(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（I）
【化１】
0003775692.tif 000008
式中、Ｒ1が炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、各々の場合に炭素原子２〜６個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニルを表わすか、各々の場合にアルキルまたはアルケニル基中に炭素原子５個までを有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルコキシ、アルケニルオキシ、またはジアルキルアミノを表わすか、各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルで置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルオキシまたはシクロアルキルアルキルを表わすか、或いはアルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ及び/またはＣ1〜Ｃ4−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、フェニルアルキルまたはナフチルアルキルを表わし、Ｒ2が水素またはハロゲンを表わすか、炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、各々の場合に炭素原子２〜６個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニルを表わすか、各々の場合に炭素原子５個までを有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルで置換されていてもよいアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはジアルキルアミノを表わすか、各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル基中に炭素原子１〜４個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルで置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキルアルキルまたはシクロアルケニルアルキルを表わすか、或いは各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ及び/またはＣ1〜Ｃ4−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、フェノキシ、ナフチルオキシ、フェニルチオ、ナフチルチオ、フェニルメチル、フェニルエチル、フェニルメトキシ、ナフチルメトキシ、フェニルエトキシ、ナフチルエトキシ、フェニルメチルチオ、ナフチルメチルチオ、フェニルエチルチオ、ナフチルエチルチオ、を表わし、そしてＲ3が炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、シクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル基中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル及び/またはＣ1〜Ｃ4−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいシクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルを表わすか、或いは各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシーＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシーＣ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキルスルホニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ3−アルキル）−アミノスルホニル、Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシ）−Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ3−アルキル）−アミノスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ4−ハロゲノアルコキシカルボニル、ジー（Ｃ1〜Ｃ3−アルキル）―アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ2−アルコキシーＣ1〜Ｃ2−アルコキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル−メチル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキルカルボニル、フェニルまたはフェノキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル、ピリジル、フェニルメチル、ピリジルエチル、キノリル、キノリルメチル、チエニル、チエニルメチル、ピラゾリルまたはピラゾリルメチルを表わす、
のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンを製造する際に、一般式（II）
【化２】
0003775692.tif 000009
式中、R1及びR2は上記の意味を有する、のトリアゾリノンを随時反応補助剤の存在下及び随時希釈剤の存在下にて２０乃至１５０℃間の温度で一般式（III）
R3−SO2−X          （III）
式中R3は上記の意味を有し、そしてXはハロゲンを表す、のスルホニルハロゲン化物及び一般式（IV）
MOCN  （IV）
式中、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を表す、の金属シアン酸塩と反応させることを特徴とする一般式（I）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの製造方法。
【請求項２】
R1が各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エトキシ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピルまたはｎ―、ｉ―、ｓ−またはｔ−ブチルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素及び/または臭素で置換されていてもよいプロペニル、ブテニル、プロピニルまたはブチニルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素及び/または臭素で置換されていてもよいメトキシ、エトキシ、ｎ―またはｉ―プロポキシ、ｎ―、ｉ―、ｓ−またはｔ−ブトキシ、プロペニルオキシまたはブテニルオキシを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル、エチルまたはｎ―またはｉ―プロピルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロへキシルオキシ、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルメチルまたはシクロヘキシルエチルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ及び/またはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェニル、ベンジルまたはフェニルエチルを表わし、R2が水素、フッ素、塩素または臭素を表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