(57)【要約】本開示は、培養領域を限定する枠板を絶縁基板に接着するための接着剤が培養領域に侵入することを抑制することができる細胞電位測定基板を提供する。本開示による細胞電位測定基板（１００）は、細胞を培養するための培養領域（１１２）を主面（１１１）上に有する絶縁基板（１１０）と、培養領域（１１０）に配置され、細胞の電位を測定するための測定電極（１２０）と、培養領域（１１０）上で間隔をあけてＹ方向に並んで配置され、Ｘ方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバ（１３０）と、複数の絶縁性ファイバ（１３０）上に配置され、培養領域（１１０）に対応する位置に培養孔（１４１）を有する枠板（１４０）と、枠板（１４０）を絶縁基板（１１０）に接着する接着剤（１５０）と、を備え、枠板（１４０）は、さらに、接着剤（１５０）が注入される第１の接着用の貫通孔（１４２）を有し、第１の接着用の貫通孔（１４２）は、第１方向からみて培養孔（１４１）と重ならない第１領域（１４６）に配置されている。
2020162031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞を培養するための培養領域を主面上に有する絶縁基板と、
前記培養領域に配置され、前記細胞の電位を測定するための測定電極と、
前記培養領域上で間隔をあけて第２方向に並んで配置され、前記主面上で前記第２方向に垂直な第１方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバと、
前記複数の絶縁性ファイバ上に配置され、前記培養領域に対応する位置に培養孔を有する枠板と、
前記枠板を前記絶縁基板に接着する接着剤と、を備え、
前記枠板は、さらに、前記接着剤が注入される第１の接着用の貫通孔を有し、
前記第１の接着用の貫通孔は、前記第１方向からみて前記培養孔と重ならない第１領域に配置されている、
細胞電位測定基板。
【請求項２】
前記枠板は、前記第１方向からみて前記培養孔と重なる第２領域に接着用の貫通孔を有しない、
請求項１に記載の細胞電位測定基板。
【請求項３】
前記枠板は、さらに、前記接着剤が注入される第２の接着用の貫通孔を有し、
前記第２の接着用の貫通孔の少なくとも一部は、前記第１方向からみて前記培養孔と重なる第２領域に配置されており、
前記第２の接着用の貫通孔と前記培養孔との距離は、前記第１の接着用の貫通孔と前記培養孔との距離より大きい、
請求項１に記載の細胞電位測定基板。
【請求項４】
前記枠板は、さらに、前記接着剤が注入される第２の接着用の貫通孔を有し、
前記第２の接着用の貫通孔の少なくとも一部は、前記第１方向からみて前記培養孔と重なる第２領域に配置されており、
前記第２の接着用の貫通孔に注入される接着剤の量は、前記第１の接着用の貫通孔に注入される接着剤の量よりも少ない、
請求項１に記載の細胞電位測定基板。
【請求項５】
前記枠板は、前記培養孔を含む複数の培養孔と、前記第１の接着用の貫通孔を含む複数の第１の接着用の貫通孔と、を有し、
前記複数の培養孔は、前記第１方向に延びる辺及び前記第２方向に延びる辺を持つ正方格子状に配列されており、
前記複数の第１の接着用の貫通孔は、前記第１領域に配置されており、
前記第１領域は、前記第１方向からみて前記複数の培養孔のいずれとも重ならない領域である、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の細胞電位測定基板。
【請求項６】
前記複数の第１の接着用の貫通孔は、前記正方格子の前記第２方向に延びる辺上に配置されている、
請求項５に記載の細胞電位測定基板。
【請求項７】
前記複数の第１の接着用の貫通孔は、前記正方格子の対角線上に配置されている、
請求項５に記載の細胞電位測定基板。
【請求項８】
前記複数の第１の接着用の貫通孔の各々は、前記第１方向に延びる長孔である、
請求項５に記載の細胞電位測定基板。
【請求項９】
前記枠板は、前記培養孔を含む複数の培養孔と、前記第１の接着用の貫通孔を含む複数の第１の接着用の貫通孔と、を有し、
前記複数の培養孔は、前記主面上で前記第２方向に延びる辺を持つ六角格子状に配列されており、
前記複数の第１の接着用の貫通孔は、前記第１領域に配置されており、
前記第１領域は、前記第１方向からみて、前記複数の培養孔のうち最も近い培養孔と重ならない領域である、
請求項１に記載の細胞電位測定基板。
【請求項１０】
前記複数の第１の接着用の貫通孔は、前記六角格子の前記第２方向に延びる辺上に配置されている、
請求項９に記載の細胞電位測定基板。
【請求項１１】
測定電極が配置された培養領域を有する絶縁基板上に間隔をあけて第２方向に並べて、前記主面上で前記第２方向に垂直な第１方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバを配置する工程と、
培養孔を有する枠板を、前記培養孔と前記培養領域との位置を合わせて前記絶縁基板上に配置する工程と、
前記第１方向からみて前記培養孔と重ならない前記枠板の第１領域に形成された第１の接着用の貫通孔に接着剤を注入する工程と、を含む、
細胞電位測定基板の製造方法。
【請求項１２】
細胞を培養するための培養領域を主面上に有する基板と、
前記培養領域上で間隔をあけて第２方向に並んで配置され、前記主面上で前記第２方向に垂直な第１方向にそれぞれ延びる複数のファイバと、
前記複数のファイバ上に配置され、前記培養領域に対応する位置に培養孔を有する枠板と、
前記枠板を前記基板に接着する接着剤と、を備え、
前記枠板は、さらに、前記接着剤が注入される第１の接着用の貫通孔を有し、
前記第１の接着用の貫通孔は、前記第１方向からみて前記培養孔と重ならない第１領域に配置されている、
細胞培養基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、細胞の電位を測定する細胞電位測定基板及びその製造方法並びに細胞培養基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電極が形成された領域内で細胞を培養し、培養された細胞の電位を当該電極を用いて測定する基板が提案されている。例えば、特許文献１には、絶縁基板と、絶縁基板内に配置された導電性パターン上に接している測定電極と、絶縁基板上に配置された絶縁性ファイバと、を備える細胞電位測定電極アセンブリが開示されている。【０００３】
また、特許文献２では、電極の周囲（つまり培養領域）を除く領域を被覆するシリコーン樹脂シートがシリコーン接着剤を用いて基板上に接着されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−２１２０８３号公報
