(57)【要約】  配向度の高い偏光子、及び、上記偏光子を有する画像表示装置を提供する。液晶性化合物と二色性物質とを含有する偏光子形成用組成物から形成される偏光子であって、液晶性化合物および二色性物質の配向が水平配向であり、偏光子のＸ線回折スペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲で観測される複数のピークのうち少なくとも１つは、対応する周期構造の間隔が、他のピークの少なくとも１つに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡである。
2020003938.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶性化合物と二色性物質とを含有する偏光子形成用組成物から形成される偏光子であって、
前記液晶性化合物および前記二色性物質が、水平配向しており、
前記偏光子のＸ線回折スペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲で観測される複数のピークのうち少なくとも１つは、対応する周期構造の間隔が、他のピークの少なくとも１つに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡである、偏光子。
【請求項２】
少なくとも１つの前記ピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅が３０°以下である、請求項１に記載の偏光子。
【請求項３】
少なくとも１つの前記ピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅が３°〜２３°の範囲である、請求項１または２に記載の偏光子。
【請求項４】
前記偏光子形成用組成物が示す液晶性がネマチック性のみである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の偏光子。
【請求項５】
前記液晶性化合物および前記二色性物質が配向される方向の配向軸と直交する方向の±５°の範囲以外の方向に前記ピークＡが観測される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光子を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子、及び、画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。【０００３】
従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、高分子液晶性化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性膜が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２３７５１３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このようななか、本発明者らが特許文献１の実施例を参考に偏光子を作製し、その配向度を評価したところ、今後予想される画像表示装置等の性能向上を鑑みると、配向度をさらに向上させることが望ましいことが明らかになった。【０００６】
そこで、本発明は、上記実情を鑑みて、配向度の高い偏光子、及び、上記偏光子を有する画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。【０００８】
［１］  液晶性化合物と二色性物質とを含有する偏光子形成用組成物から形成される偏光子であって、
液晶性化合物および二色性物質が、水平配向しており、
偏光子のＸ線回折スペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲で観測される複数のピークのうち少なくとも１つは、対応する周期構造の間隔が、他のピークの少なくとも１つに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡである、偏光子。
［２］  少なくとも１つのピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅が３０°以下である、［１］に記載の偏光子。
［３］  少なくとも１つのピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅が３°〜２３°の範囲である、［１］または［２］に記載の偏光子。
［４］  偏光子形成用組成物が示す液晶性がネマチック性のみである、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光子。
［５］  液晶性化合物および二色性物質が配向される方向の配向軸と直交する方向の±５°の範囲以外の方向にピークＡが観測される、［１］〜［４］のいずれかに記載の偏光子。
［６］  ［１］〜［５］のいずれかに記載の偏光子を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
以下に示すように、本発明によれば、配向度の高い偏光子、及び、上記偏光子を有する画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の偏光子の一態様に対応するＸＲＤ（X‐ray diffraction）スペクトルである。
【図２】比較例１の偏光子に対応するＸＲＤスペクトルである。
【図３】比較例２の偏光子に対応するＸＲＤスペクトルである。
【図４】本発明の偏光子の一態様に対応するφスキャンのグラフである。
【図５】本発明の偏光子の一態様に対応するφスキャンのグラフである。
【図６】本発明の偏光子の一態様に対応するφスキャンのグラフである。
【図７】本発明の偏光子の一態様に対応するφスキャンのグラフである。
【図８】半値幅と配向度との関係を表すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【００１２】
［偏光子］
本発明の偏光子は、液晶性化合物と二色性物質とを含有する偏光子形成用組成物から形成される偏光子であって、
偏光子形成用組成物の配向が水平配向であり、
偏光子のＸ線回折スペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲で観測される複数のピークのうち少なくとも１つは、対応する周期構造の間隔が、他のピークの少なくとも１つに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡである、偏光子である。
Ｘ線回折（ＸＲＤ）スペクトルにおいて、対応する周期構造の間隔が他のピークの周期構造の間隔と整数倍にならないピークＡを有することは、偏光子内にネマチック成分と結晶成分とが存在することを意味する。
ここで、偏光子内における「ネマチック成分」とは、偏光子形成用組成物の一部がネマチック相の状態で固定されてなる領域をいい、「結晶成分」とは、偏光子形成用組成物の一部が結晶相の状態で固定されてなる領域をいう。
【００１３】
本発明の偏光子にはネマチック成分と結晶成分とが存在する。ネマチック成分と結晶成分とが同時に存在することで、高い配向度を持つ偏光子が得られる。この理由は以下のように推定している。
一般的に、ネマチック相よりも高次の相（たとえばスメクチック相や結晶相）は配向度が高いことが知られている。このような高次の相はドメインが大きくなるためにヘイズが発生しやすく、実際の膜では配向度が低下する。これに対して、偏光子をネマチック成分と結晶成分とが混合した構成とすることで、ヘイズを抑制し、高次な結晶相の利用による高配向度を両立できる。
【００１４】
ネマチック相は周期構造を有していないため、一般的には周期性は観測されず、ＸＲＤスペクトルにおいては、平均分子間距離に起因するブロードなピーク（ハロー）が観測される（後述する図２参照）。
一方、スメクチック相などのより高次の相では一般的にレイヤー構造を形成し、そのレイヤーの長さ（周期構造の間隔、周期長ともいう）に対応するピークがＸＲＤスペクトルにおいて観測される。
【００１５】
ここで、スメクチック成分のみが存在する偏光子の場合には、ＸＲＤスペクトルにおいて、スメクチック相の周期構造の間隔に対応するピークとその高次成分に対応するピークが観測される。そのため、各ピークが観測される回折角から算出される周期構造の間隔は、他のピークのいずれかと整数倍の関係となる。そのため、周期構造の間隔が他のピークに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡは観測されない。
一方、結晶成分では原子の周期性が増すことから、一般的に、レイヤーの長さに対応するピーク以外のピークも観測される。
従って、Ｘ線回折（ＸＲＤ）スペクトルにおいて、対応する周期構造の間隔が他のピークの周期構造の間隔と整数倍にならないピークＡを有する本発明の偏光子は、偏光子内にネマチック成分と結晶成分とが存在するものとなる。
【００１６】
偏光子のＸＲＤスペクトルは、インプレーン法を用いて測定する。
以下において、インプレーン法を用いて行われるＸ線回折分析を、「インプレーン  ＸＲＤ」とも記載する。インプレーン  ＸＲＤは、薄膜Ｘ線回折装置を用いて、以下の条件で、偏光子層表面にＸ線を照射して行うものとする。
（条件）
・Ｃｕ線源使用（ＣｕＫα、出力４５ｋＶ、２００ｍＡ）
・Ｘ線入射角０．２°
・使用光学系：平行光学系（ＣＢＯ（Ｃｒｏｓｓ  Ｂｅａｍ  Ｏｐｔｉｃｓ）（ＰＢ（Ｐａｒａｌｌｅｌ  Ｂｅａｍ））
・入射側  入射スリット０．２ｍｍ  入射平行スリットＩｎ−ｐｌａｎｅ  ＰＳＣ（Ｐａｒａｌｌｅｌ  Ｓｌｉｔ  Ｃｏｌｌｉｍａｔｏｒ）  ０．５ｄｅｇ（ｄｅｇｒｅｅ）、長手制限スリット  １０ｍｍ
・受光側  受光スリット  ２０  ｍｍ、受光平行スリットＩｎ−ｐｌａｎｅ  ＰＳＡ（Ｐａｒａｌｌｅｌ  Ｓｌｉｔ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）  ０．５ｄｅｇ
・検出器：リガク社製ＨｙＰｉｘ３０００（０Ｄモード）
・２θχ／φスキャン  Ｓｃａｎ条件：１〜４０ｄｅｇｒｅｅの範囲を０．００８ｄｅｇｒｅｅ／ｓｔｅｐ、２．０ｄｅｇｒｅｅ／ｍｉｎ（分）
・φスキャン  Ｓｃａｎ条件：−１２０〜１２０ｄｅｇｒｅｅの範囲を０．５ｄｅｇｒｅｅ／ｓｔｅｐ、９．６ｄｅｇｒｅｅ／ｍｉｎ
上記条件は、薄膜Ｘ線回折装置における設定値である。薄膜Ｘ線回折装置としては、公知の装置を用いることができる。薄膜Ｘ線回折装置の一例としては、リガク社製ＳｍａｒｔＬａｂを挙げることができる。
