(57)【要約】  本発明は、隣接層との密着性に優れる光吸収異方性膜、ならびに、それを用いた積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。本発明の光吸収異方性膜は、高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜であって、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、膜の少なくとも一方の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たす、光吸収異方性膜である。  ２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜であって、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される前記二色性物質に由来するシグナルについて、膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、膜の少なくとも一方の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たす、光吸収異方性膜。
２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）
【請求項２】
前記最大強度Ｉｍａｘと、前記強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−２）を満たす、請求項１に記載の光吸収異方性膜。
５ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−２）
【請求項３】
前記高分子液晶性化合物が、重合性基を有する、請求項１または２に記載の光吸収異方性膜。
【請求項４】
前記液晶組成物が、更に、低分子液晶性化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
【請求項５】
前記低分子液晶性化合物が、重合性基を有する、請求項４に記載の光吸収異方性膜。
【請求項６】
前記液晶組成物が、更に、界面改良剤を含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
【請求項７】
基材と、配向膜と、光吸収異方性膜とをこの順に有する積層体であって、
前記光吸収異方性膜が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜であり、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、前記光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、前記光吸収異方性膜の前記配向膜を有する側の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たす、積層体。
２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）
【請求項８】
さらに、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項７に記載の積層体。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜、または、請求項７もしくは請求項８に記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。【０００３】
従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、繰り返し単位を有する直鎖状の高分子液晶性化合物と、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有する液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜が記載されている（［請求項１］［請求項５］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１８／１９９０９６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜について検討したところ、二色性物質の種類や配合量などによっては、光吸収異方性膜に隣接する層（例えば、配向膜など）との密着性が劣る場合があることを明らかとした。【０００６】
そこで、本発明は、隣接層との密着性に優れる光吸収異方性膜、ならびに、それを用いた積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、光吸収異方性膜の少なくとも一方の表面の近傍に存在する二色性物質の量を減らすことにより、隣接層との密着性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００８】
［１］  高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜であって、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、膜の少なくとも一方の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たす、光吸収異方性膜。
２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）
［２］  最大強度Ｉｍａｘと、強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−２）を満たす、［１］に記載の光吸収異方性膜。
５ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−２）
［３］  高分子液晶性化合物が、重合性基を有する、［１］または［２］に記載の光吸収異方性膜。
［４］  液晶組成物が、更に、低分子液晶性化合物を含有する、［１］〜［３］のいずれかに記載の光吸収異方性膜。
［５］  低分子液晶性化合物が、重合性基を有する、［４］に記載の光吸収異方性膜。
［６］  液晶組成物が、更に、界面改良剤を含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の光吸収異方性膜。【０００９】
［７］  基材と、配向膜と、光吸収異方性膜とをこの順に有する積層体であって、
光吸収異方性膜が、［１］〜［６］のいずれかに記載の光吸収異方性膜であり、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の配向膜を有する側の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たす、積層体。
２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）
［８］  さらに、光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［７］に記載の積層体。
［９］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の光吸収異方性膜、または、［７］もしくは［８］に記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、隣接層との密着性に優れる光吸収異方性膜、ならびに、それを用いた積層体および画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【００１２】
［光吸収異方性膜］
本発明の光吸収異方性膜は、高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜である。
また、本発明の光吸収異方性膜は、飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で検出される二色性物質に由来するシグナルについて、膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、膜の少なくとも一方の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たすものである。
２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）
【００１３】
＜ＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定方法＞
本発明におけるＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定は、以下に示すように測定する。
