Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択された構造に従って構造化されたメタデータ（Ｍ）をそれぞれが有する、複数のデータソース（１２）において、選択された少なくとも１つの利用者コミュニティ（６）のために情報内容を検索する方法であって、
各データソース（１２）のメタデータ（Ｍ）の構造に基づく少なくとも１つの結果に関するカテゴリー（Ｔ）を含む、前記利用者コミュニティ（６）固有の読み取りテーブル（Ｖ）を定義するモードと、
あらかじめ定義された前記固有の読み取りテーブル（Ｖ）を、前記複数のデータソース（１２）において前記利用者コミュニティ（６）のために実行される情報内容の検索において、検索フィルタおよび／または表示形式として利用するモードと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記読み取りテーブル（Ｖ）が、選択された階層関係に従って配列された複数のカテゴリー（Ｔ）を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記読み取りテーブル（Ｖ）を定義するモードが、
ａ）少なくとも１つの利用者コミュニティ（６）を、前記コミュニティの利用者が共有している少なくとも１つの要素に従って定義するステップと、
ｂ）前記定義したコミュニティについて、少なくとも１つのデータソース（１２）を、前記データソースおよび／または前記コミュニティに関する少なくとも１つのパラメータに従って定義するステップと、
ｃ）前記定義したデータソース（１２）について、情報内容に関する少なくとも１つのカテゴリー（Ｔ）を定義できる少なくとも１つのメタデータ（Ｍ）を検索するステップと、
ｄ）前記メタデータ（Ｍ）に関して検索結果が肯定である場合には、前記カテゴリー（Ｔ）と前記検索されたメタデータ（Ｍ）との間に少なくとも１つの対応規則（Ｅ）を定義するステップと、
ｅ）前記定義された対応規則（Ｅ）を、前記データソース（１２）の情報内容の少なくとも一部に適用し、前記カテゴリー（Ｔ）に、前記対応規則（Ｅ）に該当する情報内容を関係づけるステップと、
ｆ）各データソースの少なくともいくつかのメタデータ（Ｍ）について、ａ）〜ｅ）のステップを繰り返し、前記複数のデータソース（１２）について、前記各データソースのメタデータの構造に基づく前記利用者コミュニティ（６）固有の読み取りテーブル（Ｖ）を形成する、少なくとも１つの前記カテゴリー（Ｔ）を得るステップと、
を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記データソース（１２）が異種混交型である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記データソース（１２）が、内部データベース（１２Ｅ）と、内部知識管理アプリケーション（１２Ｂ）と、文書管理アプリケーション（１２Ｃ）と、外部プロバイダのコンテンツ（１２Ａ）と、内部知識ソース（１２Ｄ）と、によって形成されるグループに属する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
コミュニティ（６）の利用者が共有している前記要素が、興味の中心と、プロジェクトと、ツールと、データベースと、プロセスと、方法と、職業と、専門知識と、によって形成されるグループに属する、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記固有の読み取りテーブル（Ｖ）を定義するモードを、前記利用者コミュニティ（６）と前記複数のデータソース（１２）との間に配置される独自のアクセスモジュール（３）を通じて実現する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記データソースおよび／または前記コミュニティに関するパラメータを、前記利用者コミュニティの職業の分析から得る、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
−１つのコミュニティ（６）に属する利用者から出される要求を受け取り、そのコミュニティの利用者に結果を送信するアクセスモジュール（３）と、
−それぞれが選択された構造に従って構造化されたメタデータ（Ｍ）を持ち、それぞれがアクセスモジュール（３）に接続されている、複数のデータソース（１２）と、
−各データソース（１２）のメタデータ（Ｍ）の構造に基づく少なくとも１つのカテゴリーを含む、少なくとも１つの固有の読み取りテーブル（Ｖ）をあらかじめ定義するモジュールと、
−前記あらかじめ定義された固有の読み取りテーブル（Ｖ）を、前記利用者コミュニティのために前記複数のデータソースにおいて行なわれる検索の検索フィルタおよび／または結果の表示条件として利用する検索モジュールと、
を有する検索サーバーを備える検索ツール。
【請求項１０】
前記定義するモジュールが、
−少なくとも１つのデータソース（１２）に関し、少なくとも１つのカテゴリーを定義できる少なくとも１つのメタデータ（Ｍ）を検索する手段と、
−前記メタデータに関する検索結果が肯定である場合に、
・前記カテゴリー（Ｔ）と得られた前記メタデータ（Ｍ）との間に少なくとも１つの対応規則（Ｅ）を定義し、前記定義された対応規則（Ｅ）を、データソース（１２）の結果の少なくとも一部に適用し、前記対応規則（Ｅ）に該当する結果を前記カテゴリー（Ｔ）と関係づけることと、
・各データソース（１２）の少なくともいくつかのメタデータ（Ｍ）について前記処理を繰り返すことにより、前記複数のデータソース（１２）に適用可能であって、前記複数のデータソースのメタデータの構造に基づく少なくとも１つのカテゴリー（Ｔ）を含む、検索および／または表示に関する固有のテーブル（Ｖ）を得ることと、に適した処理手段と、
を備えている、請求項９に記載のツール。
【請求項１１】
情報システムが読み取ることができ、前記情報システムにインストールされて実行されたとき、請求項１〜８のいずれか１項に記載の検索方法を実現することのできるコンピュータプログラムの命令を含み、ＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスクまたはフロッピー（登録商標）ディスクなどの磁気媒体、あるいは電気信号または光信号などの伝送可能な媒体を含み、必要に応じて全体または一部が携帯可能である、情報媒体。
【請求項１２】
情報システムにインストールされて実行されたとき、請求項１〜８のいずれか１項に記載の検索方法を実現できる命令を含む、情報媒体に記憶されたコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４Ａ】
