(57)【要約】  実施形態に係る液処理装置は、発熱部材（３１ａ）と、基板保持部（３１）と、処理液供給部（４０）と、コイル（３２）とを備える。発熱部材（３１ａ）は、基板に近接して配置され断熱部材（３１ｂ）を有する。基板保持部（３１）は、基板を保持する。処理液供給部（４０）は、基板保持部（３１）に保持された基板上に処理液を供給する。コイル（３２）は、発熱部材（３１ａ）を誘導加熱することにより基板を加熱する。
2019171948.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に近接して配置され断熱部材を有する発熱部材と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板上に処理液を供給する処理液供給部と、
前記発熱部材を誘導加熱することにより前記基板を加熱するコイルと、
を備える液処理装置。
【請求項２】
前記断熱部材は、前記発熱部材に対して前記基板とは反対側に配置される請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記発熱部材は、分割して配置される請求項１または２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記発熱部材は、前記基板の一部にのみ対応する位置に設けられる請求項１〜３のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記コイルは、複数設けられ、
複数の前記コイルは、前記基板の複数の部位を個別に加熱可能である請求項１〜４のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記コイルは、前記基板と向かい合う位置に前記基板の周方向に沿って配置され、
複数の前記コイルは、前記基板の径方向に沿って並んで配置される請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記コイルから前記発熱部材以外の箇所に漏れる磁束を遮蔽する遮蔽部材をさらに備える請求項１〜６のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項８】
前記基板保持部は、前記コイルから放射される磁束から変換された電力により動作して温度を検知し、検知された温度情報を無線送信するワイヤレス温度センサを備える請求項１〜７のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項９】
前記基板保持部は、前記基板と直接接触するように前記基板を保持する請求項１〜８のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項１０】
基板保持部に保持された基板に処理液を供給する工程と、
コイルにより断熱部材を有する発熱部材を誘導加熱して前記基板を加熱する工程と、
を含み、
前記加熱する工程は、前記基板に供給された前記処理液の処理能力を変化させる
液処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
開示の実施形態は、液処理装置および液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板である半導体ウェハ（以下、ウェハと呼称する。）を様々な処理液で処理する液処理装置が知られている。かかる液処理装置では、ウェハを高温で温度制御しながら液処理を行うことにより、処理効率を向上させることができる（たとえば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−１１２３６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の液処理装置では、ウェハを効率的かつ安定的に加熱することが困難であった。【０００５】
実施形態の一態様は、上記に鑑みてなされたものであって、液処理されるウェハを効率的かつ安定的に加熱することができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
実施形態の一態様に係る液処理装置は、発熱部材と、基板保持部と、処理液供給部と、コイルとを備える。前記発熱部材は、基板に近接して配置され断熱部材を有する。前記基板保持部は、前記基板を保持する。前記処理液供給部は、前記基板保持部に保持された前記基板上に処理液を供給する。前記コイルは、前記発熱部材を誘導加熱することにより前記基板を加熱する。
【発明の効果】
【０００７】
実施形態の一態様によれば、液処理されるウェハを効率的かつ安定的に加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す模式図である。
【図２】図２は、液処理ユニットの構成を示す模式図である。
