(57)【要約】  反射異方性に優れ、ヘイズが低く、且つ、反射光の円偏光度が高いコレステリック液晶層、及びその製造方法を提供する。また、上記コレステリック液晶層を含む積層体、光学異方体、及び反射膜を提供する。液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層であり、上記コレステリック液晶層の一対の主面のうち少なくとも一方の主面において、上記液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化しており、上記液晶化合物の分子軸が、上記コレステリック液晶層の主面に対して傾斜しており、上記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の配列方向が、上記コレステリック液晶層の主面に対して傾斜している、コレステリック液晶層。
2019181247.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層であり、
前記コレステリック液晶層の一対の主面のうち少なくとも一方の主面において、前記液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化しており、
前記液晶化合物の分子軸が、前記コレステリック液晶層の主面に対して傾斜しており、
前記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の配列方向が、前記コレステリック液晶層の主面に対して傾斜している、コレステリック液晶層。
【請求項２】
前記コレステリック液晶層の両主面において、前記液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している、請求項１に記載のコレステリック液晶層。
【請求項３】
前記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の暗部がなす線と前記コレステリック液晶層の一方の主面とのなす平均傾斜角度と、前記暗部がなす線と前記コレステリック液晶層の他方の主面とのなす平均傾斜角度とが、同一である、請求項１又は２に記載のコレステリック液晶層。
【請求項４】
前記液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一つの方向に沿って連続的に回転しながら変化している主面において、前記液晶化合物の分子軸の向きが１８０°回転する長さを１周期Λとした際に、前記Λの変動係数が０．６以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層。
【請求項５】
前記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部がなす線同士の間隔が異なる領域が複数存在する、請求項１〜４のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層。
【請求項６】
前記コレステリック液晶層の少なくとも一方の主面において、前記液晶化合物の分子軸の向きが面内で連続的に回転しながら変化する一方向が異なる２以上の領域を有し、
２以上の前記領域において、異なる方向に光を反射する請求項１〜５のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層。
【請求項７】
前記コレステリック液晶相由来の螺旋軸のピッチが異なる２以上の領域を有し、
２以上の前記領域において、異なる波長の光を反射する請求項１〜６のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層を２層以上積層した積層体であって、
２層以上の前記コレステリック液晶層のうち、少なくとも２層の前記コレステリック液晶層は、前記コレステリック液晶相由来の螺旋軸の旋回方向が同じであり、
前記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の傾斜方向が同じ方向である積層体。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層を２層以上積層した積層体であって、
２層以上の前記コレステリック液晶層のうちのいずれかの２層の前記コレステリック液晶層は、前記コレステリック液晶相由来の螺旋軸の旋回方向が逆であり、
前記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の傾斜方向が逆方向である積層体。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層を２層以上積層した積層体であって、
２層以上の前記コレステリック液晶層のうちのいずれかの前記コレステリック液晶層同士の間に液晶層、ラビング配向層、または光配向層を含む積層体。
【請求項１１】
円盤状液晶化合物を用いて形成された液晶層と、
前記液晶層上に接するように配置された請求項１〜７のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層と、を含む積層体であり、
前記液晶層の前記コレステリック液晶層と接する側の表面において、前記円盤状液晶化合物の分子軸が、前記液晶層の表面に対して傾斜している、積層体。
【請求項１２】
前記円盤状液晶化合物の分子軸の平均傾斜角度が、２０〜８０°である、請求項１１に記載の積層体。
【請求項１３】
前記液晶層の前記コレステリック液晶層と接する側の表面において、方位角規制力が０．０００２０Ｊ/ｍ2未満である、請求項１１又は１２に記載の積層体。
【請求項１４】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層、または、コレステリック液晶層を有する請求項８〜１３のいずれか一項に記載の積層体と、
前記コレステリック液晶層を透過する波長の光の少なくとも一部を吸収する吸収層とを有する積層体。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層からなる光学異方体。
【請求項１６】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層からなる反射膜。
【請求項１７】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層の製造方法であって、
円盤状液晶化合物を含む組成物を用いて、少なくとも一方の表面において前記円盤状液晶化合物の分子軸が前記表面に対して傾斜している液晶層を形成する工程１と、
前記液晶層上に、液晶化合物を含む液晶組成物を用いて、前記コレステリック液晶層を形成する工程２と、を有する、コレステリック液晶層の製造方法。
【請求項１８】
前記円盤状液晶化合物の平均傾斜角度が２０〜８０°である、請求項１７に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項１９】
前記液晶層の前記コレステリック液晶層と接する側の表面において、方位角規制力が０．０００２０Ｊ/ｍ2未満である、請求項１７又は１８に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２０】
前記工程２が、前記液晶層上に、下記条件１又は下記条件２を満たす組成物層を形成する工程２−１と、
前記組成物層中の前記液晶化合物をコレステリック配向させる処理を実施して、コレステリック液晶層を形成する工程２−２と、を含む、請求項１７〜１９のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
条件１：前記組成物層中の前記液晶化合物の少なくとも一部が、前記組成物層表面に対して、傾斜配向している
条件２：前記組成物層中の前記液晶化合物のチルト角が厚み方向に沿って連続的に変化するように、前記液晶化合物が配向している
【請求項２１】
前記液晶組成物は、キラル剤を２種以上含み、
前記キラル剤のうち少なくとも１種は、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｘ、及び、温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙからなる群より選ばれるいずれかのキラル剤であり、
前記液晶組成物が前記キラル剤Ｘを含む場合は、前記工程２−２における前記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が光照射処理であり、
前記液晶組成物が前記キラル剤Ｙを含む場合は、前記工程２−２における前記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が冷却処理又は加熱処理である、請求項２０に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２２】
前記液晶組成物は、キラル剤を１種含み、
前記キラル剤は、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｘ、又は、温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙであり、
前記液晶組成物が前記キラル剤Ｘを含む場合は、前記工程２−２における前記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が光照射処理であり、
前記液晶組成物が前記キラル剤Ｙを含む場合は、前記工程２−２における前記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が冷却処理又は加熱処理である、請求項２０に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２３】
前記組成物層において、前記キラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値が０．０〜１．５μｍ-1である、請求項２２に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２４】
前記加重平均螺旋誘起力の絶対値が０．０〜０．５μｍ-1である、請求項２３に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２５】
前記液晶組成物が、更に、界面活性剤を含む、請求項１７〜２４のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２６】
前記液晶組成物は、重合性液晶化合物を含み、
前記工程２−２の際に、コレステリック配向状態を固定化する硬化処理を施し、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層を形成するか、又は、
前記工程２−２の後に、コレステリック配向状態を固定化する硬化処理を施し、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層を形成する工程３を更に有する、請求項２０〜２５のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２７】
前記硬化処理が、光照射処理である、請求項２６に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２８】
前記工程１において、前記液晶層を表面に形成するための基材にラビング配向および光配向の少なくとも一方を施す配向処理工程を含み、
前記配向処理工程において、面内において配向方向が異なるように配向処理を施す請求項１７〜２７のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項２９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のコレステリック液晶層、または、請求項８〜１４のいずれか一項に記載の積層体に含まれるコレステリック液晶層の上にコレステリック液晶層を積層するコレステリック液晶層の製造方法。
【請求項３０】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のコレステリック液晶層、または、請求項８〜１４のいずれか一項に記載の積層体を含む偽造防止媒体。
【請求項３１】
請求項３０に記載の偽造防止媒体を用いて物品の真偽を判定する判定方法であって、
前記偽造防止媒体に対して少なくとも１つの方向から反射光および透過光の少なくとも一方を検出することで物品の真偽を判定する判定方法。
【請求項３２】
前記反射光および前記透過光の少なくとも一方の面内パターンを検出することで物品の真偽を判定する請求項３１に記載の判定方法。
【請求項３３】
前記偽造防止媒体からの前記反射光および前記透過光の少なくとも一方を円偏光フィルターを通して観察し、
前記円偏光フィルターの有無、あるいは、前記円偏光フィルターの種類の違いによる検出結果の変化に基づいて、物品の真偽を判定する請求項３１または３２に記載の判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コレステリック液晶層、積層体、光学異方体、反射膜、コレステリック液晶層の製造方法、偽造防止媒体、および、判定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コレステリック液晶層は、特定の波長域において右円偏光及び左円偏光のいずれか一方を選択的に反射する性質を有する層として知られている。そのため、種々の用途へ展開されており、例えば、投影スクリーン等の投映像表示用部材（例えば、反射素子）として用いられている。
また、昨今では、コレステリック液晶層に反射異方性を付与する試みもなされている（特許文献１）。コレステリック液晶層が反射異方性を有する場合、例えば、コレステリック液晶層の法線方向から光が入射した場合、法線方向とは異なる方向に反射する。【０００３】
上記特許文献１においては、「素子平面の法線方向に対して異方的な光学特性を持つ異方性光学素子において、コレステリック規則性を示す重合性の液晶からなる分子配向されたコレステリック液晶層であって、平坦な層平面を持つように形成されたコレステリック液晶層を備え、上記コレステリック液晶層内の液晶ドメインの螺旋軸方向の平均として規定される螺旋軸主方向が、上記層平面の法線方向に対して所定の角度だけ傾けられていることを特徴とする異方性光学素子。」が開示されている。【０００４】
上記特許文献１では、上記異方性光学素子の製造方法として、液晶化合物を含み、且つ第１相転移温度以上の温度（つまり上記液晶化合物が等方相を示す温度）に加熱された塗布膜に対して所定方向からガスを吹き付けた状態で上記塗布膜を第１相転移温度以下の温度に降温させる手順を開示している。上記手順により、塗布膜中の液晶化合物が等方相からコレステリック液晶相へ遷移されるとともに、塗布膜中の液晶ドメインの螺旋軸主方向が膜平面の法線方向に対して所定の角度だけ傾けられた状態になるように配向する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−３１７６５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らは、特許文献１に記載の製造方法を参考にして、基板と、基板上に配置されたコレステリック液晶層（反射膜）とを有する素子を製造して検討したところ、塗布膜中の液晶ドメインの螺旋軸主方向の膜平面の法線方向に対する角度の調整が極めて困難であることを知見した。言い換えると、特許文献１の製造方法により得られるコレステリック液晶層は、コレステリック液晶相に由来する反射面（螺旋軸方向に直交し、方位角が等しい液晶分子が存在する平面）の基板面に対する角度の調整が困難であり、その反射異方性が、昨今の要求を満たしていないことを知見した。つまり、コレステリック液晶層の反射異方性を更に改善する必要があることを明らかとした。【０００７】
また、コレステリック液晶層には、透明性が高い特性（言い換えるとヘイズが低い特性）、及びコレステリック液晶層で反射する反射光の円偏光度が高い特性が要求されている。【０００８】
そこで、本発明は、反射異方性に優れ、ヘイズが低く、且つ、反射光の円偏光度が高いコレステリック液晶層、及びその製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記コレステリック液晶層を含む積層体、光学異方体、反射膜、偽造防止媒体、及び、偽造防止媒体を用いた判定方法を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、液晶化合物が所定配向したコレステリック液晶層によれば、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。また、本発明者らは、上記コレステリック液晶層を形成し得る製造方法も見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成できることを見出した。【００１０】
〔１〕  液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層であり、
上記コレステリック液晶層の一対の主面のうち少なくとも一方の主面において、上記液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化しており、
上記液晶化合物の分子軸が、上記コレステリック液晶層の主面に対して傾斜しており、
上記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の配列方向が、上記コレステリック液晶層の主面に対して傾斜している、コレステリック液晶層。
〔２〕  上記コレステリック液晶層の両主面において、上記液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している、〔１〕に記載のコレステリック液晶層。
〔３〕  上記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の暗部がなす線と上記コレステリック液晶層の一方の主面とのなす平均傾斜角度と、上記暗部がなす線と上記コレステリック液晶層の他方の主面とのなす平均傾斜角度とが、同一である、〔１〕又は〔２〕に記載のコレステリック液晶層。
〔４〕  液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一つの方向に沿って連続的に回転しながら変化している主面において、液晶化合物の分子軸の向きが１８０°回転する長さを１周期Λとした際に、Λの変動係数が０．６以下である、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層。
〔５〕  上記主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部がなす線同士の間隔が異なる領域が複数存在する、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層。
〔６〕  コレステリック液晶層の少なくとも一方の主面において、液晶化合物の分子軸の向きが面内で連続的に回転しながら変化する一方向が異なる２以上の領域を有し、
２以上の領域において、異なる方向に光を反射する〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層。
〔７〕  コレステリック液晶相由来の螺旋軸のピッチが異なる２以上の領域を有し、
２以上の領域において、異なる波長の光を反射する〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層。
〔８〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層を２層以上積層した積層体であって、
２層以上のコレステリック液晶層のうち、少なくとも２層のコレステリック液晶層は、コレステリック液晶相由来の螺旋軸の旋回方向が同じであり、
主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の傾斜方向が同じ方向である積層体。
〔９〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層を２層以上積層した積層体であって、
２層以上のコレステリック液晶層のうちのいずれかの２層のコレステリック液晶層は、コレステリック液晶相由来の螺旋軸の旋回方向が逆であり、
主面に垂直な断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の傾斜方向が逆方向である積層体。
〔１０〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層を２層以上積層した積層体であって、
２層以上のコレステリック液晶層のうちのいずれかのコレステリック液晶層同士の間に液晶層、ラビング配向層、または光配向層を含む積層体。
〔１１〕  円盤状液晶化合物を用いて形成された液晶層と、上記液晶層上に接するように配置された〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層と、を含む積層体であり、
上記液晶層の上記コレステリック液晶層と接する側の表面において、上記円盤状液晶化合物の分子軸が、上記液晶層の表面に対して傾斜している、積層体。
〔１２〕  上記円盤状液晶化合物の分子軸の平均傾斜角度が、２０〜８０°である、〔１１〕に記載の積層体。
〔１３〕  上記液晶層の上記コレステリック液晶層と接する側の表面において、方位角規制力が０．０００２０Ｊ/ｍ2未満である、〔１１〕又は〔１２〕に記載の積層体。
〔１４〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層、または、コレステリック液晶層を有する〔８〕〜〔１３〕のいずれかに記載の積層体と、
コレステリック液晶層を透過する波長の光の少なくとも一部を吸収する吸収層とを有する積層体。
〔１５〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層からなる光学異方体。
〔１６〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層からなる反射膜。
〔１７〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層の製造方法であって、
円盤状液晶化合物を含む組成物を用いて、少なくとも一方の表面において上記円盤状液晶化合物の分子軸が上記表面に対して傾斜している液晶層を形成する工程１と、
上記液晶層上に、液晶化合物を含む液晶組成物を用いて、上記コレステリック液晶層を形成する工程２と、を有する、コレステリック液晶層の製造方法。
〔１８〕  上記円盤状液晶化合物の平均傾斜角度が２０〜８０°である、〔１７〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔１９〕  上記液晶層の上記コレステリック液晶層と接する側の表面において、方位角規制力が０．０００２０Ｊ/ｍ2未満である、〔１７〕又は〔１８〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２０〕  上記工程２が、上記液晶層上に、下記条件１又は下記条件２を満たす組成物層を形成する工程２−１と、
上記組成物層中の上記液晶化合物をコレステリック配向させる処理を実施して、コレステリック液晶層を形成する工程２−２と、を含む、〔１７〕〜〔１９〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層の製造方法。
条件１：上記組成物層中の上記液晶化合物の少なくとも一部が、上記組成物層表面に対して、傾斜配向している
条件２：上記組成物層中の上記液晶化合物のチルト角が厚み方向に沿って連続的に変化するように、上記液晶化合物が配向している
〔２１〕  上記液晶組成物は、キラル剤を２種以上含み、
上記キラル剤のうち少なくとも１種は、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｘ、及び、温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙからなる群より選ばれるいずれかのキラル剤であり、
上記液晶組成物が上記キラル剤Ｘを含む場合は、上記工程２−２における上記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が光照射処理であり、
上記液晶組成物が上記キラル剤Ｙを含む場合は、上記工程２−２における上記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が冷却処理又は加熱処理である、〔２０〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２２〕  上記液晶組成物は、キラル剤を１種含み、
上記キラル剤は、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｘ、又は、温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙであり、
上記液晶組成物が上記キラル剤Ｘを含む場合は、上記工程２−２における上記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が光照射処理であり、
