(57)【要約】高い透明性と負の位相差の発現性と保存安定性を有する光学材料用樹脂組成物を提供する。具体的には、セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上とを含み、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であり、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量が５０００以下の光学材料用樹脂組成物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上とを含み、
前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であり、
前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量がそれぞれ５０００以下である光学材料用樹脂組成物。
【請求項２】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンがヒドロキシスチレンであり、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）中の前記ヒドロキシスチレンの含有量が、６０〜１００モル％である請求項１に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項３】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体が、スチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、カルボキシスチレン、アミノアルキルスチレンから選択される１種以上である請求項１又は２に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項４】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）が、スチレン及びアルキルスチレンから選択される１種以上と、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び（メタ）アクリル酸から選択される１種以上とを反応原料とする共重合体であって、前記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを必須の反応原料とする共重合体である請求項１〜３のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項５】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中の前記（メタ）アクリル酸の含有量が、３．０モル％以下である請求項４に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項６】
前記セルロース樹脂（Ａ）が、セルロースエステルである請求項１〜５のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項７】
前記セルロース樹脂（Ａ）が、セルローストリアセテートである請求項１〜６のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項８】
前記セルロース樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記スチレンとヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレン重合体（Ｂ２）を１〜１００質量部含む請求項１〜７のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項９】
ポリエステル樹脂（Ｃ）をさらに含む請求項１〜８のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物を含む光学フィルム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学フィルムを備える表示装置。
【請求項１２】
有機ＥＬディスプレイ又は液晶ディスプレイである請求項１１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学材料用樹脂組成物、光学フィルム及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年のディスプレイ市場の拡大に伴って、ディスプレイが表示する画像をより鮮明にする要求が高まっている。この要求に応えるため、ディスプレイに用いられる光学フィルムは、単に透明性を有しているだけでなく、高画質化のための機能性の付与も必要とされてきている。【０００３】
例えば液晶表示装置には、視野角拡大機能が要求されており、斜め方向から見た場合の光漏れによるコントラスト低下を防止するために、従来から位相差フィルムを偏光子保護フィルムに重ねることで視野角補償が図られてきた。近年、液晶表示装置のさらなる軽量・薄型化のために、偏光子保護フィルム及び位相差フィルムの２枚のフィルム機能を１枚のフィルムに集約した位相差機能付き偏光子保護フィルムが主流となっている。当該位相差機能付き偏光子保護フィルムは、光学異方性を有することで厚さ方向の位相差を発現し、液晶表示装置の視野角を補償するものである。【０００４】
偏光子保護フィルムに位相差機能を付与する場合、位相差（レターデーション）調整剤を偏光子保護フィルムに添加して所望の位相差に調整する手法があり、該調整剤の偏光子保護フィルムへの添加量に応じて、偏光子保護フィルムの厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）を調整することが可能である。【０００５】
位相差調整剤にはＲｔｈを正の方向へ大きくする「位相差上昇剤」と、負の方向へ大きくする「位相差低減剤」がある。ここで正又は負の位相差とは、延伸によってフィルムの分子鎖軸方向の屈折率が大きくなることを正の位相差を示すと定義され、フィルムの分子鎖軸と直交する方向の屈折率が大きくなることを負の位相差を示すと定義される。
同量の添加量で比較した場合において、Ｒｔｈの変動量の絶対値をより大きくできる位相差調整剤であるほど、偏光子保護フィルムのＲｔｈを調整できる範囲が広がり、偏光子保護フィルムの薄型化にも対応できる。【０００６】
セルロース樹脂フィルムは、透明性、光学的等方性及び靭性に優れ、テレビ、ノートパソコン等の液晶表示装置の偏光子の材料であるポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」という場合がある。）との接着性が良好なことから、液晶表示装置の偏光板を構成する偏光子の保護フィルムとして一般的に用いられている。
しかしながら、セルロース樹脂フィルムに負の位相差を付与する位相差低減剤はほとんど例がなく、セルロース樹脂フィルム用の位相差低減剤の開発が求められていた。【０００７】
特許文献１−３は、セルロース樹脂に位相差低減剤としてポリメチルメタクリレートを添加した光学フィルムを開示しているが、位相差の低減効果は十分ではなく、更なる位相差の低減が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１３−２９５５３号公報
【特許文献２】特開２０１２−８６４３３号公報
【特許文献３】特開２０１７−２７０６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、高い透明性と負の位相差の発現性と保存安定性を有する光学材料用樹脂組成物を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、高い透明性と負の位相差と性能安定性を有する光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体、又は、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体であって、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であり、数平均分子量が５０００以下の重合体は、セルロース樹脂との高い相溶性を有し、セルロース樹脂と前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体から選択される１種以上を含む光学材料用樹脂組成物は、高い透明性と負の位相差の発現性と保存安定性を有し、当該組成物から得られる光学フィルムは高い透明性と負の位相差を有し、光学特性の経時劣化を防ぐ性能安定性を有することを見出し、本発明を完成させた。【００１１】
すなわち、本発明は、セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上とを含み、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であり、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量がそれぞれ５０００以下である光学材料用樹脂組成物に関するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、高い透明性と負の位相差の発現性と保存安定性を有する光学材料用樹脂組成物が提供できる。
本発明により、高い透明性と負の位相差と性能安定性を有する光学フィルムが提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の効果を損なわない範囲で適宜変更を加えて実施することができる。
尚、本願明細書において、例えば「Ａ及びＢから選択される１種以上」とは、「Ａ」だけでもよく、「Ｂ」だけでもよく、「Ａ及びＢの組み合わせ」でもよいということを意味する。
【００１４】
［光学材料用樹脂組成物］
本発明の光学材料用樹脂組成物は、セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上とを含み、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であり、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量がそれぞれ５０００以下である。
【００１５】
