(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凹部が設けられた第１の基板上に樹脂を介して第２の基板を接合し、前記第１の基板と前記第２の基板との積層体を形成する積層体形成工程と、前記樹脂を固化させて、前記凹部にマイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成工程と、前記積層体の側面に付着した樹脂の少なくとも一部を除去する除去工程とを有し、前記除去工程では、前記積層体の側面に付着した樹脂に、除去液を接触させることにより、前記積層体の側面に付着した樹脂を除去するマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記積層体を前記除去液に浸漬することにより、前記積層体の側面に付着した樹脂を前記除去液に接触させる請求項１に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
前記積層体または前記除去液を、揺動または振動させつつ、前記除去液を前記積層体に接触させる請求項１または２に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
前記除去液は、前記積層体の側面に付着した樹脂を剥離または溶解する酸またはアルカリ水溶液である請求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記除去液は、前記積層体の側面に付着した樹脂を剥離または溶解する有機系の樹脂剥離液である請求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記除去液の温度は、２０〜１００℃である請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記除去液の接触時間は、３０秒〜１時間である請求項１ないし６のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記積層体の側面に付着した樹脂を除去する除去工程の後、前記積層体を洗浄する洗浄工程を有する請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
前記洗浄は洗浄液を用いて行い、この洗浄液と前記除去液との温度差が４０℃以上である請求項８に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記洗浄は洗浄液を用いて行い、まず、前記除去液との温度差が４０℃未満の第１の洗浄液を用いて前記基板の第１の洗浄を行い、次いで、前記第１の洗浄液よりも低い温度の第２の洗浄を行う請求項９に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロレンズ基板の製造方法、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スクリーン上に画像を投影する投射型表示装置が知られている。このような投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネルが用いられている。
【０００３】
このような構成の液晶パネルの中には、光の利用効率を高めるべく、液晶パネルの各画素に対応する位置に、多数の微小なマイクロレンズを設けたものが知られている。かかるマイクロレンズは、通常、液晶パネルが備えるマイクロレンズ基板に形成されている。
【０００４】
マイクロレンズ基板は、多数の半球状の凹部が設けられたガラス基板と、かかるガラス基板の凹部が設けられた面に樹脂層を介して接合されたガラス層とを有しており、また、樹脂層では、凹部内に充填された樹脂によりマイクロレンズが形成されている。
【０００５】
このようなマイクロレンズ基板は、まず、ガラス基板上に未硬化の樹脂を供給し、次いで、該樹脂を介してガラス層をガラス基板に接合し、その後、前記樹脂を硬化させて樹脂層を成形することにより製造される。
【０００６】
このようにマイクロレンズ基板を製造する場合、ガラス層をガラス基板に接合する際に、これらの側面に樹脂層を構成する樹脂がはみ出し、付着してしまう部分が生じる。
【０００７】
このような部分が存在すると、ガラス層を、例えば研削、研磨等する操作の際に邪魔になり、操作性を低下させたり、ガラス層や、その他マイクロレンズ基板の表面を破損したりする恐れがある。
【０００８】
特開平９−９０３６０号公報には、ガラス基板から樹脂がはみ出すのを防止するために、ガラス基板の凹部が設けられた領域の外周部に、例えば溝や撥水領域等を設けたものが提案されている。
【０００９】
このような溝や撥水領域等を、従来のマイクロレンズ基板に適用することにより、ガラス層およびガラス基板の側面へ、樹脂がはみ出して、付着するのを防止することも考え得る。
【００１０】
しかしながら、マイクロレンズ基板に、このような溝や撥水領域等を設けるためには、これらを形成する工程（操作）が必要となるため、マイクロレンズ基板の製造コストの増大を招き不利である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、不要な樹脂を容易に除去することができ、製造効率に優れるマイクロレンズ基板の製造方法、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（２３）の本発明により達成される。
【００１３】
（１）  複数の凹部が設けられた第１の基板上に樹脂を介して第２の基板を接合し、前記第１の基板と前記第２の基板との積層体を形成する積層体形成工程と、
前記樹脂を固化させて、前記凹部内にマイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成工程と、
前記積層体の側面に付着した樹脂の少なくとも１部を除去する除去工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
【００１４】
（２）  前記積層体の側面に付着した樹脂に、除去液を接触させることにより、前記積層体の側面に付着した樹脂を除去する上記（１）に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００１５】
（３）  前記積層体を前記除去液に浸漬することにより、前記積層体の側面に付着した樹脂を前記除去液に接触させる上記（２）に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００１６】
（４）  前記積層体または前記除去液を、揺動または振動させつつ、前記除去液を前記積層体に接触させる上記（２）または（３）に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００１７】
（５）  前記除去液は、前記積層体の側面に付着した樹脂を剥離または溶解する酸またはアルカリ水溶液である上記（２）ないし（４）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００１８】