【特許文献２】特開２０１８−１４３１４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献２のように、接着剤を用いてシリコーン樹脂シート（本開示では枠板）を絶縁基板上に接着するときに接着剤が絶縁性ファイバに沿って培養領域に侵入してしまう場合がある。その結果、培養領域内の絶縁性ファイバ及び測定電極が接着剤に覆われてしまい、細胞の培養及び電位の測定が阻害されることがある。【０００６】
そこで、本開示は、培養領域を限定する枠板を基板に接着するための接着剤が培養領域に侵入することを抑制することができる細胞電位測定基板等を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一態様に係る細胞電位測定基板は、細胞を培養するための培養領域を主面上に有する絶縁基板と、前記培養領域に配置され、前記細胞の電位を測定するための測定電極と、前記培養領域上で間隔をあけて第２方向に並んで配置され、前記主面上で前記第２方向に垂直な第１方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバと、前記複数の絶縁性ファイバ上に配置され、前記培養領域に対応する位置に培養孔を有する枠板と、前記枠板を前記絶縁基板に接着する接着剤と、を備え、前記枠板は、さらに、前記接着剤が注入される第１の接着用の貫通孔を有し、前記第１の接着用の貫通孔は、前記第１方向からみて前記培養孔と重ならない第１領域に配置されている。【０００８】
また、本開示の一態様に係る細胞電位測定基板の製造方法は、測定電極が配置された培養領域を有する絶縁基板上に間隔をあけて第２方向に並べて、前記主面上で前記第２方向に垂直な第１方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバを配置する工程と、培養孔を有する枠板を、前記培養孔と前記培養領域との位置を合わせて前記絶縁基板上に配置する工程と、前記第１方向からみて前記培養孔と重ならない前記枠板の第１領域に形成された第１の接着用の貫通孔に接着剤を注入する工程と、を含む。【０００９】
また、本開示の一態様に係る細胞培養基板は、細胞を培養するための培養領域を主面上に有する基板と、前記培養領域上で間隔をあけて第２方向に並んで配置され、前記主面上で前記第２方向に垂直な第１方向にそれぞれ延びる複数のファイバと、前記複数のファイバ上に配置され、前記培養領域に対応する位置に培養孔を有する枠板と、前記枠板を前記基板に接着する接着剤と、を備え、前記枠板は、さらに、前記接着剤が注入される第１の接着用の貫通孔を有し、前記第１の接着用の貫通孔は、前記第１方向からみて前記培養孔と重ならない第１領域に配置されている。
【発明の効果】
【００１０】
本開示に係る細胞電位測定基板等は、培養領域を限定する枠板を基板に接着するための接着剤が培養領域に侵入することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板の斜視図である。
【図２】図２は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板の分解斜視図である。
【図３】図３は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板の平面図である。
【図４】図４は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板の枠板部分の拡大平面図である。
【図５】図５は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板の製造方法を示すフローチャートである。
【図６】図６は、実施の形態１の変形例１に係る細胞電位測定基板の枠板部分の拡大平面図である。
【図７】図７は、実施の形態１の変形例２に係る細胞電位測定基板の枠板部分の拡大平面図である。
【図８】図８は、実施の形態２に係る細胞電位測定基板の平面図である。
【図９】図９は、実施の形態２に係る細胞電位測定基板の拡大平面図である。
【図１０】図１０は、実施の形態２における測定電極の平面図である。
【図１１】図１１は、実施の形態２における測定電極の断面図である。
【図１２】図１２は、実施の形態２に係る細胞電位測定基板の枠板の拡大平面図である。
【図１３】図１３は、実施の形態２の変形例１に係る細胞電位測定基板の枠板の拡大平面図である。
【図１４】図１４は、実施の形態２の変形例２に係る細胞電位測定基板の枠板の拡大平面図である。
【図１５】図１５は、実施の形態２の変形例３に係る細胞電位測定基板の枠板の拡大平面図である。
【図１６】図１６は、他の実施の形態における絶縁性ファイバの拡大平面図である。
【図１７】図１７は、他の実施の形態に係る細胞培養基板の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、実施の形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。
【００１３】
なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、請求の範囲を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、各図は、必ずしも厳密に図示したものではない。各図において、実質的に同一の構成については同一の符号を付し、重複する説明は省略又は簡略化される場合がある。
【００１４】
また、本開示において、Ｘ方向は、絶縁基板の主面上で絶縁性ファイバが延びる第１方向である。また、Ｙ方向は、絶縁基板の主面上で第１方向に垂直な第２方向である。また、Ｚ方向は、絶縁基板の主面に垂直な方向である。平面視とは、Ｚ方向からＸＹ平面を見ることを意味する。
【００１５】
また、本開示において、平行及び垂直などの要素間の関係性を示す用語、及び、矩形などの要素の形状を示す用語、並びに、数値は、厳格な意味のみを表すのではなく、実質的に同等な範囲、例えば数％程度の差異をも含むことを意味する。
【００１６】
また、本開示の図面において、破線は、表面から見えないもの及び領域の境界を表す。
【００１７】
（実施の形態１）
以下に、実施の形態１について、図１〜図５を参照しながら具体的に説明する。
【００１８】
［細胞電位測定基板の構成］
まず、図１〜図３を参照しながら、本実施の形態に係る細胞電位測定基板１００の構成について説明する。図１は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板１００の斜視図である。図２は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板１００の分解斜視図である。図３は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板１００の平面図である。