上記液晶組成物が上記キラル剤Ｙを含む場合は、上記工程２−２における上記液晶化合物をコレステリック配向させる処理が冷却処理又は加熱処理である、〔２０〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２３〕  上記組成物層において、上記キラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値が０．０〜１．５μｍ-1である、〔２２〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２４〕  上記加重平均螺旋誘起力の絶対値が０．０〜０．５μｍ-1である、〔２３〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２５〕  上記液晶組成物が、更に、界面活性剤を含む、〔１７〕〜〔２４〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２６〕  上記液晶組成物は、重合性液晶化合物を含み、
上記工程２−２の際に、コレステリック配向状態を固定化する硬化処理を施し、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層を形成するか、又は、
上記工程２−２の後に、コレステリック配向状態を固定化する硬化処理を施し、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層を形成する工程３を更に有する、〔２０〕〜〔２５〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２７〕  上記硬化処理が、光照射処理である、〔２６〕に記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２８〕  工程１において、液晶層を表面に形成するための基材にラビング配向および光配向の少なくとも一方を施す配向処理工程を含み、
配向処理工程において、面内において配向方向が異なるように配向処理を施す〔１７〕〜〔２７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層の製造方法。
〔２９〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層、または、〔８〕〜〔１４〕のいずれかに記載の積層体に含まれるコレステリック液晶層の上にコレステリック液晶層を積層するコレステリック液晶層の製造方法。
〔３０〕  〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のコレステリック液晶層、または、〔８〕〜〔１４〕のいずれかに記載の積層体を含む偽造防止媒体。
〔３１〕  〔３０〕に記載の偽造防止媒体を用いて物品の真偽を判定する判定方法であって、
偽造防止媒体に対して少なくとも１つの方向から反射光および透過光の少なくとも一方を検出することで物品の真偽を判定する判定方法。
〔３２〕  反射光および透過光の少なくとも一方の面内パターンを検出することで物品の真偽を判定する〔３１〕に記載の判定方法。
〔３３〕  偽造防止媒体からの反射光および透過光の少なくとも一方を円偏光フィルターを通して観察し、
円偏光フィルターの有無、あるいは、円偏光フィルターの種類の違いによる検出結果の変化に基づいて、物品の真偽を判定する〔３１〕または〔３２〕に記載の判定方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、反射異方性に優れ、ヘイズが低く、且つ、反射光の円偏光度が高いコレステリック液晶層、及びその製造方法を提供できる。
また、本発明によれば、上記コレステリック液晶層を含む積層体、光学異方体、反射膜、偽造防止媒体、及び、偽造防止媒体を用いた判定方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】コレステリック液晶層１０のＸ−Ｙ面の模式図である。
【図２】コレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面の模式図である。
【図３】コレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）にて観察した際の模式図である。
【図４】従来のコレステリック液晶層２０のＸ−Ｚ面の模式図である。
【図５】従来のコレステリック液晶層２０のＸ−Ｚ面をＳＥＭにて観察した際の模式図である。
【図６】コレステリック液晶層３０のＸ−Ｙ面の模式図である。
【図７】コレステリック液晶層３０のＸ−Ｚ面をＳＥＭにて観察した際の模式図である。
【図８】従来のコレステリック液晶層４０のＸ−Ｙ面の模式図である。
【図９】従来のコレステリック液晶層４０のＸ−Ｚ面の模式図である。
【図１０】工程２−１において、条件１を満たす組成物層の実施形態の一例を説明するための断面模式図である。
【図１１】キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの各々について、螺旋誘起力（ＨＴＰ： Helical Twisting Power）（μｍ-1）×濃度(質量％）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ2）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図１２】キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂを併用した系において、加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ2）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図１３】キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの各々について、ＨＴＰ（μｍ-1）×濃度(質量％）と温度（℃）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図１４】キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂを併用した系において、加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）と温度（℃）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図１５】積層体５０の断面模式図である。
【図１６】コレステリック液晶層６０のＸ−Ｙ面の模式図である。
【図１７】コレステリック液晶層６０のＸ−Ｙ面をＳＥＭにて観察した際の模式図である。
【図１８】コレステリック液晶層６０による反射光の方向を説明するための模式図である。
【図１９】コレステリック液晶層６０による反射光の方向を説明するための模式図である。
【図２０】実施例２０の構成を説明するための模式図である。
【図２１】実施例２０の構成を説明するための模式図である。
【図２２】実施例２０の構成を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの両方を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を表す表記であり、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルの両方を表す表記である。
本明細書において、「同一」は、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。また、本明細書において、角度についての「同一」とは、特に記載がなければ、厳密な角度との差異が５度未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との差異は、４度未満であることが好ましく、３度未満であることがより好ましい。
【００１４】
［コレステリック液晶層］
以下に、本発明のコレステリック液晶層の実施形態について図面を参照して説明する。
なお、本発明のコレステリック液晶層は、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、層中の液晶化合物は液晶性を示さなくてもよい。
【００１５】
〔第１実施形態〕
図１及び図２に、本発明のコレステリック液晶層中の液晶化合物の配向状態を概念的に示す模式図を示す。
図１は、主面１１及び主面１２からなる一対の主面１３を有するコレステリック液晶層１０の、主面１１及び主面１２の面内における液晶化合物の配向状態を示す模式図である。また、図２は、主面１１及び主面１２に垂直な断面におけるコレステリック液晶相の状態を示す断面模式図である。以下においては、コレステリック液晶層１０の主面１１及び主面１２をＸ−Ｙ面とし、このＸ−Ｙ面に対して垂直な断面をＸ−Ｚ面として説明する。つまり、図１は、コレステリック液晶層１０のＸ−Ｙ面の模式図に相当し、図２は、コレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面の模式図に相当する。
なお、以下においては、液晶化合物として棒状液晶化合物の態様を例に挙げて説明する。
【００１６】
図１に示すように、コレステリック液晶層１０のＸ−Ｙ面において、液晶化合物１４は、Ｘ−Ｙ面内の互いに平行な複数の配列軸Ｄ1に沿って配列しており、それぞれの配列軸Ｄ1上において、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の向きは、配列軸Ｄ1に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している。ここで、説明のため、配列軸Ｄ1がＸ方向に向いているとする。また、Ｙ方向においては、分子軸Ｌ1の向きが等しい液晶化合物１４が等間隔で配向している。
なお、「液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の向きが配列軸Ｄ1に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している」とは、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1と配列軸Ｄ1とのなす角度が、配列軸Ｄ1方向の位置により異なっており、配列軸Ｄ1に沿って分子軸Ｌ1と配列軸Ｄ1とのなす角度がθ１からθ１＋１８０°あるいはθ１−１８０°まで徐々に変化していることを意味する。つまり、配列軸Ｄ1に沿って配列する複数の液晶化合物１４は、図１に示すように、分子軸Ｌ1が配列軸Ｄ1に沿って一定の角度ずつ回転しながら変化する。
また、本明細書において、液晶化合物１４が棒状液晶化合物である場合、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1は、棒状液晶化合物の分子長軸を意図する。一方、液晶化合物１４が円盤状液晶化合物である場合、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1は、円盤状液晶化合物の円盤面に対する法線方向に平行な軸を意図する。
【００１７】
図２に、コレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面の模式図を示す。
図２に示すコレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面において、液晶化合物１４は、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対して、その分子軸Ｌ1が傾斜して配向している。
液晶化合物１４の分子軸Ｌ1と主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）とのなす平均角度（平均チルト角）θ3は、５〜４５°が好ましく、１２〜２２°がより好ましい。なお、角度θ3は、コレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面を偏光顕微鏡観察することにより測定できる。なかでも、コレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面において、液晶化合物１４は、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対して、その分子軸Ｌ1が同一の方向に傾斜配向することが好ましい。
なお、上記平均角度は、コレステリック液晶層断面の偏光顕微鏡観察において、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1と主面１１及び主面１２とのなす角度を任意の５か所以上で測定して、それらを算術平均した値である。
分子軸Ｌ1が上述した配向をとることで、図２に示すように、コレステリック液晶層１０において、コレステリック液晶相由来の螺旋軸Ｃ1は、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対して所定角度で傾斜している。つまり、コレステリック液晶層１０の反射面（螺旋軸Ｃ1に直交し、方位角が等しい液晶化合物が存在する平面）Ｔ1は、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対して略一定の方向に傾斜している。
なお、「方位角が等しい液晶分子」とは、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に投影したときに、分子軸の配向方向が同一にある液晶分子をいう。
【００１８】
図２に示すコレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面をＳＥＭにて観察すると、図３に示すような明部１５と暗部１６とが交互に配列された配列方向Ｐ1が、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対して所定角度θ2で傾斜している縞模様が観察される。なお、図３中の明部１５が２つと暗部１６が２つで螺旋１ピッチ分（螺旋の巻き数１回分）に相当する。
【００１９】
コレステリック液晶層１０において、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1は、明部１５と暗部１６とが交互に配列された配列方向Ｐ1に対して略直交する。
分子軸Ｌ1と配列方向Ｐ1とのなす角度は、８０〜９０°が好ましく、８５〜９０°がより好ましい。
【００２０】
以下、本発明の各種特性が得られる理由に関して説明する。
＜反射異方性＞
ここで、図４に、従来のコレステリック液晶層の断面模式図を示す。具体的には、図４は、主面２１及び主面２２からなる一対の主面２３を有するコレステリック液晶層２０の主面２３に垂直な断面でのコレステリック液晶層の状態を示す。以下においては、コレステリック液晶層２０の主面２１及び主面２２をＸ−Ｙ面とし、このＸ−Ｙ面に対して垂直な断面をＸ−Ｚ面として説明する。つまり、図４は、コレステリック液晶層２０のＸ−Ｚ面での模式図に相当する。
図４に示すコレステリック液晶層２０において、コレステリック液晶相由来の螺旋軸Ｃ2は、主面２１及び主面２２（Ｘ−Ｙ面）に対して垂直であり、その反射面Ｔ2は主面２１及び主面２２（Ｘ−Ｙ面）と平行な面である。また、液晶化合物２４の分子軸Ｌ2は、主面２１及び主面２２（Ｘ−Ｙ面）に対して傾斜していない。言い換えると、分子軸Ｌ2は主面２１及び主面２２（Ｘ−Ｙ面）に対して平行である。したがって、図５に示すように、コレステリック液晶層２０のＸ−Ｚ面をＳＥＭにて観察すると、明部２５と暗部２６とが交互に配列された配列方向Ｐ2は主面２１及び主面２２（Ｘ−Ｙ面）と垂直となる。
コレステリック液晶相は鏡面反射性であるため、例えば、コレステリック液晶層２０に法線方向から光が入射される場合、法線方向に光が反射される（図４中の矢印参照）。このため、コレステリック液晶層２０を投影スクリーン等に適用した場合、投影スクリーンの正面にいる観察者が、光源（投影機）から投影スクリーンへ投射された映像光のコレステリック反射光を良好な視認性で観察するためには、光源を観察者の近傍に設置する必要がある。
【００２１】
これに対して、図１及び図２に示すコレステリック液晶層１０は、その反射面Ｔ1が主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対して所定方向に傾斜しているため、反射光異方性を有する。例えば、コレステリック液晶層１０に斜め方向から光を入射させると、反射面Ｔ1によって、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）の法線方向に光が反射される（図２中の矢印参照）。
この結果として、コレステリック液晶層１０を投影スクリーン等に適用した場合、投影スクリーンの正面にいる観察者が、光源（投影機）から投影スクリーンへ投射された映像光のコレステリック反射光を良好な視認性で観察するためには、光源を観察者の近傍に設置する必要がなく、所望の位置に設置が可能となる。
【００２２】
＜ヘイズ＞
コレステリック液晶層１０は、上述した通り、Ｘ−Ｚ面において、液晶化合物１４が、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）に対してその分子軸Ｌ1が傾斜配向し、且つ、主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）において、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の向きが配列軸Ｄ1に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している。コレステリック液晶層１０は、上記構成によって、Ｘ−Ｚ面におけるＳＥＭにより観測されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部からなる明暗線が高い直線性を示すと推測され、この結果として、ヘイズが低く、高い透明性を有する。
【００２３】
ここで、一例として、図６に、主面３１及び主面３２からなる一対の主面３３を有するコレステリック液晶層３０の主面３１の模式図を示す。
以下においては、コレステリック液晶層３０の主面３１及び主面３２をＸ−Ｙ面とし、このＸ−Ｙ面に対して垂直な断面をＸ−Ｚ面として説明する。
コレステリック液晶層３０は、図６に示すように、主面３１においては、液晶化合物３４の分子軸Ｌ3が、面内の一定の方向を向くように配向している。
また、そのＸ−Ｚ面（不図示）においては、図１に示すコレステリック液晶層１０のＸ−Ｚ面と同様の配向をとっている。つまり、コレステリック液晶層３０は、液晶化合物３４が主面３１及び主面３２（Ｘ−Ｙ面）に対して分子軸Ｌ3が所定方向で傾斜配向し、且つ、コレステリック液晶相由来の螺旋軸が主面３１及び主面３２（Ｘ−Ｙ面）に対して所定角度で傾斜している。
コレステリック液晶層３０のＸ−Ｚ面においてＳＥＭにより観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部からなる明暗線は、図７に示すように、図６に示す分子配向を有する主面３１側において波状構造となりやすい。この結果として、コレステリック液晶層３０は、ヘイズが若干増加しやすい。
【００２４】
つまり、図１〜図３に示すコレステリック液晶層１０は、Ｘ−Ｚ面においてＳＥＭにより観察されるコレステリック液晶相由来の明部１５がなす線（明線）及び暗部１６がなす線（暗線）の直線性が高いほど（図３参照）、ヘイズがより低く、且つ、透明性により優れる。なかでも、コレステリック液晶相由来の暗部１６がなす線と主面１１とのなす平均傾斜角度と、暗部１６がなす線と主面１２とのなす平均傾斜角度とが、同一である場合、ヘイズがより低く、且つ、透明性により優れる。
上記平均傾斜角度は、Ｘ−Ｚ面におけるＳＥＭにより観測されるコレステリック液晶相由来の明暗線（図３参照）において、暗部１６がなす線と主面１１又は主面１２とのなす角度の平均値として得られる。つまり、主面１２側の平均傾斜角度は、主面１２側の暗部１６がなす線と主面１２とのなす傾斜角度θa1、θa2・・θanの平均値として得られる。主面１１側の平均傾斜角度は、主面１１側の暗部１６がなす線と主面１１とのなす傾斜角度θb1、θb2・・・θbnの平均値として得られる。
コレステリック液晶層１０は、ヘイズがより低く、且つ、透明性により優れる点で、主面１１側の平均傾斜角度と主面１２側の平均傾斜角度との差は、例えば、０〜２０°であることが好ましく、０〜５°であることがより好ましく、０〜１°であることが更に好ましい。なお、上記平均傾斜角度は、ＳＥＭにより観察される画像において、コレステリック液晶相由来の暗部１６がなす線と主面１１（又は主面１２）とのなす角度を任意の５か所以上で測定して、それらを算術平均した値である。
【００２５】
＜反射光の円偏光度＞
ここで、図８及び図９に、従来のコレステリック液晶層の模式図を示す。具体的には、図８は、主面４１及び主面４２からなる一対の主面４３を有するコレステリック液晶層４０の、主面４１及び主面４２での液晶化合物の配向状態を概念的に示す模式図である。また、図９は、コレステリック液晶層４０の主面４３に垂直な断面でのコレステリック液晶層の状態を示す。以下においては、コレステリック液晶層４０の主面４１及び主面４２をＸ−Ｙ面とし、このＸ−Ｙ面に対して垂直な断面をＸ−Ｚ面として説明する。つまり、図９は、コレステリック液晶層４０のＸ−Ｙ面での模式図であり、図９は、コレステリック液晶層４０のＸ−Ｚ面での模式図である。
図８に示すように、コレステリック液晶層４０のＸ−Ｙ面において、液晶化合物４４は、Ｘ−Ｙ面内の互いに平行な複数の配列軸Ｄ2に沿って配列しており、それぞれの配列軸Ｄ2上において、液晶化合物４４の分子軸Ｌ4の向きは、配列軸Ｄ2に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している。つまり、コレステリック液晶層４０のＸ−Ｙ面における液晶化合物４４の配向状態は、図２に示すコレステリック液晶層１０のＸ−Ｙ面における液晶化合物１４の配向状態と同じである。
【００２６】
図９に示すように、コレステリック液晶層４０のＸ−Ｚ面においては、液晶化合物４４の分子軸Ｌ4は、主面４１及び主面４２（Ｘ−Ｙ面）に対して傾斜していない。言い換えると、分子軸Ｌ4は主面４１及び主面４２（Ｘ−Ｙ面）に対して平行である。
コレステリック液晶層４０は、上述した図８に示すＸ−Ｙ面及び図９に示すＸ−Ｚ面を有することにより、コレステリック液晶相由来の螺旋軸Ｃ3は、主面４１及び主面４２（Ｘ−Ｙ面）に対して垂直であり、その反射面Ｔ3は主面４１及び主面４２（Ｘ−Ｙ面）に対して所定方向に傾斜している。なお、上記コレステリック液晶層４０のＸ−Ｚ面をＳＥＭにて観察すると、明部と暗部とが交互に配列された配列方向が主面４１及び主面４２（Ｘ−Ｙ面）に対して所定角度で傾斜している縞模様が観察される（不図示）。
一方、図１及び図２に示すコレステリック液晶層１０においては、分子軸Ｌ1は、Ｘ−Ｚ面におけるＳＥＭ観察により観察される明部１５と暗部１６とが交互に配列された配列方向Ｐ1に対して略直交する。つまり、螺旋軸Ｃ1の方向は、明部１５と暗部１６とが交互に配列された配列方向Ｐ1に対して略平行となる。この結果として、斜め方向から入射する光と螺旋軸Ｃ1とがより平行となりやすく、反射面での反射光は、円偏光度が高くなる。これに対して、コレステリック液晶層４０の場合、螺旋軸Ｃ3は主面４１及び主面４２（Ｘ−Ｙ面）に対して垂直であることから、斜め方向から入射する光の入射方向と螺旋軸Ｃ3の方向とは、そのなす角度がより大きくなる。つまり、斜め方向から入射する光の入射方向と螺旋軸Ｃ3の方向とがより非平行となる。このため、コレステリック液晶層１０は、コレステリック液晶層４０と比較すると、反射面での反射光は、円偏光度がより高くなる。
【００２７】
〔他の実施形態〕
第１実施形態のコレステリック液晶層１０において、主面１１及び主面１２の両主面において、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の向きが配列軸Ｄ1に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している形態を示したが、主面１１及び主面１２の一方の主面のみにおいて、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の向きが配列軸Ｄ1に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している形態であってもよい。
また、第１実施形態のコレステリック液晶層１０において、主面１１に存在する配列軸Ｄ1と主面１２に存在する配列軸Ｄ1とは、平行であることが好ましい。
【００２８】
また、第１実施形態のコレステリック液晶層１０は、Ｘ−Ｚ面においてＳＥＭにより観察されるコレステリック液晶相由来の明部１５がなす線（明線）同士の間隔が異なる領域が複数存在する形態であってもよい。上述したとおり、明部１５が２つと暗部１６が２つで螺旋１ピッチ分に相当する。つまり、コレステリック液晶相由来の明線同士の間隔が互いに異なる各領域においては、各領域毎に螺旋ピッチが異なっているため、選択反射の中心波長λも異なる。上記形態のコレステリック液晶層１０とすることで、反射波長帯域をより広げることができる。
上記形態の具体例としては、コレステリック液晶層１０が、赤色光波長域に選択反射の中心波長を有する領域Ａ１、緑色光波長域に選択反射の中心波長を有する領域Ａ２、及び青色光波長域に選択反射の中心波長を有する領域Ａ３を有する形態が挙げられる。領域Ａ１、領域Ａ２、及び、領域Ａ３は、主面１１（又は主面１２）に対して斜め方向から光を照射して実施する（好ましくは、配列方向Ｐ1に略平行な方向から光を照射して実施する）マスク露光（パターン状の露光）によって形成できる。特に、コレステリック液晶層１０は、主面１１（又は主面１２）の面内の任意の方向において螺旋ピッチが連続的に変化する領域を有していることが好ましい。具体的には、主面１１（又は主面１２）の面内の任意の方向において領域Ａ１、領域Ａ２、及び領域Ａ３が連続して配置されていることが好ましい。この場合、コレステリック液晶層１０は、Ｘ−Ｚ面においてＳＥＭにより観察されるコレステリック液晶相由来の明部１５がなす線同士の間隔が連続的に変化している領域を有する。
