(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸価が−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）である芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して、分子中にＳｉ−Ｈ基および芳香族基を含有するシリコーン化合物であって、
▲１▼Ｓｉ−Ｈ基が含まれる量（Ｓｉ−Ｈ量）が０．１〜１．２ｍｏｌ／１００ｇ、
▲２▼下記一般式（１）で示される芳香族基が含まれる割合（芳香族基量）が１０〜７０重量％、
【化１】
0003779623.tif 000023
（式（１）中、Ｘはそれぞれ独立にＯＨ基、炭素数１〜２０の一価の有機残基を示す。ｎは０〜５の整数を表わす。更に式（１）中においてｎが２以上の場合はそれぞれ互いに異なる種類のＸを取ることができる。）
▲３▼１０５℃／３時間における加熱減量法による揮発量が１８％以下、
であるシリコーン化合物の中から選択される少なくとも一種以上のシリコーン化合物（Ｂ）０．１〜１０重量部を配合してなる難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
（Ｂ）成分が、下記一般式（２）および（３）で示される構成単位のうち、少なくとも一種以上の式で示される構成単位を含むシリコーン化合物である請求項１に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【化２】
0003779623.tif 000024
【化３】
0003779623.tif 000025
（式（２）および式（３）中、Ｚ1〜Ｚ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の一価の有機残基、または下記一般式（４）で示される化合物を示す。α１〜α３はそれぞれ独立に０または１を表わす。ｍ１は０もしくはそれ以上の整数を表わす。更に式（２）中においてｍ１が２以上の場合の繰返し単位はそれぞれ互いに異なる複数の繰返し単位を取ることができる。）
【化４】
0003779623.tif 000026
（式（４）中、Ｚ4〜Ｚ8はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の一価の有機残基を示す。α４〜α８はそれぞれ独立に０または１を表わす。ｍ２は０もしくはそれ以上の整数を表わす。更に式（４）中においてｍ２が２以上の場合の繰返し単位はそれぞれ互いに異なる複数の繰返し単位を取ることができる。）
【請求項３】
（Ｂ）成分がＭＤ単位またはＭＤＴ単位からなるシリコーン化合物である請求項１または２のいずれか１項に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物（ただし、Ｍは１官能性シロキサン単位、Ｄは２官能性シロキサン単位、Ｔは３官能性シロキサン単位である）。
【請求項４】
（Ａ）成分における酸価が０．０〜３．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）である請求項１〜３のいずれか１項に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｂ）成分における▲１▼Ｓｉ−Ｈ量が０．２〜１．０ｍｏｌ／１００ｇである請求項１〜４のいずれか１項に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項６】
（Ｂ）成分における▲２▼芳香族基量が１５〜６０重量％である請求項１〜５のいずれか１項に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項７】
（Ｂ）成分における▲３▼１０５℃／３時間における加熱減量法による揮発量が１０％以下である請求項１〜６のいずれか１項に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項８】
芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して、ラジカル発生剤、有機アルカリ金属塩、および有機アルカリ土類金属塩より選ばれる少なくとも一種以上の化合物（Ｃ）０．００１〜０．３重量部をさらに配合してなる請求項１〜７のいずれか１項に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物より形成された成形品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に関する。さらに詳しくは耐トラッキング性、帯電防止性に優れ、さらには燃焼時の樹脂のドリップ防止性にも優れた難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
芳香族ポリカーボネート樹脂は射出成形などの簡便で生産性に優れた加工法により種々の成形品に形成され、幅広い産業分野で利用されている。また、芳香族ポリカーボネート系樹脂にハロゲン系化合物やリン系化合物を添加した難燃性芳香族ポリカーボネート系樹脂組成物は、難燃化の要望の強いリレーケース、コンデンサーケースなどに利用されている。この用途においては、樹脂組成物の難燃性に加えて、本来絶縁物である樹脂組成物がトラッキングにより発火あるいは電子回路の短絡を防ぐため樹脂組成物自体の耐トラッキング性、トラッキングの基点となる塵や埃の付着を防止するため樹脂組成物自体の帯電防止性が重視されている。しかし、一方でこれらの難燃剤に代わる難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が開発され、上記に挙げた製品などに使用されつつある。かかる難燃剤変更の目的としては、成形時における腐蝕ガスの発生の抑制、または製品のリサイクル性の向上などが挙げられる。
【０００３】
上記に挙げた難燃剤に代わる難燃剤としては例えばシリコーン化合物を挙げることができる。シリコーン化合物を芳香族ポリカーボネート樹脂に配合した難燃性樹脂組成物は近年精力的に検討され、種々の提案がされている。
【０００４】
例えばポリカーボネート樹脂にパーフルオロアルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩とアルコキシ基、ビニル基およびフェニル基を有する有機シロキサンを配合する方法（特開平６−３０６２６５号公報）、およびポリカーボネート樹脂にパーフルオロアルカンスルホン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩と２価炭化水素基を介してケイ素原子に結合のオルガノキシシリル基を含有するオルガノポリシロキサンを配合する方法（特開平６−３３６５４７号公報）などが提案されている。
【０００５】
また、樹脂成分に特定の石油系重質油類またはピッチ類とシリコーン化合物を配合する方法（特開平９−１６９９１４号公報）、および芳香環を有する非シリコーン樹脂に式Ｒ2ＳｉＯ1.0で示される単位とＲＳｉＯ1.5で示される単位を持ち、重量平均分子量が１０，０００以上２７０，０００以下であるシリコーン樹脂を配合する方法（特開平１０−１３９９６４号公報）などが提案されている。
【０００６】
しかしながら、上記提案のポリカーボネート樹脂組成物は耐トラッキング性や帯電防止性が十分とはいえないものであった。例えば上記提案のポリカーボネート樹脂組成物は、帯電防止性が芳香族ポリカーボネート樹脂と変わらず塵や埃が付着してしまうために、長期間使用した後の耐トラッキング性が低下する。また、上記提案のポリカーボネート樹脂組成物は難燃性が十分とはいえないものであった。例えば薄肉の場合にドリップを生じＵＬ規格９４のＶ−０ランクを達成できない、などである。
【０００７】
一方、特公昭６０−３８４１９号公報には、芳香族ポリカーボネート樹脂に有機アルカリ金属塩、およびポリ（メチル水素シロキサン）からなる樹脂組成物が具体的に記載されている。しかしながらかかる樹脂組成物は成形品表面で剥離などの分散不良が発生し、耐トラッキング性のバラツキが極めて大きくなり、十分とは言えないものであった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供することにある。さらに詳しくは耐トラッキング性、帯電防止性に優れ、さらには燃焼時の樹脂のドリップ防止性にも優れた難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供することにある。
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成せんとして鋭意研究を重ねた結果、芳香族ポリカーボネート樹脂、特定のシリコーン化合物を特定量組合わせることで目的とする耐トラッキング性、帯電防止性に優れ、さらには燃焼時の樹脂のドリップ防止性にも優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が得られることを見出し、本発明に到達した。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、酸価が−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）である芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して、分子中にＳｉ−Ｈ基および芳香族基を含有するシリコーン化合物であって、
▲１▼Ｓｉ−Ｈ基が含まれる量（Ｓｉ−Ｈ量）が０．１〜１．２ｍｏｌ／１００ｇ、
▲２▼下記一般式（１）で示される芳香族基が含まれる割合（芳香族基量）が１０〜７０重量％、
【００１１】
【化５】
0003779623.tif 000002
【００１２】
（式（１）中、Ｘはそれぞれ独立にＯＨ基、炭素数１〜２０の一価の有機残基を示す。ｎは０〜５の整数を表わす。更に式（１）中においてｎが２以上の場合はそれぞれ互いに異なる種類のＸを取ることができる。）
【００１３】
▲３▼１０５℃／３時間における加熱減量法による揮発量が１８％以下、
であるシリコーン化合物の中から選択される少なくとも一種以上のシリコーン化合物（Ｂ）０．１〜１０重量部を配合してなる難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に関わるものである。
【００１４】
本発明の（Ａ）成分として使用される芳香族ポリカーボネート樹脂は、通常二価フェノールとカーボネート前駆体とを界面重縮合法、溶融エステル交換法で反応させて得られたものの他、カーボネートプレポリマーを固相エステル交換法により重合させたもの、または環状カーボネート化合物の開環重合法により重合させて得られるものである。
【００１５】
ここで使用される二価フェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニル｝メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−イソプロピル−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−フェニル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチルブタン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝フルオレン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｏ−ジイソプロピルベンゼン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルケトン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルおよび４，４’−ジヒドロキシジフェニルエステル等が挙げられ、これらは単独または２種以上を混合して使用できる。
【００１６】
なかでもビスフェノールＡ、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよびα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼンからなる群より選ばれた少なくとも１種のビスフェノールより得られる単独重合体または共重合体が好ましく、特に、ビスフェノールＡの単独重合体および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとビスフェノールＡ、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパンまたはα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼンとの共重合体が好ましく使用される。