エトキシ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピルまたはｎ―、ｉ―、ｓ−またはｔ−ブチルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素及び/または臭素で置換されていてもよいプロペニル、ブテニル、プロピニルまたはブチニルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素及び/または臭素で置換されていてもよいメトキシ、エトキシ、ｎ―またはｉ―プロポキシ、ｎ―、ｉ―、ｓ−またはｔ−ブトキシ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、メチルチオ、エチルチオ、ｎ―またはｉ―プロピロチオ、ｎ―、ｉ―、ｓ−またはｔ−ブチルチオ、プロペニルチオ、ブテニルチオ、プルピニルチオ、ブチニルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル、エチルまたはｎ―またはｉ―プロピルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンテニル、シクロへキセニル、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロへキシルオキシ、シクロペンテニルオキシ、シクロへキセニルオキシ、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロへキシルチオ、シクロペンテニルチオ、シクロへキセニルチオ、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロへキシルメチル、シクロへキシルエチル、シクロペンテニルメチルまたはシクロへキセニルメチルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ及び/またはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルメチル、フェニルメトキシまたはフェニルメチルチオを表わし、R3が各々が随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エトキシ、ｎ―またはｉ―プロポキシ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピルまたはｎ―、ｉ―、ｓ−またはｔ−ブチルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、カルボキシル、メチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピル、メトキシカルボニル及び/またはエトキシカルボニルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロへキシルメチルまたはシクロへキシルエチルを表わすか、各々の場合、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、カルボキシル、ニトロ、カルバモイル、メチル、エチル、ｎ―またはｉ―プロピル、フルオロメチル、クロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、フルオロエチル、クロロエチル、ジフルオロエチル、ジクロロエチル、トリフルオロエチル、テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、フルオロプロピル、クロロプロピル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、トリフルオロプロピル、トリクロロプロピル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシ、エトキシ、ｎ―またはｉ―プロポキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロエトキシ、トリフルオロエトキシ、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ｎ―またはｉ―プロピルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、トリフルオロメチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、N−メトキシーN―メチルアミノスルホニル、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、フルオロエトキシカルボニル、クロロエトキシカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、エトキシエトキシカルボニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロへキシルカルボニル、フェニルまたはフェノキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル、ピリジル、ピリジルメチル、ピリジルエチル、キノリル、キノリルメチル、チエニル、チエニルメチル、ピラゾリルまたはピラゾリルメチルを表わす、請求項１に記載の式（I）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの製造方法。
【請求項３】
２０乃至１２０℃間の温度を用いることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
式（IV）の金属シアン酸塩としてシアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸マグネシウムまたはシアン酸カルシウムを用いることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
反応補助剤として有機窒素塩基を用いることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
希釈剤として不活性有機溶媒を用いることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は除草剤として使用し得るスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの新規な製造方法に関する。
【０００２】
スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンはトリアゾリノンをスルホニルイソシアネートと反応させる場合に得られることが公知である（ヨーロッパ特許出願公開第３４１，４８９号、同第４２２、４６９号、同第４２５，９４８号、同第４３１，２９１号、同第５０７，１７１号、同第５３４，２６６号参照）。
【０００３】
しかしながら、この公知の方法において出発物質として必要とされるスルホニルイソシアネートは先行する操作工程において一般に対応するスルホンアミド及びホスゲンから製造しなければならない。
【０００４】
一般式（Ｉ）
【０００５】
【化３】
0003775692.tif 000002
【０００６】
式中、Ｒ１は水素、ヒドロキシルまたはアミノを表わすか、或いはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルキルアミノ、シクロアルキルアルキル、アリールまたはアリールアルキルよりなる群からの随時置換されていてもよい基を表わし、
Ｒ２は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはハロゲンを表わすか、或いはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニルアミノ、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アリールアルキルチオまたはアリールアルキルアミノよりなる群からの随時置換されていてもよい基を表わし、そして
