(57)【要約】  指紋汚れ除去性および耐滑り性に優れた膜付き基材の提供。  本発明の膜付き基材は、基材と、上記基材の主表面における一部の領域のみに配置されたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜と、を有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の主表面における一部の領域のみに配置されたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜と、を有する、膜付き基材。
【請求項２】
前記膜が、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と反応性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物を用いて得られる膜である、請求項１に記載の膜付き基材。
【請求項３】
前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜が配置された領域である第１領域と、前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜が配置されていない領域である第２領域との面積比（第１領域の面積／第２領域の面積）が、０．３〜５０．０である、請求項１または２に記載の膜付き基材。
【請求項４】
前記基材が、タッチパネル用基材またはディスプレイ基材である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の膜付き基材。
【請求項５】
基材がガラスから構成され、前記主表面におけるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜の被覆率が２０〜９７％である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の膜付き基材。
【請求項６】
前記膜が、前記基材の主表面における点状の複数の領域に配置されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の膜付き基材。
【請求項７】
前記点状の複数の領域が、チェッカーフラッグ状に配列している、請求項６に記載の膜付き基材。
【請求項８】
前記膜が、前記基材の主表面における帯状の領域に配置されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の膜付き基材。
【請求項９】
前記基材が、その主表面上に、周縁領域と、前記周縁領域によって囲まれる中央領域と有し、
前記膜が、前記中央領域に配置されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の膜付き基材。
【請求項１０】
前記基材が、その主表面上に、複数の点状の分散領域と、前記分散領域以外の連続領域とを有し、
前記膜が、前記連続領域に配置されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の膜付き基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜付き基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、フルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。
上記含フッ素エーテル化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、末端に加水分解性シリル基を有する化合物が広く用いられている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０６９５９２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面に付着した指紋を拭き取りによって容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長時間維持されることが求められる用途に用いられる。このような用途としては、たとえば、スマートフォン等の指や掌で触れる面（たとえば、表示画面や表示画面とは反対側の面（裏面））を構成する部材の表面処理剤などがある。
本発明者らは、含フッ素エーテル化合物を用いて得られる膜を基材の主表面全体に配置した膜付き基材を評価したところ、指紋汚れ除去性は良好であるものの、耐滑り性に劣ること（すなわち、滑りやすいこと）を見出した。たとえば、膜付き基材がスマートフォンであると、スマートフォンの操作時や机等に載置した際に、スマートフォンが滑落して破損するおそれがある。【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みて、指紋汚れ除去性および耐滑り性に優れた膜付き基材の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、基材の主表面の一部のみにポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜を配置すれば、所望の効果が得られるのを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者は、以下の構成により上記課題が解決できるのを見出した。【０００７】
［１］  基材と、前記基材の主表面における一部の領域のみに配置されたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜と、を有する、膜付き基材。
［２］  前記膜が、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と反応性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物を用いて得られる膜である、［１］に記載の膜付き基材。
［３］  前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜が配置された領域である第１領域と、前記ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜が配置されていない領域である第２領域との面積比（第１領域の面積／第２領域の面積）が、０．３〜５０．０である、［１］または［２］に記載の膜付き基材。
［４］  前記基材が、タッチパネル用基材またはディスプレイ基材である、［１］〜［３］のいずれかに記載の膜付き基材。
［５］  基材がガラスから構成され、前記主表面におけるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜の被覆率が２０〜９７％である、［１］〜［４］のいずれかに記載の膜付き基材。
［６］  前記膜が、前記基材の主表面における点状の複数の領域に配置されている、［１］〜［５］のいずれかに記載の膜付き基材。
［７］  前記点状の複数の領域が、チェッカーフラッグ状に配列している、［６］に記載の膜付き基材。
［８］  前記膜が、前記基材の主表面における帯状の領域に配置されている、［１］〜［５］のいずれかに記載の膜付き基材。
［９］  前記基材が、その主表面上に、周縁領域と、前記周縁領域によって囲まれる中央領域と有し、前記膜が、前記中央領域に配置されている、［１］〜［５］のいずれかに記載の膜付き基材。
［１０］  前記基材が、その主表面上に、複数の点状の分散領域と、前記分散領域以外の連続領域とを有し、前記膜が、前記連続領域に配置されている、［１］〜［５］のいずれかに記載の膜付き基材。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、指紋汚れ除去性および耐滑り性に優れた膜付き基材を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。
【図２】本発明の膜付き基材の一例を示す模式的な斜視図である。
【図３】本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。
【図４】本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。
【図５】本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。
【図６】本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本明細書において、式（１）で表される単位を単位（１）と記す。他の式で表される単位も同様に記す。式（２）で表される基を基（２）と記す。他の式で表される基も同様に記す。式（３）で表される化合物を化合物（３）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよい。
【００１１】
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲｘは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１〜９の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。
【００１２】
【化１】
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【００１３】
「シルフェニレン骨格基」とは、−Ｓｉ（Ｒｙ）２ＰｈＳｉ（Ｒｙ）２−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒｙは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒｙとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、−Ｓｉ（Ｒｚ）２−（ただし、Ｒｚはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。）で表される基である。
