(57)【要約】  未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルムと、基材フィルムと、を含む積層体であって、前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、面内方向の位相差Ｒｅ１が５０ｎｍ以下であり、かつ、厚みＴが４５μｍ以下であり、前記基材フィルムは樹脂からなるフィルムであり、前記樹脂は、特定条件測定したメルトフローレートが１ｇ／１０分以上でかつ、引張弾性率Ｅが、５０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、前記基材フィルムの延伸物の面内方向の位相差Ｒｅ２が、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、偏光板用積層体。
2019131684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルムと、基材フィルムと、を含む偏光板用積層体であって、
前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、面内方向の位相差Ｒｅ１が５０ｎｍ以下であり、かつ、厚みＴが４５μｍ以下であり、
前記基材フィルムは樹脂からなるフィルムであり、
前記樹脂は、メルトフローレートが１ｇ／１０分以上であり、前記メルトフローレートは１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定される値であり、
前記樹脂は、引張弾性率Ｅが、５０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
前記基材フィルムの延伸物の面内方向の位相差Ｒｅ２が、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記位相差Ｒｅ２は、前記偏光板用積層体を５０℃〜１２０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸し、前記基材フィルムを前記延伸物とした際に、前記延伸物が有する位相差である、偏光板用積層体。
【請求項２】
前記樹脂はシクロオレフィン系樹脂であり、
前記シクロオレフィン系樹脂がシクロオレフィン系重合体を含み、
前記シクロオレフィン系重合体が、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、
芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｃ］と、
からなるブロック共重合体［Ｄ］を、
水素化したブロック共重合体水素化物である、請求項１に記載の偏光板用積層体。
【請求項３】
未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルムと基材フィルムと、を含む偏光板用積層体であって、
前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、面内方向の位相差Ｒｅ１が５０ｎｍ以下であり、かつ、厚みＴが４５μｍ以下であり、
前記基材フィルムが、樹脂からなるフィルムであり、
前記樹脂がシクロオレフィン系樹脂であり、
前記シクロオレフィン系樹脂がシクロオレフィン系重合体を含み、
前記シクロオレフィン系重合体が、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、
芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｃ］と、
からなるブロック共重合体［Ｄ］を、
水素化したブロック共重合体水素化物であり、
前記基材フィルムの延伸物の面内方向の位相差Ｒｅ２が、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記位相差Ｒｅ２は、前記偏光板用積層体を５０℃〜１２０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸し、前記基材フィルムを前記延伸物とした際に、前記延伸物が有する位相差である、偏光板用積層体。
【請求項４】
前記シクロオレフィン系樹脂が、可塑剤、軟化剤又はこれらの双方を含有する、請求項２または３に記載の偏光板用積層体。
【請求項５】
前記可塑剤、前記軟化剤又はこれらの双方が、エステル系可塑剤及び脂肪族炭化水素重合体から選ばれる一種以上である、請求項４に記載の偏光板用積層体。
【請求項６】
前記樹脂が、有機金属化合物を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板用積層体。
【請求項７】
前記基材フィルムは、前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムに接着剤層を介して積層されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の偏光板用積層体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光板用積層体を一軸延伸した偏光板。
【請求項９】
前記偏光板のポリビニルアルコール樹脂フィルムの前記基材フィルムが積層されていない面に、保護フィルムまたは粘着剤を有する、請求項８に記載の偏光板。
【請求項１０】
前記保護フィルムが、シクロオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、及びトリアセチルセルロース樹脂か選ばれる一種以上の樹脂からなる、請求項９に記載の偏光板。
【請求項１１】
２枚の基板と、その間に位置する液晶層と、
前記２枚の基板のうち、少なくとも一方の基板の外側に配される請求項８〜１０のいずれか一項に記載の偏光板と、を有する表示装置。
【請求項１２】
２枚の基板と、その間に位置する発光層と、
前記２枚の基板のうち、一方の基板の外側に配される請求項８〜１０のいずれか一項に記載の偏光板と、を有する表示装置。
【請求項１３】