（６）  前記除去液は、前記積層体の側面に付着した樹脂を剥離または溶解する有機系の樹脂剥離液である上記（２）ないし（４）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００１９】
（７）  前記除去液の温度は、２０〜１００℃である上記（２）ないし（６）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２０】
（８）  前記除去液の接触時間は、３０秒〜１時間である上記（２）ないし（７）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２１】
（９）  前記除去工程の後、前記積層体を洗浄する洗浄工程を有する上記（１）ないし（８）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２２】
（１０）  前記洗浄は、洗浄液を用いて行い、
この洗浄液と前記除去液との温度差が、４０℃以上である上記（９）に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２３】
（１１）  少なくとも２回、前記洗浄を行う上記（９）に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２４】
（１２）  前記洗浄は、洗浄液を用いて行い、
まず、前記除去液との温度差が４０℃未満の第１の洗浄液を用いて前記基板の第１の洗浄を行い、
次いで、前記第１の洗浄液よりも低い温度の第２の洗浄液を用いて前記基板の第２の洗浄を行う上記（１１）に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２５】
（１３）  前記洗浄液には、水を用いる上記（１０）ないし（１２）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２６】
（１４）  前記除去工程の後、６０分以内に、前記洗浄工程を開始する上記（９）ないし（１３）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２７】
（１５）  前記洗浄工程の後、前記第２の基板の厚さを調整する工程を有する上記（９）ないし（１４）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２８】
（１６）  前記第１の基板と前記第２の基板との互いに対向する端面間の距離が１００μｍ以下である上記（１）ないし（１５）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【００２９】
（１７）  上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法により製造されたマイクロレンズ基板上に、透明導電膜が設けられたことを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【００３０】
（１８）  上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法により製造されたマイクロレンズ基板と、該マイクロレンズ基板上に設けられたブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆う透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【００３１】
（１９）  上記（１７）または（１８）に記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。
【００３２】
（２０）  画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された上記（１７）または（１８）に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。
【００３３】
（２１）  前記液晶駆動基板は、マトリックス状に配設された前記画素電極と、前記画素電極に接続された薄膜トランジスタとを有するＴＦＴ基板である上記（２０）に記載の液晶パネル。
【００３４】
（２２）  上記（１９）ないし（２１）のいずれかに記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする投射型表示装置。
【００３５】
（２３）  画像を形成する赤色、緑色および青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像を投射する投射光学系とを有する投射型表示装置であって、
前記ライトバルブは、上記（１９）ないし（２１）のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする投射型表示装置。
【００３６】
【発明の実施の形態】
本発明におけるマイクロレンズ基板および液晶パネル用対向基板には、個別基板およびウエハーの双方を含むものとする。
【００３７】
以下、本発明を、添付図面に示す好適な実施の形態に基づき詳細に説明する。なお、以下の実施の形態で示すマイクロレンズ基板は、液晶パネルの構成部材として用いられる場合を例に説明する。
【００３８】
図１は、マイクロレンズ基板の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
図１に示すように、マイクロレンズ基板１は、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）３が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）２と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３が設けられた面に樹脂層（接着剤層）９を介して接合された表層（第２の基板）８とを有しており、また、樹脂層９では、凹部３内に充填された樹脂によりマイクロレンズ４が形成されている。
【００３９】
マイクロレンズ用凹部付き基板２は、平板状の母材（透明基板）２９より製造され、その表面には、複数（多数）の凹部３が形成されている。
【００４０】
このマイクロレンズ用凹部付き基板２では、母材２９は、例えば、ガラス等で構成されている。
【００４１】
マイクロレンズ基板１が液晶パネルに用いられ、かかる液晶パネルが母材２９以外にガラス基板（例えば後述するガラス基板１７１等）を有する場合には、母材２９の熱膨張係数は、かかる液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
【００４２】
