(57)【要約】  本発明は、熱耐久性に優れた、位相差層を有する積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することを課題とする。本発明の積層体は、２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光板と、を有する積層体であって、偏光板が、偏光子および位相差層を有し、位相差層が、逆波長分散性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、２枚の基板の一方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材であり、２枚の基板の他方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の厚み１μｍ未満の無機化合物膜、または、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の有機無機ハイブリッド膜である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光板と、を有する積層体であって、
前記偏光板が、偏光子および位相差層を有し、
前記位相差層が、逆波長分散性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
前記２枚の基板の一方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材であり、
前記２枚の基板の他方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の厚み１μｍ未満の無機化合物膜、または、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の有機無機ハイブリッド膜である、積層体。
【請求項２】
前記偏光子が、ポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記逆波長分散性液晶化合物が、一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物である、請求項１または２に記載の積層体。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      ・・・（ＩＩ）
前記一般式（ＩＩ）中、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−または−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、または、−ＮＨ−で置換されていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、一般式（ＩＩ−１）、一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−３）または一般式（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【化１】
2020031784.tif 000045
前記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または−ＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３または−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表し、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子を表し、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。＊は、結合位置を表す。
【請求項４】
前記偏光子の厚みが１０μｍ未満である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
前記位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、前記位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、前記位相差層の波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たす、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項６】
前記位相差層がポジティブＡプレートである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項７】
前記位相差層がλ／４板である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項８】
さらに、前記偏光子の少なくとも一方の表面上に偏光子保護フィルムを有し、
前記偏光子保護フィルムの少なくとも１つが熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体を有する、液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体を有する、有機電界発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、位相差層と偏光子とを有する偏光板が、光学補償および反射防止等を目的として、液晶表示装置や有機電界発光装置等に用いられている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められており、特に、偏光板が適用される装置の薄型化の要求から、偏光板に含まれる位相差層についても薄型化が求められている。
上記の要求に対して、例えば特許文献１および２においては、位相差層の形成に使用する液晶化合物として、逆波長分散性を示す液晶化合物の利用が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０１０３２５号
【特許文献２】特開２０１１−２０７７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１および２に記載されている逆波長分散性の液晶化合物を用いて形成された位相差層を有する偏光板を作製し、実用上の態様（例えば、有機電界発光方式のスマホの反射防止を目的とした円偏光板）に合わせてこの偏光板を両側からガラスに挟みこみ、高温下の条件に長時間曝した場合、積層体の面内の中央部に赤みムラが生じることが分かった。解析の結果、赤み領域において、面内レターデーション（Ｒｅ）が大きく変動しており、色味変化を生じていることが明らかとなった。そのため、高温下に長時間曝した場合でも、面内レターデーションの変化が抑制された、偏光子および位相差層を有する積層体の開発が望まれていた。以後、積層体を高温下に曝した際に面内レターデーションの変化が抑制されることを、熱耐久性に優れると表現する。【０００５】
そこで、本発明は、熱耐久性に優れた、位相差層を有する積層体を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。【０００７】
（１）  ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光板と、を有する積層体であって、
偏光板が、偏光子および位相差層を有し、
位相差層が、逆波長分散性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
２枚の基板の一方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材であり、
２枚の基板の他方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の厚み１μｍ未満の無機化合物膜、または、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の有機無機ハイブリッド膜である、積層体。
（２）  偏光子が、ポリビニルアルコール系樹脂を含む、（１）に記載の積層体。
（３）  逆波長分散性液晶化合物が、後述する一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物である、（１）または（２）に記載の積層体。
（４）  偏光子の厚みが１０μｍ未満である、（１）〜（３）のいずれかに記載の積層体。
（５）  位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、位相差層の波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たす、（１）〜（４）のいずれかに記載の積層体。
（６）  位相差層がポジティブＡプレートである、（１）〜（５）のいずれかに記載の積層体。
（７）  位相差層がλ／４板である、（１）〜（６）のいずれかに記載の積層体。
（８）  さらに、偏光子の少なくとも一方の表面上に偏光子保護フィルムを有し、
偏光子保護フィルムの少なくとも１つが熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含む、（１）〜（７）のいずれかに記載の積層体。
（９）  （１）〜（８）のいずれかに記載の積層体を有する、液晶表示装置。
（１０）  （１）〜（８）のいずれかに記載の積層体を有する、有機電界発光装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、熱耐久性に優れた、位相差層を有する積層体を提供できる。
また、本発明によれば、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明の積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｂ】本発明の積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｃ】本発明の積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｄ】本発明の積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本発明の積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置について説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、角度について「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、角度について「同一」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
また、本明細書では、「可視光」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１１】
＜含水量＞
本明細書において、「含水量」とは、切り出された試料の初期質量、および１２０℃で２時間乾燥後の乾燥質量の変化量を単位面積当たりに換算した質量を意味する。
【００１２】
＜遅相軸＞
本明細書において、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。なお、位相差層の遅相軸という場合は、位相差層全体の遅相軸を意図する。
【００１３】
＜傾斜角＞
本明細書において、「傾斜角」（チルト角とも称する）とは、傾斜した液晶化合物が層平面となす角度を意味し、液晶化合物の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向が層平面となす角度のうち、最大の角度を意味する。したがって、正の光学的異方性を持つ棒状液晶化合物では、チルト角は棒状液晶化合物の長軸方向すなわちダイレクター方向と層平面とのなす角度を意味する。また、本発明において、「平均チルト角」とは、位相差層の上界面でのチルト角から下界面までの傾斜角の平均値を意味する。
【００１４】
＜Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）＞
面内レターデーション（Ｒｅ（λ））および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（λ））の値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１にて、平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【００１５】