【００１７】
試料は、装置上で液晶性化合物及び二色性物質が長軸方向で配向した方向（配向軸方向）と入射Ｘ線が平行になるように配置する。このときの方位角(φ)を０°とする。
配向軸方向は以下のようにして測定する。
配向軸方向の周期構造が観測されるようにインプレーン  ＸＲＤ（２θχ／φスキャン）を行う。観測されたピークに対して行った０．５°刻みのφスキャンにより、ピーク強度が最大となる基板平面内における向きと直行する方向を配向軸の方向とする。
【００１８】
方位角（φ）０°から９０°までの範囲に対して、０．５°刻みでインプレーン  ＸＲＤ（２θχ／φスキャン）を行い、観測されたピークに対して行ったφスキャンにより、ピーク強度が最大となる基板平面内における向きを決定する。ピーク強度が最大となる向きにおけるインプレーン  ＸＲＤ（２θχ／φスキャン）を行いＸＲＤスペクトルを求める。
観測されたピークから以下の式を用いて周期構造の間隔を求める。
ｄ＝λ／（２×ｓｉｎθ）
ここで、ｄ：距離（周期構造の間隔）、λ：入射Ｘ線波長（ＣｕＫα；１．５４Å）、θ：回折角である。
ピーク強度については、Ｘ線入射角０．２°におけるＸ線侵入長に相当する膜厚として規格化した値を用いる。また、回折角θは、インプレーン  ＸＲＤの２θχ／φスキャンにおける回折角２θχ／φである。
【００１９】
以下、ＸＲＤスペクトルを用いて具体的に説明する。
図１は、本発明の偏光子の実施例のＸＲＤスペクトルである。
ピークａ１〜ピークａ３は、回折角が１７°以下の範囲に存在するピークである。各ピークの回折角θから距離ｄを求めると、ピークａ１に対応するｄは３０．３Åであり、ピークａ２に対応するｄは１８．３Åであり、ピークａ３に対応するｄは１１．２Åであった。
ピークａ１〜ピークａ３それぞれに対応するｄは互いに整数倍の関係にはない。したがって、ピークａ１〜ピークａ３はいずれもピークＡに該当する。これらのピークは、結晶成分に由来するピークと考えられる。
また、図１に示すＸＲＤスペクトルおいて、回折角２０°付近に存在するピークｂは、ネマチック相に由来するピーク（ハロー）と考えられる。
また、図３に示す比較例のＸＲＤスペクトルには、２つのピークが存在するが、２つのピークに対応する周期構造の間隔はそれぞれ３５．９Åと１７．６Åであり、整数倍（２倍）の関係にある。このように複数のピークが整数倍の関係にあるのは、スメクチック成分のみが存在することに起因する。
【００２０】
ここで、ＸＲＤスペクトルにおいて、ベースライン強度に対してピークトップの強度が８０以上高いものをピークとみなす。ベースライン強度は、公知の方法で定義される。
ここで、ピークの強度の単位はｃｐｓ（ｃｏｕｎｔ  ｐｅｒ  ｓｅｃｏｎｄ）である。
なお、ピークの強度とはベースライン強度とピークトップの強度との差である。
【００２１】
本発明においては、２つのピークに対応する２つの周期構造の間隔を比較した際に、大きい方の周期構造の間隔が小さい方の周期構造の間隔のｎ×０．９８〜ｎ×１．０２（ｎは整数）の範囲にあれば、ピーク同士の周期構造の間隔が整数倍であるとみなす。
【００２２】
ピークＡは、回折角１７°以下に限定する。
ピークＡは、回折角１°〜１７°の範囲に存在するのが好ましく、回折角１．５°〜１７°の範囲に存在するのがより好ましく、回折角１．８°〜１７°の範囲に存在するのがさらに好ましい。
【００２３】
図１に示したＸＲＤスペクトルにおいて、ピークＡに該当するピークａ１〜ピークａ３はいずれも、他のすべてのピークと周期構造の間隔が整数倍の関係にはないが、本発明はこれに限定はされず、ピークＡは他のピークの少なくとも１つと周期構造の間隔が整数倍の関係にはない構成であればよい。
また、図１に示したＸＲＤスペクトルにおいては、回折角が１７°以下の範囲で観測されるピークのすべてがピークＡに該当するものであったが、本発明はこれに限定はされず、回折角が１７°以下の範囲で観測されるピークの少なくとも１つがピークＡであればよい。
【００２４】
また、配向度をより高くできる点で、少なくとも１つのピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅が３０°以下であるのが好ましく、３°〜２３°であるのがより好ましく、３°〜２０°であるのがさらに好ましい。
周知のとおり、φスキャンの結果は、測定した周期構造が、どの方向にどの程度の分布で存在するかを示すものである。したがって、ピークの半値幅が狭いほど、測定した周期構造が同じ方向に存在している、すなわち、配向度が高いことを意味する。
ピークの半値幅は、観測されたピークに対してｇａｕｓｓ関数でフィッティングして求めればよい。
【００２５】
以下、実施例のφスキャンの結果を用いて具体的に説明する。
図４は、本発明の偏光子の実施例において、ＸＲＤスペクトルで観測されるピークＡの１つに対応する周期構造に対してφスキャンを行った結果を示すグラフである。図４に示すグラフにおいて、横軸は方位角φであり、配向軸方向を０°としている。
図４において、約１０°の位置に観測されるピークが対象としたピークＡに対応する。このピークの半値幅をｇａｕｓｓ関数でフィッティングして求めたところ約３°であった。
なお、約−１０°の位置に観測されるピークは、約１０°の位置に観測されるピークに対応する周期構造と同じ周期構造に由来するピークである。このように、ある周期構造に由来するピークは、方位角０°に対して、対称な位置に観測される。
【００２６】
なお、少なくとも１つのピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅が３０°以下であればよいが、ピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅がすべて３０°以下であるのが好ましい。
【００２７】
本発明において、液晶性化合物および二色性物質が配向される方向の配向軸と直交する方向の±５°の範囲以外の方向にピークＡが観測されるのが好ましい。すなわち、方位角φが±８５°の範囲でピークＡが観測されるのが好ましい。
【００２８】
〔偏光子形成用組成物〕
本発明の偏光子に用いられる偏光子形成用組成物（以下、「本発明の組成物」とも言う）は、液晶性化合物と二色性物質とを含有する。
本発明の組成物は、重合開始剤、溶剤、界面改良剤等の液晶性化合物及び二色性物質以外の成分を含有していてもよい。
また、本発明の組成物は、ネマチック性のみを示すのが好ましい。
以下、各成分について説明する。
【００２９】
＜液晶性化合物＞
上述のとおり、本発明の組成物には、液晶性化合物を有する。液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物及び高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、高分子液晶性化合物とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報に記載されている化合物が挙げられる。また、高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載されている化合物が挙げられる。液晶性化合物は、サーモトロピック液晶であり、ネマチック相及びスメクチック相のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック相を示すことが好ましい。ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）〜４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜４００℃であることが好ましい。
また、高分子液晶性化合物としては、以下に示すサーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子である高分子液晶性化合物（以下、「特定化合物」とも言う）が挙げられる。
【００３０】
（サーモトロピック液晶）
サーモトロピック液晶とは、温度変化によって液晶相への転移を示す液晶である。
特定化合物は、サーモトロピック液晶であり、ネマチック相及びスメクチック相のいずれを示してもよいが、偏光子の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズがより観察され難くなる（ヘイズがより良好になる）理由から、少なくともネマチック相を示すことが好ましい。なお、以下、「偏光子の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズがより観察され難くなる」ことを「本発明の効果がより優れる」とも言う。
【００３１】
（結晶性高分子）
結晶性高分子とは、温度変化によって結晶層への転移を示す高分子である。結晶性高分子は結晶層への転移の他にガラス転移を示すものであってもよい。
特定化合物は、本発明の効果がより優れる理由から、加熱した時に結晶相から液晶相への転移を持つ（途中にガラス転移があってもよい）高分子液晶性化合物、又は、加熱により液晶状態した後で温度を下降させた時に結晶相への転移（途中にガラス転移があってもよい）を持つ高分子液晶性化合物であることが好ましい。
【００３２】
なお、高分子液晶性化合物の結晶性の有無は以下のように評価する。
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ）の二枚の偏光子を互いに直交するように配置し、二枚の偏光子の間にサンプル台をセットする。そして、高分子液晶性化合物をスライドガラスに少量乗せ、サンプル台上に置いたホットステージ上にスライドガラスをセットする。サンプルの状態を観察しながら、高分子液晶性化合物が液晶性を示す温度までホットステージの温度を上げ、高分子液晶性化合物を液晶状態にする。高分子液晶性化合物が液晶状態になった後、ホットステージの温度を徐々に降下させながら液晶相転移の挙動を観察し、液晶相転移の温度を記録する。なお、高分子液晶性化合物が複数の液晶相（例えばネマチック相とスメクチック相）を示す場合、その転移温度も全て記録する。
次に、高分子液晶性化合物のサンプル約５ｍｇをアルミパンに入れて蓋をし、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にセットする（リファレンスとして空のアルミパンを使用）。上記で測定した高分子液晶性化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、その後、温度を１分保持した。その後、１０℃／分の速度で降温させながら、熱量測定を行う。得られた熱量のスペクトルから発熱ピークを確認する。
