(57)【要約】【課題】均一な膜厚分布の薄膜の長時間の連続生産が可能な蒸着源及び蒸着装置の提供。【解決手段】蒸着源は、収容箱と第１のノズル群と第２のノズル群とを具備する。収容箱は、蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する。第１のノズル群は、収容箱の一方向における中央領域に設けられた第１のノズル孔を有する複数の第１のノズルからなる。第２のノズル群は、収容箱の一方向における中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、第２のノズル孔を有する複数の第２のノズルからなる。収容箱の一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔が、蒸着対象物の上記一方向における長さよりも長く、第２のノズルの蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、第２のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、中央領域側に位置する部分よりも一方向における外方側に位置する部分の方が低い。【選択図】図１
2020213228.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する収容箱と、
前記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第１のノズル孔を有する複数の第１のノズルからなる第１のノズル群と、
前記収容箱の前記一方向における前記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第２のノズル孔を有する複数の第２のノズルからなる第２のノズル群と
を具備する蒸着源であって、
前記収容箱の前記一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔が、前記蒸着対象物の前記一方向における長さよりも長く、
前記第２のノズルの前記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、前記第２のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、前記中央領域側に位置する部分よりも前記一方向における外方側に位置する部分の方が低い
蒸着源。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸着源であって、
前記第２のノズルの開口端の前記一方向における外方側に位置する部分の端面は、前記第２のノズルの開口端の内縁部における前記中央領域側に位置する部分と前記一方向における外方側に位置する部分とを通り前記仮想基準面に投影した時に前記一方向に沿う仮想線と前記仮想基準面とのなす角度で前記仮想基準面に対して傾斜する、前記仮想線を含む仮想傾斜面より、前記蒸着対象物側に位置する
蒸着源。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の蒸着源であって、
前記第２のノズル孔の孔軸を前記収容箱の深さ方向と前記一方向とで規定される平面に投影した線は、前記蒸着対象物の蒸着面又は前記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、前記中央領域側に傾いて位置する
蒸着源。
【請求項４】
請求項１に記載の蒸着源であって、
前記第２のノズルの開口端の形状は、前記一方向と直交する方向に長手方向を有する
蒸着源。
【請求項５】
請求項１に記載の蒸着源であって、
前記第２のノズルは、前記一方向と直交する方向に沿って複数配置された副ノズルから構成される
蒸着源。
【請求項６】
請求項１に記載の蒸着源であって、
前記第１のノズルは、前記気化物質を出射し、前記仮想基準面からの高さが周縁に沿って同じ開口端を有する
蒸着源。
【請求項７】
蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する収容箱と、
前記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第１のノズル孔を有する複数の第１のノズルからなる第１のノズル群と、
前記収容箱の前記一方向における前記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第２のノズル孔を有する複数の第２のノズルからなる第２のノズル群と
を具備する蒸着源であって、
前記収容箱の前記一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔が、前記蒸着対象物の前記一方向における長さよりも長く、
前記第２のノズルの前記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、前記第２のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、前記中央領域側に位置する部分よりも前記一方向における外方側に位置する部分の方が低い
蒸着源と、
前記蒸着対象物と前記蒸着源との間に配置され、前記気化物質の前記蒸着対象物に対する付着範囲を制限する複数の開口を有するマスク材
を具備する蒸着装置。
【請求項８】
請求項７に記載の蒸着装置であって、
前記マスク材の開口の内面は、前記蒸着源から厚み方向に先細りするテーパ面を有し、
前記第２のノズルの開口端において、前記第２のノズルの開口端と前記仮想基準面とのなす角度である傾斜角をθとし、前記マスク材の板面に対する前記テーパ面の角度をθｍとしたときに、
【数１】
2020213228.tif 000009
である
蒸着装置。
【請求項９】
請求項８に記載の蒸着装置であって、
前記蒸着対象物の前記一方向における長さをＬｗとし、前記第１のノズルが前記収容箱に配置され得る前記一方向における長さをＬ１とし、前記蒸着対象物と前記第２のノズルとの距離をＨとしたときに、
前記第１のノズルは、前記収容箱の前記一方向における中心から前記一方向に次式で求められるＬ１／２の長さの領域内に配置される
【数２】
2020213228.tif 000010
蒸着装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の蒸着装置であって、
前記収容箱の前記一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔をＬとし、前記収容箱の内寸の前記一方向における長さをＬ２としたときに、
【数３】
2020213228.tif 000011
である
蒸着装置。
【請求項１１】
請求項８に記載の蒸着装置であって、
前記蒸着源に対して前記蒸着対象物を前記一方向に相対移動させる移動手段
を更に具備する蒸着装置。
【請求項１２】
請求項７に記載の蒸着装置であって、
前記一方向に直交する方向に配列された前記蒸着源を３つ具備し、
前記３つの蒸着源のうち中央に位置する蒸着源に設けられる第１のノズルの孔軸は前記蒸着対象物の蒸着面と直交して位置し、第２のノズルの孔軸は前記蒸着面又は前記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、前記中央領域側に傾いて位置し、
