【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年5月1日(2009.5.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  粒子状固体触媒と、ほぼ不活性の液体媒体とからなる反応ゾーンで水素と一酸化炭素を反応させることで、水素と一酸化炭素から炭化水素を生成するプロセスであって、  ほぼ不活性の液体媒体と固体の粒子状触媒とを介在させてガスの反応に適する沸騰床の反応容器内の単一の乱流反応ゾーンでガスを反応させ、単数または複数の水素ガスと一酸化炭素ガスからなる前記ガスは、固体の触媒粒子とほぼ不活性の液体媒体からなる反応ゾーンを通って気泡が充分な速度で上方に流れて、床の容積をその静容積以上に膨脹させるように、反応ゾーン内の複数の位置に導入されることを特徴とするプロセス。    【請求項２】  ほぼ不活性の液体媒体は反応ゾーンに追加され、かつ引き抜かれることによって、固体触媒の少なくとも一部が不規則な運動状態になるポイントまで床の膨脹を促進させる流束が生成されることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。    【請求項３】  水素ガス、または一酸化炭素ガス、または双方が導入される位置は、反応容器内の容器底部から所定の距離を隔てた位置であることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項４】  水素ガス、一酸化炭素ガス、またはその混合物が容器の底部から複数の所定の距離を隔てて導入されることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項５】  水素ガスまたは一酸化炭素ガスまたは双方のガスが導入される反応容器の底部からの距離によって決定される位置の少なくとも１つは、反応容器の底部からほぼ当距離に位置し、また反応容器の横断面の中心により規定される縦軸からほぼ当距離の複数ポイントでガスを分散することを特徴とする請求項４に記載のプロセス。    【請求項６】  ガスは反応容器の壁を貫いて内側に延びる筒状部と分散部とからなる装置を介して導入され、前記分散部は筒状部に取り付けられ、乱流の反応ゾーン内の位置でガスを分散することを特徴とする請求項１に記載のプロセス。    【請求項７】  合成ガスの気泡の直径は約５ミリメートル未満であることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項８】  液体媒体はパラフィン・ワックス、沸点が約１５０℃から約３４０℃の炭化水素、およびその混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項９】  反応の進行中に液体媒体または触媒、または双方を変性する手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項１０】  引き抜かれる液体媒体の少なくとも一部は再循環されることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項１１】  再循環される液体媒体内の沸点範囲が２００℃から約３４０℃までの中心蒸留部分の濃度は約０．００１ないし約５０容積百分率であることを特徴とする請求項１０に記載のプロセス。    【請求項１２】  固体の粒子状触媒の粒子の平均直径は約０．２ないし約３．５ミリメートルであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。    【請求項１３】  固体の粒子状触媒の粒子の平均直径は約０．３ないし約１．６ミリメートルであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。    【請求項１４】  水素と一酸化炭素のモル比は反応ゾーン内で約０．５：１ないし約６．０：１であることを特徴とする請求項���に記載のプロセス    【請求項１５】  水素と一酸化炭素のモル比は反応ゾーン内で約１．０：１ないし約３．０：１であることを特徴とする請求項１４に記載のプロセス    【請求項１６】  水素と一酸化炭素のモル比は反応ゾーン内で約１．６：１ないし約２．２：１であることを特徴とする請求項１５に記載のプロセス    【請求項１７】  反応容器は除熱手段を備えていることを特徴とする請求項２に記載のプロセス    【請求項１８】  除熱手段は、冷却媒体が反応容器の外側から管に出入りできるように構成された管からなることを特徴とする請求項１７に記載のプロセス。    