(57)【要約】  光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制し得る表面保護フィルム用基材が提供される。本発明の表面保護フィルム用基材は、正面方向の位相差Ｒ０（５５０）と極角４５°および方位角４５°方向の位相差Ｒ４５（５５０）とが下記の関係を満足する：      Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）≦１３（ｎｍ）。１つの実施形態においては、表面保護フィルム用基材は、正面方向の位相差Ｒ０（５５０）が２０ｎｍ以下である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
正面方向の位相差Ｒ０（５５０）と極角４５°および方位角４５°方向の位相差Ｒ４５（５５０）とが下記の関係を満足する、表面保護フィルム用基材：
Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）≦１３（ｎｍ）。
【請求項２】
前記正面方向の位相差Ｒ０（５５０）が２０ｎｍ以下である、請求項１に記載の表面保護フィルム用基材。
【請求項３】
全光線透過率が８０％以上であり、ヘイズが１．０％以下である、請求項１または２に記載の表面保護フィルム用基材。
【請求項４】
前記表面保護フィルム用基材が、ポリカーボネート、ポリエステル、シクロオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂およびセルロース樹脂から選択される少なくとも1つの樹脂を含む、請求項１から３のいずれかに記載の表面保護フィルム用基材。
【請求項５】
前記表面保護フィルム用基材が、脂環式構造または負の固有複屈折を示す芳香族環構造を有する樹脂を含む、請求項４に記載の表面保護フィルム用基材。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の表面保護フィルム用基材と粘着剤層とを含む、表面保護フィルム。
【請求項７】
光学フィルムと、該光学フィルムに剥離可能に貼り合わせられた請求項６に記載の表面保護フィルムと、を含む、表面保護フィルム付光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面保護フィルム用基材、該基材を用いた表面保護フィルム、および表面保護フィルム付光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルム（例えば、偏光板、偏光板を含む積層体）には、当該光学フィルムが適用される画像表示装置が実際に使用されるまでの間、当該光学フィルム（最終的には、画像表示装置）を保護するために表面保護フィルムが剥離可能に貼り合わせられている。実用的には、光学フィルム／表面保護フィルムの積層体が表示セルに貼り合わせられて画像表示装置が作製され、当該積層体が貼り合わせられた状態で画像表示装置が光学試験（例えば、点灯試験）に供され、その後の適切な時点で表面保護フィルムが剥離除去される。表面保護フィルムは、代表的には、基材としての樹脂フィルムと粘着剤層とを有する。従来の表面保護フィルムによれば、光学検査の際に光漏れ、着色、虹ムラ等が発生し、光学検査の精度低下の原因となる場合がある。その結果、画像表示装置自体には問題がないにもかかわらず出荷前の光学検査で不良と判断されてしまう場合があり、これにより、画像表示装置の製造から出荷までの効率が低下してしまうという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−１９０４０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制し得る表面保護フィルム用基材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態による表面保護フィルム用基材は、正面方向の位相差Ｒ０（５５０）と極角４５°および方位角４５°方向の位相差Ｒ４５（５５０）とが下記の関係を満足する：
Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）≦１３（ｎｍ）。
１つの実施形態においては、上記表面保護フィルム用基材は、上記正面方向の位相差Ｒ０（５５０）が２０ｎｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記表面保護フィルム用基材は、全光線透過率が８０％以上であり、ヘイズが１．０％以下である。
１つの実施形態においては、上記表面保護フィルム用基材は、ポリカーボネート、ポリエステル、シクロオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂およびセルロース樹脂から選択される少なくとも1つの樹脂を含む。１つの実施形態においては、上記表面保護フィルム用基材は、脂環式構造または負の固有複屈折を示す芳香族環構造を有する樹脂を含む。
本発明の別の局面によれば、表面保護フィルムが提供される。この表面保護フィルムは、上記表面保護フィルム用基材と粘着剤層とを含む。
本発明のさらに別の局面によれば、表面保護フィルム付光学フィルムが提供される。この表面保護フィルム付光学フィルムは、光学フィルムと、該光学フィルムに剥離可能に貼り合わせられた上記表面保護フィルムと、を含む。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、正面方向の位相差Ｒ０（５５０）と極角４５°および方位角４５°方向の位相差Ｒ４５（５５０）との差を所定値以下とすることにより、光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制し得る表面保護フィルム用基材を実現することができる。特に、大型の画像表示装置の光学検査において、端部の光漏れを顕著に抑制することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【０００８】
Ａ．表面保護フィルム用基材
本発明の実施形態による表面保護フィルム用基材は、正面方向の位相差Ｒ０（５５０）と極角４５°および方位角４５°方向の位相差Ｒ４５（５５０）とが下記の関係を満足する：
Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）≦１３（ｎｍ）。
