(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にレジスト液を塗布するためのレジスト塗布処理装置であって、
ノズル本体と、前記ノズル本体に列をなすように設けられ、内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材とを有し、基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルと、
このレジスト液吐出ノズルを移動するノズル移動機構と、
前記ノズル本体を回転させるノズル回転機構と、
基板を回転する基板回転機構と
を具備し、
前記レジスト液吐出ノズルから基板にレジスト液を吐出させながら前記ノズル移動機構により前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に、前記基板回転機構により基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記ノズル移動機構によって前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記針状部材のなす列の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くように前記ノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、レジスト液をスクロール状に基板上に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理装置。
【請求項２】
基板にレジスト液を塗布するためのレジスト塗布処理装置であって、
基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルと、
このレジスト液吐出ノズルを移動するノズル移動機構と、
ノズル本体を回転させるノズル回転機構と、
基板を回転する基板回転機構と
を具備し、
前記レジスト液吐出ノズルから基板にレジスト液を吐出させながら前記ノズル移動機構により前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に、前記基板回転機構により基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記ノズル移動機構によって前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記レジスト液吐出ノズルから扁平状に吐出されるレジスト液の吐出幅の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くように前記ノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、レジスト液をスクロール状に基板上に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理装置。
【請求項３】
基板に複数の色彩レジスト液を順次塗布するためのレジスト塗布処理装置であって、
ノズル本体と、前記ノズル本体に列をなすように設けられ、内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材とを有しており、各色彩レジスト液に対しそれぞれ設けられて基板に扁平状に色彩レジスト液を吐出する複数のレジスト液吐出ノズルと、
前記複数のレジスト液吐出ノズルを移動するノズル移動機構と、
前記ノズル本体を回転させるノズル回転機構と、
基板を回転する基板回転機構と、
色彩レジスト液の種類に応じ、前記レジスト液吐出ノズルの移動速度および基板の回転速度を多段階で調節制御するコントローラと
を具備し、
前記レジスト液吐出ノズルから基板に１つの色彩レジスト液を吐出させながら前記ノズル移動機構により前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に、前記基板回転機構により基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせて色彩レジスト液をスクロール状に基板上に塗布するようにし、かつ、前記コントローラにより、前記レジスト液吐出ノズルの移動速度および基板の回転速度を色彩レジスト液毎に制御するようにし、
前記ノズル回転機構は、前記ノズル移動機構が前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動する際に、前記針状部材のなす列の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くようにノズル本体を回転させることを特徴とするレジスト塗布処理装置。
【請求項４】
前記針状部材は、前記ノズル本体の上面に接続され、内部を通流するレジスト液の流れが上昇した後に下降するような曲部を有することを特徴とする請求項１または請求項３に記載のレジスト塗布処理装置。
【請求項５】
前記多数の針状部材は、前記レジスト液吐出ノズルが前記基板回転機構により回転される基板の上方に配置された際に、基板の外側に傾斜するように設けられていることを特徴とする請求項１、請求項３または請求項４に記載のレジスト塗布処理装置。
【請求項６】
前記多数の針状部材は、外側に行くほど外側への傾斜角度が大きいことを特徴とする請求項１、請求項３、請求項４または請求項５に記載のレジスト塗布処理装置。
【請求項７】
前記針状部材内の泡を検出する泡センサーをさらに具備することを特徴とする請求項１、請求項３、請求項４、請求項５または請求項６に記載のレジスト塗布処理装置。
【請求項８】
前記ノズル移動機構は、前記レジスト液吐出ノズルが基板の外方に移動するほど、その移動速度を低下させることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のレジスト塗布処理装置。
【請求項９】
基板にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理方法であって、
ノズル本体と、前記ノズル本体に列をなすように設けられ、内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材とを有し、基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルから、基板にレジスト液を吐出させながら前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記針状部材のなす列の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くようにノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、前記レジスト液を基板上にスクロール状に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理方法。
【請求項１０】
基板にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理方法であって、
基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルから、基板にレジスト液を吐出させながら前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記レジスト液吐出ノズルから扁平状に吐出されるレジスト液の吐出幅の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くようにノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、前記レジスト液を基板上にスクロール状に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のカラーフィルター等の基板にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のカラーフィルターの製造においては、ガラス製の矩形の基板に、４色（レッド、グリーン、ブルー、およびブラック）の色彩レジストを塗布し、これを露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術によりカラーフィルターを形成している。
【０００３】
このようなカラーフィルターのフォトリソグラフィー工程においては、各色ごとに色彩レジストの塗布処理および露光・現像処理を行っている。すなわち、例えば、レッドの色彩レジストを塗布して、露光・現像処理し、次いでグリーンの色彩レジストを塗布して、露光・現像処理し、その後、ブルー、ブラックに関しても同様の処理を行っている。
