(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一酸化炭素の酸化活性およびアンモニアの酸化分解活性を有する成分を含む成形体表面に、一酸化炭素とアンモニアの酸化活性を有しない１ｍ2当たり０を超えて１００ｇ／ｍ2以下の量の脱硝活性成分からなる被覆層を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒。
【請求項２】
一酸化炭素酸化活性もしくはアンモニア酸化分解活性を有する成分の成形体が貴金属を担持した多孔体の成形体であることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項３】
一酸化炭素とアンモニアの酸化活性を有しない脱硝活性成分からなる被覆層がチタン、タングステン、モリブデン、バナジウムの内の１種以上の酸化物を含むことを特徴とする請求項１または２記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒における表面に形成される被覆層が、湿式形成された一酸化炭素の酸化活性およびアンモニアの酸化分解活性を有する成分を含む成形体の成形直後における湿潤状態の表面に該被覆層成分のスラリで覆われることにより形成されることを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法。
【請求項５】
ローラに付着された被覆層成分スラリを成形体表面に転着することにより前記被覆層成分スラリを成形体表面へ被覆することを特徴とする請求項４記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし３のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒を触媒層の一部または全部に充填し、排ガス中に還元剤を添加後、排ガス中の窒素酸化物の還元除去および／または一酸化炭素の酸化除去を行うことを特徴とする排ガス浄化方法。
【請求項７】
請求項１ないし３のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒を収納した触媒層をアンモニア還元法脱硝触媒層の後流部に設置したことを特徴とする排ガス浄化装置。
【請求項８】
窒素酸化物の分解活性を有する成分と一酸化炭素の酸化活性およびアンモニアの酸化分解活性を有する成分を含む成形体の表面に、一酸化炭素とアンモニアの酸化活性を有しない１ｍ2当たり０を超えて１００ｇ／ｍ2以下の量の脱硝活性成分からなる被覆層を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒。
【請求項９】
窒素酸化物の分解活性を有する成分と一酸化炭素酸化活性およびアンモニア酸化分解活性を有する成分とからなる成形体が、チタン、タングステン、モリブデン、バナジウムの内の１種以上の酸化物と貴金属担持多孔体とを含むことを特徴とする請求項８記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項１０】
一酸化炭素とアンモニアの酸化活性を有しない脱硝活性成分からなる被覆層がチタン、タングステン、モリブデン、バナジウムの内の１種以上の酸化物を含むことを特徴とする請求項８または９記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項１１】
請求項８ないし１０のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒における表面に形成される被覆層が、湿式形成された窒素酸化物の分解活性を有する成分と一酸化炭素の酸化活性およびアンモニアの酸化分解活性を有する成分を含む成形体の成形直後における湿潤状態の表面に該被覆層成分のスラリで覆われることにより形成されることを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法。
【請求項１２】
ローラに付着された被覆層成分スラリを成形体表面に転着することにより前記被覆層成分スラリを成形体表面へ被覆することを特徴とする請求項１１記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
