた、露光硬化された乾燥塗膜のパターンが形成されている基板を１５０℃で３０分間加熱し、乾燥塗膜の硬化を行い、テストピースを得た。
【０１１７】
上記工程で得られたテストピースについて以下の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１１８】
−解像性−
線幅及び線間が共に４０μｍの同心円で構成されるマスクパターンによって形成されるレジストパターンの形成状態を観察した。
【０１１９】
解像性の評価方法は次の通りである。
×：パターンが形成されなかった。
△：パターンは形成されているが、その一部にわずかに樹脂残り又は欠落があった。
○：パターンは形成されるが、線間、線幅の一定性にわずかにむらがあった。
◎：シャープなパターンを得ることができた。
【０１２０】
−乾燥塗膜の粘着性−
露光工程においてパターンを描いたマスクを乾燥塗膜表面に直接当てがうとともに各感光性樹脂組成物における最適露光量の紫外線を照射した後、パターンを描いたマスクを取り外すときの粘着の状態及び乾燥塗膜の指触粘着性を、下記の評価基準により評価した。
×：マスクを取り外すことが困難で、無理に剥すとマスクパターンが毀損した。指触によっても顕著な粘着を感じた。
△：マスクを取り外す際にわずかに剥離抵抗を感じると共に、乾燥塗膜上にマスクの貼付痕が認められた。また、指触によってもわずかな粘着を感じた。
○：マスクを取り外した際には粘着を感じなかったが、乾燥塗膜上にマスクのかすかな貼付痕が認められた。また、指触によってもかすかに粘着を感じた。
◎：マスクを取り外した際に全く剥離抵抗を感じず、貼付痕もなかった。また、指触によっても全く粘着を感じなかった。
【０１２１】
−鉛筆硬度−
鉛筆硬度は、三菱ハイユニ（三菱鉛筆社製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に準拠して測定して評価した。
【０１２２】
−密着性−
ＪＩＳ  Ｄ−０２０２の試験方法に従って、テストピースに碁盤目状にクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリング試験後の剥がれの状態を目視により次の基準に従い判定した。
◎：１００個のクロスカット部分のうちの全てに全く変化が見られない。
○：１００個のクロスカット部分のうち１箇所にわずかに浮きを生じた。
△：１００個のクロスカット部分のうち２〜１０箇所に剥がれを生じた。
×：１００個のクロスカット部分のうち１１〜１００箇所に剥がれを生じた。
【０１２３】
−はんだ耐熱性−
フラックスとしてＬＯＮＣＯ ３３５５−１１（ロンドンケミカル社製の水溶性フラックス）を用い、まずテストピースにフラックスを塗布し、次いでこれを２６０℃の溶融はんだ浴に１５秒間浸漬し、その後水洗した。このサイクルを１回あるいは５回おこなった後の表面白化の程度を観察した。また、クロスカットによるセロハン粘着テープ剥離試験をＪＩＳ  Ｄ  ０２０２に準拠して行い、密着状態の変化を観察した。
【０１２４】
表面白化の評価方法は次の通りである。
×：著しく白化した。
△：白化が認められた。
○：僅かに白化が認められた。
◎：異常を生じなかった。
【０１２５】
また密着性の評価方法は次の通りである。
×：クロスカット試験をするまでもなく、レジストの膨れ又は剥離を生じた。
△：テープ剥離時にクロスカット部分に剥離が生じた。
○：テープ剥離時にクロスカット部分に僅かに剥離が生じた。
◎：クロスカット部分の剥離を生じなかった。
【０１２６】
−耐溶剤性−
室温において１時間、２−プロパノール及び１，１，１−トリクロロエタン中に浸漬し、基板を観察して評価した。
【０１２７】
耐溶剤性の評価方法は次の通りである。
○：異常を生じないもの。
△：僅かに変化が見られるもの。
×：塗膜に剥がれが見られるもの。
【０１２８】
−耐酸性−
室温において１時間、１０％の塩酸に浸漬し、基板を観察して評価した。
【０１２９】
耐酸性の評価方法は次の通りである。
○：異常を生じないもの。
△：僅かに変化が見られるもの。
×：塗膜に剥がれが見られるもの。
【０１３０】
−耐金めっき性−
市販品の無電解ニッケルめっき浴及び無電解金めっき浴を用いて、テストピースのめっきを行い、めっきの状態及び塗膜の密着状態を観察した。
【０１３１】
耐金めっき性の評価方法は次の通りである。
◎：外観の変化、テープ剥離時の剥離、めっきの潜り込みのいずれについても全くなかった。
○：外観変化はなく、テープ剥離時においても剥離も生じなかったが、レジストの末端部分において、極めてわずかながら、めっきの潜り込みがみられた。
△：外観変化はないが、テープ剥離時に一部剥離が見られるもの。
×：塗膜の浮きが見られ、テープ剥離時に剥離が見られるもの。
【０１３２】
−耐電蝕性−
テストピースに代えて、ＩＰＣ  Ｂ−２５のくし型電極Ｂクーポンを用い、上記の条件で評価基板を作製し、くし電極にＤＣ１００Ｖのバイアス電圧を印加し、４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．の条件下にて５００時間後のマイグレーションの有無を確認して評価した。
【０１３３】
耐電蝕性の評価方法は次の通りである。
○：全くマイグレーションが確認できないもの。
△：ほんの僅かにマイグレーションが確認できるもの。
×：マイグレーションが発生しているもの。
【０１３４】
−光沢度−
各テストピースについて、ＪＩＳ  Ｚ８７４１による入射角６０°での鏡面光沢度を、株式会社堀場製作所製「ＧＬＯＳＳ  ＣＨＥＣＫＥＲ」を用いて測定した。
【０１３５】
【表２】
0003771844.tif 000003
【０１３６】
【発明の効果】
上記のように請求項１に係る感光性樹脂組成物は、
（Ａ）エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ｉ）を重合させて得ることのできるエポキシ基含有重合体（ａ−１）を含有するエポキシ化合物成分（ａ）と、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを反応させた後、飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を反応させて得られる感光性樹脂、
（Ｂ）分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）希釈剤、及び
