Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月3日(2009.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのフラッシュメモリデバイスに少なくとも１つの電気試験を実行して、前記フラッシュメモリデバイスに実行するプログラミングサイクルの時間を決定するステップを有し、
後段で形成されるフラッシュメモリデバイスに少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するために実行される少なくとも１つのプロセス操作における少なくとも１つのパラメータを、決定された前記プログラミングサイクルの時間に基づいて決定するステップを有し、前記少なくとも１つのパラメータは、温度、圧力、時間、プロセスガス流量、プロセスガス組成、液体流量、液体組成、およびパワーレベル設定の少なくとも１つを含むものであり、
決定された前記少なくとも１つのパラメータを含む前記少なくとも１つのプロセス操作を実行して、前記後段で形成されるフラッシュメモリデバイスに前記少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するステップを有する方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つのフラッシュメモリデバイスに前記少なくとも１つの電気試験を実行するステップは、降伏電圧、スレッショルド電圧、静電荷、界面電荷、トラップ電荷、表面電荷、および消去サイクルタイムの少なくとも１つを決定するために、前記少なくとも１つのフラッシュメモリデバイスに前記少なくとも１つの電気試験を実行するステップをさらに有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのプロセス操作は、堆積プロセスおよび熱成長プロセスの少なくとも１つを含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ゲート絶縁層は二酸化シリコンおよび窒化シリコンの少なくとも一方を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１つのフラッシュメモリデバイスに少なくとも１つの電気試験を実行して、前記フラッシュメモリデバイスに実行する消去サイクルの時間を決定するステップを有し、
後段で形成されるフラッシュメモリデバイスに少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するために実行される少なくとも１つのプロセス操作における少なくとも１つのパラメータを、決定された前記消去サイクルの時間に基づいて決定するステップを有し、前記少なくとも１つのパラメータは、温度、圧力、時間、プロセスガス流量、プロセスガス組成、液体流量、液体組成、およびパワーレベル設定の少なくとも１つを含むものであり、
決定された前記少なくとも１つのパラメータを含む前記少なくとも１つのプロセス操作を実行して、前記後段で形成されるフラッシュメモリデバイスに前記少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するステップを有する方法。
【請求項６】
少なくとも１つのフラッシュメモリデバイスに少なくとも１つの電気試験を実行するステップは、降伏電圧、スレッショルド電圧、静電荷、界面電荷、トラップ電荷、表面電荷、および書込みサイクルタイムの少なくとも１つを決定するために、前記少なくとも１つのフラッシュメモリデバイスに前記少なくとも１つの電気試験を実行するステップをさらに有する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記メモリデバイスは、ゲート絶縁層、前記ゲート絶縁層の上部に配置されたフローティングゲート層、前記フローティングゲート層の上部に配置された中間絶縁層、および前記中間絶縁層の上部に配置された制御ゲート層を有する請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つのプロセス操作は、堆積プロセスおよび熱成長プロセスの少なくとも１つを含む請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記ゲート絶縁層は二酸化シリコンおよび窒化シリコンの少なくとも一方を含む請求項
５に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１つのメモリデバイスに少なくとも１つの電気試験を実行して、前記メモリデバイスに実行する書込みサイクルの時間を決定するステップを有し、
後段で形成されるメモリデバイスに少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するために実行される少なくとも１つのプロセス操作における少なくとも１つのパラメータを、決定された前記書込みサイクルの時間に基づいて決定するステップを有し、前記少なくとも１つのパラメータは、温度、圧力、時間、プロセスガス流量、プロセスガス組成、液体流量、液体組成、およびパワーレベル設定の少なくとも１つを含むものであり、
決定された前記少なくとも１つのパラメータを含む前記少なくとも１つのプロセス操作を実行して、前記後段で形成されるメモリデバイスに前記少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するステップを有する方法。
【請求項１１】
少なくとも１つのメモリデバイスに少なくとも１つの電気試験を実行して、前記メモリデバイスに実行する消去サイクルの時間を決定するステップを有し、
後段で形成されるメモリデバイスに少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するために実行される少なくとも１つのプロセス操作における少なくとも１つのパラメータを、決定された前記消去サイクルの時間に基づいて決定するステップを有し、前記少なくとも１つのパラメータは、温度、圧力、時間、プロセスガス流量、プロセスガス組成、液体流量、液体組成、およびパワーレベル設定の少なくとも１つを含むものであり、
決定された前記少なくとも１つのパラメータを含む前記少なくとも１つのプロセス操作を実行して、前記後段で形成されるメモリデバイスに前記少なくとも１つのゲート絶縁層を形成するステップを有する方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月31日(2009.8.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
トランスジェニック植物の種子中に、総脂質含量に基づいて少なくとも20重量％の含量で、一般式I
【化１】
2007527716.tif 000001
で表される化合物を産生させる方法であって、次のステップ：
a) 該生物にΔ9-エロンガーゼまたはΔ6-デサチュラーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
b) 該生物に、Δ8-デサチュラーゼまたはΔ6-エロンガーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
