(57)【要約】  本技術の一形態に係る表示装置は、透明基板と、素子基板と、色フィルタ層と、金属電極層と、透明接着層とを具備する。前記素子基板は、前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する。前記色フィルタ層は、前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置される。前記金属電極層は、前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置される。前記透明接着層は、前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する。
2020175235.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する素子基板と、
前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置された色フィルタ層と、
前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置された金属電極層と、
前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する透明接着層と
を具備する表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記色フィルタ層は、前記表示領域に配置された第１の色フィルタと、前記接着領域を避けて前記周辺領域に配置された第２の色フィルタとを有する
表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記有機ＥＬ素子の光を着色する着色フィルタであり、
前記第２の色フィルタは、前記金属電極層を遮光する遮光フィルタである
表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記接着領域は、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられる
表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の表示装置であって、
前記接着領域は、前記表示領域を囲む１以上の帯状領域を含む
表示装置。
【請求項６】
請求項４に記載の表示装置であって、
前記接着領域は、前記周辺領域の外縁に設けられる
表示装置。
【請求項７】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記金属電極層は、前記有機ＥＬ素子の光を反射する金属反射膜と、前記重複領域の少なくとも一部を避けて配置された周辺電極とを有する
表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の表示装置であって、
前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板の前記対向面側に配置された透明な共通電極を有し、
前記周辺電極は、前記共通電極と電気的に接続する
表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置であって、
前記共通電極は、前記周辺電極上に配置される
表示装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の表示装置であって、
前記周辺電極は、互いに離間して配置された複数の部分電極を含み、
前記共通電極は、前記複数の部分電極上に配置される
表示装置。
【請求項１１】
請求項８に記載の表示装置であって、
前記有機ＥＬ素子は、前記共通電極の前記対向面とは反対側に配置された画素電極と、前記共通電極と前記画素電極との間に配置された有機発光層とを有し、
前記金属反射膜は、前記有機発光層で生成された光を前記対向面に反射する
表示装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の表示装置であって、
前記金属反射膜は、前記画素電極である
表示装置。
【請求項１３】
請求項８に記載の表示装置であって、
前記素子基板は、前記共通電極を覆うように形成された保護膜を有し、
前記対向面は、前記透明基板に対向する前記保護膜の表面である
表示装置。
【請求項１４】
請求項７に記載の表示装置であって、
前記周辺電極は、前記色フィルタ層に最も近い金属膜である
表示装置。
【請求項１５】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、前記表示領域を囲むように塗布されたシール剤である
表示装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、前記透明基板及び前記素子基板の間に充填された充填剤である
表示装置。
【請求項１７】
透明基板と、
前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する素子基板と、
前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置された色フィルタ層と、
前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置された金属電極層と、
前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する透明接着層と
を有する表示装置と、
前記表示装置を駆動する駆動回路と
を具備する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、画像を表示する表示装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子上にカラーフィルタを配置した表示装置が開発されている。カラーフィルタを設けることで、例えば表示色の調光や、視野角特性の向上、あるいは周辺の配線を遮光することが可能となる。【０００３】
特許文献１には、カラーフィルタを備える有機エレクトロルミネッセンス装置が記載されている。この装置では、有機エレクトロルミネッセンス素子が形成された表示領域に第１カラーフィルタが形成され、表示領域の外側の配線等が形成された非表示領域に第２カラーフィルタが形成される。各カラーフィルタには透明接着層を介して対向基板が接着される。また第１及び第２カラーフィルタの間には間隙が設けられる。これにより製造時の分断工程に伴う第１カラーフィルタの剥離を防止することが可能となっている（特許文献１の明細書段落［００６４］［００８４］［００８７］［０１１８］図７、図８等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−６６４７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、有機ＥＬ素子を用いた表示装置が、撮影機器やモバイル端末等に搭載される機会が増えており、装置の信頼性を向上するとともに品質の高い画像表示を実現することが可能な技術が求められている。【０００６】
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、装置の信頼性を向上するとともに品質の高い画像表示を実現することが可能な表示装置及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る表示装置は、透明基板と、素子基板と、色フィルタ層と、金属電極層と、透明接着層とを具備する。
前記素子基板は、前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する。
前記色フィルタ層は、前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置される。
前記金属電極層は、前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置される。
前記透明接着層は、前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する。【０００８】