かかる観点からは、母材２９と、液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同種類の材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。
【００４３】
特に、マイクロレンズ基板１を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、母材２９は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、母材２９を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
【００４４】
母材２９の厚さは、母材２９を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２mm程度とされる。なお、マイクロレンズ基板１が、樹脂層９側から光が入射し、母材２９側から出射する構成の場合には、母材２９の厚さは、好ましくは１０〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは２０〜１５０μｍ程度とされる。
【００４５】
マイクロレンズ用凹部付き基板２の上面には、凹部３を覆う樹脂層（接着剤層）９が設けられている。
【００４６】
凹部３内には、樹脂層９の構成材料が充填されることにより、マイクロレンズ４が形成されている。
【００４７】
樹脂層９は、例えば、母材２９の構成材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）で構成することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に構成することができる。
【００４８】
樹脂層９の上面には、平板状の表層８が設けられている。
表層（ガラス層）８は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層８の熱膨張係数は、母材２９の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）とすることが好ましい。これにより、母材２９と表層８の熱膨張係数の相違により生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。このような効果は、母材２９と表層８とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。
【００４９】
表層８の厚さは、マイクロレンズ基板１が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、５〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１５０μｍ程度とされる。なお、液晶パネルが、光を表層８側から入射する構成の場合には、表層８の厚さは、好ましくは０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２mm程度とされる。
【００５０】
なお、表層（バリア層）８は、例えばセラミックスで構成することもできる。なお、セラミックスとしては、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ等の窒化物系セラミックス、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の酸化物系セラミックス、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層８をセラミックスで構成する場合、表層８の厚さは、特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０μｍ程度とすることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍ程度とすることがより好ましい。
なお、このような表層８は、必要に応じて省略することができる。
【００５１】
このようなマイクロレンズ基板１は、例えば、以下のようにして製造することができる。以下、マイクロレンズ基板の製造方法を、図２および図３を用いて説明する。
【００５２】
まず、例えば未加工のガラス基板等で構成された母材２９を用意する。この母材２９には、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。
【００５３】
＜１＞まず、母材２９の表面に、図２（ａ）に示すように、マスク層６を形成する。また、これとともに、母材２９の裏面（マスク層６を形成する面と反対側の面）に裏面保護層６９を形成する。
【００５４】
このマスク層６は、後述する工程＜３＞における操作で耐性を有するものが好ましい。
【００５５】
かかる観点からは、マスク層６を構成する材料としては、例えば、Au／Cr、Au／Ti、Pt／Cr、Pt／Ti等の金属、多結晶シリコン（ポリシリコン）、アモルファスシリコン等のシリコン、窒化シリコンなどが挙げられる。
【００５６】
マスク層６の厚さは、特に限定されないが、０．０１〜１０μｍ程度とすることが好ましく、０．１〜１μｍ程度とすることがより好ましい。厚さがこの範囲の下限値未満であると、母材２９を十分に保護できない場合があり、上限値を超えると、マスク層６の内部応力によりマスク層６が剥がれ易くなる場合がある。
【００５７】
マスク層６は、例えば、化学気相成膜法（ＣＶＤ法）、スパッタリング法、蒸着法等の気相成膜法、メッキなどにより形成することができる。
【００５８】
なお、裏面保護層６９は、次工程以降で母材２９の裏面を保護するためのものである。この裏面保護層６９により、母材２９の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護層６９は、例えば、マスク層６と同様の材料で構成することができる。このため、裏面保護層６９は、マスク層６の形成と同時に、マスク層６と同様に設けることができる。なお、裏面保護層６９は、設けなくてもよい。
【００５９】
＜２＞次に、図２（ｂ）に示すように、マスク層６に、複数の開口６１を形成する。
【００６０】
開口６１は、凹部３を形成する位置に設ける。開口６１の形状（平面形状）は、形成する凹部３の形状（平面形状）に対応していることが好ましい。
【００６１】
かかる開口６１は、例えばフォトリソグラフィー法により形成することができる。具体的には、まず、マスク層６上に、開口６１に対応したパターンを有するレジスト層（図示せず）を形成する。次に、かかるレジスト層をマスクとして、マスク層６の一部を除去する。次に、前記レジスト層を除去する。
【００６２】
なお、マスク層６の一部除去は、例えば、ＣＦガス、塩素系ガス等によるドライエッチング、フッ酸＋硝酸水溶液、アルカリ水溶液等の剥離液への浸漬（ウエットエッチング）などにより行うことができる。
【００６３】
＜３＞次に、図２（ｃ）に示すように、開口６１を用いて母材２９上に凹曲面を有する複数（多数）の凹部３を形成する。
