(57)【要約】  本発明の一の態様によれば、厚さが３０μｍ以上２００μｍ以下のガラス基材１１と、ガラス基材１１に隣接した樹脂層１２と、を備え、樹脂層１２における２５℃でのヤング率が、７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下である、光学フィルム１０が提供される。
2019066078.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さが３０μｍ以上２００μｍ以下のガラス基材と、
前記ガラス基材に隣接した樹脂層と、を備え、
前記樹脂層における２５℃でのヤング率が、７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下である、光学フィルム。
【請求項２】
前記樹脂層の膜厚が、１００μｍ以上５００μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記樹脂層が、シリコーン樹脂を含む、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
表示パネルと、
前記表示パネルよりも観察者側に配置された請求項１に記載の光学フィルムと、
を備える、画像表示装置。
【請求項５】
前記表示パネルが、有機発光ダイオードパネルである、請求項４に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の参照】
【０００１】
本願は、先行する日本国出願である特願２０１７−１９０７０７（出願日：２０１７年９月２９日）の優先権の利益を享受するものであり、その開示内容全体は引用することにより本明細書の一部とされる。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、光学フィルムおよび画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。通常、スマートフォンやタブレット端末等はカバーガラスで覆われているが、画像表示装置に通常のカバーガラスを用いた場合、硬度は優れるものの、柔軟性に劣るので、曲げようとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折り畳み可能な画像表示装置には、厚みが通常のカバーガラスよりも薄く、柔軟性を有する薄膜ガラスを備える光学フィルムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−１２５０６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような折り畳み可能な画像表示装置に用いられる光学フィルムには、光学フィルムの表面に衝撃が加わることがあるので、耐衝撃性が求められている。【０００６】
通常のカバーガラスであれば、カバーガラスに衝撃が加わったとしても、ガラスの厚みが厚いので、割れにくいが、薄膜ガラスは厚みが薄いために衝撃吸収性に劣り、薄膜ガラスの表面に衝撃が加わると、薄膜ガラスが割れてしまい、または割れなくとも薄膜ガラスよりも画像表示装置の内部に位置する層が凹む影響で薄膜ガラスの表面も凹んでしまうことがある。【０００７】
また、薄膜ガラスの表面に衝撃が加わると、画像表示装置の内部に存在する部材（例えば、有機発光ダイオードパネル等の表示パネル）に衝撃が伝わってしまい、上記部材が損傷を受けてしまうことがある。【０００８】
このようなことから、現在、柔軟性を維持しながら、画像表示装置の表示面に衝撃が加わった場合であっても、割れにくく、表面の凹みが抑制され、かつ薄膜ガラスよりも画像表示装置の内部に存在する部材が損傷しないような耐衝撃性を有する光学フィルムが求められている。【０００９】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、柔軟性および耐衝撃性を有する光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、以下の発明を含む。
［１］厚さが３０μｍ以上２００μｍ以下のガラス基材と、前記ガラス基材に隣接した樹脂層と、を備え、前記樹脂層における２５℃でのヤング率が、７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下である、光学フィルム。【００１１】
［２］前記樹脂層の膜厚が、１００μｍ以上５００μｍ以下である、上記［１］に記載の光学フィルム。【００１２】
［３］前記樹脂層が、シリコーン樹脂を含む、上記［１］または［２］に記載の光学フィルム。【００１３】
［４］表示パネルと、前記表示パネルよりも観察者側に配置された上記［１］ないし［３］のいずれか一項に記載の光学フィルムと、を備える、画像表示装置。【００１４】
［５］前記表示パネルが、有機発光ダイオードパネルである、上記［４］に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、柔軟性および耐衝撃性を有する光学フィルムを提供できる。また、本発明によれば、このような光学フィルムを備える画像表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【図２】図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は、連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。
【図３】図３（Ａ）および図３（Ｂ）は、折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。
【図４】図４は、実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図５】図５は、実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図６】図６は、実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図７】図７は、実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。図１は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図３（Ａ）および図３（Ｂ）は折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図であり、図４〜図６は本実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【００１８】
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、厚さ３０μｍ以上２００μｍ以下のガラス基材１１と、ガラス基材１１に隣接した樹脂層１２とを備えるものである。図１においては、光学フィルム１０の表面１０Ａは、ガラス基材１１における樹脂層１２側の第１の面１１Ａとは反対側の第２の面１１Ｂとなっている。光学フィルム１０においては、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂが表面１０Ａとなっているので、光学フィルム１０の表面１１Ａにおいては通常のカバーガラスと同等の表面物性を得ることができる。なお、本明細書においては、光学フィルムの「表面」という文言は、光学フィルムの片側の表面を意味するものとして用いるので、光学フィルムの表面とは反対側の面は、光学フィルムの表面と区別するために「裏面」と称するものとする。光学フィルム１０の裏面１０Ｂは、樹脂層１２におけるガラス基材１１側の第１の面１２Ａとは反対側の第２の面１２Ｂとなっている。
【００１９】
光学フィルム１０は、柔軟性を有するものである。具体的には、光学フィルム１０に対し次に説明する折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、連続折り畳み試験を１００万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルムに割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光学フィルム１０に対し連続折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合に、光学フィルム１０に割れや破断等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み性が不充分となる。連続折り畳み試験は、ガラス基材１１が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、またガラス基材１１が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましい。
【００２０】
連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図２（Ａ）に示すように連続折り畳み試験においては、まず、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、平行に配置された固定部１５でそれぞれ固定する。また、図２（Ａ）に示すように、固定部１５は水平方向にスライド移動可能なっている。
【００２１】
次に、図２（Ｂ）に示すように、固定部１５を互いに近接するように移動させることで、光学フィルム１０の折り畳むように変形させ、更に、図２（Ｃ）に示すように、光学フィルム１０の固定部１５で固定された対向する２つの辺部１０Ｃ、１０Ｄの間隔が１０ｍｍとなる位置まで固定部１５を移動させた後、固定部１５を逆方向に移動させて光学フィルム１０が変形を解消させる。
【００２２】
図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように固定部１５を移動させることで、光学フィルム１０を１８０°折り畳むことができる。また、光学フィルム１０の屈曲部１０Ｅが固定部１５の下端からはみ出さないように連続折り畳み試験を行い、かつ固定部１５が最接近したときの間隔を制御することで、光学フィルム１０の対向する２つの辺部１０Ｃ、１０Ｄの間隔を１０ｍｍにできる。この場合、屈曲部１０Ｅの外径を１０ｍｍとみなす。光学フィルム１０においては、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましいが、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が６ｍｍ、５ｍｍ、３．５ｍｍ、または２ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい（上記辺部の間隔が小さいほど好ましい）。
【００２３】
また、光学フィルム１０の一方の面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、連続折り畳み試験を行うものとする。他のフィルムの剥離は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、光学フィルムに粘着層や接着層を介して他のフィルムが付いた積層体をドライヤーで加熱し、光学フィルムと他のフィルムの界面と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥離していく。このような加熱と剥離を繰り返すことで、粘着層や接着層および他のフィルムを剥離することができる。なお、このような剥離工程があったとしても、連続折り畳み試験には大きな影響はない。
【００２４】
