(57)【要約】  電極ユニットは、被検体内に挿入され、外表面が電気絶縁性を有する材料からなる電極支持部と、前記電極支持部の基端に連結された基端硬質部と、前記電極支持部の先端部に設けられた先端硬質部と、前記電極支持部に設けられ、前記先端硬質部および前記基端硬質部を接続し、前記先端硬質部および前記基端硬質部よりも曲げ剛性の低い弾性領域と、前記先端硬質部によって支持され、前記先端硬質部の外表面から突出する処置用電極と、前記先端硬質部の外表面のうちの前記処置用電極が突出する方向に向く面において、前記処置用電極よりも基端側に配置された検知用電極と、前記基端硬質部に設けられ、前記処置用電極に電気的に接続された電気的接続部と、前記基端硬質部に設けられ、前記検知用電極に電気的に接続された検知用接続部と、を含む。
2020157803.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内視鏡による観察下において高周波電流を用いて被検体内の組織を処置する電極ユニットであって、
前記被検体内に挿入され、外表面が電気絶縁性を有する材料からなる電極支持部と、
前記電極支持部の基端に連結された基端硬質部と、
前記電極支持部の先端部に設けられた先端硬質部と、
前記電極支持部に設けられ、前記先端硬質部および前記基端硬質部を接続し、前記先端硬質部および前記基端硬質部よりも曲げ剛性の低い弾性領域と、
前記先端硬質部によって支持され、前記先端硬質部の外表面から突出する処置用電極と、
前記先端硬質部の外表面のうちの前記処置用電極が突出する方向に向く面において、前記処置用電極よりも基端側に配置された検知用電極と、
前記基端硬質部に設けられ、前記処置用電極に電気的に接続された電気的接続部と、
前記基端硬質部に設けられ、前記検知用電極に電気的に接続された検知用接続部と、
を含むことを特徴とする電極ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載の電極ユニットと、回収電極と、を含むことを特徴とする内視鏡システム。
【請求項３】
前記電気的接続部、前記検知用接続部および前記回収電極に電気的に接続される高周波電源制御装置と、
前記高周波電源制御装置に設けられ、前記電極ユニットを流れる電流の抵抗値を検知する抵抗検知部と、
を含むことを特徴とする請求項２に記載の内視鏡システム。
【請求項４】
前記電極ユニットは、複数の前記検知用電極を備え、
前記抵抗検知部は、複数の前記検知用電極の間の抵抗値を検知し、
前記高周波電源制御装置は、前記抵抗検知部により検知される抵抗値が所定の閾値以上である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を許可し、前記抵抗値が所定の閾値未満である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項３に記載の内視鏡システム。
【請求項５】
前記被検体内において潅流液の圧力を検知する圧力センサを備え、
前記高周波電源制御装置は、前記圧力センサにより検知される潅流液の圧力が所定の範囲外である場合には、前記抵抗値の値に関わらず前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項４に記載の内視鏡システム。
【請求項６】
前記抵抗検知部は、前記検知用電極と前記回収電極との間の抵抗値を検知し、
前記高周波電源制御装置は、前記抵抗検知部により検知される抵抗値が所定の閾値以上である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を許可し、前記抵抗値が所定の閾値未満である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項３に記載の内視鏡システム。
【請求項７】
前記被検体内において潅流液の圧力を検知する圧力センサを備え、
前記高周波電源制御装置は、前記圧力センサにより検知される潅流液の圧力が所定の範囲外である場合には、前記抵抗値の値に関わらず前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項６に記載の内視鏡システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波電流を用いて被検体内の組織を処置する電極ユニットおよび内視鏡システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
人体等の被検体の組織を処置（例えば、切除または凝固等）する技術として電気メスが知られている。例えば、日本国特許３７３０７９６号公報には、内視鏡による観察下において、高周波電流を用いて被検体内の組織を処置（例えば、切除または凝固等）する装置が開示されている。日本国特許３７３０７９６号公報に開示の技術では、ループ形状に形成された電極に高周波電流を流すことにより、組織の処置（例えば、切除または凝固等）を行う。【０００３】
日本国特許３７３０７９６号公報に開示されているような、ループ形状に形成された電極は、例えば膀胱等の臓器内の組織を切除するために用いられる。ここで、電極が臓器の壁面に入り込む深さは、使用者が電極を壁面に押しつける力の強さに応じて変化する。このため、従来のループ形状に形成された電極を用いて組織を切除する場合、使用者が加える力加減によって切除される組織の厚さにばらつきが生じてしまう。例えば、切除した組織を生検に用いる場合、所定の厚さの組織が必要となるため、切除される組織の厚さは使用者によらず一定であることが好ましい。【０００４】
本発明は、上述した点を解決するものであって、切除する組織の厚さの制御が容易な電極ユニットおよび内視鏡システムを提供することを目的とする。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様による電極ユニットは、内視鏡による観察下において高周波電流を用いて被検体内の組織を処置する電極ユニットであって、前記被検体内に挿入され、外表面が電気絶縁性を有する材料からなる電極支持部と、前記電極支持部の基端に連結された基端硬質部と、前記電極支持部の先端部に設けられた先端硬質部と、前記電極支持部に設けられ、前記先端硬質部および前記基端硬質部を接続し、前記先端硬質部および前記基端硬質部よりも曲げ剛性の低い弾性領域と、前記先端硬質部によって支持され、前記先端硬質部の外表面から突出する処置用電極と、前記先端硬質部の外表面のうちの前記処置用電極が突出する方向に向く面において、前記処置用電極よりも基端側に配置された検知用電極と、前記基端硬質部に設けられ、前記処置用電極に電気的に接続された電気的接続部と、前記基端硬質部に設けられ、前記検知用電極に電気的に接続された検知用接続部と、を含む。【０００６】
また、本発明の一態様による内視鏡システムは、前記電極ユニットと、回収電極と、を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第１の実施形態の内視鏡システムの概略的な構成を示す図である。
【図２】第１の実施形態の電極ユニットを第１軸に沿って見た図である。
【図３】第１の実施形態の電極ユニットを第２軸に沿って見た図である。
【図４】図３のIV-IV断面図である。
【図５】図４のV-V断面図である。
【図６】図４のVI-VI断面図である。
【図７】第１の実施形態の高周波電源制御装置の動作を示すフローチャートである。
【図８】第１の実施形態の電極ユニットを用いて組織を切除する様子を示す図である。
【図９】第１の実施形態の電極ユニットを用いて組織を切除する様子を示す図である。
【図１０】第１の実施形態の電極ユニットを用いて組織を切除する様子を示す図である。
【図１１】第２の実施形態の内視鏡システムの概略的な構成を示す図である。
【図１２】第２の実施形態の高周波電源制御装置の動作を示すフローチャートである。
【図１３】第３の実施形態の内視鏡システムの概略的な構成を示す図である。
【図１４】第３の実施形態の検知用電極の構成を示す断面図である。
【図１５】第３の実施形態の高周波電源制御装置の動作を示すフローチャートである。
【図１６】第４の実施形態の内視鏡システムの概略的な構成を示す図である。
【図１７】第４の実施形態の高周波電源制御装置の動作を示すフローチャートである。
【図１８】第５の実施形態の電極ユニットを第１軸に沿って見た図である。
【図１９】第５の実施形態の高周波電源制御装置の動作を示すフローチャートである。
【図２０】第５の実施形態の電極ユニットを用いて組織を切除する様子を示す図である。
【図２１】第５の実施形態の電極ユニットを用いて組織を切除する様子を示す図である。
【図２２】第６の実施形態の電極ユニットを第２軸に沿って上方から見た図である。
【図２３】第６の実施形態の電極ユニットを第１軸に沿って見た図である。
【図２４】第６の実施形態の電極ユニットの弾性領域を湾曲させた状態を示す図である。
【図２５】第６の実施形態の第４指標を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に、本発明の好ましい形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図においては、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、構成要素毎に縮尺を異ならせてあるものであり、本発明は、これらの図に記載された構成要素の数量、構成要素の形状、構成要素の大きさの比率、及び各構成要素の相対的な位置関係のみに限定されるものではない。【０００９】
（第１の実施形態）  
図１は、内視鏡システム１の概略的な構成を示す図である。内視鏡システム１は、被検体内において、内視鏡による観察下で組織を処置（例えば、切除または凝固等）する装置である。【００１０】
本実施形態の内視鏡システム１は、内視鏡であるレゼクトスコープ１０、電極ユニット３０および外部装置５０を含む。本実施形態では一例として、被検体は人体である。また、本実施形態では一例として、内視鏡は一般にレゼクトスコープと称される形態のものであるが、内視鏡は軟性内視鏡であってもよい。【００１１】
レゼクトスコープ１０は、シース１１、スライダ２０およびテレスコープ２１を含む。【００１２】
シース１１は、直線状の長手軸Ｌに沿う管状の部位を有する。シース１１は、レゼクトスコープ１０の使用時において、被検体外から被検体内に挿入される部位である。シース１１は、長手軸Ｌに沿う方向の両端が開口している。レゼクトスコープ１０の使用時においては、シース１１内に、後述するテレスコープ２１および電極ユニット３０が挿入される。【００１３】
なお、シース１１の外周には、潅流液を被検体内に導入するためのアウターシースが配置される。アウターシース等の潅流液を被検体内に導入するための構成は公知であるため説明を省略する。本実施形態では、潅流液は、例えば生理食塩水等の電解質溶液であり、導電性を有する。【００１４】
シース１１の長手軸Ｌに沿う方向の両端のうち、被検体内に挿入される側の端を先端１１ａと称し、先端１１ａとは反対側の端を基端１１ｂと称する。シース１１の基端１１ｂは、レゼクトスコープ１０の使用時において被検体外に露出する。【００１５】
