(57)【要約】破断強度が１０．０Ｎ以上であり、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）【特許請求の範囲】
【請求項１】
破断強度が１０．０Ｎ以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【請求項２】
応力緩和時間が５０秒以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【請求項３】
標準比重が２．１７５以下であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【請求項４】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１５０ｐｐｂ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、２５ｐｐｂ以下である請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項７】
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項８】
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項９】
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項１０】
更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項６〜９のいずれかに記載の組成物。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項１１】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上である請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が２０以上である請求項１〜１１のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
押出圧力が３０．０ＭＰａ以下である請求項１〜１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
粉末である請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られる請求項１〜１４のいずれかに記載の組成物。
【請求項１６】
乳化重合において、炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
炭化水素系界面活性剤が、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、および、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１５または１６に記載の組成物。
【請求項１８】
炭化水素系界面活性剤が、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１５〜１７のいずれかに記載の組成物。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれかに記載の組成物からなる延伸体。
【請求項２０】
破断強度が１０．０Ｎ以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【請求項２１】
応力緩和時間が５０秒以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【請求項２２】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１５０ｐｐｂ以下である請求項２０又は２１に記載の延伸体。
【請求項２３】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、２５ｐｐｂ以下である請求項２０〜２２のいずれかに記載の延伸体。
【請求項２４】
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である請求項２０〜２３のいずれかに記載の延伸体。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２５】
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である請求項２０〜２３のいずれかに記載の延伸体。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２６】
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項２０〜２３のいずれかに記載の延伸体。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２７】
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項２０〜２３のいずれかに記載の延伸体。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２８】
更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項２４〜２７のいずれかに記載の延伸体。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２９】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上である請求項２０〜２８のいずれかに記載の延伸体。
【請求項３０】
ポリテトラフルオロエチレンが、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られる請求項２０〜２９のいずれかに記載の延伸体。
【請求項３１】
乳化重合において、炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する請求項３０に記載の延伸体。
【請求項３２】
炭化水素系界面活性剤が、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、および、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種である請求項３０または３１に記載の延伸体。
【請求項３３】
炭化水素系界面活性剤が、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種である請求項３０〜３２のいずれかに記載の延伸体。
【請求項３４】
請求項２０〜３３のいずれかに記載の延伸体の製造方法であって、
炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと前記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って水性分散液を得る工程、
前記水性分散液から粉体を得る工程、
前記粉体をフッ素化処理する工程、及び、
前記フッ素化処理した粉体を延伸して延伸体を得る工程
を含む延伸体の製造方法。
【請求項３５】
ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物であって、前記組成物を３８５℃で１０分間加熱した後に測定される明度Ｌ＊（焼成後）が５０．０以上である組成物。
【請求項３６】
明度Ｌ＊（未焼成）が８０．０以上である請求項３５に記載の組成物。
【請求項３７】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上である請求項３５又は３６記載の組成物。
【請求項３８】
破断強度が１０．０Ｎ以上である請求項３５〜３７のいずれかに記載の組成物。
【請求項３９】
応力緩和時間が５０秒以上である請求項３５〜３８のいずれかに記載の組成物。
【請求項４０】
炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られる請求項３５〜３９のいずれかに記載の組成物。
【請求項４１】
粉末である請求項３５〜４０のいずれかに記載の組成物。
【請求項４２】
請求項３５〜４１のいずれかに記載の組成物からなる延伸体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、組成物、延伸体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリテトラフルオロエチレンは、成形し未焼成状態で高度に延伸すると多孔質ポリテトラフルオロエチレンフィルムが得られる。この多孔質フィルムは、水蒸気などの気体を通すが、ポリテトラフルオロエチレンの強い撥水性のため水滴は通さない。このユニークな性質を利用して、衣類や分離膜などに応用されている。【０００３】
特許文献１には、重合反応器において、フルオロモノマーを重合して、水性媒体中のフルオロポリマー粒子の分散体を形成するための方法であって、前記方法が、初期期間、および前記初期期間の後の安定化期間を含み、前記初期期間が：前記重合反応器において前記水性媒体中のフルオロポリマー粒子の初期分散体を調製する工程を含み、前記安定化期間が：前記重合反応器においてフルオロモノマーを重合する工程と、炭化水素含有界面活性剤を前記重合反応器に加える工程とを含み、前記安定化期間中、フッ素系界面活性剤が加えられない方法が記載されている。【０００４】
特許文献２には、重合反応器において、フルオロモノマーを重合して、水性媒体中のフルオロポリマー粒子の分散体を形成するための方法であって、前記方法が、前記重合反応器に：（ａ）水性媒体、（ｂ）水溶性炭化水素含有化合物、（ｃ）分解剤、（ｄ）フルオロモノマー、および（ｅ）重合開始剤を加える工程を含む初期期間を含み、前記初期期間中、フッ素系界面活性剤は加えられず、前記分解剤が、前記重合開始剤の前に加えられる方法が記載されている。【０００５】
特許文献３には、重合反応器において、フルオロモノマーを重合して、水性媒体中のフルオロポリマー粒子の分散体を形成するための方法であって、前記重合反応器に：水性媒体、重合開始剤、フルオロモノマー、および炭化水素含有界面活性剤を加える工程と、前記炭化水素含有界面活性剤を不活性化する工程とを含む方法が記載されている。【０００６】
特許文献４には、フッ素化ポリマー樹脂の熱誘起変色を低減させる方法であって、前記フッ素化ポリマー樹脂は、水性分散媒体中のフルオロモノマーを重合して水性フッ素化ポリマー分散体を形成するステップ、前記水性媒体から湿潤形態のフッ素化ポリマー樹脂を分離することにより前記水性媒体から前記フッ素化ポリマーを単離するステップ、および、乾燥させて乾燥形態のフッ素化ポリマー樹脂を生成するステップにより生成され、前記方法は、湿潤もしくは乾燥形態の前記フッ素化ポリマー樹脂を酸化剤に曝露させるステップを含む方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２０１３−５４２３０８号公報
【特許文献２】特表２０１３−５４２３０９号公報
【特許文献３】特表２０１３−５４２３１０号公報
【特許文献４】国際公開第２０１３／１６９５８１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本開示は、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まず、延伸性に優れる組成物を提供する。本開示は、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まず、破断強度に優れる延伸体を提供する。本開示は、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まず、応力緩和時間に優れる（応力緩和時間が長い）延伸体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示は、破断強度が１０．０Ｎ以上であり、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物に関する。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）【００１０】
本開示はまた、応力緩和時間が５０秒以上であり、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物に関する。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）【００１１】
本開示はまた、標準比重が２．１７５以下であり、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物に関する。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）【００１２】
本開示の組成物において、上記一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１５０ｐｐｂ以下であってよく、２５ｐｐｂ以下であることが好ましい。【００１３】
本開示の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）【００１４】
本開示の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）【００１５】
本開示の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物及び上記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、上記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である組成物である。
本開示の一態様は、上記一般式（５）で示される化合物及び上記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、上記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である組成物である。
上記組成物は、更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含むものであってよい。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
上記組成物は、熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上であってよく、２０以上であることが好ましい。
上記組成物は、押出圧力が３０．０ＭＰａ以下であることが好ましい。
本開示の一態様は、粉末である組成物である。【００１６】
上記組成物は、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られるものであることが好ましい。
上記組成物を得るための乳化重合において、炭化水素系界面活性剤を連続的に添加することが好ましい。
上記組成物を得るための乳化重合において用いる炭化水素系界面活性剤が、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、および、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記組成物を得るための乳化重合において用いる炭化水素系界面活性剤が、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。【００１７】
本開示はまた、上記組成物からなる延伸体に関する。【００１８】
本開示はまた、破断強度が１０．０Ｎ以上であり、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体に関する。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）【００１９】
本開示はまた、応力緩和時間が５０秒以上であり、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体に関する。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）【００２０】
上記一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１５０ｐｐｂ以下であればよく、２５ｐｐｂ以下であることが好ましい。【００２１】
本開示の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物及び上記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、上記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。【００２２】
本開示の一態様は、上記一般式（５）で示される化合物及び上記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、上記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。【００２３】
本開示の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、上記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である延伸体である。
本開示の一態様はまた、上記一般式（５）で示される化合物及び上記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、上記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である延伸体である。
上記延伸体は、更に、上記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含むものであってよい。
上記延伸体は、熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上であってよい。【００２４】
上記延伸体に含まれるポリテトラフルオロエチレンが、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られるものであることが好ましい。
上記延伸体に含まれるポリテトラフルオロエチレンを得るための乳化重合において、炭化水素系界面活性剤を連続的に添加することが好ましい。
上記延伸体に含まれるポリテトラフルオロエチレンを得るための乳化重合において用いる炭化水素系界面活性剤が、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、および、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記延伸体に含まれるポリテトラフルオロエチレンを得るための乳化重合において用いる炭化水素系界面活性剤が、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。【００２５】
本開示はまた、上記延伸体の製造方法であって、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと上記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って水性分散液を得る工程、上記水性分散液から粉体を得る工程、上記粉体をフッ素化処理する工程、及び、上記フッ素化処理した粉体を延伸して延伸体を得る工程を含む延伸体の製造方法に関する。【００２６】
本開示は、また、ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物であって、前記組成物を３８５℃で１０分間加熱した後に測定される明度Ｌ＊（焼成後）が５０．０以上である組成物に関する。
本開示の組成物は、明度Ｌ＊（未焼成）が８０．０以上であることが好ましい。
本開示の組成物は、熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上であることが好ましい。
本開示の組成物は、破断強度が１０．０Ｎ以上であることが好ましい。
本開示の組成物は、応力緩和時間が５０秒以上であることが好ましい。
本開示の組成物は、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られるものであることが好ましい。
本開示の組成物は、粉末であることが好ましい。
本開示は、また、上記の組成物からなる延伸体に関する。
【発明の効果】
【００２７】
本開示の組成物は、上記構成を有することから、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まず、延伸性に優れる。本開示の延伸体は、上記構成を有することから、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まず、破断強度に優れる。本開示の延伸体は、上記構成を有することから、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まず、応力緩和時間に優れる（応力緩和時間が長い）。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
ＲａＯ−、
ＲａＣＯ−、
ＲａＳＯ２−、
ＲａＣＯＯ−、
ＲａＮＲａＣＯ−、
ＲａＣＯＮＲａ−、
ＲａＯＣＯ−、及び
ＲａＯＳＯ２−
（これらの式中、Ｒａは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である）
を包含する。
上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
また、上記有機基としては、上記下記置換基の例として挙げたものも含まれる。
本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、又は、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
【００２９】
上記脂肪族基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族基としては、総炭素原子数１〜８、好ましくは１〜４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、シクロヘキシル基、カルバモイルメチル基等が挙げられる。
【００３０】
上記芳香族基は、例えば、ニトロ基、ハロゲン原子、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族基としては、炭素数６〜１２、好ましくは総炭素原子数６〜１０のアリール基、例えば、フェニル基、４−ニトロフェニル基、４−アセチルアミノフェニル基、４−メタンスルホニルフェニル基等が挙げられる。
【００３１】
上記ヘテロ環基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記ヘテロ環基としては、総炭素原子数２〜１２、好ましくは２〜１０の５〜６員ヘテロ環、例えば２−テトラヒドロフリル基、２−ピリミジル基等が挙げられる。
【００３２】
上記アシル基は、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシル基としては、総炭素原子数２〜８、好ましくは２〜４のアシル基、例えばアセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、３−ピリジンカルボニル基等が挙げられる。
【００３３】
上記アシルアミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよく、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２〜１２、好ましくは２〜８のアシルアミノ基、総炭素原子数２〜８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
【００３４】
上記脂肪族オキシカルボニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシカルボニル基としては、総炭素原子数２〜８、好ましくは２〜４のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、（ｔ）−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００３５】
上記カルバモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイル基としては、無置換のカルバモイル基、総炭素数２〜９のアルキルカルバモイル基、好ましくは無置換のカルバモイル基、総炭素原子数２〜５のアルキルカルバモイル基、例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
【００３６】
上記脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族スルホニル基としては、総炭素原子数１〜６、好ましくは総炭素原子数１〜４のアルキルスルホニル基、例えばメタンスルホニル基等が挙げられる。
【００３７】
上記芳香族スルホニル基は、ヒドロキシ基、脂肪族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族スルホニル基としては、総炭素原子数６〜１０のアリールスルホニル基、例えばベンゼンスルホニル基等が挙げられる。
【００３８】
上記アミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。
【００３９】
上記脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基は、例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、２−ピリジンスルホンアミド基等であってもよい。
【００４０】
上記スルファモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記スルファモイル基としては、スルファモイル基、総炭素原子数１〜９のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数２〜１０のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数７〜１３のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２〜１２のヘテロ環スルファモイル基、より好ましくはスルファモイル基、総炭素原子数１〜７のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数３〜６のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数６〜１１のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２〜１０のヘテロ環スルファモイル基、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、４−ピリジンスルファモイル基等が挙げられる。
【００４１】
上記脂肪族オキシ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシ基としては、総炭素原子数１〜８、好ましくは１〜６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。
【００４２】
上記芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基は、脂肪族基、脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、該アリール基と縮環したヘテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、好ましくは総炭素原子数１〜４の脂肪族基、総炭素原子数１〜４の脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、総炭素原子数１〜４のカルバモイル基、ニトロ基、総炭素原子数２〜４の脂肪族オキシカルボニル基を有していてもよい。
【００４３】
上記脂肪族チオ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、総炭素原子数１〜８、より好ましくは総炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルバモイルメチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基等が挙げられる。
【００４４】
上記カルバモイルアミノ基は、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイルアミノ基としては、カルバモイルアミノ基、総炭素原子数２〜９のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜１０のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７〜１３のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜１２のヘテロ環カルバモイルアミノ基、好ましくはカルバモイルアミノ基、総炭素原子数２〜７のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜６のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７〜１１のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜１０のヘテロ環カルバモイルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ基、４−ピリジンカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
【００４５】
本明細書中、特に断りのない限り、「ｐｐｍ」および「ｐｐｂ」は質量基準である。
【００４６】
以下、本開示の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本開示は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００４７】
本開示の組成物は、破断強度が１０．０Ｎ以上であり、ポリテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」と表記することがある）を含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない。（以下、本開示の第１の組成物ということがある。）
本開示の第１の組成物は、応力緩和時間が５０秒以上であることが好ましい。本開示の第１の組成物は、標準比重（ＳＳＧ）が２．１７５以下であることが好ましい。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【００４８】
本開示の組成物はまた、応力緩和時間が５０秒以上であり、ＰＴＦＥを含み、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない。（以下、本開示の第２の組成物ということがある。）
本開示の第２の組成物は、破断強度が１０．０Ｎ以上であることが好ましい。本開示の第２の組成物は、標準比重（ＳＳＧ）が２．１７５以下であることが好ましい。
【００４９】
本開示の組成物はまた、標準比重が２．１７５以下であり、ＰＴＦＥを含み、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない。（以下、本開示の第３の組成物ということがある。）
本開示の第３の組成物は、破断強度が１０．０Ｎ以上であることが好ましい。本開示の第３の組成物は、応力緩和時間が５０秒以上であることが好ましい。
【００５０】
本明細書中、特に断りのない限り、「本開示の組成物」は、本開示の第１〜３の組成物、および、本開示の第４の組成物を意味する。
【００５１】
本開示の組成物は、押出圧力が５０．０ＭＰａ以下であることが好ましく、４０．０ＭＰａ以下であることがより好ましく、３０．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましく、２５．０ＭＰａ以下であることが特に好ましく、５．０ＭＰａ以上であることが好ましく、１０．０ＭＰａ以上であることがより好ましい。上記押出圧力は、特開２００２−２０１２１７号公報記載の方法に従い、下記方法で求めた値である。
本開示の組成物の粉末１００ｇに、潤滑剤（商品名：アイソパーＨ（登録商標）、エクソン社製）２１．７ｇを添加し、室温にてガラスビン中で３分間混合する。次いで、ガラスビンを、押出前少なくとも１時間、室温（２５℃）に放置し、潤滑化樹脂を得る。潤滑化樹脂をオリフィス（直径２．５ｍｍ、ランド長１１ｍｍ、導入角３０°）を通して、室温で１００：１の減速比でペースト押出し、均一なビード（ｂｅａｄｉｎｇ；押出成形体）を得る。押出スピード、すなわち、ラムスピードは、２０インチ／分（５１ｃｍ／分）とする。押出圧力は、ペースト押出において押出負荷が平衡状態になった時の負荷を測定し、ペースト押出に用いたシリンダーの断面積で除した値である。
【００５２】
本開示の組成物は、延伸可能なものであることが好ましい。本明細書において「延伸可能」とは、下記の基準で判断する。
上記のペースト押出により得られたビードを２３０℃で３０分加熱することにより、潤滑剤をビードから除去する。次に、ビード（押出成形体）を適当な長さに切断し、クランプ間隔が１．５インチ（３８ｍｍ）の間隔となるよう、各末端をクランプに固定し、空気循環炉中で３００℃に加熱する。次いでクランプを所望のストレッチ（総ストレッチ）に相当する分離距離となるまで所望の速度（ストレッチ速度）で離し、ストレッチ試験を実施する。このストレッチ方法は、押出スピード（８４ｃｍ／分でなく５１ｃｍ／分）が異なることを除いて、本質的に米国特許第４，５７６，８６９号明細書に開示された方法に従う。『ストレッチ』とは、延伸による長さの増加であり、通常元の長さに対する比率として表される。上記作製方法において、上記ストレッチ速度は、１０００％／秒であり、上記総ストレッチは２４００％である。この延伸試験で切断せずに、均一な外観を持つ延伸ビードが得られることを意味する。
【００５３】
本開示の組成物は、破断強度が１３．０Ｎ以上であることがより好ましく、１６．０Ｎ以上であることが更に好ましく、１９．０Ｎ以上であることが更により好ましい。破断強度は高ければ高いほどよいが、破断強度の上限は、例えば、５０．０Ｎである。上記破断強度は、下記方法で求めた値である。
まず、下記方法で押出ビードの延伸試験を行い、破断強度測定用のサンプルを作製する。上記のペースト押出により得られたビードを２３０℃で３０分加熱することにより、潤滑剤をビードから除去する。次に、ビード（押出成形体）を適当な長さに切断し、クランプ間隔が１．５インチ（３８ｍｍ）の間隔となるよう、各末端をクランプに固定し、空気循環炉中で３００℃に加熱する。次いでクランプを所望のストレッチ（総ストレッチ）に相当する分離距離となるまで所望の速度（ストレッチ速度）で離し、ストレッチ試験を実施する。このストレッチ方法は、押出スピード（８４ｃｍ／分でなく５１ｃｍ／分）が異なることを除いて、本質的に米国特許第４，５７６，８６９号明細書に開示された方法に従う。『ストレッチ』とは、延伸による長さの増加であり、通常元の長さに対する比率として表される。上記作製方法において、上記ストレッチ速度は、１０００％／秒であり、上記総ストレッチは２４００％である。
上記延伸試験で得られた延伸ビード（ビードをストレッチすることによって作製されたもの）について、５．０ｃｍのゲージ長である可動ジョーにおいて挟んで固定し、２５℃で３００ｍｍ／分の速度で引っ張り試験を行い、破断した時の強度を破断強度とする。
【００５４】
本開示の組成物は、応力緩和時間が５０秒以上であることが好ましく、８０秒以上であることがより好ましく、１００秒以上であることが更に好ましく、１５０秒以上であってもよい。上記応力緩和時間は、下記方法にて測定した値である。
上記延伸試験で得られた延伸ビードの両方の末端を固定具につなげ、ぴんと張られた全長８インチ（２０ｃｍ）のビードサンプルとする。オーブンを３９０℃に保ち、オーブン側部にある（覆われた）スリットを通して固定具をオーブン中に挿入する。オーブンに挿入した時点からビードサンプルが破断するまでに要する時間を応力緩和時間とする。
【００５５】
本開示の組成物は、標準比重（ＳＳＧ）が２．１７０以下であることが好ましく、２．１６５以下であることがより好ましい。上記ＳＳＧは、ＡＳＴＭ  Ｄ  ４８９５−８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ  Ｄ  ７９２に準拠した水置換法により測定する。
【００５６】
本開示の組成物は、熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上であってもよい。上記ＴＩＩが１０以上である組成物は、炭化水素系界面活性剤を用いることにより得られる。ＴＩＩは、１５以上であることが好ましく、２０以上であることがより好ましい。上記ＴＩＩは、ＡＳＴＭ  Ｄ  ４８９５−８９に準拠して測定する。
【００５７】
上記ＰＴＦＥは、通常、延伸性、フィブリル化特性および非溶融二次加工性を有する。
上記非溶融二次加工性とは、ＡＳＴＭ  Ｄ  １２３８及びＤ  ２１１６に準拠して、結晶化融点より高い温度でメルトフローレートを測定できない性質、すなわち溶融温度領域でも容易に流動しない性質を意味する。
【００５８】
上記ＰＴＦＥは、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）単独重合体であってもよいし、ＴＦＥと変性モノマーを共重合することにより得られた変性ＰＴＦＥであってもよい。
【００５９】
上記変性モノマーとしては、ＴＦＥとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、フルオロモノマーおよび非フルオロモノマーが挙げられる。
【００６０】
非フルオロモノマーとしては、特に限定されず、一般式：
ＣＨ２＝ＣＲＱ１−ＬＲＱ２
（式中、ＲＱ１は、水素原子またはアルキル基を表す。Ｌは、単結合、−ＣＯ−Ｏ−＊、−Ｏ−ＣＯ−＊または−Ｏ−を表す。＊はＲＱ２との結合位置を表す。ＲＱ２は、水素原子、アルキル基またはニトリル基を表す。）で表されるモノマーが挙げられる。
【００６１】
非フルオロモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレートブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ビニルメタクリレート、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどが挙げられる。非フルオロモノマーとしては、なかでも、ブチルメタクリレート、酢酸ビニル、アクリル酸が好ましい。
【００６２】
フルオロモノマーとして、例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕等のパーフルオロオレフィン；トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔ＶＤＦ〕等の水素含有フルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン等のパーハロオレフィン；フルオロビニルエーテル；（パーフルオロアルキル）エチレン；パーフルオロアリルエーテル等が挙げられる。また、用いる変性モノマーは１種であってもよいし、複数種であってもよい。
【００６３】
フルオロビニルエーテルとしては特に限定されず、例えば、下記一般式（Ａ）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ        （Ａ）
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるパーフルオロ不飽和化合物等が挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
【００６４】
フルオロビニルエーテルとしては、例えば、上記一般式（Ａ）において、Ｒｆが炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基であるパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）〔ＰＡＶＥ〕が挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜５である。
【００６５】
上記ＰＡＶＥにおけるパーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられる。
【００６６】
フルオロビニルエーテルとしては、更に、上記一般式（Ａ）において、Ｒｆが炭素数４〜９のパーフルオロ（アルコキシアルキル）基であるもの、Ｒｆが下記式：
【００６７】
【化１】
2020162623.tif 000002
【００６８】
（式中、ｍは、０又は１〜４の整数を表す。）で表される基であるもの、Ｒｆが下記式：
【００６９】
【化２】
2020162623.tif 000003
【００７０】
（式中、ｎは、１〜４の整数を表す。）で表される基であるもの等が挙げられる。
【００７１】
水素含有フルオロオレフィンとしては、ＣＨ２＝ＣＦ２、ＣＦＨ＝ＣＨ２、ＣＦＨ＝ＣＦ２、ＣＦ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ３、ＣＨＦ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ体）、ＣＨＦ＝ＣＨＣＦ３（Ｚ体）などが挙げられる。
【００７２】
フルオロビニルエーテルとしては、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）(ＰＭＶＥ）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）（ＰＥＶＥ）及びパーフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＰＰＶＥ）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ＰＭＶＥがより好ましい。
【００７３】
（パーフルオロアルキル）エチレン（ＰＦＡＥ）としては特に限定されず、例えば、（パーフルオロブチル）エチレン（ＰＦＢＥ）、（パーフルオロヘキシル）エチレン等が挙げられる。
【００７４】
パーフルオロアリルエーテルとしては、例えば、
一般式：ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−ＯＲｆ
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるフルオロモノマーが挙げられる。
【００７５】