（１）装置および条件
・装置：ＴＲＩＦＴ Ｖ  ｎａｎｏＴＯＦ ＩＩ（Ｕｌｖａｃ ＰＨＩ社製）
・深さ方向分析：Ａｒイオンスパッタ併用
・測定範囲：一の方向およびその直交方向に各々２５６点ずつラスタースキャン
・極性：ｐｏｓｉ、ｎｅｇａ
（２）膜の表面における強度Ｉｓｕｒ
測定対象である光吸収異方性膜について、光吸収異方性膜の各表面から全厚みの１０％まで測定した際の、二色性物質に由来するフラグメントの質量分析の強度の平均値（ベースラインからの強度の平均値）のうち、低い方を強度Ｉｓｕｒとする。
（３）膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘ
測定対象である光吸収異方性膜について、光吸収異方性膜の各表面から全厚みの１０％の部分を除いた全厚みの８０％の領域で測定した際の、二色性物質に由来するフラグメントの質量分析の強度（ベースラインからの強度）の最大値を最大強度Ｉｍａｘとする。
（４）測定対象について
測定対象である光吸収異方性膜が、隣接層を有する積層体として存在している場合、上述した光吸収異方性膜の表面（すなわち隣接層との界面）は、光吸収異方性膜から検出される高分子液晶化合物に由来するフラグメントの質量分析の強度と、隣接層から検出されるフラグメントのうち、最も量の多い化合物に由来するフラグメントの質量分析の強度とが交差する点として特定することができる。
【００１４】
本発明においては、上述した通り、光吸収異方性膜の少なくとも一方の表面の近傍に存在する二色性物質の量を減らすこと、すなわち、ＴＯＦ−ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、膜の少なくとも一方の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、上記式（Ｉ−１）を満たすことにより、隣接層との密着性が良好となる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
本発明者らは、密着性が劣る原因として、光吸収異方性膜の表面近傍に存在する二色性物質が結晶構造を採り易くなり、剥離に対して靭性が失われることで、密着性が劣ると推察している。
そのため、本発明においては、上記式（Ｉ−１）を満たすことにより、光吸収異方性膜の少なくとも一方の表面の近傍に存在する二色性物質の量が少なくなり、剥離に起因した応力が緩和されやすい構造となり、その結果、二色性物質が均一に分散された場合と比較して同じ応力がかかった場合でも剥離が起こり難くなったと推察している。
【００１５】
本発明においては、上記式（Ｉ−１）は、最大強度Ｉｍａｘと強度Ｉｓｕｒとの比率（Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ）の上限を規定していないことからも明らかな通り、最大強度Ｉｍａｘが有意に測定され、強度Ｉｓｕｒが測定限界以下である態様も含むものである。
また、隣接層との密着性がより良好となる理由から、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の少なくとも一方の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−２）を満たすことが好ましく、下記式（Ｉ−３）を満たすことがより好ましい。
５ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−２）
５ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ ≦ １００  ・・・（Ｉ−３）
【００１６】
〔液晶組成物〕
以下、本発明の光吸収異方性膜の形成に用いられる液晶組成物に含まれる各成分について詳述する。
【００１７】
＜高分子液晶性化合物＞
液晶組成物が含有する「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子、国際公開第２０１８／１９９０９６号の［００１２］〜［００４２］段落に記載されている高分子液晶性化合物などが挙げられる。
【００１８】
高分子液晶性化合物は、得られる光吸収異方性膜の配向度がより高くなる理由から、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を含む高分子液晶性化合物であることが好ましい。
なお、以下の説明において、「得られる光吸収異方性膜の配向度がより高くなる」ことを「本発明の効果がより優れる」とも言う。
【００１９】
【化１】
2020122116.tif 000002
【００２０】
上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
【００２１】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１−Ａ）で表される基が好ましい。
【００２２】
【化２】
2020122116.tif 000003
【００２３】
上記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、「＊」は、上記式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。
上記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましい。
上記式（Ｐ１−Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１−Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１−Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ１４（ＯＲ１５）２−で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ１４は、（Ｐ１−Ｄ）におけるＲ１４と同義であり、複数のＲ１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。
【００２４】
上記式（１）中、Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、および、−ＮＲ３Ｒ４−などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ａ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ｂ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【００２５】
上記式（１）中、ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊−（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｎ１−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１〜２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２〜１０の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２Ｏ）ｎ２−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１〜３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ）ｎ３−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（ＣＦ２−ＣＦ２）ｎ４−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【００２６】
上記式（１）中、Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２〜４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
【００２７】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１−Ａ）または下記式（Ｍ１−Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１−Ｂ）で表される基がより好ましい。
【００２８】
【化３】
2020122116.tif 000004
【００２９】
式（Ｍ１−Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【００３０】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【００３１】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。
