(57)【要約】  炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、第一の原料化合物及び第二の原料化合物のうち少なくとも一つが、三重結合又は共役ジ（又はポリ）エン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有し、含ホウ素共役ポリエン化合物が、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有する、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
前記第一の原料化合物及び前記第二の原料化合物のうち少なくとも一つが、前記三重結合又は前記共役ジ（又はポリ）エン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有し、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物が、前記共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有する、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項２】
前記第一の原料化合物が、下記式（１−１）で表される化合物であり、
前記第二の原料化合物が、下記式（１−２−１）で表される化合物であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物が、下記式（１−３−１）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化１】
2020059824.tif 000053
［式（１−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
【化２】
2020059824.tif 000054
［式（１−２−１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化３】
2020059824.tif 000055
［式（１−３−１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項３】
前記式（１−２−１）中の前記Ｒ３のうち、少なくとも一つが含ホウ素基である、請求項２に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項４】
前記第一の原料化合物が、下記式（１−１）で表される化合物であり、
前記第二の原料化合物が、下記式（１−２−２）で表される化合物であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物が、下記式（１−３−２）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化４】
2020059824.tif 000056
［式（１−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
【化５】
2020059824.tif 000057
［式（１−２−２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化６】
2020059824.tif 000058
［式（１−３−２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項５】
前記Ｒ１がシリル基であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物における前記Ｒ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、請求項２〜４のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項６】
前記第一の原料化合物が、下記式（２−１）で表される化合物であり、
前記第二の原料化合物が、下記式（２−２）で表される化合物であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物が、下記式（２−３）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化７】
2020059824.tif 000059
［式（２−１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。］
【化８】
2020059824.tif 000060
［式（２−２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化９】
2020059824.tif 000061
［式（２−３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項７】
前記Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値が、前記Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい、請求項６に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項８】
前記Ｒ５がシリル基であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物における前記Ｒ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、請求項６又は７に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項９】
前記金属触媒が、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記金属触媒が、ルテニウム触媒である、請求項１０に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項１１】
前記ルテニウム触媒が、反応系中で０価のルテニウムを形成する、請求項１０に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項１２】
下記式（１−３−１Ａ）、下記式（１−３−２Ａ）又は下記式（２−３Ａ）で表される、含ホウ素共役ポリエン化合物。
【化１０】
2020059824.tif 000062
［式（１−３−１Ａ）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化１１】
2020059824.tif 000063
［式（１−３−２Ａ）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化１２】
2020059824.tif 000064
［式（２−３Ａ）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ１５は水素原子又は一価の基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法によって、前記含ホウ素共役ポリエン化合物を含有する反応液を得る第一工程と、
前記反応液に、カップリング反応触媒と、前記含ホウ素基とのカップリング反応が可能な反応性基を有する第三の原料化合物と、を添加してカップリング反応を行う第二工程と、
を備える、共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項１４】
前記反応性基がハロゲノ基である、請求項１３に記載の共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項１５】
前記第一工程が、前記金属触媒の存在下での反応の反応系中に、前記含ホウ素共役ポリエン化合物を生成させる工程であり、
前記第二工程が、前記反応系中に、前記カップリング反応触媒と前記第三の原料化合物とを添加する工程である、請求項１３又は１４に記載の共役ポリエン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
炭素−炭素二重結合と単結合とが交互に繰り返される共役ポリエン骨格は、例えば抗真菌薬、ビタミン等の生理活性物質に多く見られる構造である。また、共役ポリエン骨格は、電子材料用途への適用も種々検討されている。このため、従来から、目的化合物に共役ポリエン骨格を導入する方法が検討されている。【０００３】
例えば、非特許文献１には、特定の保護基で保護されたハロアルケニルボロン酸を用いて、共役ポリエン骨格上にボロン酸基を有するポリエニルボロン酸を形成し、クロスカップリング反応によって当該ポリエニルボロン酸を生理活性物質の合成に利用する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，２００８，１３０，ｐ．４６６−４６８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、共役ポリエン骨格とそれに結合する含ホウ素基とを有し、生理活性物質、電子材料物質等の合成に有用な、新規の含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を用いた共役ポリエン化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面は、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法に関する。この製造方法は、炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備える。また、この製造方法では、上記第一の原料化合物及び上記第二の原料化合物のうち少なくとも一つは、上記三重結合又は前記共役ジ（又はポリ）エン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有している。これにより、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、上記共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有するものとなる。【０００７】
上記製造方法によれば、共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格に結合した含ホウ素基と、を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を容易に得ることができる。上記含ホウ素共役ポリエン化合物によれば、含ホウ素基を起点とする反応（例えば、クロスカップリング反応）によって、共役ポリエン骨格を容易に目的化合物に導入することができる。また、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を有するπ共役化合物として電子材料等の用途に適用することもできる。【０００８】
一態様において、上記第一の原料化合物は、下記式（１−１）で表される化合物であってよく、上記第二の原料化合物は、下記式（１−２−１）で表される化合物であってよく、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１−３−１）で表される化合物であってよい。
【化１】
2020059824.tif 000002
［式（１−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
【化２】
2020059824.tif 000003
［式（１−２−１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化３】
2020059824.tif 000004
［式（１−３−１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］【０００９】
上記態様において、上記式（１−２−１）中の上記Ｒ３のうち少なくとも一つが含ホウ素基であってよい。この場合、共役ポリエン骨格の両端に含ホウ素基を有する含ホウ素共役ポリエン化合物が得られる。この含ホウ素共役ポリエン化合物は、上述の用途以外に、クロスカップリング重合による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。【００１０】
他の一態様において、上記第一の原料化合物は、下記式（１−１）で表される化合物であってよく、上記第二の原料化合物は、下記式（１−２−２）で表される化合物であってよく、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１−３−２）で表される化合物であってよい。この場合、共役ポリエン骨格の両端に含ホウ素基を有する含ホウ素共役ポリエン化合物が得られる。この含ホウ素共役ポリエン化合物は、上述の用途以外に、クロスカップリング重合による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。
【化４】
2020059824.tif 000005
［式（１−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
【化５】
2020059824.tif 000006
［式（１−２−２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化６】
2020059824.tif 000007
［式（１−３−２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］【００１１】
上記の各態様において、上記Ｒ１はシリル基であってよく、このとき、上記製造方法は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物における上記Ｒ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備えていてよい。これにより、Ｒ１の置換位置に置換基を有しない含ホウ素共役ポリエン化合物（すなわち、Ｒ１が水素原子となった含ホウ素共役ポリエン化合物）を容易に得ることができる。【００１２】
更に他の一態様において、上記第一の原料化合物は、下記式（２−１）で表される化合物であってよく、上記第二の原料化合物は、下記式（２−２）で表される化合物であってよく、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（２−３）で表される化合物であってよい。
【化７】
2020059824.tif 000008
［式（２−１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。］
【化８】
2020059824.tif 000009
［式（２−２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化９】
