(57)【要約】  管理装置（７０）は、エミッタに付与される電圧、電流または通電時間からエミッタの消耗度を検出する消耗度検出部（７２）と、エミッタの消耗度と記憶部（７１）に記憶したエミッタの消耗度と外囲器への導電体の付着量との関係とに基づいて外囲器への導電体の付着量を推定する付着量推定部（７３）と、エミッタの消耗度と記憶部（７１）に記憶したエミッタの消耗度と外囲器への導電体の付着量との関係と記憶部（７１）に記憶した外囲器への導電体の付着量と外囲器に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて沿面放電が生ずる確率を推定する沿面放電推定部（７４）とを備える。
2020054174.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電体から構成され電子を放出するエミッタと、前記エミッタから放出された電子が衝突することによりＸ線を発生するターゲットと、前記エミッタと前記ターゲットとを収納する外囲器と、を有するＸ線発生部と、
前記エミッタの消耗度を検出する消耗度検出部と
前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係を記憶する記憶部と、
前記エミッタの消耗度と、前記記憶部に記憶した前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係とに基づいて、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定する付着量推定部と、
を備えたことを特徴とするＸ線装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記消耗度検出部は、前記エミッタに付与される電圧、電流または通電時間から前記エミッタの消耗度を検出するＸ線装置。
【請求項３】
請求項１に記載のＸ線装置において、
温度センサをさらに備え、
前記付着量推定部は、前記温度センサにより検出した前記Ｘ線発生部の温度または前記Ｘ線発生部内の絶縁油の温度を利用して、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定するＸ線装置。
【請求項４】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記Ｘ線発生部の姿勢を検出する姿勢センサをさらに備え、
前記付着量推定部は、前記姿勢センサにより検出した前記Ｘ線発生部の姿勢を利用して、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定するＸ線装置。
【請求項５】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電が生ずる確率との関係をさらに記憶し、
前記エミッタの消耗度と、前記記憶部に記憶した前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて、沿面放電が生ずる確率を推定する沿面放電推定部をさらに備えるＸ線装置。
【請求項６】
請求項５に記載のＸ線装置において、
前記沿面放電推定部により推定された沿面放電が生じる確率が予め設定した設定値を超えたときに、警告表示を実行するＸ線装置。
【請求項７】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係をさらに記憶し、
前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係とに基づいて、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する画像処理部を備えるＸ線装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、エミッタとターゲットとを外囲器内に配設したＸ線発生部を備えるＸ線装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線管を備えたＸ線発生部の寿命として、Ｘ線管の放電寿命があげられる。例えば、Ｘ線管の真空度が低下することに起因する空間放電に対しては、従来、Ｘ線管の真空度から放電の危険度を予測している（特許文献１参照）。また、Ｘ線発生部からのＸ線の曝射回数で放電の危険度を予測することも行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１００１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
Ｘ線管の放電寿命の原因となる放電としては、空間放電の他、Ｘ線管の真空度が低下することに起因する空間放電だけではなく、Ｘ線管を構成する外囲器の内周面にエミッタを構成する導電体が付着することによる沿面放電もあげられる。このエミッタを構成する導電体が外囲器の内面に付着することによる沿面放電については、危険度を予測することは困難である。また、Ｘ線発生部からのＸ線の曝射回数で放電の危険度を予測する場合、Ｘ線曝射時における管電圧、管電流および曝射時間等のＸ線条件によって放電の危険度は異なることから、危険度の予測精度が不正確なものとなるという問題が生ずる。【０００５】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量をより正確に推定することが可能なＸ線装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の発明は、導電体から構成され電子を放出するエミッタと、前記エミッタから放出された電子が衝突することによりＸ線を発生するターゲットと、前記エミッタと前記ターゲットとを収納する外囲器と、を有するＸ線発生部と、前記エミッタの消耗度を検出する消耗度検出部と、前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係を記憶する記憶部と、前記エミッタの消耗度と、前記記憶部に記憶した前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係とに基づいて、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定する付着量推定部と、を備えたことを特徴とする。