(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン転写用マスクをマスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置の載置台に搬送するために敷設された軌道レールに、可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことができ、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、
パターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を複数把持するため前記台車に備えられた把持具と、
を備え、
前記把持具は、前記把持具の内部に収納され、前記載置台と前記台車との間で前記マスク収納容器を授受する際に、前記把持具から前記載置台上にまで伸びる昇降ロープを含み、
さらに、前記台車は、前記把持具に把持された複数の前記マスク収納容器の配列方向が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態で、前記レールを辿るように、かつ、前記載置台に沿った第二の状態で、前記載置台に載置されるように回転を制御されることを特徴とするマスク搬送装置。
【請求項２】
前記台車を、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対する所定の位置に停止させ、所定の角度回転させることのできる制御手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のマスク搬送装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記載置台と前記台車との間で、前記マスク収納容器の授受する際には、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対応して前記軌道レールに備えられたバーコードから、前記載置台の高さを読み取って、前記昇降ロープを伸ばす長さを制御することを特徴とする請求項２に記載のマスク搬送装置。
【請求項４】
複数のパターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を、マスク貯蔵装置及び・又は複数の基板処理装置との間で搬送するための軌道レールと、
前記軌道レールに可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことができ、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、
複数のマスク収納容器を把持するため前記台車に備えられた把持具と、
前記マスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置に備えられ、前記マスク収納容器を載置するための載置台と、
を備え、
前記把持具は、前記把持具の内部に収納され、前記載置台と前記台車との間で前記マスク収納容器を授受する際に、前記把持具から前記載置台上にまで伸びる昇降ロープを含み、
さらに、前記把持具に把持された複数の前記マスク収納容器の配列方向が、前記軌道レールを辿る場合には、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態となり、前記載置台に載置される場合には、前記載置台に沿った第二の状態となるように前記台車の回転を制御する制御手段を備えたことを特徴とするマスク搬送システム。
【請求項５】
前記制御手段は、前記台車を、前記載置台に対する所定の位置に停止させることを特徴とする請求項４に記載のマスク搬送システム。
【請求項６】
前記制御手段は、前記台車が前記載置台に対する所定の位置に来たことを自動的に検出して前記台車を停止させ、
この検出に伴って、前記台車を前記第二の状態になるように自動的に回転させることを特徴とする請求項４に記載のマスク搬送システム。
【請求項７】
前記制御手段は、前記載置台と前記台車との間で、前記マスク収納容器を授受する際には、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対応して前記軌道レールに備えられたバーコードから、前記載置台の高さを読み取って、前記昇降ロープを伸ばす長さを制御することを特徴とする請求項４から６のいずれかに記載のマスク搬送システム。
【請求項８】
マスク貯蔵装置及び・または複数の基板処理装置の間に敷設された軌道レールを介して、台車により、パターン転写用マスクを収納するためのマスク収納容器を複数把持して搬送し、前記マスク貯蔵装置及び・又は、前記複数の基板処理装置に設けられた載置台と、前記台車との間で、前記マスク収納容器を授受するマスク搬送方法において、
