(57)【要約】  積層された形成層と反射層とを備え、前記形成層が、前記反射層と接する第１界面に光位相変調構造を有し、点光源から照射された参照光が前記形成層の前記第１界面と異なる第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される像の全部または一部が、空間情報として、前記第２界面を基準として前記点光源側に形成されるホログラムである。
2019156249.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層された形成層と反射層とを備え、
前記形成層が、前記反射層と接する第１界面に光位相変調構造を有し、
点光源から照射された参照光が前記形成層の前記第１界面と異なる第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される像の全部または一部が、第１情報として、前記第２界面を基準として前記点光源側に再生される
ホログラム。
【請求項２】
前記点光源から照射された前記参照光が前記第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される前記像の一部が、第２情報として、前記第２界面を基準として前記点光源の反対側に再生される
請求項１に記載のホログラム。
【請求項３】
前記第１情報が前記第２界面の前記点光源側に位置する第１面上に再生され、
前記点光源から照射された前記参照光が前記第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される前記像の一部が、第３情報として、前記第２界面を基準として前記点光源側に、かつ、前記第１面と近接する第２面上に再生される
請求項１または２に記載のホログラム。
【請求項４】
前記光位相変調構造によって再生される前記像が、それぞれが点状の像である複数の点情報から再生され、
前記各点情報が、前記第２界面から予め決められた距離に位置するよう再生されている
請求項１または２に記載のホログラム。
【請求項５】
前記光位相変調構造によって再生される前記像が、それぞれが点状の像である複数の点情報から再生され、
前記各点情報が、前記第２界面から予め決められた距離に位置するよう再生されている
請求項３に記載のホログラム。
【請求項６】
前記第１情報を再生する複数の前記点情報の全部または一部の前記第２界面を基準とする水平方向の位置と、前記第３情報を再生する複数の前記点情報の全部または一部の前記第２界面を基準とする水平方向の位置が重なっている
請求項５に記載のホログラム。
【請求項７】
光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備え、
前記イメージセンサが、フォトセンサからなる画素を有する、１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサを有し、請求項１〜６のいずれか１項に記載のホログラムにおいて再生される前記第１情報をイメージセンサ検出する
検出装置。
【請求項８】
光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備え、
前記イメージセンサが、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する２次元イメージセンサを有し、請求項１〜６のいずれか１項に記載のホログラムにおいて再生される前記第１情報または前記第３情報をイメージセンサ検出する
検出装置。
【請求項９】
前記イメージセンサが、光透過性基板上に光透過性ゲート電極と光非透過性ゲート電極を有するダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる前記画素を有する前記２次元イメージセンサであり、
前記画素は、前記ホログラムと対向する前記イメージセンサの前面に前記光透過性ゲート電極を配置し、前記イメージセンサの背面に、絶縁膜、半導体膜、絶縁膜、前記光非透過性ゲート電極を順に配置して構成される
請求項７または８に記載の検出装置。
【請求項１０】
前記光透過性基板が、薄板ガラスで形成された絶縁基板である
請求項９に記載の検出装置。
【請求項１１】
前記光透過性基板が、光透過性の樹脂フィルムで形成された絶縁基板である
請求項９に記載の検出装置。
【請求項１２】
前記点光源による光軸方向と、
前記ダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる前記画素を有する前記２次元イメージセンサの法線方向とが、
同軸上に位置している
請求項９〜１１のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１３】
前記２次元イメージセンサが、２つ以上積層されている
請求項９〜１２のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１４】
光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備え、
前記イメージセンサが、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する２次元イメージセンサを有し、
前記イメージセンサは、請求項５または６に記載のホログラムにおいて再生される前記第１情報または前記第３情報を再生する前記点情報の光強度をイメージセンサ検出し、前記点情報における前記２次元イメージセンサの法線方向の位置を取得する
検出装置。
【請求項１５】
光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備えた検出装置であって、前記イメージセンサが、フォトセンサからなる画素を有する透過型イメージセンサからなり、請求項４〜６のいずれか１項に記載のホログラムにおいて再生される前記第１情報を前記イメージセンサにて検出する検出装置を用い、
前記第１情報における、前記点情報の位置情報を取得し、
前記第１情報を再生する前記光位相変調構造を設計する際に用いる第４情報と、前記検出装置により取得した前記第１情報とを比較し、前記第１情報が正しいか否かを判断する、
ホログラムの真正の検証方法。
【請求項１６】
請求項８に記載の検出装置を用い、
請求項３、５または６に記載のホログラムから再生される前記第３情報を取得し、
前記第３情報の真偽を判別して前記ホログラムの真偽を判断する
ホログラムの真正の検証方法。
【請求項１７】
請求項８に記載の検出装置を用い、
前記イメージセンサの仰俯角または方位角のいずれか一方または両方が特定の角度に移動し、
請求項３、５または６に記載のホログラムから再生される前記第１情報または前記第３情報を前記イメージセンサにて取得し、
前記仰俯角または方位角の情報から、前記第１情報を再生する前記光位相変調構造を設計する際に用いる第４情報により、前記イメージセンサにて得られる予測情報を算出し、
前記イメージセンサにて得た前記第１情報または前記第３情報と前記予測情報とを比較し、前記イメージセンサにて得られた情報の真偽を判別し、前記ホログラムの真偽を判断する
ホログラムの真正の検証方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ホログラム、検出装置、およびホログラムの真正の検証方法に関する。
本願は、２０１８年２月８日に日本に出願された特願２０１８−０２１３９９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
既存のホログラム技術は、レーザーなどのコヒーレンス長さを有する光源を用い、参照光と物体光とを干渉させ、その干渉縞を光反応性のフォトポリマー等に記録することで、物体光が持つ光の位相情報や強度情報を記録する。記録されたフォトポリマーに参照光を入射させることで、物体光を再生することが可能である。【０００３】
また、計算機によって計算された光の干渉に基づいて構造制御された光学フィルムなどがあり、計算機合成ホログラムなどと呼ばれている。この計算機合成ホログラムにおいても、物体光の再生が可能である。【０００４】
特に計算機合成ホログラムについては、特許文献１において、既に参照光と物体光の、光の干渉波の強度を計算機により計算し、干渉縞を作製することが開示されている。【０００５】
また、そうしたホログラムを実際に作成し、表示ディスプレイとして用いる用途（特許文献２）や、ホログラムからの再生情報を読取り、真正の検証を行うという用途（特許文献３）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】日本国特許第４２５６３７２号公報
【特許文献２】日本国特許第３９５１６８６号公報
【特許文献３】日本国特許第４６７７６８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前述のように、ホログラムからの再生情報を目視、あるいは読取装置等を介することで、真正の検証を行う方法は開示されている。しかし、ホログラムに対し読取装置を介して真正の検証を行う場合、真正品が有する再生情報をあらかじめ目視にて確認した後に、再生情報を模倣し、読取装置にて読み取らせることが可能となるため、この方法では真正の検証があいまいとなる場合がある。【０００８】
またさらに、ホログラムからの再生情報における３次元的な空間情報は目視にて確認できる。しかし、読取装置などでは再生情報の２次元的な情報は取得できるが、３次元的な空間情報を一括で取得することは難しい。【０００９】
本発明は、上記を鑑みてなされたものであり、再生情報の３次元的な空間分布情報を容易に取得できるようにしたホログラム、検出装置、およびホログラムの真偽判定方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示の第１態様は、ホログラムであって、積層された形成層と反射層とを備え、前記形成層が、前記反射層と接する第１界面に光位相変調構造を有し、点光源から照射された参照光が前記形成層の前記第１界面と異なる第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される像の全部または一部が、第１情報として、前記第２界面を基準として前記点光源側に再生される。【００１１】
これにより、後に説明する検出装置において、第１情報における情報の一部を取得することが可能となり、さらにその３次元空間分布情報を取得することが可能となる。【００１２】
本開示の第２態様は、上記第１態様のホログラムにおいて、前記点光源から照射された前記参照光が前記第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される前記像の一部が、第２情報として、前記第２界面を基準として前記点光源の反対側に再生される。