【００６４】
凹部３の形成方法としては、例えば、ドライエッチング法、ウエットエッチング法などが挙げられる。例えば、エッチングを行うことにより、母材２９は、開口６１より等方的に食刻され、レンズ形状を有する凹部３が形成される。特に、ウエットエッチング法によると、より理想的なレンズ形状に近い凹部３を形成することができる。なお、ウエットエッチングを行う際のエッチング液としては、例えばフッ酸系エッチング液などが好適に用いられる。
【００６５】
＜４＞次に、図２（ｄ）に示すように、マスク層６を除去する。また、この際、マスク層６の除去とともに裏面保護層６９も除去する。
【００６６】
これは、例えば、アルカリ水溶液（例えばテトラメチル水酸化アンモニウム水溶液等）、塩酸＋硝酸水溶液、フッ酸＋硝酸水溶液等の剥離液への浸漬（ウエットエッチング）、ＣＦガス、塩素系ガス等によるドライエッチングなどにより行うことができる。
【００６７】
これにより、図２（ｄ）に示すように、表面に複数（多数）の凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２が得られる。
【００６８】
＜５＞次に、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３内に、例えば母材２９を構成する材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂を充填する。
【００６９】
これは、例えば、母材２９の凹部３が形成された面全体に、未硬化の樹脂（接着剤）を塗布することにより行うことができる。
【００７０】
＜６＞次に、前記工程＜５＞で母材２９上に供給した樹脂に、例えばガラスで構成された表層８を設置する（表層８を樹脂に密着させる）。
【００７１】
＜７＞次に、前記樹脂を固化（硬化）させて樹脂層９を形成する。これにより、表層８が樹脂層９を介してマイクロレンズ用凹部付き基板２に接合される。また、凹部３内では、樹脂層９を構成する樹脂によりマイクロレンズ４が形成される。
【００７２】
なお、樹脂の固化は、例えば、樹脂に紫外線、電子線を照射すること、樹脂を加熱することにより行うことができる。
【００７３】
以上の工程により、マイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）２と表層（第２の基板）８との積層体（マイクロレンズ基板中間体）１’が得られる（図２（ｅ）および図３参照）。
【００７４】
この積層体１’では、その側面に樹脂層９を構成する樹脂が付着し、付着部９１が形成されている。
【００７５】
このような付着部９１が生じる原因は、次の通りである。前記工程＜６＞の際には、凹部３内に気泡が残らないように、ある程度過剰の樹脂（樹脂層９を構成するのに必要とする以上の樹脂）を、マイクロレンズ用凹部付き基板２上に供給し、その上に表層８を重ね、この上面から押圧する。これにより、樹脂は、全面を広がるように流動し、凹部３内を十分に満たした後、余剰分が積層体１’の端部からはみ出して、積層体１’の側面に付着し、付着部９１が形成される。
【００７６】
このような付着部９１は、後述する工程＜１１＞において、表層８の厚さ調整の操作の際に邪魔になり、例えばその操作性を低下させたり、表層８や、その他積層体１’の表面にキズを付けたり（破損したり）するような不都合が生じる。このため、付着部９１を、積層体１’から除去する。その後、以下のような工程により、積層体１’は、最終的にマイクロレンズ基板１として完成する。
【００７７】
＜８＞積層体１’から、付着部９１を除去する。
積層体１’からの付着部９１の除去は、例えば、付着部９１に除去液を接触させること等により行なわれる。
【００７８】
付着部９１への除去液の接触操作は、その操作が極めて簡単であり、大掛かりな装置も必要とせず、積層体１’の大量処理にも適しているため、マイクロレンズ基板１の製造コストの削減に有利である。また、このような操作の工程は、マイクロレンズ基板１の製造ラインにも容易に組み込むことが可能である。
【００７９】
付着部９１への除去液の接触方法としては、特に限定されないが、例えば、除去液に積層体１’全体を浸漬する方法、除去液に付着部９１のみを浸漬する方法、除去液を付着部９１へ直接噴霧（シャワー）する方法等が挙げられ、この中でも、除去液中に積層体１’全体を浸漬する方法が好ましい。このような付着部９１への除去液の接触方法（浸漬法）を用いることにより、付着部９１は、積層体１’から、より容易かつ確実に除去される。また、この浸漬法は、多数の積層体１’を同時に処理することができ、量産にとって有利であるという利点を有する。
【００８０】
このような付着部９１への除去液の接触方法に着目した場合、樹脂層９の厚さ、より具体的には、マイクロレンズ用凹部付き基板２（本来の厚みを有しているところ）と表層８との互いに対向する端面間の距離は、１００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましい。樹脂層９の厚さを、このように薄くすることにより、除去液が積層体１’の内部、すなわち、マイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３が形成されている部分付近にまで侵入するのをより確実に防止することができる。このため、樹脂層９の浮きや剥れが生じるのを好適に防止することができる。
【００８１】
また、この場合、積層体１’自体または除去液を、例えば、揺動、超音波振動のような振動等させつつ行うのが好ましい。これにより、付着部９１の積層体１’からの除去効率が向上する。
【００８２】
このような除去液は、付着部９１を剥離または溶解させることができるものであればいかなるものでもよいが、例えば、酸またはアルカリ水溶液、有機系の樹脂剥離液等を用いることができる。
【００８３】
酸水溶液としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、クロム酸、ギ酸等の水溶液のうちの、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８４】
酸水溶液の濃度としては、特に限定されないが、例えば、１０〜３０％程度とするのが好ましい。
【００８５】
また、酸水溶液のｐＨとしては、特に限定されないが、例えば、１〜２程度とするのが好ましい。
【００８６】
アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等の水溶液のうちの、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８７】
アルカリ水溶液の濃度としては、特に限定されないが、例えば、５〜５０％程度とするのが好ましい。
【００８８】
また、アルカリ水溶液のｐＨとしては、特に限定されないが、例えば、１０〜１４程度とするのが好ましい。
【００８９】
