(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジスルフィドとカルボアニオンを次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させることを特徴とするスルフィド類の製造方法。
【請求項２】
カルボアニオンがピラゾロン類、二環式アゾール類、ジケトメチレン類、フェノール類、ナフトール類、エナミン類から誘導されることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項３】
カルボアニオンが５−ピラゾロン類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項４】
カルボアニオンが二環式アゾール類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項５】
カルボアニオンがジケトメチレン類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項６】
カルボアニオンがフェノール類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項７】
カルボアニオンがナフトール類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項８】
カルボアニオンがエナミン類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項９】
カルボアニオンが３−アニリノ−５−ピラゾロン類であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項１０】
カルボアニオンが１−ペンタクロルフェニル−３−アニリノ−５−ピラゾロンであることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項１１】
カルボアニオンが１６個以上の炭素原子を含むことを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項１２】
カルボアニオンが下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【化１】
0003744032.tif 000020
〔式中、Ｒ11，Ｒ12は置換基を表し、ｍは０から４の整数、ｎは１から５の整数を表す。〕
【請求項１３】
ジスルフィドが対称なジアリールジスルフィドであることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項１４】
ジスルフィドが硫黄原子に対してオルト位に置換基を有するジスルフィドであることを特徴とする請求項１又は１３に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項１５】
ジスルフィドが下記一般式（２）によって表され、少なくともＲ21，Ｒ22の一方が１２個以上の炭素原子を含むことを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
一般式（２）  Ｒ21−Ｓ−Ｓ−Ｒ22
【請求項１６】
ジスルフィドが下記一般式（３）で表わされることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【化２】
0003744032.tif 000021
〔式中、Ｒ31はアルキル基、Ｒ32はアリール基を表す。〕
【請求項１７】
チオール（ＲＳＨ）を酸化してジスルフィド（ＲＳＳＲ）とした後、ジスルフィド（ＲＳＳＲ）を単離せずに化学的に修飾し、ジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）とし、これを単離せずに、ＣＯＵＰ−Ｈと次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させることを特徴とするスルフィド類（ＣＯＵＰ−ＳＲ′）の製造方法。
（Ｒ，Ｒ′は互いに異なる置換基を表し、ＣＯＵＰ−Ｈは解離して求核種となり得る炭素原子を含む化合物であり、Ｈはその炭素原子と結合している。）
【請求項１８】
チオール（ＲＳＨ）が２−アミノチオフェノールであることを特徴とする請求項１７に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項１９】
チオール（ＲＳＨ）とジスルフィド（ＲＳＳＲ）に酸化する反応と、ジスルフィド（ＲＳＳＲ）を化学的に修飾してジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）にする反応と、該ジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）とＣＯＵＰ−Ｈの反応に用いる反応に用いる有機溶媒のうち少なくとも１種が上記全反応工程に共通して用いられることを特徴とする請求項１７に記載のスルフィド類（ＣＯＵＰ−ＳＲ′）の製造方法。（Ｒ，Ｒ′，ＣＯＵＰ−，Ｈは請求項１７と同義である）
【請求項２０】
ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒が非プロトン性極性溶媒、エステル類、ニトリル類、水又はこれらの混合溶媒であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項２１】
ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、酢酸プロピル、アセトニトリル、水又はこれらの混合溶媒であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項２２】
ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒がアミド類とエステル類と水の混合溶媒であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項２３】
ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒中の水の割合が１重量％以上であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項２４】
ジスルフィドとカルボアニオンの反応における反応温度が０℃以上４０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載のスルフィド類の製造方法。
【請求項２５】
ジスルフィドとカルボアニオンを次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させてスルフィド類を製造する方法において、反応終了後から再結晶までの間にカルボン酸又はスルホン酸によって処理しスルフィド類を処理することを特徴とするスルフィド類の製造方法。
【請求項２６】
前記次亜ハロゲン酸塩が次亜塩素酸塩であることを特徴とする請求項１，１７又は２５に記載のスルフィド類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はスルフィド類の製造方法に関し、より詳しくは低コスト、高収率で作業性に優れたスルフィド類の製造方法に関する。
【０００２】
本発明の製造方法によって得られるスルフィド類はハロゲン化銀感光材料用添加剤、医薬品、農薬、染料及びその中間体として有用である。
【０００３】
本発明の製造方法によって得られるスルフィド類を画像形成用カプラーとしてハロゲン化銀カラー感光材料に用いると二当量カプラーとして働き、省銀が可能なうえ、ホルマリン等の影響が小さくなり、また高い感度が得られて好ましい。
【０００４】
本発明の製造方法によって得られるスルフィド類は現像抑制剤放出カプラー、漂白促進剤放出カプラー等の機能性カプラーとして、ハロゲン化銀感光材料に用いることができる。
【０００５】
【従来の技術】
カルボアニオンとジスルフィドの反応にはいくつかの文献例がある。例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．ＪＰＮ．，５１，３００８（１９７８）にはβ−ケトエステルとアリールジスルフィドをヨウ化ナトリウムと共にＨＭＰＡ中で反応させることが記載されている。この例では反応溶媒に脱水精製したＨＭＰＡを用いているのでこの方法では目的物を工業的に大量かつ安価に製造することは難しい。収率も比較的低く、満足できる値ではない。更に、ジスルフィドの一方を脱離基としてしか利用していないため、β−ケトエステル１モルに対しアリールジスルフィドを１モル用いる必要があり、経済的でない。
【０００６】
また、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ  Ｉ，２２６３（１９７７）にはホスフィンオキサイドに隣接するカルボアニオンとジスルフィドの反応が記載されている。この例では高価で危険な有機金属試薬を用い、高価な溶媒であるテトラメチルエチレンアミンを用い、無水条件下−７８℃で反応を行っており、この方法では目的物を工業的に大量かつ安価に製造することが難しい。
【０００７】
特開昭５１−１６９２４号にはカルボアニオンとジスルフィドをアルカリ存在下反応させるスルフィド類の製造方法が記載されているが、該製造方法は反応によって生じるチオラートアニオンを酸化剤によってジスルフィドに誘導しないため、カルボアニオンと等モルのジスルフィド類が必要になり、効率的でなく、スルフィド類を安価に製造することが難しい。
【０００８】
米国特許５，４０５，９６９号明細書にもチオール又はジスルフィドをベース及び酸化剤存在下カルボアニオンと反応させてスルフィドを合成する方法が開示されている。この方法によればチオール又はジスルフィドをスルフィドに変換することは比較的容易である。しかし、この方法を工業的に実施しようとした場合にはいくつかの問題があった。
【０００９】
第１の問題点は、原料となるチオール又はジスルフィドの合成上の問題である。
【００１０】
即ち、上記明細書記載の合成例２および合成例３のジスルフィド（２）はいずれも２，２′−ジチオジアニリン（１）を経由して合成するのが一般的である（反応式１）がこの化合物は強い感作性があり、接触すると著しいかぶれを引き起こす。他の類似のジスルフィドにも同様の傾向があり、取り扱いが難しい。
【００１１】
【化３】
0003744032.tif 000002
【００１２】
２，２′−ジチオジアニリン（１）を経由せずにジスルフィド（２）を合成するためには、下記反応式２の方法が考えられる。
【００１３】
この方法ではチオール（３）からチオール（４）へのアシル化の反応率が低く、工業的には不利な方法である。
【００１４】
【化４】
0003744032.tif 000003
【００１５】
上記明細書中にもチオールを用いて、これを反応系内で酸化してジスルフィドとし、スルフィド合成に用いることが提案されている。これは、チオールが極めて酸化され易く、容易にジスルフィドを生成すること、また、スルフィド合成反応においてジスルフィドとカルボアニオンの反応によってスルフィドと共に生成したチオール（チオラート）をジスルフィドに酸化する過程（反応式３）が不可欠であることから容易に考案される方法である。
【００１６】
即ち、スルフィド合成反応においてジスルフィド−チオールは下記反応式３のループを時計回りに回転しながら消費されていく。この場合、ジスルフィドからスタートするのもチオール（ベース存在下ＳＲ-と等価である）からスタートするのも実質的に差はない。
【００１７】
【化５】
0003744032.tif 000004
【００１８】
第２の問題点は、過酸化水素や次亜塩素酸塩のような安価で入手し易く、工業的に有利な酸化剤とジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）のような安価で入手し易く、溶解力が強くて工業的に有利な溶媒を組み合わせて使用することが難しいことである。
【００１９】
