(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を検査又は改質するために使用される荷電粒子ビーム装置のためのカラムであって、
ａ）荷電粒子のビームを供給する粒子供給源と、
ｂ）前記ビームを前記試料上に集束する対物レンズと、
ｃ）前記試料の一面に前記ビームを走査し、前記対物レンズ軸に対して前記ビームを整列させ、かつ前記対物レンズによって引き起こされる収差を補償する偏向器であって、前記粒子供給源と前記対物レンズ間に配置された前記偏向器と、
を備え、前記偏向器のために使用され、かつ独立して制御可能である電極装置および／またはコイル装置の全数が８あるいはそれよりも少なく、
前記偏向器は互いに対して回転され、非点収差が補償される、前記カラム。
【請求項２】
前記カラムが、各々が独立して制御可能である４つの電極装置からなる２つの偏向器を含む、請求項１に記載のカラム。
【請求項３】
前記カラムが、各々が独立して制御可能である４つのコイル装置からなる２つの偏向器を含む、請求項１に記載のカラム。
【請求項４】
前記カラムが、各々が独立して制御可能である２つの電極装置からなる４つの偏向器を含む、請求項１に記載のカラム。
【請求項５】
各々の前記電極装置が、リングセグメントの形状を有する単一電極からなり、かつ前記電極によってカバーされる角度が約１２０°である、請求項４に記載のカラム。
【請求項６】
前記カラムが、各々が独立して制御可能である２つのコイル装置からなる４つの偏向器を含む、請求項１に記載のカラム。
【請求項７】
前記２つの偏向器が、同一の構造を有し、かつ一方の偏向器が、他方の偏向器に対して前記ビームの軸の周りに３０°から６０°だけ回転される、請求項２に記載のカラム。
【請求項８】
前記２つの偏向器が、同一の構造を有し、かつ一方の偏向器が、他方の偏向器に対して前記ビームの軸の周りに４５°だけ回転される、請求項３に記載のカラム。
【請求項９】
前記４つの偏向器が、同一の構造を有し、かつ各偏向器が、隣接偏向器に対して前記ビームの軸の周りに３０°から６０°だけ回転される、請求項４又は５に記載のカラム。
【請求項１０】
前記４つの偏向器が、同一の構造を有し、かつ各偏向器が、隣接偏向器に対して前記ビームの軸の周りに４５°だけ回転される、請求項６に記載のカラム。
【請求項１１】
各々の前記電極装置が、リングセグメントの形状を有する単一電極からなる、請求項２、４、７，９のいずれかに記載のカラム。
【請求項１２】
各々の前記電極装置が、３つの単一電極からなり、各電極がリングセグメントの形状を有する、請求項２、４、７、９のいずれかに記載のカラム。
【請求項１３】
４つの前記電極装置が、１つの電極装置からの各対の電極間に他の電極装置からの電極が位置決めされるようにリングに沿って配置される、請求項１２に記載のカラム。
【請求項１４】
前記電極装置の３つの電極の１つが、前記電極装置の他の電極のサイズの少なくとも２倍である、請求項１３に記載のカラム。
【請求項１５】
各々の前記コイル装置が、リングセグメントの形状を有する単一コイルからなる、請求項３、８、１０のいずれかに記載のカラム。
【請求項１６】
２つの前記単一コイルが、第１のリングに沿って位置決めされ、更に２つの前記単一コイルが、第２のリングに沿って位置決めされ、前記第２のリングは、前記第１のリングと同心であり、かつ前記第１のリングよりも大きい直径を有し、前記リングの中心から見た場合、前記第１のリング上に位置決めされたあらゆるコイルが前記第２のリング上に置かれた前記２つのコイルと重なる、請求項１５に記載のカラム。
【請求項１７】
前記コイルによってカバーされる角度が、約１２０°である、請求項１６に記載のカラム。
【請求項１８】
前記対物レンズが静電対物レンズである、請求項１〜８のいずれか一項に記載のカラム。
【請求項１９】