上記一般式のＲｆは、一般式（Ａ）のＲｆと同じである。Ｒｆとしては、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基または炭素数１〜１０のパーフルオロアルコキシアルキル基が好ましい。パーフルオロアリルエーテルとしては、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ２Ｆ５、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ３Ｆ７、及び、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ４Ｆ９からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ２Ｆ５、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ３Ｆ７、及び、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ４Ｆ９からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３がさらに好ましい。
【００７６】
上記変性モノマーとしては、高強度の延伸体が得られることから、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、フルオロ（アルキルビニルエーテル）、（パーフルオロアルキル）エチレン、及び、エチレンからなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、（パーフルオロブチル）エチレン、（パーフルオロヘキシル）エチレン、及び、（パーフルオロオクチル）エチレンからなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）が更に好ましい。
【００７７】
上記変性ＰＴＦＥは、変性モノマーに基づく重合単位（以下「変性モノマー単位」とも記載する）が０．００００１〜１．０質量％の範囲であることが好ましい。変性モノマー単位の下限としては、０．０００１質量％が好ましく、０．００１質量％がより好ましく、０．００５質量％が更に好ましい。変性モノマー単位の含有量の上限としては、好ましい順に、０．９０質量％、０．５０質量％、０．４０質量％、０．３０質量％、０．２０質量％、０．１５質量％、０．１０質量％、０．０５質量％である。
本明細書において、上記変性モノマー単位とは、変性ＰＴＦＥの分子構造の一部分であって変性モノマーに由来する部分を意味し、全重合単位とは、変性ＰＴＦＥの分子構造における全ての単量体に由来する部分を意味する。
【００７８】
上記変性モノマーとしては、モノマー反応性比が０．１〜８であるコモノマー（３）も好ましく例示される。コモノマー（３）を存在させることによって、粒子径が小さい変性ＰＴＦＥ粒子を得ることができ、分散安定性の高い水性分散液を得ることができる。
【００７９】
ここで、ＴＦＥとの共重合におけるモノマー反応性比とは、成長ラジカルがＴＦＥに基づく繰り返し単位未満であるときに、該成長ラジカルがＴＦＥと反応する場合の速度定数を、該成長ラジカルがコモノマーと反応する場合の速度定数で除した値である。この値が低いほど、コモノマーがＴＦＥと高反応性であることを表す。モノマー反応性比は、ＴＦＥとコモノマーとを共重合して開始直後の生成ポリマー中の組成を求め、ファインマン−ロスの式より算出できる。
【００８０】
上記共重合は、内容積６．０Ｌのステンレス製オートクレーブに３６００ｇの脱イオン脱気水、上記水に対して１０００ｐｐｍのパーフルオロオクタン酸アンモニウム、１００ｇのパラフィンワックスを使用して、圧力０．７８ＭＰａＧ、温度７０℃で実施する。０．０５ｇ、０．１ｇ、０．２ｇ、０．５ｇ、１．０ｇのコモノマーをそれぞれ反応器に加え、０．０７２ｇの過硫酸アンモニウム（対水２０ｐｐｍ）を加えて、重合圧力０．７８ＭＰａＧを維持させるため、ＴＦＥを連続的に供給する。ＴＦＥ仕込量が１０００ｇに到達したとき、撹拌を停止して、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なう。冷却後、パラフィンワックスを分離することにより、生成ポリマーを含む水性分散液が得られる。上記水性分散液を撹拌して生成ポリマーを凝析させ、１５０℃で乾燥させる。得られた生成ポリマー中の組成を、ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析をモノマーの種類によって適宜組み合わせることで算出する。
【００８１】
モノマー反応性比が０．１〜８であるコモノマー（３）としては、式（３ａ）〜（３ｄ）で表されるコモノマーからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｒｆ１        （３ａ）
（式中、Ｒｆ１は炭素数が１〜１０のパーフルオロアルキル基である。）
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−Ｒｆ２        （３ｂ）
（式中、Ｒｆ２は炭素数が１〜２のパーフルオロアルキル基である。）
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ２）ｎＣＦ＝ＣＦ２        （３ｃ）
（式中、ｎは１又は２である。）
【００８２】
【化３】
2020162623.tif 000004
（式中、Ｘ３及びＸ４はＦ、Ｃｌ又はメトキシ基であり、Ｙは式Ｙ１又はＹ２である。）
【００８３】
【化４】
2020162623.tif 000005
（式Ｙ２中、Ｚ及びＺ’はＦ又は炭素数１〜３のフッ素化アルキル基である。）
【００８４】
コモノマー（３）単位の含有量は、変性ＰＴＦＥの全重合単位に対して０．００００１〜１．０質量％の範囲であることが好ましい。下限としては、０．０００１質量％がより好ましく、０．００１質量％が更に好ましく、０．００５質量％が更により好ましい。上限としては、好ましい順に、０．９０質量％、０．５０質量％、０．４０質量％、０．３０質量％、０．２０質量％、０．１５質量％、０．１０質量％、０．０８質量％、０．０５質量％、０．０１質量％である。
【００８５】
上記変性モノマーとしては、変性ポリテトラフルオロエチレン粒子の平均一次粒子径が小さく、一次粒子のアスペクト比が小さく、安定性に優れる水性分散液を得ることができることから、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フルオロ（アルキルビニルエーテル）、（パーフルオロアルキル）エチレン、エチレン、及び、ラジカル重合で反応可能な官能基と親水基とを有する変性モノマーからなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。上記変性モノマーを使用することで、より平均一次粒子径が小さく、一次粒子のアスペクト比が小さく、分散安定性に優れるＰＴＦＥの水性分散液を得ることができる。また、未凝析ポリマーが少ない水性分散液を得ることができる。
【００８６】
上記変性モノマーは、ラジカル重合で反応可能な官能基と親水基とを有する変性モノマー（以下「変性モノマー（Ａ）」と記載する。）を含むことも好ましい。
【００８７】
上記変性モノマー（Ａ）を存在させることによって、一次粒子径が小さいＰＴＦＥ粒子を得ることができ、分散安定性の高い水性分散液を得ることができる。また、未凝析ポリマー量を少なくすることもできる。更に、一次粒子のアスペクト比を小さくすることができる。
【００８８】
上記変性モノマー（Ａ）の使用量は、水性媒体の０．１ｐｐｍに相当する量を超える量であることが好ましく、０．５ｐｐｍを超える量であることがより好ましく、１．０ｐｐｍを超える量であることが更に好ましく、５ｐｐｍ以上であることが更により好ましく、１０ｐｐｍ以上であることが特に好ましい。上記変性モノマー（Ａ）が少なすぎると、得られる変性ＰＴＦＥの平均一次粒子径が小さくならないおそれがある。
上記変性モノマー（Ａ）の使用量は、上記範囲であればよいが、例えば、上限を５０００ｐｐｍとすることができる。また、後述する製造方法では、反応中または反応後の水性分散液の安定性を向上させるために、反応途中で変性モノマー（Ａ）を系中に追加してもよい。
【００８９】
上記変性モノマー（Ａ）は水溶性が高いので、未反応の変性モノマー（Ａ）が水性分散液中に残存したとしても、濃縮工程、あるいは凝析・洗浄工程での除去は容易である。
【００９０】
上記変性モノマー（Ａ）は、重合の過程で生成ポリマー中に取り込まれるが、重合系中の変性モノマー（Ａ）の濃度そのものが低く、ポリマーに取り込まれる量が少ないため、変性ＰＴＦＥの耐熱性が低下したり焼成後に着色したりする問題はない。
【００９１】
上記変性モノマー（Ａ）における親水基としては、例えば、−ＮＨ２、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２、−ＯＰＯ３Ｍ、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−ＣＯＯＭ（各式において、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）が挙げられる。上記親水基としては、なかでも、−ＳＯ３Ｍ又は−ＣＯＯＭが好ましい。Ｒ７の有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
【００９２】
上記変性モノマー（Ａ）における「ラジカル重合で反応可能な官能基」としては、例えば、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基は、下記式：
ＣＸｅＸｇ＝ＣＸｆＲ−
（式中、Ｘｅ、Ｘｆ及びＸｇは、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｈ、ＣＦ３、ＣＦ２Ｈ、ＣＦＨ２、又は、ＣＨ３であり；Ｒは連結基である。）で示すことができる。Ｒの連結基としては後述するＲａとしての連結基が挙げられる。好ましくは−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＦ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＦ２、−ＣＦ＝ＣＦ２、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＦ２−ＣＦ＝ＣＨ２、−ＣＦ２−ＣＦ＝ＣＦ２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＦ＝ＣＨ２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＦ２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＦ＝ＣＦ２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＦ３）＝ＣＨ２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＦ２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＦ３）＝ＣＦ２、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ＝ＣＨ２、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＦ２、−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ＝ＣＦ２等の不飽和結合を有する基が挙げられる。
【００９３】
上記変性モノマー（Ａ）は、ラジカル重合で反応可能な官能基を有するので、上記重合において使用すると、重合反応初期に含フッ素モノマーと反応し、上記変性モノマー（Ａ）に由来する親水基を有し安定性が高い粒子が形成されると推測される。このため、上記変性モノマー（Ａ）の存在下に重合を行うと、粒子数が多くなると考えられる。
【００９４】
上記重合は、上記変性モノマー（Ａ）を１種存在させるものであってもよいし、２種以上存在させるものであってもよい。
【００９５】
上記重合において、上記変性モノマー（Ａ）として、不飽和結合を有する化合物を使用することができる。
【００９６】
変性モノマー（Ａ）は、一般式（４Ａ）：
ＣＸｉＸｋ＝ＣＸｊＲａ−（ＣＺ１Ｚ２）ｋ−Ｙ３      （４Ａ）
（式中、Ｘｉ、Ｘｊ及びＸｋは、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｈ又はＣＦ３であり；Ｙ３は、親水基であり；Ｒａは連結基であり；Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ又はＣＦ３であり、ｋは０又は１である）で表される化合物が好ましい。
上記親水基としては、例えば、−ＮＨ２、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＰＯ３Ｍ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−ＣＯＯＭ（各式において、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）が挙げられる。上記親水基としては、なかでも、−ＳＯ３Ｍ又は−ＣＯＯＭが好ましい。Ｒ７の有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
上記変性モノマー（Ａ）を用いることによって、より平均一次粒子径が小さく、より安定性に優れる水性分散液を得ることができる。また、一次粒子のアスペクト比をより小さくすることもできる。
【００９７】
上記Ｒａは、連結基である。本明細書において「連結基」は、二価連結基を指す。連結基は、単結合であってもよく、少なくとも１個の炭素原子を含むことが好ましく、炭素原子の数は、２以上であってよく、４以上であってよく、８以上であってよく、１０以上であってよく、２０以上であってもよい。上限は限定されないが、例えば、１００以下であってよく、５０以下であってよい。
上記連結基は、鎖状又は分岐状、環状又は非環状構造、飽和又は不飽和、置換又は非置換であってよく、所望により硫黄、酸素、及び窒素からなる群から選択される１つ以上のヘテロ原子を含み、所望によりエステル、アミド、スルホンアミド、カルボニル、カーボネート、ウレタン、尿素及びカルバメートからなる群から選択される１つ以上の官能基を含んでよい。上記連結基は、炭素原子を含まず、酸素、硫黄又は窒素等のカテナリーヘテロ原子であってもよい。
【００９８】
上記Ｒａは、例えば、酸素、硫黄、窒素等のカテナリーヘテロ原子、又は、２価の有機基であることが好ましい。
Ｒａが２価の有機基である場合、炭素原子に結合する水素原子は、フッ素以外のハロゲン、例えば塩素等で置き換えられてもよく、二重結合を含んでも含まなくてもよい。また、Ｒａは、鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状及び非環状のいずれでもよい。また、Ｒａは、官能基（例えば、エステル、エーテル、ケトン、アミン、ハロゲン化物等）を含んでもよい。
Ｒａはまた、非フッ素の２価の有機基であってもよいし、部分フッ素化又は過フッ素化された２価の有機基であってもよい。
Ｒａとしては、例えば、炭素原子にフッ素原子が結合していない炭化水素基、炭素原子に結合する水素原子の一部がフッ素原子で置換された炭化水素基、炭素原子に結合する水素原子の全てがフッ素原子で置換された炭化水素基、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−（Ｃ＝Ｏ）−を含有する炭化水素基であってもよく、これらは酸素原子を含んでいてもよく、二重結合を含んでいてもよく、官能基を含んでいてもよい。
【００９９】
Ｒａは、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、又は、エーテル結合を含んでいてもよく、カルボニル基を含んでいてもよい炭素数１〜１００の炭化水素基であることが好ましく、該炭化水素基は、炭素原子に結合する水素原子の一部又は全部がフッ素に置換されていてもよい。
Ｒａとして好ましくは、−（ＣＨ２）ａ−、−（ＣＦ２）ａ−、−Ｏ−（ＣＦ２）ａ−、−（ＣＦ２）ａ−Ｏ−（ＣＦ２）ｂ−、−Ｏ（ＣＦ２）ａ−Ｏ−（ＣＦ２）ｂ−、−（ＣＦ２）ａ−［Ｏ−（ＣＦ２）ｂ］ｃ−、−Ｏ（ＣＦ２）ａ−［Ｏ−（ＣＦ２）ｂ］ｃ−、−［（ＣＦ２）ａ−Ｏ］ｂ−［（ＣＦ２）ｃ−Ｏ］ｄ−、−Ｏ［（ＣＦ２）ａ−Ｏ］ｂ−［（ＣＦ２）ｃ−Ｏ］ｄ−、−Ｏ−［ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ］ａ−（ＣＦ２）ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ａ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＦ２）ａ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ａ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）ａ−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＨ２）ａ−Ｏ］ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＦ２）ａ−Ｏ］ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）ａ−Ｏ］ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＦ２）ａ−Ｏ］ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）ａ−Ｏ］ｂ−（ＣＨ２）ｃ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＦ２）ａ−Ｏ］ｂ−（ＣＦ２）ｃ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−（ＣＨ２）ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＦ２）ａ−Ｏ−（ＣＦ２）ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ａ−Ｏ−（ＣＨ２）ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）ａ−Ｏ−（ＣＦ２）ｂ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−、及び、これらの組み合わせから選択される少なくとも１種である。
式中、ａ、ｂ、ｃ及びｄは独立して少なくとも１以上である。ａ、ｂ、ｃ及びｄは独立して、２以上であってよく、３以上であってよく、４以上であってよく、１０以上であってよく、２０以上であってよい。ａ、ｂ、ｃ及びｄの上限は、例えば、１００である。
【０１００】
Ｒａとして好適な具体例としては、−ＣＦ２−Ｏ−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−、
−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−等が挙げられる。中でも、上記Ｒａは、具体的には、−ＣＦ２−Ｏ−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−、又は、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−が好ましい。
上記式中、ｎは１〜１０の整数である。
【０１０１】
上記一般式（４Ａ）における−Ｒａ−（ＣＺ１Ｚ２）ｋとしては、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−Ｃ（ＣＦ３）２−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＨ２）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＦ２）−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＨ２）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＦ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＦ２）−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２）−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２）−（ＣＦ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−Ｃ（ＣＦ３）２−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＦ２）２−Ｏ−（ＣＦ２）−Ｃ（ＣＦ３）２−、又は、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＣＦ３）２−が好ましく、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ［（ＣＨ２）２−Ｏ］ｎ−（ＣＨ２）−（ＣＨ２）−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）−Ｃ（ＣＦ３）２−、又は、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＣＦ３）２−がより好ましい。
上記式中、ｎは１〜１０の整数である。
【０１０２】
一般式（４Ａ）で表される化合物の具体例としては、
【化５】
2020162623.tif 000006
（式中、Ｘｊ及びＹ３は上記と同じ。ｎは１〜１０の整数である。）等が挙げられる。
【０１０３】
Ｒａとしては、下記一般式（ｒ１）：
−（Ｃ＝Ｏ）ｈ−（Ｏ）ｉ−ＣＦ２−Ｏ−（ＣＸ６２）ｅ−｛Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）｝ｆ−（Ｏ）ｇ−        （ｒ１）
（式中、Ｘ６はそれぞれ独立してＨ、Ｆ又はＣＦ３であり、ｅは０〜３の整数であり、ｆは０〜３の整数であり、ｇは０又は１であり、ｈは０又は１であり、ｉは０又は１である）で表される２価の基が好ましく、下記一般式（ｒ２）：
−（Ｃ＝Ｏ）ｈ−（Ｏ）ｉ−ＣＦ２−Ｏ−（ＣＸ７２）ｅ−（Ｏ）ｇ−        （ｒ２）（式中、Ｘ７はそれぞれ独立してＨ、Ｆ又はＣＦ３であり、ｅは０〜３の整数であり、ｇは０又は１であり、ｈは０又は１であり、ｉは０又は１である。）で表される２価の基も好ましい。
【０１０４】
上記一般式（４Ａ）の−Ｒａ−（ＣＺ１Ｚ２）ｋ−としてはまた、下記式（ｔ１）：
−（Ｃ＝Ｏ）ｈ−（Ｏ）ｉ−ＣＦ２−Ｏ−（ＣＸ６２）ｅ−｛Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）｝ｆ−（Ｏ）ｇ−ＣＺ１Ｚ２−  （ｔ１）
（式中、Ｘ６はそれぞれ独立してＨ、Ｆ又はＣＦ３であり、ｅは０〜３の整数であり、ｆは０〜３の整数であり、ｇは０又は１であり、ｈは０又は１であり、ｉは０又は１であり、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、Ｆ又はＣＦ３である）で表される２価の基も好ましく、式（ｔ１）において、Ｚ１及びＺ２は、一方がＦで他方がＣＦ３であることがより好ましい。
また、上記一般式（４Ａ）において、−Ｒａ−（ＣＺ１Ｚ２）ｋ−としては、下記式（ｔ２）：
−（Ｃ＝Ｏ）ｈ−（Ｏ）ｉ−ＣＦ２−Ｏ−（ＣＸ７２）ｅ−（Ｏ）ｇ−ＣＺ１Ｚ２−    （ｔ２）
（式中、Ｘ７はそれぞれ独立してＨ、Ｆ又はＣＦ３であり、ｅは０〜３の整数であり、ｇは０又は１であり、ｈは０又は１であり、ｉは０又は１であり、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、Ｆ又はＣＦ３である）で表される２価の基も好ましく、式（ｔ２）において、Ｚ１及びＺ２は、一方がＦで他方がＣＦ３であることがより好ましい。
【０１０５】
一般式（４Ａ）で表される化合物は、親水基（Ｙ３）を除いて、Ｃ−Ｆ結合を有し、Ｃ−Ｈ結合を有していないことも好ましい。すなわち、一般式（４Ａ）において、Ｘｉ、Ｘｊ、及びＸｋの全てがＦであり、Ｒａは炭素数が１以上のパーフルオロアルキレン基であることが好ましく、上記パーフルオロアルキレン基は、鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状及び非環状のいずれでもよく、少なくとも１つのカテナリーヘテロ原子を含んでもよい。上記パーフルオロアルキレン基の炭素数は、２〜２０であってよく、４〜１８であってもよい。
【０１０６】
一般式（４Ａ）で表される化合物は、部分フッ素化されたものであってもよい。すなわち、一般式（４Ａ）で表される化合物は、親水基（Ｙ３）を除いて、炭素原子に結合した少なくとも１つの水素原子を有し、炭素原子に結合した少なくとも１つのフッ素原子を有することも好ましい。
【０１０７】
一般式（４Ａ）で表される化合物は、下記式（４ａ）で示される化合物であることも好ましい。
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−Ｒｆ０−Ｙ３      （４ａ）
（式中、Ｙ３は親水基であり、Ｒｆ０は、過フッ素化されており、鎖状又は分岐状、環状又は非環状構造、飽和又は不飽和、置換又は非置換であってもよく、硫黄、酸素、及び窒素からなる群から選択される１つ以上のヘテロ原子を任意追加的に含有する過フッ素化二価連結基である。）
【０１０８】
一般式（４Ａ）で表される化合物は、下記式（４ｂ）で示される化合物であることも好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−Ｒｆ０−Ｙ３    （４ｂ）
（式中、Ｙ３は親水基であり、Ｒｆ０は式（４ａ）で定義される過フッ素化二価連結基である。）
【０１０９】
一般式（４Ａ）において、Ｙ３は−ＯＳＯ３Ｍであることが好ましい形態の一つである。Ｙ３が−ＯＳＯ３Ｍである場合、一般式（４Ａ）で表される化合物としては、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（Ｏ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｍ）等が挙げられる。上記式中、Ｍは上記と同じである。
【０１１０】
一般式（４Ａ）において、Ｙ３は−ＳＯ３Ｍであることも好ましい形態の一つである。Ｙ３が−ＳＯ３Ｍである場合、一般式（４Ａ）で表される化合物としては、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（Ｏ（ＣＦ２）４ＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｍ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４ＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｍ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）３ＳＯ３Ｍ）等が挙げられる。上記式中、Ｍは上記と同じである。
【０１１１】
一般式（４Ａ）において、Ｙ３は−ＣＯＯＭであることも好ましい形態の一つである。Ｙ３が−ＣＯＯＭである場合、一般式（４Ａ）で表される化合物としては、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（Ｏ（ＣＦ２）５ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）ｎＣＯＯＭ）（ｎは１より大きい）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）３ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（Ｏ（ＣＦ２）４ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）３ＳＯ２ＮＲ’ＣＨ２ＣＯＯＭ）等が挙げられる。上記式中、Ｒ’はＨ又はＣ１−４アルキル基であり、Ｍは上記と同じである。
【０１１２】
一般式（４Ａ）において、Ｙ３は−ＯＰＯ３Ｍまたは−ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２であることも好ましい形態の一つである。Ｙ３が−ＯＰＯ３Ｍまたは−ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２である場合、一般式（４Ａ）で表される化合物としては、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（Ｏ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）３ＣＨ２ＯＰ（Ｏ）（ＯＭ）２）等が挙げられる。上記式中、Ｍは上記と同じである。
【０１１３】
一般式（４Ａ）において、Ｙ３は−ＰＯ３Ｍまたは−Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２であることも好ましい形態の一つである。Ｙ３が−ＰＯ３Ｍまたは−Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２である場合、一般式（４Ａ）で表される化合物としては、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（Ｏ（ＣＦ２）４Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）４Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ２Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）、ＣＨ２＝ＣＨ（（ＣＦ２）３Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）２）が挙げられ、式中、Ｍは上記と同じである。
【０１１４】
上記一般式（４Ａ）で表される化合物としては、下記一般式（５Ａ）：
ＣＸ２＝ＣＹ（−ＣＺ２−Ｏ−Ｒｆ−Ｙ３）    （５Ａ）
（式中、Ｘは、同一又は異なって、−Ｈ又は−Ｆであり、Ｙは−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又は含フッ素アルキル基であり、Ｚは、同一又は異なって、−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又は含フッ素アルキル基である。Ｒｆは炭素数１〜４０の含フッ素アルキレン基、又は、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基である。Ｙ３は、前記と同じ。）で表される単量体、下記一般式（６Ａ）：
ＣＸ２＝ＣＹ（−Ｏ−Ｒｆ−Ｙ３）    （６Ａ）
（式中、Ｘは、同一又は異なって、−Ｈ又は−Ｆであり、Ｙは−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又は含フッ素アルキル基であり、Ｒｆは炭素数１〜４０の含フッ素アルキレン基、又は、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基である。Ｙ３は、前記と同じである。）で表される単量体、及び、下記一般式（７Ａ）：
ＣＸ２＝ＣＹ（−Ｒｆ−Ｙ３）    （７Ａ）
（式中、Ｘは、同一又は異なって、−Ｈ又は−Ｆであり、Ｙは−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又は含フッ素アルキル基であり、Ｒｆは炭素数１〜４０の含フッ素アルキレン基、又は、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基である。Ｙ３は、前記と同じである。）で表される単量体、からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
なお、上記炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基は、酸素原子が末端である構造を含まず、炭素炭素間にエーテル結合を含んでいるアルキレン基である。
【０１１５】
上記一般式（５Ａ）において、Ｘは−Ｈ又は−Ｆである。Ｘは、両方が−Ｆであってもよいし、少なくとも１つが−Ｈであってよい。例えば、片方が−Ｆで他方が−Ｈであってもよいし、両方が−Ｈであってもよい。
【０１１６】
上記一般式（５Ａ）において、Ｙは−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又は含フッ素アルキル基である。
上記アルキル基は、フッ素原子を含有しないアルキル基であり、炭素数は１以上であればよい。上記アルキル基の炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下が更に好ましい。
上記含フッ素アルキル基は、フッ素原子を少なくとも１つ含有するアルキル基であり、炭素数は１以上であればよい。上記含フッ素アルキル基の炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下が更に好ましい。
上記Ｙとしては、−Ｈ、−Ｆ又は−ＣＦ３が好ましく、−Ｆがより好ましい。
【０１１７】
上記一般式（５Ａ）において、Ｚは、同一又は異なって、−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又はフルオロアルキル基である。
上記アルキル基は、フッ素原子を含有しないアルキル基であり、炭素数は１以上であればよい。上記アルキル基の炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下が更に好ましい。
上記含フッ素アルキル基は、フッ素原子を少なくとも１つ含有するアルキル基であり、炭素数は１以上であればよい。上記含フッ素アルキル基の炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下が更に好ましい。
上記Ｚとしては、−Ｈ、−Ｆ又は−ＣＦ３が好ましく、−Ｆがより好ましい。
【０１１８】
上記一般式（５Ａ）において、上記Ｘ、Ｙ及びＺの少なくとも１つはフッ素原子を含むことが好ましい。例えば、Ｘが−Ｈであり、Ｙ及びＺが−Ｆであってよい。
【０１１９】
上記一般式（５Ａ）において、上記Ｒｆは炭素数１〜４０の含フッ素アルキレン基、又は、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基である。
上記含フッ素アルキレン基の炭素数は２以上が好ましい。また、３０以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。上記含フッ素アルキレン基としては、−ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２−等が挙げられる。上記含フッ素アルキレン基は、パーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
【０１２０】
上記エーテル結合を有する含フッ素アルキレン基の炭素数は３以上が好ましい。また、エーテル結合を有する含フッ素アルキレン基の炭素数は、６０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、１２以下が更に好ましい。
エーテル結合を有する含フッ素アルキレン基としては、例えば、下記式：
【化６】
2020162623.tif 000007
（式中、Ｚ１はＦまたはＣＦ３；Ｚ２及びＺ３はそれぞれＨまたはＦ；Ｚ４はＨ、ＦまたはＣＦ３；ｐ１＋ｑ１＋ｒ１が１〜１０の整数；ｓ１は０または１；ｔ１は０〜５の整数）で表される２価の基であることも好ましい。
上記エーテル結合を有する含フッ素アルキレン基として具体的には、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ）ｎ−ＣＦ（ＣＦ３）−（式中、ｎは１〜１０の整数）、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ）ｎ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２−（式中、ｎは１〜１０の整数）、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨ２−等が挙げられる。上記エーテル結合を有する含フッ素アルキレン基は、パーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
【０１２１】
上記一般式（５Ａ）において、Ｙ３は、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ又は−ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）であることが好ましい。
Ｒ７の有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
上記Ｍとしては、−Ｈ、金属原子又は−ＮＲ７４が好ましく、−Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又は−ＮＲ７４がより好ましく、−Ｈ、−Ｎａ、−Ｋ、−Ｌｉ又は−ＮＨ４が更に好ましく、−Ｎａ、−Ｋ又は−ＮＨ４が更により好ましく、−Ｎａ又は−ＮＨ４が特に好ましく、−ＮＨ４が最も好ましい。
上記Ｙ３としては、−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ３Ｍが好ましく、−ＣＯＯＭがより好ましい。  
【０１２２】
一般式（５Ａ）で表される単量体は、下記一般式（５ａ）で表される単量体（５ａ）であることが好ましい。
ＣＨ２＝ＣＦ（−ＣＦ２−Ｏ−Ｒｆ−Ｙ３）      （５ａ）
（式中、Ｒｆ及びＹ３は前記と同じ。）
【０１２３】
一般式（５ｂ）で表される単量体として具体的には、下記式
【０１２４】
【化７】
2020162623.tif 000008
【０１２５】
（式中、Ｚ１はＦまたはＣＦ３；Ｚ２及びＺ３はそれぞれＨまたはＦ；Ｚ４はＨ、ＦまたはＣＦ３；ｐ１＋ｑ１＋ｒ１が０〜１０の整数；ｓ１は０または１；ｔ１は０〜５の整数、Ｙ３は前記と同じ。ただし、Ｚ３及びＺ４がともにＨの場合、ｐ１＋ｑ１＋ｒ１＋ｓ１が０でない）で表される単量体が挙げられる。より具体的には、
【０１２６】
【化８】
2020162623.tif 000009
【０１２７】
などが好ましく挙げられ、なかでも
【０１２８】
【化９】
2020162623.tif 000010
【０１２９】
であることが好ましい。
【０１３０】
上記一般式（５ａ）で表される単量体としては、式（５ａ）中のＹ３が−ＣＯＯＭであることが好ましく、特に、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ、及び、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ（式中、Ｍは上記定義と同じ。）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭがより好ましい。
【０１３１】
一般式（５Ａ）で表される単量体は、下記一般式（５ｂ）で表される単量体（５ｂ）であることが好ましい。
ＣＸ２２＝ＣＦＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎ５−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｙ３ 
（５ｂ）
（式中、各Ｘ２は、同一であり、Ｆ又はＨを表す。ｎ５は、０又は１〜１０の整数を表し、Ｙ３は、前記定義と同じ。）
【０１３２】
上記式（５ｂ）において、上記ｎ５は、得られる水性分散液の安定性の点で０又は１〜５の整数であることが好ましく、０、１又は２であることがより好ましく、０又は１であることが更に好ましい。上記Ｙ３は、適度な水溶性と水性分散液の安定性が得られる点で−ＣＯＯＭであることが好ましく、上記Ｍは、不純物として残留しにくく、得られた成形体の耐熱性が向上する点で、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１３３】
上記式（５ｂ）で表される単量体としては、例えば、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ（式中、Ｍは上記定義と同じ。）が挙げられる。
【０１３４】
また、一般式（５Ａ）で表される単量体としては、下記一般式（５ｃ）で表される単量体等も挙げられる。
【０１３５】
ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２−Ｏ−Ｒｆ−Ｙ３      （５ｃ）
（式中、Ｒｆ及びＹ３は上記と同じ）
【０１３６】
より具体的には、
【化１０】
2020162623.tif 000011
等が挙げられる。
【０１３７】
上記一般式（６Ａ）において、Ｘは−Ｈ又は−Ｆである。Ｘは、両方が−Ｆであってもよいし、少なくとも１つが−Ｈであってよい。例えば、片方が−Ｆで他方が−Ｈであってもよいし、両方が−Ｈであってもよい。
【０１３８】
上記一般式（６Ａ）において、Ｙは−Ｈ、−Ｆ、アルキル基又は含フッ素アルキル基である。
上記アルキル基は、フッ素原子を含有しないアルキル基であり、炭素数は１以上であればよい。上記アルキル基の炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下が更に好ましい。
上記含フッ素アルキル基は、フッ素原子を少なくとも１つ含有するアルキル基であり、炭素数は１以上であればよい。上記含フッ素アルキル基の炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下が更に好ましい。
上記Ｙとしては、−Ｈ、−Ｆ又は−ＣＦ３が好ましく、−Ｆがより好ましい。
【０１３９】
上記一般式（６Ａ）において、上記Ｘ及びＹの少なくとも１つはフッ素原子を含むことが好ましい。例えば、Ｘが−Ｈであり、Ｙ及びＺが−Ｆであってよい。
【０１４０】
上記一般式（６Ａ）において、上記Ｒｆは炭素数１〜４０の含フッ素アルキレン基、又は、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基である。
上記含フッ素アルキレン基の炭素数は２以上が好ましい。また、含フッ素アルキレン基の炭素数は、３０以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。上記含フッ素アルキレン基としては、−ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２−等が挙げられる。上記含フッ素アルキレン基は、パーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
【０１４１】
上記一般式（６）において、Ｙ３は、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ又は−ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）であることが好ましい。
Ｒ７の有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
上記Ｍとしては、−Ｈ、金属原子又は−ＮＲ７４が好ましく、−Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又は−ＮＲ７４がより好ましく、−Ｈ、−Ｎａ、−Ｋ、−Ｌｉ又は−ＮＨ４が更に好ましく、−Ｎａ、−Ｋ又は−ＮＨ４が更により好ましく、−Ｎａ又は−ＮＨ４が特に好ましく、−ＮＨ４が最も好ましい。
上記Ｙ３としては、−ＣＯＯＭ又は−ＳＯ３Ｍが好ましく、−ＣＯＯＭがより好ましい。
【０１４２】
上記一般式（６Ａ）で表される単量体は、下記一般式（６ａ）、（６ｂ）、（６ｃ）、（６ｄ）及び（６ｅ）で表される単量体からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ２）ｎ１−Ｙ３        （６ａ）