2009500760.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月22日(2009.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーディオ信号のデコーディング方法であって、
ダウンミックス信号及び補助信号を含むオーディオ信号と、ヘッダが前記補助信号に含まれるか否かを表すヘッダ識別情報とを受信するステップと、
前記ヘッダ識別情報により前記ヘッダが前記補助信号に含まれる場合、前記ヘッダから構成情報を抽出するステップと、
前記構成情報に基づいて前記オーディオ信号をデコーディングするステップと、
を有し、
前記構成情報は、時間整列情報と時間スロットの位置情報のうちの少なくとも一方を含み、
前記時間整列情報は、前記ダウンミックス信号とともに前記補助信号を伝送するときの前記補助信号と前記ダウンミックス信号との間の時間遅延を表すことを特徴とするオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項２】
前記補助信号は、所定の時間間隔又は空間間隔の各々に少なくとも一つのヘッダを含む請求項１に記載のオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項３】
前記補助信号は空間情報信号を表す請求項１に記載のオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項４】
前記空間情報に含まれたパラメータを、前記空間情報に含まれた対応する時間スロットの位置情報を利用して対応する時間スロットに適用するステップを更に有する請求項３に記載のオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項５】
前記オーディオ信号は、前記空間情報信号が前記ダウンミックス信号に組み込まれたか否かを表す信号識別情報を含む請求項３に記載のオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項６】
前記時間整列情報を利用して前記補助信号のフレームの開始位置を識別するステップを更に有する請求項３に記載のオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項７】
オーディオ信号のデコーディング方法であって、
ダウンミックス信号及び補助信号を含むオーディオ信号と、ヘッダが前記補助信号に含まれるか否かを表すヘッダ識別情報とを受信するステップと、
前記ヘッダ識別情報により第１ヘッダが前記補助信号に含まれない場合、前記第１ヘッダより前に伝送された第２ヘッダの構成情報に基づいて前記オーディオ信号をデコーディングするステップと、
を有し、
前記構成情報は、時間整列情報と時間スロットの位置情報のうちの少なくとも一方を含み、
前記時間整列情報は、前記ダウンミックス信号とともに前記補助信号を伝送するときの前記補助信号と前記ダウンミックス信号との間の時間遅延を表すことを特徴とするオーディオ信号のデコーディング方法。
【請求項８】
オーディオ信号のデコーディング装置であって、
ダウンミックス信号及び補助信号を含むオーディオ信号と、ヘッダが前記補助信号に含まれるか否かを表すヘッダ識別情報とを受信する受信部と、
前記ヘッダ識別情報により前記ヘッダが前記補助信号に含まれる場合、前記ヘッダから構成情報を抽出する抽出部と、
前記構成情報に基づいて前記オーディオ信号をデコーディングする多重チャネル生成部と、
を有し、
前記構成情報は、時間整列情報と時間スロットの位置情報のうちの少なくとも一方を含み、
前記時間整列情報は、前記ダウンミックス信号とともに前記補助信号を伝送するときの前記補助信号と前記ダウンミックス信号との間の時間遅延を表すことを特徴とするオーディオ信号のデコーディング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月18日(2009.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天体光を集光するための方法であって、
ａ）鏡を活用することによって天体源から光を集光するステップと、
ｂ）前記鏡によって集光された前記光を焦点に合わせるステップと、
ｃ）前記焦点に位置する光を分散させるための手段を活用して前記焦点に合わせた光を分散させるステップと、
ｄ）前記分散光の少なくとも一部に地上の物質を露呈するステップと、
を備える方法。
【請求項２】
前記分散光がステップ（ｄ）の前にフレネルレンズを活用してさらに操作される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記鏡が厚さが０．５ミリメートルから１．０ミリメートルの間であるポリカーボネートの鏡を備える請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記光を分散させるための手段が、厚さが０．５ミリメートルから８．０ミリメートルの間のレンズである請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ステップ（ｄ）の前記物質が生物学的物質である請求項１に記載の方法。
【請求項６】
鏡と、
前記鏡の焦点軸に沿って配置される焦点ケージと、
前記鏡によって反射される天体光を分散させるための手段であって、前記焦点軸に沿って位置付けられ、前記焦点ケージの中に収容される前記分散させるための手段からなる天体光集光器であって、
前記鏡は回転式基部部材に配置される天体光集光器。
【請求項７】
前記焦点ケージの中で天体光を屈折するように適応されたフレネルレンズをさらに含む請求項６に記載の集光器。
【請求項８】
前記鏡がポリカーボネートの放物面鏡を備える請求項６に記載の集光器。
【請求項９】
前記ポリカーボネート鏡が、厚さ０．５ミリメートルから１．０ミリメートルの間である請求項８に記載の集光器。
【請求項１０】
前記鏡が高度方位角軸外分割アレイを備える請求項６に記載の集光器。
【請求項１１】
前記分割アレイが２，０００平方フィートから４，０００平方フィートの間である請求項１０に記載の集光器。
【請求項１２】
前記焦点ケージおよび前記鏡が共通の建物の中で同一場所に配置されていない請求項６に記載の集光器。
【請求項１３】
前記光を分散させるための前記手段が、厚さが０．５ミリメートルと８ミリメートルの間のレンズを備える請求項６に記載の集光器。
【請求項１４】
前記鏡によって集光される前記天体光が分析機器を通過しない請求項６に記載の集光器。
【請求項１５】
該焦点ケージが、前記天体光がそれを通して分散されるプリズムを含む請求項６に記載の集光器。
【請求項１６】
