(57)【要約】【課題】搬送路内の磁界の強度を高くすることが可能な配向装置等の技術を提供すること。【解決手段】本技術に係る配向装置は、搬送路と、永久磁石部と、ヨーク部とを具備する。前記搬送路は、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を搬送方向に沿って通過させる。前記永久磁石部は、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを有し、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる。前記ヨーク部は、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を搬送方向に沿って通過させる搬送路と、
複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを有し、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる永久磁石部と、
軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部と
を具備する配向装置。
【請求項２】
請求項１に記載の配向装置であって、
前記搬送路内における磁界の垂直成分が、前記磁性塗布膜の保磁力の１．０倍以上である
配向装置。
【請求項３】
請求項１に記載の配向装置であって、
前記ヨーク部は、前記複数の第１の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第１のヨーク部と、前記複数の第２の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第２のヨーク部と、前記第１のヨーク部及び第２のヨーク部を連結する第３のヨーク部とを有する
配向装置。
【請求項４】
請求項３に記載の配向装置であって、
前記搬送方向及び前記垂直方向に直交する方向を幅方向とし、前記第１のヨーク部における前記垂直方向での厚さと、前記第２のヨーク部における前記垂直方向での厚さと、前記第３のヨーク部における前記幅方向での厚さとのうち最も薄い厚さをＴとし、第１の永久磁石及び第２の永久磁石の残留磁束密度をBmagとし、前記第１の永久磁石及び第２の永久磁石の幅をＷｍとし、前記ヨーク部における飽和磁束密度をByokeとしたとき、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係を満たす
配向装置。
【請求項５】
請求項１に記載の配向装置であって、
前記永久磁石部からの前記磁界により前記磁性層塗布膜の前記磁性粉が垂直配向されている状態で、前記磁性層塗布膜を乾燥させる乾燥部をさらに具備する
配向装置。
【請求項６】
請求項５に記載の配向装置であって、
前記乾燥部は、前記磁性塗布膜を乾燥させるための気流を前記搬送路内に噴出する複数の噴出孔を有する
配向装置。
【請求項７】
請求項６に記載の配向装置であって、
前記配向装置は、前記搬送路において、前記搬送方向で前記複数の噴出孔が設けられない第１のエリアと、前記複数の噴出孔が設けられる第２のエリアとを有する
配向装置。
【請求項８】
請求項７に記載の配向装置であって、
前記第１のエリアは、前記搬送方向における上流側の一部のエリアであり、前記第２のエリアは、前記上流側の一部のエリアを除いた下流側のエリアである
配向装置。
【請求項９】
請求項８に記載の配向装置であって、
前記複数の第１の永久磁石及び複数の第２の永久磁石のうち、前記第２のエリアに位置する各永久磁石は、それぞれ、前記搬送方向で所定の隙間を開けて配置され、
前記複数の噴出孔は、前記隙間に対応する位置に設けられる
配向装置。
【請求項１０】
請求項６に記載の配向装置であって、
前記乾燥部は、前記搬送路内の気流を吸入して前記搬送路外に放出するための複数の吸気孔をさらに有する
配向装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の配向装置であって、
前記複数の噴出孔は、前記垂直方向に向けて前記気流を噴出するように設けられ、
前記複数の吸気孔は、前記搬送方向及び前記垂直方向に直交する幅方向に前記気流を吸入するように設けられる
配向装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の配向装置であって、
各吸気孔は、前記搬送方向において、各噴出孔の中間の位置に設けられる
配向装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の配向装置であって、
前記配向装置は、前記搬送方向に薄い複数のユニットが搬送方向に並べられて構成され、
各ユニットは、それぞれ、第１の永久磁石と、第２の永久磁石と、前記ヨーク部の一部を構成するヨークユニット部とを含む
配向装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の配向装置であって、
前記搬送方向で互いに隣接するユニットの間に、前記第１の永久磁石及び前記第２の永久磁石を前記ヨークユニット部に固定するための磁石固定板が介在される
配向装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の配向装置であって、
前記磁石固定板の厚さは、２ｍｍ以上、５ｍｍ以下である
配向装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の配向装置であって、
前記磁石固定板は、磁性部と、非磁性部とを含む
配向装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の配向装置であって、
前記磁石固定板において、前記第１の永久磁石及び前記第２の永久磁石における前記搬送方向に垂直な面に対応する部分は、前記非磁性部とされる
配向装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載の配向装置であって、
前記ヨークユニットは、前記第１の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第１のヨークユニット部と、前記第２の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第２のヨークユニット部と、前記第１のヨークユニット部及び第２のヨークユニット部を連結する第３のヨークユニット部とを有し、
前記磁石固定板において、前記第３のヨークユニット部に対応する部分は、前記磁性部とされる
配向装置。
【請求項１９】
搬送方向に沿って形成された搬送路と、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを含む永久磁石部と、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部とを具備する配向装置における前記搬送路内において、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を前記搬送方向に沿って通過させ、
前記永久磁石部により、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２０】
搬送方向に沿って形成された搬送路と、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを含む永久磁石部と、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部とを具備する配向装置における前記搬送路内において、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を前記搬送方向に沿って通過させ、
前記永久磁石部により、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる
ことによって製造された磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、磁性塗布膜に含まれる磁性粉を配向させる配向装置等の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子データの保存等の各種の用途に、磁気記録媒体が広く利用されている。磁気記録媒体は、一般的に、フィルム状の基体と、基体上に形成された非磁性層と、非磁性層上に形成された磁性層とを含む。【０００３】
磁性層は、例えば、以下の様にして形成される。まず、磁性粉を含む湿潤状態の磁性塗布膜が非磁性層上に形成される。その後、この磁性塗布膜が湿潤状態（磁性粉がある程度動くことができる状態）である間に、磁性塗布膜に対して磁界が印加され、これにより、個々の磁性粉の向きが一方向に整列する。そして、個々の磁性粉の向きが一方向に整列した状態で、磁性塗布膜が乾燥されて固化され、これにより、磁性層が形成される。【０００４】
磁界の印加により個々の磁性粉の向きを一方向に整列させる（磁化容易軸を一方向に整列させる）処理は、一般的に、配向処理と呼ばれる。従来においては、磁性塗布膜の面内方向において長手方向に磁性粉を配向させる長手配向処理が行われていた。一方、近年においては、データの高密度記録化の要請から、垂直配向方式の磁気記録媒体が注目を集めている。この垂直配向方式の磁気記録媒体では、磁性塗布膜に対して垂直な垂直方向に磁性粉を配向させる垂直配向処理が行われる。【０００５】
長手配向処理における磁石としては、一般的に、電磁石が用いられていた。一方、垂直配向処理における磁石としては、一般的に、永久磁石が用いられることが多い（例えば、下記特許文献１、特許文献２参照）。【０００６】
特許文献１、２における配向装置は、搬送路を挟んで異極が対向する複数対の永久磁石を有している。そして、磁性塗布膜が形成された支持体が搬送路内を搬送されているときに、永久磁石により磁性塗布膜が垂直配向される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−１３８５６５号公報
【特許文献２】特開２０１１−１３８５６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
磁性塗布膜内の磁性粉を十分に垂直配向させるためには、搬送路内の磁界の強度を高くする必要がある。しかしながら、特許文献１、２に記載の技術では、この磁界の強度を高くすることが困難であるといった問題がある。【０００９】
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、搬送路内の磁界の強度を高くすることが可能な配向装置等の技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本技術に係る配向装置は、搬送路と、永久磁石部と、ヨーク部とを具備する。
前記搬送路は、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を搬送方向に沿って通過させる。
前記永久磁石部は、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを有し、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる。
前記ヨーク部は、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続する。【００１１】
上記配向装置において、前記搬送路内における磁界の垂直成分が、前記磁性塗布膜の保磁力の１．０倍以上であってもよい。【００１２】
上記配向装置において、前記ヨーク部は、前記複数の第１の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第１のヨーク部と、前記複数の第２の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第２のヨーク部と、前記第１のヨーク部及び第２のヨーク部を連結する第３のヨーク部とを有していてもよい。【００１３】
上記配向装置において、前記搬送方向及び前記垂直方向に直交する方向を幅方向とし、前記第１のヨーク部における前記垂直方向での厚さと、前記第２のヨーク部における前記垂直方向での厚さと、前記第３のヨーク部における前記幅方向での厚さとのうち最も薄い厚さをＴとし、第１の永久磁石及び第２の永久磁石の残留磁束密度をBmagとし、前記第１の永久磁石及び第２の永久磁石の幅をＷｍとし、前記ヨーク部における飽和磁束密度をByokeとしたとき、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係を満たしてもよい。【００１４】
上記配向装置において、前記永久磁石部からの前記磁界により前記磁性層塗布膜の前記磁性粉が垂直配向されている状態で、前記磁性層塗布膜を乾燥させる乾燥部をさらに具備していてもよい。【００１５】
上記配向装置において、前記乾燥部は、前記磁性塗布膜を乾燥させるための気流を前記搬送路内に噴出する複数の噴出孔を有していてもよい。【００１６】
上記配向装置は、前記搬送路において、前記搬送方向で前記複数の噴出孔が設けられない第１のエリアと、前記複数の噴出孔が設けられる第２のエリアとを有していてもよい。【００１７】
上記配向装置において、前記第１のエリアは、前記搬送方向における上流側の一部のエリアであり、前記第２のエリアは、前記上流側の一部のエリアを除いた下流側のエリアであってもよい。【００１８】
上記配向装置において、前記複数の第１の永久磁石及び複数の第２の永久磁石のうち、前記第２のエリアに位置する各永久磁石は、それぞれ、前記搬送方向で所定の隙間を開けて配置され、前記複数の噴出孔は、前記隙間に対応する位置に設けられてもよい。【００１９】
上記配向装置において、前記乾燥部は、前記搬送路内の気流を吸入して前記搬送路外に放出するための複数の吸気孔をさらに有していてもよい。【００２０】
上記配向装置において、前記複数の噴出孔は、前記垂直方向に向けて前記気流を噴出するように設けられ、前記複数の吸気孔は、前記搬送方向及び前記垂直方向に直交する幅方向に前記気流を吸入するように設けられてもよい。【００２１】
上記配向装置において、各吸気孔は、前記搬送方向において、各噴出孔の中間の位置に設けられていてもよい。【００２２】
上記配向装置において、前記配向装置は、前記搬送方向に薄い複数のユニットが搬送方向に並べられて構成され、各ユニットは、それぞれ、第１の永久磁石と、第２の永久磁石と、前記ヨーク部の一部を構成するヨークユニット部とを含んでいてもよい。【００２３】
上記配向装置において、前記搬送方向で互いに隣接するユニットの間に、前記第１の永久磁石及び前記第２の永久磁石を前記ヨークユニット部に固定するための磁石固定板が介在されてもよい。【００２４】
上記配向装置において、前記磁石固定板の厚さは、２ｍｍ以上、５ｍｍ以下であってもよい。【００２５】
上記配向装置において、前記磁石固定板は、磁性部と、非磁性部とを含んでいてもよい。【００２６】
上記配向装置において、前記磁石固定板において、前記第１の永久磁石及び前記第２の永久磁石における前記搬送方向に垂直な面に対応する部分は、前記非磁性部とされてもよい。【００２７】
上記配向装置において、前記ヨークユニットは、前記第１の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第１のヨークユニット部と、前記第２の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第２のヨークユニット部と、前記第１のヨークユニット部及び第２のヨークユニット部を連結する第３のヨークユニット部とを有し、
前記磁石固定板において、前記第３のヨークユニット部に対応する部分は、前記磁性部とされてもよい。【００２８】
本技術に係る磁気記録媒体の製造方法は、搬送方向に沿って形成された搬送路と、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを含む永久磁石部と、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部とを具備する配向装置における前記搬送路内において、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を前記搬送方向に沿って通過させ、
前記永久磁石部により、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる。【００２９】
本技術に係る磁気記録媒体は、搬送方向に沿って形成された搬送路と、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを含む永久磁石部と、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部とを具備する配向装置における前記搬送路内において、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を前記搬送方向に沿って通過させ、
前記永久磁石部により、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる
ことによって製造される。
【発明の効果】
【００３０】
以上のように、本技術によれば、搬送路内の磁界の強度を高くすることが可能な配向装置等の技術提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】磁気記録媒体を側方から見た図である。