なお、上記では、コレステリック液晶層１０が領域Ａ１、領域Ａ２、及び領域Ａ３を有する形態について説明したが、これに制限されない。コレステリック液晶層１０は、選択反射波長の異なる領域を２領域以上有する形態であってもよい。また、選択反射の中心波長は赤外または紫外としてもよい。
【００２９】
また、本発明のコレステリック液晶層において、液晶化合物の分子軸の向きが面内の少なくとも一つの方向に沿って連続的に回転しながら変化している主面において、液晶化合物の分子軸の向きが１８０°回転する長さを１周期Λとした際に、１周期Λの変動係数が０．６以下であることが好ましく、０．０〜０．４がより好ましく、０．０〜０．１がさらに好ましい。
１周期Λの変動係数を０．６以下とすることで、ヘイズをより低くすることができ、また、反射光の円偏光度をより高くすることができる。
なお、１周期Λの変動係数は、コレステリック液晶層の両主面側で上記範囲となるのが好ましい。
【００３０】
上記１周期Λは、反射偏光顕微鏡観察における明暗線の間隔に相当する。したがって、１周期Λの変動係数（標準偏差／平均値）は、反射偏光顕微鏡観察における明暗線の間隔をコレステリック液晶層の両主面についてそれぞれ１０点測定して算出すればよい。
【００３１】
また、本発明のコレステリック液晶層は、コレステリック液晶層の少なくとも一方の主面において、液晶化合物の分子軸の向きが面内で連続的に回転しながら変化する一方向が異なる２以上の領域を有し、２以上の領域において、異なる方向に光を反射する構成としてもよい。すなわち、配列軸の向きが異なる２以上の領域を有する構成としてもよい。
図１６に配列軸の向きが異なる２以上の領域を有する構成の一例を示す。
【００３２】
図１６はコレステリック液晶層６０のＸ−Ｙ面を示す模式図である。
図１６に示すコレステリック液晶層６０は、Ｙ方向に延在する領域Ａ3およびＡ4をＸ方向に交互に配列した構成を有する。
領域Ａ3において、液晶化合物は、Ｘ−Ｙ面内の配列軸Ｄ3に沿って配列しており、それぞれの配列軸Ｄ3上において、液晶化合物の分子軸の向きは、配列軸Ｄ3に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している。なお、図１６においては液晶化合物の図示は省略しているが、配列軸の向きが異なる以外は図１に示す液晶化合物１４と同様である。また、図１６においては、配列軸Ｄ3を一つ図示しているが、領域Ａ3のＸ−Ｙ面内において、液晶化合物は、互いに平行な複数の配列軸Ｄ3に沿って配列されている。
図１６に示す例では、配列軸Ｄ3は、図中右上方向を向いている。
【００３３】
一方、領域Ａ4において、液晶化合物は、Ｘ−Ｙ面内の配列軸Ｄ4に沿って配列しており、それぞれの配列軸Ｄ4上において、液晶化合物の分子軸の向きは、配列軸Ｄ4に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化している。なお、図１６においては液晶化合物の図示は省略しているが、配列軸の向きが異なる以外は図１に示す液晶化合物１４と同様である。また、図１６においては、配列軸Ｄ4を一つ図示しているが、領域Ａ4のＸ−Ｙ面内において、液晶化合物は、互いに平行な複数の配列軸Ｄ4に沿って配列されている。
図１６に示す例では、配列軸Ｄ4は、図中左上方向を向いている。
【００３４】
すなわち、コレステリック液晶層６０は、配列軸の方向が異なる領域がストライプ状に形成された構成を有する。
このように配列軸の向きが異なる領域を複数有する構成とすることで、各領域で異なる方向に光を反射する構成とすることができる。この点について、図１７〜図１９を用いて説明する。
【００３５】
図１７は図１６に示すコレステリック液晶層６０のＸ−Ｙ面をＳＥＭにて観察した際の模式図である。
図１６に示す、配列軸の方向が異なる領域がストライプ状に形成された構成を有するコレステリック液晶層６０をＳＥＭにて観察すると、図１７に示すような明部１５と暗部１６とがＹ方向に交互に配列された縞模様が観察される。
ここで、領域Ａ3では、配列軸Ｄ3が図１６中右上方向を向いているため、領域Ａ3における明部１５および暗部１６は、図１７中左上方向を向いて延在する。一方、領域Ａ4では、配列軸Ｄ4が図１６中左上方向を向いているため、領域Ａ4における明部１５および暗部１６は、図１７中右上方向を向いて延在する。
そのため、図１７に示すように、コレステリック液晶層６０における明暗線は、Ｘ方向に波状の線として観察される。
【００３６】
この明暗線は、反射面と一致する。そのため、例えば、光がＺ方向からコレステリック液晶層６０の主面に垂直に入射した場合には、図１８に示すように、領域Ａ3においては、図１８中左下方向に光が反射される（矢印Ｉ1）。一方、領域Ａ4においては、図１８中右下方向に光が反射される（Ｉ2）。
また、例えば、光がコレステリック液晶層６０の主面に、Ｚ方向のＹ方向に傾いた方向（図１９中紙面手前下方）から入射した場合には、図１９に示すように、領域Ａ3においては、図１９中左方向に光が反射される（矢印Ｉ3）。一方、領域Ａ4においては、図１９中右方向に光が反射される（Ｉ4）。一方、図１９紙面手前上方からの光は反射しない。コレステリック液晶層６０の主面に図１９紙面手前上方から光が入射した場合、この光の光軸はコレステリック液晶の明暗部の配列方向と略直交する。この場合、次の３点の理由により反射光が観察されない。１点目は、入射光の光軸上における屈折率異方性の分布が小さいため反射率が小さい点。２点目は、光の進行方向はほぼ変化しないため紙面手前側には光は反射されない点。３点目は、コレステリック液晶層が示す反射波長が極めて短波側にシフトするため可視光を反射しない点。
そのため、透明性と輝度を両立することができる。
このように、配列軸の方向が異なる領域を有するコレステリック液晶層をスクリーンとして用いる場合、光を複数の方向に散乱させるため、視認性を高めることができる。また、従来の散乱コレステリック液晶では、光の散乱方向はランダムであるが、上記コレステリック液晶層は反射方向に異方性を有しているため、透明性と輝度を両立することができる。さらに、上述のとおり、特定方向に視野角を広げることができる。
【００３７】
なお、図１６に示す例では、コレステリック液晶層６０は、配列軸の方向が異なる２種の領域を有する構成としたが、これに限定はされず、配列軸の方向が異なる３種以上の領域を有する構成としてもよい。
また、コレステリック液晶層６０は、配列軸の方向が異なる２種の領域が交互にストライプ状に形成された構成としたが、これに限定はされず、複数の領域を有する構成であれば各領域は種々の形状とすることができ、また、その配列も任意の配列とすることができる。
【００３８】
また、図１６に示す例では、コレステリック液晶層６０の領域Ａ3の配列軸Ｄ3と、領域Ａ4の配列軸Ｄ4の方向とは、略直交する構成としたが、これに限定はされず、各領域で配列軸の方向が異なっていればよい。
【００３９】
また、配列軸の方向が異なる領域同士の境界近傍において、互いの配列軸がなだらかに接続されていてもよい。
また、図１６に示す例では、配列軸の方向が一定の領域を複数有する構成としたが、これに限定はされず、配列軸の方向が面内において漸次変化する構成としてもよい。特にスクリーンとして用いる場合には、視認できる角度にムラがないよう、配列軸の方向が面内において漸次変化することが好ましい。
【００４０】
〔用途〕
コレステリック液晶層は、所定の波長域の光に対して選択反射特性を示す層である。コレステリック液晶層は選択反射波長域において、右円偏光及び左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させ、他方のセンスの円偏光を透過させる円偏光選択反射層として機能する。コレステリック液晶層を１層又は２層以上含むフィルムは、様々な用途に用いることができる。コレステリック液晶層を２層以上含むフィルムにおいて、各コレステリック液晶層が反射する円偏光のセンスは用途に応じて同じでも逆であってもよい。また、各コレステリック液晶層の後述の選択反射の中心波長も用途に応じて同じでも異なっていてもよい。
【００４１】
なお、本明細書において、円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、又は左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の増加に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。本明細書においては、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶による選択反射は、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向（センス）が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。
【００４２】
例えば、可視光波長域（波長４００〜７５０ｎｍ）に選択反射特性を示すコレステリック液晶層を含むフィルムは、投映像表示用のスクリーン及びハーフミラーとして利用できる。また、反射波長帯域を制御することで、カラーフィルター又はディスプレイの表示光の色純度を向上させるフィルタ（例えば特開２００３−２９４９４８号公報参照）として利用できる。
また、上記コレステリック液晶層は、光学素子の構成要素である、偏光素子、反射膜（反射層）、反射防止膜、視野角補償膜、ホログラフィー、セキュリティ、センサー、実像投影用ミラー（フロントプロジェクション、リアプロジェクション）、虚像投影用ミラー、加飾シート、遮熱シート・遮光シート、及び、配向膜等、種々の用途に利用できる。
また、上記コレステリック液晶層を位相差板や偏光板を組み合わせることで、直線偏光反射部材として用いることもできる。
以下特に好ましい用途である投映像表示用部材としての用途について説明する。
【００４３】
コレステリック液晶層の上記の機能により、投射光のうち選択反射を示す波長において、いずれか一方のセンスの円偏光を反射させて、投映像を形成できる。投映像は投映像表示用部材表面で表示され、そのように視認されるものであってもよく、観察者から見て投映像表示用部材の先に浮かび上がって見える虚像であってもよい。
【００４４】
上記選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。なお、ここで、コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。上記式から分かるように、螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射の中心波長を調節できる。コレステリック液晶相のピッチはキラル剤の種類、又はその添加濃度に依存するため、これらを調節することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンス及びピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編  シグマ出版２００７年出版、４６頁、及び、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会  丸善  １９６頁に記載の方法を用いることができる。
【００４５】
また、赤色光波長域、緑色光波長域、及び青色光波長域にそれぞれ見かけ上の選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層をそれぞれ作製し、それらを積層することによりフルカラーの投映像の表示が可能である投映像表示用部材を作製できる。
【００４６】
各コレステリック液晶層の選択反射の中心波長を、投映に用いられる光源の発光波長域、及び投映像表示用部材の使用態様に応じて調節することにより、光利用効率良く鮮明な投映像を表示できる。特にコレステリック液晶層の選択反射の中心波長をそれぞれ投映に用いられる光源の発光波長域等に応じてそれぞれ調節することにより、光利用効率良く鮮明なカラー投映像を表示できる。
【００４７】
また、例えば、上記投映像表示用部材を可視光領域の光に対して透過性を有する構成とすることによりヘッドアップディスプレイのコンバイナとして使用可能なハーフミラーとすることができる。投映像表示用ハーフミラーは、プロジェクターから投映された画像を視認可能に表示できるとともに、画像が表示されている同じ面側から投映像表示用ハーフミラーを観察したときに、反対の面側にある情報又は風景を同時に観察できる。
【００４８】
また、コレステリック液晶層は、光学異方体又は反射膜（反射層）に好適に適用できる。なお、光学異方体とは、光学異方性を有する物質を意図する。
また、反射膜については上述のとおりである。
【００４９】
［コレステリック液晶層の製造方法］
本実施形態のコレステリック液晶層を製造するための製造方法として、コレステリック液晶層の配向基板として所定の液晶層を用い、且つ光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ）が変化するキラル剤Ｘ、又は温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用する方法が挙げられる。
以下に、本発明のコレステリック液晶層の製造方法について詳述する。
【００５０】
本発明のコレステリック液晶層の製造方法の一実施形態は、下記工程１及び下記工程２を有する。
工程１：円盤状液晶化合物を含む組成物を用いて、少なくとも一方の表面において上記円盤状液晶化合物の分子軸が上記表面に対して傾斜している液晶層を形成する工程１と、
工程２：  上記液晶層上に、液晶化合物を含む組成物を用いて、本発明のコレステリック液晶層を形成する工程２と、を有する。
以下、工程１及び工程２について、上述した第１実施形態のコレステリック液晶層１０を例に挙げて詳述する。
【００５１】
〔工程１〕
工程１は、円盤状液晶化合物を含む組成物を用いて液晶層を形成する工程である。
上記液晶層の少なくとも一方の表面において、円盤状液晶化合物の分子軸は、上記表面に対して傾斜している。言い換えると、上記液晶層の少なくとも一方の表面において、円盤状液晶化合物は、その分子軸が上記表面に対して傾斜するように配向している。なお、本発明の製造方法においては、円盤状液晶化合物が傾斜配向した表面（以下「傾斜配向面」ともいう。）を有する液晶層の上記傾斜配向面上にコレステリック液晶層を形成する。
【００５２】
工程１の具体的な方法としては特に制限されず、下記工程１−１及び下記工程１−２を含むことが好ましい。なお、以下においては、円盤状液晶化合物を傾斜配向させる手法として、プレチルト角を有するラビング配向膜を表面に配置した基板を用いて組成物層を形成する方法（工程１−１）を示すが、円盤状液晶化合物を傾斜配向させる手法はこれに制限されず、例えば、液晶層形成用組成物に界面活性剤を添加する手法（例えば下記工程１−１’）であってもよい。この場合、工程１において、工程１−１の代わりに、下記工程１−１’を実施すればよい。
工程１−１’：円盤状液晶化合物及び界面活性剤を含む組成物を用いて、基板（表面にラビング配向膜を配置していなくてもよい）上に組成物層を形成する工程
【００５３】
また、円盤状液晶化合物が重合性基を有する場合、工程１は、後述するように、組成物層に対して硬化処理を実施することが好ましい。
【００５４】
工程１−１：円盤状液晶化合物を含む組成物（液晶層形成用組成物）を用いて、プレチルト角を有するラビング配向膜を表面に配置した基板上に組成物層を形成する工程
工程１−２：上記組成物層中の円盤状化合物を配向させる工程
以下に、工程１について説明する。
【００５５】
＜基板＞
基板は、後述する組成物層を支持する板である。なかでも、透明基板であることが好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基板を構成する材料は特に制限されず、例えば、セルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、アミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、及び、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー等が挙げられる。
基板には、ＵＶ（紫外線）吸収剤、マット剤微粒子、可塑剤、劣化防止剤、及び、剥離剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。
なお、基板は、可視光領域で低複屈折性であることが好ましい。例えば、基板の波長５５０ｎｍにおける位相差は５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましい。
【００５６】
基板の厚さは特に制限されないが、薄型化、及び、取り扱い性の点から、１０〜２００μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。
上記厚さは平均厚さを意図し、基板の任意の５点の厚さを測定し、それらを算術平均したものである。この厚さの測定方法に関しては、後述する液晶層の厚さ、及びコレステリック液晶層の厚さも同様である。
【００５７】
プレチルト角を有するラビング配向膜の種類としては特に制限されないが、例えば、ポリビニルアルコール配向膜、及びポリイミド配向膜等を使用できる。
【００５８】
＜液晶層形成用組成物＞
以下、液晶層形成用組成物について説明する。
（円盤状液晶化合物）
液晶層形成用組成物は、円盤状液晶化合物を含む。
円盤状液晶化合物としては特に制限されず、公知の化合物を使用できるが、なかでも、トリフェニレン骨格を有するものが好ましい。
円盤状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基又は環重合性基がより好ましい。より具体的には、重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基、エポキシ基、又は、オキセタン基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【００５９】
（重合開始剤）
液晶層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。特に、円盤状液晶化合物が重合性基を有する場合、液晶層形成用組成物は重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
液晶層形成用組成物中での重合開始剤の含有量（重合開始剤が複数種含まれる場合にはその合計量）は特に制限されないが、円盤状液晶化合物全質量に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、１．０〜８．０質量％がより好ましい。
【００６０】
（界面活性剤）
液晶層形成用組成物は、上記組成物層の基板側表面及び／又は基板とは反対側の表面に偏在し得る界面活性剤を含んでいてもよい。液晶層形成用組成物が界面活性剤を含む場合、円盤状化合物が所望の傾斜角度で配向しやすくなる。
界面活性剤としては、例えば、オニウム塩化合物（特開２０１２−２０８３９７号明細書記載）、ボロン酸化合物（特開２０１３−５４２０１明細書記載）、パーフルオロアルキル化合物（特許４５９２２２５号明細書記載、ネオス社フタージェント等）、及びこれらの官能基を含む高分子等が挙げられる。
【００６１】
界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶層形成用組成物中での界面活性剤の含有量（界面活性剤が複数種含まれる場合にはその合計量）は特に制限されないが、円盤状化合物全質量に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５．０質量％がより好ましく、０．０１〜２．０質量％が更に好ましい。
【００６２】
（溶媒）
液晶層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、水又は有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；ピリジン等のヘテロ環化合物；ベンゼン、及びヘキサン等の炭化水素；クロロホルム、及びジクロロメタン等のアルキルハライド類；酢酸メチル、酢酸ブチル、及びプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びシクロペンタノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、及び１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類；１，４−ブタンジオールジアセテート；等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６３】
（その他の添加剤）
液晶層形成用組成物は、１種又は２種類以上の酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、安定剤、可塑剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、消泡剤、レべリング剤、増粘剤、難燃剤、界面活性物質、分散剤、並びに、染料及び顔料等の色材、等の他の添加剤を含んでいてもよい。
【００６４】
＜工程１−１の手順＞
工程１−１において、基板上に組成物層を形成する工程としては、上記基板上に、上述した液晶層形成用組成物の塗膜を形成する工程であることが好ましい。
塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及びダイコーティング法等が挙げられる。
なお、必要に応じて、液晶層形成用組成物の塗布後に、基板上に塗布された塗膜を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、塗膜から溶媒を除去できる。
【００６５】
塗膜の膜厚は特に制限されないが、０．１〜２０μｍが好ましく、０．２〜１５μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍが更に好ましい。
【００６６】
＜工程１−２の手順＞
工程１−２は、上記塗膜を加熱することによって、上記組成物層中の円盤状化合物を配向させる工程であることが好ましい。
好ましい加熱条件としては、４０〜１５０℃（好ましくは、６０〜１００℃）で０．５〜５分間（好ましくは、０．５〜２分間）にわたって組成物層を加熱することが好ましい。なお、組成物層を加熱する際には、液晶化合物が等方相（Ｉｓｏ）となる温度まで加熱しないことが好ましい。円盤状液晶化合物が等方相となる温度以上に組成物層を加熱してしまうと、傾斜配向した液晶相の欠陥が増加してしまい、好ましくない。
【００６７】
〔硬化処理〕
なお、円盤状液晶化合物が重合性基を有する場合、組成物層に対して硬化処理を実施することが好ましい。
硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理及び熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。円盤状液晶化合物が重合性基を有する場合には、硬化処理は、光照射（特に紫外線照射）による重合反応であるのが好ましく、光照射（特に紫外線照射）によるラジカル重合反応であるのがより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプ等の光源が利用される。
紫外線の照射エネルギー量は特に制限されないが、一般的には、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましい。なお、紫外線を照射する時間は特に制限されないが、得られる層の充分な強度及び生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。
【００６８】
〔円盤状液晶化合物の平均傾斜角度、及び液晶層の傾斜配向面の方位角規制力〕
上記液晶層の上記傾斜配向面においては、液晶層の表面に対する円盤状液晶化合物の平均傾斜角度（平均チルト角）が、例えば、２０〜９０°であることが好ましく、２０〜８０°であることがより好ましく、３０〜８０°であることが更に好ましく、３０〜６５°であることが更に好ましい。
なお、上記平均傾斜角度は、液晶層断面の偏光顕微鏡観察において、円盤状液晶化合物の分子軸と液晶層の表面とのなす角度を任意の５か所以上で測定して、それらを算術平均した値である。
上記液晶層の上記傾斜配向面における、液晶層の表面に対する円盤状液晶化合物の平均傾斜角度は、液晶層断面の偏光顕微鏡観察することにより測定できる。
また、上記液晶層の上記傾斜配向面は、方位角規制力が、例えば、０．０００３０Ｊ/ｍ2以下であり、０．０００２０Ｊ/ｍ2未満であることが好ましく、０．０００１０Ｊ/ｍ2以下がより好ましく、０．００００５Ｊ/ｍ2以下が更に好ましい。なお、下限は特に制限されないが、例えば、０．０００００Ｊ/ｍ2以上である。
上記液晶層の上記傾斜配向面における方位角規制力は、J. Appl. Phys. 1992, 33, L1242に記載の方法により測定できる。
【００６９】
