(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式：
0003782443.tif 000013
［式中、
Ａｒはアリール基を示し、
Ｒ1はベンゾイル基又は基Ｒ2−Ｏ−ＣＯを示し、ここで
Ｒ2は炭素数が１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基、炭素数が２〜８のアルケニル基、炭素数が３〜８のアルキニル基、炭素数が３〜６のシクロアルキル基、炭素数が４〜６のシクロアルケニル基又は炭素数が７〜１１のビシクロアルキル基を示し、これらの基は場合によりハロゲン原子及びヒドロキシル、炭素数が１〜４のアルキルオキシ、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ、１−ピペラジニル（場合により４−位において炭素数が１〜４のアルキル基により、もしくはアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基により置換されていることができる）、炭素数が３〜６のシクロアルキル、炭素数が４〜６のシクロアルケニル、フェニル、シアノ、カルボキシル又はアルキル部分の炭素数が１〜４のアルキルオキシカルボニル基から選ばれる１つ又は複数の置換基により置換されていることができるか、
−あるいは場合によりハロゲン原子及び炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルキルオキシ基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるフェニル基、
−あるいは場合により１つ又は複数の炭素数が１〜４のアルキル基により置換されていることができる４〜６員を含む飽和もしくは不飽和ヘテロ環式基を示し、
Ｒ4は水素原子を示し且つＲ5はヒドロキシル官能基の保護基を示すか、
あるいは他の場合Ｒ4及びＲ5は一緒になって飽和５−もしくは６−員ヘテロ環を形成し、
Ｇ1はヒドロキシル官能基の保護基を示し、
Ｇ2はアセチル基又はヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物を一般式：
Ｒ3−ＣＯ−ＯＨ                        （ＩＩＩ）
［式中、
Ｒ3は
−炭素数が１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基、炭素数が２〜８のアルケニル基、炭素数が３〜８のアルキニル基、炭素数が３〜６のシクロアルキル基、炭素数が４〜６のシクロアルケニル基又は炭素数が７〜１１のビシクロアルキル基を示し、これらの基は場合によりハロゲン原子及びヒドロキシル、炭素数が１〜４のアルキルオキシ、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ、１−ピペラジニル（場合により４−位において炭素数が１〜４のアルキル基により、もしくはアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基により置換されていることができる）、炭素数が３〜６のシクロアルキル、炭素数が４〜６のシクロアルケニル、場合によりシアノ、カルボキシル又はアルキル部分の炭素数が１〜４のアルキルオキシカルボニル基から選ばれる１つ又は複数の置換基により置換されていることができるフェニル基から選ばれる１つ又は複数の置換基により置換されていることができるか、
−あるいは場合によりハロゲン原子及び炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルキルオキシ基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるアリール基を示し、Ｒ3は非置換フェニル基を示すことはできないと理解されるか、
−あるいは場合によりハロゲン原子及び炭素数が１〜４のアルキル基及び炭素数が１〜４のアルキルオキシ基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができる４〜６員を含む飽和もしくは不飽和ヘテロ環式基を示し、
シクロアルキル、シクロアルケニル又はビシクロアルキル基は場合により１つ又は複数の炭素数が１〜４のアルキル基により置換されていることができると理解される］
の酸又はこの酸のハライド、無水物もしくは混合無水物を用いてエステル化し、一般式：
0003782443.tif 000014
［式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｇ1及びＧ2は上記と同義である］
の生成物を得、Ｒ4が水素原子を示す場合はその保護基Ｒ5、あるいは他の場合、Ｒ4及びＲ5が一緒になって飽和５−もしくは６−員ヘテロ環を形成する場合はそのＲ4及びＲ5、そのＧ1及び場合によりＧ2を水素原子により置換して一般式（Ｉ）の生成物に導き、そして場合により一般式：
0003782443.tif 000015
［式中、Ｒは水素原子あるいはアセチル又はアルコキシアセチル基を示す］
の生成物を介し、それをベンゾイルクロリド又は一般式：
Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−Ｘ              （ＶＩ）
［式中、Ｒ2は上記と同義であり、Ｘはハロゲン原子又は−Ｏ−Ｒ2もしくは−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ2残基を示す］
の生成物を用いてアシル化することを特徴とする一般式：
0003782443.tif 000016
［式中、Ａｒ、Ｒ、Ｒ1及びＲ3は上記と同義である］
のタキソイド類の製造法。
【請求項２】
一般式（ＩＩ）の生成物のエステル化を、一般式（ＩＩＩ）の酸のハライドを、あらかじめアルカリ金属アルキリドを用いて金属化された一般式（ＩＩ）の生成物と反応させることにより行い、反応をエーテルなどの不活性有機溶媒中で−５０℃より低い温度で行うことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項３】
水素原子によるヒドロキシル官能基の保護基の置換を：
１）  Ｒ4が水素原子を示し、Ｒ5が上記と同義であり、Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアセチル基を示す場合、一般式（ＩＶ）の生成物を塩酸、硫酸及びフッ化水素酸から選ばれる無機酸又は蟻酸、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸及びｐ−トルエンスルホン酸から選ばれる有機酸を単独で又は混合物として用いて処理することにより行い、反応をアルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類又はニトリル類から選ばれる有機溶媒中で、−１０〜６０℃の温度で行い、
２）  Ｒ4及びＲ5が一緒になって一般式：
0003782443.tif 000017
［式中、Ｒ1は請求の範囲第１、２又は３項の１つにおけると同義であり、Ｒ6及びＲ7は、同一又は異なり、水素原子あるいは炭素数が１〜４のアルキル基、又はアルキル部分の炭素数が１〜４であり且つアリール部分が場合により１つもしくは複数の炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていることができるフェニルを示すアラルキル基、又は場合により１つもしくは複数の炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていることができるフェニルを示すアリール基を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6は炭素数が１〜４のアルコキシ基、又はトリハロメチル基又はトリハロメチル基により置換されたフェニル基を示し、Ｒ7は水素原子を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6及びＲ7はそれらが結合している炭素原子と一緒になって４〜７員環を形成し、Ｇ1はシリル化基を示し、Ｇ2はアセチル基を示す］
の飽和複素環を形成する場合、
ａ）  Ｒ1がｔ−ブトキシカルボニル基を示し、Ｒ6及びＲ7が同一又は異なりアルキル基又はアラルキルもしくはアリール基を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6がトリハロメチル基又はトリハロメチル基により置換されたフェニル基を示し、Ｒ7が水素原子を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6及びＲ7が一緒になって４〜７員環を形成する場合、一般式（ＩＶ）の生成物を場合によりアルコールなどの有機溶媒中で無機又は有機酸を用いて処理して一般式（Ｖ）の生成物を得、それを一般式（ＶＩ）の生成物を用いてアシル化することにより行い、
ｂ）  Ｒ1がベンゾイル基又はＲ2が上記と同義であるＲ2−Ｏ−ＣＯ−を示し、Ｒ6が水素原子又は炭素数が１〜４のアルコキシ基、又は１つもしくは複数の炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されたフェニル基を示し、Ｒ7が水素原子を示す場合、単独で又は混合物として用いられる触媒量又は化学量論的量の塩酸及び硫酸から選ばれる無機酸又は酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸及びｐ−トルエンスルホン酸から選ばれる有機酸の存在下に、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類及び芳香族炭化水素類から選ばれる有機溶媒中で、−１０〜６０℃の温度において一般式（ＩＶ）の生成物を処理することにより行い、
３）  Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示し、Ｒ4及びＲ5が上記の１）と同義である場合、水素原子による保護基Ｇ1及びＲ5の置換を最初に行い、反応は上記の１）に記載の酸性条件下で行われ、次いで保護基Ｇ2を、分子の残りの部分に影響を与えない条件下でアンモニアを用いて、又はメタノール中でハロゲン化亜鉛を用いてアルカリ性媒体中で処理することにより水素により置換し
４）  Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示し、Ｒ4及びＲ5が上記の２−ａ）と同義である場合、最初に保護基Ｇ1を、分子の残りの部分に影響を与えない条件下における酸性媒体中の処理により置換し、次いで保護基Ｇ2を場合により上記の３）に記載の条件下で水素原子により置換し、次いで得られる一般式（Ｖ）の生成物を上記の２−ａ）に記載の脱保護及びアシル化条件下で処理することにより行い、５）Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示し、Ｒ4及びＲ5が上記の２−ｂ）と同義である場合、最初に保護基Ｇ1を分子の残りの部分に影響を与えない条件下における酸性媒体中の処理により置換し、次いで保護基Ｇ2を場合により上記の３）に記載の条件下で水素原子により置換し、次いで得られる生成物を上記の２−ｂ）に記載の条件下で処理することにより行う
ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ1及びＲ2が請求の範囲第１項におけると同義であり、Ａｒ及びＲ3により示されるアリール基が、場合によりハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）及びアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ヒドロキシル、ヒドロキシアルキル、メルカプト、ホルミル、アシル、アシルアミノ、アロイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、シアノ、ニトロ及びトリフルオロメチル基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基であり、アルキル基及び他の基のアルキル部分の炭素数が１〜４であり、アルケニル及びアルキニル基の炭素数は２〜８であり、アリール基はフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基であり、Ｒ3基は非置換フェニル基を示すことはできないと理解され、ならびにＡｒ及びＲ3により示されるヘテロ環式基が窒素、酸素又は硫黄原子から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子を含み、場合によりハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）及び炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が６〜１０のアリール、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素数が６〜１０のアリールオキシ、アミノ、炭素数が１〜４のアルキルアミノ、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルアミノ、アシル部分の炭素数が１〜４のアシルアミノ、炭素数が１〜４のアルコキシカルボニルアミノ、炭素数が１〜４のアシル、アリール部分の炭素数が６〜１０のアリールカルボニル、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、カルボキシル、カルバモイル、アルキル部分の炭素数が１〜４のアルキルカルバモイル、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルカルバモイル又はアルコキシ部分の炭素数が１〜４のアルコキシカルボニル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の置換基により置換されていることができる５員を有する芳香族ヘテロ環式基である一般式（Ｉ）のタキソイドの製造のための請求の範囲第１項に記載の製造法。
【請求項５】
Ｒ1及びＲ2が請求の範囲第１項におけると同義であり、Ａｒが、場合によりハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ及びトリフルオロメチル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるフェニル、２−もしくは３−チエニル又は２−もしくは３−フリル又は２−もしくは４−もしくは５−チアゾリル基を示し、Ｒ3がハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、ニトロ及びトリフルオロメチル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子又は基により置換されているフェニル基、あるいは場合によりハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ及びトリフルオロメチル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができる２−もしくは３−チエニル又は２−もしくは３−フリル又は２−もしくは４−もしくは５−チアゾリル基を示す一般式（Ｉ）のタキソイドの製造のための請求の範囲第１項に記載の製造法。
【請求項６】
Ｒが水素原子あるいはアセチル又はメトキシアセチル基を示し、Ａｒがフェニル基を示し、Ｒ1がベンゾイル又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基を示し、Ｒ3が２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、４−エチルフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニル又は４−（トリフルオロメチル）フェニル基を示す一般式（Ｉ）のタキソイドの製造のための請求の範囲第１項に記載の製造法。
【請求項７】
一般式：
0003782443.tif 000018
［式中、Ａｒ及びＲ1は請求の範囲第１項におけると同義であり、Ｒ4は水素原子を示し且つＲ5はヒドロキシル官能基の保護基を示すか、あるいは他の場合Ｒ4及びＲ5は一緒になって飽和５−もしくは６−員ヘテロ環を形成し、Ｇ1はヒドロキシル官能基の保護基を示し、Ｇ2はアセチル基又はヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物。
【請求項８】
Ａｒ及びＲ1が請求の範囲第１項におけると同義であり、Ｒ4が水素原子を示す場合、Ｒ5がメトキシメチル、１−エトキシエチル、ベンジルオキシメチル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、（β−トリメチルシリルエトキシ）メチル又はテトラヒドロピラニル基を示し、Ｒ4及びＲ5が一緒になってヘテロ環を形成する場合、該ヘテロ環は場合により２−位においてモノ置換又はｇｅｍ−置換されたオキサゾリジン環であり、Ｇ1がアルキル部分の炭素数が１〜４であり且つアリール部分がフェニルであるトリアルキルシリル、ジアルキルアリールシリル、アルキルジアリールシリル又はトリアールシリル基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示すことを特徴とする請求の範囲第７項に記載の新規生成物。
【請求項９】
一般式：
0003782443.tif 000019
［式中、Ａｒ、Ｒ1は請求の範囲第１項におけると同義であり、Ｒ’5は水素原子又はヒドロキシル官能基の保護基を示し、Ｒ4は水素原子を示し、Ｇ’1は水素原子又はヒドロキシル官能基の保護基を示し、Ｇ’2は水素原子、アセチル基又はヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物の電解還元を行い、電解還元を有機溶媒又は水性／有機混合物中に可溶性の第４アンモニウム塩から成る電解質中で、制御された電位において行うことを特徴とする請求の範囲第７及び８項にいずれかに記載の生成物の製造法。
【請求項１０】
一般式：
0003782443.tif 000020
［式中、Ｇ1及びＧ2は請求の範囲第７及び８項
のいずれかにおけると同義である］
の生成物を一般式：
0003782443.tif 000021
［式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ4及びＲ5は請求の範囲第７及び８項のいずれかにおけると同義である］
の酸あるいはハライド又は無水物もしくは混合無水物などのこの酸の誘導体を用い、アミノピリジンなどの活性化剤及び場合によりイミドなどの縮合剤の存在下においてエステル化し、反応を有機溶媒中で０〜９０℃の温度において行うことを特徴とする請求の範囲第７及び８項のいずれかに記載の生成物の製造法。
【請求項１１】
一般式：
0003782443.tif 000022
［式中、Ｇ’1及びＧ’2は請求の範囲第９項におけると同義であり、Ｇ’3は水素原子又はＧ’1と同じヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物の電解還元を行い、電解還元を有機溶媒又は水性／有機混合物中に可溶性の第４アンモニウム塩から成る電解質中で、制御された電位において行い、次いで保護基Ｇ’3を水素原子により選択的に置換するか、あるいは７−及び１０−位のヒドロキシル官能基を選択的に保護することを特徴とする請求の範囲第１０項に記載の一般式（ＸＩ）の生成物の製造法。
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式：
0003782443.tif 000002
の新規タキソイド類、それらの製造法及びそれらを含む製薬学的組成物に関する。
一般式（Ｉ）において、
Ａｒはアリール基を示し、
Ｒは水素原子又はアセチルもしくはアルコキシアセチル基を示し、
Ｒ1はベンゾイル基又は基Ｒ2−Ｏ−ＣＯを示し、ここで
Ｒ2は炭素数が１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基、炭素数が２〜８のアルケニル基、炭素数が３〜８のアルキニル基、炭素数が３〜６のシクロアルキル基、炭素数が４〜６のシクロアルケニル基又は炭素数が７〜１１のビシクロアルキル基を示し、これらの基は場合によりハロゲン原子及びヒドロキシル、炭素数が１〜４のアルキルオキシ、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ、１−ピペラジニル（場合により４−位において炭素数が１〜４のアルキル基により、もしくはアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基により置換されていることができる）、炭素数が３〜６のシクロアルキル、炭素数が４〜６のシクロアルケニル、フェニル、シアノ、カルボキシル又はアルキル部分の炭素数が１〜４のアルキルオキシカルボニル基から選ばれる１つ又は複数の置換基により置換されていることができるか、
−あるいは場合によりハロゲン原子及び炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルキルオキシ基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるフェニル基、
−あるいは場合により１つ又は複数の炭素数が１〜４のアルキル基により置換されていることができる４〜６員を含む飽和もしくは不飽和ヘテロ環式基を示し、
Ｒ3は