【請求項１３】
請求項８ないし１０のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒を触媒層の一部または全部に充填し、排ガス中に還元剤を添加後排ガス中の窒素酸化物の還元除去と同時に一酸化炭素の酸化除去を行うことを特徴とする排ガス浄化方法。
【請求項１４】
請求項８ないし１０のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒を触媒層の一部または全部に充填し、排ガス中に還元剤を注入後含有される窒素酸化物の還元除去を行うことを特徴とする排ガス浄化方法。
【請求項１５】
請求項８ないし１０のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒を収納した触媒層をアンモニア還元法脱硝触媒層の後流部に設置することを特徴とする排ガス浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、排ガス浄化用触媒に係り、特に排ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）と一酸化炭素（ＣＯ）とを同時に除去することが可能なアンモニア（ＮＨ3）還元脱硝触媒、および未反応なままリークするＮＨ3（リークＮＨ3）の分解活性と脱硝反応活性とを合わせ持つ高活性な多元機能脱硝触媒とその製造法および該触媒を排ガス流路に配置した排ガス浄化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
発電所、各種工場、自動車などから排出される排煙中のＮＯｘは、光化学スモッグや酸性雨の原因物質であり、その効果的な除去方法としてＮＨ3を還元剤とした選択的接触還元による排煙脱硝法が火力発電所を中心に幅広く用いられている。触媒には、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）を活性成分にした酸化チタン（ＴｉＯ2）系触媒が使用されており、特に活性成分の一つとしてバナジウムを含むものは活性が高いだけでなく、排ガス中に含まれている不純物による劣化が小さいこと、より低温から使用できることなどから現在の脱硝触媒に主流になっている。
【０００３】
近年、環境の保全に関する気運が高まり、排ガス中のＮＯｘ、硫黄酸化物（ＳＯｘ）だけでなく、ＣＯや接触還元脱硝法の還元剤に用いる未反応ＮＨ3の排出をも抑えることが望まれてきている。本発明者らはこうした社会的ニーズに対応すべく、白金（Ｐｔ），イリジウム（Ｉｒ）等の金属を多孔体に担持したものと脱硝活性を有する酸化チタン系触媒成分とを混合して前者を触媒内に不均質に存在させることによる触媒（多元機能脱硝触媒）を発明している（特願平３−３１２３０８号、特願平７−９５１０７号等）。これらの触媒は、アンモニアを還元剤とする脱硝活性に優れるだけでなく、ＮＯｘと同時にＣＯも除去できる他、未反応ＮＨ3を水と窒素に酸化分解して脱硝装置からの未反応ＮＨ3リーク量を大幅に低減できるものであり、多元機能触媒と呼べるものであった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来上記技術になる多元機能触媒を使用した装置では、還元剤として注入するＮＨ3の消費量が増大する傾向があり、その防止という点では充分対策されているとはいえなかった。また、同一の注入ＮＨ3対処理ガス中ＮＯｘ比（以下ＮＨ3／ＮＯ比）では脱硝率が低く、改善すべき余地があった。
【０００５】
この点を具体的に示したものが図６と図７である。図６は上記従来技術になる触媒の脱硝率とＣＯ酸化率との関係を示したものであり、図７は脱硝率とリークＮＨ3分解活性との関係を示したものである。
【０００６】
従来技術のなかでＣＯ酸化活性またはリークＮＨ3分解活性を有する触媒（多元機能脱硝触媒）では、それらの活性を持たない他の従来触媒（単機能脱硝触媒）に比べ脱硝率が低く、同一脱硝率を得るためには図７に示したようにＮＨ3／ＮＯ比を増大する必要がある。このように、従来技術ではＣＯ酸化活性またはＮＨ3の分解活性を脱硝触媒に合わせ持たせようとすると高い脱硝率が得られなかったり、同一脱硝率を得るためにＮＨ3の消費量が増大したりする。この傾向は、より高いＣＯ酸化率やＮＨ3分解率を得ようとすると顕著になり、上記従来の多元機能脱硝触媒の欠点となっていた。