その結果、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測された場合は、その発熱ピークが結晶化によるピークであり、高分子液晶性化合物は結晶性を有すると言える。
一方、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測されなかった場合は、高分子液晶性化合物は結晶性を有さないと言える。
【００３３】
結晶性高分子を得る方法は特に制限されないが、具体例としては、後述する繰り返し単位（１）を含む高分子液晶性化合物を用いる方法が好ましく、なかでも、後述する繰り返し単位（１）を含む高分子液晶性化合物の中の好適な態様を用いる方法がより好ましい。
【００３４】
（結晶化温度）
上述のとおり、特定化合物は、結晶化高分子である。
特定化合物の結晶化温度は、本発明の効果がより優れる理由から、０℃以上１５０℃未満であることが好ましく、なかでも１２０℃以下であることがより好ましく、１５℃以上１２０℃未満であることがさらに好ましく、なかでも９５℃以下であることが特に好ましい。上記高分子液晶性化合物の結晶化温度は、ヘイズを減らす観点から、１５０℃未満であることが好ましい。
なお、結晶化温度は、上述したＤＳＣにおける結晶化による発熱ピークの温度である。
【００３５】
（好適な態様）
特定化合物は、本発明の効果がより優れる理由から、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも言う）を含む高分子液晶性化合物であることが好ましい。
【００３６】
【化１】
2020003938.tif 000003
【００３７】
上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
【００３８】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１−Ａ）で表される基が好ましい。
【００３９】
【化２】
2020003938.tif 000004
【００４０】
式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１−Ａ）において、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１−Ｄ）において、Ｒ２はアルキル基を表す。
式（Ｐ１−Ａ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｂ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｃ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｄ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。
【００４１】
Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、および、−ＮＲ３Ｒ４−などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ａ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ｂ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【００４２】
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊−（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｎ１−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１〜２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２〜１０の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２Ｏ）ｎ２−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１〜３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ）ｎ３−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（ＣＦ２−ＣＦ２）ｎ４−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【００４３】
Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「ＦｌｕｓｓｉｇｅＫｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ ＤｅｕｔｓｃｈｅＶｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２〜４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
【００４４】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１−Ａ）または下記式（Ｍ１−Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１−Ｂ）で表される基がより好ましい。
【００４５】
【化３】
2020003938.tif 000005
【００４６】
式（Ｍ１−Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【００４７】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【００４８】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。
【００４９】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【００５０】
式（Ｍ１−Ａ）中、ａ１は１〜１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【００５１】
式（Ｍ１−Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１−Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２は１〜１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【００５２】
式（Ｍ１−Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）２−Ｃ（Ｚ’）２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【００５３】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【００５４】
【化４】
2020003938.tif 000006
【００５５】
【化５】
2020003938.tif 000007
【００５６】
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）−：Ｒはアルキル基）、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、−Ｌ−Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましく、１〜７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ−ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ−ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
【００５７】
繰り返し単位（１）の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、特定化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０〜１００質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましく、４０〜９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１）は、特定化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、繰り返し単位（１）が特定化合物中に２種含まれているのがよい。
【００５８】
特定化合物が繰り返し単位（１）を２種含む場合、本発明の効果がより優れる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、本発明の効果がより優れる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
特定化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と特定化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、本発明の効果がより優れる理由から、５０／５０〜９５／５であることが好ましく、６０／４０〜９３／７であることがより好ましく、７０／３０〜９０／１０であることがさらに好ましい。
【００５９】
（重量平均分子量）
液晶性化合物が高分子液晶性化合物の場合、重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる理由から、１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００〜３０００００が好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００〜１００００が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【００６０】
＜二色性物質＞
