(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
直交座標系のｘ座標軸に対して角度θｓだけ傾斜して長さがＬであるベクトルを示すアライメントパターンが表面に印された試料を支持するステージと、
交差角（π／２＋θｍ）をなす状態で前記ステージの側面に或いはステージ上に設けられた二つの鏡面からなる移動鏡と、
前記ベクトルについて、前記二つの鏡面の法線方向に座標軸が形成されてなる装置座標系のＹ座標軸に平行な成分ΔＹの計測を行う計測部と、
前記計測部によって計測された成分ΔＹと、前記長さＬと、前記角度θｓとに基づいて、θｙ＝ｓｉｎ-1（ΔＹ／Ｌ）−θｓの式で示される算術演算を行い、前記装置座標系のＹ座標軸に対して前記直交座標系のｙ座標軸がなす角度θｙを求める第一の角度算出部と、
前記θｍと前記第一の角度算出部が求めたθｙとの和をとり、前記装置座標系のＸ座標軸に対して前記直交座標系のｘ座標軸がなす角度θｘを求める第二の角度算出部と、
前記二つの鏡面に向けて出射された光とその光の反射光とに基づく干渉計測を行い、前記装置座標系において前記ステージの位置を示す座標を得る干渉計測部と、
前記第一の角度算出部が求めた角度θｙと、前記第二の角度算出部が求めた角度θｘと、予め与えられた前記直交座標系と前記装置座標系との原点のずれとに基づいてその直交座標系における予め決められた座標（ｘ、ｙ）を装置座標系における座標（Ｘ、Ｙ）に変換し、その座標（Ｘ、Ｙ）と前記干渉計測部が得る座標とが一致する方向に前記ステージを動かすステージ移動機構と
を備えたことを特徴とするステージ移動装置。
【請求項２】
請求項１に記載のステージ移動装置において、
第一の角度算出部は、
θｙ＝ΔＹ／Ｌの近似式で示される算術演算を行うことにより角度θｙを求める
ことを特徴とするステージ移動装置。
【請求項３】
直交座標系のｘ座標軸に対して角度θｓだけ傾斜して長さがＬであるベクトルを示すアライメントパターンが表面に印された試料を支持するステージと、
交差角（π／２＋θｍ）をなす状態で前記ステージの側面に或いはステージ上に設けられた二つの鏡面からなる移動鏡と、
前記ベクトルについて、前記二つの鏡面の法線方向に座標軸が形成されてなる装置座標系のＸ座標軸に平行な成分ΔＸの計測を行う計測部と、
前記計測部によって計測された成分ΔＸと、前記長さＬと、前記角度θｓとに基づいて、θｘ＝ｃｏｓ-1（ΔＸ／Ｌ）−θｓの式で示される算術演算を行い、前記装置座標系のＸ座標軸に対して前記直交座標系のｘ座標軸がなす角度θｘを求める第一の角度算出部と、
前記θｍと前記第一の角度算出部が求めたθｘとの差をとり、前記装置座標系のＹ座標軸に対して前記直交座標系のｙ座標軸がなす角度θｙを求める第二の角度算出部と、
前記二つの鏡面に向けて出射された光とその光の反射光とに基づく干渉計測を行い、前記装置座標系において前記ステージの位置を示す座標を得る干渉計測部と、
前記第一の角度算出部が求めた角度θｘと、前記第二の角度算出部が求めた角度θｙと、予め与えられた前記直交座標系と前記装置座標系との原点のずれとに基づいてその直交座標系における予め決められた座標（ｘ、ｙ）を装置座標系における座標（Ｘ、Ｙ）に変換し、その座標（Ｘ、Ｙ）と前記干渉計測部が得る座標とが一致する方向に前記ステージを動かすステージ移動機構と
を備えたことを特徴とするステージ移動装置。
【請求項４】
請求項３に記載のステージ移動装置において、
第一の角度算出部は、
θｘ＝ΔＸ／Ｌの近似式で示される算術演算を行うことにより角度θｘを求める
ことを特徴とするステージ移動装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４の何れか一項に記載のステージ移動装置において、
計測部は、
アライメントパターンを光学的に検出する検出部とステージを移動する機構とステージの位置の座標を計測する干渉計測部とを有する
ことを特徴とするステージ移動装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、試料の測定や加工等に用いられるステージの移動を行うステージ移動装置に関し、特に、干渉計測を用いてその移動を行うステージ移動装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
