(57)【要約】  本発明は、塗布性に優れ、膜厚ムラを抑制することができ、層として形成された後において上層塗布性に優れ、液晶配向性も良好とすることができる光学積層体の製造方法を提供することを課題とする。本発明の光学積層体の製造方法は、支持体上に、バインダーと光配向性基を有する光配向性ポリマーを含有するバインダー組成物を塗布し、第１の塗膜を形成する第１塗布工程と、第１塗布工程の後に、バインダー層を形成するバインダー層形成工程と、偏光または無偏光を照射し、配向規制力が付与されたバインダー層を形成する光照射工程と、バインダー層上に、光学異方性層を形成する重合性液晶組成物を直接塗布する第２塗布工程と、第２塗布工程の後に、光学異方性層を形成する光学異方性層形成工程と、を有し、第１の塗膜の表面の水接触角θａと、重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層の表面の水接触角θｂとが、式（Ｉ）を満たす、光学積層体の製造方法である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、配向規制力が付与されたバインダー層と、光学異方性層とをこの順に有する光学積層体を作製する、光学積層体の製造方法であって、
支持体上に、バインダーと光配向性基を有する光配向性ポリマーとを含有するバインダー組成物を塗布し、第１の塗膜を形成する第１塗布工程と、
前記第１塗布工程の後に、バインダー層を形成するバインダー層形成工程と、
偏光または無偏光を照射し、配向規制力が付与されたバインダー層を形成する光照射工程と、
前記バインダー層上に、光学異方性層を形成する重合性液晶組成物を直接塗布する第２塗布工程と、
前記第２塗布工程の後に、光学異方性層を形成する光学異方性層形成工程と、を有し、
前記光照射工程が、前記バインダー層形成工程と前記第２塗布工程との間、または、前記バインダー層形成工程もしくは前記第２塗布工程と同時、に行う工程であり、
前記第１の塗膜の表面の水接触角θａと、
前記重合性液晶組成物を直接塗布する際の前記バインダー層の表面の水接触角θｂとが、
下記式（Ｉ）を満たす、光学積層体の製造方法。
θａ−θｂ＞５  ・・・（Ｉ）
【請求項２】
前記光照射工程が、前記バインダー層形成工程と前記第２塗布工程との間に行う工程であり、
前記水接触角θｂが、前記光照射工程後の配向規制力が付与された前記バインダー層の表面の水接触角θｂである、請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項３】
前記光配向性ポリマーが、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種の作用により分解して極性基を生じる開裂基を含む繰り返し単位Ａを有する光配向性ポリマーであって、
前記繰り返し単位Ａが、側鎖に前記開裂基を有し、かつ、前記側鎖の前記開裂基よりも末端側にフッ素原子またはケイ素原子を有し、
以下に示す条件１または条件２を満たす、光配向性ポリマーである、請求項１または２に記載の光学積層体の製造方法。
条件１：前記繰り返し単位Ａとは別に、更に光配向性基を含む繰り返し単位Ｂを有する。
条件２：前記繰り返し単位Ａが、前記側鎖の前記開裂基よりも主鎖側に光配向性基を含む。
【請求項４】
更に、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種を作用させる作用工程を有し、
前記作用工程が、前記バインダー層形成工程と前記第２塗布工程との間、または、前記バインダー層形成工程または前記第２塗布工程と同時、に行う工程である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートおよび位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消および視野角拡大などの観点から、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶化合物を用いた光学異方性層を使用することが提案されている。【０００３】
このような光学異方性層は、液晶化合物を配向させるために、光学異方性層を形成する支持体上に配向膜を設けることが知られており、また、この配向膜として、ラビング処理に代えて光配向処理を施した光配向膜が知られている。【０００４】
例えば、特許文献１には、シンナモイル基などの光二量化部位を有するアクリル共重合体と架橋剤とを含有する熱硬化膜形成組成物から形成される液晶配向層が開示されている（［請求項１］［請求項３］［請求項１１］［００２８］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１０／１５０７４８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らは、特許文献１などに記載された液晶配向層と、その上層に設けられ、重合性液晶組成物を用いて形成される光学異方性層とを有する光学積層体をより迅速に作製することを検討したところ、液晶配向層の形成に公知のフッ素系界面活性剤を用いると、塗布性が良好となり、また、乾燥時の乾燥風で引き起こされる膜厚ムラ（以下、「風ムラ」ともいう。）も抑制できることが分かったが、使用するフッ素系界面活性剤の種類によっては、形成された液晶配向層の上層に設ける光学異方性層用の組成物の塗布性（以下、「上層塗布性」ともいう。）が劣る場合や、形成される光学異方性層の配向性（以下、「液晶配向性」ともいう。）が劣る場合があることを明らかとした。【０００７】
そこで、本発明は、塗布性に優れ、膜厚ムラを抑制することができ、層として形成された後において上層塗布性に優れ、液晶配向性も良好とすることができる光学積層体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、バインダー組成物を塗布して形成された塗膜表面の水接触角θａと、バインダー層上に重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層の表面の水接触角θｂとの大小関係が、θａ−θｂ＞５を満たすことにより、塗布性に優れ、膜厚ムラを抑制することができ、層（バインダー層）として形成された後において上層塗布性に優れ、液晶配向性も良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００９】
［１］  支持体と、配向規制力が付与されたバインダー層と、光学異方性層とをこの順に有する光学積層体を作製する、光学積層体の製造方法であって、
支持体上に、バインダーと光配向性基を有する光配向性ポリマーを含有するバインダー組成物を塗布し、第１の塗膜を形成する第１塗布工程と、
第１塗布工程の後に、バインダー層を形成するバインダー層形成工程と、
偏光または無偏光を照射し、配向規制力が付与されたバインダー層を形成する光照射工程と、
バインダー層上に、光学異方性層を形成する重合性液晶組成物を直接塗布する第２塗布工程と、
第２塗布工程の後に、光学異方性層を形成する光学異方性層形成工程と、を有し、
光照射工程が、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間、または、バインダー層形成工程もしくは第２塗布工程と同時、に行う工程であり、
第１の塗膜の表面の水接触角θａと、
重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層の表面の水接触角θｂとが、
下記式（Ｉ）を満たす、光学積層体の製造方法。
θａ−θｂ＞５  ・・・（Ｉ）【００１０】
［２］  光照射工程が、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間に行う工程であり、
水接触角θｂが、光照射工程後の配向規制力が付与されたバインダー層の表面の水接触角θｂである、［１］に記載の光学積層体の製造方法。【００１１】
［３］  光配向性ポリマーが、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種の作用により分解して極性基を生じる開裂基を含む繰り返し単位Ａを有する光配向性ポリマーであって、
繰り返し単位Ａが、側鎖に開裂基を有し、かつ、側鎖の開裂基よりも末端側にフッ素原子またはケイ素原子を有し、
以下に示す条件１または条件２を満たす、光配向性ポリマーである、［１］または［２］に記載の光学積層体の製造方法。
条件１：繰り返し単位Ａとは別に、更に光配向性基を含む繰り返し単位Ｂを有する。
条件２：繰り返し単位Ａが、側鎖の開裂基よりも主鎖側に光配向性基を含む。【００１２】
