(57)【要約】  分散性と、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等に優れた層（塗膜）の形成性とに優れた、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーを含む分散液の提供。  テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーと溶媒と分散剤とを含む前記パウダーが粒子状に分散した分散液であって、前記分散剤が、エーテル性酸素原子を含んでいてもよい１価含フッ素炭化水素基と、ｔｅｒｔ−アルコキシカルボニル基、ｓｅｃ−アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、ポリオキシアルキレン基及びアルコール性水酸基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基とを有するポリマーである、分散液。【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーと溶媒と分散剤とを含む前記パウダーが粒子状に分散した分散液であって、前記分散剤が、エーテル性酸素原子を含んでいてもよい１価含フッ素炭化水素基と、ｔｅｒｔ−アルコキシカルボニル基、ｓｅｃ−アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、ポリオキシアルキレン基及びアルコール性水酸基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基とを有するポリマーである、分散液。
【請求項２】
前記分散剤が、下式（ＦＩ）で表されるモノマーに基づく単位と下式（ＨＩ）で表されるモノマーに基づく単位を含むポリマーである、請求項１に記載の分散液。
式（ＦＩ）  ＣＨ２＝ＣＲＦＩＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦＩ−ＺＦＩ
式（ＨＩ）  ＣＨ２＝ＣＲＨＩＣ（Ｏ）ＯＣ（−Ｘ１Ｉ）（−Ｘ２Ｉ）（−Ｘ３Ｉ）
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＲＦＩは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＲＨＩは、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
ＱＦＩは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＺＦＩは、ポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉは、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉがそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉが水素原子でありＸ３Ｉがアリール基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉがそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基でありＸ３Ｉがアルコキシ基であるか、Ｘ１Ｉが水素原子又はアルキル基でありＸ２Ｉ及びＸ３Ｉが共同してアルキレン基を形成するか、のいずれかである。
【請求項３】
前記分散剤が、下式（ＦII）で表されるモノマーで表される単位と下式（ＨII）で表されるモノマーに基づく単位を含むポリマーである、請求項１に記載の分散液。
式（ＦII）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIＣ（Ｏ）−ＱＦII−（ＯＺＦII）ｎII−ＯＲＦII
式（ＨII）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨII）ｍII−ＯＲＨII
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦIIは、水素原子又はメチル基を示す。
ＱＦIIは、２価連結基を示す。
ＺＦIIは、ペルフルオロアルキレン基を示す。
ｎIIは、２〜３０の整数を示す。
ＲＦIIは、ペルフルオロアルキル基を示す。
ＸＨIIは、水素原子又はメチル基を示す。
ＺＨIIは、アルキレン基を示す。
ｍIIは、３〜２００の整数を示す。
ＲＨIIは、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。
【請求項４】
前記分散剤が、下式（ＦIII）で表されるモノマーに基づく単位とアルキル（メタ）アクリレートに基づく単位と下式（ＨIII）で表されるモノマーに基づく単位とアクリロニトリル又はアクリルアミドに基づく単位とを含むポリマーである、請求項１に記載の分散液。
式（ＦIII）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIIＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦIII−ＲＦIII
式（ＨIII）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIII）ｍIII−ＯＲＨIII
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦIIIは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＱＦIIIは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＲＦIIIは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
ＸＨIIIは、水素原子又はメチル基を示す。
ＺＨIIIは、アルキレン基を示す。
ｍIIIは、３〜２００の整数を示す。
ＲＨIIIは、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。
【請求項５】
前記分散剤が、下式（ＦIV）で表されるモノマーに基づく単位と下式（ＨIV）で表されるモノマーに基づく単位とを含み、フッ素含有量が１５〜５０質量％かつポリオキシアルキレン基含有量が１０〜７０質量％のポリマーである、請求項１に記載の分散液。
式（ＦIV）  ＣＨ２＝ＣＸＦIVＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦIV−ＲＦIV
式（ＨIV）  ＣＨ２＝ＣＸＨIVＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIV）ｍIV−ＯＲＨIV
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦIVは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＱＦIVは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＲＦIVは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
ＸＨIVは、水素原子又はメチル基を示す。
ＺＨIVは、アルキレン基を示す。
ｍIVは、３〜２００の整数を示す。
ＲＨIVは、アルキル基又はアリール基を示す。
【請求項６】
前記分散剤が、下式（ＦＶ）で表されるモノマーに基づく単位と下式（ＨＶ）で表されるモノマーに基づく単位を含み、フッ素含有量が２０〜４０質量％かつ水酸基価が１５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリマーである、請求項１に記載の分散液。
式（ＦＶ）  ＣＨ２＝ＣＸＦＶＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦＶ−ＲＦＶ
式（ＨＶ）  ＣＨ２＝ＣＸＨＶＣ（Ｏ）−ＱＨＶ−ＯＨ
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦＶは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＱＦＶは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＲＦＶは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
ＸＨＶは、水素原子又はメチル基を示す。
ＱＨＶは、アルキレン基又はシクロアルキレン基を示す。
【請求項７】
前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ポリマーに含まれる全単位に対して、テトラフルオロエチレンに基づく単位を９９．５モル％以上含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の分散液。
【請求項８】
前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ポリマーに含まれる全単位に対して、テトラフルオロエチレン以外のコモノマーに基づく単位を０．５モル％超含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の分散液。
【請求項９】
テトラフルオロエチレン系ポリマーが、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、アミド基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の分散液。
【請求項１０】
前記パウダーの体積基準累積５０％径が、０．０５〜６μｍである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の分散液。
【請求項１１】
前記溶媒が、極性溶媒である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の分散液。
【請求項１２】
前記溶媒が、ケトン、エステル及びアミドからなる群から選ばれる１種以上の溶媒からなる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の分散液。
【請求項１３】
前記溶媒が、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン又はＮ−メチル−２−ピロリドンである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の分散液。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の分散液を金属箔の表面に塗布し、金属箔を加熱して、前記テトラフルオロエチレン系ポリマーを含む樹脂層を有する樹脂付金属箔を得る、樹脂付金属箔の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の製造方法で樹脂付金属箔を製造し、樹脂付金属箔の金属箔をエッチングしてパターン回路を形成する、プリント基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダー及び特定の分散剤を含むパウダー分散液と、樹脂付金属箔及びプリント基板の製造方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のテトラフルオロエチレン系ポリマーは、耐薬品性、撥水撥油性、耐熱性、電気特性等の物性に優れており、パウダー、分散液、フィルム等の種々の使用形態と、その物性を活用した種々の用途とが知られている（特許文献１及び２を参照。）。
近年では、低誘電率、低誘電正接等の電気特性と半田リフローにも耐える耐熱性とに優れ、高周帯域の周波数に対応するプリント基板材料として、テトラフルオロエチレン系ポリマーが注目されている。
金属箔の表面に絶縁樹脂層を有する樹脂付金属箔は、金属箔をエッチング加工してプリント基板として用いられる。伝送特性に優れるプリント基板を得るために、その絶縁樹脂層として、比誘電率及び誘電正接が低いテトラフルオロエチレン系ポリマーが検討されている。テトラフルオロエチレン系ポリマーを含む樹脂層を有する樹脂付金属箔を形成するための種々の材料が提案されている。【０００３】
特許文献１には、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーが溶媒に分散したパウダー分散液が提案されている。このパウダー分散液は、配合成分により樹脂付金属箔の諸物性を任意に調整できる利点や金属箔の表面に塗布乾燥するだけで樹脂付金属箔を形成できる利点がある。
特許文献３には、ＰＴＦＥのパウダーと、含フッ素ブロック部位を有する（メタ）アクリレート（ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＨ３）Ｏ（ＣＦ２）６Ｆ等。）及びアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート（ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）１０ＯＨ等。）のコポリマーと、溶媒とを含むパウダー分散液から樹脂付銅箔を製造する方法が記載されている。
特許文献４には、ＰＴＦＥのパウダーが溶媒に分散した分散液から形成されたＰＴＦＥ層を有する樹脂付金属箔、その金属箔に伝送回線を形成してプリント基板とする方法が記載されている。
特許文献５には、ＰＴＦＥのパウダーを含む分散液が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１８／０１６６４４号
【特許文献２】特開２０１８−０４８２３３号公報
【特許文献３】特開２０１７−１９３６５５号公報
【特許文献４】特表２０１５−５０９１１３号公報
【特許文献５】国際公開第２０１６／１５９１０２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
テトラフルオロエチレン系ポリマーは本質的に表面張力が低く他の材料との相互作用が低いため、そのパウダー分散液は分散性が低い。分散性を改善するために、分散液に分散剤を配合する場合、分散液の粘度が高くなり、希釈成分（溶媒等）量を多くせざるを得ず、層（塗膜）を形成する方法が制限されたり、その製造効率が低下したり、他の添加剤の配合が限定される場合がある。
また、分散液から形成されるテトラフルオロエチレン系ポリマーを含む層（塗膜）の物性（濡れ性、接着性、平滑性等）が低下する場合がある。特に、分散液の分散媒が有機溶媒である場合、分散性と層（塗膜）形成性の低下が顕著になり易い。
さらに、プリント基板の製造態様として、テトラフルオロエチレン系ポリマーを含む樹脂層の表面に他の基板（プリプレグ等。）を積層した樹脂付金属箔を多層化する態様や、前記樹脂層の表面に他の基板（カバーレイフィルム等。）を積層してパッケージングする態様がある。これらの態様においては、プリント基板の電気特性や生産性の観点から、金属箔と樹脂層の物性を損なわずに、前記樹脂層と他の基板を強固に積層する必要がある。
しかし、特許文献３の樹脂付銅箔の接着性は、コポリマー中の含フッ素ブロック部位の脱離に伴うコポリマーの分解により発現するとされているが、コポリマーを分解させるには高温環境に銅箔を放置する必要がある（特許文献３の［０００７］、［０２１０］等の記載を参照。）。かかる目的で樹脂付金属箔を高温環境に放置すると、金属箔が錆びにより劣化する現象や樹脂層の形成がコポリマーの分解に阻害されて樹脂層の均質性が低下する現象により、樹脂付金属箔の物性が損なわれる場合がある。【０００６】
本発明者らは、特定の分散剤の使用により、これらの現象を抑制し、樹脂付金属箔の物性を損なわずに、接着性に優れたフッ素樹脂層を有する樹脂付金属箔を形成できるパウダー分散液を見出した。つまり、粘度が比較的低く、分散性と層（塗膜）形成性とを具備する、テトラフルオロエチレン系ポリマーを含むパウダーの分散液を見い出した。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記の分散液、樹脂付金属箔の製造方法、及びプリント基板の製造方法である。
［１］テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーと溶媒と分散剤とを含む前記パウダーが粒子状に分散した分散液であって、前記分散剤が、エーテル性酸素原子を含んでいてもよい１価含フッ素炭化水素基と、ｔｅｒｔ−アルコキシカルボニル基、ｓｅｃ−アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、ポリオキシアルキレン基及びアルコール性水酸基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基とを有するポリマーである、分散液。【０００８】
［２］前記分散剤が、下式（ＦＩ）で表されるモノマーに基づく単位と下式（ＨＩ）で表されるモノマーに基づく単位を含むポリマーである、［１］に記載の分散液。
式（ＦＩ）  ＣＨ２＝ＣＲＦＩＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦＩ−ＺＦＩ
式（ＨＩ）  ＣＨ２＝ＣＲＨＩＣ（Ｏ）ＯＣ（−Ｘ１Ｉ）（−Ｘ２Ｉ）（−Ｘ３Ｉ）
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＲＦＩは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＲＨＩは、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
ＱＦＩは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＺＦＩは、ポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉは、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉがそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉが水素原子でありＸ３Ｉがアリール基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉがそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基でありＸ３Ｉがアルコキシ基であるか、Ｘ１Ｉが水素原子又はアルキル基でありＸ２Ｉ及びＸ３Ｉが共同してアルキレン基を形成するか、のいずれかである。【０００９】
［３］前記分散剤が、下式（ＦII）で表されるモノマーで表される単位と下式（ＨII）で表されるモノマーに基づく単位を含むポリマーである、［１］に記載の分散液。
式（ＦII）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIＣ（Ｏ）−ＱＦII−（ＯＺＦII）ｎII−ＯＲＦII
式（ＨII）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨII）ｍII−ＯＲＨII
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦIIは、水素原子又はメチル基を示す。
ＱＦIIは、２価連結基を示す。
ＺＦIIは、ペルフルオロアルキレン基を示す。
ｎIIは、２〜３０の整数を示す。
ＲＦIIは、ペルフルオロアルキル基を示す。
ＸＨIIは、水素原子又はメチル基を示す。
ＺＨIIは、アルキレン基を示す。