また、酸またはアルカリ水溶液中には、必要に応じて、例えば過酸化水素、次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩等の酸化剤を添加してもよい。
【００９０】
有機系の樹脂剥離液としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、モノブチルエーテル、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジクロルメタン等のうちの、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９１】
このような除去液の温度としては、特に限定されないが、例えば、２０〜１００℃程度であるのが好ましく、４０〜１００℃程度であるのがより好ましい。除去剤の温度を、前記の範囲内とすることにより、付着部９１の積層体１’からの除去効率が向上する。
【００９２】
また、付着部９１と除去液との接触時間としては、特に限定されないが、例えば、３０秒間〜１時間程度であるのが好ましく、２〜４０分間程度であるのがより好ましい。除去液の接触時間を、前記の範囲内とすることにより、付着部９１の積層体１’からの除去効率が向上する。
【００９３】
なお、本発明によれば、付着部９１の除去は、後述の工程＜１１＞に先立って行なわれる。このため、表層８の厚さ調整の操作の際に、付着部９１が邪魔になり、その操作性が低下したり、表層８や、その他積層体１’の表面がキズ付く（破損する）のをより確実に防止することができる。
【００９４】
また、このような付着部９１は、後述の液晶パネル対向基板１０および液晶パネル１６の製造に際し、支障のない程度まで除去されていれば、必ずしも全て除去されている必要はない。
【００９５】
＜９＞付着部９１が除去された積層体１’を洗浄する。これにより、積層体１’の外周部に残存する除去液を取り除くことができる。このような洗浄は、例えば、洗浄液等を用いて行なわれる。
【００９６】
この場合、積層体１’の洗浄操作は、極めて簡単であり、かつ、大掛かりな装置も必要としないので、マイクロレンズ基板１の製造コストの削減に有利である。
【００９７】
このような洗浄液としては、例えば、純水、超純水、蒸留水、ＲＯ水等の各種水、アセトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール等の各種有機溶媒等を用いることができる。この中でも、洗浄液としては、純水、超純水、蒸留水、ＲＯ水等の各種水を用いるのが好ましく、超純水を用いるのがより好ましい。
【００９８】
超純水を用いて積層体１’を洗浄すると、不純物の析出を高いレベルで防止することができる。
【００９９】
また、このような積層体１’の洗浄は、１回行ってもよいし、例えば異なった洗浄条件（例えば、洗浄液の組成、温度等）で、２回以上（複数回）行ってもよい。かかる洗浄は、洗浄回数の違いにより、それぞれ、以下のような利点がある。
【０１００】
積層体１’の洗浄を１回行う場合、洗浄の工程数を少なくすることができ、マイクロレンズ基板１の製造コストの削減に有利である。
【０１０１】
この場合、かかる洗浄液は、前記除去液と、例えば、４０℃以上程度の温度差を設けて使用するのが好ましい。洗浄液と除去液との温度差を前記のようにすると、樹脂層９の欠陥が可視化されるので、マイクロレンズ基板１の製造工程における比較的早い段階で、樹脂層９の欠陥の見極めが可能となる。このため、例えば、液晶パネルを製造した段階等で、樹脂層９の欠陥が発見される場合に比べて、製造コストの削減に有利である。
【０１０２】
一方、積層体１’の洗浄を２回以上（複数回）行う場合、積層体１’の表面に残存する除去液をより確実に除去することができる。
【０１０３】
洗浄条件として、洗浄液の組成を変える場合には、例えば、次のようにすることができる。１回目（第１の洗浄）に用いる第１の洗浄液に、酸またはアルカリ水溶液を用いて、積層体１’を洗浄し、その後、洗浄液として前記の水を用いて、少なくとも１回、積層体１’を洗浄する。
【０１０４】
また、洗浄条件として、洗浄液の温度を変える場合には、例えば、次のようにすることができる。１回目（第１の洗浄）に用いる第１の洗浄液の温度は、除去液との温度差を４０℃未満程度とし、２回目（第２の洗浄）に用いる第２の洗浄液の温度は、第１の洗浄液の温度よりも低い温度とするように、順次、洗浄液の温度を段階的または連続的に低下させる。これにより、積層体１’は、緩徐に冷却されることになるので、樹脂層９への負担が低減し、樹脂層９の変質、劣化がより確実に防止される。
【０１０５】
また、このような積層体１’の洗浄は、前記工程＜８＞の終了後、６０分以内に開始するのが好ましく、２０分以内に開始するのがより好ましい。積層体１’の洗浄を、前記の範囲内で開始することにより、積層体１’の表面に汚れが付着することが好適に防止されるとともに、マイクロレンズ基板１の製造時間が短縮されるようになる。
【０１０６】
＜１０＞洗浄が終了した積層体１’を、必要に応じて、乾燥（水分除去）する。
【０１０７】
前記工程＜９＞において、洗浄液を用いて洗浄を行った場合、積層体１’の乾燥には、例えば、積層体１’を高速回転させることにより洗浄液を除去する方法、自然乾燥により洗浄液を除去する方法、空気、窒素ガス等の気体を吹き付けることにより強制的に洗浄液を除去する方法、イソプロパノールの蒸気雰囲気中で静止させ、積層体１’の表面に付着した水分と置換させて蒸発させることにより乾燥させる方法等を用いることができる。
【０１０８】
なお、前記工程＜９＞で、洗浄液を用いないで、積層体１’の洗浄を行った場合には、本工程は、省略することができる。
【０１０９】
＜１１＞その後、前記工程＜１０＞で乾燥が終了した積層体１’の表層８の厚さを、必要に応じて調整する。
【０１１０】
これは、例えば、表層８に研削、研磨、エッチング等を施すことにより、行なわれる。
【０１１１】
なお、積層した表層８が、以降の工程を行うのに最適な厚さの場合には、本工程は、省略することができる。
【０１１２】
以上の工程により、図１に示すマイクロレンズ基板１を得ることができる。
なお、表層８をセラミックスで構成する場合は、以下のようにしてマイクロレンズ基板１を製造することができる。以下、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法と相違する点を中心に説明する。
まず、前記工程＜１＞〜＜５＞と同様の工程を行う。
【０１１３】
＜６’＞次に、樹脂上に型材（第２の基板；図示せず）を設置する（型材を樹脂に密着させる）。
この型材には、表面（樹脂に接する面）が平坦なものが好適に用いられる。
【０１１４】
＜７’＞次に、樹脂を硬化させて樹脂層９を形成する。
【０１１５】
次に、前記工程＜８＞〜＜１１＞と同様の工程を行う。
＜１２’＞次に、前記型材を樹脂層９から外す。すなわち、離型を行う。
【０１１６】
＜１３’＞その後、樹脂層９上にセラミックスで構成された表層８を形成する。
【０１１７】
