(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液により基板に処理を行う基板処理装置において、
その上方に基板を出し入れするための開放部を有しその内部に処理液を貯留する処理槽と、
基板を支持するとともに、前記処理槽内に貯留された処理液中に浸漬する位置と、処理液の液面より上方に配置される位置との間を昇降する基板支持部材と、
前記処理槽における開放部の上方に開閉自在に配設され、前記基板支持部材通過用の開口部が形成された第１の蓋部材と、
前記第１の蓋部材における開口部に対して開閉自在であり、前記基板支持部材が前記処理槽から退出する基板の非処理時において、前記第１の蓋部材における開口部を閉鎖するための第２の蓋部材と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記第２の蓋部材は、前記第１の蓋部材に配設されている基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記第２の蓋部材は、前記第１の蓋部材に付設された軸体に、当該第１の蓋部材に対して開閉可能に装着されている基板処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板支持部材が処理槽内に貯留された処理液中に浸漬する位置にある場合、前記第２の蓋部材の先端部が前記基板支持部材に当接する基板処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１の蓋部材は、開閉可能な左右一対の第１の蓋体を備え、
前記第２の蓋部材は、前記第１の蓋体に各々配設された左右一対の第２の蓋体を備える基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板を、処理槽に貯留された処理液中に浸漬して処理する基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
このような基板処理装置は、その上方に基板を出し入れするための開放部を有しその内部に処理液を貯留する処理槽と、そこに支持した基板を前記開放部を介して処理槽内に貯留された処理液中に浸漬するための基板支持部材と、処理槽における開放部を開閉可能な蓋部材とを備えている。
【０００３】
そして、基板を基板支持部材により支持して処理している状態や基板を処理していない状態、すなわち、基板支持部材により支持した基板を処理槽に出し入れするとき以外は、蓋体により処理槽における開放部を閉鎖することにより、処理液が蒸発して処理液の濃度が変化したり、処理液の蒸気が外部に発散したりすることを防止している。
【０００４】
ところで、上述した蓋体は、基板を基板支持部材により支持して基板を処理液中に浸漬処理している状態で、処理槽における開放部を閉鎖する必要がある。従って、蓋体には、基板支持部材と蓋体との干渉をさけるため、基板支持部材通過用の開口部が形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような構成を有する従来の基板処理装置においては、基板を処理していないときには、蓋体に形成された基板支持部材通過用の開口部には基板支持部材は進入していない。従って、蓋体に形成された基板支持部材通過用の開口部を介して、処理液が蒸発して処理液の濃度が変化したり、処理液の蒸気が外部に発散したりするという問題が生ずる。また、外部雰囲気の影響で処理液の温度が変動する場合もある。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板を処理していない状態においても蓋体に形成された開放部を閉鎖することにより、処理液の蒸発や処理液蒸気の外部への発散等を有効に防止することができるを基板処理装置提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、処理液により基板に処理を行う基板処理装置において、その上方に基板を出し入れするための開放部を有しその内部に処理液を貯留する処理槽と、基板を支持するとともに、前記処理槽内に貯留された処理液中に浸漬する位置と、処理液の液面より上方に配置される位置との間を昇降する基板支持部材と、前記処理槽における開放部の上方に開閉自在に配設され、前記基板支持部材通過用の開口部が形成された第１の蓋部材と、前記第１の蓋部材における開口部に対して開閉自在であり、前記基板支持部材が前記処理槽から退出する基板の非処理時において、前記第１の蓋部材における開口部を閉鎖するための第２の蓋部材とを備えることを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記第２の蓋部材は、前記第１の蓋部材に配設されている。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置において、前記第２の蓋部材は、前記第１の蓋部材に付設された軸体に、当該第１の蓋部材に対して開閉可能に装着されている。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記基板支持部材が処理槽内に貯留された処理液中に浸漬する位置にある場合、前記第２の蓋部材の先端部が前記基板支持部材に当接する。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第１の蓋部材は、開閉可能な左右一対の第１の蓋体を備え、前記第２の蓋部材は、前記第１の蓋体に各々配設された左右一対の第２の蓋体を備える。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る基板処理装置全体を示す概要図である。
