(57)【要約】  液晶性化合物、及び、不斉炭素原子を含むキラル化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成され、配向状態を固定されていてもよい前記液晶性化合物の分子を含む液晶硬化層を備え、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が液晶硬化層の層平面に対して傾斜しており、測定波長５５０ｎｍにおける液晶硬化層の正面直線偏光位相差ＬＲｅ及び正面円偏光位相差ＣＲｅが所定の関係を満たす、液晶硬化フィルム。
2020116466.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶性化合物、及び、不斉炭素原子を含むキラル化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成され、配向状態を固定されていてもよい前記液晶性化合物の分子を含む液晶硬化層を備え、
前記液晶硬化層に含まれる前記液晶性化合物の少なくとも一部の分子が、前記液晶硬化層の層平面に対して傾斜しており、
測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶硬化層の正面直線偏光位相差ＬＲｅ及び正面円偏光位相差ＣＲｅが、下記式（１）を満たす、液晶硬化フィルム。
【数１】
2020116466.tif 000039
【請求項２】
測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶硬化層の正面円偏光位相差ＣＲｅと前記液晶硬化層の厚みＤ［ｎｍ］との比ＣＲｅ／Ｄが、０．０００２以上０．０１３３以下である、請求項１に記載の液晶硬化フィルム。
【請求項３】
前記液晶性化合物１００重量部に対する前記キラル化合物の量が、０．０５重量部以上０．５重量部以下である、請求項１又は２に記載の液晶硬化フィルム。
【請求項４】
測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶硬化層の正面直線偏光位相差ＬＲｅが、５０ｎｍ以上９０ｎｍ以下の範囲、又は、１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下の範囲にある、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルム。
【請求項５】
前記液晶性化合物が、逆波長分散性の複屈折を発現できる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルム。
【請求項６】
前記液晶性化合物が、ベンゾチアゾール環を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法であって、
前記液晶組成物の層を形成する工程と、
前記液晶組成物の層に含まれる前記液晶性化合物を配向させる工程と、
前記液晶組成物の層を硬化させて前記液晶硬化層を得る工程と、を含む、液晶硬化フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶硬化フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルムの一つとして、液晶硬化フィルムが知られている。液晶硬化フィルムは、一般に、液晶性化合物を含む液晶組成物を配向させ、その配向状態を維持したままで硬化させた硬化物で形成された液晶硬化層を備える。このような液晶硬化フィルムとして、特許文献１〜３に記載のものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５６０４７７４号公報
【特許文献２】特許第５８０４９９１号公報
【特許文献３】特開２０１５−１６１７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶硬化フィルムが備える液晶硬化層には、通常、液晶性化合物が含まれる。この液晶性化合物の分子は、液晶硬化層の層平面に対して傾斜することがある。このように分子が傾斜した液晶性化合物を含む液晶硬化層を備えた適切な液晶硬化フィルムを画像表示装置に設けた場合、視野角特性等の光学特性が改善されうる。【０００５】
ところが、分子が傾斜した液晶性化合物を含む液晶硬化層は、偏光顕微鏡で観察した場合、配向ムラが観察されることがあった。具体的には、液晶組成物の層の空気界面であった面において、液晶性化合物の分子の配向方向が不均一となることにより、その配向方向の層平面に平行な方向成分（面内成分方向）が不均一となって、面内での遅相軸方向にバラツキが生じることがあった。特に、このような配向ムラは、逆分散液晶性化合物を用いた場合に、顕著であった。【０００６】
本発明者が前記の配向ムラについて検討したところ、前記の配向ムラが、液晶性化合物の分子の配向方向のねじれによって生じていることが判明した。具体的には、配向方向の層平面に平行な方向成分に着目すると、液晶硬化層の厚み方向の位置毎に、液晶性化合物の分子の配向方向は異なりうる。そして、液晶硬化層の厚み方向のある位置にある分子の配向方向を基準とすると、その基準となる分子から厚み方向に大きく離れている分子の配向方向ほど、層平面に平行な方向成分の方向が大きく異なる傾向がある。通常は、液晶性化合物の分子は、液晶硬化層内のある第一の平面上では、ある一の配向方向に配向する。層内の、当該第一の平面に重なる次の第二の平面では、分子の配向方向は、第一の平面における配向方向と、少し角度をなしてずれる。当該第二の平面にさらに重なる次の第三の平面では、分子の配向方向は、第二の平面における配向方向から、さらに角度をなしてずれる。このように、重なって配列している平面において、当該平面での分子の配向方向の角度は順次ずれていき、液晶性化合物の分子の配向方向は全体としてらせん状にねじれうる。層平面に対して傾斜した液晶性化合物の分子を含む従来の液晶硬化層では、前記のねじれの向き（即ち、右向き及び左向き）が面内で不均一となることがあるので、分子の配向方向が不均一となり、配向ムラを生じていた。以下、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の配向方向が、厚み方向において生じるねじれを、単に「配向方向のねじれ」ということがある。【０００７】
また、前記のように液晶性化合物の分子の配向方向のねじれがあると、その液晶性化合物の分子を含む液晶硬化層を透過する光は、旋光を生じることがある。しかし、液晶硬化層を透過する光が、その一部だけが旋光を生じ、他の一部は偏光状態が乱されることがあった。例えば、液晶硬化層に直線偏光が入射した場合に、液晶硬化層を透過することによって、直線偏光の一部が偏光解消したり楕円偏光になったりすることがあった。このような偏光状態の乱れは、液晶硬化フィルムを光学フィルムとして用いる場合に性能低下の原因となりうるので、抑制することが望まれる。【０００８】
例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、適宜「有機ＥＬ表示装置」ということがある。）には、その表示面に、外光の反射を抑制するための反射抑制フィルムとして、円偏光板及び楕円偏光板等の偏光板が設けられることがある。この偏光板は、通常、直線偏光子と位相差フィルムとを組み合わせて含む。この位相差フィルムとして液晶硬化フィルムを採用した場合、前記のような偏光状態の乱れが生じると、外光の反射を抑制する能力が低下する可能性があった。【０００９】
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、層平面に対して分子が傾斜した液晶性化合物を含み、配向ムラ及び透過光の偏光状態の乱れを抑制することが可能な液晶硬化層を備える液晶硬化フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討した。その結果、本発明者は、キラル化合物を適切に含む液晶組成物を用いることにより、前記の課題を解決できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。【００１１】
〔１〕  液晶性化合物、及び、不斉炭素原子を含むキラル化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成され、配向状態を固定されていてもよい前記液晶性化合物の分子を含む液晶硬化層を備え、
前記液晶硬化層に含まれる前記液晶性化合物の少なくとも一部の分子が、前記液晶硬化層の層平面に対して傾斜しており、
測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶硬化層の正面直線偏光位相差ＬＲｅ及び正面円偏光位相差ＣＲｅが、下記式（１）を満たす、液晶硬化フィルム。
【数１】
2020116466.tif 000003
〔２〕  測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶硬化層の正面円偏光位相差ＣＲｅと前記液晶硬化層の厚みＤ［ｎｍ］との比ＣＲｅ／Ｄが、０．０００２以上０．０１３３以下である、〔１〕に記載の液晶硬化フィルム。
〔３〕  前記液晶性化合物１００重量部に対する前記キラル化合物の量が、０．０５重量部以上０．５重量部以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の液晶硬化フィルム。
〔４〕  測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶硬化層の正面直線偏光位相差ＬＲｅが、５０ｎｍ以上９０ｎｍ以下の範囲、又は、１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下の範囲にある、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルム。
〔５〕  前記液晶性化合物が、逆波長分散性の複屈折を発現できる、〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルム。
〔６〕  前記液晶性化合物が、ベンゾチアゾール環を有する、〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルム。
〔７〕  〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法であって、
前記液晶組成物の層を形成する工程と、
前記液晶組成物の層に含まれる前記液晶性化合物を配向させる工程と、
前記液晶組成物の層を硬化させて前記液晶硬化層を得る工程と、を含む、液晶硬化フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、層平面に対して分子が傾斜した液晶性化合物を含み、配向ムラ及び透過光の偏光状態の乱れを抑制することが可能な液晶硬化層を備える液晶硬化フィルム及びその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、ある例に係る液晶硬化層のレターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）を、入射角θに対してプロットしたグラフである。
【図２】図２は、ある液晶層の両側に、パラニコルに設定した一対の直線偏光子を配置した光学系を模式的に示す斜視図である。
【図３】図３は、波長λ＝５５０ｎｍを代入した場合の式（３）における透過率Ｉと面内レターデーションΔｎ×ｄとの関係を示すグラフである。
【図４】図４は、本発明の一実施形態に係る液晶硬化フィルムが備える液晶硬化層の例を模式的に示す断面図である。
【図５】図５は、本発明の一実施形態に係る液晶硬化フィルムが備える液晶硬化層の例を模式的に示す断面図である。
【図６】図６は、傾斜方向から液晶硬化層のレターデーションとしての直線偏光位相差Ｒ（θ）を測定する際の測定方向を説明するための斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、例示物及び実施形態を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す例示物及び実施形態に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１５】
以下の説明において、ある層の「面内方向」とは、別に断らない限り、層平面に平行な方向を表す。
【００１６】
以下の説明において、ある層の「厚み方向」とは、別に断らない限り、層平面に垂直な方向を表す。よって、別に断らない限り、ある層の面内方向と厚み方向とは、垂直である。
【００１７】
以下の説明において、ある面の「正面方向」とは、別に断らない限り、その面の法線方向を表し、具体的には前記面の極角０°の方向を指す。
【００１８】
以下の説明において、ある面の「傾斜方向」とは、別に断らない限り、その面に平行でも垂直でもない方向を表し、具体的には前記面の極角が５°以上８５°以下の範囲の方向を指す。
【００１９】
以下の説明において、用語「偏光板」及び用語「波長板」は、別に断らない限り、樹脂フィルム等の可撓性を有するフィルム及びシートを包含する。
【００２０】
以下の説明において、複屈折の逆波長分散性とは、別に断らない限り、波長４５０ｎｍにおける複屈折Δｎ（４５０）及び波長５５０ｎｍにおける複屈折Δｎ（５５０）が、下記式（Ｎ１）を満たすことをいう。このような逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物は、通常、測定波長が長いほど、大きい複屈折を発現できる。
Δｎ（４５０）＜Δｎ（５５０）  （Ｎ１）
【００２１】
以下の説明において、複屈折の順波長分散性とは、別に断らない限り、波長４５０ｎｍにおける複屈折Δｎ（４５０）及び波長５５０ｎｍにおける複屈折Δｎ（５５０）が、下記式（Ｎ２）を満たすことをいう。このような順波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物は、通常、測定波長が長いほど、小さい複屈折を発現できる。
Δｎ（４５０）＞Δｎ（５５０）  （Ｎ２）
【００２２】
以下の説明において、ある層の正面直線偏光位相差ＬＲｅとは、別に断らない限り、「ＬＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ」で表される値である。また、ある層の正面円偏光位相差ＣＲｅとは、別に断らない限り、「ＣＲｅ＝（φ／３６０°）×λ」で表される値である。ここで、ｎｘは、層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｄは、層の厚みを表す。φは、層を厚み方向に透過する直線偏光の旋光角［°］を表す。λは、測定波長を表す。測定波長は、別に断らない限り、５５０ｎｍである。これらの正面直線偏光位相差ＬＲｅ及び正面円偏光位相差ＣＲｅは、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」）を用いて測定できる。
【００２３】
以下の説明において、固有複屈折値が正の樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも大きくなる樹脂を意味する。また、固有複屈折値が負の樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも小さくなる樹脂を意味する。固有複屈折値は、誘電率分布から計算しうる。
【００２４】
以下の説明において、ある層の遅相軸とは、別に断らない限り、面内方向の遅相軸をいう。
【００２５】
以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±４°、好ましくは±３°、より好ましくは±１°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００２６】
以下の説明において、別に断らない限り、ある層に含まれる液晶性化合物の分子の「傾斜角」とは、その液晶性化合物の分子が当該層の層平面に対してなす角度を表し、「チルト角」とも呼ばれることがある。この傾斜角は、液晶性化合物の分子の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向が層平面となす角度のうち、最大の角度に相当する。また、以下の説明においては、別に断らない限り、「傾斜角」とは、液晶性化合物の分子の、当該液晶性化合物が含まれる層の層平面に対する傾斜角を表す。
【００２７】
以下の説明において、ある層に含まれる液晶性化合物の分子の「実質最大傾斜角」とは、その層の一方の面での分子の傾斜角が０°であり、且つ分子の傾斜角が厚み方向において一定比率で変化していると仮定した場合の、液晶性化合物の分子の傾斜角の最大値をいう。具体的には、液晶性化合物を含む層の厚み方向において、液晶性化合物の分子の傾斜角が、層の一側に近いほど小さく前記一側から遠いほど大きい場合を考える。実質最大傾斜角は、このような厚み方向における傾斜角の変化の比率（即ち、一側に近いほど減少し、一側から遠いほど増加するという変化の比率）が一定であると仮定して計算される、傾斜角の最大値を表す。具体例を挙げると、支持面上に形成された液晶組成物の層を硬化させて得られる液晶硬化層においては、実質最大傾斜角は、通常、液晶硬化層の支持面側の面での分子の傾斜角が０°であり、且つ、分子の傾斜角が厚み方向において一定比率で変化していると仮定した場合の、液晶性化合物の分子の傾斜角の最大値を表す。また、後述するように第一硬化層及び第二硬化層を含む複層構造の液晶硬化層においては、実質最大傾斜角は、通常、第一硬化層側の面での分子の傾斜角が０°であり、且つ、分子の傾斜角が厚み方向において一定比率で変化していると仮定した場合の、液晶性化合物の分子の傾斜角の最大値を表す。
