(57)【要約】所望の量の活性化された液体を簡素な工程にて生成することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。液体バッグに充填されている被照射液体を流量調整器により所定の流量に調整されて、チューブを介してカバーハウジング内に供給する。照射ブロックに流れる被照射液体は、プラズマヘッドによりプラズマガスが照射される。液体バッグおよび流量調整器から所望量に応じた流量の被照射液体が供給されることで、所望量のプラズマガスを照射された被照射液体を簡素な工程にて生成することができる。
2020026324.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ照射される被照射液体が流れる流路と、
前記被照射液体を前記流路に一定の流量で流す供給部と、
前記流路内に設けられる照射ブロックと、
前記照射ブロックにおいて前記被照射液体にプラズマガスを照射するプラズマヘッドと、を備える大気圧プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記照射ブロックは着脱可能である請求項１に記載の大気圧プラズマ処理装置。
【請求項３】
前記照射ブロックは、
前記プラズマヘッドと対向する面が開放された溝部と、
前記溝部の一部において上方に突出する突出部と、
前記突出部の上方にあって前記突出部との間で間隙を形成する蓋部と、を有する請求項１または２に記載の大気圧プラズマ処理装置。
【請求項４】
前記流路内に設けられ、既照射液体が貯留される貯留容器と、
前記貯留容器と前記既照射液体が封入される封入容器とを接続する流出側管と、を備える請求項１から３の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
【請求項５】
前記流出側管の経路中に滅菌フィルタを備える請求項４に記載の大気圧プラズマ処理装置。
【請求項６】
前記照射ブロックと前記貯留容器との間で前記流路から分岐する廃棄用管と、
前記既照射液体を前記流路と前記廃棄用管との何れに流すかを切替える切替部と、を備え、
前記廃棄用管は、前記既照射液体が重力により流れる向きに取り付けられている請求項４または５に記載の大気圧プラズマ処理装置。
【請求項７】
前記封入容器を収納する内部空間を有し、前記流出側管が接続された前記封入容器を前記内部空間に収納した状態で前記内部空間が減圧される減圧収納器を備える請求項４から６の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大気圧プラズマ処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、処理槽に貯えられた水にプラズマを照射することによって活性化された水を製造する装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１８３８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の装置では、処理槽の容量を超える量の活性化された水を生成したい場合に、処理槽への水の供給工程、プラズマ照射工程、およびプラズマ照射後の水の排水工程の一連の工程を複数サイクル行う必要が生じ、作業が煩雑となるおそれがある。【０００５】
本願は、上記の課題に鑑み提案されたものであって、所望の量の活性化された液体を簡素な工程にて生成することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本明細書は、プラズマ照射される被照射液体が流れる流路と、被照射液体を流路に一定の流量で流す供給部と、流路内に設けられる照射ブロックと、照射ブロックにおいて被照射液体にプラズマガスを照射するプラズマヘッドと、を備える大気圧プラズマ処理装置を開示する。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、所望の量の活性化された液体を簡素な工程にて生成することができるプラズマ処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】大気圧プラズマ処理装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】カバーハウジングの内部構成を示す断面図である。