すなわち、第１の発明に係るＸ線装置は、導電体から構成され電子を放出するエミッタと、前記エミッタから放出された電子が衝突することによりＸ線を発生するターゲットと、前記エミッタと前記ターゲットとを収納する外囲器と、を有するＸ線発生部と、前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係を記憶する記憶部と、以下の処理を実行するプロセッサとを備えている。（１）エミッタの消耗度を検出する。（２）エミッタの消耗度と、記憶部に記憶したエミッタの消耗度と外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量との関係とに基づいて、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量を推定する。【０００７】
第２の発明は、前記消耗度検出部は、前記エミッタに付与される電圧、電流または通電時間から前記エミッタの消耗度を検出する。すなわち、プロセッサは、エミッタに付与される電圧、電流または通電時間からエミッタの消耗度を検出する処理を実行する。【０００８】
第３の発明は、温度センサをさらに備え、前記付着量推定部は、前記温度センサにより検出した前記Ｘ線発生部の温度または前記Ｘ線発生部内の絶縁油の温度を利用して、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定する。すなわち、プロセッサは、温度センサにより検出したＸ線発生部の温度またはＸ線発生部内の絶縁油の温度を利用して、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量を推定する処理を実行する。【０００９】
第４の発明は、前記Ｘ線発生部の姿勢を検出する姿勢センサをさらに備え、前記付着量推定部は、前記姿勢センサにより検出した前記Ｘ線発生部の姿勢を利用して、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定する。すなわち、プロセッサは、姿勢センサにより検出したＸ線発生部の姿勢を利用して、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量を推定する処理を実行する。【００１０】
第５の発明は、前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電が生ずる確率との関係をさらに記憶し、前記エミッタの消耗度と、前記記憶部に記憶した前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて、沿面放電が生ずる確率を推定する沿面放電推定部をさらに備える。すなわち、記憶部が前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電が生ずる確率との関係をさらに記憶し、プロセッサは、エミッタの消耗度と、記憶部に記憶したエミッタの消耗度と外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量との関係と、記憶部に記憶した外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて、沿面放電が生ずる確率を推定する処理を実行する。【００１１】
第６の発明は、前記沿面放電推定部により推定された沿面放電が生じる確率が予め設定した設定値を超えたときに、警告表示を実行する。すなわち、プロセッサは、沿面放電推定部により推定された沿面放電が生じる確率が予め設定した設定値を超えたときに、警告表示を行う処理を実行する。【００１２】
第７の発明は、前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係をさらに記憶し、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係とに基づいて、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する画像処理部を備える。すなわち、記憶部は、外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係をさらに記憶し、外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と、記憶部に記憶した外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、記憶部に記憶した外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係とに基づいて、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する処理を実行するプロセッサを備える。
【発明の効果】
【００１３】
第１および第２の発明によれば、エミッタの消耗度に基づいて外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量を推定することが可能となる。【００１４】
第３の発明によれば、温度センサにより検出したＸ線発生部の温度またはＸ線発生部内の絶縁油の温度を利用して、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量をより正確に推定することが可能となる。【００１５】
第４の発明によれば、姿勢センサにより検出したＸ線発生部の姿勢を利用することにより、Ｘ線発生部の姿勢による温度分布の考慮した上で、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量をさらに正確に推定することが可能となる。【００１６】
第５および第６の発明によれば、エミッタの消耗度に基づいて、沿面放電が生ずる確率を推定することが可能となり、これを利用して、放電寿命が近づいていることを警告することが可能となる。【００１７】