図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｃおよび図１Ｄに、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図を示す。ここで、図１Ａに示す積層体１０は、ガラス基材１７Ａ、偏光子保護フィルム１１、ポリビニルアルコール偏光子１２、偏光子保護フィルム１３、ポジＡ位相差層１４およびガラス基材１７Ｂをこの順に有する層構成の積層体である。
また、図１Ｂに示す積層体２０は、ガラス基材１７Ａ、偏光子保護フィルム１１、ポリビニルアルコール偏光子１２、偏光子保護フィルム１３、ポジＡ位相差層１４、ポジＣ位相差層１５およびガラス基材１７Ｂをこの順に有する層構成の積層体である。
また、図１Ｃに示す積層体３０は、ガラス基材１７Ａ、偏光子保護フィルム１１、ポリビニルアルコール偏光子１２、ポジＡ位相差層１４、ポジＣ位相差層１５およびガラス基材１７Ｂをこの順に有する層構成の積層体である。
また、図１Ｄに示す積層体４０は、ガラス基材１７Ａ、偏光子保護フィルム１１、ポリビニルアルコール偏光子１２、偏光子保護フィルム１３、光配向膜１６、ポジＡ位相差層１４、ポジＣ位相差層１５およびガラス基材１７Ｂをこの順に有する層構成の積層体である。
上記のように本発明の積層体は、２枚の基板に該当する２枚のガラス基材によって、偏光子と位相差層とを含む偏光板が挟まれる形態をとっている。
なお、ポリビニルアルコール偏光子とは、ポリビニルアルコール系樹脂を主成分として含む偏光子を意味する。
また、ポジＡ位相差層とは、ポジティブＡプレートである位相差層を意味する。また、ポジＣ位相差層とは、ポジティブＣプレートである位相差層を意味する。
また、図１Ａ〜図１Ｄ中におけるガラス基材はＮａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材を意味する。
また、上記図１Ａ〜図１Ｄにおいては２枚のガラス基材を使用する態様について述べたが、この態様には限定されず、各図中の２枚のガラス基材のうち、一方は透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の厚み１μｍ未満の無機化合物膜、または、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の有機無機ハイブリッド膜であってもよい。
上記図１Ａ〜図１Ｄにおいて、膜と膜との貼合に粘着剤または接着剤を用いることも好ましいが、粘着剤と接着剤の記載は省略している。
以下、各部材について詳述する。
【００１６】
＜ガラス基材＞
本発明の積層体は、２枚の基板のうち少なくとも一方は、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材（以下、「特定ガラス基材」ともいう。）である。より具体的には、偏光板を挟む２枚の基板のうち一方は特定ガラス基材であり、他方も特定ガラス基材であってもよい。
上記特定ガラス基材は、ガラス基材全質量に対するＮａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材である。言い換えると、特定ガラス基材は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎａ２Ｏの含有量が５質量％以下のガラス基材である。
特定ガラス基材において、Ｎａ２Ｏの含有量は５質量％以下であればよく、本発明の積層体の熱耐久性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう）で、４質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０質量％が挙げられる。
【００１７】
特定ガラス基材は、Ｎａ２Ｏ以外の他の成分を含んでいてもよい。特定ガラス基材は、ＳｉＯ２を含むことが好ましい。特定ガラス基材において、ＳｉＯ２は主成分であることが好ましい。ここで、主成分とは最も含有量が多い成分を意味する。また、特定ガラス基材中におけるＳｉＯ２の含有量（特定ガラス基材全質量に対するＳｉＯ２の含有量）は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、酸化物基準の質量％表示で、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７５質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、９５質量％以下の場合が多い。
【００１８】
特定ガラス基材はＮａ２ＯおよびＳｉＯ２以外の成分を含んでいてもよく、例えば、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｋ２Ｏ、および、Ｆｅ２Ｏ３等のＮａおよびＳｉ以外の他の原子の酸化物が挙げられる。
なお、特定ガラス基材において、特定ガラス基材全質量に対するＮａ２Ｏ３およびＳｉＯ２以外の他の成分（他の原子の酸化物）の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０質量％以下が好ましい。下限は特に制限されないが、０質量％以上が挙げられる。
つまり、特定ガラス基材における、Ｎａ２ＯおよびＳｉＯ２の合計含有量は、酸化物基準の質量％表示で、８０質量％以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％が挙げられる。
【００１９】
なお、工業用に大量に生産されておりコスト的にメリットがあるソーダ石灰ガラスの主成分は、ＳｉＯ２（含有量：６５〜７５質量％）、Ｎａ２Ｏ（含有量：１０〜２０質量％）、ＣａＯ（含有量：５〜１５質量％）であり、特定ガラス基材よりも多くのＮａ２Ｏを含んでいる。
ソーダ石灰ガラスよりもＮａ２Ｏ含有量の少ないガラス基材として、ホウケイ酸ガラスが挙げられる。ホウケイ酸ガラスの代表的な組成としては、ガラス全質量に対して、ＳｉＯ２の含有量が６８〜８２質量％、Ｂ２Ｏ３の含有量が７〜１４質量％、Ｎａ２Ｏの含有量が３〜５質量％、Ｋ２Ｏの含有量が０〜３質量％である。上記ホウケイ酸ガラスの一例として、コーニング社製ＰＩＲＥＸがある。
【００２０】
特定ガラス基材の厚みは特に制限されないが、１μｍ以上が好ましく、１〜２０００μｍがより好ましく、５００〜１５００μｍが更に好ましい。
【００２１】
＜透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の厚み１μｍ未満の無機化合物膜、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の有機無機ハイブリッド膜＞
本発明の積層体において、偏光板を挟む２枚の基板のうち一方は透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の厚み１μｍ未満の無機化合物膜、および、透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の有機無機ハイブリッド膜のいずれか一方（以下、単に「低透湿度基板」ともいう。）であってもよい。
低透湿度基板の透湿度（厚み１μｍ未満の無機化合物膜の透湿度、および、有機無機ハイブリッド膜の透湿度）は、１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。なかでも、積層体が適用される有機電界発光装置および液晶表示装置等の耐久性の点で、１０−４ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下が好ましく、１０−５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０−１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上の場合が多い。
低透湿度基板の透湿度の測定方法は、以下の通りである。測定温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用いて測定する。
【００２２】
厚み１μｍ未満の無機化合物膜の形成方法は、目的の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
【００２３】
無機化合物膜に含まれる成分は、低透湿機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、およびＴａ等から選ばれる１種以上の元素の酸化物、窒化物または酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＴｉから選ばれる元素の酸化物、窒化物または酸化窒化物が好ましく、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｎおよびＴｉから選ばれる元素の酸化物、窒化物または酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
また、特開２０１６−４０１２０号公報や特開２０１６−１５５２５５号公報に記載されているような、アルミニウム化合物とリン化合物の反応生成物からなる膜も好ましい。
【００２４】
有機無機ハイブリッド膜としては、例えば、米国特許第６４１３６４５号公報、特開２０１５−２２６９９５号公報、特開２０１３−２０２９７１号公報、特開２００３−３３５８８０号公報、特公昭５３−０１２９５３号公報、および、特開昭５８−２１７３４４号公報に記載されているように、有機素材を含む層と無機化合物層の積層した形態であってもよいし、国際公開２０１１／０１１８３６号公報、特開２０１３−２４８８３２号公報、おおび、特許第３８５５００４号公報に記載されているように、有機化合物と無機化合物とをハイブリッドした層であってもよい。
【００２５】
上記無機化合物膜の厚みは１μｍ未満であり、５〜５００ｎｍが好ましく、１０〜２００ｎｍがより好ましい。
上記有機無機ハイブリッド膜の厚みは、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５．５μｍがより好ましい。
【００２６】
低透湿度基板は、透明であることが好ましく、いわゆる透明基板であることが好ましい。
なお、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％未満の場合が多い。
【００２７】
＜位相差層＞
積層体は、位相差層を有する。本発明に用いられる位相差層は、逆波長分散性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層である。
以下では、まず、位相差層の形成に用いられる組成物中の成分について詳述し、その後、位相差層の製造方法および特性について詳述する。
なお、本明細書において逆波長分散性液晶化合物とは、逆波長分散性液晶化合物を用いて作製された位相差層の特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいい、後述するようにＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たすものをいう。
【００２８】
液晶化合物は水による分解を受けやすく、液晶化合物の中でも逆波長分散性液晶化合物を使用した場合において、この問題が顕著になる傾向にある。
具体的には、発明者らは、逆波長分散性液晶化合物を用いて作製した位相差層を高温条件下に曝した場合、一定の誘導期間を経て、位相差層中の逆波長分散性液晶化合物由来の構造の分解が急激に起こり、面内のレターデーション値の変動が大きくなることを知見している。この理由は、以下の現象によるものと推測される。
すなわち、逆波長分散性液晶化合物を逆波長分散性にするための一つの方法として、電子求引性の性質を持たせることがある。これにより逆波長分散性液晶化合物を構成する炭素原子のプラスの分極が大きくなり、求核種（水と推定）の攻撃を受けやすくなるものと推測される。
【００２９】
本発明の課題である高温環境におけるＲｅ変化は偏光板がガラス基材等の所定の基板に挟み込まれているために、水分の供給源は元々偏光板（例えば、偏光子のポリビニルアルコール系樹脂）に含まれている微量の水分が原因と考えられる。なお、加水分解反応が生じているのは逆波長分散性液晶化合物を用いて形成された位相差層であるが、疎水的な環境であるため反応因子の水分が少なく、加水分解反応の律速は供給される水分量と考えられる。
偏光板の端部においては、加水分解反応が生じる前に供給源の水分が面内方向へ拡散して、水分が積層体の端面から積層体外に拡散して消費されることで位相差層に供給される水分量も減少して加水分解反応が生じないのに対して、偏光板の中央部においては、供給源の水分が面内方向へ拡散するより早くに加水分解反応が生じて面内レターデーション値の変動をもたらしていると推測される。
Ｎａ２Ｏ含量の多いガラス基材を用いる場合は、ガラス基材から溶出したＮａイオンが逆波長分散性液晶化合物の加水分解反応を促進しているのではないかと推測している。