ｍIIは、３〜２００の整数を示す。
ＲＨIIは、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。【００１０】
［４］前記分散剤が、下式（ＦIII）で表されるモノマーに基づく単位とアルキル（メタ）アクリレートに基づく単位と下式（ＨIII）で表されるモノマーに基づく単位とアクリロニトリル又はアクリルアミドに基づく単位とを含むポリマーである、［１］に記載の分散液。
式（ＦIII）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIIＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦIII−ＲＦIII
式（ＨIII）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIII）ｍIII−ＯＲＨIII
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦIIIは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＱＦIIIは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＲＦIIIは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
ＸＨIIIは、水素原子又はメチル基を示す。
ＺＨIIIは、アルキレン基を示す。
ｍIIIは、３〜２００の整数を示す。
ＲＨIIIは、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。【００１１】
［５］前記分散剤が、下式（ＦIV）で表されるモノマーに基づく単位と下式（ＨIV）で表されるモノマーに基づく単位とを含み、フッ素含有量が１５〜５０質量％かつオキシアルキレン基含有量が１０〜７０質量％のポリマーである、［１］に記載の分散液。
式（ＦIV）  ＣＨ２＝ＣＸＦIVＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦIV−ＲＦIV
式（ＨIV）  ＣＨ２＝ＣＸＨIVＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIV）ｍIV−ＯＲＨIV
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦIVは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＱＦIVは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＲＦIVは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
ＸＨIVは、水素原子又はメチル基を示す。
ＺＨIVは、アルキレン基を示す。
ｍIVは、３〜２００の整数を示す。
ＲＨIVは、アルキル基又はアリール基を示す。【００１２】
［６］前記分散剤が、下式（ＦＶ）で表されるモノマーに基づく単位と下式（ＨＶ）で表されるモノマーに基づく単位を含み、フッ素含有量が２０〜４０質量％かつ水酸基価が１５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリマーである、［１］に記載の分散液。
式（ＦＶ）  ＣＨ２＝ＣＸＦＶＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦＶ−ＲＦＶ
式（ＨＶ）  ＣＨ２＝ＣＸＨＶＣ（Ｏ）−ＱＨＶ−ＯＨ
式中の記号は、下記の意味を示す。
ＸＦＶは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
ＱＦＶは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
ＲＦＶは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
ＸＨＶは、水素原子又はメチル基を示す。
ＱＨＶは、アルキレン基又はシクロアルキレン基を示す。【００１３】
［７］前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ポリマーに含まれる全単位に対して、テトラフルオロエチレンに基づく単位を９９．５モル％以上含む、［１］〜［６］のいずれかに記載の分散液。
［８］前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ポリマーに含まれる全単位に対して、テトラフルオロエチレン以外のコモノマーに基づく単位を０．５モル％超含む、［１］〜［６］のいずれかに記載の分散液。
［９］テトラフルオロエチレン系ポリマーが、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、アミド基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する、［１］〜［８］のいずれかに記載の分散液。
［１０］前記パウダーの体積基準累積５０％径が、０．０５〜６μｍである、［１］〜［９］のいずれかに記載の分散液。【００１４】
［１１］前記溶媒が、極性溶媒である、［１］〜［１０］のいずれかに記載の分散液。
［１２］前記溶媒が、ケトン、エステル及びアミドからなる群から選ばれる１種以上の溶媒からなる、［１］〜［１１］のいずれかに記載の分散液。
［１３］前記溶媒が、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン又はＮ−メチル−２−ピロリドンである、［１］〜［１２］のいずれかに記載の分散液。【００１５】
［１４］前記［１］〜［１３］のいずれかに記載の分散液を金属箔の表面に塗布し、金属箔を加熱して、前記テトラフルオロエチレン系ポリマーを含む樹脂層を有する樹脂付金属箔を得る、樹脂付金属箔の製造方法。
［１５］前記［１４］に記載の製造方法で樹脂付金属箔を製造し、樹脂付金属箔の金属箔をエッチングしてパターン回路を形成する、プリント基板の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、異種の樹脂材料（そのワニスを含む。）との混合性、塗工性及び分散性にも優れたパウダー分散液であり、金属箔等の基材の物性を損なうことなく、接着性に優れたフッ素樹脂層を有する樹脂付金属箔等を容易に形成できるパウダー分散液が提供される。
本発明の分散液は、分散性と、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等の層（塗膜）の形成性とに優れた、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーを含む分散液である。本発明の分散液から形成される層（塗膜）（以下、「層（塗膜）」とも記す。）は、濡れ性と接着性とに特に優れており、プリント基板の材料として有用な樹脂付金属箔等の製造に好適に使用できる。本発明の分散液は、比較的低粘度でもあり、再分散性にも優れており、前記樹脂層は光線透過率と透明性にも優れる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下の用語は、以下の意味を有する。
「パウダーのＤ５０」は、レーザー回折・散乱法によって求められるパウダーの体積基準累積５０％径である。すなわち、レーザー回折・散乱法によってパウダーの粒度分布を測定し、パウダーの粒子の集団の全体積を１００％として累積カーブを求め、その累積カーブ上で累積体積が５０％となる点の粒子径である。「パウダーのＤ９０」は、同様にして求められるパウダーの体積基準累積９０％径である。
「ポリマーの溶融粘度」は、ＡＳＴＭ  Ｄ  １２３８に準拠し、フローテスター及び２Φ−８Ｌのダイを用い、予め測定温度にて５分間加熱しておいたポリマーの試料（２ｇ）を０．７ＭＰａの荷重にて測定温度に保持して測定した値である。
「ポリマーの溶融温度」は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）法で測定した融解ピークの最大値に対応する温度である。
「粘度」は、Ｂ型粘度計を用いて、室温下（２５℃）で回転数が３０ｒｐｍの条件下で測定される値である。測定を３回繰り返し、３回分の測定値の平均値とする。
「チキソ比」は、回転数が３０ｒｐｍの条件で測定される粘度η１を回転数が６０ｒｐｍの条件で測定される粘度η２で除して算出される値（η１／η２）である。
「十点平均粗さ（ＲｚＪＩＳ）」は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１３の附属書ＪＡで規定される値である。
【００１８】
ポリマーにおける「単位」は、重合反応によってモノマーから直接形成された原子団であってもよく、重合反応によって得られたポリマーを所定の方法で処理して、構造の一部が変換された原子団であってもよい。なお、特定のモノマーに基づく単位を、「単位」の後にモノマー名を付して表すことがある。例えば、モノマーＦＩに基づく単位を「単位ＦＩ」とも記す。
「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称であり、（メタ）アクリルアミド誘導体はアクリルアミド誘導体とメタクルアミド誘導体の総称である。
「（メタ）アクリロイルオキシ基」は、アクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基の総称であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基の総称である。
「熱分解開始温度」は、熱重量測定装置（ＴＧ）、熱重量示差熱分析装置（ＴＧ−ＤＴＡ）を使用し、分散剤（１０ｍｇ）を、混合ガス（ヘリウム９０体積％と酸素１０体積％）雰囲気下、１０℃／分のペースにて昇温させた際に、その質量減少率が１質量％／分以上となる温度である。
【００１９】
本発明の分散液は、テトラフルオロエチレン系ポリマー（以下、「ＴＦＥ系ポリマー」とも記す。）のパウダー（以下、「Ｆパウダー」とも記す。）と溶媒と分散剤とを含む、Ｆパウダーが粒子状に分散した分散液である。
前記分散剤は、エーテル性酸素原子を含んでいてもよい１価含フッ素炭化水素基と、ｔｅｒｔ−アルコキシカルボニル基、ｓｅｃ−アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、ポリオキシアルキレン基及びアルコール性水酸基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有するポリマー（ポリマー分散剤）である。なお、前記１種の基中のアルキル基は、炭素原子−炭素原子結合の一部に不飽和結合（２重結合又は３重結合）が含まれていてもよく、環構造を形成していてもよい。
【００２０】
ポリマー分散剤は、ＴＦＥ系ポリマーとは異なるポリマーである。
ポリマー分散剤は、前記１価含フッ素炭化水素基と前記１種の基とを、それぞれポリマーの側鎖に有することが好ましい。
ポリマー分散剤のフッ素含有量は、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましく、２５〜４５質量％が特に好ましい。
ポリマー分散剤がポリオキシアルキレン基を有する場合、ポリマー分散剤のポリオキシアルキレン基の含有量は、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。なお、以下、ポリマー分散剤中のポリオキシアルキレン基含有量を「ＡＯ含有量」とも記す。
ポリマー分散剤がアルコール性水酸基を有する場合、ポリマー分散剤の水酸基価は、１０〜３３０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。
【００２１】
前記１価含フッ素炭化水素基は、ポリフルオロアルキル基、ポリフルオロアルケニル基又はペルフルオロ（オキシアルキレン）基を有する基であることが好ましい。なお、前記１価フッ素炭化水素基は、メチレンジオキシ基又はその誘導基（−ＯＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−等）を有さないことが好ましい。
前記ｔｅｒｔ−アルコキシカルボニル基は、式−Ｃ（Ｏ）ＯＣ（−ＸＴ）３で表される基であることが好ましい。式中の３個のＸＴは、同一であってもよく、異なってもよく、１価炭化水素基を示す。また、２個のＸＴが共同して２価炭化水素基を形成していてもよい。
前記ｓｅｃ−アルコキシカルボニル基は、式−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ（−ＸＳ）２で表される基であることが好ましい。式中の２個のＸＳは、同一であってもよく、異なってもよく、１価炭化水素基を示す。また、２個のＸＳが共同して２価炭化水素基を形成していてもよい。
前記アラルキルオキシカルボニル基は、式−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒで表される基であることが好ましい。式中のＡｒはアリール基を示す。
前記ポリオキシアルキレン基を構成するオキシアルキレン基の炭素数は２〜４が好ましく、特に２が好ましい。また、ポリオキシアルキレン基は２種以上のオキシアルキレン基から構成されていてもよい。ポリオキシアルキレン基を構成するオキシアルキレン基の数は、２〜２００が好ましい。ポリオキシアルキレン基は２価の基であるが、その片末端の炭素原子に水酸基が結合しているか１価の基が結合している１価の基であってもよい。ポリオキシアルキレン基を有する１価の基としては、ポリオキシアルキレン基の末端炭素原子に、結合末端に酸素原子を有する１価の基（アルコキシ基、アリールオキシ基等）又は水酸基を有する、ポリオキシアルキレン基が好ましい。
【００２２】
本発明の第１の好適な分散液（以下、「分散液Ｉ」とも記す。）は、ポリマー分散剤が、１価含フッ素炭化水素基と、ｔｅｒｔ−アルコキシカルボニル基、ｓｅｃ−アルコキシカルボニル基及びアラルキルオキシカルボニル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基とをそれぞれ側鎖に有するポリマー（ポリマー分散剤Ｉ）である、分散液である。
分散液Ｉから、その物性を損なうことなく、ＴＦＥ系ポリマーを含む、接着性に優れた層（塗膜）を有する物品（樹脂付金属箔等。）を容易に製造できる理由は、必ずしも明確ではないが、以下の様に考えられる。
分散液Ｉは、Ｆパウダーがポリマー分散剤Ｉのフルオロ部位との相互作用により高度に安定化されるため、分散安定性に優れていると考えられる。さらに、ポリマー分散剤Ｉは、低温雰囲気にて側鎖の特定部位（前記１種の基）が脱離して、親水成分を形成すると考えられる。そのため、分散液Ｉから層（塗膜）を形成するに際して、具体的には、分散液Ｉから溶媒を加熱留去するに際して、かかる親水成分が生成し、Ｆパウダーの密なパッキングを促すだけでなく、被膜表面に流動し親水性の層（塗膜）の形成を促すとも考えられる。その結果、分散液Ｉからは、ＴＦＥ系ポリマーや基材（金属箔等。）の物性を損なうことなく、表面の親水性と均質性が高く、接着性に優れた層（塗膜）を容易に形成できたと考えられる。
【００２３】
ポリマー分散剤Ｉとしては、ポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基と式−ＯＣ（−Ｘ１Ｉ）（−Ｘ２Ｉ）（−Ｘ３Ｉ）で表される基とを側鎖に有するポリマーが好ましい。
式中、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉは、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉがそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉが水素原子でありＸ３Ｉがアリール基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉがそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基でありＸ３Ｉがアルコキシ基であるか、Ｘ１Ｉが水素原子又はアルキル基でありＸ２Ｉ及びＸ３Ｉが共同してアルキレン基を形成するか、のいずれかである。
なお、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉが共同して形成されるアルキレン基は、直鎖状であってよく分岐状であってもよく、基中に環構造を形成していてもよい。また、前記アルキレン基中には、不飽和結合又はヘテロ原子が含まれていてもよい。
【００２４】
ポリフルオロアルキル基としては、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基が好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ及び−（ＣＦ２）６Ｆが特に好ましい。ポリフルオロアルケニル基としては、炭素数１〜１２のペルフルオロアルケニル基が好ましく、−ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）が特に好ましい。
Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉの炭素数は、それぞれ独立に、１〜１６が好ましい。
Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉは、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉがそれぞれ独立にアルキル基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉが水素原子でありＸ３Ｉがアリール基であるか、Ｘ１Ｉが水素原子でありＸ２Ｉ及びＸ３Ｉが共同してアルキレン基を形成するか、のいずれかであることが好ましく、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉがそれぞれ独立にメチル基であるか、Ｘ１Ｉ及びＸ２Ｉが水素原子でありＸ３Ｉがフェニル基であるか、Ｘ１Ｉは水素原子でありＸ２Ｉ及びＸ３Ｉは共同してヘキシレン基又は橋かけ環構造を有するアルキレン基を形成するか、のいずれかであることが特に好ましい。
式−ＯＣ（−Ｘ１Ｉ）（−Ｘ２Ｉ）（−Ｘ３Ｉ）で表される基の具体例としては、下記の基が挙げられる。式中、＊は、結合手である。
【００２５】
【化１】
2019235439.tif 000002
【００２６】
ポリマー分散剤Ｉとしては、式ＣＨ２＝ＣＲＦＩＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦＩ−ＺＦＩで表されるモノマー（モノマーＦＩ）に基づく単位（単位ＦＩ）と式ＣＨ２＝ＣＲＨＩＣ（Ｏ）ＯＣ（−Ｘ１Ｉ）（−Ｘ２Ｉ）（−Ｘ３Ｉ）で表されるモノマー（モノマーＨＩ）に基づく単位（単位ＨＩ）を含むポリマーが好ましい。
式中、ＲＦＩは、水素原子、塩素原子又はメチル基を示す。
式中、ＲＨＩは、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
式中、ＱＦＩは、アルキレン基又はオキシアルキレン基を示す。
式中、ＺＦＩは、ポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基を示す。
式中、Ｘ１Ｉ、Ｘ２Ｉ及びＸ３Ｉは、それぞれ前記と同じ意味を示し、好適な範囲も同じある。
ＲＦＩ及びＲＨＩは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
ＱＦＩ及びＺＦＩにおける炭素含有基の炭素数は、それぞれ独立に、１〜１６であることが好ましい。