前記天体光が、前記焦点ケージの中に妨害されずに移動する請求項６に記載の集光器。
【請求項１７】
前記回転式基部部材が、コンクリート受け台の上に配置される垂直軸方位角旋回リングである請求項６に記載の集光器。
【請求項１８】
支柱と少なくとも１対の旋回リングとを含む構造体によって支持される放物面鏡であって、前記構造体が水平面で回転自在である前記鏡と、
前記鏡の焦点軸に沿って配置される焦点ケージと、
前記放物面鏡によって反射される天体光を分散させるための手段であって、前記焦点軸に沿って位置付けられ、前記焦点ケージの中に収容される前記分散させるための手段と、
を備える天体光集光器。
【請求項１９】
前記鏡が、該焦点ケージに光を反射するために使用される唯一の鏡である請求項１８に記載の集光器。
【請求項２０】
該反射光が、単一の見られている物体より少なくとも５等級明るい請求項１８に記載の集光器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月1日(2009.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の形状及び方向を制御する装置であって、第１の要素と第２の要素とを備え、該要素のそれぞれが、
入射光ビームに対してほぼ垂直に配置された第１及び第２の透明平坦基板と、
前記第１及び第２の基板の間に配置された液晶層と、
前記第１の基板上に配置された第１の透明電極パターンと、第２の基板上に配置された第２の透明電極パターンと、を備え、
前記装置はさらに、前記要素のそれぞれの第１の電極パターンと第２の電極パターンとの間の電位差を調節し前記各液晶層の屈折率を調節する制御手段を備え、
前記第１の要素の液晶材料は第１の方向の方位に整列され、前記第２の要素の液晶材料は第２の方向の方位に整列されている、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記制御手段は、ＡＣ周波数に従って、電位差を調節するように構成されている、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記要素のそれぞれにおいて、前記第１の電極パターンは、前記第２の電極パターンとほぼ同一である、
請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記要素のそれぞれにおいて、前記第１の電極パターン及び第２の電極パターンの任意のものが、複数の六角形の特徴を備えている、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記要素のそれぞれにおいて、前記第１の電極パターン及び第２の電極パターンの任意のものが、複数の電極セグメントを備え、各セグメントが、電位に関して、個別に調節されるように構成されている、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記要素のそれぞれにおいて、前記第１の電極パターン及び第２の電極パターンの任意のひとつが、実質的に無特徴である、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記要素のそれぞれにおいて、前記第１の電極パターン及び第２の電極パターンの任意のものが、高い表面抵抗を有する層によってコーティングされている、
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記要素のそれぞれにおいて、前記電極パターンは、空間寸法がほぼ１〜１０μｍの間隔であるような特徴を備えている、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
前記要素のそれぞれにおいて、絶縁層又は高い表面抵抗の層によって覆われた電極パターンは、空間寸法がほぼ１０〜１００μｍの間隔であるような特徴を備えている、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
前記要素のそれぞれにおいて、前記第１の基板と第２の基板は、５〜５０μｍ間隔で配置されている、
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
前記要素のそれぞれにおいて、前記電極は、インジウム錫酸化物から作られている、
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
前記要素のそれぞれにおいて、５００ｎｍ〜８００ｎｍの波長域における総透過が、８０％よりも高い、
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
前記制御装置は、前記第１の電極パターンと第２の電極パターンとの間の電位差を、０〜２０Ｖの間隔で、調節するように構成されている、
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１の方向の方位は、前記第２の方向の方位に対して、ほぼ垂直である、
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記第１の方向の方位は、前記第２の方向の方位に対して、ほぼ平行であり、
前記第１の装置と第２の装置との間に配置された半波長板を更に備えている、
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１及び第２の装置は、伝達された光の強度における、局所的な最大及び最小の外観を避けるように構成されている、
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれかに従った装置と、少なくとも一つの光源とを備えている、
ことを特徴とする照明装置。
【請求項１８】
前記少なくとも一つの光源は、少なくとも一つの色を有する少なくとも一つの発光ダイオードを備えている、
請求項１７に記載の照明装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この目的は、特許請求の範囲に記載された装置及びシステムによって達成される。
すなわち、光の形状及び方向を制御する装置は、
第１の透明平坦基板及び第２の透明平坦基板であって、第１の要素と第２の要素とを備え、
該要素のそれぞれが、入射光ビームに対してほぼ垂直に配置された第１及び第２の透明平坦基板と、
第１及び第２の基板の間に配置された液晶層と、
第１の基板上に配置された第１の透明電極パターンと、第２の基板上に配置された第２の透明電極パターンと、を備え、
前記装置はさらに、前記要素のそれぞれの第１の電極パターンと第２の電極パターンとの間の電位差を調節し前記各液晶層の屈折率を調節する制御手段を備え、