Ｒ３はアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキル、複素環または複素環式アルキルよりなる群からの随時置換されていてもよい基を表わす、
のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンが一般式（ＩＩ）
【０００７】
【化４】
0003775692.tif 000003
【０００８】
式中、Ｒ１及びＲ２は上記の意味を有する、
のトリアゾリノンを随時反応補助剤の存在下及び随時希釈剤の存在下にて２０乃至１５０℃間の温度で一般式（ＩＩＩ）
Ｒ3−ＳＯ2−Ｘ          （ＩＩＩ）
式中、Ｒ３は上記の意味を有し、そして
Ｘはハロゲンを表わす、
のスルホニルハロゲン化物及び一般式（ＩＶ）
ＭＯＣＮ          （ＩＶ）
式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土金属等価物を表わす、
の金属シアン酸塩と反応させる場合に良好な収率及び高純度で得られることが見い出された。
【０００９】
３つの異なる成分の同時反応として、本発明による方法により式（Ｉ）のスルホニルアミノトリアゾリノンが円滑な反応において高収率及び高純度で生成されることは驚くべきものと考えられる。
【００１０】
極めて簡素化された式（Ｉ）の化合物の製造方法として、本発明による方法は当該分野の価値ある強化を示すものである。
【００１１】
本発明による方法は好ましくはＲ１が水素、ヒドロキシルまたはアミノを表わすか、炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、各々の場合に炭素原子２〜６個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニルを表わすか、各々の場合にアルキルまたはアルケニル基中に炭素原子５個までを有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを表わすか、各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ４−アルキルで置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルキルアミノまたはシクロアルキルアルキルを表わすか、或いはアルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ及び／またはＣ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、フェニルアルキルまたはナフチルアルキルを表わし、Ｒ２が水素、ヒドロキシル、メルカプトまたはハロゲンを表わすか、炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、各々の場合に炭素原子２〜６個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニルを表わすか、各々の場合に炭素原子５個までを有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ４−アルキルで置換されていてもよいアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを表わすか、各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル基中に炭素原子１〜４個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ４−アルキルで置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニルアミノ、シクロアルキルアルキルまたはシクロアルケニルアルキルを表わすか、或いは各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ及び／またはＣ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、フェノキシ、ナフチルオキシ、フェニルチオ、ナフチルチオ、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、フェニルメチル、フェニルエチル、フェニルメトキシ、ナフチルメトキシ、フェニルエトキシ、ナフチルエトキシ、フェニルメチルチオ、ナフチルメチルチオ、フェニルエチルチオ、ナフチルエチルチオ、フェニルメチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、フェ���ルエチルアミノまたはナフチルエチルアミノを表わし、そしてＲ３が炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、シクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル及び／またはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいシクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルを表わすか、或いは各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、ニトロ、アミノ、カルバモイル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキルスルホニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルキル）−アミノスルホニル、Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルコキシ）−Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルキル）−アミノスルホニル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルキル）−アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ２−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ２−アルコキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル−メチル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキルカルボニル、フェニルまたはフェノキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル、ピリジル、フェニルメチル、ピリジルエチル、キノリル、キノリルメチル、チエニル、チエニルメチル、ピラゾリルまたはピラゾリルメチルを表わす、式（Ｉ）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの製造に関する。
【００１２】
基の定義で特定される炭化水素基例えばアルキル、アルケニルまたはアルキニルはこのものが特記されない場合でもアルコキシ、アルキルチオまたはアルキルアミノのように組み合わされていても直鎖状もしくは分枝鎖状である。
【００１３】
一般に、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表わし、好ましくはフッ素、塩素または臭素を表わし、そして殊にフッ素または塩素を表わす。
【００１４】