光学フィルム１０においては、折り畳み静置試験後の開き角θが１００°以上であることが好ましい。具体的には、まず、図３（Ａ）に示されるように、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、辺部１０Ｃと辺部１０Ｄの間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部１６でそれぞれ固定する。そして、光学フィルム１０を折り畳んだ状態で、７０℃で２４０時間静置する折り畳み静置試験を行う。その後、図３（Ｂ）に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部１０Ｄから固定部１６を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルム１０において光学フィルム１０が自然に開く角度である開き角θを測定する。なお、開き角θは、大きいほど復元性が良好であることを意味し、最大で１８０°である。折り畳み静置試験は、ガラス基材１１が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、またガラス基材１１が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、開き角θが１００°以上であることが好ましい。
【００２５】
また、光学フィルム１０の一方の面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、折り畳み静置試験を行うものとする。なお、このような剥離工程があったとしても、折り畳み静置試験には大きな影響はない。
【００２６】
光学フィルム１０の表面１０Ａは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、２Ｈ以上であることが好ましい。鉛筆硬度は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験を行うことにより測定できる。鉛筆硬度試験は、鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に７５０ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることによって行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。
【００２７】
光学フィルム１０の波長３８０ｎｍの光の透過率は８％以下であることが好ましい。光学フィルム１０の上記透過率が８％以下であれば、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合、偏光子が紫外線に晒されることが抑制できるので、偏光子の劣化を抑制できる。上記透過率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて測定することができる。上記透過率は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の上記透過率の上限は５％であることがより好ましい。なお、光学フィルム１０の上記透過率は、樹脂層１２中の後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。
【００２８】
光学フィルム１０の全光線透過率は、７０％以上であることが好ましい。光学フィルム１０の全光線透過率が７０％以上であれば、充分な光学的性能を得ることができる。上記全光線透過率は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠した方法により測定することができる。上記全光線透過率は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で樹脂層側が非光源側となるようにヘイズメーターに設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、測定して得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。光学フィルム１０の全光線透過率は、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
【００２９】
また、光学フィルム１０の一方の面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、全光線透過率の測定を行うものとする。なお、このような剥離工程があったとしても、全光線透過率の測定には大きな影響はない。
【００３０】
光学フィルム１０のヘイズ値（全ヘイズ値）は２％以下であることが好ましい。光学フィルムの上記ヘイズ値が２％以下であれば、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合の画像表示面の白化を抑制できる。上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で樹脂層側が非光源側となるようにヘイズメーターに設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、測定して得られた値の算術平均値とする。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。上記ヘイズ値は、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。なお、光学フィルム１０の上記ヘイズ値は、樹脂層１２中の後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。
【００３１】
また、光学フィルム１０の一方の面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、ヘイズ値の測定を行うものとする。なお、このような剥離工程があったとしても、ヘイズ値の測定には大きな影響はない。
【００３２】
近年、パーソナルコンピュータやタブレット端末等の画像表示装置のバックライトの光源として発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）が積極的に採用されているが、この発光ダイオードは、ブルーライトと呼ばれる光を強く発している。このブルーライトは、波長３８０〜４９５ｎｍの光で紫外線に近い性質を持っており、強いエネルギーを有しているため、角膜や水晶体で吸収されずに網膜に到達することで、網膜の損傷、眼精疲労、睡眠への悪影響等の原因になると言われている。このため、光学フィルムを、画像表示装置に適用した場合に、表示画面の色味に影響を与えることなく、ブルーライト遮蔽性に優れたものとなることが好ましい。このため、ブルーライトを遮光する観点から、光学フィルム１０は、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であることが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以上であったり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％以上であったりすると、ブルーライトによる問題を解消できないことがあり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％未満であると、光学フィルムを用いた画像表示装置の表示画面の色味に影響を及ぼしてしまうことがあるからである。光学フィルム１０は、ブルーライトの波長のうち、波長４１０ｎｍ以下の波長領域の光を充分に吸収させる一方で、波長４４０ｎｍ以上の光を充分に透過させ、表示画面の色味に影響を与えることなくブルーライトの遮蔽性を優れたものとすることができる。また、このようなブルーライトの遮蔽性に優れる光学フィルム１０を画像表示装置として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に適用した場合、有機発光ダイオード素子の劣化抑制にも効果的である。
【００３３】
光学フィルム１０の光の透過率は、波長３８０ｎｍまでは殆ど０％であり、波長４１０ｎｍから徐々に光の透過が大きくなり、波長４４０ｎｍ付近で急激に光の透過が大きくなっていることが好ましい。具体的には、例えば、波長４１０ｎｍから４４０ｎｍの間で分光透過率がシグモイド型の曲線を描くように変化することが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率は、より好ましくは０．５％未満、更に好ましくは０．２％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７％未満、より好ましくは５％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上である。なお、光学フィルム１０は、波長４２０ｎｍにおける分光透過率が５０％未満であることが好ましい。このような分光透過率の関係を満たすことで、光学フィルム１０は、波長４４０ｎｍ付近で急激に透過率が向上するものとなり、表示画面の色味に影響を及ぼすことなく極めて優れたブルーライト遮蔽性を得ることができる。
【００３４】
光学フィルム１０における波長３８０ｎｍにおける分光透過率は０．１％未満であることがより好ましく、波長４１０ｎｍにおける分光透過率は７％未満であることがより好ましく、波長４４０ｎｍにおける分光透過率は８０％以上であることがより好ましい。
【００３５】
光学フィルム１０は、最小二乗法を用いて得られた波長４１５〜４３５ｎｍの範囲の透過スペクトルの傾きが２．０より大きいことが好ましい。上記傾きが２．０以下であると、ブルーライトの光波長領域、例えば、波長４１５〜４３５ｎｍの波長領域において充分に光がカットできずブルーライトカット効果が弱くなることがある。また、ブルーライトの光波長領域（波長４１５〜４３５ｎｍ）をカットしすぎている可能性も考えられ、その場合、画像表示装置のバックライトや発光波長領域（例えば、ＯＬＥＤの波長４３０ｎｍからの発光）に干渉してしまい、色味が悪くなるといった不具合が発生する可能性が大きくなることがある。上記傾きは、例えば、０．５％刻みにて測定可能の分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、株式会社島津製作所製）を用い、前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率のデータを４１５〜４３５ｎｍ間で測定することで算出することができる。
【００３６】
光学フィルム１０は、ブルーライトの遮蔽率が４０％以上であることが好ましい。ブルーライトの遮蔽率が４０％未満であると、上述したブルーライトに起因した問題が充分に解消できないことがある。上記ブルーライトの遮蔽率は、例えば、ＪＩＳ  Ｔ７３３３：２００５により算出される値である。なお、このようなブルーライト遮蔽率は、例えば、樹脂層１２が後述するセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含むことで、達成することができる。
【００３７】
光学フィルム１０においては、２３℃、相対湿度９０％での水蒸気透過率（WVTR：Water Vapor Transmission Rate）が０．０１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下となっていることが好ましい。上記水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（製品名「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１」、ＭＯＣＯＮ社製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８に準拠した方法により測定することができる。上記水蒸気透過率は、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定し、測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の水蒸気透過率の上限は、０．００１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下となっていることがより好ましい。
【００３８】
光学フィルム１０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。光学フィルム１０が所望の大きさにカットされている場合、光学フィルムの大きさは、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、２．８インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光学フィルム１０の大きさが大きい場合には、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。
