(57)【要約】  本発明は、下記式（１）または（２）で表される含フッ素共重合体を提供する。2021045209.tif 000028
2021045209.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）または（２）：
【化１】
2021045209.tif 000025
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４ａまたはＲ４ｂであり；
Ｒ４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基であり；
Ｒ４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基であり；
前記置換基群Ａは、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
ｎは１〜１００の整数であり；
Ｘａは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
Ｘｂは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
Ｒａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、−ＳＲａ１、−ＯＲａ２、−ＮＲａ３２、
【化２】
2021045209.tif 000026
であり；
Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ３、Ｒａ４、Ｒａ５およびＲａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基であり；
Ｒａ７は、水素またはハロゲン原子である。］
で表される含フッ素共重合体。
【請求項２】
ＲＦは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１に記載の含フッ素共重合体。
【請求項３】
ＲＦａは、フッ素原子である、請求項２に記載の含フッ素共重合体。
【請求項４】
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−      （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項５】
Ｒ４は、Ｒ４ａである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項６】
Ｒ４ａは、下記式：
【化３】
2021045209.tif 000027
［式中：
Ｒ３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基であり；
Ｒ３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよいアルキル基であり；
Ｒ３３は、各出現において、それぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基であり；
Ｙ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒｃ）−、フェニレンまたはカルバゾリレンであり；
Ｒｃは、有機基であり、
Ｙ２は、単結合または主鎖の原子数が１〜１６であるリンカーである。］
で表される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項７】
Ｒ４ａにおける置換基群Ａより選択される官能基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項８】
ｎは、２〜５０の整数である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項９】
ｎは、２〜３０の整数である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項１０】
１種またはそれ以上の請求項１〜９のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体を含む、表面処理剤。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体または請求項１０に記載の表面処理剤；および
マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
【請求項１２】
請求項１０に記載の表面処理剤あるいは請求項１１に記載の硬化性組成物により形成された膜。
【請求項１３】
基材と、該基材の表面に請求項１０に記載の表面処理剤あるいは請求項１１に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
【請求項１４】
上記物品が光学部材である、請求項１３に記載の物品。
【請求項１５】
ＬｉＤＡＲカバー部材である、請求項１３に記載の物品。
【請求項１６】
センサー部材である、請求項１３に記載の物品。
【請求項１７】
インストルメントパネルカバー部材である、請求項１３に記載の物品。
【請求項１８】
自動車内装部材である、請求項１３に記載の物品。
【請求項１９】
上記物品が絶縁体、誘電体である、請求項１３に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、含フッ素共重合体および該含フッ素共重合体を含有する表面処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。特許文献１には、アクリル樹脂やポリカーボネート等の透明プラスチック等の樹脂材料の基材に対して、含フッ素基および特定の置換基（特許文献１において、置換基群Ａ）を有する含フッ素ポリマーを用いることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１７／２００１０５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記した特許文献１に記載の含フッ素ポリマーは、基材に撥水撥油性などの機能を与え得るが、溶剤に対する溶解性が十分でなく、表面処理層の形成に不具合を生じ得る場合がある。【０００５】
本開示は、樹脂を含む種々の材料から成る基材に、撥水性、撥油性および防汚性に加え、かつ溶剤への溶解性が高い含フッ素共重合体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、以下の態様を含む。
［１］  下記式（１）または（２）：
【化１】
2021045209.tif 000003
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４ａまたはＲ４ｂであり；
Ｒ４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基であり；
Ｒ４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基であり；
前記置換基群Ａは、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
ｎは１〜１００の整数であり；
Ｘａは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
Ｘｂは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
Ｒａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、−ＳＲａ１、−ＯＲａ２、−ＮＲａ３２、
【化２】
2021045209.tif 000004
であり；
Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ３、Ｒａ４、Ｒａ５およびＲａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基であり；
Ｒａ７は、水素またはハロゲン原子である。］
で表される含フッ素共重合体。
［２］  ＲＦは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］に記載の含フッ素共重合体。
［３］  ＲＦａは、フッ素原子である、上記［２］に記載の含フッ素共重合体。
［４］  ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−      （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］〜［３］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［５］  Ｒ４は、Ｒ４ａである、上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［６］  Ｒ４ａは、下記式：
【化３】
2021045209.tif 000005
［式中：
Ｒ３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基であり；
Ｒ３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよいアルキル基でありであり；
Ｒ３３は、各出現において、それぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基であり；
Ｙ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒｃ）−、フェニレンまたはカルバゾリレンであり；
Ｒｃは、有機基であり、
Ｙ２は、単結合または主鎖の原子数が１〜１６であるリンカーである。］
で表される基である、上記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［７］  Ｒ４ａにおける置換基群Ａより選択される官能基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する基である、上記［１］〜［６］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［８］  ｎは、２〜５０の整数である、上記［１］〜［７］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［９］  ｎは、２〜３０の整数である、上記［１］〜［８］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［１０］  １種またはそれ以上の上記［１］〜［９］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体を含む、表面処理剤。
［１１］  上記［１］〜［９］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体または上記［１０］に記載の表面処理剤；および
マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
［１２］  上記［１０］に記載の表面処理剤あるいは上記［１１］に記載の硬化性組成物により形成された膜。
［１３］  基材と、該基材の表面に上記［１０］に記載の表面処理剤あるいは上記［１１］に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
［１４］  上記物品が光学部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１５］  ＬｉＤＡＲカバー部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１６］  センサー部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１７］  インストルメントパネルカバー部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１８］  自動車内装部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１９］  上記物品が絶縁体、誘電体である、上記［１３］に記載の物品。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の含フッ素共重合体は、溶剤への溶解性が高く、表面処理剤として好適に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に記載が無い限り、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【０００９】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ１−２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。
