(57)【要約】【課題】光通信で使われる近赤外光領域で透明であり、屈折率の調整が可能であり、またリソグラフィやエッチング等の従来の半導体加工技術にて微細構造を容易に形成可能であり、硬化後の耐光性、耐熱性に優れた反応性シリコーン組成物を提供する。【解決手段】下記（Ｓ）成分及び（Ｔ）成分を含有する反応性シリコーン組成物。（Ｓ）成分：式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物との縮合生成物からなる反応性シリコーン化合物。【化１】2020105405.tif 000011（式中、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立して炭素原子数１乃至６のアルキル基で任意に置換され得るフェニル基を表し、Ｘは加水分解性反応基を表す。）（Ｔ）成分：酸化チタン含有金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）を核とし、その表面を二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆された、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）であり、その表面に有機ケイ素化合物が結合してなる、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子。【選択図】  なし
2020105405.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ｓ）成分及び（Ｔ）成分を含有する反応性シリコーン組成物であって、
前記（Ｓ）成分は、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物との縮合生成物からなる反応性シリコーン化合物であり、
【化１】
2020105405.tif 000010
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキル基で任意に置換され得るフェニル基を表し、Ｘは、加水分解性反応基を表す。）
前記（Ｔ）成分は、２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する酸化チタン含有金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）を核とし、その表面を二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物の１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有するコロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆された、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）であり、その表面に有機ケイ素化合物が結合してなる、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子である、
反応性シリコーン組成物。
【請求項２】
溶媒としてシクロヘキサノン又はメチルエチルケトンを含む、請求項１に記載の反応性シリコーン組成物。
【請求項３】
さらに重合開始剤を含む、請求項１又は請求項２に記載の反応性シリコーン組成物。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物から形成される硬化物。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物からなる、光信号伝送装置における光導波路同士の接続部又は光導波路と受光素子との接続部に用いる光学接着剤。
【請求項６】
請求項４に記載の硬化物からなる、光信号伝送用デバイスにおけるコア部材。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物からなる膜形成剤。
【請求項８】
光学基材表面に請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物より形成される硬化膜を有する光学部材。
【請求項９】
請求項８に記載の光学部材の表面に、更に反射防止膜が施されたことを特徴とする光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性に優れ、高い屈折率を発現する硬化物を得られる反応性シリコーン組成物に関する。この反応性シリコーン組成物は、光学接着剤又は透明封止材向け用途や、オンボード光インターコネクト、例えば、光信号伝送装置におけるコア部材等の光配線材料として有用である。
【背景技術】
【０００２】
近年、クラウドコンピューティングの発展やスマートフォン使用者の増加により、通信トラフィックは増加の一途をたどっている。そのため、送信された情報データが集中するデータサーバーにて、膨大な電力使用量が発生する、さらには処理量の限界が近づいている、といった問題が顕在化しており、これらを改善するための技術進展が急務となっている。
こうした中、情報を高密度かつ高速に処理できる技術として、サーバーボード内の一部の電気配線を光配線へと変更する、光電気複合基板（光電気混載基板ともいう）という技術が精力的に検討されている。【０００３】
光電気複合基板において、光伝送路である光導波路を経由して光を送受信する受発光素子は、素子の信頼性を高めるために透明な光学接着剤による封止がなされる。例えば基板上の光導波路に光学接着剤を用いて面発光レーザー素子（ＶＣＳＥＬ）などの受発光素子を接続し、続いてリフローによりはんだ付けすることで、電気配線と受発光素子との接続を行うとともに素子の固定が行われる。
ここで使用される光学接着剤や光導波路には、光通信で用いられる８５０ｎｍ、１．３１μｍ、１．５５μｍといった近赤外波長において透明であることが求められる。また光導波路又は受発光素子と光学接着剤との屈折率差による、接続部における光損失を低減するために、光学接着剤や光導波路等に使用される光学材料の屈折率は制御可能であることが望ましい。
また光電気複合基板では、受発光素子を基板に強固に固定するべく、強度の高い鉛フリーはんだの使用が検討されている。鉛フリーはんだはリフローに高温を必要とし、そのためプリント配線基板には２８０℃もの高温が加えられ得る。そのため、光電気複合基板に使用される光配線関連材料（光導波路、光学接着剤）には高い耐熱性が求められることとなる。【０００４】
透明性および耐熱性に優れた光学接着剤としては、特定構造のアダマンタン誘導体を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物（特許文献１）や、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物（特許文献２）が提案されている。
また、上記の近赤外波長領域での透明性と耐熱性を有する光導波路を形成できる材料として、ビニル系シリコーン化合物が提案されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１３２５７６号公報
【特許文献２】特開平１１−６１０８１号公報
【特許文献３】特表２０１４−５１０１５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このように光電気複合基板の実用化が検討される中で、これら基板にて使用される光学接着剤や光導波路向け等の光学材料には、長波長域において低伝搬損失であり、耐熱性を有し、また屈折率調整が可能であることが求められる。加えてこれら材料は、上記基板上における光配線の形成が精度良く、また簡便かつ汎用的な手段にて可能となるといった加工性にも優れることが求められる。【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、光通信で使われる近赤外光領域で透明であり、屈折率の調整が可能であり、またリソグラフィやエッチング等の従来の半導体加工技術にて微細構造を容易に形成可能であり、硬化後の耐光性、耐熱性に優れた反応性シリコーン組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明者らが鋭意検討した結果、特定構造の反応性シリコーン化合物と、有機ケイ素化合物で表面修飾されてなる特定構造の酸化チタン含有コロイド粒子とを含む反応性シリコーン組成物が、透明性に優れ、屈折率調整が可能であり、耐光性に優れる硬化物が得られ、また光照射や加熱により容易に硬化物が形成可能な優れた加工性を有することを見出し、本発明を完成させた。【０００９】
すなわち本発明は、第１観点として、
下記（Ｓ）成分及び（Ｔ）成分を含有する反応性シリコーン組成物であって、
前記（Ｓ）成分は、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物との縮合生成物からなる反応性シリコーン化合物であり、
【化１】
2020105405.tif 000003
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキル基で任意に置換され得るフェニル基を表し、Ｘは、加水分解性反応基を表す。）
前記（Ｔ）成分は、２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する酸化チタン含有金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）を核とし、その表面を二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物の１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有するコロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆された、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）であり、その表面に有機ケイ素化合物が結合してなる、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子である、
反応性シリコーン組成物に関する。
第２観点として、溶媒としてシクロヘキサノン又はメチルエチルケトンを含む、第１観点に記載の反応性シリコーン組成物に関する。
第３観点として、さらに重合開始剤を含む、第１観点又は第２観点に記載の反応性シリコーン組成物に関する。
第４観点として、第１観点乃至第３観点のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物から形成される硬化物に関する。
第５観点として、第１観点乃至第３観点のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物からなる、光信号伝送装置における光導波路同士の接続部又は光導波路と受光素子との接続部に用いる光学接着剤に関する。
第６観点として、第４観点に記載の硬化物からなる、光信号伝送用デバイスにおけるコア部材に関する。
第７観点として、第１観点乃至第３観点のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物からなる膜形成剤に関する。
第８観点として、光学基材表面に第１観点乃至第３観点のうちいずれか一項に記載の反応性シリコーン組成物より形成される硬化膜を有する光学部材に関する。
第９観点として、第８観点に記載の光学部材の表面に、更に反射防止膜が施されたことを特徴とする光学部材に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、特定構造の反応性シリコーン化合物と、有機ケイ素化合物で表面修飾されてなる特定構造の酸化チタン含有コロイド粒子とを組み合わせることにより、得られる反応性シリコーン組成物において高い屈折率を有し耐光性に優れる硬化物を形成することができる。また前記反応性シリコーン組成物において、前記反応性シリコーン化合物と前記酸化チタン含有コロイド粒子の配合比や、前記酸化チタン含有コロイド粒子の組成を調整することにより、得られる硬化物の屈折率を調整することが可能である。
また本発明による反応性シリコーン組成物は、その硬化物が近赤外光領域における透明性に優れることから、長波長領域において低伝搬損失な材料を提供できる。
そして本発明による反応性シリコーン組成物は、光照射や加熱により容易に硬化物が形成可能であり、またワニスの形態としても使用可能である。さらに薄膜を容易に形成することも可能であり、コーティング組成物としての使用も可能である。そのため本発明の反応性シリコーン組成物は、透明性に優れ、高い屈折率を有し、耐光性に優れる硬化膜（コーティング層）を形成することができる。
さらに本発明による反応性シリコーン組成物は、長期の保管後においても凝集や沈殿、析出物が抑制され、保存安定性に優れる組成物を提供でき、また安定性の高いコート材としての提供も可能である。【００１１】
そして本発明の反応性シリコーン組成物より得られる硬化物は、近赤外光領域において透明性に優れ、高屈折率を有し、かつ耐光性をも有するものであり、さらに前記反応性シリコーン化合物とコロイド粒子の配合量やコロイド粒子の組成の調整によって容易に屈折率を調整できる。
そのため、本発明の硬化物は、光電気複合基板などに用いられる光デバイスの信頼性向上において有用であり、例えば光信号伝送装置における光導波路同士の接続部や光導波路と受発光素子との接続部に用いる光学接着剤や、光信号伝送用デバイス（例えばケーブル等）におけるコア部材として特に有用である。【００１２】