この表示装置では、有機ＥＬ素子を有する素子基板の対向面が透明基板に向けられる。対向面には表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて色フィルタ層が配置される。また素子基板には透明基板から見て接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて金属電極層が配置される。透明基板及び素子基板は、透明接着層により接着領域を介して接着される。これにより、各基板の接着性が向上し、金属電極層の反射が抑制されるため、装置の信頼性を向上するとともに品質の高い画像表示を実現することが可能となる。【０００９】
前記色フィルタ層は、前記表示領域に配置された第１の色フィルタと、前記接着領域を避けて前記周辺領域に配置された第２の色フィルタとを有してもよい。【００１０】
前記第１の色フィルタは、前記有機ＥＬ素子の光を着色する着色フィルタであってもよい。この場合、前記第２の色フィルタは、前記金属電極層を遮光する遮光フィルタであってもよい。【００１１】
前記接着領域は、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられてもよい。【００１２】
前記接着領域は、前記表示領域を囲む１以上の帯状領域を含んでもよい。【００１３】
前記接着領域は、前記周辺領域の外縁に設けられてもよい。【００１４】
前記金属電極層は、前記有機ＥＬ素子の光を反射する金属反射膜と、前記重複領域の少なくとも一部を避けて配置された周辺電極とを有してもよい。【００１５】
前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板の前記対向面側に配置された透明な共通電極を有してもよい。この場合、前記周辺電極は、前記共通電極と電気的に接続してもよい。【００１６】
前記共通電極は、前記周辺電極上に配置されてもよい。【００１７】
前記周辺電極は、互いに離間して配置された複数の部分電極を含んでもよい。この場合、前記共通電極は、前記複数の部分電極上に配置されてもよい。【００１８】
前記有機ＥＬ素子は、前記共通電極の前記対向面とは反対側に配置された画素電極と、前記共通電極と前記画素電極との間に配置された有機発光層とを有してもよい。この場合、前記金属反射膜は、前記有機発光層で生成された光を前記対向面に反射してもよい。【００１９】
前記金属反射膜は、前記画素電極であってもよい。【００２０】
前記素子基板は、前記共通電極を覆うように形成された保護膜を有してもよい。この場合、前記対向面は、前記透明基板に対向する前記保護膜の表面であってもよい。
表示装置。【００２１】
前記周辺電極は、前記色フィルタ層に最も近い金属膜であってもよい。【００２２】
前記透明接着層は、前記表示領域を囲むように塗布されたシール剤であってもよい。【００２３】
前記透明接着層は、前記透明基板及び前記素子基板の間に充填された充填剤であってもよい。【００２４】
本技術の一形態に係る電子機器は、表示装置と、駆動回路とを具備する。
前記表示装置は、透明基板と、前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する素子基板と、前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置された色フィルタ層と、前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置された金属電極層と、前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する透明接着層とを有する。
前記駆動回路は、前記表示装置を駆動する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】第１の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図２】表示装置の全体の構成例を示すブロック図である。
【図３】図２に示す画素回路の具体的な構成例を示す回路図である。
【図４】表示装置の断面構造の一例を示す模式図である。
【図５】比較例として示す表示装置の断面構造の一例を示す模式図である。
【図６】第２の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図７】第３の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図８】第４の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図９】第５の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図１０】第６の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図１１】表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【図１２】表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【図１３】表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【図１４】表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２７】
＜第１の実施形態＞
［表示装置の構成］
図１は、第１の実施形態に係る表示装置１００の構成例を示す模式図である。表示装置１００は、有機ＥＬ素子を駆動して画像を表示する有機ＥＬディスプレイである。
【００２８】
表示装置１００は、例えば表示モジュールとして構成され、ビデオカメラやデジタルカメラ等のビューファインダや、スマートフォンやタブレット等のディスプレイとして、各種の電子機器に搭載される（図１１〜図１４等参照）。表示装置１００が用いられる電子機器の種類等は限定されず、例えばテレビやＰＣ用のモニターとして用いられる場合にも本技術は適用可能である。
【００２９】
図１には、画像が表示される側、すなわち有機ＥＬ素子の光が出射される側から見た表示装置１００の平面図が模式的に図示されている。表示装置１００は、素子基板１０と、素子基板１０上に配置された透明基板２０とを有する。表示装置１００では、透明基板２０を通して画像が表示される。
【００３０】
素子基板１０は、透明基板２０に対向する対向面１１と、複数の有機ＥＬ素子１２とを有する。これら複数の有機ＥＬ素子１２により、画像を構成する複数の画素Ｐが構成される。図１には、正方形状の画素Ｐが模式的に図示されている。表示装置１００における画素数や画素サイズ等は限定されず、所望の解像度等が実現可能なように適宜設定されてよい。
【００３１】
対向面１１には、表示領域１３と、周辺領域１４と、外部領域１５とが設けられる。表示領域１３は、複数の画素Ｐが配列された矩形状の領域であり、実際に画像が表示される領域である。本実施形態では、有機ＥＬ素子１２により、対向面１１の表示領域１３から光が出射され、画像が表示される。表示領域１３は、実際の画像表示に寄与する画素Ｐが配置された有効画素エリアであると言える。
【００３２】
周辺領域１４は、表示領域１３を囲む領域である。すなわち周辺領域１４は、表示装置１００に表示される画像を囲む領域であり、例えば周辺領域１４の幅により表示装置１００のベゼル（額縁部分）の幅が定まる。図１に示す例では、対向面１１のうち、表示領域１３と表示領域１３の外側に表示領域１３から離間して配置された外部領域１５とを除く領域が周辺領域１４となる。周辺領域１４には、例えば有機ＥＬ素子１２を駆動するための各種の配線や回路等（図示省略）が設けられる。
【００３３】
また周辺領域１４には、接着領域１６が設けられる。接着領域１６は、例えば透明基板２０と素子基板１０とを接着するための領域であり、表示領域１３の周囲の少なくとも一部に設けられる。後述するように、対向面１１には、カラーフィルタ層３０が配置される。このカラーフィルタ層３０は、表示領域１３と、周辺領域１４のうち接着領域１６の外側となる領域とに配置される。従って、接着領域１６は、カラーフィルタ層３０が配置されず、対向面１１が露出した領域となる。
【００３４】