上記二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特願２０１５−００１４２５号公報の［００２２］〜［００８０］段落、特願２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、特願２０１６−０４４９０９号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０４４９１０号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０９５９０７号公報の［００１３］〜［００３７］段落、特願２０１７−０４５２９６号公報の［００１４］〜［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【００６１】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、偏光子を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
【００６２】
上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００６３】
本発明の組成物において、二色性物質の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して１〜４００質量部であることが好ましく、２〜１００質量部であることがより好ましく、５〜３０質量部であることがさらに好ましい。
【００６４】
本発明の組成物において、第１の二色性物質及び第２の二色性物質の２種の二色性物質を含有する場合には、第１の二色性物質は、液晶性化合物と相溶し、第２の二色性物質は液晶性化合物と相溶しないことが好ましい。このように第１の二色性物質と第２の二色性物質との液晶性化合物に対する相溶性を制御することで、第１の二色性物質と第２の二色性物質との配向を同時に高くすることが可能になる。
【００６５】
液晶性化合物と第１の二色性物質の相溶性及び、液晶性化合物と第２の二色性物質の相溶性は次の方法で確かめることができる。
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ）の二枚の偏光子を互いに直交するように配置し、二枚の偏光子の間にサンプル台をセットする。液晶性化合物と二色性物質との混合比を変化させた組成物をガラス上にキャストし、サンプル台上に置いたホットステージ上にこのガラスをセットする。ホットステージの温度を液晶性化合物と二色性物質の融点以上、等方相以下の範囲で上下させて、サンプルの相分離状態を観察する。この操作において、液晶性化合物と二色性物質が任意の混合比において相分離が観察されない場合を相溶、相分離が観察される混合比が存在する場合を非相溶、と定義する。
【００６６】
＜溶媒＞
本発明の組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、および、シクロペンチルメチルエーテルなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン（クロロホルム）、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミドなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、本発明の効果がより優れる理由から、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
本発明の組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、本発明の組成物の全質量に対して、７０〜９９．５質量％であることが好ましく、８０〜９９質量％であることがより好ましく、８５〜９７質量％であることがさらに好ましい。
【００６７】
＜界面改良剤＞
本発明の組成物は、本発明の効果がより優れる理由から、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、高分子液晶性化合物を水平配向させるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７−２７２１８５号公報の［００１８］〜［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。界面改良剤としては、これら以外の化合物を用いてもよい。
本発明の組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、組成物中の液晶性化合物と二色性物質との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部が好ましい。
【００６８】
＜重合開始剤＞
本発明の組成物は、本発明の効果がより優れる理由から、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ−０１等が挙げられる。
本発明の組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、組成物中の液晶性化合物と二色性物質との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、偏光子の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、偏光子の配向がより良好となる。
【００６９】
＜結晶化温度＞
本発明の組成物の結晶化温度は、本発明の効果がより優れる理由から、０℃以上１００℃以下であることが好ましく、１５℃以上８５℃以下であることがより好ましい。本発明の組成物の結晶化温度が０℃未満であると、本発明の組成物を結晶化するために低温装置が必要になり、本発明の組成物の１１０℃を超えると、ヘイズが発生し易くなる。
【００７０】
なお、本発明の組成物の結晶化温度は、高分子液晶性化合物の代わりに本発明の組成物を用いる以外は、上述した高分子液晶性化合物の結晶化温度と同様の手順に従って測定する。上記組成物の結晶化温度とは、高分子液晶性化合物と二色性物質との混晶の結晶化温度と考えられる。
【００７１】
＜置換基Ｗ＞
本明細書における置換基Ｗについて記載する。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチル基）（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（−ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。
【００７２】
〔水平配向〕
上述のとおり、本発明の偏光子において、液晶性化合物及び二色性物質は水平配向している。
ここで水平配向とは、偏光子の主面に対して平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、水平面となす平均傾斜角が±１０度未満であることを意味する。なお、上記傾斜角は、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用いて測定することができる。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用いて、室温において、波長λにおける偏光子のミューラーマトリックスを極角を−５０°〜５０°まで１０°毎に計測し、表面反射の影響を除去した後、スネルの式およびフレネルの式を考慮した下記理論式にフィッティングすることにより、消衰係数ｋｏ［λ］（面内方向）およびｋｅ［λ］（厚さ方向）を算出する。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
ｋ＝−ｌｏｇ（Ｔ）×λ／（４πｄ）
ここで、Ｔは透過率、ｄは偏光子の厚みを表す。
算出したｋｏ［λ］、ｋｅ［λ］より、面内方向および厚さ方向の吸光度、二色比を算出することで水平配向しているか否かを確認することができる。
【００７３】
〔厚み〕
本発明の偏光子の膜厚は、本発明の効果がより優れる理由から、０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．３〜１．５μｍであることがより好ましい。組成物中の二色性物質の濃度にもよるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、より優れた吸光度の偏光子が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、より優れた透過率の偏光子が得られる。
【００７４】
〔偏光子の製造方法〕
本発明の偏光子を製造する方法は特に制限されないが、得られる偏光子の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズが観察され難くなる理由から、配向膜上に上述した本発明の組成物を塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」とも言う。）と、上記塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に備える方法（以下、「本発明の方法」とも言う）が好ましい。なお、以下、「得られる偏光子の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズが観察され難くなる」ことを「本発明の効果がより優れる」とも言う。
以下、各工程について説明する。
【００７５】
＜塗布膜形成工程＞
塗布膜形成工程は、配向膜上に上述した本発明の組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。塗布膜中の液晶性化合物は配向膜と（本発明の組成物が界面改良剤を含有する場合には）界面改良剤との相互作用により水平配向する。
上述した溶媒を含有する本発明の組成物を用いたり、本発明の組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向膜上に本発明の組成物を塗布することが容易になる。
本発明の組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【００７６】
（配向膜）
配向膜は、本発明の組成物に含有される液晶性化合物を水平配向させる膜であれば、どのような膜でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
【００７７】
（１）ラビング処理配向膜
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。
【００７８】
（２）光配向膜