また、上記硬化物を膜（層）形態にて、光学基材表面に形成し光学部材を為した場合、該光学部材は透明性に優れ、高い屈折率を有し、耐光性に優れるものとなり、また屈折率が１．５８以上の高屈折率の部材を用いた場合においても干渉縞の見られない高透明性で外観良好な光学部材を得られる。
そのため、本発明の反応性シリコーン組成物により作製される硬化膜を有する光学部材は、眼鏡レンズのほか、カメラ用レンズ、自動車の窓ガラス、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどに付設する光学フィルターなどに使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
〔反応性シリコーン組成物〕
本発明の反応性シリコーン組成物は（Ｓ）成分：反応性シリコーン化合物、及び、（Ｔ）成分：変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子を含みて構成され、該反応性シリコーン組成物は後述する溶媒、重合開始剤、さらには反応性希釈剤を含んでいてもよい。
以下、本発明の反応性シリコーン組成物を構成する各成分について詳述する。
【００１４】
《（Ｓ）成分》
本発明に係る（Ｓ）成分は、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物とを酸又は塩基存在下で重縮合して得られる反応性シリコーン化合物であり、すなわち式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物との縮合生成物であり、一例として脱アルコール縮合生成物の態様が挙げられる。
【００１５】
＜式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物＞
本発明において使用するジアリールケイ酸化合物としては、下記式［１］で表される化合物（以下、単に式［１］化合物とも称する）が挙げられる。
【化２】
2020105405.tif 000004
式中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１乃至６のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。Ａｒ１及びＡｒ２の例としては、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基等が挙げられる。
【００１６】
上記式［１］で表される化合物の具体例としては、ジフェニルシランジオール、ジ（４−メチルフェニル）シランジオール、ジ（４−エチルフェニル）シランジオール、ジ（４−イソプロピルフェニル）シランジオール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記式［１］で表される化合物は、一種を単独で使用してもよく、また二種以上の混合物として用いてもよい。
【００１７】
＜ケイ素化合物＞
本発明において使用するケイ素化合物としては、下記式［２］で表される化合物（以下、単に式［２］化合物とも称する）が挙げられる。
【化３】
2020105405.tif 000005
式中、Ｘは、加水分解性反応基（加水分解性の縮合反応を受け得る基）を表す。
Ｘは、好ましくは炭素原子数１乃至１０のアルコキシ基、炭素原子数２乃至５のアシルオキシ基、炭素原子数２乃至６のアルキルカルボニル基、炭素原子数２乃至６のアルコキシカルボニル基、又は基ＮＲ１２（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素原子数１乃至６のアルキル基を表す。）を表す。より好ましくは、Ｘは、炭素原子数１乃至６のアルコキシ基を表し、例えばメトキシ基又はエトキシ基を表す。
式［２］で表される化合物の具体例としては、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン（ｐ−スチリルトリメトキシシラン）、４−ビニルフェニルトリエトキシシラン（ｐ−スチリルトリエトキシシラン）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記式［２］で表される化合物は、一種を単独で使用してもよく、また二種以上の混合物として用いてもよい。
【００１８】
＜ジアリールケイ酸化合物とケイ素化合物との配合割合＞
上述の反応性シリコーン化合物に調製に用いるジアリールケイ酸化合物［１］とケイ素化合物［２］の配合割合は特に限定されないが、例えばブロックコポリマー化を防ぐ目的から、式［１］化合物：式［２］化合物のモル比で、２：１乃至１：２の範囲で配合され得る。これらの化合物は、より好ましくは１．１：０．９乃至０．９：１．１のモル比の範囲で配合され、例えばおよそ１：１のモル比にて配合され得る。なお、本反応性シリコーン化合物中において遊離のヒドロキシ基が存在しないことを確実にするという目的においては、例えば式［１］化合物：式［２］化合物のモル比で約１：１乃至０．９：１．１の範囲にて配合することが好ましい。
【００１９】
上記式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物及び式［２］で表されるケイ素化合物は、前述したように、必要に応じてそれぞれ適宜選択して用いることができ、また、式［１］化合物及び式［２］化合物のいずれも、単独で、或いは複数種を組み合わせて使用することができる。複数種を組み合わせて使用する場合には、式［１］化合物の合計モル数、式［２］化合物の合計モル数が、それぞれ上記の数値範囲内となるように配合すればよい。
【００２０】
＜反応性シリコーン化合物：重縮合反応＞
上記式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と上記式［２］で表されるケイ素化合物とを酸又は塩基存在下で重縮合して得られる、本発明で使用する反応性シリコーン化合物（縮合生成物）は、上記の式［２］で表されるケイ素化合物の構造が一つの特徴となっている。式［２］化合物に含まれる反応性基（重合性二重結合）は、ラジカルによって容易に重合し、重合後（硬化後）は高い耐熱性を示す。
【００２１】
一般に、式［２］で表されるケイ素化合物を、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と共に重縮合に付し、高い耐熱性を有する反応性のシリコーン化合物を得る場合、生成物が液体状態を保つように適度な重合度で反応を停止させる必要がある。中でも本発明で使用される式［２］で表されるケイ素化合物がアルコキシケイ素化合物である態様の場合、ジアリールケイ酸化合物との重縮合反応は穏やかであるため、重合度を制御しやすいという特徴があり、この態様における利点といえる。
【００２２】
式［２］で表されるケイ素化合物、好ましくはアルコキシケイ素化合物と、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物との間の脱アルコール化等による重縮合反応は、無溶媒下で行うことも可能だが、式［２］で表される化合物に対して不活性な溶媒（例えばトルエンなど）を反応溶媒として用いることも可能である。
また上記重縮合反応を無溶媒下での反応とし、そして式［２］で表される化合物がアルコキシケイ素化合物である場合、反応副生成物であるアルコールの留去が容易になるという利点がある。
一方、反応溶媒を用いる場合、反応系を均一にしやすく、より安定した重縮合反応を行えるという利点がある。
【００２３】
＜重縮合反応に使用する溶媒＞
反応性シリコーン化合物の合成（重縮合）反応は、前述のように無溶媒で行ってもよいが、反応をより均一化させるために溶媒を使用してもよい。溶媒は、上記ジアリールケイ酸化合物および上記ケイ素化合物と反応せず、それらの重縮合物を溶解するものであれば特に限定されない。
【００２４】
溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等、酢酸エチル等のエステル類、及び、下記の場合において、メタノール又はエタノール等のアルコール類が挙げられる。アルコール類は、式［２］中のＸがアルコキシ基以外の基である場合において好適であり、この場合にアルコール類は、再エステル化による重縮合反応を制御するために使用し得る。
重縮合反応に溶媒を使用する場合、特に好ましいものとして、トルエン、キシレン及びメチルエチルケトンを挙げることができる。
上述の溶媒は１種単独で、或いは２種以上を混合して用いてもよい。
【００２５】
＜その他触媒など＞
上記の重縮合反応には触媒を使用してもよい。使用可能な触媒としては、前述の溶媒に溶解する、もしくは均一分散する限りにおいては特にその種類は限定されず、必要に応じて適宜選択して用いることができる。触媒は１種単独で使用してもよいし、又は複数種を併用することもできる。
用いることのできる触媒の例としては、酸性化合物として、Ｔｉ（ＯＲ）４、Ｚｒ（ＯＲ）４、Ｂ（ＯＲ）３及びＡｌ（ＯＲ）３等、塩基性化合物としてアルカリ土類金属水酸化物等、並びに、フッ化物塩として、ＮＨ４Ｆ及びＮＲ４Ｆ（ここでＲは、炭素原子数１乃至１２の直鎖状炭化水素基、炭素原子数３乃至１２の分枝アルキル基及び炭素原子数３乃至１２の環状アルキル基からなる群から選ばれる一種以上の基である）等が挙げられる。
【００２６】
酸性化合物の具体例としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、トリメトキシボロン、トリエトキシボロン、トリ−ｎ−プロポキシボロン、トリイソプロポキシボロン、トリ−ｎ−ブトキシボロン、トリイソブトキシボロン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシボロン、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。
【００２７】
塩基性化合物の例としては、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、トリエチルアミン等が挙げられる。
【００２８】
フッ化物塩の例としては、フッ化アンモニウム、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム等が挙げられる。
【００２９】
これら触媒のうち、好ましく用いられるのは、テトライソプロポキシチタン（チタンイソプロポキシド）、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化カルシウム、及び水酸化マグネシウムからなる群から選ばれる一種以上の化合物である。
【００３０】
触媒を使用する場合、その使用量は、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物（好ましくはアルコキシケイ素化合物）との合計質量に対して、触媒としての作用（反応の進行）の観点から０．０１質量％以上であり、例えば０．０１乃至１０質量％、或いは０．１乃至５質量％である。
【００３１】
＜縮合反応の反応条件＞  本発明で用いる反応性シリコーン化合物は、式［１］で表されるジアリールケイ酸化合物と式［２］で表されるケイ素化合物を、例えば、酸または塩基性触媒の存在下で、脱アルコール縮合等の重縮合反応を行うことにより得られる。好ましい態様において該重縮合反応は水を添加せずに行われ、例えば周囲（試薬、ガラス壁、該材料上の大気）を介して混入する可能性のある水を可能な限り低く抑えて実施され得、また例えば完全に水の非存在下で（非加水にて）反応が実施され得る。こうした理由により、該反応は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中で行なわれ得、また反応容器は使用前に加熱され得る。更に、水分の混入を防ぐために、無水試薬が使用され得る。
【００３２】
反応温度は、必要に応じて選択することができ、例えば２０℃乃至１５０℃の範囲であり、或いは３０℃乃至１２０℃の範囲で選択可能である。
反応時間は、重縮合物の分子量増加が終了し、分子量分布が安定するのに必要な時間以上であるならば特に制限は受けず、例えば数時間から数日間である。
【００３３】
式［２］で表されるケイ素化合物がアルコキシケイ素化合物である場合、この反応系は脱アルコール縮合を促進するため、反応中減圧下で副生成物であるアルコールを留去してもよく、ただしアルコールの留去は必須ではない。
【００３４】
《（Ｔ）成分》
本発明の反応性シリコーン組成物に含まれる（Ｔ）成分は、その表面に有機ケイ素化合物が結合してなる、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子である。
【００３５】
上記（Ｔ）成分は、より詳細には、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に有機ケイ素化合物が結合してなる、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子である。前記コロイド粒子（Ｃ）は、２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する酸化チタン含有金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物の１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有するコロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなる、コロイド粒子である。
【００３６】