以下では説明のため、長手軸Ｌに直交し、かつ互いに直交する一対の軸である、第１軸Ｘおよび第２軸Ｙを定める。また、第１軸Ｘに沿う方向のうちの一方を右方向とし、他方を左方向とする。第２軸Ｙに沿う方向のうちの一方を上方向とし、他方を下方向とする。本実施形態では一例として、テレスコープ２１を用いて撮像される画像中における水平方向が第１軸Ｘと略平行であり、垂直方向が第２軸Ｙと略平行である。また、上方向および右方向は、テレスコープ２１を用いて撮像される画像中における上および右である。【００１６】
シース１１の少なくとも先端１１ａ近傍の表面には、導電性の材料からなる回収電極１１ｃが露出している。なお、シース１１全体が金属等の導電性の材料からなり、シース１１の表面全体が回収電極１１ｃとなる構成であってもよい。【００１７】
また、シース１１の基端１１ｂ近傍には、シースコネクタ１１ｄが設けられている。シースコネクタ１１ｄは、回収電極１１ｃに電気的に接続されている。シースコネクタ１１ｄには、ケーブル５６が接続される。ケーブル５６は、シースコネクタ１１ｄと、外部装置５０の高周波電源制御装置５５と、を電気的に接続する。【００１８】
スライダ２０は、シース１１の基端１１ｂ側に配置される。スライダ２０は、シース１１に対して長手軸Ｌに沿う方向に相対的に移動する。スライダ２０には、ハンドル２０ａが設けられている。使用者が手指によりハンドル２０ａに力を加えることにより、スライダ２０は、シース１１に対して長手軸Ｌに沿う方向に相対的に移動する。なお、シース１１に対してスライダ２０を相対的に移動可能に案内する機構は、従来のレゼクトスコープ１０と同様であるため、図示および説明を省略する。【００１９】
スライダ２０は、スコープ保持部２２、電極ユニット保持部２３、電極コネクタ２４および検知用コネクタ２５を含む。スコープ保持部２２は、テレスコープ２１を保持する。【００２０】
テレスコープ２１は、被検体内を光学的に観察するための部位である。テレスコープ２１は、細長の挿入部２１ａ、接眼部２１ｂおよび光源接続部２１ｃを備える。挿入部２１ａは、テレスコープ２１がスコープ保持部２２に固定された状態において、シース１１内に挿入される。【００２１】
挿入部２１ａの先端部２１ａ１には、観察窓および照明光出射窓が配設されている。また、挿入部２１ａの基端部２１ａ２には、接眼部２１ｂおよび光源接続部２１ｃが配設されている。【００２２】
接眼部２１ｂには、撮像ユニット５２が装着される。撮像ユニット５２は、外部装置５０のビデオプロセッサ５１に電気的に接続されている。ビデオプロセッサ５１には画像表示装置５３が電気的に接続されている。また、光源接続部２１ｃには、光ファイバケーブル５４ａの一端が接続される。光ファイバケーブル５４ａの他端は、外部装置５０の光源装置５４に接続される。【００２３】
挿入部２１ａの先端部２１ａ１に設けられた観察窓からの視界が、撮像ユニット５２により撮像され、画像表示装置５３に表示される。また、光源装置５４から出射された照明光が、挿入部２１ａの先端部２１ａ１に設けられた照明光出射窓から出射される。テレスコープ２１およびテレスコープ２１に接続される外部装置５０の構成は、従来のレゼクトスコープ１０と同様であるため、詳細な説明を省略する。【００２４】
電極ユニット保持部２３は、後述する電極ユニット３０を保持する。電極コネクタ２４および検知用コネクタ２５は、電極ユニット保持部２３に保持された電極ユニット３０に電気的に接続される。電極コネクタ２４および検知用コネクタ２５には、ケーブル５６が接続される。ケーブル５６は、電極コネクタ２４および検知用コネクタ２５と、外部装置５０の高周波電源制御装置５５と、を電気的に接続する。【００２５】
電極ユニット３０は、電極ユニット保持部２３に固定された状態において、シース１１内に挿通される部位を有する。スライダ２０は、テレスコープ２１および電極ユニット３０と共に、シース１１に対して長手軸Ｌに沿って相対的に移動する。電極ユニット３０の一部は、シース１１の先端１１ａから突出することができる。後述するが、電極ユニット３０の、シース１１の先端１１ａから突出する部位には、処置用電極３５が配設されている。【００２６】
電極ユニット３０、回収電極１１ｃおよび高周波電源制御装置５５は、いわゆるバイポーラ式の電気手術装置を構成する。高周波電源制御装置５５は、スイッチ５５ａ、抵抗検知部５５ｂ、プロセッサ５５ｃおよび情報出力部５５ｄを含む。【００２７】
スイッチ５５ａは、例えば使用者が足により操作するフットスイッチである。スイッチ５５ａは、使用者が、高周波電流の出力を行う指示を高周波電源制御装置５５に入力するための装置である。【００２８】
高周波電源制御装置５５は、使用者によるスイッチ５５ａの操作と、後述する判定処理に基づいて、高周波電流を電極ユニット３０へ出力の有無を切り替える。高周波電源制御装置５５から出力される高周波電流は、被検体内において、処置用電極３５、潅流液および回収電極１１ｃの間で流れる。高周波電源制御装置５５が高周波電流を出力している状態において、処置用電極３５に接触する被検体の組織が発熱し、組織の処置（例えば、切除または凝固等）が行われる。【００２９】
抵抗検知部５５ｂは、電極ユニット３０を流れる電流の抵抗値を検知する。プロセッサ５５ｃは、高周波電流制御装置５５の動作を制御するハードウエアを含む。プロセッサ５５ｃは、図示しない記憶装置に記憶されているプログラムに従って動作する。情報出力部５５ｄは、使用者に向けた情報を出力する。情報出力部５５ｄは、例えば画像や文字を表示する表示装置、光を発する発光装置、音を発するスピーカ、振動を発するバイブレータ、またはこれらの組み合わせ、を含む。また、情報出力部５５ｄは、画像表示装置５３を介して使用者に向けた情報を出力する形態であってもよい。抵抗検知部５５ｂ、プロセッサ５５ｃおよび情報出力部５５ｄの動作については後述する。【００３０】
図２は、電極ユニット３０を、第１軸Ｘに沿って左から見た図である。図２において、図中の上が上方向である。図３は、電極ユニット３０を、第２軸Ｙに沿って下から見た図である。図３において、図中の上が左方向である。図４は、図３のIV-IV断面図である。図４において、図中の上が上方向であり、図中の右が左方向である。図５は、図４のV-V断面図である。図５において、図中の上が右方向である。図６は、図４のVI-VI断面図である。図４において、図中の上が上方向である。【００３１】
図２および図３に示すように、電極ユニット３０は、長手軸Ｌに沿う方向を長手方向とした細長の形状を有する。電極ユニット３０は、基端硬質部３１、電極支持部３２および処置用電極３５を含む。【００３２】
基端硬質部３１は、レゼクトスコープ１０の電極ユニット保持部２３に固定される部位である。基端硬質部３１の先端３１ａには、後述する電極支持部３２が結合されている。基端硬質部３１の基端３１ｂには、電気的接続部３１ｃおよび検知用接続部３１ｅが設けられている。【００３３】
電気的接続部３１ｃは、基端硬質部３１が電極ユニット保持部２３に固定された状態において、レゼクトスコープ１０の電極コネクタ２４と電気的に接続される。また、電気的接続部３１ｃは、電極ユニット３０内に挿通されている導電性のワイヤ３３を介して、処置用電極３５に電気的に接続されている。【００３４】
検知用接続部３１ｅは、基端硬質部３１が電極ユニット保持部２３に固定された状態において、レゼクトスコープ１０の検知用コネクタ２５と電気的に接続される。また、検知用接続部３１ｅは、電極ユニット３０内に挿通されている導電性の検知用ワイヤ３４（図２に図示）を介して、後述する検知用電極３９に電気的に接続されている。【００３５】
電極支持部３２は、処置用電極３５および検知用電極３９を支持する。電極支持部３２は、レゼクトスコープ１０の使用時において、シース１１の先端１１ａから突出する部位である。電極支持部３２は、１つまたは２つの先端硬質部３６および１つまたは２つの弾性領域３７を含む。先端硬質部３６には、処置用電極３５および検知用電極３９が固定される。【００３６】
弾性領域３７は、先端硬質部３６の基端と、基端硬質部３１の先端とを連結する。弾性領域３７の曲げ剛性は、先端硬質部３６および基端硬質部３１の曲げ剛性よりも低い。【００３７】
処置用電極３５は、金属ワイヤ等の導電性を有する線状の部材からなる。処置用電極３５は、先端硬質部３６の表面から突出している。【００３８】
処置用電極３５は、先端硬質部３６の表面の一点から先端硬質部３６の外側に突出し、異なる点において先端硬質部３６の内側に入り込むループ形状を有している。具体的には、処置用電極３５は、先端硬質部３６の表面の互いに離間した２点において、先端硬質部３６によって支持された一対の基部３５ａと、先端硬質部３６の表面から離間した状態で一対の基部３５ａを接続する架設部３５ｂと、を含む。【００３９】
図４に示すように、架設部３５ｂは、長手軸Ｌに沿う方向から見た場合に略コ字状または略Ｕ字状である。第１軸Ｘに沿う方向から見た場合に、架設部３５ｂの頂部３５ｃは、基部３５ａから長手軸Ｌに交差する方向に向かって突出している。【００４０】
一対の基部３５ａは、先端硬質部３６内において、ワイヤ３３と電気的に接続されている。図４および図５に示すように、本実施形態では一例として、ワイヤ３３および処置用電極３５は、同一の金属製の線状部材からなる。【００４１】
検知用電極３９は、先端硬質部３６の外表面のうちの処置用電極３５が突出する方向に向く面である下端面３６ｂにおいて、外側に露出するよう配置されている。検知用電極３９は、処置用電極３５よりも基端側に配置されている。【００４２】
より具体的に、本実施形態の電極支持部３２は、２つの先端硬質部３６を備える。個々の先端硬質部３６は、長手軸Ｌに沿う方向を長手方向とした柱状の外形を有する。なお、図示する本実施形態では、先端硬質部３６の断面は略円形であるが、先端硬質部３６の断面は平行四辺形であってもよいし、他の多角形であってもよい。【００４３】
２つの先端硬質部３６は、長手軸Ｌに沿う方向についてはほぼ同じ位置に配置されており、かつ第１軸Ｘに沿う方向（左右方向）に離間して配置されている。すなわち、２つの先端硬質部３６は、第１軸Ｘに沿う方向から見た場合に、重なり合う部分が存在する様に配置されている。したがって、２つの先端硬質部３６のそれぞれは、第１軸Ｘに沿う方向について互いに対向する面である対向面３６ａを有する。【００４４】
なお、ここで「互いに対向する面」とは、右側に配置された先端硬質部３６の概ね左方向に向く表面と、左側に配置された先端硬質部３６の概ね右方向に向く表面と、のことを指す。すなわち、対向面３６ａとは、２つの先端硬質部３６に挟まれた空間に面する部位である。したがって、２つの先端硬質部３６の対向面３６ａは、互いに平行となる部位を有していなくともよい。【００４５】
処置用電極３５の一対の基部３５ａは、２つの先端硬質部３６のそれぞれに配置されている。すなわち、処置用電極３５は、２つの先端硬質部３６の間に架け渡された金属製のワイヤ３３である。【００４６】