これにより、ホログラムに複数の情報を付与することが可能となる。また、ホログラムを目視観察時に得られる情報と、後に説明する検出装置にて得られる情報とを切り分けやすくすることが可能となる。【００１３】
本開示の第３態様は、上記第１または第２態様のホログラムにおいて、前記第１情報が前記第２界面の前記点光源側に位置する第１面上に再生され、前記点光源から照射された前記参照光が前記第２界面から入射された場合に、前記光位相変調構造によって再生される前記像の一部が、第３情報として、前記第２界面を基準として前記点光源側に、かつ、前記第１面と異なり、前記第１面に近接する第２面上に再生される。
これにより、ホログラムに複数の情報を付与することが可能となる。また、ホログラムを目視観察時に得られる情報と、後に説明する検出装置にて得られる情報とを切り分けやすくすることが可能となる。【００１４】
本開示の第４態様は、上記第１または第２態様のホログラムにおいて、前記光位相変調構造によって再生される前記像が、それぞれが点状の像である複数の点情報から再生され、前記各点情報が、前記第２界面から予め決められた距離に位置するよう再生されている。
本開示の第５態様は、上記第３態様のホログラムにおいて、前記光位相変調構造によって再生される前記像が、それぞれが点状の像である複数の点情報から再生され、前記各点情報が、前記第２界面から予め決められた距離に位置するよう再生されている。
これにより、ホログラムの目視観察時において、第１情報および第２情報、第３情報に立体感を付与させることができると共に、後に説明する検出装置にて得られる情報を切り分けやすくできる。【００１５】
本開示の第６態様は、上記第５態様のホログラムにおいて、前記第１情報を再生する複数の前記点情報の全部または一部の前記第２界面を基準とする水平方向の位置と、前記第３情報を再生する複数の前記点情報の全部または一部の前記第２界面を基準とする水平方向の位置が重なっている。
これにより、第３情報が第１情報にカモフラージュされ、ホログラムの目視観察時に第１情報のみを観察することができる。一方、後に説明する検出装置においては、第１情報、第３情報をそれぞれ取得できる。このため、ホログラムの目視観察時に得られる情報と、検出装置を介して得られる情報とを異なるものとできる。【００１６】
本開示の第７態様は、検出装置であって、光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備え、前記イメージセンサが、フォトセンサからなる画素を有する、１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサを有し、第１〜第６態様のいずれか１態様に記載のホログラムにおいて再生される前記第１情報を検出する。
本開示の第８態様は、検出装置であって、光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備え、前記イメージセンサが、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサを有し、第１〜第６態様のいずれか１態様に記載のホログラムにおいて再生される前記第１情報を、前記イメージセンサにて検出する。
これにより、上述のホログラムが有する第１情報あるいは第３情報を１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサを介して取得、検出できる。【００１７】
本開示の第９態様は、上記第７または第８態様の検出装置であって、前記イメージセンサが、光透過性基板上に光透過性ゲート電極と光非透過性ゲート電極を有するダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる前記画素を有する前記２次元イメージセンサであり、前記画素は、前記ホログラムと対向する前記イメージセンサの前面に前記光透過性ゲート電極を配置し、前記イメージセンサの背面に、絶縁膜、半導体膜、絶縁膜、前記光非透過性ゲート電極を順に配置して構成される。
この構成によれば、参照光光源、センサ、ホログラムの順に同軸配置した小型の検出装置が可能となる。【００１８】
本開示の第１０態様は、上記第９態様の検出装置において、前記光透過性基板が、薄板ガラスで形成された絶縁基板である。
これにより、検出装置をより小型化できると共に、後に説明するようにイメージセンサを積層させることできる。【００１９】
本開示の第１１態様は、上記第９態様の検出装置において、前記光透過性基板が、光透過性の樹脂フィルムで形成された絶縁基板である。
これにより、検出装置をより小型化できると共に、後に説明するようにイメージセンサを積層させることができる。【００２０】
本開示の第１２態様は、上記第９〜第１１態様の検出装置において、前記点光源による光軸方向と、前記ダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる前記画素を有する前記２次元イメージセンサの法線方向とが、同軸上に位置している。
この構成によれば、参照光を照射する点光源、２次元イメージセンサ、およびホログラムをこの順に同軸配置することで、検出装置を容易に小型化できる。【００２１】
本開示の第１３態様は、上記第９〜第１２態様の検出装置において、前記２次元イメージセンサが、２つ以上積層されている。
これにより、ホログラムから得られる第１情報および第３情報における空間情報を１回の測定にて、より正確に取得することできる。【００２２】
本開示の第１４態様は、検出装置であって、光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備え、前記イメージセンサが、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する２次元イメージセンサを有し、前記イメージセンサは、第５または第６態様のホログラムにおいて再生される前記第１情報または前記第３情報を再生する前記点情報の光強度を、前記イメージセンサにて検出することで、前記点情報における前記２次元イメージセンサの法線方向の位置を取得する検出装置である。
これにより、第１情報が有する情報とその法線方向の各位置における空間分布情報とが検出装置にて取得することができ、後に説明するようなホログラムの真正の検証方法へ適用できる。【００２３】
本開示の第１５態様は、ホログラムの真正の検証方法であって、光強度を測定可能なイメージセンサと、前記点光源とを備えた検出装置であって、前記イメージセンサが、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサからなり、第４〜第６態様のいずれか一態様のホログラムにおいて再生される前記第１情報を、前記イメージセンサにて検出する検出装置を用い、前記第１情報における、前記点情報の位置情報を取得し、前記第１情報を再生する前記位相変調構造を設計する際に用いる第４情報と、前記検出装置により取得した前記第１情報とを比較し、前記第１情報が正しいか否かを判断する。
これにより、検出装置を用いてホログラムが設計通りに再生されているのかを評価でき、加えて真正の検証などへ適用できる。【００２４】
本開示の第１６態様は、ホログラムの真正の検証方法であって、第８態様の検出装置を用い、第３、第５または第６態様のホログラムから再生される前記第３情報を取得し、前記第３情報の真偽を判別して前記ホログラムの真偽を判断する。
これにより、検出装置をホログラムの真正の検証へ適用できる。【００２５】
本開示の第１７態様は、ホログラムの真正の検証方法であって、第８態様の検出装置を用い、前記イメージセンサの仰俯角または方位角のいずれか一方または両方が特定の角度に移動し、第３、第５または第６態様のホログラムから再生される前記第１情報または前記第３情報を前記イメージセンサにて取得し、前記仰俯角または方位角の情報から、前記第１情報を再生する前記位相変調構造を設計する際に用いる第４情報により、前記イメージセンサにて得られる予測情報を算出し、前記イメージセンサにて得た前記第１情報または前記第３情報と前記予測情報とを比較し、前記イメージセンサにて得られた情報の真偽を判別し、前記ホログラムの真偽を判断する。
これにより、検出装置を用いてホログラムの真正の検証へ適用できる。
【発明の効果】
【００２６】
上記本発明の態様によれば、ホログラムからの再生情報の３次元的な空間分布情報を容易に取得することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本開示のホログラムの断面構造を説明する部分断面図である。
【図２】本開示のホログラムの他の例の断面構造を説明する部分断面図である。
【図３】本開示のホログラムが形成される光位相変調構造を説明する部分平面図である。
【図４】本開示のホログラムが再生する再生情報を説明する鳥瞰図である。
【図５】本開示のホログラムが再生する再生情報の実例を説明する部分断面図である。
【図６】本開示のホログラムが再生する再生情報を説明する部分断面図である。
【図７】本開示の検出装置を説明する鳥瞰図である。
【図８Ａ】本発明の一実施形態に係る検出装置に用いられるイメージセンサを説明する部分断面図である。
【図８Ｂ】本発明の一実施形態に係る検出装置に用いられるイメージセンサを説明する平面図である。
【図９Ａ】本発明の一実施形態に係る検出装置に用いられる透過型イメージセンサ６０を構成するダブルゲート型薄膜トランジスタの実例を示す概略断面図である。
【図９Ｂ】図９Ａのダブルゲート型薄膜トランジスタの等価回路である。
【図９Ｃ】本発明の一実施形態に係る検出装置に用いられる透過型イメージセンサ６０の回路概略図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る検出装置を概略的に説明する断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る検出装置を概略的に説明するその他の例の断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る検出装置を概略的に説明するその他の例の断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る検出装置の実例を説明するブロック線図である。
【図１４Ａ】本発明の一実施形態に係るホログラムおよび検出装置を組み合わせた真正の検証方法の実例を説明する概略図である。
【図１４Ｂ】本発明の一実施形態に係るホログラムおよび検出装置を組み合わせた真正の検証方法のその他の実例を説明する概略図である。
【図１５】本発明の一実施形態に係るホログラムが再生する再生情報の実例を説明する部分断面図である。
【図１６Ａ】本発明の一実施形態に係るホログラムの外観観察の実例である。
