(57)【要約】  本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置である。真空処理装置は、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、前記電極フランジの前記シャワープレート側に取り付けられる電極枠と、前記シャワープレートの前記電極枠側となる周縁部に取り付けられるスライドプレートと、を有する。前記電極枠と前記スライドプレートとが、前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能であり、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠とで囲まれる空間がシール可能である。前記シャワープレートが、前記シャワープレートの周縁部に設けられた長穴を貫通する支持部材によって前記電極枠に支持されている。前記長穴は、前記支持部材が前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応して前記長穴内で相対移動を可能なように形成されている。前記長穴には、前記長穴に連通してパージガスを供給するガス穴が設けられている。前記ガス穴が、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間に連通される。
2020145207.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、
高周波電源に接続された電極フランジと、
前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、
前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、
前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、
前記電極フランジの前記シャワープレート側に取り付けられる電極枠と、前記シャワープレートの前記電極枠側となる周縁部に取り付けられるスライドプレートと、
を有し、
前記電極枠と前記スライドプレートとが、前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能であり、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠とで囲まれる空間がシール可能であり、
前記シャワープレートが、前記シャワープレートの周縁部に設けられた長穴を貫通する支持部材によって前記電極枠に支持され、
前記長穴は、前記支持部材が前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応して前記長穴内で相対移動を可能なように形成され、
前記長穴には、前記長穴に連通してパージガスを供給するガス穴が設けられており、
前記ガス穴が、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間に連通される、
真空処理装置。
【請求項２】
前記ガス穴が、前記長穴を貫通する前記支持部材を軸線方向に貫通して形成されている、
請求項１に記載の真空処理装置。
【請求項３】
前記長穴の開口を閉塞する蓋部を備え、
前記蓋部は、前記長穴の開口の閉塞時に、前記長穴に対して前記蓋部が外れないように付勢する付勢部を有する、
請求項１に記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記処理室をクリーニングする際に、クリーニングガスに暴露される部分には、耐腐食表面処理が施される、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の真空処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の真空処理装置のクリーニング方法であって、
前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間にパージガスを供給し、
前記ガス穴を介して前記長穴にパージガスを供給し、
前記処理室にクリーニングガスを供給し、
前記パージガスの供給の後に、前記処理室に前記クリーニングガスを供給する、
真空処理装置のクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置、真空処理装置のクリーニング方法に関し、特に、プラズマによる成膜処理等をおこなう際に用いて好適な技術に関する。
本願は、２０１９年１月７日に日本に出願された特願２０１９−０００５２９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、プラズマを用いた処理として成膜、特にプラズマＣＶＤ、あるいは、エッチングなど基板の表面処理をするプラズマ処理装置が知られている。このプラズマ処理装置においては、成膜空間（反応室）を有するように、チャンバおよび電極フランジによって挟まれた絶縁フランジによって処理室が構成されている。この処理室内には、電極フランジに接続され複数の噴出口を有するシャワープレートと、基板が配置されるヒータとが設けられている。【０００３】
シャワープレートと電極フランジとの間に形成される空間は、原料ガスが導入されるガス導入空間である。即ち、シャワープレートは、処理室内を、基板に膜が形成される成膜空間と、ガス導入空間とに区画している。
電極フランジには、高周波電源が接続されている。電極フランジおよびシャワープレートは、カソード電極として機能する。
特許文献１、２には、シャワープレートの周囲が、電極フランジに直接接続された構成が記載されている。【０００４】
このような構成において、プラズマ処理時においてその処理温度が高いため、シャワープレートは熱膨張し、処理終了時など温度を下降させた際には収縮することになる。【０００５】
また、このような構成において、プラズマ処理終了時に適宜、成膜空間に付着した付着物を除去するクリーニングがおこなわれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０７９７５６号
【特許文献２】国際公開第２０１０／０７９７５３号
【特許文献３】日本国特許第４４３０２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のＦＰＤ（ｆｌａｔ  ｐａｎｅｌ  ｄｉｓｐｌａｙ、フラットパネルディスプレイ）の製造などにおいては、基板の大きさが大きいため、シャワープレートの大きさ（面積）も大きくなる。このため、１８００ｍｍ以上の辺を有するＦＰＤなどを構成する大面積の基板に処理をおこなう際には、シャワープレートの熱膨張および熱収縮が極めて大きくなる。このシャワープレートの熱膨張および熱収縮は、基板のコーナー部において、数ｃｍ〜数十ｃｍにもなる場合がある。【０００８】
しかしながら、従来の技術は、シャワープレートの熱膨張および熱収縮に起因する問題に着目されておらず、シャワープレートを支持する部材の使用回数が減少してしまう場合があった。特に、その部材の変形が顕著に生じている場合には、メンテナンス作業を一回行う度に、部材が使い捨てになってしまうという問題があった。【０００９】
また、シャワープレートの熱膨張および熱収縮に伴って、シャワープレートを支持する部材が擦れてしまい、部材の削れに起因したパーティクル等が発生する場合がある。これがプラズマ処理における不具合の発生原因となるため、これを解決したいという要求がある。【００１０】
このため、シャワープレートの熱変形時に、電極フランジとシャワープレートとの間で互いにスライドしてシール状態を維持することが考えられる。このような構成例が特許文献３に記載される。
しかしながら、特許文献３の技術では、シールが不十分であった。【００１１】
そこで、本発明者らは、電極フランジ側からシャワープレートに向けてボルト等の支持部材を電極フランジの主面に対して鉛直に設け、ボルト等の支持部材がシャワープレートに設けた長穴の内部でスライド可能に構成する構造を検討した。
この場合、電極フランジに対するシャワープレートの支持を良好に維持する構成を見出した。【００１２】
しかしながら、クリーニング時に、長穴の付近の領域、あるいは、互いにスライドする部品にクリーニングガスが接触すると、腐食が進行してしまう。これがパーティクル発生の原因となる。このような問題を解決したいという要求がある。【００１３】
シャワープレートは、成膜空間に原料ガスを噴出する部材である。このため、シャワープレートに付着する付着物の量は、他の部材に比較して多い。したがって、クリーニングにおける処理時間、つまり、シャワープレートがクリーニングガスに暴露される暴露時間を長くする必要がある。このため、腐食の進行が早くなってしまう。
このような腐食に起因するパーティクル発生を解決するためには、例えば、シャワープレートおよびシャワープレートの付近に位置する部品を早めに交換する必要がある。【００１４】
さらに、シャワープレートおよびシャワープレートの付近に位置する部品を、耐腐食性を有する材質で製造した場合でも、長期的には、クリーニングガスによる腐食が発生してしまう。このため、部品のライフ、つまり、交換時期が短縮してしまう。この解決策が求められている。【００１５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的を達成しようとするものである。
１．クリーニングガスによる腐食発生の防止を図ること。
２．シャワープレートまわりからのガス漏れを防止するガスシールの向上を図ること。
３．部品の長寿命化を図ること。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、前記電極フランジの前記シャワープレート側に取り付けられる電極枠と、前記シャワープレートの前記電極枠側となる周縁部に取り付けられるスライドプレートと、を有し、前記電極枠と前記スライドプレートとが、前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能であり、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠とで囲まれる空間がシール可能であり、前記シャワープレートが、前記シャワープレートの周縁部に設けられた長穴を貫通する支持部材によって前記電極枠に支持され、前記長穴は、前記支持部材が前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応して前記長穴内で相対移動を可能なように形成され、前記長穴には、前記長穴に連通してパージガスを供給するガス穴が設けられており、前記ガス穴が、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間に連通される。これにより上記課題を解決した。
本発明の真空処理装置は、前記ガス穴が、前記長穴を貫通する前記支持部材を軸線方向に貫通して形成されていることができる。
