(57)【要約】  本発明は、ペプチドの高効率な製造方法を提供することを課題とする。  下記工程（１）及び（２）を含む、ペプチドの製造方法。（１）式（Ｉ）：2020162393.tif 000036［式中、Ｙは、Ｃ末端が無保護のアミノ酸又はＣ末端が無保護のペプチドを表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、それぞれ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数は、１０以上であり、Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯＣ（Ｏ）基は、Ｙ中のＮ末端と結合している。］で表されるＮ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドのＣ末端に、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。（２）  工程（１）で得られたペプチドのＣ末端の保護基を、除去する工程。
2020162393.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記工程（１）及び（２）を含む、ペプチドの製造方法。
（１）
式（Ｉ）：
【化１】
2020162393.tif 000035
［式中、
Ｙは、Ｃ末端が無保護のアミノ酸又はＣ末端が無保護のペプチドを表し、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、それぞれ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表し、
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数は、１０以上であり、
Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯＣ（Ｏ）基は、Ｙ中のＮ末端と結合している。］
で表されるＮ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドのＣ末端に、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。
（２）
工程（１）で得られたペプチドのＣ末端の保護基を、除去する工程。
【請求項２】
さらに下記工程（３）及び（４）の繰り返しを１以上含む、請求項１に記載の製造方法。
（３）
工程（２）又は（４）で得られたペプチドのＣ末端にＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。
（４）
工程（３）で得られたペプチドのＣ末端の保護基を除去する工程。
【請求項３】
得られたペプチドを、分液により精製する工程を含む、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
得られたペプチドを、酸性水溶液又は塩基性水溶液で分液精製する工程を含む、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項５】
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ７−１０アラルキル基又はトリＣ１−６アルキルシリル基である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、Ｃ１−６アルキル基又はトリＣ１−６アルキルシリル基である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、トリＣ１−６アルキルシリル基である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、トリメチルシリル基である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
工程（１）における縮合が、カルボジイミド系縮合剤、クロロホルメート系縮合剤、酸ハロゲン化物系縮合剤、ホスホニウム系縮合剤及びウロニウム系縮合剤からなる群より選ばれる縮合剤を用いて縮合する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
工程（１）における縮合が、イソブチルクロロホルメート、ピバロイルクロリド及び（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩からなる群より選ばれる縮合剤を用いて縮合する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
工程（１）において、さらに塩基を使用する、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
塩基が、脂肪族アミン又は芳香族アミンである、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
塩基が、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンである、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１４】
工程（２）における脱保護条件が、フッ素化合物以外の脱保護剤を使用する条件である、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
工程（２）における脱保護条件が、水、塩基若しくは酸を使用する、又は水素及び金属触媒を使用する条件である、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
工程（２）における脱保護条件が、水、トリフルオロ酢酸若しくは水酸化リチウムを使用する、又は水素及びパラジウムカーボン粉末を使用する条件である、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１７】
工程（２）における脱保護条件が、水を使用する条件である、請求項７乃至１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
さらに下記工程（５）を含む、請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の製造方法。
（５）
工程（２）又は（４）で得られたペプチドのＮ末端の保護基を、脱保護剤で除去する工程。
【請求項１９】
工程（５）で使用する脱保護剤が、フッ素化合物である、請求項１８に記載の製造方法。
【請求項２０】
フッ素化合物が、フッ化カリウム又はフッ化アンモニウムである、請求項１９に記載の製造方法。
【請求項２１】
さらに下記工程（６）及び（７）を含む、請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の製造方法。
（６）
工程（２）又は（４）で得られたペプチドのＣ末端にＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。
（７）
工程（６）で得られたペプチドのＮ末端の保護基を、脱保護剤で除去する工程。
【請求項２２】
工程（７）で使用する脱保護剤が、フッ素化合物である、請求項２１に記載の製造方法。
【請求項２３】
フッ素化合物が、フッ化カリウム又はフッ化アンモニウムである、請求項２２に記載の製造方法。
【請求項２４】
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、Ｃ１−６アルキル基又はベンジル基である請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２５】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数が１０乃至１００である、請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２６】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数が１０乃至４０である、請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２７】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数が１２乃至２６である、請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２８】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つ又は３つが、互いに独立して、２級若しくは３級の脂肪族炭化水素基である、請求項１乃至２７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２９】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級の脂肪族炭化水素基であり、残りの１つが、３級の脂肪族炭化水素基である、請求項２８に記載の製造方法。
【請求項３０】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級のＣ３−６アルキル基であり、残りの１つが、３級のＣ４−６アルキル基である、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３１】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリル基である、請求項１乃至２６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３２】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級の脂肪族炭化水素基であり、残りの１つが、置換基を有している２級の脂肪族炭化水素基（ここで、２級の脂肪族炭化水素基の置換基は、シリル原子に結合する炭素原子上に存在する。）である、請求項２８に記載の製造方法。
【請求項３３】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級のＣ３−６アルキル基であり、残りの１つが、フェニル基で置換された２級のＣ３−６アルキル基（ここで、２級のＣ３−６アルキル基の置換基であるフェニル基は、シリル原子に結合する炭素原子上に存在する。）である、請求項３２に記載の製造方法。
【請求項３４】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ジ−ｉ−プロピルクミルシリル基である、請求項３３に記載の製造方法。
【請求項３５】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、３級の脂肪族炭化水素基である、請求項２８に記載の製造方法。
【請求項３６】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、３級のＣ４−６アルキル基である、請求項３５に記載の製造方法。
【請求項３７】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ジ−ｔ−ブチルイソブチルシリル基である、請求項３６に記載の製造方法。
【請求項３８】
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ベンジル−ジ−ｔ−ブチルシリル基、ジ−ｔ−ブチルオクタデシルシリル基又はジ−ｔ−ブチルシクロへキシルシリル基である、請求項３６に記載の製造方法。
【請求項３９】
アミノ酸又はペプチドがα−アミノ酸で構成される、請求項１乃至３８のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリルカルバメート系保護基を用いる、ペプチドの新規な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリルカルバメート系保護基は、フッ素イオン等により温和且つ他の保護基に対して選択的に脱保護できることから、アミノ酸及びペプチドのＮ末端保護基としてペプチド合成に用いられている（例えば、非特許文献１〜３）。
ペプチド合成における代表的な使用例としては、Ｎ末端側がトリイソプロピルシリルカルボニル（Ｔｓｏｃ）基で保護されたアミノ酸とＣ末端が保護されたアミノ酸とを縮合し、Ｎ末端及びＣ末端が保護されたジペプチドを得る方法が知られている（例えば、非特許文献１〜２）。
ペプチド合成における別の使用例としては、Ｎ末端側をシリルカルバメート系の固相支持体に結合させた後、Ｃ末端側にペプチド鎖を伸長する固相合成法が知られている（例えば、非特許文献３）。
また、Ｃ末端側にペプチド鎖を伸長する方法としてＣ末端カルボキシ基をクロロギ酸アルキルで活性化し、シリル化されたアミノ酸又はペプチドと反応させてＣ末端が遊離したペプチドを得る方法が知られている（例えば、特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５５３５９２８号
【特許文献２】米国特許第５７１４４８４号
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】テトラヘドロン  レターズ、２００２年、４３巻、１５１５−１５１８頁
【非特許文献２】ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー、１９９９年、６４巻、３７９２−３７９３頁
【非特許文献３】テトラへドロン  レターズ、２００１年、４２巻、５６２９−５６３３頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記非特許文献１のペプチド合成では、Ｃ末端が遊離したペプチドは得られておらず、更にＮ末端とシリルカルバメート系保護基の結合を維持したままＣ末端側にペプチド鎖を伸長する方法については検討されていなかった。
また、上記非特許文献２の方法でも、Ｃ末端が遊離したペプチドは得られておらず、さらに酸性及び塩基性条件下での、Ｃ末端保護基の除去や分液操作によって、Ｎ末端保護基のＴｓｏｃ基が容易に脱離することが見出された。
本発明は、Ｎ末端側に特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基を用いて、Ｃ末端側にペプチド鎖を伸長し、Ｃ末端が遊離したペプチドを得る、液相でのペプチドの新規な製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討した結果、特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基を用いることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下を特徴とするものである。【０００７】
［１］
下記工程（１）及び（２）を含む、ペプチドの製造方法。
（１）
式（Ｉ）：
【化１】
2020162393.tif 000003
［式中、
Ｙは、Ｃ末端が無保護のアミノ酸又はＣ末端が無保護のペプチドを表し、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、それぞれ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表し、