第７の発明によれば、エミッタの消耗度に基づいて外囲器を通過するＸ線の透過率、または、外囲器を通過するＸ線のスペクトルを認識することが可能となる。これにより、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更して、表示部により適切な画像を表示することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】この発明に係るＸ線装置の一部を構成するＸ線透視撮影装置の概要図である。
【図２】検査室Ｒ２内に配設された透視撮影台の斜視図である。
【図３】Ｘ線発生部５０の構成を示す概要図である。
【図４】この発明に係るＸ線装置の主要な制御系を示すブロック図である。
【図５】エミッタ５７の消耗度と外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量との関係を示すグラフである。
【図６】エミッタ５７の消耗度と外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量との関係を示すグラフである。
【図７】外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電が生ずる確率との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係るＸ線装置の一部を構成するＸ線透視撮影装置の概要図である。また、図２は、検査室Ｒ２内に配設された透視撮影台の斜視図である。
【００２０】
このＸ線撮影装置は、被検者Ｍに対してＸ線撮影およびＸ線透視を実行するためのものであり、操作室Ｒ１内に設置された操作パネル４３を備えるコントローラ４２および表示部４１と、検査室Ｒ２内に設置された透視撮影台とを備える。操作室Ｒ１と検査室Ｒ２とは、隔壁２１により隔てられている。この隔壁２１には、Ｘ線を遮断可能な鉛ガラス窓２２が設けられており、オペレータＤは、この鉛ガラス窓２２を介して検査室Ｒ２内の状態を確認することが可能となっている。
【００２１】
検査室Ｒ２に設置されたＸ線透視撮影台は、図２に示すように、基台１９上に立設された主支柱１５と、この主支柱１５に対して昇降可能に配設された保持部１６と、この保持部１６に回転可能に連結された天板１３と、Ｘ線発生部５０およびコリメータ１２を支持する支柱１７と、天板１３の表面の下方におけるＸ線発生部５０と対向する位置に配設されたフラットパネルディテクタ等のＸ線検出器１４とを備える。なお、図１においては、主支柱１５および保持部１６の図示を省略している。
【００２２】
保持部１６は、図２に示すＺ方向に昇降する。また、天板１３は、支柱１７とともに、天板１３の長手方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸（図２に示すＹ方向を向く軸）を中心として回転する。また、支柱１７とＸ線検出器１４とは、天板１３の長手方向に互いに同期して往復移動する。さらに、Ｘ線発生部５０およびコリメータ１２は、支柱１７とともに、図２に示すＺ方向に昇降する。なお、Ｘ線発生部５０およびコリメータ１２は、天板１３および支柱１７の回転に伴って回転するとともに、支柱１７に支持された状態で揺動可能となっている。Ｘ線発生部５０は、支柱１７に対する揺動と、支柱１７の回転により、その姿勢が変化する。
【００２３】
図３は、Ｘ線発生部５０の構成を示す概要図である。
【００２４】
このＸ線発生部５０は、ガラスまたはセラミックからなる絶縁性の外囲器６０内に、陰極としてのエミッタ５７と、回転陽極であるターゲット５８を配設した構成を有する。外囲器６０内は真空となっている。この外囲器６０は、Ｘ線透過窓５６を備えたケーシング５５内に配置されており、このケーシング５５は鉛等のＸ線非透過部材から構成されている。ケーシング５５内には絶縁油が充填されている。また、ケーシング５５の外部には、絶縁油の温度をケーシング５５を介して測定するための温度センサ５３が配設されている。さらに、ケーシング５５の外部には、支柱１７に対する揺動または支柱１７の回転にともなって姿勢が変化するＸ線発生部５０の姿勢を検出する加速度計等の姿勢センサ５４が配設されている。
【００２５】
エミッタ５７は、フィラメントとも呼称されるものであり、交流電源５１および電流計５２と、スイッチ５９を介して接続されている。また、ターゲット５８は、軸受機構６３により回転可能に支持されている。そして、エミッタ５７は、モータステータ６１とモータロータ６２からなる回転駆動機能の駆動により回転する。
【００２６】
このＸ線発生部５０は、高電圧供給部３０を備える。エミッタ５７は、高電圧供給部３０によりマイナスの高電圧を付与される。また、ターゲット５８は、高電圧供給部３０によりプラスの高電圧を付与される。これにより、エミッタ５７とターゲット５８の間に、高い管電圧が付与される。
【００２７】
エミッタ５７に対して交流電源５１から電流が付与され、また、図示しない傍熱加熱機構によりエミッタ５７が加熱されると、エミッタ５７から熱電子Ａが放出される。この熱電子Ａは、管電圧によりターゲット５８に向けて移動し、ターゲット５８と衝突することによりＸ線Ｂを発生する。この時には、電流計５２によりエミッタ５７を流れる電流を測定し、その電流値が一定となるように、高電圧供給部３０から供給される管電圧を制御する。この時のエミッタ５７を流れる電流値と管電圧の大きさから、エミッタ５７の消耗度が推定される。
【００２８】
図４は、この発明に係るＸ線装置の主要な制御系を示すブロック図である。
【００２９】
この発明に係るＸ線装置は、図１に示すＸ線透視撮影装置のコントローラ４２と、Ｘ線透視撮影装置におけるＸ線発生部５０等を管理する管理装置７０とを、インターネット等のネットワーク１００を介して接続した構成を有する。この管理装置７０は、ネットワーク１００を介して複数のＸ線透視撮影装置と接続され、それらのＸ線透視撮影装置の稼働状況や故障の状況等を管理するものである。なお、このようなネットワーク１００を介して接続される管理装置７０を使用するかわりに、Ｘ線透視撮影装置自体に管理装置７０に相当する管理機能を備える構成としてもよい。
【００３０】