化合物の「数平均分子量」は、１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。
【００１４】
本発明の膜付き基材（以下、「本膜付き基材」ともいう。）は、基材と、上記基材の主表面における一部の領域のみに配置されたポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜（以下、「第１膜」ともいう。）と、を有する。
以下の説明において、基材のうち他の物品や人の手指を接触させて使用することがある、および／または、操作時に人の手指で持つことがある、主たる表面であって第１膜が配置された表面を「主表面」という。主表面は平面に限定されない。
基材の主表面のうち、第１膜が配置される領域を「第１領域」、第１膜が配置されない領域を「第２領域」ともいう。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜を主表面に有する膜付き基材は、他の材料（たとえば、ガラス）から構成される表面と比較して、優れた指紋汚れ除去性を有するものの、動摩擦係数が低い傾向にある。そのため、上記のようなポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜を基材主表面の一部の領域のみに配置することで、優れた指紋汚れ除去性を維持でき、かつ、優れた耐滑り性を確保できたと推測される。
【００１５】
〔基材〕
基材は、他の物品（たとえば、スタイラス）や人の手指を接触させて使用することがある基材、操作時に人の手指で持つことがある基材、および／または、他の物品（たとえば、載置台）の上に置くことがある基材が好ましい。撥水撥油性の付与ができるので、撥水撥油性が求められている基材が特に好ましい。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、親水性膜および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ  ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスおよび透明樹脂が好ましい。
また基材としては、下記の例が挙げられる。建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器（たとえば、自動車）、看板・掲示板、飲用器・食器、水槽、観賞用器具（たとえば、額、箱）、実験器具、家具、アート・スポーツ・ゲームに使用する、ガラスおよび樹脂、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラスおよび樹脂も好ましい。基材の形状は、板状、フィルム状でもよい。
【００１６】
〔第１膜〕
第１膜は、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する膜であり、基材の主表面における一部の領域のみに配置される。
第１膜は、基材主表面上に直接形成されてもよいし、基材の主表面に形成された他の膜を介して基材上に形成されてもよい。上記他の膜の具体例としては、国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９〜００９５に記載の化合物やＳｉＯ２等で基材を下地処理して、基材の主表面に形成される下地膜が挙げられる。
【００１７】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、下式（１）で表される単位を複数含む。
（ＯＸ）  ・・・（１）
【００１８】
Ｘは、１個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基である。
フルオロアルキレン基の炭素数は、膜の耐候性および耐食性がより優れる点から、１〜６が好ましく、２〜４が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
フルオロアルキレン基は、フッ素原子を１個以上有し、膜の耐食性がより優れる点から、２〜１０個が好ましく、２〜４個が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、フルオロアルキレン基中のすべての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキレン基）であってもよい。
【００１９】
単位（１）の具体例としては、−ＯＣＨＦ−、−ＯＣＦ２ＣＨＦ−、−ＯＣＨＦＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ−、−ＯＣＨＦＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−が挙げられる。
【００２０】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位（１）の数ｍ１は２以上であり、２〜２００の整数がより好ましく、５〜１５０の整数がさらに好ましく、５〜１００の整数が特に好ましく、１０〜５０の整数が最も好ましい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、１種のみの単位（１）を含んでいてもよく、２種以上の単位（１）を含んでいてもよい。２種以上の単位（１）としては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位（１）、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位（１）、炭素数が同じであってもフッ素原子の数が異なる２種以上の単位（１）が挙げられる。
２種以上の（ＯＸ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
【００２１】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、指紋汚れ除去性の優れた膜とするために、オキシペルフルオロアルキレン基である単位（１）を主とするポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖であることが好ましい。（ＯＸ）ｍ１で表されるポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖において、単位（１）の全数ｍ１個に対するオキシペルフルオロアルキレン基である単位（１）の数の割合は、５０〜１００％であることが好ましく、８０〜１００％であることがより好ましく、９０〜１００％が特に好ましい。
【００２２】
（ＯＸ）ｍ１としては、［（ＯＣＨｍａＦ（２−ｍａ））ｍ１１・（ＯＣ２ＨｍｂＦ（４−ｍｂ））ｍ１２・（ＯＣ３ＨｍｃＦ（６−ｍｃ））ｍ１３・（ＯＣ４ＨｍｄＦ（８−ｍｄ））ｍ１４・（ＯＣ５ＨｍｅＦ（１０−ｍｅ））ｍ１５・（ＯＣ６ＨｍｆＦ（１２−ｍｆ））ｍ１６］が好ましい。
ｍａは０または１であり、ｍｂは０〜３の整数であり、ｍｃは０〜５の整数であり、ｍｄは０〜７の整数であり、ｍｅは０〜９の整数であり、ｍｆは０〜１１の整数である。
ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５＋ｍ１６は２以上の整数であり、２〜２００の整数がより好ましく、５〜１５０の整数がより好ましく、５〜１００の整数がさらに好ましく、１０〜５０の整数が特に好ましい。
なかでも、ｍ１２は２以上の整数が好ましく、２〜２００の整数が特に好ましい。
また、Ｃ３ＨｍｂＦ（６−ｍｂ）、Ｃ４ＨｍｃＦ（８−ｍｃ）、Ｃ５ＨｍｄＦ（１０−ｍｄ）およびＣ６ＨｍｅＦ（１２−ｍｅ）は、いずれも、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、膜の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
【００２３】
なお、上記式は単位の種類とその数を表すものであり、単位の配列を表すものではない。すなわち、ｍ１１〜ｍ１５は単位の数を表すものであり、たとえば、（ＯＣＨｍａＦ（２−ｍａ））ｍ１１は、（ＯＣＨｍａＦ（２−ｍａ））単位がｍ１１個連続したブロックを表すものではない。同様に、（ＯＣＨｍａＦ（２−ｍａ））〜（ＯＣ６ＨｍｆＦ（１２−ｍｆ））の記載順は、その記載順にそれらが配列していることを表すものではない。
上記式において、ｍ１１〜ｍ１５の２以上が０でない場合（すなわち、（ＯＸ）ｍ１が２種以上の単位から構成されている場合）、異なる単位の配列は、ランダム配列、交互配列、ブロック配列およびそれら配列の組合せのいずれであってもよい。
さらに、上記各単位も、また、その単位が２以上含まれている場合、それらの単位は異なっていてもよい。たとえば、ｍ１１が２以上の場合、複数の（ＯＣＨｍａＦ（２−ｍａ））は同一であっても異なっていてもよい。
【００２４】
第１膜は、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と反応性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物を用いて得られる膜が好ましい。反応性シリル基とは、加水分解性シリル基およびシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を意味する。反応性シリル基は、下式（２）で表される基（２）が好ましい。含フッ素エーテル化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖の定義は、上述の通りである。
−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ  ・・・（２）
【００２５】