【図２】磁気記録媒体の製造装置を示す図である。
【図３】配向装置を搬送方向から見た図である。
【図４】配向装置が有する永久磁石を搬送方向から見た拡大図である。
【図５】図３に示すＡ−Ａ'間の断面図である。
【図６】配向装置が有する乾燥部を示す図である。
【図７】配向装置が有するユニットを示す斜視図である。
【図８】配向装置の側面図である。
【図９】磁性粉が垂直配向される前と、垂直配向された後の様子を示す図である。
【図１０】磁気回路における磁束を計算するために用いられた計算モデルを示す図である。
【図１１】図１０に示す計算モデルにより得られた磁気回路を示す図である。
【図１２】搬送路内の磁界強度（垂直成分）と、測定サンプルにおける垂直方向角形比との関係を示す図である。
【図１３】実験により得られた具体的な数値等を示す図である。
【図１４】ヨーク部の厚さを説明するため図である。
【図１５】ヨーク部の厚さを変化させた場合における各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【図１６】ヨーク部の厚みを極端に厚く（３００ｍｍ）した場合における、搬送路の高さＨｗと、搬送路における磁束密度との関係を示す図である。
【図１７】搬送路の高さＨｗが２４ｍｍの場合における各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【図１８】距離Ｘを変化させた場合における各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【図１９】噴出孔から熱風が噴出されているときの様子を示す図である。
【図２０】吸気孔の位置が搬送方向において各噴出孔の中間位置とされた場合と、吸気孔の位置が搬送方向において各噴出孔に対応する位置とされた場合との比較を示す図である。
【図２１】第１の永久磁石及び第２の永久磁石が搬送方向でずらされて配置されたときのときの搬送路における垂直方向の磁束密度を示す図である。
【図２２】ダミーの磁石固定板の厚さを変化させた場合の各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【図２３】磁石固定板を幅方向から見た拡大図である。
【図２４】他の磁石固定板を幅方向から見た拡大図である。
【図２５】Ｌ字状の第２の固定部材に嵌合部が設けられたときの様子を示す図である。
【図２６】配向装置にヨーク部が設けられない比較例と、配向装置にヨーク部が設けられる本実施形態とを比較した図である
【図２７】配向装置にヨーク部が設けられない比較例において、搬送方向での永久磁石の間隔が大きくされた場合の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
＜磁気記録媒体１の構成＞
まず、磁気記録媒体１の構成について説明する。図１は、磁気記録媒体１を側方から見た図である。
【００３３】
図１に示すように、磁気記録媒体１は、長手方向に長いテープ状に構成されている。
【００３４】
磁気記録媒体１は、例えば、９６ｎｍ以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成されている。この最短記録波長は、７５ｎｍ以下とされてもよいし、６０ｎｍ以下とされてもよい。あるいは、最短記録波長は、５０ｎｍ以下とされてもよい。この磁気記録媒体１は、信号を記録する磁気ヘッドとしてリング型ヘッドを備える記録装置（不図示）に用いられると有効である。
【００３５】
図１を参照して、磁気記録媒体１は、基体１１と、基体１１の一方の主面上に設けられた非磁性層１２と、非磁性層１２上に設けられた磁性層１３と、基体１１の他方の主面上に設けられたバック層１４とを含む。なお、バック層１４は、必要に応じて設けられればよく、このバック層１４は省略されてもよい。
【００３６】
［基体１１］
基体１１は、非磁性層１２および磁性層１３を支持する非磁性支持体である。基体１１は、長尺のフィルム状を有する。基体１１の平均厚みの上限値は、例えば、４．２μｍ以下とされる。なお、基体１１の平均厚みの上限値は、３．８μｍ以下とされてもよいし、３．４μｍ以下とされてもよい。
【００３７】
基体１１の平均厚みの上限値が４．２μｍ以下であると、１つのカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体１よりも高めることができる。なお、カートリッジは、巻回された磁気記録媒体１をその内部に回転可能に収容することが可能なケースであり、このカートリッジは、例えば、ＬＴＯ（Linear Tape Open）規格に準拠している。
【００３８】
基体１１の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１が準備され、その磁気記録媒体１が２５０ｍｍの長さに切り出され、サンプルが作製される。続いて、サンプルの基体１１以外の層（すなわち非磁性層１２、磁性層１３およびバック層１４）がＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去される。
【００３９】
次に、測定装置としてMitsutoyo社製レーザーホロゲージが用いられて、サンプル（基体１１）の厚みが５点以上の位置で測定され、それらの測定値が単純に平均（算術平均）されて、基体１１の平均厚みが算出される。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれる。
【００４０】
基体１１は、例えば、ポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、およびその他の高分子樹脂のうちの少なくとも１種を含む。基体１１が上記材料のうちの２種以上を含む場合、それらの２種以上の材料は混合されていてもよいし、共重合されていてもよいし、積層されていてもよい。
【００４１】
ポリエステル類は、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＣＴ（ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ＰＥＢ（ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート）およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも１種を含む。
【００４２】
ポリオレフィン類は、例えば、ＰＥ（ポリエチレン）およびＰＰ（ポリプロピレン）のうちの少なくとも１種を含む。セルロース誘導体は、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ＣＡＢ（セルロースアセテートブチレート）およびＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）のうちの少なくとも１種を含む。ビニル系樹脂は、例えば、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）およびＰＶＤＣ（ポリ塩化ビニリデン）のうちの少なくとも１種を含む。
【００４３】
その他の高分子樹脂は、例えば、ＰＡ（ポリアミド、ナイロン）、芳香族ＰＡ（芳香族ポリアミド、アラミド）、ＰＩ（ポリイミド）、芳香族ＰＩ（芳香族ポリイミド）、ＰＡＩ（ポリアミドイミド）、芳香族ＰＡＩ（芳香族ポリアミドイミド）、ＰＢＯ（ポリベンゾオキサゾール、例えばザイロン（登録商標））、ポリエーテル、ＰＥＫ（ポリエーテルケトン）、ポリエーテルエステル、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ＰＥＩ（ポリエーテルイミド）、ＰＳＦ（ポリスルフォン）、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＡＲ（ポリアリレート）およびＰＵ（ポリウレタン）のうちの少なくとも１種を含む。
【００４４】
［磁性層１３］
磁性層１３は、サーボ信号、データ信号を記録するための記録層である。磁性層１３は、磁性粉、結着剤、導電性粒子等を含む。磁性層１３は、必要に応じて、潤滑剤、研磨剤、防錆剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。磁性層１３は、多数の孔部が設けられた表面を有している。これらの多数の孔部には、潤滑剤が蓄えられている。多数の孔部は、例えば、磁性層１３の表面に対して垂直方向に設けられる。
【００４５】
磁性層１３の厚さは、例えば、３５ｎｍ以上９０ｎｍ以下とされる。このように、磁性層１３の厚さを３５ｎｍ以上９０ｎｍ以下とすることで、電磁変換特性を向上させることができる。
【００４６】
磁性層１３の厚さは、例えば、以下の様にして求めることができる。まず、磁気記録媒体１が、その主面に対して垂直に薄く加工されて試料片が作製される。そして、その試験片の断面が透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope：ＴＥＭ）により、下記の条件で観察される。
装置：ＴＥＭ（日立製作所製Ｈ９０００ＮＡＲ）
加速電圧：３００ｋＶ
倍率：１００，０００倍
【００４７】
次に、得られたＴＥＭ像が用いられ、磁気記録媒体１の長手方向で少なくとも１０点以上の位置で磁性層１３の厚さが測定される。その後、それらの測定値が単純に平均（算術平均）されて磁性層１３の厚さとされる。なお、測定位置は、試験片から無作為に選ばれる。
【００４８】
（磁性粉）
磁性粉は、ε酸化鉄を含有するナノ粒子（以下「ε酸化鉄粒子」という。）の粉末を含む。ε酸化鉄粒子は微粒子でも高保磁力を得ることができる。ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、磁気記録媒体１の厚み方向（垂直方向）に配向される。
【００４９】
ε酸化鉄粒子は、球状もしくはほぼ球状を有しているか、または立方体状もしくはほぼ立方体状を有している。ε酸化鉄粒子が上記のような形状を有しているため、磁性粉としてε酸化鉄粒子が用いられた場合、磁性粉として六角板状のバリウムフェライト粒子が用いられた場合に比べて、磁気記録媒体１の厚み方向における粒子同士の接触面積を低減し、粒子同士の凝集を抑制することができる。したがって、磁性粉の分散性を高め、より良好なＳＮＲ（Signal-to-Noise Ratio）を得ることができる。
【００５０】
ε酸化鉄粒子は、コアシェル型構造を有する。具体的には、ε酸化鉄粒子は、コア部と、このコア部の周囲に設けられた２層構造のシェル部とを備える。２層構造のシェル部は、コア部上に設けられた第１シェル部と、第１シェル部上に設けられた第２シェル部とを備える。
【００５１】
コア部は、ε酸化鉄を含む。コア部に含まれるε酸化鉄は、例えば、ε−Ｆｅ２Ｏ３結晶が主相とされるか、または、単相のε−Ｆｅ２Ｏ３から構成される。
【００５２】
第１シェル部は、コア部の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。第１シェル部は、コア部の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部の周囲全体を覆っていてもよい。コア部の表面全体が第１シェル部により覆われている場合、コア部と第１シェル部の交換結合を十分とし、磁気特性を向上させることができる。
【００５３】
第１シェル部は、いわゆる軟磁性層であり、例えば、α−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｆｅ合金またはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金等の軟磁性体を含む。α−Ｆｅは、コア部２１に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られてもよい。
【００５４】
第２シェル部は、酸化防止層としての酸化被膜である。第２シェル部は、α酸化鉄、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素を含む。α酸化鉄は、例えばＦｅ３Ｏ４、Ｆｅ２Ｏ３およびＦｅＯのうちの少なくとも１種の酸化鉄を含む。第１シェル部がα−Ｆｅ（軟磁性体）を含む場合には、α酸化鉄は、第１シェル部２２ａに含まれるα−Ｆｅを酸化することにより得られてもよい。
【００５５】
ε酸化鉄粒子が、上述のように第１シェル部を有することで、熱安定性を確保するためにコア部単体の保磁力Ｈｃを大きな値に保ちつつ、ε酸化鉄粒子（コアシェル粒子）全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できる。
【００５６】
また、ε酸化鉄粒子が、上述のように第２シェル部を有することで、磁気記録媒体１の製造工程およびその工程前において、ε酸化鉄粒子が空気中に暴露されて、粒子表面に錆び等が発生することにより、ε酸化鉄粒子の特性が低下することを抑制することができる。したがって、磁気記録媒体１の特性劣化を抑制することができる。
【００５７】
磁性粉の平均粒子サイズ（平均最大粒子サイズ）は、例えば、２２ｎｍ以下とされる。また、平均粒子サイズは、例えば、８ｎｍ以上、あるいは、１２ｎｍ以上とされる。
【００５８】
磁性粉の平均アスペクト比は、例えば、１以上２．５以下とされる。この平均アスペクト比は、１以上２．１以下とされもよいし、１以上１．８以下とされてもよい。磁性粉の平均アスペクト比が１以上２．５以下の範囲内であると、磁性粉の凝集を抑制することができ、また、磁性層１３の形成工程において磁性粉を垂直配向させる際に、磁性粉に加わる抵抗を抑制することができる。したがって、磁性粉の垂直配向性を向上させることができる。
【００５９】
上記の磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は、以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体１がＦＩＢ（Focused Ion Beam）法等により加工されて薄片が作製され、ＴＥＭにより薄片の断面が観察される。次に、撮影されたＴＥＭ画像から５０個のε酸化鉄粒子が無作為に選び出され、各ε酸化鉄粒子の長軸長ＤＬと短軸長ＤＳが測定される。
【００６０】
ここで、長軸長ＤＬは、ε酸化鉄粒子の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大の距離（いわゆる最大フェレ径）を意味する。一方、短軸長ＤＳは、ε酸化鉄粒子の長軸と直交する方向におけるε酸化鉄粒子の長さのうち最大の長さを意味する。
【００６１】
ここでの説明では、ε酸化鉄粒子が２層構造のシェル部を有している場合について説明したが、ε酸化鉄粒子が単層構造のシェル部を有していてもよい。この場合、シェル部は、第１シェル部と同様の構成を有する。但し、ε酸化鉄粒子の特性劣化を抑制する観点からすると、上述したように、ε酸化鉄粒子が２層構造のシェル部を有している方が有利である。
【００６２】
以上の説明では、ε酸化鉄粒子がコアシェル構造を有している場合について説明した。一方、ε酸化鉄粒子が、コアシェル構造に代えて添加剤を含んでいてもよいし、コアシェル構造を有し、かつ、添加剤を含んでいてもよい。
【００６３】
この場合、ε酸化鉄粒子のＦｅの一部が添加剤で置換される。ε酸化鉄粒子が添加剤を含むことによっても、ε酸化鉄粒子全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できるため、記録容易性を向上させることができる。添加剤としては、典型的には、鉄以外の金属元素が用いられる。添加剤は、３価の金属元素であってもよいし、Ａｌ、ＧａおよびＩｎのうちの少なくとも１種であってもよい。
【００６４】
具体的には、添加剤を含むε酸化鉄は、ε−Ｆｅ２−ｘＭｘＯ３結晶（但し、Ｍは鉄以外の金属元素：例えば、Ａｌ、ＧａおよびＩｎのうちの少なくとも１種。ｘは、例えば０＜ｘ＜１である。）である。
【００６５】
磁性粉は、六方晶フェライトを含有するナノ粒子（以下「六方晶フェライト粒子」という。）の粉末を含んでいてもよい。六方晶フェライト粒子は、例えば、六角板状またはほぼ六角板状を有する。
【００６６】
六方晶フェライトは、例えば、Ｂａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種を含む。六方晶フェライトは、具体的には例えばバリウムフェライトまたはストロンチウムフェライトであってもよい。バリウムフェライトは、Ｂａ以外にＳｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。ストロンチウムフェライトは、Ｓｒ以外にＢａ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。
【００６７】
より具体的には、六方晶フェライトは、一般式ＭＦｅ１２Ｏ１９で表される平均組成を有する。但し、Ｍは、例えばＢａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａのうちの少なくとも１種の金属である。Ｍが、Ｂａと、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。また、Ｍが、Ｓｒと、Ｂａ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。上記一般式においてＦｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。
【００６８】
磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、例えば、５０ｎｍ以下とされる。磁性粉の平均粒子サイズは、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であってもよいし、１５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であってもよい。磁性粉が六方晶フェライト粒子の粉末を含む場合における、磁性粉の平均アスペクト比は、上記した範囲と同様である。
【００６９】
なお、磁性粉の平均アスペクト比は以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体１がＦＩＢ法等により加工されて薄片が作製され、ＴＥＭにより薄片の断面が観察される。次に、撮影されたＴＥＭ画像から、水平方向に対して７５度以上の角度で配向した磁性粉が５０個無作為に選び出され、各磁性粉の最大板厚ＤＡが測定される。続いて、測定された５０個の磁性粉の最大板厚ＤＡが単純に平均（算術平均）されて平均最大板厚ＤＡaveが求められる。
【００７０】
次に、磁気記録媒体１の磁性層１３の表面がＴＥＭにより観察される。次に、撮影されたＴＥＭ画像から５０個の磁性粉が無作為に選び出され、各磁性粉の最大板径ＤＢが測定される。ここで、最大板径ＤＢとは、磁性粉の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大の距離（いわゆる最大フェレ径）を意味する。
【００７１】
続いて、測定した５０個の磁性粉の最大板径ＤＢが単純に平均（算術平均）されて平均最大板径ＤＢaveが求められる。次に、平均最大板厚ＤＡaveおよび平均最大板径ＤＢaveから磁性粉の平均アスペクト比（ＤＢave／ＤＡave）が求められる。
【００７２】
磁性粉は、Ｃｏ含有スピネルフェライトを含有するナノ粒子（以下「コバルトフェライト粒子」という。）の粉末を含んでいてもよい。コバルトフェライト粒子は、典型的には、一軸異方性を有する。コバルトフェライト粒子は、例えば、立方体状またはほぼ立方体状を有している。Ｃｏ含有スピネルフェライトは、Ｃｏ以外にＮｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。
【００７３】
Ｃｏ含有スピネルフェライトは、例えば以下の式（１）で表される平均組成を有する。
ＣｏｘＭｙＦｅ２ＯＺ  ・・・（１）
（但し、式（１）中、Ｍは、例えば、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの少なくとも１種の金属である。ｘは、０．４≦ｘ≦１．０の範囲内の値である。ｙは、０≦ｙ≦０．３の範囲内の値である。但し、ｘ、ｙは（ｘ＋ｙ）≦１．０の関係を満たす。ｚは３≦ｚ≦４の範囲内の値である。Ｆｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。）
【００７４】
磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合、磁性粉の平均粒子サイズは、例えば、２５ｎｍ以下、あるいは、２３ｎｍ以下である。磁性粉がコバルトフェライト粒子の粉末を含む場合における、磁性粉の平均アスペクト比は、上記した範囲と同様である。また、磁性粉の平均アスペクト比も上述と同様にして求められる。
【００７５】
（結着剤）
結着剤としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂等に架橋反応を付与した構造の樹脂が用いられる。結着剤は、磁気記録媒体１に対して要求される物性等に応じて、その他の樹脂が適宜配合されてもよい。配合される樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体１において一般的に用いられる樹脂であれば、どのような樹脂であってもよい。
【００７６】
結着剤としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。
【００７７】
また、熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
【００７８】
また、上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２等の極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Ｍは、水素原子、またはリチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属である。
【００７９】
さらに、極性官能基としては、−ＮＲ１Ｒ２、−ＮＲ１Ｒ２Ｒ３＋Ｘ−の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ１Ｒ２＋Ｘ−の主鎖型のものが挙げられる。ここで、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、または炭化水素基であり、Ｘ−は弗素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、エポキシ基等も挙げられる。
【００８０】
（潤滑剤）
潤滑剤は、例えば、下記の一般式（１）で示される化合物、および下記の一般式（２）で示される化合物を含む。潤滑剤がこれらの化合物を含むことで、磁性層１３の表面の動摩擦係数を特に低減することができる。したがって、磁気記録媒体１の走行性をさらに向上することができる。
ＣＨ３（ＣＨ２）ｎＣＯＯＨ  ・・・（１）
（但し、一般式（１）において、ｎは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ３（ＣＨ２）ｐＣＯＯ（ＣＨ２）ｑＣＨ３  ・・・（２）
（但し、一般式（２）において、ｐは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数であり、ｑは２以上５以下の範囲から選ばれる整数である。）
【００８１】
（添加剤）
磁性層１３は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）等をさらに含んでいてもよい。
【００８２】
［非磁性層１２］
非磁性層１２は、非磁性粉及び結着剤を含む。非磁性層１２は、必要に応じて、電動性粒子、潤滑剤、硬化剤、防錆材などの添加剤を含んでいてもよい。
【００８３】
非磁性層１２の厚さは、例えば、０．６μｍ以上２．０μｍ以下、あるいは、０．８μｍ以上１．４μｍ以下とされる。非磁性層１２の厚さは、磁性層１３の厚さを求める方法と同様の方法（例えば、ＴＥＭ）により求めることができる。なお、ＴＥＭ像の倍率は、非磁性層１２の厚さに応じて適宜調整される。
（非磁性粉）
非磁性粉は、例えば無機粒子粉または有機粒子粉の少なくとも１種を含む。また、非磁性粉は、カーボンブラック等の炭素材料を含んでいてもよい。なお、非磁性粉として、１種の材料が単独で用いられてもよいし、２種以上の材料の組み合わせが用いられてもよい。無機粒子は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物または金属硫化物等を含む。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状等の各種形状が挙げられる。
（結着剤）
結着剤は、上述の磁性層１３と同様である。
【００８４】
［バック層１４］
バック層１４は、非磁性粉及び結着剤を含む。バック層１４は、必要に応じて潤滑剤、硬化剤及び帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。非磁性粉、結着剤としては、上述の非磁性層１２に用いられる材料と同様の材料が用いられる。
【００８５】
（非磁性粉）
非磁性粉の平均粒子サイズは、例えば、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、あるいは、１５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下とされる。非磁性粉の平均粒子サイズは、上記の磁性粉の平均粒子サイズＤと同様にして求められる。非磁性粉は、２以上の粒度分布を有する非磁性粉を含んでいてもよい。
【００８６】
バック層１４の平均厚みの上限値は、例えば、０．６μｍ以下とされる。バック層１４の平均厚みの上限値が０．６μｍ以下であると、磁気記録媒体１の平均厚みが５．６μｍである場合でも、非磁性層１２や基体１１の厚みを厚く保つことができるので、磁気記録媒体１の記録装置内での走行安定性を保つことができる。バック層１４の平均厚みの下限値は、例えば０．２μｍ以上とされる。
【００８７】
バック層１４の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１が準備され、この磁気記録媒体１が２５０ｍｍの長さに切り出され、サンプルが作製される。次に、測定装置としてMitsutoyo社製レーザーホロゲージが用いられて、サンプルの厚みが５点以上で測定され、それらの測定値が単純に平均（算術平均）されて、磁気記録媒体１の平均値ｔＴ［μｍ］が算出される。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれる。
【００８８】
続いて、サンプルのバック層１４がＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去される。その後、再び上記のレーザーホロゲージが用いられてサンプルの厚みが５点以上で測定され、それらの測定値が単純に平均（算術平均）されて、バック層１４が除去された磁気記録媒体１の平均値ｔＢ［μｍ］が算出される。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれる。その後、以下の式よりバック層１４の平均厚みｔｂ［μｍ］が求られる。
ｔｂ［μｍ］＝ｔＴ［μｍ］−ｔＢ［μｍ］
【００８９】
バック層１４は、多数の突部が設けられた表面を有している。多数の突部は、磁気記録媒体１がロール状に巻き取られた状態において、磁性層１３の表面に多数の孔部を形成するために設けられている。多数の孔部は、例えば、バック層１４の表面から突出された多数の非磁性粒子により構成される。
【００９０】
ここでの説明では、バック層１４の表面に設けられた多数の突部を、磁性層１３の表面に転写することにより、磁性層１３の表面に多数の孔部を形成する場合について説明したが、多数の孔部の形成方法はこれに限定されない。例えば、磁性層用塗料に含まれる溶剤の種類および磁性層用塗料の乾燥条件等を調整することで、磁性層１３の表面に多数の孔部が形成されてもよい。
【００９１】
［磁気記録媒体１の平均厚み］
磁気記録媒体１の平均厚み（平均全厚）の上限値は、例えば、５．６μｍ以下とされる。この平均厚みは、５．０μｍ以下、あるいは、４．４μｍ以下とされてもよい。磁気記録媒体１の平均厚みｔＴが５．６μｍ以下であると、カートリッジ２１内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体１よりも高めることができる。磁気記録媒体１の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば３．５μｍ以上である。
【００９２】
磁気記録媒体１の平均厚みは、上述のバック層１４の平均厚みの求め方において説明した手順により求められる。
【００９３】
［保磁力Ｈｃ］
磁気記録媒体１の長手方向における保磁力Ｈｃの上限値は、例えば、２０００Ｏｅ以下とされる。保磁力Ｈｃの上限値は、１９００Ｏｅ以下、あるいは、１８００Ｏｅ以下とされてもよい。
【００９４】
磁気記録媒体１の長手方向に測定した保磁力Ｈｃの下限値は、例えば、１０００Ｏｅ以上とされる。この場合、記録ヘッドからの漏れ磁束による減磁を押さえることができる。
【００９５】
上記の保磁力Ｈｃは、例えば、以下のようにして求められる。まず、長尺状の磁気記録媒体１から測定サンプルが切り出され、振動試料型磁力計（Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ）が用いられて、測定サンプルの長手方向（磁気記録媒体１の走行方向）に測定サンプル全体のＭ−Ｈループが測定される。次に、アセトンまたはエタノール等が用いられて塗膜（非磁性層１２、磁性層１３およびバック層１４等）が払拭され、基体１１のみが残されてバックグラウンド補正用のサンプルとされる。
【００９６】
次に、ＶＳＭが用いられて基体１１の長手方向（磁気記録媒体１の走行方向）に基体１１のＭ−Ｈループが測定される。その後、測定サンプル全体のＭ−Ｈループから基体１１のＭ−Ｈループが引き算されて、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループが得られる。そして、得られたＭ−Ｈループから保磁力Ｈｃが求められる。なお、上記のＭ−Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われる。また、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１の長手方向に測定する際の"反磁界補正"は行わない。
【００９７】
［角形比］
磁気記録媒体１の垂直方向（厚み方向）における角形比Ｓ１は、例えば、６５％以上とされる。この角形比Ｓ１は、７０％以上とされてもよいし、７５％以上とされてもよい。角形比Ｓ１が６５％以上であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたＳＮＲを得ることができる。
【００９８】
角形比Ｓ１は、例えば、以下のようにして求められる。まず、長尺状の磁気記録媒体１から測定サンプルが切り出されて、ＶＳＭが用いられて磁気記録媒体１の厚さ方向に対応する測定サンプル全体のＭ−Ｈループが測定される。次に、アセトンまたはエタノール等が用られて塗膜（非磁性層１２、磁性層１３およびバック層１４等）が払拭され、基体１１のみが残されて、バックグラウンド補正用のサンプルとされる。
【００９９】
次に、ＶＳＭが用いられて基体１１の厚さ方向に対応する基体１１のＭ−Ｈループが測定される。その後、測定サンプル全体のＭ−Ｈループから基体１１のＭ−Ｈループが引き算されて、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループが得られる。得られたＭ−Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）および残留磁化Ｍｒ（ｅｍｕ）が以下の式に代入されて、角形比Ｓ１（％）が計算される。なお、上記のＭ−Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われる。また、Ｍ−Ｈループを磁気記録媒体１の垂直方向に測定する際の"反磁界補正"は行わない。
角形比Ｓ１（％）＝（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００
【０１００】
磁気記録媒体１の長手方向（走行方向）における角形比Ｓ２は、例えば、３５％以下とされる。この角形比Ｓ２は、３０％以下とされてもよいし、２５％以下とされてもよい。角形比Ｓ２が３５％以下であると、磁性粉の垂直配向性が十分に高くなるため、より優れたＳＮＲを得ることができる。
【０１０１】
角形比Ｓ２は、Ｍ−Ｈループが磁気記録媒体１および基体１１の長手方向に測定される点以外は角形比Ｓ１と同様にして求められる。
【０１０２】
［動摩擦係数］
ここで、データ記録装置（不図示）において、磁気記録媒体１に加わる張力が１．２Ｎであるときの磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数をμAとする。また、磁気記録媒体１に加わる張力が０．４Ｎであるときの磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数をμBとする。この場合、これらの動摩擦係数μA、μBの比率（μＢ／μＡ）は、例えば、１．０以上２．０以下とされる。この場合、磁気記録媒体１における走行時の張力変動による摩擦係数の変化を小さくできるため、磁気記録媒体１の走行を安定させることができる。
【０１０３】
また、データ記録装置において、磁気記録媒体１に加わる張力が０．６Ｎであるときの磁性層１３の表面と磁気ヘッドの間の動摩擦係数について、走行５回目の値をμ５とする。また、動摩擦係数について、走行１０００回目の値をμ１０００とする。この場合、これらの値μ５、μ１０００の比率（μ1000／μ5）は、例えば、１．０以上２．０以下とされる。あるいは、この比率（μ1000／μ5）は、１．０以上１．５以下とされる。比率（μ1000／μ5）が１．０以上で２．０以下であると、多数回走行による摩擦係数の変化を小さくできるため磁気記録媒体１の走行を安定させることができる。
【０１０４】
＜製造装置１００＞
［製造装置１００の全体構成及び各部の構成］
図２は、磁気記録媒体１の製造装置１００を示す模式図である。磁気記録媒体１は、基本的に、塗布工程、カレンダー工程、裁断工程等を経て製造されるが、この製造装置１００は、塗布工程において用いられる装置である。
【０１０５】
図２に示すように、製造装置１００は、製造装置１００の全体を制御する制御装置２１を含む。また、製造装置１００は、基体１１の搬送方向において上流側から順番に、送り出しローラ２２と、第１の塗布装置２３と、第１の乾燥装置２４と、第２の塗布装置２５と、配向装置２６と、第３の塗布装置２７と、第２の乾燥装置２８と、巻き取りローラ２９とを含む。なお、図示は省略しているが、製造装置１００は、基体１１の搬送をガイドする複数のガイドローラを有している。