前記台車の移動時には、前記複数のマスク収納容器の配列が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態にし、
前記台車が前記マスク貯蔵装置及び・又は前記複数の基板処理装置に対する所定位置に来たときに停止させ、
前記複数のマスク収納容器の配列が、前記載置台の配置に沿う第二の状態に前記台車を回転させ、
前記台車から、昇降ロープを伸ばすことにより、前記載置台の高さにまで前記マスク収納容器を昇降して、前記マスク収納容器を授受するようにしたことを特徴とするマスク搬送方法。
【請求項９】
前記台車の停止及び回転は、自動的に行うことを特徴とする請求項８に記載のマスク搬送方法。
【請求項１０】
前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対応して前記軌道レールに備えられたバーコードを読み取ることにより、前記載置台の高さを読み取って、前記昇降ロープを伸ばす長さを制御して、前記マスク収納容器の授受を行うことを特徴とする請求項８又は９に記載のマスク搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、パターン転写用マスクのマスク搬送装置、マスク搬送システム、及びマスク搬送方法に関する。さらに具体的な適用としては、半導体製造工場において、パターン転写用マスクを、マスク貯蔵装置や基板処理装置に搬送することを可能とするマスク搬送装置、マスク搬送システムの構造、使用に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図５は、半導体製造工場において、半導体基板を自動搬送するための搬送システムを示す概念図である。
ＯＨＴ（Overhead Hoist Transfer）５１は、半導体基板を収納したウエハキャリア５４を把持し、半導体製造工場内に敷設された軌道レール５３を辿って、所定のストッカー５６あるいは基板処理装置５７に、ウエハキャリア５４を移動する。
【０００３】
ＯＨＴ５１に備えられたホイスト機構５２は、ＯＨＴ５１に把持されて所定の位置に移動したウエハキャリア５４を、ストッカー５６あるいは基板処理装置５７に備えられた載置台５５に載置する。
基板処理装置５７では、載置台５５は、ロードポート装置の一部となっており、このロードポート装置により、ウエハキャリア５４内部に収納された半導体基板は取り出され、基板処理装置５７の内部に取り込まれる。
【０００４】
なお、上述のウエハキャリアの代表例として、ＳＥＭＩ規格でＦＯＵＰと呼ばれているものがある。ＦＯＵＰとは、フロント・オープニング・ユニファイド・ポッド（Front Opening unified pod）の略である。詳細な寸法などの情報は、ＳＥＭＩ規格  Ｅ５２、Ｅ１．９、Ｅ４７．１等に記載されている。
また、上述のＯＨＴ（Overhead Hoist Transfer）５１は、半導体工場のベイ内で、半導体基板を収納したウエハキャリアを搬送する代表的な自動搬送機器である。
【０００５】
半導体装置の製造において、ミクロン単位を扱う微細加工の現場では、温度や湿度による物質の収縮や膨張、またゴミなどの異物の侵入は、大きな問題となる。従って半導体装置の製造は、ほとんどの工程が空調を行い、空気中のゴミなどを除去したクリーンルーム内で行われる。このようなクリーンルーム内への人の侵入は、異物の侵入源となるため、抑えることが望ましい。従って、上述のような、自動搬送システムは、半導体製造においては重要な役割を果たすものである。
【０００６】
また、人手によって、各基板処理装置に運ばれる場合の、ミスを抑え、また、運搬時間を短縮することにより、処理効率を上げるためにも、重要なシステムである。
以上のような観点から、半導体基板の自動搬送システムについては、研究、開発が進められている。
【０００７】
一方、半導体基板を処理する基板処理装置内で使用されるパターン転写用マスク、具体的には、たとえば縮小投影露光装置内で使用されるレチクルは、現状では、マスク収納容器に収納され、このマスク収納容器ごと、人手により、縮小投影露光装置に設けられたマスク収納容器用の載置台に載置している。しかし、半導体基板について、自動搬送システムが重要であるのと同様に、異物の侵入防止、処理効率等を考慮すれば、パターン転写用マスクについても、自動搬送が可能となることが好ましい。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明したように、半導体製造工場内において、パターン転写用マスクについても搬送作業の自動化が望まれている。この搬送作業の自動化を実現するためには、上述した半導体基板の自動搬送システムをそのまま応用することが考えられる。