【００３９】
＜＜ガラス基材＞＞
ガラス基材１１の厚みは、３０μｍ以上２００μｍ以下となっている。ガラス基材１１の厚みが３０μｍ以上であれば、光学フィルム１０のカールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができる。一方、ガラス基材１１の厚みが２００μｍ以下であれば、良好な柔軟性を得ることができる。また、光学フィルム１０の軽量化の面で好ましい。ガラス基材１１の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ガラス基材１１の断面を撮影し、その断面の画像においてガラス基材１１の厚みを１０箇所測定し、その１０箇所の厚みの算術平均値とする。ガラス基材１１の下限は３５μｍ以上、４０μｍ以上の順に好ましく（数値が大きいほど好ましい）、ガラス基材１１の上限は１００μｍ以下、８０μｍ以下、６０μｍ以下の順に好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００４０】
ガラス基材１１を構成するガラスとしては、特に限定されず、ケイ酸塩ガラスやシリカガラスが挙げられる。これらの中でも、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸ガラスが好ましく、無アルカリガラスが最も好ましい。ガラス基材１１の市販品としては、例えば、日本電気硝子株式会社製のＧ−Ｌｅａｆ（登録商標）、松浪硝子工業株式会社製の極薄膜ガラス等が挙げられる。
【００４１】
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層１２は、光透過性を有する樹脂からなる層である。樹脂層１２は、衝撃吸収性を有する層であるが、ガラス基材１１が割れたときのガラスの飛散を抑制する層としても機能する。樹脂層は、２以上の樹脂層からなる多層構造となっていてもよい。
【００４２】
樹脂層１２の２５℃でのヤング率は、７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下となっている。樹脂層１２の２５℃でのヤング率が７０ＭＰａ以上であれば、光学フィルム１０の表面１０Ａに衝撃が加わった際に、光学フィルム１０よりも画像表示装置の内部に位置する部材の損傷を抑制できる。また、樹脂層１２の２５℃でのヤング率が１２００ＭＰａ以下であれば、光学フィルム１０を曲げた際に光学フィルム１０の割れをより抑制できる。樹脂層１２のヤング率の下限は、８０ＭＰａ以上、９０ＭＰａ以上、１００ＭＰａ以上の順に好ましく（数値が大きいほど好ましい）、上限は、１０００ＭＰａ以下、９６０ＭＰａ以下、５００ＭＰａ以下、３００ＭＰａ以下の順に好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００４３】
本明細書における「樹脂層のヤング率」は、樹脂層１２のインデンテーション硬さ（ＨＩＴ）を測定する際に求められる接触投影面積Ａｐを用いて算出するものとする。「インデンテーション硬さ」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定によって得られる圧子の負荷から除荷までの荷重−変位曲線から求められる値である。
【００４４】
上記インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）の測定は、測定サンプルについてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、以下の測定条件で、上記圧子としてバーコビッチ（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ）圧子（三角錐、ＢＲＵＫＥＲ社製のＴＩ−００３９）を樹脂層の断面中央に２５秒かけて最大押し込み荷重５００μＮまで垂直に押し込む。ここで、バーコビッチ圧子は、ガラス基材の影響を避けるためおよび樹脂層の側縁の影響を避けるために、ガラス基材と樹脂層の界面から樹脂層の中央側に５００ｎｍ離れ、樹脂層の両側端からそれぞれ樹脂層の中央側に５００ｎｍ離れた樹脂層の部分内に押し込むものとする。なお、樹脂層におけるガラス基材側の面とは反対側の面に機能層が存在する場合には、機能層と樹脂層の界面からも樹脂層の中央側に５００ｎｍ離れた樹脂層の部分内に押し込むものとする。その後、一定保持して残留応力の緩和を行った後、２５秒かけて除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と接触投影面積Ａｐ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａｐにより、インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）を算出する。上記接触投影面積は、標準試料の溶融石英（ＢＲＵＫＥＲ社製の５−００９８）を用いてＯｌｉｖｅｒ−Ｐｈａｒｒ法で圧子先端曲率を補正した接触投影面積である。インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。なお、測定値の中に算術平均値から±２０％以上外れるものが含まれている場合は、その測定値を除外し再測定を行うものとする。測定値の中に算術平均値から±２０％以上外れているものが存在するか否かは、測定値をＡとし、算術平均値をＢとしたとき、（Ａ−Ｂ）／Ｂ×１００によって求められる値（％）が±２０％以上であるかによって判断するものとする。インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）は、後述する樹脂層を構成する樹脂の種類等によって調整できる。
（測定条件）
・荷重速度：２０μＮ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：２０μＮ／秒
・測定温度：２５℃
【００４５】
樹脂層１２のヤング率Ｅｓは、以下のようにして求められる。まず、圧子と樹脂層の複合ヤング率Ｅｒを、下記数式（１）によって、インデンテーション硬さの測定の際に求められた接触投影面積Ａｐ用いて求める。ヤング率は、インデンテーション硬さを１０箇所測定し、その都度ヤング率を求め、得られた１０箇所のヤング率の算術平均値とする。
【数１】
2019066078.tif 000003
上記数式（１）中、Ａｐは接触投影面積であり、Ｅｒは圧子と樹脂層の複合ヤング率であり、Ｓは接触剛性である。
【００４６】
そして、上記によって求められた複合ヤング率Ｅｒを用いて、下記数式（２）によって樹脂層のヤング率Ｅｓを求める。
【数２】
2019066078.tif 000004
上記数式（２）中、Ｅｉは圧子のヤング率であり、Ｅｓは樹脂層のヤング率であり、ｖｉは圧子のポアソン比であり、ｖｓは樹脂層のポアソン比である。樹脂層のポアソン比は、変形に対して体積変化がないので、０．５とする。
【００４７】
樹脂層１２の膜厚は、１００μｍ以上５００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂層１２の膜厚が、１００μｍ以上であれば、樹脂層１２の硬度が低下することもなく、また５００μｍ以下であれば、膜厚が厚すぎないので、薄型化に適するとともに、加工性が悪化するおそれもない。樹脂層１２の下限は１５０μｍ以上であることがより好ましく、樹脂層１２の上限は３００μｍ以下であることがより好ましく、２００μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００４８】
樹脂層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂層の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂層の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックを一般的な断面切削方法によって凹凸のない断面を作製した。この断面の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら２００倍〜１万倍で適宜調節する。好ましい倍率は、２００倍〜２０００倍、更に好ましい倍率は４００倍〜１０００倍であり、最も好ましい倍率６００倍〜１０００倍である。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にしてもよい。また、界面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察する。例えば、２００倍と１０００倍や、１０００倍と２０００倍など、高低の２つの倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値を樹脂層の膜厚の値とする。
【００４９】
樹脂層１２を構成する樹脂は、ヤング率が上記範囲内となるような樹脂であれば、特に限定されない。このような樹脂としては、シリコーン樹脂等が挙げられる。なお、樹脂層１２を構成する樹脂が、どのような構造の高分子鎖（繰り返し単位）によって形成されているかは、例えば、熱分解ＧＣ−ＭＳ及びＦＴ−ＩＲによって樹脂層１２を分析することによって判断可能である。特に、熱分解ＧＣ−ＭＳは、樹脂層１２に含まれる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。
【００５０】
＜シリコーン樹脂＞
シリコーン樹脂は、主鎖にシロキサン結合を有する樹脂である。樹脂層１２をシリコーン樹脂で構成することにより、ガラス基材１１と樹脂層１２の密着性を向上させることができる。これは、樹脂層１２の表面に残存したヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ基）が加水分解反応を経てシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ基）となり、このシラノール基が、ガラス基材１１の表面に存在するシラノール基と縮合反応をするからであると考えられる。また、樹脂層１２をシリコーン樹脂で構成することにより、樹脂層１２の形成時の収縮を抑制できるので、光学フィルム１０のカールを抑制することができる。さらに、シリコーン樹脂は（メタ）アクリル系樹脂に比べて、耐久性に優れているので、樹脂層１２をシリコーン樹脂で構成することにより、耐久性を向上させることができる。
【００５１】
シリコーン樹脂は、芳香族基を有しているものであってもよいが、芳香族基を有していないものであってもよい。樹脂層１２が芳香族基を有するシリコーン樹脂から構成されている場合には、芳香族基を有しないシリコーン樹脂から構成されている場合よりも硬く、優れた耐衝撃性を得ることができる。また、樹脂層１２が芳香族基を有しないシリコーン樹脂から構成されている場合には、芳香族基を有するシリコーン樹脂から構成されている場合よりも、樹脂層１２の屈折率をガラス基材１１の屈折率に近づけることができるので、ガラス基材１１と樹脂層１２の間の界面反射を抑制できる。本明細書における「芳香族基」とは、炭素環式のアリール基（以下、単に「アリール基」ともいう。）を意味し、アリール基の置換可能な位置が置換基で置換されたものも含まれる。アリール基の炭素数は、６〜２５であることが好ましく、６〜１５であることがさらに好ましく、６〜１０であることが最も好ましい。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基やナフチル基が挙げられる。
【００５２】
シリコーン樹脂の重量平均分子量は、特に限定されず、例えば、２５℃における粘度が３００センチポアズ以上１００００センチポアズとなるような重量平均分子量であることが好ましい。
【００５３】
シリコーン樹脂は、付加反応型シリコーン樹脂組成物、縮合反応型シリコーン樹脂組成物、および電離放射線硬化型シリコーン樹脂組成物のいずれかの硬化物であってもよい。これらの中でも、硬度の観点から、付加反応型シリコーン樹脂組成物の硬化物が好ましい。
【００５４】