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数は、１０以上であり、
Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯＣ（Ｏ）基は、Ｙ中のＮ末端と結合している。］
で表されるＮ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドのＣ末端に、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。
（２）
工程（１）で得られたペプチドのＣ末端の保護基を、除去する工程。
［２］
さらに下記工程（３）及び（４）の繰り返しを１以上含む、［１］に記載の製造方法。
（３）
工程（２）又は（４）で得られたペプチドのＣ末端にＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。
（４）
工程（３）で得られたペプチドのＣ末端の保護基を除去する工程。
［３］
得られたペプチドを、分液により精製する工程を含む、［１］又は［２］に記載の製造方法。
［４］
得られたペプチドを、酸性水溶液又は塩基性水溶液で分液精製する工程を含む、［１］又は［２］に記載の製造方法。
［５］
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ７−１０アラルキル基又はトリＣ１−６アルキルシリル基である［１］乃至［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［６］
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、Ｃ１−６アルキル基又はトリＣ１−６アルキルシリル基である［１］乃至［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［７］
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、トリＣ１−６アルキルシリル基である［１］乃至［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［８］
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、トリメチルシリル基である［１］乃至［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［９］
工程（１）における縮合が、カルボジイミド系縮合剤、クロロホルメート系縮合剤、酸ハロゲン化物系縮合剤、ホスホニウム系縮合剤及びウロニウム系縮合剤からなる群より選ばれる縮合剤を用いて縮合する［１］乃至［８］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１０］
工程（１）における縮合が、イソブチルクロロホルメート、ピバロイルクロリド及び（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩からなる群より選ばれる縮合剤を用いて縮合する［１］乃至［８］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１１］
工程（１）において、さらに塩基を使用する、［１］乃至［１０］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１２］
塩基が、脂肪族アミン又は芳香族アミンである、［１１］に記載の製造方法。
［１３］
塩基が、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又はＮ−メチルモルホリンである、［１１］に記載の製造方法。
［１４］
工程（２）における脱保護条件が、フッ素化合物以外の脱保護剤を使用する条件である、［１］乃至［１３］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１５］
工程（２）における脱保護条件が、水、塩基若しくは酸を使用する、又は水素及び金属触媒を使用する条件である、［１］乃至［１３］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１６］
工程（２）における脱保護条件が、水、トリフルオロ酢酸若しくは水酸化リチウムを使用する、又は水素及びパラジウムカーボン粉末を使用する条件である、［１］乃至［１３］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１７］
工程（２）における脱保護条件が、水を使用する条件である、［７］乃至［１３］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１８］
さらに下記工程（５）を含む、［１］乃至［１７］のいずれか１つに記載の製造方法。
（５）
工程（２）又は（４）で得られたペプチドのＮ末端の保護基を、脱保護剤で除去する工程。
［１９］
工程（５）で使用する脱保護剤が、フッ素化合物である、［１８］に記載の製造方法。
［２０］
フッ素化合物が、フッ化カリウム又はフッ化アンモニウムである、［１９］に記載の製造方法。
［２１］
さらに下記工程（６）及び（７）を含む、［１］乃至［１７］のいずれか１つに記載の製造方法。
（６）
工程（２）又は（４）で得られたペプチドのＣ末端にＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程。
（７）
工程（６）で得られたペプチドのＮ末端の保護基を、脱保護剤で除去する工程。
［２２］
工程（７）で使用する脱保護剤が、フッ素化合物である、［２１］に記載の製造方法。
［２３］
フッ素化合物が、フッ化カリウム又はフッ化アンモニウムである、［２２］に記載の製造方法。
［２４］
Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＣ末端の保護基が、Ｃ１−６アルキル基又はベンジル基である［２１］乃至［２３］のいずれか１つに記載の製造方法。
［２５］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数が１０乃至１００である、［１］乃至［２４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［２６］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数が１０乃至４０である、［１］乃至［２４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［２７］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数が１２乃至２６である、［１］乃至［２４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［２８］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つ又は３つが、互いに独立して、２級若しくは３級の脂肪族炭化水素基である、［１］乃至［２７］のいずれか１つに記載の製造方法。
［２９］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級の脂肪族炭化水素基であり、残りの１つが、３級の脂肪族炭化水素基である、［２８］に記載の製造方法。
［３０］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級のＣ３−６アルキル基であり、残りの１つが、３級のＣ４−６アルキル基である、［２９］に記載の製造方法。
［３１］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリル基である、［１］乃至［２６］のいずれか１つに記載の製造方法。
［３２］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級の脂肪族炭化水素基であり、残りの１つが、置換基を有している２級の脂肪族炭化水素基（ここで、２級の脂肪族炭化水素基の置換基は、シリル原子に結合する炭素原子上に存在する。）である、［２８］に記載の製造方法。
［３３］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級のＣ３−６アルキル基であり、残りの１つが、フェニル基で置換された２級のＣ３−６アルキル基（ここで、２級のＣ３−６アルキル基の置換基であるフェニル基は、シリル原子に結合する炭素原子上に存在する。）である、［３２］に記載の製造方法。
［３４］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ジ−ｉ−プロピルクミルシリル基である、［３３］に記載の製造方法。
［３５］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、３級の脂肪族炭化水素基である、［２８］に記載の製造方法。
［３６］
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、３級のＣ４−６アルキル基である、［３５］に記載の製造方法。
［３７］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ジ−ｔ−ブチルイソブチルシリル基である、［３６］に記載の製造方法。
［３８］
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基が、ベンジル−ジ−ｔ−ブチルシリル基、ジ−ｔ−ブチルオクタデシルシリル基又はジ−ｔ−ブチルシクロへキシルシリル基である、［３６］に記載の製造方法。
［３９］
アミノ酸又はペプチドがα−アミノ酸で構成される、［１］乃至［３８］のいずれか１つに記載の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、シリルカルバメート系保護基を用いた液相でのペプチドの新規な製造方法を提供することができた。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明について、詳細に説明する。
【００１０】
本明細書における「ｎ−」はノルマル、「ｉ−」はイソ、「ｓ−」はセカンダリー、「ｔ−」はターシャリー、「Ｍｅ」はメチル、「Ｂｕ」はブチル、「Ｂｎ」はベンジル、「Ｐｈ」はフェニル、「Ｔｆ」はトリフルオロメタンスルホニル、「ＴＭＳ」はトリメチルシリル、「ＩＰＢＳ」はジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリル、「ＩＰＣＳ」はジ−ｉ−プロピルクミルシリル、「ＰｈＢＳ」はジ−ｔ−ブチルフェニルシリル、「ＣＨＢＳ」はジ−ｔ−ブチルシクロへキシルシリル、「Ｔｓｏｃ」はトリイソプロピルシリルオキシカルボニル、「ＢＩＢＳｏｃ」はジ−ｔ−ブチルイソブチルシリルオキシカルボニル、「ＩＰＢＳｏｃ」はジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリルオキシカルボニル、「ＩＰＣＳｏｃ」はジ−ｉ−プロピルクミルシリルオキシカルボニル、「ＢＢＳｏｃ」はベンジル−ジ−ｔ−ブチルシリルオキシカルボニル、「ＣＨＢＳｏｃ」はジ−ｔ−ブチルシクロへキシルシリルオキシカルボニル、「ＯＤＢＳｏｃ」はジ−ｔ−ブチルオクタデシルシリルオキシカルボニル、「Ｂｏｃ」はｔ−ブチルオキシカルボニルを意味する。
【００１１】
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。
【００１２】
「Ｃ１−６アルキル基」とは、炭素数が１乃至６個である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を意味し、具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。また、「Ｃ３−６アルキル基」とは、炭素数が３乃至６個であり、「Ｃ４−６アルキル基」とは、炭素数が４乃至６個である、直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を意味する。
【００１３】
「Ｃ１−４０アルキル基」とは、炭素数が１乃至４０個である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を意味し、具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドコシル基、トリアコンチル基、テトラコンチル基、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基（以下、２，３−ジヒドロフィチル基ということもある。）などが挙げられる。
【００１４】
「Ｃ１−６アルコキシ基」とは、炭素数が１乃至６個である直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を意味し、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基などが挙げられる。
【００１５】
「Ｃ１−４０アルコキシ基」とは、炭素数が１乃至４０個である直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を意味し、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ドコシルオキシ基、トリアコンチルオキシ基、テトラコンチルオキシ基、３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシルオキシ基（以下、２，３−ジヒドロフィチルオキシ基ということもある。）などが挙げられる。
【００１６】
「Ｃ１−６アルコキシカルボニル基」とは、１個の前記「Ｃ１−６アルコキシ基」がカルボニル基に結合した基を意味し、具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基などが挙げられる。
【００１７】
「Ｃ２−６アルケニル基」とは、炭素数が２乃至６個である直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を意味し、具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基などが挙げられる。
【００１８】
「Ｃ２−６アルキニル基」とは、炭素数が２乃至６個である直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を意味し、具体例としては、エチニル基、１−プロピニル基などが挙げられる。
【００１９】
「Ｃ３−６シクロアルキル基」とは、炭素数が３乃至６個であるシクロアルキル基を意味し、具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【００２０】
「Ｃ３−６シクロアルコキシ基」とは、炭素数が３乃至６個であるシクロアルコキシ基を意味し、具体例としては、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などが挙げられる。
【００２１】