【００１０】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１１】
本明細書において用いられる場合、「アルキル基」としては、特に記載が無い限り、例えば、炭素数１〜１２（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１）のアルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基）が挙げられる。当該「アルキル基」は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは、直鎖状である。また、当該「アルキル基」は官能基を含んでいてもよい。
【００１２】
以下、本開示の含フッ素共重合体について説明する。
【００１３】
本開示は、一般式（１）または（２）：
【化４】
2021045209.tif 000006
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４ａまたはＲ４ｂであり；
Ｒ４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基であり；
Ｒ４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基であり；
上記置換基群Ａは、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
ｎ１は１〜１００の整数であり；
Ｘａは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
Ｘｂは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
Ｒａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、−ＳＲａ１、−ＯＲａ２、−ＮＲａ３２、
【化５】
2021045209.tif 000007
であり；
Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ３、Ｒａ４、Ｒａ５およびＲａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基であり；
Ｒａ７は、水素またはハロゲン原子である。］
で表される含フッ素共重合体を提供する。
【００１４】
上記式（１）において、ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１５】
上記式（２）において、ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１６】
上記式において、Ｒｆ１は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基である。
【００１７】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基における「Ｃ１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基である。
【００１８】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−１６ペルフルオロアルキル基である。
【００１９】
上記Ｃ１−１６ペルフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６ペルフルオロアルキル基、特にＣ１−３ペルフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６ペルフルオロアルキル基、特にＣ１−３ペルフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００２０】
上記式において、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基である。
【００２１】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基における「Ｃ１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３アルキレン基である。
【００２２】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−６ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−３ペルフルオロアルキレン基である。
【００２３】
上記Ｃ１−６ペルフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３ペルフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３ペルフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。
【００２４】
上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【００２５】
上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【００２６】
上記式（１）および（２）において、ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。
【００２７】
ＲＦは、好ましくは、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。
【００２８】
ＲＦａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。
【００２９】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。
【００３０】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。
【００３１】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよい。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよい。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ３Ｆ６）−（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよい。
【００３２】
一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。
【００３３】
一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。
【００３４】
一の態様において、ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）〜（ｆ５）のいずれかで表される基である。
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］；
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−      （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］；
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【００３５】
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−で表される基である。
【００３６】
上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基であってもよい。
【００３７】
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｇ−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｇ−である。
【００３８】
上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００３９】
上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００４０】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。
【００４１】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。
【００４２】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。
【００４３】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。
【００４４】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。
【００４５】
上記ＲＦにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００４６】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９５であり、より好ましくは０．２〜０．９である。
【００４７】
一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０である。
【００４８】
上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００４９】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。
【００５０】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。
【００５１】
上記式において、Ｒ４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４ａまたはＲ４ｂである。
【００５２】
上記Ｒ４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基である。
【００５３】
上記「置換基群Ａより選択される官能基」における置換基群Ａとしては、特に限定されるものではないが、例えば、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基が挙げられる。
【００５４】
一の態様において、置換基群Ａは、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基（以下、アクリロイル基およびメタクリロイル基を合わせて、「（メタ）アクリロイル基」とも言う。）、ハロゲン原子、ビニルエーテル（ビニロキシ）基、水酸基、オキセタニル基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、またはシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基であり得る。
【００５５】
一の態様において、上記置換基群Ａは、例えば、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、置換されていてもよいアクリロイル基、シンナモイル基、２，４−ヘキサジエノイル基、ビニルエーテル（ビニルオキシ）基、水酸基、オキセタニル基、イソシアネート基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、ハロゲン原子、又はシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基であり得る。