c) 該生物に、Δ5-デサチュラーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
d) 該生物に、Δ5-エロンガーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
e) 該生物に、Δ4-デサチュラーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、
を含み、
ここで、式I中の変数および置換基は以下の意味を有する：
R1は、ヒドロキシル、コエンザイムＡ(チオエステル)、リゾホスファチジルコリン、リゾホスファチジルエタノールアミン、リゾホスファチジルグリセロール、リゾジホスファチジルグリセロール、リゾホスファチジルセリン、リゾホスファチジルイノシトール、スフィンゴ塩基、または一般式II
【化２】
2007527716.tif 000002
で表される基であり、
R2は、水素、リゾホスファチジルコリン、リゾホスファチジルエタノールアミン、リゾホスファチジルグリセロール、リゾジホスファチジルグリセロール、リゾホスファチジルセリン、リゾホスファチジルイノシトール、または飽和もしくは不飽和C2〜C24-アルキルカルボニルであり、
R3は、水素、飽和もしくは不飽和C2〜C24-アルキルカルボニルであるか、またはR2およびR3は互いに独立に一般式Ia：
【化３】
2007527716.tif 000003
の基であり、
ここでnは、2、3、4、5、6、7、または9であり、mは、2、3、4、5または6であり、かつpは0または3である、
前記方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
従って本発明の目的は、トランスジェニック植物の種中で大量の多価不飽和脂肪酸、特にARA、EPAおよびDHAを製造する方法を開発することである。この目的は、トランスジェニック植物の種子中に、総脂質含量に基づき少なくとも20重量％の含量で一般式I
【化１】
2007527716.tif 000004
で表される化合物を産生させる本発明の方法により達成されたが、この方法は以下の処理工程を含む：
a) 該生物にΔ9-エロンガーゼおよび/またはΔ6-デサチュラーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
b) 該生物に、Δ8-デサチュラーゼおよび/またはΔ6-エロンガーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
c) 該生物に、Δ5-デサチュラーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
d) 該生物に、Δ5-エロンガーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、および
e) 該生物に、Δ4-デサチュラーゼ活性をコードする少なくとも１つの核酸配列を導入すること、かつ
ここで、式I中の変数および置換基は以下の意味を有する：
R1は、ヒドロキシル、コエンザイムＡ(チオエステル)、リゾホスファチジルコリン、リゾホスファチジルエタノールアミン、リゾホスファチジルグリセロール、リゾジホスファチジルグリセロール、リゾホスファチジルセリン、リゾホスファチジルイノシトール、スフィンゴ塩基、または一般式II
【化２】
2007527716.tif 000005
で表される基であり、
R2は、水素、リゾホスファチジルコリン、リゾホスファチジルエタノールアミン、リゾホスファチジルグリセロール、リゾジホスファチジルグリセロール、リゾホスファチジルセリン、リゾホスファチジルイノシトール、または飽和もしくは不飽和C2〜C24-アルキルカルボニルであり、
R3は、水素、飽和もしくは不飽和C2〜C24-アルキルカルボニルであるか、またはR2およびR3は互いに独立に一般式Ia：
【化３】
2007527716.tif 000006
の基であり、
ここでnは、2、3、4、5、6、7、または9であり、mは、2、3、4、5または6であり、pは0または3である。都合良く、上記式IおよびIa中の変数n、m、およびpは次の通りである：n＝2、3、または5、m＝4、5、または6、かつp＝0または3。本方法に特に有利な実施形態においては、式IおよびIa中の変数n、m、およびpは次の通りである：m＝4、n＝3、p＝3であり、従って一般式IおよびIaの化合物はアラキドン酸を表し、ならびに／またはm＝5、n＝3、p＝0であり、従って一般式IおよびIaの化合物はエイコサペンタエン酸を表し、ならびに／またはm＝5、n＝5、p＝0であり、従って一般式IおよびIaの化合物はドコサペンタエン酸を表し、ならびに／またはm＝6、n＝3、p＝0であり、従って一般式IおよびIaの化合物はドコサヘキサエン酸を表す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年10月28日(2009.10.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転子を具備した回転モーター、出力シャフト、及び前記モーター回転子に接続された慣性駆動部材を含んで成る衝撃発生パルスユニットによって送られる一連のトルク衝撃の各毎に、ネジ部品に与えられるトルクの大きさを測定する方法において、
前記慣性駆動部材の角度変位を検出する工程と、
各衝撃発生状態の際に、前記慣性駆動部材の減速度を測定する工程、
各衝撃発生状態の際に、前記測定した慣性駆動部材の減速度の関数として、及び実際に使用される真の衝撃工具の慣性として、ネジ部品に伝わるトルクの大きさを計算する工程、
を含むことを特徴とする前記測定方法。
【請求項２】
回転子（２１）を具備した回転モーター（２０）と、出力シャフト（２４）と、前記回転子（２１）に接続された慣性駆動部材（２７）を具備した衝撃発生パルスユニット（２３）とデータ蓄積及び処理容量を含くんだ制御ユニット（４０）とを備えた、ネジ部品を締め付けるトルク衝撃工具において、
回転検出装置（３５，３８）が、慣性駆動部材の角度変位に応答して信号を送るために配置され、
前記制御ユニット（４０）が、
前記回転検出装置（３５，３８）からの信号を受信する手段と、
慣性駆動部材（２７）の減速度を測定する手段と、
前記測定した慣性駆動部材の減速度の関数として、及び実際に使用される真の衝撃工具の慣性として、ネジ部品に伝わるトルクの大きさを計算する手段、
を含むことを特徴とする衝撃工具。
【請求項３】
前記回転検出装置（３５，３８）が、慣性駆動部材（２７）に固く結合され、且つ周縁に沿って複数の磁極（３６）が等しく分配されるように連続して磁化されるリング要素（３５）と、前記リング要素（３５）に隣接して固定され、かつ、前記慣性駆動部材（２７）及びリング要素（３５）の角度変位の際に、前記複数の磁極の通過に応答して、複数の信号を送るために配置された、固定センサーユニット（３８）を備えることを特徴とする請求項２に記載の衝撃工具システム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
前記目的は、本発明によると、請求項で定義された様々な特徴によって達成される。
