(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の蒸着室を有する蒸着装置に支持基板を投入し、前記支持基板上に少なくとも発光層を含む有機層を一対の電極により狭持してなる有機ＥＬ素子を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬパネルの製造方法であって、
前記各蒸着室の生産条件及び生産数量を少なくとも含む生産管理情報を前記有機ＥＬパネルの機種毎に設定するライン端末と、
前記機種に応じた複数の蒸着マスクを真空雰囲気中に保管する第１のストック部と、
前記有機ＥＬ素子を気密的に覆うための封止基板と前記支持基板とを紫外線硬化型接着剤を介し接合するための封止装置と、
前記封止装置にて用いられる前記機種に応じた複数の紫外線照射マスクを窒素雰囲気中に保管する第２のストック部とを備え、
前記生産管理情報に基づいて、前記蒸着工程内の前記蒸着室に装着されている蒸着マスクから前記第１のストック部に保管されている前記機種に応じた蒸着マスクに交換装置を用いて交換し、前記封止装置に装着されている紫外線照射マスクから前記第２のストック部に保管されている前記機種に応じた紫外線照射マスクに交換装置を用いて交換することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項２】
前記蒸着工程は、前記ライン端末によって複数の前記生産管理情報を記憶してなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項３】
前記蒸着工程は、前記ライン端末によってカウント手段を介して前記支持基板の投入数量をカウントするとともに、前記投入数量が、予め定められた前記生産数量に達した時点もしくは前記生産数量から所定数量少ない目標数量に達した際に、次なる機種の搬送ルートに伴う前記蒸着室の加熱を開始させることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項４】
前記蒸着工程は、前記ライン端末によってカウント手段を介して前記支持基板の投入数量をカウントするとともに、現生産機種の前記生産数量の終了を確認すると、前記現生産機種が前記蒸着工程内に存在する場合であっても、次なる機種の支持基板を前記蒸着工程に投入することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項５】
前記蒸着工程は、前記ライン端末によって前記機種毎の生産条件の履歴を記憶してなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
前記支持基板を前記蒸着工程に投入する支持基板供給工程を含み、前記支持基板供給工程は、投入される支持基板が前記機種に応じた適正なる支持基板であるか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項７】
前記封止基板を前記封止工程に投入する封止基板供給工程を含み、前記封止基板供給工程は、投入される封止基板が前記機種に応じた適正なる封止基板であるか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも一方が透光性の一対の電極により挟持され所定の発光をなす有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）を備えた有機ＥＬパネルを得るための製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
自発光素子であるためバックライト照明が不要であること、視野角が広く、大型の表示パネルに適すること等から有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネルが注目されている。
【０００３】
このような有機ＥＬパネルは、ガラス材料からなる支持基板である透光性基板の所定箇所に、所定パターンの透明電極を形成し、前記透明電極上に絶縁層，正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層を順次積層して有機層を形成し、前記有機層上に電子注入層及び背面電極を積層形成して有機ＥＬ素子を得て、前記有機ＥＬ素子を封止基板によって気密的に覆うことで得られるものである。
【０００４】
かかる有機ＥＬパネルの製造方法は、前記有機ＥＬ素子を構成する各部（正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層，電子注入層，背面電極）に対応する複数の蒸着室を有する蒸着装置に前記透光性基板に投入し、前記蒸着装置に備えられる各蒸着室を制御するコントロール装置によって設定される蒸着温度及び前記各層の膜厚等の生産条件に基づいて、前記透光性基板上に前記有機ＥＬ素子を形成するとともに、前記有機ＥＬ素子が形成される前記透光性基板を封止装置内に投入し、前記有機ＥＬ素子を覆うように前記透光性基板と前記封止基板とを接合することで有機ＥＬパネルを得ることが一般的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような有機ＥＬパネルの製造方法では、例えば表示形態で分類される前記有機ＥＬパネルの機種に応じて、前記蒸着装置の各蒸着室における蒸着部材の選定（例えば、発光層の発光色に伴う材料選定）や前記生産条件の設定を前記機種毎に前記コントロール装置によって設定しなければならず、また各蒸着室における蒸着マスクの交換作業も必要であり、段取り換えに時間を要してしまうといった問題点を有している。
【０００６】