（Ｅ）カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）を含有するエチレン性不飽和単量体成分（ii）を重合させて得ることのできる生成物（ｅ）とエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）とを反応させて得ることのできるエチレン性不飽和基含有樹脂
を含有するため、艶消し剤を配合することなく、あるいは艶消し剤の配合量を低減しながら、艶消し硬化被膜を形成することができ、またこの硬化被膜は、はんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとなり、特にプリント配線板のソルダーレジスト被膜形成用途として好適に用いることができるものである。
【０１３７】
また、請求項２の発明は、エチレン性不飽和単量体成分（ｉ）がエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｉ−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）を含有するため、このエチレン性不飽和単量体（ｉ−２）によって感光性樹脂（Ａ）中へのエチレン性不飽和基の導入量を調整して光硬化性の調整及び硬化膜物性の調整を行うことができ、硬化被膜の硬度、親水性等の調整を容易に行うことができるものである。
【０１３８】
また請求項３の発明は、エチレン性不飽和単量体成分（ii）がカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ii−１）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ii−２）を含有するため、このエチレン性不飽和単量体（ii−２）によって感光性樹脂（Ａ）中へのエチレン性不飽和基の導入量を調整して光硬化性の調整及び硬化膜物性の調整を行うことができ、硬化被膜の硬度、親水性等の調整を容易に行うことができるものである。
【０１３９】
また請求項４の発明は、感光性樹脂（Ａ）の配合重量Ｍａとエチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の配合重量Ｍｅとの比率が、Ｍａ：Ｍｅ＝９９：１〜７０：３０であるため、硬化被膜の性質を均質に維持しながら、優れた艶消し効果が得られるものである。
【０１４０】
また請求項５の発明は、エポキシ化合物成分（ａ）がエポキシ基含有重合体（ａ−１）に加えてそれ以外のエポキシ樹脂（ａ−２）を含有するものであり、このようにエポキシ化合物成分（ａ）がエポキシ基含有重合体（ａ−１）単独でない場合においても、硬化被膜が優れた艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとすることができるものである。
【０１４１】
このようなエポキシ樹脂（ａ−２）としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂及びトリグリシジルイソシアヌレートからなる群から選ばれる少なくとも１種類のエポキシ樹脂を用いることができる。
【０１４２】
また請求項７の発明は、エポキシ樹脂（ａ−２）が、トリグリシジルイソシアヌレートを含有するため、特に耐熱性及び現像幅を更に優れたものとすることができるものである。
【０１４３】
また請求項８の発明は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）が、一分子中にカルボキシル基を１個のみ有するものを含有するものであり、エチレン性不飽和単量体（ｂ）として、入手が容易なカルボキシル基を１個のみ有するものを用いながら、硬化被膜が優れた艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとすることができるものである。
【０１４４】
また請求項９の発明は、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）が、一分子中にエポキシ基を１個のみ有するものを含有するため、エチレン性不飽和基含有樹脂（Ｅ）の合成時におけるゲル化を抑制して、良好な膜形成材料を得ることができるものである。
【０１４５】
また請求項１０の発明は、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｆ）が、グリシジル（メタ）アクリレートを含有するものであり、エチレン性不飽和単量体（ｆ）として、入手容易なグリシジル（メタ）アクリレートを用いながら、硬化被膜が優れた艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとすることができるものである。
【０１４６】
また請求項１１の発明は、入射角６０°での鏡面光沢度が８０以下となる硬化被膜を形成するため、硬化被膜ははんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮するものである。
【０１４７】
また請求項１２に係るフォトソルダーレジストインクは、請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物からなるため、艶消し剤による艶消し効果に頼ることなく艶消し硬化被膜を形成することができ、またこの硬化被膜は、はんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとなるものである。
【０１４８】
また請求項１３に係るドライフィルムは、請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成するため、艶消し剤による艶消し効果に頼ることなく艶消し硬化被膜を形成することができ、またこの硬化被膜は、はんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材との密着性にも優れたものとなるものである。
【０１４９】
また請求項１４に係るプリント配線板は、請求項１乃至１１のいずれかに記載の感光性樹脂組成物又は請求項１２に記載のフォトソルダーレジストインクによって形成された永久被膜を有するため、艶消し剤による艶消し効果に頼ることなく艶消し永久被膜を形成することができ、またこの永久被膜は、はんだ付着を防止するために充分な艶消し効果を発揮すると共に、耐電蝕性や耐金めっき性、基材であるプリント配線板との密着性にも優れたものとなるものである。