【図３】図３は、実施形態に係る基板保持機構の構成を示す断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、実施形態の変形例１に係る基板保持機構の構成を示す断面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、実施形態の変形例１に係るコイルの構成を示す上面図である。
【図５】図５は、実施形態の変形例２に係る基板保持機構の構成を示す断面図である。
【図６】図６は、実施形態の変形例３に係る基板保持機構の構成を示す断面図である。
【図７】図７は、実施形態の変形例４に係る基板保持機構の構成を示す断面図である。
【図８Ａ】図８Ａは、実施形態の変形例５に係る基板保持機構の構成を示す断面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、実施形態の変形例５に係るワイヤレス温度センサの構成を示すブロック図である。
【図９】図９は、実施形態に係る液処理における処理手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して、本願の開示する液処理装置および液処理方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。
【００１０】
＜基板処理システムの概要＞
最初に、図１を参照しながら、実施形態に係る基板処理システム１の概略構成について説明する。図１は、実施形態に係る基板処理システム１の概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。
【００１１】
図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。
【００１２】
搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、実施形態では半導体ウェハＷ（以下、ウェハＷと呼称する。）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。
【００１３】
搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウェハＷの搬送を行う。
【００１４】
処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の液処理ユニット１６とを備える。複数の液処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。
【００１５】
搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部１４と液処理ユニット１６との間でウェハＷの搬送を行う。
【００１６】
液処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウェハＷに対して所定の液処理を行う。液処理ユニット１６の詳細については後述する。
【００１７】
また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。
【００１８】
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【００１９】
上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウェハＷを取り出し、取り出したウェハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウェハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、液処理ユニット１６へ搬入される。
【００２０】
液処理ユニット１６へ搬入されたウェハＷは、液処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって液処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウェハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。
【００２１】
＜液処理ユニットの概要＞
次に、液処理ユニット１６の概要について、図２を参照しながら説明する。図２は、液処理ユニット１６の構成を示す模式図である。図２に示すように、液処理ユニット１６は、処理室２０と、基板保持機構３０と、処理液供給部４０と、回収カップ５０とを備える。
【００２２】
処理室２０は、基板保持機構３０と処理液供給部４０と回収カップ５０とを収容する。処理室２０の天井部には、ＦＦＵ（Fan  Filter  Unit）２１が設けられる。ＦＦＵ２１は、処理室２０内に供給される清浄ガスのダウンフローを形成する。なお、ＦＦＵ２１は必須ではなく、処理室２０にＦＦＵ２１を設けなくてもよい。
【００２３】
基板保持機構３０は、基板保持部３１と、コイル３２と、遮蔽部材３３と、シャフト３４と、駆動部３５とを備える。基板保持部３１は、ウェハＷを水平に保持する。コイル３２は、基板保持部３１に近接して配置される。遮蔽部材３３は、コイル３２に対して基板保持部３１とは反対側に配置される。かかる基板保持部３１、コイル３２および遮蔽部材３３の詳細については後述する。