【００１９】
細胞電位測定基板１００は、細胞の電位を測定するための板状のアセンブリである。図１〜図３に示すように、細胞電位測定基板１００は、絶縁基板１１０と、測定電極１２０と、絶縁性ファイバ１３０と、枠板１４０と、接着剤１５０と、囲壁１６０と、基準電極１７０と、を備える。以下に、細胞電位測定基板１００の各構成要素について詳細に説明する。
【００２０】
絶縁基板１１０は、主面１１１を有する絶縁性の基板である。絶縁基板１１０は、細胞を培養するための培養領域１１２を主面１１１上に有する。本実施の形態では、培養領域１１２は、平面視において角丸矩形状の領域である。
【００２１】
培養される細胞としては、例えば分化誘導によって作製された心筋様細胞を採用することができる。なお、細胞は、心筋様細胞に限定される必要はなく、他の細胞であってもよい。
【００２２】
測定電極１２０は、細胞の電位を測定するための電極であり、培養領域１１２に配置されている。本実施の形態では、測定電極１２０の数は２である。また、測定電極１２０のサイズは、約１５マイクロメートル×約１７０マイクロメートルである。また、２つの測定電極１２０間の距離は、約４００マイクロメートルである。なお、これらの数、サイズ及び距離は、一例であり、これに限定されない。
【００２３】
測定電極１２０は、絶縁基板１１０内に形成された配線（図示せず）を介して、電位測定装置（図示せず、例えば細胞電位測定用アンプ）に接続される。測定電極１２０の材料としては、例えば、白金黒を用いることができるが、これに限定されない。
【００２４】
絶縁性ファイバ１３０は、培養領域１１２上で間隔をあけてＹ方向に並んで配置され、Ｘ方向にそれぞれ延びている。絶縁性ファイバ１３０の一部は、枠板１４０と絶縁基板１１０との間に挟まれている。本実施の形態では、絶縁性ファイバ１３０は、ポリメチルグルタルイミドからなり、絶縁性ファイバ１３０の表面被覆率（ｓｕｒｆａｃｅ  ｃｏｖｅｒａｇｅ）は、約３０％である。なお、材料及び表面被覆率は、一例であり、これに限定されない。
【００２５】
枠板１４０は、絶縁性ファイバ１３０上に配置されており、互いに離間して配置された培養孔１４１と第１の接着用の貫通孔１４２とを有する。ここでは、枠板１４０を板と称しているが、厚みによってはシートと称される場合もある。枠板１４０としては、例えば約１ミリメートルの厚みを有するシリコーン樹脂シートを用いることができるが、これに限定されない。枠板１４０の詳細な構成については、図４を用いて後述する。
【００２６】
接着剤１５０は、枠板１４０を絶縁基板１１０に接着する。細胞電位測定基板１００の製造工程において、接着剤１５０は、第１の接着用の貫通孔１４２に注入され、図３に示すように、枠板１４０と絶縁基板１１０との間で主として絶縁性ファイバ１３０に沿ってＸ方向に拡がる。つまり、接着剤１５０は、Ｙ方向よりもＸ方向に大きく拡がる。接着剤１５０としては、例えばシリコーン接着剤を用いることができるが、これに限定されない。
【００２７】
囲壁１６０は、培養領域１１２及び枠板１４０を囲う壁材である。囲壁１６０で囲まれた領域に培養液を満たすことができる。なお、囲壁１６０としては、１０ミリメートルの高さ及び１．５ミリメートルの厚みを有する円環状のガラス部材を用いることができるが、これに限定されない。
【００２８】
基準電極１７０は、基準となる電位を測定するための電極である。基準電極１７０は、絶縁基板１１０の主面１１１上の囲壁１６０に囲まれた領域のうち培養領域１１２外の領域に配置されている。基準電極１７０は、例えば約２００平方マイクロメートルの面積を有する。基準電極１７０は、測定電極１２０と同様に、絶縁基板１１０内に形成された配線を介して、電位測定装置に接続される。このとき、電位測定装置は、測定電極１２０と基準電極１７０との間の電位差を測定できる。基準電極１７０の材料としては、例えば、白金黒を用いることができるが、これに限定されない。
【００２９】
なお、囲壁１６０及び基準電極１７０は、細胞電位測定基板１００に含まれなくてもよい。例えば、培養液が不要な場合は囲壁１６０がなくてもよい。また例えば、基準電極１７０は、測定時に培養液の液面から培養液中に挿入されてもよい。
【００３０】
［枠板の構成］
次に、枠板１４０の構成について、図４を参照しながら具体的に説明する。図４は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板１００の枠板１４０部分の拡大平面図である。
【００３１】
枠板１４０は、上述したように培養孔１４１と第１の接着用の貫通孔１４２とを有する。
【００３２】
培養孔１４１は、枠板１４０をＺ方向に貫通しており、培養領域１１２に対応する位置に配置されている。つまり、枠板１４０は、培養孔１４１を用いて、絶縁基板１１０の主面１１１上において培養領域１１２を限定している。本実施の形態では、培養孔１４１は、平面視において角丸矩形状を有する。また、培養孔１４１の数は１である。
【００３３】
第１の接着用の貫通孔１４２は、枠板１４０をＺ方向に貫通しており、平面視において角丸矩形状を有する。また、第１の接着用の貫通孔１４２の数は２である。
【００３４】
第１の接着用の貫通孔１４２は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重ならない第１領域１４６に配置されている。つまり、第１の接着用の貫通孔１４２は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重なる第２領域１４７外に配置されている。言い替えると、第１の接着用の貫通孔１４２は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重複しない。つまり、枠板１４０をＸ方向からＹＺ平面に投影した場合に、第１の接着用の貫通孔１４２の投影領域は、培養孔１４１の投影領域と重複しない。
【００３５】
本実施の形態では、培養孔１４１が角丸矩形状を有するので、第１領域１４６は、培養孔１４１のＸ方向に延びる辺及びその延長線で第２領域１４７と区画されている。
【００３６】
なお、本実施の形態では、枠板１４０は、第２領域１４７に接着用の貫通孔を有しない。つまり、接着用の貫通孔は、第１領域１４６にのみ存在し、第２領域１４７に存在しない。
【００３７】
［細胞電位測定基板の製造方法］
次に、以上のように構成された細胞電位測定基板１００の製造方法について、図５を参照しながら説明する。図５は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板１００の製造方法を示すフローチャートである。