前記３つの蒸着源のうち前記中央の蒸着源の両側それぞれに位置する蒸着源に設けられる第１のノズルの孔軸は前記中央の蒸着源側に傾いて位置し、第２のノズルの孔軸は、前記中央領域側に傾き、かつ、前記中央の蒸着源側に傾いて位置する
蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着対象物に対し蒸着材料を出射するノズルを備えた蒸着源及び蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、基板に対して蒸着材料を出射する複数のノズルが設けられた長尺状の蒸着源を備える蒸着装置が開示されている。蒸着源は、蒸着材料を収容する収容箱と、複数のノズルを備える。
特許文献１に記載される蒸着装置では、マスクエフェクトを抑制し、均一な膜厚分布の薄膜を得るために、蒸着源の長手方向の両側方領域それぞれの最も外方に位置するノズル間の間隔を基板の幅よりも狭くし、蒸着源の両側方領域それぞれに位置する複数のノズルの孔軸が外方に大きく傾くように配置し、更に、両側方領域それぞれに位置する複数のノズルを高密度に配置している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１８／０２５６３７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような蒸着装置においては、蒸着対象物に対して均一な膜厚分布を得るとともに、長時間の連続生産ができる蒸着源が望まれている。このような長時間の連続生産のためには、ノズルの詰まりの発生がなく、蒸着材料の劣化がないことが必要となっている。【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明は、均一な膜厚分布の薄膜の長時間の連続生産が可能な蒸着源及び蒸着装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る蒸着源は、収容箱と、第１のノズル群と、第２のノズル群とを具備する。
上記収容箱は、蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する。
上記第１のノズル群は、上記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第１のノズル孔を有する複数の第１のノズルからなる。
上記第２のノズル群は、上記収容箱の上記一方向における上記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第２のノズル孔を有する複数の第２のノズルからなる。
上記収容箱の上記一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔が、上記蒸着対象物の上記一方向における長さよりも長い。
上記第２のノズルの上記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、上記第２のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、上記中央領域側に位置する部分よりも上記一方向における外方側に位置する部分の方が低い。【０００７】
本発明のこのような構成によれば、第２のノズルを用いることにより第２のノズルから出射される蒸着材料の出射角度を制御することができ、膜厚分布の均一な成膜が可能となる。【０００８】
上記一方向における外方側に位置する部分の端面は、上記第２のノズルの開口端の内縁部における上記中央領域側に位置する部分と上記一方向における外方側に位置する部分とを通り上記仮想基準面に投影した時に上記一方向に沿う仮想線と上記仮想基準面とのなす角度で上記仮想基準面に対して傾斜する、上記仮想線を含む仮想傾斜面より、上記蒸着対象物側に位置してもよい。【０００９】
上記第２のノズル孔の孔軸を上記収容箱の深さ方向と上記一方向とで規定される平面に投影した線は、上記蒸着対象物の蒸着面又は上記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、上記中央領域側に傾いて位置してもよい。【００１０】
上記第２のノズルの開口端の形状は、上記一方向と直交する方向に長手方向を有してもよい。【００１１】
上記第２のノズルは、上記一方向と直交する方向に沿って複数配置された副ノズルから構成されてもよい。【００１２】
上記第１のノズルは、上記気化物質を出射し、上記仮想基準面からの高さが周縁に沿って同じ開口端を有してもよい。【００１３】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る蒸着装置は、蒸着源と、マスク材を具備する。
上記蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する収容箱と、上記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第１のノズル孔を有する複数の第１のノズルからなる第１のノズル群と、上記収容箱の上記一方向における上記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第２のノズル孔を有する複数の第２のノズルからなる第２のノズル群とを具備する蒸着源であって、上記収容箱の上記一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔が、上記蒸着対象物の上記一方向における長さよりも長く、上記第２のノズルの上記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、上記第２のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、上記中央領域側に位置する部分よりも上記一方向における外方側に位置する部分の方が低い。
上記マスク材は、上蒸着対象物と上記蒸着源との間に配置され、上記気化物質の上記蒸着対象物に対する付着範囲を制限する複数の開口を有する。【００１４】
上記マスク材の開口の内面は、上記蒸着源から厚み方向に先細りするテーパ面を有し、
上記第２のノズルの開口端において、上記第２の開口端と上記仮想基準面とのなす角度である傾斜角をθとし、上記記マスク材の板面に対する上記テーパ面の角度をθｍとしたときに、【００１５】
【数１】
2020213228.tif 000003
であってもよい。【００１６】
上記蒸着対象物の上記一方向における長さをＬｗとし、上記第１のノズルが上記収容箱に配置され得る上記一方向における長さをＬ１とし、上記蒸着対象物と上記第２のノズルとの距離をＨとしたときに、
上記第１のノズルは、上記収容箱の上記一方向における中心から上記一方向に次式で求められるＬ１／２の長さの領域内に配置されてもよい。【００１７】
【数２】
2020213228.tif 000004
【００１８】
上記収容箱の上記一方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル間の間隔をＬとし、上記収容箱の内寸の上記一方向における長さをＬ２としたときに、【００１９】
【数３】
2020213228.tif 000005
であってもよい。【００２０】
上記蒸着源に対して上記蒸着対象物を上記一方向に相対移動させる移動手段を更に具備してもよい。【００２１】
上記一方向に沿って配列された上記蒸着源を３つ具備し、
