(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波を発生するマグネトロンと、
六面体の形状に形成され、該六面体をなす１つ以上の側壁が該側壁の後方隅部を中心として前方側が所定の中心角度（θ１）だけ内側の方に移行して設けられた調理室と、
該調理室の内側に装着されて調理対象物が載せられるターンテーブルと、
前記電磁波が円偏波状に放射されるように所定の中心角度だけ内側の方に移行して設けられた前記調理室の側壁の表面に切削形成された一対の開口部と、
前記マグネトロンから発生する電磁波を案内し、前記一対の開口部を覆うように前記側壁の表面上に装着されるマイクロウエーブガイドと、を含んで構成され、
前記マイクロウエーブガイド及び一対の開口部は、前記調理室の側壁の表面上の所定の水平／垂直線の交点を中心として、所定角度（θ３）だけ傾斜してそれぞれ形成され、かつ前記マイクロウエーブガイド及び前記一対の開口部が装着及び切削形成される前記調理室の側壁と対向して設けられた他の側壁は、該他の側壁の上辺が調理室の内側に所定角度（θ２）だけ傾斜して設けられることを特徴とする電子レンジの均一加熱構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子レンジに係るもので、詳しくは、マグネトロンから発生されるマイクロウェーブを調理室内の調理対象物に均一に照射させて調理を均一に行い得る電子レンジの均一加熱構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子レンジは、マグネトロンからマイクロウェーブを発生させて、そのマイクロウェーブにより調理対象物の調理を行う機器である。
このような従来の電子レンジの構造においては、図８に示したように、中空六面体状に形成されて調理物の調理が行われる調理室（Cavity）１０と、この調理室１０の側方の上記の六面体の内部あるいは側壁に装着されてマイクロウェーブを発生させる電装室２０と、
調理室１０の前面にヒンジにより係合されて調理室１０を開閉するドア７０と、を備えて構成されている。
【０００３】
そして、調理室１０は、内側の底面１１上に装着されて調理対象物が載せられるターンテーブル３０と、ターンテーブル３０を回転させるターンテーブルモータ（図示されず）と、を備えて構成される。
また、電装室２０においては、図９に示したように、後述するマイクロウェーブガイドに装着されてマイクロウェーブを発生するマグネトロン４０と、
調理室１０の一方側の壁に設置されて、マグネトロン４０から発生されるマイクロウェーブを調理室１０に放射されるように案内するマイクロウェーブガイド５０と、
調理室１０の一方側の壁面に相互に直交して穿孔形成されて、マイクロウェーブガイド５０から放射されるマイクロウェーブの波形を円偏波（Circular  Polarized  Wave）に変形させる一対の開口部（Opening）６０と、
マグネトロン４０に電源を供給する高電圧変換器（図示されず）とを備えて構成されている。
【０００４】
又、マイクロウェーブガイド５０は、断面が矩形状の六面体に形成され、マイクロウェーブガイド５０が開口部６０を覆うように調理室１０の一方側の壁面の表面上に突き出るように装着される。
以下、このような従来の電子レンジの動作を説明する。
先ず、使用者が調理対象物を調理室１０のターンテーブル３０の上面に載せた後、電源を印加すると、マグネトロン４０からマイクロウェーブが発生され、このマイクロウェーブは、マイクロウェーブガイド５０により案内されて開口部６０を通って調理室１０内に放射される。よって、ターンテーブルモータによりターンテーブル３０が回転しながら放射されるマイクロウェーブが調理対象物に浸透されて調理が行われる。
【０００５】
このとき、マグネトロン４０から発生されるマイクロウェーブをどれ程均一に調理対象物に放射するかが最も重要であるが、従来の電子レンジの構造においては、図１０に示したように、マグネトロン４０から発生されるマイクロウェーブがマイクロウェーブガイド５０及び開口部６０を通って調理室１０の内部に放射されるとき、マイクロウェーブの一部のみが調理室１０の内部の調理対象物に直接投入されて、残りのマイクロウェーブは、調理室１０の側壁面に反射されて調理物には直接影響を及ぼさない。
【０００６】