本発明の真空処理装置は、前記長穴の開口を閉塞する蓋部を備え、前記蓋部は、前記長穴の開口の閉塞時に、前記長穴に対して前記蓋部が外れないように付勢する付勢部を有することが可能である。
本発明の真空処理装置においては、前記処理室をクリーニングする際に、クリーニングガスに暴露される部分には、耐腐食表面処理が施されてもよい。
また、本発明の真空処理装置のクリーニング方法は、上記のいずれかに記載された真空処理装置のクリーニング方法であって、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間にパージガスを供給し（パージ工程）、前記ガス穴を介して前記長穴にパージガスを供給し（パージガス封止工程）、前記処理室にクリーニングガスを供給し（クリーニング工程）、前記パージガスの供給の後に（パージガス封止工程の後に）、前記処理室に前記クリーニングガスを供給する（クリーニング工程を行う）。【００１７】
本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、前記電極フランジの前記シャワープレート側に取り付けられる電極枠と、前記シャワープレートの前記電極枠側となる周縁部に取り付けられるスライドプレートと、を有し、前記電極枠と前記スライドプレートとが、前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能であり、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠とで囲まれる空間がシール可能であり、前記シャワープレートが、前記シャワープレートの周縁部に設けられた長穴を貫通する支持部材によって前記電極枠に支持され、前記長穴は、前記支持部材が前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応して前記長穴内で相対移動を可能なように形成され、前記長穴には、前記長穴に連通してパージガスを供給するガス穴が設けられており、前記ガス穴が、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間に連通される。【００１８】
これにより、長穴の内部にシャワープレートと電極フランジとの間の空間からパージガスを供給することができる。
したがって、クリーニング時に、シャワープレートと電極フランジとの間の空間をパージする際に、同時に、長穴の内部をパージして、長穴の内部にクリーニングガスが侵入することを防止できる。これにより、長穴の内部、および長穴の周辺でクリーニングガスによる腐食発生を防止することができる。したがって、パーティクル発生を低減して、成膜特性に悪影響を与えることを低減できる。
特に、長穴はシャワープレートの熱変形時にスライドする部分の近傍に位置するため、スライド部分等からのパーティクルの発生が懸念されていたが、これを解消することができる。【００１９】
本発明の真空処理装置は、前記ガス穴が、前記長穴を貫通する前記支持部材を軸線方向に貫通して形成されてもよい。
これにより、支持部材における電極枠側端部と長穴側端部とを結んで貫通するガス穴により、長穴の内部にシャワープレートと電極フランジとの間の空間からパージガスを供給することができる。
ここで、支持部材の全長にわたってかつ支持部材と同軸にガス穴を形成することが好ましい。
また、このようにガス穴の形成された段付きボルト等とされる支持部材を交換するだけで、既存の真空処理装置でのクリーニング時において、長穴へのパージガス供給をおこなうことが容易に可能となる。【００２０】
本発明の真空処理装置は、前記長穴の開口を閉塞する蓋部を備え、前記蓋部は、前記長穴の開口の閉塞時に、前記長穴に対して前記蓋部が外れないように付勢する付勢部を有してもよい。
これにより、長穴の処理室側となる開口を蓋部によって閉塞することで、クリーニング時に、処理室側からクリーニングガスが長穴の内部に侵入することを防止できる。
また、プラズマ処理状態において、シャワープレートの下面となる長穴の開口に、蓋部を取り付けた場合でも、付勢部（付勢部材）によって、蓋部が落下しないように維持することが容易にできる。【００２１】
また、本発明において、前記処理室をクリーニングする際に、クリーニングガスに暴露される部分には、耐腐食表面処理が施されてもよい。
これにより、クリーニングガスに暴露される部分における耐腐食性を向上して、パーティクル発生を防止することができる。【００２２】
ここで、耐腐食表面処理は、クリーニングガス種に応じて設定することができる。例えば、クリーニングガスがＮＦ３（三フッ化窒素）とされて、発生させたＦラジカルによる処理室内のクリーニングをおこなう場合がある。この場合には、耐腐食表面処理として、イットリアコート、つまり、Ｙ２Ｏ３の薄膜を形成する処理とすることができる。Ｙ２Ｏ３の薄膜形成は、ＣＶＤ処理とすることができる。【００２３】
さらに、イットリアコートを施す部品が、ニッケルなどを含む合金あるいはアルミニウムなどを含む合金とされた場合には、イットリアコートに先んじて、電解研磨処理や、表面拡散処理をおこなって耐食性をさらに向上することもできる。
ここで、インコネル（登録商標）や、ハステロイ（登録商標）等のニッケル合金からなる部品を対象とすることができる。特に、ハステロイからなる部品の場合には、表面拡散処理をおこなうことが好ましい。また、インコネルからなる部品の場合には、電解研磨処理をおこなうことが好ましい。【００２４】
さらに、これらの表面処理を施す部品としては、スライドする部品、特に、電極枠、スライドプレート、段付きボルト等の支持部材、ワッシャ、などの高温用強度部材を挙げることができる。【００２５】
また、本発明の真空処理装置のクリーニング方法は、上記のいずれかに記載された真空処理装置のクリーニング方法であって、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠と前記スライドプレートとで囲まれる空間にパージガスを供給し（パージ工程）、前記ガス穴を介して前記長穴にパージガスを供給し（パージガス封止工程）、前記処理室にクリーニングガスを供給し（クリーニング工程）、前記パージガスの供給の後に（パージガス封止工程の後に）、前記処理室に前記クリーニングガスを供給する（クリーニング工程を行う）。【００２６】
これにより、クリーニング処理で、シャワープレートがクリーニングガスに暴露される前にシャワープレートに形成された長穴の内部にパージガスを充填する。そして、長穴の内部を封止状態とすることができる。封止された長穴の内部には、クリーニングガスが侵入することを防止できる。【００２７】
このため、長穴の内部、および、長穴の内部に露出した段付きボルト等の支持部材、ワッシャ、あるいは、スライド可能に構成されて、長穴の内部に連通した位置にある部品に対し、クリーニングガスに暴露されることを防止できる。これにより、パーティクル発生を防止することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、シャワープレートに形成された長穴の内部、および、長穴の内部に位置する部品、さらに、長穴に連通した位置にある部品において、これらの表面の耐腐食性を向上できる。また、これらの部品表面がクリーニングガスに暴露されることを防止できる。これにより、パーティクルの発生を低減することが可能になるという効果を奏することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置を示す模式断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置におけるシャワープレートを示す上面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置における電極枠、スライドプレートおよびシャワープレート縁部を示す断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置におけるスライドプレートの角部を含む領域の下面側を示す部分斜視図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置におけるスライドプレートおよびシャワープレートの縁部を含む領域を示す上面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置における段付きボルト（支持部材）を含む領域を示す拡大断面図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置における電極枠、スライドプレートおよびシャワープレートの縁部の熱伸び状態を示す断面図である。
【図８】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置のクリーニング方法を示すフローチャートである。
【図９】本発明の第１実施形態に係る真空処理装置における段付きボルト（支持部材）を含む領域の他の例を示す拡大断面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る真空処理装置における電極枠、スライドプレートおよびシャワープレートの縁部を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の第１実施形態に係る真空処理装置、真空処理装置のクリーニング方法を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における真空処理装置を示す模式断面図であり、図１において、符号１００は、真空処理装置である。
【００３１】
また、本実施形態においては、プラズマ処理としてプラズマＣＶＤ法を用いた成膜装置を説明する。
本実施形態に係る真空処理装置１００は、プラズマＣＶＤ法による基板（被処理基板）Ｓへの成膜をおこなうものとされる。
【００３２】
本実施形態に係る真空処理装置１００は、図１に示すように、反応室である成膜空間１０１ａを有する処理室１０１を有する。処理室１０１は、真空チャンバ１０２（チャンバ）と、電極フランジ１０４と、真空チャンバ１０２および電極フランジ１０４に挟持された絶縁フランジ１０３とから構成されている。
【００３３】
真空チャンバ１０２の底部１０２ａ（内底面）には、開口部が形成されている。この開口部には支柱１４５が挿通され、支柱１４５は真空チャンバ１０２の下部に配置されている。支柱１４５の先端（真空チャンバ１０２内）には、板状の支持部（ヒータ）１４１が接続されている。
【００３４】
また、真空チャンバ１０２には、排気管を介して真空ポンプ（排気手段）１４８が設けられている。真空ポンプ１４８は、真空チャンバ１０２内が真空状態となるように減圧する。
支柱１４５は、真空チャンバ１０２の外部に設けられた昇降機構（不図示）に接続されており、基板Ｓの鉛直方向において上下に移動可能である。
【００３５】
また、真空チャンバ１０２には、供給管を介してクリーニングガス供給部１４９が設けられている。クリーニングガス供給部１４９は、真空チャンバ１０２の内部、特に、成膜空間１０１ａ側に付着した付着物をクリーニングするために、後述するクリーニングガスを成膜空間１０１ａに噴出可能とされる。