【０００４】
上述した処理工程のうち、各色彩レジストの塗布工程では、矩形の基板をレジスト塗布ユニットに搬入してスピンチャックに装着し、基板が静止した状態で、レジスト液吐出ノズルから基板の略中心に各色彩レジスト液を吐出し、その後、スピンチャックにより基板を回転し、遠心力によって各色彩レジスト液を拡散して、基板上に各色彩レジストを成膜している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、カラーフィルターの表面にはパターンが形成されており、この影響でレジスト液が真円状に拡散しない。この影響で回転成膜時にレジスト液の塗り残しが発生するおそれがあり、塗り残し解消のためレジスト使用量が増加してしまう。また、色彩レジスト液は、半導体ウエハ等に用いる通常のレジスト液と異なり、色彩のための顔料または樹脂を包含していることから、基板を回転して色彩レジスト液を拡散する際、基板上で色彩レジスト液が拡散し難く、同量のレジスト液を供給してもレジスト拡散面積は減少し、基板全面に塗布するためのレジスト液使用量が増加してしまう。逆に、レジスト液の使用量を増加させなければ、直接レジスト拡散面積が減少してしまうため、回転後の成膜が不可となる。
【０００６】
このような現象は、カラーフィルターばかりでなく、パターン等により基板の摩擦抵抗が大きかったり、またレジスト液の粘性が高い場合等の原因で、他の基板でも生じるものである。
【０００７】
したがって、このような場合であっても、レジスト液吐出ノズルからのレジスト液の吐出量を増加させずに、極力省レジスト化を図り、かつレジスト液を基板上に均一に塗布することが要望されている。
【０００８】
本発明はかる事情に鑑みてなされたものであって、レジスト液が拡散しにくい場合であっても、少ないレジスト液吐出量でレジスト液を基板上に均一に塗布することができるレジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、基板にレジスト液を塗布するためのレジスト塗布処理装置であって、
ノズル本体と、前記ノズル本体に列をなすように設けられ、内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材とを有し、基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルと、
このレジスト液吐出ノズルを移動するノズル移動機構と、
前記ノズル本体を回転させるノズル回転機構と、
基板を回転する基板回転機構と
を具備し、
前記レジスト液吐出ノズルから基板にレジスト液を吐出させながら前記ノズル移動機構により前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に、前記基板回転機構により基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記ノズル移動機構によって前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記針状部材のなす列の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くように前記ノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、レジスト液をスクロール状に基板上に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理装置を提供する。
【００１０】
また、本発明は、基板にレジスト液を塗布するためのレジスト塗布処理装置であって、
基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルと、
このレジスト液吐出ノズルを移動するノズル移動機構と、
ノズル本体を回転させるノズル回転機構と、
基板を回転する基板回転機構と
を具備し、
前記レジスト液吐出ノズルから基板にレジスト液を吐出させながら前記ノズル移動機構により前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に、前記基板回転機構により基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記ノズル移動機構によって前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記レジスト液吐出ノズルから扁平状に吐出されるレジスト液の吐出幅の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くように前記ノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、レジスト液をスクロール状に基板上に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理装置を提供する。
【００１１】
また、本発明は、基板に複数の色彩レジスト液を順次塗布するためのレジスト塗布処理装置であって、
ノズル本体と、前記ノズル本体に列をなすように設けられ、内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材とを有しており、各色彩レジスト液に対しそれぞれ設けられて基板に扁平状に色彩レジスト液を吐出する複数のレジスト液吐出ノズルと、
前記複数のレジスト液吐出ノズルを移動するノズル移動機構と、
前記ノズル本体を回転させるノズル回転機構と、
基板を回転する基板回転機構と、
色彩レジスト液の種類に応じ、前記レジスト液吐出ノズルの移動速度および基板の回転速度を多段階で調節制御するコントローラと
を具備し、
前記レジスト液吐出ノズルから基板に１つの色彩レジスト液を吐出させながら前記ノズル移動機構により前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に、前記基板回転機構により基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせて色彩レジスト液をスクロール状に基板上に塗布するようにし、かつ、前記コントローラにより、前記レジスト液吐出ノズルの移動速度および基板の回転速度を色彩レジスト液毎に制御するようにし、
前記ノズル回転機構は、前記ノズル移動機構が前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動する際に、前記針状部材のなす列の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くようにノズル本体を回転させることを特徴とするレジスト塗布処理装置を提供する。
【００１２】
また、本発明は、基板にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理方法であって、
ノズル本体と、前記ノズル本体に列をなすように設けられ、内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材とを有し、基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルから、基板にレジスト液を吐出させながら前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記針状部材のなす列の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くようにノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、前記レジスト液を基板上にスクロール状に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理方法を提供する。
【００１３】
また、本発明は、基板にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理方法であって、
基板に扁平状にレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズルから、基板にレジスト液を吐出させながら前記レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に基板を回転させ、前記レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせ、かつ、前記レジスト液吐出ノズルを基板の中心から外側に移動させる際に、前記レジスト液吐出ノズルから扁平状に吐出されるレジスト液の吐出幅の方向が、基板回転機構が基板を回転させる方向の接線方向に近付くようにノズル回転機構によりノズル本体を回転させながら、前記レジスト液を基板上にスクロール状に塗布することを特徴とする、レジスト塗布処理方法を提供する。