一対の基部３５ａは、２つの先端硬質部３６の対向面３６ａから、第１軸Ｘに沿って突出するように配置されている。また、一対の基部３５ａは、長手軸Ｌに沿う方向についてほぼ同じ位置配置されている。すなわち、一対の基部３５ａは、一対の対向面３６から第１軸Ｘに沿って互いに近づくように突出している。【００４７】
架設部３５ｂは、一対の基部３５ａの先端部の間を接続している。架設部３５ｂは、長手軸Ｌに沿う方向から見た場合において、一対の基部３５ａから下方に向かって凸形状となるように湾曲している。そして、図４に示すように、架設部３５ｂの頂部３５ｃは、２つの先端硬質部３６の下方に面する下端面３６ｂよりも下方に位置している。【００４８】
以上に説明した構成を有する処置用電極３５は、第２軸Ｙに沿う方向から見た場合に、２つの先端硬質部３６に挟まれた空間内のみにおいて外部に露出している。言い換えれば、処置用電極３５の外部に露出する部位は、第２軸Ｙに沿う方向から見た場合に、２つの先端硬質部３６と重ならないように配置されている。【００４９】
図４および図５に示すように、個々の先端硬質部３６は、セラミックパイプ３２ａと被覆部３８により構成されている。セラミックパイプ３６ｃおよび被覆部３８は、電気絶縁性を有する。セラミックパイプ３２ａは、内側にワイヤ３３が挿通される中空の部材である。被覆部３８は、樹脂製のチューブであり、セラミックパイプ３２ａを被覆している。セラミックパイプ３２ａおよび被覆部３８の側面には、処置用電極３５の基部３５ａを保持する貫通孔３２ｃが形成されている。【００５０】
本実施形態の電極支持部３２は、一例として２つの弾性領域３７を有する。２つの弾性領域３７は、２つの先端硬質部３６のそれぞれの基端に接続されている。なお、電極支持部３２は、２つの先端硬質部３６の双方の基端に接続される１つの弾性領域３７を備える形態であってもよい。【００５１】
本実施形態の弾性領域３７は、電気絶縁性を有する樹脂製のチューブである被覆部３８により構成されている。本実施形態では一例として、先端硬質部３６の被覆部３８と、弾性領域３７の被覆部３８とは、長手軸Ｌに沿う方向に連続した同一の部材である。弾性領域３７の被覆部３８内には、ワイヤ３３が挿通される。すなわち、本実施形態では、被覆部３８内に挿入されているセラミックパイプ３２ａが、先端硬質部３６の曲げ剛性を弾性領域３７よりも高める役割を有している。【００５２】
そして、本実施形態の基端硬質部３１は、樹脂製のチューブである被覆部３８および金属パイプ３１ｄにより構成されている。本実施形態では一例として、基端硬質部３１の被覆部３８と、弾性領域３７の被覆部３８とは、長手軸Ｌに沿う方向に連続した同一の部材である。基端硬質部３１の被覆部３８内には、ワイヤ３３が挿通される。金属パイプ３１ｄは、被覆部３８の外周を被覆している。すなわち、本実施形態では、金属パイプ３１ｄが、基端硬質部３１の曲げ剛性を弾性領域３７よりも高める役割を有している。【００５３】
図３および図６に示すように、検知用電極３９は、２つの先端硬質部３６のそれぞれの下端面３６ｂにおいて、処置用電極３５よりも基端側に配置されている。すなわち、本実施形態の電極ユニット３０は、離間して配置された複数の検知用電極３９を備える。本実施形態では一例として、検知用電極３９は、被覆部３８の内側に配設されており、被覆部３８を貫通する貫通孔３８ａを介して外側に露出している。【００５４】
次に、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作について、図７のフローチャートを参照して説明する。図７のフローチャートの処理は、プロセッサ５５ｃにより所定の周期で繰り返し実行される。図７のフローチャートの処理を開始する時点において、高周波電源制御装置５５は、電流の出力を停止した状態である。【００５５】
まずステップＳ１０において、プロセッサ５５ｃは、スイッチ５５ａがＯＮ状態であるか否かを判定する。スイッチ５５ａは、使用者による高周波電流の出力の実行指示が入力される場合にＯＮ状態となる。【００５６】
ステップＳ１０の判定において、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２００に移行する。ステップＳ２００では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５が電極ユニット３０に通電中であるか否かを判定する。【００５７】
ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行する。ステップＳ２１０では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止し、ステップＳ１０に戻る。また、ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ１０に戻る。すなわち、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではない場合には、高周波電源制御装置５５は、電極ユニット３０への通電を行わない。【００５８】
一方、スイッチ５５ａがＯＮ状態であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃはステップＳ２０以降の処理を実行する。【００５９】
ステップＳ２０では、プロセッサ５５ｃは、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値を検知する。具体的には、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂにより、複数の検知用電極３９間に微少な第１出力の電流を流し、その抵抗値を検知する。ここで、第１出力とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に処置用電極３５に流す高周波電流の出力である第２出力よりも低い。【００６０】
次に、ステップＳ３０において、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂが検知した抵抗値が、所定の閾値Ｔｈ以上であるか否かを判定する。ここで処置の閾値Ｔｈは、複数の検知用電極３９が、導電性を有する潅流液中に露出している場合の抵抗値よりも若干高い抵抗値である。導電性を有する潅流液とは、本実施形態では生理食塩水である。【００６１】
ステップＳ３０の判定において、抵抗値が閾値Ｔｈ以上であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ４０に移行する。ステップＳ４０では、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を開始する。前述のように、第２出力の高周波電流とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に出力するものである。すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値以上である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を許可する。【００６２】
ステップＳ３０の判定において、抵抗値が閾値Ｔｈ未満であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ５０に移行する。ステップＳ５０では、プロセッサ５５ｃは、情報出力部５５ｂにより、警告を表す情報を出力する。ここで、警告を表す情報とは、電極ユニット３０の姿勢が適切でない旨を使用者に知らせる情報を含む。情報出力部５５ｂから当該情報を出力する方法は、音の発生であってもよいし、画像表示装置５３への画像の出力であってもよい。そして、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行し、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止する。すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値未満である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【００６３】
図８および図９に、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１を用いて被検体の臓器１００内の組織を切除する様子の模式図を示す。【００６４】
電極ユニット３０を用いて臓器１００内の組織を切除する場合には、使用者は、まず臓器１００内において、電極支持部３２を、先端硬質部３６の下端面３６ｂが組織に対向する姿勢とする。そして、図８に示すように、使用者は、先端硬質部３６の下端面３６ｂが組織に接するように、電極支持部３２を臓器１００の壁面に当接させる。このとき、処置用電極３５は組織に略埋没するが、組織は切開されない。また、臓器１００内は、導電性の潅流液により満たされている。なお、電極ユニット１００およびレゼクトスコープ１０のシース１１を臓器１００内に挿入する方法や、臓器１００内を潅流液で満たす方法は従来の電極ユニットと同様であるため、説明を省略する。【００６５】
次に、使用者は、スイッチ５５ａを操作する。このとき、図８に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触し、組織の壁面と下端面３６ｂとが略平行であれば、複数の検知用電極３９が組織によって覆われる。この場合、複数の検知用電極３９間の電気的接続に組織が介在するため、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値は、所定の閾値Ｔｈ以上となる。【００６６】
よって、図８に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触している場合には、使用者によるスイッチ５５ａの操作に応じて、高周波電源制御装置５５は第２電力の高周波電流の出力を開始する。これにより、高周波電流が、処置用電極３５から潅流液を通って回収電極１１ｃへ向かって流れるため、処置用電極３５に接触する組織が発熱し、組織が切除される。【００６７】
ここで、前述のように、処置用電極３５は、第２軸Ｙに沿う方向（下方）から見た場合に、先端硬質部３６と重ならないように配置されている。したがって、先端硬質部３６の下端面３６ｂが組織に接触した状態では、処置用電極３５が組織内に入り込むことができる深さが制限される。すなわち、先端硬質部３６の下端面３６ｂは、電極３５が組織内に入り込む深さを規制するストッパーとして機能する。【００６８】
もし本実施形態とは異なり、下方から見た場合に、電極３５が先端硬質部３６の下端面３６ｂと重なるように配置されているとすれば、下端面３６ｂは電極３５により切断された組織に押し付けられる。この場合、下端面３６ｂが電極３５の組織内への進行を規制する力が本実施形態よりも弱くなってしまう可能性がある。本実施形態では、このような状態を避けることができ、電極３５が組織内に入り込む深さを確実に規制することができる。【００６９】
よって、本実施形態では、使用者が電極支持部３２を臓器１００の壁面に押し当てる力が変化したとしても、先端硬質部３６が組織に当接した状態からさらに処置用電極３５が組織内に入り込むことが防止される。【００７０】