【請求項１９】  管に入る冷却媒体は管内で少なくとも部分的に気化する液体であることを特徴とする請求項１８に記載のプロセス。    【請求項２０】  冷却媒体はダウサム、水、グリコール、およびその混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１９に記載のプロセス。    【請求項２１】  反応容器の外側に、再循環している液体媒体から熱を除去する手段を更に備えたことを特徴とする請求項１０に記載のプロセス。    【請求項２２】  ガスの空間速度は立方メートルの触媒当たり毎時約２００ないし約２０，０００立方メートルであることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項２３】  ガスの空間速度は立方メートルの触媒当たり毎時約５００ないし約１０，０００立方メートルであることを特徴とする請求項２２に記載のプロセス。    【請求項２４】  液体の流束は毎秒約１から約１０センチメートルであることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項２５】  液体の空間速度は立方メートルの触媒当たり毎時約１０ないし約１００立方メートルのほぼ不活性の液体が流れる速度であることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項２６】  液体の空間速度は立方メートルの触媒当たり毎時約２０ないし約８０立方メートルのほぼ不活性の液体が流れる速度であることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。    【請求項２７】  水素ガス、一酸化炭素ガス、またはその混合物は容器の底部から３ないし８つの所定の距離を隔てて導入されることを特徴とする請求項４に記載のプロセス。    【請求項２８】  水素ガス、一酸化炭素ガス、またはその混合物は容器の底部から６ないし７つの所定の距離を隔てて導入されることを特徴とする請求項４に記載のプロセス。【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】  技術分野  本発明は水素ガスと一酸化炭素から炭化水素を生成するプロセスに関する。本発明は特に、沸騰床での前記炭化水素の生成に関する。【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】  温度利得は更に、スラリー床反応装置を使用することによって制御することもできる。従来技術のスラリー床反応装置のプロセスを実用化するための主な欠点は、含ろう生成物と触媒の微粒子が分離し、また、スラリーを反応ゾーンに再循環するために使用されるポンプ装置の激しい腐食による機械的故障が生ずることである。【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】  Ｆ−Ｔの実用化に関する別の課題は反応物質を効率よく転化することである。Ｆ−Ｔ合成は一般に２．０：１をやや上回るモル比の水素と一酸化炭素を使用する。化学量論的には、１つの水素分子が炭素と化合して炭化水素を生成し、第２の水素分子が酸素と化合して水蒸気を生成する。反応装置内のガスに１つの反応物質が欠乏することがあり、それによって反応速度は実用化できるレベル以下に低下してしまう。反応速度の低下は、欠乏している反応物質が水素である場合には更に悪化する。Ｆ−Ｔ合成には多くの異なる触媒を利用でき、反応物質の欠乏が反応速度に及ぼす影響は触媒によって異なってくる。しかしながら、水素ガス欠乏の影響は、酸化炭素欠乏の影響よりも顕著である。例えば、コバルトをベースにした触媒の場合のＦ−Ｔ反応速度は、水素と一酸化炭素の双方の分圧と共に上昇する。しかし、水素の分圧の変化は、一酸化炭素の分圧の変化のほぼ２倍の影響を及ぼす。従って、合成ガスに水素が欠乏している場合は、反応速度は一酸化炭素の欠乏に起因する反応速度の低下と比較して２倍も速く低下する。【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】  発明の開示  本発明は、固体の粒子状触媒を介在させて水素と一酸化炭素とを反応させて、水素と一酸化炭素から炭化水素を生成するプロセスである。この反応は、ほぼ不活性の液体媒体と固体の粒子状触媒床とを介在させて、すなわち沸騰床の反応装置内でガスを反応させるようにした反応容器内で行われる。