(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基、を同一分子内に有する化合物と、下記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物との反応生成物を含有する感光層を有することを特徴とする輻射線感応性平版印刷版。
・一般式（１）
Ｘ−（ＯＲ2 ）4
式中、Ｒ2 は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表す。
【請求項２】
スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基を有する化合物と、下記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物の加水分解重合反応物と、を含有する感光層を有することを特徴とする輻射線感応性平版印刷版。
・一般式（１）
Ｘ−（ＯＲ2 ）4 
式中、Ｒ2 は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表す。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はポジ型の平版印刷用原版として用いることができる輻射線感応性平版印刷版に関する。その中でも、ディジタル信号に基づいて可視光もしくは赤外線などの各種のレーザを操作することにより直接製版可能であり、且つ水現像可能あるいは現像することなしにそのまま印刷機に装着し、印刷することができる輻射線感応性平版印刷版に関し、特に無処理刷版製造に適した輻射線感応性の平版印刷版に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＰＳ版による印刷版の製造には、露光工程の後に、支持体表面の上に設けられた感光層を画像状に除去するための湿式による現像工程や現像処理された印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程が含まれる。
【０００３】
一方近年の製版、印刷業界では現像廃液がアルカリ性であるため環境問題が生じてきている。また製版作業の合理化が進められており、上記のような複雑な湿式現像処理を必要とせず、露光後にそのまま印刷に使用できる印刷版用原版が望まれている。
【０００４】
画像露光後に現像処理を必要としない印刷版用原版については、例えば、ＵＳ５，２５８，２６３号に、露光領域で硬化または不溶化が促進される感光性親水層と感光性疎水層とを支持体上に積層した平版印刷プレートが開示されている。しかし、このプレートは２層構成のため上層と下層との接着力が問題となり、多くの印刷物を刷ることができない。
【０００５】
また画像形成後、湿式現像処理を必要としない平版印刷原版として、シリコーン層と、その下層にレーザ感熱層を設けた版材がＵＳ５，３５３，７０５号、ＵＳ５、３７９、６９８号に開示されている。これらは湿式現像は必要としないが、レーザアブレージョンによるシリコーン層の除去を完結させるための、こすりや特殊なローラーによる処理が必要となり、処理が煩雑になる欠点を持つ。
【０００６】
ポリオレフィン類をスルホン化したフィルムを版材として用い、熱書き込みによって、表面の親水性を変化させることにより、現像処理を必要としない版材を形成することが、特開平５−７７５７４号、特開平４−１２５１８９号、ＵＳ５，１８７，０４７号および特開昭６２−１９５６４６号等に開示されている。このシステムでは、熱書き込みにより、感材表面のスルホン基を脱スルホンさせ画像形成しており、現像処理は不要になるが、書き込み時に有害なガスを発生させる欠点を有する。
【０００７】
ＵＳ５，１０２，７７１号、ＵＳ５，２２５，３１６号には酸感受性基を側鎖にもつポリマーと光酸発生剤を組み合わせた感材が提示されており、無現像システムが提案されている。この版材は発生する酸がカルボン酸であるために、親水性の程度が低くなり汚れやすく、版材の耐久性や印刷画像の鮮明さに劣る欠点を持つ。
特開平４−１２１７４８号にはスルホン酸エステル基を側鎖にもつポリマーと酸発生剤と染料とを組み合わせた感材が提示されているが、このシステムもアルカリの現像液を用いて現像しており、水現像もしくは無現像システムに関しては全く提案されてはいなかった。
【０００８】
ポジ型無処理平版印刷用版材の製造に適した輻射線感応性の画像形成材料としては、特開平７−１８６５６２号公報に記載されたものが公知であり、また、本発明者らによる特願平９−２６８７８号や特願平９−２６８７７号にも記載されている。これら公報および明細書中には、特定のカルボン酸エステル、もしくはスルホン酸エステル構造からなる加熱もしくは酸の作用により疎水性から親水性に変化し得る官能基と、トリメトキシシリル基からなる加水分解重合性化合物と反応し得る官能基と、を有する化合物が記載されている。これらの化合物を用いると、露光後現像処理なしでも印刷可能であり、満足できる印刷物を得ることができるが、さらに耐刷性を向上させることが望まれていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、水現像可能な、あるいは画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要としない輻射線感応性平版印刷版を提供することである。特に、赤外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザ等を用いて記録することにより、ディジタルデータから直接製版可能である輻射線感応性平版印刷版を提供することである。
また、本発明の他の目的は、耐刷性に優れたポジ型の輻射線感応性平版印刷版を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、以下の本発明により達成される。
即ち、第１の本発明は、スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基、を同一分子内に有する化合物と、下記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物との反応生成物を含有する感光層を有することを特徴とする輻射線感応性平版印刷版である。
・一般式（１）
Ｘ−（ＯＲ2 ）4
式中、Ｒ2 は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表す。
【００１１】
第１の本発明の輻射線感応性平版印刷版によれば、「上記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物」は、加水分解重合して無機酸化物のマトリックスを塗布膜中に形成すると共に、「スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基、を同一分子内に有する化合物」（以下、「化合物Ａ」という場合がある。）の後者の官能基と反応し、有機無機複合体（反応生成物）を形成し、架橋構造が密となり、全体として膜強度が向上する。
第１の本発明の輻射線感応性平版印刷版は、所定の加熱手段による熱、あるいは所定の酸発生手段による酸により、化合物Ａが画像様に親水性となり、画像形成後現像処理することなく印刷可能であり、満足できる印刷物を得ることができると共に、耐刷性にも優れたものとなる。
【００１２】
また、第２の本発明は、スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基を有する化合物と、下記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物の加水分解重合反応物と、を含有する感光層を有することを特徴とする輻射線感応性平版印刷版である。