クリーニングガス供給部１４９における供給管の開口は、シャワープレート１０５の縁部近傍に配置される。
【００３６】
電極フランジ１０４は、上壁１０４ａと周壁１０４ｂとを有する。電極フランジ１０４は、電極フランジ１０４の開口部が基板Ｓの鉛直方向において下方に位置するように配置されている。また、電極フランジ１０４の開口部には、シャワープレート１０５が取り付けられている。
【００３７】
これにより、電極フランジ１０４とシャワープレート１０５との間に空間１０１ｂ（ガス導入空間）が形成されている。また、電極フランジ１０４の上壁１０４ａは、シャワープレート１０５に対向している。上壁１０４ａには、ガス導入口を介してガス供給部１４２（ガス供給手段）が接続されている。
【００３８】
空間１０１ｂは、ガス供給部１４２からプロセスガスが導入されるガス導入空間として機能している。
電極フランジ１０４とシャワープレート１０５は、それぞれ導電材で構成されており、例えば、アルミニウム等の金属製とされる。
【００３９】
シャワープレート１０５の空間１０１ｂ側表面には、その周縁部を覆うように電極マスク１０７が配置されている。
電極マスク１０７は、絶縁シールド１０６に取り付けられる。
【００４０】
電極フランジ１０４の周囲には、電極フランジ１０４を覆うようにシールドカバーが設けられている。シールドカバーは、電極フランジ１０４と非接触であり、かつ、真空チャンバ１０２の周縁部に連設するように配置されている。
【００４１】
また、電極フランジ１０４には、真空チャンバ１０２の外部に設けられたＲＦ電源１４７（高周波電源）がマッチングボックスを介して接続されている。マッチングボックスは、シールドカバーに取り付けられており、真空チャンバ１０２は、シールドカバーを介して接地されている。
【００４２】
電極フランジ１０４およびシャワープレート１０５は、カソード電極として構成されている。シャワープレート１０５には、複数のガス噴出口１０５ａが形成されている。空間１０１ｂ内に導入されたプロセスガスは、ガス噴出口１０５ａから真空チャンバ１０２内の成膜空間１０１ａに噴出する。
【００４３】
同時に、ＲＦ電源１４７から電力供給された電極フランジ１０４およびシャワープレート１０５がカソード電極となり、成膜空間１０１ａにプラズマが発生して成膜等の処理がおこなわれる。
【００４４】
図２は、本実施形態におけるシャワープレート１０５を平面視した上面図である。
シャワープレート１０５は、棒状の固定シャフト１０９及び可動シャフト１０８によって電極フランジ１０４から下向きに吊り下げられて支持されている。
【００４５】
固定シャフト１０９は、シャワープレート１０５を平面視した中央位置に固着して取り付けられる。可動シャフト１０８は、固定シャフト１０９を中心とした矩形の頂点および四辺の中点に配置される。
【００４６】
可動シャフト１０８は、固定シャフト１０９と異なり、シャワープレート１０５の熱伸びに対応して移動する構造を有する。具体的に、可動シャフト１０８の下端に設けられた球面ブシュを介して、可動シャフト１０８はシャワープレート１０５に接続されている。可動シャフト１０８は、水平方向におけるシャワープレート１０５の変形に対応して移動しつつ、シャワープレート１０５を支持可能とされている。
【００４７】
図３は、本実施形態におけるシャワープレート１０５の縁部を含む領域を拡大して示す断面図である。
シャワープレート１０５の周縁部の外側位置には、このシャワープレート１０５の縁部と離間するように絶縁シールド１０６が周設されている。絶縁シールド１０６は、電極フランジ１０４の周壁１０４ｂに取り付けられている。絶縁シールド１０６の内側位置と、シャワープレート１０５の周端面の外側位置とには、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａが形成されている。
【００４８】
シャワープレート１０５の周縁部上側には、図３に示すように、電極枠１１０とスライドプレート１２０とが周設される。
【００４９】
電極枠１１０は、図３に示すように、ボルト等の支持部材１１１により電極フランジ１０４の周壁１０４ｂの下側に取り付けられている。電極枠１１０は、絶縁シールド１０６の内側位置に周設される。電極枠１１０は、平面視してガス導入空間１０１ｂの外側輪郭となる位置に周設される。
【００５０】
スライドプレート１２０は、図２、図３に示すように、平面視して電極枠１１０とほぼ重なるようにシャワープレート１０５の周縁部に周設される。スライドプレート１２０は、シャワープレート１０５に取り付けられる。シャワープレート１０５と電極枠１１０とはスライド可能とされる。
【００５１】
シャワープレート１０５の縁部は、段付きボルト１２１により電極枠１１０に吊り下げられて支持されている。
段付きボルト１２１は、下側からシャワープレート１０５およびスライドプレート１２０を貫通して、その先端が電極枠１１０に締結される。
【００５２】
スライドプレート１２０は、電極枠１１０とシャワープレート１０５との間に位置する。スライドプレート１２０は、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、シャワープレート１０５の縁部と一体としてシャワープレート１０５の面と平行な方向に移動可能とされる。
【００５３】
電極枠１１０は、図１〜図３に示すように、シャワープレート１０５の昇降温時に生じるシャワープレート１０５の熱変形に対応して、スライドプレート１２０を滑らせ、スライドの位置が変化するように移動させる。
電極枠１１０とスライドプレート１２０とは、シャワープレート１０５と電極フランジ１０４とで囲まれるガス導入空間１０１ｂのシール側壁となっている。
【００５４】
電極枠１１０とスライドプレート１２０とは、図３に示すように、シャワープレート１０５に取り付けられるスライドプレート１２０と、このスライドプレート１２０に対応して電極フランジ１０４に取り付けられる電極枠１１０とが摺動しても、互いに接触した状態を維持する。
【００５５】
したがって、電極枠１１０とスライドプレート１２０とは、互いにスライドした場合でも、ガス導入空間１０１ｂをシール可能とされている。
電極枠１１０とスライドプレート１２０とは、シャワープレート１０５の周縁部と電極フランジ１０４とを電気的に接続している。
【００５６】
電極枠１１０は、図２に示すように、平面視してシャワープレート１０５の周縁部とほぼ等しい外形輪郭である矩形輪郭を有する。電極枠１１０は、また、シャワープレート１０５の周囲で略等しい幅寸法を有する。電極枠１１０は、例えば、ハステロイ等の金属製とされる。
【００５７】
スライドプレート１２０は、図２に示すように、電極枠１１０と同様に平面視してシャワープレート１０５の周縁部とほぼ等しい外形輪郭である矩形輪郭を有する。スライドプレート１２０は、また、シャワープレート１０５の周囲で略等しい幅寸法を有する。スライドプレート１２０は、電極枠１１０と同じ材質、例えば、ハステロイ等の金属製とされることができる。
【００５８】
電極枠１１０は、図３に示すように、上板面部（固定部）１１２と、縦板面部（壁部）１１３と、下板面部（基部）１１４と、を有する。
上板面部（固定部）１１２は、電極フランジ１０４におけるシャワープレート１０５に対向する下面に固定して取り付けられる。
【００５９】
縦板面部（壁部）１１３は、上板面部（固定部）１１２の輪郭外側端部の全周からシャワープレート１０５に向けて立設される。
下板面部（基部）１１４は、縦板面部（壁部）１１３の下端から上板面部（固定部）１１２と略平行に延在する。
【００６０】
電極枠１１０は、上板面部（固定部）１１２と縦板面部（壁部）１１３と下板面部（基部）１１４とによって、シャワープレート１０５の輪郭と直交する断面形状がＵ字状となるように形成されている。電極枠１１０は、上板面部（固定部）１１２と縦板面部（壁部）１１３と下板面部（基部）１１４とにより、Ｕ字状の内側に内部空間１１０Ａを有するように形成されている。
【００６１】
上板面部（固定部）１１２は、ボルト等の支持部材１１１により電極フランジ１０４の周壁１０４ｂに取り付けられている。支持部材１１１は上板面部（固定部）１１２を貫通している。
【００６２】
縦板面部（壁部）１１３は、電極フランジ１０４から略垂直にシャワープレート１０５の主面に向かって立設される。縦板面部（壁部）１１３の上端は、電極枠１１０の輪郭外側全周において上板面部（固定部）１１２の端部に接続されている。
縦板面部（壁部）１１３は、絶縁シールド１０６の内側に配置される。縦板面部（壁部）１１３は、絶縁シールド１０６の内周面と対向している。
【００６３】
縦板面部（壁部）１１３周縁部の外周面と絶縁シールド１０６の内周面とは離間している。縦板面部（壁部）１１３周縁部の外周面と絶縁シールド１０６の内周面との間には、隙間１０６ｂが形成されている。
【００６４】
ここで、電極枠１１０は電極フランジ１０４に取り付けられており低温側となる。したがって、昇温した際に想定される電極枠１１０の熱膨張する寸法が、昇温した際に想定されるシャワープレート１０５およびスライドプレート１２０の熱膨張する寸法より小さい。
【００６５】
これにより、隙間１０６ｂは、熱伸び吸収空間１０６ａよりも小さく設定される。つまり、縦板面部（壁部）１１３外周面と絶縁シールド１０６の内周面との距離は、シャワープレート１０５の外周端面と絶縁シールド１０６の内周側面との距離よりも小さく設定される。
【００６６】
隙間１０６ｂおよび熱伸び吸収空間１０６ａに対応して、絶縁シールド１０６の内周面には、段差が形成されている。この段差は、スライドプレート１２０と電極枠１１０との接触位置であるすべりシール面１１４ａおよびすべりシール面１２０ａよりも電極枠１１０側に形成される。
縦板面部（壁部）１１３の下端は、下板面部（基部）１１４の外周側端部に接続されている。
【００６７】
下板面部（基部）１１４は、縦板面部（壁部）１１３の下端からガス導入空間１０１ｂの中心側に向かう配置とされる。つまり、下板面部（基部）１１４は、縦板面部（壁部）１１３の下端から電極枠１１０の輪郭内側に向けて延在する。下板面部（基部）１１４は、上板面部（固定部）１１２と平行に延在する。
【００６８】
下板面部（基部）１１４は、シャワープレート１０５の全周で略等しい幅寸法を有する。
【００６９】
下板面部（基部）１１４の板厚は、上板面部（固定部）１１２の板厚に比べて大きく設定することができる。
下板面部（基部）１１４のシャワープレート１０５側となる下面は、シャワープレート１０５の主面と並行なすべりシール面１１４ａとされている。
【００７０】
すべりシール面１１４ａは、スライドプレート１２０の上面に設けられたすべりシール面１２０ａと接触している。
すべりシール面１１４ａは、下板面部（基部）１１４のシャワープレート１０５側となる下面の全域とされる。
【００７１】
下板面部（基部）１１４には下側から段付きボルト１２１が螺着されている。
【００７２】
電極枠１１０の内周側には、図３に示すように、その全周に板状のリフレクタ１１７が設けられる。リフレクタ１１７は、矩形輪郭とされるシャワープレート１０５の輪郭辺と平行に四箇所設けられる。リフレクタ１１７は、電極枠１１０の内周側に近接して配置される。
