(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に加圧ガスが封入されたチューブと、該チューブ内に摺動可能に挿嵌され該チューブ内を２つの室に画成するピストンと、一端が該ピストンに連結され他端が前記チューブから突出したピストンロッドと、外部からの操作により前記チューブ内の２室間を連通、遮断する第１の弁機構とからなるガススプリング装置において、前記チューブ、ピストンロッドの軸方向から外力が作用した状態では前記２室間を遮断し、外力が作用していない状態では前記２室間を連通する第２の弁機構を設けたことを特徴とするガススプリング装置。
【請求項２】
前記第２の弁機構は、前記２つの室間を連通する流体通路と、先端が前記ピストンロッドまたは前記チューブから突出し、この先端が突出した状態では前記流体通路を連通し、先端を押込んだ状態では前記流体通路を遮断する操作ピンと、被取付物と連結され前記ピストンロッドまたは前記チューブに対し軸方向に所定範囲で相対移動することにより該操作ピンを軸方向に移動させる取付部材とから構成してなる請求項１に記載のガススプリング装置。
【請求項３】
前記第１の弁機構と第２の弁機構とは、前記２つの室間を連通する一つの流体通路と、先端が前記ピストンロッドまたは前記チューブから突出し、この先端が突出した状態では前記流体通路を連通し、先端を押込んだ状態では前記流体通路を遮断する一つの操作ピンと、被取付物と連結され前記ピストンロッドまたは前記チューブに対し軸方向に所定範囲で相対移動することにより該操作ピンを軸方向に移動させる一つの取付部材とから構成し、前記取付部材の所定範囲の相対移動により前記操作ピンを押込み前記流体通路を遮断した後、さらに外部からの操作により前記操作ピンを押込むことにより前記流体通路を連通するようにしてなる請求項１に記載のガススプリング装置。
【請求項４】
前記第２の弁機構の開弁時の流通抵抗は前記第１の弁機構の開弁時の流通抵抗よりも大きく設定してなる請求項１，２または３に記載のガススプリング装置。
【請求項５】
回転方向の外力により前記チューブ側の被取付物と前記ピストンロッド側の被取付物とを相対回転させ、この回転方向の外力を除いたときには原回転位置に戻すリターン機構を設ける構成としてなる請求項１，２，３または４に記載のガススプリング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば高さ調整が可能な椅子等に用いて好適なガススプリング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、椅子に着座したときの座り心地を良好にするためには、ガススプリング装置を介して座部を支持する構成が広く用いられており、この椅子に用いられたガススプリング装置としては、例えば特開平５−２９６２７４号公報等に記載されたものが知られている。
【０００３】
ここで、この種の椅子に用いられるガススプリング装置は、内部に加圧ガスが封入されたチューブと、該チューブ内に摺動可能に挿嵌され該チューブ内を２つの室に画成するピストンと、一端が該ピストンに連結され他端が前記チューブから突出したピストンロッドと、外部からの操作により前記チューブ内の２室間を連通、遮断する弁機構とから構成されている。
【０００４】
そして、例えば、前記ピストンロッドには脚部をなすポスト等が取付けられ、前記チューブには座部が取付けられている。
【０００５】
このように構成されたガススプリング装置を用いた椅子は、座部に着座することにより、チューブ内に封入された加圧ガスがクッションとして作用し、このときの座り心地を良好にする。
【０００６】
また、この椅子は、利用者の体格等に応じて座部の高さ位置を調整できるようになっており、例えば座部の高さ位置を調整する場合には、外部からレバー等によって弁機構を操作して各ガス室間を連通させ、ピストンの移動を許す。これにより、ピストンロッドが伸縮可能な状態となるから、座部に体重をかけて加圧ガスの圧力よりも大きな外力で該座部を下向きに押圧することにより、ピストンロッドを縮小し、座部を低くする。
【０００７】
一方、弁機構を操作してピストンの移動を許した状態で座部への外力を取除くことにより、加圧ガスの圧力によってピストンロッドを伸長させて座部を高くする。そして、座部の高さを調整したら弁機構の操作を解除することにより、各ガス室間を再度遮断し、この位置で座部を固定する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来技術によるものでは、座部の高さ位置を調整する場合には、必ずレバー等によって外部から弁機構を操作しなくてはならず、座部の高さ調整時の操作が面倒である。
【０００９】
また、レバーによって弁機構を操作していない状態では、座部の高さ位置が固定された状態となるから、座部に人が着座していなくても前回調整された高さ位置で座部が固定されてしまうという問題がある。
【００１０】
本発明は上述した従来技術の問題に鑑みなされたもので、本発明の目的は、チューブに対するピストンロッドの軸方向位置を簡単に調整でき、また、無負荷状態ではピストンロッドをチューブから自動的に伸長させることができるようにしたガススプリング装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明のガススプリング装置は、内部に加圧ガスが封入されたチューブと、該チューブ内に摺動可能に挿嵌され該チューブ内を２つの室に画成するピストンと、一端が該ピストンに連結され他端が前記チューブから突出したピストンロッドと、外部からの操作により前記チューブ内の２室間を連通、遮断する第１の弁機構とからなる。
【００１２】
そして、上述した課題を解決するために、請求項１による発明が採用する構成の特徴は、前記チューブ、ピストンロッドの軸方向から外力が作用した状態では前記２室間を遮断し、外力が作用していない状態では前記２室間を連通する第２の弁機構を設けたことにある。
【００１３】
このように構成したことにより、チューブ、ピストンロッドに軸方向から外力を作用させると、第２の弁機構によって２室間が遮断されるから、チューブに対するピストンロッドの軸方向位置が固定される。
【００１４】
また、この状態からピストンロッドをチューブ内に押込んで該ピストンロッドの突出量を小さくする場合には、第１の弁機構を外部から操作して２室間を連通させ、チューブに対するピストン、ピストンロッドの移動を可能とする。そして、この状態でピストンロッドをチューブ内に押込むことにより、ピストンロッドの突出量を小さくすることができ、任意の位置で第１の弁機構の操作を解除することにより、チューブに対するピストンロッドの軸方向位置を固定することができる。
