(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を貯留した液処理槽に、その内部を通る基板搬送手段を設けると共に、その前後の端壁には、貯留処理液の液面下を含む位置に基板を通過させる搬入側，搬出側の開口を形成し、前記基板搬送手段に搬送される基板が搬入側の開口から前記液処理槽内に導入されて処理液に浸漬され、搬出側の開口から排出されるようになし、前記各開口から流出する処理液分を処理液補給手段で補給することにより前記液処理槽内の液面レベルを一定に保つようにした基板の液処理装置において、
前記基板搬送手段は、所定のピッチ間隔を置いて配設したローラを回転駆動することにより前記基板を搬送するローラコンベアで構成し、
前記液処理槽の基板搬出側の端部乃至それに近接した位置に設けたローラはその両端にフランジが形成された搬出部ローラとなし、
前記搬出部ローラの上部位置に、前記フランジと当接し、この搬出部ローラの回転により回転駆動されるゲートローラを設置し、この搬出部ローラとゲートローラとの間に前記基板が、このゲートローラに対して非接触状態で通過可能なスリット状通路を形成する
構成としたことを特徴とする基板のディッピング式連続液処理装置。
【請求項２】
前記ローラコンベアを構成する各ローラのうち、前記ゲートローラが設けられるローラ以外のローラの上部に、前記基板の浮き上がりを規制するために、この基板の左右の両側部近傍と対面する位置に押え部材を配置する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板のディッピング式連続液処理装置。
【請求項３】
前記押え部材は、前記基板の左右の両側部近傍に当接する押えローラで構成したことを特徴とする請求項２記載の基板のディッピング式連続液処理装置。
【請求項４】
前記ゲートローラは、前記搬出部ローラに対して近接・離間する方向に移動可能に設置する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板のディッピング式連続液処理装置。
【請求項５】
前記搬出部ローラの下部位置に仕切り壁を設け、この仕切り壁を前記搬出側の開口が設けられている前記液処理槽の端壁に固定するようになし、この仕切り壁と前記搬出部ローラ及びゲートローラとにより前記液処理槽内に流出量制限チャンバを形成する構成としたことを特徴とする請求項１記載の基板のディッピング式連続液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶パネルを構成する透明基板等、表面に所定のパターンが形成される基板を液処理槽内でディッピングによる液処理を行うに当って、この液処理を連続的に行えるようにした基板のディッピング式連続液処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、液晶パネルを構成するＴＦＴ基板にはマトリックス状にＴＦＴ素子が形成されるが、このために成膜、現像、エッチング等の工程が繰り返し行なわれる。エッチング及びフォトレジスト膜の剥離等の処理は、基板を薬液にある時間浸漬させるようにして行なわれる。このために、処理液を貯留したディッピング槽内に基板を浸漬させるが、この処理を連続的に行う方式が、例えば実開平５―２５７２０号公報等に開示されている。
【０００３】
即ち、処理槽を内槽と外槽との２重の槽で構成される。内槽の内部を含む位置に、所定のピッチ間隔をもってローラ式のコンベアを配設すると共に、内槽の前後の端壁に基板を通過させる細いスリット状の開口が形成される。基板はコンベアに搬送されて内槽に送り込まれて、処理液に浸漬される。従って、コンベアの搬送面は内槽の液面より低い位置としなければならず、槽内の液面はこれらの開口より高い位置に保持される。このために、内槽の開口からは常時処理液が流出することになる。２重の槽のうち、外槽は内槽から流出する処理液の受け部として機能する。また、内槽の液面低下を防止するために、処理液補給タンクを備えている。そして、内槽から流出する処理液を外槽から処理液補給タンクを介して内槽に還流させるように処理液を循環させるために、外槽から補給用タンクに処理液を流入させる流出配管と、補給用タンクから内槽に処理液を還流させる還流配管とが設けられており、還流配管には処理液を汲み上げるためのポンプが設けられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ローラコンベアは、それを構成するローラの上面に基板を載置して、ローラの回転により基板を搬送するものであり、搬送中に振動が生じるのを防止できない。