本発明では、上記Ｎａ２Ｏ含有量が所定値より少ないガラス基材を用いることにより、上記加水分解反応の促進が抑制され、結果として所望の効果を示す積層体が得られたと推測される。
【００３０】
（組成物）
本発明の位相差層の形成に用いられる組成物（以後、単に「組成物」ともいう。）は、逆波長分散性液晶化合物を含む。
【００３１】
また、逆波長分散性液晶化合物は重合性基を有することが好ましい。
重合性基の種類は特に制限されず、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基が挙げられる。
【００３２】
逆波長分散性液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物）に分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。
これらの中でも、棒状液晶化合物を用いることが好ましい。棒状液晶化合物をホモジニアス（水平）配向させることで、形成される位相差フィルムをポジティブＡプレートとして機能させることが容易になるという利点があるためである、
【００３３】
逆波長分散性液晶化合物は、上記のように逆波長分散性の位相差層を形成できるものであれば特に限定されず、例えば、特開２００８−２９７２１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（特に、段落［００３４］〜［００３９］に記載の化合物）、特開２０１０−８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落［００６７］〜［００７３］に記載の化合物）、後述する一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物が挙げられる。
【００３４】
逆波長分散性液晶化合物としては、逆波長分散性により優れるという点から、一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物が好ましい。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      ・・・（ＩＩ）
【００３５】
一般式（ＩＩ）中、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−または−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ１、複数のＲ２、複数のＲ３および複数のＲ４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、または、−ＮＨ−で置換されていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、下記一般式（ＩＩ−１）、一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−３）または一般式（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、＊は結合位置を表す。
【００３６】
【化１】
2020031784.tif 000002
【００３７】
上記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ１１−を表し、
Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し（なお、上記芳香族炭化水素基および上記芳香族複素環基は置換基を有していてもよい）、
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３または−ＳＲ１２を表し、
Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表し、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子（好ましくは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ(Ｒ’)Ｒ’が挙げられる（ここでＲ’は置換基を表す。Ｒ’で表される置換基としては、例えば、シアノ基、−ＣＯ２Ｒ（Ｒはアルキル基を表す。）が挙げられる。））を表し、
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、好ましくは、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基が挙げられ、
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、この有機基の好適態様は、上記Ａｘの有機基の好適態様と同じであり、
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、上記で例示される各基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、またはこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
【００３８】
一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開２０１２−０２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＤ１、Ｄ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｘ１、Ｙ１、Ｑ１、Ｑ２に関する記載をそれぞれＤ１、Ｄ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｑ１、Ｙ１、Ｚ１、およびＺ２について参照でき、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ１、Ａ２、およびＸに関する記載をそれぞれＡ１、Ａ２、およびＸについて参照でき、国際公開第２０１３／０１８５２６号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ１に関する記載をそれぞれＡｘ、Ａｙ、Ｑ２について参照できる。Ｚ３については特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ１の記載を参照できる。
【００３９】
特に、Ｌ１、Ｌ２で示される有機基としては、それぞれ、−Ｄ３−Ｇ３−Ｓｐ−Ｐ３で表される基であることが好ましい。
Ｄ３は、Ｄ１と同義である。
Ｇ３は、単結合、炭素数６〜１２の２価の芳香環基もしくは複素環基、または炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ７−で置換されていてもよく、ここでＲ７は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｓｐは、単結合、−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、または、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−で表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２〜１２の整数を表し、ｍは２〜６の整数を表し、Ｒ８は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。また、上記各基における−ＣＨ２−の水素原子は、メチル基で置換されていてもよい。
Ｐ３は重合性基を示す。
【００４０】
重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点から、アクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性が挙げられ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
【００４１】
【化２】
2020031784.tif 000003
【００４２】
なお、本明細書において、「アルキル基」は、直鎖状、分枝鎖状および環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられる。
【００４３】
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、一般式（ＩＩＩ）中のＡｒが一般式（ＩＩ−１）で表される２価の芳香環基である態様、または、一般式（ＩＩＩ）中のＡｒが一般式（ＩＩ−３）で表される２価の芳香環基であり、かつ、Ｄ１およびＤ２の少なくとも一方が−ＣＯ−Ｏ−以外の基（例えば、単結合、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−または−ＣＯ−ＮＲ１−）である態様が好ましい。
【００４４】
一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されるものではない。
【００４５】
【化３】
2020031784.tif 000004
【００４６】
【化４】
2020031784.tif 000005
【００４７】
【化５】
2020031784.tif 000006
【００４８】
なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。
【００４９】
ＩＩ−２−８
【化６】
2020031784.tif 000007
【００５０】
ＩＩ−２−９
【化７】
2020031784.tif 000008
【００５１】
なお、上記式ＩＩ−２−８およびＩＩ−２−９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【００５２】
【化８】
2020031784.tif 000009
【００５３】
【化９】
2020031784.tif 000010
【００５４】
【化１０】
2020031784.tif 000011
【００５５】
【化１１】
2020031784.tif 000012
【００５６】
【化１２】
2020031784.tif 000013
【００５７】
【化１３】
2020031784.tif 000014
【００５８】
【化１４】
2020031784.tif 000015
2020031784.tif 000016
2020031784.tif 000017
2020031784.tif 000018
【００５９】
【化１５】
2020031784.tif 000019
2020031784.tif 000020
2020031784.tif 000021
2020031784.tif 000022
2020031784.tif 000023
【００６０】
組成物中における逆波長分散性液晶化合物（例えば、一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物）の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、６０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましく、７０〜９０質量％がさらに好ましい。７０質量％以上であることで、逆波長分散性により優れる。
固形分とは、組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。
【００６１】
組成物は、逆波長分散性液晶化合物以外に重合性棒状化合物を含んでいてもよい。この重合性棒状化合物は液晶性の有無を問わない。重合性棒状化合物の添加により、逆波長分散性液晶化合物の液晶配向性を制御できる。
重合性棒状化合物は逆波長分散性液晶化合物と混合して重合性組成物として扱うため、逆波長分散性液晶化合物と相溶性が高いものが好ましい。
組成物中における重合性棒状化合物の含有量は、逆波長分散性液晶化合物全質量に対して、０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。
【００６２】
重合性棒状化合物としては、直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環を一部に有する化合物が好ましい。
ここで、「直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環」とは、例えば、下記一般式（２）に示すように、シクロヘキサン環を２つ有する場合には、分子末端側に存在するシクロヘキサン環の水素原子が直鎖状のアルキル基で１個置換されたシクロヘキサン環をいう。
【００６３】
重合性棒状化合物としては、例えば、下記一般式（２）で表される構造を有する化合物が挙げられ、なかでも、本発明の効果がより優れる点で、（メタ）アクリロイル基を有する下記一般式（３）で表される化合物であるのが好ましい。
【００６４】
【化１６】