前記第１の要素の液晶材料は、第１の方向の方位に整列され、前記第２の要素の液晶材料は、第２の方向の方位に整列されている。
好ましくは、電位差は、ＡＣ周波数に従って制御される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月19日(2009.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）スルホン、アミド、スルホキシド、エーテル、ポリエーテル、ポリオール、ニトリル、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、環状エステル、環状カルボナート、炭酸グリシジルエーテル、およびケイ素／ポリオールコポリマーからなる群から選択される、電子活性装置内の媒体として適した１種以上の溶媒、
ii）紫外線吸収剤からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物、ならびに
iii）ニトロキシル、ヒドロキシルアミンおよびヒドロキシルアミン塩からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物、
を含む、電子活性装置内の媒体として適した組成物。
【請求項２】
ニトロキシル、ヒドロキシルアミンおよびヒドロキシルアミン塩からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物を、
ｉ）電子活性装置内の媒体として適した１種以上の溶媒、および
ii）紫外線吸収剤からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物、
を含む組成物に添加することを含む、電子活性装置内で有用な安定化媒体を製造する方法。
【請求項３】
ニトロキシル、ヒドロキシルアミンおよびヒドロキシルアミン塩からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物を、
ｉ）電子活性装置内の媒体としての１種以上の溶媒、および
ii）紫外線吸収剤からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物、
を含む組成物に添加することを含む、電子活性装置内で媒体を安定化させる方法。
【請求項４】
ｉ）電子活性装置内の媒体として適した１種以上の溶媒、
ii）紫外線吸収剤からなる群から選択される１種以上の添加剤化合物、ならびに
iii）ニトロキシル、ヒドロキシルアミンおよびヒドロキシルアミンからなる群から選択される１種以上の添加剤化合物、
を含む組成物を含む電子活性装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上のプロセスチャンバが試料を含む複数のプロセスチャンバを有するディスクを回転させるモータ、
電磁エネルギーを放射する、前記ディスクに向けられたエネルギー源、及び
前記電磁エネルギーを前記ディスクの半径方向の位置に集束させて、前記複数のプロセスチャンバの１つ以上を加熱する反射器を備える、検出装置。
【請求項２】
１つ以上のプロセスチャンバが試料を含む複数のプロセスチャンバを有するディスクを回転させる工程、
エネルギー源から電磁エネルギーを放射する工程、
反射器を用いて前記電磁エネルギーを反射させる工程、及び
反射した前記電磁エネルギーを前記ディスクの半径方向の位置に集束させて、前記複数のプロセスチャンバの１つ以上を加熱する、集束工程を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月8日(2009.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
これらの監視及び感知機器は一般的に、絞り領域即ちオリフィスを横切る異なる圧力流を測定することにより、流体搬送システム内の流量又は圧力を制御する。時間の経過と共に、オリフィスは必ず腐食し又は詰まり、監視及び感知機器全体の取替えを必要とする。また、同じ又は異なる流体の流量又は圧力を制御するために、流体流回路内におけるオリフィスの絞り面積を増加又は減少させることが好ましい。
【特許文献１】米国再発行特許第３８５５７号明細書
【特許文献２】米国特許第５３２５７２８号明細書
【特許文献３】米国特許第５６７２８３２号明細書
【特許文献４】米国特許第５６９３８８７号明細書
【特許文献５】米国特許第５８１６２８５号明細書
【特許文献６】米国特許第６０６２２５６号明細書
【特許文献７】米国特許第６５７８４３５号明細書
【特許文献８】米国特許第６５９７５８０号明細書
【特許文献９】米国特許第６６１２１７５号明細書
【特許文献１０】米国特許第６８１３９６４号明細書
【特許文献１１】米国特許第６８７０７９４号明細書
【特許文献１２】米国特許第７１５５９８３号明細書
【特許文献１３】米国特許第７４１５８９４号明細書
【特許文献１４】米国特許第４６８７０２０号明細書
【特許文献１５】米国特許第４８５８６４３号明細書
【特許文献１６】米国特許第４９７７９１６号明細書
【特許文献１７】米国特許第５５７１９９６号明細書
【特許文献１８】米国特許第５３９１８７４号明細書
【特許文献１９】米国再発行特許第３１５７０号明細書
【特許文献２０】米国特許出願公開第２００５／００３９９４７号明細書
【特許文献２１】米国特許出願公開第２００３／００７５３４９号明細書
【特許文献２２】国際公開第２００５／０５０５４６号パンフレット
【特許文献２３】国際公開第２００４／０８３７８６号パンフレット
【特許文献２４】国際公開第９９／３０３８８号パンフレット
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月11日(2009.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレームの中央の周りで環状アレイに配置された複数の開口部を備えるフレームと、
該フレームにある複数の開口部の１つに保持されるように設計された１つ以上のプロセスモジュールであって、隣接した開口部に装着された隣接した前記プロセスモジュールが、前記フレームの放射状ストラットによって互いに分離されている、１つ以上のプロセスモジュールと、
を備えるモジュール式サンプル加工装置キットであって、
各プロセスモジュールは、
第１及び第２の主表面を備えるモジュール体と、
該モジュール体の前記第２の主表面に取り付けられた金属ホイル層と、
前記プロセスモジュール内の液体構造であって、プロセスチャンバと流体連通し、前記フレームの中央に対して前記プロセスチャンバの内側に放射状に配置された投入口を備える液体構造と、をさらに備え、