［４］  更に、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種を作用させる作用工程を有し、
作用工程が、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間、または、バインダー層形成工程または第２塗布工程と同時、に行う工程である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、塗布性に優れ、膜厚ムラを抑制することができ、層として形成された後において上層塗布性に優れ、液晶配向性も良好とすることができる光学積層体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本願明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１５】
［光学積層体の製造方法］
本発明の光学積層体の製造方法は、支持体と、配向規制力が付与されたバインダー層と、光学異方性層とをこの順に有する光学積層体を作製する、光学積層体の製造方法であって、支持体上に、バインダーと光配向性基を有する光配向性ポリマーを含有するバインダー組成物を塗布し、第１の塗膜を形成する第１塗布工程と、第１塗布工程の後に、バインダー層を形成するバインダー層形成工程と、偏光または無偏光を照射し、配向規制力が付与されたバインダー層を形成する光照射工程と、バインダー層上に、光学異方性層を形成する重合性液晶組成物を直接塗布する第２塗布工程と、第２塗布工程の後に、光学異方性層を形成する光学異方性層形成工程と、を有する。
また、本発明の本発明の光学積層体の製造方法においては、光照射工程は、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間、または、バインダー層形成工程もしくは第２塗布工程と同時、に行う工程である。
更に、本発明の本発明の光学積層体の製造方法においては、第１の塗膜の表面の水接触角θａと、重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層の表面の水接触角θｂとが、下記式（Ｉ）を満たすことを特徴とする。
θａ−θｂ＞５  ・・・（Ｉ）
【００１６】
ここで、水接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７：１９９９に基づいて、接触角計を用いて、表面被覆層の表面に水を滴下して測定した水に対する静的な接触角をいい、具体的には、以下の測定方法で測定した値を採用する。
θａ：支持体上に、バインダー組成物を塗布し、第１の塗膜を形成した直後にサンプリングし、その後、２５℃で１０分間経過した後に、第１の塗膜の接触角計（ＤＭ−５００、協和界面科学株式会社製）用いて測定する。なお、単位は「度（°）」である。
θｂ：重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層（注１）をサンプリングし、その後、２５℃で１０分間経過した後に、バインダー層の表面の接触角計（ＤＭ−５００、協和界面科学株式会社製）用いて測定する。なお、単位は「度（°）」である。
注１：「重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層」とは、光照射工程が、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間、または、バインダー層形成工程と同時に行う工程である場合は、光照射工程後のバインダー層（すなわち、配向規制力が付与されたバインダー層）のことをいい、光照射工程が、第２塗布工程と同時に行う工程である場合は、重合性液晶組成物を塗布する直前のバインダー層のことをいう。
【００１７】
以下に、本発明の光学積層体の製造方法が有する第１塗布工程、バインダー層形成工程、第２塗布工程および光学異方性層形成工程、ならびに、任意の工程を説明する。
【００１８】
〔第１塗布工程〕
第１塗布工程は、支持体上に、バインダーと光配向性基を有する光配向性ポリマーを含有するバインダー組成物を塗布し、第１の塗膜を形成する工程である。
【００１９】
＜支持体＞
支持体としては、例えば、ガラス基板およびポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
【００２０】
上記支持体の厚みについては特に限定されないが、５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１００μｍであることがより好ましく、２０〜９０μｍであることが更に好ましい。
【００２１】
＜バインダー組成物＞
上述した支持体上に塗布するバインダー組成物は、バインダーと光配向性基を有する光配向性ポリマーを含有する組成物であれば特に限定されないが、重合開始剤、光酸発生剤および溶媒などを含有していてもよい。
【００２２】
（バインダー）
バインダー組成物に含まれるバインダーは、特に限定されず、それ自体は重合反応性のない樹脂のみから構成されるような単に乾燥固化する樹脂（以下、「樹脂バインダー」ともいう。）であってもよく、重合性化合物であってもよい。
【００２３】
｛樹脂バインダー｝
樹脂バインダーとしては、具体的には、例えば、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、アイオノマー樹脂、エチレンエチルアクリレート樹脂、アクリロニトリルアクリレートスチレン共重合樹脂、アクリロニトリルスチレン樹脂、アクリロニトリル塩化ポリエチレンスチレン共重合樹脂、エチレン酢ビ樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリオキシメチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、ポリスチレンマレイン酸共重合樹脂、ポリスチレンアクリル酸共重合樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メチルペンテン樹脂、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネート樹脂、ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、および、これらの共重合樹脂などが挙げられる。
【００２４】
｛重合性化合物｝
重合性化合物としては、例えば、エポキシ系モノマー、アクリル系モノマー、オキセタニル系モノマーなどが挙げられ、なかでも、エポキシ系モノマーおよびアクリル系モノマーが好ましい。
また、本発明においては、重合性化合物として、重合性液晶化合物を用いてもよい。
【００２５】
エポキシ系モノマーであるエポキシ基含有モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、３官能型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ含核ポリオール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂などを挙げることができる。
【００２６】
アクリル系モノマーである、アクリレートモノマー及びメタクリレートモノマーとしては、３官能モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。また、４官能以上のモノマー、オリゴマーとして、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等を例示することができる。
【００２７】
重合性液晶化合物は、特に限定されず、例えば、ホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、ハイブリッド配向およびコレステリック配向のいずれかの配向が可能な化合物を用いることができる。
ここで、一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物）（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いることが好ましく、また、モノマーであるか、重合度が１００未満の比較的低分子量な液晶化合物を用いることが好ましい。
また、重合性液晶化合物が有する重合性基としては、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、ビニル基等が挙げられる。
このような重合性液晶化合物を重合させることにより、液晶化合物の配向を固定することができる。なお、液晶化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
