(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シアン化水素と一般式ＲＳＳＲ又はＲＳＨ（式中Ｒはアリール基、アルキル基、アラルキル基またはアルケニル基を示す。）で表される化合物とを、難水溶性の溶媒中、塩基の存在下反応させた後水を添加して目的物を析出させる事を特徴とする、一般式［Ｉ］
【化１】
0003845848.tif 000003
（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で表される２，３−ジアミノアクリロニトリル誘導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬、農薬等の中間体として有用な、一般式［Ｉ］
【０００２】
【化２】
0003845848.tif 000002
【０００３】
（式中Ｒはアリール基、アルキル基、アラルキル基、またはアルケニル基を示す。）で表される２，３−ジアミノアクリロニトリル誘導体（以下ＤＡＡＮと言う）の製造方法に関する。
【０００４】
【従来の技術】
従来一般式［Ｉ］で表されるＤＡＡＮはシアン化水素と一般式ＲＳＳＲで表されるジスルフィド類とをアセトニトリル等の極性溶媒中で反応し、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の塩として単離していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ＤＡＡＮは極性溶媒に溶解しやすく、ｐ−トルエンスルホン酸塩としても回収率が低く、収率の向上が望まれていた。また、溶媒への溶解度を調節する為に混合溶媒とする為に溶媒の回収が複雑化し、効率の良い製造方法ではなかった。
しかも、得られた結晶はｐ−トルエンスルホン酸塩等の塩の形である為に、次の反応に供する為にその塩を取り除く必要が有る場合が多く、操作が繁雑になるという問題点を有していた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、シアン化水素と一般式ＲＳＳＲ又はＲＳＨで表される化合物とを難水溶性の溶媒中、塩基の存在下反応させた後、水を添加してＤＡＡＮを析出させる事を特徴とする製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明は、難水溶性の溶媒に、シアン化水素と一般式ＲＳＳＲ又はＲＳＨで表される化合物（以下スルフィド類という）と塩基とを加え、然るべき熟成の後水を添加してＤＡＡＮを析出させ、結晶を分離する事によって行なわれる。
Ｒで表される置換基としてはハロゲン原子、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、Ｃ1-6 アルキルチオ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シクロアルキル基又は複素環基等で置換されていてもＣ1-12アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ1-6 アルキル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、Ｃ1-6 アルコキシカルボニル基、またはカルボキシル基等で置換されていてもよいフェニル基等のアリール基もしくは同様の置換基で置換されていてもよいベンジル基等のアラルキル基またはハロゲン原子等で置換されていてもよいＣ2-6 のアルケニル基が挙げられる。
【０００８】
反応溶媒は、トルエンやキシレンといった炭化水素類、酢酸エチルや酢酸ブチルといったエステル類、ジクロロメタンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が使用できる。
塩基としては、トリメチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジンあるいは、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等の塩基が使用できる。
反応における塩基の量は、使用するスルフィド類に対して１モルから３モル当量の範囲で、好ましくは２〜３モル当量の範囲が適している。
反応温度は０〜５０℃、好ましくは１０〜２０℃の範囲が適している。