図１では、表示領域１３に配置されたカラーフィルタ層３０（第１のカラーフィルタ３１）が濃いグレーの領域として図示されており、周辺領域１４に配置されたカラーフィルタ層３０（第２のカラーフィルタ３２）が薄いグレーの領域として図示されている。また周辺領域１４内の白色の領域が接着領域１６となる。この接着領域１６を含む塗布領域１７（図中の斜線の領域）に透明基板２０と素子基板１０とを接着するシール剤（図４参照）が塗布される。この点については、後に詳しく説明する。
【００３５】
外部領域１５は、対向面１１のうち周辺領域１４の外側に設けられ、透明基板２０が配置されず素子基板１０（対向面１１）が露出した領域（図中の上側）である。外部領域１５には、外部電極２１が設けられる。外部電極２１には、フレキシブル基板等を介して、表示装置１００を駆動する駆動回路２２が接続される。駆動回路２２は、電子機器本体に搭載され、有機ＥＬ素子１２を駆動するための電力や画像信号等を表示装置１００に供給する。駆動回路２２や駆動信号の種類等は限定されない。
【００３６】
透明基板２０は、表示領域１３及び周辺領域１４を覆うように、素子基板１０の対向面１１と対向して配置される。透明基板２０は、素子基板１０に形成された有機ＥＬ素子１２等を保護する基板である。透明基板２０としては、例えばガラス基板、ＳｉＯ2基板、アクリル基板等の透明性を有する任意の基板が用いられてよい。
【００３７】
ここで、表示装置１００の回路構成について説明する。図２は、表示装置１００の全体の構成例を示すブロック図である。表示装置１００は、複数の画素Ｐで構成された画素アレイ１０１と、画素アレイ１０１を駆動する駆動部１０２を有する。画素アレイ１０１は、図１に示す表示領域１３と重なるように素子基板１０に設けられ、駆動部１０２は、周辺領域１４と重なるように素子基板１０に設けられる。
【００３８】
画素アレイ１０１は、行列状に配置された複数の画素Ｐと、複数の画素Ｐの各行に対応して配された電源線１０３とを有する。各画素Ｐは、行状の走査線１０４と、列状の信号線１０５とが交差する部分に配置された画素回路１０６を有する。
【００３９】
駆動部１０２は、垂直走査回路１０２ａと、電源１０２ｂと、水平走査回路１０２ｃとを有する。垂直走査回路１０２ａは、各走査線１０４に順次制御信号を供給して各画素Ｐを行単位で順次走査する。電源１０２ｂは、各電源線１０３に一定の電源電位を供給して、画素Ｐを構成する画素回路１０６を駆動する。電源電位を一定とすることで、電源１０２ｂの構成を簡素化することが可能となり、素子サイズをコンパクトにすることが可能である。水平走査回路１０２ｃは、垂直走査回路１０２ａの走査に合わせて各信号線１０５に画像信号（映像信号）となる信号電位と基準電位とを供給する。
【００４０】
この他、駆動部１０２の具体的な構成は限定されない。例えば、電源１０２ｂとして、垂直走査回路１０２ａの走査に合わせて各電源線１０３に高電位と低電位が切り替わる電源電位を供給する電源スキャナ等が用いられてもよい。これにより、例えば表示装置１００が、中型の電子機器（スマートフォン等）や大型の電子機器（テレビやＰＣモニター等）に搭載される場合であっても、電力消費を抑制しつつ、表示装置１００を安定して駆動することが可能となる。
【００４１】
図３は、図２に示す画素回路１０６の具体的な構成例を示す回路図である。画素回路１０６は、有機ＥＬ素子１２として機能するダイオードと、サンプリング用トランジスタ１０７と、駆動用トランジスタ１０８と、保持容量１０９とを有する。
【００４２】
サンプリング用トランジスタ１０７の制御端子（ゲート）は走査線１０４に接続され、駆動端子（ソース及びドレイン）の一方は信号線１０５に接続され、他方は駆動用トランジスタ１０８の制御端子に接続される。駆動用トランジスタ１０８の駆動端子の一方は有機ＥＬ素子１２のアノードに接続され、他方は電源線１０３に接続される。また有機ＥＬ素子１２のカソードは、複数の有機ＥＬ素子１２に共通する共通電極（図４参照）に接続される。保持容量１０９は、駆動用トランジスタ１０８の制御端子と有機ＥＬ素子１２のアノードとの間に接続され、信号線１０５から供給される画像信号の信号電位を保持する。
【００４３】
図４は、表示装置１００の断面構造の一例を示す模式図である。図４には、図１に示すＡＡ'線で切断した表示装置１００の概略断面構造が模式的に図示されている。以下では、表示装置１００の表示領域１３に対応する部分を表示部分２３と記載し、周辺領域１４に対応する部分を周辺部分２４と記載する場合がある。図中の点線は、表示領域１３と周辺領域１４との境界を表す線である。点線の左側は、表示部分２３（表示領域１３）における断面構造に対応し、点線の右側は、周辺部分２４（周辺領域１４）における断面構造に対応する。
【００４４】
図４に示すように、表示装置１００は、上記したように、素子基板１０と、透明基板２０とを有する。また表示装置１００は、カラーフィルタ層３０と、透明接着層４０と、充填剤４１とを有する。
【００４５】
素子基板１０は、回路層５０と、金属電極層５１と、有機発光層５２と、共通電極５３と、保護膜５４とを有する。本実施形態では、透明基板２０に対向する保護膜５４の表面が、対向面１１となる。従って、上記した表示領域１３、周辺領域１４、及び接着領域１６は、保護膜５４上の領域となる。
【００４６】
回路層５０は、基板上に有機ＥＬ素子１２を駆動するための回路を積層して構成される。基板としては、例えばＳｉ等の半導体基板、ガラス基板、アクリル基板等が用いられる。またステンレス鋼等の金属基板や、プラスチックフィルム等が基板として用いられてもよい。
【００４７】
回路層５０には、例えば図３に示す画素回路１０６を構成する素子（サンプリング用トランジスタ１０７、駆動用トランジスタ１０８、保持容量１０９等）を含む回路が積層される。また回路層５０には、有機ＥＬ素子１２に接続される各種の配線（電源線１０３、走査線１０４、信号線１０５等）が設けられる。回路層５０の具体的な構成は限定されず、有機ＥＬ素子１２を駆動するための回路等が適宜積層されてよい。
【００４８】
金属電極層５１は、金属膜からなる電極を構成する層である。本実施形態では、回路層５０及び金属電極層５１により、表示装置１００の素子基板１０が構成される。金属電極層５１は、例えば１つの配線層として回路層５０に形成される。
【００４９】
金属電極層５１は、透明基板２０から見て接着領域１６と重なる重複領域１８の少なくとも一部を避けて素子基板１０に配置される。ここで、重複領域１８とは、例えば透明基板２０の法線方向から見た場合に、接着領域１６と重なる素子基板１０（回路層５０）内の領域である。本実施形態では、金属電極層５１は、回路層５０の最上層に積層される。
【００５０】
金属電極層５１は、重複領域１８の少なくとも一部を避けて配置された周辺電極６０を有する。周辺電極６０は、周辺領域１４の下層の周辺部分２４に配置された電極である。本実施形態では、周辺電極６０（金属電極層５１）は、重複領域１８を避けて配置される。従って、接着領域１６の直下には、周辺電極６０を構成する金属膜等は配置されない。また周辺電極６０（金属電極層５１）は、回路層５０の最上層に配置されるため、カラーフィルタ層３０に最も近い金属膜となる。
【００５１】
周辺電極６０は、後述する共通電極５３と電気的に接続する。例えば図３に示すように、共通電極５３は、有機ＥＬ素子１２のカソード電極であり、所定の基準電位（典型的にはＧＮＤ電位）に接続される。従って周辺電極６０は、共通電極５３と電気的に接続して基準電位を供給する電極である。例えば共通電極５３と周辺電極６０とのコンタクト抵抗を下げることで、基準電位を安定して供給するといったことが可能である。
【００５２】
図４に示すように周辺電極６０は、互いに離間して配置された複数の部分電極６１を含む。具体的には、重複領域１８を挟んで配置された２つの部分電極６１により周辺電極６０が構成される。各部分電極６１は、例えば回路層５０内に設けられた図示しない配線を介して、それぞれ基準電位に接続される。あるいは、回路層５０内の配線により各部分電極６１が短絡されていてもよい。これにより、共通電極５３との接触面積を増やすことが可能となり、コンタクト抵抗を下げることが可能である。
【００５３】
また金属電極層５１は、表示部分２３に配置された画素電極６２を有する。画素電極６２は、各有機ＥＬ素子１２のアノード電極であり、複数の画素Ｐに対応して配置される。図４には、３つの画素Ｐに対応する３つの画素電極６２が模式的に図示されている。各画素電極６２には、回路層５０に形成された画素回路１０６の配線が適宜接続される。