なお本発明において、核となる酸化チタン含有金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）、並びに、被覆物となる複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）は、その平均一次粒子径が透過型電子顕微鏡による観察で測定される。そして前記核となる粒子（Ａ）の表面が粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆された酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、動的光散乱法（ＤＬＳ法）によってその平均粒子径を測定することができる。
なお、前記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面を前記複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）で被覆する際、粒子同士の界面の反応によって、得られる酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の粒子径の値は変化し得る。そのため、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の粒子径を透過型電子顕微鏡による観察により測定した一次粒子径で評価した場合には、この値が前記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と前記複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）の平均一次粒子径の和に必ずしも一致しないことがある。
以下本明細書において、透過型電子顕微鏡観察により測定された粒子径を「平均一次粒子径」、動的光散乱法（ＤＬＳ法）により測定された粒子径を「平均粒子径（動的光散乱法粒子径）」と称する。
【００３７】
＜酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）＞
上記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）は２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する粒子である。
上記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）は、酸化チタンのみからなるものであっても、酸化チタンと酸化チタン以外の成分を含みてなるものであってもよい。
【００３８】
酸化チタン以外の成分としては、例えばＦｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ及びＣｅからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物を挙げることができる。これら金属酸化物の形態として、例えば、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２等を例示することができる。これら金属酸化物は単独で用いることも複数種を組み合わせて用いることもできる。
前記コロイド粒子（Ａ）が酸化チタンと酸化チタン以外の成分（金属酸化物）を含みてなる場合、組み合わせ方法としては、上記酸化チタンと一種又は二種以上の金属酸化物を混合する方法や、上記酸化チタンと一種又は二種以上の金属酸化物を複合化させる方法、又は上記酸化チタンと一種又は二種以上の金属酸化物を原子レベルで固溶体化する方法が挙げられる。
【００３９】
上記コロイド粒子（Ａ）に酸化チタン以外の成分（金属酸化物）が含まれる場合の具体例としては、ＴｉＯ２粒子とＳｎＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＴｉＯ２−ＳｎＯ２複合金属酸化物コロイド粒子、ＴｉＯ２とＳｎＯ２とＺｒＯ２とが原子レベルで固溶体を形成して得られたＴｉＯ２−ＳｎＯ２−ＺｒＯ２複合金属酸化物コロイド粒子等が挙げられる。
【００４０】
また、上記コロイド粒子（Ａ）は無定形でも、アナタース型、ルチル型、ブルッカイト型等の結晶であってもよい。更には、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３又はＢａＯ・ＴｉＯ２で表される。）のようなペロブスカイト型チタン化合物であってもよい。中でも、酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子の結晶型はルチル型であることが好ましい。
【００４１】
上記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）における酸化チタン含有量は、ＴｉＯ２換算で４０〜１００質量％であり、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上である。中でも酸化チタン含有量を５０質量％以上とすることで、これらの粒子を含む組成物を用いて得られる硬化物（硬化膜、透明被膜等）の屈折率の向上が期待でき、また、基材の屈折率によって発生し得る干渉縞の生成を抑えることができる。
【００４２】
なお、前記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）は、公知の方法、例えば、イオン交換法、解膠法、加水分解法、反応法により製造することができる。上記のイオン交換法の例としては、上記金属（Ｔｉ、Ｔｉ以外の金属）の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法、あるいは上記金属（Ｔｉ、Ｔｉ以外の金属）の塩基性塩を水酸基型陰イオン交換樹脂で処理する方法が挙げられる。上記解膠法の例としては、上記金属の酸性塩を塩基で中和するか、あるいは上記金属の塩基性塩を酸で中和させることによって得られるゲルを洗浄した後、酸又は塩基で解膠する方法が挙げられる。上記加水分解法の例としては、上記金属のアルコキシドを加水分解する方法、あるいは上記金属の塩基性塩を加熱下加水分解した後、不要の酸を除去する方法が挙げられる。上記反応法の例としては、上記金属の粉末と酸とを反応させる方法が挙げられる。
【００４３】
＜二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）＞
上記二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）は１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有する粒子である。
上記コロイド粒子（Ｂ）としては、ＳｎＯ２粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２−ＳｉＯ２複合コロイド粒子を挙げることができる。
上記コロイド粒子（Ｂ）において、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）と酸化スズ（ＳｎＯ２）の質量比は、例えばＳｉＯ２／ＳｎＯ２＝０．１〜５．０とすることができる。
【００４４】
また上記コロイド粒子（Ｂ）には、二酸化ケイ素及び酸化スズ以外のその他の成分を含んでいてもよく、例えばＡｌ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｓｂ及びＷからなる群から選ばれた１種又は２種以上の原子を含むことができる。これらの酸化物の形態としては、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＷＯ３等を例示することができる。
二酸化ケイ素及び酸化スズ以外のその他の成分を含む場合のコロイド粒子（Ｂ）一例として、ＳｎＯ２粒子とＷＯ３粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２−ＷＯ３−ＳｉＯ２複合コロイド粒子、ＳｎＯ２粒子とＭｏＯ３粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２−ＭｏＯ３−ＳｉＯ２複合コロイド粒子等が挙げられる。
【００４５】
前記複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）は、公知の方法、例えば、イオン交換法、酸化法により製造することができる。上記のイオン交換法の例としては、複合酸化物を構成する原子：Ｓｎ及びＳｉ（及び所望によりその他の原子）の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法が挙げられる。上記酸化法の例としては、上記原子（Ｓｎ及びＳｉ等）又はこれらの酸化物の粉末と過酸化水素とを反応させる方法が挙げる。
【００４６】
＜酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）＞
上記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、上記二酸化ケイ素及び酸化を含む複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなる酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）（複合酸化物のコロイド粒子被覆−酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子）において、被覆物となる複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）の量（質量割合）は、核となる酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）に対して、好ましくは０．０１〜１．０の範囲である。
なお、前記複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）の平均一次粒子径の値は、前記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の平均一次粒子径の値より小さいことが好ましい。酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）において、静電的な作用により、酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面に複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）が被覆されるものと考えられる。
【００４７】
前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）、すなわち、上記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、上記複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなるコロイド粒子を得るには、従来公知の方法を採用することができる。
例えば、核としての酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を含有する水性ゾルと、被覆物となる複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）を含有する水性ゾルとを、その酸化チタン含有金属酸化物及び複合酸化物の質量として換算した際の（Ｂ）／（Ａ）の質量割合で０．０１〜１．０にて混合した後、その水性媒体を加熱する方法が挙げられる。
酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）との混合は０〜１００℃の温度、好ましくは室温から６０℃で行うことができる。そして混合後の加熱は、例えば７０〜３００℃で行われる。
【００４８】
〈中間薄膜層〉
上記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、核となる上記酸化チタン含有金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）と、その表面を被覆してなる二酸化ケイ素及び酸化スズを含む複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物との間に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ及びＷからなる群から選ばれる少なくとも１種の原子の単独酸化物、同群から選ばれる２種以上の原子の複合酸化物、又は、該単独酸化物及び該複合酸化物から選択される２種以上の酸化物の混合物のいずれか１種からなる中間薄膜層が１層以上介在していてもよい。該中間薄膜層は１層であっても、２層以上の多層であってもよい。
【００４９】
核となる上記コロイド粒子（Ａ）と被覆物となる上記コロイド粒子（Ｂ）との間に、中間薄膜層を少なくとも１層介在させることによって、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の屈折率を調整することができる。すなわち後述する本発明の（Ｔ）成分である、コロイド粒子（Ｃ）の表面に有機ケイ素化合物が結合してなる変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子の屈折率を調整することができる。さらに、後述する変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（（Ｔ）成分）を含む反応性シリコーン組成物を用いて得られる硬化膜の耐光性や耐候性の向上が期待できるほか、硬化膜と基材との密着性等の諸物性を向上させることができる。更に後述する変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（（Ｔ）成分）の着色を抑制し、硬化膜の透明性を向上させることができる。