また、前記段取り換えにおいて、各蒸着室に備えられる蒸着マスクを交換させる必要があるが、前記各蒸着室の前記蒸着マスクを交換する場合は、前記各蒸着室に備えられる開閉扉を開いて前記蒸着室内を大気にさらす状態で前記蒸着マスクを交換しなければならない。そのため前記各蒸着室内を排気し真空状態にして蒸着可能状態にするに時間を要するため、前述した前記蒸着装置では、車両用や民生機器等の多機種を有する表示パネルの製造工程に適さないといった問題点を有している。
【０００７】
そこで、本発明は、前述した問題点に着目し、多機種を流動させる場合であっても段取り換えに時間を要せず、有機ＥＬパネルの生産性を向上させることが可能な有機ＥＬパネルの製造方法を提供するものである。
【０００８】
本発明は、前記課題を解決するため、請求項１に記載の本発明は、複数の蒸着室を有する蒸着装置に支持基板を投入し、前記支持基板上に少なくとも発光層を含む有機層を一対の電極により狭持してなる有機ＥＬ素子を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記各蒸着室の生産条件及び生産数量を少なくとも含む生産管理情報を前記有機ＥＬパネルの機種毎に設定するライン端末と、前記機種に応じた複数の蒸着マスクを真空雰囲気中に保管する第１のストック部と、前記有機ＥＬ素子を気密的に覆うための封止基板と前記支持基板とを紫外線硬化型接着剤を介し接合するための封止装置と、前記封止装置にて用いられる前記機種に応じた複数の紫外線照射マスクを窒素雰囲気中に保管する第２のストック部とを備え、前記生産管理情報に基づいて、前記蒸着工程内の前記蒸着室に装着されている蒸着マスクから前記第１のストック部に保管されている前記機種に応じた蒸着マスクに交換装置を用いて交換し、前記封止装置に装着されている紫外線照射マスクから前記第２のストック部に保管されている前記機種に応じた紫外線照射マスクに交換装置を用いて交換するものである。
【０００９】
また、請求項２に記載の本発明は、前記蒸着工程は、前記ライン端末によって複数の前記生産管理情報を記憶してなるものである。
【００１０】
また、請求項３に記載の本発明は、前記蒸着工程は、前記ライン端末によってカウント手段を介して前記支持基板の投入数量をカウントするとともに、前記投入数量が、予め定められた前記生産数量に達した時点もしくは前記生産数量から所定数量少ない目標数量に達した際に、次なる機種の搬送ルートに伴う前記蒸着室の加熱を開始させるものである。
【００１１】
また、請求項４に記載の本発明は、前記蒸着工程は、前記ライン端末によってカウント手段を介して前記支持基板の投入数量をカウントするとともに、現生産機種の前記生産数量の終了を確認すると、前記現生産機種が前記蒸着工程内に存在する場合であっても、次なる機種の支持基板を前記蒸着工程に投入するものである。
【００１２】
また、請求項５に記載の本発明は、前記蒸着工程は、前記ライン端末によって前記機種毎の生産条件の履歴を記憶してなるものである。
【００１５】
また、請求項６に記載の本発明は、前記支持基板を前記蒸着工程に投入する支持基板供給工程を含み、前記支持基板供給工程は、投入される支持基板が前記機種に応じた適正なる支持基板であるか否かを判定するものである。
【００１６】
また、請求項７に記載の本発明は、前記封止基板を前記封止工程に投入する封止基板供給工程を含み、前記封止基板供給工程は、投入される封止基板が前記機種に応じた適正なる封止基板であるか否かを判定するものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づき説明する。
【００１８】
図１及び図２は、本発明の有機ＥＬパネルの製造方法を達成するための製造装置の一例を示すものである。有機ＥＬパネルの製造装置は、蒸着装置Ａと、封止装置Ｂと、コントロール装置Ｃと、ライン端末Ｄと、透光性基板（支持基板）投入装置Ｅと、接着剤塗布装置Ｆと、封止基板投入装置Ｇと、取り出し装置Ｈとから構成されている。
【００１９】
蒸着装置Ａは、第１，第２のブロックａ，ｂを有しており、各ブロックａ，ｂ内は真空状態が確保されている。第１のブロックａは、プラズマ処理工程である前処理室a１と、正孔注入層形成工程である第１蒸着室a２と、正孔輸送層形成工程である第２蒸着室a３と、第１発光層形成工程である第３蒸着室a４と、第２発光層形成工程である第４蒸着室a５と、第１ブロックａの各蒸着室a２，ａ３，a４，a５における有機ＥＬパネルの表示形態に応じた蒸着マスク（機種毎の蒸着マスク）を保管する第１蒸着マスク保管室（第１のストック部）a６と、透光性基板投入装置Ｅに接続され、支持基板である透光性基板を蒸着装置Ａ内に投入するための投入室ａ７とを有している。前述した各部屋間の透光性基板の搬送は、サーボモータ等の駆動手段によって回転可能に設けられ、前記各部屋の奥行き方向及び高さ方向に移動可能な搬送ロボット（交換装置）a８が用いられている。また各蒸着室a２，ａ３，a４，a５、前処理室ａ１及び第１蒸着マスク保管室ａ６には、メンテナンスを行うための開閉扉ａ９がそれぞれ設けられている。
【００２０】
蒸着装置Ａの第２のブロックｂは、第３発光層形成工程である第５蒸着室ｂ１と、第４発光層形成工程である第６蒸着室ｂ２と、電子輸送層形成工程である第８蒸着室ｂ３と、電子注入層形成工程である第７蒸着室ｂ４と、背面電極形成工程である第９蒸着室ｂ５と、第２のブロックｂの各蒸着室ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における有機ＥＬパネルの表示形態に応じた蒸着マスク（機種毎の蒸着マスク）を保管する第２蒸着マスク保管室（第１のストック部）ｂ６とを有している。前述した各部屋間の透光性基板の搬送は、サーボモータ等の駆動手段によって回転可能に設けられ、前記各部屋の奥行き方向及び高さ方向に移動可能な搬送ロボット（交換装置）ｂ７が用いられいる。また各蒸着室ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５及び第２蒸着マスク保管室ｂ６には、メンテナンスを行うための開閉扉ｂ８がそれぞれ設けられている。