即ち、反応に際しては、原料をなるべく良く溶かすことが望ましいが、写真用、医薬、農薬、染料に用いられる化合物の原料となるジスルフィド類やそれと反応すべきカルボアニオン類は有機溶媒に溶け難いものも多く、ＤＭＦのような溶解力の強い溶媒の使用が強く望まれる。実際、上記明細書中、合成例３例中２例はＤＭＦを使用している。
【００２０】
ＤＭＦと過酸化水素や次亜塩素酸塩のような酸化剤を組み合わせて使用した場合、ＤＭＦと酸化剤が反応してしまい、酸化剤が無駄に消費されるのみならず、安全性に不安のあるＤＭＦの酸化生成物が生じる。
【００２１】
このような問題を回避するため、上記明細書中では合成例３例すべてにおいて酸化剤としてＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシドを用いているが、この化合物は非常に高価であり（関東化学（株）製２５ｇ／１５，０００円＝８１，０９６円／ｍｏｌ、一方、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（有効塩素５．０％以上）は、関東化学（株）製５００ｍｌ／７５０円＝１０６５円／ｍｏｌである）、工業的には著しく不利である。
【００２２】
前記明細書中にはＤＭＦと過酸化水素又は次亜ハロゲン酸塩を組み合わせて用いる記載や、それを示唆する記載はない。
【００２３】
更に、スルフィド類を製造する方法において、反応終了後再結晶までの間に塩酸処理することは米国特許５，４０５，９６９号明細書に記載され、公知である。スルフィド合成反応を塩基性下に行う本発明の特徴から、反応容器は耐塩基性に優れ、比較的低価格の設備であるステンレス製のものを用いることが工業的に有利であるが、公知の塩酸処理を施そうとするとステンレスが腐食されるため反応液を酸に強いグラスライニング製の容器に移す等の対策が必要となる。この方法では反応液を他の容器に移しかえる手間がかかる上、高価なグラスライニング製の容器が新たに必要となり、不利である。このように、簡便にして安価な反応液の酸処理方法が求められていた。
【００２４】
又、公知の方法ではスルフィド類を安価かつ容易に安定に製造することは難しかった。
【００２５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的はスルフィド類を安価、容易に、安定にかつ高収率で得られるスルフィド類の製造方法を提供することにある。
【００２６】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は下記構成によって達成された。
【００２７】
１．ジスルフィドとカルボアニオンを次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させることを特徴とするスルフィド類の製造方法。
【００２８】
２．カルボアニオンがピラゾロン類、二環式アゾール類、ジケトメチレン類、フェノール類、ナフトール類、エナミン類から誘導されることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００２９】
３．カルボアニオンが５−ピラゾロン類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３０】
４．カルボアニオンが二環式アゾール類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３１】
５．カルボアニオンがジケトメチレン類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３２】
６．カルボアニオンがフェノール類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３３】
７．カルボアニオンがナフトール類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３４】
８．カルボアニオンがエナミン類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３５】
９．カルボアニオンが３−アニリノ−５−ピラゾロン類であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３６】
１０．カルボアニオンが１−ペンタクロルフェニル−３−アニリノ−５−ピラゾロンであることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３７】
１１．カルボアニオンが１６個以上の炭素原子を含むことを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３８】
１２．カルボアニオンが下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００３９】
【化６】
0003744032.tif 000005
【００４０】
式中、Ｒ11，Ｒ12は置換基を表し、ｍは０から４の整数、ｎは１から５の整数を表す。
【００４１】
１３．ジスルフィドが対称なジアリールジスルフィドであることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００４２】
１４．ジスルフィドが硫黄原子に対してオルト位に置換基を有するジスルフィドであることを特徴とする前記１又は１３に記載のスルフィド類の製造方法。
【００４３】
１５．ジスルフィドが下記一般式（２）によって表され、少なくともＲ21，Ｒ22の一方が１２個以上の炭素原子を含むことを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００４４】
一般式（２）  Ｒ21−Ｓ−Ｓ−Ｒ22
１６．ジスルフィドが下記一般式（３）で表わされることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００４５】
【化７】
0003744032.tif 000006
【００４６】
式中、Ｒ31はアルキル基、Ｒ32はアリール基を表す。