【００１５】
一方、チューブに対するピストンロッドの突出量を大きくする場合には、チューブ、ピストンロッドに作用している軸方向の外力を除くことにより、第２の弁機構によって２室間を連通させる。これにより、ピストンロッドはチューブ内のガス圧によって自動的に突出するから、ピストンロッドの突出途中でチューブ、ピストンロッドに再び外力を作用させて第２の弁機構で２室間を遮断することにより、この位置でピストンロッドを固定することができる。
【００１６】
さらに、チューブ、ピストンロッドへの外力を除いた状態では、第２の弁機構によって２室間が連通したままの状態となるから、ピストンロッドはチューブから最大突出量まで自動的に突出する。
【００１７】
請求項２の発明は、第２の弁機構は、２つの室間を連通する流体通路と、先端がピストンロッドまたはチューブから突出し、この先端が突出した状態では前記流体通路を連通し、先端を押込んだ状態では前記流体通路を遮断する操作ピンと、被取付物と連結され前記ピストンロッドまたは前記チューブに対し軸方向に所定範囲で相対移動することにより該操作ピンを軸方向に移動させる取付部材とから構成したことにある。
【００１８】
このように構成したことにより、取付部材をピストンロッドまたはチューブに対し軸方向に相対移動させ、該取付部材によって操作ピンの先端をピストンロッドまたはチューブに押込むことにより、該操作ピンによって流体通路を遮断することができる。また、取付部材によって操作ピンの先端をピストンロッドまたはチューブから突出させることにより、該操作ピンによって流体通路を連通させることができる。
【００１９】
請求項３の発明は、前記第１の弁機構と第２の弁機構とは、前記２つの室間を連通する一つの流体通路と、先端が前記ピストンロッドまたは前記チューブから突出し、この先端が突出した状態では前記流体通路を連通し、先端を押込んだ状態では前記流体通路を遮断する一つの操作ピンと、被取付物と連結され前記ピストンロッドまたは前記チューブに対し軸方向に所定範囲で相対移動することにより該操作ピンを軸方向に移動させる一つの取付部材とから構成し、前記取付部材の所定範囲の相対移動により前記操作ピンを押込み前記流体通路を遮断した後、さらに外部からの操作により前記操作ピンを押込むことにより前記流体通路を連通するようにしたことにある。
【００２０】
このように構成したことにより、取付部材をピストンロッドまたはチューブに対し軸方向に相対移動させ、該取付部材によって操作ピンの先端をピストンロッドまたはチューブに押込むことにより、該操作ピンによって流体通路を遮断することができ、また、取付部材によって操作ピンの先端をピストンロッドまたはチューブから突出させることにより、該操作ピンによって流体通路を連通させることができるから、第２の弁機構として作動させることができる。一方、操作ピンによって流体通路を遮断した状態で、さらに外部からの操作により操作ピンを押込むことにより前記流体通路を連通させることができ、第１の弁機構として作動させることができる。
【００２１】
請求項４の発明は、第２の弁機構の開弁時の流通抵抗は第１の弁機構の開弁時の流通抵抗よりも大きく設定したことにある。
【００２２】
このように構成したことにより、第２の弁機構によって流体通路を連通させた場合には、該流体通路を流通する流体に大きな流通抵抗を与えてチューブの突出速度を抑えることができる。従って、例えばチューブに座部を取付けてガススプリング装置を椅子の一部として用いた場合には、座部から僅かな時間だけ立上がったときの該座部の上昇量を小さく抑えることができ、再着座時の高さ調整量を少なく、または省略することができる。
【００２３】
請求項５の発明は、回転方向の外力によりチューブ側の被取付物とピストンロッド側の被取付物とを相対回転させ、この回転方向の外力を除いたときには原回転位置に戻すリターン機構を設ける構成としたことにある。
【００２４】
このように構成したことにより、回転方向の外力によりチューブ側の被取付物とピストンロッド側の被取付物とを相対回転させても、この回転方向の外力を除いたときにはリターン機構によって原回転位置に戻すことができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態によるガススプリング装置を椅子に用いた場合を例に挙げ、添付図面に従って詳細に説明する。
【００２６】
まず、図１ないし図６は本発明の第１の実施例を示すに、１は本発明の実施例に係るガススプリング装置で、該ガススプリング装置１は椅子２に適用されるもので、その下側には脚部をなすピストンロッド側の被取付物としてのポスト３が設けられ、上側にはチューブ側の被取付物としての座部４が設けられている。
【００２７】
次に、１１はガススプリング装置１の外周側に設けられた支持筒体で、該支持筒体１１は後述する自動弁機構２７の一部を構成するもので、上方に向けて開口し、下側が底板１２によって閉塞された有底円筒状に形成されている。また、前記底板１２には、図２に示す如く、中央に位置して後述するピストンロッド２２の縮径部２２Ｃが挿通する挿通穴１２Ａが設けられ、該底板１２の上面側には前記ピストンロッド２２の下側への移動量を規制する規制板１３が固着されている。さらに、底板１２の下面側には挿通穴１２Ａの下側に位置してピン受１４が固着され、該ピン受１４には後述する操作ピン３０のピン本体３０Ｂが当接している。この支持筒体１１、底板１２およびピン受１４で本発明の取付部材を構成している。
【００２８】
そして、支持筒体１１はポスト３の内周側に嵌着され、当該支持筒体１１に対してピストンロッド２２が軸方向に移動することにより、ピン受１４に当接した操作ピン３０をピストンロッド２２内に押込むように軸方向に移動させるものである。
【００２９】
１５は支持筒体１１の開口から軸方向に移動可能に突出した筒状のチューブで、該チューブ１５は、後述するピストン２１、ピストンロッド２２、高さ調整用弁機構２４、自動弁機構２７等と共にガススプリング装置１を構成するものである。また、チューブ１５内には円筒状のシリンダ１６が配設され、該シリンダ１６とチューブ１５との間には環状通路１７が形成されている。また、シリンダ１６は、その上端部が後述の弁ケース２４Ａに嵌合されると共に下端部が支持部材１８に嵌合され、これによりチューブ１５内に位置決めされている。さらに、前記支持部材１８には、前記環状通路１７を後述する下側ガス室Ｂに連通する切欠溝１８Ａが形成されている。そして、シリンダ１６内には加圧ガスと潤滑用の油液が封入されている。