水素ガス、一酸化炭素ガス、および双方は反応容器内の複数の位置で導入される。液体媒体は反応容器の少なくとも１つの位置で導入され、反応ゾーンに入る前にガスと基本的に良く混合される。ガス気泡とほぼ不活性の液体媒体とは、反応ゾーンが静容積よりも大きい容積に膨脹するのに充分な速度で固体の触媒粒子の床を通って流れる。この速度によって液体、ガス、および固体触媒が存在し、一定の運動状態にある乱流反応ゾーンが生成される。【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】  本発明で採用されるプロセスは沸騰床プロセスと呼ばれる場合が多い。沸騰床プロセスは触媒の粒子を含む縦の円筒形容器を通して液体とガスの流れをほぼ同時に通過させるプロセスからなっている。触媒は液体と気泡からなる流体内で移動する。触媒床の動きはガスと液体の流れによって制御されるので、安定状態では、触媒のかさは反応装置内の規定可能なレベルに制御される。【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】  本発明の沸騰床プロセスによって、極めて高い収量と転化を保持しつつ、温度制御と触媒レベルの制御方法に複数の選択肢が得られる。所定温度に予熱された給送ガスの制御、内部での熱交換、液体媒体の流れの除去、および液体媒体を冷却し、また別のソースから反応装置に冷却された液体媒体を戻すか、液体媒体を加えるための生成物を含む各種の方法で、熱は除去される。さらに、液体媒体の知覚できる潜在的熱容量は、温度変化を和らげる。【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】  反応装置内の複数位置でガスを導入することで、反応装置内の所定のポイントで反応装置内のガスに水素ガス、一酸化炭素ガス、またはその他のガス、またはそれらの混合物を補充する手段が得られる。この補充ガスは水素と一酸化炭素との最適な比率を保持するために利用され、それによって触媒の選択によって所望の生成物が製造され、これは本発明の好適な実施態様ではろう質パラフィンである。この補充ガスは一酸化炭素と水素の双方の分圧を維持して、高く、しかも制御された反応速度を促進するために利用される。更に、この補充ガスの注入によって床全体に亘るガス配分が向上し、不都合なバックミキシングを防止するのに役立つ。【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】  本発明は反応による発熱を有効に制御するように、粒子状の固体触媒の介在で水素と一酸化炭素とを反応させることによって、水素と一酸化炭素から炭化水素を生成するプロセスである。この反応は、ほぼ不活性の液体媒体と固体の粒子状触媒床の介在でガスを反応させるようにした反応容器内で行われる。水素ガスおよび一酸化炭素ガス、またはより多くの場合は双方のガスからなる合成ガスが反応容器内の複数の位置で導入される。ほぼ不活性の液体も反応装置内の少なくとも１つの位置で導入され、液体の流れはガスの流れとほぼ同時である。ガスの気泡とほぼ不活性の液体媒体は、固体の触媒粒子を含むゾーン内をゾーンの容積をその静容積以上に膨脹させるのに充分な速度で上方に流れる。流体の速度によって、液体、ガス、および固体の触媒が存在し、運動状態にある乱流反応ゾーンが生成される。ガスと液体の速度は好適には、反応が有効に進展するが、触媒はガスおよび液体の流れ（単数または複数）と共に反応ゾーンから排出されることがないように制御される。【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】  反応装置は沸騰床式の反応装置である。沸騰床は液体媒体、触媒粒子、および気泡から構成されている。沸騰床は、床がその静容積以上の容積に膨脹し、それによって固体の触媒の少なくとも一部が運動状態にある乱流反応ゾーンが形成されるように、気泡と液体媒体の上方への流れからの充分なガス空間速度を有している。ガスの空間速度、すなわちガスを含む反応装置の総容積でガス収量を割った数値は、ｍ3の触媒あたり毎時２００ないし２０，０００ｍ3であることが必要であり、好適にはｍ3の触媒あたり毎時５００ないし１０，０００ｍ3である。このガス空間速度によって合成ガスは高レベルで液体に転化する。ガス空間速度は沸騰床で通常認められる速度よりも高い。このような高い収量と転化が可能である理由は、好適な実施形態の除熱効率が高いからである。