前記偏光板のポリビニルアルコール樹脂フィルムと前記液晶層との間に、当該偏光板の基材フィルムが設けられている、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記偏光板のポリビニルアルコール樹脂フィルムと前記発光層との間に、当該偏光板の基材フィルムが設けられている、請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光板用積層体を、一軸延伸する工程を含む、偏光板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板用積層体、偏光板、表示装置、及び偏光板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置等の表示装置としては、従来から、表示面積が大きく、重量が軽く、且つ厚みが薄いものが求められている。そのため、表示装置を構成するパネルも、従来から薄いものが求められている。【０００３】
表示装置には、偏光子及び偏光子を保護する保護フィルムを備える偏光板が一般的に用いられる。厚みの薄い表示装置を構成するために、偏光板も、より薄いものが求められている。特に、偏光子は、表示装置の使用環境において収縮することがあるため、薄く面積が大きい表示装置においては、そのような収縮による反りが問題となりうる。したがって、厚み１０μｍ以下といった薄い偏光子を採用することにより、偏光子の厚みの低減自体による表示装置の厚みの低減に加え、前述のような反りの発生の低減も期待できる。【０００４】
ところが、従来の製造方法により、そのような厚みの薄いポリビニルアルコールの偏光子を製造しようとした場合、偏光子の溶断が頻発する。このような、偏光子の溶断を防ぎ、且つ薄い偏光子を含む偏光板を製造する方法として、いくつかの方法が提案されている。
例えば、特許文献１では、非晶質エステル系熱可塑性樹脂基材に、ポリビニルアルコール系樹脂を含む水溶液を塗布することによりポリビニルアルコール系樹脂層を製膜して積層体とし、当該積層体を延伸処理した後、二色性物質を配向させて着色積層体とし、当該着色積層体を延伸処理して光学フィルムを得る方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４６９１２０５号公報（対応公報：米国特許第８３１４９８７号明細書）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載の方法により薄い偏光板を製造する場合、積層体を高い延伸倍率で延伸することに起因して、延伸処理後の基材フィルムにおいて位相差が発生することがある。そのような場合に、基材フィルムをそのまま偏光板保護フィルムとして使用することは難しく、剥離して廃棄することになるため、無駄になる材料が発生する。さらに、偏光板を保護するための保護フィルムを別途用意して、偏光板に貼り付ける作業が生じうる。【０００７】
従って、本発明は、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる偏光板用積層体、前記積層体を備えた偏光板及び表示装置、ならびに、前記の偏光板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために検討を行った結果、本発明者は、面内位相差と厚みが所定範囲内のポリビニルアルコール樹脂フィルムと、低温で高倍率での延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を用いることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
従って、本発明によれば、下記〔１〕〜〔１５〕が提供される。
〔１〕  未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルムと、基材フィルムと、を含む偏光板用積層体であって、
前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、面内方向の位相差Ｒｅ１が５０ｎｍ以下であり、かつ、厚みＴが４５μｍ以下であり、
前記基材フィルムは樹脂からなるフィルムであり、
前記樹脂は、メルトフローレートが１ｇ／１０分以上であり、前記メルトフローレートは１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定される値であり、
前記樹脂は、引張弾性率Ｅが、５０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
前記基材フィルムの延伸物の面内方向の位相差Ｒｅ２が、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記位相差Ｒｅ２は、前記偏光板用積層体を５０℃〜１２０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸し、前記基材フィルムを前記延伸物とした際に、前記延伸物が有する位相差である、偏光板用積層体。
〔２〕  前記樹脂はシクロオレフィン系樹脂であり、
前記シクロオレフィン系樹脂がシクロオレフィン系重合体を含み、
前記シクロオレフィン系重合体が、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、
芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｃ］と、
からなるブロック共重合体［Ｄ］を、
水素化したブロック共重合体水素化物である、〔１〕に記載の偏光板用積層体。
〔３〕  未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルムと基材フィルムと、を含む偏光板用積層体であって、
前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、面内方向の位相差Ｒｅ１が５０ｎｍ以下であり、かつ、厚みＴが４５μｍ以下であり、
前記基材フィルムが、樹脂からなるフィルムであり、
前記樹脂がシクロオレフィン系樹脂であり、
前記シクロオレフィン系樹脂がシクロオレフィン系重合体を含み、
前記シクロオレフィン系重合体が、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、
芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｃ］と、
からなるブロック共重合体［Ｄ］を、
水素化したブロック共重合体水素化物であり、