含フッ素エーテル化合物が有する基（２）の数は、１個以上であり、膜の耐摩擦性がより優れる点で、２個以上が好ましく、２〜１０個がより好ましく、２〜５個がさらに好ましく、２または３個が特に好ましい。
基（２）が１分子中に複数ある場合、複数ある基（２）は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
【００２６】
Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
【００２７】
Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ−ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。
【００２８】
加水分解性基であるＬの具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、含フッ素エーテル化合物の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、含フッ素エーテル化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、含フッ素エーテル化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００２９】
ｎは、０〜２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、膜の基材への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素エーテル化合物の製造容易性の点からは、複数のＲは同じであることが好ましい。
【００３０】
含フッ素エーテル化合物としては、膜の撥水撥油性および耐摩擦性により優れる点で、下式（３）で表される化合物（３）が好ましい。
［Ａ−（ＯＸ）ｍ１−］ｊＺ［−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］ｇ  ・・・（３）
【００３１】
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］ｋである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、膜の耐摩擦性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａが−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］ｋである場合、ｊは１である。
【００３２】
ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、膜の撥水撥油性がより優れる点から、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−が好ましい。
【００３３】
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。後述するように、ｋは１〜１０の整数である。よって、Ｑとしては、２〜１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式（３−１Ａ）、式（３−１Ｂ）、式（３−１Ａ−１）〜（３−１Ａ−６）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎを除いた基が挙げられる。
【００３４】
Ｒ、Ｌ、ｎ、Ｘおよびｍ１の定義は、上述の通りである。
【００３５】
Ｚは、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
Ｚは、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式（３−１Ａ）、式（３−１Ｂ）、式（３−１Ａ−１）〜（３−１Ａ−６）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎを除いた基が挙げられる。
【００３６】
ｊは、１以上の整数であり、膜の撥水撥油性がより優れる点から、１〜５の整数が好ましく、化合物（３）を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｇは、１以上の整数であり、膜の耐摩擦性がより優れる点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。
【００３７】
化合物（３）は、膜の撥水撥油性がより優れる点から、下式（３−１）で表される化合物が好ましい。
Ａ−（ＯＸ）ｍ１−Ｚ３１  ・・・（３−１）
式（３−１）中、Ａ、Ｘおよびｍ１の定義は、式（３）中の各基の定義と同義である。
【００３８】
Ｚ３１は、下式（３−１Ａ）で表される基（３−１Ａ）または下式（３−１Ｂ）で表される基（３−１Ｂ）である。
−Ｑａ−Ｘ３１（−Ｑｂ−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ）ｈ（−Ｒ３１）ｉ  ・・・（３−１Ａ）
−Ｑｃ−［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（−Ｑｄ−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ）］ｙ−Ｒ３３  ・・・（３−１Ｂ）
【００３９】
Ｑａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒｄ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒａ）２−、および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。Ｒｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。２価の飽和炭化水素基の炭素数は１〜２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。アルケニレン基としては、炭素数２〜２０のアルケニレン基が好ましく、アルキニレン基としては、炭素数２〜２０のアルキニレン基が好ましい。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−、アルキレン基−Ｏ−アルキレン基、アルキレン基−ＯＣ（Ｏ）−アルキレン基、アルキレン基−Ｓｉ（Ｒａ）２−フェニレン基−Ｓｉ（Ｒａ）２が挙げられる。
【００４０】
Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２〜８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘ３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。
２〜８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。
【００４１】
Ｑｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
【００４２】
Ｒ３１は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。
【００４３】
Ｘ３１が単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘ３１が窒素原子の場合、ｈは１〜２の整数であり、ｉは０〜１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘ３１が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１〜３の整数であり、ｉは０〜２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘ３１が２〜８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１〜７の整数であり、ｉは０〜６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１〜７を満たす。
ｈが２以上である場合は、２個以上の（−Ｑｂ−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。ｉが２以上である場合は、２個以上の（−Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
【００４４】
Ｑｃは、単結合、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００４５】
Ｒ３２は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。
【００４６】
Ｑｄは、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑｄは、単結合または−ＣＨ２−であることが好ましい。
【００４７】
Ｒ３３は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
【００４８】
ｙは、１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましい。
２個以上の［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（−Ｑｄ−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００４９】
基（３−１Ａ）としては、基（３−１Ａ−１）〜（３−１Ａ−６）が好ましい。
−（Ｘ３２）ｓ１−Ｑｂ１−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（３−１Ａ−１）