前記偏向器が、４つの電極装置を含み、各電極装置が３つの単一電極からなり、各電極がリングセグメントの形状を有し、かつ前記４つの電極装置が、１つの電極装置からの各対の電極間に他の電極装置からの電極が位置決めされるようにリングに沿って配置される、請求項１記載のカラム。
【請求項２０】
前記電極装置の３つの電極の１つが、前記電極装置の他の電極のサイズの少なくとも２倍である、請求項１９に記載のカラム。
【請求項２１】
前記偏向器が、４つのコイルを含み、２つのコイルが第１のリングに沿って位置決めされ、かつ２つのコイルが、前記リングの中心から見た場合、前記第１のリング上に位置決めされたあらゆるコイルが前記第２のリング上に位置決めされた前記２つのコイルと重なるように、前記第１のリングと同心であり、かつ前記第１のリングよりも大きい直径を有する第２のリングに沿って位置決めされる、請求項１記載のカラム。
【請求項２２】
コイルによってカバーされる前記角度が約１２０°である、請求項２１に記載のカラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷電粒子のビームで試料を検査するための装置に関する。特に、本発明は、荷電粒子ビーム装置のための小型化カラムに関するものである。さらに、本発明は荷電粒子ビーム装置のための偏向器に関する。
【０００２】
【発明の背景】
ほんのわずかだけを評価するための走査装置、伝送装置あるいはマイクロプローブ装置のような荷電粒子装置は、不均質有機材料および不均質無機材料およびその表面の観測、特性決定および改質を可能にする強力な器具である。これらの器具では、検査される（改質される）領域は、静的であってもよいしあるいは試料の表面を横切ってラスタで走査されてもよい荷電粒子ビームで照射される。特定の用途に応じて、荷電粒子ビームは多かれ少なかれ集束され、この粒子の運動エネルギーは大きく変わり得る。
【０００３】
荷電粒子が試料表面に衝突する場合に発生される信号の種類は、例えば、二次電子、後方散乱電子、特有なＸ線、およびいろいろなエネルギーの光子を含む。これらの信号は、サンプル内の特定の放射量から得られ、組成、表面トポグラフィー、結晶学等のようなサンプルの多数の特性を検査するために使用できる。
【０００４】
最近、荷電粒子ビーム装置を小型化する試みが行われた。これらの装置のいくつかは、したがって試料のより大きな領域を同時に検査あるいは改質するためにひとつにまとめることができるかあるいは狭い空間制限のプロセスラインに設置できる。さらに粒子ビーム装置の球面収差および色収差はその幾何学的寸法に比例して増減するので、電位が一定のままである限り、小型化装置は、より高い空間分解能および所与のスポットサイズの高ビーム電流を与えることができる。
【０００５】
一般に、本荷電粒子装置の大部分は、約１５ｃｍから４０ｃｍの平均直径を有して高さが０．５メートルから１．２メートルである。これらの装置とは全然異なって、開発者は、約４ｃｍの平均直径を有して１０ｃｍよりも小さいビーム装置を製造することを目指している。しかしながら、最新の荷電粒子ビーム装置は高性能の真空系、整列機構および電子制御装置を有する複雑な技術器械であるので、その幾何学的寸法は単に比例して小さくできなく、たとえそうであっても、可能である場合、これが試みられる。
【０００６】
粒子ビームカラムの粒子ビームを形成するために、電磁レンズおよび電磁多重極が使用される。レンズは、ビームの集束のために使用される軸方向に対称的な電磁界にある。電磁多重極は、電磁レンズを通るビームパスの補正のためおよびビームを試料に位置決めするための静的偏向フィールド（偏向器）、試料の一面にビームを走査するために使用される動的偏向フィールドおよび軸対称性からのレンズのかたよりから生じる収差の補償のために使用される４重極フィールド（無非点収差器）を発生する。各粒子ビーム器具は、通常整列のための少なくとも１つの多重極、無非点収差補正のための１つの多重極、試料のビームシフトのための１つの多重極および試料で走査するビームのための１つの多重極を含む。各多重極は、通常８つの電極あるいはコイルからなる。これは、大量、例えば３０から４０の粒子ビームカラムに供給されなければならない個別の電圧および電流を生じ得る。
