【手続補正書】
【提出日】平成20年12月3日(2008.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスセラミック又はガラスを搬送及び支持する装置（１９）であって、少なくとも１つの連続した支持面（３）、少なくとも１つのガス供給室（５１〜５５）、及び少なくとも１つのガス排出室（７１〜７５）を有する少なくとも１つのダイヤフラム（１、２）を備え、前記ガス供給室（５１〜５５）及び前記ガス排出室（７１〜７５）は、前記支持面（３）に通じるガス透過可能な接続部を有し、前記ガス供給室は、該ガス供給室にガスを供給するために下側に少なくとも１つのガス透過可能な接続部を有する装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つのガス供給室（５１〜５５）及び前記少なくとも１つのガス排出室（７１〜７５）はそれぞれ、前記ダイヤフラム内で前記支持面に沿った方向に延びる閉じたチャネルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ガス供給室は、壁の底部によって少なくとも部分的に画定される、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
セラミック壁を有し、前記ガス供給室及び前記ガス排出室の下に配置され、かつ、該ガス供給室にガスを供給するために少なくとも１つのガス透過可能な接続部を介して該ガス供給室に接続される副室を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
前記チャネルは、前記支持面の反対側にある前記ダイヤフラムの底面に対して閉じられる、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記ガス供給室（５１〜５５）はガス入口開口を有し、前記ガス排出室（７１〜７５）はガス出口開口を有し、該ガス入口開口及び該ガス出口開口は、前記ガス供給室（５１〜５５）及び前記ガス排出室（７１〜７５）内のガス流方向が前記支持面に沿って延びるように配置される、請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
前記ダイヤフラム（１、２）は押し出し材料からなる、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記ダイヤフラム（１、２）は互いに重なった２つのハーフシェル（２０、２１）を備える、請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
前記ガス透過可能な接続部は多孔質材料を含む、請求項１〜８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
前記ガス透過可能な接続部は、前記支持面（３）に接続される接続チャネル（９１〜９３、９５、１０１〜１０３、１０５）を備える、請求項１〜９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
前記接続チャネル（９１〜９３、９５、１０１〜１０３、１０５）は、前記ガラス又は前記ガラスセラミックの搬送方向（１２）に対して垂直にずれて配置される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記ガス供給室（５１〜５５）及び前記ガス排出室（７１〜７５）は、一方向（１８）に沿って細長い形状を有し、該方向（１８）に沿って互いに平行に延びる、請求項１〜１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記ガス透過可能な接続部は、前記支持面（３）に接続されるとともに前記ガス供給室（５１、５２、５３）及び前記ガス排出室（７１、７２、７３）が細長く延びる前記方向（１８）に沿って１列又は複数列で配置される接続チャネル（９１〜９３、９５、１０１〜１０３、１０５）を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記ダイヤフラム（１、２）は、前記ガス供給室（５１〜５５）及び前記ガス排出室（７１〜７５）が細長い形状を有する前記方向（１８）がガラス又はガラスセラミックの搬送方向（１２）に対してほぼ垂直に延びるように配置される、請求項１２又は１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記ダイヤフラム（１、２）は、一方向（１２）に沿って交互に配置される複数のガス供給室（５１〜５５）及び複数のガス排出室（７１〜７５）を有する、請求項１〜１４のいずれかに記載の装置。
【請求項１６】
ガラスセラミック又はガラスを支持するための少なくとも１つの転がり軸受（１４）を有する、請求項１〜１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１７】
前記転がり軸受（１４）は、玉を備える、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記転がり軸受（１４）は、ころを備える、請求項１６又は１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記転がり軸受（１４）はガス支持式である、請求項１６〜１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
前記転がり軸受（１４）は前記支持面（３）に沈み込む、請求項１６〜１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
前記転がり軸受（１４）は、前記ガラス又は前記ガラスセラミック（１１）の浮上高さの最大まで半分だけ前記支持面（３）から突出する、請求項１６〜２０のいずれかに記載の装置。
【請求項２２】
前記ダイヤフラム（１、２）は、湾曲した支持面（３）を有する、請求項１〜２１のいずれかに記載の装置。
【請求項２３】
セラミック化炉を備える、請求項１〜２２のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】