本発明による方法は殊にＲ１が水素、ヒドロキシルまたはアミノを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エトキシ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルまたはｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素及び／または臭素で置換されていてもよいプロペニル、ブテニル、プロピオニルまたはブチニルを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素及び／または臭素で置換されていてもよいメトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−もしくはｉ−プロピルアミノ、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルアミノ、ジメチルアミノまたはジエチルアミノを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル、エチルまたはｎ−もしくはｉ−プロピルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルメチルまたはシクロヘキシルエチルを表わすか、或いは各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ及び／またはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェニル、ベンジルまたはフェニルエチルを表わし、Ｒ２が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、フッ素、塩素または臭素を表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エトキシ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルまたはｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素及び／または臭素で置換されていてもよいプロペニル、ブテニル、プロピニルまたはブチニルを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素及び／または臭素で置換されていてもよいメトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−もしくはｉ−プロピルチオ、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルチオ、プロペニルチオ、ブテニルチオ、プロピニルチオ、ブチニルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−もしくはｉ−プロピルアミノ、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルアミノ、ジメチルアミノまたはジエチルアミノを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル、エチルまたはｎ−もしくはｉ−プロピルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロプロピルチオ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロペンテニルオキシ、シクロヘキセニルオキシ、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、シクロペンテニルチオ、シクロヘキセニルチオ、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロペンテニルアミノ、シクロヘキセニルアミノ、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、シクロペンテニルメチルまたはシクロヘキセニルメチルを表わすか、或いは各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ及び／またはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルアミノ、フェニルメチル、フェニルメトキシ、フェニルメチルチオまたはフェニルメチルアミノを表わし、そしてＲ３が各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルまたはｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを表わすか、各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、カルボキシル、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、メトキシカルボニル及び／またはエトキシカルボニルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルメチルまたはシクロヘキシルエチルを表わすか、或いは各々の場合に随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、カルボキシル、ニトロ、アミノ、カルバモイル、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、フルオロメチル、シクロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、フルオロエチル、クロロエチル、ジフルオロエチル、ジクロロエチル、トリフルオロエチル、テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、フルオロプロピル、クロロプロピル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、トリフルオロプロピル、トリクロロプロピル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロエトキシ、トリフルオロエトキシ、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−もしくはｉ−プロピルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、トリフルオロメチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアミノスルホニル、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、フルオロエトキシカルボニル、クロロエトキシカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、エトキシエトキシカルボニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、フェニルまたはフェノキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル、ピリジル、ピリジルメチル、ピリジルエチル、キノリン、キノリルメチル、チエニル、チエニルメチル、ピラゾリルまたはピラゾリルメチルを表わす式（Ｉ）の化合物の製造に関する。
【００１５】
上記の一般的な基の定義または好適な範囲内に特定されるものは式（Ｉ）の最終生成物及び対応する方法で製造に必要とされる出発化合物の両方に適用される。
【００１６】
これらの基の定義はそれら自身間で、即ち必要に応じて与えられる好適な化合物の範囲間でも一緒にし得る。
【００１７】
例えば、出発化合物として塩化２−フルオロベンゼンスルホニル、４−メトキシ−５−メチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−オン及びシアン酸カリウムを用いる場合、本発明による方法における反応の経路は次式により図示できる：
【００１８】
【化５】
0003775692.tif 000004
【００１９】
一般式（Ｉ）の化合物を製造する際に本発明による方法において出発化合物として用いるトリアゾリノンは一般に式（ＩＩ）により定義される。式（ＩＩ）において、Ｒ１及びＲ２は好ましくは、または殊にＲ１及びＲ２に対して好適か、または殊に好適なものとして本発明により製造される式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に上に示されている。