【００５４】
本実施形態では、画素電極６２は、反射電極であり、有機ＥＬ素子１２の光を反射する金属反射膜として機能する。言い換えれば、金属反射膜により、画素電極６２が構成される。後述するように、画素電極６２上には有機発光層５２が積層される。従って画素電極６２は、有機発光層５２で生成された光を対向面１１に反射する。これにより、例えば回路層５０に向かう光を反射して対向面１１から出射することが可能となり、有機ＥＬ素子１２の発光効率を十分に向上することが可能となる。
【００５５】
このように、金属電極層５１は、画素電極６２が金属反射膜として機能するように積層される。従って、金属電極層５１により構成される周辺電極６０も、画素電極６２と同様の反射率をもった金属反射膜となる。
【００５６】
金属電極層５１を構成する金属材料としては、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）等の光反射性を有する金属が用いられる。あるいは、光反射性を有する金属の合金等が用いられてもよい。例えば金属電極層５１の光反射率は、例えば４０％以上に設定され、より好ましくは８０％以上に設定される。これにより、有機ＥＬ素子１２の発光効率を十分に高めることが可能である。この他、金属電極層５１の材料や反射率等は限定されない。
【００５７】
有機発光層５２は、アノード電極（画素電極６２）から供給された正孔と、カソード電極（共通電極５３）から供給された電子とが再結合することで光を発光する層である。有機発光層５２は、例えば白色光を発光するように構成される。
【００５８】
有機発光層５２には、例えば画素電極６２から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が積層される。発光層は、例えば赤色発光層、青色発光層、緑色発光層のＲＧＢに対応する発光層が積層された構造を有する。これにより、発光層は白色光を発光する。
【００５９】
正孔注入層（電子注入層）は、発光層への正孔注入効率（電子注入効率）を高めるとともに、リークを防止するバッファ層である。正孔輸送層（電子輸送層）は、発光層への正孔輸送効率（電子輸送効率）を高めるために設けられる。正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層は、一般的に用いられる各種の材料により構成可能である。
【００６０】
発光層では、電子と正孔の再結合により発光層の材質に応じて所定の波長の光が発光する。発光層を構成する材料としては、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体，ポリフェニレン誘導体，ポリビニルカルバゾール誘導体，ポリチオフェン誘導体，ペリレン系色素，クマリン系色素，ローダミン系色素，あるいはこれらの高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。なお、発光層は、上記した正孔輸送層を兼ねてもよく、また電子輸送層を兼ねてもよい。
【００６１】
有機発光層５２は、例えば真空蒸着法により、各画素電極６２を覆うように回路層５０に形成される。有機発光層５２の具体的な構成は限定されない。例えば所望の波長の光が発光可能となるように、各層の材料が適宜選択されてよい。
【００６２】
共通電極５３は、有機発光層５２を上に積層された透明電極である。図４に示すように、共通電極５３は、表示部分２３の全面を覆うように配置される。また周辺部分２４において、共通電極５３は、周辺電極６０上に配置される。具体的には、共通電極５３は、２つの部分電極６１上に配置される。これにより、共通電極５３と２つの部分電極６１とが電気的に接続され、共通電極５３には基準電位（ＧＮＤ電位）が供給される。
【００６３】
共通電極５３は、光透過性が良好で反射率の小さい透明導電膜により構成される。例えば酸化物を用いて透明導電膜を形成することによって光取り出し効率の良好な共通電極５３を構成することが可能である。この場合、共通電極５３としては、ＺｎＯ，ＩＴＯ，ＩＺｎＯ，ＩｎＳｎＺｎＯ等が用いられる。
【００６４】
共通電極５３は、単層で構成されてもよいし、機能の異なる複数の膜を積層して構成されてもよい。例えば有機発光層５２から順に、反射率が低く透過性の高い光透過膜、導電性の高い透明導電膜、及び電極の腐食等を防ぐ劣化防止膜等を積層して共通電極５３が構成されてもよい。これにより、光の透過効率が高く、腐食に強い共通電極５３が実現される。共通電極５３は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、あるいはプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）法などの成膜手法によって形成される。この他、共通電極５３の具体的な構成は限定されない。
【００６５】
このように、有機ＥＬ素子１２は、素子基板１０の対向面１１側に配置された透明な共通電極５３と、共通電極５３の対向面１１とは反対側に配置された画素電極６２と、共通電極５３と画素電極６２との間に配置された有機発光層５２とを有する。このように、表示装置１００には、共通電極５３から光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子１２が構成される。
【００６６】
有機ＥＬ素子１２の構成は限定されない。例えば、キャビティ構造（共振構造）を備えた有機ＥＬ素子１２が構成されてもよい。キャビティ構造では、例えば半透過性及び半反射性を有する共通電極５３が用いられる。これにより、画素電極６２と共通電極５３との間で、有機発光層５２から出射された光を多重干渉させることが可能となる。この場合、共通電極５３からは、多重干渉により強められた所定の波長の光が出射される。
【００６７】
キャビティ構造では、画素電極６２と共通電極５３との光学的な距離に応じた波長の光が出射される。このため、例えば画素電極６２の厚みを適宜調整することで、所望の波長の光を抽出することが可能となる。これにより、有機ＥＬ素子１２における光の取り出し効率が向上するとともに、発光スペクトルの制御を行うことが可能となる。
【００６８】
また、赤色光、緑色光、及び青色光をそれぞれ発光可能な有機ＥＬ素子１２が構成されてもよい。例えば上記したキャビティ構造を用いることで、ＲＧＢの各色光を発光する有機ＥＬ素子１２が構成可能である。また、赤色光、緑色光、及び青色光を発光する有機発光層５２をそれぞれ積層することで、ＲＧＢの各色光を発光する有機ＥＬ素子１２が構成されてもよい。
【００６９】
保護膜５４は、大気中に存在する水分や酸素等から有機ＥＬ素子１２を保護する光透過性を有する透明膜である。保護膜５４は、共通電極５３を覆うように形成される。図４に示す例では、共通電極５３の全面を覆うように表示部分２３から周辺部分２４に形成された保護膜５４が模式的に図示されている。
【００７０】
保護膜５４は、例えば無機化合物を用いて形成される。無機化合物としては、水分や酸素に対してバリア性の高い、ＳｉＯｘ（酸化シリコン）、ＳｉＮｘ（窒化シリコン）、ＳｉＯｘＮｙ（酸窒化シリコン）、ＡｌｘＯｙ（酸化アルミニウム）等が用いられる。これらの無機化合物は、例えば真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、あるいはイオンプレーティング法を用いて成膜される。
【００７１】
なお保護膜５４は、単層で構成されてもよいし、複数の膜を積層して構成されてもよい。例えば、素子基板１０を実際に構成した場合には、有機ＥＬ素子１２等の表面（共通電極５３）に凹凸が含まれる場合がある。このため、上層に配置されるカラーフィルタ層３０の積層精度等を向上する目的で、保護膜５４が平坦化されてもよい。なお図４は、回路層５０（金属電極層５１）の界面や共通電極５３の界面等を平面として模式的に図示している。
【００７２】
保護膜５４を平坦化する場合には、例えば無機化合物で構成された層の間に平坦化膜が設けられる。平坦化膜としては、例えば透明性を有し、熱硬化性や紫外性硬化性のある樹脂材料（エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等）が用いられる。予め積層した無機化合物からなる層上にこれらの樹脂が適宜塗布される。そして樹脂材料を硬化させ新たに無機化合物を積層する。これにより、下層の凹凸等が緩和された対向面１１を形成することが可能となり、カラーフィルタ層３０を精度よく積層することが可能となる。
