(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、有機色素と有機酸化剤とを含む記録層を有し、更にその上に光反射層を有する情報記録媒体であって、有機色素が、下記一般式（Ｂ）で表されるシアニン色素であって：
一般式（Ｂ）
【化１】
0003840301.tif 000049
［式中、Ｚ1 及びＺ2 は各々独立に、５員または６員の含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ4 およびＲ5 は各々独立にアルキル基を表し、Ｌ3 、Ｌ4 、Ｌ5 、Ｌ6 及びＬ7 は各々独立にメチン基を表し、ｎ１およびｎ２は各々独立に０または１を表し、ｐ及びｑは各々独立に０または１を表し、Ｍ１は電荷中和対イオンを表し、そしてｍ１は分子中の電荷を中和させるために必要な０以上の数を表す。］
有機酸化剤が下記一般式（Ａ−Ｉ）で表される化合物であり：
一般式（Ａ−Ｉ）
【化２】
0003840301.tif 000050
［式中、Ｘ11及びＸ22は各々独立に酸素原子、＝ＮＲ1 基、又は＝ＣＲ2 Ｒ3 基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は各々独立に置換基を表し、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ10とＲ11、及びＲ12とＲ13は各々連結して不飽和縮合環を形成しても良い。］
そして、有機酸化剤の還元電位が−０．２ボルトよりも貴であって、シアニン色素の酸化電位ｂボルトと有機酸化剤の還元電位ａボルトとの差が、０．６＜ｂ−ａ＜１．０の関係式を満たすように組み合わされてなることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
シアニン色素の酸化電位ｂボルトが、０．４＜ｂ＜１．０の範囲にある請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項３】
有機酸化剤の還元電位ａボルトが、−０．２＜ａ＜０．２の範囲にある請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
有機酸化剤の還元電位ａボルトが、−０．１＜ａ＜０．０５の範囲にある請求項３に記載の情報記録媒体。
【請求項５】
シアニン色素の酸化電位ｂボルトと有機酸化剤の還元電位ａボルトとの差が、０．６＜ｂ−ａ＜０．８の関係式を満たす請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項６】
有機酸化剤の吸収極大波長が、シアニン色素の吸収極大波長よりも５０ｎｍ以上短波長側にあるように組み合わされている請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項７】
有機酸化剤の吸収極大波長が、シアニン色素の吸収極大波長よりも１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側にある請求項６に記載の情報記録媒体。
【請求項８】
有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−II）で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
一般式（Ａ−II）
【化３】
0003840301.tif 000051
［式中、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ16とＲ17、及びＲ18とＲ19は各々連結して不飽和縮合環を形成しても良い。］
【請求項９】
有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−III)で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
一般式（Ａ−III)
【化４】
0003840301.tif 000052
［式中、Ｒ31は、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ32は、水素原子または置換基を表し、ｍ４は、１〜４の整数を表し、ｍ４又は４−ｍ４が共に２以上の整数を表す時、複数のＲ31又は複数のＲ32は、それぞれ同じであっても異なっていても良い。］
【請求項１０】
有機酸化剤が、下記式で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
【化５】
0003840301.tif 000053
【請求項１１】
有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−IV）で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
一般式（Ａ−IV）
【化６】
0003840301.tif 000054
［式中、Ｒ42は水素原子又は置換基を表し、ｍ５は０〜６の整数を表し、ｍ５が２以上の整数を表す時、複数のＲ42はそれぞれ同じであっても異なっていても良い。］
【請求項１２】
有機酸化剤が、下記式で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
【化７】
0003840301.tif 000055
【請求項１３】
シアニン色素が、下記一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
一般式（Ｂ−Ｉ）
【化８】
0003840301.tif 000056
［式中、Ｚ11及びＺ22は、各々独立に、置換基を有しても良い、ベンゼン環又はナフタレン環を形成するのに必要な原子団を表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は各々独立に炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ26は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子又は炭素数１〜８のカルバモイル基を表し、Ｍ２m2- は陰イオンを表し、そしてｍ２は１又は２を表す。］
【請求項１４】
シアニン色素が、下記一般式（Ｂ−III)で表される化合物である請求項１に記載の情報記録媒体。
一般式（Ｂ−III)
【化９】
0003840301.tif 000057
［式中、Ｍ６m6- は陰イオンを表し、そしてｍ６は１又は２を表す。］
【請求項１５】
有機酸化剤が、下記式で表される化合物のいずれかである請求項１４に記載の情報記録媒体。
【化１０】
0003840301.tif 000058
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高エネルギー密度のレーザ光を用いて情報の書き込みが可能な情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。この情報記録媒体は光ディスク（ＣＤ）と称され、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、更には大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリなどとして利用されている。
これらの光ディスクの中でも一回限りの情報の記録が可能な光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）、あるいはＤＲＡＷ（Direct Read After Write)型とも称され、最近のパーソナルコンピュータなどの普及に伴ってその需要も増大している。このようなＣＤ−Ｒ型の光ディスクは、コンピュータなどから必要な情報をＣＤ−Ｒ記録装置を利用して記録することができ、しかもこのようなＣＤを少量でかつ安価に、そして迅速に製作できる利点がある。
【０００３】
ＣＤ−Ｒ型の光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などからなる円盤状基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅなどの金属または半金属；又はシアニン系、金属錯体系、キノン系などの色素からなる記録層とを有する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常、基板の平面性の改善、記録層との接着力向上あるいは光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質からなる中間層が設けられることが多い。
光ディスクへの情報の書き込み（記録）及び読みとりは通常、下記の方法により行われる。情報の書き込みはレーザービームをこの光ディスクに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度が上昇し、物理的あるいは化学的な変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより情報が記録される。情報の読みとりもまた、レーザービームを光ディスクに照射することにより行われ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光又は透過光を検出することにより情報が再生される。
【０００４】
このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料として上記のように金属類や色素などが知られている。色素を用いた情報記録媒体は、金属などの記録材料に比べて高感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有するほかに、記録層を塗布法により簡単に形成することが出来るという製造上の大きな利点をも有している。しかしながら、色素からなる記録層は、一般に反射率が低い、再生信号のＣ／Ｎが低いなどの特性上の問題、及び色素記録層が光の照射により経時的に劣化し易いなどの欠点を有している。