−炭素数が１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基、炭素数が２〜８のアルケニル基、炭素数が２〜８のアルキニル基、炭素数が３〜６のシクロアルキル基、炭素数が４〜６のシクロアルケニル基又は炭素数が７〜１１のビシクロアルキル基を示し、これらの基は場合によりハロゲン原子及びヒドロキシル、炭素数が１〜４のアルキルオキシ、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ、１−ピペラジニル（場合により４−位において炭素数が１〜４のアルキル基により、もしくはアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基により置換されていることができる）、炭素数が３〜６のシクロアルキル、炭素数が４〜６のシクロアルケニル、場合によりシアノ、カルボキシル又はアルキル部分の炭素数が１〜４のアルキルオキシカルボニル基から選ばれる１つ又は複数の置換基により置換されていることができるフェニル基から選ばれる１つ又は複数の置換基により置換されていることができるか、
−あるいは場合によりハロゲン原子及び炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルキルオキシ基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるアリール基を示し、Ｒ3は非置換フェニル基を示すことはできないと理解されるか、
−あるいは場合によりハロゲン原子及び炭素数が１〜４のアルキル基及び炭素数が１〜４のアルキルオキシ基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができる４〜６員を含む飽和もしくは不飽和ヘテロ環式基を示し、シクロアルキル、シクロアルケニル又はビシクロアルキル基は場合により１つ又は複数の炭素数が１〜４のアルキル基により置換されていることができると理解される。
Ａｒ及びＲ3により示されるアリール基は、場合によりハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）及びアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ヒドロキシル、ヒドロキシアルキル、メルカプト、ホルミル、アシル、アシルアミノ、アロイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、シアノ、ニトロ及びトリフルオロメチル基から選ばれる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基が好ましく、アルキル基及び他の基のアルキル部分の炭素数は１〜４であり、アルケニル及びアルキニル基の炭素数は２〜８であり、アリール基はフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基であり、Ｒ3基は非置換フェニル基を示すことはできないと理解される。
Ａｒ又はＲ3により示されるヘテロ環式基は窒素、酸素又は硫黄原子から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子を含み、場合によりハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）及び炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が６〜１０のアリール、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素数が６〜１０のアリールオキシ、アミノ、炭素数が１〜４のアルキルアミノ、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルアミノ、アシル部分の炭素数が１〜４のアシルアミノ、炭素数が１〜４のアルコキシカルボニルアミノ、炭素数が１〜４のアシル、アリール部分の炭素数が６〜１０のアリールカルボニル、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、カルボキシル、カルバモイル、アルキル部分の炭素数が１〜４のアルキルカルバモイル、各アルキル部分の炭素数が１〜４のジアルキルカルバモイル又はアルコキシ部分の炭素数が１〜４のアルコキシカルボニル基から選ばれる同一または異なる１つ又は複数の置換基により置換されていることができる５員を有する芳香族ヘテロ環式基が好ましい。
さらに特定的には、Ａｒは、場合によりハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ及びトリフルオロメチル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができるフェニル、２−もしくは３−チエニル又は２−もしくは３−フリル又は２−もしくは４−もしくは５−チアゾリル基を示し、Ｒ3はハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、ニトロ及びトリフルオロメチル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子又は基により置換されているフェニル基、あるいは場合によりハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ及びトリフルオロメチル基から選ばれる同一又は異なる１つ又は複数の原子又は基により置換されていることができる２−もしくは３−チエニル又は２−もしくは３−フリル又は２−もしくは４−もしくは５−チアゾリル基を示す。
よりさらに特定的には、Ａｒは場合により塩素又はフッ素原子、あるいはアルキル（メチル）、アルコキシ（メトキシ）、ジアルキルアミノ（ジメチルアミノ）、アシルアミノ（アセチルアミノ）又はアルコキシカルボニルアミノ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）又はカルボキシルもしくはカルバモイルにより置換されていることができるフェニル基、あるいは２−もしくは３−チエニル又は２−もしくは３−フリル又は２−もしくは４−もしくは５−チアゾリル基を示し、Ｒ3は１つ又は複数のハロゲン原子により、あるいはアルキル（エチル、ｔｅｒｔ−ブチル）、アルコキシ（メトキシ）、ニトロ又はトリフルオロメチル基により置換されているフェニル基を示す。
Ａｒがフェニル基を示し、Ｒ1がベンゾイル又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基を示し、Ｒ3が２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、４−エチルフェニル、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニル又はトリフルオロメチル基を示す一般式（Ｉ）の生成物が特に興味深い。
本発明に従い、一般式（Ｉ）の新規タキソイド類は一般式：
0003782443.tif 000003
[式中、Ａｒ及びＲ1は上記と同義であり、Ｒ4は水素原子を示し、Ｒ5はヒドロキシル官能基の保護基を示すか、あるいは他の場合Ｒ4及びＲ5は一緒になって飽和５−もしくは６−員ヘテロ環を形成し、Ｇ1はヒドロキシル官能基の保護基を示し、Ｇ2はアセチル基又はヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物を一般式：
Ｒ3−ＣＯ−ＯＨ                  （ＩＩＩ）
［式中、Ｒ3は上記と同義である］
の酸又はこの酸の活性化誘導体を用いてエステル化し、一般式：
0003782443.tif 000004
［式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｇ1及びＧ2は上記と同義である］
の生成物を得、Ｒ4が水素原子を示す場合はその保護基Ｒ5、あるいは他の場合、Ｒ4及びＲ5が一緒になって飽和５−もしくは６−員ヘテロ環を形成する場合はそのＲ4及びＲ5、そのＧ1及び場合によりＧ2を水素原子により置換し、一般式（Ｉ）の生成物に導き、場合によりＲ1、Ｒ4及びＲ5の意味に依存して一般式：
0003782443.tif 000005
［式中、Ｒは上記と同義である］
の生成物を介し、それをベンゾイルクロリド又は一般式：
Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−Ｘ              （ＶＩ）
［式中、Ｒ2は上記と同義であり、Ｘはハロゲン原子（フッ素、塩素）又は−Ｏ−Ｒ2もしくは−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ2残基を示す］
の生成物を用いてアシル化することにより得られる。
Ｒ4が水素原子を示す場合、Ｒ5はメトキシメチル、１−エトキシエチル、ベンジルオキシメチル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、（β−トリメチルシリルエトキシ）メチル又はテトラヒドロピラニル基を示すのが好ましい。Ｒ4及びＲ5が一緒になってヘテロ環を形成する場合、ヘテロ環は場合により２−位においてモノ置換された、又はｇｅｍ−ジ置換されたオキサゾリジン環が好ましい。
Ｇ1及びＧ2がヒドロキシル官能基の保護基を示す場合、これらの基は一般に異なっている。Ｇ1はアルキル部分の炭素数が１〜４であり、アリール部分が好ましくはフェニルであるトリアルキルシリル、ジアルキルアリールシリル、アルキルジアリールシリル又はトリアリールシリル基を示し、Ｇ2はアルコキシアセチル基、例えばメトキシアセチル基を示すのが好ましい。
一般式（ＩＩ）の生成物のエステル化は、好ましくはハライド形態、例えばクロリドの形態の一般式（ＩＩＩ）の酸を、前もって金属化された一般式（ＩＩ）の生成物と反応させることにより行うことができる。金属化は一般にブチルリチウムなどのアルカリ金属アルキリドを用いて行われ、反応は不活性有機溶媒、例えばテトラヒドロフランなどのエーテル中で−５０℃以下の温度、好ましくは−７８℃近辺の温度で行われる。エステル化は一般に同一の溶媒中において同一の温度で反応を行うことによりなされる。
一般式（ＩＶ）の生成物の保護基の性質に依存して、水素原子によるその置換は以下の方法で行うことができる：
１）Ｒ4が水素原子を示し、Ｒ5が上記と同義であり、Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアセチル基を示す場合、水素原子による保護基の置換は、一般式（ＩＶ）の生成物を無機酸（塩酸、硫酸、フッ化水素酸）又は有機酸（蟻酸、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸）を単独で、又は混合物として用いて処理することにより行うことができ、反応はアルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類又はニトリル類から選ばれる有機溶媒中で、−１０〜６０℃の温度で行われる。
２）Ｒ4及びＲ5が一緒になって飽和５−もしくは６−員ヘテロ環、及びさらに特定的には一般式：
0003782443.tif 000006
［式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｒ6及びＲ7は同一又は異なり水素原子あるいは炭素数が１〜４のアルキル基、又はアルキル部分の炭素数が１〜４であり、アリール部分が好ましくは場合により１つ又は複数の炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていることができるフェニルを示すアラルキル基、又は好ましくは場合により１つ又は複数の炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていることができるフェニルを示すアリール基を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6は炭素数が１〜４のアルコキシ基、あるいはトリハロメチル基、例えばトリクロロメチル、あるいはトリハロメチル基、例えばトリクロロメチルにより置換されたフェニル基を示し、Ｒ7は水素原子を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6及びＲ7はそれらが結合している炭素原子と一緒になって４〜７員環を形成し、Ｇ1はシリル化基を示し、Ｇ2はアセチル基を示す］
のオキサゾリジン環を形成する場合、水素原子による保護基の置換はＲ1、Ｒ6及びＲ7の意味に依存して以下の方法で行うことができる：
ａ）Ｒ1がｔ−ブトキシカルボニル基を示し、Ｒ6及びＲ7が同一又は異なりアルキル基又はアラルキル（ベンジル）もしくはアリール（フェニル）基を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6がトリハロメチル基又はトリハロメチル基により置換されたフェニル基を示し、Ｒ7が水素原子を示すか、あるいは他の場合、Ｒ6及びＲ7が一緒になって４〜７員環を形成する場合、一般式（ＩＶ）の生成物を場合によりアルコールなどの有機溶媒中で無機又は有機酸を用いて処理すると一般式（Ｖ）の生成物を生じ、それを一般式（ＶＩ）の生成物を用いてアシル化する。一般式（ＩＶ）の生成物は２０℃近辺の温度で蟻酸で処理するのが好ましい。一般式（ＶＩ）の生成物を用いた一般式（Ｖ）の生成物のアシル化はエステル類、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル又は酢酸ｎ−ブチル及びハロゲン化脂肪族炭化水素類、例えばジクロロメタン又は１，２−ジクロロエタンから選ばれる不活性有機溶媒中で、重炭酸ナトリウムなどの無機塩基又はトリエチルアミンなどの有機塩基の存在下で行うのが好ましい。反応は０〜５０℃、好ましくは２０℃近辺の温度で行われる。
ｂ）Ｒ1がベンゾイル基又はＲ2が上記と同義であるＲ2−Ｏ−ＣＯ−を示し、Ｒ6が水素原子又は炭素数が１〜４のアルコキシ基、又は１つもしくは複数の炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されたフェニル基を示し、Ｒ7が水素原子を示す場合、水素原子による保護基の置換は、単独で、又は混合物として用いられる無機酸（塩酸、硫酸）又は有機酸（酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸）の存在下で行われ、反応はアルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類及び芳香族炭化水素類から選ばれる有機溶媒中で、−１０〜６０℃、好ましくは１５〜３０℃の温度において行われる。酸は触媒的量で、又は化学量論的量で用いることができる。
３）Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示し、Ｒ4及びＲ5が上記の１）と同義である場合、水素原子による保護基Ｇ1及びＲ5の置換が最初に行われ、反応は上記の１）に記載の酸性条件下で行われ、次いで保護基Ｇ2が場合により、分子の残りの部分に影響を与えない条件下のアルカリ性媒体中における処理により水素により置換される。アルカリ性処理は一般に水性／アルコール性媒体中で、２０℃近辺の温度においてアンモニアと反応させることにより、あるいはメタノール中で２０℃近辺の温度において臭化又はヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛により行われる。
４）Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示し、Ｒ4及びＲ5が上記の２−ａ）と同義である場合、最初に保護基Ｇ1の置換が、分子の残りの部分に影響を与えない条件下における酸性媒体中の処理により、例えばエタノールなどのアルコール中で希釈された塩酸を用いて０℃近辺の温度で行われ、次いで保護基Ｇ2が場合により上記の３）に記載の条件下で水素原子により置換され、次いで得られる一般式（Ｖ）の生成物が上記の２−ａ）に記載の脱保護及びアシル化条件下で処理される。
５）Ｇ1がシリル化基を示し、Ｇ2がアルコキシアセチル基を示し、Ｒ4及びＲ5が上記の２−ｂ）と同義である場合、最初に保護基Ｇ1の置換が、分子の残りの部分に影響を与えない条件下における酸性媒体中の処理により、例えばエタノールなどのアルコール中で希釈された塩酸を用いて０℃近辺の温度で行われ、次いで保護基Ｇ2が場合により上記の３）に記載の条件下で水素原子により置換され、次いで得られる生成物が上記の２−ｂ）に記載の条件下で処理される。
本発明に従い、一般式（ＩＩ）の生成物は一般式：
0003782443.tif 000007
［式中、Ａｒ、Ｒ1及びＲ4は上記と同義であり、Ｒ’5は水素原子又はヒドロキシル官能基の保護基を示し、Ｒ4は水素原子を示し、Ｇ’1は水素原子又はヒドロキシル官能基の保護基を示し、Ｇ’2は水素原子、アセチル基又はヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物を以下の反応式：
0003782443.tif 000008
［ここで、ｎが２に等しい場合、分裂生成物はベンズアルデヒドであり、ｎが４に等しい場合、分裂生成物はベンジルアルコールである］
に従って、電解還元し、場合により続いて−ＯＲ’5、−Ｏ−Ｇ’1及び−Ｏ−Ｇ’2により定義されるヒドロキシル官能基を保護することにより一般式（ＩＩ）の生成物を得ることにより得られる。
一般式（ＶＩＩＩ）の生成物から出発する電解還元は、支持電解質を含む電解槽において行われ、そこに一般式（ＶＩＩＩ）の生成物が０．１ｇ／ｌから一般式（ＶＩＩＩ）の生成物における溶液の飽和までの濃度で溶解されている。
還元はダイヤフラム電解槽において行うのが好ましい。
本発明の実施態様に従うと、電解還元は陰極、陰極室、分離ダイヤフラム、陽極室及び陽極を含む電解槽において行われ、その特徴は以下の通りである：
ａ）陰極は水銀シートから成り、
ｂ）陰極室は陰極液を含み、それは有機媒体中の一般式（ＶＩＩＩ）の生成物の溶液を含み、
ｃ）分離ダイヤフラムは焼結ガラス又は磁器から作られたプレート、スリーブチューブ又はキャンドルなどの多孔質材料、あるいはイオン交換膜、好ましくはカチオン交換膜から成り、
ｄ）陽極室は、好ましくは陰極室で用いられたと同一の溶媒又は溶媒混合物及び同一の支持電解質から成る陽極液を含み、
ｅ）陽極は導電性材料から成り、その性質は方法の実行に必須ではない。
陽極は一般に電解条件下で攻撃を受けることができない導電性材料、例えば正味の形態の、又は導電性支持体上の研磨された白金、グラファイトあるいはガラス質炭素から成る。
支持電解質は溶媒又は溶媒の混合物中に可溶性の第４アンモニウム塩、例えばテトラメチルアンモニウムアセテート、テトラエチルアンモニウムアセテート又はテトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、あるいはそれらの混合物から成る。
一般に一般式（ＩＩ）及び（ＶＩＩＩ）の生成物を容易に溶解し、ほとんど抵抗性がない溶媒、例えばアルコール類、例えばメタノール、ニトリル類、例えばアセトニトリル又はアミド類、例えばジメチルホルムアミドが用いられる。
ｐＨは基質の安定性に適合しなければならない。媒体は、第４アンモニウム塩の溶液に酢酸などの弱酸を加えることにより緩衝しなければならない。
方法の好ましい実施態様に従うと、陽極、陰極及び分離ダイヤフラムは平行な水平の平面の状態にあり、陰極は水銀シートから成る。
電解浴の温度は一般に０〜３０℃である。２０℃以下に保つのが好ましい。
電解は制御された電位において行われ、それは飽和カロメル参照電極に関して−１．８５〜−２．０５ボルトであることができる。
電解の開始の前にアルゴンなどの不活性ガスを約１０分間散布することにより溶液を脱気させることが必要であり、不活性雰囲気は電解の持続時間を通して保持される。
Ｇ1、Ｇ2及びＲ5がそれぞれヒドロキシル官能基の保護基を示す一般式（ＩＩ）の生成物を得るために、−Ｏ−Ｇ’2により定義されるヒドロキシル官能基を保護する前に、−Ｏ−Ｇ’1及び−Ｏ−Ｒ’5により定義される一般式（ＶＩＩＩ）の生成物のヒドロキシル官能基を最初に保護する。
−Ｏ−Ｇ’1及び−Ｏ−Ｒ’5により定義される一般式（ＶＩＩＩ）の生成物のヒドロキシル官能基のシリル化エーテルの形態における保護は一般に、一般式：
Ｘ−Ｓｉ（Ｒ8）3                  （ＩＸ）
［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ8基は同一又は異なりアルキル部分の炭素数が１〜４であり、アリール部分が好ましくはフェニル基であるトリアルキルシリル、ジアルキルアリールシリル、アルキルジアリールシリル又はトリアリールシリル基を示す］
のハロシランと反応させることにより行うのが好ましい。
一般式（ＩＸ）の生成物と、Ｇ’1、Ｇ’2及びＲ’5がそれぞれ水素原子を示す一般式（ＶＩＩＩ）の生成物の反応は一般にピリジンなどの塩基性有機溶媒中、又はジクロロメタンもしくはクロロホルムなどの不活性有機溶媒中で、トリエチルアミンもしくは
0003782443.tif 000009
塩基もしくはピリジンなどの有機塩基の存在下において、２０℃近辺の温度で行われる。
−Ｏ−Ｇ’2により定義される一般式（ＶＩＩＩ）の生成物のヒドロキシル官能基のアルコキシアセチル基の形態における保護は一般式：
Ｒ9−Ｏ−ＣＨ2−ＣＯ−Ｙ              （Ｘ）
［式中、Ｒ9は炭素数が１〜４のアルキル基を示し、Ｙはハロゲン原子を示す］
の酸ハライドと反応させることにより行うのが好ましく、反応はピリジンなどの塩基性有機溶媒中で、２０℃近辺の温度において行われる。
本発明に従うと、一般式（ＩＩ）の生成物は一般式：
0003782443.tif 000010
［式中、Ｇ1及びＧ2は上記と同義である］
の生成物を一般式：
0003782443.tif 000011