ＱＦＩは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−であることが好ましい。
ＺＦＩは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基又は炭素数１〜１２のペルフルオロアルケニル基であることが好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ又は−ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）であることが特に好ましい。
【００２７】
モノマーＦＩの具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＣｌＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝ＣＣｌＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）が挙げられる。モノマーＦＩは、１種を単独使用してもよく、２種以上を使用してもよい。
【００２８】
モノマーＨＩの具体例としては、下記モノマーが挙げられる。モノマーＨＩは、１種を単独使用してもよく、２種以上を使用してもよい。
【化２】
2019235439.tif 000003
【００２９】
ポリマー分散剤Ｉに含まれる全単位に対する単位ＦＩの含有量は、２０〜６０モル％が好ましく、２０〜４０モル％が特に好ましい。
ポリマー分散剤Ｉに含まれる全単位に対する単位ＨＩの含有量は、４０〜８０モル％が好ましく、６０〜８０モル％が特に好ましい。
ポリマー分散剤Ｉは、単位ＦＩと単位ＨＩに基づく単位のみからなっていてもよく、さらに他の単位をさらに含んでいてもよい。
ポリマー分散剤Ｉのフッ素含有量は、１０〜４５質量％が好ましく、１５〜４０質量％が特に好ましい。
ポリマー分散剤Ｉは、ノニオン性であることが好ましい。
ポリマー分散剤Ｉの質量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、６０００〜２００００が特に好ましい。
【００３０】
本発明の第２の好適な分散液（以下、「分散液II」とも記す。）は、ポリマー分散剤がペルフルオロポリエーテル鎖を有する（メタ）アクリレートに基づく単位を含むポリマー（ポリマー分散剤II）である、分散液である。
分散液IIは、分散性に優れており、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等の層（塗膜）の形成性にも優れている。その理由は必ずしも明確ではないが、以下の様に考えらえる。
ポリマー分散剤II中のペルフルオロポリエーテル鎖は、フッ素原子を含有するので、ＴＦＥ系ポリマーとの親和性に優れている。ペルフルオロポリエーテル鎖は、エーテル性酸素原子を含有するので、ペルフルオロアルキレン鎖と比較して分子運動性が高まり、ポリマー分散剤IIはＦパウダー粒子に絡み付き易くなっていると考えられる。一方、ポリマー分散剤IIの主たるポリマー鎖を構成するポリ（メタ）アクリロイルオキシ部位は、分子運動性が高く、親溶媒性に優れる。したがって、ポリマー分散剤IIを含む分散液は、分散性に優れ、ポリマー分散剤IIから形成される塗膜（塗膜）は、物性（濡れ性、接着性、平滑性等）に優れる。また、理由は定かではないが、分子運動性が高い部位からポリマーの主要部が構成されるポリマー分散剤IIを用いると、分散液の粘度が低くなり易く、分散液は種々の溶媒や他の添加剤に対して高い相溶性を発現する。
【００３１】
ポリマー分散剤IIは、ペルフルオロポリエーテル鎖と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマーに基づく単位を含む。
かかるモノマーは、（メタ）アクリロイルオキシ基とペルフルオロポリエーテル鎖とを有するモノマー及び式ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＮＨ−で表される基とペルフルオロポリエーテル鎖とを有するモノマーの総称であり、前者は（メタ）アクリレート誘導体であり、後者は（メタ）アクリルアミド誘導体である。さらに、かかるモノマーには、単官能の（メタ）アクリレートのみならず、ペルフルオロポリエーテル鎖の両端部に（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２官能の（メタ）アクリレートも包含される。
【００３２】
かかるモノマーとしては、下式（ＦII）で表されるモノマー（モノマーＦII）が好ましい。かかるモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、形成される層（塗膜）の濡れ性、接着性等の物性がより向上し易い。
式（ＦII）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIＣ（Ｏ）−ＱＦII−（ＯＺＦII）ｎII−ＯＲＦII
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＦIIは、水素原子又はメチル基である。
ＱＦIIは、２価連結基であり、−ＯＣＨ２ＣＦ２−、−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＯＮＨＣ（Ｏ）−、−ＯＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＣＦ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２−又は−ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＣＦ２−であることが好ましい。
ＺＦIIは、ペルフルオロアルキレン基であり、炭素数１〜４のペルフルオロアルキレン基であることがより好ましく、ジフルオロメチレン基（−ＣＦ２−）又はペルフルオロエチレン基（−ＣＦ２ＣＦ２−）であることが特に好ましい。なお、ＺＦIIは、１種の基からなっていてもよく、２種以上の基からなっていてもよい。後者の場合、異種のペルフルオロアルキレン基の並び方は、ランダム状であってもよく、ブロック状であってもよい。
ｎIIは、２〜３０であり、３〜２０が好ましい。
ＲＦIIは、ペルフルオロアルキル基であり、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であることが好ましく、−ＣＦ３又は−ＣＦ２ＣＦ３であることが特に好ましい。
【００３３】
モノマーＦIIは、下式（ＦII１）で表されるモノマーであることがより好ましい。
式（ＦII１）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIＣ（Ｏ）−ＱＦII１−（ＯＣＦ２）ｎII１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎII２−ＯＲＦII１
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＦIIは、上記と同じ意味を示す。
ＱＦII１は、−ＯＣＨ２ＣＦ２−、−ＮＨＣ（Ｏ）−、−ＯＮＨＣ（Ｏ）−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＣＦ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２−又は−ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＣＦ２−を示す。
ｎII１は０〜２０であり、ｎII２は２〜３０であり、両者の和は２〜３０である。
ＲＦII１は、−ＣＦ３又は−ＣＦ２ＣＦ３を示す。
上記モノマーのうち、ジフルオロオキシメチレン基（−ＯＣＦ２−）を有するモノマーは、高温雰囲気下での分解性にも優れるため、層（塗膜）の表面の濡れ性を向上させ易い。
【００３４】
ポリマー分散剤IIは、単位ＦIIのみを含んでいてもよく、単位ＦII以外の単位をさらに含んでいてもよい。
ポリマー分散剤IIは、単位ＦII以外に、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位を含むことが好ましい。この場合、上述したとおり、ポリマー分散剤IIの分子運動性がさらに向上し、分散液の粘度を低くし、種々の溶媒や他の添加剤に対する相溶性をさらに向上させ易い。
【００３５】
前記ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートとしては、下式（ＨII）で表されるモノマー（モノマーＨII）が好ましい。かかる所定範囲の鎖長を有するモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、層（塗膜）の濡れ性、接着性、平滑性等の物性がより向上し易い。
式（ＨII）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨII）ｍII−ＯＲＨII
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＨIIは、水素原子又はメチル基である。
ＺＨIIは、アルキレン基であり、炭素数１〜４のアルキレン基であることが好ましく、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）又はｎ−ブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）であることが特に好ましい。なお、ｍII個のＺＨIIは、１種の基からなっていてもよく、２種以上の基からなっていてもよい。後者の場合、異種のアルキレン基の並び方は、ランダム状であってもよく、ブロック状であってもよい。
ｍIIは、３〜２００の整数である。
ＲＨIIは、水素原子、アルキル基又はアリール基であり、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜３０のアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基、ノニル基、ラウリル基、ステアリル基、フェニル基、ステアリルフェニル基、ラウリルフェニル基又はノニルフェニル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はノニルフェニル基であることが特に好ましい。
【００３６】
前記モノマーＨIIの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）２３ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６６ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９０ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１２０ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）８ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））４ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））８ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））９ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））１３ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４・（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））３ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１０・（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）５ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）２３ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６６ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９０ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１２０ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３０Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３０Ｏ（ＣＨ２）１８Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＣＨ３、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））５Ｏ−Ｐｈｙ−（ＣＨ２）９Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６・（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））５Ｏ−Ｐｈが挙げられる。なお、上記式中、−Ｐｈｙ−はフェニレン基を、Ｐｈはフェニル基を、示す。
【００３７】
上記の中でも、前記モノマーＨIIとしては、下式（ＨII１）で表されるモノマー又は下式（ＨII２）で表されるモノマーが好ましい。
式（ＨII１）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨII）ｍII１−ＯＨ
式（ＨII２）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨII）ｍII２−ＯＲＨII１
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＨII及びＺＨIIは、それぞれ上記と同じ意味を示す。
ｍII１は、３〜３０である。
ｍII２は、２０〜１５０である。
ＲＨII１は、メチル基又はフェニル基を示す。
【００３８】
ポリマー分散剤IIのフッ素含有量は、２０〜５０質量％が好ましい。フッ素含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。フッ素含有量の上限が上記範囲にあるため、分散剤の各成分に対する分散剤の親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）の形成性が向上し易い。例えば、層（塗膜）は、濡れ性が高く、接着性に優れる特徴がある。ポリマー分散剤IIのフッ素含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
【００３９】
ポリマー分散剤IIがポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位を含む場合、ポリマー分散剤IIのポリオキシアルキレン基の含有量（ＡＯ含有量）は、１０〜６０質量％が好ましい。ＡＯ含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。ＡＯ含有量の上限が上記範囲にあるため、ＴＦＥ系ポリマーと溶媒とのそれぞれに対するポリマー分散剤IIの親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）の形成性が向上し易い。具体的には、層（塗膜）は、ＴＦＥ系ポリマー自体が有する物性がそのまま発現され易い。ＡＯ含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
また、フッ素含有量及びＡＯ含有量が上記範囲のポリマー分散剤IIを使用すれば、分散液の粘度も低下し易い。
【００４０】
ポリマー分散剤IIに含まれる全単位に対する単位ＦIIの量は、１０〜１００モル％が好ましく、２０〜７０モル％がより好ましい。
ポリマー分散剤IIに含まれる全単位に対する単位ＨIIに基づく単位の量は、０〜９０モル％が好ましく、３０〜８０モル％がより好ましい。
ポリマー分散剤IIに含まれる全単位に対する、単位ＦIIと単位ＨIIとの合計での量は、９０〜１００モル％が好ましい。
ポリマー分散剤IIは、ノニオン性であることが好ましい。
ポリマー分散剤IIの重量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、６０００〜２００００が特に好ましい。
【００４１】
本発明の第３の好適な分散液（以下、「分散液III」とも記す。）は、ポリマー分散剤が、１価含フッ素炭化水素基を有するアクリレート系モノマーに基づく単位と、１価炭化水素基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位と、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位と、窒素含有基を有するモノマーに基づく単位を含むポリマー（ポリマー分散剤III）である、分散液である。
【００４２】
分散液IIIは、分散性に優れており、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等の層（塗膜）の形成性にも優れている。その理由は、必ずしも明確ではないが、以下の様に考えられる。
ポリマー分散剤IIIは、１価含フッ素炭化水素基を有するアクリレート系モノマーに基づく単位を含むため、ＴＦＥ系ポリマーとの親和性が高く、よってパウダー粒子に高度に付着できる。また、ポリマー分散剤IIIは、親水性の高い（極性が高い）、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位及び窒素含有基を有するモノマーに基づく単位をそれぞれ含むため、溶媒との親和性が高い。このため、分散液IIIは、Ｆパウダーの分散性に優れている。
特に、ポリマー分散剤IIIは、疎水性の高い（極性が低い）、１価炭化水素基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位も含むため、極性の高い基同士の間に生じる電気的な相互作用が緩和され、極性基の本来の機能（溶媒との高い親和性）が効果的に発現すると考えられる。さらに、ポリマー分散剤IIIは、窒素含有基を有するモノマーに基づく単位の存在によるガラス転移温度の低下に伴って分子運動性が高まり、パウダー粒子に絡み付き易いと考えられる。かかる観点からも、分散液IIIは、非常に分散性が高い。
加えて、ポリマー分散剤IIIにおいては、加熱の際に、１価炭化水素基及び窒素含有基がポリマー鎖から離脱し易く、ラジカルの発生により分解し易くなっている。このため、その層（塗膜）には、ポリマー分散剤IIIが残存し難いと考えられる。よって、層（塗膜）は、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等に優れる。なお、ポリマー分散剤IIIの熱分解開始温度は、それぞれの単位の含有量によって調整でき、２５０℃以下が好ましく、２００℃以下がより好ましい。
【００４３】
１価含フッ素炭化水素基を有するアクリレート系モノマーとは、（メタ）アクリロイルオキシ基、α−クロロアクリロイルオキシ基等の重合性基と、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を有するポリフルオロアルキル基、ポリフルオロアルケニル基等の１価含フッ素炭化水素基とを有するモノマーの総称である。