【００２８】
以下の説明において、置換基を有する基の炭素原子数には、別に断らない限り、前記置換基の炭素原子数を含めない。よって、例えば「置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基」との記載は、置換基の炭素原子数を含まないアルキル基自体の炭素原子数が１〜２０であることを表す。
【００２９】
［１．液晶硬化フィルムの概要］
本発明の一実施形態に係る液晶硬化フィルムは、液晶性化合物及びキラル化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化層を備える。キラル化合物とは、不斉炭素原子を含む化合物を表す。
【００３０】
液晶組成物の硬化物で形成されているので、液晶硬化層は、液晶性化合物の分子を含む。液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子は、配向状態を固定されていてもよい。用語「配向状態を固定された液晶性化合物」には、液晶性化合物の重合体が包含される。通常、重合によって液晶性化合物の液晶性は失われるが、本願においては、そのように重合した液晶性化合物も、用語「液晶硬化層に含まれる液晶性化合物」に含める。
【００３１】
液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子は、当該液晶硬化層の層平面に対して傾斜している。ある液晶性化合物の分子が層平面に対して「傾斜している」とは、その分子の層平面に対する傾斜角が５°以上８５°以下の範囲にあることを表す。このように傾斜した液晶性化合物の分子は、通常、層平面に対して平行でも垂直でもない状態となっている。
【００３２】
測定波長５５０ｎｍにおける液晶硬化層の正面直線偏光位相差ＬＲｅ及び正面円偏光位相差ＣＲｅは、下記式（１）を満たす。以下、正面直線偏光位相差ＬＲｅを「面内レターデーション」ＬＲｅということがある。また、以下、正面円偏光位相差ＣＲｅを「旋光位相差」ＣＲｅということがある。
【数２】
2020116466.tif 000004
【００３３】
前記の構成を有する液晶硬化層によれば、当該液晶硬化層の配向ムラを抑制でき、且つ、当該液晶硬化層を透過する光の偏光状態の乱れを抑制することができる。
【００３４】
［２．液晶性化合物］
液晶性化合物は、液晶性を有する化合物であり、通常、当該液晶性化合物を配向させた場合に、液晶相を呈することができる。
【００３５】
液晶性化合物として、逆分散液晶性化合物を用いてもよく、順分散液晶性化合物を用いてもよく、逆分散液晶性化合物と順分散液晶性化合物との組み合わせを用いてもよい。逆分散液晶性化合物とは、逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物である。また、逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物とは、当該液晶性化合物の層を形成し、その層において液晶性化合物を配向させた際に、逆波長分散性の複屈折を発現する液晶性化合物をいう。他方、順分散液晶性化合物とは、順波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物である。また、順波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物とは、当該液晶性化合物の層を形成し、その層において液晶性化合物を配向させた際に、順波長分散性の複屈折を発現する液晶性化合物をいう。
【００３６】
通常は、液晶性化合物をホモジニアス配向させた場合に、液晶性化合物の層が示す複屈折の波長分散性を調べることで、その液晶性化合物が示す複屈折の波長分散性を確認できる。液晶性化合物をホモジニアス配向させる、とは、当該液晶性化合物を含む層を形成し、その層における液晶性化合物の分子の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向を、前記層の面に平行なある一の方向に配向させることをいう。また、前記の層の複屈折は、「（層の面内レターデーション）÷（層の厚み）」から求められる。
【００３７】
液晶性化合物としては、逆分散液晶性化合物を用いることが好ましい。逆分散液晶性化合物を用いると、通常、逆波長分散性の面内レターデーションＬＲｅを有する液晶硬化層を得ることができるので、広い波長範囲において所望の光学的機能を発揮できる液晶硬化フィルムを得ることができる。また、配向ムラは、逆分散液晶性化合物を用いた従来の液晶硬化層において顕著に生じていたので、配向ムラの抑制という効果を有効に活用する観点からも、本実施形態では逆分散液晶性化合物を用いることが好ましい。
【００３８】
逆分散液晶性化合物の複屈折は、当該逆分散液晶性化合物の分子の屈折率楕円体において、最大の屈折率を示す方向の屈折率と、この方向に垂直な別の方向の屈折率との差として発現しうる。また、逆分散液晶性化合物の分子構造に応じて、前記の各方向の屈折率の波長分散性は、異なりうる。例えば、ある逆分散液晶性化合物は、屈折率が相対的に大きいある方向では、長波長で測定した屈折率は、短波長で測定した屈折率よりも小さくなるが、それらの差は小さい。他方、屈折率が相対的に小さい別の方向では、長波長で測定した屈折率は、短波長で測定した屈折率よりも小さくなり、且つ、それらの差は大きい。このような例の液晶性化合物では、前記方向間での屈折率差は、測定波長が短いと小さく、測定波長が長いと大きくなる。その結果、この逆分散液晶性化合物は、逆波長分散性の複屈折を発現できる。
【００３９】
液晶性化合物は、重合性を有することが好ましい。よって、液晶性化合物は、その分子が、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基等の重合性基を含むことが好ましい。液晶性化合物の分子１つ当たりの重合性基の数は、１個でもよいが、２個以上が好ましい。重合性を有する液晶性化合物は、液晶相を呈した状態で重合し、液晶相における分子の配向状態を維持したまま重合体となることができる。よって、液晶硬化層において液晶性化合物の配向状態を固定したり、液晶性化合物の重合度を高めて液晶硬化層の機械的強度を高めたりすることが可能である。
【００４０】
液晶性化合物の分子量は、好ましくは３００以上、より好ましくは５００以上、特に好ましくは８００以上であり、好ましくは２０００以下、より好ましくは１７００以下、特に好ましくは１５００以下である。このような範囲の分子量を有する液晶性化合物を用いる場合に、液晶組成物の塗工性を特に良好にできる。
【００４１】
測定波長５９０ｎｍにおける液晶性化合物の複屈折Δｎは、好ましくは０．０１以上、より好ましくは０．０３以上であり、好ましくは０．１５以下、より好ましくは０．１０以下である。このような範囲の複屈折Δｎを有する液晶性化合物を用いる場合に、配向欠陥の少ない液晶硬化層を得やすい。
【００４２】
液晶性化合物の複屈折は、例えば、下記の方法により測定できる。
液晶性化合物の層を作製し、その層に含まれる液晶性化合物をホモジニアス配向させる。その後、その層の面内レターデーションを測定する。そして、「（層の面内レターデーション）÷（層の厚み）」から、液晶性化合物の複屈折を求めることができる。この際、面内レターデーション及び厚みの測定を容易にするために、ホモジニアス配向させた液晶性化合物の層は、硬化させてもよい。
【００４３】
液晶性化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
液晶性化合物の例としては、下記式（Ｉ）で表される液晶性化合物が挙げられる。式（Ｉ）で表される液晶性化合物は、通常、逆波長分散性の複屈折を発現できる。
【００４５】
【化１】
2020116466.tif 000005
【００４６】
式（Ｉ）において、Ａｒは、芳香族複素環、複素環、および芳香族炭化水素環の少なくとも１つを有し、置換されていてもよい、炭素原子数６〜６７の２価の有機基を表す。芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾピラノン環等が挙げられる。複素環としては、例えば、１，３−ジチオラン環、ピロリジン、ピペラジン等が挙げられる。芳香族炭化水素環としては、例えば、フェニル環、ナフタレン環等が挙げられる。
【００４７】
Ａｒの好ましい例としては、例えば、下記式（II−１）〜式（II−４）のいずれかで表される基が挙げられる。式（II−１）〜式（II−４）において、＊は、Ｚ１又はＺ２との結合位置を表す。また、Ａｒは、ベンゾチアゾール環を有することが好ましい。
【００４８】
【化２】
2020116466.tif 000006
【００４９】
前記の式（II−１）〜式（II−４）において、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立して、−ＣＲ１１Ｒ１２−、−Ｓ−、−ＮＲ１１−、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる基を表す。また、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。中でも、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立して、−Ｓ−であることが好ましい。
【００５０】
前記の式（II−１）〜式（II−４）において、Ｄ１〜Ｄ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい非環状基を表す。Ｄ１及びＤ２は、一緒になって環を形成していてもよい。Ｄ１〜Ｄ２が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、それぞれ独立して、通常、１〜１００である。
【００５１】
Ｄ１〜Ｄ２における非環状基の炭素原子数は、１〜１３が好ましい。Ｄ１〜Ｄ２における非環状基としては、例えば、炭素原子数１〜６のアルキル基；シアノ基；カルボキシル基；炭素原子数１〜６のフルオロアルキル基；炭素原子数１〜６のアルコキシ基；−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ３；−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｘ；が挙げられる。中でも、非環状基としては、シアノ基、カルボキシル基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣ２Ｈ５、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣ４Ｈ９、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ（ＣＨ３）２、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−ＯＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−ＯＨ、及び−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−Ｃ４Ｈ９、が好ましい。前記のＰｈは、フェニル基を表す。また、前記のＲｘは、炭素原子数１〜１２の有機基を表す。Ｒｘの具体例としては、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、または、水酸基で置換されていてもよい炭素原子数１〜１２のアルキル基が挙げられる。
【００５２】
Ｄ１〜Ｄ２における非環状基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数１〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂ；−ＳＯ２Ｒａ；等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５３】
Ｒａは、炭素原子数１〜６のアルキル基；並びに、炭素原子数１〜６のアルキル基若しくは炭素原子数１〜６のアルコキシ基を置換基として有していてもよい、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；からなる群より選ばれる基を表す。
【００５４】
Ｒｂは、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基；置換基を有していてもよい炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基；及び、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環基；からなる群より選ばれる基を表す。
【００５５】
Ｒｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基の炭素原子数は、好ましくは１〜１２、より好ましくは４〜１０である。Ｒｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、およびｎ−イコシル基等が挙げられる。
【００５６】
Ｒｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾール−２−イルチオ基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；及び、ベンゾジオキサニル基；等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５７】
Ｒｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基の炭素原子数は、好ましくは２〜１２である。Ｒｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、およびイコセニル基等が挙げられる。
【００５８】
Ｒｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００５９】
Ｒｂにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。中でも、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が好ましい。
【００６０】
Ｒｂにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；および、フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；等が挙げられる。中でも、シクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；および、フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６１】
Ｒｂにおける炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基が好ましい。
【００６２】
Ｒｂにおける炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；−ＯＣＦ３；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；−ＯＣＦ３；が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６３】
Ｄ１及びＤ２が一緒になって環を形成している場合、前記のＤ１及びＤ２によって環を含む有機基が形成される。この有機基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。下記式において、＊は、各有機基が、Ｄ１及びＤ２が結合する炭素を表す。
【００６４】
【化３】
2020116466.tif 000007
【００６５】
Ｒ＊は、炭素原子数１〜３のアルキル基を表す。
Ｒ＊＊は、炭素原子数１〜３のアルキル基、及び、置換基を有していてもよいフェニル基からなる群より選ばれる基を表す。
Ｒ＊＊＊は、炭素原子数１〜３のアルキル基、及び、置換基を有していてもよいフェニル基からなる群より選ばれる基を表す。
Ｒ＊＊＊＊は、水素原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、水酸基、及び、−ＣＯＯＲ１３からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ１３は、炭素原子数１〜３のアルキル基を表す。
フェニル基が有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基及びアミノ基が挙げられる。中でも、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基及びアルコキシ基が好ましい。フェニル基が有する置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６６】
