Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
ステップC：4-(5-アミノ-6-(4-メチル-1,4-ジアゼパン-1-イル)ピラジン-2-イル)ピリジン-2-イルカルバミン酸t-ブチル
ステップBからの生成物（122mg、0.37ミリモル）と、トリエチルアミン（41mg、0.45ミリモル、57μl）と、ジフェニルホスホリルアジド（122mg、0.45ミリモル）を、DMF（1ml）とt-ブタノール（1ml）の混合物の中で16時間にわたって90℃に加熱した。この混合物を酢酸エチルで希釈し、5％塩化リチウム（5×）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濃縮すると、黄色の油が得られた。分離用TLCにより溶離液として塩化メチレン／メタノール／アンモニア（160：18：2）を用いて精製すると、上記のカルバミン酸塩（26mg、17％）が無色の油として得られた；1H NMR (500MHz, CDCl3) δ8.47 (s, 1H)、8.28 (s, 1H)、8.25〜8.24 (d, J=5.4Hz, 1H)、7.49 (s, 1H)、7.42〜7.40 (dd, J=5.4, 1.3Hz, 1H)、5.15 (br s, 2H)、3.59〜3.26 (br m, 8H)、2.90 (s, 3H)、1.57〜1.45 (m, 2H)、1.53 (s, 9H)。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月14日(2008.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＡＡＴＣＣ試験方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに、４．０以上の汚染グレード番号を有する弾性編布であって、ポリエチレンテレフタレートおよびスパンデックスを含み、アゾまたはアントラキノン分子群を含む分散染料で染色されることを特徴とする編布。
【請求項２】
請求項１に記載の染色された丸編シングルジャージ弾性布から製造されることを特徴とする衣服。
【請求項３】
ＡＡＴＣＣ試験方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに、４．０以上の汚染グレード番号を有する染色された丸編シングルジャージ弾性布の製造方法であって、
該布がポリエチレンテレフタレートまたはそのブレンドの硬質糸と、添え糸編みされた裸スパンデックス糸とで編まれており、
ａ）スパンデックス糸がその元の長さの約２．５倍以下に牽伸されるように編み工程でスパンデックス糸の供給を制御する工程と、
ｂ）アゾ−またはアントラキノン−ベース分散染料の水性染色液中で布を約１３５℃未満の温度で染色する工程と、
ｃ）布中の繊維の表面から染料を除くために染色後に布を還元清浄化する工程と、
ｄ）約１３０℃未満のオーブン温度で布をオーブン中で乾燥させる工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法において、
約１７〜約４４の範囲のデシテックスの裸スパンデックス糸が、約５５〜約１６５の範囲のデシテックスの１つまたは複数の紡績フィラメント糸または連続フィラメント糸、またはそれらのブレンドとコースごとに添え糸編みされ、かつ、ニット・カバーファクターが約１．２〜約１．４の範囲であるように表目長さおよびポリエチレンテレフタレート糸デシテックスが選択され、かつ
ポリエチレンテレフタレート繊維のフィラメント当たりのデシテックスが約０．０５〜約３．５の範囲である方法によって製造され、
ＡＡＴＣＣ方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに４．０以上の汚染グレード番号を有することを特徴とする染色された丸編シングルジャージ弾性布。
【請求項５】
請求項４に記載の染色された丸編シングルジャージ弾性布から製造されることを特徴とする衣服。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
（実施例Ｄ１６）
実施例Ｄ１３の布を図５に図式的に示す方法に従って高エネルギー、Ｓ格付け染料でパープル色合いに染色し、仕上げた。実施例Ｄ１６についての布坪量は、受け入れられる収縮で２５１ｇ／ｍ2である。ナイロンに対する汚染格付けは３．０である。
以下に本明細書に記載の発明につき列記する。
１．  ＡＡＴＣＣ試験方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに、４．０以上の汚染グレード番号を有する弾性編布であって、ポリエチレンテレフタレートおよびスパンデックスを含み、アゾまたはアントラキノン分子群を含む分散染料で染色されることを特徴とする編布。
２．  １６０〜約３３０ｇ／ｍ2の範囲の坪量、および約８０％以上の長さ方向の伸び率を有することを特徴とする前記１．に記載の編布。
３．  長さ方向の伸び率が約８０％〜約１３０％の範囲であることを特徴とする前記２．に記載の編布。
４．  重量によるスパンデックス含有率が約４％〜約１５％の範囲であり、洗濯条件での洗濯および乾燥後の前記布の収縮が布長さ方向および幅方向に約３％以下であることを特徴とする前記２．に記載の編布。
５．  約１６０〜約３３０ｇ／ｍ2の範囲の坪量、および約８０％以上の長さ方向の伸び率を有することを特徴とする前記１．に記載の編布。
６．  長さ方向の伸び率が約８０％〜約１３０％の範囲であることを特徴とする前記５．に記載の丸編布。
７．  重量によるスパンデックス含有率が約４％〜約１５％であり、そして洗濯条件での洗濯および乾燥後の前記布の収縮が布長さ方向および幅方向に約３％以下であることを特徴とする前記５．に記載の丸編布。
８．  前記１．に記載の染色された丸編シングルジャージ弾性布から製造されることを特徴とする衣服。
９．  ＡＡＴＣＣ試験方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに、４．０以上の汚染グレード番号を有する染色された丸編シングルジャージ弾性布の製造方法であって、
該布がポリエチレンテレフタレートまたはそのブレンドの硬質糸で、および添え糸編みされた裸スパンデックス糸で編まれており、
ａ）スパンデックス糸がその元の長さの約２．５倍以下に牽伸されるように編み工程でスパンデックス糸の供給を制御する工程と、
ｂ）アゾ−またはアントラキノン−ベース分散染料の水性染色液中で布を約１３５℃未満の温度で染色する工程と、
ｃ）布中の繊維の表面から染料を除くために染色後に布を還元清浄化する工程と、
ｄ）約１３０℃未満のオーブン温度で布をオーブン中で乾燥させる工程と
を含むことを特徴とする方法。
１０．  約１７〜約４４の範囲のデシテックスの裸スパンデックス糸が、約５５〜約１６５の範囲のデシテックスの１つまたは複数の紡績または連続フィラメント糸、またはそれらのブレンドとコースごとに添え糸編みされ、かつ、ニット・カバーファクターが約１．１〜約１．６の範囲であるように表目長さおよびポリエチレンテレフタレート糸デシテックスが選択されることを特徴とする前記９．に記載の方法。
１１．  ニット・カバーファクターが約１．２〜約１．４の範囲であり、そしてポリエチレンテレフタレート繊維のフィラメント当たりのデシテックスが約０．０５〜約３．５の範囲であることを特徴とする前記１０．に記載の方法。
１２．  布染色工程が布をジェット染色機で染料と接触させることを含み、そして布乾燥工程が布をテンターオーブン中で乾燥させることを含むことを特徴とする前記１０．に記載の方法。