【００５６】
好ましい置換基群Ａより選択される官能基はコーティングの対象の材料によって異なり、例えば、当該材料が非晶質の合成樹脂（例、アクリル樹脂）である場合、当該「置換基群Ａより選択される官能基」としては、好ましくは、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基またはＣＨ２＝ＣＸ１−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｘ１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、例えばメチル基）を表す）（例、（メタ）アクリロイル基）であり、より好ましくは、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。
【００５７】
上記脂環式エポキシ基は、好ましくは下記式：
【化６】
2021045209.tif 000008
（式中、ｎは、１〜５の整数である。）
で表される基である。
【００５８】
上記脂環式エポキシ基は、より好ましくは
【化７】
2021045209.tif 000009
である。
【００５９】
Ｒ４ａは、好ましくは、下記式：
【化８】
2021045209.tif 000010
で表される基である。
【００６０】
上記式中、Ｒ３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表す。当該Ｒ３１は、好ましくは水素原子である。
【００６１】
上記式中、Ｒ３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよいアルキル基を表す。当該Ｒ３２は、好ましくはメチル基または水素原子であり、より好ましくは水素原子である
【００６２】
上記式中、Ｒ３３は、各出現において、それぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を表す。
【００６３】
かかる置換基群Ａより選択される官能基としては、上記と同様のものが挙げられるが、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基またはＣＨ２＝ＣＸ１−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｘ１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、例えばメチル基）を表す）が好ましく、具体的にはエポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−Ｃ（Ｏ）−またはＣＨ２＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）−が挙げられる。
【００６４】
上記式中、Ｙ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒｃ）−、フェニレンまたはカルバゾリレンを表す。ここでＲｃは有機基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｙ１に関するこれらの基は、左側が式中のＣに結合し、右側がＹ２に結合する。
【００６５】
Ｙ１は、好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、またはカルバゾリレンであり、より好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−Ｏ−であり、さらに好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−である。
【００６６】
上記式中、Ｙ２は、単結合または主鎖の原子数が１〜１６（より好ましくは２〜１２、さらに好ましくは２〜１０）であるリンカーを表す。
【００６７】
当該Ｙ２としては、特に限定されるものではないが、例えば、
−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｐ１−（ｐ１は、１〜１０の整数を表す）、
−（ＣＨＲｄ）ｐ２−Ｏ−（ｐ２は、１〜４０の整数であり、Ｒｄは、水素、またはメチル基を表す）、
−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｐ３−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−（ｐ３は、１〜１０の整数を表す）、
−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）ｐ４−（ｐ４は１〜６の整数を表す）、
−（ＣＨ２）ｐ５−Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）ｐ６−（ｐ５は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表し、ｐ６は１〜６の整数、好ましくは３を表す）、
−（ＣＨ２）ｐ７−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）ｐ８−（ｐ７は１〜６の整数、好ましくは３を表し、ｐ８は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表す）、または
−Ｏ−（但し、Ｙ１は−Ｏ−ではない）が挙げられる。
【００６８】
好ましいＹ２としては、−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｐ１−（ｐ１は、１〜１０の整数を表す）または−（ＣＨＲｄ）ｐ２−Ｏ−（ｐ２は、１〜４０の整数であり、Ｒｄは、水素、またはメチル基を表す）、具体的には−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−が挙げられる。なお、これらの基は、左端が分子主鎖側（Ｙ１側）に結合し、右端が置換基群Ａより選択される官能基側（Ｒ３３側）に結合する。
【００６９】
Ｒ４ａは、さらに好ましくは、下記式：
【化９】
2021045209.tif 000011
で表される基である。
【００７０】
上記式中、ｑ１は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば１である。ｑ２は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば２である。ｑ３は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば１である。
【００７１】
上記Ｒ４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基である。
【００７２】
Ｒ４ｂは、好ましくは、−ＣＨＲ４ｃ−ＣＲ４ｄＲ４ｅ−である。ここに、Ｒ４ｃおよびＲ４ｄは、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、Ｒ４ｅ基は、−Ｙ３−Ｒ４ｆである。ここに、Ｙ３は上記Ｙ１と同意義であり、Ｒ４ｆは、置換基群Ａより選択される官能基を有しない有機基であり、後記の基Ｒ４ｇがリンカーを介して、または直接Ｙ３に結合する基である。
【００７３】
当該リンカーは、好ましくは、
（ａ）−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｓ１−（ｓ１は、１〜１０の整数を表す。）、
（ｂ）−（ＣＨＲ４ｈ）ｓ２−Ｏ−（ｓ２は、１〜４０の整数である繰り返し数を表す。Ｒ４ｈは、水素またはメチル基を表す。）、
（ｃ）−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｓ１−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−（ｓ１は、上記と同意義である。）、
（ｄ）−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、
（ｅ）−（ＣＨ２）ｓ３−（ｓ３は１〜６の整数を表す。）、または
（ｆ）−（ＣＨ２）ｓ４−Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）ｓ５−（ｓ４は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表す。ｓ５は１〜６の整数、好ましくは３を表す。）、または
（ｇ）−Ｏ−（但し、Ｙ３は−Ｏ−ではない）
である。
【００７４】
Ｒ４ｇは、好ましくは以下の基である。
（ｉ）アルキル基
例：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、オクタデシル
【００７５】
（ｉｉ）フッ素で置換されたアルキル基を含有する鎖状基
例：
【化１０】
2021045209.tif 000012
【００７６】
（ｉｉｉ）単環式炭素環、二環式炭素環、三環式炭素環、および四環式炭素環からなる群より選択される１個以上の環状部を含有する基
例：
【化１１】
2021045209.tif 000013
（ｉｖ）水素（ただし、該水素原子は、リンカーの酸素原子とは結合しない）
（ｖ）イミダゾリウム塩を含有する基
例：
【化１２】
2021045209.tif 000014
（ｖｉ）ケイ素を含有する基
2021045209.tif 000015
上記式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す。
【００７７】
上記アルキル基としては、特に限定されるものではないが、炭素数１〜１０のアルキル基、および炭素数３〜２０のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、具体的には、Ｒ１１に関しては炭素数ｎ−ブチル基であり、Ｒ１２〜Ｒ１７に関してはメチル基である。
【００７８】
上記アリール基としては、特に限定されるものではないが、炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。当該アリール基は、２個またはそれ以上の環を含んでいてもよい。好ましいアリール基は、フェニル基である。
【００７９】
上記アルキル基およびアリール基は、所望により、その分子鎖または環中に、ヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有していてもよい。
【００８０】
さらに、上記アルキル基およびアリール基は、所望により、ハロゲン；１個またはそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基から選択される、１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００８１】
上記式中、Ｒ１８は、２価の有機基を表す。
【００８２】
上記Ｒ１８は、好ましくは、−（ＣＨ２）ｒ”−（式中、ｒ”は１以上２０以下の整数、好ましくは１以上１０以下の整数である）であり、より好ましくは、−（ＣＨ２）ｒ”−（式中、ｒ”は１以上１０以下の整数である）である。
【００８３】
上記式中、ｎ４は、それぞれ独立して、１以上５００以下の整数である。当該ｎ４は、好ましくは１以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下である。
【００８４】
Ｒ４ｇは、より好ましくは、水素原子（ただし、Ｏに結合し水酸基を形成するものを除く）、またはフッ素化されていてもよく、かつエチレン鎖またはオキシエチレン鎖を介して結合してもよいアルキル基であり、より好ましくは、水素原子、メトキシエチル基、イソブチル基、またはＲ４ｉ−ＣＦ２−（ＣＦ２）ｓ６−（ＣＨ２）ｓ７−Ｏ−（ＣＨ２）２−（Ｒ４ｉはフッ素原子または水素原子であり、ｓ６は０〜６の整数であり、およびｓ７は１〜６の整数である）であり、さらに好ましくは、３−（ペルフルオロエチル）プロポキシエチル基［示性式：ＣＦ３−（ＣＦ２）−（ＣＨ２）３−Ｏ−（ＣＨ２）２−］である。
【００８５】
上記Ｒ４中、構成単位Ｒ４ａと構成単位Ｒ４ｂは、それぞれがブロックを形成していてもよく、ランダムに結合していてもよい。
