(57)【要約】  低曲げ損失特性を有し、かつ製造性が高い光ファイバおよび光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。光ファイバは、中心コア部と、前記中心コア部の外周に形成された中間層と、前記中間層の外周に形成されたトレンチ層と、前記トレンチ層の外周に形成されたクラッド部と、を備え、前記クラッド部に対する、前記中心コア部の比屈折率差をΔ１、前記中間層の比屈折率差をΔ２、前記トレンチ層の比屈折率差をΔ３とすると、Δ１＞Δ２＞Δ３かつ０＞Δ３が成り立ち、Δ１が０．３４％以上０．４０％未満であり、｜Δ３｜が０．２５％以下であり、Δ１×｜Δ３｜が０．０８％2未満である。
2020121915.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心コア部と、
前記中心コア部の外周に形成された中間層と、
前記中間層の外周に形成されたトレンチ層と、
前記トレンチ層の外周に形成されたクラッド部と、
を備え、前記クラッド部に対する、前記中心コア部の比屈折率差をΔ１、前記中間層の比屈折率差をΔ２、前記トレンチ層の比屈折率差をΔ３とすると、Δ１＞Δ２＞Δ３かつ０＞Δ３が成り立ち、Δ１が０．３４％以上０．４０％未満であり、｜Δ３｜が０．２５％以下であり、Δ１×｜Δ３｜が０．０８％2未満である
ことを特徴とする光ファイバ。
【請求項２】
｜Δ３｜が０．１０％以上０．２５％未満である
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
【請求項３】
｜Δ３｜が０．１０％以上０．２０％以下である
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
【請求項４】
｜Δ３｜が０．１０％以上０．１８％以下である
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
【請求項５】
前記中心コア部のコア径を２ａ、前記トレンチ層の内径を２ｂとしたときに、ｂ／ａが２．５以下である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項６】
前記中心コア部のコア径を２ａ、前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、ｂ／ａが１．８以上であり、ｃ／ａが３．４以上５．０以下である
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項７】
前記中心コア部のコア径を２ａ、前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、ｂ／ａが１．８以上であり、ｃ／ａが３．４以上４．６以下である
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項８】
Δ２が−０．０５％以上０．０５％以下である
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
【請求項９】
前記中心コア部のコア径は、実効カットオフ波長が１２６０ｎｍ以下になるように設定されている
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項１０】
前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、前記トレンチ層の幅（ｃ−ｂ）が７μｍよりも大きい
ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項１１】
前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、前記トレンチ層の幅（ｃ−ｂ）が８μｍよりも大きい
ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項１２】
波長１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径が８．６μｍ以上９．５μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項１３】
直径２０ｍｍで曲げた場合の波長１５５０ｎｍにおける曲げ損失が１．５９ｄＢ／ｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項１４】