前記基材フィルムの延伸物の面内方向の位相差Ｒｅ２が、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記位相差Ｒｅ２は、前記偏光板用積層体を５０℃〜１２０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸し、前記基材フィルムを前記延伸物とした際に、前記延伸物が有する位相差である、偏光板用積層体。
〔４〕  前記シクロオレフィン系樹脂が、可塑剤、軟化剤又はこれらの双方を含有する、〔２〕または〔３〕に記載の偏光板用積層体。
〔５〕  前記可塑剤、前記軟化剤又はこれらの双方が、エステル系可塑剤及び脂肪族炭化水素重合体から選ばれる一種以上である、〔４〕に記載の偏光板用積層体。
〔６〕  前記樹脂が、有機金属化合物を含有する、〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の偏光板用積層体。
〔７〕  前記基材フィルムは、前記ポリビニルアルコール樹脂フィルムに接着剤層を介して積層されている、〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の偏光板用積層体。
〔８〕  〔１〕〜〔７〕のいずれか一項に記載の偏光板用積層体を一軸延伸した偏光板。
〔９〕  前記偏光板のポリビニルアルコール樹脂フィルムの前記基材フィルムが積層されていない面に、保護フィルムまたは粘着剤を有する、〔８〕に記載の偏光板。
〔１０〕  前記保護フィルムが、シクロオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、及びトリアセチルセルロース樹脂か選ばれる一種以上の樹脂からなる、〔９〕に記載の偏光板。
〔１１〕  ２枚の基板と、その間に位置する液晶層と、
前記２枚の基板のうち、少なくとも一方の基板の外側に配される〔８〕〜〔１０〕のいずれか一項に記載の偏光板と、を有する表示装置。
〔１２〕  ２枚の基板と、その間に位置する発光層と、
前記２枚の基板のうち、一方の基板の外側に配される〔８〕〜〔１０〕のいずれか一項に記載の偏光板と、を有する表示装置。
〔１３〕  前記偏光板のポリビニルアルコール樹脂フィルムと前記液晶層との間に、当該偏光板の基材フィルムが設けられている、〔１１〕に記載の表示装置。
〔１４〕  前記偏光板のポリビニルアルコール樹脂フィルムと前記発光層との間に、当該偏光板の基材フィルムが設けられている、〔１２〕に記載の表示装置。
〔１５〕  〔１〕〜〔７〕のいずれか一項に記載の偏光板用積層体を、一軸延伸する工程を含む、偏光板の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる偏光板用積層体、前記積層体を用いた偏光板及び表示装置、ならびに前記積層体を用いた偏光板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は本発明の実施形態１に係る偏光板用積層体を模式的に示した断面図である。
【図２】図２は実施形態１に係る偏光板用積層体の製造装置の一例を模式的に示した図である。
【図３】図３は本発明の実施形態１に係る偏光板用積層体を用いて製造した偏光板を模式的に示した断面図である。
【図４】図４は実施形態１に係る偏光板用積層体を用いて偏光板を製造する製造装置の一例を模式的に示した図である。
【図５】図５は本発明の実施形態１に係る偏光板用積層体を用いて製造した変形例１の偏光板を模式的に示した断面図である。
【図６】図６は本発明の実施形態１に係る偏光板用積層体を用いて製造した変形例２の偏光板を模式的に示した断面図である。
【図７】図７は本発明の実施形態２に係る偏光板用積層体を模式的に示した断面図である。
【図８】図８は本発明の実施形態２に係る偏光板用積層体を用いて製造した偏光板を模式的に示した断面図である。
【図９】図９は本発明の実施形態２に係る偏光板用積層体を用いて製造した変形例３の偏光板を模式的に示した断面図である。
【図１０】図１０は本発明の実施形態２に係る偏光板用積層体を用いて製造した変形例４の偏光板を模式的に示した断面図である。
【図１１】図１１は本発明の実施形態３に係る表示装置を模式的に示した断面図である。
【図１２】図１２は本発明の実施形態４に係る表示装置を模式的に示した断面図である。
【図１３】図１３は本発明の実施形態５に係る表示装置を模式的に示した断面図である。
【図１４】図１４は本発明の実施形態６に係る表示装置を模式的に示した断面図である。
【図１５】図１５は本発明の実施形態７に係る表示装置を模式的に示した断面図である。
【図１６】図１６は本発明の実施形態８に係る表示装置を模式的に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
【００１２】
本願において、「長尺状」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。フィルムの幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば１００，０００倍以下としうる。
【００１３】
本願において、フィルムの面内方向の位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈは、式Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、及びＲｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄに従って算出する。またフィルムのＮｚ係数は、［（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）］で表される値であり、［（Ｒｔｈ／Ｒｅ）＋０．５］とも表しうる。ここで、ｎｘは、フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、フィルムの面内の遅相軸に垂直な面内方向の屈折率であり、ｎｚは、フィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄは、フィルムの厚み（ｎｍ）である。測定波長は、別に断らない限り、可視光領域の代表的な波長である５５０ｎｍとする。
【００１４】
［実施形態１：偏光板用積層体及び偏光板］
以下、本発明の一実施形態である実施形態１の偏光板用積層体及び、当該積層体を用いて製造した偏光板及びその製造方法について図１〜図４を参照しつつ説明する。
［１．偏光板用積層体］