【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】  沸騰床は床を膨脹させる流体循環にも依存している。流体媒体が導入され、ガスとほぼ同時に流れ、この流体速度によって沸騰床の高さと３相の運動とが増大する。好適な実施形態では、ガスと液体の複合した流れは、固体触媒の実質的な部分、すなわち９０％以上が運動状態にあるポイントまで床を膨脹させるのに充分ではあるが、沸騰床の容積は所定の膨脹量に制御される。【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】  反応ガスが触媒および液体媒体と接触する限り反応装置のどの位置に反応ガスを導入してもよい。気泡は上方に移動するので、反応装置の容積を最大限に活用するために、反応ガスを導入する手段を反応装置の底部の近傍に配置することが通常は有利である。ガスの反応装置の底部の近傍で導入することは公知の任意の手段で実施できる。一般的には、この手段は形成される気泡の平均直径が５ミリメートル未満、好適には３ミリメートル未満、最も好適には１ミリメートル未満であるように選択される。配分手段に加えて、気泡のサイズも粘性、表面張力、および液体媒体の分子量および液体媒体に対する触媒粒子の相対比率の要因である。当業者は液体の特性、ガス速度、固体触媒濃度、およびガス配分方法を変更することによって容易に気泡のサイズを変更することができる。【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】  ガスを導入する特に好適な手段は、液体媒体と、反応ガスであるガスの双方を膨脹した床の底部に均一に導入して、安定し、しかも乱流する流れを床内に保持する横向きの分配板である。横向きの分配板は更にほぼ不活性の液体とガス給送の流れを膨脹した触媒床から分離し、かつ反応装置内に沸騰触媒床用の物理的な支持体となる仕切りとしての役割をも果たす。この好適な手段は本明細書に参考文献として引用されている米国特許明細書第４，８７４，５８３号に記載されている。当業者はこの配分板の下に、給送ガスおよび必要ならば液体の運動エネルギを散逸させるための分散装置またはその他の機械的装置を備えてもよい。この分配板は液体とガスを液体、触媒粒子、およびガスの気泡からなる反応ゾーンへと注入する。【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】  反応ゾーンはほぼ、ガスが液体媒体と固体の粒子状触媒とを含む床内に注入される反応装置の最も下のポイントから、反応装置の頂部の近傍の触媒がほぼない分離ゾーンまで、中断なく延在している。一般に大型の反応装置では反応装置の容積は板によって分離される。各板は、液体を再配分し、触媒を支える機能をする。しかし、一般にこのような板の前に分離ゾーンが先行されなければならないので、反応装置のかなりの容積が損失されてしまう。本発明では反応装置の部分を隔絶できるが、反応装置の容積のかなりの部分の損失を伴う板、または他の機械的装置がない。中断されない反応ゾーン内の容積全体を液体媒体中の触媒粒子がガスの気泡に接触するために活用できる。触媒加重の重さは液体媒体内の浮力および上方に流れるガスと液体により発生する揚力の双方によって軽減される。流体はこの反応ゾーンの下方から追加され、上部から引き抜かれる。反応ガスが導入される追加の位置は、ガスが既存の反応ゾーン内に導入されるような位置に配置される。反応ゾーンは熱交換機が占める容積を含んでいない。【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】  沸騰床反応装置の頂部の近傍には、触媒を沸騰床内の気相と液相から分離ゾーンの役割を果たす触媒がほぼ無いゾーンがある。この分離ゾーンは反応装置の容積の約１／１０ないし約１／３である場合が多い。液体媒体とガスはホット・セパレータの上を通過し、そこではこれらが反応装置の外側で処理されることができる。存在する反応ガスの量に応じて、当業者は分離されたガスの一部を反応装置を通して再循環し、またはこのガスを後続の反応装置で使用し、またはこのガスを燃料として使用することもできよう。処理の例には、生成物の除去、公知の手段による液体媒体の一部の除去、媒体の冷却、または媒体からの不純物の濾過を含めることができる。本発明の好適な実施形態はこの処理済みの液体媒体を反応装置へと再導入する。【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】  反応装置は単一の反応ゾーン内の複数の位置で一方、または双方の反応ガスからなるガスを導入する手段を含んでいる。