(57)【要約】  シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの当該パッシベーション膜に、開口の幅に近い大きさで一種以上の電極を形成するために、本発明の、シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法は、前記片面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記両面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜の片方又は両方が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記開口を覆う領域に電極形成用ペースト組成物からなる塗膜を形成する工程１、前記シリコン基板及び前記塗膜を焼成処理する工程２、及び前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物（８，９）は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物（７）の一部又は全部を除去する工程３、を順に備える。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法であって、（１）前記片面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記両面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜の片方又は両方が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記パッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に電極形成用ペースト組成物からなる塗膜を形成する工程１、（２）前記シリコン基板及び前記塗膜を焼成処理する工程２、及び（３）前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物の一部又は全部を除去する工程３、を順に備えることを特徴とする、結晶系太陽電池セルの製造方法。
【請求項２】
前記開口は、１つあたり幅２０〜１００μｍの直線状である、請求項１に記載の結晶系太陽電池セルの製造方法。
【請求項３】
前記電極形成用ペースト組成物は、アルミニウム含有ペースト組成物であり、アルミニウム粉末１００質量部に対して、ガラス粉末を０．１〜１５質量部含有する、請求項１又は２に記載の結晶系太陽電池セルの製造方法。
【請求項４】
前記アルミニウム含有ペースト組成物は、１）酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムからなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物を含有するガラス粉末、２）金属酸化物、並びに、３）金属水酸化物からなる群から選択される少なくとも一種を含有する、請求項３に記載の結晶系太陽電池セルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】  近年、高変換効率の結晶系太陽電池セルとして、シリコン太陽電池セルの両面に絶縁膜（パッシベーション膜）を有する構造のセルの開発が盛んに行われている。具体的には、ｐ型シリコン基板を用いて両面にパッシベーション膜と電極とが形成されたＰＥＲＣ（passivated emitter and rear cell）型構造のセル、ｎ型シリコン基板を用いて両面にパッシベーション膜と電極とが形成されたＰＥＲＴ（passivated emitter and rear totally diffused）型構造のセルが知られている。【０００３】  また、ＰＥＲＣ型、ＰＥＲＴ型のセルにおいて、パッシベーション膜とシリコン基板との間に酸化薄膜とシリコン薄膜とを形成することによりパッシベーション効果を高めたパッシベーティングコンタクト型のセル、これらのＰＥＲＣ型、ＰＥＲＴ型、パッシベーティングコンタクト型のセルにおける表面（おもて面）電極をセルの裏面に集約したバックコンタクト型のセル等も知られている。【０００４】  更に、ＰＥＲＣ型構造のセルにおいて裏面アルミニウム電極を直線状に印刷することにより、裏面からも太陽光を入射できるようにして特性を向上させた構造である両面受光型太陽電池セルの開発も進んできている（非特許文献１、Ｆｉｇ．４、Ｆｉｇ．７等）。【０００５】  両面受光型の太陽電池は、裏面アルミニウム電極の面積を減らすことにより、入射する光の量を増加させることができる。しかしながら、従来、裏面電極形成用のアルミニウム含有ペースト組成物（ペースト組成物）を使用してスクリーン印刷により細線を形成することは困難であり、一般にスクリーン印刷により形成可能な細線は幅２００μｍ程度迄が限界とされている。つまり、従来、幅２００μｍ未満の細線からなる直線状の裏面電極を形成することは困難である。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】「Understanding the rear-side layout of p-dopede bifacial PERC solar cells with simulation driven experiment」, 7th International Conference on Silicon Photovoltaics, SiliconPV 2017, Energy procedia 124 (2017) 225-234