前記の式（II−１）〜式（II−４）において、Ｄ３は、−Ｃ（Ｒｆ）＝Ｎ−Ｎ（Ｒｇ）Ｒｈ、−Ｃ（Ｒｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｒｇ）Ｒｈ、及び、−Ｃ（Ｒｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｒｉからなる群より選ばれる基を表す。Ｄ３が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、通常、３〜１００である。
【００６７】
Ｒｆは、水素原子；並びに、メチル基、エチル基、プロピル基、及びイソプロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；からなる群より選ばれる基を表す。
【００６８】
Ｒｇは、水素原子；並びに、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の有機基；からなる群より選ばれる基を表す。
【００６９】
Ｒｇにおける置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の有機基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；炭素原子数１〜２０のアルキル基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルキニル基；置換基を有していてもよい炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基；置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基；−Ｇｘ−Ｙｘ−Ｆｘ；−ＳＯ２Ｒａ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−ＣＳ−ＮＨ−Ｒｂ；が挙げられる。Ｒａ及びＲｂの意味は、上述した通りである。
【００７０】
Ｒｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基の好ましい炭素原子数の範囲及び例示物は、Ｒｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基と同じである。
【００７１】
Ｒｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基；１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−ＳＯ２Ｒａ；−ＳＲｂ；−ＳＲｂで置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。Ｒａ及びＲｂの意味は、上述した通りである。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７２】
Ｒｇにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基の好ましい炭素原子数の範囲及び例示物は、Ｒｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基と同じである。
【００７３】
Ｒｇにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７４】
Ｒｇにおける炭素原子数２〜２０のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。
【００７５】
Ｒｇにおける炭素原子数２〜２０のアルキニル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７６】
Ｒｇにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、Ｒｂにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基と同じ例が挙げられる。
【００７７】
Ｒｇにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７８】
Ｒｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基がより好ましい。
【００７９】
Ｒｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、Ｄ１〜Ｄ２における非環状基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００８０】
Ｒｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基としては、例えば、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、キノリル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、およびベンゾピラゾリル基等が挙げられる。中でも、芳香族複素環基としては、フラニル基、ピラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、フラザニル基、チアゾリル基、及びチアジアゾリル基等の、単環の芳香族複素環基；並びに、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キノリル基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、フタルイミド基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピラジニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、及びベンゾチアジアゾリル基等の、縮合環の芳香族複素環基；がより好ましい。
【００８１】
Ｒｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基が有しうる置換基としては、例えば、Ｄ１〜Ｄ２における非環状基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００８２】
Ｇｘは、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基；並びに、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；からなる群より選ばれる有機基を表す。Ｒ１４は、水素原子、又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。前記「２価の脂肪族炭化水素基」は、２価の鎖状の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。
【００８３】
Ｙｘは、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１５−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１５−、−ＮＲ１５−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｎ＝Ｎ−、及び、−Ｃ≡Ｃ−、からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ１５は、水素原子、又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。中でも、Ｙｘとしては、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−及び−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましい。
【００８４】
Ｆｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表す。この有機基の炭素原子数は、好ましくは２以上、より好ましくは７以上、更に好ましくは８以上、特に好ましくは１０以上であり、好ましくは３０以下である。前記の有機基の炭素原子数には、置換基の炭素原子を含まない。
【００８５】
Ｆｘにおける芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等の、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環が挙げられる。Ｆｘが、複数の芳香族炭化水素環を有する場合、複数の芳香族炭化水素環は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００８６】
Ｆｘにおける芳香族炭化水素環は、置換基を有していてもよい。Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；等が挙げられる。Ｒｂの意味は、上述した通りである。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００８７】
Ｆｘにおける芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾピラノン環等の、炭素原子数２〜３０の芳香族複素環が挙げられる。Ｆｘが、複数の芳香族複素環を有する場合、複数の芳香族複素環は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００８８】
Ｆｘにおける芳香族複素環は、置換基を有していてもよい。Ｆｘにおける芳香族複素環が有しうる置換基としては、例えば、Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００８９】
Ｆｘの好ましい例としては、「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい、炭素原子数２〜２０の環状基」が挙げられる。以下、この環状基を、適宜「環状基（ａ）」ということがある。
【００９０】
環状基（ａ）が有しうる置換基としては、例えば、Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００９１】
環状基（ａ）の好ましい例としては、少なくとも一つの炭素原子数６〜１８の芳香族炭化水素環を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０の炭化水素環基が挙げられる。この炭化水素環基を、以下、適宜「炭化水素環基（ａ１）」ということがある。
【００９２】
炭化水素環基（ａ１）としては、例えば、フェニル基（炭素原子数６）、ナフチル基（炭素原子数１０）、アントラセニル基（炭素原子数１４）、フェナントレニル基（炭素原子数１４）、ピレニル基（炭素原子数１６）、フルオレニル基（炭素原子数１３）、インダニル基（炭素原子数９）、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基（炭素原子数１０）、１，４−ジヒドロナフチル基（炭素原子数１０）等の、炭素原子数６〜１８の芳香族炭化水素環基が挙げられる。
【００９３】
前記の炭化水素環基（ａ１）の具体例としては、下記式（１−１）〜（１−２１）で表される基が挙げられる。また、これらの基は、置換基を有していてもよい。下記式中、「−」は、環の任意の位置からのびる、Ｙｘとの結合手を表す。
【００９４】
【化４】
2020116466.tif 000008
【００９５】
環状基（ａ）の別の好ましい例としては、炭素原子数６〜１８の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜１８の芳香族複素環からなる群から選ばれる１以上の芳香環を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の複素環基が挙げられる。この複素環基を、以下、適宜「複素環基（ａ２）」ということがある。
【００９６】
複素環基（ａ２）としては、例えば、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジニル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ベンゾピラノニル基等の、炭素原子数２〜１８の芳香族複素環基；キサンテニル基；２，３−ジヒドロインドーリル基；９，１０−ジヒドロアクリジニル基；１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基；ジヒドロピラニル基；テトラヒドロピラニル基；ジヒドロフラニル基；およびテトラヒドロフラニル基；が挙げられる。
【００９７】
前記の複素環基（ａ２）の具体例としては、下記式（２−１）〜（２−５１）で表される基が挙げられる。また、これらの基は、置換基を有していてもよい。下記式中、「−」は、環の任意の位置からのびる、Ｙｘとの結合手を表す。下記式中、Ｘは、−ＣＨ２−、−ＮＲｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ２−を表す。ＹおよびＺは、それぞれ独立して、−ＮＲｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ２−を表す。Ｅは、−ＮＲｃ−、酸素原子または硫黄原子を表す。ここで、Ｒｃは、水素原子；または、メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。（但し、各式中において酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−は、それぞれ隣接しないものとする。）。
【００９８】
【化５】
2020116466.tif 000009
【００９９】
Ｆｘの好ましい別の例としては、「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の環状基で、少なくとも一つの水素原子が置換され、且つ、前記環状基以外の置換基を有していてもよい、炭素原子数１〜１８のアルキル基」が挙げられる。この置換されたアルキル基を、以下、適宜「置換アルキル基（ｂ）」ということがある。
【０１００】
置換アルキル基（ｂ）における炭素原子数１〜１８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。
【０１０１】
置換アルキル基（ｂ）において、「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の環状基」としては、例えば、環状基（ａ）として説明した範囲の基が挙げられる。
【０１０２】
置換アルキル基（ｂ）において、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方」は、炭素原子数１〜１８のアルキル基の炭素原子に、直接に結合していてもよく、連結基を介して結合していてもよい。連結基としては、例えば、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ１５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１５などが挙げられる。Ｒ１５の意味は、上述した通りである。よって、置換アルキル基（ｂ）における「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の環状基」には、フルオレニル基、ベンゾチアゾリル基等の、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する基；置換されていてもよい芳香族炭化水素環基；置換されていてもよい芳香族複素環基；連結基を有する置換されていてもよい芳香族炭化水素環よりなる基；連結基を有する置換されていてもよい芳香族複素環よりなる基；が含まれる。
【０１０３】
置換アルキル基（ｂ）における芳香族炭化水素環基の好ましい例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、およびフルオレニル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基が挙げられる。
【０１０４】
置換アルキル基（ｂ）における芳香族炭化水素環基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１０５】
置換アルキル基（ｂ）における芳香族複素環基の好ましい例としては、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ベンゾピラノニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。
【０１０６】
置換アルキル基（ｂ）における芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１０７】