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
【００７９】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【００８０】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【００８１】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色性物質偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【００８２】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。
【００８３】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【００８４】
＜配向工程＞
配向工程は、塗布膜に含有される二色性物質を配向させる工程である。これにより、本発明の偏光子が得られる。配向工程では、配向膜によって配向した液晶性化合物に沿って、二色性物質が配向するものと考えられる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、本発明の組成物に含有される二色性物質は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、本発明の組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、塗布膜に含有される二色性物質が配向して、本発明の偏光子が得られる場合がある。
【００８５】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質がより配向し、得られる偏光子の配向度がより高くなる。
加熱処理は、製造適性などの面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。
【００８６】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含有される二色性物質の配向がより固定され、得られる偏光子の配向度がより高くなる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、本発明の偏光子を得ることができる。
【００８７】
＜他の工程＞
本発明の方法は、上記配向工程後に、偏光子を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって偏光子の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【００８８】
［積層体］
本発明の積層体は、基材と、上記基材上に設けられた配向膜と、上記配向膜上に設けられた上述した本発明の偏光子とを有する。
また、本発明の積層体は、上記本発明の偏光子上に、λ／４板を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記本発明の偏光子とλ／４板との間に、バリア層を有していてもよい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。
【００８９】
〔基材〕
基材としては、適宜選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００９０】
〔配向膜〕
配向膜については、上述したとおりであるので、その説明を省略する。
【００９１】
〔偏光子〕
本発明の偏光子については、上述したとおりであるので、その説明を省略する。
【００９２】
〔λ／４板〕
「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と本発明の偏光子とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と本発明の偏光子との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層、およびバリア層が挙げられる。
【００９３】
〔バリア層〕
本発明の積層体がバリア層を備える場合、バリア層は、本発明の偏光子とλ／４板との間に設けられる。なお、本発明の偏光子とλ／４板との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層または接着層）を備える場合には、バリア層は、例えば、本発明の偏光子と他の層との間に設けることができる。
バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４−１５９１２４号公報の［００１４］〜［００５４］段落、特開２０１７−１２１７２１号公報の［００４２］〜［００７５］段落、特開２０１７−１１５０７６号公報の［００４５］〜［００５４］段落、特開２０１２−２１３９３８号公報の［００１０］〜［００６１］段落、特開２００５−１６９９９４号公報の［００２１］〜［００３１］段落の記載を参照できる。
【００９４】
〔用途〕
本発明の積層体は、例えば、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
【００９５】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の偏光子または上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【００９６】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の偏光子と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光素子のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【００９７】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【００９８】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の偏光子と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、配向膜、本発明の偏光子、必要に応じて設けられるバリア層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【００９９】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１００】
［合成例］【０１０１】
〔液晶性化合物〕【０１０２】
＜液晶性化合物Ｌ１＞
液晶性化合物Ｌ１は、以下の手順により作製した。【０１０３】
（化合物Ｌ１−２の合成）【０１０４】
【化６】
2020003938.tif 000008
【０１０５】
ブチルパラベン（２０１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（３００ｍＬ）に２−クロロエトキシエトキシエタノール（２４４ｇ）、および、炭酸カリウム（２００ｇ）を添加した。９５℃で９時間攪拌した後、トルエン（２６２ｍＬ）と水（６６０ｍＬ）を添加して、濃塩酸（１４７ｇ）を滴下した。１０分撹拌した後に、静置し、分液操作により反応液を洗浄した。得られた有機層に、２８ｗｔ％（２８質量％）ナトリウムメトキシドメタノール溶液（５００ｇ）と水（４０２ｍＬ）を加え、５０℃で２時間撹拌した。その後、濃縮により有機溶剤を留去し、水（４０２ｍＬ）を加え、重量が１．１３ｋｇになるまで５０℃で再び濃縮を行った。得られた溶液に水（４７８ｍＬ）を添加し、濃塩酸（２７８ｇ）を滴下した。そこに、酢酸エチル（１．４５ｋｇ）を加え、３０℃で１０分撹拌し、分液操作により水層を除去した。次に、２０ｗｔ％食塩水溶液（９６０ｍＬ）を加え、３０℃で１０分撹拌し、分液操作により水層を除去した。得られた有機層にＮ−メチルピロリドン（８２４ｇ）を添加し、７０℃で４時間濃縮操作を行い、化合物（Ｌ１−１）を含有するＮ−メチルピロリドン溶液を１．１３ｋｇ得た。得られた（Ｌ１−１）を含有するＮ−メチルピロリドン溶液のうち、１０８５ｇを用いて次工程を実施した。得られた（Ｌ１−１）を含有するＮ−メチルピロリドン溶液（１０８５ｇ）に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（１８９ｇ）と２，２，６，６−テトラメチルピペラジン（１．５ｇ）を加え、内温を冷却した後に、内温が１０℃を超えないように、アクリル酸クロリド（１２２ｇ）を滴下した。内温１０℃にて２時間撹拌した後に、メタノール（８１ｇ）を滴下し、３０分攪拌した。そこに酢酸エチル（１．６６ｋｇ）と、１０ｗｔ％食塩水（７００ｍＬ）と１Ｎ塩酸水（８４０ｍＬ）を加え、分液操作により水層を除去した。次に、１０ｗｔ％食塩水溶液（８００ｍＬ）を加え、３０℃で１０分撹拌し、分液操作により水層を除去した。次に、２０ｗｔ％食塩水溶液（８００ｍＬ）を加え、３０℃で１０分撹拌し、分液操作により水層を除去した。得られた有機層にヘキサン／イソプロピルアルコール（１７８０ｍＬ／９００ｍＬ）の混合溶媒を添加し、５℃まで冷却して３０分撹拌した後に、ろ過を行う事で、白色固体化合物（Ｌ１−２）を２０９ｇ（３工程収率６５％）得た。【０１０６】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６７−３．７８（ｍ，６Ｈ），３．８７−３．９２（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．２３（ｍ，２Ｈ），４．３１−４．３５（ｍ，２Ｈ），５．８０−５．８５（ｍ，１Ｈ），６．１１−６．１９（ｍ，１Ｈ），６．４０−６．４６（ｍ，１Ｈ），６．９３−６．９８（ｍ，２Ｈ），８．０２−８．０７（ｍ，２Ｈ）【０１０７】
（化合物Ｌ１−３の合成）【０１０８】
【化７】
2020003938.tif 000009
【０１０９】
メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（７３．４ｍｍｏｌ，５．７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液（７０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（２００ｍｇ）を加え、内温を−５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｌ１−２）（６６．７ｍｍｏｌ，２１．６ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。−５℃で３０分撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（２００ｍｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）と、４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニル（６０．６ｍｍｏｌ，１２．１ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｌ１−３）１８．７ｇ（収率６１％）を得た。構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。【０１１０】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６５−３．８２（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８５−３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．２８（ｍ，２Ｈ），４．２８−４．４０（ｍ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．２０（ｍ，２Ｈ）【０１１１】
不純物としては、下記化合物（Ｌ１−ｂ）が含まれる。【０１１２】
【化８】
2020003938.tif 000010
【０１１３】
（化合物Ｌ１−２３の合成）【０１１４】
【化９】
2020003938.tif 000011
【０１１５】
４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチルは、Ｊｏｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ  Ａ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１２，ｖｏｌ．５０，ｐ．３９３６−３９４３に記載の方法で合成を行った。【０１１６】
メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（５４．８ｍｍｏｌ，６．２７ｇ）の酢酸エチル溶液（４４ｍＬ）に２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシル（６８ｍｇ）を加え、内温を−５℃まで冷却した。そこに、上述のとおり合成した化合物（Ｌ１−２）（５２．６ｍｍｏｌ，１７．１ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５７．０ｍｏｌ，７．３６ｇ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。−５℃で３０分撹拌した後、４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチル（４３．８ｍｍｏｌ，１０．０ｇ）のＤＭＡｃ溶液、Ｎ−メチル−イミダゾール（ＮＭＩ）（１．８ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。水と酢酸エチルを加えて反応を停止した。分液を行い、酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｌ１−２３）２０．４ｇ（収率８７％）を得た。【０１１７】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６８−３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８７−３．９５（ｍ，２Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．２０−４．２７（ｍ，２Ｈ），４．３１−４．３７（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９７−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．２８−７．３５（ｍ，２Ｈ），７．６４−７．７２（ｍ，４Ｈ），８．０８−８．２０（ｍ，４Ｈ）【０１１８】
不純物としては、下記化合物（Ｌ１−ｂ２）が含まれる。【０１１９】
【化１０】
2020003938.tif 000012
【０１２０】
（液晶性化合物Ｌ１の合成）【０１２１】
【化１１】
2020003938.tif 000013
【０１２２】
化合物（Ｌ１−３）（８４ｇ）、化合物（Ｌ１−２３）（２１ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１５８ｍｇ）をアニソール（３３７ｇ）に溶解させた。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（１６６０ｍｇ）（商品名「Ｖ−６０１」）を室温で加え、撹拌した。得られたアニソール溶液を、窒素雰囲気化で８０℃に加熱しておいたアニソール（８４ｇ）へと２時間かけて滴下し、滴下終了後、８０℃で４時間撹拌した。得られた反応液を、メタノール（１０８０ｍＬ）へと滴下し、沈殿を濾過操作により集めた後に、アセトニトリルを用いて残渣の洗浄を行い、白色固体化合物（Ｌ１）１００ｇ（収率９５％）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１３３００であった。
なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（東ソー社製）を３本接続して使用、溶媒はＮ−メチルピロリドンを使用した。【０１２３】
＜液晶性化合物Ｌ２＞
下記ステップ１〜３に従い、液晶性化合物Ｌ２を合成した。【０１２４】
（ステップ１）【０１２５】
【化１２】
2020003938.tif 000014
【０１２６】
水酸化ナトリウム（３４．２ｇ）を１Ｌの水に溶解させ、窒素雰囲気下で、４，４’−ジヒドロキシビフェニル（４０．６ｇ）およびブロモエタノール（３７．２ｇ）を添加し、９５℃で１０時間攪拌した。
その後、室温まで冷却し、濃塩酸を加えて反応系を酸性に調整してから濾過および乾燥を行い、化合物Ｐ９−Ａを含む白色固体を得た。
得られた白色固体を４００ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶解させ、氷冷下、３−クロロプロピオニルクロリド（６２．０ｇ）を滴下し、５時間攪拌した。メタノール（４０ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。
分液操作により洗浄した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒除去し、得られた濃縮物にクロロホルムを加えた。析出した固体を濾過により取り除いた後、ロータリーエバポレーターで溶媒除去をし、酢酸エチル／クロロホルムを用いたカラムクロマトグラフィーによるに精製を行い、白色固体である化合物Ｐ９−Ａを２０．３ｇ（収率２９％）得た。【０１２７】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．８０−２．９０（ｔ，２Ｈ），３．７５−３．８５（ｔ，２Ｈ），４．１５−４．２５（ｍ，２Ｈ），４．３５−４．４５（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，２Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，４Ｈ），９．４０（ｂｒ ｓ，１Ｈ）【０１２８】
（ステップ２）【０１２９】
【化１３】
2020003938.tif 000015
【０１３０】
化合物Ｐ９−Ａの４．０ｇと、合成例１で調製した化合物Ｐ１−１の８．０８ｇと、ジクロロメタン１００ｍＬとを混合し、室温で撹拌した。混合物に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１５２ｍｇ、および、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）９．５６ｇを加え、室温で１２時間撹拌した。
その後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、メタノール１２０ｍＬと１Ｍ、塩酸水１２０ｍＬを加えて濾過を行い、白色固体を得た。得られた白色固体を酢酸エチルと水を加えて分液を行い、集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィによる精製を行うことで化合物Ｐ９−Ｂを５．４ｇ得た（収率６９％）。【０１３１】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．８７（ｔ，２Ｈ）、３．６８−３．８２（ｍ，８Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），４．１８−４．２８（ｍ，４Ｈ），４．２８−４．３８（ｍ，２Ｈ），４．４６−４．５４（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．２０（ｍ，２Ｈ）【０１３２】
（ステップ３）【０１３３】
【化１４】
2020003938.tif 000016
【０１３４】
化合物Ｐ１−２（０．８ｇ）および化合物Ｐ９−Ｂ（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ９−Ｃを０．９０ｇ得た。得られた化合物Ｐ９−Ｃのクロロホルム溶液（７ｍＬ）に、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（５０ｍｇ）、および、トリエチルアミン（０．７ｍＬ）を加え、内温を５０℃まで加熱した。５０℃で９時間撹拌した後、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて原料の消失を確認し、室温へと冷却した。そこに、メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である液晶性化合物Ｌ２を０．８ｇ得た。得られた高分子液晶性化合物Ｌ５をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００（ポリスチレン換算）であった。【０１３５】