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】  上記のように電極形成用ペースト組成物を用いて電極を形成する場合には、例えば、ＰＥＲＣ型構造のセルであれば、シリコン基板の裏面に形成された裏面パッシベーション膜にレーザーなどで１又は２以上の開口を形成し、その開口を覆う領域にアルミニウム含有ペースト組成物を印刷、焼成することで裏面アルミニウム電極が形成される。また、開口を埋める態様で存在するペースト組成物は焼成時にシリコン基板と反応して電界層（アルミニウム−シリコン（Ａｌ−Ｓｉ））合金層、ｐ＋層等）を形成してＢＳＦ（back surface field）効果をもたらす。【０００８】  ここで、開口を覆う一部の領域のみにペースト組成物を印刷することにより線状の裏面アルミニウム電極どうしの間からも光が入射する両面受光型とすることができる。なお、裏面から入射する光の量は裏面アルミニウム電極の面積に依存するため、裏面アルミニウム電極をパッシベーション膜の開口の幅に近い大きさで形成することが求められる。【０００９】  しかしながら、ペースト組成物をスクリーン印刷する方法では、開口の幅に対して数倍の幅の裏面アルミニウム電極が形成されるため、裏面から入射する光を効率的に利用することができない。【００１０】  よって、本発明は、上記従来技術の問題を改善するために完成されたものであり、シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法であって、前記片面の場合には当該パッシベーション膜に、前記両面の場合には片方又は両方のパッシベーション膜に、開口の幅に近い大きさで一種以上の電極を形成する製造方法を提供することを目的とする。開口の幅に近い大きさで電極を形成することにより受光面積を広く確保して入射光をより有効利用し、発電特性を向上させることができる。
【課題を解決するための手段】
【００１１】  本発明者は上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の工程を有する結晶系太陽電池セルの製造方法によれば上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。【００１２】  すなわち、本発明は、下記の結晶系太陽電池セルの製造方法に関する。１．シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法であって、（１）前記片面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記両面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜の片方又は両方が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記パッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に電極形成用ペースト組成物からなる塗膜を形成する工程１、（２）前記シリコン基板及び前記塗膜を焼成処理する工程２、及び（３）前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物の一部又は全部を除去する工程３、を順に備えることを特徴とする、結晶系太陽電池セルの製造方法。２．前記開口は、１つあたり幅２０〜１００μｍの直線状である、上記項１に記載の結晶系太陽電池セルの製造方法。３．前記電極形成用ペースト組成物は、アルミニウム含有ペースト組成物であり、アルミニウム粉末１００質量部に対して、ガラス粉末を０．１〜１５質量部含有する、上記項１又は２に記載の結晶系太陽電池セルの製造方法。４．前記アルミニウム含有ペースト組成物は、１）酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムからなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物を含有するガラス粉末、２）金属酸化物、並びに、３）金属水酸化物からなる群から選択される少なくとも一種を含有する、上記項３に記載の結晶系太陽電池セルの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】  本発明の結晶系太陽電池セルの製造方法によれば、パッシベーション膜の中でも１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に塗布した電極形成用ペースト組成物の塗膜の焼成物のうち、前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物の一部又は全部を除去する工程を有することにより、開口の幅に近い大きさで一種以上の電極を形成することができる。