【図１６Ｂ】本発明の一実施形態に係るホログラムの再生情報を取得した結果の実例である。
【図１７Ａ】本発明の一実施形態に係るホログラムにて第１情報または第３情報が再生されている俯瞰図の実例である。
【図１７Ｂ】本発明の一実施形態に係るホログラムおよび検出装置を組み合わせた真正の検証方法のその他の例を説明する概略図である。
【図１７Ｃ】本発明の一実施形態に係るホログラムおよび検出装置を組み合わせた真正の検証方法のその他の実例を説明する概略図である。
【図１７Ｄ】本発明の一実施形態に係るホログラムおよび検出装置を組み合わせた真正の検証方法のその他の実例を説明する概略図である。
【図１８Ａ】本発明の一実施形態に係る検出セットの基本的な構成の実例を説明するブロック図である。
【図１８Ｂ】本発明の一実施形態に係る検出セットの他の基本的な構成の実例を説明するブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図面において、同一または類似した機能を発揮する構成要素には全て同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、本開示の実施形態は、背景からの独自の単一の発明を元とする一群の実施形態である。また、本開示の各側面は、単一の発明を元とした一群の実施形態の側面である。本開示の各構成は、本開示の各側面を有しうる。本開示の各特徴（feature）は組合せ可能であり、各構成をなせる。したがって、本開示の各特徴（feature）、本開示の各構成、本開示の各側面、本開示の各実施形態は、組合せることが可能であり、その組合せは相乗的機能を有し、相乗的な効果を発揮しうる。
【００２９】
まず、図１８Ａおよび図１８Ｂを参照して、本発明の一実施形態に係る検出セットの基本的な構成について説明する。図１８Ａおよび図１８Ｂは、本発明の一実施形態に係る検出セットの基本的構成を説明する図である。
図１８Ａに示す検出セット１は、検出装置２とホログラム３から構成されている。検出装置２は、点光源４とイメージセンサ５を備える。点光源４から照射された参照光６をホログラム３に対して入射し、イメージセンサ５はホログラム３が再生した像の光７を受光して電気信号に変換して出力する。一方、図１８Ｂに示す検出セット１ａは、検出装置２ａとホログラム３から構成されている。検出装置２ａは、点光源４とイメージセンサ５ａを備える。点光源４から照射された参照光６は、イメージセンサ５ａを透過し、ホログラム３に対して入射される。そして、イメージセンサ５ａはホログラム３が再生した像の光７を受光して電気信号に変換して出力する。本開示の実施形態に係る検出セット１または検出セット１ａとして、以上のような構成とできる。以下、ホログラム３と、イメージセンサ５またはイメージセンサ５ａと、検出装置２または検出装置２ａについて示す。
【００３０】
＜ホログラムの構成＞
図１および図２は、本発明の一態様に係るホログラムの断面構造の実例の部分断面図を説明している。図１および図２に示すホログラム１００は、図１８Ａおよび図１８Ｂに示すホログラム３に対応する。図１に示すように、本発明の一実施形態に係るホログラム１００は、形成層１０と反射層１１を備えることができる。反射層１１は、形成層１０を覆うことができる。また、光位相変調構造２５を形成層１０と反射層１１の界面２１に形成することができる。また、図２に示す本発明の一実施形態に係るホログラム１００は、図１のようにホログラム１００において、反射層１１にさらに接着層１２を形成できる。すなわち、図１および図２に示すホログラム１００は、積層された形成層１０と反射層１１とを備えるホログラムとできる。また、形成層１０が、反射層１１と接する界面２１（第１界面）に光位相変調構造２５を有することができる。ここで、界面２１は、形成層１０と反射層１１の境界面である。また、形成層１０は、光位相変調構造２５を形成する層とできる。形成層１０は、構造形成層としてもよい。
【００３１】
形成層１０の形成材料は、透光性のポリマーとできる。透光性のポリマーは、熱可塑樹脂、熱架橋樹脂、紫外線架橋樹脂、熱過疎紫外線架橋樹脂とできる。ポリマーの種類は、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂などのアクリル樹脂、および、エポキシ樹脂とできる。また、形成層１０の形成材料は、石英や酸化チタン、フッ化マグネシウムなどの光を透過する無機材料であってもよい。
【００３２】
また、形成層１０の形成材料がポリマーであるとき、基板へ形成材料を塗布することで形成層１０を形成できる。基板へ形成材料を塗布は、グラビアコート、ダイコート、リップコート、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティングとできる。あるいは、グラビア印刷やスクリーン印刷などの印刷技術により形成層１０を形成してもよい。さらに、パリレンのように蒸着により形成できる有機材料であれば、蒸着で、形成層１０を形成してもよい。
【００３３】
また、形成層１０の形成材料が無機材料であるとき、基板への形成材料コーティング手法は、真空蒸着法、スパッタ法、原子層堆積法などのドライコーティング、あるいは、ゾルゲル法などのウェットコーティングを適用できる。
【００３４】
界面２１に形成される光位相変調構造２５は、ホログラムとできる。ホログラムは、その表面に凹凸構造を有したレリーフホログラムとできる。光位相変調構造２５には、複数の単位ブロックが配置してもよい。単位ブロックは、立方体状の凸または凹である。そして、単位ブロック１２０の位置に対応して、各再生点２２０からの光の位相を計算し、その位相に基づいて計算される位相角が、対応する単位ブロックに記録できる。単位ブロックは、光の波長の半分以下で配置できる。単位ブロックの配置間隔は、１０ｎｍ以上、４００ｎｍとすることができる。また単位ブロックの一辺の長さは、光の波長の半分以下とできる。単位ブロックの一辺の長さは、１０ｎｍ以上、４００ｎｍとすることができる。また、単位ブロックの高さ（深さ）は、反射で利用される光位相変調構造２５では、媒体中の光波長の１／２程度とできる。透過で利用される場合は、リタデーションが光波長の程度とできる。単位ブロックの高さ（深さ）は、反射で利用される場合、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下とでき、透過で利用される場合は、１μｍ以上、１０μｍ以下とできる。いずれにしても、単位ブロックの高さ（深さ）は、１００ｎｍ以上１０μｍ以下とできる。
ホログラムはフーリエ変換ホログラム、計算機合成ホログラム、キノフォームとできる。光位相変調構造２５は、国際公開第２０１７／１５０１０７号公報の位相変調構造体とできる。または、国際公開第２０１７／２０９１１３号公報の位相角記録層２４の凹凸としてもよい。また、ホログラムは、形成層中の屈折率を変調した体積型ホログラムとできる。体積ホログラムは、リップマンホログラムとできる。体積ホログラムの材料は、フォトポリマーとできる。フォトポリマーは、酢酸ビニル、エポキシ、アクリル、ウレタンを含むことができる。体積ホログラムは、レーザーを用いたコンタクトコピーにより複製できる。これらの構造は、あらかじめ設計された再生像（例えば図６に示す第１情報４１、第２情報４３等に対応）と、参照光との干渉縞を計算し、さらにその干渉縞からホログラム１００の界面２１に形成される構造が計算される。本実施形態では、この再生像の設計あるいは光位相変調構造２５の設計の際に用いられた情報を第４情報という。第４情報は、図１８Ａおよび図１８Ｂに示す検出装置２および２ａが取得したホログラム３の再生情報の正否（正しく製造されたものか否か）を判断する際の比較とできる。
【００３５】
界面２１に形成される光位相変調構造２５は、図１および図２においては、多段形状となっているが、形状の角が丸まっていてもよい。加えて、多段形状ではなく、斜面形状となっていてもよい。さらに、多段形状ではなく、バイナリー形状となっていてもよい。いずれにおいても、ホログラム１００における界面２１と異なる界面２０（第２界面）側に再生像が再生される構造であればよい。これにより、後に説明する再生像の検出が簡便となる。なお、界面２０は、形成層１０と気相もしくは真空または保護層等との境界面である。界面２０には、図示していない点光源から参照光が入射されてもよい。
【００３６】
図３は、界面２１に形成される光位相変調構造２５の一例を示す平面図である。なお、図３における構造は、図１および図２に示したホログラム１００に用いられている多段構造の例を示している。
【００３７】
これら光位相変調構造２５は、スタンパを熱圧プレスすることで形成できる。スタンパは、レーザー描画法、電子ビーム描画法やイオンビーム描画法などにより凹凸が形成されたプレートから、電鋳により得ることができ。これらの手法を用いることで、計算された光位相変調構造２５が再現良く形成することができる。そのほかの手法として、フェムト秒レーザーを用いた２光子描画法を適用してもよい。２光子描画法の場合は、形成層１０に直接光位相変調構造２５を形成してもよい。
【００３８】
形成層１０が有機材料の場合には、各種手法により形成された光位相変調構造２５は、上述の各描画法により形成された原版を電鋳などの手法により金属版とし、その金属版における構造を形成層１０に押し付けてエンボス加工することで形成することが可能となる。その際、形成層１０を形成する有機材料が熱可塑性、熱硬化性樹脂の場合には、熱圧をかけながらエンボス加工を行う。また、形成層１０を形成する有機材料が光硬化性樹脂の場合には、圧をかけながらＵＶ光（紫外線）など光硬化の発生しやすい光源を用いて光硬化させながらエンボス加工を行う。
【００３９】
形成層１０が無機材料の場合には、形成層１０に対して直接上述の描画法を用いて描画を行い、その後、化学的なエッチング処理や物理的なエッチング処理により形成層１０へ光位相変調構造２５が形成される。それらの処理はウェットプロセスあるいはドライプロセスのいずれかであり、それぞれの処理手法に合わせたプロセスによりエッチングが実施される。なお、無機材料をゾルゲル法などのウェットプロセスで形成することが可能な場合は、金属版およびエンボス加工により形成することが可能である。形成層１０の厚みは、１μｍ以上、２５μｍ以下とできる。
【００４０】
反射層１１は、形成層１０とは屈折率の異なる材料で形成することができる。形成層１０と反射層１１との屈折率が異なることで、その界面において反射が生じ、反射率が向上する。
【００４１】
反射層１１として、金属材料、無機化合物を適用できる。反射層は単層または多層とできる。反射層１１は、堆積により形成できる。堆積は物理堆積、化学堆積、またはその双方とできる。物理堆積は、真空蒸着、スパッタリングとできる。金属材料として、アルミや金、銀、銅、ニッケル等を適用できる。また、無機化合物としては、酸化物、金属窒化物、金属硫化物を適用できる。酸化物としては、ＳｉＯ２（二酸化ケイ素）やＴｉＯ２（チタニア）、ＺｒＯ２（ジルコニア）などを適用できる。