［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３ｎｍ以下であり、特に好ましくは１ｎｍ以下である。一方、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は、好ましくは−５ｎｍ以上であり、より好ましくは−３ｎｍ以上であり、さらに好ましくは−１ｎｍ以上である。［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］の絶対値は、小さければ小さいほど好ましい。［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］がこのような範囲であれば、光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制し得る表面保護フィルム用基材を実現することができ、特に、大型の画像表示装置の光学検査において、端部の光漏れを顕著に抑制することができる。例えば、光学検査は、光学フィルム／表面保護フィルムの積層体が表示セルに貼り合わせられた画像表示装置をロール搬送しながら画像表示装置ごとにカメラ（例えば、偏光フィルターを取り付けたカメラ）で撮影することにより、画像表示装置の点灯欠点等を検査する。ここで、画像表示装置が大型である場合には、カメラの画角が非常に大きくなる。画像表示装置の長辺方向の画角は、１つの実施形態においては４５°以上であり、別の実施形態においては６０°以上であり、さらに別の実施形態においては７０°以上であり、さらに別の実施形態においては８２°以上であり得る。本発明の実施形態によれば、このように画角が非常に大きい場合であっても端部（または周縁部）の光漏れを顕著に抑制することができる。本発明の実施形態による表面保護フィルム用基材（実質的には、当該基材を含む表面保護フィルム）が適用される画像表示装置のサイズは、好ましくは２５インチ以上であり、より好ましくは３５インチ以上であり、さらに好ましくは４０インチ以上である。画像表示装置が大型であるほど、本発明の効果（特に、端部の光漏れ防止）が顕著となる。さらに、本発明の実施形態によれば、画像表示装置が高精細であるほど、検査精度の向上が顕著となる。なお、本明細書において「Ｒ０（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した正面方向の位相差である。Ｒ０（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。したがって、「Ｒ０（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した正面方向の位相差である。ここで、「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率である。また、「Ｒ４５（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した極角４５°および方位角４５°方向の位相差である。ここで、方位角は画像表示装置の長辺方向を０°としたときの方向である。本明細書において角度に言及するときは、基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方の方向を包含する。
【０００９】
表面保護フィルム用基材の正面方向の位相差Ｒ０（５５０）は、好ましくは２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以下であり、特に好ましくは５ｎｍ以下である。正面方向の位相差Ｒ０（５５０）は小さいほど好ましく、その下限は理想的には０ｎｍであり、例えば０．３ｎｍであり得る。Ｒ０（５５０）がこのような範囲であれば、本発明の表面保護フィルム用基材を用いた表面保護フィルムを画像表示装置の光学検査に供した場合に、光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制することができる。その結果、画像表示装置の光学検査の精度を顕著に向上させることができ、画像表示装置の製造から出荷までの効率を向上させることができる。このような正面方向の位相差Ｒ０（５５０）は、基材を構成する材料と延伸条件とを適切に組み合わせて設定することにより実現され得る。
【００１０】
表面保護フィルム用基材の極角４５°および方位角４５°方向の位相差Ｒ４５（５５０）は、好ましくは３０ｎｍ以下であり、より好ましくは２０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１２ｎｍ以下であり、特に好ましくは７ｎｍ以下である。Ｒ４５（５５０）がこのような範囲であれば、上記所望の［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］が実現しやすくなり、その結果、大型の画像表示装置の光学検査において、端部の光漏れを顕著に抑制することができる。このようなＲ４５（５５０）は、Ｒ０（５５０）と同様に、基材を構成する材料と延伸条件とを適切に組み合わせて設定することにより実現され得る。
【００１１】
表面保護フィルム用基材の厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−９０ｎｍ〜＋９０ｎｍであり、より好ましくは−５０ｎｍ〜＋５０ｎｍであり、さらに好ましくは−２０ｎｍ〜＋２０ｎｍである。「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。したがって、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。ここで、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
【００１２】
表面保護フィルム用基材は、面内位相差（正面方向の位相差）が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、面内位相差が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、面内位相差が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。
【００１３】