2020059824.tif 000010
［式（２−３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］【００１３】
上記態様において、上記Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値は、上記Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい値であってよい。【００１４】
また、上記態様において、上記Ｒ５はシリル基であってよく、このとき、上記製造方法は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物における上記Ｒ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備えていてよい。これにより、Ｒ５の置換位置に置換基を有しない含ホウ素共役ポリエン化合物（すなわち、Ｒ５が水素原子となった含ホウ素共役ポリエン化合物）を容易に得ることができる。【００１５】
上記の各態様において、上記金属触媒は、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群より選択される少なくとも一種を含むものであってよい。【００１６】
上記の各態様において、上記金属触媒は、ルテニウム触媒であってよい。【００１７】
上記の各態様において、上記ルテニウム触媒は、反応系中で０価のルテニウムを形成していてよい。【００１８】
本発明の他の一側面は、下記式（１−３−１Ａ）、下記式（１−３−２Ａ）又は下記式（２−３Ａ）で表される、含ホウ素共役ポリエン化合物に関する。
【化１０】
2020059824.tif 000011
［式（１−３−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化１１】
2020059824.tif 000012
［式（１−３−２）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。また、２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化１２】
2020059824.tif 000013
［式（２−３）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ１５は水素原子又は一価の基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］【００１９】
本発明の更に他の一側面は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法によって、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を含有する反応液を得る第一工程と、上記反応液に、カップリング反応触媒と、上記含ホウ素基とのカップリング反応が可能な反応性基を有する第三の原料化合物と、を添加してカップリング反応を行う第二工程と、を備える、共役ポリエン化合物の製造方法に関する。【００２０】
一態様において、上記反応性基はハロゲノ基であってよい。【００２１】
一態様において、上記第一工程は、上記金属触媒の存在下での反応の反応系中に、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を生成させる工程であってよく、上記第二工程は、上記反応系中に、上記カップリング反応触媒と上記第三の原料化合物とを添加する工程であってよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、共役ポリエン骨格とそれに結合する含ホウ素基とを有し、生理活性物質、電子材料物質等の合成に有用な、新規の含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法が提供される。また、本発明によれば、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を用いた共役ポリエン化合物の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の好適な実施形態について説明するが、本発明は下記の実施形態に限定されるものではない。
【００２４】
＜含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法＞
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法は、炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得るポリエン形成工程を備える。ここで、第一の原料化合物及び第二の原料化合物のうち少なくとも一つは、三重結合又は共役ジ（又はポリ）エン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有しており、これにより、含ホウ素共役ポリエン化合物は、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有するものとなる。
【００２５】
本実施形態に係る製造方法によれば、共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格に結合した含ホウ素基と、を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を容易に得ることができる。このような含ホウ素共役ポリエン化合物によれば、含ホウ素基を起点とする反応（例えば、クロスカップリング反応）によって、共役ポリエン骨格を容易に目的化合物に導入することができる。また、含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を有するπ共役化合物として電子材料等の用途に適用することもできる。
【００２６】
本明細書中、含ホウ素基は、ホウ素化合物におけるホウ素原子上の官能基を１つ除去した残りの原子団であってよい。すなわち、含ホウ素基は、結合対象に対して、ホウ素原子を介して結合する一価の基であってよい。
【００２７】
含ホウ素基は特に限定されず、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応が進行する範囲で適宜選択できる。含ホウ素基としては、例えば、ボリル基、ボロノ基、ボラート基、及び、これらの誘導体基が挙げられる。
【００２８】
ボリル基は、−ＢＨ２で表される基を示す。ボリル基の誘導体基としては、例えば、ジオルガノボリル基が挙げられる。
【００２９】
ジオルガノボリル基は、例えば、−Ｂ（Ｒ２１）２で表される基であってよい。Ｒ２１は一価の基を示す。２つのＲ２１は同一でも異なっていてもよく、互いに連結してホウ素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ２１は、例えば、一価の有機基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってもよい。
【００３０】
Ｒ２１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。Ｒ２１におけるアルキル基の炭素数は特に限定されず、例えば１〜８であってよい。
【００３１】
Ｒ２１におけるアリール基は、芳香族化合物から芳香環上の水素原子を一つ除去した残りの原子団を示す。芳香族化合物が有する芳香環は、単環であっても縮合環であってもよく、複素環であってもよい。芳香族化合物としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、フラン、ピロール、チオフェン、ピリジン等が挙げられる。
【００３２】
Ｒ２１におけるアルキル基及びアリール基が有していてもよい置換基は、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応が進行する範囲であれば特に限定されない。当該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボニル基、ホルミル基、ヒドロキシカルボニル基、エステル基、アミノ基、チオール基等が挙げられる。
【００３３】
ジオルガノボリル基の具体例としては、例えば、ジフェニルボリル基、ジシクロへキシル基、ビシクロ［３．３．１］ノナン−１，５−ジイル基、ジシアミル基等が挙げられる。
【００３４】
ボロノ基は、−Ｂ（ＯＨ）２で表される基を示す。ボロノ基の誘導体基としては、例えば、例えば、ボロナト基、保護されたボロノ基等が挙げられる。
【００３５】
ボロナト基は、例えば、−Ｂ（ＯＲ２２）２で表される基であってよい。Ｒ２２は一価の基を示す。２つのＲ２２は同一でも異なっていてもよく、互いに連結してホウ素原子及び酸素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ２２は、例えば、一価の有機基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってもよい。Ｒ２２におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基としては、Ｒ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
【００３６】
ボロナト基の具体例としては、例えば、ジイソプロピルボロナト基、ジｔｅｒｔ−ブチルボロナト基等が挙げられる。
【００３７】
保護されたボロノ基は特に限定されず、例えば、ボロノ基の保護として公知の方法により保護された基であってよい。
【００３８】
保護されたボロノ基としては、例えば、ジオール、ジアミン、ジカルボン酸等の２官能化合物とボロノ基との反応により形成される基が挙げられる。ジオールとしては、例えば、ピナコール、ネオペンチルグリコール、カテコール、ピナンジオール、１、２―ジシクロへキシルジオール等が挙げられる。ジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン等が挙げられる。ジカルボン酸としては、例えば、Ｎ−メチルイミノ二酢酸等が挙げられる。
【００３９】
また、保護されたボロノ基としては、トリオールボラート基等のボラート基も例示できる。トリオールボラート基は、トリオールとボロノ基との反応により形成される。トリオールとしては、例えば、トリメチロールエタン（１，１，１−トリス（ヒドロキシメチル）エタン）等が挙げられる。ボラート基の対カチオンは特に限定されず、例えば、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、オルガノホスフォニウムイオン（ＰＲ４＋）等であってよい。
【００４０】
ボラート基としては、上述のトリオールボラート基に加え、トリフルオロボラート基（−ＢＦ３−）等が例示できる。ボラート基の対カチオンは特に限定されず、例えば、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、オルガノホスフォニウムイオン（ＰＲ４＋）等であってよい。
【００４１】
金属触媒は、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応によって含ホウ素共役ポリエン化合物を形成できる触媒、すなわち、炭素−炭素三重結合と１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基との反応によって共役トリエン骨格を形成できる触媒であればよい。
【００４２】
金属触媒としては、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群より選択される少なくとも一種を含む触媒が好ましく、ルテニウム触媒がより好ましい。
【００４３】
ルテニウム触媒は、後述する反応機構によって第一の原料化合物と第二の原料化合物とを効率良く反応させることができる観点から、反応系中で０価のルテニウム（Ｒｕ（０））を形成可能な触媒であることが好ましい。すなわち、上記ポリエン形成工程は、第一の原料化合物と第二の原料化合物とをＲｕ（０）の存在下で反応させる工程であってよい。
【００４４】
ポリエン形成工程の反応機構の一例について以下に説明する。なお、以下の例では、第一の原料化合物として後述の式（１−１）で表される化合物、第二の原料化合物としてブタジエン、金属触媒として［（ナフタレン）（１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム（０）］を用いて反応機構を説明しているが、本発明はこれらに限定されない。また、ポリエン形成工程の反応機構は、以下の例に限定されない。
【００４５】
【化１３】
2020059824.tif 000014
【００４６】
上記反応機構では、まず、ルテニウム錯体からナフタレンが解離し、第一の原料化合物及び第二の原料化合物がそれぞれルテニウム（０）上に配位する（上記Ａ）。次いで、酸化的カップリング反応によって上記Ｂが形成され、βヒドリド脱離により上記Ｃが形成される。更に、還元的脱離によって、ルテニウム上に共役トリエンが配位した上記Ｄが形成される。上記の例では、ブタジエンが反応点を２つ有しているため、同様の機構でもう１分子の第一の原料化合物が反応して、共役テトラエンが配位した上記Ｅが形成される。最後に、共役テトラエンがルテニウム上から解離することで、含ホウ素共役ポリエン化合物が得られる。なお、第二の原料化合物が、反応点を１つしか有しない場合は、上記Ｄの段階でルテニウム上から含ホウ素共役ポリエン化合物が解離する。
【００４７】
反応系中でＲｕ（０）を形成可能な触媒としては、例えば、Ｒｕ（０）を有する０価ルテニウム錯体、Ｒｕ（ＩＩ）を有する２価ルテニウム錯体等が挙げられる。
【００４８】
０価ルテニウム錯体としては、例えば、［（ナフタレン）（１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム（０）］、［（ブタジエン）（１，５―シクロオクタジエン）（アセトニトリル）ルテニウム（０）］等が挙げられる。
【００４９】
２価ルテニウム錯体としては、例えば、［ビス（アセチルアセトナト）（１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）］、［テトラクロロジ（アニソール）二ルテニウム］等が挙げられる。２価ルテニウム錯体は、反応系中で還元されてＲｕ（０）を形成してよい。２価ルテニウム錯体は、反応基質（第一の原料化合物及び／又は第二の原料化合物）との反応によって還元されてよく、ルテニウム錯体同士の反応によって還元されてよく、別途添加された還元剤との反応によって還元されてもよい。還元剤としては、例えば、ブチルリチウム、水素化アルミニウムリチウム、ナトリウムナフタレン、炭酸ナトリウムとイソプロピルアルコールの組み合わせ等が挙げられる。
【００５０】