上記反射率及びＣ／Ｎが向上した色素からなる記録層として、特開昭６４ー４０３８２号公報にベンゾインドレニン骨格を有するシアニン系色素からなる記録層を有する光ディスクが開示されている。また、同様な記録層として、特開昭６４ー４０３８７号公報にはベンゾインドレニン骨格（インドレニン骨格にベンゼン環が縮合した構造）を有するジカルボシアニン系色素（メチン鎖が５個）とインドレニン骨格を有するトリカルボシアニン系色素（メチン鎖が７個）とからなる記録層が設けられた光ディスクが開示されている。これはベンゾインドレニン骨格を有するジカルボシアニン系色素の高反射率を維持させながら、インドレニン骨格を有するトリカルボシアニン系色素を併用することによりＣ／Ｎの向上を図ったものである。
【０００５】
また、反射率を向上させるためには、色素記録層の上に更に反射層を設けることが一般的に行われている。このような例が、日経エレクトロニクス（１０７頁、１９８９年１月２３日発行）に記載されている。これによると上記記録媒体の記録層に用いられる色素は不明であるが、その記録方法が、色素記録層のレーザーの吸収により色素が融解され、これに伴ってプラスチック基板が加熱されて該基板が記録層側に盛り上がってピットが形成されることによって行われるとの開示がなされている。この反射層は金の蒸着膜である。そして本発明者の検討によれば、この色素記録層に、上記ベンゾインドレニン骨格を有するシアニン色素を用いると、比較的Ｃ／Ｎも高く、向上した反射率を有する光ディスクを得ることが出来るとされる。
【０００６】
しかしながら、このような色素記録層を有する情報記録媒体は、耐光性についてはまったく満足できるものではなく、そのため、一重項酸素クエンチャーを添加することが一般に行われている。例えば、耐光性が向上した記録層として、特開平２ー３００２８８号公報にシアニン系色素とニトロソ化合物からなる記録層を有する光ディスクが開示されている。また、同様に耐光性が向上した記録層として、特開平４−１４６１８９号公報にベンゾインドレニン骨格を有するジカルボシアニン系色素（メチン鎖が５個）とニッケル錯体とからなる記録層が設けられた光ディスクが開示されている。これらは、一重項酸素クエンチャーとして一般的によく知られているニトロソ化合物やニッケル錯体を併用することによりシアニン色素の耐光性の向上を図ったものである。しかし、ニトロソ化合物は耐光性を向上させるためには大量の添加が必要であるが、ニトロソ化合物の添加は反射率を著しく低下させるため、大量に添加したくてもできないという大きな問題がある。また、ニッケル錯体は環境上において好ましくない化合物である。
【０００７】
なお、特開昭６３−６４７９４号公報には、シアニン系色素と電子受容性化合物とを含む記録層を有する、耐光性が改良された光情報記録媒体が提案されている。そしてここには、具体例として、シアニン系色素としては、ベンゾインドレニン骨格などを有するトリカルボシアニン系色素（メチン鎖が７個）が記載されており、一方、電子受容性化合物としては、テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）とテトラシアノエチレンが記載されている。しかしながら、本発明者の検討では、上記のようなシアニン系色素と電子受容性化合物との組み合わせにおいても必ずしも充分な耐光性が得られるとは言えないことが判明した。特に記録後の耐光性（アーカイバル耐光性）については充分でないことがわかった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、記録再生特性を損なわずに耐光性および耐久性が向上した光情報記録媒体を提供することである。特に、記録後においても充分な耐光性および耐久性を有する光情報記録媒体を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者の検討により、光反射層を持つ光ディスクの記録層に、有機色素と有機酸化剤とを組み合わせて用いる場合に、特に、有機酸化剤として還元電位が−０．２ボルトより貴であるものを用い、かつ有機色素の酸化電位と有機酸化剤の還元電位が一定の関係となるように組み合わせた場合、あるいは有機色素と有機酸化剤の吸収極大波長が一定の関係となるように組み合わせた場合、あるいはまた有機色素として特定の構造を持つシアニン色素を用いた場合に、記録再生特性を損なうことなく、記録後においても耐光性および耐久性を顕著に改良できることが見出された。
【００１０】
ここで、有機酸化剤の還元電位の値は、その有機酸化剤がボルタンメトリーにおいて陰極で電子の注入を受けて還元される電位を意味し、一方、有機色素の酸化電位は、その有機色素がボルタンメトリーにおいて陽極で電子を放出して酸化される電位を意味する。酸化電位及び還元電位は、このボルタンメトリー法によって正確に測定することが可能である。即ち、支持電解質としてテトラ−ｎ−エチルアンモニウム過塩素酸塩０．１Ｍを含むアセトニトリル中で、有機酸化剤１×１０-3Ｍのボルタモグラムを測定し、これより得られる半波電位として求めることができる。作用電極には白金を、比較電極には飽和カロメル電極（ＳＣＥ）を使用し、測定は２５℃で行なう。
【００１１】
本発明は、基板上に、有機色素と有機酸化剤とを含む記録層を有し、更にその上に光反射層を有する情報記録媒体であって、有機色素が、下記一般式（Ｂ）で表されるシアニン色素であって：
一般式（Ｂ）
【００１２】
【化１１】
0003840301.tif 000002
【００１３】
［式中、Ｚ1 及びＺ2 は各々独立に、５員または６員の含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表し、Ｒ4 およびＲ5 は各々独立にアルキル基を表し、Ｌ3 、Ｌ4 、Ｌ5 、Ｌ6 及びＬ7 は各々独立にメチン基を表し、ｎ１およびｎ２は各々独立に０または１を表し、ｐ及びｑは各々独立に０または１を表し、Ｍ１は電荷中和対イオンを表し、そしてｍ１は分子中の電荷を中和させるために必要な０以上の数を表す。］
有機酸化剤が下記一般式（Ａ−Ｉ）で表される化合物であり：
一般式（Ａ−Ｉ）
【００１４】
【化１２】
0003840301.tif 000003
【００１５】
［式中、Ｘ11及びＸ22は各々独立に酸素原子、＝ＮＲ1 基、又は＝ＣＲ2 Ｒ3 基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は各々独立に置換基を表し、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ10とＲ11、及びＲ12とＲ13は各々連結して不飽和縮合環を形成しても良い。］
そして、有機酸化剤の還元電位が−０．２ボルトよりも貴であって、シアニン色素の酸化電位ｂボルトと有機酸化剤の還元電位ａボルトとの差が、０．６＜ｂ−ａ＜１．０の関係式を満たすように組み合わされてなることを特徴とする情報記録媒体にある。
【００１６】
本発明は、以下の態様であることが好ましい。
（１）有機色素の酸化電位ｂボルトが、０．４＜ｂ＜１．０の範囲（更に好ましくは、０．５＜ｂ＜０．８の範囲、特に０．６＜ｂ＜０．８の範囲）にある。
（２）有機酸化剤の還元電位ａボルトが、−０．２＜ａ＜０．２の範囲（更に好ましくは、−０．１＜ａ＜０．０５の範囲）にある。
（３）有機色素の酸化電位ｂボルトと有機酸化剤の還元電位ａボルトとの差が０．６＜ｂ−ａ＜０．８の関係式を満たす。
【００１７】
（４）有機酸化剤の吸収極大波長が、有機色素の吸収極大波長よりも１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側（更に好ましくは１５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側、最も好ましくは２００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側）にある。
【００１８】
（５）有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−II）で表される化合物である。
一般式（Ａ−II）
【００１９】
【化１３】
0003840301.tif 000004
【００２０】
［式中、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ16とＲ17、及びＲ18とＲ19は各々連結して不飽和縮合環を形成しても良い。］
（６）有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−III)で表される化合物であることが最も好ましい。
一般式（Ａ−III)
【００２１】
【化１４】
0003840301.tif 000005
【００２２】
［式中、Ｒ31は、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アシル基、またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ32は、水素原子又は置換基を表し、ｍ４は、１〜４の整数を表し、ｍ４又は４−ｍ４が共に２以上の整数を表す時、複数のＲ31又は複数のＲ32は、それぞれ同じであっても異なっていても良い。］
（７）上記（６）において、有機酸化剤が、下記式で表される化合物である。
【００２３】
【化１５】
0003840301.tif 000006
【００２４】
（８）有機酸化剤が、下記一般式（Ａ−IV）で表される化合物であることが最も好ましい。
一般式（Ａ−IV）
【００２５】
【化１６】
0003840301.tif 000007
【００２６】
［式中、Ｒ42は、水素原子又は置換基を表し、ｍ５は０〜６の整数を表し、ｍ５が２以上の整数を表す時、複数のＲ42は、それぞれ同じであっても異なっていても良い。］
（９）上記（８）において、有機酸化剤が、下記式で表される化合物である。
【００２７】
【化１７】
0003840301.tif 000008
