(57)【要約】  フィルムの厚み方向の屈折率が制御されるとともに、クラックの発生が抑制され、加工性が良好な位相差フィルムおよび製造方法を提供する。前記位相差フィルムは、感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造を有し、必要に応じてさらに架橋性官能基を有する側鎖構造を有する液晶性高分子と、架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性層で構成される。例えば、前記架橋性化合物がポリイソシアネート系化合物であってもよく、前記柔軟性化合物がポリアルキレングリコールであってもよい。【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造を有し、必要に応じてさらに架橋性官能基を有する側鎖構造を有する液晶性高分子と、架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性層で構成される位相差フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の位相差フィルムにおいて、前記感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造が下記式（１）、（２）および（３）で表される側鎖構造からなる群から選択される少なくとも１種の構造を有している位相差フィルム。
【化１】
2020026632.tif 000010
（式中、ｔは１〜３の整数であり、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す）
【化２】
2020026632.tif 000011
（式中、ｋは０または１であり、ｋが０の場合、ｌは０、ｋが１の場合、ｌは１〜１２の整数；Ｘは、単結合、Ｃ１−３アルキレン基、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−；Ｗは、クマリン基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリジン基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基、ナフチルアクリル酸基、またはそれらの誘導体基；Ｒ２およびＲ３は、それぞれ同一または異なって、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、カルボキシ基およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す）
【化３】
2020026632.tif 000012
（式中、Ｙは、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ＝Ｃ−ＣＯ−、−ＣＨ＝Ｎ−、または−Ｎ＝ＣＨ−；Ｒ４およびＲ５は、それぞれ同一または異なって、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、カルボキシ基およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す）
【請求項３】
請求項１または２に記載の位相差フィルムにおいて、液晶性高分子が架橋性官能基を有する側鎖構造を有しており、架橋性官能基を有する側鎖構造が、−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨ（式中、ｎは１〜６の整数である）および−Ｐｈ−ＣＯＯＨ（式中、Ｐｈは二価のフェニル基である）からなる群から選択される少なくとも１種の構造を有している位相差フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の位相差フィルムにおいて、光学異方性層が架橋性化合物を含み、前記架橋性化合物がポリイソシアネート系化合物である位相差フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の位相差フィルムにおいて、光学異方性層が柔軟性化合物を含み、前記柔軟性化合物がポリアルキレングリコールである位相差フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の位相差フィルムにおいて、前記架橋性化合物の含有量が、光学異方性層の総重量に対して０．０１〜５重量％である位相差フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の位相差フィルムにおいて、前記柔軟性化合物の含有量が、光学異方性層の総重量に対して１〜５０重量％である位相差フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の位相差フィルムにおいて、転写して用いられる位相差フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の位相差フィルムを製造する方法であって、
液晶性高分子を形成可能な材料と架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性材料を基材に塗布して膜を形成する膜形成工程と、
前記膜中の液晶性高分子を配向させる配向制御工程と、を含む位相差フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の位相差フィルムの製造方法において、前記配向制御工程が、
前記膜形成工程で基材へ塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記乾燥工程後の膜に直線偏光成分を含む光を照射する偏光照射工程と、
前記照射工程後の膜を加熱する加熱工程と、を含む位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
本願は２０１８年８月２日出願の特願２０１８−１４６１９８の優先権を主張するものであり、その全体を参照により本出願の一部をなすものとして引用する。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、加工性が良好な位相差フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
位相差フィルムとは、互いに垂直な主軸方向に振動する直線偏光成分を透過させ、この二成分間に必要な位相差を与え、複屈折性を付与するフィルムである。このような位相差フィルムは、コンピュータやファクシミリなどのＯＡ機器、携帯電話や電子手帳、さらに液晶テレビやビデオカメラなどの各種液晶表示装置の視野角を拡大したり、防眩性を付与したり、またコントラストや輝度を向上させるために不可欠な光学部材である。【０００４】
位相差フィルムを用いて、液晶表示装置を好適に光学補償するためには、位相差フィルム中の屈折率を３次元的に制御する必要がある。しかし、一般に、位相差フィルムの厚み方向の屈折率を制御することは困難であり、フィルムへ入射する光のリタデーション値の入射角依存性により、高分子フィルムの配置や位相差フィルムとしてのパラメータを調整しても、斜め入射光に対しては所望の特性を得ることができない。【０００５】
フィルム厚み方向の屈折率を制御する方法として、特許文献１（特開平２−１６０２０４号公報）には、ノズルより押出したポリカーボネートのロッド棒をスライスして分子が円板法線方向に配向した円板を得て、更にこの円板を一軸延伸することにより、フィルムの厚み方向の屈折率を制御できることが記載されている。【０００６】