上記３つの蒸着源のうち中央に位置する蒸着源に設けられる第１のノズルの孔軸は上記蒸着対象物の蒸着面と直交して位置し、第２のノズルの孔軸は上記蒸着面又は上記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、上記中央領域側に傾いて位置し、
上記３つの蒸着源のうち上記中央の蒸着源の両側それぞれに位置する蒸着源に設けられる第１のノズルの孔軸は上記中央の蒸着源側に傾いて位置し、第２のノズルの孔軸は、上記中央領域側に傾き、かつ、上記中央の蒸着源側に傾いて位置してもよい。
【発明の効果】
【００２２】
以上述べたように、本発明によれば、均一な膜厚分布の成膜が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施形態に係る蒸着装置を説明する部分斜視図である。
【図２】上記蒸着装置を正面側からみた蒸着装置の部分断面図である。
【図３】上記蒸着装置に設けられる蒸着源の概略上面図である。
【図４】上記蒸着源に設けられる第１のノズルの斜視図である。
【図５】上記蒸着源に設けられる第２のノズルの斜視図である。
【図６】上記第２のノズルの断面図である。
【図７】上記蒸着源における第２のノズルの傾斜角とマスクプレートの開口の内面のテーパ角との関係を説明するための模式断面図、マスクエフェクトの発生を説明するためのマスクプレート及び基板の部分拡大断面図である。
【図８】上記蒸着源における第１のノズル及び第２のノズルが配置される領域を説明するための蒸着装置を正面側からみた模式図である。
【図９】第１のノズル及び第２のノズルそれぞれにより成膜される膜の膜厚分布を説明する図である。
【図１０】図９に示す各ノズルにより成膜された膜の膜厚分布を説明するための図である。
【図１１】第２のノズルの形状を説明するための図である。
【図１２】第２のノズルの配置を説明するための図である。
【図１３】第２のノズルの傾斜角θと、マスクエフェクト及び材料使用効率との関係を説明するための図である。
【図１４】変形例の第２のノズルが設けられる蒸着源の概略上面図である。
【図１５】図１４に示す蒸着源に設けられる第２のノズルの斜視図である。
【図１６】第２のノズルの他の変形例を示す斜視図及び断面図である。
【図１７】第２のノズルの更に他の変形例を示す斜視図及び断面図である。
【図１８】第２のノズルの更に他の変形例を示す断面図である。
【図１９】第２のノズルの更に他の変形例を示す断面図である。
【図２０】蒸着源の変形例を示す蒸着源の概略上面図及び断面図である。
【図２１】従来例としての蒸着源の部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。後述する変形例の説明において、同様の構成については同様の符号を付し、先に既に説明されている構成についてはその説明を省略する場合がある。
【００２５】
図１は、本発明の一実施形態に係る蒸着装置１００の模式断面図である。
図２は、蒸着装置１００を正面側からみた部分断面図である。
蒸着装置１００は、例えば矩形の平面形状の基板Ｓの一方の面（蒸着面）に薄膜を蒸着して成膜する真空蒸着装置である。
【００２６】
図１及び図２に示すように、蒸着装置１００は、真空チャンバ１と、基板搬送装置２と、蒸着源３とを備える。
真空チャンバ１には、図示しない排気管を介して真空ポンプが接続され、真空チャンバ１内を所定圧力（真空度）に真空引きして保持できるようになっている。
【００２７】
基板搬送装置２は、真空チャンバ１内の上部に設けられている。基板搬送装置２は、蒸着面としての下面を解放した状態で基板Ｓを保持するキャリア２１を有し、図示しない駆動装置によってキャリア２１、ひいては基板Ｓを真空チャンバ１内の一方向に所定速度で移動するようになっている。以下、蒸着源３に対する基板Ｓの相対移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する基板Ｓの幅方向を一方向としてのＹ軸方向とし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する基板Ｓの膜厚方向をＺ軸方向とする。
【００２８】
蒸着源３は、真空チャンバ１の底面側に、Ｘ軸方向に移動される基板Ｓに対向して設けられている。蒸着源３は一方向（Ｙ軸方向）に延在する長尺状のライン型である。蒸着対象物である基板Ｓに対して、蒸着源３の長手方向と略直角な方向（Ｘ軸方向）に沿って蒸着源３を移動させながら成膜が行われる。尚、本実施形態では、蒸着源３を移動させる例をあげるが、基板Ｓを移動させてもよく、また双方を移動させてもよい。
【００２９】
また、基板搬送装置２によって搬送される基板Ｓと蒸着源３との間に介在させて板状のマスクプレート（マスク材）４が設けられている。本実施形態では、マスクプレート４は、基板Ｓと一体に取り付けられ、基板Ｓと共に基板搬送装置２によって搬送されるようになっている。尚、マスクプレート４は、真空チャンバ１に予め固定配置しておくこともできる。
【００３０】
マスクプレート４には、板厚方向（Ｚ軸方向）に貫通し、成膜する薄膜パターンに対応する開口４１が設けられている。開口４１により、蒸着源３からの蒸着材料Ｖｍの基板Ｓに対する付着範囲が制限され、所定のパターンで基板Ｓに薄膜を成膜することができる。
【００３１】
図７（Ａ）に示されるマスクプレート４の部分断面図を用いて開口４１の形状について説明する。
図７（Ａ）に示すように、マスクプレート４の開口４１の内面は、蒸着源３側から板厚方向（Ｚ軸方向）に先細りする第１のテーパ面４１１と、末広がりの第２のテーパ面４１２とが連続した形状を有する。開口４１におけるマスクプレート４の蒸着源３側の板面４１３に対する第１のテーパ面４１１の角度θｍ（以下、テーパ角θｍと称す。）は例えば４０°〜５０°の範囲にある。本実施形態においては、マスクプレート４のテーパ角θｍは５０°とする。
【００３２】
マスクプレート４としては、アルミ、アルミナやステンレス、インバー合金等の他、ポリイミド等の樹脂製のものが用いられる。各開口４１の形状や個数は基板Ｓに成膜しようとするパターンに応じて適宜選択される。
【００３３】
図３は、蒸着源３の概略上面図である。
図１〜図３に示すように、蒸着源３は、収容箱３１と、複数の第１のノズル７からなる第１のノズル群１０と、複数の第２のノズル８からなる第２のノズル群２０とを有する。
【００３４】
収容箱３１は、基板Ｓに成膜しようとする薄膜に応じて適宜選択される蒸着材料である蒸着材料Ｖｍを収容する。収容箱３１の基板Ｓ側に位置する上面３１ａには、第１のノズル群１０と第２のノズル群２０とが設けられている。
【００３５】
第１のノズル群１０は、収容箱３１の上面３１ａのＹ軸方向における中央領域６１に位置する。第１のノズル群１０は、上面３１ａに、Ｙ軸方向に沿って、例えば等間隔に配置された複数の第１のノズル７から構成される。尚、図２及び図３において、後述の説明で用いるため、一部の第１のノズルに、便宜的に区別して符号７ａ、７ｂを付したが、特に区別して説明する必要がない場合は、第１のノズル７と称して説明する。
【００３６】
第２のノズル群２０は、収容箱３１の上面３１ａの中央領域６１よりＹ軸方向に沿って外方側に位置する側方領域６２に位置する。第２のノズル群２０は、Ｙ軸方向に沿って上面３１ａに配置された複数の第２のノズル８から構成される。尚、図２及び図３において、後述の説明で用いるため、一部の第２のノズルに、便宜的に区別して符号８ａ〜８ｇを付したが、特に区別して説明する必要がない場合は、第２のノズル８と称して説明する。