【００４７】
１７．チオール（ＲＳＨ）を酸化してジスルフィド（ＲＳＳＲ）とした後、ジスルフィド（ＲＳＳＲ）を単離せずに化学的に修飾し、ジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）とし、これを単離せずに、ＣＯＵＰ−Ｈと次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させることを特徴とするスルフィド類（ＣＯＵＰ−ＳＲ′）の製造方法。
【００４８】
（Ｒ，Ｒ′は互いに異なる置換基を表し、ＣＯＵＰ−Ｈは解離して求核種となり得る炭素原子を含む化合物であり、Ｈはその炭素原子と結合している。）
１８．前記チオール（ＲＳＨ）が２−アミノチオフェノールであることを特徴とする前記１７に記載のスルフィド類の製造方法。
【００４９】
１９．チオール（ＲＳＨ）とジスルフィド（ＲＳＳＲ）に酸化する反応と、ジスルフィド（ＲＳＳＲ）を化学的に修飾してジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）にする反応と、該ジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）とＣＯＵＰ−Ｈの反応に用いる反応に用いる有機溶媒のうち少なくとも１種が上記全反応工程に共通して用いられることを特徴とする前記１７に記載のスルフィド類（ＣＯＵＰ−ＳＲ′）の製造方法。（Ｒ，Ｒ′，ＣＯＵＰ−，Ｈは前記１７と同義である）
２０．ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒が非プロトン性極性溶媒、エステル類、ニトリル類、水又はこれらの混合溶媒であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００５０】
２１．ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、酢酸プロピル、アセトニトリル、水又はこれらの混合溶媒であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００５１】
２２．ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒がアミド類とエステル類と水の混合溶媒であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００５２】
２３．ジスルフィドとカルボアニオンの反応溶媒中の水の割合が１重量％以上であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００５３】
２４．ジスルフィドとカルボアニオンの反応における反応温度が０℃以上４０℃以下であることを特徴とする前記１に記載のスルフィド類の製造方法。
【００５５】
２５．ジスルフィドとカルボアニオンを次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させてスルフィド類を製造する方法において、反応終了後から再結晶までの間にカルボン酸又はスルホン酸によって処理しスルフィド類を処理することを特徴とするスルフィド類の製造方法。
【００５６】
２６．前記次亜ハロゲン酸塩が次亜塩素酸塩であることを特徴とする前記１，１７又は２５に記載のスルフィド類の製造方法。
【００５７】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００５８】
本発明によって製造されるスルフィド類は写真分野においてマゼンタカプラーとして用いられる重要な化合物であり、かつ、多くの医薬、農薬、染料等の合成中間体として有用な化合物である。５−ピラゾロン類を用いたハロゲン化銀写真感光材料は露光後カラー現像処理されると５−ピラゾロン類が現像主薬酸化体と反応して対応するアゾメチン色素を生成しマゼンタ色像を形成する。
【００５９】
４−アリールチオ−５−ピラゾロン類をマゼンタカプラーとして用いると、現像主薬酸化体とのカップリング速度が速く高感度になり、現像液のｐＨが変動しても濃度変化を起こし難い、画像保存性が改良され、保存時の黄色濃度の増加（非像様）が抑えられる等多くのメリットが得られる。
【００６０】
このように４−アリールチオ−５−ピラゾロンを始めとする、本発明の製造方法によって合成されるスルフィド類は写真用化合物として極めて重要な化合物である。
【００６１】
本発明はスルフィドとカルボアニオンを次亜ハロゲン酸塩の存在下反応させることを特徴とするスルフィド類の製造方法に関する。
【００６２】
本発明の第一の特徴はスルフィドとカルボアニオンを効率良く反応させるために次亜ハロゲン酸塩を用いる点にある。
【００６３】
本発明の第二の特徴はジスルフィドＲＳＳＲ，Ｒ′ＳＳＲ′を単離せずに高収率で容易かつ安定に目的とするスルフィド（ＣＯＵＰ−ＳＲ′）を得る方法をも提供することを可能にしている点である。
【００６４】
更に、本発明の第三の特徴は次亜ハロゲン酸塩の添加速度を制御することによって、次亜ハロゲン酸塩由来の好ましくない副反応を制御することを可能にした点である。
【００６５】
本発明において、Ｒ及びＲ′は任意の置換基を表し、具体例としては、後述する一般式（４）のＲ1，Ｒ2及びＲ3が表す置換基を挙げることができ、好ましくはアリール基である。本明細書中でいう化学的修飾とは１つ以上の置換基を他の置換基に変換することであり、互変異性や解離等の平衡状態での変化は含まない。
【００６６】
本発明の次亜ハロゲン酸塩には特に制限はないが反応効率が高く、入手が容易な点で次亜塩素酸塩、次亜臭素酸塩が好ましく、特に次亜塩素酸塩が好ましい。
【００６７】
次亜ハロゲン酸塩の対塩となるカチオンには、特に制限は無いが反応効率の点でナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシュウムイオン、カルシウムイオンが好ましく、次亜ハロゲン酸塩の溶解度の点でナトリウムイオン、マグネシウムイオンがより好ましい。
【００６８】