付加反応型シリコーン樹脂組成物としては、例えば、ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子あたり２個以上有するオルガノポリシロキサン（すなわち、オルガノアルケニルポリシロキサン）と、ケイ素原子に結合した水素原子（ハイドロシリル基）を有するオルガノポリシロキサン（すなわち、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）と、白金族系触媒とを含むものを用いることができる。オルガノアルケニルポリシロキサンのアルケニル基は、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのヒドロシリル基とヒドロシリル化付加反応することにより硬化物を形成する。
【００５５】
オルガノアルケニルポリシロキサンの主鎖は、ジオルガノシロキサン単位を繰り返すのが一般的であるが、一部枝分かれした構造や環状の構造を含んだものでもよい。
【００５６】
オルガノアルケニルポリシロキサンのアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基等が一般的であるが、これらの中でもビニル基が好ましい。また、アルケニル基は、分子鎖末端のケイ素原子のみに結合して存在することが好ましい。
【００５７】
上記アルケニル基以外でケイ素原子に結合する官能基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、キシリル基、ビフェニリル基等のアリル基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基といった一価の炭化水素基が挙げられる。また、一価の炭化水素基の炭素原子に結合している水素原子の一部または全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基などで置換されていてもよい。なお、ケイ素原子に結合したアルケニル基以外の官能基は全てが同一でなくともよい。
【００５８】
オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、オルガノアルケニルポリシロキサンの架橋剤として作用する。オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、１分子中に２個以上１００個以下のヒドロシリル基を有することが好ましい。
【００５９】
白金族系触媒（ヒドロシリル化用白金族系触媒）は、上記オルガノアルケニルポリシロキサン中のアルケニル基と、上記オルガノハイドロジェンポリシロキサンのヒドロシリル基とのヒドロシリル化反応を、進行および促進させるための触媒である。白金族系触媒としては、白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒等が挙げられ、これらの中でも、特に白金系触媒が経済性、反応性の点から好ましい。
【００６０】
樹脂層１２は、２５℃でのヤング率Ｈｚが上記範囲内となっていれば、Ｈｚ紫外線吸収剤や分光透過率調整剤等を含んでいてもよい。
【００６１】
＜紫外線吸収剤＞
光学フィルムは、折り畳み可能なスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に特に好適に用いられるが、このようなモバイル端末は屋外で使用されることが多く、そのため、光学フィルムより表示素子側に配置された偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいという問題がある。しかしながら、樹脂層は、偏光子の表示画面側に配置されるため、樹脂層に紫外線吸収剤が含有されていると、偏光子が紫外線に晒されることによる劣化を好適に防止することができる。紫外線吸収剤（ＵＶＡ）は、後述するハードコート層に含有されていてもよい。
【００６２】
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００６３】
上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（いずれも、ＢＡＳＦ社製）、ＬＡ−４６（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【００６４】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＣＨＭＡＳＳＯＲＢ８１／ＦＬ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【００６５】
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、及び、２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７１Ｄ、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７９（いずれも、ケミプロ化成社製）、ＪＦ−８０、ＪＡＳＴ−５００（いずれも、城北化学社製）、ＵＬＳ−１９３３Ｄ（一方社製）、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）等が挙げられる。
【００６６】
紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好適に用いられる。紫外線吸収剤は、ハードコート層を構成する樹脂成分との溶解性が高いほうが好ましく、また、上述した連続折り畳み試験後のブリードアウトが少ないほうが好ましい。紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されていることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を有するポリマー又はオリゴマーが好ましく、具体的には、ベンゾトリアゾールやベンゾフェノン骨格を有する（メタ）アクリレートと、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とを任意の比率で熱共重合したものであることが好ましい。なお、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に光学フィルムを適用する場合、紫外線吸収剤は、ＯＬＥＤを紫外線から保護する役割も果たすことができる。
【００６７】
紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、樹脂層用組成物の固形分１００質量部に対して１質量部以上６質量部以下であることが好ましい。１質量部未満であると、上述した紫外線吸収剤をハードコート層に含有させる効果を充分に得ることができないことがあり、６質量部を超えると、樹脂層に著しい着色や強度低下が生じることがある。上記紫外線吸収剤の含有量のより好ましい下限は２質量部以上、より好ましい上限は５質量部以下である。
【００６８】
＜分光透過率調整剤＞
分光透過率調整剤は、光学フィルムの分光透過率を調整するものである。樹脂層１２に、例えば、下記一般式（１）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含ませた場合には、上述した分光透過率を好適に満たすことができる。
【化１】
2019066078.tif 000005
上記一般式（１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ２は炭素数１〜６の直鎖状又は枝分かれ鎖状のアルキレン基又は炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン基を表す。
【００６９】
上記のセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的な物質名としては、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルアクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルメタクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルアクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルメタクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルアクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［３−{ ２ −（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５カルボキシレート、２−（アクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（メタクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（アクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は１種類で用いてもよいし、また２種類以上用いてもよい。
【００７０】
上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、樹脂層１２に含有されていてもよいが、樹脂層が２以上の多層構造である場合には、１層以上の樹脂層に含有されて、上記分光透過率の要件を満たしてもよい。例えば、樹脂層の一つに波長３８０ｎｍにおける分光透過率のみを達成できるように上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含有し、他の樹脂層に波長４１０ｎｍ及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率の条件を達成できるように上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含有している構成等が挙げられる。更に、樹脂層が３層以上からなり、各樹脂層にて上述した分光透過率の要件を満たすよう上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含有していてもよい。
【００７１】
上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が樹脂層１２に含有されている場合、例えば、上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、樹脂層１２層中に１５〜３０質量％で含有されていることが好ましい。このような範囲でセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が含有されていることで、上述した分光透過率を満たすことができる。なお、上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、樹脂層１２において、樹脂層１２を構成する樹脂成分と反応して一体的に含有されていてもよいが、樹脂層１２を構成する樹脂成分と反応することなく単独で含有されていてもよい。
【００７２】
＜＜他の光学フィルム＞＞
光学フィルム１０においては、光学フィルム１０の表面１０Ａは、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂとなっているが、光学フィルムは、図４に示されるように、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂ側に形成されたハードコート層２１をさらに備える光学フィルム２０であってもよい。ガラス基材１１の第２の面１１Ｂ側にハードコート層２１を形成することによって、所望の鉛筆硬度が得られるとともに、ガラス基材１１が割れたときにガラスが飛散することをさらに抑制することができる。光学フィルム２０においては、光学フィルム２０の表面２０Ａはハードコート層２１の表面２１Ａとなっており、裏面２０Ｂは樹脂層１２の第２の面１２Ｂとなっている。ハードコート層２１は、ガラス基材１１に隣接している。なお、図４〜図６において、図１と同じ符号が付されている部材は、図１で示した部材と同じものであるので、説明を省略するものとする。