１３．  乾燥オーブンの温度が約１２０〜約１２５℃の範囲であることを特徴とする前記１２．に記載の方法。
１４．  前記１１．に記載の方法によって製造され、ＡＡＴＣＣ方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに４．０以上の汚染グレード番号を有することを特徴とする染色された丸編シングルジャージ弾性布。
１５．  前記１１．に記載の方法によって製造され、ＡＡＴＣＣ方法６１−１９９６−２Ａにおいて多繊維試験布の汚染によって測定されるときに４．０以上の汚染グレード番号を有することを特徴とする染色された丸編シングルジャージ弾性布。
１６．  前記１４．に記載の染色された丸編シングルジャージ弾性布から製造されることを特徴とする衣服。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2008525606.tif 000001
［式中、Ｃａｔ+は、１８−クラウン−６Ｎａ+（式
【化９】
2008525606.tif 000002
の化合物）、またはＮ（Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8）［Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ16アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4アルコールである］である有機陽イオンである］
で示される染料。
【請求項２】
Ｃａｔ+が式：
【化２】
2008525606.tif 000003
で示されるアミンのか、または式：
【化３】
2008525606.tif 000004
で示されるアンモニウム化合物のアンモニウム陽イオン：
【化４】
2008525606.tif 000005
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ互いに独立して、水素、あるいは非置換であるか、またはヒドロキシルもしくはアミノ置換され、場合により酸素原子で中断された、直鎖もしくは分枝鎖Ｃ2〜Ｃ14アルキルであって、置換基Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも一つは、非置換であるか、またはヒドロキシルもしくはアミノ置換され、場合により酸素原子で中断された、直鎖もしくは分枝鎖Ｃ2〜Ｃ14アルキルであり、Ｘは、ハロゲンまたは−ＯＨである］
である、請求項１記載の染料。
【請求項３】
式（１００）〜（１０４）：
【化５】
2008525606.tif 000006
2008525606.tif 000007
で示される、請求項１記載の染料。
【請求項４】
請求項１記載の式（１）の染料を製造する方法であって、有機溶媒／水の媒体中で、式（１ａ）：
【化６】
2008525606.tif 000008
で示される染料を、陽イオンＣａｔ+を含む有機アンモニウム化合物を用いて塩に変換して、式（１）：
【化７】
2008525606.tif 000009
［式中、Ｃａｔ+は、請求項１記載の有機陽イオンである］
の染料を形成する工程を含む方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項記載の式（１）の染料を含むプリント用着色剤、プリント用ペーストまたはプリント用インク。
【請求項６】
半合成または合成疎水性繊維材料、特に織物材料を浸染もしくはプリントする方法であって、請求項１〜３のいずれか一項に記載の式（１）の１種類またはそれ以上の染料を、該材料に塗布もしくは混和する工程を含む方法。
【請求項７】
紙、プラスチックフィルムまたは金属箔に着色もしくはプリントする方法であって、請求項１〜３のいずれか一項に記載の式（１）の染料１種類またはそれ以上を、該材料に塗布もしくは混和する工程を含む方法。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の式（１）の染料の使用であって、半合成もしくは合成疎水性繊維材料、紙、プラスチックフィルムまたは金属箔の着色もしくはプリントの際の使用。
【請求項９】
請求項６〜８に記載の着色またはプリントされた材料。
【請求項１０】
インクジェットプリンターにおける請求項５記載のプリント用インクの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月16日(2008.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コポリマーであって、
２つ以上のメルカプト官能基を含む少なくとも１種の共反応物質から誘導された繰返し単位、および
（ａ）次式で表される少なくとも１種のフルオロケミカルアルコール：
Ｃ4Ｆ9−Ｘ−ＯＨ
（式中、
Ｘ＝
【化１】
2008525620.tif 000001
【化２】
2008525620.tif 000002
【化３】
2008525620.tif 000003
または
【化４】
2008525620.tif 000004
Ｒ＝水素、または１〜４個の炭素原子のアルキル基、
ｍ＝２〜８、
Ｒf＝ＣnＦ2n+1、
ｎ＝１〜５、
ｙ＝０〜６、
ｑ＝１〜８）と、
（ｂ）少なくとも１種の非分枝状対称ジイソシアネートと、
（ｃ）そのアルキレン部分に２〜約３０個の炭素原子を有する少なくとも１種のヒドロキシ末端アルキル（メタまたはア）クリレートまたは２−フルオロアクリレートモノマーと、
の反応生成物を含むフルオロアクリレートから誘導された繰返し単位を含むコポリマー。
【請求項２】
（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）の前記反応生成物が次式で表される：
Ｃ4Ｆ9−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）ＮＨ−Ａ−ＨＮＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣpＨ2p）（Ｏ）ＣＯＣ（Ｒ’）＝ＣＨ2
（式中、
Ｘ＝
【化５】
2008525620.tif 000005
【化６】
2008525620.tif 000006
【化７】
2008525620.tif 000007
または
【化８】
2008525620.tif 000008
Ｒ＝水素、または１〜４個の炭素原子のアルキル基、
ｍ＝２〜８、
Ｒf＝ＣnＦ2n+1、
ｎ＝１〜５、
ｙ＝０〜６、
ｑ＝１〜８、
Ａ＝非分枝状対称アルキレン基、アリーレン基、またはアラルキレン基、
ｐ＝２〜３０、
Ｒ’＝Ｈ、ＣＨ3、またはＦ）、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項３】
前記共反応物質が次式で表される：
（Ｂ）n（Ｑ−ＳＨ）k
（式中、
Ｂ＝
【化９】
2008525620.tif 000009
−（ＣＨ2）b−、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）b−、−（ＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）b−、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）b−（ＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）b、−Ｃ4Ｈ8（ＯＣ4Ｈ8）b−、−Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4−、Ｃ6Ｈ5ＣＲ’’2Ｃ6Ｈ5−、および−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）bＣ6Ｈ5ＣＲ’’2Ｃ6Ｈ5（ＯＣ2Ｈ4）b−からなる群から選択された多価セグメント；