そして、図９に示すように、使用者は、レゼクトスコープ１０を移動させて、電極支持部３２を臓器１００の壁面に沿って移動させる。すると、組織内において壁面に沿う方向に処置用電極３５が移動するため、所定の厚さの組織片が切除される。【００７１】
ここで、前述のように、使用者が電極支持部３２を臓器１００の壁面に押し当てる力が変化したとしても、処置用電極３５が組織内に入り込む深さは一定に保たれる。また、使用者によるレゼクトスコープ１０を組織方向に押し付ける力が変化する場合であっても、弾性部３７が曲がることにより、電極３５が組織の方向に押し付けられる力の変化が略一定に保たれる。これにより、先端硬質部３６が組織を変形させる量もほぼ一定に保たれ、電極３５が組織内に入り込む深さもほぼ一定に保たれる。また、使用者によるレゼクトスコープ１０の移動が臓器１００の壁面の形状に沿っておらず、臓器１００の壁面とシース１１の先端１１ａとの距離が変化する場合であっても、本実施形態では弾性領域３７が弾性変形することにより、先端硬質部３６が組織に当接した状態が保たれる。そして、先端硬質部３６が組織に当接した状態であれば、前述のように、処置用電極３５が組織内に入り込む深さは一定に保たれる。【００７２】
また、図１０に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触していない場合には、複数の検知用電極３９が潅流液中に露出する。この場合、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値Ｔｈ未満となるため、使用者がスイッチ５５ａを操作したとしても、高周波電源制御装置５５は第２電力の高周波電流を出力しない。【００７３】
図１０に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触しておらず、組織の壁面と下端面３６ｂとが略平行ではない場合には、組織に対する処置用電極３５の姿勢が所期の状態とは異なるため、処置用電極３５が組織内に入り込む深さが、所定の深さとは異なる可能性がある。【００７４】
本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１は、このような組織に対する処置用電極３５の姿勢が所期の状態とは異なる場合に、高周波電源制御装置５５からの高周波電流の出力を停止する。すなわち、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１を用いれば、処置用電極３５から高周波電流を流して組織の切除を実行している期間中は、処置用電極３５が組織内に入り込む深さを一定に保つことができる。【００７５】
以上に説明したように、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１は、使用者が処置用電極３５を移動させる軌跡にふらつきがある場合や、使用者が処置用電極３５に加える力に変動がある場合であっても、処置用電極３５が組織内に入り込む深さは一定に保つことができる。よって、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１によれば、切除する組織の厚さの制御が容易である。【００７６】
なお、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１では、複数の検知用電極３９間の電気抵抗に基づいて先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触しているか否かを検出しているが、当該検出の方法は本実施形態に限定されず、電極ユニット３０に設けたセンサを用いる形態であってもよい。【００７７】
例えば、電極ユニット３０は、下端面３６ｂに加えられる圧力を検知する圧力センサを備える形態であってもよい。この場合、プロセッサ５５ｃは、圧力センサが検知する圧力が所定の閾値以上である場合に、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触していると判定する。【００７８】
また例えば、電極ユニット３０は、下端面３６ｂと組織との間の距離を音波等を用いて測定する測距センサを備える形態であってもよい。この場合、プロセッサ５５ｃは、測距センサが検知する距離が所定の閾値以下である場合に、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触していると判定する。【００７９】
（第２の実施形態）  
以下に、本発明の第２の実施形態を説明する。以下では第１の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略する。【００８０】
図１１に示す本実施形態の内視鏡システム１は、圧力センサ１２を備える。圧力センサ１２は、内視鏡システム１の使用時において、潅流液の圧力を検知し、検知結果をプロセッサ５５ｃに出力する。【００８１】
圧力センサ１２が配置される箇所は特に限定されないが、本実施形態では一例として、圧力センサ１２は、シース１１の先端部に配置されている。シース１１の基端１１ｂ近傍には、センサコネクタ１３が設けられている。センサコネクタ１３には、ケーブル５６が接続される。ケーブル５６は、センサコネクタ１３と高周波電源制御装置５５とを電気的に接続する。【００８２】
次に、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作について説明する。図１２は、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作を示すフローチャートである。図１２のフローチャートは、第１の実施形態のフローチャート（図７）に、ステップＳ３１、ステップＳ３２およびステップＳ３３が追加されている。【００８３】
図１２のフローチャートの処理は、プロセッサ５５ｃにより所定の周期で繰り返し実行される。図１２のフローチャートの処理を開始する時点において、高周波電源制御装置５５は、電流の出力を停止した状態である。【００８４】
まずステップＳ１０において、プロセッサ５５ｃは、スイッチ５５ａがＯＮ状態であるか否かを判定する。スイッチ５５ａは、使用者による高周波電流の出力の実行指示が入力される場合にＯＮ状態となる。【００８５】
ステップＳ１０の判定において、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２００に移行する。ステップＳ２００では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５が電極ユニット３０に通電中であるか否かを判定する。【００８６】
ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行する。ステップＳ２１０では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止し、ステップＳ１０に戻る。また、ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ１０に戻る。すなわち、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではない場合には、高周波電源制御装置５５は、電極ユニット３０への通電を行わない。【００８７】
一方、スイッチ５５ａがＯＮ状態であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃはステップＳ２０以降の処理を実行する。【００８８】
ステップＳ２０では、プロセッサ５５ｃは、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値を検知する。具体的には、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂにより、複数の検知用電極３９間に微少な第１出力の電流を流し、その抵抗値を検知する。ここで、第１出力とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に処置用電極３５に流す高周波電流の出力である第２出力よりも低い。【００８９】
次に、ステップＳ３０において、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂが検知した抵抗値が、所定の閾値Ｔｈ以上であるか否かを判定する。ここで処置の閾値Ｔｈは、複数の検知用電極３９が、導電性を有する潅流液中に露出している場合の抵抗値よりも若干高い抵抗値である。導電性を有する潅流液とは、本実施形態では生理食塩水である。【００９０】
ステップＳ３０の判定において、抵抗値が閾値Ｔｈ以上であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ３１に移行する。ステップＳ３１では、プロセッサ５５ｃは、圧力センサ１２により、臓器１００内の潅流液の圧力を検知する。【００９１】
次にステップＳ３２において、プロセッサ５５ｃは、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の適正範囲内であるか否かを判定する。【００９２】
ステップＳ３２の判定において、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の適正範囲内であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ４０に移行する。ステップＳ４０では、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を開始する。前述のように、第２出力の高周波電流とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に出力するものである。【００９３】
すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値以上であり、かつ臓器１００内の潅流液の圧力が所定の範囲内である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を許可する。【００９４】
ステップＳ３０の分岐の説明に戻る。ステップＳ３０において、抵抗値が閾値Ｔｈ未満であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ５０に移行する。ステップＳ５０では、プロセッサ５５ｃは、情報出力部５５ｂにより、警告を表す情報を出力する。ここで、警告を表す情報とは、電極ユニット３０の姿勢が適切でない旨を使用者に知らせる情報を含む。そして、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行し、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止する。すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値未満である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【００９５】