【０１０６】
制御装置２１は、例えば、ＰＣ（Personal Computer）等のコンピュータであり、製造装置１００内における他の各装置を統括的に制御する。この制御装置２１は、例えば、制御部、記憶部、通信部などを含む。制御部は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等により構成されており、記憶部に記憶されたプログラムに従い、各種の処理を実行する。
【０１０７】
記憶部は、各種のデータや各種のプログラムが記録される不揮発性のメモリと、制御部の作業領域として用いられる揮発性のメモリとを含む。上記各種のプログラムは、光ディスク、半導体メモリ等の可搬性の記録媒体から読み取られてもよいし、ネットワーク上のサーバ装置からダウンロードされてもよい。通信部は、製造装置１００における他の各装置や、サーバ装置等との間で互いに通信可能に構成されている。
【０１０８】
送り出しローラ２２は、基体１１が巻回されて構成されたロール体１５を、回転可能に支持する。この送り出しローラ２２は、その駆動により、ロール体１５を回転させることによって、基体１１を徐々に送り出すことが可能されている。
【０１０９】
第１の塗布装置２３は、基体１１の一方の主面側（上面）に対して、非磁性粉を含む非磁性層用塗料（湿潤状態）を一定の膜厚で塗布することが可能に構成されている。基体１１上に非磁性層用塗料が塗布されることによって、基体１１上に、湿潤状態の非磁性塗布膜が形成される。
【０１１０】
第１の乾燥装置２４は、基体１１上に形成された非磁性塗布膜を乾燥させることが可能に構成されている。第１の乾燥装置２４は、非磁性塗布膜が形成された基体１１に対して、面方向に垂直に上下方向から熱風（気流）を吹き付けることが可能とされている。非磁性塗布膜に熱風が吹き付けられることで、非磁性塗布膜が乾燥されて固化させる。なお、非磁性塗布膜が乾燥されて固化されることで、非磁性塗布膜が、非磁性層１２となる。
【０１１１】
第２の塗布装置２５は、非磁性層１２が形成された基体１１において、非磁性層１２上に、磁性粉を含む磁性層用塗料（湿潤状態）を一定の膜厚で塗布することが可能に構成されている。非磁性層１２上（基体１１上）に磁性層用塗料が塗布されることによって、非磁性層１２上に、湿潤状態の磁性塗布膜が形成される。
【０１１２】
配向装置２６は、非磁性層１２上（基体１１上）に形成された磁性塗布膜における磁性粉を垂直配向させる（磁性粉の磁化容易軸を垂直方向に向けさせる）。また、配向装置２６は、磁性粉が垂直配向されている状態で、磁性塗布膜を乾燥させて固化させる。磁性塗布膜が乾燥されて固化されることで、磁性塗布膜が、磁性層１３となる。なお、配向装置２６における具体的な構成については、後に詳述する。
【０１１３】
第３の塗布装置２７は、基体１１の他方の主面側に対して、バック層用塗料（湿潤状態）を一定の膜厚で塗布することが可能に構成されている。基体１１上にバック層用塗料が塗布されることによって、基体１１上に、湿潤状態のバック層塗布膜が形成される。
【０１１４】
第２の乾燥装置２８は、基体１１上に形成されたバック層塗布膜を乾燥させることが可能に構成されている。第２の乾燥装置２８は、バック層塗布膜が形成された基体１１に対して、面方向に垂直に上下方向から熱風（気流）を吹き付けることが可能とされている。バック層塗布膜に熱風が吹き付けられることで、バック層塗布膜が乾燥されて固化させる。なお、バック層塗布膜が乾燥されて固化されることで、バック層塗布膜が、バック層１４となる。
【０１１５】
巻き取りローラ２９は、非磁性層１２、磁性層１３及びバック層１４が形成された基体１１、つまり、磁気記録媒体１を巻き取ることが可能に構成されている。磁気記録媒体１が巻き取りローラ２９によってロール状に巻き取られることで、磁気記録媒体１のロール体１６が形成される。
【０１１６】
なお、巻き取りローラ２９により形成される磁気記録媒体１のロール体１６は、次のカレンダー工程に送られて、カレンダー処理により磁性層１３の表面が平滑化される。カレンダー処理が施された磁気記録媒体１はロール状に巻き取られた後、この状態で磁気記録媒体１に加熱処理（良好な転写性の観点から、典型的には、５５℃以上７５℃以下、１５時間以上４０時間以下）が行われる。これにより、バック層１４の表面の多数の突部が磁性層１３の表面に転写されて、磁性層１３の表面に多数の孔部が形成される。
【０１１７】
その後、ロール状の磁気記録媒体１は、裁断工程に送られて、所定の幅（例えば１／２インチ幅）に裁断され、目的とする磁気記録媒体１（例えば、カートリッジ内に収容される磁気記録媒体１）が得られる。
【０１１８】
ここで、第２の塗布装置２５において用いられる磁性層用塗料は、磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより調整される。また、第１の塗布装置２３において用いられる非磁性層用塗料は、非磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより調整される。また、第３の塗布装置２７において用いられるバック層用塗料は、結着剤および非磁性粉等を溶剤に混練、分散させることにより調整される。磁性層用塗料、非磁性層用塗料及びバック層用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、混練装置及び分散装置を用いることができる。
【０１１９】
塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、適宜混合して用いられてもよい。
【０１２０】
塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダー等の混練装置を用いることができる。塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、ホモジナイザー、超音波分散機等の分散装置を用いることができる。
【０１２１】
［配向装置２６］
図３は、配向装置２６を搬送方向から見た図である。図４は、配向装置２６が有する永久磁石３１を搬送方向から見た拡大図である。図５は、図３に示すＡ−Ａ'間の断面図である。図６は、配向装置２６が有する乾燥部６０を示す図である。
【０１２２】
図６の右側の図は、配向装置２６を搬送路４０内から下向きに見た様子を示しており、図６の左側の図は、配向装置２６を搬送路４０内から左向きに見た様子を示している。なお、図５及び図６では、後述の磁石固定板８０を省略して図示している。
【０１２３】
配向装置２６の説明においては、基体１１が搬送される方向を搬送方向（Ｙ軸方向）と呼ぶ。また、搬送方向に直交する方向であって、搬送される基体１１の面内方向に直交する方向を垂直方向（Ｚ軸方向）と呼ぶ。また、搬送方向及び垂直方向に直交する方向を幅方向（Ｘ軸方向）と呼ぶ。
【０１２４】
また、配向装置２６の説明においては、「前」及び「後」との用語は、それぞれ、搬送方向における上流側、下流側の方向を意味する用語として使用する。また、「右」及び「左」との用語は、それぞれ、搬送方向において上流側から見た方向を意味する用語として使用する。
【０１２５】
本実施形態において、配向装置２６における全体の幅Ｗｏ（幅方向：Ｘ軸方向）は、１０００ｍｍ程度とされている。また、本実施形態において、配向装置２６における全体の高さＨｏ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、４００ｍｍ程度とされ、配向装置２６における全体の奥行きＤｏ（搬送方向：Ｙ軸方向）は、８００ｍｍ程度とされている。
【０１２６】
なお、本明細書中においては、配向装置２６、及び配向装置２６が有する各部材のサイズや、各部材の個数等について、本技術の理解を容易にするために、具体的な値を挙げて説明する。一方、これらの値は、単なる一例に過ぎず、適宜変更することができる。
【０１２７】
図３〜図６に示すように、配向装置２６は、搬送路４０と、永久磁石部３０と、ヨーク部５０と、乾燥部６０とを備えている。
【０１２８】
（搬送路４０）
搬送路４０は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って配向装置２６を貫通するように設けられている。この搬送路４０は、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体１１を搬送方向に沿って通過させる。
【０１２９】
搬送路４０の幅（幅方向：Ｘ軸方向）は、磁性塗布膜が形成された基体１１の幅よりも少し大きい程度の大きさとされ、例えば、７００ｍｍ程度とされる。また、搬送路４０の高さＨｗ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、例えば、２４ｍｍ程度とされる（この高さＨｗは、後述の第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおいて、互いに対向する極の間の垂直方向での距離Ｈｗと等しい）。また、搬送路４０の奥行き（搬送方向：Ｙ軸方向）は、配向装置２６における全体の奥行きと等しく、例えば、８００ｍｍ程度とされる。
【０１３０】
（永久磁石部３０）
永久磁石部３０は、複数の第１の永久磁石３１ａと、複数の第２の永久磁石３１ｂとを含む。複数の第１の永久磁石３１ａと、複数の第２の永久磁石３１ｂとは、垂直方向（Ｚ軸方向）で搬送路４０を挟んで互いに異極対向される。この永久磁石部３０は、搬送路４０を通過する基体１１の磁性塗布膜に対して磁界を印加して、磁性塗布膜における磁性粉を垂直配向させる。
【０１３１】
なお、本明細書中において、第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂを特に区別しない場合には、単に永久磁石３１と呼ぶ。
【０１３２】
複数の第１の永久磁石３１ａは、垂直方向において搬送路４０よりも上側（基体１１において磁性塗布膜側）に配置される。一方、複数の第２の永久磁石３１ｂは、垂直方向において搬送路４０よりも下側（基体１１において磁性塗布膜とは反対側）に配置される。
【０１３３】
第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂは、それぞれ、磁化方向が垂直方向を向くように配置されている。また、第１の永久磁石３１ａは、搬送路４０側の極がＳ極とされ、搬送路４０側とは反対側の極がＮ極とされている。一方、第２の永久磁石３１ｂは、搬送路４０側の極がＮ極とされており、搬送路４０側とは反対側の極がＳ極とされている。互いに対向する一対の第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂは、ＸＹ平面（水平面）に対して、面対称に形成されている。
【０１３４】
本実施形態では、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおいて、互いに対向する極の間の垂直方向での間隔Ｈｗ（搬送路４０の高さＨｗ：図４参照）は、２４ｍｍ程度とされている。
【０１３５】
本実施形態において、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおけるそれぞれの幅Ｗｍ（幅方向：Ｘ軸方向）は、６５０ｍｍ程度とされている。なお、この幅Ｗｍは、基体１１の幅と同程度か、あるいは、基体１１の幅よりも若干大きい程度の大きさとされる。
【０１３６】
また、本実施形態において、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおけるそれぞれの高さＨｍ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、５０ｍｍ程度とされている。また、本実施形態において、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおけるそれぞれの奥行きＤｏ（搬送方向：Ｙ軸方向）は、５０ｍｍ程度とされている。
【０１３７】
なお、ここでの説明から理解されるように、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂは、幅方向（Ｘ軸方向）に長く、垂直方向（Ｚ軸方向）及び搬送方向（Ｙ軸方向）に短い形状を有している。本実施形態では、永久磁石部３０は、この幅方向に長い第１の永久磁石３１ａ、第２の永久磁石３１ｂが、搬送方向に沿って、所定の間隔を開けて複数個並べられることによって構成されている。
【０１３８】
本実施形態では、第１の永久磁石３１ａの数、及び第２の永久磁石３１ｂの数は、それぞれ、１４個とされている（つまり、搬送方向で、１４段）。つまり、永久磁石部３０は、２×１４により合計で２８個の永久磁石３１を有している。
【０１３９】
なお、本明細書中の説明においては、搬送方向で、個々の永久磁石３１を特に区別する場合、搬送方向の上流側から順番に、１段目の永久磁石３１、２段目の永久磁石３１、・・１４段目の永久磁石３１と呼ぶ。
【０１４０】
第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂは、それぞれ、複数の永久磁石要素３２を含む。本実施形態では、１つの永久磁石３１は、垂直方向に異極対向されて重ねられた２つの永久磁石要素３２が、幅方向に沿って、直線的に隙間なく１３セット並べられることによって構成されている。つまり、本実施形態では、１つの永久磁石３１は、垂直方向（Ｚ軸方向）に２段、幅方向（Ｘ軸方向）に１３列の合計で、２６個（＝２×１３）の永久磁石要素３２を含む。
【０１４１】
本実施形態において、永久磁石要素３２の幅Ｗｍｅ（幅方向：Ｘ軸方向）は、５０ｍｍ程度とされ、永久磁石要素３２の高さＨｍｅ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、２５ｍｍ程度とされる。また、本実施形態において、永久磁石要素３２の奥行きＤｍｅ（搬送方向：Ｙ軸方向）は、５０ｍｍ程度とされる。
【０１４２】
なお、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂの幅Ｗｍは、永久磁石要素３２の幅Ｗｍｅの約１３倍である（５０ｍｍ×１３＝６５０ｍｍ）。また、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂの高さＨｍは、永久磁石要素３２の高さＨｍｅの約２倍である（２５ｍｍ×２＝５０ｍｍ）。また、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂの奥行きＤｍは、永久磁石要素３２の奥行きＤｍｅに等しい（Ｄｍ＝Ｄｍｅ）。
【０１４３】
ここでの説明では、永久磁石要素３２が垂直方向に２段重ねにされる場合について説明したが、永久磁石要素３２は、垂直方向で１段であってもよい（例えば、高さが５０ｍｍに設定された永久磁石要素３２が１段）。
【０１４４】
（ヨーク部５０）
ヨーク部５０は、軟磁性材料により構成されている。このヨーク部５０は、複数の第１の永久磁石３１ａにおいて搬送路４０側とは反対側の極（Ｎ極）と、複数の第２の永久磁石３１ｂにおいて搬送路４０側とは反対側の極（Ｓ極）と接続する。
【０１４５】
これより、ヨーク部５０は、複数の第１の永久磁石３１ａ及び複数の第２の永久磁石３１ｂと共に、磁気回路を形成する。このヨーク部５０は、永久磁石３１で発生した磁界を１周させる、いわゆるリターンヨークとしての機能を有している。
【０１４６】
ヨーク部５０における幅（幅方向：Ｘ軸方向）、高さ（垂直方向：Ｚ軸方向）、奥行き（搬送方向：Ｙ軸方向）は、配向装置２６全体の幅Ｗｏ、高さＨｏ、奥行きＤｏと等しく、例えば、順番に、１０００ｍｍ程度、４００ｍｍ程度、８００ｍｍ程度とされる。
【０１４７】
ヨーク部５０に用いられる軟磁性材料としては、例えば、鉄、ケイ素鉄、パーマロイ、センダスト、パーメンジュール、電磁ステンレス、アモルファス磁性合金、ナノクリスタル磁性合金等が挙げられる。なお、ヨーク部５０に用いられる材料は、軟磁性材料であればどのような材料であっても構わない。
【０１４８】
ヨーク部５０は、第１のヨーク部５１と、第２のヨーク部５２と、一対の第３のヨーク部５３とを含む。第１のヨーク部５１は、複数の第１の永久磁石３１ａを搬送路４０側とは反対側から支持する。第２のヨーク部５２は、複数の第２の永久磁石３１ｂを搬送路４０側とは反対側から支持する。一対の第３のヨーク部５３は、第１のヨーク部５１及び第２のヨーク部５２の間に介在され、これらのヨーク部５１、５２を連結する。
【０１４９】
第１のヨーク部５１及び第２のヨーク部５２は、それぞれ、厚さ（垂直方向：Ｚ軸方向）が薄い直方体形状を有している。一対の第３のヨーク部５３は、直方体形状において、幅方向（Ｘ軸方向）における搬送路４０側の面が凹んだ形状を有している。この凹みは、垂直方向（Ｚ軸方向）において中央の部分が最も凹んだ形状とされている。なお、一対の第３のヨーク部５３は、単純な直方体形状により形成されていてもよい。
【０１５０】
一対の第３のヨークのうち、一方の第３のヨーク部５３は、第１のヨーク部５１及び第２のヨーク部５２における幅方向の一端側において、第１のヨーク部５１の下面と第２のヨーク部５２の上面との間に介在される。また、一対の第３のヨークのうち、他方の第３のヨーク部５３は、第１のヨーク部５１及び第２のヨーク部５２における幅方向の他端側において、第１のヨーク部５１の下面と第２のヨーク部５２の上面との間に介在される。
【０１５１】