［式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ4及びＲ5は上記と同義である］
の酸、あるいはハライド又は無水物もしくは混合無水物などのこの酸の誘導体を用いてエステル化することによっても得ることができ、反応はトルエンなどの有機溶媒中で、アミノピリジン、例えば４−ジメチルアミノピリジン又は４−ピロリジノピリジンなどの活性化剤及び場合によりイミド、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドなどの縮合剤の存在下において、０〜９０℃の温度において行われる。
一般式（ＸＩ）の生成物は一般式：
0003782443.tif 000012
［式中、Ｇ’1及びＧ’2は上記と同義であり、Ｇ’3は水素原子又はＧ’1と同一のヒドロキシル官能基の保護基を示す］
の生成物の電解還元によっても得ることができ、反応は一般式（ＶＩＩＩ）の生成物の電解還元の場合に用いられた条件と同一の条件下で行われる。
状況に依存して、エステル化を行う前に保護基Ｇ’3を水素原子により選択的に置換するか、あるいは７−及び１０−位のヒドロキシル官能基を選択的に保護することが必要である。
以下の実施例は本発明を例示するものである。
実施例１
ヘキサン中の１．６Ｍのｎ−ブチルリチウム１．１ｃｍ3を−７８℃の温度で、アルゴン雰囲気下に保持された１６ｃｍ3の無水テトラヒドロフラン中の１．５ｇの４，１０β−ジアセトキシ−１，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液に滴下する。滴下が完了したら、反応混合物を−７８℃近辺の温度で２０分間撹拌し、次いで同温度で０．３ｃｍ3の３−フルオロベンゾイルクロリドを滴下する。反応混合物を−７８℃で３時間撹拌し続け、次いで温度を０℃近辺に上げ、次いで５ｃｍ3の飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。有機相を沈降により分離させ、１０ｃｍ3の蒸留水で２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。１．７ｇの白色の泡が得られ、それを直径が２．５ｃｍのカラムに含まれる５０ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９９／１）］、３ｃｍ3の画分を集める。所望の生成物のみを含む画分を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃近辺の温度で濃縮乾固する。かくして０．４８ｇの４，１０β−ジアセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−１−ヒドロキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で得られる。
４．８ｃｍ3の蟻酸中の０．４８ｇの４，１０β−ジアセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−１−ヒドロキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液を２０℃近辺の温度で２．５時間撹拌し、次いで減圧下（０．７ｋＰａ、次いで０．０７ｋＰａ）において３０℃で濃縮乾固する。残留物を２０ｃｍ3のジクロロメタン及び次いで２０ｃｍ3の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で処理する。沈降により水相を分離させ、２０ｃｍ3のジクロロメタンで再抽出する。有機相を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。０．３３ｇの白色の泡が得られ、それを直径が２ｃｍのカラムに含まれる２０ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９８／２）］、１０ｃｍ3の画分を集める。所望の生成物のみを含む画分を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃近辺の温度で濃縮乾固する。かくして０．０９１ｇの４，１０β−ジアセトキシ−１，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが白色の泡の形態で得られる。
２．５ｃｍ3の飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び２．５ｃｍ3の蒸留水及び次いで、１段階で、０．０１４ｃｍ3（１４μｌ）のベンゾイルクロリドを、アルゴン雰囲気下に保持された２．５ｃｍ3の酢酸エチル中の８７ｍｇの４，１０β−ジアセトキシ−１，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートの溶液に加える。反応混合物を２０℃近辺の温度で１５分間撹拌する。水相を沈降により分離させ、次いで３ｃｍ3の酢酸エチルで３回再抽出する。有機相を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。８８ｍｇの白色の泡が得られ、それを直径が１ｃｍのカラムに含まれる３ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９８／２）］、１．５ｃｍ3の画分を集める。画分１４〜２１を合わせ、減圧下（０．２７ｋＰａ）において４０℃近辺の温度で濃縮乾固する。かくして８０ｍｇの４，１０β−ジアセトキシ−１，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンゾイルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが白色の泡の形態で得られ、その特性は以下の通りである：
−旋光度：［α］20D＝−４５°（ｃ＝１．０、メタノール）
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ｐｐｍで示されるδ）
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．６９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８９（ｍｔ，１Ｈ，−（ＣＨ）−Ｈ６），１．９４（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ１），２．２６（ｓ，３Ｈ，１０位における−ＣＯＣＨ3），２．３２（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３７（ｓ，３Ｈ，４位における−ＣＯＣＨ3），２．５３（ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，１Ｈ，−ＯＨ７），２．５５（ｍｔ，１Ｈ，−（ＣＨ）−Ｈ６），３．６９（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−ＯＨ２’），３．８０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１８及び４．３０（２ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−（ＣＨ2）−２０），４．４０（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．７８（ｄｄ，Ｊ＝５及び３Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ｄｄ，Ｊ＝１０及び２Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．６５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ−２），５．７７（ｄｄ，Ｊ＝９．５及び３Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），６．２１（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．２８（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．００（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ，−ＮＨＣＯ−），７．３０〜７．５０（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5，−ＮＨＣＯＣ6Ｈ5（−Ｈ４），−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ４），７．５０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＨＣＯＣ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．５０（ｍｔ，１Ｈ，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ５）），７．６３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＨＣＯＣ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６）），７．８１（ブロードｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ２）），７．９４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ６））。
４，１０β−ジアセトキシ−１，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートは以下の方法で製造することができる：
４，１０β−ジアセトキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル（４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの電解還元を以下の特性を有する電解槽で行う：
−槽はカチオン交換膜により２室に分けられた５０ｃｍ3のガラス槽であり、
−陰極は作用面積が約１２ｃｍ3の水銀シートであり、
−陽極は白金格子であり、
−参照電極は飽和カロメル電極である。
５０ｃｍ3の
−４，１０β−ジアセトキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン
−５−カルボキシレート・・・・・・・・・・２．０ｇ
−メタノール・・・・・・・・・・・・・・・５０ｃｍ3
−テトラエチルアンモニウムアセテート・・・０．２Ｍとなる量
−酢酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．２８ｃｍ3
を含む溶液を陰極室に導入する。
約１０ｃｍ3の、基質を含まない同組成の溶液を陽極室に導入する。
槽を融解氷の浴中に沈める。内部温度は１０℃近辺のままである。アルゴン流を散布することにより溶液を１０分間脱気した後、陰極の電位を−２．０５ボルトに固定する。
基質の１モル当たり１ファラデーが通過した時に０．１１４ｃｍ3の酢酸を加えることにより、Ｈ+イオンの消費を補足する。電気抵抗が増す度に０．２６ｇのテトラエチルアンモニウムアセテートも陽極室に加える。
９６０クーロンが通過した後、電解を止める。溶媒を減圧下において３５℃以下の温度で蒸発させる。残留物を５０ｃｍ3の水に取り上げる。反応混合物を５０ｃｍ3の酢酸エチル及び次いで２５ｃｍ3の酢酸エチルで２回抽出する。有機相を５０ｃｍ3の炭酸水素ナトリウム水溶液で濯ぎ、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥する。濾過し、減圧下において３５℃以下の温度で溶媒を蒸発させた後、１．８６ｇの白色の固体が単離され、それを直径が２４ｍｍのカラムに含まれる１００ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにかける。溶離はジクロロメタン／メタノール（体積により９９／１）混合物を用いて行い、６ｃｍ3の画分を集める。期待の精製された生成物を含む画分１４０〜２２０を合わせ、減圧下（０．２７ｋＰａ）で濃縮乾固する。かくして０．７７ｇの４，１０β−ジアセトキシ−１，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で得られる。
４，１０β−ジアセトキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートは国際出願ＰＣＴ  ＷＯ  ９２０９５８９に記載の条件下で製造することができる。
実施例２
ヘキサン中の１．６Ｍのｎ−ブチルリチウム０．６５ｃｍ3を−７８℃近辺の温度で、アルゴン雰囲気下に保持された１０ｃｍ3の無水テトラヒドロフラン中の０．８ｇの４−アセトキシ−１，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液に滴下する。滴下が完了したら、反応混合物を−７８℃近辺の温度で３０分間撹拌し、次いで−７８℃の温度を保持しながらで０．１５７ｃｍ3の３−フルオロベンゾイルクロリドを滴下する。滴下が完了したら反応混合物を−７８℃近辺の温度で３時間撹拌し続け、次いで０℃近辺の温度に再加熱し、２ｃｍ3の飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。水相を沈降により分離させ、５ｃｍ3の酢酸エチルで３回再抽出する。有機相を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ、次いで０．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。０．９１ｇの白色の泡が得られ、それを直径が１．５ｃｍのカラムに含まれる２５ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９９／１）］、３ｃｍ3の画分を集める。画分３５〜４２を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃近辺の温度で濃縮乾固する。かくして０．５１ｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−１−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で得られる。
０．１ｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−１−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートを２ｃｍ3の０．１Ｎエタノール性塩酸溶液に加える。得られる溶液を０℃近辺の温度で１７時間撹拌し、次いで１０ｃｍ3のジクロロメタン及び５ｃｍ3の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。撹拌後、有機相を沈降により分離させ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。１２０ｍｇの白色の泡が得られ、それを直径が１ｃｍのカラムに含まれる３ｇのシリカ（０．０４〜０．０６３ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９９／１）］、１ｃｍ3の画分を集める。画分３１〜３８を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ、次いで０．０７ｋＰａ）において４０℃近辺の温度で濃縮乾固する。かくして４１ｍｇの４−アセトキシ−１，７β−ジヒドロキシ−５βｂ，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｒ，５Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で得られる。
２０℃近辺の温度で、０．５ｃｍ3の１Ｍアンモニウム水溶液を、１．５ｃｍ3の、メタノール中の４０ｍｇの４−アセトキシ−１，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液に加える。反応混合物を２０℃近辺の温度で１時間撹拌し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ、次いで０．７ｋＰａ）において２０℃で濃縮乾固する。残留固体を直径が１ｃｍのカラムに含まれる１．５ｇのシリカ（０．０４〜０．０６３ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９８／２）］、１ｃｍ3の画分を集める。画分６２〜７６を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。かくして４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で得られる。
０．１２ｃｍ3の蟻酸中の１２ｍｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液を２０℃近辺の温度で２．５時間撹拌し、次いで１０ｃｍ3のジクロロメタン及び０．５ｃｍ3の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。水相を沈降により分離させ、１ｃｍ3のジクロロメタンで再抽出する。有機相を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下（２．７ｋＰａ、次いで０．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。かくして１０ｍｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが白色の泡の形態で得られる。
１．４ｍｇの炭酸水素ナトリウム及び３．６ｍｇのジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネートを２０℃近辺の温度で、アルゴン雰囲気下に保持された２ｃｍ3のテトラヒドロフラン中の１０ｍｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートの溶液に加える。反応混合物を２０℃近辺の温度で８時間撹拌し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ）において３０℃近辺の温度で濃縮乾固する。残留固体を２ｃｍ3のジクロロメタン及び１ｃｍ3の蒸留水で処理する。撹拌後、有機相を沈降により分離させ、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。２１ｍｇの白色の泡が得られ、それをプレート上に堆積させたシリカゲル（ゲルの厚さ１ｍｍ、２０ｘ２０ｃｍプレート）上のクロマトグラフィーにより１０ｍｇづつ精製する。Ｕ．Ｖ．線を用いて所望の吸着生成物に対応する領域の位置を決定した後、この領域をこすり落とし、集められたシリカを焼結ガラス上で２ｃｍ3ジクロロメタンを用いて１０回、及び１ｃｍ3のメタノールを用いて５回洗浄する。濾液を合わせ、減圧下（０．２７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。かくして４ｍｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（３−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが白色の泡の形態で得られ、その特性は以下の通りである：
Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ｐｐｍで示されるδ）
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３７（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８２（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８７（ｍｔ，１Ｈ，−（ＣＨ）−Ｈ６），２．２７（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３７（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６０（ｍｔ，１Ｈ，−（ＣＨ）−Ｈ６），３．９３（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１８（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，−（ＣＨ）−Ｈ２０）、４．２３（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．３２（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，−（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６１（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２１（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．３３（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４１（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２１（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３０〜７．５０（ｍｔ，６Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ４），７．５１（ｍｔ，１Ｈ，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ５）），７．８１（ブロードｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ２））、７．９２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ，−ＯＣＯＣ6Ｈ4Ｆ（−Ｈ６））。