スチレン樹脂及び（メタ）アクリル樹脂は、いずれも負の複屈折を有しており、スチレン樹脂及び／又は（メタ）アクリル樹脂を含む延伸フィルムは負の位相差を示すことができる。しかしながら、スチレン樹脂及び（メタ）アクリル樹脂はいずれもセルロース樹脂に対する相溶性が低く、セルロース樹脂とスチレン樹脂及び／又は（メタ）アクリル樹脂を含む組成物が高い透明性を得るのは難しい。
本発明の光学材料用樹脂組成物では、数平均分子量が５０００以下であって、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下である、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び／又はヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）を用いることで、セルロース樹脂に対する高い相溶性が得られ、高い透明性と負の位相差発現性が得られる。
また、本発明の光学材料用樹脂組成物は、湿熱試験前後における透明性や光学特性などの性能安定性にも優れる。
【００１６】
以下、本発明の光学材料樹脂組成物が含む各成分について説明する。
（セルロース樹脂（Ａ））
セルロース樹脂（Ａ）は、セルロースエステルであると好ましい。
前記セルロースエステルとしては、例えば、セルロースアセテート（ＣＡ）、セルロースジアセテート（ＤＡＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、セルロースアセテートフタレート（ＣＡＴ）、ポリカプロラクトングラフト化セルロースアセテート等が挙げられる。これらの中でも、機械的特性（引張強度、曲げ強度、曲げ弾性等）が良好なことから、好ましくは、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のアセチル化されたセルロース類が好ましく、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のアセチル化されたセルロース類がより好ましい。
前記セルロースエステルは、１種単独で用いることも２種以上を併用することもできる。
【００１７】
前記セルロースエステルが、アセチル化されたセルロース類の場合には、その平均アセチル置換度としては、機械的特性（引張強度、曲げ強度、曲げ弾性等）が良好なことから、２．３〜３．０の範囲が好ましく、２．４〜２．９の範囲がより好ましい。
【００１８】
尚、本発明でいう「平均アセチル置換度」とは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）に準じて測定した値である。
【００１９】
前記セルロースエステルの平均重合度としては、より優れた機械的特性（引張強度、曲げ強度、曲げ弾性等）及び耐熱性を発現できることから、１５０〜４００の範囲が好ましく、２００〜３５０の範囲がより好ましい。
【００２０】
尚、本発明でいう「平均重合度」とは、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に準拠して測定できる。具体的には、絶乾したセルロースエステル０．２ｇを精秤し、メチレンクロライド：エタノール＝９：１（質量比）の混合溶媒１００ｍｌに溶解し、この溶液をオストワルド粘度計にて恒温水槽温度２５℃で落下秒数を測定して、平均重合度を以下の〔式１〕により算出する。
平均重合度＝［η］／Ｋｍ・・・〔式１〕
［η］＝（ｌｎηｒｅｌ）／Ｃ
ηｒｅｌ＝Ｔ／Ｔ０
Ｋｍ＝６×１０−４
Ｔ：測定サンプルの落下時間（秒）
Ｔ０：溶剤の落下時間（秒）
Ｃ：サンプルの濃度（ｇ／ｌ）
【００２１】
前記セルロースエステルは、市販品を用いてもよく、前記セルロースエステルとして用いることができる市販品としては、例えば、株式会社ダイセル製「Ｌ−２０」（平均アセチル置換度２．４１、平均重合度１４５）、「Ｌ−３０」（平均アセチル置換度２．４１、平均重合度１６０）、「Ｌ−５０」（平均アセチル置換度２．４１、平均重合度１８０）、「Ｌ−７０」（平均アセチル置換度２．４１、平均重合度１９０）等のセルロースジアセテート、株式会社ダイセル製「ＬＴ−３５」（平均アセチル置換度２．８７、平均重合度２７０）、「ＬＴ−１０５」（平均アセチル置換度２．８７、平均重合度３５０）等のセルローストリアセテート等が挙げられる。
前記セルロースエステルの市販品は１種単独で用いることも２種以上を併用することもできる。
【００２２】
前記セルロースエステルは、前記市販品を用いることができるほか、合成したものを用いることもできる。セルロースエステルの合成方法は、公知の方法により合成することができ、その合成方法は特に限定されない。
【００２３】
前記セルロースエステルの合成方法としては、例えば、木材パルプ（例えば、針葉樹パルプ、広葉樹パルプ等）、コットンリンター等のセルロース分子内のグルコース残基の２位、３位、６位の水酸基を全て、若しくはその一部の水酸基をエステル化して合成することができる。
【００２４】
前記セルロースエステルとして、アセチル化されたセルロースを得る場合には、セルロースを所定量のアセチル化剤と反応させる公知のエステル化により生成でき、必要に応じて熟成工程・沈殿工程・精製工程・乾燥工程等を経て合成することができる。
【００２５】
例えば、（１）パルプ（セルロース）を解砕後、酢酸を主とするモノカルボン酸の散布混合により前処理活性化した後、無水酢酸を主とするモノカルボン酸無水物を硫酸等のエステル化触媒を用いてセルローストリアセテートを調製するエステル化工程、次いで、（２）得られたセルローストリアセテートを加水分解により所望のアシル置換度に調整する熟成工程、更に、（３）得られたセルロースアセチル化物より、濾過、沈殿分離、水洗、脱水、乾燥する後処理工程、等の一連の工程を経ることにより合成できる。
【００２６】
前記エステル化触媒の種類、使用量、反応温度、熟成温度等の諸条件は、特に限定されない。
また、前記エステル化触媒としては、例えば、硫酸等の酸を使用した場合には、残留した酸を中和するためにモノカルボン酸金属塩等の塩基で生成物を処理してもよく、中和に用いる塩基の種類は、特に限定されない。
【００２７】
（ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１））
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）は、ヒドロキシル基を有するスチレンを必須の反応原料とする重合体であって、ヒドロキシル基を有するスチレン由来の構造単位を重合体構造中に有する重合体である。
【００２８】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）は、ヒドロキシル基を有するスチレンの単独重合体でもよく、ヒドロキシル基を有するスチレンと前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体から選択される１種以上とを必須の反応原料とする共重合体でもよい。
ここで「ヒドロキシル基を有するスチレンと前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体から選択される１種以上とを必須の反応原料とする共重合体」とは、ヒドロキシル基を有するスチレン由来の構造単位と、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体由来の構造単位を有する共重合体である。
前記共重合体の重合形態は特に限定されず、例えばランダムでもブロックでもよい。
【００２９】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンは１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
前記ヒドロキシル基を有するスチレンが有するヒドロキシル基の数は１個又は２個以上でもよく、前記ヒドロキシル基を有するスチレンとしては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、３−メトキシ４−ヒドロキシスチレン、３，４−ジヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【００３０】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体は１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体としては、スチレン（スチレンモノマー）、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、カルボキシスチレン、アミノスチレン等が挙げられる。
前記アルキルスチレンの具体例としては、α―メチルスチレン、ｏ―メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−プロピルスチレン、ｐ−ターシャリーブチルスチレン、ｐ−ブチルスチレン、ｐ−イソプロピルスチレン等が挙げられる。
前記アルコキシスチレンの具体例としては、メトキシスチレン、エトキシスチレン、プロポキシスチレン、ブトキシスチレン、３，４−ジメトキシスチレン等が挙げられる。
前記カルボキシスチレンの具体例としては、ｏ―カルボキシスチレン、ｍ−カルボキシスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、３，４−ジカルボキシスチレン等が挙げられる。
前記アミノスチレンの具体例としては、ｐ−ジメチルアミノスチレン、ｐ−ジエチルアミノスチレン等が挙げられる。
【００３１】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）中の前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量は、４０モル％以下であり、好ましくは３５モル％以下であり、より好ましくは３０モル％以下である。
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）中のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量の下限は特に制限されないが例えば１．０モル％である。
重合体を構成する全構造単位において、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が上記範囲にあることで、セルロース樹脂（Ａ）に対する相溶性を確保できる。