【０００７】
単一の標準の商用カラムでは、この装置を作動するのに必要とされる制御信号数は制限する要因を示さない。しかしながら、小型化カラムおよびカラムアレイでは、各カラムに供給されねばならないたくさんの電圧および電流は主要な問題を生じる。特に、カラムアレイのあらゆるカラムを制御するのに必要とされる電気接続の複雑さは、カラムアレイのコストを著しく増加させる。さらに、たくさんの電圧および電流を制御し、駆動するのに必要とされる回路の複雑さは、カラムアレイのコストの著しい増加ももたらす。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、荷電粒子ビーム装置、特に小型化荷電粒子ビーム装置のための改良されたカラムを提供する。さらに、本発明は荷電粒子ビーム装置のための改良された偏向器を提供する。本発明の１つの態様によれば、独立請求項１に特定されるような荷電粒子ビーム装置のためのカラムが提供される。本発明の他の態様によれば、独立請求項１７および１９に特定されるような荷電粒子ビーム装置のための偏向器が提供される。本発明の他の有利な特徴、態様および詳細は、従属請求項、説明および添付図面から明らかである。この請求項は、本発明を一般的な用語で規定する非限定的なアプローチとして理解されるように意図される。
【０００９】
本発明は、荷電粒子ビーム装置のための改良されたカラムを提供する。このカラムは、試料の一面にビームを走査し、対物レンズに対してビームを整列させ、対物レンズによって引き起こされる収差を補償する偏向器を備えている。それによって、偏向器のために使用され、独立して制御可能である電極装置および／またはコイル装置の全数は８またはそれよりも小さい。これは、発明者に既知である最善のカラムに比較して、ビームの方向を制御するためにカラムに供給されねばならない信号数の５０％の減少を生じる。したがって、これらの信号をカラムに供給するのに必要とされる配線の複雑さはかなり減少される。さらに、駆動回路の複雑さも減少される。
【００１０】
本発明の他の態様によれば、荷電粒子ビーム装置のための偏向器が提供される。１つの実施形態による偏向器は、４つの電極装置を含み、各電極装置は、３つの単一電極からなり、各電極はリングセグメントの形状を有し、４つの電極装置は、１つ電極装置からの各対の電極間に他の電極装置からの電極が置かれるようにリングに沿って置かれる。他の実施形態による偏向器は、４つのコイルを含み、２つのコイルは、第１のリングに沿って置かれ、２つのコイルは、リングの中心から見た場合、第１のリング上に置かれたあらゆるコイルが第２のリング上に置かれた２つのコイルと重なるように第１のリングと同心であり、第１のリングよりも大きい直径を有する第２のリングに沿って置かれる。これらの改良された偏向器は、電気、磁気偏向フィールドのそれぞれの高度の均質を提供する長所を有する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の上記に示された態様および他の詳細な態様のいくつかは、上記の説明に示され、図を参照して部分的に示される。
【００１２】
本発明による実施形態の概略が図１に示されている。荷電粒子ビーム装置１は、荷電粒子供給源３が取り付けられる上部カバープレート２を含む。電子ビーム装置では、タングステン・ヘアピン銃、ランタン六ホウ化物銃、電界放出銃等のような電子供給源を使用できる。しかしながら、本発明は、電子供給源に限定されない。すなわち、本発明は全ての種類の荷電粒子供給源とともに使用できる。図１に示された実施形態では、抽出器４Ａおよび抑制器４Ｂは粒子供給源３の下に配置される。加速電位に設定される抽出器４Ａは、この供給源から得られる荷電粒子を加速する。抽出器４Ａに反して、加速器４Ａと供給源３との間に配置される抑制器は、供給源３から引き出される粒子数を制限する抑制電位に設定される。このようにビーム電流は、高くなることを防止される。