本発明の偏光板用積層体（以下、単に「積層体」ともいう）は、未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルムと、基材フィルムと、を含む。図１は、本発明に係る実施形態１の積層体１０を模式的に示す断面図の一例である。図１に示すように、本実施形態の積層体１０は、未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルム１１と、ポリビニルアルコール樹脂フィルム１１の上に設けられた基材フィルム１２と、を含む。図１において、１３はポリビニルアルコール樹脂フィルム１１と基材フィルム１２とを接着する接着剤である。本発明の積層体１０は、偏光子（偏光板）を製造するための材料である。
【００１５】
［ポリビニルアルコール樹脂フィルム］
本発明において、ポリビニルアルコール樹脂フィルムは、面内方向の位相差Ｒｅ１が５０ｎｍ以下であり、かつ、厚みＴが４５μｍ以下のフィルムである。ポリビニルアルコール樹脂フィルムはポリビニルアルコール樹脂（以下、「ポリビニルアルコール」を「ＰＶＡ」と略称する事がある。）からなる未延伸のフィルムである。本願において、「未延伸のフィルム」とは、延伸処理に供していないものをいう。
【００１６】
本発明において、ＰＶＡ樹脂フィルム（ポリビニルアルコール樹脂フィルム）としては、必ずしも限定されないが、入手性などより、酢酸ビニルを重合して得られるポリ酢酸ビニルをけん化することにより製造されたものを使用するのが好ましい。ＰＶＡ樹脂に含まれるＰＶＡは、延伸性や得られる偏光子の偏光性能などが優れるという観点より、重合度は５００〜８０００の範囲にあることが好ましく、けん化度は９０モル％以上であることが好ましい。ここで重合度とは、ＪＩＳ  Ｋ６７２６−１９９４の記載に準じて測定した平均重合度であり、けん化度とは、ＪＩＳ  Ｋ６７２６−１９９４の記載に準じて測定した値である。重合度のより好ましい範囲は１０００〜６０００、さらに好ましくは１５００〜４０００である。けん化度のより好ましい範囲は９５モル％以上、さらに好ましくは９９モル％以上である。ＰＶＡは、酢酸ビニルと共重合可能な他のモノマーとの共重合体、あるいはグラフト重合体であってもよい。
【００１７】
本発明において、ＰＶＡ樹脂フィルムの製法は特に限定されず、公知の方法等の任意の方法により製造することができる。製法の例としては、ＰＶＡを溶剤に溶解したＰＶＡ溶液を製膜原液として使用した、流延製膜法、湿式製膜法（貧溶媒中への吐出）、乾湿式製膜法、ゲル製膜法（ＰＶＡ水溶液を一旦冷却ゲル化した後、溶媒を抽出除去し、ＰＶＡ樹脂フィルムを得る方法）、およびこれらの組み合わせによる方法が挙げられる。製法のさらなる例としては、溶剤を含有するＰＶＡを溶融したものを製膜原液として行う溶融押出製膜法が挙げられる。これらの中でも、流延製膜法、および溶融押出製膜法が、透明性が高く着色の少ないＰＶＡの樹脂フィルムが得られることから好ましく、溶融押出製膜法がより好ましい。
【００１８】
本発明において、ＰＶＡ樹脂フィルムは、機械的物性や二次加工時の工程通過性などを改善するために、グリセリン等の多価アルコールなどの可塑剤を、ＰＶＡに対して０．０１〜３０重量％含有する事が好ましく、また取り扱い性やフィルム外観などを改善するため、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などの界面活性剤を、ＰＶＡに対して０．０１〜１重量％含有することが好ましい。
【００１９】
ＰＶＡ樹脂フィルムは、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、ｐＨ調整剤、無機物微粒子、着色剤、防腐剤、防黴剤、上記した成分以外の他の高分子化合物、水分などの任意成分を更に含んでいてもよい。ＰＶＡ樹脂フィルムは前記任意の成分の１種または２種以上を含むことができる。
【００２０】
ＰＶＡ樹脂フィルムの厚みＴは、４５μｍ以下であり、好ましくは３５μｍ以下、より好ましくは２５μｍ以下、更に好ましくは２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは１５μｍ以上である。ＰＶＡ樹脂フィルムの厚みが、前記範囲の上限値以下であることにより偏光板の収縮力を効果的に下げることができ、前記範囲の下限値以上であることにより十分に高い偏光性能を有する偏光板を得ることができる。
【００２１】
ＰＶＡ樹脂フィルムの面内方向の位相差Ｒｅ１は５０ｎｍ以下であり、好ましくは４０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下であり、好ましくは０ｎｍ以上、より好ましくは３ｎｍ以上である。ＰＶＡ樹脂フィルムの面内方向の位相差Ｒｅ１が上記範囲の上限値以下であることにより、積層体を十分な倍率で延伸することができ、高い偏光性能の偏光板を得ることができる。
【００２２】
ＰＶＡ樹脂フィルムの形状及び寸法は、所望の用途に応じたものに適宜調整しうる。製造の効率上、ＰＶＡ樹脂フィルムは長尺状のフィルムであることが好ましい。
【００２３】
［基材フィルム］
基材フィルムは、ＰＶＡ樹脂フィルムとは別の層であり、樹脂からなるフィルムである。本発明において、基材フィルムを形成する樹脂は、低温（例えば５０〜１２０℃）で、高い延伸倍率（例えば６．０倍）の延伸が可能な柔軟性を有する樹脂である。本発明において、基材フィルムを形成する樹脂は、メルトフローレートが１ｇ／１０分以上でかつ、引張弾性率Ｅが、５０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の樹脂（樹脂Ａ）であるか、または、所定のシクロオレフィン系重合体を含むシクロオレフィン系樹脂（樹脂Ｂ）である。
【００２４】
〔樹脂Ａ〕
本発明において、基材フィルムを形成する樹脂Ａのメルトフローレートは、１ｇ／１０分以上、好ましくは３ｇ／１０分以上、より好ましくは５ｇ／１０分以上であり、好ましくは３００ｇ／１０分以下、より好ましくは１００ｇ／１０分以下である。ここでいうメルトフローレートは、１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定した値である。以下、「１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定したメルトフローレート」を単に「ＭＦＲ」ともいう。樹脂ＡのＭＦＲを下限値以上とすることにより、偏光板としたときに位相差を小さく抑えることができ、ＭＦＲを上限値以下とすることにより、耐熱性を高めることができる。
【００２５】