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）中のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量は、実施例に記載の方法により確認する。
【００３２】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）中の前記ヒドロキシル基を有するスチレンの含有量は、好ましくは６０〜１００モル％であり、より好ましくは６５〜１００モル％である。
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）を構成する全構造単位において、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの含有量が上記範囲にあることで、セルロース樹脂（Ａ）に対する相溶性を確保できる。
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）中の前記ヒドロキシル基を有するスチレンの含有量は、実施例に記載の方法により確認する。
【００３３】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）は、本発明の効果を損なわない範囲で、ヒドロキシル基を有するスチレン及びヒドロキシル基を有するスチレン以外のスチレン誘導体ではない、他の重合性単量体を反応原料としてもよい。
前記他の重合性単量体としては、アクリロニトリル、メタクリニトリル等のシアン化ビニル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類等が挙げられる。
前記他の重合性単量体は１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）の数平均分子量は、５，０００以下であり、好ましくは４，０００以下である。ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）の数平均分子量の下限は特に限定されないが、例えば５００である。
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）の数平均分子量が５，０００以下であることでセルロース樹脂（Ａ）に対する相溶性を確保することができる。
【００３５】
本発明において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）はゲルパーミエージョンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定に基づきポリスチレン換算した値である。尚、ＧＰＣの測定条件は以下の通りである。
【００３６】
［ＧＰＣ測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製高速ＧＰＣ装置「ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ＧＵＲＤＣＯＬＵＭＮ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ」＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ−２０００」＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ−２０００」
検出器：ＲＩ（示差屈折計）
データ処理：東ソー株式会社製「ＥｃｏＳＥＣ  Ｄａｔａ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  バージョン１．０７」
カラム温度：４０℃
展開溶媒：テトラヒドロフラン
流速：０．３５ｍＬ／分
測定試料：試料７．５ｍｇを１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し、得られた溶液をマイクロフィルターでろ過したものを測定試料とした。
試料注入量：２０μｌ
標準試料：前記「ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
【００３７】
（単分散ポリスチレン）
東ソー株式会社製「Ａ−３００」
東ソー株式会社製「Ａ−５００」
東ソー株式会社製「Ａ−１０００」
東ソー株式会社製「Ａ−２５００」
東ソー株式会社製「Ａ−５０００」
東ソー株式会社製「Ｆ−１」
東ソー株式会社製「Ｆ−２」
東ソー株式会社製「Ｆ−４」
東ソー株式会社製「Ｆ−１０」
東ソー株式会社製「Ｆ−２０」
東ソー株式会社製「Ｆ−４０」
東ソー株式会社製「Ｆ−８０」
東ソー株式会社製「Ｆ−１２８」
東ソー株式会社製「Ｆ−２８８」
【００３８】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）は、例えば市販品を原料にして公知の方法で製造することができる。
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）を製造する場合、その製造方法としては、例えば、キャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の種々の重合方法を用いることができる。製造方法の中でも、塊状重合や溶液重合が、微小な異物の混入が少ない重合体が得られることから好ましい。溶液重合を行う場合には、原料の混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調製した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
【００３９】
前記重合に用いることができる開始剤としては、一般にラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができる。
前記開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物；ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物等が用いられる。９０℃以上の高温下で重合をする場合には、溶液重合が一般的であるので、１０時間半減期温度が８０℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等が好ましく、具体的には１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、１，１−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は０．００５〜５質量％の範囲で用いられる。
【００４０】
前記重合をする際には、必要に応じて分子量調節剤を使用してもよい。
前記分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用され、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸２−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、分子量が上記の範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。
【００４１】
ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）は、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であるが、これはヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の仕込み量を調整することで制御できる。
また、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）は、数平均分子量が５０００以下であるが、これは用いる開始剤と連鎖移動剤の種類及び使用量、並びに反応温度を調整することにより制御できる。
【００４２】
（ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２））
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）は、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとを必須の反応原料とする共重合体である。
ここで「ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体」とは、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体由来の構造単位と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体である。
前記共重合体の重合形態は特に限定されず、例えばランダムでもブロックでもよい。
尚、本発明において「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方又は両方をいう。
【００４３】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体は１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体としては、スチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、カルボキシスチレン、アミノスチレン等が挙げられる。
これらスチレンの具体例としては、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）で例示したものと同じものが挙げられる。
【００４４】
前記ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルは１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
前記ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルは、好ましくは（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルである。