【００２１】
また、蒸着装置Ａの第１，第２のブロックａ，ｂ間には、各部ブロックａ，ｂを接続する第１受渡室Ｊが設けられている。第１受渡室Ｊは、第１ブロックａ側及び第２ブロックｂ側にそれぞれ設けられるシャッター機構と、各シャッター機構間に設けられ、後述する透光性基板を第１のブロックａ側から第２のブロックｂ側へと搬送するスライド機構とが設けられ、各ブロックａ，ｂにそれぞれ設けられる搬送ロボットａ８，ｂ７によって前記透光性基板の受け渡しがなされる。
【００２２】
ここで、図３を用いて、蒸着装置Ａの第１，第２ブロックａ，ｂに配設されている各蒸着室（ａ２〜ａ５，ｂ１〜ｂ５）について説明する。蒸着室は、排気ポート１を介して図示しない真空ポンプで高真空に排気された真空室２を有している。真空室２の下側には、蒸着材料３を収納するルツボ（クヌンセンセル）４が配設されており、このルツボ４には、加熱コイル５が捲回されるとともに、加熱コイル５による加熱温度を正確にルツボ４に伝達するための熱遮蔽板６がルツボ４及び加熱コイル５の外側を覆うように配設される。またルツボ４には、ルツボ４の温度を検出するための熱電対等からなる温度センサ７が設けられている。温度センサ７は、後述する生産管理情報に基づいて各蒸着室の蒸着温度制御を行うためのコントロール装置Ｃへ蒸着温度データを出力するもので、コントロール装置Ｃは、前記生産管理情報に基づく蒸着温度になるように加熱コイル５に対してフィードバック制御（電流量調整）を行い、ルツボ４の温度を前記生産管理情報に基づく適正温度になるように制御するものである。
【００２３】
一方、真空室２の上側には、ガラス材料からなり、正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層，電子注入層及び背面電極を形成するための透光性基板８を備えた基板ホルダー９と、透光性基板８に所定の蒸着パターンを形成するための蒸着マスク１０を備えたマスクホルダー１１とを、ルツボ４が配設される蒸着源に対し位置決め保持するための保持機構１２が備えられている。
【００２４】
また、真空室２内において、ルツボ４と透光性基板８との間には、成膜される各層の厚みを制御するシャッター１３と、膜の厚みをモニタする膜厚計１４とが配設される。従ってコントロール装置Ｃは、成膜領域１５を膜厚計１４によってモニタし、この膜厚計１４によって得られた成膜データに基づいて所定の演算を行い、この演算結果から透光性基板８に形成される膜厚を算出するとともに、シャッター１３を動作（シャッター１３の開閉動作）させることで膜厚を管理する。
【００２５】
封止装置Ｂは、封止基板と透光性基板８とを紫外線硬化型接着剤（以下、ＵＶ硬化型接着剤という）を介し接合するため、両部材を重ね合わせた状態で紫外線を照射させる封止室Ｂ１と、有機ＥＬパネルの表示形態（機種）に応じて紫外線照射マスク（以下、ＵＶ照射マスクという）を保管するＵＶ照射マスク保管室（第２のストック部）Ｂ２と、封止基板を封止装置Ｂ内に投入するための投入部Ｂ３と、封止室Ｂ１を経て得られた有機ＥＬパネルを外部に搬出する取出装置Ｈと接続される排出部Ｂ４と、接着剤塗布装置Ｆと投入室Ｂ３との間に設けられ、封止基板に吸着剤を塗布する吸着剤塗布室Ｂ５とを有しており、封止装置Ｂ内は窒素によって満たされている。また前記各部屋間の封止基板の搬送は、サーボモータ等の駆動手段によって回転可能に設けられ、前記各部屋の奥行き方向及び高さ方向に移動可能な搬送ロボット（交換装置）Ｂ６が用いられる。また、封止室Ｂ１及びＵＶ照射マスク保管室Ｂ２には、メンテナンス用の開閉扉Ｂ７がそれぞれ設けられている。
【００２６】
ここで、図４を用いて、封止装置Ｂに備えられる封止室Ｂ１について説明する。封止室Ｂ１は、排気ポート２０を介して図示しない真空ポンプで室内が略真空状態になるように排気され、窒素導入口２１から窒素が導入されることで、酸素の濃度が１００ｐｐｍ以下及び露点が−７０℃以下の窒素室２２が設けられている。窒素室２２の略中央には、透光性基板８上に形成される有機ＥＬ素子を気密的に覆うためのガラス材料からなる封止基板２３を乗せるための載置台２４をシリンダー等の駆動手段によって上方に移動させる上昇機構２５が設けられている。また、上昇機構２５の載置台２４上に、ゴム等の弾性部材２６が配設され、この弾性部材２６上に封止基板２３が配置される。この弾性部材２６は、封止基板２３と透光性基板８とを接合させる際に、上昇機構２５側から透光性基板８側に対し所定の圧力が付与されることになるが、圧力付与による封止基板２３の割れを防止するとともに、載置台２４からの加圧分布を均一なものとし良好な封止を得ることが可能となる。
【００２７】
一方、窒素室２２の上側には、透光性基板８と封止基板２３とをＵＶ硬化型接着剤を介して接合させるため、紫外線を照射するための紫外線照射装置（以下、ＵＶ照射装置という）２６が配設されて、ＵＶ照射装置４０の下方には、マスクホルダー２７を介して配設されるＵＶ照射マスク２８と、基板ホルダー９を介して配設される透光性基板（有機ＥＬ素子が形成された状態の透光性基板）８とを保持するための保持機構２９が設けられている。
【００２８】
かかる封止室Ｂ１は、上昇機構２５によって封止基板２３を上昇させ、透光性基板８に対し所定の圧力を付与した状態で封止基板２３を当接させた後、ＵＶ照射装置４０からの紫外線をＵＶ照射マスク２８を介してＵＶ硬化型接着剤の塗布位置に照射させることで、両部材を気密性良く封止するものである。