【０００９】
スルフィド類を完全に消費し、ＤＡＡＮにするにはシアン化水素はスルフィド類に対し３モル当量必要となる。反応を円滑に進める為には３モル当量以上が必要で、３〜６モル当量の範囲が適している。
熟成に要する時間は、温度により大きく異なるが、１０分〜２時間で反応温度２０℃においては好ましくは１時間〜２時間の範囲が適している。
熟成の後、水を加えてＤＡＡＮの結晶を析出させる。ここでの水の量は溶媒により異なるが、溶媒に対し０．５倍〜２倍の範囲で使用する。尚、水の温度は０〜２５℃の範囲が適している。
【００１０】
【実施例】
次に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。反応の進行は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）や薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）により確認した。また生成物については、ＮＭＲ、ＩＲ、ＨＰＬＣにより確認した。
【００１１】
実施例１
ジフェニルジスルフィド２４ｇ（０．１１ｍｏｌ）、キシレン１２５ｍｌ、トリエチルアミン２２．３ｇ（０．２２ｍｏｌ）をフラスコに仕込み、攪拌下約１０℃に冷却した。これにシアン化水素２５．５ｍｌ（０．６６ｍｏｌ）を一時に加えた。温度を２０℃に保ちつつ１時間攪拌した。その後、５℃に冷却した水を１２０ｍｌ一時に加え、析出した結晶を濾過して乾燥し、２，３−ジアミノ−３−（フェニルチオ）アクリロニトリル１６．２ｇを得た。分解点６６〜６８℃。
【００１２】
実施例２
ｐ−クロロフェニルジスルフィド３．５ｇ（１２．３ｍｍｏｌ）、キシレン１８．５ｍｌ、トリエチルアミン２．５ｇ（２５ｍｍｏｌ）をフラスコに仕込み、攪拌下１０℃に冷却した。これにシアン化水素２．９ｍｌ（７４ｍｍｏｌ）を一時に加えた。温度を２０℃に保ちつつ１時間２０分攪拌した。その後５℃の冷水１８ｍｌを一時に加え、析出した物質を濾過乾燥して１．５ｇの粗２，３−ジアミノ−３−（ｐ−クロロフェニルチオ）アクリロニトリルを得、これをアセトニトリルに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加え、析出した結晶を濾過乾燥して分解点を測定したところ１５３〜１５４℃であった。
【００１３】
実施例３
ジフェニルジスルフィド２４ｇ（０．１１ｍｏｌ）、トルエン１２５ｍｌ、トリエチルアミン２２．３ｇ（０．２２ｍｏｌ）をフラスコに仕込み、攪拌下約１０℃に冷却した。これにシアン化水素２５．５ｍｌ（０．６６ｍｏｌ）を一時に加えた。温度を２０℃に保ちつつ１時間攪拌した。その後、５℃に冷却した水を１２０ｍｌ一時に加え、析出した結晶を濾過して乾燥し、２，３−ジアミノ−３−（フェニルチオ）アクリロニトリル１５．１ｇを得た。分解点６６〜６８℃。
【００１４】
実施例４
ジフェニルジスルフィド２４ｇ（０．１１ｍｏｌ）、酢酸エチル１２５ｍｌ、トリエチルアミン２２．３ｇ（０．２２ｍｏｌ）をフラスコに仕込み、攪拌下約１０℃に冷却した。これにシアン化水素２５．５ｍｌ（０．６６ｍｏｌ）を一時に加えた。温度を２０℃に保ちつつ１時間攪拌した。その後、５℃に冷却した水を１２０ｍｌ一時に加え、析出した結晶を濾過して乾燥し、２，３−ジアミノ−３−（フェニルチオ）アクリロニトリル１４．５ｇを得た。分解点６６〜６８℃。
【００１５】
比較例１
ジフェニルジスルフィド２ｇ、アセトニトリル５０ｍｌ、トリエチルアミン６ｇをフラスコに仕込み、攪拌下約１０℃に冷却した。これにシアン化水素２０ｍｌを一時に加えた。温度を２０℃に保ちつつ１時間攪拌した。その後、反応液を減圧下に保ち、トリエチルアミンおよびアセトニトリルの一部を留去した後、ｐ−トルエンスルホン酸を３ｇ添加した。析出した結晶を濾取し、ｎ−ヘキサンで洗浄した後真空乾燥し、１．２ｇの２，３−ジアミノ−３−（フェニルチオ）アクリロニトリルのｐ−トルエンスルホン酸塩を得た。
【００１６】
【発明の効果】
本発明の製造方法は、従来行われていた、塩基の除去、ｐ−トルエンスルホン酸の添加反応等の繁雑な工程が省略できかつ、これらの工程で分解等により損失していた部分を少なくでき、高収率、短時間で工業的に有利に２，３−ジアミノアクリロニトリル誘導体を得る事が出来る。