気泡は床を経て上昇する傾向にあるので、これらの位置の１つは前述のような反応ゾーンの底部の近傍である。その他の手段は反応ゾーン全体に配置してもよい。好適な実施形態では、最も底部のガス注入手段によって注入される合成ガスの水素と一酸化炭素のモル比は０．５：１から約６．０：１、好適には１．０：１から３．０：１であり、より好適には１．６：１から２．２：１である。この最も好適な比率によって一般に、コバルトをベースにした触媒で良好な反応速度が得られ、所望のより重い炭化水素生成物への選択度がより高くなる。【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】  プロセス中の水素と一酸化炭素の使用の化学量論的な比率はろう質の炭化水素の生成の場合の約２：１から、メタン生成の場合の３：１までの範囲にある。反応装置が転化され、必然的にある程度のメタンが発生すると、ガスは間もなく反応ガス、すなわち水素の欠乏状態になり、補充ガスがなければ水素と一酸化炭素の比率は所望の範囲外にあることは明らかである。ガスが注入される最も下のポイントの上の位置でガスを反応ゾーンに導入する少なくとも１つの付加的な手段が備えられる。前記追加の各ガス導入手段は反応容器の底部から所定距離を隔てて容器内に配置される。追加の反応ゾーンへのガス導入手段の正確な位置は通常は反応装置の効率と反応の選択度が最高になるように選択される。【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】  好適な実施形態では、単一の乱流反応ゾーン内に追加の反応ガスを導入する付加的な手段は、管に取り付けられた分散装置である。前記分散装置は反応ガスのバックミキシングが最小限になるように設計され、かつ配置される。合成ガスを導入するためのこれらの手段の各々はガスを複数のポイントで分配し、前記ポイントは全て反応容器の底部からほぼ同じ間隔を隔てて位置し、反応容器の水平の断面の中心によって規定される縦軸からほぼ当距離にあり、かつ前記縦軸を中心に半径方向にほぼ対称に配置されている。分散装置を適切に配置することによってバックミキシングが縮減し、ガス気泡の均一な配分が促進され、反応ゾーン内での気泡サイズの成長が制御される。沸騰床反応装置内でのバックミキシングの低減によって、ユニットは水素および一酸化炭素を生成物に有効に転化することが可能になる。【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】  前記追加ガスが導入される位置の数は約１から約１５の間で可変的である。好適な実施形態では追加ガスが反応ゾーンに導入される位置の数は２から９であり、一方、より好適な実施形態は３から８の位置を含み、最も好適な実施形態は６から７の位置を含んでいる。好適な実施形態では、これらの位置の位置決めと、導入される水素ガスまたは一酸化炭素ガス、または双方の量は、反応ゾーンを通して水素と一酸化炭素の比率を約０．５：１から約６．０：１、より好適には約１．０：１から約３．０：１、また、最も好適には約１．６：１から約２．２：１に比較的一定に保つに充分なものとされる。【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】  合成ガスを炭化水素に転化するプロセスが進展すると共に、沸騰床内の合成ガスの水素ガス含有量が欠乏状態になるにつれて反応速度は低下する。沸騰床内の合成ガスの一酸化炭素の含有量も、水素の場合よりは低い比率ではなるが欠乏状態になる。転化の進展と共に、二酸化炭素、窒素およびメタンのような初期の希釈物質がより優勢になる。加えて、より軽い炭化水素および水を含むＦ−Ｔ合成による生成物の幾つかは反応ガスをより希釈する。一酸化炭素ガスおよび水素ガスを含む補充合成ガスの注入によって、合成ガス中の双方の反応物質の濃度が高くなり、従って反応速度も上昇する。【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】  沸騰床の場合は、触媒の装填には大きい粒子の比率が高すぎず、また小さい粒子の比率が高すぎないことが重要である。引き抜かれる液体媒体および生成物での触媒のキャリーオーバー（気水共発）なく触媒床内での流体化を成功させるには適切なサイズの配分が重要である。１実施形態は粒子の平均直径が約０．２と約３．５ミリメートルの間である粒子状固体触媒を含んでいる。より好適な実施形態は粒子の平均直径が約０．