前記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとしては、炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルが挙げられ、具体例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等が挙げられる。
【００４５】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）は、好ましくはスチレン及びアルキルスチレンから選択される１種以上と、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び（メタ）アクリル酸から選択される１種以上とを反応原料とする共重合体であって、前記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを必須の反応原料とする共重合体である。
【００４６】
前記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、炭素数１〜６のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられ、具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
前記（メタ）アクリル酸アルキルエステルは１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４７】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）が、前記（メタ）アクリル酸を反応原料とし、前記（メタ）アクリル酸由来の構造単位を有する場合、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中の前記（メタ）アクリル酸の含有量は、好ましくは３．０モル％以下であり、より好ましくは１．０モル％以下である。
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中の前記（メタ）アクリル酸の含有量の下限は、特に限定されず、例えば０．１モル％である。
カルボキシル基を有する単量体に由来する構造単位の含有量が上記範囲にあることで、セルロース樹脂（Ａ）が有するアセチル基を加水分解することなく、セルロース樹脂（Ａ）との相溶性を向上させることができる。
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中の前記（メタ）アクリル酸の含有量は、実施例に記載の方法により確認する。
【００４８】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量は、４０モル％以下であり、好ましくは３５モル％以下であり、より好ましくは３０モル％以下である。
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量の下限は特に制限されないが例えば１．０モル％である。
共重合体を構成する全構造単位において、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が上記範囲にあることで、セルロース樹脂（Ａ）に対する相溶性を確保できる。
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）中のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量は、実施例に記載の方法により確認する。
【００４９】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）は、本発明の効果を損なわない範囲で他の重合性単量体を反応原料としてもよい。
前記他の重合性単量体としては、アクリロニトリル、メタクリニトリル等のシアン化ビニル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類等が挙げられる。
前記他の重合性単量体は１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５０】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量は、５，０００以下であり、好ましくは４，０００以下である。ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量の下限は特に限定されないが、例えば５００である。
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の数平均分子量が５，０００以下であることでセルロース樹脂（Ａ）に対する相溶性を確保することができる。
【００５１】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の重量平均分子量及び数平均分子量の測定方法は、前記ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）の重量平均分子量及び数平均分子量の測定方法と同じである。
【００５２】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）は、例えば市販品を原料にして公知の方法で製造することができる。
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の製造方法は、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）の製造方法と同じ方法が採用できる。
【００５３】
ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）は、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が４０モル％以下であるが、これはヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の仕込み量を調整することで制御できる。
また、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）は、数平均分子量が５０００以下であるが、これは用いる開始剤と連鎖移動剤の種類及び使用量、並びに反応温度を調整することにより制御できる。
【００５４】
本発明の光学材料用樹脂組成物中のヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の含有量は、セルロース樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１〜１００質量部であり、より好ましくは５〜５０質量部であり、さらに好ましくは５〜３５質量部である。
【００５５】
（ポリエステル樹脂（Ｃ））
本発明の光学材料用樹脂組成物は、ポリエステル樹脂（Ｃ）を含むと好ましい。
本発明の光学材料用樹脂組成物がポリエステル樹脂（Ｃ）をさらに含むことで、得られる光学フィルムの透湿度を下げることができる。
【００５６】
前記ポリエステル樹脂（Ｃ）としては、下記式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）又は（Ｃ−３）で表されるポリエステル樹脂が好ましい
【００５７】
【化１】
2020162259.tif 000002
（前記式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）及び（Ｃ−３）中、
Ａは、炭素原子数２〜１２のアルキレンジカルボン酸残基である。
Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１２のオキシアルキレングリコール残基である。
Ｂ１は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の脂肪族モノカルボン酸残基である。
Ｂ２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の脂肪族モノアルコール残基である。
ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、カッコ内の繰り返し単位の繰り返し単位数を表し、０以上の整数である。
Ａが２以上ある場合、２以上のＡは互いに同じでもよく、異なってもよい。
Ｇが２以上ある場合、２以上のＧは互いに同じでもよく、異なってもよい）
【００５８】
本発明において、「ジカルボン酸残基」とはジカルボン酸からカルボキシル基を除いた残りの有機基を言う。
【００５９】
前記Ａの炭素原子数２〜１２のアルキレンジカルボン酸残基としては、例えば、コハク酸残基、マレイン酸残基、フマル酸残基、グルタール酸残基、アジピン酸残基、アゼライン酸残基、セバシン酸残基、ドデカンジカルボン酸残基、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸残基、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸残基、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基、１，２−ジカルボキシ−３−メチル−シクロヘキサン残基、１，２−ジカルボキシ−４−メチル−シクロヘキサン残基、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸残基等が挙げられる。
【００６０】
前記Ａは、炭素原子数２〜９のアルキレンジカルボン酸残基が好ましく、シクロヘキサンジカルボン酸残基、アジピン酸残基およびコハク酸残基からなる群から選ばれる１種以上の残基がより好ましい。
【００６１】
本発明において、「グリコール残基」とはグリコールから水酸基を除いた残りの有機基を言う。
【００６２】