ｂ＝１〜１００；
Ｒ’’＝ＣＨ3、ＣＦ3、またはＨ；
Ｑ＝−（ＣＨ2）b−、−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ2）a−、または−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ2）a−；
ａ＝１〜１０；
ｎ＝１以上；
ｋ＝２以上）、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項４】
前記共反応物質が次式で表される：
ＨＳ（Ｑ’−（Ｂ’）n−Ｑ’Ｓ）bＨ
（式中、
Ｂ’＝−（ＣＨ2）b−、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）b−、−（ＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）b−、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）b−（ＣＨＣＨ3ＣＨ2Ｏ）b、−Ｃ4Ｈ8（ＯＣ4Ｈ8）b−、−Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4−、Ｃ6Ｈ5ＣＲ’’2Ｃ6Ｈ5−、および−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）bＣ6Ｈ5ＣＲ’’2Ｃ6Ｈ5（ＯＣ2Ｈ4）b−からなる群から選択された多価セグメント；
ｂ＝１〜１００；
Ｒ’’＝ＣＨ3、ＣＦ3、またはＨ；
ｎ＝１以上；
Ｑ’＝−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ2ＣＨ2−または−Ｃ（Ｏ）ＣＨ2ＣＨ2−）、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項５】
前記共反応物質が次式で表される：
（Ｒf’）n（Ｑ’’−ＳＨ）k
（式中、
Ｒf’＝フッ素化アルキルまたはアルキレン基を含む多価セグメント；
Ｑ’’＝−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ2）b−または−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ2）b−；
ｂ＝２〜１２；
ｎ＝１以上；
ｋ＝２以上）、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項６】
前記共反応物質が次式で表される：
【化１０】
2008525620.tif 000010
（式中、
Ｒ1＝独立して、同一でも、異なってもよく、アルキル、アリール、アルカリール、アルコキシ、アルキルアミノ、ヒドロキシル、水素、およびフルオロアルキルからなる群から選択された１価部分；
Ｒ2＝独立して、同一でも、異なってもよい２価の結合基；
Ｒ3＝独立して、同一でも、異なってもよく、アルキル、アリール、アルカリール、アルコキシ、アルキルアミノ、ヒドロキシル、水素、フルオロアルキル、および−ＺＳＨからなる群から選択された１価部分；
Ｒ4＝独立して、同一でも、異なってもよく、アルキル、アリール、アルカリール、アルコキシ、アルキルアミノ、ヒドロキシル、水素、フルオロアルキル、および−ＺＳＨからなる群から選択された１価部分；
ここで、
Ｚ＝２価の結合基；
ｒ＝０〜３；
ｓ＝１０以上、
ｔ＝０〜３；
ここで、下記の少なくとも２つが真である：
ｔ＝少なくとも１、
ｒ＝少なくとも１、
Ｒ3は、少なくとも１つの−ＺＳＨ部分を含み、
Ｒ4は、少なくとも１つの−ＺＳＨ部分を含む）、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項７】
溶媒および請求項１に記載のコポリマーを含む組成物。
【請求項８】
請求項７に記載の組成物で被覆された１つ以上の表面を有する基板を含む物品。
【請求項９】
剥離ライナである、請求項８に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月16日(2008.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、
２つ以上のアクリレート基を含む少なくとも１つの共反応物質に由来する繰返し単位、および
（ａ）次式で表される少なくとも１つのフルオロケミカルアルコール：
Ｃ4Ｆ9−Ｘ−ＯＨ
（式中、
Ｘ＝
【化１】
2008525619.tif 000001
【化２】
2008525619.tif 000002
【化３】
2008525619.tif 000003
または
【化４】
2008525619.tif 000004
Ｒ＝水素、または１〜４個の炭素原子のアルキル基、
ｍ＝２〜８、
Ｒf＝ＣnＦ2n+1、
ｎ＝１〜５、
ｙ＝０〜６、
ｑ＝１〜８）と、
（ｂ）少なくとも１つの非分枝状対称ジイソシアナートと、
（ｃ）２〜約３０個の炭素原子をアルキレン部分に有する少なくとも１つのヒドロキシ末端アルキル（メタ）アクリレートまたは２−フルオロアクリレートモノマー
との反応生成物を含むフルオロアクリレートに由来する繰返し単位
を含むコポリマーを含み、
被覆可能である組成物。
【請求項２】
組成物であって、
（ａ）下記の一般式で表されるフルオロアクリレート：
Ｃ4Ｆ9−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）ＮＨ−Ａ−ＨＮＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣpＨ2p）（Ｏ）ＣＯＣ（Ｒ’）＝ＣＨ2
（式中、
Ｘ＝
【化５】
2008525619.tif 000005
【化６】
2008525619.tif 000006
【化７】
2008525619.tif 000007
または、
【化８】
2008525619.tif 000008
Ｒ＝Ｈ、または１〜４個の炭素原子のアルキル基、
ｍ＝２〜８、
Ｒf＝ＣnＦ2n+1、
ｎ＝１〜５、
ｙ＝０〜６、
ｑ＝１〜８、
Ａ＝非分枝状対称アルキレン基、アリーレン基、またはアラルキレン基、
ｐ＝２〜３０、
Ｒ’＝Ｈ、ＣＨ3、またはＦ）と、
（ｂ）２つ以上のアクリレート基を含む少なくとも１つの共反応物質
との反応生成物を含むコポリマーを含み、
被覆可能である組成物。
【請求項３】
剥離コーティング組成物である、請求項１又は２記載の組成物。
【請求項４】
１つまたは複数の表面が請求項１または２記載の組成物で被覆された基材を含む物品。
【請求項５】
被覆可能な組成物の作製方法であって、
フルオロアクリレートを、２つ以上のアクリレート基を含む少なくとも１つの共反応物質、および場合によっては少なくとも１つの連鎖移動剤と反応溶媒中で反応させて、コポリマーを形成するステップを含み、
フルオロアクリレート、共反応物質、および連鎖移動剤が約３５重量パーセントまでの量で存在し、重量パーセントがモノマーおよび溶媒の全重量を基準にしたものであり、フルオロアクリレートが下記の一般式：
Ｃ4Ｆ9−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）ＮＨ−Ａ−ＨＮＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣpＨ2p）（Ｏ）ＣＯＣ（Ｒ’）＝ＣＨ2
（式中、
Ｘ＝
【化９】
2008525619.tif 000009
【化１０】