金属窒化物は、ＴｉＮ（窒化チタン）やＣａＮなどを適用できる。金属硫化物は、ＺｎＳ等を適用できる。これらの材料を反射層１１として用いることで、上述のように形成層１０との界面２１における反射率が向上する。なお、反射率が向上することで、後に説明するホログラム１００より再生される第１情報４１、および、第２情報４３を確認しやすくなる。反射層２６０の厚みは、１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下とできる。
【００４２】
接着層１２は、ホログラム１００を別の基材媒体へ貼付する際に設けることができる。接着層の材料は、熱可塑樹脂とできる。熱可塑樹脂の実例は、アクリル樹脂とできる。接着層の厚みは、１μｍ以上、２５μｍ以下とできる。接着層１２を有するホログラム１００は、ラベルとできる。ラベルは印刷体に貼ることができる。ラベルの付いた印刷体は、紙幣、カード、冊子のページ、タグ、ポスター、看板、広告、ボードとできる。
【００４３】
また、図１および図２に示したホログラム１００は、界面２０側にさらに保護層が設けられていてもよい。これにより、物理的衝撃やひっかき傷などからホログラム１００を保護できる。
【００４４】
＜再生情報＞
再生情報の実例は、絵柄、写真、文字、記号、符号、印、マーク、ロゴ、肖像、ランドマーク、コードである。コードは、デジタルデータとできる。また、コードは機械読み取り可能でもよい。
図４および図５は図１および図２に示すホログラム１００から第１情報４１が再生されている場合の鳥瞰図、およびＸＺ断面図を説明している。また、図６はホログラム１００から第１情報４１に加えて、第２情報４３が再生されている場合のＸＺ断面図を説明している。ここで、図４および図５で説明される第１情報４１は、所定の点光源から照射された参照光が図１および図２で説明される界面２０からホログラム１００に対して入射された場合に、図１および図２に示す界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される像である。
また、図６で説明される第２情報４３は、所定の点光源から照射された参照光が図１および図２で説明される界面２０からホログラム１００に対して入射された場合に、図１および図２に示す界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される他の再生像である。なお、再生像は、参照光をホログラム１００に入射した参照光が光位相変調構造２５によって変調された光により、再生できる。また、第１情報４１は複数の再生点４０から形成できる。第２情報４３は複数の再生点４２から再生できる。言いかえれば、第１情報４１は複数の再生点４０として記録できる。第２情報４３は複数の再生点４２として記録できる。ホログラムの情報は、デジタルデータとできる。
各再生点をビットとし、その再生点の位置をビットアドレスとして、再生点の群に、デジタルデータを記録できる。
この際、各再生点の有無、輝度、形状、色等としてビットを記録できる。各再生点に１ビットを記録してもよいし、２ビット以上を記録しても良い。各再生点を１ビットとしたものは、シングルビットとなり、２ビット以上としたものは、マルチビットとなる。
【００４５】
図４は、ホログラム１００から再生点４０を含む第１情報４１を説明している。各再生点４０は、曲線３０ａおよび曲線３０ｂに沿って再生されることで第１情報４１を再生できる。
【００４６】
図４および図５では、第１情報４１は曲線３０ａおよび曲線３０ｂに沿って再生されているが、第１情報４１を再生できていれば、各再生点４０は曲線に沿って再生されずに、直線に沿っていてもよい。加えて、各再生点４０の幾つかが、各軸方向に沿って再生されていてもよい。さらに、Ｚ軸方向に沿って再生してもよい。この場合、後に説明するように第２情報４３を再生する空間的な制約を受けにくい。
【００４７】
図４にて、第１情報４１はホログラム１００の界面２０と同じＺ位置高さの界面２０ａよりも高い位置に再生されているが、界面２０ａよりも低い位置に第１情報４１の一部分が再生されていてもよい。第１情報４１の全部または一部分が界面２０ａよりも高いＺ位置に再生されていればよい。
【００４８】
なお、この場合、図示していない所定の点光源から照射された参照光が形成層１０の界面２１と異なる界面２０から入射された場合に、界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される像の全部または一部が、第１情報４１として、界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準として点光源側に再生されている。
【００４９】
図５は、ＸＺ断面図において、ホログラム１００から第１情報４１が再生されている場合を説明している。図５は、曲線３０ｃに沿って再生されることで第１情報４１の一部分を構成する各再生点４０を説明している。各再生点４０は、界面２０ａより異なる距離Ｄ１およびＤ２の位置にて再生することができる。
【００５０】
図５において、各再生点４０は、異なる距離Ｄ１およびＤ２の位置に再生されているが、同一な距離に再生することもできる。なお、図５において、第１情報４１は、光位相変調構造２５によって再生される像の一部であって再生点４０から再生されているが、各再生点４０はそれぞれが点状の像である点情報であり、第１情報４１（光位相変調構造２５によって再生される像の一部）は複数の点情報から再生することができる。また、各点情報である各再生点４０は、界面２０（あるいは界面２０ａ）から予め決められた距離Ｄ１、Ｄ２等に位置するよう再生できる。
【００５１】
図６は、各再生点４２が曲線３０ｄに沿って、第２情報４３としてホログラム１００の界面２０ａより奥に、すなわち虚像として再生されている場合のＸＺ断面図を説明している。
【００５２】
これにより、ホログラム１００からの再生情報のフレキシビリティを増加することができ、より複雑な再生情報を再生することが可能となる。
【００５３】
図６では、第２情報４３が界面２０ａよりも奥に再生されるが、第２情報４３の一部分が界面２０ａの手前に再生されていてもよい。
【００５４】
ホログラム１００の再生情報である第１情報４１および第２情報４３は、Ｘ、Ｙ、およびＺ方向のいずれかの位置に再生される再生点４０および４２の組合せとできる。その為、再生情報を空間に浮かぶ３次元像とできる。さらに、再生情報を可読可能または認知可能とできる。可読可能な再生情報は、文字や数字、記号の単体またはその組み合わせとできる。加えて、認知可能な再生情報は、幾何学的なパターンとできる。また、可読可能な再生情報と認知可能な再生情報を組合せてもよい。
可読可能な再生情報は、視覚による情報の読み取りを可能とする。認知可能な再生情報は、美観をホログラム１００に付与できる。
【００５５】
さらに、図６に示したように、各再生点４０および４２をＺ軸方向に自由に設置できるため、再生点４０および４２を用いて文字情報Ｚ軸上の高さを変えて再生した場合、ホログラム１００の観察方向に応じて各文字情報が動く方向、量、またはその双方を、変えることができる。
【００５６】
なお、この場合、図示していない所定の点光源から照射された参照光が形成層１０の界面２１と異なる界面２０から入射された場合に、上述したように界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される像の全部または一部が、第１情報４１として、界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準として点光源側に再生されていることに加え、さらに、界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される像の全部または一部が、第２情報４３として、界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準として点光源の反対側に再生される。
【００５７】
また、図６のように、第２情報４３は、光位相変調構造２５によって再生される像の一部であって再生点４２から再生されているが、各再生点４２はそれぞれが点状の像である点情報であり、第２情報４３（光位相変調構造２５によって再生される像の一部）は複数の点情報から再生できる。また、各点情報である各再生点４２は、界面２０（あるいは界面２０ａ）から予め決められた距離に位置するよう再生できる。
【００５８】
＜検出装置＞
図７は、図１および図２に示すホログラム１００へ点光源ＬＳから光を入射させた場合に得られる再生点４０を、イメージセンサ５０にて取得する様子を説明している。なお、点光源ＬＳとイメージセンサ５０は別々に設置されてもよいし、検出装置に組み込まれていることが望ましい。また、図７に示す点光源ＬＳは、図１８Ａおよび図１８Ｂに示す点光源４に対応する。また、図７のイメージセンサ５０は、図１８Ａのイメージセンサ５に対応する。
【００５９】
点光源ＬＳとイメージセンサ５０とは特定の角度を為すように設置されている。これは、ホログラム１００を再生する光位相変調構造２５を計算する際にあらかじめ設計される。図７は、点光源ＬＳの正反射方向に再生される再生点４０をイメージセンサ５０にて取得しているが、点光源ＬＳと再生点４０およびイメージセンサ５０との角度関係は正反射以外の条件であってもよく、光位相変調構造２５をあらかじめ計算する際の設計した角度関係となっていればよい。
【００６０】
点光源ＬＳとしては、豆電球やＬＥＤ（発光ダイオード）光源が適用できる。ＬＥＤ光源は、波長幅が狭く、光源も小さいため、再生像をシャープにできる。これらを点光源ＬＳで、イメージセンサで検出できるホログラム１００が有する再生情報（第１情報４１、第２情報４３等）を再生できる。また、ＬＥＤ光源とすることで、赤や青、緑などの色を持った点光源ＬＳとできるため、ホログラム１００の再生情報（第１情報４１、第２情報４３等）を着色できる。
【００６１】
イメージセンサ５０は、光強度を計測可能な１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサである。２次元イメージセンサは、ホログラム１００の再生情報のある一面を、撮像できる。２次元イメージセンサには、ＣＣＤ（電荷結合素子）２次元イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化物半導体）２次元イメージセンサ、薄膜トランジスタフォトセンサを適用できる。こうしたイメージセンサを用いることで、再生点４０をイメージセンサ５０にて受光、検出できる。ここで、イメージセンサは、それぞれ光強度を検出する複数の画素を有している。薄膜トランジスタフォトセンサとして、ダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサを適用できる。