【００７３】
光学フィルム２０の物性等は、光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【００７４】
＜ハードコート層＞
ハードコート層２１は、ハードコート層２１の断面中央におけるマルテンス硬度が３７５ＭＰａ以上の層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムにおいてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。すなわち、以下の測定条件で、上記圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐、ＢＲＵＫＥＲ社製のＴＩ−００３９）をハードコート層の断面に垂直に５００ｎｍ押し込む。ここで、バーコビッチ圧子は、ガラス基材の影響を避けるためおよびハードコート層の側縁の影響を避けるために、ガラス基材とハードコート層の界面からハードコート層の中央側に５００ｎｍ離れ、ハードコート層の両側端からそれぞれハードコート層の中央側に５００ｎｍ離れたハードコート層の部分内に押し込むものとする。その後、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【００７５】
ハードコート層２１は単層構造であってもよいが、２層以上の多層構造であってもよい。ハードコート層２１の膜厚は、１μｍ以上２０μｍ以下となっていることが好ましい。ハードコート層２１の膜厚が、１μｍ以上であれば、ハードコート層として充分な硬度を得ることができ、また２０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。本明細書における「ハードコート層の膜厚」とは、ハードコート層が多層構造となっている場合には、各ハードコート層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。ハードコート層２１の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ハードコート層２１の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層２１の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。ハードコート層２１の上限は１５μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００７６】
ハードコート層２１は、樹脂を含んでいる。ハードコート層２１は、樹脂中に分散された無機粒子をさらに含有していてもよい。
【００７７】
（樹脂）
樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
【００７８】
重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。
【００７９】
これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートのいずれかを意味する。
【００８０】
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。
【００８１】
上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。
【００８２】
（無機粒子）
無機粒子は、主として無機物からなる粒子である。無機粒子は、有機成分を含んでいてもよいが、無機物のみから構成されていることが好ましい。無機粒子は、有機成分により表面処理されたものであってもよい。無機粒子としては、硬度を向上させることができれば、特に限定されないが、優れた硬度を得る観点から、シリカ粒子が好ましい。シリカ粒子の中でも、反応性シリカ粒子が好ましい。上記反応性シリカ粒子は、上記多官能（メタ）アクリレートとの間で架橋構造を構成することが可能なシリカ粒子であり、この反応性シリカ粒子を含有することで、ハードコート層２１の硬度を充分に高めることができる。
【００８３】
上記反応性シリカ粒子は、その表面に反応性官能基を有することが好ましく、該反応性官能基とてしては、例えば、上記の重合性官能基が好適に用いられる。
【００８４】
上記反応性シリカ粒子としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報記載の反応性シリカ粒子等が挙げられる。また、上記反応性シリカ粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業株式会社製のＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、ＭＩＢＫ−ＳＤＺＬ、日揮触媒化成株式会社製のＶ８８０２、Ｖ８８０３等が挙げられる。
【００８５】
また、上記シリカ粒子は、球形シリカ粒子であってもよいが、異形シリカ粒子であることが好ましい。球形シリカ粒子と異形シリカ粒子とを混合させてもよい。なお、本明細書における「球形シリカ粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等のシリカ粒子を意味し、また、「異形シリカ粒子」とは、ジャガイモ状（断面観察時のアスペクト比が１．２以上４０以下）のランダムな凹凸を表面に有する形状のシリカ粒子を意味する。上記異形シリカ粒子は、その表面積が球形シリカ粒子と比較して大きいため、このような異形シリカ粒子を含有することで、上記多官能（メタ）アクリレート等との接触面積が大きくなり、上記ハードコート層の硬度を向上させることができる。ハードコート層に含まれているシリカ粒子が異形シリカ粒子であるか否かは、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。
【００８６】
上記シリカ粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。５ｎｍ未満であると、粒子自身の製造が困難になり、粒子同士が凝集したりすることがあり、また、異形にするのが極めて困難になることがあり、更に、上記塗工前のインキの段階で異形シリカ粒子の分散性が悪く凝集したりすることがある。一方、上記異形シリカ粒子の平均粒子径が２００ｎｍを超えると、ハードコート層に大きな凹凸が形成されたり、ヘイズの上昇といった不具合が生じたりすることがある。シリカ粒子が球形シリカ粒子の場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した粒子の断面の画像から２０個の粒子の粒子径を測定し、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。また、シリカ粒子が異形シリカ粒子である場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影したハードコート層の断面の画像から粒子の外周の２点間距離の最大値（長径）と最小値（短径）とを測定し、平均して粒子径を求め、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。
【００８７】
上記無機粒子の大きさ及び配合量を制御することでハードコート層２１の硬度（マルテンス硬度）を制御できる。例えば、ハードコート層を形成する場合、上記シリカ粒子は直径が５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、上記重合性化合物１００質量部に対して、２５〜６０質量部であることが好ましい。
【００８８】
ハードコート層２１は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさらに含んでいてもよい。紫外線吸収剤および分光透過率調整剤は、樹脂層１２の欄で説明した紫外線吸収剤および分光透過率調整剤と同様であるので、説明を省略するものとする。
【００８９】
（防汚剤）
防汚剤は、ハードコート層に均一に防汚剤が分散されていてもよいが、少ない添加量で充分な防汚性を得るとともにハードコート層の強度低下を抑制する観点から、ハードコート層の表面側に偏在して含まれていることが好ましい。ハードコート層が単層構造の場合において、防汚剤をハードコート層の表面側に偏在させる方法としては、例えば、ハードコート層を形成時において、ハードコート層用組成物を用いて形成した塗膜を乾燥させ、硬化させる前に、塗膜を加熱して、塗膜に含まれる樹脂成分の粘度を下げることにより流動性を上げて、防汚剤をハードコート層の表面側に偏在させる方法や、表面張力の低い防汚剤を選定して用い、塗膜の乾燥時に熱をかけずに塗膜の表面に防汚剤を浮かせ、その後塗膜を硬化させることで、上記防汚剤をハードコート層の最表面側に偏在させる方法等が挙げられる。
【００９０】
防汚剤としては特に限定されず、例えば、シリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、シリコーン系かつフッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用してもよく、混合して使用してもよい。また、防汚剤としては、アクリル系防汚剤であってもよい。
【００９１】
防汚剤の含有量としては、上述した樹脂成分１００質量部に対して、０．０１〜３．０質量部であることが好ましい。０．０１質量部未満であると、樹脂層に充分な防汚性能を付与できないことがあり、また、３．０質量部を超えると、ハードコート層の硬度が低下するおそれがある。
【００９２】
防汚剤は、重量平均分子量が５０００以下であることが好ましく、防汚性能の耐久性を改善するために、反応性官能基を好ましくは１以上、より好ましくは２以上有する化合物である。なかでも、２以上の反応性官能基を有する防汚剤を用いることにより、優れた耐擦傷性を付与することができる。
【００９３】
防汚剤が反応性官能基を有さない場合、光学フィルムがロール状の場合でも、シート状の場合でも、重ねたときに光学フィルムの裏面に防汚剤が転移してしまい、光学フィルムの裏面に他の層を貼り付けまたは塗布しようとすると、他の層の剥がれ発生することがあり、更に、複数回の連続折り畳み試験を行うことで容易に剥がれる場合がある。
【００９４】
更に、上記反応性官能基を有する防汚剤は、防汚性能の性能持続性（耐久性）が良好となり、なかでも、上述したフッ素系防汚剤を含むハードコート層は、指紋が付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好である。更に、ハードコート層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成するハードコート層の外観が良好なものとなる。
【００９５】
シリコーン系防汚剤を含むハードコート層は、滑り性がよく、耐スチールウール性が良好である。ハードコート層にこのようなシリコーン系防汚剤を含む光学フィルムを搭載したタッチセンサは、指やペンなどで接触したときの滑りがよくなるため、触感がよくなる。また、ハードコート層に指紋も付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好となる。更に、ハードコート層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成するハードコート層の外観が良好なものとなる。
【００９６】
光学フィルム２０においては、ハードコート層２１は、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂ側に設けられているが、光学フィルムは、図５に示されるように、ハードコート層３１が、樹脂層１２の第２の面１２Ｂ側に設けられた光学フィルム３０であってもよい。光学フィルム３０においては、光学フィルム３０の表面３０Ａはハードコート層３１の表面３１Ａとなっており、裏面３０Ｂはガラス基材１１の第２の面１１Ｂとなっている。ハードコート層３１は、樹脂層１２に隣接している。
【００９７】
光学フィルム３０の物性等は、光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。また、ハードコート層３１は、ハードコート層２１と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【００９８】