【００７３】
カラーフィルタ層３０は、対向面１１の表示領域１３を囲む周辺領域１４に設けられた接着領域１６を避けて対向面１１に配置される。表示装置１００では、対向面１１である保護膜５４の表面に、カラーフィルタ層３０が積層される。本実施形態では、カラーフィルタ層３０は、色フィルタ層に相当する。
【００７４】
カラーフィルタ層３０は、互いに異なる波長の光を通過させる複数の着色層を積層することで構成される。具体的には、波長が約６１０ｎｍの赤色光を透過させる赤色着色層と、波長が約５５０ｎｍの緑色光を透過させる緑色着色層と、波長が約４７０ｎｍの青色光を透過させる青色着色層とが用いられる。これにより、例えばＲＧＢの各色光をそれぞれ独立して高精度に取り出すことが可能となる。
【００７５】
図４に示すように、カラーフィルタ層３０は、表示領域１３に配置された第１のカラーフィルタ３１と、接着領域１６を避けて周辺領域１４に配置された第２のカラーフィルタ３２とを有する。本実施形態では、第１のカラーフィルタは、第１の色フィルタに相当し、第２のカラーフィルタは、第２の色フィルタに相当する。
【００７６】
第１のカラーフィルタ３１は、有機ＥＬ素子１２の光を着色する着色フィルタである。すなわち、第１のカラーフィルタ３１は、対向面１１から出射された光の発光スペクトルを着色層の波長に応じた光に変換する。以下では、第１のカラーフィルタ３１を同じ符号を用いて着色フィルタ３１と記載する場合がある。
【００７７】
着色フィルタ３１、複数の画素Ｐ（有機ＥＬ素子１２）ごとに画素電極６２と重なるように対向面１１に配置される。図４に示す例では、３つの画素Ｐに対応して着色フィルタ３１Ｒ、着色フィルタ３１Ｇ、及び着色フィルタ３１Ｂがそれぞれ配置される。
【００７８】
図中左側の画素Ｐには赤色着色層により構成された着色フィルタ３１Ｒが配置され、中央の画素Ｐには緑色着色層により構成された着色フィルタ３１Ｇが配置され、右側の画素Ｐには青色着色層により構成された着色フィルタ３１Ｂが配置される。例えば左側の画素Ｐ（有機ＥＬ素子１２）から出射された白色光は、着色フィルタ３１Ｒを通過することで、赤色光として上層に配置された透明基板２０に向けて出射される。同様に、中央の画素Ｐからは、緑色光が出射され、右側の画素Ｐからは、青色光が出射される。
【００７９】
このように、図４に示す３つの画素Ｐは、ＲＧＢの各色光を出射するサブ画素として機能する。例えば各画素Ｐに対応する各有機ＥＬ素子１２の出力（光量）を調整することで、任意の色を表現することが可能となる。
【００８０】
なお、有機ＥＬ素子１２が各色光を出射するように構成されている場合にも、着色フィルタ３１を用いることで、各色光の発光スペクトルを精度よく揃えることが可能である。この場合、例えば有機ＥＬ素子１２は、対応する着色フィルタ３１と同様の色光を出射するように構成される。これにより、例えば有機ＥＬ素子１２ごとに発光スペクトルのむら等がある場合であっても、着色フィルタ３１を通すことで透明基板２０に向けて出射される各色光の波長を精度よく揃えることが可能である。この結果、高品質な画像表示が可能となる。
【００８１】
第２のカラーフィルタ３２は、金属電極層５１を遮光する遮光フィルタである。例えば、第２のカラーフィルタ３２により、透明基板２０を通過して金属電極層５１に向かう光が遮光される。すなわち、金属電極層５１に到達する光の光量が抑制される。以下では、第２のカラーフィルタ３２を同じ符号を用いて遮光フィルタ３２と記載する場合がある。
【００８２】
図４に示す例では、赤色着色層の上層に青色着色層が積層された遮光フィルタ３２が、接着領域１６を挟んで離間して配置されている。例えば、透明基板２０から入射した白色光は、遮光フィルタ３２の青色着色層により青色光に変換される。この青色光は、赤色光のスペクトル成分等をほとんど含んでいないため、下層に配置された赤色着色層により略吸収される。この結果、遮光フィルタ３２を介して入射した白色光等の外光は、金属電極層５１に到達する前に十分に減衰される。
【００８３】
このように、互いに波長の離れた赤色着色層と、青色着色層とを積層して遮光フィルタ３２を構成することで、金属電極層５１を十分に遮光することが可能である。遮光フィルタ３２の構成は限定されず、例えば赤色着色層と緑色着色層とを積層した構成や、青色着色層と緑色着色層とを積層した構成等が用いられてもよい。またＲＧＢの各着色層を全て積層した遮光フィルタ３２が用いられてもよい。なお、遮光フィルタ３２が配置されない接着領域１６に入射した光は、そのまま下層に入射することになる。
【００８４】
カラーフィルタ層３０（ＲＧＢの各着色層）は、例えば所定の色を呈する着色材料（染料等）を混練した感光性樹脂材料を用いて形成される。例えば着色された感光性樹脂材料を、スピンコート法等を用いて対向面１１上に塗布し、フォトリソグラフィー法により所定のパターンを形成する。例えば赤色着色層が形成され、次に緑色着色層が形成され、最後に青色着色層が形成される。これにより、単層の着色フィルタ３１を形成する過程で、多層の遮光フィルタ３２を同時に形成する事が可能となる。もちろん、各着色層を積層する順番等は限定されない。
【００８５】
透明接着層４０は、接着領域１６を介して透明基板２０と素子基板１０とを接着する。接着領域１６は、周辺領域１４においてカラーフィルタ層３０（遮光フィルタ３２）が設けられず、対向面１１である保護膜５４の表面が露出した領域である。従って、接着領域１６に透明接着層４０を塗布し、透明基板２０を接着することで、カラーフィルタ層３０を介さずに、対向面１１と透明基板２０とが直接接着される。透明接着層４０は、典型的には、表示領域１３を完全に囲うように、接着領域１６を含む塗布領域１７（図１参照）に塗布される。
【００８６】
なお、透明接着層４０は、接着領域１６の周りのカラーフィルタ層３０にも塗布される。従って、素子基板１０には、透明基板２０が直接接着される領域（接着領域１６）と、カラーフィルタ層３０（遮光フィルタ３２）を介して接着される領域とが生じることになる。
【００８７】
本実施形態では、透明接着層４０は、表示領域１３を囲むように塗布されたシール剤４２である。シール剤４２は、透明性を有する接着剤であり、表示領域１３に充填される充填剤４１を封止する封止材料である。シール剤４２として、例えば熱硬化型や光硬化型のエポキシ系接着剤が用いられる。この他、透明性を有する任意の接着剤がシール剤４２として用いられてよい。
【００８８】
シール剤４２は、未硬化の状態では、粘性のあるペースト状の材料である。シール剤４２の塗布には、例えばペースト状のシール剤４２を専用のノズルから供給することで、所定の幅でシール剤４２を塗布するシール剤塗布装置等が用いられる。例えば、カラーフィルタ層３０が形成された素子基板１０に対して、シール剤塗布装置等により接着領域１６を基準としてシール剤４２が塗布される。これにより、帯状の接着領域１６に確実にシール剤４２を塗布することが可能となる。
【００８９】
充填剤４１は、シール剤４２（透明接着層４０）が塗布された領域の内側に充填される透明な樹脂材料である。充填剤４１は例えばシール剤４２と比べて粘性が低く、各着色フィルタ３１の間隙等を隙間なく充填可能な材料である。充填剤４１は、透明基板２０とカラーフィルタ層３０（素子基板１０）との間のスペーサ及び保護層として機能する。
【００９０】
また充填剤４１は、例えば所定の硬化処理により硬化して透明基板２０と素子基板１０とを接着する接着剤となる。この場合、充填剤４１は、シール剤４２と同様に透明接着層４０として機能する。充填剤４１の種類等は限定されず、例えば透明性を有する任意の樹脂材料が充填剤４１として用いられてよい。
【００９１】
シール剤４２が塗布され、充填剤４１が充填されると、透明基板２０が貼り合せられる。そしてシール剤４２及び充填剤４１を硬化する硬化処理（加熱処理や光照射処理等）が施され、透明基板２０と素子基板１０とが接着される。あるいは、シール剤４２のみを用いて透明基板２０と素子基板１０とを接着した後で、シール剤４２と各基板とにより囲まれた領域に充填剤４１が充填され、所定の硬化処理が施される。これにより、接着領域１６を介して透明基板２０と素子基板１０とが直接接着された表示装置１００が実現される。