４−アセトキシ−１，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートは以下の方法で製造することができる：
４−アセトキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル（４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートの電解還元を以下の特性を有する電解槽で行う：
−槽はカチオン交換膜により２室に分けられた１０ｃｍ3のガラス槽であり、
−陰極は作用面積が約４ｃｍ3の水銀シートであり、
−陽極は白金格子であり、
−参照電極は飽和カロメル電極である。
５０ｃｍ3の
−４−アセトキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレート・・・０．４０１ｇ
−メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２７ｃｍ3
−テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート・０．１Ｍ
−テトラブチルアンモニウムアセテート・・・・０．０２Ｍとなる量
−酢酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．０２Ｍ
を含む溶液を陰極室に導入する。
メタノール中の約０．２Ｍの塩酸溶液を約１０ｃｍ3陽極室に導入する。
槽を融解氷の浴中に沈める。内部温度は７℃近辺のままである。アルゴン流を散布することにより溶液を１０分間脱気した後、陰極の電位を−１．９ボルトに固定し、次いで１５０クーロンの通過後に−２．０ボルトに固定する。
電気抵抗が増したら３．８Ｍのメタノール性塩酸溶液を陽極室に加える。
４５０クーロンが通過した後、電解を止める。溶媒を減圧下において３５℃以下の温度で蒸発させる。残留物を２５ｃｍ3の酢酸エチル、及び次いで２５ｃｍ3の脱イオン水に取り上げる。水相を沈降により分離させ、１２．５ｃｍ3の酢酸エチルで２回抽出する。有機相をｐＨ７．４において２５ｃｍ3のリン酸ナトリウム緩衝液で濯ぎ、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥する。濾過し、減圧下において３５℃以下の温度で溶媒を蒸発させた後、０．３５５ｇの白っぽい泡が単離され、それを直径が１５ｍｍのカラムに含まれる１０ｇのシリカ（０．０４〜０．０６３ｍｍ）上のクロマトグラフィーにかける。溶離はジクロロメタン／メタノール（体積により９８／２）混合物を用いて行い、１５ｃｍ3の画分を集める。期待の精製された生成物を含む画分２１〜２５を合わせ、減圧下（０．２７ｋＰａ）において３５℃以下の温度で濃縮乾固する。かくして１９５ｍｇの４−アセトキシ−１，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で、５５％の収率で得られる。
４−アセトキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートは以下の方法で製造することができる：
０．９６ｇの（４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボン酸、０．６６ｇのＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド及び０．１２ｇの４−ジメチルアミノピリジンを１５ｃｍ3のトルエン中の１．４６ｇの４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−１，１３α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセンの溶液に加える。反応混合物を８０℃近辺の温度に３時間撹拌しながら加熱し、次いで２０℃の温度に冷却し、５０ｃｍ3のジクロロメタン及び１５０ｃｍ3の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合物中に注ぐ。有機相を沈降により分離させ、２０ｃｍ3の蒸留水で２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。２．５ｇの白色の泡が得られ、それを直径が３ｃｍのカラムに含まれる７５ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９９／１）］、３ｃｍ3の画分を集める。画分４２〜５９を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ、次いで０．０７ｋＰａ）において４０℃の温度で濃縮乾固する。かくして１．９ｇの４−アセトキシ−１−ヒドロキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られる。
（４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニルオキサゾリジン−５−カルボン酸は出願ＰＣＴ  ＷＯ  ９２０９５８９に記載の方法似従って製造することができる。
４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−１，１３α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセンは以下の方法で製造することができる：
２．７１ｇのメトキシアセチルクロリドを５℃近辺の温度で、アルゴン雰囲気下に保持された１２５ｃｍ3の無水ピリジン中の３．２９ｇの４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−１，１０β，１３α−トリヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセンの溶液に５分かけて滴下する。滴下が完了したら、反応混合物を５℃近辺の温度で１４時間、次いで２０℃近辺の温度で２４時間撹拌し、２５０ｃｍ3のジクロロメタン及び１０００ｃｍ3の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合物中に注ぐ。有機相を沈降により分離させ、１００ｃｍ3の蒸留水で２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。４．１ｇのベージュ色の泡が得られ、それを直径が３ｃｍのカラムに含まれる８０ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製する［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９９／１）］。所望の生成物のみを含む画分を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃の温度で濃縮乾固する。かくして２．９ｇの４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−１，１３α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセチルオキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセンが白色の泡の形態で得られる。
４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−１，１０β，１３α−トリヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセンはＪ−Ｎ．Ｄｅｎｉｓ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，５９１７（１９８８）により記載の方法に従って製造することができる。
実施例３
４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−フェニル−２−ヒドロキシプロピオネート（又はドセタキセル（ｄｏｃｅｔａｘｅｌ））の電解還元を以下の特性を有する電解槽で行う：
−槽はカチオン交換膜により２室に分けられた５０ｃｍ3のガラス槽であり、
−陰極は作用面積が約４ｃｍ3の水銀シートであり、
−陽極は白金格子であり、
−参照電極は飽和カロメル電極である。
４０ｃｍ3の
−４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１，７β，１０β−トリヒドロキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−フェニル−２−ヒドロキシプロピオネート（７３％において検定、すなわち２９３ｍｇの純粋なドセタキセル）・・・０．４０２ｇ
−メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０ｃｍ3
−テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート・０．８７ｇ
−テトラエチルアンモニウムアセテート・・・・・・・２．６１ｇ
−酢酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．４ｃｍ3
を含む溶液を陰極室に導入する。
１体積％の硫酸水溶液を約１０ｃｍ3陽極室に導入する。
アルゴン流を散布することにより溶液を１０分間脱気した後、電解の開始時に陰極の電位を−１．８５ボルトに固定する。電位は徐々に下げ、電解の最後に−２．０２ボルトとする。
４８０クーロンが通過した後、電解を止める。溶媒を減圧下において３５℃以下の温度で蒸発させる。残留物を２０ｃｍ3の水に取り上げ、２０ｃｍ3のジクロロメタンで３回抽出する。有機相を２０ｃｍ3の飽和塩化ナトリウム水溶液で濯ぎ、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥する。濾過し、減圧下において３５℃以下の温度で溶媒を蒸発させた後、得られる粗生成物を直径が２４ｍｍのカラムに含まれる５０ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにかける。溶離は１、２及び３体積％のメタノールを含有ジクロロメタン／メタノール混合物を用いて行う。期待の精製された生成物を含む画分を合わせ、減圧下（０．２７ｋＰａ）において３５℃以下の温度で濃縮乾固する。かくして１３６ｍｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−１，２α，７β，１０β−テトラヒドロキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−フェニル−２−ヒドロキシプロピオネートが白色の泡の形態で、５３％の収率で得られる。
かくして得られる生成物は７β−及び１０β−位、ならびに側鎖の２−位のヒドロキシル官能基を保護した後、２−位においてアシル化することができる。
実施例４
４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１，１０β−ジヒドロキシ−７α−トリエチルシリルオキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−フェニル−２−（トリエチルシリルオキシ）プロピオネートの電解還元を以下の特性を有する電解槽で行う：
−槽はカチオン交換膜により２室に分けられた５０ｃｍ3のガラス槽であり、
−陰極は作用面積が約１２ｃｍ3の水銀シートであり、
−陽極は白金格子であり、
−参照電極は飽和カロメル電極である。
２５ｃｍ3の
−４−アセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１，１０β−ジヒドロキシ−７α−トリエチルシリルオキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−フェニル−２−（トリエチルシリルオキシ）プロピオネート・・・・・・・・・・・・・・・５００ｍｇ
−メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５ｃｍ3
−テトラエチルアンモニウムアセテート・・・・・０．１Ｍとなる量
−酢酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｃｍ3
を含む溶液を陰極室に導入する。
約２５ｃｍ3の基質を含まない同一の溶液を陽極室に導入する。
槽を融解氷を含む冷却浴中に沈める。反応混合物の温度は４℃近辺である。アルゴン流を散布することにより溶液を１０分間脱気した後、電解の開始時に陰極の電位を−１．９５ボルトに固定する。
３４０クーロンが通過した後、電解を止める。得られる溶液に、５０％に希釈された６体積の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。２５ｃｍ3の酢酸エチルを用いて３回抽出する。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で濯ぎ、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥する。濾過し、減圧下において３５℃以下の温度で溶媒を蒸発させた後、得られる粗生成物を直径が２０ｍｍのカラムに含まれる５０ｇのシリカ上のクロマトグラフィーにかける。溶離はジクロロメタン／メタノール混合物を用いて４バールの圧力下で行う。期待の精製された生成物を含む画分１２〜５９を合わせ、減圧下（０．２７ｋＰａ）において３５℃以下の温度で濃縮乾固する。かくして２４８ｍｇの４−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−１，２α，１０β−トリヒドロキシ−７α−トリエチルシリルオキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−フェニル−２−（トリエチルシリルオキシ）プロピオネートが白色の泡の形態で、５５％の収率で得られる。
かくして得られる生成物は１０β−位のヒドロキシル官能基を保護した後、２−位においてアシル化することができる。
実施例５
１０−デアセチルバッカチンＩＩＩの電解還元を以下の特性を有する電解槽で行う：
−槽はカチオン交換膜により２室に分けられた１００ｃｍ3のガラス槽であり、
−陰極は作用面積が約１２ｃｍ3の水銀シートであり、
−陽極は白金格子であり、
−参照電極は飽和カロメル電極である。
５０ｃｍ3の
−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ・・・・・・・・５００ｍｇ
−テトラメチルアンモニウムアセテート・・・・・・・０．１Ｍ
−酢酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．１Ｍ
−メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５０ｃｍ3
を含む溶液を陰極室に導入する。
０．１５Ｍの硫酸水溶液１０ｃｍ3を陽極室に導入する。
アルゴン流を散布することにより溶液を１０分間脱気した後、それを電解の持続時間を通じて保持し、陰極の電位を参照電極に関して−１．９ボルトに固定する。
溶液を１６０分間、すなわち７００クーロン（すなわち１モル当たり７．６ファラデー）が通過するのに必要な時間、電解する。減圧下において３５℃で溶媒を除去した後、残留物を２０ｃｍ3の酢酸エチル及び２０ｃｍ3の塩化ナトリウムを飽和させた水に取り上げ、０．２Ｍのリン酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７に緩衝する。沈降により分離させた後、水相を酢酸エチル（各回１０ｃｍ3）を用いて抽出し尽くされるまで抽出する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下において３５℃近辺の温度で溶媒を蒸発させた後、３７０ｍｇの粗生成物が得られ、それを直径が２ｃｍで高さが３ｃｍのシリカカラム（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ  ６０Ｆ  ２５４，Ｍｅｒｃｋ）上のクロマトグラフィーにより精製する。溶離は合計５００ｃｍ3のメタノール／メチレンクロリド／酢酸エチル（体積により５／４７．５／４７．５）混合物、合計２５０ｃｍ3のメタノール／メチレンクロリド／酢酸エチル（体積により１０／４５／４５）混合物及び合計２５０ｃｍ3のメタノール／酢酸エチル（体積により１０／９０）混合物を連続的に用いて行う。最初の溶離液の５０ｃｍ3目から、第２の溶離液の全部、及び最後の溶離液の最初の９０ｃｍ3の間に溶離された画分を蒸発させ、得られる生成物を減圧下（０．２７ｋＰａ）において乾燥した後、３３７．４ｍｇの４，１０β−ジアセトキシ−１，２α，７β，１３α−テトラヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−１１−タキセンが８３％の収率で得られる。
実施例６
ヘキサン中の１．４Ｍのｎ−ブチリリチウムの溶液２．３０ｃｍ3及び５１０ｍｇの４−メトキシベンゾイルクロリドを−７８℃近辺の温度において、アルゴン雰囲気下及び撹拌下に保持された２０ｃｍ3のテトラヒドロフラン中の１．５ｇの４α−アセトキシ−１β，２α−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液に連続して加える。かくして溶液を３０分間撹拌し続け、次いで３ｃｍ3の飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。反応混合物を１時間かけて２０℃近辺の温度とする。得られる溶液を１０ｃｍ3の酢酸エチル及び１００ｃｍ3の飽和塩化アンモニウム水溶液の混合物中に注ぐ、水相を沈降により分離させ、次いで５０ｃｍ3の酢酸エチルで２回抽出する。有機相を合わせ、５０ｃｍ3の蒸留水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。２．１５ｇの白色の泡が得られ、それを直径が４ｃｍのカラムに含まれる１５００ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：酢酸エチル／シクロヘキサン（体積により３０／７０）］、１０ｃｍ3の画分を集める。所望の生成物のみを含む画分を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。０．７６０ｇの４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−２α−（４−メトキシベンゾイルオキシ）−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが白色の泡の形態で得られ、その特性は以下の通りである：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．５９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル，０．９３（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．１０（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．６７（２，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．７３（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．８６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．１２及び２．２０（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2１４），２．４９（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８３（ｓ，３Ｈ，５’位におけるＡｒ−ＯＣＨ3），３．８９（ｓ，３Ｈ，２位におけるＡｒ−ＯＣＨ3），４．１０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．１８（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．２４（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５８（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４３（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０７（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３９（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４４（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５））；６．９８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＨ3にオルト位の芳香族−Ｈ），７．３０〜７．４５（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5及び５’位におけるＣ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６）），７．９９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＨ3にメタ位の芳香族ーＨ）。