前記プロセスチャンバは、前記モジュール体の第１及び第２の主表面を貫通して形成された空隙と、前記第２の主表面の空隙を覆うように前記第２の主表面に取り付けられた前記金属ホイル層とによって規定される容積を含み、
前記１つ以上のプロセスモジュールが前記フレームにある複数の開口部内に保持されている場合、前記１つ以上のプロセスモジュールの前記プロセスチャンバは、モジュール式サンプル加工装置の環状加工リングを規定し、
各プロセスモジュールは、前記モジュール体の前記第１及び第２の主表面に対して垂直方向に測定したｚ軸厚みを含み、該ｚ軸厚みが前記環状加工リング内に配置されたフレームの各放射状ストラットの部分のｚ軸厚みよりも大きい、モジュール式サンプル加工装置キット。
【請求項２】
フレームの中央の周りで環状アレイに配置されて放射状ストラットによって互いに分離されている複数の開口部を有するフレームを備える、モジュール式サンプル加工装置に使用するように設計されたプロセスモジュールであって、
該プロセスモジュールは、
第１及び第２の主表面を備えるモジュール体と、
該モジュール体の前記第２の主表面に取り付けられた金属ホイル層と、
前記プロセスモジュール内の液体構造であって、プロセスチャンバと流体連通し、前記フレームの中央に対して前記プロセスチャンバの内側に放射状に配置された投入口を備える液体構造と、を備え
前記プロセスチャンバが、前記モジュール体の第１及び第２の主表面を貫通して形成された空隙と、前記第２の主表面の空隙を覆うように前記第２の主表面に取り付けられた前記金属ホイル層とによって規定される容積を含み、
前記プロセスモジュールが、前記モジュール体の前記第１及び第２の主表面に対して垂直方向に測定したｚ軸厚みを含み、該ｚ軸厚みが環状加工リング内に配置されたフレームの各放射状ストラットの部分のｚ軸厚みよりも大きい、プロセスモジュール。
【請求項３】
サンプル物質を加工する方法であって、
該方法が、
フレームの中央の周りで環状アレイに配置された複数の開口部を備えるフレームと、該フレームの複数の開口部のうちの１つの開口部内に保持されるように設計された１つ以上のプロセスモジュールとを備えるモジュール式サンプル加工装置であって、隣接した開口部に装着された隣接したプロセスモジュールが、該フレームの放射状ストラットによって互いに分離されており、各プロセスモジュールが、第１及び第２の主表面を備えるモジュール体と、前記モジュール体の前記第２の主表面に取り付けられた金属ホイル層と、前記モジュール体の前記第１及び第２の主表面を貫通して形成された空隙及び前記第２の主表面の前記空隙を覆うように前記第２の主表面に取り付けられた前記金属ホイル層とによって規定される容積を備える少なくとも１個のプロセスチャンバとをさらに備え、前記１つ以上のプロセスモジュールが前記フレームにある前記複数の開口部内に保持されている場合、前記１つ以上のプロセスモジュールの前記プロセスチャンバが前記モジュール式サンプル加工装置の環状加工リングを規定するモジュール式サンプル加工装置を提供すること、
前記１つ以上のプロセスモジュールの前記少なくとも１つのプロセスチャンバ内にサンプル物質を提供すること、
熱構造の凹部伝熱面で前記サンプル加工装置の前記環状加工リングを変形させることであって、これにより、前記１つ以上のプロセスモジュール及び前記フレームの部分が前記凹部伝熱面に沿うように湾曲させられ、及び
前記凹部伝熱面で前記環状加工リングを変形させながら前記サンプル加工装置を回転軸の回りで回転させること、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル処理装置を扱うシステムであって、
駆動システムに作動可能に連結されたベースプレートであって、前記駆動システムが前記ベースプレートを回転軸周りで回転させ、前記回転軸がｚ軸を画定するベースプレート；
前記ベースプレートに作動可能に取り付けられた熱構造体であって、前記熱構造体が前記ベースプレートの第一面に近接して露出された伝達表面を具備する熱構造体；
前記伝達表面に面するカバーであって、前記カバーが内側圧縮リング及び外側圧縮リングを具備するカバー；
前記カバーを前記伝達表面に向けてｚ軸に沿って第一方向に押すように前記カバーに作動可能に取り付けられた圧縮構造体であって、前記内側及び外側の圧縮リングが、前記カバーと前記伝達表面の間に配置されたサンプル処理装置に接触し、及びこれを付勢して伝達表面と接触させる圧縮構造体；および
前記ベースプレートが前記回転軸周りで回転している間に、熱エネルギーを前記熱構造体に対して放出するように適合されたエネルギー源
を具備する前記システム。
【請求項２】
サンプル処理装置を扱うシステムであって、
駆動システムに作動可能に連結されたベースプレートであって、前記駆動システムが前記ベースプレートを回転軸周りで回転させ、前記回転軸がｚ軸を画定するベースプレート；
前記ベースプレートに作動可能に取り付けられた熱構造体であって、前記熱構造体が前記ベースプレートの第一面に近接して露出された伝達表面を具備する熱構造体；
前記伝達表面に面するカバー；
前記カバー及びベースプレートに作動可能に取り付けられた１つ以上の磁気要素であって、前記カバー及び前記ベースプレートに取り付けられた前記１つ以上の磁気要素の間の磁力が、前記カバーを前記ベースプレートの前記第一面に向けてｚ軸に沿って第一方向に引き寄せて、前記カバーと前記ベースプレートの間に配置されたサンプル処理装置が、前記ベースプレートの前記熱構造体との接触に向けて付勢されるようになっている、１つ以上の磁気要素；および
前記ベースプレートが前記回転軸周りで回転している間に、熱エネルギーを前記熱構造体に対して放出するように適合されたエネルギー源
を具備する前記システム。
【請求項３】
サンプル処理装置を扱うシステムであって、
駆動システムに作動可能に連結されたベースプレートであって、前記駆動システムが前記ベースプレートを回転軸周りで回転させるベースプレート；
前記ベースプレートの第一面に面するカバー；
前記カバーを前記ベースプレートに向けて押すように前記カバーに作動可能に取り付けられた圧縮構造体；
前記ベースプレートに作動可能に取り付けられた熱構造体；
前記カバー及び熱構造体の一方又は両方に作動可能に連結された１つ以上の弾力性部材であって、前記１つ以上の弾力性部材が、前記カバーを前記ベースプレートに向けて押している前記圧縮構造体の力に対向する偏倚力を提供して、前記カバーと前記ベースプレートの前記第一面との間に配置されたサンプル処理装置の一部が、前記熱構造体との接触に向けて付勢される、１つ以上の弾力性部材；および
前記ベースプレートが前記回転軸周りで回転している間に、熱エネルギーを前記熱構造体に対して放出するように適合されたエネルギー源