【００３０】
また、１９はチューブ１５の下端側にかしめ固定されたロッドガイドで、該ロッドガイド１９はピストンロッド２２を摺動可能に支持するものである。また、ロッドガイド１９の上側には、シリンダ１６内を気密、かつ液密にシールするシール部材２０が設けられている。
【００３１】
２１はシリンダ１６内に軸方向に摺動可能に挿嵌されたピストンで、該ピストン２１は、シリンダ１６内を上側ガス室Ａと下側ガス室Ｂとに画成している。
【００３２】
２２は一端側がシリンダ１６内でピストン２１に取付けられ、他端側がロッドガイド１９等を介して突出したピストンロッドで、該ピストンロッド２２は、中心がピン挿通穴２２Ａとなる中空軸として形成されている。また、ピストンロッド２２の他端側は、段部２２Ｂを介して縮径部２２Ｃとなり、該縮径部２２Ｃは支持筒体１１の底板１２の挿通穴１２Ａに挿通され、クリップ２３によって抜止めされている。これにより、ピストンロッド２２は、段部２２Ｂとクリップ２３との間（所定範囲）で底板１２に対して軸方向（上下方向）に移動可能に連結されている。
【００３３】
２４はチューブ１５の上側を閉塞する第１の弁機構をなす高さ調整用弁機構で、該高さ調整用弁機構２４は、図３に示す如く、チューブ１５内に気密、かつ液密に嵌合された円筒状の弁ケース２４Ａと、該弁ケース２４Ａの径方向に穿設された流体通路をなすガス通路２４Ｂと、前記弁ケース２４Ａ内に軸方向に移動可能に挿嵌された弁体２４Ｃとから大略構成され、前記弁体２４Ｃの上側にはプランジャ２５が配設されている。また、前記ガス通路２４Ｂはチューブ１５とシリンダ１６との間の環状通路１７、支持部材１８の切欠溝１８Ａを介して下側ガス室Ｂに連通している。
【００３４】
そして、高さ調整用弁機構２４は、常時は上側ガス室Ａ内のガス圧によって弁体２４Ｃが上側に付勢され、上側ガス室Ａに対してガス通路２４Ｂを遮断している。一方、図６に示すように、チューブ１５の上端側に挿嵌されたプランジャ２５を後述するレバー２６で下向きに押動して弁体２４Ｃをガス圧に抗して下側に移動させたときには、上側ガス室Ａとガス通路２４Ｂとを連通させ、環状通路１７等を介して該上側ガス室Ａと下側ガス室Ｂとの間でガスの流通を許す構成となっている。そして、この状態でチューブ１５を下向きに押圧することで座部４の高さ位置を低くすることができ、また、下向きに押圧する力を小さくすることで高さ位置を高くすることもできる。
【００３５】
２６は座部４の裏面側に設けられたレバーで、該レバー２６は、グリップ２６Ａを引上げることにより、その先端部でプランジャ２５を押下げて高さ調整用弁機構２４の弁体２４Ｃを操作するものである。
【００３６】
２７はピストン２１に設けられた第２の弁機構をなす自動弁機構で、該自動弁機構２７は、図４に示す如く、ピストン２１の中心にピストンロッド２２のピン挿通穴２２Ａと同軸に形成された弁体挿通穴２８と、該弁体挿通穴２８と下側ガス室Ｂとを連通する流体通路をなすガス通路２９と、前記弁体挿通穴２８、ピン挿通穴２２Ａ内に軸方向に移動可能に挿嵌された操作ピン３０と、前述した支持筒体１１とから大略構成されている。また、前記操作ピン３０は、前記ガス通路２９を連通、遮断する弁体３０Ａと、一端側が該弁体３０Ａに当接し、他端側がピン挿通穴２２Ａを下向きに伸長したピン本体３０Ｂとから構成され、前記ピン本体３０Ｂの他端は支持筒体１１のピン受１４に当接している。ここで、前記ガス通路２９は小径の絞り通路として形成され、流通するガスに高さ調整用弁機構２４のガス通路２４Ｂより大きな流通抵抗を与えている。
【００３７】
このように形成された自動弁機構２７は、図５に示すように、座部４に着座することでチューブ１５と共にピストンロッド２２が下方に移動すると、支持筒体１１に対してピストンロッド２２が移動し、該支持筒体１１のピン受１４に当接している操作ピン３０のピン本体３０Ｂがピストンロッド２２内に進入する。このため、弁体３０Ａがピストン２１に対し上側に移動してガス通路２９を遮断するから、各ガス室Ａ，Ｂ間を遮断してチューブ１５の下方への移動をこの位置で規制する。
【００３８】
一方、座部４から離座してチューブ１５への外力を取除き、無負荷状態とすると、図２に示すように、上側ガス室Ａ内のガス圧によって弁体３０Ａがピストン２１に対して下側に移動し、支持筒体１１に対してピストンロッド２２が移動する。これにより、ガス通路２９を介して各ガス室Ａ，Ｂが連通し、下側ガス室Ｂから上側ガス室Ａにガスを流通させることによりチューブ１５を上側に自動的に移動させる。
【００３９】
３１は支持筒体１１とチューブ１５との間に設けられたリターン機構で、該リターン機構３１は、後述する案内部材３２、昇降部材３３、回転部材３４、ばね部材３６等から大略構成されている。
【００４０】
３２は支持筒体１１の内周側にかしめ等により固定され、チューブ１５を軸方向と回転方向に案内する案内部材で、該案内部材３２の内周側には有底状のばね収容凹部３２Ａが設けられている。また、案内部材３２の上側には径方向に１８０度対向して上下方向に伸長し、昇降部材３３の回転を規制する回止め溝３２Ｂ，３２Ｂが形成されている。
【００４１】
３３は案内部材３２のばね収容凹部３２Ａ内に軸方向にのみ可動に設けられ、内周側でチューブ１５を回転方向と軸方向に可動に支持する昇降部材で、該昇降部材３３の外周側には回止め溝３２Ｂ，３２Ｂに係合する係合突起３３Ａ，３３Ａが設けられている。また、昇降部材３３の上面は傾斜面３３Ｂとなり、該傾斜面３３Ｂは後述の回転部材３４の傾斜面３４Ａと当接、離間するものである。
【００４２】
３４は昇降部材３３の上側に設けられた回転部材で、該回転部材３４は支持筒体１１の開口側に設けられたラジアル軸受３５によって回転可能に支持されている。また、回転部材３４はチューブ１５に対し回転方向に固定され、該チューブ１５を軸方向にのみ可動に支持している。さらに、回転部材３４の下面は、昇降部材３３の傾斜面３３Ｂに当接、離間する傾斜面３４Ａとなっている。
【００４３】
３６は案内部材３２のばね収容凹部３２Ａ内に位置して設けられたばね部材で、該ばね部材３６は、傾斜面３３Ｂと回転部材３４の傾斜面３４Ａとを常時当接する方向に昇降部材３３を付勢するものである。
【００４４】