【００６２】
またイメージセンサ５０は、１次元イメージセンサや２次元イメージセンサではなく、フォトトランジスタやフォトダイオードが利用されていてもよい。さらに、フォトトランジスタ、フォトダイオードは、複数配列されていてもよい。
【００６３】
イメージセンサ５０は、基板上にセンサを形成したものとできる。基板上のセンサは、フォトセンサとできる。フォトセンサは、薄膜トランジスタで形成できる。薄膜トランジスタは、アモルファスシリコン、ポリシリコンの回路とできる。薄膜トランジスタは、フォトセンサを画素として形成できる。フォトセンサの画素は、アレイ状に配置できる。イメージセンサ５０の基板が透明基板である場合、基板面の一方をホログラムの像を受像する受光面とし、もう一方を参照光が入射する入射面とできる。イメージセンサ５０の基板を透明基板とすることで、透過型イメージセンサを得られる。フォトセンサの各画素はダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサから構成する透過型イメージセンサ６０とすることが望ましい。ダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサは、ダイナミックレンジ、受光感度、またはその双方を調整できる。そのため、ホログラムのような輝度差が大きい像でも、そのダイナミックレンジ、感度、またはその双方をホログラムの輝度に応じて調整し、そのホログラムの輝度に合わせることで、高いＳ／Ｎで撮像できる。
イメージセンサ５０は、図９Ａ〜９Ｃおよび図１０に示すような、透明基板上に形成され、基板面の一方を受光面とし、もう一方から参照光を入射する、薄膜トランジスタフォトセンサから構成する透過型イメージセンサ６０とできる。ここで、透過型イメージセンサ６０は、図１８Ａに示すイメージセンサ５または図１８Ｂに示すイメージセンサ５ａに対応する。これにより、２次元イメージセンサに光透過性が付与される為、２次元イメージセンサの界面（例えば図１０に示す受光界面６１）が２次元スキャン面となり、高さ方向へ断続的に位置を変えながらスキャンを行うことで、第１情報４１を再生する再生点４０がその２次元スキャン面に集光した場合、その集光した再生点４０とそれ以外の再生点４０とを分けて取得できる。
【００６４】
図８Ａおよび図８Ｂは、図７におけるイメージセンサ５０と再生点４０を部分的に拡大した断面図（図８Ａ）と、イメージセンサ５０の受光界面５１の平面図（図８Ｂ）とを説明している。
【００６５】
図８Ａは、イメージセンサ５０の受光界面５１側に再生点４０ａ、４０ｂおよび４０ｃが照射されている場合を説明している。また、再生点４０ｃが受光界面５１に集光している実例である。を説明している。なお、再生点４０ａおよび４０ｂはいずれも受光界面５１の手前に集光できる。
また、再生点４０ｃは受光界面５１上に集光できる。再生点４０ａ、４０ｂおよび４０ｃはいずれも光路４４を介してそれぞれの再生点に集光し、再生できる。
【００６６】
図８Ｂは、図８Ａに示す再生点４０ａ、４０ｂおよび４０ｃの受光界面５１での強度分布を説明している。再生点の光が受光界面５１で検出される領域が、受光領域である。再生点４０ａ、４０ｂおよび４０ｃにそれぞれ対応する受光領域は、領域４５ａ、４５ｂおよび４５ｃとなる。図８Ａで示したように再生点４０ｃは受光界面５１に集光しているため、領域４５ｃは最も小さくなり、かつ領域４５ｃでの強度は高くなる。一方、再生点４０ａに対応する領域４５ａは、受光界面５１から離れた位置で集光しているため、領域４５ａは大きくなり、強度は低くなる。これにより、再生点と受光界面５１の距離を計測できる。また、再生点の受光界面５１上での位置は、受光領域の中心位置から計測できる。
【００６７】
このように、受光領域の中心位置と受光界面５１における受光領域４５（領域４５ａ、４５ｂおよび４５ｃ）の大きさに加え、領域４５の強度により、再生点４０の位置を検出できる。これにより、ホログラム１００により得られる第１情報４１を構成する各再生点４０の空間位置を、点光源ＬＳとイメージセンサ５０とを組み合わせることで検出できる。
【００６８】
図９Ａ〜９Ｃは、ダブルゲート型薄膜トランジスタセンサのダブルゲート型薄膜トランジスタの概略断面図、等価回路図、および透過型イメージセンサ６０の回路概略図を説明している。ダブルゲート型薄膜トランジスタセンサは、透過型イメージセンサ６０とできる。
【００６９】
図９Ａは、ダブルゲート型薄膜トランジスタの構造を説明する概略断面図である。図９Ａのように、ダブルゲート型薄膜トランジスタ６００は、半導体層６０１と、ソース電極６０２と、ドレイン電極６０３と、透明絶縁膜６０４と、トップゲート絶縁膜６０５と、ボトムゲート絶縁膜６０６と、オーミックコンタクト層６０７および６０８と、絶縁性基板６０９と、保護絶縁膜６１０と、トップゲート電極６１１と、ボトムゲート電極６１２を備える。
【００７０】
半導体層６０１は、可視光が入射されると電子−正孔対が生成されるアモルファスシリコンを含む。ソース電極６０２およびドレイン電極６０３は、オーミックコンタクト層６０７および６０８上にそれぞれ形成されている。オーミックコンタクト層６０７および６０８は、半導体層６０１の両端にそれぞれ設けられている。トップゲート電極６１１は、半導体層６０１の上方に透明絶縁膜６０４を介して形成されている。ボトムゲート電極６１２は、半導体層６０１の下方にボトムゲート絶縁膜６０６を介して形成されている。保護絶縁膜６１０は、トップゲート電極６１１上に設けられている。
【００７１】
なお、図９Ａにおいて、トップゲート電極６１１、トップゲート絶縁膜６０５、ボトムゲート絶縁膜６０６、および保護絶縁膜６１０は、いずれも半導体層６０１を励起する可視光に対して透過率の高い材料により形成されている。一方、ボトムゲート電極６１２は、可視光の透過を遮断する材料により形成されている。これにより、ダブルゲート型薄膜トランジスタ６００は、図面上方から入射する照射光のみを検知する構造を有している。すなわち、ダブルゲート型薄膜トランジスタ６００は、半導体層６０１を共通のチャネル領域として、半導体層６０１、ソース電極６０２、ドレイン電極６０３およびトップゲート電極６１１により形成される上部ＭＯＳ（金属酸化物半導体）トランジスタと、半導体層６０１、ソース電極６０２、ドレイン電極６０３およびボトムゲート電極６１２により形成される下部ＭＯＳトランジスタとからなる２つのＭＯＳトランジスタを組み合わせた構造が、絶縁性基板６０９上に形成されている。ここで、絶縁性基板６０９は、ガラス基板やフィルム基板等の透明な基板である。そして、このようなダブルゲート型薄膜トランジスタ６００は、一般に、図９Ｂに示すような等価回路により表される。ここで、ＴＧはトップゲート端子、ＢＧはボトムゲート端子、Ｓはソース端子、Ｄはドレイン端子である。
【００７２】
ボトムゲート電極６１２は、可視光の透過を遮断する材料により形成されてもよい。イメージセンサは、その線幅が目視にて視認しにくい大きさ、具体的には３００μｍ以下、あるいは、ダブルゲート型薄膜トランジスタ６００を２次元配列して構成される開口率が５０％以上であれば、透過型イメージセンサとできる。
【００７３】
次に、上述したダブルゲート型薄膜トランジスタ６００を２次元配列して構成される透過型イメージセンサ６０について、図面を参照して簡単に説明する。図９Ｃは、ダブルゲート型薄膜トランジスタ６００を２次元配列して構成される透過型イメージセンサ６０の概略構成図である。図９Ｃに示すように、透過型イメージセンサ６０は、フォトセンサセットとも呼ばれ、大別して、フォトセンサアレイ６５０と、トップゲートライン６３１と、ボトムゲートライン６３２と、トップゲートドライバ６２０と、ボトムゲートドライバ６２１と、データライン６３３と、出力回路部６２２を備える。
【００７４】
フォトセンサアレイ６５０は、多数のダブルゲート型薄膜トランジスタ６００を、ｎ行×ｍ列のマトリクス状に配列して構成されてもよい。ここで、１個のダブルゲート型薄膜トランジスタ６００が１個の画素を構成する。複数のトップゲートライン６３１は、行毎に、複数のダブルゲート型薄膜トランジスタ６００のトップゲート端子ＴＧを各々行方向に接続する。複数のボトムゲートライン６３２は、行毎に、複数のダブルゲート型薄膜トランジスタ６００のボトムゲート端子ＢＧを各々行方向に接続する。各トップゲートライン６３１はトップゲートドライバ６２０に接続されている。各ボトムゲートライン６３２はボトムゲートドライバ６２１に接続されている。複数のデータライン６３３は、列毎に、複数のダブルゲート型薄膜トランジスタ６００のドレイン端子Ｄを各々列方向に接続する。各データライン６３３は、出力回路部６２２に接続されている。
【００７５】
このような構成において、トップゲートドライバ６２０からトップゲート端子ＴＧに電圧を印加することによりフォトセンサとしての機能が実現され、ボトムゲートドライバ６２１からボトムゲート端子ＢＧに電圧を印加し、データライン６３３を介して検出信号を出力回路部６２２に取り込んでシリアルデータとして出力することにより読み出し機能が実現される。すなわち、１個のダブルゲート型薄膜トランジスタ６００は、イメージセンサにおける各画素を構成するダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサとして機能する。
ダブルゲート型薄膜トランジスタにより、高感度で高Ｓ／Ｎ比のフォトセンサをガラス等の光透過基板上にシンプルな画素回路で実装できるため、高性能な高透過率の透過型イメージセンサ６０を実現できる。また、ダブルゲート型薄膜トランジスタはアモルファスシリコンで形成できる。
【００７６】
なお、図９Ｃに示す透過型イメージセンサ６０は、図９Ａにおいて、絶縁性基板６０９側に点光源が位置し、保護絶縁膜６１０（受光界面６１）側にホログラム１００が位置するように、図１４Ａおよび図１４Ｂ等を参照して説明する検出装置７０および７１へ組み込まれる。なお、図１４Ａに示す検出装置７０は図１８Ａに示す検出装置２に対応し、図１４Ｂに示す検出装置７１は図１８Ｂに示す検出装置２ａに対応する。
【００７７】
なお、絶縁性基板６０９を、薄板ガラス、光透過性の樹脂フィルム等からなる透過性基板とすることで、透過型イメージセンサ６０の全体の厚みを薄くすることができると共に、後に説明するように複数の透過型イメージセンサ６０を積層することが可能となる。これにより、検出装置７１等の内部の構成を簡略化できると共に、小型化が可能となる。
【００７８】