【００８６】
一の態様において、Ｒ４中、構成単位Ｒ４ａと構成単位Ｒ４ｂは、それぞれがブロックを形成する。
【００８７】
一の態様において、Ｒ４中、構成単位Ｒ４ａと構成単位Ｒ４ｂは、ランダムに結合する。
【００８８】
一の態様において、Ｒ４は、Ｒ４ａである。即ち、Ｒ４は、置換基群Ａより選択される官能基を有する構成単位Ｒ４ａからなる。
【００８９】
好ましい態様において、Ｒ４ａの数（重合度）は、１〜１００であり、好ましくは２〜７０、より好ましくは２〜５０、さらに好ましくは２〜３０である。
【００９０】
一の態様において、Ｒ４は、Ｒ４ｂである。即ち、Ｒ４は、置換基群Ａより選択される官能基を有しない構成単位Ｒ４ｂからなる。
【００９１】
好ましい態様において、Ｒ４ｂの数（重合度）は、１〜１００であり、好ましくは２〜７０、より好ましくは２〜５０、さらに好ましくは２〜３０である。
【００９２】
上記式において、ｎは１〜１００の整数であり、好ましくは２〜７０の整数、より好ましくは２〜５０の整数、さらに好ましくは２〜３０の整数である。
【００９３】
上記式中、Ｘａは、それぞれ独立して、二価の有機基である。
【００９４】
上記式中、Ｘｂは、それぞれ独立して、二価の有機基である。
【００９５】
上記式中、−Ｘａ−Ｘｂ−は、式（１）および（２）で表される含フッ素共重合体において、ＲＦ１と、Ｒ４とを連結するリンカーの一部と解される。したがって、ＸａおよびＸｂは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２価の有機基であってもよい。
【００９６】
一の態様において、Ｘａは、それぞれ独立して、下記式：
−（Ｑ）ｅ−（ＣＦＺ）ｆ−（ＣＨ２）ｇ−
で表される基である。式中、ｅ、ｆおよびｇは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｅ、ｆおよびｇの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【００９７】
上記式中、Ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲｑ−（式中、Ｒｑ１は、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基である。好ましくは、Ｑは、酸素原子または２価の極性基である。
【００９８】
上記Ｑにおける「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲｂ）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲｑ２−（これらの式中、Ｒｑ２は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【００９９】
上記式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【０１００】
Ｘａは、好ましくは、下記式：
−（Ｏ）ｅ−（ＣＦ２）ｆ−（ＣＨ２）ｇ−
［式中、ｅ、ｆおよびｇは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である］
で表される基である。なお、これらの基は左端がＲＦ１に結合する。
【０１０１】
一の態様において、Ｘａは、
−（Ｏ）ｅ１−（ＣＨ２）ｇ２−Ｏ−［（ＣＨ２）ｇ３−Ｏ−］ｇ４、
−（Ｏ）ｅ１−（ＣＦ２）ｆ２−（ＣＨ２）ｇ２−Ｏ−［（ＣＨ２）ｇ３−Ｏ−］ｇ４
［式中、
ｅ１は０または１であり、
ｆ２、ｇ２およびｇ３は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、
ｇ４は、０または１である］
で表される基であり得る。なお、これらの基は左端がＲＦ１に結合する。
【０１０２】
好ましい態様において、Ｘａは、
−（ＣＨ２）ｇ２−Ｏ−
［式中、ｇ２は、１〜１０の整数である。］
で表される基であり得る。なお、かかる基は左端がＲＦ１に結合する。
【０１０３】
上記式中、Ｘｂは、それぞれ独立して、二価の有機基である。
【０１０４】
一の態様において、Ｘｂは、下記式：
−ＣＯ−Ｒｂ３−ＣＲｂ１Ｒｂ２−
［式中：
Ｒｂ１およびＲｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−３アルキル基、フェニル基または−ＣＮであり、
Ｒｂ３は、単結合または置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基である。］
で表される基であり得る。なお、かかる基は右端がＲ４に結合する。
【０１０５】
上記Ｒｂ１およびＲｂ２は、それぞれ独立して、好ましくは、Ｃ１−３アルキル基、フェニル基または−ＣＮであり、より好ましくは、Ｃ１−３アルキル基または−ＣＮである。Ｃ１−３アルキル基は、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
【０１０６】
一の態様において、Ｒｂ１は、Ｃ１−３アルキル基、好ましくはメチル基であり、Ｒｂ２は、水素原子または−ＣＮである。
【０１０７】
上記Ｒｂ３における「置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基」における置換基は、好ましくはＣ１−３アルキル基またはフェニル基であり、好ましくはＣ１−３アルキル基である。Ｃ１−３アルキル基は、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。該置換基は、１つであってもよく、または２つ以上であってもよい。
【０１０８】
上記Ｒｂ３におけるＣ１−６アルキレン基は、好ましくはＣ１−３アルキレン基、より好ましくはＣ２−３アルキレン基、例えばジメチレン基であり得る。
【０１０９】
一の態様において、Ｒｂ３は、単結合である。
【０１１０】
別の態様において、Ｒｂ３は、置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり、好ましくはＣ１−６アルキレン基である。
【０１１１】
上記式中、Ｒａは、アルキル、フェニル、−ＳＲａ１、−ＯＲａ２、−ＮＲａ３２、
【化１３】
2021045209.tif 000016
である。Ｒａは、いわゆるＲＡＦＴ剤の一部であり得る。
【０１１２】
上記式中、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ３、Ｒａ４、Ｒａ５およびＲａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基である。
【０１１３】
上記Ｒａ１は、好ましくはＣ１−２０アルキル基、より好ましくはＣ３−１８アルキル基、さらに好ましくはＣ４−１２アルキル基である。
【０１１４】
上記Ｒａ２は、好ましくはフェニル基またはＣ１−２０アルキル基である。該Ｃ１−２０アルキル基は、好ましくはＣ１−１０アルキル基、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはＣ１−３アルキル基である。
【０１１５】
上記Ｒａ３は、好ましくはＣ１−２０アルキル基、より好ましくはＣ１−１０アルキル基、さらに好ましくはＣ１−６アルキル基、さらにより好ましくはＣ１−３アルキル基である。
【０１１６】
上記Ｒａ４は、好ましくはＣ１−６アルキル基、より好ましくはＣ１−３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１１７】
上記Ｒａ５は、好ましくはＣ１−６アルキル基、より好ましくはＣ１−３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１１８】
上記Ｒａ６は、好ましくはＣ１−６アルキル基、より好ましくはＣ１−３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１１９】
上記Ｒａ７は、水素またはハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは塩素）である。
【０１２０】
一の態様において、Ｒａは、−ＳＲａ１または−ＯＲａ２である。
【０１２１】
好ましい態様において、本開示の含フッ素共重合体は、式（１）で表される含フッ素共重合体であり得る。
【０１２２】
本開示の含フッ素共重合体の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、２×１０２〜１×１０５、好ましくは１×１０３〜５×１０４、より好ましくは３×１０３〜２×１０４であり得る。かかる範囲の数平均分子量を有することにより、溶剤への溶解性および表面処理層の接触角をより大きくすることができる。当該数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができる。
【０１２３】
本開示の含フッ素共重合体の多分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．５以下、さらに好ましくは２．０以下、さらにより好ましくは１．５以下であり得る。多分散度を小さくすることにより、より均質な表面処理層を形成することができ、表面処理層の耐久性を向上させることができる。
【０１２４】
本開示の含フッ素重合体は、例えば、いわゆるＲＡＦＴ（Reversible addition-fragmentation chain transfer）型のラジカル重合を利用して合成することができる。
【０１２５】
まず、ペルフルオロポリエーテル基を有するＲＡＦＴ剤を調製する。例えば、ペルフルオロポリエーテルを有する化合物（Ａ）とＲＡＦＴ骨格（−ＳＣ（＝Ｓ）−）を有する化合物（Ｂ１）または（Ｂ２）：
【化１４】
2021045209.tif 000017
［式中、Ｒａ、ＲＦ１、ＲＦ２、ＸａおよびＸｂは、上記と同意義であり；
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ、脱離部分である。］
を反応させて、ペルフルオロポリエーテル基を有する連鎖移動剤（１ａ）または（２ａ）：
【化１５】
2021045209.tif 000018
［式中、Ｒａ、ＲＦ１、ＲＦ２、ＸａおよびＸｂは、上記と同意義である。］
を得ることができる。
【０１２６】
上記で得られた連鎖移動剤（１ａ）または（２ａ）と、不飽和結合を有する単量体とを反応させることにより、上記式（１）または（２）で表される化合物を得ることができる。かかる反応は、いわゆるＲＡＦＴ重合であり、反応条件は、ＲＡＦＴ重合で一般的に用いられる条件を用いることができる。
【０１２７】
次に、上記一般式（１）および（２）で表される含フッ素共重合体を含有する表面処理剤について説明する。
【０１２８】
本開示の含フッ素共重合体は、好ましくは、樹脂を含む種々の材料から成る基材の表面の処理に用いられる。すなわち、本開示は、１種またはそれ以上の上記式（１）および（２）で表される含フッ素共重合体を含有する表面処理剤を提供する。
【０１２９】
本開示の表面処理剤は、さらに、下記一般式（Ｃ）：
【化１６】
2021045209.tif 000019
で表される少なくとも１種の含フッ素オイル（以下、「含フッ素オイル（Ｃ）」とも称する）を含有してもよい。
【０１３０】
上記式（Ｃ）中、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、Ｒｆ３は、水素原子、フッ素原子、または１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。好ましくは、Ｒｆ２およびＲｆ３は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基である。
【０１３１】
上記式（Ｃ）中、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するペルフルオロ（ポリ）エーテルの３種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数、好ましくは０以上２００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０１３２】
上記一般式（Ｃ）で表される含フッ素オイルの例として、以下の一般式（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれか： 