【００３７】
２つの側方領域６２は中央領域６１を間に介してＹ軸方向に沿って対向配置され、第２のノズル群２０は第１のノズル群１０を介して対向配置される。複数の第１のノズル７及び複数の第２のノズル８はＹ軸方向に沿って一列に配置される。尚、ノズルの数は図示する数に限定されるものではない。
【００３８】
図２に示すように、上面３１ａのＹ軸方向に沿った両端それぞれの最も外方に位置する第２のノズル８ａと第２のノズル８ｇとの間隔Ｌは、基板ＳのＹ軸方向における幅Ｌｗよりも長くなっている。
図２に示すように、収容箱３１の上面３１ａと基板Ｓとは平行に位置しており、基板Ｓを収容箱３１に投影したとき、基板Ｓの投影領域内に第１のノズル群１０と、第２のノズル群２０の一部が位置する。各第２のノズル群２０のうち、最も外方に位置する２つの第２のノズル８ａ及び８ｂ、第２のノズル８ｆ及び８ｇは、基板Ｓの投影領域外に位置する。
【００３９】
本実施形態において、各第２のノズル群２０は、第２のノズル８を５つ有する。
図３に示すように、第２のノズル群２０において、５つの第２のノズル８のうち、中央領域６１側に位置する４つの第２のノズル８はａの間隔で等間隔に配置される。両側方領域６２それぞれのＹ軸方向における外方側に位置する２つの第２のノズル（８ａと８ｂ、８ｆと８ｇ）は、ａの間隔よりも狭いｂの間隔で配置される。このように、本実施形態では、第２のノズル群２０において、外方側に位置する第２のノズル８は中央領域側に位置する第２のノズル８よりも密に配置される。
【００４０】
収容箱３１には、蒸着材料Ｖｍを加熱する図示しない加熱手段が付設されている。加熱手段により加熱された蒸着材料の気化物質は各第１のノズル７及び各第２のノズル８から出射される。
【００４１】
図４は、第１のノズル７の斜視図である。
図５は第２のノズル８の斜視図である。
図６は第２のノズル８の概略断面図である。
【００４２】
図４に示すように、第１のノズル７は、収容箱３１内で昇華又は気化した蒸着材料が通過する通過孔である第１のノズル孔７２を有する。第１のノズル７は、基板Ｓに向かって蒸着材料が出射される開口端７１を有する。第１のノズル７の開口端７１は、上面３１ａと平行な面となっており、図３に示すように、蒸着源３を上から見たときに矩形状を有する。
第１のノズル７は第１のノズル孔７２となる中空部を有する筒状を有し、外形が直方体形状となっている。第１のノズル孔７２の第１の孔軸７３は上面３１ａに対し垂直に設けられる。第１のノズル７の開口端７１は、上面３１ａからの高さが、周縁に沿って同じとなっている。
【００４３】
図５及び図６に示すように、第２のノズル８は、収容箱３１内で昇華又は気化した蒸着材料が通過する通過孔である第２のノズル孔８２を有する。第２のノズル８は、基板Ｓに向かって蒸着材料が出射される開口端８１を有する。
【００４４】
第２のノズル８は第２のノズル孔８２となる中空部を有する筒状を有する。
図６に示すように、第２のノズル孔８２を形成する第２のノズル８は、内側面８２１を有する。
内側面８２１は、収容箱３１の高さ方向（Ｚ軸方向）に沿って第２のノズル孔８２の開口形状が変化しない形状となっている。
第２のノズル孔８２の孔軸である第２の孔軸８３は上面３１ａに対し垂直となっている。
【００４５】
図６に示すように、Ｙ軸方向に沿った断面図において、第２のノズル８及び第２のノズル孔８２は、第２の孔軸８３からみて左右非対称の形状を有する。
一方、第１のノズル７及び第１のノズル孔７２は、Ｙ軸方向に沿った断面図において、第１のノズル７の第１の孔軸７３からみて左右対称の形状を有する。
【００４６】
図３に示すように、蒸着源３を上から見たときに、第２のノズル８の開口端８１は、Ｙ軸方向と直交するＸ軸方向に長手方向を有する矩形の額縁形状を有する。
図６に示すように、第２のノズル８の開口端８１は、第２の孔軸８３に対して垂直な仮想基準面９からの高さが、周縁に沿って異なっている。より具体的には、収容箱３１に第２のノズル８を配置して蒸着源３としたときに、第２のノズル８の開口端８１において、第２の開口端８１の中央領域６１側に位置する部分８１ａの仮想基準面９からの高さｈ１は、第２のノズル８の開口端８１のＹ軸方向における外方側に位置する部分８１ｂの仮想基準面９からの高さｈ２よりも高くなっている。
このように第２のノズル８の開口端８１は、仮想基準面９に対して傾斜している。
【００４７】
尚、仮想基準面９は、第２の孔軸８３と直交する面であって、上面３１ａと、第２のノズル８の開口端８１のうち最も高さの低い部分（本実施形態においては符号８１ｂが付される部分）との間に位置するものとする。
第２のノズル８の開口端８１の内縁部を周縁とする平面を第２のノズル８の開口面とする。この開口面と仮想基準面９とのなす角度を第２のノズル８の傾斜角θとする。言い換えると、第２のノズル８の開口端８１と仮想基準面９とのなす角度が傾斜角θであり、第２のノズル８の開口端８１の内縁部における最も高さが低い部分と最も高さが高い部分を通る仮想線と仮想基準面９とのなす角度が傾斜角θとなる。尚、仮想線は上面３１ａに投影したときにＹ軸方向に沿うものとする。
本実施形態においては、仮想基準面９と上面３１ａとは平行に位置する。
【００４８】
蒸着源３に設けられる第２のノズル８の開口端８１において、第２のノズル８の開口端８１の中央領域６１側に位置する部分８１ａは、第２のノズル８の開口端８１の外方側に位置する部分８１ｂよりも高くなっている。これにより、第２のノズル８から出射される蒸着材料の出射角度が制御され、１つの第２のノズル８から出射し基板Ｓに付着してなる薄膜の面内での膜厚分布をＹ軸方向で第２の孔軸８３を中心として左右不均一のものとすることができる。詳細については図９を用いて後述する。
【００４９】
このような傾斜角を有する第２のノズル８の開口端８１を有する第２のノズル８を設け、更に、上面３１ａの両端それぞれに位置する第２のノズル８ａと第２のノズル８ｇとの間隔Ｌを基板ＳのＹ軸方向における幅Ｌｗよりも長くなるように蒸着源３を構成することにより、面内で均一な膜厚分布の薄膜を成膜することができる。
また、本実施形態において、第２のノズル８の第２の孔軸８３を収容箱の深さ方向（Ｚ軸方向）とＹ軸方向とで規定されるＺＹ平面に投影した線は、基板Ｓの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交する。これにより、孔軸が外方にむけて傾くように設けるよりも、第２のノズル８の周辺の外方側での未使用の蒸着材料の堆積が抑制され、より長時間の連続生産が可能となる。
尚、第２のノズル８の第２の孔軸８３をＺＹ平面に投影した線が中央領域６１側に傾くように第２のノズル８を設けても良い。これにより、基板Ｓの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交するように設ける場合と同様に、孔軸が外方にむけて傾くように設けるよりも、第２のノズル８の周辺の外方側での未使用の蒸着材料の堆積が抑制され、より長時間の連続生産が可能となる。
【００５０】
図９は、基板Ｓと蒸着源３とを図８に示すように対向配置させ、図３に示す蒸着源３に設けられる第１のノズル７ａ、７ｂと第２のノズル８ａ〜８ｅそれぞれを用いて基板Ｓに薄膜を成膜したときの、各ノズルの基板Ｓの中心からの距離に対する相対膜厚のシミュレーション結果を示す。
【００５１】