光学フィルム３０においては、裏面３０Ａがガラス基材１１の第２の面１１Ｂとなっているが、光学フィルムは、図６に示されるように、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂ側に樹脂層４１をさらに備える光学フィルム４０であってもよい。光学フィルム４０の表面４０Ａはハードコート層３１の表面３１Ａとなっており、裏面４０Ｂは樹脂層４１の表面４１Ａとなっている。樹脂層４１は、ガラス基材１１に隣接している。
【００９９】
光学フィルム４０の物性等は、光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。また、樹脂層４１は、樹脂層１２と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１００】
光学フィルム３０、４０を画像表示装置に組み込む際には、ハードコート層３１がガラス基材１１よりも観察者側に位置するように配置される。したがって、ガラス基材１１は、ハードコート層３１や樹脂層１２よりも画像表示装置の内部に位置する。このため、光学フィルム３０、４０の表面３０Ａ、４０Ａに衝撃が加わった場合であっても、ガラス基材１１が割れにくい。
【０１０１】
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、ガラス基材１１の第１の面１１Ａに、バーコーター等の塗布装置によって、樹脂層用組成物を塗布して、樹脂層用組成物の塗膜を形成する。
【０１０２】
＜樹脂層用組成物＞
樹脂層用組成物は、樹脂層１２を構成する樹脂によっても組成が異なるが、樹脂層がシリコーン樹脂から構成される場合には、樹脂層用組成物としては、ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子あたり２個以上有するオルガノアルケニルポリシロキサンと、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、白金族系触媒とを含む付加反応型シリコーン樹脂組成物を用いることができる。
【０１０３】
樹脂層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば、８０℃以上３００℃以下、好ましくは１００℃以上２５０℃以下の温度で加熱して、塗膜を硬化させて、樹脂層１２を得る。これにより、図１に示される光学フィルム１０が得られる。
【０１０４】
光学フィルム２０は、光学フィルム１０のガラス基材１１の第２の面１１Ｂ上にハードコート層２１を形成することによって得ることができる。具体的には、まず、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂにハードコート層用組成物を塗布して、ハードコート層用組成物の塗膜を形成する。
【０１０５】
＜ハードコート層用組成物＞
ハードコート層用組成物は、ハードコート層２１を形成するための重合性化合物を含んでいる。ハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。
【０１０６】
（溶媒）
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶媒、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、ハードコート層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンが好ましい。
【０１０７】
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【０１０８】
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【０１０９】
ハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。
【０１１０】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化させて、ハードコート層２１を得る。これにより、図４に示されるガラス基材１１の第２の面１１Ｂにハードコート層２１を備える光学フィルム２０が得られる。
【０１１１】
光学フィルム３０は、光学フィルム１０の樹脂層１２の第２の面１２Ｂ上にハードコート層３１を形成することによって得ることができる。ハードコート層３１の形成方法は、樹脂層１２の第２の面１２Ｂにハードコート層用組成物を塗布すること以外、ハードコート層２１の形成方法と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１１２】
光学フィルム４０は、光学フィルム３０のガラス基材１１の第２の面１１Ｂ上に樹脂層４１を形成することによって得ることができる。樹脂層４１の形成方法は、ガラス基材１１の第２の面１１Ｂに樹脂層用組成物を塗布すること以外、樹脂層１２の形成方法と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１１３】
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０、２０、３０、４０は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図７は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図７に示されるように、画像表示装置５０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体５１、保護フィルム５２、表示パネル５３、円偏光板５４、タッチセンサ５５、および光学フィルム１０がこの順で積層されている。表示パネル５３と円偏光板５４との間、円偏光板５４とタッチセンサ５５との間、タッチセンサ５５と光学フィルム１０との間には、光透過性を有する粘着層５６が配置されており、これら部材は粘着層５６によって互いに固定されている。なお、粘着層５６は、表示パネル５３と円偏光板５４との間、円偏光板５４とタッチセンサ５５との間、タッチセンサ５５と光学フィルム１０との間に配置されているが、粘着層の配置箇所は、光学フィルムと表示パネルとの間であれば、特に限定されない。また、粘着層の代わりに、接着層を用いてもよい。
【０１１４】
光学フィルム１０は、ガラス基材１１が樹脂層１２よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置５０においては、光学フィルム１０のガラス基材１１の第２の面１１Ｂが、画像表示装置５０の表面５０Ａを構成している。
【０１１５】
画像表示装置５０においては、表示パネル５３は、有機発光ダイオード等を含む有機発光ダイオードパネルとなっている。タッチセンサ５４は、円偏光板５５よりも表示パネル５３側に配置されているが、円偏光板５５と光学フィルム１０との間に配置されていてもよい。また、タッチセンサ５４は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。
【０１１６】
粘着層５６としては、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)を用いることができるが、耐衝撃性を向上させて、表示パネル５３の損傷を防ぐ観点から、上記アクリル系ゲルからなる粘着層を用いることが好ましい。なお、粘着層５６に上記アクリル系ゲルからなる粘着層を用いる場合、表示パネル５３と円偏光板５４との間、円偏光板５４とタッチセンサ５５との間、タッチセンサ５５と光学フィルム１０との間の少なくともいずれに上記粘着層を配置すればよい。
【０１１７】
なお、上記においては、光学フィルム１０が画像表示装置５０に組み込んだ例について説明したが、光学フィルム２０、３０、４０も画像表示装置５０と同様の画像表示装置に組み込むことが可能である。この場合、光学フィルム２０、３０、４０は、表面２０Ａ、３０Ａ、４０Ａが裏面２０Ｂ、３０Ｂ、４０Ｂよりも観察者側に位置するように配置される。
【０１１８】
本実施形態においては、ガラス基材１１の厚みが３０μｍ以上２００μｍ以下となっているので、従来のカバーガラスよりも薄く、光学フィルム１０、２０、３０、４０に柔軟性を付与することができる。また、樹脂層１２の２５℃でのヤング率が、７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下となっているので、光学フィルム１０、２０、３０、４０の表面１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａに衝撃が加わった場合であっても、光学フィルム１０、２０、３０、４０が割れにくく、表面１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａの凹みが抑制され、かつガラス基材１１よりも画像表示装置の内部に存在する部材が損傷しないような耐衝撃性を光学フィルム１０、２０、３０、４０に付与することができる。これにより、柔軟性を維持しながら、耐衝撃性を有する光学フィルム１０、２０、３０、４０を提供することができる。
【０１１９】
有機発光ダイオードは、水分で劣化してしまうので、通常、封止されている。本実施形態においては、柔軟性を有するガラス基材１１を用いているので、ポリイミド等の柔軟性を有する樹脂基材を用いた場合に比べて、水蒸気透過率が低い。このため、表示パネル５３として有機発光ダイオードパネルを用いた場合には、有機発光ダイオードの劣化をより抑制することができる。
【０１２０】
上記実施形態においては、光学フィルム１０を画像表示装置に用いているが、本発明の光学フィルムの用途は、特に限定されない。例えば、本発明の光学フィルムは、光を透過させることが要求されている様々な用途で用いてもよい。また、本発明の光学フィルムは、画像表示装置（スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ、ウェアラブル端末、テレビジョン、デジタルサイネージ、パブリックインフォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ等を含む）関連製品以外に、住宅や車（自動車のみならず、電車や車両建設用機械等、あらゆる車を含む）で用いられる電化製品や窓または展示用ディスプレイに用いてもよい。特に、本発明の光学フィルムは、透明性を重視される部分に好適に用いることができる。また、本発明の光学フィルムは、透明性等の技術的観点のみならず、意匠性やデザイン性が求められる用途にも好適に用いることができる。上記各画像表示装置の形態としては、フォールダブル、ローラブルといったフレキシブル性を必要とする用途にも好ましい。
【実施例】
【０１２１】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。【０１２２】
＜樹脂層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、樹脂層用組成物を得た。
（樹脂層用組成物１）
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６５２Ａ」、東レダウコーニング株式会社製）：２０質量部
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６５２Ｂ」、東レダウコーニング株式会社製）：８０質量部【０１２３】
（樹脂層用組成物２）
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６３０Ａ」、東レダウコーニング株式会社製）：２０質量部
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６３０Ｂ」、東レダウコーニング株式会社製）：８０質量部【０１２４】
（樹脂層用組成物３）
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６７２Ａ」、東レダウコーニング株式会社製）：２．５質量部
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６７２Ｂ」、東レダウコーニング株式会社製）：１００質量部【０１２５】