第１のヨーク部５１と、第３のヨーク部５３とは、例えば、ボルト５などの接続部によって互いに接続されて固定される。同様に、第２のヨーク部５２と、第３のヨーク部５３とは、例えば、ボルト５などの接続部によって互いに接続されて固定される。
【０１５２】
（乾燥部６０）
乾燥部６０（特に、図６参照）は、永久磁石部３０からの磁界により磁性塗布膜の磁性粉が垂直配向されている状態で、磁性塗布膜を乾燥させて固化させる。乾燥部６０は、磁性塗布膜を乾燥させるための熱風（気流）を搬送路４０内に噴出する複数の噴出孔６１と、搬送路４０内の熱風（気流）を吸入して搬送路４０外に放出するための複数の吸気孔６２とを有する。
【０１５３】
複数の噴出孔６１は、第１のヨーク部５１及び第２のヨーク部５２を垂直方向（Ｚ軸方向）に貫通するように設けられおり、垂直方向に向けて熱風を噴出するように設けられている（図１９も参照）。複数の噴出孔６１は、図示しないコンプレッサ、ポンプなどの機器に接続されており、この機器の駆動により、複数の噴出孔６１を介して搬送路４０内に強制的に熱風が送風される。
【０１５４】
第１のヨーク部５１に設けられた噴出孔６１は、垂直方向において下向きに熱風を噴出させて、基体１１の磁性塗布膜側に対して垂直に熱風を吹き付ける。一方、第２のヨーク部５２に設けられた噴出孔６１は、垂直方向において上向きに熱風を噴出させて、基体１１の磁性塗布膜とは反対側に対して垂直に熱風を吹き付ける。
【０１５５】
複数の噴出孔６１は、搬送方向で所定の間隔を開けて配置されている。具体的には、複数の噴出孔６１は、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１の間の領域に設けられる。また、複数の複数の噴出孔６１は、互いに隣接する永久磁石３１の間の１つの領域について、幅方向に沿って、所定の間隔を開けて配置される。
【０１５６】
なお、本実施形態では、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１の間の領域について、全ての領域に対して、複数の噴出孔６１が設けられている訳ではない。具体的には、複数の噴出孔６１は、６段目の永久磁石３１と７段目の永久磁石３１との間の領域、７段目の永久磁石３１と８段目の永久磁石３１との間の領域、・・・、１３段目の永久磁石３１と１４段目（最後の段）の永久磁石３１との間の領域、及び、１４段目の永久磁石３１の後ろの領域に対して設けられている。
【０１５７】
一方、複数の噴出孔６１は、１段目の永久磁石３１と２段目の永久磁石３１との間の領域、２段目の永久磁石３１と３段目の永久磁石３１との間の領域、・・・、及び、５段目の永久磁石３１と６段目の永久磁石３１との間の領域に対しては設けられていない。
【０１５８】
つまり、本実施形態において、配向装置２６は、搬送路４０において、搬送方向（Ｙ軸方向）で複数の噴出孔６１（乾燥部６０）が設けられない配向エリア（第１のエリア）と、複数の噴出孔６１（乾燥部６０）が設けられる配向乾燥エリア（第２のエリア）とを有している。
【０１５９】
配向エリアは、搬送路４０において搬送方向における上流側の一部のエリアであり、搬送路４０に進入した基体１１の磁性塗布膜における磁性粉を永久磁石部３０により十分に垂直配向させるエリアである。一方、配向乾燥エリアは、上記上流側の一部のエリアを除いた下流側のエリアである。この配向乾燥エリアは、配向エリアにおいて磁性粉が十分に垂直配向された後、永久磁石部３０により磁性粉が垂直配向された状態を維持しつつ、乾燥部６０により磁性塗布膜を乾燥させて固化させるエリアである。
【０１６０】
つまり、本実施形態では、配向エリアと、配向乾燥エリアの２段階での配向処理が行われる。
【０１６１】
図９には、磁性粉が垂直配向される前と、垂直配向された後の様子が示されている。磁性塗布膜の磁性粉に対して永久磁石３１による磁界が印加されていない場合、図９の左側に示すように、磁性粉の向きは、ランダムである。一方、磁性塗布膜の磁性粉に対して永久磁石３１による磁界が印加されると、図９の右側に示すように、磁性粉の姿勢が変化する（溶剤により磁性塗布膜が湿潤状態であるため磁性粉は動くことができる）。これにより、磁性粉の向きが垂直方向に揃い、磁化容易軸が垂直方向を向く。
【０１６２】
配向エリアでは、図９の右側に示すように、磁性粉が十分に垂直配向される。そして、配向乾燥エリアでは、磁性粉が垂直配向された状態が維持されつつ、磁性塗布膜が乾燥されて固化される。
【０１６３】
本実施形態では、配向エリアは、１段目の永久磁石３１から６段目の永久磁石３１に対応するエリアとされる。一方、配向乾燥エリアは、７段目の永久磁石３１から１４段目の永久磁石３１に対応するエリアとされる。
【０１６４】
本実施形態では、配向エリアが６段分の永久磁石３１に対応するエリアとされ、配向乾燥エリアが、８段分の永久磁石３１に対応するエリアとされている。つまり、配向エリアと、配向乾燥エリアとの比が、永久磁石３１の段数に関して、６：８とされている。一方、この比については、６：８に限られず、適宜変更することができる（なお、典型的には、配向乾燥エリアの値の方が、配向エリアの値よりも大きくなる）。
【０１６５】
なお、本実施形態では、噴出孔６１が設けられる関係で、６段目〜１４段目の永久磁石３１の永久磁石３１において互いに隣接する２つの永久磁石３１の間隔は、１段目〜６段目の永久磁石３１の永久磁石３１において互いに隣接する２つの永久磁石３１の間隔よりも大きくなる。
【０１６６】
複数の吸気孔６２は、第３のヨーク部５３を幅方向（Ｘ軸方向）に貫通するように設けられおり、幅方向に熱風（気流）を吸入するように設けられている。複数の吸気孔６２は、図示しないコンプレッサ、ポンプなどの機器に接続されており、この機器の駆動により、搬送路４０内の熱風が複数の吸気孔６２を介して強制的に搬送路４０外に放出される。
【０１６７】
複数の吸気孔６２は、搬送方向（Ｙ軸方向）で所定の間隔を開けて配置されている。搬送方向における複数の吸気孔６２の位置は、搬送方向における複数の噴出孔６１の位置に関連して設定されている。具体的には、本実施形態では、各吸気孔６２は、搬送方向において、各噴出孔６１の中間位置に設けられている。このような位置に吸気孔６２が配置されることで、搬送路４０内の熱風を効率よく配向装置２６外に放出することができる。
【０１６８】
また、垂直方向（Ｚ軸方向）における複数の吸気孔６２の高さ位置は、搬送路４０内を搬送される基体１１の垂直方向での高さ位置に関連して設定されている。具体的には、本実施形態では、吸気孔６２高さ位置は、搬送路４０を搬送される基体１１の高さ位置に一致する高さとされる。このような位置に吸気孔６２が配置されることで、搬送路４０内の熱風を効率よく配向装置２６外に放出することができる。
【０１６９】
（ユニット７０及び磁石固定板８０）
ここで、配向装置２６は、搬送方向に薄い形状の複数のユニット７０が、搬送方向に沿って並べられて構成されている。図７は、ユニット７０を示す斜視図である。図７において、上側の図は、ユニット７０に対して磁石固定板８０が取り付けられるときの様子を示しており、図７において下の図は、ユニット７０に対して磁石固定板８０が取り付けられた後の様子を示している。
【０１７０】
図７に示すように、ユニット７０は、１つの第１の永久磁石３１ａと、１つの第２の永久磁石３１ｂと、ヨーク部５０の一部を構成するヨークユニット部７１とを備える。
【０１７１】
ヨークユニット部７１は、第１の永久磁石３１ａにおいて搬送路４０側とは反対側の極（Ｎ極）と、第２の永久磁石３１ｂにおいて搬送路４０側とは反対側の極（Ｓ極）と接続し、第１の永久磁石３１ａ部３０及び第２の永久磁石３１ｂと共に、磁気回路を形成する。
【０１７２】
ヨークユニット部７１の奥行き（搬送方向：Ｙ軸方向）は、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおける奥行きＤｍ（搬送方向）と同様の奥行きとされており、例えば、５０ｍｍ程度とされる。なお、ヨークユニット部７１の幅（幅方向：Ｘ軸方向）及び高さ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、ヨーク部５０のおける幅、及び高さと等しく、例えば、１０００ｍｍ程度、４００ｍｍ程度とされる。
【０１７３】
ヨークユニット部７１は、第１のヨーク部５１の一部を構成する第１のヨークユニット部７２と、第２のヨーク部５２の一部を構成する第２のヨークユニット部７３と、一対の第３のヨーク部５３の一部を構成する一対の第３のヨークユニット部７４とを有している。
【０１７４】
第１のヨークユニット部７２は、第１の永久磁石３１ａを搬送路４０側とは反対側から支持する。第２のヨークユニット部７３は、第２の永久磁石３１ｂを搬送路４０側とは反対側から支持する。一対の第３のヨークユニット部７４は、第１のヨークユニット部７２及び第２のヨークユニット部７３を連結する。
【０１７５】
磁石固定板８０は、第１永久磁石３１及び第２の永久磁石３１ｂをヨークユニット部７１に固定するための部材である。磁石固定板８０の厚みは、典型的には、２ｍｍ以上、５ｍｍ以下とされる。
【０１７６】
磁石固定板８０は、第１の永久磁石３１ａを第１のヨークユニット部７２に固定するための第１の固定部材８１と、第２の永久磁石３１ｂを第２のヨーク部５２に固定するための第２の固定部材８２とを有する。また、磁石固定板８０は、ヨークユニット部７１の前面側に設けられる第３の固定部材８３及び第４の固定部材８４と、ヨークユニット部７１の後面側に設けられる第５の固定部材８５及び第６の固定部材８６とを含む。
【０１７７】
第１の固定部材８１、第２の固定部材８２は、幅方向から見てＵ字状に形成されている。第１の固定部材８１と、第２の固定部材８２とは、ヨークユニット部７１に取り付けられる向きが異なる点を除いて、同様の構成を有している。
【０１７８】
第１の固定部材８１の幅（幅方向：Ｘ軸方向）は、第１の永久磁石３１ａの幅Ｗｍと同程度とされる。また、第１の固定部材８１の高さ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、第１のヨークユニット部７２の厚さ（垂直方向）に、第１の永久磁石３１ａの高さＨｍを加算した値と同程度とされる。同様に、第２の固定部材８２の幅（幅方向：Ｘ軸方向）は、第２の永久磁石３１ｂの幅Ｗｍと同程度とされる。また、第２の固定部材８２の高さ（垂直方向：Ｚ軸方向）は、第２のヨークユニット部７３の厚さ（垂直方向）に、第２の永久磁石３１ｂの高さＨｍを加算した値と同程度とされる。
【０１７９】
第１の固定部材８１は、第１のヨークユニット部７２の前面の一部と、第１の永久磁石３１ａの前面、下面及び後面の全体と、第１のヨークユニット部７２の後面の一部と密着し、これらの面を覆うように、ユニット７０に取り付けられる。第２の固定部材８２は、第２のヨークユニット部７３の前面の一部と、第２の永久磁石３１ｂの前面、上面及び後面の全体と、第２のヨークユニット部７３の後面の一部と密着し、これらの面を覆うように、ユニット７０に取り付けられる。
【０１８０】
第１の固定部材８１及び第２の固定部材８２は、非磁性材料により構成されている（つまり、第１の固定部材８１及び第２の固定部材８２は、非磁性部）。このように、第１の固定部材８１及び第２の固定部材８２を、非磁性材料により構成することで、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１同士がブリッジしてしまうことを防止することができる。
【０１８１】
なお、磁石固定板８０のうち、少なくとも、永久磁石３１の前面及び後面を覆う部分が非磁性材料により構成されていれば、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１同士がブリッジしてしまうことを防止することができる。
【０１８２】
第３〜第６の固定部材８３、８４、８５、８６は、第１の固定部材８１、第２の固定部材８２がユニット７０に取り付けられることによって生じる、ユニット７０間の隙間を埋める役割を有している。第３〜第６の固定部材８３、８４、８５、８６は、ヨークユニット部７１に取り付けられる向きが異なる点を除いて、同様の構成を有している。
【０１８３】
第３〜第６の固定部材８３、８４、８５、８６は、ヨークユニット部７１の前面及び後面において、第１の固定部材８１、第２の固定部材８２により覆うことができない領域を覆うことができるように、その形状が設定されている。
【０１８４】
第３の固定部材８３は、左側の第３のヨークユニット部７４における前面の全体と、第１、第２のヨークユニット部７２、７３の前面のうち、第１、第２の固定部材８１、８２により覆われていない領域とを覆うように、ユニット７０に取り付けられる。
【０１８５】
第４の固定部材８４は、右側の第３のヨークユニット部７４における前面の全体と、第１、第２のヨークユニット部７２、７３の前面のうち、第１、第２の固定部材８１、８２により覆われていない領域とを覆うように、ユニット７０に取り付けられる。
【０１８６】
第５の固定部材８５は、左側の第３のヨークユニット部７４における後面の全体と、第１、第２のヨークユニット部７２、７３の後面のうち、第１、第２の固定部材８１、８２により覆われていない領域とを覆うように、ユニット７０に取り付けられる。
【０１８７】
第６の固定部材８６は、右側の第３のヨークユニット部７４における後面の全体と、第１、第２のヨークユニット部７２、７３の後面のうち、第１、第２の固定部材８１、８２により覆われていない領域とを覆うように、ユニット７０に取り付けられる。
【０１８８】
第３〜第６の固定部材８３、８４、８５、８６は、（軟）磁性材料により構成されている（つまり、第３〜第６の固定部材は、磁性部）。このように、第３〜第６の固定部材８３、８４、８５、８６を、（軟）磁性材料により構成することで、第３のヨークユニット部７４（第３のヨーク部５３）において、磁束が飽和してしまうことを防止することができる。
【０１８９】
なお、磁石固定板８０において、少なくとも第３のヨークユニット部７４に対応する箇所が（軟）磁性材料により構成されていれば、第３のヨークユニット部７４（第３のヨーク部５３）において、磁束が飽和してしまうことを防止することができる。
【０１９０】
図７の下側の図に示すように、ユニット７０に対して磁石固定板８０が取り付けられた後、磁石固定板８０が取り付けられた複数のユニット７０が、搬送方向に沿って並べられて接続されることで、配向装置２６が組み立てられる。
【０１９１】
図８は、配向装置２６の側面図である。図８に示すように、搬送方向で互いに隣接するユニット７０の間には、磁石固定板８０が介在される。
【０１９２】
本明細書中において、各ユニット７０を区別する場合には、搬送方向の上流側から順番に、１段目のユニット７０、２段目のユニット７０、・・・１４段目のユニット７０と呼ぶ。１段目〜１４段目のユニット７０は、それぞれ、１段目〜１４段目の永久磁石３１を有している。
【０１９３】
まず、１段目のユニット７０から６段目のユニット７０に着目する。これらのユニット７０において、互いに隣接するユニット７０の間には、それぞれ、２枚の磁石固定板８０（上流側のユニット７０の磁石固定板８０及び下流側のユニット７０の磁石固定板８０）が介在される。ここで、上述のように、磁石固定板８０の厚みは、２ｍｍ以上、５ｍｍ以下とされている。従って、１段目〜６段目のユニット７０において、互いに隣接するユニット７０間の間隔（１段目〜６段目の永久磁石３１において、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１の間隔）は、４ｍｍ以上、１０ｍｍ以下とされている。
【０１９４】
次に、６段目のユニット７０から１４段目のユニット７０に着目する。これらのユニット７０において、互いに隣接するユニット７０の間には、２枚の磁石固定板８０の他に、乾燥ユニット９０が介在される。この乾燥ユニット９０は、乾燥部６０における噴出孔６１が設けられる部材である。乾燥ユニット９０は、例えば、（軟）磁性材料により構成されている。
【０１９５】
乾燥ユニット９０の奥行き（搬送方向：Ｙ軸方向）は、１０ｍｍ程度とされている。従って、６段目〜１４段目のユニット７０において、互いに隣接するユニット７０間の間隔（６段目〜１４段目の永久磁石３１において、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１の間隔）は、１４ｍｍ以上、２０ｍｍ以下とされている。
【０１９６】
なお、６段目〜１４段目のユニット７０においては、乾燥部６０における吸気孔６２が幅方向（Ｘ軸方向）に沿って設けられる。
【０１９７】
（磁気回路）
次に、ヨーク部５０及び永久磁石３１によって形成される磁気回路について説明する。図１０は、磁気回路における磁束を計算するために用いられた計算モデル２６'を示す図である。この計算には、ＡＮＳＯＦＴ社のＭａｘｗｅｌｌ  ３Ｄがソフトウェアとして用いられた。
【０１９８】
ヨーク部５０及び永久磁石３１によって形成される磁気回路については、配向装置２６について左右で対称となる。従って、計算モデル２６'においては、配向装置２６の左半分に対応するモデルが用いられた。
【０１９９】
永久磁石３１としては、ＮｄＦｅＢ磁石（ネオジウム磁石）が想定され、永久磁石３１の残留飽和磁束密度は、１．２３Ｔに設定された。１つ（１段分）の永久磁石３１については、５０ｍｍ×５０ｍｍ×５０ｍｍ（幅×高さ×奥行き）の複数の永久磁石要素３２が幅方向に直線的に並べられて構成されることとした。また、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂにおいて、互いに対向する極の間の垂直方向での間隔Ｈｗ（搬送路４０の高さＨｗ：図４参照）は、２４ｍｍに設定された。
【０２００】