を具備する前記システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月23日(2009.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁によってプロセスチャンバから分離された保持チャンバを有するディスクを回転させるためのモータと、
前記ディスクの位置を決定するために第１のレベルで電磁エネルギーを出力し、また前記弁を開放して前記保持チャンバから前記プロセスチャンバに流体を流れさせるために第２のレベルで電磁エネルギーを出力するエネルギー源と、を備える検出装置。
【請求項２】
データ取得装置と、前記データ取得装置に結合された検出装置と、を備える検出システムであって、
前記検出装置は、
弁によってプロセスチャンバから分離された保持チャンバを有するディスクを回転させるためのモータと、
前記ディスクの位置を決定するために電磁エネルギーを出力し、この後に前記弁を開放して前記保持チャンバから前記プロセスチャンバに流体を流れさせるために電磁エネルギーを出力するエネルギー源と、を含む、検出システム。
【請求項３】
弁によってプロセスチャンバから分離された保持チャンバを有するディスクを回転させるステップと、
前記ディスクの位置を決定するために、第１のレベルで電磁エネルギーを放出するステップと、
前記弁を開放して前記保持チャンバから前記プロセスチャンバに流体を流れさせるために、第２のレベルで電磁エネルギーを放出するステップと、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月16日(2009.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の主表面を含む本体と、
複数の流体構造物と、
前記本体の前記第１の主表面に取り付けられた第１の環状カバーと、
前記本体の前記第２の主表面に取り付けられた第２の環状カバーと、
前記本体の前記第２の主表面に取り付けられた中央カバーと、
を有するマイクロ流体サンプル処理ディスクであって、
前記複数の流体構造物の各々は、
開口部を備えた投入ウェルと、
前記投入ウェルの径方向外側に配置されるとともに、前記本体の前記第１及び第２の主表面を貫いて形成された空隙を有する処理チャンバと、
前記投入ウェルを前記処理チャンバに連結するとともに、前記本体の前記第２の主表面に形成された内側チャネルと、前記本体の前記第１の主表面に形成された外側チャネルと、前記本体の前記第１及び第２の主表面を貫いて形成されかつ前記内側チャネルを前記外側チャネルに連結するビアとを有するデリバリチャネルと、を有し、
前記複数の流体構造物の前記ビア及び前記処理チャンバは、前記本体上に環状リングを画定し、
前記第１の環状カバーは、前記本体の前記第１の主表面において前記ビア、前記外側チャネル及び前記処理チャンバを画定し、
前記第２の環状カバーは、前記本体の前記第２の主表面において前記複数の流体構造物の前記処理チャンバを画定し、前記第２の環状カバーの内縁部は、前記複数の流体構造物の前記ビアによって画定された前記環状リングの径方向外側に位置し、
前記中央カバーは、前記本体の前記第２の主表面において前記内側チャネル及び前記ビアを画定し、前記中央カバーの外縁部は、前記複数の流体構造物の前記ビアによって画定された前記環状リングの径方向外側に位置する、マイクロ流体サンプル処理ディスク。
【請求項２】
第１及び第２の主表面を含む本体と、
複数の流体構造物と、
前記本体の前記第１の主表面に感圧接着剤によって取り付けられた第１のカバーと、
前記本体の前記第２の主表面に感圧接着剤によって取り付けられた第２のカバーと、
を有するマイクロ流体サンプル処理ディスクであって、
前記複数の流体構造物の各々は、
開口部を備えた投入ウェルと、
前記投入ウェルの径方向外側に配置されるとともに、前記本体の第１及び第２の主表面を貫いて形成された空隙を有する処理チャンバと、
前記投入ウェルを前記処理チャンバに連結するデリバリチャネルとを有し、
前記第１のカバーは、前記本体の前記第１の主表面において前記複数の流体構造物の前記処理チャンバの一部分を画定し、
前記第２のカバーは、前記本体の前記第２の主表面において前記複数の流体構造物の前記処理チャンバの一部分を画定するとともに、内縁部と、該内縁部の径方向外側に位置する外縁部とを含み、
前記複数の流体構造物の前記処理チャンバは、内縁部と前記本体の周囲の径方向内側に位置する外縁部とを含む環状の処理リングを画定し、該環状の処理リングの内縁部は前記第２のカバーの内縁部の径方向外側に位置する、マイクロ流体サンプル処理ディスク。
【請求項３】
第１及び第２の主表面を含む本体と、
前記本体に形成された複数の処理チャンバを含む環状の処理リングと、
前記環状の処理リング内に配置された環状の金属層と、
前記本体に形成された複数のチャネルと、
を有するマイクロ流体サンプル処理ディスクであって、
前記複数の処理チャンバの各々は、サンプル材料を収容する独立した容積部を画定し、
前記環状の金属層は、前記本体の前記第１の主表面に近接し、前記複数の処理チャンバは、前記環状の金属層と前記本体の前記第２の主表面との間に配置され、
前記複数のチャネルの各々は、前記複数の処理チャンバのうちの少なくとも１つの処理チャンバと流体的に連通し、
前記環状の処理リングは弾性構造を有し、前記環状の処理リングの一部分が前記本体の前記第１及び第２の主表面に垂直な方向に撓んだときに、前記複数の処理チャンバの独立した容積部は流体的に漏れなく形成される、マイクロ流体サンプル処理ディスク。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月11日(2009.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験体の血清または血漿サンプルにおいてアスペルギルス抗原に対する抗体の量を決定することにより、アスペルギルス感染を検出する方法であって、
ａ）前記抗体および前記抗原との間で得ることができる免疫複合体の形成のために、前記血清または血漿サンプルを、アスペルギルス抗原と共にインキュベートすること、および、
ｂ）該アスペルギルス抗原に対する抗体の量を決定すること、
を含んでなり、該アスペルギルス抗原が、下記抗原：
リボヌクレアーゼ（ＲＮＵ）抗原、
カタラーゼ（ＣＡ）抗原、および
ジペプチジルペプチダーゼＶ（ＤＰＰＶ）抗原、
の少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択される、方法。
【請求項２】
工程（ｂ）において、陰性参照の血清または血漿サンプルで得られた量と比較して、前記２つの抗原の少なくとも１つの抗原に対する抗体の有意に上回る量が決定されることが、アスペルギルス感染の指標となる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