【図３】照射ブロックを示す斜視図である。
【図４】照射ブロックの断面図である。
【図５】照射ブロックから充填装置までの構成を示す図である。
【図６】大気圧プラズマ処理装置の制御系統を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（大気圧プラズマ処理装置の概略構成）
図１を用いて、大気圧プラズマ処理装置１０の概略構成について説明する。大気圧プラズマ処理装置１０は、プラズマヘッド２０、カバーハウジング２２、本体部４、充填装置３、一次保管ビン６、廃棄ビン７、液体バッグ２、および流量調整器５などを備える。以下の説明には、図１に示す方向を用いる。カバーハウジング２２は、不図示の載置台に固定されている。液体バッグ２はカバーハウジング２２よりも上方に固定されており、一次保管ビン６、廃棄ビン７、充填装置３、および本体部４は、カバーハウジング２２よりも下方に配置されている。
【００１０】
液体バッグ２には、プラズマガスが照射される例えばラクテックなどの被照射液体が充填されている。液体バッグ２から、流量調整器５により一定の流量に調整された被照射液体は、重力に応じてチューブ１１０内を流れてカバーハウジング２２の内部に案内される。尚、流量は例えば数ｍｌ／分程度である。被照射液体は、カバーハウジング２２の内部で照射ブロック１４０（図２）において、プラズマヘッド２０によりプラズマガスが照射される。以下の説明において、プラズマガスが照射されることをプラズマ照射と記載する場合がある。チューブ１１１〜１１３は、３つの接続口を有する分岐管１１４に接続されている。後述するように、チューブ１１２，１１３には、それぞれ、バルブ１２１，１２２（図５）が取り付けられている。尚、図１においてバルブ１２１，１２２の記載は省略されている。そして、プラズマガスが照射された被照射液体は、重力に応じてチューブ１１１内を流れ、一次保管ビン６もしくは廃棄ビン７へ案内される。一次保管ビン６に貯留されたプラズマガスが照射された被照射液体は、チューブ１１５内を通り、充填装置３に内蔵された保存バッグ８（図５）に封入される。本体部４は、制御装置３８（図６）、処理ガス供給装置７４（図６）、パージガス供給装置１３２（図６）などを備える。本体部４と、プラズマヘッド２０およびカバーハウジング２２とは、不図示の電力ケーブルおよびガス配管で接続されており、本体部４から電力および各ガスが供給される。尚、チューブ１１０〜１１３,１１５、分岐管１１４、一次保管ビン６、廃棄ビン７、および照射ブロック１４０は、予め滅菌されている。
【００１１】
次に、図２を用いて、カバーハウジング２２内部の構造について説明する。
（プラズマヘッドの構成）
プラズマヘッド２０は、カバー５０と、ブロック５２と、１対の電極５６，５６とを含む。カバー５０は、概して、有蓋四角筒形状をなし、カバー５０の内部に、ブロック５２が配設されている。ブロック５２は、概して直方体形状をなしており、カバー５０の下端から突出して配設されている。ブロック５２の内部には、１対の円柱状の円柱凹部６０および反応室６２が形成されている。反応室６２は、円柱凹部６０と連通し、ブロック５２の底面に開口している。１対の電極５６の各々は、ブロック５２の円柱凹部６０によって区画される円柱状の空間に配設されている。なお、電極５６の外径は、円柱凹部６０の内径より小さい。
【００１２】
プラズマヘッド２０は、ブロック５２の噴出口７２からプラズマガスを噴出する。詳しくは、反応室６２の内部に、処理ガス供給装置７４によって処理ガスが供給される。この際、反応室６２では、１対の電極５６，５６に電圧が印加されており、１対の電極５６間に電流が流れる。これにより、１対の電極５６間に放電が生じ、その放電により、処理ガスがプラズマ化される。そして、プラズマガスが、ブロック５２の噴出口７２から噴出される。