Ｒｆ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−Ｒｆ３                    ・・・（Ｃ１）
［式中、Ｒｆ２およびＲｆ３は上記の通りであり、ｂ”は、０〜３００の整数であり、添字ｂ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
Ｒｆ２−(ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２)ａ”−(ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２)ｂ”−(ＯＣＦ２ＣＦ２)ｃ”−(ＯＣＦ２)ｄ”−Ｒｆ３                                ・・・（Ｃ２）
［式中、Ｒｆ２およびＲｆ３は上記の通りであり、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃ”およびｄ”は、それぞれ独立して、０〜３００の整数であり、添字ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
【０１３３】
上記含フッ素オイル（Ｃ）は、約１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
【０１３４】
本開示の表面処理剤中、かかる含フッ素オイル（Ｃ）は、上記含フッ素共重合体の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜８０質量部、好ましくは０〜４０質量部で含まれ得る。
【０１３５】
本開示の表面処理剤中、かかる含フッ素オイル（Ｃ）は、上記含フッ素共重合体と含フッ素オイル（Ｃ）の合計に対して、好ましくは４０質量％以下で含まれ得る。
【０１３６】
上記含フッ素オイル（Ｃ）は、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１３７】
本開示の表面処理剤は、上記以外に、他の成分、例えばシリコーンオイル、活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤、熱酸発生剤、活性エネルギー線カチオン硬化開始剤などを含んでいてもよい。
【０１３８】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０１３９】
本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記含フッ素共重合体の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５０質量部、好ましくは０〜１０質量部で含まれ得る。
【０１４０】
上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤としては、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などが照射されることによって初めてラジカルを発生し、置換基群Ａより選択される官能基として硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位（例えば、炭素−炭素二重結合）の硬化（架橋反応）を開始させる触媒として働くものであり、通常、紫外光線でラジカルを発生させるものを使用する。
【０１４１】
本開示の表面処理剤における活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤は、含フッ素共重合体中の硬化性部位の種類、使用する活性エネルギー線の種類（波長域など）と照射強度などによって適宜選択されるが、一般に紫外線領域の活性エネルギー線を用いてラジカル反応性の硬化性部位（炭素−炭素二重結合）を有する含フッ素共重合体を硬化させる開始剤としては、例えば、以下のものが例示できる。
【０１４２】
・アセトフェノン系
アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパンー１−オンなど
【０１４３】
・ベンゾイン系
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなど
【０１４４】
・ベンゾフェノン系
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ−プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなど
【０１４５】
・チオキサンソン類
チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなど
【０１４６】
・その他
ベンジル、α−アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなど
【０１４７】
これらの活性エネルギー線硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１４８】
上記活性エネルギー線硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜１０００質量部、好ましくは０．１〜５００質量部で含まれる。
【０１４９】
上記熱酸発生剤を用いることにより、熱によりカチオン種を含む化合物の分解反応が起こり、硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位（例えば、環状エーテル）の硬化（架橋反応）を開始させる。
【０１５０】
上記熱酸発生剤としては、例えば、下記一般式（ａ）：
（Ｒ１ａＲ２ｂＲ３ｃＲ４ｄＺ）＋ｍ（ＡＸｎ）−ｍ      （ａ）
（式中、Ｚは、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｎ及びハロゲン元素からなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一又は
異なって、有機基を表す。ａ、ｂ、ｃ及びｄは、０又は正数であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄの合計はＺの価数に等しい。カチオン（Ｒ１ａＲ２ｂＲ３ｃＲ４ｄＺ）＋ｍはオニウム塩を表す。Ａは、ハロゲン化物錯体の中心原子である金属元素又は半金属元素（ｍｅｔａｌｌ
ｏｉｄ）を表し、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏからなる群より選ばれる少なくとも一つである。Ｘは、ハロゲン元素を表す。ｍは、ハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷である。ｎは、ハロゲン化物錯体イオン中のハロゲン元素の数である。）で表される化合物が好適である。
【０１５１】
上記一般式（ａ）の陰イオン（ＡＸｎ）−ｍの具体例としては、テトラフルオロボレート
（ＢＦ４−）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ６−）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ６−）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ６−）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ６−）等が挙げられる。
更に一般式ＡＸｎ（ＯＨ）−で表される陰イオンも用いることができる。また、その他の陰イオンとしては、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸イオン等が挙げられる。
【０１５２】
上記熱酸発生剤の具体的な商品としては、例えば、ＡＭＥＲＩＣＵＲＥシリーズ（アメリカン・キャン社製）、ＵＬＴＲＡＳＥＴシリーズ（アデカ社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩タイプ；ＵＶＥシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＵＶ９３１０Ｃ（ＧＥ東芝シリコーン社製）、Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４（ローヌプーラン社製）、ＷＰＩシリーズ（和光純薬社製）等のヨードニウム塩タイプ；ＣＹＲＡＣＵＲＥシリーズ（ユニオンカーバイド社製）、ＵＶＩシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＣＤシリーズ（サトーマー社製）、オプトマーＳＰシリーズ・オプトマーＣＰシリーズ（アデカ社製）、サンエイドＳＩシリーズ（三新化学工業社製）、ＣＩシリーズ（日本曹達社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ社製）等のスルホニウム塩タイプ等が挙げられる。
【０１５３】
これらの熱酸発生剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１５４】
上記熱酸発生剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜１，０００質量部、好ましくは０．１〜５００質量部で含まれる。
【０１５５】
上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤を用いることにより、光によりカチオン種を含む化合物が励起されて光分解反応が起こり、硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位（例えば、環状エーテル）の硬化（架橋反応）を開始させる。
【０１５６】
上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート、ジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が好適である。
【０１５７】
上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤の具体的な商品としては、例えば、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（ユニオンカーバイド社製）；アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２（ＡＤＥＫＡ社製）；Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（チバ・ジャパン社製）；ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４（日本曹達社製）；ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（サートマー社製）；ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（みどり化学社製）；ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣｌ−０６２Ｔ、ＰＣｌ−０２０Ｔ、ＰＣｌ−０２２Ｔ（日本化薬社製）；ＣＰｌ−１００Ｐ、ＣＰＴ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ（サンアプロ社製）；サンエイドＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、サンエイドＳＩ−１００Ｌ、サンエイドＳＴ−１１０Ｌ、サンエイドＳＩ−１４５、サンエイドＳＩ−１５０、サンエイドＳＩ−１６０、サンエイドＳＩ−１８０Ｌ（三新化学工業社製）；ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩タイプ、ヨードニウム塩タイプ、スルホニウム塩タイプが好ましい。__
【０１５８】
これらの活性エネルギー線カチオン硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１５９】
上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜１，０００質量部、好ましくは０．１〜５００質量部で含まれる。