マスクやレチクルなどの微細な試料に対して行う計測や加工には、その計測や加工の目標となる点を試料上の所望の位置に合わせるために、干渉計測を利用したステージ移動装置が用いられる。
図３は、従来のステージ移動装置の構成を示す図である。
【０００３】
図において、ステージ４１は、測定装置や加工装置の架台に固定された固定部（図示されない。）に対して、支持面と平行に移動しうる状態でステージコントローラ４２を介して制御部４３に接続される。このステージ４１には、ステージ４１の隣接する二つの側面に鏡面を有するＸ移動鏡４４およびＹ移動鏡４５が直角に設けられる。これらのＸ移動鏡４４およびＹ移動鏡４５の鏡面に対向する位置には、出射光の光軸が鏡面に直交する干渉計４６、４７がそれぞれ備えられ、ステージ４１の表面に対向する位置には、この表面にレーザ光の光軸が直交する光学装置４８が備えられる。これらの干渉計４６、４７および光学装置４８の出力は上述した制御部４３の入力に接続される。
【０００４】
なお、以下では、上述した固定部において上述した干渉計４６、４７から出射される光の光軸と平行に形成されたＸ座標軸およびＹ座標軸からなる装置座標系が形成されるものとする。
また、上述したステージ４１には、互いに直交するｘ座標軸とｙ座標軸とからなる試料座標系が設けられた試料４９が配置される。
【０００５】
さらに、この試料４９において、図４に示されるとおり、試料座標系の原点（０、０）および座標（０、Ｌ）に相当する位置には、それぞれ十字型のアライメントパターンＰａ、Ｐｂが予め印される。
このような構成の従来例では、一般に、計測や加工に用いられる際には、干渉計４６、４７はそれぞれ対向する鏡面に光を出射し、その光とその反射光とが生成する干渉光からステージ４１の座標（Ｘ、Ｙ）を得て制御部４３に与える。制御部４３は、この座標信号、下記の受光素子からの信号等に基づいて制御信号をステージコントローラ４２に出力する。
【０００６】
この計測や加工に先行して行われるアライメントとして、試料４９には、図示されない調整部によって試料座標系が装置座標系との座標軸がなす角が「０」となるよう回転が加えられるが、この回転によっても圧縮しきれなかった微小な回転誤差θ（以下、「残留ローテーション」という。）は、以下に述べる処理によって補正される。
【０００７】
先ず、制御部４３の指示の下でステージコントローラ４２がステージ４１の移動を行う状態において、光学装置４８は、試料４９の表面にレーザ光を出射してそのレーザ光の反射光を受光素子（図示しない）で検出し、反射光の変化を示す信号を制御部４３に与える。制御部４３は、この信号と、干渉計４６、４７からの座標信号とに基づいて、そのレーザ光がアライメントパターンＰａの中心に照射されている状態においてステージ４１がとる座標（Ｘａ、Ｙａ）を求め、かつその座標を図示されないメモリにオフセットの値として格納する（座標計測処理）。
【０００８】
このアライメントパターンの位置検出の方法は、特公昭５６−２５９６４号公報に詳しく開示されている。
さらに、制御部４３は、アライメントパターンＰｂの中心にレーザ光が照射されている状態においてステージ４１がとる座標（Ｘｂ、Ｙｂ）を同様にして求めた後、θ＝（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌの式で示される演算をおこない、試料座標系と装置座標系との座標軸がなす角度θの値を求める（角度算出処理）。
【０００９】
制御部４３は、このようにして求められたオフセットの値（Ｘａ、Ｙａ）および角度θの値を、Ｘ＝ｘ＊ｃｏｓθ−ｙ＊ｓｉｎθ＋Ｘａ、Ｙ＝ｘ＊ｓｉｎθ＋ｙ＊ｃｏｓθ＋Ｙａの各式に代入することによって定められた試料座標系と装置座標系との間の座標変換の変換式をメモリに格納することによりアライメントを完了する。
【００１０】
