(57)【要約】  優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現でき、かつ優れた防汚性を実現できる光学フィルムならびにこれを備えた偏光板および画像表示装置を提供する。本発明の一の態様によれば、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２とを備える光学フィルム１０であって、光学フィルム１０の表面１０Ａが、機能層１２の表面１２Ａであり、消しゴムを用いて荷重５００ｇで光学フィルム１０の表面１０Ａを４０００往復擦る消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）を行った後の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上５ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、ならびに径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みが１個以上５０個以下存在し、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数が、０．７０以下であり、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数に対する消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０の動摩擦係数の変化率が、３５％である、光学フィルム１０が提供される。
2019208786.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、前記樹脂基材の第１の面側に設けられた機能層とを備える光学フィルムであって、
前記光学フィルムの表面が、前記機能層の表面であり、
消しゴムを用いて荷重５００ｇで前記光学フィルムの前記表面を４０００往復擦る消しゴム試験を行った後の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、ならびに径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みが１個以上５０個以下存在し、
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数が、０．７０以下であり、
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数に対する前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数の変化率が、３５％以内である、光学フィルム。
【請求項２】
樹脂基材と、前記樹脂基材の第１の面側に設けられた機能層とを備える光学フィルムであって、
前記光学フィルムの表面が、前記機能層の表面であり、
消しゴムを用いて荷重１０００ｇで前記光学フィルムの前記表面を５０００往復擦る消しゴム試験を行ったとき、原子間力顕微鏡を用いて測定した前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域の平均算術高さと前記原子間力顕微鏡を用いて前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域の平均算術高さの差の絶対値が１０ｎｍ以下であり、
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数が、０．７０以下であり、
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数に対する前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数の変化率が、３５％以内である、光学フィルム。
【請求項３】
前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、ならびに径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みが１個以上５０個以下存在する、請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記窪みが１個以上５０個以下存在する、請求項１または３に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記窪みが存在しない、請求項１または３に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記窪みよりも内側または前記窪み内に、高さ１ｎｍ以上の突起が存在している、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面における水に対する接触角に対する前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの表面における水に対する接触角の割合である接触角維持率が８０％以上である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項８】
スチールウールを用いて１ｋｇ／ｃｍ２の荷重を加えながら前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面を５０００往復擦るスチールウール試験を行った場合に、前記表面に傷が確認されない、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記機能層が、粒子を含む第１の機能層と、前記第１の機能層における前記樹脂基材側の面とは反対側の面に設けられ、かつ粒子を含まない第２の機能層とを備えている、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記樹脂基材がトリアセチルセルロース樹脂を含み、かつ前記樹脂基材の厚みが１５μｍ以上６５μｍ以下である場合、前記樹脂基材がポリエステル系樹脂を含み、かつ前記樹脂基材の厚みが５μｍ以上４５μｍ以下である場合、前記樹脂基材がシクロオレフィンポリマー系樹脂を含み、かつ前記樹脂基材の厚みが５μｍ以上３５μｍ以下である場合、または前記樹脂基材がポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂の少なくともいずれかを含み、かつ前記樹脂基材の厚みが５μｍ以上７５μｍ以下である場合において、前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が２ｍｍとなり、かつ前記機能層が内側となるように前記光学フィルムを１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記樹脂基材がトリアセチルセルロース樹脂、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、またはポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂の少なくともいずれかを含み、かつ前記樹脂基材の厚みが３５μｍ以上１０５μｍ以下である場合において、前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３ｍｍとなり、かつ前記機能層が外側となるように前記光学フィルムを１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じず、かつ請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
請求項１または２に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの前記樹脂基材における前記第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた偏光子と、
を備える、偏光板。
【請求項１３】
表示素子と、
前記表示素子よりも観察者側に配置された請求項１または２に記載の光学フィルムまたは請求項１２に記載の偏光板と、を備え、
前記光学フィルムの前記機能層が、前記樹脂基材よりも観察者側に位置している、画像表示装置。
【請求項１４】
前記表示素子と前記光学フィルムとの間に、タッチセンサをさらに備える、請求項１３に記載の画像表示装置。
【請求項１５】
前記表示素子が、有機発光ダイオード素子である、請求項１３に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の参照】
【０００１】
本願は、先行する日本国出願である特願２０１８−８６８８６（出願日：２０１８年４月２７日）の優先権の利益を享受するものであり、その開示内容全体は引用することにより本明細書の一部とされる。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、光学フィルム、偏光板、および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、スマートフォンやタブレット端末のみならず、ノート型パーソナルコンピュータ等の画像表示装置においても、タッチ機能を有しているものがある。タッチ機能を有する画像表示装置における表面は、通常、カバーガラスから構成されているが、ガラスは、一般的に、硬度は優れるものの、膜厚が厚く、またコスト高となる。このため、カバーガラスの代わりに、樹脂基材を備える光学フィルムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。【０００４】
一方で、タッチ機能を有する画像表示装置においては、指ではなく、タッチペンによって表示面が擦られることによって操作されることもある。このため、カバーガラスの代わりに用いられる光学フィルムにおいては、耐擦傷性が要求されることは勿論のこと、タッチペン等で擦られることによって光学フィルムの表面に存在する成分が削り取られにくいような耐摩耗性やタッチペン等で擦られた後も汚れが付着しにくい防汚性も要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−１２５０６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来から、耐擦傷性を有する光学フィルムは知られているが、耐擦傷性と耐摩耗性は全く異なる性質である。一方で、たとえ、優れた耐擦傷性と優れた耐摩耗性を実現したとしても、優れた防汚性を実現するのは困難であった。したがって、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現し、かつ優れた防汚性をも実現した光学フィルムは、未だ得られていないのが現状である。【０００７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現でき、かつ優れた防汚性を実現できる光学フィルムならびにこれを備えた偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の発明を含む。
[１]樹脂基材と、前記樹脂基材の第１の面側に設けられた機能層とを備える光学フィルムであって、前記光学フィルムの表面が、前記機能層の表面であり、消しゴムを用いて荷重５００ｇで前記光学フィルムの前記表面を４０００往復擦る消しゴム試験を行った後の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、ならびに径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みが１個以上５０個以下存在し、前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数が、０．７０以下であり、消しゴム試験前の光学フィルムの表面の動摩擦係数に対する消しゴム試験後の光学フィルムの表面の動摩擦係数の変化率が、３５％以内である、光学フィルム。【０００９】
[２]樹脂基材と、前記樹脂基材の第１の面側に設けられた機能層とを備える光学フィルムであって、前記光学フィルムの表面が、前記機能層の表面であり、消しゴムを用いて荷重１０００ｇで前記光学フィルムの前記表面を５０００往復擦る消しゴム試験を行ったとき、原子間力顕微鏡を用いて測定した前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域の平均算術高さと前記原子間力顕微鏡を用いて測定した前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域の平均算術高さの差の絶対値が１０ｎｍ以下であり、前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数が、０．７０以下であり、前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数に対する前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の動摩擦係数の変化率が、３５％以内である、光学フィルム。【００１０】
[３]前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、および径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みが１個以上５０個以下存在する、上記[２]に記載の光学フィルム。【００１１】
[４]前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記窪みが１個以上５０個以下存在する、上記[１]ないし[３]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１２】
[５]前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面の５μｍ角の領域を、原子間力顕微鏡を用いて観察したとき、前記窪みが存在しない、上記[１]ないし[３]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１３】
[６]前記窪みよりも内側または前記窪み内に、高さ１ｎｍ以上の凸部が存在している、上記[１]ないし[５]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１４】
[７]前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面における水に対する接触角に対する前記消しゴム試験後の前記光学フィルムの表面における水に対する接触角の割合である接触角維持率が８０％以上である、上記[１]ないし[６]に記載の光学フィルム。【００１５】
[８]スチールウールを用いて１ｋｇ／ｃｍ２の荷重を加えながら前記消しゴム試験前の前記光学フィルムの前記表面を５０００往復擦るスチールウール試験を行った場合に、前記表面に傷が確認されない、上記[１]ないし[７]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１６】
[９]前記機能層が、粒子を含む第１の機能層と、前記第１の機能層における前記樹脂基材側の面とは反対側の面に設けられ、かつ粒子を含まない第２の機能層とを備えている、上記[１]ないし[８]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１７】
[１０]前記樹脂基材がトリアセチルセルロース樹脂を含み、かつ前記樹脂基材の厚みが１５μｍ以上６５μｍ以下である場合、前記樹脂基材がポリエステル系樹脂を含み、かつ前記樹脂基材の厚みが５μｍ以上４５μｍ以下である場合、前記樹脂基材がシクロオレフィンポリマー系樹脂を含み、かつ前記樹脂基材の厚みが５μｍ以上３５μｍ以下である場合、または前記樹脂基材がポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂の少なくともいずれかを含み、かつ前記樹脂基材の厚みが５μｍ以上７５μｍ以下である場合において、前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が２ｍｍとなり、かつ前記機能層が内側となるように前記光学フィルムを１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、上記[１]ないし[９]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１８】
[１１]前記樹脂基材がトリアセチルセルロース樹脂、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、またはポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂の少なくともいずれかを含み、かつ前記樹脂基材の厚みが３５μｍ以上１０５μｍ以下である場合において、前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３ｍｍとなり、かつ前記機能層が外側となるように前記光学フィルムを１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じず、かつ上記[１]ないし[９]のいずれか一項に記載の光学フィルム。【００１９】
[１２]上記[１]ないし[１１]のいずれか一項に記載の光学フィルムと、前記光学フィルムの前記樹脂基材における前記第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた偏光子とを備える、偏光板が提供される。【００２０】
[１３]表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された上記[１]ないし[１１]のいずれか一項に記載の光学フィルムまたは上記[１２]に記載の偏光板と、を備え、前記光学フィルムの前記機能層が、前記樹脂基材よりも観察者側に位置している、画像表示装置。【００２１】
[１４]前記表示素子と前記光学フィルムとの間に、タッチセンサをさらに備える、上記[１３]に記載の画像表示装置。【００２２】
[１５]前記表示素子が、有機発光ダイオード素子である、上記[１３]または[１４]に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現でき、かつ優れた防汚性を実現できる光学フィルム、およびこの光学フィルムを備えた偏光板および画像表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【図２】図２は、図１の光学フィルムの一部を拡大した平面図である。
【図３】図３は、図１の機能層の一部を拡大した断面図である。
【図４】図４は、窪みの個数をカウントする際および窪みの直径を求める際の様子を模式的に示した図である。
【図５】図５は、消しゴム試験に用いるサンプルの図である。
【図６】図６は、算術平均高さ（Ｓａ）のイメージ図である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。
【図８】図８は、折り畳み試験後のサンプルの平面図である。
【図９】図９は、実施形態に係る偏光板の概略構成図である。
【図１０】図１０は、実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【図１１】図１１（Ａ）および図１１（Ｂ）は、実施例１に係る消しゴム試験前の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真である。
【図１２】図１２（Ａ）および図１２（Ｂ）は、実施例１に係る消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真である。
【図１３】図１３（Ａ）は、実施例６に係る消しゴム試験前の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真であり、図１３（Ｂ）は、実施例６に係る消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は、本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２は、図１の光学フィルムの一部を拡大した平面図であり、図３は、図１の機能層の一部を拡大した断面図であり、図４は、窪みの個数をカウントする際および窪みの直径を求める際の様子を模式的に示した図である。図５は、消しゴム試験に用いるサンプルの図であり、図６は、算術平均高さ（Ｓａ）のイメージ図であり、図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図８は、折り畳み試験後のサンプルの平面図である。
【００２６】
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、光透過性を有するものであり、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面である第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２とを備えている。本明細書における「機能層」とは、光学フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層である。具体的には、機能層としては、例えば、ハードコート機能、防汚機能、および／または滑り機能を発揮するための層が挙げられる。機能層は、単層構造のみならず、２層以上の多層構造であってもよい。図１に示される機能層１２は、第１の機能層１３および第２の機能層１４からなる多層構造となっている。光学フィルム１０の表面１０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっている。
【００２７】
光学フィルム１０においては、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（例えば、製品名「ＷＥＴ−９１００」、株式会社島津製作所製）を用いて、消しゴムを用いて荷重５００ｇで光学フィルムの表面を４０００往復擦る消しゴム試験（以下、この試験を消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）と称する。）を行った後の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角（５μｍ×５μｍ）の領域を観察したとき、図２および図３に示されるように、前記領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、ならびに径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪み１０Ｂが１個以上５０個以下存在している。このような環状、円状および不定形状の少なくともいずれかの窪み１０Ｂが１個以上存在すれば、耐擦傷性および耐摩耗性を満たす性能を発揮し、かつ光学フィルム１０の表面１０Ａからの防汚剤の脱落を防ぐことが可能となり、また窪み１０Ｂが５０個以下であるということは、表面１０Ａ全体が同じ膜質ではなく、硬さを発揮する部分と滑らせる部分との機能を分離した面となり、良好な物性を得ることができる。また、上記において、窪み１０Ｂの外径、直径、および径を０．１μｍ以上２．５μｍ以下としているが、外径等が０．１μｍ未満であると、耐摩耗性が低下してしまうおそれがあり、２．５μｍを超えると、耐擦傷性が低下してしまうおそれがある。このような窪み１０Ｂは、例えば、理由は定かではないが、機能層１２に後述する滑剤および防汚剤の両方を含有させること、あるいは滑剤を含まない場合であっても、単一種類ではなく、複数種類の防汚剤を混在させること、または複数種類の元素を含む防汚剤を含ませること等によって形成することができる。また、観察する領域を５μｍ角としたのは、マクロ観察をしたときに鏡面を有する平坦な表面であっても、防眩性を有する凹凸状の表面であっても、層の本質を観察するために平坦な部分を観察することができ、そしてその表面状態が必要な物性を得るための機能を備えているか否か確認するために好ましい拡大率となるからである。５μｍ角より大きい領域では、上記形状が小さい場合には存在を観察しにくく、本質を捉えるには拡大率が不足となる。また、５μｍ角より小さい領域では、上記本発明に必要な機能を発揮するための形状を観察するために十分な分解能とは言えないからである。また、消しゴム試験を荷重５００ｇで１０００往復や１５００往復程度の条件で行う場合、機能層に防汚剤が含まれていれば、耐擦傷性および耐摩耗性は良好となる場合もあるが、実用化するために欠かすことのできない防汚性を同時に得られない場合がある。また、条件がより厳しい消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）、さらに厳しい後述する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）では、消しゴムによって機能層の成分が大幅に削り取られてしまい、耐擦傷性および耐摩耗性は悪化してしまう。これに対し、機能層１２は、例えば防汚剤の他に滑剤を含み、または複数種類の防汚剤を含ませるので、摩耗された後に、上記した硬度を保持する部分と、滑らせる部分の機能を分離し��いると考えられる窪みを、１個から５０個表面に海島状に存在させられる。窪み部分をマクロ観察すると、機能層表面上に万遍なく存在すると考えられるため、厳しい消しゴム試験、すなわち実用時に摩耗されても、その後、この構造が存在し続けているために動摩擦係数を適切な状態にでき、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を得ることができると考えられ、また同時に優れた防汚性も保持できると考えられる。
【００２８】