「Ｃ６−１４アリール基」とは、炭素数が６乃至１４個である芳香族炭化水素基を意味し、その具体例としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、ビフェニル基などが挙げられる。
【００２２】
「Ｃ６−１４アリールオキシ基」とは、炭素数が６乃至１４個であるアリールオキシ基を意味し、具体例としては、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、１−アントラセニルオキシ基、２−アントラセニルオキシ基、９−アントラセニルオキシ基、ビフェニルオキシ基などが挙げられる。
【００２３】
「Ｃ７−１０アラルキル基」とは、炭素数が７乃至１０個であるアラルキル基を意味し、具体例としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基などが挙げられる。
【００２４】
「トリＣ１−６アルキルシリル基」とは、同一又は異なる３個の前記「Ｃ１−６アルキル基」がシリル基に結合した基を意味し、具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ジ−ｔ−ブチルイソブチルシリル基などが挙げられる。
【００２５】
「トリＣ１−６アルキルシリルオキシ基」とは、同一又は異なる３個の前記「Ｃ１−６アルキル基」がシリルオキシ基に結合した基を意味し、具体例としては、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ジ−ｔ−ブチルイソブチルシリルオキシ基などが挙げられる。
【００２６】
「モノＣ１−６アルキルアミノ基」とは、１個の前記「Ｃ１−６アルキル基」がアミノ基に結合した基を意味し、具体例としては、モノメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、モノ−ｎ−プロピルアミノ基、モノイソプロピルアミノ基、モノ−ｎ−ブチルアミノ基、モノイソブチルアミノ基、モノ−ｔ−ブチルアミノ基、モノ−ｎ−ペンチルアミノ基、モノ−ｎ−ヘキシルアミノ基などが挙げられる。
【００２７】
「ジＣ１−６アルキルアミノ基」とは、同一又は異なる２個の前記「Ｃ１−６アルキル基」がアミノ基に結合した基を意味し、具体例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ペンチルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−イソブチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−t−ブチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−t−ブチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノ基などが挙げられる。
【００２８】
「５−１０員複素環基」とは、環を構成する原子の数が５乃至１０個であり、かつ環を構成する原子中に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選ばれる１乃至４個のヘテロ原子を含有する単環系又は縮合環系の複素環基を意味する。この複素環基は飽和、部分不飽和、不飽和のいずれであってもよく、具体例としては、ピロリジニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、ピロール基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、アゼパニル基、オキセパニル基、チエパニル基、アゼピニル基、オキセピニル基、チエピニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリニル基、ピラジニル基、モルホリニル基、チアジニル基、インドリル基、イソインドリル基、ベンゾイミダゾリル基、プリニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、クロメニル基、イソクロメニル基などが挙げられる。
【００２９】
「脂肪族炭化水素基」とは、直鎖、分岐鎖状又は環状の、飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素基であり、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等が挙げられ、具体例としては、Ｃ１−４０アルキル基、Ｃ３−６シクロアルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ７−１０アラルキル基等が挙げられる。
【００３０】
「芳香族炭化水素基」とは、単環又は複数の環から構成される炭化水素基であり、少なくとも一つの環が芳香族性を示す基を意味し、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、インデニル基、フェナセニル基、インダニル基等が挙げられる。
【００３１】
「置換基を有していてもよい」とは、無置換であるか、又は任意の数の任意の置換基で置換されていることを意味する。
【００３２】
上記の「任意の置換基」は、本発明が対象とする反応に悪影響を与えない置換基であれば特に種類は限定されない。
【００３３】
「置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基」における「置換基」としては、例えば、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ６−１４アリールオキシ基、５−１０員複素環基、ヒドロキシ基、Ｃ１−４０アルコキシ基、Ｃ３−６シクロアルコキシ基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アミノ基、モノＣ１−６アルキルアミノ基、Ｎ−アセチルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、トリＣ１−６アルキルシリル基、トリＣ１−６アルキルシリルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基等が挙げられ、好ましくは、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ１−４０アルコキシ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、トリＣ１−６アルキルシリル基、トリＣ１−６アルキルシリルオキシ基であり、より好ましくは、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ１−４０アルコキシ基、トリＣ１−６アルキルシリル基である。
【００３４】
「置換基を有している」とは、任意の数の任意の置換基で置換されていることを意味する。
【００３５】
上記の「任意の置換基」は、本発明が対象とする反応に悪影響を与えない置換基であれば特に種類は限定されない。
【００３６】
「置換基を有している２級の脂肪族炭化水素基」における「置換基」としては、例えば、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ６−１４アリールオキシ基、５−１０員複素環基、Ｃ１−４０アルコキシ基、Ｃ３−６シクロアルコキシ基等が挙げられ、好ましくは、Ｃ６−１４アリール基であり、より好ましくは、フェニル基である。
【００３７】
本明細書中、「特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基」とは、下記式（ＩＩ）：
【化２】
2020162393.tif 000004
［式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、それぞれ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表し、
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数は、１０以上である。］
で表される、アミノ酸又はペプチドのＮ末端と結合する保護基を意味する。
【００３８】
「Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数」とは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３がそれぞれ有する炭素原子数の合計であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、少なくとも一つが置換基を有している場合は、その置換基中の炭素原子数も含まれる。
【００３９】
式（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、互いに独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つ又は３つが、互いに独立して、２級若しくは３級の脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級の脂肪族炭化水素基であり、残りの１つが、３級の脂肪族炭化水素基であり、更に好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級のＣ３−６アルキル基であり、残りの１つが、３級のＣ４−６アルキル基であり、より更に好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、ｉ−プロピル基であり、残りの１つがｔ−ブチル基である。
【００４０】
式（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の別の態様としては、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級の脂肪族炭化水素基であり、残りの１つが、置換基を有している２級の脂肪族炭化水素基（ここで、２級の脂肪族炭化水素基の置換基は、シリル原子に結合する炭素原子上に存在する。）であり、より好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、２級のＣ３−６アルキル基であり、残りの１つが、フェニル基で置換された２級のＣ３−６アルキル基（ここで、２級の脂肪族炭化水素基の置換基であるフェニル基は、シリル原子に結合する炭素原子上に存在する。）であり、更に好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、ｉ−プロピル基であり、残りの１つが、クミル基である。
【００４１】
式（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の別の態様としては、好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、３級の脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、互いに独立して、３級のＣ４−６アルキル基であり、更に好ましくは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内、２つが、ｔ−ブチル基であり、残りの１つが、ｉ−ブチル基、ベンジル基、オクタデシル基又はシクロへキシル基である。
【００４２】
式（ＩＩ）において、Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基中の炭素原子の総数は、好ましくは１０乃至１００であり、より好ましくは１０乃至４０であり、更に好ましくは１２乃至２６である。
【００４３】
本発明で用いる特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基（本発明の保護基）の特徴としては、例えば以下が挙げられる。
（ａ）Ｃ末端Ｍｅ基が脱保護される塩基性条件（水酸化リチウム水溶液などの試薬の存在下）で、本発明の保護基は安定である（後述の合成例２など参照）。
（ｂ）Ｃ末端ｔ−Ｂｕ基が脱保護される酸性条件（トリフルオロメタンスルホン酸などの試薬の存在下）で、本発明の保護基は安定である（後述の合成例３など参照）。
（ｃ）Ｃ末端ＴＭＳ基が脱保護される分液の条件下で、本発明の保護基は安定である（後述の合成例１及び４など参照）。
（ｄ）フッ素化合物（フッ化カリウム、フッ化アンモニウムなど）の存在下で脱保護される。
【００４４】
「Ｎ−保護アミノ酸」及び「Ｎ−保護ペプチド」とは、Ｎ末端のアミノ基が保護されており、Ｃ末端のカルボキシ基が無保護のアミノ酸又はペプチドを意味する。
【００４５】
「Ｃ−保護アミノ酸」及び「Ｃ−保護ペプチド」とは、Ｃ末端のカルボキシ基が保護されており、Ｎ末端のアミノ基が無保護のアミノ酸又はペプチドを意味する。
【００４６】
本発明で使用されるアミノ酸は、アミノ基とカルボキシ基の両方の官能基を持つ有機化合物であり、好ましくはα−アミノ酸、β−アミノ酸、γ−アミノ酸又はδ−アミノ酸であり、より好ましくはα−アミノ酸又はβ−アミノ酸であり、更に好ましくはα−アミノ酸である。またこれらのアミノ酸に２以上のアミノ基が存在する場合（例えば、アルギニン、リシン等）、２以上のカルボキシ基が存在する場合（例えば、グルタミン酸、アスパラギン酸等）、又は反応性官能基が存在する場合（例えば、システイン、セリン等）、本発明で使用されるアミノ酸は、ペプチドの形成に関与しないアミノ基、カルボキシ基及び／又は反応性官能基が、保護及び／又は修飾されたアミノ酸も含む。
【００４７】
ペプチドとは当業者に周知の概念であるが、念のために補足すると、本発明におけるペプチドは、アミノ酸をモノマーとしてペプチド結合により鎖状につながった分子をいい、本発明で使用されるペプチドを構成するアミノ酸は、上述のアミノ酸である。
【００４８】
α−アミノ酸の立体構造は特に限定されないが、好ましくはＬ体である。
【００４９】
「一時保護基」とは、ペプチド鎖を伸長する末端側の保護基であり、ペプチド伸長反応（アミド化反応）を行う前に脱保護される保護基を意味し、Ｃ末端側へのペプチド鎖の伸長においては、Ｃ末端保護基が挙げられる。Ｃ末端保護基としては、ペプチド化学等の技術分野で一般的に用いられる、カルボキシ基の保護基が使用可能であるが、好ましくは、特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基の脱離とは異なる条件により脱離する保護基であり、具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、シリル基であり、好ましくはＣ１−６アルキル基、Ｃ７−１０アラルキル基、トリＣ１−６アルキルシリル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、トリメチルシリル基が挙げられる。
【００５０】
本明細書で用いるすべての技術用語及び科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者に一般に理解されるのと同じ意味をもつ。本明細書に記載されたものと同様又は同等の任意の方法及び材料は、本発明の実施又は試験において使用することができるが、好ましい方法及び材料を以下に記載する。本明細書で言及したすべての刊行物及び特許は、例えば、記載された発明に関連して使用されうる刊行物に記載されている、構築物及び方法論を記載及び開示する目的で、参照として本明細書に組み入れられる。