樹脂ＡのＭＦＲは、ＪＩＳ−Ｋ−７２１０に基づき、メルトインデクサを用いて、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇの条件で測定しうる。
【００２６】
本発明において、基材フィルムを形成する樹脂Ａの引張弾性率Ｅは、５０ＭＰａ以上、好ましくは１００ＭＰａ以上、より好ましくは２００ＭＰａ以上であり、１２００ＭＰａ以下、好ましくは１０００ＭＰａ以下、より好ましくは８００ＭＰａ以下である。樹脂Ａの引張弾性率Ｅを、下限値以上とすることにより積層体を延伸して偏光板とした際に基材フィルムの位相差を小さくし、上限値以下とすることにより、積層体を延伸する際に基材フィルムの破断の発生を防止することができる。
【００２７】
基材フィルムを形成する樹脂Ａは、ＭＦＲが１ｇ／１０分以上でかつ、引張弾性率Ｅが、５０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の樹脂であれば、特に限定はないが、このような樹脂としては、透明性及び水蒸気バリア性に優れる点からシクロオレフィン系重合体を含むシクロオレフィン系樹脂が好ましい。
【００２８】
前記シクロオレフィン系重合体としては、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｃ］と、からなるブロック共重合体［Ｄ］を、水素化したブロック共重合体水素化物が好ましい。このようなブロック共重合体水素化物としては、ＷＯ２０００／３２６４６号、ＷＯ２００１／０８１９５７号、特開２００２−１０５１５１号公報、特開２００６−１９５２４２号公報、特開２０１１−１３３７８号公報、ＷＯ２０１５／００２０２０号、等に記載の重合体が挙げられる。
【００２９】
〔樹脂Ｂ〕
本発明において、基材フィルムを形成する樹脂Ｂは、シクロオレフィン系重合体を含むシクロオレフィン系樹脂である。樹脂Ｂに含まれるシクロオレフィン系重合体は、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位［Ｉ］及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］、または鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位［ＩＩ］を主成分とする重合体ブロック［Ｃ］と、からなるブロック共重合体［Ｄ］を、水素化したブロック共重合体水素化物である。このようなブロック共重合体水素化物としては、樹脂Ａとして好適に用いられる前出のブロック共重合体水素化物と同じものを用いることができる。
【００３０】
基材フィルムを形成する樹脂Ｂは、ＭＦＲが１ｇ／１０分以上でかつ、引張弾性率Ｅが、５０ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の樹脂であってもよい。
【００３１】
〔可塑剤、及び軟化剤〕
本発明において、基材フィルムを形成する樹脂（樹脂Ａおよび樹脂Ｂ）は、可塑剤及び/又は軟化剤（可塑剤及び軟化剤のうちのいずれか一方、又は双方）を含有することが好ましい。可塑剤及び/又は軟化剤を含有することにより、積層体を延伸して偏光板を得た際に基材フィルムに発生する位相差を小さくすることが出来る。
【００３２】
可塑剤及び軟化剤としては、基材フィルムを形成する樹脂に均一に溶解ないし分散できるものを用いうる。可塑剤及び軟化剤の具体例としては、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤（以下において「多価アルコールエステル系可塑剤」という。）、及び多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤（以下において「多価カルボン酸エステル系可塑剤」という。）等のエステル系可塑剤、並びに燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、及びその他のポリマー軟化剤が挙げられる。
【００３３】
本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、特に限定されないが、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。
【００３４】
多価アルコールエステル系可塑剤の例としては、エチレングリコールエステル系可塑剤、グリセリンエステル系可塑剤、及びその他の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。
【００３５】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の例としては、ジカルボン酸エステル系可塑剤、及びその他の多価カルボン酸エステル系可塑剤が挙げられる。
【００３６】
燐酸エステル系可塑剤の例としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等の燐酸アルキルエステル；トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等の燐酸シクロアルキルエステル；トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等の燐酸アリールエステルが挙げられる。
【００３７】
炭水化物エステル系可塑剤として、具体的には、グルコースペンタアセテート、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタブチレート、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエート等を好ましく挙げることができ、この内、サッカロースオクタアセテートがより好ましい。
【００３８】
ポリマー軟化剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素重合体、脂環式炭化水素系重合体、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、等のアクリル系ポリマー；ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー；ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー；ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル；ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。