【００１７】
カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、カーボネートエステルまたはハロホルメート等が使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロホルメート等が挙げられる。
【００１８】
上記二価フェノールとカーボネート前駆体を界面重縮合法または溶融エステル交換法によって反応させてポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。またポリカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂であっても、芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であってもよく、また、得られたポリカーボネート樹脂の２種以上を混合した混合物であってもよい。
【００１９】
三官能以上の多官能性芳香族化合物としては、フロログルシン、フロログルシド、または４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキジフェニル）ヘプテン−２、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、４−｛４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン｝−α，α−ジメチルベンジルフェノール等のトリスフェノール、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）ケトン、１，４−ビス（４，４−ジヒドロキシトリフェニルメチル）ベンゼン、またはトリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸およびこれらの酸クロライド等が挙げられ、中でも１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタンが好ましく、特に１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが好ましい。
【００２０】
かかる分岐ポリカーボネート樹脂を生ずる多官能性化合物を含む場合、かかる割合は、芳香族ポリカーボネート全量中、０．００１〜１モル％、好ましくは０．００５〜０．５モル％、特に好ましくは０．０１〜０．３モル％である。また特に溶融エステル交換法の場合、副反応として分岐構造が生ずる場合があるが、かかる分岐構造量についても、芳香族ポリカーボネート全量中、０．００１〜１モル％、好ましくは０．００５〜０．５モル％、特に好ましくは０．０１〜０．３モル％であるものが好ましい。尚、かかる割合については1Ｈ−ＮＭＲ測定により算出することが可能である。
【００２１】
界面重縮合法による反応は、通常二価フェノールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進のために例えばトリエチルアミン、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド等の第三級アミン、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物等の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜４０℃、反応時間は１０分〜５時間程度、反応中のｐＨは９以上に保つのが好ましい。
【００２２】
また、かかる重合反応において、通常末端停止剤が使用される。かかる末端停止剤として単官能フェノール類を使用することができる。単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、かかる単官能フェノール類としては、一般にはフェノールまたは低級アルキル置換フェノールであって、下記一般式（５）で表される単官能フェノール類を示すことができる。
【００２３】
【化６】
0003779623.tif 000003
【００２４】
（式中、Ａは水素原子または炭素数１〜９の直鎖または分岐のアルキル基あるいはフェニル基置換アルキル基であり、ｒは１〜５、好ましくは１〜３の整数である。）
【００２５】
上記単官能フェノール類の具体例としては、例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノールが挙げられる。
【００２６】
また、他の単官能フェノール類としては、長鎖のアルキル基あるいは脂肪族ポリエステル基を置換基として有するフェノール類または安息香酸クロライド類、もしくは長鎖のアルキルカルボン酸クロライド類も示すことができる。これらのなかでは、下記一般式（６）および（７）で表される長鎖のアルキル基を置換基として有するフェノール類が好ましく使用される。
【００２７】
【化７】
0003779623.tif 000004
【００２８】
【化８】
0003779623.tif 000005
【００２９】
（式中、Ｘは−Ｒ−Ｏ−、−Ｒ−ＣＯ−Ｏ−または−Ｒ−Ｏ−ＣＯ−である、ここでＲは単結合または炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の二価の脂肪族炭化水素基を示し、ｎは１０〜５０の整数を示す。）
【００３０】
かかる一般式（６）の置換フェノール類としてはｎが１０〜３０、特に１０〜２６のものが好ましく、その具体例としては例えばデシルフェノール、ドデシルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフェノール等を挙げることができる。
【００３１】
また、一般式（７）の置換フェノール類としてはＸが−Ｒ−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｒが単結合である化合物が適当であり、ｎが１０〜３０、特に１０〜２６のものが好適であって、その具体例としては例えばヒドロキシ安息香酸デシル、ヒドロキシ安息香酸ドデシル、ヒドロキシ安息香酸テトラデシル、ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、ヒドロキシ安息香酸エイコシル、ヒドロキシ安息香酸ドコシルおよびヒドロキシ安息香酸トリアコンチルが挙げられる。また、末端停止剤は単独でまたは２種以上混合して使用してもよい。
【００３２】
溶融エステル交換法による反応は、通常二価フェノールとカーボネートエステルとのエステル交換反応であり、不活性ガスの存在下に二価フェノールとカーボネートエステルとを加熱しながら混合して、生成するアルコールまたはフェノールを留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノールの沸点等により異なるが、通常１２０〜３５０℃の範囲である。反応後期には系を１．３３×１０3〜１３．３Ｐａ程度に減圧して生成するアルコールまたはフェノールの留出を容易にさせる。反応時間は通常１〜４時間程度である。
【００３３】
カーボネートエステルとしては、置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基、アラルキル基あるいは炭素数１〜４のアルキル基などのエステルが挙げられる。具体的にはジフェニルカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネートなどが挙げられ、なかでもジフェニルカーボネートが好ましい。
【００３４】
また、重合速度を速めるために重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、二価フェノールのナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属化合物、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の含窒素塩基性化合物、アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコキシド類、アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩類、亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニウム化合物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、有機スズ化合物類、鉛化合物類、オスミウム化合物類、アンチモン化合物類マンガン化合物類、チタン化合物類、ジルコニウム化合物類などの通常エステル化反応、エステル交換反応に使用される触媒を用いることができる。触媒は単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。これらの重合触媒の使用量は、原料の二価フェノール１モルに対し、好ましくは１×１０-8〜１×１０-3当量、より好ましくは１×１０-7〜５×１０-4当量の範囲で選ばれる。
【００３５】
また、かかる重合反応において、フェノール性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるいは終了後に、例えばビス（クロロフェニル）カーボネート、ビス（ブロモフェニル）カーボネート、ビス（ニトロフェニル）カーボネート、ビス（フェニルフェニル）カーボネート、クロロフェニルフェニルカーボネート、ブロモフェニルフェニルカーボネート、ニトロフェニルフェニルカーボネート、フェニルフェニルカーボネート、メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよびエトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネート等の化合物を加えることができる。なかでも２−クロロフェニルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよび２−エトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好ましく、特に２−メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好ましく使用される。
【００３６】
さらにかかる重合反応において触媒の活性を中和する失活剤を用いることが好ましい。この失活剤の具体例としては、例えばベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニルなどのスルホン酸エステル；さらに、トリフルオロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホン化ポリスチレン、アクリル酸メチル‐スルホン化スチレン共重合体、ドデシルベンゼンスルホン酸−２−フェニル−２−プロピル、ドデシルベンゼンスルホン酸−２−フェニル−２−ブチル、オクチルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、デシルアンモニウムブチルサルフェート、デシルアンモニウムデシルサルフェート、ドデシルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシルジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テトラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、テトラメチルアンモニウムヘキシルサルフェート、デシルトリメチルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、テトラブチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェート、テトラエチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェート、テトラメチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェート等の化合物を挙げることができるが、これらに限定されない。これらの化合物を二種以上併用することもできる。
【００３７】
失活剤の中でもホスホニウム塩もしくはアンモニウム塩型のものが好ましい。かかる失活剤の量としては、残存する触媒１モルに対して０．５〜５０モルの割合で用いるのが好ましく、また重合後のポリカーボネート樹脂に対し、０．０１〜５００ｐｐｍの割合、より好ましくは０．０１〜３００ｐｐｍ、特に好ましくは０．０１〜１００ｐｐｍの割合で使用する。