【００１３】
この基板処理装置は、半導体ウエハ等の基板Ｗを処理液中に浸漬して処理するための複数個の処理ユニット１と、処理ユニット１において処理の終了した基板Ｗを乾燥するための乾燥ユニット２と、複数個の処理ユニット１および乾燥ユニット２の上方に設定された搬送系路３に沿って基板Ｗを搬送するための基板搬送機構４と、前段の処理工程からキャリア５に収納された状態で搬送された複数枚の基板Ｗを一括して基板搬送機構４に移載するためのローダ部６と、処理ユニット１による処理と乾燥ユニット２による乾燥とが完了した複数枚の基板Ｗを基板搬送機構４からキャリア５に一括して移載するためのアンローダ部７とを備える。
【００１４】
上述した各処理ユニット１は、各種の薬液および純水で基板を処理するためのものである。なお、この明細書においては、薬液や純水をまとめて、処理液と総称する。
【００１５】
図２は上述した処理ユニット１の側面図であり、図３はその平面図、また、図４〜図６はその要部を示す正面図である。
【００１６】
この処理ユニット１は、その内部に処理液を貯留する処理槽１２と、複数枚の基板Ｗを起立状態で支持して昇降する基板支持部材１１と、処理槽１２の上方に形成された開放部を覆う左右一対の第１の蓋体１３と、この第１の蓋体１３上に配設された左右一対の第２の蓋体１４とを備える。
【００１７】
なお、図２および図４は、基板支持部材１１が処理槽１２内に進入し、且つ、第１の蓋体１３が閉鎖位置にある状態を示している。また、図３および図５は、基板支持部材１１が処理槽１２から退出し、且つ、第１の蓋体１３が閉鎖位置にある状態を示している。さらに、図６は、基板支持部材１１が処理槽１２内に進入し、且つ、第１の蓋体１３が開放位置にある状態を示している。
【００１８】
前記処理槽１２は、その上方に基板Ｗを出し入れするための開放部を有する内槽２１と、この内槽２１内に処理液を噴出するための左右一対の処理液供給管２２と、内槽２１の上端部からオーバフローした処理液を回収するためのオーバフロー槽２３とを備える。左右一対の処理液供給管２２から供給された処理液は、上昇流となって基板Ｗの処理に供された後、オーバーフロー槽２３にオーバフローして回収される。この処理液は、必要に応じ、処理液供給管２２に循環され再使用される。
【００１９】
前記基板支持部材１１は、図７に示すように、基板Ｗを起立状態で支持するための多数の支持溝２６が形成された３本の支持アーム２５と、これらの支持アーム２５を片持ち式に支持して互いに連結する基部２４とから構成される。この基板支持部材１１は、図示しない駆動機構により、そこに保持した基板Ｗが処理槽１２に貯留された処理液中に浸漬する位置と処理液の液面より上方に配置される位置との間を昇降する。
【００２０】
前記左右一対の第１の蓋体１３は、基板Ｗを処理槽１２に出し入れするとき以外は処理槽１２の上方に形成された開放部を閉鎖するためのものである。この蓋体１３の基端部は、各々、開閉アーム３２に接続されている。また、各開閉アーム３２は、リンク機構３３を介して装置本体の側板３６に固設されたエアシリンダ３４に接続されている。このため、第１の蓋体１３は、エアシリンダ３４の駆動により、図６に示すその先端部が互いに離隔した開放位置と図４および図５に示すその先端部が互いに近接した閉鎖位置との間を開閉自在な構成となっている。また、この第１の蓋体１３における各先端部には、基板支持部材１１における基部２４の通過用の開口部３５（図３参照）が形成されている。
【００２１】
なお、第１の蓋体１３と処理槽１２におけるオーバフロー槽２３との間には、図２および図３に示すように、固定の内蓋４２、４３が配設されている。
【００２２】
前記左右一対の第２の蓋体１４は、基板Ｗの非処理時において、第１の蓋体１３に形成された開口部３５を閉鎖するためのものである。この第２の蓋体１４は、その基端部が第１の蓋体１３に付設された軸体４１に装着されており、その基端部を中心に第１の蓋体１３の開口部３５を閉鎖する位置と開放する位置との間を揺動可能な構成となっている。
【００２３】
次に、以上のような構成を有する処理ユニット１により基板Ｗを処理する場合における第１、第２の蓋体１３、１４の開閉動作について、図４〜図６に基づいて説明する。
【００２４】
先ず、複数枚の基板Ｗを基板支持部材１１により支持した状態で処理槽１２内に貯留された処理液中に浸漬する場合においては、図６に示すように、エアシリンダ３４の駆動により第１の蓋体１３を開放位置に移動させる。これにより、第１の蓋体１３上に配設された第２の蓋体１４も、第１の蓋体１３とともに処理槽１２上方の開放部を開放する位置に移動する。この状態において、複数枚の基板Ｗを起立状態で支持した基板処理部１１を処理槽１２内に進入させる。
【００２５】
次に、エアシリンダ３４の駆動により、第１の蓋体１３を図４に示す閉鎖位置に移動させる。これにより、処理槽１２上方の開放部が第１の蓋体１３により閉鎖される。このとき、第１の蓋体１３における各先端部には、基板支持部材１１の一部、すなわち基板支持部材１１における基部２４の通過用の開口部３５（図３参照）が形成されていることから、基板支持部材１１の基部２４が第１の蓋体１３の閉鎖位置への移動の障害となることはない。