特に、液処理槽内では基板が処理液内に完全に浸漬されて浮力が作用する状態となり、かつ処理液を循環させることから、液処理槽内では処理液は常に流動状態となり、基板が極めて不安定になる。このように、基板が槽内での位置や姿勢を制御できないことから、基板を確実に搬入側及び搬出側の開口を通過させるために、これらの開口部のうち、特に搬出側の開口部は、基板の厚み寸法と比較してかなり広くしなければならない。このように広い開口を形成すると、当然、処理液の流出量が多くなる。しかも、内槽は常に一定の液面レベルを保持させなければならないから、流出による液面変動分を十分カバーするには、処理液補給タンクに多量の処理液を貯留しなければならず、このために大型のタンクを用いる必要があり、また流出量に見合った量の処理液を常時内槽に補給する必要があるので、ポンプの吐出容量を大きくする必要もある。このために、装置全体が大型化、複雑化する等の問題点がある。
【０００５】
また、基板に対する処理を促進するため等の観点から、内槽の内部の処理液は加温状態とするのが一般的である。従って、処理精度にばらつきが生じないようにするためには、処理液の温度管理を厳格に行なわなければならない。処理液の温度管理を行うに当って、内槽から多量の処理液が流出し、この流出分の処理液を補給するようにした場合、内槽の内部温度が大きく変化することになり、正確な温度管理を行うのは困難になる等といった問題点もある。
【０００６】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、基板がディッピングされる槽からの液の流出を最小限に抑制できるようにすることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明は、処理液を貯留した液処理槽に、その内部を通る基板搬送手段を設けると共に、その前後の端壁には、貯留処理液の液面下を含む位置に基板通過用の開口を形成し、前記基板搬送手段に搬送される基板は搬入側の開口から導入され、前記液処理槽内で処理液に浸漬させて、搬出側の開口から排出するようになし、これら各開口から流出する処理液分を処理液補給手段で補給することにより前記液処理槽内の液面レベルを一定に保つようにした基板の液処理装置であって、前記基板搬送手段は、所定のピッチ間隔を置いて配設したローラを回転駆動することにより前記基板を搬送するようにしたローラコンベアで構成し、前記液処理槽の基板搬出側の端部乃至それに近接した位置に設けたローラはその両端にフランジが形成された搬出部ローラとなし、前記搬出部ローラの上部位置に、前記フランジと当接し、この搬出部ローラの回転により回転駆動されるゲートローラを設置し、この搬出部ローラとゲートローラとの間に前記基板が、このゲートローラに対して非接触状態で通過可能なスリット状通路を形成する構成としたことをその特徴とするものである。
【０００８】
液処理槽の内部で基板の位置や姿勢の安定化を図るために、この基板の進行方向を規制するためのガイド部材等を設けると、処理にむらが生じる等の問題点がある。しかしながら、液処理槽の搬出側の端壁に至ると基板に対する液処理が完了していることになる。そこで、この位置にゲートを形成して基板を確実に搬出側の開口に指向させるようにした。これによって、開口の寸法を小さくすることができる。しかも、不安定な状態となっている基板が確実にゲートを通過できるようにするために、搬出側の開口に近接した位置に配置されている搬出部ローラを利用し、この搬出部ローラの上部に基板が通過可能な間隔、つまりスリット状通路を隔ててゲートローラを配置し、このゲートローラを搬出部ローラに追従回転させるように構成した。これによって、基板がゲートの位置に至ると、上下で回転するローラ間のスリット状通路内に確実に導かれる。
【０００９】
例えば、ＴＦＴ基板等においては、その一面側にパターンが形成されている等のために、このパターン形成面を上に向けて、反対面側をローラコンベアにより搬送させる。従って、液処理の開始から終了まで、基板のパターン形成面を保護するために、何等の部材にも接触させないように保持しなければならない。搬出部ローラとゲートローラとの間のスリット状通路の間隔は基板の厚みより大きくなっているので、基板が搬出部ローラに当接している限りは、そのパターン形成面をゲートローラに接触させずに通過させることができる。そこで、基板に作用する浮力を抑制してより確実に直進させるためには、押え部材を設けて、基板を確実にローラに当接させた状態で搬送させる。基板の表面にパターン等が形成されるにしろ、その全面に及ぶのではなく、周囲に多少の余白部分を持たせるようにする。そこで、押え部材は基板の表面における搬送方向の左右両側の余白部分に当接させることによって、パターン等が形成されている部位を保護し、かつ基板を確実にローラコンベアに当接させ、その搬送の直進性を確保することによって、確実にゲートローラに対しては非接触状態でスリット状通路を通過させることができる。ただし、例えば基板の比重が大きい等、基板を安定した状態で搬送できる場合には、必ずしも押え部材を設けなくても良い。