零分散波長が１３００ｎｍ以上１３２４ｎｍ以下であり、前記零分散波長での分散スロープが０．０９２ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一つに記載の光ファイバ。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一つに記載の光ファイバの製造方法であって、
光ファイバ母材を製造する工程と、
前記光ファイバ母材を加熱溶融して線引きして前記光ファイバを製造する工程と、
を含み、前記光ファイバ母材を製造する工程において、気相軸付法を用いて、少なくとも前記中心コア部、前記中間層、前記トレンチ層、および前記クラッド部の一部となる部分を形成する
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバおよび光ファイバの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、たとえばＩＴＵ−Ｔ（国際電気通信連合）Ｇ．６５７．Ａ２などで定義される、低曲げ損失特性を有するシングルモード光ファイバを実現するために、トレンチ構造を備える３層構造の光ファイバが開示されている（特許文献１〜６）。３層構造の光ファイバは、たとえば、中心コア部と、中心コア部の外周に形成された中間層と、中間層の外周に形成されたトレンチ層と、トレンチ層の外周に形成されたクラッド部と、を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４８３３０７１号公報
【特許文献２】特開２００８−１３９８８７号公報
【特許文献３】特開２０１０−１８１６４１号公報
【特許文献４】特開２０１２−２１２１１５号公報
【特許文献５】特開２０１３−２４２５４５号公報
【特許文献６】特開２０１３−２３５２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
３層構造の光ファイバの光学特性は、中心コア部の比屈折率差Δ１、中間層の比屈折率差Δ２、トレンチ層の比屈折率差Δ３、中心コア部のコア径２ａ、トレンチ層の内径（すなわち中間層の外径）２ｂ、外径２ｃなどの構造パラメータの設定によって設計される。なお、通常、Δ３は負値であり、Δ２はΔ１よりも小さい値である。特許文献１〜６においても、これらの構造パラメータの値について様々な組み合わせが開示されている。【０００５】
しかしながら、開示されている光ファイバにおいても、製造性の観点から改善の余地がある。たとえば、Δ１が高い設計であると、製造の際に屈折率を高めるドーパントの使用量が多くなる。同様に、Δ３の絶対値が高い設計であると、製造の際に屈折率を低めるドーパントの使用量が多くなる。一方、特にΔ１については、低すぎる設計であると、ドーパントの使用量の緻密な制御が必要となり、また外乱の影響を受けやすくなるので、製造誤差が大きくなるおそれがある。【０００６】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、低曲げ損失特性を有し、かつ製造性が高い光ファイバおよび光ファイバの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様に係る光ファイバは、中心コア部と、前記中心コア部の外周に形成された中間層と、前記中間層の外周に形成されたトレンチ層と、前記トレンチ層の外周に形成されたクラッド部と、を備え、前記クラッド部に対する、前記中心コア部の比屈折率差をΔ１、前記中間層の比屈折率差をΔ２、前記トレンチ層の比屈折率差をΔ３とすると、Δ１＞Δ２＞Δ３かつ０＞Δ３が成り立ち、Δ１が０．３４％以上０．４０％未満であり、｜Δ３｜が０．２５％以下であり、Δ１×｜Δ３｜が０．０８％2未満であることを特徴とする。【０００８】
本発明の一態様に係る光ファイバは、｜Δ３｜が０．１０％以上０．２５％未満であることを特徴とする。【０００９】
本発明の一態様に係る光ファイバは、｜Δ３｜が０．１０％以上０．２０％以下であることを特徴とする。【００１０】
本発明の一態様に係る光ファイバは、｜Δ３｜が０．１０％以上０．１８％以下であることを特徴とする。【００１１】
本発明の一態様に係る光ファイバは、前記中心コア部のコア径を２ａ、前記トレンチ層の内径を２ｂとしたときに、ｂ／ａが２．５以下であることを特徴とする。【００１２】
本発明の一態様に係る光ファイバは、前記中心コア部のコア径を２ａ、前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、ｂ／ａが１．８以上であり、ｃ／ａが３．４以上５．０以下であることを特徴とする。【００１３】