・一般式（１）
Ｘ−（ＯＲ2 ）4
式中、Ｒ2 は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表す。
【００１３】
第２の本発明の輻射線感応性平版印刷版によれば、「上記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物」は、加水分解重合して無機酸化物のマトリックス（加水分解重合反応物）を塗布膜中に形成し、「スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基を有する化合物」（以下、「化合物Ｂ」という場合がある。）が前記マトリックス中に取り込まれ、分散した状態となり、全体として膜強度が向上する。
第２の本発明の輻射線感応性平版印刷版は、所定の加熱手段による熱、あるいは所定の酸発生手段による酸により、「化合物Ｂ」が画像様に親水性となり、画像形成後現像処理することなく印刷可能であり、満足できる印刷物を得ることができると共に、耐刷性にも優れたものとなる。
【００１４】
本発明（以下、単に「本発明」というときは、第１の本発明および第２の本発明の双方を指す。）の輻射線感応性平版印刷版は、そのままで感熱記録が可能なほか、光熱変換材料（赤外線吸収剤）と組み合わせて赤外線レーザー感応性感熱ポジ型無処理平版印刷用原版として用いることができる。また、紫外光域から可視光域に感光する酸発生剤と組み合わせて紫外光域−可視光域感応性感熱ポジ型無処理平版印刷用原版として用いることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
［化合物Ａ］
第１の本発明に用いられる化合物Ａについて説明する。
化合物Ａとは、スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基、を同一分子内に有する化合物である。
まず、化合物Ａ中のスルホン酸エステル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基（以下、「官能基Ｘ」という場合がある。）の具体例について詳細に説明する。
【００１６】
スルホン酸エステル基は下記一般式（２）で表すことができる。
【００１７】
【化１】
0003779446.tif 000002
【００１８】
式中、Ｌは一般式（２）で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに必要な多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ1 は置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換アルキル基又は環状イミド基を示す。
【００１９】
Ｒ1 がアリール基若しくは置換アリール基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリール基と複素環式（ヘテロ）アリール基が含まれる。炭素環式アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ピレニル基等の炭素数６から１９のものが用いられる。また、複素環式アリール基としては、ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含むものが用いられる。Ｒ1 〜Ｒ5 がアルキル基若しくは置換アルキル基を表わすとき、当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数１から２５までのものが用いられる。
【００２０】
Ｒ1 が置換アリール基、置換ヘテロアリール基、置換アルキル基であるとき、置換基としてはメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜１０までのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基のようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｐ−クロロフェニルオキシカルボニル基等の炭素数２から１５までのアルコキシカルボニル基若しくはアリールオキシカルボニル基；水酸基；アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−ジフェニルアミノベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシ基等のカルボネート基；ｔ−ブチルオキシカルボニルメチルオキシ基、２−ピラニルオキシ基等のエーテル基；アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等の置換、非置換のアミノ基；メチルチオ基、フェニルチオ基等のチオエーテル基；ビニル基、スチリル基等のアルケニル基；ニトロ基；シアノ基；ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基；フェニル基、ナフチル基のようなアリール基；ピリジル基のようなヘテロアリール基等を挙げることができる。またＲ1 〜Ｒ5 が置換アリール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換基として前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル基を用いることができる。
【００２１】
Ｒ1 が環状イミド基を表すとき、環状イミドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘキサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸イミド等の炭素原子４〜２０までのものを用いることができる。
【００２２】
上記のうちＲ1 として特に好ましいものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアルキル基、２級若しくは３級の分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドである。
【００２３】
Ｌで表される非金属原子からなる多価の連結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げることができる。
【００２４】
【化２】
0003779446.tif 000003
【００２５】
多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基のような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基のような炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基のような炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
【００２６】
アルコキシアルキルエステル基は、下記一般式（５）で表すことができる。
【００２７】
【化３】
0003779446.tif 000004
【００２８】
式中Ｒ1 は水素原子を表し、Ｒ2 は水素原子または炭素数１８個以下のアルキル基を表し、Ｒ3 は炭素数１８個以下のアルキル基を表す。また、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 の内の２つが結合して間を形成してもよい。特に、Ｒ2 およびＲ3 が結合して５または６員環を形成することが好ましい。
【００２９】
