(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明導電性薄膜層を有する光学フィルターであって、該透明導電性薄膜層において、透明基体（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、透明高屈折率薄膜層（ａ）と、銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層（ｂ）とおよび、元素周期表の４から１２族のうち、銀以外の少なくとも一つの金属が含まれている金属層（ｃ）とが、Ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃのいずれかに積層されていることを特徴とする光学フィルター。
【請求項２】
金属層（ｃ）に、元素周期表の４から７族の金属が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項３】
金属層（ｃ）に、銅、パラジウム、プラチナまたは金から選ばれた少なくとも一つの金属が、含まれていることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項４】
金属層（ｃ）の金属の元素組成が、３．０％（原子数割合）以上、９９．９％（原子数割合）以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルター。
【請求項５】
金属層（ｃ）の厚さが、０．３ｎｍ以上、１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルター。
【請求項６】
透明高屈折率薄膜層（ａ）が、酸化インジウム、酸化スズ及び酸化亜鉛から選ばれる少なくとも一つからなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルター。
【請求項７】
請求項1〜６のいずれかに記載の光学フィルターであって、その断面構成が、反射防止層/フィルム基体/粘着材層/透明導電性薄膜層/フィルム基体/粘着材層/透明支持基体、反射防止層/フィルム基体/粘着材層/透明導電性薄膜層/フィルム基体/粘着材層/透明支持基体/反射防止層、反射防止層/フィルム基体/粘着材層/透明導電性薄膜層/フィルム基体/粘着材層/透明支持基体/粘着材層/フィルム基体/反射防止層、反射防止層/フィルム基体/粘着材層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体、反射防止層/フィルム基体/粘着材層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/反射防止層、反射防止層/フィルム基体/粘着材層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/粘着材層/フィルム基体/反射防止層、反射防止層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体、反射防止層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/反射防止層、反射防止層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/粘着材層/フィルム基体/反射防止層のいずれかであることを特徴とする光学フィルター。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ用光学フィルターに関するものであり、さらに詳しくはプラズマディスプレイパネル用に好適に用いられる光学フィルターに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、社会が高度化するに従って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、ディスプレイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高まる一方である。最近、大型かつ薄型化を実現することが可能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が、注目されている。プラズマディスプレイパネルは、原理上、強度の電磁波を装置外に放出する。電磁波は、計器に障害を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体にも障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的に規制される方向になっている。例えば、現在日本では、ＶＣＣＩ（ＶｏｌｕｎｔａｌｙＣｏｎｔｒｏｌＣｏｕｎｃｉｌ  ｆｏｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ  ｂｙ  ｄａｔａ  ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｏｆｆｉｃｅ  ｍａｃｈｉｎｅ）による規制があり、米国では、ＦＣＣ（Ｆｅｄｅｒａｌ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ）による製品規制がある。
【０００３】