−（Ｘ３３）ｓ２−Ｑａ２−Ｎ［−Ｑｂ２−Ｓｉ（Ｒ）ｎ３Ｌ３−ｎ］２  ・・・（３−１Ａ−２）
−Ｑａ３−Ｇ（Ｒｇ）［−Ｑｂ３−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］２  ・・・（３−１Ａ−３）
−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）］ｓ４−Ｑａ４−（Ｏ）ｔ４−Ｃ［−（Ｏ）ｕ４−Ｑｂ４−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］３  ・・・（３−１Ａ−４）
−Ｑａ５−Ｓｉ［−Ｑｂ５−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］３  ・・・（３−１Ａ−５）
−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）］ｖ−Ｑａ６−Ｚａ［−Ｑｂ６−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］ｗ  ・・・（３−１Ａ−６）
なお、式（３−１Ａ−１）〜（３−１Ａ−６）中、Ｒ、Ｌ、および、ｎの定義は、上述した通りである。
【００５０】
式（３−１Ａ−１）において、Ｘ３２は、−Ｏ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−である（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
ｓ１は、０または１である。
【００５１】
Ｑｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子−炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
【００５２】
Ｑｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００５３】
Ｑｂ１としては、ｓ１が０の場合は、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。（Ｘ３２）ｓ１が−Ｏ−の場合は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。（Ｘ３２）ｓ１が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−の場合は、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。Ｑｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。
【００５４】
基（３−１Ａ−１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍ１との結合位置を表す。
【００５５】
【化２】
2019177120.tif 000004
【００５６】
式（３−１Ａ−２）において、Ｘ３３は、−Ｏ−、−ＮＨ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−である。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
【００５７】
Ｑａ２は、単結合、アルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−もしくは−ＮＨ−を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑａ２で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−ＮＨ−を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００５８】
Ｑａ２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（Ｏ）−が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。
【００５９】
ｓ２は、０または１（ただし、Ｑａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。
【００６０】
Ｑｂ２は、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ２で表される、炭素原子−炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子または−ＮＨ−を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００６１】
Ｑｂ２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００６２】
２個の［−Ｑｂ２−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００６３】
基（３−１Ａ−２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍ１との結合位置を表す。
【００６４】
【化３】
2019177120.tif 000005
【００６５】
式（３−１Ａ−３）において、Ｑａ３は、単結合、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
Ｑａ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑａ３で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００６６】
Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒｇは、水酸基またはアルキル基である。Ｒｇで表されるアルキル基の炭素数は、１〜４が好ましい。
Ｇ（Ｒｇ）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒｇａ）（ただし、Ｒｇａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。
【００６７】
Ｑｂ３は、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ３で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ３としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００６８】
２個の［−Ｑｂ３−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００６９】
基（３−１Ａ−３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍ１との結合位置を表す。
【００７０】
【化４】
2019177120.tif 000006
【００７１】
式（３−１Ａ−４）において、Ｒｄの定義は、上述した通りである。
ｓ４は、０または１である。
Ｑａ４は、単結合、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑａ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑａ４で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
ｔ４は、０または１（ただし、Ｑａ４が単結合の場合は０である。）である。
−Ｑａ４−（Ｏ）ｔ４−としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−が好ましく（ただし、左側が（ＲｆＯ）ｍに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００７２】
Ｑｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−（Ｒｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−またはシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−またはシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）−、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
【００７３】
ｕ４は、０または１である。
−（Ｏ）ｕ４−Ｑｂ４−としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００７４】
３個の［−（Ｏ）ｕ４−Ｑｂ４−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００７５】
基（３−１Ａ−４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍ１との結合位置を表す。
【００７６】
【化５】
2019177120.tif 000007
【００７７】
式（３−１Ａ−５）において、Ｑａ５は、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑａ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑａ５で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑａ５としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００７８】