すなわち、請求項１では、回転子を具備した回転モーター、出力シャフト、及び前記モーター回転子に接続された慣性駆動部材を含んで成る衝撃発生パルスユニットによって送られる一連のトルク衝撃の各毎に、ネジ部品に与えられるトルクの大きさを測定する方法において、前記慣性駆動部材の角度変位を検出する工程と、各衝撃発生状態の際に、前記慣性駆動部材の減速度を測定する工程、各衝撃発生状態の際に、前記測定した慣性駆動部材の減速度の関数として、及び実際に使用される真の衝撃工具の慣性として、ネジ部品に伝わるトルクの大きさを計算する工程、を含むことを特徴とする前記測定方法。
請求項２では、回転子（２１）を具備した回転モーター（２０）と、出力シャフト（２４）と、前記回転子（２１）に接続された慣性駆動部材（２７）を具備した衝撃発生パルスユニット（２３）とデータ蓄積及び処理容量を含くんだ制御ユニット（４０）とを備えた、ネジ部品を締め付けるトルク衝撃工具において、回転検出装置（３５，３８）が、慣性駆動部材の角度変位に応答して信号を送るために配置され、前記制御ユニット（４０）が、前記回転検出装置（３５，３８）からの信号を受信する手段と、慣性駆動部材（２７）の減速度を測定する手段と、前記測定した慣性駆動部材の減速度の関数として、及び実際に使用される真の衝撃工具の慣性として、ネジ部品に伝わるトルクの大きさを計算する手段、を含むことを特徴とする衝撃工具。
請求項３では、前記回転検出装置（３５，３８）が、慣性駆動部材（２７）に固く結合され、且つ周縁に沿って複数の磁極（３６）が等しく分配されるように連続して磁化されるリング要素（３５）と、前記リング要素（３５）に隣接して固定され、かつ、前記慣性駆動部材（２７）及びリング要素（３５）の角度変位の際に、前記複数の磁極の通過に応答して、複数の信号を送るために配置された、固定センサーユニット（３８）を備えることを特徴とする衝撃工具。
とすることにより、上記目的を達成するものである。
各衝撃の際に部品に伝わるトルクが、二つの部分、すなわちモーターによって送られる連続作動駆動トルクと、例えば衝撃ユニットの慣性駆動部材などの工具の回転量の減少中に生じる動的トルクとから成る。工具の回転量の減少によって生じる、動的トルクが伝達トルクの優勢な部分である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
伝達トルクは公式によって表すことができる；
M(t)＝CＪ・ψ″(t)＋Mm(t)；
ここで
M(t)は時間を関数とした伝達トルクであり、
CＪは、慣性駆動部材と、慣性駆動部材と共に剛体ユニットを形成する工具のそれら回転部分の総計の慣性モーメントに直接相当する定数であり、
ψ″(t)は、時間を関数とした回転部分の減速度であり、
Mm(t)は、時間を関数として、モーターにより伝えられるトルクである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月8日(2009.6.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の気道インタフェースのマスクシェル用のブレイスであって、
前記マスクシェルを保持するように係合し、また、前記マスクシェルから取り外すことができるような形状である可鍛性の細長い部材を備え、
ヘッドギアストラップ部材との係合のための少なくとも一つの第１の取付点を提供し、
前記可鍛性の細長い部材は、前記マスクシェル上の複数の対向する保持構造により保持され、
前記複数の対向する保持構造の少なくとも一つは、前記マスクシェル上のヘッドギアストラップ部材取付構造である、ブレイス。
【請求項２】
前記複数の対向する保持構造の別の一つは、前記マスクシェルの周辺フランジである、請求項１に記載のブレイス。
【請求項３】
患者の気道インタフェースのマスクシェル用のブレイスであって、
前記ブレイスは、前記マスクシェルを保持するように係合し、また、前記マスクシェルから取り外すことができるような形状であり、
ヘッドギアストラップ部材との係合のための少なくとも一つの第１の取付点を提供し、
前記ブレイスは、前記インタフェース上の少なくとも一つの保持構造によって係合することができるような形状である細長い部材を有し、
前記細長い部材は、前記マスクシェルの形状に合い、かつ第一のヘッドギアストラップ部材配置位置を提供するように曲げられたワイヤによって形成され、
前記マスクシェル上の前記少なくとも一つの保持構造は、ヘッドギアストラップ部材取付構造である、ブレイス。
【請求項４】
前記第一のヘッドギアストラップ部材配置位置は、前記ワイヤをＵ字状に曲げることで形成される、請求項３に記載のブレイス。
【請求項５】
前記患者の気道インタフェースは、一致した顔係合部と比較的かたい前記マスクシェルとを備えている種類のものである、請求項１に記載のブレイス。
【請求項６】
前記複数の対向する保持構造の別の一つは、前記マスクシェルの周辺フランジである、請求項５に記載のブレイス。
【請求項７】
前記複数の対向する保持構造のうちの二つは、前記マスクシェル上のヘッドギア部材取付構造である、請求項５に記載のブレイス。
【請求項８】
患者の気道インタフェースのマスクシェル用のブレイスであって、
前記マスクシェルを保持するように係合し、また、前記マスクシェルから取り外すことができるような形状とされており、前記患者の額と係合するために配置された額安定化部をさらに含み、複数のヘッドギアストラップ部材取付位置を提供する、ブレイス。
【請求項９】
前記マスクシェル上の少なくとも一つの保持構造によって係合することができるような形状であり、前記額との係合のために前記マスクシェルを超えて伸びている細長い部材を有する、請求項８に記載のブレイス。
【請求項１０】
前記細長い部材は、前記マスクシェルの形状に合うように、かつ前記複数のヘッドギアストラップ部材取付位置を提供するように曲げられたワイヤによって形成されている、請求項９に記載のブレイス。
【請求項１１】
患者の気道インタフェースのマスクシェル用のブレイスであって、
前記ブレイスは前記マスクシェルと実質的にかたく係合することができるような形状とされた可鍛性の細長い部材を有し、
前記細長い部材は、少なくとも一つのヘッドギアストラップ部材と係合するための少なくとも一つの第１の取付点と、前記患者の額の領域に配置された部分とを有する、ブレイス。
【請求項１２】
前記少なくとも一つの第１の取付点は、前記部分に配置される、請求項１１に記載のブレイス。
【請求項１３】
マスクシェルと、マスククッションと、前記クッションを前記マスクシェルに取り付けるためのマスククッションクリップとを有する患者の気道インタフェースアセンブリであって、請求項１による前記ブレイスをさらに備える、アセンブリ。
【請求項１４】
前記ブレイスは前記マスクシェルおよび前記クッションクリップと係合して、前記クッションクリップを前記シェルに固定する、請求項１３に記載のアセンブリ。
【請求項１５】
前記マスクシェルは、ヘッドギアストラップ部材の取り付けのための少なくとも一つの保持構造を有し、
前記ブレイスの前記第１の取付点は、前記マスクシェルの前記少なくとも一つの保持構造によって提供されるものとは異なるヘッドギアストラップ部材の位置合わせを提供するように配置される、請求項１３に記載のアセンブリ。
【請求項１６】
前記マスクシェルの前記少なくとも一つの保持構造は、前記ブレイスと前記マスクシェルとの間の係合点として機能する、請求項１５に記載のアセンブリ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