【００３２】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【００３３】
式（Ｍ１−Ａ）中、ａ１は１〜１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【００３４】
式（Ｍ１−Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１−Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２は１〜１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【００３５】
式（Ｍ１−Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）２−Ｃ（Ｚ’）２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【００３６】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【００３７】
【化４】
2020122116.tif 000005
【化５】
2020122116.tif 000006
【化６】
2020122116.tif 000007
【００３８】
【化７】
2020122116.tif 000008
【化８】
2020122116.tif 000009
【化９】
2020122116.tif 000010
【化１０】
2020122116.tif 000011
【００３９】
上記式（１）中、Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）−：Ｒはアルキル基）、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、−Ｌ−Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
【００４０】
Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
【００４１】
Ｔ１は、隣接層との密着性がより良好となり、膜としての凝集力を向上させることができる理由から、重合性基であることが好ましい。
重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
【００４２】
（重量平均分子量）
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる理由から、１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００〜３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【００４３】
（ｌｏｇＰ値）
本発明においては、後述する二色性物質との相溶性を調整しやすくなる理由から、高分子液晶性化合物のｌｏｇＰ値が４．０〜１０であることが好ましく、４．３〜９．５であることがより好ましく、４．３〜５．５であることが更に好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
【００４４】
（含有量）
本発明においては、高分子液晶性化合物の含有量は、液晶組成物における固形分中の８〜９９質量％となる量であることが好ましく、８〜９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「液晶組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記高分子液晶性化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。
【００４５】
＜二色性物質＞
液晶組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特開２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］〜［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］〜［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【００４６】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、得られる光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
【００４７】
上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００４８】
（含有量）
二色性物質の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、上記高分子液晶性化合物１００質量部に対して１〜４００質量部であることが好ましく、２〜１００質量部であることがより好ましく、５〜３０質量部であることが更に好ましい。
また、二色性物質の含有量は、液晶組成物における固形分中の１〜５０質量％となる量であることが好ましく、２〜４０質量％となる量であることがより好ましい。
【００４９】
＜低分子液晶性化合物＞
液晶組成物は、低分子液晶性化合物を含むことが好ましい。
ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物、国際公開第２０１８／１９９０９６号の［００４３］〜［００５０］段落に記載されている高分子液晶性化合物などが挙げられる。
【００５０】
本発明においては、隣接層との密着性がより良好となり、膜としての凝集力を向上させることができる理由から、低分子液晶性化合物が重合性基を有していることが好ましい。
重合性基としては、例えば、上述した高分子液晶性化合物が有していてもよい重合性基と同様のものが挙げられる。
【００５１】
（分子量）
低分子液晶性化合物の分子量は、１７００未満であることが好ましく、２００〜１５００であることがより好ましく、２００以上１０００未満であることが更に好ましい。
【００５２】
（含有量）
液晶組成物が低分子液晶性化合物を含有する場合、低分子液晶性化合物の含有量は、液晶組成物における固形分中の１〜９０質量％となる量であることが好ましく、５〜８０質量％となる量であることがより好ましい。
また、液晶組成物が低分子液晶性化合物を含有する場合、低分子液晶性化合物の含有量は、上記高分子液晶性化合物１００質量部に対して３〜３００質量部であることが好ましく、５〜２００質量部であることがより好ましい。
【００５３】
＜重合開始剤＞
液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ−アシルオキシム化合物（特開２０１６−２７３８４明細書［００６５］）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア−１８４、イルガキュア−９０７、イルガキュア−３６９、イルガキュア−６５１、イルガキュア−８１９、イルガキュア−ＯＸＥ−０１およびイルガキュア−ＯＸＥ−０２等が挙げられる。
【００５４】
液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【００５５】
＜界面改良剤＞
液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。
界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面改良剤としては、二色性物質と高分子液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、例えば、国際公開第２０１６／００９６４８号の［０１５５］〜［０１７０］段落に記載されている化合物、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）などを用いることができる。
【００５６】
液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部がより好ましい。
界面改良剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。界面改良剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【００５７】
＜溶媒＞
液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、液晶組成物の溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン）が好ましい。