窪み１０Ｂは、消しゴム試験（４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角（５μｍ×５μｍ）の領域に、３個以上または５個以上観察されることが好ましい。
【００２９】
窪み１０Ｂが環状の窪み１０Ｂ１を含む場合、窪み１０Ｂ１の外径の下限は、０．２μｍ以上、０．４μｍ以上、０．６μｍ以上、０．８μｍ以上、または１．０μｍ以上であることが好ましく、また外径の上限は、２．４μｍ以下、２．２μｍ以下、または２．０μｍ以下であることが好ましい。また、窪み１０Ｂ１の内径や幅は、特に限定されない。例えば、窪み１０Ｂ１の幅は、１．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であることが好ましい。窪み１０Ｂ１の幅が１．０ｎｍ以上であれば、防汚剤の脱落を防ぐことができ、また５．０ｎｍ以下であれば、耐擦傷性が良好である。上記「窪みの幅」とは、窪みの外縁と内縁の間の距離を意味するものとする。
【００３０】
窪み１０Ｂが円状の窪み１０Ｂ２を含む場合、窪み１０Ｂ２の直径の下限は、０．２μｍ以上、０．４μｍ以上、０．６μｍ以上、０．８μｍ以上、または１．０μｍ以上であることが好ましく、また直径の上限は、２．４μｍ以下、２．２μｍ以下、または２．０μｍ以下であることが好ましい。
【００３１】
窪み１０Ｂが不定形状の窪み１０Ｂ３を含む場合、窪み１０Ｂ３の径の下限は、０．２μｍ以上、０．４μｍ以上、０．６μｍ以上、０．８μｍ以上、または１．０μｍ以上であることが好ましく、また径の上限は、２．４μｍ以下、２．２μｍ以下、または２．０μｍ以下であることが好ましい。
【００３２】
上記において、消しゴムを用いて試験するとしたのは、消しゴムでの擦りがタッチペンでの擦りに近く、消しゴム試験によりタッチペンに対する耐摩耗性を評価できるからである。なお、光学フィルムの耐擦傷性は、従来から、光学フィルムの表面をスチールウールで擦るスチールウール試験によって評価されているが、スチールウールは細い金属線であり、タッチペンとは著しく異なるために、タッチペンに対する耐摩耗性は、スチールウール試験によっては評価できない。
【００３３】
上記消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）は、以下のようにして行うものとする。まず、消しゴム試験に用いる消しゴムを用意する。消しゴムとしては、直径が６．０ｍｍであり、長さが１６０ｍｍ以下であり、デュロメータ硬さ（タイプＡデュロメータ、タイプＡ（円柱状圧子）、ＪＩＳ  Ｋ６２５３：１９９７／ＩＳＯ７６１９（Ｒｕｂｂｅｒ））が６０以上９０以下であり、材質がゴムであるものを用いるものとする。このような消しゴムとしては、三菱鉛筆株式会社製の消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」）やＭｉｎｏａｎ Ｉｎｃ.社製のＲＵＢＢＥＲ ＳＴＩＣＫが挙げられる。消しゴムは、消しゴム単体であってもよいが、消しゴム付き鉛筆であってもよい。消しゴムの長さは、治具に取り付けることが可能な長さであればよい。消しゴムの引張強度は１１ｋｇｆ／ｃｍ２以上１３ｋｇｆ／ｃｍ２以下であってもよい。本実施形態においては、消しゴムとして消しゴム付き鉛筆を用いて消しゴム試験を行うものとする。消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」、三菱鉛筆株式会社製）を用意した後、消しゴムの先端から５０ｍｍの位置で該鉛筆を切断する。そして、切断した消しゴム付き鉛筆を消しゴム側とは反対側から直径６ｍｍの穴を有する治具に消しゴムの先端が完全に露出するように挿入して、取り付ける。ここで、消しゴムの先端は、治具から出しすぎないように注意する。具体的には、消しゴムの先端が治具から１．５ｍｍ程度露出するように消しゴム付き鉛筆を治具に取り付ける。この消しゴム付き鉛筆を有する治具を学振型摩耗堅牢度試験機（例えば、製品名「ＡＢ−３０１」、テスター産業株式会社製）に取り付ける。治具は、消しゴム付き鉛筆がテスト対象面（光学フィルムの表面）に対して垂直となるように上記試験機に取り付けるものとする。一方で、消しゴム試験前の光学フィルム１０を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出し、図５に示されるようにサンプルＳ１を得る。そして、このサンプルＳ１の裏面（樹脂基材側）に、擦り領域の中心が容易に分かるように油性ペンにより２０ｍｍ×４０ｍｍの枠状の目印Ｍ１を描く。なお、目印Ｍ１は、長手方向がサンプルＳ１の長手方向Ｄ２と平行になるように描かれる。そして、このサンプルＳ１を学振型摩耗堅牢度試験機の試験片台に、皺がなく、かつ試験片台の表面に沿うように固定する。なお、サンプルＳ１は、試験片台の移動方向がサンプルＳ１の長手方向Ｄ２となり、また擦り領域の中心が目印Ｍ１内の中央となるように設置される。そして、この状態で、荷重５００ｇおよび擦り速度３０ｍｍ／秒で消しゴムにより光学フィルム１０の表面１０Ａを４０００往復擦る。
【００３４】
サンプルＳ１の窪み１０Ｂの確認は、原子間力顕微鏡の観察によって行う。窪み１０Ｂの観察は、以下のように行う。具体的には、まず、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後のサンプルＳ１の目印Ｍ１内の領域中央において、少なくとも目視で異常のない箇所（大きい異物や擦りキズ等がない箇所）を３箇所選び出し、５ｍｍ角にカットして、３つの測定サンプルを得る。一方で、直径１５ｍｍおよび厚み１ｍｍの平坦な円形の金属板を複数用意し、それぞれの金属板に、日新ＥＭ株式会社製のカーボン両面テープを貼り付ける。そのテープ上に１つの測定サンプルを、測定サンプルの表面（光学フィルムの表面）が上側となるように貼り付ける。そして、テープと測定サンプルの接着を確実なものとするために、サンプル付き金属板をデシケーターの中で一晩放置する。一晩放置後、測定サンプル付き金属板を原子間力顕微鏡（製品名「ＷＥＴ−９４００」、株式会社島津製作所製）の測定台の上に磁石で固定し、タッピングモードにて、測定エリア５μｍ角で、原子間力顕微鏡により表面形状を観察する。窪みの観察においては、以下の点に注意する。まず、観察画像が鮮明に観察されない場合には、可能な限り、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の画像調整でコントラストを上げて、観察する。また、原子間力顕微鏡の観察画像においては、色の濃淡で高さを表現している。すなわち、色が濃い方が、高さが低い領域を表し、色が薄い方が、高さが高い領域を表している。したがって、窪み観察においては、色が濃い領域（例えば、着色する色として茶色を選択した場合、濃い茶色の領域）を観察対象とする。また、観察画像の右下のスケールバーもその法則に則っており、ヒストグラムはスケールバーの領域と連動し、各高さの分布を表している。なお、このヒストグラムは、原子間力顕微鏡で光学フィルムの表面形状を読み取ることによって自動的に表示される。
【００３５】
窪み１０Ｂの数は、１つの測定サンプルに対して、ランダムに５箇所を選び、３測定サンプル×５箇所（計１５点）について、５μｍ角の領域に存在する窪み１０Ｂの個数をそれぞれカウントし、得られた１５点の窪み１０Ｂの個数の算術平均値を求めることによって算出するものとする。ここで、環状の窪み１０Ｂ１の全てではなく一部が上記領域内に存在する場合には、上記領域を観察して、図４に示される点線のように、上記領域内に存在している窪み１０Ｂ１の外縁を外挿して円とし、上記領域内に存在する窪み１０Ｂ１の外縁の内側の面積が外挿された円の半分の面積以上である場合には、窪み１０Ｂ１の一部であっても、窪み１０Ｂ１としてカウントし、上記領域内に存在する窪み１０Ｂ１の一部の面積が外挿された円の半分の面積未満である場合には、窪み１０Ｂ１としてカウントしないものとする。また、円状の窪み１０Ｂ２の全てではなく一部が上記領域内に存在する場合にも、環状の窪み１０Ｂ１と同様に処理するものとする。
【００３６】
上記窪み１０Ｂが環状の窪み１０Ｂ１を含む場合には、窪み１０Ｂ１の外径は、以下のようにして求めるものとする。まず、測定サンプルＳ１の表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡で観察して、１個の窪み１０Ｂ１において、図２に示されるように、窪み１０Ｂ１の外縁に存在する任意の点Ａから窪み１０Ｂ１の外縁に存在する他の任意の点Ｂまでの長さが最も長くなるような線を引き、点Ａから点Ｂまでの線の長さ（外径）を求める。そして、この測定を３箇所で行い、３箇所で測定された長さの算術平均値を求めることによって窪み１０Ｂ１の外径を算出するものとする。上記窪み１０Ｂが円状の窪み１０Ｂ２を含む場合にも、環状の窪み１０Ｂ２と同様にして、直径を算出する。
【００３７】
窪み１０Ｂが不定形状の窪み１０Ｂ３を含む場合には、窪み１０Ｂ３の径は、以下のようにして求めるものとする。まず、測定サンプルＳ１の表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡で観察して、１個の窪み１０Ｂ３において、図２に示されるように、窪み１０Ｂ３の中央部と考えられる部分を通る直線Ｌ１を引く。そして、この直線Ｌ１と窪み１０Ｂの外縁とが交わる点Ｃ１、点Ｄ１を求める。そして、点Ｃ１と点Ｄ１間の距離ＤＳ１を測定するとともに距離ＤＳ１の中点Ｍを求める。また、中点Ｍを通り、直線Ｌ１に対し６０°となる直線Ｌ２を引き、この直線Ｌ２と窪み１０Ｂの外縁とが交わる点Ｃ２、点Ｄ２を求めて、点Ｃ２と点Ｄ２間の距離ＤＳ２を測定する。さらに、中点Ｍを通り、直線Ｌ１に対し１２０°となり、かつ直線Ｌ２と重ならない直線Ｌ３引き、この直線Ｌ３と窪み１０Ｂの外縁とが交わる点Ｃ３、点Ｄ３を求めて、点Ｃ３と点Ｄ３間の距離ＤＳ３を測定する。そして、距離ＤＳ１〜ＤＳ３の平均値を求め、これを径とする。
【００３８】
上記「窪みの深さ」とは、基準位置から窪みの深さ方向Ｄ１（図３参照）に最も深い位置までの距離を意味する。上記窪みの深さは、以下のようにして求めるものとする。まず、光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡で観察して、１個の窪みにおいて、図２に示されるように、任意の点Ｅから点Ｆまでの線に沿って点Ｅから点Ｆまでの深さを測定する。そして、点Ｅから点Ｆまでの深さのうち最も深い深さを求める。なお、深さの基準位置は、原子間力顕微鏡で光学フィルムの表面形状を読み取ることによって自動的に決定される。そして、この測定を３箇所で行い、３箇所で測定された３つの深さの算術平均値を求めることによって窪みの深さを算出するものとする。なお、窪み１０Ｂ内においては、アスペクト比が５以上の局所的に深い孔が存在する場合もあり、その孔が窪み１０Ｂの深さの測定の際に考慮されると、窪み１０Ｂの深さの値が正確に求められないので、点Ｅから点Ｆの間にこのような局所的に深い孔が存在しないように点Ｅおよび点Ｆを決定する。窪み１０Ｂの深さの下限は、３ｎｍ以上、５ｎｍ以上、または１０ｎｍ以上であってもよく、また上限は、機能を発揮するが、耐久性試験時にマイクロクラックの起点にならず、また、目視でマクロ観察した場合に欠陥として見えない状態が好ましい点から、１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３９】
消しゴム試験前の光学フィルム１０においては、光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角（５μｍ×５μｍ）の領域を観察したとき、上記領域内に窪み１０Ｂが１個以上５０個以下存在していてもよいが、窪み１０Ｂが存在していなくともよい。すなわち、消しゴム試験前の光学フィルム１０においては、窪み１０Ｂは、機能層１２を構成する成分や機能層１２を構成する際の機能層用組成物の乾燥条件等によって、現れたり、現れなかったりする。ただし、消しゴム試験前の光学フィルム１０において、窪み１０Ｂが存在していない場合であっても、窪み１０Ｂが潜在的には存在しているので、窪み１０Ｂ内や窪み１０Ｂ上に何等かの成分が消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）や消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）でその成分が脱落することによって、消しゴム試験後に窪み１０Ｂが現れると考えられる。消しゴム試験前の光学フィルム１０においては、光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域を観察したとき、上記領域内に窪み１０Ｂが３個以上または５個以上存在していてもよい。本明細書における「消しゴム試験前の光学フィルム」とは、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）や後述する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）のような消しゴム試験を行っていない状態の光学フィルムを意味するものとする。消しゴム試験前の光学フィルム１０における窪み１０Ｂは、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０における窪み１０Ｂと同様の方法によって確認するものとする。
【００４０】
また、光学フィルム１０においては、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（例えば、製品名「ＷＥＴ−９１００」、株式会社島津製作所製）を用いて、消しゴムを用いて荷重１０００ｇで光学フィルム１０の表面１０Ａを５０００往復擦る消しゴム試験（以下、この試験を消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）と称する。）を行った後の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角（５μｍ×５μｍ）の領域を観察したとき、前記領域内に外径０．５μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．５μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、または径０．５μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の窪み１０Ｂが１個以上５０個存在していることが好ましい。耐擦傷性および耐摩耗性を評価するには、通常、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）で行う評価で充分であるが、現在、力強くタッチペンを押し付けるとともに擦る回数が多い人を想定して、さらに厳しい条件での評価が求められている。このため、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）で行うものとしている。消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０における窪み１０Ｂは、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０における窪み１０Ｂと同様の方法によって確認するものとする。
【００４１】
窪み１０Ｂよりも内側または窪み１０Ｂ内には、高さ１ｎｍ以上の突起１０Ｃが存在していることが好ましい。このような突起１０Ｃが窪み１０Ｂよりも内側または窪み１０Ｂ内に存在することによって、次に説明する接触角維持率をより向上させることができる。突起１０Ｃは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（例えば、製品名「ＷＥＴ−９１００」、株式会社島津製作所製）を用いた観察によって確認できる。また、突起１０Ｃの高さは、観察によって確認された突起１０Ｃのうち最も高い突起１０Ｃの高さを測定して算出するものとする。具体的には、突起１０Ｃの高さは、以下のようにして求めるものとする。まず、光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡で観察して、１個の突起１０Ｃにおいて、図４に示されるように、上記で引いた点Ｅから点Ｆまでの線に沿って点Ｅから点Ｆまでの高さを測定する。そして、点Ｅから点Ｆまでの高さのうち最も高い高さを求める。なお、高さの基準位置は、原子間力顕微鏡で光学フィルムの表面形状を読み取ることによって自動的に決定される。
【００４２】
原子間力顕微鏡（例えば、製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）を用いて消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域の平均算術高さ（Ｓａ）と消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域の平均算術高さ（Ｓａ）の差の絶対値は、１０ｎｍ以下であることが好ましい。１０ｎｍ以下であれば、滑りを付与できる部位と硬度を付与できる部位とがバランスよく機能できる程度に残存し、良好な物性を維持できると考えられる。消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後の算術平均高さ（Ｓａ）の差の絶対値を用いたのは、荷重１０００ｇで消しゴム試験を行うと、厳しい試験であるために、消しゴム試験後の光学フィルムの表面が荒れてしまい、荷重５００ｇの消しゴム試験とは異なり、窪み自体が歪んでしまうことが多く、窪み自身の特徴の判断が難しかったからである。この差の絶対値の下限は、０．００５ｎｍ以上であることが好ましく、０．００１ｎｍ以上であることがより好ましい。耐摩耗性や耐擦傷性を考えるとＳａは変化がないほうが良いと思われるが、全く変化のない膜質であると、外からの様々な衝撃を吸収しにくく、マイクロクラックが入りやすい場合があり、良好な折り畳み性を得ることが難しいことがある。このため、Ｓａの上限は、７ｎｍ以下、５ｎｍ以下、または３ｎｍ以下であることがより好ましい。Ｓａの定義はＩＳＯ２５１７８に従うものとする。Ｓａとは、二次元の算術平均粗さＲａを三次元に拡張したパラメーターであり（図６参照）、測定対象領域（Ａ）における高さＺ（ｘ，ｙ）の絶対値の平均を表し、三次元表示では谷部が絶対値化により山部に変化した状態で測定対象領域の算術平均を表したことに相当する。なお、上記二次元とは、平面ではない。例えば、平面をｘｙ、高さをｚで表した場合、二次元とは、線と高さ、すなわちｘとｚまたはｙとｚで表され、三次元とは、面と高さ、すなわちｘｙとｚで表される。具体的には、Ｓａは、測定対象領域の面積をＡとすると、下記数式（１）で求められる。
【数１】
2019208786.tif 000003
【００４３】
算術平均高さ（Ｓａ）は、原子間力顕微鏡（例えば、製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）を用いて、以下のように算出するものとする。具体的には、まず、消しゴム試験前の光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出し、サンプルＳ１と同様のサンプルを得る。そして、このサンプルから少なくとも目視で異常のない箇所（大きい異物や擦りキズ等がない箇所）をランダムに３箇所選び出し、５ｍｍ角にカットして、３つの測定サンプルを得る。一方で、直径１５ｍｍおよび厚み１ｍｍの平坦な円形の金属板を複数用意し、それぞれの金属板に、日新ＥＭ株式会社製のカーボン両面テープを貼り付ける。そのテープ上に１つの測定サンプルを、測定サンプルの表面（光学フィルムの表面）が上側となるように貼り付ける。そして、テープと測定サンプルの接着を確実なものとするために、サンプル付き金属板をデシケーターの中で一晩放置する。一晩放置後、測定サンプル付き金属板を原子間力顕微鏡（製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）の測定台の上に置き、タッピングモードにて、測定エリア５μｍ角で、原子間力顕微鏡により表面形状を観察する。そして、観察したデータから原子間力顕微鏡に内蔵されている面解析ソフトを用いて、Ｓａを算出する。なお、面解析時における縦のスケールは２０ｎｍとする。観察は室温で行い、カンチレバーとしてはオリンパス株式会社製のＳＩ−ＤＦ４０Ｐ２を使用する。また、観察に際しては、１つの測定サンプルに対して、ランダムに５箇所を選び、３測定サンプル×５箇所（計１５点）について、それぞれ表面形状を観察する。そして、得られた１５点のデータ全てにおいて、原子間力顕微鏡に内蔵の面解析ソフトを用いてＳａを算出し、１５点の算術平均値を測定サンプルのＳａとする。消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムにおいても、消しゴム試験前の光学フィルムと同様の方法によって、算術平均高さ（Ｓａ）を測定する。
【００４４】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける５μｍ角の領域の算術平均高さ（Ｓａ）は、１０ｎｍ以下となっていてもよい。このＳａの上限は、７ｎｍ以下、４ｎｍ以下、１ｎｍ以下、または０．８ｎｍ以下となっていてもよい。Ｓａの上限であることで、上記した窪みが存在しても、または消しゴム試験後に窪みが発現した場合であっても、高い透明性、低ヘイズ性が得られる。また、消しゴム試験後に、好ましい膜質を得られるような窪みが得られるのは、この上限が効いていると考えられる。これを超えた場合、膜質制御が難しくなり、好ましい物性が得られない場合がある。またこのＳａの下限は、ロールや枚葉で光学フィルムを製造するときに光学フィルムを重ねる可能性が高く、その際のフィルム同士の貼り付きを防止する観点から、０．０１ｎｍ以上または０．０５ｎｍ以上となっていてもよい。
【００４５】
消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける５μｍ角の領域の算術平均高さ（Ｓａ）は、７±０．００５ｎｍ以下となっていてもよい。これは、上記したように、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後でＳａ値が全く変化しないよりは若干変化したほうがよいからである。変化量は、増えても、減ってもよい。このＳａの上限は、６ｎｍ以下、５ｎｍ以下、または３ｎｍ以下となっていてもよい。またこのＳａの下限は、ロールや枚葉で光学フィルムを製造するときに光学フィルムを重ねる可能性が高く、その際のフィルム同士の貼り付きを防止する観点と、好ましい上記窪み形状が存在する表面１０Ａを得る観点から、０．０１ｎｍ以上または０．０５ｎｍ以上となっていてもよい。
【００４６】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）は、０．７０以下となっている。動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）が０．７０以下であれば、初期において良好な滑り性を得ることができるので、良好な耐擦傷性および耐摩耗性を得ることができる。ロールで製造する場合、極端に動摩擦係数が低すぎると滑りすぎるために巻取り時に巻きずれを生じる場合があるので、上記動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）の下限は、０．２０以上が好ましく、０．２５以上であることがより好ましい。上記動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）の上限は、０．６５以下または０．６０以下であることが好ましい。このような動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）は、例えば、機能層１２に滑剤および防汚剤を含ませること、あるいは滑剤を含まない場合であっても、単一種類ではなく、複数種類の防汚剤を混在させること、または複数種類の元素を含む防汚剤を含ませること等により得ることができる。一方で、例えば、機能層に防汚剤を含ませずに滑剤を含ませた場合や機能層に滑剤を含ませずに防汚剤を含ませた場合、１種類の防汚剤を含ませた場合など、ある１種類の材料のみを含ませた場合には、動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）はあまり低下せず、このような動摩擦係数を得ることはできない。本発明の光学フィルムは、消しゴム試験後に窪み形状が現れ、また、窪みのない部分も存在する。このように、ある不均一さを持つ表面であると動摩擦係数（荷重５００ｇや荷重１０００ｇ）が下げやすく、耐擦傷性および耐摩耗性に有効と考えられる。
【００４７】
上記動摩擦係数は、動摩擦摩耗測定機（例えば、製品名「ハンディートライボマスターＴｙｐｅ：ＴＬ２０１Ｔｓ」、株式会社トリニティラボ製）を用いて、以下のようにして、測定することができる。この測定機は、消しゴム試験を疑似的に行うとともに動摩擦係数をリアルタイムに測定することができる。したがって、動摩擦係数を測定する際の消しゴム試験は、学振型摩耗堅牢度試験機を用いて行うものではない。消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数は、後述する消しゴム疑似試験を行ったときの１往復目における動摩擦係数とし、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、消しゴム疑似試験の４０００往復目における動摩擦係数とし、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、消しゴム疑似試験の５０００往復目における動摩擦係数とする。
【００４８】