本発明のこの実施形態においては、マスクシェルのヘッドギア取付点１７はヘッドギア用の取付点としてのそれらの本来の役割に関する限りは不要である。なぜならブレイスのヘッドギア取付点がマスクシェルのどの取付点とも独立して必要な目的を果たすからである。にもかかわらず、ブレイスがマスクシェルに対して固定された所定の位置をとることを目的としているため、存在するマスクシェルヘッドギア取付点１７はブレイスの保持構造として働く。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月1日(2009.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多視点ビデオデータストリームにおける多視点ビデオデータをデコーディングする方法であって、
前記多視点ビデオデータストリームからランダムアクセスピクチャの視点間予測構造情報を取得する段階であって、該視点間予測構造情報は、複数の視点間の参照関係を示す段階と、
ＮＡＬ（ネットワーク抽象階層）装置タイプが前記多視点ビデオデータの拡張データを表す場合、視点間予測のためランダムアクセスフラグを取得する段階であって、該ランダムアクセスフラグは、現在のピクチャのタイプが前記ランダムアクセスピクチャか否かを示し、前記ランダムアクセスピクチャにおけるすべてのスライスは、前記多視点ビデオデータと同じ時間帯で異なる視点のスライスのみを参照する段階と、
前記ランダムアクセスフラグによって前記現在のピクチャのタイプが前記ランダムアクセスピクチャを表す場合、前記ランダムアクセスピクチャの前記視点間予測構造情報を用いて前記現在のピクチャの予測値を求める段階と、
前記予測値を用いて前記現在のピクチャをデコーディングする段階と、を有し、
前記多視点ビデオデータは、基準視点及び補助視点のビデオデータを含み、該基準視点は、視点間予測を行わずに他の視点から独立してデコーディングされる視点を示し、該補助視点は、前記基準視点以外の視点であることを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記視点間予測構造情報は、個数情報及び視点識別情報を含み、該個数情報は、前記多視点ビデオデータにおける視点の総数を示し、該視点識別情報は、前記多視点ビデオデータにおけるそれぞれの参照視点の視点識別情報を提供する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記視点間予測構造情報は、シーケンス領域から取得する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ランダムアクセスピクチャの前記視点間予測構造情報は、予測方向を考慮することによって取得する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記予測方向は、ピクチャ出力順序における順方向または逆方向を表す、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記補助視点は、前記基準視点を参照してデコーディングする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
多視点ビデオデータストリームにおける多視点ビデオデータをデコーディングする装置であって、
前記多視点ビデオデータストリームからランダムアクセスピクチャの視点間予測構造情報を取得することであって、該視点間予測構造情報は、複数の視点間の参照関係を示すことと、ＮＡＬ（ネットワーク抽象階層）装置タイプが前記多視点ビデオデータの拡張データを表す場合、視点間予測のためランダムアクセスフラグを取得することであって、該ランダムアクセスフラグは、現在のピクチャのタイプが前記ランダムアクセスピクチャか否かを示し、前記ランダムアクセスピクチャにおけるすべてのスライスは、前記多視点ビデオデータと同じ時間帯で異なる視点のスライスのみを参照することとを行うＮＡＬパージング部と、
前記ランダムアクセスフラグによって前記現在のピクチャのタイプが前記ランダムアクセスピクチャを表す場合、前記ランダムアクセスピクチャの前記視点間予測構造情報を用いて前記現在のピクチャの予測値を求めることと、前記予測値を用いて前記現在のピクチャをデコーディングすることとを行うインター予測部と、を有し、
前記多視点ビデオデータは、基準視点及び補助視点のビデオデータを含み、該基準視点は、視点間予測を行わずに他の視点から独立してデコーディングされる視点を示し、該補助視点は、前記基準視点以外の視点であることを特徴とする、装置。
【請求項８】
前記視点間予測構造情報は、個数情報及び視点識別情報を含み、該個数情報は、前記多視点ビデオデータにおける視点の総数を示し、該視点識別情報は、前記多視点ビデオデータにおけるそれぞれの参照視点の視点識別情報を提供する、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記視点間予測構造情報は、シーケンス領域から取得する、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記アンカーピクチャの前記視点間予測構造情報は、予測方向を考慮することによって取得する、請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記予測方向は、ピクチャ出力順序における順方向または逆方向を表す、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記補助視点は、前記基準視点を参照してデコーディングする、請求項７に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図１を参照すると、前記デコーディング装置は、大きく、パージング部１０、エントロピーデコーディング部１１、逆量子化／逆変換部１２、画面間予測部１３、画面内予測部１４、デブロッキングフィルタ部１５、復号ピクチャバッファ部１６などを含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
パージング部１０では、受信したビデオ映像を復号するためにＮＡＬ単位にパージングを行う。一般的に、１つまたはそれ以上のシーケンスパラメータセットとピクチャパラメータセットとが、スライスヘッダとスライスデータがデコーディングされる前にデコーダに転送される。この時、ＮＡＬヘッダ領域またはＮＡＬヘッダの拡張領域には様々な属性情報を含ませることができる。例えば、時間的レベル情報、視点レベル情報、アンカーピクチャ識別情報、視点識別情報などを含ませることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
パージングされたビットストリームは、エントロピーデコーディング部１１を通じてエントロピーデコーディングされ、各マクロブロックの係数、動きベクトルなどが抽出される。逆量子化部／逆変換部１２では、受信した量子化された値に一定の定数を乗算して変換された係数値を獲得し、該係数値を逆変換して画素値を復元することとなる。前記復元された画素値を用いて、画面内予測部１４では現在ピクチャ内のデコーディングされたサンプルから画面内予測を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１００μｍ未満の粒度を有するイソマルツロース微細分１〜２０重量％（全乾燥物質に対して）を含有することを特徴とする結晶性イソマルツロース。