【００５０】
また、中間薄膜層の層の数、層の厚さは、前述した核となる上記コロイド粒子（Ａ）に対して被覆物となる上記コロイド粒子（Ｂ）の量（質量割合）が０．０１〜１．０の範囲にありさえすれば、特に制限はない。
【００５１】
また、前記中間薄膜層が設けられる場合、該薄膜層としては、特に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）及び酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）の少なくとも１種からなることが好適であり、例えば、二酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムが各成分毎に積層して薄膜層を形成していてもよく、また、例えば酸化アンチモン−二酸化ケイ素複合体のように複合化して薄膜層を形成していてもよい。
【００５２】
一例として、中間薄膜層を構成する酸化物として二酸化ケイ素を含むことで、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）（ひいては後述する変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（（Ｔ）成分））のゾルの安定性が向上し、かつ後述する反応性シリコーン組成物のポットライフが長くなる。このため、該反応性シリコーン組成物より得られる硬化物（硬化膜、透明被膜等）の硬度の向上と、該硬化物（硬化膜、透明被膜等）の上に形成され得る成形物（例えば反射防止膜等）との密着性の向上を図ることができ、耐候性、耐光性、基材との密着性、（膜）硬度、耐擦傷性、可撓性等が向上する。例えば、中間薄膜層として、二酸化ケイ素と酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムとを用いると、優れた耐候性、耐光性、基材との密着性、（膜）硬度、耐擦傷性、可撓性等を有する硬化物（硬化膜、透明被膜等）を形成可能な、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）（ひいては変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（（Ｔ）成分））を得ることができる。
また、中間薄膜層を構成する酸化物として酸化ジルコニウムを用いることにより、得られる酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）（ひいては後述する変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（（Ｔ）成分））の変色を抑制することができる。一次粒子径が小さな酸化チタン（酸化チタンゾル）は、紫外線により部分的にＴｉＯ２からＴｉＯへの還元反応が起こり、前述の通り濃青色に呈するという問題を持っている。酸化第二スズ（ＳｎＯ２）においても、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下、特に３０ｎｍ以下のゾルになると、紫外線により部分的にＳｎＯ２からＳｎＯへの還元反応が起こるため褐色あるいは青緑色を呈するという問題がある。このとき、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）（ひいては変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（（Ｔ）成分））の中間薄膜層に酸化ジルコニウムが存在することにより、酸化物コロイド粒子を構成する酸化チタンや酸化第二スズのＴｉＯやＳｎＯへの還元が抑制され、変色を抑制することができる。
【００５３】
中間薄膜層を介する場合、先ず中間薄膜層の構成成分となる原子の水溶液又はコロイド粒子分散液を用意し、その中に核となる前記酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を投入し、該コロイド粒子（Ａ）の表面に中間薄膜層を形成させる。中間薄膜層を形成させる際は加熱することが好ましく、４０℃以上、又は２００℃以下が好ましい。
次いで中間薄膜層を形成させたコロイド粒子（Ａ）の水性ゾルに、被覆物となる前記複合酸化物のコロイド粒子（Ｂ）の水性ゾルを添加して、前述の方法により被覆物を形成させればよい。前述の通り、無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の添加量は、金属酸化物コロイド粒子（Ａ）に対して０．０１〜１．０（質量割合）の範囲である。
【００５４】
〈酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾル〉
上記手順により得られる酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾルの形態として得られる。
上記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾルは、必要に応じて洗浄処理して不純物を除去してもよい。また、限外濾過、蒸発濃縮等の方法により水性ゾル中の全金属酸化物濃度を調整したり、水性ゾルのｐＨや温度を適宜調節することができる。さらに必要に応じて、例えば４０℃乃至２００℃に加熱してもよい。
水性ゾルの濃度を更に高めたいときは、最大約５０質量％まで常法により、例えば蒸発法、限外濾過法等により濃縮することができる。またこのゾルのｐＨを調整したいときには、濃縮後に、後述するアルカリ金属、有機塩基（アミン）、オキシカルボン酸等をゾルに加えることができる。
なお本明細書において、コロイド粒子（Ｃ）並びに後述するコロイド粒子（Ｃ）の表面に有機ケイ素化合物が結合してなる変性コロイド粒子における“全金属酸化物濃度”とは、コロイド粒子（Ａ）、コロイド粒子（Ｂ）に含まれるＴｉＯ２やＳｎＯ２等の金属酸化物はもちろん、コロイド粒子（Ｂ）に含まれる無機酸化物であるＳｉＯ２も含めた濃度として定義される。
【００５５】
また前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾルにおいて、該水性ゾルの分散媒である水性媒体（水）を有機溶媒で置換することにより、有機溶媒分散ゾル（オルガノゾル）が得られる。この置換は、蒸留法、限外濾過法等、通常の方法により行うことができる。この有機溶媒の例としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、エチレングリコール等のグリコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の直鎖アミド類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の環状アミド類等が挙げられる。これらの有機溶媒は１種で単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【００５６】
上記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のゾルは、本発明の目的が達成される限り、他の任意の成分を含有することができる。例えばオキシカルボン酸類を全金属酸化物の合計量に対し約３０質量％以下の割合で含有させると、分散性等の性能が更に改良されたコロイドが得られ得る。用いられるオキシカルボン酸の例としては、乳酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、グリコール酸等が挙げられる。
【００５７】
また酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のゾルは、アルカリ成分を含有することができ、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等のアルカリ金属の水酸化物；アンモニア、エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン、トリペンチルアミン等のアルキルアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、ピペリジン等の脂環式アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンなどの有機塩基が挙げられる。これらは１種を単独で含んでいてもよいし、２種以上を混合して含有していてもよい。これらアルカリ成分は、全金属酸化物の合計量に対し約３０質量％以下の割合で含有させることができる。また前記のオキシカルボン酸と併用することができる。
【００５８】
＜表面の少なくとも一部に、有機ケイ素化合物が結合してなる変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子＞
本発明に用いられる（Ｔ）成分：変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子は、前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面の少なくとも一部に有機ケイ素化合物が結合したものである。有機ケイ素化合物によって表面改質処理されることでコロイド表面が疎水化され、非水溶性の有機溶媒への分散性を優れたものとすることができる。
該粒子は、例えば酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）において被覆物である複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）に由来するヒドロキシ基に、有機ケイ素化合物（例えば後述する一般式（１）〜一般式（４）で表される化合物における加水分解性反応基等）が結合した構造を有する。
【００５９】
使用される有機ケイ素化合物としては、シランカップリング剤として知られている公知の有機ケイ素化合物やシラン化合物を用いることができ、その種類は、用途や溶媒の種類等に応じて適宜選択される。
上記シランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−ビニルフェニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−［メトキシ−ポリ（エチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また前記シランの具体例としては、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
【００６０】
また例えば、有機ケイ素化合物として、例えば以下の一般式（１）〜（４）で表される化合物を使用することができる。
一般式（１）：Ｒ２３ＳｉＸ２    で表される単官能性シラン
一般式（２）：Ｒ２２ＳｉＸ２２    で表される二官能性シラン
一般式（３）：Ｒ２ＳｉＸ２３    で表される三官能性シラン
一般式（４）：ＳｉＸ２４    で表される四官能性シラン
上記式（１）〜（４）中、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基、フェニル基、ビニル基、メタクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基又はエポキシ基を有する有機基を表す。
Ｘ２は加水分解性反応基を表し、好ましくは上記式［２］で表される化合物における基Ｘとして挙げた基を挙げることができる。
【００６１】
前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に結合させる有機ケイ素化合物は、１種を単独で使用しても２種以上を混合して使用してもよい。
また、前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に有機ケイ素化合物を結合させる表面改質処理を行う際に、前記有機ケイ素化合物の部分的な加水分解を行ってもよいし、加水分解を行わないままで表面改質処理を行ってもよい。
さらに表面改質処理後は、前記有機ケイ素化合物の加水分解性反応基が前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面のヒドロキシ基と反応した状態が好ましいが、一部のヒドロキシ基が未処理のまま残存した状態でも何ら差し支えない。
【００６２】
前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に有機ケイ素化合物を結合させるには、例えば、有機ケイ素化合物のアルコール溶液に、上記のコロイド粒子（Ｃ）（例えばコロイド粒子（Ｃ）のゾル）を所定量混合し、（必要であれば）所定量の水、必要に応じて希塩酸等の加水分解触媒を加えた後、所定時間常温で放置する、あるいは、加熱処理を行えばよい。
また、有機ケイ素化合物の加水分解物とコロイド粒子（Ｃ）とを水とアルコールの混合液に加えて加熱処理することによっても行うことができる。
【００６３】
また前記酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面への有機ケイ素化合物の結合量（有機ケイ素化合物の添加量）は特に限定されないが、例えば、コロイド粒子（Ｃ）の全金属酸化物の総質量に対して０．１〜４０質量％、例えば３〜３０質量％であり、好ましくは５〜２０質量％である。
【００６４】