【００２６】
また、この第１の蓋体１３の閉鎖位置への移動に伴って、左右一対の第１の蓋体１３上に各々配設された第２の蓋体１４も移動する。しかしながら、図４に示すように、この第２の蓋体１４は、その先端部が基板支持部材１１の基部２４に当接した位置で停止する。この状態で、さらに基板支持部材１１を下降させ、基板Ｗを処理液供給管２２から供給された処理液により処理槽１２内において処理する。
【００２７】
基板Ｗの処理が完了すれば、エアシリンダ３４の駆動により、第１の蓋体１３を図６に示す開放位置に再度移動させる。これにより、第１の蓋体１３上に配設された第２の蓋体１４も、第１の蓋体１３とともに処理槽１２上方の開放部を開放する位置に移動する。この状態において、複数枚の基板Ｗを起立状態で支持した基板支持部材１１を上昇させ、処理槽１２内から退出させる。
【００２８】
続いて、エアシリンダ３４の駆動により、第１の蓋体１３を図４に示す閉鎖位置に移動させる。これにより、図５に示すように、処理槽１２上方の開放部が第１の蓋体１３により閉鎖される。この第１の蓋体１３の閉鎖位置への移動に伴って、左右一対の第１の蓋体１３上に各々配設された第２の蓋体１４も移動する。この場合においては、基板支持部材１１は存在していないことから、図５に示すように、この第２の蓋体１４は、自重により第１の蓋体１３の開口部３５を閉鎖する位置まで移動する。
【００２９】
このように、基板支持部材１１が処理槽１２から退出した基板Ｗの非処理時においても、第１の蓋体１３に形成された開口部３５は第２の蓋体１４により閉鎖されることから、この開口部３５を介して、処理液が蒸発して処理液の濃度が変化したり、処理液の蒸気が外部に発散したりするという問題や、外部雰囲気の影響で処理液の温度が変動するという問題の発生を未然に防止することが可能となる。
【００３０】
なお、上述した実施形態においては、第２の蓋体１３を、その自重により第１の蓋体１３に形成された開口部３５を閉鎖する位置まで移動させているが、バネ等を利用して、第２の蓋体１４を第１の蓋体１３に形成された開口部３５を閉鎖する位置まで強制的に移動させるようにしてもよい。
【００３１】
また、上述した実施形態においては、第２の蓋体１４を第１の蓋体１３上に配設することにより、第１の蓋体１３と第２の蓋体１４とを、共通の駆動源たるエアシリンダ３４の駆動により移動させているが、第１の蓋体１３と第２の蓋体１４とを個別の駆動源により移動させる構成としてもよい。
【００３２】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、支持部材通過用の開口部が形成された第１の蓋部材と、第１の蓋部材における開口部を閉鎖するための第２の蓋部材とを備えたことから、基板支持部材通過用の開口部を閉鎖することが可能となり、この開口部を介しての処理液の蒸発や処理液蒸気の外部への発散等を有効に防止することができる。また、外部雰囲気の影響による処理液の温度変動を防止することも可能となる。
【００３３】
請求項２に記載の発明によれば、第２の蓋部材が第１の蓋部材に配設されていることから、共通の駆動源を利用して第１の蓋部材と第２の蓋部材とを開閉することが可能となる。
【００３４】
請求項３に記載の発明によれば、第２の蓋部材がその基端部を第１の蓋部材に対して開閉可能に装着されていることから、簡易な構成により第２の蓋部材を開閉することが可能となる。
【００３５】
請求項４に記載の発明によれば、基板支持部材が処理槽内に貯留された処理液中に浸漬する位置にある場合、前記第２の蓋部材の先端部が前記基板支持部材に当接することから、簡易な構成でありながら第１の蓋部材の開口部を介しての処理液の蒸発や処理液蒸気の外部への発散等を有効に防止することが可能となる。
【００３６】
請求項５に記載の発明によれば、第１の蓋部材が開閉可能な左右一対の蓋体から構成され、第２の蓋部材が第１の蓋部材を構成する左右一対の蓋体に各々配設されていることから、処理槽の上部に大きな空間を設けることなく処理槽における開放部の開閉動作を実行することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る基板処理装置全体を示す概要図である。
【図２】処理ユニット１の側面図である。
【図３】処理ユニット１の平面図である。
【図４】処理ユニット１の要部を示す正面図である。
【図５】処理ユニット１の要部を示す正面図である。
【図６】処理ユニット１の要部を示す正面図である。
【図７】基板支持部材１１の斜視図である。
【符号の説明】
１      処理ユニット
２      乾燥ユニット
３      搬送系路
４      基板搬送機構
５      キャリア
６      ローダ部
７      アンローダ部
１１    基板支持部材
１２    処理槽
１３    第１の蓋体
１４    第２の蓋体
２１    内槽
２２    処理液供給管
２３    オーバフロー槽
２４    基部
２５    支持アーム
２６    支持溝
３２    開閉アーム
３３    リンク機構
３４    エアシリンダ
３５    開口部
４２    内蓋
４３    内蓋
Ｗ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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