特許文献２（特開平５−１５７９１１号公報）には、樹脂フィルムの片面または両面に収縮性フィルムを接着積層し、次いで、加熱延伸することにより、延伸方向と直交する方向の収縮力を付与することによりフィルム厚み方向の屈折率を制御できることが記載されている。【０００７】
本発明者は、特許文献３（特開２００８−１６４９２５号公報）において、直線偏光性の光照射により複屈折を誘起する材料によりＮｚ係数が１未満である位相差フィルムの製造方法を提案している。また、特許文献４（特開２０１５−１０６０１８号公報）では、直線偏光性の光照射により複屈折を誘起する材料によりＮｚ係数が１以上である位相差フィルムの製造方法を提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平２−１６０２０４号公報
【特許文献２】特開平５−１５７９１１号公報
【特許文献３】特開２００８−１６４９２５号公報
【特許文献４】特開２０１５−１０６０１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
また、近年になって液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置は、モバイルフォンの表示装置として多く利用されており、このようなモバイルフォン用途では、使用する光学フィルムの膜厚低減が強く要求されている。【００１０】
特許文献１の位相差フィルムでは、ロッド棒をスライスすることにより製造されるため、大画面用途として用いる場合に大面積化が困難であるだけでなく、モバイルフォン用途で要求されるような薄型の位相差フィルムを製造することは難しい。また、特許文献２の複屈折性フィルムでは、収縮性フィルムを用いた収縮力を利用しているため、位相差や配向軸がばらつきやすく、数μｍ程度の薄型の樹脂フィルムを用いることは記載されていない。【００１１】
このような薄型化の要求には、基材上に液晶性材料を塗工し配向させて位相差フィルムを製造する方法が考えられる。このような方法では、数μｍ程度の薄型の位相差フィルムを製造することが可能であるが、一般的な正の一軸性、負の一軸性の液晶材料を用いた場合、厚み方向の屈折率を制御することは難しい。本発明者は、特許文献３および４において、直線偏光性の光照射により複屈折を誘起する材料を用いて、フィルム厚み方向の屈折率を制御した位相差フィルムを提案している。特許文献３および４に記載の位相差フィルムは、基材上に複屈折を誘起する材料を塗工した後に、機械的な力を加えることなく光照射や加熱による配向制御によって製造されているため、数μｍ程度の厚さのフィルムとすることが可能であり、さらに、フィルムの屈折楕円体の３つの主屈折率の大きさを任意に制御することが可能であるなど光学特性制御の点で適応性が高い。【００１２】
しかしながら、特許文献３および４に記載の位相差フィルムは、複屈折を誘起する材料を塗工した基材を塗膜との積層体としてそのまま使用する態様しか記載されていない。このような使用態様では、例えば、塗工する基材として他の光学フィルムを用いた場合には、その後の配向制御により他の光学フィルムの光学特性までも影響を及ぼしてしまうおそれがある。そのため、このような位相差フィルムでは、光照射により複屈折を誘起する材料を用いることによって光学特性の制御が可能であるにもかかわらず、液晶表示装置の製造等の使用にあたり加工性に劣るという課題があった。【００１３】
したがって、本発明の目的は、フィルムの厚み方向の屈折率が制御されるとともに、加工性が良好な位相差フィルムおよび製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、特許文献３および４の位相差フィルムでは、大きく変形させたり、他の光学フィルムとの貼合加工などのフィルムの加工を行う場合や基材から転写して用いる場合に、クラックが発生してしまうという新たな課題を見出した。そして、さらに研究を重ねた結果、位相差フィルムの光学異方性層で用いられている材料自体の脆性によりクラックが発生していることを見出し、この脆性は、架橋性化合物および／または柔軟性化合物を液晶性高分子とともに光学異方性層に含有させることにより解消でき、それにより、加工性に優れ、転写用フィルムとして用いることが可能な位相差フィルムが得られることを見出し、本発明に到達した。【００１５】
すなわち、本発明は、以下の態様で構成されうる。
〔態様１〕
感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造を有し、必要に応じてさらに架橋性官能基を有する側鎖構造を有する液晶性高分子と、架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性層で構成される位相差フィルム。
〔態様２〕
態様１に記載の位相差フィルムにおいて、前記感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造が下記式（１）、（２）および（３）で表される側鎖構造からなる群から選択される少なくとも１種の構造を有している位相差フィルム。【００１６】
【化１】
2020026632.tif 000002
【００１７】
（式中、ｔは１〜３の整数であり、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す）【００１８】
【化２】
2020026632.tif 000003
【００１９】
（式中、ｋは０または１であり、ｋが０の場合、ｌは０、ｋが１の場合、ｌは１〜１２の整数；Ｘは、単結合、Ｃ１−３アルキレン基、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−；Ｗは、クマリン基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリジン基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基、ナフチルアクリル酸基、またはそれらの誘導体基；Ｒ２およびＲ３は、それぞれ同一または異なって、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、カルボキシ基およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す）【００２０】
【化３】
2020026632.tif 000004
【００２１】
（式中、Ｙは、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ＝Ｃ−ＣＯ−、−ＣＨ＝Ｎ−、または−Ｎ＝ＣＨ−；Ｒ４およびＲ５は、それぞれ同一または異なって、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、カルボキシ基およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す）【００２２】
〔態様３〕
態様１または２に記載の位相差フィルムにおいて、液晶性高分子が架橋性官能基を有する側鎖構造を有しており、架橋性官能基を有する側鎖構造が、−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨ（式中、ｎは１〜６の整数である）および−Ｐｈ−ＣＯＯＨ（式中、Ｐｈは二価のフェニル基である）からなる群から選択される少なくとも１種の構造を有している位相差フィルム。
〔態様４〕