（樹脂層用組成物４）
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６３１Ａ」、東レダウコーニング株式会社製）：３３．３質量部
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６３１Ｂ」、東レダウコーニング株式会社製）：６６．７質量部【０１２６】
（樹脂層用組成物５）
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６３６Ａ」、東レダウコーニング株式会社製）：３３．３質量部
・フェニルシリコーン（製品名「ＯＥ−６６３６Ｂ」、東レダウコーニング株式会社製）：６６．７質量部【０１２７】
（樹脂層用組成物６）
・メチルシリコーン（製品名「ＯＥ−７８１０Ａ」、東レダウコーニング株式会社製）：５０質量部
・メチルシリコーン（製品名「ＯＥ−７８１０Ｂ」、東レダウコーニング株式会社製）：５０質量部【０１２８】
＜ハードコート層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物１を得た。【０１２９】
（ハードコート層用組成物１）
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールＥＯ変性ヘキサアクリレート（製品名「Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ」、新中村化学工業株式会社製）：２５質量部
・異形シリカ粒子（平均粒子径２５ｎｍ、日揮触媒化成株式会社製）：５０質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・フッ素系レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）：０．２質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部【０１３０】
＜実施例１＞
まず、厚さ５０μｍのガラス基材（製品名「スクライブガラス」、松浪硝子株式会社製）を準備し、ガラス基材の一方の面に、バーコーターで樹脂層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜を、１５０℃、６０分間加熱して、硬化させ、膜厚１００μｍの第１の樹脂層を得た。これにより、ガラス基材の一方の面に第１の樹脂層が形成された光学フィルムを得た。光学フィルムの表面はガラス基材の表面であり、光学フィルムの裏面は樹脂層の表面であった。なお、ガラス基材の厚みおよび第１の樹脂層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、ガラス基材の断面および第１の樹脂層の断面を撮影し、その断面の画像においてガラス基材の膜厚および第１の樹脂層の膜厚をそれぞれ１０箇所測定し、それぞれその１０箇所の膜厚の算術平均値とした。第１の樹脂層の断面写真は、以下のようにして撮影した。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックを一般的な断面切削方法によって凹凸のない断面を作製した。この断面の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いた。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影した。この断面写真の撮影の際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にしてＳＥＭ観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら１０００倍〜１万倍で適宜調節した。なお、断面写真の撮影の際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。実施例２〜８および比較例１〜６においても、実施例１と同様の手法によってガラス基材の厚みおよび樹脂層の膜厚を測定した。なお、後述するハードコート層や第２の樹脂層の膜厚も、第１の樹脂層の膜厚と同様の方法によって測定した。【０１３１】
＜実施例２＞
実施例２においては、第１の樹脂層の膜厚を２００μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１３２】
＜実施例３＞
実施例３においては、第１の樹脂層の膜厚を５００μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１３３】
＜実施例４＞
実施例４においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１３４】
＜実施例５＞
実施例５においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１３５】
＜実施例６＞
実施例６においては、実施例１に係る光学フィルムのガラス基材における第１の樹脂層側の面とは反対側の面に、ハードコート層をさらに形成したこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。ハードコート層の形成は、以下のようにして行われた。まず、実施例１に係る光学フィルムのガラス基材の他方の面に、ハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させた。これにより、第１の樹脂層と、ガラス基材と、膜厚５μｍのハードコート層とをこの順で備える光学フィルムを得た。実施例６に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、光学フィルムの裏面は第１の樹脂層の表面であった。【０１３６】
＜実施例７＞
実施例７においては、実施例１に係る光学フィルムの樹脂層におけるガラス基材側の面とは反対側の面に、膜厚５μｍのハードコート層をさらに形成したこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。ハードコート層は、実施例１に係る光学フィルムの第１の樹脂層におけるガラス基材側の面とは反対側の面にハードコート層用組成物１を塗布したこと以外は、実施例６と同様の方法によって形成された。実施例７に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、光学フィルムの裏面はガラス基材の表面であった。【０１３７】
＜実施例８＞
実施例８においては、実施例７に係る光学フィルムのガラス基材における第１の樹脂層側の面とは反対側の面に、膜厚１００μｍの第２の樹脂層をさらに形成したこと以外は、実施例７と同様にして、光学フィルムを得た。第２の樹脂層は、実施例７に係る光学フィルムのガラス基材における第１の樹脂層側の面とは反対側の面に樹脂層用組成物１を塗布したこと以外は、第１の樹脂層と同様の方法によって形成された。実施例８に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、光学フィルムの裏面は第２の樹脂層の表面であった。【０１３８】
＜比較例１＞
比較例１においては、厚さ５０μｍのガラス基材の代わりに、厚さ３００μｍのガラス基材（製品名「Ｄ２６３Ｔｅｃｏ」、松浪硝子株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１３９】
＜比較例２＞
比較例２においては、厚さ５０μｍのガラス基材の代わりに、厚さ７００μｍのガラス基材（製品名「ソーダガラス」、平岡特殊ガラス製作株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１４０】
＜比較例３＞
比較例３においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物４を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１４１】
＜比較例４＞
比較例４においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物５を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１４２】
＜比較例５＞
比較例５においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物６を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１４３】
＜比較例６＞
比較例６においては、ガラス基材の代わりに厚さ５０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。【０１４４】
＜ヤング率算出＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの第１の樹脂層の２５℃でのヤング率を求めた。まず、第１の樹脂層のインデンテーション硬さを測定した。インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）の測定は、測定サンプルについてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行った。具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）を用いた。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとした。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、以下の測定条件で、上記圧子としてバーコビッチ（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ）圧子（三角錐、ＢＲＵＫＥＲ社製のＴＩ−００３９）を第１の樹脂層の断面中央に２５秒かけて最大押し込み荷重５００μＮとなるまで垂直に押し込んだ。ここで、バーコビッチ圧子は、ガラス基材の影響を避けるためおよび第１の樹脂層の側縁の影響を避けるために、ガラス基材と樹脂層の界面から第１の樹脂層の中央側に５００ｎｍ離れ、第１の樹脂層の両側端からそれぞれ第１の樹脂層の中央側に５００ｎｍ離れた第１の樹脂層の部分内に押し込んだ。なお、第１の樹脂層におけるガラス基材側の面とは反対側の面にハードコート層が存在する場合には、ハードコート層と第１の樹脂層の界面からも第１の樹脂層の中央側に５００ｎｍ離れた第１の樹脂層の部分内に押し込んだ。その後、一定保持して残留応力の緩和を行った後、２５秒かけて除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と接触投影面積Ａｐ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａｐにより、インデンテーション硬さ（ＨＩＴ）を算出した。上記接触投影面積は、標準試料の溶融石英（ＢＲＵＫＥＲ社製の５−００９８）を用いてＯｌｉｖｅｒ−Ｐｈａｒｒ法で圧子先端曲率を補正した接触投影面積であった。なお、測定値の中に算術平均値から±２０％以上外れるものが含まれている場合は、その測定値を除外し再測定を行うものとする。
（測定条件）
・荷重速度：２０μＮ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：２０μＮ／秒
・測定温度：２５℃【０１４５】
次いで、得られた第１の樹脂層のインデンテーション硬さ（ＨＩＴ）を測定する際に求められる上記接触投影面積Ａｐを用いて、上記数式（１）および数式（２）から２５℃でのヤング率を求めた。ヤング率は、インデンテーション硬さを１０箇所測定し、その都度ヤング率を求め、得られた１０箇所のヤング率の算術平均値とした。【０１４６】