【０００７】
本発明の課題は、上記した従来型の多元機能脱硝触媒の有する排ガス中の脱硝率の低下やＮＨ3の消費量の増大を防止できる排ガス処理技術を提供し、脱硝活性はもとよりＣＯ酸化活性およびリークＮＨ3分解活性の高い触媒を得ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記課題は次の構成により達成できる。
すなわち、ＣＯの酸化活性およびＮＨ3の酸化分解活性を有する成分を含む成形体表面に、ＣＯとＮＨ3の酸化活性を有しない１ｍ2当たり０を超えて１００ｇ／ｍ2以下の量の脱硝活性成分からなる被覆層が存在する排ガス浄化用触媒、またはＮＯｘの分解活性を有する成分とＣＯの酸化活性およびＮＨ3の酸化分解活性を有する成分を含む成形体の表面に、ＣＯとＮＨ3の酸化活性を有しない１ｍ2当たり０を超えて１００ｇ／ｍ2以下の量の脱硝活性成分からなる被覆層を有する排ガス浄化用触媒である。
【０００９】
また、上記本発明の排ガス浄化用触媒を触媒層の一部または全部に充填し、排ガス中に還元剤を添加後排ガス中のＮＯｘの還元除去と同時にＣＯの酸化除去を行う排ガス浄化方法および排ガス浄化装置も本発明の範囲内である。
【００１０】
また、上記本発明の排ガス浄化用触媒の層をＮＨ3還元法脱硝触媒の後流部に設置し、上流触媒層から流出する未反応ＮＨ3を酸化分解して除去する排ガス浄化方法および排ガス浄化装置も本発明の範囲内である。
【００１１】
上記本発明をより具体的に説明すると次のような構成の触媒などを用いる。
（ａ）酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化チタンとモリブデン（Ｍｏ）酸化物、酸化チタンとタングステン（Ｗ）酸化物またはこれらの酸化物とバナジウム（Ｖ）酸化物を主成分とする脱硝活性を有する触媒成分を第１成分、
（ｂ）白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、パラジウム（Ｐｄ）あるいはロジウム（Ｒｈ）を担持したシリカ、アルミナ、ゼオライトなどの多孔体粉末を第２成分
とする触媒成形体の表面にＶ含有量の高い触媒成分などの脱硝触媒層を形成させるものである。
【００１２】
すなわち、例えば図１に示すようにＴｉ、Ｍｏ、ＷまたはＶの酸化物を主成分とする第１成分にＰｔ、Ｉｒ、ＰｄまたはＲｈを担持したシリカ等の上記第２成分の混合物を金属基板やセラミック製網状物、織布等の基板に塗布してなる触媒成形体層２の表面にＴｉＯ2、ＴｉＯ2とＭｏ酸化物、ＴｉＯ2とＷ酸化物またはこれらの酸化物とＶ酸化物を主成分とする触媒成分を被覆してなる被覆層１を新たに形成したことを特徴とするものである。
【００１３】
ここで触媒成形体層２は通常の方法により成形されたハニカム状または板状の成形体であり、
（１）脱硝活性を有する触媒成分と上記した各種貴金属を単独または複数担持したシリカ、アルミナ、ゼオライト等からなる組成物成形体、または
（２）Ｐｔ−ゼオライト、Ｐｔ−Ｉｒ−シリカなどの貴金属担持無機多孔体の成形体等である。
【００１４】
前記触媒成形体層２の表面の被覆層１はＴｉ、Ｍｏ、ＷあるいはＶとからなる触媒成分であり、基材となるハニカムまたは板状体が成形された後、粉末状または水を分散媒とするスラリの形でＴｉ、Ｍｏ、ＷあるいはＶとからなる触媒成分を付着させて被覆層１は形成され、被覆層１の触媒成分の付着量は小さく、５〜１００ｇ／ｍ2であり、被覆層１の厚みは０．１ｍｍ以下と薄い。
【００１５】
表面被覆層１の組成はその内部の触媒成形体層２の脱硝活性成分のそれと同一であってもよいが、触媒成形体層２の脱硝活性成分よりＶ成分の含有量を高くした方が一般に表面被覆による触媒特性改善効果が大きい。
【００１６】
被覆層は、具体的にはハニカムあるいは板状の湿式成形体がまだ湿った状態の時点で、上記した例えばＶ成分の量を多く含有する触媒成分の粉末やそのスラリと接することにより付着させるか、乾燥状態もしくはいったん焼成したものに触媒スラリを塗布または転着することにより形成することができる。
【００１７】
ここで重要なことは、触媒成形体層２と表面に形成する被覆層１が分離されている方が良く、その点、触媒成形体層２が乾燥される前の湿った状態で、被覆する触媒成分のスラリをローラ等で塗布転着する方法が好結果を与える。