Ｑｂ５は、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ５で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎに結合する。）。
【００７９】
３個の［−Ｑｂ５−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００８０】
基（３−１Ａ−５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍ１との結合位置を表す。
【００８１】
【化６】
2019177120.tif 000008
【００８２】
式（３−１Ａ−６）において、Ｒｄの定義は、上述の通りである。
ｖは、０または１である。
【００８３】
Ｑａ６は、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑａ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑａ６で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑａ６としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＺａに結合する。）。
【００８４】
Ｚａは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２〜７の整数である。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲａは、上述の通りである。
【００８５】
【化７】
2019177120.tif 000009
【００８６】
Ｑｂ６は、アルキレン基、または、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する炭素数２以上のアルキレン基である。
Ｑｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ６で表される、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する炭素数２以上のアルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００８７】
ｗ個の［−Ｑｂ６−Ｓｉ（Ｒ）ｎ３Ｌ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００８８】
化合物３は、膜の撥水撥油性がより優れる点から、式（３−２）で表される化合物が好ましい。
［Ａ−（ＯＸ）ｍ１−Ｑａ−］ｊ３２Ｚ３２［−Ｑｂ−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎ］ｈ３２  ・・・（３−２）
式（３−２）中、Ａ、Ｘ、ｍ１、Ｑａ、Ｑｂ、Ｒ、およびＬの定義は、式（３−１）中および式（３−１Ａ）中の各基の定義と同義である。
【００８９】
Ｚ３２は、（ｊ３２＋ｈ３２）価の炭化水素基、または、炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する炭素数２以上で（ｊ３２＋ｈ３２）価の炭化水素基である。
Ｚ３２としては、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましい。
Ｚ３２としては、原料の入手容易性の点から、式（Ｚ−１）〜式（Ｚ−５）で表される基が好ましい。ただし、Ｒ３４は、アルキル基であり、メチル基またはエチル基が好ましい。
【００９０】
【化８】
2019177120.tif 000010
【００９１】
ｊ３２は２以上の整数であり、膜の撥水撥油性がより優れる点から、２〜５の整数が好ましい
ｈ３２は１以上の整数であり、膜の耐摩擦性がより優れる点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましい。
【００９２】
含フッ素エーテル化合物の具体例としては、たとえば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
特開平１１−０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
特開２０００−１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
特開２０００−３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特表２００２−５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
特表２００８−５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、特開２０１４−０７０１６３号公報に記載の化合物、
国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
特開２０１２−７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、特開２０１４−０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
特開２０１４−２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
特開２０１５−１９９９０６号公報、特開２０１６−２０４６５６号公報、特開２０１６−２１０８５４号公報、特開２０１６−２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、
国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、特願２０１７−１６７９７３、特願２０１７−１６７９９９、特願２０１７−２５１６１１に記載の含フッ素エーテル化合物。
【００９３】
含フッ素エーテル化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ−１００シリーズ（ＫＹ−１７８、ＫＹ−１８５、ＫＹ−１９５等）、ＡＧＣ社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。
【００９４】
（形態）
第１膜の形態（形状）は特に限定されないが、本発明の効果により優れる点から、以下のいずれかまたはその組み合わせの形態が好ましい。以下、図面を参照しながら第１膜の好適な形態を説明する。図１〜図６は板状の基材を用いた例である。
【００９５】
図１は、本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。図１に示すように、膜付き基材１０は、基材１２と、基材１２の主表面における点状の複数の第１領域１２ａに配置された第１膜１４と、を有する。基材１２の主表面における第２領域１２ｂは、膜付き基材１０の主表面に露出している。
ここで、板状の基材１２の主表面とは、基材１２を構成する複数の面のうち、１つの面の表面を意味する。具体的には、図２（膜付き基材１０の模式的な斜視図）に示すように、基材１２が板状である場合、基材１２の厚み方向ｔに対して垂直な２つの面（面１２Ｘ、面１２Ｙ。言い換えれば、２つの主面）のうち、一方の面（図２の例では、面１２Ｘ。言い換えれば、一方の主面）を意味する。以下の図３〜６で基材の主表面という場合においても、図１における基材の主表面の意味と同義である。
【００９６】
第１膜１４の形状は、円形であるが、これに限定されず、たとえば、楕円形、長丸形、長丸形が交差した形状、多角形（たとえば、三角形、四角形、五角形、六角形、十字形、星形）、または、上記多角形の角が丸みを帯びた角丸形等であってもよい。これらの中でも、第１膜１４の製造効率の点から、円形、楕円形または四角形であることが好ましい。
複数の第１膜１４の形状は、互いに同一であっても異なっていてもよいが、図１に示すように同一であるのが好ましい。
第１膜１４のサイズは、本発明の効果がより優れる点から、１０〜１５００μｍが好ましく、５０〜８００μｍがより好ましい。ここで、第１膜１４のサイズとは、第１膜１４が円形である場合はその直径を意味し、円形以外の場合には、第１膜１４の面積から算出される円相当径を意味する。
複数の第１膜１４のサイズは、互いに同一であっても異なっていてもよいが、図１に示すように同一であるのが好ましい。
第１膜１４は、正方格子状に等間隔で配列しているが、これに限定されず、正方格子状以外の格子状（たとえば、六角格子状、矩形格子状、斜方格子状）に配置されていてもよいし、ランダムに配置されていてもよい。隣接する第１膜１４の間隔は、本発明の効果がより優れる点から、１０〜１５００μｍが好ましく、５０〜１０００μｍが特に好ましい。
【００９７】
図３は、本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図であり、具体的には、第１膜が基材の主表面における点状の複数の第１領域に配置された態様の変形例を示す図である。図３の膜付き基材２０における第１領域の形状が図１の膜付き基材１０における第１領域の形状と異なる以外は、図３の膜付き基材２０の構成は図１の膜付き基材１０の構成と概ね同様である。
図３に示すように、第１膜２４は、基材２２の主表面におけるチェッカーフラッグ状（市松模様状）に配列した第１領域２２ａに配置されている。つまり、膜付き基材２０の主表面には、第１膜２４と基材２２の露出部分（第２領域２２ｂ）とが交互に存在している。
【００９８】
図４は、本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。図４に示すように、膜付き基材３０は、基材３２と、基材３２の主表面における帯状の第１領域３２ａに配置された第１膜３４と、を有する。基材３２の主表面における第２領域３２ｂは、膜付き基材３０の主表面に露出している。
【００９９】