具体的には、まず、消しゴムを用意する。動摩擦係数を測定する際の消しゴムとしては、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）に用いられる消しゴムと同様のものを用いる。本実施形態においては、消しゴムとして消しゴム付き鉛筆を用いて消しゴム試験を行うものとする。消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」、三菱鉛筆株式会社製）を用意した後、消しゴムの先端から５０ｍｍの位置で該鉛筆を切断する。そして、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）と同様に、切断した消しゴム付き鉛筆を消しゴム側とは反対側から直径６ｍｍの穴を有する治具に取り付ける。その後、この消しゴム付き鉛筆を有する治具を動摩擦摩耗測定機の測定ユニットの軸に両面テープで固定する。この状態で、動摩擦摩耗測定機に電気的に接続されたパーソナルコンピューター（ＰＣ）の画面上で専用ソフト（トライボ解析ソフト）を立ち上げる。一方で、消しゴム試験前の光学フィルム１０を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、６つのサンプルＳ１を得る。６つのサンプルＳ１のうち、３つのサンプルＳ１は、消しゴム試験前の動摩擦係数（荷重５００ｇ）および消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の動摩擦係数（荷重５００ｇ）を測定するためのものであり、残り３つのサンプルＳ１は、消しゴム試験前の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）および消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）を測定するためのものである。そして、これらのサンプルＳ１の裏面（樹脂基材側）に、図５に示されるように、それぞれ擦り領域の中心が容易に分かるように油性ペンにより２０ｍｍ×４０ｍｍの枠状の目印Ｍ１を描く。なお、目印Ｍ１は、長手方向がサンプルＳ１の長手方向Ｄ２と平行になるように描かれる。その後、動摩擦摩耗測定機の駆動ユニット上に、動摩擦係数を測定する面を上側にして、皺がなく、かつ駆動ユニットの表面に沿うようにサンプルＳ１の四辺をセロテープ（登録商標）で固定する。なお、サンプルＳ１は、駆動ユニットの移動方向がサンプルＳ１の長手方向Ｄ２となり、また擦り領域の中心が目印Ｍ１内の中央となるように設置される。また、この冶具の上面に５００ｇの重りを両面テープで固定して、サンプルＳ１に測定ユニットの消しゴムをサンプルの表面に垂直に接触させる。そして、擦り長さ（片道）を２０ｍｍ、擦り速度を４０往復／分、往復回数を４０００回、測定モードを連続測定に設定して、ＰＣの画面上のスタートスイッチを押して、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、サンプルＳ１の動摩擦係数の測定を開始する。これにより、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）を疑似的に再現する消しゴム疑似試験（５００ｇ×４０００往復）が行われる。消しゴム疑似試験中、摩擦力を連続的に測定し、時間を横軸に、その時の摩擦力が縦軸となるグラフを得る。各往復回数時点における動摩擦係数は、その往復回数に至る時間における摩擦力を垂直抗力で割ることで算出する。垂直抗力とは、消しゴムに加わっている荷重のことである。消しゴム試験前および消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、３つのサンプルＳ１���ついて動摩擦係数（荷重５００ｇ）を測定し、３つのサンプルで得られた値の算術平均値とする。また、残り３つのサンプルを用いて、同様に消しゴム試験前および消しゴム疑似試験（１０００ｇ×５０００往復）を行うとともに動摩擦係数を測定する。なお、この場合には、重りを５００ｇから１０００ｇに代えるとともに往復回数を５０００回に設定する。消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、残り３つのサンプルＳ１について動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の測定を行い、３つのサンプルで得られた値の算術平均値とする。なお、測定１回毎に、治具から露出させる消しゴムの距離を１．５ｍｍ程度（例えば、１ｍｍ〜２ｍｍ）に修正する。
【００４９】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）に対する消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）の変化率は、３５％以内となっている。この変化率が３５％以内であれば、消しゴムで４０００往復擦ったとしても、滑り性が維持できるので、優れた耐擦傷性および耐摩耗性を得ることができ、また画像表示装置の表面に用いる場合に重要な防汚性も維持できる。ここで、静摩擦係数ではなく、動摩擦係数を確認しているのは、消しゴム試験時に光学フィルム１０の表面１０Ａに与えられている状態を評価できると考えられるからである。この変化率は、２０％以内であることがより好ましく、１５％以内であることが最も好ましい。さらに、消しゴムを用いて荷重５００ｇで光学フィルムの表面を１０００往復、２０００往復、３０００往復、４０００往復、または５０００往復擦る消しゴム疑似試験においても、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）に対する各消しゴム疑似試験後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）の変化率は、３５％以内となっていることが好ましい。
【００５０】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）に対する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の変化率は、３５％以内となっている。この変化率が３５％以内であれば、消しゴムで５０００往復擦ったとしても、滑り性が維持できるので、優れた耐擦傷性および耐摩耗性を得ることができ、また画像表示装置の表面に用いる場合に重要な防汚性も維持できる。この変化率は、２０％以内であることがより好ましく、１５％以内であることが最も好ましい。さらに、消しゴムを用いて荷重１０００ｇで光学フィルムの表面を１０００往復目、２０００往復目、３０００往復目、４０００往復目、または５０００往復擦る消しゴム疑似試験においても、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）に対する各消しゴム試験後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の変化率は、３５％以内となっていることが好ましい。
【００５１】
上記変化率は、変化率をＡとし、消しゴム試験前の光学フィルムの表面の動摩擦係数をＢとし、消しゴム試験後の光学フィルムの表面の動摩擦係数をＣとしたとき、以下の数式（２）によって求められる。なお、変化率Ａは絶対値とする。
Ａ＝｜{（Ｃ−Ｂ）／Ｂ}×１００｜    …（２）
【００５２】
消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）よりも低くなっていてもよい。光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）がこのような関係を満たすことにより、消しゴム試験前よりも消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の方が光学フィルム１０の表面１０Ａが滑るので、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０において、より優れた耐擦傷性およびより優れた耐摩耗性を得ることができる。また、消しゴム試験前の動摩擦係数（荷重５００ｇ）と、１０００往復後の動摩擦係数（荷重５００ｇ）を比較した場合、その絶対値としての差が小さい方が好ましい。この差が小さいということは、初期から摩耗性に優れるということを意味する。そのような機能層１２は、消しゴム試験前から、特に滑りやすさと硬度などの機能がうまく分離できた膜質であると考えられる。消しゴム試験後（５００ｇ×４０００往復）の上記動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、０．７０以下、０．６５以下、または０．６０以下であることが好ましい。ロールで製造する場合、極端に動摩擦係数が低すぎると滑りすぎるために巻取り時に巻きずれを生じる場合があるので、消しゴム試験後（５００ｇ×４０００往復）の上記動摩擦係数（荷重５００ｇ）の下限は、０．２以上であることが好ましく、０．２５以上であることがより好ましい。このような動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、例えば、機能層１２に滑剤および防汚剤を含ませること、あるいは滑剤を含まない場合であっても、単一種類ではなく、複数種類の防汚剤を混在させること、または複数種類の元素を含む防汚剤を含ませること等により得ることができる。
【００５３】
消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）よりも低くなっていてもよい。光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数がこのような関係を満たすことにより、消しゴム試験前よりも消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の方が光学フィルム１０の表面１０Ａが滑るので、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０において、より優れた耐擦傷性およびより優れた耐摩耗性を得ることができる。また、消しゴム試験前の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）と、１０００往復後の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）を比較した場合、その絶対値としての差が小さい方が好ましい。この差が小さいということは、初期から摩耗性に優れるということを意味する。そのような機能層１２は、消しゴム試験前から、特に滑りやすさと硬度などの機能がうまく分離できた膜質であると考えられる。消しゴム試験後（１０００ｇ×５０００往復）の上記動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、０．６５以下、０．６０以下、または０．５５以下であることが好ましい。ロールで製造する場合、極端に動摩擦係数が低すぎると滑りすぎるために巻取り時に巻きずれを生じる場合があるので、消しゴム試験後（１０００ｇ×５０００往復）の上記動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の下限は、０．２０以上であることが好ましく、０．２５以上であることがより好ましい。このような動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、機能層１２に滑剤および防汚剤を含ませること、あるいは滑剤を含まない場合であっても、単一種類ではなく、複数種類の防汚剤を混在させること、または複数種類の元素を含む防汚剤を含ませること等により得ることができる。
【００５４】
光学フィルム１０においては、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）を行った場合に、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角に対する消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角の割合である接触角維持率が８０％以上であることが好ましい。接触角維持率が８０％以上であれば、光学フィルム１０の表面１０Ａに防汚剤の大部分が消しゴム試験によって削り取られずに残存している、すなわち消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後に窪みが、窪みがない部分に対してバランス良く発現しているので、光学フィルム１０は、優れた耐摩耗性を有すると判断できるとともに、優れた防汚性を得ることができる。
【００５５】
また、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行った場合に、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角に対する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角の割合である接触角維持率が８０％以上であることがより好ましい。接触角維持率が８０％以上であれば、光学フィルム１０は、より優れた耐摩耗性を有すると判断できるとともに、より優れた防汚性を得ることができる。
【００５６】
上記水に対する接触角は、ＪＩＳ  Ｒ３２５７：１９９９に記載の静滴法に従って、顕微鏡式接触角計（例えば、製品名「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ３００」、協和界面科学株式会社製）を用いて、それぞれ測定する。具体的には、まず、消しゴム試験前のサンプルＳ１から３０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出して、測定サンプルを得る。測定サンプルは、２０ｍｍ×４０ｍｍの枠状の目印Ｍ１を含むように切り出される。そして、２５ｍｍ×７５ｍｍの大きさのスライドガラス上にこの測定サンプルを両面テープで平坦に貼り付ける。なお、上記枠がスライドガラス内に収まるように測定サンプルを貼り付ける。測定サンプルを平坦に貼り付けるためには、上記枠粋以上の大きさの両面テープで貼るのがよい。また、上記枠がスライドガラス内に収まるように貼る。すなわち、測定サンプルの断面は、スライドガラス／両面テープ／測定サンプルの状態となる。その後、測定サンプルが帯びている静電気が測定結果に影響を及ぼさないようにするために、イオナイザー（例えば、製品名「ＫＤ−７３０Ｂ」、春日電機株式会社製）にてイオンを照射することによって測定サンプルを３０秒間除電する。除電後、注射器にて１μＬの水を機能層の表面に滴下して、５秒間保持する。そして、顕微鏡式接触角計のスイッチを押して水に対する接触角を測定する。接触角の測定は、温度２３±５℃、相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で行われる。また接触角は１０点測定し、それらの算術平均値を消しゴム試験前の光学フィルムの表面の接触角とする。消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルムの表面における水に対する接触角は、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後のサンプルＳ１を用いること以外は、また消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面における水に対する接触角は、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後のサンプルＳ１を用いること以外は、消しゴム試験前の光学フィルムの表面における水に対する接触角の測定方法と同様の方法によって、測定される。
【００５７】
上記接触角維持率は、接触角維持率をＤ（％）とし、消しゴム試験前の光学フィルムの表面の水に対する接触角をＥとし、消しゴム試験後の光学フィルムの表面の水に対する接触角をＦとしたとき、以下の数式（３）によって求めるものとする。
Ｄ＝Ｆ／Ｅ×１００    …（３）
【００５８】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａにおける水に対する接触角は、１００°以上であることが好ましい。この接触角が、１００°以上であれば、十分な耐防汚性を有することとなり、指紋や汚れの付着を抑制でき、また仮に指紋や汚れが付着した場合であっても、拭き取りやすくなる。光学フィルム１０の表面１０Ａの水に対する接触角の下限は、９５°以上であることがより好ましく、上限は１２０°以下であることが好ましい。
【００５９】
光学フィルム１０においては、スチールウールを用いて１ｋｇ／ｃｍ２の荷重を加えながら消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａ（機能層１２の表面１２Ａ）を５０００往復擦るスチールウール試験を行った場合に光学フィルム１０の表面１０Ａに傷が確認されないことが好ましい。スチールウール試験は、以下のようにして行われる。まず、消しゴム試験前の光学フィルム１０を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、サンプルを得る。そして、サンプルの表面（光学フィルムの表面）が上面となるように学振型摩耗堅牢度試験機（例えば、製品名「ＡＢ−３０１」、テスター産業株式会社製）の試験片台に皺やカールが無いように平坦にサンプルを固定する。そして、スチールウール＃００００（日本スチールウール（株）製、商品名「ボンスター  Ｂ−２０４」）をこの試験機にセットしてサンプルの表面に接触させ、移動速度１００ｍｍ／秒、１往復での移動距離２００ｍｍ（片道移動距離１００ｍｍ）にて、荷重１ｋｇ／ｃｍ２を加えながらスチールウールを５０００往復擦る。スチールウールとサンプルの表面との接触面積は１ｃｍ２とする。なお、試験環境は、特記しない限り、温度２３±５℃、相対湿度３０％以上７０％以下とする。上記ボンスターＢ−２０４は、横：約３９０ｍｍ、縦：約７５ｍｍ、厚み：約１１０ｍｍの業務用サイズである。ここから、適量をちぎりとり、（切断するとスチールウール繊維の断面が出るため刃物切断しない）特異なスチールウール突出部がない状態まで均一に丸める。そして荷重１ｋｇを加えた場合、接触面積が１ｃｍ２のときにスチールウールの厚みが２０ｍｍになるよう設定する。その後、サンプルについて、蛍光灯下（サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘ、観察距離３０ｃｍ）およびＬＥＤ照明下（サンプル上の照度が４０００〜６０００Ｌｘ、観察距離３０ｃｍ）にて肉眼で観察し、傷が確認されるか否かを観察する。
【００６０】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、３Ｈ以上であることが好ましく、６Ｈであることがより好ましく、７Ｈ以上であることがさらに好ましい。鉛筆硬度試験は、以下のようにして行われる。まず、消しゴム試験前の光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、サンプルを得る。そして、このサンプルを機能層が上側となり、かつガラス板上に折れや皺がないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定する。次いで、鉛筆に５００ｇの荷重を加えるとともに、ひっかき速度１ｍｍ／秒で鉛筆を移動させる。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験においてサンプルの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上サンプルの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においてはサンプルの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行ったサンプルの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。
【００６１】
温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、光学フィルム１０に対し光学フィルム１０の対向する辺部の間隔φが２ｍｍとなり、かつ機能層１２が内側となるように１８０°折り畳む試験（折り畳み試験）を１０万回、２０万回、５０万回、または１００万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましい。光学フィルム１０に対し折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合に、光学フィルム１０に割れや破断等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み性が不充分となる。なお、上記折り畳み回数が多いほど、割れやすくまたは破断しやすくなるので、上記折り畳み回数が２０万回、３０万回、５０万回または１００万回の折り畳み試験後の光学フィルムにおいて割れや破断しないことは、上記記折り畳み回数が１０万回の折り畳み試験後の光学フィルムにおいて割れまたは破断が生じないことに対して技術的に顕著な差がある。また、上記折り畳み試験の折り畳み回数を少なくとも１０万回で評価しているのは、以下の理由からである。例えば、光学フィルムを折り畳み可能なスマートフォンに組み込むことを想定すると、折り畳みを行う頻度（開閉する頻度）が非常に多くなる。このため、上記折り畳み試験の折り畳み回数を例えば１万回や５万回とする評価では、実用的なレベルでの評価を行うことができないおそれがある。具体的には、例えば、常にスマートフォンを使用する人を想定すると、朝、電車やバス等の通勤時だけでも５回〜１０回はスマートフォンを開閉することが想定されるので、１日だけでも少なくとも３０回はスマートフォンを開閉することが想定される。したがって、スマートフォンを１日３０回開閉することを想定すると、折り畳み回数が１万回の折り畳み試験は、３０回×３６５日＝１０９５０回となるので、１年間の使用を想定した試験となる。すなわち、折り畳み回数が１万回の折り畳み試験の結果が良好であったとしても、１年経過後は、光学フィルムに割れや破断が生じるおそれがある。したがって、折り畳み試験における折り畳み回数が１万回の評価とは、製品として使用できないレベルしか確認できないものであり、使用できるが不十分なものも良好となってしまい、評価することができない。このため、実用的なレベルであるか否かを評価するためには、上記折り畳み試験の折り畳み回数は少なくとも１０万回で評価する必要がある。また、光学フィルム１０に対し光学フィルム１０の対向する辺部の間隔φが３ｍｍとなり、かつ機能層１２が外側となるように光学フィルム１０を１０万回折り畳む場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがより好ましい。
【００６２】
上記折り畳み試験においては、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔φが２ｍｍの状態で行うが、画像表示装置の薄型化を図る観点から、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔φは、更に狭い範囲、具体的には１ｍｍとなるように１０万回繰り返し１８０°折り畳む折り畳み試験を行った場合であっても、割れまたは破断が生じないことがより好ましい。なお、上記折り畳み回数が同じであっても、上記間隔φが狭くなるほど、割れまたは破断が生じないようにすることは難しくなるので、上記間隔φが１ｍｍの折り畳み試験の光学フィルムにおいて割れまたは破断が生じないことは、上記間隔φが２ｍｍの折り畳み試験後の光学フィルムにおいて割れまたは破断が生じないことに対して技術的に顕著な差がある。
【００６３】
折り畳み試験を行う際には、まず、折り畳み試験前の光学フィルム１０の任意の箇所から所定の大きさ（例えば、１２５ｍｍ×５０ｍｍの長方形形状）のサンプルＳ２を切り出す（図８参照）。なお、１２５ｍｍ×５０ｍｍの大きさにサンプルを切り出せない場合には、折り畳み試験後に行う後述する各評価ができる大きさであれば良く、例えば、８０ｍｍ×２５ｍｍの大きさの長方形状にサンプルを切り出してもよい。折り畳み試験前の光学フィルム１０からサンプルＳ２を切り出した後、サンプルＳ２に対し、折り畳み試験を行う。
【００６４】
折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図７（Ａ）に示すように折り畳み試験においては、まず、サンプルＳ２の辺部Ｓ２ａと、辺部Ｓ２ａと対向する辺部Ｓ２ｂとを、平行に配置された折り畳み耐久試験機（例えば、製品名「Ｕ字伸縮試験機ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製、ＩＥＣ６２７１５−６−１準拠）の固定部１５でそれぞれ固定する。固定部１５による固定は、サンプルＳ２の長手方向に片側約１０ｍｍのサンプルＳ２の部分を保持することによって行われる。ただし、サンプルＳ２が上記大きさよりも更に小さい場合、サンプルＳ２におけるこの固定に要する部分が約２０ｍｍまでであれば、固定部１５にテープで貼り付けることで測定が可能である（つまり、最小サンプルは、６０ｍｍ×２５ｍｍ）。また、図７（Ａ）に示すように、固定部１５は水平方向にスライド移動可能になっている。なお、上記装置であると、従来のロッドにサンプルを巻きつける方法などと異なり、サンプルに張力や摩擦を発生させることなく、曲げの負荷に対しての耐久評価することが可能で好ましい。
【００６５】
次に、図７（Ｂ）に示すように、固定部１５を互いに近接するように移動させることで、サンプルＳ２の中央部Ｓ２ｃを折り畳むように変形させ、更に、図７（Ｃ）に示すように、サンプルＳ２の固定部１５で固定された対向する２つの辺部Ｓ２ａ、Ｓ２ｂの間隔φが２ｍｍとなる位置まで固定部１５を移動させた後、固定部１５を逆方向に移動させてサンプルＳ２の変形を解消させる。
【００６６】