しかし、各基板処理装置に設置された、マスク収納容器の載置台の高さは様々であり、この載置台に対して、正確な位置にマスク収納装置を置くためには、半導体基板の自動搬送システムに加えて、載置位置を大幅に調整できるような手段が必要となる。
【０００９】
また、基板処理装置に設けられた載置台には、複数個のマスク収納容器を載置することが可能となっている。従って、これを有効に利用し、円滑にかつ迅速にマスク収納容器の搬送を行うためには、複数個のマスク収納容器を一度に搬送できることが望ましい。しかし、基板処理装置に設けられた載置台は、一般には複数の基板処理装置間を繋ぐ方向、即ち、軌道レールの敷設方向に対して、ほぼ垂直な方向に複数並んでいることが多い。
これに対して、各基板処理装置の載置台にあわせて、複数の軌道レールを敷設して搬送したり、あるいは、複数の軌道レールに垂直な状態に複数個のマスク収納容器を並べて一度に搬送したりする場合には、搬送のために多くのスペースが必要となり、現状の工場、設備の上では問題である。また、軌道レールの敷設方向に沿って、基板処理装置の載置台の配列全てを変更するような、基板処理装置に対する大掛かりな変更も、コストの面でも好ましくない。
【００１０】
さらに、パターンの微細化、集積化する今日においては、使用されるパターン転写用マスクの種類も様々であることから、これを必要な基板処理装置に誤りなく搬送するためには、搬送作業は、できる限り自動化した状態で行われることが好ましい。
【００１１】
従って、この発明は、コストの面を考慮し、従来の設備を生かしつつ、パターン転写用マスクを自動的に搬送することを可能にすることを目的とする。
具体的には、この発明は、基板処理装置に備えられた載置台の配列のまま、大掛かりな変更をすることなく、パターン転写用マスクの収納されたマスク収納容器を複数個、一度に、自動的に搬送することを可能にするマスクの搬送手段を提案するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明のマスク搬送装置は、パターン転写用マスクをマスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置の載置台に搬送するために敷設された軌道レールに、可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことができ、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、
パターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を複数把持するため前記台車に備えられた把持具と、
を備え、
前記把持具は、前記把持具の内部に収納され、前記載置台と前記台車との間で前記マスク収納容器を授受する際に、前記把持具から前記載置台上にまで伸びる昇降ロープを含むものである。
【００１３】
また、この発明のマスク搬送装置は、前記台車が、前記把持具に把持された複数の前記マスク収納容器の配列方向が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態で、前記レールを辿るようにしたものである。
【００１５】
また、この発明のマスク搬送装置は、前記台車を、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対する所定の位置に停止させ、所定の角度回転させることのできる制御手段を備えるものである。
あるいは、また、この発明のマスク搬送装置は、前記制御手段が、前記載置台と前記台車との間で、前記マスク収納容器の授受する際には、前記軌道レールの前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対応する位置に設けられたバーコードから、前記載置台の高さを読み取って、前記昇降ロープを伸ばす長さを制御するものである。
【００１６】
次に、この発明のマスク搬送システムは、複数のパターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を、マスク貯蔵装置及び・又は複数の基板処理装置との間で搬送するための軌道レールと、
前記軌道レールに可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことのでき、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、