前記モノマーとしては、下式（ＦIII）で表されるモノマー（モノマーＦIII）が好ましい。かかる鎖長が比較的短い含フッ素基を有するモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、層（塗膜）の濡れ性、接着性等の物性がより向上し易い。
式（ＦIII）  ＣＨ２＝ＣＸＦIIIＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦIII−ＲＦIII
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＦIIIは、水素原子、塩素原子又はメチル基である。
ＱＦIIIは、アルキレン基又はオキシアルキレン基であり、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数２〜４のオキシアルキレン基であることが好ましい。ただし、ＲＦIIIが炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基又はエーテル性酸素原子を含む炭素数３〜６のポリフルオロアルキル基である場合には、ＱＦIIIはメチレン基（−ＣＨ２−）又はエチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）であることが好ましい。また、ＲＦIIIが炭素数４〜１２のポリフルオロアルケニル基である場合には、ＱＦIIIはオキシエチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）又はオキシブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）であることが好ましい。
ＲＦIIIは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基であり、炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数３〜６のポリフルオロアルキル基又は炭素数４〜１２のポリフルオロアルケニル基であることが好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ、−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）又は−Ｃ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ（ＣＦ３）２）２）がより好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ、−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３又は−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であることが特に好ましい。中でも、層（塗膜）の物性（濡れ性、接着性、平滑性等）が更に優れる観点から、ＲＦIIIは、−（ＣＦ２）４Ｆ又は−（ＣＦ２）６Ｆであることがさらに好ましく、−（ＣＦ２）６Ｆが最も好ましい。特に、直鎖状のポリフルオロアルキル基を有するモノマーは、比較的安価に入手可能なため好適である。
【００４４】
前記モノマーＦIIIの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＣｌＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ（ＣＦ３）２）２）が挙げられる。
【００４５】
１価炭化水素基を有する（メタ）アクリレート（以下、「モノマーＨＣIII」とも記す。）とは、（メタ）アクリロイルオキシ基と、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等の１価炭化水素基とを有するモノマーの総称である。なお、アルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよく、環状であってもよい。
モノマーＨＣIIIにおける１価炭化水素基としては、炭素数６〜１０のシクロアルキル基、炭素数９〜１２の橋かけ環式アルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又は炭素数６〜３０のアルキル基が好ましい。
分散液の分散性により優れる分散液を得る観点からは、１価炭化水素基は、炭素数６〜３０のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１０〜２０のアルキル基であることがさらに好ましい。この場合、層（塗膜）のチキソ性等の物性もより向上し易い。
層（塗膜）の表面の濡れ性及び接着性をより高める観点からは、１価炭化水素基は、炭素数９〜１２の橋かけ環式アルキル基又は炭素数７〜１２のアラルキル基であることがより好ましく、イソボルニル基又はベンジル基であることがさらに好ましい。
【００４６】
モノマーＨＣIIIの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１６Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１６Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１８Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１８Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２０Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２０Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｐｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｐｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ＜Ｎｂ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＜Ｎｂが挙げられる。なお、上記式中、−Ｐｈはフェニル基を、−ＣＨ＜Ｎｂはイソボルニル基を、示す。
【００４７】
ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイルオキシ基と、ポリオキシアルキレン基とを有するモノマーである。
かかるモノマーとしては、下式（ＨIII）で表されるモノマー（モノマーＨIII）が好ましい。かかる所定範囲の鎖長を有するモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、層（塗膜）の濡れ性、接着性、平滑性等の物性がより向上し易い。
式（ＨIII）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIII）ｍIII−ＯＲＨIII
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＨIIIは、水素原子又はメチル基である。
ＺＨIIIは、アルキレン基であり、炭素数１〜４のアルキレン基であることが好ましく、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）又はｎ−ブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）であることが特に好ましい。なお、ＺＨIIIは、１種の基からなっていてもよく、２種以上の基からなっていてもよい。後者の場合、異種のアルキレン基の並び方は、ランダム状であってもよく、ブロック状であってもよい。
ｍIIIは、３〜２００であり、６〜１００が好ましく、９〜７０がより好ましく、層（塗膜）の濡れ性と平滑性が特に優れる観点から、１２〜４０がさらに好ましい。
ＲＨIIIは、水素原子、アルキル基又はアリール基であり、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜３０のアリール基であることが好ましく、メチル基、ノニル基、ラウリル基、ステアリル基、フェニル基、ステアリルフェニル基、ラウリルフェニル基又はノニルフェニル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
【００４８】
前記モノマーとしては、ポリオキシアルキレン基の末端別には、下式（ＨIII１）で表されるモノマー及び下式（ＨIII２）で表されるモノマーがより好ましい。
式（ＨIII１）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIII）ｍIII１−ＯＨ
式（ＨIII２）  ＣＨ２＝ＣＸＨIIIＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIII）ｍIII２−ＯＲＨIII２
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＨIII及びＺＨIIIは、それぞれ上記と同じ意味を示す。
ｍIII１は、３〜４０であり、６〜２０が好ましい。
ｍIII２は、１０〜１００であり、２０〜７５が特に好ましい。
ＲＨIII２は、メチル基又はフェニル基を示す。
【００４９】
前記モノマーの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）２３ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６６ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９０ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１２０ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）８ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））４ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））８ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））９ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））１３ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４・（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））３ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１０・（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）５ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）２３ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６６ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９０ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１２０ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３０Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３０Ｏ（ＣＨ２）１８Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＣＨ３、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））５Ｏ−Ｐｈｙ−（ＣＨ２）９Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６・（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））５Ｏ−Ｐｈが挙げられる。なお、上記式中、−Ｐｈｙ−はフェニレン基を、Ｐｈはフェニル基を、示す。
【００５０】
窒素含有基を有するモノマー（以下、「モノマーＮIII」とも記す。）とは、ビニル基、ビニルオキシ基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性基と、シアノ基、アミノ基、アミド基、イミダゾイル基等の窒素含有基とを有するモノマーの総称である。
モノマーＮIIIとしては、アクリロニトリル又はアクリルアミドが好ましく、アクリロニトリルがより好ましい。かかるモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、層（塗膜）の濡れ性、接着性等の物性がより向上し易い。
特に、ポリマー分散剤IIIが上記窒素含有基を有する場合、ポリマー分散剤IIIの分子運動性が高まり、その分散液中での流動性も高まるため、ポリマー分散剤IIIがパウダー粒子に絡み付き易くなるだけでなく、分散液のチキソ性も向上する。したがって、この場合、分散液の分散性と層（塗膜）の形成性がより向上する。
【００５１】
ポリマー分散剤IIIのフッ素含有量は、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましく、２５〜４５質量％がさらに好ましい。フッ素含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。フッ素含有量の上限が上記範囲にあるため、ポリマー分散剤IIIの各成分に対するポリマー分散剤IIIの親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）の形成性が向上し易い。例えば、層（塗膜）は、濡れ性が高く、平滑性と接着性に優れる特徴がある。ポリマー分散剤IIIのフッ素含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
ポリマー分散剤IIIのポリオキシアルキレン基の含有量（ＡＯ含有量）は、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。ＡＯ含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。ＡＯ含有量の上限が上記範囲にあるため、ＴＦＥ系ポリマーと溶媒とのそれぞれに対するポリマー分散剤の親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）形成性が向上し易い。具体的には、層（塗膜）は、ＴＦＥ系ポリマー自体が有する物性がそのまま発現され易い。ポリマー分散剤IIIのＡＯ含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
ポリマー分散剤IIIに含まれる全単位に対する単位ＦIIIに基づく単位の量は、３０〜６０モル％が好ましく、４０〜５０モル％がより好ましい。
ポリマー分散剤IIIに含まれる全単位に対する単位ＨＣIIIの量は、５〜３０モル％が好ましく、１０〜２０モル％がより好ましい。
ポリマー分散剤IIIに含まれる全単位に対する単位ＡＯIIIの量は、５〜３０モル％が好ましく、１０〜２０モル％がより好ましい。
ポリマー分散剤IIIに含まれる全単位に対する単位ＮIIIの量は、１０〜４０モル％が好ましく、１５〜３０モル％がより好ましい。
ポリマー分散剤IIIに含まれる全単位に対する各単位の量が上記範囲であれば、分散液の分散性がより向上し、層（塗膜）の各種物性がバランスよく発現する。また、ポリマー分散剤IIIの熱分解開始温度がより低下する。
【００５２】
ポリマー分散剤IIIは、上述の４種の単位のみからなっていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の４種の単位以外の追加の単位をさらに含んでいてもよい。なお、追加の単位を形成するモノマーは、特に限定されない。
ポリマー分散剤IIIに含まれる全単位に対する、上述の４種の単位の合計での量は、９０〜１００モル％が好ましく、９９〜１００モル％が特に好ましい。つまり、ポリマー分散剤IIIは、実質的に上述の４種の単位のみからなるポリマーが好ましい。
ポリマー分散剤IIIは、ノニオン性であることが好ましい。
ポリマー分散剤IIIの重量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、６０００〜２００００がより好ましい。
【００５３】
ポリマー分散剤IIIの好適な具体例としては、下式（ＦIII１）で表されるモノマーに基づく単位と、下式（ＨＣIII１）で表されるモノマーに基づく単位と、単位ＨIII１又は単位ＨIII２と、アクリロニトリルに基づく単位とからなる四元系ポリマーが挙げられる。
式（ＦIII１）  ＣＨ２＝ＣＸＦIII１Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＲＦIII１
式（ＨＣIII１）  ＣＨ２＝ＣＸＨＣIII１Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＲＨＣIII１
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＦIII１は、水素原子又はメチル基である。
ＲＦIII１は、−（ＣＦ２）４Ｆ又は−（ＣＦ２）６Ｆである。
ＸＨＣIII１は、水素原子又はメチル基である。
ＲＨＣIII１は、炭素数６〜３０のアルキル基であり、炭素数６〜３０の直鎖状アルキル基であることが好ましい。
上記四元系ポリマーに含まれる全単位に対する、単位ＦIII１、単位ＨＣIII１、単位ＨIII１又は単位ＨIII２、アクリロニトリルに基づく単位の量は、この順に、３０〜６０モル％、５〜３０モル％、５〜３０モル％、１０〜４０モル％である。
【００５４】
本発明の第４の好適な分散液（以下、「分散液IV」とも記す。）は、ポリマー分散剤が、フルオロアクリレート系モノマーに基づく単位と片末端封止ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位とを含むポリマー（ポリマー分散剤IV）である、分散液である。
ポリマー分散剤IVのフッ素含有量は１０〜５０質量％であり、ポリマー分散剤IVのポリオキシアルキレン基の含有量（ＡＯ含有量）は１０〜６０質量％である。
分散液IVは、分散性に優れており、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等の層（塗膜）形成性にも優れている。その理由としては、ポリマー分散剤IVが、含フッ素部位と末端水酸基がキャップされているポリオキシアルキレン基とを有し、そのＡＯ含有量とフッ素含有量とのそれぞれが上記の所定範囲に調整されている点が挙げられる。
ポリマー分散剤IVにおけるＡＯ含有量及びフッ素含有量はトレードオフの関係にあり、ＡＯ含有量とフッ素含有量とを調整して、そのＴＦＥ系ポリマー及び有機溶媒に対する親和性をバランスさせるのは容易ではない。つまり、ポリマー分散剤IVのフッ素含有量はフルオロアクリレート系モノマーの構造及びその含有量に、ポリマー分散剤IVのＡＯ含有量は片末端封止ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートの構造及びその含有量に、それぞれ起因する。例えば、フッ素含有量の高い前者のモノマーを選定し、その含有量を高めればフッ素含有量の高いポリマー分散剤を調製できる。しかし、かかるポリマー分散剤は、ＴＦＥ系ポリマーとの親和性が向上する反面、そのＡＯ含有量は相対的に低下するため、有機溶媒との親和性は低下すると考えられる。その結果、かかる分散剤を含む分散液の分散性自体は低下すると考えられる。
