(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
0003846120.tif 000007
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。）
で示されるヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類と、チオアミド類を、式（１）で示されるヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類に対して０．１モル倍以上２モル倍以下の水硫化アルカリ、硫黄および塩基性物質の存在下に、反応させることを特徴とする一般式（２）
0003846120.tif 000008
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で示されるヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法。
【請求項２】
水硫化アルカリが、アルカリ金属水硫化物である請求項１に記載のヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法。
【請求項３】
アルカリ金属水硫化物が、水硫化ナトリウムである請求項２に記載のヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法。
【請求項４】
一般式（１）で示されるヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類とチオアミド類を、水硫化アルカリ、硫黄および塩基性物質の存在下に反応させた後、酸性化処理する請求項１に記載のヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法。
【請求項５】
金属の存在下で酸性化処理する請求項４に記載のヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法。
【請求項６】
金属が、亜鉛、鉄または錫である請求項５に記載のヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
下記一般式（２）
0003846120.tif 000002
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。）
で示されるヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類は、飼料添加物等に有用なビタミンＨ（ビオチン）や抗菌作用を有するα−デヒドロビオチン等の中間体として、極めて有用な化合物である。
【０００３】
かかるヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法としては、ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類をチオ酢酸アルカリ金属塩と反応させる方法（特公昭５３−２７２７９号公報）、ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類とチオアミド類を塩基性物質の存在下に反応させる方法（特公昭６２−７１９６号公報）が知られている。
しかしながら、前者の方法には、高価で不安定なチオ酢酸アルカリ金属塩を用いなければならないという問題があった。また、後者の方法は、収率の面で必ずしも十分満足できるものとは言えなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような状況の下、本発明者らは、上記一般式（２）で示されるヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類のさらに工業的に有利な製造方法を開発すべく鋭意検討し、本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、一般式（１）
0003846120.tif 000003
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。）
で示されるヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類とチオアミド類を、水硫化アルカリ、硫黄および塩基性物質の存在下に反応させることを特徴とする一般式（２）
0003846120.tif 000004
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で示されるヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の出発原料である下記一般式（１）
0003846120.tif 000005
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。）
で示されるヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類（以下、ラクトン類と略記する。）は、光学活性体、光学活性体の混合物あるいはラセミ体のいずれであってもよく、目的に応じて選択される。
【０００７】
上記一般式（１）で示されるラクトン類の式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表わすが、該式中、Ｒ1およびＲ2が同一であるラクトン類が実用上好ましい。
【０００８】
置換されていてもよいアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等の直鎖状もしくは分枝状の炭素数１〜８のアルキル基、これらアルキル基に、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロポキシ基等のアルコキシ基等が１個または２個以上置換したフルオロメチル基、クロロメチル基、クロロエチル基、メトキシキメチル基等に代表されるハロアルキル基、アルコキシアルキル基等が挙げられ、炭素数１〜４の低級アルキル基が好ましい。
【０００９】
置換されていてもよいアルケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基等の直鎖状もしくは分枝状の炭素数１〜８のアルケニル基、これらアルケニル基に、例えば上記したハロゲン原子、アルコキシ基等が１個または２個以上置換したハロアルケニル基、アルコキシアルケニル基等が挙げられ、炭素数１〜４の低級アルケニル基が好ましい。
【００１０】