2008525619.tif 000010
【化１１】
2008525619.tif 000011
または、
【化１２】
2008525619.tif 000012
Ｒ＝Ｈ、または１〜４個の炭素原子のアルキル基、
ｍ＝２〜８、
Ｒf＝ＣnＦ2n+1、
ｎ＝１〜５、
ｙ＝０〜６、
ｑ＝１〜８、
Ａ＝非分枝状対称アルキレン基、アリーレン基、またはアラルキレン基、
ｐ＝２〜３０、
Ｒ’＝Ｈ、ＣＨ3、またはＦ）で表される方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月5日(2008.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）エチレン性不飽和液体ポリシラザン前駆物質と、
ｂ）多官能性チオール添加剤と、
ｃ）前記ポリシラザンと異なる多官能性エチレン性不飽和添加剤と、
ｄ）多光子光硬化性組成物と、
を含有する組成物。
【請求項２】
前記液体ポリシラザン前駆物質が、式Ｉ、ＩＩ、およびＩＶ：
【化１】
2008525626.tif 000001
（式中、Ｒ1およびＲ2が独立して、Ｈ、炭素原子９個未満を有する直鎖状、分岐状、または環状脂肪族基、炭素原子７個未満を有する直鎖状、分岐状、または環状ヘテロアルキル基、炭素原子１３個未満を有するアリール基、エチレン性不飽和基であり、あるいはＲ1およびＲ2が一緒になって、炭素原子８個未満を有する環を形成してもよく；Ｒ3およびＲ5が独立して、Ｈ、炭素原子７個未満を有する直鎖状または分岐状アルキル基、または炭素原子７個未満を有する直鎖状または分岐状ヘテロアルキル基であり；Ｒ4が、エチレン性不飽和基であり；ａおよびｂは、ａとｂの合計が１であり、ｂがゼロを超えるようなモル分率を表す）
【化２】
2008525626.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、ａ、およびｂは、式Ｉのポリシラザンについて記載のとおりである）
【化３】
2008525626.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ7、およびＲ8は独立して、Ｈ、炭素原子９個未満を有する直鎖状、分岐状、または環状脂肪族基、炭素原子７個未満を有する直鎖状、分岐状、または環状ヘテロアルキル基、炭素原子１３個未満を有するアリール基、エチレン性不飽和基であり、あるいはＲ1とＲ2、またはＲ7とＲ8の各対が、それぞれ独立して一緒になって、炭素原子８個未満を有する環を形成し；Ｒ3およびＲ5が独立して、Ｈ、炭素原子７個未満を有する直鎖状または分岐状アルキル基、または炭素原子７個未満を有する直鎖状または分岐状ヘテロアルキル基であり；Ｒ4が、エチレン性不飽和基であり；ｅ、ｆ、およびｄは、ｅ、ｆ、ｄの合計が１であり、ｆおよびｄがそれぞれ、ゼロを超えるようなモル分率を表す）；
（さらにＲ1またはＲ2またはその両方が、式ＩＩＩ
【化４】
2008525626.tif 000004
（式中、Ｒ5は、式Ｉについて記載のとおりであり、Ｒ6は、Ｈ、炭素原子９個未満を有する直鎖状、分岐状、または環状脂肪族基、炭素原子７個未満を有する直鎖状、分岐状、または環状ヘテロアルキル基、炭素原子１３個未満を有するアリール基、エチレン性不飽和基であり、ｃは、ａ、ｂ、ｃの合計が１であり、かつｃがゼロを超えるようなモル分率を表す）によって示される構造を有してもよい）
のうちの１つ以上を有する、１つ以上の単位を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記液体ポリシラザン前駆物質が、式：
【化５】
2008525626.tif 000005
（式中、ｎは、１〜２０の整数であり、Ｒ10は、Ｈまたはビニル基である）
を有する１つ以上の単位を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記多官能性チオール添加剤が、（ａ）脂肪族、脂環式、芳香族、オリゴマー、およびポリマーの多官能性チオール添加剤のうちの１つ以上；または（ｂ）ペンタエリトリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）およびトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）のうちの１つもしくは両方を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記多官能性エチレン性不飽和添加剤が、（ａ）ビニルシラン、ビニルエステル、二環式化合物、および（メタ）アクリレートのうちの１つ以上；または（ｂ）テトラビニルシラン、ジシクロペンタジエン、ジアリルジグリコールカーボネート、トリメチロールプロパントリアクリレート、およびトリメチロールプロパントリメタクリレートのうちの１つ以上を含む、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月4日(2008.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）液体ポリシラザン前駆体と、
ｂ）多官能性アクリレート添加剤と、
ｃ）単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物と、
を含む組成物。
【請求項２】
前記光硬化性組成物が、多光子光増感剤および任意に電子受容体と電子供与体の一方または両方を含む多光子光硬化性組成物であり、前記多光子光増感剤が、十分な光に露出された時に少なくとも２個の光子を吸収し、フルオレセインの少なくとも１．５倍の２光子吸収断面積を有する、あるいは、前記多光子光増感剤が、（ａ）ローダミンＢ、（ｂ）２個の供与体が共役π（ｐｉ）電子橋に連結している分子、（ｃ）１個以上の電子受容性基で置換されている共役π（ｐｉ）電子橋に２個の供与体が連結している分子、（ｄ）２個の受容体が共役π（ｐｉ）電子橋に連結している分子、および（ｅ）１個以上の電子供与性基で置換されている共役π（ｐｉ）電子橋に２個の受容体が連結している分子からなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記多光子光増感剤がフルオレセイン塩である、あるいは、前記多光子光増感剤が１個以上の半導体量子ドットを含み、前記半導体量子ドットがセレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）および硫化亜鉛（ＺｎＳ）のうち１つ以上を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記電子受容体がクロロメチル化トリアジン、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、アジニウム塩、トリアリールイミダゾリルダイマーおよびそれらの混合物のうち１つ以上を含み、前記電子供与体がアミン、アミド、エーテル、ウレア、スルフィン酸およびその塩、フェロシアン化物塩、アスコルビン酸およびその塩、ジチオカルバミン酸およびその塩、キサントゲン酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩、（アルキル）n（アリール）mホウ酸（式中、ｎ＋ｍ＝４）塩、ＳｎＲ4化合物（式中、各Ｒは独立してアルキル、アラルキル（特にベンジル）、アリールおよびアルカリール基から選択される）、フェロセンおよびそれらの混合物のうち１つ以上を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
ａ）ｉ）液体ポリシラザン前駆体と、
ｉｉ）多官能性アクリレート添加剤と、