この表層８は、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法等の気相成膜法などにより形成することができる。
【０１１８】
これにより、セラミックスで構成された表層８を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【０１１９】
本発明におけるマイクロレンズ基板は、以下に述べる液晶パネル用対向基板および液晶パネル以外にも、ＣＣＤ用マイクロレンズ基板、光通信素子用マイクロレンズ基板等の各種基板、各種用途に用いることができることは言うまでもない。
【０１２０】
マイクロレンズ基板１の表層８上に、例えば、開口１１１を有するブラックマトリックス１１を形成し、次いで、かかるブラックマトリックス１１を覆うように透明導電膜１２を形成することにより、液晶パネル用対向基板１０を製造することができる（図４参照）。
【０１２１】
なお、ブラックマトリックス１１および透明導電膜１２は、表層８上ではなく、マイクロレンズ用凹部付き基板２上に設けてもよい。
【０１２２】
ブラックマトリックス１１は、遮光機能を有し、例えば、Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂などで構成されている。
【０１２３】
透明導電膜１２は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（SnO2）などで構成されている。
【０１２４】
ブラックマトリックス１１は、例えば、表層８上に気相成膜法（例えば蒸着、スパッタリング等）によりブラックマトリックス１１となる薄膜を成膜し、次いで、かかる薄膜上に開口１１１のパターンを有するレジスト膜を形成し、次いで、ウエットエッチングを行い前記薄膜に開口１１１を形成し、次いで、前記レジスト膜を除去することにより設けることができる。
【０１２５】
また、透明導電膜１２は、例えば、蒸着、スパッタリング等の気相成膜法により設けることができる。
【０１２６】
このように、マイクロレンズ基板１上に、ブラックマトリックス１１、透明導電膜１２を形成することにより液晶パネル用対向基板１０を得ることができる。なお、マイクロレンズ基板１が表層８を有していない場合には、ブラックマトリックス１１や透明導電膜１２を、樹脂層９上に直接形成してもよい。
なお、ブラックマトリックス１１は、設けなくてもよい。
【０１２７】
以下、このような液晶パネル用対向基板を用いた液晶パネル（液晶光シャッター）について、図４に基づいて説明する。
【０１２８】
図４に示すように、本発明の液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用対向基板１０と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８とを有している。
【０１２９】
液晶パネル用対向基板１０は、マイクロレンズ基板１と、かかるマイクロレンズ基板１の表層８上に設けられ、開口１１１が形成されたブラックマトリックス１１と、表層８上にブラックマトリックス１１を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１２とを有している。
【０１３０】
ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３とを有している。なお、図４では、シール材、配向膜、配線などの記載は省略した。
【０１３１】
この液晶パネル１６では、液晶パネル用対向基板１０の透明導電膜１２と、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０とが、一定距離離間して接合されている。
【０１３２】
ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
【０１３３】
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。
【０１３４】
薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
【０１３５】
液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有しており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
【０１３６】
このような液晶パネル１６では、通常、１個のマイクロレンズ４と、かかるマイクロレンズ４の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。
【０１３７】
液晶パネル用対向基板１０側から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ用凹部付き基板２を通り、マイクロレンズ４を通過する際に集光されつつ、樹脂層９、表層８、ブラックマトリックス１１の開口１１１、透明導電膜１２、液晶層１８、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。このとき、マイクロレンズ基板１の入射側には通常偏光板（図示せず）が配置されているので、入射光Ｌが液晶層１８を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層１８の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１６を透過した入射光Ｌを偏光板（図示せず）に透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【０１３８】
このように、液晶パネル１６は、マイクロレンズ４を有しており、しかも、マイクロレンズ４を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１１の開口１１１を通過する。一方、ブラックマトリックス１１の開口１１１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１６では、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１６は、画素部で高い光の透過率を有し、比較的小さい光量で明るく鮮明な画像を形成することができる。
【０１３９】
この液晶パネル１６は、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０とを配向処理した後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。
【０１４０】
なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
【０１４１】
以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型表示装置（液晶プロジェクター）について説明する。
【０１４２】