態様１〜３のいずれか一態様に記載の位相差フィルムにおいて、光学異方性層が架橋性化合物を含み、前記架橋性化合物がポリイソシアネート系化合物である位相差フィルム。
〔態様５〕
態様１〜４のいずれか一態様に記載の位相差フィルムにおいて、光学異方性層が柔軟性化合物を含み、前記柔軟性化合物がポリアルキレングリコールである位相差フィルム。
〔態様６〕
態様１〜５のいずれか一態様に記載の位相差フィルムにおいて、前記架橋性化合物の含有量が、光学異方性層の総重量に対して０．０１〜５重量％（好ましくは０．０５〜３重量％、より好ましくは０．１〜１．５重量％）である位相差フィルム。
〔態様７〕
態様１〜６のいずれか一態様に記載の位相差フィルムにおいて、前記柔軟性化合物の含有量が、光学異方性層の総重量に対して１〜５０重量％（好ましくは３〜３０重量％、より好ましくは５〜２０重量％）である位相差フィルム。
〔態様８〕
態様１〜７のいずれか一態様に記載の位相差フィルムにおいて、転写して用いられる位相差フィルム。
〔態様９〕
態様１〜８のいずれか一態様に記載の位相差フィルムを製造する方法であって、
液晶性高分子を形成可能な材料と架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性材料を基材に塗布して膜を形成する膜形成工程と、
前記膜中の液晶性高分子を配向させる配向制御工程と、を含む位相差フィルムの製造方法。
〔態様１０〕
態様９に記載の位相差フィルムの製造方法において、前記配向制御工程が、
前記膜形成工程で基材へ塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記乾燥工程後の膜に直線偏光成分を含む光を照射する偏光照射工程と、
前記照射工程後の膜を加熱する加熱工程と、を含む位相差フィルムの製造方法。【００２３】
なお、請求の範囲および／または明細書に開示された少なくとも２つの構成要素のどのような組み合わせも、本発明に含まれる。特に、請求の範囲に記載された請求項の２つ以上のどのような組み合わせも本発明に含まれる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、光学異方性層として、特定の側鎖構造を有する液晶性高分子とともに架橋性化合物および／または柔軟性化合物を含有させることにより、フィルムの厚み方向の屈折率が制御されるとともに、加工時のクラックの発生が抑制され、加工性が良好な位相差フィルムを得ることができる。さらに、基材から転写する際のクラックの発生が抑制され、転写用フィルムとして使用可能な位相差フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の位相差フィルムは、感光性基を有し、液晶構造を形成可能である側鎖構造を有し、必要に応じてさらに架橋性官能基を有する側鎖構造を有する液晶性高分子と、架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性層で構成される。
【００２６】
［液晶性高分子］
本発明の光学異方性層は、感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造を有する液晶性高分子を含み、重合体が側鎖に有する感光性基の光反応により分子配向が誘起される性質を有している。光反応は、光二量化反応、光フリース転移反応、光異性化反応等が挙げられるが、好ましくは光二量化反応である。
【００２７】
液晶性高分子が液晶構造を形成可能である場合、側鎖構造に液晶性を発揮する剛直な部位であるメソゲン基を有することにより液晶性を発現していてもよいし、または、他の重合体または同一重合体の他の側鎖等との水素結合による二量体を形成可能な構造を有しており、その二量化によりメソゲン構造を形成することにより、液晶性を発現していてもよい。
【００２８】
メソゲン基またはメソゲン構造は、２つ以上の芳香族環または脂肪族環とこれを結合する連結基とで構成され、連結基は共有結合でも水素結合でもよい。
芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、複素環（例えば、フラン環、ピラン環等の酸素含有複素環；ピロール環、イミダゾール環等の窒素含有複素環）等が挙げられ、脂肪族環としては、シクロヘキサン環等が挙げられる。なお、これらの芳香族環または脂肪族環は、置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
連結基としては、共有結合である場合、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＮＯ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−Ｃ＝Ｃ−、−ＣＨ＝Ｎ−、アルキレン基等が挙げられる。水素結合である場合、カルボキシ基同士の水素結合等が挙げられる。
【００２９】
感光性基としては、光エネルギーにより光反応を起こすことが可能な官能基であれば特に制限されず、例えば、カルコン基、クマリン基、シンナモイル基、シンナミリデン基、桂皮酸基、シンナミリデン酢酸基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基、アゾベンゼン基、ベンジリデンアニリン基またはこれらの誘導体等が挙げられ、好ましくは、シンナモイル基であってもよい。
【００３０】
本発明の液晶性高分子は、繰り返し単位中に、感光性基および液晶構造を形成可能な構造の両方を有している側鎖構造を少なくとも有しているが、感光性基は、メソゲン基またはメソゲン構造とは、側鎖構造の中で独立に存在していてもよいし、化学構造を共有して複合的に存在していてもよい。
【００３１】
本発明の液晶性高分子は、感光性基および液晶構造を形成可能な構造の両方を有している側鎖構造として、下記式（１）、（２）および（３）で表される側鎖構造からなる群から選択される少なくとも１種の構造を有していてもよい。
【００３２】
【化４】
2020026632.tif 000005
【００３３】
（式中、ｔは１〜３の整数であり、Ｒ１は水素原子、アルキル基（例えば、Ｃ１−６アルキル基、好ましくはＣ１−４アルキル基）、アルキルオキシ基（例えば、Ｃ１−６アルキルオキシ基、好ましくはＣ１−４アルキルオキシ基）、アルケニル基（例えば、Ｃ１−６アルケニル基、好ましくはＣ１−４アルケニル基）、アルキニル基（例えば、Ｃ１−６アルキニル基、好ましくはＣ１−４アルキニル基）、およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す。）
【００３４】
【化５】
2020026632.tif 000006
【００３５】
（式中、ｋは０または１であり、ｋが０の場合、ｌは０、ｋが１の場合、ｌは１〜１２の整数；Ｘは、単結合、Ｃ１−３アルキレン基、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−；Ｗは、クマリン基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリジン基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基、ナフチルアクリル酸基、またはそれらの誘導体基；Ｒ２およびＲ３は、それぞれ同一または異なって、水素原子、アルキル基（例えば、Ｃ１−６アルキル基、好ましくはＣ１−４アルキル基）、アルキルオキシ基（例えば、Ｃ１−６アルキルオキシ基、好ましくはＣ１−４アルキルオキシ基）、アルケニル基（例えば、Ｃ１−６アルケニル基、好ましくはＣ１−４アルケニル基）、アルキニル基（例えば、Ｃ１−６アルキニル基、好ましくはＣ１−４アルキニル基）、カルボキシ基およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す。）