（式中、ｎ１は、１〜１０の整数を表し、Ｙ３は、前記定義と同じ。）
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）Ｆ）ｎ２−Ｙ３        （６ｂ）
（式中、ｎ２は、１〜５の整数を表し、Ｙ３は、前記定義と同じ。）
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦＸ１）ｎ３−Ｙ３        （６ｃ）
（式中、Ｘ１は、Ｆ又はＣＦ３を表し、ｎ３は、１〜１０の整数を表し、Ｙ３は、前記定義と同じ。）
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＸ１Ｏ）ｎ４−（ＣＦ２）ｎ６−Ｙ３        （６ｄ）
（式中、ｎ４は、１〜１０の整数を表し、ｎ６は、１〜３の整数を表し、Ｙ３及びＸ１は、前記定義と同じ。）
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦＸ１Ｏ）ｎ５−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｙ３      （６ｅ）
（式中、ｎ５は、０〜１０の整数を表し、Ｙ３及びＸ１は、前記定義と同じ。）
【０１４３】
上記式（６ａ）において、上記ｎ１は、５以下の整数であることが好ましく、２以下の整数であることがより好ましい。上記Ｙ３は、適度な水溶性及び水性分散液の安定性を得られる点で、−ＣＯＯＭであることが好ましく、Ｍは、不純物として残留しにくく、得られる成形体の耐熱性が向上する点で、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１４４】
上記式（６ａ）で表される単量体としては、例えば、ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ２ＣＯＯＭ、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ）、ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ）（式中、Ｍは上記定義と同じ。）が挙げられる。
【０１４５】
上記式（６ｂ）において、上記ｎ２は、得られる水性分散液の安定性の点で、３以下の整数であることが好ましく、Ｙ３は、適度な水溶性及び水性分散液の安定性が得られる点で、−ＣＯＯＭであることが好ましく、Ｍは、不純物として残留しにくく、得られる成形体の耐熱性が向上する点で、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１４６】
上記式（６ｃ）において、上記ｎ３は、水溶性の点で５以下の整数であることが好ましく、上記Ｙ３は、適度な水溶性及び水性分散液の安定性が得られる点で、−ＣＯＯＭであることが好ましく、上記Ｍは、分散安定性がよくなる点で、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１４７】
上記式（６ｄ）において、上記Ｘ１は、水性分散液の安定性の点で、−ＣＦ３であることが好ましく、上記ｎ４は、水溶性の点で５以下の整数であることが好ましく、上記Ｙ３は、適度な水溶性と水性分散液の安定性が得られる点で−ＣＯＯＭであることが好ましく、上記Ｍは、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１４８】
上記式（６ｄ）で表される単量体としては、例えば、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＯＯＭ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＯＭ（式中、Ｍは、Ｈ、ＮＨ４又はアルカリ金属を表す。）が挙げられる。
【０１４９】
一般式（６ｅ）において、上記ｎ５は、水溶性の点で５以下の整数であることが好ましく、上記Ｙ３は、適度な水溶性と組成物の優れた沈降安定性が得られる点で−ＣＯＯＭであることが好ましく、上記Ｍは、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１５０】
一般式（６ｅ）で表される単量体としては、例えば、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＭ（式中、Ｍは、Ｈ、ＮＨ４又はアルカリ金属を表す。）が挙げられる。
【０１５１】
上記一般式（７Ａ）において、Ｒｆは、炭素数１〜４０の含フッ素アルキレン基であることが好ましい。一般式（７Ａ）において、Ｘ及びＹの少なくとも１つはフッ素原子を含むことが好ましい。
【０１５２】
上記一般式（７Ａ）で表される単量体は、下記一般式（７ａ）：
ＣＦ２＝ＣＦ−（ＣＦ２）ｎ１−Ｙ３        （７ａ）
（式中、ｎ１は、１〜１０の整数を表し、Ｙ３は、前記定義と同じ。）で表される単量体、及び、下記一般式（７ｂ）：
ＣＦ２＝ＣＦ−（ＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）Ｆ）ｎ２−Ｙ３        （７ｂ）
（式中、ｎ２は、１〜５の整数を表し、Ｙ３は、前記定義と同じ。）で表される単量体からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
上記Ｙ３は、−ＳＯ３Ｍ又は−ＣＯＯＭが好ましく、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであることが好ましい。上記Ｒ７は、Ｈ又は有機基を表す。
【０１５３】
上記式（７ａ）において、上記ｎ１は、５以下の整数であることが好ましく、２以下の整数であることがより好ましい。上記Ｙ３は、適度な水溶性及び水性分散液の安定性を得られる点で、−ＣＯＯＭであることが好ましく、Ｍは、不純物として残留しにくく、得られる成形体の耐熱性が向上する点で、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
上記式（７ａ）で表されるパーフルオロビニルアルキル化合物としては、例えば、ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２ＣＯＯＭ（式中、Ｍは上記定義と同じ。）が挙げられる。
【０１５４】
上記式（７ｂ）において、上記ｎ２は、得られる水性分散液の安定性の点で、３以下の整数であることが好ましく、Ｙ３は、適度な水溶性及び水性分散液の安定性が得られる点で、−ＣＯＯＭであることが好ましく、Ｍは、不純物として残留しにくく、得られる成形体の耐熱性が向上する点で、Ｈ又はＮＨ４であることが好ましい。
【０１５５】
上記変性モノマーは、変性モノマー（Ａ）を含むことが好ましく、一般式（５ａ）、一般式（５ｃ）、一般式（６ａ）、一般式（６ｂ）、一般式（６ｃ）、及び、一般式（６ｄ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、一般式（５ａ）または一般式（５ｃ）で表される化合物を含むことがより好ましい。
【０１５６】
上記変性モノマーが上記変性モノマー（Ａ）を含む場合、変性モノマー（Ａ）に基づく重合単位の含有量は、変性ＰＴＦＥの全重合単位に対して、０．００００１〜１．０質量％の範囲であることが好ましい。下限としては、０．０００１質量％が好ましく、０．００１質量％がより好ましく、０．００５質量％が更に好ましい。上限としては、好ましい順に、０．９０質量％、０．５０質量％、０．４０質量％、０．３０質量％、０．２０質量％、０．１５質量％、０．１０質量％、０．０８質量％、０．０５質量％、０．０１質量％である。
【０１５７】
上記ＰＴＦＥは、平均一次粒子径が１５０ｎｍ以上であることが好ましく、１８０ｎｍ以上であることがより好ましい。ＰＴＦＥの平均一次粒子径が大きいほど、その粉末を用いてペースト押出成形をする際に、ペースト押出圧力の上昇を抑えられ、造膜性にも優れる。上限は特に限定されないが５００ｎｍであってよい。重合工程における生産性の観点からは、上限は３５０ｎｍであることが好ましい。
上記平均一次粒子径は、ＰＴＦＥ水性分散液を水で固形分濃度が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均一次粒子径とを測定して、検量線を作成し、この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率から決定する。
また、上記平均一次粒子径は、動的光散乱法により測定することができる。上記平均一次粒子径は、固形分濃度約１．０質量％に調整した水性分散液を作成し、動的光散乱法を使用して、２５℃、溶媒（水）の屈折率は１．３３２８、溶媒（水）の粘度は０．８８７８ｍＰａ・ｓ、積算７０回にて測定できる。動的光散乱法としては、例えばＥＬＳＺ−１０００Ｓ（大塚電子社製）が使用できる。
【０１５８】
本明細書において、ＰＴＦＥを構成する各重合単位の含有量は、ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析を単量体の種類によって適宜組み合わせることで算出できる。
また、ＰＴＦＥを構成する各重合単位の含有量は、重合に用いた単量体の添加量から計算により求めることもできる。
【０１５９】
上記ＰＴＦＥは、ピーク温度が３３３〜３４７℃の範囲に存在することが好ましい。より好ましくは、３３５℃以上であり、また、３４５℃以下である。
上記ピーク温度は、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥについて示差走査熱量計〔ＤＳＣ〕を用いて１０℃／分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度である。また、ピーク温度は、ＴＧ／ＤＴＡ（示差熱熱重量同時測定装置）を用いて、３００℃以上の温度に加熱した履歴のないＰＴＦＥを１０℃／分の条件で昇温させることにより得られる示差熱（ＤＴＡ）曲線に現れる極大値に対応する温度として、特定できる。
【０１６０】
上記ＰＴＦＥは、一次吸熱ピーク温度以上の温度で加熱された履歴のないＰＴＦＥであることが好ましい。
上記ＰＴＦＥは、未焼成のＰＴＦＥであってもよいし、半焼成されたＰＴＦＥであってもよい。簡便なプロセス、または厚みや孔径の制御のし易さという観点からは、未焼成のＰＴＦＥが好ましい。例えば、本開示の組成物から延伸体を製造する場合、延伸体の強度を高める、または孔径を小さくする観点から、半焼成されたＰＴＦＥが好ましい。
未焼成のＰＴＦＥとしては、例えば、重合上がりのＰＴＦＥが挙げられる。
上記未焼成のＰＴＦＥとは、二次吸熱ピーク温度以上の温度に加熱した履歴のないＰＴＦＥであり、半焼成のＰＴＦＥとは、一次吸熱ピーク温度以上の温度で加熱された履歴のないＰＴＦＥであって、一次吸熱ピーク温度以下、かつ二次吸熱ピーク温度以上の温度で加熱されたＰＴＦＥである。
上記一次吸熱ピーク温度は、未焼成のＰＴＦＥを示差走査熱量計で測定した場合に、結晶融解曲線上に現れる吸熱カーブの最大ピーク温度を意味する。
上記二次吸熱ピーク温度は、一次吸熱ピーク温度以上の温度（例えば、３６０℃）に加熱したＰＴＦＥを示差走査熱量計で測定した場合に、結晶融解曲線上に現れる吸熱カーブの最大ピーク温度を意味する。
本明細書において、上記吸熱カーブは、示差走査熱量計を用いて、昇温速度１０℃／分の条件で昇温させて得られたものである。
【０１６１】
上記ＰＴＦＥは、コアシェル構造を有していてもよい。コアシェル構造を有するポリテトラフルオロエチレンとしては、例えば、粒子中に高分子量のポリテトラフルオロエチレンのコアと、より低分子量のポリテトラフルオロエチレンまたは変性のポリテトラフルオロエチレンのシェルとを含むポリテトラフルオロエチレンが挙げられる。
このようなポリテトラフルオロエチレンとしては、例えば、特表２００５−５２７６５２号公報に記載されるポリテトラフルオロエチレンが挙げられる。
【０１６２】
本開示の組成物は、特定の炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと上記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って処理前組成物を得る工程、上記工程において、特定の炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する工程、及び、処理前組成物から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含む製造方法により得られる。本開示の組成物は、上記製造方法により得られることが好ましい。
一般式（１）：（Ｈ−（ＣＦ２）ｍ−ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３〜１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ−（ＣＦ２）ｎ−ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４〜２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）又はアルカリ土類金属（２族）が挙げられ、具体的には、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等が例示される。
上記Ｒ５としては、４つのＲ５は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５としては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。また、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。以下で記載する全てのＲ５に上記規定は適用できる。
一般式（１）において、ｍは５〜１１であってもよい。
一般式（２）において、ｎは６〜１２であってもよい。
【０１６３】
特定の炭化水素系界面活性剤に限らず、炭化水素系界面活性剤の存在下に、ＴＦＥのみの乳化重合、又は、ＴＦＥおよびＴＦＥと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られる組成物には、通常、ＰＴＦＥに加えて、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物が含まれる場合がある。
本開示の組成物は、このような乳化重合により得られたものであっても、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）および（６’）で示される化合物の含有量が極めて少量であるか、これらの化合物を実質的に含まない。
【０１６４】
特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤を連続的に添加するとは、例えば、特定の炭化水素系界面活性剤を一括ではなく、経時的に、かつ、間断なく又は分割して、添加することである。
【０１６５】
特定の炭化水素系界面活性剤は、例えば、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、又は、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカル処理または酸化処理を行った炭化水素系界面活性剤である。
【０１６６】
また、特定の炭化水素系界面活性剤としては、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤、又は、当該炭化水素系界面活性剤にラジカル処理または酸化処理を行った炭化水素系界面活性剤を挙げることもできる。
【０１６７】
一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍで示される炭化水素系界面活性剤については、後述する。一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍで示される炭化水素系界面活性剤として、好ましくはラウリル硫酸（ドデシル硫酸）またはラウリル硫酸塩である。
【０１６８】
上記ラジカル処理とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカルを発生させる処理であればよく、例えば、反応器に、脱イオン水、炭化水素系界面活性剤を加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換し、反応器を昇温・昇圧した後、重合開始剤を仕込み、一定時間撹拌した後、反応器を大気圧になるまで脱圧を行い、冷却を行う処理である。上記酸化処理とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤に酸化剤を添加させる処理である。酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、過酸化水素水、酸化マンガン（ＩＶ）、過マンガン酸カリウム、二クロム酸カリウム、硝酸、二酸化硫黄などが挙げられる。ラジカル処理または酸化処理を促進するために、ラジカル処理または酸化処理をｐＨが調整された水溶液中で行ってもよい。ラジカル処理または酸化処理を行うための水溶液のｐＨは７未満であることが好ましく、たとえば、硫酸、硝酸、塩酸などを用いて、水溶液のｐＨを調整できる。
【０１６９】
本開示はまた、特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと上記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って処理前組成物を得る工程、上記工程において、特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する工程、及び、処理前組成物から一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含む製造方法により得られた組成物を提供する。
【０１７０】
上記特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する工程において、水性媒体中に形成されるＰＴＦＥの濃度が０．６０質量％未満であるときに、特定の炭化水素系界面活性剤を水性媒体中に添加し始めることが好ましい。
上記特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤は、上記濃度が０．５０質量％以下であるときに添加し始めることがより好ましく、０．３６質量％以下であるときに添加し始めることが更に好ましく、０．３０質量％以下であるときに添加し始めることが更により好ましく、０．２０質量％以下であるときに添加し始めることが殊更に好ましく、０．１０質量％以下であるときに添加し始めることが特に好ましく、重合開始とともに、添加し始めることが最も好ましい。上記濃度は、水性媒体及びＰＴＦＥの合計に対する濃度である。
【０１７１】
上記の特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する工程において、上記特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤の添加量は、水性媒体１００質量％に対して０．０１〜１０質量％であることが好ましい。より好ましい下限は０．０５質量％であり、更に好ましい下限は０．１質量％であり、より好ましい上限は５質量％であり、更に好ましい上限は２質量％であり、特に好ましい上限は１質量％である。
【０１７２】
上記の特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと上記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って処理前組成物を得る工程において、上記特定の炭化水素系界面活性剤などの炭化水素系界面活性剤の量は、多いことが好ましく、水性媒体１００質量％に対して０．０００１〜１０質量％であることが好ましい。より好ましい下限は０．００１質量％であり、更に好ましい下限は０．００５質量％であり、特に好ましい下限は０．０１質量％であり、より好ましい上限は５質量％であり、更に好ましい上限は２質量％であり、特に好ましい上限は１質量％である。０．０００１質量％未満であると、分散力が不充分となるおそれがあり、１０質量％を超えると、量に見合った効果が得られず、却って重合速度の低下や反応停止が起こるおそれがある。上記特定の炭化水素系界面活性剤の量は、使用するモノマーの種類、目的とするＰＴＦＥの分子量等によって適宜決定される。
【０１７３】
上記特定の炭化水素系界面活性剤としては、式：Ｒ−Ｘ（式中、Ｒは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭素数１〜２０００のフッ素非含有有機基であり、Ｘは、−ＯＳＯ３Ｘ１、−ＣＯＯＸ１又は−ＳＯ３Ｘ１（Ｘ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ１４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ１はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。））で示される界面活性剤が好ましい。Ｒは、炭素数が５００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、５０以下であることが更に好ましく、３０以下であることが更により好ましい。Ｘとしては、−ＯＳＯ３Ｘ１又は−ＳＯ３Ｘ１が好ましい。すなわち、特定の炭化水素系界面活性剤としては、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１７４】
上記特定の炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ａ）：
【化１１】
2020162623.tif 000012
（式中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ａ）、下記式（ｂ）：
【化１２】
2020162623.tif 000013
（式中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、−ＣＯ２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ６ＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｂ）、下記式（ｃ）：
【化１３】
2020162623.tif 000014
（式中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。Ａｃは、−ＣＯＯＸｃ又は−ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ｃ）、及び、下記式（ｄ）：
【化１４】
2020162623.tif 000015
（式中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ａｄは、−ＳＯ３Ｘｄ又は−ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、−ＣＯ２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ６ｄ−Ｂ−＊、−ＮＲ６ｄＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ６ｄ−Ｂ−、−ＮＲ６ｄＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
【０１７５】
界面活性剤（ａ）について説明する。
【０１７６】
式（ａ）中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ａにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
【０１７７】
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ２Ｈ４−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ２Ｈ４−で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−で示される基は炭素数が２である。
【０１７８】
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０１ａ（式中、Ｒ１０１ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０１７９】
式中、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ａ及びＲ３ａを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
【０１８０】
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０２ａ（式中、Ｒ１０２ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【０１８１】
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。合計の炭素数としては、８以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
【０１８２】
式（ａ）中、Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基である。４つのＲ４ａは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ４ａとしては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘａとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ａ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸａがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
【０１８３】
Ｒ１ａとしては、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基、１〜１０個のカルボニル基を含む炭素数２〜４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３〜４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３〜４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
【０１８４】
また、Ｒ１ａとしては、下記式：
【化１５】
2020162623.tif 000016
（式中、ｎ１１ａは０〜１０の整数であり、Ｒ１１ａは炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２ａは炭素数０〜３のアルキレン基である。ｎ１１ａが２〜１０の整数である場合、Ｒ１２ａは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
【０１８５】
ｎ１１ａとしては、０〜５の整数が好ましく、０〜３の整数がより好ましく、１〜３の整数が更に好ましい。
【０１８６】
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０３ａ（式中、Ｒ１０３ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０１８７】
Ｒ１２ａは炭素数０〜３のアルキレン基である。上記炭素数は１〜３が好ましい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２ａとしては、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）がより好ましい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０４ａ（式中、Ｒ１０４ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【０１８８】
Ｒ２ａ及びＲ３ａとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）が更に好ましい。
【０１８９】
界面活性剤（ａ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ｘａは上述のとおりである。
【０１９０】
【化１６】
2020162623.tif 000017
【０１９１】
【化１７】
2020162623.tif 000018
【０１９２】
【化１８】
2020162623.tif 000019
【０１９３】
【化１９】
2020162623.tif 000020
【０１９４】
【化２０】
2020162623.tif 000021
【０１９５】
【化２１】
2020162623.tif 000022
【０１９６】
【化２２】
2020162623.tif 000023
【０１９７】
【化２３】
2020162623.tif 000024
【０１９８】
界面活性剤（ａ）は、公知の方法により製造することができる。
【０１９９】
次に界面活性剤（ｂ）について説明する。
【０２００】
式（ｂ）中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｂにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
【０２０１】
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
【０２０２】
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【０２０３】
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０２０４】
Ｒ１ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ３）が最も好ましい。
【０２０５】
式（ｂ）中、Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【０２０６】
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【０２０７】
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０２０８】
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
【０２０９】
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
【０２１０】
式（ｂ）中、Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。Ｒ３ｂは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
【０２１１】
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０２１２】
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）、イソプロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）が更に好ましい。
【０２１３】
Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。
【０２１４】
式（ｂ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１〜４０の整数が好ましく、１〜３０の整数がより好ましく、５〜２５の整数が更に好ましく、５〜９、１１〜２５の整数が特に好ましい。
【０２１５】
式（ｂ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０〜１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０〜１０の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましい。
【０２１６】
ｎ、ｐ及びｑは、合計が５以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
【０２１７】
式（ｂ）中、Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基である。４つのＲ５ｂは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５ｂとしては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｂは金属原子又はＮＲ５ｂ４（Ｒ５ｂは上記のとおり）であってよい。
Ｘｂとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｂ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｂがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
【０２１８】
式（ｂ）中、Ｌは、単結合、−ＣＯ２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ６ＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１〜５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６は、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の−ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。
【０２１９】
Ｌは単結合であることが好ましい。
【０２２０】
界面活性剤（ｂ）としては、下記式：
【化２４】
2020162623.tif 000025
（式中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｌ、ｎ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物が好ましい。
【０２２１】
上記界面活性剤（ｂ）は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０％以上であることが好ましい。
【０２２２】
上記界面活性剤（ｂ）は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。
【０２２３】
上記界面活性剤（ｂ）において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。
【０２２４】
上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。
【０２２５】
界面活性剤（ｂ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ等が挙げられる。
【０２２６】
界面活性剤（ｂ）は、公知の方法により製造することができる。
【０２２７】
界面活性剤（ｃ）について説明する。
【０２２８】
式（ｃ）中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｃにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
【０２２９】
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ２Ｈ４−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ２Ｈ４−で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−で示される基は炭素数が２である。
【０２３０】
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０１ｃ（式中、Ｒ１０１ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０２３１】
式（ｃ）中、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
【０２３２】
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０２ｃ（式中、Ｒ１０２ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【０２３３】
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。合計の炭素数としては、７以上が好ましく、９以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
【０２３４】
式（ｃ）中、式中、Ａｃは、−ＣＯＯＸｃ又は−ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ４ｃとしては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘｃとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ｃ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｃがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
【０２３５】
Ｒ１ｃとしては、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基、１〜１０個のカルボニル基を含む炭素数２〜４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３〜４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３〜４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
【０２３６】
また、Ｒ１ｃとしては、下記式：
【化２５】
2020162623.tif 000026
（式中、ｎ１１ｃは０〜１０の整数であり、Ｒ１１ｃは炭素数１〜５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２ｃは炭素数０〜３のアルキレン基である。ｎ１１ｃが２〜１０の整数である場合、Ｒ１２ｃは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
【０２３７】
ｎ１１ｃとしては、０〜５の整数が好ましく、０〜３の整数がより好ましく、１〜３の整数が更に好ましい。
【０２３８】
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０３ｃ（式中、Ｒ１０３ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０２３９】
Ｒ１２ｃは炭素数０〜３のアルキレン基である。上記炭素数は１〜３が好ましい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２ｃとしては、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）がより好ましい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０４ｃ（式中、Ｒ１０４ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【０２４０】
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）が更に好ましい。
【０２４１】
上記界面活性剤（ｃ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ａｃは上述のとおりである。
【０２４２】
【化２６】
2020162623.tif 000027
【０２４３】
【化２７】
2020162623.tif 000028
【０２４４】
【化２８】
2020162623.tif 000029
【０２４５】
【化２９】
2020162623.tif 000030
【０２４６】
【化３０】
2020162623.tif 000031
【０２４７】
【化３１】
2020162623.tif 000032
【０２４８】
【化３２】
2020162623.tif 000033
【０２４９】
【化３３】
2020162623.tif 000034
【０２５０】
界面活性剤（ｃ）は、公知の方法により製造することができる。
【０２５１】
界面活性剤（ｄ）について説明する。
【０２５２】
式（ｄ）中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｄにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
【０２５３】
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
【０２５４】
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【０２５５】
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０２５６】
Ｒ１ｄとしては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ３）が最も好ましい。
【０２５７】
式（ｄ）中、Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｄ及びＲ４ｄは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【０２５８】
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【０２５９】
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０２６０】
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
【０２６１】
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
【０２６２】
式（ｄ）中、Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。Ｒ３ｄは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
【０２６３】
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０２６４】
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）、イソプロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）が更に好ましい。
【０２６５】
Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
【０２６６】
式（ｄ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１〜４０の整数が好ましく、１〜３０の整数がより好ましく、５〜２５の整数が更に好ましい。
【０２６７】