本発明者らは、鋭意検討の結果、両者のモノマーの構造と含有量を選択して、ポリマー分散剤IVのフッ素含有量とＡＯ含有量とを上記の所定範囲に調整すれば、分散液の分散性が向上する点を、まず知見した。さらに、前者のモノマーと、末端水酸基がキャップされている後者のモノマーとをそれぞれ選定し、ポリマー分散剤IVのフッ素含有量とＡＯ含有量とを上記の所定範囲に調整すれば、層（塗膜）の物性が優れる点を知見して、本発明を完成したのである。
【００５５】
フルオロアクリレート系モノマーとは、（メタ）アクリロイルオキシ基又はα−クロロアクリロイルオキシ基と、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を有するポリフルオロアルキル基、ポリフルオロアルケニル基等の含フッ素有機基とを有するモノマーの総称である。
フルオロアクリレート系モノマーとしては、下式（ＦIV）で表されるモノマー（モノマーＦIV）が好ましい。かかるモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、層（塗膜）の濡れ性、接着性、平滑性等の物性がより向上し易い。
式（ＦIV）  ＣＨ２＝ＣＸＦIVＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦIV−ＲＦIV
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＦIVは、水素原子、塩素原子又はメチル基である。
ＱＦIVは、アルキレン基又はオキシアルキレン基であり、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数２〜４のオキシアルキレン基であることが好ましい。ただし、ＲＦIVが炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基又はエーテル性酸素原子を含む炭素数３〜６のポリフルオロアルキル基である場合には、ＱＦIVは、メチレン基（−ＣＨ２−）又はエチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）であることが好ましい。また、ＲＦIVが炭素数４〜１２のポリフルオロアルケニル基である場合には、ＱＦIVは、オキシエチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）又はオキシブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）であることが好ましい。
ＲＦIVは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基であり、炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数３〜６のポリフルオロアルキル基又は炭素数４〜１２のポリフルオロアルケニル基であることが好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ、−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）又は−Ｃ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ（ＣＦ３）２）２）がより好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ、−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３又は−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であることが特に好ましい。中でも、層（塗膜）の物性（濡れ性、接着性、平滑性等）が更に優れる観点から、ＲＦIVは、−（ＣＦ２）４Ｆ又は−（ＣＦ２）６Ｆであることがさらに好ましく、−（ＣＦ２）６Ｆであることが最も好ましい。
【００５６】
フルオロアクリレート系モノマーの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＣｌＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）（Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２））、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（ＣＦ３）（＝Ｃ（ＣＦ（ＣＦ３）２）２）が挙げられる。
【００５７】
片末端封止ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイルオキシ基と、ポリオキシアルキレン基とポリオキシアルキレン基の末端炭素原子に酸素原子を介して結合した炭化水素基とを有するモノマーの総称である。
片末端封止ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレートとしては、下式（ＨIV）で表されるモノマー（モノマーＨIV）が好ましい。かかる末端水酸基がキャップされた所定範囲の鎖長を有するモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、層（塗膜）の濡れ性、接着性、平滑性等の物性がより向上し易い。
式（ＨIV）  ＣＨ２＝ＣＸＨIVＣ（Ｏ）−（ＯＺＨIV）ｍIV−ＯＲＨIV
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＨIVは、水素原子又はメチル基である。
ＺＨIVは、アルキレン基であり、炭素数１〜４のアルキレン基であることが好ましく、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）又はｎ−ブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）であることが特に好ましい。なお、ｍIV個のＺＨIVは、１種の基からなっていてもよく、２種以上の基からなっていてもよい。後者の場合、異種のアルキレン基の並び方は、ランダム状であってもよく、ブロック状であってもよい。
ｍIVは、３〜２００であり、６〜１００が好ましく、９〜７０がより好ましく、層（塗膜）の濡れ性と平滑性が特に優れる観点から、１２〜４０が特に好ましい。
ＲＨIVは、アルキル基又はアリール基であり、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜３０のアリール基であることが好ましく、メチル基、ノニル基、ラウリル基、ステアリル基、フェニル基、ステアリルフェニル基、ラウリルフェニル基又はノニルフェニル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
【００５８】
前記モノマーの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）２３ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６６ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９０ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１２０ＯＣＨ３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３０Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３０Ｏ（ＣＨ２）１８Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）４Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＣＨ３、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））５Ｏ−Ｐｈｙ−（ＣＨ２）９Ｈ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６・（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））５Ｏ−Ｐｈが挙げられる。なお、上記式中、−Ｐｈｙ−はフェニレン基を、Ｐｈはフェニル基を、示す。
【００５９】
ポリマー分散剤IVのフッ素含有量は、１０〜５０質量％であり、２０〜４０質量％が好ましい。フッ素含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。フッ素含有量の上限が上記範囲にあるため、ポリマー分散剤IVの各成分に対する親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）形成性が向上し易い。例えば、層（塗膜）は、濡れ性が高く、平滑性と接着性とに優れる特徴がある。ポリマー分散剤IVのフッ素含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
ポリマー分散剤IVのＡＯ含有量は、２０〜７０質量％であり、２０〜５０質量％が好ましく、２５〜４５質量％が特に好ましい。ＡＯ含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。ＡＯ含有量の上限が上記範囲にあるため、ＴＦＥ系ポリマーと有機溶媒とのそれぞれに対するポリマー分散剤IVの親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）形成性が向上し易い。具体的には、分散液IVから得られる塗膜は、ＴＦＥ系ポリマー自体が有する物性がそのまま発現され易い。ポリマー分散剤IVのＡＯ含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
ポリマー分散剤IVに含まれる全単位に対する単位ＦIVの量は、６０〜９０モル％が好ましく、７０〜９０モル％が特に好ましい。
ポリマー分散剤IVに含まれる全単位に対する単位ＨIVの量は、１０〜４０モル％が好ましく、１０〜３０モル％が特に好ましい。
ポリマー分散剤IVは、上述の２種の単位のみからなっていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の２種の単位以外の追加の単位をさらに含んでいてもよい。なお、追加の単位を形成するモノマーは、特に限定されない。
ポリマー分散剤IVに含まれる全単位に対する、上述の２種の単位の合計での量は、９０〜１００モル％が好ましく、９９〜１００モル％が特に好ましい。つまり、ポリマー分散剤IVは、実質的に上述の２種のみからなるポリマーが好ましい。
ポリマー分散剤IVは、ノニオン性であることが好ましい。
ポリマー分散剤IVの質量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、６０００〜２００００が特に好ましい。
【００６０】
ポリマー分散剤IVの好適な具体例としては、下式（ＦIV１）で表されるモノマー（モノマーＦIV１）に基づく単位と下式（ＨIV１）で表されるモノマー（モノマーＨIV１）に基づく単位とを含み、フッ素含有量が２０〜４０質量％かつＡＯ含有量が２０〜５０質量％のポリマーが挙げられる。
式（ＦIV１）  ＣＨ２＝ＣＸＦIV１Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＲＦIV１
式（ＨIV１）  ＣＨ２＝ＣＸＨIV１Ｃ（Ｏ）−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｍIV１−ＯＣＨ３
ＸＦIV１は、水素原子又はメチル基である。
ＲＦIV１は、−（ＣＦ２）４Ｆ又は−（ＣＦ２）６Ｆである。
ＸＨIV１は、水素原子又はメチル基である。
ｍIV１は、９〜７０であり、１２〜４０が好ましい。
上記ポリマーに含まれる全単位に対する、単位ＦIV１の量は、６０〜９０モル％であり、７０〜９０モル％が好ましい。
上記ポリマーに含まれる全単位に対する単位ＨIV１の量は、１０〜４０モル％であり、１０〜３０モル％が好ましい。
上記ポリマーに含まれる全単位に対する、単位ＦIV１と単位ＨIV１との合計での量は、９０〜１００モル％であり、１００モル％が好ましい。
【００６１】
本発明の第５の好適な分散液（以下、「分散液Ｖ」とも記す。）は、ポリマー分散剤が、フルオロアルキル基又はフルオロアルケニル基を有するフルオロモノマーに基づく単位とヒドロキシアルキル基又はヒドロキシシクロアルキル基を有する（メタ）アクリレートに基づく単位とを含むポリマー分散剤（ポリマー分散剤Ｖ）である、分散液である。ポリマー分散剤Ｖのフッ素含有量は１５〜４５質量％であり、ポリマー分散剤Ｖの水酸基価は１００〜３３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
分散液Ｖは、分散性に優れており、濡れ性、接着性、チキソ性、平滑性等の層（塗膜）の形成性にも優れている。その理由としては、ポリマー分散剤Ｖが、含フッ素部位と水酸基とを有し、その水酸基価とフッ素含有量とのそれぞれが上記の所定範囲に調整されている点が挙げられる。
ポリマー分散剤Ｖの水酸基価及びフッ素含有量はトレードオフの関係にあり、水酸基価とフッ素含有量とを調整して、そのＴＦＥ系ポリマー及び溶媒に対する親和性をバランスさせるのは容易ではない。つまり、ポリマー分散剤Ｖのフッ素含有量はフルオロモノマーの構造及び含有量に起因し、ポリマー分散剤Ｖの水酸基価は前記（メタ）アクリレートの構造及び含有量に起因する。例えば、フッ素含有量の高いフルオロモノマーを選定し、その含有量を高めればフッ素含有量の高いポリマー分散剤を調製できる。しかし、かかるポリマー分散剤は、ＴＦＥ系ポリマーとの親和性が向上する反面、その水酸基価は相対的に低下するため、溶媒との親和性は低下すると考えられる。その結果、かかるポリマー分散剤を含む分散液の分散性は低下すると考えられる。
本発明者らは、フルオロモノマーの構造と前記（メタ）アクリレートの構造との検討を試みた。その結果、所定のフルオロモノマーと、水酸基の含有量に比較して分子量が小さい所定の（メタ）アクリレートとを選択し、フッ素含有量及び水酸基価を上記の所定範囲に調整した場合に、分散液の分散性が向上し、分散液から形成される層（塗膜）の物性が優れる点を知見して、本発明を完成したのである。
【００６２】
前記フルオロモノマーとしては、（メタ）アクリロイルオキシ基、α−クロロ−アクリロイルオキシ基等の重合性基と、フルオロアルキル基又はフルオロアルケニル基とを有するモノマーが好ましい。
前記フルオロモノマーとしては、下式（ＦＶ）で表されるモノマー（モノマーＦＶ）がより好ましい。かかる含フッ素部位の鎖長が比較的短いアクリレート系のモノマーを選定すると、分散液の分散性に優れるだけでなく、Ｆ層の濡れ性、接着性等の物性がより向上し易い。
式（ＦＶ）  ＣＨ２＝ＣＸＦＶＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＦＶ−ＲＦＶ
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＦＶは、水素原子、塩素原子又はメチル基である。
ＱＦＶは、アルキレン基又はオキシアルキレン基であり、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数２〜４のオキシアルキレン基であることが好ましい。ただし、ＲＦＶが炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基又はエーテル性酸素原子を含む炭素数３〜６のポリフルオロアルキル基である場合には、ＱＦＶは、メチレン基（−ＣＨ２−）又はエチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）であることが好ましい。また、ＲＦＶが炭素数４〜１２のポリフルオロアルケニル基である場合には、ＱＦＶは、オキシエチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）又はオキシブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）であることが好ましい。
ＲＦＶは、ポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含むポリフルオロアルキル基又はポリフルオロアルケニル基であり、炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数３〜６のポリフルオロアルキル基又は炭素数４〜１２のポリフルオロアルケニル基であることが好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ、−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）又は−Ｃ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ（ＣＦ３）２）２）がより好ましく、−（ＣＦ２）４Ｆ、−（ＣＦ２）６Ｆ、−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３又は−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であることが特に好ましい。中でも、層（塗膜）の物性（濡れ性、接着性、平滑性等）が更に優れる観点から、ＲＦＶは、−（ＣＦ２）４Ｆ又は−（ＣＦ２）６Ｆであることがさらに好ましく、−（ＣＦ２）６Ｆであることが最も好ましい。特に、直鎖状のポリフルオロアルキル基を有するモノマーは、比較的安価に入手可能なため好適である。
【００６３】
前記フルオロモノマーの具体例としては、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＣｌＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ３）２）（ＣＦ（ＣＦ３）２）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（ＣＦ３）Ｃ（＝Ｃ（ＣＦ（ＣＦ３）２）２）が挙げられる。
【００６４】
ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシシクロアルキル基を有する（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイルオキシ基と、ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシシクロアルキル基とを有する化合物の総称である。ヒドロキシアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。また、ヒドロキシシクロアルキル基の環状構造は、単環構造であってもよく、橋かけ環構造であってもよい。
【００６５】
前記（メタ）アクリレートとしては、下式（ＨＶ）で表されるモノマー（モノマーＨＶ）が好ましい。かかるモノマーは、水酸基の含有量に比較して分子量が小さく、ポリマー分散剤Ｖのフッ素含有量及び水酸基価を所定範囲に調整すれば、分散液の分散性と、層（塗膜）の濡れ性、接着性等の物性とを特に向上させ易い。
式（ＨＶ）  ＣＨ２＝ＣＸＨＶＣ（Ｏ）Ｏ−ＱＨＶ−ＯＨ
式中の記号は、以下の意味を示す。
ＸＨＶは、水素原子又はメチル基である。
ＱＨＶは、アルキレン基又はシクロアルキレン基であり、炭素数２〜１２のアルキレン基又は炭素数４〜１２のシクロアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜６のアルキレン基であることが特に好ましい。