１３ｃｍ3の０．１Ｎエタノール性塩酸溶液中の０．７５０ｇの４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−２α−（４−メトキシベンゾイルオキシ）−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートの溶液を２０℃近辺の温度で１６時間撹拌し続ける。反応混合物を減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。粗反応生成物を１００ｃｍ3のジクロロメタン及び１００ｃｍ3の飽和重炭酸ナトリウム水溶液に溶解する。有機相を沈降により分離させ、次いで５０ｃｍ3のジクロロメタンで２回抽出する。有機相を合わせ、５０ｃｍ3の蒸留水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。１．０ｇの白色の泡が得られ、それを直径が４ｃｍのカラムに含まれる１０００ｇのシリカ（０．０６３〜０．２ｍｍ）上のクロマトグラフィーにより精製し［溶離剤：酢酸エチル／シクロヘキサン（体積により３０／７０）］、１０ｃｍ3の画分を集める。所望の生成物のみを含む画分を合わせ、減圧下（２．７ｋＰａ）において４０℃で濃縮乾固する。０．２５０ｇの４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセトキシ−２α−（４−メトキシベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが白色の泡の形態で得られ、その特性は以下の通りである：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３６（ｓ，９Ｈ，−（ＣＨ3）3），１．６９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８０〜１．９５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．３０（ｍｔ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４０（ｓ，３Ｈ，ＣＯＣＨ3），２．５５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．４９（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８９（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１７（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２４（ｌｉｍｉｔ  ＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．３１（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．６４（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９５（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２５（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．５２（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６４（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２２（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＨ3にオルト位の芳香族−Ｈ），７．２５〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．０５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＨ3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例７
１ｇの粉末４Åモレキュラーシーブ及び０．７００ｇのヨウ化亜鉛を、２５℃近辺の温度で撹拌下に保持された１５ｃｍ3のメタノール中の０．２００ｇの４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセトキシ−２α−（４−メトキシベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートの溶液に連続して加える。かくして溶液を５時間撹拌し続け、次いで１０ｃｍ3の蒸留水を加える。反応混合物を濾過し、沈澱を５ｃｍ3の酢酸エチル及び５ｃｍ3の蒸留水で濯ぐ。有機相を沈降により分離させる。水相を減圧下（２．７ｋＰａ）において濃縮し、２０ｃｍ3の酢酸エチル及び２０ｃｍ3の蒸留水に取り上げる。有機相を合わせ、２０ｃｍ3の飽和チオ硫酸ナトリウム溶液及び２０ｃｍ3の蒸留水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧下（２．７ｋＰａ）において濃縮乾固する。０．１００ｇの黄色の油が得られ、それを厚さが２ｍｍのシリカプレート上の分取クロマトグラフィーにより精製する［溶離剤：ジクロロメタン／メタノール（体積により９５／５）］。かくして０．０４８ｍｇの４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−メトキシベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが白色の泡の形態で得られ、その特性は以下の通りである：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３７（ｓ，９Ｈ，−（ＣＨ3）3），１．７２（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．７５〜１．９０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４０（ｓ，３Ｈ，ＣＯＣＨ3），２．６１（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３２（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．８９（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．９２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２１（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２３（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．３３（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６３（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９５（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２１（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．２７（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４３（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２３（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＨ3にオルト位の芳香族−Ｈ），７．２５〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．０８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＨ3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例８
適した出発材料から、実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−フルオロベンゾイルオキシ）−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．６０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル，０．９４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０８（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．６５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．７１（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．８６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．０９及び２．１８（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８１（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．０９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．１６（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．１９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５７（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８５（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４３（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０６（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３９（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４３（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５））；７．１３（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｆにオルト位の芳香族−Ｈ），７．３０〜７．４５（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5及び５’位におけるＣ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６）），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｆにメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−フルオロベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３５（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８９（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．２７及び２．３３（２ｄｄ，Ｊ＝１７及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４０（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３３（ブロード非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．５３（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．８１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１７（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２６（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．２９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４２（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．６６（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ｄｄ，Ｊ＝１０及び１．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２７（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．３７（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６６（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２５（ブロードｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３９（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．１９（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｆにオルト位の芳香族−Ｈ），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．１３（ｄ，Ｊ＝８．５及び６Ｈｚ，２Ｈ，−Ｆにメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例９
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−４−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３７（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６３（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３９（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３３（非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２１（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２４（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．３１（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６４（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ｄｄ，Ｊ＝１０及び１．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２１（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．２７（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４３（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２４（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．１９（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｆにオルト位の芳香族−Ｈ），７．２５〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．１２（ｄｄ，Ｊ＝８．５及び６Ｈｚ，２Ｈ，−Ｆにメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例１０
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−［４−（トリフルオロメチル）ベンゾイルオキシ］−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．６０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル，０．９６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０９（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．６４（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．６６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．１１及び２．１９（２ｄｄ，Ｊ＝１５及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．５０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７３（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８２（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．１７（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．２０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５８（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４５（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６３（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０５（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４５（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．３５〜７．４５（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5及び５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６））；７．７６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＦ3にオルト位の芳香族−Ｈ），８．１４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＦ3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−［４−（トリフルオロメチル）ベンゾイルオキシ］−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−４−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３２（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８５〜１．９５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．３０（スプリットリミットＡＢ，Ｊ＝１８及び９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４２（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．２０〜３．６０（ブロード非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．８４（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１８（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２６（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．２８（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），４．６８（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．３０（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４２（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２８（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＦ3にオルト位の芳香族−Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＦ3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例１１