2020031784.tif 000024
【００６５】
ここで、上記一般式（２）中、＊は結合位置を表す。
また、上記一般式（２）および（３）中、Ｒ２は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｎは１または２を表し、Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、また、Ｗ１およびＷ２はこれらが互いに結合し、置換基を有していてもよい環構造を形成していてもよい。
また、上記式（３）中、Ｚは−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を表し、Ｌは炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。
【００６６】
このような化合物としては、例えば、下記式Ａ−１〜Ａ−５で表される化合物が挙げられる。なお、下記式Ａ−３中、Ｒ４は、エチル基またはブチル基を表す。
【００６７】
【化１７】
2020031784.tif 000025
【００６８】
組成物は、上記の逆波長分散性液晶化合物以外の他の重合性液晶化合物を含んでいてもよい。
重合性液晶化合物が有する重合性基は特に限定されず、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００６９】
本発明の効果がより優れる点から、他の重合性液晶化合物としては、重合性基を２〜４個有する重合性液晶化合物が好ましく、重合性基を２個有する重合性液晶化合物がより好ましい。
【００７０】
このような重合性液晶化合物としては、例えば、特開２０１４−０７７０６８号公報の段落［００３０］〜［００３３］に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）で表される化合物が挙げられ、より具体的には、同公報の段落［００４６］〜［００５５］に記載された具体例が挙げられる。
重合性液晶化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【００７１】
組成物が他の重合性液晶化合物を含む場合の他の重合性液晶化合物の含有量は特に限定されないが、上述した逆波長分散性液晶化合物および上記他の重合性液晶化合物の合計１００質量部に対して、０〜４０質量部が好ましく、０〜１０質量部がより好ましい。
【００７２】
組成物は、本発明の効果がより優れる点で、非液晶性の多官能重合性化合物を含んでいてもよい。これは、架橋点密度が増えることにより、加水分解反応の触媒となる化合物の動きが抑制された結果、加水分解反応の速度が遅くなり、その間に水分の積層体の端部への拡散が進行するためと推定している。
一方で、非液晶性の多官能重合性化合物は液晶配向の乱れをもたらす可能性があるため、アクリル当量が低い化合物が好ましい。アクリル当量としては１２０以下が好ましく、１００以下がより好ましく、９０以下がさらに好ましい。ここで、アクリル当量とは、分子量をアクリル官能基の数で割ったものである。
【００７３】
非液晶性の多官能重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
ただし、非液晶性の多官能重合性化合物の含有量が増えることによって位相差層の位相差の発現性が希釈されるため、非液晶性の多官能重合性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％がさらに好ましく、または、１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％がより好ましく、１〜５質量％がさらに好ましい。
【００７４】
（重合開始剤）
組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、並びに、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−０４０７９９号公報、特公平５−０２９２３４号公報、特開平１０−０９５７８８号公報、特開平１０−０２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
【００７５】
本発明の効果がより優れる点で、重合開始剤はオキシム型の重合開始剤であるのが好ましく、下記一般式（ＩＩＩ）で表される重合開始剤であるのがより好ましい。
【００７６】
【化１８】
2020031784.tif 000026
【００７７】
ここで、上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｘは、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは、１価の有機基を表す。
また、Ａｒ３は、２価の芳香族基を表し、Ｌ６は、炭素数１〜１２の２価の有機基を表し、Ｒ１０は、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
【００７８】
上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｘが示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
また、上記一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ３が示す２価の芳香族基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、および、フェナンスロリン環等の芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、および、ベンゾチアゾール環等の芳香族複素環；を有する２価の基等が挙げられる。
また、上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ６が示す炭素数１〜１２の２価の有機基としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖状または分岐状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、および、プロピレン基が挙げられる。
また、上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ１０が示す炭素数１〜１２のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、および、プロピル基等が挙げられる。
また、上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｙが示す１価の有機基としては、例えば、ベンゾフェノン骨格（（Ｃ６Ｈ５）２ＣＯ）を含む官能基が挙げられる。具体的には、下記一般式（３ａ）および下記一般式（３ｂ）で表される基のように、末端のベンゼン環が無置換または１置換であるベンゾフェノン骨格を含む官能基が好ましい。
【００７９】
【化１９】
2020031784.tif 000027
【００８０】
ここで、上記一般式式（３ａ）および上記一般式式（３ｂ）中、＊は結合位置、すなわち、上記式（ＩＩＩ）におけるカルボニル基の炭素原子との結合位置を表す。
【００８１】
上記一般式（ＩＩＩ）で表されるオキシム型の重合開始剤としては、例えば、下記式Ｓ−１で表される化合物、および、下記式Ｓ−２で表される化合物が挙げられる。
【００８２】
【化２０】
2020031784.tif 000028
【００８３】
上記重合開始剤の含有量は特に限定されないが、重合開始剤の含有量は、組成物に含まれる逆波長分散性液晶化合物１００質量部に対して、０．５〜１０質量部が好ましく、１〜５質量部がより好ましい。
【００８４】
（配向制御剤）
組成物は、配向制御剤を含んでいてもよい。配向制御剤を用いることにより、例えば、液晶化合物を層の表面と並行に配向したホモジニアス配向状態とすることができる。
配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤、または、高分子の配向制御剤を用いることができる。低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２−０２０３６３号公報の段落［０００９］〜［００８３］、特開２００６−１０６６６２号公報の段落［０１１１］〜［０１２０］、および、特開２０１２−２１１３０６公報の段落［００２１］−［００２９］の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４−１９８５１１号公報の段落［００２１］〜［００５７］の記載、および、特開２００６−１０６６６２号公報の段落［０１２１］〜［０１６７］を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
配向制御剤の含有量は特に制限されないが、配向制御剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。
【００８５】
（溶媒）
組成物は、位相差層を形成する作業性等の点から、溶媒を含むのが好ましい。溶媒としては、水、および、有機溶媒が挙げられる。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド等）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８６】
（その他の成分）
組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよく、例えば、上記以外の液晶化合物、レベリング剤、界面活性剤、チルト各制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤が挙げられる。
【００８７】
（位相差層の製造方法）
本発明に用いられる位相差層の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、所定の基板（例えば、後述する支持体層）に、上記組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）を施すことにより、位相差層を製造できる。なお、必要に応じて、後述する配向膜を用いてもよい。
上記組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法）により実施できる。
【００８８】
上記位相差層の製造方法において、上記塗膜に対する硬化処理を行う前に、上記塗膜に含まれる逆波長分散性液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。これにより、得られる位相差層を後述するポジティブＡプレートにすることが容易になる。
配向処理は、室温（例えば、２０〜２５℃）等で乾燥させる、または、加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
例えば、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが一般的である。したがって、逆波長分散性液晶化合物がスメクチック相を発現する場合には、ネマチック相が発現する温度領域まで逆波長分散性液晶化合物を加熱し、次に、逆波長分散性液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで加熱温度を低下させることにより、逆波長分散性液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法によって、逆波長分散性液晶化合物が高秩序度で配向したポジティブＡプレートを得ることができる。
配向処理が加熱温度である場合、加熱時間（加熱熟成時間）は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間がより好ましく、１０秒間〜２分間がさらに好ましい。
【００８９】
上述した、塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）は、逆波長分散性液晶化合物の配向を固定するための固定化処理ということもできる。
固定化処理は、活性エネルギー線（好ましくは紫外線）の照射により行われることが好ましく、逆波長分散性液晶化合物の重合により液晶が固定化される。
【００９０】
（位相差層の特性）
位相差層は、上述した組成物を用いて形成された層である。
位相差層の光学特性は特に制限されないが、λ／４板として機能することが好ましい。
λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（光学異方性層）のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。
【００９１】