制御部４３は、試料４９の表面において計測や加工の対象となる試料上の点を示す情報として、試料座標系における座標（ｘ１、ｙ１）が入力されたときに、メモリを参照してこの座標を装置座標系における座標（Ｘ１、Ｙ１）に変換し、この座標（Ｘ１、Ｙ１）と干渉計４６、４７に基づいてステージコントローラ４２に指示を与えてステージ４１を動かす（ステージ移動処理）。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような従来例では、Ｘ移動鏡４４とＹ移動鏡４５との間の交差角には一般にπ／２からの微小なずれθｍが存在するので、上述した装置座標系は完全な直交座標系ではなく斜交座標系となる。（ここでいう交差角は、Ｘ移動鏡の鏡面が決める平面とＹ移動鏡の鏡面が決める平面とが交わる角度のことである。）しかし、制御部４３は上述したように直交座標系同士にのみ適用されうる座標変換を行ってステージ４１の変位を制御するので、ステージ４１に実際に与えられる変位には所望の値からのずれが生じていた。
【００１２】
本発明は、ハードウエアの構成を変えることなく、所望の変位を高精度にステージに与えるステージ移動装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
図１は、請求項１〜５に記載の発明の原理構成図である。
【００１４】
請求項１に記載の発明は、直交座標系のｘ座標軸に対して角度θｓだけ傾斜して長さがＬであるベクトル１１を示すアライメントパターンが表面に印された試料１２を支持するステージ１３と、交差角（π／２＋θｍ）をなす状態でステージ１３の側面に或いはステージ１３上に設けられた二つの鏡面１４ａからなる移動鏡１４と、ベクトル１１について、二つの鏡面１４ａの法線方向に座標軸が形成されてなる装置座標系のＹ座標軸に平行な成分ΔＹの計測を行う計測部１５と、計測部１５によって計測された成分ΔＹと、長さＬと、角度θｓとに基づいて、θｙ＝ｓｉｎ-1（ΔＹ／Ｌ）−θｓの式で示される算術演算を行い、装置座標系のＹ座標軸に対して直交座標系のｙ座標軸がなす角度θｙを求める第一の角度算出部１６と、θｍと第一の角度算出部１６が求めたθｙとの和をとり、装置座標系のＸ座標軸に対して直交座標系のｘ座標軸がなす角度θｘを求める第二の角度算出部１７と、二つの鏡面１４ａに向けて出射された光とその光の反射光とに基づく干渉計測を行い、装置座標系においてステージ１３の位置を示す座標を得る干渉計測部１８と、第一の角度算出部１６が求めた角度θｙと、第二の角度算出部１７が求めた角度θｘと、予め与えられた直交座標系と装置座標系との原点のずれとに基づいてその直交座標系における予め決められた座標（ｘ、ｙ）を装置座標系における座標（Ｘ、Ｙ）に変換し、その座標（Ｘ、Ｙ）と干渉計測部１８が得る座標とが一致する方向にステージ１３を動かすステージ移動機構１９とを備えたことを特徴とする。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のステージ移動装置において、第一の角度算出部１６は、θｙ＝ΔＹ／Ｌの近似式で示される算術演算を行うことにより角度θｙを求めることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、直交座標系のｘ座標軸に対して角度θｓだけ傾斜して長さがＬであるベクトル１１を示すアライメントパターンが表面に印された試料１２を支持するステージ１３と、交差角（π／２＋θｍ）をなす状態でステージ１３の側面或いはステージ１３上に設けられた二つの鏡面１４ａからなる移動鏡１４と、ベクトル１１について、二つの鏡面１４ａの法線方向に座標軸が形成されてなる装置座標系のＸ座標軸に平行な成分ΔＸの計測を行う計測部３５と、計測部３５によって計測された成分ΔＸと、長さＬと、角度θｓとに基づいて、θｘ＝ｃｏｓ-1（ΔＸ／Ｌ）−θｓの式で示される算術演算を行い、装置座標系のＸ座標軸に対して直交座標系のｘ座標軸がなす角度θｘを求める第一の角度算出部３６と、θｍと第一の角度算出部３６が求めたθｘとの差をとり、装置座標系のＹ座標軸に対して直交座標系のｙ座標軸がなす角度θｙを求める第二の角度算出部３７と、二つの鏡面１４ａに向けて出射された光とその光の反射光とに基づく干渉計測を行い、装置座標系においてステージ１３の位置を示す座標を得る干渉計測部１８