(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散媒中に砥粒が分散させられて研磨加工のために研磨盤上に供給される研磨加工用スラリーであって、
前記分散媒に析出した状態の親水基を持った脂肪酸塩と、該分散媒に析出した状態の親水基と疎水基とを持つ脂肪酸とを含むルブリカントに、前記砥粒が分散させられ、
該脂肪酸は、Ｃ１８〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えたものであることを特徴とする研磨加工用スラリー。
【請求項２】
前記分散媒は水または水溶性アミンによるアミン水溶液であり、前記親水基を持った脂肪酸塩は、Ｃ６〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えた脂肪酸Ｎａ塩である請求項１の研磨加工用スラリー。
【請求項３】
前記親水基と疎水基とを持つ脂肪酸は、ステアリン酸および／またはベヘン酸である請求項１または２の研磨加工用スラリー。
【請求項４】
研磨加工用ルブリカントは消泡剤を含み、該消泡剤はＣ１〜Ｃ２２の範囲の炭素数を備えたものである請求項１乃至３のいずれかの研磨加工用スラリー。
【請求項５】
前記ルブリカントは、０．１〜３０重量％のアミンと、２０重量％以下の析出した脂肪酸と、２０重量％以下の析出した脂肪酸Ｎａ塩と、０．００１〜１０重量％の消泡剤と、残部の水とを含むものである請求項１乃至４のいずれかの研磨加工用スラリー。
【請求項６】
０．０１〜５０重量％の砥粒が前記ルブリカントに混合されたものである請求項１乃至５のいずれかの研磨加工用スラリー。
【請求項７】
前記砥粒は、３０μｍ以下の平均粒径を備えたものである請求項１乃至６のいずれかの研磨加工用スラリー。
【請求項８】
分散媒中に砥粒が分散させられて研磨加工のために研磨盤上に供給される研磨加工用スラリーのためのルブリカントであって、
前記分散媒に析出した状態の親水基を持った脂肪酸塩と、該分散媒に析出した状態の親水基と疎水基とを持つ脂肪酸とを含み、
該脂肪酸は、Ｃ１８〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えたものであることを特徴とする研磨加工用スラリーのためのルブリカント。
【請求項９】
前記分散媒は水または水溶性アミンによるアミン水溶液であり、前記親水基を持った脂肪酸塩は、Ｃ６〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えた脂肪酸Ｎａ塩である請求項８の研磨加工用スラリーのためのルブリカント。
【請求項１０】
前記親水基と疎水基とを持つ脂肪酸は、ステアリン酸および／またはベヘン酸である請求項８または９の研磨加工用スラリーのルブリカント。
【請求項１１】
前記研磨加工用スラリーのためのルブリカントは消泡剤を含み、該消泡剤はＣ１〜Ｃ２２の範囲の炭素数を備えたものである請求項８乃至１０のいずれかの研磨加工用スラリーのためのルブリカント。
【請求項１２】
前記研磨加工用スラリーのためのルブリカントは、０．１〜３０重量％のアミンと、２０重量％以下の析出した脂肪酸と、２０重量％以下の析出した脂肪酸Ｎａ塩と、０．００１〜１０重量％の消泡剤と、残部の水とを含むものである請求項６または７の研磨加工用スラリーのためのルブリカント。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、砥粒が分散させられ、研磨加工に際してワークが摺接させられる研磨盤の上に供給される研磨加工用スラリーに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば砥粒などの研磨剤を含む研磨加工用スラリーが供給された研磨盤或いはラップ盤の上面にワークを摺接させることによりそのワークの一面に研磨加工を施す遊離砥粒を用いた研磨加工が知られている。たとえば、所謂ラッピング加工、ポッリシング加工などと称されるものがそれである。このような遊離砥粒型の研磨加工では、それに用いられる研磨加工用スラリーに含まれる砥粒がワークと研磨盤との間に介在することにより研磨が進行させられる。