【請求項２】
イソマルツロース微細分１〜１０重量％（全乾燥物質に対して）を含有することを特徴とする請求項１記載の結晶性イソマルツロース。
【請求項３】
イソマルツロース微細分１〜５重量％（全乾燥物質に対して）を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の結晶性イソマルツロース。
【請求項４】
前記微細分に属さない結晶性含分が結晶サイズ０．２〜０．６ｍｍを有することを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の結晶性イソマルツロース。
【請求項５】
前記微細分に属さない結晶性含分が結晶サイズ０．３〜０．４５ｍｍを有することを特徴とする請求項４記載の結晶性イソマルツロース。
【請求項６】
１００μｍ未満の粒度を有するイソマルツロース微細分１〜５重量％（全乾燥物質に対して）と、
結晶サイズ０．３〜０．４５ｍｍを有する結晶性含分９９〜９５重量％（全乾燥物質に対して）からなることを特徴とするイソマルツロース。
【請求項７】
結晶サイズ０．２〜０．６ｍｍを有する結晶性イソマルツロースに、含量１〜２０重量％（全乾燥物質に対して）で１００μｍ未満の粒度を有する微粉末のイソマルツロースを混合することを特徴とする流動性の結晶性イソマルツロースの製造方法。
【請求項８】
粉末状の単糖、二糖、オリゴ糖、多糖及び糖アルコールの群から選択される結晶性のバルク材料の流動性を改善及び／又は維持するための１００μｍ未満の粒度を有する微粉末のイソマルツロースの使用。
【請求項９】
微粉末のイソマルツロースがバルク材料に含量１〜２０重量％（全乾燥物質に対して）で添加されることを特徴とする請求項８記載のイソマルツロースの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月14日(2009.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記R6、R7及びR8は全てが、Hを表すわけではない、請求項1〜7のいずれか1項記載の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
好適にはR1は、H又はOHを表す。ひとつの実施態様において、R1は、Hを表す。別の実施態様において、R1は、OHを表す。
好適にはR2は、Hを表す。
好適にはR3は、CONH2を表す。
ひとつの実施態様において、好適には、R4及びR5は、一緒に結合を表す。
別の実施態様において、好適には、R4及びR5は、各々Hを表す。
化合物セットの一例において、R6、R7及びR8は全て、Hを表す。
化合物セットの別の例において、R6、R7及びR8は全てが、Hを表すわけではない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2009536181.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2009536181.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月27日(2009.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ（１０）であって、
長手方向軸を提供する本体部材（３３）と、
該本体部材（３３）内を通って長手方向に延び、第１の流れガイド（６４）及び第２の流れガイド（６７）によって画定され、該第２の流れガイドは、前記第１の流れガイド（６４）から液体を受け取るように構成及び配置される、流路と、
前記第１の流れガイド（６４）と動作的に関連する閉鎖逆流防止部材（５０、５６、５８、６０）と、
前記第２の流れガイド（６７）から液体を受け取り、該第２の流れガイド（６７）と通路部分によって接続される、前記流路内のベンチュリ管（６５）と、
該ベンチュリ管（６５）内で所望の真空を発生させるように構成及び配置される、前記通路の開口（７０）と、
濃縮液を前記ベンチュリ管（６５）に流し込む、前記長手方向軸の側方にある少なくとも１つのチャネル（７６）とを備え、
前記流路は、前記ベンチュリ管から前記本体部材（３３）の外部まで延びる排出通路（２９）をさらに有する、第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項２】
前記側方チャネルは逆止め弁（７４）を有する、請求項１に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項３】
２つの側方チャネル（７５、７６）がある、請求項１に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項４】
前記逆流防止部材は弾性シース（５６）を有する、請求項１に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項５】
第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ（１０）であって、
長手方向軸を提供する本体部材（３３）と、
該本体部材（３３）内を通って長手方向に延び、第１の流れガイド（６４）及び第２の流れガイド（６７）によって画定され、該第２の流れガイドは、前記第１の流れガイド（６４）から液体を受け取るように構成及び配置される、流路と、
前記第１の流れガイド（６４）と動作的に関連する閉鎖逆流防止部材（５０、５６、５８、６０）と、
前記第２の流れガイド（６７）から液体を受け取り、該第２の流れガイド（６７）と通路部分によって接続される、前記流路内のベンチュリ管（６５）と、
前記通路の開口（７０）であって、前記第２の流れガイド（６７）は、前記通路の該開口を覆って延びる管状部分（８０）によって画定される、開口と、
濃縮液を前記ベンチュリ管（６５）に流し込む、前記長手方向軸の側方にある少なくとも１つのチャネル（７６）とを備え、
前記流路は、前記ベンチュリ管（６５）から前記本体部材（３３）の外部まで延びる排出通路（２９）をさらに有し、
前記管状部分が前記通路の前記開口を覆う範囲は、所望の真空プロファイルを与えるように設計される、第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項６】
前記第２の流れガイド及び前記管状部分は、ファンネル部材（６４）の形態である、請求項５に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項７】
前記側方チャネルは逆止め弁（７４）を有する、請求項５に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項８】
２つの側方チャネル（７５、７６）がある、請求項５に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項９】
前記逆流防止部材は弾性シース（５６）を有する、請求項５に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項１０】
第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ（１０）であって、