複数のマスク収納容器を把持するため前記台車に備えられた把持具と、
前記マスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置に備えられ、前記マスク収納容器を載置するための載置台と、
を備え、
前記把持具は、前記把持具の内部に収納され、前記載置台と前記台車との間で前記マスク収納容器を授受する際に、前記把持具から前記載置台上にまで伸びる昇降ロープを含むものである。
【００１７】
また、この発明のマスク搬送システムは、前記把持具に把持された複数の前記マスク収納容器の配列方向が、
前記軌道レールを辿る場合には、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態となり、
前記載置台に載置される場合には、前記載置台に沿った第二の状態となるように前記台車の回転を制御する制御手段を備えたものである。
【００１８】
また、この発明のマスク搬送システムは、前記制御手段は、前記台車を、前記載置台に対する所定の位置に停止させるものである。
【００１９】
また、この発明のマスク搬送システムは、前記制御手段は、前記台車が前記載置台に対する所定の位置に来たことを自動的に検出して前記台車を停止させ、
この検出に伴って、前記台車を前記第二の状態になるように自動的に回転させるものである。
あるいは、また、この発明のマスク搬送システムは、前記制御手段が、前記載置台と前記台車との間で、前記マスク収納容器を授受する際には、前記軌道レールの前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対応する位置に設けられたバーコードから、前記載置台の高さを読み取って、前記昇降ロープを伸ばす長さを制御するものである。
【００２０】
次に、この発明のマスク搬送方法は、マスク貯蔵装置及び・または複数の基板処理装置の間に敷設された軌道レールを介して、一台の台車により、パターン転写用マスクを収納するためのマスク収納容器を複数把持して搬送し、前記マスク貯蔵装置及び・又は、前記複数の基板処理装置に設けられた載置台と、前記台車との間で、前記マスク収納容器を授受するマスク搬送方法において、
前記台車の移動時には、前記複数のマスク収納容器の配列が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態にし、
前記台車が前記マスク貯蔵装置及び・又は前記複数の基板処理装置に対する所定位置に来たときに停止させ、
前記複数のマスク収納容器の配列が、前記載置台の配置に沿う第二の状態に前記台車を回転させ、
前記台車から、昇降ロープを伸ばすことにより、前記載置台の高さにまで前記マスク収納容器を昇降して、前記マスク収納容器を授受するようにしたものである。
【００２１】
また、この発明のマスク搬送方法は、前記台車の停止及び回転は、自動的に行うものである。
あるいは、また、この発明のマスク搬送方法は、前記軌道レールの前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対応する位置に設けられたバーコードを読み取ることにより、前記載置台の高さを読み取って、前記昇降ロープを伸ばす長さを制御して、前記マスク収納容器の授受を行うものである。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。なお、各図において、同一または相当する部分には同一符号を付してその説明を省略ないし簡略化する。
【００２３】
実施の形態
図１は、この発明の実施の形態におけるマスク搬送システムについて説明するための図であり、図１（ａ）は、斜視図、図１（ｂ）は、上面図である。
【００２４】
図１において、２００は、マスク搬送システム、１００は、マスク搬送装置、１４は、マスク収納容器を示す。マスク収納容器１４には、パターン転写用マスクであるレチクルが収納され、マスク収納容器１４は、マスク搬送装置１００によって搬送される。
このようにレチクルを収納するマスク収納容器１４には、代表的なものとして、レチクルＳＭＩＦポッドがある。ここで、ＳＭＩＦとは、Standard Mechanical Interfaceの略で、詳細な寸法などの情報は、ＳＥＭＩ規格Ｅ１９に記載されている。
【００２５】
１６は、マスク貯蔵装置であるレチクルストッカーである。１７は、基板処理装置であり、ここでは、運ばれてきたレチクルを使用して基板を処理する縮小投影露光装置である。
また、１５Ａは、マスク貯蔵装置１６に備えられた載置台、１５Ｂは、縮小投影露光装置１７に備えられた載置台を示す。
１３は、マスク収納容器１４に収納されたレチクルを、レチクルストッカー１６と縮小投影露光装置１７との間で搬送するために敷設された軌道レールを示す。