図１および図４に示すコントローラ４２は、Ｘ線発生部５０および高電圧供給部３０と接続されている。このコントローラ４２は、Ｘ線検出器１４により撮影したＸ線画像を画像処理して表示部４１に表示する画像処理部４４を備える。このコントローラ４２はソフトウエアがインストールされたコンピュータから構成される。このコントローラ４２はプロセッサ（ＣＰＵ）を備え、このプロセッサにより、Ｘ線検出器１４により撮影したＸ線画像を画像処理して表示部４１に表示する処理を実行する。
【００３１】
管理装置７０は、ソフトウエアがインストールされたコンピュータから構成される。この管理装置７０に含まれる各部の機能は、コンピュータにインストールされているソフトウエアを実行することで実現される。
【００３２】
この管理装置７０は、エミッタ５７の消耗度と外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量との関係と、外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電が生ずる確率との関係と、外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線の透過率との関係、または、外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線のスペクトルとの関係とを記憶する記憶部７１を備える。
【００３３】
図５および図６は、エミッタ５７の消耗度と外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量との関係を示すグラフである。ここで図５は、エミッタ５７が単一である場合を示している。また、図６は、大焦点用と小焦点用などのように、複数のエミッタ５７を備える場合を示している。これらの図に示すように、エミッタ５７の消耗度が増加するにつれて、外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量が増加している。図７は、外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電が生ずる確率との関係を示すグラフである。この図に示すように、外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量が一定以上となったときに、沿面放電が生ずる確率が急上昇する。なお、図５から図７に示すデータは、予め実験的に求められ、記憶部７１に記憶されている。
【００３４】
再度図４を参照して、この管理装置７０は、エミッタ５７に付与される電圧、電流または通電時間（電流値で重みづけをした累積通電時間）からエミッタ５７の消耗度を検出する消耗度検出部７２と、エミッタ５７の消耗度と記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０への導電体の付着量との関係とに基づいて外囲器６０への導電体の付着量を推定する付着量推定部７３と、エミッタ５７の消耗度と記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０への導電体の付着量との関係と記憶部７１に記憶した外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて沿面放電が生ずる確率を推定する沿面放電推定部７４とを備える。この管理装置７０はプロセッサ（ＣＰＵ）を備え、このプロセッサにより、エミッタ５７に付与される電圧、電流または通電時間からエミッタ５７の消耗度を検出する処理と、エミッタ５７の消耗度と記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０への導電体の付着量との関係とに基づいて外囲器６０への導電体の付着量を推定する処理と、エミッタ５７の消耗度と記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０への導電体の付着量との関係と記憶部７１に記憶した外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて沿面放電が生ずる確率を推定する処理とを実行する。
【００３５】
また、この管理装置７０は、外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線の透過率との関係に基づいて、Ｘ線発生部５０から照射されるＸ線の線量を推定する線量推定部７５と、外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線のスペクトルとの関係に基づいて、Ｘ線発生部５０から照射されるＸ線の線質を推定する線質推定部７６とを備える。線量推定部７５で推定された線量と線質推定部７６で推定された線質は、コントローラ４２における画像処理部４４に送信される。画像処理部４４は、これらの線量および線質のデータに基づいて、表示部４１に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する。すなわち、この管理装置７０のプロセッサは、外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線の透過率との関係に基づいて、Ｘ線発生部５０から照射されるＸ線の線量を推定する処理と、外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線のスペクトルとの関係に基づいて、Ｘ線発生部５０から照射されるＸ線の線質を推定する処理とを実行する。コントローラ４２におけるプロセッサは、これらの線量および線質のデータに基づいて、表示部４１に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する処理を実行する。
【００３６】
さらに、この管理装置７０は、Ｘ線発生部５０の使用履歴や、エミッタ５７を流れる電流値と管電圧の大きさエミッタ５７の消耗度や外囲器６０への導電体の付着量等の履歴を記憶する履歴記憶部７７を備える。
【００３７】