なお、ルテニウム触媒の種類は上記のものに限定されず、メタラサイクルを形成可能な触媒であればよい。例えば、ルテニウム触媒は、メタラサイクル形成時に４価のルテニウム（Ｒｕ（ＩＶ））を形成する触媒であってもよい。すなわち、ルテニウム触媒は、反応系中で４価のルテニウム（Ｒｕ（ＩＶ））を含むメタラサイクルを形成可能な触媒であってもよい。
【００５１】
また、金属属触媒としては、ロジウム触媒、コバルト触媒、ニッケル触媒等を使用することもできる。
【００５２】
ロジウム触媒としては、反応系中で１価のロジウム（Ｒｈ（Ｉ））を形成可能な触媒が好ましい。このような触媒としては、例えば、Ｒｈ（Ｉ）を有する１価ロジウム錯体、Ｒｈ（ＩＩＩ）を有する３価ロジウム錯体等が挙げられる。３価ロジウム錯体は、還元剤と併用されてよい。還元剤としては、上記と同様のものが例示できる。
【００５３】
コバルト触媒としては、反応系中で１価のコバルト（Ｃｏ（Ｉ））又は０価のコバルト（Ｃｏ（０））を形成可能な触媒が好ましい。このような触媒としては、例えば、Ｃｏ（ＩＩ）を有する２価コバルト錯体等が挙げられる。２価コバルト錯体は、還元剤と併用されてよい。還元剤としては、上記と同様のものが例示できる。
【００５４】
ニッケル触媒としては、反応系中で０価のニッケル（Ｎｉ（０））を形成可能な触媒が好ましい。このような触媒としては、例えば、Ｎｉ（０）を有する０価ニッケル錯体、Ｎｉ（ＩＩ）を有する２価ニッケル錯体等が挙げられる。２価ニッケル錯体は、還元剤と併用されてよい。還元剤としては、上記と同様のものが例示できる。また、還元剤としては、亜鉛等も好適に用いることができる。
【００５５】
金属触媒の量は特に限定されず、第一の原料化合物に対して、例えば０．１ｍｏｌ％以上であってよく、好ましくは１ｍｏｌ％以上、より好ましくは５ｍｏｌ％以上である。また、金属触媒の量は、第一の原料化合物に対して、例えば３０ｍｏｌ％以下であってよく、好ましくは２０ｍｏｌ％以下、より好ましくは１５ｍｏｌ％以下である。
【００５６】
ポリエン形成工程において、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応は、無溶媒で行ってよく、有機溶媒中で行ってもよい。有機溶媒の種類は特に限定されず、第一の原料化合物及び第二の原料化合物を溶解可能な溶媒であればよい。有機溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応を阻害し難い観点からはテトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン等が好ましい。
【００５７】
有機溶媒の量は特に限定されず、第一の原料化合物及び第二の原料化合物の合計１００質量部に対して、例えば１００質量部以上であってよく、好ましくは１０００質量部以上であり、例えば１０００００質量部以下であってよく、好ましくは１００００質量部以下である。
【００５８】
ポリエン形成工程において、反応温度は特に限定されず、例えば０〜１００℃であってよく、室温であってもよい。また、反応時間は特に限定されず、反応基質及び触媒の種類、所望の収量等に応じて適宜調整してよい。反応時間は、例えば０．１〜７２時間であってよく、好ましくは１〜２４時間である。
【００５９】
以下、本実施形態に係る製造方法の好適な態様について説明する。
【００６０】
（第一の態様）
第一の態様において、第一の原料化合物は、下記式（１−１）で表される化合物（以下、化合物（１−１）ともいう。）であり、第二の原料化合物は、下記式（１−２−１）で表される化合物（以下、化合物（１−２−１）ともいう。）である。第一の態様では、このような第一の原料化合物及び第二の原料化合物を用いることで、下記式（１−３−１）で表される化合物（以下、化合物（１−３−１）ともいう。）を得ることができる。
【００６１】
【化１４】
2020059824.tif 000015
【化１５】
2020059824.tif 000016
【化１６】
2020059824.tif 000017
【００６２】
式（１−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。
【００６３】
式（１−２−１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。
【００６４】
式（１−３−１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ上記と同義である。なお、式中の波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。すなわち、式（１−３−１）で表される化合物は、下記式（１−３−１ａ）で表される化合物、下記式（１−３−１ｂ）で表される化合物、又は、これらの混合物であってよい。第一の態様では、下記の化合物のうち、式（１−３−１ａ）で表される化合物が多く得られる傾向がある。
【００６５】
【化１７】
2020059824.tif 000018
【化１８】
2020059824.tif 000019
【００６６】
Ｒ１における一価の基は特に限定されず、化合物（１−１）と化合物（１−２−１）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ１における一価の基は、例えば、一価の有機基であってよい。
【００６７】
Ｒ１は、例えば、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、含ホウ素基、シリル基等であってよい。
【００６８】
Ｒ１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。Ｒ１におけるアルキル基の炭素数は特に限定されず、例えば１〜８であってよい。
【００６９】
Ｒ１におけるアリール基は、芳香族化合物から芳香環上の水素原子を一つ除去した残りの原子団を示す。芳香族化合物が有する芳香環は、単環であっても縮合環であってもよく、複素環であってもよい。芳香族化合物としては、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン等が挙げられる。
【００７０】
Ｒ１におけるアルキル基及びアリール基が有していてもよい置換基は、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応が進行する範囲であれば特に限定されない。当該置換基としては、例えば、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルボニル基、アミノ基、ハロゲノ基等が挙げられる。
【００７１】
Ｒ１におけるシリル基は、−Ｓｉ（Ｒ３１）３で表される基であってよい。Ｒ３１は、一価の基を示す。３つのＲ３１は互いに同一でも異なっていてもよく、互いに連結してケイ素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ３１は、例えば、一価の有機基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってもよい。Ｒ３１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基としては、上述のＲ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
【００７２】
Ｒ１が含ホウ素基である場合、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合する含ホウ素基を複数有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。
【００７３】
第一の態様において、Ｒ１が水素原子であると、化合物（１−１）と化合物（１−２−１）との反応が進行し難い。一方、Ｒ１がシリル基である場合、化合物（１−１）と化合物（１−２−１）との反応性は良好であり、位置選択的に化合物（１−３−１）が得られる。そして、脱シリル化反応によって、化合物（１−３−１）中のＲ１が水素原子に置換された含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。なお、このとき、Ｒ２が水素原子であると、側鎖に置換基を有しない共役ポリエン骨格を形成することができる。
【００７４】
脱シリル化反応は特に限定されず、公知の方法を適用してよい。例えば、脱シリル化反応は、フッ化テトラｎ−ブチルアンモニム（ＴＢＡＦ）を反応剤として用いて行うことができる。なお、反応が進行し難い場合は、触媒量のヨウ化銅（Ｉ）を添加してもよい。
【００７５】
Ｒ１は、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値が、Ｂ１のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より小さい基であってよい。第一の態様では、置換基定数σｐの値がより大きい置換基（Ｂ１）が、共役ポリエン骨格の末端に位置するように反応が進行しやすい傾向がある。
【００７６】
ｎは０以上の整数であり、その上限は特に限定されない。ｎは、例えば０〜８であってよく、好ましくは０〜２である。
【００７７】
Ｒ２における一価の基は、特に限定されず、化合物（１−１）と化合物（１−２−１）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ２における一価の基は、例えば、一価の有機基又はハロゲノ基であってよい。
【００７８】
Ｒ２は、例えば、水素原子、ハロゲノ基、アルキル基、アリール基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ４１で表される基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ４２で表される基、含ホウ素基、シリル基等であってよく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００７９】
Ｒ２におけるハロゲノ基は、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）又はヨード基（−Ｉ）であってよく、好ましくはフルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）又はブロモ基（−Ｂｒ）である。
【００８０】
Ｒ２におけるアルキル基、アリール基は、及び、これらが有していてよい置換基としては、上述のＲ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
【００８１】
Ｒ４１は水素原子又は一価の基を示す。Ｒ４１は、例えば、水素原子又は一価の有機基であってよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってよい。
【００８２】
Ｒ４２は水素原子又は一価の基を示す。Ｒ４２は、例えば、水素原子又は一価の有機基であってよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってよい。
【００８３】
Ｒ４１及びＲ４２おけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基としては、上述のＲ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
【００８４】
Ｒ３における一価の基は、特に限定されず、化合物（１−１）と化合物（１−２−１）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ３における一価の基は、例えば、一価の有機基又はハロゲノ基であってよい。
【００８５】
Ｒ３は、例えば、水素原子、ハロゲノ基、アルキル基、アリール基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ４１で表される基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ４２で表される基、含ホウ素基、シリル基等であってよく、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ３における各基としては、上述のＲ２における各基と同じものが例示できる。
【００８６】
Ｒ２及びＲ３のうち少なくとも一つが含ホウ素基である場合、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合する含ホウ素基を複数有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。
【００８７】
Ｒ３のうち少なくとも一つが含ホウ素基である場合、共役ポリエン骨格の両端に含ホウ素基を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。このような含ホウ素共役ポリエン化合物は、クロスカップリング重合による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。
【００８８】
（第二の態様）
第二の態様において、第一の原料化合物は、式（１−１）で表される化合物（化合物（１−１））であり、第二の原料化合物は、下記式（１−２−２）で表される化合物（以下、化合物（１−２−２）ともいう。）である。第二の態様では、化合物（１−２−２）が、化合物（１−１）との反応点を２箇所有している。このため、第二の態様では、化合物（１−１）由来の含ホウ素基を少なくとも２つ有する、下記式（１−３−２）で表される化合物（以下、化合物（１−３−２）ともいう。）を得ることができる。
【００８９】
【化１９】
2020059824.tif 000020
【化２０】
2020059824.tif 000021
【化２１】
2020059824.tif 000022
【００９０】
式（１−１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。
【００９１】
式（１−２−２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。
【００９２】
式（１−３−２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ上記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。すなわち、式（１−３−２）で表される化合物は、下記式（１−３−２ａ）で表される化合物、下記式（１−３−２ｂ）で表される化合物、下記式（１−３−２ｃ）で表される化合物、下記式（１−３−２ｄ）で表される化合物、又は、これらの混合物であってよい。第二の態様では、下記の化合物のうち、式（１−３−２ａ）で表される化合物が最も多く得られる傾向がある。
【００９３】
【化２２】
2020059824.tif 000023
【化２３】
2020059824.tif 000024
【化２４】
2020059824.tif 000025
