(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス粉末６０〜９５重量％、酸化チタン粉末５〜４０重量％の組成を有し、且つ酸化チタン粉末は、５０％粒子径Ｄ50が０．１〜２μｍ、最大粒子径ＤMAXが１〜１０μｍの粒度分布を有することを特徴とするプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料。
【請求項２】
ガラス粉末が、重量百分率でＰｂＯ  ５０〜７５％、Ｂ2Ｏ3  ２〜３０％、ＳｉＯ2  ２〜３５％、ＺｎＯ  ０〜２０％の組成を有することを特徴とする請求項１のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料。
【請求項３】
ガラス粉末が、重量百分率でＰｂＯ  ３０〜５５％、Ｂ2Ｏ3  １０〜４０％、ＳｉＯ2  １〜１５％、ＺｎＯ  ０〜３０％、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2Ｏ3  ０〜３０％の組成を有することを特徴とする請求項１のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料。
【請求項４】
ガラス粉末が、重量百分率でＺｎＯ  ２５〜４５％、Ｂｉ2Ｏ3  １５〜３５％、Ｂ2Ｏ3  １０〜３０％、ＳｉＯ2  ０．５〜８％、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ８〜２４％の組成を有することを特徴とする請求項１のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料。
【請求項５】
軟化点より１０℃高い温度で焼成したときに形成されるガラス膜は、分光光度計を用いて測定された反射率が膜厚１５μｍで、波長４６０ｎｍにおいて６０％以上、波長５５０ｎｍにおいて５５％以上、及び波長６２０ｎｍにおいて５０％以上であることを特徴とする請求項１〜４のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料。
【請求項６】
背面ガラス板のアドレス電極上に形成されるアドレス電極保護用誘電体層材料として使用されることを特徴とする請求項１〜５のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、プラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレーパネルの背面ガラス板には、プラズマ放電の位置を定るためのアドレス電極が形成され、その上には電極保護用の誘電体層が形成されている。この誘電体層は、ガラス粉末を含む誘電体材料をアドレス電極上に塗布し、焼成することにより形成される。
【０００３】
誘電体層上には、放電のセルを仕切るためにバリアリブが形成され、またセル内には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体が塗布されており、プラズマ放電を起こして紫外線を発生させることにより、蛍光体が刺激されて発光する仕組みになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところでアドレス電極保護用の誘電体層には、５００〜６００℃の焼成で形成できることや高い耐電圧を有することが必要であるが、最近、デバイスの性能を高めるために輝度を上げる努力がなされており、このため誘電体材料についても、輝度の向上に寄与する材料の開発が求められている。
【０００５】
本発明の目的は、輝度向上に寄与し、アドレス電極保護用として好適な誘電体層を形成できるプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は種々の実験を行った結果、上記目的を達成するためには誘電体層の反射率を上げればよいこと、及びそのためには誘電体形成材料中に酸化チタン粉末を特定量添加し、且つ酸化チタン粉末の粒度分布を所定範囲に規制すればよいことを見いだし、本発明として提案するものである。
【０００７】
即ち、本発明のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料は、ガラス粉末６０〜９５重量％、酸化チタン粉末５〜４０重量％の組成を有し、且つ酸化チタン粉末は、５０％粒子径Ｄ50が０．１〜２μｍ、最大粒子径ＤMAXが１〜１０μｍの粒度分布を有することを特徴とする。
【０００８】
【作用】
本発明のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成用材料は、ガラス粉末と酸化チタン粉末を主成分として含有する。
【０００９】
ガラス粉末は、高い耐電圧を有する誘電体層を形成するための基本材料であり、その含有量は６０〜９５重量％、好ましくは６５〜９０重量％である。ガラス粉末が６０重量％より少なくなると焼結性が低下し、緻密な焼結体とならず高い耐電圧を有する誘電体層が得られなくなる。一方、９５重量％より多くなると相対的に酸化チタン粉末が少なくなるために十分な反射率を有する誘電体層が得られなくなる。ガラス粉末としては、重量百分率でＰｂＯ  ５０〜７５％（好ましくは５５〜７０％）、Ｂ2 Ｏ3   ２〜３０％（好ましくは５〜２５％）、ＳｉＯ2   ２〜３５％（好ましくは３〜３１％）、ＺｎＯ  ０〜２０％（好ましくは０〜１０％）の組成を有するガラスや、重量百分率でＰｂＯ  ３０〜５５％（好ましくは４０〜５０％）、Ｂ2 Ｏ3   １０〜４０％（好ましくは１５〜３５％）、ＳｉＯ2   １〜１５％（好ましくは２〜１０％）、ＺｎＯ  ０〜３０％（好ましくは１０〜３０％）、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2 Ｏ3   ０〜３０％（好ましくは３〜２０％）の組成を有するガラスや、重量百分率でＺｎＯ  ２５〜４５％（好ましくは３０〜４０％）、Ｂｉ2 Ｏ3   １５〜３５％（好ましくは２０〜３０％）、Ｂ2 Ｏ3   １０〜３０％（好ましくは１７〜２５％）、ＳｉＯ2   ０．５〜８％（好ましくは３〜７％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ８〜２４％（好ましくは１０〜２０％）の組成を有するガラスが、５００〜６００℃の焼成で良好な流動性を示し、また絶縁特性に優れるとともに安定であるために好適である。