このように構成されたリターン機構３１は、支持筒体１１に対してチューブ１５が回転すると、昇降部材３３に対して回転部材３４を回転させ、各傾斜面３３Ｂ，３４Ａを離間させる。これにより、チューブ１５を回転させていた外力を取除いたときには、ばね部材３６の付勢力により上側に移動する昇降部材３３の傾斜面３３Ｂを傾斜面３４Ａに押付けて回転部材３４を回転させる。従って、該回転部材３４と共にチューブ１５が回転し、該チューブ１５は前記昇降部材３３の傾斜面３３Ｂと回転部材３４の傾斜面３４Ａとが当接した原回転位置に戻る。
【００４５】
本実施例によるガススプリング装置１を用いた椅子２は、上述の如き構成を有するもので、次に、その作動について説明する。
【００４６】
まず、椅子２の座部４に着座すると、負荷（外力）によってチューブ１５が下側に移動する。このときには、図５に示す如く、チューブ１５と共にピストンロッド２２が支持筒体１１に対して下側に移動するから、ピン受１４に当接した自動弁機構２７の操作ピン３０はピストンロッド２２内に進入し、その弁体３０Ａでガス通路２９を遮断する。これにより、各ガス室Ａ，Ｂ間のガスの流通が断たれるから、チューブ１５に対してピストン２１、ピストンロッド２２が固定され、この位置で座部４の高さ位置が固定される。
【００４７】
次に、座部４に着座した状態で該座部４の高さ位置を下げる場合には、図６に示すようにレバー２６を操作し、プランジャ２５に外力を加えて該プランジャ２５をチューブ１５内に押込み、高さ調整用弁機構２４の弁体２４Ｃを下側に移動させ、ガス通路２４Ｂを上側ガス室Ａに連通させる。これにより、上側ガス室Ａは、ガス通路２４Ｂ、環状通路１７、支持部材１８の切欠溝１８Ａを介して下側ガス室Ｂと連通し、ピストン２１の移動が許されるから、チューブ１５を支持筒体１１内に押込むことができ、座部４の高さ位置を下げることができる。
【００４８】
そして、座部４が適度な高さ位置となったら、レバー２６から手を離すことにより、高さ調整用弁機構２４の弁体２４Ｃでガス通路２４Ｂを遮断し、座部４をこのときの高さ位置で固定することができる。
【００４９】
一方、座部４に着座した状態から該座部４の高さ位置を上げる場合には、座部４から軽く腰を浮かせる。これにより、自動弁機構２７の操作ピン３０が上側ガス室Ａ内のガス圧によってピストンロッド２２から押出されるように下側に押圧される。しかし、操作ピン３０の突出端はピン受１４に当接しているから、図２に示す如く、該操作ピン３０に対してチューブ１５、ピストン２１等が上側に移動する。この移動によってガス通路２９を介して各ガス室Ａ，Ｂが連通され、チューブ１５と共に座部４が上昇する。そして、座部４が適度な高さ位置となったら、再度座部４に着座することにより、操作ピン３０の弁体３０Ａでガス通路２９を閉塞して座部４を固定する。
【００５０】
また、座部４から僅かな時間だけ立ち上がった場合には、自動弁機構２７のガス通路２９を高さ調整用弁機構２４のガス通路２４Ｂより大きな流通抵抗を与える絞り通路としたことにより、該ガス通路２９を流通するガスを徐々に流通させてピストンロッド２２の伸長速度を抑えることができる。これにより、座部４から離座したときの該座部４の上昇量を小さく抑えることができ、再着座時の高さ調整量を少なく、または省略することができる。
【００５１】
さらに、座部４から離座し、無負荷状態としたままの状態では、上述したようにガス通路２９を介して各ガス室Ａ，Ｂが連通した状態となるから、チューブ１５と共に座部４が自動的に最大高さ位置まで上昇する。
【００５２】
一方、例えば座部４から離座するときに該座部４を回転させた場合には、座部４から離座した後にリターン機構３１によって座部４が回転され、座部４が原位置に自動的に戻される。
【００５３】
かくして、本実施例によれば、座部４に着座または離座することにより、自動弁機構２７で各ガス室Ａ，Ｂ間を遮断または連通させることができるから、座部４の高さ位置を上げる場合には、従来技術のようにレバー２６等を操作することなく、該座部４から軽く腰を浮かせるだけで各ガス室Ａ，Ｂ間を連通させて容易に高さ位置を調整することができる。従って、座部４の高さ調整時の操作を簡略化することができ、椅子２の取扱いを容易にすることができる。
【００５４】
しかも、座部４から離座し、無負荷状態としたときには、各ガス室Ａ，Ｂ間が連通状態となるから、該座部４を自動的に最大高さ位置まで上昇させることができる。このため、次に座る人はいつも同一状態の椅子２に座ることができる上に、座部４の高さ自動的に揃えることができ、見栄えもよくすることができる。
【００５５】
また、自動弁機構２７のガス通路２９を絞り通路として形成し、該ガス通路２９を流通するガスに高さ調整用弁機構２４のガス通路２４Ｂより大きな流通抵抗を与えることができる。これにより、座部４から僅かな時間だけ立上がったときの該座部４の上昇量を小さく抑えることができ、再度着座するときの高さ調整量を少なく、または省略して、取扱いを容易にすることができる。
【００５６】
なお、ガス通路２９の流通抵抗をより大きくした場合には、座部４の高さ位置を高くするときに、従来技術と同様にレバー２６等を操作することで座部４の高さ位置を早く調整することもできる。
【００５７】
さらに、支持筒体１１とチューブ１５との間にリターン機構３１を設けているから、座部４から離座するときに該座部４を回転させた場合でも、離座後に座部４を原位置に自動的に戻すことができ、この点においても取扱いを容易にすることができる。
【００５８】
次に、図７は本発明の第２の実施例を示すに、本実施例の特徴は、一つの弁機構に高さ調整用弁機構と自動弁機構の機能の持たせたことにある。なお、本実施例では、前述した第１の実施例と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【００５９】
４１は本実施例によるガススプリング装置、４２は該ガススプリング装置４１の外周側に設けられ、後述する底板４３、ピン受４５と共に取付部材を構成する本実施例による支持筒体で、該支持筒体４２は、前記第１の実施例で述べた支持筒体１１とほぼ同様に、後述する共通弁機構５７の一部を構成するもので、底板４３を有する有底円筒状に形成されている。また、前記底板４３の中央には挿通穴４３Ａが設けられ、上面側には後述するピストンロッド５５の下側への移動量を規制する規制板４４が固着されている。
【００６０】