【００３６】
【化６】
2020026632.tif 000007
【００３７】
（式中、Ｙは、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ＝Ｃ−ＣＯ−、−ＣＨ＝Ｎ−、または−Ｎ＝ＣＨ−；Ｒ４およびＲ５は、それぞれ同一または異なって、水素原子、アルキル基（例えば、Ｃ１−６アルキル基、好ましくはＣ１−４アルキル基）、アルキルオキシ基（例えば、Ｃ１−６アルキルオキシ基、好ましくはＣ１−４アルキルオキシ基）、アルケニル基（例えば、Ｃ１−６アルケニル基、好ましくはＣ１−４アルケニル基）、アルキニル基（例えば、Ｃ１−６アルキニル基、好ましくはＣ１−４アルキニル基）、カルボキシ基およびハロゲン原子から選択される１種または２種以上を示す。）
【００３８】
本発明の液晶性高分子は、好ましくは、上記式（１）で表される側鎖構造を少なくとも有していてもよく、より好ましくは上記式（１）中、ｔが１であり、Ｒ１が水素原子であってもよい。
【００３９】
なお、上記式（１）、（２）および（３）で表される側鎖構造は、繰り返し単位における側鎖の末端の化学構造を表しており、これらの側鎖構造と主鎖構造との間に種々の化学構造を含んでいてもよい。
【００４０】
本発明の液晶性高分子は、上記側鎖構造を含む同一繰り返し単位からなる単独重合体または上記側鎖構造を含む繰り返し単位以外に構造の異なる側鎖構造を含む繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。主鎖構造としては、炭化水素、アクリレート、メタクリレート、シロキサン、マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等が重合して形成される構造が挙げられる。
【００４１】
本発明の液晶性高分子は、光学異方性層に架橋性化合物が含まれる場合に、架橋性官能基を有する側鎖構造を有していてもよい。架橋性官能基とは、後述の架橋性化合物と架橋反応を起こす官能基であれば特に限定されないが、例えば、水酸基、カルボキシ基等が挙げられる。架橋性官能基を有する側鎖構造は、上記の感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造を含む繰り返し単位に含まれていてもよく、当該繰り返し単位以外の繰り返し単位中に架橋性官能基を有していてもよい。
【００４２】
本発明の液晶性高分子は、架橋性官能基を有する側鎖構造として、−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨ（式中、ｎは１〜６の整数である）および−Ｐｈ−ＣＯＯＨ（式中、Ｐｈは二価のフェニル基である）からなる群から選択される少なくとも１種の構造を有していてもよい。なお、これらの側鎖構造は、繰り返し単位における側鎖の化学構造の少なくとも一部を表しており、これらの側鎖構造と主鎖構造との間に種々の化学構造を含んでいてもよい。
【００４３】
本発明の液晶性高分子は、共重合体である場合、感光性基および／または液晶構造を形成可能な構造を有していない繰り返し単位を有していてもよい。
【００４４】
本発明の光学異方性層は、液晶性高分子の側鎖の配向性を促進するために、液晶性高分子とともに低分子化合物を含んでいてもよい。低分子化合物としては、メソゲン成分として知られているビフェニル、ターフェニル、フェニルベンゾエート、アゾベンゼン等の置換基を有し、このような置換基と、アリル、アクリレート、メタクリレート、桂皮酸基（またはその誘導体基）等の官能基を、スペーサー（例えば、炭素数１〜１５（好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜５）の（オキシ）アルキレン基等）を介して結合した液晶性を有するものが好ましく用いられる。これらの低分子化合物は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用してもよい。このような低分子化合物は、液晶性高分子に対して、５〜５０重量％含んでいてもよく、好ましくは１０〜３０重量％の範囲内で含んでいてもよい。
【００４５】
本発明では、光学異方性層に架橋性化合物および／または柔軟性化合物を含有させることにより、加工時のクラックの発生が抑制され、加工性が良好な位相差フィルムを得ることができる。さらに、本発明の位相差フィルムは、基材から転写する際のクラックの発生を抑制でき、転写用フィルムとして使用可能である。
【００４６】
［架橋性化合物］
架橋性化合物は、液晶性高分子が有する架橋性官能基と反応し、光学異方性層の靱性を向上させることができるためか、位相差フィルムのクラック発生を抑制することができる。架橋性化合物としては、分子内に２個以上の官能基を有する多官能性化合物が挙げられる。多官能性化合物としては、液晶性高分子が有する架橋性官能基と反応し、結合する官能基を有していれば特に制限されないが、例えば、液晶性高分子が有する架橋性官能基が水酸基またはカルボキシ基の場合、イソシアネート基、カルボジイミド基、アジリジン基、アゼチジン基、オキサゾリン基、エポキシ基等を有する化合物が挙げられる。これらの架橋性化合物のうち、液晶性高分子が有する架橋性官能基と比較的温和な反応条件で反応する反応性の観点から、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する多官能性化合物であるポリイソシアネート系化合物が好ましく、ポリイソシアネート系化合物は公知のものが使用可能である。例えば、ポリイソシアネート系化合物としては、ジイソシアネート化合物、トリイソシアネート化合物等が挙げられる。ジイソシアネート化合物としては、例えば、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートとジオールとの縮合化合物等が挙げられる。また、トリイソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネートのイソシアヌレート体、ビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネートとメチロールプロパンとの付加体であるアダクト体等が挙げられる。これらの架橋性化合物のうち、トリイソシアネート化合物を好適に用いることができる。
【００４７】
架橋性化合物がポリイソシアネート系化合物である場合、液晶性高分子は架橋性官能基として活性水素基を有していてもよい。活性水素基としては、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、およびチオール基等が挙げられる。活性水素基が水酸基である場合はウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）が形成され、活性水素基がカルボキシ基である場合はアミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）が形成され、活性水素基がアミノ基である場合はウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）が形成され、活性水素基がメルカプト基である場合はチオウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｓ−）が形成される。液晶性高分子が有している活性水素基としては、水酸基、カルボキシ基が好ましい。