第１膜３４の形状は、帯状の直線であるが、これに限定されず、帯状の曲線（たとえば、波線）であってもよく、帯状の折れ線（たとえば、ヘリングボーン）であってもよい。複数の第１膜３４の形状は、互いに同一であっても異なっていてもよいが、図４に示すように同一であるのが好ましい。
第１膜３４の幅は、本発明の効果がより優れる点から、１０〜１０００００μｍ（１０ｃｍ）が好ましく、５０〜２００００μｍ（２ｃｍ）がより好ましい。複数の第１膜３４の幅は、互いに同一であっても異なっていてもよいが、図４に示すように同一であるのが好ましい。
第１膜３４は、等間隔で配列しているが、これに限定されず、第１膜３４の配列間隔は異なっていてもよい。第１膜３４の配列間隔は、本発明の効果がより優れる点から、１０〜１５００μｍが好ましく、５０〜８００μｍがより好ましい。
【０１００】
図５は、本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。基材４２は、その主表面上に、周縁領域４２ｂ（第２領域４２ｂ）と、周縁領域４２ｂによって囲まれる中央領域４２ａ（第１領域４２ａ）と、を有する。図５に示すように、膜付き基材４０は、基材４２と、中央領域４２ａに配置された第１膜４４と、を有する。基材４２の主表面における周縁領域４２ｂは、膜付き基材４０の主表面に露出している。
【０１０１】
第１膜４４の形状は、四角形（より詳細には矩形）であるが、これに限定されず、たとえば、円形、楕円形、長丸形、長丸形が交差した形状、多角形（たとえば、三角形、五角形、六角形、十字形、星形等）、または、上記多角形の角が丸みを帯びた角丸形であってもよい。これらの中でも、本発明の効果がより優れる点から、四角形が好ましい。
第１膜４４の面積は、基材の主表面の面積に応じて適宜設定できるが、第１膜４４の面積と、周縁領域４２ｂの面積と、の面積比が後述の関係になるように設定するのが好ましい。
【０１０２】
図６は、本発明の膜付き基材の一例を示す平面模式図である。基材５２は、その主表面上に、複数の点状の分散領域５２ｂ（第２領域５２ｂ）と、分散領域５２ｂ以外の連続領域５２ａ（第１領域５２ａ）と、を有する。図６に示すように、膜付き基材５０は、基材５２と、連続領域５２ａに配置された第１膜５４と、を有する。基材５２の主表面における分散領域５２ｂが、膜付き基材５０の主表面に露出している。
分散領域５２ｂは海島構造における分散相（島部分）に相当し、連続領域５２ａは海島構造における連続相（海部分）に相当するといえる。
【０１０３】
分散領域５２ｂの形状は、十字形（より詳細にはアルファベットの「Ｘ」形状）であるが、これに限定されず、たとえば、円形、楕円形、長丸形、長丸形が交差した形状または多角形（たとえば、三角形、四角形、五角形、星形等）、または、上記多角形の角が丸みを帯びた角丸形であってもよい。これらの中でも、本発明の効果がより優れる点から、四角形が好ましい。
複数の分散領域５２ｂの形状は、互いに同一であっても異なっていてもよいが、図６に示すように同一であるのが好ましい。
分散領域５２ｂのサイズは、本発明の効果がより優れる点から、１０〜１５００μｍが好ましく、５０〜８００μｍがより好ましい。ここで、分散領域５２ｂのサイズとは、分散領域５２ｂの形状が円形である場合はその直径を意味し、円形以外の場合には、分散領域５２ｂの面積から算出される円相当径を意味する。
複数の分散領域５２ｂのサイズは、互いに同一であっても異なっていてもよいが、図６に示すように同一であるのが好ましい。
分散領域５２ｂは、等間隔で配列しているが、これに限定されず、分散領域５２ｂがランダムに配置されていてもよい。隣接する分散領域５２ｂの間隔は、本発明の効果がより優れる点から、１０〜１０００００μｍ（１０ｃｍ）が好ましく、５０〜２００００μｍ（２ｃｍ）がより好ましい。
【０１０４】
図１〜図６における膜付き基材の主表面はいずれも、第１膜が配置されていない部分から基材の主表面の一部が露出しているが、これに限定されず、基材の主表面における第２領域の少なくとも一部には、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有さない第２膜（後述）が配置されてもよい。
【０１０５】
第１領域と第２領域との面積比（第１領域の面積／第２領域の面積）は、０．３〜５０．０が好ましく、０．５〜４５．０がより好ましく、０．６〜４０．０が特に好ましい。面積比が０．３以上であれば、膜付き基材の指紋汚れ除去性により優れる。面積比が５０．０以下であれば、膜付き基材の耐滑り性により優れる。
【０１０６】
基材がケイ素原子を含む材料（好ましくは、ガラス）から構成されている場合、膜付き基材の主表面における第１膜の被覆率は、２０〜９７％が好ましく、５０〜９５％がより好ましく、６０〜９３％が特に好ましい。第１膜の被覆率が２０％以上であれば、膜付き基材の指紋汚れ除去性により優れる。特に、第１膜の被覆率が６０％以上であれば、膜付き基材の指紋汚れ除去性に優れるとともに、膜付き基材の耐摩擦性にも優れる。第１膜の被覆率が９７％以下であれば、膜付き基材の耐滑り性により優れる。
なお、上記被覆率を算出する際において、膜付き基材の主表面とは、第１膜が形成される面（たとえば、図２における面１２Ｘ）の表面を意味する。
ここで、第１膜の被覆率は、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）によって、膜付き基材の主表面のＦ２−のマッピング像を取得し、これを画像解析することで算出できる。このようにして算出した値を第１膜の被覆率とする。
第２領域は、ひとまとまりの連続する一定の面積を有することが好ましい。第２領域の連続する面積は、０．００１ｍｍ２以上１ｃｍ２以下が好ましく、０．０１ｍｍ２以上０．１ｃｍ２以下がより好ましい。０．００１ｍｍ２以上であれば耐滑り性が良好となる。１ｃｍ２以下であれば指紋除去性に優れる。
【０１０７】
（物性）
第１膜の動摩擦係数ａと、膜付き基材の主表面における第２領域に対応する部分の動摩擦係数ｂとの差（動摩擦係数ｂ−動摩擦係数ａ）は、０．０１〜０．９９が好ましく、０．０５〜０．６がより好ましく、０．１〜０．５が特に好ましい。動摩擦係数の差が０．０１以上であれば、膜付き基材の指紋汚れ除去性により優れる。動摩擦係数の差が０．９９以下であれば、膜付き基材の耐滑り性により優れる。
膜付き基材の主表面における第２領域に対応する部分の動摩擦係数とは、第２領域に第２膜（後述）が形成されている場合には、第２膜の動摩擦係数を意味し、第２領域に第２膜が形成されていない場合には、基材の動摩擦係数を意味する。
動摩擦係数ａは、０．０１〜０．４が好ましく、０．０１〜０．３が特に好ましい。
動摩擦係数ｂは、０．４超が好ましく、０．５〜０．８が特に好ましい。
動摩擦係数は、人工皮膚（出光テクノファイン社製、ＰＢＺ１３００１）に対する第１膜または第２領域に対応する部分の動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学社製、ＨＨＳ２０００）を用い、接触面積：３ｃｍ×３ｃｍ、荷重：０．９８Ｎの条件で測定する。
【０１０８】
第１膜の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。第１膜の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。
【０１０９】
〔第２膜〕
膜付き基材の主表面（第１膜が配置されている面の表面）において、基材の第２領域に対応する部分は、基材そのもの（すなわち基材が露出している態様）から構成されていてもよいし、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有さない膜（以下、「第２膜」ともいう。）から構成されていてもよい。
第２膜の具体例としては、基材を国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９〜００９５に記載の化合物やＳｉＯ２等で下地処理することで基材の主表面に形成される下地膜等を用いて基材の主表面に形成される膜が挙げられる。
第２膜は、第２領域の全体に形成されていてもよいし、第２領域の一部に形成されていてもよい。
【０１１０】
〔膜付き基材の製造方法〕
本発明の膜付き基材は、基材の主表面の第１領域のみに、第１膜を配置することで製造できる。
より具体的には、含フッ素エーテル化合物または含フッ素エーテル化合物と液状媒体とを含む組成物（以下、「組成物」ともいう。）を用いることにより、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも、基材の主表面の第１領域のみに第１膜を形成できる。
【０１１１】
組成物に含まれる液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４〜８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
【０１１３】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
アルコール系有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコールが挙げられる。
【０１１４】
組成物中の含フッ素エーテル化合物の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１〜５０．００質量％が好ましく、１．０〜３０．００質量％が特に好ましい。
組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、５０．００〜９９．９９質量％が好ましく、７０．００〜９９．００質量％が特に好ましい。
【０１１５】
上記膜付き基材は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・含フッ素エーテル化合物または組成物を用いたドライコーティング法によって基材の主表面を処理して、基材の主表面の第１領域のみに第１膜が配置された上記膜付き基材を得る方法。