前記（メタ）アクリレートの具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｃｙ−ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｃｙ−ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ−Ｃｙ−ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｃｙ−ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨが挙げられる。なお、式中、−Ｃｙ−は１，４−シクロヘキシレン基を示す。
【００６６】
ポリマー分散剤Ｖのフッ素含有量は、１５〜４５質量％であり、２０〜４０質量％が好ましい。フッ素含有量の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。フッ素含有量の上限が上記範囲にあるため、分散剤の各成分に対する分散剤の親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）の形成性が向上し易い。例えば、層（塗膜）は、濡れ性が高く、接着性に優れる特徴がある。ポリマー分散Ｖのフッ素含有量は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
ポリマー分散剤Ｖの水酸基価は、１００〜３３０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、１５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。水酸基価の下限が上記範囲にあるため、分散液の分散性が優れる。水酸基価の上限が上記範囲にあるため、ＴＦＥ系ポリマーと溶媒とのそれぞれに対するポリマー分散剤Ｖの親和性がバランスして分散液の分散性に加えて、その層（塗膜）形成性が向上し易い。具体的には、Ｆ層は、ＴＦＥ系ポリマー自体が有する物性をそのまま発現し易い。ポリマー分散剤Ｖの水酸基価は、その合成に際するモノマーの種類と、その仕込量から計算できる。
ポリマー分散剤Ｖに含まれる全単位に対する単位ＦＶの量は、５〜４０モル％が好ましく、１０〜２５モル％が特に好ましい。
ポリマー分散剤Ｖに含まれる全単位に対する単位ＨＶの量は、６０〜９５モル％が好ましく、７５〜９０モル％が特に好ましい。
ポリマー分散剤Ｖは、単位ＦＶ及び単位ＨＶのみからなっていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲において、単位ＦＶ及び単位ＨＶ以外の追加の単位をさらに含んでいてもよい。なお、追加の単位を形成するモノマーは、特に限定されない。
ポリマー分散剤Ｖに含まれる全単位に対する、単位ＦＶと単位ＨＶとの合計での量は、９０〜１００モル％が好ましく、９９〜１００モル％が特に好ましい。つまり、ポリマー分散剤Ｖは、実質的に単位ＦＶ及び単位ＨＶのみからなるポリマーが好ましい。
ポリマー分散剤Ｖは、ノニオン性であることが好ましい。
ポリマー分散剤Ｖの重量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、６０００〜２００００が特に好ましい。
【００６７】
ポリマー分散剤Ｖの具体例としては、下式（ＦＶ１）で表されるモノマー（モノマーＦＶ１）に基づく単位と下式（ＨＶ１）で表されるモノマー（モノマーＦＶ１）に基づく単位とを含み、フッ素含有量が２０〜４０質量％かつ水酸基価が１５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリマーが挙げられる。
式（ＦＶ１）  ＣＨ２＝ＣＸＦＶ１Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＲＦＶ１
式（ＨＶ１）  ＣＨ２＝ＣＸＨＶ１Ｃ（Ｏ）−ＱＨＶ１−ＯＨ
ＸＦＶ１は、水素原子又はメチル基である。
ＲＦＶ１は、−（ＣＦ２）４Ｆ又は−（ＣＦ２）６Ｆである。
ＸＨＶ１は、水素原子又はメチル基である。
ＱＨＶ１は、炭素数２〜６のアルキレン基である。
上記具体例のポリマー分散剤Ｖに含まれる全単位に対する単位ＦＶ１の量は、５〜４０モル％であり、１０〜２５モル％が好ましい。
上記具体例のポリマー分散剤Ｖに含まれる全単位に対する単位ＨＶ１の量は、６０〜９５モル％であり、７５〜９０モル％が好ましい。
上記具体例のポリマー分散剤Ｖに含まれる全単位に対する、単位ＦＶ１と単位ＨＶ１との合計での量は、９０〜１００モル％であり、１００モル％が好ましい。
【００６８】
本発明におけるＴＦＥ系ポリマーは、ＴＦＥ系ポリマーは、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）に基づく単位（ＴＦＥ単位）を含むポリマーである。ＴＦＥ系ポリマーは、ＴＦＥのホモポリマーであってもよく、ＴＦＥとＴＦＥと共重合可能な他のモノマー（以下、コモノマーとも記す。）とのコポリマーであってもよい。ＴＦＥ系ポリマーは、ポリマーに含まれる全単位に対して、ＴＦＥ単位を９０〜１００モル％含むことが好ましい。
ＴＦＥ系ポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ＴＦＥとエチレンのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ＴＦＥとプロピレンのコポリマー、ＴＦＥとペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）（ＰＡＶＥ）のコポリマー（ＰＦＡ）、ＴＦＥとヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のコポリマー（ＦＥＰ）、ＴＦＥとクロロトリフルオロエチレンのコポリマーが挙げられる。
ＴＦＥ系ポリマーの溶融温度は、３８０℃において１×１０２〜１×１０６Ｐａ・ｓが好ましく、３４０℃において１×１０２〜１×１０６Ｐａ・ｓが好ましく、３００℃において１×１０２〜１×１０６Ｐａ・ｓが好ましい。
【００６９】
ＴＦＥ系ポリマーの好適な態様としては、低分子量のＰＴＦＥが挙げられる。低分子量のＰＴＦＥは、コア部分とシェル部分からなるコア−シェル構造においてシェル部分のみが上記溶融粘度を満たすＰＴＦＥであってもよい。
低分子量のＰＴＦＥとしては、高分子量のＰＴＦＥ（溶融粘度が１×１０９〜１×１０１０Ｐａ・ｓ程度。）に放射線を照射して得られるＰＴＦＥ（国際公開第２０１８／０２６０１２号、国際公開第２０１８／０２６０１７号等を参照。）であってもよく、ＴＦＥを重合してＰＴＦＥを製造する際に連鎖移動剤を用い分子量を低減して得られるＰＴＦＥ（特開２００９−１７４５号公報、国際公開第２０１０／１１４０３３号等を参照。）であってよい。
なお、低分子量のＰＴＦＥは、ＴＦＥを単独で重合して得られたポリマーであってもよく、ＴＦＥとコモノマーとを共重合して得られたコポリマーであってもよい（国際公開第２００９／２０１８７号等を参照。）。ポリマーに含まれる全単位に対して、ＴＦＥ単位は、９９．５モル％以上が好ましく、９９．８モル％以上がより好ましく、９９．９モル％以上がさらに好ましい。ＴＦＥ単位が前記範囲であると、ＰＴＦＥ物性を維持できる。コモノマーとしては、後述するフルオロモノマーが挙げられ、ＨＦＰ、ＰＡＶＥ又はＦＡＥが好ましい。
【００７０】
コア−シェル構造を有するＰＴＦＥとしては、特表２００５−５２７６５２号公報、国際公開第２０１６／１７０９１８号等に記載のＰＴＦＥが挙げられる。シェル部分の溶融粘度を前記範囲とするためには、連鎖移動剤を用いてシェル部分を低分子量化する方法（特開２０１５−２３２０８２号公報等を参照。）、シェル部分の製造の際にＴＦＥと前記コモノマーとを共重合する方法（特開平０９−０８７３３４号公報を参照。）等が挙げられる。
後者の場合、コモノマーの使用量はＴＦＥに対して０．００１〜０．０５モル％が好ましい。また、シェル部分だけでなくコア部分も共重合により製造してもよい。この場合もコモノマーの使用量はＴＦＥに対して０．００１〜０．０５モル％が好ましい。
低分子量のＰＴＦＥの標準比重は、２．１４〜２．２２が好ましく、２．１６〜２．２０がより好ましい。標準比重は、ＡＳＴＭ  Ｄ４８９５−０４に準拠して測定できる。
【００７１】
ＴＦＥ系ポリマーの好適な態様としては、ＴＦＥとコモノマーとのコポリマーであり、コポリマーに含まれる全単位に対して、コモノマーに基づく単位を０．５モル％超含むフルオロポリマー（以下、「ポリマーＦ」とも記す。）も挙げられる。ポリマーＦの融点は、２４０℃以上３３０℃未満が好ましく、２６０〜３２０℃がより好ましく、２９５〜３１０℃が特に好ましい。この場合、ポリマーの耐熱性と溶融成形性がバランスする。ポリマーＦとしては、ＥＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ等が挙げられる。ポリマーＦとしては、電気特性（比誘電率、誘電正接）及び耐熱性の点から、ＰＦＡ及びＦＥＰがより好ましく、ＰＦＡが特に好ましい。
【００７２】
ＴＦＥ系ポリマーとしては、接着性が優れる点から、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、アミド基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基（以下、「官能基」とも記す。）を有するＴＦＥ系ポリマーが好ましい。官能基はプラズマ処理等により付与してもよい。
官能基は、ＴＦＥ系ポリマー中の単位に含まれていてもよく、ポリマーの主鎖の末端基に含まれていてもよい。後者のポリマーとしては、官能基を、重合開始剤、連鎖移動剤等に由来する末端基として有するポリマーが挙げられる。
ポリマーＦとしては、官能基を有する単位とＴＦＥ単位とを含むポリマーが好ましい。また、この場合のポリマーＦは、さらに他の単位（後述するＰＡＶＥ単位、ＨＦＰ単位等）を含むことが好ましい。
【００７３】
官能基としては、層（塗膜）と金属箔の接着性の観点から、カルボニル基含有基が好ましい。カルボニル基含有基としては、カーボネート基、カルボキシ基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基、酸無水物残基（−Ｃ（Ｏ）Ｏ（Ｏ）Ｃ−）、脂肪酸残基等が挙げられ、カルボキシ基及び酸無水物残基が好ましい。
官能基を有する単位としては、官能基を有するモノマーに基づく単位が好ましく、カルボニル基含有基を有するモノマーに基づく単位、ヒドロキシ基を有するモノマーに基づく単位、エポキシ基を有するモノマーに基づく単位及びイソシアネート基を有するモノマーに基づく単位がより好ましく、カルボニル基含有基を有するモノマーに基づく単位が特に好ましい。
カルボニル基含有基を有するモノマーとしては、酸無水物残基を有する環状モノマー、カルボキシ基を有するモノマー、ビニルエステル及び（メタ）アクリレートが好ましく、酸無水物残基を有する環状モノマーが特に好ましい。
前記環状モノマーとしては、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物（別称：無水ハイミック酸。以下、「ＮＡＨ」とも記す。）及び無水マレイン酸が好ましい。
【００７４】
官能基を有する単位及びＴＦＥ単位以外の他の単位としては、ＨＦＰ単位、ＰＡＶＥ単位及びＦＡＥ単位が好ましい。
ＰＡＶＥとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３（ＰＰＶＥ）、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）８Ｆ等が挙げられ、ＰＰＶＥが好ましい。
ＦＡＥとしては、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）３Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＦ（ＣＦ２）３Ｈ、ＣＨ２＝ＣＦ（ＣＦ２）４Ｈ等が挙げられ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）４Ｆ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２Ｆが好ましい。
ポリマーＦとしては、官能基を有する単位と、ＴＦＥ単位と、ＰＡＶＥ単位又はＨＦＰ単位とを含むポリマーが好ましい。かかるポリマーＦの具体例としては、国際公開第２０１８／１６６４４号に記載された重合体（Ｘ）が挙げられる。
【００７５】
ポリマーＦにおけるＴＦＥ単位の割合は、ポリマーＦを構成する全単位のうち、９０〜９９モル％が好ましい。
ポリマーＦにおけるＰＡＶＥ単位又はＨＦＰ単位の割合は、ポリマーＦを構成する全単位のうち、０．５〜９．９７モル％が好ましい。
ポリマーＦにおける官能基を有する単位の割合は、ポリマーＦを構成する全単位のうち、０．０１〜３モル％が好ましい。
【００７６】
本発明におけるＦパウダーは、ＴＦＥ系ポリマーを含む。Ｆパウダーは、本発明の効果を損なわない範囲において、ＴＦＥ系ポリマー以外の成分を含んでいてもよいが、ＴＦＥ系ポリマーを主成分とすることが好ましい。ＦパウダーにおけるＴＦＥ系ポリマーの含有量は、８０質量％以上が好ましく、１００質量％が特に好ましい。Ｆパウダーに含まれ得る他の樹脂としては、芳香族ポリエステル、ポリアミドイミド、熱可塑性ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシドが挙げられる。
【００７７】
ＦパウダーのＤ５０は、０．０５〜６μｍが好ましく、０．１〜３μｍが好ましく、０．２〜３．０μｍが特に好ましい。この範囲において、Ｆパウダーの流動性と分散性が良好となり、ＴＦＥ系ポリマーの電気特性（低誘電率等）や耐熱性が最も発現しやすい。
ＦパウダーのＤ９０は、８μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が特に好ましい。ＦパウダーのＤ９０は、０．３μｍ以上が好ましく、０．８μｍ以上が特に好ましい。この範囲において、Ｆパウダーの流動性と分散性が良好となり、層（塗膜）の電気特性（低誘電率等）や耐熱性が最も発現しやすい。
Ｆパウダーの疎充填嵩密度は、０．０５ｇ／ｍＬ以上が好ましく、０．０８〜０．５ｇ／ｍＬが特に好ましい。
Ｆパウダーの密充填嵩密度は、０．０５ｇ／ｍＬ以上が好ましく、０．１〜０．８ｇ／ｍＬが特に好ましい。
Ｆパウダーの製造方法としては、特に限定されず、国際公開第２０１６／０１７８０１号の［００６５］〜［００６９］に記載の方法を採用できる。なお、Ｆパウダーは、所望のパウダーが市販されていればそれを用いてもよい。
【００７８】
本発明における溶媒は、分散媒であり、２５℃で液状の不活性かつＦパウダーと反応しない溶媒（化合物）であり、パウダー分散液に含まれる溶媒の以外の成分よりも低沸点であり、加熱等によって揮発し除去できる溶媒であることが好ましい。
溶媒は、極性溶媒であってもよく、非極性溶媒であってもよい。極性溶媒は、プロトン性であってもよく、非プロトン性であってもよい。また、極性溶媒は、水性溶媒であってもよく、非水性溶媒であってもよい。
溶媒としては、非水性の極性溶媒が好ましい。
溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上が併用してもよい。
溶媒は、瞬間的に揮発しない溶媒であり、沸点８０〜２７５℃の溶媒であることが好ましく、沸点１２５〜２５０℃の溶媒であることが特に好ましい。この範囲において、金属箔の表面に塗布した分散液を所定の温度に保持した際に、溶媒の揮発と分散剤の部分的な分解及び流動とが効果的に進行し、分散剤が表面偏析しやすい
【００７９】
溶媒の具体例としては、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール（沸点：９７℃）、２−プロパノール（沸点：８２℃）、１−ブタノール（沸点：１１７℃）、１−メトキシ−２−プロパノール（沸点：１１９℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（沸点：２０２℃）、γ−ブチロラクトン（沸点：２０４℃）、シクロヘキサノン（沸点：１５６℃）、シクロペンタノン（沸点：１３１℃）、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジオキサン、乳酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、セロソルブ（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）が挙げられる。
溶媒としては、分散液の液状物性（粘度、チキソ比等。）をより容易に調整できる観点から、有機溶媒が好ましく、分散液の分散安定性がより向上する観点から、アミド、アルコール、スルホキシド、エステル、ケトン、芳香族炭化水素又はグリコールエーテルが好ましく、エステル、ケトン及びアミドがより好ましく、メチルエチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン及びシクロペンタノンが特に好ましく、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン及びＮ−メチル−２−ピロリドンが更に好ましい。
なお、本発明の分散液IVの溶媒としては、有機溶媒が好ましく、アミド、アルコール、スルホキシド、エステル、ケトン及びグリコールエーテルがより好ましく、ケトン及びアミドが特に好ましく、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン及びＮ−メチル−２−ピロリドンがさらに好ましい。
【００８０】
本発明の分散液中のＴＦＥ系ポリマーの割合は、５〜６０質量％が好ましく、３０〜５０質量％がより好ましく、３５〜４５質量％が特に好ましい。この範囲において、電気特性と機械的強度に優れた層（塗膜）を形成しやすい。
本発明の分散液中の分散剤の割合は、０．１〜３０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましく、３〜１５質量％が特に好ましく、５〜１０質量部がさらに好ましい。この範囲において、層（塗膜）の物性（均一性、親水性、濡れ性、接着性等。）がより向上し易い。
本発明の分散液中の溶媒の割合は、１５〜６５質量％が好ましく、２５〜６０質量％がより好ましく、２５〜５０質量部が特に好ましい。この範囲において、分散液の塗布性が優れ、かつ層（塗膜）の外観不良が起こりにくい。
【００８１】
本発明の分散液は、本発明の効果を損なわない範囲で、Ｆパウダー、分散剤及び溶媒以外の他の材料を含んでいてもよい。他の材料は、分散液に溶解してもよく、溶解しなくてもよい。
他の材料は、非硬化性樹脂であってもよく、硬化性樹脂であってもよい。
非硬化性樹脂としては、熱溶融性樹脂、非溶融性樹脂が挙げられる。熱溶融性樹脂としては、熱可塑性ポリイミド等が挙げられる。非溶融性樹脂としては、硬化性樹脂の硬化物等が挙げられる。
硬化性樹脂としては、反応性基を有するポリマー又はオリゴマーが挙げられる。反応性基としては、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基が挙げられる。
硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリイミド、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸、熱硬化性アクリル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリオレフィン樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、多官能シアン酸エステル樹脂、多官能マレイミド−シアン酸エステル樹脂、多官能性マレイミド樹脂、ビニルエステル樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂が挙げられる。