３と約１．６ミリメートルの間である粒子状固体触媒を含んでいる。サイズの配分の範囲は狭くなるほど好適である。【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】  本発明の実施形態では公知の分離方法を利用して、抜き取られる液体媒体からこれらの成分の一部を分離し、所望の特性を有する分留を再組成し、反応装置に再循環させる必要がある。あるいは、分留されない液体を沸騰床に再循環してもよい。好適な実施形態は再循環系を冷却するために反応装置の外部の熱交換機を使用することによって反応装置に入るほぼ不活性の液体の温度を調整することができる。標準的には、反応装置から抜き取られる液体媒体を反応ゾーンの上に位置する分離ゾーンから得ることができる。当業者は、液体を反応ゾーンに直接追加し、反応ゾーンから直接抜き取ることが有利である場合があることを理解しよう。それによって温度制御が改善され、触媒を床から除去したり追加するメカニズムが得られる。【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】  沸騰床はフィッシャー−トロプシュ合成が生ずるのに充分な温度で動作される。このような温度は多くの要因に、基本的には選択された触媒に左右され、反応装置内の標準温度は約１５０℃から約３２５℃であり、より好適には約１６０℃から約３００℃であり、最も好適には約１６０℃から約２４０℃である。１５０℃未満の温度での反応速度には膨大な量の触媒が必要であろう。約３２５℃以上の温度はメタンの発生を促進する。【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】  沸騰床反応装置の直径は、給送ガスに毎秒約２センチメートルから約３０センチメートルの見かけ粘性（反応条件での給送ガスの実際の容積流量を空の断面積で除算した数値）を与えるように選択される。好適な範囲は毎秒約６センチメートルから毎秒約２０センチメートルである。より好適な範囲は毎秒約１０センチメートルから毎秒約２０センチメートルである。ガスの粘性はガスのホールドアップ、およびガス−液体の物質移動、およびバックミキシングに影響を及ぼす。反応装置の転化特性を最適化するために選択される好適なガスの毎時の空間速度はｍ3の触媒当たり毎時２００から２０，０００ｍ3、より好適にはｍ3の触媒当たり毎時５００から１０，０００ｍ3である。【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】  沸騰床反応路の場合は、触媒床は部分的に液体媒体の流束によって支持される。再循環する液体の速度は毎秒約０．１から約２０センチメートルであり、より好適には毎秒約１から約１０センチメートルである。液体の毎時の空間速度は触媒容積当たり毎時約１０から約１００容積の液体である必要がある。好適な液体の毎時の空間速度は触媒容積当たり毎時約２０から約８０容積の液体である。【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】  Ｆ−Ｔ反応には発熱性の性質があるので、反応装置には所望の反応温度を入念に制御できるように除熱能力を備えることが有利である。沸騰床反応装置では、給送ガスの感知可能な熱の低下、内部での熱交換、および外部での熱交換を含む各種の方法で熱を除去することができる。本発明の好適な実施形態にはこれらの方法のそれぞれが含まれる。【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】  反応装置の温度を調整する好適な手段は、管からなる内部の熱交換機を使用することである。当業者は、熱交換機は直列および並列の複数の管を使用する場合が多く、これらは本明細書に含まれることを理解しよう。前記管は、沸騰床と冷却液との間の熱伝達を促進するために、羽根またはその他の公知の装置を有していてもよい。冷却媒体は反応容器の外側から管内に入る。より好適な実施形態では、管内に入る冷却媒体は管内で少なくとも一部が気化される液体からなっている。このような冷却液は例えば炭化水素をベースにした液体、市販のダウサム、ハロゲン化炭化水素、および水を含んでいる。最も好適な実施形態はダウサム，水、グリコール、およびその混合物を使用し、これらは液相で管内に導入され、これらの液体が管から抜き取られる前に少なくとも一部が気化される。【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】  反応装置から熱を除去する別の好適な手段は、反応装置の温度以下の温度で液体媒体を反応装置に導入することである。