位相差層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（４５０）と、位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（５５０）と、位相差層の波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションのであるＲｅ（６５０）とは、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にあることが好ましい。すなわち、この関係は、逆波長分散性を表す関係といえる。
各波長における面内レターデーション値の測定方法は、上述した通りである。
なお、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）の範囲は特に制限されないが、１．０５〜１．２５が好ましく、１．１０〜１．２３がより好ましい。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）の範囲は特に制限されないが、１．０１〜１．２５が好ましく、１．０１〜１．１０がより好ましい。
【００９２】
位相差層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよく、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
【００９３】
位相差層は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。複層構造である場合、Ａプレート（例えば、ポジティブＡプレート）とＣプレート（例えば、ポジティブＣプレート）との積層であってもよい。
【００９４】
なお、本明細書において、ポジティブＡプレートは以下のように定義する。ポジティブＡプレート（正のＡプレート）は、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ａ１）    ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれる。
【００９５】
ポジティブＡプレートを得るには、上記組成物のような棒状の重合性液晶化合物を水平配向させることにより得ることができる。ポジティブＡプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２００８−２２５２８１号公報および特開２００８−０２６７３０号公報等の記載を参酌できる。
【００９６】
また、本明細書において、ポジティブＣプレートは以下のように定義する。ポジティブＣプレート（正のＣプレート）は、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ２）    ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
また、ポジティブＣプレートでは、上記の定義より、Ｒｅ≒０となる。
【００９７】
ポジティブＣプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７−１８７７３２号公報や特開２０１６−０５３７０９号公報、および、特開２０１５−２００８６１号公報等の記載を参酌できる。
【００９８】
また、位相差層の厚みは特に制限されないが、１〜５μｍが好ましく、１〜４μｍがより好ましく、１〜３μｍがさらに好ましい。
【００９９】
なお、積層体中において偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸との関係は特に制限されない。
積層体を反射防止用途に適用する場合、位相差層がλ／４板で、かつ、偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸とのなす角度は４５±１０°の範囲（３５〜５５°）が好ましい。
また、積層体をＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）液晶の斜め視野角の光学補償用途に適用する場合、位相差層がλ／４板のポジティブＡプレートとポジティブＣプレートとの複層構造であり、かつ、偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸とのなす角度は０±１０°の範囲（−１０〜１０°）または９０±１０°の範囲（８０〜１００°）が好ましい。
【０１００】
＜偏光子＞
本発明に積層体は、偏光子を有する。
用いられる偏光子（偏光膜）は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子である。偏光子としては、特に限定されないが、吸収型偏光子を利用することができる。
偏光子の種類は特に制限されず、公知の偏光子を用いることができ、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子が挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂は、−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−という繰り返し単位を含む樹脂であり、例えば、ポリビニルアルコール、および、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。
酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、および、アンモニウム基を有するアクリルアミド類が挙げられる。
【０１０１】
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は特に制限されないが、８５〜１００モル％が好ましく、９５．０〜９９．９５モル％がより好ましい。ケン化度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は特に制限されないが、１００〜１００００が好ましく、１５００〜８０００がより好ましい。平均重合度は、ケン化度と同様に、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
【０１０２】
偏光子中におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は特に制限されないが、偏光子中においてポリビニルアルコール系樹脂が主成分として含まれることが好ましい。主成分とは、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量が、偏光子全質量に対して、５０質量％以上であることを意味する。ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、偏光子全質量に対して、９０質量％以上が好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９質量％以下の場合が多い。
【０１０３】
偏光子は、二色性物質をさらに含むことが好ましい。二色性物質としては、ヨウ素または有機染料（二色性有機染料）が挙げられる。つまり、偏光子は、主成分としてポリビニルアルコールを含み、かつ、二色性物質を含むことが好ましい。
【０１０４】
上記偏光子の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられ、ポリビニルアルコールを含む基板に二色性物質を吸着させ、延伸する方法が挙げられる。
【０１０５】
なお、上述したポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子以外の他の偏光子としては、ＷＯ２０１７−１９５８３３号公報および特開２０１７−０８３８４３号公報に記載されているように、液晶化合物と二色性アゾ色素（例えば、ＷＯ２０１７−１９５８３３号公報に記載の光吸収性異方性膜に用いられる二色性アゾ色素）を用い、塗布等により作製した塗布型偏光子が挙げられる。
【０１０６】
偏光子の厚みは特に制限されないが、１〜２０μｍが好ましく、１〜１５μｍがより好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましく、１〜５μｍが特に好ましい。偏光子厚みを薄くすることで、表示装置の薄型化できるだけでなく、含水量をより下げることが可能となり、熱耐久性をさらに向上することが可能となる。偏光子の厚みとしては、上記特性がより優れる点から、１０μｍ未満が好ましい。
【０１０７】
＜その他の層＞
本発明の積層体は、上述した基板、位相差層、および、偏光子以外の他の部材を有していていもよい。
なお、積層体に含まれる偏光板は、上記位相差層と偏光子とを含む。また、後述するように、偏光板は、偏光子保護フィルムを含んでいてもよい。
上記偏光板の含水量は特に制限されないが、３ｇ／ｍ２以下が好ましく、２．３ｇ／ｍ２以下がより好ましく、１．５ｇ／ｍ２以下がさらに好ましく、０．８ｇ／ｍ２以下が最も好ましい。
【０１０８】
（支持体層）
積層体は、位相差層を支持するための支持体層を有していてもよい。
支持体層は、透明であるのが好ましく、具体的には光透過率が８０％以上であるのが好ましい。このような支持体としては、ポリマーフィルムが挙げられる。
支持体層の厚みは特に限定されないが、５〜８０μｍが好ましく、１０〜４０μｍがより好ましい。
【０１０９】
（配向膜）
積層体は、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向膜（配向層）を有していてもよい。
配向膜は、上記位相差層の一方の面に設けられる膜（層）であり、位相差層が上記支持体層を含む場合には、上記支持体層と上記位相差層との間に位置する。
【０１１０】
位相差層の一態様であるポジティブＡプレートを形成するためには、液晶化合物の分子を所望の配向状態にするための技術が用いられ、例えば、配向膜を利用して、液晶化合物を所望の方向に配向させる技術が一般的である。
配向膜としては、ポリマー等の有機化合物を含む層のラビング処理膜、無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、および、ω−トリコサン酸やジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、および、ステアリル酸メチルの如き有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett）膜を累積させた膜等が挙げられる。さらに光の照射で配向機能が生じる配向膜等も挙げられる。
【０１１１】
配向膜としては、ポリマー等の有機化合物を含む層（ポリマー層）の表面をラビング処理して形成されたものが好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙または布で一定方向（好ましくは支持体の長手方向）に数回こすることにより実施される。配向膜の形成に使用するポリマーとしては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール、および、特開平９−１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマーが挙げられる。
配向膜の厚さは特に限定されないが、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜２μｍがより好ましい。
【０１１２】
配向膜として、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向膜とした、いわゆる光配向膜（光配向層）を用いることも好ましい。光配向膜には、垂直方向または斜め方向から偏光照射する工程、または、斜め方向から非偏光照射する工程により配向規制力を付与することが好ましい。
光配向膜を利用することで、液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成されたポジティブＡプレートは、特にＩＰＳ（In-Place-Switching）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要無い液晶表示装置における光学補償に有用である。
【０１１３】
光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−０７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−０９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、国際公開第２０１０/１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−０１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、および、クマリン化合物が挙げられる。特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、および、カルコン化合物が挙げられる。