開口の幅に近い大きさで電極を形成することにより受光面積を広く確保して入射光をより有効利用し、発電特性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】（ａ）比較例２で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のレーザー顕微鏡による上面観察像である。（ｂ）実施例１で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のレーザー顕微鏡による上面観察像である。
【図２】（ａ）比較例２で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）による断面観察像である。（ｂ）実施例１で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のＳＥＭによる断面観察像である。
【図３】裏面パッシベーション膜５に２つの開口６を有するシリコン基板１を模式的に示す図である。
【図４】裏面パッシベーション膜５の２つの開口６を覆う領域にアルミニウム含有ペースト組成物を塗布し、乾燥及び焼成を行った後の断面の模式図である。ここで、符号７はアルミニウム含有ペースト組成物の焼成物であり、符号８はＡｌ−Ｓｉ合金層であり、符号９はｐ＋層である。
【図５】図４中、開口の外側（凹部分を埋める態様ではない部分）に存在するアルミニウム含有ペースト組成物の焼成物７を除去した後の模式図である。この模式図では、Ａｌ−Ｓｉ層８が裏面アルミニウム電極として作用する。
【発明を実施するための形態】
【００１５】  以下、本発明の結晶系太陽電池セルの製造方法（「本発明の製造方法」ともいう）について詳細に説明する。
【００１６】  本発明の製造方法は、シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法であって、（１）前記片面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記両面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜の片方又は両方が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記パッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に電極形成用ペースト組成物からなる塗膜を形成する工程１、（２）前記シリコン基板及び前記塗膜を焼成処理する工程２、及び（３）前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物の一部又は全部を除去する工程３、を順に備えることを特徴とする。
【００１７】  上記本発明の製造方法によれば、パッシベーション膜の中でも１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に塗布した電極形成用ペースト組成物の塗膜の焼成物のうち、前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物の一部又は全部を除去する工程を有することにより、開口の幅に近い大きさで一種以上の電極を形成することができる。開口の幅に近い大きさで電極を形成することにより受光面積を広く確保して入射光をより有効利用し、発電特性を向上させることができる。
【００１８】  以下、本発明の製造方法を図面を参照しながら工程毎に説明する。
【００１９】  なお、本発明の結晶系太陽電池セルの製造方法は、シリコン基板の片面又は両面にパッシベーション膜を有する結晶系太陽電池セルの製造方法であって、前記片面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａであり、前記両面にパッシベーション膜を有する場合には当該パッシベーション膜の片方又は両方が１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａである。ここで、パッシベーション膜Ａではないパッシベーション膜は、開口を有していないパッシベーション膜を意味する。
【００２０】  シリコン基板の片面にパッシベーション膜Ａを有する場合には、例えば、パッシベーション膜Ａは裏面パッシベーション膜であって、開口の幅に近い大きさで裏面電極（例えば裏面アルミニウム電極）を形成する態様が挙げられる。また、シリコン基板の両面にパッシベーション膜Ａを有する場合には、例えば、裏面パッシベーション膜には開口の幅に近い大きさで裏面電極（例えば裏面アルミニウム電極）を形成するとともに、表面（おもて面；以下同様）パッシベーション膜には開口の幅に近い大きさで表面電極（例えば銀電極、銅電極又はアルミニウム電極）を形成する態様が挙げられる。