前記Ｇの炭素原子数２〜１２のアルキレングリコール残基としては、例えば、エチレングリコール残基、１，２−プロピレングリコール残基、１，３−プロピレングリコール残基、１，２−ブタンジオール残基、１，３−ブタンジオール残基、２−メチル−１，３−プロパンジオール残基、１，４−ブタンジオール残基、１，５−ペンタンジオール残基、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）残基、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）残基、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）残基、３−メチル−１，５−ペンタンジオール残基、１，６−ヘキサンジオール残基、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール残基、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール残基、２−メチル−１，８−オクタンジオール残基、１，９−ノナンジオール残基、１，１０−デカンジオール残基、１，１２−ドデカンジオール残基、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン残基、１，４−シクロヘキサンジメタノール残基等が挙げられる。
【００６３】
前記Ｇの炭素原子数４〜１２のオキシアルキレングリコール残基としては、例えば、ジエチレングリコール残基、トリエチレングリコール残基、テトラエチレングリコール残基、ジプロピレングリコール残基、トリプロピレングリコール残基等が挙げられる。
【００６４】
本発明において、「モノカルボン酸残基」とは、モノカルボン酸からカルボキシル基を除いた残りの有機基を言う。
【００６５】
前記Ｂ１の炭素原子数１〜１２の脂肪族モノカルボン酸残基としては、例えば、酢酸残基、プロピオン酸残基、ブタン酸残基、ヘキサン酸残基、シクロヘキサンカルボン酸残基等が挙げられる。
【００６６】
前記Ｂ１は、炭素原子数２〜６の脂肪族モノカルボン酸残基が好ましく、酢酸残基、ブタン酸残基、及びシクロヘキサンカルボン酸残基からなる群から選ばれる１種以上の残基がより好ましい。
【００６７】
本発明において、「モノアルコール残基」とは、モノアルコールから水酸基を除いた残りの有機基を言う。
【００６８】
前記Ｂ２の炭素原子数１〜１２の脂肪族モノアルコール残基としては、例えば、メタノール残基、エタノール残基、プロパノール残基、ブタノール残基、ヘプタノール残基、ヘキサノール残基、シクロヘキサノール残基、ヘプタノール残基、オクタノール残基、ノナノール残基、デカノール残基、ウンデカノール残基、ドデカノール残基等が挙げられる。
【００６９】
前記ポリエステル樹脂（Ｃ）は、例えば、前記式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）および（Ｃ−３）中のｌ、ｍおよびｎの値が様々なポリエステル樹脂の混合物である。
【００７０】
前記式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）又は（Ｃ−３）で表されるポリエステル樹脂は、数平均分子量が２００〜２０００の範囲内にあると好ましい。
ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、カッコ内の繰り返し単位の繰り返し単位数であり、前記式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）又は（Ｃ−３）で表されるポリエステル樹脂の数平均分子量が上記範囲となる整数であると好ましい。ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１〜６の整数であると好ましい。
【００７１】
ポリエステル樹脂（Ｃ）は、例えば特開２０１８−４８２５０号公報に開示の方法により調製することができる。
【００７２】
本発明の光学材料用樹脂組成物中のポリエステル樹脂（Ｃ）の含有量は、セルロース樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１〜３０質量部であり、より好ましくは５〜２０質量部である。
【００７３】
（その他成分）
本発明の光学材料用樹脂組成物は、セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上と、任意に含まれるポリエステル樹脂（Ｃ）を含めばよく、これら成分以外のその他成分（任意の樹脂成分及び任意の添加剤）をさらに含んでもよい。
【００７４】
前記任意の樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂；及びフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。これら樹脂成分を１種単独で含んでもよいし、２種以上を含んでもよい。
【００７５】
前記任意の添加剤としては、例えば、無機充填剤、酸化鉄等の顔料；ステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤；離型剤；パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン、ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤；ヒンダードフェノール系酸化防止剤、りん系熱安定剤、ラクトン系熱安定剤、ビタミンＥ系熱安定剤等の酸化防止剤；ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾエート系光安定剤等の光安定剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；難燃剤；帯電防止剤；有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤；着色剤、その他添加剤或いはこれらの混合物等が挙げられる。
【００７６】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、例えば、７０質量％以上、８０質量％以上、９０質量％以上、９５質量％以上、９９質量％以上、又は９９．９質量％以上が、セルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上、任意に含まれるポリエステル樹脂（Ｃ）並びに溶剤であってもよい。
本発明の光学材料用樹脂組成物は、本質的にセルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１以上、任意に含まれるポリエステル樹脂（Ｃ）並びに溶剤からなってもよい。この場合、不可避不純物を含んでもよい。
また、本発明の光学材料用樹脂組成物は、セルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１以上、任意に含まれるポリエステル樹脂（Ｃ）並びに溶剤のみからなってもよい。
【００７７】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、本発明の光学材料用樹脂組成物を含む。
本発明の光学フィルムは、高い透明性と負の位相差の両方を示すことができ、性能安定性にも優れる。例えば、高温高湿下という過酷な環境下であっても高い透明性を維持することができる。
【００７８】
本発明の光学フィルムは、負の面内レタデーション（Ｒｅ）及び負の厚み方向レタデーション（Ｒｔｈ）を示すことができる。ここで、面内レタデーション（Ｒｅ）と厚み方向レタデーション（Ｒｔｈ）は下記式により定義される。
Ｒｅ  ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘは、光学フィルム面内において屈折率が最大となる方向をｘとした場合のｘ方向の主屈折率である。
ｎｙは、光学フィルム面内においてｘ方向に垂直な方向をｙとした場合のｙ方向の主屈折率である。
ｎｚは、光学フィルムの厚み方向の主屈折率である。
ｄは、光学フィルムの厚み（ｎｍ）である。）
【００７９】
本発明の光学フィルムにおける、面内レタデーション（Ｒｅ）は、好ましくは−１５ｎｍ以下、より好ましくは−３５ｎｍ以下、さらに好ましくは−５０ｎｍ以下である。
本発明の光学フィルムにおける、厚み方向レタデーション（Ｒｔｈ）は、好ましくは−５ｎｍ以下、より好ましくは−１５ｎｍ以下、さらに好ましくは−３５ｎｍ以下である。
前記Ｒｅ及びＲｔｈの値は、ＭＤ及びＴＤ方向の延伸倍率、フィルム厚さ、セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）の質量比により調整することができる。
【００８０】
本発明の光学フィルムは、例えば、７０質量％以上、８０質量％以上、９０質量％以上、９５質量％以上、９９質量％以上、又は９９．９質量％以上が、セルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上、並びに任意に含まれるポリエステル樹脂（Ｃ）であってもよい。
本発明の光学フィルムは、本質的にセルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上、並びに任意に含まれるポリエステル（Ｃ）からなってもよい。この場合、不可避不純物を含んでもよい。
また、本発明の光学フィルムは、セルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上、並びに任意に含まれるポリエステル（Ｃ）のみからなってもよい。
【００８１】
本発明の光学フィルムは、光学材料として、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる偏光板保護フィルム、１／４波長板、１／２波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、光反射防止部材等に好適に用いることができる。
【００８２】
本発明の光学フィルムの膜厚は、２０〜１２０μｍの範囲が好ましく、２５〜１００μｍの範囲がより好ましく、２５〜８０μｍの範囲が特に好ましい。
【００８３】
本発明の光学フィルムは、本発明の光学材料用樹脂組成物を用いることにより製造できる。
本発明の光学フィルムは、例えば、本発明の光学材料用樹脂組成物を用いて、押し出し成形、キャスト成形等の方法により未延伸フィルムを製造し、当該未延伸フィルムを延伸することにより得られる。
【００８４】
未延伸フィルムの製造方法としては、キャスト成形である溶液流延法（ソルベントキャスト法）が挙げられる。以下、溶液流延法について詳述する。
溶液流延法で得られる未延伸フィルムは、実質的に光学等方性を示す。前記光学等方性を示すフィルムは、例えば液晶ディスプレイ等の光学材料に使用することができ、中でも偏光板用保護フィルムに有用である。また、前記方法によって得られたフィルムは、その表面に凹凸が形成されにくく、表面平滑性に優れる。