第１の本発明においては、官能基Ｘとして以上の一般式（２）〜（５）で表されるものが挙げられるが、特に好ましくは一般式（２）で表されるスルホン酸エステル基である。
【００３０】
第１の本発明における化合物Ａの合成に好適に使用される、一般式（２）〜（５）で表される官能基を有するモノマーの具体例を以下に示す。
【００３１】
【化４】
0003779446.tif 000005
【００３２】
【化５】
0003779446.tif 000006
【００３４】
【化７】
0003779446.tif 000007
【００３５】
【化８】
0003779446.tif 000008
【００３６】
官能基Ｘは、化合物Ａを加熱もしくは酸の作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するものである。特に、官能基Ｘは、化合物Ａの空中水滴接触角を１５°以上低下させるものであることが好ましい。即ち、化合物Ａとしては、空中における水滴の接触角が、加熱もしくは酸の作用により１５°以上低下して、当初は疎水性であったものが親水性になるようなものであることが好ましい。さらに、化合物Ａとしては、この空中水滴接触角が、４０°以上低下する化合物であることが好ましい。また、化合物Ａとしては、具体的には空中水滴接触角が、当初６０°以上であったものが、加熱もしくは酸の作用により２０°以下まで低下する化合物であることが好ましい。
【００３７】
次に、化合物Ａ中の−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基（以下、「官能基Ｙ」という場合がある。）の具体例について詳細に説明する。
官能基Ｙが−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 および／または−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 であるとき、Ｒ3 およびＲ4 としては、好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、これらはクロル等のハロゲン、メトキシ基等のアルコキシ基、メトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 の具体例としては、−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ3 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ2 Ｈ5 等を挙げることができる。また、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 の具体例としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 、−Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 等を挙げることができる。
【００３８】
第１の本発明に用いられる化合物Ａとしては、好ましくは一般式（２）及び（５）で表される官能基を有するモノマーの内、少なくともいずれか一つと、前述の官能基Ｙを有するモノマーとをラジカル重合することにより得られる高分子化合物を使用する。このような化合物Ａとして、一般式（２）及び（５）で表される官能基を有するモノマーの内一種のみと、前述の官能基Ｂを有するモノマーの内一種のみと、を用いた共重合体を使用してもよいが、両モノマーとも、あるいはどちらか一方のモノマーについて、２種以上を用いた共重合体やこれらのモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。
【００３９】
他のモノマーとしては、グリシジルメタクリレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、２−イソシアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有するモノマーが好ましい。
また、共重合体に用いられる他のモノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。
【００４０】
アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又はｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。
【００４１】
メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルメタクリレート等が挙げられる。
【００４２】
アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００４３】
メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。
【００４４】
ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。
【００４５】
スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
【００４６】
これらの他のモノマーのうち特に好適に使用されるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。
【００４７】
共重合体の合成に使用される一般式（２）及び／又は（５）で表される官能基を有するモノマーと、官能基Ｙを有するモノマーと、の混合割合としては、重量比で１０：９０〜９９：１とすることが好ましく、３０：７０〜９７：３とすることがより好ましい。
また、他のモノマーとの共重合体とする場合には、共重合体の合成に使用される一般式（２）及び／又は（５）で表される官能基を有するモノマーおよび官能基Ｙを有するモノマーの合計に対する他のモノマーの割合は、５〜９９重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５重量％である。
【００４８】
以下に、第１の本発明に用いられる化合物Ａの具体例を示す。なお、化学式中カッコの右下の数値は共重合割合を示す。
【００４９】
【化９】
0003779446.tif 000009
【００５０】
【化１０】
0003779446.tif 000010
【００５１】
【化１１】
0003779446.tif 000011
【００５２】
［加水分解重合性化合物］
本発明において用いられる加水分解重合性化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
・一般式（１）
Ｘ−（ＯＲ2 ）4
式中、Ｒ2 は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表す。Ｒ2 がアルキル基を表す場合に、炭素数としては好ましくは１〜４である。また、アルキル基またはアリール基は置換基を有していてもよい。なお、この化合物は低分子化合物であり分子量１０００以下であることが好ましい。
【００５３】
加水分解重合性化合物中にアルミニウムを含むものとしては、例えば、テトラエトキシアルミネート等を挙げることができる。チタンを含むものとしては、例えば、テトラメトキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタネート等を挙げることができる。ジルコニウムを含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものに対応するジルコネートを挙げることができる。
【００５４】
加水分解重合性化合物中にケイ素を含むものとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を挙げることができる。