図９に示すように、第１のノズル７ａ及び７ｂを用いて成膜された薄膜の相対膜厚はピーク部分を境にほぼ左右対称の形状を示す。一方、第２のノズル８ａ〜８ｅを用いて成膜された薄膜の相対膜厚はピーク部分を境に左右非対称の形状を示す。各第２のノズル８で成膜される薄膜において、ピーク部分よりも右側、すなわち基板Ｓの中心からの距離がより遠い方の側が、ピーク部分よりも左側、すなわち基板Ｓの中心からの距離がより近い方の側よりも膜厚が厚くなっている。各ピーク部分は、対応するノズルの孔軸の位置に対応する。
【００５２】
すなわち、傾斜角θの第２のノズル８の開口端８１を有する第２のノズル８を用いることにより、出射される蒸着材料の出射角度が制御され、１つの第２のノズル８で成膜される薄膜の膜厚分布を非均一とすることができる。より詳細には、第２のノズル８を用いることにより、第２のノズル８の開口端８１の最も高さが高くなる部分８１ａ側に位置する薄膜の膜厚の方が、低くなる部分８１ｂ側よりも薄くなるように、第２の孔軸８３に対して左右非対称の膜厚分布の薄膜を成膜することができる。
【００５３】
図９では各ノズルで成膜された薄膜の膜厚分布を示したが、図１０は、これら各ノズルを含む蒸着源３に設けられる全てのノズル（第１のノズル群及び２つの第２のノズル群）を用いて薄膜を成膜したときの基板Ｓの中心からの距離に対する薄膜の相対膜厚のシミュレーション結果を示す。
図１０に示すように、第２のノズル８を用いることにより基板ＳのＹ軸方向における両端部にも薄膜を十分に成膜することができ、また、面内で均一な膜厚分布の薄膜を成膜することができる。更に、マスクエフェクトを抑制することができる。
【００５４】
このように、蒸着源の両側方領域に設けられる第２のノズルにおいて、その開口端を中央領域側に位置する部分が外方側に位置する部分よりも高くなるように構成することにより、第２のノズルから出射される蒸着材料の出射角度を制御することができる。これにより、面内で均一な膜厚分布の薄膜を成膜しつつ、マスクエフェクトを抑制することができる。
【００５５】
図７（Ｂ）はマスクプレート４と基板Ｓの部分拡大断面図である。図７（Ｂ）に示すように、マスクプレート４を介して基板Ｓの領域Ａと領域Ｂの双方に同じ膜厚の薄膜を形成しようとする場合、マスクプレート４への蒸着材料の入射角度が大きくなると、領域Ａでは、領域Ｂと比較して、蒸着材料の基板Ｓへの入射がマスクプレート４により遮られてしまうため、成膜される薄膜の膜厚が薄くなってしまうといった所謂マスクエフェクトが生じる。
これに対し、本実施形態では、第２のノズルから出射される蒸着材料の出射角度を制御することにより、マスクエフェクトの発生を抑制することができる。
【００５６】
更に、蒸着源に設けられる複数のノズルのうちＹ軸方向に沿って最も外方に位置する両側の第２のノズル間距離を基板ＳのＹ軸方向の幅よりも長くすることにより、基板ＳのＹ軸方向における両端部においても十分に成膜することができ、面内均一の膜厚分布で成膜することができる。
【００５７】
また、第２のノズル８の第２のノズル８の開口端８１は、Ｙ軸方向に沿った長さよりも、Ｙ軸方向に直交するＸ軸方向に沿った長さの方が長い形状となっている。このように、第２のノズル８の開口は、Ｘ軸方向に長手方向を有する形状となっている。
このように、第２のノズル８の開口をＸ軸方向に長手方向を有する形状とすることにより、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。以下、図１１を用いて説明する。
【００５８】
図１１（Ａ）は比較例としてのノズルの斜視図、断面図、上面図を示す。図１１（Ｂ）は本実施形態の第２のノズル８の斜視図、断面図、上面図を示す。いずれも断面図は、蒸着源３の長手方向であるＹ軸方向に沿った断面で切断した図に相当する。
【００５９】
図１１（Ａ）に示すノズル９０と図１１（Ｂ）に示す第２のノズル８とは、開口面積が等しいものとなっている。ここで開口面積とは、蒸着材料が出射される側の開口端の内縁部を通る平面（開口面）における第２のノズル孔８２の領域の面積を示す。
【００６０】
図１１（Ａ）及び（Ｂ）において、符号１２はリフレクタを示し、符号１３は防着板を示す。リフレクタ１２は複数の板状部材から構成され、収容箱３１から放出される熱を遮断する。防着板１３は、ノズルの開口端を閉塞しないように配置される。防着板１３が設けられることにより、ノズル周辺への蒸着材料の付着が防止される。尚、図１〜図３においてはリフレクタ及び防着板の図示は省略している。
【００６１】
図１１（Ａ）に示すノズル９０は、開口端９１が傾斜面となっており、仮想基準面からの高さが周縁で異なっている。ノズル９０の孔軸９３に対して垂直な面で切断したノズル９０の開口は正円形状を有し、開口面は楕円形状となっている。
一方、図１１（Ｂ）に示す第２のノズル８でも、第２のノズル８の開口端８１は傾斜面を有しており、仮想基準面からの高さが周縁で異なっている。第２のノズル８の開口面は矩形状となっている。
【００６２】
第２のノズル８は開口が長手方向を有しているため、同じ開口面積を有し、楕円形状の開口面を有するノズル９０と比較して、開口面のＹ軸方向における長さを短くすることができる。
これにより、隣り合う第２のノズル８間距離を、ノズル９０を用いる場合よりも広く取ることができる。
【００６３】
図１２は、第２のノズル８の配置を説明するための図である。
傾斜する開口端を有する第２のノズル８を複数用いる場合、隣り合う第２のノズル８間の距離が短いと、図１２に示すように、一方の第２のノズル８の開口端８１のうち最も高さの低い部分８１ｂ側から出射される蒸着材料が他方の第２のノズル８で跳ね返って基板Ｓの所望の領域に付着されないといった問題がある。このため、このような跳ね返りの発生を抑制するために隣り合う第２のノズル８をある程度離して配置することが望ましい。
従って、本実施形態のＸ軸方向に長手方向を有する開口を有する第２のノズル８を用いることにより、蒸着材料の出射量を確保しつつ、上述のような第２のノズル８での蒸着材料の跳ね返りによる影響が抑制されるように第２のノズル８間距離を離すことが可能となる。これにより、基板Ｓの所望の領域に蒸着材料を付着させることができ、薄膜の膜厚分布を均一化することができる。
【００６４】
更に、第２のノズル８において、開口面のＹ軸方向における長さを短くすることができることにより、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。
図１１に示すように、第２のノズル８はその開口形状が長手方向を有するので、同じ開口面積を有するノズル９０と比較して、高さをより低くすることができる。したがって、第２のノズル８は、ノズル９０と比べて、防着板１３から突出するノズル部分の長さを短くすることができ、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。
【００６５】
すなわち、防着板１３から突出するノズル部分の長さが長いほど蒸着材料が冷めやすくなって、蒸着材料のノズル詰まりが生じやすくなる。本実施形態においては、第２のノズル８は、その開口が長手方向を有するので、開口面積を変えることなく防着板１３から突出するノズル部分の長さを短くすることができる。従って、蒸着材料の出射量を確保しつつ、蒸着材料が冷めにくく、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。これにより、長時間の連続生産が可能となる。