図５は、本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。
【０１４３】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【０１４４】
液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレンズ基板が位置する面側、すなわちダイクロイックプリズム２１と反対側）に接合された第１の偏光板（図示せず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイクロレンズ基板と対向する面側、すなわちダイクロイックプリズム２１側）に接合された第２の偏光板（図示せず）とを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１６は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
【０１４５】
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。
【０１４６】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。
【０１４７】
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図５中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図５中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
【０１４８】
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図５中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。
【０１４９】
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図５中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
【０１５０】
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。
【０１５１】
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図５中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図５中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。
【０１５２】
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【０１５３】
この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
【０１５４】
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
【０１５５】
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
【０１５６】
前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図５中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５７】
また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５８】
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図５中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５９】
このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
【０１６０】
【実施例】
以下のようにして、マイクロレンズ基板を製造した。
【０１６１】
まず、母材として、厚さ約１．２mmの未加工の石英ガラス基板（透明基板）を用意した。次に、この石英ガラス基板を８５℃の洗浄液（硫酸と過酸化水素水との混合液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【０１６２】
−１−  この石英ガラス基板の表面および裏面に、ＣＶＤ法により、厚さ０．４μｍの多結晶シリコンの膜を形成した。
【０１６３】
これは、石英ガラス基板を、６００℃、８０Paに設定したＣＶＤ炉内に入れ、SiH4を３００mL／分の速度で供給することにより行った。
【０１６４】
−２−  次に、形成した多結晶シリコン膜に、形成する凹部に対応した開口を形成した。
【０１６５】
これは、次のようにして行った。まず、多結晶シリコン膜上に、形成する凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、多結晶シリコン膜に対してＣＦガスによるドライエッチングを行ない、開口を形成した。次に、前記レジスト層を除去した。
【０１６６】
−３−  次に、石英ガラス基板をエッチング液（１０wt％フッ酸＋１０wt％グリセリンの混合水溶液）に１２０分間浸漬してウエットエッチング（エッチング温度３０℃）を行い、石英ガラス基板上に凹部を形成した。
【０１６７】
−４−  次に、石英ガラス基板を、１５wt％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に５分間浸漬して、表面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去した。
これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
【０１６８】
−５−  次に、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型アクリル系の光学接着剤（屈折率１．６０）を気泡なく塗布し、次いで、かかる光学接着剤に石英ガラス製のカバーガラス（表層）を接合し、次いで、かかる光学接着剤に紫外線を照射して光学接着剤を硬化させ、積層体を得た。
【０１６９】
なお、カバーガラスを接合させる際に、積層体の側面に光学接着剤（樹脂）がはみ出し付着した。
【０１７０】
−６−  ８５℃の８０％硫酸と２０％過酸化水素水との混合水溶液（除去液、ｐＨ＝１．０）を入れた処理槽を用意し、この処理槽内に積層体を揺動させつつ３０分間浸漬し、積層体の側面へ付着した樹脂を除去した。
【０１７１】
−７−  前記工程−６−の終了から１分後、２５℃の超純水（洗浄液）をシャワー状にして、積層体１’にかけて洗浄を行った。
【０１７２】
−８−  次に、積層体を遠心分離機にセットし、５，０００ｒｐｍで２０分間で、超純水を除去し乾燥させた。