【化２５】
2020059824.tif 000026
【００９４】
式（１−１）中のＲ１は、第一の態様における式（１−１）中のＲ１と同様であってよい。
【００９５】
式（１−２−２）中のＲ２は、第一の態様における式（１−２−１）中のＲ２と同様であってよい。
【００９６】
ｎ１は０以上の整数であり、その上限は特に限定されない。ｎ１は、例えば０〜８であってよく、好ましくは０〜１である。
【００９７】
ｎ１が０のとき、ｎ２は０又は１であり、ｎが１以上のとき、ｎ２は１である。
【００９８】
（第三の態様）
第三の態様において、第一の原料化合物は、下記式（２−１）で表される化合物であり、第二の原料化合物は、下記式（２−２）で表される化合物である。第三の態様では、このような第一の原料化合物及び第二の原料化合物を用いることで、下記式（２−３）で表される化合物（以下、化合物（２−３）ともいう。）を得ることができる。
【００９９】
【化２６】
2020059824.tif 000027
【化２７】
2020059824.tif 000028
【化２８】
2020059824.tif 000029
【０１００】
式（２−１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。
【０１０１】
式（２−２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０２】
式（２−３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ上記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。すなわち、式（２−３）で表される化合物は、下記式（２−３ａ）で表される化合物、下記式（２−３ｂ）で表される化合物、又は、これらの混合物であってよい。第三の態様では、下記の化合物のうち、式（２−３ａ）で表される化合物が多く得られる傾向がある。
【０１０３】
【化２９】
2020059824.tif 000030
【化３０】
2020059824.tif 000031
【０１０４】
Ｒ４及びＲ５における一価の基は特に限定されず、化合物（２−１）と化合物（２−２）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ４及びＲ５における一価の基としては、上述のＲ１と同じ基が例示できる。
【０１０５】
第三の態様において、Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値は、Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい。第３の態様では、置換基定数σｐの値がより大きい置換基（Ｒ４）が、共役ポリエン骨格の末端に位置するように反応が進行しやすい傾向がある。
【０１０６】
ｍは０以上の整数であり、その上限は特に限定されない。ｍは、例えば０〜８であってよく、好ましくは０〜２である。
【０１０７】
Ｒ６における一価の基は、特に限定されず、化合物（２−１）と化合物（２−２）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ６としては、上述のＲ２と同じ基が例示できる。
【０１０８】
Ｒ７における一価の基は、特に限定されず、化合物（２−１）と化合物（２−２）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ７としては、上述のＲ３と同じ基が例示できる。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。
【０１０９】
＜含ホウ素共役ポリエン化合物＞
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、上述の製造方法により製造される化合物であり、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基と、を有する。
【０１１０】
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物の好適な態様について以下に説明する。
【０１１１】
（第一の態様）
第一の態様に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１−３−１Ａ）で表される化合物である。
【０１１２】
【化３１】
2020059824.tif 000032
【０１１３】
式（１−３−１Ａ）中、Ｂ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３は、上述の式（１−３−１）におけるＢ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３と同義である。また、Ｒ１１は、水素原子又は一価の基を示し、Ｒ１１における一価の基としては、上述のＲ１と同じ基が例示できる。
【０１１４】
Ｒ１１が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ１がシリル基である化合物（１−１）と化合物（１−２−１）とを反応させた後、Ｒ１のシリル基を脱シリル化反応によって水素原子に置換することで製造することができる。
【０１１５】
（第二の態様）
第二の態様に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１−３−２Ａ）で表される化合物である。
【０１１６】
【化３２】
2020059824.tif 000033
【０１１７】
式（１−３−２Ａ）中、Ｂ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２は、上述の式（１−３−２）におけるＢ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２と同義である。また、Ｒ１１は、水素原子又は一価の基を示し、Ｒ１１における一価の基としては、上述のＲ１と同じ基が例示できる。
【０１１８】
Ｒ１１が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ１がシリル基である化合物（１−１）と化合物（１−２−２）とを反応させた後、Ｒ１のシリル基を脱シリル化反応によって水素原子に置換することで製造することができる。
【０１１９】
（第三の態様）
第三の態様に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（２−３Ａ）で表される化合物である。
【０１２０】
【化３３】
2020059824.tif 000034
【０１２１】
式（２−３Ａ）中、Ｒ４、ｍ、Ｒ６及びＲ７は、上述の式（２−３）におけるＲ４、ｍ、Ｒ６及びＲ７と同義である。また、Ｒ１５は、水素原子又は一価の基を示し、Ｒ１５における一価の基としては、上述のＲ５と同じ基が例示できる。
【０１２２】
Ｒ１５が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ５がシリル基である化合物（２−１）と化合物（２−２）とを反応させた後、Ｒ５のシリル基を脱シリル化反応によって水素原子に置換することで製造することができる。
【０１２３】
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格に結合した含ホウ素基と、を有している。このため、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物によれば、含ホウ素基を起点とする反応（例えば、クロスカップリング反応）によって、共役ポリエン骨格を容易に目的化合物に導入することができる。この用途において、含ホウ素基は、ボロノ基又はその誘導体基が好ましい。
【０１２４】
また、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を有するπ共役化合物として電子材料等の用途に適用することもできる。この用途において、含ホウ素基は、ボリル基又はその誘導体基が好ましい。
【０１２５】
また、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を２つ以上有することができ、この場合は、クロスカップリング重合（例えば、ジハロゲン化芳香族化合物との重合）による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。この用途において、含ホウ素基は、ボロノ基又はその誘導体基が好ましい。
【０１２６】
以上、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法について記載したが、本発明はこれらに限定されない。
【０１２７】
例えば、本発明の一側面は、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物を用いた、共役ポリエン化合物の製造方法に関する。
【０１２８】
一実施形態に係る共役ポリエンの製造方法は、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法によって、含ホウ素共役ポリエン化合物を含有する反応液を得る第一工程と、上記反応液に、カップリング反応触媒と、上記含ホウ素基とのカップリング反応が可能な反応性基を有する第三の原料化合物と、を添加してカップリング反応を行う第二工程と、を備える。
【０１２９】
第一工程は、例えば、第一の原料化合物及び第二の原料化合物の金属触媒存在下での反応によって、反応系中に、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を生成させる工程であってよい。そして、第二工程は、当該反応系中に、カップリング反応触媒と第三の原料化合物とを添加する工程であってよい。このようなワンポット反応によれば、目的の共役ポリエン化合物を効率良く製造することができる。
【０１３０】
このように、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法では、反応後の反応系中から含ホウ素共役ポリエン化合物を回収することなく、ワンポットで続くカップリング反応を実施することができる。この点は、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法の大きな利点と言える。
【０１３１】
カップリング反応触媒は特に限定されず、公知のカップリング反応触媒から適宜選択して使用することができる。カップリング反応触媒の具体例としては、例えば、［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］等の鈴木−宮浦カップリング反応に使用される公知の触媒（例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、鉄錯体触媒等）、固定化触媒（例えば、固定化パラジウム触媒、固定化ニッケル触媒、固定化鉄触媒等）、金属微粒子触媒（例えば、パラジウム微粒子触媒、ニッケル微粒子触媒、鉄微粒子触媒等）などが挙げられる。
【０１３２】
第三の原料化合物が有する反応性基は、含ホウ素基とのカップリング反応可能な官能基であれば特に制限されないが、基質の選択性及び反応性に優れる観点からは、ハロゲノ基であることが好ましい。
【０１３３】
カップリング反応の反応条件は特に限定されず、公知のカップリング反応の反応条件から適宜選択できる。
【実施例】
【０１３４】
（実施例１−１）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１）の合成を行った。
【化３４】
2020059824.tif 000035
【０１３５】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（２０．３μＬ，０．０８８４ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（１０．３μＬ，０．０８８１ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（２．９９ｍｇ，０．００８８６ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１）が、反応時間４時間において収率５４％で生成し、２４時間後には収率８９％で生成していた。なお、含ホウ素共役ポリエン化合物の生成は、１Ｈ−ＮＭＲ測定により確認した。測定結果は以下のとおりであった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９８（ｔ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，３Ｈ），１．１３（ｄ，Ｊ＝６．２  Ｈｚ，１２Ｈ），１．５５（ｓｅｘｔ，Ｊ＝７．７  Ｈｚ，２Ｈ），２．５９（ｔ，Ｊ＝７．７  Ｈｚ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），４．４３（ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．２  Ｈｚ，２Ｈ），５．５４（ｓ，１Ｈ），５．９１（ｄ，Ｊ＝１５．６  Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄ，Ｊ＝１５．１  Ｈｚ，１Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝１５．１，１１．０  Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄｄ，Ｊ＝１５．６，１１．０  Ｈｚ，１Ｈ）．【０１３６】
（実施例１−２）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１）の合成を行った。
【化３５】
2020059824.tif 000036
【０１３７】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（２０．５μＬ，０．０８９４ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（１０．４μＬ，０．０８９５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン−ｄ２（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（２．９４ｍｇ，０．００８７３ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１）が、反応時間７時間において収率５０％で生成した。【０１３８】
（実施例２）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化３６】
2020059824.tif 000037