置換アルキル基（ｂ）における「連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基」及び「連結基を有する芳香族複素環よりなる基」としては、例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アントラセニルチオ基、フェナントレニルチオ基、ピレニルチオ基、フルオレニルチオ基、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントラセニルオキシ基、フェナントレニルオキシ基、ピレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ベンゾイソオキサゾリルチオ基、ベンゾイソチアゾリルチオ基、ベンゾオキサジアゾリルチオ基、ベンゾオキサゾリルチオ基、ベンゾチアジアゾリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベンゾチエニルチオ基、ベンゾイソオキサゾリルオキシ基、ベンゾイソチアゾリルオキシ基、ベンゾオキサジアゾリルオキシ基、ベンゾオキサゾリルオキシ基、ベンゾチアジアゾリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオキシ基、ベンゾチエニルオキシ基、等が挙げられる。
【０１０８】
置換アルキル基（ｂ）における「連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基」及び「連結基を有する芳香族複素環よりなる基」は、それぞれ、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１０９】
置換アルキル基（ｂ）が有しうる環状基以外の置換基としては、例えば、Ｆｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１１０】
置換アルキル基（ｂ）の具体例としては、下記式（３−１）〜（３−１１）で表される基が挙げられる。また、これらの基は、置換基を有していてもよい。下記式中、「−」は、環の任意の位置からのびる、Ｙｘとの結合手を表す。また、下記式中、＊は、結合位置を表す。
【０１１１】
【化６】
2020116466.tif 000010
【０１１２】
特に、Ａｒが式（II−２）で表される場合、Ｆｘは、下記式（ｉ−１）〜（ｉ−９）のいずれかで表される基であることが好ましい。また、特に、Ａｒが式（II−３）又は式（II−４）で表される場合、Ｆｘは、下記式（ｉ−１）〜（ｉ−１３）のいずれかで表される基であることが好ましい。下記式（ｉ−１）〜（ｉ−１３）で表される基は、置換基を有していてもよい。また、下記式中、＊は、結合位置を表す。
【０１１３】
【化７】
2020116466.tif 000011
【０１１４】
更には、Ａｒが式（II−２）で表される場合、Ｆｘは、下記式（ii−１）〜（ii−１８）のいずれかで表される基であることが特に好ましい。また、Ａｒが式（II−３）又は式（II−４）で表される場合、Ｆｘは、下記式（ii−１）〜（ii−２４）のいずれかで表される基であることが特に好ましい。下記式（ii−１）〜（ii−２４）で表される基は、置換基を有していてもよい。下記の式において、Ｙの意味は、上述した通りである。また、下記式中、＊は、結合位置を表す。
【０１１５】
【化８】
2020116466.tif 000012
【０１１６】
【化９】
2020116466.tif 000013
【０１１７】
Ａｒが式（II−２）で表される場合、Ｆｘ中の環構造に含まれるπ電子の総数は、８以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましい。また、Ａｒが式（II−３）又は式（II−４）で表される場合、Ｆｘ中の環構造に含まれるπ電子の総数は、４以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましく、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましい。
【０１１８】
上述したものの中でも、Ｒｇとしては、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；炭素原子数１〜２０のアルキル基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；置換基を有していてもよい炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基；置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基；並びに、−Ｇｘ−Ｙｘ−Ｆｘ；が好ましい。その中でも、Ｒｇとしては、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；炭素原子数１〜２０のアルキル基に含まれる−ＣＨ２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基；並びに、−Ｇｘ−Ｙｘ−Ｆｘ；が特に好ましい。
【０１１９】
Ｒｈは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。
【０１２０】
Ｒｈの好ましい例としては、（１）一以上の炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環を有する、炭素原子数６〜４０の炭化水素環基、が挙げられる。この芳香族炭化水素環を有する炭化水素環基を、以下、適宜「（１）炭化水素環基」ということがある。（１）炭化水素環基の具体例としては、下記の基が挙げられる。
【０１２１】
【化１０】
2020116466.tif 000014
【０１２２】
（１）炭化水素環基は、置換基を有していてもよい。（１）炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂ；−ＳＯ２Ｒａ；等が挙げられる。Ｒａ及びＲｂの意味は、上述した通りである。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、および、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１２３】
Ｒｈの別の好ましい例としては、（２）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、炭素原子数２〜４０の複素環基が挙げられる。この芳香環を有する複素環基を、以下、適宜「（２）複素環基」ということがある。（２）複素環基の具体例としては、下記の基が挙げられる。Ｒは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
【０１２４】
【化１１】
2020116466.tif 000015
【０１２５】
【化１２】
2020116466.tif 000016
【０１２６】
【化１３】
2020116466.tif 000017
【０１２７】
【化１４】
2020116466.tif 000018
【０１２８】
【化１５】
2020116466.tif 000019
【０１２９】
【化１６】
2020116466.tif 000020
【０１３０】
【化１７】
2020116466.tif 000021
【０１３１】
【化１８】
2020116466.tif 000022
【０１３２】
（２）複素環基は、置換基を有していてもよい。（２）複素環基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１３３】
Ｒｈの更に別の好ましい例としては、（３）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基からなる群より選ばれる１以上の基で置換された、炭素原子数１〜１２のアルキル基が挙げられる。この置換されたアルキル基を、以下、適宜「（３）置換アルキル基」ということがある。
【０１３４】
（３）置換アルキル基における「炭素原子数１〜１２のアルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。
（３）置換アルキル基における「炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基」としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。
（３）置換アルキル基における「炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基」としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。
【０１３５】
（３）置換アルキル基は、更に置換基を有していてもよい。（３）置換アルキル基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１３６】
Ｒｈの更に別の好ましい例としては、（４）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基からなる群より選ばれる１以上の基で置換された、炭素原子数２〜１２のアルケニル基が挙げられる。この置換されたアルケニル基を、以下、適宜「（４）置換アルケニル基」ということがある。
【０１３７】
（４）置換アルケニル基における「炭素原子数２〜１２のアルケニル基」としては、例えば、ビニル基、アリル基などが挙げられる。
（４）置換アルケニル基における「炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基」としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。
（４）置換アルケニル基における「炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基」としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。
【０１３８】
（４）置換アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。（４）置換アルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１３９】
Ｒｈの更に別の好ましい例としては、（５）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基からなる群より選ばれる１以上の基で置換された、炭素原子数２〜１２のアルキニル基が挙げられる。この置換されたアルキニル基を、以下、適宜「（５）置換アルキニル基」ということがある。
【０１４０】
（５）置換アルキニル基における「炭素原子数２〜１２のアルキニル基」としては、例えば、エチニル基、プロピニル基などが挙げられる。
（５）置換アルキニル基における「炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基」としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。
（５）置換アルキニル基における「炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基」としては、例えば、Ｒｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。
【０１４１】
（５）置換アルキニル基は、更に置換基を有していてもよい。（５）置換アルキニル基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１４２】
Ｒｈの好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。
【０１４３】
【化１９】
2020116466.tif 000023
【０１４４】
Ｒｈの更に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。
【０１４５】
【化２０】
2020116466.tif 000024
【０１４６】
Ｒｈの特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。
【０１４７】
【化２１】
2020116466.tif 000025
【０１４８】
上述したＲｈの具体例は、更に置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂ；−ＳＯ２Ｒａ；等が挙げられる。Ｒａ及びＲｂの意味は、上述した通りである。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、および、炭素原子数１〜６のアルコキシ基が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１４９】
Ｒｉは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。
【０１５０】
Ｒｉの好ましい例としては、一以上の炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環を有する、炭素原子数６〜４０の炭化水素環基が挙げられる。
また、Ｒｉの別の好ましい例としては、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、炭素原子数２〜４０の複素環基が挙げられる。
【０１５１】
Ｒｉの特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。Ｒの意味は、上述した通りである。
【０１５２】
【化２２】
2020116466.tif 000026
【０１５３】
式（II−１）〜式（II−４）のいずれかで表される基は、Ｄ１〜Ｄ３以外に更に置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数１〜６のアルキルスルフィニル基、カルボキシル基、炭素原子数１〜６のチオアルキル基、炭素原子数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１５４】
式（Ｉ）におけるＡｒの好ましい例としては、下記の式（III−１）〜式（III−７）で表される基が挙げられる。また、式（III−１）〜式（III−７）で表される基は、置換基として炭素原子数１〜６のアルキル基を有していてもよい。下記式中、＊は、結合位置を表す。
【０１５５】
【化２３】
2020116466.tif 000027
【０１５６】
式（III−１）の特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。下記式中、＊は、結合位置を表す。
【０１５７】
【化２４】
2020116466.tif 000028
【０１５８】
【化２５】
2020116466.tif 000029
【０１５９】
式（Ｉ）において、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ２１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２１−、−ＣＦ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、及び、−Ｃ≡Ｃ−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ２１は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
【０１６０】
式（Ｉ）において、Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、及び、置換基を有していてもよい芳香族基、からなる群より選ばれる基を表す。Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、それぞれ独立して、通常、３〜１００である。中でも、Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数５〜２０の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の芳香族基が好ましい。
【０１６１】
Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２における環状脂肪族基としては、例えば、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等の、炭素原子数５〜２０のシクロアルカンジイル基；デカヒドロナフタレン−１，５−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基等の、炭素原子数５〜２０のビシクロアルカンジイル基；等が挙げられる。中でも、置換されていてもよい炭素原子数５〜２０のシクロアルカンジイル基が好ましく、シクロヘキサンジイル基がより好ましく、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が特に好ましい。環状脂肪族基は、トランス体であってもよく、シス体であってもよく、シス体とトランス体との混合物であってもよい。中でも、トランス体がより好ましい。
【０１６２】
Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２における環状脂肪族基が有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１６３】
Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２における芳香族基としては、例えば、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；等が挙げられる。中でも、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基が好ましく、フェニレン基がさらに好ましく、１，４−フェニレン基が特に好ましい。
【０１６４】
Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２における芳香族基が有しうる置換基としては、例えば、Ａ１、Ａ２、Ｂ１及びＢ２における環状脂肪族基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１６５】
式（Ｉ）において、Ｙ１〜Ｙ４は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ２２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２２−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２２−、及び、−ＮＲ２２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２３−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ２２及びＲ２３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
【０１６６】
式（Ｉ）において、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基；並びに、炭素原子数３〜２０の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基（−ＣＨ２−）の１以上が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基；からなる群より選ばれる有機基を表す。Ｇ１及びＧ２の前記有機基に含まれる水素原子は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、または、ハロゲン原子に置換されていてもよい。ただし、Ｇ１及びＧ２の両末端のメチレン基（−ＣＨ２−）が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されることはない。
【０１６７】
Ｇ１及びＧ２における炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基の具体例としては、炭素原子数１〜２０のアルキレン基が挙げられる。
【０１６８】
Ｇ１及びＧ２における炭素原子数３〜２０の脂肪族炭化水素基の具体例としては、炭素原子数３〜２０のアルキレン基が挙げられる。
【０１６９】
式（Ｉ）において、Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立して、重合性基を表す。Ｐ１及びＰ２における重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等の、ＣＨ２＝ＣＲ３１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基；ビニル基；ビニルエーテル基；ｐ−スチルベン基；アクリロイル基；メタクリロイル基；カルボキシル基；メチルカルボニル基；水酸基；アミド基；炭素原子数１〜４のアルキルアミノ基；アミノ基；エポキシ基；オキセタニル基；アルデヒド基；イソシアネート基；チオイソシアネート基；等が挙げられる。Ｒ３１は、水素原子、メチル基、又は塩素原子を表す。中でも、ＣＨ２＝ＣＲ３１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基が好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（アクリロイルオキシ基）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（メタクリロイルオキシ基）がより好ましく、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
【０１７０】
式（Ｉ）において、ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０又は１を表す。
【０１７１】
上述した液晶性化合物の中でも、本発明の所望の効果を顕著に発揮する観点から、当該液晶性化合物の分子中に、ベンゾチアゾール環を含有するものが好ましい。ここで、ベンゾチアゾール環とは、下記式（II）に示す構造の環構造を示す。
【０１７２】
【化２６】
2020116466.tif 000030
【０１７３】
式（Ｉ）で表される液晶性化合物は、例えば、国際公開第２０１２／１４７９０４号および国際公開第２０１８／１７３９５４号に記載される、ヒドラジン化合物とカルボニル化合物との反応により製造しうる。
【０１７４】
式（Ｉ）で表される液晶性化合物としては、具体的には、例えば、下記の式で表される化合物が挙げられる。
【０１７５】
【化２７】
2020116466.tif 000031
【０１７６】
［３．キラル化合物］
キラル化合物としては、不斉炭素原子を含む化合物を用いうる。キラル化合物は、液晶組成物に含まれる液晶性化合物の分子に、一方の向きへの配向方向のねじれを積極的に生じさせうる。よって、配向方向のねじれの向きが不均一となることを抑制できるので、液晶硬化層の配向ムラを抑制することができる。
【０１７７】
キラル化合物としては、例えば、特開２００５−２８９８８１号公報、特開２００４−１１５４１４号公報、特開２００３−６６２１４号公報、特開２００３-３１３１８７号公報、特開２００３−３４２２１９号公報、特開２０００−２９０３１５号公報、特開平６−０７２９６２号公報、米国特許第６４６８４４４号明細書、国際公開第９８／００４２８号、特開２００７−１７６８７０号公報、等に掲載されるものが挙げられる。また、キラル化合物としては、市販品を使用することもでき、例えばＢＡＳＦ社パリオカラーのＬＣ７５６として入手できる。
【０１７８】
キラル化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１７９】
キラル化合物のヘリカルツイスティングパワー（ＨＴＰ）は、任意である。ただし、液晶性化合物の分子の配向方向のねじれを積極的に生じさせる観点では、ＨＴＰは大きいことが好ましい。具体的には、キラル化合物のＨＴＰは、２５℃において、好ましくは９．０以上、より好ましくは２０．０以上である。他方、ＨＴＰの上限は、特に限定されず、例えば２００以下でありうる。
ここで、ＨＴＰは、ＨＴＰ＝１／（ＰＬ×０．０１ＣＣ）により求められる。式中、ＣＣは、配向時の液晶組成物中のキラル化合物の含有割合（重量％）を表し、ＰＬは液晶性化合物の分子の配向方向のねじれのピッチ（ｎｍ）を表す。ピッチＰＬは、電子顕微鏡写真の実測より求めることができる。
【０１８０】
キラル化合物の量は、所望の液晶硬化フィルムが得られる範囲で、任意の調整しうる。具体的な範囲を示すと、液晶性化合物１００重量部に対するキラル化合物の量は、好ましくは０．０５重量部以上、より好ましくは０．０７重量部以上、特に好ましくは０．１０重量部以上であり、好ましくは０．５重量部以下、より好ましくは０．４重量部以下、特に好ましくは０．３重量部以下である。キラル化合物の量が、前記の範囲の下限値以上である場合、液晶性化合物の分子の配向方向のねじれを効果的に生じさせられるので、液晶硬化層の配向ムラを効果的に抑制できる。他方、キラル化合物の量が、前記の範囲の上限値以下である場合、ねじれのピッチを十分に長くできるので、液晶硬化層を透過する光の偏光状態の乱れを効果的に抑制できる。
【０１８１】
［４．液晶組成物］
液晶組成物は、上述した液晶性化合物及びキラル化合物を含む。また、液晶組成物は、液晶性化合物及びキラル化合物に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１８２】
任意の成分としては、例えば、重合開始剤が挙げられる。中でも、光重合開始剤が好ましい。重合開始剤の種類は、液晶組成物に含まれる重合性の化合物の種類に応じて選択しうる。例えば、重合性の化合物がラジカル重合性であれば、ラジカル重合開始剤を使用しうる。また、例えば、重合性の化合物がアニオン重合性であれば、アニオン重合開始剤を使用しうる。さらに、例えば、重合性の化合物がカチオン重合性であれば、カチオン重合開始剤を使用しうる。重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１８３】
重合開始剤の量は、液晶性化合物１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．５重量部以上であり、好ましくは３０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下である。重合開始剤の量が前記範囲に収まることにより、重合を効率的に進行させることができる。
【０１８４】
別の任意の成分としては、例えば、界面活性剤が挙げられる。界面活性剤の中でも、液晶組成物の塗工性を良好にする観点、並びに、配向性に優れた液晶硬化層を安定して得る観点から、分子中にフッ素原子を含む界面活性剤が好ましい。以下の説明において、分子中にフッ素原子を含む界面活性剤を、適宜「フッ素系界面活性剤」ということがある。
【０１８５】
フッ素系界面活性剤は、所定の範囲のｌｏｇＰを有することが好ましい。「ｌｏｇＰ」とは、１−オクタノール／水分配係数のことをいう。フッ素系界面活性剤のｌｏｇＰの好ましい範囲は、好ましくは３．５以上７．５以下である。このような範囲のｌｏｇＰを有するフッ素系界面活性剤を用いることにより、液晶硬化層の層平面に対する液晶性化合物の分子の傾斜角を、液晶硬化層の全体として、効果的に大きくできる。
【０１８６】
フッ素系界面活性剤のｌｏｇＰは、下記の測定方法によって測定できる。
フッ素系界面活性剤を１重量％含む試料溶液を調製し、ＪＩＳ  ７２６０−１１７：２００６｛分配係数（１−オクタノール／水）の測定−高速液体クロマトグラフィー｝に概ね準拠した方法で、ＨＰＬＣ／ＥＬＳＤ分析（高速液体クロマトグラフィー／蒸発光散乱検出分析）を行って、溶出時間（ｒ．ｔ．）を測定する。他方、ＪＩＳ  ７２６０−１１７：２００６に記載のある、ｌｏｇＰの値が既知の標準化合物に、前記フッ素系界面活性剤と同様にして、ＨＰＬＣ／ＥＬＳＤ分析を行い、溶出時間（ｒ．ｔ．）を測定する。標準化合物の測定結果に基づいて、溶出時間とｌｏｇＰとの関係を示す検量線を作成する。その後、フッ素系界面活性剤について測定された溶出時間を、前記の検量線に当てはめることにより、フッ素系界面活性剤のｌｏｇＰを求める。
【０１８７】
界面活性剤はノニオン系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤がイオン性基を含まないノニオン系界面活性剤である場合に、液晶硬化層の面状態及び配向性を、特に良好にすることができる。
【０１８８】
界面活性剤としては、例えば、ＡＧＣセイミケミカル社製のサーフロンシリーズ（Ｓ４２０など）、ネオス社製のフタージェントシリーズ（２５１、ＦＴＸ−２１２Ｍ、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２０９など）、ＤＩＣ社製のメガファックシリーズ（Ｆ−４４４など）などのフッ素系界面活性剤が挙げられる。また、界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１８９】
界面活性剤の量は、液晶性化合物１００重量部に対して、好ましくは０．０３重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上であり、好ましくは０．５０重量部以下、より好ましくは０．４０重量部以下、更に好ましくは０．３０重量部以下である。界面活性剤の量が前記の範囲にあることにより、所望の液晶硬化層を安定して得ることができる。
【０１９０】
更に別の任意の成分としては、例えば、溶媒が挙げられる。溶媒としては、液晶性化合物を溶解できるものが好ましい。このような溶媒としては、通常、有機溶媒を用いる。有機溶媒の例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；及びトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；が挙げられる。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１９１】
溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、好ましくは６０℃〜２５０℃、より好ましくは６０℃〜１５０℃である。
【０１９２】
溶媒の量は、液晶性化合物１００重量部に対して、好ましくは２００重量部以上、より好ましくは２５０重量部以上、特に好ましくは３００重量部以上であり、好ましくは６５０重量部以下、より好ましくは５５０重量部以下、特に好ましくは４５０重量部以下である。溶媒の量を、前記範囲の下限値以上にすることにより異物発生の抑制ができ、前記範囲の上限値以下にすることにより乾燥負荷の低減ができる。
【０１９３】
更に別の任意の成分としては、例えば、液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角を大きくする作用を発揮できる傾斜作用成分が挙げられる。傾斜作用成分を用いた場合、液晶性化合物の分子の傾斜を促進して、液晶性化合物の分子の傾斜角が大きい液晶硬化層を容易に得ることができる。ただし、液晶性化合物の分子の傾斜の促進は、液晶硬化層を製造する過程において操作又は条件を調整することによっても可能であるので、傾斜作用成分は必ずしも用いなくても構わない。このような傾斜作用成分としては、例えば、特開２０１８−１６３２１８号公報、特開２０１８−１６２３７９号公報、国際公開第２０１８／１７３７７８号などに記載の成分を用いうる。
【０１９４】
液晶組成物が含みうるその他の任意の成分としては、例えば、金属；金属錯体；酸化チタン等の金属酸化物；染料、顔料等の着色剤；蛍光材料、燐光材料等の発光材料；酸化防止剤；レベリング剤；チキソ剤；ゲル化剤；多糖類；紫外線吸収剤；赤外線吸収剤；抗酸化剤；イオン交換樹脂；等が挙げられる。これらの成分の量は、液晶性化合物の合計１００重量部に対して、各々０．１重量部〜２０重量部でありうる。
【０１９５】
［５．液晶硬化層の特性］
液晶硬化層は、上述した液晶組成物を硬化した硬化物の層である。前記の液晶組成物の硬化は、通常、当該液晶組成物が含む重合性の化合物の重合によって達成される。よって、液晶硬化層は、通常、液晶組成物が含んでいた成分の一部又は全部の重合体を含む。例えば、液晶性化合物が重合性を有する場合、液晶組成物の硬化時にその液晶性化合物が重合しうるので、液晶硬化層は、重合前の配向状態を維持したまま重合した液晶性化合物の重合体を含む層でありうる。前述のように、この重合した液晶性化合物も、用語「液晶硬化層に含まれる液晶性化合物」に含める。
【０１９６】
液晶組成物の硬化物においては、硬化前の流動性が失われるので、通常、液晶性化合物の配向状態は、硬化前の配向状態のまま、固定されている。そして、この液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が、当該液晶硬化層の層平面に対して傾斜している。
【０１９７】
液晶硬化層において、液晶性化合物の分子のうち、一部が液晶硬化層の層平面に対して傾斜していてもよく、全部が液晶硬化層の層平面に対して傾斜していてもよい。よって、液晶硬化層の層平面に対して傾斜した液晶性化合物の分子を含む層を「傾斜配向層」と呼ぶ場合、液晶硬化層がその一部として傾斜配向層を含んでいてもよく、液晶硬化層の全体が傾斜配向層となっていてもよい。また、液晶硬化層において、傾斜配向層以外の層部分に含まれる液晶性化合物の分子は、通常、液晶硬化層の層平面に対して平行（傾斜角が０°）となっているか、又は、液晶硬化層の層平面に対して垂直（傾斜角が９０°）になっている。
【０１９８】
液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が当該液晶硬化層の層平面に対して傾斜していることは、十分な分解能を有する偏光顕微鏡で液晶硬化層の断面を観察することによって、確認できる。この観察は、液晶性化合物の分子の傾斜を視認し易くするために、必要に応じて、観察サンプルと偏光顕微鏡の対物レンズとの間に波長板を挿入して実施してもよい。
【０１９９】