【００３８】
まず、絶縁性ファイバ１３０が絶縁基板１１０上に配置される（Ｓ１００）。ここでは、例えば、ポリメチルグルタルイミドから形成された絶縁性ファイバがエレクトロスピニング法により表面に形成されたアルミニウムテープ又は紙テープが用意される。このようなアルミニウムテープ又は紙テープを絶縁基板１１０の培養領域１１２上に押し付けてから剥がすことにより、絶縁性ファイバ１３０が培養領域１１２上に配置される。
【００３９】
なお、絶縁基板１１０は、例えば次のように製造できる。まず、０．７ミリメートルの厚みを有する正方形のガラス板上に電気接点及び配線が形成される。配線は、フォトレジストを用いて１５０ナノメートルの厚みを有する酸化インジウム錫膜をエッチングすることにより形成される。次いで、感光性アクリル樹脂からなる絶縁膜を用いて、ガラス板の表面が被覆される。このとき、電気接点及び配線の先端部分は、絶縁膜で被覆されない。続いて、プラズマ処理装置を用いて、１８ＷのＲＦパワーで、２分間、プラズマ表面処理がガラス板に行われることで、絶縁基板１１０が製造される。
【００４０】
次に、絶縁基板１１０の培養領域１１２と枠板１４０の培養孔１４１との位置を合わせて、枠板１４０が絶縁基板１１０上に配置される（Ｓ１０１）。これにより、枠板１４０と絶縁基板１１０との間に絶縁性ファイバ１３０の一部が挟まれる。
【００４１】
次に、第１の接着用の貫通孔１４２に接着剤１５０が注入される（Ｓ１０２）。例えば、硬化前のシリコーン樹脂が第１の接着用の貫通孔１４２に滴下される。それから、絶縁基板１１０が摂氏６５度に保温されたオーブン中に２時間放置される。これにより、接着剤１５０が絶縁基板１１０と枠板１４０との間に拡がり、枠板１４０が絶縁基板１１０に接着される。
【００４２】
続いて、測定電極１２０及び基準電極１７０が形成される（Ｓ１０３）。例えばメッキ処理により、絶縁基板１１０の主面１１１上に露出している配線の先端部分を白金黒で覆うことにより測定電極１２０及び基準電極１７０が形成される。具体的には、配線の先端部分をメッキ溶液中に浸して、２０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度で電流を２分間流すことにより、配線の先端部分がメッキされる。メッキ時には、配線はカソードとして機能する。メッキ溶液としては、以下の表１に示される組成を有する溶液を用いることができる。
【００４３】
【表１】
2020162031.tif 000003
【００４４】
最後に、囲壁１６０を絶縁基板１１０に固定する（Ｓ１０４）。例えば、シリコーン接着剤を用いて囲壁１６０が絶縁基板１１０に接着される。
【００４５】
［効果等］
以上のように、本実施の形態に係る細胞電位測定基板１００は、細胞を培養するための培養領域１１２を主面１１１上に有する絶縁基板１１０と、培養領域１１２に配置され、細胞の電位を測定するための測定電極１２０と、培養領域１１２上で間隔をあけてＹ方向に並んで配置され、Ｘ方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバ１３０と、複数の絶縁性ファイバ１３０上に配置され、培養領域１１２に対応する位置に培養孔１４１を有する枠板１４０と、枠板１４０を絶縁基板１１０に接着する接着剤１５０と、を備え、枠板１４０は、さらに、接着剤１５０が注入される第１の接着用の貫通孔１４２を有し、第１の接着用の貫通孔１４２は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重ならない第１領域１４６に配置されている。
【００４６】
これによれば、第１の接着用の貫通孔１４２がＸ方向からみて培養孔１４１と重ならない第１領域１４６に配置されるので、第１の接着用の貫通孔１４２に注入された接着剤１５０が絶縁性ファイバ１３０に沿って拡がったときに、接着剤１５０が培養孔１４１に到達することを防ぐことができる。したがって、細胞電位測定基板１００は、接着剤１５０が培養領域１１２に侵入することを抑制することができる。その結果、細胞電位測定基板１００は、例えば接着剤１５０が培養領域１１２内の測定電極１２０を覆って電位の測定精度を低下させることを抑制することができる。また、細胞電位測定基板１００は、例えば培養領域１１２内で接着剤１５０が細胞の培養を阻害することを抑制することができる。
【００４７】
また、本実施の形態に係る細胞電位測定基板１００において、枠板１４０は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重なる第２領域１４７に接着用の貫通孔を有しない。
【００４８】
これによれば、接着用の貫通孔に注入された接着剤１５０が、Ｘ方向から培養領域１１２に侵入することを排除することができ、絶縁性ファイバ１３０に沿って接着剤１５０が拡がることで培養領域１１２に侵入することを抑制することができる。
【００４９】
また、本実施の形態に係る細胞電位測定基板１００の製造方法は、測定電極１２０が配置された培養領域１１２を有する絶縁基板１１０上に間隔をあけてＹ方向に並べて、Ｘ方向にそれぞれ延びる複数の絶縁性ファイバ１３０を配置する工程（Ｓ１００）と、培養孔１４１を有する枠板１４０を、培養孔１４１と培養領域１１２との位置を合わせて絶縁基板１１０上に配置する工程（Ｓ１０１）と、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重ならない枠板１４０の第１領域１４６に形成された第１の接着用の貫通孔１４２に接着剤１５０を注入する工程（Ｓ１０２）と、を含む。
【００５０】
これによれば、接着剤１５０を第１の接着用の貫通孔１４２に注入する前に、枠板１４０を絶縁基板１１０上に配置することができ、培養孔１４１と培養領域１１２との位置合わせを容易にすることができる。また、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重ならない枠板１４０の第１領域１４６に形成された第１の接着用の貫通孔１４２に接着剤１５０が注入されるので、接着剤１５０が培養領域１１２に侵入することを抑制することができる。
【００５１】
（実施の形態１の変形例１）
次に、上記実施の形態１の変形例１について説明する。本変形例では、第２領域に第２の接着用の貫通孔が配置される点が上記実施の形態１と異なる。上記実施の形態１と異なる点を中心に、本変形例について図６を参照しながら具体的に説明する。
【００５２】
［枠板の構成］
図６は、実施の形態１の変形例１に係る細胞電位測定基板１００の枠板１４０Ａ部分の拡大平面図である。図６に示すように、本変形例に係る枠板１４０Ａは、培養孔１４１及び第１の接着用の貫通孔１４２に加えて、培養孔１４１及び第１の接着用の貫通孔１４２と離間して配置された第２の接着用の貫通孔１４３Ａを有する。