アスペルギルス抗原が固相支持体上にコーティングされている、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記抗原のそれぞれが、固相支持体上の異なる位置にコーティングされている、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
固相支持体が酵素結合免疫吸着検定法（ＥＬＩＳＡ）プレートであり、該方法が、
ａ）前記血清または血漿サンプルを、該ＥＬＩＳＡプレート上にコーティングされたアスペルギルス抗原と共にインキュベートすること、
ｂ）ＥＬＩＳＡプレートから、アスペルギルス抗原と結合していない前記血清または血漿サンプルの抗体を除去すること、
ｃ）酵素をコンジュゲートさせた抗免疫グロブリン（抗Ｉｇ）抗体を接触させること（ここで、抗Ｉｇ抗体は、前記血清または血漿サンプルの抗体と結合できる）、
ｄ）ＥＬＩＳＡプレートから、前記血清または血漿サンプルの抗体と結合していない抗Ｉｇ抗体を除去すること、
ｅ）酵素に対応する可溶性基質を加えること、および
ｆ）ＥＬＩＳＡプレートのウェルの吸光度の値をＥＬＩＳＡリーダーにて適切な波長で読み取ること、
を含んでなり、
前記抗体の量が、得られた吸光度の値により決定される、
請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
アスペルギルス抗原が、ＲＮＵおよびＣＡ抗原の組み合わせを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
アスペルギルス抗原が、ＲＮＵおよびＤＰＰＶ抗原の組み合わせを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
アスペルギルス抗原が、ＣＡおよびＤＰＰＶ抗原の組み合わせを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
アスペルギルス抗原が、ＲＮＵ、ＣＡおよびＤＰＰＶ抗原の組み合わせを含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ＲＮＵ、ＣＡおよびＤＰＰＶアスペルギルス抗原の少なくとも１つが、組換え抗原である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも１つの組換えアスペルギルス抗原が、発現ベクター中の対応するｃＤＮＡの増幅産物のクローニングにより得られる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
対応するｃＤＮＡの増幅産物が、前記少なくとも１つのアスペルギルス抗原に特異的なプライマー対を用いて、アスペルギルス・フミガーツスのｃＤＮＡライブラリーから得られる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ＲＮＵ抗原に特異的なプライマー対が、配列番号ｌおよび配列番号２である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ＣＡ抗原に特異的なプライマー対が、配列番号３および配列番号４である、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
ＤＰＰＶ抗原に特異的なプライマー対が、配列番号５および配列番号６である、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
アスペルギルス抗原が、さらにガラクトマンナン（ＧＭ）抗原を含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
ＧＭ抗原が、アスペルギルス培養物から精製により得られる、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
特定のアスペルギルス菌株に対する検出シグナルの固有のプロフィールが決定される、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
それぞれのアスペルギルス菌株に関して検出シグナルプロフィールと標準プロフィールを比較し、被験体が感染している菌株の同定を可能にすることをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
アスペルギルス感染がアスペルギルス腫および／またはアレルギー性気管支肺アスペルギルス症（ＡＢＰＡ）を引き起こす、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
ＡＢＰＡを引き起こすアスペルギルス感染が、嚢胞性繊維症に罹患している被験体ならびに嚢胞性繊維症に罹患していない被験体のサンプルにおいて検出される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
アスペルギルス感染が侵襲性アスペルギルス症であり、これが移植を受ける被験体のサンプルにおいて免疫抑制の前に検出可能である、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
免疫不全のヒトのサンプルにおけるアスペルギルス感染の検出が可能である、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
血清または血漿サンプルにおいてアスペルギルス抗原に対する抗体の量を決定するための診断キットであって、
（ａ）下記アスペルギルス抗原の少なくとも２つの組み合わせ： 
ＲＮＵ抗原、
ＣＡ抗原、および
ＤＰＰＶ抗原
を含んでなる、キット。
【請求項２５】
前記アスペルギルス抗原がコーティングされている固相支持体をさらに含む、請求項２４に記載の診断キット。
【請求項２６】
（ｂ）マーカーをコンジュゲートさせた抗Ｉｇ抗体を含有する溶液
をさらに含んでなる、請求項２４または２５に記載の診断キット。
【請求項２７】
（ｃ）洗浄バッファー
をさらに含む、請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の診断キット。
【請求項２８】
アスペルギルス抗原が、ＲＮＵ、ＣＡおよびＤＰＰＶ抗原の組み合わせを含んでなる、請求項２４〜２７のいずれか一項に記載の診断キット。
【請求項２９】
アスペルギルス抗原が、ＧＭ抗原をさらに含んでなる、請求項２４〜２８のいずれか一項に記載の診断キット。
【請求項３０】
固相支持体がＥＬＩＳＡプレートであり、マーカーが酵素である、請求項２５〜２９のいずれか一項に記載の診断キット。
【請求項３１】
（ｄ）酵素に対応する可溶性基質を含有する溶液