【００１３】
荷電粒子５のビームが形成され、供給源３を離れた後、偏向器３０および４０は、荷電粒子ビームが試料８に当たる前に荷電粒子ビームを制御し、改良するために使用される。これらの構成要素における特定の装置は、図２Ａおよび図２Ｂに示される。ビーム５を整形するために、１つあるいはそれ以上の集光レンズ（図示せず）を使用できる。このビームは、次にビーム５を試料８上に集束するために使用できる静電対物レンズ１０に入る。本例では、静電対物レンズ１０は、各々が平らなリングの形を有する３つの電極１０Ａ、１０Ｂ、および１０Ｃを含む。
【００１４】
ビーム１０の粒子が試料８の表面に当たる場合、この粒子は、試料の原子の核および電子との一連の複雑な相互作用を行う。この相互作用は、異なるエネルギーの電子、Ｘ線、熱、および光のようないろいろな二次生成物を生成する。これらの二次生成物の多くは、サンプルの画像を生成し、付加データをそれから収集するために使用される。試料の検査あるいは画像形成の主要な重要な二次生成物は、比較的低いエネルギー（３から５０ｅＶ）によっていろいろの角度で試料８から脱出する二次電子である。二次電子および後方散乱電子は、検出器１６に達し、測定される。試料の一面に電子ビームを走査し、検出器１６の出力を表示／記録することによって、試料８の表面の画像が形成される。
【００１５】
図２Ａ、Ｂは、図１に示されたカラムで使用される偏向器３０および４０の概略を示している。この偏向器３０および４０は、静電界によって荷電粒子のビームに影響する静電偏向器である。偏向器の各々は、荷電粒子のビームの周りに中心があるリングに沿って置かれる４つの電極、すなわち電極３１、３３、３５、３７および４１、４３、４５、４７をそれぞれ備えている。荷電粒子のビームに垂直な断面において、電極３１、３３、３５、３７および４１、４３、４５、４７の全ては、図２Ａ、Ｂから分かるようにリングセグメントの形状を示す。荷電粒子ビームの伝搬に影響するために、あらゆる電極は、あらゆる電極の電位が全ての他の電極にある電極から独立して選択できる意味で独立して制御可能である。
【００１６】
選択電極に所定の電位を与えるために、あらゆる電極は接続部３２、３４、３６、３８および４２、４４、４６、４８を含む。この接続部３２、３４、３６、３８および４２、４４、４６、４８は、選択電極に対応する電圧を供給するために使用される。図１に示されたカラムの動作中、偏向器３０および４０は、試料の一面に荷電粒子のビームを走査するために協働し、対物レンズ軸に対してビームを整列させ、対物レンズによって引き起こされた収差を補償する。対物レンズ（収差）によって引き起こされた収差（特に非点収差）を補償するために、例えば、電圧＋Ｖ1は、偏向器３０の電極３１および３５に供給するのに対して、電圧−Ｖ1は、偏向器３０の電極３３および３７に供給する。しかしながら、一般に、４極のフィールドは、対物レンズによって引き起こされた非点収差を補償するのに充分でない。したがって、電圧＋Ｖ2は、偏向器４０の電極４１および４５に供給するのに対して、電圧−Ｖ2は、偏向器４０の電極４３および４７に供給する。２つの偏向器３０および４０は互いに対して（本例では４５°だけ）回転されるという事実により、非点収差は、図面の平面に垂直なあらゆる選択された平面で補償できる。Ｖ1およびＶ2を互いから独立して変更することによって、あらゆる平面配置を選択できる。
【００１７】