【０１７３】
−９−  最後に、カバーガラスを厚さ５０μｍに研削、研磨して、図１に示すような構造のマイクロレンズ基板を得た。
なお、得られたマイクロレンズ基板では、樹脂層の厚みは１２μｍであった。
【０１７４】
（実施例２）
工程−６−において、処理槽内に、積層体を固定して浸漬し、除去液を超音波にて振動させつつ、積層体の側面へ付着した樹脂を除去したこと、および、工程−７−において、工程−６−の終了から１分後、まず、６５℃の超純水（第１の洗浄液）で、次いで、２５℃の超純水（第２の洗浄液）で積層体１’の洗浄を行ったこと以外は、前記実施例１と同様のマイクロレンズ基板を製造した。
【０１７５】
（実施例３）
工程−６−において、Ｎ−メチルピロリドン（除去液）を用いたこと以外は、前記実施例１と同様のマイクロレンズ基板を製造した。
【０１７６】
（評価１）
実施例１〜３の各マイクロレンズ基板について、それぞれ、その側面およびカバーガラスの表面の状態を目視で観察した。
【０１７７】
その結果、実施例１〜３で製造した各マイクロレンズ基板では、いずれも、その側面に付着した樹脂は、ほぼ完全に除去されており、また、カバーガラスの表面には、キズ等の欠陥は認められなかった。
【０１７８】
また、実施例１〜３で製造した各マイクロレンズ基板は、いずれも、工程−６−の前後における石英ガラス基板とカバーガラスとのズレや、マイクロレンズ基板の側面に近い部分での樹脂層の浮き、剥れ等の欠陥も認められず、良好な品質であった。
【０１７９】
（評価２）
実施例１〜３で製造した各マイクロレンズ基板について、それぞれ、スパッタリング法およびフォトリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロレンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ０．１６μｍの遮光膜（Ｃｒ膜）、すなわち、ブラックマトリックスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜（透明導電膜）をスパッタリング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造した。
【０１８０】
さらに、これら液晶パネル用対向基板と、別途用意したＴＦＴ基板（ガラス基板は石英ガラス製）とを配向処理した後、両者をシール材を介して接合した。次に、液晶パネル用対向基板とＴＦＴ基板との間に形成された空隙部の封入孔から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞いで図４に示すような構造のＴＦＴ液晶パネルをそれぞれ製造した。
【０１８１】
その後、ＴＦＴ液晶パネルを用いて、図５に示すような構造の液晶プロジェクター（投射型表示装置）を組み立てた。その結果、得られた液晶プロジェクターの投射画像では、いずれも、好適に投射することができた。
【０１８２】
表層がセラミックスで構成されたマイクロレンズ基板を製造し、かかるマイクロレンズ基板を用いて前記と同様に液晶パネルおよび投射型表示装置を製造したところ、これらの液晶パネルおよび投射型表示装置でも、好適に投射することができた。なお、このマイクロレンズ基板は、前記工程−５−において、カバーガラスの代わりに表面に離型剤を塗布した型材（相手体：第２の基板）を樹脂（接着剤）に接合したこと；前記工程−６−〜−８−終了後、型材を樹脂から剥離したこと；その後、樹脂層上にスパッタリング法により厚さ１μｍのＡｌＮ膜を形成したこと以外は、前記の実施例１とほぼ同様にして製造した。
【０１８３】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、不要な樹脂を容易に除去することができ、また、マイクロレンズ基板を効率良く製造することができる。
【０１８４】
特に、本発明によれば、同時に多数の積層体に対し、不要な樹脂の除去を行えるので、マイクロレンズ基板を量産する場合にも有利である。
【０１８５】
さらに、本発明によれば、好適な画像を投射可能な液晶パネル、さらには投射型表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明におけるマイクロレンズ基板の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明におけるマイクロレンズ基板の製造方法を説明するための図である。
【図３】本発明におけるマイクロレンズ基板中間体を示す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明の液晶パネルの実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図５】本発明の実施例における投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１                マイクロレンズ基板
１’              積層体
２                マイクロレンズ用凹部付き基板
２９              母材
３                凹部
４                マイクロレンズ
６                マスク層
６１              開口
６９              裏面保護層
８                表層
９                樹脂層
９１              付着部
１０              液晶パネル用対向基板
１１              ブラックマトリックス
１１１            開口
１２              透明導電膜
１６              液晶パネル
１７              ＴＦＴ基板
１７１            ガラス基板
１７２            画素電極
１７３            薄膜トランジスタ
１８              液晶層
３００            投射型表示装置
３０１            光源
３０２、３０３    インテグレータレンズ
３０４、３０６、３０９  ミラー
３０５、３０７、３０８  ダイクロイックミラー
３１０〜３１４    集光レンズ
３２０            スクリーン
２０              光学ブロック
２１              ダイクロイックプリズム
２１１、２１２    ダイクロイックミラー面
２１３〜２１５    面
２１６            出射面
２２              投射レンズ
２３              表示ユニット
２４〜２６        液晶ライトバルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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