また、プラズマディスプレイパネルは、強い近赤外線を放出する。この近赤外線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントローラー等の誤動作を引き起こす。特に問題となる波長は、８００〜１０００ｎｍである。  上記、電磁波及び近赤外線放出を抑えるために、最近、電磁波及び近赤外線遮断用光学フィルターに対する要請が高まっている。この光学フィルターは、フィルター全面に渡って導電性があり、しかも透明性に優れている必要がある。これらの要求を満たし、実用化された光学フィルターは、大きく２種類に分けることができる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれているものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたものである。これは、導電性に優れ、優れた電磁波遮断能力を持つが、近赤外線反射能力及び透明性が優れず、モワレ像が生じることからディスプレイフィルター用途に対して、あまり好ましくない。もう一つは、透明膜タイプと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を基体全面に配置したものである。透明導電性薄膜タイプの光学フィルターは、金属メッシュタイプの光学フィルターに比較して、電磁波遮断能力に劣るが、近赤外線遮断能力及び透明性に優れ、モワレ像の発生がない為、ディスプレイ用フィルターとして好適に用いることができる。
【０００４】
透明導電性薄膜タイプ光学フィルターは、透明支持基体に透明導電性薄膜フィルムを粘着材を介して貼り合わせてある場合が多い。表示装置自体の軽量化や安全性の面から、透明支持基体としては、高分子成形体が、好適に用いられる場合が多いが、透明高分子成形体は、熱や湿気の影響を受けて変形する性質をもつため、ガラスが用いられる場合も多い。また、反射率低減機能、防眩機能または調色機能を持った光学フィルムを透明導電性フィルムに組み合わせて貼り合わせることも多い。
光学フィルターの電磁波遮断能力は、光学フィルターの面抵抗値が低いほど優れる。透明導電性薄膜タイプ光学フィルターに関しては、抵抗が低い金属薄膜層を積層して、透明導電性薄膜を得ることが通常行われる。中でも、純物質の中で最も比抵抗が低い銀からなる金属薄膜が好適に用いられる。さらに透過率上昇および金属薄膜層の安定性向上の目的で、金属薄膜層を透明高屈折率薄膜層で挟み込み、透明導電性薄膜積層体を形成するのが通常である。
【０００５】
金属薄膜層材料としてその比抵抗の低さ故に好適に用いられる銀は、反面、原子の凝集を生じやすい。銀薄膜層の銀原子が凝集すると銀白色の点を生じ、本来持つ高透明性や、低抵抗性を失ってしまう。銀薄膜層の銀原子の凝集は、例えば、塩化物イオンの存在下において発生しやすい。
大気中に塩化物イオンは、普遍的に存在する。人体や海水からの塩化ナトリウム放出等が原因の一つとして挙げられる。
透明導電性薄膜積層体において、ＩＴＯ等の透明高屈折率薄膜層が、銀薄膜層に塩化物イオン等が到達するのを防止する効果を持っているが、光学設計上、高透過性を維持するためには、厚さを数nmにせざる得ず、防止能が不十分である場合が多い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来の光学フィルターは、透明導電性薄膜積層体において、銀薄膜層が、環境の影響を受けて、銀原子凝集を生じた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、最表面の透明高屈折率薄膜層上またはその透明高屈折率薄膜層と金属薄膜層との間に、金属層を形成した透明導電性薄膜積層体を用いることにより、透明導電性薄膜の銀または銀を含む合金薄膜層に銀原子凝集を生じない光学フィルターを作成することができることを見いだし、本発明に至った。
【０００８】
すなわち本発明は、（１）透明導電性薄膜層を有する光学フィルターであって、該透明導電性薄膜層において、透明基体（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、透明高屈折率薄膜層（ａ）と、銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層（ｂ）とおよび、元素周期表の４から１２族のうち、銀以外の少なくとも一つの金属が含まれている金属層（ｃ）とが、Ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃのいずれかに積層されていることを特徴とする光学フィルター、（２）金属層（ｃ）に、元素周期表の４から７族の金属または銅、パラジウム、プラチナ、金から選ばれた少なくとも一つの金属が、含まれている、（１）に記載の光学フィルター、（３）金属層（ｃ）に、元素周期表の４から７族の金属が含まれている（１）または（２）のいずれかに記載の光学フィルター、（４）金属層（ｃ）における対象となる、金属の元素組成が、３．０％（原子数割合）以上、９９．９％（原子数割合）以下である（１）〜（３）のいずれかに記載の光学フィルター、（５）金属層（ｃ）の厚さが、０．３ｎｍ以上、１０ｎｍ以下である（１）〜（４）のいずれかに記載の光学フィルター、（６）透明高屈折率薄膜層（ａ）が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛の中の少なくともいずれか一つからなる、（１）から（５）のいずれかに記載の光学フィルター。
【０００９】
（７）（1）から（６）のいずれかに記載の光学フィルターであって、その断面構成が、
反射防止層/フィルム基体/粘着材層/透明導電性薄膜層/フィルム基体/粘着材層/透明支持基体、
反射防止層/フィルム基体/粘着材層/透明導電性薄膜層/フィルム基体/粘着材層/透明支持基体/反射防止層、
反射防止層/フィルム基体/粘着材層/透明導電性薄膜層/フィルム基体/粘着材層/透明支持基体/粘着材層/フィルム基体/反射防止層、
反射防止層/フィルム基体/粘着材層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体、
反射防止層/フィルム基体/粘着材層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/反射防止層、
反射防止層/フィルム基体/粘着材層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/粘着材層/フィルム基体/反射防止層、