図７（Ａ）〜（Ｃ）に示すように固定部１５を移動させることで、サンプルＳ２を中央部Ｓ２ｃで１８０°折り畳むことができる。また、サンプルＳ２の屈曲部Ｓ２ｄが固定部１５の下端からはみ出さないようにし、かつ以下の条件で折り畳み試験を行い、かつ固定部２５が最も接近したときの間隔を２ｍｍに制御することで、サンプルＳ２の対向する２つの辺部Ｓ２ａ、Ｓ２ｂの間隔φを２ｍｍにできる。この場合、屈曲部Ｓ２ｄの外径を２ｍｍとみなす。なお、サンプルＳ２の厚みは、固定部２５の間隔（２ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、サンプルＳ２の折り畳み試験の結果は、サンプルＳ２の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。
（折り畳み条件）
・往復速度：８０ｒｐｍ（回毎分）
・試験ストローク：６０ｍｍ
・屈曲角度：１８０°
【００６７】
サンプルＳ２に対し上記折り畳み試験を行うと、折り畳み試験後のサンプルＳ２に割れまたは破断が生じなかったとしても、屈曲部に折り癖が生じ、またマイクロクラックが生じてしまい、外観不良、具体的には白濁現象やマイクロクラックを起点とした層間剥離（密着不良）が生じるおそれがある。白濁現象の原因の１つには、光学フィルムのいずれかの層の材質である有機化合物の結晶状態が変化することと考えられる。密着不良が局所で生じた場合、温度・湿度の変化によって、層間剥離部に水分が溜まったり、この剥離部に空気が入ることがあるため、白濁が増すおそれがある。近年、ディスプレイは単なる平面ではなく、折り畳んだり、曲面にしたり、多様な３次元デザインが増えている。このため、屈曲部の折り癖やマイクロクラックの抑制は、画像表示装置として用いる上で、極めて重要である。このようなことから、光学フィルム１０は、フレキシブル性を有していることが好ましい。本明細書における「フレキシブル性」とは、上記折り畳み試験後において、割れや破断が生じないことのみならず、折り癖およびマイクロクラックが確認されないことを意味する。したがって、本明細書における「フレキシブル性」とは、上記折り畳み試験後において、割れまたは破断が生じないことのみを要件とするフレキシブル性とは異なるものである。
【００６８】
上記折り癖の観察は、目視で行うものとするが、折り癖の観察の際には、白色照明の明室（８００ルクス〜２０００ルクス）で、屈曲部を透過光および反射光によって満遍なく観察するともに、折り畳んだときに屈曲部における内側となる部分および外側となる部分を両方観察するものとする。上記折り癖の観察は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で行うものとする。
【００６９】
上記マイクロクラックの観察は、デジタルマイクロスコープ（デジタル顕微鏡）で行うものとする。デジタルマイクロスコープとしては、例えば、キーエンス株式会社製のＶＨＸ−５０００が挙げられる。マイクロクラックは、デジタルマイクロスコープの照明としてリング照明を選択するとともに、暗視野および反射光で観察するものとする。具体的には、まず、折り畳み試験後のサンプルをゆっくり広げ、マイクロスコープのステージにテープでサンプルを固定する。このとき、折り癖が強い場合には、観察する領域がなるべく平らになるようにする。ただし、サンプルの中央付近の観察予定領域（屈曲部）は手で触れず、力が加わらない程度とする。そして、折り畳んだときに内側となる部分および外側となる部分を両方観察するものとする。上記マイクロクラックの観察は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で行うものとする。
【００７０】
上記折り癖および上記マイクロクラックの観察においては、観察すべき位置が容易に把握できるように、折り畳み試験前のサンプルを耐久試験機の固定部に設置し、１回折り畳んだときに、図８に示されるように、屈曲部Ｓ２ｄにおける折り畳み方向Ｄ３と直交する方向に位置する両端Ｓ２ｄ１に、屈曲部であることを示す目印Ｍ２を油性ペンなどで付けておくとよい。また、折り畳み試験後に全く折り癖等が観察されないサンプルの場合は、サンプルを観察位置が不明になるのを防ぐため、折り畳み試験後に耐久試験機から取り外した状態で、屈曲部Ｓ２ｄの上記両端Ｓ２ｄ１の目印Ｍ２同士を結ぶ線Ｍ３（図８における点線）を油性ペンなどで引いておいてもよい。そして、折り癖の観察においては、屈曲部Ｓ２ｄの両端Ｓ２ｄ１の目印Ｍ２とこの目印Ｍ２同士を結ぶ線Ｍ３とで形成される領域である屈曲部Ｓ２ｄ全体を目視観察する。またマイクロクラックの観察においては、マイクロスコープ視野範囲（図８における二点鎖線で囲まれる範囲）の中心が屈曲部Ｓ２ｄの中央となるようにマイクロスコープの位置を合わせる。なお、油性ペンなどによる目印は、実測に必要なサンプル領域には記載しないよう注意する。
【００７１】
また、サンプルＳ２に対し上記折り畳み試験を行うと、樹脂基材と機能層の間の密着性が低下するおそれがある。このため、上記折り畳み試験後の光学フィルムの屈曲部において、樹脂基材１１と機能層１２の間の界面付近を、デジタルマイクロスコープで観察したとき、樹脂基材１１と機能層１２の界面付近で剥がれ等が観察されないことが好ましい。デジタルマイクロスコープとしては、例えば、キーエンス株式会社製のＶＨＸ−５０００が挙げられる。
【００７２】
消しゴム試験前の光学フィルム１０においては、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９に記載されているマンドレル試験（２ｍｍから３２ｍｍの金属製円柱にサンプルを巻きつける試験）に準じ、機能層１２を外側にした光学フィルム１０を円柱に巻き付けたときのクラック（ひび）が発生しなかった円柱の最小直径が、２０ｍｍ以下であることが好ましい。最小直径は、この測定を３回行い、３つの最小直径のうち最も小さい直径とする。
【００７３】
光学フィルム１０の一方の面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、折り畳み試験やマンドレル試験を行うものとする。他のフィルムの剥離は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、光学フィルムに粘着層や接着層を介して他のフィルムが付いた積層体をドライヤーで加熱し、光学フィルムと他のフィルムの界面と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥離していく。このような加熱と剥離を繰り返すことで、粘着層や接着層および他のフィルムを剥離することができる。なお、このような剥離工程があったとしても、マンドレル試験には大きな影響はない。
【００７４】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましい。光学フィルム１０の全光線透過率が９０％未満であると、光学的性能が不充分となるおそれがある。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（例えば、製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、測定することができる。全光線透過率は、消しゴム試験前の光学フィルム１０を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、サンプルを得る。そして、このサンプルに対して３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の全光線透過率は、９１％以上であることがより好ましく、９２％以上であることがさらに好ましい。
【００７５】
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（例えば、製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠した方法により測定することができる。上記全光線透過率は、光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、サンプル１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつ機能層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１０％の範囲内に収まる。したがって、切り出したサンプルの異なる３箇所で全光線透過率を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体の全光線透過率の平均値が得られると考えられる。全光線透過率のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。
【００７６】
また、光学フィルム１０に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、全光線透過率を測定するものとする。なお、このような剥離工程があったとしても、全光線透過率の測定には大きな影響はない。
【００７７】
消しゴム試験前の光学フィルム１０のヘイズ値（全ヘイズ値）は、光学フィルム１０の表面１０Ａが鏡面状の平坦なものである場合、１％以下であることが好ましい。光学フィルム１０のヘイズ値が１％を超えると、光学的性能が不充分となるおそれがある。
【００７８】
光学フィルム１０の表面１０Ａが、防眩性を有する場合には、ヘイズ値は１％を超えていてもよい。例えば、画像鮮明性を重要視する場合には、ヘイズ値は５％以下、更には３％以下であることが好ましい。一方、表示素子のパターンが視認されること、いわゆる骨見えの防止などの場合には、全ヘイズ値は２５％以下、更には２０％以下、更には１５％以下が好ましい。
【００７９】
上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（例えば、製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。具体的には、ヘイズ値は、全光線透過率の測定方法と同様の方法により測定する。
【００８０】
また、光学フィルムに粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、ヘイズ値を測定するものとする。なお、このような剥離工程があったとしても、ヘイズ値の測定には大きな影響はない。
【００８１】
光学フィルム１０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。光学フィルム１０のＹＩが１５以下であれば、光学フィルム１０の黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途にも適用できる。ＹＩの上限は、１０以下、７以下、または６以下であることがより好ましい。イエローインデックス（ＹＩ）は、以下のようにして求められる。まず、光学フィルム１０から５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出したサンプルを得る。そして、このサンプルを、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に樹脂基材側が光源側となるように配置した状態でサンプルの波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍの透過率を測定する。そして、測定されたサンプルの透過率から、ＪＩＳ  Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ  Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従ってＹＩを算出する。ＹＩは、サンプル１枚に対して波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍの透過率を３回測定することによって３回算出し、３回算出して得られた値の算術平均値とする。なお、ＵＶ−２４５０においては、イエローインデックスは、ＵＶ−２４５０に接続されたパーソナルコンピュータ（ＰＣ）上で、上記透過率の測定データを読み込み、計算項目にて「ＹＩ」の項目にチェックを入れることによって算出される。波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍの透過率の測定は、以下の条件で、波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を測定し、その平均値を算出することによって求めるものとする。また、分光透過率のスペクトルにうねりが出るようであれば、デルタ５．０ｎｍでスムージング処理を行ってもよい。
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ〜７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施
【００８２】
光学フィルム１０の用途は、特に限定されないが、光学フィルム１０の用途としては、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン、カーナビゲーション等の画像表示装置が挙げられる。また、光学フィルム１０は、車載用途にも適している。上記各画像表示装置の形態としては、フォルダブル、ローラブルといったフレキシブル性を必要とする用途にも好ましい。
【００８３】
光学フィルム１０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。光学フィルム１０が所望の大きさにカットされている場合、光学フィルムの大きさは、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、２．８インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光学フィルム１０の大きさが大きい場合には、例えば、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。なお、例えば、光学フィルム１０がロール状になっている場合においては、光学フィルム１０のロールから所定の長さを繰り出すとともに、ロールの長手方向に沿って延びる両端部を含む非有効領域ではなく、品質が安定している中心部付近の有効領域から所望の大きさに切り出すものとする。
【００８４】
＜＜樹脂基材＞＞
樹脂基材１１は、光透過性を有する樹脂からなる基材である。本明細書における「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく、半透明であってもよい。
【００８５】
樹脂基材１１を構成する樹脂としては、特に限定されないが、光透過性を有する樹脂であることが好ましい。このような光透過性を有する樹脂としては、例えば、アセチルセルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、芳香族ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの樹脂を２種以上混合した混合物等が挙げられる。これらの中でも、樹脂基材への樹脂の密着性や鉛筆硬度の観点からは、アセチルセルロース系樹脂が好ましい。また、樹脂基材は、機能層等をコーティングする際にコーティング装置に触れるので、傷が付きやすいが、ポリエステル系樹脂からなる樹脂基材は、コーティング装置に触れても傷が付きにくいため、ヘイズ値の上昇を抑制できる点、および耐熱性、バリア性、耐水性についてもポリエステル系樹脂以外の樹脂からなる基材よりも優れている点からは、これらの中でも、ポリエステル系樹脂が好ましい。
【００８６】
光学フィルムとして、折り畳み可能な光学フィルムを得る場合には、樹脂基材を構成する樹脂としては、折り畳み性が良好であることから、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂またはこれらの混合物を用いることが好ましい。ただし、使い方によっては、アセチルセルロース系樹脂（例えば、トリアセチルセルロース）も好ましく用いることができる。また、これらの中でも、優れた折り畳み性を有するだけでなく、優れた硬度および透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更に優れた硬度および透明性を付与することもできる観点からは、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物が好ましい。さらに、屋外等ではサングラスを装着して、画像表示装置の表示画像を観察することがあるが、サングラスが偏光サングラスである場合、偏光サングラス越しに表示画像を観察すると、視認性が低下するおそれがある。したがって、現在、偏光サングラス越しに表示画像を観察した場合であっても視認性の低下を抑制できることが求められている。これに対し、シクロオレフィンポリマー系樹脂は、映像光に位相差を付与して、上記視認性の低下を抑制できるので、上記視認性の低下を抑制する観点からは、シクロポリオレフィンポリマー系樹脂が好ましい。
【００８７】
本発明者らは、光学フィルムにおいて、フレキシブル性が重要視される場合には、樹脂基材としてポリイミド系樹脂を含む基材が良好であると推測していた。ポリイミド系樹脂を用いた場合、確かに従来の汎用されている透明基材（例えば、ポリメチルメタクリレート系樹脂、トリアセチルセルロール系樹脂、またはポリエチレンテレフタレート系樹脂を含む基材）に比べると、マイクロクラックや破断は生じ難い。しかしながら、ポリイミド系樹脂を用いる場合であっても、観察すると、他の樹脂基材と同様に機能層などに皺や折り癖が生じてしまうことがある。特に、光学フィルムをスマートフォン用途で用いる場合には、画面が小さいことから、折り癖が見えると、文字等が読めないおそれがある。これに対し、樹脂基材として、例えば極めて薄膜のシクロオレフィンポリマー系樹脂を含む基材を用いると、厚みが６０μｍ以上１００μｍ以下のポリイミド系樹脂を含む基材を用いる場合よりも折り畳み性に優れることを見出した。また、例えば、シクロオレフィンポリマー系樹脂を含む樹脂基材の膜厚が５μｍ以上３５μｍ以下（更には５μｍ以上１８μｍ以下）という極めて薄膜の場合には、面内および膜厚方向の位相差値が非常に小さいなど光学性能も優れる。例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂を含む樹脂基材の場合には、膜の構造上、面内位相差が１００ｎｍ未満であっても、厚さ方向の位相差は１０００以上になることがあり、画像表示装置に用いる場合には視認性に影響が出るおそれがある。一方、シクロオレフィンポリマー系樹脂を含む樹脂基材の場合は、面内、厚さ方向位相差はどちらも１００ｎｍ未満、５０ｎｍ未満などに制御することが容易で三次元の光学等方性に優れるため、偏光サングラス対応も可能なり、光学用途には非常に好ましい。このため、フレキシブル用途および光学用途には、極めて薄膜のシクロオレフィンポリマー系樹脂を含む樹脂基材が好ましい。なお、トリアセチルセルロース系樹脂やポリカーボネート系樹脂を含む樹脂基材も光学等方性を有するが、上記した厚み５μｍ以上３５μｍ以下で折り畳むと、皺や割れ等の不具合が発生しやすいので、同じ光学等方性を有するシクロオレフィンポリマー系樹脂を含む樹脂基材は、分子構造的に折り畳み性に強いと考えられる。
【００８８】
アセチルセルロース系樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂、ジアセチルセルロース系樹脂が挙げられる。トリアセチルセルロース系樹脂は、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な樹脂である。トリアセチルセルロース系樹脂の平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好ましい。
【００８９】
なお、トリアセチルセルロース系樹脂としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、紫外線吸收剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
【００９０】
ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）系樹脂、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）系樹脂等の少なくとも１種を構成成分とする樹脂が挙げられる。
【００９１】
シクロオレフィンポリマー系樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、およびこれらの水素化物等を挙げることができる。これらの中でも、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好であるため、好適に用いることができる。
【００９２】
ノルボルネン系樹脂としては、ノルボルネン構造を有するモノマーの開環重合体もしくはノルボルネン構造を有するモノマーと他のモノマーとの開環共重合体またはそれらの水素化物、ノルボルネン構造を有するモノマーの付加重合体もしくはノルボルネン構造を有するモノマーと他のモノマーとの付加共重合体またはそれらの水素化物等を挙げることができる。
【００９３】
シクロオレフィンポリマー系樹脂の市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社製の商品名「ゼオネックス（登録商標）」や「ゼオノア（登録商標）」（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト株式会社製の商品名「スミライト（登録商標）ＦＳ−１７００」、ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン（登録商標）」（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学株式会社製の商品名「アペル（登録商標）」（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の商品名「Ｔｏｐａｓ（登録商標）」（環状オレフィン共重合体）、日立化成株式会社製の商品名「オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ」（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。このようなシクロオレフィン系樹脂を製膜して、光透過性基材を得ることができる。製膜としては、特に限定されず、溶剤キャスト法や溶融押出法など、公知の製膜方法を用いることができる。また、製膜されたシクロオレフィンポリマー系フィルムも市販されており、これを樹脂基材として用いることもできる。シクロオレフィンポリマー系フィルムとしては、例えば、積水化学株式会社製の商品名「エスシーナ（登録商標）」や「ＳＣＡ４０」、日本ゼオン株式会社の商品名「ゼオノアフィルム（登録商標）」、ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン（登録商標）フィルム」等が挙げられる。
【００９４】
シクロオレフィンコポリマー系樹脂としては、例えばエチレンとノルボルネン系モノマーとの共重合体や、エチレンとテトラシクロドデセンとの共重合体等が挙げられる。
【００９５】
ポリカーボネート系樹脂としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。
【００９６】
アクリル系樹脂としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エチル系樹脂、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体系樹脂等が挙げられる。
【００９７】
ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。
【００９８】
芳香族ポリエーテルケトン系樹脂としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）等が挙げられる。
【００９９】
ポリイミド系樹脂は、脂肪族のポリイミド系樹脂であってもよいが、芳香族環を含む芳香族系ポリイミド樹脂であることが好ましい。芳香族系ポリイミド樹脂は、テトラカルボン酸成分およびジアミン成分の少なくとも一方に芳香族環を含むものである。
【０１００】
ポリイミド系樹脂は、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでいても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミド構造が挙げられる。ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド（アラミド）を含む概念である。具体的には、ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記化学式（１）および（２）で表される構造を有する化合物が挙げられる。下記化学式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。なお、下記化学式（１）および（２）で表される化合物の中でも、化学式（１）で表される化合物は、低位相差および高透明であるので、好ましい。
【化１】
2019208786.tif 000004
【化２】
2019208786.tif 000005
【０１０１】