導入された液体媒体が再循環された液体媒体である限り、液体を冷却するためには熱交換機を使用しなければならない。液体から熱を除去する熱交換機は公知である。【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】  上述の発明には多くの利点がある。これは温度を制御するための幾つかの有効な手段を備えているので、過剰のメタン化、または触媒の破壊を伴わずに反応装置内での高度の転化が可能である。本発明によって水素ガスと一酸化炭素ガスの比率を制御する手段が備えられることで、反応ゾーン全体を通して反応速度と反応の選択度を最大限にするメカニズムが得られる。触媒はガス、および場合によっては液体によって浮力が与えられるので反応床が高くなることが可能であり、それによって触媒の装填量が所定量である場合、触媒の破砕が軽減される。本発明は更に、触媒を支持し、液体を再配分するために使用できる板を本発明では使用していないので、反応装置の容積を最大限に活用できる。別の利点としては、沸騰床は反応ゾーンを通して圧力差がほぼゼロであるので、圧力がより均一になり、Ｃ5+炭化水素の生産性と選択度が高まる。【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】  図１は合成ガスを液体炭化水素に転化するための沸騰床反応装置の概略図である。反応ゾーンは分散装置から、ほぼ反応装置内部の熱交換機が触媒床を出るポイントまで延びている。反応ゾーンの上部には分離ゾーンがある。反応ゾーンから分離ゾーンまでの移行部のおおよその位置が矢印１０の向かい側の波線によって示されている。【誤訳訂正３１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】  合成ガスは管２２を経て沸騰床１０に入る。合成ガスを熱交換機２４内で予熱してもよい。合成ガスは基板１４または反応ゾーンの底部に、またはその周囲に配置された分散装置１６を介して、あるいは部品１４としても示されている横向きの分配板を介して反応ゾーン内に導入される。この実施形態では水素ガスであるガスを反応ゾーンに追加するために３個の単一の分散装置が配置されている。合成ガスには管２０から水素を濃縮したガスを補給してもよい。管２０は更に反応ゾーン内に位置する分散装置１８を介して反応ゾーンに濃縮水素をも供給する。内部冷却コイル（単数または複数）１２は反応ゾーンを通過してもよいが、分散装置１６および１８を介したガスの導入、および液体の縦の移動を妨害しないようにされる。【誤訳訂正３２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】  ほぼ不活性の液体は沸騰ポンプ５６および管４０を介して沸騰床反応装置１０に導入される。液体は基板１４内の開口部を経て上方に流れてもよく、あるいは、横向きの配分板１４を介してガスと共に導入されてもよい。液体媒体とガスは反応装置を離れ、ホット・セパレータ内で互いに分離される。液体とガスは管４２を経て沸騰床反応装置１０を出てもよい。分離ゾーンが大きい場合は、液体は分離したガスと液体の流れとして沸騰床を出てもよい。しかし、この実施形態では、液体とガスは次に減圧された圧力で動作できるホット・セパレータ４４へと送られる。ホット・セパレータの圧力と温度を制御することによって、再循環される液体の組成を変更することができる。【誤訳訂正３３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】  Ｆ−Ｔ合成プロセスの市販されている実施態様を、生成物として基本的に燃料と潤滑油を生成するように最適化することができる。図２は、沸騰床反応装置１が単一の処理能力で極めて高度の転化が可能であるように設計されている前記プロセスの概略図である。反応装置の内部は図１に示したものと同一であり、ここでは図示しない。【誤訳訂正３４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】  本発明のこの実施形態は、合成ガスが管１４０を経て沸騰床反応装置１００に入ることが示されている。この図では沸騰床の詳細は省略してある。流体は管１０２を経て沸騰床反応装置を出て、オプションとして熱交換機１０４で冷却される。次に流体は管１０６を経て分離容器１１０へと送られる。ガスと軽ナフタは管１１２を経て分離容器１１０の上部から引き抜かれる。