反射防止層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体、
反射防止層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/反射防止層、
反射防止層/フィルム基体/透明導電性薄膜層/粘着材層/透明支持基体/粘着材層/フィルム基体/反射防止層
のいずれかである光学フィルターに関するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明における光学フィルターは、用いる透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）において、透明基体（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、透明高屈折率薄膜層（ａ）と、銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層（ｂ）と及び、金属層（ｃ）とを、Ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃのいずれかの構成で、積層されていることを特徴とするものであり、透明支持基体（Ｂ）の一方の主面上に、この透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を貼り合わせることによりなるものであり、塩化物イオンにより、透明導電性薄膜層の銀または銀の合金からなる金属薄膜層（ｂ）が、銀原子凝集を生じることがない。
【００１１】
本発明を図面でもって説明する。図１〜３は、本発明におけるプラズマディスプレイパネル用光学フィルターに用いられる透明導電性薄膜積層体の一例を示す断面図である。図１においては、透明基体（Ａ）１０上に透明高屈折率薄膜層（ａ）２０、金属薄膜層（ｂ）３０、金属層（ｃ）４０を積層構造Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｃとした透明導電性薄膜フィルムが挙げられている。また、その他の構造は、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ（図２）、Ａ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｂ／ａ／ｃ（図３）等である。
【００１２】
図４は、本発明におけるプラズマディスプレイパネル用光学フィルターの一例を示す断面図である。透明支持基体（Ｂ）５０の一方の主面に透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）６０が、貼り合わせられており、さらにその上及びもう一方の主面に反射防止フィルム（Ｄ）７０が貼り合わされている。透明導電性薄膜フィルム上の外周部分には、電極（Ｅ）８０が形成されている。
【００１３】
本発明に用いられる透明支持基体としては、透明性に優れ、十分な機械的強度を持つものであることが好ましい。ここで、透明性に優れるとは、厚さ３ｍｍ程度の板にした時の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が、５０％以上であることを指す。
好ましい材料は、高分子成形体及びガラス等である。
【００１４】
透明高分子成形体は、ガラスに比較して、軽い、割れにくい等の理由でより好適に用いられる。好ましい材料を例示すれば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を始めとするアクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂等が挙げられるが、これらの樹脂に特定されるわけではない。中でもＰＭＭＡは、その広い波長領域での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用することができる。
また、透明高分子成形体には、表面の硬度または密着性を増す等の理由でハードコート層が設けられることが多い。ハードコート層材料としては、アクリレート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合が多いが、特に限定されるわけではない。またハードコート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合転写法が用いられる場合が多いが、特にこれに限定されるわけではない。重合転写法は、対象となる材料が、メタクリレート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、連続製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート層を形成することができる。このため、重合転写法によるメタクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられるハードコート層形成手法である。
【００１５】
ガラスは、熱及び湿気による形状変化が少ないため、微妙な精度を必要とする光学用途に対して好適に用いられる。機械的強度を持たせるために、化学強化加工または風冷強化加工を行い、半強化ガラスまたは強化ガラスにして通常もちいられる。
透明支持基体の厚さに特に制限はなく、十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られれば良い。通常は、１〜１０ｍｍ程度である。
本発明において、透明支持基体には、透明導電性薄膜フィルムが貼り合わせられている。透明導電性薄膜フィルムは、電磁波及び近赤外線を遮断する能力を持ち、本発明における光学フィルターにとって必要不可欠である。この透明導電性薄膜フィルムは、高分子フィルム上に透明導電性薄膜層を形成することによって通常得られる。