樹脂基材１１の厚みは、２５μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂基材の厚みが２５μｍ以上であると、光学フィルムがカールしにくく、また硬度も不充分とならず、更に、光学フィルムをＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌで製造する場合、皺が発生しにくくなるため外観の悪化を招くおそれもない。一方、樹脂基材の厚みが１００μｍ以下であると、曲げ性が不充分とならず、硬度と屈曲性の両立を図ることができる。樹脂基材１１の下限は３０μｍ以上、３５μｍ以上、または４０μｍ以上であることがより好ましく、樹脂基材１１の上限は９０μｍ以下、８５μｍ以下、または８０μｍ以下であることがより好ましい。樹脂基材の厚みは、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂基材の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂基材の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の厚みの算術平均値を求めることによって求めることができる。なお、走査型電子顕微鏡による撮影は、樹脂基材の厚みに適した倍率にて、樹脂基材と機能層との界面ラインを明確にした上で行うものとする。具体的には、例えば、樹脂基材の厚みが５０μｍの場合には１０００倍、また１００μｍの場合には５００倍のように樹脂基材の厚みによって倍率を適宜調整する。樹脂基材１１の厚みのバラツキは、１５％以下、１０％以下、または７％以下であることが好ましい。走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて樹脂基材の厚みを測定する場合、機能層の膜厚の測定方法と同様の方法により測定できる。ただし、樹脂基材の断面写真を撮影する際の倍率は、１００〜２万倍とする。
【０１０２】
光学フィルムにフレキシブル性（例えば、折り畳み性）が求められる場合、樹脂基材や機能層の厚みが厚いと、折り畳み時に屈曲部における樹脂基材や機能層に割れが生じるおそれがあり、また屈曲部における樹脂基材や機能層に折り癖やマイクロクラックが生じてしまうことがある。割れ、折り癖やマイクロクラックが生じると、外観不良、具体的には、白濁現象やクラック起因の密着不良などが生じてしまうおそれがある。このため、光学フィルムをフレキシブル用途に用いる場合には、樹脂基材や機能層の厚み制御や各層間の密着性（材料が影響する化学的結合による密着や、クラックが生じないという物理的な密着）が重要になる。特に、樹脂基材１１が、シクロオレフィンポリマー系樹脂やポリエステル系樹脂を含む場合や、ポリイミド系樹脂を含む場合も、厚みによって割れにくさが変わるので、樹脂基材の厚み制御が重要となる。ただし、機能層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳む（内曲げ）と、機能層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳む（外曲げ）では、樹脂基材１１の好ましい厚みが異なる。具体的には、光学フィルム１０が内曲げで用いられる場合よりも外曲げの場合の方が、樹脂基材１１は厚くてもよい。厚くすることで、外部から受ける衝撃を吸収する機能を付与できる。
【０１０３】
＜光学フィルムが内曲げで用いられる場合＞
樹脂基材１１が、例えば、トリアセチルセルロース樹脂を含む場合には、樹脂基材１１の厚みは、１５μｍ以上６５μｍ以下であることが好ましい。樹脂基材の厚みが薄すぎると、折り畳み時に樹脂基材が避けてしまうおそれがあるが、この樹脂基材１１の厚みが１５μｍ以上であれば、折り畳み時に樹脂基材１１が避けることを抑制できる。また樹脂基材１１の厚みが６５μｍ以下であれば、折り畳み時に屈曲部における樹脂基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部における白濁現象を抑制できる。この場合の樹脂基材１１の厚みの上限は、５０μｍ以下、または３０μｍ以下であることが好ましい。
【０１０４】
樹脂基材１１が、例えば、シクロオレフィンポリマー系樹脂を含む場合には、樹脂基材１１の厚みは、５μｍ以上４５μｍ以下であることが好ましい。この樹脂基材１１の厚みが５μｍ以上であれば、ハンドリング性が良好であり、また４５μｍ以下であれば、折り畳み時に屈曲部における樹脂基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部における白濁現象を抑制できる。この場合の樹脂基材１１の厚みの上限は、３５μｍ以下、または１８μｍ以下であることが好ましい。
【０１０５】
樹脂基材１１が、例えば、ポリエステル系樹脂を含む場合には、樹脂基材１１の厚みは、５μｍ以上４５μｍ以下であることが好ましい。この樹脂基材１１の厚みが５μｍ以上であれば、ハンドリング性が良好であり、また４５μｍ以下であれば、折り畳み時に屈曲部における樹脂基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部における白濁現象を抑制できる。この場合の樹脂基材１１の厚みの上限は、３５μｍ以下、または１８μｍ以下であることが好ましい。
【０１０６】
樹脂基材１１が、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、またはこれらの混合物を含む場合には、樹脂基材１１の厚みは、５μｍ以上７５μｍ以下であることが好ましい。この樹脂基材１１の厚みが５μｍ以上であれば、ハンドリング性が良好であり、また７５μｍ以下であれば、折り畳み時の樹脂基材１１の割れを抑制でき、また光学特性や機械特性が良好である。この場合の樹脂基材１１の厚みの上限は、７０μｍ以下、６０μｍ以下、５０μｍ以下、３５μｍ以下、または１８μｍ以下であることが好ましい。また、この場合の樹脂基材１１の厚みの下限は、ハンドリング性等の観点から、５μｍ以上であることが好ましい。
【０１０７】
上記した各樹脂基材の厚みが３５μｍ以下の場合には、製造時に樹脂基材１１に保護フィルムを貼ると加工適性が向上するので、好ましい。
【０１０８】
＜光学フィルムが外曲げで用いられる場合＞
樹脂基材１１が、例えば、トリアセチルセルロース樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、ポリエステル系樹脂、あるいはポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂またはこれらの混合物を含む場合には、樹脂基材１１の厚みは、３５μｍ以上１０５μｍ以下であることが好ましい。この樹脂基材１１の厚みが３５μｍ以上であれば、外側に用いるために外部から受ける様々な衝撃を吸収することができ、また１０５μｍ以下であれば、折り畳み時に屈曲部における樹脂基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部における白濁現象を抑制できる。この場合の樹脂基材１１の厚みの上限は、８５μｍ以下、または８０μｍ以下であることが好ましい。
【０１０９】
＜＜機能層＞＞
機能層１２は、ハードコート機能を発揮する層、すなわちハードコート層である場合について説明する。本明細書における「ハードコート層」とは、後述するインデンテーション硬さが樹脂基材のインデンテーション硬さよりも大きい層を意味する。フレキシブル性を得る場合には、機能層がハードコート層以外の層であってもよい。その場合は、機能層は以下に示す鉛筆硬度未満であってもよい。このような場合であっても、樹脂基材単体の状態よりも機械強度が高くなるので、ハードコート層として機能する。
【０１１０】
機能層１２は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が「Ｈ」以上であることが好ましい。鉛筆硬度を「Ｈ」以上とすることにより、光学フィルム１０が硬くなり、耐久性を向上させることができる。鉛筆硬度試験は、鉛筆に５００ｇの荷重を加えるとともに、ひっかき速度を１ｍｍ／秒とした状態で行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。機能層は単層構造であってもよいが、本実施形態のように２層以上の多層構造であってもよい。
【０１１１】
機能層１２のインデンテーション硬さ（ＨＩＴ）は、１００ＭＰａ以上であることが好ましい。フレキシブル性が最も重要な場合には、２０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満であることが好ましい。機能層１２のインデンテーション硬さの下限は、２００ＭＰａ以上または３００ＭＰａ以上であってもよく、また上限は、マイクロクラックを防止し、機能層と樹脂基材の界面における密着性を維持する観点から、８００ＭＰａ以下であってもよい。このような下限および上限にすることによって、機能層自身のフレキブル性を維持することができる。また、光学フィルムにおいて、実用化のためには折り畳み試験後も物理特性、光学特性が試験前とほぼ同じであることが必要とされる。また、機能層は、加工時の傷付き防止する役割の層として有効である。このようなことから、フレキシブル性を生かしながら、かつ上述したような実用のための物性を得るためには、上記した数値範囲内にあることが好ましい。なお、用途によるが、樹脂基材の一方の面側のみに機能層が設けられもよいが、樹脂基材の両面側に機能層が設けられてもよい。
【０１１２】
本明細書における「インデンテーション硬さ」とは、圧子の負荷から除荷までの荷重−変位曲線から求められる値である。上記インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）の測定は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、測定サンプルについてＢｒｕｋｅｒ（ブルーカー）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。測定サンプルは、上記したＳＥＭによる断面写真の撮影の際に作製されたサンプルと同じ方法で作製してもよい。機能層１２の膜厚が薄い場合には、表面・界面切削試験装置（Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｎｄ Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ Ｃｕｔｔｉｎｇ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｓｙｓｔｅｍ：ＳＡＩＣＡＳ）などの斜め切削装置によって測定面積を充分に大きくすることが好ましい。通常、断面分析は表面に対して垂直に試料を切断した面（垂直断面）を分析するが、多層構造の試料で各層の層厚が薄い場合、広い分析領域を必要とする場合、特定の層を選択的に分析することは困難である。しかし、斜め切削により断面を作製した場合、垂直断面に比べて試料面を広く露出することができる。例えば、水平面に対して１０°の斜面を作製すると、垂直断面に比べて試料面は６倍弱広くなる。このため、ＳＡＩＣＡＳで斜め切削による断面を作製することで、垂直断面では分析困難な試料についても分析することが可能となる。次いで、得られた測定サンプルの断面において、平坦な箇所を探し、この平坦な箇所において、変位基準の測定で、最大押し込み変位が１００ｎｍとなるように、速度１０ｎｍ／秒でバーコビッチ（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ）圧子（三角錐、Ｂｒｕｋｅｒ社製のＴＩ−００３９）を、１０秒で変位０ｎｍから変位１００ｎｍまで負荷を加えながら機能層１２に垂直に押し込む。ここで、バーコビッチ圧子は、光透過性基材の影響を避けるためおよび機能層の側縁の影響を避けるために、樹脂基材と機能層の界面から機能層の中央側に５００ｎｍ離れ、機能層の両側端からそれぞれ機能層の中央側に５００ｎｍ以上離れた機能層の部分内に押し込むものとする。その後変位１００ｎｍで５秒間保持した後、１０秒で変位１００ｎｍから変位０ｎｍまで除荷する。そして、このときの押し込み荷重Ｆ（Ｎ）に対応する押し込み深さｈ（ｎｍ）を連続的に測定し、荷重−変位曲線を作成する。作成された荷重−変位曲線からインデンテーション硬さを、下記数式（４）のように最大押し込み荷重Ｆｍａｘ（Ｎ）を、圧子と機能層１２が接している接触投影面積Ａｐ（ｍｍ２）で除した値により求める。インデンテーション硬度は、１０箇所測定して得られた値のうち、最大値と最小値を差し引いた８箇所分の測定値の算術平均値とする。Ａｐは標準試料の溶融石英を用いて、Ｏｌｉｖｅｒ−Ｐｈａｒｒ法で圧子先端曲率を補正した接触投影面積である。
ＨＩＴ＝Ｆｍａｘ／Ａｐ      …（４）
【０１１３】
機能層１２の膜厚は、１１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。機能層１２の膜厚が、１１μｍ以上であれば、機能層１２の硬度が十分に得られ、また５０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。機能層１２の膜厚の下限は、所望の硬度を得る観点から、１４μｍ以上、１７μｍ以上、または２０μｍ以上であることがより好ましく、機能層１２の膜厚の上限は、曲げ性向上の観点から、４５μｍ以下、４２μｍ以下、または３９μｍ以下であることがより好ましい。機能層が多層構造の場合、機能層の膜厚とは、各機能層の膜厚の合計を意味するものとする。機能層１２の膜厚のバラツキは、１５％以下、１０％以下、または７％以下であることが好ましい。
【０１１４】
機能層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、機能層の断面を撮影し、その断面の画像において機能層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。ここで、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出すこととしたのは、測定時には切片が切り出された残りのブロックを用いるが、この薄さの切片を切り出すことにより残りのブロックの断面の平坦性が良好になるためである。なお、残りのブロックの平坦性が悪いと測定精度が悪化するおそれがある。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら１００〜１０万倍、好ましくは機能層の膜厚に応じて１０００倍〜１万倍で適宜調節する。なお、膜厚の測定ぶれを低減するために、機能層の膜厚を極力低倍率で測定することが推奨される。例えば、機能層の膜厚が３０μｍ程度の場合には倍率２０００倍、１５μｍ程度の場合には倍率２０００〜５０００倍が好ましい。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にしてもよい。第１層の膜厚を測定する際には、断面観察した折に、第１の機能層と他の層（例えば、樹脂基材）との界面コントラストが可能な限り明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が見え難い場合には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色処理を施すと、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察する。例えば、２．５万倍と５万倍や、５万倍と１０万倍など、高低の２つの倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値を第１の機能層の膜厚の値とする。
【０１１５】
機能層１２は、第１の機能層１３と、第１の機能層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面に設けられた第２の機能層１４とを備えている。
【０１１６】
＜第１の機能層＞
第１の機能層１３は、硬度を高めるための層である。第１の機能層１３は、バインダ樹脂と、バインダ樹脂中に分散された粒子とを含んでいる。第１の機能層１３に粒子を含ませることにより、より高い鉛筆硬度を達成することができる。第１の機能層１３は、バインダ樹脂等の他、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、前記以外の各種添加剤を含有してもよい。このような添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、着色剤、フィラー等が挙げられる。
【０１１７】
第１の機能層１３の膜厚は、１０μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。第１の機能層の膜厚が、１０μｍ以上であれば、第１の機能層の硬度が不充分とならず、また４０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。第１の機能層１３の膜厚の下限は、干渉縞を抑制する観点から、１２μｍ以上、１４μｍ以上、または１６μｍ以上であることがより好ましく、第１の機能層１３の膜厚の上限は、樹脂基材１１に対する密着性の観点から、３８μｍ以下、３４μｍ以下、または３０μｍ以下であることがより好ましい。第１の機能層１３の膜厚は、機能層１２の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。第１の機能層１３の膜厚のバラツキは、１５％以下、１０％以下、または７％以下であることが好ましい。
【０１１８】
（バインダ樹脂）
樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
【０１１９】
重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。
【０１２０】
これらの中でも上述した鉛筆硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
【０１２１】
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。
【０１２２】
上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。
【０１２３】
（粒子）
粒子は、機能層の硬度を高める成分であり、無機粒子、有機粒子またはこれらの混合物のいずれであってもよい。無機粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ（略称：ＡＴＯ）粒子、酸化亜鉛粒子等の無機酸化物粒子が挙げられる。これらの中でも、硬度をより高める観点からシリカ粒子が好ましい。シリカ粒子としては、球形シリカ粒子や異形シリカ粒子が挙げられるが、これらの中でも、異形シリカ粒子が好ましい。本明細書における「球形粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等の粒子を意味し、「異形粒子」とは、ジャガイモ状（断面観察時のアスペクト比が１．２以上４０以下）のランダムな凹凸を表面に有する形状の粒子を意味する。上記異形粒子は、その表面積が球状粒子と比較して大きいため、このような異形粒子を含有することで、上記バインダ樹脂との接触面積が大きくなり、第１の機能層１３の鉛筆硬度をより優れたものとすることができる。第１の機能層１３に含まれているシリカ粒子が異形シリカ粒子であるか否かは、第１の機能層１３の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。球形シリカ粒子を用いる場合、球形シリカ粒子の粒子径が小さいほど、機能層の硬度が高くなる。これに対し、異形シリカ粒子は、市販されている最も小さい粒子径の球形シリカ粒子ほど小さくなくとも、この球形シリカと同等の硬度を達成することができる。
【０１２４】
上記シリカ粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。５ｎｍ未満であると、粒子自身の製造が困難になり、粒子同士が凝集したりすることがあり、また、異形にするのが極めて困難になることがあり、更に、上記塗工前のインキの段階で異形シリカ粒子の分散性が悪く凝集したりすることがある。一方、上記異形シリカ粒子の平均粒子径が２００ｎｍを超えると、第１の機能層に大きな凹凸が形成されたり、ヘイズの上昇といった不具合が生じたりすることがある。シリカ粒子が球形シリカ粒子の場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した粒子の断面の画像から２０個の粒子の粒子径を測定し、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。また、シリカ粒子が異形シリカ粒子である場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した機能層の断面の画像から粒子の外周の２点間距離の最大値（長径）と最小値（短径）とを測定し、平均して粒子径を求め、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。
【０１２５】
第１の機能層１３中の粒子の含有量は、２０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。粒子の含有量が２０質量％以上であると、十分な硬度を担保することでき、また粒子の含有量が７０質量％以下であると、充填率が上がりすぎず、粒子とバインダ樹脂との密着性の悪化を抑制でき、第１の機能層の硬度の低下を抑制できる。
【０１２６】
無機粒子としては、表面に重合性官能基を有する無機粒子（反応性無機粒子）を用いることが好ましい。このような表面に重合性官能基を有する無機粒子は、シランカップリング剤等によって無機粒子を表面処理することによって作成することができる。無機粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、無機粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。
【０１２７】
有機粒子としては、例えば、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、具体例としては、ポリスチレンビーズ、メラミン樹脂ビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、シリコーンビーズ、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
【０１２８】
＜第２の機能層＞
第２の機能層１４は、耐擦傷性および滑り性を高めるための層である。第２の機能層１４は、ハードコート層であるが、ハードコート層ではなく、例えば、蒸着層やスプレー塗布層であってもよい。第２の機能層１４は、バインダ樹脂、滑剤および防汚剤を含む。第２の機能層１４は、バインダ樹脂等の他、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、前記以外の各種添加剤を含有してもよい。このような添加剤としては、例えば、粒子（例えば、防眩性を得るためのミクロンオーダーの粒子や機能性を発現させるためのナノオーダーの粒子）、紫外線吸収剤、帯電防止剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、着色剤、フィラー等が挙げられる。
【０１２９】
第２の機能層１４の膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。第２の機能層の膜厚が、１μｍ以上であれば、十分な耐擦傷性が発現し、また１０μｍ以下であれば、カールを抑制することができ、また屈曲性を保つことができる。第２の機能層１４の膜厚の下限は、所望の硬度を得る観点から、２μｍ以上、３μｍ以上、または４μｍ以上であることがより好ましく、第２の機能層１４の膜厚の上限は、透明性の観点から、７μｍ以下、８μｍ以下、または９μｍ以下であることがより好ましい。第２の機能層１４の膜厚は、機能層１２の膜厚と同様の方法で測定するものとする。第２の機能層１４の膜厚のバラツキは、１５％以下、１０％以下、または７％以下であることが好ましい。
【０１３０】
消しゴム試験前の光学フィルム１０の第２の機能層１４の表面１４Ａにおける５μｍ角の領域の算術平均高さ（Ｓａ）は、１０ｎｍ以下となっていることが好ましい。このＳａの上限は、７ｎｍ以下、４ｎｍ以下、または１ｎｍ以下、更には０．８ｎｍ以下となっていてもよい。この上限であることで、上記窪み１０Ｂが存在しても、または消しゴム試験後に窪み１０Ｂが発現した場合であっても、高い透明性、低ヘイズ性が得られる。また、消しゴム試験後に、好ましい膜質が得られるための窪みが得られるのは、この上限が効いていると考えられる。この上限を超えた場合、膜質制御が難しくなり、好ましい物性が得られない場合がある。またこのＳａの下限は、ロールや枚葉で製造するときに光学フィルムを重ねる可能性が高く、その際のフィルム同士の貼り付きを防止する観点から、０．０１ｎｍ以上、または０．０５ｎｍ以上となっていてもよい。
【０１３１】
（バインダ樹脂）
第２の機能層１４に含まれるバインダ樹脂は、第１の機能層１３に含まれるバインダ樹脂と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１３２】
（滑剤）
滑剤は、光学フィルム１０の表面１０Ａに滑り性を付与するためのものである。滑剤は、重合性官能基を有するものが好ましい。滑剤として重合性官能基を有する滑剤を用いた場合には、滑剤は第２の機能層１４中においてバインダ樹脂と結合した状態で存在する。
【０１３３】
滑剤としては、光学フィルムの表面の滑り性を向上させやすい観点から、シリコーン系滑剤が好ましい。シリコーン系滑剤としては、特に限定されないが、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチル水素ポリシロキサン等のストレートシリコーンや変性シリコーンが挙げられる。
【０１３４】
変性シリコーンとしては、例えば、（メタ）アクリル変性シリコーン等のエチレン性不飽和基変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、アミド変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン等が挙げられる。
【０１３５】
滑剤の市販品としては、例えば、ＢＹＫ−３１３、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（いずれもビックケミー・ジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【０１３６】