【００５８】
液晶組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％であることが好ましく、８３〜９７質量％であることがより好ましく、８５〜９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【００５９】
〔作製方法〕
本発明の光吸収異方性膜の作製方法は、上述した式（Ｉ−１）を満たすように二色性物質の存在割合を調整できる方法であれば特に限定されず、例えば、上述した液晶組成物から上述した二色性物質を除いた組成物を隣接層（例えば、配向膜）上に塗布して第１塗布膜を形成する工程（以下、「第１塗布膜形成工程」ともいう。）と、上述した液晶組成物を第１塗布膜上に塗布して第２塗布膜を形成する工程（以下、「第２塗布膜形成工程」ともいう。）と、第１塗布膜および第２塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法；などが挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
【００６０】
＜第１塗布膜形成工程＞
第１塗布膜形成工程は、液晶組成物から二色性物質を除いた組成物を隣接層（例えば、配向膜）に塗布して第１塗布膜を形成する工程である。
組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【００６１】
＜第２塗布膜形成工程＞
第２塗布膜形成工程は、液晶組成物を第１塗布膜上に塗布して第２塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、第１塗布膜上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、第１塗布膜形成工程と同様のものが挙げられる。
【００６２】
＜配向工程＞
配向工程は、第１塗布膜および第２塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、上述した式（Ｉ−１）を満たす光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
【００６３】
塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
【００６４】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。
【００６５】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【００６６】
（他の工程）
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５〜１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【００６７】
光吸収異方性膜の厚さは、特に限定されないが、後述する本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００〜８０００ｎｍであることが好ましく、３００〜５０００ｎｍであることがより好ましい。
【００６８】
［積層体］
本発明の積層体は、基材と、配向膜と、光吸収異方性膜とをこの順に有する積層体である。
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜は、上述した本発明の光吸収異方性膜であり、ＴＯＦ−ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の配向膜を有する側の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、下記式（Ｉ−１）を満たすものである。
２ ≦ Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ  ・・・（Ｉ−１）
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。
【００６９】
〔基材〕
本発明の積層体が有する基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００７０】
〔配向膜〕
本発明の積層体が有する配向膜は、配向膜上において液晶組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
【００７１】
＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜２μｍであることが更に好ましい。
【００７２】
＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
【００７３】
これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光反応性基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
【００７４】
また、上記光配向性基を有する感光性化合物は、更に架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和二重結合を有する基、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
【００７５】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【００７６】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【００７７】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【００７８】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。
【００７９】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【００８０】
〔光吸収異方性膜〕
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。
【００８１】
〔λ／４板〕
本発明の積層体は、光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していることが好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光吸収異方性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層が挙げられる。
【００８２】
〔バリア層〕
本発明の積層体は、光吸収異方性膜（上述したλ／４板を有する場合はλ／４板）上に、バリア層を有していることが好ましい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４−１５９１２４号公報の［００１４］〜［００５４］段落、特開２０１７−１２１７２１号公報の［００４２］〜［００７５］段落、特開２０１７−１１５０７６号公報の［００４５］〜［００５４］段落、特開２０１２−２１３９３８号公報の［００１０］〜［００６１］段落、特開２００５−１６９９９４号公報の［００２１］〜［００３１］段落の記載を参照できる。
【００８３】
〔粘着層〕
本発明の積層体は、上述したλ／４板を貼合する観点から、λ／４板を貼合する面に粘着層を有していてもよい。
【００８４】
粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
【００８５】
粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０〜４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
【００８６】
また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。
【００８７】
本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜５０μｍであることが好ましく、４μｍ〜４０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが更に好ましい。
【００８８】
〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