これらの点を合わせて、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いることが最も好ましい。
【００６９】
またチオール（ＲＳＨ）を酸化してジスルフィド（ＲＳＳＲ）を合成する際に用いる酸化剤は次亜ハロゲン酸塩でも、過酸化水素水のような他の酸化剤でもよい。
【００７０】
本発明におけるＣＯＵＰ−Ｈとしては、解離して求核種となり得る炭素原子を含む化合物であれば良く、具体的には解離すべきプロトンのｐＫａが３〜１４の化合物が挙げられる。
【００７１】
カルボアニオンが一般式（１）で示される化合物から誘導されるアニオン又はＣＯＵＰ−Ｈが一般式（１）で示される化合物であるとき、本発明の効果が顕著に得られて好ましい。ここでいう「誘導される」とは元の化合物からプロトンが解離することである。
【００７２】
一般式（１）中Ｒ11，Ｒ12は置換基を表し、具体的には後述する一般式（４）のＲ1，Ｒ2が表す置換基を挙げることができ、Ｒ11，Ｒ12は好ましくはハロゲン原子、アルコキシ基であり、より好ましくはハロゲン原子である。
【００７３】
ｍは０から４の整数であり、好ましくは１である。
【００７４】
ｎは１から５の整数であり、好ましくは２である。
【００７５】
より具体的には本発明のカルボアニオン及びＣＯＵＰ−Ｈはピラゾロン類、二環式アゾール類、ジケトメチレン類、フェノール類、ナフトール類、エナミン類が挙げられる。
【００７６】
本発明の製造方法の原料としてピラゾロン類を用いることができる。このピラゾロン類は本発明の効果が顕著に得られる点で３−アニリノピラゾロンであることが好ましく、３−アニリノ−１−ペンタクロロフェニル−５−ピラゾロンであることがより好ましい。
【００７７】
前記一般式（２）においてＲ21，Ｒ22は任意の基を表し、具体例としては後述する一般式（４）のＲ1，Ｒ2及びＲ3が表す置換基を挙げることができ、好ましくはアリール基である。
【００７８】
本発明のカルボアニオン又はＣＯＵＰ−Ｈが１６個以上の炭素原子を含むとき、スルフィド（ＣＯＵＰ−ＳＲ′）の結晶性が低下し副反応が起こると高収率で取り出すことが難しくなるので本発明の方法を適用すると有利である。
【００７９】
本発明のカルボアニオンが一般式（１）で示される化合物から誘導されるアニオン又はＣＯＵＰ−Ｈが前記一般式（１）で表される化合物であるとき、ＣＯＵＰ−Ｈの溶解度が低いため、本発明の方法を適用すると有利であり、特に溶媒にＤＭＦを用いると有利である。
【００８０】
本発明の製造方法の原料となるジスルフィド類（Ｒ′ＳＳＲ′）は、反応率が高く、単一のスルフィド類を与える点で対称な（つまり２つのＲ′が同一の基である）ジアリールジスルフィドであることが好ましい。本発明の製造方法の原料となるジスルフィド類（Ｒ′ＳＳＲ′）において、Ｒ′がＳに対してオルト位に置換基を有するフェニル基である場合、また、少なくとも一方のＲ′が１２個以上の炭素原子を含む場合、さらにジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）が前記一般式（２）で表される化合物の場合、ジスルフィド（Ｒ′ＳＳＲ′）の結晶性が低下し、効率良く単離することが難しいため、本発明の効果が著しく得られ、好ましい。
【００８１】
前記一般式（３）においてＲ31はアルキル基、Ｒ32はアリール基を表し、具体的には、後述する一般式（４）のＲ1，Ｒ2が表すアルキル基、Ｒ3が表すアリール基が挙げられる。
【００８２】
本発明では塩基を使用しても良くその種類に特に制限はないが、塩基を使用する場合には炭酸塩又は苛性アルカリを用いることが収率、コスト、操作性の点で好ましく、炭酸塩であることがより好ましい。炭酸ナトリウム、炭酸カリウムを用いることが特に好ましい。
【００８３】
トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン、ナトリウムメチラート等の有機塩基を用いることも可能である。
【００８４】
使用する塩基の量には特に制限はないが、ＣＯＵＰ−Ｈ類の０．１当量から１０当量が好ましく、より好ましくは１当量から６当量を用いることができる。
【００８５】
本発明で使用する反応溶媒には、エステル（例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン等）、ハロゲン化炭化水素（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等）、非プロトン性極性溶媒（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリジノン等）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、ニトリル（例えばアセトニトリル）、水等を用いることができ、特に制限はないが、沸点５０〜１４０℃の溶媒であることが好ましい。本発明の効果を得易い点で反応溶媒は非プロトン性極性溶媒、エステル類、又はこれらの混合溶媒であることが好ましい。さらに、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、酢酸プロピル、アセトニトリル、水又はこれらの混合溶媒であることが好ましい。
【００８６】
混合溶媒を用いる際には、水をその一成分とすることが好ましい。互いに自由に混合しない溶媒を用いて、二層系の反応としても構わない。
【００８７】
次亜ハロゲン酸塩の添加方法に特に制限はないが、次亜ハロゲン酸塩の添加速度を反応によって生成するＲ′Ｓ-をＲ′ＳＳＲ′に酸化するのに必要な量以下に制御することによって次亜ハロゲン酸塩に起因する副反応を抑制することができて有利である。特に反応溶媒にジメチルホルムアミドを用いた際には有利である。
【００８８】
反応温度に特に制限はないが０℃以上４０℃以下であることが反応性、収率、コスト、作業性の点で好ましい。
【００８９】