【０００３】
ところで、上記のような研磨加工に際しては、上記スラリー中に混入される研磨剤すなわち砥粒の大きさ（粒径）によってワークに対する研磨面粗さと研磨加工能率とが決定されるという性質がある。たとえば、砥粒の粒径が大きくなると研磨面が粗くなるが研磨加工能率が高められ、砥粒の粒径が小さくなると研磨面の表面粗さが細かくなり研磨加工能率が低くなるという傾向がある。このため、ワークの研磨面の表面粗さを細かくすると同時に研磨能率を向上させるために、スラリー中に含まれる砥粒の粒径を小さくしつつその砥粒の割合を高めることが提案されている。
【０００４】
しかしながら、上記従来の研磨加工用スラリーによれば、若干の研磨加工能率の向上が見られるが、実際の研磨加工においてはスラリー中の砥粒の一部しかそれらワークと研磨盤との間において研磨に関与することができず、他の多くの砥粒は研磨加工に関与できないまま排出されてしまうので、比較的高価な砥粒の混入率増加に見合った研磨加工能率の向上が得られず、また、廃液などの廃棄物が大幅に増加するという不都合があった。
【０００５】
これに対し、本出願人は、分散媒に溶解し且つ析出した状態の界面活性剤を上記研磨加工用スラリーに添加してその界面活性剤を砥粒間の隙間に介在する隙間剤として機能させて砥粒を分散させることにより、比較的細かい研磨剤或いは少量の研磨剤を用いても加工能率が高くし、被加工物の高品位な表面性状と加工能率とが両立できるようにした研磨加工用スラリーを提案した。特願平１１−２１４７７６号（未公開）の明細書に記載された発明がそれである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記の研磨加工用スラリーにおいては、スラリーを連続供給する一方で使用済の排出されたスラリーを廃棄する非循環方式の研磨装置で研磨を行う場合には、大変良好な性能を発揮することができる。しかしながら、経済性と廃棄物処理の点からスラリー循環方式の研磨装置で研磨を行う場合には、スラリーの流動性が不十分であることからスラリー循環経路内で詰まりが発生し易くなるという不都合が発生する。また、スラリーの流動性を高めるために上記隙間剤を少なくすると、数時間で隙間剤と研磨剤（砥粒）とが分離或いは分層するので、研磨性能が低下してしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は以上の事情を背景として為されたものであり、その目的とするところは、研磨加工において研磨面の表面粗さを細かくすると同時に研磨能率を向上させることができ、しかも流動性が高く循環経路内で詰まりの発生しない研磨加工用スラリーを提供することにある。
【０００８】
本発明者等は、以上の事情を背景として種々検討を重ねた結果、研磨盤とそれに向かって押圧されるワークとの間に砥粒が容易に入り込むことができるように、そのスラリー中に析出させた脂肪酸塩などのような研磨の邪魔をしない（自由に変形する）隙間剤を上記スラリー中に砥粒と砥粒との間に介在させてその砥粒を積極的に分散させるようにした研磨加工用スラリーに対して、上記脂肪酸塩よりも分子量の大きい脂肪酸を混入すると、研磨加工用スラリーの研磨性能が損なわれることなく隙間剤と研磨砥粒との分離が防止され、循環型研磨装置において循環経路の詰まりが好適に防止されることを見いだした。この添加された脂肪酸は上記隙間剤同士の間隔を保つ緩衝剤として機能するものと考えられる。本発明はこのような知見に基づいて為されたものである。
【０００９】
【課題を解決するための第１の手段】