【００２８】
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【００２９】
本発明においては、上記重合性液晶化合物として、逆波長分散性の液晶化合物を用いることができる。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
【００３０】
逆波長分散性の液晶化合物は、上記のように逆波長分散性のフィルムを形成できるものであれば特に限定されず、例えば、特開２００８−２９７２１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（特に、段落番号［００３４］〜［００３９］に記載の化合物）、特開２０１０−８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号［００６７］〜［００７３］に記載の化合物）、および、特開２０１６−０８１０３５公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号［００４３］〜［００５５］に記載の化合物）等を用いることができる。
更に、特開２０１１−６３６０号公報の段落番号［００２７］〜［０１００］、特開２０１１−６３６１号公報の段落番号［００２８］〜［０１２５］、特開２０１２−２０７７６５号公報の段落番号［００３４］〜［０２９８］、特開２０１２−７７０５５号公報の段落番号［００１６］〜［０３４５］、ＷＯ１２／１４１２４５号公報の段落番号［００１７］〜［００７２］、ＷＯ１２／１４７９０４号公報の段落番号［００２１］〜［００８８］、ＷＯ１４／１４７９０４号公報の段落番号［００２８］〜［０１１５］に記載の化合物を用いることができる。
【００３１】
（光配向性ポリマー）
バインダー組成物に含まれる光配向性ポリマー（以下、本明細書においては「本発明の光配向性ポリマー」ともいう。）は、光配向性基を有するポリマーであれば特に限定されない。
ここで、「光配向性基」とは、異方性を有する光（例えば、平面偏光など）の照射により、再配列や異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいい、配向の均一性に優れ、熱的安定性や化学的安定性も良好となる理由から、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光配向性基が好ましい。
【００３２】
光の作用により二量化する光配向性基としては、具体的には、例えば、桂皮酸誘導体（M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)）、クマリン誘導体（M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)）、カルコン誘導体（小川俊博他、液晶討論会講演予稿集，2AB03(1997)）、マレイミド誘導体、および、ベンゾフェノン誘導体（Y. K. Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53(1997)）からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体の骨格を有する基などが好適に挙げられる。
一方、光の作用により異性化する光配向性基としては、具体的には、例えば、アゾベンゼン化合物（K. Ichimura et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst .,298,221(1997)）、スチルベン化合物（J.G.Victor and J.M.Torkelson,Macromolecules,20,2241(1987)）、スピロピラン化合物（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993) ）、桂皮酸化合物（K.Ichimura et al.,Macromolecules,30,903(1997)）、および、ヒドラゾノ−β−ケトエステル化合物（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の骨格を有する基などが好適に挙げられる。
【００３３】
これらのうち、光配向性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体およびマレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体の骨格を有する基であることが好ましく、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体骨格を有する基であることがより好ましい。
【００３４】
本発明の光配向性ポリマーは、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種の作用により分解して極性基を生じる開裂基を含む繰り返し単位Ａを有する光配向性ポリマーであることが好ましい。
また、本発明の光配向性ポリマーは、繰り返し単位Ａが、側鎖に開裂基を有し、かつ、側鎖の開裂基よりも末端側にフッ素原子またはケイ素原子を有していることが好ましい。
更に、本発明の光配向性ポリマーは、以下に示す条件１または条件２を満たす態様で光配向性基を有していることが好ましい。
条件１：繰り返し単位Ａとは別に、更に光配向性基を含む繰り返し単位Ｂを有する。
条件２：繰り返し単位Ａが、側鎖の開裂基よりも主鎖側に光配向性基を含む。
【００３５】
ここで、繰り返し単位Ａが含む「極性基」とは、ヘテロ原子またはハロゲン原子を少なくとも１原子以上有する基をいい、具体的には、例えば、水酸基、カルボニル基、カルボキシ基、アミノ基、ニトロ基、アンモニウム基、シアノ基などが挙げられる。なかでも、水酸基、カルボキシ基が好ましい。
また、「極性基を生じる開裂基」とは、開裂によって上述した極性基を生じる基をいうが、本発明においては、ラジカル開裂後に酸素分子と反応し、極性基を生成する基も含む。
【００３６】
本発明の光配向性ポリマーは、条件１を満たす場合、膜厚ムラ（風ムラ）をより抑制することができる理由から、繰り返し単位Ａが、下記式（１）で表される繰り返し単位、または、下記式（２−１）もしくは（２−２）で表される繰り返し単位であり、繰り返し単位Ｂが、下記式（３）で表される繰り返し単位、または、下記式（４−１）もしくは（４−２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
これらのうち、繰り返し単位Ａが、下記式（１）で表される繰り返し単位であり、繰り返し単位Ｂが、下記式（３）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
【化１】
2020110817.tif 000002
【００３７】
上記式（１）および（２−１）ならびに（３）および（４−１）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、式（１）および（３）中の複数のＲ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１としては、水素原子またはメチル基であることが好ましい。
【００３８】
また、上記式（１）、（２−１）および（２−２）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表し、ＲＫは、開裂基を表し、ＲＬは、フッ素原子またはケイ素原子を含む１価の有機基を表す。
【００３９】
上記式（１）、（２−１）および（２−２）中のＸ１およびＸ２が示す２価の連結基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリーレン基、エーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（−ＮＨ−）からなる群から選択される少なくとも１以上の基が挙げられる。
【００４０】
ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【００４１】
炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、２−エチル−２−メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン−ジイル基、ノルボルナン−ジイル基、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン−ジイル基などが挙げられ、なかでも、シクロヘキシレン基が好ましい。