と、第一の角度算出部３６が求めた角度θｘと、第二の角度算出部３７が求めた角度θｙと、予め与えられた直交座標系と装置座標系との原点のずれとに基づいてその直交座標系における予め決められた座標（ｘ、ｙ）を装置座標系における座標（Ｘ、Ｙ）に変換し、その座標（Ｘ、Ｙ）と干渉計測部１８が得る座標とが一致する方向にステージ１３を動かすステージ移動機構１９とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のステージ移動装置において、第一の角度算出部３６は、θｘ＝ΔＸ／Ｌの近似式で示される算術演算を行うことにより角度θｘを求めることを特徴とする。
請求項５に記載の発明では、請求項１ないし請求項４の何れか一項に記載のステージ移動装置において、アライメントパターンを光学的に検出する検出部とステージを移動する機構とステージの位置の座標を計測する干渉計測部とを有することを特徴とする。
【００１７】
（作用）
請求項１に記載の発明にかかわるステージ移動装置では、計測部１５は、ステージ１３が支持する試料１２に記されたアライメントパターンが示すベクトル１１について、そのステージ１３に設けられた二つの鏡面１４ａを基準として設定される装置座標系のＹ座標軸に平行な成分ΔＹの計測を行う。第一の角度算出部１６は、その成分ΔＹに基づく式θｙ＝ｓｉｎ-1（ΔＹ／Ｌ）−θｓで示される演算を行うことにより装置座標系のＹ座標軸に対して直交座標系のｙ座標軸がなす角度θｙを求める。また、第二の角度算出部１７は、その角度θｙと、ステージ１３に設けられた移動鏡１４の鏡面１４ａがなす角（π／２＋θｍ）とに基づき、Ｘ座標軸に対してｘ座標軸がなす角度θｘを求める。ステージ移動機構１９は、このようにして得られた角度θｙ、θｘと予め与えられた二つの座標系の原点のずれとに基づいて、直交座標系で示された所望の位置の座標（ｘ、ｙ）を装置座標系の座標（Ｘ、Ｙ）に座標変換し、かつ干渉計測部１８が二つの鏡面１４ａを基準としてステージ１３の位置について得る座標がこの座標（Ｘ、Ｙ）に一致する方向にステージ１３を動かす。
【００１８】
このような座標変換は、角度θｍに起因して装置座標系が斜交座標系となることを許容するので、移動鏡１４の取り付けられ方にかかわらずステージ１３を所望の位置に動かすことができる。
請求項２に記載の発明にかかわるステージ移動装置では、請求項１に記載のステージ移動装置において、アライメントパターンにより示されるベクトル１１が直交座標系のｘ座標軸に平行であり、かつ角度θｙが十分に小さいことが既知であるときには、第一の角度算出部１６はθｙ＝ΔＹ／Ｌの近似式で示される算術演算によって角度θｙをＹ座標軸に対するｙ座標軸のなす角度として得ることができるので、ステージ１３の移動は簡略化される。
【００１９】
請求項３に記載の発明にかかわるステージ移動装置では、計測部３５は、ステージ１３が支持する試料１２に記されたアライメントパターンが示すベクトル１１について、そのステージ１３に設けられた二つの鏡面１４ａを基準として設定される装置座標系のＸ座標軸に平行な成分ΔＸの計測を行う。第一の角度算出部３６は、その成分ΔＸに基づく式θｘ＝ｃｏｓ-1（ΔＸ／Ｌ）−θｓで示される演算を行うことにより装置座標系のＸ座標軸に対して直交座標系のｘ座標軸がなす角度θｘを求める。また、第二の角度算出部３７は、その角度θｘと、ステージ１３に設けられた移動鏡１４の鏡面１４ａがなす角（π／２＋θｍ）とに基づき、Ｙ座標軸に対してｙ座標軸がなす角度θｙを求める。ステージ移動機構１９は、このようにして得られた角度θｘ、θｙと予め与えられた二つの座標系の原点のずれとに基づいて、直交座標系で示された所望の位置の座標（ｘ、ｙ）を装置座標系の座標（Ｘ、Ｙ）に座標変換し、かつ干渉計測部１８が二つの鏡面１４ａを基準としてステージ１３の位置について得る座標がこの座標（Ｘ、Ｙ）に一致する方向にステージ１３を動かす。
【００２０】
このような座標変換は、角度θｍに起因して装置座標系が斜交座標系となることを許容するので、移動鏡１４の取り付けられ方にかかわらずステージ１３を所望の位置に動かすことができる。