すなわち、第１発明の要旨とするところは、分散媒中に砥粒が分散させられて研磨加工のために研磨盤上に供給される研磨加工用スラリーであって、前記分散媒に析出した状態の親水基を持った脂肪酸塩と、その分散媒に析出した状態の親水基と疎水基とを持つ脂肪酸とを含む研磨加工用ルブリカントに、前記砥粒が分散させられ、その脂肪酸は、Ｃ１８〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えたことにある。
【００１０】
【課題を解決するための第２の手段】
また、第２発明の要旨とするところは、分散媒中に砥粒が分散させられて研磨加工のために研磨盤上に供給される研磨加工用スラリーのためのルブリカントであって、前記分散媒に析出した状態の親水基を持った脂肪酸塩と、その分散媒に析出し状態の親水基と疎水基とを持つ脂肪酸とを含み、その脂肪酸は、Ｃ１８〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えたことにある。
【００１１】
【第１発明および第２発明の効果】
このようにすれば、研磨加工用スラリー或いはその研磨加工用スラリーから研磨剤（砥粒）を除いたルブリカントに含まれている、分散媒に析出した状態の親水基を持った脂肪酸塩は、スラリー中の砥粒と砥粒との間に介在してその砥粒を積極的に分散させ且つ自由に変形して研磨加工の邪魔をしない隙間剤として機能するので、相対移動させられる研磨盤とそれに向かって押圧されるワークとの間に砥粒が容易に入り込むことができるようになり、研磨加工において表面粗さの細かな高品位の研磨面が得られると同時に研磨能率を向上させることができる。同時に、上記研磨加工用スラリー或いはその研磨加工用スラリー内のルブリカントに含まれている、分散媒に析出した状態の親水基と疎水基とを持つ脂肪酸は、上記の隙間剤同士の間隔を保つ緩衝剤として機能するので、隙間剤の動きが滑らかとなって隙間剤と研磨砥粒との分離が防止され、研磨加工用スラリーの研磨性能が損なわれることなく循環型研磨装置において循環経路の詰まりが好適に防止される。
【００１２】
【発明の他の態様】
ここで、好適には、前記分散媒は、水、或いはアルカノールアミンなどのような水溶性アミンすなわちアミン水溶液である。このようにすれば、油性の研磨加工用スラリーに比較して取扱いが容易となり、作業環境が向上する。
【００１３】
また、好適には、上記分散媒に溶解し且つ析出した状態の親水基を持った濃度転移型液晶（Lyotropic Lquid Crystal ）は、砥粒間に介在してその砥粒を分散させる隙間剤として機能するものであり、Ｃ６〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えた水和性の脂肪酸塩である。このようにすれば、脂肪酸塩が分散媒に容易に溶解して析出粒子が得られる。
【００１４】
また、好適には、前記親水基と疎水基とを持つ物質は、隙間剤として機能する上記脂肪酸塩同士の間隔を保つ緩衝剤として機能するものであり、Ｃ１０〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えて飽和濃度以上に溶解させられて析出させられた脂肪酸である。このようにすれば、脂肪酸が分散媒に容易に溶解して析出粒子が得られる。この脂肪酸は、上記脂肪酸塩よりも分子量の大きい高分子であることが望ましい。
【００１５】
また、好適には、前記研磨加工用スラリーのルブリカントは、研磨装置のスラリー循環経路を通って還流させられるスラリーの流通が泡により阻害されることを防止するためにその泡の発生を抑制する機能を備えた消泡剤を含むものであり、その消泡剤はＣ１〜Ｃ２２の範囲の炭素数を備えた極性有機物である。この極性有機物としては、アルコールに限られないが、たとえばＣ１８のオレイルアルコールなどのように、炭素数がＣ６以上の中級アルコール或いは高級アルコールが好適に用いられる。