ステップＳ３２の分岐の説明に戻る。ステップＳ３２の判定において、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の適正範囲外であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ３３に移行する。ステップＳ３３では、プロセッサ５５ｃは、情報出力部５５ｂにより、警告を表す情報を出力する。ここで、警告を表す情報とは、臓器１００内の潅流液の圧力が適切でない旨を使用者に知らせる情報を含む。そして、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行し、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止する。【００９６】
すなわち、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の範囲外である場合には、プロセッサ５５ｃは、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値の大小にかかわらず、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【００９７】
臓器１００内を満たす潅流液の圧力が変化すると、臓器１００の壁面の厚さが変化する。例えば、臓器１００内を満たす潅流液の圧力が高くなるほど、臓器１００が膨脹するため、臓器１００の壁面が薄くなる。一方、臓器１００内を満たす潅流液の圧力が低くなるほど、臓器１００が収縮するため、臓器１００の壁面が厚くなる。【００９８】
処置用電極３５が組織内に入り込む深さが一定であっても、臓器１００の壁面の厚さが変化すると、処置用電極３５により切除される組織の厚さが変化してしまう可能性がある。本実施形態の内視鏡システム１は、前述のように、臓器１００内を満たす潅流液の圧力が所定の適正範囲内である場合にのみ、処置用電極３５から高周波電流を流し組織を切除することが可能となる。すなわち、本実施形態の内視鏡システム１は、臓器１００の壁面の厚さが所定の範囲内である場合にのみ組織を切除するように構成されていることから、切除する組織の厚さを略一定に保つことができる。【００９９】
（第３の実施形態）  
以下に、本発明の第３の実施形態を説明する。以下では第１の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略する。【０１００】
図１３および図１４に示す本実施形態の内視鏡システム１は、検知用電極３９および抵抗検知部５５ｂの構成が第１の実施形態と異なる。【０１０１】
図１３に示すように、本実施形態の検知用電極３９は、ワイヤ３３および処置用電極３５と電気的に接続されている。本実施形態では一例として、検知用電極３９は、ワイヤ３３が貫通孔３８ａを介して外側に露出した部位である。貫通孔３８ａは、被覆部３８およびセラミックパイプ３２ａを貫通している。【０１０２】
本実施形態では、電極ユニット３０の電気的接続部３１ｃが検知用接続部３１ｅを兼ねる。また、レゼクトスコープ１０の電極コネクタ２４が検知用コネクタ２５を兼ねる。【０１０３】
抵抗検知部５５ｂは、検知用電極３９と回収電極１１ｃとの間の電気的な抵抗値を検知する。すなわち、抵抗検知部５５ｂは、ワイヤ３３と回収電極１１ｃとの間に微少な第１出力の電流を流し、その抵抗値を検知する。【０１０４】
本実施形態においても、図８に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触し、組織の壁面と下端面３６ｂとが略平行であれば、貫通孔３８ａが組織によって塞がれることは第１の実施形態と同様である。このため、図８に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触していれば、検知用電極３９と回収電極１１ｃとの間の電気的な抵抗値は、所定の閾値Ｔｈ以上となる。【０１０５】
一方、図１０に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触していない場合には、検知用電極３９が潅流液中に露出する。したがって、図１０に示すように、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触していなければ、検知用電極３９と回収電極１１ｃとの間の電気的な抵抗値は、所定の閾値Ｔｈ未満となる。【０１０６】
次に、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作について説明する。図１５は、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作を示すフローチャートである。図１５のフローチャートは、第１の実施形態のフローチャート（図７）に比して、ステップＳ２１の処理のみが異なる。【０１０７】
図１５のフローチャートの処理は、プロセッサ５５ｃにより所定の周期で繰り返し実行される。図１５のフローチャートの処理を開始する時点において、高周波電源制御装置５５は、電流の出力を停止した状態である。【０１０８】
まずステップＳ１０において、プロセッサ５５ｃは、スイッチ５５ａがＯＮ状態であるか否かを判定する。スイッチ５５ａは、使用者による高周波電流の出力の実行指示が入力される場合にＯＮ状態となる。【０１０９】
ステップＳ１０の判定において、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２００に移行する。ステップＳ２００では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５が電極ユニット３０に通電中であるか否かを判定する。【０１１０】
ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行する。ステップＳ２１０では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止し、ステップＳ１０に戻る。また、ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ１０に戻る。すなわち、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではない場合には、高周波電源制御装置５５は、電極ユニット３０への通電を行わない。【０１１１】
一方、スイッチ５５ａがＯＮ状態であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃはステップＳ２１以降の処理を実行する。【０１１２】
ステップＳ２１では、プロセッサ５５ｃは、検知用電極３９と回収電極１１ｃとの間の電気的な抵抗値を検知する。具体的には、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂにより、検知用電極３９と回収電極１１ｃとの間に微少な第１出力の電流を流し、その抵抗値を検知する。ここで、第１出力とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に処置用電極３５に流す高周波電流の出力である第２出力よりも低い。【０１１３】
次に、ステップＳ３０において、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂが検知した抵抗値が、所定の閾値Ｔｈ以上であるか否かを判定する。ここで処置の閾値Ｔｈは、複数の検知用電極３９が、導電性を有する潅流液中に露出している場合の抵抗値よりも若干高い抵抗値である。導電性を有する潅流液とは、本実施形態では生理食塩水である。【０１１４】
ステップＳ３０の判定において、抵抗値が閾値Ｔｈ以上であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ４０に移行する。ステップＳ４０では、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を開始する。前述のように、第２出力の高周波電流とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に出力するものである。すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値以上である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を許可する。【０１１５】
ステップＳ３０の判定において、抵抗値が閾値Ｔｈ未満であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ５０に移行する。ステップＳ５０では、プロセッサ５５ｃは、情報出力部５５ｂにより、警告を表す情報を出力する。ここで、警告を表す情報とは、電極ユニット３０の姿勢が適切でない旨を使用者に知らせる情報を含む。そして、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行し、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止する。すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値未満である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【０１１６】
本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１は、第１の実施形態と同様に、このような組織に対する処置用電極３５の姿勢が所期の状態とは異なる場合に、高周波電源制御装置５５からの高周波電流の出力を停止する。すなわち、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１を用いれば、処置用電極３５から高周波電流を流して組織の切除を実行している期間中は、処置用電極３５が組織内に入り込む深さを一定に保つことができる。【０１１７】
以上に説明したように、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１は、使用者が処置用電極３５を移動させる軌跡にふらつきがある場合や、使用者が処置用電極３５に加える力に変動がある場合であっても、処置用電極３５が組織内に入り込む深さは一定に保つことができる。よって、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１によれば、切除する組織の厚さの制御が容易である。【０１１８】
（第４の実施形態）  
以下に、本発明の第４の実施形態を説明する。以下では第１の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第３の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略する。【０１１９】