【００３８】
ポリカーボネート樹脂の分子量は特定されないが、粘度平均分子量が１０，０００未満であると高温特性等が低下し、５０，０００を超えると成形加工性が低下するようになるので、粘度平均分子量が１０，０００〜５０，０００のものが好ましく、１４，０００〜３０，０００のものがより好ましく、さらに好ましくは１４，０００〜２４，０００である。また、ポリカーボネート樹脂の２種以上を混合しても差し支えない。この場合粘度平均分子量が上記範囲外であるポリカーボネート樹脂とを混合することも当然に可能である。
【００３９】
特に粘度平均分子量が５０，０００を超えるポリカーボネート樹脂との混合物はドリップ防止能が高く、本発明の効果をさらに効率的に発揮するため好ましいものである。より好ましくは粘度平均分子量が８０，０００以上のポリカーボネート樹脂との混合物であり、さらに好ましくは１００，０００以上の粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂との混合物である。すなわちＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）などの方法により明らかな２ピークの分布を有するものが好ましく使用できる。
【００４０】
本発明でいう粘度平均分子量はまず次式にて算出される比粘度を塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求め、
比粘度（ηSP）＝（ｔ−ｔ0）／ｔ0
［ｔ0は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
求められた比粘度を次式にて挿入して粘度平均分子量Ｍを求める。
【００４１】
ηSP／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］2ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０-4Ｍ0.83
ｃ＝０．７
【００４２】
本発明の（Ａ）成分の芳香族ポリカーボネートは、上記芳香族ポリカーボネート樹脂であって、かつ実質的にハロゲン原子を含まないものである。実質的にハロゲン原子を含まないとは、分子中にハロゲン置換二価フェノールなどを含まないことを示し、上記芳香族ポリカーボネートの製造方法において残留する微量の塩素系溶媒、カーボネート前駆体までも対象とするものではない。
【００４３】
本発明においてはさらに前記芳香族ポリカーボネート樹脂おいて、芳香族ポリカーボネート樹脂の酸価が−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）の範囲にあることが好ましい。酸価が−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）の範囲にあることで、本発明のシリコーン化合物が効果的に作用して、耐トラッキング性、帯電防止性、燃焼時の樹脂のドリップ防止性を発現することが容易となる。さらに好ましくは酸価が０．０〜３．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）の範囲にある芳香族ポリカーボネート樹脂である。酸価が−０．５（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）より小さいと芳香族ポリカーボネート樹脂自体が高いアルカリ性となり、組成物の熱安定性が低下する。５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）より大きいと、芳香族ポリカーボネート樹脂中の遊離酸あるいはフェノール性末端基がシリコーン化合物中のＳｉ−Ｈ基と結合してしまうために、耐トラッキング性、帯電防止性、燃焼時の樹脂のドリップ防止性を発現することが困難となる。
【００４４】
また、ここで言う酸価とは、ポリカーボネート樹脂１０ｋｇ（１０ｋｇＰＣと表記）当りに含まれる酸または塩基の量のことを言い、塩化メチレン１００ｍｌにメタノール３ｍｌを加え、さらにサンプルとしてポリカーボネート樹脂１０．０ｇを加えて２０℃で溶解した溶液に、Ｃ15Ｈ17ＣＮ4−Ｃ16Ｈ18ＣＩＮ3Ｓ・ｎＨ2Ｏを指示薬として１ｍｌ加え、０．０１ｍｏｌ／ｌのナトリウムメチラート（ＣＨ3ＯＮａ）にて滴定し、サンプルを加えた時の滴定量とサンプルを加えなかった時の滴定量を次式に挿入して求める。
【００４５】
Ｖ＝Ｎ×ｋ×（Ｘ−Ｙ）×１００００／Ｗ
Ｖ：酸価（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）
Ｎ：ナトリウムメチラート（ＣＨ3ＯＮａ）のｍｏｌ／ｌ
ｋ：０．０１ｍｏｌ／ｌのＣＨ3ＯＮａのファクター
Ｘ：サンプルを加えた時の滴定量（ｍｌ）
Ｙ：サンプルを加えなかった時の滴定量（ｍｌ）
Ｗ：サンプル量（ｇ）
【００４６】
酸価が−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）である芳香族ポリカーボネート樹脂は、例えば、界面重縮合法による芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法においては、反応促進のために用いるトリエチルアミン等の触媒を除去するために塩酸等を用いることがあるが、塩酸に由来する酸成分を中和するためにアルカリ成分を適当量添加する方法あるいは水洗などの精製工程を強化する方法により酸価を−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）の範囲とすることができる。また、触媒を用いない界面重縮合法による芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法においては、水酸化ナトリウム等の酸結合剤に由来するアルカリ成分を中和するために酸成分を適当量添加する方法あるいは水洗などの精製工程を強化する方法により酸価を−０．５〜５．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）の範囲とすることができる。
【００４７】
本発明の（Ｂ）成分として使用されるシリコーン化合物は特定のＳｉ−Ｈ結合を有するシリコーン化合物である。即ち、
分子中にＳｉ−Ｈ基および芳香族基を含有するシリコーン化合物であって、
▲１▼Ｓｉ−Ｈ基が含まれる量（Ｓｉ−Ｈ量）が０．１〜１．２ｍｏｌ／１００ｇ、▲２▼下記一般式（１）で示される芳香族基が含まれる割合（芳香族基量）が１０〜７０重量％、
【００４８】
【化９】
0003779623.tif 000006
【００４９】
（式（１）中、Ｘはそれぞれ独立にＯＨ基、炭素数１〜２０の一価の有機残基を示す。ｎは０〜５の整数を表わす。更に式（１）中においてｎが２以上の場合はそれぞれ互いに異なる種類のＸを取ることができる。）
【００５０】
▲３▼１０５℃／３時間における加熱減量法による揮発量が１８％以下、
であるシリコーン化合物の中から選択される少なくとも一種以上のシリコーン化合物（Ｂ）である。
【００５１】
好ましくは、Ｓｉ−Ｈ結合含有単位として、下記一般式（２）および（３）で示される構成単位のうち、少なくとも一種以上の式で示される構成単位を含むシリコーン化合物の中から選択される少なくとも一種以上のシリコーン化合物である。
【００５２】
【化１０】
0003779623.tif 000007
【００５３】
【化１１】
0003779623.tif 000008
【００５４】
（式（２）および式（３）中、Ｚ1〜Ｚ3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の一価の有機残基、または下記一般式（４）で示される化合物を示す。α１〜α３はそれぞれ独立に０または１を表わす。ｍ１は０もしくはそれ以上の整数を表わす。更に式（３）中においてｍ１が２以上の場合の繰返し単位はそれぞれ互いに異なる複数の繰返し単位を取ることができる。）
【００５５】
【化１２】
0003779623.tif 000009
【００５６】
（式（４）中、Ｚ4〜Ｚ8はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の一価の有機残基を示す。α４〜α８はそれぞれ独立に０または１を表わす。ｍ２は０もしくはそれ以上の整数を表わす。更に式（４）中においてｍ２が２以上の場合の繰返し単位はそれぞれ互いに異なる複数の繰返し単位を取ることができる。）
【００５７】
より好ましくは、Ｍを１官能性シロキサン単位、Ｄを２官能性シロキサン単位、Ｔを３官能性シロキサン単位で表わした時、ＭＤ単位またはＭＤＴ単位からなるシリコーン化合物である。
【００５８】
上記一般式（２）、（３）および（４）で示される構成単位のＺ1〜Ｚ8、および一般式（１）のＸにおける炭素数１〜２０の一価の有機残基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、アラルキル基を挙げることができ、さらにこれらの基はエポキシ基、カルボキシル基、無水カルボン酸基、アミノ基、およびメルカプト基などの各種官能基を含むものであってもよい。さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、特にはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、またはフェニル基が好ましい。
【００５９】
前記一般式（２）および（３）で示される構成単位のうち、少なくとも一種以上の式で示される構成単位を含むシリコーン化合物において、複数のシロキサン結合の繰返し単位を有する場合は、それらはランダム共重合、ブロック共重合、テーパード共重合のいずれの形態を取ることも可能である。
【００６０】
本発明においては、（Ｂ）成分としての前記シリコーン化合物において、シリコーン化合物中のＳｉ−Ｈ量を０．１〜１．２ｍｏｌ／１００ｇの範囲とすることが必要とされる。Ｓｉ−Ｈ量が０．１〜１．２ｍｏｌ／１００ｇの範囲にあることで、親水性のＳｉ−Ｈ結合を有するシリコーン化合物が界面活性剤として作用し、帯電防止性能を発現し、塵や埃の付着防止が容易となる。さらに好ましくはＳｉ−Ｈ量が０．２〜１．０ｍｏｌ／１００ｇの範囲にあるシリコーン化合物である。Ｓｉ−Ｈ量が０．１ｍｏｌ／１００ｇより少ないとシリコーンの帯電防止性能が不十分となり、１．２ｍｏｌ／１００ｇより多いと組成物の熱安定性が低下する。
【００６１】
また、ここで言うＳｉ−Ｈ量とは、シリコーン化合物１００ｇあたりに含まれるＳｉ−Ｈ構造のｍｏｌ数を言うが、これはアルカリ分解法により、シリコーン化合物の単位重量当たり発生した水素ガスの体積を測定することにより求めることができる。例えば、２５℃においてシリコーン化合物１ｇ当たり１２２ｍｌの水素ガスが発生した場合、下記計算式により、Ｓｉ−Ｈ量は０．５ｍｏｌ／１００ｇとなる。
１２２×２７３／（２７３＋２５）÷２２４００×１００≒０．５
【００６２】
一方、芳香族ポリカーボネート樹脂にシリコーン化合物を配合した芳香族ポリカーボネート樹脂組成物において、成形品のトラッキングによる発火あるいは塵や埃の付着を防止するためには、シリコーン化合物の分散状態が重要である。シリコーン化合物が偏在する場合には、測定箇所によって成形品の耐トラッキング性の差が大きくなり、耐トラッキング性の良好な成形品を得ることが困難となるためである。かかる分散状態を決定する重要な因子としてシリコーン化合物中の芳香族基量が挙げられる。
【００６３】
かかる観点より、本発明のシリコーン化合物としては、シリコーン化合物中の芳香族基量が１０〜７０重量％の範囲にあるものとすることが必要とされる。さらに好ましくは芳香族基量が１５〜６０重量％の範囲にあるシリコーン化合物である。シリコーン化合物中の芳香族基量が１０重量％より少ないとシリコーン化合物が偏在して分散不良となり、耐トラッキング性が良好な成形品を得ることが困難となる。芳香族基量が７０重量％より多いとシリコーン化合物自体の分子の剛直性が高くなるためやはり偏在して分散不良となり、耐トラッキング性が良好な成形品を得ることが困難となる。
【００６４】
また、ここで芳香族基量とは、シリコーン化合物において、下記一般式（１）で示される芳香族基が含まれる割合のことを言い、下記計算式によって求めることができる。
【００６５】
【化１３】
0003779623.tif 000010
【００６６】
芳香族基量＝〔Ａ／Ｍ〕×１００（重量％）
ここで、上記式におけるＡ、Ｍはそれぞれ以下の数値を表す。
【００６７】
Ａ＝シリコーン化合物１分子中に含まれる、全ての一般式（１）で示される芳香族基部分の合計分子量
Ｍ＝シリコーン化合物の分子量
【００６８】
さらに本発明のシリコーン化合物としては、１０５℃／３時間における加熱減量法による揮発量が１８％以下であることが必要とされる。さらに好ましくは揮発量が１０％以下であるシリコーン化合物である。揮発量が１８％より大きいと樹脂組成物製造時のシリコーン化合物の揮発量も多くなり、本発明の樹脂組成物を経済的に供給することが困難となる。