表面保護フィルム用基材の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であり、特に好ましくは９５％以上である。さらに、表面保護フィルム用基材のヘイズは、好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．７％以下であり、さらに好ましくは０．５％以下であり、特に好ましくは０．３％以下である。全光線透過率またはヘイズがこのような範囲であれば、本発明の表面保護フィルム用基材を用いた表面保護フィルムを画像表示装置の光学検査に供した場合に、優れた視認性を確保することができる。その結果、画像表示装置の光学検査の精度を顕著に向上させることができる。
【００１４】
表面保護フィルム用基材は、ＭＩＴ試験における破断までの折り曲げ回数が好ましくは５００回以上であり、より好ましくは７００回以上であり、さらに好ましくは９００回以上であり、特に好ましくは１１００回以上である。すなわち、表面保護フィルム用基材は、好ましくは優れた可撓性または耐折り曲げ性を有し得る。このような構成であれば、貼り合わせ時および剥離時の操作性に優れ、かつ、割れが抑制された表面保護フィルムを得ることができる。本発明の実施形態によれば、このような優れた可撓性または耐折り曲げ性と上記のような非常に小さい正面方向の位相差Ｒ０（５５０）とを両立することができる。なお、ＭＩＴ試験は、ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５に準拠して行われ得る。
【００１５】
表面保護フィルム用基材は、吸水率が好ましくは５％以下であり、より好ましくは４％以下であり、さらに好ましくは２％以下である。また、表面保護フィルム用基材は、４０℃および９２％ＲＨの環境下に２４時間放置した後の透湿度が、好ましくは４００ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、より好ましくは１６０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、さらに好ましくは１３０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、特に好ましくは９０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下である。吸水率または透湿度がこのような範囲であれば、加湿環境下における浮きを抑制することができる。その結果、長距離輸送（例えば、輸出）時の品質安定性が確保され得る。なお、吸水率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２０９に準拠して測定され得る。透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準拠して測定され得る（温湿度条件：４０℃、９０％ＲＨ）。
【００１６】
表面保護フィルム用基材は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が好ましくは１４５℃以上であり、より好ましくは１６０℃以上である。Ｔｇがこのような範囲であれば、表面保護フィルムを作製する際に粘着剤層を表面保護フィルム用基材に直接塗工することにより形成することができる。言い換えれば、所定のフィルム上に形成した粘着剤層を表面保護フィルム用基材に転写する必要がない。したがって、非常に優れた製造効率で表面保護フィルムを作製することができる。一方、表面保護フィルム用基材のＴｇの上限は、例えば２００℃であり得る。
【００１７】
表面保護フィルム用基材の弾性率は、好ましくは、引張速度１００ｍｍ／ｍｉｎにおいて５０ＭＰａ〜３５０ＭＰａである。弾性率がこのような範囲であれば、搬送性および操作性に優れた表面保護フィルムを得ることができる。本発明の実施形態によれば、優れた弾性率（強さ）と上記のような優れた可撓性または耐折り曲げ性（柔らかさ）とを両立することができる。なお、弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７：１９９９に準拠して測定される。
【００１８】
表面保護フィルム用基材の引張伸度は、好ましくは７０％〜２００％である。引張伸度がこのような範囲であれば、搬送中に破断しにくいという利点を有する。なお、引張伸度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７８１に準拠して測定される。
【００１９】
表面保護フィルム用基材は、上記のような所望の特性を有し得る限り、任意の適切な材料で構成され得る。表面保護フィルム用基材は、代表的には樹脂フィルムで構成され得る。フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリアリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリビニルアルコール、ポリフマル酸エステル、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、シクロオレフィン系樹脂（例えば、ノルボルネン系樹脂）、ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、セルロース樹脂（例えば、トリアセチルセルロース）、アクリル系樹脂およびポリウレタンが挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく組み合わせて用いてもよい。１つの実施形態においては、上記の樹脂は、脂環式構造または負の固有複屈折を示す芳香族環構造を有していてもよい。脂環式構造としては、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、Ｎ−置換マレイミド構造、無水マレイン酸構造が挙げられる。負の固有複屈折を示す芳香族環構造としては、例えば、フルオレン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、カルバゾール構造、フタルイミド構造が挙げられる。これらの構造を有する樹脂は、得られるフィルムの複屈折が小さく、フィルム化した際の位相差を抑制することができる。
【００２０】