＜液晶性化合物Ｌ３＞
下記ステップ１〜３に従い、液晶性化合物Ｌ３を合成した。【０１３６】
＜ステップ１＞
【化１５】
2020003938.tif 000017
【０１３７】
４−プロピルアニリン２０ｇを、濃塩酸３７ｍＬおよび水３００ｍＬに溶解させ、外設０℃で３０分撹拌した。外設０℃で内温を１０℃以下に維持して、亜硝酸ナトリウム１０．４ｇを水８０ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。内温１０℃以下で２０分撹拌し、ジアゾニウム溶液を調製した。
また、水酸化ナトリウム１８．６ｇを水５００ｍＬに溶解させ、ｏ−メチルフェノール１６．２ｇを滴下し、外設０℃で１０分撹拌し、カプラー溶液を調製した。
次いで、調製したカプラー溶液に、上記で調製したジアゾニウム溶液を、内温１０℃以下を維持して滴下した。滴下終了後、室温で１時間撹拌した。
次いで、希塩酸水を用いてｐＨが８〜９になるまで中和し、固体を析出させた。析出した固体を濾別し、水で洗浄後、４０℃で乾燥し、黄色固体Ｌ３−Ａを３３ｇ得た。【０１３８】
＜ステップ２＞
【化１６】
2020003938.tif 000018
【０１３９】
３５ｇのアクリレート原料Ｂをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００ｍＬに溶解させ、メタンスルホニルクロライド１０．６６ｇを添加した。外設０℃で５分撹拌し、内温１０℃以下を維持して、ジイソプロピルエチルアミン１２．０３ｇを滴下した。内温１０℃以下で３０分撹拌し、アクリレート原料溶液を調製した。
次いで、ｔ−ブトキシカリウム１１．３６ｇとＴＨＦ２００ｍＬを外設０℃で撹拌し、内温１０℃以下を維持して、ＴＨＦ２００ｍＬに黄色固体Ｌ３−Ａを１９．８８ｇ溶解させた溶液を、滴下した。反応液を室温で１時間撹拌後、メタノール１００ｍＬと水１０００ｍＬを加えて晶析した。得られた固体を、外設８０℃で酢酸エチル５００ｍＬに溶解させ、ｎ−ヘキサン５５０ｍＬを加え、室温まで降温することで、固体を析出させた。得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し、室温で乾燥することで、黄色固体Ｌ３−Ｂを３１ｇ得た。【０１４０】
＜ステップ３＞
【化１７】
2020003938.tif 000019
【０１４１】
３０ｇの黄色固体Ｌ３−Ｂを、ジメチルアセトアミド１２０ｍＬに溶解させ、窒素を流しながら１時間撹拌した。外設９０℃で加熱し、重合開始剤Ｖ−６０１を０．６０のジメチルアセトアミド１０ｍＬ溶液を添加し、２時間加熱した。重合開始剤の添加と外設９０℃での２時間加熱を２回繰り返し、黄色固体Ｐ２−Ｂを重合させた。反応終了後、１００℃で２時間加熱した。その後、内温を６０℃まで下げ、酢酸エチル１５０ｍＬを添加し、メタノール２０００ｍＬに滴下してポリマー固体を析出させた。濾別したポリマー固体をメタノールで洗浄し、室温で乾燥し、黄色固体の高分子化合物Ｐ３を２９ｇ得た。得られた液晶性化合物Ｌ３をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は６６００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４０００（いずれもポリスチレン換算）であった。【０１４２】
＜液晶性化合物Ｌ４＞
下記ステップ１および２に従い、液晶性化合物Ｌ４を合成した。【０１４３】
＜ステップ１＞
【化１８】
2020003938.tif 000020
【０１４４】
メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（５４．８ｍｍｏｌ，６．２７ｇ）の酢酸エチル溶液（４４ｍＬ）に２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシル（６８ｍｇ）を加え、内温を−５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１−１）（５２．６ｍｍｏｌ，１７．１ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５７．０ｍｏｌ，７．３６ｇ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。−５℃で３０分撹拌した後、４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニル（４３．８ｍｍｏｌ，８．５５ｇ）のＤＭＡｃ溶液、Ｎ−メチル−イミダゾール（ＮＭＩ）（１．８ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。水と酢酸エチルを加えて反応を停止した。分液を行い、酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｌ４−Ｂ）１９．０ｇ（収率８７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６８−３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８７−３．９５（ｍ，２Ｈ），４．２０−４．２７（ｍ，２Ｈ），４．３２−４．３７（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９８−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．３７（ｍ，２Ｈ），７．６０−７．７８（ｍ，６Ｈ），８．１３−８．２０（ｍ，２Ｈ）【０１４５】
＜ステップ２＞
【化１９】
2020003938.tif 000021
【０１４６】
化合物Ｌ１−３（０．８１ｇ）、化合物Ｌ４−Ｂ（０．１５ｇ）及び２−ヒドロキシエチルアクリレート（０．０４ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．１２ｇ）（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物（Ｌ４−Ａ）を０．９８ｇ得た。
次いで、化合物（Ｌ４−Ａ）を１０ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶解させ、氷冷下、アクリル酸クロライド（０．２ｇ）を滴下し、５時間攪拌した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで液晶性化合物Ｌ４を０．９６ｇ得た。
得られた液晶性化合物Ｌ４をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５０００（ポリスチレン換算）であった。【０１４７】
〔実施例１〕
＜透明支持体１の作製＞
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（製品名「ＴＧ４０」、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜が形成された透明支持体１を得た。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が４質量％となるように配向膜塗布液中に加えた。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・変性ビニルアルコール（下記ＰＶＡ−１）          ２．００質量部
・水                                            ７４．０８質量部
・メタノール                                    ２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製）        ０．０６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１４８】
変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１）【０１４９】
【化２０】
2020003938.tif 000022
【０１５０】
＜配向膜１の作製＞
下記構造の光配向材料Ｅ−１の１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、および、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで配向膜形成用組成物１を調製した。
次いで、得られた配向膜形成用組成物１を透明支持体１上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、配向膜１（下記表１中、アゾ（Ｅ−１）と記した。）を作製した。【０１５１】
【化２１】
2020003938.tif 000023
【０１５２】
＜偏光子１の作製＞
得られた配向膜１上に、下記の偏光子形成用組成物１を＃７のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ2の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に偏光子１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子形成用組成物１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記第１の二色性物質Ｙ１                      ０．１４０質量部
・下記第２の二色性物質Ｃ１                      ０．６０８質量部
・下記第３の二色性物質Ｍ１                      ０．２２５質量部
・下記液晶性化合物Ｌ１                          ４．３８９質量部
・下記添加剤ＬＣ１                              ０．５４９質量部
・下記界面改良剤Ｆ１                            ０．０４３質量部
・重合開始剤Ｉ１
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製））      ０．０４７質量部
・シクロペンタノン                            ４７．０００質量部
・テトラヒドロフラン                          ４７．０００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１５３】