【００２８】
（１０）シアニン色素が、下記一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物である。
一般式（Ｂ−Ｉ）
【００２９】
【化１８】
0003840301.tif 000009
【００３０】
［式中、Ｚ11及びＺ22は、各々独立に、置換基を有しても良いベンゼン環又はナフタレン環を形成するために必要な原子団を表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は、各々独立に炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ26は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、又は炭素数１〜８のカルバモイル基を表し、Ｍ２m2- は、陰イオンを表し、そしてｍ２は、１又は２を表す。］
（１１）シアニン色素が、下記一般式（Ｂ−III)で表される化合物である。
一般式（Ｂ−III)
【００３１】
【化１９】
0003840301.tif 000010
【００３２】
［式中、Ｍ６m6- は陰イオンを表し、そしてｍ６は１又は２を表す。］
（１１）下記式で表される有機酸化剤のいずれかと、前記一般式（Ｂ−III)で表されるシアニン色素との組み合わせ。
【００３３】
【化２０】
0003840301.tif 000011
【００３４】
【発明の実施の形態】
本発明の情報記録媒体は、基板上に有機色素と有機酸化剤とを含む記録層、更にその上に光反射層を有する。
本発明に用いる有機酸化剤は、その還元電位ａボルトが−０．２Ｖより貴である化合物である。有機酸化剤の還元電位ａボルトは、−０．２＜ａ＜０．２の範囲（更に好ましくは、−０．１＜ａ＜０．０５の範囲）にあることが好ましい。
一方、有機色素の酸化電位ａボルトは、０．４＜ａ＜１．０の範囲（更に好ましくは、０．５＜ａ＜０．８の範囲、特に０．６＜ａ＜０．８の範囲）にあることが好ましい。
本発明においては、上記のような特定の有機酸化剤と有機色素とを、該有機色素の酸化電位ａボルトと有機酸化剤の還元電位ｂボルトとの差が、０．６＜ｂ−ａ＜１．０（好ましくは、０．６＜ｂ−ａ＜０．８）の関係式を満たすように組み合わせて使用する。
【００３５】
また、本発明においては、上記のような特定の有機酸化剤と有機色素とを、該有機酸化剤の吸収極大波長が、有機色素の吸収極大波長より５０ｎｍ以上短波長側（好ましくは、１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側、更に好ましくは１５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側、最も好ましくは２００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下短波長側）にあるように組み合わせて使用することが好ましい。
【００３６】
本発明においては、前記一般式（Ａ−Ｉ）で表される有機酸化剤と前記一般式（Ｂ）で表されるシアニン色素とを組み合わせて使用する。
【００３７】
以下に、本発明で使用される有機酸化剤及び有機色素について説明する。
本発明において、有機酸化剤は、前記の一般式（Ａ−Ｉ）で表される化合物である。
【００３８】
以下に、一般式（Ａ−Ｉ）で表される有機酸化剤について詳述する。
一般式（Ａ−Ｉ）において、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 で表される置換基は、ハロゲン原子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わされてなる置換基であり、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシル基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）を挙げることができる。これらは、更に、これらの置換基で置換されていてもよい。
【００３９】
上記Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 で表される置換基の例について更に詳しく説明する。
アルキル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の直鎖、分岐鎖または環状の置換基を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、３−メトキシプロピル、２−アミノエチル、アセトアミドメチル、２−アセトアミドエチル、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル、２−スルホエチル、ウレイドメチル、２−ウレイドエチル、カルバモイルメチル、２−カルバモイルエチル、３−カルバモイルプロピル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルを挙げることができる。
アルケニル基は、炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜６）の直鎖、分岐鎖または環状のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３−ブタジエニル、２−オクテニル、３−ドデセニルを挙げることができる。
【００４０】
アラルキル基は、炭素数７〜１０のアラルキル基であり、例えば、ベンジルを挙げることができる。
アリール基は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１０のアリール基であり、例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−ジブチルアミノフェニル、ｐ−メトキシフェニルを挙げることができる。
ヘテロ環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和のヘテロ環基であり、環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であってもよく、例えば、フリル、ベンゾフリル、ピラニル、ピロリル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾリル、ベンゾトリアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、チエニル、インドリル、キノリル、フタラジニル、キノキサリニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、インドリニル、モルホリニルを挙げることができる。
ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子を挙げることができる。
【００４１】
アルコキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいアルコキシ基であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、２ーメトキシエトキシ、２ーメタンスルホニルエトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、オクタデシルオキシを挙げることができる。
アリールオキシ基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ、ｐーメトキシフェノキシを挙げることができる。
アルキルチオ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、ウンデシルチオ、ドデシルチオ、ヘキサデシルチオ、オクタデシルチオを挙げることができる。
アリールチオ基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリールチオ基で例えば、フェニルチオ、４ーメトキシフェニルチオを挙げることができる。
アシルオキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアシルオキシ基で例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ペンタノイルオキシ、オクタノイルオキシ、ドデカノイルオキシ、オクタデカノイルオキシを挙げることができる。
【００４２】
アルキルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルキルアミノ基であり、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、オクチルアミノ、ジオクチルアミノ、ウンデシルアミノを挙げることができる。
アミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアミド基であり、例えば、アセトアミド、アセチルメチルアミノ、アセチルオクチルアミノ、アセチルデシルアミノ、アセチルウンデシルアミノ、アセチルオクタデシルアミノ、プロパノイルアミノ、ペンタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、オクタノイルメチルアミノ、ドデカノイルアミノ、ドデカノイルメチルアミノ、オクタデカノイルアミノを挙げることができる。
スルホンアミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいスルホンアミド基であり、例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プロピルスルホンアミド、２−メトキシエチルスルホンアミド、３−アミノプロピルスルホンアミド、２−アセトアミドエチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド、ウンデシルスルホンアミドを挙げることができる。