【００７３】
リフレクタ１１７は、Ｌ字状に折り曲げられた金属板とされる。リフレクタ１１７の上端はガス導入空間１０１ｂの中心側に折り曲げられる。このリフレクタ１１７の上端で折り曲げられた部分は、ネジ１１７ａによって電極フランジ１０４の周壁１０４ｂに取り付けられる。リフレクタ１１７の上端外側は、電極枠１１０の上板面部（固定部）１１２の内側先端に近接して配置される。
【００７４】
リフレクタ１１７の下端は、電極枠１１０の下板面部（基部）１１４の内側端付近に位置する。
したがって、リフレクタ１１７は、断面視においてＵ字状とされた電極枠１１０の内部空間１１０Ａの開口に離間して対向するように配置される。なお、リフレクタ１１７の下端と、電極枠１１０の下板面部（基部）１１４の内側端とは、接続されていない。このため、ガス導入空間１０１ｂから電極枠１１０の内部空間１１０Ａへ、ガスが容易に侵入できる。
【００７５】
図４は、本実施形態におけるスライドプレート１２０の下面側における角部を拡大した斜視図である。
図５は、本実施形態におけるシャワープレート１０５の周縁部を含む領域を示す下面図である。
スライドプレート１２０の上面は、その全域がすべりシール面１２０ａとされる。
【００７６】
スライドプレート１２０は、図２〜図５に示すように、シャワープレート１０５の上面と平行な板体が略等幅の枠状に形成された構成とされる。
スライドプレート１２０は、図４、図５に示すように、略矩形輪郭とされるシャワープレート１０５の四辺に対応して位置する辺スライド部１２２と、シャワープレート１０５の四隅（コーナー）に対応して位置する角スライド部１２７と、を有する。
【００７７】
辺スライド部１２２と角スライド部１２７とは、図５に示すように、同一の厚さ寸法を有する。辺スライド部１２２と角スライド部１２７とは、いずれもシャワープレート１０５の上面に取り付けられている。
【００７８】
角スライド部１２７は、シャワープレート１０５の隣接する二辺に延在する辺スライド部１２２の端部側とそれぞれ組み合わされている。
角スライド部１２７は、締結ネジ１２７ａによってシャワープレート１０５の上面に固定されている。
【００７９】
辺スライド部１２２は、シャワープレート１０５に固定された角スライド部１２７と、シャワープレート１０５および電極枠１１０とで挟持されることでシャワープレート１０５の上面に取り付けられる。また、辺スライド部１２２は、後述するように、貫通孔１２５ａを貫通する段付きボルト１２１によっても外れないように位置規制される。
【００８０】
角スライド部１２７には、組み合わされた辺スライド部１２２に向けて、それぞれ突出する二箇所のラビリンス凸部１２８、１２８が設けられる。ラビリンス凸部１２８は、シャワープレート１０５の輪郭辺に沿った方向に突出する。
【００８１】
角スライド部１２７における二箇所のラビリンス凸部１２８は、互いに直交する方向に突出している。ラビリンス凸部１２８は、角スライド部１２７の幅方向において中央に配置される。つまり、二箇所のラビリンス凸部１２８は、いずれも、それぞれ対向するスライドプレート１２０の幅方向において中央位置となるように配置される。
【００８２】
辺スライド部１２２には、組み合わされた角スライド部１２７に向けて突出する二箇所のラビリンス凸部１２３、１２４が設けられる。ラビリンス凸部１２３およびラビリンス凸部１２４は、シャワープレート１０５の輪郭辺に沿った方向に突出する。ラビリンス凸部１２３とラビリンス凸部１２４とは、互いに平行に形成される。
【００８３】
ラビリンス凸部１２３とラビリンス凸部１２４とは、角スライド部１２７のラビリンス凸部１２８に対して、スライドプレート１２０の幅方向における両外側位置にそれぞれ配置される。ラビリンス凸部１２３とラビリンス凸部１２４とは、スライドプレート１２０の幅方向における寸法が互いに等しく設定される。
【００８４】
スライドプレート１２０の幅方向において、ラビリンス凸部１２３およびラビリンス凸部１２４の幅寸法は、ラビリンス凸部１２８の幅寸法に比べて、いずれも小さく設定されることができる。
【００８５】
ラビリンス凸部１２３とラビリンス凸部１２８とは互いに接触している。また、ラビリンス凸部１２４とラビリンス凸部１２８とは互いに接触している。
【００８６】
ラビリンス凸部１２３の内側面は、すべりシール面１２３ａとされ、ラビリンス凸部１２８の外側面は、すべりシール面１２８ａとされる。すべりシール面１２３ａとすべりシール面１２８ａとは、互いに接触している。
ラビリンス凸部１２４の外側面は、すべりシール面１２４ｂとされ、ラビリンス凸部１２８の内側面は、すべりシール面１２８ｂとされる。すべりシール面１２４ｂとすべりシール面１２８ｂとは、互いに接触している。
【００８７】
ここで、ラビリンス凸部１２３、１２４、１２８において、内側と外側とは、ガス導入空間１０１ｂに対する内外方向、つまり、シャワープレート１０５の面内において、中心からの径方向における位置を意味している。
【００８８】
角スライド部１２７の片側に設けられたラビリンス凸部１２８では、すべりシール面１２８ａとすべりシール面１２８ｂとが互いに平行に形成される。
また、辺スライド部１２２の一端に設けられた二本のラビリンス凸部１２３およびラビリンス凸部１２４では、互いに対向するすべりシール面１２３ａとすべりシール面１２４ｂとが互いに平行に形成される。
【００８９】
すべりシール面１２８ａとすべりシール面１２８ｂとすべりシール面１２３ａとすべりシール面１２４ｂとは、いずれもシャワープレート１０５の輪郭辺と平行な方向に形成されている。
【００９０】
すべりシール面１２８ａとすべりシール面１２８ｂとすべりシール面１２３ａとすべりシール面１２４ｂとは、いずれも鉛直方向に形成されている。
すべりシール面１２８ａとすべりシール面１２８ｂとすべりシール面１２３ａとすべりシール面１２４ｂとは、いずれも上端が電極枠１１０に接する。すべりシール面１２８ａとすべりシール面１２８ｂとすべりシール面１２３ａとすべりシール面１２４ｂとは、いずれも下端がシャワープレート１０５に接する。
【００９１】
このように、辺スライド部１２２のラビリンス凸部１２３と、角スライド部１２７のラビリンス凸部１２８と、辺スライド部１２２のラビリンス凸部１２４とが、ガス導入空間１０１ｂの輪郭方向に並んでいる。
つまり、ラビリンス凸部１２３とラビリンス凸部１２８とラビリンス凸部１２４とが、ガス導入空間１０１ｂの内側から外側に向けて多段となるように、ガス導入空間１０１ｂの輪郭方向に互い違いに配置されている。
【００９２】
したがって、辺スライド部１２２と角スライド部１２７とが、相対的にシャワープレート１０５の輪郭辺と平行な方向に移動しても、ラビリンス凸部１２４とラビリンス凸部１２８とは接触した状態を維持する。
このようにすべりシール面１２４ｂとすべりシール面１２８ｂとが離間しないため、この部分のシールは維持される。
【００９３】
同時に、辺スライド部１２２と角スライド部１２７とが、相対的にシャワープレート１０５の輪郭辺と平行な方向に移動しても、ラビリンス凸部１２８とラビリンス凸部１２３とは接触した状態を維持する。
このようにすべりシール面１２８ａとすべりシール面１２３ａとが離間しないため、この部分のシールは維持される。
【００９４】
さらに、角スライド部１２７のラビリンス凸部１２８が、その両側に位置する辺スライド部１２２のラビリンス凸部１２３とラビリンス凸部１２４とに挟持された状態で、スライドする。
これにより、すべりシール面１２４ｂとすべりシール面１２８ｂとが離間することがない。同時に、すべりシール面１２８ａとすべりシール面１２３ａとが離間することがない。
【００９５】
このように、すべりシール面１２３ａ〜１２８ｂを介して、辺スライド部１２２と角スライド部１２７とが、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応してシール状態を維持したままスライド可能とされる。
【００９６】
したがって、このような構成により、スライドプレート１２０の高さ位置においては、温度状態にかかわらず、ガス導入空間１０１ｂの側壁部分におけるシール状態を維持することができる。
【００９７】
スライドプレート１２０には、図３、図４、図５に示すように、シャワープレート１０５に当接する部分、すなわち、スライドプレート１２０の下面に凹溝１２５が形成されている。
凹溝１２５は、辺スライド部１２２の全周にシャワープレート１０５に当接する脚部１２６が位置するように形成される。
【００９８】
凹溝１２５の深さ寸法は、スライドプレート１２０の厚さ寸法より小さく、かつ、スライドプレート１２０の強度が低下しない程度であれば任意に設定することができる。
脚部１２６の幅寸法、つまり、スライドプレート１２０の幅方向寸法は、スライドプレート１２０の強度が低下しない程度であれば、なるべく小さくすることが好ましい。
【００９９】
本実施形態では、凹溝１２５が、辺スライド部１２２に形成されている。なお、凹溝が、角スライド部１２７に形成されることもできる。
【０１００】
この場合、辺スライド部１２２と同様に、角スライド部１２７の全周にシャワープレート１０５に当接する脚部が位置するように凹溝が形成されることができる。さらに、この場合、角スライド部１２７において、ラビリンス凸部１２８にも凹溝が形成されることができる。
【０１０１】
凹溝１２５の内部には、貫通孔１２５ａが設けられる。貫通孔１２５ａは、スライドプレート１２０を貫通している。貫通孔１２５ａは、辺スライド部１２２の延在する方向に複数設けられる。複数の貫通孔１２５ａは互いに離間して配置される。
なお、スライドプレート１２０には、貫通孔１２５ａのみを形成し、凹溝１２５を設けない構成とすることも可能である。
【０１０２】
貫通孔１２５ａには、段付きボルト１２１が貫通している。
貫通孔１２５ａの径寸法は、段付きボルト１２１の径寸法よりも大きく設定される。貫通孔１２５ａの輪郭形状は、後述する長穴１３１に対応する。
【０１０３】
ここで、貫通孔１２５ａが長穴１３１に対応する形状とは、後述するように、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが支障なくスライド可能な形状であることを意味する。つまり、貫通孔１２５ａが、長穴１３１の内部における段付きボルト１２１の相対移動に影響を及ぼさない形状であることを意味する。
【０１０４】
具体的には、貫通孔１２５ａの径寸法は、長穴１３１の長軸よりも大きな寸法とされる。つまり、平面視して、貫通孔１２５ａが長穴１３１よりも大きく形成されていれば、長穴１３１の内部で相対移動する段付きボルト１２１の軸部１２１ｂと接触することがない。
また、上記の寸法を満たしていれば、貫通孔１２５ａの輪郭形状は特に限定されない。
【０１０５】
図６は、本実施形態におけるシャワープレート１０５の吊り下げ溝１３０、長穴１３１を含む領域を示す断面図であり、図３に示す拡大矢視断面図である。
シャワープレート１０５の下面には、図３、図５、図６に示すように、シャワープレート１０５の周縁部に吊り下げ溝１３０が設けられる。
【０１０６】
