(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナ、及び該アルミナに付着された金属塩化物からなるオキシ塩素化触媒組成物であって、該金属塩化物が塩化銅、塩化マグネシウム及び塩化カリウムからなり、触媒組成物が触媒組成物１kg当たりの金属として表して、銅３０〜９０ｇ、マグネシウム１２〜２５ｇ及びカリウム０．１〜１０ｇを含み、K/Mg原子比が０．５を超えないことを特徴とする触媒組成物。
【請求項２】
触媒組成物が触媒組成物１kg当たりの金属として表して、銅３０〜９０ｇ、マグネシウム１２〜２０ｇ及びカリウム０．１〜１０ｇを含み、K/Mg原子比が０．５を超えない、請求項１記載の触媒組成物。
【請求項３】
触媒組成物１kg当たりの金属として表して、銅４０〜８０ｇ、マグネシウム１２〜２５ｇ及びカリウム０．５〜９ｇを含む請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項４】
K/Cu原子比が０．０１〜０．３０である請求項１〜３のいずれか一項記載の触媒組成物。
【請求項５】
K/Cu原子比が０．０２５〜０．２５である請求項４に記載の触媒組成物。
【請求項６】
K/Mg原子比が０．０１〜０．５である請求項１〜５のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項７】
Mg/Cu原子比が少なくとも０．５である請求項１〜６記載の触媒組成物。
【請求項８】
Cu:Mg:K 原子比が１：０．５−１．０：０．０２５−０．２５である請求項１〜７のいずれか一項に記載の触媒組成物。
【請求項９】
アルミナが、B.E.T.法により測定して、５０m2/ｇ〜２５０m2/ｇの比表面積を有する請求項１〜８のいずれか一項に記載の触媒組成物。
【請求項１０】
空気または酸素の存在下における塩化水素との反応によるエチレンから１，２−ジクロロエタンへのオキシ塩素化方法であって、オキシ塩素化反応を請求項１〜９のいずれか一項に記載の触媒組成物により触媒することを特徴とするオキシ塩素化方法。
【請求項１１】
触媒組成物が流動床の形態である請求項１０に記載のオキシ塩素化方法。
【請求項１２】
使用される酸素が、純粋な形態または空気より酸素に富む酸素と窒素の混合物の形態である請求項１０に記載のオキシ塩素化方法。
【請求項１３】
流動床中のエチレンのオキシ塩素化方法における請求項１〜９のいずれか一項記載の触媒組成物の使用であって、流動床中に配置された熱交換機の管の表面に汚染物質が付着するのを回避する使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、オキシ塩素化に使用し得る触媒組成物及びこのような組成物を使用するエチレンのオキシ塩素化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
オキシ塩素化方法、即ち、空気または酸素の存在下における塩化水素による炭化水素の塩素化は、長期間にわたって知られており、また通常、不活性担体、例えば、アルミナ、シリカゲル、混合酸化物もしくはクレーまたはその他の天然源の担体に付着された金属塩からなる触媒の存在下で行われる反応を構成する。工業上、その触媒は流動床中で最も頻繁に使用されるが、それはまた固定床中で使用されてもよい。最も頻繁に使用される金属塩は塩化銅の如きハロゲン化物である。しかしながら、単独で使用される場合、塩化銅は比較的揮発性であるという欠点を有し、これが触媒活性及びオキシ塩素化反応の収率の低下をもたらし、これは工業用プラントでは許容し得ない。
アルカリ金属塩化物、アルカリ土類金属塩化物または稀土類金属（ランタニド）の塩化物の添加により担持塩化銅からなるオキシ塩素化触媒の性能を増強することが、公知である。特に、アルミナに担持された銅、マグネシウム及びアルカリ金属の塩化物を同時に含むオキシ塩素化用の触媒組成物が、既に提案されていた。
ソルベイ社の欧州特許出願第0,255,156 号明細書は、銅、マグネシウム、及びナトリウムまたはリチウムから選ばれたアルカリ金属の塩化物の混合物を含む３成分触媒組成物を記載しており、これらは特定の割合で使用され、また１，２−ジクロロエタンの非常に良好な収率がエチレンのオキシ塩素化のための流動床方法で得られることを可能にすると同時に、特に接着性の低下及び触媒粒子の一緒の塊状化(lumping) によるステンレス鋼反応器の腐食を低減する。
【０００３】
欧州特許出願第0,375,202 号は、触媒組成物１kg当たり、銅30〜90g 、マグネシウム２〜30g 及びカリウム２〜30g を含み、1:0.1-1.0:0.1-1.0 のCu:Mg:K 原子比を有する、塩化銅、塩化マグネシウム及び塩化カリウムをベースとする３成分触媒組成物を考案している。