【００４２】
炭素数６〜１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’−メチレンビスフェニル基などが挙げられ、なかでも、フェニレン基が好ましい。
【００４３】
上記式（１）、（２−１）および（２−２）中のＲＫが示す開裂基としては、例えば、下記式（ｒｋ−１）〜（ｒｋ−１３）のいずれかで表される開裂基（結合）が挙げられる。
【化２】
2020110817.tif 000003
【００４４】
上記式（ｒｋ−１）〜（ｒｋ−１３）中、＊１は、式（１）、（２−１）および（２−２）中のＸ１およびＸ２のいずれか一方との結合位置を表し、＊２は、式（１）、（２−１）および（２−２）中のＸ１およびＸ２のうち＊１と結合していない側との結合位置を表し、Ｒは、それぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。
ここで、Ｒが示す１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
【００４５】
また、上記式（ｒｋ−１０）および（ｒｋ−１１）中のアニオン部は、開裂に影響を及ぼさないため特に限定されず、無機のアニオンでも有機のアニオンでも使用することが可能である。
無機のアニオンとしては、具体的には、例えば、塩化物イオン、臭化物イオンなどのハロゲン化物イオン；スルホン酸アニオン；等が挙げられる。
有機のアニオンとしては、具体的には、例えば、酢酸アニオンなどのカルボン酸アニオン；メタンスルホン酸アニオン、パラトルエンスルホン酸アニオンなどの有機スルホン酸アニオン；等を挙げることができる。
【００４６】
本発明においては、これらの開裂基のうち、光を利用して開裂させる場合においては、量子効率の観点から、上記式（ｒｋ−１）で表される開裂基が好ましく、また、酸を利用して開裂させる場合においては、開裂速度の観点から、上記式（ｒｋ−９）で表される開裂基が好ましい。
【００４７】
上記式（１）、（２−１）および（２−２）中のＲＬが示す、フッ素原子またはケイ素原子を含む１価の有機基としては、例えば、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数２〜２０のアルケニル基が挙げられる。
【００４８】
また、上記式（３）、（４−１）および（４−２）中、Ｘ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＲＯは、光配向性基を表す。
【００４９】
上記式（３）、（４−１）および（４−２）中のＸ１が示す２価の連結基としては、例えば、上記式（１）、（２−１）および（２−２）中のＸ１と同様のものが挙げられる。
【００５０】
本発明の光配向性ポリマーは、条件１を満たす場合、酸を用いて開裂させる場合においては、開裂速度および合成の容易さの観点から、繰り返し単位Ａが、下記式（７）で表される繰り返し単位であり、繰り返し単位Ｂが、下記式（８）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【化３】
2020110817.tif 000004
【００５１】
上記式（７）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒは、水素原子または１価の有機基を表し、複数のＲは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、上記式（７）中、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表し、ｍａおよびｎａは、それぞれ独立に１〜２０の整数を表す。
ここで、Ｒが示す１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
一方、上記式（８）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｌ１は、２価の連結基を表す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
【００５２】
上記式（７）中のＲ１としては、水素原子またはメチル基であることが好ましい。
また、上記式（７）中のＲとしては、水素原子であることが好ましい。
また、上記式（７）中のｍａは、１または２であることが好ましく、ｎａは、３〜７であることが好ましい。
また、上記式（７）中のＸは、フッ素原子であることが好ましい。
【００５３】
上記式（７）で表される繰り返し単位Ａとしては、例えば、下記式（７−１）〜（７−６）で表されるいずれかの単量体を重合することにより得られる繰り返し単位が挙げられる。
【００５４】
【化４】
2020110817.tif 000005
【００５５】
上記式（８）中のＲ１としては、水素原子またはメチル基であることが好ましい。
また、上記式（８）中のＬ１が示す２価の連結基としては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリーレン基、エーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（−ＮＨ−）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。
【００５６】
ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、α−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン−４−イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン−３−イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。
【００５７】
炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、２−エチル−２−メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン−ジイル基、ノルボルナン−ジイル基、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン−ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。
【００５８】
炭素数６〜１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’−メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。
【００５９】
これらのうち、上記式（８）中のＬ１が示す２価の連結基としては、液晶配向性がより良好となる理由から、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基であることが好ましい。なお、本発明においては、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部は、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。また、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が窒素原子で置換されている場合は、シクロアルカン環とは別に窒素原子を有していなくてもよい。
【００６０】
また、シクロアルカン環は、炭素数６以上のシクロアルカン環であることが好ましく、その具体例としては、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、シクロドコサン環等が挙げられる。
【００６１】
本発明においては、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（８）中のＬ１が、下記式（１１）〜（２０）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
【化５】
2020110817.tif 000006
上記式（１１）〜（２０）中、＊１は、上記式（８）中の主鎖を構成する炭素原子との結合位置を表し、＊２は、上記式（８）中のカルボニル基を構成する炭素原子との結合位置を表す。
【００６２】
上記式（１１）〜（２０）のいずれかで表される２価の連結基のうち、バインダー層を形成する際に用いる溶媒に対する溶解性と、得られるバインダー層の耐溶剤性とのバランスが良好となる理由から、上記式（１２）、（１３）、（１７）および（１８）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