【００１３】
（カバーハウジングの構成）
カバーハウジング２２は、上部カバー７６と、下部カバー７８とを含む。上部カバー７６は、概して有蓋円筒状をなし、上部カバー７６の蓋部には、プラズマヘッド２０のブロック５２に応じた形状の貫通孔７９が形成されている。そして、貫通孔７９を覆うように、プラズマヘッド２０のカバー５０が、上部カバー７６の蓋部に立設された状態で固定されている。このため、プラズマヘッド２０のブロック５２が、上部カバー７６の内部に向かって、Ｚ方向に延びるように、突出している。これにより、プラズマヘッド２０によって発生されたプラズマガスが、噴出口７２から、上部カバー７６の内部に向かって、Ｚ方向に噴出される。
【００１４】
上部カバー７６が、開閉機構（不図示）によって上下方向にスライドされることで、カバーハウジング２２の開閉が行われる。カバーハウジング２２の下部カバー７８は、概して、円板形状とされている。下部カバー７８の外径は、上部カバー７６の外径より大きくされており、カバーハウジング２２が閉じられた際には、不図示のパッキンなどで密閉される構造となっている。
【００１５】
上部カバー７６には吸気口１３０が形成されており、下部カバー７８には排気口１３５が形成されている。吸気口１３０は、配管１３１を介して、パージガス供給装置１３２と接続されている。そして、パージガス供給機構３２からアルゴン等の不活性ガスが、カバーハウジング２２の内部に供給される。排気口１３５には配管１３６が接続されており、カバーハウジング２２内のガスが、配管１３６を介して、カバーハウジング２２の外へ排気される。プラズマ照射の際には、パージガス供給装置１３２からカバーハウジング２２内に、不活性ガスが供給されて、カバーハウジング２２内は不活性ガスでパージされる。下部カバー７８内部には、ステージ２６が固定されている。ステージ２６の上に照射ブロック１４０が設置されている。上部カバー７６の側面にはチューブ１１０が挿通される貫通孔１３７が形成されており、下部カバー７８の底面にはチューブ１１１が挿通される貫通孔１３８が形成されている。また、ステージ２６には、チューブ１１１が挿通される貫通孔２７が形成されている。
【００１６】
（照射ブロックの構成）
次に、照射ブロック１４０について図３、４を用いて説明する。説明には、図３、４に示す方向を用いる。尚、左から右へ向かう方向が、被照射液体が流れる方向である。照射ブロック１４０は、概して直方体形状をなす照射ブロック本体部１４１と、蓋部１４２とを含む。照射ブロック１４０の大きさは、例えば１２ｍｍ×３０ｍｍ×９４ｍｍである。尚、照射ブロック１４０の長辺方向がＸ方向であり、短辺方向がＹ方向である。照射ブロック本体部１４１には、カバーハウジング２２に設置された場合に、プラズマヘッド２０と対向する面が開放された第１溝部１４３および第２溝部１４４が形成されている。第１溝部１４３は、ＹＺ断面が上方に向かって開口するＵ字状である。第１溝部１４３を構成する底面１４３ａは湾曲している。この第１溝部１４３のＹＺ断面は、チューブ１１０の断面形状よりも若干狭くされており、可撓性を有するチューブ１１０が第１溝部１４３に嵌め込まれることで、チューブ１１０が固定される。第２溝部１４４を構成する側面１４４ａと底面１４４ｂとのなす角は略直角である。また、第２溝部１４４を構成する底面１４４ｂは、第１溝部１４３を構成する底面１４３ａよりも下方に位置するように形成されている。蓋部１４２は、概して平板状をなし、Ｙ方向の寸法は、照射ブロック本体部１４１の寸法よりも短くされており、照射ブロック本体部１４１の上に設置されている。
【００１７】