【００１４】
本発明によれば、レジスト液吐出ノズルから基板にレジスト液を吐出しながら、レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に基板を回転させ、これにより、レジスト液吐出ノズルと基板とに相対的なスクロール動作をさせながら、レジスト液を基板上にスクロール状に塗布するので、レジスト液の吐出量がそれ程多くなくても、レジスト液を基板上の広い面積に亘って広げることができ、レジスト液が拡散しにくい場合であっても、少ないレジスト液吐出量でレジスト液を基板上に均一に塗布することができる。
【００１５】
上記レジスト塗布処理装置において、レジスト液吐出ノズルは、扁平状にレジスト液を吐出するように構成することが好ましい。レジスト液が基板上にスクロール状に塗布される際、ノズルの吐出口が例えば円形状で、吐出幅が狭いような場合には、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に、隙間ができ、塗布ムラの原因になるおそれがあるが、レジスト液吐出ノズルを、扁平状にレジスト液を吐出することができる構造とすることにより、吐出幅を広くすることができ、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に隙間ができることを回避することができる。そのため、基板上に塗布されたレジスト液が全体として円形状になり、塗布ムラを防止することができる。具体的には、レジスト液吐出ノズルの先端を、スリット状とするか、または内部にレジスト液通流孔が形成された多数の針状部材を有するようにすることにより、このように扁平状にレジストを吐出することができる。
【００１６】
さらに、ノズル移動機構は、レジスト液吐出ノズルを基板の略中心から外方に向けて移動するように構成されていることが好ましい。このようにすることにより、レジスト液吐出方向と拡散方向が同じであるため、塗布ムラの虞れをなくすことができる。逆に、レジスト液吐出ノズルを外方から基板の略中心に向けて移動するように構成されている場合には、基板が回転されてその遠心力によりレジスト液が拡散されているため、吐出の方向と、拡散の方向とが反対になり、塗布ムラのおそれがある。
【００１７】
さらに、ノズル移動機構は、ノズルの移動速度が可変であることが好ましい。これにより、レジスト液の塗布状況に応じてノズルの移動速度を変化させてレジスト液塗布量を調節することができる。具体的には、レジスト液吐出ノズルが基板の外方に移動するほど、その移動速度を低下させるようにすることが好ましい。これにより、レジスト吐出と基板とに相対的なスクロール動作させながら、レジスト液を基板上にスクロール状に塗布する際、その内周側と外周側のレジスト液の塗布量を均等にすることができる。
【００１８】
さらにまた、基板回転機構は回転速度が可変であることが好ましい。これによりレジスト液の塗布状況に応じて基板回転速度を変化させてレジスト液塗布量を調節することができる。
【００１９】
さらにまた、基板回転機構による基板の回転速度は、基板上のレジスト液の外周が放射状に広がらない程度に維持されることが好ましい。これにより、レジスト液の外周が基板外周から外側へ飛散してレジスト液が無駄になることを防止することができる。
【００２０】
ノズル移動機構および基板回転機構を制御する制御機構を有し、制御機構は、レジスト液吐出ノズルから基板に塗布液が吐出されているときにノズル移動機構によりレジスト液吐出ノズルを移動させると同時に、基板回転機構により基板を回転させ、レジスト液吐出ノズルと基板との間に相対的なスクロール動作をさせることが好ましい。この場合に、制御機構は、塗布処理の際に、ノズルの移動速度および基板の回転速度を制御するようにすることが好ましい。
【００２１】
さらに、複数のレジスト液吐出ノズルが一つのノズルアームの先端に一体的に保持されているように構成することができる。これにより、例えば、レッド、グリーン、ブルー、およびブラックの色彩レジスト液を塗布する場合にノズルアームを移動させるだけで対応することができるので、極めて効率的にレジスト塗布を行うことができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明が適用されるＬＣＤのカラーフィルターの塗布・現像処理システムを示す平面図である。
【００２３】
この塗布・現像処理システムは、複数のカラーフィルター基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置（図示せず）との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部３とを備えており、処理部２の両端にそれぞれカセットステーション１およびインターフェース部３が配置されている。
【００２４】
カセットステーション１は、カセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション１においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２５】
処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１２、１３、１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には、中継部１５、１６が設けられている。
【００２６】
前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、２１ｂが配置されており、搬送路１２の他方側には、それぞれ２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下２段に重ねられてなる加熱処理ユニット２５、２６、および冷却処理装置（ＣＯＬ）が上下２段に重ねられてなる冷却処理ユニット２７が配置されている。
【００２７】
また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の一方側には、色彩レジストを塗布するためのレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２、および基板Ｇの周縁部の色彩レジストを除去するエッジリムーバー（ＥＲ）２３が設けられており、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２とエッジリムーバー（ＥＲ）２３との間に、乾燥処理ユニット４０が設けられている。搬送路１３の他方側には、２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット２８、加熱処理装置（ＨＰ）と冷却処理装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる加熱処理／冷却処理ユニット２９、および２つの冷却処理装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる冷却処理ユニット３０が配置されている。
【００２８】
さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿って移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４の一方側には、３つの現像処理ユニット２４ａ、２４ｂ、２４ｃが配置されており、搬送路１４の他方側には２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット３１、および加熱処理装置（ＨＰ）と冷却処理装置（ＣＯＬ）とが上下に積層されてなる２つの加熱処理／冷却処理ユニット３２、３３が配置されている。
【００２９】
なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の側に洗浄処理ユニット２１ａ、レジスト処理ユニット２２、現像処理ユニット２４ａのようなスピナー系ユニットのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する構造となっている。
【００３０】
上記主搬送装置１７，１８，１９は、それぞれ水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、および垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基板Ｇを支持するアーム１７ａ，１８ａ，１９ａを有している。