吊り下げ溝１３０は、シャワープレート１０５の周縁部に所定の間隔で複数設けられる。
吊り下げ溝１３０の内部には、シャワープレート１０５を厚さ方向に貫通する長穴１３１が設けられる。
吊り下げ溝１３０は、長穴１３１を拡大した相似形状として形成される。
【０１０７】
長穴１３１には、図３、図５、図６に示すように、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが貫通して、電極枠１１０に固定されている。
長穴１３１は、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂがスライド可能なように、前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形方向に長く形成される。
【０１０８】
つまり、長穴１３１は、シャワープレート１０５を平面視した中央位置である固定シャフト１０９から放射状に引いた直線と平行な長軸を有する。したがって、長穴１３１は、その配置される位置によって、傾斜方向の異なる長軸を有する長円（角丸長方形）とされる。
【０１０９】
長穴１３１は、その長軸方向の開口寸法が、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが相対移動する距離より長い寸法として設定される。したがって、長穴１３１の長軸方向の寸法は、シャワープレート１０５の寸法、および、材質で規定される熱膨張率によって適宜変更することが必要である。
【０１１０】
長穴１３１の短軸方向の開口寸法は、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂの外径寸法と同程度よりやや大きければよい。
【０１１１】
長穴１３１の吊り下げ溝１３０側の開口には、図３、図５、図６に示すように、長スライド部材（長ワッシャ）１３２が配置される。長スライド部材１３２には、段付きボルト（支持部材）１２１の軸部１２１ｂが貫通している。
【０１１２】
長スライド部材１３２は、吊り下げ溝１３０と同一かやや小さい相似形とされる輪郭形状を有する。長スライド部材１３２は、長穴１３１と同一かやや小さい相似形とされる開口形状を有する。
【０１１３】
長スライド部材１３２の短軸方向における開口径寸法は、長穴１３１の短軸方向の開口径寸法と同じかやや小さく設定される。長スライド部材１３２の長軸方向の開口径寸法は、長穴１３１の長軸方向の開口径寸法と同じかやや小さく設定される。
【０１１４】
長スライド部材１３２の下側には、段付きボルト１２１のボルトヘッド１２１ａが位置する。長スライド部材１３２とボルトヘッド１２１ａとの間には、スライド部材（ワッシャ）１３３、皿バネ１３４、１３５が上から積層配置される。
スライド部材１３３、皿バネ１３４、１３５には、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが貫通している。
【０１１５】
長スライド部材１３２の短軸方向における開口径寸法は、段付きボルト１２１のボルトヘッド１２１ａの外径寸法よりも小さく設定される。
また、長スライド部材１３２の短軸方向における開口径寸法は、スライド部材１３３の外径寸法よりも小さく設定される。
【０１１６】
スライド部材１３３の外径寸法は、ボルトヘッド１２１ａの外径寸法と同じか、やや大きく設定される。また、スライド部材１３３の外径寸法は、長スライド部材１３２の短軸方向の開口径寸法よりも大きく設定される。
スライド部材１３３、皿バネ１３４、１３５の内径寸法は、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂの外径寸法と同じかやや大きく設定される。
【０１１７】
スライド部材１３３、および、皿バネ１３４、１３５は、吊り下げ溝１３０の内部でスライド可能とされた段付きボルト１２１のスライドに追従する。
長スライド部材１３２とスライド部材１３３とは、スライド可能として互いに接している。
【０１１８】
シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１は相対移動する。この際、軸部１２１ｂが吊り下げ溝１３０の内部で長穴１３１の長軸方向にスライドする。このスライド移動に追随して、スライド部材１３３も吊り下げ溝１３０の内部で長穴１３１の長軸方向にスライドする。
【０１１９】
このとき、スライド部材１３３は、吊り下げ溝１３０の内部で長穴１３１の周囲下側に位置する長スライド部材１３２と摺動する。
【０１２０】
このとき、上から順に、長穴１３１の短軸方向における開口寸法、長スライド部材１３２の短軸方向における開口寸法、スライド部材１３３の外径寸法、ボルトヘッド１２１ａの外径寸法の関係は上記のように設定されている。
【０１２１】
これにより、長穴１３１の開口から長スライド部材１３２が凹溝１２５側に移動しないように規制できる。長スライド部材１３２開口からスライド部材１３３が凹溝１２５側に移動しないように規制できる。スライド部材１３３に対してボルトヘッド１２１ａが上下方向に移動しないように規制できる。
【０１２２】
したがって、長スライド部材１３２とスライド部材１３３とによって、ボルトヘッド１２１ａが電極枠１１０側に移動しないように位置規制する。
つまり、段付きボルト１２１のボルトヘッド１２１ａが凹溝１２５側に抜けないように規制できる。
【０１２３】
これにより、長スライド部材１３２とスライド部材１３３とは、段付きボルト１２１の軸方向におけるボルトヘッド１２１ａの位置が一定となるように規制している。
【０１２４】
つまり、長スライド部材１３２とスライド部材１３３とは、段付きボルト１２１によるシャワープレート１０５の吊り下げ状態を維持しつつスライドする。これにより、シャワープレート１０５の吊り下げ高さ位置を維持して、段付きボルト１２１が吊り下げ溝１３０の内部でスライド可能である。
【０１２５】
長スライド部材１３２とスライド部材１３３とは、スライドプレート１２０と同じ材質からなることができる。具体的には、長スライド部材１３２とスライド部材１３３とは、ハステロイ等の金属からなることができる。
【０１２６】
皿バネ１３４、１３５は、段付きボルト１２１のボルトヘッド１２１ａを下向きに付勢するように取り付けられる。皿バネ１３４、１３５は、図６に示すように、それぞれ複数枚とされることもできる。
【０１２７】
皿バネ１３４、１３５は、スライド部材１３３と同様に、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂのスライドに追随して吊り下げ溝１３０の内部で移動可能とされている。このとき、皿バネ１３４、１３５によるボルトヘッド１２１ａとスライド部材１３３とに対する付勢状態を維持する。
【０１２８】
なお、皿バネ１３４、１３５は、複数設けられていればよく、その枚数は限定されない。スライド部材１３３、皿バネ１３４、１３５は、弾性を有する材料、例えば、インコネル等からなることができる。
【０１２９】
なお、図５においては、長スライド部材１３２、スライド部材１３３、皿バネ１３４、１３５、蓋部（キャップ）１３６の図示を省略している。また、図５においては、スライドプレート１２０および電極枠１１０等の要部を破線で示している。
【０１３０】
吊り下げ溝１３０の下側開口位置には、図３、図６に示すように、蓋部１３６が設けられる。蓋部１３６は、吊り下げ溝１３０の下側開口を閉塞する。つまり、蓋部１３６は、長穴１３１の開口を閉塞する。
蓋部１３６は、吊り下げ溝１３０の開口よりも内側に挿入される挿入部１３６ａと、挿入部１３６ａの周囲に設けられたフランジ部１３６ｆと、蓋部１３６が吊り下げ溝１３０から外れないように蓋部１３６を付勢する付勢部１３７とを有する。
【０１３１】
挿入部１３６ａの平面輪郭形状は、吊り下げ溝１３０の開口と相似形とされる。挿入部１３６ａは、吊り下げ溝１３０の開口よりも一回り小さな輪郭形状とされる。挿入部１３６ａは、吊り下げ溝１３０の開口を閉塞する板体と吊り下げ溝１３０の内壁に沿った板状とが接続された構成とされる。
【０１３２】
挿入部１３６ａにおいて、吊り下げ溝１３０の内壁に対向する外周には、フランジ部１３６ｆから離間する方向に沿って、吊り下げ溝１３０の内壁に近接する向きに傾斜する傾斜面１３６ｃが形成されている。挿入部１３６ａは、傾斜面１３６ｃによってフランジ部１３６ｆから離間する方向に拡径している。
なお、挿入部１３６ａは、吊り下げ溝１３０の開口を閉塞するバルク状の部材とされることもできる。
【０１３３】
フランジ部１３６ｆは、吊り下げ溝１３０の開口周囲のシャワープレート１０５下面に当接する。フランジ部１３６ｆの輪郭形状は、吊り下げ溝１３０の開口と相似形とされる。フランジ部１３６ｆは、吊り下げ溝１３０の開口よりも一回り大きな輪郭形状とされる。
【０１３４】
フランジ部１３６ｆが吊り下げ溝１３０の開口全周でシャワープレート１０５下面と当接するように、蓋部１３６が取り付けられる。
挿入部１３６ａとフランジ部１３６ｆとは、吊り下げ溝１３０を閉塞するように蓋部１３６を取り付けた際、蓋部１３６の表面がシャワープレート１０５下面と平行な平面となるように形成されている。
【０１３５】
付勢部１３７は、吊り下げ溝１３０を閉塞するように蓋部１３６を取り付けた際、挿入部１３６ａを付勢して締め付ける弾性部材とされる。
付勢部１３７は、例えば、板バネとされる。
【０１３６】
付勢部１３７は、吊り下げ溝１３０の最奥部、つまり、長スライド部材１３２の長穴１３１側に位置する基部１３７ｂを有する。
基部１３７ｂは、吊り下げ溝１３０の最奥部と長スライド部材１３２とに挟まれて、吊り下げ溝１３０内部で固定されている。なお、基部１３７ｂには、長穴１３１に対応した大きさの開口を有するか、長穴１３１を閉塞しない平面輪郭形状とされている。
【０１３７】
基部１３７ｂには、基部１３７ｂの両端側から折り曲げられて吊り下げ溝１３０の内壁に沿って延在する弾性部１３７ｓが二枚接続される。
【０１３８】
弾性部１３７ｓは、弾性部１３７ｓの板面が長穴１３１の長軸方向と略平行になるように配置される。弾性部１３７ｓは、長穴１３１の短軸方向における両側位置に一枚ずつ設けられる。
二枚の弾性部１３７ｓは、基部１３７ｂ側から吊り下げ溝１３０の開口側に向けて、吊り下げ溝１３０の中心側にいずれも傾斜している。
【０１３９】
弾性部１３７ｓにおける吊り下げ溝１３０の開口側の先端１３７ｔは、反対側、つまり、吊り下げ溝１３０の側壁に近づくように傾斜している。
つまり、二枚の弾性部１３７ｓは、基部１３７ｂ側から先端１３７ｔに向けて、二枚の弾性部１３７ｓが互い対向する方向における距離が次第に減少し、先端１３７ｔ側で離間する。
【０１４０】
二枚の弾性部１３７ｓは、吊り下げ溝１３０を閉塞するように蓋部１３６を取り付けた際、挿入された挿入部１３６ａに当接して、まず、対向する二つの先端１３７ｔ間の距離を拡大するように押圧する。
【０１４１】
次に、挿入部１３６ａが吊り下げ溝１３０の奥行き方向に侵入するにしたがって、一度拡がった二つの先端１３７ｔ間の距離は、弾性部１３７ｓの弾性により、挿入部１３６ａの傾斜面１３６ｃに沿って次第に減少する。
距離の拡がった二つの先端１３７ｔがそれぞれ当接することで、弾性部１３７ｓは、挿入部１３６ａの傾斜面１３６ｃを挟持するように付勢する。