【００２４】
シャフト３４は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３５によって回転可能に支持され、先端部において基板保持部３１を水平に支持する。駆動部３５は、シャフト３４を鉛直軸まわりに回転させる。
【００２５】
かかる基板保持機構３０は、駆動部３５を用いてシャフト３４を回転させることによってシャフト３４に支持された基板保持部３１を回転させ、これにより、基板保持部３１に保持されたウェハＷを回転させる。
【００２６】
処理液供給部４０は、基板保持部３１に保持されたウェハＷに対して処理流体を供給する。処理液供給部４０は、ノズル４１ａと、かかるノズル４１ａを水平に支持するアーム４２と、アーム４２を旋回および昇降させる旋回昇降機構４３とを備える。
【００２７】
ノズル４１ａは、バルブ４４ａと流量調整器４５ａとを介して処理液供給源４６ａに接続される。処理液供給源４６ａには、ウェハＷを処理する所定の処理液が貯蔵される。なお、図２では、処理液供給部４０にノズルや処理液供給源などを１セット設けた例について示したが、処理液供給部４０にノズルや処理液供給源などを複数セット設けてもよい。
【００２８】
回収カップ５０は、基板保持部３１を取り囲むように配置され、基板保持部３１の回転によってウェハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ５０の底部には、排液口５１が形成されており、回収カップ５０によって捕集された処理液は、かかる排液口５１から液処理ユニット１６の外部へ排出される。また、回収カップ５０の底部には、ＦＦＵ２１から供給される清浄ガスを液処理ユニット１６の外部へ排気する排気口５２が形成される。
【００２９】
＜基板保持機構の構成＞
次に、基板保持機構３０の具体的な構成について、図３を参照しながら説明する。図３は、実施形態に係る基板保持機構３０の構成を示す断面図である。
【００３０】
基板保持部３１は、略円板状であり、基板保持部３１の上面には、ウェハＷを吸引する図示しない吸引口が設けられる。そして、基板保持部３１は、かかる吸引口からの吸引により、ウェハＷを基板保持部３１の上面に保持することができる。
【００３１】
基板保持部３１は、内部に発熱部材３１ａと断熱部材３１ｂとを有する。発熱部材３１ａは、基板保持部３１の上面よりわずかに小さい径を有する略円板状であり、コイル３２から放射される磁束によって誘導加熱される部材で構成される。発熱部材３１ａは、たとえば、グラファイトである。なお、発熱部材３１ａはグラファイト以外で構成されていてもよい。
【００３２】
断熱部材３１ｂは、発熱部材３１ａと略等しい径を有する略円板状であり、熱伝導率が小さい材料で構成される。断熱部材３１ｂは、たとえば、合成樹脂やセラミックスなどである。なお、断熱部材３１ｂは合成樹脂やセラミックス以外で構成されていてもよい。
【００３３】
このように、基板保持部３１に発熱部材３１ａと断熱部材３１ｂとを設けることにより、コイル３２から放射される磁束に起因して発熱部材３１ａで生じた熱が、ウェハＷ以外の箇所に逃げることを抑制することができる。したがって、実施形態によれば、液処理されるウェハＷを効率的かつ安定的に加熱することができる。
【００３４】
実施形態では、断熱部材３１ｂが、発熱部材３１ａに対してウェハＷとは反対側に配置されるとよい。たとえば、ウェハＷが基板保持部３１の上面に保持される場合、発熱部材３１ａは基板保持部３１の上側に配置され、断熱部材３１ｂは基板保持部３１の下側に配置されるとよい。
【００３５】
これにより、発熱部材３１ａにおけるウェハＷとは反対側（すなわち、下側）に熱が逃げることを抑制することができる。したがって、実施形態によれば、液処理されるウェハＷをさらに効率的に加熱することができる。
【００３６】
また、実施形態では、基板保持部３１が、ウェハＷと直接接触するようにウェハＷを保持するとよい。これにより、基板保持部３１の発熱部材３１ａで生じた熱を、空気などを介することなく直接ウェハＷに伝えることができる。したがって、実施形態によれば、液処理されるウェハＷをさらに効率的に加熱することができる。
【００３７】
なお、実施形態では、ウェハＷと直接接触するように基板保持部３１がウェハＷを保持する例について示したが、必ずしもウェハＷと直接接触するように保持しなくともよい。たとえば、基板保持部３１は、空気などを介したとしても熱が伝わる程度に基板保持部３１の上面に近接させて（たとえば、ギャップが０．５ｍｍ以下）、ウェハＷを保持してもよい。
【００３８】
また、実施形態では、基板保持部３１の表面に耐食性コーティングが施されているとよい。これにより、腐食性のある処理液でウェハＷを処理する際に、基板保持部３１内の発熱部材３１ａや断熱部材３１ｂが腐食することを抑制することができる。
【００３９】
基板保持機構３０のその他の部位についての説明を続ける。コイル３２は、基板保持部３１に近接して配置される。たとえば、コイル３２は、基板保持部３１の下側に近接して配置される。なお、コイル３２は、基板保持機構３０の図示しない支持部により支持されることから、基板保持部３１とともに回転はしない。