置換されていてもよいアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等、およびこれらフェニル基、ナフチル基等の芳香環に、上記したハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等が１個または２個以上置換したもの、例えばトルイル基、キシリル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ニトロフェニル基、１−メチルナフチル基、２−メチルナフチル基等が挙げられ、フェニル基、トルイル基、ナフチル基が好ましい。
【００１１】
置換されていてもよいアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基、およびこれらを構成するフェニル基、ナフチル基等の芳香環に、上記したハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等が１個または２個以上置換したもの、例えばメトキシベンジル基、ブロモベンジル基等が挙げられ、ベンジル基、メトキシベンジル基が好ましく、なかでもベンジル基が特に好ましい。
【００１２】
かかるラクトン類としては、例えばヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジメチルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジエチルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（ｎ−プロピル）ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジアリルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（２−ブテニル）ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（２−メチル−３−ブテニル）ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジフェニルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジトルイルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（メトキシベンジル）ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（ブロモベンジル）ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン等が挙げられ、１，３−ジアリルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（メトキシベンジル）ヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンが好ましい。
【００１３】
上記一般式（１）で示されるラクトン類と反応させるチオアミド類としては、例えばチオアセトアミド、チオプロピオン酸アミド、チオ酪酸アミド等の脂肪族チオアミド類、チオベンズアミド、チオクロロベンズアミド、チオブロモベンズアミド、チオニトロベンズアミド、チオアミノベンズアミド、チオメトキシベンズアミド、チオヒドロキシベンズアミド等の芳香族チオアミド類等が挙げられる。かかるチオアミド類の中でも、脂肪族チオアミド類が好ましく、入手の容易さから、チオアセトアミドが特に好ましく用いられる。かかるチオアミド類の使用量は、一般式（１）で示されるラクトン類に対して、通常０．０１モル倍以上、好ましくは０．０５モル倍以上、より好ましくは０．１モル倍以上である。使用量の上限は特にないが、経済的な観点から、１０モル倍、好ましくは３モル倍、より好ましくは２モル倍である。
【００１４】
水硫化アルカリとしては、例えば水硫化ナトリウム、水硫化カリウム等のアルカリ金属水硫化物、水硫化カルシウム等のアルカリ土類金属水硫化物等が挙げられ、アルカリ金属水硫化物が好ましく、水硫化ナトリウムが特に好ましい。水硫化アルカリは、無水物、水和物のいずれであってもよいが、通常水和物が用いられる。またその形状は特に制限はない。
水硫化アルカリの使用量は、一般式（１）で示されるラクトン類に対して、通常０．１モル倍以上であればよく、上記したチオアミド類および後述する硫黄と合わせて硫黄換算で、ラクトン類に対して、通常０．９モル倍以上、好ましくは１モル倍以上、より好ましくは１．２モル倍以上となるよう、チオアミド類および硫黄の使用量に応じて、適宜水硫化アルカリの使用量を決めればよい。水硫化アルカリの使用量の上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、ラクトン類に対して、通常５モル倍、好ましくは２モル倍である。
【００１５】
硫黄は、粉末状もしくは塊状等どのような形状であっても使用することができるが、なかでも粉末状のものが好適である。
硫黄の使用量は、一般式（１）で示されるラクトン類に対して、通常０．１モル倍以上であればよく、上記したチオアミド類および水硫化アルカリと合わせて硫黄換算で、ラクトン類に対して、通常０．９モル倍以上、好ましくは１モル倍以上、より好ましくは１．２モル倍以上になるよう、チオアミド類および水硫化アルカリの使用量に応じて、適宜決めればよい。硫黄の使用量の上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、ラクトン類に対して、通常５モル倍、好ましくは２モル倍である。
【００１６】
塩基性物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、硫化ナトリウム等の無機塩基類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸カリウム、安息香酸ナトリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、後述する塩基性溶媒等の有機塩基類等が挙げられる。かかる塩基性物質のなかでも、カルボン酸アルカリ金属塩が好ましく、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムが特に好ましい。塩基性物質の使用量は、ラクトン類に対して、通常０．０１〜１０モル倍、好ましくは０．２〜２モル倍である。なお、後述する塩基性溶媒を反応に用いる場合には、かかる塩基性物質を用いなくてもよい。
【００１７】