本発明の一態様に係る光ファイバは、前記中心コア部のコア径を２ａ、前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、ｂ／ａが１．８以上であり、ｃ／ａが３．４以上４．６以下であることを特徴とする。【００１４】
本発明の一態様に係る光ファイバは、Δ２が−０．０５％以上０．０５％以下であることを特徴とする。【００１５】
本発明の一態様に係る光ファイバは、前記中心コア部のコア径は、実効カットオフ波長が１２６０ｎｍ以下になるように設定されていることを特徴とする。【００１６】
本発明の一態様に係る光ファイバは、前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、前記トレンチ層の幅（ｃ−ｂ）が７μｍよりも大きいことを特徴とする。【００１７】
本発明の一態様に係る光ファイバは、前記トレンチ層の内径を２ｂ、外径を２ｃとしたときに、前記トレンチ層の幅（ｃ−ｂ）が８μｍよりも大きいことを特徴とする。【００１８】
本発明の一態様に係る光ファイバは、波長１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径が８．６μｍ以上９．５μｍ以下であることを特徴とする。【００１９】
本発明の一態様に係る光ファイバは、直径２０ｍｍで曲げた場合の波長１５５０ｎｍにおける曲げ損失が１．５９ｄＢ／ｍ以下であることを特徴とする。【００２０】
本発明の一態様に係る光ファイバは、零分散波長が１３００ｎｍ以上１３２４ｎｍ以下あり、前記零分散波長での分散スロープが０．０９２ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であることを特徴とする。【００２１】
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記光ファイバの製造方法であって、光ファイバ母材を製造する工程と、前記光ファイバ母材を加熱溶融して線引きして前記光ファイバを製造する工程と、を含み、前記光ファイバ母材を製造する工程において、気相軸付法を用いて、少なくとも前記中心コア部、前記中間層、前記トレンチ層、および前記クラッド部の一部となる部分を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれは、低曲げ損失特性を有し、かつ製造性が高い光ファイバを実現できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、実施形態１に係る光ファイバの模式的な断面図である。
【図２】図２は、図１に示す光ファイバの屈折率プロファイルを示す図である。
【図３】図３は、ｂ／ａと規格化マクロベンド損失との関係の一例を示す図である。
【図４】図４は、トレンチ幅（ｃ−ｂ）とマクロベンド損失との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下に、図面を参照しながら、本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態により本発明が限定されるものではない。また、各図面において、同一または対応する構成要素には適宜同一の符号を付し、適宜説明を省略している。また、本明細書においては、カットオフ（Ｃｕｔｏｆｆ）波長とは、実効カットオフ波長であり、ＩＴＵ−Ｔ（国際電気通信連合）Ｇ．６５０．１で定義するケーブルカットオフ波長を意味する。また、その他、本明細書で特に定義しない用語についてはＧ．６５０．１およびＧ．６５０．２における定義、測定方法に従うものとする。
【００２５】
（実施形態１）
図１は、実施形態１に係る光ファイバの模式的な断面図である。光ファイバ１０は、石英系ガラスからなり、中心コア部１１と、中心コア部１１の外周に形成された中間層１２と、中間層１２の外周に形成されたトレンチ層１３と、トレンチ層１３の外周に形成されたクラッド部１４と、を備える。
【００２６】
図２は、光ファイバ１０の屈折率プロファイルを示す図である。プロファイルＰ１１は中心コア部１１の屈折率プロファイルであり、いわゆるステップインデックス型を有する。プロファイルＰ１２は中間層１２の屈折率プロファイルである。プロファイルＰ１３はトレンチ層１３の屈折率プロファイルである。プロファイルＰ１４はクラッド部１４の屈折率プロファイルである。
【００２７】