【００１８】
表面に触媒の被覆層１を形成された触媒成形体層２は必要に応じて成形、乾燥、焼成工程等公知の触媒製造工程を経て、排ガス浄化に供される。
【００１９】
図２は従来の単機能触媒について反応時におけるＮＯｘ、ＣＯおよびＮＨ3濃度の表面から内部への分布（反応速度に基づく理論的計算図）を示したものである。
【００２０】
図２において、ＮＯｘとＮＨ3は脱硝活性成分の作用により窒素（Ｎ2）と水（Ｈ2Ｏ）に変換されるため、触媒表面から触媒内部に向かってその濃度は急激に減少する。これとは別に第２成分である貴金属成分の触媒作用により、ＣＯおよびＮＨ3は酸化分解され、触媒表面から触媒内部に向かってその濃度が順次減少していく。このように２つの触媒作用を利用して触媒内部に各成分が拡散する過程で図２のような分布を持つようにすることにより、同一触媒で脱硝−ＣＯ酸化、脱硝−ＮＨ3分解、あるいは脱硝−ＣＯ酸化−ＮＨ3分解を可能にしているのが従来型の多元機能触媒である。
【００２１】
ここでＮＨ3に注目すると、ＮＨ3は脱硝反応と酸化分解反応との両者に使われるため、次に示す脱硝反応の反応ＮＨ3／反応ＮＨ3量論比＝１以上に消費され、触媒内部でのＮＨ3濃度がＮＯ濃度を下回るようになる。このように従来型の多元機能触媒では、触媒内部で一部分ＮＨ3の不足状態のゾーンが形成され、ＮＯが一定濃度以下にならない。この現象が脱硝率の低下、あるいは一定の脱硝率を得るためのＮＨ3注入量の増大を引き起こしている原因となっている。
【００２２】
図３は図２と同様にＮＯ、ＮＨ3およびＣＯについて、本発明になる触媒の表面と内部での分布を示したものである。本発明になる触媒では、脱硝活性のみを有する触媒層が表面層に薄く形成されており、その層内部で脱硝反応がまず進行し、大半のＮＯとＮＨ3は脱硝反応に利用される。そして残存したＮＨ3とＮＯが触媒内部に拡散し、脱硝活性と酸化活性とを有する触媒層に達する。触媒内部の層（内層）内にはＮＨ3はＮＯに対して大過剰に存在するので、内層でＮＨ3の酸化分解に加え、脱硝反応も高速で進行させることができる。
【００２３】
脱硝反応の大半は直ちに完結し、余剰となるＮＨ3のみが内層の貴金属担持成分で酸化分解されることになり、脱硝率の低下を招くことがない。一方ＣＯの酸化分解に関しては触媒成形体の表面層は拡散抵抗として作用するが、その厚みが薄いのでＣＯの酸化分解性能にほとんど影響することがない。
【００２４】
このように、触媒成形体表面に脱硝活性のみを有する触媒成分層を形成することにより脱硝反応の低下をほとんど招くことなく、ＣＯもしくは余剰ＮＨ3の分解を行うことが可能になる。
【００２５】
さらに、上記した原理から明らかなように、表面の被覆層を活性成分であるＶ化合物の増量などによって脱硝活性に優れるようにすれば、表面層の厚みは極めて薄くでき、ＣＯ酸化活性や余剰ＮＨ3の分解活性はほとんど低下することがないようにできる。
【００２６】
また、内層における脱硝反応はほとんど生じないので次のような実用上優れた特徴を持った触媒を得ることが可能になる。
（１）内層の第１成分に相当する脱硝触媒成分の活性が低くても全体として高い脱硝活性が得られるため安価な触媒成分が使用できる。
（２）内層の貴金属成分濃度を増大する方法等によりＣＯあるいは余剰ＮＨ3の分解活性を高くしても脱硝性能への影響がほとんどないため、高い脱硝−ＣＯ酸化−余剰ＮＨ3分解活性共に優れた触媒を実現できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、具体例を用いて本発明を詳細に説明する。
実施例１
メタチタン酸スラリ（ＴｉＯ2含有量：３０ｗｔ％、ＳＯ4含有量：８ｗｔ％）６７ｋｇにパラタングステン酸アンモニウム（（ＮＨ4）10Ｈ10・Ｗ12Ｏ46・６Ｈ2Ｏ）３．７５ｋｇおよびメタバナジン酸アンモン１．４６ｋｇを加え、加熱ニーダを用いて水を蒸発させながら混練し、水分約３６％のペーストを得た。これを３φの柱状に押し出し、造粒後、流動層乾燥機で乾燥し、次に大気中５５０℃で２時間焼成した。得られた顆粒をハンマーミルで１μｍの粒径が６０％以上になるように粉砕し、第１成分である脱硝触媒粉末を得た。このときの組成はＶ／Ｗ／Ｔｉ＝４．５／５／９０．５（原子比）である。
【００２８】