【００４３】
アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜６）のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ、ウンデシルオキシカルボニルアミノを挙げることができる。
アルコキシスルホニルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルコキシスルホニルアミノ基であり、例えば、メトキシスルホニルアミノ、エトキシスルホニルアミノ、オクチルオキシスルホニルアミノ、ウンデシルオキシスルホニルアミノを挙げることができる。
スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜６）のスルファモイルアミノ基であり、例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジメチルスルファモイルアミノ、エチルスルファモイルアミノ、プロピルスルファモイルアミノ、オクチルスルファモイルアミノ、ウンデシルスルファモイルアミノを挙げることができる。
【００４４】
ウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは、炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいウレイド基であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、オクチルウレイド、ウンデシルウレイドを挙げることができる。
チオウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいチオウレイド基であり、例えば、チオウレイド、メチルチオウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルチオウレイド、オクチルチオウレイド、ウンデシルチオウレイドを挙げることができる。
アシル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、オクタノイル、デカノイル、ウンデカノイル、オクタデカノイルを挙げることができる。
アルコキシカルボニル基は、炭素数２〜１８（好ましくは、炭素数２〜６）のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニルを挙げることができる。
【００４５】
カルバモイル基は、炭素数１〜１８（好ましくは、炭素数１〜６）の置換基を有していてもよいカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル、Ｎ, Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイル、Ｎ−ウンデシルカルバモイルを挙げることができる。
アルキルスルホニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）の置換基を有していても良いアルキルスルホニル基であり、例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、２ークロロエタンスルホニル、オクタンスルホニル、ウンデカンスルホニルを挙げることができる。
アルキルスルフィニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜６）のアルキルスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル、オクタンスルフィニルを挙げることができる。
スルファモイル基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜６）の置換基を有していてもよいスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、オクチルスルファモイル、ジオクチルスルファモイル、ウンデシルスルファモイルを挙げることができる。
【００４６】
一般式（Ａ−Ｉ）において、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は、各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ10とＲ11あるいはＲ12とＲ13が同時に置換基となる場合、各々連結して不飽和縮合環を形成してもよい。この不飽和縮合環は置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記Ｒ1 〜Ｒ3 にて説明したものと同じものが挙げられる。
【００４７】
一般式（Ａ−Ｉ）において、Ｘ11およびＸ22は、各々独立に、酸素原子あるいは＝Ｃ（Ｒ2 ）（Ｒ3 ）基であることが好ましく、同時に酸素原子、あるいは同時に＝Ｃ（Ｒ2 ）（Ｒ3 ）基となる場合がより好ましい。ここで、Ｒ2 、Ｒ3 は、各々独立にハロゲン原子、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルスルホニル基であることが好ましい。
Ｘ11、Ｘ22が同時に酸素原子となる場合について説明する。
Ｘ11、Ｘ22が同時に酸素原子となる場合、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の少なくとも２つが電子吸引性基であることが更に好ましい。ここで電子吸引性基とは、ハメットのσｐ値がプラスの置換基を意味し、具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、及びアルキルスルフィニル基を挙げることができる。
Ｘ11、Ｘ22が同時に酸素原子となる場合の特に好ましい組み合わせとしては、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、各々独立に水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、及びスルファモイル基であって、このうち少なくとも２つが電子吸引性基である場合である。
【００４８】
最も好ましい組み合わせとしては、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13が各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜６のカルバモイル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基であって、このうち少なくとも２つがハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルホニル基またはアルキルスルフィニル基となる場合である。
【００４９】
Ｘ11、Ｘ22が同時に＝Ｃ（Ｒ2 ）（Ｒ3 ）基となる場合、有機酸化剤は、前記一般式（Ａ−II）で表される化合物であることが特に好ましい。一般式（Ａ−II）において、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19は、各々独立に、前記Ｒ10〜Ｒ13について説明したものに同義である。
【００５０】
有機酸化剤は、前記一般式（Ａ−III）または一般式（Ａ−IV）で表される化合物であることが最も好ましい。
【００５１】
一般式（Ａ−III）において、Ｒ31とＲ32の好ましい組み合わせについて述べる。
Ｒ31はハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜８のアシル基、又は炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基であり、Ｒ32は水素原子、又は炭素数１〜６のアルキル基である組み合わせが好ましく、最も好ましい組み合わせは、Ｒ31が炭素数１〜６のアルコキシ基で、かつＲ32が水素原子である。
【００５２】
一般式（Ａ−IV）において、Ｒ42は好ましくは、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、又はアシル基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６のアシル基であり、特に好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基であり、最も好ましくは、水素原子である。
【００５３】
本発明の有機酸化剤の具体的化合物の例として下記化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５４】
【化２１】
0003840301.tif 000012
【００５５】
【化２２】
0003840301.tif 000013
【００５６】
【化２３】
0003840301.tif 000014
【００５７】
【化２４】
0003840301.tif 000015
【００５８】
【化２５】
0003840301.tif 000016
【００５９】
【化２６】
0003840301.tif 000017
【００６０】
【化２７】
0003840301.tif 000018
【００６１】
【化２８】
0003840301.tif 000019
【００６２】
【化２９】
0003840301.tif 000020
【００６３】
【化３０】
0003840301.tif 000021
【００６４】
【化３１】
0003840301.tif 000022
【００６５】
【化３２】
0003840301.tif 000023
【００６６】
【化３３】
0003840301.tif 000024
【００６７】
【化３４】
0003840301.tif 000025
【００６８】
【化３５】
0003840301.tif 000026
【００６９】
【化３６】
0003840301.tif 000027
【００７０】