光ファイバ１０の構造パラメータについて説明する。まず、中心コア部１１のコア径は２ａである。また、中間層１２の外径すなわちトレンチ層１３の内径は２ｂであり、トレンチ層１３の外径は２ｃである。したがって、トレンチ層１３の幅（トレンチ幅）は（ｃ−ｂ）である。また、クラッド部１４の屈折率に対する中心コア部１１の最大屈折率の比屈折率差はΔ１である。クラッド部１４の屈折率に対する中間層１２の屈折率の比屈折率差はΔ２である。クラッド部１４の屈折率に対するトレンチ層１３の屈折率の比屈折率差はΔ３である。Δ１、Δ２、Δ３については、Δ１＞Δ２＞Δ３かつ０＞Δ３が成り立つ。すなわち、Δ３は負値であり、これによりトレンチ層１３は光ファイバ１０の低曲げ損失特性を向上させる。
【００２８】
光ファイバ１０の構成材料を例示すると、中心コア部１１は、ゲルマニウム（Ｇｅ）などの屈折率を高める屈折率調整用のドーパントを添加した石英ガラスからなる。トレンチ層１３は、フッ素（Ｆ）などの屈折率を低めるドーパントが添加された石英ガラスからなる。クラッド部１４は、ＧｅやＦなどの屈折率調整用のドーパントを含まない純石英ガラスからなる。中間層１２は、純石英ガラスからなってもよいし、屈折率調整用のドーパントがある程度添加されていてもよい。ただし、構成材料やドーパントは、上述したΔ１、Δ２、Δ３に関する不等式が成立すれば、特に限定はされない。
【００２９】
この光ファイバ１０では、Δ１、Δ３について、Δ１が０．３４％以上０．４０％未満であり、Δ３の絶対値である｜Δ３｜が０．２５％以下であり、Δ１×｜Δ３｜が０．０８％2未満である。このように、Δ１が０．３４％以上０．４０％未満であることによって、製造の際に屈折率を高めるドーパントの使用量を抑制でき、かつドーパントの使用量の制御が容易であり、外乱に対しても比較的強くなるので製造誤差を抑制できる。また、｜Δ３｜が０．２５％以下であることによって、屈折率を低めるドーパントの使用量を抑制できる。さらには、Δ１×｜Δ３｜が０．０８％2未満であることによって、ドーパントの使用量の抑制の効果と制御の容易性の効果と製造誤差の抑制の効果とを効果的に高めることができるので、光ファイバ１０は製造性が高いものとなる。
【００３０】
｜Δ３｜については、０．２５％未満、さらに０．２０％以下、好適には０．１８％以下であれば、ドーパントの使用量を一層抑制できる。また、０．１０％以上であれば、ドーパントの使用量の制御が容易であり、製造誤差を抑制できる。その結果、光ファイバ１０は一層製造性が高いものとなる。なお、｜Δ３｜が０．１０％以上の場合、Δ１×｜Δ３｜は０．０３４％2以上である。したがって、Δ１×｜Δ３｜は０．０３４％2以上であることがより好ましい。
【００３１】
その他の構造パラメータに関して、好ましい範囲を例示すると、Δ２は、たとえば−０．０５％以上０．０５％以下である。また、ｂ／ａは、たとえば１．８以上であり、ｃ／ａはたとえば３．４以上５．０以下、好適には３．４以上４．６以下である。トレンチ層１３の幅（ｃ−ｂ）は、たとえば７μｍ以上であり、好ましくは８μｍ以上である。また、２ａは、光ファイバ１０の実効カットオフ波長が１２６０ｎｍ以下になるように設定されている。
【００３２】
これらの構造パラメータの値を適宜組み合わせることによって、光ファイバ１０の波長１３１０ｎｍにおけるモードフィールド径（ＭＦＤ）を８．６μｍ以上９．５μｍ以下とできる。また、光ファイバ１０を直径２０ｍｍで曲げた場合の波長１５５０ｎｍにおける曲げ損失（以下、直径２０ｍｍで曲げた場合の波長１５５０ｎｍにおける曲げ損失を、単にマクロベンド損失と記載する場合がある）を１．５９ｄＢ／ｍ以下とできる。さらには、光ファイバ１０の零分散波長を１３００ｎｍ以上１３２４ｎｍ以下、かつ零分散波長での分散スロープを０．０９２ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下とできる。その結果、光ファイバ１０を、たとえばＩＴＵ−Ｔ  Ｇ．６５２に規定される規格（以下、Ｇ．６５２規格と記載する場合がある）を満たすものとできる。さらに、ＭＦＤを９．２μｍ以下とすれば、光ファイバ１０を、Ｇ．６５７Ａ規格、特にＧ．６５７Ａ２規格を満たすものとできる。なお、マクロベンド損失の１．５９ｄＢ／ｍという値は、Ｇ．６５７Ａ２規格における０．１ｄＢ／ｔｕｒｎの値を、単位を変換して表したものである。また、構造パラメータの値を適宜組み合わせて、たとえば光ファイバ１０の２ａを、実効カットオフ波長が１５３０ｎｍ以下になるようにし、Ｇ．６５４規格を満たすものにしてもよい。
【００３３】
また、光ファイバ１０において、ｂ／ａが２．５以下であれば、ｂ／ａの変動に対するマクロベンド損失の変動を抑制することができるので、製造性がより一層高くなる。
【００３４】