【０１６０】
本開示の表面処理剤は、溶剤を含んでいてもよい。本開示の表面処理剤に含まれる含フッ素共重合体は、フッ素含有有機溶媒のみならず、汎用溶剤であるフッ素非含有有機溶媒に対しても高い溶解性を示すので、上記溶剤としては、フッ素含有有機溶媒およびフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。
【０１６１】
このようなフッ素含有有機溶媒としては、例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロデカリン、ペルフルオロアルキルエタノール、ペルフルオロベンゼン、ペルフルオロトルエン、ペルフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、ペルフルオロアルキルエーテル、ペルフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ−７１００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、ペルフルオロアルキルブロミド、ペルフルオロアルキルヨージド、ペルフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２−（ペルフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２−（ペルフルオロアルキル）エチル、ペルフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、およびヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。
【０１６２】
また、このようなフッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２−ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。
【０１６３】
なかでも、本開示の表面処理剤に用いられる溶剤は、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコールまたは２−プロパノールである。
【０１６４】
これらの溶剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１６５】
かかる溶剤は、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、５〜１００，０００質量部、好ましくは５〜５０，０００質量部で含まれる。
【０１６６】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、マトリックスを形成する組成物に加えることにより、硬化性組成物とすることができる。
【０１６７】
上記硬化性組成物は、本開示の含フッ素共重合体または表面処理剤を、０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％含有する。
【０１６８】
上記マトリックスを形成する組成物とは、少なくとも１つの炭素―炭素二重結合を有する化合物、例えば、特に限定されるものではないが、単官能および／または多官能アクリレートおよびメタクリレート（以下、アクリレートおよびメタクリレートを合わせて、「（メタ）アクリレート」とも言う）、単官能および／または多官能ウレタン（メタ）アクリレート、単官能および／または多官能エポキシ（メタ）アクリレートである化合物を含有する組成物を意味する。当該マトリックスを形成する組成物としては、特に限定されるものではないが、一般的にハードコーティング剤または反射防止剤とされる組成物であり、例えば多官能性（メタ）アクリレートを含むハードコーティング剤または含フッ素（メタ）アクリレートを含む反射防止剤が挙げられる。当該ハードコーティング剤は、例えば、ビームセット５０２Ｈ、５０４Ｈ、５０５Ａ−６、５５０Ｂ、５７５ＣＢ、５７７、１４０２（商品名）として荒川化学工業株式会社から、ＥＢＥＣＲＹＬ４０（商品名）としてダイセルサイテックから、ＨＲ３００系（商品名）として横浜ゴムから市販されている。上記反射防止剤は、例えばオプツールＡＲ−１１０（商品名）としてダイキン工業株式会社から市販されている。
【０１６９】
上記マトリックスを形成する組成物として単官能及び／又は多官能エポキシである化合物を含有する組成物も好ましい。例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−５，５−スピロ−（３，４−エポキシシクロヘキサン）−１，３−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ樹脂を使用できる。
【０１７０】
また、水添型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、又はイソシアヌレート環を含有するエポキシ樹脂、あるいは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、前記各種エポキシ樹脂の芳香環を水素添加した水添型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用できる。
【０１７１】
本開示の表面処理剤および硬化性組成物は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤などを含んでいてもよい。
【０１７２】
次に、本開示の物品について説明する。
【０１７３】
本開示は、基材と、該基材の表面に本開示の表面処理剤または硬化性組成物（以下、本開示の表面処理剤または硬化性組成物を合わせて、「表面処理剤」または「表面処理組成物」ともいう）により形成された層（表面処理層）とを含む物品を提供する。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
【０１７４】
まず、基材を準備する。本開示に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料、好ましくは、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリイミド樹脂、モディファイド（透明）ポリイミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、銀、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【０１７５】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、位相差フィルム、有機ＥＬ表示モジュールおよび液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０１７６】
例えば、製造すべき物品が絶縁部材や誘電体部材である場合、基材の表面を構成する材料は、電子又は電気用材料、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、液晶ポリマー、フッ素樹脂あるいは、それらの複合材料、例えば紙フェノールやガラスクロス含侵エポキシ等、または銅、アルミなどの金属材料、アルミナ、ガラスといった無機材料であってもよい。
【０１７７】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０１７８】
次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から表面処理層を形成する。
【０１７９】
本開示の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法を使用できる。
【０１８０】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。
【０１８１】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。当該溶媒としては、上記したフッ素含有有機溶媒およびフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のペルフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサンおよびペルフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、ペルフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）、ペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）、ペルフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）などのアルキルペルフルオロアルキルエーテル（ペルフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶剤；ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノンなどのケトン系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテル、グリコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤が好ましく、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールが特に好ましい。
【０１８２】
次に、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などを照射することにより行われる。もしくは所定時間加熱することにより行われる。かかる後処理を施すことにより、硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位、ならびに存在する場合にはハードコーティング剤の硬化性部位の硬化を開始させ、これらの化合物間、また、これらの化合物と基材間に結合が形成される。
【０１８３】
上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する表面処理層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性および表面滑り性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０１８４】
すなわち本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。
【０１８５】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、フィルムまたはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０１８６】
本開示によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、飛散防止フィルム、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。
【０１８７】
一の態様において、本開示によって得られる表面処理層を有する物品としては、例えば、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging）カバー部材、センサー部材、インストルメントパネルカバー部材、自動車内装部材等、特に自動車用のこれらの部材が挙げられる。
【０１８８】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜２０μｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０１８９】
また、本開示の含フッ素共重合体は、フッ素を含んでいるため電気特性の優れた絶縁体や誘電体としても使用することができる。
【０１９０】
すなわち、本開示はさらに、硬化性組成物から形成された絶縁体、および誘電体にも関する。
【０１９１】