または、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が当該液晶硬化層の層平面に対して傾斜していることは、下記のようにして確認できる。液晶硬化層の面内の進相軸に対して垂直な測定方向で、入射角θにおける液晶硬化層のレターデーションとしての直線偏光位相差Ｒ（θ）を測定する。そして、入射角θでの液晶硬化層の直線偏光位相差Ｒ（θ）を入射角０°での液晶硬化層の直線偏光位相差Ｒ（０°）で割ったレターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）を求める。ここで、入射角０°での液晶硬化層の直線偏光位相差Ｒ（０°）とは、即ち、液晶硬化層の面内レターデーションＬＲｅを表す。こうして求めたレターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）を縦軸、入射角θを横軸としたグラフを描いた場合に、得られたグラフがθ＝０°に対して非対称であれば、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が当該液晶硬化層の層平面に対して傾斜していることが確認できる。
【０２００】
以下、例を挙げてより具体的に説明する。図１は、ある例に係る液晶硬化層のレターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）を、入射角θに対してプロットしたグラフである。液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の全ての分子の傾斜角が０°又は９０°であると、レターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）は、図１で破線で示す例のように、θ＝０°の直線（図１では、θ＝０°を通る縦軸）に対して線対称となる。これに対して、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が液晶硬化層の層平面に対して傾斜していると、レターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）は、図１に実線で示す例のように、通常はθ＝０°の直線に対して非対称となる。よって、レターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）がθ＝０°に対して非対称である場合には、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が当該液晶硬化層の層平面に対して傾斜している、と判定できる。
【０２０１】
層平面に対して傾斜した液晶性化合物の分子は、一の方向に配向していてもよい（傾斜配向）。この場合、当該液晶性化合物の分子が層平面に対してなす傾斜角は、一定でありうる。また、層平面に対して傾斜した液晶性化合物の分子は、層平面に対してなす傾斜角が、液晶硬化層の一側に近いほど小さく、前記一側から遠いほど大きい態様で配向していてもよい（ハイブリッド配向）。
【０２０２】
液晶組成物がキラル化合物を含むので、そのキラル化合物の作用により、液晶硬化層中の液晶性化合物の分子の配向方向は、一方の向き（即ち、右向き及び左向きの一方）にねじれを生じている。このようにキラル化合物によって一方の向きへの積極的なねじれを生じるので、液晶硬化層においては、液晶性化合物の分子の配向方向のねじれの向きの不均一さは、抑制されている。したがって、本発明の一実施形態に係る液晶硬化フィルムが備える液晶硬化層では、分子の配向方向が不均一になることを抑制できる。特に、配向方向の層平面に平行な成分が不均一になることを抑制できる。よって、配向ムラを抑制できる。
【０２０３】
測定波長５５０ｎｍにおける液晶硬化層の面内レターデーションＬＲｅ及び旋光位相差ＣＲｅは、前記の式（１）を満たす。より詳細には、下記の式（２）によって定義されるパラメータＸＲｅが、通常５００ｎｍ以上、好ましくは１０００ｎｍ以上、特に好ましくは１５００ｎｍ以上、通常２００００ｎｍ以下、好ましくは１００００ｎｍ以下、特に好ましくは５０００ｎｍ以下である。パラメータＸＲｅが前記の範囲にあることにより、液晶硬化層を透過する光の偏光状態の乱れを抑制できる。
【０２０４】
【数３】
2020116466.tif 000032
【０２０５】
式（２）で表されるパラメータＸＲｅが式（１）を満たす前記範囲にあることは、厚み方向において液晶性化合物の分子の配向方向のねじれが緩やかであることを表す。ここで、配向方向のねじれが「緩やか」とは、分子の配向方向のねじれのピッチ（らせん構造の周期）が長いことを表す。すなわち、配向方向のねじれが「緩やか」とは、単位厚み当たりの配向方向の差が小さいことを表す。
【０２０６】
一般に、配向方向がらせん状にねじれた液晶性化合物の分子を含む液晶層を光が透過する際、旋光を生じるためには、ねじれのピッチが十分に長いことが求められる（モーガン条件；ＳＥＭＩカラーＴＦＴ液晶ディスプレイ改訂版編集委員会編、「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ改訂版」、共立出版、２００５年１０月３０日、ｐ．３６）。仮にねじれのピッチが短いと、その液晶層を透過する光は、ねじれに追従した旋光ができない光成分が生じ、その光成分の偏光状態が乱され、楕円偏光となったり偏光解消が生じたりすることがある。式（１）は、このような偏光状態の乱れを抑制できる程度に配向方向のねじれが緩やかであることを表している。
【０２０７】
式（１）の意義について、更に詳細に説明する。図２は、ある液晶層１００の両側に、パラニコルに設定した一対の直線偏光子１１０及び１２０を配置した光学系を模式的に示す斜視図である。パラニコルとは、一方の直線偏光子１１０の偏光透過軸Ａ１１０と、他方の直線偏光子１２０の偏光透過軸Ａ１２０とが平行となった状態をいう。一方の直線偏光子１１０に自然光Ｌ１が入射すると、その直線偏光子１１０の偏光透過軸Ａ１１０に平行な振動方向を有する直線偏光Ｌ２が透過する。直線偏光の振動方向とは、直線偏光の電場の振動方向を意味する。直線偏光Ｌ２は、液晶層１００を透過し、その透過光Ｌ３が他方の直線偏光子１２０に入射する。透過光Ｌ３のうち、直線偏光子１２０の偏光透過軸Ａ１２０に平行な振動方向を有する成分だけが透過して透過光Ｌ４となり、それ以外の成分は直線偏光子１２０で遮られる。
【０２０８】
前記の光学系に関して、ＴＮ液晶パネルの式として、下記式（３）のグッチ・テリーの式が知られている（ＳＥＭＩカラーＴＦＴ液晶ディスプレイ改訂版編集委員会編、「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ改訂版」、共立出版、２００５年１０月３０日、ｐ．４２−４３）。この式（３）は、液晶層１００に含まれる液晶性化合物の分子の配向方向が９０°のねじれを生じており、そのため、液晶層１００によって直線偏光Ｌ２が旋光角φ＝９０°だけ旋光させられる場合に、直線偏光子１２０を透過できる光の割合（透過率）Ｉを表している。式（３）において、Δｎは液晶層１００の複屈折を表し、ｄは液晶層１００の厚みを表し、λは光の波長を表す。よって、式（３）において、Δｎ×ｄは、液晶層１００の面内レターデーションを表す。
【０２０９】
【数４】
2020116466.tif 000033
【０２１０】
前記の式（３）に、光の波長λ＝５５０ｎｍを代入して、透過率Ｉを縦軸、面内レターデーションΔｎ×ｄを横軸に取ったグラフで表示すると、図３のようになる。図３から分かるように、透過率Ｉは、面内レターデーションΔｎ×ｄ＝５００ｎｍ付近で最小点（約４７６ｎｍ）をとり、この最小点より面内レターデーションΔｎ×ｄが小さい範囲では透過率Ｉが大きい。この結果は、面内レターデーションΔｎ×ｄが前記の最小点より小さい範囲では、液晶層１００に含まれる分子の配向方向のねじれが十分に「緩やか」でないので、偏光状態の乱れが生じていることを表す。他方、面内レターデーションΔｎ×ｄが前記の最小点以上である範囲では、分子の配向方向のねじれが十分に「緩やか」であり、偏光状態の乱れを抑制できていることを表す。なお、液晶層１００は、旋光だけでなく、面内レターデーションΔｎ×ｄの作用によっても透過光の偏光状態を変化させうるので、面内レターデーションΔｎ×ｄが前記の最小点以上であっても透過率Ｉが０．０とならない範囲が生じている。このように、旋光角φが９０°である場合には、配向方向のねじれが「緩やか」であることを式（３）を利用して表すことができる。
【０２１１】
しかし、上述した実施形態に係る液晶硬化層の旋光角は、必ずしも９０°ではなく、通常は更に小さい値である。よって、本実施形態では、液晶硬化層が旋光角９０°を有するように当該液晶硬化層の厚みを調整したと仮定した場合に、その液晶硬化層が有するであろう面内レターデーションを、式（２）で表されるパラメータＸＲｅとして求めている。こうして求めたパラメータＸＲｅは、式（３）のグッチ・テリーの式における面内レターデーションΔｎ×ｄに相当する。そこで、このパラメータＸＲｅ及び式（３）のグッチ・テリーの式を用いて、配向方向のねじれが「緩やか」となる条件を特定し、この条件を式（１）に規定している。
【０２１２】
前記のパラメータＸＲｅは、例えば、液晶性化合物の種類；キラル化合物の種類及び量；並びに液晶硬化層の厚み；により、調整できる。
【０２１３】
測定波長５５０ｎｍにおける液晶硬化層の旋光位相差ＣＲｅと液晶硬化層の厚みＤとの比ＣＲｅ／Ｄは、好ましくは０．０００２以上、より好ましくは０．０００５以上、特に好ましくは０．００１０以上であり、好ましくは０．０１３３以下、より好ましくは０．０１００以下、特に好ましくは０．００５０以下である。前記の比ＣＲｅ／Ｄが、前記範囲の下限値以上である場合、液晶性化合物の分子の配向方向が効果的にねじれられているので、配向ムラを効果的に抑制できる。また、前記の比ＣＲｅ／Ｄが前記範囲の上限値以下である場合、配向方向のねじれが緩やかであるので、液晶硬化層を透過する光の偏光状態の乱れを効果的に抑制できる。
【０２１４】
測定波長５５０ｎｍにおける液晶硬化層の旋光位相差ＣＲｅは、好ましくは１．０ｎｍ以上、より好ましくは１．２ｎｍ以上、特に好ましくは１．５ｎｍ以上であり、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下、特に好ましくは７ｎｍ以下である。前記の旋光位相差ＣＲｅが前記範囲の下限値以上である場合、配向ムラを効果的に抑制できる。また、前記の旋光位相差ＣＲｅが前記範囲の上限値以下である場合、液晶硬化層を透過する光の偏光状態の乱れを効果的に抑制できる。
【０２１５】
旋光位相差ＣＲｅは、例えば、液晶性化合物の種類；キラル化合物の種類及び量；並びに液晶硬化層の厚み；により、調整できる。
【０２１６】
測定波長５５０ｎｍにおける液晶硬化層の具体的な面内レターデーションＬＲｅは、液晶硬化フィルムの用途に応じて任意に設定しうる。中でも好ましい範囲を挙げると、前記の面内レターデーションＬＲｅは、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは５５ｎｍ以上、特に好ましくは６０ｎｍ以上であり、また、好ましくは９０ｎｍ以下、より好ましくは８５ｎｍ以下、特に好ましくは８０ｎｍ以下の第一の範囲にある。または、前記の面内レターデーションＬＲｅは、好ましくは１２０ｎｍ以上、より好ましくは１２５ｎｍ以上、特に好ましくは１３０ｎｍ以上であり、また、好ましくは１６０ｎｍ以下、より好ましくは１５５ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下の第二の範囲にある。第一の範囲に面内レターデーションＬＲｅがある場合、液晶硬化層をλ／８波長板として使用できる。また、第二の範囲に面内レターデーションＬＲｅがある場合、液晶硬化層をλ／４波長板として使用できる。
【０２１７】
液晶硬化層の面内レターデーションＬＲｅは、逆波長分散性を示すことが好ましい。よって、液晶硬化層の波長４５０ｎｍ及び波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＬＲｅ（４５０）及びＬＲｅ（５５０）は、好ましくは下記式（Ｎ３）を満たし、より好ましくは下記式（Ｎ４）を満たす。
ＬＲｅ（４５０）／ＬＲｅ（５５０）＜１．００  （Ｎ３）
ＬＲｅ（４５０）／ＬＲｅ（５５０）＜０．９０  （Ｎ４）
このように逆波長分散性の面内レターデーションＬＲｅを有する液晶硬化層は、１／４波長板又は１／２波長板等の光学用途において、広い波長帯域において均一に機能を発現できる。逆波長分散性の面内レターデーションＬＲｅを有する液晶硬化層は、液晶性化合物として逆分散液晶性化合物を用いることにより、実現できる。
【０２１８】
液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の層全体としての傾斜角の大きさは、実質最大傾斜角によって表すことができる。液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角は、通常、５°以上８５°以下となる。中でも、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角は、好ましくは４０°以上、より好ましくは４６°以上、特に好ましくは５６°以上であり、好ましくは８５°以下、より好ましくは８３°以下、特に好ましくは８０°以下である。
【０２１９】
実質最大傾斜角は、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の傾斜角の大きさを示す指標である。液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角が大きいことは、通常、当該液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の傾斜角が全体として大きいことを表す。実質最大傾斜角が大きい液晶硬化層は、厚み方向における複屈折の調整を適切に行うことができるので、当該液晶硬化層を直線偏光子と組み合わせて反射抑制フィルムとして有機ＥＬ表示装置に設けた場合に、表示面の傾斜方向において反射を効果的に抑制することができる。したがって、高い視野角特性を達成できる偏光板を実現することが可能である。
【０２２０】
液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角は、後述する実施例に記載の測定方法で測定できる。
【０２２１】
液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子が当該液晶硬化層の全体として大きな傾斜角を有する場合、液晶硬化層の厚み方向の複屈折を適切に調整できる。したがって、液晶硬化層は、反射抑制フィルムとしての偏光板に設けた場合に、表示面の傾斜方向において反射を効果的に抑制できるという優れた視野角特性を得ることができる。
【０２２２】
液晶硬化層の面内方向においては、液晶性化合物の分子の配向方向は、通常、均一である。よって、液晶硬化層は、通常、液晶硬化層を厚み方向から見た液晶性化合物の分子の配向方向に平行な遅相軸を有しうる。
【０２２３】
液晶硬化層は、透明性に優れることが好ましい。具体的には、液晶硬化層の全光線透過率は、好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは８４％以上である。また、液晶硬化層のヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定できる。また、ヘイズは、ヘイズメーターを用いて測定できる。
【０２２４】
［６．液晶硬化層の層構成］
図４及び図５は、それぞれ、本発明の一実施形態に係る液晶硬化フィルムが備える液晶硬化層２００及び３００の例を模式的に示す断面図である。
図４に示す例のように、液晶硬化層２００は、１層のみを含む単層構造を有していてもよい。また、図５に示す例のように、液晶硬化層３００は、第一硬化層３１０、第二硬化層３２０等の複数の層を含む複層構造を有していてもよい。以下の説明では、液晶硬化層に含まれる部分としての第一硬化層及び第二硬化層等の層を、適宜「単位硬化層」と呼ぶことがある。
【０２２５】
複数の単位構造層を含む複層構造の液晶硬化層３００において、隣り合う単位構造層同士の間には、他の層が無いことが好ましい。よって、第一硬化層３１０及び第二硬化層３２０を含む液晶硬化層３００において、第一硬化層３１０と第二硬化層３２０との間には、他の層が無いことが好ましい。このように間に他の層を挟まないで２層が接することを、「直接に」接する、ということがある。
【０２２６】
図５に示すような複層構造は、通常、液晶硬化層３００の製造方法に起因して生じる。例えば、逆分散液晶性化合物を用いた場合、層平面に対して傾斜した逆分散液晶性化合物の分子を含む第一硬化層３１０等の単位硬化層の表面３１０Ｕは、通常、その表面３１０Ｕ上に形成される第二硬化層３２０等の他の単位硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角を大きくする配向膜として機能できる。よって、液晶硬化層３００に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角を層全体として大きくしたい場合、先に形成された単位硬化層上に更に別の単位硬化層を形成することを含む製造方法を採用することが好ましい。第一硬化層３１０及び第二硬化層３２０を備える液晶硬化層３００では、このように第一硬化層３１０を配向膜として機能させた場合、第二硬化層３２０に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角が、第一硬化層３１０に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角よりも、大きくなりうる。