【００３１】
また、中継部１５、１６のスピナー系ユニット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置されており、さらにメンテナンスのためのスペース３５が設けられている。
【００３２】
上記主搬送装置１７は、搬送機構１０のアーム１１との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、前段部２ａの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１５との間で基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。また、主搬送装置１８は中継部１５との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、中段部２ｂの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１６との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。さらに、主搬送装置１９は中継部１６との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、後段部２ｃの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらにはインターフェース部３との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。なお、中継部１５、１６は冷却プレートとしても機能する。
【００３３】
インターフェース部３は、処理部２との間で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエクステンション３６と、さらにその両側に設けられた、バッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板Ｇの搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機構３８はエクステンション３６およびバッファーステージ３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９により処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われる。
このように各処理ユニットを集約して一体化することにより、省スペース化および処理の効率化を図ることができる。
【００３４】
このように構成される塗布・現像処理システムにおいては、カセットＣ内の基板Ｇが、処理部２に搬送され、処理部２では、まず、前段部２ａの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂでスクラバー洗浄が施され、加熱処理ユニット２５，２６のいずれかの加熱処理装置（ＨＰ）で加熱乾燥された後、冷却処理ユニット２７のいずれかの冷却処理装置（ＣＯＬ）で冷却される。
【００３５】
その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２で色彩レジストが塗布され、乾燥処理ユニット４０により乾燥処理されて、エッジリムーバー（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分な色彩レジストが除去される。その後、基板Ｇは、中段部２ｂの中の加熱処理装置（ＨＰ）の一つでプリベーク処理され、ユニット２９または３０の下段の冷却処理装置（ＣＯＬ）で冷却される。
【００３６】
その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装置１９にてインターフェース部３を介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、基板Ｇは再びインターフェース部３を介して搬入され、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかで現像処理される。現像処理された基板Ｇは、後段部２ｃのいずれかの加熱処理装置（ＨＰ）にてポストベーク処理が施された後、後段部２ｃのいずれかの冷却処理装置（ＣＯＬ）にて冷却される。
【００３７】
このような各色彩毎の一連の処理が予め設定されたレシピに従って実行される。例えば、レッドの塗布・露光・現像処理が終了した基板Ｇは、順次グリーン、ブルー、ブラックの塗布・露光・現像処理が施されるが、後述するように、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２において異なる色彩のノズルを用いる他は、各色彩ともほぼ同様に処理される。完成したカラーフィルターの基板は、主搬送装置１９，１８，１７および搬送機構１０によってカセットステーション１上の所定のカセットに収容される。
【００３８】
次に、このようなカラーフィルターのレジスト塗布・現像処理システムに設けられたレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）、およびエッジリムーバー（ＥＲ）について説明する。図２および図３は、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）、およびエッジリムーバー（ＥＲ）を示す概略平面図および概略側面図である。
【００３９】
図２および図３に示すように、これらレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０、およびエッジリムーバー（ＥＲ）２３は、同一のステージに一体的に並設されている。レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２で所定の色彩レジストが塗布された基板Ｇは、一対の搬送アーム４１によりガイドレール４３に沿って減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０に搬送され、この減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０で乾燥処理された基板Ｇは、一対の搬送アーム４２によりガイドレール４３に沿ってエッジリムーバー（ＥＲ）２３に搬送されるようになっている。
【００４０】
レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２は、基板Ｇを吸着保持する水平回転可能なスピンチャック５１、このスピンチャック５１の上端部を囲みかつこのスピンチャック５１に吸着保持された基板Ｇを包囲して上端部が開口する有底開口円筒形状の回転カップ５２、回転カップ５２の上端開口にかぶせられる蓋体（図示略）、回転カップ５２の外周を取り囲むように固定配置されるコーターカップ５３を有している。そして、後述する色彩レジストの滴下時には、蓋体が開かれた状態で基板Ｇがスピンチャック５１により回転され、色彩レジストの拡散時には、基板Ｇがスピンチャック５１により回転されると同時に、蓋体（図示略）が閉じられた状態の回転カップ５２が回転されるようになっている。なお、コーターカップ５３の外周には、アウターカバー５４が設けられている。
【００４１】
また、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２は、ガラス製の矩形の基板Ｇに、４色（レッド、グリーン、ブルー、およびブラック）の色彩レジストを吐出するためのレジスト液吐出ノズルアーム５５を有している。色彩レジストの滴下時には、このレジスト液吐出ノズルアーム５５の先端が、図２に示す退避位置から、基板Ｇの中心まで移動されるようになっている。
【００４２】
図４に詳細に示すように、レジスト液吐出ノズルアーム５５の先端には、レッドの色彩レジストのノズル５６ａ、グリーンの色彩レジストのノズル５６ｂ、ブルーの色彩レジストのノズル５６ｃ、ブラックの色彩レジストのノズル５６ｄ、およびシンナーノズル５６ｅが設けられている。各色彩レジスト用のレジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄには、それぞれレジスト供給管５７ａ〜５７ｄが接続され、これらレジスト供給管５７ａ〜５７ｄは、２つの大径管５８ａ，５８ｂ内に収納されている。そして、各レジスト供給管には、それぞれ、レジスト供給源としての２個のタンク（図示略）が接続されている。また、シンナーノズル５６ｅは、シンナー供給管５７ｅを介して、シンナー供給源（図示略）に接続されている。
【００４３】