しかしながら、アルミナに担持された塩化銅、塩化マグネシウム及びアルカリ金属塩化物を同時に含む従来技術の組成物の殆どが、エチレンのオキシ塩素化用の流動床型反応器中で、流動床中に配置された熱交換機の管の表面に汚染物質の付着を生じることが観察された。この現象が、特に酸素を伴う方法で観察され、これらの方法では、酸素が純粋な形態または空気よりも酸素に富む酸素と窒素の混合物の形態で使用される。その触媒組成物のこの挙動はそれらの使用に対するかなりの障害を構成する。この理由は、汚染物質の次第に厚くなる層が管の表面に次第に累積し、熱交換機の進行性の劣化をもたらすことである。加えて、この現象は、長期運転中に、腐食を生じ得る。それ故、熱交換機の管の束を洗浄するために反応器を規則的に停止することが必須である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
それ故、本発明の目的の一つは、流動床中のエチレンのオキシ塩素化方法において、特に酸素を伴う方法において、熱交換機の管の表面の汚染物質の付着を生じないで１，２−ジクロロエタンの高収率を得ることを可能にする特に高性能の触媒組成物を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
それ故、本発明は、アルミナに付着された塩化銅、塩化マグネシウム及び塩化カリウムを含む触媒組成物（これはオキシ塩素化に使用し得る）であって、触媒組成物が触媒組成物１kg当たりの金属として表して、銅30〜90g 、マグネシウム10〜30g 及びカリウム0.1 〜10g を含むことを特徴とする触媒組成物に関する。また、本発明は、オキシ塩素化反応を本発明の触媒組成物により触媒することを特徴とするエチレンから１，２−ジクロロエタンへのオキシ塩素化方法に関する。
驚くことに、特定量の塩化銅、塩化マグネシウム及び塩化カリウムを含む触媒組成物は、流動床中に配置された熱交換機の管の束の表面における汚染物質の付着（これは従来技術の組成物で観察される）を生じないと同時に、エチレンから１，２−ジクロロエタンへのオキシ塩素化において、従来技術の組成物で得られた選択率及び収率と同様または更に良好である、変換されたエチレンに対する１，２−ジクロロエタンの選択率、及び使用された塩化水素に対する１，２−ジクロロエタンの収率を得ることを可能にすることが観察された。
【０００６】
本発明の触媒組成物は、触媒組成物１kg当たり少なくとも30g 、好ましくは１kg当たり少なくとも40g の銅、また特に好ましい方法において、１kg当たり少なくとも50g の銅を含む。それらは触媒組成物1kg 当たり90g 以下の銅を含む。１kg当たり80g 以下の銅を含む組成物が有利であることが明らかである。１kg当たり70g 以下の銅を含む組成物が特に有利であることが明らかである。
本発明の触媒組成物は、触媒組成物１kg当たり少なくとも10g 、好ましくは１kg当たり少なくとも12g のマグネシウム、また特に好ましい方法において、１kg当たり少なくとも15g のマグネシウムを含む。それらは触媒組成物１kg当たり30g 以下のマグネシウムを含む。１kg当たり25g 以下のマグネシウムを含む組成物が有利であることが明らかである。１kg当たり20g 以下のマグネシウムを含む組成物が特に有利であることが明らかである。
本発明の触媒組成物は、触媒組成物１kg当たり少なくとも0.1gのカリウム、好ましい方法において１kg当たり少なくとも0.5g、また特に好ましい方法において、１kg当たり少なくとも1gのカリウムを含む。それらは触媒組成物１kg当たり10g 以下のカリウムを含む。１kg当たり9g以下のカリウムを含む組成物が有利であることが明らかである。１kg当たり6g以下のカリウムを含む組成物が特に有利であることが明らかである。
【０００７】
エチレンのオキシ塩素化の良好な結果が、触媒組成物１kg当たり銅40〜80g 、マグネシウム12〜25g 及びカリウム0.5 〜9gを含む触媒組成物で得られた。
本発明の組成物において、Mg/Cu 原子比は少なくとも0.3 であることが好ましく、また特に好ましい方法において、少なくとも0.5 であることが好ましい。有利には、この比は1.5 を越えない。非常に有利には、それは1.0 を越えない。
K/Cu原子比は少なくとも0.01であることが好ましく、また特に好ましい方法において、少なくとも0.025 であることが好ましい。有利には、この比は0.30を越えない。非常に有利には、それは0.25を越えない。