【０２２７】
液晶硬化層に含まれる各単位硬化層は、下記の方法によって区別できる。液晶硬化層を、エポキシ樹脂で包埋して、試料片を得る。この試料片を、ミクロトームを用いて、液晶硬化層の厚み方向に平行にスライスして、観察サンプルを得る。この際、スライスは、液晶硬化層の遅相軸と断面とが平行となるように行う。その後、スライスにより現れた断面を、偏光顕微鏡を用いて観察する。この観察は、観察サンプルと偏光顕微鏡の対物レンズとの間に波長板を挿入して、観察サンプルの位相差に応じた色を呈した像が見られるように行う。このとき、色が異なる部分を、単位硬化層同士の境目として確認し、各単位硬化層を区別できる。
【０２２８】
液晶硬化層は、当該液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が液晶硬化層の層平面に対して傾斜しているのであるから、一部の単位硬化層に含まれる液晶性化合物の分子は、液晶硬化層の層平面に対して傾斜していなくてもよい。よって、例えば、一部の単位硬化層に含まれる液晶性化合物の分子が液晶硬化層の層平面に対して平行又は垂直であってもよい。しかし、通常は、いずれの単位硬化層に含まれる液晶性化合物の分子も、液晶硬化層の層平面に対して傾斜している。よって、図５に示す例のように第一硬化層３１０及び第二硬化層３２０を備える液晶硬化層３００では、通常、第一硬化層３１０に含まれる液晶性化合物の分子が層平面に対して傾斜しており、且つ、第二硬化層３２０に含まれる液晶性化合物の分子が層平面に対して傾斜している。
【０２２９】
［７．液晶硬化層の厚み］
液晶硬化層の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは１０．０μｍ以下、より好ましくは７．０μｍ以下である。液晶硬化層の厚みが前記の範囲にある場合、面内レターデーションＬＲｅ、旋光位相差ＣＲｅ等の特性を所望の範囲に容易に調整することができる。また、このような厚みの液晶硬化層は、有機ＥＬ表示装置の反射抑制フィルムに用いられてきた従来の位相差フィルムよりも薄いので、有機ＥＬ表示装置の薄型化に貢献できる。
【０２３０】
［８．任意の層］
液晶硬化フィルムは、液晶硬化層のみを含むフィルムであってもよく、液晶硬化層に組み合わせて任意の層を含むフィルムであってもよい。任意の層としては、液晶硬化層の製造に用いる基材；位相差フィルム；他の部材と接着するための接着剤層；フィルムの滑り性を良くするマット層；耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層；反射防止層；防汚層；等が挙げられる。
【０２３１】
［９．液晶硬化フィルムの製造方法］
液晶硬化フィルムの製造方法は、特に制限されない。例えば、液晶硬化フィルムは、
（ｉ）液晶組成物の層を形成する工程と、
（ii）液晶組成物の層に含まれる液晶性化合物を配向させる工程と、
（iii）液晶組成物の層を硬化させて液晶硬化層を得る工程と、
を含む製造方法によって製造できる。
【０２３２】
液晶組成物の層を形成する工程（ｉ）では、通常、適切な支持面に、液晶組成物の層を形成する。支持面としては、液晶組成物の層を支持できる任意の面を用いうる。この支持面としては、液晶硬化層の面状態を良好にする観点から、凹部及び凸部の無い平坦面を用いることが好ましい。また、液晶硬化層の生産性を高める観点から、前記の支持面としては、長尺の基材の表面を用いることが好ましい。ここで「長尺」とは、幅に対して、５倍以上の長さを有する形状をいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムの形状をいう。長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して１万倍以下としうる。
【０２３３】
基材としては、通常、樹脂フィルム又はガラス板を用いる。特に、高い温度で配向処理を行う場合、その温度に耐えられる基材を選択するのが好ましい。樹脂としては、通常、熱可塑性樹脂を用いる。中でも、配向規制力の高さ、機械的強度の高さ、及びコストの低さといった観点から、樹脂としては、正の固有複屈折値を有する樹脂が好ましい。更には、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れることから、ノルボルネン系樹脂等の、脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いることが好ましい。基材に含まれる樹脂の好適な例を商品名で挙げると、ノルボルネン系樹脂として、日本ゼオン社製「ゼオノア」を挙げられる。
【０２３４】
支持面としての基材の表面には、液晶組成物の層における液晶性化合物の配向を促進するため、配向規制力を付与するための処理が施されていることが好ましい。配向規制力とは、液晶組成物に含まれる液晶性化合物を配向させることができる、面の性質をいう。支持面に配向規制力を付与するため処理としては、例えば、光配向処理、ラビング処理、イオンビーム配向処理、延伸処理などが挙げられる。
【０２３５】
液晶組成物の層を形成する工程（ｉ）において、液晶組成物は、通常、流体状で用意される。そのため、通常は、支持面に液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を形成する。液晶組成物を塗工する方法としては、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。
【０２３６】
液晶組成物の層を形成する工程（ｉ）の後で、液晶組成物の層に含まれる液晶性化合物を配向させる工程（ii）を行いうる。この工程（ii）では、通常は、液晶組成物の層に配向処理を施すことにより、支持面の配向規制力に応じた方向に液晶性化合物を配向させる。
【０２３７】
配向処理は、通常、液晶組成物の層の温度を所定の配向温度に調整することによって行う。配向温度は、液晶組成物の液晶化温度以上の温度としうる。この際、配向温度は、基材に含まれる樹脂のガラス転移温度未満の温度であることが好ましい。これにより、配向処理による基材の歪みの発生を抑制できる。
【０２３８】
通常、面内方向においては、液晶性化合物は、支持面の配向規制力に応じた方向に配向する。また、厚み方向において、液晶性化合物は、通常、少なくとも一部が層平面に対して大きく傾斜するように配向する。これにより、液晶性化合物の層平面に対する傾斜角を効果的に大きくできる。
【０２３９】
さらに、工程（ii）は、液晶性化合物の分子の傾斜角が大きい液晶硬化層が得られるように、操作又は条件を調整して行うことが好ましい。
【０２４０】
例えば、液晶性化合物として逆分散液晶性化合物を用いている場合、工程（ii）は、液晶組成物の層の温度条件が所定の要件を満たすように行うことが好ましい。具体的には、工程（ii）における液晶組成物の層の温度条件が、試験組成物の残留分粘度が通常８００ｃＰ以下となる温度条件と同一になるように、行うことが好ましい。前記の試験組成物とは、液晶組成物から重合開始剤を除いた組成を有する組成物である。また、試験組成物の残留分粘度とは、工程（ii）の液晶組成物の層と同一温度条件における、試験組成物の残留成分の粘度である。また、試験組成物の残留成分とは、試験組成物に含まれる成分のうち、工程（ii）の液晶組成物の層と同一温度条件において気化せずに残留した成分である。このような要件を満たすように工程（ii）を行うことで、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の傾斜角を大きくすることが可能である。
【０２４１】
更に詳しく説明する。液晶性化合物を配向させる工程（ii）を、前記の要件を満たすように行う場合、当該工程（ii）は、試験組成物の残留分粘度が所定範囲に収まる温度条件と同一温度条件に、液晶組成物の層を調整して、行う。前記残留分粘度の具体的範囲は、通常８００ｃＰ（センチポアズ）以下、好ましくは６００ｃＰ以下、より好ましくは４００ｃＰ以下、さらに好ましくは２００ｃＰ以下である。このように試験組成物の残留分粘度が低くなる温度条件と同一温度条件で液晶組成物の層中の液晶性化合物を配向させることにより、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の傾斜角を大きくすることができる。前記残留分粘度の下限は、所望の厚みの液晶硬化層を得る観点から、好ましくは５ｃＰ以上、より好ましくは１０ｃＰ以上である。
【０２４２】
工程（ii）の液晶組成物の層と同一温度条件における試験組成物の残留分粘度は、下記の方法によって測定できる。
液晶組成物から重合開始剤を除いた試験組成物を用意する。この試験組成物をロータリーエバポレーターで減圧濃縮して溶媒を除去し、残留成分を得る。この残留成分について、予め、測定温度を変化させながら粘度を測定し、測定温度とその測定温度での粘度との情報を得る。この情報を、以下、適宜「温度−粘度情報」という。この「温度−粘度情報」から、工程（ii）での液晶組成物の層の温度における粘度を、残留分粘度として読み取る。
【０２４３】
工程（ii）の液晶組成物の層と同一温度条件において試験組成物の残留分粘度を上述した範囲に収める方法としては、例えば、下記（Ａ）及び（Ｂ）の方法が挙げられる。
（Ａ）液晶性化合物を配向させる工程（ii）における液晶組成物の層の温度を、適切に調整する。この方法では、通常、液晶組成物の層の温度を十分に高温にすることで、この温度と同一温度条件での試験組成物の残留分粘度を低くして、上述した範囲となるように調整する。
（Ｂ）液晶組成物の組成を、適切に調整する。この方法では、通常、液晶組成物に含まれる成分として、液晶性化合物に適切な種類及び量の添加剤を組み合わせることで、当該添加剤を含む試験組成物の残留分粘度を低くして、上述した範囲となるように調整する。
【０２４４】
工程（ii）における液晶組成物の層の温度条件の調整については、国際公開第２０１８／１７３７７３号の記載を参照してよい。
【０２４５】
また、例えば、逆分散液晶性化合物と磁場応答性を有する液晶性化合物とを含む液晶組成物を用いる場合には、工程（ii）を、液晶組成物の層に磁界を印加した状態で行うことが好ましい。これにより、液晶硬化層に含まれる液晶性化合物の分子の傾斜角を効果的に大きくできる。磁界の印加については、特開２０１８−１６３２１８号公報の記載を参照してよい。
【０２４６】
液晶性化合物を配向させる工程（ii）は、通常、オーブン内において行われる。この際、オーブンの設定温度と、そのオーブン内に置かれた液晶組成物の層の温度とは、異なる場合がありえる。この場合、予め、多数のオーブン設定温度において、その設定温度のオーブン内に置かれた液晶組成物の層の温度を測定し、記録しておくことが好ましい。この記録されたオーブンの設定温度とその設定温度のオーブン内に置かれた液晶組成物の層の温度との情報を、以下、適宜「設定温度−層温度情報」という。この「設定温度−層温度情報」を用いれば、オーブン設定温度から、オーブン内に置かれた液晶組成物の層の温度を容易に知ることができる。
【０２４７】
液晶性化合物を配向させる工程（ii）において、液晶組成物の層の温度を前記の温度に保持する時間は、所望の液晶硬化層が得られる範囲で任意に設定でき、例えば３０秒間〜５分間でありうる。
【０２４８】
液晶性化合物を配向させる工程（ii）の後で、液晶組成物の層を硬化させて、液晶硬化層を得る工程（iii）を行う。この工程（iii）の液晶組成物の硬化は、通常、当該液晶組成物が含む重合性の化合物の重合によって達成される。例えば、液晶性化合物が重合性を有する場合、その液晶性化合物の一部又は全部を重合させることにより、液晶組成物の層を硬化させる。重合は、通常、液晶性化合物の分子の配向を維持したままで進行する。よって、前記の重合により、重合前の液晶組成物に含まれる液晶性化合物の配向状態は、固定される。
【０２４９】
重合方法としては、液晶組成物に含まれる成分の性質に適合した方法を選択しうる。重合方法としては、例えば、活性エネルギー線を照射する方法、及び、熱重合法が挙げられる。中でも、加熱が不要であり、室温で重合反応を進行させられるので、活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光、並びに電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。
【０２５０】
なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線照射時の温度は、基材に悪影響を与えない範囲という観点から、基材のガラス転移温度以下とすることが好ましく、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１００℃以下、特に好ましくは８０℃以下である。紫外線照射時の温度の下限は、１５℃以上であることが好ましく、２０℃以上であることがより好ましい。紫外線の照射強度は、好ましくは０．１ｍＷ／ｃｍ2以上、より好ましくは０．５ｍＷ／ｃｍ2以上であり、好ましくは１００００ｍＷ／ｃｍ2以下、より好ましくは５０００ｍＷ／ｃｍ2以下である。紫外線の照射量は、好ましくは０．１ｍＪ／ｃｍ2以上、より好ましくは０．５ｍＪ／ｃｍ2以上であり、好ましくは１００００ｍＪ／ｃｍ2以下、より好ましくは５０００ｍＪ／ｃｍ2以下である。
【０２５１】
以上の工程を行うことにより、液晶硬化層を得ることができる。上述した製造方法は、こうして得られた液晶硬化層上に、更に液晶硬化層を形成する工程を含んでいてもよい。この場合、前記のようにして形成された液晶硬化層に相当する第一硬化層と、この第一硬化層上に更に形成された第二硬化層とを含む複層構造の液晶硬化層が得られる。
【０２５２】
第二硬化層は、第一硬化層上に、直接に形成することが好ましい。ここで、ある層上に別の層を形成する態様が「直接に」とは、これら２層の間に他の層が無いことをいう。逆分散液晶性化合物を用いた場合、その逆分散液晶性化合物を含む第一硬化層等の単位硬化層は、当該単位硬化層上に直接に形成される別の単位硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角を大きくする配向膜として機能できる。よって、通常は、先に形成される単位構造層（例えば、第一硬化層）に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角よりも、その後に形成される別の単位構造層（例えば、第二硬化層）に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角を大きくできる。よって、単位硬化層の形成を繰り返すことにより、全体として逆分散液晶性化合物の大きな傾斜角を有する液晶硬化層を得ることができる。こうして得られた液晶硬化層においては、通常、後に形成された単位硬化層ほど、大きな実質最大傾斜角を有する傾向がある。
【０２５３】
第二硬化層は、例えば、上述した工程（ｉ）〜工程（iii）を行うことにより、形成できる。この際、第二硬化層を形成するために用いる液晶組成物に含まれる液晶性化合物は、第一硬化層を形成するために用いる液晶組成物に含まれる液晶性化合物と、同一でもよく、異なっていてもよい。さらに、第二硬化層を形成するために用いる液晶組成物と、第一硬化層を形成するために用いる液晶組成物とは、異なっていてもよいし、同一であってもよい。
【０２５４】
第一硬化層の表面には、液晶組成物の層を形成する前に、ラビング処理等の配向規制力を付与するための処理を施してもよい。しかし、第一硬化層の表面は、特段の処理を施さなくても、当該表面上に形成される液晶組成物の層に含まれる逆分散液晶性化合物を適切に配向させる配向規制力を有する。よって、工程数を減らして液晶硬化フィルムの製造を効率的に進める観点では、第一硬化層の表面にラビング処理を施さないことが好ましい。
【０２５５】
また、第二硬化層を形成した後で、その第二硬化層状に、更に任意の単位硬化層を形成する工程を行ってもよい。
【０２５６】
上述した製造方法により、液晶硬化層を含む液晶硬化フィルムを製造できる。この製造方法では、通常、基材と、この基材の支持面上に形成された液晶硬化層とを含む液晶硬化フィルムが得られる。
【０２５７】
また、上述した製造方法は、基材を剥離する工程を含んでいてもよい。この場合、液晶硬化層それ自体を、液晶硬化フィルムとして用いることができる。
【０２５８】
さらに、液晶硬化フィルムの製造方法は、例えば、基材上に形成された液晶硬化層を、任意のフィルム層に転写する工程を含んでいてもよい。よって、例えば、液晶硬化フィルムの製造方法は、基材上に形成された液晶硬化層と任意のフィルム層とを貼り合わせた後で、必要に応じて基材を剥離して、液晶硬化層及び任意のフィルム層を含む液晶硬化フィルムを得る工程を含んでいてもよい。この際、貼り合わせには、適切な粘着剤又は接着剤を用いてもよい。
【０２５９】
また、液晶硬化フィルムの製造方法は、例えば、液晶硬化層上に、更に任意の層を形成する工程を含んでいてもよい。
【０２６０】
さらに、液晶硬化フィルムの製造方法は、例えば、液晶組成物の層を硬化させる工程（iii）の前に、液晶組成物の層を乾燥させる工程を含んでいてもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。