図１０〜１２は、点光源ＬＳと透過型イメージセンサ６０を用いた場合の検出装置７１とホログラム１００とのＸＺ断面における位置関係を示す概略図である。図１０〜１２に示す検出装置７１は、点光源ＬＳと透過型イメージセンサ６０を備える。
【００７９】
図１０は、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０とが平行に位置するように設けられた場合を示している。また、図１１は、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０ａとが角度θで斜めに対向するように傾けて設けられた場合を示している。図１２は、透過型イメージセンサ６０ｂ、６０ｃおよび６０ｄがＺ軸方向に積層して設けられた場合を示している。なお、図１０〜図１２に示す点光源ＬＳは図１８Ｂに示す点光源４に対応する。図１１〜図１２に示す透過型イメージセンサ６０ａ〜６０ｄは、図１０に示す透過型イメージセンサ６０と同一構成である。また、透過型イメージセンサ６０および６０ａと透過型イメージセンサ群６２は、図１８Ｂに示すイメージセンサ５ａに対応する。
【００８０】
図１０〜１２は、いずれもイメージセンサが光透過性を有しているため、点光源ＬＳと透過型イメージセンサ６０とを同一光軸上に設置することが可能となる。これにより、検出装置７１を小型化、簡略化することが可能となる。
【００８１】
図１０においては、透過型イメージセンサ６０にて透明ゲート電極（トップゲート電極６１１）が設けられている側の受光界面６１に位置するホログラム１００より再生された第１情報４６に基づくＸＹ平面図を得ることができる。第１情報４６は、図５等に示す第１情報４１に対応する。
さらに、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０との距離を変えることで、受光界面６１のＺ位置を変えられるため、第１情報４６に基づく異なるＺ位置のＸＹ平面図を複数取得することが可能となる。
【００８２】
図１０における検出装置７１を用いて、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０との距離を逐次変化させることで、第１情報４６の空間情報を取得できる。この距離は、検出装置７１内部に透過型イメージセンサ６０の位置を制御する装置でシフトできる。尚、空間情報は、３次元空間の座標に紐づいた値を持った集合とできる。空間情報は、空間中に再生点を再生するホログラムとして実装することができる。ホログラムにより再生される空間情報は、その照明条件等により、変化し、また、平面的でなく立体的な情報であるため、ホログラムの２次元的な撮影画像から空間情報をコピーすることはできない。そのため、ホログラムにより再生される空間情報は、印刷によるＱＲコード（登録商標）のようにコピー機により、コピーできない。そのため、ホログラムにより再生される空間情報を不正にコピーし、不正利用されることを防止できる。
【００８３】
図１１においては、透過型イメージセンサ６０ａがホログラム１００に対して角度θ傾いた状態で設けられているため、受光界面６１ａに対応する第１情報４６を取得することが可能となる。
【００８４】
検出装置７１を、図１１のような構成とすることで、ホログラム１００のＸ、Ｙ位置を変化させるだけで、第１情報４６の空間情報を取得することが可能となる。そのため、検出装置７１内部に過型イメージセンサ６０用のアジャスターを設ける必要が無くなると共に、検出装置７１の設置位置を固定化させることが可能となる。
【００８５】
図１１において、透過型イメージセンサ６０ａの傾斜角θは、０度より大きく９０度以下であり、さらには、３０度以上９０度以下とできる。傾斜角θが３０度以上であれば、その正弦が０．５以上となるため、透過型イメージセンサ６０ａの長さＬの半分に相当する高さの情報を取得できる。また、傾斜角θが９０度であれば、透過型イメージセンサ６０ａの長さＬに対応する高さ情報を取得できる。尚、図１１における検出装置７１を用いて、検出装置７１のＸＹ位置を逐次変化させる、あるいはホログラム１００のＸＹ位置を逐次変化させて、第１情報４６の空間情報を取得することができる。
【００８６】
図１２においては、検出装置７１内に、透過型イメージセンサ６０ｂ、６０ｃおよび６０ｄが積層された透過型イメージセンサ群６２が設けられている。これにより、第１情報４６の空間情報を一括で取得することが可能となる。図１２では３つの透過型イメージセンサを積層しているが、最低２つ以上設けられた透過型イメージセンサ群６２であってもよい。
【００８７】
図１３は、本実施形態の検出装置７０および７１の構成例を検出装置７００として示すハードウェアブロック線図である。検出装置７００は、図１８Ａおよび図１８Ｂに示す検出装置２および２ａに対応する。
【００８８】
図１３のように、検出装置７００は、センサ部７０２と、光源部７０３と、制御部７０１と、操作部７１０を備えることができる。これらのセンサ部７０２と、光源部７０３と、制御部７０１と、操作部７１０は、バス７１３によって接続できる。バス７１３は、各種機能部位を電気的に相互接続して、データ等の転送を行うことができる。
【００８９】
センサ部７０２は、ホログラム１００等より再生された第１情報４１、４６および８１（図１５）と第３情報８５（図１５）を光学的に読み取り、電気信号に変換する。センサ部７０２は、図１８Ａおよび図１８Ｂに示すイメージセンサ５および５ａに対応する。
【００９０】
光源部７０３は、センサ部７０２を用いて光学情報を読み取る際に用いられる。光源部７０３は、図１８Ａおよび図１８Ｂに示す点光源４に対応する。
【００９１】
制御部７０１は、検出装置７００を制御する。制御部７０１は、ＣＰＵ（中央処理装置）等を含む主制御部７０５、電源部７１１、通信部７１４、記憶部７０８を含むことができる。
【００９２】
記憶部７０８には、ＲＯＭ（リードオンリメモリ）７０６、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）７０７、またその双方が設けられてもよい。ＲＯＭ７０６は、不揮発性のメモリであり、プログラム等の基本的な情報が格納できる。また、ＲＡＭ７０７は、揮発性のメモリであり、主制御部７０５がプログラムおよびデータを読み込んで実行するワークメモリであり、センサ部７０２より取得したデータや所定の変換処理を施したデータ等の各種情報の格納を行うことができる。また必要に応じて外部の端末で処理されたデータ等の格納も行なう。なお、ＲＡＭ７０７はフラッシュメモリや外付け可能なメモリ媒体等でも良い。
【００９３】
操作部７１０は、操作指示を受けとれる。操作部７１０は、タッチパネルとできる。操作部７１０は、情報を表示したり、データを入力したりできる。
【００９４】
＜真正の検証＞
図１４Ａは、ホログラム１１０製造時の再生情報での真正の検証を説明しており、図１４Ｂはホログラム１２０を媒体３００に貼付した後に、その媒体３００を媒体３００に貼られたホログラム１２０の再生情報での真正の検証を説明している。ホログラム１１０とホログラム１２０は、ホログラム１００と同一の構成を有し、図１８Ａおよび図１８Ｂに示すホログラム３に対応する。
【００９５】
図１４Ａにおいて、ホログラム１１０を含むキャリアフィルム２００が、製造時に搬送されている際、ホログラム１１０の再生情報を検出、検査するために検出装置７０が設けられている。検出装置７０は点光源ＬＳとイメージセンサ５０が組み込まれている。点光源ＬＳからの光をホログラム１１０に照射し、ホログラム１１０の再生情報をイメージセンサ５０あるいは透過型イメージセンサ６０で取得することができる。
【００９６】
また、図１４Ｂでは、ホログラム１２０が媒体３００に貼付された表示媒体を、検出装置７１を用いてホログラム１２０における再生情報の取得を示している。検出装置７１には、点光源ＬＳと透過型イメージセンサ６０が同軸上で組み込まれている。
【００９７】
図１４Ａおよび図１４Ｂのように製造時あるいは製造後の表示媒体に対し、ホログラム１１０および１２０の有する再生情報を、検出装置７０および７１を介して取得できる。
【００９８】
そのため、ホログラム１１０および１２０を目視にて観察した情報をそのまま検出装置７０および７１にて取得することに加え、取得した再生情報と、ホログラム１１０および１２０を構成している光位相変調構造２５を計算する際に用いた第４情報に対応する設計情報とを比較することで、そのホログラム１１０および１２０が正しく製造されたものかを判定できる。
【００９９】
また、ホログラム１１０および１２０を目視にて観察した際、ホログラム１１０および１２０が有する界面２０ａの手前に再生される第１情報４１と、界面２０ａの奥に再生される第２情報４３との両方を確認できるが、検出装置７０および７１を介した際には、そのうち第１情報４１あるいは第１情報４１の一部分のみを取得することができる。
これにより、目視で得られる情報と、検出装置７０および７１で得られる情報とを異なる情報とできる。そのため、ホログラム１１０および１２０を偽造するには、目視で得られる情報と、検出装置で得られる情報の双方を再生するホログムラムを製造必要がある。このようなホログラムを製造することは、困難であるため、ホログラム１１０および１２０の偽造耐性を高められる。
【０１００】
図１５は、Ｚ軸方向の上から参照光を照射した際に、ホログラム１３０の界面２０ａからＺ軸方向における正の方向に第１情報８１および第３情報８５と、負の方向に第２情報８３を再生するホログラムを説明している。ここで、ホログラム１３０は、ホログラム１００と同一の構成を有し、図１８Ａおよび図１８Ｂで説明されたホログラム３に対応する。また、第１情報８１は第１情報４１および第１情報４６に対応し、第２情報８３は第２情報４３に対応する。
【０１０１】
また、第１情報８１を構成する再生点８０は曲線９０ａ、第２情報８３を構成する再生点８２は曲線９０ｂ、第３情報８５を構成する再生点８４は直線９０ｃにそれぞれ沿って位置することで、それぞれの情報を再生できる。なお、曲線９０ａ、９０ｂおよび直線９０ｃはそれぞれ曲面や平面に限らず、第１情報８１、第２情報８３および第３情報８５をそれぞれ示すことが可能な面形状となっていればよい。
【０１０２】
第１情報８１を構成する再生点８０と第３情報８５を構成する再生点８４とにおいて、再生点８０および８４のＸＹ平面上における位置が略同一であり（水平方向の位置が重なっており）、かつＺ軸方向における距離が５ｍｍ以内、さらには１ｍｍ以内とできる。これにより、ホログラム１３０の目視観察時に第３情報８５を第１情報８１に紛らわせ、カモフラージュできる。
【０１０３】
またさらに、第１情報８１が複数の再生点８０がＸＹ平面位置においてランダムに再生されている場合、第３情報８５を構成する複数の再生点８４もランダムに再生されていてもよく、第１情報８１を構成する再生点８０のＸＹ平面位置に略同一で再生されていてもよい。これによっても、ホログラム１３０を目視観察時における第３情報８５を第１情報８１に紛らわせ、カモフラージュできる。