より重い炭化水素は管１１４を経て分離容器を出て、オプションで熱交換機４内で冷却される。流体は管１１６を経て熱交換機を出て容器１１８から排出され、管１２０を経て二番目の分離容器１２２に排出される。中間蒸留物は管１２４を経て除去され、その一部は生成物として管１２６を経て分離され、別の一部はオプションで管１２８を経て、熱交換機４および沸騰ポンプ１３２を介して沸騰床へと再循環される。管１３０を経て再循環される液体は混合物であり、その組成は管１２８と１３６を通る相対流量を制御することによって変更することができる。管１３０を経て再循環される液体の沸点は、相当の蒸気相が生成されることがないように反応温度よりも充分に高いことが好適である。【誤訳訂正３５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】  本発明のこの実施形態は幾つかの沸騰床反応装置を装備している。合成ガスは管２００を経て沸騰床反応装置２０２に入る。この図では沸騰床の詳細は省略してある。流体は管２０４を経て沸騰床反応装置を出て、分離容器２０６へと送られる。ガスと軽ナフタは管２０８を経て分離容器２０６の上部から引き抜かれる。図３には、管１０３を経てホット・セパレータ４を出る蒸気からの、主として水蒸気である不純物の分離と除去については図示していない。気相での約５０％以上の水蒸気含有率はＦ−Ｔ合成プロセスを重大に阻害する。より重い炭化水素は管２１０を経て分離容器２０６から出て、その一部は熱交換機２１２に移送される。流体は熱交換機を出て沸騰ポンプ２１４に入り、沸騰床２０２に再循環される。転化されない給送ガスは液体成分の分留と混合され、第２の沸騰床反応装置へと導入される。管２１０からのより重い炭化水素の分留はオプションで管２０８からのガスおよびナフタと混合され、管２１８を経て第２沸騰床反応装置２２０へと送られる。反応装置２２０への追加の合成ガスおよび水素濃縮ガス給送管は図示していない。流体は管２２２を経て沸騰床反応装置２２０を出た後、熱交換機２２４を通過する。冷却された流体は管２２６を経て分離容器２２８へと送られる。ガスと軽ナフタは分離容器２２８の上部から管２３０を経て引き抜かれ、燃料として、またはその他の処理のために使用される生成物として分離される。より重い炭化水素は管２３２を経て分離容器２２８を出て、熱交換機２３４で更に冷却される。次に流体は管２３６を経て沈殿容器２３８に送られてから、分離容器２４０に送られる。中間蒸留生成物が管２４２を経て上部から引き抜かれる。一部は生成物として管２２４内で分離され、一部は管２４６を経て熱交換機２３４を通って加熱される。この流体は管２５８からの液体と混合されると、次に沸騰ポンプ２４８を通過し、管２５０を経て沸騰床２２０へと再循環される。ホット・セパレータからのより高い沸騰分留は水素および蒸気と混合されて第３の沸騰反応装置に導入される。この第３の反応装置の機能はＦ−Ｔ合成ではなく、分子量が高い炭化水素を分子量が低い炭化水素に転化することである。管２５２を経て分離容器２４０を出た重炭化水素には管２５４から給送される水素と蒸気が補給され、管２５６を経て分解装置２６０へと送られる。管２６２を経て分解装置２６０から出た炭化水素は容器２６４内で分留され、ガスとナフタが管２６６を経て引き抜かれる。重炭化水素は管２６８を経て分離容器２６４を離れ、その一部は中間蒸留生成物として引き抜かれ、一部は沸騰ポンプ２７４を経て分解装置２６０へ再循環される。【誤訳訂正３６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図面の簡単な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図面の簡単な説明】  【図１】  合成ガスを液体炭化水素に転化するための沸騰床反応装置の概略図である。  【図２】  Ｆ−Ｔ合成プロセスの市販の実施態様を生成物として主として燃料および潤滑油を生成するために最適化することができる。  沸騰床反応装置１が単一の処理能力で極めて高度の転化が可能であるように設計されている前記プロセスの概略図である。反応装置の内部は図１に示したものと同一であり、ここでは図示しない。  【図３】  Ｆ−Ｔ合成プロセスの別の産業上の用途は生成物として主として燃料を生成する。図３は、給送された合成ガスを処理するために直列の３個の反応装置が使用される前記プロセスの概略図である。この図では、Ｆ−Ｔ合成は最初の２つの反応装置で行われる。第３の反応装置の機能はＦ−Ｔ合成ではなく、分子量が他椎炭化水素を分子量が低い炭化水素に転化することである。