【００１６】
透明導電性薄膜フィルム基材として防眩性フィルムや反射防止性フィルムを用い、それぞれ防眩層や反射防止層の反対面に透明導電性薄膜層を形成しても構わない。従来は、透明導電性薄膜層を保護するためのフィルムに防眩性や反射防止性を与えて、視認性を高める場合が多かったが、透明導電性薄膜フィルム基材として防眩性フィルムや反射防止性フィルムを用いることによって、保護フィルムを用いずともこの機能を維持することができる為、非常に有用である。またさらに視認性を高めるために透明支持基体上の透明導電性薄膜フィルム貼り付け面と反対面に防眩性フィルムや反射防止フィルムを貼り合わせたり、直接防眩層や反射防止層を形成しても構わない。
【００１７】
透明導電性薄膜フィルム、防眩性フィルム及び反射防止フィルムの基材として用いられる高分子フィルムの材料は、透明性があれば特に制限はない。具体的に例示すると、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）は、特に好適に用いられる。
【００１８】
防眩性フィルムは、0.1〜10μｍ程度の微少な凹凸を表面に有する可視光線に対して透明なフィルムである。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態を有する型を押しつけ硬化する事によっても防眩性フィルムを得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体フィルムを薬剤処理することによっても防眩性フィルムを得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘイズを制御することができる。上記、防眩性フィルムにおいては、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではない。防眩性フィルムのヘイズは、０．５％以上２０％以下であり、好ましくは、１％以上１０％以下である。ヘイズが小さすぎると防眩能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視認性が悪くなる。この防眩性フィルムは、多くの場合、ニュートンリング防止フィルムとして用いることができる。
【００１９】
反射防止フィルムとは、高分子フィルム上に反射防止層を形成したフィルムであり、反射防止層が形成されている面の可視光線反射率が０．１％以上、２％以下、好ましくは、０．１％以上、１．５％以下、より好ましくは、０．１％以上、０．５％以下の性能を有することが望ましい。反射防止膜が形成されている面の可視光線反射率は、反対面（反射防止膜が形成されていない面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装等により、反対面の反射をなくして、反射防止膜が形成されている面のみで起こる反射光を測定することにより知ることができる。
【００２０】
反射防止層としては、具体的には、可視光域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンピームアシスト、真空蒸着、湿式塗工法等、従来公知の方法を用いればよい。
【００２１】
本発明における、透明導電性薄膜層の基本構成（金属層（ｃ）を除いた層構成）は、透明高屈折率薄膜層と銀または銀の合金薄膜層との積層体である。透明導電性薄膜単層でも電磁波遮断効果がある程度得られるが、充分でなく、通常透明高屈折率薄膜と金属薄膜とを、十分な透過率及び表面抵抗値が得られる膜厚組み合わせで積層して得られる。銀または銀合金薄膜は、他の金属薄膜に比較して、比抵抗が低く、光透過性が優れるので、金属薄膜として、特に好適に用いられる。透明導電性薄膜層の基本構成の好ましい透過率は、４０％以上、９９％以下、より好ましくは、５０％以上、９９％以下、さらに好ましくは、６０％以上、９９％以下である。また、好ましい表面抵抗値は、０．２（Ω／□）以上、１００（Ω／□）以下、好ましくは、０．２（Ω／□）以上、１０（Ω／□）以下、さらに好ましくは、０．２（Ω／□）以上、３（Ω／□）以下、さらにより好ましくは、０．２（Ω／□）以上、０．５（Ω／□）以下である。
【００２２】
透明高屈折率薄膜層（ａ）と金属薄膜層（ｂ）及び金属層（ｃ）とを透明高分子成形体基体（Ａ）上に、図１〜３の断面図に示したように積層する事によって透明導電性薄膜フィルムが得られる。透明高屈折率薄膜層（ａ）に用いられる材料としては、できるだけ透明性に優れたものであることが好ましい。ここで透明性に優れるとは、膜厚１００ｎｍ程度の薄膜を形成したときに、その薄膜の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が６０％以上であることを指す。また、高屈折率材料とは、５５０ｎｍの光に対する屈折率が、１．４以上の材料である。これらには、用途に応じて不純物を混入させても良い。
【００２３】
透明高屈折率薄膜層用に好適に用いることができる材料を例示すると、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（ＣＴＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（ＡＺＯ）、酸化マグネシウム（Ｍｇ０）、酸化トリウム（Ｔｈ０2）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化シリコン（ＳｉＯ2）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ3）、酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化セシウム（Ｃｓ2Ｏ）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）等である。