【００８９】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【００９０】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【００９１】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  ａｌｉｇｎｅｄ  ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【００９２】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【００９３】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【００９４】
［実施例１］
＜配向膜付き基材の作製＞
後述する配向膜形成用塗布液１を、ワイヤーバーで連続的にＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ；富士フイルム社製）上に塗布した。
塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
光配向膜ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。【００９５】
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液ＰＡ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡ−１                          １００．００質量部
・下記酸発生剤ＴＡＧ−１                          ５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ−１１０ＴＦ                ０．００５質量部
・酢酸ブチル                                １０７３．６０質量部
・メチルイソブチルケトン                      ２６８．４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【００９６】
重合体ＰＡ−１
【化１１】
2020122116.tif 000012
【００９７】
酸発生剤ＴＡＧ−１
【化１２】
2020122116.tif 000013
【００９８】
酸発生剤ＣＰＩ−１１０Ｆ
【化１３】
2020122116.tif 000014
【００９９】
＜光吸収異方性膜Ｐ１の形成＞
得られた光配向膜ＰＡ１上に、下記の液晶組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、１００℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向膜ＰＡ１上に光吸収異方性膜Ｐ１を作製した。
光吸収異方性膜Ｐ１の膜厚は０．４μｍであった。【０１００】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・下記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ−１                    ３．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・下記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１０１】
アゾ色素Ｙ−１
【化１４】
2020122116.tif 000015
【０１０２】
アゾ色素Ｍ−１
【化１５】
2020122116.tif 000016
【０１０３】
アゾ色素Ｃ−１
【化１６】
2020122116.tif 000017
【０１０４】
高分子液晶性化合物Ｐ−１
【化１７】
2020122116.tif 000018
【０１０５】
界面改良剤Ｆ−１
【化１８】
2020122116.tif 000019
【０１０６】
＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
光吸収異方性膜Ｐ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、９０℃の温風で２分間乾燥することにより、光吸収異方性膜Ｐ１上に厚み１．５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）層が形成された積層フィルム１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール                  ３．８０質量部
・重合開始剤
イルガキュア２９５９（ＢＡＳＦ社製）            ０．２０質量部
・水                                                  ７０質量部
・メタノール                                          ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１０７】
変性ポリビニルアルコール
【化１９】
2020122116.tif 000020
【０１０８】
［実施例２］
＜光吸収異方性膜Ｐ２の形成＞
得られた配向膜ＰＡ１上に、下記の液晶組成物Ｐ２をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ２を形成した。
次いで、塗布層Ｐ２を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布層Ｐ２を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向膜ＰＡ１上に光吸収異方性膜Ｐ２を作製した。
光吸収異方性膜Ｐ２の膜厚は０．４μｍであった。【０１０９】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・上記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−１                    ３．２３質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｌ−１                    ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１０】
低分子液晶性化合物Ｌ−１
【化２０】
2020122116.tif 000021
【０１１１】
得られた光吸収性異方性層Ｐ２上に実施例１と同様の方法で、酸素遮断層Ｂ１を形成し、積層フィルム２を作製した。【０１１２】
［実施例３〜８］
実施例２の光吸収異方性膜Ｐ２の形成において、液晶組成物Ｐ２を下記に示すように液晶組成物Ｐ３〜Ｐ８に変更した以外は、実施例２と同様の方法にて、実施例３〜８の積層フィルム３〜８を作製した。光吸収異方性膜の膜厚は０．４μｍであった。【０１１３】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ３の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・上記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−１                    ３．２３質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｌ−２                    ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１４】
低分子液晶性化合物Ｌ−２
【化２１】
2020122116.tif 000022
【０１１５】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ４の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・上記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ−２                    ３．２３質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ−２                    ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１６】
高分子液晶性化合物Ｐ−２
【化２２】
2020122116.tif 000023