【００６６】
ここで、図２１は、従来例としての蒸着源５０３のＹ軸方向側方部の部分断面図である。図２１に示す蒸着源５０３は、Ｙ軸方向に沿った断面において収容箱５３１の全体が凸形状を有する。収容箱５３１は、そのＹ軸方向中央部に基板Ｓと平行な上面５３１ａと、Ｙ軸方向両側方部に上面５３１ａに対して斜めの斜面５３１ｂを有する。上面５３１ａには第１のノズル５０７が配置され、斜面５３１ｂには第１のノズル５０７よりも開口径の大きい第２のノズル５０８が配置される。蒸着源５０３を用いた蒸着装置では、蒸着源５０３のＹ軸方向の長さは、基板ＳのＹ軸方向の長さよりも短く、蒸着源５０３のＹ軸方向両側方領域それぞれに配置される第２のノズル５０８は、その孔軸が外方に傾いている。
【００６７】
図２１に示すような蒸着源５０３では、両側方領域に位置する第２のノズル５０８近傍で基板に付着しなかった未使用の蒸着材料の堆積量が増加する。未使用蒸着材料の堆積物によってノズルの開口がふさがれないようにメンテナンスが必要となってくるため、蒸着材料の堆積量が増加するとメンテナンスの頻度が高くなる。メンテナンスの頻度が高くなると、連続して生産する期間が短くなるため生産効率が低下する。
例えば、連続生産期間を長くするため、未使用蒸着材料の堆積物によってノズルの開口がふさがれないように防着板から突出するノズルの長さを長くすることが考えられるが、突出したノズルは冷えやすいため、ノズルの中に蒸着材料が付着してノズルが詰まりやすい。このようなノズル詰まりの発生を抑制するために、ノズルの温度を上げると、収容箱に収容されている蒸着材料の表面温度が上昇し、蒸着材料の劣化という問題が生じる。
【００６８】
これに対し、本実施形態では、第２のノズル８の第２の孔軸８３は、基板Ｓの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交するように設けられるため、孔軸が外方に傾くように配置する場合と比較して、未使用の蒸着材料の堆積量を減少させることができる。従って、蒸着材料の使用効率を向上させることができ、生産効率を向上させることができる。更に、メンテナンス頻度を低くすることができるため、長時間の連続生産が可能となる。
また、上述のように、第２のノズル８の開口を、長手方向を有する形状とすることにより防着板から突出するノズルの長さを短くすることができるので、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。従って、ノズル詰まりの発生を抑制するためにノズルの温度を上げる必要がなく、収容箱に収容されている蒸着材料の表面温度が上昇し、蒸着材料の劣化を招くといった問題の発生を抑制することができる。
【００６９】
図６において、第２のノズル８の開口端８１の内縁部における中央領域側に位置する部分８１ａとＹ方向における外方側に位置する部分８１ｂを通り、仮想基準面９に投影した時にＹ方向に沿う仮想線８５をひく。開口端８１の外方側に位置する部分８１ｂの端面は、仮想線８５と仮想基準面９とのなす角度θで仮想基準面９に対して傾斜する、仮想線８５を含む仮想傾斜面よりも基板Ｓ側に位置する。図６に示す例では、外方側に位置する部分８１ｂの端面の全てが仮想傾斜面よりも基板Ｓ側に位置し、外方側に位置する部分８１ｂの端面は仮想基準面９と平行に位置する。
【００７０】
ここで、第２のノズルは、後述する図１７に示す変形例の第２のノズル３８のように、開口端３８１の外方側に位置する部分３８１ｂの端面が仮想基準面９に対して斜めに位置する斜面であってもよい。図１７に示す第２のノズル３８では、外方側に位置する部分３８１ｂの端面は仮想傾斜面上に位置する。この仮想傾斜面は、開口端３８１の内縁部における中央領域側に位置する部分３８１ａとＹ方向における外方側に位置する部分３８１ｂを通り、仮想基準面９に投影した時にＹ方向に沿う仮想線３８５と仮想基準面９とのなす角度θで仮想基準面９に対して傾斜する、仮想線３８５を含む面である。
本実施形態における第２のノズル８は、その開口端８１の外方側に位置する部分８１ｂが仮想傾斜面よりも基板Ｓ側に位置しているため、図１７に示す変形例の第２のノズル３８と比較して、ノズルの周囲に配置される防着板へ飛散する蒸着材料を外方側に位置する部分８１ｂでより多く遮ることができる。
【００７１】
このように、外方側に位置する部分８１ｂの端面が仮想傾斜面よりも基板Ｓ側に位置することが好ましく、防着板１３への蒸着材料の堆積速度を遅くすることができ、より長時間の連続生産が可能となる。
尚、本実施形態では、外方側に位置する部分８１ｂは、その端面の全てが仮想傾斜面よりも基板Ｓ側に位置している例をあげたが、端面の少なくとも一部が仮想傾斜面よりも基板Ｓ側に位置していればよい。
【００７２】
図７（Ａ）は、第２のノズル８の傾斜角θとマスクプレート４の開口４１の第１のテーパ面４１１のテーパ角θｍとの関係を説明するための図である。
図７（Ａ）に示すように、マスクプレート４の開口４１は、蒸着源３に向かって末広がりの第１のテーパ面４１１を有している。
【００７３】
図７（Ｂ）はマスクプレート４と基板Ｓの部分拡大断面図である。マスクプレート４を介して基板Ｓの領域Ａと領域Ｂの双方に同じ膜厚の薄膜を形成しようとした場合を例にあげる。図７（Ｂ）に示すように、マスクプレート４への蒸着材料の入射角度が大きくなると、基板Ｓの領域Ｂには蒸着材料が到達するのに対し、領域Ａでは、蒸着材料の基板Ｓへの入射がマスクプレート４により遮られてしまうため、成膜される薄膜の膜厚が領域Ｂよりも薄くなってしまうといった所謂マスクエフェクトが生じる。
【００７４】
図１３は、第２のノズル８の傾斜角θと、マスクエフェクト及び蒸着材料使用効率との関係を説明するための模式図である。
図１３に示すように、マスクエフェクトの発生の抑制のためθの値を大きくしてノズルからの蒸着材料の出射角度を調整すると蒸着材料使用効率が低下し、蒸着材料使用効率の向上のためにθの値を小さくしていくとマスクエフェクトが低下する。このように、マスクエフェクトと蒸着材料使用効率との関係はトレードオフの関係にある。
【００７５】
第２のノズル８の傾斜角θは、マスクプレート４のテーパ角θｍを用いて次式の範囲に設定することが好ましい。
【００７６】
【数４】
2020213228.tif 000006
【００７７】
上式のように、第２のノズル８の傾斜角θは、マスクプレート４のテーパ角θｍよりも１５°小さい数値よりも大きければよく、テーパ角θｍよりも１０°小さい数値よりも大きいことが更に好ましい。
例えば、本実施形態では、マスクプレート４のテーパ角θｍを５０°とした場合、第２のノズル８の傾斜角θは３５°〜５５°の範囲で設定されることが好ましく、更に好ましくは４０°〜５０°である。傾斜角θの好ましい設定範囲の上限値は、蒸着材料の種類、マスクプレート４のテーパ角θｍ、基板Ｓの幅Ｌｗ等により適宜設定される。本実施形態では、第２のノズル８の傾斜角θを４０°とした。
【００７８】
このように、本実施形態では、仮想基準面９に対して傾斜する第２のノズル８の開口端８１を有する第２のノズル８を、中央領域６１側が外方側よりも高さが高くなるように配置し、収容箱３１のＹ軸方向における両端それぞれに位置する第２のノズル８ａと第２のノズル８ｇとの間隔Ｌを基板ＳのＹ軸方向における幅Ｌｗよりも長くなるように蒸着源３を構成し、更に、第２のノズル８の傾斜角θを上述のように設定することにより、均一な膜厚分布の成膜が可能となるのに加え、マスクエフェクトの発生を抑制しつつ、蒸着材料の使用効率を向上させることができる。