・ウェットコーティング法によって組成物を基材の主表面に塗布し、乾燥させて、基材の主表面の第１領域のみに第１膜が配置された上記物品を得る方法。
【０１１６】
ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、含フッ素エーテル化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に含フッ素エーテル化合物または組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ドライコーティング法を用いる場合、基材の主表面の第１領域のみに第１膜を配置する方法としては、第１膜に対応する形状のマスクを基材の主表面に配置した後、ドライコーティング法によって基材の主表面を処理する方法が挙げられる。
マスクの具体例としては、開口が形成された金属メッシュ、孔が形成されたパンチングシート、粘着テープ、樹脂や塗料による印刷などが挙げられる。
金属メッシュの線径は、第１膜の被覆率を上述の範囲に設定しやすくなる点で、８０〜５００μｍが好ましく、１００〜５００μｍが特に好ましい。
金属メッシュの目開きは、第１膜の被覆率を上述の範囲に設定しやすくなる点で、１５０〜２０００μｍが好ましく、２００〜１５００μｍが特に好ましい。
パンチングシートの孔の間隔は、第１膜の被覆率を上述の範囲に設定しやすくなる点で、７０〜１０００μｍが好ましく、７０〜７００μｍが特に好ましい。
パンチングシートの目開きは、第１膜の被覆率を上述の範囲に設定しやすくなる点で、１００〜１０００μｍが好ましく、２００〜７００μｍが特に好ましい。
粘着テープをマスクとして用いること、および、樹脂や塗料の塗布、特に好ましくは印刷をマスクとして用いることは、円形や四角形等の図形、文字、紋様などにおいて自由に形状を調整できる点で好ましい。樹脂や塗料は硬化性のものであっても可塑性のものであってもよく、形状が調整しやすい点で光硬化性のものが好ましい。またこれらの樹脂や塗料は、水や溶剤に容易に溶解するものが、剥離の際に簡便であることから好ましい。
【０１１７】
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
ウェットコーティング法を用いる場合、基材の主表面の第１領域のみに第１膜を配置する方法としては、ドライコーティング法と同様に基材の主表面にマスクを配置した後に、ウェットコーティング法によって組成物を基材の主表面に塗布してもよい。
粘着テープをマスクとして用いること、および、樹脂や塗料の塗布、特に好ましくは印刷をマスクとして用いることは、円形や四角形等の図形、文字、紋様などにおいて自由に形状を調整できる点で好ましい。
なお、ウェットコーティング法の中でも、インクジェット法を用いれば、マスクを使用しないで、基材の主表面の第１領域のみに第１膜を配置できる。
【０１１８】
上記手順によって形成される第１膜には、含フッ素エーテル化合物の加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
【０１１９】
〔他の応用形態〕
本発明の膜付き基材は、意匠性が要求される物品にも応用できる。具体的には、建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器、看板・掲示板、飲用器・食器、水槽、観賞用器具、実験器具、家具、アート・スポーツ・ゲームなどに使用するガラスまたは樹脂等に適用できる。基材の形状は、板状、フィルム状でもよい。
これらの基材の表面には、表面自由エネルギーの異なる領域が形成されているため、水滴が付着した際、その水滴が付着した領域形状に差異が生じる。この差異により光の散乱や反射、透過が変化することで、文字や模様等の意匠が表示されるようになる。具体的にはたとえば、食器や飲用グラスに冷水などを注ぎ冷却した場合に、文字や記号、模様が浮かび上がる。またたとえば窓ガラスや鏡、水槽、掲示、スポーツ・ゲーム用途に使用するガラスが結露した場合に、文字や記号、模様、絵、デザインが浮かび上がる。結露させる方法としては、冷却・昇温などにより基材と空気の間に温度差を生じさせる方法や湿度を上げる方法などが挙げられる。具体的には、氷などで冷却する方法、加湿する方法、息を吹きかける方法などが挙げられる。
また、これらの基材の表面には表面自由エネルギーの異なる領域が形成されているため指紋や油分、汚れが付着した際、その付着量により光の散乱や反射、透過に変化が生じる。これにより、文字や模様等の意匠が表示されるようになる。具体的にはたとえば、スマートフォンの裏面やスポーツ・ゲーム用途に使用するガラスを触ることで指紋を付着させ、指紋付着性の異なる領域において指紋の付着量の差異により文字や記号、模様、絵、デザインが浮かび上がることへの利用が挙げられる。
食器や、水槽、スポーツ・ゲーム・アート用途に使用するガラスに水を注ぎ、水を弾く撥水部と水の溜まる親水部分において水の有無によって模様を浮き出させることや、実験器具に使用するガラス容器に液体を注ぎ、液体が溜まる部分を分けるといった利用が挙げられる。
【実施例】
【０１２０】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の配合量は、質量基準を示す。例４〜１８のうち、例５〜７、１０、１２、１３、１５、１７および１８が実施例、例４、８、９、１１、１４および１６が比較例である。【０１２１】
〔評価方法〕【０１２２】
（被覆率）
飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を測定原理とする装置（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５：製品名、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製）によって、膜付き基材の主表面（第１膜が配置された面）の分析を行い、解析ソフト（Surface Lab 6.7）を用い、Ｆ２−のマッピング像を６４ピクセルでビニング（Binning)し、ＲＯＩ（Region Of Interest）解析を行った。閾値（Threshold）の最小値（Min）を４０％、最大値（Max）を１００％として、ビニングした領域毎に被覆の有無を判断し、ビニングされた領域の総数に対する、被覆有りと判断された領域の数の割合（％）を算出した。この割合（％）を第１膜の被覆率とした。
ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定条件は、以下の通りである。
測定モード：  Ｈｉｇｈ  Ｃｕｒｒｅｎｔ  Ｂｕｎｃｈｅｄ  Ｍｏｄｅ
一次イオン種：  Ｂｉ５＋＋
一次イオンの加速電圧：  ２５ｋＶ
一次イオンの電流値：  ０．０５ｐＡ＠１０ｋＨｚ
サイクルタイム：  １００μｓ
マッピングモード：  ２Ｄ  Ｌａｒｇｅ  Ａｒｅａ  Ｍｏｄｅ
Ｒａｓｔｅｒ：  ｓａｗｔｏｏｔｈ，  １  ｓｈｏｔｓ／ｐｉｘｅｌ
Ｎｕｍｂｅｒ  ｏｆ  Ｓｃａｎｓ：  １
Ｆｒａｍｅｓ  ｐｅｒ  Ｐａｔｃｈ：  ８
Ｆｉｅｌｄ  ｏｆ  Ａｎａｌｙｓｉｓ：  ５×５ｍｍ２
Ｐｉｘｅｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ：  ２５６  ｐｉｘｅｌ／ｍｍ
Ｍａｘｉｍｕｍ  Ｐａｔｃｈ  Ｓｉｄｅ  Ｌｅｎｇｔｈ：  ０．２５ｍｍ
表面電位調整(Use Surface Potential)をしない状態での検出器のＥｘｔｒａｃｔｏｒ：  ２０００Ｖ
表面電位調整(Use Surface Potential)をしない状態での検出器のＥｎｅｒｇｙ：  ２０００Ｖ
電子銃の使用：  有【０１２３】
（水接触角）
膜付き基材の主表面（第１膜が配置された面）に置いた約２μＬの蒸留水の接触角（水接触角）を、接触角測定装置（ＤＭ−５００：製品名、協和界面科学社製）を用いて測定した。主表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
◎（良好）：接触角が１００度以上である。
○（可）  ：接触角が８０度以上１００度未満である。
×（不良）：接触角が８０度未満である。【０１２４】
（指紋汚れ除去性）
膜付き基材の主表面（第１膜が配置された面）に付着した指紋をセルロース製不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）で拭きとり、その取れやすさを目視で判定した。判定基準を以下に示す。
◎（良好）：指紋を完全に拭き取ることができる。
○（可）  ：指紋の拭き取り跡が残る。
×（不良）：指紋の拭き取り跡が広がり、拭き取ることができない。【０１２５】
（耐摩擦性）
耐摩擦性試験後の評価サンプルについて、上記指紋汚れ除去性の評価試験を実施して、同様の評価基準にて指紋汚れ除去性を評価した。耐摩擦試験後の指紋除去性に優れる程、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
＜耐摩擦性試験＞
膜付き基材の主表面（第１膜が配置された面）について、ＪＩＳ  Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ  １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）を荷重：１ｋｇ、摩擦長：４ｃｍ、速度：３０ｒｐｍで１万回往復させた。【０１２６】
（耐滑り性）
主表面が水平に保持された全自動接触角計（ＤＭｏ−７０１；製品名、協和界面化学社製）を準備した。ポリエチレンシート（硬質ポリエチレンシート（高密度ポリエチレン）：製品名、株式会社ハギテック社製）の表面（水平面）上に、第１膜の配置面（主表面）が接するように膜付き基材を載置した後、全自動接触角計を用いて徐々に傾けて、膜付き基材が滑落し始めたときの膜付き基材の第１膜が形成された面と、水平面と、のなす角度（滑落角）を測定した。判定基準を以下に示す。なお、膜付き基材とポリエチレンシートのとの接触面積は６ｃｍ×６ｃｍ、膜付き基材には荷重を０．９８Ｎ与えた条件で測定を行った。