長手方向軸を提供する本体部材（３３）と、
該本体部材（３３）内を通って長手方向に延び、第１の流れガイド（６４）及び第２の流れガイド（６７）によって画定され、該第２の流れガイドは、前記第１の流れガイドから液体を受け取るように構成及び配置される、流路と、
前記第１の流れガイド（６４）と動作的に関連する閉鎖逆流防止部材（５０、５６、５８、６０）と、
前記第２の流れガイド（６７）から液体を受け取り、該第２の流れガイド（６７）と通路部分によって接続される、前記流路内のベンチュリ管（６５）とを備え、
前記第１の流れガイド（６４）及び前記第２の流れガイド（６７）は、前記第１の液体の一部を該ベンチュリ管（６５）から分流させて該ベンチュリ管（６５）内で所望の真空を生成するように離間関係で位置決めされ、
更に濃縮液を前記ベンチュリ管（６５）に流し込む、前記長手方向軸の側方にある少なくとも１つのチャネル（７６）を備え、
前記流路は、前記ベンチュリ管から前記本体部材の外部まで延びる排出通路（２９）をさらに有する、第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項１１】
前記側方チャネルは逆止め弁（７４）を有する、請求項１０に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項１２】
２つの側方チャネル（７５、７６）がある、請求項１０に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項１３】
前記逆流防止部材は弾性シース（５６）を有する、請求項１０に記載の第１の液体及び第２の液体を混合するエダクタ。
【請求項１４】
請求項１に記載の開口を変更することを含む、エダクタ（１０）の真空プロファイルを定める方法。
【請求項１５】
請求項５に記載の前記開口を覆って管状部分を延ばすことを含む、エダクタ（１０）の真空プロファイルを定める方法。
【請求項１６】
請求項１に記載のエダクタを用いる閉鎖逆流防止エダクタ（１０）の真空プロファイルを定める方法。
【請求項１７】
請求項５に記載のエダクタを用いる閉鎖逆流防止エダクタ（１０）の真空プロファイルを定める方法。
【請求項１８】
請求項１２に記載のエダクタを用いる閉鎖逆流防止エダクタ（１０）の真空プロファイルを定める方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
エアギャップを持たないエダクタが既知である。その１つは、米国特許第６，２４０，９８３号に記載されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2009503365.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月31日(2009.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
杭井内で通信を提供するためのシステムであって、
杭井内に位置決めされたダウンホールツールと、
ダウンホールツールに通信可能に接続されたダウンホールインターフェースと、
ダウンホールツールに通信可能に接続されたドリルストリングとを含み、
ドリルストリングは、通信可能に接続された複数のワイヤードドリルパイプを含み、ダウンホールインターフェースは、ダウンホールツールと複数のワイヤードドリルパイプの一つの間に位置決めされている、
システム。
【請求項２】
ダウンホールツールは、検層しながら掘削するツールである請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
ダウンホールツールは、測定しながら掘削するツールである請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
ダウンホールツールは、ワイヤーラインツールである請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
ダウンホールツールは、杭井周りの地層の特性を測定する請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
ダウンホールツールは、底部穴組立体内に位置決めされている請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
ダウンホールツールは、地層の抵抗率、自然放射線、密度、又は間隙圧を測定する請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
ダウンホールインターフェースは、ダウンホールツールと一体である請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
ダウンホールインターフェースは、ダウンホールツール及び複数のワイヤードドリルパイプの一つに直接接続されている請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
掘削流体が、ダウンホールインターフェースを通して流れることができる請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
ダウンホールインターフェースは、複数のワイヤードドリルパイプの一つとダウンホールツールの間に電力インターフェースを提供するエレクトロニクスを含む請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
エレクトロニクスは、複数のワイヤードドリルパイプの一つとダウンホールツールの間に信号インターフェースを提供する請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
エレクトロニクスは、バッテリを含む請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
杭井内で通信を提供するシステムであって、
通信可能に接続されたワイヤードドリルパイプの少なくとも一部を含むドリルストリングと、
ダウンホールツールを含み、ワイヤードドリルパイプの一つと通信可能に接続された底部穴組立体と、
底部穴組立体とワイヤードドリルパイプの一つの間に位置決めされたダウンホールインターフェースとを含み、
ダウンホールインターフェースは、底部穴組立体とワイヤードドリルパイプの間に通信を提供する、
システム。
【請求項１５】
ダウンホールツールは、杭井付近の地層特性を測定する請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
ダウンホールツールは、杭井周りの地層の抵抗率を測定する請求項１４に記載のシステム。
【請求項１７】
ダウンホールツールは、杭井周りの地層の自然放射線を測定する請求項１４に記載のシステム。
【請求項１８】
ダウンホールツールは、杭井周りの地層の間隙圧を測定する請求項１４に記載のシステム。
【請求項１９】
底部穴組立体は、測定しながら掘削するツールである請求項１４に記載のシステム。
【請求項２０】
底部穴組立体は、検層しながら掘削するツールである請求項１４に記載のシステム。
【請求項２１】
ダウンホールツールは、ワイヤーラインツールである請求項１４に記載のシステム。
【請求項２２】
ダウンホールインターフェースは、ダウンホールツールに電力を提供する請求項１４に記載のシステム。