【００１６】
また、好適には、前記研磨加工用スラリーのルブリカントは、０〜３０重量％のアミン水溶液と、飽和量〜飽和量＋２０重量％の脂肪酸と、飽和量〜飽和量＋２０重量％の脂肪酸塩と、０．００１〜１０重量％の極性有機物と、残部の水とを含むものである。さらに好適には、上記研磨加工用ルブリカントは、０．１〜３重量％のアミン水溶液と、飽和量〜飽和量＋５重量％の脂肪酸と、飽和量〜飽和量＋５重量％の脂肪酸塩と、０．１〜２重量％の極性有機物と、残部の水とを含むものである。このようにすれば、研磨加工用スラリー中の砥粒の凝集も少なく、研磨加工時の研磨盤上でも砥粒の保持性も良く、研磨加工用スラリーの流動性も良好であり、貯留タンクなどでの分層も発生し難いため、砥粒が有効に作用できる。上記アミン水溶液は、３０重量％を越えると強度のアルカリ性となって作業性が低下するので、３０重量％以下さらに３重量％以下が望ましい。また、ルブリカントの安定性を高めるために０．１重量％以上が望ましい。上記脂肪酸は、飽和量を下まわると析出が得られなくなり、飽和量＋２０重量％を越えると白濁して水和状態になり難く或いは一度に水に溶解し難くなってスラリーの流動性が損なわれるので、飽和量＋２０重量％以下とくに飽和量＋５重量％以下が望ましい。上記脂肪酸塩は、同様に、飽和量を下まわると析出が得られなくなり、飽和量＋２０重量％を越えるとルプリカントの流動性が損なわれるので、飽和量＋２０重量％以下とくに飽和量＋５重量％以下が望ましい。上記極性有機物は、０．１重量％特に０．００１重量％を下回ると消泡作用が十分に得られ難くなり、２重量％特に１０重量％を越えると分離が発生する。
【００１７】
また、好適には、前記研磨加工用スラリーは、前記のルブリカントに０．０１〜５０重量％の砥粒が混合されたものである。砥粒の混合率が０．０１重量％を下まわると研磨能率が十分に得られなくなり、５０重量％を越えるとスラリーの流動性が十分に得られなくなる。
【００１８】
また、好適には、前記砥粒は、３０μｍ以下の平均粒径を備えたものである。このようにすれば、ワークの研磨面の表面粗さが好適に得られる。
【００１９】
また、好適には、前記研磨加工用スラリーは、７．５〜１２の水素イオン濃度（ｐＨ）を有するものである。このようにすれば、界面活性剤すなわち前記脂肪酸または脂肪酸塩が化学的に安定し、水和状態が長期間にわたって好適に保持されるので、砥粒の分散状態も比較的均質に保持される。上記水素イオン濃度が７．５を下まわると、脂肪酸或いは脂肪酸塩、特にステアリン酸ナトリウム（Ｃ17Ｈ35−ＣＯＯＮａ）が水和状態になり難くなり、例えば酸化セリウム等の研磨剤がごつごつとした固まりの状態となって砥粒が好適に分散されないと同時に、研磨装置の各部に錆が発生する。また、上記水素イオン濃度が１２を上まわると、手荒れ等をおこすため素手で扱い難くなり、またスラリ─の供給・排出用の樹脂配管等を傷める。
【００２０】
【発明の好適な実施の形態】
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２１】
図１は本発明の一実施例の研磨加工用スラリー１０が適用されるスラリー循環型の研磨装置１２の構成を概略説明する図である。この研磨装置１２は、垂直軸まわりに回転駆動される比較的軟質のポリシングパッド或いはラップ盤などの研磨盤１４と、その研磨盤１４の上面である研磨面（ラップ面）１６に摺接状態で押圧される状態でワーク（被研磨材）１８を自転可能に保持する図示しないワークホルダと、上記研磨盤１４から落下する研磨加工用スラリー１０を受ける受カバー２０と、その受カバー２０により受けられた研磨加工用スラリー１０を再び研磨盤１６上に供給するスラリー供給装置２２とを備えている。このスラリー供給装置２２は、上記受カバー２０に第１管路２４を介して接続された攪拌機２６を有する貯留タンク２８と、その第１管路２４に設けられて受カバー２０に受けられた研磨加工用スラリー１０を貯留タンク２８へ送給するポンプ３０と、貯留タンク２６内の研磨加工用スラリー１０を上記研磨盤１４の研磨面１６に供給する第２管路３２とを備え、一旦使用された研磨加工用スラリー１０を再び研磨盤１４の研磨面１６に循環させることにより繰り返し研磨加工に使用できるようにして、廃棄物処理の問題を逓減し且つ経済性を高めている。