◎（良好）：滑落角が５度以上である。
○（可）  ：滑落角が２度以上５度未満である。
×（不良）：滑落角が２度未満である。【０１２７】
〔例１：合成例〕
国際公開第２０１４／１２６０６４号に記載の化合物（ｉｉ−２）の製造方法を参考にして、化合物３Ａを得た。
化合物３Ａ：ＣＦ３ＣＦ２−ＯＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＡ−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｍＡの平均値：１３、化合物３Ａの数平均分子量：４，９２０。【０１２８】
〔例２：合成例〕
国際公開第２０１７／０３８８３２号の例２に記載の方法にしたがい、化合物３Ｂを得た。
化合物３Ｂ：ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−ＯＣＨＦＣＦ２−ＯＣＨ２ＣＦ２−｛（ＯＣＦ２）ｍＢ１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＢ２｝−ＯＣＦ２−ＣＨ２−Ｎ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２
ｍＢ１の平均値：２１、ｍＢ２の平均値：２０、化合物３Ｂの数平均分子量：４，４７０。【０１２９】
〔例３：合成例〕
国際公開第２０１７／０３８８３０号の例１１に記載の方法にしたがい、化合物３Ｃを得た。
化合物３Ｃ：ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＣ（ＯＣＦ２ＣＦ２）−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３
ｍＣの平均値：１３、化合物３Ｃの数平均分子量：５，４００。【０１３０】
〔例４〕
化合物３Ａと、ハイドロフルオロエーテル（ノベックＨＦＥ７２００：製品名、スリーエム社製）とを混合して、化合物３Ａの濃度が２０質量％である組成物を得た。
得られた組成物を用いて、以下の真空蒸着法にて基材の表面処理を行い、基材である化学強化ガラス（ドラゴントレイルガラス；製品名、ＡＧＣ社製）の主表面の一部に第１膜が形成されてなる評価サンプル（膜付き基材）を得た。なお、基材の表面処理は、基材の主表面に開孔を有するマスク（ミスミ社製の金属メッシュ、目開き８０μｍ、線径５０μｍ）を貼り付けた後に実施した。
具体的には、真空蒸着の処理条件を圧力３．０×１０−３Ｐａとして、基材の主表面に二酸化ケイ素膜（膜厚７ｎｍ）を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、組成物２ｍｇ（すなわち、０．４ｍｇの化合物３Ａ）を蒸着させた。次に、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で、蒸着膜付き基材を２４時間静置した後、ＡＫ−２２５（製品名、ＡＧＣ社製）で洗浄して、基材の主表面の一部に第１膜が配置された評価サンプル（膜付き基材）を得た。
なお、得られた評価サンプルの主表面（第１膜が配置された面）をＦ２−ステージスキャンマッピング像の画像解析結果から確認したところ、マスクの陰になる部分に真空蒸着した組成物が回り込んでおり、主表面の全体に第１膜が配置されていた。この理由としては、金属メッシュの線径が小さいことで、基材とマスクの密着性が低下したためと考えられる。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１に示す。【０１３１】
〔例５〜１８〕
含フッ素エーテル化合物およびマスクの種類を表１の通りに変更した以外は、例４と同様にして、評価サンプル（膜付き基材）を得た。
具体的には、例５、６、９、１０および１２では、マスクとして表１に示す目開きおよび線径の金属メッシュ（ミスミ社製）を用いた。例７、１３、１５および１７では、マスクとして表１に示す目開きおよび孔の間隔の銅箔パンチングシート（福田金属箔粉工業社製）を用いた。例８、１１、１４および１６では、マスクを使用しなかった。
また例１８では、以下の評価サンプルを準備した。ガラス基板に光硬化塗料（十条ケミカル社製ＲＩＰ−１Ｃ）を塗布し、目開き１００μｍ、孔間隔１１０μｍのパンチングメタルをマスクにメタルハライドランプを照射した。その後温水を用いて洗浄し、未硬化の塗料を除去した。これにより円形に硬化膜を印刷したガラス基板を準備した。化合物３Ａの代わりに化合物３Ｂを用いた以外は例４と同様に真空蒸着を行った。エタノール溶液に浸した状態で超音波洗浄機をもちいて印刷物を除去した。残留した塗料を物理的にはがした。印刷した箇所（パンチングメタルの孔の部分）以外の部分に化合物３Ｂが付着した（パンチングメタルの形状と同じ形状に化合物３Ｂが付着した）サンプルを得た。
また、例１５および１６で使用した含フッ素エーテル化合物は、オプツールＵＤ５０９（製品名、ダイキン工業社製）であり、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖および反応性シリル基を有する化合物である。
なお、例５〜７、９、１０、１２、１３、１５、１７および１８について、得られた評価サンプルの主表面（第１膜が配置された面）をＦ２−ステージスキャンマッピング像の画像解析結果から確認したところ、表１に記載の各形状の第１膜が形成されていることが確認できた。第１膜の形状を表１に示す。
ただし、例９については、マスクの陰になる部分に真空蒸着した組成物が回り込み、主表面の全体に第１膜が配置されていた。この理由としては、金属メッシュの線径が小さいことで、基材とマスクの密着性が低下したためと考えられる。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１に示す。【０１３２】
【表１】
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【０１３３】
表１の通り、基材の主表面における一部の領域のみに第１膜を配置すれば（例５〜７、１０、１２、１３、１５、１７および１８）、指紋汚れ除去性および耐滑り性に優れた膜付き基材が得られることを確認した。
これに対して、基材の主表面の全領域に第１膜を配置した場合（例４、８、９、１１、１４および１６）、耐滑り性が劣ることを確認した。
【産業上の利用可能性】
【０１３４】
本発明の膜付き基材は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材、キッチン用防汚部材；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿部材や防汚部材；トイレタリー用防汚部材；導通しながら撥液が必要な部材；熱交換機の撥水・防水・滑水用部材；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器（たとえば、表示部等に使用するガラスまたはフィルム、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラスまたはフィルム）、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水部材、熱交換機の撥水・防水・滑水用部材、太陽電池の撥水部材、プリント配線板の防水・撥水用部材、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水用部材、送電線の絶縁性向上用部材、各種フィルタの防水・撥水用部材、電波吸収材や吸音材の防水用部材、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚部材、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品、工具等の表面保護用部材等が挙げられる。【０１３５】
また意匠性を付与が求められている各種の用途に用いることができる。
たとえば家やビルなどの外装に使用される窓などの建築用部材や鏡、看板、掲示板、スクリーン、風呂などの装飾建材、水槽、車や飛行機などに使用される輸送機器用部品、アート、スポーツ、ゲーム等に使用される部材、コップやビン、皿などの食器や飲用ボトルなどのキッチン用品、ビーカーやメスシリンダー、湿度計などの実験用機器、携帯電話（たとえばスマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材が挙げられる。
本膜付き基材を上記部材として用いる場合、上記部材を有する物品は、本膜付き基材を複数有していてもよい。また、上記部材を有する物品は、本膜付き基材以外に含フッ素エーテル化合物の被覆率が８０超〜１００％である（好ましくは１００％）基材を有していてもよい。その場合、含フッ素エーテル化合物の好ましい範囲や例示は、本膜付き基材に使用する含フッ素エーテル化合物と同様である。ただし、意匠性が必要な用途に使用する場合には、被覆率の適正値としては特に好ましい値はない。
なお、２０１８年０３月１６日に出願された日本特許出願２０１８−０５００７７号及び２０１８年０９月２７日に出願された日本特許出願２０１８−１８１６２０号の明細書、特許請求の範囲、要約書及び図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【０１３６】
１０，２０，３０，４０，５０  膜付き基材
１２，２２，３２，４２，５２  基材
１２ａ，２２ａ，３２ａ  第１領域
１２ｂ，２２ｂ，３２ｂ  第２領域
１２Ｘ，１２Ｙ  面
１４，２４，３４，４４，５４  第１膜
４２ａ  中央領域（第１領域）
４２ｂ  周縁領域（第２領域）
５２ａ  連続領域（第１領域）
５２ｂ  分散領域（第２領域）
ｔ  厚み方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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