【００５５】
加水分解重合性化合物は、１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。また部分的に加水分解後、脱水縮合していてもよい。なお、生成物の物性を調整するために、必要に応じてトリアルキルモノアルコキシシランを添加することができる。加水分解重合性化合物は、本発明の画像形成材料中で無機相を構成する化合物であるが、平版印刷用原版の基板に塗布する前の画像形成材料の溶液の状態における保存安定性を高めるために、該加水分解重合性化合物が部分加水分解重合した無機重合体の活性金属水酸基、例えば、シラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を保護することが有効である。シラノール基の保護は、ｔ−ブタノール、ｉ−プロピルアルコール等の高級アルコールでシラノール基をエステル化（Ｓｉ−ＯＲ）することにより達成することができる。具体的には無機相に前記高級アルコールを添加することにより実施することができる。このとき無機相の性質により、例えば、無機相を加熱して脱離した水を留去する等の手段により無機相を脱水することにより保存安定性をさらに向上させることができる。該加水分解重合の触媒となり得る酸または塩基、例えば塩酸、アンモニア等が無機相中に存在する場合には、これらの濃度を下げるとも一般的に有効である。これらは無機相を酸または塩基により中和することにより容易に実施することができる。
【００５６】
第１の本発明において、上記加水分解重合性化合物は輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に対し、３〜９５重量％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜８０重量％の範囲である。
一方、第２の本発明において、上記加水分解重合性化合物は輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に対し、５〜９５重量％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは２０〜８０重量％の範囲である。
【００５７】
［化合物Ｂ］
第２の本発明に用いられる化合物Ｂについて説明する。
化合物Ｂとは、「スルホン酸エステル基、またはアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基」、即ち、前記第１の本発明に用いられる化合物Ａにおける官能基Ｘ（第２の本発明においても同様に単に「官能基Ｘ」という。）、を有する化合物である。化合物Ｂにおけるこの官能基Ｘは、上記化合物Ａにおいて説明したものと同様のものである。また、官能基Ｘは、化合物Ｂを加熱もしくは酸の作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するものであることも化合物Ａの場合と同様であり、空中水滴接触角に関する考え方も同様である。
【００５８】
このような化合物Ｂとしては、好ましくは、前記一般式（２）及び（５）で表される官能基を有するモノマーの内、少なくともいずれか一つをラジカル重合することにより得られる高分子化合物を使用する。かかる高分子化合物として、一般式（２）及び（５）で表される官能基を有するモノマーの内一種のみを用いた単独重合体を使用してもよいが、２種以上を用いた共重合体やこれらのモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。他のモノマーとしては、前記第１の本発明に用いられる化合物Ａにおいて説明したものと同様である。
共重合体の合成に使用される一般式（２）及び（５）で表される官能基を有するモノマーの割合は、モノマー全体に対して５〜９９重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５重量％である。
【００５９】
以下に、第２の本発明に用いられる化合物Ｂの具体例を示す。
【００６０】
【化１２】
0003779446.tif 000012
【００６１】
［酸発生手段］
本発明の輻射線感応性平版印刷版において、画像様に酸を発生させて前記化合物Ａもしくは化合物Ｂを反応させるには、酸発生手段として酸発生剤を添加することが望ましい。但し、前記化合物Ａもしくは化合物Ｂはそれ自身熱により酸を発生し、酸発生剤としての機能を発揮することもあり、かかる場合には特に他の酸発生剤を併用しなくても画像を形成することができるため、酸発生剤は必須ではない。
本発明においては、酸発生剤として、光または熱の作用により酸を発生させる公知の化合物を選択して用いることができる。
【００６２】
たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(1980) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０，１４０号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988) 、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromolecules,10(6),1307(1977) 、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988) 、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２−１５０，８４８号、特開平２−２９６，５１４号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73(1985) 、J.V.Crivello  etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984) 、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello etal,Macromolecules,14(5),1141(1981) 、J.V.Crivello etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979) 、欧州特許第３７０，６９３号、米国特許３，９０２，１１４号、欧州特許第２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、獨国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号等に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromolecules,10(6),1307(1977) 、J.V.Crivello etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979)等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988) 等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、
【００６３】