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−［４−（トリフルオロメチル）ベンゾイルオキシ］−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−４−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ１６又は１７），１．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３４（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８０〜１．９５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８（ｍｔ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４２（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６１（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３２（非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１０〜４．３５（ブロード非分解ピーク，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．１９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２５（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．２９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６６（ブロードｓ，１Ｈ，Ｈ２’，４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２１（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．３０（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４１（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２７（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＦ3にオルト位の芳香族−Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＦ3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例１２
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（２−フルオロベンゾイルオキシ）−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．６０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル），０．９４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．１０（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６及び−ＣＨ3１７），１．６８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．７４（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．８１（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），１．８６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．１７及び２．２２（２ｄｄ，Ｊ＝１５及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3，３．７１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８２（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１０〜４．２５（ｍｔ，４Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−及び−ＣＨ2−２０），４．４２（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５８（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４５（非常にブロードなｓ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０８（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（非常にブロードなｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４５（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．１６（ｍｔ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３）），７．２８（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ５）），７．３５〜７．４５（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5及び５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６））；７．５８（ｍｔ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ４）），７．９６（ｄｄ，Ｊ＝８．５及び８Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ６））。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（２−フルオロベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−４−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．４０（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．９２（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．３２（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．３３（ｍｔ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．５６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２６（リミットＡＢ，Ｊ＝１７Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．２８（リミットＡＢ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−２０），４．４０（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），４．６１（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９５（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２４（大ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４７（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−，５．７０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．１９（ブロードｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３８（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．２０（ｄｄ，Ｊ＝１０．５及び８．５Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３）），７．２８（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ５）），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．６０（ｍｔ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ４）），８．０３（ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ及び８Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ６））。
実施例１３
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（２−フルオロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−４−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３８（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７３（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．３０（ｍｔ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３０（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２３（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２３（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．２８（リミットＡＢ，Ｊ＝９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−２０），４．６０（ブロードｓ，１Ｈ，Ｈ２’），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝１０及び１．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２１（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．２５（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４９（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．７０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．１９（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．２０（ｄｄ，Ｊ＝１０．５及び８．５Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３）），７．２９（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ５）），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．５９（ｍｔ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ４）），８．０３（ｄｄ，Ｊ＝８．５及び８Ｈｚ，１Ｈ，２位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ６））。
実施例１４
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルオキシ）−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．６０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル，０．９３（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．１０（ｓ，９Ｈ，−ｃ（ＣＨ3）3），１．１８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３８（ｓ，９Ｈ，Ａｒ−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６８（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８７（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．１３及び２．２０（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４９（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７３（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８２（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．１５（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ），４．２７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４４（ｄｄ，Ｊ＝１１及び６．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５８（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８７（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４４（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６３（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０６（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３８（ｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４４（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．３５〜７．４５（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5及び５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６））；７．４９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3にオルト位の芳香族−Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３５（ｓ，１８Ｈ，−（ＣＨ3）3），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．７５（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．８８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．９０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．２８及び２．３７（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３６（ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ，７位における−ＯＨ），２．４１（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３４（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．５４（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．８２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２８（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．３６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｍｔ，１Ｈ，Ｈ７），４．６３（ブロードｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９７ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２８（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．３８（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２５（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．５２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3にオルト位の芳香族−Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例１５
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３７（ｓ，１８Ｈ，−（ＣＨ3）3），１．７２（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８（リミットＡＢ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４２（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３８（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２３（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２５（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．３６（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６４（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２２（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．２８（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４６（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２３（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．５２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3にオルト位の芳香族−Ｈ），８．０４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3にメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例１６