上記液晶層の上記傾斜配向面における円盤状液晶化合物の傾斜角度を調整することにより、コレステリック液晶層中の液晶化合物の分子軸の主面に対する傾斜角度が所定の角度に調整しやすい利点がある。つまり、上述したコレステリック液晶層１０（図１及び図２参照）を例に挙げると、コレステリック液晶層１０中の液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の主面１１に対する平均角度θ3の調整がし易い利点がある。
また、上記液晶層の上記傾斜配向面における方位角規制力を調整することにより、コレステリック液晶層中の主面において、液晶化合物の分子軸の向きが面内の一方向に連続的に回転しながら変化しやすくなる。つまり、上述したコレステリック液晶層１０（図１及び図２参照）を例に挙げると、上記液晶層の上記傾斜配向面における方位角規制力を調整することにより、液晶化合物１４は、Ｘ−Ｙ面内の互いに平行な複数の配列軸Ｄ1に沿って配列し、且つ、それぞれの配列軸Ｄ1上において、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の向きが、配列軸Ｄ1に沿った面内の一方向に連続的に回転しながら変化しやすい。
【００７０】
〔工程２〕
工程２は、上記液晶層上に、液晶化合物を含む組成物を用いて本実施形態のコレステリック液晶層を形成する工程である。以下、工程２について説明する。
【００７１】
工程２は、下記工程２−１及び下記工程２−２を有することが好ましい。
工程２−１：
工程１で形成した液晶層上に、下記条件１又は下記条件２を満たす組成物層を形成する工程
条件１：上記組成物層中の上記液晶化合物の少なくとも一部が、上記組成物層表面に対して、傾斜配向している
条件２：上記組成物層中の上記液晶化合物のチルト角が厚み方向に沿って連続的に変化するように、上記液晶化合物が配向している
工程２−２：
上記組成物層中の上記液晶化合物をコレステリック配向させる処理を実施して、コレステリック液晶層を形成する工程。
以下に、工程２−１及び工程２−２について説明する。
【００７２】
＜工程２−１の作用機序＞
まず、図１０に、工程２−１により得られる条件１を満たす組成物層の断面模式図を示す。なお、図１０に示す液晶化合物１４は、棒状液晶化合物である。
【００７３】
図１０に示すように、組成物層１００は、円盤状液晶化合物を用いて形成された液晶層１０２上に形成される。液晶層１０２は、組成物層１００と接する側の表面において、円盤状液晶化合物の分子軸が、液晶層１０２の表面に対して傾斜している傾斜配向面１０２ａを有する。なお、液晶層１０２及び傾斜配向面１０２ａについては後述する。
図１０に示すように、液晶層１０２の傾斜配向面１０２ａ上に配置される組成物層１００中、液晶化合物１４は、傾斜配向面１０２ａによって緩く配向規制されることで、傾斜配向面１０２ａに対して傾斜するように配向する。言い換えると、組成物層１００中において、液晶化合物１４は、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1が組成物層１００の表面に対して所定の角度θ10となるように一定の方向（一軸方向）に配向している。
【００７４】
なお、図１０では、組成物層１００の厚み方向Ｒ1の全域に渡って、液晶化合物１４が、傾斜配向面１０２ａに対して分子軸Ｌ1が所定の角度θ10となるように配向している実施形態を示したが、工程２−１により得られる条件１を満たす組成物層としては、液晶化合物１４の一部が傾斜配向していればよく、組成物層１００の傾斜配向面１０２ａ側表面（図１０中の領域Ａに該当）、及び、組成物層１００の傾斜配向面１０２ａ側とは反対側の表面（図１０中の領域Ｂに該当）の少なくとも一方において、液晶化合物１４が組成物層１００の表面に対して分子軸Ｌ1が所定の角度θ10となるように配向していることが好ましく、傾斜配向面１０２ａ側表面において、液晶化合物１４が、組成物層１００の表面に対して分子軸Ｌ1が所定の角度θ10となるように傾斜配向していることがより好ましい。なお、領域Ａ及び領域Ｂのいずれか少なくとも一方において、液晶化合物１４が組成物層１００の表面に対して分子軸Ｌ1が所定の角度θ10となるように配向していれば、続く工程２−２において液晶化合物１４をコレステリック液晶相の状態とした際に、領域Ａ及び／又は領域Ｂ中の配向された液晶化合物１４に基づく配向規制力により、他の領域の液晶化合物１４のコレステリック配向を誘起させることができる。
【００７５】
また、図示はしないが、上述した条件２を満たす組成物層は、上記図１に示す組成物層１２において、液晶化合物１４が、組成物層１００の表面に対してハイブリッド配向したものに相当する。つまり、上述の図１の説明において、角度θ10が厚さ方向で連続的に変化する態様に相当する。具体的には、液晶化合物１４は、そのチルト角θ20（組成物層１００の表面に対する分子軸Ｌ1の角度）が組成物層１００の厚み方向Ｒ１に沿って連続的に変化するように配向する。
なお、工程２−１により得られる条件２を満たす組成物層としては、液晶化合物１４の一部がハイブリッド配向していればよく、組成物層１００の傾斜配向面１０２ａ側表面（図１０中の領域Ａに該当）、及び、組成物層１００の傾斜配向面１０２ａ側とは反対側の表面（図１０中の領域Ｂに該当）の少なくとも一方において、液晶化合物１４が傾斜配向面１０２ａに対してハイブリッド配向していることが好ましく、傾斜配向面１０２ａ側表面において液晶化合物１４が組成物層１００の表面に対してハイブリッド配向していることがより好ましい。
【００７６】
角度θ10及びθ20は、組成物層全体において０°でなければ特に制限されない（なお、角度θ10が組成物層全体において０°である場合、液晶化合物１４の分子軸Ｌ1は、液晶化合物１４が棒状液晶化合物であるときは傾斜配向面１０２ａに対して平行となる。）。言い換えると、組成物層の一部の領域において角度θ10及びθ20が０°であることを妨げるものではない。
角度θ10及びθ20としては、例えば０〜９０°である。なかでも、角度θ10及びθ20は、０〜５０°であることが好ましく、０〜１０°であることがより好ましい。
【００７７】
なお、コレステリック液晶層の反射異方性がより優れる点で、工程２−１により得られる組成物層は、条件１又は条件２を満たす組成物層が好ましく、条件２を満たす組成物層がより好ましい。
【００７８】
＜工程２−２の作用機序＞
上記工程２−１により条件１又は条件２を満たす組成物層を得た後、工程２−２において上記組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させて（言い換えると、上記液晶化合物をコレステリック液晶相として）、コレステリック液晶層を形成する。
この結果として、本実施形態のコレステリック液晶層（図１及び図２に示すコレステリック液晶層１０）が得られる。
【００７９】
＜液晶組成物の作用機序＞
上述したとおり、本発明者らは、上記コレステリック液晶層の製造方法を達成する方法の一つとして、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ）が変化するキラル剤Ｘ、又は温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用する方法を見いだしている。以下において、キラル剤Ｘを含む液晶組成物の作用機序、及びキラル剤Ｙを含む液晶組成物の作用機序について詳述する。
【００８０】
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（１Ａ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（１Ａ）  ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶組成物中におけるキラル剤濃度（質量％））［μｍ-1］
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。
なお、上記ＨＴＰの値は、キラル剤の種類のみならず、組成物中に含まれる液晶化合物の種類によっても影響を受ける。よって、例えば、所定のキラル剤Ｘ及び液晶化合物Ａを含む組成物と、所定のキラル剤Ｘ及び液晶化合物Ａとは異なる液晶化合物Ｂを含む組成物とを用意し、同一温度で両者のＨＴＰを測定した場合、その値が異なる場合もある。
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（１Ｂ）としても表される。
式（１Ｂ）：ＨＴＰ＝（液晶化合物の平均屈折率）／｛（液晶組成物中におけるキラル剤濃度（質量％））×（中心反射波長（ｎｍ））｝［μｍ-1］
なお、液相組成物が、２種以上のキラル剤を含む場合、上記式（１Ａ）及び（１Ｂ）における「液晶組成物中におけるキラル剤濃度」は全キラル剤の濃度の総和に相当する。
【００８１】
（キラル剤Ｘを含む液晶組成物の作用機序）
以下において、キラル剤Ｘを含む液晶組成物を使用してコレステリック液晶層を形成する方法を説明する。
【００８２】
キラル剤Ｘを含む液晶組成物を使用してコレステリック液晶層を形成する場合、工程２−１において条件１又は条件２を満たす組成物層を形成した後、工程２−２において、上記組成物層に光照射処理を施すことにより、上記組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させる。つまり、上記工程２−２では、光照射処理によって、組成物層中のキラル剤Ｘの螺旋誘起力を変化させることにより、組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させている。
【００８３】
ここで、組成物層中の液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする上で、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、組成物層中に含まれているキラル剤の加重平均螺旋誘起力に概ね該当すると考えられる。ここでいう加重平均螺旋誘起力とは、例えば、２種類のキラル剤（キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂ）を併用した場合、下記式（１Ｃ）により表される。
式（１Ｃ）  加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）＝（キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ-1）×液晶組成物中におけるキラル剤Ａの濃度（質量％）＋キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ-1）×液晶組成物中におけるキラル剤Ｂの濃度（質量％））／（液晶組成物中におけるキラル剤Ａの濃度（質量％）＋液晶組成物中におけるキラル剤Ｂの濃度（質量％））
ただし、上記式（１Ｃ）において、キラル剤の螺旋方向が右巻きの場合、その螺旋誘起力は正の値とする。また、キラル剤の螺旋方向が左巻きの場合、その螺旋誘起力は負の値とする。つまり、例えば、螺旋誘起力が１０μｍ-1のキラル剤の場合、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が右であるときは、螺旋誘起力を１０μｍ-1として表す。一方、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が左であるときは、螺旋誘起力を−１０μｍ-1として表す。
なお、上記式（１Ｃ）により得られる加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）は、上記式（１Ａ）及び上記式（１Ｂ）からも算出できる。
【００８４】
以下に、例えば、組成物層中に下記特性を有するキラル剤Ａ及びキラル剤Ｂが含まれている場合の加重平均螺旋誘起力について述べる。
図１１に示すように、上記キラル剤Ａは、キラル剤Ｘに該当し、左方向（−）の螺旋誘起力を有し、光照射により螺旋誘起力を低減させるキラル剤である。
また、図１１に示すように、上記キラル剤Ｂは、キラル剤Ａとは逆方向である右方向（＋）の螺旋誘起力を有し、光照射により螺旋誘起力が変化しないキラル剤である。ここで、未光照射時の「キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ａの濃度（質量％）」と「キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ｂの濃度（質量％）」は等しいものとする。なお、図１１において、縦軸の「キラル剤の螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤の濃度（質量％）」は、その値がゼロから離れるほど、螺旋誘起力が大きくなる。
組成物層が上記キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂを含む場合、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの加重平均螺旋誘起力に一致する。この結果として、上記キラル剤Ａと上記キラル剤Ｂとを併用した系においては、図１２に示すように、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、照射光量が大きいほど、キラル剤Ｂ（キラル剤Ｙに該当）が誘起する螺旋の方向（＋）に螺旋誘起力が大きくなると考えられる。
【００８５】
本実施形態のコレステリック液晶層の製造方法においては、工程２−１により形成される組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は特に制限されないが、組成物層が形成しやすい点で、例えば、０．０〜１．９μｍ-1が好ましく、０．０〜１．５μｍ-1がより好ましく、０．０〜０．５μｍ-1が更に好ましく、ゼロが最も好ましい（図１１参照）。一方で、工程２−２の光照射処理の際においては、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、液晶化合物をコレステリック配向させることが可能であれば特に制限されないが、例えば、１０．０μｍ-1以上が好ましく、１０．０〜２００．０μｍ-1がより好ましく、２０．０〜２００．０μｍ-1が更に好ましい。
つまり、工程２−１の際には組成物層中のキラル剤Ｘはその螺旋誘起力が略ゼロに相殺されることによって、組成物層中の液晶化合物を配向させて、傾斜配向、又はハイブリッド配向とすることができる。次いで、工程２−２の光照射処理を契機として、キラル剤Ｘの螺旋誘起力を変化させて、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力を右方向（＋）又は左方向（−）のいずれかの方向に増大させることで、本実施形態のコレステリック液晶層（例えば、コレステリック液晶層１０）が得られる。
【００８６】
（キラル剤Ｙを含む液晶組成物の作用機序）
次に、キラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用してコレステリック液晶層を形成する方法を説明する。
キラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用してコレステリック液晶層を形成する場合、工程２−１において条件１又は条件２を満たす組成物層を形成した後、工程２−２において、上記組成物層に冷却処理又は加熱処理を施すことにより、上記組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させる。つまり、上記工程２−２では、冷却処理又は加熱処理によって、組成物層中のキラル剤Ｙの螺旋誘起力を変化させることにより、組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させている。
【００８７】
上述の通り、組成物層中の液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とする上で、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、組成物層中に含まれているキラル剤の加重平均螺旋誘起力に概ね相当すると考えられる。ここでいう加重平均螺旋誘起力とは、上述した通りである。
以下に、工程２―２において冷却処理を施すことによって上記組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させる実施形態を一例として、キラル剤Ｙの作用機序を説明する。
まず、以下において、例えば、組成物層中に下記特性を有するキラル剤Ａ及びキラル剤Ｂが含まれている場合の加重平均螺旋誘起力について述べる。
図１３に示すように、上記キラル剤Ａは、キラル剤Ｙに該当し、工程１において条件１又は条件２を満たす組成物層を形成するための液晶化合物の配向処理が実施される温度Ｔ11、及び工程２−２の冷却処理が実施される温度Ｔ12において左方向（−）の螺旋誘起力を有し、より低温領域であるほど左方向（−）への螺旋誘起力を増大させるキラル剤である。また、図１３に示すように、上記キラル剤Ｂは、キラル剤Ａとは逆方向である右方向（＋）の螺旋誘起力を有し、温度変化により螺旋誘起力が変化しないキラル剤である。ここで、温度Ｔ11時の「キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ａの濃度（質量％）」と「キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ｂの濃度（質量％）」は等しいものとする。
組成物層が上記キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂを含む場合、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、キラル剤Ａ及びキラル剤Ｂの加重平均螺旋誘起力に一致する。この結果として、上記キラル剤Ａと上記キラル剤Ｂとを併用した系においては、図１４に示すように、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、より低温領域であるほど、キラル剤Ａ（キラル剤Ｙに該当）が誘起する螺旋の方向（−）に螺旋誘起力が大きくなると考えられる。
【００８８】
本実施形態のコレステリック液晶層の製造方法においては、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は特に制限されないが、工程２−１の条件１又は条件２を満たす組成物層を形成する際においては（つまり、本実施形態の場合、条件１又は条件２を満たす組成物層を形成するための液晶化合物の配向処理が実施される温度Ｔ11においては）組成物層が形成しやすい点で、０．０〜１．９μｍ-1が好ましく、０．０〜１．５μｍ-1がより好ましく、０．０〜０．５μｍ-1が更に好ましく、ゼロが最も好ましい。
一方で、工程２−２の冷却処理が実施される温度Ｔ12においては、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、液晶化合物をコレステリック配向させることが可能であれば特に制限されないが、１０．０μｍ-1以上が好ましく、１０．０〜２００．０μｍ-1がより好ましく、２０．０〜２００．０μｍ-1が更に好ましい（図１４参照）。
つまり、温度Ｔ11においてキラル剤Ｙはその螺旋誘起力が略ゼロに相殺されているため、液晶化合物を傾斜配向又はハイブリッド配向とすることができる。次いで、工程２−２の冷却処理又は加熱処理（温度Ｔ12への温度変化）を契機として、キラル剤Ｙの螺旋誘起力を増大させて、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力を右方向（＋）又は左方向（−）のいずれかの方向に増大させることで、本実施形態のコレステリック液晶層（例えば、コレステリック液晶層１０）が得られる。
【００８９】
＜工程２の手順＞
以下に、工程２の手順について詳述する。なお、以下においては、キラル剤Ｘを含む液晶組成物を使用する態様と、キラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用する態様とに分けて詳述する。
【００９０】
（キラル剤Ｘを含む液晶組成物を使用する態様）
以下、キラル剤Ｘを含む液晶組成物を使用した工程２の手順（以下、「工程２Ｘ」ともいう。）について説明する。
工程２Ｘは、下記工程２Ｘ−１及び工程２Ｘ−２を少なくとも有する。
工程２Ｘ−１：キラル剤Ｘ及び液晶化合物を含む液晶組成物を用いて、液晶層上に下記条件１又は下記条件２を満たす組成物層を形成する工程
工程２Ｘ−２：上記組成物層に対して光照射処理を施すことにより、上記組成物層中の上記液晶化合物をコレステリック配向させてコレステリック液晶層を形成する工程
条件１：上記組成物層中の上記液晶化合物の少なくとも一部が、上記組成物層表面に対して、傾斜配向している
条件２：上記組成物層中の上記液晶化合物のチルト角が厚み方向に沿って連続的に変化するように、上記液晶化合物が配向している
また、液晶化合物が重合性基を有する場合、工程２Ｘは、後述するように、組成物層に対して硬化処理を実施することが好ましい。
【００９１】
以下、各工程で使用される材料、及び、各工程の手順について詳述する。
【００９２】
≪工程２Ｘ−１≫
工程２Ｘ−１は、キラル剤Ｘ及び液晶化合物を含む液晶組成物（以下、「組成物Ｘ」ともいう）。を用いて、液晶層上に上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層を形成する工程である。
以下では、組成物Ｘについて詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
【００９３】
≪≪組成物Ｘ≫≫
組成物Ｘは、液晶化合物と、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｘと、を含む。以下に、各成分について説明する。
上述したとおり、工程２Ｘ−１により得られる組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、組成物層が形成しやすい点で、０．０〜１．９μｍ-1が好ましく、０．０〜１．５μｍ-1がより好ましく、０．０〜０．５μｍ-1が更に好ましく、ゼロが最も好ましい。したがって、キラル剤Ｘが未光照射処理の状態で上記所定範囲を超える螺旋誘起力を有する場合、組成物Ｘは、キラル剤Ｘとは逆方向の螺旋を誘起させるキラル剤（以下、「キラル剤ＸＡ」ともいう。）を含み、工程２Ｘ−１の際にはキラル剤Ｘの螺旋誘起力を略ゼロに相殺させておく（つまり、工程２Ｘ−１により得られる組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力を上記所定範囲としておく）ことが好ましい。なお、キラル剤ＸＡは、光照射処理により螺旋誘起力を変化させない化合物であることがより好ましい。
また、液晶組成物がキラル剤としてキラル剤Ｘを複数種含むときであって、未光照射処理の状態で複数種のキラル剤Ｘの加重平均螺旋誘起力が上記所定範囲外の螺旋誘起力である場合、「キラル剤Ｘとは逆方向の螺旋を誘起させる他のキラル剤ＸＡ」とは、上記複数種のキラル剤Ｘの加重平均螺旋誘起力に対して逆方向の螺旋を誘起させるキラル剤を意図する。
キラル剤Ｘが一種単独で、未光照射処理の状態で螺旋誘起力を有さず、光照射によって螺旋誘起力を増大させる特性を有する場合、キラル剤ＸＡを併用しなくてもよい。
【００９４】
・液晶化合物
液晶化合物の種類は、特に制限されない。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）とに分類できる。更に、棒状タイプ及び円盤状タイプには、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。また、２種以上の液晶化合物を併用してもよい。
【００９５】
液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基又は環重合性基がより好ましい。より具体的には、重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基、エポキシ基、又は、オキセタン基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【００９６】
液晶化合物としては、以下の式（Ｉ）で表される液晶化合物が、好適に利用される。
【００９７】
【化１】
2019181247.tif 000003
【００９８】
式中、
Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、Ａのうち少なくとも１つは置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、
Ｌは、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｍは３〜１２の整数を示し、
Ｓｐ1及びＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、水素原子、又は、以下の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただしＱ1及びＱ2のいずれか一方は重合性基を示す；
【化２】
2019181247.tif 000004
【００９９】
Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基、又は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。本明細書において、フェニレン基というとき、１，４−フェニレン基であるのが好ましい。
なお、Ａのうち少なくとも１つは置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。