【００３９】
脂肪族炭化水素重合体の具体例としては、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリ−４−メチルペンテン、ポリ−１−オクテン、エチレン・α−オレフィン共重合体等の低分子量体及びその水素化物；ポリイソプレン、ポリイソプレン−ブタジエン共重合体等の低分子量体及びその水素化物等が挙げられる。シクロオレフィン樹脂に均一に溶解ないし分散し易い観点から脂肪族炭化水素系ポリマーは、数平均分子量３００〜５，０００であることが好ましい。
【００４０】
これらポリマー軟化剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。
【００４１】
本発明において、可塑剤及び/又は軟化剤としては、基材フィルムを形成する樹脂との相溶性に特に優れることからエステル系可塑剤、及び脂肪族炭化水素重合体から選ばれる一種以上であるのが好ましい。
【００４２】
基材フィルムにおける可塑剤及び/又は軟化剤（以下「可塑剤等」ともいう）の割合は、基材フィルムを形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．２重量部以上、より好ましくは０．５重量部以上、さらにより好ましくは１．０重量部以上であり、一方好ましくは５０重量部以下、より好ましくは４０重量部以下である。可塑剤等の割合を前記範囲内とすることにより、基材フィルムを、延伸処理を含む偏光板の製造工程を経ても、位相差の発現性が充分に低いものとすることができる。
【００４３】
〔有機金属化合物〕
本発明において、基材フィルムは、有機金属化合物を含有するのが好ましい。有機金属化合物を含むことにより、積層体を高い延伸倍率で延伸（例えば延伸倍率６．０で湿式延伸）をした場合における、基材フィルムの剥離の発生をより有効に抑制することができる。
【００４４】
有機金属化合物は、金属と炭素との化学結合および金属と酸素との化学結合の少なくとも一方を含む化合物であり、有機基を有する金属化合物である。有機金属化合物としては、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらのうち、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物及び有機ジルコニウム化合物が好ましく、ポリビニルアルコールとの反応性に優れることから有機ケイ素化合物がより好ましい。有機金属化合物は一種または二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
有機金属化合物としては、例えば、下記式（１）で表される有機ケイ素化合物が挙げられるが、これに限定されない。
Ｒ１ａＳｉ（ＯＲ２）３−ａ  （１）
（式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０の炭化水素基、エポキシ基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基及び、炭素原子数１〜１０の有機基からなる群より選ばれる基を表し、ａは、０〜３の整数を表す。）
【００４６】
式（１）において、Ｒ１として好ましい例を挙げると、エポキシ基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、ビニル基、アリール基、アクリル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、−ＣＨ２ＯＣｎＨ２ｎ＋１（ｎは１〜４の整数を表す。）などが挙げられる。
また、式（１）において、Ｒ２として好ましい例を挙げると、水素原子、ビニル基、アリール基、アクリル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、−ＣＨ２ＯＣｎＨ２ｎ＋１（ｎは１〜４の整数を表す。）などが挙げられる。
【００４７】
有機ケイ素化合物の例としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ系有機ケイ素化合物、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ系有機ケイ素化合物、トリス-（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート系有機ケイ素化合物、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト系有機ケイ素化合物、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート系有機ケイ素化合物が挙げられる。
【００４８】
有機チタン化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート等のチタンアルコキシド、チタンアセチルアセトネート等のチタンキレート、チタンイソステアレート等のチタンアシレートが挙げられる。
【００４９】
有機ジルコニウム化合物の例としては、ノルマルプロピルジルコネート等のジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等のジルコニウムキレート、ステアリン酸ジルコニウム等のジルコニウムアシレートが挙げられる。
【００５０】
有機アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムセカンダリーブトキシド等のアルミニウムアルコキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等のアルミニウムキレートが挙げられる。
【００５１】
基材フィルムにおける有機金属化合物の割合は、基材フィルムを形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００５重量部以上、より好ましくは０．０１重量部以上、さらにより好ましくは０．０３重量部以上であり、一方好ましくは１．０重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下である。有機金属化合物の割合を前記範囲内とすることにより、積層体を高倍率（例えば延伸倍率６．０）で湿式延伸をした場合における、基材フィルムの剥離の発生をより有効に抑制することができる。