【００４０】
そして、コイル３２は、近接する基板保持部３１の発熱部材３１ａに対して磁束を放射する。これにより、実施形態では、ウェハＷとともに回転する基板保持部３１の発熱部材３１ａを誘導加熱することができる。
【００４１】
コイル３２は、巻回軸が発熱部材３１ａに向いているとよい。たとえば、実施形態では、コイル３２の巻回軸が鉛直方向を向いているとよい。これにより、コイル３２は、発熱部材３１ａに対して効率よく磁束を放射することができる。更に、コイル３２の間に磁束遮断を入れてもよい。
【００４２】
なお、コイル３２は、巻回軸が発熱部材３１ａに向いた１つのコイルで構成されていてもよく、巻回軸が発熱部材３１ａに向いた複数のコイルが並んで構成されていてもよい。コイル３２は、発熱部材３１ａの全体に磁束を放射することができれば、どのような構成であってもよい。
【００４３】
遮蔽部材３３は、コイル３２から放射される磁束を遮蔽する。遮蔽部材３３は、コイル３２の周辺において、基板保持部３１とコイル３２との間以外の箇所に配置される。たとえば、遮蔽部材３３は、コイル３２の下側（すなわち、コイル３２における巻回軸の他方側）に配置される。
【００４４】
これにより、コイル３２から放射される磁束が液処理ユニット１６内の他の機器に干渉することを抑制することができる。したがって、実施形態によれば、液処理されるウェハＷをさらに安定的に加熱することができる。なお、遮蔽部材３３は、基板保持部３１とともに回転してもよく、基板保持部３１とともに回転しなくてもよい。
【００４５】
＜変形例＞
つづいて、上述の実施形態における各種変形例について説明する。図４Ａは、実施形態の変形例１に係る基板保持機構３０の構成を示す断面図であり、図４Ｂは、実施形態の変形例１に係るコイル３２の構成を示す上面図である。
【００４６】
図４Ａおよび図４Ｂに示すように、変形例１のコイル３２は、複数のコイル３２ａ〜３２ｄを有する。かかるコイル３２ａ〜３２ｄは、それぞれ一対の電極３２ａ１〜３２ｄ１を有し、かかる一対の電極３２ａ１〜３２ｄ１から複数のコイル３２ａ〜３２ｄに個別に電力を供給することができる。
【００４７】
そして、実施形態では、複数のコイル３２ａ〜３２ｄに個別に電力を供給することにより、ウェハＷにおける複数の部位を個別に加熱することができる。したがって、変形例１によれば、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。ここで、「処理能力」とは、ウェハＷの処理にあたって、処理液がウェハＷ自体やウェハＷに形成された膜に及ぼす作用の力をいう。例えば、エッチングレートや洗浄力、めっき膜等の成長速度などが、この処理能力に含まれる。また、ウェハＷの処理内容に応じて、例えばウェハＷ面内の各部位で異なる温度にして、ウェハＷ面内でエッチングレートを異なるように制御してもよい。
【００４８】
図４Ａおよび図４Ｂに示すように、変形例１では、コイル３２ａ〜３２ｄがそれぞれウェハＷと向かい合う位置にウェハＷの周方向に沿って配置され、コイル３２ａ〜３２ｄがウェハＷの径方向に沿って並んで配置されているとよい。すなわち、変形例１では、コイル３２ａ〜３２ｄがそれぞれ異なる径を有する同心円上で円弧状に配置されているとよい。
【００４９】
また、変形例１では、円弧状に配置されるコイル３２ａ〜３２ｄのそれぞれにおいて、巻回軸が発熱部材３１ａに向いた複数のコイルがかかる円弧状の領域に沿って並んで配置されているとよい。
【００５０】
ここで、ウェハＷを回転させながら行う液処理では、ウェハＷの周方向で処理液の処理能力が異なる場合が多く見られるが、コイル３２ａ〜３２ｄを上述のように配置することにより、周方向で異なる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。
【００５１】
図５は、実施形態の変形例２に係る基板保持機構３０の構成を示す断面図である。図５に示すように、変形例２では、発熱部材３１ａが分割して配置される。たとえば、変形例２の発熱部材３１ａは、それぞれ異なる径を有する同心円上で円弧状に配置される発熱部材３１ａ１、３１ａ２、３１ａ３と、中心部側に配置される円板状の発熱部材３１ａ４とで構成される。
【００５２】
このように、発熱部材３１ａを分割して、各発熱部材３１ａの蓄熱状態に違いを持たせることにより、ウェハＷにおける複数の部位をそれぞれ個別の温度で加熱することができる。したがって、変形例２によれば、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。
【００５３】
図６は、実施形態の変形例３に係る基板保持機構３０の構成を示す断面図である。図６に示すように、変形例３では、ウェハＷの一部にのみ対応する位置に発熱部材３１ａが設けられる。たとえば、変形例３では、ウェハＷの外周部にのみ対応する位置に発熱部材３１ａが設けられる。
【００５４】