【００６９】
上記一般式で示される構成単位を含むシリコーン化合物としては、上記の条件を満たすものであれば直鎖状であっても分岐構造を持つものであっても良く、Ｓｉ−Ｈ基を分子構造中の側鎖、末端、分岐点の何れか、または複数の部位に有する各種の化合物を用いることが可能である。
【００７０】
一般的にシリコーン化合物の構造は、以下に示す４種類のシロキサン単位を任意に組み合わせることによって構成される。
Ｍ単位：（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2、Ｈ（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2、Ｈ2（ＣＨ3）ＳｉＯ1/2、（ＣＨ3）2（ＣＨ2＝ＣＨ）ＳｉＯ1/2、（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ1/2、（ＣＨ3）（Ｃ6Ｈ5）（ＣＨ2＝ＣＨ）ＳｉＯ1/2等の        １官能性シロキサン単位
Ｄ単位：（ＣＨ3）2ＳｉＯ、Ｈ（ＣＨ3）ＳｉＯ、Ｈ2ＳｉＯ、Ｈ（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ、（ＣＨ3）（ＣＨ2＝ＣＨ）ＳｉＯ、（Ｃ6Ｈ5）2ＳｉＯ等の２官能性シロキサン単位
Ｔ単位：（ＣＨ3）ＳｉＯ3/2、（Ｃ3Ｈ7）ＳｉＯ3/2、ＨＳｉＯ3/2、（ＣＨ2＝ＣＨ）ＳｉＯ3/2、（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ3/2等の３官能性シロキサン単位
Ｑ単位：ＳｉＯ2で示される４官能性シロキサン単位
【００７１】
本発明において使用されるシリコーン化合物の構造は、具体的には、示性式としてＤn、Ｔp、ＭmＤn、ＭmＴp、ＭmＱq、ＭmＤnＴp、ＭmＤnＱq、ＭmＴpＱq、ＭmＤnＴpＱq、ＤnＴp、ＤnＱq、ＤnＴpＱqが挙げられる。この中で好ましいシリコーン化合物の構造は、ＭmＤn、ＭmＴp、ＭmＤnＴp、ＭmＤnＱqであり、さらに好ましい構造は、ＭmＤn、ＭmＤnＴpである。
（ここで、上記示性式中の係数ｍ、ｎ、ｐ、ｑは各シロキサン単位の重合度を表す整数であり、各示性式における係数の合計がシリコーン化合物の平均重合度となる。本発明においては、この平均重合度を３〜１５０の範囲とすることが好ましく、より好ましくは３〜８０の範囲である。またｍ、ｎ、ｐ、ｑのいずれかが２以上の数値である場合、その係数の付いたシロキサン単位は、結合する水素原子や有機残基が異なる２種以上のシロキサン単位とすることができる。）
上記のシリコーン化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。
【００７２】
このようなＳｉ−Ｈ結合を有するシリコーン化合物は、それ自体従来公知の方法によって製造することができる。例えば、目的とするシリコーン化合物の構造に従い、相当するオルガノクロロシラン類を共加水分解し、副生する塩酸や低沸分を除去することによって目的物を得ることができる。また、分子中にＳｉ−Ｈ結合や一般式（１）で示される芳香族基、その他の有機残基を有するシリコーンオイル、環状シロキサンやアルコキシシラン類を出発原料とする場合には、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸等の酸触媒を使用し、場合によって加水分解のための水を添加して、重合反応を進行させた後、使用した酸触媒や低沸分を同様に除去することによって、目的とするシリコーン化合物を得ることができる。
【００７３】
前記（Ｂ）成分のシリコーン化合物は、（Ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．１〜１０重量部、好ましくは０．５〜７重量部、より好ましくは１．２〜５重量部配合される。
【００７４】
本発明の樹脂組成物には、さらに（Ｃ）成分としてラジカル発生剤、有機アルカリ金属塩および有機アルカリ土類金属塩より選ばれる少なくとも一種の化合物を配合することができる。この（Ｃ）成分の配合により、難燃性をより向上させることができ、殊にドリップ防止性が改良される。（Ｃ）成分の配合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）１００重量部に対して、０．００１〜０．３重量部、好ましくは０．００５〜０．３重量部、より好ましくは０．００５〜０．２重量部の範囲が適当である。
【００７５】
本発明の（Ｃ）成分として使用されるラジカル発生剤としては、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジクミルパーオキサイド等の有機過酸化物、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン（ジクミル）等が挙げられ、これらは日本油脂（株）製パーヘキシン２５Ｂ、パークミルＤ、ノフマーＢＣ等の商品名で市販されており容易に入手できる。特に溶融混練時にはラジカルの発生が極力少なく、燃焼時に有効にある程度安定したラジカルを発生するものが好ましいため、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン（ジクミル）をより好ましいラジカル発生剤として挙げることができる。
【００７６】
本発明の（Ｃ）成分として使用されるアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩としては、従来ポリカーボネート樹脂を難燃化するのに使用されている各種の金属塩が使用可能であるが、特に有機スルホン酸の金属塩、または硫酸エステルの金属塩を挙げることができる。これらは単独の使用だけでなく、２種以上を混合して使用することも可能である。尚、本発明のアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられ、アルカリ土類金属としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムが挙げられ、特に好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウムである。
【００７７】
前記有機スルホン酸の金属塩としては、脂肪族スルホン酸のアルカリ金属塩、脂肪族スルホン酸のアルカリ土類金属塩、芳香族スルホン酸のアルカリ金属塩、芳香族スルホン酸のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。かかる脂肪族スルホン酸金属塩の好ましい例としては、アルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩、かかるアルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩のアルキル基の一部がフッ素原子で置換したスルホン酸アルカリ（土類）金属塩、およびパーフルオロアルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩を挙げることができ、これらは１種もしくは２種以上を併用して使用することができる（ここで、アルカリ（土類）金属塩の表記は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩のいずれも含む意味で使用する）。
【００７８】
アルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩に使用するアルカンスルホン酸の好ましい例としては、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、メチルブタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、へプタンスルホン酸、オクタンスルホン酸等が挙げられ、これらは１種もしくは２種以上を併用して使用することができる。またかかるアルキル基の一部がフッ素原子で置換した金属塩も挙げることができる。
【００７９】
一方、パーフルオロアルカンスルホン酸の好ましい例としては、パーフルオロメタンスルホン酸、パーフルオロエタンスルホン酸、パーフルオロプロパンスルホン酸、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロメチルブタンスルホン酸、パーフルオロヘキサンスルホン酸、パーフルオロヘプタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸等が挙げられ、特に炭素数が１〜８のものが好ましい。これらは１種もしくは２種以上を併用して使用することができる。
【００８０】
かかるアルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、エタンスルホン酸ナトリウム塩が、パーフルオロアルカンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、パーフルオロブタンスルホン酸カリウム塩を好ましく挙げることができる。
【００８１】
芳香族スルホン酸アルカリ（土類）金属塩に使用する芳香族スルホン酸としては、モノマー状またはポリマー状の芳香族サルファイドのスルホン酸、芳香族カルボン酸およびエステルのスルホン酸、モノマー状またはポリマー状の芳香族エーテルのスルホン酸、芳香族スルホネートのスルホン酸、モノマー状またはポリマー状の芳香族スルホン酸、モノマー状またはポリマー状の芳香族スルホンスルホン酸、芳香族ケトンのスルホン酸、複素環式スルホン酸、芳香族スルホキサイドのスルホン酸、芳香族スルホン酸のメチレン型結合による縮合体からなる群から選ばれた少なくとも１種の酸を挙げることができ、これらは１種もしくは２種以上を併用して使用することができる。
【００８２】
モノマー状またはポリマー状の芳香族サルファイドのスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−９８５３９号公報に記載されており、例えば、ジフェニルサルファイド−４，４’−ジスルホン酸ジナトリウム、ジフェニルサルファイド−４，４’−ジスルホン酸ジカリウムなどを挙げることができる。
【００８３】
芳香族カルボン酸およびエステルのスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−９８５４０号公報に記載されており、例えば５−スルホイソフタル酸カリウム、５−スルホイソフタル酸ナトリウム、ポリエチレンテレフタル酸ポリスルホン酸ポリナトリウムなどを挙げることができる。
【００８４】
モノマー状またはポリマー状の芳香族エーテルのスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−９８５４２号公報に記載されており、例えば１−メトキシナフタレン−４−スルホン酸カルシウム、４−ドデシルフェニルエーテルジスルホン酸ジナトリウム、ポリ（２，６−ジメチルフェニレンオキシド）ポリスルホン酸ポリナトリウム、ポリ（１，３−フェニレンオキシド）ポリスルホン酸ポリナトリウム、ポリ（１，４−フェニレンオキシド）ポリスルホン酸ポリナトリウム、ポリ（２，６−ジフェニルフェニレンオキシド）ポリスルホン酸ポリカリウム、ポリ（２−フルオロ−６−ブチルフェニレンオキシド）ポリスルホン酸リチウムなどを挙げることができる。
【００８５】
芳香族スルホネートのスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−９８５４４号公報に記載されており、例えばベンゼンスルホネートのスルホン酸カリウムなどを挙げることができる。
【００８６】
モノマー状またはポリマー状の芳香族スルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−９８５４６号公報に記載されており、例えばベンゼンスルホン酸ナトリウム、ベンゼンスルホン酸ストロンチウム、ベンゼンスルホン酸マグネシウム、ｐ−ベンゼンジスルホン酸ジカリウム、ナフタレン−２，６−ジスルホン酸ジカリウム、ビフェニル−３，３’−ジスルホン酸カルシウムなどを挙げることができる。
【００８７】
モノマー状またはポリマー状の芳香族スルホンスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５２−５４７４６号公報に記載されており、例えばジフェニルスルホン−３−スルホン酸ナトリウム、ジフェニルスルホン−３−スルホン酸カリウム、ジフェニルスルホン−３，３’−ジスルホン酸ジカリウム、ジフェニルスルホン−３，４’−ジスルホン酸ジカリウムなどを挙げることができる。
