【手続補正書】
【提出日】平成20年11月21日(2008.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料を反応させる、活性化する、結合するまたは焼結させるための方法であって、
ａ．少なくとも１つの寸法が約１ミクロン未満であるナノ材料を含む材料を選択すること、
ｂ．該材料をパルス放出に曝露することを含み、該曝露ステップが該材料を反応させる、活性化する、結合する、または焼結させる、方法。
【請求項２】
前記パルス放出が、ブロードキャストなパルス光子放出を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ナノ材料がナノ粉末を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記材料が、前記曝露ステップより前に基板上に堆積される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記材料が配合物であり、前記堆積ステップが前記基板上に該配合物から膜またはパターンを生成することを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記配合物が、ナノ金属である成分を少なくとも１つ含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記基板が可撓性である、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記基板が、ＰＥＴ、ポリエステル、プラスチック、ポリマー、樹脂、織物、不織布、紙製品、有機化合物、セラミックス、複合体、積層体、ガラス、シリコンおよびこれらの代償物からなる群から選択される物質を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記パルス放出が、ガンマ線、Ｘ線、紫外線、可視光、赤外線、マイクロ波、電波およびこれらの組合せからなる群から選択される放出を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記パルス放出が、フラッシュランプを備える線源から照射される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記パルス放出の線源が繰り返しパルスを放出する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記パルス放出の時間の長さは、約２０マイクロ秒から約１０ミリ秒の間である、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記曝露ステップの前に印刷プロセスをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記印刷プロセスが、スクリーン印刷、インクジェット印刷、グラビア、レーザー印刷、ゼログラフィー印刷、パッド印刷、塗装、ディップペン、注射器、エアブラシ、リソグラフィーおよびこれらの組合せからなる群から選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ナノ材料が、前記パルス放出によって活性化される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記ナノ材料の導電率が、前記曝露ステップの後増大する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記パルス放出が、前記ナノ材料が酸化することができるよりも速く該ナノ材料を融合させる、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記ナノ材料が少なくとも２種の金属を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記ナノ材料が、約１ミクロン未満の寸法がない追加の材料をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記ナノ材料が流体中に懸濁しており、前記曝露ステップが前記流体内で反応を起こす、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
移動手段が、前記基板を移動させるために使用される、請求項４に記載の方法。
【請求項２２】
請求項１に記載の前記プロセスを実行する材料を反応させる、活性化する、結合するまたは焼結させるためのシステム。
【請求項２３】
ａ．１つの寸法が少なくともナノである少なくとも１つの成分を含む配合物から基板上に膜およびパターンを生成するためのデバイスと、
ｂ．該膜およびパターンを該放出に曝露するために使用されるパルス光子放出源であって、該膜またはパターンの特性が、該放出源に曝露される前の特性と比較して改良されているパルス光子放出源と、
ｃ．該生成デバイスから膜およびパターンを移動させ、該膜およびパターンを該パルス光子放出源にそれらを曝露することができる場所に位置決めするデバイスとを備える、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
ａ．金属を含み、少なくとも１つの寸法が約１ミクロン未満であるナノ粉末を含む組成物を選択すること、
ｂ．該組成物を、レーザー印刷またはゼログラフィー印刷プロセスのトナーとして利用すること、
ｃ．該レーザー印刷またはゼログラフィー印刷プロセスを実行して、該組成物を基板上に堆積させることを含む方法。
【請求項２５】
前記基板が可撓性である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記基板が、ＰＥＴ、ポリエステル、プラスチック、ポリマー、樹脂、織物、不織布、紙製品、有機化合物、セラミックス、複合体、積層体、ガラス、シリコンおよびこれらの代償物からなる群から選択される物質を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