【００５２】
〔任意成分〕
基材フィルムは、樹脂、可塑剤、有機金属化合物等の他に任意成分を含みうる。任意成分の例としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの安定剤；滑剤などの樹脂改質剤；染料や顔料などの着色剤；及び帯電防止剤が挙げられる。これらの配合剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。
【００５３】
〔基材フィルムの製造方法〕
基材フィルムは、基材フィルムを形成するための成分（樹脂及び必要に応じ添加される成分）を含む組成物（以下、「樹脂組成物」ともいう）を、任意の成形方法によりフィルム状に成形することにより製造しうる。
【００５４】
樹脂組成物をフィルム状に成形する方法の例としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。
【００５５】
基材フィルムの厚みは１μｍ以上が好ましく３μｍ以上がより好ましく、５０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。基材フィルムの厚みが前記範囲の下限値以上であることにより、偏光板化工程における偏光子の溶断を効果的に防ぐことができ、前記範囲の上限値以下であることにより、積層体を延伸して偏光板を得た際に基材フィルムに発生する位相差を小さくすることができる。
【００５６】
［積層体の製造方法］
図２は、本実施形態に係る積層体の製造装置２００の一例を模式的に示した概略図である。製造装置２００は、繰り出し装置２０１，２０２、貼り合わせ装置２０５、及び巻取り装置２０３を備える。
【００５７】
図２に示すように、繰り出し装置２０１から繰り出されたＰＶＡ樹脂フィルム１１を貼り合わせ装置２０５に搬送し、貼り合わせ装置２０５にて接着剤を塗布し、繰り出し装置２０２から繰り出された基材フィルム１２と貼り合わせることにより積層体１０が得られる。製造された積層体１０は、巻取り装置２０３により巻き取られ、ロールの形状とし、さらなる工程に供することができる。
【００５８】
ＰＶＡ樹脂フィルム１１と基材フィルム１２とを貼り合わせる接着剤１３としては、特段の制限は無く、例えば、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリオレフィン系接着剤、変性ポリオレフィン系接着剤、ポリビニルアルキルエーテル系接着剤、ゴム系接着剤、塩化ビニル−酢酸ビニル系接着剤、ＳＥＢＳ（スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共重合体）系接着剤、エチレン−スチレン共重合体などのエチレン系接着剤、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル系接着剤などを用いうる。積層体を高倍率（例えば延伸倍率６．０）で湿式延伸をした場合における、ＰＶＡ樹脂フィルム１１と基材フィルム１２の剥離の発生をより有効に抑制することができることから、接着剤を用いることが好ましい。
【００５９】
基材フィルム１２の、ＰＶＡ樹脂フィルムに貼り付けられる面または、ＰＶＡ樹脂フィルムの、基材フィルム１２に貼り付けられる面には、コロナ処理、ケン化処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理などの易接着処理が施されてもよい。
【００６０】
［積層体］
本発明において、Ｒｅ２は、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。Ｒｅ２は好ましくは０ｎｍ以上であり、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。Ｒｅ２が上限値以下であることにより積層体１０を延伸して偏光板とした際に基材フィルムに発現する位相差を小さくすることができる。
Ｒｅ２は、積層体１０を、５０℃〜１２０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸し、積層体における基材フィルムを延伸物とした際に、基材フィルムの延伸物が有する、面内方向の位相差である。即ち、Ｒｅ２は、積層体における基材フィルム自体の位相差ではなく、積層体に特定の延伸処理を加えた後に、基材フィルムの延伸物に生じる位相差である。
かかる延伸物を得るための延伸温度は、５０℃〜１２０℃の範囲内のいずれの温度であってもよい。したがって、延伸物を得る延伸のための、複数の操作条件が考えられる。かかる複数の操作条件のいずれか一つによって、延伸物が０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の位相差を発現する場合、積層体は前記要件を満たす。
但し、とりうる前記複数の操作条件の全てによって、延伸物が０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の位相差を発現することが好ましい。その場合、本発明の偏光板用積層体による偏光板の製造において、高い延伸条件設定の自由度を得ることができる。
一般的に、当該温度範囲においては延伸温度がより低い場合においてより大きな位相差が発現する。したがって、５０℃の延伸による延伸物の位相差及び１２０℃の延伸による延伸物の位相差の双方が０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内であれば、前記複数の操作条件の全てによって、延伸物が０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の位相差を発現すると判断しうる。
【００６１】
本発明の積層体１０は、偏光板を製造するための材料である。積層体は、延伸処理及び染色処理等の所定の処理を行った後に偏光板とされる。以下本実施形態の積層体１０を用いて製造する本発明の偏光板について説明する。
【００６２】
［２．偏光板］
本発明の偏光板１００は本実施形態の積層体１０を一軸延伸することにより得られる。図３は本実施形態に係る積層体１０を用いて製造した偏光板１００を模式的に示した断面図である。
【００６３】
図３に示すように、偏光板１００においては、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の一方の面（図示上側面）の上に基材フィルム１１２が積層されている。図３中、１１３は接着剤層である。