一般式（Ａ）で表される化合物は、例えば、J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, 611(1992)、Synthesis, 546(1971)などの一般的合成法に準じて容易に合成可能である。また、下記合成例やそれに準じた方法を採ることもできる。
［合成例］
下記式に従い、本発明に係る例示化合物（Ａ−２５) を合成した。
【００７１】
【化３７】
0003840301.tif 000028
【００７２】
（Ａ−２５ａ）の合成
１，４−ジブロモ−２，５−ジフルオロベンゼン２．７２ｇ、沃化カリウム２４．９ｇ、沃化銅９．５３ｇ、及びＨＭＰＡ（ヘキサメチルホスホリックトリアミド）３０ｍｌを混合し、窒素下、１５０〜１６０℃に加熱した。反応終了後、反応液に希塩酸水、エーテルを注入し、銅塩を濾過した後、有機層を抽出した。有機層を亜硫酸水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、濾液を減圧濃縮することにより（Ａ−２５ａ）の黄色結晶２．９３ｇを得た。
【００７３】
（Ａ−２５ｂ）の合成
（Ａ−２５ａ）３．６６ｇ、マロノニトリル２．６４ｇ、水素化ナトリウム１．４４ｇ、及びビストリフェニルホスフィンパラジウムクロライド０．２１ｇにＴＨＦ（テトラヒドロフラン）６０ｍｌを加え、１２時間加熱環流した。反応終了後、反応液を１Ｎ塩酸に注ぎ、白色沈殿を濾別し、乾燥することにより（Ａ−２５ｂ）の白色固体２．６８ｇを得た。
【００７４】
（Ａ−２５）の合成
（Ａ−２５ｂ）３．３６ｇに水１００ｍｌを加え、この懸濁液に過剰量の臭素水をゆっくり滴下した。一夜放置後、得られた赤色沈殿を濾別し、冷水で洗浄後、塩化メチレン６０ｍｌに溶解した。この溶液を硫酸ナトリウムで乾燥後、活性炭処理し、溶媒を留去することにより目的物とする例示化合物（Ａ−２５）の黄色結晶３．１１ｇを得た。
【００７５】
下記式に従い、本発明の例示化合物（Ａ−４１）を合成した。
【００７６】
【化３８】
0003840301.tif 000029
【００７７】
（Ａ−４１ａ）の合成
クロラニル２５．０ｇをアセトニトリル６０ｍｌに溶かし、この懸濁液にアンモニアガスを連続導入した。得られた茶色の固体を濾取し、水、次いでアセトニトリル１００ｍｌで洗浄し、減圧下乾燥して（Ａ−４１ａ）１９．６ｇを得た。
（Ａ−４１）の合成
（Ａ−４１ａ）２．１ｇ、ラウリル酸クロライド４．４ｇ、およびトリエチルアミン２．８ｍｌにＤＭＦ１００ｍｌを加え、７０℃で加熱した。７時間加熱した後、冷水３００ｍｌに注ぎ、酢酸エチルで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、アセトニトリルで再結晶することによって目的物とする例示化合物（Ａ−４１）の黄色結晶１．７ｇを得た。
【００７８】
一般式（Ａ）で表される有機酸化剤は、単独で使用しても良いし、あるいはまたは他の公知のクエンチャーと併用することもできる。
組み合わせるクエンチャーの代表例としては、特開平３−２２４７９３号公報に記載の一般式(III）、（IV）、もしくは（Ｖ）で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩、特開平２−３００２８７号公報及び特開平２−３００２８８号公報に記載されているニトロソ化合物などを挙げることができる。組み合わせるクエンチャーとして特に好ましいものは、金属錯体（例えば、ＰＡ−１００６（三井東圧ファイン（株）製）あるいはジインモニウム塩（例えば、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２２（以上日本化薬（株）製）であり、最も好ましいものは、ジインモニウム塩である。これらのクエンチャーは目的に応じて２種以上併用することもできる。
【００７９】
一般式（Ａ）で表される有機酸化剤の添加量は、有機色素１００重量部に対して１〜１００重量部の範囲であることが好ましく、１〜５０重量部の範囲であることが更に好ましく、特に好ましくは１〜２５重量部の範囲であり、最も好ましくは１〜１０重量部の範囲である。
上記クエンチャーの添加量は、有機色素１００重量部に対して１〜１００重量部の範囲であることが好ましく、更に好ましくは１〜５０重量部の範囲であり、特に好ましくは１〜２５重量部の範囲であり、最も好ましくは１〜１０重量部の範囲である。
【００８０】
次に、本発明で用いられる有機色素について説明する。
使用可能な有機色素としては、前記一般式（Ｂ）で表される対称型あるいは非対称型シアニン色素を使用する。
【００８１】
一般式（Ｂ）で表されるシアニン色素について、以下に詳細に説明する。
式中、Ｚ1 、Ｚ2 によって形成される核としては、３，３−ジアルキルインドレニン核、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナフトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピリジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５ーｂ〕キノキザリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げることができる。
ここで挙げられた５員または６員の含窒素複素環は、可能な場合は、置換基を有していてもよく、ここで置換基としては、前記一般式（Ａ）において説明したＲ1 、Ｒ2 又はＲ3 と同じものを挙げることができる。
【００８２】
上記置換基の例を更に詳しく説明する。
アルキル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の直鎖、分岐鎖または環状の置換基を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、２ーヒドロキシエチル、４ーカルボキシブチル、ヘキシル、オクチル、ベンジル及びフェネチルを挙げることができる。
アルケニル基は、炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の直鎖、分岐鎖または環状のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、１ープロペニル、２ーペンテニル、１，３ーブタジエニル、及び２ーオクテニルを挙げることができる。
【００８３】
アラルキル基は、炭素数７〜１０のアラルキル基であり、例えば、ベンジルを挙げることができる。
アリール基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリール基であり、例えば、フェニル、ナフチル、４ーカルボキシフェニル、３ーカルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４ーメタンスルホンアミドフェニル、及び４ーブタンスルホンアミドフェニルを挙げることができる。
ヘテロ環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和のヘテロ環基であり、環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であってもよく、例えば、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、５ーカルボキシベンゾオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環及びクマリン環を挙げることができる。
【００８４】
ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子を挙げることができる。
アルコキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、及びブトキシを挙げることができる。
アリールオキシ基は、炭素数６〜１０の置換基を有していてもよいアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ、及びｐーメトキシフェノキシを挙げることができる。
アルキルチオ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ及びエチルチオを挙げることができる。
アリールチオ基は、炭素数６〜１０のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオを挙げることができる。
アシルオキシ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ペンタノイルオキシ、オクタノイルオキシを挙げることができる。
【００８５】
アルキルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルアミノ基であり、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ及びオクチルアミノを挙げることができる。
アミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは、炭素数１〜８）のアミド基であり、例えば、アセトアミド、プロパノイルアミノ、ペンタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、オクタノイルメチルアミノ、及びベンズアミドを挙げることができる。
スルホンアミド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のスルホンアミド基であり、例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プロピルスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、およびベンゼンスルホンアミドを挙げることができる。
アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ及びエトキシカルボニルアミノを挙げることができる。
アルコキシスルホニルアミノ基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシスルホニルアミノ基であり、例えば、メトキシスルホニルアミノ及びエトキシスルホニルアミノを挙げることができる。
【００８６】
スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換基を有していてもよいスルファモイルアミノ基で例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジメチルスルファモイルアミノ、エチルスルファモイルアミノ、プロピルスルファモイルアミノ、オクチルスルファモイルアミノを挙げることができる。
ウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換基を有していてもよいウレイド基であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎージメチルウレイド、オクチルウレイドを挙げることができる。
チオウレイド基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換基を有していてもよいチオウレイド基であり、例えば、チオウレイド、メチルチオウレイド、Ｎ，Ｎージメチルチオウレイド、オクチルチオウレイドを挙げることができる。
アシル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、及びプロパノイルを挙げることができる。
アルコキシカルボニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、及びオクチルオキシカルボニルを挙げることができる。
【００８７】
カルバモイル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換基を有していてもよいカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル、Ｎ, Ｎージメチルカルバモイル、及びＮ−エチルカルバモイルを挙げることができる。
スルホニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキル又はアリールスルホニル基で例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、及びベンゼンスルホニルを挙げることができる。
スルフィニル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル、及びオクタンスルフィニルを挙げることができる。
スルファモイル基は、炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換基を有していていも良いスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ブチルスルファモイル、オクチルスルファモイル、及びフェニルスルファモイルを挙げることができる。
【００８８】
Ｚ1 およびＺ2 は、置換または無置換の３，３−ジアルキルインドレニン核、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン核であることが好ましい。
【００８９】
Ｒ4 、Ｒ5 は各々独立にアルキル基を表す。
Ｒ4 、Ｒ5 で表されるアルキル基は、炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換または無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、その置換基としては、含窒素複素環の置換基として挙げたものに同義であり、またその好ましい範囲も同一である。好ましくは、無置換のアルキル基、あるいはアリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基又はスルホ基で置換されたアルキル基である。これらの例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ベンジル、２−フェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキシブチル、カルボキシメチル、２−メトキシエチル、２−（２−メトキシエトキシ）エチル、２−スルホエチル、３−スルホプロピル、３−スルホブチル、４−スルホブチル、２−（３−スルホプロポキシ）エチル、２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル、３−スルホプロポキシエトキシエチル、２−アセトキシエチル、カルボメトキシメチル、及び２−メタンスルホニルアミノエチルを挙げることができる。
【００９０】
Ｌ3 、Ｌ4 、Ｌ5 、Ｌ6 及びＬ7 で表されるメチン基は、各々独立に無置換または置換メチン基であり、その置換基の詳細としては、含窒素複素環の置換基として説明したものに同義であり、その好ましい範囲も同一である。また、置換基を有する場合には、置換基同士が連結して５〜７員環を形成してもよく、あるいは助色団と環を形成することもできる。ここで５〜７員環としては、例えばシクロペンテン環、１−ジメチルアミノシクロペンテン環、１−ジフェニルアミノシクロペンテン環、シクロヘキセン環、１−クロロシクロヘキセン環、イソホロン環、１−モルホリノシクロペンテン環、及びシクロヘプテン環を挙げることができる。
【００９１】
Ｍ１は電荷均衡対イオンを表す。Ｍ１は陽イオンでも陰イオンでも良い。
陽イオンとしては、例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオンなどのアルカリ金属イオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオンなどの有機イオンが挙げられる。
陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホネートイオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロほう酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、下記式で示される金属錯体イオン：
【００９２】
【化３９】
0003840301.tif 000030
【００９３】
および、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン、下記式で示されるリン酸イオン：
【００９４】
【化４０】
0003840301.tif 000031
【００９５】
を挙げることができる。
ｍ１は電荷を均衡させるのに必要な数（０以上、好ましくは０〜４の数）を表し、分子内で塩を形成する場合には０である。ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または１を表す。ｐおよびｑは、共に０であることが好ましい。
一般式（Ｂ）で表される化合物は、任意の炭素原子上で２種が結合して、ビス型構造を形成してもよい。
【００９６】
有機色素は、前記一般式（Ｂ−Ｉ）で表されるシアニン色素であることが更に好ましい。
【００９７】
一般式（Ｂ−Ｉ）で表されるシアニン色素化合物は、以下の組み合わせからなる化合物であることが好ましい。
Ｒ20、Ｒ21は各々独立に、無置換のアルキル基、またはフッ素原子もしくはアルコキシ基で置換された炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、及びＲ25は各々独立に、炭素数１〜６の無置換のアルキル基であり、Ｒ26は水素原子または置換基を有してもよい、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ベンゾオキサゾール基又はハロゲン原子であり、Ｚ11、Ｚ22は、各々独立に無置換のベンゼン環あるいはナフタレン環を形成するために必要な原子団、またはメチル基、塩素原子、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基から選ばれる１または２個の基で置換されたベンゼン環を形成するために必要な原子団であり、Ｍ２は過塩素酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、下記式で示される金属錯体イオン：
【００９８】
【化４１】
0003840301.tif 000032
【００９９】
である組み合わせが好ましい。
一般式（Ｂ−Ｉ）において、その最も好ましい組み合わせは、Ｒ20、Ｒ21は各々独立に、無置換のアルキル基（好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基）であり、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は各々独立に、メチル基、エチル基であり、Ｒ26は水素原子、メチル基、エチル基、塩素原子又は臭素原子の場合である。
【０１００】
有機色素は、下記一般式（Ｂ−II）で表されるシアニン色素であることが特に好ましい。
【０１０１】
【化４２】
0003840301.tif 000033
【０１０２】
一般式（Ｂ−II）で、Ｒ27は、一般式（Ｂ−Ｉ）におけるＲ20、Ｒ21に、Ｒ28、Ｒ29は一般式（Ｂ−Ｉ）におけるＲ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25に、Ｒ30は一般式（Ｂ−Ｉ）におけるＲ26に、Ｍ３は一般式（Ｂ−Ｉ）におけるＭ２に、そしてｍ３は一般式（Ｂ−Ｉ）におけるｍ２にそれぞれ同義であり、その好ましい範囲も同一である。
有機色素は、前記一般式（Ｂ−III)で表されるシアニン色素であることが最も好ましい。