【００８２】
エポキシ樹脂の具体例としては、ナフタレン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。
ビスマレイミド樹脂としては、特開平７−７０３１５号公報に記載される樹脂組成物（ＢＴレジン）、国際公開第２０１３／００８６６７号に記載される樹脂が挙げられる。
ポリアミック酸を形成するジアミン、多価カルボン酸二無水物としては、特許第５７６６１２５号公報の［００２０］、特許第５７６６１２５号公報の［００１９］、特開２０１２−１４５６７６号公報の［００５５］、［００５７］等に記載のものが挙げられる。
【００８３】
熱溶融性樹脂としては、熱可塑性ポリイミド等の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂の熱溶融性硬化物が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート、熱可塑性ポリイミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアーリルスルホン、芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、液晶性ポリエステル、ポリフェニレンエーテル等が挙げられ、熱可塑性ポリイミド、液晶性ポリエステル及びポリフェニレンエーテルが好ましい。
また、他の材料としては、チキソ性付与剤、消泡剤、無機フィラー、反応性アルコキシシラン、脱水剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、難燃剤等も挙げられる。
【００８４】
本発明の分散液の粘度は、５０〜１００００ｍＰａ・ｓが好ましく、７０〜５０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１００〜３０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましく、１５０〜１０００ｍＰａ・ｓが特に好ましい。この場合、分散液の分散安定性と塗工性とが優れ、容易に層（塗膜）を形成できる。
また、本発明の分散液の粘度は、１００〜１００００ｍＰａ・ｓが好ましい場合がある。その場合、１３０〜７０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１５０〜５０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましく、１７０〜３０００ｍＰａ・ｓが特に好ましい。この場合、分散液の安定性と塗工性とがさらに優れ、より均一な層（塗膜）を形成しやすい。
また、本発明の分散液の粘度は、５０〜３０００ｍＰａ・ｓが好ましい場合がある。その場合、７０〜１５００ｍＰａ・ｓがより好ましく、８０〜１０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましく、１００〜５００ｍＰａ・ｓが特に好ましい。この場合、他の樹脂材料とのワニスを形成した場合の分散液の塗工性が優れる。
【００８５】
本発明の分散液の、チキソ比は、１．０〜２．２が好ましい。この場合、分散液の分散性と塗工性とが優れ、容易に層（塗膜）を形成できる。
また、本発明の分散液のチキソ比は、１．４〜２．２が好ましく、１．４５〜２．１０がより好ましく、１．５〜２．０がさらに好ましい。この場合、分散液の分散性と塗工性とが優れ、より均一な層（塗膜）を形成できる。
また、本発明のチキソ比は、１．０〜１．５が好ましい場合がある。その場合、１．０５〜１．４５がより好ましく、１．１〜１．４がさらに好ましく、１．１〜１．３が特に好ましい。この場合、異種の樹脂材料のワニスとの混合性がさらに優れる。
なお、本発明の分散液IIの粘度は、１００ｍＰａ・ｓ未満とすることができ、１〜７５ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。かかる粘度の分散液は、粘性が高過ぎないため、取り扱いが容易であるとともに、異種の樹脂材料のワニスとの相溶性にも優れている。また、粘度調整剤等を使用すれば、分散液の粘度を任意の範囲で調整できるため、層（塗膜）を形成する際に基材の表面に分散液を供給する方法の選択肢の幅が広がる。
本発明の分散液IIのチキソ比は、１．０〜２．２が好ましく、１．４〜２．２がより好ましく、１．５〜２．０がさらに好ましい。
【００８６】
本発明の分散液は、ＴＦＥ系ポリマーを含む樹脂層（以下、「Ｆ層」とも記す。）を形成できる。本発明の分散液から、基材の表面に、Ｆ層を形成することが好ましい。
Ｆ層の形成に際しては、本発明の分散液を基材の表面に塗布してウェット膜を形成し、次いでウェット膜を加熱して溶媒を留去して、Ｆ層を形成することが好ましい。
【００８７】
基材としては、金属箔が好ましい。
金属箔の材質としては、銅、銅合金、ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル合金（４２合金も含む）、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金等が挙げられる。
金属箔としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられる。金属箔の表面には、防錆層（クロメート等の酸化物皮膜等）、耐熱層等が形成されていてもよい。
金属箔の表面の十点平均粗さは、０．２〜１．５μｍが好ましい。この場合、Ｆ層との接着性が良好となりやすい。
金属箔の厚さは、１〜４０μｍが好ましく、２〜２０μｍが特に好ましい。
金属箔の表面はシランカップリング剤により処理されていてもよく、金属箔の表面の全体がシランカップリング剤により処理されていてもよく、金属箔の表面の一部がシランカップリング剤により処理されていてもよい。
【００８８】
本発明は、本発明の分散液を金属箔の表面に塗布し、金属箔を加熱してＦ層を有する樹脂付金属箔の製造方法を提供する。
本発明における樹脂付金属箔は、金属箔の少なくとも一方の表面に、Ｆ層を有する。つまり、樹脂付金属箔は、金属箔の片面のみにＦ層を有していてもよく、金属箔の両面にＦ層を有していてもよい。
【００８９】
樹脂付金属箔の反り率は、２５％以下が好ましく、７％以下が特に好ましい。この場合、樹脂付金属箔をプリント基板に加工する際のハンドリング性と、得られるプリント基板の伝送特性が優れる。
なお、樹脂付金属箔の反り率は、樹脂付金属箔から１８０ｍｍ角の四角い試験片を切り出し、試験片についてＪＩＳ  Ｃ  ６４７１：１９９５（対応国際規格ＩＥＣ  ２４９−１：１９８２）に規定される測定方法にしたがって測定される値である。
樹脂付金属箔の寸法変化率は、±１％以下が好ましく、±０．２％以下が特に好ましい。この場合、樹脂付金属箔をプリント基板に加工し、さらにそれを多層化しやすい。
なお、樹脂付金属箔の寸法変化率は、樹脂付金属箔を１５０ｍｍ角で切り出し、０．３ｍｍのドリルを用いて四隅に穴を空けて三次元測定器で穴の位置を測定し、樹脂付金属箔の金属箔をエッチングで取り除き、１３０℃で３０分間乾燥し、四隅に空けた穴の位置を三次元測定器で測定した際の、エッチング前後の穴の位置の差から算出できる。
Ｆ層の表面の水接触角は、７０〜１００°が好ましく、７０〜９０°が特に好ましい。この場合、Ｆ層と他の基材との接着性がより優れる。前記範囲が下限以上であれば、樹脂付金属箔をプリント基板に加工した際の電気特性（低誘電損失と低誘電率）がより優れる。
【００９０】
Ｆ層の厚さは、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上が特に好ましい。Ｆ層の厚さは、５０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ未満が特に好ましい。この範囲において、樹脂付金属箔をプリント基板に加工した際の電気特性と樹脂付金属箔の反り抑制とをバランスさせやすい。樹脂付金属箔が金属箔の両面にＦ層を有する場合、それぞれのＦ層の組成及び厚さは、樹脂付金属箔の反りを抑制する点から、それぞれ同じであることが好ましい。
Ｆ層の比誘電率は、２．０〜３．５が好ましく、２．０〜３．０がより好ましい。この場合、低誘電率が求められるプリント基板等に樹脂付金属箔を好適に使用できる。
Ｆ層の表面のＲａは、Ｆ層の厚さ未満であり、２．２〜８μｍが好ましい。この範囲において、樹脂付金属箔の接着性と加工性とをバランスさせやすい。
【００９１】
塗布方法は、塗布後の金属箔の表面にパウダー分散液からなる安定したウェット膜が形成される方法であればよく、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、グラビアオフセット法、ナイフコート法、キスコート法、バーコート法、ダイコート法、ファウンテンメイヤーバー法、スロットダイコート法等が挙げられる。
【００９２】
パウダー分散液の塗布後、金属箔を加熱するに際しては、低温領域に保持して、溶媒を留去することが好ましい。低温領域の温度としては、８０℃以上１８０℃未満が好ましく、１００〜１７５℃がより好ましく、１２０℃〜１７０℃が特に好ましい。上述した通り、この低温領域においても、本発明の分散液に含まれる分散剤は親水成分を形成できるため、金属箔とＦ層の物性を損なわずに、接着性に優れたＦ層を有する樹脂付金属箔を形成できる。低温領域に保持する際の温度は、雰囲気の温度を示す。
低温領域の保持は、１段階で実施してもよく、異なる温度にて２段階以上で実施してもよい。
低温領域に保持する方法としては、オーブンを用いる方法、通風乾燥炉を用いる方法、赤外線等の熱線を照射する方法等が挙げられる。
低温領域の保持における雰囲気は、常圧下、減圧下のいずれの状態であってよい。また、前記保持における雰囲気は、酸化性ガス（酸素ガス等。）雰囲気、還元性ガス（水素ガス等。）雰囲気、不活性ガス（ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、窒素ガス等。）雰囲気のいずれであってもよい。
保持における雰囲気は、分散剤の酸化分解が促され、よりＦ層の接着性が向上する観点から、酸素ガスを含む雰囲気が好ましい。
酸素ガスを含む雰囲気における酸素ガス濃度（体積基準）は、１×１０２〜３×１０５ｐｐｍが好ましく、０．５×１０３〜１×１０４ｐｐｍが特に好ましい。この範囲において、分散剤の酸化分解と、金属箔の酸化抑制とをバランスさせやすい。
低温領域の保持する時間は、０．１〜１０分間が好ましく、０．５〜５分間が特に好ましい。
【００９３】
本発明の樹脂付金属箔の製造方法においては、さらに、低温領域の保持温度超の温度領域（以下、「焼成領域」とも記す。）にてＴＦＥ系ポリマーを焼成させて金属箔の表面にＦ層を形成することが好ましい。焼成領域の温度は、雰囲気の温度を示す。
本発明においては、Ｆパウダーが密にパッキングし、分散剤に由来する親水成分が効果的に表面偏析した状態でＴＦＥ系ポリマーの融着が進行すると考えられ、その結果、接着性に優れたＦ層が形成される。なお、パウダー分散液が熱溶融性樹脂を含めばＴＦＥ系ポリマーと溶解性樹脂との混合物からなるＦ層が形成され、パウダー分散液が熱硬化性樹脂を含めばＴＦＥ系ポリマーと熱硬化性樹脂の硬化物とからなるＦ層が形成される。
【００９４】
焼成の方法としては、オーブンを用いる方法、通風乾燥炉を用いる方法、赤外線等の熱線を照射する方法等が挙げられる。Ｆ層の表面の平滑性を高めるために、加熱板、加熱ロール等で加圧してもよい。加熱の方法としては、短時間で焼成でき、遠赤外線炉が比較的コンパクトである点から、遠赤外線を照射する方法が好ましい。加熱の方法としては、赤外線加熱と熱風加熱とを組み合わせてもよい。
遠赤外線の有効波長帯は、ＴＦＥ系ポリマーの均質な融着を促す点から、２〜２０μｍが好ましく、３〜７μｍがより好ましい。
焼成における雰囲気は、常圧下、減圧下のいずれの状態であってよい。また、前記雰囲気は、酸化性ガス（酸素ガス等。）雰囲気、還元性ガス（水素ガス等。）雰囲気、不活性ガス（ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、窒素ガス等。）雰囲気のいずれであってもよく、金属箔、形成されるＦ層それぞれの酸化劣化を抑制する観点から、還元性ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
焼成における雰囲気は、不活性ガスから構成され酸素ガス濃度が低いガス雰囲気が好ましく、窒素ガスから構成され酸素ガス濃度（体積基準）が５００ｐｐｍ未満のガス雰囲気が好ましい。酸素ガス濃度（体積基準）は、３００ｐｐｍ以下が特に好ましい。また、酸素ガス濃度（体積基準）は、通常、１ｐｐｍ以上である。この範囲において、分散剤のさらなる酸化分解が抑制され、Ｆ層の親水性を向上させやすい。
焼成領域の温度は、２５０℃〜４００℃以下が好ましく、３００〜３８０℃が特に好ましい。
焼成領域に保持する時間は、３０秒〜５分間が好ましく、１〜２分間が特に好ましい。
樹脂付金属箔におけるＦ層が従来の絶縁材料（ポリイミド等の熱硬化性樹脂の硬化物。）の場合、熱硬化性樹脂を硬化させるために長時間の加熱が必要である。一方、本発明においては、ＴＦＥ系ポリマーの融着により短時間の加熱でＦ層を形成できる。また、パウダー分散液が熱硬化性樹脂を含む場合、焼成温度を低くできる。このように、本発明の製造方法は、樹脂付金属箔にＦ層を形成する際の金属箔への熱負荷が小さい方法であり、金属箔へのダメージが小さい方法である。
【００９５】
本発明における樹脂付金属箔には、Ｆ層の線膨張を制御したり、Ｆ層の接着性をさらに改善したりするために、Ｆ層の表面に表面処理をしてもよい。
Ｆ層の表面にする表面処理方法としては、アニール処理、コロナ放電処理、大気圧プラズマ処理、真空プラズマ処理、ＵＶオゾン処理、エキシマ処理、ケミカルエッチング、シランカップリング処理、微粗面化処理等が挙げられる。
アニール処理における温度は、８０〜１９０℃が好ましく、１２０〜１８０℃が特に好ましい。
アニール処理における圧力は、０．００１〜０．０３０ＭＰａが好ましく、０．００５〜０．０１５ＭＰａが特に好ましい。
アニール処理の時間は、１０〜３００分間が好ましく、３０〜１２０分間が特に好ましい。
プラズマ処理におけるプラズマ照射装置としては、高周波誘導方式、容量結合型電極方式、コロナ放電電極−プラズマジェット方式、平行平板型、リモートプラズマ型、大気圧プラズマ型、ＩＣＰ型高密度プラズマ型等が挙げられる。
プラズマ処理に用いるガスとしては、酸素ガス、窒素ガス、希ガス（アルゴン等）、水素ガス、アンモニアガス等が挙げられ、希ガス又は窒素ガスが好ましい。プラズマ処理に用いるガスの具体例としては、アルゴンガス、水素ガスと窒素ガスの混合ガス、水素ガスと窒素ガスとアルゴンガスの混合ガスが挙げられる。
プラズマ処理における雰囲気としては、希ガス又は窒素ガスの体積分率が７０体積％以上の雰囲気が好ましく、１００体積％の雰囲気が特に好ましい。この範囲において、Ｆ層の表面のＲａを２．０μｍ以下に調整して、Ｆ層の表面に微細凹凸を形成しやすい。
【００９６】
本発明で得られる樹脂付金属箔のＦ層の表面は、親水性が高く接着性に優れるため、他の基板と容易に強固に積層できる。
他の基板としては、耐熱性樹脂フィルム、繊維強化樹脂板の前駆体であるプリプレグ、耐熱性樹脂フィルム層を有する積層体、プリプレグ層を有する積層体等が挙げられる。
なお、耐熱性樹脂とは、溶融温度が２８０℃以上の高分子化合物、又はＪＩＳ  Ｃ  ４００３：２０１０（ＩＥＣ  ６００８５：２００７）で規定される最高連続使用温度が１２１℃以上の高分子化合物を意味する。
プリプレグは、強化繊維（ガラス繊維、炭素繊維等）の基材（トウ、織布等）に熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂を含浸させたシート状の基板である。
耐熱性樹脂フィルムは、耐熱性樹脂の１種以上を含むフィルムであり、単層フィルムであっても多層フィルムであってもよい。
耐熱性樹脂としては、ポリイミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアリールスルホン、芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、液晶性ポリエステル等が挙げられる。
【００９７】
本発明における樹脂付金属箔のＦ層の表面に他の基材を積層する方法としては、樹脂付金属箔と他の基板とを熱プレスする方法が挙げられる。
他の基板がプリプレグの場合のプレス温度は、ＴＦＥ系ポリマーの融点以下が好ましく、１２０〜３００℃がより好ましく、１６０〜２２０℃が特に好ましい。この範囲において、プリプレグの熱劣化を抑制しつつ、Ｆ層とプリプレグを強固に接着できる。
基板が耐熱性樹脂フィルムの場合のプレス温度は、３１０〜４００℃が好ましい。この範囲において、耐熱性樹脂フィルムの熱劣化を抑制しつつ、Ｆ層と耐熱性樹脂フィルムを強固に接着できる。
熱プレスは、減圧雰囲気下で行うことが好ましく、２０ｋＰａ以下の真空度で行うのが特に好ましい。この範囲において、積層体におけるＦ層、基板、金属箔それぞれの界面への気泡混入が抑制でき、酸化による劣化を抑制できる。
また、熱プレス時は前記真空度に到達した後に昇温することが好ましい。前記真空度に到達する前に昇温すると、Ｆ層が軟化した状態、すなわち一定程度の流動性、密着性がある状態にて圧着されてしまい、気泡の原因となる。
熱プレスにおける圧力は、０．２ＭＰａ以上が好ましい。また、圧力の上限は、１０ＭＰａ以下が好ましい。この範囲において、基板の破損を抑制しつつ、Ｆ層と基板とを強固に密着できる。
【００９８】
本発明における樹脂付金属箔やその積層体は、フレキシブル銅張積層板やリジッド銅張積層板として、プリント基板の製造に使用できる。
例えば、本発明における樹脂付金属箔の金属箔をエッチング等によって所定のパターンの導体回路（パターン回路）に加工する方法や、本発明における樹脂付金属箔を電解めっき法（セミアディティブ法（ＳＡＰ法）、モディファイドセミアディティブ法（ＭＳＡＰ法）等。）によってパターン回路に加工する方法を使用すれば、本発明における樹脂付金属箔からプリント基板を製造できる。
プリント基板の製造においては、パターン回路を形成した後に、パターン回路上に層間絶縁膜を形成し、層間絶縁膜上にさらに導体回路を形成してもよい。層間絶縁膜は、例えば、本発明におけるパウダー分散液によって形成できる。
プリント基板の製造においては、パターン回路上にソルダーレジストを積層してもよい。ソルダーレジストは、例えば、本発明におけるパウダー分散液によって形成できる。
プリント基板の製造においては、パターン回路上にカバーレイフィルムを積層してもよい。
【００９９】
以上、本発明の分散液について説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されない。
例えば、本発明の分散液は、上述した実施形態に構成において、他の任意の構成を追加してもよいし、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてよい。
【実施例】
【０１００】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
使用した材料を以下に示す。
［Ｆパウダー］
パウダー１：ＴＦＥ単位、ＮＡＨ単位及びＰＰＶＥ単位を、この順に９７．９モル％、０．１モル％、２．０モル％含むコポリマー（融点：３００℃）のパウダー（Ｄ５０：１．７μｍ、Ｄ９０：３．８μｍ、疎充填嵩密度：０．２６９ｇ／ｍＬ、密充填嵩密度：０．３１５ｇ／ｍＬ）。