このように構成されているため、色彩レジスト用のレジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄの一つにより、一つの色彩レジストを基板Ｇに塗布した後、他の色彩のノズルによって塗布処理を行うことが容易である。例えば、次の基板に塗布するレジストの色彩が異なっていても、ノズルを変えるだけで容易に対応することができる。
【００４４】
減圧乾燥処理ユニット４０は、ローチャンバ６１と、その上を覆うように設けられ、内部の処理室を気密に維持するアッパーチャンバ６２とを有する。このローチャンバ６１には、基板Ｇを載置するためのステージ６３が設けられ、ローチャンバ６１の各コーナー部には、４個の排気口６４が設けられ、この排気口６４に連通された排気管６５（図３）がターボ分子排気ポンプ等の排気ポンプ（図示略）に接続され、これにより、ローチャンバ６１とアッパーチャンバ６２との間の処理室内のガスが排気され、所定の真空度、例えば０．１Torrに減圧されるように構成されている。なお、ステージ６３には吸着機構は設けられておらず、単に基板Ｇが載置されるようになっている。また、ステージ６３には基板Ｇの受け渡し用のピン（図示せず）が突没可能に設けられている。これらピンは基板の処理に悪影響を与えないために、基板の処理領域以外の部分に当接するような位置に配置されている。
【００４５】
基板Ｇの端面処理を行うエッジリムーバー（ＥＲ）２３には、基板Ｇを載置するためのステージ７１が設けられ、このステージ７１上の２つのコーナー部には、基板Ｇを位置決めするための２つのアライメント機構７２が設けられている。上述したように、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０のステージ６３には吸着機構が設けられておらず、単に基板Ｇを載置しているだけであるから、エッジリムーバー（ＥＲ）２３による端面レジスト除去処理に先立ってアライメント機構７２により基板Ｇのアライメントを行う。
【００４６】
この基板Ｇの四辺に対応する位置には、それぞれ、基板Ｇの四辺のエッジから余分な色彩レジストを除去するための四個のリムーバーヘッド７３が設けられている。各リムーバーヘッド７３は、内部からシンナーを吐出するように断面略Ｕ字状を有し、基板Ｇの四辺に沿って移動機構（図示略）によって移動されるようになっている。したがって、各リムーバーヘッド７３は、基板Ｇの各辺に沿って移動してシンナーを吐出しながら、基板Ｇの四辺のエッジに付着した余分な色彩レジストを取り除くことができる。
【００４７】
また、本実施の形態では、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２においては、図５に示すように、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄのいずれかのノズルから基板Ｇに各色彩レジスト液を吐出しながら、ノズルアーム５５を矢印方向に移動してレジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄを基板上で移動させると同時に、スピンチャック５１により基板Ｇを矢印方向に回転させる。これにより、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄと基板Ｇとの間に相対的なスクロール動作が生じ、各色彩レジスト液が基板Ｇ上にスクロール状に塗布される。この際に、図６に示すように、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄは、ノズル移動機構９１によりノズルアーム５５とともに移動され、スピンチャック５１上の基板Ｇは、基板回転機構９２により回転される。そして、これらノズル移動機構９１および基板回転機構９２はコントローラ９０により制御され、上述の相対的なスクロール動作が実現される。また、ノズル移動機構９１はノズルを移動させる際の速度が可変であり、基板回転機構９２も回転速度が可変であって、これら移動速度および回転速度もコントローラ９０によって制御される。例えば、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄの移動（揺動）速度と、基板Ｇの回転速度とを多段階で制御し、色彩レジスト液の種類によっても適宜調整制御するように構成することができる。
【００４８】
また、ノズル移動機構９１は、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄを基板Ｇの略中心から外方に向けて移動するようにノズルアーム５５を移動（揺動）させるように構成されている。このようにすることにより、レジスト液吐出方向と拡散方向が同じであるため、塗布ムラの虞れをなくすことができる。逆に、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄを外方から基板の略中心に向けて移動するように構成されている場合には、基板Ｇが回転されてその遠心力によりレジスト液が拡散されているため、吐出の方向と、拡散の方向とが反対になり、塗布ムラのおそれがあるため好ましくない。しかし、他の目的でレジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄを外方から基板の略中心に向けて移動することは可能である。
【００４９】
さらに、ノズル移動機構９１は、ノズルアーム５５によってレジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄが基板Ｇの外方に移動（揺動）するほど、その移動速度を低下させるように構成されている。これにより、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄと基板Ｇとに相対的なスクロール動作させながら、色彩レジスト液を基板Ｇ上にスクロール状に塗布する際、その内周側と外周側の色彩レジスト液の塗布量を均等にすることができる。
【００５０】
例えば、ノズルアーム５５を駆動するためのノズル移動機構９１をステッピングモータで構成し、そのパルス数を、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄが基板Ｇの略中心にある時には、例えば、３２０ｐｐｓとして移動（揺動）速度を比較的速くするが、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄが基板Ｇの略中心から外方側に移動（揺動）されるにつれて３２０ｐｐｓから２５０ｐｐｓに徐々にまたは段階的に低減するように構成することができる。
【００５１】
さらに、基板回転機構９２による基板Ｇの回転速度は、基板上のレジスト液の外周が放射状に広がらない程度に維持されることが好ましい。これにより、レジスト液の外周が基板外周から外側へ飛散してレジスト液が無駄になることを防止することができる。また、基板Ｇの回転速度の下限値は、色彩レジスト液が基板Ｇ上で拡散するのに必要な回転速度以上に設定される。このことを考慮して、基板Ｇの回転速度は、色彩レジスト液の種類等に応じて、例えば３０〜４０ｒｐｍの範囲で適宜選択される。
【００５２】
レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄは、扁平状にレジスト液を吐出するように構成されている。具体的には、例えば、図７の（ａ），（ｂ）に示すように、色彩レジスト液吐出幅の広い扁平状の吐出口８１を有している。これにより、色彩レジスト液が帯状に基板Ｇ上に吐出されるようになっている。
【００５３】
レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄは、図８（ａ）に示すように、内部に何も存在させずに、レジスト液がスリット状の吐出口８１の広がりに対応するようにしてもよいが、この場合には、吐出口８１の吐出幅は、１０〜１５ｍｍが限界であり、それ以上広げることは困難である。
【００５４】
これに対して、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄの内部に、図８（ｂ）に示すように、多数の仕切板８２を設け、色彩レジスト液が外側に導かれるようにすることにより、吐出口８１の吐出幅を上記図８の（ａ）の場合よりも広くすることができ、例えば、２０〜１００ｍｍの吐出幅を確保することができる。
【００５５】
また、扁平状にレジスト液を吐出するためには、図８（ｃ）に示すような、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄの先端に多数の小孔が穿設された円弧状のプレート８３を設け、このプレート８３に設けられた小孔に連続して小孔を有する注射針状の多数の吐出管８４を放射状に取り付けたクマデタイプであってもよい。この場合にも、吐出幅を上記図８の（ａ）の場合よりも広くすることができ、例えば、２０〜１００ｍｍの吐出幅を確保することができる。この場合の吐出管８４の孔径は、例えば、０．３ｍｍである。