【００１０】
酸化チタン粉末は、白色度が高いために誘電体層の反射率を飛躍的に高める効果があり、その含有量は５〜４０％、好ましくは１０〜４０％である。酸化チタン粉末が５％より少ないと高い反射率を有する誘電体層を形成することができず、４０％より多くなると焼結性が低下してしまう。なお酸化チタンには、白色度は高いが誘電率も高いルチル型と、白色度はルチル型よりいくらか劣るものの誘電率の低いアナターゼ型の２種類があるが、高い耐電圧が求められる本用途においては、両者の比率は重量比で０：１００〜８０：２０の範囲になるようにすることが好ましい。
【００１１】
また酸化チタン粉末は、粒径が細かいほど光が散乱して反射率が高くなるため、本発明のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料において、酸化チタン粉末の５０％粒子径Ｄ50は０．１〜２μｍ、最大粒子径ＤMAXは１〜１０μｍである。なお５０％粒子径Ｄ50が０．１μｍより小さい場合や最大粒子径ＤMAXが１μｍより小さい場合は、可視光の波長よりも粒子径が小さくなって透過率が高くなる結果、反射率が低下し易くなるため好ましくない。
【００１２】
本発明の材料は、上記成分以外にも反射率を高める目的で白色のセラミック粉末を４０重量％以下、好ましくは３５％以下添加することができる。このようなセラミック粉末として酸化ジルコニウム、ジルコン、アルミナ、酸化亜鉛等を単独或いは混合して使用することができる。しかしながらセラミック粉末が４０重量％より多くなると焼結が不十分となり、高い耐電圧を有する安定な誘電体層が得難くなる。なおこれらセラミック粉末は、５０％粒子径Ｄ50が５μｍ以下、最大粒子径ＤMAX が２０μｍ以下の粒度分布を有するものを使用することが望ましい。
【００１３】
また本発明の材料は、軟化点より１０℃高い温度で焼成してガラス膜としたときに、分光光度計で積分球を用いて測定した反射率が膜厚１５μｍで、波長４６０ｎｍ（青）において６０％以上、波長５５０ｎｍ（緑）において５５％以上、及び波長６２０ｎｍ（赤）において５０％以上となるようにすることが好ましい。これらの条件を満たすガラス膜となるように調整することにより、誘電体層として使用した場合にデバイスの輝度を大きく向上させることができる。
【００１４】
なお本発明の材料を用いてアドレス電極保護用誘電体層を形成するには、アドレス電極が形成された背面ガラス板上に、バインダー及び有機溶剤と混練してペースト状にした材料をスクリーン印刷したり、熱可塑性樹脂や可塑剤を添加してグリーンシート状に成型した材料を熱圧着した後に、５００〜６００℃で焼成すればよい。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明のプラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００１６】
表１は本実施例で使用するガラス粉末（試料Ａ〜Ｄ）を示している。
【００１７】
【表１】
0003845973.tif 000002
【００１８】
各ガラス粉末は以下のようにして作製した。まず表に示す酸化物組成となるようにガラス原料を調合し、均一に混合した後、白金ルツボに入れ、１２５０℃で２時間溶融し、成形した。次に得られたガラス粉末をアルミナボールミルで粉砕し、目開き５３μｍの篩で分級してガラス粉末を得た。
【００１９】
表２及び３は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜８）及び比較例（試料Ｎｏ．９、１０）を示している。
【００２０】
【表２】
0003845973.tif 000003
【００２１】
【表３】
0003845973.tif 000004
【００２２】
Ｎｏ．１〜１０の各試料は以下のようにして作製した。
【００２３】
まず上記ガラス粉末、酸化チタン粉末、セラミック粉末を表の割合で混合し、エチルセルロースのターピネオール溶液と混練してペーストにした。なお酸化チタン粉末は、表に示す粒度分布を有するものを使用し、その他のセラミック粉末は、５０％粒子径Ｄ50が２μｍ以下及び最大粒子径ＤMAX が１０μｍ以下のものを使用した。次いでスクリーン印刷法にてガラス板上にペーストを塗布した後、表に示す温度で１０分間焼成し、膜厚１５μｍのガラス膜を得た。なお酸化チタン粉末及びその他のセラミック粉末の５０％粒子径Ｄ50及び最大粒子径ＤMAX は、日機装株式会社製のレーザー回折式粒度分布計「マイクロトラックＳＰＡ」を用いて測定したものである。
【００２４】
こうして得られた各試料について、４６０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６２０ｎｍにおけるガラス膜の反射率について評価した。結果を表に示す。
【００２５】
表から明らかなように、本発明の実施例であるＮｏ．１〜８の試料は、ガラス膜の反射率が４６０ｎｍにおいて５８％以上、５５０ｎｍにおいて５５％以上、６２０ｎｍにおいて５０％以上であった。これに対して比較例である試料Ｎｏ．９及び１０は、ガラス膜の反射率が４６０ｎｍにおいて５０％以下、５５０ｎｍにおいて４５％以下、６２０ｎｍにおいて４０％以下と低かった。
【００２６】
なおガラス膜の反射率は、分光光度計で積分球を使用して測定した。
【００２７】
【発明の効果】
以上のように本発明の誘電体形成材料は、反射率の高いガラス膜を形成することができるため、デバイスの輝度向上に寄与することができる。それゆえ、プラズマディスプレーパネルのアドレス電極保護用誘電体層材料として好適である。