基板上に電気伝導性パターンを作製する方法であって、該方法は、
ナノ材料を含む材料を選択する工程であって、該ナノ材料は、金属を含み、そして少なくとも１つの寸法が約１ミクロン未満である、工程と、
低温度の可撓性基板上に該材料を堆積して、パターンを作製する工程と、
該材料を、電磁放射のブロードキャストな広帯域パルス光子放出に曝露する工程であって、該パルス持続時間は、１マイクロ秒〜１００ミリ秒であり、該曝露工程は、該基板のパターンの伝導性を増加させるために、該材料を焼結する、工程とを含む、方法。
【請求項２８】
前記可撓性基板が、２００ミクロン未満の厚さを有する、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記可撓性基板が、恒久的な変形なしで、約１インチ未満の半径で曲げられ得る、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記基板が、ポリイミド、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ポリエステル、プラスチック、ポリマー、樹脂、織物、不織布、セルロース、有機化合物、複合体、積層体、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される物質を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
前記低温度の基板が、４５０℃以下の分解温度をさらに有する、請求項２７に記載の方法。
【請求項３２】
前記基板が、ポリイミド、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ポリエステル、プラスチック、ポリマー、樹脂、織物、不織布、セルロース、有機化合物、複合体、積層体、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される物質を含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
請求項２７に記載の方法であって、前記曝露工程が、前記パルス放出を調整して、パルス持続時間、エネルギー面密度、および反復速度を変更し、ここで、該パルス持続時間は、１マイクロ秒〜１００ミリ秒の範囲で調整可能であり、該エネルギー面密度は、０．０１Ｊ／ｃｍ２〜３０Ｊ／ｃｍ２の範囲で調整可能であり、該パルスの反復率は、０．０１Ｈｚ〜４０Ｈｚの範囲で調整可能である、方法。
【請求項３４】
請求項２７に記載の方法であって、
前記材料が、一つの成分としてナノ粉末を有する印刷可能な配合物であり；
前記堆積工程が、該配合物を前記基板上に印刷する工程を含み、ここで、該印刷プロセスが、スクリーン印刷、インクジェット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、ゼログラフィー印刷、パッド印刷、オフセット印刷、リソグラフィー印刷およびこれらの変異物からなる群から選択される、方法。
【請求項３５】
前記金属が、銅、銀、スズ、アルミニウム、金、亜鉛、鉄、ニッケル、インジウム、アンチモン、鉛、白金、タングステン、これらの組合せおよびこれらの合金からなる群から選択される、請求項２７に記載の方法。
【請求項３６】
前記材料を焼結へと曝露する工程が、大気中で行われる、請求項２７に記載の方法。
【請求項３７】
請求項２７に記載の方法であって、
前記放出源に関連する基板を運搬する工程と；
該基板上の材料を、制御可能なエネルギー面密度に曝露させるために、該電磁放射のパルス放出の速度を、該基盤を運搬する速度と同調させる工程とを含む、方法。
【請求項３８】
前記パルス放出源が、密閉されたフラッシュランプである、請求項２７に記載の方法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の方法であって、前記パルス放出源が、フィルターを含み、該方法が、前記パルス光子放出を、該フラッシュランプからフィルターし、前記基板へ最小限の影響を与えながら、前記材料の焼結を改善させる、放出バンドを選択する、方法。
【請求項４０】
請求項２７に記載の方法であって、前記材料が、金属酸化物を含み、前記金属および該金属酸化物が、ブロードキャストな広帯域パルス光子放出へと曝露された場合、テルミット反応し、それによって、該材料の焼結を補助する、方法。
【請求項４１】
基板上の印刷可能な配合物の電気伝導性パターンを作製するためのシステムであって、該方法は、
ナノ材料を含む材料を印刷可能な配合物であって、該ナノ材料は、さらに金属を含み、そして少なくとも１つの寸法が約１ミクロン未満である、印刷可能な配合物；
パターンを作製するために、該印刷可能な配合物のパターンを、低温度の可撓性基板上へと印刷するためのプリンター；
該材料を、少なくとも一つのブロードキャストな広帯域パルス光子放出に曝露するための、電磁放射放出源；
０．０１Ｊ／ｃｍ２〜３０Ｊ／ｃｍ２の範囲で、前記放出源により放出されるエネルギー面密度を制御するための、回路；
該放出源の放出パルス持続時間を、１マイクロ秒〜１００ミリ秒の範囲に設定するための回路；
該基板を、該放出源を通過する印刷可能な配合物で運搬するためのメカニズム；
前記基板上の材料のエネルギー面密度曝露を空間的に制御するために、前記パルス化放出速度を、基板運搬速度と同調させるための、メカニズムであって、該パルス化放出は、該基板上の印刷可能な配合物のパターンの電気伝導性を増加させるために、該材料を焼結する、メカニズム
を含む、システム。
【請求項４２】
前記放出源が、密閉されたフラッシュランプを含む、請求項４１に記載のシステム。
【請求項４３】
前記放出源が、該放出源のスペクトルを改変するための、そして、前記基板へ最小限の影響を与えながら、前記材料の焼結を改善させる、放出バンドを選択するための、伝達または反射フィルターを含む、請求項４２に記載のシステム。
【請求項４４】
前記基板を運搬するためのメカニズムが、５ｆｔ／分〜１００ｆｔ／分で操作される、請求項４１に記載のシステム。