米国特許第３，９０５，８１５号、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier etal,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill etal,Inorg.Chem.,19,3007(1980) 、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1896) 、特開平２−１６１４４５号等に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、S.Hayase etal,J.Polymer Sci.,25,753(1987)、 E.Reichmanis etal,J.Pholymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、 Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、 B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)2205(1973)、 D.H.R.Barton etal,J.Chem Soc.,3571(1965)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Perkin I,1695(1975)、 M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1975)、 J.W.Walker etal,J.Am.Chem.Soc.,110,7170(1988)、 S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191(1985)、 H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(1988)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532(1972)、 S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(1985)、 E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid State Sci.Technol.,130(6)、 F.M.Houlihan etal,Macromolcules,21,2001(1988)、 欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１号、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号等に記載のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.TUNOOKA etal,Polymer Preprints Japan,35(8)、 G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、 W.J.Mijs etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、 H.Adachi etal,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号等に記載のイミノスルフォネート等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５４４号等に記載のジスルホン化合物、特開昭５０−３６２０９号（米国特許第３９６９１１８号）記載のｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハライド、特開昭５５−６２４４４号（英国特許第２０３８８０１号）記載あるいは特公平１−１１９３５号記載のｏ−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることができる。
【００６４】
その他の酸発生剤としては、シクロヘキシルシトレート、ｐ−アセトアミノベンゼンスルホン酸シクロヘキシルエステル、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステル、本発明者らが先に出願した特願平９−２６８７８号に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホン酸エステル等を用いることができる。
【００６５】
【化１３】
0003779446.tif 000013
【００６６】
上記光、熱または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられるものについて以下に説明する。
（１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ１）で表されるオキサゾール誘導体または一般式（ＰＡＧ２）で表されるＳ−トリアジン誘導体。
【００６７】
【化１４】
0003779446.tif 000014
【００６８】
式中、Ｒ1 は置換もしくは未置換のアリール基、アルケニル基、Ｒ2 は置換もしくは未置換のアリール基、アルケニル基、アルキル基、−ＣＹ3 を示す。Ｙは塩素原子または臭素原子を示す。
具体的には以下の化合物を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
【００６９】
【化１５】
0003779446.tif 000015
【００７０】
【化１６】
0003779446.tif 000016
【００７１】
（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表されるヨードニウム塩、または一般式（ＰＡＧ４）で表されるスルホニウム塩、もしくはジアソニウム塩。
【００７２】
【化１７】
0003779446.tif 000017
【００７３】
ここで式Ａｒ1 、Ａｒ2 は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基としては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基およびハロゲン原子が挙げられる。
【００７４】
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましくは炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアルキル基およびそれらの置換誘導体である。好ましい置換基としては、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基である。
【００７５】
Ｚ- は対アニオンを示し、例えば  ＢＦ4 - 、ＡｓＦ6 - 、ＰＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、ＳｉＦ6 2-、ＣｌＯ4 - 、ＣＦ3 ＳＯ3 - 等のパーフルオロアルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、ナフタレン−１−スルホン酸アニオン等の結合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン、スルホン酸基含有染料等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
【００７６】
またＲ3 、Ｒ4 、Ｒ5 のうちの２つおよびＡｒ1 、Ａｒ2 はそれぞれの単結合または置換基を介して結合してもよい。
【００７７】
具体例としては以下に示す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７８】
【化１８】
0003779446.tif 000018
【００７９】
【化１９】
0003779446.tif 000019
【００８０】