【００２９】
蒸着装置Ａの第２のブロックｂと封止装置Ｂとの間には、両装置Ａ，Ｂ間を接続する第２受渡室Ｋが設けられている。第２受渡室Ｋは、蒸着装置Ａ側及び封止装置Ｂ側にそれぞれ設けられるシャッター機構と、各シャッター機構間に設けられ、透光性基板８を蒸着装置Ａから封止装置Ｂ側へと搬送するスライド機構とが設けられ、両装置Ａ，Ｂにそれぞれ設けられる搬送ロボットｂ７，Ｂ６によって透光性基板８の受け渡しがなされる。
【００３０】
コントロール装置Ｃは、蒸着装置Ａ及び封止装置Ｂを制御するものである。コントロール装置Ｃは、蒸着装置Ａの第１のブロックａの前処理室ａ１のプラズマ処理に伴う制御、第１のブロックａの各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５及び第２のブロックｂの各蒸着室ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における蒸着温度調整，成膜の膜厚調整、生産管理情報に応じて決定される搬送ルートに伴う各搬送ロボットａ８，ｂ７，Ｂ６の駆動制御、封止装置Ｂの封止室Ｂ１における封止処理等を行わせるものであり、蒸着装置Ａ及び封止装置Ｂにおける駆動系全般の制御を行う制御手段である。
【００３１】
ライン端末Ｄは、生産数量、有機ＥＬ素子の形成パターンに基づく蒸着マスクの種類及びＵＶ照射マスクの種類、透光性基板８及び封止基板２３の投入枚数、蒸着装置Ａの各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における蒸着温度（各蒸着室のルツボの温度），有機ＥＬ素子を構成する各層の膜厚及び前記有機ＥＬパネルの発光層の種類等の蒸着に関する生産条件等の生産管理情報を有機ＥＬパネルの機種毎に設定するとともに、前記機種毎に前記生産管理情報を記憶するもので、パーソナルコンピュータやシーケンサ等によって構成されている。前記生産管理情報を設定及び表示するものとして、例えばタッチパネルが備えられている。
【００３２】
ライン端末Ｄは、コントロール装置Ｃと透光性基板投入装置Ｅと封止基板投入装置Ｇと接着剤塗布装置Ｆとにネットワーク接続され、コントロール装置Ｃには、機種及び前記機種に伴う各蒸着室の生産条件に関するデータを転送し、透光性基板投入装置Ｅ，封止基板投入装置Ｇ及び接着剤塗布装置Ｆには、機種及び生産数量に関するデータが転送される。
【００３３】
透光性基板投入装置Ｅは、ライン端末Ｄから転送される前記生産管理情報に基づいて、透明電極及び絶縁層が形成された透光性基板８を蒸着装置Ａに投入するものであり、洗浄工程を終えた透光性基板８をコンベア等の搬送手段を介して徐々に真空雰囲気にするための複数のブロック（部屋）を有するとともに、蒸着装置Ａの第１ブロックａにおける投入部ａ７に接続される。
【００３４】
透光性基板投入装置Ｅは、投入される透光性基板８が機種に伴う適正なる透光性基板であるか否かを判定する誤投入判定機能を有している。前記誤投入判定機能は、例えば所定の判定パターンが形成された透光性基板８を用意し、この判定パターンをＣＣＤカメラを用いて、２次元判定処理を行うことで、投入される透光性基板が適正なる機種の透光性基板であるか否かを判定し、誤投入である場合に透光性基板性入装置Ｅによる基板投入動作を停止し、誤投入なる警報を発して製造ラインの作業者に知らせるものである。
【００３５】
封止基板投入装置Ｇは、ライン端末Ｄから転送される前記生産管理情報に基づいて、洗浄工程後の封止基板２３を接着剤塗布装置Ｆに投入するものである。
【００３６】
封止基板投入装置Ｇは、投入される封止基板２３が機種に伴う適正なる封止基板２３であるか否かを判定する誤投入判定機能を有している。前記誤投入判定機能は、例えば所定の判定パターンが形成された封止基板２３を用意し、この判定パターンを透過型のラインセンサを用いて、前記判定パターンのコード信号を判定することで、投入される封止基板２３が適正なる機種の封止基板２３であるか否かを判定し、誤投入である場合に封止基板性入装置Ｇによる基板投入動作を停止し、誤投入なる警報を発して製造ラインの作業者に知らせるものである。
【００３７】
接着剤塗布装置Ｆは、ライン端末Ｄから転送される前記生産管理情報に基づいて、封止基板２３にＵＶ硬化型接着剤を塗布する。接着剤塗布装置Ｆは、例えばＸ−Ｙ−Ｚ方向に移動可能なロボットにディスペンサが取り付けられてなるものである。接着剤塗布装置Ｆは、ライン端末Ｄから転送される機種データに基づいて、適正なる塗布パターンを選定しこの塗布ターンによって前記接着剤を封止基板２３の透光性基板８との接合面に塗布してなるものである。
【００３８】
取出装置Ｈは、封止装置Ｂの排出部Ｂ４に接続され、コンベア等の搬送手段によって封止工程後の有機ＥＬパネルを取り出すものである。
【００３９】
以上の各部によって有機ＥＬパネルの製造装置が構成されている。
【００４０】
次に、図２から図６を用いて、有機ＥＬパネルの製造方法を説明する。
【００４１】
まず、ライン端末Ｄにおいて、製造装置によって製造される流動予定である有機ＥＬパネルの生産管理情報を設定する（ステップＳ１）。
【００４２】
生産管理情報は、有機ＥＬパネルの形状や発光パターン等によって分類される機種毎に設定されるものである。ライン端末Ｄによって設定される生産管理情報は、蒸着装置Ａの各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における蒸着温度（各蒸着室のルツボの温度），有機ＥＬ素子を構成する各層の膜厚，前記有機ＥＬパネルの発光層の種類（材料）等の蒸着に関する生産条件と、生産数量と、透光性基板８及び封止基板２３の投入枚数等がある。ここで設定される生産管理情報は、機種毎にライン端末Ｄが有するハードディスクやバックアップＲＡＭ等の記憶装置（図示しない）に記憶されるとともに、次なる有機ＥＬパネルの製造において同機種の場合は、前記記憶装置から前記機種に応じた生産管理情報が読み出されることになる。また、生産管理情報のバックアップ手段としては、例えば書換型光磁気ディスク（ＭＯ）等が用いられる。