【００６３】
次に、上記記式（８）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基について説明する。なお、上記式（８）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６が、置換基ではなく水素原子であってもよいことは上述した通りである。
【００６４】
上記式（８）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基は、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（１０）で表される基であることが好ましい。
【化６】
2020110817.tif 000007
ここで、上記式（１０）中、＊は、上記式（８）中のベンゼン環との結合位置を表し、Ｒ９は、１価の有機基を表す。
【００６５】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【００６６】
炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【００６７】
炭素数１〜２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。
【００６８】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数６〜１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６〜１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基がより好ましい。
【００６９】
炭素数６〜２０のアリール基としては、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
【００７０】
炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、炭素数６〜１２のアリールオキシ基が好
ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。
【００７１】
アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（−ＮＨ２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。
【００７２】
上記式（１０）で表される基について、上記式（１０）中のＲ９が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（１０）中のＲ９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。
【００７３】
本発明においては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（８）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、少なくともＲ４が上述した置換基を表していることが好ましく、更に、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、液晶化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性が更に良好となる理由から、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６がいずれも水素原子を表すことがより好ましい。
【００７４】
本発明においては、得られるバインダー層に光照射した際に反応効率が向上する理由から、上記式（８）中のＲ４が電子供与性の置換基であることが好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、膜厚ムラ（風ムラ）をより抑制でき、液晶配向性がより良好となる理由から、炭素数が６〜１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７〜１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。
【００７５】
上記式（８）で表される繰り返し単位Ｂとしては、例えば、下記式（８−１）〜（８−６）で表されるいずれかの単量体を重合することにより得られる繰り返し単位が挙げられる。
【００７６】
【化７】
2020110817.tif 000008
【００７７】
本発明の光配向性ポリマーは、条件１を満たす場合、上述した繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
【００７８】
条件１を満たす本発明の光配向性ポリマーとしては、具体的には、例えば、上記式（７−１）〜（７−６）で表されるいずれかの単量体と、上記式（８−１）〜（８−６）で表されるいずれかの単量体と、任意の他の繰り返し単位とを用いた共重合体が挙げられ、なかでも、下記式Ｃ−１〜Ｃ−５で表される共重合体が好適に挙げられる。
【化８】
2020110817.tif 000009
【００７９】
一方、本発明の光配向性ポリマーは、条件２を満たす場合、上層に形成される光学異方性層の液晶配向性の観点から、繰り返し単位Ａが、下記式（５）で表される繰り返し単位、または、下記式（６−１）もしくは（６−２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
これらのうち、繰り返し単位Ａが、下記式（５）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
【化９】
2020110817.tif 000010
【００８０】
上記式（５）および（６−１）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、式（５）中の複数のＲ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１としては、水素原子またはメチル基であることが好ましい。
【００８１】
また、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。
ここで、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中のＸ１、Ｘ２およびＸ３が示す２価の連結基としては、例えば、上記式（１）、（２−１）および（２−２）中のＸ１と同様のものが挙げられる。
【００８２】
また、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中、ＲＫは、開裂基を表す。
ここで、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中のＲＫが示す開裂基としては、例えば、上記式（１）、（２−１）および（２−２）中のＲＫと同様、上述した式（ｒｋ−１）〜（ｒｋ−１３）のいずれかで表される開裂基（結合）が挙げられる。なお、上述した式（ｒｋ−１）〜（ｒｋ−１３）中、＊１は、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中のＸ３およびＸ２のいずれか一方との結合位置を表し、＊２は、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中のＸ３およびＸ２のうち＊１と結合していない側との結合位置を表し、Ｒは、それぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。
【００８３】
また、上記式（５）、（６−１）および（６−２）中、ＲＯは、光配向性基を表す。
ここで、光配向性基としては、上記式（３）、（４−１）および（４−２）中のＲＯが示す光配向性基と同様のものが挙げられる。
【００８４】
条件２を満たす本発明の光配向性ポリマーとしては、具体的には、例えば、下記式Ｈ−１〜Ｈ−３で表される重合体が好適に挙げられる。
【化１０】
2020110817.tif 000011
【００８５】
本発明の光配向性ポリマーは、繰り返し単位Ａの代わりに、側鎖に開裂基を有さず、かつ末端側にフッ素原子またはケイ素原子を有している繰り返し単位Ｘを有する光配向性ポリマーを用いることもできる。