一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示される上記オニウム塩は公知であり、たとえばJ. W. Knapczyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969) 、A. L. Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532, (1970)、B. Goethas etal,  Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964) 、H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51, 3587(1929) 、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677(1980)、米国特許第２，８０７，６４８号および同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１，３３１号等に記載の方法により合成することができる。
【００８１】
（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表されるジスルホン誘導体または一般式（ＰＡＧ６）で表されるイミノスルホネート誘導体。
【００８２】
【化２０】
0003779446.tif 000020
【００８３】
式中Ａｒ3 、Ａｒ4 は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示す。Ｒ6 は置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基を示す。
具体例としては以下に示す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８４】
【化２１】
0003779446.tif 000021
【００８５】
【化２２】
0003779446.tif 000022
【００８６】
これらの酸発生剤の含有量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に対して通常０．１〜３０重量％、より好ましくは１〜１５重量％である。１％より少ないと感度が低くなり、１５％より多いと画像強度が落ちる可能性がある。
【００８７】
［赤外線吸収剤］
本発明の輻射線感応性平版印刷版を赤外線照射により画像を形成する平版印刷用原版として用いる場合には、輻射線感応性平版印刷版の感光層中に赤外線吸収剤を添加する。
本発明において好ましく使用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料または顔料である。より好ましくは、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有する染料または顔料である。
染料としては、市販の染料および文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。
好ましい染料としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００８８】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
【００８９】
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【００９０】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００９１】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の感光性組成物の塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると塗布後の画像記録層の均一性の点で好ましくない。
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００９２】
これらの染料もしくは顔料は、輻射線感応性平版印刷版の感光層の組成物全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは１．０〜１０重量％の割合で添加することができる。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生しやすい。
【００９３】
［その他の成分］
本発明では、以上の成分が必要に応じて用いられるが、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加しても良い。
例えば、酸発生剤が可視域にまで感度を持たない場合、可視光域の光に対して酸発生剤を活性にするために種々の酸発生剤の増感色素が用いられる。このような増感色素の例としてはＵＳ５２３８７８２記載のピラン系色素、ＵＳ４９９７７４５号記載のシアニン色素、およびスクアリュウム系色素、ＵＳ５２６２２７６記載のメロシアニン系色素、特公平８−２０７３２号記載のピリリュウム色素、その他、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケトクマリン色素、９−フェニルアクリジンなどを有効なものとして用いることができる。またそのほかにもＵＳ４９８７２３０記載のビスベンジリデンケトン色素、９，１０−ジフェニルアントラセンのような多環芳香族化合物などを用いることができる。
そのほかの成分としては例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。
具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）など、あるいは特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５１４５号に記載されている染料を挙げることができる。
尚、添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合である。
【００９４】
また、本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層中には、印刷条件に対する安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画像形成材料全固形物中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。
【００９５】
更に本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
【００９６】
本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより製造することができる。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。
これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ2 が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
【００９７】
本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に対し、０．０１〜１重量％さらに好ましくは０．０５〜０．５重量％である。
【００９８】