【００８８】
芳香族ケトンのスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−９８５４７号公報に記載されており、例えばα，α，α−トリフルオロアセトフェノン−４−スルホン酸ナトリウム、ベンゾフェノン−３，３’−ジスルホン酸ジカリウムなどを挙げることができる。
【００８９】
複素環式スルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５０−１１６５４２号公報に記載されており、例えばチオフェン−２，５−ジスルホン酸ジナトリウム、チオフェン−２，５−ジスルホン酸ジカリウム、チオフェン−２，５−ジスルホン酸カルシウム、ベンゾチオフェンスルホン酸ナトリウムなどを挙げることができる。
【００９０】
芳香族スルホキサイドのスルホン酸アルカリ（土類）金属塩としては、特開昭５２−５４７４５号公報に記載されており、例えばジフェニルスルホキサイド−４−スルホン酸カリウムなどを挙げることができる。
【００９１】
芳香族スルホン酸アルカリ（土類）金属塩のメチレン型結合による縮合体としては、ナフタレンスルホン酸ナトリウムのホルマリン縮合物、アントラセンスルホン酸ナトリウムのホルマリン縮合物などを挙げることができる。
【００９２】
一方、硫酸エステルのアルカリ（土類）金属塩としては、特に一価および／または多価アルコール類の硫酸エステルのアルカリ（土類）金属塩を挙げることができ、かかる一価および／または多価アルコール類の硫酸エステルとしては、メチル硫酸エステル、エチル硫酸エステル、ラウリル硫酸エステル、ヘキサデシル硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル、ペンタエリスリトールのモノ、ジ、トリ、テトラ硫酸エステル、ラウリン酸モノグリセライドの硫酸エステル、パルミチン酸モノグリセライドの硫酸エステル、ステアリン酸モノグリセライドの硫酸エステルなどを挙げることができる。これらの硫酸エステルのアルカリ（土類）金属塩として好ましくはラウリル硫酸エステルのアルカリ（土類）金属塩を挙げることができる。
【００９３】
また他のアルカリ（土類）金属塩としては、芳香族スルホンアミドのアルカリ（土類）金属塩を挙げることができ、例えばサッカリン、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）−ｐ−トルエンスルホイミド、Ｎ−（Ｎ’−ベンジルアミノカルボニル）スルファニルイミド、およびＮ−（フェニルカルボキシル）スルファニルイミドのアルカリ（土類）金属塩などが挙げられる。
【００９４】
上記に挙げたアルカリ（土類）金属塩のうち、より好ましい成分として芳香族スルホン酸のアルカリ（土類）金属塩およびパーフルオロアルカンスルホン酸のアルカリ（土類）金属塩を挙げることができる。
【００９５】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、本発明の効果を発揮する範囲において各種の熱可塑性樹脂および添加剤などを含むことができる。
【００９６】
ポリカーボネート樹脂以外の他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルスチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＳＡ樹脂、ＳＭＡ樹脂、ポリアルキルメタクリレート樹脂などに代表される汎用プラスチックス、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアセタール樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂（非晶性ポリアリレート、液晶性ポリアリレート）等に代表されるエンジニアリングプラスチックス、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイドなどのいわゆるスーパーエンジニアリングプラスチックスと呼ばれるものを挙げることができる。さらにスチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマーなどの熱可塑性エラストマーも使用することができる。
【００９７】
その他各種添加剤としては、例えば補強剤（タルク、マイカ、クレー、ワラストナイト、炭酸カルシウム、ガラス繊維、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ミルドファイバー、ガラスフレーク、炭素繊維、炭素フレーク、カーボンビーズ、カーボンミルドファイバー、金属フレーク、金属繊維、金属コートガラス繊維、金属コート炭素繊維、金属コートガラスフレーク、シリカ、セラミック粒子、セラミック繊維、アラミド粒子、アラミド繊維、ポリアリレート繊維、グラファイト、導電性カーボンブラック、各種ウイスカーなど）、難燃剤（ハロゲン系、リン酸エステル系、赤リン、金属水和物系など）、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、離型剤、滑剤、摺動剤（ＰＴＦＥ粒子など）、着色剤（カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、染料）、光拡散剤（アクリル架橋粒子、シリコン架橋粒子、極薄ガラスフレーク、炭酸カルシウム粒子など）、蛍光増白剤、蓄光顔料、蛍光染料、帯電防止剤、流動改質剤、結晶核剤、無機および有機の抗菌剤、光触媒系防汚剤（微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛など）、グラフトゴムに代表される衝撃改質剤、赤外線吸収剤、フォトクロミック剤を配合することができる。
【００９８】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、熱安定剤としてリン系安定剤を含むことが好ましい。かかるリン系安定剤としては、ホスファイト系、ホスホナイト系、およびホスフェート系のいずれも使用可能である。
【００９９】
本発明におけるホスファイト系安定剤としては、さまざまなものを用いることができる。具体的には例えば一般式（８）
【０１００】
【化１４】
0003779623.tif 000011
【０１０１】
［式中Ｒ8は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基ないしアルカリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、またはこれらのハロ、アルキルチオ（アルキル基は炭素数１〜３０）またはヒドロキシ置換基を示し、３個のＲ8は互いに同一または互いに異なるのいずれの場合も選択でき、また２価フェノール類から誘導されることにより環状構造も選択できる。］で表わされるホスファイト化合物である。
【０１０２】
また、一般式（９）
【０１０３】
【化１５】
0003779623.tif 000012
【０１０４】
［式中Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基ないしアルキルアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数４〜２０のシクロアルキル基、炭素数１５〜２５の２−（４−オキシフェニル）プロピル置換アリール基を示す。尚、シクロアルキル基およびアリール基は、アルキル基で置換されていないもの、またはアルキル基で置換されているもののいずれも選択できる。］で表わされるホスファイト化合物を挙げることができる。
【０１０５】
また、一般式（１０）
【０１０６】
【化１６】
0003779623.tif 000013
【０１０７】
［式中Ｒ11、Ｒ12は炭素数１２〜１５のアルキル基である。尚、Ｒ11およびＲ12は互いに同一または互いに異なるのいずれの場合も選択できる。］で表わされるホスファイト化合物を挙げることができる。
【０１０８】
ホスホナイト系安定剤としては下記一般式（１１）で表わされるホスホナイト化合物、および下記一般式（１２）で表わされるホスホナイト化合物を挙げることができる。
【０１０９】
【化１７】
0003779623.tif 000014
【０１１０】
【化１８】
0003779623.tif 000015
【０１１１】
［式中、Ａｒ1、Ａｒ2は炭素数６〜２０のアリール基ないしアルキルアリール基、または炭素数１５〜２５の２−（４−オキシフェニル）プロピル置換アリール基を示し、４つのＡｒ1は互いに同一、または互いに異なるいずれも選択できる。または２つのＡｒ2は互いに同一、または互いに異なるいずれも選択できる。］
上記一般式（８）に対応するホスファイト化合物における好ましい具体例としては、ジフェニルイソオクチルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイトが挙げられる。
【０１１２】
上記一般式（９）に対応するホスファイト化合物における好ましい具体例としては、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられ、好ましくはジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトを挙げることができる。かかるホスファイト化合物は１種、または２種以上を併用することができる。
【０１１３】
上記一般式（１０）に対応するホスファイト化合物における好ましい具体例としては、４，４’−イソプロピリデンジフェノールテトラトリデシルホスファイトを挙げることができる。
【０１１４】
上記一般式（１１）に対応するホスホナイト化合物における好ましい具体例としては、テトラキス（２，４−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられ、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイトがより好ましい。このテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイトは、２種以上の混合物が好ましく、具体的にはテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｅ２−１成分）、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｅ２−２成分）および、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｅ２−３成分）の１種もしくは２種以上を併用して使用可能であるが、好ましくはかかる３種の混合物である。また、３種の混合物の場合その混合比は、Ｅ２−１成分、Ｅ２−２成分およびＥ２−３成分を重量比で１００：３７〜６４：４〜１４の範囲が好ましく、１００：４０〜６０：５〜１１の範囲がより好ましい。
【０１１５】
上記一般式（１２）に対応するホスホナイト化合物の好ましい具体例としては、ビス（２，４−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイトビス（２，６−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。このビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトは、２種以上の混合物が好ましく、具体的にはビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、およびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイトの１種もしくは２種を併用して使用可能であるが、好ましくはかかる２種の混合物である。また、２種の混合物の場合その混合比は、重量比で５：１〜４の範囲が好ましく、５：２〜３の範囲がより好ましい。
【０１１６】
一方ホスフェート系安定剤としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリメチルホスフェートである。
【０１１７】
上記のリン系安定剤に対してさらに好ましいリン系安定剤としては、以下の一般式（１３）および（１４）で示される化合物を挙げることができる。
【０１１８】
【化１９】
0003779623.tif 000016
【０１１９】
（式（１３）中、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ炭素原子数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。）
【０１２０】
【化２０】
0003779623.tif 000017
【０１２１】