【００５３】
第２の接着用の貫通孔１４３Ａは、枠板１４０ＡをＺ方向に貫通しており、平面視において角丸矩形状を有する。第２の接着用の貫通孔１４３Ａには、接着剤１５０Ａが注入される。第２の接着用の貫通孔１４３Ａの少なくとも一部は、Ｘ方向からみて培養孔１４１に重なる第２領域１４７に配置されている。このとき、第２の接着用の貫通孔１４３Ａと培養孔１４１との距離Ｄ２は、第１の接着用の貫通孔１４２と培養孔１４１との距離Ｄ１より大きい。また、距離Ｄ２は、接着剤１５０Ａが第２の接着用の貫通孔１４３ＡからＸ方向に拡がる距離よりも大きい。これにより、接着剤１５０Ａは培養孔１４１に到達しない。
【００５４】
図６では、２つの孔間の距離は、２つの孔の端縁間の最短距離で定義されているが、これに限定されない。例えば、２つの孔間の距離は、２つの孔の中心間の直線距離で定義されてもよい。
【００５５】
［効果等］
以上のように、本変形例に係る細胞電位測定基板１００において、枠板１４０Ａは、さらに、接着剤１５０Ａが注入される第２の接着用の貫通孔１４３Ａを有し、第２の接着用の貫通孔１４３Ａの少なくとも一部は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重なる第２領域１４７に配置されており、第２の接着用の貫通孔１４３Ａと培養孔１４１との距離Ｄ２は、第１の接着用の貫通孔１４２と培養孔１４１との距離Ｄ１より大きい。
【００５６】
これによれば、第１の接着用の貫通孔１４２に加えて、第２の接着用の貫通孔１４３Ａにも接着剤１５０Ａを注入することができるので、上記実施の形態１よりも枠板１４０Ａを絶縁基板１１０に強く接着することができる。また、第２の接着用の貫通孔１４３Ａと培養孔１４１との距離Ｄ２は、第１の接着用の貫通孔１４２と培養孔１４１との距離Ｄ１よりも大きいので、第２の接着用の貫通孔１４３Ａに注入された接着剤１５０Ａが培養孔１４１に到達することを抑制することができる。
【００５７】
（実施の形態１の変形例２）
次に、上記実施の形態１の変形例２について説明する。本変形例では、上記変形例１と同様に第２領域に第２の接着用の貫通孔が配置されるが、第２の接着用の貫通孔に注入される接着剤の量が上記変形例１と異なる。上記実施の形態１及びその変形例１と異なる点を中心に、本変形例について図７を参照しながら具体的に説明する。
【００５８】
［枠板の構成］
図７は、実施の形態１の変形例２に係る細胞電位測定基板１００の枠板１４０Ｂ部分の拡大平面図である。図７に示すように、本変形例に係る枠板１４０Ｂは、培養孔１４１及び第１の接着用の貫通孔１４２に加えて、培養孔１４１及び第１の接着用の貫通孔１４２と離間して配置された第２の接着用の貫通孔１４３Ｂを有する。
【００５９】
第２の接着用の貫通孔１４３Ｂは、枠板１４０ＢをＺ方向に貫通しており、平面視において角丸矩形状を有する。第２の接着用の貫通孔１４３Ｂには、接着剤１５０Ｂが注入される。第２の接着用の貫通孔１４３Ｂの少なくとも一部は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重なる第２領域１４７に配置されている。このとき、第２の接着用の貫通孔１４３Ｂに注入される接着剤１５０Ｂの量は、第１の接着用の貫通孔１４２に注入される接着剤１５０の量よりも少ない。これにより、枠板１４０Ｂと絶縁基板１１０との間で接着剤１５０Ｂが拡がる領域は、接着剤１５０が拡がる領域よりも小さい。
【００６０】
［効果等］
以上のように、本変形例に係る細胞電位測定基板１００において、枠板１４０Ｂは、さらに、接着剤１５０Ｂが注入される第２の接着用の貫通孔１４３Ｂを有し、第２の接着用の貫通孔１４３Ｂの少なくとも一部は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重なる第２領域１４７に配置されており、第２の接着用の貫通孔１４３Ｂに注入される接着剤１５０Ｂの量は、第１の接着用の貫通孔１４２に注入される接着剤１５０の量よりも少ない。
【００６１】
これによれば、第１の接着用の貫通孔１４２に加えて、第２の接着用の貫通孔１４３Ｂにも接着剤１５０Ｂを注入することができるので、上記実施の形態１よりも枠板１４０Ｂを絶縁基板１１０に強く接着することができる。また、第２の接着用の貫通孔１４３Ｂに注入される接着剤１５０Ｂの量を、第１の接着用の貫通孔１４２に注入される接着剤１５０の量よりも少なくすることができるので、第２の接着用の貫通孔１４３Ｂと培養孔１４１との距離を第１の接着用の貫通孔１４２と培養孔１４１との距離よりも大きくしなくてもよい。したがって、上記変形例１よりも細胞電位測定基板１００の小型化を図ることができる。
【００６２】
（実施の形態２）
次に、実施の形態２について説明する。本実施の形態では、枠板に複数の培養孔が形成されている点が、上記実施の形態１と主として異なる。以下に、本実施の形態について、上記実施の形態１と異なる点を中心に、図８〜図１２を参照しながら具体的に説明する。
【００６３】
［細胞電位測定基板の構成］
まず、図８〜図１１を参照しながら、本実施の形態に係る細胞電位測定基板２００の構成について説明する。図８は、実施の形態２に係る細胞電位測定基板２００の平面図である。図９は、実施の形態２に係る細胞電位測定基板２００の拡大平面図であり、具体的には図８の領域ＩＸの拡大図である。図１０は、実施の形態２における測定電極２２０の平面図であり、図９の領域Ｘの拡大図である。図１１は、実施の形態２における測定電極２２０の断面図であり、図１０の切断線ＸＩに沿って切断された断面図である。
【００６４】
細胞電位測定基板２００は、細胞の電位を測定するための板状のアセンブリである。図８及び図９に示すように、細胞電位測定基板２００は、絶縁基板２１０と、測定電極２２０と、絶縁性ファイバ２３０と、枠板２４０と、接着剤２５０と、囲壁２６０と、基準電極２７０と、を備える。以下に、細胞電位測定基板２００の各構成要素について詳細に説明する。
【００６５】
絶縁基板２１０は、細胞を培養するための複数の培養領域２１２を主面２１１上に有する。本実施の形態では、絶縁基板２１０のサイズは５０ミリメートル×５０ミリメートルであり、複数の培養領域２１２の数は１６であり、複数の培養領域２１２の各々の形状は平面視において円であるが、これに限定されない。
【００６６】
測定電極２２０は、図８及び図９に示すように培養領域２１２の各々に４つずつ配置されている。測定電極２２０は、図１０及び図１１に示すように、ガラス板２１３上に形成された配線２２２の絶縁膜２１４で覆われてない先端部分に、白金黒２２３を用いて形成されている。測定電極２２０は、配線２２２を介して、絶縁基板２１０の端縁に沿って形成された電気接点２２１と個別に接続されている。電気接点２２１は、例えば電位測定装置との接続に用いられる。