ｍ個のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。
【０１００】
ｍは３〜１２の整数を示し、３〜９の整数であるのが好ましく、３〜７の整数であるのがより好ましく、３〜５の整数であるのが更に好ましい。
【０１０１】
式（Ｉ）中の、フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルエーテル基、アミド基、アミノ基、及びハロゲン原子、並びに、上記の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。また、置換基の例としては、後述の−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3で表される置換基が挙げられる。フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、置換基を１〜４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１０２】
本明細書において、アルキル基は直鎖及び分岐のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１〜３０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が更に好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、及び、ドデシル基等が挙げられる。アルコキシ基中のアルキル基の説明も、上記アルキル基に関する説明と同じである。また、本明細書において、アルキレン基というときのアルキレン基の具体例としては、上記のアルキル基の例それぞれにおいて、任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられる。
【０１０３】
本明細書において、シクロアルキル基の炭素数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、６以下が特に好ましい。シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及び、シクロオクチル基等が挙げられる。
【０１０４】
フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3からなる群から選択される置換基が好ましい。ここで、Ｘ3は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ4−Ｑ4）−を示すか、又は、Ｑ3及びＳｐ3と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｓｐ3及びＳｐ4は、それぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。
Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。
【０１０５】
シクロアルキル基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基として、具体的には、テトラヒドロフラニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、及び、モルホルニル基等が挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフラニル基が好ましく、２−テトラヒドロフラニル基がより好ましい。
【０１０６】
式（Ｉ）において、Ｌは、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示す。Ｌは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）−であるのが好ましい。ｍ個のＬは互いに同一でも異なっていてもよい。
【０１０７】
Ｓｐ1及びＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ1及びＳｐ2はそれぞれ独立に、両末端にそれぞれ−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される連結基が結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、及び、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基からなる群から選択される基を１又は２以上組み合わせて構成される連結基であるのが好ましく、両末端に−Ｏ−がそれぞれ結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基であるのがより好ましい。
【０１０８】
Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、水素原子、又は、以下の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示す。ただし、Ｑ1及びＱ2のいずれか一方は重合性基を示す。
【０１０９】
【化３】
2019181247.tif 000005
【０１１０】
重合性基としては、アクリロイル基（式（Ｑ−１））又はメタクリロイル基（式（Ｑ−２））が好ましい。
【０１１１】
上記液晶化合物の具体例としては、以下の式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物、式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物、式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物が挙げられる。上記以外にも、特開２０１３−１１２６３１号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１０−７０５４３号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特開２００８−２９１２１８号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特許第４７２５５１６号の式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１３−０８７１０９号公報の一般式（II）で表される化合物、特開２００７−１７６９２７号公報の段落［００４３］記載の化合物、特開２００９−２８６８８５号公報の式（１−１）で表される化合物、ＷＯ２０１４／１０３２５号の一般式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１６−８１０３５号公報の式（１）で表される化合物、並びに、特開２０１６−１２１３３９号公報の式（２−１）及び式（２−２）で表される化合物、等に記載の公知の化合物が挙げられる。
【０１１２】
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物
【化４】
2019181247.tif 000006
【０１１３】
式中、Ｒ11は水素原子、炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12を示し、
Ｌ11は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−を示し、
Ｌ12は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は、−ＣＯＮＲ2−を示し、
Ｒ2は、水素原子、又は、炭素数１から３のアルキル基を示し、
Ｚ11及びＺ12はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12−を示し、
Ｒ12は水素原子又はＳｐ12−Ｑ12を示し、
Ｓｐ11及びＳｐ12はそれぞれ独立に、単結合、Ｑ11で置換されていてもよい炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、又は、Ｑ11で置換されていてもよい炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において、いずれか１つ以上の−ＣＨ2−を−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ11）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−に置き換えて得られる連結基を示し、
Ｑ11は水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、
Ｑ12は水素原子又は式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、
ｌ11は０〜２の整数を示し、
ｍ11は１又は２の整数を示し、
ｎ11は１〜３の整数を示し、
複数のＲ11、複数のＬ11、複数のＬ12、複数のｌ11、複数のＺ11、複数のＳｐ11、及び、複数のＱ11はそれぞれ互いに同じでも異なっていてもよい。
また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｒ11として、Ｑ12が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12を少なくとも１つ含む。
また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｚ11が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＣ（＝Ｏ）ＮＲ12−、及び、Ｑ11が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ11−Ｓｐ11−Ｑ11であるのが好ましい。また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｒ11として、Ｚ12が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＣ（＝Ｏ）ＮＲ12−、及び、Ｑ12が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12であるのが好ましい。
【０１１４】
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物に含まれる１，４−シクロヘキシレン基はいずれもトランス−１，４−シクロヘキレン基である。
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物の好適態様としては、Ｌ11が単結合、ｌ11が１（ジシクロヘキシル基）、かつ、Ｑ11が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である化合物が挙げられる。
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物の他の好適態様としては、ｍ11が２、ｌ11が０、かつ、２つのＲ11がいずれも−Ｚ12−Ｓｐ12−Ｑ12を表し、Ｑ12が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である化合物が挙げられる。
【０１１５】
式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物
【化５】
2019181247.tif 000007
【０１１６】
式中、Ｚ21及びＺ22は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、−ＣＯ−Ｘ21−Ｓｐ23−Ｑ23、アルキル基、及びアルコキシ基からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
ｍ２１は１又は２の整数を示し、ｎ２１は０又は１の整数を示し、
ｍ２１が２を示すときｎ２１は０を示し、
ｍ２１が２を示すとき２つのＺ21は同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ21及びＺ22の少なくともいずれか一つは置換基を有していてもよいフェニレン基であり、
Ｌ21、Ｌ22、Ｌ23及びＬ24はそれぞれ独立に、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及びＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
Ｘ21は−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ25−Ｑ25）−を示すか、又は、Ｑ23及びＳｐ23と共に環構造を形成する窒素原子を示し、
ｒ21は１から４の整数を示し、
Ｓｐ21、Ｓｐ22、Ｓｐ23、及びＳｐ25はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ21及びＱ22はそれぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、
Ｑ23は水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基、又は、Ｘ21がＱ23及びＳｐ23と共に環構造を形成する窒素原子である場合において単結合を示し、
Ｑ25は、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、Ｓｐ25が単結合のとき、Ｑ25は水素原子ではない。
【０１１７】
式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物は、１，４−フェニレン基及びトランス−１，４−シクロヘキシレン基が交互に存在する構造であることも好ましく、例えば、ｍ２１が２であり、ｎ２１が０であり、かつ、Ｚ21がＱ21側からそれぞれ置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基であるか、又は、ｍ２１が１であり、ｎ２１が１であり、Ｚ21が置換基を有していてもよいアリーレン基であり、かつ、Ｚ22が置換基を有していてもよいアリーレン基である構造が好ましい。
【０１１８】
式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物；
【０１１９】
【化６】
2019181247.tif 000008
【０１２０】
式中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ31−Ｓｐ33−Ｑ33からなる群から選択される基であり、
ｎ３１及びｎ３２はそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、
Ｘ31は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ34−Ｑ34）−を示すか、又は、Ｑ33及びＳｐ33と共に環構造を形成している窒素原子を示し、
Ｚ31は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
Ｚ32は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ31−Ｓｐ33−Ｑ33からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
ｍ３１は１又は２の整数を示し、ｍ３２は０〜２の整数を示し、
ｍ３１及びｍ３２が２を示すとき２つのＺ31、Ｚ32は同一であっても異なっていてもよく、
Ｌ31及びＬ32はそれぞれ独立に、単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及びＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
Ｓｐ31、Ｓｐ32、Ｓｐ33及びＳｐ34はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ31及びＱ32はそれぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、
Ｑ33及びＱ34はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、Ｑ33はＸ31及びＳｐ33と共に環構造を形成している場合において、単結合を示してもよく、Ｓｐ34が単結合のとき、Ｑ34は水素原子ではない。
式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物として、特に好ましい化合物としては、Ｚ32がフェニレン基である化合物及びｍ３２が０である化合物が挙げられる。
【０１２１】
式（Ｉ）で表される化合物は、以下の式（II）で表される部分構造を有することも好ましい。
【化７】
2019181247.tif 000009
式（ＩＩ）において、黒丸は、式（Ｉ）の他の部分との結合位置を示す。式（II）で表される部分構造は式（Ｉ）中の下記式（III）で表される部分構造の一部として含まれていればよい。
【０１２２】
【化８】
2019181247.tif 000010
【０１２３】
式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3で表される基からなる群から選択される基である。ここで、Ｘ3は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ4−Ｑ4）−を示すか、又は、Ｑ3及びＳｐ3と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｘ3は単結合又はＯ−であることが好ましい。Ｒ1及びＲ2は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3であることが好ましい。また、Ｒ1及びＲ2は、互いに同一であることが好ましい。Ｒ1及びＲ2のそれぞれのフェニレン基への結合位置は特に制限されない。
【０１２４】
Ｓｐ3及びＳｐ4はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又はＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ3及びＳｐ4としては、それぞれ独立に、炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキレン基が好ましく、炭素数１から５の直鎖のアルキレン基がより好ましく、炭素数１から３の直鎖のアルキレン基が更に好ましい。
Ｑ3及びＱ4はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。
【０１２５】
式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、以下式（II−２）で表される構造を有することも好ましい。
【０１２６】
【化９】
2019181247.tif 000011
【０１２７】
式中、Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキレン基を示し、上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、及び、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ3−Ｓｐ3−Ｑ3からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は単結合、又は、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に、０から９の整数を示し、かつｎ１＋ｎ２は９以下である。
Ｑ1、Ｑ2、Ｓｐ1、及び、Ｓｐ2の定義は、上記式（Ｉ）中の各基の定義と同義である。Ｘ3、Ｓｐ3、Ｑ3、Ｒ1、及び、Ｒ2の定義は、上記式（II）中の各基の定義と同義である。
【０１２８】
本発明に用いる液晶化合物としては、特開２０１４−１９８８１４号公報に記載される、以下の式（ＩＶ）で表される化合物、特に、式（ＩＶ）で表される１つの（メタ）アクリレート基を有する重合性液晶化合物も、好適に利用される。
【０１２９】
式（ＩＶ）
【化１０】
2019181247.tif 000012
【０１３０】
式（ＩＶ）中、Ａ1は、炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、アルキレン基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２つ以上のＣＨ2は、−Ｏ−で置換されていてもよい；
Ｚ1は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−又は単結合を表し；
Ｚ2は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、ビニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、アセトキシ基、Ｎ−アセチルアミド基、アクリロイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、マレイミド基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルバモイル基、アルキル基の炭素数が１〜４であるＮ−アルキルオキシカルバモイル基、Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、又は、以下の式（ＩＶ−２）で表される構造を表し；
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
【０１３１】
−Ｚ5−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ        式（ＩＶ−２）
式（ＩＶ−２）中、Ｐはアクリル基、メタクリル基又は水素原子を表し、Ｚ5は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1−（Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す）、−ＮＲ1Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、又は、−ＳＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｔは１，４−フェニレンを表し、Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表し、脂肪族基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２以上のＣＨ2は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。
【０１３２】
上記式（ＩＶ）で表される化合物は、以下の式（Ｖ）で表される化合物であることが好ましい。
式（Ｖ）
【化１１】
2019181247.tif 000013
式（Ｖ）中、ｎ１は３〜６の整数を表し；
Ｒ11は水素原子又はメチル基を表し；
Ｚ12は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ12は、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は、以下の式（ＩＶ−３）で表される構造を表す。
−Ｚ51−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ        式（ＩＶ−３）
式（ＩＶ−３）中、Ｐはアクリル基又はメタクリル基を表し；
Ｚ51は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；Ｔは１，４−フェニレンを表し；
Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数２〜６の２価の脂肪族基を表す。この脂肪族基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２以上のＣＨ2は、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。
【０１３３】
上記ｎ１は３〜６の整数を表し、３又は４であることが好ましい。
上記Ｚ12は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、−Ｃ（＝Ｏ）−を表すことが好ましい。
上記Ｒ12は、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される基を表し、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される基を表すことが好ましく、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表すことがより好ましい。
【０１３４】
本発明に用いる液晶化合物としては、特開２０１４−１９８８１４号公報に記載される、以下の式（ＶＩ）で表される化合物、特に、以下の式（ＶＩ）で表される（メタ）アクリレート基を有さない液晶化合物も好適に利用される。
【０１３５】
式（ＶＩ）
【化１２】
2019181247.tif 000014
式（ＶＩ）中、Ｚ3は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し；