【００４８】
本発明では、光学異方性層に架橋性化合物を含む場合、架橋性化合物の含有量は、液晶性高分子との反応による光学異方性層の配向性や光学特性の低下の抑制およびクラック抑制の観点から、光学異方性層の総重量に対して、０．０１〜５重量％であってもよく、好ましくは０．０５〜３重量％、より好ましくは０．１〜１．５重量％であってもよい。
【００４９】
［柔軟性化合物］
柔軟性化合物は、光学異方性層の剛性を低下させることができるためか、位相差フィルムのクラック発生を抑制することができる。柔軟性化合物としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール；ポリグリセリン；ポリグリセリンのモノステアレート、モノオレエート等のポリグリセリン脂肪酸エステル等を挙げることができる。これらの柔軟性化合物のうち、光学異方性層を基材から剥離、転写する場合に剥離性が向上する観点から、ポリアルキレングリコール（より好ましくは、ポリエチレングリコール）を好適に用いることができる。
【００５０】
柔軟性化合物は、光学異方性層のクラック抑制およびフィルム形成性の観点から、平均分子量が２００〜５００００であってもよく、好ましくは３００〜２００００、より好ましくは５００〜１００００であってもよい。
【００５１】
本発明では、光学異方性層に柔軟性化合物を含む場合、柔軟性化合物の含有量は、光学異方性層の配向性や光学特性を損なうことがなければ特に限定されないが、クラック抑制およびフィルム形成性の観点から、光学異方性層の総重量に対して、１〜５０重量％であってもよく、好ましくは３〜３０重量％、より好ましくは５〜２０重量％であってもよい。
【００５２】
本発明の位相差フィルムは、基材層を有していてもよく、光学異方性層と基材層との積層体であってもよい。基材層としては、種々の高分子フィルム等の有機材料およびガラス、石英等の無機材料の中から適宜選択して用いられる。例えば、高分子フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂系フィルム；ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーフィルム；ビスフェノールＡ・炭酸共重合体等のポリカーボネート系フィルム；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の直鎖、分枝鎖または環状ポリオレフィン系フィルム；ポリアミド系フィルム；イミド系ポリマーフィルム；スルホン系ポリマーフィルム等が挙げられる。これらの高分子フィルムのうち、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム等を好適に用いることができる。
【００５３】
基材層は、偏光フィルム、位相差フィルム等の光学フィルムであってもよく、複数の光学フィルムの積層体であってもよい。
【００５４】
例えば、本発明の位相差フィルムが、光学異方性層と基材層との積層体で構成される場合、基材層と光学異方性層との密着性を向上させるため、基材層の表面には、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射等の表面改質、下地剤の塗工処理、またはこれらを組み合わせた処理等が行われていてもよい。下地剤としては、光学異方性層の配向性や光学特性を損なうことがなければ特に限定されないが、一般的に光学フィルムの粘着剤、接着剤として用いられる材料を用いることができる。例えば、基材層への密着性向上の観点から、下地材として、ジイソシアネート化合物、トリイソシアネート化合物等のポリイソシアネート系化合物を用いてもよい。また、基材層への濡れ性や塗膜平滑性を向上させるために、例えば、バインダーとしてアクリル樹脂などの透明樹脂成分を下地材に含んでいてもよい。
【００５５】
別の態様として、本発明の位相差フィルムは、基材層を有さない光学異方性層で構成されていてもよい。その場合、位相差フィルムは、転写用フィルムとして用いてもよい。転写用フィルムとして用いる場合、支持体の上に位相差フィルムを形成し、その後表面に粘着層を備える被転写物と位相差フィルムの光学異方性層とを貼り合わせ、支持体を光学異方性層から剥離することにより転写することができる。また、位相差フィルムは、光学異方性層の上に粘着層を備えていてもよく、その場合には、被転写物と光学異方性層上の粘着層とを貼り合わせ、支持体を光学異方性層から剥離することにより転写することができる。
【００５６】
支持体としては、例えば、汎用ポリエステルフィルムやトリアセチルセルロースフィルムなどの、光学異方性層との密着性が低い材料からなる剥離性支持体であってもよい。剥離性支持体の場合、支持体自体の光学特性は考慮しなくてもよく、不透明な基材を用いてもよい。
【００５７】
（位相差フィルムの製造方法）
本発明の位相差フィルムの製造方法は、
液晶性高分子を形成可能な材料と架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性材料を基材に塗布して液晶性高分子を含む膜を形成する膜形成工程と、
前記膜中の液晶性高分子を配向させる配向制御工程と、を含む。
【００５８】
［膜形成工程］
膜形成工程では、液晶性高分子を形成可能な材料と架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性材料を溶媒に溶解した溶液を用いて基材上に製膜してもよい。
【００５９】
液晶性高分子を形成可能な材料は、上述の感光性基を有し、かつ液晶構造を形成可能である側鎖構造を有する液晶性高分子を含んでいてもよく、反応により液晶性高分子を形成可能である２種以上の化合物を含んでいてもよい。
【００６０】
光学異方性材料の溶液には、液晶性高分子を形成可能な材料ならびに架橋性化合物および／または柔軟性化合物以外に、液晶性高分子の側鎖の配向性を促進するために低分子化合物を含んでいてもよく、また、製膜性を高めるために配向性を損なわない程度に各種添加剤を含んでいてもよい。
【００６１】
液晶性高分子を形成可能な材料と架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを含む光学異方性材料を溶解させる溶媒としては、液晶性高分子を形成可能な材料と架橋性化合物および／または柔軟性化合物とを溶解させることが可能である範囲で適当な溶媒を選択してもよい。例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ｄｉｇｌｙｍｅ）、エチレングリコールジメチルエーテル、１，３−ジオキソラン、２−メチルテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート等の炭酸エステル系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ヘキサメチルリン酸アミド（ＨＭＰＡ）等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の含硫黄系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒のうち、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等を好適に用いることができる。これらの溶媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用してもよい。