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−ニトロベンゾイルオキシ）−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．５９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル），０．９３（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０７（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．６４（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ3１９及び−ＣＨ3１８），１．８３（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．０７及び２．１８（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４９（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８２（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．０６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．１６（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．１６（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４１（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５８（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４３（非分解ピーク，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０３（ブロードｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（非分解ピーク，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４３（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及びＨ６）），７．４２（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．１８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＯ2にメタ位の芳香族−Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＯ2にオルト位の芳香族−Ｈ）。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−ニトロベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３５（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６７（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８７（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８及び２．３４（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ，７位における−ＯＨ），２．４３（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６２（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３２（非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９６（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２３（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２５（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．２６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６８（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２２（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．３１（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４１（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２７（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３０〜７．５０（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．３０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＯ2にメタ位の芳香族−Ｈ），８．３８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＯ2にオルト位の芳香族−Ｈ）。
実施例１７
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−ニトロベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．３５（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６７（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８７（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８及び２．３４（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ，７位における−ＯＨ），２．４３（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６２（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３２（非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９６（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２３（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２５（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．２６（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６８（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２２（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．３１（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４１（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２７（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３０〜７．５０（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．３０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＯ2にメタ位の芳香族−Ｈ），８．３８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＮＯ2にオルト位の芳香族−Ｈ）。
実施例１８
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−エチルベンゾイルオキシ）−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．５８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル），０．９３（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０７（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ，Ａｒ−ＣＨ2−ＣＨ3），１．６５（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８３（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８４（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．０９及び２．１８（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．７４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，Ａｒ−ＣＨ2−エチル），３．５１（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８２（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．０９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．１７（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．２５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４２（ｄｄ，Ｊ＝１１及び７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５７（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４１（非分解ピーク，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０６（ブロードｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３９（非分解ピーク，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４４（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．３０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ，エチルにオルト位の芳香族−Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６）），７．４１（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．９５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ，エチルにメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−エチルベンゾイルオキシ）−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．３５（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．７６（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．８８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．９０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．３０（リミットＡＢ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３８（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ，７位における−ＯＨ），２．４１（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．７４（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，ＡｒＣＨ2−エチル），３．３５（ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．５３（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．８０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２６（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．３４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４３（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．６４（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２７（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．３９（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２４（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．４０（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．３４（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ，エチルにオルト位の芳香族−Ｈ），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．０３（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ，エチルにメタ位の芳香族−Ｈ）。
実施例１９
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−（４−エチルベンゾイルオキシ）−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．３８（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．７０（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．２８（リミットＡＢ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３８（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．６０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．７３（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，ＡｒＣＨ2−エチル），３．３５（非分解ピーク，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．９１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２３（ブロードｓ，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２５（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．３４（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．６４（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２１（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．２７（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．４５（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．２２（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，エチルにオルト位の芳香族−Ｈ），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，エチルにオルト位の芳香族−Ｈ）。
実施例２０
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−ペンタフルオロベンゾイルオキシ−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．５７（ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル），０．９２（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０７（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．５４（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．６７（ｓ，９Ｈ，−ＣＨ3１９，−ＣＨ3１８及び−ＣＯＣＨ3），１．８６（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．０５及び２．１９（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．４８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５２（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．６８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８２（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１６（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．１８（リミットＡＢ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−２０），４．３８（ｄｄ，Ｊ＝１１及び６．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５６（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８２（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．４０（非分解ピーク，１Ｈ，−Ｈ３’），５．６２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．０７（ブロードｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３７（非分解ピーク，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４３（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．３５〜７．４５（ｍｔ，７Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5及び５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６））。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−２α−ペンタフルオロベンゾイルオキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．４２（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６８（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．７２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．９１（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．２０（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．２３及び２．３５（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．３８（ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，１Ｈ，７位における−ＯＨ），２．５７（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３９（ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．５３（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．７８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２７（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．３０（リミットＡＢ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−２０），４．３９（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５７（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９４（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．１９（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．３５（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．１６（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３８（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5）。