以上のような構成を有するＸ線装置においてＸ線撮影を実行するときには、撮影条件に合わせてＸ線発生部５０およびコリメータ１２を、支柱１７に対して揺動させ、あるいは、支柱１７を回転させることにより、所定の姿勢とする。この時のＸ線発生部５０の姿勢は、加速度計等の姿勢センサ５４により検出される。また、Ｘ線発生部５０の温度は、温度センサ５３により測定される。この状態で、Ｘ線発生部５０からＸ線を照射してＸ線撮影を行う。
【００３８】
Ｘ線発生部５０からＸ線を照射しているときには、電流計５２によりエミッタ５７を流れる電流値が測定され、管電圧のデータとともに、ネットワーク１００を介して管理装置７０に送信される。また、この時のＸ線発生部５０の姿勢のデータと、Ｘ線発生部５０の温度のデータも、ネットワーク１００を介して管理装置７０に送信される。
【００３９】
管理装置７０における消耗度検出部７２においては、電流計５２により測定されたエミッタ５７を流れる電流のデータから、エミッタ５７の消耗度を検出する。そして、管理装置７０における付着量推定部７３は、エミッタ５７の消耗度と、記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量との関係とに基づいて、外囲器６０への導電体の付着量を推定する。
【００４０】
この導電体の付着量の推定時には、Ｘ線発生部５０の温度のデータとＸ線発生部５０の姿勢のデータとが考慮される。すなわち、Ｘ線発生部５０の温度、すなわち、Ｘ線発生部５０内の作動油や外囲器６０の温度が高いほど、外囲器６０への導電体の付着量は減少する。また、Ｘ線発生部５０の姿勢によっては、温度センサ５３により測定されるＸ線発生部５０の温度が大きく変化する。このため、導電体の付着量を推定するときには、Ｘ線発生部５０の温度のデータと、Ｘ線発生部５０の姿勢のデータとを考慮するようにしている。
【００４１】
そして、管理装置７０における沿面放電推定部７４は、エミッタ５７の消耗度と、記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量との関係と、記憶部７１に記憶した外囲器６０へのエミッタ５７を構成する導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて、沿面放電が生ずる確率を推定する。
【００４２】
この放電確率が、例えば、図７に示す基準値を超えたときには、管理装置７０はＸ線透視撮影装置における表示部４１に対して、警告表示を行う。この警告表示は、沿面放電の可能性が高いことを知らせる表示である。このとき、表示部４１に対してシーズニング（エージング）の実行を促す警告表示を併せて行うようにしてもよい。
【００４３】
Ｘ線撮影を継続するときの、エミッタ５７の消耗度のデータ、外囲器６０への導電体の付着量のデータおよび沿面放電の可能性のデータ等の各種のデータは、履歴記憶部７７に継続的に記憶される。そして、警告表示を行う場合には、必要に応じ、過去の各種のデータを参照して、警告表示の内容を推定するようにしてもよい。
【００４４】
また、これと並行して、Ｘ線発生部５０からＸ線を照射しているときには、線量推定部７５が、外囲器６０への導電体の付着量と、記憶部７１に記憶した外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０を通過するＸ線の透過率との関係に基づいて、Ｘ線発生部５０から照射されるＸ線の線量を推定する。また、線質推定部７６が、外囲器６０への導電体の付着量と、記憶部７１に記憶した外囲器６０を通過するＸ線のスペクトルとの関係に基づいて、Ｘ線発生部５０から照射されるＸ線の線質を推定する。
【００４５】
外囲器６０に導電体が付着したときには、外囲器６０を通過するＸ線の一部が遮られたり、Ｘ線のスペクトルが変移したりすることがある。このため、Ｘ線の線量のデータおよびＸ線の線質のデータは、Ｘ線透視撮影装置におけるコントローラ４２に送信される。そして、コントローラ４２における画像処理部４４は、これらの線量データおよび線質データに基づいて、表示部４１に表示するＸ線画像の輝度やコントラスト等の画像処理条件を変更する。これにより、表示部４１に表示されるＸ線画像を適正なものとすることが可能となる。
【００４６】
なお、上述した実施形態においては、この発明に係るＸ線装置として、透視撮影装置と管理装置７０とをネットワーク１００を介して接続した構成を有する。しかしながら、管理装置７０を透視撮影装置と直接接続してもよく、また、管理装置７０における各構成を透視撮影装置における制御部内に含有させるようにしてもよい。
【００４７】
また、上述した実施形態においては、エミッタ５７の消耗度と記憶部７１に記憶したエミッタ５７の消耗度と外囲器６０への導電体の付着量との関係と、記憶部７１に記憶した外囲器６０への導電体の付着量と外囲器６０に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて沿面放電が生ずる確率を推定している。しかしながら、これらの二つの関係をあわせることにより、エミッタ５７の消耗度と外囲器６０に対する沿面放電の確率との関係を予め求めておき、沿面放電推定部７４がこのエミッタ５７の消耗度と外囲器６０に対する沿面放電の確率との関係に基づいて警告等を実行するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００４８】
１２      コリメータ
１３      天板
１４      Ｘ線検出器
３０      高電圧供給部
４１      表示部
４２      コントローラ
４３      操作パネル
４４      画像処理部
５０      Ｘ線発生部
５１      交流電源
５２      電流計
５３      温度センサ
５４      姿勢センサ
７０      管理装置
７１      記憶部
７２      消耗度検出部
７３      付着量推定部
７４      沿面放電推定部
７５      線量推定部
７６      線質推定部
７７      履歴記憶部
Ｄ        オペレータ
Ｍ        被検者
Ｒ１      操作室
Ｒ２      検査室
【図１】
2020054174.tif 000003
【図２】
2020054174.tif 000004