【００９２】
図５は、比較例として示す表示装置の断面構造の一例を示す模式図である。図５Ａ〜５Ｃには、比較例として示す表示装置１２０、１３０、及び１４０の周辺部分の断面構造が模式的に図示される。各表示装置においてカラーフィルタ層１５０は、例えば下層に配置された金属電極層１５１（下層メタル）からの反射の遮光目的及び段差を軽減する目的で表示領域の外側に配置される。
【００９３】
一般に、有機発光層等を有する素子では、有機発光層を構成する有機物質の耐熱温度がリミッターとなり、素子や基板を加熱可能な最大の温度が比較的低い場合が多い。このため、例えばカラーフィルタ層１５０を比較的低い温度で形成する必要があり、カラーフィルタ層１５０を十分に硬化させることが難しい場合がある。
【００９４】
このように、硬化が不十分であるような場合には、カラーフィルタ層１５０と保護膜１５２との接触面の密着性が低下することが考えられる。従って例えばカラーフィルタ層１５０と保護膜１５２との接触面から、水分や酸素等が侵入する可能性や、カラーフィルタ層１５０と保護膜１５２との接触面で剥離が生じるといった可能性があり得る。
【００９５】
図５Ａに示すように、表示装置１２０では、透明接着層１５３がカラーフィルタ層１５０のみに接着される。カラーフィルタ層１５０の端面は、透明接着層１５３（シール剤）に覆われることなく露出している。この場合、上記したように、カラーフィルタ層１５０と保護膜１５２との密着性が低いために、水分侵入による剥がれ等が生じる場合がある。また水分や酸素等が侵入することで有機ＥＬ素子等が劣化し、装置の信頼性が低下する恐れがある。
【００９６】
このような問題の対策として、透明接着層１５３とカラーフィルタ層１５０とが接触しない断面構造を作成するため、カラーフィルタ層１５０の端面を透明接着層１５３内に入れることが考えられる。図５Ｂに示すように、表示装置１３０では、カラーフィルタ層１５０が表示装置１２０と比べ短く設定され、カラーフィルタ層１５０の端面が透明接着層１５３に覆われる。これにより、カラーフィルタ層１５０の端面からの水分の侵入が抑制される。
【００９７】
一方で、透明接着層１５３（シール剤）の端面は、シール塗布等の工程でばらつくことが考えられる。例えば透明接着層１５３が表示装置１３０の端面からは見出した場合、ダイシング等の個片化工程において、切断精度を低下させる恐れがある。このため、透明接着層１５３が表示装置１３０の端面からはみ出さない範囲で、端面位置のばらつきを考慮すると、カラーフィルタ層１５０を十分に縮小する必要が生じる。この結果、遮光目的でカラーフィルタ層１５０を設置していた場合、表示装置１３０の外周端部分での遮光性能が大きく低下することとなる
【００９８】
また、遮光性能を維持するために下層メタルである金属電極層１５１もカラーフィルタ層１５０に合わせて縮小することが考えられる。図５Ｃに示すように、表示装置１４０では、カラーフィルタ層１５０により遮光可能となるように、金属電極層１５１が縮小される。この場合、周辺回路として必用な配線幅が確保できず、電圧降下による画品位の低下を招くこととなる。
【００９９】
以下では、図１及び図４を参照して、本実施形態に係る表示装置１００の周辺部分２４について説明する。
【０１００】
図４に示すように、表示装置１００の周辺部分２４では、素子基板１０と透明基板２０とを接着する透明接着層４０（シール剤４２）が、カラーフィルタ層３０（遮光フィルタ３２）と接触しない断面構造を備える。この断面構造の対向面１１に接する領域が接着領域１６となる。従って、シール剤４２は、少なくとも接着領域１６において対向面１１に直接接着される。
【０１０１】
このように本実施形態では、図５を参照して説明した比較例のように表示装置の外周部からカラーフィルタ層を縮小し透明接着層とカラーフィルタ層とが接触しない断面構造を作成するのではなく、製造ばらつきの影響を受けず確実に透明接着層４０が存在する領域にカラーフィルタ層３０にスリット（接着領域１６）を入れて所望の断面構造を作成する。またそのスリットに合わせて下層メタルである金属電極層５１が存在しない構成を採用する。
【０１０２】
これにより、接着領域１６では、高い密着性が実現され、表示装置１００の端部からの水分や酸素等の侵入を十分に抑制することが可能となる。これにより、例えば水分や酸素等が混入することで生じる有機ＥＬ素子１２や充填剤４１の劣化等を回避することが可能となり、装置の信頼性を大幅に向上することが可能となる。
【０１０３】
また図１に示すように、表示装置１００を平面視で見た場合、接着領域１６は、表示領域１３を囲む帯状領域となる。従って、表示領域１３は、接着領域１６により完全に囲まれることになる。これにより、表示領域１３の下層に配置された有機ＥＬ素子１２等は、十分に密着性の高い空間に封止され、素子の劣化等を十分に回避することが可能となる。
【０１０４】
表示装置１００では、接着領域１６と重なる重複領域１８を避けて金属電極層５１（周辺電極６０）が配置される。従って、カラーフィルタ層３０（遮光フィルタ３２）が配置されない接着領域１６の直下には、反射率の高い周辺電極６０も配置されない。これにより、例えば透明基板２０側から外光等が入射した場合であっても、周辺部分２４（周辺領域１４）において、不要な反射や映り込み等が生じる事態を十分に回避することが可能である。このように、表示装置１００では、表示される画像の周辺（額縁）において遮光性能が高いレベルに維持される。この結果、品質の高い画像表示を実現することが可能となる。
【０１０５】
また本実施形態では、周辺電極６０は重複領域１８を挟んで部分電極６１に分けられ、各部分電極６１に対して共通電極５３が接続される。この結果、コンタクト抵抗の劣化等を回避することが可能となる。このように周辺電極６０を、複数の部分電極６１に分けて構成することが可能であるため、遮光性能を維持したまま周辺電極６０等の下層配線を配置可能な領域を確保することが可能である。これにより、周辺電極６０の配線を微細化することで生じる電圧降下による画質の劣化等が回避され、画品位を維持することが可能である。
【０１０６】
以上、本実施形態に係る表示装置１００では、有機ＥＬ素子１２を有する素子基板１０の対向面１１が透明基板２０に向けられる。対向面１１には表示領域１３を囲む周辺領域１４に設けられた接着領域１６を避けてカラーフィルタ層３０が配置される。また素子基板１０には透明基板２０から見て接着領域１６と重なる重複領域１８の少なくとも一部を避けて金属電極層５１が配置される。透明基板２０及び素子基板１０は、透明接着層４０により接着領域１６を介して接着される。これにより、各基板の接着性が向上し、金属電極層５１の反射が抑制されるため、装置の信頼性を向上するとともに品質の高い画像表示を実現することが可能となる。
【０１０７】
＜第２の実施形態＞
本技術に係る第２の実施形態の表示装置について説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した表示装置１００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
【０１０８】
図６は、第２の実施形態に係る表示装置２００の構成例を示す模式図である。図６Ａは、透明基板２２０から見た表示装置２００を模式的に示す平面図であり、図６Ｂは、図６Ａに示すＢＢ'線で切断した表示装置２００の周辺部分の構成例を示す模式的な断面図である。
【０１０９】
図６Ｂに示すように、本実施形態では、カラーフィルタ層２３０が設けられない接着領域１６と重なる重複領域１８の一部に金属電極層２５１の周辺電極２６０が設けられる。図６Ａには、重複領域１８の一部に突出して接着領域１６を通して見えている周辺電極２６０が模式的に図示されている。このように、金属電極層２５１は、重複領域１８の少なくとも一部を避けて配置されてもよい。
【０１１０】
例えば図６Ａに示すように、表示装置２００を固定する筐体２０５（図中の点線）等が接着領域１６に重なる場合、接着領域１６自身が筐体２０５により遮光される。あるいは通常の使用では視覚されない範囲に接着領域１６が隠される場合があり得る。このように、遮光が必要のない領域等については、重複領域１８であっても周辺電極２６０が設けられる。