請求項４に記載の発明にかかわるステージ移動装置では、請求項３に記載のステージ移動装置において、アライメントパターンにより示されるベクトル１１が直交座標系のｙ座標軸に平行であり、かつ角度θｘが十分に小さいことが既知であるときには、第一の角度算出部３６はθｘ＝ΔＸ／Ｌの近似式で示される算術演算によって角度θｘをＸ座標軸に対するｘ座標軸のなす角度として得ることができるので、ステージ１３の移動は簡略化される。
【００２１】
請求項５に記載の発明にかかわるステージ移動装置では、請求項１ないし請求項４の何れか一項において、計測部は、座標変換の変換式を導く過程において、アライメントパターンの光学的な検出とステージの移動とに併せて、干渉計測部が干渉計測によって得る座標を利用する。したがって、ステージの移動は確実に行われ、かつ装置の構成について簡略化が図られる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態について詳細に説明する。
本実施形態は、ハードウエアの構成が図３に示す従来例と同じであるので、その説明は省略する。
【００２３】
なお、本実施形態と図１に示す原理構成図との対応関係については、ステージ４１はステージ１３に対応し、Ｘ移動鏡４４およびＹ移動鏡４５は移動鏡１４に対応し、ステージコントローラ４２と制御部４３と干渉計４６、４７と光学装置４８とは計測部１５に対応し、制御部４３は第一の角度算出部１６、３６および第二の角度算出部１７、３７とに対応し、制御部４３と干渉計４６、４７とは干渉計測部１８に対応し、ステージコントローラ４２と制御部４３と干渉計４６、４７とはステージ移動機構１９に対応する。
【００２４】
図２は、請求項１〜５記載の発明に対応した実施形態の動作を説明する図である。
以下、図２および図３を参照して請求項１〜５に記載の発明に対応した実施形態を説明する。
本実施形態と従来例との動作の相違点は、残留ローテーションを補正するために制御部４３が行う下記の処理の手順にある。したがって、以下では、従来例において異なる手順で行われていた処理については、同じ名称を付して対応関係を明記することとする。なお、その他の動作については説明を省略する。
【００２５】
本実施形態では、制御部４３の図示されないメモリには、予め計測されたＸ移動鏡４４とＹ移動鏡４５との交差角の誤差θｍの値が格納される。
制御部４３は、先ず、従来例と同様にしてアライメントパターンＰａおよびＰｂにレーザ光が照射されている状態においてステージ４１がとる座標（Ｘａ、Ｙａ）、（Ｘｂ、Ｙｂ）を求め（座標計測処理）、前者の値については図示されないメモリに格納し、かつθｙ＝（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌの式で示される演算を行うことにより、Ｙ座標軸に対してｙ座標軸がとる角度θｙの値を求める（第一の角度算出処理）。
【００２６】
次に、制御部４３は、予めメモリに格納された誤差θｍを用いて、θｘ＝θｙ＋θｍの式で示される演算を行い、Ｘ座標軸に対してｘ座標軸がとる角度θｘの値を求める（第二の角度算出処理）。
制御部４３は、このようにして求められたオフセットの値（Ｘａ、Ｙａ）と二つの角度θｙ、θｘの値とを、Ｘ＝（１／Ｄ）＊（ｘ＊ｃｏｓθｙ−ｙ＊ｓｉｎθｙ）＋Ｘａ、Ｙ＝（１／Ｄ）＊（ｘ＊ｓｉｎθｘ＋ｙ＊ｃｏｓθｘ）＋Ｙａの各式に代入することによって定められた試料座標系と斜交座標系である装置座標系との座標変換の変換式をメモリに格納する（ここに、Ｄ＝ｃｏｓθｘ＊ｃｏｓθｙ＋ｓｉｎθｘ＊ｓｉｎθｙである。）ことによりアライメントを完了し、ステージ１３の移動を行う（ステージ移動処理）。
【００２７】
すなわち、本実施形態では、Ｘ座標軸とｘ座標軸、Ｙ座標軸とｙ座標軸の間の角度θｘ、θｙの双方に基づく座標変換を行うことにより、移動鏡の取り付け誤差であるθｍを補正するので、高精度にステージ４１（１３）を動かすことができる。
なお、上述した実施形態では、制御部４３は、アライメントに用いられるアライメントパターンの一方が試料座標系の原点に配置されており、その原点に光学装置によりレーザ光が出射されている状態でステージ４１（１３）が装置座標系においてとる座標をオフセットの値としているが、それらのアライメントパターンがいずれも試料座標系の原点に配置されていない場合は、オフセットの値は別途求められてもよい。