ラクトン類とチオアミド類の反応は、通常反応溶媒の存在下で実施される。反応溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラメチルウレア、ヘキサメチルホスホリルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、トリイソプロパノールアミン、トリノルマルブチルアミン、β−ピコリン、γ−ピコリン、キノリン、イソキノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の塩基性溶媒等が挙げられる。かかる反応溶媒のなかでも、グリコール類が好ましく、ポリエチレングリコールが特に好ましい。また、これら反応溶媒に、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の低極性溶媒を混合して用いてもよい。かかる反応溶媒の使用量は特に制限されないが、容積効率および経済面から、ラクトン類に対して、通常１０重量倍以下、好ましくは５重量倍以下である。
【００１８】
反応温度は、通常５０〜１５０℃、好ましくは７０〜１２０℃、より好ましくは８０〜１１０℃である。反応は、常圧で行なってもよいし、加圧下もしくは減圧下で行なってもよい。
【００１９】
反応終了後、反応マスをそのまま冷却するか、もしくは濃縮することにより、一般式（２）
0003846120.tif 000006
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ前記と同じ意味を表わす。）
で示されるヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類（以下、チオラクトン類と略記する。）を取り出してもよいが、反応マスを酸性化処理した後、該チオラクトン類を取り出すことが好ましい。
【００２０】
酸性化処理は、通常反応マスに、塩酸、硫酸等の鉱酸、酢酸等の酸の水溶液を加え、反応マスのｐＨを、通常３以下、好ましくは１以下にすればよい。酸性化処理の温度は、通常０〜１００℃、好ましくは１０〜７０℃である。
【００２１】
反応マスを酸性化処理した後、例えば冷却するか、もしくは疎水性有機溶媒および必要に応じて水を加えて抽出処理し、得られる油層を濃縮もしくは晶析処理することにより、チオラクトン類を取り出すことができる。抽出処理に用いられる疎水性有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられ、その使用量は特に制限されない。また、疎水性有機溶媒および水は、酸性化処理の際に、予め加えておいてもよい。抽出処理の温度は、通常０〜１００℃、好ましくは１０〜７０℃である。
【００２２】
なお、前記酸性化処理を金属の存在下に実施することにより、さらに収率よくチオラクトン類を得ることができ、必要に応じて酸性化処理マスから残金属等の不溶分を濾別した後、上記と同様にして、チオラクトン類を取り出すことができる。
金属としては、例えば亜鉛、鉄、錫等が挙げられ、これら金属は通常粉末状のものが用いられる。金属の使用量は、特に制限はないが、経済性を考慮すると、ラクトン類に対して、通常５モル倍以下、好ましくは３モル倍以下である。
【００２３】
取り出したチオラクトン類は、例えばジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶媒およびアルコール系溶媒と水との混合溶媒等から再結晶させることにより、さらに精製することができる。
【００２４】
かくして得られる一般式（２）で示されるチオラクトン類としては、例えばヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジメチルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジエチルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（ｎ−プロピル）ヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジアリルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（２−ブテニル）ヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（２−メチル−３−ブテニル）ヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジフェニルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジトルイルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（メトキシベンジル）ヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン、１，３−ジ（ブロモベンジル）ヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン等が挙げられる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、ビオチン等の中間体として有用なヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン類をさらに工業的に有利に製造することができる。
【００２６】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されるものではない。
【００２７】
実施例１
１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン５９．４０ｇ、チオアセトアミド３．７５ｇ、酢酸ナトリウム９．２８ｇ、硫黄３．８４ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量６００）８７．６４ｇからなる溶液に、水硫化ナトリウム（水和物：純度７０％）８．００ｇを加え、内温１０３℃に昇温し、同温度で１１時間攪拌、保持した。その後、内温８０℃まで冷却し、トルエン３４６．７３ｇ、水１８５．５３ｇを加え、さらに内温１５〜３０℃で、亜鉛１６．０５ｇを加え、３５％塩酸８４．３０ｇを滴下した。内温４５℃で１２時間攪拌、保持した後、水層を分離した。得られた油層を水洗、濃縮し、粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを得た。粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを、２−プロパノール／水混合溶媒から再結晶して、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５５．８９ｇを得た（収率９０％、純度９９．６％）。再結晶濾液を液体クロマトグラフィ分析した結果、反応収率は９１％であった。