Ｚ4は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、置換基を有していてもよい芳香環、シクロヘキシル基、ビニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、アセトキシ基、アクリロイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、マレイミド基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルバモイル基、アルキル基の炭素数が１〜４であるＮ−アルキルオキシカルバモイル基、Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、又は、以下の式（ＶＩ−２）で表される構造を表し；
Ｌ5、Ｌ6、Ｌ7及びＬ8は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子、又は、水素原子を表し、Ｌ5、Ｌ6、Ｌ7及びＬ8のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
【０１３６】
−Ｚ5−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ        式（ＶＩ−２）
式（ＶＩ−２）中、Ｐはアクリル基、メタクリル基又は水素原子を表し、Ｚ5は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1−（Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す）、−ＮＲ1Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、又はＳＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｔは１，４−フェニレンを表し、Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表す。ただし、この脂肪族基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２以上のＣＨ2は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又はＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。
【０１３７】
上記式（ＶＩ）で表される化合物は、以下の式（ＶII）で表される化合物であることが好ましい。
式（ＶII）
【化１３】
2019181247.tif 000015
【０１３８】
式（ＶII）中、Ｚ13は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｚ14は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し；
Ｒ13及びＲ14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表す。
【０１３９】
上記Ｚ13は、−Ｃ（＝Ｏ）−又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。
Ｒ13及びＲ14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表し、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表すことが好ましく、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、又は、上記式（ＩＶ−３）で表される構造を表すことがより好ましい。
【０１４０】
本発明に用いる液晶化合物としては、特開２０１４−１９８８１４号公報に記載される、以下の式（ＶIII）で表される化合物、特に、以下の式（ＶIII）で表される２つの（メタ）アクリレート基を有する重合性液晶化合物も好適に利用される。
【０１４１】
式（ＶIII）
【化１４】
2019181247.tif 000016
【０１４２】
式（ＶIII）中、Ａ2及びＡ3は、それぞれ独立して、炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、アルキレン基中の１つのＣＨ2又は隣接していない２つ以上のＣＨ2は、−Ｏ−で置換されていてもよい；
Ｚ5は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−又は単結合を表し；
Ｚ6は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は単結合を表し；
Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し；
Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11及びＬ12は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11及びＬ12のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
【０１４３】
上記式（ＶIII）で表される化合物は、下記式（ＩＸ）で表される化合物であることが好ましい。
式（ＩＸ）
【化１５】
2019181247.tif 000017
【０１４４】
式（ＩＸ）中、ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立して、３〜６の整数を表し；
Ｒ15及びＲ16は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表す。
【０１４５】
式（ＩＸ）中、ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立して、３〜６の整数を表し、上記ｎ２及びｎ３が４であることが好ましい。
式（ＩＸ）中、Ｒ15及びＲ16は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、上記Ｒ15及びＲ16が水素原子を表すことが好ましい。
【０１４６】
このような液晶化合物は、公知の方法により製造できる。
なお、上記条件１及び上記条件２を満たす組成物層を得る上では、界面におけるプレチルト角が大きい液晶化合物を使用することが好ましい。
【０１４７】
・光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｘ
キラル剤Ｘは、液晶化合物の螺旋を誘起する化合物であり、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ）が変化するキラル剤であれば特に制限されない。
また、キラル剤Ｘは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ｘは、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤Ｘとして用いることもできる。キラル剤Ｘは、重合性基を有していてもよい。
【０１４８】
キラル剤Ｘとしては、いわゆる光反応型キラル剤が挙げられる。光反応型キラル剤とは、キラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射光量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
光照射によって構造変化する光反応部位の例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８（９）、１５ｐ，１９９９）等が挙げられる。また、上記構造変化とは、光反応部位への光照射により生ずる、分解、付加反応、異性化、及び２量化反応等を意味し、上記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭素等が相当する。
【０１４９】
上記光反応型キラル剤としては、例えば、特開２００１−１５９７０９号公報の段落００４４〜００４７に記載の光反応型キラル剤、特開２００２−１７９６６９号公報の段落００１９〜００４３に記載の光学活性化合物、特開２００２−１７９６３３号公報の段落００２０〜００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２−１７９６７０号公報の段落００１６〜００４０に記載の光学活性化合物、特開２００２−１７９６６８号公報の段落００１７〜００５０に記載の光学活性化合物、特開２００２−１８００５１号公報の段落００１８〜００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２−３３８５７５号公報の段落００１６〜００５５に記載の光学活性化合物、及び特開２００２−１７９６８２号公報の段落００２０〜００４９に記載の光学活性化合物等が挙げられる。
【０１５０】
キラル剤Ｘとしては、なかでも、光異性化部位を少なくとも一つ有する化合物が好ましい。上記光異性化部位としては、可視光の吸収が小さく、光異性化が起こりやすく、且つ、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、スチルベン部位又はクマリン部位が好ましく、シンナモイル部位又はカルコン部位がより好ましい。なお、光異性化部位は、上述した光照射によって構造変化する光反応部位に該当する。
また、キラル剤Ｘは、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、イソソルビド系光学活性化合物、イソマンニド系光学化合物、又はビナフトール系光学活性化合物が好ましい。つまり、キラル剤Ｘは、上述したキラル部位として、イソソルビド骨格、イソマンニド骨格、又はビナフトール骨格を有していることが好ましい。キラル剤Ｘとしては、なかでも、光照射前後の螺旋誘起力差がより大きいという点で、イソソルビド系光学活性化合物又はビナフトール系光学活性化合物がより好ましく、イソソルビド系光学活性化合物が更に好ましい。
【０１５１】
コレステリック液晶相の螺旋ピッチはキラル剤Ｘの種類及びその添加濃度に大きく依存するため、これらを調節することによって所望のピッチを得ることができる。
【０１５２】
キラル剤Ｘは、１種単独で使用しても、複数種を併用してもよい。
【０１５３】
組成物Ｘ中におけるキラル剤の総含有量（組成物Ｘ中の全てのキラル剤の総含有量）は、液晶化合物の全質量に対して、２．０質量％以上が好ましく、３．０質量％以上がより好ましい。また、組成物Ｘ中におけるキラル剤の総含有量の上限は、コレステリック液晶層のヘイズ抑制の点で、液晶化合物の全質量に対して、１５．０質量％以下が好ましく、１２．０質量％以下がより好ましい。
【０１５４】
・任意の成分
組成物Ｘには、液晶化合物、キラル剤Ｘ以外の他の成分が含まれていてもよい。
【０１５５】
・・キラル剤ＸＡ
キラル剤ＸＡとしては、液晶化合物の螺旋を誘起する化合物であり、光照射により螺旋誘起力（ＨＴＰ）が変化しないキラル剤が好ましい。
また、キラル剤ＸＡは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤ＸＡは、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤ＸＡとして用いることもできる。キラル剤ＸＡは、重合性基を有していてもよい。
キラル剤ＸＡとしては、公知のキラル剤を使用できる。
液晶組成物が、キラル剤Ｘを１種単独で含み、キラル剤Ｘが未光照射処理の状態で所定範囲（例えば、０．０〜１．９μｍ-1）を超える螺旋誘起力を有する場合、キラル剤ＸＡは、上述したキラル剤Ｘと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であることが好ましい。つまり、例えば、キラル剤Ｘにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤ＸＡにより誘起する螺旋は左方向となる。
また、液晶組成物がキラル剤としてキラル剤Ｘを複数種含むときであって、未光照射処理の状態でその加重平均螺旋誘起力が上記所定範囲を超える場合、キラル剤ＸＡは、上記加重平均螺旋誘起力に対して逆方向の螺旋を誘起させるキラル剤であることが好ましい。
【０１５６】
・・重合開始剤
組成物Ｘは、重合開始剤を含んでいてもよい。特に、液晶化合物が重合性基を有する場合、組成物Ｘが重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、液晶層中に含み得る重合開始剤と同様のものが挙げられる。なお、液晶層中に含み得る重合開始剤については上述の通りである。
組成物Ｘ中での重合開始剤の含有量（重合開始剤が複数種含まれる場合にはその合計量）は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、１．０〜８．０質量％がより好ましい。
【０１５７】
・・界面活性剤
組成物Ｘは、組成物層の傾斜配向面１０２ａ側表面及び／又は傾斜配向面１０２ａとは反対側の表面に偏在し得る界面活性剤を含んでいてもよい。
組成物Ｘに配向制御剤が界面活性剤を含む場合、上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層が得られやすくなり、また、安定的又は迅速なコレステリック液晶相の形成が可能となる。
界面活性剤としては、液晶層中に含み得る界面活性剤と同様のものが挙げられる。なお、液晶層中に含み得る界面活性剤については上述の通りである。
組成物Ｘは、なかでも、工程２Ｘ−１において形成される組成物層中、傾斜配向面１０２ａ側表面において液晶化合物１４の分子軸Ｌ１の傾斜配向面１０２ａ面に対する傾斜角（図１０参照）を制御し得る界面活性剤（例えば、オニウム塩化合物（特開２０１２−２０８３９７号明細書記載））、及び、傾斜配向面１０２ａ側とは反対側の表面において上記液晶化合物１４の分子軸Ｌ1の傾斜配向面１０２ａ面に対する傾斜角（図１０参照）を制御し得る界面活性剤(例えば、パーフルオロアルキル基を側鎖に有する高分子等)を含むことが好ましい。また、組成物Ｘが上述の界面活性剤を含む場合、得られるコレステリック液晶層はヘイズが小さいという利点も有する。
【０１５８】
界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
組成物Ｘ中での界面活性剤の含有量（界面活性剤が複数種含まれる場合にはその合計量）は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５．０質量％がより好ましく、０．０１〜２．０質量％が更に好ましい。
【０１５９】
・・溶媒
組成物Ｘは、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、液晶層中に含み得る溶媒と同様のものが挙げられる。なお、液晶層中に含み得る溶媒については上述の通りである。
【０１６０】
・・その他の添加剤
組成物Ｘは、１種又は２種類以上の酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、安定剤、可塑剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、消泡剤、レべリング剤、増粘剤、難燃剤、界面活性物質、分散剤、並びに、染料及び顔料等の色材、等の他の添加剤を含んでいてもよい。
【０１６１】
組成物Ｘを構成する化合物の１以上が、複数の重合性基を有する化合物（多官能性化合物）であるのが好ましい。更に、組成物Ｘにおいては、複数の重合性基を有する化合物の総含有量が、組成物Ｘ中の全固形分に対して、８０質量％以上であるのが好ましい。なお、この上記固形分とは、コレステリック液晶層を形成する成分であり、溶媒は含まれない。
組成物Ｘ中の全固形分の８０質量％以上を、複数の重合性基を有する化合物とすることにより、コレステリック液晶相の構造を強固に固定して耐久性を付与できる等の点で好ましい。
なお、複数の重合性基を有する化合物とは、１分子内に２つ以上の固定化可能な基を有する化合物である。本発明において、組成物Ｘが含む多官能性化合物は、液晶性を有するものでも、液晶性を有さないものでもよい。
【０１６２】
≪≪工程２Ｘ−１の手順≫≫
工程２Ｘ−１は、下記工程２Ｘ−１−１と、下記工程２Ｘ−１−２と、を有することが好ましい。
工程２Ｘ−１−１：組成物Ｘと上記液晶層とを接触させて、上記液晶層上に塗膜を形成する工程
工程２Ｘ−１−２：上記塗膜を加熱することによって、上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層を形成する工程
【０１６３】
・工程２Ｘ−１−１：塗膜形成工程
工程２Ｘ−１−１では、まず、上述した組成物Ｘを液晶層上に塗布する。塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及び、ダイコーティング法等が挙げられる。なお、組成物Ｘの塗布に先立ち、上記液晶層に公知のラビング処理を施してもよい。
なお、必要に応じて、組成物Ｘの塗布後に、上記液晶層上に塗布された塗膜を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、塗膜から溶媒を除去できる。
【０１６４】
塗膜の膜厚は特に制限されないが、コレステリック液晶層の反射異方性及びヘイズがより優れる点で、０．１〜２０μｍが好ましく、０．２〜１５μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍが更に好ましい。
【０１６５】
・工程２Ｘ−１−２：組成物層形成工程
組成物Ｘの液晶相転移温度は、製造適性の面から１０〜２５０℃の範囲内が好ましく、１０〜１５０℃の範囲内がより好ましい。
好ましい加熱条件としては、４０〜１００℃（好ましくは、６０〜１００℃）で０．５〜５分間（好ましくは、０．５〜２分間）にわたって組成物層を加熱することが好ましい。
組成物層を加熱する際には、液晶化合物が等方相（Ｉｓｏ）となる温度まで加熱しないことが好ましい。液晶化合物が等方相となる温度以上に組成物層を加熱してしまうと、傾斜配向した液晶相又はハイブリッド配向した液晶相の欠陥が増加してしまい、好ましくない。
【０１６６】
上記工程２Ｘ−１−２により、上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層が得られる。
なお、液晶化合物を傾斜配向又はハイブリッド配向させるためには、界面にプレチルト角度を与えることが有効であり、具体的には、下記の方法が挙げられる。
（１）組成物Ｘ中に、空気界面及び／又は液晶層界面に偏在して、液晶化合物の配向を制御する配向制御剤を添加する。
（２）組成物Ｘ中に、液晶化合物として、界面におけるプレチルト各が大きい液晶性化合物を添加する。
【０１６７】
≪工程２Ｘ−２≫
工程２Ｘ−２は、工程２Ｘ−１により得られた組成物層に対して光照射処理を施すことにより、キラル剤Ｘの螺旋誘起力を変化させ、組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させてコレステリック液晶層を形成する工程である。
なお、光照射領域を複数のドメインに分割し、各ドメイン毎に照射光量を調整することにより、更に螺旋ピッチが異なる領域（選択反射波長が異なる領域）を形成できる。
【０１６８】
工程２Ｘ−２における光照射の照射強度は特に制限されず、キラル剤Ｘの螺旋誘起力に基づいて適宜決定することができる。工程２Ｘ−２における光照射の照射強度は、一般的には、０．１〜２００ｍＷ／ｃｍ2程度が好ましい。また、光を照射する時間は特に制限されないが、得られる層の充分な強度及び生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。
また、光照射時における組成物層の温度は、例えば、０〜１００℃であり、１０〜６０℃が好ましい。
【０１６９】
光照射に使用される光は、キラル剤Ｘの螺旋誘起力を変化させる活性光線又は放射線であれば特に制限されず、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、紫外線、及び電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ）等を意味する。なかでも、紫外線が好ましい。
【０１７０】
ここで、本発明のコレステリック液晶層の製造方法においては、組成物層が風に晒されると、形成されるコレステリック液晶層の表面の面状にムラが生じてしまう可能性がある。この点を考慮すると、本発明のコレステリック液晶層の製造方法では、工程２Ｘの全工程において、組成物層が晒される環境の風速が低い方が好ましい。具体的には、本発明のコレステリック液晶層の製造方法では、工程２Ｘの全工程において、組成物層が晒される環境の風速は、１ｍ／ｓ以下が好ましい。
【０１７１】
≪硬化処理≫
なお、液晶化合物が重合性基を有する場合、組成物層に対して硬化処理を実施することが好ましい。組成物層に対して硬化処理を実施する手順としては、以下に示す（１）及び（２）が挙げられる。
【０１７２】
（１）工程２Ｘ−２の際に、コレステリック配向状態を固定化する硬化処理を施し、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層を形成する（つまり、工程２Ｘ−２と同時に硬化処理を実施する）か、又は、
（１）工程２Ｘ−２の後に、コレステリック配向状態を固定化する硬化処理を施し、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層を形成する工程３Ｘを更に有する。
【０１７３】
つまり、硬化処理を実施して得られるコレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を固定してなる層に該当する。
なお、ここで、コレステリック液晶相を「固定化した」状態は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ、好ましい態様である。それだけには制限されず、具体的には、通常０〜５０℃、より過酷な条件下では−３０〜７０℃の温度範囲において、層に流動性が無く、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味するものとする。本発明では、後述するように、紫外線照射によって進行する硬化反応により、コレステリック液晶相の配向状態を固定することが好ましい。
なお、コレステリック液晶相を固定してなる層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、最終的に層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。
【０１７４】
硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理及び熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。また、前述のように、液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物であるのが好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合には、硬化処理は、光照射（特に紫外線照射）による重合反応であるのが好ましく、光照射（特に紫外線照射）によるラジカル重合反応であるのがより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプ等の光源が利用される。
紫外線の照射エネルギー量は特に制限されないが、一般的には、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましい。なお、紫外線を照射する時間は特に制限されないが、得られる層の充分な強度及び生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。
【０１７５】
（キラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用する態様）
以下、キラル剤Ｙを含む液晶組成物を使用したコレステリック液晶層の製造方法（以下、「工程２Ｙ」ともいう。）について説明する。
【０１７６】
製造方法２Ｙは、下記工程２Ｙ−１及び工程２Ｙ−２を少なくとも有する。
工程２Ｙ−１：キラル剤Ｙ及び液晶化合物を含む液晶組成物を用いて、上記液晶層上に下記条件１又は下記条件２を満たす組成物層を形成する工程
工程２Ｙ−２：上記組成物層に対して冷却処理又は加熱処理を施すことにより、上記組成物層中の上記液晶化合物をコレステリック配向させてコレステリック液晶層を形成する工程
条件１：上記組成物層中の上記液晶化合物少なくとも一部が、上記組成物層表面に対して、傾斜配向している
条件２：上記組成物層中の上記液晶化合物のチルト角が厚み方向に沿って連続的に変化するように、上記液晶化合物が配向している
また、液晶化合物が重合性基を有する場合、工程２Ｙは、後述するように、組成物層に対して硬化処理を実施することが好ましい。
【０１７７】
以下、各工程で使用される材料、及び、各工程の手順について詳述する。
≪工程２Ｙ−１≫
工程２Ｙ−１は、キラル剤Ｙ及び液晶化合物を含む液晶組成物（以下、「組成物Ｙ」ともいう）。を用いて、液晶層上に上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層を形成する工程である。
工程２Ｙ−１は、組成物Ｘの代わりに組成物Ｙを使用する点以外は、工程手順はいずれも上述した工程２Ｘ−１と同様であり、説明を省略する。