表面保護フィルム用基材は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムをそのまま用いたフィルムであり得る。樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、表面保護フィルム用基材に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。
【００２１】
また例えば、表面保護フィルム用基材は、上記樹脂から形成されたフィルムに延伸処理を施したフィルムであってもよい。フィルムの延伸方法は、代表的には二軸延伸であり、より詳細には逐次二軸延伸または同時二軸延伸である。正面方向の位相差Ｒ０（５５０）が小さい表面保護フィルム用基材が得られるからである。逐次二軸延伸または同時二軸延伸は、代表的にはテンター延伸機を用いて行われる。したがって、フィルムの延伸方向は、代表的にはフィルムの長さ方向および幅方向である。
【００２２】
延伸温度は、表面保護フィルム用基材に所望されるＲ０（５５０）、Ｒ４５（５５０）および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、好ましくはＴｇ＋５℃〜Ｔｇ＋５０℃であり、より好ましくはＴｇ＋１０℃〜Ｔｇ＋４０℃である。このような温度で延伸することにより、本発明の実施形態において適切な特性を有する表面保護フィルム用基材が得られ得る。
【００２３】
延伸倍率は、表面保護フィルム用基材に所望されるＲ０（５５０）、Ｒ４５（５５０）および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度等に応じて変化し得る。二軸延伸（例えば、逐次二軸延伸または同時二軸延伸）を採用する場合には、第１の方向（例えば、長さ方向）の延伸倍率と第２の方向（例えば、幅方向）の延伸倍率とは、好ましくはその差ができる限り小さく、より好ましくは実質的に等しい。このような構成であれば、Ｒ０（５５０）、Ｒ４５（５５０）が小さい表面保護フィルム用基材が得られ得る。二軸延伸（例えば、逐次二軸延伸または同時二軸延伸）を採用する場合には、延伸倍率は、第１の方向（例えば、長さ方向）および第２の方向（例えば、幅方向）のそれぞれについて、例えば１．１倍〜３．０倍であり得る。
【００２４】
延伸速度は、好ましくは１０％／秒以下であり、より好ましくは７％／秒以下であり、さらに好ましくは５％／秒以下であり、特に好ましくは２．５％／秒以下である。このような小さい延伸速度で延伸することにより、Ｒ０（５５０）およびＲ４５（５５０）が小さい表面保護フィルム用基材が得られ得る。延伸速度の下限は、例えば１．２％／秒であり得る。延伸速度が小さすぎると、生産性が実用的でなくなる場合がある。なお、二軸延伸（例えば、逐次二軸延伸または同時二軸延伸）を採用する場合には、第１の方向（例えば、長さ方向）の延伸速度と第２の方向（例えば、幅方向）の延伸速度とは、好ましくはその差ができる限り小さく、より好ましくは実質的に等しい。このような構成であれば、Ｒ０（５５０）およびＲ４５（５５０）をより小さくすることができる。
【００２５】
表面保護フィルム用基材は、市販の樹脂フィルムをそのまま用いてもよく、市販の樹脂フィルムを上記のような延伸処理に供することにより形成されてもよい。
【００２６】
表面保護フィルム用基材の厚みは、代表的には１０μｍ〜１００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜７０μｍである。
【００２７】
表面保護フィルム用基材は、上記のとおり正面方向の位相差を有するので、遅相軸を有し得る。表面保護フィルム用基材（実質的には、表面保護フィルム）が画像表示装置に適用された場合、表面保護フィルム用基材の遅相軸方向は、画像表示装置の長辺方向に対して、好ましくは３０°以下であり、より好ましくは１５°以下であり、さらに好ましくは５°以下であり、特に好ましくは２°以下である。このような構成であれば、光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制することができ、特に、大型の画像表示装置の光学検査において、端部の光漏れを顕著に抑制することができる。なお、遅相軸は正面方向の位相差が実質的に存在する場合に発現するものであり、正面方向の位相差が０に近づき実質的に存在しない場合には、遅相軸の影響は小さくなる。
【００２８】
Ｂ．表面保護フィルム
上記Ａ項に記載の表面保護フィルム用基材は、表面保護フィルムに好適に用いられ得る。したがって、本発明の実施形態は、表面保護フィルムも包含する。本発明の実施形態による表面保護フィルムは、上記Ａ項に記載の表面保護フィルム用基材と粘着剤層とを含む。
【００２９】
粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。粘着剤のベース樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂が挙げられる。このようなベース樹脂は、例えば、特開２０１５−１２０３３７号公報または特開２０１１−２０１９８３号公報に記載されている。これらの公報の記載は、本明細書に参考として援用される。耐薬品性、浸漬時における処理液の浸入を防止するための密着性、被着体への自由度等の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。粘着剤に含まれ得る架橋剤としては、例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物が挙げられる。粘着剤は、例えばシランカップリング剤を含んでいてもよい。粘着剤の配合処方は、目的および所望の特性に応じて適切に設定され得る。
【００３０】
粘着剤層の貯蔵弾性率は、好ましくは１．０×１０４Ｐａ〜１．０×１０７Ｐａであり、より好ましくは２．０×１０４Ｐａ〜５．０×１０６Ｐａである。粘着剤層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、ロール形成時のブロッキングを抑制することができる。なお、貯蔵弾性率は、例えば、温度２３℃および角速度０．１ｒａｄ／ｓでの動的粘弾性測定から求めることができる。
【００３１】