滑剤の重量平均分子量は、３０００以上２００００以下であることが好ましい。滑剤の重量平均分子量が３０００以上であると、面質上の問題の発生を抑制でき、また滑剤の重量平均分子量が２００００以下であると、樹脂との相溶性が悪化することを抑制できる。
【０１３７】
滑剤の含有量は、バインダ樹脂を構成する重合性化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上０．５質量部以下であることが好ましい。滑剤の含有量が０．０１質量部以上であると、第２の機能層の表面の動摩擦係数が低くなり、優れた滑り性を得ることができ、また０．５質量部以下であると、耐擦傷性の低下を抑制できる。
【０１３８】
滑剤と防汚剤の両方を含ませる場合の含有割合は、１：９〜５：５であることが好ましい。含有割合がこの範囲内にあれば、より優れた耐擦傷性およびより優れた耐摩耗性を有する光学フィルムを得ることができる。
【０１３９】
（防汚剤）
防汚剤は、光学フィルム１０の表面１０Ａに指紋等の汚れが付着するのを防ぐためのものである。防汚剤は、重合性官能基を有するものが好ましい。防汚剤として重合性官能基を有する防汚剤を用いた場合には、防汚剤は第２の機能層中においてバインダ樹脂と結合した状態で存在する。
【０１４０】
防汚剤としては、フッ素系防汚剤やフッ素シリコーン系防汚剤等のフッ素含有防汚剤が好ましい。フッ素含有防汚剤を用いた場合には、指紋が付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好である。また、第２の機能層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する第２の機能層の外観が良好なものとなる。フッ素含有防汚剤の中でも、消しゴムとの摩擦力を低下させる観点から、シロキサン骨格のようなＳｉを含む構造とパーフルオロエーテルのようなＦを含む構造を同時に含む化合物であるフッ素シリコーン系防汚剤が好ましい。このようにＳｉとＦを同時に含む防汚剤の場合には、これだけであっても良好な物性を得ることができる。なお、フッ素系の防汚剤とシリコーン系の防汚剤を複数一緒に含ませることでも滑り性および防汚性を良好にできる。
【０１４１】
フッ素系防汚剤の市販品としては、例えば、オプツールＤＡＣ、オプツールＤＳＸ（いずれもダイキン工業株式会社製）、メガファックＲＳ−５６、メガファックＲＳ−７１、メガファックＲＳ−７４、メガファックＲＳ−７５（いずれもＤＩＣ株式会社製）、ＬＩＮＣ１５２ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１５１ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１８２ＵＡ（いずれも共栄社化学株式会社製）、フタージェント６５０Ａ、フタージェント６０１ＡＤ、フタージェント６０２等が挙げられる。
【０１４２】
フッ素シリコーン系防汚剤の市販品としては、例えば、メガファックＲＳ−８５１、メガファックＲＳ−８５２、メガファックＲＳ−８５３、メガファックＲＳ−８５４（いずれもＤＩＣ株式会社製）、オプスターＴＵ２２２５、オプスターＴＵ２２２４（いずれもＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。
【０１４３】
防汚剤の重量平均分子量は、３０００以上２００００以下であることが好ましい。防汚剤の重量平均分子量が３０００以上であると、面質上の問題の発生を抑制でき、また防汚剤の重量平均分子量が２００００以下であると、樹脂との相溶性が悪化することを抑制できる。
【０１４４】
防汚剤の含有量は、バインダ樹脂を構成する重合性化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上０．５質量部以下であることが好ましい。防汚剤の含有量が０．０１質量部以上であると、優れた防汚性を得ることができ、また０．５質量部以下であると、耐擦傷性の低下を抑制できる。
【０１４５】
（粒子）
第２の機能層に特に大きな粒子を添加すると、光学フィルムの表面に大きな凹凸形状が形成されるので、光学フィルムの表面に対し消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）や消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行うと、粒子が脱落し、粒子の脱落に起因して光学フィルムの表面に傷が生じるおそれがある。これに対し、光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数が、０．７０以下となっているので、消しゴムが滑りやすい。このため、第２の機能層１４に粒子を添加したとしても、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）や消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行ったときに粒子が脱落しにくく、傷が生じるのを抑制できる。粒子は、第１の機能層１３の欄で説明した粒子と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１４６】
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ上に、バーコーター等の塗布装置によって、第１の機能層用組成物を塗布して、第１の機能層用組成物の塗膜を形成する。
【０１４７】
＜第１の機能層用組成物＞
第１の機能層用組成物は、硬化後にバインダ樹脂となる重合性化合物および粒子を含んでいる。第１の機能層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、レベリング剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。
【０１４８】
（溶剤）
上記溶剤としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶剤、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶剤としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、第１の機能層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンが好ましい。
【０１４９】
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【０１５０】
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【０１５１】
第１の機能層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法でこの塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。
【０１５２】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を半硬化（ハーフキュア）させる。本明細書における「半硬化」とは、電離放射線をさらに照射すると硬化が実質的に進行することを意味する。ただし、この段階で、塗膜を完全硬化（フルキュア）させてもよい。本明細書における「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても硬化が実質的に進行しないことを意味する。本明細書における電離放射線としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。
【０１５３】
塗膜を半硬化させた後、塗膜上に、バーコーター等の塗布装置によって、第２の機能層を形成するための第２の機能層用組成物を塗布して、第２の機能層用組成物の塗膜を形成する。
【０１５４】
＜第２の機能層用組成物＞
第２の機能層用組成物は、硬化後にバインダ樹脂となる重合性化合物、滑剤および防汚剤を含んでいる。第２の機能層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。第２の機能層用組成物は、溶剤および重合開始剤は、第１の機能層用組成物で説明した溶剤および重合開始剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１５５】
第２の機能層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法でこの塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。
【０１５６】
塗膜を乾燥させた後、第２の機能層用組成物の塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、第１の機能層用組成物の塗膜および第２の機能層用組成物の塗膜を完全硬化（フルキュア）させて、第１の機能層１３および第２の機能層１４を形成して、機能層１２を得る。これにより、図１に示される光学フィルム１０が得られる。
【０１５７】
本実施形態によれば、原子間力顕微鏡を用いて、上記消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの５μｍ角の領域を観察したとき、この領域内に外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状、または径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みが１個以上５０個以下存在し、かつ消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）が、０．７０以下となっており、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）に対する消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）の変化率が、３５％以内であるので、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現でき、かつ優れた防汚性を実現できる光学フィルム１０を得ることができる。これは、以下の理由によるものと考えられる。機能層に滑剤および防汚剤を含ませた場合、または機能層に滑剤を含まない場合であっても、単一種類ではなく、複数種類の防汚剤を混在させた場合または複数種類の元素を含む防汚剤を含ませた場合、消しゴム試験前の光学フィルムの表面における動摩擦係数が０．７０以下とさせることができるので、スチールウールや消しゴムと機能層の表面との間に働く動摩擦力が低く、スチールウールや消しゴムが滑りやすくなる。特に、機能層に滑剤および防汚剤を含ませた場合、滑剤（例えばシリコーン系滑剤）または防汚剤が局所的に高濃度で存在しているので、スチールウールや消しゴムがより滑りやすくなる。また、消しゴムと機能層の表面との間に働く動摩擦力が低いと、消しゴムとの摩擦による光学フィルムの表面からの防汚剤の大幅な脱落を抑制することができるので、消しゴム試験による接触角の低下を抑制することができ、優れた防汚性を得ることができる。そして、このような光学フィルムに対して消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）を行うと、光学フィルムの表面が擦られることによって、局所的に存在している滑剤または防汚剤の一部が若干脱落して、上記窪みが形成される。ここで、大部分の滑剤または防汚剤は窪みに残存しているので、その影響で消しゴム試験前のみならず消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後であってもスチールウールや消しゴムと機能層の表面との間に働く動摩擦力が低くなるので、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）に対する消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重５００ｇ）の変化率を３５％以内とすることができる。このため、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後であっても、スチールウールや消しゴムが滑りやすくなる。これにより、消しゴム試験前のみならず、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後においても、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現でき、かつ優れた防汚性を実現できる。
【０１５８】
また、本実施形態によれば、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行ったとき、原子間力顕微鏡を用いて測定した消しゴム試験前の光学フィルムの表面の５μｍ角の領域の平均算術高さと原子間力顕微鏡を用いて測定された消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面の５μｍ角の領域の平均算術高さの差の絶対値が０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下であり、かつ消しゴム試験前の光学フィルムの表面の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）が、０．７０以下となっており、消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）に対する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の変化率が、３５％以内であるので、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を有する光学フィルムを得ることができる。これは、以下の理由によるものと考えられる。通常、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行うと、光学フィルムの表面の成分は脱落しやすいので、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面の算術平均高さは、著しく大きくなる傾向がある。これに対し、本実施形態の機能層のように機能層に滑剤および防汚剤を含ませた場合、または機能層に滑剤を含まない場合であっても、単一種類ではなく、複数種類の防汚剤を混在させた場合または複数種類の元素を含む防汚剤を含ませた場合には、消しゴム試験前の光学フィルムの表面における動摩擦係数（荷重１０００ｇ）が０．７０以下とさせることができるので、スチールウールや消しゴムと機能層の表面との間に働く動摩擦力が低く、スチールウールや消しゴムが滑りやすくなる。そして、このような光学フィルムに対して消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行うと、上記したように局所的に存在している滑剤または防汚剤の一部が若干脱落するものの、滑剤または防汚剤の作用によって滑り易いので、消しゴムによって削り取られる成分が少なく、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後における光学フィルムの表面の平均算術高さの差の絶対値が０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下とすることができ、また消しゴム試験前の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）に対する消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルム１０の表面１０Ａの動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の変化率を３５％以内とすることができる。これにより、消しゴム試験前のみならず、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後においても、優れた耐擦傷性および優れた耐摩耗性を実現でき、かつ優れた防汚性を実現できる。
【０１５９】
＜＜＜＜偏光板＞＞＞＞
光学フィルム１０は、偏光板に組み込んで使用することが可能である。図９は、本実施形態に係る偏光板の概略構成図である。図９に示されるように、偏光板２０は、光学フィルム１０と、偏光子２１と、保護フィルム２２とをこの順で備えている。本明細書における「偏光板」とは、少なくとも偏光子が含まれている積層体を意味しており、偏光板２０の構成以外に、例えば偏光子と本発明の光学フィルムが粘着剤や接着剤を介して一体化した積層体も含まれる。その際、偏光子と本発明の光学フィルムの間には、何らかの機能を有する機能層が存在してもよい。
【０１６０】
光学フィルム１０と偏光子２１および偏光子２１と保護フィルム２２は、例えば、水系接着剤または紫外線硬化性接着剤によって貼り合わせられている。
【０１６１】
＜＜＜偏光子＞＞＞
偏光子２１は、樹脂基材１１における第１の面１１Ａとは反対側の第２の面１１Ｂ側に設けられている。偏光子２１は、ヨウ素または二色性色素により染色し、一軸延伸させたポリビニルアルコール系樹脂フィルムが上げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等を用いることもできる。
【０１６２】
＜＜＜保護フィルム＞＞＞
保護フィルム２２としては、例えば、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）や（メタ）アクリル樹脂フィルム等が挙げられる。
【０１６３】
＜＜＜＜画像表示装置＞＞＞＞
光学フィルム１０は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図１０は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図１０に示されるように、画像表示装置３０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体３１、保護フィルム３２、表示素子３３、円偏光板３４、タッチセンサ３５、および光学フィルム１０がこの順で積層されている。表示素子３３と円偏光板３４との間、円偏光板３４とタッチセンサ３５との間、タッチセンサ３５と光学フィルム１０との間には、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)等の光透過性接着層３６が配置されており、これら部材は光透過性接着層３６によって互いに固定されている。なお、上記画像表示装置は一例であり、フォルダブルやローラブルを目的とした場合は、この限りではない。
【０１６４】
光学フィルム１０は、機能層１２が樹脂基材１１よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置３０においては、光学フィルム１０の機能層１２の表面１２Ａが、画像表示装置３０の表面３０Ａを構成している。
【０１６５】
表示素子３３は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）素子となっているが、表示素子としては、液晶表示素子、無機発光ダイオード素子、または量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）であってもよい。
【０１６６】
タッチセンサ３５は、円偏光板３４よりも表示素子３３側に配置されているが、円偏光板３４と光学フィルム１０との間に配置されていてもよい。また、タッチセンサ３５は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。
【０１６７】
光学フィルム１０の用途は、特に限定されないが、スマートフォン、タブレット端末、タッチ機能を有するパーソナルコンピュータ等の画像表示装置において、特に好適に用いることができる。
【実施例】
【０１６８】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。【０１６９】
＜ハードコート層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。【０１７０】
（ハードコート層用組成物１）
・ジペンタエリスリトールポリアクリレート（製品名「Ａ−９５５０」、新中村化学工業株式会社製）：７０質量部
・シリカ粒子（製品名「ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ」、日産化学工業株式会社製）：３０質量部 
・フッ素系レベリング剤（製品名「メガファックＦ−４４４」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７１】
（ハードコート層用組成物２）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３３３」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１．質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−５６」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７２】
（ハードコート層用組成物３）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−５６」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７３】
（ハードコート層用組成物４）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３７８」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：１００質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−５６」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７４】
（ハードコート層用組成物５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：１００質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−５６」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７５】
（ハードコート層用組成物６）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−５６」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７６】
（ハードコート層用組成物７）
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールＥＯ変性ヘキサアクリレート（製品名「Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ」、新中村化学工業株式会社製）：２５質量部
・異形シリカ粒子（平均粒子径２５ｎｍ、日揮触媒化成株式会社製）：５０質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ  Ｂ．Ｖ．社製）：４質量部
・フッ素シリコーン系レベリング剤（製品名「フッ素シリコーンコーティング剤 ＫＰ９１１」、信越化学株式会社製）：０．２質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部【０１７７】
（ハードコート層用組成物８）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３４５」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−７５」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部
・易滑剤（製品名「Ｈ６５」、ＣＩＫナノテック株式会社製）：１．５質量部【０１７８】
（ハードコート層用組成物９）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−７５」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１７９】
（ハードコート層用組成物１０）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３１３」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−７５」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１８０】
（ハードコート層用組成物１１）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３２２」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−７５」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１８１】
（ハードコート層用組成物１２）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」、新中村化学工業株式会社製）：１００質量部
・シリコーン系滑剤（製品名「ＢＹＫ−３３１」、ビックケミー・ジャパン株式会社製）：０．１質量部
・フッ素含有防汚剤（製品名「メガファックＲＳ−７５」、ＤＩＣ株式会社製）：０．１質量部【０１８２】
＜実施例１＞