【請求項２３】
杭井内で通信する方法であって、
ダウンホールインターフェースをダウンホールツールに、直接、通信可能に接続し、
ダウンホールインターフェースがダウンホールツールと複数のワイヤードドリルパイプの一つの間に位置決めされるように、ダウンホールインターフェースを、互いに通信可能に接続された複数のワイヤードドリルパイプの一つに直接、通信可能に接続し、
ダウンホールツールで、杭井の周りの地層を測定を行い、
ダウンホールツールからダウンホールインターフェースに測定値を通信し、
ダウンホールインターフェースからワイヤードドリルパイプに測定値を伝送する、
方法。
【請求項２４】
測定値は、杭井周りの地層の、一つ又はそれ以上の特性に関する請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
測定値は、地層の抵抗率に関する請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
測定値は、地層の密度に関する請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
ダウンホールツールは、検層しながら掘削するツールである請求項２３に記載のシステム。
【請求項２８】
ダウンホールツールは、測定しながら掘削するツールである請求項２３に記載のシステム。
【請求項２９】
さらに、ダウンホールインターフェースからダウンホールツールに電力を提供することを含む請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
さらに、複数のワイヤードドリルパイプ及びダウンホールインターフェースに、掘削流体を流すことを含む請求項２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月23日(2009.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を貯留ないしは滞留するシステムであって、
安定化多孔質骨材を備える外周支持構造体と、
前記外周支持構造体によって少なくとも部分的に支持され、前記外周支持構造体との間に１つの開放したチャンバを画成し、前記開放したチャンバに架設されるルーフと、
水を前記チャンバ内へ流入できるように構成された少なくとも１つの入口と、
粒状物質が前記チャンバ及び前記外周支持構造体へと通過するのを防止するように構成されたライナと、
を備えるシステム。
【請求項２】
前記外周支持構造体は前記ライナの外周の内側に配置され、前記ルーフは前記外周支持構造体を超えて延びない、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記安定化多孔質骨材は、少なくとも２ｍｍの粒径を有し且つ重量で最大５％の細粒を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記外周支持構造体は封入体により安定化されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記外周支持構造体がジオシンセティック材料によって安定化されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記外周支持構造体が１つ以上の蛇籠を用いて安定化されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記ルーフが金属、コンクリート、又は、アスファルトのうちの少なくとも１つを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記ライナが、前記チャンバ及び前記外周支持構造体に対する水の流入又は流出を更に制限する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記ライナが、ジオテキスタイル、ジオメンブレン、ジオシンセティック粘土、又は、スプレーオンコーティングのうちの少なくとも１つを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
水が前記チャンバから流出できるように構成された出口を更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記チャンバ内に配置された少なくとも１つのルーフ支持体を更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記ルーフ支持体が支柱又はピアのうちの少なくとも一方を更に備える、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記ルーフ支持体は、少なくとも２ｍｍの粒径を有し且つ重量で最大５％の細粒を含有する安定化多孔質骨材から構成されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記少なくとも１つのルーフ支持体は封入体により安定化されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのルーフ支持体がジオシンセティック材料によって安定化されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのルーフ支持体が１つ以上の蛇籠を用いて安定化されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記ルーフ支持体が金属又はコンクリートのうちの少なくとも一方によって安定化されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１８】
保持された水の濾過を行なうための濾過システムを更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１９】
地下水貯留／滞留システムを構築する方法であって、
最終的な表面グレードの下方に安定化多孔質骨材を備える外周支持構造体を形成するステップと、
前記外周支持構造体によって支持され、前記外周支持構造体との間に１つの開放したチャンバを画成し、前記開放したチャンバに架設されるルーフを配置するステップと、
水を前記チャンバ内へ流入できるように構成された少なくとも１つの入口を形成するステップと、
粒状物質が前記チャンバ及び前記外周支持構造体へと通過するのを防止するために、前記開放したチャンバの床上で、前記外周支持構造体と周囲の土壌との間に、ライナを配置するステップと、
を含む方法。
【請求項２０】
前記ルーフの内側部分を更に支持するために、前記チャンバの内部で、且つ、前記ライナの上に、１つ以上の支柱またはピアを配置するステップを更に含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの入口を形成するステップは、前記ルーフの内部に入口を形成する工程を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの入口を形成するステップは、前記ライナシステムを通過して入口を形成する工程を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