＜耐衝撃性試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムに対して耐衝撃性試験を行った。まず、厚さ０．７ｍｍのソーダガラスの表面に、ソーダガラス側が１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側となるように光学フィルムを直接置き、高さ３０ｃｍの位置から重さ１００ｇ、直径３０ｍｍの鉄球を光学フィルムの表面に落下させる耐衝撃性試験を各３回行った。なお、耐衝撃性試験において、鉄球を落下させる位置はその都度変えるものとした。そして、耐衝撃性試験後の光学フィルムにおいて、目視によって光学フィルムの表面に凹みが生じているかを評価するとともに、ソーダガラスに割れが生じているか評価した。評価結果は、以下の通りとした。
（光学フィルムの割れ／凹み評価）                                
○：光学フィルムを正面および斜めから観察した場合の両方において、光学フィルムの割れおよび光学フィルムの表面の凹みのいずれも確認されなかった。
△：光学フィルムを正面から観察した場合には光学フィルムの割れおよび光学フィルムの表面の凹みのいずれも観察されなかったが、斜め観察した場合には光学フィルムの表面に凹みが確認された。
×：光学フィルムを正面および斜めから観察した場合の両方において、光学フィルムの割れまたは光学フィルムの表面に明らかな凹みが観察された。
（ソーダガラスの割れ評価）
◎：３回ともソーダガラスが割れず、また傷も入らなかった。
○：３回ともソーダガラスが割れなかったが、傷が入ったものがあった。
△：１〜２回ソーダガラスに割れが生じた。
×：３回ともソーダガラスに割れが生じた。【０１４７】
＜連続折り畳み試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムに対して折り畳み試験を行い、折り畳み性を評価した。具体的には、まず、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製）に、光学フィルムの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が１０ｍｍとなるようにして調整し、光学フィルムの表面を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（光学フィルムの表面が内側となり、光学フィルムの裏面が外側となるように折り畳む試験）を１０万回行い、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。また、実施例および比較例に係る光学フィルムで上記同様に作製した新しい光学フィルムを、上記の耐久試験機に、上記と同様に取り付け、光学フィルムの裏面を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（光学フィルムの裏面が内側となり、光学フィルムの表面が外側となるように折り畳む試験）を１０万回行い、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、以下の基準で評価した。
○：いずれの連続折り畳み試験においても、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
×：いずれかの連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。【０１４８】
＜折り畳み静置試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムに対して折り畳み静置試験を行い、折り畳み状態を開放したときの開き角を測定した。具体的には、まず、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの短辺（３０ｍｍ）側を、光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部にそれぞれ固定し、光学フィルムを折り畳んだ状態で、７０℃で２４０時間静置する折り畳み静置試験を行った。そして、折り畳み静置試験後に片方の辺部から固定部を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルムが自然に開く角度である開き角（図３（Ｂ）参照）を測定した。なお、開き角としては、光学フィルムの表面が内側となるように折り畳む場合と、光学フィルムの表面が外側となるように折り畳む場合との両方で折り畳み静置試験をし、角度が小さい方を採用した。なお、表１の折り畳み静置試験の結果における「×」は、光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように屈曲させたときに割れが生じたことを意味する。【０１４９】
＜全光線透過率測定＞
実施例および比較例に係る光学フィルムについて、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に従って全光線透過率を測定した。全光線透過率を測定する際には、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーターに設定し、光学フィルムの裏面（光学フィルムの裏面）側から光を照射した。全光線透過率は、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０１５０】
＜ヘイズ値測定＞
実施例および比較例に係る光学フィルムについて、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に従ってヘイズ値を測定した。ヘイズ値を測定する際には、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーターに設置し、光学フィルムの裏面側から光を照射した。ヘイズ値は、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０１５１】
＜鉛筆硬度＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面における鉛筆硬度を、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。なお、鉛筆硬度の測定の際には、鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを厚さ２ｍｍのガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に７５０ｇの荷重をかけながら、鉛筆を速度１ｍｍ／秒で移動させた。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面（光学フィルムの表面）に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。【０１５２】
＜水蒸気透過率測定＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、水蒸気透過率をそれぞれ測定した。水蒸気透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８に準拠して、水蒸気透過率測定装置（製品名「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１」、ＭＯＣＯＮ社製）を用いて、２３℃、相対湿度９０％の条件下で測定した。水蒸気透過率を測定する際には、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを用い、また水蒸気透過率は３回測定して得られた値の算術平均値とした。【０１５３】
＜耐擦傷性試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面に対し耐擦傷性試験を行った。具体的には、まず、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面を、膜厚５０μｍの透明粘着層（屈折率：１．５５、製品名「ＰＤＣ−ＳＩ」、パナック株式会社製）を介して、大きさ１０ｃｍ×１０ｃｍおよび厚さ２ｍｍのアクリル板（製品名「コモグラス ＤＦＡ５０２Ｋ」、株式会社クラレ製）に貼り合せた。そして、光学フィルムの表面に対し、♯００００番のスチールウール（製品名「ボンスター」、日本スチールウール株式会社製）を用いて５００ｇ／ｃｍ２の荷重を加えながら１０往復擦る耐擦傷性試験を行い、目視により光学フィルムの表面に傷が確認されるか否か観察した。評価結果は、以下の通りとした。
○：傷が確認されなかった、または傷が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
×：傷が明確に確認された。【０１５４】
以下、結果を表１および表２に示す。
【表１】
2019066078.tif 000006
【０１５５】
【表２】
2019066078.tif 000007
【０１５６】
以下、結果について述べる。比較例１、２に係る光学フィルムにおいては、ガラス基材の厚みが３０μｍ以上２００μｍ以下の範囲外であったので、連続折り畳み試験で光学フィルムに割れや破断が生じた。また、比較例３〜６に係る光学フィルムにおいては、第１の樹脂層の２５℃でのヤング率が７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の範囲外であったので、耐衝撃性試験で、光学フィルムが割れ、光学フィルムの表面が凹みまたはソーダガラスが割れてしまった。これに対し、実施例１〜８に係る光学フィルムにおいては、ガラス基材の厚みが３０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であったので、連続折り畳み試験で光学フィルムに割れや破断が生じなかった。また、実施例１〜６に係る光学フィルムにおいては、第１の樹脂層の２５℃でのヤング率が７０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の範囲内であったので、耐衝撃性試験で、光学フィルムが割れず、または光学フィルムの表面が凹まず、またはソーダガラスが割れなかった。【０１５７】
実施例６〜８に係る光学フィルムのハードコート層のマルテンス硬度を測定したところ、ハードコート層のマルテンス硬度は８３０ＭＰａであった。マルテンス硬度は、測定サンプルについてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて、測定した。具体的には、まず１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）を用いた。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとした。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐、ＢＲＵＫＥＲ社製のＴＩ−００３９）を用いて、以下の測定条件で、ハードコート層の断面に垂直に５００ｎｍ押し込んだ。ここで、バーコビッチ圧子は、ガラス基材の影響を避けるためおよびハードコート層の側縁の影響を避けるために、ハードコート層に隣接した層とハードコート層の界面からハードコート層の中央側に５００ｎｍ離れ、ハードコート層の両側端からそれぞれハードコート層の中央側に５００ｎｍ離れたハードコート層の部分内に押し込んだ。その後、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより算出した。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【符号の説明】
【０１５８】
１０、２０、３０、４０…光学フィルム
１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａ…表面
１０Ｂ、２０Ｂ、３０Ｂ、４０Ｂ…裏面
１１…ガラス基材
１１Ａ…第１の面
１１Ｂ…第２の面
１２、４１…樹脂層
１２Ａ…第１の面
１２Ｂ…第２の面
２１、３１…ハードコート層
５０…画像表示装置
５３…表示パネル
【図１】
2019066078.tif 000008
【図２】
2019066078.tif 000009
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2019066078.tif 000014
【国際調査報告】
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