図１０は、従来の電子レンジの調理室１０の内部に放射されるマイクロウェーブの強さを色相別に区分して示した分布図で、図中、黒色は、高強度の部位、灰色は、中間強度の部位、白色は、弱強度の部位をそれぞれ示したものであって、マイクロウェーブの放射が不均一に分布して調理対象物に照射されていることが分かる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の電子レンジの調理室構造においては、マイクロウェーブが調理室内部の調理対象物に不均一に照射されて、調理性能が低下するという不都合な点があった。
そこで、本発明の目的は、マグネトロンから発生されるマイクロウェーブを調理室内部の調理対象物に均一に照射して均一な調理を行い得る電子レンジの均一加熱構造を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するため、本発明に係る電子レンジの均一加熱構造においては、電磁波を発生するマグネトロン４０と、
このマグネトロンから発生された電磁波を案内するように、電子レンジの側壁に装着されたマイクロウェーブガイド５０と、
このマイクロウェーブガイドから案内された電磁波を円偏波状に放射するように電子レンジの側壁に切削形成された一対の開口部６０と、
六面体以上の多面体形状に形成された調理室であって、この多面体をなす側壁（８１〜８６）のうちの一つ以上の側壁が、この側壁の後方隅部を中心としてその前方側が所定の中心角度（θ１）だけ内側の方に移行して設けられた調理室８０と、を備えて構成される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
図中、従来と同様な構成要素には、同一の符号を付して示した。
本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の第１実施形態においては、図１及び２に示したように、電磁波を発生するマグネトロン４０と、
このマグネトロンから発生された電磁波を案内するように、電子レンジの側壁に装着されたマイクロウェーブガイド５０と、
マイクロウェーブガイド５０から案内された電磁波を円偏波状に放射するように電子レンジの側壁に切削形成された一対の開口部６０と、
六面体以上の多面体形状に形成され、この多面体をなす一つ以上の側壁が、この側壁の後方隅部を中心として前方側が所定の中心角度（θ１）だけ内側の方に移行して設けられた調理室８０と、を備えて構成されている。
【００１０】
また、調理室８０の内部には、調理物が載せられるターンテーブル３０が収納され、調理室８０の各側壁中、前記の所定の中心角θ1だけ内側の方に移行して設けられた側壁８２と対向して設けられた側壁８３は、ターンテーブル３０上の調理物の中心方向に対し、所定の角度（θ２）だけ傾斜して構成されている。
又、本発明の第２実施形態として、図３に示したように、調理室８０の一方の側壁８２の表面に切削形成された開口部６０及びこの開口部６０の外側を覆って装着されるマイクロウェーブガイド５０を側壁８２の表面上の、図中の（Ｘ，Ｙ）で示した所定の点を中心として調理室８０の前方のドアの方向に所定角（θ３）だけ傾斜させてそれぞれ切削形成して装着され、その他は第１実施形態と同様に構成して使用することもできる。
【００１１】
又、本発明の第３実施形態として、図４及び図５に示したように、調理室８０の各側壁中、任意の一つ以上の側壁の隅部を円弧状の曲面に湾曲して形成し、マイクロウェーブガイド５０が装着される側壁８２と対向する側壁８３の上下両方を部分的に調理室８０の内部の調理物の中心方向に所定角度（θ２）だけ傾斜して形成し、その他は第２実施形態と同様に構成することもできる。
【００１２】
又、本発明の第４実施形態として、図６に示したように、ドア７０が取付けられる各側壁８２，８３の前面の上部を切削して、それらの各側壁８２，８３を後方向に傾斜させ、その他は第３実施形態と同様に構成して使用することもできる。
以下、このように構成される本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の作用に対し説明する。
【００１３】
先ず、電子レンジに電源が印加されると、マグネトロン４０からマイクロウェーブが発生され、このマイクロウェーブは、マイクロウェーブガイド５０に案内されて開口部６０を通って調理室８０の内部に放射される。