【００２１】  このように、本発明の製造方法が適用できる態様は電極の種類や電極を設ける面に応じて多岐にわたるが、シリコン基板の表面及び／又は裏面のいずれに電極を設ける場合でも、１又は２以上の開口を有するパッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に電極形成用ペースト組成物（電極の種類に応じて、アルミニウム含有ペースト組成物、銀含有ペースト組成物、銅含有ペースト組成物等）からなる塗膜を形成し（後記工程１）、更に後記する工程２，３に沿って焼成物を加工することにより開口の幅に近い大きさで一種以上の電極を形成することができる。なお、シリコン基板の両面（表面及び裏面）にパッシベーション膜Ａを有する場合には、表面パッシベーション膜Ａに対する後記工程１（更に後記工程２、３）と、裏面パッシベーション膜Ａに対する後記工程１（更に後記工程２、３）は両面同時に行ってもよく、同時ではなく表裏別々に行ってもよい。以下では、特にＰＥＲＣ型構造のセルにおいて、表裏のパッシベーション膜のうち裏面パッシベーション膜Ａの開口部分に、開口の幅に近い大きさで裏面アルミニウム電極を形成する態様（「本態様」ともいう）を例示的に示しながら本発明を説明する。
【００２２】 工程１（開口を覆う領域へのペースト組成物の塗布）  工程１は、前記パッシベーション膜Ａの前記開口を覆う領域に電極形成用ペースト組成物からなる塗膜を形成する。
【００２３】  シリコン基板としては、例えば、ｐ型シリコン基板、ｎ型シリコン基板、それらを組み合わせたシリコン基板等を用いることができる。以下では、本態様についてｐ型シリコン基板（p-type Si）１を用いた図３〜５を参照しながら説明する。
【００２４】  シリコン基板１（ｐ型シリコン基板）の厚みは限定的ではないが、１８０〜２５０μｍのものが好適である。
【００２５】  シリコン基板１の一方の面（おもて面）には、例えば、厚みが０．３〜０．６μｍのｎ型シリコン層３と、窒化シリコン膜からなる反射防止膜としての表面パッシベーション膜２と、グリッド電極としての銀（Ａｇ）電極４とを備えるものを用いることができる。
【００２６】  銀電極４を備える面とは反対側（裏面）には、例えば、酸化アルミニウム膜及び窒化シリコン膜の積層膜として裏面パッシベーション膜５を備えるものを用いることができる。
【００２７】  裏面パッシベーション膜５には１又は２以上の開口６が設けられている。すなわち、本態様では裏面パッシベーション膜５がパッシベーション膜Ａである。開口６は、シリコン基板１とコンタクトを取るための開口であり、レーザー照射、エッチング等により形成することができる。開口６の形態は限定されず、直線状、曲線状、破線状、点状等を適宜採用することができる。また、開口６を複数形成する場合にはその配列は限定されず、規則的な配列又はランダムな配列を採用することができる。
【００２８】  本発明では、開口６は１つあたり幅２０〜１００μｍの直線状であることが好ましく、電極パターンの制御の点では、開口６はシリコン基板１の平面視において縦横に規則的に形成することが好ましい。
【００２９】  ペースト組成物は、電極形成用ペースト組成物であればよいが、本態様では裏面アルミニウム電極を形成するためのアルミニウム含有ペースト組成物であり、詳細にはアルミニウム粉末を有機溶剤に分散したペーストである。
【００３０】  アルミニウム粉末の組成は特に限定されず、純度９９ｗｔ％以上の純アルミニウムを用いることができるが、適宜アルミニウム合金粉末を用いることもできる。
【００３１】  アルミニウム粉末の形態は、球状、楕円体等があるが特に限定されない。その中でも、球状のものは印刷性が良く、シリコンとの反応が良いため好ましい。アルミニウム粉末の大きさは、平均粒子径が１μｍ以上２０μｍ以下が印刷性、反応性等の観点で好ましい。より好適には１μｍ以上６μｍ以下である。
【００３２】  ペースト組成物は、アルミニウム粉末１００重量部に対して、ガラス粉末を０．１〜１５重量部含むことが好ましい。
【００３３】  ガラス粉末の組成は特に限定されないが、例えば、Ｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＢａＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｖ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＷＯ３、Ｐ２Ｏ５及びＴｅＯ２からなる群から選択される一種以上の成分を含むガラス粉末を用いることができる。これらの中でも、Ｂ２Ｏ３成分を含むガラス粉末（ビスマス系ガラス粉末）を用いる場合には、シリコンとアルミニウムの反応性向上のため好ましい。
【００３４】  本発明では、後述する工程３においてペースト組成物の焼成物の一部を除去するため、除去性を高めるためにペースト組成物に焼結を抑制するガラス粉末、酸化物、水酸化物等を含有することが好ましい。