【００５６】
次に、このように一体的に構成されたレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０、およびエッジリムーバー（ＥＲ）２３における基板の処理について説明する。
【００５７】
まず、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２において、所定の色彩レジスト、例えばレッドの色彩レジストのノズル５６ａをスピンチャック５１の中心（基板Ｇの中心）に到達させて、図５の矢印で示すように、ノズルアーム５５により径方向外方に移動させながら、基板Ｇを回転させ、その基板Ｇ上にレッドの色彩レジスト液を吐出させる。これにより、レジスト液がスクロール状に基板Ｇに塗布される。その後、基板Ｇの回転数を例えば８００ｒｐｍ程度まで上昇させて、レジスト液を基板Ｇの隅々まで広げるとともに、レジスト膜の厚さを整える。
【００５８】
このようにスクロール状に塗布することにより、レジスト液の吐出量がそれ程多くなくても、レジスト液を基板Ｇ上の広い面積に亘って広げることができるので、本実施形態のように顔料を含む粘性の高い色彩レジストを用いる場合や、基板Ｇがパターン付きのカラーフィルター基板の場合のように、レジスト液が拡散しにくい場合であっても、より少ないレジスト液吐出量でレジスト液を基板上に均一に塗布することができる。
【００５９】
色彩レジスト液が基板Ｇ上にスクロール状に塗布される際、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄの吐出口が例えば円形状で、吐出幅が狭いような場合には、スクロール状に吐出された色彩レジスト液の間に、蚊取り線香状に隙間ができ、塗布ムラの原因になるおそれがある。しかし、上述したように、レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄを扁平状にレジスト液を吐出するように構成することにより、吐出幅を広くすることができ、基板Ｇ上にスクロール状に塗布された色彩レジスト液に隙間ができることを回避することができる。したがって、基板上に略円形状にレジスト液を塗布することができ、塗布ムラを防止することができる（図９参照）。
【００６０】
なお、このようなレジスト液の吐出に先だって、シンナーノズル５６ｅから基板Ｇの中心にシンナーを供給し、基板Ｇを回転させて基板Ｇの全面に広げるようにしてもよい。
【００６１】
このようにして、レッドの色彩レジストが塗布された基板Ｇは、搬送アーム４１により減圧乾燥処理ユニット４０に搬送され、ローチャンバ６１とアッパーチャンバ６２との間の処理室内のガスが排気され、所定の真空度、例えば０．１Torrに減圧されることにより、色彩レジスト中のシンナー等の溶剤がある程度蒸発され、レジスト中の溶剤が徐々に放出され、レジストに悪影響を与えることなくレジストの乾燥を促進させることができ、基板Ｇ上に転写が生じることを有効に防止することができる。
【００６２】
この乾燥された基板Ｇは、搬送アーム４２によりエッジリムーバー（ＥＲ）２３に搬送され、アライメント機構７２によりアライメントされた後、４個のリムーバーヘッド７３が基板Ｇの各辺に沿って移動し、吐出されたシンナーにより基板Ｇの四辺のエッジに付着した余分な色彩レジストが除去される。この場合に、塗布されたレジスト膜は減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０によりある程度乾燥されているため、極めて容易にレジスト除去を行うことができる。
【００６３】
この後、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２には、他の基板Ｇが搬入され、同じレッド、または他の色彩のレジストが塗布される。同じ色彩の場合には同一の動作を繰り返して行えばよく、異なる色彩の場合にも異なる色彩ノズルから他の色彩のレジストを滴下するのみで他は同じ処理でよいから、極めて容易に対応することができる。
【００６４】
一方、上述のレッドの色彩レジストが塗布された基板Ｇは、露光・現像処理されて、再度、洗浄処理の後、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２に搬入され、二回目の色彩レジスト、例えばグリーンの色彩レジストのノズル５６ｂからグリーンの色彩レジストが基板Ｇに塗布されて、上述した処理工程が同様に繰り返される。同様にして、三回目の色彩レジスト、例えばブルーが塗布され、四回目の色彩レジスト、例えばブラックが塗布される。
【００６５】
次に、本発明の他の実施形態について説明する。
図１１は、本実施形態におけるレジスト液吐出ノズルの一例を示す断面図である。
図１１に示すように、このレジスト液吐出ノズル１１０は、ノズル本体１１１と、ノズル本体１１１の上部に設けられたレジスト液を導入する導入口１１３と、ノズル本体１１１の下部に列をなすように設けられ、内部にレジスト通流孔を有する多数の針状部材１１５とを有している。ノズル本体１１１の内部にはレジスト液を貯留する貯留室１１２が設けられており、前記導入口１１３は貯留室１１２の上面に連通し、前記多数の針状部材１１５のレジスト通流孔はその一端が貯留室１１２の下部に連通している。また、この貯留室１１２の上面は、導入口１１３と連通する部分がより高くなるように傾斜した傾斜部１１４を有している。
【００６６】
このような構成により、レジスト液供給手段（図示略）から導入口１１３を介して供給されたレジスト液は、貯留室１１２内に貯留されるとともに、貯留室１１２の下部から各針状部材１１５内のレジスト通流孔を通って基板Ｇ上に吐出される。
【００６７】
このとき、レジスト液は基板Ｇ上に吐出される前に一旦貯留室１１２に貯留され、また、この貯留室１１２の上面は導入口１１３と連通する部分がより高くなるように傾斜した傾斜部１１４を有しているので、レジスト液供給手段から供給されたレジスト液に含まれている泡はレジスト液が貯留室１１２に貯留されている間に貯留室１１２内を浮上し、傾斜部１１４に沿って導入口１１３に至り、排出される。したがって、レジスト液に含まれる泡がレジスト液の塗布処理に悪影響を与えることを防止することができる。
【００６８】
図１２は、本実施形態におけるレジスト液吐出ノズルの他の例を示す断面図である。
図１２に示すように、このレジスト液吐出ノズル１２０は、ノズル本体１２２と、ノズル本体１２２の上部に設けられたレジスト液を導入する導入口１２４と、ノズル本体１２２の上面と接続された多数の針状部材１２１とを有している。ノズル本体１２２の内部にはレジスト液を貯留する貯留室１２３が設けられており、針状部材１２１の内部に設けられたレジスト液通流孔は、この貯留室の上面と連通部１２５において連通している。また、各針状部材１２１は、内部を通流するレジスト液の流れが上昇した後に下降するような曲部１２６を有している。
【００６９】
このような構成により、レジスト液供給手段（図示略）から導入口１２４を介して供給されたレジスト液は、貯留室１２３内を満たし、貯留室１２３上面の連通部１２５から各針状部材１２１内を上昇した後、曲部１２６で流れの方向を曲げられて各針状部材１２１内を下降し、各針状部材１２１の先端から基板Ｇ上に吐出される。このようにして基板Ｇ上にレジスト液を塗布した後、レジスト液供給手段（図示略）からのレジスト液の供給を停止することにより、レジスト液の吐出は終了される。このとき、レジスト液の供給を停止することにより、レジスト液が針状部材１２１内を上昇する駆動力が失われるので、レジスト液の供給を停止した後に貯留室１２３内に残存したレジスト液が針状部材１２１内を通って基板Ｇ上にこぼれ落ちることがなくなり、レジスト液のこぼれ落ちによる不良を防止することができる。
【００７０】
さらに、このレジスト液吐出ノズル１２０においては、図１２に示すように、貯留室１２３の上面が、連通部１２５側がより高くなるように傾斜を有しているため、レジスト液の供給を停止した後のレジスト液のこぼれ落ちをより確実に防止することができる。
【００７１】
さらに、このように針状部材からレジスト液を吐出する形式のレジスト液吐出ノズルにおいては、図１３に示すように、レジスト液吐出ノズルが基板回転機構９２により回転される基板Ｇの上方に配置された際に、針状部材１２１が基板Ｇの外側に傾斜するように設けてもよい。このようにすることで、針状部材１２１の先端からは回転する基板Ｇの外側に向けてレジスト液が吐出されるので、レジスト液が基板Ｇの外側に拡がりやすくなり、より均一にレジスト液の塗布を行うことができる。なお、図１３中、軸Ｃは基板回転機構９２が基板を回転させる際の中心軸を示す。