【０１３９】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（２０．５μＬ，０．０８９５ｍｍｏｌ）及び１，３−ペンタジエン（９．０μＬ，０．０８９ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０７ｍｇ，０．００１８０ｍｍｏｌ）を更に加えた。７０℃において１時間反応を行ったところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−２）が収率２７％で得られた。なお、同様の反応を室温で行ったところ、２８時間後に収率３６％で目的物が得られた。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９４（ｄ，Ｊ＝６．０  Ｈｚ，３Ｈ），１．１５（ｔ，Ｊ＝６．４  Ｈｚ，３Ｈ），１．１７（ｄ，Ｊ＝６．２  Ｈｚ，１２Ｈ），１．５５（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝７．７  Ｈｚ，２Ｈ），４．４５（ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．０  Ｈｚ，２Ｈ），５．５８（ｓ，１Ｈ），５．６０（ｄｑｄ，Ｊ＝１５．８，６．０，４．４  Ｈｚ，１Ｈ），５．９９（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，１０．４  Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄ，Ｊ＝１４．７  Ｈｚ，１Ｈ），６．４８（ｄｄｄ，Ｊ＝１４．７，１０．６，４．４  Ｈｚ，１Ｈ）．【０１４０】
（実施例３）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化３７】
2020059824.tif 000038
【０１４１】
具体的には、３−ヘキシン（６．５μＬ，０．０５７ｍｍｏｌ）と２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（１１．５μＬ，０．０５７５ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（１．９３ｍｇ，０．００５７２ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で２５分後には、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−３）が収率８９％で生成した。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．８１（ｔ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，３Ｈ），０．８９（ｔ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，３Ｈ），１．１１（ｓ，１２Ｈ），１．９０（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，２Ｈ），２．０６（ｑ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，２Ｈ），５．２８（ｔ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，１Ｈ），５．９３（ｄ，Ｊ＝１７．８  Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝１５．５  Ｈｚ，１Ｈ），６．３５（ｄｄ，Ｊ＝１５．５，９．８  Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄｄ，Ｊ＝１７．５，９．７  Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，［Ｄ６］ｂｅｎｚｅｎｅ，ｒ．ｔ．）：δ  １３．８４（ｓ），１４．１４（ｓ），２１．６９（ｓ），１９．９４（ｓ），２４．９２（ｓ），８２．９９（ｓ），１２０（ｂｒ），１２７−１２８（ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ｃ６Ｄ６），１２６．０１（ｓ），１３７．０１（ｓ），１４０．６４（ｓ），１５１．４９（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１６Ｈ２８ＢＯ２＋Ｈ＋：２６３．２１８０［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：２６３．２１７７．【０１４２】
（実施例４）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化３８】
2020059824.tif 000039
【０１４３】
具体的には、ジフェニルアセチレン（３２．０９ｍｇ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（３６．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）を加え、次いで［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０７ｍｇ，０．０１８０ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で５分後には反応が完了し、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−４）が収率６３％で得られた。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １．０７（ｓ，１２Ｈ），５．６５（ｄ，Ｊ＝１７．２  Ｈｚ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，Ｊ＝１４．９，１０．９  Ｈｚ，１Ｈ），６．４７（ｓ，１Ｈ），６．６１（ｄ，Ｊ＝１４．９  Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．０２（ｍ，５Ｈ），７．０４−７．１０（ｍ，５Ｈ）７．５０（ｄｄ，Ｊ＝１７，１０  Ｈｚ，１Ｈ，ｐａｒｔｌｙ  ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ２４．５５（ｓ），２４．８６（ｓ），７７．６１（ｓ），８２．０２（ｓ），１２２（ｂｒ），１２７．４０（ｓ），１２８（ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ｃ６Ｄ６），１２９．１７（ｓ），１２９．７０（ｓ），１２９．９１（ｓ），１３３．６７（ｓ），１３３．８９（ｓ），１３７．０８（ｓ），１３８．４５（ｓ），１４１．８５（ｓ），１４１．９８（ｓ，３ＣＨ），１５０．４１（ｓ，５−ＣＨ）．
ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ＝３５８（Ｍ＋）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ２４Ｈ２７ＢＯ２＋Ｈ＋：３５９．２１８１［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３５９．２１８３．【０１４４】
（実施例５）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化３９】
2020059824.tif 000040
【０１４５】
具体的には、２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（４０．４μＬ，０．２２４４ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに１−ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（５１．０μＬ，０．２２２ｍｍｏｌ）を加え、次いで［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（７．５９ｍｇ，０．０２２５ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で３時間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−５）が収率３８％で得られた。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９６（ｔ，Ｊ＝８  Ｈｚ，３Ｈ），１．１０（ｓ，１２Ｈ），１．１６（ｄ，Ｊ＝７  Ｈｚ，１２Ｈ），１．５６−１．６１（ｍ，２Ｈ），２．６０−２．６４（ｍ，２Ｈ），４．４２（ｓｅｐｔ，Ｊ＝７  Ｈｚ，２Ｈ），５．５１（ｓ，１Ｈ），５．９２（ｄ，Ｊ＝１７  Ｈｚ，１Ｈ），６．３４（ｄ，Ｊ＝１５  Ｈｚ，１Ｈ），６．５２（ｄｄ，Ｊ＝１５，１１  Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝１７，１１  Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １４．４６（ｓ），２３．８７（ｓ），２４．８６（ｓ），２４．９１（ｓ），３２．７８（ｓ），６５．５６（ｓ），８３．０５（ｓ），１２２（ｂｒ），１２６．０１（ｓ），１３１．４５（ｓ），１４２．４２（ｓ），１５０．９２（ｓ），１５６．１８（ｓ）．【０１４６】
（実施例６）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４０】
2020059824.tif 000041
【０１４７】
具体的には、１−フェニル−１−プロピン（２２．５μＬ，１８２μｍｏｌ）及び２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（３６．０μＬ，１８０μｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０７ｍｇ，１８．０μｍｏｌ）を更に加えた。室温で１時間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−６）が収率６１％で得られた。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １．１２（ｓ，１２Ｈ），１．７５（ｄ，Ｊ＝１．１６  Ｈｚ，３Ｈ），５．９６（ｄ，Ｊ＝１７．７  Ｈｚ，１Ｈ），６．３５−６．４４（ｍ，２Ｈ），６．４１（ｓ，１Ｈ），６．９７−７．０２（ｍ，２Ｈ），７．１０−７．１５（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｄｄｄ，Ｊ＝１７．６，８．３，１．５  Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １３．７８（ｓ），２４．９４（ｓ），８３．０８（ｓ），１２１（ｂｒ），１２７．００（ｓ），１２９．６０（ｓ），１３０．６８（ｓ），１３４．０９（ｓ），１３６．０１（ｓ），１３８．００（ｓ），１４２．０８（ｓ，４−ＣＨ），１５０．９６（ｓ，５−ＣＨ）．６−ＣＨ  ｗａｓ  ｎｏｔ  ｏｂｓｅｒｖｅｄ  ｂｙ  ＨＭＱＣ  ｐｒｏｂａｂｌｙ  ｄｕｅ  ｔｏ  ｂｒｏａｄｅｎｉｎｇ．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１９Ｈ２５ＢＯ２＋Ｈ＋：２９７．２０２４［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：２９７．２０１０．【０１４８】
（実施例７）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４１】
2020059824.tif 000042
【０１４９】
具体的には、１−フェニル−２−トリメチルシリル−アセチレン（３４．０μＬ，１７６μｍｏｌ）及び２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（１９．０μＬ，９５．０μｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（３．２０ｍｇ，９．４８μｍｏｌ）を更に加えた。室温で３０分間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−７）が収率４１％で得られた。なお、この反応では、１−フェニル−２−トリメチルシリル−アセチレンは位置選択的に反応して、初期生成物として末端のフェニル基の立体選択性がＺ体の生成物が得られた。しかし、その後室温において溶液中で放置することで異性化が進行し、フェニル基の立体選択性がＥ体の生成物が得られた。
トリメチル（（１Ｚ，３Ｅ，５Ｅ）−１−フェニル−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ヘキサ−１，３，５−トリエン−２−イル）シラン
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．２０（ｓ，９Ｈ），１．０８（ｓ，１２Ｈ），５．９１（ｄ，Ｊ＝１７  Ｈｚ，１Ｈ），６．５４（ｄ，Ｊ＝１６  Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄｄ，Ｊ＝１６，１０  Ｈｚ，１Ｈ），６．９（ｓ，１Ｈ，ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐ），７．０−７．１（ｍ，３Ｈ），７．２（ｄ，Ｊ＝７  Ｈｚ，１２Ｈ）７．４４（ｄｄ，Ｊ＝１７．２，１０．３  Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．４５（ｓ），２４．８８（ｓ），８３．０２（ｓ），１２０．９２（ｂｒ），１２８（ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ  ｗｉｔｈ  Ｃ６Ｄ６），１２９．９３（ｓ），１３４．８５（ｓ），１３７．７０（ｓ），１３８．１４（ｓ），１４０．８４（ｓ），１４１．７８（ｓ），１４２．９１（ｓ），１５１．３３（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ２１Ｈ３１ＢＯ２Ｓｉ＋Ｈ＋：３５５．２２６３［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３５５．２２６３．
トリメチル（（１Ｅ，３Ｅ，５Ｅ）−１−フェニル−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ヘキサ−１，３，５−トリエン−２−イル）シラン