【００４３】
前記生産管理情報の生産条件において、有機ＥＬ素子を構成する各層の膜厚は、図３で示すように各蒸着室のシャッター１３の開閉タイミングによって管理される。また前記生産条件によって発光層の材料が選定されると、蒸着装置Ａにおける第４，第５，第６蒸着室ａ５，ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室が選択され、透光性基板８の搬送ルートが決定される。尚、ここで説明する製造装置は、発光層を形成する工程が４工程（第３，第４，第５，第６蒸着室ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２）用意され、それぞれの発光層形成工程における発光層の種類は異なる。また、発光層以外の各層については、蒸着温度及び膜厚調整は可能であるが、発光層の種類が異なる場合であっても各層を構成する材料は共通であるものとする。
【００４４】
次に、前記生産管理情報が設定されたライン端末Ｄは、製造装置によって有機ＥＬパネルの製造を開始させるべくスタート指令（スタートスイッチの入力）が入力されると、コントロール装置Ｃに対し機種に応じた段取り換え指令を出力するとともに、透光性基板（支持基板）投入工程である透光性基板投入装置Ｅ，ＵＶ接着剤塗布工程である接着剤塗布装置Ｆ及び封止基板投入工程である封止基板投入装置Ｇに機種及び投入枚数（生産数量）の機種切り換え指令を出力する。
【００４５】
前記段取り換え指令を受けたコントロール装置Ｃは、蒸着装置Ａにおける第１，第２のブロックａ，ｂの搬送ルートに位置する各蒸着室に配設されている蒸着マスク１０を機種（例えば、０００１なる機種）に応じた蒸着マスク１０に交換させるべく各搬送ロボットａ８，ｂ７を動作させる（ステップＳ２）。蒸着装置Ａの第１，第２のブロックａ，ｂの第１，第２蒸着マスク保管室ａ６，ｂ６に保管されている蒸着マスク１０は、マスクホルダー１１に取り付けられた状態で保管されている。よって各搬送ロボットａ８，ｂ７による蒸着マスクの交換は、マスクホルダー１１を含んだ交換となる。
【００４６】
更にコントロール装置Ｃは、封止装置Ｂにおける封止室Ｂ１に配設されているＵＶ照射マスク２８から前記機種（０００１）に応じたＵＶ照射マスク２８に交換させるべく搬送ロボットＢ６を動作させる（ステップＳ２）。封止装置ＢのＵＶ照射マスク保管室Ｂ２に保管されているＵＶ照射マスク２８は、マスクホルダー２７に取り付けられた状態で保管されている。よって各搬送ロボットＢ６によるＵＶ照射マスクの交換は、マスクホルダー２７を含んだ交換となる。
【００４７】
尚、封止装置ＢにおけるＵＶ照射マスク２８の交換にあっては、搬送ロボットＢ６による交換作業が段取り換えの作業効率を向上させる上で効果的であるが、製造ラインにおける作業者による交換であっても良い。この場合、封止装置Ｂに段取り換えであることを知らせるための表示装置やランプ，ブザー等の報知手段を用意し、前記報知手段を動作させることで作業者に対して段取り換えであることを認識可能とするとともに、ＵＶ照射マスクを窒素雰囲気中にて保管し、同雰囲気中にて作業者によるＵＶ照射マスク２８を交換することが可能なチャンバー（マスク交換室）を封止室Ｂ１に連結可能な状態とすることで生産効率を低下させることのない段取り換えを行うことが可能となる。
【００４８】
次に、ライン端末により前記機種切り換え指令を受けた透光性基板投入装置Ｅ，接着剤塗布装置Ｆ及び封止基板投入装置Ｇは、前記機種（０００１）に応じた透光性基板８及び封止基板２３の供給を開始する（ステップＳ３）。尚、透光性基板８には、スパッタリング法によってＩＴＯを形成した後、前記機種に応じた所定パターンになるようにパターンニング処理することで透明電極３０が形成され（図６（ａ））、次にスピンコート等の手段によって絶縁部材を形成し、この絶縁部材を前記所定パターンに沿うようにパターニング処理することで絶縁層３１が形成される。透明電極３０及び絶縁層３１は、本製造装置とは別工程によって予め形成される（図６（ｂ））。尚、図６で示される透光性基板８は、複数の有機ＥＬパネルを得るためのマルチ取り基板である。
【００４９】
透光性基板投入装置Ｅ及び封止基板投入装置Ｇでは、投入される透光性基板８及び封止基板２３が前記機種（０００１）に伴う適正なる透光性基板８及び封止基板２３であるか否かを判定する誤投入判定が行われる（ステップＳ４）。前記誤投入判定によって、誤投入である透光性基板８及び封止基板２３が検出された場合は、透光性基板投入装置Ｅ及び封止基板投入装置Ｇを停止し、透光性基板投入装置Ｅ及び封止基板投入装置Ｇに備えられるランプやブザー等の報知手段を動作させて作業者に知らせる。尚、この判定は、各装置Ｅ，Ｇをそれぞれ制御するシーケンサやマイクロコンピュータ等の制御手段によって判定される。
【００５０】
次に、透光性基板投入装置Ｅにより投入される透光性基板８は、蒸着装置Ａの投入室ａ７に供給される。投入室ａ７は、複数に部屋にシャッター機構によって分割されるとともに、透光性基板投入装置Ｅ側は大気となっているが、蒸着装置Ａ側に向かう各部屋毎に高真空が確保されることになる。尚、投入室ａの各部屋間の搬送は、コンベア等の搬送手段が用いられている。
【００５１】
次に、透光性基板８は、搬送ロボットａ８によってプラズマ処理工程である前処理室ａ１に搬送される（ステップＳ５）。
【００５２】