【００７２】
また、図１４に示すように、針状部材１２１は、外側に行くほど外側への傾斜角度が大きくなるように設けてもよい。これにより、より広い範囲にレジスト液を吐出することができる。
【００７３】
さらにまた、図１５に示すように、隣接する針状部材１２１同士を結合部材１５１により結合するように構成してもよい。これにより、図１６に示すように、ノズル洗浄機構１６１でシンナー吐出部１６２からシンナーを吐出してレジスト液吐出ノズルを洗浄する際に、シンナーが結合部材１５１を伝わって各針状部材１２１に供給されるので、効率よく洗浄を行うことができる。
【００７４】
なお、図１３から図１６には、それぞれ図１２に示したレジスト液吐出ノズルの例における針状部材１２１の形態について示したが、図８（ｃ）に示したクマデタイプのレジスト液吐出ノズル、および、図１１に示したレジスト液吐出ノズルにおいても、上記と同様の構成とすることでそれぞれの効果を得ることができる。
【００７５】
次に、本発明のまた他の実施形態について説明する。
図１７は、本実施形態におけるレジスト液吐出ノズルを示す概略断面図である。
図１７に示すように、このレジスト液吐出ノズル１７０は、ノズル本体１７１と、このノズル本体１７１に列をなすように配置され、その先端からレジスト液を吐出する多数の針状部材１７２と、これら各針状部材１７２毎に設けられ、それぞれの針状部材１７２にレジスト液を供給するポンプ１７３と、各ポンプ１７３の動作を制御する制御部１７４を有している。
【００７６】
このようにすることで、制御部１７４で各ポンプ１７３を制御して、それぞれの針状部材１７２からのレジスト液吐出量を個別に制御しながらレジスト液の塗布を行うことができるので、基板Ｇにより均一にレジスト膜を形成することができる。
【００７７】
次に、本発明のさらに他の実施形態について説明する。
図１８は、本実施形態におけるレジスト液吐出ノズルを用いて基板Ｇ上にレジスト液を塗布している状態を示す上面図である。
図１８に示すように、このレジスト液吐出ノズル１８０は、ノズルアーム５５の先端に設けられたノズル本体１８１と、このノズル本体１８１に列状に配置され、その先端からレジスト液を吐出する針状部材１８３と、このノズル本体１８１を回転可能なノズル回転機構１８２とを有している。
【００７８】
このような構成のレジスト液吐出ノズル１８０で基板Ｇにレジスト液を塗布する際には、各針状部材１８３の先端からレジスト液を吐出させながら、ノズル移動機構９１（図１８には図示略）がノズルアーム５５によってレジスト液吐出ノズル１８１を基板Ｇの中心から外方に移動させると同時に、基板回転機構９２（図１８には図示略）により基板Ｇを回転させる。このとき、レジスト液吐出ノズル１８０が基板Ｇの中心から外方側に移動されるにつれて、ノズル回転機構１８２が、針状部材１８３のなす列の方向が基板Ｇの回転方向１８４の接線方向に近付くようにノズル本体１８１を回転させる。このようにすることで、基板Ｇの内側と外側とで均一にレジスト液を塗布することができる。
【００７９】
次に、本発明のさらにまた他の実施形態について説明する。
図１９は、本実施形態におけるレジスト液吐出ノズルを用いてレジスト塗布処理を行っている状態を示す概略図である。
図１９に示すように、このレジスト液吐出ノズル１９０は、スリット状の吐出口を有し、基板Ｇに対して幅広にレジスト液を吐出するノズル本体１９１と、ノズル本体１９１に取り付けられ、ノズル本体１９１と基板Ｇとの間隔を計測する距離センサー１９２と、ノズル本体１９１を昇降させる昇降機構１９４と、距離センサー１９２の計測結果に基づいて昇降機構１９４の動作を制御する制御部１９３とを有している。
【００８０】
このレジスト液吐出ノズル１９０においては、ノズル本体１９１からレジスト液を吐出しながら、距離センサー１９２によりノズル本体１９１と基板Ｇとの間隔を計測し、その計測値に基づいて制御部１９３がノズル本体１９１と基板Ｇとの間隔が一定になるように昇降機構１９４を動作させてノズル本体１９１を昇降する制御を行う。
【００８１】
スリット状の吐出口を有し、基板Ｇに対して幅広にレジスト液を吐出するスリットタイプのノズルの場合、基板Ｇとノズルとの間隔が変化すると基板Ｇ上に吐出されるレジスト液の幅が変動してしまうが、本実施形態においては基板Ｇとノズル本体１９１との間隔が一定となるように制御しているので、このようなレジスト液の幅の変動が防止され、レジスト液を均一な幅で吐出することができる。
【００８２】
次に、本発明のさらに別の実施形態について説明する。
図２０は、本実施形態に係るレジスト液吐出ノズルの概略側面図である。
図２０に示すように、このレジスト液吐出ノズル２００は、ノズル本体２０１と、内部にレジスト液通流孔が形成され、その先端からレジスト液を吐出する針状部材２０２と、この針状部材２０２中を通流するレジスト液に含まれる泡を検出する泡センサー２０３とを有している。また、このレジスト液吐出ノズルの設けられるレジスト塗布・現像処理手段においては、この泡センサー２０３からの検出結果に基づいて所定の制御を行う制御部２０４と、制御部２０４により制御され、警告信号を発する警告装置２０５とが設けられる。
【００８３】
針状部材２０２は、その中を通流するレジスト液に含まれる泡を泡センサー２０３により検出するため、例えばポリメチルペンテン等のように、透明で耐溶剤性の強い材質を使用することが好ましい。
【００８４】
以上のような構成により、泡センサー２０３により針状部材２０２中を通流するレジスト液に含まれる泡の検出を行いながらレジスト液の塗布処理を行い、泡センサー２０３からの検出結果より制御部２０４がレジスト液中に泡が含まれていると判断した場合には、制御部２０４がレジスト塗布・現像処理装置を停止するとともに、警報発生装置２０５を作動させて警報を発生するように制御を行うことができる。レジスト塗布・現像処理装置の停止と、警報の発生とは、いずれか一方のみを行うように制御してもよい。また、制御部２０４は、泡センサー２０３からの検出結果より、レジスト液中に含まれている泡の量が所定のしきい値を超えているかどうかを判断し、レジスト液中の泡の量がしきい値を超えている場合にレジスト塗布・現像処理装置の停止等を行うようにしてもよい。
【００８５】
なお、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、カラーフィルターにおけるレジスト塗布処理について示したが、これに限らず、ＬＣＤ基板や半導体基板等、他の基板のレジスト塗布処理にも適用することができる。
【００８６】
【実施例】
（実施例１）
素ガラスの基板の中心にレジスト液を吐出して基板の回転により拡散させる従来の場合と、素ガラスの基板にレジスト液をスクロール状に塗布する場合とについて実験を行った。実験結果を表１に示す。
【００８７】
【表１】
0003782294.tif 000002
【００８８】
例えば、従来のレジスト液使用量が３０ｍｌの場合と、スクロール塗布のレジスト液使用量が１５．０ｍｌの場合とを比較すると、レジスト液の広がり部分の直径は２３０〜２４０ｍｍで、ほぼ同等になっており、スクロール塗布の場合には、レジスト液の使用量が従来のほぼ半分で同等のレジスト広がり面積を確保することが可能であることが確認された。
【００８９】
また、素ガラスの基板に塗布ムラなくレジスト液を塗布できるレジスト液の使用量は、従来では２５ｍｌであったのに対し、スクロール塗布では１７．５ｍｌであり、レジスト液の使用量をほぼ２／３に削減できることが確認された。
【００９０】
（実施例２）
パターン付きの基板の中心にレジスト液を吐出して基板の回転により拡散させる従来の場合と、パターン付きの基板にレジスト液をスクロール状に塗布する場合とについて実験を行った。実験結果を表２に示す。
【００９１】
【表２】
0003782294.tif 000003
【００９２】
パターン付きの基板に塗布ムラなくレジスト液を塗布できるレジスト液の使用量は、従来では３０ｍｌであったのに対し、スクロール塗布の場合には、１７．５ｍｌであり、レジスト液の使用量をほぼ半分に削減できることが確認された。
【００９３】
（実施例３）
レジスト液吐出ノズルとして、上述の図８の（ａ）に示すスリットタイプのものと図８の（ｃ）に示すクマデタイプを用い比較実験を行った。スリットタイプでは吐出幅を１０ｍｍとし、スリット幅を０．８ｍｍとした。またクマデタイプでは吐出管を１１本、吐出幅を２０ｍｍとし、吐出管の穴径を０．３ｍｍとした。これらを用いて、素ガラスの基板にレジスト液をスクロール状に塗布した。
【００９４】