粘着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜６０μｍであり、より好ましくは３μｍ〜３０μｍである。厚みが薄すぎると、粘着性が不十分となり、粘着界面に気泡等が入り込む場合がある。厚みが厚すぎると、粘着剤がはみ出すなどの不具合が生じやすくなる。
【００３２】
実用的には、表面保護フィルムが実際に使用される（すなわち、光学フィルムまたは画像表示装置に貼り合わせられる）までの間、粘着剤層表面にセパレーターが剥離可能に仮着されている。セパレーターを設けることにより、粘着剤層を保護するとともに、表面保護フィルムをロール状に巻き取ることが可能となる。セパレーターとしては、例えば、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチック（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレン）フィルム、不織布または紙などが挙げられる。セパレーターの厚みは、目的に応じて任意の適切な厚みを採用することができる。セパレーターの厚みは、例えば１０μｍ〜１００μｍである。
【００３３】
Ｃ．表面保護フィルム付光学フィルム
上記Ｂ項に記載の表面保護フィルムは、光学フィルム（最終的には、画像表示装置）が実際に使用されるまでの間、当該光学フィルムを保護するために用いられる。したがって、本発明の実施形態は、表面保護フィルム付光学フィルムも包含する。本発明の実施形態による表面保護フィルム付光学フィルムは、光学フィルムと、当該光学フィルムに剥離可能に貼り合わせられた上記Ｂ項に記載の表面保護フィルムとを含む。
【００３４】
光学フィルムは、単一フィルムであってもよく積層体であってもよい。光学フィルムの具体例としては、偏光子、位相差フィルム、偏光板（代表的には、偏光子と保護フィルムとの積層体）、タッチパネル用導電性フィルム、表面処理フィルム、ならびに、これらを目的に応じて適切に積層した積層体（例えば、反射防止用円偏光板、タッチパネル用導電層付偏光板、位相差層付偏光板、プリズムシート一体型偏光板）が挙げられる。
【００３５】
光学フィルムが偏光子を含む場合、偏光子の吸収軸方向と表面保護フィルム用基材の遅相軸方向とのなす角度は、好ましくは０°±３０°または９０°±３０°であり、より好ましくは０°±１５°または９０°±１５°であり、さらに好ましくは０°±５°または９０°±５°である。当該角度がこのような範囲であれば、光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制することができ、特に、大型の画像表示装置の光学検査において、端部の光漏れを顕著に抑制することができる。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例における「部」および「％」は重量基準である。【００３７】
（１）Ｒ０（５５０）、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）およびＲ４５（５５０）
実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材を長さ４ｃｍおよび幅４ｃｍに切り出し、測定試料とした。当該測定試料について、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製、製品名「Ａｘｏｓｃａｎ」を用いてＲ０（５５０）、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）およびＲ４５（５５０）を測定した。測定波長は５５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
（２）虹ムラ
実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材を、クロスニコル状態の２枚の偏光板の間に配置した。その際、表面保護フィルム用基材の長さ方向と一方の偏光板の透過軸方向とが平行となるように表面保護フィルム用基材を配置した。その状態で下側偏光板の下側から蛍光灯の光を照射し、虹ムラの有無を目視により観察した。以下の基準で評価した。
○：虹ムラは認められなかった
△：虹ムラがわずかに認められた
×：虹ムラが顕著に認められた
（３）輝度
市販の液晶テレビ（ＬＧ社製、４９インチ、製品名「４９ＳＪ８０００」）の視認側偏光板の上に、実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材を、粘着剤を介して貼り合わせた。すなわち、実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材を含む表面保護フィルムを貼り合わせた。その状態で、入力画像を全面白表示させて点灯させた。点灯させた液晶テレビの輝度を株式会社トプコンテクノハウス製  製品名「ＳＲ−ＵＬ２」を用いて測定した。また、ＳＬ−ＵＬ２のレンズ部に視認側偏光板とクロスニコルになるような軸配置で日東電工社製「ＲＥＧＱ１２９８ＤＵＨＣ３」を貼り付け、輝度を測定した。測定の方向は、正面方向、極角４５°方位角４５°方向、および、極角４５°方位角１３５°方向の合計３か所であった。
（４）端部の光漏れ
市販の液晶テレビ（ＬＧ社製、４９インチ、製品名「４９ＳＪ８０００」）の視認側偏光板の上に、実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材を、粘着剤を介して貼り合わせた。すなわち、実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材を含む表面保護フィルムを貼り合わせた。その状態で、入力画像を全面白表示させて点灯させた。点灯中の液晶テレビを偏光サングラス越しに観察し、端部の光漏れについて以下の基準で評価した。なお、サングラスに貼りわされている偏光板の吸収軸はメガネの上下方向であった。
○：光漏れは認められなかった
△：光漏れがわずかに認められた
×：光漏れが顕著であった【００３８】
＜実施例１＞