図４に示すように、照射ブロック本体部１４１は、上記構成の他に、突出部１４５、排出部１４６、凹部１４７、および係止部１４１ｃを有する。突出部１４５は第２溝部１４４の一部において上方に突出して形成されている。詳しくは、第２溝部１４４の右端において、底面１４４ｂよりも上方に突出して形成されている。突出部１４５の上面１４５ａは、略平面とされている。また、第２溝部１４４の底面１４４ｂは、第１溝部１４３の底面１４３ａよりも下方とされていることにより、第２溝部１４４の左端には、側壁１４４ｃが形成されている。排出部１４６は、突出部１４５の右に形成されている。排出部１４６は、排出凹部１４６ａおよび排出凸部１４６ｂを有する。排出凹部１４６ａは、上面１４５ａから下方に凹んで形成されており、ＸＹ平面における断面形状が略円形とされている。排出凸部１４６ｂは、概して円筒状であり、照射ブロック本体部１４１の下面１４１ｂから下方に突出して形成されている。排出凸部１４６ｂは、排出口１４６ｃ、基部１４６ｄ、および排出係止部１４６ｅを有する。排出凸部１４６ｂに形成された内部空間が排出口１４６ｃである。排出口１４６ｃは、排出凹部１４６ａと連通している。従って、上面１４５ａの上を通って排出凹部１４６ａへ流れ込む被照射液体は、排出凹部１４６ａおよび排出口１４６ｃの内壁を伝って、排出口１４６ｃの下方へ流れることができる。
【００１８】
排出凸部１４６ｂの外周面において、照射ブロック本体部１４１の下面１４１ｂと連続する部分が基部１４６ｄである。基部１４６ｄの下方に形成された排出係止部１４６ｅの外周の径は、チューブ１１１の径よりも大きくされている。また、基部１４６ｄの外径は、排出係止部１４６ｅの外径よりも小さくされている。これにより、可撓性を有するチューブ１１１が基部１４６ｄまで嵌め込まれると、排出係止部１４６ｅの外周に沿ってチューブ１１１が変形し、チューブ１１１が固定される。凹部１４７は、排出部１４６の右方に形成されており、照射ブロック本体部１４１の上面１４１ａよりも下方に凹んで形成されている。係止部１４１ｃ，１４１ｃは、照射ブロック本体部１４１の右左に形成されており、照射ブロック本体部１４１の下面１４１ｂに対して上方に凹んで形成されている。ステージ２６の照射ブロック１４０が設置される上面には、係止部１４１ｃ，１４１ｃと嵌め合される上方に突出する凸部（不図示）が形成されている。係止部１４１ｃ，１４１ｃと、ステージ２６の凸部とが嵌め合されることにより、ステージ２６に照射ブロック１４０が固定される。このように、固定具を用いる固定ではないため、照射ブロック１４０はステージ２６に対して容易に着脱されることができる。
【００１９】
蓋部１４２は、照射ブロック本体部１４１の突出部１４５および凹部１４７を覆って、照射ブロック本体部１４１の上方に設置される。蓋部１４２は、概して平板状をなし、右側に下面１４２ａから下方に突出する凸部１４２ｂが形成されている。また、排出部１４６の上方に対向する面は、上方に向かって切り欠かれている。凸部１４２ｂは、凹部１４７と嵌め合される形状とされている。照射ブロック本体部１４１の凹部１４７に蓋部１４２の凸部１４２ｂが嵌め合されることにより、蓋部１４２の照射ブロック本体部１４１に対する位置決めがなされる。蓋部１４２は、昇降装置１５０（図６）に固定されており、昇降装置１５０によりＺ方向に昇降される。蓋部１４２は、突出部１４５の上方にあって、突出部１４５との間で間隙１４１ｄを形成する。詳しくは、照射ブロック本体部１４１の上面１４５ａと、蓋部１４２の下面１４２ａとの間に間隙１４１ｄが形成されて、昇降装置１５０に固定される。
【００２０】
（照射ブロックから保存バッグまでの構成）
次に、照射ブロック１４０から流出した照射液体が保存バッグ８に封入されるまでの構成について、図５を用いて説明する。
チューブ１１１は、照射ブロック１４０の排出部１４６と分岐管１１４の第１の接続口とを接続する。チューブ１１２は、分岐管１１４の第２の接続口と一次保管ビン６とを接続する。チューブ１１３は、分岐管１１４の第３の接続口と廃棄ビン７とを接続する。つまり、チューブ１１３は、照射ブロック１４０から一次保管ビン６へ至るチューブ１１１，１１２および分岐管１１４により形成される流路から分岐している。チューブ１１５は、一次保管ビン６と保存バッグ８とを接続する。チューブ１１２は、分岐管１１４から一次保管ビン６へ向かって、上方に傾斜するように取り付けられている。チューブ１１２，１１３，１１５には、それぞれ、バルブ１２１，１２２，１２３が取り付けられている。バルブ１２１〜１２３は、それぞれ、チューブ１１２，１１３，１１５内の流路を開閉する。また、チューブ１１５の経路中、即ち内部には、滅菌フィルタ１２４が取り付けられている。充填装置３は、開閉可能であり、チューブ１１５が挿通される貫通孔３ａが設けられている。また、充填装置３は、保存バッグ８を収納する内部空間を有し、チューブ１１５が接続された保存バッグ８を内部空間に収納した状態で内部空間を減圧する減圧装置１５１を備える。