また、ヨーク部５０の材料として、鉄を材料としたＳＳ４００（ＪＩＳ（Japanese Industrial Standard）規格：一般構造用圧延鋼材）が想定され、ヨーク部５０の飽和磁束密度は１．７Ｔに設定され、ヨーク部５０の透磁率は２０００に設定された。
【０２０１】
また、搬送方向で互いに隣接するユニット７０の間には、磁石固定板８０及び乾燥ユニット９０に見立てたスペーサ６が配置された。
【０２０２】
図１１は、図１０に示す計算モデル２６'により得られた磁気回路を示す図である。図１１において、矢印の方向が磁界の方向を示しており、矢印の長さが磁界の強度を示している。図１１に示すように、永久磁石３１により発生した磁界は、ヨーク部５０を経由して、回転するように１周しており、これにより、磁気回路が形成されている。
【０２０３】
本実施形態においては、ヨーク部５０の材料として、透磁率が高い材料（軟磁性材料）が用いられているため、ヨーク部５０の内部を磁束が通過する。従って、搬送路４０における垂直方向での磁界の強度を増大することができ、搬送路４０を通過する基体１１の磁性塗布膜における磁性粉を適切に垂直配向させることができる。
【０２０４】
（搬送路４０における磁界強度）
次に、搬送路４０（互いに対向する第１の永久磁石及び第２の永久磁石の間）における磁界強度について説明する。磁性粉を適切に垂直配向させるためには、搬送路４０における磁界強度（垂直成分）を、或る一定の値以上とする必要がある。本発明者らは、この値を求めるための実験を行った。
【０２０５】
まず、この実験に用いられる配向装置２６として、第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂとの間の垂直方向での距離を変化させることが可能な装置が用意された。この装置では、第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂとの間の距離を変化させることで、搬送路４０内の磁界強度（垂直成分）を変化させることができる。
【０２０６】
永久磁石３１としては、ＮｄＦｅＢ磁石（ネオジウム磁石）が用いられた。また、基体１１として、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタラートが用いられ、この基体１１上に、バリウムフェライト磁性粉を含む磁性塗布膜が塗布された。磁性粉の保磁力（磁性塗布膜の保磁力）は、３０００Ｏｅとされ、基体１１の搬送速度は、１ｍ／ｓとされた。
【０２０７】
基体１１の搬送が停止され、このときに、搬送路４０内に存在している基体１１が切り出されて測定サンプルとされた。そして、この測定サンプルの垂直方向の磁化曲線が、振動試料型磁力計により測定された。なお、測定された磁化曲線については反磁界補正が行われた。
【０２０８】
図１２は、搬送路４０内の磁界強度（垂直成分）と、測定サンプルにおける垂直方向角形比との関係を示す図である。図１３は、この実験により得られた具体的な数値等を示す図である。
【０２０９】
図１２及び図１３に示すように、比較例１では、搬送路４０内の磁界強度が２．８Ｔと低く、測定サンプルにおける垂直方向角形比が０．６８と低くなっている。つまり、比較例１では、磁界強度が低いので、磁性塗布膜における磁性粉が十分に垂直配向されていない。
【０２１０】
この比較例１では、磁性粉の保磁力を基準としたときの磁界強度の比（磁界強度／磁性粉保磁力）が０．９とされている。つまり、搬送路４０における磁界強度が、磁性粉の保磁力の０．９倍である場合、磁性塗布膜における磁性粉を十分に垂直配向することができない。
【０２１１】
一方、実施例１〜実施例５のように、搬送路４０における磁界強度が、０．３１Ｔ、０．４２Ｔ、０．６Ｔ、０．８Ｔ、０．９５と徐々に高くされた場合、測定サンプルにおける垂直方向角形比が、０．８２、０．８３、０．８３、０．８３、０．８３と変化している。
【０２１２】
この結果から、搬送路４０における磁界強度が徐々に高くされると、磁界強度が或る一定の値となったときに、測定サンプルにおける垂直方向角形比が飽和（０．８３）していると考えられる。
【０２１３】
実施例１では、測定サンプルにおける垂直方向角形比の値が０．８２であり、飽和の値（０．８３）に十分に近く、磁性塗布膜における磁性粉が十分に垂直配向されている。つまり、搬送路４０内の磁界強度（垂直成分）が、磁性粉の保磁力の１．０倍（＝磁界強度／磁性粉保磁力）以上である場合、磁性塗布膜における磁性粉を十分に垂直配向させることができる。
【０２１４】
また、実施例２〜５では、測定サンプルにおける垂直方向角形比の値が０．８３で飽和しており、磁性塗布膜における磁性粉が十分に垂直配向されている。従って、搬送路４０内の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．４倍以上、２．０倍以上、２．７倍以上、３．２倍以上である場合、磁性塗布膜における磁性粉をさらに十分に垂直配向させることができる。
【０２１５】
（ヨーク部５０の厚さ等）
次に、ヨーク部５０の厚さについて説明する。図１４は、ヨーク部５０の厚さを説明するため図である。
【０２１６】
図１４に示すように、第１のヨーク部５１（第１のヨークユニット部７２）の垂直方向（Ｚ軸方向）での厚さをＴ１とし、第２のヨーク部５２（第３のヨークユニット部７４）の垂直方向での厚さをＴ２とする。また、第３のヨーク部５３（第３のヨークユニット部７４）の幅方向（Ｘ軸方向）での厚さ（最も薄い箇所）をＴ３とする。なお、本実施形態では、第１のヨーク部５１の厚さＴ１と、第２のヨーク部５２の厚さＴ２は、同じであるが、これらの厚さが異なるように構成されていてもよい。
【０２１７】
ここで、上述のように、永久磁石３１により生じた磁束は、ヨーク部５０の内部を通る。従って、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、Ｔ３が適切に設定されていないと、磁界がヨーク内部で飽和してしまい、磁界がヨーク部５０の外部に漏れてしまうおそれがある。
【０２１８】
その結果、搬送路４０（第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂの間）における磁界強度が減少してしまうおそれがある。また、配向装置２６の外部に磁界が漏れることによって、周囲の装置に悪影響（例えば、ベアリングの潤滑性能に対する悪影響）を与えてしまうおそれもある。また、配向装置２６の外部に磁界が漏れることによって、安全性にも影響がある（例えば、作業用の工具が配向装置２６に引き付けられてしまう等）。
【０２１９】
従って、磁界がヨーク内部で飽和してしまわない程度に、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、Ｔ３を厚くする必要がある。
【０２２０】
ここで、第１のヨーク部５１の厚さＴ１、第２のヨーク部５２の厚さＴ２、及び３のヨーク部５０の厚さＴ３のうち、最も薄い厚さをＴとする。また、永久磁石３１の残留磁束密度をBmagとし、ヨーク部５０における飽和磁束密度をByokeとする。また、永久磁石３１の幅（幅方向：Ｘ軸方向）をＷｍとし、ユニット７０の奥行き（搬送方向：Ｙ軸方向）をＤｕ（図８参照）とする。
【０２２１】
なお、本実施形態では、厚さＴ１、Ｔ２、Ｔ３のうち、第３のヨーク部５３の厚さＴ３が最も薄い厚さとされているが、第１のヨーク部５１の厚さＴ１、又は、第２のヨーク部５２の厚さＴ２が最も薄く構成されてもよい。
【０２２２】
永久磁石３１から生じる磁束Φmagは、以下の式（１）により表される。
Φmag＝Bmag×Ｄｕ×Ｗｍ・・・（１）
一方、ヨーク部５０における最大通過磁束Φyokeは、以下の式（２）により表される。
Φyoke＝Byoke×Ｄｕ×Ｔ・・・（２）
ヨーク部５０は、左右対称であり、磁気回路は左右対称に形成される（図１１参照）。従って、永久磁石３１から生じる磁束Φmagが外部へ漏れない条件は、以下の式（３）により表される。
Φmag＜２Φyoke・・・（３）
式（３）に、式（１）、式（２）を代入すると、
Bmag×Ｄｕ×Ｗｍ＜２×Byoke×Ｄｕ×Ｔ
Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔ・・（４）
となる。
【０２２３】
従って、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係を満たすように、厚さＴが設定される。このような関係が満たされることで、搬送路４０における磁界強度が減少してしまうことを防止することができ、また、配向装置２６の外部に磁界が漏れてしまうことを防止することができる。
【０２２４】
図１５は、ヨーク部５０の厚さＴを変化させた場合における各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【０２２５】
実施例６では、永久磁石３１として、ＮｄＦｅＢ磁石（ネオジウム磁石）が用いられ、永久磁石３１の幅Ｗｍが１５０ｍｍとされた。また、ヨーク部５０の材料として、飽和磁束密度Byokeが１．７のＳＳ４００が用いられた。また、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが５５ｍｍとされた。また、搬送路４０（第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂとの間）における最小の磁界強度（垂直方向）が０．８Ｔであり、磁性粉の保磁力が３０００Ｏｅとされた。
【０２２６】
この実施例６では、搬送路４０（第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂとの間）における磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされている。さらに、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされているため、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が小さく、９Ｏｅであった。
【０２２７】
比較例２では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが実施例６よりも薄くされ、４０ｍｍとされた。その他の条件については、実施例６と同様である。比較例２では、厚さＴが実施例６よりも薄くされた関係で、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２２８】
このため、比較例２では、搬送路４０における最小の磁界強度が実施例６の値（０．８Ｔ）よりも減って、０．７２Ｔとなってしまっている。比較例２では、第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂとの間の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が大きく、１０５０Ｏｅであった。
【０２２９】
比較例３では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが比較例２よりもさらに薄くされ、２０ｍｍとされた。その他の条件については、実施例６と同様である。比較例３においても、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２３０】
このため、比較例３では、搬送路４０における最小の磁界強度が比較例２の値（０．７２Ｔ）もさらに減って、０．７Ｔとなってしまっている。比較例２では搬送路４０における磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度がさらに大きく、２０８０Ｏｅであった。
【０２３１】
実施例７では、ヨーク部５０の材料として、飽和磁束密度Byokeが１．０のパーマロイが用いられた。また、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが９０ｍｍとされた。また、搬送路４０における最小の磁界強度（垂直方向）が０．８Ｔであった。その他の条件については、実施例６と同様である。
【０２３２】
この実施例７では、搬送路４０における磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされている。さらに、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされているため、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が小さく、１０Ｏｅであった。
【０２３３】
なお、実施例７のように、ヨーク部５０の材料としてパーマロイが用いられる場合、実施例６のようにヨーク部５０の材料としてＳＳ４００が用いられる場合に比べて、厚さＴを厚くする必要がある。この理由は、パーマロイの飽和磁束密度Byoke（１．０）が、ＳＳ４００の飽和磁束密度Byoke（１．７）よりも小さいためである。
【０２３４】
比較例４、５では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが実施例７よりも薄くされ、７５、４０ｍｍとされた。その他の条件については、実施例７と同様である。比較例４、５では、厚さＴが実施例７よりも薄くされた関係で、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２３５】
このため、比較例４、５では、搬送路４０における最小の磁界強度が実施例７の値（０．８Ｔ）よりも減って、０．６Ｔ、０．５Ｔとなってしまっている。比較例４、５では、搬送路４０における磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が大きく、１１５０Ｏｅ、２１３０Ｏｅであった。
【０２３６】
実施例８では、永久磁石３１の幅Ｗｍが６５０ｍｍとされ、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが２４０ｍｍとされた。また、搬送路４０における最小の磁界強度（垂直方向）が０．８Ｔであった。その他の条件については、実施例６と同様である。
【０２３７】
この実施例８では、搬送路４０における磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされている。さらに、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされているため、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が小さく、６Ｏｅであった。
【０２３８】
比較例６、７では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが実施例８よりも薄くされ、２００ｍｍ、１５０ｍｍとされた。その他の条件については、実施例８と同様である。比較例６、７では、厚さＴが実施例８よりも薄くされた関係で、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２３９】
このため、比較例６、７では、搬送路４０における最小の磁界強度が実施例８の値（０．８Ｔ）よりも減って、０．７Ｔ、０．６Ｔとなってしまっている。比較例６、７では、搬送路４０の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が大きく、１１８０Ｏｅ、２１５０Ｏｅであった。
【０２４０】
実施例９では、永久磁石３１の幅Ｗｍが６５０ｍｍとされ、ヨーク部５０の材料として、飽和磁束密度Byokeが１．０のパーマロイが用いられた。また、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが４００ｍｍとされた。また、搬送路４０における最小の磁界強度（垂直方向）が０．８Ｔであった。その他の条件については、実施例６と同様である。
【０２４１】
この実施例９では、搬送路４０における最小の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされている。さらに、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされているため、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が小さく、５Ｏｅであった。
【０２４２】
比較例８、９では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが実施例８よりも薄くされ、３５０ｍｍ、２５５ｍｍとされた。その他の条件については、実施例９と同様である。比較例８、９では、厚さＴが実施例９よりも薄くされた関係で、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２４３】
このため、比較例８、９では、搬送路４０における最小の磁界強度が実施例９の値（０．８Ｔ）よりも減って、０．６Ｔ、０．５Ｔとなってしまっている。比較例８、９では、搬送路４０における最小の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が大きく、１１００Ｏｅ、２２３０Ｏｅであった。
【０２４４】
図１６は、ヨーク部５０の厚みを極端に厚く（３００ｍｍ）した場合における、搬送路４０の高さＨｗと、搬送路４０における磁束密度との関係を示す図である。
【０２４５】
図１６に示すように、搬送路４０の高さＨｗ（図４参照）が大きくなると、搬送路における中央位置（垂直方向）での磁束密度が徐々に低下する。