市販のポリカーボネート樹脂フィルム（三菱ケミカル社製、商品名「ＤＵＲＡＢＩＯ  Ｔ７４５０Ａ」）を１０５℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー温度２３０℃）、Ｔダイ（幅１７００ｍｍ、温度２３０℃）、キャストロール（温度１２０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み４０μｍのフィルムを作製し、表面保護フィルム用基材とした。このフィルムはフラットな波長分散特性を示した。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は５．６ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１１．５ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は６．０２ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は０．４２ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００３９】
＜実施例２＞
押出機の押出量およびキャストロールの速度を調整したこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材（厚み１５μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は１１．２ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１７．８ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は１１．９ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は０．７ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４０】
＜実施例３＞
市販のポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製  商品名「ユーピロンＨ−４０００」を１２０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー温度２５５℃）、Ｔダイ（幅１７００ｍｍ、温度２５５℃）、キャストロール（温度１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み４０μｍのフィルムを作製し、表面保護フィルム用基材とした。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は２．６ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４３．９ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は１５．１ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は１２．５ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４１】
＜実施例４＞
下記の原料を用いてポリマーアロイフィルムを作製した。
使用原料
ＦＤＰＭ：９，９−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）フルオレン［９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレン（またはフルオレン−９，９−ジプロピオン酸）のジメチルエステル］、特開２００５−８９４２２号公報の実施例１記載のアクリル酸ｔ−ブチルをアクリル酸メチル［３７．９ｇ（０．４４モル）］に変更したこと以外は同様にして合成したもの
ＢＰＥＦ：９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、大阪ガスケミカル（株）製
ＥＧ：エチレングリコール
ＰＣ：ビスフェノールＡ型ポリカ−ボネート樹脂、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製「ユーピロンＨ−４０００」【００４２】
ＦＤＰＭ  １．００モル、ＢＰＥＦ  ０．８０モル、ＥＧ  ２．２０モルに、エステル交換触媒として酢酸マンガン・４水和物２×１０−４モルおよび酢酸カルシウム・１水和物８×１０−４モルを加え、撹拌しながら徐々に加熱溶融した。２３０℃まで昇温した後、トリメチルホスフェート１４×１０−４モル、酸化ゲルマニウム２０×１０−４モルを加え、２７０℃、０．１３ｋＰａ以下に到達するまで、徐々に昇温、減圧しながらＥＧを除去した。所定の撹拌トルクに到達後、内容物を反応器から取り出し、フルオレン環含有ポリエステルのペレットを調製した。得られたペレットを１Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、フルオレン環含有ポリエステルに導入されたジカルボン酸成分の１００モル％がＦＤＰＭ由来であり、導入されたジオール成分の８０モル％がＢＰＥＦ由来、２０モル％がＥＧ由来であった。得られたフルオレン環含有ポリエステルのガラス転移温度Ｔｇは１２６℃、重量平均分子量Ｍｗは４３６００であった。得られたフルオレン環含有ポリエステルとＰＣとを２０／８０（重量比）で二軸混練機で混練し、ポリマーアロイのペレットを作製した。【００４３】
得られたポリマーアロイのペレットを８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製  シリンダー温度２５５℃）、Ｔダイ（幅１７００ｍｍ、温度２５５℃）、キャストロール（温度１２５℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１６０μｍのポリマーアロイフィルムを作製した。このフィルムを、長さ方向および幅方向にそれぞれ２倍に同時二軸延伸した。延伸温度は１７０℃、延伸速度は長さ方向および幅方向ともに１．４％／秒であった。このようにして、表面保護フィルム用基材（厚み４０μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は２８．１ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は８．１ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４４】
＜実施例５＞