【００２２】
上記の研磨加工用スラリー１０は、たとえば図２の模式図に示すように、水或いはアミン水溶液すなわち０〜３０重量％のアミン水溶液から成る分散媒３６に溶解飽和値以上に溶解されて析出させられた状態の親水基を持った濃度転移型液晶から成る隙間剤３８と、その分散媒３６に溶解飽和値以上に溶解させられて析出させられた状態の親水基および疎水基を持つ物質から構成される緩衝剤４０と、消泡剤と、残部の水とが混合されたルブリカント４２に対して、好適には平均粒径が３０μｍ程度以下の比較的細かな砥粒４４が分散させられることにより構成されている。図２の隙間剤３８および緩衝剤４０は析出粒子を示している。
【００２３】
上記砥粒４４は、たとえば酸化セリウム、シリカ（ＳｉＯ2 ）、酸化マンガン（ＭｎＯ2 、Ｍ2 ｎＯ3 、Ｍｎ3 Ｏ4 など）、アルミナ質（Ａｌ2 Ｏ3 ）砥粒、炭化珪素質（ＳｉＣ）砥粒などの一般砥粒、或いはダイヤモンド砥粒やＣＢＮ砥粒などの超砥粒から構成され、スラリー１０に対して０．０１〜５０重量％の割合で混入されている。この砥粒４４の混入割合が０．０１重量％を下まわると研磨能率が十分に得られ難くなり、５０重量％を越えると流動性の低いペースト状となってしまうおそれがあるからである。
【００２４】
また、上記濃度転移型液晶から成る隙間剤３８は、砥粒４４間に介在して隙間を形成することによりその砥粒４４を分散させる機能するものであり、Ｃ６〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えた水和性の脂肪酸塩、たとえばＲ−ＣＯＯＮａ、Ｒ−ＣＯＯＫ、Ｒ−ＣＯＯＮＨ3 などの化学式で代表される、親水基−ＣＯＯＮａ、−ＣＯＯＫ、−ＣＯＯＮＨ3 、および疎水基（親油基）Ｒ−（Ｃn Ｈ2n+1−）を各々備えた物質であり、ルブリカント４２に対して飽和量〜飽和量＋２０重量％、好適には飽和量〜飽和量＋５重量％の割合で混入されている。上記脂肪酸塩の割合が飽和量を下まわるとその析出粒子が得られなくなり、５重量％特に２０重量％を越えると水和状態になり難く或いは一度に溶解し難くなる。また、上記脂肪酸塩において、炭素数がＣ６を下まわると析出が困難となるので、砥粒と砥粒との間に介在してその砥粒を積極的に分散させ且つ自由に変形して研磨加工の邪魔をしない隙間剤としての機能が不十分となるとともに、炭素数がＣ３０を上まわると自然界或いは産業界で存在しない物質となって入手が困難となり高価となるので、Ｃ６乃至Ｃ３０の炭素数範囲内のものが好適に用いられる。
【００２５】
また、上記親水基および疎水基を持つ物質から構成される緩衝剤４０は、上記隙間剤（脂肪酸塩）３８と砥粒４４との分離或いは分層を防止するためにその隙間剤３８同士の間隔を保つ緩衝剤として機能するものであり、Ｃ１０〜Ｃ３０の範囲の炭素数を備えて飽和濃度以上に溶解させられて析出させられた脂肪酸から構成されるものであり、ルブリカント４２に対して飽和量〜飽和量＋２０重量％、好適には飽和量〜飽和量＋５重量％の割合で混入されている。上記脂肪酸の割合が飽和量を下まわるとその析出粒子が得られなくなり、５重量％特に２０重量％を越えると水和状態になり難く或いは一度に溶解し難くなる。この脂肪酸は、たとえば−ＣＯＯ- などの親水基とたとえばＣn Ｈ2n+1−などの疎水基（親油基）とを備えた物質たとえば界面活性剤であり、上記隙間剤３８よりも分子量の大きい高分子であることが望ましい。この緩衝剤（脂肪酸）４０において、炭素数がＣ１０を下まわると析出が困難となるので、上記隙間剤３８の間に介在してその隙間剤３８と砥粒４４との分離を防止する緩衝剤としての機能が不十分となる。また、炭素数がＣ３０を上まわると自然界或いは産業界で存在しない物質となって入手が困難となり、高価となる。