次に、透光性基板８は、前記プラズマ処理工程終了後に、搬送ロボットａ８によって前処理室ａ１から正孔注入層形成工程である第１蒸着室ａ２に搬送され、透光性基板８に形成される透明電極３０上に、前記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じた正孔注入層が形成される（ステップＳ６）。
【００５３】
次に、透光性基板８は、前記正孔注入層形成工程終了後に、搬送ロボットａ８によって第１蒸着室ａ２から正孔輸送層形成工程である第２蒸着室ａ３に搬送され、前記正孔注入層上に、前記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じた正孔輸送層が形成される（ステップＳ７）。
【００５４】
次に、透光性基板８は、前記正孔輸送層形成工程終了後に、搬送ロボットａ８によって第２蒸着室ａ３から前記搬送ルートに沿った発光層の蒸着室である第３，第４，第５，第６蒸着室ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室に搬送され、前記正孔注入層上に、前記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じた発光層が形成される（ステップＳ８）。
【００５５】
尚、第３，第４蒸着室ａ４，ａ５の発光層形成工程において、透光性基板８の搬送は、蒸着装置Ａの第１のブロックａ内における搬送ロボットａ８によって、前記正孔注入層形成工程である第２蒸着室ａ３から第４蒸着室ａ４もしくは第５蒸着室ａ５の搬送となるが、第５，第６蒸着室ｂ１，ｂ２の発光層形成工程において、透光性基板８は、蒸着装置Ａの第１のブロックａ内における搬送ロボットａ８によって正孔注入層形成工程である第２蒸着室ａ３から第１受渡室Ｊへ搬送され、第１受渡室Ｊによって蒸着装置Ａの第２のブロックｂに移し替えられ、第２のブロックｂによる搬送ロボットｂ７によって、第５，第６蒸着室ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室に搬送されることになる。
【００５６】
次に、透光性基板８は、前記発光層形成工程終了後に、搬送ロボットａ８によって第３，第４蒸着室ａ４，ａ５の何れかの蒸着室、もしくは搬送ロボットｂ７によって第５，第６蒸着室ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室から電子輸送層形成工程である第７蒸着室ｂ３に搬送され、前記発光層上に、前記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じた電子輸送層が形成され、（ステップＳ９）、透明電極３０上に正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送層が順次積層形成された有機層３２が得られることになる（図６（ｃ））。
【００５７】
次に、透光性基板８は、前記電子輸送層形成工程終了後に、搬送ロボットｂ７によって第７蒸着室ｂ３から電子注入層形成工程である第８蒸着室ｂ４に搬送され、有機層３２上に、前記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じた電子注入層が形成される（ステップＳ１０）。
【００５８】
次に、透光性基板８は、前記電子注入層形成工程終了後に、搬送ロボットｂ７によって第８蒸着室ｂ４から背面電極形成工程である第９蒸着室ｂ５に搬送され、前記電子注入層上に、前記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じた背面電極３３が形成される（ステップＳ１１）。従って、透明電極３０上に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送層を順次積層形成して有機層３２を得た後、電子注入層及び背面電極３３を形成することで有機ＥＬ素子３４を複数有するマルチ取りに対応する透光性基板８が得られることになる（図６（ｄ））。
【００５９】
次に、透光性基板８は、前記背面電極形成工程終了後に、搬送ロボットｂ７によって第２受渡室Ｋに搬送され、第２受渡室Ｋによって封止装置Ｂに移し替えられ、封止装置ｂの搬送ロボットＢ６によって、封止室Ｂ１に搬送されるとともに、封止室Ｂ１の保持機構２９に配設される。尚、基板ホルダ９を保持機構２９に配設することで透光性基板８が保持機構２９に固定されることになる。
【００６０】
一方、ステップＳ４を経て封止基板投入装置Ｇから供給される前記機種（０００１）に対応した適正なる封止基板２３は、ＵＶ接着剤塗布工程である接着剤塗布装置Ｆに供給される。ここで供給される封止基板２３は、成型，サンドブラスト及びエッチング処理等の適宜方法によって得られるもので、有機ＥＬ素子３４を収納するための凹部形状の収納部３５を複数有し、ガラス基板と接合するため各収納部３５の全周を取り巻くように接合部３６が形成されている（図６（ｅ））。
【００６１】
封止基板２３は、ＵＶ接着剤塗布工程である接着剤塗布装置Ｆによって接合部３６にＵＶ硬化型接着剤３７が塗布されることになる（ステップＳ１２，図６（ｅ））。
【００６２】
封止基板２３は、前記ＵＶ接着剤塗布工程終了後に、吸着剤塗布工程である吸着剤塗布室Ｂ５にコンベア等の搬送手段によって搬送され、吸着剤塗布室Ｂ５に配設されるＸ−Ｙ−Ｚ方向に移動可能な塗布装置によって封止部材２３の収納部３５の底面に吸着材３８が塗布される（ステップＳ１３，図６（ｅ））。接着剤塗布装置Ｆと吸着剤塗布室Ｂ５との間には、封止基板２３に吸着剤３８を塗布する環境を窒素雰囲気とするため、真空引きされ、かつ窒素が導入される置換室が設けられ、前記吸着剤塗布工程は窒素雰囲気中に設けられることになる。