このように、ウェハＷの一部にのみ対応する位置に発熱部材３１ａを設けることにより、発熱部材３１ａに対応するウェハＷの部分を選択的に加熱することができる。したがって、変形例３によれば、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。
【００５５】
なお、変形例３ではウェハＷの外周部にのみ対応する位置に発熱部材３１ａが設けられた例について示したが、発熱部材３１ａが設けられる部位はウェハＷの外周部に対応する位置に限られず、処理液の処理能力が低いウェハＷの部位に対応する位置に発熱部材３１ａを配置すればよい。
【００５６】
図７は、実施形態の変形例４に係る基板保持機構３０の構成を示す断面図である。図７に示すように、変形例４では、発熱部材３１ａの厚さが部位により異なっている。たとえば、変形例４では、発熱部材３１ａの外周部がそれ以外の部位よりも厚くなっている。
【００５７】
このように、発熱部材３１ａの厚さに違いを持たせることにより、厚い部位の発熱部材３１ａをさらに昇温（蓄熱）させながらウェハＷを加熱することができる。したがって、変形例４によれば、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。
【００５８】
なお、変形例４では発熱部材３１ａの外周部をそれ以外の部位より厚くした例について示したが、厚くする部位は発熱部材３１ａの外周部に限られず、処理液の処理能力が低いウェハＷの部位に近接する発熱部材３１ａを厚くすればよい。
【００５９】
図８Ａは、実施形態の変形例５に係る基板保持機構３０の構成を示す断面図である。図８Ａに示すように、変形例５では、基板保持部３１にワイヤレス温度センサ３６が設けられる。かかるワイヤレス温度センサ３６は、基板保持部３１内の温度情報を無線送信する機能を有し、たとえば、基板保持部３１の発熱部材３１ａ内に複数設けられる。
【００６０】
図８Ｂは、実施形態の変形例５に係るワイヤレス温度センサ３６の構成を示すブロック図である。図８Ｂに示すように、ワイヤレス温度センサ３６は、受電コイル３６ａと、整流部３６ｂと、電池３６ｃと、温度センサ３６ｄと、送信部３６ｅとを有する。
【００６１】
受電コイル３６ａは、コイル３２から放射される磁束を受け取って、かかる磁束を交流電力に変換し、変換された交流電力を整流部３６ｂに送る。整流部３６ｂは、受電コイル３６ａから送られた交流電力を所定の直流電力に変換し、かかる直流電力を電池３６ｃに送る。電池３６ｃは、整流部３６ｂから送られた直流電力を蓄電する。なお、電磁誘導ワイヤレス充電にかかわらず、磁気共鳴方式や、電波伝搬方式などの他のワイヤレス方式でもよい。
【００６２】
整流部３６ｂ、温度センサ３６ｄおよび送信部３６ｅは、電池３６ｃに貯められた電力で動作する。温度センサ３６ｄは、たとえば、熱電対が搭載されたセンサであり、基板保持部３１内の温度を検知する。そして、温度センサ３６ｄは、検知された温度情報を送信部３６ｅに送る。送信部３６ｅは、温度センサ３６ｄから送られた温度情報を外部に送信する。
【００６３】
これにより、ワイヤレス温度センサ３６が搭載された基板保持部３１の温度をモニタリングすることができる。すなわち、変形例５では、モニタリングされる基板保持部３１の温度情報に基づいて、ウェハＷの温度を推定しながら液処理を行うことができる。
【００６４】
したがって、変形例５によれば、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内でさらに揃えることができる。
【００６５】
＜液処理の詳細＞
つづいて、図９を参照しながら、実施形態に係る液処理の詳細について説明する。図９は、実施形態に係る液処理における処理手順を示すフローチャートである。
【００６６】
まず、キャリアＣから、基板搬送装置１３と、受渡部１４と、基板搬送装置１７とを経由して、ウェハＷを液処理ユニット１６の内部に搬送し、液処理ユニット１６の基板保持部３１でウェハＷを保持する。
【００６７】
つづいて、制御部１８は、液処理ユニット１６を制御して、基板保持部３１に保持されたウェハＷに処理液を供給する（ステップＳ１０１）。かかる処理液を供給する処理は、たとえば、処理液供給部４０を動作させて、処理液供給源４６ａに貯蔵される所定の処理液をノズル４１ａを介してウェハＷ上に吐出することにより行われる。
【００６８】
つづいて、制御部１８は、液処理ユニット１６を制御して、コイル３２により断熱部材３１ｂを有する発熱部材３１ａを誘導加熱してウェハＷを加熱する（ステップＳ１０２）。かかるウェハＷを加熱する工程は、たとえば、コイル３２に電力を供給することにより行われる。
【００６９】
そして、かかるウェハＷを加熱する工程は、ウェハＷに供給された処理液の処理能力を変化させる。かかる加熱する処理が完了すると、実施形態に係るウェハＷに対する液処理が完了する。
【００７０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。たとえば、変形例１や変形例２では、コイルを４つ設けた例について示したが、コイルは２つや３つでもよく、５つ以上でもよい。
【００７１】