【００２８】
実施例２
実施例１において、反応温度１０３℃を１０５℃に代え、該温度での保温時間を１０時間とした以外は、実施例１と同様に実施して、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５５．６１ｇを得た（収率８９％）。反応収率は９０％であった。
【００２９】
実施例３
１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン１１８．８０ｇ、チオアセトアミド７．５０ｇ、酢酸ナトリウム１８．５６ｇ、硫黄７．５０ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量６００）１７５．２８ｇからなる溶液に、水硫化ナトリウム（水和物：純度７０％）１５．９９ｇを加え、内温１０５℃に昇温し、同温度で１０時間攪拌した。その後、内温８０℃まで冷却し、トルエン６９３．７７ｇ、水３７２．０３ｇを加え、さらに、内温１５〜３０℃で、亜鉛３２．１０ｇを加え、３５％塩酸１６８．６１ｇを滴下した。内温４５℃で５時間、さらに内温６０℃で３時間攪拌、保持した後、水層を分離した。得られた油層を水洗、濃縮し、粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを得た。粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを２−プロパノール／水混合溶媒から再結晶し、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶１１１．０８ｇを得た（収率９０％）。反応収率は９２％であった。
【００３０】
実施例４
１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン５９．４３ｇ、チオアセトアミド１．８８ｇ、酢酸ナトリウム９．２８ｇ、硫黄４．５０ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量６００）８７．６８ｇからなる溶液に、水硫化ナトリウム（水和物：純度７０％）８．００ｇを加え、内温１０１℃に昇温し、同温度で１４時間攪拌、保持した。その後、内温８０℃まで冷却し、トルエン３４７．４９ｇ、水１８５．８１ｇを加え、さらに、内温１５〜３０℃で、亜鉛１７．３５ｇを加え、３５％塩酸８４．９２ｇを滴下した。内温４５℃で５時間、さらに内温６０℃で３時間攪拌、保持した後、水層を分離した。得られた油層を水洗、濃縮し、粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを得た。粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを２−プロパノール／水混合溶媒から再結晶し、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５５．１４ｇを得た（収率８８％）。反応収率は９０％であった。
【００３１】
実施例５
１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン５９．４６ｇ、チオアセトアミド７．４９ｇ、酢酸ナトリウム９．２７ｇ、硫黄４．５０ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量６００）８７．６４ｇからなる溶液に、水硫化ナトリウム（水和物：純度７０％）８．００ｇを加え、内温１０１℃に昇温し、同温度で８時間攪拌、保持した。その後、内温８０℃まで冷却し、トルエン３４６．８５ｇ、水１８５．６１ｇを加え、さらに、内温１５〜３０℃で、亜鉛２８．９１ｇを加え、３５％塩酸１４１．２８ｇを滴下した。内温４５℃で５時間、さらに内温６０℃で３時間攪拌、保持した後、水層を分離した。得られた油層を水洗、濃縮し、粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを得た。粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを２−プロパノール／水混合溶媒から再結晶し、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５４．９７ｇを得た（収率８４％）。反応収率は８６％であった。
【００３２】
実施例６
実施例４において、反応温度１０１℃を１０９℃に代え、該温度での保温時間を１２時間とした以外は、実施例４と同様に実施し、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５３．７４ｇを得た（収率８３％）。反応収率は８５％であった。
【００３３】
実施例７
１，３−ジベンジルヘキサヒドロフロ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン５９．４０ｇ、チオアセトアミド１５．００ｇ、酢酸ナトリウム９．２８ｇ、硫黄３．００ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量６００）８７．６０ｇからなる溶液に、水硫化ナトリウム（水和物：純度７０％）２．０６ｇを加え、内温１０９℃に昇温し、同温度で１０時間攪拌、保持した。その後、内温８０℃まで冷却し、トルエン３４６．８０ｇ、水１８５．６ｇを加え、さらに、内温１５〜３０℃で、亜鉛１５．００ｇを加え、３５％塩酸７３．３０ｇを滴下した。内温４５℃で５時間、さらに内温６０℃で３時間攪拌、保持した後、水層を分離した。得られた油層を水洗、濃縮し、粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを得た。粗１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンを２−プロパノール／水混合溶媒から再結晶し、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５２．８１ｇを得た（収率８６％）。
【００３４】
実施例８
実施例７において、水硫化ナトリウム（水和物：純度７０％）の使用量を、２．０６ｇに代えて、７．４３ｇとし、１０９℃での保温時間を６時間とした以外は実施例７と同様に実施し、１，３−ジベンジルヘキサヒドロチエノ［３，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオンの結晶５４．３７ｇを得た（収率８４％）。