さらに、底板４３の下面側には挿通穴４３Ａの下側に位置してピン受４５が固着され、該ピン受４５は、第１の実施例によるピン受１４に比較して上下方向に長尺に形成され、その下側寄りには、ピン４６を介してレバー４７が回動可能に取付けられている。そして、ピン受４５は、レバー４７を介して後述する操作ピン６０のピン本体６０Ｂを支持し、支持筒体４２に対してピストンロッド５５が軸方向に相対移動したときに、ピストンロッド５５に対し前記操作ピン６０を軸方向に移動させるものである。
【００６１】
４８は支持筒体４２の開口から軸方向に移動可能に突出した筒状のチューブで、該チューブ４８は、後述するピストン５４、ピストンロッド５５、共通弁機構５７等と共にガススプリング装置４１を構成するものである。また、チューブ４８内には円筒状のシリンダ４９が配設され、該シリンダ４９は、チューブ４８の上側に気密、かつ液密に挿嵌された閉塞体５０と下側に挿嵌された支持部材５１との間に位置決めされ、該シリンダ４９内には加圧ガスと潤滑用の油液が封入されている。
【００６２】
ここで、前記閉塞体５０には、軸方向に貫通して封止ピン５０Ａが挿嵌され、該封止ピン５０Ａを治具（図示せず）を用いてガス室Ａ内に押込んだ状態でガスの充填作業を行なう。
【００６３】
５２はチューブ４８の下端側にかしめ固定されたロッドガイドで、該ロッドガイド５２の上側にはシール部材５３が設けられている。
【００６４】
５４はシリンダ４９内に軸方向に摺動可能に挿嵌されたピストンで、該ピストン５４は、シリンダ４９内を上側ガス室Ａと下側ガス室Ｂとに画成している。
【００６５】
５５は一端側がシリンダ４９内でピストン５４に取付けられ、他端側がロッドガイド５２等を介して突出したピストンロッドで、該ピストンロッド５５は、第１の実施例で述べたピストンロッド２２と同様に、中心がピン挿通穴５５Ａとなる中空軸として形成され、その他端側は段部５５Ｂを介して縮径部５５Ｃとなっている。また、縮径部５５Ｃは支持筒体４２の底板４３の挿通穴４３Ａに挿通され、クリップ５６によって抜止めされている。
【００６６】
５７はピストン５４に設けられた本実施例による共通弁機構で、該共通弁機構５７は座部４の高さ調整をするための機能（第１の弁機構の機能）と座部４を自動的に上昇させるための機能（第２の弁機構の機能）とを兼ね備えている。即ち、共通弁機構５７は、ピストン５４の中心にピストンロッド５５のピン挿通穴５５Ａと同軸に形成された弁体挿通穴５８と、該弁体挿通穴５８と下側ガス室Ｂとを連通する流体通路をなすガス通路５９と、前記弁体挿通穴５８、ピン挿通穴５５Ａ内に軸方向に移動可能に挿嵌された操作ピン６０とから大略構成されている。また、前記操作ピン６０は、前記ガス通路５９を連通、遮断する弁体６０Ａと、一端側が該弁体６０Ａに当接し、他端側がピン挿通穴５５Ａを下向きに伸長したピン本体６０Ｂとから構成され、前記ピン本体６０Ｂの他端はレバー４７を介して支持筒体４２のピン受４５に当接している。
【００６７】
ここで、前記弁体６０Ａは、一端側が小径部６０Ａ1 となり、該小径部６０Ａ1 より先端が大径部６０Ａ2 となっている。これにより、弁体６０Ａは、ピストンロッド５５からピン本体６０Ｂが大きく突出した状態（無負荷状態）では、大径部６０Ａ2 をガス通路５９よりも下側に配置させ、該ガス通路５９を介してガス室Ａ，Ｂ間を連通する。また、チューブ４８に下向きの荷重が作用してピストンロッド５５の段部５５Ｂが規制板４４に当接した状態（着座状態）では、大径部６０Ａ2 でガス通路５９を閉塞し、ガス室Ａ，Ｂ間を遮断する。さらに、ピストンロッド５５の段部５５Ｂを規制板４４に当接させた状態でレバー４７を操作したときには、上側ガス室Ａとガス通路５９（下側ガス室Ｂ）とを小径部６０Ａ1 の外周側を介して連通させる。
【００６８】
本実施例はこのように構成されるが、次に、本実施例によるガススプリング装置４１の作動について説明する。
【００６９】
まず、共通弁機構５７を自動弁機構として用いる場合について述べる。この場合には、座部４に着座することで支持筒体４２、底板４３およびピン受４５等からなる取付部材に対し、チューブ４８と共にピストンロッド５５を下方に移動させると、該ピストンロッド５５の段部５５Ｂが規制板４４に当接するまで（所定範囲）操作ピン６０がピストンロッド５５内に押込まれる。これにより、弁体６０Ａの大径部６０Ａ2 がガス通路５９を閉塞するから、ガス室Ａ，Ｂ間を遮断してチューブ４８の下方への移動をこの位置で規制する。
【００７０】
次に、共通弁機構５７を高さ調整用弁機構として用いる場合について説明する。この場合には、大径部６０Ａ2 でガス通路５９を閉塞した状態からレバー４７によって操作ピン６０をさらに上向きに押動すると、弁体６０Ａの小径部６０Ａ1 の外周側を介してガス室Ａ，Ｂ間が連通するから、該ガス室Ａ，Ｂ間でガスを流通させることができ、この状態でチューブ４８を下向きに押圧することで座部４の高さ位置を低くすることができる。
【００７１】
さらに、共通弁機構５７を再度自動弁機構として用いる場合について述べる。この場合には、座部４から離座してチューブ４８への外力を取除き、無負荷状態とすると、上側ガス室Ａ内のガス圧によって弁体６０Ａがピストン５４に対して下側に移動する。これにより、ガス通路５９を介してガス室Ａ，Ｂ間が連通するから、チューブ４８を自動的に上側に移動させることができる。
【００７２】
かくして、このように構成された本実施例においても、前述した第１の実施例とほぼ同様の作用効果を得ることができるが、特に、本実施例では、共通弁機構５７に座部４の高さ調整を行なうための機能と、座部４を自動的に上昇させるための機能とを持たせているから、弁機構を一つにすることができ、部品点数を少なくして、ガススプリング装置４１の小型化、製造コストの低減等を図ることができる。
【００７３】
次に、図８は本発明の第３の実施例を示すに、本実施例の特徴は、チューブを下側に配設し、ピストンロッド側で座部を支持する構成としたことにある。なお、本実施例では、前述した第１の実施例と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【００７４】
７１は本実施例によるガススプリング装置、７２は該ガススプリング装置７１の外周側に設けられた支持筒体で、該支持筒体７２は前記第１の実施例で述べた支持筒体１１とほぼ同様に、底板７３を有する有底円筒状に形成されている。また、前記底板７３の中央には、後述するチューブ７７が取付けられる取付穴７３Ａが設けられている。
【００７５】