【００２６】
また、５１は、半導体基板の自動搬送機器であるＯＨＴであり、５３は、半導体基板を搬送するため敷設された軌道レールを示す。また、５４は、半導体基板を収納したウエハキャリア、５７は、半導体基板にレジストを塗布するための塗布装置、５５は、塗布装置５７に備えられた載置台を示す。
塗布装置５７は、縮小投影露光装置１７と繋がっていて、塗布装置５７においてレジストの塗布された半導体基板は、縮小投影露光装置１７に送られるようになっている。
【００２７】
図２は、この発明の実施の形態における、マスク搬送装置１００の移動時の状態を説明するための図であり、図２（ａ）は正面図、図２（ｂ）は、側面図、図２（ｃ）は、上面図である。
【００２８】
図２において、１は、台車であり、２は、台車１に備えられた把持具、４は、接続部を示し、これは台車１に含まれる部分である。把持具２は、１台の台車１に２つ備えられ、この２つの把持具２によって２つのマスク収納容器１４が把持され、台車１に吊持される。また、台車１は、接続部４によって、軌道レール１３に可動に接続され、これによって、台車１は、軌道レール１３を辿って、移動することができる。また、台車１は、接続部４を軸として、ほぼ水平に回転することができるようになっている。
【００２９】
図２に示される状態は、マスク搬送装置１００の移動中の状態であり、台車１は、２つの把持具２及びこれに把持されるマスク収納容器１４の配列が、軌道レール１３の敷設方向に沿うような方向になっている。この台車１の状態を、この明細書において、第一の状態という。
なお、ここでは、２つの把持具２を１台に備えた台車１を用いるが、これに限るものではなく、２つのマスク収納容器１４を把持できる１つの把持具を備えた台車を用いても良い。
【００３０】
図３は、この発明の実施の形態における、マスク搬送装置１００において、マスク収納容器１４を授受する際の状態を示す図であり、図３（ａ）は正面図、図３（ｂ）は側面図である。
図３において、３は、台車１と載置台１５Ａまたは１５Ｂとの間で、マスク収納容器１４を授受する際に用いられる授受手段としての昇降ロープを示す。昇降ロープ３は、把持具２に含まれ、マスク搬送装置１００移動時の第一の状態では、図２に示すように、把持具２内部に収納された状態となっていて、マスク収納容器１４を載置台１５に移載する場合にのみ、図３に示すように伸びた状態で使用される。
【００３１】
ここで、マスク搬送装置１００の停止、及び昇降ロープ３の降下の開始及び停止は、マスク搬送装置１００に備えられた制御手段（図示せず）によって、制御される。
制御手段は、レチクルストッカー１６あるいは縮小投影露光装置１７に対応して軌道レールに備えられたバーコードを読み取ることにより、停止するレチクルストッカー１６あるいは縮小投影露光装置１７の位置と載置台１５Ａまたは１５Ｂの高さ等の必要な情報を入手することができる。この情報により、制御手段は、マスク搬送装置１００を、レチクルストッカー１６あるいは所定の縮小投影露光装置１７の適切な位置に停止させ、さらに、昇降ロープ３を降ろして載置台１５Ａまたは１５Ｂの高さにあわせてこの昇降ロープ３を止める。
これによって、レチクルストッカー１６あるいは各縮小投影露光装置１７に備えられた高さの様々に異なる載置台１５Ａ及び１５Ｂに対しても、マスク収納容器の自動搬送を行うことができる。
【００３２】
図４は、台車１が載置台１５Ｂの配列方向にあわせて回転した状態を示す図であり、図４（ａ）は回転前の状態を示す正面図、図４（ｂ）は回転後の状態を示す側面図、図４（ｃ）は、回転後の状態を示す上面図である。
図４（ａ）に示すように、回転前は、マスク搬送装置１００は、第一の状態にある。この実施の形態では、載置台１５Ｂの配列方向は、軌道レール１３に対して垂直になっている。従って、載置台１５Ｂの付近に移動した台車１は、９０度回転して、図４（ｂ）あるいは図４（ｃ）に示すような状態になる。
この状態において、２つの把持具２及びマスク収納容器１４の配列は、載置台１５の配列方向に沿う状態である。なお、この明細書においてこの状態を、第二の状態という。
【００３３】
ここで、回転の開始、及び停止、また、回転する角度の制御は、上述の制御手段によって、行われる。
上述したように制御手段は、軌道レール１３に備えられたバーコードから、載置台１５Ａまたは１５Ｂ配列方向等の情報を入手する。この情報は、制御手段に伝えられ、制御手段は、昇降ロープ３の降下の停止に続けて、台車１の回転を開始し、伝えられた情報から、マスク搬送装置１００が第二の状態になるために必要な角度、台車１を回転させ、その後回転を停止する。
【００３４】
なお、この実施の形態において、接続部４を含む台車１、把持具２、昇降ロープ３及び制御手段を含んで、マスク搬送装置１００が構成される。