【００５１】
（本発明のペプチドの製造法の具体的な説明）
以下に本発明のペプチドの製造法の各工程（ｉ）乃至（ｖｉ）について説明する。
一つの態様として、本発明のペプチドの製造は、以下の工程（ｉ）乃至（ｖｉ）として記載されるそれぞれの単位工程により構成される。
一つの態様として、本発明のペプチドの製造は、以下の工程（ｉ）乃至（ｖｉ）として記載される単位工程を、すべてまたは適宜組み合わせることで行うことができる。
なお、本具体的な説明は以下に基づき説明される。
（ａ）工程（ｉ）乃至（ｖｉ）の記載におけるＲ１、Ｒ２およびＲ３は、上記と同義である。
（ｂ）反応の具体的な条件は、本発明のペプチドの製造が達成される限りにおいて特に制限されない。各反応における好ましい条件は適宜詳述される。
（ｃ）各反応で記載される溶媒は、単独で用いても、２種類以上を混合して用いても良い。
【００５２】
工程（ｉ）：ペプチド鎖伸長工程
本工程は、特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基をＮ末端に導入したＮ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドのＣ末端に、市販品又はシリル化剤を用いて合成したＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程である。
尚、特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基をＮ末端に導入したＮ−保護アミノ酸又はペプチドは、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、１９９９年、６４巻、３７９２−３７９３頁、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー、２００５年、１２７巻、１３７２０−１３７２５頁及び参考合成例１、５、７に記載の方法及びそれに準ずる方法で得ることができる。
【００５３】
本工程は、縮合剤を使用し、ペプチド化学等の技術分野で一般的に用いられる縮合条件下で行われる。
【００５４】
本工程で使用する縮合剤は、特に制限は無いが、好ましくは、カルボジイミド系縮合剤（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド  塩酸塩（ＥＤＣＩ））、クロロホルメート系縮合剤（例えば、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル）、酸ハロゲン化物系縮合剤（例えば、ピバロイルクロリド）、イミダゾール系縮合剤（例えば、１，１’−カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ））、ホスホニウム系縮合剤（例えば、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ（商標登録））、ブロモトリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢｒｏｐ（商標登録）））、ウロニウム系縮合剤（例えば、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  テトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−５−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾリウム３−オキシド  ヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロボレート（ＨＢＴＵ）、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＣＯＭＵ））等であり、より好ましくは、カルボジイミド系縮合剤、クロロホルメート系縮合剤、酸ハロゲン化物系縮合剤、ホスホニウム系縮合剤又はウロニウム系縮合剤であり、更に好ましくは、クロロギ酸イソブチル、ピバロイルクロリド又は（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩である。
【００５５】
縮合剤の使用量は、Ｎ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドに対して、好ましくは０．１当量乃至２０当量であり、より好ましくは１当量乃至１０当量であり、さらに好ましくは１当量乃至５当量である。
【００５６】
本工程において、添加剤及び塩基は、反応を妨げない限り適宜使用することができる。
【００５７】
本工程で使用する添加剤は、特に制限は無いが、その例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１−ヒドロキシ−１Ｈ−１，２，３−トリアゾール−５−カルボン酸エチルエステル（ＨＯＣｔ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、（ヒドロキシイミノ）シアノ酢酸エチル（ＯｘｙｍａＰｕｒｅ）等が挙げられる。
【００５８】
添加剤の使用量は、Ｎ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドに対して、好ましくは０．０１当量乃至２０当量であり、より好ましくは０．２当量乃至１０当量であり、さらに好ましくは１当量乃至５当量である。
【００５９】
本工程で使用する塩基は、特に制限は無いが、その例としては、脂肪族アミン（例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン）、芳香族アミン（例えば、ピリジン）等が挙げられる。好ましくは、脂肪族アミンであり、より好ましくはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンである。
【００６０】
塩基の使用量は、Ｎ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドに対して、好ましくは１当量乃至５０当量であり、より好ましくは１当量乃至１０当量であり、さらに好ましくは１当量乃至５当量である。
【００６１】
本工程で使用する溶媒は、反応を妨げない限り特に限定されないが、その例としては、含ハロゲン炭化水素溶媒（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム）、芳香族炭化水素溶媒（例えば、トルエン、キシレン）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル）、アミド溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、ニトリル溶媒（例えば、アセトニトリル）等が挙げられる。好ましくは含ハロゲン炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、又はエーテル溶媒であり、より好ましくはトルエン、テトラヒドロフラン、又はメチル−ｔ−ブチルエーテルである。
【００６２】
溶媒の使用量は、Ｎ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドに対して、好ましくは１００質量倍以下であり、より好ましくは１質量倍乃至５０質量倍であり、さらに好ましくは５質量倍乃至２０質量倍である。
【００６３】
反応温度は、特に制限は無いが、−４０℃から反応混合物の還流温度までが好ましく、より好ましくは−２０℃乃至５０℃であり、さらに好ましくは−１０℃乃至３０℃である。
【００６４】
反応時間は、特に制限は無いが、反応開始乃至７２時間が好ましく、より好ましくは０．１時間乃至４８時間であり、さらに好ましくは０．１乃至２４時間である。
【００６５】
反応の進行の確認は、一般的な液相有機合成反応と同様の方法を適用できる。即ち、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー／質量分析（ＬＣ／ＭＳ）等を用いて反応を追跡することができる。
【００６６】
工程（ｉｉ）：Ｃ末端の脱保護工程
本工程は、上記工程（ｉ）で得られたペプチドのＣ末端保護基を除去する工程である。
【００６７】
脱保護条件は、Ｃ末端保護基の種類により適宜選択されるが、特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基の脱離とは異なる条件により脱保護するのが好ましい。Ｃ末端保護基がＣ１−６アルキル基の場合は、塩基又は酸で処理することにより行われ（例えば、メチル基の場合は、塩基で処理することにより行なわれ、ｔ−ブチル基の場合は、酸で処理することにより行われる）、Ｃ７−１０アラルキル基（例えば、ベンジル基など）の場合は、金属触媒存在下、水素添加することにより行われ、トリＣ１−６アルキルシリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基など）の場合は、水（中性、酸性又は塩基性水溶液など）で処理することにより行われる。
【００６８】
本工程で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ピペリジン、ヒドラジン等が挙げられる。
【００６９】
本工程で使用する酸としては、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等が挙げられる。
【００７０】
当該反応に用いる金属触媒としては、例えば、パラジウムカーボン粉末、白金カーボン粉末、ルテニウムカーボン粉末、アルミナ粉末等が挙げられる。
【００７１】
本工程で使用する水溶液は、特に制限はないが、酸性水溶液としては、塩酸、硫酸、酢酸水溶液、リン酸水溶液、クエン酸水溶液、塩化アンモニウム水溶液等が挙げられる。塩基性水溶液としては、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、アンモニア水等が挙げられる。
【００７２】
本工程で使用する溶媒は、反応を妨げない限り特に限定されないが、その例としては、アルコール溶媒（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール）、含ハロゲン炭化水素溶媒（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム）、芳香族炭化水素溶媒（例えば、トルエン、キシレン）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル）、アミド溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、ニトリル溶媒（例えば、アセトニトリル）等が挙げられる。好ましくはアルコール溶媒、含ハロゲン炭化水素溶媒、又はエーテル溶媒であり、より好ましくはトルエン、テトラヒドロフラン又はメチル−ｔ−ブチルエーテルである。
【００７３】
工程（ｉｉｉ）：精製工程
本工程は、上記工程（ｉｉ）で得られたペプチドを、分液操作により精製する工程である。
【００７４】
分液操作では、ペプチドを溶解させた良溶媒を、目的とするペプチドや含まれ得る不純物に応じて、水、あるいは酸性及び／又は塩基性水溶液で洗浄することにより、不純物を除去することができる。
【００７５】
本工程で使用する酸性水溶液は、特に制限は無いが、その例としては、塩酸、硫酸、酢酸水溶液、リン酸水溶液、クエン酸水溶液、塩化アンモニウム水溶液等が挙げられる。好ましくは、塩酸、リン酸水溶液、クエン酸水溶液又は塩化アンモニウム水溶液である。
【００７６】
本工程で使用する塩基性水溶液は、特に制限は無いが、その例としては、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、アンモニア水等が挙げられる。好ましくは、炭酸カリウム水溶液、アンモニア水である。
【００７７】
また、本発明のペプチドの製造方法において、工程（ｉｉ）で得られたペプチドに対して、下記工程（ｉｖ）乃至（ｖｉ）を所望の回数繰返すことにより、ペプチド鎖をさらに伸長することができる。
（ｉｖ）精製工程で得られたペプチドのＣ末端に、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを縮合させる工程、及び
（ｖ）上記工程（ｉｖ）で得られたペプチドのＣ末端の一時保護基を除去する工程、
（ｖｉ）上記工程（ｖ）で得られたペプチドを分液する工程。
いずれも、上記工程（ｉ）乃至（ｉｉｉ）と同様の操作で実施することができる。
【００７８】
本工程は、上記工程（ｉ）や（ｉｖ）の、ペプチド鎖伸長工程で得られたペプチドに対して実施しても良い。
【００７９】
本発明のペプチドの製造方法においては、次工程の反応に影響を及ぼさない範囲で工程（ｉｉ）又は工程（ｖ）の精製工程を適宜省略することも可能である。
【００８０】
工程（ｖｉｉ）：Ｎ末端の脱保護工程
当該工程は、上記工程（ｉｉ）乃至（ｖｉ）により得られたペプチドから、Ｎ末端保護基を除去する工程である。
【００８１】
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、フッ素化合物等の試薬を反応させることにより行われる。
【００８２】
当該反応に影響を及ぼさない溶媒としては、例えば、アルコール溶媒、含ハロゲン炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒等が挙げられる。好ましくはアルコール溶媒、エーテル溶媒、アミド溶媒又はニトリル溶媒であり、より好ましくはメタノール、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン又はアセトニトリルである。
【００８３】
当該反応で用いるフッ素化合物は、例えば、フッ化水素−アミン塩（例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化アンモニウム、フッ化水素−ピリジン錯体、フッ化水素−トリエチルアミン錯体）、フッ化水素−金属塩（例えば、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化カルシウム）が挙げられる。好ましくは、テトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化アンモニウム又はフッ化カリウムであり、より好ましくは、フッ化アンモニウム又はフッ化カリウムである。
【００８４】
当該反応を行う場合、反応温度は、通常−２０℃乃至使用する溶媒の沸点の範囲の任意の温度であり、好ましくは０℃乃至６０℃であり、より好ましくは１０℃乃至４０℃である。また、反応時間は、通常１乃至２４時間であり、好ましくは１乃至５時間である。
【００８５】
各反応において、反応基質がヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシ基又はカルボニル基を有する場合（特にアミノ酸又はペプチドの側鎖に官能基を有する場合）、これらの基にペプチド化学等で一般的に用いられるような保護基が導入されていてもよく、反応後に必要に応じて保護基を除去することにより目的化合物を得ることができる。
【００８６】