【００２１】
（制御系統）
大気圧プラズマ処理装置１０は、図６に示すように、制御装置３８と、処理ガス供給装置７４、パージガス供給装置１３２、昇降装置１５０、減圧装置１５１、切替部１５２、残量センサ１５３の各部が通信可能に接続されており、制御装置３８により、各部が制御されている。制御装置３８は、コンピュータを主体とするコントローラ１７０、駆動回路１７１〜１７５を有する。尚、駆動回路１７１は電極５６，５６へ供給する電力を制御する回路であり、不図示の電力ケーブルを介して駆動回路１７１から電極５６，５６へ給電される。駆動回路１７２は、処理ガス供給装置７４およびパージガス供給装置１３２が供給する各ガスの流量を制御する回路である。駆動回路１７３〜１７５は、それぞれ、昇降装置１５０、減圧装置１５１、切替部１５２を制御する回路である。切替部１５２は、バルブ１２１〜１２３の開閉を制御する。また、切替部１５２は、バルブ１２１，１２２を制御して、プラズマガスが照射された被照射液体を一次保管ビン６と廃棄ビン７との何れに流すかを切替える。残量センサ１５３は一次保管ビン６に貯留されているプラズマガスが照射された被照射液体の量に応じた信号をコントローラ１７０へ出力する。例えば、残量センサ１５３は、一次保管ビン６の外側に取り付けられており、一次保管ビン６に貯留された被照射液体の液面高さに応じた信号を出力するものとすると良い。一次保管ビン６の外側に取り付けられることにより、一次保管ビン６の滅菌状態を維持することができる。尚、一次保管ビン６に貯留されている被照射液体の量は、液面の高さと、既知である一次保管ビン６の内部の断面積から算出することができる。
【００２２】
（プラズマ処理工程）
次に、大気圧プラズマ処理装置１０におけるプラズマ処理工程について説明する。尚、上記したように、本実施形態では、被照射液体としてラクテックが想定されている。そして、プラズマガスが照射されて活性化されたラクテックは、体内に注入されることにより病巣を治療する医療が目的とされている。このため、プラズマガスが照射された被照射液体は滅菌されていることが好ましい。
【００２３】
制御装置３８は、パージガス供給装置１３２による不活性ガスの供給により、カバーハウジング２２を不活性ガスでパージさせる。また、プラズマヘッド２０からプラズマガスの照射を開始させる。尚、処理ガス供給装置７４が供給する処理ガスは、酸素等の活性ガスと窒素等の不活性ガスとを任意の割合で混合させたガスである。そして、プラズマガスには酸素プラズマが含まれる。また、流量調整器５により一定の流量に調整された被照射液体が、チューブ１１０を介して第２溝部１４４へ流される。尚、流量調整器５における流量調整は、作業者によりされても良く、制御装置３８により制御されても良い。
【００２４】
図４に示す様に、第２溝部１４４は、左端に側壁１４４ｃが形成され、右端に突出部１４５が形成されている。このため、図４にて破線で示す突出部１４５の上面１４５ａの高さ程度まで、被照射液体が第２溝部１４４内に貯留される。第２溝部１４４はプラズマヘッド２０の下方に設置されるため、第２溝部１４４に貯留された被照射液体は、プラズマヘッド２０からプラズマガスが照射されて活性化される。尚、被照射液体に所定時間、プラズマガスが照射されることで、プラズマ照射された被照射液体による治療効果は発揮されることがわかっている。被照射液体が第２溝部１４４に貯留されることにより、所定時間プラズマガスが照射される。また、被照射液体は、プラズマガスが照射されることにより、第２溝部１４４内で自然対流する。これにより、治療効果が発揮される均質な活性化された被照射液体とすることができる。以下の説明において、第２溝部１４４を通過した後の被照射液体を既照射液体と記載する場合がある。