＜Ｘ線回折スペクトル＞
得られた偏光子１について、薄膜評価用Ｘ線回折装置（リガク社製、商品名：「ＳｍａｒｔＬａｂ」）を用いて偏光子層表面に下記条件にてＸ線を照射し、インプレーン  ＸＲＤを行った。
（条件）
・Ｃｕ線源使用（ＣｕＫα、出力４５ｋＶ、２００ｍＡ）
・Ｘ線入射角０．２°
・使用光学系：平行光学系（ＣＢＯ（ＰＢ））
・入射側  入射スリット０．２ｍｍ  入射平行スリットＩｎ−ｐｌａｎｅ  ＰＳＣ  ０．５ｄｅｇ、長手制限スリット  １０ｍｍ
・受光側  受光スリット  ２０  ｍｍ、受光平行スリットＩｎ−ｐｌａｎｅ  ＰＳＡ  ０．５ｄｅｇ
・検出器：リガク社製ＨｙＰｉｘ３０００（０Ｄモード）
・２θχ／φスキャン  Ｓｃａｎ条件：１〜４０ｄｅｇｒｅｅの範囲を０．００８ｄｅｇｒｅｅ／ｓｔｅｐ、２．０ｄｅｇｒｅｅ／ｍｉｎ
・φスキャン  Ｓｃａｎ条件：−１２０〜１２０ｄｅｇｒｅｅの範囲を０．５ｄｅｇｒｅｅ／ｓｔｅｐ、９．６ｄｅｇｒｅｅ／ｍｉｎ【０１５４】
液晶性化合物及び二色性物質が長軸方向で配向した方向を方位角（φ）０°とし、１５°刻みで全方向のインプレーン  ＸＲＤ（２θχ／φスキャン）を行い、観測されたピークに対して行ったφスキャンにより、ピーク強度が最大となる基板平面内における向きを決定した。両測定とも、ＣｕＫαを用いて、入射角０．２０°で実施した。配向軸方向（上述のとおり決定された向き）の測定から得られたピークを測定サンプルの膜用いて、下記の回折角と距離の関係から周期長を求めた。Ｘ線入射角０．２°におけるＸ線侵入長に相当する膜厚として規格化しピーク強度を算出した（ｃｐｓ表記）。
ｄ＝λ／（２×ｓｉｎθ）    （ｄ：距離、λ：入射Ｘ線波長（ＣｕＫα；１．５４１８Å））
結果を図１に示す。
図１に示すとおり、回折角が１７°以下の範囲に３つのピークａ１〜ａ３が観測された。ピークａ１に対応するｄは３０．３Åであり、ピークａ２に対応するｄは１８．３Åであり、ピークａ３に対応するｄは１１．２Åであった。
ピークａ１〜ピークａ３それぞれに対応するｄは互いに整数倍の関係にはない。したがって、ピークａ１〜ピークａ３はいずれもピークＡに該当する。
また、回折角がおよそ２０°の位置にブロードなピークｂ（ハロー）が観測された。【０１５５】
＜透明樹脂層（バリア層）１の形成＞
偏光子１上に、下記硬化性組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ2の照射条件で６０秒間照射し、硬化性組成物１を硬化させ、偏光子１上に透明樹脂層（バリア層）１が形成された積層体を作製した。このようにして、実施例１の積層体を得た。
ミクロトーム切削機を用いて、透明樹脂層１の断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約１．０μｍであった。【０１５６】
――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化性組成物１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・重合性化合物  ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０
（日本化薬社製）                                      ２９質量部
・重合開始剤  ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）    １質量部
・アルミナエタノールゾルＡ２Ｋ５−１０
(川研ファインケミカル社製、柱状のアルミナ水和物粒子が液中に分散し
たコロイド液)                                          ７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１５７】
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０【０１５８】
【化２２】
2020003938.tif 000024
【０１５９】
〔実施例２〜５、比較例１〜２〕
偏光子形成用組成物１の代わりに、表１に記載の組成の偏光子形成用組成物を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って偏光子、および、偏光子を有する積層体を作製した。
また、実施例２〜５および比較例１〜２において、偏光子の作製後に実施例１と同様にしてインプレーン  ＸＲＤを行った。その結果、実施例２〜５では、回折角が１７°以下の範囲に周期構造の間隔が他のピークに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡが観測された。
一方、図２に、比較例１のＸＲＤスペクトルを示す。図２に示すように、ＸＲＤスペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲にピークが存在しない。すなわち、ピークＡが観測されなかった。
また、図３に、比較例２のＸＲＤスペクトルを示す。図３に示すように、ＸＲＤスペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲に２つのピークが存在する。２つのピークに対応する周期構造の間隔はそれぞれ３５．９Åと１７．６Åであり、整数倍（２倍）の関係にある。比較例２は、スメクチック成分のみが存在する偏光子である。【０１６０】
また、実施例２〜５において、ピークＡの１つに対応する周期構造に対してφスキャンを行った。
図４は、実施例２において観測されたピークＡの１つに対するφスキャンの結果である。観測されたピークに対してｇａｕｓｓ関数でフィッティングしてピークの半値幅を求めたところ３°であった。
図５は、実施例３において観測されたピークＡの１つに対するφスキャンの結果である。観測されたピークの半値幅は、３０°であった。
図６は、実施例４において観測されたピークＡの１つに対するφスキャンの結果である。観測されたピークの半値幅は、２３°であった。
図７は、実施例５において観測されたピークＡの１つに対するφスキャンの結果である。観測されたピークの半値幅は、３３°であった。【０１６１】
〔液晶性化合物〕
以下に各例で使用した液晶性化合物をまとめて示す。【０１６２】
【化２３】
2020003938.tif 000025
【０１６３】
〔液晶相転移温度〕
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ）の二枚の偏光子を互いに直交するように配置し、二枚の偏光子の間にサンプル台をセットした。そして、液晶化合物をスライドガラスに少量乗せ、サンプル台上に置いたホットステージ上にスライドガラスをセットした。サンプルの状態を顕微鏡で観察しながら、ホットステージの温度を５℃／分で上げ、サンプルのから液晶相の種類と、相転移する温度を記録した。結果を以下に示す。なお、下記におけるＫは個体、ＳｍＡはスメクチックＡ相を、ＳｍＢはスメクチックＢ相を、ＳｍＣはスメクチックＣ相を、Ｎはネマチック相を、Ｉｓｏは等方相を、表わし、「＞２５０」とは２５０℃までネマチック相であること（相転移しない）を表わす。
・Ｌ１：Ｋ  ９８℃  Ｎ  ２４３℃  Ｉｓｏ
・Ｌ２：Ｋ  ９８℃  Ｎ  ２４０℃  Ｉｓｏ
・Ｌ３：Ｋ  １１７℃  Ｎ  ＞２５０
・Ｌ４：Ｋ  ８７℃  ＳｍＣ  １１６℃  ＳｍＡ  ２１８℃  Ｎ  ２４５℃  Ｉｓｏ【０１６４】
〔添加剤〕【０１６５】
【化２４】
2020003938.tif 000026
【０１６６】
〔二色性物質〕
以下に各例で使用した二色性物質をまとめて示す。【０１６７】
【化２５】
2020003938.tif 000027
【０１６８】
【化２６】
2020003938.tif 000028
【０１６９】
【化２７】
2020003938.tif 000029
【０１７０】
〔界面改良剤〕
以下に各例で使用した界面改良剤を示す。【０１７１】
【化２８】
2020003938.tif 000030
【０１７２】
［評価］
以下のとおり、偏光子を有する積層体について配向度を評価した。【０１７３】
〔配向度〕
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例及び比較例の各積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ  Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長域における偏光子の吸光度を測定した。そして、以下の式により配向度Ｓを算出した。
結果を表１に示す。また、図８には、φスキャンにおける半値幅（ＦＷＨＭ）と配向度Ｓとの関係を表すグラフを示す。実用上、配向度は０．９３以上であることが好ましく、０．９６以上であることがより好ましい。
配向度：Ｓ＝（（Ａｚ０／Ａｙ０）−１）／（（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２）
Ａｚ０：偏光子の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：偏光子の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
上記式において、「Ａｚ０」は偏光子の吸収軸方向の偏光に対する吸光度を表し、「Ａｙ０」は偏光子の偏光軸方向の偏光に対する吸光度を表す。
【表１】
2020003938.tif 000031
【０１７４】
表１から、ＸＲＤスペクトルにおいて、回折角が１７°以下の範囲に周期構造の間隔が他のピークに対応する周期構造の間隔と整数倍の関係にならないピークＡが観測される実施例１〜５は、比較例に比べて高い配向度を示すことがわかる。
また、図８（実施例２〜５の対比）から、ピークＡに対応する周期構造に対するφスキャンにおけるピークの半値幅は３０°以下であるのが好ましく、３°〜２３°の範囲であるのが好ましいことがわかる。
【図１】
2020003938.tif 000032
【図２】
2020003938.tif 000033
【図３】
2020003938.tif 000034
【図４】
2020003938.tif 000035
【図５】
2020003938.tif 000036
【図６】
2020003938.tif 000037
【図７】
2020003938.tif 000038
【図８】
2020003938.tif 000039
【国際調査報告】
2020003938.tif 000040
2020003938.tif 000041