保護及び脱保護は、一般的に知られている保護基を用いて、保護・脱保護反応（例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス第４版（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，  Ｆｏｕｒｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（２００６年）など参照）を行うことにより実施することができる。
【実施例】
【００８７】
以下に参考合成例、合成例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。【００８８】
本明細書において、アミノ酸等を略号で表示する場合、各表示は、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｎ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅによる略号あるいは当該分野における慣用略号に基づくものである。【００８９】
なお、合成例中、「Ｍ」はｍｏｌ／Ｌを意味する。【００９０】
実施例のプロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）は、特に記述が無い場合は、日本電子（ＪＥＯＬ）社製ＪＮＭ−ＥＣＰ３００、又は日本電子（ＪＥＯＬ）社製ＪＮＭ−ＥＣＸ３００、又は、ブルカー（Ｂｒｕｋｅｒ）社製ＡｓｃｅｎｄＴＭ５００を用いて重クロロホルム又は重ジメチルスルホキシド溶媒中で測定し、化学シフトは、テトラメチルシランを内部標準（０．０ｐｐｍ）としたときのδ値（ｐｐｍ）で示した。【００９１】
ＮＭＲスペクトルの記載において、「ｓ」はシングレット、「ｄ」はダブレット、「ｔ」はトリプレット、「ｑ」はカルテット、「ｓｅｐ」はセプテット、「ｄｔ」はダブレット  オブ  トリプレット、「ｍ」はマルチプレット、「ｂｒ」はブロード、「Ｊ」はカップリング定数、「Ｈｚ」はヘルツ、「ＣＤＣｌ３」は重クロロホルムを意味する。【００９２】
高速液体クロマトグラフィー／質量分析は、特に記載が無い場合は、Ｗａｔｅｒｓ社製ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ  Ｈ−Ｃｌａｓｓ／ＱＤａ、Ｗａｔｅｒｓ社製ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ  Ｈ−Ｃｌａｓｓ／ＳＱＤ２、又は、Ｓｈｉｍａｄｚｕ社製ＬＣ−２０ＡＤ／Ｔｒｉｐｌｅ  Ｔｏｆ５６００のいずれかを用いて測定した。【００９３】
高速液体クロマトグラフィー／質量分析の記載において、ＥＳＩ＋はエレクトロスプレーイオン化法のポジティブモードであり、Ｍ＋Ｈはプロトン付加体、Ｍ＋Ｎａはナトリウム付加体を意味する。【００９４】
高速液体クロマトグラフィー／質量分析の記載において、ＥＳＩ−はエレクトロスプレーイオン化法のネガティブモードであり、Ｍ−Ｈはプロトン欠損体を意味する。【００９５】
シリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製は、特に記述がない場合は、山善製Ｈｉ−Ｆｌａｓｈカラム、バイオタージ製ＳＮＡＰ  Ｕｌｔｒａ  Ｓｉｌｉｃａ  Ｃａｒｔｒｉｄｇｅ、メルク製シリカゲル６０又は富士シリシア化学製ＰＳＱ６０Ｂのいずれかを用いた。【００９６】
参考合成例１：Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化３】
2020162393.tif 000005
（ｉ）Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（１．４９ｇ、４．２２ｍｍｏｌ）、ルチジン（０．６８ｇ、６．３ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１５ｍＬ）と混合させ、０℃にてトリイソプロピルシリルトリフルオロメタンスルホネート（１．４２ｇ、４．６３ｍｍｏｌ）を加えた後、３時間撹拌した。この反応液に、０℃にてルチジン（０．６８ｇ、６．３ｍｍｏｌ）、トリイソプロピルシリルトリフルオロメタンスルホネート（１．４２ｇ、４．６３ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して２０時間撹拌した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（４５ｍＬ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍＬ）、飽和塩化アンモニウム水溶液（１５ｍＬ）、水（１５ｍＬ）の順で洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（１．５６ｇ、収率８２％）を無色液体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：１．０４−１．０６（１８Ｈ，ｍ），１．２７（３Ｈ、ｓｅｐ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），３．０４−３．１８（２Ｈ，ｍ），４．６３−４．５０（１Ｈ，ｍ），５．０９−５．２１（３Ｈ，ｍ），７．０２−７．６３（１０Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋４５６．３７
（ｉｉ）Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．３８３ｇ、０．８４０ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（８．０ｍＬ）と混合させ、１０質量％Ｐｄ−Ｃ（３９.９ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、室温で１時間撹拌した。反応液をろ過後、得られたろ液を濃縮し、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．３１ｇ、収率１０１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：１．０５（１８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．２６（３Ｈ，Ｓｅｐ，７．５Ｈｚ），３．０６−３．２７（２Ｈ，ｍ），４．６０−４．６６（１Ｈ，ｍ），５．１３（２Ｈ，ｄ，７．５Ｈｚ），７．１８−７．３３（５Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋３６６．３２【００９７】
参考合成例２：Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化４】
2020162393.tif 000006
Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２２２ｇ、０．６０８ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０６４ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４．０ｍＬ）と混合させ、０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０８２ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）を加え１５分撹拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１０９ｇ、０．６６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．２６８ｇ、１．３２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１．０ｍＬ）を混合させ、５５℃にて１時間撹拌した溶液を加え、さらに０℃のまま２時間撹拌し、原料の消失を確認した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（４．０ｍＬ）で希釈し、１０質量％炭酸カリウム水溶液（２．０ｍＬ）、２０質量％塩化アンモニウム水溶液（２．０ｍＬ）、飽和塩化ナトリウム水溶液（４．０ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．０８９ｇ、収率２９％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．９０−１．１９（１８Ｈ，ｍ），１．２１−１．３２（３Ｈ，ｍ），２．７９−３．２１（４Ｈ，ｍ），４．３７（１Ｈ，ｂｒ），４．５８（１Ｈ，ｂｒ），５．６６（１Ｈ，ｂｒ），５．８７（１Ｈ，ｂｒ），７．０９（１０Ｈ，ｂｒ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５１３．３５【００９８】
参考合成例３：Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化５】
2020162393.tif 000007
（ｉ）Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２９８ｇ、０．８１５ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．１８６ｇ、１．８４ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（８．０ｍＬ）と混合させ、−３０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．１２６ｇ、０．９２ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液にＨ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ塩酸塩（０．２０１ｇ、０．９３ｍｍｏｌ）を加えた後、同温度で３０分間撹拌した。この反応液を室温に昇温して１時間撹拌した後、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（３．０ｍＬ、２回）、水（３．０ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ（０．４３６ｇ、収率１０２％）を無色オイルとして得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０２−１．０６（１８Ｈ，ｍ），１．２６（３Ｈ，Ｓｅｐ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．９７−３．１０（４Ｈ，ｍ），３．６５（３Ｈ，ｓ），４．３０−４．３８（１Ｈ，ｍ），４．７１−４．７８（１Ｈ，ｍ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９７−７．２９（１０Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５２７．３３
（ｉｉ）Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ（０．０７８ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）をメタノール（１．６ｍＬ）と混合させ、５質量％水酸化リチウム水溶液（０．０８５ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１０分撹拌した。この反応液をＬＣ−ＭＳで分析したところ、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅは分解しており、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨも生成していなかった。【００９９】
参考合成例４：Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化６】
2020162393.tif 000008
（ｉ）Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２７９ｇ、０．７６４ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．１６２ｇ、１．６０ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（５．６ｍＬ）と混合させ、−１０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．１１０ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液にＨ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）塩酸塩（０．２０７ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）を加えた後、同温度で４５分間撹拌した。得られた反応液を、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（５．６ｍＬ、２回）、水（５．６ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）（０．２９４ｇ、収率６８％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：１．０５（１８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２７（３Ｈ，Ｓｅｐ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．３５（９Ｈ，ｓ），３．０１−３．０６（４Ｈ，ｍ），４．３１−４．３８（１Ｈ，ｍ），４．５７−４．６３（１Ｈ，ｍ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０３−７．２９（１０Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５６９．３８
（ｉｉ）Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）（０．１０ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２．０ｍＬ）と混合させ、トリフルオロ酢酸（０．８０ｇ、７．０ｍｍｏｌ）を加え、２時間３０分撹拌した。この反応液をＬＣ−ＭＳで分析したところ、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）は分解しており、Ｔｓｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨも生成していなかった。【０１００】
参考合成例５：ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化７】
2020162393.tif 000009