図１６に示す本実施形態の内視鏡システム１は、圧力センサ１２を備える。圧力センサ１２は、内視鏡システム１の使用時において、潅流液の圧力を検知し、検知結果をプロセッサ５５ｃに出力する。【０１２０】
圧力センサ１２が配置される箇所は特に限定されないが、本実施形態では一例として、圧力センサ１２は、シース１１の先端部に配置されている。シース１１の基端１１ｂ近傍には、センサコネクタ１３が設けられている。センサコネクタ１３には、ケーブル５６が接続される。ケーブル５６は、センサコネクタ１３と高周波電源制御装置５５とを電気的に接続する。【０１２１】
次に、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作について説明する。図１７は、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作を示すフローチャートである。図１７のフローチャートは、第３の実施形態のフローチャート（図１５）に、ステップＳ３１、ステップＳ３２およびステップＳ３３が追加されている。【０１２２】
図１５のフローチャートの処理は、プロセッサ５５ｃにより所定の周期で繰り返し実行される。図１２のフローチャートの処理を開始する時点において、高周波電源制御装置５５は、電流の出力を停止した状態である。【０１２３】
まずステップＳ１０において、プロセッサ５５ｃは、スイッチ５５ａがＯＮ状態であるか否かを判定する。スイッチ５５ａは、使用者による高周波電流の出力の実行指示が入力される場合にＯＮ状態となる。【０１２４】
ステップＳ１０の判定において、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２００に移行する。ステップＳ２００では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５が電極ユニット３０に通電中であるか否かを判定する。【０１２５】
ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行する。ステップＳ２１０では、プロセッサ５５ｃは、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止し、ステップＳ１０に戻る。また、ステップＳ２００の判定において、電極ユニット３０に通電中ではないと判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ１０に戻る。すなわち、スイッチ５５ａがＯＮ状態ではない場合には、高周波電源制御装置５５は、電極ユニット３０への通電を行わない。【０１２６】
一方、スイッチ５５ａがＯＮ状態であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃはステップＳ２０以降の処理を実行する。【０１２７】
ステップＳ２０では、プロセッサ５５ｃは、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値を検知する。具体的には、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂにより、複数の検知用電極３９間に微少な第１出力の電流を流し、その抵抗値を検知する。ここで、第１出力とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に処置用電極３５に流す高周波電流の出力である第２出力よりも低い。【０１２８】
次に、ステップＳ３０において、プロセッサ５５ｃは、抵抗検知部５５ｂが検知した抵抗値が、所定の閾値Ｔｈ以上であるか否かを判定する。ここで処置の閾値Ｔｈは、複数の検知用電極３９が、導電性を有する潅流液中に露出している場合の抵抗値よりも若干高い抵抗値である。導電性を有する潅流液とは、本実施形態では生理食塩水である。【０１２９】
ステップＳ３０の判定において、抵抗値が閾値Ｔｈ以上であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ３１に移行する。ステップＳ３１では、プロセッサ５５ｃは、圧力センサ１２により、臓器１００内の潅流液の圧力を検知する。【０１３０】
次にステップＳ３２において、プロセッサ５５ｃは、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の適正範囲内であるか否かを判定する。【０１３１】
ステップＳ３２の判定において、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の適正範囲内であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ４０に移行する。ステップＳ４０では、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を開始する。前述のように、第２出力の高周波電流とは、組織を処置（例えば、切除または凝固等）する際に出力するものである。【０１３２】
すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値以上であり、かつ臓器１００内の潅流液の圧力が所定の範囲内である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を許可する。【０１３３】
ステップＳ３０の分岐の説明に戻る。ステップＳ３０において、抵抗値が閾値Ｔｈ未満であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ５０に移行する。ステップＳ５０では、プロセッサ５５ｃは、情報出力部５５ｂにより、警告を表す情報を出力する。ここで、警告を表す情報とは、電極ユニット３０の姿勢が適切でない旨を使用者に知らせる情報を含む。そして、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行し、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止する。すなわち、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値が所定の閾値未満である場合に、プロセッサ５５ｃは、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【０１３４】
ステップＳ３２の分岐の説明に戻る。ステップＳ３２の判定において、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の適正範囲外であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ３３に移行する。ステップＳ３３では、プロセッサ５５ｃは、情報出力部５５ｂにより、警告を表す情報を出力する。ここで、警告を表す情報とは、臓器１００内の潅流液の圧力が適切でない旨を使用者に知らせる情報を含む。そして、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ２１０に移行し、高周波電源制御装置５５の電極ユニット３０への通電を停止する。【０１３５】
すなわち、臓器１００内の潅流液の圧力が所定の範囲外である場合には、プロセッサ５５ｃは、複数の検知用電極３９間の電気的な抵抗値の大小にかかわらず、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【０１３６】
臓器１００内を満たす潅流液の圧力が変化すると、臓器１００の壁面の厚さが変化する。例えば、臓器１００内を満たす潅流液の圧力が高くなるほど、臓器１００が膨脹するため、臓器１００の壁面が薄くなる。一方、臓器１００内を満たす潅流液の圧力が低くなるほど、臓器１００が収縮するため、臓器１００の壁面が厚くなる。【０１３７】
処置用電極３５が組織内に入り込む深さが一定であっても、臓器１００の壁面の厚さが変化すると、処置用電極３５により切除される組織の厚さが変化してしまう可能性がある。本実施形態の内視鏡システム１は、前述のように、臓器１００内を満たす潅流液の圧力が所定の適正範囲内である場合にのみ、処置用電極３５から高周波電流を流し組織を切除することが可能となる。すなわち、本実施形態の内視鏡システム１は、臓器１００の壁面の厚さが所定の範囲内である場合にのみ組織を切除するように構成されていることから、切除する組織の厚さを略一定に保つことができる。【０１３８】
（第５の実施形態）  
以下に、本発明の第５の実施形態を説明する。以下では第１の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略する。【０１３９】
図１８に示す本実施形態の電極ユニット３０は、第１の実施形態の検知用電極３９に代わり、曲がり検知センサ４０および姿勢検知センサ４１を備える。【０１４０】
曲がり検知センサ４０は、弾性領域３７の曲がり量θを検出するセンサである。曲がり検知センサ４０は、例えば弾性領域３７に配置される歪みセンサである。曲がり検知センサ４０は、電極ユニット３０内に挿通されている検知用ケーブル４０ａを介して、検知用接続部３１ｅに電気的に接続されている。高周波電源制御装置５５のプロセッサ５５ｃは、曲がり検知センサ４０から出力される信号に基づいて、弾性領域３７の曲がり量θを検出することができる。【０１４１】
ここで、弾性領域３７の曲がり量θとは、基端硬質部３１に対する先端硬質部３６の角度の変化量で表す。具体的には、図１８に示すように、曲がり量θは、第１軸Ｘに平行な方向から見た場合における、長手軸Ｌと下端面３６ｂとが成す角度である。図１８に実線で示されているように、長手軸Ｌと下端面３６ｂとが平行である場合、曲がり量θは０度である。曲がり量θの値は、図１８に二点鎖線で示されているように、下端面３６ｂを外側として弾性領域３７が曲がる場合に増加するものとする。【０１４２】
姿勢検知センサ４１、基端硬質部３１の重力方向に対する傾き量φを検出するセンサである。姿勢検知センサ４１は、例えば基端硬質部３１に配置される加速度センサである。姿勢検知センサ４１は、基端硬質部３１内に挿通されている第２検知用ケーブル４１ａを介して、第２検知用接続部３１ｆに電気的に接続されている。【０１４３】
第２検知用接続部３１ｆは、基端硬質部３１が電極ユニット保持部２３に固定された状態において、レゼクトスコープ１０の検知用コネクタ２５と電気的に接続される。高周波電源制御装置５５のプロセッサ５５ｃは、姿勢検知センサ４１から出力される信号に基づいて、基端硬質部３１の重力方向に対する傾き量φを検出することができる。【０１４４】
ここで、傾き量φとは、長手軸Ｌと重力方向とが成す角度である。基端硬質部３１の先端３１ａが基端３１ｂよりも重力方向（下方）に位置し、かつ長手軸Ｌが垂直である場合、傾き量φは０度である。長手軸Ｌが水平である場合、傾き量φは９０度である。【０１４５】