【００２４】
また、透明高屈折率硫化物を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫化アンチモン（Ｓｂ2Ｓ3）等があげられる。透明高屈折率材料としては、中でも、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｎＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＺｎＯは、導電性を持つ上に、可視領域における屈折率が、２．０程度と高くさらに可視領域にほとんど吸収を持たない。ＴｉＯ2は、絶縁物であり、可視領域にわずかな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が２．３程度と大きい。
【００２５】
本発明において用いられる、金属薄膜層（ｂ）の材料としては、できるだけ電気伝導性の良い材料が好ましく、本発明においては、銀または銀合金が用いられる。銀は、比抵抗が、１．５９×１０ー6（Ω・cm）であり、あらゆる材料の中で最も電気伝導性に優れる上に、薄膜の可視光線透過率が優れるため、最も好適に用いられる。但し、銀は、薄膜とした時に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという問題を持っている。この為、安定性を増すために、銀の替わりに銀と銅の合金または銀とパラジウムの合金または銀と白金の合金等を用いてもよい。
【００２６】
本発明における金属層（ｃ）の材料としては、薄膜状態において、耐環境性に優れ、かつできるだけ透明なものが好ましい。
ここで耐環境性に優れるとは、後述するフィルム貼り合わせ及び高温高湿処理による評価手法により、銀凝集発生がないことである。
また、ここで透明性に優れるとは、金属層を形成することによる透明導電性薄膜層の基本構成の視感透過率の低下率が、３０％以下であることである。
金属層に用いられる材料を例示すると、周期表の４から１２族の銀を除く金属である。
ここで４〜６族の元素、中でもチタン、ジルコニウム、バナジウム、タンタル、モリブテン、タングステン、ニオブは、特に好適に用いられる。
【００２７】
金属層の厚さに関しては、塩化物イオンに対する耐食性及び透明導電性薄膜層全体の透過性を用途に応じて考慮して決定される。金属層を厚くすれば塩化物イオンに対する耐食性は、増すが、透過性が低下する。透過性低下割合に関しては、視感透過率低下率が、４０％以下であることが好ましい。このため、金属層の厚さは、材料により異なるが、通常は、０．２〜２０ｎｍ程度である。好ましくは、０．３〜１０nmである。
ここで厚さ２nm程度以下の場合は、数原子層の厚みにしか相当せず、緻密な薄膜が形成されておらず、島状に原子が付着していると考えられる。この場合は、金属層の元素組成によって、定量的に扱えばよい。
なお、視感透過率の低下率とは、金属層（ｃ）を形成した透明導電性薄膜フィルムの視感透過率をＴ１、金属層（ｃ）を形成していない透明導電性薄膜フィルムの視感透過率をＴ２と定義した場合の（Ｔ２−Ｔ１）／Ｔ１×１００である。
【００２８】
本発明においては、最表面に金属層を設けている場合は、最表面における主金属の元素組成が、３〜９９％（原子割合）であれば良い。
また、金属薄膜は、大気中では、最表面は酸化されやすく、通常は、最表面には、その金属層の酸化物薄膜が自動的に形成されている場合がほとんどである。この場合は、金属層が、より安定な状態になっており、耐環境性が増すのでより効果的である。また、通常、金属酸化物は、酸化されていない状態に比較して透過性に優れるので、透過性の面でもより効果的である。もちろんこの金属層を形成する時に、酸素ガス導入を行ったり、酸化物部材を使用したりして、意図的に金属酸化物層を形成しても構わない。
【００２９】
高屈折率薄膜層及び金属薄膜層の形成には、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の従来公知の手法によればよい。
金属薄膜層の形成には、真空蒸着法またはスパッタリング法が、好適に用いられる。真空蒸着法では、所望の金属を蒸着源として使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成することができる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲットに所望の金属材料を用いて、スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッタリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜を形成することができる。成膜速度を上昇させるために、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッタリング法が用いられることも多い。
【００３０】
透明導電性薄膜層の形成には、イオンプレーディング法または反応性スパッタリング法が好適に用いられる。イオンプレーティング法では、反応ガスプラズマ中で所望の金属または焼結体を抵抗加熱、電子ビーム加熱等により真空蒸着を行う。反応性スパッタリング法では、ターゲットに所望の金属または焼結体を使用し、反応性スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを用いてスパッタリングを行う。例えば、ＩＴＯ薄膜を形成する場合には、スパッタリングターゲットにインジウムとスズとの酸化物を用いて、酸素ガス中で直流マグネトロンスパッタリングを行う。