【０１４２】
吊り下げ溝１３０の奥行き方向における挿入部１３６ａの挿入は、フランジ部１３６ｆが吊り下げ溝１３０の開口全周でシャワープレート１０５下面と当接して終了する。これにより吊り下げ溝１３０の開口が蓋部１３６により閉塞される。
【０１４３】
この状態では、成膜空間１０１ａ側から吊り下げ溝１３０の内部にガスが侵入することが、蓋部１３６により阻害される。
このとき、付勢部１３７の二つの先端１３７ｔが、挿入部１３６ａの傾斜面１３６ｃにそれぞれ当接している。二つの先端１３７ｔは、いずれも挿入部１３６ａの傾斜面１３６ｃを挟持する方向に付勢している。
【０１４４】
この状態では、挿入部１３６ａの外周には、傾斜面１３６ｃが形成されて傾斜しているため、挿入部１３６ａを抜去するためには、二つの弾性部１３７ｓを付勢力に抗して拡げなくてはならない。したがって、取り付けられた蓋部１３６が脱落することを防止できる。
【０１４５】
このように、二枚の弾性部１３７ｓが挿入部１３６ａの傾斜面１３６ｃを挟持することで、吊り下げ溝１３０から外れないように蓋部１３６を取り付けることができる。
したがって、成膜空間１０１ａ側から吊り下げ溝１３０の内部にガスが侵入することを防止できる。
【０１４６】
段付きボルト１２１は、図３、図６に示すように、軸部１２１ｂの先端が下板面部（基部）１１４に下側から螺着されている。段付きボルト１２１は、下板面部（基部）１１４を貫通している。
【０１４７】
このため、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂは、上板面部（固定部）１１２と縦板面部（壁部）１１３と下板面部（基部）１１４とで形成された電極枠１１０のＵ字状の内部空間１１０Ａに突き出している。この電極枠１１０の内部空間１１０Ａは、リフレクタ１１７の下端付近で、ガス導入空間１０１ｂに連通している。
【０１４８】
段付きボルト１２１は、ボルトヘッド１２１ａの下端が吊り下げ溝１３０の内部に位置している。ボルトヘッド１２１ａには、段付きボルト１２１を工具で回すための凹部１２１ｄが設けられる。
【０１４９】
段付きボルト１２１の軸部１２１ｂおよびボルトヘッド１２１ａには、段付きボルト１２１の軸線方向にガス穴１２１ｇが形成されている。ガス穴１２１ｇは、軸部１２１ｂの先端からボルトヘッド１２１ａの下端まで貫通している。ガス穴１２１ｇは、軸部１２１ｂの中心軸線と同軸に形成される。
ガス穴１２１ｇは、ボルトヘッド１２１ａにおいて、凹部１２１ｄの底面に開口する。
【０１５０】
段付きボルト１２１は、電極枠１１０の下板面部（基部）１１４、スライドプレート１２０の貫通孔１２５ａおよび凹溝１２５、シャワープレート１０５の長穴１３１を貫通している。
【０１５１】
したがって、ガス穴１２１ｇは、下板面部（基部）１１４のすべりシール面１１４ａとスライドプレート１２０のすべりシール面１２０ａとの上下方向において、内部空間１１０Ａと連通している。
【０１５２】
シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが長穴１３１の内部でスライドした場合でも、ボルトヘッド１２１ａの下端は吊り下げ溝１３０の内部に位置している。同時に、軸部１２１ｂの先端も、電極枠１１０のＵ字状の内部空間１１０Ａに突き出している。
【０１５３】
これにより、電極枠１１０とスライドプレート１２０とがスライドして位置移動した際にも、Ｕ字状の内部空間１１０Ａと吊り下げ溝１３０の内部との連通状態を維持することができる。
【０１５４】
これにより、吊り下げ溝１３０の内部は、内部空間１１０Ａに連通するガス導入空間１０１ｂとの連通状態を維持することができる。
【０１５５】
さらに、吊り下げ溝１３０の内部と連通する長穴１３１の内部が、ガス導入空間１０１ｂと連通する。長穴１３１と連通する凹溝１２５の内部が、ガス導入空間１０１ｂと連通する。凹溝１２５と連通する貫通孔１２５ａの内部が、ガス導入空間１０１ｂと連通する。
【０１５６】
同時に、これら吊り下げ溝１３０、長穴１３１、凹溝１２５、貫通孔１２５ａが、いずれもガス導入空間１０１ｂと連通した状態を維持することができる。
また、貫通孔１２５ａの開口に露出するすべりシール面１１４ａの付近においても、ガス導入空間１０１ｂと連通した状態を維持する。
【０１５７】
本実施形態においては、段付きボルト１２１にガス穴１２１ｇを設けたことにより、連通している吊り下げ溝１３０の内部に、ガス導入空間１０１ｂからガスを供給することができる。
同時に、長穴１３１の内部、凹溝１２５の内部、貫通孔１２５ａの内部、貫通孔１２５ａの開口に露出するすべりシール面１１４ａ付近にも、ガス導入空間１０１ｂからガスを供給することができる。
【０１５８】
本実施形態の真空処理装置１００においては、成膜処理終了時に、成膜空間１０１ａのクリーニング処理をおこなう。クリーニングする際に、クリーニングガスに暴露される可能性のある部品には、耐腐食表面処理が施される。
【０１５９】
耐腐食表面処理が施される部品としては、ハステロイ、インコネル、アルミニウム等からなる部品を挙げることができる。例えば、シャワープレート１０５、蓋部１３６、電極枠１１０、スライドプレート１２０である。
【０１６０】
さらに、耐腐食表面処理が施される部品として、吊り下げ溝１３０内部の部品として、段付きボルト１２１、長スライド部材１３２、スライド部材１３３、皿バネ１３４、１３５を挙げることができる。
耐腐食表面処理は、これらの部品の全表面、あるいは、クリーニングガスに暴露される可能性のある領域のみに施すことができる。
【０１６１】
ここで、後述するように、クリーニングガスがＮＦ３（三フッ化窒素）とされて、発生させたＦラジカルによる処理室内のクリーニングをおこなう場合には、耐腐食表面処理として、Ｙ２Ｏ３の薄膜を形成する処理とする。
【０１６２】
Ｙ２Ｏ３の薄膜形成、つまり、イットリアコートは、ＣＶＤ処理によって施す。イットリアコートの条件としては、Ｙ２Ｏ３の膜厚が５０〜１０００ｎｍ程度、好ましくは１００ｎｍ程度とすることができる。
【０１６３】
さらに、イットリアコートを施す部品には、イットリアコートに先んじて、電解研磨や、アルミニウム表面拡散処理をおこなって耐食性をさらに向上する。
ここで、イットリアコートを施す部品には、インコネルや、ハステロイ等のニッケル合金からなる部品を対象とする。
【０１６４】
これにより、クリーニングガスに暴露される部分における耐腐食性を向上して、パーティクル発生を防止することができる。
特に、スライドプレート１２０や電極枠１１０のようにスライドする部品や、段付きボルト１２１のようにクリーニングガスへの暴露量が多い部品では、イットリアコートによる耐腐食性向上は非常に高い。
【０１６５】
このため、イットリアコートによって、クリーニングガスの腐食に起因するパーティクルの発生に対して、非常に高い抑制効果を奏することができる。
【０１６６】
図７は、本実施形態の熱伸び状態におけるシャワープレート１０５の縁部付近を拡大した断面図である。
後述する真空処理装置１００を使用するプラズマ発生時には、加熱されるためシャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）する。この熱伸び時には、図７に矢印で示すように、シャワープレート１０５が固定シャフト１０９を中心として面内方向外向きに膨張する。
【０１６７】
熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部は、熱伸び吸収空間１０６ａに伸張することで、絶縁シールド１０６に当接しない。このため、シャワープレート１０５の膨張が電極フランジ１０４、電極枠１１０や絶縁シールド１０６等に応力を与えないように吸収される。
このとき、可動シャフト１０８は、下端の球面ブシュによって、変形したシャワープレート１０５を支持可能となっている。
【０１６８】
さらに、熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部に固定されたスライドプレート１２０は、一体として、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動する。このとき、シャワープレート１０５の周縁部およびスライドプレート１２０も、図７に示すように、熱伸び吸収空間１０６ａが狭まるように移動する。
スライドプレート１２０は、絶縁シールド１０６に当接しないため、スライドプレート１２０の移動が電極フランジ１０４、電極枠１１０や絶縁シールド１０６等に応力を与えないように吸収される。
【０１６９】
また、スライドプレート１２０は、熱変形したシャワープレート１０５の縁部と一体として移動する。これに対し、電極枠１１０は、電極フランジ１０４に固定されているため、電極フランジ１０４および絶縁シールド１０６に対する相対位置はそれほど変化しない。
【０１７０】
したがって、電極枠１１０は変形することなく、電極枠１１０のすべりシール面１１４ａと、スライドプレート１２０のすべりシール面１２０ａとが摺動して、シール状態を維持したままシャワープレート１０５が熱伸び状態となる。
【０１７１】
このとき、段付きボルト１２１は、電極枠１１０に固定されている。このため、段付きボルト１２１は、電極フランジ１０４および絶縁シールド１０６に対する相対位置はそれほど変化しない。
【０１７２】
また、シャワープレート１０５の周縁部において、長穴１３１および吊り下げ溝１３０も、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動する。
これにより、段付きボルト１２１は、長穴１３１の長軸方向に相対移動する。
【０１７３】
本実施形態においては、長穴１３１の長軸方向が、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形方向と一致している。このため、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが長穴１３１の内部でスライド可能である。
したがって、段付きボルト１２１の移動は、長穴１３１の近傍に位置するシャワープレート１０５および段付きボルト１２１に応力を与えないように吸収される。
【０１７４】
また、段付きボルト１２１に対しては、スライドプレート１２０の貫通孔１２５ａも、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動する。
これにより、段付きボルト１２１は、貫通孔１２５ａに対して相対移動する。
【０１７５】
貫通孔１２５ａが長穴１３１に対応した形状とされているため、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応して、段付きボルト１２１の軸部１２１ｂが貫通孔１２５ａの内部でスライド可能である。したがって、段付きボルト１２１の移動は、貫通孔１２５ａの近傍に位置するスライドプレート１２０および段付きボルト１２１に応力を与えないように吸収される。
【０１７６】
これにより、電極枠１１０に対する段付きボルト１２１によるシャワープレート１０５の吊り下げ支持は、維持される。