実施例２１
実施例７におけると同様に反応を行うことにより４α−アセトキシ−５β，２０−エポキシ−２α−ペンタフルオロベンゾイルオキシ−９−オキソ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６８（ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ，１Ｈ，７位における−ＯＨ），１．７８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．７５〜１．９０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．８３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），２．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．２０及び２．２９（２ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，それぞれ１Ｈ，−ＣＨ2−１４），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．８８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．１５〜４．３０（非分解ピーク，１Ｈ，１０位における−ＯＨ），４．２２（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．３０（リミットＡＢ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ2−２０），４．５５（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９３（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．１９（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．２０（ブロードｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），５．４５（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．６８（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．１５（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5）。
実施例２２
適した出発材料から実施例６におけると同様に反応を行うことにより２α，４α−ジアセトキシ−５β，２０−エポキシ−１β−ヒドロキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−７β−トリエチルシリルオキシ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（４−メトキシフェニル）−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボキシレートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．５９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル），０．９２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０９（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．５８（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．６０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８２（ｓ，３Ｈ，４位における−ＣＯＣＨ3），１．８５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９５（ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ１４），２．０３（ｓ，３Ｈ，２位における−ＣＯＣＨ3），２．１８（ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ１４），２．４７（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５１（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．６０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８１（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１３（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．１５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４０（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５３（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．３５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），５．４６（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．９９（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３７（ｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４０（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．３０〜７．５０（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６））。
実施例６におけると同様に反応を行うことにより２α，４α−ジアセトキシ−１β，７β−ジヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−１０β−メトキシアセトキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
１．１０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．２４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．６５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．８５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．９０（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），２．１３（ｓ，３Ｈ，２位における−ＣＯＣＨ3），２．２３（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ１４），２．２６（ｓ，３Ｈ，−ＣＯＣＨ3），２．３６（ｍｔ，２Ｈ，７位における−ＯＨ及び＞（ＣＨ）−Ｈ１４），２．５８（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．３２（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，２’位における−ＯＨ），３．５３（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．９０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），４．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．２５（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．３９（ｍｔ，１Ｈ，Ｈ７），４．５０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．５７（ｄｄ，Ｊ＝５．５及び２Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．９６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．２０（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．３７（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＯＮＨ−），５．４１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），６．１５（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３７（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），７．３０〜７．４５（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5）。
実施例２３
実施例７におけると同様に反応を行うことにより２α，４α−ジアセトキシ−１β，７β，１０β−トリヒドロキシ−５β，２０−エポキシ−９−オキソ−１１−タキセン−１３α−イル  （２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートが得られ、それは以下の特性を有する：
−Ｎ．Ｍ．Ｒ．スペクトル：（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍで示されるδ）：
０．５９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ2−エチル），０．９２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，９Ｈ，−ＣＨ3エチル），１．０９（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ3）3），１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１６又は１７），１．５８（ｓ，１Ｈ，１位における−ＯＨ），１．６０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１９），１．６６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ3１８），１．８２（ｓ，３Ｈ，４位における−ＣＯＣＨ3），１．８５（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），１．９５（ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ１４），２．０３（ｓ，３Ｈ，２位における−ＣＯＣＨ3），２．１８（ｄｄ，Ｊ＝１６及び９Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ１４），２．４７（ｍｔ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ６），３．５１（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ3），３．６０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３），３．８１（ｓ，３Ｈ，Ａｒ−ＯＣＨ3），４．１３（リミットＡＢ，Ｊ＝１６Ｈｚ，２Ｈ，−ＯＣＯＣＨ2Ｏ−），４．１５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ，＞（ＣＨ）−Ｈ２０），４．４０（ｍｔ，１Ｈ，−Ｈ７），４．５３（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２’），４．８６（ブロードｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ５），５．３５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ２），５．４６（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ３’），５．９９（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ，−Ｈ１３），６．３７（ｓ，１Ｈ，−Ｈ５’），６．４０（ｓ，１Ｈ，−Ｈ１０），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位における−Ｃ6Ｈ5（−Ｈ３及び−Ｈ５）），７．３０〜７．５０（ｍｔ，５Ｈ，３’位における−Ｃ6Ｈ5），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ，５’位におけるＣ6Ｈ5（−Ｈ２及び−Ｈ６））。
一般式（Ｉ）の新規な生成物は異常な細胞増殖に関する有意な阻害活性を現し、異常な細胞増殖に伴う病的状態を有する患者を処置することを可能にする治療性を有する。病的状態には、これらに限定するつもりはないが、筋肉、骨又は結合組織、皮膚、脳、肺、性器官、リンパ又は腎系、乳房又は血液細胞、肝臓、消化系、すい臓及び甲状腺又は副腎腺を含む種々の組織及び／又は器管の悪性又は良性細胞の異常な細胞増殖が含まれる。これらの病的状には乾癬、充実性腫瘍、卵巣、肺、脳、前立腺、大腸、胃、腎臓又は精巣の癌、カポジー肉腫、胆管癌、絨毛癌、神経芽腫、ウィルムス腫瘍、ホジキンス病、黒色腫、骨髄腫、慢性リンパ性白血病、及び急性又は慢性顆粒球リンパ腫も含まれ得る。本発明の新規な生成物は卵巣癌の処置に特に有用である。本発明の生成物は病的状態の発現又は再発を予防又は遅らせるために、あるいはこれらの病的状態の処置のために用いることができる。
本発明の生成物は選ばれる投与経路の適した種々の形式に従って患者に投与することができ、投与経路は非経口的経路が好ましい。非経口的経路は静脈内、腹腔内、筋肉内又は皮下投与を含む。腹腔内又は静脈内投与が特に好ましい。
本発明は、少なくとも１種の一般式（Ｉ）の生成物を人間の医学又は獣医学における治療に用いるのに適した十分な量で含む製薬学的組成物も含む。組成物は１種又はそれ以上の製薬学的に許容し得る添加剤、ビヒクル又は賦形剤を用いて通常の方法に従って調製することができる。適したビヒクルには希釈剤、無菌水性媒体及び種々の無毒性溶剤が含まれる。組成物は水性の溶液又は懸濁液、注射可能な溶液の形態をとるのが好ましく、それは乳化剤、着色剤、防腐剤又は滅菌剤を含むことができる。
添加剤又は賦形剤の選択は、生成物の溶解度及び化学的性質、投与の特定の様式及び優れた製薬学的慣習により決定することができる。
非経口的投与の場合、無菌の水性又は非水性溶液又は懸濁液が用いられる。非水性溶液又は懸濁液の調製の場合、天然植物油、例えばオリーブ油又はゴマ油、あるいは液体パラフィン又は注射可能な有機エステル、例えばオレイン酸エチルを用いることができる。無菌の水溶液は水中に溶解された製薬学的に許容し得る塩から成ることができる。水溶液は、ｐＨが適当に調節され、溶液が例えば十分な量の塩化ナトリウム又はグルコースを用いて等張としてあれば、静脈内投与に適している。滅菌は加熱、又は組成物に悪影響を及ぼさない他のいずれかの手段により行うことができる。
本発明の組成物に関与する生成物はすべて純粋であり、用いられる量で無毒性でなければならないのは明らかである。
組成物は少なくとも０．０１％の治療的活性生成物を含むことができる。組成物中の活性生成物の量は適した投薬量を処方することを可能にする量である。組成物は、非経口的投与の場合単投薬量が約０．０１〜１，０００ｍｇの活性生成物を含むように調製されるのが好ましい。
治療的処置は、抗悪性腫瘍薬、モノクローナル抗体、免疫療法又は放射線療法、あるいは生体応答調節物質を含む他の治療処置と連帯的に行うことができる。応答調節物質には、これらに限定するつもりはないが、リンホカイン類及びサイトカイン類、例えばインターロイキン類、インターフェロン類（α，β又はδ）及びＴＮＦが含まれる。異常な細胞増殖に起因する疾患の処置に有用な他の化学療法薬には、これらに限定するつもりはないが、ナイトロジェンマスタード類などのアルキル化剤、例えばメクロエタミン、シクロホスファミド、メルファラン及びクロラムブシル、アルキルスルホネート類、例えばブスルファン、ニトロソウレア類、例えばカルムスチン、ロムスチン、セムスチン及びストレプトゾシン、トリアゼン類、例えばダカルバジン、代謝拮抗物質、例えば葉酸類似体、例えばメトトレキセート、ピリミジン類似体、例えばフルオロウラシル及びシタラビン、プリン類似体、例えばメルカプトプリン及びチオグアニン、天然物、例えばビンカアルカイド類、例えばビンブラスチン、ビンクリスチン及びベンデシン、エピポドフィロトキシン類、例えばエトポシド及びテニポシド、抗生物質、例えばダクチノマイシン、ダウノルビシン、ドキソルビシン、ブレオマイシン、プリカマイシン及びミトマイシン、酵素類、例えばＬ−アスパラギナーゼ、種々の試薬、例えば白金の配位錯体、例えばシスプラチン、置換ウレア類、例えばヒドロキシウレア、メチルヒドラジン誘導体、例えばプロカルバジン、アドレノコルチコイド抑制剤、例えばミトーテン及びアミノグルテチミド、ホルモン類及び拮抗薬、例えば副腎皮質ステロイド、例えばプレドニゾン、プロゲスチン類、例えばヒドロキシプロゲステロンカプロエート、メトキシプロゲステロンアセテート及びメゲステロールアセテート、エストロゲン類、例えばジエチルスチルベストロール及びエチニルエストラジオール、アンチエストロゲン類、例えばタモキシフェン、ならびにアンドロゲン類、例えばテストステロンプロピオネート及びフルオキシメステロンが含まれる。
本発明の方法の実行のために用いられる投薬量は予防処置又は最大治療応答を可能にする投薬量である。投薬量は投与の形態、選ばれた特定の生成物及び処置されるべき患者に独特の特徴に従って変化する。一般に投薬量は異常な細胞増殖に起因する疾患の処置のために治療的に有効な投薬量である。本発明の生成物は所望の治療効果を得るために必要なだけ頻繁に投与することができる。いくらかの患者は比較的高い、又は低い投薬量に迅速に応答することができ、従って必要な維持量が低いか又はゼロである。一般に処置の開始時には低投薬量が用いられ、必要なら最適効果が得られるまで徐々に高投薬量を投与する。他の患者の場合、問題の患者の生理学的必要性に従って１日に１〜８回、好ましくは１〜４回の維持量の投与が必要である。いくらかの患者の場合、１日１〜２回の投与のみを用いることもできる。
人間の場合、一般に投薬量は０．０１〜２００ｍｇ／ｋｇである。腹腔内の場合、投薬量は一般に０．１〜１００ｍｇ／ｋｇ、好ましくは０．５〜５０ｍｇ／ｋｇ、特に好ましくは１〜１０ｍｇ／ｋｇである。静脈内の場合、投薬量は一般に０．１〜５０ｍｇ／ｋｇ、好ましくは０．１〜５ｍｇ／ｋｇ、特に好ましくは１〜２ｍｇ／ｋｇである。最も適した投薬量を選ぶために、投与経路、患者の体重、全身的健康状態及び年令、ならびに処置の効率に影響し得るすべての因子を考慮しなければならないことが理解される。
以下の実施例は本発明の組成物を例示するものである。
実施例
４０ｍｇの実施例１で得た生成物を１ｃｍ3のＥｍｕｌｐｈｏｒ  ＥＬ  ６２０及び１ｃｍ3のエタノールに溶解し、次いで溶液を１８ｃｍ3の生理的食塩水を加えることにより希釈する。
組成物を、生理的塩類溶液に導入して１時間潅流することにより投与する。