透明支持基体とフィルムの貼り合わせには、通常粘着材が用いられる。本発明において用いられる粘着材は、できるだけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着材を具体的に例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材（ＰＶＢ）、エチレンー酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱性に優れるために特に好適に用いられる。
【００３１】
粘着材の形態は、大きく分けてシート状のものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通常、感圧型であり、貼り付ける一方の部材に粘着材をラミネートした後に、さらにもう一方の部材をラミネートする事によって二つの部材の貼り合わせを行う。
液状粘着材は、塗布貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるものであり、液状粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選定される。
【００３２】
粘着材層の厚みに特に制限はないが、０．５〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条件下にて養生を行うことが好ましい。この時、加圧条件としては、一般的に０．００１から２ＭＰａ程度であり、加温条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、一般的には室温以上、８０℃以下である。
本発明において透明支持基体への光学フィルムの貼り合わせ方法に特に制限はない。通常は、光学フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型フィルムで覆ったものをロール状態であらかじめ用意しておき、ロールから高分子成形フィルムを繰り出しながら、離型フィルムをはがしていき、透明支持基体上へ貼り付け、ロールで押さえつけながら貼り付けていく。貼り合わせられたフィルム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。
【００３３】
電磁波遮断能を有する光学フィルターは、通常、透明導電性薄膜から外部に電流を取り出すため電極を有する。電極形状は、できるだけ広い面積から効率良く、電流を取り出すために、外周部分に額縁上に形成されることが多い。透明導電性薄膜は、耐環境性が貧しいため、むき出しのまま使用されることが好ましくないため、通常導電性材料で透明導電性薄膜表面を覆い電極とする。電極の形成方法としては、通常導電性塗料を塗布、印刷や導電性テープの貼り付けが用いられる。上記の方法により作製した、光学フィルターの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透過型電子顕微鏡測定（ＴＥＭ）を用いて調べることができる。用いている、透明導電性薄膜フィルムの薄膜層の表面原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、蛍光Ｘ線法（ＸＲＦ）、Ｘ線マイクロアナライシス法（ＸＭＡ）、ラザフォード後方散乱分析法（ＲＢＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、真空紫外光電子分光法（ＵＰＳ）、赤外吸収分光法（ＩＲ）、ラマン分光法、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）、低エネルギーイオン散乱分光法（ＩＳＳ）等により測定できる。また、膜中の原子組成及び膜厚は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）や２次イオン質量分析（ＳＩＭＳ）を深さ方向に実施することによって調べることができる。
【００３４】
透明導電性薄膜フィルム上に反射防止フィルム等を貼り合わせてある場合は、それを剥がした後、上記の手法で調べればよい。
また、光学フィルターの耐環境性は、クリーン度を制御した環境において、フィルムの貼り合わせを行い、その後、高温高湿処理を行い、肉眼で銀凝集発生個数を数え、銀凝集の発生頻度を求めることによって、調べることができる。
クリーン度は、一定の幅で制御されていれば、特に指定はない。通常は、クラス１００〜１００００程度である。また、高温高湿処理を行う温度に特に指定はない。通常は、温度４０〜１２０℃、湿度５０〜９９％の範囲で処理される。
【００３５】
【実施例】
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。
【００３６】
（実施例１）
透明基体（Ａ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ７５μｍ］を使用し、その一方の主面に、直流マグネトロンスパッタリング法を用いて、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（ａ）、銀薄膜層（ｂ）、チタン層（ｃ）をＡ／ａ［厚さ４０ｎｍ］／ｂ［厚さ１５ｎｍ］／ａ［厚さ８０ｎｍ］／ｂ［厚さ２０ｎｍ］／ａ［厚さ８０ｎｍ］／ｂ［厚さ１５ｎｍ］／ａ［厚さ４０ｎｍ］／ｂ［厚さ１５ｎｍ］／ａ［厚さ４０ｎｍ］／ｃ［厚さ１ｎｍ］なる順に積層し、透明導電性薄膜フィルムを形成した。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、金属薄膜層を、チタン層は、金属層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。以上により、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した。
【００３７】
次に透明支持基体（Ｂ）の一方の主面上に透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を、透明基体（Ａ）が、透明支持基体側になるように粘着材を介して貼り合わせた。貼り合わせ時の面圧は、０．３ＭＰａであった。