【０１０４】
図１５のホログラム１３０に対し、検出装置７０および７１で真正の検証を行う場合、検出装置７０および７１において第１情報８１および第３情報８５を同時に取得し、目視観察時にはカモフラージュされていた第３情報８５をカギとして真正の検証を行うことが可能となる。ホログラム１３０の真正の検証は、第３情報８５と第１情報８１の照合で行うことができる。第３情報８５は第１情報８１を基に生成できる。第３情報８５は、秘密鍵を用いて第１情報８１を基に生成できる。第３情報８５と第１情報８１は、秘密鍵とペアの公開鍵を用いて照合することができる。秘密鍵は、公開鍵から現実的な時間で割り出せないものとできる。なお、第３情報８５は、第１情報８１を基にハッシュ関数を用いて生成してもよい。
【０１０５】
上述のように、ホログラム１３０に含まれる光位相変調構造２５を計算する際に用いた第４情報に対応する設計情報と、検出装置７０および７１で取得した情報とを比較、解析することでも、そのホログラム１３０の真正の判定を行える。
【０１０６】
なお、この場合、図示していない所定の点光源から照射された参照光が形成層１０の界面２１と異なる界面２０から入射された場合に、界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される像の全部または一部が、第１情報８１として界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準として点光源側に界面２０の前記点光源側に位置する曲線９０ａ（２次元の断面では界面２０と沿う曲面（第１面））上に再生される。さらに、界面２１に形成された光位相変調構造２５によって再生される像の全部または一部が、第３情報８５として界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準として点光源側の曲線９０ａ（２次元の断面では界面２０と沿う平面（第２面））上に再生されている。ここで、第１面と第２面は互いに異なる。第１面と第３面も互いに異なるが、近接している。
【０１０７】
図１５のように、第１情報８１は、光位相変調構造２５によって再生される像の一部であって再生点８０として記録できる。その各再生点８０はそれぞれを点情報とし、第１情報８１（光位相変調構造２５によって再生される像の一部）を複数の点情報として記録できる。また、第２情報８３は、光位相変調構造２５によって再生される像の一部であって再生点８２として記録できる。その各再生点８２はそれぞれを点情報とし、第２情報８３（光位相変調構造２５によって再生される像の一部）は複数の点情報として記録できる。また、第３情報８５は、光位相変調構造２５によって再生される像の一部であって再生点８２として記録できる。その各再生点８２はそれぞれを点情報とし、第３情報８５（光位相変調構造２５によって再生される像の一部）は複数の点情報として記録できる。また、各点情報である各再生点８０は、界面２０（あるいは界面２０ａ）から予め決められた距離に再生できる。また、各点情報である各再生点８２は、界面２０（あるいは界面２０ａ）から予め決められた距離に再生できる。また、各点情報である各再生点８４は、界面２０（あるいは界面２０ａ）から予め決められた距離に再生できる。
【０１０８】
第１情報８１を構成する再生点８０と第３情報８５を構成する再生点８４とにおいて、再生点８０および８４のＸＹ平面上における位置が略同一である場合（水平方向の位置が重なっている場合）、第１情報８１を再生する複数の点情報の全部または一部の界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準とする水平方向の位置と、第３情報８５を再生する複数の点情報の全部または一部の界面２０（あるいは界面２０ａ）を基準とする水平方向の位置を、重ねることができる。
【０１０９】
＜ホログラム＞
図１６Ａおよび図１６Ｂの実験結果に基づいて、ホログラムについて説明する。
【０１１０】
図１６Ａは本実施形態のホログラム１００に対し点光源から参照光を照射した際の写真であり、目視観察時における外観画像を説明している。なお、ホログラム１００は第１情報４１の実例として星パターンを再生でき、第２情報４３の実例として月パターンを再生できる。
【０１１１】
図１６Ａに示すようなホログラム１００は下記のように製造できる。まずホログラム１００から、第１情報４１として星パターン、第２情報４３として月パターンが再生されるように、光位相変調構造２５の描画データを計算機を用いて計算し、その計算結果より得られた描画データを用いて光位相変調構造２５の型をレジスト板に電子ビーム描画法により描画し、ガラス基板へ形成する。その後、ガラス基板から、電鋳により、金属版を得る。
【０１１２】
次に、キャリアフィルムに樹脂を塗工したプレ成型フィルムに、作成した金属版をエンボスし、光位相変調構造２５を有する成型フィルムを作製する。その後、反射層を堆積することで、ホログラム１００を得ることができる。
【０１１３】
作製したホログラム１００に対し、そのホログラム１００の上面に点光源ＬＳと透過型イメージセンサ６０をＺ軸方向で同軸上に設け、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０とを密着させた。その後、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０との距離を０、２、４、６、８および１０ｍｍと変化させ透過型イメージセンサ６０を介してホログラム１００が再生する第１情報４１を取得する。図１６Ｂはホログラム１００と透過型イメージセンサ６０との距離を変え、透過型イメージセンサ６０より取得した画像情報である。
【０１１４】
図１６Ｂのように、図１６Ａで観察される第１情報４１である星パターンを、透過型イメージセンサ６０で取得できる。一方、第２情報４３である月パターンは取得されていない。
【０１１５】
図１６Ｂより、ホログラム１００と透過型イメージセンサ６０との距離が６ｍｍの時に、第１情報４１である星パターンがぼけずに取得できている。この６ｍｍは実際にホログラム１００を構成する光位相変調構造２５を計算する際、第１情報４１に対応する星パターンの再生情報の位置と同等であり、ホログラム１００が正しく製造されていることがわかる。
【０１１６】
＜検出セット＞
図１７Ａ〜１７Ｄを用い、検出セットについて説明する。
【０１１７】
図１７Ａは、ホログラム１２０に対し点光源を照射した際の第１情報４１、８１または第３情報８５に対応する、星形の立体像が、ホログラム１２０の最表面から距離Ｄだけ離れた位置に再生されている場合を説明している。
【０１１８】
図１７Ｂ〜１７Ｄは、ホログラム１２０を媒体３００に貼付した場合を説明している。図１７Ｂは検出装置７１内の透過型イメージセンサ６０が媒体３００およびホログラム１２０に対し略平行に設置されている場合を説明しており、星形の立体像の一部を透過型イメージセンサ６０の受光界面６１にて取得する場合を説明している。
【０１１９】
同様に、図１７Ｃは透過型イメージセンサ６０が媒体３００に対し直交する方向に位置するため、透過型イメージセンサ６０の受光界面６１が星形の立体像と交わる部分での情報が取得できる。また、図１７Ｄにおいては、透過型イメージセンサ６０の仰角および方位角が特定の値となることで、上述と同様に透過型イメージセンサ６０の受光界面６１と星形の３Ｄ像とが交わる部分での情報が取得できる。
【０１２０】
ホログラム１２０を再生する際には、第１情報４１、８１または第３情報８５を設計する際に用いた第４情報が用いることができる。第４情報を用いることで、図１７Ｃおよび１７Ｄに記載の透過型イメージセンサ６０の方位角、仰俯角に対応した情報を推測できる。その推測した情報と、実際に透過型イメージセンサ６０にて得られた情報とを照合することで、ホログラム１２０および媒体３００が真正かどうかを判別することができる。
【０１２１】
また、ホログラム１２０および媒体３００を検出装置７１を用いて検証する場合、検証時に毎回検出装置７１内部の透過型イメージセンサ６０の仰俯角および方位角のいずれか、または両方を変化させることで、それを一つのカギとして利用できるため、検証する情報をさらに複雑化させることができる。
【０１２２】
なお、上記実施形態は、次のような構成や手順を有する。すなわち、図１４等に示す検出装置７０および検出装置７１は、光強度を測定可能な透過型イメージセンサ６０（本発明のイメージセンサ）と、点光源ＬＳとを備え、ホログラム１００等において再生される第１情報４１、ホログラム１２０、１３０等において再生される第３情報８５等を、透過型イメージセンサ６０にて検出できる。尚、透過型イメージセンサ６０は、１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサとできる。ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有するダブルゲート型イメージセンサとできる。
【０１２３】
また、図９Ａ〜９Ｃに示すように、透過型イメージセンサ６０は、絶縁性基板６０９（光透過性基板）上にトップゲート電極６１１（光透過性ゲート電極）とボトムゲート電極６１２（光非透過性ゲート電極）を有するダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる画素を有する２次元イメージセンサ等であり、その画素は、ホログラム１２０、１３０等と対向する透過型イメージセンサ６０の前面に、保護絶縁膜６１０とトップゲート電極６１１（光透過性ゲート電極）を順に配置し、その背面に、トップゲート絶縁膜６０５および透明絶縁膜６０４（絶縁膜）と、半導体層６０１（半導体膜）と、ボトムゲート絶縁膜６０６（絶縁膜）と、ボトムゲート電極６１２（光非透過性ゲート電極）を順に配置して構成されている。なお、絶縁性基板６０９（光透過性基板）は、薄板ガラスで形成された絶縁基板等である。また、絶縁性基板６０９（光透過性基板）は、光透過性の樹脂フィルムで形成された絶縁基板等である。
【０１２４】
また、図１４Ａおよび図１４Ｂ等に示す検出装置７１では、図１０、図１２等に示すように、点光源ＬＳによる光軸方向と、ダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる画素を有する透過型イメージセンサ６０（２次元イメージセンサ）の法線方向とが、同軸上に位置している。
【０１２５】
また、図１４Ａおよび図１４Ｂ等に示す検出装置７１では、図１２に示すように、ダブルゲート型薄膜トランジスタフォトセンサからなる画素を有する透過型イメージセンサ６０（２次元イメージセンサ）が、２つ以上積層されている。
【０１２６】