K/Mg原子比は少なくとも0.01であることが好ましく、また特に好ましい方法において、少なくとも0.025 であることが好ましい。有利には、この比は0.8 を越えない。非常に有利には、それは0.5 を越えない。
エチレンのオキシ塩素化の非常に良好な結果が、1:0.5-1.0:0.025-0.25のCu:Mg:K 原子比を有する組成物で得られた。
【０００８】
本発明の触媒組成物中で担体として使用されるアルミナは、あらゆる源のものであってもよく、またあらゆる既知の方法により得られてもよい。イータまたはガンマ型のアルミナが通常使用される。良好な結果がガンマアルミナで得られた。本発明の触媒組成物中に使用されるアルミナは一般に10〜200 μm の平均粒径を有し、好ましくは20〜120 μm の平均直径を有する。その比表面積は、B.E.T.法により測定して、一般に50m2/g〜250m2/g である。エチレンのオキシ塩素化の良好な結果が、100m2/g 〜210m2/g の比表面積を有するアルミナで得られた。最後に、通常使用されるアルミナの細孔体積は0.1 〜1cm3/gである。細孔体積は0.2 〜0.8cm3/gであることが好ましく、エチレンのオキシ塩素化の良好な結果が0.3 〜0.6cm3/gの細孔体積を有するアルミナで得られた。
本発明の触媒組成物が生成される方法は重要ではない。金属塩化物は、例えば、これらの塩の混合物を含む溶液を使用して担体を含浸することにより塩化物の形態で直接に、または金属のその他の化合物、例えば、酸化物、水酸化物、硝酸塩またはオキシ塩素化反応が行われる条件で塩化物に変換し得るあらゆるその他の化合物の形態で触媒組成物に導入し得る。特に、触媒組成物の調製は、回転ドラム中で行われてもよく、または１回もしくは数回の通過で、かつ酸の如き添加剤、例えば、塩酸の存在もしくは不在下の金属塩化物の溶液によるアルミナの含浸により流動床中で行われてもよい。
良好な結果を生じた一つの生成方法は、適当な量の塩化銅、塩化マグネシウム及び塩化カリウムを含む水溶液でアルミナを含浸することからなり、その方法において、固体により吸収されない液相の出現は、含浸液の容積を使用されるアルミナの量の細孔体積の70〜100 ％に制限することにより避けられる。次いで含浸アルミナが乾燥され、その後、実際のオキシ塩素化反応器に導入される。
【０００９】
最終触媒組成物は一般に25m2/g〜200m2/g 、好ましくは50〜150m2/g のB.E.T.比表面積を有する。エチレンのオキシ塩素化の良好な結果が、80〜140m2/g のB.E.T.比表面積を有する触媒組成物で得られた。
本発明の触媒組成物は、触媒が流動床の形態であるオキシ塩素化方法に特に有利である。それにもかかわらず、それらはまた、触媒粒子が適当な形態、例えば、直径数mmのグラニュールの形態であることを条件として、固定床中に配置された触媒を用いて行われるオキシ塩素化方法に使用し得る。本発明の触媒組成物は空気または酸素中のオキシ塩素化方法に適している。それらは、純粋な酸素または空気よりも酸素に富む酸素／窒素混合物を使用する酸素中の方法に特に良く適している。
本発明の触媒組成物は、触媒が流動床の形態であるエチレンから１，２−ジクロロエタンへの酸素中のオキシ塩素化方法に最も特に適している。本発明の触媒組成物を使用するこのような方法が、特に好ましい。
その方法が流動床中に配置された触媒を用いて行われる場合、オキシ塩素化反応が行われる温度は通常200 〜300 ℃である。この温度は220 〜280 ℃であることが好ましい。良好な結果が230 〜270 ℃の範囲の温度で得られた。
【００１０】
オキシ塩素化反応が行われる圧力は、それ自体重要ではない。通常、その方法は0.1 〜1MPaの圧力、好ましくは0.1 〜0.8MPaの圧力で行われる。触媒組成物の流動化の速度は、それ自体重要ではなく、本質的には触媒の粒径及び装置のサイズに依存する。その方法は一般に５〜100cm/秒の速度で行われる。最後に、使用される反応体の比は、従来方法で一般に使用される比と同じである。通常、その方法は使用されるHCl と反応するのに必要とされる化学量論量に対しわずかに過剰のエチレンを用いて行われる。しかしながら、本発明の触媒組成物は、大過剰または化学量論付近の量のエチレンを用いて、または更には過剰のHCl 中で行うことを同様に可能にする。
本発明を、下記の実施例により更に詳しく説明する。(c) と称する例は比較のために示される例に関する。
【００１１】
【実施例】
例１〜９