本発明の画像形成材料を塗布すべき平版印刷用原版に使用される支持体（基板）は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持体として使用されたものが含まれ、好適に使用することができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフィルム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタン、あるいはその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【００９９】
支持体は、必要に応じて表面処理、例えば、支持体の表面に、親水化処理が施される。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【０１００】
また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施されるものである。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【０１０１】
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸またはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍとなるような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗および化学的にエッチングされる。
【０１０２】
エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜が形成されてしまうため好ましくない。
これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３〜４０ｇ／ｍ2 になる様に行われるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回るものであっても差支えない。
【０１０３】
エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／ｍ2 の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうフッ化水素酸等が用いられる。
エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。
【０１０４】
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一概には言えないが、一般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア/dm2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭３６−２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【０１０５】
有機下塗層；
本発明の輻射線感応性平版印刷版は、感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれ、これらを単独で用いるほか、二種以上混合して用いてもよい。
【０１０６】
その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などの構造単位を有する高分子化合物を用いることができる。
【０１０７】
この有機下塗層は次のような方法で設けることが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【０１０８】
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷用原版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２００mg／ｍ2 が適当であり、好ましくは５〜１００mg／ｍ2 である。上記の被覆量が２mg／ｍ2 より少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、２００mg／ｍ2 より大きくても同様である。
【０１０９】
バックコート；
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物および特開平６−３５１７４号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓi(ＯＣＨ3)4 、Ｓi(ＯＣ2 Ｈ5)4 、Ｓi(ＯＣ3 Ｈ7)4 、Ｓi(ＯＣ4 Ｈ9)4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好ましい。
【０１１０】
以上のようにして、本発明の輻射線感応性平版印刷版を作製することができる。この輻射線感応性平版印刷版は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像様に感熱記録を施されたり、あるいは、波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザーまたは半導体レーザーにより画像露光される。本発明においては、感熱記録後またはレーザー照射後に水現像し、さらに必要であればガム引きを行ったのち、印刷機に版を装着し印刷を行う、あるいは、感熱記録後またはレーザー照射後ただちに印刷機に版を装着し印刷を行っても良いが、ともに感熱記録後またはレーザー照射後に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行うことが好ましい。この加熱処理により、感熱記録時またはレーザー照射時、記録に必要な熱またはレーザーエネルギーを減少させることができる。
【０１１１】
この様な処理によって得られた平版印刷版は水現像されるかあるいはそのままオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１１２】
【実施例】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１および２、比較例１および２
［支持体の作製］
厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に２％ＨＮＯ3 に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2 であった。次にこの板を７％Ｈ2 ＳＯ4 を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ2 で２. ４ｇ／ｍ2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。
【０１１３】
［画像形成材料の塗布液の調製］
テトラエトキシシラン４ｇとメチルエチルケトン１０ｇを反応容器に入れた後、１．４ｇの０．０５Ｎ塩酸を添加し３０分間激しく攪拌し、部分加水分解重合させて均一溶液の無機成分を得た。この溶液に下記成分を加え溶解し、実施例１および２用の塗布液Ａ−１およびＡ−２を得た。このとき、塗布液Ａ−１では前記（１−１）の化合物を、塗布液Ａ−２では前記（１−２）の化合物をそれぞれ用いて調製した。
・前記（１−１）または（１−２）の化合物                  ３      ｇ
・赤外線吸収剤ＩＲ１２５（和光純薬製）                    ０．１５ｇ
・メチルエチルケトン                                      ９      ｇ
・γ−ブチロラクトン                                      ６      ｇ
さらに、比較例として、テトラエトキシシランと塩酸を添加しなかったこと以外は実施例１および２用の塗布液Ａ−１およびＡ−２と同様にして比較例１および２用の塗布液Ｂ−１およびＢ−２を得た。