【００６７】
絶縁性ファイバ２３０は、上記実施の形態１と同様に、培養領域２１２上で間隔をあけてＹ方向に並んで配置され、Ｘ方向にそれぞれ延びている。絶縁性ファイバ２３０の一部は、枠板２４０と絶縁基板２１０との間に挟まれている。
【００６８】
枠板２４０は、上記実施の形態１と同様に、絶縁性ファイバ２３０上に配置されている。本実施の形態では、枠板２４０は、互いに離間して配置された複数の培養孔２４１と複数の第１の接着用の貫通孔２４２とを有する。枠板２４０の詳細な構成については、図１２を用いて後述する。
【００６９】
接着剤２５０は、上記実施の形態１と同様に、枠板２４０を絶縁基板２１０に接着する。細胞電位測定基板２００の製造工程において、接着剤２５０は、第１の接着用の貫通孔２４２に注入され、図９に示すように、枠板２４０と絶縁基板２１０との間で主として絶縁性ファイバ２３０に沿ってＸ方向に拡がる。
【００７０】
囲壁２６０は、複数の培養領域２１２及び枠板２４０を囲う壁材である。本実施の形態では、囲壁２６０は、２２ミリメートルの内径、２５ミリメートルの外径、及び１０ミリメートルの高さを有する円環状のガラス部材であるが、これに限定されない。
【００７１】
基準電極２７０は、絶縁基板２１０の主面２１１上の囲壁２６０に囲まれた領域のうち培養領域２１２外の領域に配置されている。本実施の形態では、基準電極２７０の数は４である。基準電極２７０は、測定電極２２０と同様に、ガラス板２１３上に形成された配線２２２の絶縁膜２１４で覆われてない先端部分に、白金黒２２３を用いて形成されている。
【００７２】
［枠板の構成］
次に、枠板２４０の構成について、図１２を参照しながら具体的に説明する。図１２は、実施の形態２に係る細胞電位測定基板２００の枠板２４０の拡大平面図である。なお、図１２では、第１領域２４６及び第２領域２４７に、幅及び向きが異なるハッチングが付されている。
【００７３】
枠板２４０は、上述したように複数の培養孔２４１と複数の第１の接着用の貫通孔２４２とを有する。
【００７４】
複数の培養孔２４１の各々は、枠板２４０をＺ方向に貫通しており、複数の培養領域２１２に対応する位置に配置されている。本実施の形態では、複数の培養孔２４１の各々は、平面視において円形状を有する。また、複数の培養孔２４１は、Ｘ方向に延びる辺及びＹ方向に延びる辺を持つ正方格子２４３状に配列されている。正方格子とは、二次元ユークリッド空間における格子の一種である。正方格子では、異なる方向の最も近い点を順に結んだときに正方形を形成することができる。
【００７５】
複数の第１の接着用の貫通孔２４２の各々は、枠板２４０をＺ方向に貫通しており、平面視において円形状を有する。複数の第１の接着用の貫通孔２４２は、Ｘ方向からみて複数の培養孔２４１のいずれとも重ならない第１領域２４６に配置されている。つまり、複数の第１の接着用の貫通孔２４２は、Ｘ方向からみて複数の培養孔２４１のいずれかと重なる第２領域２４７外に配置されている。ここでは、複数の第１の接着用の貫通孔２４２は、正方格子２４３のＹ方向に延びる辺上に配置されている。
【００７６】
本実施の形態では、複数の培養孔２４１の各々が円形状を有するので、第１領域２４６は、複数の培養孔２４１の外縁に接する直線であってＸ方向に延びる直線で第２領域２４７と区画されている。
【００７７】
なお、枠板２４０は、第２領域２４７に接着用の貫通孔を有しない。つまり、接着用の貫通孔は、第１領域２４６にのみ存在し、第２領域２４７に存在しない。
【００７８】
［効果等］
以上のように、本実施の形態に係る細胞電位測定基板２００において、枠板２４０は、Ｘ方向及びＹ方向に辺を持つ正方格子２４３状に配列された複数の培養孔２４１と、第１領域２４６に配置された複数の第１の接着用の貫通孔２４２と、を有し、第１領域２４６は、Ｘ方向からみて複数の培養孔２４１のいずれとも重ならない領域である。
【００７９】
これによれば、複数の培養孔２４１を正方格子２４３状に配列することができ、複数の培養領域２１２を絶縁基板２１０上に効率的に配置することができる。その結果、細胞電位測定基板２００の小型化を図ることができる。さらに、Ｘ方向からみて複数の培養孔２４１のいずれとも重ならない第１領域２４６に、複数の第１の接着用の貫通孔２４２を配置することができる。したがって、複数の第１の接着用の貫通孔２４２に注入された接着剤２５０が絶縁性ファイバ２３０に沿ってＸ方向に拡がったときに、接着剤２５０が複数の培養孔２４１に到達することを防ぐことができる。その結果、細胞電位測定基板２００は、複数の培養領域２１２を有する細胞電位測定基板２００の小型化を図りつつ、接着剤２５０が複数の培養領域２１２に侵入することを抑制することができる。
【００８０】
また、本実施の形態に係る細胞電位測定基板２００において、複数の第１の接着用の貫通孔２４２は、正方格子２４３のＹ方向に延びる辺上に配置されている。
【００８１】
これによれば、複数の培養孔２４１と複数の第１の接着用の貫通孔２４２とを枠板２４０に効率的に配置することができ、細胞電位測定基板２００の小型化を図りつつ、接着剤２５０が複数の培養領域２１２に侵入することを抑制することができる。
【００８２】
（実施の形態２の変形例１）
次に、上記実施の形態２の変形例１について説明する。本変形例では、複数の第１の接着用の貫通孔の配置が上記実施の形態２と異なる。上記実施の形態２と異なる点を中心に、本変形例について図１３を参照しながら具体的に説明する。
【００８３】
［枠板の構成］
図１３は、実施の形態２の変形例１に係る細胞電位測定基板２００の枠板２４０Ａの拡大平面図である。本変形例に係る枠板２４０Ａは、複数の培養孔２４１と複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ａとを有する。
【００８４】
複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ａは、上記実施の形態２と同様に、Ｘ方向からみて複数の培養孔２４１のいずれとも重ならない第１領域２４６に配置されている。本変形例では、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ａは、正方格子２４３の対角線上に配置されている。
【００８５】
［効果等］
以上のように、本変形例に係る細胞電位測定基板２００において、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ａは、正方格子２４３の対角線上に配置されている。
【００８６】