【００１０】
スリット状通路は、基板の厚み寸法よりも大きくする必要があるが、この寸法差はできるだけ小さくする方が、液の流出量を少なくできる。このスリット状通路を狭くすると、基板の先端が進入する直前において、基板の先端が僅かに傾いていると、ゲートローラと接触することがある。液処理槽の内部側からスリット状通路を通過する方向に処理液が流れることから、また基板はこの液の流れ方向に進行することから、基板の先端エッジがゲートローラに接触しても、完全にスリット状通路内に入り込んでしまえば、基板表面とゲートローラとの間に液膜が介在する状態となって、その間が非接触状態となる。従って、基板がスリット状通路に進入する際に、ゲートローラに当接しても、このゲートローラが持ち上がるように変位できれば、基板は確実にスリット状通路に進入させることができ、しかもその上面はゲートローラに対して非接触状態で通過することになる。この基板の進入開始時のために、ゲートローラは搬出部ローラに対して近接・離間する方向に移動可能な構成とするのが望ましい。
【００１１】
以上のように構成することによって、基板が通過する開口、特に搬出側の開口を小さくすることができる。また、基板の搬出側の開口を格別小さくしなくても、槽内に小さいチャンバを形成して、液処理槽の内部からこのチャンバへの処理液の流入量を少なくするという構成を採用することによっても処理液の流出量を少なくできる。このためには、搬出部ローラの下部位置に仕切り壁を設けることにより流出量制限チャンバとなし、仕切り壁を搬出側の開口が設けられている液処理槽の端壁に固定し、かつスリット状通路以外からこの流出量制限チャンバ内に処理液が流れ込むのを極力抑制するために、搬出部ローラと仕切り壁との隙間を最小限にする。
【００１２】
ここで、液処理槽には搬入側の開口も設けられているので、搬入部ローラにもスリット状通路を形成するためのゲートローラを装着することができる。また、これと共に仕切り壁を設けて、搬入側にも液処理槽からの処理液の流出量制限チャンバを形成しても良い。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の一形態について説明する。まず、図１に基板のディッピング式連続液処理装置の全体構成を示す。また、図２は図１の平面図である。これらの図において、１は液処理が行われる基板を示し、この基板１は四角形，円形等であって平板状の薄板からなるものである。２は液処理槽、３は液処理槽２から流出する処理液を受け入れる受け槽、４は処理液の補給用タンクをそれぞれ示す。また、５は基板搬送手段を示し、この基板搬送手段５は所定のピッチ間隔をもって配設したローラ６を有するものである。各ローラ６の回転により基板１は図１の矢印で示した方向に搬送される。このために、ローラ６の回転軸にはプーリ６ａが連結して設けられており、これら各プーリ６ａにはモータ等の駆動手段で駆動されるベルト、チェーン等の動力伝達手段（いずれも図示せず）が接続されて、全てのローラ６が同一方向に同一速度で回転駆動されることになる。
【００１４】
また、液処理槽２内に配設された複数のローラ６のうち、後述する搬出部ローラ６Ｒを除く各ローラ６の上部位置には、基板１の浮き上がりを防止するための基板押え部材７が設けられている。この基板押え部材７は、回転軸７ａに装着した一対の押えローラ７ｂ，７ｂから構成され、押えローラ７ｂは基板１の上面に対して、その左右両側部近傍に当接するようになっている。ここで、基板１は、その上面に対して所定の処理を行うものであるが、その左右の両側部には処理を必要としない余白部があり、押えローラ７ｂはこの余白部に当接する。そして、押えローラ７ｂはローラ６と同期して回転するようになっており、このために押えローラ７ｂはローラ６と同じ駆動源により回転駆動されるようにするか、若しくは独立の駆動手段により駆動させる場合には、ローラ６の駆動手段と同期させる。なお、基板押え部材７は必ずしも全てのローラ６の上部に設けるのではなく、間欠的に設けるようにしても良い。また、基板押え部材７は液処理槽２の前後の位置に配置されているローラ６にも装着するのが望ましい。
【００１５】
液処理槽２には基板１の処理液、例えばエッチング液、レジスト膜の剥離液等の処理液が貯留されている。ここで、基板１はその両面に前述したような液処理が施されるのではなく、その一面側にのみ液処理を行うものである。従って、ローラ６に対する接触面は液処理が施される面とは反対側の面とする。つまり、液処理が行われる面を上向きにして搬送させ、かつこの面には何等の部材とも接触させないようにして搬送させる。