パウダー２：ＴＦＥ単位を９９．５モル％以上含む実質的にＴＦＥのホモポリマー（３８０℃おける溶融粘度：１．４×１０４）のパウダー（Ｄ５０：０．３μｍ、Ｄ９０：０．６μｍ、）。
なお、ポリマーとパウダーのそれぞれの物性は、以下の方法にしたがって測定した。【０１０１】
＜ポリマーの溶融粘度＞
ＡＳＴＭ  Ｄ  １２３８に準拠し、フローテスター及び２Φ−８Ｌのダイを用い、予め測定温度にて５分間加熱しておいたポリマーの試料（２ｇ）を０．７ＭＰａの荷重にて測定温度に保持して測定した。
＜ポリマーの溶融温度＞
示差走査熱量計（セイコーインスツル社製、ＤＳＣ−７０２０）を用い、ＴＦＥ系ポリマーを１０℃／分の速度で昇温させて測定した。
＜パウダーのＤ５０及びＤ９０＞
レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置（堀場製作所社製、ＬＡ−９２０測定器）を用い、パウダーを水中に分散させて測定した。【０１０２】
［分散剤］
分散剤１１：モノマーＦ１とモノマーＨ１とモノマーＨ２とモノマーＲ１のコポリマー（ノニオン性）。
分散剤１２：モノマーＯ１とモノマーＡＯ１のコポリマー（ノニオン性）。
分散剤１３：モノマーＦ１とモノマーＲ１のコポリマー（ノニオン性）。
分散剤１４：モノマーＦ１とモノマーＡＯ１のコポリマー（ノニオン性）。
分散剤１５：モノマーＦ１とモノマーＨ１とモノマーＲ１のコポリマー（ノニオン性）。
分散剤２１：モノマーＦ２単位と、モノマーＡＯ２単位とを、この順に４５モル％、５５モル％含むポリマー。
分散剤２２：モノマーＦ１単位と、モノマーＡＯ２単位とを、この順に３８モル％、６２モル％含むポリマー。
分散剤２３：ヘキサフルオロプロピレンオキシドの開環付加物。【０１０３】
分散剤３１：モノマーＦ１単位と、モノマーＲ３単位と、モノマーＡＯ３１単位と、アクリロニトリル単位とを、この順に４８モル％、１６モル％、１４モル％、２２モル％含む四元系ポリマー。
分散剤３２：モノマーＦ１単位と、モノマーＲ３単位と、モノマーＡＯ３２単位と、アクリロニトリル単位とを、この順に５０モル％、１５モル％、１５モル％、２０モル％含む四元系ポリマー。
分散剤３３：モノマーＦ１単位と、モノマーＲ３単位と、モノマーＡＯ３２単位とを、この順に５５モル％、２３モル％、２２モル％含む三元系ポリマー。
分散剤４１：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ４１単位とを、この順に８１モル％、１９モル％含むポリマー（フッ素含有量：３５質量％、ＡＯ含有量：３４質量％）。
分散剤４２：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ４２単位とを、この順に６８モル％、３２モル％含むポリマー（フッ素含有量：１３質量％、ＡＯ含有量：７４質量％）。
分散剤４３：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ４１単位とを、この順に５６モル％、４４モル％含むポリマー（フッ素含有量：１９質量％、ＡＯ含有量：６０質量％）。
分散剤４４：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ４１単位とを、この順に４２モル％、５８モル％含むポリマー（フッ素含有量：１２質量％、ＡＯ含有量：７０質量％）。
分散剤４５：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ４３単位とを、この順に７６モル％、２４モル％含むポリマー（フッ素含有量：１２質量％、ＡＯ含有量：７８質量％）。
分散剤５１：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ５単位とを、この順に１６モル％、８４モル％含むポリマー（フッ素含有量：２２質量％、水酸基価：２６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
分散剤５２：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ５単位とを、この順に８モル％、９２モル％含むポリマー（フッ素含有量：１３質量％、水酸基価：３３３ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
分散剤５３：モノマーＦ１単位とモノマーＡＯ５単位とを、この順に５５モル％、４５モル％含むポリマー（フッ素含有量：４６質量％、水酸基価：８５ｍｇＫＯＨ／ｇ）。【０１０４】
なお、使用したモノマーを下記に示す。
モノマーＦ１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ
モノマーＦ２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２（ＯＣＦ２）ａ・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｂＯＣＦ３（ａとｂとは、それぞれ自然数であり、その和は２０である。）
モノマーＯ１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＨ３）Ｏ（ＣＦ２）６Ｆ
モノマーＨ１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｐｈ（式中、「Ｐｈ」はフェニル基。）
モノマーＨ２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＜Ｎｂ（式中、「ＣＨ＜Ｎｂ」はイソボルニル基を示す。）
モノマーＲ１：ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１７ＣＨ３
モノマーＲ３：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）１２Ｈ
モノマーＡＯ１：ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１１ＯＨ
モノマーＡＯ２：ＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＨ
モノマーＡＯ３１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）３５ＯＣＨ３
モノマーＡＯ３２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）９ＯＨ
モノマーＡＯ４１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）２３ＯＣＨ３
モノマーＡＯ４２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）６６ＯＣＨ３
モノマーＡＯ４３：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ２）１２０ＯＣＨ３
モノマーＡＯ５：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ
なお、それぞれのモノマーＡＯにおける（ＯＣＨ２ＣＨ２）単位の数は、平均値である。【０１０５】
［金属箔］
銅箔１：低粗化処理された銅箔（厚さ１２μｍ、表面の十点平均粗さ０．６μｍ）。
［溶媒］
ＣＨＮ：シクロヘキサノン
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン【０１０６】
［例１］分散液Ｉの製造・評価例
１．分散液の調製
パウダー１の３０質量部、分散剤１１を２５質量％含む溶液の６質量部、ＣＨＮの６４質量部を混合して分散液１１を調製した。
１カ月間静置した分散液１１において、ハードケーキ状に沈降しているパウダーは容易にほぐすことができ、分散液１１は再分散性に優れていた。
また、６ｒｐｍ、３０ｒｐｍ、６０ｒｐｍの回転数にて測定される分散液１１の粘度（２５℃）は、この順に７７３ｍＰａ・ｓ、１９７ｍＰａ・ｓ、１０９ｍＰａ・ｓであった。なお、ＣＨＮの代わりにＭＥＫを用いて調製される分散液の、６ｒｐｍ、３０ｒｐｍ、６０ｒｐｍの回転数にて測定される粘度（２５℃）は、この順に１４２７ｍＰａ・ｓ、３２８ｍＰａ・ｓ、１７６ｍＰａ・ｓであった。【０１０７】
Ｆパウダー及び分散剤の種類を変更する以外は、分散液１１の調製例と同様にして、分散液１２〜１６を得た。結果を、まとめて表１に示す。
【表１】
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【０１０８】
２．樹脂付銅箔の製造・評価
銅箔１の表面にダイコーターを用いて分散液１１を塗布し、銅箔１を通風乾燥炉（雰囲気温度：１７０℃、雰囲気ガス：酸素ガス濃度８０００ｐｐｍの窒素ガス。）に通して１分間保持し、遠赤外線炉（温度：３４０℃、ガス：酸素ガス濃度１００ｐｐｍ未満の窒素ガス。）にさらに通して１分間保持し、銅箔１の表面にポリマー１を含むＦ層（厚さ５μｍ）を有する樹脂付銅箔１１を製造した。
分散液の種類、通風乾燥炉の条件（雰囲気温度、雰囲気ガスの酸素ガス濃度。）を変更する以外は、樹脂付銅箔１１の製造と同様にして樹脂付銅箔１１〜１６を製造した。
それぞれの樹脂付銅箔の、Ｆ層の水接触角、Ｆ層の平滑性、金属箔の色調を、以下の基準にしたがって評価した。【０１０９】
＜Ｆ層の平滑性＞
光照射したＦ層を斜め上方から目視し、下記基準で評価した。
○：模様が確認されない。
△：縞模様は確認されないが、ゆず肌模様が確認される。
×：縞模様が確認される。
＜Ｆ層の水接触角＞
２５℃にて樹脂付金属箔のＦ層の表面に純水（約２μＬ）を置いた際の、水滴とＦ層の表面とのなす角度を、接触角計（協和界面科学社製ＣＡ−Ｘ型）を用いて測定し、下記基準で評価した。
○：水接触角が９０°以下である。
×：水接触角が９０°超である。
＜金属箔の色調＞
○：樹脂付金属箔の製造前後で金属箔表面が変色しない。
×：樹脂付金属箔の製造前後で金属箔表面が青銅色に変色する。
以上の製造・評価の結果を、まとめて表２に示す。なお、樹脂付銅箔１１において、Ｆ層に黄変は確認されず、Ｆ層は透明性にも優れていた。【０１１０】
【表２】
2019235439.tif 000005
【０１１１】
３．積層体の製造・評価
樹脂付銅箔１２のＦ層の表面を真空プラズマ処理した。処理条件は、出力：４．５ｋＷ、導入ガス：アルゴンガス、導入ガス流量：５０ｃｍ３／分間、圧力：５０ｍＴｏｒｒ（６．７Ｐａ）、処理時間：２分間とした。
処理後の樹脂付銅箔１２のＦ層の表面に、プリプレグとしてＦＲ−４（日立化成社製、ＧＥＡ−６７Ｎ  ０．２ｔ（ＨＡＮ）、強化繊維：ガラス繊維、マトリックス樹脂：エポキシ樹脂、厚さ：０．２ｍｍ）を重ね、１８５℃、３．０ＭＰａの加圧条件にて、６０分間、真空熱プレスして積層体１１を製造した。
樹脂付銅箔を変更する以外は同様にして積層体１２〜１３を製造した。それぞれの積層体の剥離強度を、以下の基準にしたがって評価した。【０１１２】
＜積層体の剥離強度＞
矩形状（長さ１００ｍｍ、幅１０ｍｍ）に切り出した積層体の長さ方向の一端から５０ｍｍの位置を固定し、引張り速度５０ｍｍ／分で、長さ方向の片端から積層体に対して９０°、金属箔とＦ層を剥離させた際にかかる最大荷重を剥離強度（Ｎ／ｃｍ）として測定した。結果を、まとめて表３に示す。
【表３】
2019235439.tif 000006
【０１１３】
４．フィルムの製造例
分散剤１１を２５質量％含む溶液の４質量部と分散剤１４の２５質量％含む溶液の８質量部とＮＭＰの５８質量部とを混合し、さらにパウダー１の３０質量部を混合して分散液１７を調製した。分散液１１のかわりに分散液１７を用いる以外は上述の樹脂付銅箔１１の製造例と同様にして、樹脂付銅箔を製造し、さらにその銅箔をエッチングにより除去してＦ層からなるフィルムを得た。フィルムの、全光線透過率は９６％であり、拡散透過率は１．６％であり、ヘーズ値は１．７％であった。また、フィルムに黄変は確認されず、フィルムは透明性に優れていた。【０１１４】
５．分散液の調製・評価例
分散剤１５を２５質量％含む溶液の４質量部と分散剤１４の２５質量％含む溶液の８質量部とＮＭＰの５８質量部とを混合し、さらにパウダー１の３０質量部を混合して分散液１８を調製した。１カ月間静置した分散液１８において、ハードケーキ状に沈降しているパウダーは容易にほぐすことができ、分散液１８は再分散性に優れていた。【０１１５】
［例２］分散液IIの製造・評価例
１．分散液の調製
５５質量部のＮＭＰと５質量部の分散剤２１とを含む溶液に、４０質量部のパウダー１を混合して、分散液２１を調製した。
分散剤の種類を変更する以外は、上述の分散液２１の調製条件と同様にして、分散液２２〜２３を得た。結果をまとめて表４に示す。
【表４】
2019235439.tif 000007
【０１１６】
２．分散液の評価
２−１．粘度
分散液の粘度は、Ｂ型粘度計を用いて、室温下（２５℃）で回転数が３０ｒｐｍの条件下で分散液の測定を３回繰り返し、測定された３回分の測定値の平均値とした。
２−２．分散性
分散液の分散状態を目視にて確認し、下記基準にて評価した。
［評価基準］
〇：沈降するが、軽く撹拌すると再分散した。
△：せん断をかけて撹拌すると再分散した。
×：せん断をかけても再分散しなかった。【０１１７】
２−３．平滑性
まず、銅箔１の表面にダイコーターを用いて分散液を塗布し、通風乾燥炉（雰囲気温度：１２０℃）に通して１分間保持し、遠赤外線炉（温度：３４０℃）にさらに通して３分間保持し、銅箔の表面にポリマー１のＦ層（厚さ５μｍ）を有する樹脂付銅箔を得た。このようにして、分散液２１〜２３のそれぞれについて、樹脂付銅箔２１〜２３を得た。樹脂付銅箔のＦ層の表面を目視で観察し、下記基準にて評価した。
［評価基準］
〇：Ｆ層の表面に、ゆず模様が観察されなかった。
×：Ｆ層の表面に、ゆず模様が観察された。【０１１８】
以上の分散液の評価結果を、以下の表５に示す。
【表５】
2019235439.tif 000008
なお、ＮＭＰに代えて、ＮＭＰ又はＣＨＮをそれぞれ用いる以外は、上記と同様にして分散液を調製すると、上記と同等の結果を示す。【０１１９】
［例３］分散液IIIの製造・評価例
１．分散液の調製
５０質量部のＮＭＰに、５質量部の分散剤３１及び４５質量部のパウダー１を混合し、分散液３１を調製した。
分散剤の種類を変更する以外は、上述の分散液３１の調製条件と同様にして、分散液３２〜３３を得た。結果を、まとめて表６に示す。
【表６】
2019235439.tif 000009
【０１２０】
２．分散液の評価
２−１．分散液の分散性
分散液の分散状態を目視にて確認し、下記基準にて評価した。
［評価基準］
〇：沈降するが、軽く撹拌すると再分散した。
△：せん断をかけて撹拌すると再分散した。
×：せん断をかけても再分散しなかった。【０１２１】
２−２．Ｆ層の濡れ性
銅箔１の表面にダイコーターを用いて分散液を塗布し、例２の樹脂付銅箔の製造例と同様にして、銅箔１の表面にＦポリマーのＦ層（厚さ５μｍ）を有する樹脂付銅箔を得た。このようにして、分散液３１〜３３のそれぞれについて、樹脂付銅箔３１〜３３を得た。
その後、２５℃にて樹脂付金属箔のＦ層の表面に純水（約２μＬ）を置いた際の、水滴とＦ層の表面とのなす角度を、接触角計（協和界面科学社製ＣＡ−Ｘ型）を用いて測定し、下記基準で評価した。
［評価基準］
○：水接触角が８０°以下である。
×：水接触角が８０°超である。【０１２２】
２−３．接着性
まず、上記で得られた樹脂付銅箔のＦ層の表面を、例１と同様の条件にて、真空プラズマ処理した。次に、処理後の樹脂付銅箔のＦ層の表面に、プリプレグとしてＦＲ−４を重ね、例１と同様の条件にて、真空熱プレスして積層体を得た。その後、積層体の剥離強度を測定し、下記基準で評価した。
［評価基準］
〇：剥離強度が５Ｎ／ｃｍ以上である。
×：剥離強度が５Ｎ／ｃｍ未満である。【０１２３】
以上の評価結果を、以下の表７に示す。
【表７】
2019235439.tif 000010
【０１２４】
［例４］分散液IVの製造・評価例
１．分散液の調製
６４質量部のＮＭＰと３質量部の分散剤４１とを混合し、さらに３３質量部のパウダー１を混合して、分散液４１を調製した。
分散剤の種類を変更する以外は、上述の分散液４１の調製条件と同様にして、分散液４２〜４５を得た。分散液の分散性を、下記基準にて評価した。【０１２５】
＜分散液の分散性＞
分散液の分散状態を目視にて確認し、下記基準にて評価した。
〇：沈降するが、軽く撹拌すると再分散した。
△：せん断をかけて撹拌すると再分散した。
×：せん断をかけても再分散しなかった。【０１２６】
結果を、まとめて表８に示す。
【表８】
2019235439.tif 000011
なお、分散液４１におけるＮＭＰのかわりに、ＭＥＫ又はＣＨＮをそれぞれ用いる以外は同様にして調製した分散液は、分散液４１と同等の分散性を示した。【０１２７】
２．樹脂付銅箔の製造・評価例
銅箔１の表面にダイコーターを用いて分散液４１を塗布し、例２の樹脂付銅箔の製造例と同様にして、銅箔１の表面にポリマー１のＦ層（厚さ５μｍ）を有する樹脂付銅箔４１を得た。さらに、分散液４１のかわりに分散液４２、４３を使用する以外は同様にして、樹脂付銅箔４２、４３を製造した。
樹脂付銅箔におけるＦ層の平滑性を、例２と同様の条件にて、評価した。結果をまとめて表９に示す。
【表９】
2019235439.tif 000012
【０１２８】
３．積層体の製造・評価例
樹脂付銅箔４１のＦ層の表面を、例１と同様の条件にて、真空プラズマ処理した。処理後の樹脂付銅箔４１のＦ層の表面に、プリプレグとしてＦＲ−４を重ね、例１と同様の条件にて、真空熱プレスして積層体を得た。積層体の剥離強度を、例１と同様にして測定した結果、８Ｎ／ｃｍであった。【０１２９】
［例５］分散液Ｖの製造・評価例
１．分散液の調製
３５質量部のＭＥＫと５質量部の分散剤５１とを混合し、さらに６０質量部のパウダー１を混合して、分散液５１を調製した。
分散剤の種類を変更する以外は、分散液５１の調製条件と同様にして、分散液５２〜５３を得た。分散液の分散性を、下記基準にて評価した。
＜分散液の分散性＞
分散液の分散状態を目視にて確認し、下記基準にて評価した。
〇：沈降するが、軽く撹拌すると再分散した。
×：せん断をかけても再分散しなかった。
結果を、まとめて表１０に示す。
【表１０】
2019235439.tif 000013
【０１３０】
２．樹脂付銅箔及び積層体の製造例
銅箔１の表面にダイコーターを用いて分散液５１を塗布し、例２の樹脂付銅箔の製造例と同様にして、銅箔１の表面にポリマー１のＦ層（厚さ５μｍ）を有する樹脂付銅箔５１を得た。
樹脂付銅箔５１のＦ層の表面を、例１と同様の条件にて、真空プラズマ処理した。処理後の樹脂付銅箔５１のＦ層の表面に、プリプレグとしてＦＲ−４を重ね、例１と同様の条件にて、真空熱プレスして積層体５１を得た。積層体５１の剥離強度を、例１と同様にして測定した結果、６Ｎ／ｃｍであった。
【産業上の利用可能性】
【０１３１】
本発明の分散液は、フルオロポリマーを含む、接着性に優れたフッ素樹脂層を容易に形成でき、フィルム、繊維強化フィルム、プリプレグ、金属積層板、プリント基板等は、アンテナ部品、プリント基板、航空機用部品、自動車用部品、スポーツ用具、食品工業用品、のこぎり、すべり軸受け等の材料として使用できる。
なお、２０１８年０６月０６日に出願された日本特許出願２０１８−１０８７４０号、２０１８年０９月１８日に出願された日本特許出願２０１８−１７３４２０号、２０１８年１０月３０日に出願された日本特許出願２０１８−２０３９５７号、２０１８年１０月３０日に出願された日本特許出願２０１８−２０３９５９号、２０１８年１１月０６日に出願された日本特許出願２０１８−２０９２４１号及び２０１８年１１月２１日に出願された日本特許出願２０１８−２１８３２１号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
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