（式（１４）中、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ21、Ｒ22、およびＲ23はそれぞれ水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｒ19は水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、およびＲ20は水素原子またはメチル基を示す。）
式（１３）中、好ましくはＲ13およびＲ14は炭素原子数１〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基である。式（１３）の化合物としては具体的に、トリス（ジメチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられ、特にトリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好ましい。
【０１２２】
一方、式（１４）のリン化合物は公知の方法で製造できる。例えば下記一般式（１５）に示されるビスフェノール化合物と三塩化リンとを反応させて相当する塩化リン酸を得て、その後それと下記一般式（１６）で示されるフェノールとを反応させる方法などがある。
【０１２３】
【化２１】
0003779623.tif 000018
【０１２４】
（式（１５）中、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、およびＲ18はそれぞれ水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｒ19は水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、およびＲ20は水素原子またはメチル基を示す。）
【０１２５】
【化２２】
0003779623.tif 000019
【０１２６】
（式（１６）中、Ｒ21、Ｒ22、およびＲ23はそれぞれ水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。）
【０１２７】
上記一般式（１５）の化合物の具体例としては、２，２’−メチレンビスフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジメチルフェノール）、２，２’−エチリデンビスフェノール、２，２’−エチリデンビス（４−メチルフェノール）、２，２’−イソプロピリデンビスフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジヒドロキシ−３，３’−ジ（α−メチルシクロヘキシル）−５，５’−ジメチルフェニルメタン、２，２’−メチレンビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、および２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）などが挙げられ、好ましく使用することができる。
【０１２８】
一般式（１５）の化合物としてより好ましくは、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、および２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）を挙げることができる。
【０１２９】
一方、一般式（１６）の化合物の具体例としては、フェノール、２−メチルフェノール、３−メチルフェノール、４−メチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、および２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｓ−ブチルフェノールなどが挙げられ、好ましく使用できる。一般式（１６）の化合物の具体例としてより好ましいのは、アルキル置換基を２つ以上有する場合である。
【０１３０】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物はフェノール系酸化防止剤を含むことができる。フェノール系酸化防止剤により熱暴露時の変色を抑制できると共に、難燃性の向上に対してもある程度の効果を発揮する。かかるフェノール系酸化防止剤としては種々のものを使用することができる。
【０１３１】
かかるフェノール系酸化防止剤の具体例としては、例えばビタミンＥ、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−Ｎ−ビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，６−へキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，��−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどを挙げることができ、好ましく使用できる。
【０１３２】
より好ましくは、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンであり、さらにｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネートが好ましい。
【０１３３】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物はイオウ系酸化防止剤を含むことができる。特に成形が回転成形や圧縮成形に使用される場合には好適である。かかるイオウ系酸化防止剤の具体例としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ラウリルステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（β−ラウリルチオプロピオネート）エステル、ビス［２−メチル−４−（３−ラウリルチオプロピオニルオキシ）−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］スルフィド、オクタデシルジスルフィド、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−６−メチルベンズイミダゾール、１，１’−チオビス（２−ナフトール）などを挙げることができる。より好ましくは、ペンタエリスリトールテトラ（β−ラウリルチオプロピオネート）エステルを挙げることができる。
【０１３４】
上記に挙げたリン系安定剤、フェノール系酸化防止剤、およびイオウ系酸化防止剤はそれぞれ単独または２種以上併用することができる。より好ましくはリン系安定剤を必須とする場合であり、特にリン系安定剤として上記一般式（１３）の化合物を含んでいることが好ましい。
【０１３５】
これらの安定剤の組成物中の割合としては、本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物１００重量部当たり、リン系安定剤、フェノール系酸化防止剤、またはイオウ系酸化防止剤はそれぞれ０．０００１〜１重量部であることが好ましい。より好ましくはポリカーボネート樹脂組成物１００重量部当たり、０．０００５〜０．５重量部である。さらに好ましくは０．００１〜０．２重量部である。
【０１３６】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて離型剤を配合することができる。本発明においては良好な難燃性を有するため、通常難燃性に対して悪影響を及ぼしやすい離型剤を配合した場合であっても、良好な難燃性を達成することができる。かかる離型剤としては公知のものが使用できる。例えば、飽和脂肪酸エステル、不飽和脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス（ポリエチレンワツクス、１−アルケン重合体など。酸変性などの官能基含有化合物で変性されているものも使用できる）、シリコーン化合物（本発明の（Ｂ）成分以外のもの。例えば直鎖状または環状のポリジメチルシロキサンオイルやポリメチルフェニルシリコーンオイルなどが挙げられる。酸変性などの官能基含有化合物で変性されているものも使用できる）、フッ素化合物（ポリフルオロアルキルエーテルに代表されるフッ素オイルなど）、パラフィンワックス、蜜蝋などを挙げることができる。これらの中でも飽和脂肪酸エステル類、直鎖状または環状のポリジメチルシロキサンオイルやポリメチルフェニルシリコーンオイルなど、およびフッ素オイルを挙げることができる。かかる離型剤は（Ａ）成分〜（Ｃ）成分の合計１００重量部に対して０．０１〜０．３重量部が好ましい。
【０１３７】
好ましい離型剤としては飽和脂肪酸エステルが挙げられ、例えばステアリン酸モノグリセライドなどのモノグリセライド類、デカグリセリンデカステアレートおよびデカグリセリンテトラステアレート等のポリグリセリン脂肪酸エステル類、ステアリン酸ステアレートなどの低級脂肪酸エステル類、セバシン酸ベヘネートなどの高級脂肪酸エステル類、ペンタエリスリトールテトラステアレートなどのエリスリトールエステル類が使用される。
【０１３８】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、ＯＡ機器の筐体などに使用されることが多いため、紫外線吸収剤を含んでいることが好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタンなどに代表されるベンゾフェノン系紫外線吸収剤を挙げることができる。
【０１３９】
また紫外線吸収剤としては例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α’−ジメチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、メチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート−ポリエチレングリコールとの縮合物に代表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を挙げることができる。
【０１４０】
さらに紫外線吸収剤としては例えば、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシルオキシ−フェノール、２−（４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシルオキシ）−フェノールなどのヒドロキシフェニルトリアジン系化合物を挙げることができる。
【０１４１】
またビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２ｎ−ブチルマロネート、１，２，３，４−ブタンカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールとの縮合物、１，２，３，４−ブタンジカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールとの縮合物、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ｛［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］｝、ポリ｛［６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］｝、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンと２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−クロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物、ポリメチルプロピル３−オキシ−［４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジニル］シロキサンに代表されるヒンダードアミン系の光安定剤も配合することができる。
【０１４２】
かかる紫外線吸収剤、光安定剤の割合は、（Ａ）成分〜（Ｃ）成分の合計１００重量部当たり０．０１〜５重量部、より好ましくは０．０２〜１重量部である。
【０１４３】