得られた有機ケイ素化合物が表面に結合してなる変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子は有機溶媒分散ゾル（オルガノゾル）の形態として得られ得、分散媒である有機溶媒を、前述の蒸留法、限外濾過法等の溶媒置換の方法によって、所望の有機溶媒に置換してもよい。
【００６５】
本発明において、上記有機ケイ素化合物が表面に結合してなる変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子の有機溶媒分散ゾル（オルガノゾル）（変性酸化チタンコロイド粒子分散液ともいう）中における、金属酸化物の合計濃度（全金属酸化物濃度、便宜的にＳｉＯ２も含む）が、例えば０．０１〜６０質量％のゾルを使用することができ、また例えば１０〜４０質量％であるゾルを好ましいものとして挙げることができる。例えば全金属酸化物濃度が０．０１質量％以上のゾルとすることで、他の成分と配合して得られる組成物より硬化物を得る際に所望の形状（厚さ等）を為すこと容易となり得、また、６０質量％未満のゾルとすることにより、良好な安定性を有するゾルとなることが期待できる。
【００６６】
《反応性シリコーン組成物》
本発明の反応性シリコーン組成物は、上記の（Ｓ）成分：反応性シリコーン化合物、及び、（Ｔ）成分：変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子を含む。
上記（Ｓ）成分と（Ｔ）成分の割合は特に限定されないが、例えば、（Ｓ）成分の反応性シリコーン化合物１００質量部に対して、（Ｔ）成分の変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子を１０〜５００質量部、例えば２５〜４００質量部にて含むことができる。また後述する反応性希釈剤を含む場合には、（Ｓ）成分と反応性希釈剤の合計としてこれらの１００質量部に対して、（Ｔ）成分を１０〜５００質量部にて含むことができる。
【００６７】
＜反応性希釈剤＞
本発明の反応性シリコーン組成物に含まれる（Ｓ）成分：反応性シリコーン化合物は、粘度が高く作業性に劣ることがあるため、反応性希釈剤を加えて適切な粘度に調整してもよい。この場合、反応性希釈剤には、耐熱性を大きく低下させない性質を有することが求められる。
【００６８】
このような反応性希釈剤として、アルケニル基及び（メタ）アクリル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの重合性基を有する化合物が挙げられる。
前記重合性基を有する化合物の一例としては、例えば下記式［３］で表される化合物及び下記式［４］で表される化合物からなる群から選択される１種以上の化合物を挙げることができ、これらはそれぞれ１種を単独で使用してもよいし、また２種以上を組み合わせて併用してもよい。
【化４】
2020105405.tif 000006
式［３］中、Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌは、単結合、水素原子、酸素原子、フェニル基で任意に置換され得る炭素原子数１乃至２０のｍ価の脂肪族炭化水素残基、エーテル結合を任意に含み得る素原子数１乃至２０のｍ価の脂肪族炭化水素残基、又はエーテル結合を任意に含む炭素原子数１乃至２０の多価アルコール残基を表す。
Ａｒ３は、ｎ＋１価の、芳香族炭化水素残基、単環性炭化水素残基又は二環性炭化水素残基又は三環性炭化水素残基を表す。
ｍは、１乃至３の整数（ただしＬが水素原子を表すときｍは１を表し、Ｌが単結合又は酸素原子を表すときｍは２を表す。）を表し、ｎはそれぞれ独立して、１又は２を表す。
【００６９】
Ｌの例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、２−メトキシエチル基、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、１−メチルエチレン基、プロパン−２，２，−ジイル基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、へキサメチレン基、３−メチルペンタメチレン基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ジエチレングリコール残基（−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−）、トリエチレングリコール残基（−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２−）、ジプロピレングリコール残基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−）、トリメチレングリコール残基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ジ（トリメチレングリコール）残基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、プロパン−１，１，１−トリイル基（−Ｃ（−）２ＣＨ２ＣＨ３）、プロパン−１，１，３−トリイル基（−ＣＨ（−）ＣＨ２ＣＨ２−）、ブタン−１，２，４−トリイル基（−ＣＨ２ＣＨ（−）ＣＨ２ＣＨ２−）等が挙げられる。
【００７０】
Ａｒ３の例としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン等の芳香族炭化水素環からｎ＋１個の水素原子を除いた基（フェニル残基、ナフチル残基、アントラシル残基）が挙げられる。Ａｒ３は、好ましくは炭素原子数１乃至６のアルキル基で置換されるか又は未置換である。中でも、Ａｒ３がフェニル残基を表すのがより好ましい。
またそれとは独立して、Ｒ３が水素原子を表すのが好ましい。
別の独立した好ましい態様において、式［３］におけるｎは２である。Ａｒ３がフェニル残基を表し且つＲ３が水素原子を表すことが更に好ましい。Ａｒ３がフェニル残基を表し、Ｒ３が水素原子を表し且つｎが２であるのがいっそう好ましい。
また前述の式［３］の態様の全てにおいて、Ｌが水素原子を表し且つｍが１であるのが最も好ましい。
【００７１】
【化５】
2020105405.tif 000007
式［４］中、Ｒ４は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ５は、フェニル基で任意に置換され得るｐ価の炭素原子数１乃至２０の脂肪族炭化水素残基又はエーテル結合を任意に含み得るｐ価の炭素原子数１乃至２０の脂肪族炭化水素残基を表す。
ｐは、１乃至６の整数を表す。
【００７２】
式［４］におけるＲ５の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、２−メトキシエチル基、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、１−メチルエチレン基、プロパン−２，２，−ジイル基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、へキサメチレン基、３−メチルペンタメチレン基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ジエチレングリコール残基（−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−）、トリエチレングリコール残基（−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２−）、ジプロピレングリコール残基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−）、トリメチレングリコール残基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ジ（トリメチレングリコール）残基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、プロパン−１，１，１−トリイル基（−Ｃ（−）２ＣＨ２ＣＨ３）、プロパン−１，１，３−トリイル基（−ＣＨ（−）ＣＨ２ＣＨ２−）、ブタン−１，２，４−トリイル基（−ＣＨ２ＣＨ（−）ＣＨ２ＣＨ２−）等が挙げられる。
前記式［４］中、Ｒ５がエーテル結合を任意に含み得る炭素原子数２乃至１０の多価アルコール残基を表し、かつｐが２乃至６の整数を表すのがより好ましい。
【００７３】
なお、８５０ｎｍ、１．３１μｍ及び１．５５μｍの近赤外波長で望ましい透明性を有する硬化物を製造するという目的においては、反応性希釈剤として、式［３］で表される１種以上の化合物を使用することが好ましいことを留意すべきである。
【００７４】
以下、式［３］及び［４］で表される化合物の具体例を述べるが、それらに限定されるものではない。
式［３］で表される化合物の具体例としては、ジビニルベンゼン、スチレン、ジイソプロペニルベンゼン、４，４’−ジビニルビフェニル、２−（４−ビニルフェノキシ）スチレン、４−フェネチルスチレン、１，１，１−トリス（４−ビニルフェノキシ）プロパン等が挙げられる。
式［４］で表される化合物の具体例としては、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、プロピレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物等が挙げられる。なお本明細書において（メタ）アクリレートや（メタ）アクリル酸といった記載は、メタクリレートとアクリレート、メタクリル酸とアクリル酸の双方を表す。
【００７５】
本発明の反応性シリコーン組成物において反応性希釈剤が使用される場合、反応性希釈剤としてのアルケニル基及び（メタ）アクリル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの重合性基を有する化合物は、前記反応性シリコーン化合物１００質量部に基づき、１乃至１００質量部、好ましくは５乃至７０質量部の比率で使用される。
例えば反応性希釈剤として式［３］で表される化合物を使用する場合には、前記反応性シリコーン化合物１００質量部に基づき、１乃至１００質量部、好ましくは５乃至７０質量部、例えば５乃至２０質量部の比率で使用することができる。
また、反応性希釈剤として式［４］で表される化合物を使用する場合には、前記反応性シリコーン化合物１００質量部に基づき、１乃至１００質量部、好ましくは５乃至５０質量部の比率で使用することができる。
なお、上述した比率以外の比率も同様に可能である。
【００７６】
本発明の反応性シリコーン組成物は、流動性の付与、固形分濃度の調整、表面張力、粘度、蒸発速度等を調整するなどの目的にて、溶媒を含む態様としてもよい。
使用される溶媒としては、反応性シリコーン組成物に含まれる各成分を溶解又は分散できる溶媒であれば限定されず、例えば、水又は有機溶媒である。
上記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、エチレングリコール等のグリコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が挙げられる。中でも、シクロヘキサノン又はメチルエチルケトンが好適な溶媒として挙げられる。
なお、本発明の反応性シリコーン組成物における全固形分の濃度は、厚さや塗布性の制御などの目的に従って適宜選択することができ、例えば１〜９９質量％、１０〜８０質量％、２０〜４０質量％、又は３０〜７０質量％とすることができる。なお本明細書において、“全固形分”とは、反応性シリコーン組成物から溶媒を除いた全成分を言及し、液状成分であっても便宜的に“固形分”として扱うものとする。
また、反応性シリコーン組成物において、コーターなどの塗布装置における作業性の観点から、例えばその粘度を０．１〜２００ｍＰａ・ｓ、又は０．５〜５０ｍＰａ・ｓとすることができる。
【００７７】
更に、本発明の反応性シリコーン組成物は、後述するように、基材上に該組成物より硬化物（硬化膜）を形成する際、基材に対する濡れ性を向上させ、硬化膜の平滑性を向上させる目的で各種の界面活性剤、レベリング剤等を含有させることができる。さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、帯電防止剤等も硬化膜の物性に影響を与えない限り添加することが可能である。さらには、分散染料、油溶染料、蛍光染料、顔料、フォトクロミック化合物、チキソトロピー剤等を添加してもよい。
【００７８】
また、基板（基材、例えばレンズ）との屈折率を合わせるために種々の微粒子状金属酸化物を本発明の反応性シリコーン組成物に含有させることができる。微粒子状金属酸化物としては、平均一次粒子径２〜６０ｎｍの酸化アルミニウム、酸化チタン、五酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素、酸化セリウムなどの微粒子が挙げられる。
【００７９】
〔硬化物〕
本発明の反応性シリコーン組成物は、重合開始剤の非存在下、或いは、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、光（活性エネルギー線）照射または加熱により、反応性シリコーン化合物に含まれる重合性二重結合を反応させて硬化物を得ることができる。なお重合開始剤を含む反応性シリコーン組成物の態様も本発明の対象である。
得られた硬化物（成形物）は、光デバイス材料として有用である。例えば光インターコネクション用材料として、具体的には、光信号伝送ケーブルにおけるコア部材として使用することができる。
また、硬化物が光デバイス材料として有用であるという性質から、反応性シリコーン組成物それ自体を、光信号伝送装置における光導波路同士の接続部又は光導波路と受光素子との接続部に用いる光学接着剤として、使用することができる。