図１９は、本実施形態の高周波電源制御装置５５の動作を示すフローチャートである。本実施形態の高周波電源制御装置５５は、第１の実施形態に比して、ステップＳ２０およびステップＳ３０における動作が異なる。【０１４６】
本実施形態では、ステップＳ２０において、プロセッサ５５ｃは、曲がり検知センサ４０および姿勢検知センサ４１から出力される信号に基づいて、弾性領域３７の曲がり量θおよび基端硬質部３１の傾き量φを検出する。【０１４７】
そして、ステップＳ３０において、プロセッサ５５ｃは、弾性領域３７の曲がり量θが基端硬質部３１の傾き量φ以上であるか否かを判定する。すなわち、本実施形態では、プロセッサ５５ｃは、傾き量φを閾値として設定し、曲がり量θが当該閾値以上であるか否かを判定する。【０１４８】
ステップＳ３０の判定において、弾性領域３７の曲がり量θが基端硬質部３１の傾き量φ以上であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ４０に移行する。一方、ステップＳ３０の判定において、弾性領域３７の曲がり量θが基端硬質部３１の傾き量φ未満であると判定した場合には、プロセッサ５５ｃは、ステップＳ５０に移行する。【０１４９】
このように、本実施形態のプロセッサ５５ｃは、弾性領域３７の曲がり量θが基端硬質部３１の傾き量φ以上である場合に、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を許可し、弾性領域３７の曲がり量θが基端硬質部３１の傾き量φ未満である場合に、処置用電極３５への第２出力の高周波電流の出力を禁止する。【０１５０】
本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１を用いて被検体の膀胱である臓器１００内の組織を切除する場合について説明する。例えば、図２０に示すように、膀胱（臓器１００）内における、尿道口１０１に対向する壁面の組織を切除する場合、基端硬質部３１は概ね水平となり、傾き量φは概ね９０度となる。なお、図２０においては、図中の下方が重力方向Ｇである。この場合、弾性領域３７の曲がり量θが９０度以上であれば、図２０に示すように、弾性領域３７の曲がり量が十分であり、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触している可能性が高い。【０１５１】
また例えば、図２１に示すように、膀胱（臓器１００）内における、尿道口１０１よりも重力方向（下方）に位置する壁面の組織を切除する場合、基端硬質部３１は９０度未満となる。なお、図２１においては、図中の下方が重力方向Ｇである。図２１に示すように、傾き量φが６０度の場合には、弾性領域３７の曲がり量が６０度以上であれば、弾性領域３７の曲がり量が十分であり、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が組織に接触している可能性が高い。【０１５２】
以上に説明したように、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１は、組織に対する処置用電極３５の姿勢が所期の状態とは異なる場合に、高周波電源制御装置５５からの高周波電流の出力を停止する。すなわち、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１を用いれば、処置用電極３５から高周波電流を流して組織の切除を実行している期間中は、処置用電極３５が組織内に入り込む深さを一定に保つことができる。【０１５３】
なお、弾性領域３７の曲がり量θを検出する構成は本実施形態に限定されない。例えば、先端硬質部３６に先端硬質部３６の重力方向に対する傾きを検出する第２の姿勢検知センサを設け、当該第２の姿勢検知センサの検出結果と姿勢検知センサ４１の検出結果との比較に基づき曲がり量θを検出する構成であってもよい。【０１５４】
また、本実施形態では、姿勢検知センサ４１を用いて検出される傾き量φの値をそのままステップＳ３０の判定における閾値として使用したが、ステップＳ３０において用いる閾値は、傾き量φに係数をかけるなどした値であってもよい。【０１５５】
また、本実施形態では、姿勢検知センサ４１を基端硬質部３１に設けたが、姿勢検知センサ４１は、レゼクトスコープ１０の、シース１１、スライダ２０およびテレスコープ２１などに設けてもよい。【０１５６】
（第６の実施形態）  
以下に、本発明の第５の実施形態を説明する。以下では第５の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略する。【０１５７】
第５の実施形態の内視鏡システム１は、高周波電源制御装置５５のプロセッサ５５ｃが曲がり量θを自動的に検出するためのセンサを備えているが、本実施形態の内視鏡システム１は、使用者が視覚に基づいて曲がり量θを認識するための複数の指標を備える。【０１５８】
内視鏡システム１は、使用者が視認可能な第１から第４指標を備える。第１指標４２、第２指標４３および第３指標４４は、電極ユニット３０に設けられている。また、第４指標４５は、高周波電源制御装置５５が生成し画像表示装置５３に表示させる画像である。【０１５９】
図２３に示すように、第１指標４２は、ワイヤ３３の弾性領域３７内に挿通されている部分の表面に設けられている。具体的には、図２２に示すように、弾性領域３７には、被覆部３８の上面からワイヤ３３まで貫通する開口であるＬ方向スリット４２ａが形成されている。Ｌ方向スリット４２ａは、長手軸Ｌに沿う方向を長手方向とした細長の貫通孔である。第１指標４２は、Ｌ方向スリット４２ａが形成されている箇所において、ワイヤ３３の下面を着色することにより形成されている。【０１６０】
図２３に示すように弾性領域３７が直線状である場合には、第１指標４２は、被覆部３８に覆われるため、外部に露出しない。図２４に示すように、弾性領域３７が上面を内側として湾曲すると、Ｌ方向スリット４２ａの開口幅が左右方向に広がるため、第１指標４２が外部に露出する。使用者は、テレスコープ２１を用いて撮像される画像により、外部に露出した第１指標４２を視認することができる。【０１６１】
本実施形態では、図２２に示すように、一対の弾性領域３７のそれぞれにＬ方向スリット４２ａおよび第１指標４２を設けている。そして、右方の弾性領域３７に設けたＬ方向スリット４２ａおよび第１指標４２は、弾性領域３７の曲がり量θが９０度以上である場合に第１指標４２が外部に露出する。また、左方の弾性領域３７に設けたＬ方向スリット４２ａおよび第１指標４２は、弾性領域３７の曲がり量θが６０度以上である場合に第１指標４２が外部に露出する。【０１６２】
図２３に示すように、第２指標４３は、ワイヤ３３の弾性領域３７内に挿通されている部分の表面に設けられている。具体的には、図２２に示すように、弾性領域３７には、被覆部３８の上面からワイヤ３３まで貫通する開口である径方向スリット４３ａが形成されている。径方向スリット４３ａは、長手軸Ｌに直交する方向を長手方向とした細長の貫通孔である。第２指標４３は、径方向スリット４３ａが形成されている箇所において、ワイヤ３３の外周面を着色することにより形成されている。【０１６３】
図２３に示すように弾性領域３７が直線状である場合には、第２指標４２は、径方向スリット４３ａを介して外部に露出する。この場合、使用者は、テレスコープ２１を用いて撮像される画像により、外部に露出した第２指標４３を視認することができる。図２４に示すように、弾性領域３７が上面を内側として湾曲すると、径方向スリット４３ａの開口幅が狭まり、第２指標４２は外部に露出しなくなる。【０１６４】
本実施形態では、図２２に示すように、一対の弾性領域３７のそれぞれに径方向スリット４３ａおよび第２指標４３を設けている。そして、右方の弾性領域３７に設けた径方向スリット４３ａおよび第２指標４３は、弾性領域３７の曲がり量θが９０度以上である場合に第２指標４３が外部に露出しなくなる。また、左方の弾性領域３７に設けた径方向スリット４３ａおよび第２指標４３は、弾性領域３７の曲がり量θが６０度以上である場合に第１指標４２が外部に露出しなくなる。【０１６５】
使用者は、画像表示装置５３に表示されるテレスコープ２１を用いて撮像される画像において、第１指標４２および第２指標４３が視認できるか否かに基づき、弾性領域３７の曲がり量θを認識することができる。【０１６６】
図２３に示すように、第３指標４４は、先端硬質部３６の下面を着色することにより形成されている。先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体が臓器１００の壁面に接触すると、第３指標４４は、臓器１００の組織に覆われる。【０１６７】
使用者は、画像表示装置５３に表示されるテレスコープ２１を用いて撮像される画像において、第３指標４４が視認できるか否かに基づき、先端硬質部３６の下端面３６ｂの壁面への接触の様子を認識することができる。【０１６８】
第４指標４５は、図２５に示すように、高周波電源制御装置５５が生成し画像表示装置５３に表示させる画像の一部である。第４指標４５は、テレスコープ２１を用いて撮像される内視鏡画像５３ａの側方に配置される。第４指標４５は、内視鏡画像５３ａ中の上下方向における、適切な電極ユニット３０の先端の位置の上限を示す。【０１６９】
本実施形態のレゼクトスコープ１０は、スライダ２０の位置を検出するスライダ操作量検出部を備える。高周波電源制御装置５５のプロセッサ５５ｃは、姿勢検知センサ４１を用いて検出される傾き量φに基づき、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体を組織に接触させるために必要な弾性領域３７の曲がり量θ（適切曲がり量）を算出する。そして、プロセッサ５５ｃは、適切曲がり量とスライダ２０の位置とに基づき、内視鏡画像５３ａ中における、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体を組織に接触させるために適切な電極ユニット３０の先端の位置を算出する。そして、プロセッサ５５ｃは、この算出した適切な電極ユニット３０の先端の位置を第４指標４５として画像表示装置５３に表示する。【０１７０】
使用者は、画像表示装置５３の内視鏡画像５３ａ中における電極ユニット３０の先端の位置が、第４指標４５よりも上方に位置していれば、弾性領域３７の曲がり量θが十分であると認識することができる。【０１７１】
以上に説明したように、本実施形態の電極ユニット３０および内視鏡システム１によれば、使用者は、視覚に基づいて弾性領域３７の曲がり量θを容易に認識することができ、、先端硬質部３６の下端面３６ｂの全体を組織に接触させることができる。【０１７２】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電極ユニットおよび内視鏡システムもまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図１】
2020157803.tif 000003
【図２】
2020157803.tif 000004
【図３】
2020157803.tif 000005
【図４】
2020157803.tif 000006
【図５】