樹脂基材として、大きさが２１０ｍｍ×２９７ｍｍ（Ａ４サイズ）および厚さが８０μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「ＫＣ８ＵＡＷ」、コニカミノルタ株式会社製）を準備し、トリアセチルセルロース基材の一方の面である第１の面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、４０秒間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を半硬化（ハーフキュア）させた。次いで、半硬化させたハードコート層用組成物１の塗膜の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化（フルキュア）させた。これにより、トリアセチルセルロース基材上に、膜厚が１５μｍの第１のハードコート層と、第１のハードコート層上に積層された膜厚が５μｍの第２のハードコート層とからなるハードコート層を備える光学フィルムを得た。【０１８３】
第１のハードコート層や第２のハードコート層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いた。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとした。その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら１００００〜５００００倍の範囲内で適宜調節した。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、ビームモニタ絞りを「３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。実施例２〜実施例１３および比較例１〜５においても、実施例１と同様の手法によって基材の厚み、およびハードコート層の膜厚を測定した。【０１８４】
＜実施例２＞
実施例２においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物３を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１８５】
＜実施例３＞
実施例３においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物４を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１８６】
＜実施例４＞
実施例４においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物５を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１８７】
＜実施例５＞
実施例５においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物６を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１８８】
＜実施例６＞
実施例６においては、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「ＫＣ８ＵＡＷ」、コニカミノルタ株式会社製）の代わりに、厚さ６０μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「ＫＣ６ＵＡＷ」、コニカミノルタ株式会社製）を用い、またハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物７を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１８９】
＜実施例７＞
実施例７においては、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「ＫＣ８ＵＡＷ」、コニカミノルタ株式会社製）の代わりに、厚さ２５μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「Ｚ−ＴＡＣ」、富士フイルム株式会社製）を用い、またハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物７を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９０】
＜実施例８＞
実施例８においては、トリアセチルセルロース基材の代わりに、厚さ４８μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、東洋紡株式会社製）を用い、またハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物７を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９１】
＜実施例９＞
実施例９においては、トリアセチルセルロース基材の代わりに、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、東洋紡株式会社製）を用い、またハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物７を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９２】
＜実施例１０＞
実施例１０においては、トリアセチルセルロース基材の代わりに、厚さ５０μｍのシクロオレフィンポリマー基材（製品名「ゼオノアフィルム（登録商標）ＺＦ１６」、日本ゼオン株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９３】
＜実施例１１＞
実施例１１においては、トリアセチルセルロース基材の代わりに、厚さ２５μｍのシクロオレフィンポリマー基材（製品名「ゼオノアフィルム（登録商標）ＺＦ１６」、日本ゼオン株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９４】
＜実施例１２＞
実施例１２においては、トリアセチルセルロース基材の代わりに、厚さ６０μｍのポリイミド基材（商品名「ネオプリム（登録商標）」、三菱ガス化学株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。なお、上記ネオプリム（登録商標）は、ポリイミド基材として市販されているものであった。【０１９５】
＜実施例１３＞
実施例１３においては、トリアセチルセルロース基材の代わりに、厚さ２０μｍのポリイミド基材（商品名「ネオプリム（登録商標）」、三菱ガス化学株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。なお、上記ネオプリム（登録商標）は、ポリイミド基材として市販されているものであった。【０１９６】
＜比較例１＞
比較例１においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物８を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９７】
＜比較例２＞
比較例２においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物９を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９８】
＜比較例３＞
比較例３においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物１０を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０１９９】
＜比較例４＞
比較例４においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物１１を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０２００】
＜比較例５＞
比較例５においては、ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物１２を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを得た。【０２０１】
＜消しゴム試験前後の窪み確認＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る光学フィルムにおいて、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（製品名「ＷＥＴ−９１００」、株式会社島津製作所製）を用いて、消しゴム試験前後の光学フィルムの表面の５μｍ角の領域を観察して、前記領域内に存在する外径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の環状、直径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の円状ならびに径０．１μｍ以上２．５μｍ以下および深さ１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不定形状の少なくともいずれかの窪みを確認およびこのような窪みの数をカウントした。そして、このような窪みが１個以上５０個以下存在する場合を「有」とし、１個以上５０個以下存在しない場合を「無」とした。また、このような窪みよりも内側に高さ１ｎｍ以上の突起が存在するか確認した。そして、このような突起が存在しない場合を「無」とし、存在する場合を「有」とした。なお、実施例７に係る光学フィルムにおいて、窪みの観察等を行わなかったのは、実施例６と同様のハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成したからであり、実施例９に係る光学フィルムにおいて、窪みの観察等を行わなかったのは、実施例８と同様のハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成したからであり、実施例１１に係る光学フィルムにおいて、窪みの観察等を行わなかったのは、実施例１０と同様のハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成したからであり、実施例１３に係る光学フィルムにおいて、窪みの観察等を行わなかったのは、実施例１２と同様のハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成したからである。【０２０２】
窪みの確認を行う際には、まず、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに光学フィルムを３つ切り出し、３つのサンプルを得た。そして、３つのサンプルの裏面に、それぞれ油性ペンにより２０ｍｍ×４０ｍｍの長方形状の枠を描いた。長方形状の枠は、長手方向がサンプルの長手方向と平行になるように描いた。そして、３つのサンプルのうち２つのサンプルにおいて消しゴム試験を行った。【０２０３】
上記消しゴム試験は、以下のようにして行われた。まず、消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」、三菱鉛筆株式会社製）を用意した。この消しゴム付き鉛筆の直径は６ｍｍで、デュロメータ硬さ（タイプＡデュロメータ、タイプＡ（円柱状圧子）、ＪＩＳ  Ｋ６２５３：１９９７／ＩＳＯ７６１９（Ｒｕｂｂｅｒ））は６５以上９０以下であった。消しゴム付き鉛筆を用意した後、消しゴムの先端から５０ｍｍの位置で鉛筆を切断した。そして、切断した消しゴム付き鉛筆を消しゴム側とは反対側から直径６ｍｍの穴を有する治具に消しゴムが完全に露出するように挿入して、取り付けた。消しゴム付き鉛筆は、消しゴムの先端が治具から１．５ｍｍ程度露出するように治具に取り付けられた。そして、この消しゴム付き鉛筆を有する治具を学振型摩耗堅牢度試験機（製品名「ＡＢ−３０１」、テスター産業株式会社製）に取り付けた。治具は、消しゴム付き鉛筆がサンプル表面に対して垂直となるように上記試験機に取り付けられた。【０２０４】
一方で、上記で得られたサンプルの１つを上記学振型摩耗堅牢度試験機の試験片台に、皺がなく、かつ試験片台の表面に沿うようにサンプルを固定した。なお、サンプルは、試験片台の移動方向がサンプルの長手方向となり、また擦りの中心が枠内の中央となるように設置された。そして、この状態で、荷重５００ｇおよび擦り速度３０ｍｍ／秒で消しゴムによりサンプルの表面を４０００往復擦る消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）を行った。また、上記で得られた別のサンプルの１つを用いて、同様に、荷重１０００ｇおよび擦り速度３０ｍｍ／秒で消しゴムによりサンプルの表面を５０００往復擦るゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行った。すなわち、３つのうち１つのサンプルは、消しゴム試験を行っていないもの（消しゴム試験前のもの）であり、もう１つのサンプルは、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後のものであり、残り１つサンプルは、消しゴム試験（１０００ｇ×４０００往復）後のものであった。【０２０５】
上記各サンプルの表面における環状、円状や不定形状の窪みの確認は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（製品名「ＷＥＴ−９１００」、株式会社島津製作所製）による観察によって行われた。観察は、以下のようにして行われた。具体的には、まず、サンプルの枠内の領域中央において、少なくとも目視で異常のない箇所（大きい異物や擦りキズ等がない箇所）をランダムに３箇所選び出し、５ｍｍ角にカットして、３つの測定サンプルを得た。一方で、直径１５ｍｍおよび厚み１ｍｍの平坦な円形の金属板を複数用意し、それぞれの金属板に、日新ＥＭ株式会社製のカーボン両面テープを貼り付けた。そのテープ上に１つの測定サンプルを、測定サンプルの表面（光学フィルムの表面）が上側となるように貼り付けた。そして、テープと測定サンプルの接着を確実なものとするために、サンプル付き金属板をデシケーターの中で一晩放置する。一晩放置後、サンプル付き金属板を原子間力顕微鏡（製品名「ＷＥＴ−９４００」、株式会社島津製作所製）の測定台の上に磁石で固定し、タッピングモードにて、測定エリア５μｍ角で、原子間力顕微鏡により表面形状を観察した。【０２０６】
上記窪みの個数は、１つの測定サンプルに対して、ランダムに５箇所を選び、３測定サンプル×５箇所（計１５点）について、５μｍ角の領域に存在する窪みの個数をそれぞれカウントし、得られた１５点の窪みの個数の算術平均値を求めることによって算出した。ここで、窪みが環状の場合であって、上記窪みの全てではなく一部が上記領域内に存在する場合には、光学フィルムの表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡により観察して、図２に示される点線のように、上記領域内に存在している窪みの外縁を外挿して円とし、上記領域内に存在する窪みの外縁の内側の面積が外挿された円の半分の面積以上である場合には、窪みの一部であっても、窪みとしてカウントし、上記領域内に存在する窪みの一部の面積が外挿された円の半分の面積未満である場合には、窪みとしてカウントしないものとした。【０２０７】
上記窪みが環状である場合には、上記窪みであるか判断する際の窪みの外径および深さは、以下のようにして求めた。まず、サンプルの表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡で観察して、１個の窪みにおいて、図２に示されるように、窪みの外縁に存在する任意の点Ａから窪みの外縁に存在する他の任意の点Ｂまでの長さが最も長くなるような線を引き、点Ａから点Ｂまでの線の長さ（外径）を求めた。また、この線に沿って点Ａから点Ｂまで深さを測定し、点Ａから点Ｂまでの深さのうち基準位置から最も深い深さを求めた。なお、深さの基準位置は、原子間力顕微鏡で光学フィルムの表面形状を読み取ることによって自動的に決定された。そして、この測定を３箇所で行い、３箇所で測定された長さの算術平均値を求めることによって窪みの外径を算出するとともに、３箇所で測定された３つの深さの算術平均値を求めることによって窪みの深さを算出した。なお、窪み内においては、アスペクト比が５以上の局所的に深い孔が存在する場合もあり、その孔が窪みの深さの測定の際に考慮されると、窪みの深さの値が正確に求められないので、点Ａから点Ｂの間にこのような局所的に深い孔が存在しないように点Ａおよび点Ｂを決定した。窪みが円状である場合にも、窪みが環状である場合と同様にして、直径や深さを求めた。【０２０８】
上記窪みが不定形状である場合には、窪みの径は、以下のようにして求めた。まず、図２に示されるように、サンプルの表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡で観察して、１個の窪みにおいて、窪みの中央部と考えられる部分を通る直線Ｌ１を引いた。この直線Ｌ１と窪みの外縁とが交わる点Ｃ１、点Ｄ１を求めた。そして、点Ｃ１と点Ｄ１間の距離ＤＳ１を測定するとともに距離ＤＳ１の中点Ｍを求めた。また、中点Ｍを通り、直線Ｌ１に対し６０°となる仮想の直線Ｌ２を引き、この直線Ｌ２と窪み１０Ｂの外縁とが交わる点Ｃ２、点Ｄ２を求めて、点Ｃ２と点Ｄ２間の距離ＤＳ２を測定した。さらに、中点Ｍを通り、直線Ｌ１に対し１２０°となり、かつ直線Ｌ２と重ならない仮想の直線Ｌ３引き、この直線Ｌ３と窪み１０Ｂの外縁とが交わる点Ｃ３、点Ｄ３を求めて、点Ｃ３と点Ｄ３間の距離ＤＳ３を測定した。そして、距離ＤＳ１〜ＤＳ３の平均値を求め、これを径とした。また、窪みが不定形状である場合にも、窪みが環状である場合と同様にして、深さを求めた。【０２０９】
＜消しゴム試験前後の算術平均高さ（Ｓａ）の測定＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る光学フィルムにおいて、消しゴム試験前および消しゴム試験（５０００往復）後の算術平均高さ（Ｓａ）を、原子間力顕微鏡（例えば、製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）を用いて、以下のように算出し、消しゴム試験前の算術平均高さ（Ｓａ）と消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の算術平均高さ（Ｓａ）の差の絶対値を求めた。具体的には、まず、消しゴム試験前の光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに２つ切り出し、２つのサンプルを得た。そして、２つのサンプルの裏面に、それぞれ油性ペンにより２０ｍｍ×４０ｍｍの長方形状の枠を描いた。長方形状の枠は、長手方向がサンプルの長手方向と平行になるように描いた。そして、２つのサンプルのうち１つのサンプルにおいて消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行った。消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）は、上記＜消しゴム試験前後の窪み確認＞の欄の中の消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）と同様の条件で行った。【０２１０】
そして、各サンプルの枠内の領域中央において、少なくとも目視で異常のない箇所（大きい異物や擦りキズ等がない箇所）をランダムに３箇所選び出し、５ｍｍ角にカットして、３つの測定サンプルを得た。一方で、直径１５ｍｍおよび厚み１ｍｍの平坦な円形の金属板を複数用意し、それぞれの金属板に、日新ＥＭ株式会社製のカーボン両面テープを貼り付けた。そのテープ上に１つの測定サンプルを、測定サンプルの表面（光学フィルムの表面）が上側となるように貼り付けた。そして、テープと測定サンプルの接着を確実なものとするために、サンプル付き金属板をデシケーターの中で一晩放置した。【０２１１】
一晩放置後、測定サンプル付き金属板を原子間力顕微鏡（製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）の測定台の上に置き、タッピングモードにて、測定エリア５μｍ角で、原子間力顕微鏡により表面形状を観察した。そして、観察したデータから原子間力顕微鏡に内蔵されている面解析ソフトを用いて、算術平均高さＳａを算出した。なお、面解析時における縦のスケールは２０ｎｍとした。観察は室温で行い、カンチレバーとしてはオリンパス株式会社製のＳＩ−ＤＦ４０Ｐ２を使用した。また、観察に際しては、１つの測定サンプルに対して、ランダムに５箇所を選び、３測定サンプル×５箇所（計１５点）について、それぞれ表面形状を観察した。そして、得られた１５点のデータ全てにおいて、原子間力顕微鏡に内蔵の面解析ソフトを用いてＳａを算出し、１５点の算術平均値を測定サンプルのＳａとした。消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後のサンプルにおいても、消しゴム試験前の光学フィルムと同様の方法によって、算術平均高さ（Ｓａ）を測定した。そして、消しゴム試験前の測定サンプルの表面の５μｍ角の領域の算術平均高さ（Ｓａ）と消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の測定サンプルの表面の５μｍ角の領域の算術平均高さ（Ｓａ）の差の絶対値を求めた。【０２１２】
＜消しゴム試験前後の動摩擦係数の測定＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る光学フィルムにおいて、消しゴム試験前後における光学フィルムの表面の動摩擦係数をそれぞれ測定し、また消しゴム試験前の光学フィルムの表面の動摩擦係数に対する消しゴム試験後の光学フィルムの表面の動摩擦係数の変化率を求めた。消しゴム試験前の光学フィルムの表面の動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、後述する消しゴム疑似試験（５００ｇ×４０００往復）で１往復擦ったときのサンプルの動摩擦係数とし、消しゴム試験前の光学フィルムの表面の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、後述する消しゴム疑似試験（１０００ｇ×５０００往復）で１往復擦ったときのサンプルの動摩擦係数とし、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルムの表面の動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、消しゴム疑似試験（５００ｇ×４０００往復）で４０００往復擦ったときのサンプルの動摩擦係数とし、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、消しゴム疑似試験（１０００ｇ×５０００往復）で５０００往復擦ったときのサンプルの動摩擦係数とした。動摩擦係数測定の際に行われる消しゴム疑似試験は、＜消しゴム試験前後の窪みおよび突起確認＞の欄に記載している消しゴム試験を模したものである。【０２１３】
具体的には、まず、消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」、三菱鉛筆株式会社製）を用意し、消しゴムの先端から５０ｍｍの位置で該鉛筆を切断した。そして、切断した消しゴム付き鉛筆を消しゴム側とは反対側から直径６ｍｍの穴を有する治具に消しゴムの先端が完全に露出するように挿入して、治具に取り付けた。消しゴム付き鉛筆は、消しゴムの先端が治具から１．５ｍｍ程度露出するように治具に取り付けられた。その後、この消しゴム付き鉛筆を有する治具を動摩擦摩耗測定機（製品名「ハンディートライボマスターＴｙｐｅ：ＴＬ２０１Ｔｓ」、株式会社トリニティラボ製）の測定ユニットの軸に両面テープで固定した。この状態で、動摩擦摩耗測定機に電気的に接続されたパーソナルコンピューター（ＰＣ）の画面上で専用ソフト（トライボ解析ソフト）を立ち上げた。【０２１４】
一方で、消しゴム試験前の光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、６つのサンプルを得た。６つのサンプルのうち、３つのサンプルは、消しゴム試験前の動摩擦係数および消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の動摩擦係数を測定するためのものであり、残り３つのサンプルは、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の動摩擦係数を測定するためのものである。そして、これらのサンプルの裏面に、それぞれ擦り領域の中心が容易に分かるように油性ペンにより２０ｍｍ×４０ｍｍの枠状の目印を描いた。なお、目印は、長手方向がサンプルの長手方向と平行になるように描かれた。その後、静・動摩擦摩耗測定機の駆動ユニット上に、動摩擦係数を測定する面を上側にして、皺がなく、かつ駆動ユニットの表面に沿うようにサンプルの四辺をセロテープ（登録商標）で固定した。なお、サンプルは、駆動ユニットの移動方向がサンプルの長手方向となり、また擦り領域の中心が目印内の中央となるように設置された。また、この冶具の上面に５００ｇの重りを両面テープで固定して、サンプルに測定ユニットの消しゴム部分をサンプルの表面に垂直に接触させた。そして、擦り長さ（片道）を２０ｍｍ、擦り速度を４０往復／分、往復回数を４０００回、測定モードを連続測定に設定して、ＰＣの画面上のスタートスイッチを押して、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、消しゴム疑似試験（５００ｇ×４０００往復）を行うとともに、サンプルの動摩擦係数（荷重５００ｇ）の測定を開始した。この消しゴム疑似試験中、動摩擦係数（荷重５００ｇ）を連続的に測定して、時間を横軸に、その時の動摩擦力が縦軸となるグラフを得た。各往復回数時点における動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、その往復回数に至る時間における動摩擦力を垂直抗力で割ることで算出した。それぞれの動摩擦係数（荷重５００ｇ）は、３つのサンプルについて測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。なお、１回測定する毎に、消しゴムの先端の露出を１．５ｍｍに調整した。また、上記数式（２）に基づいて、消しゴム疑似試験前のサンプルの表面の動摩擦係数（荷重５００ｇ）に対する消しゴム疑似試験（５００ｇ×４０００往復）後のサンプルの表面の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の変化率を求めた。【０２１５】