【図３】
2020054174.tif 000005
【図４】
2020054174.tif 000006
【図５】
2020054174.tif 000007
【図６】
2020054174.tif 000008
【図７】
2020054174.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月1日(2020.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電体から構成され電子を放出するエミッタと、前記エミッタから放出された電子が衝突することによりＸ線を発生するターゲットと、前記エミッタと前記ターゲットとを収納する外囲器と、を有するＸ線発生部と、
前記エミッタの消耗度を検出する消耗度検出部と、
前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係を記憶する記憶部と、
前記エミッタの消耗度と、前記記憶部に記憶した前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係とに基づいて、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定する付着量推定部と、
を備えたことを特徴とするＸ線装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記消耗度検出部は、前記エミッタに付与される電圧、電流または通電時間から前記エミッタの消耗度を検出するＸ線装置。
【請求項３】
請求項１に記載のＸ線装置において、
温度センサをさらに備え、
前記付着量推定部は、前記温度センサにより検出した前記Ｘ線発生部の温度または前記Ｘ線発生部内の絶縁油の温度を利用して、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定するＸ線装置。
【請求項４】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記Ｘ線発生部の姿勢を検出する姿勢センサをさらに備え、
前記付着量推定部は、前記姿勢センサにより検出した前記Ｘ線発生部の姿勢を利用して、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量を推定するＸ線装置。
【請求項５】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電が生ずる確率との関係をさらに記憶し、
前記エミッタの消耗度と、前記記憶部に記憶した前記エミッタの消耗度と前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量との関係と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器に対する沿面放電の確率との関係とに基づいて、沿面放電が生ずる確率を推定する沿面放電推定部をさらに備えるＸ線装置。
【請求項６】
請求項５に記載のＸ線装置において、
前記沿面放電推定部により推定された沿面放電が生じる確率が予め設定した設定値を超えたときに、警告表示を実行するＸ線装置。
【請求項７】
請求項１に記載のＸ線装置において、
前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係をさらに記憶し、
前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係とに基づいて、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する画像処理部をさらに備えるＸ線装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第７の発明は、前記記憶部は、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係をさらに記憶し、前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、前記記憶部に記憶した前記外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と前記外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係とに基づいて、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する画像処理部をさらに備える。すなわち、記憶部は、外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係をさらに記憶し、外囲器への前記エミッタを構成する導電体の付着量と、記憶部に記憶した外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線の透過率との関係、または、記憶部に記憶した外囲器へのエミッタを構成する導電体の付着量と外囲器を通過するＸ線のスペクトルとの関係とに基づいて、表示部に表示するＸ線画像の画像処理条件を変更する処理を実行するプロセッサを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
エミッタ５７は、フィラメントとも呼称されるものであり、交流電源５１および電流計５２と、スイッチ５９を介して接続されている。また、ターゲット５８は、軸受機構６３により回転可能に支持されている。そして、ターゲット５８は、モータステータ６１とモータロータ６２からなる回転駆動機構の駆動により回転する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
さらに、この管理装置７０は、Ｘ線発生部５０の使用履歴や、エミッタ５７を流れる電流値と管電圧の大きさ、エミッタ５７の消耗度や外囲器６０への導電体の付着量等の履歴を記憶する履歴記憶部７７を備える。
【国際調査報告】
2020054174.tif 000010
2020054174.tif 000011
2020054174.tif 000012