（ｉ）Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．７５２ｇ、２．１１ｍｍｏｌ）、ルチジン（０．３４ｇ、３．１６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（７．５ｍＬ）と混合させ、０℃にてジ−ｔ−ブチルイソブチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（０．８１ｇ、２．３２ｍｍｏｌ）を加えた後、２時間撹拌した。この反応液に、０℃にてルチジン（０．１１ｇ、１．１ｍｍｏｌ）、ジ−ｔ−ブチルイソブチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（０．２７ｇ、０．７７ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１６時間撹拌した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（２３ｍＬ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（７．５ｍＬ）、飽和塩化アンモニウム水溶液（７．５ｍＬ）、水（７．５ｍＬ）の順で洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．８３ｇ、収率７９％）を無色液体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ： ０．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．０３（１８Ｈ，ｍ），１．９９（１Ｈ，ｂｒ  Ｓｅｐ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．０３−３．１７（２Ｈ，ｍ），４．６７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，６．０Ｈｚ），５．０８−５．１９（３Ｈ，ｍ），７．０１−７．３５（１０Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋４９８．４２
（ｉｉ）ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．３３０ｇ、０．６９ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（５．０ｍＬ）と混合させ、１０質量％Ｐｄ−Ｃ（３８.９ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、室温で１時間３０分撹拌した。反応液をろ過後、得られたろ液を濃縮し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２５０ｇ、収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９４（６Ｈ，ｂｒ  ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．０３（１８Ｈ，ｍ），１．９９（１Ｈ，Ｓｅｐ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．０６−３．２６（２Ｈ，ｍ），４．６０−４．６６（１Ｈ，ｍ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１６−７．３２（５Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋４０８．３３【０１０１】
合成例１：ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化８】
2020162393.tif 000010
ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１５１ｇ、０．３６８ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０４３ｇ、０．４２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３．０ｍＬ）と混合させ、０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０５５ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を加え１５分撹拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．０７４ｇ、０．４４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．１８ｇ、０．８８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（０．７５ｍＬ）を混合させ、５５℃にて１時間撹拌して調製した溶液を加え、さらに０℃のまま２時間撹拌した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（３．０ｍＬ）で希釈し、１０質量％炭酸カリウム水溶液（１．５ｍＬ）、２０質量％塩化アンモニウム水溶液（１．５ｍＬ）、飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１７４ｇ、収率８５％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．７６−１．０４（２７Ｈ，ｍ），２．８５−３．３０（４Ｈ，ｍ），４．３６（１Ｈ，ｂｒ），４．６０（１Ｈ，ｂｒ），６．９１−７．２０（１０Ｈ，ｂｒ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５５５．３８【０１０２】
合成例２：ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化９】
2020162393.tif 000011
（ｉ）ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２９９ｇ、０．７３６ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．１５６ｇ、１．５５ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（６．０ｍＬ）と混合させ、−１０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．１０６ｇ、０．７７ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液にＨ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ塩酸塩（０．１９９ｇ、０．９２ｍｍｏｌ）を加えた後、同温度で３０分間撹拌した。得られた反応液を、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（６．０ｍＬ、２回）、水（６．０ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ（０．４２０ｇ、収率１０１％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），０．８９−０．９５（６Ｈ，ｍ），１．０２（１８Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１．９８（１Ｈ，Ｓｅｐ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．９７−３．０９（４Ｈ，ｍ），３．６５（３Ｈ，ｓ），４．３１−４．３９（１Ｈ，ｍ），４．７１−４．７８（１Ｈ，ｍ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９４−７．２９（１０Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５６９．３８
（ｉｉ）ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ（０．１０ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をメタノール（２．０ｍＬ）と混合させ、５質量％水酸化リチウム水溶液（０．１０ｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を加え、２３時間撹拌した。得られた反応液に、４質量％塩酸（１．０ｍＬ）を加えクエンチし、酢酸エチル（２．０ｍＬ）、水（２．０ｍＬ）を加え、分液した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．０８２ｇ、収率８５％）を白色固体として得た。【０１０３】
合成例３：ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化１０】
2020162393.tif 000012
（ｉ）ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１５９ｇ、０．３９３ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０８３ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（３．２ｍＬ）と混合させ、−１０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０５６ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液にＨ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）塩酸塩（０．１０９ｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を加えた後、同温度で４５分間撹拌した。得られた反応液を、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（３．２ｍＬ、２回）、水（３．２ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）（０．２３９ｇ、収率１００％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），０．９０−０．９６（６Ｈ，ｍ），１．０２（１８Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１．３５（９Ｈ，ｓ），１．９９（１Ｈ，Ｓｅｐ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．００−３．０５（４Ｈ，ｍ），４．３１−４．３８（１Ｈ，ｍ），４．５６−４．６３（１Ｈ，ｍ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０３−７．２８（１０Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋６１１．４５
（ｉｉ）ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）（０．０９２ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１．９ｍＬ）と混合させ、トリフルオロ酢酸（０．６９ｇ、６．１ｍｍｏｌ）を加え、４時間３０分撹拌した。得られた反応液に１０質量％炭酸ナトリウム水溶液（２．０ｍＬ）を加えクエンチし、分液した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．０７９ｇ、収率９４％）を白色固体として得た。【０１０４】
参考合成例６：ＩＰＢＳ−ＯＴｆの合成
【化１１】
2020162393.tif 000013
ジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシラン（０．３００ｇ、１．７４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１０．０ｇ）と混合し、氷冷下でトリフルオロメタンスルホン酸（０．１６０ｇ、１．０７ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温に昇温して１時間撹拌した。生成したジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリルトリフラートは、単離することなく塩化メチレン溶液として次の反応に用いた。【０１０５】
参考合成例７：ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化１２】
2020162393.tif 000014
（ｉ）Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．５００ｇ、１．４１ｍｍｏｌ）、ルチジン（０．３２６ｇ、３．０４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５．０ｍＬ）と混合させ、０℃にてジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（１．７４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を加えた後、室温にて２時間撹拌した。更に０℃にてジ−ｉ−プロピル−ｔ−ブチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（０．４２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を加えた後、室温にて１６時間撹拌した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（１０ｍＬ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）、水（１０ｍＬ）の順で洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．６１８ｇ、収率９４％）を無色液体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋４７０．２６
（ｉｉ）ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．１６１ｇ、０．３４１ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（３．２ｍＬ）と混合させ、１０質量％Ｐｄ−Ｃ（２０．４ｍｇ、０．０１９ｍｍｏｌ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、室温で１時間撹拌した。反応液をろ過し、得られたろ液を濃縮し、ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１３８ｇ、収率１０７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：１．０２（９Ｈ，ｓ），１．１０−１．１２（１２Ｈ，ｍ），１．４２（２Ｈ，Ｓｅｐ，７．４Ｈｚ），３．０６−３．２７（２Ｈ，ｍ），４．６０−４．６６（１Ｈ，ｍ），５．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１７−７．３２（５Ｈ，ｍ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋３８０．３０【０１０６】