【００８０】
上記光ラジカル重合開始剤の例としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノスルフィド、チオキサントン類等が挙げられる。
【００８１】
光ラジカル重合開始剤を使用する場合、例えば光開裂型の光ラジカル重合開始剤を好ましい例として挙げることができる。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されているものが挙げられる。
【００８２】
市販の光ラジカル重合開始剤の例としては、例えば、ＩＧＭ社製  商品名：ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標、旧名称イルガキュア）１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、及びＣＧ２４−６１、ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標、旧名称ダロキュア）１１１６、１１７３、ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標、旧名称ルシリン）ＴＰＯ、ＵＣＢ社製  商品名：ユベクリル  Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製  商品名：エザキュアー  ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。
【００８３】
熱ラジカル重合開始剤の例としては、以下の開始剤が挙げられる。
１）過酸化物類：
例えばｔ−ブチル（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）ペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ペルオキシ酢酸ｔ−ブチル、ペルオキシ安息香酸ｔ−ブチル、ペルオキシオクタン酸ｔ−ブチル、ペルオキシネオデカン酸ｔ−ブチル、ペルオキシイソ酪酸ｔ−ブチル、過酸化ラウロイル、ペルオキシピバル酸ｔ−アミル、ペルオキシピバル酸ｔ−ブチル、過酸化ジクミル、過酸化ベンゾイル、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等；
２）アゾ化合物：
例えば２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブタンニトリル）、４，４’−アゾビス（４−ペンタン酸）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２−（ｔ−ブチルアゾ）−２−シアノプロパン、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（１，１）−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ−ジメチレンイソブチルアミジン）ジクロリド、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジクロリド、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ−ジメチレンイソブチルアミド）、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチル］プロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（イソブチルアミド）二水和物等；
３）次のような組合せを含むレドックス系：
−過酸化水素又は過酸化アルキル、過酸エステル類、過炭酸塩等と、鉄塩又は第一チタン塩、亜鉛ホルムアルデヒドスルホキシレート又はナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート、還元糖のいずれか、との混合物；
−過硫酸、過ホウ酸又は過塩素酸のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩と、メタ重亜硫酸ナトリウムのような重亜硫酸アルカリ金属塩や還元糖、との組合せ物；
−過硫酸アルカリ金属塩と、ベンゼンホスホン酸のようなアリールホスホン酸、他の同様の酸や還元糖、との組合せ物。
【００８４】
重合開始剤を使用する場合、上記光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の使用量は、前記（Ｓ）成分の反応性シリコーン化合物１００質量部に基いて、また、反応性希釈剤を含む場合には、（Ｓ）成分と反応性希釈剤の合計としてこれらの１００質量部に基いて、例えば０．１乃至１５質量部の範囲であり、或いは０．５乃至１０質量部の範囲である。上記重合開始剤は１種を単独で使用してもよく、また複数種の開始剤を併用してもよい。
【００８５】
反応性シリコーン組成物の反応（硬化）に使用する活性エネルギー線としては赤外線、紫外線、電子線等が挙げられる。
また加熱温度としては例えば７０〜２００℃であり、或いは９０〜１５０℃である。
これら光照射や加熱の前に、反応性シリコーン組成物に含まれる溶媒を除去するために、予備加熱を行ってもよい。
【００８６】
さらに、本発明の反応性シリコーン組成物を基材表面に塗布し、光照射または加熱によって硬化膜を得ることができ、すなわちコーティング組成物としての使用も可能である。なお上記反応性シリコーン組成物からなる膜形成剤も本発明の対象である。更に光学用途に適した透明性の基材（光学基材）を用いることにより、硬化膜（透明被膜）を有する光学部材を得ることができる。
用いられる基材としては、ガラス、プラスチック等からなる各種基材が用いられ、例えばフィルムシート、シリコンウエハー基板、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、ガラス基板、ＩＴＯ基板、ポリイミド基板、及び低誘電率材料（ｌｏｗ−ｋ材料）被覆基板等を挙げることができる。
また適用される基材の具体例として、眼鏡レンズ、カメラ等の各種光学レンズ、各種表示素子フィルター、ルッキンググラス、窓ガラス、自動車等の塗料膜、自動車等に用いられるライトカバー等が挙げられる。この基材表面に形成された硬化膜は、ハードコート膜やプラスチックレンズのプライマー用膜等の用途に用いることができる。
上記反応性シリコーン組成物を基材表面に塗布する方法としてはディッピング法、スピン法、スプレー法等の通常行われる方法が適用できる。例えば面積度の観点から、ディッピング法やスピン法を選択することができる。
また塗布後の硬化は、熱風乾燥又は活性エネルギー線照射によって行うことができる。熱風乾燥の硬化条件としては７０〜２００℃の熱風中で行うことがよく、特に９０〜１５０℃が好ましい。また、活性エネルギー線としては赤外線、紫外線、電子線等が挙げられ、特に遠赤外線は熱による損傷を低く抑えることができる。
【００８７】
また前記反応性シリコーン組成物を基材表面に塗布する前に、基材表面を酸、アルカリ又は各種有機溶剤若しくは洗剤による化学的処理、プラズマ、紫外線等による物理的処理を行うことにより、基材と硬化膜との密着性を向上させることができる。さらに基材表面を、各種樹脂を用いたプライマー処理を行うことにより、基材と硬化膜との密着性をより向上させることができる。
【００８８】
また本発明の反応性シリコーン組成物より形成される硬化膜は、高屈折率膜として反射膜に使用でき、さらに、防曇、フォトクロミック、防汚等の機能成分を加えることにより、多機能膜として使用することもできる。
本発明の反応性シリコーン組成物より形成される硬化膜を有する光学部材は、眼鏡レンズのほか、カメラ用レンズ、自動車の窓ガラス、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどに付設する光学フィルターなどに使用することができる。
また上記光学部材は、光学基材の表面に本発明の反応性シリコーン組成物から形成される硬化膜を有しているが、その硬化膜上に無機酸化物の蒸着膜からなる反射防止膜を形成させることができる。該反射防止膜は特に限定されず、従来から知られている無機酸化物の単層又は多層の蒸着膜を使用することができる。反射防止膜の例としては、特開平２−２６２１０４号公報、特開昭５６−１１６００３号公報に開示されている反射防止膜などが挙げられる。
【実施例】
【００８９】
以下、本発明について、製造例、実施例及び比較例に基づきさらに詳述するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。【００９０】
分散液の諸物性は、以下の測定方法により求めた。
・粘度：ＢＬ型粘度計により求めた。（２０℃）
・固形分濃度：６００℃で焼成した際の残存固形物より求めた。
・動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）：
ゾルを分散溶媒で希釈し、溶媒のパラメーターを用いて、動的光散乱法測定装置：Ｍａｌｖｅｒｎ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｌｔｄ製ゼータ−サイザーで測定した。
・透過型電子顕微鏡による平均一次粒子径：ゾルを銅メッシュ上に滴下し乾燥させ、透過型電子顕微鏡（日本電子社製 ＪＥＭ−１０２０）を用いて加速電圧１００ｋＶにて観察し、１００個の粒子を測定し平均化した値を平均一次粒子径として求めた。【００９１】
また、実施例１乃至１３で調製・使用した反応性シリコーン組成物及び比較例１及び２で調製・使用した比較例組成物、及びこれら組成物より得られた硬化膜について、以下の手順に従い諸物性を測定し評価した。【００９２】
（１）保存安定性評価
各組成物を５℃に設定した乾燥機内で１日間保管し、保管前後の外観を目視にて確認し、変化の有無を下記基準にて評価した。得られた評価結果を表１［表１−１、表１−２］に示す。
Ａ：析出物が生じておらず、流動性のあるもの。
Ｎ：析出物が生じ、ゲル化しているもの。【００９３】
（２）赤外域透過率
紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所（株）製、ＵＶ−３６００）を用いて、測定波長：８００〜１６００ｎｍにおける、ガラス基板上に形成した各硬化膜の平均透過率を測定した。【００９４】
（３）ヘイズ値
ヘイズメーター（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ５０００）を用いて、ガラス基板上に形成した各硬化膜のヘイズ値を測定した。【００９５】
（４）膜厚、及び屈折率
レンズ反射率測定機（オリンパス（株）製、ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて、ガラス基板上に形成した各硬化膜の反射率を測定した。また測定した反射率から光学シミュレーションを用いて膜厚を算出した。【００９６】
（５）耐光性試験
分光光度計（（株）島津製作所製ＵＶ−３６００）を用いて、ガラス基板上に形成した各硬化膜の透過率を測定し、ＪＩＳ  ７３７３に基づいてＹＩ値を算出した。
その後、ＱＵＶ促進耐候性試験機（ＵＶＡランプ  照射強度８９０ｍＷ／ｍ２）を用いて、９６時間露光を行った硬化膜のＹＩ値を算出した。
得られたＹＩ値より、紫外線照射前後の硬化膜のΔＹＩを算出した。判断基準は次の通りである。
Ａ：ΔＹＩが２．０未満である
Ｎ：ΔＹＩが２．０以上である【００９７】
［製造例１］
＜反応性シリコーン化合物の調製＞
国際公開第２０１２／０９７８３６号に記載の方法で、無色透明の反応性シリコーン化合物を合成した。すなわち、トルエン溶媒中でジフェニルシランジオールとスチリルトリメトキシシランを、水酸化バリウム・一水和物を触媒として５０℃の加熱下で、脱アルコール縮合を行った後、混合物を冷却・ろ過し、ロータリーエバポレータを用いて、５０℃の加熱下においてトルエンおよび副生成物のメタノールを真空下で除去することで、目的とする無色透明の反応性シリコーン化合物を合成した。【００９８】
国際公開第２０１２／０９７８３６号に記載の方法で反応性希釈剤を含有する反応性シリコーン化合物含有混合液を調製した。すなわち、上記で得られた反応性シリコーン化合物に、反応性希釈剤として、減圧蒸留精製したジビニルベンゼンを所定の割合（反応性シリコーン化合物１００質量部に対して７質量部）で添加し、４０℃の加熱下において撹拌混合することで、均一な液体とし、室温まで冷却後に淡黄色透明の混合液を得た。ここに、光重合開始剤としてＩＧＭ社製  ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標、旧名称ルシリン）ＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド）を所定の割合（反応性シリコーン化合物及び反応性希釈剤の合計１００質量部に対して３質量部）で添加し、撹拌しながら溶解させて目的とする反応性シリコーン化合物含有混合液を調製した。【００９９】
［製造例２］
＜変性酸化チタンコロイド粒子分散液１の合成＞
１リットルの容器に純水１２６．２ｇを入れ、メタスズ酸１７．８ｇ（ＳｎＯ２換算で１５ｇ含有）、チタンテトライソプロポキシド２８４ｇ（ＴｉＯ２換算で８０ｇ含有）、シュウ酸二水和物８４ｇ（シュウ酸換算で７０ｇ）、３５質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液４３８ｇを撹拌下に添加した。得られた混合溶液は、シュウ酸／チタン原子のモル比０．７８、水酸化テトラエチルアンモニウム／チタン原子のモル比１．０４であった。該混合溶液９５０ｇを、８０℃で２時間保持し、更に５８０Ｔｏｒｒまで減圧して２時間保持し、チタン混合溶液を調製した。調製後のチタン混合溶液のｐＨは４．７、電導度は２７．２ｍＳ／ｃｍ、ＴｉＯ２濃度８．４質量％であった。