【００６２】
溶液における光学異方性材料の濃度は、塗膜の形成に用い得るかぎり特に限定されないが、例えば、５〜５０重量％であってもよく、好ましくは８〜４０重量％、より好ましくは１０〜２５重量％であってもよい。
【００６３】
膜形成工程では、光学異方性材料を溶解した塗布液を塗布する基材としては、塗布液の溶媒種により大きなダメージを受けなければ、特に限定されることはなく、上述の種々の高分子フィルム等の有機材料、ガラス、石英等の無機材料および汎用ポリエステルフィルム、トリアセチルセルロースフィルム等の支持体の中から適宜選択して用いられる。
【００６４】
位相差フィルムとして、基材に光学異方性材料の膜を形成して基材層と光学異方性層との積層体を用いる場合、基材と光学異方性材料との密着性を向上させるため、光学異方性材料の溶液の塗布前に、基材の表面に、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射等の表面改質、下地剤の塗工処理、またはこれらを組み合わせた処理等の表面処理を行ってもよい。
【００６５】
光学異方性材料の溶液の基材への塗布方法としては、例えば、グラビアコーティング、フレキソコーティング、ダイコーティング、バーコーティング、スリットコーティング、スピンコーティング、キャスト等の公知の塗布方法で行うことができる。基材へ塗布する塗膜の厚さは、乾燥後の厚さで、０．１〜１０μｍであってもよく、好ましくは０．３〜９μｍ、より好ましくは０．５〜８μｍであってもよい。
【００６６】
光学異方性材料中に架橋性化合物を含む場合には、塗布前の溶液中で架橋反応の進行を抑制する観点から、溶液調製後、溶液を放置することなくすぐに塗布してもよい。
【００６７】
液晶性高分子を形成可能な材料が反応により液晶性高分子を形成可能である２種以上の化合物を含んでいる場合には、製膜後に液晶性高分子を形成する反応をさせる工程を含んでいてもよい。液晶性高分子を形成可能である２種以上の化合物とは、例えば、縮合反応により感光性基および／または液晶構造を形成可能な側鎖構造を有する高分子化合物と、当該側鎖構造と縮合反応可能な縮合性基を有する低分子化合物との混合物であってもよい。
【００６８】
例えば、縮合反応により感光性基および液晶構造を形成可能な側鎖構造を有する高分子化合物と、当該側鎖構造と縮合反応可能な縮合性基を有する低分子化合物として、側鎖末端にベンゼン環のパラ位にホルミル基を有している高分子化合物と、アニリンまたは置換基を有するアニリン（低分子化合物）とを縮合反応させることにより、上記式（３）で、Ｙが−ＣＨ＝Ｎ−である場合の液晶性高分子が形成される。この場合、縮合反応により側鎖構造にはベンジリデンアニリン基が形成されており、ベンジリデンアニリン基は、その炭素−窒素二重結合が光異性化反応性を有している感光性基であるとともに、剛直な分子構造を有し、液晶性を発現するのに有効なメソゲン基でもある。
【００６９】
このような縮合反応の条件は、化合物の種類に応じて適宜設定することができる。縮合反応は、常温下で行われてもよいし、加熱下で行われてもよい。加熱する場合、縮合反応を促進することができる。加熱温度は、各化合物の沸点または昇華点以下に設定することが好ましい。また、縮合反応の時間は、化合物の種類や、加熱などの反応条件に応じて適宜設定することができる。例えば、所定の温度で加熱した場合、縮合反応の時間は、例えば１〜６０分の範囲で行ってもよく、好ましくは３〜４０分程度、より好ましくは５〜２０分程度であってもよい。
【００７０】
［配向制御工程］
配向制御工程では、塗膜中の液晶性高分子の配向性、特に側鎖の配向性を制御することにより、特定の光学的異方性を有するフィルムを形成する。
配向制御工程には、膜形成工程において基材へ塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程を含んでいてもよい。また、配向制御工程は、塗膜に直線偏光成分を含む光を照射する偏光照射工程を含んでいてもよい。また、配向制御工程は、膜を加熱する加熱工程を含んでいてもよい。好ましくは、配向制御工程は、前記膜形成工程で基材へ塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥工程後の膜に直線偏光成分を含む光を照射する偏光照射工程と、前記照射工程後の膜を加熱する加熱工程と、を含んでいてもよい。
【００７１】
［乾燥工程］
乾燥工程では、膜形成工程で基材へ塗布した塗膜を加熱することにより乾燥させてもよく、常温で放置することにより乾燥させてもよい。溶媒を含んだ状態の塗膜の乾燥において、加熱温度および溶媒の蒸発速度を制御することにより、分子の運動性や配向性を制御することができ、例えば、膜の法線方向に分子配向させることができる。これにより、その後の偏光照射工程や加熱工程における分子の配向性制御を効果的に行うことができる。乾燥工程の温度条件は、溶媒の種類や溶液の濃度等により適宜設定することができるが、低温で行うことで分子の運動性をある程度抑制し、配向性を制御することが可能であり、例えば、１５〜６０℃の温度範囲であってもよく、好ましくは２０〜５５℃、より好ましくは２５〜５０℃であってもよい。また、乾燥工程の時間は、１〜３０分の範囲で行ってもよく、好ましくは３〜２５分、より好ましくは５〜２０分で行ってもよい。
【００７２】
［偏光照射工程］
偏光照射工程では、膜形成工程で形成された膜に直線偏光成分を含む光（例えば、直線偏光性の照射線）が照射されてもよい。上記膜に直線偏光成分を含む光を照射すると、偏光軸方向に対応して、液晶性高分子の選択的な光反応が生じ、分子の配向性が誘起される。
【００７３】
偏光照射工程で照射する光は、赤外線、可視光線、紫外線（例えば、近紫外線、遠紫外線等）、Ｘ線、荷電粒子線（例えば、電子線等）等、液晶性高分子の感光性基が反応し得る波長の光であれば特に限定されず、液晶性高分子の側鎖構造の種類によっても異なるが、光の波長は、一般に２００〜５００ｎｍであってもよい。例えば、液晶性高分子が光二量化反応を生じる側鎖構造（例えば、シンナモイル基、桂皮酸基等）を有している場合には、光二量化反応による光架橋を有効に生じさせる観点から、光の波長は、２５０〜４００ｎｍであってもよい。光源としては、例えば高圧水銀灯を用いてもよく、グランテーラープリズムを介して直線偏光に偏光変換してもよい。また、光の照射量は、例えば１０〜４００ｍＪ／ｃｍ２であってもよく、好ましくは５０〜３５０ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００〜３００ｍＪ／ｃｍ２であってもよい。
【００７４】
偏光照射工程では、上記膜に対して、その法線方向または法線から傾斜した方向から光を照射してもよい。
【００７５】
［加熱工程］
加熱工程では、偏光照射工程後、光を照射した膜を加熱してもよい。偏光照射工程で照射された偏光の照射方向と振動方向に依存して分子配向が誘起され、未配向の分子も配向した分子に従ってある程度配向するが、その後の加熱により液晶性高分子が分子運動を行うことが可能となり、未配向分子の配向をさらに促進することができる。
【００７６】
加熱工程での加熱温度は、膜中の液晶性高分子が分子運動によって光反応を起こした側鎖に沿って未配向分子の配向が誘起される限り特に限定されないが、膜自体を形成する材料（液晶性高分子）の液晶相転移温度以上であり、等方相転移温度以下に設定することが好ましい。例えば、５０〜２００℃であってもよく、好ましくは６０〜１８０℃、より好ましくは８０〜１６０℃であってもよい。
【００７７】