合成例４：ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化１３】
2020162393.tif 000015
ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１３８ｇ、０．３６５ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０４０ｇ、０．３９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２．６ｍＬ）と混合させ、０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０５１ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を加え１５分撹拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．０６８ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．１７ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（０．７ｍＬ）を混合させ、５５℃にて１時間撹拌して調製した溶液を加え、さらに０℃のまま２時間撹拌した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（２．６ｍＬ）で希釈し、１０質量％炭酸カリウム水溶液（１．３ｍＬ）、２０質量％塩化アンモニウム水溶液（１．３ｍＬ）、飽和塩化ナトリウム水溶液（２．６ｍＬ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＩＰＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１５２ｇ、収率７９％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
δｐｐｍ：０．９７−１．０２（２１Ｈ，ｍ），１．３６（２Ｈ，ｂｒ），２．８０−３．２１（４Ｈ，ｍ），３．７９（１Ｈ，ｂｒ），４．３８−４．６１（１Ｈ，ｍ），７．１５（１０Ｈ，ｂｒ）
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５２７．３５【０１０７】
参考合成例８：ＩＰＣＳ−ＯＴｆの合成
【化１４】
2020162393.tif 000016
ジ−ｉ−プロピルクミルシラン（０．４８ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２．５ｇ）と混合し、氷冷下でトリフルオロメタンスルホン酸（０．３８ｇ、２．５ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温に昇温して０．５時間撹拌した。生成したジ−ｉ−プロピルクミルシリルトリフラートは、単離することなく塩化メチレン溶液として次の反応に用いた。【０１０８】
参考合成例９：ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化１５】
2020162393.tif 000017
（ｉ）Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．３７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、ルチジン（０．３６ｇ、３．４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５．０ｇ）と混合させ、０℃にてジ−ｉ−プロピルクミルシリルトリフラート（２．０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を加えた後、室温にて３時間撹拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．５１８ｇ、収率９２％）を無色油状物として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５３２．２９
（ｉｉ）ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．２０ｇ、０．３８ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（４．０ｇ）と混合させ、１０質量％Ｐｄ−Ｃ（０．０３ｇ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、室温で５時間撹拌した。反応液をろ過した後、得られたろ液を濃縮し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１７ｇ、収率１００％）を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋４４２．２４【０１０９】
合成例５：ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨの合成
【化１６】
2020162393.tif 000018
ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２０ｇ、０．４６ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０６ｇ、０．５９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２．０ｇ）と混合させ、０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０８ｇ、０．５８ｍｍｏｌ）を加え５分撹拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（０．１５ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．２５ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１．３ｇ）を混合させ、５５℃にて０．５時間撹拌して調製した溶液を加え、さらに０℃のまま２時間撹拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（０．３２ｇ、収率１０３％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋６７０．３９【０１１０】
合成例６：ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−ＯＨの合成
【化１７】
2020162393.tif 000019
ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（０．３２ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０６ｇ、０．５８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４．０ｇ）と混合させ、０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０８ｇ、０．５６ｍｍｏｌ）を加え５分撹拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−ＯＨ（０．１２ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．２５ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１．９ｇ）を混合させ、５５℃にて０．５時間撹拌して調製した溶液を加え、さらに０℃のまま３時間撹拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−ＯＨ（０．３８ｇ、収率９７％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋８４１．４８【０１１１】
合成例７：ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化１８】
2020162393.tif 000020
ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−ＯＨ（０．２０ｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（０．０３ｇ、０．２９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２．０ｇ）と混合させ、０℃にてクロロギ酸イソブチル（０．０４ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を加え５分撹拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１６ｇ、０．５１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．２５ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１．２ｇ）を混合させ、５５℃にて２０分撹拌し、更にＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．０８ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を加えて調製した溶液を加え、さらに０℃のまま１時間撹拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２９ｇ、収率１０８％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋１１３５．６１【０１１２】
合成例８：ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化１９】
2020162393.tif 000021
（ｉ）ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．２５ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）、Ｈ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ塩酸塩（０．０８ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２．６ｇ）と混合させ、０℃に冷却後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．０７ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩（０．１２ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を加えて３時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．２２ｇ、収率７３％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋１３７２．７３
（ｉｉ）ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．０５ｇ、０．０４ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（１．０ｇ）と混合し、１０質量％Ｐｄ−Ｃ（０．０１ｇ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、室温で５時間撹拌した。反応液をろ過した後、得られたろ液を濃縮し、ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．０５ｇ、収率９９％）を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋１２８２．６４【０１１３】
合成例９：Ｈ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化２０】
2020162393.tif 000022
ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（１９．７ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）をメタノール（１．０ｇ）と混合させ、室温下でフッ化カリウム（３．４ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）を加えて４時間攪拌した。得られた反応液をヘキサン（２．０ｇ）で３回洗浄し、得られたメタノール層に５質量％塩化アンモニウム水溶液を加えて固体を析出させ、これをろ過した。得られた固体を乾燥し、Ｈ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＨ（１２．６ｍｇ、収率７４％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋１００６．５２【０１１４】
合成例１０：Ｈ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＢｎの合成
【化２１】
2020162393.tif 000023
ＩＰＣＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．１５ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をメタノール（３．０ｇ）、Ｎ−メチルピロリドン（２．０ｇ）と混合させ、室温下でフッ化カリウム（０．０２ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を加えて３時間攪拌した。得られた反応液に水（２．０ｇ）を加えて、ヘキサン（５．０ｇ）で３回洗浄した。得られた水層に酢酸エチル、飽和食塩水を加えて分液した。得られた有機層を濃縮した後、水（５．０ｇ）を加えて固体を析出させ、これをろ過した。得られた固体を乾燥し、Ｈ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ａｓｐ（Ｏ（ｔ−Ｂｕ））−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．１２ｇ、収率９６％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋１０９６．５７【０１１５】
参考合成例１０：ＣＨＢＳ−ＯＴｆの合成