【００７９】
また、蒸着源３において、第１のノズル７は次のように配置される。
すなわち、図８に示すように、基板ＳのＹ軸方向における中心を通る基板厚み方向（Ｚ軸方向）に沿った中心線Ｃ上に収容箱３１のＹ軸方向における中心を位置させ、基板ＳのＹ軸方向における長さをＬｗとし、収容箱３１の上面３１ａでの複数の第１のノズル７が配置され得るＹ軸方向における長さをＬ１とし、基板Ｓの蒸着面と第２のノズル８との距離をＨとしたときに、第１のノズル７は、中心線ＣからＹ軸方向に、次式で求められるＬ１／２の長さの領域内に配置される。
【００８０】
【数５】
2020213228.tif 000007
【００８１】
一例として、基板ＳのＹ軸方向における長さＬｗを９００ｍｍとし、基板Ｓの蒸着面と第２のノズル８との距離Ｈを５００ｍｍとし、θを４０°としたとき、Ｌ１の値は５２８ｍｍとなる。この場合、収容箱３１の上面３１ａに、中心線ＣからＹ軸方向に２６４ｍｍの領域内に第１のノズル７が設けられる。
一方、複数の第２のノズル８は、収容箱３１の上面３１ａ上の中心線ＣからＹ軸方向に２６４ｍｍの領域よりも外方の領域に設けられる。
【００８２】
更に、図８に示すように、収容箱３１のＹ軸方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル８間の間隔をＬとし、収容箱３１の内寸のＹ軸方向における長さをＬ２としたときに、Ｌ／Ｌ２の値が次式を満たすことが好ましい。これにより、収容箱３１内の蒸着材料の表面温度を均一にしやすく、長期の連続生産中に材料が劣化することを抑制することができる。
【００８３】
【数６】
2020213228.tif 000008
【００８４】
ここで、図２１を用いて説明する。図２１に示す従来例としての蒸着源５０３のＹ軸方向における長さは、基板Ｓの長さよりも短い。このような蒸着源５０３を用いる場合、本実施形態のように基板Ｓの長さよりもＹ軸方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル８間の間隔Ｌが長い蒸着源３を用いる場合と同様の量の蒸着材料を収容箱５３１に収容させるには、収容箱５３１の収容部の深さを深くするか、或いは、収容箱５３１の内寸のＹ軸方向における長さＬ２´をＹ軸方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル５０８間の間隔Ｌ´よりも十分長くする必要がある。
収容箱５３１の収容部の深さを深くする場合、蒸着装置全体が大きくなってしまう。
収容箱５３１の内寸のＹ軸方向における長さＬ２´をＹ軸方向両端にそれぞれ位置する第２のノズル５０８間の間隔Ｌ´よりも十分長くする場合、収容箱５３１の両側方部のノズルが位置しない領域と、間隔Ｌ´を規定する領域となるノズルが位置する領域とで、収容する蒸着材料の温度を均一にすることが難しく、収容箱５３１内の蒸着材料表面の温度が不均一になりやすい。このため、長時間の連続生産中に蒸着材料が劣化するといった問題が生じやすい。
【００８５】
これに対し、本実施形態では、Ｌ／Ｌ２の値を０．８以上１より小さい値とし、収容箱３１の上面３１ａに広範囲で第１及び第２のノズルを配置するため、収容箱３１に収容される蒸着材料の表面温度を均一にすることができる。これにより、蒸着材料の劣化を抑制することができ、長時間の連続生産においても、蒸着材料の品質を安定したものとすることができる。
【００８６】
以上のように、本実施形態においては、面内均一な膜厚分布での成膜が可能となる。
更に、マスクエフェクトを抑制しつつ、蒸着材料の使用効率を向上させることができる。マスクエフェクトの抑制により、より高精細のパターンの成膜が可能となる。蒸着材料の使用効率の向上により、生産効率を向上させることができ、長時間の連続生産が可能となる。更に、蒸着材料の劣化を抑制することができる。
【００８７】
本発明の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
【００８８】
例えば、上述の実施形態においては、第２のノズルとして、Ｘ軸方向に沿って長手方向を有する１つの開口端８１を有する第２のノズル８を用いる例をあげたが、これに限定されない。例えば、Ｘ軸方向に沿って配置される複数の副ノズルから第２のノズルを構成してもよい。図１４及び図１５は、その一例である変形例としての第２のノズルを説明する図である。
【００８９】
図１４は、変形例としての第２のノズル１８が設けられる蒸着源１０３の上面図である。
図１５は、図１４の蒸着源１０３が備える第２のノズル１８の斜視図を示す。
【００９０】
図１４に示すように、蒸着源１０３は、収容箱３１と、収容箱３１の上面３１ａ上に設けられた第１のノズル群１０と第２のノズル群１２０とを有する。
第２のノズル群１２０は、蒸着源１０３の両側方領域６２に設けられた複数（図においては５つ）の第２のノズル１８を有する。図１４及び図１５に示すように、第２のノズル１８は、Ｘ軸方向に沿って配設された３つの副ノズル１８１から構成される。各副ノズル１８１は、開口端１８１１が傾斜面となる円筒状を有する。副ノズル１８１は、開口端１８１１において、開口端１８１１の中央領域６１側に位置する部分１８１１ａの高さが、開口端１８１１の外方側に位置する部分１８１１ｂの高さよりも高くなっている。
【００９１】
このように、第２のノズル１８を複数の副ノズル１８１から構成して、第２のノズル１８の開口の長手方向を形成してもよい。この場合、第２のノズル１８の開口面積は、１つの副ノズル１８１の開口端１８１１の内縁部を周縁部とする平面である開口面の面積の３倍の値となる。
これにより、上述の第２のノズル８と同様に、図１１に示す１つのノズル９０を用いる場合と比べて、防着板から突出するノズル部分の長さを短くすることができ、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。
【００９２】
また、第２のノズルの形状は上述の実施形態及び変形例で示したものに限定されず、仮想基準面に対しての高さが周縁で異なる開口端を有するノズルであればよく、例えば図１６〜図１９に示すような形状であってもよい。
【００９３】
図１６（Ａ）は変形例としての第２のノズル２８の斜視図であり、図１６（Ｂ）は第２のノズル２８の断面図である。
図１６に示すように、第２のノズル２８を上方からみたときに第２のノズル２８の開口端２８１は矩形状を有する。仮想基準面９からの矩形の一辺に対応する開口端２８１までの高さｈ１は、他の三辺に対応する開口端２８１までの高さｈ２よりも高くなっている。第２のノズル２８の開口端２８１のうち仮想基準面９からの高さが最も高い部分を２８１ａとし、最も低い部分を２８１ｂとする。第２のノズル２８を収容箱に設けて蒸着源としたとき、部分２８１ａは中央領域６１側に位置し、部分２８１ｂは中央領域６１よりもＹ軸方向の外方側に位置する。
開口端２８１の内縁部における最も高さが低い部分と最も高さが高い部分を通る仮想線と仮想基準面９とのなす角度が第２のノズル２８の傾斜角θとなる。尚、仮想線は上面３１ａに投影したときにＹ軸方向に沿うものとする。
【００９４】
図１７（Ａ）は変形例としての第２のノズル３８の斜視図であり、図１７（Ｂ）は第２のノズル３８の断面図である。