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．２１（ｓ，９Ｈ），１．０８（ｓ，１２Ｈ），５．９１（ｄ，Ｊ＝１８  Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄｄ，Ｊ＝１５，１０  Ｈｚ，１Ｈ），６．９（１Ｈ，ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐ），７．０−７．１（ｍ，３Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝１５  Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｄｄ，Ｊ＝１８，１０  Ｈｚ，１Ｈ，ｐａｒｔｌｙ  ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐ）．【０１５０】
（実施例８）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４２】
2020059824.tif 000043
【０１５１】
具体的には、２−フェニルエチニルボロン酸ジイソプロピル（２４．５μＬ，０．１０１ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（１１．５μＬ，０．０９８７ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．５ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（３．４３ｍｇ，０．０１０２ｍｍｏｌ）を更に加えた。３０℃で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１０１）及び（Ａ−１０２）が、反応時間２時間において収率５２％（生成比３７／６７）で生成した。なお、含ホウ素共役ポリエン化合物の生成は、１Ｈ−ＮＭＲ測定により確認した。測定結果は以下のとおりであった。
（Ａ−１０１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９５（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝６．３Ｈｚ，１２Ｈ），３．３６（ｓ，３Ｈ），４．３７（ｓｅｐｔ，３ＪＨ，Ｈ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），５．５９（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），５．８２（ｓ，１Ｈ，ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  ｒｅａｃｔａｎｔ），６．０９（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．４３−６．５４（ｍ），７．１８−７．２８（ｍ），７．５０（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．
（Ａ−１０２）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １．０４（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝５．７Ｈｚ，１２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），４．３７（ｓｅｐｔ，３ＪＨ，Ｈ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），５．９６（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．４３−６．５４（ｍ，２Ｈ），６．６８（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１８−７．２８（ｍ），７．５８（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．【０１５２】
（実施例９）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４３】
2020059824.tif 000044
【０１５３】
具体的には、２−フェニルエチニルボロン酸ジメチル（２４．５μＬ，０．１０１ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（１１．５μＬ，０．０９８７ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．５ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（３．４３ｍｇ，０．０１０２ｍｍｏｌ）を更に加えた。３０℃で１時間、さらに５０℃で２時間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１０３）及び（Ａ−１０４）が、収率６８％（生成比１９／８１）で生成した。なお、含ホウ素共役ポリエン化合物の生成は、１Ｈ−ＮＭＲ測定により確認した。測定結果は以下のとおりであった。
（Ａ−１０３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ３．２２（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｓ，６Ｈ），５．６２（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｓ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４５（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．３０（ｍ），７．４９（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１１．０Ｈｚ，１Ｈ）．
（Ａ−１０４）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ３．２３（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｓ，６Ｈ），５．８２（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ），６．４６（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），７．２８−７．３０（ｍ），７．５５（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．【０１５４】
（実施例１０）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４４】
2020059824.tif 000045
【０１５５】
具体的には、２−フェニルエチニルボロン酸ピナコールエステル（４０．６２μＬ，０．１７８１ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（２１．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（７．１２ｍｇ，０．０２１１ｍｍｏｌ）を更に加えた。３０℃で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１０５）が、反応時間２時間において収率４７％で生成した。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １．０２（ｓ，１２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），６．０７（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１４．９Ｈｚ，１Ｈ），６．５５（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．２，１０．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｓ，１Ｈ），７．００−７．１３（ｍ，３Ｈ），７．３９−７．４０（ｍ，１Ｈ），７．６１（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．２，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ２４．９（ｓ），５１．０（ｓ），８３．９（ｓ），１２０．５（ｓ），１２８．９（ｓ），１２９．１（ｓ），１３８．７（ｓ），１４５．７（ｓ），１４７．１（ｓ），１４７．３（ｓ），１６７．１（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ２０Ｈ２５ＢＯ４＋Ｈ＋：３４１．１９２２［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３４１．１９１４．【０１５６】
（実施例１１）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４５】
2020059824.tif 000046
【０１５７】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ピナコールエステル（３８．５μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（２１．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０４ｍｇ，０．０１７９ｍｍｏｌ）を更に加えた。３０℃で２６時間、５０℃で２時間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１０６）及び（Ａ−１０７）が、収率４２％（生成比４２／５８）で生成した。
（Ａ−１０６）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １．０１（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，３Ｈ），１．０６（ｓ，１２Ｈ），１．５１（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），２．７１（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），３．４３（ｓ，３Ｈ），５．７１（ｓ，３Ｈ），５．８７（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１５−６．２５（ｍ，２Ｈ），７．３８（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．２，９．７６Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １４．１３（ｓ），２３．８１（ｓ），２４．８１（ｓ），３２．１９（ｓ），５１．０４（ｓ），８３．２４（ｓ），１２２．０４（ｓ），１２４（ｂｒ，ｃｏａｌｅｓｃｅｄ  ｗｉｔｈ  ｂａｓｅ  ｌｉｎｅ），１２７−１２９（３−ＣＨ，ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ｃ６Ｄ６），１４５．０２（ｓ），１４５．３７（ｓ），１５９．１１（ｓ），１６６．９５（ｓ）．
（Ａ−１０７）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．８８（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４８Ｈｚ，３Ｈ），１．０１（ｓ，１２Ｈ），１．３６（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），２．４６（ｑ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），３．４３（ｓ，３Ｈ），６．０６（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１４．７Ｈｚ，１Ｈ），６．２０（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，１Ｈ），６．４９（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９７（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．２，１１．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１１．４Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １３．９５（ｓ），２３．１１（ｓ），２４．７４（ｓ），３４．０６（ｓ），５０．９１（ｓ），８２．９１（ｓ），１１９．７５（ｓ），１２７−１２９（４−ＣＨ  ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ｃ６Ｄ６），１４６．５６（ｓ），１４７．２５（ｓ），１５４．９０（ｓ），１６７．２７（ｓ），６−ＣＢ（ｐｉｎ）  ｗａｓ  ｎｏｔ  ｏｂｓｅｒｖｅｄ．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１７Ｈ２５ＢＯ４＋Ｈ＋：３０７．２０７８［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３０７．２０８２．【０１５８】
（実施例１２）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４６】
2020059824.tif 000047
【０１５９】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ピナコールエステル（５１．０μＬ，０．２２２ｍｍｏｌ）及び２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（４０．４μＬ，０．２２４ｍｍｏｌ）をベンゼン−ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（７．５９ｍｇ，０．０２２５ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ−１０８）及び（Ａ−１０９）が、反応時間３時間において収率３４％（生成比２５／７５）で生成した。