本発明の酸処理に用いるカルボン酸、スルホン酸には特に制限はない。カルボン酸の具体例としては酢酸、プロピオン酸、安息香酸等が挙げられるが、酢酸であることが特に好ましい。スルホン酸はアルキルスルホン酸、アリールスルホン酸であり、具体的にはメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
【００９０】
本発明の酸処理に用いるカルボン酸、スルホン酸は水可溶性のものが好ましく、カルボン酸であることがより好ましい。最も好ましくは酢酸である。
【００９１】
本発明の合成法は種々のスルフィド類の合成に広く適用できる。本発明の製造方法を好ましく適用しうるスルフィド類である４−アリールチオ−５−ピラゾロンとしては、例えば下記一般式（４）で示されるものが挙げられる。
【００９２】
【化８】
0003744032.tif 000007
【００９３】
式中、Ｒ1，Ｒ2は各々水素原子又は置換基を表し、Ｒ3はアリール基を表す。
【００９４】
一般式（４）において、Ｒ1，Ｒ2で表される置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、アミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子が好ましいものとして挙げることができる。
【００９５】
Ｒ1，Ｒ2で表されるアルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、エイコシル基等が挙げられる。該アルキル基は、置換基を有するものを含み、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等の各原子）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基）、へテロ環基（例えばピロリジル基、ピリジル基等）、スルフィン酸基、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、アミノ基（例えばアミノ基、ジエチルアミノ基等）、アルキルオキシ基（例えばメチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、オクチルオキシ基、イソプロピルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等）、カルバモイル基（例えばアミノカルボニル基、メチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等）、アミド基（例えばメチルアミド基、ベンズアミド基、オクチルアミド基等）、アミノスルホニルアミノ基（例えばアミノスルホニルアミノ基、メチルアミノスルホニルアミノ基、アニリノスルホニルアミノ基等）、スルファモイル基（例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、ブチルスルファモイル基等）、スルホンアミド基、（例えばメタンスルホンアミド基、ヘプタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、スルフィニル基（例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基等のアリールスルフィニル基等）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、２−ヒドロキシエチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル基、エチルカルボニル基、ブチルカルボニル基、オクチルカルボニル基等）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル基、ｐ−メタンスルホンアミドベンゾイル基、ｐ−カルボキシベンゾイル基、ナフトイル基等）、シアノ基、ウレイド基（例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基等）、チオウレイド基（例えばメチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド基等）等が挙げられる。
【００９６】
Ｒ1，Ｒ2で表されるアリール基としては、例えばフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタクロロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。該アリール基は置換基を有するものを含み、該置換基としては例えばＲ1，Ｒ2で表されるアルキル基、又はＲ1，Ｒ2で表されるアルキル基の置換基として挙げた前述の基が挙げられる。Ｒ1としては２，３，４，５，６−ペンタクロロフェニル基が好ましい。
【００９７】
Ｒ1，Ｒ2で表されるヘテロ環基としては、例えばピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、５−カルボキシ−２−ピリジル基、３，５−ジクロロ−２−ピリジル基、４，６−ジメチル−２−ピリジル基、６−ヒドロキシ−２−ピリジル基、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−ピリジル基、３−ニトロ−２−ピリジル基等）、オキサゾリル基（５−カルボキシ−２−ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾオキサゾリル基、２−オキサゾリル基等）、チアゾリル基（５−スルファモイル−２−ベンゾチアゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−チアゾリル基等）、イミダゾリル基（ｌ−メチル−２−イミダゾリル基、ｌ−メチル−５−カルボキシ−２−ベンゾイミダゾリル基等）、フリル基（３−フリル基等）、ピロリル基（３−ピロリル基等）、チエニル基（２−チエニル基等）、ピラジニル基（２−ピラジニル基等）、ピリミジニル基（２−ピリミジニル基、４−クロロ−２−ピリミジニル基等）、ピリダジニル基（２−ピリダジニル基等）、プリニル基（８−プリニル基等）、イソオキサゾリル基（３−イソオキサゾリル基等）、セレナゾリル基（５−カルボキシ−２−セレナゾリル基等）、スルホラニル基（３−スルホラニル基等）、ピペリジニル基（１−メチル−３−ピペリジニル基等）、ピラゾリル基（３−ピラゾリル基等）、テトラゾリル基（ｌ−メチル−５−テトラゾリル基等）等が挙げられ、該ヘテロ環基は置換基を有するものを含み、該置環基としては例えばＲ1，Ｒ2で表されるアルキル基又はＲ1，Ｒ2で表されるアルキル基の置換基として挙げた前述の基が挙げられる。