一般式（Ｂ−III)において、Ｍ６m6- は陰イオンを表し、ｍ６は１又は２を表す。そしてＭ６m6- は、一般式（Ｂ−Ｉ）におけるＭ２m2- に、ｍ６は、一般式（Ｂ−Ｉ）におけるｍ２にそれぞれ同義であり、またその好ましい範囲も同一である。
【０１０３】
本発明に係る一般式（Ｂ）で表される有機色素の具体的な化合物例を以下に記載する。
【０１０４】
【化４３】
0003840301.tif 000034
【０１０５】
【化４４】
0003840301.tif 000035
【０１０６】
【化４５】
0003840301.tif 000036
【０１０７】
【化４６】
0003840301.tif 000037
【０１０８】
【化４７】
0003840301.tif 000038
【０１０９】
【化４８】
0003840301.tif 000039
【０１１０】
【化４９】
0003840301.tif 000040
【０１１１】
【化５０】
0003840301.tif 000041
【０１１２】
【化５１】
0003840301.tif 000042
【０１１３】
【化５２】
0003840301.tif 000043
【０１１４】
一般式（Ｂ）で表される化合物は、エフ・エム・ハーマー（Ｆ．Ｍ．Ｈａｍｅｒ）著「ヘテロサイクリック・コンパウンズーシアニン・ダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ（Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related Compounds)」, ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons)社ーニューヨーク、ロンドン、１９６４年刊；デー・エム・スターマー（Ｄ．Ｍ．Ｓｔｕｒｍｅｒ）著「ヘテロサイクリック・コンパウンズースペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー(Heterocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic chemistry) 」、第１８章、第１４節、第４８２から５１５頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons)社ーニューヨーク、ロンドン、１９７７年刊；「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ(Rodd's Chemistry of Carbon Compounds)」 2nd.Ed.vol.IV,partB, １９７７刊、第１５章、第３６９から４２２頁、エルセビア・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク(Elsevir Science Publishing Company Inc.) 社刊、ニューヨーク、などに記載の方法に基づいて合成することができる。
【０１１５】
一般式（Ｂ）で表される有機色素は、目的に応じて二種以上併用することができる。さらに、従来より情報記録媒体の記録材料として知られている任意の色素を併用してもよい。例えば、本発明に使用される色素以外のシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物などを挙げることができる。
【０１１６】
本発明の情報記録媒体は、以下に述べるような方法により製造することができる。
基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えばガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【０１１７】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。
下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１１８】
基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成されていることが好ましい。このプレグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されることが好ましい。
またプレグルーブ形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線を照射するにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得ることができる。
プレグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。
【０１１９】
基板上に設けられるプレグルーブの深さは３００〜２０００Åの範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲にあることが好ましい。また、プレグルーブ層の深さを１５００〜２０００Åの範囲にすることにより反射率をほとんど低下させることなく感度を向上させることができ、特に好ましい。従って、このような光ディスク（深いプレグルーブの基板に色素の記録層および反射層が形成された光ディスク）は、高い感度を有することから、低いレーザーパワーでも記録が可能となり、これにより安価な半導体レーザの使用が可能となる、あるいは半導体レーザの使用寿命を延ばすことができる等の利点を有する。
【０１２０】
基体上には、色素記録層が設けられる。
色素記録層には前述した有機色素と有機酸化剤とが特定の関係となるような組み合わせで含有される。
【０１２１】
記録層の形成は、前記色素、有機酸化剤、さらに所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行なうことができる。
色素層塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上併用して適宜用いることができる。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１２２】
結合剤を使用する場合に結合剤の例としては、たとえばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、色素に対して一般に０．０１〜５０倍量（重量比）の範囲にあり、好ましくは、０．１〜５倍量（重量比）の範囲にある。
このようにして調製される塗布液の濃度は一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５重量％の範囲にある。
【０１２３】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみならず両面に設けられていてもよい。
【０１２４】
上記記録層の上には、情報の再生時における反射率の向上の目的で、光反射層が設けられる。
光反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕである。
光反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜２００ｎｍである。
【０１２５】
また、光反射層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることができる。この保護層は、基板の記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けることもできる。
保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 、ＳｎＯ2 、Ｓｉ3 Ｎ4 等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着層を反射層上および／または基板上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。
【０１２６】
本発明の情報記録媒体は上述した構成からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り合せタイプの記録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
本発明の情報記録媒体は上記のような方法で製造することができる。
このようにして得られる、反射率が極めて高くかつ記録再生特性にも優れた光ディスクで、耐光性においても向上している。すなわち、本発明の情報記録媒体は反射率が８０％前後と顕著に高いため、市販のＣＤプレーヤで再生することができる。従って、高反射率を有しかつ耐光性に優れた光ディスクも得ることができる。
【０１２７】
上記本発明の光情報記録方法は、上記情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。
まず、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．２〜１４ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層と反射層との界面に空洞を形成（空洞の形成は、記録層または反射層の変形、あるいは両層の変形を伴って形成される）するか、基板が肉盛り変形する、あるいは記録層に変色、会合状態の変化等により屈折率が変化することにより情報が記録されると考えられる。記録光としては５００ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられる。用いられるレ−ザ−ビ−ム波長は好ましくは５００ｎｍ以上、８００ｎｍ以下である。特に、ＣＲーＤ型の情報記録媒体においては、７７０〜７９０ｎｍの範囲の波長が適しており、またはＤＶＤーＲ型の情報記録媒体においては、６３０〜６８０ｎｍの範囲の波長が適している。
上記のように記録された情報の再生は、情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【０１２８】