繰り返し単位Ｘを有する光配向性ポリマーは、繰り返し単位Ｘとは別に、更に光配向性基を含む繰り返し単位Ｂを有してもよいし、繰り返し単位Ｘが、主鎖側に光配向性基を含んでいてもよい。そのような光配向性ポリマーをバインダー層が含む場合、バインダー層の表面は後述するプラズマ処理またはコロナ処理で改質されていることが好ましい。
【００８６】
本発明の光配向性ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜５０００００が好ましく、１５００〜４０００００がより好ましく、２０００〜３０００００が特に好ましい。
また、本発明の光配向性ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は、５００〜２５００００が好ましく、１０００〜２０００００がより好ましく、１５００〜１５００００が特に好ましい。
また、本発明の光配向性ポリマーの分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．００〜２０．００が好ましく、１．００〜１８．００がより好ましく、１．００〜１６．００が特に好ましい。
なお、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって下記の条件で測定された値である。
［溶離液］テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
［装置名］Ｅｃｏｓｅｃ  ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）
［カラム］ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ２００（東ソー株式会社製）
［カラム温度］４０℃
［流速］５０ｍｌ／ｍｉｎ
【００８７】
（重合開始剤）
バインダー組成物は、バインダーとして重合性化合物を用いた場合には、重合開始剤を含有することが好ましい。
このような重合開始剤は特に限定されないが、重合反応の形式に応じて、熱重合開始剤および光重合開始剤が挙げられる。
本発明においては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
【００８８】
（光酸発生剤）
バインダー組成物は、上述した光配向性ポリマーが、酸の作用により分解して極性基を生じる開裂基を含む１価の特定基を有する重合体である場合、光酸発生剤を含有していることが好ましい。
【００８９】
光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましく、２以下の酸を発生する光酸発生剤が最も好ましい。なお本発明において、ｐＫａは、基本的に２５℃の水中におけるｐＫａを指す。水中で測定できないものは、測定に適する溶剤に変更し測定したものを指す。具体的には、化学便覧等に記載のｐＫａが参考にできる。ｐＫａが３以下の酸としては、スルホン酸またはホスホン酸であることが好ましく、スルホン酸であることがより好ましい。
【００９０】
光酸発生剤の例として、オニウム塩化合物、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、および、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、オニウム塩化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物が好ましく、オニウム塩化合物、オキシムスルホネート化合物が特に好ましい。光酸発生剤は、１種単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００９１】
（溶媒）
バインダー組成物は、バインダー層を形成する作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９２】
（塗布方法）
上述した支持体上にバインダー組成物を塗布する方法は特に限定されず、塗布方法としては、具体的には、例えば、スピンコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００９３】
〔バインダー層形成工程〕
バインダー層形成工程は、第１塗布工程の後に、バインダー層を形成する工程であり、第１塗布工程で得られた第１の塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより形成することができる。
また、硬化処理の条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２〜３Ｊ／ｃｍ２であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
【００９４】
〔光照射工程〕
光照射工程は、偏光または無偏光を照射する工程、すなわち、配向規制力が付与されたバインダー層を形成する工程である。
また、光照射工程は、上層としての光学異方性層を形成する際の塗布性を担保する観点から、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間、または、バインダー層形成工程または第２塗布工程と同時に行う工程である。
ここで、「バインダー層形成工程と第２塗布工程との間」とは、バインダー層形成工程（例えば、熱重合）で形成したバインダー層に対して、第２塗布工程を施す前に、照射工程（例えば、偏光を照射する工程）を行うことをいう。
また、「バインダー層形成工程と同時」とは、バインダー層を形成する工程、例えば、光ラジカル発生によるオレフィン系モノマーの重合、および、光酸発生によるエポキシモノマーの重合などによりバインダー層を形成する工程と、照射工程（例えば、偏光を照射する工程）とを同時に行うことをいう。すなわち、バインダー層の重合に用いる光と、配向に用いる光が、同時に２つの作用を引き起こすことを意味する。
また、「第２塗布工程と同時」とは、バインダー層形成工程（例えば、光重合）で形成したバインダー層に対して、第２塗布工程を施す際に、照射工程（例えば、偏光を照射する工程）を同時に行うことをいう。
【００９５】
本発明においては、光照射工程は、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間に行う工程であることが好ましい。なお、この場合、上述した水接触角θｂは、光照射工程後のバインダー層、すなわち、配向規制力が付与されたバインダー層の表面の水接触角θｂとなる。
【００９６】
光照射工程において、照射する偏光は特に限定されず、例えば、直線偏光、円偏光、および、楕円偏光が挙げられ、直線偏光が好ましい。
また、照射する無偏光は、非偏光ともいい、塗膜表面に対して斜め方向から照射されることが好ましい。なお、「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に限定されず、目的に応じて適宜選択できるが、θが２０〜８０°が好ましい。
【００９７】
光照射する方法としては、例えば、紫外線を偏光照射する方法が好ましく挙げられ、具体的には、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、ワイヤーグリッド偏光板など）を用いる方法；プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズムなど）やブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法；偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法；などが挙げられる。
ここで、紫外線照射に用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば特に限定されず、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【００９８】
〔第２塗布工程〕
第２塗布工程は、バインダー層上に、光学異方性層を形成する重合性液晶組成物を直接塗布する工程である。
光学異方性層を形成する重合性液晶組成物を塗布する方法は特に限定されず、第１塗布工程と同様の方法が挙げられる。
【００９９】
〔光学異方性層形成工程〕
光学異方性層形成工程は、第２塗布工程の後に、光学異方性層を形成する工程であり、第２塗布工程で得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより形成することができる。
また、硬化処理の条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２〜３Ｊ／ｃｍ２であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