図１７に示すように、第２のノズル３８は開口端３８１を有している。開口端３８１の内縁部を周縁とする平面である開口面は、仮想基準面９に対して傾斜角θで傾斜している。第２のノズル３８の開口端３８１のうち仮想基準面９からの高さが最も高い部分を３８１ａとし、最も低い部分を３８１ｂとする。第２のノズル３８を収容箱に設けて蒸着源としたとき、部分３８１ａは中央領域６１側に位置し、部分３８１ｂは中央領域６１よりもＹ軸方向の外方側に位置する。
【００９５】
図１８は変形例としての第２のノズル４８の断面図である。
図１８に示すように、第２のノズル４８の第２のノズル孔４８２が、収容箱３１の上面３１ａに対して傾斜していてもよい。図１８に示す例では、第２のノズル４８の外側壁は上面３１ａに対して垂直に位置する。
【００９６】
図１８に示すように、第２のノズル４８は開口端４８１を有している。開口端４８１の内縁部を周縁とする平面である開口面は、仮想基準面９に対して傾斜角θで傾斜している。第２のノズル４８の開口端４８１のうち仮想基準面９からの高さが最も高い部分を４８１ａとし、最も低い部分を４８１ｂとする。図では、部分４８１ａの仮想基準面９からの高さをｈ１とし、部分４８１ｂの仮想基準面９からの高さをｈ２としている。第２のノズル４８を収容箱に設けて蒸着源としたときに、部分４８１ａは中央領域６１側に位置し、部分４８１ｂは中央領域６１よりもＹ軸方向の外方側に位置する。
【００９７】
第２のノズル４８を収容箱に設けて蒸着源として蒸着装置に設けたとき、第２のノズル孔４８２の第２の孔軸４８３は中央領域６１側に傾き、基板Ｓの蒸着面に対して斜めに位置する。尚、上述の実施形態及び各変形例においては、蒸着装置の状態で、第２のノズルの孔軸は基板Ｓの蒸着面又はこの蒸着面の仮想延長面に対して直交するように位置する。
【００９８】
図１９は変形例としての第２のノズル５８の断面図である。
図１９に示すように、第２のノズル５８の第２のノズル孔５８２の第２の孔軸５８３が上面３１ａに対して斜めになるのに加えて、第２のノズル５８の外側壁が上面３１ａに対して斜めに位置してもよい。外側壁は第２の孔軸５８３と平行となっている。
【００９９】
図１９に示すように、第２のノズル５８は開口端５８１を有している。開口端５８１の内縁部を周縁とする平面である開口面は、仮想基準面９に対して傾斜角θで傾斜している。第２のノズル５８の開口端５８１のうち仮想基準面９からの高さが最も高い部分を５８１ａとし、最も低い部分を５８１ｂとする。図では、部分５８１ａの仮想基準面９からの高さをｈ１とし、部分５８１ｂの仮想基準面９からの高さをｈ２としている。第２のノズル５８を収容箱に設けて蒸着源としたときに、部分５８１ａは中央領域６１側に位置し、部分５８１ｂは中央領域６１よりもＹ軸方向の外方側に位置する。
【０１００】
第２のノズル５８を収容箱に設けて蒸着源として蒸着装置に設けたとき、第２のノズル孔５８２の第２の孔軸５８３は中央領域６１側に傾き、基板Ｓに対して斜めに位置する。
【０１０１】
また、上述の実施形態の蒸着装置においては、１つの蒸着源を設ける例をあげたが、図２０に示すように３つの蒸着源を設けてもよい。
【０１０２】
図２０（Ａ）は、Ｘ軸方向に沿って３つの蒸着源２０３、３、２０３を配列させたときの上面図である。図２０（Ｂ）は図２０（Ａ）の線Ａ−Ａで切断した概略断面図である。
【０１０３】
図２０に示すように、蒸着装置に搭載された状態で、３つの蒸着源２０３、３、２０３のうち中央に位置する蒸着源３に設けられる第１のノズル７の第１の孔軸７３は基板Ｓの蒸着面と直交して位置する。中央に位置する蒸着源３に設けられる第２のノズル８の第２の孔軸８３は基板Ｓの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交する、又は、中央領域６１側に傾いて位置する。
３つの蒸着源２０３、３、２０３のうち中央の蒸着源３の両側それぞれに位置する蒸着源２０３に設けられる第１のノズル７の第１の孔軸７３は中央の蒸着源３側に傾いて位置する。蒸着源２０３に設けられる第２のノズル８の第２の孔軸８３は、中央領域６１側に傾き、かつ、中央の蒸着源３側に傾いて位置する。
【０１０４】
図２０に示す例では、中央に位置する蒸着源３の上面３１ａは、基板Ｓの蒸着面と平行に位置する。中央の蒸着源３の両側それぞれに位置する蒸着源２０３の上面２３１ａは、中央に位置する蒸着源３の上面３１ａに対して鈍角に位置する。このように３つの蒸着源のうち両側に位置する蒸着源２０３の上面２３１ａは中央に位置する蒸着源３に向かって傾いている。
【０１０５】
各蒸着源２０３において、第１のノズル７、第２のノズル８は、それぞれの第１の孔軸７３及び第２の孔軸８３と、上面２３１ａとが直交するように、上面２３１ａ上に配置される。従って、各蒸着源２０３に設けられる第１のノズル７の第１の孔軸７３及び第２のノズル８の第２の孔軸８３は基板Ｓに対して斜めに位置する。
【０１０６】
蒸着源３（２０３）の第１のノズル７の第１の孔軸７３をＺＹ平面に投影した線は基板Ｓの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交する。
蒸着源３（２０３）の第２のノズル８の第２の孔軸８３をＺＹ平面に投影した線は基板Ｓの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交する。尚、本実施形態では、蒸着源３（２０３）において、第２のノズル８の第２の孔軸８３が上面３１ａ（２３１ａ）に対して垂直に位置する例をあげたが、中央領域６１側に傾いて位置してもよく、この場合、第２の孔軸８３をＺＹ平面に投影した線は中央領域６１側に傾く。
【０１０７】
尚、ここでは、蒸着源２０３、３、２０３が、それぞれ収容箱を有する構成としたが、１つの収容箱を共有するように構成してもよい。
また、蒸着源２０３の収容箱２３１の上面２３１ａと蒸着源３の収容箱３１の上面３１ａとが鈍角に位置するように構成する例をあげたが、上面２３１ａと上面３１ａとが平坦な位置関係となるように構成してもよい。この場合、蒸着源２０３に設けられる第１のノズル７の第１の孔軸７３が中央の蒸着源３側に傾いて位置するように構成し、蒸着源２０３に設けられる第２のノズル８の第２の孔軸８３が、中央領域６１側に傾き、かつ、中央の蒸着源３側に傾いて位置するように構成すればよい。
【符号の説明】
【０１０８】
３、１０３、２０３…蒸着源
４…マスクプレート（マスク材）
７…第１のノズル
８、１８、２８、３８、４８、５８…第２のノズル
９…仮想基準面
１０…第１のノズル群
２０…第２のノズル群
３１…収容箱
４１…開口
６１…中央領域
６２…側方領域
７１…第１のノズルの開口端
７２…第１のノズル孔
７３…第１の孔軸（第１のノズル孔の孔軸）
８１、２８１、３８１、４８１、５８１…第２のノズルの開口端
８１ａ、２８１ａ、３８１ａ、４８１ａ、５８１ａ…第２のノズルの開口端において中央領域側に位置する部分
８１ｂ、２８１ｂ、３８１ｂ、４８１ｂ、５８１ｂ…第２のノズルの開口端において外方側に位置する部分
８２、４８２、５８２…第２のノズル孔
８３、４０８３、５０８３…第２の孔軸（第２のノズル孔の孔軸）
８５…仮想線
１００…蒸着装置
１８１…副ノズル
２３１…収容箱
４１１…第１のテーパ面
４１３…板面
Ｓ…基板（蒸着対象物）
Ｖｍ…蒸着材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【国際調査報告】
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