上記絶縁体および誘電体は膜を形成してもよい。すなわち、上記絶縁体および誘電体は、絶縁膜や誘電膜としても好適に使用される。絶縁膜は、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、レジスト剥離及び洗浄後に形成される絶縁膜等の半導体用絶縁膜、プリント基板に積層される絶縁膜、セラミック配線基板の絶縁膜、フィルムコンデンサー、信号線（例えば電線）被覆材用の絶縁膜などとして使用できる。
【０１９２】
上記絶縁膜又は誘電膜は、高周波伝送路の誘電体絶縁層に使用可能である。高周波伝送路の例としては自動運転用ミリ波レーダー基板があげられる。絶縁膜又は誘電膜は、フッ素を含有しているため低誘電正接 tanδ、低誘電率であるため、車載レーダーの感度を向上できる。
【０１９３】
上記絶縁膜は、高速通信対応基板の絶縁体として使用できる。高周波電気信号の伝送損失を示す次の式から理解されるように、誘電率又は誘電正接を低下させることによって伝送損失を低下できる。
【数１】
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【０１９４】
本開示の絶縁膜は、フッ素の効果で誘電率、誘電正接が低いため、高速対応基板の絶縁体として有利である。
【０１９５】
そのような高速通信対応基板としては、基地局アンテナ基板、アンテナ分配基板、無線基地局の無線部分であるＲＲＨ（Remote Radio Head）用基板、無線基地局の制御部又はベースバンド部（BBU：Base Band Unit）用基板、高速通信用トランシーバー基板、ＲＮＣ（Radio Network Contoroler）用基板、高速トランスミッター用基板、高速レシーバー用基板、高速信号多重回路用基板、６０ＧＨｚ帯使用のＷｉＦｉｇ用基板、データセンター用のサーバーで使用されるデーター転送用基板などがあげられる。
【０１９６】
また、高速通信対応基板としては、アンテナ用基板、例えば５Ｇ以降の規格で求められる大容量通信に向けた、超多素子アンテナ(Massive MIMO)向けの基板等も例示できる。
【０１９７】
上記絶縁膜は、基板用の絶縁体のみならず、信号線被覆材用の絶縁体として使用できる。例えば、高速信号を伝送する導波管、高速ＬＡＮ用のＱＳＦＰケーブル、高速通信対応用の同軸ケーブル（例；SFP+ケーブル、QSFP+ケーブルなど）、低損失用の同軸ケーブル等の絶縁被覆材（例；絶縁チューブ）として使用できる。
【０１９８】
こうした高周波を使用する場合、コネクタなどの電気部品、ケーシングなどの通信機器に使用される資材には、安定して低い誘電率（εｒ）及び低い誘電正接（ｔａｎ  δ）といった電気的特性が求められる。絶縁膜は、そのような資材用の絶縁材料としても使用できる。
【０１９９】
絶縁膜は、ハンダ付けが必要となるコネクタプリント配線基板用の絶縁材料としても使用できる。絶縁体は優れた耐熱性を有しているので、ハンダ付け時の高温でも問題が生じにくい。
【０２００】
誘電体導波線路においては、高周波のミリ波又はサブミリ波を低損失で伝送させために、低誘電損失な材料が求められている。誘電膜は、ミリ波、サブミリ波等を伝送する誘電体導波線路用の絶縁材料としても使用できる。誘電体導波線路としては、円柱状誘電体線路、方形状誘電体線路、だ円形状誘電体線路、チューブ状誘電体線路、イメージ線路、インシュラーイメージ線路、トラップドイメージ線路、リブガイド、ストリップ誘電体線路、逆ストリップ線路、Ｈガイド、非放射性誘電体線路（ＮＲＤガイド）等が挙げられる。
【０２０１】
本発明の絶縁膜又は誘電膜が用いられる部品としては絶縁性が求められる部品であればよく、例えば、電子部品、タッチパネル用、太陽電池パネル用、ディスプレイ用各種部品、などが挙げられる。構成部品としては、具体的には、半導体、プリント基板、素子封止材、素子保護膜などが挙げられる。
【０２０２】
以上、本開示の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０２０３】
以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、ペルフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）等）の存在順序は任意である。【０２０４】
１．ペルフルオロポリエーテル含有連鎖移動剤の合成
合成例１
連鎖移動剤（Ａ−１）の合成
フラスコに２−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸（富士フイルム和光純薬社製）０．５０５ｇ、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（東京化成工業社製）０．０１９ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）（東京化成工業社製）０．２９３ｇ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ｎの平均値≒２５）で表されるペルフルオロポリエーテルを含有するアルコール（ダイキン工業社製）５．０ｇをとり、アサヒクリンＡＫ−２２５（ＡＧＣ社製）の１３ｍＬを加えて室温で撹拌し反応を行った。一晩撹拌後、反応液を飽和重曹水、食塩水で洗浄した。有機層を分離して濃縮し、メタノール中に滴下して、２−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸とペルフルオロポリエーテルを含有するアルコールとの脱水縮合反応物である黄色油状の目的物（Ａ−１）４．５６ｇを得た。化合物の構造は１Ｈおよび１９ＦＮＭＲ測定により確認した。【０２０５】
合成例２
連鎖移動剤（Ａ−２）の合成
２−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸０．５０５ｇに替えて２−［（ブチルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００５，３８，２１９１−２２０４を参照し合成）０．３４３ｇに変更した以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ−２）４．２８ｇを得た。【０２０６】
合成例３
連鎖移動剤（Ａ−３）の合成
２−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸０．５０５ｇに替えて４−シアノ−４−［（チオエトキシル）スルファニル］ペンタン酸（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９９，４０，２７７−２８０を参照し合成）０．３５６ｇに変更した以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ−３）４．２０ｇを得た。【０２０７】
合成例４
連鎖移動剤（Ａ−４）の合成
ペルフルオロポリエーテルを含むアルコールとしてＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ｎの平均値≒１４）３．１ｇを用いた以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ−４）２．５９ｇを得た。【０２０８】
合成例５
連鎖移動剤（Ａ−５）の合成
２−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸を０．４２１ｇ、ＤＭＡＰを０．０１５ｇ、ＥＤＣＩを０．２３０ｇに変更し、ペルフルオロポリエーテルを含有するアルコールとしてＣＦ３ＣＦ２（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（数平均分子量４２００、ｎ／ｍ＝１．１）４．２ｇを用いたこと以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ−５）４．２７ｇを得た。【０２０９】
合成例６
連鎖移動剤（Ａ−６）の合成
ペルフルオロポリエーテルを含むアルコールとしてＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２［ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２］ｎＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ（ｎ≒２５）５．０ｇを用いた以外は合成例１と同様にして目的物（Ａ−６）４．６８ｇを得た。【０２１０】
連鎖移動剤（Ａ−７）の合成
ペルフルオロポリエーテルを含むアルコールとしてＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ｎの平均値≒３５）８．１ｇを用いた以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ−７）７．７０ｇを得た。【０２１１】
２．エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマーの合成
（１）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−１）〜（Ｐ−６）の合成
反応容器内に連鎖移動剤（Ａ−１）の１．０ｇ、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（４ＨＢＡＧＥ）（三菱ケミカル社製）０．９２ｇ、Ｎ，Ｎ’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（富士フイルム和光純薬社製）１２ｍｇを加え、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）２．９ｍＬに溶解した。７５℃で１７時間加熱し、反応液をヘキサンに滴下してブロックポリマー（Ｐ−１）を沈殿させて回収した。１Ｈ−ＮＭＲ測定より４ＨＢＡＧＥの重合度は２０と算出された。
上記と同様にして、４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．４６ｇ、０．２３ｇ、１．４０ｇ、０．１４ｇ、４．８３ｇに変えることにより表１に示すように重合度が１０、５、３０、３、１０５のブロックポリマー（Ｐ−２）〜（Ｐ−６）を合成した。【０２１２】
（２）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−７）の合成
連鎖移動剤（Ａ−１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ−２）１．０ｇに変更したこと以外はＰ−１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ−７）を得た。【０２１３】
（３）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−８）の合成
連鎖移動剤（Ａ−１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ−３）１．０ｇに変更したこと以外はＰ−１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ−８）を得た。【０２１４】
（４）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−９）の合成
連鎖移動剤（Ａ−１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ−４）０．６２ｇに、４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．４６ｇに変更したこと以外はＰ−１の合成と同様に重合を行い、重合度１０のブロックポリマー（Ｐ−９）を得た。【０２１５】
（５）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−１０）の合成
連鎖移動剤（Ａ−１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ−５）１．０ｇに変更したこと以外はＰ−１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ−１０）を得た。【０２１６】
（６）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−１１）の合成