【化２２】
2020162393.tif 000024
（ｉ）ブロモベンゼン（５．７ｇ、３６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（８．０ｇ）を混合させ、０℃にて１．５５Ｍのｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（３５ｍＬ、５４ｍｍｏｌ）に加えた後、２５℃にて６時間攪拌した。得られた反応液に、ｔ−ブチルジヒドロシラン（２．０ｇ、１３．９ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（４．０ｇ）の混合溶液を加え、室温で１５時間攪拌した。得られた反応液を２Ｍ塩酸（１４ｇ）、５質量％塩化ナトリウム水溶液（１４ｇ）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ヘキサン、シリカゲルを加えてろ過した。得られた有機層を濃縮し、ＰｈＢＳ−Ｈのヘキサン溶液（６．７ｇ）を得た。
（ｉｉ）ＰｈＢＳ−Ｈのヘキサン溶液（６．７ｇ）、ヘキサン（２１ｇ）を混合させ、Ｒｕ−Ａｌ（０．６１ｇ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、３０℃で１９時間撹拌した。反応液をろ過し、得られたろ液を濃縮し、ＣＨＢＳ−Ｈのヘキサン溶液（５．９ｇ）を得た。
（ｉｉｉ）ＣＨＢＳ−Ｈのヘキサン溶液（０．４ｇ）を塩化メチレン（１．０ｇ）と混合し、氷冷下でトリフルオロメタンスルホン酸（０．１４ｇ、０．９３ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温に昇温して０．５時間撹拌した。生成したＣＨＢＳ−ＯＴｆは、単離することなくヘキサン−塩化メチレン溶液として次の反応に用いた。【０１１６】
参考合成例１１：ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨの合成
【化２３】
2020162393.tif 000025
（ｉ）Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．２０ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、ルチジン（０．１２ｇ、１．１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２．０ｇ）と混合させ、０℃にてＣＨＢＳ−ＯＴｆのヘキサン−塩化メチレン溶液を加えた後、室温にて１９時間撹拌した。得られた反応液に水（１．０ｇ）を加えた後、析出した固体をろ取し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．２１ｇ、収率７４％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５２４．３０
（ｉｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．２０ｇ、０．３８ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（４．０）と混合させ、１０質量％Ｐｄ−Ｃ（２４．１ｍｇ）を加えた後、水素ガス雰囲気下、室温で２時間撹拌した。反応液をろ過し、得られたろ液を濃縮し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．１７ｇ、収率１００％）を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋４３４．２７【０１１７】
合成例１１：ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−ＯＨの合成
【化２４】
2020162393.tif 000026
（ｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（０．５０ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、Ｈ−Ａｌａ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）塩酸塩（０．２５ｇ、１．４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５．２ｇ）と混合させ、０℃に冷却後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．３８ｇ、２．９ｍｍｏｌ）、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩（０．６０ｇ、１．４ｍｍｏｌ）を加えて１時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）（０．６８ｇ、収率１０６％）を淡黄色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５６１．３７
（ｉｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｏ（ｔ−Ｂｕ）（０．６０ｇ、１．１ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１２ｇ）と混合させ、０℃に冷却後、トリフルオロ酢酸（４．９ｇ、４３．１ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−ＯＨ（０．５２ｇ、収率９７％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋５０５．３１【０１１８】
合成例１２：ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−ＯＨの合成
【化２５】
2020162393.tif 000027
（ｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−ＯＨ（０．５２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、Ｈ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−ＯＭｅ塩酸塩（０．２６ｇ、１．２ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５．０ｇ）と混合させ、０℃に冷却後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．３２ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩（０．５１ｇ、１．２ｍｍｏｌ）を加えて２時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−ＯＭｅ（０．７３ｇ、収率１０６％）を淡黄色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋６６２．４２
（ｉｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−ＯＭｅ（０．４０ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）をメタノール（８．０ｇ）と混合させ、０℃に冷却後、５質量％水酸化リチウム水溶液（１．２ｇ、２．４ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して３時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−ＯＨ（０．３６ｇ、収率９１％）を褐色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋６４８．４０【０１１９】
合成例１３：Ｈ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎの合成
【化２６】
2020162393.tif 000028
（ｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−ＯＨ（０．３５ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）、Ｈ−Ｐｈｅ−ＯＢｎ塩酸塩（０．２１ｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（４．０ｇ）と混合させ、０℃に冷却後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．２０ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩（０．３１ｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を加えて２時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．３５ｇ、収率７３％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋８８５．５１
（ｉｉ）ＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．１０ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をメタノール（２．０ｇ）と混合させ、室温下でフッ化アンモニウム（０．０５ｇ、１．２ｍｍｏｌ）を加えて４時間攪拌した。得られた反応液をヘプタン（２．０ｇ）で３回洗浄し、得られたメタノール層に酢酸エチル、飽和食塩水を加えて分液した。得られた有機層を濃縮し、Ｈ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．０７ｇ、収率９８％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋６１７．３３【０１２０】
合成例１４：Ｈ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎの合成
合成例１３の工程（ｉ）で得られたＣＨＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．１５ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３．１ｇ）と混合させ、室温下で１Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラフドロフラン溶液（０．２ｍＬ、０．２０ｍｍｏｌ）を加えて２時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮し、アセトニトリル（３．０ｍＬ）と混合した後、ヘプタン（３．０ｍＬ）で２回洗浄した。得られた有機層を濃縮し、Ｈ−Ｐｈｅ−Ａｌａ−Ｓｅｒ（ｔ−Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＢｎ（０．１０ｇ、収率９５％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋６１７．３３【０１２１】
参考合成例１２：Ｈ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅの合成
【化２７】
2020162393.tif 000029
合成例２の工程（ｉ）で得られたＢＩＢＳｏｃ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ（０．１０ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）をメタノール（２．０ｇ）と混合させ、室温下でフッ化カリウム（０．０２ｇ、０．３５ｍｍｏｌ）を加えて５時間攪拌した。得られた反応液をヘキサン（３．０ｇ）で３回洗浄し、得られたメタノール層に酢酸エチル、飽和食塩水を加えて分液した。得られた有機層を濃縮し、Ｈ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＯＭｅ（０．０７ｇ、収率８６％）を白色固体として得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ＋）ｍ／ｚ；（Ｍ＋Ｈ）＋３２７．１６【０１２２】
試験例１：特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基をＮ末端に導入したＮ−保護アミノ酸による、ペプチド伸長工程及びＣ末端の脱保護工程の収率比較
【化２８】
2020162393.tif 000030
【０１２３】
［試験化合物］
以下の表１及び２に記載した、特定の構造を有するシリルカルバメート系保護基をＮ末端に導入したＮ−保護アミノ酸（以下、原料とも言う）を使用した。なお、原料は、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、１９９９年、６４巻、３７９２−３７９３頁、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー、２００５年、１２７巻、１３７２０−１３７２５頁及び参考合成例１、５、６、７に記載の方法及びそれに準ずる方法で得ることができる。【０１２４】
【表１】
2020162393.tif 000031
【０１２５】
【表２】
2020162393.tif 000032
【０１２６】
［試験方法］
各原料（１７０ｍｇ）、Ｎ−メチルモルホリン（１．２当量）をテトラフドロフラン（１０質量倍）と混合させ、０℃に冷却して、クロロギ酸イソブチル（１．１当量）を加え１５〜３０分攪拌した。この溶液に、別途Ｈ−Ｐｈｅ−ＯＨ（１．２当量）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（２．４当量）、テトラヒドロフラン（６質量倍）を混合させ、５０〜５５℃にて０．５〜１時間撹拌して調製した溶液を加え、さらに０℃のまま１〜３時間撹拌した。得られた反応液をｔ−ブチルメチルエーテル（２０質量倍）で希釈し、１０質量％炭酸カリウム水溶液（１０質量倍）、２０質量％塩化アンモニウム水溶液（１０質量倍）、飽和塩化ナトリウム水溶液（１０質量倍）で順次洗浄した。得られた有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物の収率を算出した。【０１２７】
［試験結果］
各原料によるペプチド伸長工程及びＣ末端の脱保護工程の収率は、参考合成例２の収率と比較して、大幅に向上した。【０１２８】
【表３】
2020162393.tif 000033
【０１２９】
【表４】
2020162393.tif 000034
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
本発明により、ペプチドの高効率な製造方法を提供することができる。
【国際調査報告】
2020162393.tif 000037
2020162393.tif 000038
2020162393.tif 000039
2020162393.tif 000040
2020162393.tif 000041