【０１７８】
≪≪組成物Ｙ≫≫
組成物Ｙは、液晶化合物と、温度変化により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙと、を含む。以下に、各成分について説明する。
なお、上述したとおり、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、工程２Ｙ−１における上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層を形成するための液晶化合物の配向処理が実施される温度Ｔ11においては、組成物層が形成しやすい点で、例えば、０．０〜１．９μｍ-1であり、０．０〜１．５μｍ-1が好ましく、０．０〜０．５μｍ-1が更に好ましく、ゼロが特に好ましい。したがって、キラル剤Ｙが上記温度Ｔ11において上記所定範囲を超える螺旋誘起力を有する場合、組成物Ｙは、上記温度Ｔ11においてキラル剤Ｙとは逆方向の螺旋を誘起させるキラル剤（以下、「キラル剤ＹＡ」ともいう。）を含み、工程２Ｙ−１の際においてキラル剤Ｙの螺旋誘起力を略ゼロに相殺させておく（つまり、組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力を上記所定範囲としておく）ことが好ましい。なお、キラル剤ＹＡは温度変化により螺旋誘起力を変化させないことが好ましい。
また、液晶組成物がキラル剤としてキラル剤Ｙを複数種含むときであって、上記温度Ｔ11において複数種のキラル剤Ｙの加重平均螺旋誘起力が上記所定範囲外の螺旋誘起力である場合、「キラル剤Ｙとは逆方向の螺旋を誘起させる他のキラル剤ＹＡ」とは、上記複数種のキラル剤Ｙの加重平均螺旋誘起力に対して逆方向の螺旋を誘起させるキラル剤を意図する。
キラル剤Ｙが一種単独で、上記温度Ｔ11において螺旋誘起力を有さず、温度変化により螺旋誘起力を増大させる特性を有する場合、キラル剤ＹＡを併用しなくてもよい。
【０１７９】
以下、組成物Ｙが含む各種材料について説明する。なお、組成物Ｙ中に含まれる材料のうちキラル剤以外の成分については、組成物Ｘに含まれる材料と同様であるため、その説明を省略する。
【０１８０】
・冷却又は加熱により螺旋誘起力が変化するキラル剤Ｙ
キラル剤Ｙは、液晶化合物の螺旋を誘起する化合物であり、冷却又は加熱により螺旋誘起力が大きくなるキラル剤であれば特に制限されない。なお、ここでいう「冷却又は加熱」とは、工程２Ｙ−１において実施される冷却処理又は加熱処理を意味する。また、冷却又は加熱の温度の上限は、通常±１５０℃程度である（言い換えると、±１５０℃以内の冷却又は加熱により螺旋誘起力が大きくなるキラル剤が好ましい）。なかでも、冷却により螺旋誘起力が大きくなるキラル剤が好ましい。
【０１８１】
キラル剤Ｙは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択できる。キラル剤Ｙは、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤Ｙとして用いることもできる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。キラル剤Ｙは、重合性基を有していてもよい。
キラル剤Ｙは、なかでも、温度変化後の螺旋誘起力差が大きいという点で、イソソルビド系光学活性化合物、イソマンニド系光学活性化合物又はビナフトール系光学活性化合物が好ましく、ビナフトール系光学活性化合物がより好ましい。
【０１８２】
組成物Ｙ中におけるキラル剤の総含有量（組成物Ｙ中の全てのキラル剤の総含有量）は、液晶化合物の全質量に対して、２．０質量％以上が好ましく、３．０質量％以上がより好ましい。また、組成物Ｘ中におけるキラル剤の総含有量の上限は、コレステリック液晶層のヘイズ抑制の点で、液晶化合物の全質量に対して、１５．０質量％以下が好ましく、１２．０質量％以下がより好ましい。
なお、上記キラル剤Ｙの使用量は、より少ないことが液晶性に影響を及ぼさない傾向があるため好まれる。従って、上記キラル剤Ｙとしては、少量でも所望の螺旋ピッチの捩れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。
【０１８３】
・キラル剤ＹＡ
キラル剤ＹＡとしては、液晶化合物の螺旋を誘起する化合物であり、温度変化により螺旋誘起力（ＨＴＰ）が変化しないことが好ましい。
また、キラル剤ＹＡは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤ＸＡは、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤ＹＡとして用いることもできる。キラル剤ＹＡは、重合性基を有していてもよい。
キラル剤ＹＡとしては、公知のキラル剤を使用できる。
液晶組成物が、キラル剤Ｙを１種単独で含み、キラル剤Ｙが上記温度Ｔ11において所定範囲（例えば、０．０〜１．９μｍ-1）を超える螺旋誘起力を有する場合、キラル剤ＹＡは、上述したキラル剤Ｙと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であることが好ましい。つまり、例えば、キラル剤Ｙにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤ＹＡにより誘起する螺旋は左方向となる。
また、液晶組成物がキラル剤としてキラル剤Ｙを複数種含むときであって、上記温度Ｔ11において複数種のキラル剤Ｙの加重平均螺旋誘起力が上記所定範囲を超える場合、キラル剤ＹＡは、上記加重平均螺旋誘起力に対して逆方向の螺旋を誘起させるキラル剤であることが好ましい。
【０１８４】
≪工程２Ｙ−２≫
工程２Ｙ−２は、工程２Ｙ−１により得られた組成物層に対して冷却処理又は加熱処理を施すことにより、キラル剤Ｙの螺旋誘起力を変化させ、組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させてコレステリック液晶層を形成する工程である。本工程では、なかでも、組成物層を冷却するのが好ましい。
【０１８５】
組成物層を冷却する際には、コレステリック液晶層の反射異方性がより優れる点で、組成物層の温度が３０℃以上下がるように、組成物層を冷却することが好ましい。なかでも、上記効果がより優れる点で、４０℃以上下がるように組成物層を冷却することが好ましく、５０℃以上下がるように組成物層を冷却することがより好ましい。上記冷却処理の低減温度幅の上限値は特に制限されないが、通常、１５０℃程度である。
なお、上記冷却処理は、言い換えると、冷却前の工程１に得られた上記条件１又は上記条件２を満たす組成物層の温度をＴ℃とする場合、Ｔ−３０℃以下となるように、組成物層を冷却することを意図する（つまり、図１３に示す態様の場合、Ｔ12≦Ｔ11−３０℃となる）。
上記冷却の方法は特に制限されず、組成物層が配置された液晶層を所定の温度の雰囲気中に静置する方法が挙げられる。
【０１８６】
冷却処理における冷却速度には制限はないが、コレステリック液晶層の反射異方性がより優れる点で、冷却速度を、ある程度の速さにするのが好ましい。
具体的には、冷却処理における冷却速度は、その最大値が毎秒１℃以上であるのが好ましく、毎秒２℃以上であるのがより好ましく、毎秒３℃以上であるのが更に好ましい。なお、冷却速度の上限は、特に制限されないが、毎秒１０℃以下の場合が多い。
【０１８７】
ここで、本発明のコレステリック液晶層の製造方法においては、組成物層が風に晒されると、形成されるコレステリック液晶層の表面の面状にムラが生じてしまう可能性がある。この点を考慮すると、本発明のコレステリック液晶層の製造方法では、工程２Ｙの全工程において、組成物層が晒される環境の風速が低い方が好ましい。具体的には、本発明のコレステリック液晶層の製造方法では、工程２Ｙの全工程において、組成物層が晒される環境の風速は、１ｍ／ｓ以下が好ましい。
【０１８８】
なお、組成物層を加熱する場合、加熱処理の増加温度幅の上限値は特に制限されないが、通常、１５０℃程度である。
【０１８９】
≪硬化処理≫
なお、液晶化合物が重合性基を有する場合、組成物層に対して硬化処理を実施することが好ましい。組成物層に対して硬化処理を実施する手順としては、製造方法２Ｘにて述べた方法と同様であり、好適態様も同じである。
【０１９０】
ここで、図１６に示すような配列軸の方向が異なる２種以上の領域を有するコレステリック液晶層を作製する場合には、工程１において、液晶層を表面に形成するための基材にラビング配向および光配向の少なくとも一方を施す配向処理工程を含み、配向処理工程において、面内において、所定の領域ごとに配向方向が異なるように配向処理を施すことが好ましい。
【０１９１】
例えば、図１６に示すような配列軸の方向が異なる２種の領域をストライプ状に有するコレステリック液晶層を作製する場合には、工程１において、配向方向の異なるラビング配向膜と光配向膜とを形成すればよい。
具体的には、まず、基板上にラビング配向膜を形成する。その際、ラビング方向は領域Ａ4の配列軸Ｄ4の方向と一致させる。
次に、ラビング配向膜上に光配向材料を塗布し塗布層を形成する。次に、領域Ａ4に相当する領域をマスキングして塗布層の領域Ａ3に相当する領域に偏光または非偏光を照射する。光が照射された領域の配向方向は、領域Ａ3の配列軸Ｄ3の方向と一致させる。
ラビング配向膜および光配向膜はそれぞれ公知の材料および方法によって作製できる。
これにより、配向方向の異なるラビング配向膜と光配向膜とを形成できる。
その後、上述した工程１−１および工程１−２を実施することで、円盤状液晶化合物を含む組成物を用いて液晶層を形成し、上述した工程２を実施すると、領域によって配列軸の方向が異なるコレステリック液晶層を形成することができる。
【０１９２】
なお、上述の例では、ラビング配向と光配向との両方の処理を行うとしたが、これに限定はされない。例えば、領域ごとに異なる方向にラビング処理を行う構成としてもよい。あるいは、光配向材料を用い、領域ごとに照射する光の偏光状態等を変更して領域ごとに異なる方向に配向処理を行う構成としてもよい。
【０１９３】
本発明のコレステリック液晶層の製造方法の他の実施形態として、上述したコレステリック液晶層、または、後述の積層体に含まれるコレステリック液晶層の上に、コレステリック液晶層を積層するコレステリック液晶層の製造方法（積層体の製造方法）がある。
本発明のコレステリック液晶層の上に、液晶化合物を含む組成物層を形成すると、組成物層中の液晶化合物が、コレステリック液晶層中の液晶組成物の傾斜配向に倣って傾斜配向する。そのため、コレステリック液晶層上に形成された組成物層中の液晶化合物をコレステリック配向させる処理を実施して、コレステリック液晶層を形成することで、コレステリック液晶層の上に、本発明のコレステリック液晶層を形成することができる。
【０１９４】
なお、本発明のコレステリック液晶層の上に、液晶化合物を含む組成物層を形成して新たなコレステリック液晶層を形成する場合の組成物の組成等は前述の液晶組成物と同様である。
【０１９５】
［積層体］
以下に、本発明の積層体について説明する。
本発明の積層体は、円盤状液晶化合物を用いて形成された液晶層と、上記液晶層上に接するように配置された上述したコレステリック液晶層と、を含む。
図１５に、本実施形態の積層体の断面模式図を示す。
図１５に示す積層体５０は、円盤状液晶化合物１８を用いて形成された液晶層１０２と、液晶層１０２上に接するように配置されたコレステリック液晶層１０とを含む。
液晶層１０２は、コレステリック液晶層１０と接する側の表面において、円盤状液晶化合物１８の分子軸Ｌ5が、液晶層１０２の表面（コレステリック液晶層１０の主面１１及び主面１２（Ｘ−Ｙ面）にも相当する。）に対して傾斜している傾斜配向面１０２ａを有する。つまり、傾斜配向面１０２ａにおいて、円盤状液晶化合物１８は、その分子軸Ｌ5が液晶層１０２の表面に対して傾斜するように配向している。
上記液晶層１０２の上記傾斜配向面１０２ａにおいては、上記液晶層１０２の表面に対する円盤状液晶化合物１８の平均傾斜角度θ4（上記液晶層１０２の表面と円盤状液晶化合物１８のなす角度θ5の角度の平均値）が、例えば、２０〜９０°であることが好ましく、２０〜８０°であることがより好ましく、３０〜８０°であることが更に好ましく、３０〜６５°であることが特に好ましい。
上記液晶層１０２の上記傾斜配向面１０２ａにおける、液晶層１０２の表面に対する円盤状液晶化合物１８の平均傾斜角度θ5は、液晶層断面を偏光顕微鏡観察することにより測定できる。なお、上記平均傾斜角度は、液晶層断面の偏光顕微鏡観察において、円盤状液晶化合物１８の分子軸Ｌ5と液晶層１０２の表面とのなす角度を任意の５か所以上で測定して、それらを算術平均した値である。
また、上記液晶層１０２の上記傾斜配向面１０２ａは、方位角規制力が、例えば、０．０００３０Ｊ/ｍ2以下であり、０．０００２０Ｊ/ｍ2未満であることが好ましく、０．０００１０Ｊ/ｍ2以下がより好ましく、０．００００５Ｊ/ｍ2以下がより好ましい。なお、下限は特に制限されないが、例えば、０．０００００Ｊ/ｍ2以上である。
上記液晶層１０２の上記傾斜配向面１０２ａにおける方位角規制力は、J. Appl. Phys. 1992, 33, L1242に記載の方法により測定できる。
なお、図１５においてコレステリック液晶層の螺旋軸と円盤状液晶化合物の分子軸とは逆方向に傾斜しているように記載されているが、この傾斜方向は一致していてもよい。
また、積層体５０において、円盤状液晶化合物１８は、その配向状態が層中において保持されていれば十分であり、最終的に層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。
【０１９６】
なお、コレステリック液晶層１０については、既に上述したとおりである。
【０１９７】
本発明の積層体の他の実施形態は、上述したコレステリック液晶層１０を２層以上積層した積層体である。
積層した２層以上のコレステリック液晶のうちの２層のコレステリック液晶層は、コレステリック液晶相由来の螺旋軸の旋回方向（センス）が同じであっても逆であってもよい。
２層のコレステリック液晶層の螺旋軸の旋回方向が同じの場合には、２層のコレステリック液晶層の主面に垂直な断面においてＳＥＭにより観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部（明暗線）の傾斜方向は、同じである。
明暗線の傾斜方向が同じ方向のコレステリック液晶層を積層することで、一方向からのみ色および／または像を検出できる。また、選択反射波長が異なるコレステリック液晶層を積層することで積層体としての反射波長帯域を広げることができる。
【０１９８】
また、２層のコレステリック液晶層の螺旋軸の旋回方向が逆の場合には、２層のコレステリック液晶層の主面に垂直な断面においてＳＥＭにより観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部（明暗線）の傾斜方向は、逆である。
明暗線の傾斜方向が逆方向のコレステリック液晶層を積層することで、二方向から色および／または像を検出できる。
【０１９９】
本発明の積層体は、他の層を有していてもよい。
例えば、コレステリック液晶層を透過する波長の光の少なくとも一部を吸収する吸収層（光吸収層）を有していてもよい。
吸収層を有することで、コレステリック液晶層で反射される反射光の視認性を向上できる。
【０２００】
吸収層としては、所定の波長域の光を吸収する材料を用いてもよい。あるいは、樹脂中に光吸収材料を含有させる構成としてもよい。
例えば、吸収する光が可視光の場合には、吸収層として、有色（特に黒色）の樹脂材料、紙、無機材料等を用いることができる。
【０２０１】
光吸収材料としては限定はなく、吸収する波長域に応じで、公知の光吸収材料を用いることができる。例えば、吸収する光が可視光の場合には、カーボンブラック、鉄黒等の無機顔料、不溶性アゾ顔料等の有機顔料、および、アゾやアントラキノン等の染料等の公知の光吸収剤を用いることができる。
【０２０２】
光吸収材料の種類および濃度は、分散させる樹脂への分散性、溶解性、吸収波長、吸収係数、支持体の厚さ等に応じて適宜選択すればよい。
【０２０３】
また、２層以上のコレステリック液晶層を有する場合には、２層以上のコレステリック液晶層のうちのいずれかのコレステリック液晶層同士の間に他の層を有していてもよい。例えば、コレステリック液晶層同士の間に液晶層、ラビング配向層、または光配向層を含んでいてもよい。
【０２０４】
［偽造防止媒体］
上述した本発明のコレステリック液晶層、及び、コレステリック液晶層を有する積層体は、物品の真偽を判定するための偽造防止媒体として利用可能である。
偽造防止媒体としては、１つのコレステリック液晶層を有するものであってもよいし、複数のコレステリック液晶層を有するものであってもよい。複数のコレステリック液晶層を有する場合には、複数のコレステリック液晶層は、厚み方向に積層されていてもよいし、面方向に配列されていてもよい。
また、複数のコレステリック液晶層を有する場合には、異なる種類の（すなわち、選択反射波長、入射光の方向と反射光の方向との角度、センス、の少なくとも１つが異なる）コレステリック液晶層を有する構成としてもよい。あるいは、同じ種類のコレステリック液晶層を有し、配列軸の方向、すなわち、光を反射する方向を変えて積層または配列する構成としてもよい。
また、偽造防止媒体としては、コレステリック液晶層を任意の形状に切り抜いて用いてもよい。さらに、複数のコレステリック液晶層を互いに異なる形状に切り抜いて、面方向に配列した構成としてもよい。
以下、上記偽造防止媒体を用いて物品の真偽を判定する判定方法を説明することで、本発明のコレステリック液晶層を偽造防止媒体として用いる場合の作用について説明する。
【０２０５】
［判定方法］
本発明の判定方法は、上記偽造防止媒体を用いて物品の真偽を判定する判定方法であって、偽造防止媒体に対して少なくとも１つの方向から反射光および／または透過光を検出することで物品の真偽を判定する判定方法である。
前述のとおり、偽造防止媒体が有する本発明のコレステリック液晶層は、主面に垂直な断面においてＳＥＭにて観察されるコレステリック液晶相由来の明部及び暗部の配列方向が、コレステリック液晶層の主面に対して傾斜している構成を有するので、入射した光を入射した方向とは異なる方向に反射する。
したがって、本発明のコレステリック液晶層を有する偽造防止媒体では、コレステリック液晶層で反射された光の波長、および、センス、円偏光度に加えて、反射光の角度（あるいは、ある角度における反射光の波長、光量）をパラメータとして物品の真偽を判定することが可能である。すなわち、偽造防止媒体にブロードな光を当てて、所定の角度から反射光の波長、センスおよび光量を検出して、その波長、センスおよび光量が正しければ（所定の範囲内であれば）真と判定し、いずれかが異なっていれば偽と判定する。あるいは、所定の波長、センスの光を当てて、所定の角度から反射光の光量を検出して、真偽を判定することもできる。あるいは、複数の角度から反射光の波長、センスおよび光量を検出して、最も光量が大きくなる角度をパラメータとしてもよい。
【０２０６】
あるいは、偽造防止媒体を透過する光を検出することでも、物品の真偽を判定することができる。すなわち、所定の波長における透過率や透過光のセンス、円偏光度等をパラメータとして物品の真偽を判定することが可能である。
また、偽造防止媒体からの反射光、および、透過光の両方を検出して、上述したパラメータに基づいて物品の真偽を判定してもよい。
【０２０７】
また、上述のように、偽造防止媒体が複数のコレステリック液晶層を有する場合、ならびに、コレステリック液晶層が任意の形状に切り抜かれて用いられる場合には、反射光、および、透過光の少なくとも一方の面内パターンを検出して、物品の真偽を判定してもよい。
具体的には、所定の角度となる面内の複数個所において、反射光の波長、センスおよび光量を検出し、各測定点に対応するコレステリック液晶層に基づいて、上記パラメータの真偽を判定して物品の真偽を判定することができる。
【０２０８】
さらに、偽造防止媒体からの反射光、および／または、透過光を検出する際に、円偏光フィルターを通して観察して、円偏光フィルターの有無、あるいは、円偏光フィルターの種類の違いによる検出結果の変化に基づいて物品の真偽を判定してもよい。
前述のとおり、コレステリック液晶層からの反射光および選択反射波長における透過光は、円偏光であるので、円偏光フィルターの有無、あるいは、円偏光フィルターの種類の違いによって検出結果（光量）が変化する。
【実施例】
【０２０９】
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０２１０】
〔各種成分〕
以下において、まず、実施例及び比較例において使用する各種成分について説明する。【０２１１】
＜キラル剤＞
（化合物ＣＤ−１の合成）
以下の合成手順に従い、一般的な手法にて化合物ＣＤ−１を合成した。
なお、化合物ＣＤ−１は、螺旋方向は左であり、温度変化又は光照射により螺旋誘起力が変化しないキラル剤である。【０２１２】
【化１６】
2019181247.tif 000018
【０２１３】
（化合物ＣＤ−２の合成）
特開２００２−３３８５７５号公報に準じて、下記化合物ＣＤ−２を合成して使用した。なお、化合物ＣＤ−２は、螺旋方向は右であり、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤である（キラル剤Ｘに該当する）。【０２１４】
【化１７】
2019181247.tif 000019
【０２１５】
（化合物ＣＤ−２Ａの合成）
特開２００２−３３８５７５号公報に準じて、下記化合物ＣＤ−２Ａを合成して使用した。なお、化合物ＣＤ−２Ａは、螺旋方向は右であり、光照射により螺旋誘起力が変化するキラル剤である（キラル剤Ｘに該当する）。【０２１６】
【化１８】
2019181247.tif 000020
【０２１７】
＜円盤状液晶化合物＞
（円盤状液晶化合物Ｄ−１）
円盤状液晶化合物として、特開２００７−１３１７６５号公報に記載の下記円盤状液晶化合物Ｄ−１を使用した。【０２１８】
【化１９】
2019181247.tif 000021
【０２１９】
＜界面活性剤＞
（界面活性剤Ｓ−１）
界面活性剤としては、界面活性剤Ｓ−１及び界面活性剤Ｓ−２を使用した。
界面活性剤Ｓ−１は、特許第５７７４５１８号公報に記載された化合物であり、下記構造を有する。また、界面活性剤Ｓ−２は、後述する合成方法により合成したものを使用した。【０２２０】
【化２０】
2019181247.tif 000022
【０２２１】
（界面活性剤  Ｓ−２の合成）
ＦＡＡＣ−６（ユニマテック社製）２．５ｇ、及びアクリル酸（和光純薬製）２．５ｇを通常のラジカル重合手法にて重合し、界面活性剤Ｓ−２を得た。【０２２２】
〔実施例１〕
＜工程１：液晶層１の作製＞
（試料溶液の調製）
下記組成の試料溶液を調製した。
・化合物Ｄ−１                                        １００質量部
・開始剤Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製）                  ３．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０２２３】
（液晶層１の作製）
次に、ポリイミドＳＥ−１３０（日産化学製）を塗布したガラス基板にラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、３０μＬの上記試料溶液を回転数１０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートし、１２０℃で１分間熟成した。続いて、３０℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射することにより上記塗膜を硬化し、液晶層１を得た。【０２２４】
（方位角規制力の測定）
得られた液晶層１について、J. Appl. Phys. 1992, 33, L1242に記載の方法により、方位角規制力を求めた。
なお、液晶層１の方位角規制力の測定には、測定用液晶化合物として、ＺＬＩ−５０８０（Ｍｅｒｃｋ社製）を使用し、測定用キラル剤として、Ｓ−８１１（Ｍｅｒｃｋ社製）をそれぞれ使用した。【０２２５】
＜工程２：コレステリック液晶層１の作製＞
（試料溶液の調製）
下記組成の試料溶液を調製した。
・下記構造で表される液晶性化合物ＬＣ−１              １００質量部
・化合物Ｓ−１                                        ０．１質量部
・化合物ＣＤ−１                                      ５．５質量部
・化合物ＣＤ−２                                      ５．５質量部
・開始剤Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製）                  ２．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０２２６】
【化２１】
2019181247.tif 000023
【０２２７】
（加重平均螺旋誘起力測定）
上記試料溶液の溶剤を留去した後、螺旋ピッチをくさび法（液晶便覧、丸善、ｐ１９６〜１９７）にて測定し、上記式（１Ａ）より螺旋誘起力を算出した。
なお、上述の方法により算出された螺旋誘起力は、上述した式（１Ｃ）より得られる加重平均螺旋誘起力とも一致する。【０２２８】
（コレステリック液晶層１の作製）