【０１００】
〔作用工程〕
本発明の光学積層体の製造方法は、バインダー層の表面を改質し、上述した式（Ｉ）を満たすことが容易となる理由から、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種を作用させる作用工程を有していることが好ましい。特に、光配向性ポリマーが、上述した繰り返し単位Ａを有している場合に、このような作用工程を有していることが好ましい。
また、任意の作用工程は、上層としての光学異方性層を形成する際の塗布性を担保する観点から、バインダー層形成工程と第２塗布工程との間、または、バインダー層形成工程または第２塗布工程と同時に行う工程である。
ここで、「バインダー層形成工程と第２塗布工程との間」とは、バインダー層形成工程（例えば、熱重合）で形成したバインダー層に対して、第２塗布工程を施す前に、作用工程（例えば、光を作用させる工程）を行うことをいう。
また、「バインダー層形成工程と同時」とは、バインダー層を形成する工程、例えば、光ラジカル発生によるオレフィン系モノマーの重合、および、光酸発生によるエポキシモノマーの重合などによりバインダー層を形成する工程と、作用工程（例えば、光を作用させる工程）とを同時に行うことをいう。すなわち、バインダー層の重合に用いる光と、開裂に用いる光が、同時に２つの作用を引き起こすことを意味する。
また、「第２塗布工程と同時」とは、バインダー層形成工程（例えば、光重合）で形成したバインダー層に対して、第２塗布工程を施す際に、作用工程（例えば、熱を作用させる工程）を同時に行うことをいう。
このうち、光を作用させ、バインダー層形成工程と同時に行う工程であることが、プロセス簡略化の観点から好ましい。
【０１０１】
また、光を作用させる方法としては、例えば、バインダー層に紫外線を照射する方法などが挙げられる。光源としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の紫外線を発光するランプ等を用いることが可能である。また、照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２〜３Ｊ／ｃｍ２であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。
また、熱を作用させる方法としては、例えば、バインダー層を加熱する方法などが挙げられる。加熱する温度としては、５０〜２００℃であることが好ましく、６０〜１５０℃であることがより好ましく、７０〜１３０℃であることが特に好ましい。
また、酸を作用させる方法としては、例えば、バインダー層に予め酸を添加しておく方法、バインダー層に光酸発生剤を添加しておき、光をトリガーとして酸を発生させる方法、バインダー層に熱酸発生剤を添加しておき、熱をトリガーとして酸を発生させる方法などが挙げられる。これらのうち、光酸発生剤および熱酸発生剤を用いる方法が好ましい。
また、塩基を作用させる方法としては、例えば、バインダー層に予め塩基を添加しておく方法、バインダー層に光塩基発生剤を添加しておき、光をトリガーとして塩基を発生させる方法、バインダー層に熱塩基発生剤を添加しておき、熱をトリガーとして塩基を発生させる方法などが挙げられる。これらのうち、光塩基発生剤および熱塩基発生剤を用いる方法が好ましい。
【０１０２】
〔他の処理工程〕
本発明の光学積層体の製造方法は、バインダー層の表面を改質し、上述した式（Ｉ）を満たすことが容易となる理由から、上述した任意の作用工程に代えて、または、上述した任意の作用工程とともに、第２塗布工程の前に、バインダー層の表面に対してプラズマ処理またはコロナ放電処理を施す処理工程を有していることが好ましい。
プラズマ処理としては、真空グロー放電、大気圧グロー放電等によるものがあり、その他の方法としてフレームプラズマ処理等の方法があげられる。これらは、例えば特開平６−１２３０６２号公報、特開平１１−２９３０１１号公報、同１１−５８５７号公報等に記載された方法を用いることが出来る。
コロナ放電処理は、従来公知のいずれの方法、例えば特公昭４８−５０４３号公報、同４７−５１９０５号公報、特開昭４７−２８０６７号公報、同４９−８３７６７号公報、同５１−４１７７０号公報、同５１−１３１５７６号公報、特開２００１−２７２５０３号公報等に開示された方法により達成することができる。
【実施例】
【０１０３】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１０４】
［実施例１］
〔支持体の作製〕
セルロースアシレートフィルム（ＴＤ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱した。
次いで、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製して支持体とした。
2020110817.tif 000012
【０１０５】
〔配向層Ｙ１の形成〕
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記組成の配向層塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布後、６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。なお、下記組成中、「重合開始剤（ＩＮ１）」は、光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製）を表す。
2020110817.tif 000013
【０１０６】
（下記構造式中、割合はモル比率である）
【化１１】
2020110817.tif 000014
【０１０７】
〔バインダー層（液晶層）の作製〕
下記棒状液晶化合物Ａ（８０質量部）、下記棒状液晶化合物Ｂ（２０質量部）、光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＢＡＳＦ社製）（３質量部）、下記垂直配向剤Ａ（１質量部）、下記垂直配向剤Ｂ（０．５質量部）、および、下記光配向性ポリマーＡ（３．０質量部）をメチルエチルケトン２１５質量部に溶解して、バインダー層（液晶層）形成用溶液を調製した。調製したバインダー層形成用溶液を、上記配向層上に、＃３．０のワイヤーバーで塗布し、第１の塗膜を形成した。
ここで、水接触角θａを測定するためのサンプルを採取するため、いったん搬送を停止して４ｃｍ×４ｃｍサイズの塗布膜を切り出した。その後、そのサンプルを２５℃で１０分間経時後に接触角計ＤＭ５００（協和界面科学社製）で水接触角θａを測定した。結果を下記表２に示す。
その後、搬送を再開し、下記表１に示す通り、７０℃で６０秒間加熱し、第１の塗膜を乾燥させた（乾燥処理）。
次いで、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、下記表１に示す通り、３６５ｎｍのＵＶ（ultraviolet）−ＬＥＤ（light emitting diode）を用いて、表面温度が４０℃の条件で、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した（紫外線照射処理１）。
次いで、下記表１に示す通り、作用工程を兼ねる工程として、３１３ｎｍのＵＶ−ＬＥＤを用いて、表面温度が２５℃の条件で、照射量１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した（紫外線照射処理２）。
これらの処理により、膜厚が約１μｍのバインダー層を形成した。【０１０８】
【化１２】
2020110817.tif 000015
2020110817.tif 000016
【０１０９】
〔光照射工程〕
得られたバインダー層に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を２５ｍＪ/ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射し、配向規制力を付与した。
ここで、水接触角θｂを測定するためのサンプルを採取するため、水接触角θａと同様にして４ｃｍ×４ｃｍサイズの塗布膜を切り出し、接触角計ＤＭ５００（協和界面科学社製）で水接触角を測定した。なお、サンプリング時の搬送停止の影響を除くため、水接触角θａのサンプルとは長手方向に充分離れた位置からサンプリングを行った。結果を下記表２に示す。【０１１０】
〔光学異方性層（上層）の作製〕