また、加熱時間は、膜中の液晶性高分子が分子運動によって光反応を起こした側鎖に沿って未配向分子の配向が誘起される限り特に限定されないが、液晶性高分子の種類や、加熱温度などに応じて適宜設定することができ、例えば１分以上で行ってもよく、好ましくは３分以上、より好ましくは５分以上であってもよい。上限は特に限定されないが、経済性の観点から、６０分程度（好ましくは４０分程度、より好ましくは２０分程度）であってもよい。
【００７８】
配向制御工程は、偏光照射工程および加熱工程後の膜に非偏光を照射する非偏光照射工程を含んでいてもよい。非偏光の照射により、膜中の液晶性高分子の光反応を促進し、上記工程で形成された分子の配向性を安定化（固定）することができる。非偏光照射工程で照射する光は、誘起された分子配向を固定することができる限り特に限定されず、上記偏光照射工程で例示した各種光を用いることができる。光の照射量は、例えば１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であってもよく、好ましくは３００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよい。
【００７９】
光学異方性材料に架橋性化合物を含む場合には、例えば、膜形成工程および／または配向制御工程において、液晶性高分子と架橋反応をさせる架橋工程を含んでいてもよい。架橋工程では、光学異方性材料を加熱してもよく、加熱温度は架橋反応が進行する温度であれば特に限定されず、例えば、４０〜２００℃であってもよく、好ましくは５０〜１８０℃、より好ましくは６０〜１５０℃であってもよい。また、架橋工程の時間は、例えば１〜６０分の範囲で行ってもよく、好ましくは３〜４０分、より好ましくは５〜２０分であってもよい。架橋工程は、例えば、上述の乾燥工程および／または加熱工程で行われてもよい。光学特性の制御の観点からは、偏光照射工程により分子配向が誘起された状態で光学特性の制御に影響を抑制できる加熱工程で架橋させてもよい。
【００８０】
（位相差フィルム）
本発明の位相差フィルムは、厚さが薄くても位相差フィルムとしての光学特性を発揮でき、例えば、光学異方性層の厚さが、０．１〜１０μｍであってもよく、好ましくは０．３〜９μｍ、より好ましくは０．５〜８μｍであってもよい。
【００８１】
本発明の位相差フィルムは、上述の位相差フィルムの製造方法における配向制御工程の態様により、所望の光学特性を発現させることが可能である。光学特性としては、例えば、リタデーション値（例えば、面内のリタデーション値：Ｒｅ）、Ｎｚ係数等が挙げられる。これらの光学特性の下記に示す範囲は、光学異方性層のみの測定値の範囲であってもよく、光学異方性層および基材層を含む積層体の測定値の範囲であってもよい。
【００８２】
面内のリタデーション値（Ｒｅ）とは、フィルム上の直交する二軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）の異方性（△Ｎｘｙ＝｜ｎｘ−ｎｙ｜）とフィルム厚さｄ（ｎｍ）との積（△Ｎｘｙ×ｄ）で定義されるパラメータであり、光学的等方性、異方性を示す尺度である。本発明の位相差フィルムは、面内のリタデーション値（Ｒｅ）が、例えば、１〜６００ｎｍであってもよく、好ましくは３〜５００ｎｍ、より好ましくは５〜４００ｎｍであってもよい。なお、面内のリタデーション値（Ｒｅ）は、波長５５０ｎｍの光に対する測定値であってもよい。
【００８３】
本発明の位相差フィルムは、耐クラック性が良好である。耐クラック性は、例えば、位相差フィルムを５ｍｍφのロッドに巻き付けたときに発生するクラック抑制の可否で評価してもよく、または、位相差フィルムを支持体から剥離する際に発生するクラック抑制の可否で評価してもよい。本発明において、クラックの発生が抑制されているとは、位相差フィルムを目視、または偏光顕微鏡により観察したときにひび割れが生じていないことをいう。
【実施例】
【００８４】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は本実施例により何ら限定されるものではない。【００８５】
（単量体１）
ｐ−クマル酸と６−クロロ−１−ヘキサノールを、アルカリ条件下で加熱することにより、４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）桂皮酸を合成した。この生成物にｐ−トルエンスルホン酸の存在下でメタクリル酸を大過剰加えてエステル化反応させ、下記化学式に示される単量体１を合成した。【００８６】
【化７】
2020026632.tif 000008
【００８７】
（単量体２）
４−ヒドロキシ安息香酸と６−クロロ−１−ヘキサノールを、アルカリ条件下で加熱することにより、４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸を合成した。次いでこの生成物にｐ−トルエンスルホン酸の存在下でメタクリル酸を大過剰加えてエステル化反応させ、下記化学式に示される単量体２を合成した。【００８８】
【化８】
2020026632.tif 000009
【００８９】
（共重合体１）
単量体１と単量体２のモル比が単量体１：単量体２＝３：７となるように単量体１と単量体２をジオキサン中に溶解し、反応開始剤としてＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）を添加して、７０℃で２４時間重合することにより共重合体１を得た。この共重合体１は液晶性を呈した。【００９０】
（共重合体２）
単量体１、単量体２、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）のモル比が単量体１：単量体２：ＨＥＭＡ＝３：７：１となるように単量体１、単量体２、ＨＥＭＡをジオキサン中に溶解し、反応開始剤としてＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）を添加して、７０℃で２４時間重合することにより共重合体２を得た。この共重合体２は液晶性を呈した。【００９１】
以下の実施例及び比較例において、基材としてはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを用いた。得られたフィルムの光学特性（リタデーション値Ｒｅ、Ｎｚ係数）は複屈折測定装置（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製、ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、厚さは膜厚計（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製、Ｆ２０）を用いて測定した。【００９２】
（実施例１）
共重合体１とポリイソシアネート（旭化成株式会社製、デュラネートＴＫＡ−１００）を重量比１００：０．３でＴＨＦに溶解し、濃度２０重量％の溶液を作製した。この溶液を基材上にスピンコーターを用いて塗膜を製膜し、乾燥させた。乾燥後の塗膜に、高圧水銀灯からの紫外線を、グランテーラープリズムを用いて偏光に変換し、法線方向から照射した（照射量２７０ｍＪ／ｃｍ２）。偏光照射後の膜を、１３５℃に設定した恒温槽に入れて加熱し、８分間かけて１００℃まで降温した後に、恒温槽から取り出した。次いで、高圧水銀灯からの紫外線を、偏光変換することなく、塗膜に照射した（照射量８００ｍＪ／ｃｍ２）。【００９３】
得られた位相差フィルムの光学異方性層と、粘着剤を備えたガラス基板の粘着剤とを貼り合わせ、ＴＡＣ基材を剥離することにより、ガラス基板上に転写を行った。転写後、ガラス基板上の光学異方性層はクラックが抑制されていることを確認した。