これによれば、複数の培養孔２４１と複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ａとを枠板２４０Ａに効率的に配置することができ、細胞電位測定基板２００の小型化を図りつつ、接着剤２５０が複数の培養領域２１２に侵入することを抑制することができる。
【００８７】
（実施の形態２の変形例２）
次に、上記実施の形態２の変形例２について説明する。本変形例では、複数の第１の接着用の貫通孔の形状が上記実施の形態２と異なる。上記実施の形態２と異なる点を中心に、本変形例について図１４を参照しながら具体的に説明する。
【００８８】
［枠板の構成］
図１４は、実施の形態２の変形例２に係る細胞電位測定基板２００の枠板２４０Ｂの拡大平面図である。本変形例に係る枠板２４０Ｂは、複数の培養孔２４１と複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂとを有する。図１４に示すように、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂの各々は、Ｘ方向に延びる長孔である。複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂの各々は、複数の培養孔２４１のうちＸ方向に並ぶ２以上の培養孔に沿って延びている。つまり、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂの各々は、Ｘ方向に並ぶ２以上の培養孔に対応している。
【００８９】
［効果等］
以上のように、本変形例に係る細胞電位測定基板２００において、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂの各々は、Ｘ方向に延びる長孔である。
【００９０】
これによれば、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂの総面積を上記実施の形態２における複数の第１の接着用の貫通孔２４２の総面積よりも大きくすることができ、接着剤２５０の量を増加させることができる。その結果、枠板２４０Ｂの絶縁基板２１０への接着力を向上させることができる。さらに、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｂの数を、上記実施の形態２における複数の第１の接着用の貫通孔２４２の数よりも減らすことができるので、細胞電位測定基板２００の製造時における接着剤２５０の注入工程を簡易化することができる。
【００９１】
（実施の形態２の変形例３）
次に、上記実施の形態２の変形例３について説明する。本変形例では、複数の培養孔の配置が上記実施の形態２と異なり、それに伴って複数の第１の接着用の貫通孔の配置も上記実施の形態２と異なる。上記実施の形態２と異なる点を中心に、本変形例について図１５を参照しながら具体的に説明する。
【００９２】
［枠板の構成］
図１５は、実施の形態２の変形例３に係る細胞電位測定基板２００の枠板２４０Ｃの拡大平面図である。本変形例に係る枠板２４０Ｃは、複数の培養孔２４１Ｃと複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃとを有する。
【００９３】
複数の培養孔２４１Ｃは、Ｙ方向に辺を持つ六角格子２４３Ｃ状に配列されている。六角格子とは、二次元ユークリッド空間における格子の一種である。六角格子では、異なる方向の最も近い点を順に結んだときに正六角形及び正三角形を形成することができる。六角格子は、正三角格子と呼ばれる場合もある。
【００９４】
複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃは、Ｘ方向からみて、複数の培養孔２４１Ｃのうち最も近い培養孔と重ならない第１領域２４６Ｃに配置されている。つまり、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃは、Ｘ方向からみて、複数の培養孔２４１Ｃのうち最も近い培養孔と重なる第２領域２４７Ｃ外に配置されている。ここでは、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃは、六角格子２４３ＣのＹ方向に延びる辺上に配置されている。
【００９５】
［効果等］
以上のように、本変形例に係る細胞電位測定基板２００において、枠板２４０Ｃは、主面２１１上でＸ方向に垂直なＹ方向に辺を持つ六角格子２４３Ｃ状に配列された複数の培養孔２４１Ｃと、第１領域２４６Ｃに配置された複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃと、を有し、第１領域２４６Ｃは、Ｘ方向からみて、複数の培養孔２４１Ｃのうち最も近い培養孔と重ならない領域である。
【００９６】
これによれば、複数の培養孔２４１Ｃを六角格子２４３Ｃ状に配列することができ、複数の培養領域２１２を絶縁基板２１０上に効率的に配置することができる。その結果、細胞電位測定基板２００の小型化を図ることができる。さらに、Ｘ方向からみて複数の培養孔２４１Ｃのうちの最も近い培養孔と重ならない第１領域２４６Ｃに、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃを配置することができる。したがって、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃに注入された接着剤２５０が絶縁性ファイバ２３０に沿って拡がったときに、接着剤２５０が複数の培養孔２４１Ｃに到達することを防ぐことができる。その結果、細胞電位測定基板２００は、複数の培養領域２１２を有する細胞電位測定基板２００の小型化を図りつつ、接着剤２５０が複数の培養領域２１２に侵入することを抑制することができる。
【００９７】
また、本実施の形態に係る細胞電位測定基板２００において、複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃは、六角格子２４３ＣのＹ方向に延びる辺上に配置されている。
【００９８】
これによれば、複数の培養孔２４１Ｃと複数の第１の接着用の貫通孔２４２Ｃとを枠板２４０Ｃに効率的に配置することができ、細胞電位測定基板２００の小型化を図りつつ、接着剤２５０が複数の培養領域２１２に侵入することを抑制することができる。
【００９９】
（他の実施の形態）
以上、本開示の１つまたは複数の態様に係る細胞電位測定基板及びその製造方法について、実施の形態に基づいて説明したが、本開示は、この実施の形態に限定されるものではない。本開示の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を本実施の形態に施したものや、異なる実施の形態及び変形例における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本開示の１つまたは複数の態様の範囲内に含まれてもよい。