【実施例】
以下に本発明の実施例を記載する。ただし、これらの各例は本発明を制限するものではない。
［実施例１］
前記シアニン色素〔Ｂ−１６〕と、退色防止剤として下記表１に示す有機酸化剤  あるいは下記式で示されるニトロソ化合物ａとをそれぞれ２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールの溶媒に溶解させ、記録層形成用塗布液を調製した。退色防止剤の添加量は、色素に対して１０重量％とした。
【０１２９】
【化５３】
0003840301.tif 000044
【０１３０】
得られた塗布液を直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に約２００ｎｍ（グルーブ内）の厚さに塗設した。なお基板は予め、スパイラルプレグルーブ（トラッックピッチ１．６μｍ、溝幅０．４μｍに、溝深さ０．１７μｍ）が射出成形によって形成されているものを用いた。
次いで、記録層の上に、金からなる光反射層を約１００ｎｍの厚さでスパッタした後、更にフォトポリマーの保護層（スリーボンド社製ＵＶ硬化剤３０７０）を厚さ３μｍになるように塗設し、ＵＶ光を当て硬化させ、本発明に従う情報記録媒体（以下、サンプルと称す）を作製した。
【０１３１】
［情報記録媒体としての評価］
これらのサンプルを波長７８０ｎｍ、線速１．４ｍ／ｓで３Ｔと１１ＴのＥＦＭ信号をレーザーパワーを４ｍＷから９ｍＷまで振って記録し、そのレーザーパワーを０．５ｍＷで信号を再生し、最適パワーでの３Ｔ、１１Ｔの変調度およびグルーブ反射率を測定した。
また、Ｘｅランプ（１４万ルクス）を１２時間（ｈ）、２４時間（ｈ）、または３６時間（ｈ）照射し、その後の記録再生信号の変調度およびグルーブ反射率を測定した。
以上の評価結果を表１に示す。
【０１３２】
【表１】
0003840301.tif 000045
【０１３３】
【表２】
0003840301.tif 000046
【０１３４】
上記表１の結果から、前記本発明に係るシアニン色素と、本発明に係る特定の有機酸化剤とを組み合わせたサンプルの場合には、前記本発明に係るシアニン色素と、従来の退色防止剤であるニトロソ化合物と組み合わせたサンプルに比べていずれも記録再生特性に優れ、また、Ｘｅランプ照射後の性能の劣化も極めて少なく、耐光性が格段に向上していることがわかる。
【０１３５】
［実施例２］
実施例１において、シアニン色素〔Ｂ−１６〕の代わりに、本発明に係るシアニン色素Ｂ−１、Ｂ−２４、Ｂ−３９、Ｂ−５６、Ｂ−６７、又はＢ−６９を同量使用し、また退色防止剤として本発明の一般式（Ａ）で表される有機酸化剤を同量で置き換えた以外は同様にして本発明に従う情報記録媒体を作製した。
得られたサンプルに対して前記実施例１と同様の試験を行ったところ、前記実施例１と同様の結果が得られた。
【０１３６】
［実施例３］
実施例１において、シアニン色素〔Ｂ−１６〕を、表２に示した一般式（Ｂ）で表されるシアニン色素又は下記式で示されるヘプタメチンシアニン系色素ｃに等重量で置き換え、また、退色防止剤として表２に示した一般式（Ａ）で表される有機酸化剤に置き換えた以外は同様にして情報記録媒体を作製した。そして、Ｘｅランプ（１４万ルクス）を１２時間（ｈ）照射した。その後、シアニン色素の残存量を紫外可視分光器にて測定した。
シアニン色素の酸化電位は、以下の通りである。
その結果を表２に示す。
【０１３７】
ヘプタメチンシアニン系色素ｃ
【０１３８】
【化５４】
0003840301.tif 000047
【０１３９】
表２
────────────────────────────────────
有機色素    有機酸化剤          色素残存率（％）
────────────────────────────────────
比較例    色素Ｃ      添加せず              ２３
比較例    色素Ｃ      Ａ−１０６            １２
比較例    色素Ｃ      Ａ−  ３０            １５
比較例    色素Ｃ      Ａ−    ８            １５
比較例    色素Ｃ      Ａ−  ６８            ２３
比較例    色素Ｃ      Ａ−    ７            ２３
────────────────────────────────────
比較例    Ｂ−１７    添加せず              １３
本発明    Ｂ−１７    Ａ−１０６            ９５
本発明    Ｂ−１７    Ａ−  ３０            ９４
本発明    Ｂ−１７    Ａ−    ８            ９３
本発明    Ｂ−１７    Ａ−  ６８            ８１
本発明    Ｂ−１７    Ａ−    ７            ７０
────────────────────────────────────
比較例    Ｂ−２２    添加せず              ２８
本発明    Ｂ−２２    Ａ−１０６            ９４
本発明    Ｂ−２２    Ａ−  ３０            ９１
本発明    Ｂ−２２    Ａ−    ８            ９０
本発明    Ｂ−２２    Ａ−  ６８            ８２
本発明    Ｂ−２２    Ａ−    ７            ７４
────────────────────────────────────
比較例    Ｂ−４１    添加せず              ２０
本発明    Ｂ−４１    Ａ−１０６            ９３
本発明    Ｂ−４１    Ａ−  ３０            ９１
本発明    Ｂ−４１    Ａ−    ８            ８８
本発明    Ｂ−４１    Ａ−  ６８            ８０
本発明    Ｂ−４１    Ａ−    ７            ７４
────────────────────────────────────
比較例    Ｂ−６９    添加せず              ３０
本発明    Ｂ−６９    Ａ−１０６            ９０
本発明    Ｂ−６９    Ａ−  ３０            ８４
本発明    Ｂ−６９    Ａ−    ８            ８２
本発明    Ｂ−６９    Ａ−  ６８            ７１
本発明    Ｂ−６９    Ａ−    ７            ６６
────────────────────────────────────
【０１４０】
上記表２の結果から、本発明に係るシアニン色素と一般式（Ａ）で表される有機酸化剤とを組み合わせたサンプルの場合には、Ｘｅランプを照射した後においても色素の劣化量は顕著に抑制されていることがわかる。一方、ヘプタメチンシアニン系色素ｃと一般式（Ａ）で表される有機酸化剤とを組み合わせたサンプルの場合には、色素の劣化量は不変もしくは大きくなっていることから、この組み合わせにおいては、充分な耐光性が得られないことがわかる。
【０１４１】
［実施例４］
前記シアニン色素〔Ｂ−１６〕（吸収極大波長：６７０ｎｍ）と、この色素の重量の１０％に相当する重量の下記表３に示す前記有機酸化剤を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解し、記録層形成用塗布液を得た。この塗布液を、表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、プレグルーブ幅：０．４μｍ、プレグルーブの深さ：０．１６μｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、帝人（株）製のポリカーボネート（商品名：パンライトＡＤ５５０３））のそのプレグルーブ側の表面に、回転数を３００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコートにより塗布し、記録層（厚さ（グルーブ内）：約２００ｎｍ）を形成した。
次に、記録層上に、Ａｕをスパッタして、厚さ約１３０ｎｍの光反射層を形成した。さらに光反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品名：ＳＤ−２２０、大日本インキ化学工業（株）製）を塗布し、紫外線を照射して層厚８μｍの保護層を形成した。
以上の工程により、基板、色素記録層、光反射層、及び保護層からなる本発明に従う情報記録媒体（サンプル）を製造した。
【０１４２】
［情報記録媒体としての評価］
得られたサンプルに波長７８０ｎｍ、線速１．４ｍ／ｓで３Ｔと１１ＴのＥＦＭ信号をレーザーパワーを４ｍＷ〜９ｍＷまで振って記録した。その後、Ｘｅランプ（１４万ルクス）を１８ｈ照射した。Ｘｅランプを照射前と照射後のサンプルに対してパスステック社製ＯＴＭ−２０００を用いて最適パワーでの再生特性（ブロックエラーレート）を調べ、記録後の耐光性（アーカイバル特性）について評価した。
評価結果を表３に示す。
【０１４３】
【表３】
0003840301.tif 000048
【０１４４】
上記表３の結果から、有機酸化剤の還元電位が−０．２Ｖより貴で有り、かつ有機色素の酸化電位と有機酸化剤の還元電位との差が、０．６＜ｂ−ａ＜１．０の関係を満たすように組み合わせたサンプル（有機酸化剤：Ａ−９８、２０、及び３１を使用したサンプル）の場合には、ブロックエラーレートの増大もなく、従って、良好なアーカイバル耐光性を有していることがわかる。
【０１４５】
【発明の効果】
記録層に含有する有機色素と有機酸化剤とを使用する際に、互いの電位差、吸収極大波長、および／または特定の化学構造が特定の関係となるように組み合わせることにより、記録再生特性を損なうことなく、また記録後においても高い耐光性と耐久性を持つ情報記録媒体を製造することができる。