以下、シミュレーション計算結果を用いて具体的に説明する。図３は、光ファイバ１０における、ｂ／ａと規格化マクロベンド損失との関係の一例を示す図である。図３では、光ファイバ１０において、Δ１を０．３７％に設定し、トレンチ幅（ｃ−ｂ）をコア径の１／２、すなわちａと等しい値に設定し、２ａを実効カットオフ波長が約１２５０ｎｍになるように調整し、Δ２を０％に設定している。また、ｂ／ａは１．６から４．０まで変化させた。また、規格化マクロベンド損失とは、マクロベンド損失の値をｂ／ａが１．６の場合の値で規格化したものである。
【００３５】
図３に示すように、ｂ／ａが２．５以下では、ｂ／ａの変動に対する規格化マクロベンド損失の変動は極めて小さく安定しているが、２．５より大きいと変動が大きくなる。したがって、ｂ／ａが２．５以下であれば、たとえば製造誤差に起因するｂ／ａの変動に対するマクロベンド損失の変動を抑制することができるので、製造性がより一層高くなる。特に、トレンチ幅（ｃ−ｂ）が８μｍよりも小さい場合には、ｂ／ａの変動に対するマクロベンド損失の変動が大きくなりやすいので、ｂ／ａを２．５以下とすることがより好ましい。
【００３６】
つづいて、幾つかの構造パラメータを変化させたときの光ファイバ１０の光学特性の変化について、シミュレーション計算結果を用いて具体的に説明する。まず、表１Ａに示す計算例Ｎｏ．１に示す構造パラメータΔ１（０．３７％）、Δ３（−０．２０％）、ｂ／ａ（３）、ｃ／ａ（４）、２ａ（８．４μｍ）を基準として、ｂ／ａを計算例Ｎｏ．２〜７のように２．８から１．８まで変化させ、その光学特性の変化を計算した。計算例Ｎｏ．１では、ａ：ｂ：ｃは１：３：４である。なお、Δ２は０％に設定し、２ａは実効カットオフ波長が約１２５０ｎｍになるように８．４μｍから８．２μｍまで調整した。
【００３７】
表１Ｂは、計算例Ｎｏ．１〜７についての光学特性のうち、零分散波長、分散スロープ、ＭＦＤ、Ｃｕｔｏｆｆ波長、マクロベンド損失の値を示す。なお、表１Ｂでは、規格として、Ｇ．６５７Ａ２規格の規格値も合わせて示してある。表１Ａ、１Ｂから解るように、計算例Ｎｏ．１ではマクロベンド損失は１．５９ｄＢ／ｍより大きいが、そこからｂ／ａを小さくしていくと、マクロベンド損失を小さくでき、さらにＭＦＤ、零分散波長を小さく、分散スロープを大きくできる。このようにして、ｂ／ａの値の調整によって、マクロベンド損失などの光学特性を調整できる。本発明者らが基準の構造パラメータを計算例Ｎｏ．１の値から様々に変化させ、さらにそれを基準としてｂ／ａを変化させてシミュレーション計算を行ったところ、Ｇ．６５７Ａ２規格を満たすようにするためには、ｂ／ａは１．８以上が好適であることが確認された。
【００３８】
【表１Ａ】
2020121915.tif 000003
【００３９】
【表１Ｂ】
2020121915.tif 000004
【００４０】
つぎに、表２Ａに示す計算例Ｎｏ．１に示す構造パラメータを基準として、ｃ／ａを計算例Ｎｏ．８〜１３のように４．２から５．２まで変化させ、その光学特性の変化を計算した。表１Ａの場合と同様に、Δ２は０％に設定し、２ａは実効カットオフ波長が約１２５０ｎｍになるように８．４μｍから７．７μｍまで調整した。
【００４１】
表２Ｂは、計算例Ｎｏ．１、８〜１３についての光学特性のうち、零分散波長、分散スロープ、ＭＦＤ、Ｃｕｔｏｆｆ波長、マクロベンド損失の値を示す。表２Ａ、２Ｂから解るように、計算例Ｎｏ．１ではマクロベンド損失は１．５９ｄＢ／ｍより大きいが、そこからｃ／ａを大きくしていくと、マクロベンド損失を小さくでき、さらにＭＦＤ、分散スロープを小さく、零分散波長を大きくできる。このようにして、ｃ／ａの値の調整によって、マクロベンド損失などの光学特性を調整できる。本発明者らが基準の構造パラメータを計算例Ｎｏ．１の値から様々に変化させ、さらにそれを基準としてｃ／ａを変化させてシミュレーション計算を行ったところ、Ｇ．６５７Ａ２規格を満たすようにするためには、ｃ／ａは３．４以上５．０以下、さらには３．４以上４．６以下が好適であることが確認された。
【００４２】
【表２Ａ】
2020121915.tif 000005
【００４３】
【表２Ｂ】
2020121915.tif 000006
【００４４】