【００２８】
また、上述した実施形態では、アライメントの完了を、メモリに座標変換の式を格納した時点としているが、加工や計測の目標となる点が、試料座標系の原点に合わせられた時点としてもよい。この場合には、座標変換の式においてオフセットの値を０とした式が適用されうる。
さらに、上述した実施形態では、ｘ座標軸に平行な直線上に配置された二つのアライメントパターンを利用してアライメントを行っているが、ｙ座標軸に平行な直線上に配置された二つのアライメントパターンを利用して、二つのアライメントパターンについてＸ座標軸の差（Ｘｂ−Ｘａ）を求め、式θｘ＝（Ｘｂ−Ｘａ）／Ｌおよび式θｙ＝θｘ−θｍで示される演算を行うことにより同様のθｘ、θｙの値が得られる。
【００２９】
また、上述した実施形態では、試料座標系の座標軸に平行な直線上に配置された二つのアライメントパターンを利用しているが、その座標軸と平行でない直線上に配置された二つのアライメントパターンを利用する場合には、上式θｙ＝（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌに代えて、その直線がｘ座標軸となす角θｓを用いたθｙ＝ｓｉｎ-1（（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌ）−θｓ式、またはθｘ＝ｃｏｓ-1（（Ｘｂ−Ｘａ）／Ｌ）−θｓ式が適用される。
【００３０】
さらに、上述した実施形態では、アライメントパターンの間隔Ｌには設計値が用いられているが、計測によってこの値を求めてもよく、その時には、上式θｙ＝（Ｙｂ−Ｙａ）／Ｌに代えて、式θｙ＝（Ｙｂ−Ｙａ）／（Ｘｂ−Ｘａ）が適用される。また、ｙ座標軸に平行な直線上に配置された二つのアライメントパターンを利用してアライメントを行う場合には式θｘ＝（Ｘｂ−Ｘａ）／（Ｙｂ−Ｙａ）が適用される。
【００３１】
また、上述した実施形態では、残留ローテーションを補正する過程で、ステージ４１（１３）の移動を行う時に用いられる干渉計と光学装置とによって計測された装置座標系の座標が用いられているが、別途備えられた計測機器によるステージ座標系の二つの座標軸に平行な成分の計測値が用いられてもよい。
さらに、上述した実施形態では、アライメントパターンが十字型とされているが、所望の精度で位置の検出が行われ得るならば、如何なる形状であってもよい。
【００３２】
【発明の効果】
上述したように請求項１、３に記載の発明では、移動鏡の取り付けられ方にかかわらずステージを所望の位置に動かすことができる。
また、請求項２、４に記載の発明では、アライメントパターンにより示されるベクトルが直角座標系の何れかの座標軸に平行であり、かつその直交座標系と装置座標系との座標軸のずれが十分に小さいことが既知であるときには、ステージの移動は簡略化される。
【００３３】
さらに、請求項５に記載の発明では、ステージの移動が確実に行われ、かつ構成の簡略化が図られる。
したがって、本発明が適用されることにより試料の加工や計測が行われる装置では、その加工や計測の精度が安価に高められる。
【図面の簡単な説明】
【図１】請求項１〜５に記載の発明の原理構成図である。
【図２】請求項１〜５に記載の発明に対応した実施形態の動作を説明する図である。
【図３】従来のステージ移動装置の構成を示す図である。
【図４】従来のステージ移動装置の動作を説明する図である。
【符号の説明】
１１  ベクトル
１２，４９  試料
１３，４１  ステージ
１４  移動鏡
１５，３５  計測部
１６，３６  第一の角度算出部
１７，３７  第二の角度算出部
１８  干渉計測部
１９  ステージ移動機構
４２  ステージコントローラ
４３  制御部
４４  Ｘ移動鏡
４５  Ｙ移動鏡
４６，４７  干渉計
４８  光学装置
【図１】
0003744107.tif 000002
【図２】
0003744107.tif 000003
【図３】
0003744107.tif 000004
【図４】
0003744107.tif 000005