式（ｄ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０〜１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０〜１０の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましい。
【０２６８】
ｎ、ｐ及びｑは、合計が６以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
【０２６９】
式（ｄ）中、Ａｄは、−ＳＯ３Ｘｄ又は−ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ５ｄとしては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｄは金属原子又はＮＲ５ｄ４（Ｒ５ｄは上記のとおり）であってよい。
Ｘｄとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｄ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｄがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
【０２７０】
式（ｄ）中、Ｌは、単結合、−ＣＯ２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ６ｄ−Ｂ−＊、−ＮＲ６ｄＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ６ｄ−Ｂ−、−ＮＲ６ｄＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１〜５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６ｄは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。
【０２７１】
Ｌは単結合であることが好ましい。
【０２７２】
上記界面活性剤は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０以上であることが好ましい。
【０２７３】
上記界面活性剤は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。
【０２７４】
上記界面活性剤において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。
【０２７５】
上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。
【０２７６】
上記界面活性剤（ｄ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＨ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＬｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＳＯ３Ｎａ
等が挙げられる。
【０２７７】
界面活性剤（ｄ）は、公知の方法により製造することができる。
【０２７８】
本開示の組成物は、上記特定の炭化水素系界面活性剤を少なくとも１種用いれば、効率よく製造することが可能である。また、本開示の組成物は、上記特定の炭化水素系界面活性剤を２種以上同時に用いて製造してもよいし、揮発性を有するもの又はＰＴＦＥからなる成形体等に残存してもよいものであれば、上記特定の炭化水素系界面活性剤以外のその他の界面活性能を有する化合物を同時に使用して製造してもよい。
【０２７９】
上記その他の界面活性能を有する化合物としては、例えば、特表２０１３−５４２３０８号公報、特表２０１３−５４２３０９号公報、特表２０１３−５４２３１０号公報に記載されているもの等を使用することができる。
【０２８０】
その他の界面活性能を有する化合物は、同じ分子上に親水性部分及び疎水性部分を有する界面活性剤であってよい。これらは、カチオン性、非イオン性またはアニオン性であってよい。
【０２８１】
カチオン性界面活性剤は、通常、アルキル化臭化アンモニウムなどのアルキル化ハロゲン化アンモニウムなどの正に帯電した親水性部分と、長鎖脂肪酸などの疎水性部分を有する。
【０２８２】
アニオン性界面活性剤は、通常、カルボン酸塩、スルホン酸塩又は硫酸塩などの親水性部分と、アルキルなどの長鎖炭化水素部分である疎水性部分とを有する。
【０２８３】
非イオン性界面活性剤は、通常、帯電した基を含まず、長鎖炭化水素である疎水性部分を有する。非イオン性界面活性剤の親水性部分は、エチレンオキシドとの重合から誘導されるエチレンエーテルの鎖などの水溶性官能基を含む。
【０２８４】
非イオン性界面活性剤の例
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、グリセロールエステル、それらの誘導体。
【０２８５】
ポリオキシエチレンアルキルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル等。
【０２８６】
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等。
【０２８７】
ポリオキシエチレンアルキルエステルの具体例：ポリエチレングリコールモノラウリレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリエチレングリコールモノステアレート等。
【０２８８】
ソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート等。
【０２８９】
ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等。
【０２９０】
グリセロールエステルの具体例：モノミリスチン酸グリセロール、モノステアリン酸グリセロール、モノオレイン酸グリセロール等。
【０２９１】
上記誘導体の具体例：ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニル−ホルムアルデヒド凝縮物、ポリオキシエチレンアルキルエーテルホスフェート等。
【０２９２】
上記エーテル及びエステルは、１０〜１８のＨＬＢ値を有してよい。
【０２９３】
非イオン性界面活性剤としては、ダウ・ケミカル社製のＴｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｘシリーズ（Ｘ１５、Ｘ４５、Ｘ１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）１５−Ｓシリーズ、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）ＴＭＮシリーズ（ＴＭＮ−６、ＴＭＮ−１０、ＴＭＮ−１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）Ｌシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｒシリーズ（３１Ｒ１、１７Ｒ２、１０Ｒ５、２５Ｒ４（ｍ〜２２、ｎ〜２３）、Ｉｃｏｎｏｌ（登録商標）ＴＤＡシリーズ（ＴＤＡ−６、ＴＤＡ−９、ＴＤＡ−１０）等が挙げられる。
【０２９４】
非イオン性界面活性剤としては、上述した非イオン性界面活性剤を用いることもできる。
【０２９５】
アニオン性界面活性剤としては、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  ＰｒｏｄｕｃｔｓのＶｅｒｓａｔｉｃ（登録商標）１０、ＢＡＳＦ社製のＡｖａｎｅｌ  Ｓシリーズ（Ｓ−７０、Ｓ−７４等）等が挙げられる。
【０２９６】
その他の界面活性能を有する化合物としては、Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。−ＡｒＳＯ３−は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。Ｒ５は、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。
具体的には、ラウリル酸、ラウリル硫酸（ドデシル硫酸）などに代表されるようなＣＨ３−（ＣＨ２）ｎ−Ｌ−Ｍ（式中、ｎが、６〜１７の整数である。ＬおよびＭが、上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
Ｒが、１２〜１６個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｌ−Ｍが、硫酸塩であるものの混合物も使用できる。
その他の界面活性能を有する化合物としては、Ｒ６（−Ｌ−Ｍ）２（式中、Ｒ６が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキレン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。−ＡｒＳＯ３−は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
その他の界面活性能を有する化合物としては、Ｒ８（−Ｌ−Ｍ）３（式中、Ｒ８が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキリジン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキリジン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。−ＡｒＳＯ３−は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
Ｒ５としては、Ｈ又はアルキル基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。
本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、又は、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
【０２９７】
その他の界面活性能を有する化合物としては、シロキサン界面活性剤も挙げられる。シロキサン界面活性剤としては、Ｓｉｌｉｃｏｎｅ  Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｒ．Ｍ．Ｈｉｌｌ，Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．，ＩＳＢＮ：０−８２４７−００１０４に記載されているものが挙げられる。シロキサン界面活性剤の構造は、明確な疎水性部分および親水性部分を含む。疎水性部分は、１つ以上のジヒドロカルビルシロキサン単位を含み、ここで、シリコーン原子上の置換基が、完全に炭化水素である。
ヒドロカルビル基の炭素原子が、フッ素などのハロゲンによって置換され得る場合に、水素原子によって完全に置換されるという意味では、これらのシロキサン界面活性剤は、炭化水素界面活性剤とみなすこともでき、すなわち、ヒドロカルビル基の炭素原子上の一価置換基は水素である。
【０２９８】
シロキサン界面活性剤の親水性部分は、スルフェート、スルホネート、ホスホネート、リン酸エステル、カルボキシレート、カーボネート、スルホサクシネート、タウレート（遊離酸、塩またはエステルとしての）、ホスフィンオキシド、ベタイン、ベタインコポリオール、第４級アンモニウム塩などのイオン性基を含む１つ以上の極性部分を含んでもよい。イオン性疎水性部分は、イオン的に官能化されたシロキサングラフトも含み得る。
このようなシロキサン界面活性剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン−グラフト−（メタ）アクリル酸塩、ポリジメチルシロキサン−グラフト−ポリアクリレート塩およびポリジメチルシロキサングラフト化第４級アミンが挙げられる。
シロキサン界面活性剤の親水性部分の極性部分は、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、および混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテル（ＰＥＯ／ＰＰＯ）などのポリエーテル；単糖類および二糖類；およびピロリジノンなどの水溶性複素環によって形成される非イオン性基を含み得る。エチレンオキシド対プロピレンオキシド（ＥＯ／ＰＯ）の比率は、混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテルにおいて変化され得る。
【０２９９】
シロキサン界面活性剤の親水性部分は、イオン性部分と非イオン性部分との組合せも含み得る。このような部分としては、例えば、イオン的に末端官能化されたまたはランダムに官能化されたポリエーテルまたはポリオールが挙げられる。本開示の実施に好ましいのは、非イオン性部分を有するシロキサン、すなわち、非イオン性シロキサン界面活性剤である。
【０３００】
シロキサン界面活性剤の構造の疎水性および親水性部分の配置は、ジブロックポリマー（ＡＢ）、トリブロックポリマー（ＡＢＡ）（ここで、「Ｂ」は、分子のシロキサン部分を表す）、またはマルチブロックポリマーの形態をとってもよい。あるいは、シロキサン界面活性剤は、グラフトポリマーを含んでいてもよい。
【０３０１】
シロキサン界面活性剤については、米国特許第６，８４１，６１６号明細書にも開示されている。
【０３０２】
シロキサンベースのアニオン性界面活性剤としては、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．のＮｏｖｅｏｎ（登録商標）Ｃｏｎｓｕｍｅｒ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓから入手可能なＳｉｌＳｅｎｓｅＴＭＰＥ−１００シリコーン、ＳｉｌＳｅｎｓｅＴＭＣＡ−１シリコーン等が挙げられる。
【０３０３】
アニオン性界面活性剤としては、Ａｋｚｏ  Ｎｏｂｅｌ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＬＬＣのスルホサクシネート界面活性剤Ｌａｎｋｒｏｐｏｌ（登録商標）Ｋ８３００等も挙げられる。
スルホサクシネート界面活性剤としては、スルホコハク酸ジイソデシルＮａ塩、（ＣｌａｒｉａｎｔのＥｍｕｌｓｏｇｅｎ（登録商標）ＳＢ１０）、スルホコハク酸ジイソトリデシルＮａ塩（Ｃｅｓａｐｉｎｉａ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓのＰｏｌｉｒｏｌ（登録商標）ＴＲ／ＬＮＡ）等が挙げられる。
【０３０４】
その他の界面活性能を有する化合物としては、Ｏｍｎｏｖａ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．のＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）界面活性剤（ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ−１５６Ａ、ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ−１３６Ａ等）も挙げられる。
【０３０５】
その他の界面活性能を有する化合物としては、例えば、下記式（α）：
Ｒ１００−ＣＯＯＭ      （α）
（式中、Ｒ１００は、１個以上の炭素原子を含有する１価の有機基である。Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ１０１４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ１０１はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）で示される化合物（α）が挙げられる。Ｒ１０１の有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ１０１としてはＨ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。
界面活性能の観点から、Ｒ１００の炭素数は２個以上が好ましく、３個以上がより好ましい。また、水溶性の観点から、Ｒ１００の炭素数は、２９個以下であることが好ましく、２３個以下がより好ましい。
上記Ｍの金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ１０１４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ１０１４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
【０３０６】
上記化合物（α）としては、Ｒ１０２−ＣＯＯＭ（式中、Ｒ１０２が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基又はアルケニレン基、若しくは、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらはエーテル結合を含んでもよい。炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。Ｍは上記と同じ。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。具体的には、ＣＨ３−（ＣＨ２）ｎ−ＣＯＯＭ（式中、ｎが、２〜２８の整数である。Ｍは上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
【０３０７】
上記化合物（α）は、乳化安定性の観点で、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を含まないものであってもよい。
上記カルボニル基を含まない炭化水素含有界面活性剤としては、例えば、下記式（Ａ）：
Ｒ１０３−ＣＯＯ−Ｍ  （Ａ）
（式中、Ｒ１０３は、６〜１７個の炭素原子を含有するアルキル基、アルケニル基、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらはエーテル結合を含んでもよい。Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ１０１４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。Ｒ１０１は、同一又は異なって、Ｈ又は有機基である。）で表される化合物が好ましく例示される。
上記式（Ａ）において、Ｒ１０３は、アルキル基又はアルケニル基（これらはエーテル基を含んでいてもよい）であることが好ましい。上記Ｒ１０３におけるアルキル基又はアルケニル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。上記Ｒ１０３の炭素数は限定されないが、例えば、２〜２９である。
【０３０８】
上記アルキル基が直鎖状である場合、Ｒ１０３の炭素数は３〜２９であることが好ましく、５〜２３であることがより好ましい。上記アルキル基が分岐状である場合、Ｒ１０３の炭素数は５〜３５であることが好ましく、１１〜２３であることがより好ましい。
上記アルケニル基が直鎖状である場合、Ｒ１０３の炭素数は２〜２９であることが好ましく、９〜２３であることがより好ましい。上記アルケニル基が分岐状である場合、Ｒ１０３の炭素数は４〜２９であることが好ましく、９〜２３であることがより好ましい。
【０３０９】
上記アルキル基及びアルケニル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ビニル基等が挙げられる。
【０３１０】
上記化合物（α）（カルボン酸型炭化水素系界面活性剤）としては、例えば、ブチル酸、バレリアン酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトレイン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、（９，１２，１５）−リノレン酸、（６，９，１２）リノレン酸、エレオステアリン酸、アラキジン酸、８、１１−エイコサジエン酸、ミード酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、クロトン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、サピエン酸、オレイン酸、エライジン酸、バクセン酸、ガドレイン酸、エイコセン酸、エルカ酸、ネルボン酸、リノール酸、エイコサジエン酸、ドコサジエン酸、リノレン酸、ピノレン酸、α−エレオステアリン酸、β−エレオステアリン酸、ミード酸、ジホモ−γ−リノレン酸、エイコサトリエン酸、ステアリドン酸、アラキドン酸、エイコサテトラエン酸、アドレン酸、ボセオペンタエン酸、エイコサペンタエン酸、オズボンド酸、イワシ酸、テトラコサペンタエン酸、ドコサヘキサエン酸、ニシン酸、及びこれらの塩が挙げられる。
特に、ラウリン酸、カプリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、及び、これらの塩からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
上記塩としては、カルボキシル基の水素が上述した式Ｍの金属原子、ＮＲ１０１４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムであるものが挙げられるが特に限定されない。
上記界面活性剤（α）（カルボン酸型炭化水素系界面活性剤）としては、重合により平均一次粒子径の小さい粒子が得られ、また、重合の際に多数の粒子を発生させ、効率よくポリテトラフルオロエチレンを製造できることから、ラウリン酸、カプリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、及び、これらの塩からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ラウリン酸及びその塩がさらに好ましく、ラウリン酸の塩が特に好ましく、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸アンモニウムが最も好ましい。
【０３１１】
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記一般式（１）：
【化３４】
2020162623.tif 000035
（式中、Ｒ１〜Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｙ−Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｘ−Ａで示される基、又は、一般式：−Ｙ−Ｒ６で示される基を表す。
また、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ又は−ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｙは、各出現において同一又は異なって、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ８−及び−ＮＲ８ＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基；
Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素−炭素原子間に含んでもよい炭素数１以上のアルキル基；
を表す。
Ｒ１〜Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（以下、界面活性剤（１）ともいう）が好ましく例示される。
【０３１２】
界面活性剤（１）について説明する。
【０３１３】
式中、Ｒ１〜Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｙ−Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｘ−Ａで示される基、又は、一般式：−Ｙ−Ｒ６で示される基を表す。Ｒ１〜Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
【０３１４】
Ｒ１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【０３１５】
Ｒ１としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
【０３１６】
Ｒ１としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ３）が最も好ましい。
【０３１７】
一価の置換基としては、一般式：−Ｙ−Ｒ６で示される基、一般式：−Ｘ−Ａで示される基、−Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１−２０のアルキル基、−ＮＨ２、−ＮＨＲ９（Ｒ９は有機基）、−ＯＨ、−ＣＯＯＲ９（Ｒ９は有機基）又は−ＯＲ９（Ｒ９は有機基）が好ましい。上記アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましい。
【０３１８】
Ｒ９としては、Ｃ１−１０のアルキル基又はＣ１−１０のアルキルカルボニル基が好ましく、Ｃ１−４のアルキル基又はＣ１−４のアルキルカルボニル基がより好ましい。
【０３１９】
式中、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手を表す。
Ｒ６がカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基のいずれをも含まない場合は、Ｘはカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を含む２価の連結基であることが好ましい。
【０３２０】
Ｘとしては、−ＣＯ−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ（＝Ｏ）２−、−ＣＯＮＲ８−及び−ＮＲ８ＣＯ−からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の連結基、Ｃ１−１０のアルキレン基、又は、結合手が好ましい。Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
【０３２１】
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更により好ましい。
【０３２２】
式中、Ａは、各出現において同一又は異なって、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ又は−ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７はＨ又は有機基である。４つのＲ７は、同一でも異なっていてもよい。）を表す。一般式（１）において、Ａは−ＣＯＯＭであることが好適な態様の一つである。
【０３２３】
Ｒ７における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
【０３２４】
Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ７４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ７４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
【０３２５】
式中、Ｙは、各出現において同一又は異なって、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ８−及び−ＮＲ８ＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
【０３２６】
Ｙとしては、結合手、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ８−及び−ＮＲ８ＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基が好ましく、結合手、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基がより好ましい。
【０３２７】
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更により好ましい。
【０３２８】
式中、Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素−炭素原子間に含んでもよい炭素数１以上のアルキル基を表す。上記Ｒ６の有機基の炭素数は、２以上が好ましく、２０以下が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１０がさらに好ましい。
【０３２９】
Ｒ６のアルキル基は、炭素数が２以上である場合、炭素−炭素原子間にカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を１又は２以上含むことができるが、上記アルキル基の両末端にこれらの基を含まない。上記Ｒ６のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０３３０】
Ｒ６としては、
一般式：−Ｒ１０−ＣＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−Ｒ１０−ＣＯＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−Ｒ１１で示される基、
一般式：−Ｒ１０−ＮＲ８ＣＯ−Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：−Ｒ１０−ＣＯＮＲ８−Ｒ１１で示される基、
（式中、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。Ｒ１０はアルキレン基、Ｒ１１は置換基を有してもよいアルキル基）が好ましい。
Ｒ６としては、一般式：−Ｒ１０−ＣＯ−Ｒ１１で示される基がより好ましい。
【０３３１】
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更により好ましい。
【０３３２】
Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下が特に好ましい。また、Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、３〜１０が更に好ましい。
【０３３３】
Ｒ１１のアルキル基の炭素数は、１〜２０であってよく、１〜１５が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜１０が更に好ましく、１〜８が更により好ましく、１〜６が殊更好ましく、１〜３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ１１のアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ１１としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
【０３３４】
一般式（１）において、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｘ−Ａで示される基であり、該Ａは−ＣＯＯＭであることも好適な態様の一つである。
【０３３５】
界面活性剤（１）としては、一般式（１−１）で示される化合物、一般式（１−２）で示される化合物又は一般式（１−３）で示される化合物が好ましく、一般式（１−１）で示される化合物又は一般式（１−２）で示される化合物がより好ましい。
【０３３６】
一般式（１−１）：
【化３５】
2020162623.tif 000036
（式中、Ｒ３〜Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
【０３３７】
一般式（１−２）：
【化３６】
2020162623.tif 000037
（式中、Ｒ４〜Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
【０３３８】
一般式（１−３）：
【化３７】
2020162623.tif 000038
（式中、Ｒ２、Ｒ４〜Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
【０３３９】
一般式：−Ｘ−Ａで示される基としては、
−ＣＯＯＭ、
−Ｒ１２ＣＯＯＭ、
−ＳＯ３Ｍ、
−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｒ１２ＳＯ３Ｍ、
−Ｒ１２ＯＳＯ３Ｍ、
−ＯＣＯ−Ｒ１２−ＣＯＯＭ、
−ＯＣＯ−Ｒ１２−ＳＯ３Ｍ、
−ＯＣＯ−Ｒ１２−ＯＳＯ３Ｍ
−ＣＯＯ−Ｒ１２−ＣＯＯＭ、
−ＣＯＯ−Ｒ１２−ＳＯ３Ｍ、
−ＣＯＯ−Ｒ１２−ＯＳＯ３Ｍ、
−ＣＯＮＲ８−Ｒ１２−ＣＯＯＭ、
−ＣＯＮＲ８−Ｒ１２−ＳＯ３Ｍ、
−ＣＯＮＲ８−Ｒ１２−ＯＳＯ３Ｍ、
−ＮＲ８ＣＯ−Ｒ１２−ＣＯＯＭ、
−ＮＲ８ＣＯ−Ｒ１２−ＳＯ３Ｍ、
−ＮＲ８ＣＯ−Ｒ１２−ＯＳＯ３Ｍ、
−ＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１２−ＣＯＯＭ、
−ＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１２−ＳＯ３Ｍ、又は
−ＯＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１２−ＯＳＯ３Ｍ
（式中、Ｒ８及びＭは、上記のとおり。Ｒ１２はＣ１−１０のアルキレン基。）が好ましい。
上記Ｒ１２のアルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【０３４０】
一般式：−Ｙ−Ｒ６で示される基としては、
一般式：−Ｒ１０−ＣＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−ＯＣＯ−Ｒ１０−ＣＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−ＣＯＯ−Ｒ１０−ＣＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−ＯＣＯ−Ｒ１０−ＣＯＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−ＣＯＯ−Ｒ１１で示される基、
一般式：−ＮＲ８ＣＯ−Ｒ１０−ＣＯ−Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：−ＣＯＮＲ８−Ｒ１０−ＮＲ８ＣＯ−Ｒ１１で示される基
（式中、Ｒ８、Ｒ１０及びＲ１１は上記のとおり。）が好ましい。
【０３４１】
式中、Ｒ４及びＲ５としては、独立に、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基が好ましい。
上記Ｒ４及びＲ５のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０３４２】
一般式（１−１）におけるＲ３としては、Ｈ又は置換基を有していてもよいＣ１−２０のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有していないＣ１−２０のアルキル基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。
上記Ｒ３のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０３４３】
一般式（１−３）におけるＲ２としては、Ｈ、ＯＨ又は置換基を有していてもよいＣ１−２０のアルキル基が好ましく、Ｈ、ＯＨ又は置換基を有していないＣ１−２０のアルキル基がより好ましく、Ｈ又はＯＨが更に好ましい。
上記Ｒ２のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【０３４４】
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（１−０Ａ）：
【化３８】
2020162623.tif 000039
（式中、Ｒ１Ａ〜Ｒ５Ａは、Ｈ、炭素−炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基、又は、一般式：−ＸＡ−Ａで示される基である。但し、Ｒ２Ａ及びＲ５Ａの少なくとも１つは、一般式：−ＸＡ−Ａで示される基を表す。
ＸＡは、各出現において同一又は異なって、２価の炭化水素基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、−ＣＯＯＭ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｒ１Ａ〜Ｒ５Ａのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（１−０Ａ）等も挙げられる。
【０３４５】
一般式（１−０Ａ）中、Ｒ１Ａ〜Ｒ５Ａにおいて、炭素−炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基の炭素数は１〜５０であることが好ましく、５〜２０であることがより好ましい。Ｒ１Ａ〜Ｒ５Ａのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。上記炭素−炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。
式中、ＸＡにおいて、２価の炭化水素基の炭素数は１〜５０であることが好ましく、５〜２０であることがより好ましい。上記２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルカンジイル基等が挙げられ、アルキレン基が好ましい。
【０３４６】
一般式（１−０Ａ）中、Ｒ２Ａ及びＲ５Ａのいずれか１つが、上記一般式：−ＸＡ−Ａで示される基であることが好ましく、Ｒ２Ａが上記一般式：−ＸＡ−Ａで示される基であることがより好ましい。
【０３４７】
一般式（１−０Ａ）中、好適な態様としては、Ｒ２Ａが、一般式：−ＸＡ−Ａで示される基であり、Ｒ１Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ及びＲ５ＡがＨである態様である。この場合、ＸＡは結合手又は炭素数１〜５のアルキレン基であることが好ましい。
【０３４８】
一般式（１−０Ａ）中、好適な態様としてはまた、Ｒ２Ａが、一般式：−ＸＡ−Ａで示される基であり、Ｒ１Ａ及びＲ３Ａが−ＹＡ−Ｒ６で示される基であり、ＹＡは、各出現において同一又は異なって、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は、結合手であり、Ｒ６は各出現において同一又は異なって、炭素数１以上のアルキル基である態様である。この場合、Ｒ４Ａ及びＲ５ＡがＨであることが好ましい。
【０３４９】
一般式（１−０Ａ）で表される炭化水素系界面活性剤としては、例えば、グルタル酸又はその塩、アジピン酸又はその塩、ピメリン酸又はその塩、スベリン酸又はその塩、アゼライン酸又はその塩、セバシン酸又はその塩等が挙げられる。
また、一般式（１−０Ａ）で表される脂肪族型のカルボン酸型炭化水素系界面活性剤は２鎖２親水基型合成界面活性剤であってもよく、例えば、ジェミニ型界面活性剤として、ジェミニサ−フ（中京油脂株式会社）、Ｇｅｍｓｕｒｆ α１４２（炭素数１２  ラウリル基）、Ｇｅｍｓｕｒｆ  α１０２（炭素数１０）、Ｇｅｍｓｕｒｆ  α１８２（炭素数１４）等が挙げられる。
【０３５０】
上記製造方法は、実質的に含フッ素界面活性剤の非存在下に、テトラフルオロエチレンを重合するものであることが好ましい。
従来、ポリテトラフルオロエチレンの重合には含フッ素界面活性剤が使用されてきたが、上記製造方法は、含フッ素界面活性剤を使用しなくてもポリテトラフルオロエチレンを得ることができる。
本明細書において「実質的に含フッ素界面活性剤の非存在下に」とは、水性媒体に対して含フッ素界面活性剤が１０ｐｐｍ以下であることを意味し、好ましくは１ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００ｐｐｂ以下であり、更に好ましくは１０ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１ｐｐｂ以下である。
【０３５１】
上記含フッ素界面活性剤としては、アニオン性含フッ素界面活性剤等が挙げられる。
上記アニオン性含フッ素界面活性剤は、例えば、アニオン性基を除く部分の総炭素数が２０以下のフッ素原子を含む界面活性剤であってよい。
【０３５２】
上記含フッ素界面活性剤としてはまた、アニオン性部分の分子量が１０００以下、より好ましくは８００以下、さらに好ましくは６００以下のフッ素を含む界面活性剤であってよい。
なお、上記「アニオン性部分」は、上記含フッ素界面活性剤のカチオンを除く部分を意味する。例えば、後述する式（Ｉ）で表されるＦ（ＣＦ２）ｎ１ＣＯＯＭの場合には、「Ｆ（ＣＦ２）ｎ１ＣＯＯ」の部分である。
【０３５３】
上記含フッ素界面活性剤としてはまた、ＬｏｇＰＯＷが３．５以下の含フッ素界面活性剤が挙げられる。上記ＬｏｇＰＯＷは、１−オクタノールと水との分配係数であり、ＬｏｇＰ［式中、Ｐは、含フッ素界面活性剤を含有するオクタノール／水（１：１）混合液が相分離した際のオクタノール中の含フッ素界面活性剤濃度／水中の含フッ素界面活性剤濃度比を表す］で表されるものである。
上記ＬｏｇＰＯＷは、カラム；ＴＯＳＯＨ  ＯＤＳ−１２０Ｔカラム（φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ、東ソー（株）製）、溶離液；アセトニトリル／０．６質量％ＨＣｌＯ４水＝１／１（ｖｏｌ／ｖｏｌ％）、流速；１．０ｍｌ／分、サンプル量；３００μＬ、カラム温度；４０℃、検出光；ＵＶ２１０ｎｍの条件で、既知のオクタノール／水分配係数を有する標準物質（ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸及びデカン酸）についてＨＰＬＣを行い、各溶出時間と既知のオクタノール／水分配係数との検量線を作成し、この検量線に基づき、試料液におけるＨＰＬＣの溶出時間から算出する。
【０３５４】
上記含フッ素界面活性剤として具体的には、米国特許出願公開第２００７／００１５８６４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６５号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６６号明細書、米国特許出願公開第２００７／０２７６１０３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１１７９１４号明細書、米国特許出願公開第２００７／１４２５４１号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３１９号明細書、米国特許第３２５０８０８号明細書、米国特許第３２７１３４１号明細書、特開２００３−１１９２０４号公報、国際公開第２００５／０４２５９３号、国際公開第２００８／０６０４６１号、国際公開第２００７／０４６３７７号、国際公開第２００７／１１９５２６号、国際公開第２００７／０４６４８２号、国際公開第２００７／０４６３４５号、米国特許出願公開第２０１４／０２２８５３１号明細書、国際公開第２０１３／１８９８２４号、国際公開第２０１３／１８９８２６号に記載されたもの等が挙げられる。
【０３５５】
上記アニオン性含フッ素界面活性剤としては、下記一般式（Ｎ０）：
Ｘｎ０−Ｒｆｎ０−Ｙ０      （Ｎ０）
（式中、Ｘｎ０は、Ｈ、Ｃｌ又は及びＦである。Ｒｆｎ０は、炭素数３〜２０で、鎖状、分枝鎖状または環状で、一部または全てのＨがＦにより置換されたアルキレン基であり、該アルキレン基は１つ以上のエーテル結合を含んでもよく、一部のＨがＣｌにより置換されていてもよい。Ｙ０はアニオン性基である。）で表される化合物が挙げられる。