前記ダイヤフラム（１）の第１の縁（２４）において前記少なくとも１つのガス供給室（５１〜５５）に接続される第１のガス分配室（２５）と、該ダイヤフラム（１）の該第１の縁（２４）の反対側の第２の縁（２６）において前記少なくとも１つのガス排出室（７１〜７５）に接続される第２のガス分配室（２７）とを有する、請求項１〜２３のいずれかに記載の装置。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれかに記載の装置（１９）を用いて、ガラスセラミック又はガラス（１１）を搬送及び支持する方法であって、該ガラス又は該ガラスセラミック（１１）は、ダイヤフラム（１、２）の連続した支持面（３）の上で生成されるガスクッション（１３）上に載り、前記ダイヤフラム（１、２）内に配置されガス運搬接続部によって前記支持面（３）に接続される少なくとも１つのガス供給室（５１〜５５）を介して、浮揚ガスが前記ガスクッション（１３）に供給され、該ガスクッション（１３）の浮揚ガスは、前記ダイヤフラム（１、２）内に配置され、ガス運搬接続部によって前記支持面（３）に接続される少なくとも１つのガス排出室（７１〜７５）を介して、再び少なくとも一部が排出され、前記ガス供給室は、底部が少なくとも部分的に閉じられ、前記浮揚ガスは、前記ダイヤフラムにおける下向きのガス透過可能な接続部を通して前記ガス供給室に導入される方法。
【請求項２６】
前記浮揚ガスは、少なくとも１つのガス供給室（５１〜５５）を介して供給され、少なくとも１つのガス排出室（７１〜７５）を介して排出され、前記少なくとも１つのガス供給室（５１〜５５）及び前記少なくとも１つのガス排出室（７１〜７５）はそれぞれ、前記ダイヤフラム内で前記支持面に沿った方向に延びる閉じたチャネルを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記ガス供給室及び前記ガス排出室の下に配置される副室を通して、少なくとも１つのガス透過可能な接続部を介して前記ガス供給室にガスが導入される、請求項２５又は２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記ガス供給室（５１〜５５）及び前記ガス排出室内の前記浮揚ガスは、前記支持面の垂線を横切って、特に該支持面に沿った方向に前記ダイヤフラム内を流れる、請求項２５〜２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
前記浮揚ガスは、前記ガス供給室（５１〜５５）又は前記ガス排出室（７１〜７５）を通って流れるときに、少なくとも０．５ミリバールの圧力低下を伴う、請求項２５〜２８のいずれかに記載の方法。
【請求項３０】
前記ガスクッション上に載っている材料がセラミック化される、請求項２５〜２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
前記ガラスは、まず６５０〜８００℃の範囲の温度Ｔ１まで加熱されてから、０．５〜４時間にわたって該温度で保たれ、８５０〜９５０℃の範囲の温度Ｔ２までさらに加熱されて、約５〜５０分間にわたって該温度Ｔ２で保たれ、その後、室温まで冷却される、請求項２５〜３０のいずれかに記載の方法。
【請求項３２】
前記ダイヤフラム（１、２）からのガス供給及び該ダイヤフラム（１、２）からのガス排出は、該ダイヤフラム（１、２）の両縁（２４、２６）で行われる、請求項２５〜３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
前記ガス供給室（５１〜５５）と前記ガス排出室（７１〜７５）との間で圧力勾配が設定される、請求項２５〜３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
前記ダイヤフラム（１）は湾曲した支持面（３）を有し、前記加熱状態の前記ガラス又は前記ガラスセラミック（１１）は、前記ダイヤフラム（１、２）の前記支持面（３）上で重力沈下によって湾曲させられる、請求項２５〜３３のいずれかに記載の方法。
【請求項３５】
連続したガラス又はガラスセラミックウェブ（１１）が搬送され、該ウェブは、搬送路の少なくとも一部においてガスクッション（１３１、１３２）上に載る、請求項２５〜３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
前記浮揚ガスは、少なくとも一部が再循環させられる、請求項２５〜３５のいずれかに記載の方法。
【請求項３７】
前記ガラス又は前記ガラスセラミック（１１）は、セラミック化中に、前記ガスクッション（１３）上に載ったまま前記支持面（３）の表面に沿った少なくとも一方向に沿って往復移動させられる、請求項２５〜３６のいずれかに記載の方法。
【請求項３８】
前記ガス供給室及び前記ガス排出室は、前記ダイヤフラム（１）内で一方向に沿って交互に配置され、前記ガラス又は前記ガラスセラミックは、前記方向に沿って、少なくとも前記交互の配置の周期と同じ大きさの行程を往復移動させられる、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記ガス供給室及び前記ガス排出室は、前記支持面（３）に通じる接続チャネル（９１〜９３、１０１〜１０３、９５、１０５）を有し、該接続チャネル（９１〜９３、１０１〜１０３、９５、１０５）は、前記ガス供給室及び前記ガス排出室が交互に配置される方向に対して垂直方向にずれて配置され、前記往復移動は、少なくとも該接続チャネル（９１〜９３、１０１〜１０３、９５、１０５）のずれ周期と同じ大きさの行程で行われる、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記浮揚クッションの温度が、前記支持面に沿った方向に、１０℃未満、好ましくは５℃未満の温度勾配で保たれる、請求項２５〜３９のいずれかに記載の方法。
【請求項４１】
前記ガスセラミック（１１）のガスは、前記浮揚クッションによって、前記支持面の上で少なくとも７５０マイクロメートル、好ましくは最大２ミリメートルの高さに保たれる、請求項２５〜４０のいずれかに記載の方法。