さらに透明支持基体のもう一方の主面上に反射防止フィルム（Ｄ）[厚さ１００μｍ]を粘着材を用いて貼り合わせた。貼り合わせた時の面圧は、０．３ＭＰａであった。また、貼り合わせた透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）上に、反射防止フィルム（Ｄ）[厚さ１００μｍ]を粘着材を介して、透明導電性薄膜フィルムの外周が、むき出しになるように、貼り合わせた。貼り合わせた時の面圧は、０．３ＭＰａであった。
【００３８】
各フィルムの貼り合わせは、クリーン度１０００〜５０００の環境下で行った。
むき出しになっている透明導電性薄膜フィルム上に、スクリーン印刷法を用いて、銀塗料を印刷した。
上記により、光学フィルターを作成した。
作製した光学フィルターの視感透過率を測定した［日立製作所製分光光度計Ｕ−３４００を用い、全光線透過率を測定し、視感透過率を求めた。
【００３９】
さらに光学フィルターを温度６０℃、湿度９０％環境下に２４時間おき、その後、銀凝集欠陥発生頻度を調べた。
（実施例２）
チタン層（ｃ）の替わりに、ジルコニウムを用いてジルコニウム層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例３）
チタン層（ｃ）の替わりに、ハフニウムを用いてハフニウム層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例４）
チタン層（ｃ）の替わりに、バナジウムを用いてバナジウム層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
【００４０】
（実施例５）
チタン層（ｃ）の替わりに、ニオブを用いてニオブ層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例６）
チタン層（ｃ）の替わりに、タンタルを用いてタンタル層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例７）
チタン層（ｃ）の替わりに、クロムを用いてクロム層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例８）
チタン層（ｃ）の替わりに、モリブテンを用いてモリブテン層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例９）
チタン層（ｃ）の替わりに、タングステンを用いてタングステン層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
【００４１】
（実施例１０）
チタン層（ｃ）の替わりに、マンガンを用いてマンガン層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例１１）
チタン層（ｃ）の替わりに、パラジウムを用いてパラジウム層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例１２）
チタン層（ｃ）の替わりに、プラチナを用いてプラチナ層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例１３）
チタン層（ｃ）の替わりに、銅を用いて銅層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例１４）
チタン層（ｃ）の替わりに、金を用いて金層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
【００４２】
（実施例１５）チタン層（ｃ）の替わりに、亜鉛を用いて亜鉛層［厚さ１ｎｍ］を形成し、透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した以外は実施例１と同様に実施した。
【００４５】
（比較例）
チタン層（ｃ）を形成せずに透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）を作製した点を除いて、実施例１と同様に実施した。作製した光学フィルターの視感透過率は、５８％であった。
以上の結果を表１に示した。
【００４６】
【表１】
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【００４７】
【発明の効果】
表１から明かなように、全ての実施例において、視感透過率の大幅な低下なしに、光学フィルターの塩化物イオンに対する耐食性が、透明導電性薄膜フィルムにおける金属層（ｃ）の形成によって、大幅に向上していることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【図１】プラズマディスプレイパネル用光学フィルターに用いられる透明導電性薄膜積層体の一例を示す断面図
【図２】プラズマディスプレイパネル用光学フィルターに用いられる透明導電性薄膜積層体の一例を示す断面図
【図３】プラズマディスプレイパネル用光学フィルターに用いられる透明導電性薄膜積層体の一例を示す断面図
【図４】プラズマディスプレイパネル用光学フィルターの一例を示す断面図
【図５】プラズマディスプレイ用光学フィルターの一例を示す平面図
【符号の説明】
１０  透明基体（Ａ）
２０  透明高屈折率薄膜層（ａ）
３０  金属薄膜層（ｂ）
４０  金属層（ｃ）
５０  透明支持基体（Ｂ）
６０  透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）
７０  反射防止フィルム（Ｄ）
８０  電極（Ｅ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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