また、実施形態では、基板保持部３１がウェハＷを真空チャックする場合について示したが、基板保持部３１はウェハＷを真空チャックする場合に限られず、たとえばウェハＷを静電チャックしてもよい。
【００７２】
実施形態に係る液処理装置は、発熱部材３１ａと、基板保持部３１と、処理液供給部４０と、コイル３２とを備える。発熱部材３１ａは、基板（ウェハＷ）に近接して配置され断熱部材３１ｂを有する。基板保持部３１は、基板（ウェハＷ）を保持する。処理液供給部４０は、基板保持部３１に保持された基板（ウェハＷ）上に処理液を供給する。コイル３２は、発熱部材３１ａを誘導加熱することにより基板（ウェハＷ）を加熱する。これにより、液処理されるウェハＷを効率的かつ安定的に加熱することができる。
【００７３】
また、実施形態に係る液処理装置において、断熱部材３１ｂは、発熱部材３１ａに対して基板（ウェハＷ）とは反対側に配置される。これにより、液処理されるウェハＷをさらに効率的に加熱することができる。
【００７４】
また、変形例２に係る液処理装置において、発熱部材３１ａは、分割して配置される。これにより、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。
【００７５】
また、変形例３に係る液処理装置において、発熱部材３１ａは、ウェハＷの一部にのみ対応する位置に設けられる。これにより、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。
【００７６】
また、変形例１、２に係る液処理装置において、コイル３２ａ〜３２ｄは、複数設けられ、複数のコイル３２ａ〜３２ｄは、基板（ウェハＷ）の複数の部位を個別に加熱可能である。これにより、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。なお、処理能力を意図的に変更して面内のエッチング量を変更することもできる。
【００７７】
また、変形例１、２に係る液処理装置において、コイル３２ａ〜３２ｄは、基板（ウェハＷ）と向かい合う位置に基板（ウェハＷ）の周方向に沿って配置され、複数のコイル３２ａ〜３２ｄは、基板（ウェハＷ）の径方向に沿って並んで配置される。これにより、周方向で異なる処理液の処理能力をウェハＷの面内で揃えることができる。なお、処理能力を意図的に変更して面内のエッチング量を変更することもできる。
【００７８】
また、実施形態に係る液処理装置は、コイル３２から発熱部材３１ａ以外の箇所に漏れる磁束を遮蔽する遮蔽部材３３をさらに備える。これにより、液処理されるウェハＷをさらに安定的に加熱することができる。
【００７９】
また、変形例５に係る液処理装置において、基板保持部３１は、コイル３２から放射される磁束から変換された電力により動作して温度を検知し、検知された温度情報を無線送信するワイヤレス温度センサ３６を備える。これにより、ウェハＷにおける複数の部位で処理液の処理能力が異なる場合に、かかる処理液の処理能力をウェハＷの面内でさらに揃えることができる。なお、処理能力を意図的に変更して面内のエッチング量を変更することもできる。
【００８０】
また、実施形態に係る液処理装置において、基板保持部３１は、基板（ウェハＷ）と直接接触するように基板（ウェハＷ）を保持する。これにより、液処理されるウェハＷをさらに効率的に加熱することができる。
【００８１】
また、実施形態に係る液処理方法は、基板保持部３１に保持された基板（ウェハＷ）に処理液を供給する工程（ステップＳ１０１）と、コイル３２により断熱部材３１ｂを有する発熱部材３１ａを誘導加熱して基板（ウェハＷ）を加熱する工程（ステップＳ１０２）と、を含む。そして、加熱する工程（ステップＳ１０２）は、基板（ウェハＷ）に供給された処理液の処理能力を変化させる。これにより、効率的かつ安定的に加熱されたウェハＷで液処理を行うことができる。
【００８２】
なお、上記実施形態では、基板保持部３１はウェハＷの裏面を保持していたが、必ずしもウェハＷの裏面を保持する必要はなく、ウェハＷの端を保持するものであってもよい。その場合、基板保持部３１と発熱部材３１ａ及び断熱部材３１ｂは別体であってよい。発熱部材３１ａと断熱部材３１ｂが一体となっていればよい。
【００８３】
また、上記実施形態では、液処理中に基板保持部３１が回転する例を記載していたが、液処理中に必ずしもウェハＷを回転させる必要はなく、ウェハＷを静止させた状態で加熱を行ってもよい。
【００８４】
さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。
【符号の説明】
【００８５】
Ｗ      ウェハ
１      基板処理システム
１６    液処理ユニット
１８    制御部
３０    基板保持機構
３１    基板保持部
３１ａ  発熱部材
３１ｂ  断熱部材
３２、３２ａ〜３２ｄ  コイル
３３    遮蔽部材
３６    ワイヤレス温度センサ
４０    処理液供給部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【国際調査報告】
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