【００８５】
前記溶液流延法は、一般に、例えば、セルロース樹脂（Ａ）とヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上とを溶剤中に溶解させ、得られた樹脂溶液を金属支持体上に流延させる第１工程と、流延させた前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤を留去し乾燥させてフィルムを形成する第２工程、それに続く、金属支持体上に形成されたフィルムを金属支持体から剥離し加熱乾燥させる第３工程からなる。
【００８６】
前記第１工程で使用する金属支持体としては、無端ベルト状又はドラム状の金属製のもの等を例示でき、例えば、ステンレス製でその表面が鏡面仕上げの施されたものを使用することができる。
【００８７】
前記金属支持体上に樹脂溶液を流延させる際には、得られるフィルムに異物が混入することを防止するために、フィルターで濾過した樹脂溶液を使用することが好ましい。
【００８８】
前記第２工程の乾燥方法としては、特に限定しないが、例えば３０〜５０℃の温度範囲の風を前記金属支持体の上面及び／又は下面に当てることで、流延した前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤の５０〜８０質量％を蒸発させ、前記金属支持体上にフィルムを形成させる方法が挙げられる。
【００８９】
次いで、前記第３工程は、前記第２工程で形成されたフィルムを金属支持体上から剥離し、前記第２工程よりも高い温度条件下で加熱乾燥させる工程である。前記加熱乾燥方法としては、例えば１００〜１６０℃の温度条件にて段階的に温度を上昇させる方法が、良好な寸法安定性を得ることができるため、好ましい。前記温度条件にて加熱乾燥することにより、前記第２工程後のフィルム中に残存する有機溶剤をほぼ完全に除去することができる。
【００９０】
尚、前記第１工程〜第３工程で、溶媒は回収し再使用することも可能である。
【００９１】
例えば、前記セルロース樹脂（Ａ）、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及び／又はヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）を有機溶剤に混合させ溶解する際に使用できる有機溶剤としては、それらを溶解可能なものであれば特に限定しないが、例えば、クロロホルム、二塩化メチレン、塩化メチレン等の溶媒を挙げることができる。
【００９２】
前記樹脂溶液中のセルロース樹脂（Ａ）の濃度は、１０〜５０質量％が好ましく、１５〜３５質量％がより好ましい。
【００９３】
得られた未延伸フィルムを延伸することで本発明の光学フィルムが得られる。具体的には、機械的流れ方向に縦一軸延伸、又は機械的流れ方向に直行する方向に横一軸延伸することで本発明の光学フィルムを得ることができる。また、得られた未延伸フィルムをロール延伸とテンター延伸の逐次２軸延伸法、テンター延伸による同時２軸延伸法、又はチューブラー延伸による２軸延伸法等によって二軸延伸することによっても本発明の光学フィルムを得ることができる。
【００９４】
延伸における延伸倍率は少なくともどちらか一方向に０．１％以上１０００％以下であることが好ましく、０．２％以上６００％以下であることがさらに好ましく、０．３％以上３００％以下であることがさらに好ましい。延伸倍率を当該範囲とすることにより、複屈折、耐熱性、強度の観点で好ましい延伸された光学フィルムとすることができる。
【００９５】
本発明の光学フィルムの膜厚は、２０〜１２０μｍの範囲が好ましく、２５〜１００μｍの範囲がより好ましく、２５〜８０μｍの範囲が特に好ましい。
【００９６】
本発明の光学材料用樹脂組成物から得られる成形品は、光学フィルムに限定されず、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野において、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの基材、被覆材料、ＬＥＤのレンズ、レンズカバー等にも用いることができる。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例と比較例とにより、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例と比較例に限定されない。【００９８】
合成例１
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量０．５Ｌの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を１１０ｇ加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら１１０℃まで昇温した。昇温後、スチレン１７ｇ、メタクリル酸メチル５５ｇ、メタクリル酸３ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３５ｇ、パーブチルＯ（日油株式会社製）７ｇ及びチオカルコール２０（花王株式会社製）７ｇを混合した溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、１１０℃で４時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでＰＧＭＥを除去し、常温白色固体であるスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１を得た。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１の数平均分子量（Ｍｎ）は３，２００であった。【００９９】
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１について、下記方法によりスチレン−（メタ）アクリル共重合体Ｂ−１中のスチレンの含有量を評価したところ、１５モル％であった。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１について、下記方法によりスチレン−（メタ）アクリル共重合体Ｂ−１中のメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの含有量を評価したところ、３２モル％であった。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１について、下記方法によりスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１中のメタクリル酸の含有量を評価したところ、２モル％であった。【０１００】
（共重合体中のスチレン、ヒドロキシスチレン、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル及び（メタ）アクリル酸の含有量の測定方法）
得られたスチレン−（メタ）アクリル共重合体を重クロロホルムに溶解し、周波数５００ＭＨｚ、室温にて下記条件で１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行なった。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環の炭素ピーク（１３０〜１４０ｐｐｍ付近）、ヒドロキシスチレン単位中のヒドロキシル基が結合した炭素ピーク（１５５ｐｐｍ付近）、（メタ）アクリル酸メチルのカルボニル炭素ピーク（１７０ｐｐｍ付近）と（メタ）アクリル酸のカルボニル炭素ピーク（１６０ｐｐｍ付近）、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルのカルボニル炭素ピーク（１６５ｐｐｍ付近）の面積比から、試料中の各成分単位のモル比を求めた。
［１３Ｃ−ＮＭＲ測定条件］
測定装置      ：日本電子株式会社製「ＪＮＭ−ＥＣＡ５００」
溶媒          ：重水素化クロロホルム
測定プローブ  ：SuperCOOLプローブ
積算回数      ：５，０００回【０１０１】
合成例２
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量０．５Ｌの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を１１０ｇ加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら１１０℃まで昇温した。昇温後、スチレン２８ｇ、メタクリル酸メチル５０ｇ、メタクリル酸３ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３０ｇ、パーブチルＯ（日油株式会社製）７ｇ、チオカルコール２０（花王株式会社製）７ｇを混合した溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、１１０℃で４時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでＰＧＭＥを除去し、常温白色固体であるスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−２を得た。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−２の数平均分子量（Ｍｎ）は３，０００であった。【０１０２】
得られた共重合体Ｂ−２について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−２中のスチレンの含有量を評価したところ、２５モル％であった。
得られた共重合体Ｂ−２について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−２中のメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの含有量を評価したところ、２７モル％であった。
得られた共重合体Ｂ−２について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−２中のメタクリル酸の含有量を評価したところ、２モル％であった。【０１０３】
合成例３