本発明の触媒を、186m2/g の比表面積、0.38cm3/g の細孔体積、0.75kg/dm3の比重（フリーフローにより測定）及び50μm の平均粒径を有するγアルミナから調製した。150 ℃の乾燥後に、触媒の合計量に対する金属として計算して、60g/kgの銅含量、18g/kgのマグネシウム含量及び1.3g/kg のカリウム含量を有する触媒約1kg を得るために、このアルミナ約800gに、溶解状態で、適当量のCuCl2 ・2H2O、MgCl2 ・6H2O及びKCl を含む水性含浸液を添加した。原子比として表される種々の金属Cu:Mg:K の割合は1:0.80:0.035である。
例２〜９に使用した触媒を、適当な量及び割合のCuCl2 ・2H2O、MgCl2 ・6H2O及びKCl 、LiClまたはNaClを含む水溶液で含浸された同じアルミナを原料として実施例１の触媒と同じ方法で調製した。これらの種々の触媒中の金属含量を表１に示す。
これらの９種の触媒を、触媒225cm3を含む流動床ミクロ・パイロット反応器中でエチレンのオキシ塩素化において試験した。焼結金属フィルターにより底部を経て導入する反応体ガスを使用して触媒を流動化した。試験が行われた操作条件は、下記のとおりである。
−2C2H4/HCl 比＝1.07モル／モル
−4O2/HCl ＝1.35モル／モル
−ガスの流量：10cm／秒（試験圧力及び温度における空の反応器に関する）
−温度：260 ℃
−圧力：0.6MPa
−滞留時間：５秒
【００１２】
反応器を出る反応生成物を反応器の圧力調節弁により大気圧に低下し、-20 ℃に保ったトラップ中で冷却した。凝縮されていないガスを水スクラバー中で洗浄し、その後、サンプリングバルブでスィーピングした。生成された生成物を回収した液体生成物及びガス生成物のクロマトグラフィー分析により、またスクラバーの最下部で回収した水溶液の酸滴定により測定した。１，２−ジクロロエタンの収率（生成されたDCEaと使用したHCl のモル比）及びDCEaの選択率（生成されたDCEaと変換されたエチレンのモル比）を表１に示す。
種々の触媒により生じた汚染物質の付着を、上記の反応器と同様であるが、また流動床へと垂直に下降するフィンガー形の管を取り付けたミクロパイロット反応器中で測定した。このフィンガー管は二重壁を含み、その中で、反応が行われる温度より低い温度に保たれた油を循環する。汚染物質の付着を、反応器を下記の条件下で20時間にわたって操作した後にこのフィンガー管の外表面を調べることにより目視で測定する。
−2C2H4/HCl 比＝1.07モル／モル
−4O2/HCl 比＝1.12
−ガスの流量：2.5cm/秒
−流動床中の温度：270 ℃
−フィンガー管の外表面の温度：180 ℃
−圧力：0.7MPa
−滞留時間：12秒
【００１３】
これらの条件下で、得られた結果は、工業用反応器中の数ケ月にわたる操作後に観察される触媒の挙動を反映する。汚染物質の出現及びそれがフィンガー管の外表面に現れる位置に従って、数値が触媒につき示される。流動床２に下降するフィンガー管１の線図を単一図面（図１）に示す。管は４つの異なる領域：円錐形先端３、流動床２に下降する円筒形表面４、流動床の丁度上に配置された界面５及び円筒形表面６（これは流動床から外にあり、界面５の上にある）を含む。先端３または流動床に下降する表面４における触媒粒子を含まないフィルム、即ち、微細な付着被覆物の存在が、１点に値する。管の表面に付着する触媒粒子を含むクラスト、即ち、厚い付着物が、先端３及び表面４で２点に値し、また界面１で１点に値する。床の外にある表面６の領域で、触媒粒子の凝集物の存在のみが時々観察され、１点とカウントされる。管の表面のあらゆる部分における非付着性触媒粒子の存在は考慮されない。こうして、０の値が、試験中の汚染物質の付着を生じない触媒に与えられ、一方、例えば、先端３（２点）、表面４（２点）及び界面（１点）におけるクラストの存在により示される汚染物質のかなりの出現を生じる触媒が５の値を与えられるであろう。
得られた結果を表１に示し、これは試験した種々の触媒の組成、エチレンのオキシ塩素化につき得られた結果及び汚染物質付着の測定を要約する。
比較例４〜９の触媒組成物はHCl に対する１，２−ジクロロエタンの良好な収率及び１，２−ジクロロエタンへのエチレンの良好な選択率を示すが、フィンガー管の表面の汚染物質の付着を生じる。対照的に、実施例１〜３は、本発明の組成物が汚染物質の付着を生じないと同時に、１，２−ジクロロエタンの非常に高い選択率及び収率を与えることを実証する。
【００１４】
【表１】
0003793587.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【図１】流動床に下降するフィンガー管の線図を示す。
【符号の説明】
１−フィンガー管
２−流動床
３−円錐形先端
４，６−円筒形表面
５−界面
【図１】
0003793587.tif 000003