Ｙ０のアニオン性基は、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ２Ｍ、又は、−ＳＯ３Ｍであってよく、−ＣＯＯＭ、又は、−ＳＯ３Ｍであってよい。
Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ７は、Ｈ又は有機基である。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、例えば、Ｎａ、Ｋ又はＬｉである。
Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基であってよく、Ｈ又はＣ１−４の有機基であってよく、Ｈ又はＣ１−４のアルキル基であってよい。
Ｍは、Ｈ、金属原子又はＮＲ７４であってよく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ７４であってよく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４であってよい。
上記Ｒｆｎ０は、Ｈの５０％以上がフッ素に置換されているものであってよい。
【０３５６】
上記一般式（Ｎ０）で表される化合物としては、
下記一般式（Ｎ１）：
Ｘｎ０−（ＣＦ２）ｍ１−Ｙ０      （Ｎ１）
（式中、Ｘｎ０は、Ｈ、Ｃｌ及びＦであり、ｍ１は３〜１５の整数であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、下記一般式（Ｎ２）：
Ｒｆｎ１−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ２ＣＦＸｎ１−Ｙ０      （Ｎ２）
（式中、Ｒｆｎ１は、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基であり、ｍ２は、０〜３の整数であり、Ｘｎ１は、Ｆ又はＣＦ３であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、下記一般式（Ｎ３）：
Ｒｆｎ２（ＣＨ２）ｍ３−（Ｒｆｎ３）ｑ−Ｙ０    （Ｎ３）
（式中、Ｒｆｎ２は、炭素数１〜１３のエーテル結合を含み得る、部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、ｍ３は、１〜３の整数であり、Ｒｆｎ３は、直鎖状又は分岐状の炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、ｑは０又は１であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、下記一般式（Ｎ４）：  
Ｒｆｎ４−Ｏ−（ＣＹｎ１Ｙｎ２）ｐＣＦ２−Ｙ０      （Ｎ４）
（式中、Ｒｆｎ４は、炭素数１〜１２のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｙｎ１及びＹｎ２は、同一若しくは異なって、Ｈ又はＦであり、ｐは０又は１であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、及び、一般式（Ｎ５）：
下記一般式（Ｎ５）：
【化３９】
2020162623.tif 000040
（式中、Ｘｎ２、Ｘｎ３及びＸｎ４は、同一若しくは異なってもよく、Ｈ、Ｆ、又は、炭素数１〜６のエーテル結合を含んでよい直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基である。Ｒｆｎ５は、炭素数１〜３のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキレン基であり、Ｌは連結基であり、Ｙ０は、上記定義したものである。但し、Ｘｎ２、Ｘｎ３、Ｘｎ４及びＲｆｎ５の合計炭素数は１８以下である。）で表される化合物が挙げられる。
【０３５７】
上記一般式（Ｎ０）で表される化合物としてより具体的には、下記一般式（Ｉ）で表されるパーフルオロカルボン酸（Ｉ）、下記一般式（ＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるパーフルオロポリエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）、下記一般式（ＩＶ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）、下記一般式（Ｖ）で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）、下記一般式（ＶＩ）で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）、下記一般式（ＶＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）、下記一般式（ＩＸ）で表されるアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）、下記一般式（Ｘ）で表されるフルオロカルボン酸（Ｘ）、下記一般式（ＸＩ）で表されるアルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩ）、下記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩＩ）などが挙げられる。
【０３５８】
上記パーフルオロカルボン酸（Ｉ）は、下記一般式（Ｉ）
Ｆ（ＣＦ２）ｎ１ＣＯＯＭ        （Ｉ）
（式中、ｎ１は、３〜１４の整数であり、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ７は、Ｈ又は有機基である。）で表されるものである。
【０３５９】
上記ω−Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）は、下記一般式（ＩＩ）
Ｈ（ＣＦ２）ｎ２ＣＯＯＭ        （ＩＩ）
（式中、ｎ２は、４〜１５の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６０】
上記パーフルオロポリエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）は、下記一般式（ＩＩＩ）
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎ３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ        （ＩＩＩ）
（式中、Ｒｆ１は、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基であり、ｎ３は、０〜３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６１】
上記パーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）は、下記一般式（ＩＶ）
Ｒｆ２（ＣＨ２）ｎ４Ｒｆ３ＣＯＯＭ                （ＩＶ）
（式中、Ｒｆ２は、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒｆ３は、直鎖状又は分岐状の炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基、ｎ４は、１〜３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６２】
上記アルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）は、下記一般式（Ｖ）
Ｒｆ４−Ｏ−ＣＹ１Ｙ２ＣＦ２−ＣＯＯＭ        （Ｖ）
（式中、Ｒｆ４は、炭素数１〜１２のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｙ１及びＹ２は、同一若しくは異なって、Ｈ又はＦであり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６３】
上記パーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）は、下記一般式（ＶＩ）
Ｆ（ＣＦ２）ｎ５ＳＯ３Ｍ                （ＶＩ）
（式中、ｎ５は、３〜１４の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６４】
上記ω−Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）は、下記一般式（ＶＩＩ）
Ｈ（ＣＦ２）ｎ６ＳＯ３Ｍ        （ＶＩＩ）
（式中、ｎ６は、４〜１４の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６５】
上記パーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）は、下記一般式（ＶＩＩＩ）Ｒｆ５（ＣＨ２）ｎ７ＳＯ３Ｍ            （ＶＩＩＩ）    
（式中、Ｒｆ５は、炭素数１〜１３のパーフルオロアルキル基であり、ｎ７は、１〜３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６６】
上記アルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）は、下記一般式（ＩＸ）
Ｒｆ６（ＣＨ２）ｎ８ＣＯＯＭ            （ＩＸ）    
（式中、Ｒｆ６は、炭素数１〜１３のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、ｎ８は、１〜３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６７】
上記フルオロカルボン酸（Ｘ）は、下記一般式（Ｘ）
Ｒｆ７−Ｏ−Ｒｆ８−Ｏ−ＣＦ２−ＣＯＯＭ        （Ｘ）
（式中、Ｒｆ７は、炭素数１〜６のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｒｆ８は、炭素数１〜６の直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６８】
上記アルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）は、下記一般式（ＸＩ）
Ｒｆ９−Ｏ−ＣＹ１Ｙ２ＣＦ２−ＳＯ３Ｍ        （ＸＩ）
（式中、Ｒｆ９は、炭素数１〜１２のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状であって、塩素を含んでもよい、部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｙ１及びＹ２は、同一若しくは異なって、Ｈ又はＦであり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
【０３６９】
上記化合物（ＸＩＩ）は、下記一般式（ＸＩＩ）：
【化４０】
2020162623.tif 000041
式中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、同一若しくは異なってもよく、Ｈ、Ｆ及び炭素数１〜６のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｒｆ１０は、炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、Ｌは連結基であり、Ｙ０はアニオン性基である。）で表されるものである。
Ｙ０は、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ２Ｍ、又は、−ＳＯ３Ｍであってよく、−ＳＯ３Ｍ、又は、ＣＯＯＭであってよい（式中、Ｍは上記定義したものである。）。
Ｌとしては、例えば、単結合、炭素数１〜１０のエーテル結合を含みうる部分又は完全フッ素化されたアルキレン基が挙げられる。
【０３７０】
上記化合物（ＸＩＩＩ）は、下記一般式（ＸＩＩＩ）：
Ｒｆ１１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ９（ＣＦ２Ｏ）ｎ１０ＣＦ２ＣＯＯＭ      （ＸＩＩＩ）
（式中、Ｒｆ１１は、塩素を含む炭素数１〜５のフルオロアルキル基であり、ｎ９は、０〜３の整数であり、ｎ１０は、０〜３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。化合物（ＸＩＩＩ）としては、ＣＦ２ＣｌＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ９（ＣＦ２Ｏ）ｎ１０ＣＦ２ＣＯＯＮＨ４（平均分子量７５０の混合物、式中、ｎ９およびｎ１０は上記定義したものである。）が挙げられる。
【０３７１】
上述したように上記アニオン性含フッ素界面活性剤としては、カルボン酸系界面活性剤、スルホン酸系界面活性剤等が挙げられる。
【０３７２】
上記製造方法は、ラジカル捕捉剤及び重合開始剤の分解剤からなる群より選択される少なくとも１種を添加する添加工程を含んでもよい。上記添加工程は、上記重合工程中に行われる。ラジカル捕捉剤又は重合開始剤の分解剤を添加することで、重合中のラジカル濃度を調整することができる。ラジカル濃度を低下させる観点からはラジカル捕捉剤が好ましい。
【０３７３】
上記ラジカル捕捉剤としては、重合系内の遊離基に付加もしくは連鎖移動した後に再開始能力を有しない化合物が用いられる。具体的には、一次ラジカルまたは成長ラジカルと容易に連鎖移動反応を起こし、その後単量体と反応しない安定ラジカルを生成するか、あるいは、一次ラジカルまたは成長ラジカルと容易に付加反応を起こして安定ラジカルを生成するような機能を有する化合物が用いられる。
一般的に連鎖移動剤と呼ばれるものは、その活性は連鎖移動定数と再開始効率で特徴づけられるが連鎖移動剤の中でも再開始効率がほとんど０％のものがラジカル捕捉剤と称される。
上記ラジカル捕捉剤は、例えば、重合温度におけるＴＦＥへの連鎖移動定数が重合速度定数より大きく、かつ、再開始効率が実質的にゼロ％の化合物ということもできる。「再開始効率が実質的にゼロ％」とは、発生したラジカルがラジカル捕捉剤を安定ラジカルにすることを意味する。
好ましくは、重合温度におけるＴＦＥへの連鎖移動定数（Ｃｓ）（＝連鎖移動速度定数（ｋｃ）／重合速度定数（ｋｐ））が０．１より大きい化合物であり、上記化合物は、連鎖移動定数（Ｃｓ）が０．５以上であることがより好ましく、１．０以上であることが更に好ましく、５．０以上であることが更により好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
【０３７４】
本開示における上記ラジカル捕捉剤としては、例えば、芳香族ヒドロキシ化合物、芳香族アミン類、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、キノン化合物、テルペン、チオシアン酸塩、及び、塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
芳香族ヒドロキシ化合物としては、非置換フェノール、多価フェノール、サリチル酸、ｍ−又はｐ−のサリチル酸、没食子酸、ナフトール等が挙げられる。
上記非置換フェノールとしては、о−、ｍ−又はｐ−のニトロフェノール、о−、ｍ−又はｐ−のアミノフェノール、ｐ−ニトロソフェノール等が挙げられる。多価フェノールとしては、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログルシン、ナフトレゾルシノール等が挙げられる。
芳香族アミン類としては、о−、ｍ−又はｐ−のフェニレンジアミン、ベンジジン等が挙げられる。
上記キノン化合物としては、о−、ｍ−又はｐ−のベンゾキノン、１，４−ナフトキノン、アリザリン等が挙げられる。
チオシアン酸塩としては、チオシアン酸アンモン（ＮＨ４ＳＣＮ）、チオシアン酸カリ（ＫＳＣＮ）、チオシアン酸ソーダ（ＮａＳＣＮ）等が挙げられる。
上記ラジカル捕捉剤としては、なかでも、芳香族ヒドロキシ化合物が好ましく、非置換フェノール又は多価フェノールがより好ましく、ハイドロキノンが更に好ましい。
【０３７５】
上記ラジカル捕捉剤の添加量は、標準比重を小さくする観点から、重合開始剤濃度の３〜５００％（モル基準）に相当する量が好ましい。より好ましい下限は５％（モル基準）であり、更に好ましくは８％（モル基準）であり、更に好ましくは１０％（モル基準）であり、更により好ましくは１３％（モル基準）又は１５％（モル基準）であり、殊更に好ましくは２０％（モル基準）であり、特に好ましくは２５％（モル基準）であり、特に好ましくは３０％（モル基準）であり、特に好ましくは３５％（モル基準）である。より好ましい上限は４００％（モル基準）であり、更に好ましくは３００％（モル基準）であり、更により好ましくは２００％（モル基準）であり、殊更に好ましくは１００％（モル基準）である。
【０３７６】
重合開始剤の分解剤としては、使用する重合開始剤を分解できる化合物であればよく、例えば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、臭素酸塩、ジイミン、ジイミン塩、シュウ酸、シュウ酸塩、銅塩、及び、鉄塩からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウムが挙げられる。銅塩としては、硫酸銅（ＩＩ）、鉄塩としては硫酸鉄（ＩＩ）が挙げられる。
上記重合開始剤の分解剤の添加量は、重合開始剤（後述するレドックス開始剤）として組み合わされる酸化剤の量に対して、２５〜３００質量％の範囲で添加する。好ましくは２５〜１５０質量％、更に好ましくは５０〜１００質量％である。
上記重合開始剤の分解剤の添加量は、標準比重を小さくする観点から、重合開始剤濃度の３〜５００％（モル基準）に相当する量が好ましい。より好ましい下限は５％（モル基準）であり、更に好ましくは８％（モル基準）であり、更に好ましくは１０％（モル基準）であり、更に好ましくは１３％（モル基準）であり、更により好ましくは１５％（モル基準）である。より好ましい上限は４００％（モル基準）であり、更に好ましくは３００％（モル基準）であり、更により好ましくは２００％（モル基準）であり、殊更に好ましくは１００％（モル基準）である。
【０３７７】
ラジカル捕捉剤及び重合開始剤の分解剤からなる群より選択される少なくとも１種は、水性媒体中に形成されるＰＴＦＥの濃度（水性媒体及びＰＴＦＥの合計に対するＰＴＦＥの濃度）が５質量％以上である時に添加することが好ましい。より好ましくは、１０質量％以上である時である。
また、水性媒体中に形成されるＰＴＦＥの濃度が４０質量％以下である時に添加することが好ましい。より好ましくは、３５質量％以下である時であり、更に好ましくは、３０質量％以下である時である。
【０３７８】
上記添加工程は、ラジカル捕捉剤及び重合開始剤の分解剤からなる群より選択される少なくとも１種を連続的に添加する工程であってもよい。
ラジカル捕捉剤及び重合開始剤の分解剤からなる群より選択される少なくとも１種を連続的に添加するとは、例えば、ラジカル捕捉剤及び重合開始剤の分解剤からなる群より選択される少なくとも１種を一括ではなく、経時的に、かつ、間断なく又は分割して、添加することである。
【０３７９】
また、上記製造方法において、上記特定の炭化水素系界面活性剤と、所望により用いるその他の界面活性能を有する化合物に加え、各化合物を安定化するため添加剤を使用することができる。上記添加剤としては、緩衝剤、ｐＨ調整剤、安定化助剤、分散安定剤などが挙げられる。
【０３８０】
安定化助剤としては、パラフィンワックス、フッ素系オイル、フッ素系溶剤、シリコーンオイルなどが好ましい。安定化助剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。安定化助剤としては、パラフィンワックスがより好ましい。パラフィンワックスとしては、室温で液体でも、半固体でも、固体であってもよいが、炭素数１２以上の飽和炭化水素が好ましい。パラフィンワックスの融点は、通常４０〜６５℃が好ましく、５０〜６５℃がより好ましい。
【０３８１】
安定化助剤の使用量は、使用する水性媒体の質量基準で０．１〜１２質量％が好ましく、０．１〜８質量％がより好ましい。安定化助剤は十分に疎水的で、ＴＦＥの乳化重合後にＰＴＦＥ水性乳化液と完全に分離されて、コンタミ成分とならないことが望ましい。
【０３８２】
上記製造方法において、乳化重合は、重合反応器に、水性媒体、上記炭化水素系界面活性剤、モノマー及び必要に応じて他の添加剤を仕込み、反応器の内容物を撹拌し、そして反応器を所定の重合温度に保持し、次に所定量の重合開始剤を加え、重合反応を開始することにより行うことができる。重合反応開始後に、目的に応じて、モノマー、重合開始剤、連鎖移動剤及び上記界面活性剤等を追加添加してもよい。上記炭化水素系界面活性剤を重合反応が開始した後に添加してもよい。また、ＴＦＥの重合を開始する前に、上述した非フルオロモノマーのみを重合させ、非フルオロモノマーの重合体を形成させた後に、ＴＦＥの重合を開始してもよい。
【０３８３】
上記乳化重合において、通常、重合温度は、５〜１２０℃であり、重合圧力は、０．０５〜１０ＭＰａＧである。重合温度、重合圧力は、使用するモノマーの種類、目的とするＰＴＦＥの分子量、反応速度によって適宜決定される。
【０３８４】
上記重合開始剤としては、上記重合温度範囲でラジカルを発生しうるものであれば特に限定されず、公知の油溶性及び／又は水溶性の重合開始剤を使用することができる。更に、還元剤等と組み合わせてレドックスとして重合を開始することもできる。上記重合開始剤の濃度は、モノマーの種類、目的とするＰＴＦＥの分子量、反応速度によって適宜決定される。
【０３８５】
上記重合開始剤としては、油溶性ラジカル重合開始剤、または水溶性ラジカル重合開始剤を使用できる。
【０３８６】
油溶性ラジカル重合開始剤としては、公知の油溶性の過酸化物であってよく、たとえばジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネートなどのジアルキルパーオキシカーボネート類、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレートなどのパーオキシエステル類、ジｔ−ブチルパーオキサイドなどのジアルキルパーオキサイド類などが、また、ジ（ω−ハイドロ−ドデカフルオロヘキサノイル）パーオキサイド、ジ（ω−ハイドロ−テトラデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイド、ジ（ω−ハイドロ−ヘキサデカフルオロノナノイル）パーオキサイド、ジ（パーフルオロブチリル）パーオキサイド、ジ（パーフルオロバレリル）パーオキサイド、ジ（パーフルオロヘキサノイル）パーオキサイド、ジ（パーフルオロヘプタノイル）パーオキサイド、ジ（パーフルオロオクタノイル）パーオキサイド、ジ（パーフルオロノナノイル）パーオキサイド、ジ（ω−クロロ−ヘキサフルオロブチリル）パーオキサイド、ジ（ω−クロロ−デカフルオロヘキサノイル）パーオキサイド、ジ（ω−クロロ−テトラデカフルオロオクタノイル）パーオキサイド、ω−ハイドロ−ドデカフルオロヘプタノイル−ω−ハイドロヘキサデカフルオロノナノイル−パーオキサイド、ω−クロロ−ヘキサフルオロブチリル−ω−クロ−デカフルオロヘキサノイル−パーオキサイド、ω−ハイドロドデカフルオロヘプタノイル−パーフルオロブチリル−パーオキサイド、ジ（ジクロロペンタフルオロブタノイル）パーオキサイド、ジ（トリクロロオクタフルオロヘキサノイル）パーオキサイド、ジ（テトラクロロウンデカフルオロオクタノイル）パーオキサイド、ジ（ペンタクロロテトラデカフルオロデカノイル）パーオキサイド、ジ（ウンデカクロロドトリアコンタフルオロドコサノイル）パーオキサイドのジ［パーフロロ（またはフルオロクロロ）アシル］パーオキサイド類などが代表的なものとしてあげられる。
【０３８７】
水溶性ラジカル重合開始剤としては、公知の水溶性過酸化物であってよく、たとえば、過硫酸、過ホウ酸、過塩素酸、過リン酸、過炭酸などのアンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、ジコハク酸パーオキシド、ジグルタル酸パーオキシド等の有機過酸化物、ｔ−ブチルパーマレエート、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイドなどがあげられる。サルファイト類、亜硫酸塩類のような還元剤も併せて含んでもよく、その使用量は過酸化物に対して０．１〜２０倍であってよい。
【０３８８】
例えば、３０℃以下の低温で重合を実施する場合等では、重合開始剤として、酸化剤と還元剤を組み合わせるレドックス開始剤を用いるのが好ましい。酸化剤としては、過硫酸塩、有機過酸化物、過マンガン酸カリウム、三酢酸マンガン、セリウム硝酸アンモニウム、臭素酸塩等が挙げられる。還元剤としては、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、臭素酸塩、ジイミン、シュウ酸等が挙げられる。過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが挙げられる。亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウムが挙げられる。開始剤の分解速度を上げるため、レドックス開始剤の組み合わせには、銅塩、鉄塩を加えることも好ましい。銅塩としては、硫酸銅（ＩＩ）、鉄塩としては硫酸鉄（ＩＩ）が挙げられる。
【０３８９】
上記レドックス開始剤としては、例えば、過マンガン酸カリウム／シュウ酸、過硫酸アンモニウム／重亜硫酸塩／硫酸鉄（ＩＩ）、過硫酸アンモニウム／亜硫酸塩／硫酸鉄（ＩＩ）、過硫酸アンモニウム／亜硫酸塩、過硫酸アンモニウム／硫酸鉄（ＩＩ）、三酢酸マンガン／シュウ酸、セリウム硝酸アンモニウム／シュウ酸、臭素酸塩／亜硫酸塩、臭素酸塩／重亜硫酸塩等が挙げられ、過マンガン酸カリウム／シュウ酸、過硫酸アンモニウム／亜硫酸塩／硫酸鉄（ＩＩ）が好ましい。レドックス開始剤を用いる場合は、酸化剤又は還元剤のいずれかをあらかじめ重合槽に仕込み、ついでもう一方を連続的又は断続的に加えて重合を開始させてもよい。例えば、過マンガン酸カリウム／シュウ酸を用いる場合、重合槽にシュウ酸を仕込み、そこへ過マンガン酸カリウムを連続的に添加することが好ましい。
【０３９０】
重合開始剤の添加量は、特に限定はないが、重合速度が著しく低下しない程度の量（たとえば、数ｐｐｍ対水濃度）以上を重合の初期に一括して、または逐次的に、または連続して添加すればよい。上限は、装置面から重合反応熱で除熱を行いながら、反応温度を上昇させてもよい範囲であり、より好ましい上限は、装置面から重合反応熱を除熱できる範囲である。より具体的には、例えば、水性媒体に対して１ｐｐｍ以上が好ましく、１０ｐｐｍ以上がより好ましく、５０ｐｐｍ以上が更に好ましい。また、１０００００ｐｐｍ以下が好ましく、１００００ｐｐｍ以下がより好ましく、５０００ｐｐｍ以下が更に好ましい。
【０３９１】
上記水性媒体は、重合を行わせる反応媒体であって、水を含む液体を意味する。上記水性媒体は、水を含むものであれば特に限定されず、水と、例えば、アルコール、エーテル、ケトン等のフッ素非含有有機溶媒、及び／又は、沸点が４０℃以下であるフッ素含有有機溶媒とを含むものであってもよい。
【０３９２】
上記乳化重合において、更に、目的に応じて、公知の連鎖移動剤を添加し、重合速度、分子量の調整を行うこともできる。
【０３９３】
上記連鎖移動剤としては、たとえばマロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、コハク酸ジメチルなどのエステル類のほか、イソペンタン、メタン、エタン、プロパン、イソブタン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、各種メルカプタン、四塩化炭素などの各種ハロゲン化炭化水素、シクロヘキサンなどがあげられる。
【０３９４】
連鎖移動剤として臭素化合物又はヨウ素化合物を使用してもよい。臭素化合物又はヨウ素化合物を使用して行う重合方法としては、たとえば、実質的に無酸素状態で、臭素化合物又はヨウ素化合物の存在下に、水性媒体中でフルオロモノマーの重合を行う方法があげられる（ヨウ素移動重合法）。使用する臭素化合物又はヨウ素化合物の代表例としては、たとえば、一般式：
ＲａＩｘＢｒｙ
（式中、ｘおよびｙはそれぞれ０〜２の整数であり、かつ１≦ｘ＋ｙ≦２を満たすものであり、Ｒａは炭素数１〜１６の飽和もしくは不飽和のフルオロ炭化水素基またはクロロフルオロ炭化水素基、または炭素数１〜３の炭化水素基であり、酸素原子を含んでいてもよい）で表される化合物があげられる。臭素化合物又はヨウ素化合物を使用することによって、ヨウ素または臭素が重合体に導入され、架橋点として機能する。
【０３９５】
臭素化合物又はヨウ素化合物としては、たとえば１，３−ジヨードパーフルオロプロパン、２−ヨードパーフルオロプロパン、１，３−ジヨード−２−クロロパーフルオロプロパン、１，４−ジヨードパーフルオロブタン、１，５−ジヨード−２，４−ジクロロパーフルオロペンタン、１，６−ジヨードパーフルオロヘキサン、１，８−ジヨードパーフルオロオクタン、１，１２−ジヨードパーフルオロドデカン、１，１６−ジヨードパーフルオロヘキサデカン、ジヨードメタン、１，２−ジヨードエタン、１，３−ジヨード−ｎ−プロパン、ＣＦ２Ｂｒ２、ＢｒＣＦ２ＣＦ２Ｂｒ、ＣＦ３ＣＦＢｒＣＦ２Ｂｒ、ＣＦＣｌＢｒ２、ＢｒＣＦ２ＣＦＣｌＢｒ、ＣＦＢｒＣｌＣＦＣｌＢｒ、ＢｒＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｂｒ、ＢｒＣＦ２ＣＦＢｒＯＣＦ３、１−ブロモ−２−ヨードパーフルオロエタン、１−ブロモ−３−ヨードパーフルオロプロパン、１−ブロモ−４−ヨードパーフルオロブタン、２−ブロモ−３−ヨードパーフルオロブタン、３−ブロモ−４−ヨードパーフルオロブテン−１、２−ブロモ−４−ヨードパーフルオロブテン−１、ベンゼンのモノヨードモノブロモ置換体、ジヨードモノブロモ置換体、ならびに（２−ヨードエチル）および（２−ブロモエチル）置換体などがあげられ、これらの化合物は、単独で使用してもよく、相互に組み合わせて使用することもできる。
【０３９６】
これらのなかでも、重合反応性、架橋反応性、入手容易性などの点から、１，４−ジヨードパーフルオロブタン、１，６−ジヨードパーフルオロヘキサン、２−ヨードパーフルオロプロパンを用いるのが好ましい。
【０３９７】
上記連鎖移動剤の使用量は、通常、供給されるフルオロモノマー全量に対して、１〜５０，０００ｐｐｍであり、好ましくは１〜２０，０００ｐｐｍである。
【０３９８】
上記連鎖移動剤は、重合開始前に一括して反応容器中に添加してもよいし、重合開始後に一括して添加してもよいし、重合中に複数回に分割して添加してもよいし、また、重合中に連続的に添加してもよい。
【０３９９】
上記製造方法によりＰＴＦＥ水性分散液を得ることができる。上記ＰＴＦＥ水性分散液は、通常、上記ＰＴＦＥと水性媒体とを含む。ＰＴＦＥ水性分散液の固形分濃度は限定されないが、例えば、１．０〜７０質量％であってよい。上記固形分濃度は、８．０質量％以上が好ましく、１０．０質量％以上がより好ましく、また、６０．０質量％以下が好ましく、５０．０質量％以下がより好ましい。
上記製造方法において、付着量は、最終的に得られたＰＴＦＥに対して、３．０質量％以下が好ましく、２．０質量％以下がより好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．８質量％以下が更に好ましく、０．７質量％以下が更により好ましく、０．６質量％以下が特に好ましい。
【０４００】
ＰＴＦＥ水性分散液の一態様においては、含フッ素界面活性剤を含有する。含フッ素界面活性剤を用いることによって、ＰＴＦＥ水性分散液の優れた分散安定性を維持したまま、ＰＴＦＥ水性分散液の粘度を適切に調整したり、顔料、フィラーなどの混和性を向上させたりすることができる。
【０４０１】
上記ＰＴＦＥ水性分散液は、含フッ素界面活性剤を実質的に含まないことが好ましい。本明細書において、「含フッ素界面活性剤を実質的に含まない」とは、ポリテトラフルオロエチレンに対して含フッ素界面活性剤が１０ｐｐｍ以下であることを意味する。含フッ素界面活性剤の含有量は、好ましくは１ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１０ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、液体クロマトグラフィー−質量分析法（ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ）による測定による、含フッ素界面活性剤が検出限界以下である。
上記含フッ素界面活性剤量は、公知な方法で定量できる。例えば、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析にて定量することが出来る。まず、得られた水性分散液をメタノールの有機溶剤に抽出し、抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる界面活性剤の構造式との一致を確認する。
その後、確認された界面活性剤を５水準以上の濃度の水溶液を作成し、それぞれの濃度のＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行ない、エリア面積との検量線を作成する。
得られた水性分散液をメタノールにてソックスレー抽出を行ない、抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行なうことで定量測定することが出来る。
【０４０２】
すなわち、含フッ素界面活性剤の含有量は、たとえば、ＰＴＦＥ水性分散液にメタノールを加え、抽出を行ない、得られた抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析することにより測定できる。
さらに抽出効率を高めるために、ソックスレー抽出、超音波処理等による処理を行ってもよい。
得られたＬＣ／ＭＳ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる含フッ素界面活性剤の構造式との一致を確認する。
その後、確認された含フッ素界面活性剤の５水準以上の含有量の水溶液を作製し、それぞれの含有量の水溶液のＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行ない、含有量と、その含有量に対するエリア面積と関係をプロットし、検量線を描く。
そして、検量線を用いて、抽出液中の含フッ素界面活性剤のＬＣ／ＭＳ／ＭＳクロマトグラムのエリア面積を、含フッ素界面活性剤の含有量に換算することができる。
【０４０３】
上記含フッ素界面活性剤としては、上述した本開示の製造方法において例示したものと同じである。例えば、アニオン性基を除く部分の総炭素数が２０以下のフッ素原子を含む界面活性剤であってよく、アニオン性部分の分子量が１０００以下、より好ましくは８００以下、さらに好ましくは６００以下のフッ素を含む界面活性剤であってよく、ＬｏｇＰＯＷが３．５以下の含フッ素界面活性剤であってよい。
上記含フッ素界面活性剤としては、上記一般式（Ｎ０）で表される化合物が挙げられ、具体的には、一般式（Ｎ１）で表される化合物、一般式（Ｎ２）で表される化合物、一般式（Ｎ３）で表される化合物、一般式（Ｎ４）で表される化合物、及び、一般式（Ｎ５）で表される化合物が挙げられる。より具体的には、一般式（Ｉ）で表されるパーフルオロカルボン酸（Ｉ）、一般式（ＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）、一般式（ＩＩＩ）で表されるパーフルオロポリエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）、一般式（Ｖ）で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）、一般式（ＶＩ）で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）、一般式（ＶＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）、一般式（ＶＩＩＩ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）、一般式（ＩＸ）で表されるアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）、一般式（Ｘ）で表されるフルオロカルボン酸（Ｘ）、一般式（ＸＩ）で表されるアルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩ）、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩＩ）が挙げられる。
【０４０４】
上記重合工程は、更に核形成剤の存在下に、テトラフルオロエチレンを重合するものであってもよい。
【０４０５】
上記核形成剤としては、例えば、フルオロポリエーテル、非イオン性界面活性剤、及び、連鎖移動剤からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
この場合、上記重合工程は、炭化水素系界面活性剤及び上記核形成剤の存在下に、水性媒体中でテトラフルオロエチレンを重合することによりＰＴＦＥを得る工程であることが好ましい。
【０４０６】
上記フルオロポリエーテルは、それ自体が重合場を提供し、核形成部位となることができる。
【０４０７】
上記フルオロポリエーテルとしては、パーフルオロポリエーテルが好ましい。
【０４０８】
上記フルオロポリエーテルは、式（１ａ）〜（１ｄ）で表される繰り返し単位を有するものであることが好ましい。
（−ＣＦＣＦ３−ＣＦ２−Ｏ−）ｎ        （１ａ）
（−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ−）ｎ        （１ｂ）
（−ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ−）ｎ−（−ＣＦ２−Ｏ−）ｍ        （１ｃ）
（−ＣＦ２−ＣＦＣＦ３−Ｏ−）ｎ−（−ＣＦ２−Ｏ−）ｍ        （１ｄ）
（式（１ａ）〜（１ｄ）中、ｍ及びｎは１以上の整数である。）
【０４０９】
上記フルオロポリエーテルとしては、フルオロポリエーテル酸又はその塩が好ましく、上記フルオロポリエーテル酸は、カルボン酸、スルホン酸、スルホンアミド、又は、ホスホン酸であることが好ましく、カルボン酸であることがより好ましい。フルオロポリエーテル酸又はその塩のなかでも、フルオロポリエーテル酸の塩が好ましく、フルオロポリエーテル酸のアンモニウム塩がより好ましく、フルオロポリエーテルカルボン酸のアンモニウム塩が更に好ましい。
【０４１０】
上記フルオロポリエーテル酸又はその塩は、分子の主鎖中の酸素原子が、１〜３個の炭素原子を有する飽和フルオロカーボン基により分離されているいずれかの鎖構造を有することが可能である。２種以上のタイプのフルオロカーボン基が分子中に存在し得る。
【０４１１】
上記フルオロポリエーテル酸又はその塩としては、下記式：
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ（−ＣＦＣＦ３−ＣＦ２−Ｏ−）ｎＣＦＣＦ３−ＣＯＯＨ、ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ（−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ−）ｎ−ＣＦ２−ＣＦ２ＣＯＯＨ、又は、
ＨＯＯＣ−ＣＦ２−Ｏ（−ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ−）ｎ−（−ＣＦ２−Ｏ−）ｍＣＦ２ＣＯＯＨ
（式中、ｍ及びｎは前記と同じ。）
で表わされる化合物又はそれらの塩であることが好ましい。
【０４１２】
これらの構造は、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．、５７、７９７（１９９５年）においてＫａｓａｉにより検討されている。ここに開示されているとおり、このようなフルオロポリエーテルは、一端または両端に、カルボン酸基またはその塩を有することが可能である。同様に、このようなフルオロポリエーテルは、一端または両端に、スルホン酸またはホスホン酸基またはその塩を有し得る。加えて、両端に酸官能基を有するフルオロポリエーテルは、異なる基を各端部に有し得る。単官能性フルオロポリエーテルについて、分子の他端は通常は過フッ素化されているが、水素または塩素原子を含有していてもよい。
【０４１３】
一端または両端に酸基を有するフルオロポリエーテルは、少なくとも２つのエーテル酸素、好ましくは少なくとも４つのエーテル酸素、およびさらにより好ましくは少なくとも６つのエーテル酸素を有する。好ましくは、エーテル酸素を分離するフルオロカーボン基の少なくとも１つ、より好ましくはこのようなフルオロカーボン基の少なくとも２つは、２または３個の炭素原子を有する。さらにより好ましくは、エーテル酸素を分離するフルオロカーボン基の少なくとも５０％が２または３個の炭素原子を有する。また、好ましくは、フルオロポリエーテルは合計で少なくとも１５個の炭素原子を有し、例えば、上記の繰り返し単位構造中のｎまたはｎ＋ｍの好ましい最小値は、少なくとも５である。酸基を一端または両端に有する２種以上のフルオロポリエーテルを、本開示による方法において用いることが可能である。典型的には、単一種の特定のフルオロポリエーテル化合物の製造において特別な注意が払われない限り、フルオロポリエーテルは、平均分子量に対する分子量範囲内の様々な割合で複数種の化合物を含有し得る。
【０４１４】
上記フルオロポリエーテルは、数平均分子量が８００ｇ／ｍｏｌ以上であることが好ましい。フルオロポリエーテル酸又はその塩は、水性媒体中への分散が困難であるおそれがあることから、数平均分子量が６０００ｇ／ｍｏｌ未満であることが好ましい。フルオロポリエーテル酸又はその塩は、数平均分子量が８００〜３５００ｇ／ｍｏｌであることがより好ましく、１０００〜２５００ｇ／ｍｏｌであることが更に好ましい。
【０４１５】
上記フルオロポリエーテルの量は、水性媒体に対して５〜３０００ｐｐｍであることが好ましく、５〜２０００ｐｐｍであることがより好ましく、さらに好ましい下限は１０ｐｐｍ、さらに好ましい上限は、１００ｐｐｍである。
【０４１６】
上記非イオン性界面活性剤は、それ自体が重合場を提供し、更に、初期にラジカルを連鎖移動することによって、多くの低分子量フルオロポリマーを与えることにより核形成部位となることができる。
【０４１７】
上記核形成剤としての非イオン性界面活性剤としては、上述した非イオン性界面活性剤が挙げられ、フッ素を含有しない非イオン性界面活性剤であることが好ましい。例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテル等のエーテル型非イオン性界面活性剤；エチレンオキサイド／プロピレンオキサイドブロック共重合体等のポリオキシエチレン誘導体；ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等のエステル型非イオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド等のアミン系非イオン性界面活性剤；等が挙げられる。
【０４１８】
上記非イオン性界面活性剤において、その疎水基は、アルキルフェノール基、直鎖アルキル基及び分岐アルキル基の何れであってもよい。
【０４１９】
上記非イオン性界面活性剤としては、例えば、下記一般式（ｉ）
Ｒ３−Ｏ−Ａ１−Ｈ        （ｉ）
（式中、Ｒ３は、炭素数８〜１８の直鎖状若しくは分岐鎖状の１級又は２級アルキル基であり、Ａ１は、ポリオキシアルキレン鎖である。）により表される化合物が挙げられる。