【００２６】
また、前記研磨加工用スラリー１０のルブリカント４２に含まれる消泡剤は、前記第１管路２４、貯留タンク２８、第２管路３２、受けカバー２０からなるスラリー循環経路を経るスラリー１０の還流が泡の発生により阻害されることを防止するためにその泡の発生を抑制する機能を備えている。この消泡剤はＣ１〜Ｃ２２の範囲の炭素数を備えた極性有機物である。この極性有機物としては、シリコーン系なども使用可能であるためアルコール系に限られないが、アルカリ性が強い場合は分解などが発生して効果が長続きしない。また、Ｃ５以下の炭素数の低級アルコールでも消泡効果は高いが効果が長続きしない。このため、たとえばＣ１８のオレイルアルコールなどのように、炭素数がＣ６以上の中級アルコール或いは高級アルコールが好適に用いられる。
【００２７】
また、前記研磨加工用スラリー１０は、それに含まれる脂肪酸或いは脂肪酸塩の水和状態を好適に保持するために、７．５〜１２、好適には７．５〜１１の水素イオン濃度（ｐＨ）の範囲を有するものとなるようにｐＨ調整されている。上記水素イオン濃度が７．５を下まわると、脂肪酸或いは脂肪酸塩、特にステアリン酸ナトリウム（Ｃ17Ｈ35−ＣＯＯＮａ）が水和状態になり難くなり、ごつごつとした固まりの状態となって砥粒４４が好適に分散されないと同時に、研磨装置の各部に錆が発生する。また、上記水素イオン濃度が１１、特に１２を上まわると、手荒れ等をおこすため素手で扱い難くなり、またスラリ─の供給・排出用の樹脂配管等を傷める。
【００２８】
上述のように、研磨加工用スラリー１０或いはそれに含まれるルブリカント４２には、水或いはアミン水溶液などの分散媒３６に溶解し且つ析出した状態の隙間剤（脂肪酸塩から成る濃度転移型液晶）３８および緩衝剤（脂肪酸）４０が含まれることから、分散媒３６中に析出した粒状の隙間剤３８が砥粒４４の間に介在することによってその砥粒４４が積極的に分散させられ、同様に分散媒３６中に析出した粒状の緩衝剤４０が隙間剤３８同士の間隔を保持してその動きを滑らかとすることにより隙間剤３８と砥粒４４との分離を抑制するため、たとえば前記研磨装置１２の研磨加工に２時間使用した場合でも、図３に示すように、隙間剤３８が砥粒４４の間に介在した状態が保持され、且つ隙間剤３８と砥粒４４との分離が発生しないので、研磨加工においてワーク２２の研磨面２４の表面粗さを細かくすると同時に研磨能率を向上させることができる。また、上記緩衝剤（脂肪酸）４０により隙間剤３８の動きが滑らかとされるので、研磨性能が損なわれることなく第１管路２４、貯留タンク２８、第２管路３２、受けカバー２０からなるスラリー循環経路の詰まりが好適に防止される。
【００２９】
因みに、図４および図５は、上記図２および図３に相当するものであって、分散媒３６内に析出した粒状の緩衝剤（脂肪酸）４０を含まない場合のスラリー５０の構成を模式的に示す図である。当初は図４に示すように均一に分散させられていたが、たとえば前記研磨装置１２の研磨加工に２時間使用した場合では、図５に示すように、隙間剤３８と砥粒４４との分離が発生し、スラリー５０の流動性が不十分となってそのスラリー５０の循環経路内で詰まりが発生し易くなるとともに、スラリー５０の流動性を高めるために上記隙間剤３８を少なくすると、数時間で隙間剤３８と砥粒（研磨剤）４４とが分離或いは分層するので、研磨性能が低下するのである。
【００３０】