同時に、段付きボルト１２１のガス穴１２１ｇにより、Ｕ字状の内部空間１１０Ａと吊り下げ溝１３０の内部との連通状態を維持することができる。
さらに、吊り下げ溝１３０の開口が蓋部１３６によって閉塞されているため、吊り下げ溝１３０へのガス流入を防止することができる。
【０１７７】
本実施形態においては、電極枠１１０における下板面部（基部）１１４のすべりシール面１１４ａと、スライドプレート１２０のすべりシール面１２０ａとが、シャワープレート１０５の熱伸び方向に摺動する。このため、熱伸び時にも、これらが変形することなく接触状態を維持することで、シール状態の維持、および、シャワープレート１０５の荷重支持状態を維持することができる。
【０１７８】
また、電極枠１１０とスライドプレート１２０とが、同一材料であるハステロイ製とされているため、部材の削れに起因したパーティクルの発生を抑制することができる。
このため、真空処理装置１００における膜厚特性の悪化を防止することが可能となる。
【０１７９】
さらに、本実施形態において、矩形輪郭形状とされるシャワープレート１０５上面の角部（コーナー部）位置には、スライドプレート１２０における辺スライド部１２２の端部どうしをスライド可能にシールする角スライド部１２７が設けられる。
【０１８０】
熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部においては、シャワープレート１０５の周縁部に固定された辺スライド部１２２と、角スライド部１２７とが、シャワープレート１０５の輪郭辺に沿った直線方向に離間する。
これにより、辺スライド部１２２のラビリンス凸部１２３およびラビリンス凸部１２４と、角スライド部１２７のラビリンス凸部１２８とが、互いに離間する。
【０１８１】
このとき、すべりシール面１２３ａとすべりシール面１２８ａが、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に摺動する。また、すべりシール面１２４ｂとすべりシール面１２８ｂが、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に摺動する。
これにより、シール状態を維持したまま、辺スライド部１２２と角スライド部１２７とが離間することができる。
【０１８２】
このようにラビリンス構造とされた辺スライド部１２２および角スライド部１２７により、シャワープレート１０５におけるガス漏れを防止して、ガス導入空間１０１ｂのシール状態を維持することができる。
【０１８３】
次に、真空処理装置１００のクリーニング方法について、図面に基づいて説明する。
【０１８４】
図８は、本実施形態における真空処理装置のクリーニング方法を示すフローチャートである。
本実施形態における真空処理装置のクリーニング方法は、図８に示すように、成膜工程Ｓ０１と、クリーニング準備工程Ｓ０２と、Ａｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３と、Ａｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４と、を有する。また、本実施形態における真空処理装置のクリーニング方法は、クリーニングガス供給工程（クリーニング工程）Ｓ０５と、クリーニングガス排出工程Ｓ０６と、確認工程Ｓ０７と、を有する。
【０１８５】
図８に示す成膜工程Ｓ０１では、真空処理装置１００を用いて基板Ｓの処理面に膜を形成する。
【０１８６】
まず、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を減圧する。真空チャンバ１０２内が真空に維持された状態で、真空チャンバ１０２の外部から成膜空間１０１ａに向けて基板Ｓが搬入される。基板Ｓは、支持部（ヒータ）１４１上に載置される。
【０１８７】
支柱１４５が上方へ押し上げられ、支持部（ヒータ）１４１上に載置された基板Ｓも上方へ移動する。これによって、適切に成膜を行うために必要な間隔になるようにシャワープレート１０５と基板Ｓとの間隔が所望に決定され、この間隔が維持される。
【０１８８】
その後、ガス供給部１４２からガス導入管およびガス導入口を介して、ガス導入空間１０１ｂにプロセスガスが導入される。そして、シャワープレート１０５のガス噴出口１０５ａから成膜空間１０１ａ内にプロセスガスが噴出される。
【０１８９】
次に、ＲＦ電源１４７を起動して電極フランジ１０４に高周波電力を印加する。
すると、電極フランジ１０４の表面からシャワープレート１０５の表面を伝って高周波電流が流れ、シャワープレート１０５と支持部（ヒータ）１４１との間に放電が生じる。
そして、シャワープレート１０５と基板Ｓの処理面との間にプラズマが発生する。
【０１９０】
こうして発生したプラズマ内でプロセスガスが分解され、プラズマ状態のプロセスガスが得られ、基板Ｓの処理面で気相成長反応が生じ、薄膜が処理面上に成膜される。
【０１９１】
真空処理装置１００の処理時には、シャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）する。
このとき、電極枠１１０とスライドプレート１２０とによってシール状態が維持される。
これにより、ガス導入空間１０１ｂからガス噴出口１０５ａ以外を通って成膜空間１０１ａへ漏出するガスを低減する。
【０１９２】
また、真空処理装置１００の処理終了時には、シャワープレート１０５が熱縮み（熱変形）する。このとき、電極枠１１０とスライドプレート１２０とによって、シール状態が維持されるこれにより、ガス導入空間１０１ｂからガス噴出口１０５ａ以外を通って成膜空間１０１ａへ漏出するガスを低減する。
また、シャワープレート１０５の熱変形により、無理矢理変形される部品がないため、部品の寿命を延ばすことが可能となる。
【０１９３】
図８に示すクリーニング準備工程Ｓ０２では、成膜工程Ｓ０１が終了した後に、クリーニングの準備を整える。ここで、成膜工程Ｓ０１の終了とは、所定の回数成膜をおこなったか、シャワープレート１０５などの成膜空間１０１ａに露出した部品、あるいは、それ以外でもプロセスガスが接触した部品において、一定以上の付着物が付着した場合を意味する。
また、成膜特性への影響を与えるパーティクル発生とならないように、クリーニングを実施する時期として、積算成膜回数や累積成膜時間をあらかじめ設定しておく。
【０１９４】
クリーニング準備工程Ｓ０２では、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気する。これにより、成膜空間１０１ａからプロセスガスを除去する。
【０１９５】
図８に示すＡｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３においては、クリーニングに先立ち、ガス導入空間１０１ｂにパージガスとしてのＡｒガスを充填する。ここで、パージガスは、反応性が低いものであればＡｒガスに限定されない。
Ａｒガスは、ガス供給部１４２からガス導入管およびガス導入口を介して、ガス導入空間１０１ｂに導入される。
また、同時に、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気してもよい。
【０１９６】
続いて、図８に示すＡｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４として、クリーニングガスの侵入防止用に、吊り下げ溝１３０の内部にＡｒガスを充填する。
このとき、吊り下げ溝１３０の内部には、Ａｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３において、ガス導入空間１０１ｂに導入されたＡｒガスを充填する。
また、同時に、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気してもよい。
【０１９７】
Ａｒガスは、ガス導入空間１０１ｂから、電極枠１１０のＵ字状の内部空間１１０Ａ、および、段付きボルト１２１のガス穴１２１ｇを介して、吊り下げ溝１３０の内部に充填される。
さらに、Ａｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４においては、長穴１３１、凹溝１２５、貫通孔１２５ａの内部に、吊り下げ溝１３０の内部に導入されたＡｒガスを充填する。
【０１９８】
Ａｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３、および、Ａｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４によって、ガス導入空間１０１ｂ、吊り下げ溝１３０、長穴１３１、凹溝１２５、貫通孔１２５ａにおけるそれぞれの内表面、および、貫通孔１２５ａの開口に露出するすべりシール面１１４ａ付近が、Ａｒガスで封止され、Ａｒガス雰囲気として維持される。
【０１９９】
この状態で、図８に示すクリーニングガス供給工程（クリーニング工程）Ｓ０５として、クリーニングガス供給部１４９を介して、成膜空間１０１ａにクリーニングガスが導入される。同時に、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気する。
ここで、ガス導入空間１０１ｂに供給されたＡｒガスに対して、成膜空間１０１ａに導入されたクリーニングガスのガス量（流速・流量）が小さくなるように設定される。
また、同時に、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気してもよい。
【０２００】
クリーニングガスとしては、ＮＦ３（三フッ化窒素）とすることができ、クリーニングガス供給部１４９によって発生させたＦラジカルによる真空チャンバ１０２内のクリーニングをおこなう。
あるいは、クリーニングガスとして、ＣＦ４、Ｆ２も、用いることができる。
【０２０１】
ここで、クリーニングガス供給部１４９から供給されたクリーニングガスは、シャワープレート１０５の縁部の近傍に配置された供給管の開口から噴出される。
これにより、成膜空間１０１ａにおける付着物を除去するクリーニングおこなう。
クリーニングガスがシャワープレート１０５の縁部の近傍に噴出されることで、付着物の多いシャワープレート１０５の縁部の近傍におけるクリーニングを充分おこなうことができる。
【０２０２】
一方、このシャワープレート１０５の縁部の近傍においては、クリーニングガスに暴露される程度が高くなる。つまり、シャワープレート１０５の縁部近傍は、高濃度のクリーニングガスに暴露されるとともに、クリーニングガスに暴露される時間が長くなる。
したがって、シャワープレート１０５の縁部の近傍においては、クリーニングガスによる腐食発生程度も高くなる。
【０２０３】
しかしながら、本実施形態における真空処理装置１００では、クリーニングガスに暴露される部分にイットリアコートが施されているので、これらの耐食性が向上している。
【０２０４】
また、吊り下げ溝１３０は、蓋部１３６によって下側開口が閉塞されているため、クリーニングガスが侵入することがない。