【０１１４】
なお、上述した支持体層および配向膜は、それぞれの機能を果たす層として別々に設けられていてもよいし、単一の層として両方の機能を備えるものであってもよい。
【０１１５】
（偏光子保護フィルム）
積層体は、偏光子保護フィルムをさらに有していてもよい。つまり、偏光子の少なくとも一方の表面上には、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。偏光子保護フィルムは、偏光子の片面上（位相差層側とは反対側の表面上）にのみ配置されていてもよいし、偏光子の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体またはハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用でき、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、および、ポリスチレン系樹脂が挙げられる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂およびポリスチレン系樹脂等の含水しにくい樹脂は、偏光板のトータル含水量を抑制するためには好ましく、熱可塑性ノルボルネン系樹脂がより好ましい。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、偏光板の厚みを薄くできる点から、４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。
【０１１６】
積層体は、各層の間の密着性担保のために、各層の間に粘接着層または接着層を有していていもよい。
また、積層体は、各層の間に透明支持体を有していてもよい。
積層体は、上述した一般式（Ｉ）で表される液晶化合物を含む組成物を用いて形成される位相差層以外の他の位相差層を有していてもよい。
他の位相差層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよい。
なお、逆波長分散性液晶化合物を含む組成物を用いて形成される位相差層および他の位相差層の合計厚みは、部材の薄型化の点から、１００μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。また、製造適性の点から、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、１５μｍ以上がさらに好ましい。
【０１１７】
＜積層体の製造方法＞
上記積層体の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
まず、所定の支持体上に形成された位相差層を偏光子に貼り合せた後、支持体を剥離して、位相差層と偏光子とを含む偏光板を製造して、２枚の基板で挟み、積層体を製造する方法が挙げられる。
なお、偏光板を製造する際には、偏光子上に直接位相差層を形成してもよい。
【０１１８】
なお、偏光板の製造の際は、例えば、偏光子とポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートとが、それぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含むことが好ましい。長尺の偏光板は、用いられる画像表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。
【０１１９】
＜用途＞
本発明の積層体中の位相差層は、光学補償フィルムとして有用である。
光学補償フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）の光学補償用途に好適に用いられ、斜め方向から視認した時の色味変化および黒表示時の光漏れを改善できる。例えば、ＩＰＳ液晶表示装置の偏光子と液晶セルの間に光学補償フィルムを設けることができる。特に、ＩＰＳ液晶の光学補償においては、積層体がポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを含むことで、大きな効果が得られる。
【０１２０】
例えば、本発明の積層体が、ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを含む場合、ポジティブＡプレート側の面で偏光子と積層されていてもよく、その反対側の面で、偏光子と積層されていてもよい。
偏光子、ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートがこの順となるように配置される場合、ポジティブＡプレートの遅相軸方向と偏光膜の吸収軸方向とのなす角は９０°±１０°の範囲であることが好ましい。
また、偏光子、ポジティブＣプレートおよびポジティブＡプレートをこの順となるように配置される場合、ポジティブＡプレートの遅相軸方向と偏光膜の吸収軸方向が平行であることが好ましい。
ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの光学特性としては、特に色味変化を抑制する点から、ＲｅまたはＲｔｈの波長分散が逆分散性を示すことが好ましい。
【０１２１】
また、本発明の積層体中の偏光板は、反射防止板として有用である。
より具体的には、偏光板中の位相差層がλ／４板である場合、積層体は反射防止板として好適に適用できる。特に、積層体がポジティブＡプレートとポジティブＣプレートとを含む場合、ポジティブＡプレートとポジティブＣプレートとの合計Ｒｔｈをゼロに近くなるように調整でき、斜め方向における視認性が改善される。
積層体を反射防止板として用いる場合、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用できる。
【０１２２】
例えば、有機ＥＬ表示装置の光取り出し面側に反射防止板として本発明の積層体を設けることができる。この場合、外光は偏光子によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが有機ＥＬ表示素子の金属電極等にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から９０°傾いた直線偏光となり、偏光子に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。
【０１２３】
＜液晶表示装置、有機電界発光装置＞
上記積層体は、有機電界発光装置（好ましくは、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置）や、液晶表示装置等に好ましく用いることができる。
【０１２４】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、画像表示装置の一例であり、上述した本発明の積層体と、液晶セルとを有する。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光子のうち、フロント側の偏光子として本発明の積層体中の偏光子を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光子として本発明の積層体中の偏光子を用いるのがより好ましい。また、偏光板に含まれる上記位相差層は、液晶セル側に配置されることが好ましい。この場合、位相差層は、光学補償フィルムとして好適に使用できる。
また、本発明の積層体中の２枚の基板のうち、液晶層側に配置される基板は、液晶層の両側に配置される基板として機能してもよい。例えば、基板が特定ガラス基材である場合、本発明の積層体中の２枚の基板のうち、液晶層側に配置される特定ガラス基材は、液晶層と液晶層を挟む２枚のガラス基板とで構成される液晶セル中のガラス基板として機能してもよい。
より具体的には、積層体を含む液晶表示装置としては、スマートフォンおよびタブレット用途のＩＰＳ液晶表示装置の態様が挙げられ、積層体に該当する構成としては、カバーガラス/（タッチセンサー）/（偏光子保護フィルム）/偏光子/（偏光子保護フィルム）/位相差層/液晶セル用ガラスが想定される。この場合、カバーガラスおよび液晶セル用ガラスが、上述した基板に該当し、少なくとも一方が特定ガラス基材である。
なお、上記構成中の（  ）で示された部材は、なくてもよいことを示す。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【０１２５】
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および、特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶性分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シート（光学補償フィルム）を用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−０５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、および、特開平１０−３０７２９１号公報に開示されている。
【０１２６】
（有機ＥＬ表示装置）
本発明の有機電界発光装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の偏光板と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。偏光板に含まれる位相差層は、有機ＥＬ表示パネル側に配置されることが好ましい。この場合、本発明の積層体は、いわゆる反射防止フィルムとして使用される。
また、本発明の積層体中の２枚の基板のうち、有機ＥＬ表示パネル側に配置される基板は、有機ＥＬ表示パネルの封止層として機能してもよい。例えば、基板が特定ガラス基材である場合、本発明の積層体中の２枚の特定ガラス基材のうち、有機ＥＬ表示パネル側に配置される特定ガラス基材は、いわゆる封止ガラスとして機能してもよい。
有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
なかでも、積層体を含む有機ＥＬ表示装置としては、スマートフォンおよびタブレット用途の有機ＥＬ表示装置の態様が挙げられ、積層体に該当する構成としては、カバーガラス/（タッチセンサー）/（偏光子保護フィルム）/偏光子/（偏光子保護フィルム）/位相差層/（タッチセンサー）/有機ＥＬ封止用ガラス、ハイバリアフィルムまたは有機ＥＬバリアフィルムが想定される。この場合、カバーガラス、有機ＥＬ封止用ガラス、ハイバリアフィルムおよび有機ＥＬバリアフィルムが、上述した基板に該当し、少なくとも一方が特定ガラス基材である。
なお、上記構成中の（  ）で示された部材は、なくてもよいことを示す。
【実施例】
【０１２７】
以下、実施例を用いて、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。【０１２８】
＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
厚さ７５μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中でＭＤ（Machine Direction）方向に延伸し、乾燥して厚さ１４μｍの偏光子１を得た。
上記の偏光子１の両方の面に、上記偏光子保護フィルムを貼り合わせて、保護フィルム付き偏光子１を作製した。【０１２９】
＜保護フィルム付き偏光子２の作製＞
上記保護フィルム付き偏光子１と同様にポリビニルアルコールフィルムの厚みと延伸倍率を調整して、乾燥して厚さ９μｍの偏光子２を得た。
上記の偏光子２の両方の面に、上記偏光子保護フィルムを貼り合わせて、保護フィルム付き偏光子２を作製した。【０１３０】
＜ガラス基材１〜３の準備＞
無アルカリガラスとしてコーニング社製ガラスＥＡＧＬＥ−ＸＧを入手し、ガラス基材１（Ｎａ２Ｏ含有量：０質量％）とした。
ホウケイ酸ガラスとしてコーニング社製ガラスＰＩＲＥＸ（Ｎａ２Ｏ含有量：４質量％）を入手し、ガラス基材２とした。
ガラス基材３は、一般的なソーダ石灰板ガラス（Ｎａ２Ｏ含有量：１７質量％）を準備した。
ガラス基材１〜３のサイズは、幅７０ｍｍ×長さ１４０ｍｍ×厚み１．１ｍｍとした。【０１３１】
なお、ここで熱耐久性試験において液晶化合物の加水分解反応を促進すると推定するＮａ2Ｏがガラス基材から溶出する量を把握するために、アルカリ成分を優先的に溶出させるＨＣｌ液（濃度：５質量％）を温度９５℃で２４時間ガラス基材に接触させたときのガラスの質量変化を調べたところ、ガラス基材３の質量減少量は、ガラス基材２の４倍であった。この結果より、ガラス基材３において、よりＮａ２Ｏが溶出しやすいことが確認された。【０１３２】