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量０．５Ｌの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を１１０ｇ加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら１１０℃まで昇温した。昇温後、スチレン１７ｇ、メタクリル酸メチル５５ｇ、メタクリル酸３ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３５ｇ、パーブチルＯ（日油株式会社製）１１ｇ、チオカルコール２０（花王株式会社製）７ｇを混合した溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、１１０℃で４時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでＰＧＭＥを除去し、常温白色固体であるスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−３を得た。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−３の数平均分子量（Ｍｎ）は２，３００であった。【０１０４】
得られた共重合体Ｂ−３について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−３中のスチレンの含有量を評価したところ、１５モル％であった。
得られた共重合体Ｂ−３について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−３中のメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの含有量を評価したところ、３２モル％であった。
得られた共重合体Ｂ−３について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−３中のメタクリル酸の含有量を評価したところ、２モル％であった。【０１０５】
合成例４
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量０．５Ｌの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を１１０ｇ加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら１１０℃まで昇温した。昇温後、スチレン１１ｇ、パラヒドロキシスチレン９８ｇ、パーブチルＯ（日油株式会社製）３ｇ及びチオカルコール２０（花王株式会社製）３ｇを混合した溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、１１０℃で４時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでＰＧＭＥを除去し、常温白色固体であるスチレン−ヒドロキシスチレン共重合体Ｂ−４を得た。
得られたスチレン−ヒドロキシスチレン共重合体Ｂ−４の数平均分子量（Ｍｎ）は２，９００であった【０１０６】
得られた共重合体Ｂ−４について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ−４中のスチレンの含有量を評価したところ、１２モル％であった。【０１０７】
合成例５
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量０．５Ｌの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を１１０ｇ加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら１１０℃まで昇温した。昇温後、スチレン６８ｇ、メタクリル酸メチル１７ｇ、メタクリル酸３ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル２１ｇ、パーブチルＯ（日油株式会社製）６ｇ及びチオカルコール２０（花王株式会社製）６ｇを混合した溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、１１０℃で４時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでＰＧＭＥを除去し、常温白色固体であるスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ’−５を得た。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ’−５の数平均分子量（Ｍｎ）は３，３００であった。【０１０８】
得られた共重合体Ｂ’−５について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ’−５中のスチレンの含有量を評価したところ、６４モル％であった。
得られた共重合体Ｂ’−５について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ’−５中のメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの含有量を評価したところ、１５モル％であった。
得られた共重合体Ｂ’−５について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ’−５中のメタクリル酸の含有量を評価したところ、２モル％であった。【０１０９】
合成例６
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量０．５Ｌの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を１１０ｇ加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら１１０℃まで昇温した。昇温後、スチレン１６ｇ、メタクリル酸メチル５０ｇ、メタクリル酸３ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル４２ｇ、パーブチルＯ（日油株式会社製）１ｇ及びチオカルコール２０（花王株式会社製）１ｇを混合した溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、１１０℃で４時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでＰＧＭＥを除去し、常温白色固体であるスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ’−６を得た。
得られたスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ’−６の数平均分子量（Ｍｎ）は８，５００であった。【０１１０】
得られた共重合体Ｂ’−６について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ’−６中のスチレンの含有量を評価したところ、１５モル％であった。
得られた共重合体Ｂ’−６について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ’−６中のメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの含有量を評価したところ、３２モル％であった。
得られた共重合体Ｂ’−６について、合成例１と同様にして共重合体Ｂ’−６中のメタクリル酸の含有量を評価したところ、２モル％であった。【０１１１】
合成例７
温度計、攪拌器及び還流冷却器を備えた内容積１リットルの四つ口フラスコに、エチレングリコール３４１ｇ、アジピン酸６５９ｇを仕込んだ。さらに、テトライソプロピルチタネートを前記エチレングリコール及び前記アジピン酸の合計量に対して３０質量ｐｐｍ加えて、窒素気流下で攪拌しながら２２０℃まで昇温し、２４時間反応させた。
この反応により、数平均分子量が１，１００で、酸価が０．１９で、水酸基価が１１２のポリエステル樹脂Ｃ−１を得た。【０１１２】
尚、ポリエステル樹脂Ｃ−１及び後述するポリエステル樹脂Ｃ−２の酸価及び水酸基価について、酸価の測定は、ＪＩＳ試験方法Ｋ００７０−１９９２に準拠して測定し、水酸基価の測定は、操作方法はＪＩＳ試験方法Ｋ１５５７−１（２００７）Ａ法に準じて実施した。【０１１３】
合成例８
温度計、攪拌器及び還流冷却器を備えた内容積３リットルの四つ口フラスコに、エチレングリコール６９４ｇ、ヘキサヒドロ無水フタル酸１２２７ｇ、シクロヘキサンカルボン酸５６４ｇを仕込んだ。さらに、テトライソプロピルチタネートを前記エチレングリコール、前記ヘキサヒドロ無水フタル酸、前記シクロヘキサンカルボン酸の合計量に対して３０質量ｐｐｍ加えて、窒素気流下で攪拌しながら２２０℃まで昇温し、２４時間反応させた。
この反応により、数平均分子量が１，０００で、酸価が０．２６で、水酸基価が２０のポリエステル樹脂Ｃ−２を得た。【０１１４】
合成例９
温度計、攪拌器及び還流冷却器を備えた内容積３リットルの四つ口フラスコに、ポリエチレングリコール  ＃３００  ５６０ｇ、２−エチルヘキサン酸６４５ｇ、テトライソプロピルチタネート０．３１ｇを仕込み、窒素気流下で攪拌しながら２２０℃まで昇温し、２４時間反応させた。その後、減圧を４時間施すことで、数平均分子量が６９０で、酸価が０．５１で、水酸基価が５のポリエステル樹脂Ｃ−３を得た。【０１１５】
実施例１
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂Ａ（ダイセル社製ＴＡＣ樹脂  ＬＴ−３５）（１００質量部）とスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体Ｂ−１（１０質量部）に対し、メチレンクロライド８１０質量部、メタノール９０質量部を加えて溶解し、ドープ液を得た。このドープ液をガラス板上に流延し、溶媒を留去する（乾燥する）ことで膜厚約６０μｍのフィルムを得た。
得られたフィルムの透明性、耐熱性、透湿度を下記の方法に従って評価した。また、得られたフィルムを下記の方法及び条件で熱延伸し、得られた延伸フィルムの光学特性及び性能安定性を下記の方法に従って評価した。評価結果を表１に示す。【０１１６】
（フィルムの透明性）