また、塩化白金酸（Ｈ2［ＰｔＣｌ6］・６Ｈ2Ｏ）０．３３２ｇと塩化イリジウム（ＩｒＣｌ4）０．２１７ｇとを水１リットルに溶解したものに、高表面積微粒シリカ（富田製薬製マイコンＦ）５００ｇを加えて砂浴上で蒸発乾固して貴金属塩を担持した。これを１８０℃で２時間乾燥後、５００℃で２時間焼成し、０．０２５ｗｔ％Ｐｔ−０．０２５ｗｔ％Ｉｒ−シリカを調製し、第２成分にした。このときのＩｒ−Ｐｔ重量比は１である。
【００２９】
これとは別に、繊維径９μｍのＥガラス性繊維１，４００本の捻糸を１０本／インチの粗さで平織りした網状物にチタニア４０％、シリカゾル２０％、ポリビニルアルコール１％のスラリを含浸させ、１５０℃で乾燥して剛性を持たせ触媒基材を得た。
【００３０】
第１成分１９．６ｋｇと第２成分４００ｇとに、シリカ・アルミナ系無機繊維５．３ｋｇ、水１７ｋｇを加えてニーダで混練し、触媒ペーストを得た。上記基材２枚の間に前記調製したペースト状触媒混合物を置き、加圧ローラを通過させることにより、基材の編目間及び表面に触媒を圧着して厚さ約１ｍｍの板状の触媒成形体を得た。
【００３１】
一方、酸化チタン粉末２０ｋｇにモリブデン酸アンモニウム（（ＮＨ4）6・Ｍｏ7Ｏ24・４Ｈ2Ｏ）２．５ｋｇ、メタバナジン酸アンモニウム２．３３ｋｇ、しゅう酸３．０ｋｇおよび水を加えてニーダで混練してペースト状にしたものを３φの柱状に造粒後、流動層乾燥器で乾燥し、さらに５００℃で２時間焼成し、続いてハンマーミルで粉砕して粒径１μｍ以下のものが５０％以上存在する脱硝触媒粉末を得た（Ｖ含有量：３．５６ｗｔ％）。得られた粉末１００ｇに水を加えてスラリにし、本スラリをゴムローラに薄くつけ、これを前記触媒成形体の表面に転がすことにより、上記板状の触媒成形体表面に触媒成分が１ｍ2当たり３５ｇになるように塗布し、その後１５０℃で乾燥後、５００℃で２時間焼成して触媒を得た。
【００３２】
本実施例の触媒成形体表面の脱硝触媒被覆層の厚みは０．１ｍｍ以下であり、密度から計算した被覆層の厚みは０．０３５ｍｍに相当する。
【００３３】
比較例１
実施例１における触媒成形体表面に脱硝触媒スラリを塗布しない触媒を調製した。
実施例１および比較例１の触媒について、表１の条件で脱硝活性とＣＯ酸化活性を測定し、結果を図４に示した。
【００３４】
本発明になる実施例１の触媒は高いＣＯ除去率であるにもかかわらず、脱硝率も高い結果が得られている。これに対し、比較例１の触媒はＣＯ除去率が高い点は実施例１と同様であるが、図４に示したＣＯ酸化成分の脱硝率への悪影響が顕著に現れ、極めて低い脱硝率しか得られていない。
【００３５】
また、図５には実施例１と比較例１の触媒について表２の条件でＮＨ3注入量を変えることによりＮＨ3／ＮＯ比を変化させて脱硝率と未反応ＮＨ3の分解率を測定し、その結果を示す。
【００３６】
なお、リークＮＨ3分解率（未反応ＮＨ3分解率）は次の関係式で求めた。
0003793283.tif 000002
【００３７】
実施例１および比較例１の触媒ともＮＨ3分解率が高いことは同じであるが、同一ＮＨ3／ＮＯ比における脱硝率を比較すると、比較例１の触媒に比べて実施例１の触媒は非常に高く、量論線に近い脱硝率が得られ、ＮＨ3のロスが極めて少ないことが分かる。
【００３８】
一方、比較例１は同一ＮＨ3／ＮＯ比における脱硝率が低いだけでなく、ＮＨ3／ＮＯ比をいくら高くしても高脱硝率が得られなかった。
【００３９】
このように本発明になる触媒は、ＮＨ3分解成分あるいはＣＯ酸化成分による脱硝性能の悪化を大幅に軽減し、多元機能触媒でありながら脱硝単機能触媒と同等の高い脱硝活性を得ることができる極めて優れた特徴を有するものである。
【００４０】
【表１】
0003793283.tif 000003
【００４１】
【表２】
0003793283.tif 000004
【００４２】
実施例２〜６
実施例１における第２成分の製法における塩化白金酸を０．６６４ｇに代えると共に塩化イリジウムを用いないで第２成分を調製した。これを用いて他は実施例１と同様に板状の触媒成形体を得、この表面へ実施例１と同一の脱硝触媒スラリを１ｍ2当たり、５、１０、３０、５０、１００ｇになるようにそれぞれ転着し、他は実施例１と同様にして触媒を得た。
【００４３】
本触媒の被覆層の厚みはいずれも０．１ｍｍ以下であり、密度から計算した被覆層の厚みはそれぞれ約０．００５、０．０１、０．０３、０．０５、０．１ｍｍに相当する。