をさらに含んでなる、請求項３０に記載の診断キット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月29日(2009.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象者の位置を特定するための装置であって、
位置を特定される前記対象者を含む全体的なエリアを照明することができる電磁放射の放射源と、
前記対象者に関連付けられ、且つ前記放射に応答する第１の吸収体と、
前記対象者に関連付けられる第１の放射体であって、前記第１の吸収体による吸収に応答して第１の信号を放射するものと、
前記対象者に関連付けられ、且つ前記放射に応答する第２の吸収体と、
前記対象者に関連付けられる第２の放射体であって、前記第２の吸収体による吸収に応答して第２の信号を放射するものと、
前記第１の信号及び前記第２の信号を検出すること及び前記対象者の場所を指示する出力を与えることができる検出器と
を備える対象者の位置を特定するための装置。
【請求項２】
捜索エリア内の対象者の位置を特定する方法であって、
前記対象者に、選択された周波数の入射電磁放射を吸収するように選択される第１の吸収体を配設するステップと、
前記対象者に、前記入射電磁放射によって前記吸収体が照明されるのに応答して、第１の信号を放射するように選択される第１の放射体を配設するステップと、
前記対象者に、選択された周波数の入射電磁放射を吸収するように選択される第２の吸収体を配設するステップと、
前記対象者に、前記入射電磁放射によって前記吸収体が照明されるのに応答して、第２の信号を放射するように選択される第２の放射体を配設するステップと、
前記第１の信号及び前記第２の信号を検出し、且つ前記第１の信号及び前記第２の信号の検出時に指示を与えるステップと
を含む捜索エリア内の対象者の位置を特定する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月20日(2009.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶要素を備えたファイルシステムの複数のユーザを有する組織におけるデータ記憶アクセスの制御方法であって、
前記記憶要素に対する前記ユーザのアクセスを記録し、該記録されたアクセスから各アクセスプロファイルを導くステップと、
前記ユーザ及び前記記憶要素をバイクラスタしてユーザクラスタ及びデータクラスタを規定するステップと、
該バイクラスタステップに応答して前記ユーザによる前記記憶要素へのアクセスの制御ポリシを規定するステップと、
を具備し、
前記ユーザクラスタにおける前記ユーザの前記アクセスプロファイルが互いに相似しており、前記データクラスタにおける前記記憶要素が、前記複数のユーザの中で互いに相似した前記アクセスプロファイルを有するユーザによってのみアクセスされることを特徴とするデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項２】
前記１つのデータクラスタにおける前記記憶要素の少なくとも１つの記憶要素が前記複数のユーザのうちの１つのユーザによってアクセスされているときのみ、前記制御ポリシは、前記１つのユーザによる前記１つのデータクラスタの前記記憶要素のアクセスを可能とする、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項３】
前記１つのデータクラスタにおける前記記憶要素の少なくとも１つの記憶要素が前記ユーザクラスタの少なくとも１つのユーザによってアクセスされているときのみ、前記制御ポリシは、前記ユーザクラスタのユーザによる前記１つのデータクラスタの前記記憶要素へのアクセスを可能とする、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項４】
さらに、
前記バイクラスタステップに応答して前記ファイルシステムの構造を導くステップを具備する、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項５】
さらに、
前記バイクラスタステップに応答して前記ファイルシステムの使用パターンを導くステップを具備する、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項６】
さらに、
前記使用パターンの異常パターンを検出するステップを具備する、請求項５に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項７】
前記バイクラスタステップは繰返して実行され、前記アクセスプロファイルは該繰返し毎に再決定され、前記制御ポリシは前記各繰返し後に更新される、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項８】
前記制御ポリシを規定するステップは、
前記制御ポリシの暫定版を提示するステップと、
前記ユーザによる前記記憶要素の後続アクセスを監視するステップと、
前記後続アクセスが前記制御ポリシの前記暫定版に従っていることを判別するステップと、
前記判別ステップに応答して前記暫定版を前記制御ポリシの確定版として認定するステップと、
を具備する、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項９】
さらに、
前記制御ポリシを対話形式で修正するステップを具備する、請求項１に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項１０】
前記制御ポリシを規定するステップは自動的かつ実質的に人を介さずに実行される、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【請求項１１】
さらに、
前記ユーザの少なくとも１つのユーザ集合及び前記記憶要素の少なくとも１つのデータ集合を備えるアクセス制御リストを参照するステップと、
前記各ユーザクラスタのメンバによる前記各データクラスタのメンバに対するアクセスの不存在を検出するステップと、
該検出ステップに応答して、前記ユーザ集合から少なくとも前記ユーザの一部を削除し、かつ前記データ集合から少なくとも前記記憶要素の一部を削除するステップと、
を具備し、
前記ユーザ集合の前記ユーザは前記ユーザクラスタのそれぞれに含まれ、前記データ集合の前記記憶要素は前記データクラスタのそれぞれに含まれている、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のデータ記憶アクセスの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】データ記憶アクセスの制御方法