Ｒ３の炭素数は１０〜１６が好ましく、１２〜１６がより好ましい。Ｒ３の炭素数が１８以下であると水性分散液の良好な分散安定性が得られやすい。またＲ３の炭素数が１８を超えると流動温度が高いため取扱い難い。Ｒ３の炭素数が８より小さいと水性分散液の表面張力が高くなり、浸透性やぬれ性が低下しやすい。
【０４２０】
ポリオキシアルキレン鎖はオキシエチレンとオキシプロピレンとからなるものであってもよい。オキシエチレン基の平均繰り返し数５〜２０およびオキシプロピレン基の平均繰り返し数０〜２からなるポリオキシアルキレン鎖であり、親水基である。オキシエチレン単位数は、通常提供される広いまたは狭い単峰性分布、またはブレンドすることによって得られるより広いまたは二峰性分布のいずれかを含み得る。オキシプロピレン基の平均繰り返し数が０超の場合、ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシエチレン基とオキシプロピレン基はブロック状に配列しても、ランダム状に配列してもよい。
水性分散液の粘度および安定性の点からは、オキシエチレン基の平均繰り返し数７〜１２およびオキシプロピレン基の平均繰り返し数０〜２より構成されるポリオキシアルキレン鎖が好ましい。特にＡ１がオキシプロピレン基を平均して０．５〜１．５有すると低起泡性が良好であり好ましい。
【０４２１】
より好ましくは、Ｒ３は、（Ｒ’）（Ｒ’’）ＨＣ−であり、ここで、Ｒ’及びＲ’’は、同じか又は異なる直鎖、分岐鎖、又は環式のアルキル基であり、炭素原子の合計量は、少なくとも５個、好ましくは７〜１７個である。好ましくは、Ｒ’またはＲ’’のうちの少なくとも一つは、分岐状または環状炭化水素基である。
【０４２２】
上記非イオン性界面活性剤の具体例としては、Ｃ１３Ｈ２７−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）１０−Ｈ、Ｃ１２Ｈ２５−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）１０−Ｈ、Ｃ１０Ｈ２１ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）９−Ｈ、Ｃ１３Ｈ２７−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）９−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）−Ｈ、Ｃ１６Ｈ３３−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）１０−Ｈ、ＨＣ（Ｃ５Ｈ１１）（Ｃ７Ｈ１５）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）９−Ｈ等が挙げられる。
【０４２３】
上記非イオン性界面活性剤の市販品としては、例えば、Ｇｅｎａｐｏｌ  Ｘ０８０（製品名、クラリアント社製）、ノイゲンＴＤＳ−８０（商品名）を例とするノイゲンＴＤＳシリーズ（第一工業製薬社製）、レオコールＴＤ−９０（商品名）を例とするレオコールＴＤシリーズ（ライオン社製）、ライオノール（登録商標）ＴＤシリーズ（ライオン社製）、Ｔ−Ｄｅｔ  Ａ１３８（商品名）を例とするＴ−Ｄｅｔ  Ａシリーズ（Ｈａｒｃｒｏｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）、タージトール（登録商標）１５Ｓシリーズ（ダウ・ケミカル社製）等が挙げられる。
【０４２４】
上記非イオン性界面活性剤は、平均約４〜約１８個のエチレンオキシド単位を有する２，６，８−トリメチル−４−ノナノールのエトキシレート、平均約６〜約１２個のエチレンオキシド単位を有する２，６，８−トリメチル−４−ノナノールのエトキシレート、またはその混合物であることも好ましい。この種類の非イオン性界面活性剤は、例えば、ＴＥＲＧＩＴＯＬ  ＴＭＮ−６、ＴＥＲＧＩＴＯＬ  ＴＭＮ−１０、及びＴＥＲＧＩＴＯＬ  ＴＭＮ−１００Ｘ（いずれも製品名、ダウ・ケミカル社製）としても市販されている。
【０４２５】
また、非イオン性界面活性剤の疎水基は、アルキルフェノール基、直鎖アルキル基及び分岐アルキル基の何れかであってもよい。
例えば、非イオン性界面活性剤としては、下記一般式（ｉｉ）
Ｒ４−Ｃ６Ｈ４−Ｏ−Ａ２−Ｈ        （ｉｉ）
（式中、Ｒ４は、炭素数４〜１２の直鎖状又は分岐鎖状の１級若しくは２級のアルキル基であり、Ａ２は、ポリオキシアルキレン鎖である。）で示されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系非イオン性化合物が挙げられる。上記ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系非イオン性化合物として具体的には、トライトンＸ−１００（商品名、ダウ・ケミカル社製）等が挙げられる。
【０４２６】
上記非イオン性界面活性剤としてはポリオール化合物も挙げられる。具体的には、国際公開第２０１１／０１４７１５号に記載されたもの等が挙げられる。
ポリオール化合物の典型例としては、ポリオール単位として１個以上の糖単位を有する化合物が挙げられる。糖単位は、少なくとも１個の長鎖を含有するように変性されてもよい。少なくとも１つの長鎖部分を含有する好適なポリオール化合物としては、例えば、アルキルグリコシド、変性アルキルグリコシド、糖エステル、及びこれらの組み合わせが挙げられる。糖としては、単糖、オリゴ糖、及びソルビタンが挙げられるが、これらに限定されない。単糖としては、五炭糖及び六炭糖が挙げられる。単糖の典型例としては、リボース、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、アラビノース、キシロースが挙げられる。オリゴ糖としては、２〜１０個の同一又は異なる単糖のオリゴマーが挙げられる。オリゴ糖の例としては、サッカロース、マルトース、ラクトース、ラフィノース、及びイソマルトースが挙げられるが、これらに限定されない。
【０４２７】
典型的に、ポリオール化合物として使用するのに好適な糖としては、４個の炭素原子と１個のヘテロ原子（典型的に、酸素又は硫黄であるが、好ましくは酸素原子）との五員環を含有する環状化合物、又は５個の炭素原子と上述のような１個のヘテロ原子、好ましくは酸素原子との六員環を含有する環状化合物が挙げられる。これらは、炭素環原子に結合している少なくとも２個の又は少なくとも３個のヒドロキシ基（−ＯＨ基）を更に含有する。典型的に、糖は、エーテル又はエステル結合が長鎖残基と糖部分との間に作製されるように、炭素環原子に結合しているヒドロキシ基（及び／又はヒドロキシアルキル基）の水素原子のうちの１個以上が、長鎖残基によって置換されているという点で変性されている。
糖系ポリオールは、１個の糖単位又は複数の糖単位を含有してもよい。１個の糖単位又は複数の糖単位は、上述のような長鎖部分で変性されてもよい。糖系ポリオール化合物の特定の例としては、グリコシド、糖エステル、ソルビタンエステル、並びにこれらの混合物及び組み合わせが挙げられる。
【０４２８】
ポリオール化合物の好ましい種類は、アルキル又は変性アルキルグルコシドである。これらの種類の界面活性剤は、少なくとも１個のグルコース部分を含有する。
【化４１】
2020162623.tif 000042
（式中、ｘは、０、１、２、３、４、又は５を表し、Ｒ１及びＲ２は、独立して、Ｈ又は少なくとも６個の炭素原子を含有する長鎖単位を表すが、但しＲ１及びＲ２のうちの少なくとも１個はＨではない）によって表される化合物が挙げられる。Ｒ１及びＲ２の典型例としては、脂肪族アルコール残基が挙げられる。脂肪族アルコールの例としては、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール（ラウリルアルコール）、テトラデカノール、ヘキサデカノール（セチルアルコール）、ヘプタデカノール、オクタデカノール（ステアリルアルコール）、エイコサン酸、及びこれらの組み合わせ挙げられる。
上記の式は、ピラノース形態のグルコースを示すアルキルポリグルコシドの特定の例を表すが、他の糖又は同じ糖であるが異なる鏡像異性体又はジアステレオマー形態である糖を用いてもよいことが理解される。
アルキルグルコシドは、例えば、グルコース、デンプン、又はｎ−ブチルグルコシドと脂肪族アルコールとの酸触媒反応によって入手可能であり、これからは、典型例に、様々なアルキルグルコシドの混合物が得られる（Ａｌｋｙｌｐｏｌｙｇｙｌｃｏｓｉｄｅ，Ｒｏｍｐｐ，Ｌｅｘｉｋｏｎ  Ｃｈｅｍｉｅ，Ｖｅｒｓｉｏｎ  ２．０，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ，１９９９）。脂肪族アルコールの例としては、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール（ラウリルアルコール）、テトラデカノール、ヘキサデカノール（セチルアルコール）、ヘプタデカノール、オクタデカノール（ステアリルアルコール）、エイコサン酸、及びこれらの組み合わせ挙げられる。また、アルキルグルコシドは、Ｃｏｇｎｉｓ  ＧｍｂＨ，Ｄｕｓｓｅｌｄｏｒｆ，Ｇｅｒｍａｎｙから商品名ＧＬＵＣＯＰＯＮ又はＤＩＳＰＯＮＩＬとして市販されている。
【０４２９】
その他の非イオン性界面活性剤として、ＢＡＳＦ社からＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｒシリーズとして供給される二官能基ブロックコポリマー、ＢＡＳＦ社からＩｃｏｎｏｌ（登録商標）ＴＤＡシリーズとして供給されるトリデシルアルコールアルコキシレートが挙げられる。
【０４３０】
非イオン性界面活性剤としては、一般式（ｉ）で表される非イオン性界面活性剤、及び、一般式（ｉｉ）で表される非イオン性界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、一般式（ｉ）で表される非イオン性界面活性剤がより好ましい。
【０４３１】
上記非イオン性界面活性剤としては、好ましくは芳香族部分を含まないものである。
【０４３２】
上記非イオン性界面活性剤の量は、水性媒体に対して０．１〜０．００００００１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．０００００１質量％であることがより好ましい。
【０４３３】
連鎖移動剤は、初期にラジカルを連鎖移動することによって、多くの低分子量フルオロポリマーを与えることにより核形成部位となることができる。
【０４３４】
連鎖移動剤としては、上述したものが挙げられる。
【０４３５】
上記連鎖移動剤の量は、水性媒体に対して０．００１〜１００００ｐｐｍが好ましい。上記連鎖移動剤の量は、水性媒体に対して０．０１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５ｐｐｍ以上が更に好ましく、０．１ｐｐｍ以上が特に好ましい。また、水性媒体に対して１０００ｐｐｍ以下がより好ましく、５００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１００ｐｐｍ以下が特に好ましい。
【０４３６】
上記重合工程においては、重合反応を開始する前に、または、重合反応が進行して水性分散液中のＰＴＦＥの濃度が５．０質量％に達する前に、核形成剤を水性媒体中に添加することが好ましい。重合初期に核形成剤を添加することによって、重合時に一層多くの粒子を発生させることができ、さらには、平均一次粒子径およびアスペクト比がより一層小さい一次粒子が得られる。すなわち、核形成剤は、重合開始前に添加してもよいし、重合開始と同時に添加してもよいし、重合を開始した後、ＰＴＦＥ粒子の核が形成される期間に添加してもよい。
【０４３７】
核形成剤を添加する時機は、重合開始前、または、重合反応が進行して水性分散液中のＰＴＦＥの濃度が５．０質量％に達する前であり、好ましくは重合開始前またはＰＴＦＥの濃度が３．０質量％に達する前であり、より好ましくは重合開始前またはＰＴＦＥの濃度が１．０質量％に達する前であり、さらに好ましくは重合開始前またはＰＴＦＥの濃度が０．５質量％に達する前であり、特に好ましくは重合開始前または重合開始と同時である。
【０４３８】
添加する核形成剤の量は、重合時に一層多くの粒子を発生させることができ、さらには、平均一次粒子径がより一層小さい一次粒子が得られることから、得られるＰＴＦＥに対して、好ましくは０．００１〜５０００ｐｐｍである。核形成剤の量の下限としては、好ましい順に、０．０１ｐｐｍ、０．０５ｐｐｍ、０．１ｐｐｍである。核形成剤の量の上限としては、好ましい順に、２０００ｐｐｍ、１０００ｐｐｍ、５００ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、５０ｐｐｍ、１０ｐｐｍである。
【０４３９】
上記のＰＴＦＥから一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程において、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、熱処理、フッ素化処理、水又は有機溶媒による洗浄等が挙げられる。一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、フッ素化処理が好ましい。
上記有機溶媒としては、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ニトリル、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド、アルコール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等が挙げられる。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドン、１，３―ジメチル−２−イミダゾリジノン等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記有機溶媒を組み合わせて使用してもよい。
【０４４０】
上記熱処理の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。熱処理の温度は、１５０℃以上であることが好ましい。また、一般式（１）又は（２）で示される化合物の除去又は低減の観点から、熱処理の温度は、１６０℃以上がより好ましい。すなわち、上記除去工程は、ＰＴＦＥを１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含むことが好ましい。
熱処理の温度は、１７０℃以上がより好ましく、１８０℃以上が更に好ましく、２００℃以上が更により好ましく、２１０℃以上が殊更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。
また、熱処理の温度は、３１０℃以下が好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましい。上記熱処理は、水分の乾燥を伴うものであってもよい。
すなわち、上記熱処理は、重合上がりのＰＴＦＥ水性分散液を凝析することによって得られた水分を含む湿潤ＰＴＦＥを乾燥するものであってもよい。乾燥時に一般式（１）又は（２）で示される化合物や、後述する一般式（７）で示される化合物が低減される。
また、乾燥後の水分を含まないＰＴＦＥを、再度熱処理することが好ましい。具体的には、上記湿潤ＰＴＦＥを乾燥して水分除去し、その後、連続的にさらに上記温度領域まで温度を上げて、熱処理を行ってもよい。この場合、上記乾燥は、上記した各温度範囲未満で行ってよく、例えば、１５０℃未満で行ってもよい。
上記除去工程は、ＰＴＦＥ水性分散液を凝析し、水分を含む湿潤ＰＴＦＥを得る工程を含んでもよい。
【０４４１】
上記フッ素化処理の方法としては従来公知の方法を採用することができる。例えば、上記ＰＴＦＥをフッ素化処理条件下にてフッ素ラジカルを発生するフッ素ラジカル源にさらす方法が挙げられる。フッ素ラジカル源としてはフッ素ガスの他に、ＣｏＦ３、ＡｇＦ２、ＵＦ６、ＯＦ２、Ｎ２Ｆ２、ＣＦ３ＯＦ、フッ化ハロゲン（例えばＩＦ、ＩＦ３、ＩＦ５、ＩＦ７等のＩＦｎ（ｎは１〜７）；ＣｌＦ、ＣｌＦ３、ＢｒＦ３等）、希ガスのフッ化物（ＸｅＦ２、ＸｅＦ４  、ＫｒＦ２  等）、及び、含窒素フッ素化合物（例えばＮＦ３、ＮＦ２等）などが挙げられる。なかでも、取扱い性、価格の点や、高効率で一般式（１）及び（２）で示される化合物を除去できる点、ヨウ素等の新たな不純物を与えにくい点から、フッ素ガスが最も好ましい。
フッ素ラジカル源との反応はきわめて発熱性であるため、フッ素ラジカル源を窒素などの不活性ガスで希釈してもよい。
フッ素ラジカル源／不活性ガス混合物中のフッ素ラジカル源のレベルは１〜１００体積％であり得るが、純粋なフッ素を伴う作業は危険性が高いために約５〜約２５体積％であることが好ましい。熱誘起変色が激しいＰＴＦＥについては、ＰＴＦＥの過熱、及び、これに付随する火災の危険性を予防するために、フッ素ラジカル源／不活性ガス混合物は十分に希釈してもよい。
【０４４２】
上記フッ素化処理の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。フッ素化処理の温度は、１００℃超が好ましい。フッ素化処理の温度は１１０℃以上がより好ましく、１２０℃以上が更に好ましく、１３０℃以上が更により好ましく、１５０℃以上が殊更に好ましい。また、１７０℃以上が特に好ましく、１８０℃以上が更に好ましく、２００℃以上が更により好ましく、２１０℃以上が殊更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。また、フッ素化処理の温度は３１０℃以下であることが好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましく、２５０℃以下が特に好ましく、２４０℃以下が最も好ましい。温度が低過ぎると、後述する一般式（７）で示される化合物が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂを超えて残存するおそれがある。温度が高過ぎると、ＰＴＦＥ同士の摩擦により、小さな剪断力でも簡単にフィブリル化して元の粒子構造の状態を失いやすく、ペースト押出性能の低下をもたらすおそれがある。
フッ素化処理の温度は、１１０〜２７０℃が好ましく、１２０〜２７０℃がより好ましく、１５０〜２７０℃が更に好ましく、２００〜２７０℃が特に好ましい。
【０４４３】
上記フッ素化処理において、フッ素ラジカル源の添加量は、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し、０．５重量部以上が好ましい。より好ましくは、０．８重量部以上であり、更に好ましくは１．０重量部以上であり、より好ましくは１．６重量部以上であり、更に好ましくは２．０重量部以上であり、更により好ましくは、２．５重量部以上であり、殊更に好ましくは、３．０重量部以上であり、特に好ましくは５．０重量部以上である。また、フッ素ラジカル源の添加量は、３５．０重量部以下であることが好ましく、２６．０重量部以下であることがより好ましく、２０．０重量部以下であることが更に好ましく、１５．０重量部以下であることが特に好ましい。フッ素ラジカル源の添加量が少な過ぎると、一般式（１）又は（２）で示される化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。また、同定できない化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。フッ素ラジカル源の添加量が多過ぎてもフッ素化の効果は向上せず、不経済となるおそれがある。
【０４４４】
フッ素化処理の温度と、フッ素ラジカル源の添加量の好適な組合せとしては、熱処理の温度が１００℃超、かつ、フッ素ラジカル源の添加量が、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し０．５重量部以上である。
上記組合せとしては、１００℃超かつ１．０重量部以上が好ましく、１００℃超かつ１．６重量部以上がより好ましく、１００℃超かつ２．０重量部以上が更に好ましく、１００℃超かつ２．５重量部以上が更により好ましく、１００℃超かつ３．０重量部以上が殊更に好ましく、１００℃超かつ５．０重量部以上が特に好ましい。
また、１１０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１１０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１１０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１１０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１１０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１１０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１１０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１２０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１２０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１２０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１２０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１２０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１２０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１２０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１３０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１３０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１３０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１３０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１３０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１３０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１３０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１５０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１５０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１５０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１５０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１５０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１５０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１５０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１７０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１７０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１７０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１７０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１７０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１７０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１７０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１８０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１８０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１８０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１８０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１８０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１８０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１８０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２００℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２００℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２００℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２００℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２００℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２００℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２００℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２１０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２１０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２１０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２１０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２１０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２１０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２１０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２２０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２２０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２２０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２２０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２２０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２２０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２２０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２３０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２３０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２３０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２３０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２３０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２３０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２３０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
上記組合せにおける熱処理温度は、３１０℃以下であることが好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましく、２５０℃以下が特に好ましく、２４０℃以下が最も好ましい。上記組合せにおけるフッ素ラジカル源の添加量は、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し、３５．０重量部以下であることが好ましく、２６．０重量部以下であることがより好ましく、２０．０重量部以下であることが更に好ましく、１５．０重量部以下であることが特に好ましい。
また、熱処理温度とフッ素ラジカル源の上限の組合せとしては、２４０℃以下かつ３５．０重量部以下であることが好ましく、２４０℃以下かつ２６．０重量部以下であることがより好ましく、２４０℃以下かつ２０．０重量部以下であることが更に好ましく、２４０℃以下かつ１５．０重量部以下であることが特に好ましい。
【０４４５】
ＰＴＦＥ１００重量部に対するフッ素ラジカル源添加量（重量部）は次式に従い算出した。
Ａ＝（Ｂ／Ｆ）×１００
Ｂ＝Ｃ×Ｄ×Ｅ
Ｃ＝｛Ｐ／（ＲＴ×１０００）｝×Ｇ×Ｈ
Ａ：ＰＴＦＥ１００重量部に対するフッ素ラジカル源添加量（重量部）
Ｂ：全フッ素ラジカル源添加量（ｇ）
Ｃ：混合ガス中のフッ素ラジカル源濃度（ｇ／ｍＬ）
Ｄ：混合ガス流通速度（ｍＬ／ｍｉｎ）
Ｅ：フッ素化処理時間（ｍｉｎ）
Ｆ：サンプル（ＰＴＦＥ）充填量（ｇ）
Ｇ：フッ素ラジカル源の分子量（ｇ／ｍｏｌ）
Ｈ：混合ガス中のフッ素ラジカル源の比率
上記式中、Ｐ、Ｒ、Ｔは以下を使用する。
Ｐ＝圧力（ａｔｍ）
Ｒ＝０．０８２（ａｔｍ・Ｌ／Ｋ・ｍｏｌ）
Ｔ＝温度（Ｋ）
【０４４６】
フッ素化処理に使用する反応装置としては、加熱装置を備え、固―気接触を充分に行なうことができる装置であれば問題なく使用できる。具体的には流動床型、棚段型の固―気接触反応装置があげられる。
【０４４７】
上記除去工程は、複数回行ってもよい。例えば、２回、３回、４回、５回、６回、７回、８回、９回又は１０回の除去工程を行ってもよい。上記熱処理及びフッ素化処理は、組み合わせて実施してよく、同時に行ってもよい。
【０４４８】
水又は有機溶媒による洗浄の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。
【０４４９】
炭化水素系界面活性剤を用いてＰＴＦＥを得た場合、ＰＴＦＥに対して１〜２００ｐｐｍの一般式（１）及び（２）で示される化合物が生成する場合がある。
上記除去工程により、組成物中の一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減することができる。
【０４５０】
上記除去工程は、上記ＰＴＦＥ中の一般式（１）及び（２）で示される化合物を８０質量％以上除去するものであることが好ましく、８５質量％以上除去するものであることがより好ましく、９０質量％以上除去するものであることが更に好ましく、９５質量％以上除去するものであることが更により好ましく、９７質量％以上除去するものであることが殊更に好ましく、９８質量％以上除去するものであることが特に好ましく、９９質量％以上除去するものであることが最も好ましい。
上記除去工程は、得られるＰＴＦＥ中の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下にするものであることが好ましく、２００ｐｐｂ以下にするものであることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下にすることが更に好ましく、５０ｐｐｂ以下にすることが特に好ましく、２５ｐｐｂ以下にすることが最も好ましい。
【０４５１】
上記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない組成物、また、後述する一般式（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）、（６’）又は（７）で示される化合物を特定の量で含む組成物は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られた処理前組成物を、フッ素化処理することにより得られたものであることが好ましい。フッ素化処理の時間、添加量が多いほど、一般式（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）、（６’）又は（７）で示される化合物を低減できる。フッ素化処理は高温で行うことが好ましく、また、フッ素ラジカル源の添加量を多くすることが好ましい。例えば、１００℃超でフッ素化処理することが好ましく、フッ素ラジカル源の添加量は、ＰＴＦＥ１００重量部に対して０．５重量部以上であることが好ましい。
【０４５２】
本開示の組成物は、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない。
一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないとは、例えば、一般式（３）で示される化合物の含有量がＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であればよい。一般式（３）で示される化合物の含有量は、ＰＴＦＥに対して１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
【０４５３】
炭化水素系界面活性剤を使用してＰＴＦＥを製造すると、得られる組成物が、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物を含む場合がある。本開示の組成物は、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物の含有量が下記の範囲であることが好ましい。
【０４５４】
本開示の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（４）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４５５】
本開示の一態様は、下記一般式（４’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（４’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４５６】
本開示の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（４）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（４）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（４）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（４’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（４’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４５７】
本開示の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（５）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４５８】
本開示の一態様は、下記一般式（５’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（５’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４５９】
本開示の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（５）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（５）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（５）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（５’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（５’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４６０】
本開示の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（６）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６）：（Ｈ−（ＣＦ２）１７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４６１】
本開示の一態様は、下記一般式（６’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（６’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４６２】
本開示の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物及び下記一般式（６’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（６）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（６’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（６）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（６）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（６’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（６’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（６）：（Ｈ−（ＣＦ２）１７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（６’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０４６３】
本開示の一態様は、下記一般式（２）で示される化合物のうち、ｎが４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１１である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１２である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが２０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。
一般式（２）：（Ｈ−（ＣＦ２）ｎ−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４〜２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
ｎが４〜２０である化合物の含有量は、それぞれ、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。本開示の組成物は、一般式（２）で示される化合物のいずれの含有量が０ｐｐｂであってよい。
【０４６４】
本開示の一態様は、下記一般式（１）で示される化合物のうち、ｍが３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１１である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１２である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（１）：（Ｈ−（ＣＦ２）ｍ−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３〜１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
ｍが３〜１９である化合物の含有量は、それぞれ、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。本開示の一態様は、上記一般式（１）で示される化合物のいずれかを含む組成物である。
【０４６５】
本開示の組成物は、更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含むものであってもよい。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（７）で示される化合物を含む組成物は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを、フッ素化処理することにより得られる。フッ素処理の温度が高いほど、フッ素化処理の時間が長いほど、また、フッ素ラジカル源の添加量が多いほど、一般式（７）で示される化合物の含有量を低下させることができる。また、フッ素化処理後に、加熱処理等の別工程を実施してもよい。一般式（７）で示される化合物は、フッ素化処理後に、加熱処理等を行うことによって低減することもできる。
一般式（７）で示される化合物の含有量は、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下であることが好ましく、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５ｐｐｂ以下であることが更に特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
上記一般式（７）で示される化合物の含有量の範囲は、上述した一般式（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）及び（６’）で示される化合物について記載した全ての量の範囲と組合せることができる。
本開示の組成物は、ＰＴＦＥに対して、一般式（３）で示される化合物の含有量が１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１５０ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１０００ｐｐｂ以下であってもよい。好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１０００ｐｐｂ以下であり、より好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が５００ｐｐｂ以下であり、更に好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１００ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が２５ｐｐｂ以下である。