【００３５】  上記焼結を抑制するガラス粉末は、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムのいずれか一つの酸化金属を６０重量％以上含むガラス粉末を用いることができる。上記焼結を抑制する酸化物は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム等が挙げられる。上記焼結を抑制する水酸化物は、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛等が挙げられる。
【００３６】  ペースト組成物には、一般にアルミニウム粉末の他、有機溶剤、樹脂、ガラス粉末等が含まれている。その組成は限定的ではないが、ペースト組成物１００質量％において、アルミニウム粉末が６０重量％以上９０重量％以下、有機溶剤が２重量％以上２０重量％以下、残部が２重量％以上２０重量％以下とすることができる。
【００３７】  有機溶剤としては限定的ではないが、例えば、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、テルピネオール等を用いることができる。
【００３８】  工程１では、パッシベーション膜Ａの１又は２以上の開口を覆う領域にペースト組成物からなる塗膜を形成するが、塗布方法としては限定されず、例えば、スクリーン印刷又はディスペンシングの方法を用いることができる。このとき、ペースト組成物は開口の凹部分を埋める（充填される）態様で塗布されるとともに、開口の端部から１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲でパッシベーション膜Ａを覆う領域に塗り広がる。なお、ペースト組成物の塗布膜厚（パッシベーション膜Ａ上の塗布膜厚）は１０μｍ以上４０μｍ以下が好ましい。塗布後は常温又は加温下で乾燥させる。
【００３９】 工程２（焼成処理）  工程２は、前記シリコン基板及び前記塗膜を焼成処理する。
【００４０】  焼成処理は、空気雰囲気又は窒素雰囲気下で行うことができる。焼成温度は５００℃以上１０００℃以下が好ましく、特に６５０℃以上８５０℃以下がより好ましい。焼成時間は焼成温度により調整できるが、３秒以上３００秒以下とすることができる。
【００４１】  焼成処理によって、本態様では開口の凹部分のペースト組成物に含まれるアルミニウムとシリコン基板とが接している部分ではアルミニウムとシリコンとが反応して、電界層（Ａｌ−Ｓｉ合金層８、ｐ＋層９）が形成され、開口の凹部分の外側でペースト組成物の焼成物７が形成される（図４参照）。そして、上記ｐ＋層９の存在により、電子の再結合を防止し、生成キャリアの収集効率を向上させるＢＳＦ効果が得られる。
【００４２】 工程３（焼成物の一部除去処理）  工程３は、前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物の一部又は全部を除去する。
【００４３】  工程３では、前記開口の凹部分を埋める態様で形成された焼成物（図４の合金層８及びｐ＋層９）は少なくとも残し、それ以外の態様で形成された焼成物（開口の外部に形成されたペースト組成物の焼成物：図４の焼成物７）の一部又は全部を除去する。
【００４４】  焼成物７の一部又は全部を除去する際は、酸エッチング、研磨等が利用できる。また、ペースト組成物に焼結を抑制するガラス粉末、酸化物、水酸化物等を含有する場合には、研磨等をせずとも焼成物７の一部又は全部を自然に剥離することもできる。本態様では、裏面から入射する光を最も有効利用するためには、開口の外部に形成された焼成物７の全てを除去すればよいが、少なくとも一部を除去することにより従来よりも光の利用率を高めることができるため除去の割合は適宜設定することができる。
【００４５】  本態様では、上記工程１〜３（特に工程３）を経ることにより、裏面アルミニウム電極をパッシベーション膜の開口の幅と実質的に同じか又は近い大きさで形成することができ、裏面から入射する光をより有効利用することができる。
【００４６】  また、本態様で形成された裏面アルミニウム電極上に、公知の技術で銀、銅、ニッケル等の金属メッキを形成することにより、電極面積を維持したまま電極の抵抗値を下げることもできる。
【００４７】  なお、本発明は上記本態様に限定されず、ＰＥＲＣ型、ＰＥＲＴ型、パッシベーティングコンタクト型、バックコンタクト型の各種セルにおいて、シリコン基板の表面及び／又は裏面のパッシベーション膜Ａに、開口の幅に近い大きさで一種以上の電極を形成する際に幅広く適用することができる。裏面アルミニウム電極については上記説明の通りであるが、他の種類の電極については本分野で公知の電極を、公知の電極形成用ペースト組成物を本発明の製造方法に適用して作製することができる。
【実施例】