【００６３】
封止基板２３は、前記吸着剤塗布工程終了後に、封止装置Ｂの投入室Ｂ３に供給される。投入室Ｂ３は、シャッター機構によって複数の部屋に分割されており、各部屋は封止装置Ｂ側に向かうに連れて酸素濃度が１００ｐｐｍ以下及び露点が−７０℃以下の窒素雰囲気になるように構成されており、封止基板２３は、コンベア等の搬送手段によって吸着材塗布室Ｂ５から封止装置Ｂ内へと搬送される。
【００６４】
封止基板２３は、吸着剤塗布工程終了後に、吸着剤塗布室Ｂ５から搬送ロボットＢ６によって、封止工程である封止室Ｂ１に搬送され、封止室Ｂ１の上昇機構２５における載置台２４上に搬送される。
【００６５】
封止工程である封止室Ｂ１は、透光性基板８が保持機構２９に配設され、かつ封止基板２３が載置台２４に配設されている場合に、封止基板２３が透光性基板８に対して所定の圧力を付与するように封止基板２３が配設された載置台２４を上昇機構２５によって上昇させて両部材を当接させ、その状態にてＵＶ照射装置２６を動作させて紫外線をＵＶ照射マスク２８を介してＵＶ接着剤３７が塗布されている接合部３６に所定時間照射することで、両部材を気密的に接合させる。そして、上昇機構２５を下降させることで封止工程が終了する（ステップＳ１４，図６（ｆ））。
【００６６】
前記封止工程終了後、透光性基板８と封止基板２３とを接合することで得られた有機ＥＬパネル３９を、封止室Ｂ１から排出部Ｂ４に搬送し、排出部Ｂ４に連結されている取出装置Ｈによって有機ＥＬパネル３９を取り出すことで、一連の製造工程が終了する（ステップＳ１５）。
【００６７】
また、前述の製造装置において、蒸着装置Ａにおける透光性基板８の投入口である投入室ａ７に透光性基板８の投入枚数をカウントするための透過型センサや反射型センサ等からなるカウント手段が設けられている。ライン端末Ｄは、前記カウント手段を介して透光性基板８の投入数量をカウントすることで以下の制御を行う。
【００６８】
ライン端末Ｄは、前記カウント手段を介して透光性基板８の投入数量をカウントし、前記投入数量が、予め定められた前記生産数量に達した時点もしくは前記生産数量から所定数量少ない目標数量に達した際に、次なる機種（例えば、０００２）の搬送ルートに伴う発光層形成工程となる第３，第４，第５，第６の蒸着室ａ３，ａ４，ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室に対し加熱を開始させるべく、コントロール装置Ｃに指示指令を出力する。コントロール装置Ｃは、前記指示指令を入力すると、次なる機種（０００２）に応じた発光層形成工程である蒸着室の過熱コイル５の通電を開始し、次なる機種に適する生産条件が得られるように制御を開始する。
【００６９】
また、ライン端末Ｄは、前記カウント手段を介して透光性基板８の投入数量をカウントし、現生産機種（０００１）の生産数量の終了を確認すると、前記現生産機種（０００１）が蒸着装置Ａ内に存在する場合であっても、次なる機種（０００２）の透光性基板８を蒸着装置Ａ内に投入するための指令信号をコントロール装置Ｃに出力する。
【００７０】
即ち、ライン端末Ｄにおける前記処理は、現生産機種（０００１）から次なる機種（０００２）を製造装置に流動させる場合において、現生産機種が製造装置内の蒸着室や封止室に存在する場合であっても、現生産機種（０００１）が終了している工程の蒸着室が次なる機種（０００２）に応じた蒸着マスク１０に交換されることであり、次なる機種（０００２）に対する蒸着室の事前準備処理である。
【００７１】
また、ライン端末Ｄは、製造装置における異常状態を表示することが可能である。即ちライン端末Ｄは、蒸着装置Ａ，封止装置Ｂ，透光性基板投入装置Ｅ，接着剤塗布装置Ｆ及び封止基板投入装置Ｇとネットワーク接続されているため、透光性基板投入装置Ｅでの誤投入判定や封止基板投入装置Ｇでの誤投入判定において、誤投入の発生状態を表示手段によって表示させることができる。
【００７２】
また、ライン端末Ｄは、蒸着装置Ａや封止装置Ｂとコントロール装置Ｃを介して接続されているため、各蒸着室の蒸着温度，膜厚及び炉の真空状態等の蒸着状態や室内の窒素濃度や酸素濃度等の封止状態に関する生産条件をコントロール装置Ｃを介して入力し、これらの生産条件を記憶することが可能である。よって、機種毎に投入される透光性基板８単位で生産条件を記憶し、前記生産条件の履歴を表示手段によって表示可能としたり、あるいは前記生産条件の履歴を印刷することで、有機ＥＬパネル３９のロット管理を可能とする。
【００７３】
かかる有機ＥＬパネル３９の製造方法は、複数の蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５を有する蒸着装置Ａに透光性基板８を投入し、透光性基板８上に少なくとも発光層を含む有機層３２を一対の電極により狭持してなる有機ＥＬ素子３４を形成する蒸着工程（蒸着装置Ａ）を含む有機ＥＬパネル３９の製造方法に関し、前記各蒸着室の生産条件及び生産数量を少なくとも含む生産管理情報を有機ＥＬパネル３９の機種毎に設定するライン端末Ｄと、有機ＥＬパネル３９の前記機種に応じた複数の蒸着マスク１０を真空雰囲気中に保管する第１，第２蒸着マスク保管室ａ６，ｂ６とを備え、ライン端末Ｄの前記生産管理情報に基づいて、蒸着工程内の各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５に装着されている蒸着マスク１０から第１，第２蒸着マスク保管室ａ６，ｂ６に保管されている前記機種に応じた蒸着マスク１０に搬送ロボットａ８，ｂ７を用いて交換させることから、従来のように機種切り換え時において各蒸着室を大気に開放して蒸着マスクを交換するといった人手による作業がなくなることから、多機種を流動させる場合であっても段取り換えに時間を要せず、有機ＥＬパネル３９の生産性を向上させることが可能となる。