（Ａ−１０８）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９７（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．０５（ｓ，１２Ｈ），１．０９（ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ａ−１０９），１．５５（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．７５（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），５．７０（ｓ，１Ｈ），５．９２（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．２，１１．５Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １４．１４（ｓ），２３．９１（ｓ），２４．８２（ｓ），３２．２８（ｓ），８２．７２（ｓ），８３．０５（ｓ），１２２  （ｂｒ），１３２．６４（ｓ），１４１．５９（ｓ），１５０．８２（ｓ），１５９．９７（ｓ），ｓｏｍｅ  ｒｅｓｏｎａｎｃｅｓ  ｗｅｒｅ  ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  ｔｈｅ  ｒｅｓｏｎａｎｃｅｓ  ｏｆ  Ａ−１０８  ａｎｄ  ｓｏｌｖｅｎｔ．
（Ａ−１０９）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．８８（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．０１（ｓ，１２Ｈ），１．０９（ｓ，１２Ｈ），１．３６（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｑ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．０２（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．２Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．１３−６．２０（ｏｂｓｃｕｒｅｄ  ｂｙ  ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ  ｗｉｔｈ  ａｎ  ｉｍｐｕｒｉｔｙ，１Ｈ），６．５５（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．２，１０．３Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  １３．９９（ｓ），２３．２２（ｓ），２４．６１（ｓ），２４．９０（ｓ），３４．０９（ｓ），８２．８９（ｓ），８３．１４（ｓ），１２０（ｂｒ），１３２．２３（ｓ），１４２．８４（ｓ），１５１．８（ｓ），１５１．９（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ２１Ｈ３６Ｂ２Ｏ４＋Ｈ＋：３７５．２８８０［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３６５．２８８１．【０１６０】
（実施例１３）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４７】
2020059824.tif 000048
【０１６１】
具体的には、２５ｍＬシュレンクに［Ｒｕ（ａｃａｃ）２（１，５−ｃｏｄ）］（４．３０ｍｇ，０．０１０６ｍｍｏｌ）を量り入れ、窒素置換した。ヘキサン（６００μＬ）、ＢｕＬｉ（６．２μＬ，０．００９９ｍｍｏｌ）、３−ｈｅｘｙｎｅ（１１．５μＬ，０．１０１ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−１−（４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ−２−ｙｌ）ｂｕｔａｄｉｅｎｅ（２０．０μＬ，０．１００ｍｍｏｌ）を順に加え室温で７時間撹拌した。その後、反応液をＧＣ−ＭＳで測定したところ、目的物の生成が確認された。溶媒留去をし、全量ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ６に溶解させ、ｄｉｂｅｎｚｙｌ（１．９４ｍｇ，１０．６μｍｏｌ）を加えた。１Ｈ  ＮＭＲより目的物の収率を求めた。収率は８３％であった。【０１６２】
（実施例１４）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
【化４８】
2020059824.tif 000049
【０１６３】
具体的には、２５ｍＬシュレンクにＣｏＢｒ２（ＰＰｈ３）２（８．５ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ），ＰＰｈ３（９．６ｍｇ，０．０３７ｍｍｏｌ），Ｚｎ（５３．５ｍｇ，０．８２０ｍｍｏｌ）を量りとり、窒素置換をしたのち、ＣＨ３ＣＮ（５００μＬ）を加え、１０分間攪拌した。その後、３−ｈｅｘｙｎｅ（１２．０μＬ，０．１０７ｍｍｏｌ），（Ｅ）−２−（ｂｕｔａ−１，３−ｄｉｅｎｙｌ）−４，４，５，５−ｔｅｔｏｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（２０．０μＬ，０．０９９０ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ（７０．０μＬ）を加え、室温下で攪拌した。２４時間反応させた後、反応液をＧＣ−ＭＳで測定したところ、目的物の生成が確認された。収率は約４％であった。【０１６４】
（実施例１５）
下記方法により、ワンポットで、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成とそれに続くクロスカップリング反応とを行い、共役ポリエン化合物を合成した。
【化４９】
2020059824.tif 000050
【０１６５】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ジイソプロピルエステル（２２．５μＬ，０．０９８２ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−２，４−ペンタジエン酸メチル（１１．５μＬ，０．０９８７ｍｍｏｌ）をベンゼン中（５００μＬ）で［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（３．３５ｍｇ，０．００９９３ｍｍｏｌ）の存在下、室温で２４時間反応させた。引き続き同じ溶液中にヨウ化フェニル（１１．０μＬ，０．０９８７ｍｍｏｌ），ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１２０μＬ  ｉｎ  ｍｅｔｈａｎｏｌ，０．１２０ｍｍｏｌ）、及び［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（９．２８ｍｇ，０．００８０３ｍｍｏｌ）をこの順番で加え、５０℃で１５分間反応させた。生成物はリサイクルＨＰＬＣにより精製した。収率は７９％（（Ａ−１１０）／（Ａ−１１１）＝５／１）であった。
（Ａ−１１０）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９９（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５６（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．４３（ｍ，２Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），５．９１（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．４，１０．９Ｈｚ，１Ｈ），６．６２（ｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５Ｈｚ，１Ｈ），７．２６−７．３５（ｍ，５Ｈ），７．３８（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ  １４．３６（ｓ），２２．４４（ｓ），２９．３８（ｓ），５１．５３（ｓ），１１９．８１（ｓ），１２５．４５（ｓ），１２７．３３（ｓ），１２８．４０（ｓ），１２８．９１（ｓ），１３５．６４（ｓ），１３７．０３（ｓ），１４０．１８（ｓ），１４５．４２（ｓ），１４５．６７（ｓ），１６７．６８（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１７Ｈ２０Ｏ２＋Ｈ＋：２５７．１５３６［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：２５７．１５２８．【０１６６】
（実施例１６）
下記方法により、ワンポットで、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成とそれに続くクロスカップリング反応とを行い、共役ポリエン化合物を合成した。
【化５０】
2020059824.tif 000051
【０１６７】
３−へキシン（２０．０μＬ，０．１７５ｍｍｏｌ）及び２−｛（Ｅ）−１，３−ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝−４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（３６．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン中（５００μＬ）で［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０３ｍｇ，０．０１７８ｍｍｏｌ）の存在下、室温で５分間反応させた。引き続き、同じ溶液中にヨウ化フェニル（２０．０μＬ，０．１７９ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１８０．０μＬ  ｉｎ  ｍｅｔｈａｎｏｌ，０．１８０ｍｍｏｌ）、及び［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（１６．５１ｍｇ，０．０１４２９ｍｍｏｌ）をこの順番で加え、５０℃で２時間反応させた。生成物はリサイクルＨＰＬＣにより精製した。収率は６２％であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９１（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，３Ｈ），１．０５（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４８Ｈｚ，３Ｈ；１０−Ｍｅ），２．０３（ｑｕｉｎｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），２．２４（ｑ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），５．４５（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），６．４４（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８５（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｔ，１Ｈ），７．１−７．２（ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ  ｗｉｔｈ  ｓｏｌｖｅｎｔ），７．３０（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）．【０１６８】
（実施例１７）
下記方法により、ワンポットで、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成とそれに続くクロスカップリング反応とを行い、共役ポリエン化合物を合成した。
【化５１】
2020059824.tif 000052
【０１６９】
具体的には、１−ペンチニルボロン酸ジイソプロピルエステル（２２．５μＬ，０．０９８２ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）−１−（４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ−２−ｙｌ）ｂｕｔａｄｉｅｎｅ（２２．０μＬ，０．１１０ｍｍｏｌ）、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（１，５−ｃｏｄ）］（３．３４ｍｇ，０．００９９０ｍｍｏｌ）をベンゼン中５０℃で３時間反応させた。臭化ビニル（１５．０μＬ，０．２１２ｍｍｏｌ）、ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（２４０μＬ  ｉｎ  ＥｔＯＨ，０．２４０ｍｍｏｌ）及び［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（１８．４６ｍｇ，０．０１５９７ｍｍｏｌ）を加えて５０℃で５時間反応させた。その結果、化合物（Ａ−１１３）が収率４６％で生成した。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ  ０．９２（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４６（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．３３（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），５．０９（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１０．３Ｈｚ，２ＪＨ，Ｈ＝−１．０Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝−０．９Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１０．３Ｈｚ，２ＪＨ，Ｈ＝−３．０Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝−０．５Ｈｚ，１Ｈ），５．１９（ｄｔ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，２ＪＨ，Ｈ＝２．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），５．２３（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，２ＪＨ，Ｈ＝−３．０，４ＪＨ，Ｈ＝−０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．０８（ｄｄｔ，３ＪＨ，Ｈ＝１０．５，４ＪＨ，Ｈ＝−２．