フィルムを打ち抜き機で打ち抜いて４０ｍｍ角の試験片とし、ＨＡＺＥメーターＮＤＨ−５０００（日本電色工業製）にて、ＨＡＺＥ値の測定を行った。得られたＨＡＺＥ値が小さいほど、透明性に優れることを示す。【０１１７】
（フィルムの耐熱性）
動的粘弾性測定（ＤＭＡ）装置により、フィルムについて測定したｔａｎδのピークトップ値における温度をＴｇと定義し、その大きさを評価した。【０１１８】
（フィルムの透湿度）
ＪＩＳ  Ｚ０２０８に記載の方法に従い、フィルムの透湿度を測定した。測定条件は、温度４０℃、相対湿度９０％で行なった。【０１１９】
（フィルムの性能安定性）
フィルムを金属クリップに挟み、吊るした状態で温度７０℃、相対湿度９０％ＲＨの恒温恒湿中に５日間放置した。その後、濁度計（日本電色工業株式会社製「ＮＤＨ  ５０００」）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準じて、延伸フィルムのＨＡＺＥ値を測定すると共に目視による延伸フィルム全体の透明度の評価を行った。
ＨＡＺＥが１．０以下で、かつ、フィルム全体が透明である延伸フィルムを「○」と評価し、ＨＡＺＥが１．０を超えるもの、及び、ＨＡＺＥが１．０以下であっても一部白濁が目視で確認された延伸フィルムは「×」と評価した。
尚、後述する比較例のフィルムは、特に金属クリップで挟んだ部分の白濁が確認された。【０１２０】
（フィルムの延伸方法と延伸条件）
フィルムを超音波カッターで切り抜いて５．５ｃｍ角の試験片とし、二軸延伸機（株式会社井元製作所製）を用いて、下記条件にて熱延伸を行った。
・倍率：１．３倍
・速度：１００％／ｍｉｎ
・温度：（ＤＭＡ測定のｔａｎδピークトップを与える温度）［℃］
・自由一軸延伸【０１２１】
（未延伸フィルム及び延伸フィルムの光学特性）
未延伸フィルム及び製造した延伸フィルムを２３℃かつ相対湿度５５％で２時間以上静置し、複屈折測定装置（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ，王子計測器（株）製）を用いて波長５９０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ値）及び面外位相差（Ｒｔｈ値）を測定した。【０１２２】
実施例２−７及び比較例１−３
表１に示すトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂とスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体又はヒドロキシル基を有するスチレンの重合体を表１に示す配合割合で配合し、実施例１と同様にしてフィルム及び延伸フィルムを製造し評価した。結果を表１に示す。
尚、比較例２及び比較例３では、トリアセチルセルロース樹脂とスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体が十分に相溶せず、透明なフィルムが得られなかったので、延伸フィルムの製造はしなかった。【０１２３】
実施例８
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂Ａ（ダイセル社製ＴＡＣ樹脂  ＬＴ−３５）１００質量部とスチレン−ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ−１）１０質量部、ポリエステル樹脂（Ｃ−１）１０質量部に対し、メチレンクロライド８１０質量部、メタノール９０質量部を加えて溶解し、ドープ液を得た。ドープ液をガラス板上に流延し、溶媒を留去する（乾燥する）ことで膜厚約６０μｍのフィルムを得た。
得られたフィルムについて実施例１と同様の評価を行った。また、得られたフィルムを実施例１と同様にして延伸フィルムとし、評価した。結果を表２に示す。【０１２４】
実施例９−１５
表２に示すトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂、スチレン−（メタ）アクリル共重合体又はスチレン重合体、及びポリエステル樹脂を表２に示す配合割合で配合し、実施例７と同様にしてフィルム及び延伸フィルムを製造し評価した。結果を表２に示す。【０１２５】
【表１】
2020162259.tif 000003
【０１２６】
【表２】
2020162259.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月18日(2021.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンの重合体（Ｂ１）及びヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）から選択される１種以上とを含み、
前記ヒドロキシル基を有するスチレンが、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、３−メトキシ４−ヒドロキシスチレン及び３，４−ジヒドロキシスチレンから選択される１種以上であり、
前記共重合体（Ｂ２）が、スチレン及びアルキルスチレンから選択される１種以上と、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び（メタ）アクリル酸から選択される1種以上とを反応原料とする共重合体であって、前記（メタ）アクリル酸の含有量が０．１モル％以上３．０モル％以下である共重合体であり、
前記重合体（Ｂ１）及び前記共重合体（Ｂ２）のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量がそれぞれ３５モル％以下であり、
前記重合体（Ｂ１）及び前記共重合体（Ｂ２）の数平均分子量がそれぞれ５０００以下である光学材料用樹脂組成物。
【請求項２】
前記重合体（Ｂ１）中の前記ヒドロキシ基を有するスチレンの含有量が、６０〜１００モル％である請求項１に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項３】
前記ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体が、スチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、カルボキシスチレン、アミノアルキルスチレンから選択される１種以上である請求項１又は２に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項４】
前記セルロース樹脂（Ａ）が、セルロースエステルである請求項１〜３のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項５】
前記セルロース樹脂（Ａ）が、セルローストリアセテートである請求項１〜４のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項６】
前記セルロース樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記重合体（Ｂ１）及び前記共重合体（Ｂ２）を１〜１００質量部含む請求項１〜５のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項７】
ポリエステル樹脂（Ｃ）をさらに含む請求項１〜６のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物を含む光学フィルム。
【請求項９】
請求項８に記載の光学フィルムを備える表示装置。
【請求項１０】
有機ＥＬディスプレイ又は液晶ディスプレイである請求項９に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月26日(2021.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース樹脂（Ａ）と、ヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体とヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの共重合体（Ｂ２）とを含み、
前記共重合体（Ｂ２）が、スチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、カルボキシスチレン、アミノアルキルスチレンから選択される１種以上と、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルと、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び（メタ）アクリル酸から選択される１種以上とを反応原料とする共重合体であり、
前記共重合体（Ｂ２）の反応原料に（メタ）アクリル酸が含まれる場合、前記（メタ）アクリル酸の含有量が０．１モル％以上３．０モル％以下であり、
前記共重合体（Ｂ２）のヒドロキシル基を有するスチレンを除くスチレン誘導体の含有量が３５モル％以下であり、
前記共重合体（Ｂ２）の数平均分子量が５０００以下である光学材料用樹脂組成物。
【請求項２】
前記セルロース樹脂（Ａ）が、セルロースエステルである請求項１に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項３】
前記セルロース樹脂（Ａ）が、セルローストリアセテートである請求項１又は２に記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項４】
前記セルロース樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記重合体（Ｂ１）及び前記共重合体（Ｂ２）を１〜１００質量部含む請求項１〜３のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項５】
ポリエステル樹脂（Ｃ）をさらに含む請求項１〜４のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物を含む光学フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の光学フィルムを備える表示装置。
【請求項８】
有機ＥＬディスプレイ又は液晶ディスプレイである請求項７に記載の表示装置。
【国際調査報告】
2020162259.tif 000005
2020162259.tif 000006
2020162259.tif 000007
2020162259.tif 000008