【００７４】
また、前記蒸着工程には、ライン端末Ｄによって複数の前記生産管理情報を記憶することから、製造装置内への多機種流動を可能とするとともに、日，週，月等の単位で生産計画を容易に設定することが可能となる。
【００７５】
また、前記蒸着工程は、ライン端末Ｄによって透光性基板８の投入口に設けられるカウント手段を介して透光性基板８の投入数量をカウントするとともに、前記投入数量が、予め定められた前記生産数量に達した時点もしくは前記生産数量から所定数量少ない目標数量に達した際に、次なる機種の搬送ルートに伴う蒸着室（前述した製造装置においては発光層形成工程である複数の蒸着室の何れか）の加熱を開始させるものであり、蒸着条件に適する加熱温度に達するに時間を要する蒸着室に対し早めな段取り換え処理（加熱処理）を行うことで、有機ＥＬパネル３９の生産性を向上させることが可能となる。
【００７６】
また、前記蒸着工程は、ライン端末Ｄによって前記カウント手段を介して透光性基板の投入数量をカウントし、現生産機種の生産数量の終了を確認すると、現生産機種における蒸着が終了している蒸着室において、蒸着マスク１０の交換が搬送ロボットａ８，ｂ７によってなされ、前記現生産機種が前記蒸着工程内に存在する場合であっても、次なる機種の透光性基板８を前記蒸着工程に投入するものであり、前記蒸着工程から現生産機種を流し切らなくとも次なる機種を前記蒸着工程に投入できることから、多機種少量生産にも対応することが可能な製造工程（製造装置）を得ることが可能となる。
【００７７】
また、前記蒸着工程は、ライン端末Ｄによって機種毎の生産条件の履歴を記憶できることから、有機ＥＬパネル３９のロット管理を可能とし、不具合発生の際の原因追及に役立つものとなる。
【００７８】
また、封止工程は、機種に応じた複数の紫外線照射マスク２８を窒素雰囲気中に保管するＵＶ照射マスク保管室Ｂ２を備えていることから、機種切り換え時において封止室Ｂ１を大気に開放してＵＶ照射マスクＢ２を交換するといった作業がなくなることから、酸素濃度が所定値以下の窒素雰囲気を確保するといった時間を要する段取り換えを不要とすることから、有機ＥＬパネル３９の生産性を向上させることが可能となる。
【００７９】
また、封止工程は、ライン端末Ｄの生産管理情報に基づいて、封止室Ｂ１に装着されているＵＶ照射マスク２８からＵＶ照射マスク保管室Ｂ２に保管されている機種に応じたＵＶ照射マスク２８に搬送ロボットＢ６を用いて交換させてることから、人手による交換作業を廃止できることから、製造工程を簡素化することができる。
【００８０】
また、透光性基板供給工程（透光性基板投入装置Ｅ）は、投入される透光性基板８が機種に応じた適正なる透光性基板８であるか否かを判定することにより、透光性基板８における誤投入による誤組を防止するとともに、誤組による透光性基板８の破損を防止することができる。
【００８１】
また、封止基板供給工程（封止基板供給装置Ｇ）は、投入される封止基板２３が機種に応じた適正なる封止基板２３であるか否かを判定することにより、封止基板２３における誤投入による誤組を防止するとともに、誤組による封止基板２３の破損を防止することができる。
【００８２】
尚、本発明の実施の形態では、蒸着装置Ａにおける各蒸着室に配設される蒸着マスク１０がマスクホルダー１１によって配設されるものであるが、マスクホルダー１１に配設される蒸着マスク１０に弛みが発生しないように、蒸着マスク１０の張り状態を調整することが可能な調整機構をマスクホルダー１１に備えるようにすることで、良好な蒸着膜を得ることが可能となる。
【００８３】
また、本発明の実施の形態では、透光性基板８側から表示光を発する有機ＥＬパネルの製造装置を例に挙げて説明したが、封止基板２３側から表示光を発するタイプ（トップエミッション型）の有機ＥＬパネルの製造装置に本発明を適用しても良い。
【００８４】
【発明の効果】
本発明は、少なくとも一方が透光性の一対の電極により挟持され所定の発光をなす有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬパネルを得るための製造方法に関し、多機種を流動させる場合であっても段取り換えに時間を要せず、有機ＥＬパネルの生産性を向上させることが可能な製造方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態における有機ＥＬパネルの製造装置を示すブロック図。
【図２】同上実施の形態の有機ＥＬパネルの製造装置を示す図。
【図３】同上実施の形態の蒸着装置における蒸着室を説明する図。
【図４】同上実施の形態の封止装置における封止室を説明する図。
【図５】同上実施の形態の有機ＥＬパネルの製造工程を説明する図。
【図６】同上実施の形態の有機ＥＬパネルを説明する図。
【符号の説明】
Ａ  蒸着装置
ａ２〜ａ５，ｂ１〜ｂ５  蒸着室
ａ６，ｂ６  第１，第３蒸着マスク保管室（第１のストック部）
ａ８，ｂ７  搬送ロボット（交換装置）
Ｂ  封止装置
Ｂ２  ＵＶ照射マスク保管室（第２のストック部）
Ｂ６  搬送ロボット（交換装置）
Ｃ  コントロール装置
Ｄ  ライン端末
Ｅ  透光性基板供給装置
Ｆ  接着剤塗布装置
Ｇ  封止基板供給装置
８  透光性基板（支持基板）
２３  封止基板
３０  透明電極
３２  有機層
３３  背面電極
３４  有機ＥＬ素子
３７  ＵＶ硬化型接着剤
３９  有機ＥＬパネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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