【００１６】
液処理槽２内における処理液の液面はレベルＬに保持される。液処理槽２を構成する前後の端壁２Ｆ，２Ｒには、基板１を通過させる搬入用開口８及び搬出用開口９がそれぞれ形成されている。これら搬入用開口８，搬出用開口９の開設位置は液処理槽２内における処理液の液面レベルＬより低い位置となっている。従って、ローラ６により搬送される基板１は、受け槽３の上部を通り、搬入用開口８から液処理槽２内に導入されて、この液処理槽２内を処理液に浸漬させた状態で搬送する間に液処理がなされる。その後、基板１は搬出用開口９から送り出されて次の工程に移行する。基板搬送手段５により搬送される基板１は、液処理槽２の液面レベルＬより下の位置、つまりその上側を向いた面も液面下を通過するので、この間に基板１が処理液に完全に浸漬される結果、エッチングやレジスト剥離等の液処理が行われる。そして、基板搬送手段５のうち、液処理槽２内において、搬入用開口８及び搬出用開口９の近傍位置のローラは、それぞれ符号６Ｆ，６Ｒで示されている。
【００１７】
液処理槽２における搬入用，搬出用の各開口８，９から処理液が流出する。この処理液は受け槽３内に流入するが、このために受け槽３と補給用タンク４との間に流出配管１１が接続されている。また、補給用タンク４と液処理槽２との間には還流配管１２が接続されており、この還流配管１２には汲み上げポンプ１３が接続されている。従って、還流配管１２と汲み上げポンプ１３とにより処理液補給手段が構成され、またこれらと受け槽３及び流出配管１１とにより処理液の循環機構が構成される。このように構成することによって、液処理槽２の内部から開口８，９を介して流出した分の処理液は補給用タンク４から補給されて、液処理槽２の液面を常に一定のレベルＬに保持される。
【００１８】
液面レベルＬを一定に保つには、補給用タンク４から還流配管１２を介して液処理槽２に補給される処理液の量を液処理槽２から流出する処理液の量と一致させる必要がある。その上で、液処理槽２に補給する処理液の量を低減するためには、液処理槽２からの流出流量を低減させなければならない。
【００１９】
処理液の流出量を低減するには、基板１の搬入用及び搬出用の開口８，９の開口面積を小さくすればよい。一方、基板１がこれらの開口８，９を確実に通過できなければならない。ここで、搬入側の開口８では基板１は外部から搬入されるので、基板搬送手段５による基板１の搬送姿勢は比較的安定している。従って、ある程度は開口８を絞ることも不可能ではない。これに対して，搬出側では、循環等により動いている処理液に浸漬されている基板１の姿勢状態の安定性が著しく欠けることになる。このために、開口９をあまり小さくすると、基板１が通過することができないことがある。
【００２０】
開口９の寸法の大小に拘らず、この開口９から流出する処理液の量を低減するために、液処理槽２の内部には、搬出側の開口９を設けた端部位置に流出量制限チャンバ１４を形成するようにしている。流出量制限チャンバ１４は、液処理槽２の端壁２Ｒに近接した位置において、断面がＬ字形状となった仕切り壁１５を端壁２Ｒに固着することにより構成される。そして、搬出用開口９は、この流出量制限チャンバ１４内に開口している。
【００２１】
図３及び図４には、搬出用開口９の内側に形成した流出量制限チャンバ１４の構成が示されている。これらの図から明らかなように、仕切り壁１５の水平部１５Ａは、その端部が端壁２Ｒに固着され、両側の側部は側壁２Ｓ，２Ｓに固着されている。また、仕切り壁１５の鉛直部１５Ｂの先端部は搬出部ローラ６Ｒに近接する位置にまで延在されて、搬出部ローラ６Ｒの回転に支障を来さない範囲でその間の隙間を最小限のものとしている。ところで、液処理槽２内の液面レベルＬは搬出部ローラ６Ｒの上部位置にある。即ち、搬出部ローラ６Ｒは処理液内に埋没している。そこで、搬出部ローラ６Ｒ上にゲートローラ１６が配置されており、このゲートローラ１６は、搬出部ローラ６Ｒと共に流出量制限チャンバ１４の壁部を構成しており、かつ搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６とによって、基板１が液処理槽２の内部から流出量制限チャンバ１４に移行する際のゲートを構成している。そして、搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６との間には、基板１が通過可能なスリット状通路１７が形成されている。このスリット状通路１７を形成するために、搬出部ローラ６Ｒ及びゲートローラ１６の少なくとも一方、好ましくは双方の両端部にフランジ１８，１９がそれぞれ形成されている。従って、搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６とは両端のフランジ１８，１９が当接しており、その中間部にスリット状通路１７が形成される。