また、本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物には紫外線吸収剤などに基づく黄色味を打ち消すためにブルーイング剤を配合することができる。ブルーイング剤としてはポリカーボネート樹脂に使用されるものであれば、特に支障なく使用することができる。一般的にはアンスラキノン系染料が入手容易であり好ましい。具体的なブルーイング剤としては、例えば一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ１３［ＣＡ．Ｎｏ（カラーインデックスＮｏ）６０７２５；商標名バイエル社製「マクロレックスバイオレットＢ」、三菱化学（株）製「ダイアレジンブルーＧ」、住友化学工業（株）製「スミプラストバイオレットＢ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ３１［ＣＡ．Ｎｏ６８２１０；商標名  三菱化学（株）製「ダイアレジンバイオレットＤ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ３３［ＣＡ．Ｎｏ６０７２５；商標名  三菱化学（株）製「ダイアレジンブルーＪ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ９４［ＣＡ．Ｎｏ６１５００；商標名  三菱化学（株）製「ダイアレジンブルーＮ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ３６［ＣＡ．Ｎｏ６８２１０；商標名  バイエル社製「マクロレックスバイオレット３Ｒ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ９７［商標名  バイエル社製「マクロレックスブルーＲＲ」］および一般名ＳｏｌｖｅｎｔＢｌｕｅ４５［ＣＡ．Ｎｏ６１１１０；商標名  サンド社製「テトラゾールブルーＲＬＳ」］、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社のマクロレックスバイオレットやトリアゾールブルーＲＬＳ等が挙げられ、特に、マクロレックスブルーＲＲ、マクロレックスバイオレットＢやトリアゾールブルーＲＬＳが好ましい。
【０１４４】
本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を製造するには、任意の方法が採用される。例えばａ成分〜ｃ成分および任意に他の成分をそれぞれＶ型ブレンダー、ヘンシェルミキサー、メカノケミカル装置、押出混合機などの予備混合手段を用いて充分に混合した後、場合により押出造粒器やブリケッティングマシーンなどにより造粒を行い、その後ベント式二軸ルーダーに代表される溶融混練機で溶融混練、およびペレタイザー等の機器によりペレット化する方法が挙げられる。
【０１４５】
他に、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分および任意に他の成分をそれぞれ独立にベント式二軸ルーダーに代表される溶融混練機に供給する方法、（Ａ）および（Ｃ）成分の一部を予備混合した後、残りの成分と独立に溶融混練機に供給する方法、（Ｂ）成分を水または有機溶剤で希釈混合した後、溶融混練機に供給、またはかかる希釈混合物を他の成分と予備混合した後、溶融混練機に供給する方法なども挙げられる。尚、配合する成分に液状のものがある場合には、溶融混練機への供給にいわゆる液注装置、または液添装置を使用することができる。
【０１４６】
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物は通常かかるペレットを射出成形して成形品を得ることにより各種製品を製造することができる。かかる射出成形においては、通常のコールドランナー方式の成形法だけでなく、ランナーレスを可能とするホットランナーによって製造することも可能である。また射出成形においても、通常の成形方法だけでなくガスアシスト射出成形、射出圧縮成形、超高速射出成形等を使用することができる。
【０１４７】
また本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、押出成形により各種異形押出成形品、シート、フィルムなどの形で使用することもできる。またシート、フィルムの成形にはインフレーション法や、キャスティング法なども使用可能である。さらに特定の延伸操作をかけることにより熱収縮チューブとして成形することも可能である。また本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を溶融混練することなく回転成形により成形品とすることも可能である。
【０１４８】
【実施例】
以下に実施例を挙げてさらに説明するが、本発明はそれに限定されるものではない。尚、評価としては以下の項目について実施した。
（１）材料特性
（１−▲１▼）ドリップ防止性
ＵＬ規格に従って作成した厚さ１．６ｍｍの試験片を用いてＵＬ規格９４に基づいて試験を行った。その時、一次着火後および二次着火後にドリップに至るまでの時間を計測し、その最短の時間（秒）で評価した。
（１−▲２▼）耐トラッキング性
大きさ１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚さ５．０ｍｍの角板状成形品の耐トラッキング性をＩＥＣ  ６０１１２：７９で測定して得られた比較トラッキング指数（ＣＴＩ）および、２５０Ｖで測定した保証トラッキング指数（ＰＴＩ）で評価した。
（１−▲３▼）帯電防止性
１−▲２▼で測定に用いた角板状成形品を、温度２５℃、湿度５０％の環境下で２４時間放置した後水平に置き、成形品に煙草灰０．５ｇを降り掛け、５分間放置した後に成形品を垂直に立てかけた。成形品を垂直に立てかけた状態で、成形品表面に付着した煙草灰の量を目視で以下の基準で評価した。
【０１４９】
＜付着量＞
多：付着量多い。
少：付着量少ない。
極少：ほとんど付着せず。
【０１５０】
実施例１〜１４、および比較例１〜１０
表１〜３に記載の樹脂組成物を以下の要領で作成した。尚、説明は以下の表中の記号にしたがって説明する。
【０１５１】
表１〜３の割合の各成分を計量し、さらにホスファイト系抗酸化剤（日本チバガイギー社製ＩＲＧＡＦＯＳ１６８）  ０．０１重量部、フェノール系抗酸化剤（日本チバガイギー社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）  ０．０１重量部、紫外線吸収剤（ケミプロ化成工業（株）製  ケミソーブ７９）  ０．３重量部、離型剤（理研ビタミン（株）製  リケマールＳＬ９００）  ０．３重量部を計量して、タンブラーを用いて均一に混合し、かかる混合物を押出機に投入して樹脂組成物の作成を行った。
【０１５２】
押出機としては径３０ｍｍφのベント式二軸押出機（（株）神戸製鋼所ＫＴＸ−３０）を使用した。スクリュー構成はベント位置以前に第１段のニーディングゾーン（送りのニーディングディスク×２、送りのローター×１、戻しのローター×１および戻しニーディングディスク×１から構成される）を、ベント位置以後に第２段のニーディングゾーン（送りのローター×１、および戻しのローター×１から構成される）を設けてあった。シリンダ−温度およびダイス温度が２８０℃、およびベント吸引度が３０００Ｐａの条件でストランドを押出し、水浴において冷却した後ペレタイザーでストランドカットを行い、ペレット化した。
【０１５３】
得られたペレットは１１０℃で５時間、熱風循環式乾燥機にて乾燥し、射出成形機［ファナック（株）Ｔ−１５０Ｄ］によりシリンダー温度２９０℃、金型温度７０℃で試験片を成形した。
【０１５４】
また、表１〜表３に記載の使用した原材料等は以下の通りである。
（Ａ）成分
合成例−１
温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水２１９．４部、４８％水酸化ナトリウム水溶液４０．２部、ハイドロサルファイト０．１２部を仕込み、攪拌下にビスフェノールＡ５７．５部を溶解した後、塩化メチレン１８１部を加えて、２０〜２５℃でホスゲン２８．３部を約４０分かけて吹き込み反応させポリカーボネートオリゴマーを得た。この反応混合液の温度を３０℃にした後ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．２４部と４８％水酸化ナトリウム水溶液７．２部を加えて乳化後、トリエチルアミンを０．０６４部加えて１時間攪拌して反応を完結させた。反応終了後、塩化メチレン２４６部を加えて希釈して、ポリカーボネート樹脂１４重量％濃度の塩化メチレン溶液とした後、多孔板付遠心抽出機（川崎エンジニアリング（株）製ＫＣＣ遠心抽出機）を用いて０．５％水酸化ナトリウム水溶液を流量１，０００ｍｌ／ｍｉｎ、有機相を流量１，０００ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給し、３，５００ｒｐｍの条件で処理し有機相を得た。有機相にｐｈ３の塩酸を有機相と同容量を加え混合後分離した。有機相に同容量のイオン交換水を加え混合分離する操作を８回繰り返し、精製されたポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。ニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、粘度平均分子量２３，０００、酸価０．１（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）のポリカーボネート樹脂粉末（以下ＰＣ−１と略称する）を得た。
【０１５５】
合成例−２
有機相に同容量のイオン交換水を加え混合分離する操作を５回繰り返す以外は合成例−１と同様に操作して、粘度平均分子量２３，０００、酸価２．８（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）のポリカーボネート樹脂粉末（以下ＰＣ−２と略称する）を得た。
【０１５６】
合成例−３
有機相に同容量のイオン交換水を加え混合分離する操作を３回繰り返す以外は合成例−１と同様に操作して、粘度平均分子量２３，０００、酸価７．０（ｍｇ当量酸／１０ｋｇＰＣ）のポリカーボネート樹脂粉末（以下ＰＣ−３と略称する）を得た。
（Ｂ）成分
【０１５７】
合成例−４
撹拌装置、冷却装置、温度計を取り付けた１Ｌフラスコに水５７７．１ｇとトルエン１３０ｇを仕込み、内温５℃まで冷却した。滴下ロートにトリメチルクロロシラン２３．６ｇ、メチルジクロロシラン７５．０ｇおよびジフェニルジクロロシラン５５．０ｇの混合物を仕込み、フラスコ内へ撹拌しながら２時間かけて滴下した。この間、内温を２０℃以下に維持するよう、冷却を続けた。滴下終了後、さらに内温２０℃で撹拌を４時間続けて熟成した後、静置して分離した塩酸水層を除去し、１０％炭酸ナトリウム水溶液を添加して５分間撹拌後、静置して分離した水層を除去した。その後、さらにイオン交換水で３回洗浄し、トルエン層が中性になったことを確認した。このトルエン溶液を減圧下内温１２０℃まで加熱してトルエンと低沸分を除去した後、濾過により不溶物を取り除いてシリコーン化合物Ｂ−１を得た。
【０１５８】
合成例−５
撹拌装置、冷却装置、温度計を取り付けた１Ｌフラスコに１，３−ジフェニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン４９．９ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン１０４．６ｇおよびジフェニルジメトキシシラン４２５．２ｇを仕込み、さらに撹拌しながら濃硫酸２５．０ｇを添加した。内温１０℃まで冷却した後、水３１．９ｇをフラスコ内へ撹拌しながら３０分間かけて滴下した。この間、内温を２０℃以下に維持するよう、冷却を続けた。滴下終了後、さらに内温１０〜２０℃で撹拌を５時間続けて熟成した後、水８．５ｇとトルエン３００ｇを添加して３０分間撹拌後、静置して分離した水層を除去した。その後、さらに５％硫酸ナトリウム水溶液で４回洗浄し、トルエン層が中性になったことを確認した。このトルエン溶液を減圧下内温１２０℃まで加熱してトルエンと低沸分を除去した後、濾過により不溶物を取り除いてシリコーン化合物Ｂ−２を得た。
【０１５９】
合成例−６
ヘキサメチルジシロキサン４０．６ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン６０．１ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン６９．０ｇ、ジフェニルジメトキシシラン３５９．２ｇおよびフェニルトリメトキシシラン５９．５ｇを仕込み、さらに濃硫酸２５．０ｇを添加し、水３５．３ｇを滴下した以外は、合成例−５と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−３を得た。
【０１６０】
合成例−７
ヘキサメチルジシロキサン２７．１ｇ、ジエトキシメチルシラン１６７．８ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン２６９．３ｇおよびジフェニルジメトキシシラン１５８．４ｇを仕込み、さらに濃硫酸２５．０ｇを添加し、水３４．８ｇを滴下した以外は、合成例−５と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−４を得た。