【００２０】
一般式（ＩＩ）のトリアゾリノンは公知であり、そして／またはそれ自体公知である方法により製造し得る（ヨーロッパ特許出願公開第３４１，４８９号、同第４０３，８８９号、同第４２２，４６９号、同第４２５，９４８号、同第４３１，２９１号、同第５０７，１７１号、同第５３４，２６６号参照）。
【００２１】
また本発明による方法における出発化合物として用いるスルホニルハロゲン化物は一般に式（ＩＩＩ）により定義される。式（ＩＩＩ）において、Ｒ３は好ましくは、または殊にＲ３に対して好適か、または殊に好適なものとして式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に上に示された意味を有し；その際にＸは好ましくはフッ素、塩素または臭素を表わし、そして殊に塩素を表わす。
【００２２】
式（ＩＩＩ）のスルホニルハロゲン化物は公知であり、そして／またはそれ自体公知である方法により製造し得る［Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２５（１９６０）、１８２４；同誌３３（１９６８）、２１０４；ヨーロッパ特許出願公開第２３，１４０号；同第２３，１４１号；同第２３，４２２号；同第３５，８９３号；同第４４，８０８号；同第４４，８０９号；同第４８，１４３号；同第５１，４６６号；同第６４，３２２号；同第７０，０４１号参照］。
【００２３】
また本発明による方法において出発化合物として用いるシアン酸メチルは一般に式（ＩＶ）により定義される。式（ＩＶ）において、Ｍは好ましくはリチウム、ナトリウムもしくはカリウムまたはマグネシウムもしくはカルシウムの１等価体を表わし、そして殊に好ましくはナトリウムまたはカリウムを表わす。
【００２４】
式（ＩＶ）の出発化合物は合成に対して公知の化学薬品である。
【００２５】
本発明による方法は随時適当な反応補助剤の存在下で行われる。かかる補助剤として有機窒素塩基を好適に用いる。これらの窒素塩基は殊に第３級アミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン及びＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、並びに窒素複素環例えばピリジン、メチルピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）またはジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）を含む。
【００２６】
本発明による方法は好ましくは希釈剤の存在下で行う。本発明による方法を行う際に用いる希釈剤としては不活性有機溶媒が特に適している。これらの有機溶媒には殊に脂肪族、脂環式または芳香族の、随時ハロゲン化されていてもよい炭化水素例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルムまたはテトラクロロメタン；エーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルまたはエチレングリコールジエチルエーテル；ケトン例えばアセトン、ブタノン、メチルイソプロピルケトンまたはメチルイソブチルケトン；ニトリル例えばアセトニトリル、プロピオニトリルまたはベンゾニトリル、アミド例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル、並びにスルホキシド例えばジメチルスルホキシドが含まれる。
【００２７】
これらの中で、非プロトン性極性溶媒例えばアセトン、ブタノン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチルピロリドンを殊に好適に用いる。
【００２８】
本発明による方法を行う際に、反応温度は比較的広い範囲内で変え得る。一般に、２０乃至１５０℃間の温度、好ましくは２０乃至１２０℃間の温度、殊に２０乃至１００℃間の温度を用いる。
【００２９】
一般に、本発明による方法は標準的な圧力下で行う。しかしながらまた、昇圧または減圧下で、一般的に０．１乃至１０バール間で行うことができる。
【００３０】
本発明の方法により式（Ｉ）の化合物を製造するために、式（ＩＩ）のトリアゾリノン１モル当り０．９〜１．５モル、好ましくは１．０〜１．２モルの式（ＩＩＩ）のハロゲン化スルホニル及び１．０〜３．０モル、好ましくは１．５〜２．５モルの式（ＩＶ）の金属シアン酸塩を一般に用いる。
【００３１】
本発明による方法の好適な具体例において、式（ＩＩ）のトリアゾリノンを最初に適当な希釈剤中に導入し、次に式（ＩＶ）の金属シアン酸塩及び式（ＩＩＩ）の塩化スルホニルを順次加える。次に混合物を反応が完了するまで必要な温度で撹拌する。
【００３２】
処理は常法により行い得る。例えば、冷却した後に減圧下で濃縮を行い、そして残渣を水性酸例えば塩酸で酸性にし；次に反応生成物を実際には水と混和しない有機溶媒例えば塩化メチレンで抽出する。有機抽出溶液を乾燥し、そして濾過する。濾液を濃縮し、残渣（粗製生成物）を必要に応じて適当な溶媒例えばジエチルエーテルで温浸することにより結晶化させ、そして結晶生成物を吸引濾過により単離する。
【００３３】
本発明による方法により製造される式（ＩＩ）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンは除草剤として使用し得る（ヨーロッパ特許出願公開第３４１，４８９号、同第４２２，４６９号、同第４２５，９４８号、同第４３１，２９１号、同第５０７，１７１号、同第５３４，２６６号参照）。
【００３４】
製造実施例１：
実施例１
【００３５】
【化６】
0003775692.tif 000005
【００３６】
４，５−ジメチル−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−オン１．７ｇ（１５ミリモル）をアセトニトリル１００ｍｌと共に撹拌した。シアン酸ナトリウム２．０ｇ（３０ミリモル）及び塩化２−メチル−５−エチル−ベンゼンスルホニル３．３ｇ（１５ミリモル）をこの混合物に順次加え、次にこのものを撹拌しながら還流下で１８時間加熱した。室温（約２０℃）に冷却した後、混合物を水流ポンプの真空下で濃縮し、残った残渣を濃塩酸２ｍｌで処理し、そして塩化メチレンで抽出した。有機抽出溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下で濾液から注意して留去し、残渣をジエチルエーテルと共に温浸することにより結晶化させ、そして結晶生成物を吸引濾過により単離した。
【００３７】
融点１４５℃を有する４，５−ジメチル−２−（２−メチル−５−エチル−フェニルスルホニル−アミノ−カルボニル）−２，４−ジヒドロ−３Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−オン３．４ｇ（理論値の６８％）が得られた。
【００３８】
本明細書及び特許請求の範囲を説明のために示し、限定するものではなく、そして本発明の精神及び範囲から逸脱せずに種々の改良及び変法を行い得ることが認められよう。
【００３９】
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
【００４０】
１．一般式（Ｉ）
【００４１】
【化７】
0003775692.tif 000006
【００４２】
式中、Ｒ１は水素、ヒドロキシルまたはアミノを表わすか、或いはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルキルアミノ、シクロアルキルアルキル、アリールまたはアリールアルキルよりなる群からの随時置換されていてもよい基を表わし、
Ｒ２は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはハロゲンを表わすか、或いはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニルアミノ、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アリールアルキルチオまたはアリールアルキルアミノよりなる群からの随時置換されていてもよい基を表わし、そして