【００２２】
搬出部ローラ６Ｒの回転軸は液処理槽２における左右の側壁２Ｓ，２Ｓに形成した凹部２０に固定して設けた軸受２１に回転自在に支承されている。また、ゲートローラ１６の回転軸は軸受２１の上部を構成する軸保持部２２に回転自在であり、かつ上下方向に移動可能であり、しかも前後方向には動かないようにして装着されている。従って、ゲートローラ１６は搬出部ローラ６Ｒに対して自重で当接しており、この搬出部ローラ６Ｒが図３において矢印方向に回転すると、ゲートローラ１６も矢印方向に回転することになる。なお、図中において、２３は液処理槽２内に設けた堰き止め板であり、液処理槽２に接続されている還流配管１２から処理液が流入する際に生じる内部の液の乱れが搬出側に及ぶのを規制するためのものである。
【００２３】
ところで、液処理槽２の内部から流出量制限チャンバ１４内に流れる処理液の流路は、図３から明らかなように、実質的に搬出部ローラ６Ｒと仕切り壁１５の鉛直部１５Ｂとの間の隙間からなる間隔Ｄ１と、搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６との間に形成したスリット状通路１７を構成する間隔Ｄ２との合計の寸法となる。搬出部ローラ６Ｒと仕切り壁１５との間の間隔Ｄ１は、搬出部ローラ６Ｒの回転に支障を来さないことを条件として、できるだけ間隔を狭くするようにしている。一方、スリット状通路１７は基板１を通過させる通路であるから、その間隔Ｄ２は、当然、基板１の厚み寸法より大きくなっていなければならない。ただし、この間隔Ｄ２をあまり大きくすると、処理液の流出量が増大することになる。そこで、間隔Ｄ２は、基板１を搬出部ローラ６Ｒに当接させた時に、その上面がゲートローラ１６に対して非接触状態であり、つまりその間に確実に液膜が介在する状態を確保できることを条件として可及的に狭くする。
【００２４】
以上のように構成することによって、基板１は基板搬送手段５を構成するローラ６上に当接し、このローラ６が回転することによって、液処理槽２に送り込まれ、この液処理槽２における液面下を通過する間に、所定の液処理、つまりディッピング処理が行われる。基板１は、液処理槽２の手前位置までは重力の作用によりローラ６に当接しているので、スリップ等が生じることなく、確実に搬送され、またその位置や姿勢が乱れることなく、またこの位置のローラ６には基板押え部材７が装着されているので、より正確に直進性が保持される。従って、狭い開口８を通って確実に液処理槽２内に導かれる。基板１が液処理槽２内に入り込むと、この基板１に対して浮力が作用することになる。また、液処理槽２内では、基板１はローラ６と、その上部に配置した基板押え部材７の押えローラ７ｂとにより挾持されている。従って、たとえ基板１の比重が小さいものであっても、基板搬送手段５により十分な搬送力を作用させることができ、しかも処理液内で安定した姿勢を保持することができ、基板１が浮き上がってその表面が外部に露出する等のおそれはない。このようにして液処理槽２内で処理液に浸漬させることにより液処理が行われた基板１は搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６との間のスリット状通路１７を通って液処理槽２から導出されることになる。
【００２５】
ここで、スリット状通路１７の間隔Ｄ２は最小限にまで狭くなっているので、このスリット状通路１７内に基板１を確実に挿入させることができ、しかも基板１の表面をゲートローラ１６に対して非接触状態でスリット状通路１７を通過させなければならない。
【００２６】
まず、基板１の先端部からスリット状通路１７への進入が開始する。基板１はローラ６と押えローラ７ｂとによって直進性を持たせているが、スリット状通路１７を構成する搬出部ローラ６Ｒとその手前位置のローラ６との間には間隔があることから、浮力の作用で僅かではあるが、基板１の先端部が浮き上がることもある。しかしながら、ゲートローラ１６は搬出部ローラ６Ｒに対して上下方向に変位可能となっているので、たとえ基板１の先端部がゲートローラ１６に接触したとしても、このゲートローラ１６が搬出部ローラ６Ｒから離間する方向に変位することから、スリット状通路１７内に確実に導かれる。そして、基板１の先端部には余白部分が存在することから、この先端部ゲートローラ１６に接触したとしても、液処理に悪影響を及ぼすことはない。
【００２７】