【００９８】
Ｒ1，Ｒ2で表されるシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアルキルカルボニル基としては、例えばメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、オクチルカルボニル基、ドデシルカルボニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアリールカルボニル基としては、例えばフェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表さるアルコキシカルボニル基としては、例えばエトキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアリールオキシカルボニル基としては、例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアルキルスルホニル基としては、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、オクタデシルスルホニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアルキルスルフィニル基としては、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｉ−プロピルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアリールスルフィニル基としては、例えばフェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるカルバモイル基としては、例えばアミノカルボニル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｉ−プロピルカルバモイル基、ｔ−ブチルカルバモイル基、ドデシルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−ピリジルカルバモイル基、４−ピリジルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピベラジノカルバモイル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるスルファモイル基としては、例えばアミノスルホニル基、メチルスルファモイル基、ｉ−プロピルスルファモイル基、ｔ−ブチルスルファモイル基、ドデシルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、２−ピリジルスルファモイル基、４−ピリジルスルファモイル基、モルホリノスルファモイル基、ピペラジノスルファモイル基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアミノ基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、オクチルアミノ基、ドデシルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基等が挙げられ、本発明においてはアニリノ基が好ましい。
【００９９】
Ｒ1，Ｒ2で表されるスルホンアミド基としては、例えばメチルスルホンアミド基、エチルスルホンアミド基、ｉ−プロピルスルホンアミド基、ｔ−ブチルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアミド基としては、例えばメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｔ−ブチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、オクチルアミノ基等、
Ｒ1，Ｒ2で表されるアリールアミノ基としては、アニリノ基、ナフチルアミノ基等が挙げられる。これらのＲ1，Ｒ2で表される各基は、置換基を有するものを含み、該置換基としては例えばＲ1，Ｒ2で表されるアルキル基、又はＲ1，Ｒ2で表されるアルキル基の置換基として挙げた前述の基が挙げられる。
【０１００】
Ｒ3で表されるアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。該アリール基は置換基を有するものを含み、該置換基としては例えばＲ1で表されるアルキル基、又はＲ1で表されるアルキル基の置換基として挙げた前述の基が挙げられる。
【０１０１】
次に本発明の製造方法が好ましく適用できる４−アリールチオ−５−ピラゾロンのうち、好ましい例を挙げる。一般式（４）で表される４−アリールチオ−５−ピラゾロンのうち、Ｒ2が
【０１０２】
【化９】
0003744032.tif 000008
【０１０３】
であるものが好ましい。Ｙは２価の基であり、例えば−Ｏ−、−ＮＲ5、アルキレン、−ＣＯ−、−ＮＲ6ＣＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＮＲ8ＣＯＮＲ9等が挙げられる。Ｒ4〜Ｒ9は各々Ｒ1と同義である。このうち、より好ましくはＹは−ＮＨ−又は−ＮＨＣＯ−である。更に好ましくはＹは−ＮＨ−であり、Ｘは塩素原子である。
【０１０４】
また、本発明の製造方法を適用できるより好ましい例は、４−アリールチオ−５−ピラゾロンが下記一般式（５）で表される場合である。
【０１０５】
【化１０】
0003744032.tif 000009
【０１０６】