また、残り３つのサンプルを用いて、同様に消しゴム疑似試験（１０００ｇ×５０００往復）を行うとともに動摩擦係数（荷重１０００ｇ）を測定した。なお、この場合には、重りを５００ｇから１０００ｇに代えるとともに往復回数を５０００回に設定した。動摩擦係数（荷重１０００ｇ）は、３つのサンプルについて測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。また、上記数式（２）に基づいて、消しゴム疑似試験前のサンプルの表面の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）に対する消しゴム疑似試験（１０００ｇ×５０００往復）後のサンプルの表面の動摩擦係数（荷重１０００ｇ）の変化率を求めた。【０２１６】
＜消しゴム試験前後の接触角維持率＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る光学フィルムにおいて、消しゴム試験前後における光学フィルムの表面の水に対する接触角をそれぞれ測定し、消しゴム試験前の接触角に対する消しゴム試験後の接触角の維持率を算出した。消しゴム試験としては、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）および消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行った。【０２１７】
まず、上記＜消しゴム試験前後の窪み確認＞の欄に記載したサンプルと同様のサンプルを３つ得た。そして、３つサンプルのうち１つのサンプルに対して、上記＜消しゴム試験前後の窪みおよび突起確認＞の欄に記載した消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）を行い、またもう１つのサンプルに対して、上記＜消しゴム試験前後の窪み確認＞の欄に記載した消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）を行った。【０２１８】
そして、２３℃において、顕微鏡式接触角計（製品名「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ３００」、協和界面科学株式会社製）を用い、ＪＩＳ  Ｒ３２５７：１９９９に記載の静滴法に準拠した方法によりサンプルの表面の水に対する接触角を測定した。具体的には、まず、消しゴム試験前のサンプルから３０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出して、測定サンプルを得た。測定サンプルは、２０ｍｍ×４０ｍｍの枠状の目印を含むように切り出された。そして、２５ｍｍ×７５ｍｍの大きさのスライドガラス上にこの測定サンプルを両面テープで平坦に貼り付けた。なお、上記枠がスライドガラスに収まるように測定サンプルを貼り付けた。その後、測定サンプルが帯びている静電気が測定結果に影響を及ぼさないようにするために、イオナイザー（例えば、製品名「ＫＤ−７３０Ｂ」、春日電機株式会社製）にてイオンを照射することによって測定サンプルを３０秒間除電した。そして、除電後、注射器にて１μＬの水を第２のハードコート層の表面に滴下して、５秒間保持した。そして、顕微鏡式接触角計のスイッチを押して水に対する接触角を測定した。接触角の測定は、温度２３℃、相対湿度５０％の環境下で行われた。また接触角は１０点測定し、それらの算術平均値を消しゴム試験前の光学フィルムの表面の接触角とした。消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルムの表面における水に対する接触角は、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後のサンプルを用いること以外は、また消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面における水に対する接触角は、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後のサンプルを用いること以外は、消しゴム試験前の光学フィルムの表面における水に対する接触角の測定方法と同様の方法によって、測定された。そして、上記数式（３）に従って、接触角維持率を求めた。【０２１９】
＜スチールウール（ＳＷ）試験＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る消しゴム試験前の光学フィルムの表面（ハードコート層の表面）に対して、スチールウール試験を行い、評価した。具体的には、消しゴム試験前の光学フィルムから５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、消しゴム試験前のサンプルを得た。そして、サンプルの表面（光学フィルムの表面）が上面となるように学振型摩耗堅牢度試験機（製品名「ＡＢ−３０１」、テスター産業株式会社製）の試験片台に皺やカールが無いように平坦にサンプルを固定した。そして、スチールウール＃００００（日本スチールウール（株）製、商品名「ボンスター  Ｂ−２０４」）をこの試験機にセットしてサンプルの表面に接触させ、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、移動速度１００ｍｍ／秒、１往復での移動距離２００ｍｍ（片道移動距離１００ｍｍ）にて、荷重１ｋｇ／ｃｍ２を加えながらスチールウールを５０００往復擦った。スチールウールと光学フィルムの表面との接触面積は１ｃｍ２とした。上記ボンスターＢ−２０４は、横：約３９０ｍｍ、縦：約７５ｍｍ、厚み：約１１０ｍｍの業務用サイズであった。ここから、適量をちぎりとり、（切断するとスチールウール繊維の断面が出るため刃物切断しない）特異なスチールウール突出部がない状態まで均一に丸めた。そして荷重１ｋｇを加えた場合、接触面積が１ｃｍ２のときにスチールウールの厚みが２０ｍｍになるよう設定した。その後、サンプルについて、蛍光灯下（サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘ、観察距離３０ｃｍ）およびＬＥＤ照明下（サンプル上の照度が４０００〜６０００Ｌｘ、観察距離３０ｃｍ）にて肉眼で観察し、サンプルの表面に傷の有無を目視により確認した。評価基準は、以下の通りとした。
○：傷が確認されなかった。
×：傷が確認された。【０２２０】
＜鉛筆硬度試験＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る消しゴム試験前の光学フィルムの表面（ハードコート層の表面）における鉛筆硬度を、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。なお、鉛筆硬度の測定の際には、光学フィルムから５０ｍｍ×１００ｍの大きさに切り出して、消しゴム試験前のサンプルを得た。このサンプルをガラス板上に折れや皺がないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で、鉛筆に１ｋｇの荷重を加えながら、鉛筆を速度１ｍｍ／秒で移動させた。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下でサンプル（光学フィルム）の表面を透過観察した際にサンプルの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においてはサンプルの表面に傷が付かなかったと判断する。【０２２１】
＜全光線透過率測定＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る消しゴム試験前の光学フィルムの全光線透過率を、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、測定した。上記全光線透過率は、消しゴム試験前の光学フィルムから５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、サンプルを得た。そして、このサンプルを、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態でハードコート層側が非光源側となるように設置し、サンプル１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０２２２】
＜ヘイズ値測定＞
実施例１〜６、８、１０、１２および比較例１〜５に係る消しゴム試験前の光学フィルムのヘイズ値（全ヘイズ値）を、ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、測定した。上記ヘイズ値は、光学フィルムから５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、消しゴム試験前のサンプルを得た。そして、このサンプルを、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態でハードコート層側が非光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０２２３】
＜フレキシブル性評価＞
（１）折り畳み試験後の割れ・破断評価
実施例６〜１３に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験を行い、割れおよび破断を評価した。具体的には、まず、消しゴム試験前の光学フィルムから１２５ｍｍ×５０ｍｍの長方形状のサンプルを１枚切り出した。サンプルを切り出した後、折り畳み耐久試験機として、Ｕ字伸縮試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製）に、このサンプルの短辺（５０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図５（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が２ｍｍ（屈曲部の外径２ｍｍ）となるようにして取り付け、以下の条件で、このサンプルのハードコート層側の面を１８０°折り畳む試験（ハードコート層が内側となり、基材が外側となるように折り畳む試験）を１０万回行った。
（折り畳み条件）
・往復速度：８０ｒｐｍ（回毎分）
・試験ストローク：６０ｍｍ
・屈曲角度：１８０°【０２２４】
そして、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。評価基準は、以下の通りとした。なお、折り畳み試験前における各光学フィルムの屈曲部となる領域を観察したところ、割れや破断は観察されなかった。評価基準は、以下の通りであった。
（折り畳み性）
◎：折り畳み試験後においても、屈曲部に割れまたは破断が生じていなかった。
○：折り畳み試験後において、屈曲部に割れが若干生じていたが、実使用上問題のないレベルであった。
△：折り畳み試験後において、屈曲部に割れまたは破断が生じていた。【０２２５】
また、同様に、実施例６〜１３に係る光学フィルムから上記と同様のサンプルを作製し、サンプルの短辺側を固定部でそれぞれ固定し、対向する２つの辺部の最小の間隔φが２ｍｍ（屈曲部の外径２ｍｍ）となるようにして取り付け、ハードコート層側が内側となるようにサンプルを２０万回繰り返し１８０°折り畳む折り畳み試験を行い、同様にして、折り畳み試験後のサンプルの割れや破断を観察して、上記基準で評価した。さらに、実施例６〜１３に係る光学フィルムから上記と同様のサンプルを作製し、サンプルの短辺側を固定部でそれぞれ固定し、対向する２つの辺部の最小の間隔φが２ｍｍ（屈曲部の外径２ｍｍ）となるようにして取り付け、ハードコート層側が内側となるようにサンプルを３０万回繰り返し１８０°折り畳む折り畳み試験を行い、同様にして、折り畳み試験後のサンプルの割れや破断を観察して、上記基準で評価した。【０２２６】
（２）折り畳み試験後の折り癖評価
実施例６〜１３に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験後の外観を観察して、光学フィルムの屈曲部に折り癖が生じているか評価した。折り畳み試験は、折り畳み試験前後の表面抵抗値評価の欄に記載されている方法によって行われた。折り癖の観察は、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、目視で行った。折り癖の観察の際には、白色照明の明室（８００ルクス〜２０００ルクス）で、屈曲部を透過光および反射光によって満遍なく観察するともに、折り畳んだときに屈曲部における内側であった部分および外側であった部分を両方観察した。折り癖の観察においては、観察すべき位置が容易に把握できるように、折り畳み試験前のサンプルを耐久試験機の固定部に設置し、１回折り畳んだときに、図７に示したように、屈曲部における折り畳み方向に直交する方向に位置する両端に、屈曲部であることを示す目印を油性ペンで付けておいた。また、折り畳み試験後に、折り畳み試験後に耐久試験機から取り外した状態で、屈曲部の上記両端の目印同士を結んだ線を油性ペンで引いておいた。そして、折り癖の観察においては、屈曲部の上記両端の目印とこの目印同士を結ぶ線とで形成される領域である屈曲部全体を目視観察した。なお、折り畳み試験前における各光学フィルムの屈曲部となる領域を観察したところ、折り癖は観察されなかった。評価基準は、以下の通りであった。
◎：折り畳み試験後においても、光学フィルムに折り癖が観察されなかった。
○：折り畳み試験後において、光学フィルムに折り癖が若干観察されたが、実使用上問題のないレベルであった。
△：折り畳み試験後において、光学フィルムに折り癖が観察された。【０２２７】
（３）折り畳み試験後のマイクロクラック評価
実施例６〜１３に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験後の外観を観察して、光学フィルムの屈曲部にマイクロクラックが生じているか評価した。折り畳み試験は、折り畳み試験前後の表面抵抗値評価の欄に記載されている方法によって行われた。マイクロクラックの観察は、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、デジタルマイクロスコープ（製品名「ＶＨＸ−５０００」、キーエンス株式会社製）を用いて行った。具体的には、まず、折り畳み試験後のサンプルをゆっくり広げ、マイクロスコープのステージにテープでサンプルを固定した。このとき、折り癖が強い場合には、観察部分がなるべく平らになるようにする。ただし、サンプルの中央付近の観察予定部（屈曲部）は手で触れず、力が加わらない程度する。次いで、折り畳んだときの内側となる部分および外側となる部分を両方観察した。マイクロクラックの観察は、デジタルマイクロスコープの照明としてリング照明を選択し、倍率２００倍で、暗視野および反射光で行った。マイクロクラックの観察においては、観察すべき位置が容易に把握できるように、折り畳み試験前のサンプルを耐久試験機の固定部に設置し、１回折り畳んだときに、図８に示したように、屈曲部における折り畳み方向と直交する方向に位置する両端に、屈曲部であることを示す目印を油性ペンで付けておいた。また、折り畳み試験後に、折り畳み試験後に耐久試験機から取り外した状態で、屈曲部の上記両端の目印同士を結んだ線を油性ペンで引いておいた。そして、マイクロクラックの観察においては、マイクロスコープ視野範囲の中心が屈曲部の中央となるようにマイクロスコープの位置を合わせた。なお、折り畳み試験前における各光学フィルムの屈曲部となる領域を観察したところ、マイクロクラックは観察されなかった。評価基準は、以下の通りであった。
（マイクロクラック）
◎：折り畳み試験後においても、光学フィルムにマイクロクラックが観察されなかった。
○：折り畳み試験後において、光学フィルムにマイクロクラックが若干観察されたが、実使用上問題のないレベルであった。
△：折り畳み試験後において、光学フィルムにマイクロクラックが観察された。【０２２８】
以下、結果を表１〜表３に示す。
【表１】
2019208786.tif 000006
【０２２９】
【表２】
2019208786.tif 000007
【０２３０】
【表３】
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【０２３１】
以下、結果について述べる。比較例１〜５に係る光学フィルムにおいては、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後に１個以上５０個以下の上記窪みが確認されず、または消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）前後の動摩擦係数の変化率が３５％を超えていた。このため、比較例１、２に係る光学フィルムにおいては、スチールウール試験の結果が良好であったものの、接触角維持率が低く、耐摩耗性に劣っており、また、比較例３〜５に係る光学フィルムにおいては、接触角維持率の結果は良好であったものの、スチールウール試験の結果は悪く、耐擦傷性に劣っていた。これに対し、実施例１〜６、８、１０、１２に係る光学フィルムにおいては、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後に１個以上５０個以下の上記窪みが確認され、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）前の動摩擦係数が０．７０以下の範囲内であり、かつ消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）前後の動摩擦係数の変化率が３５％以内であったので、スチールウール試験の結果および接触角維持率の結果も良好であった。なお、実施例７に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例６に係る光学フィルムと同様のハードコート層であり、実施例９に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例８に係る光学フィルムと同様のハードコート層であり、実施例１１に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例１０に係る光学フィルムと同様のハードコート層であり、実施例１３に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例１２に係る光学フィルムと同様のハードコート層であるので、実施例７は実施例６と同様の、実施例９は実施例８と同様の、実施例１１は実施例１０と同様の、および実施例１３は実施例１２と同様の結果が得られると考えられる。この結果から、実施例１〜１３に係る光学フィルムにおいては、耐擦傷性に優れ、かつ耐摩耗性にも優れていたことが確認された。【０２３２】
比較例１〜５に係る光学フィルムにおいては、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後の算術平均高さ（Ｓａ）の差の絶対値が０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下の範囲外であり、また消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後の動摩擦係数の変化率が３５％を超えていた。このため、比較例１、２に係る光学フィルムにおいては、スチールウール試験の結果が良好であったものの、接触角維持率が低く、耐摩耗性に劣っており、また、比較例３〜５に係る光学フィルムにおいては、接触角維持率の結果は良好であったものの、スチールウール試験の結果は悪く、耐擦傷性に劣っていた。これに対し、実施例１〜６、８、１０、１２に係る光学フィルムにおいては、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後の算術平均高さ（Ｓａ）の差の絶対値が０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下の範囲内であり、消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前の動摩擦係数が０．７０以下の範囲内であり、かつ消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）前後の動摩擦係数の変化率が３５％以内であったので、スチールウール試験の結果および接触角維持率の結果も良好であった。なお、実施例７に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例６に係る光学フィルムと同様のハードコート層であり、実施例９に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例８に係る光学フィルムと同様のハードコート層であり、実施例１１に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例１０に係る光学フィルムと同様のハードコート層であり、実施例１３に係る光学フィルムのハードコート層は、実施例１２に係る光学フィルムと同様のハードコート層であるので、実施例７は実施例６と同様の、実施例９は実施例８と同様の、実施例１１は実施例１０と同様の、および実施例１３は実施例１２と同様の結果が得られると考えられる。この結果から、実施例１〜１３に係る光学フィルムにおいては、耐擦傷性に優れ、かつ耐摩耗性にも優れていたことが確認された。【０２３３】
参考として、実施例１に係る消しゴム試験前の光学フィルムの表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡によって観察したときの写真を図１１（Ａ）に示し、消しゴム試験前の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真を図１１（Ｂ）に示し、実施例１に係る消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真を図１２（Ａ）に示し、実施例１に係る消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡で観察したときの写真を図１２（Ｂ）に示した。実施例１に係る光学フィルムにおいては、図１１（Ａ）および図１１（Ｂ）に示されるように、消しゴム試験前においては、環状、円状や不定形状の窪みが存在していなかったが、消しゴム試験（５００ｇ×４０００往復）後においては、図１２（Ａ）および図１２（Ｂ）に示されるように、円状に見える円状部の縁部に沿って約幅０．８ｎｍの窪みが形成されているので、環状の窪みが存在していた。図１１（Ａ）、図１１（Ｂ）、図１２（Ａ）および図１２（Ｂ）は、原子間力顕微鏡であるＡＦＭ−５５００（日立テクノロジーズ株式会社製）を用いて撮影されたものである。なお、図１１（Ｂ）における高さ方向のスケールは７．００ｎｍとなっている一方で、図１２（Ｂ）においては突起が存在するので、高さ方向のスケールは２０．０４ｎｍとなっている。このため、一見すると、図１２（Ｂ）よりも図１１（Ｂ）の方が、サンプルの表面が荒れているようにも見えるが、高さ方向の縮尺が異なるので、一概に図１２（Ｂ）よりも図１１（Ｂ）の方がサンプルの表面が荒れているとも言えない。高さ方向の縮尺は、原子間力顕微鏡でサンプルの表面形状を読み取ることによって自動的に決定された。【０２３４】
また、実施例６に係る消しゴム試験前の光学フィルムの表面の５μｍ角の領域を原子間力顕微鏡（製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）によって原子間力顕微鏡で観察したときの写真を図１３（Ａ）に示し、実施例６に係る消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後の光学フィルムの表面を原子間力顕微鏡（製品名「ＡＦＭ−５５００」、日立テクノロジーズ株式会社製）で観察したときの写真を図１３（Ｂ）に示した。実施例６においては、消しゴム試験前のサンプルおよび消しゴム試験（１０００ｇ×５０００往復）後のサンプルのいずれにも上記窪みが存在していた。【０２３５】
上記折り畳み試験においては、ハードコート層が内側となるように折り畳み試験を行ったが、対向する２つの辺部の最小の間隔φが３ｍｍ（屈曲部の外径３ｍｍ）となるようにして取り付け、ハードコート層側が外側となるようにサンプルを１０万回繰り返し１８０°折り畳む折り畳み試験を行ったところ、実施例６〜１３に係る光学フィルムにおいては、折り畳み試験後の割れ・破断評価、折り癖評価およびマイクロクラック評価は全て良好（「〇」以上）であった。
【符号の説明】
【０２３６】
１０…光学フィルム
１０Ａ…表面
１０Ｂ…窪み
１１…樹脂基材
１１Ａ…第１の面
１１Ｂ…第２の面
１２…機能層
１２Ａ…表面
１３…第１の機能層
１４…第２の機能層
２０…偏光板
２１…偏光子
３０…画像表示装置
３３…表示素子
３５…タッチセンサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【国際調査報告】
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