そして、搬出部ローラ６Ｒ及びゲートローラ１６は処理液槽２の内部で回転しており、この回転により処理液が基板１の搬送方向の前方に引き込まれるようになり、しかも処理液槽２内では処理液がこの方向への流れを形成している。また基板１には浮力が作用するものの、少なくとも処理液の比重より大きいので、基板１がスリット状通路１７内に進入した後は、前述した処理液の流れの作用によって、搬出部ローラ６Ｒ側に押し付けられ、基板１の表面とゲートローラ１６との間を処理液が流れるようになる。従って、スリット状通路１７の間隔Ｄ２を基板１の厚み寸法より僅かに大きくしただけであっても、基板１の表面はゲートローラ１６に対して非接触状態、つまりその間に少なくとも処理液の液膜が介在した状態で進行する。
【００２８】
基板１が搬出部ローラ６Ｒの直前に位置するローラ６から離脱する前の段階で処理液槽２の直後に位置するローラ６による搬送力が及ぶようになり、しかもこのローラ６には押えローラ７ｂが対面しているので、基板１の先端部分はこれらローラ６と押えローラ７ｂとの間に挾持されることから、その搬送における直進性が確保される。従って、基板１がスリット状通路１７を抜けるまで、その表面はゲートローラ１６とは非接触状態に保たれる。
【００２９】
以上のことから、搬出部ローラ６Ｒと仕切り壁１５との間の隙間からなる間隔Ｄ１と、搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６との間のスリット状通路１７からなる間隔Ｄ２との合計の面積、つまりＤ１＋Ｄ２からなる開口面積を搬出用開口９より大幅に小さくすることができる。その結果、流出量制限チャンバ１５内の液面はほぼ搬出用開口９の下端位置となり、かつこの流出量制限チャンバ１５から流出する処理液の量は極少量に抑制される。従って、この流出量制限チャンバ１５から受け槽３に流出した処理液の分量を補給用タンク４に補給すれば良いことになり、補給量を著しく低減することができる。このために、補給用タンク４を小型化できると共に、汲み上げポンプ１３も小型のものを使用できる。しかも、液処理槽２内における処理液の循環量が少なくなるので、この液処理槽２内の温度管理も厳格に行えるようになる。
【００３０】
なお、液処理槽２内において、液面レベルがＬとなるのは搬出部ローラ６Ｒの手前位置までであり、液処理槽２内に形成した流出量制限チャンバ１４内では液面レベルが低下しており、スリット状通路１７を通過した基板１は、この流出量制限チャンバ１４内では実質的に液処理が行われないことになる。つまり、基板１に対する液処理は、液処理槽２の端壁２Ｆに形成した搬入用開口８の位置を通過した時から開始され、スリット状通路１７に至るまで継続することになり、機能的には流出量制限チャンバ１４は液処理槽２の外部に位置するものである。従って、搬出部ローラ６Ｒはできるでけ液処理槽２の端壁２Ｒに近接した位置に配置し、流出量制限チャンバ１４の容積を小さくするのが望ましい。また、基板１の搬出側のゲートを構成する搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６とは処理槽２の端壁２Ｒに直接装着することもできる。この場合には、流出量制限チャンバ１４は設けられない。また、液処理槽２には搬入側開口８も設けられており、この搬入側では基板搬送手段５によって基板１はほぼ直進状態に搬送されるので、この搬入側開口８はあまり大きく開口させる必要はないが、この搬入側にも搬出側と同様のゲートを設けることもできる。
【００３１】
【発明の効果】
本発明は前述のように構成したので、基板がディッピングされる槽からの液の流出を最小限に抑制できる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態を示す基板のディッピング式連続液処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【図２】図２の平面図である。
【図３】図１の要部拡大図である。
【図４】図３のＸ−Ｘ断面図である。
【符号の説明】
１  基板
２  液処理槽
２Ｆ，２Ｒ  端壁
３  受け槽
４  補助タンク
５  基板搬送手段
６，６Ｆ，６Ｒ  ローラ
７  基板押え部材
７ｂ  押えローラ
８  搬入用開口
９  搬出用開口
１１  流出配管
１２  還流配管
１３  汲み上げポンプ
１４  流出量制限チャンバ
１５  仕切り壁
１６  ゲートローラ
１７  スリット状通路
１８，１９  フランジ
【図１】
0003778071.tif 000002
【図２】
0003778071.tif 000003
【図３】
0003778071.tif 000004
【図４】
0003778071.tif 000005