2020157803.tif 000007
【図６】
2020157803.tif 000008
【図７】
2020157803.tif 000009
【図８】
2020157803.tif 000010
【図９】
2020157803.tif 000011
【図１０】
2020157803.tif 000012
【図１１】
2020157803.tif 000013
【図１２】
2020157803.tif 000014
【図１３】
2020157803.tif 000015
【図１４】
2020157803.tif 000016
【図１５】
2020157803.tif 000017
【図１６】
2020157803.tif 000018
【図１７】
2020157803.tif 000019
【図１８】
2020157803.tif 000020
【図１９】
2020157803.tif 000021
【図２０】
2020157803.tif 000022
【図２１】
2020157803.tif 000023
【図２２】
2020157803.tif 000024
【図２３】
2020157803.tif 000025
【図２４】
2020157803.tif 000026
【図２５】
2020157803.tif 000027
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一態様による電極ユニットは、高周波電流を用いて被験体内の組織を切除または凝固する電極ユニットであって、表面が電気絶縁性を有する材料により被覆された一対の先端硬質部を備える電極支持部と、前記各先端硬質部の先端部に配置され、前記先端硬質部の下方に突出する電極本体と、前記各電極本体の下端部同士を架設する架設部とから構成される処置用電極と、前記一対の先端硬質部のそれぞれの基端側に配置され、前記先端硬質部と前記組織との接触状態を検出する検知用電極と、を含む。
また、本発明の他態様による電極ユニットは、高周波電流を用いて被験体内の組織を切除または凝固する電極ユニットであって、表面が電気絶縁性を有する材料により被覆された一対の先端硬質部と、前記先端硬質部よりも剛性の低い弾性領域と、を備える電極支持部と、前記各先端硬質部の先端部に配置され、前記先端硬質部の下方に突出する電極本体と、前記各電極本体の下端部同士を架設する架設部とから構成される処置用電極と、前記弾性領域の基端側に配置される基端硬質部と、前記弾性領域の曲がり量を検出する曲がり検知センサと、前記基端硬質部の重力方向に対する傾き量を検出する姿勢検知センサと、
を含む。
また、本発明のさらなる他態様の電極ユニットは、内視鏡による観察下において高周波電流を用いて被検体内の組織を処置する電極ユニットであって、前記被検体内に挿入され、外表面が電気絶縁性を有する材料からなる電極支持部と、前記電極支持部の先端部に設けられた先端硬質部と、前記先端硬質部によって支持され、前記先端硬質部の外表面から突出する処置用電極と、前記処置用電極との間で通電される回収電極と、前記先端硬質部の外表面のうちの前記処置用電極が突出する方向に向く面において、前記処置用電極よりも基端側に配置され、前記先端硬質部と前記組織との接触状態を検出する検知用電極と、を含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、本発明の一態様による内視鏡システムは、前記本発明の一態様による電極ユニットと、高周波の出力を制御する高周波電源制御装置と、前記高周波電源制御装置に設けられ、前記電極ユニットを流れる電流の抵抗値を検知する抵抗検知部と、を含み、前記高周波電源装置は、前記検知用電極が、一対の前記先端硬質部の間を流れる電流の抵抗値を検出し、前記抵抗値に基づき、前記処置用電極への高周波電流の出力を制御する。
また、本発明の他態様による内視鏡システムは、前記本発明の他態様による電極ユニットと、高周波の出力を制御する高周波電源制御装置と、前記高周波電源制御装置に設けられたプロセッサと、を含み、前記プロセッサは、前記曲がり量と前記傾き量とに基づいて、前記先端硬質部の前記組織に対する姿勢を検出し、前記姿勢に基づき、前記処置用電極への高周波電流の出力を制御する。
また、本発明のさらなる他態様による内視鏡システムは、前記本発明のさらなる他態様による電極ユニットと、高周波の出力を制御する高周波電源制御装置と、前記高周波電源制御装置に設けられ、前記電極ユニットを流れる電流の抵抗値を検知する抵抗検知回路と、を含み、前記高周波電源装置は、前記検知用電極が、一対の前記先端硬質部の間を流れる電流の抵抗値を検出し、前記抵抗値に基づき、前記処置用電極への高周波電流の出力を制御する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波電流を用いて被験体内の組織を切除または凝固する電極ユニットであって、
表面が電気絶縁性を有する材料により被覆された一対の先端硬質部を備える電極支持部と、
前記各先端硬質部の先端部に配置され、前記先端硬質部の下方に突出する電極本体と、前記各電極本体の下端部同士を架設する架設部とから構成される処置用電極と、
前記一対の先端硬質部のそれぞれの基端側に配置され、前記先端硬質部と前記組織との接触状態を検出する検知用電極と、
を含むことを特徴とする電極ユニット。
【請求項２】
高周波電流を用いて被験体内の組織を切除または凝固する電極ユニットであって、
表面が電気絶縁性を有する材料により被覆された一対の先端硬質部と、前記先端硬質部よりも剛性の低い弾性領域と、を備える電極支持部と、
前記各先端硬質部の先端部に配置され、前記先端硬質部の下方に突出する電極本体と、前記各電極本体の下端部同士を架設する架設部とから構成される処置用電極と、
前記弾性領域の基端側に配置される基端硬質部と、
前記弾性領域の曲がり量を検出する曲がり検知センサと、
前記基端硬質部の重力方向に対する傾き量を検出する姿勢検知センサと、
を含むことを特徴とする電極ユニット。
【請求項３】
内視鏡による観察下において高周波電流を用いて被検体内の組織を処置する電極ユニットであって、
前記被検体内に挿入され、外表面が電気絶縁性を有する材料からなる電極支持部と、
前記電極支持部の先端部に設けられた先端硬質部と、
前記先端硬質部によって支持され、前記先端硬質部の外表面から突出する処置用電極と、
前記処置用電極との間で通電される回収電極と、
前記先端硬質部の外表面のうちの前記処置用電極が突出する方向に向く面において、前記処置用電極よりも基端側に配置され、前記先端硬質部と前記組織との接触状態を検出する検知用電極と、
を含むことを特徴とする電極ユニット。
【請求項４】
請求項１に記載の電極ユニットと、
高周波の出力を制御する高周波電源制御装置と、
前記高周波電源制御装置に設けられ、前記電極ユニットを流れる電流の抵抗値を検知する抵抗検知部と、を含み、
前記高周波電源制御装置は、前記検知用電極が、一対の前記先端硬質部の間を流れる電流の抵抗値を検出し、前記抵抗値に基づき、前記処置用電極への高周波電流の出力を制御することを特徴とする内視鏡システム。
【請求項５】
前記電極ユニットは、複数の前記検知用電極を備え、
前記抵抗検知部は、複数の前記検知用電極の間の抵抗値を検知し、
前記高周波電源制御装置は、前記抵抗検知部により検知される抵抗値が所定の閾値以上である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を許可し、前記抵抗値が所定の閾値未満である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項４に記載の内視鏡システム。
【請求項６】
さらに、回収電極を備え、
前記抵抗検知部は、前記検知用電極と前記回収電極との間の抵抗値を検知し、
前記高周波電源制御装置は、前記抵抗検知部により検知される抵抗値が所定の閾値以上である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を許可し、前記抵抗値が所定の閾値未満である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項４に記載の内視鏡システム。
【請求項７】
前記被検体内において潅流液の圧力を検知する圧力センサを備え、
前記高周波電源制御装置は、前記圧力センサにより検知される潅流液の圧力が所定の範囲外である場合には、前記抵抗値の値に関わらず前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止する
ことを特徴とする請求項５に記載の内視鏡システム。
【請求項８】
請求項２に記載の電極ユニットと、
高周波の出力を制御する高周波電源制御装置と、
前記高周波電源制御装置に設けられたプロセッサと、を含み、
前記プロセッサは、前記曲がり量と前記傾き量とに基づいて、前記先端硬質部の前記組織に対する姿勢を検出し、前記姿勢に基づき、前記処置用電極への高周波電流の出力を制御することを特徴とする内視鏡システム。
【請求項９】
請求項３に記載の電極ユニットと、
高周波の出力を制御する高周波電源制御装置と、
前記高周波電源制御装置に設けられ、前記電極ユニットを流れる電流の抵抗値を検知する抵抗検知回路と、を含み、
前記高周波電源制御装置は、前記検知用電極が、一対の前記先端硬質部の間を流れる電流の抵抗値を検出し、前記抵抗値に基づき、前記処置用電極への高周波電流の出力を制御することを特徴とする内視鏡システム。
【請求項１０】
前記電極ユニットは、複数の前記検知用電極を備え、
前記抵抗検知回路は、複数の前記検知用電極の間の抵抗値を検知し、
前記高周波電源制御装置は、前記抵抗検知回路により検知される抵抗値が所定の閾値以上である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を許可し、前記抵抗値が所定の閾値未満である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止することを特徴とする請求項９に記載の内視鏡システム。
【請求項１１】
前記抵抗検知回路は、前記検知用電極と前記回収電極との間の抵抗値を検知し、
前記高周波電源制御装置は、前記抵抗検知回路により検知される抵抗値が所定の閾値以上である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を許可し、前記抵抗値が所定の閾値未満である場合に、前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止することを特徴とする請求項９に記載の内視鏡システム。
【請求項１２】
前記被検体内において潅流液の圧力を検知する圧力センサを備え、
前記高周波電源制御装置は、前記圧力センサにより検知される潅流液の圧力が所定の範囲外である場合には、前記抵抗値の値に関わらず前記処置用電極への高周波電流の出力を禁止することを特徴とする請求項１０に記載の内視鏡システム。
【国際調査報告】
2020157803.tif 000028
2020157803.tif 000029
2020157803.tif 000030
2020157803.tif 000031