市販のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム社製、製品名「ＴＤ８０ＵＬ」）をそのまま用いて表面保護フィルム用基材（厚み８０μｍ）とした。表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は４．９ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は５２．６ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は８．７ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は３．８ｎｍであった。表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４５】
＜実施例６＞
市販のシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン社製、製品名「ＺＦ１４」）を用いたこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材（厚み４０μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は２．０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は７．９ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は２．７ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は０．７ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４６】
＜実施例７＞
市販のアクリル樹脂（奇美実業社製、商品名「ＣＭ−２０５」）を１００℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー温度２３０℃）、Ｔダイ（幅１７００ｍｍ、温度２３０℃）、キャストロール（温度１００℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１６０μｍのフィルムを作製した。このフィルムを、長さ方向および幅方向にそれぞれ２倍に同時二軸延伸した。延伸温度は１４６℃、延伸速度は長さ方向および幅方向ともに７．１％／秒であった。このようにして、表面保護フィルム用基材（厚み４０μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は０．５ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は−３９ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は１０．１ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は９．６ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４７】
＜比較例１＞
延伸温度を１６７℃としたこと以外は実施例４と同様にして表面保護フィルム用基材（厚み４０μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は３２ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は９１ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は４５．１ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は１３．１ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４８】
＜比較例２＞
厚みを８０μｍにしたこと以外は実施例３と同様にして表面保護フィルム用基材（厚み８０μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は５．６ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１０２．６ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は１９．４ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は１３．８ｎｍであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００４９】
＜比較例３＞
市販の超高位相差ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱ケミカル社製、商品名「ダイアホイルＭＲＦ３８ＣＫ」）をそのまま用いて表面保護フィルム用基材（厚み３８μｍ）とした。表面保護フィルム用基材のＲ０（５５０）は２９５０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は８９８９．４ｎｍであり、Ｒ４５（５５０）は３４４５．５ｎｍであり、［Ｒ４５（５５０）−Ｒ０（５５０）］は４９５．５ｎｍであった。表面保護フィルム用基材を上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。【００５０】
【表１】
2020054135.tif 000002
【００５１】
＜評価＞
表１から明らかなように、本発明の実施例の表面保護フィルム用基材は、虹ムラが防止され、全光線透過率に優れ、かつ、端部の光漏れが抑制されていることがわかる。なお、着色についても虹ムラおよび光漏れと同様の結果が得られることを確認した。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の表面保護フィルム用基材は、表面保護フィルムに好適に用いられる。本発明の表面保護フィルムは、光学フィルム（最終的には、画像表示装置）が実際に使用されるまでの間、当該光学フィルムを保護するために用いられる。本発明の表面保護フィルム用基材および表面保護フィルムを用いることにより、画像表示装置の光学検査の精度を顕著に向上させることができる。
【国際調査報告】
2020054135.tif 000003
2020054135.tif 000004