３リットルのガラスライニングされたオートクレーブ容器に上記チタン混合溶液９５０ｇ、純水９５０ｇを投入し、１４０℃で５時間水熱処理を行った。室温に冷却後、取り出された水熱処理後の溶液は淡い乳白色の酸化チタンコロイド粒子の水分散液であった。得られた分散液は、ｐＨ３．９、電導度１９．７ｍＳ／ｃｍ、ＴｉＯ２濃度４．２質量％、水酸化テトラエチルアンモニウム４．０質量％、シュウ酸１．８質量％であり、動的光散乱法粒子径１６ｎｍ、透過型電子顕微鏡観察では、平均一次粒子径５乃至１５ｎｍの楕円粒子が観察された。得られた分散液を１１０℃で乾燥させた粉末のＸ線回折分析を行い、ルチル型結晶であることが確認された。得られた酸化チタンコロイド粒子を酸化チタン含有金属酸化物コロイド粒子（Ａ）（該コロイド粒子における酸化チタン濃度は８４質量％）（以下、酸化チタン含有核粒子（Ａ）とも称する）とした。【０１００】
次いで、珪酸ナトリウム水溶液（ＪＩＳ３号珪酸ソーダ、ＳｉＯ２として３４質量％含有、富士化学（株）製）２７．９ｇを純水２７．９ｇにて希釈した後、スズ酸ナトリウム・３水和物（ＳｎＯ２として５５質量％含有、昭和化工（株）製）８．６ｇを添加し、撹拌下で溶解し、珪酸−スズ酸ナトリウム水溶液を得た。得られた珪酸−スズ酸ナトリウム水溶液６４．４ｇを純水４１１ｇで希釈し、水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を充填したカラムに通液することにより、二酸化ケイ素−スズ酸複合酸化物コロイド粒子の水分散液（ｐＨ２．７、ＳｎＯ２として０．８３質量％、ＳｉＯ２として１．６７質量％を含有、ＳｉＯ２／ＳｎＯ２質量比２．０）５７０ｇを得た。
次いで、得られた二酸化ケイ素−スズ酸複合酸化物コロイド粒子の水分散液にジイソプロピルアミンを２．９ｇ添加した。得られた分散液はアルカリ性の二酸化ケイ素−スズ酸複合酸化物コロイド粒子の水分散液であり、ｐＨ８．２、平均一次粒子径１〜４ｎｍのコロイド粒子であった。得られたアルカリ性の二酸化ケイ素−スズ酸複合酸化物コロイド粒子（Ｂ）を後述の被覆物のコロイド粒子とした。 【０１０１】
次いで、撹拌下で前記酸化チタン含有核粒子（Ａ）の水分散液１９００ｇに被覆物となる二酸化ケイ素−スズ酸複合酸化物（Ｂ）５７０ｇを添加した後、温度９５℃で３時間保持し、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水分散液を得た。その後、得られた変性酸化チタンコロイド粒子の水分散液を、水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）を充填したカラムに通し、酸性の酸化チタン含有酸化物コロイド粒子の水分散液２７３０ｇを得た。得られた分散液はｐＨ２．７、全金属酸化物濃度は４．０質量％であった。得られた分散液にトリペンチルアミンを５．１ｇ添加した。次いで、トリペンチルアミンが添加された分散液をナス型フラスコ付きエバポレータに投入して濃縮し、メタノールを添加しながら６００Ｔｏｒｒで水を留去することにより、酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液５３３ｇを得た。得られたメタノール分散液は、ｐＨ６．０（分散液と同質量の水で希釈）、全金属酸化物濃度２０．５質量％、水分３．１％であった。また、透過型電子顕微鏡観察による平均一次粒子径は８〜１８ｎｍ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は１５ｎｍであった。【０１０２】
得られた酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液４００ｇに３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）を６．９ｇ添加し、７０℃で還留加熱を５時間行い、３−メタクリロイルオキシプロピル基を表面に結合させ、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでシクロヘキサノンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをシクロヘキサノンに置換して、３−メタクリロイルオキシプロピル基が表面に結合した、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のシクロヘキサノン（メタノール１０質量％含有）分散液（以下、変性酸化チタンコロイド粒子分散液１という）２１０ｇを得た。得られたシクロヘキサノン（メタノール１０質量％含有）分散液は、ｐＨ５．９（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度４０．０質量％であった。【０１０３】
［製造例３］
＜変性酸化チタンコロイド粒子分散液２の合成＞
製造例２と同様の方法にて製造した酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液４００ｇに、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）を６．９ｇ添加し、７０℃で還留加熱を５時間行い、３−メタクリロイルオキシプロピル基を表面に結合させた、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでシクロヘキサノンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをシクロヘキサノンに置換して、３−メタクリロイルオキシプロピル基が表面に結合した、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のシクロヘキサノン（メタノール２０質量％含有）分散液（以下、変性酸化チタンコロイド粒子分散液２という）２１０ｇを得た。得られたシクロヘキサノン（メタノール２０質量％含有）分散液は、ｐＨ５．９（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度４０．０質量％であった。【０１０４】
［製造例４］
＜変性酸化チタンコロイド粒子分散液３の合成＞
製造例２と同様の方法にて製造した酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液４００ｇに、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）を６．９ｇ添加し、７０℃で還留加熱を５時間行い、３−メタクリロイルオキシプロピル基を表面に結合させた、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、３−メタクリロイルオキシプロピル基が表面に結合した、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメチルエチルケトン分散液（以下、変性酸化チタンコロイド粒子分散液３という）２８０ｇを得た。得られたメチルエチルケトン分散液は、ｐＨ６．１（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度３０．０質量％であった。【０１０５】
［製造例５］
＜変性酸化チタンコロイド粒子分散液４の合成＞
製造例２と同様の方法にて製造した酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液４００ｇに、フェニルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）を５．５ｇ添加し、７０℃で還留加熱を５時間行い、フェニル基を表面に結合させた、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、フェニル基が表面に結合した、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメチルエチルケトン分散液（以下、変性酸化チタンコロイド粒子分散液４という）２８０ｇを得た。得られたメチルエチルケトン分散液は、ｐＨ５．５（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度３０．０質量％であった。【０１０６】
［製造例６］
＜変性酸化チタンコロイド粒子分散液５の合成＞
製造例２と同様の方法にて製造した酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液４００ｇに、ヘキシルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）を５．８ｇ添加し、７０℃で還留加熱を５時間行い、ヘキシル基を表面に結合させた、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、ヘキシル基が表面に結合した、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメチルエチルケトン分散液（以下、変性酸化チタンコロイド粒子分散液５という）２８０ｇを得た。得られたメチルエチルケトン分散液は、ｐＨ５．８（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度３０．０質量％であった。【０１０７】
［製造例７］
＜変性酸化チタンコロイド粒子分散液６の合成＞
製造例２と同様の方法にて製造した酸化チタン含有酸化物コロイド粒子（Ｃ）のメタノール分散液４００ｇにポリエーテル変性シラン（３−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）ｎプロピル］トリメトキシシラン（ｎ＝５〜１５））（信越化学工業（株）製）を１６．８ｇ添加し、７０℃で還留加熱を５時間行い、ポリエーテル基を表面に結合させた、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、ポリエーテル基が表面に結合した、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子のメチルエチルケトン分散液２８０ｇ（以下、変性酸化チタンコロイド粒子分散液６という）を得た。得られたメチルエチルケトン分散液は、ｐＨ６．４（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度３０．０質量％であった。【０１０８】
［製造例８］
＜酸化チタンコロイド粒子分散液７の合成＞
製造例２と同様の方法にて製造した酸化チタン含有核粒子（Ａ）の分散液２６００ｇを、ナス型フラスコ付きエバポレータに投入し濃縮し、メタノールを添加しながら６００Ｔｏｒｒで水を留去することにより、酸化チタン含有核粒子（Ａ）のメタノール分散液５３３ｇを得た。得られたメタノール分散液は、ｐＨ４．１、全金属酸化物濃度２０．５質量％、水分量３．０％であった。
得られた酸化チタン含有核粒子（Ａ）のメタノール分散液４００ｇに３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを６．９ｇ添加し、７０℃で還流加熱を５時間行い、３−メタクリロイルオキシプロピル基を表面に結合させた変性酸化チタン含有核粒子のメタノール分散液を得た。
次いで、エバポレータを用いて１５０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、３−メタクリロイルオキシプロピル基を表面に結合させた変性酸化チタン含有核粒子のメチルエチルケトン分散液（以下、酸化チタンコロイド粒子分散液７という）２８０ｇを得た。得られたメチルエチルケトン分散液は、ｐＨ４．２（分散液と同質量の水、メタノールで希釈）、全金属酸化物濃度３０．０質量％であった。【０１０９】
［実施例１］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液２ｇをシクロヘキサノン３ｇに溶解し、ここに製造例２にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液１を５ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物１を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は１００ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物１に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−１、表１−２］に示す。
この反応性シリコーン組成物１を、スピンコーターを用いて回転数２０００ｒｐｍにてガラス基板上に塗布し、ホットプレートにより１００℃で１０分間加熱することで脱溶媒し、さらに紫外光を０．８９Ｗ／ｃｍ２にて３分間照射することで、硬化膜を得た。得られた硬化膜について、上記（２）〜（５）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１０】
［実施例２］
実施例１に記載の反応性シリコーン組成物１（変性チタン含有酸化物コロイド粒子の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は１００ｐｈｒ）をガラス基板に塗布する際のスピンコーターの回転数を１０００ｒｐｍに変更する以外は、実施例１に記載の条件で同様に脱溶媒、紫外線照射することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１１】
［実施例３］