以下、本発明者が行った実験例を説明する。この実験では、表１に示す各スラリーの研磨性能が以下に示す実験条件下で研磨した場合の加工レート（単位時間あたりの研磨量）の比の値すなわち寸法レートおよびその経時的変化を対比することにより評価されている。表１に示すように、この実験例では、研磨剤のみのスラリー、緩衝剤４０を含まない従来のスラリー、本発明が適用されたスラリー１およびスラリー２が用いられている。図６は、それらスラリーの加工レートの比の経時的変化が示されている。図６において、×印は研磨剤のみのスラリーを、◇印は緩衝剤４０を含まない従来のスラリー（従来品）を、□印はスラリー１を、△印はスラリー２をそれぞれ示している。
【００３１】
（表１）
含有物質(W％)    研磨剤のみのスラリー  従来品  スラリー１  スラリー２
研磨材（酸化セリウム）        ２０．０  ２０．０  ２０．０    ２０．０
水                            ８０．０  ７７．０  ７６．２    ７６．２
アルカノールアミン                        １．０    １．０      １．０
ステアリン酸Ｎａ（Ｃ１８）                ２．０    １．６      １．６
ステアリン酸（Ｃ１８）                                          ０．８
ベヘン酸（Ｃ２２）                                  ０．８
オレイルアルコール                                  ０．４      ０．４
【００３２】
研磨条件
被研磨材（ワーク）の材質：強化ガラスディスク基板
ワーク回転速度          ：４５ｒｐｍ
ポリシングパッド        ：発泡ウレタン系樹脂
ポリシングパッド回転速度：４５ｒｐｍ
研磨荷重                ：１００ｇｆ／ｃｍ2
【００３３】
図６から明らかなように、研磨剤のみのスラリーは加工レートが低いのに対し、緩衝剤４０を含まない従来のスラリーはその研磨剤のみのスラリーよりも加工レートが大幅に高くなるが、加工時間の経過とともに急速に低下する。これに対し、スラリー１および２は、研磨剤のみのスラリーよりも加工レートが大幅に高く、しかも加工時間の経過とともに低下する割合が大幅に小さい。
【００３４】
なお、上述したのはあくまでも本発明の一実施例であり、本発明はその主旨を逸脱しない範囲において種々の変更が加えられ得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の研磨加工用スラリーが用いられる研磨盤の構成を概略説明する斜視図である。
【図２】図１の研磨加工用スラリーの構成を模式的に説明する図である。
【図３】図１の研磨加工用スラリーが研磨加工に所定時間用いられた後の構成を模式的に説明する図である。
【図４】緩衝剤が含まれない他は図１の研磨加工用スラリーと同様のスラリーの構成を模式的に説明する図である。
【図５】図４の研磨加工用スラリーが研磨加工に所定時間用いられた後の構成を模式的に説明する図である。
【図６】図１の研磨加工用スラリーの研磨性能を評価するために、その研磨加工用スラリーの加工レートの比の経時変化を、研磨剤のみのスラリーおよび図４のスラリーと比較して示す図である。
【符号の説明】
１０：研磨加工用スラリー
１８：ワーク（被研磨材）
３６：分散媒
３８：隙間剤（分散媒に溶解し且つ析出した状態の親水基を持った濃度転移型液晶）
４０：緩衝剤（分散媒に溶解し且つ析出した状態の親水基と疎水基とを持つ物質）
４２：ルブリカント
４４：砥粒
【図１】
0003840056.tif 000002
【図２】
0003840056.tif 000003
【図３】
0003840056.tif 000004
【図４】
0003840056.tif 000005
【図５】
0003840056.tif 000006
【図６】
0003840056.tif 000007