ｉｉｉ）単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物と、
を含む単一光子反応性組成物または多光子反応性組成物を提供する工程と、
ｂ）前記組成物を、前記組成物を少なくとも部分的に反応させるのに十分な光で画像状に照射する工程と、
ｃ）任意に、少なくとも部分的に反応した前記組成物の可溶性部分を除去する工程と、
ｄ）任意に、少なくとも部分的に反応した前記組成物の残りの部分を、前記ポリシラザンを少なくとも部分的に熱分解させるのに十分な時間にわたり高温に供する工程と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス状又は他のポロシティを示し、かつ、４．５から２０質量％のＳｉ、０．０５から５．５質量％のＣｕ、０．１から２．５質量％のＦｅ、０．０１から１．５質量％のＭｇ、任意に１．５質量％以下のＮｉ、１質量％以下のＭｎ及び３．５質量％以下のＺｎの少なくとも一つを有し、かつ残部がアルミニウム及び偶発的な不純物を有する時効性アルミニウム合金からなる、高圧ダイカスト鋳物の熱処理方法であって、かかる方法は、
（ａ）溶質元素を固溶体に取り込むこと（溶体化処理）が可能な温度でかつその温度範囲内に鋳物を加熱し、かかる加熱を、
（ｉ）鋳物の合金の固相線溶融温度より下の２０から１５０℃の範囲内で、
（ｉｉ）３０分未満の時間で行い、
（ｂ）鋳物を０から１００℃の温度で液体焼入れ材中で焼き入れすることにより該鋳物をステップ（ａ）の温度範囲から冷却し、
（ｃ）０−２５０℃の範囲の自然時効又は人工時効温度において、ステップ（ｂ）によって焼き入れした鋳物を時効することによって、少なくとも実質的にブリスターのない硬化又は強化鋳物を得ること、を特徴とする高圧ダイカスト鋳物の熱処理方法。
【請求項２】
前記ステップ（ｃ）における時効が、０℃から４５℃、例えば１５℃から２５℃のような周囲温度での自然時効であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ステップ（ｂ）での焼き入れが、前記ステップ（ｃ）の強化に適した温度へのものであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
ステップ（ｃ）における時効が人工時効であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
焼き入れした鋳物を、５０℃から２５０℃の範囲の少なくとも一つ温度に加熱することにより人工時効を行うことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
焼き入れした鋳物を、１３０℃から２２０℃の温度範囲に加熱することにより人工時効を行うことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項７】
請求項１のステップ（ａ）を一部非等温的に行うことを特徴とする請求項１から６の何れか一項記載の方法。
【請求項８】
請求項１のステップ（ａ）を、実質的に完全に非等温的に行うことを特徴とする請求項１から６の何れか一項記載の方法。
【請求項９】
前記ステップ（ａ）の一部を、実質的に等温的に行うことを特徴とする請求項１から６の何れか一項記載の方法。
【請求項１０】
鋳物を、ステップ（ａ）の前に１００℃から３５０℃の範囲の温度に予備加熱することを特徴とする、請求項６が付加された場合の請求項１から９の何れか一項記載の方法。
【請求項１１】
ステップ（ｃ）を０℃から２５０℃以下の範囲において、例えば０℃から４５℃、１５から２５℃、５０から２５０℃、又は１３０から２２０℃のような少なくとも一つの温度レベルで実行することを特徴とする請求項１から１０の何れか一項記載の方法。
【請求項１２】
ステップ（ｃ）後の鋳物が、完全なＴ６焼き戻しに比べて不十分な時効状態にあることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
ステップ（ｃ）後の鋳物が、完全なＴ６焼き戻しに比べてピーク時効状態にあることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
ステップ（ｃ）後の鋳物が、Ｔ６焼き戻しに比べて過時効状態にあることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
鋳物をステップ（ｂ）とステップ（ｃ）の間で冷間加工することを特徴とする請求項１から１４の何れか一項記載の方法。
【請求項１６】
ステップ（ｃ）の時効温度からの冷却が焼き入れによることを特徴とする請求項３から６の何れか一項記載の方法。
【請求項１７】
ステップ（ｃ）の時効温度からの冷却が空気又は他の媒体中での緩徐な冷却によることを特徴とする請求項３から６の何れか一項記載の方法。
【請求項１８】
ステップ（ｃ）後の鋳物は、表面ブリスターがないことを特徴とする請求項１から１７の何れか一項記載の方法。
【請求項１９】
ステップ（ｃ）後の鋳物は、寸法変化がないことを特徴とする請求項１から１８の何れか一項記載の方法。
【請求項２０】
請求項１から１９の何れか一項の方法により製造した熱処理状態における時効性アルミニウム合金の高圧ダイカスト鋳物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月26日(2008.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキャンする方法であって、
スキャナに結合された照明媒体を使用して対象を照明することと、
該対象の複数の露光を捕獲することであって、各露光は異なるダイナミックレンジを含む、ことと、
該捕獲された露光のうちの少なくとも２つを組み合わせて、拡張されたダイナミックレンジを有する画像を取得することと、
該組み合わされた画像を分析することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記スキャナは、
照明媒体と、
該照明媒体の波長と実質的に重複する通過帯域を有する帯域通過フィルタと
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記照明媒体は、近赤外線照明を放出し、前記帯域通過フィルタは、該近赤外線照明を通過させる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ダイレクトパートマークスキャナであって、
処理ユニットと、
光学モジュールと、
拡張されたダイナミックレンジを有するイメージングセンサと
を備え、該ダイレクトパートマークスキャナは、少なくとも一つの画像を捕獲することによって、拡張されたダイナミックレンジの画像を取得する、ダイレクトパートマークスキャナ。
【請求項５】
前記イメージングセンサは、ピクセルあたり８ビットよりも大きなデータ捕獲レベルを備える、請求項４に記載のダイレクトパートマークスキャナ。
【請求項６】
前記イメージングセンサは、複数の露光を使用することによって、拡張されたダイナミックレンジを有する画像を取得する、請求項４に記載のダイレクトパートマークスキャナ。
【請求項７】
照明媒体と、
該照明媒体の波長と実質的に重複する通過帯域を有する帯域通過フィルタと
をさらに備える、請求項４に記載のダイレクトパートマークスキャナ。
【請求項８】
前記照明媒体は、近赤外線照明を放出し、前記帯域通過フィルタは、該近赤外線照明を通過させる、請求項７に記載のダイレクトパートマークスキャナ。
【請求項９】
前記帯域通過フィルタは、前記近赤外線照明を超える波長を透過させるようにわずかに広げられる、請求項８に記載のダイレクトパートマークスキャナ。