対物レンズに対して荷電粒子のビームを整列させるかあるいは対物レンズに対して荷電粒子のビームをシフトさせるために、例えば、電圧＋Ｕxおよび電圧−Ｕxは、それぞれ偏向器３０の電極３５および３１に供給される。さらに、電圧−ｋxＵxは、電極４３および４５に供給され、電圧＋ｋxＵxは、それぞれ偏向器４０の電極４１および４７に供給される。それによって、ｋxは、偏向器３０および４０の２つとｘ方向の荷電粒子の所望の経路との間の回転角によって決まる定数である。この装置を使用することによって、荷電粒子ビームは、ビームが最初のミスアライメントを示す状態に対応する図１Ａに示されるような２つの偏向器を通って誘導できる。明らかに、電圧＋Ｕyを電極３３に、−Ｕyを電極３７に、−ｋyＵyを電極４１および４３に、＋ｋyＵyを電極４５および４７に供給することによって、同じことをｙ方向に対して行うことができる。
【００１８】
試料の一面に荷電粒子のビームを走査するために、ビームを整列させるために使用される同じ電圧装置が使用できる。電圧の値（例えば、ＶxおよびＶy）および定数（例えばｃxおよびｃy）の値だけは異なっている。偏向器の動作中、これらの電圧（Ｖ1、Ｖ2、Ｕx、Ｕy、ＶxおよびＶy）の全部が同時に使用されるので、一般に、あらゆる電極は、全ての他の電極の電位と異なる電位を有してもよい。走査、整列および無非点収差を制御する信号は、最終増幅器（図示せず）の前で既に混合されているので、電子回路は、比較的簡単に保持され、結果として生じる電圧だけが各電極に供給される。したがって、２つの偏向器は、８つの接続部（３２、３４、３６、３８および４２、４４、４６、４８）のみを介して制御される。
【００１９】
偏向器の必要な接続部の数をさらに減らすために、各偏向器３０および４０の電極の２つ、例えば、偏向器３０の電極３５および３７、および偏向器４０の電極４１および４３は、固定電位、例えばグラウンド電位に保持されてもよい。したがって、電極３５、３７、４１および４３の電位を制御する信号は、全然供給される必要がなく、対応する配線を省略できる。このような実施形態では、独立して制御可能である電極の数は４に減少される。
【００２０】
図２ＡおよびＢに示された偏向器３０および４０は、静電界によって荷電粒子のビームに影響する静電偏向器である。図３ＡおよびＢに示されたような代替の磁気偏向器５０および６０としても使用できる。偏向器５０および６０は、荷電粒子のビームの周りに中心があるリングに沿って置かれている、４つのコイル、すなわちコイル５１、５３、５５、５７および６１、６３、６５、６７のそれぞれを含む。荷電粒子のビームに垂直な断面において、コイル５１、５３、５５、５７および６１、６３、６５、６７の全部は、図３Ａ、Ｂから分かるように、リングセグメントの形状を示す。荷電粒子ビームの伝搬に影響するために、あらゆるコイルは、あらゆるコイルを通る電流が他のコイルを流れる電流から独立して選択できるという意味で独立して制御可能である。
【００２１】
選択されたコイルを流れる所定の電流を供給するために、あらゆるコイルは、対応する電流を選択されたコイルに供給するために使用される２つの接続部（５２、５４、５６、５８および６２、６４、６６、６８）を含む。電圧を電流と交換する場合、静電偏向器３０および４０に対して示された基本的に全てのことは磁気偏向器５０および６０に対して依然として当てはまる。したがって、偏向器５０および６０は、試料の一面に荷電粒子のビームを走査し、対物レンズに対してビームを整列させ、対物レンズによって引き起こされた収差を補償するために８つの個別信号だけによっても制御できる。
【００２２】
図４は、本発明による他の実施形態による偏向器の概略を示している。図３ＡおよびＢに示されるような磁気偏向器５０および６０は、荷電粒子ビームの近くで高均質度を示す磁界を示している。しかしながら、均質の磁界を改善するために、図４に示されるような磁気偏向器７０が提供される。偏向器７０は、４つのコイル７１、７３、７５、および７７を含む。それによって、２つのコイル７１および７５は、第１のリングに沿って置かれ、２つのコイル７３および７７は、第１のリングと同心であり、第１のリングよりも大きい直径を有する第２のリングに沿って位置決めされている。４つのコイルは、リングの中心から見た場合、第１のリングに置かれたあらゆるコイル７１および７５が第２のリングに置かれた２つのコイル７３および７７と重なるように置かれている。コイル７１、７３、７５および７７は、コイルによってカバーされる角度が約１２０°であるように設計される。この磁気偏向器７０は、荷電粒子ビームの周辺に非常に高い均質度を示す磁界を示す。