【０４６６】
上記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）において、４つのＲ５は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５としては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。
【０４６７】
本開示の組成物において、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物の含有量は、後述する実施例に記載するように、液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて測定した値である。
【０４６８】
本開示は、また、ＰＴＦＥを含む組成物であって、前記組成物を３８５℃で１０分間加熱した後に測定される明度Ｌ＊（焼成後）が５０．０以上である組成物（本開示において、本開示の第４の組成物ということがある。）に関する。本開示によれば、加熱後も明度Ｌ＊（焼成後）が高く、したがって、美麗な成形品が得られる組成物を提供することができる。
【０４６９】
本開示の組成物の３８５℃で１０分間加熱した後に測定される明度Ｌ＊（焼成後）としては、好ましくは５５．０以上であり、より好ましくは６０．０以上であり、さらに好ましくは６５．０以上であり、特に好ましくは７０．０以上である。３８５℃に加熱した後に測定される明度Ｌ＊（焼成後）の上限は、１００、９５．０、９０．０、８５．０または８０．０であってよい。３８５℃に加熱した後に測定される明度Ｌ＊（焼成後）は、組成物を加熱することなく圧縮することにより成形体に成形し、得られた成形体を３８５℃で１０分間加熱した後、ＪＩＳ  Ｚ  ８７８１−４に準拠して、測色色差計（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて、加熱後の成形体の明度Ｌ＊を測定することにより、特定できる。
【０４７０】
本開示の組成物の明度Ｌ＊（未焼成）としては、好ましくは８０．０以上であり、より好ましくは８４．０以上であり、さらに好ましくは８８．０以上であり、特に好ましくは９２．０以上であり、最も好ましくは９４．０以上である。明度Ｌ＊の上限は、１００または９９．５であってよい。本開示において、単に「明度Ｌ＊（未焼成）」と記載した場合には、２４０℃以上、２６０℃以上、２８０℃以上または２９０℃以上の温度に加熱した履歴のない組成物の明度Ｌ＊を意味する。明度Ｌ＊（未焼成）は、上記の温度範囲に加熱した履歴の無い組成物を、加熱することなく圧縮することにより成形体に成形し、ＪＩＳ  Ｚ  ８７８１−４に準拠して、測色色差計（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて、得られた成形体の明度Ｌ＊を測定することにより、特定できる。
【０４７１】
アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸、アルキル硫酸塩などの炭化水素系界面活性剤の存在下に、ＴＦＥのみの乳化重合、又は、ＴＦＥおよびＴＦＥと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られるＰＴＦＥを含む組成物は、通常、明度Ｌ＊（未焼成）が低い。特に、このような組成物を加熱した場合には、組成物の明度Ｌ＊（焼成後）が大きく低下する。一方、乳化重合により得られた組成物に対して、上述した条件でフッ素化処理を行うことによって、明度Ｌ＊（未焼成）が高く、さらには、高温に加熱した後にも十分に高い明度Ｌ＊（焼成後）を有する組成物を得ることができる。
【０４７２】
高い明度Ｌ＊（未焼成）を示す組成物を得るためのフッ素化処理は、上述した条件で行うことができる。組成物の一態様は粉末である。
【０４７３】
高い明度Ｌ＊（未焼成）を示す組成物からも、延伸体を得ることができる。得られる延伸体は、組成物と同様に、十分に高い明度Ｌ＊（未焼成）を有しており、美麗であることから、特に衣類などの用途に好適に利用可能である。
【０４７４】
本開示の一態様は、粉末である組成物である。本開示の組成物が粉末である場合、上記粉末は、平均二次粒子径が０．５〜２０００μｍであることが好ましい。上記平均二次粒子径のより好ましい下限は１μｍであり、更に好ましい下限は１００μｍであり、更により好ましい下限は２００μｍであり、殊更に好ましい下限は３００μｍであり、より好ましい上限は１０００μｍであり、更に好ましい上限は８００μｍであり、更により好ましい上限は７００μｍである。
本明細書において、平均二次粒子径は、低分子量ＰＴＦＥである場合、レーザー回折式粒度分布測定装置（日本レーザー社製）を用い、カスケードは使用せず、圧力０．１ＭＰａ、測定時間３秒で粒度分布を測定し、得られた粒度分布積算の５０％に対応する粒径である。
また、高分子量ＰＴＦＥの場合、上記平均二次粒子径は、ＪＩＳ  Ｋ６８９１に準拠して測定した値である。
【０４７５】
組成物または粉末の一態様においては、含フッ素界面活性剤を含有する。含フッ素界面活性剤を用いることによって、ＰＴＦＥ水性分散液の優れた分散安定性を維持したまま、ＰＴＦＥ水性分散液の粘度を適切に調整したり、顔料、フィラーなどの混和性を向上させたりすることができるので、所望の組成を有するＰＴＦＥ粉末を容易に製造できる。
【０４７６】
上記組成物または上記粉末は、含フッ素界面活性剤を実質的に含まないことが好ましい。本明細書において、「含フッ素界面活性剤を実質的に含まない」とは、ポリテトラフルオロエチレンに対して含フッ素界面活性剤が１０ｐｐｍ以下であることを意味する。含フッ素界面活性剤の含有量は、好ましくは１ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１０ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、液体クロマトグラフィー−質量分析法（ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ）による測定による、含フッ素界面活性剤が検出限界以下である。
上記含フッ素界面活性剤量は、公知な方法で定量できる。例えば、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析にて定量することが出来る。まず、得られた粉末をメタノールの有機溶剤に抽出し、抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる界面活性剤の構造式との一致を確認する。
その後、確認された界面活性剤を５水準以上の濃度の水溶液を作成し、それぞれの濃度のＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行ない、エリア面積との検量線を作成する。
得られた粉末をメタノールにてソックスレー抽出を行ない、抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行なうことで定量測定することが出来る。
【０４７７】
すなわち、含フッ素界面活性剤の含有量は、たとえば、ＰＴＦＥ粉末にメタノールを加え、抽出を行ない、得られた抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析することにより測定できる。
さらに抽出効率を高めるために、ソックスレー抽出、超音波処理等による処理を行ってもよい。
得られたＬＣ／ＭＳ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる含フッ素界面活性剤の構造式との一致を確認する。
その後、確認された含フッ素界面活性剤の５水準以上の含有量の水溶液を作製し、それぞれの含有量の水溶液のＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行ない、含有量と、その含有量に対するエリア面積と関係をプロットし、検量線を描く。
そして、検量線を用いて、抽出液中の含フッ素界面活性剤のＬＣ／ＭＳ／ＭＳクロマトグラムのエリア面積を、含フッ素界面活性剤の含有量に換算することができる。
【０４７８】
上記含フッ素界面活性剤としては、上述した組成物の製造方法において例示したものと同じである。例えば、アニオン性基を除く部分の総炭素数が２０以下のフッ素原子を含む界面活性剤であってよく、アニオン性部分の分子量が１０００以下、より好ましくは８００以下、さらに好ましくは６００以下のフッ素を含む界面活性剤であってよく、ＬｏｇＰＯＷが３．５以下の含フッ素界面活性剤であってよい。
上記含フッ素界面活性剤としては、上記一般式（Ｎ０）で表される化合物が挙げられ、具体的には、一般式（Ｎ１）で表される化合物、一般式（Ｎ２）で表される化合物、一般式（Ｎ３）で表される化合物、一般式（Ｎ４）で表される化合物、及び、一般式（Ｎ５）で表される化合物が挙げられる。より具体的には、一般式（Ｉ）で表されるパーフルオロカルボン酸（Ｉ）、一般式（ＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）、一般式（ＩＩＩ）で表されるパーフルオロポリエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）、一般式（Ｖ）で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）、一般式（ＶＩ）で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）、一般式（ＶＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）、一般式（ＶＩＩＩ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）、一般式（ＩＸ）で表されるアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）、一般式（Ｘ）で表されるフルオロカルボン酸（Ｘ）、一般式（ＸＩ）で表されるアルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩ）、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩＩ）が挙げられる。
【０４７９】
本開示の組成物は、更に、上述の方法で得られたＰＴＦＥ水性分散液を回収する工程、
ＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥを凝集させる工程、
凝集したＰＴＦＥを回収する工程、及び、
回収したＰＴＦＥを１００〜３００℃（好ましくは１００〜２５０℃）で乾燥させる工程、
のうち、少なくとも１つの工程を含む製造方法で好適に得ることができる。
【０４８０】
上記ＰＴＦＥ水性分散液は、上述した重合を行うことにより得られる水性分散液、この水性分散液を濃縮するか又は分散安定化処理して得られるディスパージョン、及び、ＰＴＦＥからなる粉末を、上記界面活性剤の存在下に水性媒体に分散させたものの何れであってもよい。
【０４８１】
上記ＰＴＦＥ水性分散液を製造する方法としてはまた、上記重合により得られた水性分散液を、非イオン性界面活性剤の存在下に、陰イオン交換樹脂又は陰イオン交換樹脂及び陽イオン交換樹脂を含む混床と接触させる工程（Ｉ）、及び／又は、固形分濃度が水性分散液１００質量％に対して３０〜７０質量％となるように濃縮する工程（ＩＩ）により精製水性分散液を製造することができる。
非イオン性界面活性剤は、特に限定されるものではないが、後述のものを用いることができる。上記陰イオン交換樹脂は、特に限定されるものではないが、公知のものを用いることができる。また、上記陰イオン交換樹脂と接触させる方法は、公知の方法を用いることができる。
上記ＰＴＦＥ水性分散液を製造する方法としては、上記重合より得られた水性分散液に工程（Ｉ）を行ない、工程（Ｉ）で得られた水性分散液に工程（ＩＩ）を行なって精製水性分散液を製造することができる。また、工程（Ｉ）を行なわずに、工程（ＩＩ）を行ない精製水性分散液を製造することもできる。また、工程（Ｉ）及び工程（ＩＩ）を繰り返し行うこともできるし、組み合わせることも可能である。
【０４８２】
上記陰イオン交換樹脂としては、例えば、官能基として−Ｎ＋Ｘ−（ＣＨ３）３基（Ｘは、Ｃｌ又はＯＨを表す。）を有する強塩基性陰イオン交換樹脂、−Ｎ＋Ｘ−（ＣＨ３）３（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）基（Ｘは、上記と同じ。）を有する強塩基性陰イオン交換樹脂等、公知のものが挙げられる。具体的には、国際公開第９９／６２８５８号、国際公開第０３／０２０８３６号、国際公開第２００４／０７８８３６号、国際公開第２０１３／０２７８５０号、国際公開第２０１４／０８４３９９号に記載されたもの等が挙げられる。
【０４８３】
上記陽イオン交換樹脂としては特に限定されず、例えば、官能基として−ＳＯ３−基を有する強酸性陽イオン交換樹脂、官能基として−ＣＯＯ−基を有する弱酸性陽イオン交換樹脂等、公知のものが挙げられるが、なかでも、除去効率の観点から、強酸性陽イオン交換樹脂が好ましく、Ｈ＋型の強酸性陽イオン交換樹脂がより好ましい。
【０４８４】
上記「陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とからなる混床」としては特に限定されず、両者が同一のカラムに充填されている場合、両者がそれぞれ異なるカラムに充填されている場合、両者が水性分散液に分散している場合等を含むものである。
【０４８５】
上記濃縮の方法としては公知の方法が採用される。具体的には、国際公開第２００７／０４６４８２号、国際公開第２０１４／０８４３９９号に記載されたもの等が挙げられる。例えば相分離、遠心沈降、曇点濃縮、電気濃縮、電気泳動、限外ろ過を用いた濾過処理、逆浸透膜（ＲＯ膜）を用いた濾過処理、ナノ濾過処理等が挙げられる。上記濃縮は、用途に応じて、ＰＴＦＥ濃度を３０〜７０質量％に濃縮することができる。濃縮によりディスパージョンの安定性が損なわれることがあるが、その場合は更に分散安定剤を添加してもよい。
上記分散安定剤としては、上記非イオン性界面活性剤や、その他の各種の界面活性剤を添加してもよい。
【０４８６】
上記非イオン性界面活性剤としては、例えば、上述した核形成剤として例示した化合物を適宜採用できる。
【０４８７】
非イオン性界面活性剤の曇点は、水への界面活性剤の溶解性の尺度である。本開示の水性分散液中で使用される界面活性剤は、曇点約３０℃〜約９０℃、好ましくは約３５℃〜約８５℃を有する。
【０４８８】
上記分散安定剤の総量は、上記ディスパージョンの固形分に対し０．５〜２０質量％の濃度である。０．５質量％未満であると、分散安定性に劣る場合があり、２０質量％を超えると、存在量に見合った分散効果がなく実用的でない。上記分散安定剤のより好ましい下限は２質量％であり、より好ましい上限は１２質量％である。
【０４８９】
上記の濃縮操作によって、上記界面活性剤を除去してもよい。
【０４９０】
上記重合を行うことにより得られた水性分散液は、また、用途によっては濃縮せずに分散安定化処理して、ポットライフの長い水性分散液に調製することもできる。使用する分散安定剤としては上記と同じものを挙げることができる。
【０４９１】
上記水性分散液の用途としては特に限定されず、水性分散液のまま適用するものとして、基材上に塗布し乾燥した後必要に応じて焼成することよりなる塗装；不織布、樹脂成形品等の多孔性支持体を含浸させ乾燥した後、好ましくは焼成することよりなる含浸；ガラス等の基材上に塗布し乾燥した後、必要に応じて水中に浸漬し、基材を剥離して薄膜を得ることよりなるキャスト製膜等が挙げられ、これら適用例としては、水性分散型塗料、テント膜、コンベアベルト、プリント基板（ＣＣＬ）、電極用結着剤、電極用撥水剤等が挙げられる。
【０４９２】
上記水性分散液は、公知の顔料、増粘剤、分散剤、消泡剤、凍結防止剤、成膜助剤等の配合剤を配合することにより、又は、更に他の高分子化合物を複合して、コーティング用水性塗料として用いることができる。
また添加剤用途として、電極の活物質の脱落を抑える結着剤、バインダー用途、ドリップ防止剤などのコンパウンド用途等に用いることができる。
【０４９３】
ＰＴＦＥ水性分散液を、塵埃抑制処理剤として使用することも好ましい。上記塵埃抑制処理剤は、発塵性物質と混合し、該混合物に２０〜２００℃の温度で圧縮−せん断作用を施すことによりＰＴＦＥをフィブリル化して発塵性物質の塵埃を抑制する方法、例えば特許第２８２７１５２号公報、特許第２５３８７８３号公報等の方法において、用いることができる。
上記ＰＴＦＥ水性分散液は、例えば、国際公開第２００７／００４２５０号に記載の塵埃抑制処理剤組成物に好適に用いることができ、国際公開第２００７／０００８１２号に記載の塵埃抑制処理方法にも好適に用いることができる。
【０４９４】
上記塵埃抑制処理剤は、建材分野、土壌安定材分野、固化材分野、肥料分野、焼却灰及び有害物質の埋立処分分野、防爆分野、化粧品分野、猫砂に代表されるペット排泄用の砂等の塵埃抑制処理に好適に用いられる。
【０４９５】
上記水性分散液の粘度を調整する目的で、あるいは顔料、フィラーなどの混和性改良の目的で、アニオン性界面活性剤を好ましく含むことができる。アニオン性界面活性剤は、経済面、環境面で問題のない範囲で適宜添加することができる。
【０４９６】
上記アニオン性界面活性剤としては、非フッ素化アニオン性界面活性剤や含フッ素アニオン性界面活性剤が挙げられるが、フッ素を含まない非フッ素化アニオン性界面活性剤、即ち炭化水素アニオン界面活性剤が好ましい。
【０４９７】
粘度を調整する目的の場合、公知のアニオン性界面活性剤であれば種類は特に限定されないが、例えば国際公開第２０１３／１４６９５０号や国際公開第２０１３／１４６９４７号に記載されているアニオン性界面活性剤を用いることができる。例えば、炭素数６〜４０、好ましくは炭素数８〜２０、より好ましくは炭素数９〜１３の飽和又は不飽和の脂肪族鎖を有するものが挙げられる。上記飽和又は不飽和の脂肪族鎖は、直鎖又は分岐鎖の何れであってもよく、環状構造を有するものであってもよい。上記炭化水素は、芳香族性であってもよいし、芳香族基を有するものであってもよい。上記炭化水素は、酸素、窒素、硫黄等のヘテロ原子を有するものであってもよい。
アニオン性界面活性剤としては、アルキルスルホネート、アルキルサルフェート、アルキルアリールサルフェート及びそれらの塩；脂肪族（カルボン）酸及びその塩；リン酸アルキルエステル、リン酸アルキルアリールエステル又はそれらの塩；等が挙げられるが、中でも、アルキルスルホネート、アルキルサルフェート、脂肪族カルボン酸またはそれらの塩が好ましい。
アルキルサルフェートまたはその塩としては、ラウリル硫酸アンモニウム、またはラウリル硫酸ナトリウム等が好ましい。
脂肪族カルボン酸またはその塩としては、コハク酸、デカン酸、ウンデカン酸、ウンデセン酸、ラウリン酸、ハイドロドデカン酸、またはそれらの塩が好ましい。
【０４９８】
アニオン性界面活性剤の添加量は、アニオン性界面活性剤やその他配合剤の種類にもよるが、ＰＴＦＥの固形分質量に対して１０〜５０００ｐｐｍであることが好ましい。
アニオン性界面活性剤の添加量の下限としては、５０ｐｐｍ以上がより好ましく、１００ｐｐｍ以上が更に好ましい。添加量が少なすぎると、粘度調整効果が乏しい。
アニオン性界面活性剤の添加量の上限としては、３０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましい。添加量が多すぎると水性分散液の機械的安定性、貯蔵安定性が損なわれることがある。
【０４９９】
上記水性分散液の粘度を調整する目的で、アニオン性界面活性剤以外に、例えば、メチルセルロース、アルミナゾル、ポリビニルアルコール、カルボキシル化ビニルポリマー等を配合することもできる。
上記水性分散液のｐＨを調整する目的で、アンモニア水などのｐＨ調整剤を配合することもできる。
【０５００】
上記水性分散液に、必要に応じ、水性分散液の特徴を損なわない範囲でその他の水溶性高分子化合物を含有するものであってもよい。
上記その他の水溶性高分子化合物としては特に限定されず、例えば、ポリエチレンオキサイド（分散安定剤）、ポリエチレングリコール（分散安定剤）、ポリビニルピロリドン（分散安定剤）、フェノール樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリルシリコーン樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。更に、イソチアゾロン系、アゾール系、プロノポール、クロロタロニル、メチルスルホニルテトラクロルピロジン、カルベンタジム、フルオロフォルベット、二酢酸ナトリウム、ジヨードメチルパラトリルスルホンなどの防腐剤を含有してもよい。
【０５０１】
上記水性分散液に含まれるＰＴＦＥを凝集させることにより粉末を製造できる。本開示の組成物は、粉末であってよい。上記ＰＴＦＥの水性分散液は、凝集、洗浄、乾燥を経て粉末として各種用途に使用することができる。上記ＰＴＦＥの水性分散液に対して凝集を行う場合、通常、ポリマーラテックス等の重合により得た水性分散液を、水を用いて１０〜２０質量％のポリマー濃度になるように希釈し、場合によっては、ｐＨを中性又はアルカリ性に調整した後、撹拌機付きの容器中で反応中の撹拌よりも激しく撹拌して行う。上記凝集は、メタノール、アセトン等の水溶性有機化合物、硝酸カリウム、炭酸アンモニウム等の無機塩や、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸等を凝析剤として添加しながら撹拌を行ってもよい。上記凝集は、また、インラインミキサー等を使用して連続的に行ってもよい。
【０５０２】
上記凝集前や凝集中に、着色のための顔料や機械的性質を改良するための各種充填剤を添加することにより、顔料や充填剤が均一に混合した顔料入り又は充填剤入りのＰＴＦＥの粉末を得ることができる。本開示の組成物は、ＰＴＦＥのみを含むものであってもよいし、ＰＴＦＥと上記の顔料や充填剤を含むものであってもよいが、ＰＴＦＥのみを含むものであることが好ましい。
【０５０３】
上記ＰＴＦＥを凝集して得られた湿潤粉末の乾燥は、通常、上記湿潤粉末をあまり流動させない状態、好ましくは静置の状態を保ちながら、真空、高周波、熱風等の手段を用いて行う。粉末同士の、特に高温での摩擦は、一般にファインパウダー型のＰＴＦＥに好ましくない影響を与える。これは、この種のＰＴＦＥからなる粒子が小さな剪断力によっても簡単にフィブリル化して、元の安定な粒子構造の状態を失う性質を持っているからである。上記乾燥は、１０〜３００℃、好ましくは１００〜３００℃（より好ましくは１００〜２５０℃）の乾燥温度で行うことができる。
【０５０４】
本開示の組成物は、延伸性及び非溶融加工性を有し、延伸体（多孔体）の原料としても有用である。本開示の組成物は、延伸することにより破断強度及び応力緩和時間に優れた延伸体を得ることができる。例えば押出助剤と混合した本開示の組成物の粉末をペースト押出し、必要に応じて圧延を行い、乾燥により押出助剤を除去した後、少なくとも１方向に延伸して延伸体を得ることができる。延伸することにより、本開示の組成物はＰＴＦＥが容易にフィブリル化し、結節と繊維からなる延伸体となる。この延伸体は、高い空孔率を持つ多孔体でもある。
【０５０５】
本開示はまた、上述の組成物からなる延伸体に関する。
本開示の延伸体は、上述の組成物をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）、製造することができる。延伸条件としては、５〜２０００％／秒の速度、２００％以上の延伸倍率が好ましく採用される。延伸することにより上記組成物中のＰＴＦＥは容易にフィブリル化し、結節と繊維からなる延伸体となる。本開示の延伸体は、ＰＴＦＥのみを含むものであってもよいし、ＰＴＦＥと上記の顔料や充填剤を含むものであってもよいが、ＰＴＦＥのみを含むものであることが好ましい。
本開示の延伸体は、空孔率が３０％〜９９％の範囲が好ましい。空孔率は４０％以上がより好ましく、５０％以上が更に好ましく、６０％以上が更により好ましく、７０％以上が特に好ましい。延伸体におけるＰＴＦＥの割合が小さ過ぎると、延伸体の強度が十分でなくなるおそれがあるので、空孔率は９５％以下が好ましく、９０％以下がより好ましい。延伸体の空孔率は、延伸体の密度ρを用いて下記式から算出することができる。
空孔率（％）＝［（２．２−ρ）／２．２］×１００
上記式中、２．２はＰＴＦＥの真密度（ｇ／ｃｍ３）である。
上記延伸体の密度ρは、延伸体が膜またはシート状の場合、特定の大きさにカットした試料の質量を精密天秤にて測定し、測定した資料の質量及び膜厚みから、以下の式により試料の密度を計算する。
ρ＝Ｍ／（４．０×１２．０×ｔ）
ρ＝密度（膜密度）（ｇ／ｃｍ３）
Ｍ＝質量（ｇ）
ｔ＝膜厚み（ｃｍ）
３か所について上記測定および計算を行い、それらの平均値を膜密度とする。
膜厚みは、膜厚計を使用し、延伸体を５枚重ねて全体の膜厚みを測定し、その値を５で割った数値を１枚の膜厚みとする。
延伸体が円柱状の場合、上記延伸体の密度ρは、一定の長さにカットした試料の質量を精密天秤にて測定し、測定した試料の質量及び外径から、以下の式により試料の密度を計算する。
ρ＝Ｍ／（ｒ×ｒ×π）×Ｌ
ρ＝密度（ｇ／ｃｍ３）
Ｍ＝質量（ｇ）
ｒ＝半径（ｃｍ）
Ｌ＝長さ（ｃｍ）
π＝円周率
延伸体の外径はレーザー式変位センサを使用して測定する。半径はその値を２で割った数値とする。
３か所について上記測定および計算を行い、それらの平均値を密度とする。
【０５０６】
本開示または、破断強度が１０．０Ｎ以上であり、ＰＴＦＥを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体に関する。（以下、本開示の第１の延伸体ということがある。）
本開示の第１の延伸体は、応力緩和時間が５０秒以上であることが好ましい。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
【０５０７】
本開示はまた、応力緩和時間が５０秒以上であり、ＰＴＦＥを含み、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体に関する。（以下、本開示の第２の延伸体ということがある。）
本開示の第２の延伸体は、破断強度が１０．０Ｎ以上であることが好ましい。
【０５０８】
本明細書中、特に断りのない限り、「本開示の延伸体」は、本開示の第１〜２の延伸体を意味する。
【０５０９】
本開示の延伸体は、破断強度が、１８．０Ｎ以上であってもよい。破断強度は高ければ高いほどよいが、破断強度の上限は、例えば、５０．０Ｎである。上記破断強度は、延伸体について、５．０ｃｍのゲージ長である可動ジョーにおいて挟んで固定し、２５℃で３００ｍｍ／分の速度で引っ張り試験を行い、破断した時の強度である。
【０５１０】
本開示の延伸体は、応力緩和時間が１５０秒以上であってもよい。上記応力緩和時間は、下記方法にて測定した値である。
延伸体の両方の末端を固定具につなげ、ぴんと張られた全長８インチ（２０ｃｍ）のビードサンプルとする。オーブンを３９０℃に保ち、オーブン側部にある（覆われた）スリットを通して固定具をオーブン中に挿入する。オーブンに挿入した時点からビードサンプルが破断するまでに要する時間を応力緩和時間とする。
【０５１１】
本開示の延伸体は、熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上であってもよい。上記ＴＩＩが１０以上である延伸体は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥを含むことにより得られる。ＴＩＩは、１５以上であることが好ましく、２０以上であることがより好ましい。上記ＴＩＩは、ＡＳＴＭ  Ｄ  ４８９５−８９に準拠して測定する。
【０５１２】
本開示の延伸体は、ピーク温度が３２５〜３５０℃の間に存在することが好ましい。また、本開示の延伸体は、ピーク温度が３２５〜３５０℃の間と、３６０〜３９０℃の間のいずれにも存在することが好ましい。上記ピーク温度は、延伸体について示差走査熱量計〔ＤＳＣ〕を用いて１０℃／分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度である。また、ピーク温度は、ＴＧ／ＤＴＡ（示差熱熱重量同時測定装置）を用いて、延伸体を１０℃／分の条件で昇温させることにより得られる示差熱（ＤＴＡ）曲線に現れる極大値に対応する温度として、特定できる。
【０５１３】
延伸体の一態様においては、含フッ素界面活性剤を含有する。含フッ素界面活性剤を用いることによって、ＰＴＦＥ水性分散液の優れた分散安定性を維持したまま、ＰＴＦＥ水性分散液の粘度を適切に調整できるので、所望の延伸体を有するＰＴＦＥ粉末を容易に製造できる。
【０５１４】
本開示の延伸体は、含フッ素界面活性剤を実質的に含まないことが好ましい。本明細書において、「含フッ素界面活性剤を実質的に含まない」とは、ポリテトラフルオロエチレンに対して含フッ素界面活性剤が１０ｐｐｍ以下であることを意味する。含フッ素界面活性剤の含有量は、好ましくは１ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１０ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、液体クロマトグラフィー−質量分析法（ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ）による測定による、含フッ素界面活性剤が検出限界以下である。
上記含フッ素界面活性剤量は、公知な方法で定量できる。例えば、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析にて定量することが出来る。まず、微細化された延伸体をメタノールの有機溶剤に抽出し、抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる界面活性剤の構造式との一致を確認する。
その後、確認された界面活性剤を５水準以上の濃度の水溶液を作成し、それぞれの濃度のＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行ない、エリア面積との検量線を作成する。
得られた延伸体を粉砕した粉末をメタノールにてソックスレー抽出を行ない、抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行なうことで定量測定することが出来る。
【０５１５】
すなわち、含フッ素界面活性剤の含有量は、たとえば、微細化された延伸体にメタノールを加え、抽出を行ない、得られた抽出液をＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析することにより測定できる。
さらに抽出効率を高めるために、ソックスレー抽出、超音波処理等による処理を行ってもよい。
得られたＬＣ／ＭＳ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる含フッ素界面活性剤の構造式との一致を確認する。
その後、確認された含フッ素界面活性剤の５水準以上の含有量の水溶液を作製し、それぞれの含有量の水溶液のＬＣ／ＭＳ／ＭＳ分析を行ない、含有量と、その含有量に対するエリア面積と関係をプロットし、検量線を描く。
そして、検量線を用いて、抽出液中の含フッ素界面活性剤のＬＣ／ＭＳ／ＭＳクロマトグラムのエリア面積を、含フッ素界面活性剤の含有量に換算することができる。
【０５１６】
上記含フッ素界面活性剤としては、上述した組成物の製造方法において例示したものと同じである。例えば、アニオン性基を除く部分の総炭素数が２０以下のフッ素原子を含む界面活性剤であってよく、アニオン性部分の分子量が８００以下のフッ素を含む界面活性剤であってよく、ＬｏｇＰＯＷが３．５以下の含フッ素界面活性剤であってよい。
上記含フッ素界面活性剤としては、上記一般式（Ｎ０）で表される化合物が挙げられ、具体的には、一般式（Ｎ１）で表される化合物、一般式（Ｎ２）で表される化合物、一般式（Ｎ３）で表される化合物、一般式（Ｎ４）で表される化合物、及び、一般式（Ｎ５）で表される化合物が挙げられる。より具体的には、一般式（Ｉ）で表されるパーフルオロカルボン酸（Ｉ）、一般式（ＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）、一般式（ＩＩＩ）で表されるパーフルオロポリエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）、一般式（Ｖ）で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）、一般式（ＶＩ）で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）、一般式（ＶＩＩ）で表されるω−Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）、一般式（ＶＩＩＩ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）、一般式（ＩＸ）で表されるアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）、一般式（Ｘ）で表されるフルオロカルボン酸（Ｘ）、一般式（ＸＩ）で表されるアルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩ）、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩＩ）が挙げられる。
【０５１７】
本開示の延伸体において、上記ＰＴＦＥは、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたものであることが好ましい。重合方法は、上述した組成物を得る方法等により行ってよい。
炭化水素系界面活性剤の存在下に、ＴＦＥのみの乳化重合、又は、ＴＦＥおよびＴＦＥと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られるＰＴＦＥを含む延伸体には、通常、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物が含まれる場合がある。
本開示の延伸体は、このような乳化重合により得られたＰＴＦＥを含む場合であっても、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）および（６’）で示される化合物の含有量が極めて少量であるか、これらの化合物を実質的に含まない。
【０５１８】
上記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない延伸体、また、後述する一般式（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）、（６’）又は（７）で示される化合物を特定の量で含む延伸体は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを含む処理前組成物を、フッ素化処理することにより得られた組成物をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）、製造することができる。また、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを含む組成物をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）得られた延伸体を、フッ素化処理することによっても製造することができる。延伸条件としては、５〜１０００％／秒の速度、５００％以上の延伸倍率が好ましく採用される。延伸することによりＰＴＦＥは容易にフィブリル化し、結節と繊維からなる延伸体となる。本開示の延伸体は、ＰＴＦＥのみを含むものであってもよいし、ＰＴＦＥと上記の顔料や充填剤を含むものであってもよいが、ＰＴＦＥのみを含むものであることが好ましい。フッ素化処理の時間、添加量が多いほど、一般式（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）、（６’）又は（７）で示される化合物を低減できる。フッ素化処理は高温で行うことが好ましく、また、フッ素ラジカル源の添加量を多くすることが好ましい。例えば、１００℃超でフッ素化処理することが好ましく、フッ素ラジカル源の添加量は、ＰＴＦＥ１００重量部に対して０．５重量部以上であることが好ましい。
【０５１９】
本開示の延伸体は、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない。
一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないとは、例えば、一般式（３）で示される化合物の含有量がＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であればよい。一般式（３）で示される化合物の含有量は、ＰＴＦＥに対して１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
【０５２０】
炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥを含むことにより、得られる延伸体が、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物を含む場合がある。本開示の延伸体は、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物の含有量が下記の範囲であることが好ましい。
【０５２１】
本開示の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む延伸体である。一般式（４）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２２】
本開示の一態様は、下記一般式（４’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む延伸体である。一般式（４’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２３】
本開示の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（４）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。一般式（４）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（４）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（４’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（４’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２４】
本開示の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む延伸体である。一般式（５）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２５】
本開示の一態様は、下記一般式（５’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む延伸体である。一般式（５’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２６】
本開示の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（５）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。一般式（５）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（５）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（５’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（５’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２７】
本開示の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む延伸体である。一般式（６）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６）：（Ｈ−（ＣＦ２）１７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２８】
本開示の一態様は、下記一般式（６’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下含む延伸体である。一般式（６’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５２９】
本開示の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物及び下記一般式（６’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（６）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（６’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。一般式（６）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（６）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（６’）で示される化合物の含有量は１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。一般式（６’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（６）：（Ｈ−（ＣＦ２）１７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（６’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【０５３０】
本開示の一態様は、下記一般式（２）で示される化合物のうち、ｎが４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１１である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１２である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが１９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｎが２０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。
一般式（２）：（Ｈ−（ＣＦ２）ｎ−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４〜２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
ｎが４〜２０である化合物の含有量は、それぞれ、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。本開示の延伸体は、一般式（２）で示される化合物のいずれの含有量が０ｐｐｂであってよい。
【０５３１】