【０１１１】
これにより、遮光性能を低下させることなく、より広い範囲に周辺電極を配置することが可能となる。この結果、設計の自由度が上がるとともに、配線の線幅等を太くすることが可能となり、高品位な画像表示を容易に実現することが可能となる。
【０１１２】
＜第３の実施形態＞
図７は、第３の実施形態に係る表示装置３００の構成例を示す模式図である。図７に示すように、表示装置３００では、接着領域１６が、表示領域１３の周囲の一部に設けられる。図７に示す例では、表示領域１３の周囲に配置された４つの接着領域１６ａ〜１６ｄが設けられる。接着領域１６ａ〜１６ｄは矩形状の領域であり、表示領域１３の左辺、下辺、右辺、及び上辺に沿ってそれぞれ周辺領域１４に配置される。
【０１１３】
このように、接着領域１６は、表示領域１３（有効画素エリア）の全周を囲わなくてもよい。このように表示領域１３を複数に分けて配置することで、例えば周辺電極が集中したエリアを選択的に遮光し、周辺電極がまばらに配置されるエリアに接着領域１６を設けるといったことが可能となる。これにより、例えば回路の構成上遮光が必要となる領域を確実に遮光するといったことが可能となる。
【０１１４】
なお、接着領域１６が設けられないことで水分や酸素等の侵入経路が残る可能性が考えられるが、例えば接着領域１６のサイズ等を適宜設計することで、水分侵入の経路が残っていても実使用時間において信頼性を維持することが可能な表示装置３００を構成することが可能である。
【０１１５】
＜第４の実施形態＞
図８は、第４の実施形態に係る表示装置４００の構成例を示す模式図である。図８に示すように、表示装置４００では、接着領域１６は、表示領域１３を囲む複数の帯状領域を含む。図８に示す例では、表示領域１３を囲むように配置された帯状の接着領域１６ｅと、接着領域１６ｅを囲む帯状の接着領域１６ｆとの２つの帯状領域が設けられる。
【０１１６】
また表示装置４００では、接着領域１６ｅ及び１６ｆと重なる素子基板４１０上の領域（重複領域１８）には、金属電極層の周辺電極等は配置されない。このように、帯状の接着領域１６が複数設けられる場合であっても、遮光性能を十分に維持することが可能である。
【０１１７】
また外側の接着領域１６ｅと内側の接着領域１６ｆとにより、水分等の侵入が回避される。これにより、例えば接着領域１６ｅで水分の侵入があった場合であっても、接着領域１６ｆにより、水分の侵入を確実に防止することが可能である。このように接着領域１６を多重に配置することで、水分の侵入を防止する性能を大幅に向上することが可能である。なお、帯状の接着領域１６を設ける数等は限定されず、例えば３重構造や４重構造の接着領域が設けられてもよい。
【０１１８】
＜第５の実施形態＞
図９は、第５の実施形態に係る表示装置５００の構成例を示す模式図である。図９には、表示装置５００の周辺部分の断面構造が模式的に図示されている。表示装置５００では、接着領域１６は、周辺領域１４の外縁に設けられる。
【０１１９】
ここで周辺領域１４の外縁とは、例えば素子基板５１０の外周部分である。素子基板５１０の外周部分には、例えば回路層５５０の表面が露出した領域や、保護膜５５４の表面が露出した領域が存在する。これらの領域は、素子基板５１０の対向面１１の一部であり、周辺領域１４に相当する。本実施形態では、接着領域１６は、素子基板５１０の外周部分において露出した保護膜５５４及び回路層５５０の表面に配置される。
【０１２０】
このように、接着領域１６は、ユーザの注視している表示領域１３から遠い位置に配置される。これにより、接着領域１６はユーザの視界に入りにくくなるため、接着領域１６を気にせずに画像表示を楽しむことが可能となる。従って接着領域１６を外縁に設けることで、実使用環境との親和性が高い表示装置５００を実現することが可能となる。
【０１２１】
また図９に示すように、表示装置５００では、周辺領域１４の外縁の近傍までカラーフィルタ層５３０が配置される。またカラーフィルタ層５３０の下層には、カラーフィルタ層５３０と同様に素子基板５１０の外縁の近傍まで金属電極層５５１が配置される。このように、表示装置５００では、金属電極層５５１を広い範囲に配置可能であるとともに、それを確実に遮光することが可能となる。なお、カラーフィルタ層５３０の端部は、透明接着層５４０に覆われるため、水分の侵入等を確実に防止することが可能となる。
【０１２２】
＜第６の実施形態＞
図１０は、第６の実施形態に係る表示装置６００の構成例を示す模式図である。図１０には、表示装置６００の周辺部分の断面構造が模式的に図示されている。表示装置６００では、透明接着層６４０として、透明基板６２０及び素子基板６１０の間に充填された充填剤６４１が用いられる。すなわち、表示装置６００では、シール剤を用いずに、単一の充填剤６４１により透明基板６２０と素子基板６１０とが接着される。このように単一の充填剤６４１が透明接着層６４０として用いられる場合であっても、本技術は適用可能である。
【０１２３】
例えば、素子基板６１０の保護膜６５４上にカラーフィルタ層６３０が形成された後に、素子基板６１０に充填剤６４１が塗布される。充填剤６４１としては、例えば指定した塗布領域から流れ出ない程度の粘性を持った透明な接着剤等が用いられる。そして充填剤６４１が塗布された素子基板６１０に透明基板６２０を貼り合せて、所定の硬化処理が施される。これにより、例えばシール剤の塗布工程を削減することが可能となり、製造工程を簡略化することが可能である。
【０１２４】
＜その他の実施形態＞
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【０１２５】
上記では、金属電極層により、有機ＥＬ素子の画素電極と、周辺電極とが構成される場合について説明した。これに限定されず、金属電極層により、有機ＥＬ素子の画素電極とは別に有機ＥＬ素子の光を反射する金属反射膜等が構成されてもよい。
【０１２６】
例えば有機ＥＬ素子の画素電極として、透明電極等を用いる場合があり得る。このような場合には、画素電極側に出射された光を共通電極側に反射する金属反射膜等が形成される。この金属反射膜が、金属電極層により構成されてもよい。なお、金属電極層により構成された周辺電極は、高い反射率を有する金属膜となる。このような場合であっても、例えば図４等を参照して説明したように、金属電極層を接着領域と重ならないように配置することで、遮光性を十分に維持することが可能である。
【０１２７】
上記では、共通電極側から光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子を備えた表示装置について説明した。これに限定されず、例えば画素電極側から光を出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子が用いられてもよい。この場合、素子基板において、有機ＥＬ素子（有機発光層）が形成される側とは反対側に、カラーフィルタ層及び透明基板が配置される。
【０１２８】
ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子では、例えば透明な素子基板（ガラス基板等）上に透明な画素電極が形成される。画素電極の上方には、有機発光層と、共通電極とが形成される。ここで、共通電極は、光を反射する金属反射膜として機能する。あるいは、共通電極とは別に、金属反射膜が設けられてもよい。画素電極の下方には、例えば有機ＥＬ素子の光を取り出すための窓部が形成され、窓部の周りには画素回路等が配置される。素子基板には、各有機ＥＬ素子にそれぞれ対応する窓部が形成され、各窓部が形成される領域が、画像が表示される表示領域となる。
【０１２９】
素子基板の下方側には、表示領域の周りに設けられた接着領域を避けてカラーフィルタ層が設けられる。また接着領域にはシール剤等が塗布され透明基板が接着される。なお素子基板では、反射率の高い金属膜（上記した金属反射膜等）により構成される電極は、接着領域と重ならないように配置される。
【０１３０】
有機発光層で生成された光は、画素電極、窓部、及びカラーフィルタ層を通過して、透明基板から出射する。このような構成であっても、接着領域を避けてカラーフィルタ層を配置することで、水分の侵入等を防止し表示不良等の発生を回避することが可能となる。また素子基板と透明基板とが直接接着されるため、各基板間の剥離等を防止することが可能となる。また反射率の高い金属膜が接着領域と重ならないように配置されるため、周辺の遮光性を十分に維持することが可能となる。