【００２３】
図５は、本発明によるさらにもう一つの実施形態による偏向器の概略を示している。図２ＡおよびＢに示されるような静電偏向器３０および４０は、荷電粒子ビームの周辺に高均質度を示す電界を示す。しかしながら、静電界の均質性を改善するために、図５に示されるような静電偏向器８０が提供される。この偏向器８０は、４つの電極装置８１、８３、８５、および８７を含む。それによって、各電極装置８１、８３、８５、および８７は、３つの信号電極（８１ａ、８１ｂ、８１ｃ、８３ａ、８３ｂ、８３ｃ、８５ａ、８５ｂ、８５ｃ、８７ａ、８７ｂおよび８７ｃ）からなり、各電極（８１ａ、８１ｂ、８１ｃ、８３ａ、８３ｂ、８３ｃ、８５ａ、８５ｂ、８５ｃ、８７ａ、８７ｂおよび８７ｃ）はリングセグメントの形状を有する。４つの電極装置８１、８３、８５、および８７は、１つの電極装置からの各対の電極間に他の電極装置からの電極が置かれるようにリングに沿って置かれる。
【００２４】
１つの電極装置の電極、例えば、電極装置８１の電極８１ａ、８１ｂ、および８１ｃは、常に同じ電位に保持される。したがって、１つの接続部８２だけは、対応する電圧を電極（８１ａ、８１ｂ、および８１ｃ）に供給するのに必要である。図５から分かるように、電極装置（例えば８１）の３つの電極の中の１つ（例えば８１ａ）は、電極装置の他の電極（８１ｂおよび８１ｃ）のサイズの少なくとも２倍である。静電偏向器７０は、荷電粒子ビームの周辺に非常に高い均質度を示す静電界を示す。
【００２５】
本発明による他の実施形態の概略が、図６に示されている。このカラム１００は、下記のことを除いて図１のカラムと同様である。このカラムは、荷電粒子ビームの経路に沿って置かれた４つの偏向器１１０、１２０、１３０および１４０を含む。対応する偏向器は、図７Ａ〜図７Ｄに示されている。
【００２６】
偏向器１１０、１２０、１３０および１４０は、静電界によって荷電粒子のビームに影響する静電偏向器である。偏向器の各々は、荷電粒子のビームの周りに中心があるリングに沿って置かれている、２つのアクティブ電極１１１、１１５、１２１、１２５、１３１、１３５、１４１および１４５だけをそれぞれ含む。荷電粒子のビームに垂直な断面において、アクティブ電極１１１、１１５、１２１、１２５、１３１、１３５、１４１および１４５の全部は、図７Ａ〜図７Ｄから分かるように約１２０°の角度をカバーするリングセグメントの形状を示す。アクティブ電極に加えて、偏向器１１０、１２０、１３０および１４０の各々は、固定電位、例えばカラム電位に保持される２つの非アクティブ電極２００を含む。荷電粒子ビームの伝搬に影響するために、さらにあらゆる電極は、あらゆる電極の電位が全ての他の電極にある電位から独立して選択できる意味で独立して制御可能である。
【００２７】
選択された電極に所定の電位を供給するために、あらゆる電極は、それぞれ接続部１１２、１１６、１２２、１２６、１３１、１３６、１４１および１４６を含む。この接続部１１２、１１６、１２２、１２６、１３１、１３６、１４１および１４６は、選択された電極に対応する電圧を供給するために使用される。図６に示されたカラムの動作中、偏向器１１０、１２０、１３０および１４０は、試料の一面に荷電粒子のビームを走査し、対物レンズに対してビームを整列させ、対物レンズによって引き起こされる収差を補償するために協働する。対物レンズによって引き起こされる収差（無非点収差）を補償するために、例えば、電圧＋Ｖ1は、偏向器１１０の電極１１１および１１５に供給されるのに対して、−Ｖ1は、偏向器１３０の電極１３１および１３５に供給される。さらに、電圧＋Ｖ2は、偏向器１２０の電極１２１および１２５に供給されるのに対して、電圧−Ｖ2は、偏向器１４０の電極１４１および１４５に供給される。偏向器１１０、１２０、１３０および１４０が互いに対して（本例では４５°だけ）回転されるという事実により、収差は図面の平面に垂直なあらゆる選択された平面で補償できる。