【０１１４】
［平版印刷用原版の作製］
次に得られた画像形成材料の塗布液Ａ−１、Ａ−２、Ｂ−１およびＢ−２を上記支持体上に塗布し、８０℃で３分間乾燥して平版印刷用原版［Ａ−１］、［Ａ−２］、［Ｂ−１］および［Ｂ−２］を得た。乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．０ｇ／ｍ2 であった。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水滴接触角の値を下記表１に示す。この空中水滴接触角は、協和界面化学（株）製ＣＯＮＴＡＣＴ  ＡＮＧＬＥ  ＭＥＴＥＲ  ＣＡ−Ｚを用いて測定した。
【０１１５】
［印刷試験］
得られた平版印刷用原版［Ａ−１］、［Ａ−２］、［Ｂ−１］および［Ｂ−２］を、波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡＧレーザーで像様露光した。露光後の平版印刷用原版［Ａ−１］、［Ａ−２］、［Ｂ−１］および［Ｂ−２］をそのままハイデルＳＯＲ−Ｍで印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察した。いずれも初期においては非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。また、多数枚の印刷を行い、非画像部に汚れが発生することなく印刷することができた印刷物の枚数を確認し、これを耐刷枚数とした。得られた結果を下記表１に示す。
【０１１６】
【表１】
0003779446.tif 000023
【０１１７】
実施例３〜８、比較例３および４
・前記（１−３）〜（１−８）の各化合物                    ３      ｇ
・テトラエトキシシラン                                    １      ｇ
・メチルエチルケトン                                      ９      ｇ
上記組成からなる溶液中に、水／８５％リン酸（１／１重量比混合液）０．３ｇを添加し、室温で１時間反応させた。次にこの溶液に
・赤外線吸収剤ＩＲ１２５（和光純薬製）                    ０．１５ｇ
・メチルエチルケトン                                      ９      ｇ
・γ−ブチロラクトン                                      ６      ｇ
を添加し、攪拌混合して、均一な実施例３〜８用の塗布液Ａ−３〜Ａ−８を得た。このとき、塗布液Ａ−３では前記（１−３）の化合物を、同様に塗布液Ａ−４〜Ａ−８では前記（１−４）〜（１−８）の化合物をそれぞれ用いて調製した。さらに、比較例として、テトラエトキシシランを添加しなかったこと以外は実施例３および４用の塗布液Ａ−３およびＡ−４と同様にして比較例３および４用の塗布液Ｂ−３およびＢ−４を得た。
【０１１８】
得られた各塗布液を、実施例１で得られた支持体と同じ支持体に、実施例１と同様の方法でそれぞれ塗布して、平版印刷用原版［Ａ−３］〜［Ａ−８］、［Ｂ−３］および［Ｂ−４］を得た。乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．４ｇ／ｍ2 であった。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水滴接触角の値を下記表２に示す。この空中水滴接触角の測定装置は、実施例１と同様である。
得られた平版印刷用原版［Ａ−３］〜［Ａ−８］、［Ｂ−３］および［Ｂ−４］について、実施例１と同様の方法で印刷試験を行った。得られた結果を下記表２に示す。
【０１１９】
【表２】
0003779446.tif 000024
【０１２０】
実施例９〜１０
・前記（１−９）または（１−１０）の化合物                ３      ｇ
・テトラメトキシシラン                                    １      ｇ
・メチルエチルケトン                                      ９      ｇ
上記組成からなる溶液中に、水／８５％リン酸（１／１重量比混合液）０．３ｇを添加し、室温で１時間反応させた。次にこの溶液に
0003779446.tif 000025
を添加し、攪拌混合して、均一な実施例９および１０用の塗布液Ａ−９〜Ａ−１０を得た。このとき、塗布液Ａ−９では前記（１−９）の化合物を、同様に塗布液Ａ−１０では前記（１−１０）の化合物をそれぞれ用いて調製した。なお、上記酸発生剤ＰＡＧ２−５は以下の方法により合成した。
【０１２１】
［酸発生剤ＰＡＧ２−５の合成法］
Ｎ，Ｎ−ｂｉｓ（２−ｃｈｌｏｒｏｅｔｈｙｌ）−３−ｃｈｌｏｒｏ−４−ｃｙａｎｏａｎｉｌｉｎｅ５５．５２ｇ（０．２ｍｏｌ）、トリクロロアセトニトリル１７３．２８ｇ（１．２ｍｏｌ）、アニソール２１．６３ｇ（０．２ｍｏｌ）およびジブロモメタン１００ｍｌを三口フラスコに入れ、攪拌しながら三臭化アルミニウム１３．３４ｇ（０．０５ｍｏｌ）を添加した。次に内温を４３〜４６℃に保ち、塩酸ガスを注入した。同温度に保ちながら塩酸ガスの注入を４時間続けた後、トリクロロアセトニトリル１７３．２８ｇ（１．２ｍｏｌ）および三臭化アルミニウム１３．３４ｇ（０．０５ｍｏｌ）を添加し、塩酸ガスの注入を８時間続けた。その後、塩酸ガスの注入をやめ、内温４３〜４６℃で９時間攪拌後、攪拌をやめ２４時間放置した。放置後、減圧にて溶媒を留去し、反応物を酢酸エチル２リットルを用いて抽出した。抽出液を１リットルの水で３回水洗いをした後、減圧にて濃縮した。次に該濃縮液にエタノール１０００ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍｌを加え、４時間攪拌した。生じた結晶を濾取し、水２５０ｍｌ、エタノール５００ｍｌを用いてかけ洗いを行った後、乾燥した（収量７１ｇ、収率６３％）。
【０１２２】
得られた塗布液Ａ−９およびＡ−１０を、実施例１で得られた支持体と同じ支持体に、実施例１と同様の方法でそれぞれ塗布して、平版印刷用原版［Ａ−９］および［Ａ−１０］を得た。乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．０ｇ／ｍ2 であった。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水滴接触角の値を下記表３に示す。この空中水滴接触角の測定装置は、実施例１と同様である。
得られた平版印刷用原版［Ａ−９］および［Ａ−１０］を、メタルハライドランプを光源とするＰＳ版の露光機を用いて像様に紫外線露光した。露光後の平版印刷用原版［Ａ−９］および［Ａ−１０］を１００℃３分間加熱処理した後、実施例１と同様の方法で多数枚の印刷および評価を行った。得られた結果を下記表３に示す。
【０１２３】
【表３】
0003779446.tif 000026
【０１２４】
【発明の効果】
以上の如く、本発明によれば、水現像可能な、あるいは画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要としない、輻射線感応性平版印刷版を提供することができる。特に、本発明によれば、赤外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザ等を用いて記録することにより、ディジタルデータから直接製版可能である輻射線感応性平版印刷版を提供することができる。
また、本発明によれば、耐刷性に優れたポジ型の輻射線感応性平版印刷版を提供することができる。