下記棒状液晶化合物Ａ（８０質量部）、下記棒状液晶化合物Ｂ（２０質量部）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）（３質量部）、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）（１質量部）、および、下記水平配向剤（０．３質量部）をメチルエチルケトン（１９３質量部）に溶解して、光学異方性層形成用溶液を調製した。上記配向機能を付与したバインダー層上に、上記の光学異方性層形成用溶液をワイヤーバーコーター＃２．２で塗布し、６０℃で２分間加熱し、６０℃に維持したまま、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して光学異方性層を形成し、光学積層体を作製した。
なお、上層である光学異方性層は、搬送停止の影響を除くため、水接触角の測定でサンプリングした部分と長手方向に充分離れた部分に塗工した。【０１１１】
【化１３】
2020110817.tif 000017
2020110817.tif 000018
【０１１２】
［実施例２］
紫外線照射処理１における照射量を下記表１に示す値に変更し、紫外線照射処理２を施さなかった以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。【０１１３】
［実施例３］
光配向性ポリマーＡに代えて、下記光配向性ポリマーＢを用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。
【化１４】
2020110817.tif 000019
【０１１４】
［実施例４］
光配向性ポリマーＡに代えて、下記光配向性ポリマーＣを用い、熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−Ｂ３Ａ、三新化学工業製）を更に３質量部配合したバインダー層（液晶層）形成用溶液を用い、また、紫外線照射処理２に代えて、表面温度が１２０℃の条件で３０秒アニーリングする加熱処理（加熱処理２）を施した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。
【化１５】
2020110817.tif 000020
【０１１５】
［実施例５］
実施例４と同様のバインダー層（液晶層）形成用溶液を用い、以下に示す処理を施してバインダー層を形成した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。
まず、下記表１に示す通り、７０℃で６０秒間加熱し、第１の塗膜を乾燥させた（乾燥処理）。
次いで、作用工程を兼ねる工程として、表面温度が１２０℃の条件で３０秒アニーリングする加熱処理を施した（加熱処理１）。
次いで、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、下記表１に示す通り、３６５ｎｍのＵＶ（紫外線）−ＬＥＤ（発光ダイオード）を用いて、表面温度が４０℃の条件で、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した（紫外線照射処理１）。
これらの処理により、膜厚が約１μｍのバインダー層を形成した。【０１１６】
［実施例６］
以下の方法でバインダー層を形成した以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。
〔バインダー層の作製〕
エポキシモノマー（ＣＥＬ２０２１Ｐ；（株）ダイセル製）（１００質量部）、熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−Ｂ３Ａ、三新化学工業製）（３．０質量部）、上記光配向性ポリマーＣ（２．０質量部）をメチルエチルケトン（３００質量部）に溶解して、バインダー層形成用溶液を調製した。調製したバインダー層形成用溶液を、上記配向層上に、＃３．０のワイヤーバーで塗布し、第１の塗膜を形成した。
ここで、水接触角θａを測定するためのサンプルを採取するため、いったん搬送を停止して４ｃｍ×４ｃｍサイズの塗布膜を切り出した。その後、そのサンプルを２５℃で１０分間経時後に接触角計ＤＭ５００（協和界面科学社製）で水接触角θａを測定した。結果を下記表２に示す。
その後、搬送を再開し、下記表１に示す通り、７０℃で６０秒間加熱し、第１の塗膜を乾燥させた（乾燥処理）。
次いで、作用工程を兼ねる工程として、表面温度が１３０℃の条件で６０秒アニーリングする加熱処理を施し、膜厚が約１μｍのバインダー層を形成した。【０１１７】
［実施例７］
熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−Ｂ３Ａ、三新化学工業製）に代えて、下記光酸発生剤（Ｂ−１−１）を用いた以外は、実施例４と同様の方法で、光学積層体を作製した。
【化１６】
2020110817.tif 000021
【０１１８】
［実施例８］
熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−Ｂ３Ａ、三新化学工業製）に代えて、上記光酸発生剤（Ｂ−１−１）を用いた以外は、実施例６と同様の方法で、光学積層体を作製した。【０１１９】
［実施例９］
光配向性ポリマーＣに代えて、下記光配向性ポリマーＤを用いた以外は、実施例７と同様の方法で、光学積層体を作製した。
【化１７】
2020110817.tif 000022
【０１２０】
［比較例１］
光配向性ポリマーＡに代えて、下記光配向性ポリマーＨ１を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。
【化１８】
2020110817.tif 000023
【０１２１】
［比較例２］
光配向性ポリマーＡに代えて、下記光配向性ポリマーＨ２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学積層体を作製した。
【化１９】
2020110817.tif 000024
【０１２２】
【表１】
2020110817.tif 000025
【０１２３】
〔風ムラ〕
２枚の偏光板をクロスニコルに設置し、その間に、作製したバインダー層のサンプルを設置してスジ状のムラの有無を観察し、以下の基準で風ムラの評価を行った。結果を下記表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：ムラが視認できない。
Ｂ：ムラがほとんど視認できない。
Ｃ：ムラが視認できる。【０１２４】
〔ハジキ〕
作製したバインダー層について、Ａ４サイズの表面領域を検査し、円形または楕円形に抜けているように見える故障をハジキとみなし、以下の基準で評価した。結果を下記表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：０〜１個の故障が見られた。
Ｂ：２〜４個の故障が見られた。
Ｃ：５個以上の故障が見られた。【０１２５】
〔上層塗布性〕
作製したバインダー層の表面エネルギーを測定し、以下の基準で上層塗布性を評価した。結果を下記表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：４５ｍＮ／ｍ以上
Ｂ：４０ｍＮ／ｍ以上、４５ｍＮ／ｍ未満
Ｃ：３０ｍＮ／ｍ以上、４０ｍＮ／ｍ未満
Ｄ：３０ｍＮ／ｍ未満【０１２６】
〔液晶配向性〕
２枚の偏光板をクロスニコルに設置し、その間に得られたバインダー層および光学異方性層を積層したサンプルを設置して光漏れの程度を観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表２に示す。
＜評価基準＞
Ａ：光漏れがない。
Ｂ：光漏れがほとんどない。
Ｃ：光漏れが観察される。【０１２７】
【表２】
2020110817.tif 000026
【０１２８】
表１および表２に示す結果から、第１の塗膜の表面の水接触角θａと、重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層の表面の水接触角θｂとの差が５°以下である比較例１および２は、膜厚ムラ（風ムラ）および塗布性（ハジキ）と、層として形成された後の上層塗布性および液晶配向性と、を両立させることができないことが分かった。
これに対し、第１の塗膜の表面の水接触角θａと、重合性液晶組成物を直接塗布する際のバインダー層の表面の水接触角θｂとの差が５°より大きいと、バインダー層形成時の塗布性（ハジキ）に優れ、風ムラを抑制することができ、更に、形成したバインダー層の上層塗布液に対する塗布性および液晶配向性も良好となることが分かった（実施例１〜９）。
【国際調査報告】
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