前記外周支持構造体の上で少なくとも部分的に支持されるルーフを配置するステップは、前記最終的な表面グレードと同一平面に前記ルーフを配置する工程を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
前記ルーフの外側の前記外周支持構造体の頂部を所望のグレードまで埋め戻すステップを含む、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月13日(2009.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
磁化可能な材料からなる少なくとも一つの壁（１１）により画定され、その中に形成された流出開口を含む弁座（１３）を有する内部空間（１０）と、前記磁化可能な壁（１１）内に延びる磁束で磁気回路を発生させる磁石装置（１７）と、前記内部空間（１０）内で移動すべく配置された弁体（１５）とを備え、前記磁化可能な壁（１１）は少なくとも一つの不連続部分を有し、それにより磁場を変形し、前記磁場を前記壁（１１）から前記弁体（１５）に向けて出す磁気作動弁において、
前記弁座（１３）は磁化可能であり、前記壁（１１）と共に前記磁気回路を形成し、前記磁束（２５、２６）は、前記壁（１１）から前記弁体（１５）及び前記弁座（１３）を通って進み、前記流出開口（１４）から離れる方向に横に前記弁体を引き寄せるために有効であることを特徴とする弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、磁化可能な材料からなる少なくとも一つの壁により画定され、その中に形成された流出開口を含む弁座を有する内部空間と、磁化可能な壁内に延びる磁束で磁気回路を生成する磁石装置と、前記内部空間内で移動すべく配置された弁体とを備え、磁化可能な壁は少なくとも一つの不連続部分を含み、それによって磁場を変形し、磁場を壁から弁体に向けて出す磁気作動弁に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
独国特許出願公開第１９９２２４１４号明細書（ＤＬＲ）には、弁体が弁の入口と出口との間の圧力差のみにより弁座に押圧される磁気弁が開示されている。弁は、弁体に横に作用する磁場が弁体を弁開口から離れる方向に移動させるとき開く。このために、弁体は磁化可能な球として形成される。弁ハウジングの磁化可能な壁は、弁体の高さに、磁場を変形させるために有効であり、磁場が弁座と平行な力を弁体に印加する不連続部分を有する。不連続部分の影響により、磁束が壁から弁体に進まされ、弁体から壁に戻される。弁体を通過する磁束は、弁体を弁開口から離れる方向に移動させる力の尺度である。磁気弁は、磁場が断たれた後、弁体が流れのみにより既に弁開口に戻されたとき閉じる。磁化可能な壁は弁体と共に磁気回路を形成する。生成された磁気張力が弁体を介して可能な限り大きい磁束をもたらすことができるようにするためには、磁気回路内の磁気抵抗が可能な限り低く維持されていると有利である。
米国特許第３８２８８１８号明細書には、球状の弁体が内部空間に配置されている流体制御弁が記載されている。流出開口は弁座により囲まれている。コイルが、磁場を発生させるべく作用し、磁場により弁体が流出開口を開放するように軸方向に弁座から離れる方向に移動する。
また米国特許第４８８０２０６号明細書には、コイルの作動時に弁体が流れの方向に軸方向に移動する、磁気的に制御された流体弁が記載されている。弁座は流入開口に配置されており、磁化可能ではない。
仏国特許出願公開第１２９８５１９号明細書には、管がコイルにより囲まれている流体弁が記載されている。管は一側に強磁性材料からなる限定された部分を有する。コイルの作動時に弁の球が弁座から離れる方向に吸引され、強磁性部分に横に引き寄せられる。弁座と同様に管は非磁性材料からなる。
【特許文献１】独国特許出願公開第１９９２２４１４号明細書
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明に係る弁は請求項１の特徴を備える。その中で定義されているように、弁座は磁化可能であり、壁と共に磁気回路を形成し、磁束が壁から弁体及び弁座を通って進み、流出開口から離れる方向に横に弁体を引き寄せるために有効である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
翼脚（５２）と、この翼脚（５２）に続き横に延びる翼台座（５４）を備えた翼台座領域と、その翼台座（５４）に続く長手方向（Ｌ）に湾曲した翼形部（５６）と、翼台座（５４）に設けられ燃焼ガスに曝される翼台座表面（６１）と、翼脚側が開口し冷却材（６０）で貫流される少なくとも１個の空洞（５８、９６ａ、９６ｃ）とを備え、
該空洞（５８、９６ａ、９６ｃ）が、翼脚（５２）を通過し少なくとも翼台座領域の中まで延び、内側壁（５９）で取り囲まれており、該内側壁（５９）の翼台座領域において延びる輪郭が、翼脚（５２）において延びる輪郭に対して、空洞（５８、９６ａ、９６ｃ）を拡大する空所（６３）を形成した状態でずらされ、空洞（５８、９６ａ、９６ｃ）を拡大する空所（６３）が、翼台座表面（６１）の下側における部位に、少なくとも部分的に中空翼台座（５４）を形成した状態で外側にへこんでおり、冷却材（６０）を部分空洞（５１）の中に方向転換するための少なくとも１個の手段（７３、８０、９２、８２）が設けられているガスタービン（１）における一体型に鋳造されたタービン翼（５０）において、
翼形部と翼台座との移行部が、断面において一定の材料厚さ分布を有し、冷却材（６０）を案内するための手段として、空洞（５８）内に存在し翼脚（５２）から少なくとも翼台座領域まで延びるピン（８０）が設けられ、該ピン（８０）が翼台座領域において、ピン（８０）に沿って流れる冷却材（６０）を部分空洞（５１）に向けて方向転換する膨出部（８２）を有していることを特徴とするガスタービン（１）における一体型に鋳造されたタービン翼（５０）。
【請求項２】
冷却材（６０）を案内するための手段として、部分空洞（５１）に少なくとも１個の出口開口（７３）が設けられ、該出口開口（７３）を通して冷却材（６０）が部分空洞（５１）から流出できることを特徴とする請求項１に記載のタービン翼（５０）。
【請求項３】
出口開口（７３）が、翼台座表面（６１）に、あるいは翼台座（５４）の端面に開口していることを特徴とする請求項２に記載のタービン翼（５０）。
【請求項４】
翼脚（５２）が、翼形部（５６）の長手方向に延び、翼台座（５４）が長手方向（Ｌ）に平行に湾曲して延びる翼台座両側長手縁（５５）を有し、翼背側壁（６４）および翼腹側壁（６２）の側のそれぞれの翼脚表面（７２）が、それぞれの翼台座長手縁（５５）に応じて凸面状ないし凹面状に湾曲して延びていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載のタービン翼（５０）。
【請求項５】
翼背側および／又は翼背側の翼台座張出部（７５）が、比較的狭い翼台座幅の翼台座端部として形成されていることを特徴とする請求項４に記載のタービン翼（５０）。
【請求項６】
翼脚（５２）が、断面ダブテール状、ハンマ状あるいはクリスマスツリー状に形成されていることを特徴とする請求項４又は５に記載のガスタービン翼（５０）。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１つに記載のタービン翼（５０）を利用した定置形ガスタービン（１）。