このとき、マイクロウェーブガイド５０及び開口部６０を経て調理室８０の内部に放射されるマイクロウェーブは、調理室８０の傾斜された側壁に反射して調理対象物に照射されるが、この側壁面に反射されたマイクロウェーブは、本発明の調理室１０が従来の調理室１０のような単純な六面体構造でなく、複雑な多面体状に形成されているため、調理室の内部に分布するマイクロウェーブの分布の調節因子が増加するので、以下に説明するように立体的で均一な照射が行われるようにすることができる。
【００１４】
即ち、図７(a)は従来の構造の場合、図７(b)は、調理室８０のマイクロウェーブガイド５０が装着される側壁８２が所定の中心角（θ１）だけ内側の方向に移行して設けられた場合、図７(c)は、上記の中心角（θ１）に加えて、側壁８２と対向する側壁８３が調理室８０内の調理物の中心方向に所定角（θ２）だけ傾斜して設けられた場合、図７(d)は、所定の中心角（θ１）及び傾斜角（θ２）に加えて、更に側壁８２の表面上にマイクロウェーブガイド５０及び開口部６０がそれぞれ所定の傾斜角（θ３）傾斜して穿孔形成及び装着された場合の、マイクロウェーブの分布状態を示した写真図を示す。
【００１５】
図示された色相別のマイクロウェーブの分布状態中、黒色は高強度の部位、灰色は中間強度の部位、白色は弱強度の部位をそれぞれ表わし、一般に、マイクロウェーブの分布は、従来よりも本発明の場合の方が中間強度の部位が広く分布し、全体的にマイクロウェーブが従来の構造に比べて均一に分布しており、従来の図７(a)→中心角（θ１）の因子を追加した場合の図７(b)→中心角（θ１）＋傾斜角（θ２）の因子を追加した場合の図７(c)→中心角（θ１）＋傾斜角（θ２）＋傾斜角（θ３）の因子を追加した場合の図７(d)の順に調節因子を増した場合ほど調理物に均一にマイクロウェーブが照射されることが分かる。
【００１６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る電子レンジの均一加熱構造においては、調理対象物が収納される調理室の側壁を調理対象物の方向に傾斜させて形成し、マイクロウェーブを調理室の内部に案内するマイクロウェーブガイド及び開口部をそれぞれ所定の角度だけドア側に傾斜して構成するため、マイクロウェーブガイド及び開口部を経て調理室の内部に放射されるマイクロウェーブの分布が従来よりも均一化されて、調理対象物の加熱が均一に行われ、よって、電子レンジの調理性能及び信頼性を向上させ得るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電子レンジの均一加熱構造を示した斜視図である。
【図２】本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の第１実施形態を示した概略斜視図である。
【図３】本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の第２実施形態を示したマイクロウェーブガイド及び開口部を示す図である。
【図４】本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の第３実施形態の一部分を示した縦断面図である。
【図５】本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の第３実施形態の他の部分を示した縦断面図である。
【図６】本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の第４実施形態を示した縦断面図である。
【図７】  (a)〜(d)は、従来及び本発明に係る電子レンジの均一加熱構造の各態様に従うマイクロウェーブの分布度を測定して示した分布図である。
【図８】一般の電子レンジを示した斜視図である
【図９】一般の電子レンジのマイクロウェーブガイドを示した斜視図である。
【図１０】従来の電子レンジのマイクロウェーブの分布度を測定して示した分布図である。
【符号の説明】
３０…ターンテーブル
４０…マグネトロン
５０…マイクロウェーブガイド
６０…開口部
８０…調理室
８１，８２，８３，８４，８５，８６…側壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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