連鎖移動剤（Ａ−１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ−６）１．０ｇに変更したこと以外はＰ−１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ−１１）を得た。【０２１７】
３．架橋性基を持たないＰＦＰＥブロックポリマーの合成
４ＨＢＡＧＥをアクリル酸−ｎ−ブチル（ｎＢＡ）０．５９ｇに変更し、ポリマーを沈殿させる際にメタノールを用いたこと以外は、Ｐ−１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ−１２）を得た。【０２１８】
４．（メタ）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマーの合成
（１）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−１５），（Ｐ−１６）の合成
反応容器内に連鎖移動剤（Ａ−１）１．３ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）（東京化成工業社製）０．１８ｇ、ＡＩＢＮ１５．５ｍｇを加え１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２．１ｍＬに溶解した。７０℃で２２．５時間加熱し重合させ、ブロックポリマー（Ｐ−１３）の溶液を得た。１Ｈ−ＮＭＲ測定よりＨＥＡの重合度は５と算出された。
同様にして、ＨＥＡの仕込み量を０．３６ｇに変更し表に示すように重合度１０のブロックポリマー（Ｐ−１４）を合成した。【０２１９】
続けて上記で得られたブロックポリマー（Ｐ−１３）溶液に、ポリマー（Ｐ−１３）中ＨＥＡユニットに対して１．１当量のカレンズＡＯＩ（昭和電工社製）、０．０１当量のジブチルスズジラウレート（ＤＢＴＤＬ）（東京化成工業社製）を加え、４０℃で２時間撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲ測定により、水酸基が１００％反応していることを確認したのち反応液をヘキサンに滴下してアクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ−１５）を沈殿させ、回収した。
ブロックポリマー（Ｐ−１４）についても同様の反応を行い、重合度の異なるブロックポリマー（Ｐ−１６）を合成した。【０２２０】
（２）メタクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−１７），（Ｐ−１８）の合成
カレンズＡＯＩをカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）に変更したこと以外はＰ−１５およびＰ−１６の合成と同様にして表に示すようにメタクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ−１７），（Ｐ−１８）を合成した。【０２２１】
（３）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−２１），（Ｐ−２２）の合成
反応容器内に（Ａ−１）１．２ｇ、４−ヒドロキシブチルアクリレート（ＨＢＡ）（東京化成工業社製）０．２０ｇ、ＡＩＢＮ１４．０ｍｇを加え１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２．１ｍＬに溶解した。７０℃で２２．５時間加熱し重合させ、ブロックポリマー（Ｐ−１９）の溶液を得た。１Ｈ−ＮＭＲ測定よりＨＢＡの重合度は５と算出された。
同様にして、ＨＢＡの仕込み量を０．４０ｇに変更し表に示すように重合度１０のブロックポリマー（Ｐ−２０）を合成した。【０２２２】
続けて上記で得られたブロックポリマー（Ｐ−１９）溶液に、ポリマー（Ｐ−１９）中ＨＢＡユニットに対して１．１当量のカレンズＡＯＩ（昭和電工社製）、０．０１当量のジブチルスズジラウレート（ＤＢＴＤＬ）（東京化成工業社製）を加え、４０℃で２時間撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲ測定により、水酸基が１００％反応していることを確認したのち反応液をヘキサンに滴下してアクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ−２１）を沈殿させ、回収した。
ブロックポリマー（Ｐ−２０）についても同様の反応を行い、重合度の異なるブロックポリマー（Ｐ−２２）を合成した。【０２２３】
（４）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−２３），（Ｐ−２４）の合成
カレンズＡＯＩをカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）に変更したこと以外はＰ−１９およびＰ−２０と同様にして表に示すようにメタクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ−２３），（Ｐ−２４）を合成した。【０２２４】
（５）メタクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−２５）の合成
下図に示すブロックポリマー（Ｐ−２５）を特許第５８４０２３６号の実施例４５を参考に合成した。
【化１７】
2021045209.tif 000021
（Ｐ−２５：ｍ＝５，ｎ＝２５）【０２２５】
（６）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−２６）の合成
下図に示すブロックポリマー（Ｐ−２６）を特許第５８４０２３６号実施例４５の単量体２−（ビニロキシ）エトキシエチルメタクリレートを２−（ビニロキシ）エトキシエチルアクリレート（日本触媒社製）に変更することで合成した。
【化１８】
2021045209.tif 000022
（Ｐ−２６：ｍ＝５，ｎ＝２５）【０２２６】
エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−２７）〜（Ｐ−２９）の合成
反応容器内に連鎖移動剤（Ａ−７）０．９ｇ、４ＨＢＡＧＥ０．４３ｇ、ＡＩＢＮ７ｍｇを加え、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン３．０ｍＬに溶解した。７５℃で１７時間加熱し、反応液をヘキサンに滴下してブロックポリマー（Ｐ−２７）を沈殿させて回収した。１Ｈ−ＮＭＲ測定より４ＨＢＡＧＥの重合度は１７と算出された。【０２２７】
上記と同様にして４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．２８ｇ、０．２２ｇに変えることにより表１に示すように重合度が１０、７のブロックポリマー（Ｐ−２８）、（Ｐ−２９）を合成した。【０２２８】
脂環式エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ−３０）、（Ｐ−３１）の合成
４ＨＢＡＧＥ０．９２ｇを（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート（ＥＣＨＭＡ）（東京化成工業社製）０．７６ｇに変更した以外はＰ−１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ−３０）を得た。また、ＥＣＨＭＡの仕込み量を０．３８ｇに変更した以外はＰ−３０の合成と同様に重合を行い、重合度１０のブロックポリマー（Ｐ−３１）を得た。【０２２９】
（評価）
５．溶解性試験
上記で得られたポリマー（Ｐ−１）〜（Ｐ−１２）、（Ｐ−１５）〜（Ｐ−１８）、および（Ｐ−２１）〜（Ｐ−３１）を固形分濃度が２０ｗｔ％となるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、またはメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中に加え、ミックスローターで２時間撹拌して溶解させ、溶液状態を目視で確認した。評価基準は以下の通りとした。結果を下記表１に示す。
Ｇ  透明かつ均一に溶解した。
ＮＧ  濁りが認められる。【０２３０】
６．塗膜作成
（１）アクリル系コーティング
アクリル系ハードコート剤ビームセット５７５ＣＢ（荒川化学工業社製）をＭＩＢＫに溶解し、さらにその溶液にブロックポリマー（Ｐ−１）〜（Ｐ−１２）、（Ｐ−１５）〜（Ｐ−１８）、（Ｐ−２１）〜（Ｐ−３１）をハードコート剤樹脂固形分に対して固形分濃度換算で１％になるように添加し、５０質量％のＰＦＰＥ含有ハードコート剤を得た。
市販のＰＥＴ基板（東レ社製、ルミラーＳ１０）に前記のＰＦＰＥ含有ハードコート剤をバーコーターで塗装し、７０℃、１０分間の条件で乾燥後、紫外線照射して硬化被膜を得た。紫外線照射はベルトコンベア式の紫外線照射装置を用い、照射量は６００ｍＪ／ｃｍ２とした。【０２３１】
（２）エポキシ系コーティング
セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル社製）をＭＩＢＫに溶解し、さらにその溶液にブロックポリマー（Ｐ−１）〜（Ｐ−１２）、（Ｐ−１５）〜（Ｐ−１８）、（Ｐ−２１）〜（Ｐ−３１）をエポキシ化合物固形分に対して固形分濃度換算で１％になるように添加し、５０質量％のエポキシ化合物溶液を調製した。さらに熱酸発生剤であるサンエイドＳＩ−６０Ｌ（三新化学社製）をエポキシ化合物に対して３ｗｔ％添加してＰＦＰＥ含有処理剤を得た。
ＰＥＴ基板にＰＦＰＥ含有処理剤をバーコーターで塗装し、９０℃、２時間の条件で加熱し、硬化被膜を得た。【０２３２】
７．接触角評価
上記塗膜作成工程で作製した硬化被膜について、水の静的接触角を接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）を用いて、２μＬの液量で測定した。結果を下記表１に示す。【０２３３】
【表１】
2021045209.tif 000023
＊は、比較例を示す。【０２３４】
８．誘電率・誘電正接測定
実施例
ブロックポリマー（Ｐ−１）１重量部、セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル社製）１０重量部を、ＭＥＫ８重量部に均一溶解させた。さらに熱酸発生剤であるサンエイドＳＩ−６０Ｌ（三新化学社製）をエポキシ化合物に対して３ｗｔ％添加してコーティング剤を得た。【０２３５】
ＰＥＴ基板にＰＦＰＥ含有処理剤をバーコーターで塗装し、９０℃、２時間の条件で加熱し、厚さ約５０μｍの硬化被膜を得た。
また、上記のブロックポリマー（Ｐ−１）のみを、ブロックポリマーＰ−２、Ｐ−９、Ｐ−１１、Ｐ−１２、Ｐ−２７及びＰ−３０に変えて、後は同様にして厚さ約５０μｍの硬化被膜を得た。【０２３６】
１０ＧＨｚの誘電率及び誘電正接は、スプリットシリンダ共振器法で求めた。スプリットシリンダとして関東電子応用開発社製の共振器を使用し、ネットワークスペクトルアナライザーとしてＫｅｙｓｉｇｈｔ  Ｎ５２９０Ａを用いた。測定対象のサンプルとしては、厚み５０μｍ×幅６２ｍｍ×長さ７５ｍｍのフィルムを使用した。測定温度は２５℃とした。結果を表２に示す。【０２３７】
比較例
上記実施例から、ブロックポリマー（Ｐ−１）のみ除き、後は同様にして厚み５０μｍの硬化被膜（比較例）を作製し、同様に誘電率、誘電正接を測定した。結果を表２に示す。【０２３８】
【表２】
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【０２３９】
上記の結果から、ＲＡＦＴ重合で作製された−Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）−骨格を有し、重合度が本発明の範囲内になる含フッ素共重合体（Ｐ−１〜Ｐ−５、Ｐ−７〜Ｐ−１２、Ｐ−１５〜Ｐ−１８、Ｐ−２１〜Ｐ−２４、Ｐ−２７〜Ｐ−３１）は、溶剤への溶解性が高く、高い接触角を有することが確認された。また、Ｐ−１、Ｐ−２、Ｐ−９、Ｐ−１０、Ｐ−１１、Ｐ−２７及びＰ−３０を用いた硬化被膜において、低誘電率、低誘電正接になる事が確認された。
【産業上の利用可能性】
【０２４０】
本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。また絶縁体、誘電体としても好適である。
【国際調査報告】
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