【請求項１０】
ダイレクトパートマークスキャナであって、
処理ユニットと、
光学モジュールと、
イメージングセンサと、
照明媒体であって、該照明媒体は近赤外線照明を放出する、照明媒体と、
帯域通過フィルタであって、該帯域通過フィルタは該近赤外線照明を通過させる、帯域通過フィルタと
を備え、該イメージングセンサは、ピクセルあたり８ビットよりも大きなデータ捕獲レベルを備える拡張されたダイナミックレンジセンサであり、該ダイレクトパートマークスキャナは、少なくとも一つの画像を捕獲することによって、拡張されたダイナミックレンジの画像を取得する、ダイレクトパートマークスキャナ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
スキャンモジュール１１５および照明モジュール１４０の例示的な方向づけが、図３に図示される。データ捕獲モジュール３００の一方の側３９０は、モジュール３００の正面であり、スキャニングの際にターゲットデータフォームに面する。ＬＥＤ１４０、１４０’は、データ捕獲モジュール３００の正面に面する側３９０の上に露光され、射出窓３８５の両側に位置する。通過帯域フィルタ３３２は、窓３８５の背後に位置する。通過帯域フィルタは、ＬＥＤ１４０、１４０’によって放出される光の波長を通過させるように設計される。周辺光は主として広いスペクトルであるので、フィルタは周辺光のほとんどを遮断し、データフォームのよりクリーンな画像が得られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
カメラ１１５は、フィルタ３３２の後に位置する。カメラ１１５は、レンズ１３０とセンサ１３５とを備える。センサ１３５は、拡張されたダイナミックレンジセンサまたは８ビットセンサであり得る。いずれの場合にも、カメラは、異なる露光設定においてデータフォームの複数の画像を撮影し、かつ複数の画像から拡張されたダイナミックレンジを有する一つの画像を取得するようにプログラムされ得る。さらに、一部の実施形態において、射出窓３８５はフィルタ３３２によって置き換えられ得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図４は、本発明に従って実現されるデータ捕獲モジュール４００の別の実施形態を図示する。データ捕獲モジュール４００は、ＤＰＭスキャナモジュール４００として実現され得る。ＤＰＭスキャナモジュール４００は、この実施形態において通過帯域フィルタ３３２がレンズ１３０の背後に位置することを除いて、図３のＤＰＭスキャナ３００と同じ要素を備える。代替の実施形態において、カメラ１１５はデータ捕獲モジュール４００の外縁に配置され得、その結果、レンズ１３０が窓３８５に置き換わる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008525911.tif 000001
【図２】
2008525911.tif 000002
【図３】
2008525911.tif 000003
【図４】
2008525911.tif 000004
【図５】
2008525911.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
その結果、最大陽子エネルギーは、通常、クラスター（例えば、イオン質量および荷電状態）の物理特性に依存する。従って、レーザーと２層構造の標的との相互作用における加速電場および最大陽子エネルギーに、クラスターの特性が及ぼす影響は、完全に理解されていない。このため、現在、高エネルギーレーザーパルスと標的材料との相互作用をより深く理解し、標的の設計を改善することが求められている。この理解により、標的の設計と、レーザー加速イオンビームを生成するための標的設計の方法論とを改善することができる。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
【特許文献１】米国特許第６，８５２，９８５号明細書
【特許文献２】米国特許出願第２００６／０１４５０８８第号明細書
【特許文献３】米国特許第６，８５２，９８５号明細書
【特許文献４】米国特許第７，３１７，１９２号明細書
【特許文献５】米国特許第７，２６８，３５８号明細書
【特許文献６】国際公開第０４／１０９７１７号明細書
【特許文献７】国際公開第０５／０５７７３８号明細書
【特許文献８】国際公開第０７／０６１４２６号明細書
【非特許文献１】Ａｕｇｓｔ，  Ｓ．  Ｅｔ  ａｌ．，  “Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ  Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｎｏｂｌｅ  Ｇａｓｅｓ  ｉｎ  ａ  Ｈｉｇｈ−Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ  Ｌａｓｅｒ  Ｆｉｅｌｄ，”  Ｐｈｙｓ．  Ｒｅｖ．  Ｌｅｔｔ．，  ６３（２０），  ２２１２−２２１５，  １９８９
【非特許文献２】Ｐａｓｓｏｎｉ，  Ｍ．  ｅｔ  ａｌ．，  “Ｃｈａｎｇｅ  ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ  ｅｆｆｅｃｔｓ  ｉｎ  ｓｏｌｉｄ  ｔａｒｇｅｔｓ  ａｎｄ  ｉｏｎ  ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  ａ  ｔｗｏ−ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ，”  Ｐｈｙｓ．  Ｒｅｖ．  Ｅ  ６９，  ０２６４１１（２００４）
【非特許文献３】Ｂｕｌａｎｏｖ，  Ｓ．  Ｖ．  ｅｔ  ａｌ．，  “Ｃｏｎｃｅｒｎｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｍａｘｉｍｕｍ  Ｅｎｅｒｇｙ  ｏｆ  Ｉｏｎｓ  Ａｃｃｅｌｅｒａｔｅｄ  ａｔ  ｔｈｅ  Ｆｒｏｎｔ  ｏｆ  ａ  Ｒｅｌａｔｉｖｉｓｔｉｃ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｃｌｏｕｄ  Ｅｘｐａｎｄｉｎｇ  ｉｎｔｏ  Ｖａｃｕｕｍ，”  Ｐｌａｓｍａ  Ｐｈｙｓ．  Ｒｅｐ．  ３０（１），  ２１−３２  （２００４）
【非特許文献４】Ｅｓｉｒｋｅｐｏｖ，  Ｔ．  Ｚ．  ｅｔ  ａｌ．，  “Ｐｒｏｐｏｓｅｄ  Ｄｏｕｂｌｅ−Ｌａｙｅｒ  Ｔａｒｇｅｔ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｈｉｇｈ−Ｑｕａｌｉｔｙ  Ｌａｓｅｒ−Ａｃｃｅｌｅｒａｔｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍｓ，”  Ｐｈｙｓ．  Ｒｅｖ．  Ｌｅｔｔ．，  ８９（１７），  １７５００３  （２００２）
【非特許文献５】Ｂｕｌａｎｏｖ，  Ｓ．Ｖ．  ｅｔ  ａｌ．，  “Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｈｉｇｈ−Ｑｕａｌｉｔｙ  ｃｈａｒｇｅｄ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｂｅａｍｓ  ｄｕｒｉｎｇ  ｔｈｅ  Ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｏｎ  Ｉｏｎｓ  ｂｙ  Ｈｉｇｈ−Ｐｏｗｅｒ  Ｌａｓｅｒ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ，  “  Ｐｌａｓｍａ  Ｐｈｙｓ．  Ｒｅｐ．  ２８（１２），  ９７５−９９１  （２００２）