７４は支持筒体７２の開口から軸方向に移動可能に突出した昇降筒で、該昇降筒７４は、後述する共通弁機構８５の一部を構成するもので、その上端側内周には連結部材７５がかしめ固定され、該連結部材７５の中央には、後述するピストンロッド８３の縮径部８３Ｃが摺動可能に挿通する挿通穴７５Ａが形成されている。この昇降筒７４および連結部材７５が取付部材を構成している。また、昇降筒７４内には、前記連結部材７５の上側に位置してプランジャ７６が摺動可能に挿嵌され、該プランジャ７６には後述する操作ピン８８のピン本体８８Ｂが当接している。
【００７６】
７７は昇降筒７４内に軸方向に移動可能に挿嵌されたチューブで、該チューブ７７は、後述するピストン８２、ピストンロッド８３、共通弁機構８５等と共にガススプリング装置７１を構成するものである。また、チューブ７７の下端側はキャップ７７Ａで閉塞され、該キャップ７７Ａの下側にはプラグ７７Ｂが固着されている。そして、チューブ７７は、プラグ７７Ｂが底板７３の取付穴７３Ａに嵌合した状態で止め輪７８で抜け止めされている。さらに、チューブ７７内には、下側寄りに位置してガス室Ｃを画成するフリーピストン７９が摺動可能に挿嵌され、該フリーピストン７９より上側には油液が充填されている。
【００７７】
８０はチューブ７７の上端側にかしめ固定されたロッドガイドで、該ロッドガイド８０の下側にはシール部材８１が設けられている。
【００７８】
８２はチューブ７７内に軸方向に摺動可能に挿嵌されたピストンで、該ピストン８２は、チューブ７７内を上側油室Ｄと下側油室Ｅとに画成している。
【００７９】
８３は一端側がチューブ７７内でピストン８２に取付けられ、他端側がロッドガイド８０等を介して突出したピストンロッドで、該ピストンロッド８３は、第１の実施例で述べたピストンロッド２２と同様に、中心がピン挿通穴８３Ａとなる中空軸として形成され、その他端側は段部８３Ｂを介して縮径部８３Ｃとなっている。また、縮径部８３Ｃは連結部材７５の挿通穴７５Ａに移動可能に挿通され、止め輪８４によって抜止めされている。
【００８０】
８５はピストン８２に設けられた本実施例による共通弁機構で、該共通弁機構８５は座部４の高さ調整をするための機能（第１の弁機構の機能）と座部４を自動的に上昇させるための機能（第２の弁機構の機能）とを兼ね備えている。即ち、共通弁機構８５は、ピストン８２の中心にピストンロッド８３のピン挿通穴８３Ａと同軸に形成された弁体挿通穴８６と、該弁体挿通穴８６と下側油室Ｄとを連通する流体通路をなす油通路８７と、前記弁体挿通穴８６、ピン挿通穴８３Ａ内に軸方向に移動可能に挿嵌された操作ピン８８と、前述した昇降筒７４とから大略構成されている。また、前記操作ピン８８は、油通路８７を連通、遮断する弁体８８Ａと、一端側が該弁体８８Ａに当接し、他端側がピン挿通穴８３Ａから上向きに伸長してプランジャ７６に当接したピン本体８８Ｂとから構成されている。
【００８１】
ここで、前記弁体８８Ａは、一端側が小径部８８Ａ1 となり、該小径部８８Ａ1 より先端が大径部８８Ａ2 となっている。これにより、弁体８８Ａは、ピストンロッド８３からピン本体８８Ｂが大きく突出した状態（無負荷状態）では、大径部８８Ａ2 を油通路８７よりも下側に配置させ、該油通路８７を介して油室Ｄ，Ｅ間を連通する。また、チューブ７７に下向きの荷重が作用してピストンロッド８３の段部８３Ｂが連結部材７５に当接した状態（着座状態）では、大径部８８Ａ2 で油通路８７を閉塞し、油室Ｄ，Ｅ間を遮断する。さらに、ピストンロッド８３の段部８３Ｂを連結部材７５に当接させた状態でレバー２６を操作したときには、上側油室Ｄと油通路８７（下側油室Ｅ）とを小径部８８Ａ1 の外周側を介して連通させる。
【００８２】
本実施例はこのように構成されるが、次に、本実施例によるガススプリング装置７１の作動について説明する。
【００８３】
まず、共通弁機構８５を自動弁機構として用いる場合について述べる。この場合には、座部４に着座することで昇降筒７４を下方に移動させると、プランジャ７６に当接した操作ピン８８が連結部材７５とピストンロッド８３の段部８３Ｂとが当接するまで（所定範囲）ピストンロッド８３内に押込まれる。これにより、弁体８８Ａの大径部８８Ａ2 が油通路８７を閉塞するから、油室Ｄ，Ｅ間を遮断して昇降筒７４の下方への移動をこの位置で規制する。
【００８４】
次に、共通弁機構８５を高さ調整用弁機構として用いる場合について説明する。この場合には、大径部８８Ａ2 で油通路８７を閉塞した状態からレバー２６によりプランジャ７６を介して操作ピン８８をさらに下向きに押動すると、弁体８８Ａの小径部８８Ａ1 の外周側を介して油室Ｄ，Ｅ間が連通するから、油室Ｄ，Ｅ間で油液を流通させることができ、この状態で昇降筒７４、ピストンロッド８３を下向きに押圧することで座部４の高さ位置を低くすることができる。
【００８５】
さらに、共通弁機構８５を再度自動弁機構として用いる場合について述べる。この場合には、座部４から離座して昇降筒７４への外力を取除き、無負荷状態とすると、ガス室Ｃ内のガス圧の作用によって上側油室Ａ内の油液が弁体８８Ａをピストン８２に対して上側に移動する。これにより、油通路８７を介して油室Ｄ，Ｅ間が連通するから、昇降筒７４、ピストンロッド８３を自動的に上側に移動させることができる。
【００８６】
かくして、このように構成された本実施例においても、前記各実施例とほぼ同様の作用効果を得ることができる。
【００８７】
次に、図９は本発明の第４の実施例を示すに、本実施例の特徴は、共通弁機構をチューブ側に設けたことにある。なお、本実施例では、前述した第１の実施例と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【００８８】
９１は本実施例によるガススプリング装置、９２は該ガススプリング装置９１の外周側に設けられた支持筒体で、該支持筒体９２は底板９３を有する有底円筒状に形成され、該底板９３の中央には、後述するピストンロッド１０６が取付けられる取付穴９３Ａが設けられている。
【００８９】
９４は支持筒体９２の開口から軸方向に移動可能に突出した昇降筒で、該昇降筒９４は、後述する共通弁機構１０８の一部を構成するもので、その上端側内周には連結部材９５がかしめ固定され、該連結部材９５は昇降筒９４と共に取付部材を構成している。また、連結部材９５の中央には、後述するキャップ９８の小径筒９８Ｂが摺動可能に挿通する挿通穴９５Ａが形成されている。さらに、昇降筒９４内には、連結部材９５の上側に位置してプランジャ９６が摺動可能に挿嵌され、該プランジャ９６には後述する操作ピン１１２のピン本体１１２Ｂが当接している。
【００９０】