【０１３１】
図１１〜図１４は、他の実施形態に係る表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。上記では、モジュールとして構成された表示装置について説明した。本技術は、表示装置を搭載する各種の電子機器に適用可能である。以下では図１１〜図１４を参照して他の表示装置の一例について説明する。
【０１３２】
図１１は、携帯端末の外観を表したものである。図１１（Ａ）は、携帯端末７００の正面図であり、図１１（Ｂ）は携帯端末７００の背面図である。携帯端末７００の正面には表示用のディスプレイ７０１が配置される。このディスプレイ７０１として上記した表示装置を用いることが可能である。
【０１３３】
図１２は、デジタルカメラの外観を表したものである。図１２（Ａ）はデジタルカメラ７１０の正面図であり、図１２（Ｂ）はデジタルカメラ７１０の背面図である。このデジタルカメラ７１０は、ビューファインダ部７１１を有しており、このビューファインダ部７１１に上記した表示装置等が用いられる。この場合、表示装置は、マイクロディスプレイとして構成される。またデジタルカメラ７１０は、背面ディスプレイ７１２を有する。この背面ディスプレイ７１２に表示装置が用いられてもよい。
【０１３４】
図１３は、メガネやゴーグル、サングラス等のアイウェア７２０に、アイウェア装着型の片目用ディスプレイモジュール７２１を装着した外観を表したものである。アイウェア装着型の片目用ディスプレイモジュール７２１は、例えば光源と、有機ＥＬ装置７２２とを有しており、この有機ＥＬ装置に上記した表示装置等が適用される。
【０１３５】
図１４は、電子機器としてのテレビジョン装置７３０の外観を表したものである。このテレビジョン装置７３０は、フラットパネル型の有機ＥＬディスプレイ７３１を備える。この有機ＥＬディスプレイ７３１として上記した表示装置を用いることが可能である。
【０１３６】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【０１３７】
本開示において、「同じ」「等しい」「直交」等は、「実質的に同じ」「実質的に等しい」「実質的に直交」等を含む概念とする。例えば「完全に同じ」「完全に等しい」「完全に直交」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
【０１３８】
なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。
（１）透明基板と、
前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する素子基板と、
前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置された色フィルタ層と、
前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置された金属電極層と、
前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する透明接着層と
を具備する表示装置。
（２）（１）に記載の表示装置であって、
前記色フィルタ層は、前記表示領域に配置された第１の色フィルタと、前記接着領域を避けて前記周辺領域に配置された第２の色フィルタとを有する
表示装置。
（３）（２）に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記有機ＥＬ素子の光を着色する着色フィルタであり、
前記第２の色フィルタは、前記金属電極層を遮光する遮光フィルタである
表示装置。
（４）（１）から（３）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記接着領域は、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられる
表示装置。
（５）（４）に記載の表示装置であって、
前記接着領域は、前記表示領域を囲む１以上の帯状領域を含む
表示装置。
（６）（４）又は（５）に記載の表示装置であって、
前記接着領域は、前記周辺領域の外縁に設けられる
表示装置。
（７）（１）から（６）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記金属電極層は、前記有機ＥＬ素子の光を反射する金属反射膜と、前記重複領域の少なくとも一部を避けて配置された周辺電極とを有する
表示装置。
（８）（７）に記載の表示装置であって、
前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板の前記対向面側に配置された透明な共通電極を有し、
前記周辺電極は、前記共通電極と電気的に接続する
表示装置。
（９）（８）に記載の表示装置であって、
前記共通電極は、前記周辺電極上に配置される
表示装置。
（１０）（８）又は（９）に記載の表示装置であって、
前記周辺電極は、互いに離間して配置された複数の部分電極を含み、
前記共通電極は、前記複数の部分電極上に配置される
表示装置。
（１１）（８）から（１０）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記有機ＥＬ素子は、前記共通電極の前記対向面とは反対側に配置された画素電極と、前記共通電極と前記画素電極との間に配置された有機発光層とを有し、
前記金属反射膜は、前記有機発光層で生成された光を前記対向面に反射する
表示装置。
（１２）（１１）に記載の表示装置であって、
前記金属反射膜は、前記画素電極である
表示装置。
（１３）（８）から（１２）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記素子基板は、前記共通電極を覆うように形成された保護膜を有し、
前記対向面は、前記透明基板に対向する前記保護膜の表面である
表示装置。
（１４）（７）から（１３）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記周辺電極は、前記色フィルタ層に最も近い金属膜である
表示装置。
（１５）（１）から（１４）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、前記表示領域を囲むように塗布されたシール剤である
表示装置。
（１６）（１）から（１５）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、前記透明基板及び前記素子基板の間に充填された充填剤である
表示装置。
（１７）  透明基板と、
前記透明基板に対向する対向面と、前記対向面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子とを有する素子基板と、
前記対向面の前記表示領域を囲む周辺領域に設けられた接着領域を避けて前記対向面に配置された色フィルタ層と、
前記透明基板から見て前記接着領域と重なる重複領域の少なくとも一部を避けて前記素子基板に配置された金属電極層と、
前記接着領域を介して前記透明基板と前記素子基板とを接着する透明接着層と
を有する表示装置と、
前記表示装置を駆動する駆動回路と
を具備する電子機器。
【符号の説明】
【０１３９】
１０、４１０、５１０、６１０…素子基板
１１…対向面
１２…有機ＥＬ素子
１３…表示領域
１４…周辺領域
１６、１６ａ〜１６ｆ…接着領域
１８…重複領域
２０、２２０、６２０…透明基板
２２…駆動回路
３０、２３０、５３０、６３０…カラーフィルタ層
３１…第１のカラーフィルタ
３２…第２のカラーフィルタ
４０、５４０、６４０…透明接着層
４１…充填剤
４２…シール剤
５１、２５１、５５１…金属電極層
５２…有機発光層
５３…共通電極
５４、５５４、６５４…保護膜
６０、２６０…周辺電極
６１…部分電極
６２…画素電極
１００、２００、３００、４００、５００、６００…表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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