レジスト液の使用量を２０ｍｌとした時、図９に示すように、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に、隙間ができるか否かの判別を行った。すなわち、図９の（ａ）に示すように基板上のレジストが円形になった場合を良好（○）とし、（ｂ）に示すように渦巻き状になった場合を不良（×）とした。その結果を表３に示す。
【００９５】
【表３】
0003782294.tif 000004
【００９６】
吐出幅が１０ｍｍであるスリットタイプのノズルの場合には、レジスト塗布直後のレジスト塗布部分の直径が２６０ｍｍ以下であるときには、図９の（ａ）に示すように、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に隙間はできず、塗布状態は良好であるが、この直径が２８０ｍｍ以上であるときには、図９の（ｂ）に示すように、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に、隙間ができ、塗布状態は不良となっている。
【００９７】
一方、吐出幅が２０ｍｍであるクマデタイプのノズルの場合には、レジスト塗布直後の直径が３３０ｍｍ以下であるときには、図９の（ａ）に示すように、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に隙間はできず、塗布状態は良好であるが、この直径が３５０ｍｍ以上であるときには、図９の（ｂ）に示すように、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に隙間ができ、塗布状態は不良となっている。
【００９８】
すなわち、レジスト液をスクロール状に塗布する塗布方式では、ノズルの吐出幅が広い場合のほうが、隙間なく塗布することができる塗布可能面積を広くできることが確認された。
【００９９】
次に、同様にレジスト使用量を変えて、従来の基板中心にレジスト液を吐出して塗布する場合（センター吐出）、上記吐出幅１０ｍｍのスリットタイプのノズルを用いてスクロール塗布を行った場合、および上記吐出幅２０ｍｍのクマデタイプのノズルを用いてスクロール塗布を行った場合について、回転前レジスト直径を測定した。その結果を表４に示す。
【０１００】
【表４】
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【０１０１】
表４に示すように従来のセンター吐出の場合には、レジスト液の使用量が２５ｍｌ以上でないと、塗布ムラが生起されたのに対し、スクロール塗布の場合には、スリットタイプのノズルを用いた場合およびクマデタイプのノズルを用いた場合のいずれも１８．５ｍｌまで塗布ムラが生じなかった。また回転前レジスト直径については、センター吐出の場合にはレジスト吐出量が３０ｍｌでも回転前レジスト直径が２４０ｍｍであったのに対し、スクロール塗布の場合には、１８．５ｍｌでもスリットタイプで２５０ｍｍ、クマデタイプで３００ｍｍとなった。このことからスクロール塗布によりレジスト液の使用量を従来に比べて削減できることが確認された。
【０１０２】
また、スクロール塗布方式の中で、吐出幅が１０ｍｍであるスリットタイプのノズルと吐出幅が２０ｍｍであるクマデタイプのノズルを比較した場合、いずれのレジスト使用量においても吐出幅が広いクマデタイプの方が回転前レジスト直径が大きいことが確認された。
【０１０３】
（実施例４）
次に、スクロール塗布した場合の膜厚均一性について把握した。表５にレジスト吐出時間およびレジスト使用量を変化させてスクロール塗布した場合の吐出後のレジスト直径および膜厚均一性を示す。表５に示すように、吐出時間が長いほど中心部膜厚が厚くなり、周辺部が薄くなる傾向がある。図１０は吐出時間１８．５ｓｅｃでレジスト使用量が２８ｍｌとしてスクロール塗布を行った場合と、センター吐出を行った場合とで対角線上の膜厚プロファイルを示すグラフである。このグラフから明らかなように、吐出時間が長く、レジスト使用量が多い場合であっても、センター吐出の場合よりも多少膜厚均一性が悪くなるのみであることが確認された。このことから、スクロール塗布では吐出時間およびレジスト使用量を調整することにより、センター吐出の場合と同等な膜厚均一性が得られることが把握される。
【０１０４】
【表５】
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【０１０５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、レジスト液吐出ノズルから基板にレジスト液を吐出しながら、レジスト液吐出ノズルを基板上で移動させると同時に基板を回転させ、これにより、レジスト液吐出ノズルと基板とに相対的なスクロール動作をさせながら、レジスト液を基板上にスクロール状に塗布するので、レジスト液の吐出量がそれ程多くなくても、レジスト液を基板上の広い面積に亘って広げることができ、レジスト液が拡散しにくい場合であっても、少ないレジスト液吐出量でレジスト液を基板上に均一に塗布することができる。
【０１０６】
この場合に、レジスト液吐出ノズルを扁平状にレジスト液を吐出するように構成することにより、吐出幅を広くすることができ、スクロール状に吐出されたレジスト液の間に隙間ができることを回避することができる。そのため、基板上に塗布されたレジスト液が全体として円形状になり、塗布ムラを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明が適用されるＬＣＤのカラーフィルターの塗布・現像処理システムを示す平面図。
【図２】  レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）、乾燥処理ユニット、およびエッジリムーバー（ＥＲ）を示す概略平面図。
【図３】  レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）、乾燥処理ユニット、およびエッジリムーバー（ＥＲ）を示す概略側面図。
【図４】  レジスト液吐出ノズルアームの平面図および側面図。
【図５】  本発明の一実施形態に係るレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を模式的に示す平面図。
【図６】  本発明の一実施形態に係るレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）の制御系を示す概略図。
【図７】  本発明の一実施形態に係るレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に用いるレジスト液吐出ノズルの側面図および正面図。
【図８】  レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に用いるレジスト液吐出ノズルの例を模式的に示す図。
【図９】  スクロール塗布直後のレジストの塗布状態を示す模式図。
【図１０】  センター吐出の場合とスクロール塗布の場合について膜厚プロファイルを示すグラフ。
【図１１】  本発明の他の実施形態におけるレジスト液吐出ノズルの一例を示す断面図。
【図１２】  本発明の他の実施形態におけるレジスト液吐出ノズルの他の例を示す断面図。
【図１３】  図１２に示したレジスト液吐出ノズルにおける針状部材の一形態を示す概略図。
【図１４】  図１２に示したレジスト液吐出ノズルにおける針状部材の他の形態を示す概略図。
【図１５】  図１２に示したレジスト液吐出ノズルにおける針状部材のまた他の形態を示す部分的な概略図。
【図１６】  図１５に示したレジスト液吐出ノズルをノズル洗浄機構で洗浄している状態を示す断面図。
【図１７】  本発明のまた他の実施形態におけるレジスト液吐出ノズルを示す概略断面図。
【図１８】  本発明のさらに他の実施形態におけるレジスト液吐出ノズルを用いてレジスト液を塗布している状態を示す上面図。
【図１９】  本発明のさらにまた他の実施形態におけるレジスト液吐出ノズルの例を示す概略図。
【図２０】  本発明のさらに別の実施形態におけるレジスト液吐出ノズルの例を示す概略側面図。
【符号の説明】
２２；レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）
５１；スピンチャック
５５；レジスト液吐出ノズルアーム
５６ａ〜５６ｄ；色彩レジスト液吐出ノズル
５７ａ〜５７ｄ；色彩レジストの供給管
８１；吐出口
９０；コントローラ
９１；ノズル移動機構
９２；基板回転機構
Ｇ；カラーフィルター用基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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