＜実施例１＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート          １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ                          １２質量部
下記の化合物Ｇ                                            ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ４３０質量部
メタノール（第２溶媒）                                  ６４質量部
─────────────────────────────────【０１３３】
化合物Ｇ
【化２１】
2020031784.tif 000029
【０１３４】
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）       ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ７６質量部
メタノール（第２溶媒）                                  １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ                    １質量部
─────────────────────────────────【０１３５】
上記コア層セルロースアシレートドープおよび上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これを実施例１の光学フィルムとした。実施例１の光学フィルムのコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られた光学フィルム１のＲｅ（５５０）は０ｎｍであった。【０１３６】
次に、特開２０１２−１５５３０８号公報、実施例３の記載を参考に、光配向膜用塗布液１を調製し、光学フィルム１にワイヤーバーで塗布した。その後、得られた光学フィルムを６０℃の温風で６０秒乾燥し、厚み３００ｎｍの塗膜１を作製した。【０１３７】
続いて、下記のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合性液晶化合物Ｘ−１                          ２０．００質量部
下記特定液晶化合物Ｌ−１                            ４０．００質量部
下記特定液晶化合物Ｌ−２                            ４０．００質量部
下記重合開始剤Ｓ−１                                  ０．６０質量部
レベリング剤（下記化合物Ｔ−１）                      ０．１０質量部
メチルエチルケトン（溶媒）                        ２００．００質量部
シクロペンタノン（溶媒）                          ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１３８】
【化２２】
2020031784.tif 000030
2020031784.tif 000031
【０１３９】
作製した塗膜１に、大気下にて超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Moxtek社製, ProFlux PPL02）を光配向膜１の面と平行になるようにセットして露光し、光配向処理を行い、光配向膜１を得た。
この際、紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（紫外線Ａ波、波長３８０〜３２０ｎｍの積算）において１０ｍＪ／ｃｍ２とした。【０１４０】
次いで、光配向膜１上にポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１を、バーコーターを用いて塗布した。得られた塗膜を膜面温度１００℃で２０秒間加熱熟成し、９０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて３００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、ネマチック配向状態を固定化することにより位相差層１（ポジティブＡプレートＡ−１）を形成し、位相差層１付き光学フィルムを作製した。【０１４１】
形成された位相差層１は、膜厚が２．５μｍであった。位相差層１について、のＲｅ（５５０）は１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７３ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．１２、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１、光軸のチルト角は０°であり、特定液晶化合物はホモジニアス配向であった。【０１４２】
特開２０１７−１３４４１４号公報の実施例１の記載を参考に、粘着剤付きフィルムを作製した。【０１４３】
次に、粘着剤付きフィルムを用いて保護フィルム付き偏光子１の一方の面に対して、位相差層１付き光学フィルム中の位相差層１側を貼り合せた。その際、偏光子の吸収軸と位相差層１の遅相軸とのなす角度は４５°であった。具体的には、保護フィルム付き偏光子１の一方の面に対して、粘着剤付きフィルムの粘着剤を貼り合せて、粘着剤付きフィルム中のフィルムを剥離して、さらに粘着剤に対して、位相差層１付き光学フィルム中の位相差層１を貼り合せた。
次に、得られた積層体から、光配向膜１と位相差層１との界面で剥離して、光配向膜１付き光学フィルムを取り除き、偏光板を作製した。
その後、得られた偏光板をガラス基材１と同一の幅および長さに裁断し、偏光板１とした。次に、粘着剤付きフィルムを用いて、偏光板１の両側からガラス基材１で挟み込み、ガラス基材１、偏光板、および、ガラス基材１をこの順で含む積層体１を得た。【０１４４】
＜実施例２＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−２を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体２を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の重合性液晶化合物Ｘ−１、特定液晶化合物Ｌ−１、および特定液晶化合物Ｌ−２の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−６を１００質量部用いてポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−２を調製した。【０１４５】
【化２３】
2020031784.tif 000032
【０１４６】
＜実施例３＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−３を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体３を得た。なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の重合性液晶化合物Ｘ−１、特定液晶化合物Ｌ−１、および特定液晶化合物Ｌ−２の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−９を１００質量部用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−３を調製した。【０１４７】
Ｌ−９
【化２４】
2020031784.tif 000033
【０１４８】
＜実施例４＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体４を得た。【０１４９】
下記のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記特定液晶化合物Ｌ−７                          １００．００質量部
重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦジャパン）      ３．００質量部
重合開始剤ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン）            ３．００質量部
アデカクルーズＮＣＩ−８３１（アデカ）                ３．００質量部
レベリング剤ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン）    ０．１０質量部
酸化防止剤ＢＨＴ（東京化成工業）                      ０．９０質量部
メチルエチルケトン（溶媒）                          ６０．００質量部
シクロペンタノン（溶媒）                          ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１５０】
【化２５】
2020031784.tif 000034
【０１５１】
＜実施例５＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−７を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体５を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の特定液晶化合物Ｌ−７の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−８を用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−７を調製した。【０１５２】
【化２６】
2020031784.tif 000035
【０１５３】
＜実施例６＞
２枚のガラス基材１を用いる代わりに、ガラス基材１およびガラス基材２を用いて、ガラス基材１、偏光板、および、ガラス基材２をこの順で含む積層体６を得た以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体６を得た。
なお、偏光板中のポジティブＡプレートに近い側にガラス基材１を配置し、遠い側にガラス基材２を配置した。【０１５４】
＜実施例７＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−２を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体７を得た。【０１５５】
＜実施例８＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−３を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体８を得た。【０１５６】
＜実施例９＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体９を得た。【０１５７】
＜実施例１０＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−７を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体１０を得た。【０１５８】
＜実施例１１＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−４を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体１１を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の特定液晶化合物Ｌ−７の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−５を用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−４を調製した。【０１５９】
【化２７】
2020031784.tif 000036
【０１６０】
＜実施例１２＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体１２を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の特定液晶化合物Ｌ−７の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１０を用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５を調製した。【０１６１】