【０２４６】
図１６に示すように、搬送路４０の高さＨｗが２４ｍｍの場合、搬送路における中央位置（垂直方向）での磁束密度は、０．８Ｔとなる。
【０２４７】
図１７は、搬送路４０の高さＨｗが２４ｍｍの場合における各種実施例及び各種比較例を示す図である。なお、上述の図１５では、搬送路４０の高さＨｗが５ｍｍとされている。
【０２４８】
ここで、図１７では、基体１１の搬送に余裕を持たせるなどの理由で、搬送路４０の高さＨｗが２４ｍｍとされている。その結果、ヨーク部５０の厚さＴが十分に厚くされた場合、搬送路における中央位置（垂直方向）での磁束密度が０．８Ｔ（８０００Ｏｅ）であった。
【０２４９】
搬送路４０の高さＨｗが変化されると、式Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２ＴにおけるBmag（永久磁石３１の残留磁束密度）の値が反磁界の影響で変わる。つまり、永久磁石３１の残留磁束密度Bmagが１．２３Ｔであるにもかかわらず、ヨーク部５０の内部の磁束密度が飽和磁束密度Byokeに達していない場合が存在する。これは、搬送路４０の高さＨｗが大きくなると、本来、搬送路４０内において、垂直方向へ進むはずの磁束が、第３のヨーク部５３側に向かってしまい第３のヨーク部５３へ進入してしまうためである。
【０２５０】
実施例１０では、永久磁石３１として、ＮｄＦｅＢ磁石（ネオジウム磁石）が用いられ、永久磁石３１の幅Ｗｍが１５０ｍｍとされた。また、ヨーク部５０の材料として、飽和磁束密度Byokeが１．７のＳＳ４００が用いられた。また、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴ４０ｍｍとされた。また、搬送路４０における最小の磁界強度（垂直方向）が０．８Ｔであり、磁性粉の保磁力が３０００Ｏｅとされた。
【０２５１】
この実施例１０では、搬送路４０における最小の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされている。さらに、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされているため、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が小さく、１０Ｏｅであった。
【０２５２】
比較例１０、１１では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが実施例１０よりも薄くされ、３０ｍｍ、２０ｍｍとされた。その他の条件については、実施例１０と同様である。比較例１０、１１では、厚さＴが実施例１０よりも薄くされた関係で、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２５３】
このため、比較例１０、１１では、搬送路４０における最小の磁界強度が実施例１０の値（０．８Ｔ）よりも減って、０．７２Ｔ、０．６Ｔとなってしまっている。比較例１０、１１では、搬送路４０における最小の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が大きく、１１２０、２１８０Ｏｅであった。
【０２５４】
実施例１１では、永久磁石３１の幅Ｗｍが６５０ｍｍとされ、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが１６０ｍｍとされた。また、搬送路４０における最小の磁界強度（垂直方向）が０．８Ｔであった。その他の条件については、実施例１０と同様である。
【０２５５】
この実施例１１では、搬送路４０における最小の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされている。さらに、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされているため、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が小さく、１０Ｏｅであった。
【０２５６】
比較例１２、１３では、ヨーク部５０の厚さＴ１、Ｔ２、及びＴ３のうち、最も薄い厚さＴが実施例１１よりも薄くされ、１２０ｍｍ、１００ｍｍとされた。その他の条件については、実施例１１と同様である。比較例１２、１３では、厚さＴが実施例１１よりも薄くされた関係で、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係が満たされていない。
【０２５７】
このため、比較例１２、１３では、搬送路４０における最小の磁界強度が実施例１１の値（０．８Ｔ）よりも減って、０．６Ｔ、０．５Ｔとなってしまっている。比較例１２、１３では、搬送路４０における最小の磁界強度が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上とされているものの、ヨーク部５０からの漏洩磁界強度が大きく、１０８０Ｏｅ、２０２０Ｏｅであった。
【０２５８】
ここで、図１７では、基体１１の搬送に余裕を持たせるため、あるいは、メンテナンス、清掃などの目的で搬送路４０の高さＨｗが大きくされている。一方、搬送路４０の高さＨｗが大きくされたような場合でも、実施例１０、実施例１１に示すように、搬送路４０における最小の磁界強度を、磁性粉の保磁力の１．０倍以上としつつ、ヨーク部５０の厚さＴをある程度薄くすることができる。
【０２５９】
（磁束が直接的に第３のヨーク部５３へ向かうことの防止）
ここで、図１４を参照して、永久磁石３１と、第３のヨーク部５３との間の幅方向（Ｘ軸方向）における距離をＸとする。なお、この距離Ｘは、垂直方向（Ｚ軸方向）において、永久磁石３１の搬送通路側の極付近における幅方向での距離である。
【０２６０】
この距離Ｘが小さすぎると、本来、搬送路４０内において垂直方向へ進むはずの磁束が、第３のヨーク部５３側に向かってしまい第３のヨーク部５３へ進入してしまう場合がある。従って、この距離Ｘは、ある一定の距離以下とする必要がある。
【０２６１】
図１８は、距離Ｘを変化させた場合における各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【０２６２】
図１８における全ての実施例及び比較例では、永久磁石３１としてＮｄＦｅＢ磁石（ネオジウム磁石）が用いられ、また、磁性粉の保磁力が３０００Ｏｅとされた。
【０２６３】
比較例１４、実施例１２〜１４においては、永久磁石３１の高さＨｍが２５ｍｍとされ、同じ高さとされている。一方、比較例１４、実施例１２〜１３においては、距離Ｘ、並びに、距離Ｘ／高さＨｍ（永久磁石３１の高さＨｍを基準としたときの距離Ｘの比）の値がそれぞれ異なっている。
【０２６４】
具体的には、比較例１４、実施例１２〜１４において、距離Ｘは、順番に、４ｍｍ、５ｍｍ、１０ｍｍ、２５ｍｍとされた。また、比較例１４、実施例１２〜１４において、距離Ｘ／高さＨｍの値は、順番に、０．１６、０．２、０．４、１．０とされた。
【０２６５】
比較例１４では、距離Ｘ、及び距離Ｘ／高さＨｍの値が小さいため、搬送路４０における最小の磁界強度が０．２８Ｔと小さくなってしまっている（磁束が第３のヨーク部５３へ直接的に進入してしまっている）。一方、実施例１２〜実施例１４では、距離Ｘ、及び距離Ｘ／高さＨｍの値が大きいため、搬送路における最小の磁界強度が、０．３１、０．７５、０．７５と十分な値とされている。
【０２６６】
比較例１５〜１６、実施例１５〜１７においては、永久磁石３１の高さＨｍが、比較例１４、実施例１２〜１４よりも大きくされ、５０ｍｍとされている。比較例１５〜１６、実施例１５〜１７においては、永久磁石３１の高さＨｍが同じ（５０ｍｍ）とされているが、距離Ｘ、並びに、距離Ｘ／高さＨｍの値がそれぞれ異なっている。
【０２６７】
具体的には、比較例１５〜１６、実施例１５〜１７において、距離Ｘは、順番に、４ｍｍ、８ｍｍ、１０ｍｍ、２５ｍｍ、５０ｍｍとされた。また、比較例１５〜１６、実施例１５〜１７において、距離Ｘ／高さＨｍの値は、順番に、０．１、０．１６、０．２、０．５、１．０とされた。
【０２６８】
比較例１５〜１６では、距離Ｘ、及び距離Ｘ／高さＨｍの値が小さいため、搬送路４０における最小の磁界強度が０．２７Ｔ、０．２８Ｔと小さくなってしまっている（磁束が第３のヨーク部５３へ直接的に進入してしまっている）。一方、実施例１５〜実施例１７では、距離Ｘ、及び距離Ｘ／高さＨｍの値が大きいため、搬送路４０における最小の磁界強度が、０．３１、０．７５、０．７５と十分な値とされている。
【０２６９】
なお、ここでの説明から理解されるように、距離Ｘ／高さＨｍの値が、０．２以上であればよい。この場合、本来、搬送路４０内において、垂直方向へ進むはずの磁束が、第３のヨーク部５３側に向かってしまい第３のヨーク部５３へ進入してしまうことを適切に防止することができる。これにより、搬送路内における磁界強度が減ってしまうことを防止することができる。
【０２７０】
（吸気孔６２の位置）
上述のように、本実施形態では、各吸気孔６２は、幅方向に沿って設けられており、また、各吸気孔６２は、搬送方向において、各噴出孔６１の中間位置に設けられている。まず、このような位置に吸気孔６２が設けられているときの熱風（気流）の流れについて説明する。
【０２７１】
図１９は、噴出孔６１から熱風が噴出されているときの様子を示す図である。図１９に示すように、第１のヨーク部５１及び第２のヨーク部５２に設けられた噴出孔６１から噴出された熱風は、基体１１に対して垂直に吹き付けられて乾燥を行い、その後、２つに分岐する。分岐した一方の熱風は、基体１１に沿ってさらに乾燥を行いながら搬送方向（Ｙ軸方向）の上流側に向けて流れる。一方で、分岐した他方の熱風は、基体１１に沿ってさらに乾燥を行いながら搬送方向の下流側に向けて流れる。
【０２７２】
噴出孔６１は、搬送方向において、所定の間隔を開けて配置されている。従って、搬送方向において互いに隣接する噴出孔６１のうち、上流側の噴出孔６１から噴出されて搬送方向の下流側に分岐した熱風と、下流側の噴出孔６１から噴出されて搬送方向の上流側に分岐した熱風とが、上流側の噴出孔６１と下流側の噴出孔６１との中間位置（永久磁石３１の中央位置（搬送方向））で衝突する。
【０２７３】
各吸気孔６２は、搬送方向において各噴出孔６１の中間位置、つまり、熱風が衝突する位置に設けられている。従って、各噴出孔６１の中間位置で衝突した熱風は、吸気孔６２により効率よく吸気されて幅方向に流れた後、配向装置２６の外部に放出される。
【０２７４】
このように、吸気孔６２により効率よく熱風の放出が行われることで、乾燥により揮発した溶剤（磁性塗布膜における溶剤）の搬送路４０内での濃度を下げることができる。これにより、溶剤の揮発性を高めることができ、さらに効率よく乾燥を行うことができる。その結果、溶剤量の多い磁性塗布膜や、膜厚が厚い磁性塗布層の乾燥が容易となり、また、磁性塗布膜の収縮が少ない低温での乾燥も可能となる。
【０２７５】
図２０は、吸気孔６２の位置が搬送方向において各噴出孔６１の中間位置とされた場合と、吸気孔６２の位置が搬送方向において各噴出孔６１に対応する位置とされた場合との比較を示す図である。図２０において、横軸は磁性塗布膜の厚さを示しており、縦軸は磁性塗布層が乾燥された後（磁性層１３）の垂直方向角形比を示している。
【０２７６】
図２０に示すように、搬送方向において噴出孔６１に対応する位置に吸気孔６２が配置された場合（□の記号参照）、磁性塗布膜の厚さが厚くなると磁性層１３の垂直方向角形比が徐々に下がってきてしまっている。これは、吸気孔６２の位置が不適切であり、熱風を効率よく吸気することができないので（あるいは、分岐した熱風が基体１１に沿って移動してさらなる乾燥を行わないので）、磁性塗布膜が厚くなると、乾燥が不十分となるためである。
【０２７７】
一方、搬送方向において噴出孔６１の中間位置に吸気孔６２が配置された場合（◆の記号参照）、磁性塗布膜の厚さが厚くなっても、磁性層１３の垂直方向角形比の値が変わらない。これは、吸気孔６２の位置が適切であり、熱風を効率よく吸気することができるので（あるいは、分岐した熱風が基体１１に沿って移動してさらなる乾燥を行った後に吸気が行われるので）、磁性塗布膜が厚くなっても、乾燥を十分に行うことができるためである。
【０２７８】
図２０の結果からも、吸気孔６２の位置が搬送方向において各噴出孔６１の中間位置とされることで、効率よく乾燥を行うことができることが分かる。
【０２７９】
（互いに対向する一対の永久磁石３１のＸＹ平面に対する対称性）
ここで、上述のように、本実施形態では、互いに対向する第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂは、ＸＹ平面（水平面）に対して、面対称に形成されている。
【０２８０】
一方、６段目の永久磁石３１〜１４段目の永久磁石３１の間には、噴出孔６１が配置されるので、６段目の永久磁石３１〜１４段目の永久磁石３１の間には、搬送方向で所定の間隔が開けられる。従って、搬送路４０において、この間隔に対応する箇所において、永久磁石３１による磁界強度が弱まってしまう可能性がある。
【０２８１】
この点、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂが搬送方向でずらして配置されれば、上記箇所において永久磁石３１による磁界強度が弱まってしまうことを防止することができるとも考えられる。
【０２８２】
図２１は、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂが搬送方向でずらされて配置されたときのときの搬送路４０における垂直方向の磁束密度を示す図である。
【０２８３】
図２１に示すように、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂが搬送方向でずらされて配置された場合（ＸＹ平面に対して非対称に形成された場合）、搬送路４０内において垂直方向成分の磁界だけでなく、搬送方向成分の磁界が発生しまっている。
【０２８４】
ここで、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂが搬送方向でずらされて、その他の条件は、上述の比較例１０（図１７参照）の条件と同一として、磁界の垂直方向成分及び搬送方向成分が計算された。その結果、磁界の搬送方向成分は、磁界の垂直方向成分の１／２であった。
【０２８５】
従って、このような配向装置２６では、磁界が完全に垂直とはならず、垂直配向装置としては不適切であるという結果が得られた。従って、互いに対向する第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂが、ＸＹ平面（水平面）に対して、面対称に形成され、垂直方向成分の磁界のみを発生させる方が垂直配向装置２６としては適切であることが分かる。
【０２８６】
一方、互いに対向する第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂが、ＸＹ平面（水平面）に対して、面対称に形成された場合、搬送路４０において噴出孔６１に対応する箇所で磁界が弱まるといった問題は残る。しかしながら、搬送路４０内のこの箇所において、磁界強度（垂直成分）が、磁性粉の保磁力の１．０倍以上であれば、この問題を解消することができる（図１２、図１３参照）。
【０２８７】
（磁石固定板８０の厚み）
ここで、上述のユニット７０が磁石固定板８０を介さずに搬送方向に沿って重ねられて密着される場合を想定する。この場合、永久磁石３１同士が反発し、搬送方向で中央に位置する永久磁石３１と、ヨークユニット部７１との間に反発力が生じる。このため、永久磁石３１とヨークユニット部７１が密着しているにもかかわらず、永久磁石３１がヨークユニット部７１から離脱する。
【０２８８】
次に、ダミーの磁石固定板（不図示）がユニット７０の間に介在される場合を想定する。このダミーの磁石固定板は、第１の固定部材８１、第２の固定部材８２において、永久磁石３１を覆う部分を有していない。その他の点については、上述の磁石固定板８０と同様である。このダミーの磁石固定板では、永久磁石３１は、ヨークユニット部７１には固定されない。
【０２８９】
図２２は、ダミーの磁石固定板の厚さを変化させた場合の各種実施例及び各種比較例を示す図である。
【０２９０】
図２２においては、ダミーの磁石固定板の厚さが変化されることで、搬送方向におけるユニット７０の間隔が変化されている。図２２における全ての実施例及び比較例では、永久磁石３１としてＮｄＦｅＢ磁石（ネオジウム磁石）が用いられ、また、ヨーク部５０の厚さＴ（最も薄い箇所）が１５０ｍｍとされた。
【０２９１】
また、図２２においては、搬送路４０における磁界強度（垂直方向）が、７０００Ｏｅ未満の場合に×が付され、７０００Ｏｅ以上の場合に○が付され、９０００Ｏｅ以上の場合に◎が付された。また、ヨーク部５０吸着力については、ヨークユニット部７１から永久磁石３１が離脱した場合に×が付され、ヨークユニット部７１から永久磁石３１が離脱しない程度に永久磁石３１が付いている場合には、○が付された。また、ヨークユニット部７１に永久磁石３１がしっかり付いている場合には◎が付された。
【０２９２】
実施例１８〜２０では、順番に、ダミーの磁石固定板の厚さが２ｍｍ、３ｍｍ、５ｍｍとされた。これらの実施例１８〜２０では、搬送路４０における磁界強度（垂直方向）が一定の値以上とされ、また、ヨークユニット部７１から永久磁石３１は離脱しなかった。
【０２９３】