実施例１に記載の反応性シリコーン組成物１（変性チタン含有酸化物コロイド粒子の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は１００ｐｈｒ）をガラス基板に塗布する際のスピンコーターの回転数を５００ｒｐｍに変更する以外は、実施例１に記載の条件で同様に脱溶媒、紫外線照射することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１２】
［実施例４］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液３．２ｇをシクロヘキサノン４．８ｇに溶解し、ここに製造例２にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液１を２ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物２を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は２５ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物２に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−１］に示す。
この反応性シリコーン組成物２を、ガラス基板上に塗布する際のスピンコーターの回転数を５００ｒｐｍとした以外は、実施例１に記載の条件で同様に脱溶媒、紫外線照射することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１３】
［実施例５］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液０．８ｇをシクロヘキサノン１．２ｇに溶解し、ここに製造例２にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液１を８ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物３を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は４００ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物３に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−１］に示す。
この反応性シリコーン組成物３を、ガラス基板上に塗布する際のスピンコーターの回転数を５００ｒｐｍとした以外は、実施例１に記載の条件で同様に脱溶媒、紫外線照射することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１４】
［実施例６］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液２ｇをシクロヘキサノン２．４ｇ、メタノール０．６ｇに溶解し、ここに製造例３にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液２を５ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物４を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は１００ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物４に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−１］に示す。
この反応性シリコーン組成物４を、スピンコーターを用いて回転数１０００ｒｐｍにてガラス基板上に塗布し、ホットプレートにより１００℃で１０分間加熱することで脱溶媒し、さらに１２０℃で２時間加熱することで硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１５】
［実施例７］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液３．２ｇをシクロヘキサノン３．８４ｇ、メタノール０．９６ｇに溶解し、ここに製造例３にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液２を２ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物５を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は２５ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物５に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１に示す。
この反応性シリコーン組成物５を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１６】
［実施例８］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液０．８ｇをシクロヘキサノン０．９６ｇ、メタノール０．２４ｇに溶解し、ここに製造例３にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液２を８ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物６を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は４００ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物６に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−１］に示す。
この反応性シリコーン組成物６を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−１］に示す。【０１１７】
［実施例９］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液１．５ｇをメチルエチルケトン３．５ｇに溶解し、ここに製造例４にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液３を５ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物７を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は１００ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物７に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この反応性シリコーン組成物７を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１１８】
［実施例１０］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液０．６ｇをメチルエチルケトン１．４ｇに溶解し、ここに製造例４にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液３を８ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物８を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は４００ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物８に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この反応性シリコーン組成物８を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１１９】
［実施例１１］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液２．４ｇをメチルエチルケトン５．６ｇに溶解し、ここに製造例５にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液４を２ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物９を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は２５ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物９に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この反応性シリコーン組成物９を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１２０】
［実施例１２］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液２．４ｇをメチルエチルケトン５．６ｇに溶解し、ここに製造例６にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液５を２ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物１０を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は２５ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物１０に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この反応性シリコーン組成物１０を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１２１】
［実施例１３］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液２．４ｇをメチルエチルケトン５．６ｇに溶解し、ここに製造例７にて調製した変性酸化チタンコロイド粒子分散液６を２ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の反応性シリコーン組成物１１を得た。ここで変性チタン含有酸化物コロイド粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は２５ｐｈｒであった。得られた反応性シリコーン組成物１１に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この反応性シリコーン組成物１１を、実施例６に記載の条件で同様にガラス基板上に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１２２】
［比較例１］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液４ｇをシクロヘキサノン５．７ｇ、メタノール０．３ｇに溶解し、無色透明の比較例組成物１を得た。得られた比較例組成物１に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この比較例組成物１を、ガラス基板上に塗布する際のスピンコーターの回転数を５００ｒｐｍとした以外は、実施例１に記載の条件で同様に脱溶媒、紫外線照射することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１２３】
［比較例２］
製造例１にて調製した反応性シリコーン化合物含有混合液１．５ｇをメチルエチルケトン３．５ｇに溶解し、ここに製造例８にて調製した酸化チタンコロイド粒子分散液７を５ｇ添加し、混合することで、淡黄色透明の比較例組成物２を得た。ここで酸化チタン含有核粒子（全金属酸化物換算）の、反応性シリコーン化合物含有混合液の質量（反応性シリコーン化合物、反応性希釈剤、開始剤の合計質量）に対する配合量は１００ｐｈｒであった。得られた比較例組成物２に対して上記（１）に示す試験を実施した。評価結果を表１［表１−２］に示す。
この比較例組成物２を、実施例６に記載の条件で同様に塗布、脱溶媒、加熱することで、硬化膜を作成し、評価した。得られた評価結果を表１［表１−２］に示す。【０１２４】
【表１】
2020105405.tif 000008
【０１２５】
【表２】
2020105405.tif 000009
【０１２６】
［評価結果］
表１（表１−１、表１−２）に示すように、実施例１〜１３で調製し使用した反応性シリコーン組成物１〜１１は、比較例２で調製し使用した比較例組成物２に比べて高い保存安定性を有していることが確認された。また実施例１〜１３で作成した硬化膜は赤外域にて高い透過率を示し、低いヘイズ値を示し、高い透明性を維持し、耐光性に優れることが確認された。さらに実施例１〜１３にて製造した硬化膜は、比較例１に比べて高い屈折率を示し、変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子の配合により屈折率が上昇したこと、また変性酸化チタン含有酸化物コロイド粒子の配合量により屈折率が変化し、屈折率の調整が可能であることが確認された。
【国際調査報告】
2020105405.tif 000012
2020105405.tif 000013
2020105405.tif 000014
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