また、図１４Ａおよび図１４Ｂ等に示す検出装置７１は、透過型イメージセンサ６０（２次元イメージセンサ）と点光源ＬＳを備え、図１５に示すホログラム１３０等において再生される第１情報８１または第３情報８５を再生する点情報の光強度を、透過型イメージセンサ６０（イメージセンサ）にて検出することで、点情報における２次元イメージセンサの法線方向の位置を取得する。
【０１２７】
また、図１４Ａおよび図１４Ｂ等を参照して説明した本実施形態のホログラムの真正の検証方法では、光強度を測定可能な透過型イメージセンサ６０（イメージセンサ）と、点光源ＬＳとを備えた検出装置７０または７１であって、透過型イメージセンサ６０（イメージセンサ）が、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサからなり、図１５に示すホログラム１３０等において再生される第１情報８１を透過型イメージセンサ６０（イメージセンサ）にて検出する検出装置７０または７１を用い、第１情報８１における、点情報の位置情報を取得する工程と、第１情報８１を再生する光位相変調構造２５を設計する際に用いる第４情報と、検出装置７０または７１により取得した第１情報８１とを比較する工程とを介すことで、第１情報８１が真正か否かを判断する。イメージセンサで検出する情報は、ホログラム１３０として記録された情報の一部である。そのため、検出された情報から、ホログラム１３０を再構成するための情報を得ることは困難である。一方で、ホログラム１３０に記録された情報から、イメージセンサで検出される情報を生成することは容易である。そのため、ホログラム１３０に記録された情報を有している者は、イメージセンサで検出される情報を生成し、実際にイメージセンサで検出された情報と生成した情報を照合することで、イメージセンサで検出された情報が真正かどうかを検証できる。
そのため、検出された情報から、ホログラム１３０が偽造されることを防止できる。また、このようなホログラム１３０の再生点は、３Ｄ的に配置することができる。これにより、検出された情報からホログラム１３０の情報から再構成することをより困難とできる。
【０１２８】
また、図１４Ａおよび図１４Ｂ等を参照して説明した本実施形態のホログラムの真正の検証方法では、強度を測定可能なイメージセンサ５０と、点光源ＬＳとを備えた検出装置７０または７１である。イメージセンサは、透過型イメージセンサ６０とできる。また、透過型イメージセンサ６０はダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサとできる。図１５のようにホログラム１３０で再生される第３情報８５を透過型イメージセンサ５０にて検出する検出装置７０または７１を用い、第３情報８５の真偽を検証する工程を介すことで、ホログラム１３０の認証ができる。
【０１２９】
また、図１４Ａおよび図１４Ｂ等を参照して説明した本実施形態のホログラムの真偽判定方法では、強度を測定可能な透過型イメージセンサ５０と、点光源ＬＳとを備えた検出装置７０または７１を用いることができる。イメージセンサは、透過型イメージセンサ６０とできる。透過型イメージセンサ６０は、ダブルゲート型トランジスタフォトセンサからなる画素を有する１次元イメージセンサまたは２次元イメージセンサとできる。図１５で説明されるホログラム１３０において再生される第３情報８５をイメージセンサ５０にて検出する検出装置７０または７１を用い、イメージセンサ５０の仰俯角または方位角のいずれか一方または両方が特定の角度に移動する工程と、図１５に示すホログラム１３０等から再生される第１情報８１または第３情報８５をイメージセンサ５０にて取得する工程と、仰俯角と方位角の情報から、第１情報を再生する光位相変調構造２５を設計する際に用いる第４情報により、透過型イメージセンサ５０にて得られる予測情報を算出する工程と、透過型イメージセンサ５０にて得た第１情報８１または第３情報８５と予測情報とを比較し、イメージセンサ５０（イメージセンサ）にて得られた情報の真偽を検証する工程とを介すことで、ホログラム１３０等を認証できる。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
本発明のホログラムは、人による目視観察時に得られる情報と、検出装置などの読取装置により得られる情報とを異なる物とすることができる。そのため、偽造防止向けの光学効果、および検出装置、真正の検証方法として適用でき、有価証券、証明書、ブランド品、高価格品、電子機器、および、個人認証媒体などの物品に含まれる価値や情報を保護するホログラムとして利用できる。また、ホログラムに付与した情報を２次元バーコードなどとすることで、カメラや携帯電話、スマートフォンなど撮影機能を有する読み取り機器を用いた機械認証セットともできる。【０１３１】
また、本発明の検出装置は、装置を小型化できるため、真正の検証の検出装置として適用できるだけでなく、ホログラム製造時の品質管理等にも適用できる。【０１３２】
さらに、本発明は立体的な再生情報を目視観察できるため、上述の偽造防止以外にも適用できる。例えば、玩具や学習教材、商品の装飾品、ポスター等にも適用できる。【０１３３】
上記実施形態は、あらかじめ計算機によって計算された空間における光の位相情報が記録された、例えばホログラムに適用されるホログラム、および、光の位相情報により得られる空間情報を取得する検出装置、加えて、それらホログラムの真偽判定方法である。また、上記実施形態は、従来のホログラムや計算機合成ホログラムからの再生情報を、光源と光に感応するセンサとを組み合わせることで取得し、さらに再生情報の３次元的な空間分布情報を取得し易くするための、ホログラム、検出装置、およびホログラムの真正の検証方法である。すなわち、上記実施形態によれば、ホログラムからの再生情報の３次元的な空間分布情報を容易に取得することができる。【０１３４】
以上、本発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は本実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計，本発明が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含むことができる。
さらに、本開示の範囲は、請求項により画される発明の特徴（feature）に限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴（feature）、その特徴（feature）のあらゆる組み合わせも含む。【０１３５】
本開示で用いられる「部分」、「要素」、「画素」、「セグメント」「単位」「印刷体」、「物品」という用語は、物理的存在である。物理的存在は、物質的形態または、物質に囲まれた空間的形態を指すことができる。物理的存在は、構造体とできる。構造体は、特定の機能を有するものとできる。特定の機能を有した構造体の組合せは、各構造体の各機能の組合せにより相乗的効果を発現できる。【０１３６】
本開示および特に添付の特許請求の範囲内で使用される用語（例えば、添付の特許請求の範囲の本文）は、一般的に、「オープンな」用語として意図される（例えば、「有する」という用語は、「少なくとも有する」と解釈すべきであり、「含む」という用語は「含むがそれに限定されない」などと解釈されるべきである。【０１３７】
また、用語、構成、特徴(feature)、側面、実施形態を解釈する場合、必要に応じて図面を参照すべきである。図面により、直接的かつ一義的に導き出せる事項は、テキストと同等に、補正の根拠となるべきである。【０１３８】
さらに、特定の数の導入された請求項の記載が意図される場合、そのような意図は、請求項に明示的に記載され、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しない。例えば、理解を助けるために、以下の添付の特許請求の範囲は、「少なくとも１つ」および「１つまたは複数」の導入句の使用を含み、請求の列挙を導入することができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」によるクレーム記載の導入が、そのようなクレームを含む特定のクレームを、そのような記載を１つだけ含む実施形態に限定することを意味すると解釈されるべきではない。 「１つ以上」または「少なくとも１つ」の冒頭の語句および「ａ」または「ａｎ」などの不定冠詞（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」）は、少なくとも「少なくとも」を意味すると解釈されるべきである。「１つ」または「１つ以上」）。請求項の記述を導入するために使用される明確な記事の使用についても同様である。
【符号の説明】
【０１３９】
１０…形成層、１１…反射層、２０、２０ａ…界面（第２界面）、２１…界面（第１界面）、３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、９０ａ、９０ｂ…曲線、９０ｃ…直線、４０、４０ａ、４０ｂ、４０ｃ、４２、８０、８２、８４…再生点、４１、４６、８１…第１情報、４３、８３…第２情報、８５…第３情報、４４…光路、４５、４５ａ、４５ｂ、４５ｃ…領域、５、５ａ、５０…イメージセンサ、５１…受光界面、６０、６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｄ…透過型イメージセンサ、６１、６１ａ、６１ｂ、６１ｃ、６１ｄ…受光界面、６２…透過型イメージセンサ群、２、２ａ、７０、７１…検出装置、３、１００、１１０、１２０、１３０…ホログラム、２００…キャリアフィルム（基材）、３００…媒体（基材）、４、ＬＳ…点光源、６０１…半導体層（半導体膜）、６０４…透明絶縁膜（絶縁膜）、６０５…トップゲート絶縁膜（絶縁膜）、６０６…ボトムゲート絶縁膜（絶縁膜）、６０９…絶縁性基板（光透過性基板）、６１１…トップゲート電極（光透過性ゲート電極）、６１２…ボトムゲート電極（光非透過性ゲート電極）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１７Ａ】
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【図１７Ｂ】
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【図１７Ｃ】
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【図１７Ｄ】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【国際調査報告】
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