【０１００】
例えば、上記各実施の形態では、接着用の貫通孔は、平面視において円形状を有していたが、これに限定されない。例えば、接着用の貫通孔は、三角形状、矩形状又は楕円形状を有してもよい。
【０１０１】
なお、上記各実施の形態において、細胞電位測定基板１００及び２００は、Ｘ方向に延びる絶縁性ファイバ１３０及び２３０を備えていたが、これに限定されない。例えば、細胞電位測定基板１００は、絶縁性ファイバ１３０に加えて、Ｘ方向と交差する方向に延びる又は無配向性の絶縁性ファイバを含んでもよい。例えば、細胞電位測定基板１００は、図１６に示すように、Ｘ方向に延びる絶縁性ファイバ１３０に加えて、Ｙ方向に延びる絶縁性ファイバ１３１を備えてもよい。このとき、絶縁性ファイバ１３０の数と絶縁性ファイバ１３１の数との比が適当な比（例えば１０：１）であれば、絶縁性ファイバ１３０のよれを抑えつつ、細胞を効果的に培養することができる。
【０１０２】
なお、上記実施の形態１において、第１の接着用の貫通孔１４２の数は、２であったが、これに限定されない。第１の接着用の貫通孔１４２の数は、１であってもよいし、３以上であってもよい。
【０１０３】
なお、上記各実施の形態において、囲壁１６０及び２６０は、円環状のガラス部材であったが、囲壁１６０及び２６０の形状及び材料は、これに限定されない。例えば、囲壁１６０及び２６０は、角筒状であってもよく、樹脂部材であってもよい。
【０１０４】
なお、上記各実施の形態における測定電極１２０及び２２０の数は、一例であり、特に限定されない。例えば、測定電極１２０及び２２０の各々の数は１であってもよい。
【０１０５】
なお、上記各実施の形態では、測定電極１２０及び２２０は、細胞の電位の測定に用いられていたが、これに限定されない。例えば、測定電極１２０及び２２０は、細胞への電気パルスの印加に用いられてもよい。
【０１０６】
なお、上記実施の形態１の図５における製造方法の処理順は、一例であり、これに限定されない。例えば、測定電極１２０及び基準電極１７０は、囲壁１６０が固定された後に形成されてもよい。また、配線の露出部分がそのまま電極として用いられてもよく、その場合、測定電極１２０及び基準電極１７０を形成するステップは省略されてもよい。
【０１０７】
なお、上記各実施の形態及び各変形例では、基板に電極が配置されていたが、これに限定されない。つまり、本開示は、電位測定が不要な細胞培養基板に適用されてもよい。図１７は、他の実施の形態に係る細胞培養基板３００の斜視図である。図１７に示すように、細胞培養基板３００では、図１の細胞電位測定基板１００に対して、測定電極１２０及び基準電極１７０が取り除かれ、絶縁基板１１０及び絶縁性ファイバ１３０が基板３１０及びファイバ３３０に置き換えられている。
【０１０８】
つまり、細胞培養基板３００は、細胞を培養するための培養領域１１２を主面上に有する基板３１０と、培養領域１１０に配置され、培養領域１１０上で間隔をあけてＹ方向に並んで配置され、主面上でＹ方向に垂直なＸ方向にそれぞれ延びる複数のファイバ３３０と、複数のファイバ３３０上に配置され、培養領域１１０に対応する位置に培養孔１４１を有する枠板１４０と、枠板１４０を基板３１０に接着する接着剤１５０と、を備え、枠板１４０は、さらに、接着剤１５０が注入される第１の接着用の貫通孔１４２を有し、第１の接着用の貫通孔１４２は、Ｘ方向からみて培養孔１４１と重ならない第１領域１４６に配置されている。
【０１０９】
これによれば、第１の接着用の貫通孔１４２がＸ方向からみて培養孔１４１と重ならない第１領域１４６に配置されるので、第１の接着用の貫通孔１４２に注入された接着剤１５０がファイバ３３０に沿って拡がったときに、接着剤１５０が培養孔１４１に到達することを防ぐことができる。したがって、細胞培養基板３００は、接着剤１５０が培養領域１１２に侵入することを抑制することができる。その結果、細胞培養基板３００は、培養領域１１２内で接着剤１５０が細胞の培養を阻害することを抑制することができる。
【０１１０】
なお、ここでは、細胞培養基板３００は、実施の形態１に係る細胞電位測定基板１００の変形例であったが、これに限定されない。例えば、細胞培養基板は、実施の形態１の各変形例、並びに、実施の形態２及びその各変形例に係る細胞電位測定基板の変形例であってもよい。
【符号の説明】
【０１１１】
１００、２００  細胞電位測定基板
１１０、２１０  絶縁基板
１１１、２１１  主面
１１２、２１２  培養領域
１２０、２２０  測定電極
１３０、１３１、２３０  絶縁性ファイバ
１４０、１４０Ａ、１４０Ｂ、２４０、２４０Ａ、２４０Ｂ、２４０Ｃ  枠板
１４１、２４１、２４１Ｃ  培養孔
１４２、２４２、２４２Ａ、２４２Ｂ、２４２Ｃ  第１の接着用の貫通孔
１４３Ａ、１４３Ｂ  第２の接着用の貫通孔
１４６、２４６、２４６Ｃ  第１領域
１４７、２４７、２４７Ｃ  第２領域
１５０、１５０Ａ、１５０Ｂ、２５０  接着剤
１６０、２６０  囲壁
１７０、２７０  基準電極
２１３  ガラス板
２１４  絶縁膜
２２１  電気接点
２２２  配線
２２３  白金黒
２４３  正方格子
２４３Ｃ  六角格子
３００  細胞培養基板
３１０  基板
３３０  ファイバ
【図１】
2020162031.tif 000004
【図２】
2020162031.tif 000005
【図３】
2020162031.tif 000006
【図４】
2020162031.tif 000007
【図５】
2020162031.tif 000008
【図６】
2020162031.tif 000009
【図７】
2020162031.tif 000010
【図８】
2020162031.tif 000011
【図９】
2020162031.tif 000012
【図１０】
2020162031.tif 000013
【図１１】
2020162031.tif 000014
【図１２】
2020162031.tif 000015
【図１３】
2020162031.tif 000016
【図１４】
2020162031.tif 000017
【図１５】
2020162031.tif 000018
【図１６】
2020162031.tif 000019
【図１７】
2020162031.tif 000020
【国際調査報告】
2020162031.tif 000021
2020162031.tif 000022
2020162031.tif 000023
2020162031.tif 000024
2020162031.tif 000025