【０１１７】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ５の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ−２                              ０．６５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−２                    ３．２３質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ−２                    ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１８】
アゾ色素Ｃ−２
【化２３】
2020122116.tif 000024
【０１１９】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ６の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・上記アゾ色素Ｃ−２                              ０．６５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−２                    ３．２３質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｌ−３                    ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２０】
低分子液晶性化合物Ｌ−３
【化２４】
2020122116.tif 000025
【０１２１】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ７の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・上記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ−３                    ３．２３質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ−２                    ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０１３質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２２】
高分子液晶性化合物Ｐ−３
【化２５】
2020122116.tif 000026
【０１２３】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ８の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・上記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−１                    ３．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・下記界面改良剤Ｆ−２                          ０．０５２質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２４】
界面改良剤Ｆ−２
【化２６】
2020122116.tif 000027
【０１２５】
［実施例９］
得られた配向膜ＰＡ１上に、下記の液晶層形成用組成物Ｌ−１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｌ−１を形成した。
次いで、塗布層Ｌ−１を室温乾燥させ、配向膜ＰＡ１上に第１塗布膜Ｌ−１を形成した。第１塗布膜Ｌ−１の膜厚は、５０ｎｍであった。【０１２６】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶層形成用組成物Ｌ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−１                    ２．１９質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ−２                    ０．２４質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・上記界面改良剤Ｆ−２                            ０．１４質量部
・メチルエチルケトン                                ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２７】
得られた第１塗布膜Ｌ−１上に、上述した液晶組成物Ｐ３をワイヤーバーで連続的に塗布し、第２塗布膜Ｐ９を形成した。
次いで、第２塗布膜Ｐ９を１４０℃で９０秒間加熱し、第２塗布膜Ｐ９を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向膜ＰＡ１上に第１塗布膜Ｌ−１を含む光吸収異方性膜Ｐ９を作製した。
光吸収異方性膜Ｐ９の膜厚は０．４５μｍであった。【０１２８】
得られた光吸収性異方性層Ｐ９上に実施例１と同様の方法で、酸素遮断層Ｂ１を形成し、積層フィルム９を作製した。【０１２９】
［比較例１］
比較例１として、特許文献１（国際公開第２０１８／１９９０９６号）の実施例２１を追試した。
ここで、比較例１において、光吸収異方性膜の形成に用いる液晶組成物に含まれる高分子液晶性化合物、二色性物質、低分子液晶性化合物および界面改良剤の構造は、それぞれ以下に示す通りである。【０１３０】
高分子液晶性化合物Ｐ−３
【化２７】
2020122116.tif 000028
【０１３１】
二色性物質Ｄ−１
2020122116.tif 000029
【０１３２】
低分子液晶性化合物Ｌ−１
【化２８】
2020122116.tif 000030
【０１３３】
界面活性剤Ｆ−３
【化２９】
2020122116.tif 000031
【０１３４】
［実施例１０］
光吸収異方性膜の作製時、塗布膜を室温になるまで冷却した後の加熱温度（８０℃）を９０℃に変更した以外は、比較例１と同様の方法で、積層フィルムを作製した。【０１３５】
［評価］
＜二色性物質由来の強度比＞
作製した各積層フィルムについて、上述したＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定方法に準じて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の配向膜側の表面（界面）における強度Ｉｓｕｒとを測定し、強度比（Ｉｍａｘ／Ｉｓｕｒ）を算出した。結果を下記表１に示す。【０１３６】
＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００〜７００ｎｍの波長域における積層体の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）−１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：積層体の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：積層体の偏光軸方向の偏光に対する吸光度【０１３７】
＜密着性の評価＞
得られた積層フィルムを２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、積層フィルムの酸素遮断層表面に粘着剤ＳＫ２０５７（総研化学社製）とＴＪ４０ＵＬの積層体からなる粘着テープを１ｋｇの荷重をかけながら貼りつけた後、剥離した。
剥離面を観察し、以下の基準に沿って評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：剥離無し
Ｂ：剥離残りが観察されるが、面積で５％以下
Ｃ：剥離残りが観察され、面積で５％を超え、１０％以下
Ｄ：剥離残りが観察され、面積で１０％を超える【０１３８】
【表１】
2020122116.tif 000032
【０１３９】
ＴＯＦ−ＳＩＭＳで検出される二色性物質に由来するシグナルについて、光吸収異方性膜の厚み方向における最大強度Ｉｍａｘと、光吸収異方性膜の配向膜を有する側の表面における強度Ｉｓｕｒとの関係が、上記式（Ｉ−１）を満たさない場合は、密着性が劣ることが分かった（比較例１）。
これに対し、最大強度Ｉｍａｘと、強度Ｉｓｕｒとの関係が、上記式（Ｉ−１）を満たす場合は、いずれも密着性が良好となることが分かった（実施例１〜１０）。
【国際調査報告】
2020122116.tif 000033
2020122116.tif 000034
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