【００２５】
毛細管現象により、既照射液体は上面１４５ａと下面１４２ａとの間に形成された間隙１４１ｄを伝って、排出凹部１４６ａを経由して排出口１４６ｃから下方へ流出する。間隙１４１ｄを有する構成とすることにより、安定した流出量とすることができる。照射ブロック１４０が間隙１４１ｄを備えない構成の場合には、第２溝部１４４の内部容量は僅かであるため、次のような現象が生じる。第２溝部１４４に継続して被照射液体が流入され、その液面が上面１４５ａ程度の高さとなっても、表面張力により、第２溝部１４４の外に既照射液体は流出せずに被照射液体の液面が上方に盛り上がり、限界に達すると、一気に第２溝部１４４の外に既照射液体が流出する。この現象により、第２溝部１４４から流出する流出量にバラツキが生じてしまう。この点、間隙１４１ｄが形成されることで、第２溝部１４４に貯留される被照射液体に表面張力が生じたとしても、間隙１４１ｄを伝って被照射液体が第２溝部１４４の外に流出できるため、安定した流出量とすることができる。また、間隙１４１ｄを介して被照射液体が流出する構造によって、第２溝部１４４から流出する被照射液体にプラズマガスなどのガスが混入するのを低減することができる。尚、照射ブロック本体部１４１から流出される被照射液体の流出量は、間隙１４１ｄの幅により決定されるため、所望の流出量に応じた幅となるように、昇降装置１５０により蓋部１４２の高さが調整される。
【００２６】
図５に移り、照射ブロック１４０から流出した既照射液体はチューブ１１１内を流れる。ここで、制御装置３８は、プラズマガスの照射の開始時には、バルブ１２１を閉状態に、バルブ１２２を開状態に制御する。これにより、既照射液体は、チューブ１１３を介して廃棄ビン７へ流れる。そして、プラズマガスの照射の開始から所定時間経過後に、バルブ１２１を開状態に、バルブ１２２を閉状態に切替える。これにより、既照射液体は、チューブ１１２を介して一次保管ビン６へ流れる。大気圧プラズマ処理装置１０では、流れる被照射液体にプラズマガスが照射されるため、プラズマ照射開始後所定時間内に流出される既照射液体は、十分に活性化されていないおそれがある。そこで、プラズマ照射の開始後所定時間内は、既照射液体を廃棄ビン７へ流し、プラズマ照射の開始後所定時経過後に、既照射液体を一次保管ビン６へ流す制御とすることで、一次保管ビン６に貯留される既照射液体を、十分に活性化された既照射液体とすることができる。保存バッグ８に封入される既照射液体の品質の低下を低減することができる。
【００２７】
また、チューブ１１２，１１３のそれぞれに、バルブ１２１，１２２が取り付けられていることにより、既照射液体を廃棄ビン７へ流すべき期間に、誤ってバルブ１２２が閉状態とされたとしても、バルブ１２１が閉状態とされれば、十分に活性化されていない既照射液体が一次保管ビン６に流入してしまうのを防止することができる。また、チューブ１１２は、既照射液体が重力に逆らって流れる向き、詳しくは分岐管１１４から一次保管ビン６へ向かって、上方に傾斜するように取り付けられている。さらに、チューブ１１３は既照射液体が重力により流れる向き、詳しくは分岐管１１４から廃棄ビン７へ向かって、下方に傾斜するように取り付けられている。これにより、バルブ１２２が開状態、バルブ１２１が閉状態とされた場合、既照射液体はチューブ１１２へ流れることなく廃棄ビン７へ流れることになる。これにより、十分に活性化されていないおそれのある既照射液体の一次保管ビン６への混入量を微量とすることができる。例えば、チューブ１１２が傾斜せずに取り付けられた場合には、チューブ１１２における分岐管１１４からバルブ１２１までの区間を十分に活性化されていないおそれのある既照射液体が流れることになり、十分に活性化されていないおそれのある既照射液体がこの区間に残留することも考えられる。十分に活性化されていないおそれのある既照射液体が流れる区間を短くすることで、十分に活性化されていないおそれのある既照射液体の一次保管ビン６への混入量を微量とすることができる。
【００２８】