また、マスク搬送装置１００、軌道レール１３、及び載置台１５Ａ、１５Ｂを含んでマスク搬送システム２００が構成される。
【００３５】
次に、この実施の形態におけるレチクルの搬送方法を示す。
台車１は、接続部４を介して、軌道レール１３に可動に接続される。
レチクルは、マスク収納容器１４の中に収納され、レチクルの収納されたマスク収納容器１４が、レチクルストッカー１６内部に収納されている。このレチクルストッカー１６から所定のレチクルが収納されたマスク収納容器１４が２つ選択され、レチクルストッカー１６の載置台１５Ａに載置される。
あるいは、レチクルがレチクルストッカー１６に直接収納されている場合がある。この場合、必要なレチクルが、レチクルストッカー１６から取り出され、ロードポートシステムなどを用いて、載置台１５Ａに載置されたマスク収納容器１４に収納される。
【００３６】
軌道レール１３に備えられたバーコード（図示せず）から、制御手段によって、レチクルストッカー１６の位置及び載置台１５Ａの高さ、配列方向等の情報が読み取られる。
【００３７】
制御手段は、この読み取った情報により、マスク搬送装置１００をレチクルストッカー１６の上部の適切な位置に停止し、把持具２に備えられた昇降ロープ３を降ろし、この昇降ロープ３を適切な位置で止める。
なお、ここでは、図１（ｂ）に示すように、載置台１５Ａの配置と、台車１に備えられた把持具２の配置は同じ方向である。従って、台車１の回転は行われない。しかし、バーコードから読み取った配列方向の情報から判断して、把持具２の配列方向が載置台１５Ａの配列方向に沿う第二の状態となるため、回転が必要な場合には、制御手段は、台車１を適切な角度回転する。
【００３８】
把持具２から昇降ロープ３が適切な位置に降ろされると、２つのマスク収納容器１４は、それぞれ、把持具２によって、把持され、その後昇降ロープ３は引き上げられる。昇降ロープ３は、把持具２の内部に取り込まれた状態になり、軌道レール１３の敷設方向と同じ方向に、２つの把持具２及びマスク収納容器１４の配列は固定される。このようにして、マスク搬送装置１００は、図２に示す移動時の状態、即ち、第一の状態になる。
【００３９】
次に、マスク搬送装置１００は、第一の状態を維持して、軌道レール１３を辿って移動する。マスク搬送装置１００に備えられた制御手段は、所定の縮小投影露光装置１７に対応して軌道レールに備えられたバーコードから、その縮小投影露光装置１７の位置及び載置台１５Ｂの高さ、配列方向等の情報を読み取る。
【００４０】
ここで、読み取られた載置台１５Ｂの位置及び高さについての情報により、制御手段は、マスク搬送装置１００を適切な位置で停止させた後、昇降ロープ３の降下を開始し、載置台１５Ｂ付近まで降ろし、適切な高さで停止する。
この停止に続いて、制御手段は、台車１の回転を開始する。制御手段は、配列方向の情報から、マスク収納容器１４の配列が、載置台１５Ｂの配列に沿う第二の状態になるように、台車１を回転させた後、回転を停止する。ここでは、軌道レール１３の敷設方向に対して、載置台１５は垂直になっているので、台車１は、９０度回転する。
この第二の状態において、制御手段は、再び、昇降用ロープ３を下ろし、載置台１５Ｂの高さ合わせてマスク収納容器１４の高さを正確に調整する。その後、マスク収納容器１４は、把持具２から放され、載置台１５Ｂの適切な位置に載置される。
【００４１】
載置台１５に載置されたマスク収納容器１４は、必要に応じて、縮小投影露光装置１７内部に取り込まれる。
【００４２】
一方、ウエハキャリア５４に収納された半導体基板は、ＯＨＴ５１により軌道レール５３を辿って、塗布装置５７に備えられた載置台５５に載置される。この載置台５５からロードポート装置（図示せず）によって、塗布装置５７内部に半導体基板が取り込まれる。半導体基板は、塗布装置５７で、レジストを塗布され、この半導体基板は、塗布装置５７から、縮小投影露光装置１７内部に収納される。
縮小投影露光装置１７において、自動搬送されたレチクルを用いて、レジストの塗布された半導体基板に、露光処理を行う。
【００４３】
なお、ここでは、レチクルストッカー１６から、マスク収納容器１４が、所定の基板処理装置１７に搬送される場合を例にとって説明したが、これに限らず、投影露光装置において、使用され、不要となったレチクルを収納したマスク収納容器１４を投影露光装置１７から受け取り、レチクルストッカー１６に搬送して戻す場合も使用することができる。
【００４４】
また、２つの把持具２を備える台車１を用いてマスク収納容器の受け渡しと、受け取りの授受の作業を同時に行っても良い。即ち、一方の把持具２で、マスク収納容器１４を把持して搬送して、これを縮小投影露光装置１７に載置する。これと同時に、他方の把持具２で、縮小投影露光装置１７において、不要となったレチクルを収納したマスク収納容器１４を受け取り、これをレチクルストッカー１６に戻すことにより、授受の作業を同時に行っても良い。