次に、液晶層１上に、４０μＬの上記試料溶液を回転数１５００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートして組成物層を形成した後、上記組成物層を９０℃で１分間熟成した。続いて、熟成後の上記組成物層に対して、３０℃にて光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より３６５ｎｍ光を２ｍＷ／ｃｍ2の照射強度で６０秒間紫外線を照射した。続いて、３０℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射して液晶化合物の重合反応を実施することにより、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層１を得た。
上記の工程により、液晶層１と、液晶層１の上に配置されたコレステリック液晶層１とを有する積層体１を作製した。【０２２９】
得られた積層体１中のコレステリック液晶層１について、下記の評価を実施した。【０２３０】
（断面ＳＥＭ観察）
コレステリック液晶層１の断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）によって、コレステリック液晶相に由来する明部及び暗部の配列方向が、コレステリック液晶層１の両主面（液晶層１との界面側表面、及び空気界面側表面）に対して一方向に傾斜していることを確認した。
更に、コレステリック液晶層１の両主面において、それぞれ、コレステリック液晶相に由来する暗部がなす線とコレステリック液晶層の主面とのなす平均傾斜角度を測定し、その差を算出した（表中の「両主面における明暗線の平均傾斜角の差[°]欄参照。）。つまり、コレステリック液晶層１の空気側の暗部がなす線とコレステリック液晶層１の空気側表面とのなす平均傾斜角度、及びコレステリック液晶層１の液晶層１側の暗部がなす線とコレステリック液晶層１の液晶層１側表面とのなす平均傾斜角度を各々測定し、その差を算出した。結果を表１に示す。【０２３１】
（チルト角の測定）
コレステリック液晶層１をミクロトームで割断し、断面の偏光顕微鏡観察によって、液晶層１中のコレステリック液晶層１と接する側の表面に存在する円盤状液晶化合物の平均チルト角、及びコレステリック液晶層１中の液晶化合物の平均チルト角を各々測定した。結果を表１に示す。
なお、液晶層１において、コレステリック液晶層１と接する側の表面に存在する円盤状液晶化合物は、液晶層１のコレステリック液晶層１側の表面に対して４０°傾斜していた。また、コレステリック液晶層１中の液晶化合物は、コレステリック液晶層１の主面に対して２０°傾斜していた。【０２３２】
（分子軸の配列の測定）
積層体１からコレステリック液晶層１のみを剥離し、反射偏光顕微鏡観察によって、表面の分子軸パターンを観察した。コレステリック液晶層１の両主面のいずれから観察した場合においても、分子軸の配列に由来する周期的な明暗線が観察された。更に、反射偏光顕微鏡観察においてポラライザを回転させることで、明暗線が連続的に移動することから、面内の一方向に沿って分子軸が連続的に回転していることを確認した。以下の指標で分子軸の配列を評価した。結果を表１に示す。【０２３３】
「Ａ」：両主面において面内の一方向に沿って分子軸が連続的に回転している。
「Ｂ」：両主面の一方においてのみ面内の一方向に沿って分子軸が連続的に回転している。
「Ｃ」：両主面において、面内の一方向に沿って分子軸が連続的に回転していない。【０２３４】
（周期Λの変動係数の測定）
反射偏光顕微鏡観察における明暗線の間隔は、液晶分子の分子軸が１８０°回転するまでの周期Λに相当する。この周期Λを、コレステリック液晶層の両主面についてそれぞれ１０点測定し、変動係数を算出した。結果を表１に示す。【０２３５】
（反射異方性及びヘイズの評価）
≪反射異方性の確認≫
透過率測定より、コレステリック液晶層１の中心反射波長は５５０ｎｍであることが分かった。コレステリック液晶層１の法線方向から５５０ｎｍ光を入射した結果、斜めの一方向への反射強度が強いことから、反射面がコレステリック液晶層１の主面に対して傾斜しており（つまり、コレステリック液晶相由来の明部及び暗部の配列方向が、コレステリック液晶層１の主面に対して傾斜しており）、反射異方性を有することを確認した。
また、コレステリック液晶相由来の明部及び暗部の配列方向は、上記液晶層１中のコレステリック液晶層１と接する側の表面に存在する円盤状液晶化合物の分子軸の方向と略平行であり、且つコレステリック液晶層中の棒状液晶化合物の分子軸の方向と略直交していた。【０２３６】
≪ヘイズ測定≫
ヘーズメーターＮＤＨ−４０００（日本電色製）を用いて、コレステリック液晶層１のヘイズ値を測定した。【０２３７】
≪評価≫
次いで、以下の指標により、反射異方性及びヘイズの評価を実施した。結果を表１に示す。
「Ａ」：反射異方性があり、ヘイズが２．０未満である。
「Ｂ」：反射異方性があり、ヘイズが２．０以上２．５未満である。
「Ｃ」：反射異方性があり、ヘイズが２．５以上３．０未満である。
「Ｄ」：反射異方性があり、ヘイズが３．０以上である。
「Ｅ」：反射異方性がない。【０２３８】
（斜め入射時の円偏光度測定）
コレステリック液晶層１の法線方向に最も強く反射光が出射されるように、入射角を設定し、その時の反射光の円偏光度を測定した。具体的には、自動絶対反射率測定システム（日本分光製）用い、検出器前に右円偏光板と左円偏光板をそれぞれ置いた状態で反射率を測定して円偏光度を算出した。結果を表１に示す。
「Ａ」：円偏光度が９９％以上である。
「Ｂ」：円偏光度が９７％以上９９％未満である。
「Ｃ」：円偏光度が９７％未満である。
「Ｄ」：コレステリック液晶層１が反射異方性を有しておらず、法線方向への反射光を測定できない。【０２３９】
〔実施例２〜５〕
表１に示すように、液晶層１の作製に用いる試料溶液中に界面活性剤を加えた以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層２〜５（実施例２〜５）を有する積層体２〜５を各々作製し、その評価を実施した。【０２４０】
〔実施例６〕
作製した液晶層１の表面にラビング処理を施した以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層６（実施例６）を有する積層体６を作製し、その評価を実施した。【０２４１】
〔実施例７〕
表１に示すように、コレステリック液晶層１の作製に用いる試料溶液中に界面活性剤を使用しなかった以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層７（実施例７）を有する積層体７を作製し、その評価を実施した。【０２４２】
〔実施例８〕
表１に示すように、コレステリック液晶層１の作製に用いる試料溶液中の界面活性剤を変更した以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層８（実施例８）を有する積層体８を作製し、その評価を実施した。【０２４３】
〔実施例９〕
基板として液晶層１を使用するかわりに、下記方法により作製した基板Ｃ１を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層９（実施例９）を有する積層体９を作製し、その評価を実施した。【０２４４】
＜基板Ｃ１の作製＞
ポリイミドＳＥ−１３０（日産化学製）を塗布したガラス基板にラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。【０２４５】
〔実施例１０〕
基板として液晶層１を使用するかわりに、下記方法により作製した基板Ｃ２を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層１０（実施例１０）を有する積層体１０を作製し、その評価を実施した。【０２４６】
＜基板Ｃ２の作製＞
（試料溶液の調製）
下記組成の試料溶液を調製した。
・上記化合物ＬＣ−１                                  １００質量部
・開始剤Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製）                  ３．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０２４７】
（基板Ｃ２の作製）
次に、ポリイミドＳＥ−１３０（日産化学製）を塗布したガラス基板にラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、３０μＬの上記試料溶液を回転数１０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートし、１２０℃で１分間熟成した。続いて、３０℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射することにより上記塗膜を硬化し、基板Ｃ２を得た。【０２４８】
〔実施例１１〜１５〕
表１に示すように、コレステリック液晶層１の作製に用いる試料溶液中のキラル剤の配合量を変更した以外は、実施例１と同様の方法により、コレステリック液晶層１１〜１５（実施例１１〜１５）を有する積層体１１〜１５を各々作製し、その評価を実施した。【０２４９】
〔比較例１〕
表１に示すように、液晶層１の作製に用いる試料溶液中に界面活性剤を加えた以外は同様の方法により、液晶層Ｘを作製した。
得られた液晶層Ｘを用いた以外は実施例１と同様の方法により、比較例のコレステリック液晶層Ｘ（比較例１）を含む積層体Ｘを作製し、その評価を実施した。【０２５０】
〔比較例２〕
特開２００６−３１７６５６号公報の実施例１に記載の手法でコレステリック液晶層Ｙを作製し、実施例１と同様に評価を実施した。【０２５１】
結果を表１および表２に示す。
【０２５２】
【表１】
2019181247.tif 000024
【０２５３】
【表２】
2019181247.tif 000025
【０２５４】
表１および表２から、実施例のコレステリック液晶層によれば、反射異方性に優れ、ヘイズが低く、且つ、反射光の円偏光度が高いコレステリック液晶層が得られることが明らかである。
また、実施例１、実施例６、実施例９、及び実施例１０の対比から、基板のコレステリック液晶層と接する側の表面における方位角規制力が０．０００２０Ｊ/ｍ2以下の場合、得られるコレステリック液晶層は、主面内の分子軸の配列がより優れることが確認された。この結果として、得られるコレステリック液晶層は、ヘイズがより低く、反射光の円偏光度がより高くなることが確認された。また、基板のコレステリック液晶層と接する側の表面における方位角規制力が０．０００２０Ｊ/ｍ2未満の場合（好ましくは０．０００５Ｊ/ｍ2以下の場合）、コレステリック液晶層の両主面（両表面）での明暗線の平均傾斜角の差がより小さくなり（言い換えると、明暗線の直線性がより優れ）、この結果として、得られるコレステリック液晶層はヘイズがより低いことが確認された。特に、コレステリック液晶層の両主面（両表面）での明暗線の平均傾斜角の差が０〜３°の場合、ヘイズがより低いことが確認された。
また、実施例１〜５の対比から、液晶層中の円盤状液晶化合物の平均チルト角が３０〜６５°である場合、コレステリック液晶層の両主面（両表面）での明暗線の平均傾斜角の差が小さくなり（平均傾斜角の差は、好ましくは０〜３°）、この結果として、得られるコレステリック液晶層は、ヘイズがより低く、反射光の円偏光度がより高くなることが確認された。更に、実施例１〜５の対比から、コレステリック液晶層中の棒状液晶化合物の平均チルト角が１２〜２２°である場合、コレステリック液晶層の両主面（両表面）での明暗線の平均傾斜角の差が小さくなり（平均傾斜角の差は、好ましくは０〜３°）、得られるコレステリック液晶層は、ヘイズがより低く、且つ、反射光の円偏光度がより高くなることが確認された。
また、実施例１及び実施例１１〜１５の対比から、工程２−１により得られる条件１又は条件２を満たす組成物層における加重平均螺旋誘起力の絶対値がより小さい場合（好ましくは加重平均螺旋誘起力の絶対値が０．０〜１．５であり、より好ましくは加重平均螺旋誘起力の絶対値が０．０〜０．５である場合）、得られるコレステリック液晶層は、ヘイズがより低く、且つ、反射光の円偏光度がより高くなることが確認された。
また、実施例１〜１０の対比から、基板側、空気側それぞれの界面における液晶分子の分子軸が１８０°回転する周期Λの変動係数がより小さい場合（好ましくは変動係数が０．０〜０．６であり、より好ましくは０．０〜０．４であり、さらに好ましくは０．０〜０．１である場合）、得られるコレステリック液晶層は、ヘイズがより低く、且つ、反射光の円偏光度がより高くなることが確認された。【０２５５】
また、比較例のコレステリック液晶層は、何れも所望の要求を満たさなかった。
なお、比較例の周期Λは、液晶分子の分子軸が連続的に回転していないため、測定できなかった。【０２５６】
〔実施例１６〕
工程２のコレステリック液晶層１の作製方法を、下記に示すコレステリック液晶層１６の作製方法にかえた以外は、実施例１の積層体１と同様の方法により、コレステリック液晶層１６（実施例１６）を有する積層体１６を作製し、その評価を実施した。以下に、コレステリック液晶層１６の作製方法について説明する。【０２５７】
＜工程２：コレステリック液晶層１６の作製＞
（試料溶液の調製）
下記組成の試料溶液を調製した。
・上記構造で表される液晶性化合物ＬＣ−１              １００質量部
・上記構造で表される化合物Ｓ−１                    
０．１質量部
・上記構造で表される化合物ＣＤ−１                    ５．５質量部
・上記構造で表される化合物ＣＤ−２Ａ                  ５．５質量部
・開始剤Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製）                  ２．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０２５８】
（コレステリック液晶層１６の作製）
液晶層１（液晶層１の作製方法については、上述したとおり、積層体１の作製方法における工程１の手順と同様である。）上に、４０μＬの上記試料溶液を回転数１５００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートして組成物層を形成した後、上記組成物層を９０℃で１分間熟成した。続いて、熟成後の上記組成物層に対して、３０℃にて３１５ｎｍ光を１００μｍ幅スリットマスクを介して３０ｍＷ／ｃｍ2の照度で６０秒間紫外線を照射した。なお、スリットマスクにおいて、マスク部透過光の照度は非マスク部透過光の照度の１／１０であった。
続いて、９０℃で１分間熟成した後、３０℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射して液晶化合物の重合反応を実施することにより、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層１６を得た。【０２５９】
上記の工程により、液晶層１と、液晶層１の上に配置されたコレステリック液晶層１６とを有する積層体１６を作製した。
得られた積層体１６中のコレステリック液晶層１６について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３および表４に示す。【０２６０】
更に、得られた積層体１６中のコレステリック液晶層１６について下記の評価を実施した。【０２６１】
（断面ＳＥＭ観察）
コレステリック液晶層１６の断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）によって、コレステリック液晶相に由来する明部及び暗部の傾斜方向が、コレステリック液晶層１６の両主面（液晶層１６との界面側表面、及び空気界面側表面）に対して１２°傾斜していることを確認した。
更に、約１００μｍの幅で、コレステリック液晶相に由来する明部がなす線同士の間隔が比較的狭い領域と、比較的広い領域とが交互に現れる構造となっていた。この結果から、約１００μｍの幅で、螺旋ピッチの比較的狭い領域と、比較的広い領域とが交互に現れる構造となっていることが明らかである。その反射波長帯域は、螺旋ピッチの比較的狭い領域において４５０〜５５０ｎｍであり、螺旋ピッチの比較的広い領域において５５０ｎｍ〜６５０ｎｍであった。【０２６２】
〔実施例１７〕
工程１の液晶層１の作製に用いるＳＥ−１３０ラビング基板を、下記に示す基板１７にかえた以外は、実施例１６の積層体１６と同様の方法により、コレステリック液晶層１７（実施例１７）を有する積層体１７を作製し、その評価を実施した。以下に、コレステリック液晶層１７の作製方法について説明する。評価結果は表３および表４に示す。【０２６３】
（基板１７の作製）
下記組成の試料溶液１７ｃを調製した。
・下記構造で表される化合物ＳＤ−１                    １００質量部
・溶剤（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（質量比））
溶質濃度が１質量％となる量【０２６４】
【化２２】
2019181247.tif 000026
【０２６５】
次に、ポリイミドＳＥ−１３０（日産化学製）を塗布したガラス基板にラビング処理を施した。ラビングの方向は所定の一方向とした。
次に、３０μＬの上記試料溶液１７ｃを回転数２０００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートし、１２０℃で１分間熟成した。続いて、１００μｍ幅のスリットを１００μｍ間隔で有するスリットマスクを、スリットの長手方向と上記ラビング方向とが４５°となるようにして試料溶液１７ｃの塗布層上に配置して、３０℃で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射した。その際、スリットの長手方向に４５°、上記ラビング方向に９０°となる角度からＵＶ照射を行った（図１６参照）。
以上により基板１７を作製した。【０２６６】
（分子軸の配列の測定）
積層体１７からコレステリック液晶層１７のみを剥離し、反射偏光顕微鏡観察によって、表面の分子軸パターンを観察した。コレステリック液晶層１７の両主面のいずれから観察した場合においても、分子軸の配列に由来する周期的な明暗線が観察された。更に、基板１７作製時におけるＵＶ露光時のマスク部分と非マスク部分で、明暗線の配列方向が異なることが観察された。すなわち、コレステリック液晶層１７は、図１６に示すようなに配列軸の向きが異なる２つの領域がストライプ状に形成された構成を有する。
反射偏光顕微鏡観察においてポラライザを回転させることで、明暗線が連続的に移動することから、面内の一方向に沿って分子軸が連続的に回転していることを確認した。【０２６７】
（断面ＳＥＭ観察）
分子軸の配列の測定において観察された明暗線の配列方向と平行に、コレステリック液晶層１７を割断し断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）を行った。断面ＳＥＭ観察において、コレステリック液晶相に由来する明暗線が、コレステリック液晶層１６の両主面（液晶層１６との界面側表面、及び空気界面側表面）に対して１２°傾斜していることを確認した。【０２６８】
【表３】
2019181247.tif 000027
【０２６９】
【表４】
2019181247.tif 000028
【０２７０】
〔実施例１８〕
（試料溶液の調製）
下記組成の試料溶液を調製した。
・上記構造で表される液晶性化合物ＬＣ−１              １００質量部
・上記構造で表される化合物Ｓ−１                      ０．１質量部
・上記構造で表される化合物ＣＤ−１                    ３．７質量部
・開始剤Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製）                  ２．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０２７１】
（コレステリック液晶層１８の作製）
積層体１上に、４０μＬの上記試料溶液を回転数１５００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートして組成物層を形成した後、上記組成物層を９０℃で１分間熟成した。次に、３０℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射して液晶化合物の重合反応を実施することにより、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層１８を得た。【０２７２】
上記の工程により作製された積層体１８は、液晶層１と、液晶層１の上に配置されたコレステリック液晶層１と、コレステリック液晶層１の上に配置されたコレステリック液晶層１８と、を有する。【０２７３】
〔実施例１９〕
（試料溶液の調製）
下記組成の試料溶液を調製した。
・上記構造で表される液晶性化合物ＬＣ−１                １００質量部
・上記構造で表される化合物Ｓ−１                        ０．１質量部
・上記構造で表される化合物ＣＤ−２Ａ                    ３．７質量部
・開始剤Ｉｒｇ−９０７（ＢＡＳＦ製）                    ２．０質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／シクロヘキサノン＝９０／１０（質量比））
溶質濃度が３０質量％となる量【０２７４】
（コレステリック液晶層１９の作製）
積層体１上に、４０μＬの上記試料溶液を回転数１５００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートして組成物層を形成した後、上記組成物層を９０℃で１分間熟成した。次に、３０℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ/ｃｍ2の照射量でＵＶ（紫外線）を照射して液晶化合物の重合反応を実施することにより、コレステリック配向状態が固定化されたコレステリック液晶層１９を得た。【０２７５】
上記の工程により作製された積層体１９は、液晶層１と、液晶層１の上に配置されたコレステリック液晶層１と、コレステリック液晶層１の上に配置されたコレステリック液晶層１９と、を有する。【０２７６】
得られた積層体１８〜１９中のコレステリック液晶層１８〜１９について評価および下記の断面ＳＥＭ観察を実施した。【０２７７】
（断面ＳＥＭ観察）
コレステリック液晶層１８〜１９の断面ＳＥＭ観察（断面ＳＥＭ写真）によって、コレステリック液晶相に由来する明暗線が、コレステリック液晶層の両主面（下層のコレステリック液晶層との界面側表面、及び空気界面側表面）に対して１８°傾斜していることを確認した。
さらに、下層のコレステリック液晶層と比較すると、コレステリック液晶層１８は同方向に傾斜しており、コレステリック液晶層１９は逆方向に傾斜していることを確認した。
【０２７８】
【表５】
2019181247.tif 000029
【０２７９】
〔実施例２０〕
（光学異方向体２０の作製）
コレステリック液晶層１を図２０、図２１のパターン状に切断し、図２２のように貼合することにより、異なる波長の光を反射する領域、および、異なる方向に光を反射する領域を有する光学異方体２０を作製した。
光学異方体２０は、反射角度、反射波長、反射波長の角度依存性を有しており、特定の方向からのみ図２０または図２１の像を反射光または透過光として検出できた。また、左右の円偏光フィルターをかざして観察することで、像が変化し、偽造防止媒体として適していることを確認した。
また、得られた光学異方体２０に吸収層として黒色紙を積層した結果、反射光の視認性が向上することを確認した。【０２８０】
〔実施例２１〕
キラル剤ＣＤ−１およびＣＤ−２の添加量を変えた以外は実施例１と同様の手法にて積層体２１−１〜２１−３を作製した。結果を表６および表７に示す。
積層体２１−１〜３はそれぞれ４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍに中心反射波長を有することを透過率測定より確認した。積層体２１−１〜２１−３をＯＣＡフィルムにてそれぞれ貼合することにより、４５０〜６５０ｎｍの可視光を同一角度に反射する積層体２１が得られることを確認した。
【０２８１】
【表６】
2019181247.tif 000030
【０２８２】
【表７】
2019181247.tif 000031
【符号の説明】
【０２８３】
１０，２０，３０，４０，６０  コレステリック液晶層
１１，１２，１３，２１，２２，２３，３１，３２，４１，４２，４３  主面
１４，２４，３４，４４  液晶化合物
Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3，Ｌ4，Ｌ5  分子軸
Ｄ1，Ｄ2，Ｄ3，Ｄ4  配列軸
θ2，θ5，θ10，θ20，θａ1，θａ2，θａ3，θb1，θb2，θb3  角度
Ｃ1，Ｃ2，Ｃ3  コレステリック液晶相由来の螺旋軸
Ｔ1，Ｔ2，Ｔ3  反射面
１５，２５  明部
１６，２６  暗部
１８  円盤状液晶化合物
Ｐ1，Ｐ2  明部と暗部とが交互に配列された配列方向
５０  積層体
１００  組成物層
１０２  液晶層
１０２ａ  傾斜配向面
Ａ，Ａ3，Ａ4，Ｂ  領域
Ｔ11  工程２−１（工程２Ｙ−１）において液晶化合物の配向処理が実施される温度
Ｔ12  工程２−２（工程２Ｙ−２）の冷却処理が実施される温度
Ｒ1  厚み方向
Ｉ1，Ｉ2，Ｉ3，Ｉ4  反射光
【図１】
2019181247.tif 000032
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【国際調査報告】
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