一方、比較例２１では、ダミーの磁石固定板の厚さが１ｍｍとされ、搬送方向におけるユニット７０の間隔が狭くなってしまっている。この場合、搬送路４０における磁界強度（垂直方向）は一定の値以上とされているが、永久磁石３１とヨークユニット部７１との間の吸着力が減少してしまい、永久磁石３１がヨークユニット部７１から離脱してしまっている。
【０２９４】
また、比較例２２、２３では、ダミーの磁石固定板の厚さが７ｍｍ、１０ｍｍとされ、搬送方向におけるユニット７０の間隔が広くなってしまっている。この場合、永久磁石３１がヨークユニット部７１から離脱しないが、搬送路４０における磁界強度（垂直方向）が一定の値以上となっていない。
【０２９５】
つまり、磁石固定板８０の厚さを２ｍｍ以上、５ｍｍ以下とすることで、ヨークユニット部７１から永久磁石３１が離脱してしまうことを防止しつつ、搬送路４０における磁界強度（垂直方向）を一定の値以上とすることができる。
【０２９６】
（磁石固定板８０の形状）
図２３は、磁石固定板８０を幅方向から見た拡大図である。図２４は、他の磁石固定板９０を幅方向から見た拡大図である。
【０２９７】
図２３に示す磁石固定板８０は、図７に示した磁石固定板８０と同じである。図２４に示す磁石固定板９０は、Ｌ字状の第１の固定部材（非磁性：部分的に磁性）と、Ｌ字状の第２の固定部材９２（非磁性：部分的に磁性）とを含む。
【０２９８】
また、この磁石固定板９０は、ヨークユニット部７１における前面（あるいは、後面）を覆う第３の固定部材（（軟）磁性）及び第４の固定部材（（軟）磁性）を有している。一方、この磁石固定板９０は、ヨークユニット部７１における後面（あるいは、前面）を覆う第５の固定部材及び第６の固定部材を有していない。
【０２９９】
磁石固定板９０では、ユニット９０の搬送方向における一方の側面（前面又は後面）は、磁石固定板９０により覆われない。従って、ユニット７０間の距離が、磁石固定板８０の厚さ分となる（なお、図２３の場合には、ユニット７０間の距離は、上述のように、磁石固定板８０の厚さ×２となる）。
【０３００】
Ｌ字状の第１の固定部材、第２の固定部材９２は、基本的に非磁性材料により構成されているが、永久磁石３１において搬送路４０側の極を覆う部分９３が（軟）磁性材料により構成されている。このように、永久磁石３１の搬送路４０側の極が磁性材料により覆われることによって、搬送路４０内の磁界が減少してしまうことを防止することができる。
【０３０１】
一方、Ｌ字状の第１の固定部材、第２の固定部材９２において、永久磁石３１の前面（又は後面）を覆う部分９４については、非磁性材料により構成される。これは、搬送方向で隣接する永久磁石３１間での磁界のブリッジが発生してしまうことを防止するためである。
【０３０２】
ここでの例では、Ｌ字状の第１の固定部材、第２の固定部材９２について、部分的に磁性材料により構成される場合について説明したが、Ｌ字状の第１の固定部材、第２の固定部材９２について、全て非磁性材料により構成されていてもよい。図２３に示すＵ字状の第１の固定部材８１、第２の固定部材８２においても、永久磁石３１において搬送路４０側の極を覆う部分が部分的に（軟）磁性材料により構成されていてもよい。
【０３０３】
Ｌ字状の第１の固定部材、第２の固定部材９２（Ｕ字状の第１の固定部材８１及び第２の固定部材８２も同様）は、嵌合部９５を有してもよい。図２５は、Ｌ字状の第２の固定部材８２に嵌合部９５が設けられたときの様子を示す図である。
【０３０４】
嵌合部９５は、搬送方向で互いに隣り合う第２の固定部材９２（あるいは、第１の固定部材）を連結する。図２５に示すように、嵌合部９５は、上流側の第２の固定部材９２（あるいは、第１の固定部材）に設けられた凸部９６と、下流側の第２の固定部材９２（あるいは、第１の固定部材）に設けられた凹部９７とを含む。
【０３０５】
凸部９６は、搬送方向の下流側に向けて突出するように設けられ、凹部９７は、搬送方向の下流側に向けて凹むように設けられる。凸部９６及び凹部９７は、垂直方向で搬送路４０に近い高さ位置において互いに対応する位置に設けられる。
【０３０６】
＜作用等＞
以上説明したように、本実施形態では、配向装置２６において、ヨーク部５０が設けられる。このヨーク部５０は、軟磁性材料により構成され、複数の第１の永久磁石３１ａにおいて搬送路４０側とは反対側の極と、複数の第２の永久磁石３１ｂにおいて搬送路４０側とは反対側の極と接続する。そして、このヨーク部５０は、複数の第１の永久磁石３１ａ部３０及び複数の第２の永久磁石３１ｂと共に、磁気回路を形成する。
【０３０７】
図２６は、配向装置２６にヨーク部５０が設けられない比較例と、配向装置２６にヨーク部５０が設けられる本実施形態とを比較した図である。なお、比較例においては、磁石固定板８０なども設けられていない。
【０３０８】
図２６に示すように、ヨーク部５０が設けられない比較例（破線参照）の場合、反磁界の影響で、搬送路４０内における磁界が搬送方向の中央付近において減少してしまっている。従って、比較例では、永久磁石３１の高さＨｍを大きくしないと、搬送路４０内において大きな磁界が得られない。さらに、比較例では、搬送路４０における入口付近と、出口付近において、磁界の極性が反転してしまっている。比較例において、この磁界の極性の反転は、搬送方向での永久磁石３１の間隔を大きくすることで防止することができる。
【０３０９】
図２７は、配向装置２６にヨーク部５０が設けられない比較例において、搬送方向での永久磁石３１の間隔が大きくされた場合の例を示す図である。
【０３１０】
図２７に示すように、比較例において、搬送方向での永久磁石３１の間隔が大きくされた場合、搬送路４０における入口付近及び出口付近における磁界の極性の反転は防止されている。しかしながら、比較例では、依然として、搬送路４０内における磁界が搬送方向の中央付近において減少してしまっている。
【０３１１】
図２６に戻り、ヨーク部５０が設けられる本実施形態（実線参照）では、搬送路４０内における磁界が搬送方向の中央付近において減少してしまうようなことはなく、搬送方向（幅方向も同様）において十分に高い均一な磁界を発生させることができる。また、このような高い均一な磁界は、永久磁石３１の高さＨｍが小さくても実現可能である。
【０３１２】
さらに、ヨーク部５０が設けられる本実施形態では、搬送路４０における入口付近及び出口付近において、磁界の極性が反転してしまうことも防止することができる。
【０３１３】
また、本実施形態のような永久磁石方式の配向装置２６の場合、電磁石方式の配向装置に比べてコストを低くすることができる（垂直配向の場合、非常に高価な大型の電磁石が必要となる）。また、本実施形態では、比較的に小型の永久磁石要素３２を複数個並べることによって、１つの永久磁石３１を形成しているので、さらにコストを低くすることができる。
【０３１４】
また、本実施形態では、搬送路４０内における磁界の垂直成分が、磁性塗布膜（磁性粉）の保磁力の１．０倍以上とされる。これにより、磁性塗布膜における磁性粉を十分に垂直配向させることができる。
【０３１５】
また、本実施形態では、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係を満たすように、ヨーク部５０の厚さＴ（最も薄い箇所）が設定される。これにより、搬送路４０内において磁界強度が減少してしまうことを防止することができ、また、配向装置２６の外部に磁界が漏れてしまうことを防止することができる。
【０３１６】
また、本実施形態においては、複数の噴出孔６１及び複数の吸気孔６２を有する乾燥部６０により、磁性塗布膜を効率的に乾燥させることができる。特に、本実施形態では、吸気孔６２の位置が搬送方向において各噴出孔６１の中間に配置されているので、さらに効率よく乾燥を行うことができる。
【０３１７】
また、本実施形態においては、搬送路４０において、搬送方向で複数の噴出孔６１が設けられない配向エリア（第１のエリア）と、複数の噴出孔６１が設けられる配向乾燥エリア（第２のエリア）とが設定されている。そして、配向エリアは、搬送方向における上流側の一部のエリアとされ、配向乾燥エリアは、上流側の一部のエリアを除いた下流側のエリアとされている。
【０３１８】
これにより、配向エリアにおいて、磁性粉を十分に垂直配向させた後、配向乾燥エリアにおいて、磁性粉の垂直配向状態を維持しつつ、磁性塗布膜を乾燥させて固化させることができる。
【０３１９】
また、本実施形態では、第１の永久磁石３１ａと、第２の永久磁石３１ｂと、ヨークユニット部７１とを含む、搬送方向に薄い複数のユニット７０が搬送方向に並べられて配向装置２６が構成されている。これにより、配向装置２６の組み立てが容易となる。
【０３２０】
また、本実施形態では、各ユニット７０について、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂをヨークユニット部７１に固定するための磁石固定板８０が設けられる。これにより、永久磁石３１がヨークユニット部７１から離脱してしまうことを防止することができる。
【０３２１】
また、この磁石固定板８０は、搬送方向で互いに隣接するユニット７０の間に介在されている。そして、磁石固定板８０の厚さは、２ｍｍ以上、５ｍｍ以下とされている。このように、磁石固定板８０の厚さを２ｍｍ以上、５ｍｍ以下とし、搬送方向で互いに隣接するユニット７０の間隔を調整することで、ヨークユニット部７１から永久磁石３１が離脱してしまうことを防止しつつ、搬送路４０における磁界強度（垂直方向）を一定の値以上とすることができる。
【０３２２】
また、本実施形態では、磁石固定板８０のうち、第１の永久磁石３１ａ及び第２の永久磁石３１ｂの前面及び後面（搬送方向に垂直な面）に対応する部分が非磁性部とされている。これにより、搬送方向で互いに隣接する永久磁石３１同士がブリッジしてしまうことを防止することができる。
【０３２３】
また、本実施形態では、磁石固定板８０のうち、第３のヨークユニット部７４に対応する部分は、磁性部とされている。これにより、第３のヨークユニット部７４（第３のヨーク部５３）において、磁束が飽和してしまうことを防止することができる。
【０３２４】
また、本実施形態では、距離Ｘ／高さＨｍの値が、０．２以上とされる。これにより、本来、搬送路４０内において、垂直方向へ進むはずの磁束が、第３のヨーク部５３側に向かってしまい第３のヨーク部５３へ進入してしまうことを適切に防止することができる。これにより、搬送路４０内の磁界強度が減ってしまうことを防止することができる。
【０３２５】
＜各種変形例＞
本技術は、以下の構成をとることもできる。
（１）磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を搬送方向に沿って通過させる搬送路と、
複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを有し、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる永久磁石部と、
軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部と
を具備する配向装置。
（２）  上記（１）に記載の配向装置であって、
前記搬送路内における磁界の垂直成分が、前記磁性塗布膜の保磁力の１．０倍以上である
配向装置。
（３）  上記（１）又は（２）に記載の配向装置であって、
前記ヨーク部は、前記複数の第１の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第１のヨーク部と、前記複数の第２の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第２のヨーク部と、前記第１のヨーク部及び第２のヨーク部を連結する第３のヨーク部とを有する
配向装置。
（４）  上記（３）に記載の配向装置であって、
前記搬送方向及び前記垂直方向に直交する方向を幅方向とし、前記第１のヨーク部における前記垂直方向での厚さと、前記第２のヨーク部における前記垂直方向での厚さと、前記第３のヨーク部における前記幅方向での厚さとのうち最も薄い厚さをＴとし、第１の永久磁石及び第２の永久磁石の残留磁束密度をBmagとし、前記第１の永久磁石及び第２の永久磁石の幅をＷｍとし、前記ヨーク部における飽和磁束密度をByokeとしたとき、Bmag×Ｗｍ＜Byoke×２Ｔの関係を満たす
配向装置。
（５）  上記（１）〜（４）のうちいずれか１つに記載の配向装置であって、
前記永久磁石部からの前記磁界により前記磁性層塗布膜の前記磁性粉が垂直配向されている状態で、前記磁性層塗布膜を乾燥させる乾燥部をさらに具備する
配向装置。
（６）  上記（５）に記載の配向装置であって、
前記乾燥部は、前記磁性塗布膜を乾燥させるための気流を前記搬送路内に噴出する複数の噴出孔を有する
配向装置。
（７）  上記（６）に記載の配向装置であって、
前記配向装置は、前記搬送路において、前記搬送方向で前記複数の噴出孔が設けられない第１のエリアと、前記複数の噴出孔が設けられる第２のエリアとを有する
配向装置。
（８）  上記（７）に記載の配向装置であって、
前記第１のエリアは、前記搬送方向における上流側の一部のエリアであり、前記第２のエリアは、前記上流側の一部のエリアを除いた下流側のエリアである
配向装置。
（９）  上記（８）に記載の配向装置であって、
前記複数の第１の永久磁石及び複数の第２の永久磁石のうち、前記第２のエリアに位置する各永久磁石は、それぞれ、前記搬送方向で所定の隙間を開けて配置され、
前記複数の噴出孔は、前記隙間に対応する位置に設けられる
（１０）  上記（６）〜（９）のうちいずれか１つに記載の配向装置であって、
前記乾燥部は、前記搬送路内の気流を吸入して前記搬送路外に放出するための複数の吸気孔をさらに有する
配向装置。
（１１）  上記（１０）に記載の配向装置であって、
前記複数の噴出孔は、前記垂直方向に向けて前記気流を噴出するように設けられ、
前記複数の吸気孔は、前記搬送方向及び前記垂直方向に直交する幅方向に前記気流を吸入するように設けられる
配向装置。
（１２）  上記（１１）に記載の配向装置であって、
各吸気孔は、前記搬送方向において、各噴出孔の中間の位置に設けられる
配向装置。
（１３）  上記（１）〜（１２）のうちいずれか１つに記載の配向装置であって、
前記配向装置は、前記搬送方向に薄い複数のユニットが搬送方向に並べられて構成され、
各ユニットは、それぞれ、第１の永久磁石と、第２の永久磁石と、前記ヨーク部の一部を構成するヨークユニット部とを含む
配向装置。
（１４）  上記（１３）に記載の配向装置であって、
前記搬送方向で互いに隣接するユニットの間に、前記第１の永久磁石及び前記第２の永久磁石を前記ヨークユニット部に固定するための磁石固定板が介在される
配向装置。
（１５）  上記（１４）に記載の配向装置であって、
前記磁石固定板の厚さは、２ｍｍ以上、５ｍｍ以下である
配向装置。
（１６）  上記（１４）又は（１５）に記載の配向装置であって、
前記磁石固定板は、磁性部と、非磁性部とを含む
配向装置。
（１７）  上記（１６）に記載の配向装置であって、
前記磁石固定板において、前記第１の永久磁石及び前記第２の永久磁石における前記搬送方向に垂直な面に対応する部分は、前記非磁性部とされる
配向装置。
（１８）  上記（１６）又は（１７）に記載の配向装置であって、
前記ヨークユニットは、前記第１の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第１のヨークユニット部と、前記第２の永久磁石を搬送路側とは反対側から支持する第２のヨークユニット部と、前記第１のヨークユニット部及び第２のヨークユニット部を連結する第３のヨークユニット部とを有し、
前記磁石固定板において、前記第３のヨークユニット部に対応する部分は、前記磁性部とされる
配向装置。
（１９）  搬送方向に沿って形成された搬送路と、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを含む永久磁石部と、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部とを具備する配向装置における前記搬送路内において、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を前記搬送方向に沿って通過させ、
前記永久磁石部により、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる
磁気記録媒体の製造方法。
（２０）搬送方向に沿って形成された搬送路と、複数の第１の永久磁石と、前記搬送方向に垂直な垂直方向で前記搬送路を挟んで前記複数の第１の永久磁石と異極対向される複数の第２の永久磁石とを含む永久磁石部と、軟磁性材料により構成され、前記複数の第１の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と、前記複数の第２の永久磁石において前記搬送路側とは反対側の極と接続するヨーク部とを具備する配向装置における前記搬送路内において、磁性粉を含む磁性塗布膜が形成された基体を前記搬送方向に沿って通過させ、
前記永久磁石部により、前記搬送路を通過する前記基体の前記磁性塗布膜に対して磁界を印加して前記磁性粉を垂直配向させる
ことによって製造された磁気記録媒体。
【符号の説明】
【０３２６】
２６・・配向装置
３０・・永久磁石部
３１・・永久磁石
４０・・搬送路
５０・・ヨーク部
６０・・乾燥部
７０・・ユニット
８０、９０・・磁石固定板
１００・・製造装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【国際調査報告】
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