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月11日(2008.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの平坦な可撓性基板と、その可撓性基板の上に配置されていて、少なくとも１つの発光層、アノードおよびカソードを含む少なくとも１つの可撓性発光モジュールと、平坦な上記可撓性基板とは反対側にある少なくとも１つの可撓性表板とを備えていて、熱弾性がバランスされているために実質的に常に平坦であり、上記発光モジュールの少なくとも１つの層における応力が動作温度の全範囲で実質的にゼロである、フレキシブル・ディスプレイ。
【請求項２】
上記発光層が有機発光ダイオードである、請求項１に記載のフレキシブル・ディスプレイ。
【請求項３】
上記発光層における応力が実質的にゼロである、請求項１または２に記載のフレキシブル・ディスプレイ。
【請求項４】
上記動作温度が１５〜８０℃である、請求項１、２または３に記載のフレキシブル・ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月5日(2008.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学バッテリ・セルであって、
ハウジングと、
リチウムを含む負極と、
二硫化鉄と、４．０から１４．０までの計算されたｐＨを混合物に与えるのに有効な量で存在するｐＨ上昇添加剤との混合物を含む正極と、
前記ハウジング内に配置された溶媒中に溶解された少なくとも１つの塩を含む非水性電解質混合物と、
を含むことを特徴とするセル。
【請求項２】
前記二硫化鉄とｐＨ上昇添加剤との混合物の計算されたｐＨが、５．０から１４．０まで、望ましくは６．５から１４．０まで、さらに望ましくは６．９から１４．０までであることを特徴とする請求項１に記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項３】
前記二硫化鉄が、１μｍから１９μｍまでの平均粒径を有することを特徴とする請求項１に記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項４】
前記二硫化鉄が、１．５μｍから１５μｍまでの平均粒径を有することを特徴とする請求項２に記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項５】
前記二硫化鉄が、２０μｍから３０μｍまでの平均粒径を有することを特徴とする請求項２に記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項６】
前記二硫化鉄とｐＨ上昇添加剤との混合物の計算されたｐＨが、５．３から１４．０まで、望ましくは５．６から１４までであることを特徴とする請求項３に記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項７】
前記ｐＨ上昇添加剤が存在し、グループＩＩＡ元素、有機アミン、脂環式エポキシド、アミノアルコール又はオーバーベースの金属スルホン酸塩、又はそれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一つに記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項８】
前記ｐＨ上昇添加剤が、酸化カルシウム、ステアリン酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、酸化ブチレン、ダイズ油エポキシド、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、オーバーベース・カルシウムスルホン酸塩、又はそれらの組み合わせであることを特徴とする請求項７に記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項９】
前記二硫化鉄が正極活性材料の８０％より多くを構成し、前記負極、前記正極及び前記セパレータが、半径方向の外面がハウジング側壁の内面に隣接して配置された螺旋巻き円筒形電極組立体を形成することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに一つに記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項１０】
前記二硫化鉄が正極活性材料の９５％より多くを構成し、隣接する前記負極及び前記正極間の電極ギャップが１５μｍから４５μｍまでであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに一つに記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項１１】
前記負極、前記正極及び前記セパレータが、半径方向の外面がハウジング側壁の内面に隣接して配置された螺旋巻き円筒形電極組立体を形成し、前記正極が、基板の各側におけるコーティング上に集電体基板を含み、前記コーティングが前記活性材料を含み、各々のコーティングが１０μｍから１００μｍまでの厚さを有し、前記セパレータが１μｍから５０μｍまで、望ましくは１μｍから２５μｍまでの厚さを有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに一つに記載の電気化学バッテリ・セル。
【請求項１２】
カソードを製造する方法であって、
二硫化鉄を獲得し、
前記二硫化鉄及びｐＨ上昇添加剤の計算されたｐＨが４．０から１４．０までとなるようにするのに有効な量のｐＨ上昇添加剤を前記二硫化鉄に添加し、
前記二硫化鉄及び前記ｐＨ上昇添加剤をカソード基板に適用する、
ステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記ｐＨ上昇添加剤がグループＩＩＡ元素、有機アミン、脂環式エポキシド、アミノアルコール又はオーバーベースの金属スルホン酸塩、又はそれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１２に記載のカソード製造方法。
【請求項１４】
前記ｐＨ上昇添加剤が、酸化カルシウム、ステアリン酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、酸化ブチレン、ダイズ油エポキシド、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、オーバーベース・カルシウムスルホン酸塩、又はそれらの組み合わせであることを特徴とする請求項１３に記載のカソード製造方法。
【請求項１５】
湿潤剤、前記二硫化鉄、及び前記ｐＨ上昇添加剤を含むスラリーを形成するステップと、前記スラリーを前記カソード基板に適用するステップと、前記基板を乾燥させるステップとをさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載のカソード製造方法。
【請求項１６】
前記ｐＨ上昇添加剤の量が、５．６から１４．０までの前記二硫化鉄及び前記ｐＨ上昇添加剤の計算されたｐＨを与えるのに有効な量であり、前記プロセスが、前記スラリーをミルして前記二硫化鉄の平均粒径を１μｍから１９μｍまでに減少させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載のカソード製造方法。