なお、｜Δ３｜を０．２５％以下としながらマクロベンド損失を低減するためには、トレンチ幅（ｃ−ｂ）は大きい方が好ましい。たとえば、図４は、シミュレーション計算に基づく、トレンチ幅（ｃ−ｂ）とマクロベンド損失との関係を示す図である。菱形はデータ点を示し、実線はデータ点を指数関数で近似した曲線を示す。データ点は、構造パラメータΔ１、Δ２、Δ３、ａ、ｂ、ｃを、｜Δ３｜が０．２５％以下となるように様々に設定して計算した結果を示す。構造パラメータによるばらつきはあるものの、たとえばＧ．６５７Ａ２規格のマクロベンド損失である１．５９ｄＢ／ｍ以下を安定的に満たそうとする場合には、トレンチ幅（ｃ−ｂ）は７μｍ以上が好ましい。また、製造ばらつきの影響を考慮すると、トレンチ幅（ｃ−ｂ）は８μｍ以上がより好ましい。ただし、図４が示すように、トレンチ幅（ｃ−ｂ）は７μｍより小さくても、構造パラメメータの組み合わせの選択によってマクロベンド損失を１．５９ｄＢ／ｍ以下とできることは明らかである。
【００４５】
つぎに、表３Ａに示す計算例Ｎｏ．１に示す構造パラメータを基準として、Δ２を計算例Ｎｏ．１４〜１７のように−０．１０％から０．１０％まで変化させ、その光学特性の変化を計算した。表１Ａの場合と同様に、２ａは実効カットオフ波長が約１２５０ｎｍになるように８．４μｍから６．５μｍまで調整した。
【００４６】
表３Ｂは、計算例Ｎｏ．１、１４〜１７についての光学特性のうち、零分散波長、分散スロープ、ＭＦＤ、Ｃｕｔｏｆｆ波長、マクロベンド損失の値を示す。表３Ａ、３Ｂから解るように、計算例Ｎｏ．１ではマクロベンド損失は１．５９ｄＢ／ｍより大きいが、そこからΔ２を小さくしていくと、マクロベンド損失を小さくでき、さらにＭＦＤ、零分散波長を小さく、分散スロープを大きくできる。一方、Δ２を大きくしていくと、マクロベンド損失が大きくなるが、ＭＦＤ、零分散波長を大きくできる。このようにして、Δ２の値の調整によって、マクロベンド損失などの光学特性を調整できる。本発明者らが基準の構造パラメータを計算例Ｎｏ．１の値から様々に変化させ、さらにそれを基準としてΔ２を変化させてシミュレーション計算を行ったところ、Ｇ．６５７Ａ２規格を満たすようにするためには、Δ２は−０．５％以上０．５％以下が好適であることが確認された。
【００４７】
【表３Ａ】
2020121915.tif 000007
【００４８】
【表３Ｂ】
2020121915.tif 000008
【００４９】
さらに、表４Ａには、計算例Ｎｏ．１８〜５７として、Δ１が０．３４％以上０．４０％未満であり、Δ２が−０．０５％以上０．０５％以下であり、｜Δ３｜が０．２５％以下であり、Δ１×｜Δ３｜が０．０８％2未満であり、ｂ／ａが１．８以上であり、ｃ／ａが３．４以上５．０以下であり、実効カットオフ波長が１２６０ｎｍ以下になるように２ａを設定した例を示す。表４Ｂは、計算例Ｎｏ．１８〜５７についての光学特性のうち、零分散波長、分散スロープ、ＭＦＤ、Ｃｕｔｏｆｆ波長、マクロベンド損失の値を示す。表４Ａに示した構造パラメータの範囲において、各光学特性はＧ．６５７Ａ２規格を満たすことが確認された。
【００５０】
【表４Ａ】
2020121915.tif 000009
【００５１】
【表４Ｂ】
2020121915.tif 000010
【００５２】
なお、本実施形態に係る光ファイバ１０は、光ファイバ母材を製造する工程と、光ファイバ母材を加熱溶融して線引きして光ファイバを製造する工程とを含む公知の製造方法にて製造できる。このとき、光ファイバ母材は、光ファイバ１０の中心コア部１１、中間層１２、トレンチ層１３、およびクラッド部１４となる部分を含むものである。光ファイバ母材は、気相軸付（ＶＡＤ）法、内付気相堆積（ＭＣＶＤ）法、プラズマ気相堆積（ＰＣＶＤ）法、ゾルゲル法などを用いて製造できる。たとえば、ＶＡＤを用いて、光ファイバ１０の中心コア部１１、中間層１２、トレンチ層１３、およびクラッド部１４の一部となる部分を形成し、これにクラッド部１４の残りの部分となるガラス層をたとえば外側気相堆積（ＯＶＤ）法を用いて形成することで、光ファイバ母材を製造できる。
【００５３】
なお、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上述した各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明に係る光ファイバは、データコムやテレコムなどの光通信の分野に好適に利用できる。
【符号の説明】
【００５５】
１０  光ファイバ
１１  中心コア部
１２  中間層
１３  トレンチ層
１４  クラッド部
Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４  プロファイル
【図１】
2020121915.tif 000011
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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