【００４４】
実施例７
実施例１の触媒において、第１成分のパラタングステン酸アンモニウムを等モルのモリブデン酸アンモニウム（（ＮＨ4）6・Ｍｏ7Ｏ24・４Ｈ2Ｏ）に代え、逆に実施例１の板状の触媒成形体表面に転着する脱硝触媒成分の調製におけるモリブデン酸アンモニウムを等モルのパラタングステン酸アンモニウムに変更して触媒を調製した。
【００４５】
実施例８
実施例１の第１成分と第２成分の混合比を０／１００、すなわち第２成分のみを用いて、板状の触媒成形体を調製し、この表面に脱硝触媒成分スラリを実施例１と同様に転着して触媒を得た。
【００４６】
比較例２
実施例２の触媒調製における板状触媒成形体への脱硝触媒スラリの転着を行わないことを除いて実施例２と同様の方法で本比較例の触媒を得た。
【００４７】
比較例３
実施例７の調製法における触媒スラリの転着を行わないことを除いて実施例７と同様の方法で本比較例の触媒を得た。
【００４８】
比較例４
実施例１において第２成分を用いないことを除いて実施例１と同様にして触媒を調製した。
【００４９】
比較例５
実施例８の調製法において脱硝触媒成分の表面転着を行わないことを除いて実施例８と同様にして触媒を調製した。
実施例１〜８および比較例１〜５の各触媒について表１の条件で３５０℃における脱硝率とＣＯの酸化率を測定し、また表２の条件で注入ＮＨ3／ＮＯ比が１．２ｍｏｌ／ｍｏｌにおける脱硝率とリークＮＨ3分解率を測定した。
【００５０】
得られた結果を表３にまとめて示した。
【表３】
0003793283.tif 000005
【００５１】
表３から本発明の実施例になる触媒は、脱硝活性およびＣＯ酸化活性、リークＮＨ3の分解率がいずれも高いことが解る。一方、表面に脱硝活性のみを有する触媒成分の転着を行わなかった比較例１〜３の触媒では脱硝率が極めて低かった。
【００５２】
このことから、本発明の触媒における表面への脱硝触媒成分の転着がＣＯ酸化活性やＮＨ3の分解活性を高く維持したまま脱硝率を高くするのに極めて大きな効果があることは明らかである。
【００５３】
また、ＮＨ3やＣＯの酸化成分である第２成分を含まない比較例４ではＣＯ酸化活性、ＮＨ3分解活性が共に低く、第２成分のみの比較例５ではＣＯ酸化活性とＮＨ3分解活性は高い値を示したもののＮＨ3酸化によるＮＯｘ生成のため脱硝率はマイナスを示した。
【００５４】
これらの結果は、脱硝−ＣＯ酸化−リークＮＨ3分解に共に高い性能を得るために、図１に示す触媒の構成が極めて有効であることを示しているものである。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、脱硝率、ＣＯ酸化率、未反応ＮＨ3の分解率共に高い触媒が容易に得られる。これにより、各種発生源から放出されるＮＯｘの他ＣＯをも除去できるシステムが実現できるだけでなく、脱硝反応で使用されなかった未反応ＮＨ3の大気への放出を大幅に低減できる。
また、上記用途に用いる従来触媒に比べ、同一脱硝率を得るためのＮＨ3注入量を少なくでき経済的にも有利になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の触媒の概要を示す図である。
【図２】  本発明の要点を説明するための従来触媒および本発明の触媒における触媒内部の反応成分の分布を示す図である。
【図３】  本発明の要点を説明するための従来触媒および本発明の触媒における触媒内部の反応成分の分布を示す図である。
【図４】  本発明の効果を示す図である。
【図５】  本発明の効果を示す図である。
【図６】  従来触媒の問題点を明らかにするための図である。
【図７】  従来触媒の問題点を明らかにするための図である。
【符号の説明】
１  脱硝活性のみを有する被覆層
２  脱硝活性、ＣＯ酸化活性、ＮＨ3の酸化分解活性を有する触媒成形体層
【図１】
0003793283.tif 000006
【図２】
0003793283.tif 000007
【図３】
0003793283.tif 000008
【図４】
0003793283.tif 000009
【図５】
0003793283.tif 000010
【図６】
0003793283.tif 000011
【図７】
0003793283.tif 000012