【００４８】  以下に実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。【００４９】 実施例１  アルミニウム粉末１００質量部に対して、ビスマス系ガラス粉末を３質量部、及び有機ビヒクルを２９質量部加えて、周知の混合機にて混合しペースト組成物を作製した。【００５０】  ウェハサイズ１５６ｍｍ四方のＰＥＲＣ型太陽電池の裏面パッシベーション膜（パッシベーション膜Ａ）に４５μｍ幅の線状の膜開口を持つ太陽電池セル裏面に、ペースト組成物を開口幅６０μｍ幅のスクリーンマスクを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布し１００℃１０分にて乾燥、及び７００℃以上４秒以下で焼成を行った。焼成後に太陽電池セルを酸エッチングすることにより開口部を埋める態様以外のペースト組成物の焼成物を除去し太陽電池セルサンプルを得た。【００５１】  図１（ｂ）に実施例１で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のレーザー顕微鏡による上面観察像を示す。また、図２（ｂ）に実施例１で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のＳＥＭによる断面観察像を示す。【００５２】 実施例２  ペースト組成物を開口幅１００μｍ幅のスクリーンマスクを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布する以外は、実施例１と同様にして太陽電池セルサンプルを得た。【００５３】 実施例３  ペースト組成物を開口幅１５０μｍ幅のスクリーンマスクを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布する以外は、実施例１と同様にして太陽電池セルサンプルを得た。【００５４】 比較例１  アルミニウム粉末１００質量部に対して、ビスマス系ガラス粉末を３質量部、及び有機ビヒクルを２９質量部加えて、周知の混合機にて混合しペースト組成物を作製した。【００５５】  ウェハサイズ１５６ｍｍ四方のＰＥＲＣ型太陽電池の裏面パッシベーション膜（パッシベーション膜Ａ）に４５μｍ幅の線状の膜開口を持つ太陽電池セル裏面に、ペースト組成物を開口幅５０μｍ幅のスクリーンマスクを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布し１００℃１０分にて乾燥、及び７００℃以上４秒以下で焼成を行うことにより太陽電池セルサンプルを得た。【００５６】 比較例２  ペースト組成物を開口幅６０μｍ幅のスクリーンマスクを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布する以外は、比較例１と同様にして太陽電池セルサンプルを得た。【００５７】  図１（ａ）に比較例２で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のレーザー顕微鏡による上面観察像を示す。また、図２（ａ）に比較例２で作製した太陽電池セルサンプルにおける裏面アルミニウム電極のＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）による断面観察像を示す。【００５８】 比較例３  ペースト組成物を開口幅１００μｍ幅のスクリーンマスクを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布する以外は、比較例１と同様にして太陽電池セルサンプルを得た。【００５９】 比較例４  ペースト組成物を開口幅１５０μｍ幅のスクリーンマ��クを使用して裏面パッシベーション膜開口幅を覆う領域にスクリーン印刷により塗布する以外は、比較例１と同様にして太陽電池セルサンプルを得た。【００６０】 試験例１  得られた太陽電池セルサンプルの裏面アルミニウム電極をレーザー顕微鏡（キーエンス社製）を用いて観察し、線幅を測定した。また、ソーラーシミュレーター（株式会社ワコム電創社製）光下にて、裏面側の発電特性Ｉｓｃを測定した。【００６１】  測定した電極幅とＩｓｃ特性の結果を表１に示す。【００６２】
【表１】
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【００６３】  表１の結果から明らかな通り、本発明の方法によって製造された太陽電池セルサンプルは、電極幅が狭くなり、かつ裏面側の発電特性Ｉｓｃが向上することを確認した。【００６４】  スクリーン印刷にてペースト組成物を塗布する場合、５０μｍ幅のスクリーン版を使用した場合に印刷後の塗膜に断線が認められたため６０μｍ以上の幅のスクリーン版を使用することが好ましい。従来の方法による電極形成では６０μｍ幅のスクリーン版を使用した場合でも形成される電極は１３０μｍ程度まで広がることから、従来の方法により６０μｍ以下の電極を形成することは困難である。【００６５】  パッシベーション膜Ａの開口部を埋める態様以外のペースト組成物の焼成物を除去する工程を含むサンプル（実施例１〜３）ではスクリーン印刷の線幅によらず最終の電極幅が６０μｍ以下の結果であるため、６０μｍから数１００μｍの任意の幅のスクリーン幅を用いることができる。
【符号の説明】
【００６６】１．シリコン基板２．表面パッシベーション膜３．ｎ型シリコン層（ｎ＋エミッター層）４．銀電極５．裏面パッシベーション膜（パッシベーション膜Ａ）６．レーザー開口７．ペースト組成物の焼成物８．Ａｌ−Ｓｉ合金層９．ｐ＋層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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