５，４ＪＨ，Ｈ＝−１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝−１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．５，１０．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝−１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．３０（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１６．０，１０．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝−１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．３２（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｄｄｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１６．０，１１．８，１０．３Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝−１．０，−０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６０（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，１１．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ  １４．２２（ｓ），２２．７０（ｓ），２８．８９（ｓ），１１７．００（ｓ），１１７．９２（ｓ），１２８．２１（ｓ），１３２．３２（ｓ），１３３．０５（ｓ），１３３．９７（ｓ），１３４．０４（ｓ），１３７．０２（ｓ），１３７．１３（ｓ），１４０．６３（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ  ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１３Ｈ１８＋Ｈ＋：１７５．１４８１［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：１７５．１４７４．
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月6日(2020.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、ルテニウム触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
前記第一の原料化合物が下記式（１−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１−２−１）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１−３−１）で表される化合物であるか、
前記第一の原料化合物が下記式（１−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１−２−２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１−３−２）で表される化合物であるか、又は、
前記第一の原料化合物が下記式（２−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（２−２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（２−３）で表される化合物である、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化１】
2020059824.tif 000065
［式（１−１）中、Ｂ１は結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
【化２】
2020059824.tif 000066
［式（１−２−１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化３】
2020059824.tif 000067
［式（１−３−１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化４】
2020059824.tif 000068
［式（１−２−２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化５】
2020059824.tif 000069
［式（１−３−２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化６】
2020059824.tif 000070
［式（２−１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。］
【化７】
2020059824.tif 000071
［式（２−２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化８】
2020059824.tif 000072
［式（２−３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。
【請求項２】
前記第一の原料化合物が前記式（１−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が前記式（１−２−１）で表される化合物であり、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が前記式（１−３−１）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項３】
前記式（１−２−１）中の前記Ｒ３のうち、少なくとも一つが結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基である、請求項２に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項４】
前記第一の原料化合物が前記式（１−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が前記式（１−２−２）で表される化合物であり、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が前記式（１−３−２）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項５】
前記Ｒ１がシリル基であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物における前記Ｒ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、請求項２〜４のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項６】
前記第一の原料化合物が前記式（２−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が前記式（２−２）で表される化合物であり、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が前記式（２−３）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項７】
前記Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値が、前記Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい、請求項６に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項８】
前記Ｒ５がシリル基であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物における前記Ｒ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、請求項６又は７に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項９】
（削除）
【請求項１０】
（削除）
【請求項１１】
前記ルテニウム触媒が、反応系中で０価のルテニウムを形成する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【請求項１２】
下記式（１−３−１Ａ）、下記式（１−３−２Ａ）又は下記式（２−３Ａ）で表される、含ホウ素共役ポリエン化合物。
【化９】
2020059824.tif 000073
［式（１−３−１Ａ）中、Ｂ１はボロノ基、ボロナト基、ジオールとボロノ基との反応により形成される基、又は、ボラート基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化１０】
2020059824.tif 000074
［式（１−３−２Ａ）中、Ｂ１はボロノ基、ボロナト基、ジオールとボロノ基との反応により形成される基、又は、ボラート基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【化１１】
2020059824.tif 000075
［式（２−３Ａ）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ１５は水素原子又は一価の基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つはボロノ基、ボロナト基、ジオールとボロノ基との反応により形成される基、又は、ボラート基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項１３】
（削除）
【請求項１４】
（削除）
【請求項１５】
（削除）
【請求項１６】
前記式（１−３−１Ａ）又は前記式（１−３−２Ａ）で表される化合物であり、前記Ｒ１１が一価の基である、請求項１２に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物。
【請求項１７】
炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
前記第一の原料化合物が下記式（１−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１−２−２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１−３−２）で表される化合物である、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化１２】
2020059824.tif 000076
［式（１−１）中、Ｂ１は結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
【化１３】
2020059824.tif 000077
［式（１−２−２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化１４】
2020059824.tif 000078
［式（１−３−２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項１８】
炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
前記第一の原料化合物が下記式（１−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１−２−１）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１−３−１）で表される化合物であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物におけるＲ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化１５】
2020059824.tif 000079
［式（１−１）中、Ｂ１は結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基を示し、Ｒ１はシリル基を示す。］
【化１６】
2020059824.tif 000080
［式（１−２−１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化１７】
2020059824.tif 000081
［式（１−３−１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
【請求項１９】
炭素−炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３−ブタジエン−４，４−ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素−炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、ルテニウム触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素−炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
前記第一の原料化合物が下記式（２−１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（２−２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（２−３）で表される化合物であり、
前記含ホウ素共役ポリエン化合物におけるＲ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
【化１８】
2020059824.tif 000082
［式（２−１）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ５はシリル基を示す。］
【化１９】
2020059824.tif 000083
［式（２−２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
【化２０】
2020059824.tif 000084
［式（２−３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。
【国際調査報告】
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