【００２８】
対物レンズに対して荷電粒子のビームを整列させるかあるいは対物レンズに対して荷電粒子のビームをシフトさせるために、例えば、電圧−Ｕxおよび電圧＋Ｕxは、それぞれ偏向器１１０の電極１１１および１１５に供給される。さらに、電圧−ｋ１xＵxは、電極１２１および１２５に供給され、電圧＋ｋ２xＵxは、それぞれ偏向器１４０の電極１２１および１２５に供給される。ｋ１xおよびｋ２xは、偏向器１１０、１２０および１４０とｘ方向の荷電粒子の所望の経路との間の回転角によって決まる定数である。明らかに、電圧＋Ｕyを電極１３１に、−Ｕyを電極１３５に、−ｋ１yＵyを電極１２１および１２５に、＋ｋ２yＵyを電極１４１および１４５に供給することによって、同じことをｙ方向に対して行うことができる。
【００２９】
試料の一面に荷電粒子のビームを走査するために、ビームを整列させるために使用される同じ電圧装置が使用できる。電圧の値（例えば、ＶxおよびＶy）および定数（例えばｃ１x、ｃ２x、ｃ１yおよびｃ２y）の値だけは異なっている。偏向器の動作中、これらの電圧（Ｖ1、Ｖ2、Ｕx、Ｕy、ＶxおよびＶy）の全部が同時に使用されるので、一般に、あらゆる電極は、全ての他の電極の電位と異なる電位を有してもよい。さらに、走査、整列および無非点収差を制御する信号は、最終増幅器（図示せず）の前で既に混合されているので、電子回路は、比較的簡単に保持され、結果として生じる電圧だけが各電極に供給される。したがって、４つの偏向器は、８つの接続部のみを介して制御される。
【００３０】
図７Ａ〜図７Ｄに示された偏向器１１０、１２０、１３０および１４０は、静電界によって荷電粒子のビームに影響する静電偏向器である。代替の磁気偏向器として、２つの独立して制御可能なコイルを有する各々も使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明による第１の実施形態によるカラムの概略を示す。
【図２Ａ】  図１に示された実施形態に使用される偏向器の概略を示す。
【図２Ｂ】  図１に示された実施形態に使用される偏向器の概略を示す。
【図３Ａ】  図１に示された実施形態に使用できる他の偏向器の概略を示す。
【図３Ｂ】  図１に示された実施形態に使用できる他の偏向器の概略を示す。
【図４】  本発明による他の実施形態による偏向器の概略を示す。
【図５】  本発明によるさらにもう一つの実施形態による偏向器の概略を示す。
【図６】  本発明による他の実施形態によるカラムの概略を示す。
【図７Ａ】    図６に示された実施形態に使用される偏向器の概略を示す。
【図７Ｂ】    図６に示された実施形態に使用される偏向器の概略を示す。
【図７Ｃ】    図６に示された実施形態に使用される偏向器の概略を示す。
【図７Ｄ】    図６に示された実施形態に使用される偏向器の概略を示す。
【符号の説明】
１      粒子ビーム装置
２      カバープレート
３      供給源
４Ａ    加速器
４Ｂ    抑制器
５      荷電粒子
８      試料
１０    静電対物レンズ
１０Ａ  電極
１０Ｂ  電極
１０Ｃ  電極
１６    検出器
３０    偏向器
４０    偏向器
【図１】
0003787091.tif 000002
【図２Ａ】
0003787091.tif 000003
【図２Ｂ】
0003787091.tif 000004
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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