本開示の一態様は、下記一般式（１）で示される化合物のうち、ｍが３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１１である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１２である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下であり、ｍが１９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１５０ｐｐｂ以下である延伸体である。
一般式（１）：（Ｈ−（ＣＦ２）ｍ−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３〜１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
ｍが３〜１９である化合物の含有量は、それぞれ、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。本開示の一態様は、上記一般式（１）で示される化合物のいずれかを含む延伸体である。
【０５３２】
本開示の延伸体は、更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含むものであってもよい。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（７）で示される化合物を含む延伸体は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを含む処理前組成物を、フッ素化処理することにより得られた組成物をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）、製造することができる。また、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを含む組成物をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）得られた延伸体を、フッ素化処理することによっても製造することができる。フッ素処理の温度が高いほど、フッ素化処理の時間が長いほど、また、フッ素ラジカル源の添加量が多いほど、一般式（７）で示される化合物の含有量を低下させることができる。また、フッ素化処理後に、加熱処理等の別工程を実施してもよい。一般式（７）で示される化合物は、フッ素化処理後に、加熱処理等を行うことによって低減することもできる。
一般式（７）で示される化合物の含有量は、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下であることが好ましく、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５ｐｐｂ以下であることが更に特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
上記一般式（７）で示される化合物の含有量の範囲は、上述した一般式（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）及び（６’）で示される化合物について記載した全ての量の範囲と組合せることができる。
本開示の延伸体は、ＰＴＦＥに対して、一般式（３）で示される化合物の含有量が１５０ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１５０ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１０００ｐｐｂ以下であってもよい。
好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１０００ｐｐｂ以下であり、より好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が５００ｐｐｂ以下であり、更に好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１００ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が２５ｐｐｂ以下である。
【０５３３】
本開示の延伸体は、その形状が膜、チューブ、繊維、ロッドであることも好ましい。
【０５３４】
本開示の延伸体が膜（延伸膜または多孔膜）である場合、公知のＰＴＦＥ延伸方法によって延伸することができる。
好ましくは、シート状または棒状のペースト押出物を押出方向にロール延伸することで、一軸延伸膜を得ることができる。
更に、テンター等により幅方向に延伸して、二軸延伸膜も得ることができる。
延伸前に半焼成処理を行うことも好ましい。
【０５３５】
上記延伸体の製造方法も本開示の一つである。
本開示の延伸体の製造方法は、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと前記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って水性分散液を得る工程、前記水性分散液から粉体を得る工程、前記粉体をフッ素化処理する工程、及び、前記フッ素化処理した粉体を延伸して延伸体を得る工程を含む。
【０５３６】
上記炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと上記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って水性分散液を得る工程は、上述した重合方法と同様に行うとよい。上記炭化水素系界面活性剤としては、上述した組成物の製造方法において、特定の炭化水素系界面活性剤として例示したものが好ましい。
【０５３７】
上記水性分散液から粉体を得る工程は、例えば、上記水性分散液に含まれるＰＴＦＥを凝集させることにより粉体を製造する工程であってよい。上記水性分散液は、凝集、洗浄、乾燥を経て粉体とすることができる。上記水性分散液に対して凝集を行う場合、通常、ポリマーラテックス等の重合により得た水性分散液を、水を用いて１０〜２０質量％のポリマー濃度になるように希釈し、場合によっては、ｐＨを中性又はアルカリ性に調整した後、撹拌機付きの容器中で反応中の撹拌よりも激しく撹拌して行う。上記凝集は、メタノール、アセトン等の水溶性有機化合物、硝酸カリウム、炭酸アンモニウム等の無機塩や、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸等を凝析剤として添加しながら撹拌を行ってもよい。上記凝集は、また、インラインミキサー等を使用して連続的に行ってもよい。
【０５３８】
上記凝集前や凝集中に、着色のための顔料や機械的性質を改良するための各種充填剤を添加することにより、顔料や充填剤が均一に混合した顔料入り又は充填剤入りのＰＴＦＥの粉体を得ることができる。
【０５３９】
上記ＰＴＦＥを凝集して得られた湿潤粉体の乾燥は、通常、上記湿潤粉末をあまり流動させない状態、好ましくは静置の状態を保ちながら、真空、高周波、熱風等の手段を用いて行う。粉末同士の、特に高温での摩擦は、一般にファインパウダー型のＰＴＦＥに好ましくない影響を与える。これは、この種のＰＴＦＥからなる粒子が小さな剪断力によっても簡単にフィブリル化して、元の安定な粒子構造の状態を失う性質を持っているからである。上記乾燥は、１０〜３００℃、好ましくは１００〜３００℃（より好ましくは１００〜２５０℃）の乾燥温度で行うことができる。
【０５４０】
上記粉体をフッ素化処理する工程は、上述したフッ素化処理の方法と同様に行うとよい。
【０５４１】
上記フッ素化処理した粉体を延伸して延伸体を得る工程は、例えば、上記フッ素化処理した粉体をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）、製造する工程であってよい。延伸条件としては、５〜２０００％／秒の速度、２００％以上の延伸倍率が好ましく採用される。延伸することにより上記粉体中のＰＴＦＥは容易にフィブリル化し、結節と繊維からなる延伸体となる。
【０５４２】
本開示の延伸体は、高い空孔率を持つ多孔体であり、
エアフィルター、薬液フィルター等の各種精密濾過フィルターの濾材、高分子電解質膜の支持材等として好適に利用できる。
また、繊維分野、医療分野、エレクトロケミカル分野、シール材分野、空気濾過分野、換気／内圧調整分野、液濾過分野、一般消費材分野等で使用する製品の素材としても有用である。
以下に、具体的な用途を例示する。
【０５４３】
エレクトロケミカル分野
誘電材料プリプレグ、ＥＭＩ遮蔽材料、伝熱材料等。より詳細には、プリント配線基板、電磁遮蔽シールド材、絶縁伝熱材料、絶縁材料等。
シール材分野
ガスケット、パッキン、ポンプダイアフラム、ポンプチューブ、航空機用シール材等。
【０５４４】
空気濾過分野
ＵＬＰＡフィルター（半導体製造用）、ＨＥＰＡフィルター（病院・半導体製造用）、円筒カートリッジフィルター（産業用）、バグフィルター（産業用）、耐熱バグフィルタ−（排ガス処理用）、耐熱プリーツフィルター（排ガス処理用）、ＳＩＮＢＲＡＮフィルター（産業用）、触媒フィルター（排ガス処理用）、吸着剤付フィルター（ＨＤＤ組込み）、吸着剤付ベントフィルター（ＨＤＤ組込み用）、ベントフィルター（ＨＤＤ組込み用他）、掃除機用フィルター（掃除機用）、汎用複層フェルト材、ＧＴ用カートリッジフィルター（ＧＴ向け互換品用）、クーリングフィルター（電子機器筐体用）等。
【０５４５】
換気／内圧調整分野
凍結乾燥用の容器等の凍結乾燥用材料、電子回路やランプ向けの自動車用換気材料、容器キャップ向け等の容器用途、タブレット端末や携帯電話端末等の小型端末を含む電子機器向け等の保護換気用途、医療用換気用途等。
【０５４６】
液濾過分野
半導体液ろ過フィルター（半導体製造用）、親水性ＰＴＦＥフィルター（半導体製造用）、化学薬品向けフィルター（薬液処理用）、純水製造ライン用フィルター（純水製造用）、逆洗型液ろ過フィルター（産業排水処理用）等。
【０５４７】
一般消費材分野
衣類、ケーブルガイド（バイク向け可動ワイヤ）、バイク用衣服、キャストライナー（医療サポーター）、掃除機フィルター、バグパイプ（楽器）、ケーブル（ギター用信号ケーブル等）、弦（弦楽器用）等。
【０５４８】
繊維分野
ＰＴＦＥ繊維（繊維材料）、ミシン糸（テキスタイル）、織糸（テキスタイル）、ロープ等。
【０５４９】
医療分野
体内埋設物（延伸品）、人工血管、カテーテル、一般手術（組織補強材料）、頭頸部製品（硬膜代替）、口内健康（組織再生医療）、整形外科（包帯）等。
【０５５０】
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
【実施例】
【０５５１】
つぎに本開示を実施例をあげて説明するが、本開示はかかる実施例のみに限定されるものではない。【０５５２】
実施例において、各物性の測定は以下の方法により行った。【０５５３】
（１）標準比重（ＳＳＧ）
ＡＳＴＭ  Ｄ  ４８９５−８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ  Ｄ  ７９２に準拠した水置換法により測定する。
（２）熱不安定指数（ＴＩＩ）
ＡＳＴＭ  Ｄ  ４８９５−８９に準拠して測定した。【０５５４】
（３）ポリマー固形分含有量
ＰＴＦＥ水性分散液１ｇを、送風乾燥機中で１５０℃、６０分の条件で乾燥し、水性分散液の質量（１ｇ）に対する、加熱残分の質量の割合を百分率で表した値を採用する。【０５５５】
（４）平均一次粒子径
ＰＴＦＥ水性分散液を水で固形分含有量が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均粒子径とを測定して、検量線を作成する。この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率から平均一次粒子径を決定する。
また、平均一次粒子径は、動的光散乱法により測定できる。動的光散乱法においては、フルオロポリマー固形分濃度約１．０質量％に調整したフルオロポリマー水性分散液を作成し、ＥＬＳＺ−１０００Ｓ（大塚電子社製）を使用して２５℃、積算７０回にて測定した。溶媒（水）の屈折率は１．３３２８、溶媒（水）の粘度は０．８８７８ｍＰａ・ｓとする。【０５５６】
（５）押出圧力の測定
ＰＴＦＥ粉末１００ｇに、室温で２時間以上放置した後、押出助剤として潤滑剤（アイソパーＨ、エクソンモービル社製）２１．７ｇを添加し、３分間混合してＰＴＦＥ粉末の混合物を得る。
得られたＰＴＦＥ粉末の混合物を、２５℃恒温槽に２時間放置した後に、２５℃にて、リダクションレシオ１００（ＲＲ１００、シリンダー径２５ｍｍ、オリフィスの直径２．５ｍｍ、オリフィスのランド長１．１ｍｍ、導入角３０°）、押出速度５１ｃｍ／分の条件で、ペースト押出成形を行い、潤滑剤を含むＰＴＦＥ押出ビードを得る。
押出圧力は、ペースト押出において押出負荷が平衡状態になった時の負荷を測定し、ペースト押出に用いたシリンダーの断面積で除した値とする。【０５５７】
（６）延伸試験
上記のペースト押出により得られた潤滑剤を含むＰＴＦＥ押出ビードを２３０℃で３０分間乾燥し、潤滑剤をビードから除去することで乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得る。次に、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを適当な長さに切断し、クランプ間隔が１．５インチ（３８ｍｍ）の間隔となるよう、各末端をクランプに固定し、空気循環炉中で３００℃に加熱する。次いでクランプを所望のストレッチ（総ストレッチ）に相当する分離距離となるまで所望の速度（ストレッチ速度）で離し、ストレッチ試験を実施する。このストレッチ方法は、押出スピード（８４ｃｍ／分でなく５１ｃｍ／分）が異なることを除いて、本質的に米国特許第４，５７６，８６９号明細書に開示された方法に従う。『ストレッチ』とは、延伸による長さの増加であり、通常元の長さに対する比率として表される。上記作製方法において、上記ストレッチ速度は、１０００％／秒であり、上記総ストレッチは２４００％である。【０５５８】
（７）破断強度
上記延伸試験で得られた延伸ビード（ビードをストレッチすることによって作製されたもの）について、５．０ｃｍのゲージ長である可動ジョーにおいて挟んで固定し、２５℃で３００ｍｍ／分の速度で引っ張り試験を行い、破断した時の強度を破断強度として測定する。【０５５９】
（８）応力緩和時間
上記延伸試験で得られた延伸ビードの両方の末端を固定具につなげ、ぴんと張られた全長８インチ（２０ｃｍ）のビードサンプルとする。オーブンを３９０℃に保ち、オーブン側部にある（覆われた）スリットを通して固定具をオーブン中に挿入する。オーブンに挿入した時点からビードサンプルが破断するまでに要する時間を応力緩和時間として測定する。固定具におけるサンプルは、オーブンの側部にある（覆われた）スロットを通してオーブンに挿入されるので、サンプルを配置する間に温度は下降することがなく、それゆえに米国特許第４，５７６，８６９号明細書に開示されたように回復にしばしの時間を必要としない。【０５６０】
（９）延伸物の外観
上記延伸試験で得られた延伸ビード（ビードをストレッチすることによって作製されたもの）の外観を目視で観察する。【０５６１】
（１０）明度Ｌ＊（未焼成）
ＰＴＦＥ粉末を４．０ｇ計量して、内径２８．６ｍｍの円筒金型内に仕込み、８．２７ＭＰａの圧力で１分間保持し、厚みが約４ｍｍの円盤状ＰＴＦＥ成形体を作製した。金型から円盤状ＰＴＦＥ成形体を取り出した後、２４時間、２５℃で放置した。
得られた成形体の明度Ｌ＊（未焼成）を、ＪＩＳ  Ｚ  ８７８１−４に準拠して、測色色差計ＺＥ−６０００（日本電色工業社製）（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて、測定した。
（１１）明度Ｌ＊（焼成後）
上記（１０）で得られた成形体を、３８５℃に加熱した電気炉内で１０分間加熱した後、室温まで冷却した。加熱した後の成形体の明度Ｌ＊（焼成後）を、ＪＩＳ  Ｚ  ８７８１−４に準拠して、測色色差計ＺＥ−６０００（日本電色工業社製）（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて、測定した。【０５６２】
フッ素を含む特定の化合物の含有量
液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて下記条件で測定した。【０５６３】
〔一般式（１）で示される化合物の含有量測定方法〕
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。【０５６４】
成形体（押出ビード、延伸ビード）からの抽出
成形体０．１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。【０５６５】
抽出液に含まれる一般式（１）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（１）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタン酸に換算することにより求めた。【０５６６】
パーフルオロオクタン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ〜１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，  ＬＣ−ＭＳ  ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ    （１）
Ａ：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）【０５６７】
測定機器構成とＬＣ／ＭＳ／ＭＳ測定条件
【表１】
2020162623.tif 000043
【０５６８】
ＭＲＭ測定パラメータ
【表２】
2020162623.tif 000044
【０５６９】
抽出液に含まれる炭素数が４以上、２０以下の一般式（１）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、炭素数が４以上２０以下の一般式（１）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて各炭素数の一般式（１）で示される化合物のピーク面積を求めた。【０５７０】
ＭＲＭ測定パラメータ
【表３】
2020162623.tif 000045
【０５７１】
抽出液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＣｍ＝（（ＡＣｍ−ｂ）／ａ）×（（５０×ｍ＋４５）／４１３）    （３）
ＸＣｍ：抽出溶液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＣｍ：抽出溶液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。【０５７２】
粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＣｍ＝ＸＣｍ×１２．６    （４）
ＹＣｍ：粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）【０５７３】
成形体（押出ビード、延伸ビード）に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（６）により求めた。
ＷＣｍ＝ＸＣｍ×１２６    （６）
ＷＣｍ：成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）【０５７４】
〔一般式（２）で示される化合物の含有量測定方法〕
粉末からの抽出粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。【０５７５】
成形体（押出ビード、延伸ビード）からの抽出
成形体０．１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。【０５７６】
抽出液に含まれる一般式（２）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（２）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタンスルホン酸に換算することにより求めた。【０５７７】
パーフルオロオクタンスルホン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ〜１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタンスルホン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，  ＬＣ−ＭＳ  ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ    （１）
Ａ：パーフルオロオクタンスルホン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタンスルホン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）【０５７８】
測定機器構成とＬＣ／ＭＳ／ＭＳ測定条件
【表４】
2020162623.tif 000046
【０５７９】
ＭＲＭ測定パラメータ
【表５】
2020162623.tif 000047
【０５８０】
抽出液に含まれる炭素数が４以上、２０以下の一般式（２）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、炭素数が４以上２０以下の一般式（２）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて各炭素数の一般式（２）で示される化合物のピーク面積を求めた。【０５８１】
ＭＲＭ測定パラメータ
【表６】
2020162623.tif 000048
【０５８２】
抽出液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＳｎ＝（（ＡＳｎ−ｂ）／ａ）×（（５０×ｎ＋８１）／４９９）    （３）
ＸＳｎ：抽出溶液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）ＡＳｎ：抽出溶液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。【０５８３】
粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＳｎ＝ＸＳｎ×１２．６    （４）
ＹＳｎ：粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）【０５８４】
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（６）により求めた。
ＷＳｎ＝ＸＳｎ×１２６    （６）
ＷＳｎ：成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）【０５８５】
〔一般式（７）で示される化合物の含有量測定方法〕
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（７）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。【０５８６】
成形体（押出ビード、延伸ビード）からの抽出
成形体０．１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（７）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。【０５８７】
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタン酸に換算することにより求めた。【０５８８】
パーフルオロオクタン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ〜１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，  ＬＣ−ＭＳ  ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ    （１）
Ａ：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）【０５８９】
測定機器構成とＬＣ／ＭＳ／ＭＳ測定条件
【表７】
2020162623.tif 000049
【０５９０】
ＭＲＭ測定パラメータ
【表８】
2020162623.tif 000050
【０５９１】
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、一般式（７）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて一般式（７）で示される化合物のピーク面積を求めた。【０５９２】
ＭＲＭ測定パラメータ
【表９】
2020162623.tif 000051
【０５９３】
抽出液中の一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＰＦＯ＝（ＡＰＦＯ−ｂ）／ａ    （３）
ＸＰＦＯ：抽出溶液中の一般式（７）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＰＦＯ：抽出溶液中の一般式（７）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。【０５９４】
粉末中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。ＹＰＦＯ＝ＸＰＦＯ×１２．６    （４）
ＹＰＦＯ：粉末中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）【０５９５】
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（６）により求めた。
ＷＰＦＯ＝ＸＰＦＯ×１２６    （６）
ＷＰＦＯ：成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）【０５９６】
合成例１
内容積１Ｌの攪拌機付きガラス製の反応器に、５８８．６ｇの脱イオン水、７０．０ｇの１０−オキソウンデシル硫酸ナトリウム（以下、界面活性剤Ａという）を加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行い、酸素を取り除いた。反応器を９０℃に昇温し、窒素で０．４ＭＰａＧに昇圧する。４１．４ｇの過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）を仕込み、３時間撹拌した。撹拌を停止し、反応器を大気圧になるまで脱圧を行い、冷却を行い、界面活性剤水溶液Ｂを得た。【０５９７】
合成例２
内容積６Ｌの攪拌機付きＳＵＳ製の反応器に、３６００ｇの脱イオン脱気水、１８０ｇのパラフィンワックス、及び０．５４０ｇの界面活性剤Ａを加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行い、酸素を取り除いた。反応器を７０℃に昇温し、ＴＦＥを反応器に充填して、反応器の内圧を２．７０ＭＰａＧにする。重合開始剤として０．６２０ｇの過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）、１．４８８ｇのジコハク酸パーオキサイド（ＤＳＰ）を仕込んだ。反応圧が２．７０ＭＰａＧ一定となるようにＴＦＥを仕込んだ。ＴＦＥを仕込み始めたと同時に界面活性剤水溶液Ｂを連続的に仕込み始めた。ＴＦＥを１４００ｇ仕込んだ時に、撹拌を停止し、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なった。反応終了までに界面活性剤水溶液Ｂは１０３ｇ仕込んだ。内容物を反応器より取り出して、冷却後、パラフィンワックスを分離し、ＰＴＦＥ水性分散液を得た。
得られたＰＴＦＥ水性分散液の固形分含有量は２８．０質量％であり、平均一次粒子径は、３２２ｎｍであった。
得られたＰＴＦＥ水性分散液を脱イオン水で固形分含有量が約１０質量％となるように希釈して、高速撹拌条件下で凝固させた。凝固した湿潤粉末を２１０℃で１８時間乾燥した。得られたＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。得られたＰＴＦＥ粉末の標準比重は２．１５９、熱不安定指数は４６であった。得られたＰＴＦＥ粉末の明度Ｌ＊（未焼成）は、７５．１であり、明度Ｌ＊（焼成後）は、２０．０であった。また、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１０に示す。【０５９８】
実施例１Ａ
合成例２で得られたＰＴＦＥ粉末１２０ｇを反応器に入れた。１０５℃になるように反応器内を昇温し、１時間窒素置換を行い反応器内の空気を除去した。１０５℃に保持したまま、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）を窒素ガスで希釈した混合ガス（フッ素／窒素（容積比）＝２０／８０）を流量約２００ｍＬ／ｍｉｎで４８０分間（８時間）流し続けた（フッ素ラジカル源添加量（すなわち、フッ素ガスの量）３０．０ｇ）。反応終了後、直ちに窒素ガスで系内を１時間置換してフッ素ガスを除去した。澱粉／ヨウ化物試験を行い、指示薬の発色の有無により不活性ガス中にフッ素ガスがないことを確認した。反応容器の温度を室温まで冷却した。得られたＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。得られたＰＴＦＥ粉末の標準比重は２．１６２、熱不安定指数は２３であった。また、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量は、定量限界以下であった。得られたＰＴＦＥ粉末の明度Ｌ＊（未焼成）は、９０．０であり、明度Ｌ＊（焼成後）は、７０．３であった。【０５９９】
実施例１Ｂ
実施例１Ａで得られたＰＴＦＥ粉末１００ｇを、室温で２時間以上放置した後、押出助剤として潤滑剤（アイソパーＨ、エクソンモービル社製）２１．７ｇを添加し、３分間混合してＰＴＦＥ粉末の混合物を得た。
得られたＰＴＦＥ粉末の混合物を、２５℃恒温槽に２時間放置した後に、２５℃にて、リダクションレシオ１００（ＲＲ１００、シリンダー径２５ｍｍ、オリフィスの直径２．５ｍｍ、オリフィスのランド長１．１ｍｍ、導入角３０°）、押出速度５１ｃｍ／分の条件で、ペースト押出成形を行い、潤滑剤を含むＰＴＦＥ押出ビードを得た。
上記のペースト押出により得られた潤滑剤を含むＰＴＦＥ押出ビードを２３０℃で３０分間乾燥し、潤滑剤をビードから除去することで乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
この時の押出圧力は、１７．５ＭＰａであった。【０６００】
実施例１Ｃ
実施例１Ｂで得られた乾燥したＰＴＦＥ押出ビードを適当な長さに切断し、クランプ間隔が５１ｍｍの間隔となるよう、各末端をクランプに固定し、空気循環炉中で３００℃に加熱した。次いでクランプを総ストレッチ（延伸長さ）が２４００％になるように延伸速度１０００％／秒でビードを延伸することで、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
得られたＰＴＦＥ延伸ビードの各種物性を測定した。結果を表１０に示す。また、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１０に示す。【０６０１】
実施例２Ａ
反応器内の温度を２００℃に変更した以外は、実施例１Ａと同様にフッ素化処理を行なった。
得られたＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。得られたＰＴＦＥ粉末の標準比重は２．１６１、熱不安定指数は２２であった。また、一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量は、定量限界以下であり、一般式（７）で示される化合物の含有量は、５．９Ｅ＋０２ｐｐｂ（５．９×１０２ｐｐｂ）であった。得られたＰＴＦＥ粉末の明度Ｌ＊（未焼成）は、９９．０であり、明度Ｌ＊（焼成後）は、７０．８であった。【０６０２】
実施例２Ｂ
実施例２Ａで得られたＰＴＦＥ粉末を用いて、実施例１Ｂと同様にして、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。この時の押出圧力は、１６．６ＭＰａであった。【０６０３】
実施例２Ｃ
実施例２Ｂで得られた乾燥された押出ビードを用いて、実施例１Ｃと同様にして、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
得られたＰＴＦＥ延伸ビードの各種物性を測定した。結果を表１０に示す。また、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１０に示す。【０６０４】
実施例３Ａ
合成例２で得られたＰＴＦＥ粉末を用いて、実施例１Ｂと同様にして、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。得られた乾燥された押出ビード４０ｇを反応器に入れた。１０５℃になるように反応器内を昇温し、１時間窒素置換を行い反応器内の空気を除去した。１０５℃に保持したまま、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）を窒素ガスで希釈した混合ガス（フッ素／窒素（容積比）＝２０／８０）を流量約５０ｍＬ／ｍｉｎで１６２分間流し続けた以外は、実施例１Ａと同様にフッ素化処理を行ない、フッ素化処理された押出ビードを得た。この時の押出圧力は、１７．５ＭＰａであった。【０６０５】
実施例３Ｃ
実施例３Ａで得られたフッ素化された押出ビードを用いて、実施例１Ｃと同様にして、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
得られたＰＴＦＥ延伸ビードの各種物性を測定した。結果を表１０に示す。また、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１０に示す。【０６０６】
実施例４Ａ
合成例２で得られたＰＴＦＥ粉末を用いて、実施例１Ｂと同様にして、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。得られた乾燥された押出ビード４０ｇを反応器に入れ、反応器内の温度を２００℃に変更した以外は、実施例３Ａと同様にフッ素化した。【０６０７】
実施例４Ｃ
実施例４Ａで得られたフッ素化された押出ビードを用いて、実施例１Ｃと同様にして、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
得られたＰＴＦＥ延伸ビードの各種物性を測定した。結果を表１０に示す。また、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１０に示す。【０６０８】
【表１０】
2020162623.tif 000052
なお、定量限界は、粉末の場合が１３ｐｐｂであり、成形体の場合が１．３×１０２ｐｐｂである。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月30日(2021.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
破断強度が１０．０Ｎ以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２】
応力緩和時間が５０秒以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項３】
標準比重が２．１７５以下であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項４】
破断強度が１０．０Ｎ以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。
【請求項５】
応力緩和時間が５０秒以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項６】
標準比重が２．１７５以下であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項７】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１５０ｐｐｂ以下である請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、２５ｐｐｂ以下である請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項１０】
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項４〜６のいずれかに記載の組成物。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項１１】
更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項１２】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上である請求項１〜１１のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が２０以上である請求項１〜１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
押出圧力が３０．０ＭＰａ以下である請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
粉末である請求項１〜１４のいずれかに記載の組成物。
【請求項１６】
炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られる請求項１〜１５のいずれかに記載の組成物。
【請求項１７】
乳化重合において、炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
炭化水素系界面活性剤が、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、および、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１６または１７に記載の組成物。
【請求項１９】
炭化水素系界面活性剤が、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１６〜１８のいずれかに記載の組成物。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれかに記載の組成物からなる延伸体。
【請求項２１】
破断強度が１０．０Ｎ以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２２】
応力緩和時間が５０秒以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２３】
破断強度が１０．０Ｎ以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２４】
応力緩和時間が５０秒以上であり、
ポリテトラフルオロエチレンを含み、
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１５０ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする延伸体。
一般式（３）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２５】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１５０ｐｐｂ以下である請求項２１〜２４のいずれかに記載の延伸体。
【請求項２６】
一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、２５ｐｐｂ以下である請求項２１〜２５のいずれかに記載の延伸体。
【請求項２７】
下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項２１又は２２に記載の延伸体。
一般式（４）：（Ｈ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ−（ＣＦ２）８−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２８】
下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項２３又は２４に記載の延伸体。
一般式（５）：（Ｈ−（ＣＦ２）１３−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ−（ＣＦ２）１４−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項２９】
更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項２１〜２８のいずれかに記載の延伸体。
一般式（７）：（Ｆ−（ＣＦ２）７−ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
【請求項３０】
熱不安定指数（ＴＩＩ）が１０以上である請求項２１〜２９のいずれかに記載の延伸体。
【請求項３１】
ポリテトラフルオロエチレンが、炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーの乳化重合を水性媒体中で行うことにより得られる請求項２１〜３０のいずれかに記載の延伸体。
【請求項３２】
乳化重合において、炭化水素系界面活性剤を連続的に添加する請求項３１に記載の延伸体。
【請求項３３】
炭化水素系界面活性剤が、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、および、一般式：Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成していてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ３−、−ＳＯ３−、−ＳＯ４−、−ＰＯ３−又は−ＣＯＯ−であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。）で示される炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種である請求項３１または３２に記載の延伸体。
【請求項３４】
炭化水素系界面活性剤が、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸およびアルキル硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種である請求項３１〜３３のいずれかに記載の延伸体。
【請求項３５】
請求項２１〜３４のいずれかに記載の延伸体の製造方法であって、
炭化水素系界面活性剤の存在下、テトラフルオロエチレンのみの乳化重合、又は、テトラフルオロエチレンと前記テトラフルオロエチレンと共重合可能な変性モノマーとの乳化重合を水性媒体中で行って水性分散液を得る工程、
前記水性分散液から粉体を得る工程、
前記粉体をフッ素化処理する工程、及び、
前記フッ素化処理した粉体を延伸して延伸体を得る工程
を含む延伸体の製造方法。
【国際調査報告】
2020162623.tif 000053
2020162623.tif 000054
2020162623.tif 000055
2020162623.tif 000056
2020162623.tif 000057
2020162623.tif 000058
2020162623.tif 000059
2020162623.tif 000060
2020162623.tif 000061
2020162623.tif 000062
2020162623.tif 000063