Ｒ３はアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキル、複素環または複素環式アルキルよりなる群からの随時置換されていてもよい基を表わす、
のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンを製造する際に、一般式（ＩＩ）
【００４３】
【化８】
0003775692.tif 000007
【００４４】
式中、Ｒ１及びＲ２は上記の意味を有する、
のトリアゾリノンを随時反応補助剤の存在下及び随時希釈剤の存在下にて２０乃至１５０℃間の温度で一般式（ＩＩＩ）
Ｒ3−ＳＯ2−Ｘ          （ＩＩＩ）
式中、Ｒ３は上記の意味を有し、そして
Ｘはハロゲンを表わす、
のスルホニルハロゲン化物及び一般式（ＩＶ）
ＭＯＣＮ          （ＩＶ）
式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土金属等価物を表わす、
の金属シアン酸塩と反応させることを特徴とする、一般式（Ｉ）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの製造方法。
【００４５】
２．Ｒ１が水素、ヒドロキシルまたはアミノを表わすか、炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、各々の場合に炭素原子２〜６個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニルを表わすか、各々の場合にアルキルまたはアルケニル基中に炭素原子５個までを有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを表わすか、各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ４−アルキルで置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルキルアミノまたはシクロアルキルアルキルを表わすか、或いはアルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ及び／またはＣ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、フェニルアルキルまたはナフチルアルキルを表わし、Ｒ２が水素、ヒドロキシル、メルカプトまたはハロゲンを表わすか、炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、各々の場合に炭素原子２〜６個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニルを表わすか、各々の場合に炭素原子５個までを有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ４−アルキルで置換されていてもよいアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを表わすか、各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル基中に炭素原子１〜４個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノまたはＣ1〜Ｃ４−アルキルで置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニルアミノ、シクロアルキルアルキルまたはシクロアルケニルアルキルを表わすか、或いは各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ及び／またはＣ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、フェノキシ、ナフチルオキシ、フェニルチオ、ナフチルチオ、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、フェニルメチル、フェニルエチル、フェニルメトキシ、ナフチルメトキシ、フェニルエトキシ、ナフチルエトキシ、フェニルメチルチオ、ナフチルメチルチオ、フェニルエチルチオ、ナフチルエチルチオ、フェニルメチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、フェニルエチルアミノまたはナ���チルエチルアミノを表わし、そしてＲ３が炭素原子１〜６個を有し、かつ随時ハロゲン、シアノ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニルまたはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいアルキルを表わすか、シクロアルキル基中に炭素原子３〜６個及び随時アルキル部分中に炭素原子１〜４個を有し、かつ各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル及び／またはＣ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいシクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルを表わすか、或いは各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、ニトロ、アミノ、カルバモイル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ４−アルキル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルキルスルホニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルキル）−アミノスルホニル、Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルコキシ）−Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルキル）−アミノスルホニル、Ｃ1〜Ｃ４−アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ４−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ４−ハロゲノアルコキシカルボニル、ジ−（Ｃ1〜Ｃ３−アルキル）−アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ２−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ２−アルコキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル−メチル、  Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキルカルボニル、フェニルまたはフェノキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル、ピリジル、フェニルメチル、ピリジルエチル、キノリル、キノリルメチル、チエニル、チエニルメチル、ピラゾリルまたはピラゾリルメチルを表わす、上記１に記載の式（Ｉ）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの製造方法。
【００４６】
３．２０乃至１２０℃間の温度を用いることを特徴とする、上記１に記載の方法。
【００４７】
４．金属シアン酸塩としてシアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸マグネシウムまたはシアン酸カルシウムを用いることを特徴とする、上記１に記載の方法。
【００４８】
５．反応補助剤として有機窒素塩基を用いることを特徴とする、上記１に記載の方法。
【００４９】
６．希釈剤として不活性有機溶媒を用いることを特徴とする、上記１に記載の方法。