【化２８】
2020031784.tif 000037
【０１６２】
＜実施例１３＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−８を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体１３を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の特定液晶化合物Ｌ−７の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１１を用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−８を調製した。【０１６３】
【化２９】
2020031784.tif 000038
【０１６４】
＜実施例１４＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−９を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体１４を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の特定液晶化合物Ｌ−７の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１２を用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−９を調製した。【０１６５】
【化３０】
2020031784.tif 000039
【０１６６】
＜実施例１５＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−９を用いた以外は、実施例６と同様の手順に従って、積層体１５を得た。
なお、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６の特定液晶化合物Ｌ−７の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１３を用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１０を調製した。【０１６７】
【化３１】
2020031784.tif 000040
【０１６８】
＜比較例１＞
２枚のガラス基材１を用いる代わりに、ガラス基材１およびガラス基材３を用いて、ガラス基材１、偏光板、および、ガラス基材３をこの順で含む積層体１６を得た以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１６を得た。
なお、偏光板中のポジティブＡプレートに近い側にガラス基材１を配置し、遠い側にガラス基材３を配置した。【０１６９】
＜比較例２＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−２を用いた以外は、比較例１と同様の手順に従って、積層体１７を得た。【０１７０】
＜比較例３＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−３を用いた以外は、比較例１と同様の手順に従って、積層体１８を得た。【０１７１】
＜比較例４＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６を用いた以外は、比較例１と同様の手順に従って、積層体１９を得た。【０１７２】
＜比較例５＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−７を用いた以外は、比較例１と同様の手順に従って、積層体２０を得た。【０１７３】
＜実施例１６＞
次に、粘着剤付きフィルムを用いて保護フィルム付き偏光子２の一方の面に対して、位相差層１付き光学フィルム中の位相差層１側を貼り合せた。その際、偏光子の吸収軸と位相差層１の遅相軸とのなす角度は４５°であった。具体的には、保護フィルム付き偏光子１の一方の面に対して、粘着剤付きフィルムの粘着剤を貼り合せて、粘着剤付きフィルム中のフィルムを剥離して、さらに粘着剤に対して、位相差層１付き光学フィルム中の位相差層１を貼り合せた。
次に、得られた積層体から、光配向膜１と位相差層１との界面で剥離して、光配向膜１付き光学フィルムを取り除き、偏光板を作製した。
その後、得られた偏光板をガラス基材１と同一の幅および長さに裁断し、偏光板２１とした。次に、粘着剤付きフィルムを用いて、偏光板１の両側からガラス基材１およびガラス基材２で挟み込み、ガラス基材１、偏光板、および、ガラス基材２をこの順で含む積層体２１を得た。
なお、偏光板中のポジティブＡプレートに近い側にガラス基材１を配置し、遠い側にガラス基材２を配置した。【０１７４】
＜熱耐久性試験＞
積層体１〜２１について、Ａｘｏ  Ｓｃａｎ（ＯＰＭＦ−１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用い、積層体中央部の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション値（Ｒｅ）の熱耐久性を下記の指標で評価した。結果を下記第１表に示す。
なお、熱耐久試験条件は、８５℃の環境下に３３６時間放置する試験を行った。「Ａ」以上と評価されれば、耐久性は良好であると判断することができる。
ＡＡ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期の値の２％未満
Ａ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期の値の２％以上７％未満
Ｂ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期の値の７％以上【０１７５】
以上の評価試験の結果を第１表に示す【０１７６】
【表１】
2020031784.tif 000041
【０１７７】
表１に示すように、本発明の積層体であれば、所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、実施例１と実施例６との比較より、Ｎａ２Ｏの含有量がより低い場合、より優れた効果が得られることが確認された。
また、実施例６〜１０と実施例１１〜１５との比較より、一般式（ＩＩＩ）中のＡｒが一般式（ＩＩ−１）で表される２価の芳香環基である場合、または、一般式（ＩＩＩ）中のＡｒが一般式（ＩＩ−３）で表される２価の芳香環基であり、かつ、Ｄ１およびＤ２の少なくとも一方が−ＣＯ−Ｏ−以外の基である場合に、より優れた効果が得られることが確認された。【０１７８】
＜実施例１７〜３２＞
（ポジティブＣプレート膜１の作製）
仮支持体として、トリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。
セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。【０１７９】
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
─────────────────────────────────
水酸化カリウム                                        ４．７質量部
水                                                  １５．８質量部
イソプロパノール                                    ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ）                    １．０質量部
プロピレングリコール                                １４．８質量部
─────────────────────────────────【０１８０】
下記の組成の配向膜形成用塗布液２を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜を形成した      【０１８１】
。
─────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液２の組成
─────────────────────────────────
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）        ２．４質量部
イソプロピルアルコール                                １．６質量部
メタノール                                              ３６質量部
水                                                      ６０質量部
─────────────────────────────────【０１８２】
後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ−１を配向膜上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜１を作製した。得られたポジティブＣプレート１のＲｔｈ（５５０）は、−６０ｎｍであった。【０１８３】
─────────────────────────────────
ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ−１の組成
─────────────────────────────────
下記液晶化合物Ｌ−１１                                  ８０質量部
下記液晶化合物Ｌ−１２                                  ２０質量部
下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１）                        １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                        ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                  １質量部
下記化合物Ｂ０３                                      ０．４質量部
メチルエチルケトン                                    １７０質量部
シクロヘキサノン                                        ３０質量部
─────────────────────────────────【０１８４】
【化３２】
2020031784.tif 000042
【０１８５】
【化３３】
2020031784.tif 000043
【０１８６】
【化３４】
2020031784.tif 000044
【０１８７】
（偏光板の作製）
実施例１〜１６の偏光板のポジティブＡプレート側に、粘着剤付フィルムを用いて、上記で作製したポジティブＣプレート膜１を貼り合わせ、配向膜とセルロースアシレートフィルム２を除去して、偏光板２２〜３７を得た。【０１８８】
（有機ＥＬ表示装置の作製）
有機ＥＬ表示パネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ  Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子（封止ガラス付き）、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した偏光板をポジティブＣプレート側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、さらにカバーガラスを貼り合わせて、有機ＥＬ表示装置を作製した。なお、カバーガラスおよび封止ガラスとして、ガラス基材１が用いられていた。
得られた有機ＥＬ表示装置中においては、封止ガラス（ガラス板に該当）と、偏光板（偏光板２２〜３７のいずれか）と、カバーガラス（ガラス板に該当）とを含む積層体が含まれていた。
【符号の説明】
【０１８９】
１０、２０、３０，４０  積層体
１１  偏光子保護フィルム
１２  ポリビニルアルコール偏光子
１３  偏光子保護フィルム
１４  ポジティブＡプレート
１５  ポジティブＣプレート
１６  光配向膜
１７Ａ  ガラス基材
１７Ｂ  ガラス基材
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【国際調査報告】
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