９７は昇降筒９４内に軸方向に移動可能に挿嵌されたチューブで、該チューブ９７は、後述するピストン１０５、ピストンロッド１０６、共通弁機構１０８等と共にガススプリング装置９１を構成するものである。また、チューブ９７の上端側はキャップ９８で閉塞され、該キャップ９８は、チューブ９７に固着された大径筒９８Ａと、該大径筒９８Ａの中央から上向きに突出した小径筒９８Ｂと、該大径筒９８Ａ、小径筒９８Ｂの中央を軸方向に貫通したピン挿通穴９８Ｃとから段付筒状に形成され、前記小径筒９８Ｂが連結部材９５の挿通穴９５Ａに挿通され、止め輪９９によって抜止めされている。
【００９１】
さらに、チューブ９７内には円筒状のシリンダ１００が配設され、該シリンダ１００とチューブ９７との間には環状通路１０１が形成されている。また、シリンダ１００は、その上端部が後述の弁ケース１０９に嵌合されると共に下端部が支持部材１０２に嵌合され、これによりチューブ９７内に位置決めされている。また、前記支持部材１０２には、前記環状通路１０１を後述する下側ガス室Ｇに連通する切欠溝１０２Ａが形成されている。そして、シリンダ１００内には加圧ガスと潤滑用の油液が封入されている。
【００９２】
また、１０３はチューブ９７の下端側にかしめ固定されたロッドガイドで、該ロッドガイド１０３の上側には、シリンダ１００内を気密、かつ液密にシールするシール部材１０４が設けられている。
【００９３】
１０５はシリンダ１００内に軸方向に摺動可能に挿嵌されたピストンで、該ピストン１０５は、シリンダ１００内を上側ガス室Ｆと下側ガス室Ｇとに画成している。
【００９４】
１０６は一端側がシリンダ１００内でピストン１０５に取付けられ、他端側がロッドガイド１０３等を介して突出したピストンロッドで、該ピストンロッド１０６の他端側は、底板９３の取付穴９３Ａにクリップ１０７によって抜止めされている。
【００９５】
１０８はチューブ９７の上端側に設けられた本実施例による共通弁機構で、該共通弁機構１０８は、座部４の高さ調整をするための機能（第１の弁機構の機能）と座部４を自動的に上昇させるための機能（第２の弁機構の機能）とを兼ね備えている。即ち、共通弁機構１０８は、チューブ９７の上端側内周に嵌合された円筒状の弁ケース１０９と、該弁ケース１０９の中心にキャップ９８のピン挿通穴９８Ｃと同軸に形成された弁体挿通穴１１０と、前記弁ケース１０９の径方向に穿設され、該弁体挿通穴１１０と連通した流体通路をなすガス通路１１１と、前記弁体挿通穴１１０、ピン挿通穴９８Ｃ内に軸方向に移動可能に挿嵌された操作ピン１１２と、前述した昇降筒９４とから大略構成され、前記ガス通路１１１は、チューブ９７とシリンダ１００との間の環状通路１０１、支持部材１０２の切欠溝１０２Ａを介して下側ガス室Ｇに連通している。また、前記操作ピン１１２は、前記ガス通路１１１を連通、遮断する弁体１１２Ａと、一端側が該弁体１１２Ａに当接し、他端側がピン挿通穴９８Ｃを上向きに伸長したピン本体１１２Ｂとから構成され、前記ピン本体１１２Ｂの他端はプランジャ９６に当接している。
【００９６】
ここで、前記弁体１１２Ａは、一端側が小径部１１２Ａ1 となり、該小径部１１２Ａ1 より先端が大径部１１２Ａ2 となっている。これにより、弁体１１２Ａは、キャップ９８からピン本体１１２Ｂが大きく突出した状態（無負荷状態）では、大径部１１２Ａ2 をガス通路１１１よりも下側に配置させ、該ガス通路１１１を介してガス室Ｆ，Ｇ間を連通する。また、昇降筒９４に下向きの荷重が作用して連結部材９５がキャップ９８の大径筒９８Ａに当接した状態（着座状態）では、大径部１１２Ａ2 でガス通路１１１を閉塞し、ガス室Ｆ，Ｇ間を遮断する。さらに、キャップ９８の大径筒９８Ａを連結部材９５に当接させた状態でレバー２６を操作したときには、上側ガス室Ｆとガス通路１１１（下側ガス室Ｇ）とを小径部１１２Ａ1 の外周側を介して連通させる。
【００９７】
本実施例はこのように構成されるが、次に、本実施例によるガススプリング装置９１の作動について説明する。
【００９８】
まず、共通弁機構１０８を自動弁機構として用いる場合について述べる。この場合には、座部４に着座することで昇降筒９４を下方に移動させると、プランジャ９６に当接した操作ピン１１２が連結部材９５とキャップ９８の大径筒９８Ａとが当接するまで（所定範囲）該キャップ９８内に押込まれる。これにより、弁体１１２Ａの大径部１１２Ａ2 がガス通路１１１を閉塞するから、ガス室Ｆ，Ｇ間を遮断して昇降筒９４の下方への移動をこの位置で規制する。
【００９９】
次に、共通弁機構１０８を高さ調整用弁機構として用いる場合について説明する。この場合には、大径部１１２Ａ2 でガス通路１１１を閉塞した状態からレバー２６によりプランジャ９６を介して操作ピン１１２をさらに下向きに押動すると、弁体１１２Ａの小径部１１２Ａ1 の外周側を介してガス室Ｆ，Ｇ間が連通するから、該ガス室Ｆ，Ｇ間でガスを流通させることができ、この状態で昇降筒９４、シリンダ１００を下向きに押圧することで座部４の高さ位置を低くすることができる。
【０１００】
さらに、共通弁機構１０８を再度自動弁機構として用いる場合について述べる。この場合には、座部４から離座して昇降筒９４への外力を取除き、無負荷状態とすると、上側ガス室Ｆ内のガス圧の作用によって弁体１１２Ａを上側に移動する。これにより、ガス通路１１１を介してガス室Ｆ，Ｇ間が連通するから、昇降筒９４、シリンダ１００を自動的に上側に移動させることができる。
【０１０１】
かくして、このように構成された本実施例においても、前記各実施例とほぼ同様の作用効果を得ることができる。
【０１０２】
なお、前記各実施例では、支持筒体１１，４２，７２，９２内にリターン機構３１を設けた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、リターン機構を省略してもよい。
【０１０３】
また、前記各実施例では、ガススプリング装置１，４１，７１，９１の支持筒体１１，４２，７２，９２にポスト３を設けるものとして述べたが、これに替えて、例えばポストを廃止してガススプリング装置の支持筒体を直接床面に固定するようにしてもよい。
【０１０４】
また、前記各実施例では、椅子２の支柱としてガススプリング装置１，４１，７１，９１を用いており、この場合、ガススプリング装置１，４１，７１，９１自体が縦荷重や横荷重を受けるため、これらの外力に耐えうるように支持筒体１１，４２，７２，９２でガイドする構成としているが、これに限らず、例えば、ガススプリング装置を安楽椅子等のリクライニング機構に用いてもよく、この場合には、リンク機構等によって外力を受けることができるため、支持筒体を省略することができる。