制御装置３８は、例えば一次保管ビン６に貯留された既照射液体の量が所望の量に達すると、プラズマヘッド２０のプラズマ照射を停止させ、一次保管ビン６に貯留された既照射液体を保存バッグ８へ封入する作業を開始する。バルブ１２３を閉状態から開状態に切替え、減圧装置１５１に充填装置３の内部の気圧を大気圧から減圧させることで、保存バッグ８に既照射液体を封入する。残量センサ１５３の出力信号により、保存バッグ８に封入された既照射液体の量が所定容量に達したと判断すると、減圧装置１５１を充填装置３内部の気圧を大気圧に戻すよう制御する。これにより、所定量の既照射液体が保存バッグ８に封入される。尚、封入済みの保存バッグ８から、新たな保存バッグ８への交換の際には、バルブ１２３が閉状態とされて、保存バッグ８の交換作業が行われる。これにより、少なくとも、バルブ１２３から一次保管ビン６へ至るチューブ１１５の滅菌状態が維持されることができる。また、保存バッグ８へ封入される総量は、一次保管ビン６に貯留された既照射液体の量よりも少ない量とされる。これにより、一次保管ビン６が空となり、保存バッグ８へ空気が入り込んでしまうのを防止することができる。
【００２９】
次に、大気圧プラズマ処理装置１０における滅菌処理について説明する。上記では、チューブ１１０〜１１３、分岐管１１４、一次保管ビン６、廃棄ビン７、および照射ブロック１４０は、予め滅菌されていると説明した。大気圧プラズマ処理装置１０は、医療を目的とされているため、容易に滅菌状態が維持できる構成とされている。具体的には、チューブ１１０〜１１３、分岐管１１４、一次保管ビン６、および廃棄ビン７は、比較的安価であり、交換が容易な部品である。このため、時間を空けて断続的にプラズマ処理が行われる状況においては、これら部品を交換することで、大気圧プラズマ処理装置１０の滅菌状態を容易に維持することができる。また、照射ブロック１４０は、チューブ１１０，１１１が容易に着脱可能な構成とされている。また、照射ブロック１４０は、ステージ２６に固定具を用いずに設置される構成であるため、カバーハウジング２２から容易に取り外すことができる。また、照射ブロック１４０は、オートクレーブに入れることが可能な程度に小型である。従って、照射ブロック１４０は、オートクレーブにて加熱処理されることにより、容易に滅菌処理を行うことができる。また、被照射液体は、カバーハウジング２２においては露出されることとなるが、保存バッグ８に封入される前に滅菌フィルタ１２４にて滅菌されるため、保存バッグ８に封入される既照射液体の滅菌状態は維持される。尚、滅菌フィルタ１２４にて濾過された既照射液体は、失活されないことが確認されている。
【００３０】
上記実施形態において、液体バッグ２から一次保管ビン６へ至る、チューブ１１０、照射ブロック１４０、チューブ１１１、分岐管１１４、チューブ１１２、および一次保管ビン６により形成される被照射液体が流れる流路は流路の一例である。液体バッグ２および流量調整器５は、供給部の一例である。第２溝部１４４は溝部の一例である。一次保管ビン６は貯留容器の一例であり、保存バッグ８は封入容器の一例であり、チューブ１１５は流出側管の一例である。チューブ１１３は廃棄用管の一例である。充填装置３は、減圧収納器の一例である。
【００３１】
以上、説明した実施形態によれば、以下の効果を奏する。
液体バッグ２に充填されている被照射液体は、流量調整器５により一定の流量に調整されて、チューブ１１０を介してカバーハウジング２２内に供給される。照射ブロック１４０に流れる被照射液体は、プラズマヘッド２０によりプラズマガスが照射される。液体バッグ２および流量調整器５から所望量に応じた流量の被照射液体が供給されることで、所望量のプラズマガスを照射された被照射液体を簡素な工程にて生成することができる。
【００３２】
また、照射ブロック１４０は、チューブ１１０，１１１およびステージ２６に対して着脱可能である。これにより、照射ブロック１４０は、例えばオートクレーブによる加熱などにより滅菌処理が容易に行われることができる。
【００３３】