【請求項１７】
電気化学バッテリ・セルを製造する方法であって、
請求項１２の方法に記載の前記カソードを、リチウムを含むアノード、及び、前記アノードと前記カソードとの間に配置されるセパレータと組み合わせ、
非水性電解質を加え、
前記アノード、前記カソード、前記セパレータ及び前記電解質をセル・ハウジング内にシールする、
ステップを含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月18日(2008.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ、
内部に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートが配置されるイオン源又はイオンイメージングデバイス、及び、
使用時に前記標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのスポットサイズを制御する装置、を含む質量分析計であって、前記装置は、
１つ以上のズームレンズ
を含む、質量分析計。
【請求項２】
前記１つ以上のズームレンズは、第１のレンズ、及び前記第１のレンズの軸方向位置を変更又は変動するように構成及び適合される手段を含む、請求項１記載の質量分析計。
【請求項３】
前記１つ以上のズームレンズは、レーザビームを拡大及び／又は縮小するように構成される、請求項１又は２に記載の質量分析計。
【請求項４】
前記１つ以上のズームレンズは、レーザビームのビーム発散を増加及び／又は低減するように構成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の質量分析計。
【請求項５】
前記１つ以上のズームレンズは、可変倍率ズームレンズ又はビーム拡大器を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の質量分析計。
【請求項６】
レーザ、
内部に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートが配置されるイオン源又はイオンイメージングデバイス、及び、
使用時に前記標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのサイズを制御する装置、を含む質量分析計であって、前記装置は、
１つ以上のレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割する少なくとも１つのビームスプリッタと、
第１のレーザビームと第２のレーザビームとを少なくとも部分的若しくは全体的に重ね合わすオーバラップ手段と
を含む、質量分析計。
【請求項７】
前記第１のレーザビーム及び／又は前記第２のレーザビームは、実質的に一定、一様又は均一なフルエンス又は放射照度プロファイルを有する、請求項６記載の質量分析計。
【請求項８】
前記第１のビームと前記第２のビームとの重なり合いの度合いを変動するように構成及び適合される手段をさらに含む、請求項６又は７に記載の質量分析計。
【請求項９】
前記重なり合い又は再結合の度合いを変動するように構成及び適合される手段は、平行移動又は移動されるように構成される１つ以上のミラーを含む、請求項８記載の質量分析計。
【請求項１０】
レーザ、
内部に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートが配置されるイオン源又はイオンイメージングデバイス、及び、
使用時に前記標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのサイズを制御する装置、を含む質量分析計であって、前記装置は、
プログラム可能なミラーアレイ又はデジタルマイクロミラーアレイ
を含み、
前記プログラム可能なミラーアレイ又は前記デジタルマイクロミラーアレイは、複数の個別制御可能なピクセル又はミラー素子、及び、
レーザ光を前記標的領域、試料表面又は標的プレートに集束させるために前記ピクセル又はミラー素子を制御するように構成及び適合される手段を含む、質量分析計。
【請求項１１】
レーザスポットのイメージ位置は、前記倍率を変更又は変化させる際に実質的に不変のままであるか、又は、重なり合いの度合いを変更又は変化させる際に実質的に不変のままであるか、又は、前記プログラム可能なミラーアレイ又はデジタルマイクロミラーアレイを変更又は変化させる際に実質的に不変のままである、請求項１から１０のいずれかに記載の質量分析計。
【請求項１２】
前記レーザビームの直径又はサイズは、連続的に可変である、請求項１から１１のいずれか一項に記載の質量分析計。
【請求項１３】
真空チャンバをさらに含み、
前記標的領域、試料表面又は標的プレートは、前記真空チャンバ内に位置し、
前記真空チャンバは、使用時にレーザビームが透過するウィンドウを含む、請求項１から１２のいずれかに記載の質量分析計。
【請求項１４】
レーザビームを前記標的領域、試料表面又は標的プレートへ方向付ける１つ以上のミラーをさらに含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の質量分析計。
【請求項１５】
レーザビームを前記標的領域、試料表面又は標的プレートへ集束する集束レンズをさらに含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載の質量分析計。
【請求項１６】
前記標的領域、試料表面又は標的プレートの下流に配置される抽出レンズ又はイオンオプティカル構成体をさらに含み、
前記抽出レンズ又はイオンオプティカル構成体は、前記標的領域、試料表面又は標的プレートからイオンを加速、引き寄せ、又は抽出するように構成される、請求項１から１５のいずれか一項に記載の質量分析計。
【請求項１７】
レーザビームのスポットサイズを制御する方法であって、
前記レーザビームは、質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とし、前記方法は、
質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのスポットサイズを制御するために１つ以上のズームレンズを使用すること、
を含む、レーザビームのスポットサイズを制御する方法。
【請求項１８】
レーザビームのサイズを制御する方法であって、
前記レーザビームは、質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とし、前記方法は、
１つ以上のレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割すること、及び、
第１のレーザビームと第２のレーザビームとを重ね合わすこと、
を含む、レーザビームのサイズを制御する方法。
【請求項１９】
レーザビームのサイズを制御する方法であって、
前記レーザビームは、質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とし、前記方法は、
質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのサイズを制御するために、複数の個別制御可能なピクセル又はミラー素子を含む、プログラム可能なミラーアレイ又はデジタルマイクロミラーアレイを使用すること、
前記標的領域、試料表面又は標的プレートにレーザ光を集束させるために前記ピクセル又はミラー素子を制御すること、
を含む、レーザビームのサイズを制御する方法。
【請求項２０】
請求項１７から１９のいずれかに記載の方法を含む質量分析方法。