式中、Ｒ3，Ｒ4，Ｘ，ｍは一般式（４）におけるＲ3，Ｒ4，Ｘ，ｍと各々同義である。Ｒ10はＲ1の置換基と同義である。ｎは０〜５の整数である。
【０１０７】
Ｒ10が塩素原子であり、ｎが５の時が最も好ましい。
【０１０８】
次に本発明の製造方法により好ましく製造しうる例示化合物を示す。しかし、本発明は、これに限定されない。
【０１０９】
【化１１】
0003744032.tif 000010
【０１１０】
【化１２】
0003744032.tif 000011
【０１１１】
【化１３】
0003744032.tif 000012
【０１１２】
【化１４】
0003744032.tif 000013
【０１１３】
【化１５】
0003744032.tif 000014
【０１１４】
【化１６】
0003744032.tif 000015
【０１１５】
【化１７】
0003744032.tif 000016
【０１１６】
【化１８】
0003744032.tif 000017
【０１１７】
【実施例】
以下実施例により本発明を説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。
【０１１８】
実施例１（例示化合物１の合成）
【０１１９】
【化１９】
0003744032.tif 000018
【０１２０】
チオールＡ６．９ｇを２１０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、３５％過酸化水素水２．７１ｇを滴下した。滴下終了後室温で１．５時間かき混ぜる。ここに炭酸カリウム８．１５ｇを水３７．５ｍｌに溶かした溶液を加え、次いで酸クロライドＥ２３．１５ｇを滴下する。
【０１２１】
滴下終了後加熱し２５〜４０℃で２時間反応させ放冷する。１５時間静置後、窒素雰囲気下ここにＣＯＵＰ−ＨＤ３２．３ｇ、ジメチルホルムアミド１５０ｍｌ、炭酸カリウム１０．３５ｇを水２５ｍｌに溶かした溶液を順に加える。室温で２時間かき混ぜた後、有効塩素１２％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液３．３２５ｇを３分割して、１．５時間毎に加える。室温で３時間かき混ぜた後同濃度の次亜塩素酸ナトリム水溶液を３．３２５ｇずつ計４回４時間かけて加える。次亜塩素酸ナトリム水溶液滴下終了後２時間たったら水１００ｍｌを加え、分液する。有機層に酢酸２０ｍｌ、食塩水を加えて分液する。これを２回繰り返した後食塩水で３回洗浄し有機層の溶媒を減圧下除去する。これをエタノール３１０ｍｌから再結晶し微桃白色結晶を得る。
【０１２２】
これを３３０ｍｌのエタノールで熱懸濁洗浄し微桃白色結晶４５．８ｇ（８５％）を得る。
【０１２３】
得られた化合物はＮＭＲスペクトル、マススペクトルによって例示化合物１の構造であることを確認した。
【０１２４】
容易かつ簡便な操作によって目的とする例示化合物１が高収率で得られたことが分かる。
【０１２５】
実施例２
使用する原料を各々対応する構造の化合物に代えて（モル数は変更せずに）、その他の条件は実施例１と同様にして例示化合物５，９，１４，１６，２１，２４，３７を合成した。収率を表１に示す。
【０１２６】
【表１】
0003744032.tif 000019
【０１２７】
比較例１
ジスルフィドＣの合成
チオールＡ４０．０ｇを１３００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、３５％過酸化水素水１７．０ｇを滴下した。滴下終了後室温で５時間かき混ぜる。ここに炭酸カリウム５４ｇを水２００ｍｌに溶かした溶液を加え、次いで酸クロライドＥ１３０．６ｇを滴下する。
【０１２８】
滴下終了後加熱し５０〜６０℃で２時間反応させる。
【０１２９】
反応終了後有機層を食塩水で２回洗浄し有機層の溶媒を減圧下除去する。これを酢酸エチル−アセトニトリル混合溶媒から再結晶して黄色針状晶１０６ｇ（７８％）を得る。
【０１３０】
得られた化合物はＮＭＲスペクトル、マススペクトルによってジスルフィドＣであることを確認した。
【０１３１】
例示化合物１の合成
ジスルフィドＣに酢酸エチル１０１４ｍｌ、ジメチルホルムアミド３２８ｍｌ、ＣＯＵＰ−ＨＤ１４６．６ｇ、炭酸カリウム４６．８ｇを水１５６ｍｌに溶かした溶液を順に加える。室温でかき混ぜながら３５％、過酸化水素水６．７ｇを５分割して１時間毎に加える。
【０１３２】
過酸化水素水滴下終了後２時間たったら水２３４ｍｌを加え分液する。これを実施例１と同様に精製して淡桃白色結晶２０６ｇ（８５％）を得た。
【０１３３】
得られた化合物はＮＭＲスペクトル、マススペクトルによって例示化合物１の構造であることを確認した。トータル収率は６６．３％であった。
【０１３４】
この方法では、実施例１よりもジスルフィドＣを単離する為、一工程増え、手間がかかる上、トータル収率も低下してしまい、実施例１の方法の方が有利であることが分かる。
【０１３５】
実施例３
ＤＭＦを用いない他は実施例１と同様の合成を行うと、ＨＰＬＣによって求めた目的物（例示化合物１）の反応生成率は７４％であった。
【０１３６】
この方法は簡便に目的物を得ることができる点で本発明の目的の一部を達成しているが、反応生成率は実施例１に劣っており、反応溶媒にＤＭＦを用いることで本発明の効果がより顕著に得られることが分かる。
【０１３７】
実施例４
スルフィド合成反応後、反応液を抽出水洗する際、酸処理を行わない他は実施例１と同様の合成を行ったところ、単離収率は３５％であった。
【０１３８】
この方法は、簡便に目的物を得ることができる点で本発明の目的の一部を達成しているが、単離収率は同一の反応率である実施例１よりも劣っており、酸処理が収率向上のために有効であることが分かる。
【０１３９】
以上、実施例より、明らかになるように、本発明によって産業上有用な化合物であるスルフィド類を簡便な操作によって安定かつ安全、無公害、安価に高収率で工業的に製造できることが判る。
【０１４０】
【発明の効果】
本発明によるスルフィド類の製造方法は、安価、容易に、安定にかつ高収率でスルフィド類を得ることができる。