また、照射ブロック１４０は、第２溝部１４４と、突出部１４５と、蓋部１４２と、を有する。突出部１４５により被照射液体は堰き止められ、第２溝部１４４内に滞留する。このため、所定時間プラズマガスが照射されるため、均質な既照射液体とすることができる。また、突出部１４５と蓋部１４２との間に間隙１４１ｄが形成されるため、毛細管現象により既照射液体が下流へ流れるため、安定した流出量とすることができる。
【００３４】
また、大気圧プラズマ処理装置１０は、一次保管ビン６およびチューブ１１５を備えるため、外気にさらすことなく、既照射液体を保存バッグ８に入れることができる。
【００３５】
また、チューブ１１５に滅菌フィルタ１２４を備えるため、既照射液体は保存バッグ８に封入される前に滅菌されることができる。
【００３６】
また、大気圧プラズマ処理装置１０は、照射ブロック１４０と一次保管ビン６とを接続するチューブ１１１，１１５から分岐するチューブ１１３を備える。また、大気圧プラズマ処理装置１０は、既照射液体を一次保管ビン６とチューブ１１３との何れに流すかを切替える切替部１５２を備える。大気圧プラズマ処理装置１０においては、流れる被照射液体にプラズマガスが照射されるため、プラズマ照射の開始後所定時間内に流出される既照射液体は、十分に活性化されていないおそれがある。切替部１５２により、プラズマ照射開始後所定時間内は、既照射液体がチューブ１１３を介して廃棄ビン７に流されることで、品質が安定した既照射液体を一次保管ビン６に貯留する事ができる。また、チューブ１１３は既照射液体が重力により流れる向きに取り付けられている。これにより、十分に活性化されていないおそれがある既照射液体は、チューブ１１３を介して、重力により廃棄ビン７へ流れることができる。
【００３７】
また、大気圧プラズマ処理装置１０は、チューブ１１５が接続された保存バッグ８を内部空間に収納した状態で内部空間が減圧される充填装置３を備える。これにより、保存バッグ８の内部を外気にさらすことなく、保存バッグ８に既照射液体を封入することができる。
【００３８】
尚、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内での種々の改良、変更が可能であることは言うまでもない。
例えば、上記では、滅菌フィルタ１２４は、チューブ１１５内に取り付けられると説明したが、これに限定されない。照射ブロック１４０から保存バッグ８へ至る流路の何れかに取り付けられれば良い。
【００３９】
また、上記では、チューブ１１２は分岐管１１４から一次保管ビン６へ向かって上方に傾斜するように取り付けられ、チューブ１１３は分岐管１１４から廃棄ビン７へ向かって下方に傾斜するように取り付けられていると説明したがこれに限定されない。チューブ１１３は重力方向に取り付けられる構成としても良い。また、チューブ１１２は略水平に取り付けられ、チューブ１１３は分岐管１１４から廃棄ビン７へ向かって下方に傾斜するように、あるいは重力方向に取り付けられる構成としても良い。あるいは、チューブ１１２は分岐管１１４から一次保管ビン６へ向かって上方に傾斜するように取り付けられ、チューブ１１３は略水平に取り付けられている構成としても良い。何れの場合にも、十分に活性化されていないおそれがある既照射液体は、廃棄ビン７へ流されるため、品質が安定した既照射液体を一次保管ビン６に貯留する事ができる。
【符号の説明】
【００４０】
２  液体バッグ
３  充填装置
５  流量調整器
６  一次保管ビン
８  保存バッグ
１０  大気圧プラズマ処理装置
１１０，１１１，１１２，１１３，１１５  チューブ
１１４  分岐管
１４０  照射ブロック
１４４  第２溝部
【図１】
2020026324.tif 000003
【図２】
2020026324.tif 000004
【図３】
2020026324.tif 000005
【図４】
2020026324.tif 000006
【図５】
2020026324.tif 000007
【図６】
2020026324.tif 000008
【国際調査報告】
2020026324.tif 000009
2020026324.tif 000010
2020026324.tif 000011
2020026324.tif 000012