【０２６１】
前記のような製造方法によれば、長尺の基材を用いて、長尺の液晶硬化フィルムを得ることができる。このような長尺の液晶硬化フィルムは、連続的な製造が可能であり、生産性に優れる。また、長尺の液晶硬化フィルムは、他のフィルムとの貼り合わせを、ロールトゥロールによって行うことができるので、この点でも、生産性に優れる。通常、長尺の液晶硬化フィルムは、巻き取られてロールの状態で保存及び運搬がなされる。
【０２６２】
［１０．偏光板］
上述した液晶硬化フィルムを用いることにより、偏光板を製造できる。この偏光板は、通常、上述した製造方法で液晶硬化フィルムを製造する工程と、この液晶硬化フィルムと直線偏光子とを貼合する工程と、を含む製造方法により、製造できる。
【０２６３】
こうして得られた偏光板は、液晶硬化フィルムと直線偏光子とを含む。この偏光板は、円偏光板又は楕円偏光板として機能できることが好ましい。このような偏光板を有機ＥＬ表示装置に設けることにより、有機ＥＬ表示装置の表示面において外光の反射を抑制できる。特に、上述した液晶硬化層は、液晶性化合物の分子の傾斜角が適切に調整されることで、面内方向だけでなく厚み方向においても複屈折を適切に調整することができる。よって、この液晶硬化層を含む偏光板は、有機ＥＬ表示装置の表示面の正面方向だけでなく傾斜方向においても外光の反射を抑制できる。したがって、この偏光板を用いることにより、視野角の広い有機ＥＬ表示装置を実現することができる。さらに、上述した液晶硬化層が配向ムラ及び透過光の偏光状態の乱れを抑制できるので、その液晶硬化層を含む液晶硬化フィルムを備えた偏光板は、正面方向及び傾斜方向の両方において効果的な反射の抑制が可能である。
【０２６４】
直線偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるフィルム；ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ延伸しさらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるフィルム；が挙げられる。また、直線偏光子の他の例としては、グリッド偏光子、多層偏光子などの、偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子が挙げられる。これらのうち、直線偏光子としては、ポリビニルアルコールを含有する偏光子が好ましい。
【０２６５】
直線偏光子に自然光を入射させると、一方の偏光だけが透過する。この直線偏光子の偏光度は特に限定されないが、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。
また、直線偏光子の厚みは、好ましくは５μｍ〜８０μｍである。
【０２６６】
偏光板を円偏光板として機能させたい場合、直線偏光子の偏光吸収軸に対して液晶硬化層の遅相軸がなす角度は、４５°またはそれに近い角度であることが好ましい。前記の角度は、具体的には、好ましくは４５°±５°（即ち、好ましくは４０°〜５０°）、より好ましくは４５°±４°（即ち、より好ましくは４１°〜４９°）、特に好ましくは４５°±３°（即ち、特に好ましくは４２°〜４８°）である。
【０２６７】
偏光板は、直線偏光子及び液晶硬化層に組み合わせて、更に任意の層を含んでいてもよい。任意の層としては、例えば、直線偏光子と液晶硬化層とを貼り合わせるための接着剤層；直線偏光子を保護するための偏光子保護フィルム層；などが挙げられる。
【０２６８】
［１１．有機ＥＬ表示装置］
上述した偏光板を用いることにより、有機ＥＬ表示装置を製造できる。この有機ＥＬ表示装置は、通常、上述した製造方法で偏光板を製造することを含む製造方法により、製造できる。
【０２６９】
この有機ＥＬ表示装置は、上述した偏光板を含む。有機ＥＬ表示装置は、通常、表示素子として有機ＥＬ素子を含み、この有機ＥＬ素子の視認側に、偏光板が設けられる。また、偏光板は、有機ＥＬ素子側から、液晶硬化フィルム及び直線偏光子をこの順に含む。そして、このような構成において、前記の偏光板が反射抑制フィルムとして機能できる。
【０２７０】
以下、偏光板が円偏光板として機能する場合を例に挙げて、反射抑制の仕組みを説明する。装置外部から入射した光は、その一部の直線偏光のみが直線偏光子を通過し、次にそれが液晶硬化層を通過することにより、円偏光となる。円偏光は、表示装置内の光を反射する構成要素（有機ＥＬ素子の反射電極等）により反射され、再び液晶硬化層を通過することにより、入射した直線偏光の振動方向と直交する振動方向を有する直線偏光となり、直線偏光子を通過しなくなる。これにより、反射抑制の機能が達成される。このような反射抑制の原理は、特開平９−１２７８８５号公報を参照してよい。
【０２７１】
有機ＥＬ素子は、通常、透明電極層、発光層及び電極層をこの順に備え、透明電極層及び電極層から電圧を印加されることにより発光層が光を生じうる。有機発光層を構成する材料の例としては、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリフルオレン系、およびポリビニルカルバゾール系の材料を挙げることができる。また、発光層は、複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層を有していてもよい。さらに、有機ＥＬ素子は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、等電位面形成層、電荷発生層等の機能層を備えていてもよい。
【実施例】
【０２７２】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。【０２７３】
［厚みの測定方法］
以下の実施例及び比較例において、層の厚みは、膜厚測定計（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｘ社製「Ｆ−２０」）を用いて測定した。【０２７４】
［液晶性化合物の説明］
下記の実施例及び比較例で用いた逆分散液晶性化合物（Ｌ−Ａ）〜（Ｌ−Ｃ）の分子構造は、下記の通りである。【０２７５】
【化２８】
2020116466.tif 000034
【０２７６】
【化２９】
2020116466.tif 000035
【０２７７】
【化３０】
2020116466.tif 000036
【０２７８】
［キラル化合物の説明］
下記の実施例及び比較例では、キラル化合物（Ｃ−Ｘ）として、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」を用いた。
また、キラル化合物（Ｃ−Ｙ）としては、下記の分子構造を有する化合物を用いた。下記式において、Ｍｅはメチル基を表す。キラル化合物（Ｃ−Ｘ）であるＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」およびキラル化合物（Ｃ−Ｙ）のＨＴＰは、それぞれ、２０以上２００以下の値である。【０２７９】
【化３１】
2020116466.tif 000037
【０２８０】
［実施例及び比較例］
（液晶組成物の調整）
下記表１に示す種類の逆分散液晶性化合物１００重量部と、フッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製「Ｓ４２０」；ｌｏｇＰ＝５．３）０．１５重量部と、下記表１に示す種類及び量のキラル化合物と、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＮＣＩ−７３０」）４．０重量部と、溶媒としてのシクロペンタノン１６２．３重量部及び１，３−ジオキソラン２４３．５重量部とを混合して、液晶組成物を得た。【０２８１】
（基材フィルムの用意）
基材フィルムとして、片面にマスキングフィルムが貼り合わせられた熱可塑性のノルボルネン樹脂からなる樹脂フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」；厚み１００μｍ）を用意した。この基材フィルムは、光学的に等方性のフィルムであったので、後述する液晶硬化層の位相差ＬＲｅ、ＣＲｅ及びＲ（θ）の測定結果に影響を及ぼすものでは無い。この基材フィルムからマスキングフィルムを剥離し、マスキング剥離面にコロナ処理を施した。次いで、コロナ処理面に、ラビング処理を施した。【０２８２】
（第一硬化層の形成）
基材フィルムのラビング処理面に、＃２又は＃３のワイヤーバーを用いて液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を形成した。
その後、液晶組成物の層を、１１０℃で４分間加熱して、配向処理を行った。この配向処理での配向温度は、各実施例及び比較例の液晶組成物に対応する試験組成物の残留分粘度が８００ｃＰ以下となる温度条件と同一であった。この配向処理により、液晶組成物の層に含まれる逆分散液晶性化合物が配向した。
配向処理を施された液晶組成物の層に、窒素雰囲気下で、５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、液晶組成物の層を硬化させて、下記表１に示す厚みの第一硬化層を形成した。これにより、第一硬化層／基材フィルムの層構成を有する中間フィルムを得た。【０２８３】
（液晶硬化層の形成）
中間フィルムの第一硬化層の表面に、＃３又は＃６のワイヤーバーを用いて更に液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を形成した。
その後、液晶組成物の層を、１１０℃で４分間加熱して、配向処理を行った。この配向処理により、液晶組成物の層に含まれる逆分散液晶性化合物が配向した。
配向処理を施された液晶組成物の層に、窒素雰囲気下で、１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、液晶組成物の層を硬化させて、第二硬化層を形成した。これにより、第一硬化層及び第二硬化層を合わせた層として、表１に示す厚みの液晶硬化層を得た。そして、これにより、液晶硬化層／基材フィルムの層構成を有する液晶硬化フィルムを得た。【０２８４】
（液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の傾斜配向性の確認）
図６は、傾斜方向から液晶硬化層４００のレターデーションとしての直線偏光位相差Ｒ（θ）を測定する際の測定方向を説明するための斜視図である。図６において、矢印Ａ１は液晶硬化層４００の面内の遅相軸を表し、矢印Ａ２は液晶硬化層４００の面内の進相軸を表し、矢印Ａ３は液晶硬化層４００の厚み方向を表す。【０２８５】
液晶硬化フィルムを、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」）にセットした。液晶硬化層４００の進相軸Ａ２を回転軸として液晶硬化フィルムを回転させて、図６に示すように、液晶硬化層４００の直線偏光位相差Ｒ（θ）を、入射角θが−５０°〜５０°の範囲で測定した。よって、前記の測定方向Ａ４は、液晶硬化層４００の進相軸Ａ２に対して垂直に設定される。また、測定波長は５９０ｎｍであった。【０２８６】
入射角θが−５０°〜５０°の範囲で測定された液晶硬化層の直線偏光位相差Ｒ（θ）を、入射角０°での液晶硬化層の直線偏光位相差Ｒ（０°）で割って、レターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）を求めた。求めたレターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）を縦軸、入射角θを横軸としたグラフを描いた。
得られたレターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）のグラフがθ＝０°に対して非対称である場合、液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の少なくとも一部の分子が液晶硬化層の層平面に対して傾斜していると判定できる。また、レターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）のグラフがθ＝０°に対して対称である場合、液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の全ての分子が液晶硬化層の層平面に対して平行又は垂直であると判定できる。【０２８７】
測定の結果、いずれの実施例及び比較例でも、レターデーション比Ｒ（θ）／Ｒ（０°）のグラフがθ＝０°に対して非対称であった。よって、液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の少なくとも一部の分子が液晶硬化層の層平面に対して傾斜していると判定した。【０２８８】
（実質最大傾斜角の測定）
前記の（液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の傾斜配向性の確認）で測定された直線偏光位相差Ｒ（θ）から、前記の位相差計に付属の解析ソフトウェア（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製の解析ソフトウェア「Ｍｕｌｔｉ−Ｌａｙｅｒ  Ａｎａｌｙｓｉｓ」；解析条件は、解析波長５９０ｎｍ、層分割数２０層）により、液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角Θを計算した。【０２８９】
（面内レターデーションＬＲｅ及び旋光位相差ＣＲｅの測定）
位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｘ社製「Ａｘｏｓｃａｎ」）を用いて、液晶硬化層の面内レターデーションＬＲｅ及び旋光位相差ＣＲｅを測定した。測定波長は、５５０ｎｍであった。【０２９０】
（逆波長分散性の確認）
液晶硬化フィルムの液晶硬化層の測定波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける面内レターデーションＬＲｅ（４５０）及びＬＲｅ（５５０）を、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」）を用いて、測定した。測定の結果、いずれの実施例及び比較例でも、ＬＲｅ（４５０）／ＬＲｅ（５５０）＜０．９が成立していた。【０２９１】
（液晶硬化層の面状の評価）
液晶硬化フィルムの液晶硬化層を、偏光顕微鏡を用いて観察した。観察された像において、配向ムラの量を評価した。前記の実施例及び比較例において、配向ムラは、通常、逆分散液晶性化合物の分子の配向方向が不均一な部分が形成されることによって、生じる。よって、配向ムラが少ないほど、逆分散液晶性化合物の分子の配向方向が揃い、面状が良好であると判定できる。そこで、配向ムラの量に基づき、下記の基準で、液晶硬化層の面状を評価した。
「良」：配向ムラがないか、配向ムラがわずかである。
「不良」：配向ムラがある。【０２９２】
（消光の評価）
２枚の直線偏光フィルムを用意し、クロスニコルとなるように重ねた。次いで、前記の直線偏光フィルムの間に液晶硬化フィルムを配置した。厚み方向の軸を中心に液晶硬化フィルムを回転させて、液晶硬化フィルムの向きを、消光位となるように調整した。ここで、消光位とは、一方の直線偏光フィルム、液晶硬化フィルム及び他方の直線偏光フィルムをこの順で厚み方向に透過する透過光の光量が最小となる液晶硬化フィルムの向きを表す。【０２９３】
この状態で前記の透過光を観察し、透過光が視認される現象としての「光抜け」を評価した。前記の実施例及び比較例において、光抜けは、通常、液晶硬化層に含まれる逆分散液晶性化合物の分子の配向方向のねじれのピッチが短すぎることにより、液晶硬化層を透過した直線偏光の偏光状態が乱れることによって、生じる。すなわち、光抜けは、液晶硬化層へ偏光が入射した場合に、液晶硬化層を透過する過程で偏光の一部が楕円偏光となったり偏光解消を生じたりして、その一部又は全部が直線偏光フィルムを透過して生じる。この光抜けを、下記の基準で評価した。
「良」：光抜けがない。
「可」：光抜けがわずかにある。
「不良」：光抜けがある。【０２９４】
［結果］
前記の実施例及び比較例の結果を、下記の表１に示す。下記表において、略称の意味は、以下の通りである。
Θ：液晶硬化層の実質最大傾斜角。
ＬＲｅ：液晶硬化層の面内レターデーション。
ＣＲｅ：液晶硬化層の旋光位相差。
ＸＲｅ：式（２）で定義されるパラメータ。【０２９５】
【表１】
2020116466.tif 000038
【符号の説明】
【０２９６】
１００  液晶層
１１０  直線偏光子
１２０  直線偏光子
２００  液晶硬化層
３００  液晶硬化層
３１０  第一硬化層
３２０  第二硬化層
４００  液晶硬化層
【図１】
2020116466.tif 000040
【図２】
2020116466.tif 000041
【図３】
2020116466.tif 000042
【図４】
2020116466.tif 000043
【図５】
2020116466.tif 000044
【図６】
2020116466.tif 000045
【国際調査報告】
2020116466.tif 000046
2020116466.tif 000047
2020116466.tif 000048
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