さらに、吊り下げ溝１３０には、Ａｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４においてＡｒガスが充填されているため、クリーニングガスが侵入することがない。
【０２０５】
したがって、クリーニングガス供給工程（クリーニング工程）Ｓ０５においても、吊り下げ溝１３０、長穴１３１、凹溝１２５、貫通孔１２５ａにおけるそれぞれの内表面、および、貫通孔１２５ａの開口に露出するすべりシール面１１４ａ付近が、クリーニングガスに暴露されることがない。
【０２０６】
また、吊り下げ溝１３０内部の段付きボルト１２１、長スライド部材１３２、スライド部材１３３、皿バネ１３４、１３５も、クリーニングガスに暴露されることがない。
【０２０７】
したがって、これらの表面で、クリーニングガスによる腐食の発生を防止することができる。さらに、これらの表面で、クリーニングガスによる腐食に起因するパーティクルの発生を防止することができる。
【０２０８】
なお、パーティクルの発生防止は、クリーニング時のみならず、クリーニング終了後もその効果を奏することができる。
【０２０９】
必要な処理時間が経過した後、クリーニングガス供給部１４９から成膜空間１０１ａへのクリーニングガスの供給を停止する。
【０２１０】
図８に示すクリーニングガス排出工程Ｓ０６として、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気する。
このとき、ガス導入空間１０１ｂには、Ａｒガスを供給し続けてもよい。
【０２１１】
図８に示す確認工程Ｓ０７として、真空チャンバ１０２内で付着物の除去が充分おこなわれたかを確認する。
付着物の除去が完了した場合には、成膜工程Ｓ０１として新たな成膜をおこなう、あるいは、装置の動作を停止する等、他の工程に移行する。
付着物の除去が完了していない場合には、Ａｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３に戻り、再度クリーニングをおこなう。
【０２１２】
これにより、クリーニング処理を終了する。
【０２１３】
本実施形態における真空処理装置のクリーニング方法では、吊り下げ溝１３０が、あらかじめ、蓋部１３６で開口を閉塞されるとともに、Ａｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３、および、Ａｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４によって、Ａｒガスで封止されている。これにより、クリーニングガスによる腐食の発生を防止することができる。さらに、クリーニングガスによる腐食に起因するパーティクルの発生を防止することができる。
【０２１４】
なお、本実施形態においては、段付きボルト１２１が、軸部１２１ｂの先端からボルトヘッド１２１ａの下端まで貫通して、軸部１２１ｂの中心軸線と同軸にガス穴１２１ｇを有する構成としたが、これ以外の形状のガス穴とすることもできる。
例えば、図９に示すように、段付きボルト１２１が、軸部１２１ｂの先端からスライドプレート１２０の凹溝１２５に連通するガス穴１２１ｇ１を有する構成とすることができる。
この形状のガス穴１２１ｇ１を有する構成であっても、連通している吊り下げ溝１３０の内部に、ガス導入空間１０１ｂからガスを供給することができる。
【０２１５】
以下、本発明の第２実施形態に係る真空処理装置、真空処理装置のクリーニング方法を、図面に基づいて説明する。
図１０は、本実施形態におけるシャワープレート１０５の縁部を含む領域を拡大した断面図である。
本実施形態において、上述した第１実施形態と異なるのは、ガス穴の形成位置に関する点であり、これ以外の上述した第１実施形態と対応する構成には同一の符号を付してその説明を省略する。
【０２１６】
本実施形態においては、図１０に示すように、ガス穴１１４ｇが下板面部（基部）１１４に形成される。
ガス穴１１４ｇは、下板面部（基部）１１４を上下方向に貫通している。
ガス穴１１４ｇは、下板面部（基部）１１４において、電極枠１１０のＵ字状の内部空間１１０Ａに開口している。また、ガス穴１１４ｇは、下板面部（基部）１１４において、貫通孔１２５ａに露出するすべりシール面１１４ａに開口している。
なお、すべりシール面１１４ａにおけるガス穴１１４ｇの開口位置は、電極枠１１０とスライドプレート１２０とがスライドして位置移動した際に閉塞されない位置とされる。
【０２１７】
したがって、ガス穴１１４ｇは、下板面部（基部）１１４のすべりシール面１１４ａとスライドプレート１２０のすべりシール面１２０ａとの上下を連通可能となる。
【０２１８】
これにより、電極枠１１０とスライドプレート１２０とがスライドして位置移動した際にも、Ｕ字状の内部空間１１０Ａと貫通孔１２５ａの内部との連通状態を維持することができる。したがって、貫通孔１２５ａに連通した凹溝１２５、長穴１３１、吊り下げ溝１３０が、いずれもガス導入空間１０１ｂと連通した状態を維持することができる。
また、貫通孔１２５ａの開口に露出するすべりシール面１１４ａの付近の空間も、ガス導入空間１０１ｂと連通した状態を維持する。
【０２１９】
これにより、クリーニングガス供給工程（クリーニング工程）Ｓ０５においても、貫通孔１２５ａ、凹溝１２５、長穴１３１、吊り下げ溝１３０におけるそれぞれの内表面、および、貫通孔１２５ａの開口に露出するすべりシール面１１４ａ付近をＡｒガス雰囲気として封止し、これらが、クリーニングガスに暴露されることがない。
【０２２０】
本実施形態においては、上述した第１実施形態と同等の効果を奏することができる。
【０２２１】
なお、本実施形態においては、段付きボルト１２１にガス穴１２１ｇが形成されていてもよいし、ガス穴１２１ｇが形成されていない稠密な段付きボルト１２１とすることもできる。
段付きボルト１２１のガス穴１２１ｇと、下板面部（基部）１１４のガス穴１１４ｇとが形成されている場合には、吊り下げ溝１３０等において封止するためのＡｒガス流量を増加することが可能となる。
【０２２２】
また、第１実施形態においては、稠密な段付きボルト１２１を、ガス穴１２１ｇの形成された段付きボルト１２１に交換するだけで、Ａｒガスによる吊り下げ溝１３０に等の封止を可能とすることができる。
【実施例】
【０２２３】
以下、本発明にかかる実施例を説明する。【０２２４】
なお、本発明における真空処理装置のクリーニング方法の具体例として、腐食確認試験について説明する。【０２２５】
＜実験例＞
ここでは、図３に示すように、クリーニング処理において、クリーニングガスに暴露される部品として、蓋部１３６によって閉塞された吊り下げ溝１３０に配置された段付きボルト１２１における腐食発生の程度を検証した。【０２２６】
クリーニング処理試験としては、上述した第１実施形態におけるクリーニングガス供給工程（クリーニング工程）Ｓ０５において、クリーニングガスとしては、ＮＦ３（三フッ化窒素）として、クリーニングガス供給部１４９によって発生させたＦラジカルによるクリーニングをおこなった。
同時に、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を排気した。【０２２７】
また、Ａｒガス充填工程（パージ工程）Ｓ０３、および、Ａｒガス封止工程（パージガス封止工程）Ｓ０４として、吊り下げ溝１３０にパージガスとしてＡｒガスを供給して充填するＡｒ封止の有無を切り替えた。【０２２８】
ここで、スライドプレート１２０と段付きボルト１２１の材質、および、表面処理の種類を変えてクリーニングをおこなった。また、段付きボルト１２１のガス穴１２１ｇの有無により、Ａｒ封止の有無を切り替えた。【０２２９】
また、腐食程度の検証は、支持部（ヒータ）１４１温度４５０℃で、ａ−Ｓｉ／ＳｉＯ／ＳｉＮの積層膜を３回積層し、クリーニングを１００回繰り返しておこなった。【０２３０】
以下に、クリーニング処理試験における諸元を示す。
段付きボルト１２１の材質；インコネル６００、ハステロイＣ２２アルミニウム拡散処理条件；不活性ガス（Ａｒ）あるいは還元性ガス（Ｈ２）雰囲気中で高温加熱処理（１０００°付近）
Ｙ２Ｏ３の膜厚；１００ｎｍ
パージガス；Ａｒ
パージガス流量；３５ＳＬＭ【０２３１】
クリーニングガス；ＮＦ３によるＦラジカル
クリーニングガス流量；１５ＳＬＭ
クリーニング時間；３００ｓｅｃ
クリーニング温度；４５０℃（ヒータ１４１温度）
成膜空間１０１ａ圧力；２００Ｐａ【０２３２】
この結果を表１に示す。
表において、記号○は、変化無しを示している（優）。記号△は、変色有りを示している（可）。記号×は、腐食有りを示している（不可）。【０２３３】
【表１】
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【０２３４】
表１に示す結果から、イットリアコートを施した場合、腐食は発生しないことがわかる。また、Ａｒ封止、つまり、パージガスによるパージをおこなった場合、腐食は発生しないことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０２３５】
本発明の活用例としてプラズマを用いた処理として成膜、特にプラズマＣＶＤ、あるいは、エッチングなど基板の表面処理をするプラズマ処理装置を挙げることができる。
【符号の説明】
【０２３６】
１００…真空処理装置
１０１…処理室
１０１ａ…成膜空間
１０１ｂ…空間（ガス導入空間）
１０２…真空チャンバ
１０３…絶縁フランジ
１０４…電極フランジ
１０４ａ…上壁（電極フランジ）
１０４ｂ…周壁（電極フランジ）
１０５…シャワープレート
１０５ａ…ガス噴出口
１０６…絶縁シールド
１０６ａ…熱伸び吸収空間（隙間部）
１０６ｂ…隙間
１０８…可動シャフト
１０９…固定シャフト
１１０…電極枠
１１０Ａ…内部空間
１１１…支持部材
１１２…上板面部（固定部）
１１２ａ…切欠
１１３…縦板面部（壁部）
１１４…下板面部（基部）
１１４ａ、１２０ａ、１２３ａ、１２４ｂ、１２８ａ、１２８ｂ…すべりシール面
１１７…リフレクタ
１１７ａ…ネジ
１２０…スライドプレート
１２１…段付きボルト（支持部材）
１２１ａ…ボルトヘッド
１２１ｂ…軸部
１２１ｄ…凹部
１２１ｇ、１２１ｇ１、１１４ｇ…ガス穴
１２２…辺スライド部
１２３、１２４、１２８…ラビリンス凸部
１２５…凹溝
１２５ａ…貫通孔
１２６…脚部
１２７…角スライド部
１２７ａ…締結ネジ
１３０…吊り下げ溝
１３１…長穴
１３２…長スライド部材
１３３…スライド部材
１３４、１３５…皿バネ
１３６…蓋部（キャップ）
１３６ａ…挿入部
１３６ｃ…傾斜面
１３６ｆ…フランジ部
１３７…付勢部
１３７ｂ…基部
１３７ｓ…弾性部
１３７ｔ…先端
１４１…支持部（ヒータ）
１４２…ガス供給部（ガス供給手段）
１４５…支柱
１４７…ＲＦ電源（高周波電源）
１４８…真空ポンプ（排気手段）
１４９…クリーニングガス供給部
Ｓ…基板（被処理基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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