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ≒３１０ｎｍ、Ｎｚ係数≒０．４２であり（ガラス基板を含めた測定値）、光学異方性層の厚さは４．２μｍであった。【００９４】
（実施例２）
ＴＡＣ基材の表面にポリイソシアネート（東ソー株式会社製、コロネートＬ−５５Ｅ）とアクリル系バインダーからなる下地剤を用いて表面処理を行った。表面処理した基材を用いた以外は、実施例１と同様にして基材上に光学異方性層を形成し、位相差フィルムを作製した。【００９５】
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ≒２３５ｎｍ、Ｎｚ係数≒０．７８であり（基材を含めた測定値）、光学異方性層の厚さは３．７μｍであった。
作製した位相差フィルムを、光学異方性層を外側にして５ｍｍφのロッドに巻き付けたが、光学異方性層にクラックが発生しないことを確認した。【００９６】
（実施例３）
共重合体１とポリエチレングリコール２０００（ナカライテスク株式会社製、平均分子量１８５０〜２１５０）を重量比９０：１０でＴＨＦに溶解し、濃度２０重量％の溶液を作製した。この溶液を基材上にスピンコーターを用いて塗膜を製膜し、乾燥させた。乾燥後の塗膜に、高圧水銀灯からの紫外線を、グランテーラープリズムを用いて偏光に変換し、法線方向から照射した（照射量２７０ｍＪ／ｃｍ２）。偏光照射後の膜を、１３５℃に設定した恒温槽に入れて加熱し、８分間かけて１００℃まで降温した後に、恒温槽から取り出した。次いで、高圧水銀灯からの紫外線を、偏光変換することなく、塗膜に照射した（照射量８００ｍＪ／ｃｍ２）。【００９７】
得られた位相差フィルムの光学異方性層と、粘着剤を備えたガラス基板の粘着剤とを貼り合わせ、ＴＡＣ基材を剥離することにより、ガラス基板上に転写を行った。転写後、ガラス基板上の光学異方性層はクラックが抑制されていることを確認した。
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ＝１３０．９ｎｍ、Ｎｚ係数＝０．２３であり（ガラス基板を含めた測定値）、光学異方性層の厚さは２．８μｍであった。【００９８】
（実施例４）
ＴＡＣ基材の表面にポリイソシアネート（東ソー株式会社製、コロネートＬ−５５Ｅ）とアクリル系バインダーからなる下地剤を用いて表面処理を行った。表面処理した基材を用いた以外は、実施例３と同様にして基材上に光学異方性層を形成し、位相差フィルムを作製した。【００９９】
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ＝１２９．７ｎｍ、Ｎｚ係数＝０．５９であり（基材を含めた測定値）、光学異方性層の厚さは２．８μｍであった。
作製した位相差フィルムを、光学異方性層を外側にして５ｍｍφのロッドに巻き付けたが、光学異方性層にクラックが発生しないことを確認した。【０１００】
（実施例５）
共重合体２とポリイソシアネート（旭化成株式会社製、デュラネートＴＫＡ−１００）を重量比１００：０．３でＴＨＦに溶解し、濃度２０重量％の溶液を作製した。この溶液を基材上にスピンコーターを用いて塗膜を製膜し、乾燥させた。乾燥後の塗膜に、高圧水銀灯からの紫外線を、グランテーラープリズムを用いて偏光に変換し、法線方向から照射した（照射量２７０ｍＪ／ｃｍ２）。偏光照射後の膜を、１３５℃に設定した恒温槽に入れて加熱し、８分間かけて１００℃まで降温した後に、恒温槽から取り出した。次いで、高圧水銀灯からの紫外線を、偏光変換することなく、塗膜に照射した（照射量８００ｍＪ／ｃｍ２）。【０１０１】
得られた位相差フィルムの光学異方性層と、粘着剤を備えたガラス基板の粘着剤とを貼り合わせ、ＴＡＣ基材を剥離することにより、ガラス基板上に転写を行った。転写後、ガラス基板上の光学異方性層はクラックが抑制されていることを確認した。
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ≒２８０ｎｍ、Ｎｚ係数≒０．３９であり（ガラス基板を含めた測定値）、光学異方性層の厚さは３．９μｍであった。【０１０２】
（比較例１）
共重合体１をＴＨＦに溶解し、濃度２０重量％の溶液を作製した。この溶液を基材上にスピンコーターを用いて塗膜を製膜し、乾燥させた。乾燥後の塗膜に、高圧水銀灯からの紫外線を、グランテーラープリズムを用いて偏光に変換し、法線方向から照射した（照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）。偏光照射後の膜を、１３５℃に設定した恒温槽に入れて加熱し、８分間かけて１００℃まで降温した後に、恒温槽から取り出した。次いで、高圧水銀灯からの紫外線を、偏光変換することなく、塗膜に照射した（照射量８００ｍＪ／ｃｍ２）。【０１０３】
得られた位相差フィルムの光学異方性層と、粘着剤を備えたガラス基板の粘着剤とを貼り合わせ、ＴＡＣ基材を剥離することにより、ガラス基板上に転写を行った。転写後、ガラス基板上の光学異方性層はクラックが著しく発生していた。
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ≒１９５ｎｍ、Ｎｚ係数≒０．４５であり、光学異方性層の厚さは４．６μｍであった。【０１０４】
（比較例２）
ＴＡＣ基材の表面にポリイソシアネート（東ソー株式会社製、コロネートＬ−５５Ｅ）とアクリル系バインダーからなる下地剤を用いて表面処理を行った。表面処理した基材を用いた以外は、比較例１と同様にして基材上に光学異方性層を形成し、位相差フィルムを作製した。【０１０５】
このように作製された位相差フィルムは、光学特性が、Ｒｅ≒２５５ｎｍ、Ｎｚ係数≒０．６０であり（基材を含めた測定値）、光学異方性層の厚さは３．４μｍであった。
作製した位相差フィルムを、光学異方性層を外側にして５ｍｍφのロッドに巻き付けると、光学異方性層にクラックが発生した。【０１０６】
実施例１〜５の位相差フィルムは、架橋性化合物または柔軟性化合物を液晶性高分子とともに光学異方性層に含有させたため、形状を変形させたとしてもクラックが発生せず、光学異方性層の転写時にもクラックの発生を抑制することができていた。そのため、実施例１〜５の位相差フィルムは、加工性が良好であり、転写用フィルムとしても使用することを確認できた。【０１０７】
一方、比較例１および２の位相差フィルムは、形状を変形させるとクラックが発生してしまうだけでなく、光学異方性層の転写時にもクラックが発生してしまい、フィルム形成後の加工の困難なものであった。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明によれば、液晶性高分子を用いた位相差フィルムにおいて、加工性が改善された位相差フィルムを提供することができ、基材からの転写時のクラックを抑制し、転写用フィルムとして用いられる位相差フィルムを提供することができる。このような位相差フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置へ利用される光学補償フィルム等の用途で用いることができる。【０１０９】
以上のとおり、本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の追加、変更または削除が可能であり、そのようなものも本発明の範囲内に含まれる。
【国際調査報告】
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