【０１６１】
合成例−８
水５００．２ｇとトルエン１２０ｇを仕込み、ジメチルクロロシラン４７．３ｇ、メチルジクロロシラン５２．９ｇおよびフェニルトリクロロシラン６３．５ｇの混合物を滴下した以外は、合成例−４と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−５を得た。
【０１６２】
合成例−９
ヘキサメチルジシロキサン１０１．５ｇ、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン８４．０ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン７５．２ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン１．５ｇ、オクタフェニルシクロテトラシロキサン４４．２ｇおよびフェニルトリメトキシシラン２９７．４ｇを仕込み、さらに濃硫酸２５．０ｇを添加し、水４１．３ｇを滴下した以外は、合成例−５と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−６を得た。
【０１６３】
合成例−１０
水５１６．２ｇとトルエン１２０ｇを仕込み、ジメチルクロロシラン１８．０ｇ、メチルジクロロシラン１０９．３ｇおよびジフェニルジクロロシラン３８．５ｇの混合物を滴下した以外は、合成例−４と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−７を得た。
【０１６４】
合成例−１１
水４９０．５ｇとトルエン１２０ｇを仕込み、トリメチルクロロシラン４０．７ｇ、メチルジクロロシラン４６．０ｇ、ジメチルジクロロシラン４３．６ｇ、ジフェニルジクロロシラン６．３ｇおよびフェニルトリクロロシラン２６．４ｇの混合物を滴下した以外は、合成例−４と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−８を得た。
【０１６５】
合成例−１２
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１３．４ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン３０．１ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン３１．９ｇおよびジフェニルジメトキシシラン５２２．９ｇを仕込み、さらに濃硫酸４０．０ｇを添加し、水３９．３ｇを滴下した以外は、合成例−５と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−９を得た。
Ｂ−１：合成例−４に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．６５ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が３４重量％、揮発量が３．２％のシリコーン化合物。
Ｂ−２：合成例−５に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．３５ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が５９重量％、揮発量が０．８％のシリコーン化合物。
Ｂ−３：合成例−６に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．２０ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が５０重量％、揮発量が２．２％のシリコーン化合物。
Ｂ−４：合成例−７に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．２５ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が２０重量％、揮発量が３．６％のシリコーン化合物。
Ｂ−５：合成例−８に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．９６ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が２３重量％、揮発量が８．４％のシリコーン化合物。
Ｂ−６：合成例−９に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．５０ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が３０重量％、揮発量が９．４％のシリコーン化合物。
Ｂ−７：合成例−１０に従って作成したＳｉ−Ｈ量が１．１４ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が２３重量％、揮発量が４．９％のシリコーン化合物。
Ｂ−８：合成例−１１に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．４０ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が１３重量％、揮発量が１５．４％のシリコーン化合物。
Ｂ−９：合成例−１２に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．１４ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が６６重量％、揮発量が０．５％のシリコーン化合物。
【０１６６】
（Ｂ）成分以外
合成例−１３
水４６３．６ｇとトルエン１２０ｇを仕込み、ジメチルクロロシラン４７．３ｇ、ジメチルジクロロシラン６８．３ｇ、ジフェニルジクロロシラン１１．７ｇおよびフェニルトリクロロシラン３５．３ｇの混合物を滴下した以外は、合成例−４と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−１０を得た。
【０１６７】
合成例−１４
水５６０．６ｇとトルエン１３０ｇを仕込み、トリメチルクロロシラン２１．２ｇ、メチルジクロロシラン５２．３ｇ、ジメチルジクロロシラン８３．９ｇおよびフェニルトリクロロシラン１３．８ｇの混合物を滴下した以外は、合成例−４と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−１１を得た。
【０１６８】
合成例−１５
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン３９．０ｇおよびジフェニルジメトキシシラン５６６．９ｇを仕込み、さらに濃硫酸２５．０ｇを添加し、水４２．６ｇを滴下した以外は、合成例−５と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−１２を得た。
【０１６９】
合成例−１６
ヘキサメチルジシロキサン３９．９ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン１４．８ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキサン２００．６ｇおよびジフェニルジメトキシシラン３００．６ｇを仕込み、さらに濃硫酸２５．０ｇを添加し、水２２．６ｇを滴下した以外は、合成例−５と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−１３を得た。
【０１７０】
合成例−１７
水５６０．６ｇとトルエン１４０ｇを仕込み、ジメチルクロロシラン１８．９ｇ、メチルジクロロシラン１２６．５ｇおよびジフェニルジクロロシラン２５．３ｇの混合物を滴下した以外は、合成例−４と同様に操作して、シリコーン化合物Ｂ−１４を得た。
Ｂ−１０（比較）：合成例−１３に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．５０ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が２０重量％、揮発量が１９．４％のシリコーン化合物。
Ｂ−１１（比較）：合成例−１４に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．４５ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が５重量％、揮発量が８．８％のシリコーン化合物。
Ｂ−１２（比較）：合成例−１５に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．１２ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が７２重量％、揮発量が０．５％のシリコーン化合物。
Ｂ−１３（比較）：合成例−１６に従って作成したＳｉ−Ｈ量が０．０５ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が３８重量％、揮発量が１．８％のシリコーン化合物。
Ｂ−１４（比較）：合成例−１７に従って作成したＳｉ−Ｈ量が１．３１ｍｏｌ／１００ｇ、芳香族基量が１６重量％、揮発量が６．９％のシリコーン化合物。
【０１７１】
＜各シリコーン化合物の示性式＞
Ｂ−１ ： Ｍ2ＤH6Ｄφ22
Ｂ−２ ： Ｍφ2ＤH10Ｄφ210
Ｂ−３ ： Ｍ5ＤH10Ｄ9.3Ｄφ214.7Ｔφ3
Ｂ−４ ： Ｍ2ＤH7.5Ｄ21.8Ｄφ23.89
Ｂ−５ ： ＭH5ＤH4.6Ｔφ3
Ｂ−６ ： Ｍ2.5ＭH2.5ＤH2.5Ｄ0.039Ｄφ20.445Ｔφ3
Ｂ−７ ： ＭH2ＤH10Ｄφ21.6
Ｂ−８ ： Ｍ3ＤH3.2Ｄ2.7Ｄφ20.2Ｔφ1
Ｂ−９ ： ＭH2ＤH5Ｄ4.3Ｄφ221.4
Ｂ−１０ ： ＭH3Ｄ3.17Ｄφ20.28Ｔφ1 （比較）
Ｂ−１１ ： Ｍ3ＤH7Ｄ10Ｔφ1 （比較）
Ｂ−１２ ： ＭH2Ｄφ28 （比較）
Ｂ−１３ ： Ｍ2ＤH1Ｄ11Ｄφ25 （比較）
Ｂ−１４ ： ＭH2ＤH11Ｄφ21 （比較）
【０１７２】
尚、上記示性式における各記号は以下のシロキサン単位を表し、各記号の係数は１分子中における各シロキサン単位の重合度を示す。
Ｍ   ：（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2
ＭH   ： Ｈ（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2
Ｍφ  ：（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ1/2
Ｄ   ：（ＣＨ3）2ＳｉＯ
ＤH   ： Ｈ（ＣＨ3）ＳｉＯ
Ｄφ2 ：（Ｃ6Ｈ5）2ＳｉＯ
Ｔφ ：（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ3/2
【０１７３】
（Ｃ）成分
Ｃ−１：２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン（ジクミル）（日本油脂（株）製  ノフマーＢＣ）
Ｃ−２：パーフルオロブタンスルホン酸カリウム塩（大日本インキ化学工業（株）製  メガファックＦ−１１４Ｐ）
Ｃ−３：ジフェニルスルホンスルホン酸カリウム塩（ユーシービージャパン製  ＫＳＳ）
【０１７４】
【表１】
0003779623.tif 000020
【０１７５】
【表２】
0003779623.tif 000021
【０１７６】
【表３】
0003779623.tif 000022
【０１７７】
これらの表から以下のことが明らかである。実施例と比較例との比較から、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物は、耐トラッキング性、帯電防止性に優れ、さらに本発明のシリコーン化合物が添加されることによって着火後からドリップに至るまでの時間が長く燃焼時の樹脂のドリップ防止性にも優れていることが分かる。
【０１７８】
【発明の効果】
以上より明らかなように、本発明の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、ドリップ防止剤としてシリコーン化合物を主に含有し、良好なドリップ防止性能を有し、かつ耐トラッキング性、帯電防止性にも優れるものである。かかる特性は従来の難燃性芳香族ポリカーボネート樹脂にはないものであり、かかる樹脂組成物は射出成形等の高温での溶融時にも高い熱安定性を併せ持つ。したがって、リレーケース、コンデンサーケースのみならずＯＡ機器分野などの各種工業用途に極めて有用であり、その奏する工業的効果は極めて大である。