【００４５】
また、ここでは、レチクルを縮小投影露光装置１７あるいはレチクルストッカー１６に搬送する場合について説明したが、縮小投影露光装置１７に対するレチクルの搬送に限るものではなく、他の装置に、その装置において使用するパターン転写用マスクを搬送する場合であっても良い。さらに、載置台の配列方向と、軌道レールの敷設方向とが一致しない装置に、基板を搬送する場合などにも用いることができる。
【００４６】
さらに、ここでは、台車に２つの把持具２を備えた場合を説明したが、載置台１５に載置できるマスク収納容器の個数に合わせて、１または２以上の把持具を備えているものであっても良い。３個以上のマスク収納容器１４を把持して搬送する場合でも、上述の第一の状態で搬送した後、載置台の上部で、その載置台の配列に合わせて台車を回転すれば、搬送のために要するスペースは、マスク収納容器を２個把持したときと大きく変らないため、問題がない。
【００４７】
また、ここでは、軌道レールと載置台１５Ｂの配列が９０度の場合、即ち、台車１を９０度回転させる場合について説明したが、これに限るものではなく、台車１は、載置台の配列にあわせて、０〜３６０度の角度を回転することができる。
【００４８】
さらに、ここでは、マスク搬送装置１００が制御手段を備える場合について説明したが、制御手段を有する場合に限るものではない。
また、制御手段は、軌道レール１３に備えられたバーコードを読み取ることにより、載置台の位置、高さ、配列等の情報を入手し、台車１を自動的に停止し、また回転させた。しかし、このような制御手段に限るものでもなく、予め、マスク搬送装置１００に停止位置、停止高度、回転角度などを記憶させておくものや、また、遠隔操作により、外部から制御するものであっても良い。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、各基板処理装置によって、異なる高さ、及び異なる配列となっている載置台に対応させて、パターン転写用マスクを自動搬送することができる。
従って、パターン転写用マスクを、人手によって運ぶ必要がなく、異物の発生を抑えることができる。また、従来の基板処理装置側の大幅な変更を必要としないため、コストを抑えることが可能である。
【００５０】
また、この発明によれば、台車に把持されるマスク収納容器は、搬送時には軌道レールの敷設方向に沿った状態を保って搬送される。従って、マスク収納容器を１つ搬送する場合と同じスペースで、複数のマスク収納容器を同時に搬送することができ、短時間の処理が可能である。また、このように複数のマスク収納容器を載置台に載置する場合にも、載置台の配列に合わせて、台車を回転するだけでよいので、搬送のための時間を短時間に抑えることができる。
【００５１】
さらに、この発明によれば、載置台の位置、高さ、配列は、自動的に読み取られ、台車は、自動的に必要な場所に停止し、自動的に回転してマスク収納容器は、授受される。従って、人手による作業の場合に比べて、パターン転写用マスクを誤って搬送することを防ぎ、より正確かつ効率の良い搬送を行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の実施の形態におけるマスク搬送システムについて説明するための図である。
【図２】  この発明の実施の形態における、マスク搬送装置の移動時の状態を説明するための図である。
【図３】  この発明の実施の形態における、マスク搬送装置において、マスク収納容器を授受する際の状態を示す図である。
【図４】  この発明の実施の形態における、マスク搬送装置において、台車が載置台の配列方向にあわせて回転した状態を示す図である。
【図５】  半導体製造工場において、半導体基板を自動搬送するための搬送システムを示す概念図である。
【符号の説明】
１００  マスク搬送装置
２００  マスク搬送システム
１  台車
２  把持具
３  昇降ロープ
４  接続部
１３  軌道レール
１４  マスク収納容器
１５  載置台
１６  マスク貯蔵装置（レチクルストッカー）
１７  基板処理装置（縮小投影露光装置）
５１  ＯＨＴ
５２  ホイスト機構
５３  軌道レール
５４  ウエハキャリア
５５  載置台
５６  ウエハ貯蔵装置（ストッカー）
５７  基板処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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