【０１０５】
さらに、前記第１の実施例では、高さ調整用弁機構２４をチューブ１５の上端部に設けたが、高さ調整用弁機構をロッドガイド側に設けてもよい。
【０１０６】
また、前記第１の実施例では、自動弁機構２７をピストン２１に設け、高さ調整用弁機構２４をチューブ１５の上端部に設けたが、自動弁機構をチューブ上端部またはロッドガイドに設け、高さ調整用弁機構をピストンに設ける構成としてもよい。
【０１０７】
また、前記第３の実施例では、チューブ７７内にフリーピストン７９を設け、該フリーピストン７９の下側をガス室Ｃとし、上側を油室Ｄ，Ｅとした場合を例示したが、本発明はこれに限らず、例えば、第１、第２、第４の実施例のように、フリーピストンを廃止して上，下のガス室を設ける構成としてもよい。
【０１０８】
さらにまた、前記第４の実施例では、共通弁機構１０８をチューブ９７のキャップ９８側に設けたが、共通弁機構をロッドガイド側に設けてもよい。
【０１０９】
【発明の効果】
以上詳述した通り、請求項１の発明によれば、チューブ、ピストンロッドに軸方向から外力を作用させたときには、第２の弁機構によって２室間を遮断して、チューブに対するピストンロッドの軸方向位置を固定することができる。また、チューブに対するピストンロッドの突出量を大きくする場合には、チューブ、ピストンロッドに作用している軸方向の外力を除くことにより、第２の弁機構によって２室間を連通させて、ピストンロッドをチューブ内のガス圧によって自動的に突出させることができるから、ピストンロッドの突出途中でチューブ、ピストンロッドに再び外力を作用させることにより、第２の弁機構で２室間を遮断し、この位置でピストンロッドを固定することができる。しかも、チューブ、ピストンロッドへの外力を除いたままの状態とすることにより、第２の弁機構によって２室間を連通した状態として、ピストンロッドを最大突出量まで自動的に突出させることができる。
【０１１０】
従って、例えばガススプリング装置を椅子に用いた場合には、チューブまたはピストンロッドに取付けた座部に着座または離座することにより、第２の弁機構で各ガス室間を遮断または連通させることができるから、座部の高さ位置を上げる場合には、従来技術のようにレバー等を操作することなく、該座部から軽く腰を浮かせるだけで各ガス室間を連通させて高さ位置を容易に調整することができ、取扱いを容易にすることができる。
【０１１１】
また、座部から離座し、チューブ、ピストンロッドへの外力を取除いた無負荷状態としたままでは、座部を最大高さ位置まで自動的に上昇させることができ、整列の手間を省くことができる上に、見栄えを良くすることができる。
【０１１２】
請求項２の発明によれば、取付部材をピストンロッドまたはチューブに対し軸方向に相対移動させ、操作ピンの先端をピストンロッドまたはチューブから突出させることにより、該操作ピンによって流体通路を連通させることができるから、ピストンロッドを伸長させることができる。また、取付部材によって操作ピンの先端をピストンロッドまたはチューブに押込むことにより、該操作ピンによって流体通路を遮断することができるから、この位置でピストンロッドを位置決めすることができる。
【０１１３】
請求項３の発明によれば、一つの流体通路、操作ピンおよび取付部材によって第１の弁機構と第２の弁機構を構成することができるから、部品点数を削減して、ガススプリング装置の小型化、製造コストの低減等を図ることができる。
【０１１４】
請求項４の発明によれば、第２の弁機構によって流体通路を連通させた場合には、該流体通路を流通する流体に大きな流通抵抗を与えてチューブの突出速度を抑えることができる。従って、例えばチューブに座部を取付けてガススプリング装置を椅子の一部として用いた場合には、座部から僅かな時間だけ立上がったときの該座部の上昇量を小さく抑えることができ、再着座時の高さ調整量を少なく、または省略することができ、取扱いを容易にすることができる。
【０１１５】
請求項５の発明によれば、回転方向の外力によりチューブ側の被取付物とピストンロッド側の被取付物とを相対回転させても、この回転方向の外力を除いたときにはリターン機構によって原回転位置に戻すことができ、例えば椅子に用いた場合に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例によるガススプリング装置を用いた椅子を示す一部破断の外観図である。
【図２】図１中のガススプリング装置を拡大して示す縦断面図である。
【図３】高さ調整用弁機構等を示す要部拡大縦断面図である。
【図４】自動弁機構等を示す要部拡大縦断面図である。
【図５】座部に着座した状態のガススプリング装置を示す図２と同様位置からみた縦断面図である。
【図６】レバーによってプランジャを押下げた状態のガススプリング装置を示す図２と同様位置からみた縦断面図である。
【図７】本発明の第２の実施例によるガススプリング装置を示す縦断面図である。
【図８】本発明の第３の実施例によるガススプリング装置を示す縦断面図である。
【図９】本発明の第４の実施例によるガススプリング装置を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１，４１，７１，９１  ガススプリング装置
２  椅子
３  ポスト（被取付物）
４  座部（被取付物）
１１，４２  支持筒体（取付部材）
１２，４３  底板（取付部材）
１４，４５  ピン受（取付部材）
１５，４８，７７，９７  チューブ
２１，５４，８２，１０５  ピストン
２２，５５，８３，１０６  ピストンロッド
２４  高さ調整用弁機構（第１の弁機構）
２４Ｂ，２９，５９，１１１  ガス通路（流体通路）
２７  自動弁機構（第２の弁機構）
３０，６０，８８，１１２  操作ピン
３１  リターン機構
５７，８５，１０８  共通弁機構（第１の弁機構、第２の弁機構）
７４，９４  昇降筒（取付部材）
７５，９５  連結部材（取付部材）
８７  油通路（流体通路）
Ａ，Ｆ  上側ガス室
Ｂ，Ｇ  下側ガス室
Ｃ  ガス室
Ｄ  上側油室
Ｅ  下側油室
【図１】
0003795619.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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