【００６４】
［偏光板の製造方法］
本発明の実施形態１に係る積層板を用いた偏光板の製造方法について説明する。図４は本実施形態に係る積層体１０を用いて偏光板１００を製造する製造装置３００の一例を模式的に示した図である。
【００６５】
図４に示すように、製造装置３００は、繰り出し装置３０１，３０７、処理装置３０２〜３０５、乾燥装置３０６，３０９、貼り合わせ装置３０８、及び巻取り装置３１０を備える。
【００６６】
本発明の偏光板の製造方法は、本発明の積層体を一軸延伸する工程（延伸処理工程）を含む。本発明の偏光板の製造方法は、積層体を染色する染色処理工程及び／又は積層体を乾燥する乾燥工程を含んでいてもよい。本実施形態においては、繰り出し装置３０１から繰り出された積層体１０を、処理装置３０２〜３０５に搬送して、積層体のＰＶＡ樹脂フィルムを染色する染色処理（染色処理工程）、積層体を一軸延伸する延伸処理（延伸処理工程）、及び所定の処理をおこなう。これらの処理を行った後の積層体を乾燥装置３０６にて乾燥する処理（乾燥工程）を行うと、偏光板１００が得られる。以下、各工程について詳しく説明する。
【００６７】
〔延伸処理工程〕
本実施形態において、延伸処理工程は、積層体を一軸延伸する工程である。積層体を延伸する方法としては特に限定されないが、湿式延伸が好ましい。延伸工程は１回行っても、２回以上行ってもよい。
【００６８】
積層体の延伸倍率は、好ましくは５．０以上、より好ましくは５．５以上であり、好ましくは７．０以下、より好ましくは６．５以下である。積層体の延伸倍率を前記範囲の上限値以下とすると、延伸処理を含む偏光板の製造工程を経てもなお、基材フィルムの位相差の発現を低くし、偏光板の破断の発生を防止することができ、延伸倍率を前記範囲の下限値以上とすると十分な偏光性能を持つ偏光板を得ることができる。積層体の延伸を２回以上行う場合、各回の延伸倍率の積で表されるトータルの延伸倍率が前記範囲となるようにするのが好ましい。
【００６９】
積層体の延伸温度は、特段の制限は無いが、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上、特に好ましくは５０℃以上であり、好ましくは１４０℃以下、より好ましくは９０℃以下、特に好ましくは７０℃以下である。延伸温度が、前記範囲の下限値以上であることにより延伸を円滑に行うことができ、また、前記範囲の上限値以下であることにより延伸によって効果的な配向を行うことができる。前記延伸温度の範囲は乾式延伸及び湿式延伸のいずれの方法であっても好ましいが、湿式延伸の場合に特に好ましい。
【００７０】
積層体の延伸処理は、フィルム長手方向に延伸を行う縦延伸処理、フィルム幅方向に延伸を行う横延伸処理、フィルム幅方向に平行でもなく垂直でもない斜め方向に延伸を行う斜め延伸処理のいずれを行ってもよい。積層体の延伸処理は、自由一軸延伸が好ましく、縦方向の自由一軸延伸がより好ましい。
【００７１】
〔染色処理工程〕
染色処理工程は、積層体のＰＶＡ樹脂フィルムを染色する工程である。本実施形態では、偏光板の製造方法は、積層体のＰＶＡ樹脂フィルムを染色する染色処理（工程）を含んでいるが、本発明において、染色処理は任意であり、含んでいなくてもよい。染色処理工程は延伸処理の前に行ってもよい。また、ＰＶＡ樹脂フィルムの染色は、積層体を形成する前のＰＶＡ樹脂フィルムについて行ってもよい。
【００７２】
染色処理工程におけるＰＶＡ樹脂フィルムを染色する物質としては、二色性物質が挙げられ、二色性物質としては、ヨウ素、有機染料などが挙げられる。これらの二色性物質を用いた染色方法は、任意である。例えば、二色性物質を含む染色溶液に、ＰＶＡ樹脂フィルムの層を浸漬することにより、染色を行ってもよい。また、二色性物質としてヨウ素を用いる場合、染色効率を高める観点から、染色溶液はヨウ化カリウム等のヨウ化物を含んでいてもよい。二色性物質に特に制限はないが、偏光板を車載用の表示装置において用いる場合、二色性物質としては、有機染料が好ましい。
【００７３】
［乾燥工程］
乾燥工程は、染色処理工程及び延伸処理工程等の処理工程を経た積層体を乾燥する工程である。乾燥工程においては、処理工程後の積層体を、温度５０℃〜１００℃の温度の乾燥機中で、０．５分〜１０分乾燥させるのが好ましい。前記積層体の乾燥温度は、より好ましくは６０℃以上であり、より好ましくは９０℃以下である。乾燥温度を下限値以上とすることにより乾燥時間を短縮し、乾燥温度を上限値以下とすることにより、ＰＶＡ樹脂フィルムの割れを防止することができる。前記積層体の乾燥時間は、より好ましくは１分以上であり、より好ましくは５分以下である。乾燥時間を、乾燥時間を下限値以上とすることで前記積層体の乾燥を十分なものとし、上限値以下とすることにより、積層体におけるＰＶＡ樹脂フィルムの割れを防止することができる。
【００７４】
従来のＰＶＡ樹脂のみからなる薄膜の偏光子においては、乾燥工程後に割れが発生することがあったが、本実施形態の偏光板は、ＰＶＡ樹脂フィルムとともに、基材フィルムを含む積層体を用いて製造するので、乾燥工程を経た後でも偏光子の割れの発生を抑制することができる。
【００７５】
［偏光板における各層の特性］
偏光板におけるＰＶＡ樹脂フィルムの厚みは、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。厚みが上限値以下であることにより、偏光板の厚みを小さくすることができ、厚みが下限値以上であることにより、十分に高い偏光性能を有する偏光板を得ることが出来る。
【００７６】
偏光板における基材フィルムの面内方向の位相差は、２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１５ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、０ｎｍ以上が好ましい。偏光板における基材フィルムの面内方向の位相差が上記範囲内であることにより、偏光板を液晶表示装置に実装した際のブラックカラーシフトを抑えることができる。
【００７７】
［３．本実施形態の作用・効果］
本実施形態においては、面内方向の位相差Ｒｅ１が小さく、厚みが小さいＰＶＡ樹脂フィルムと、低温で高倍率の延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を含む積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、積層体を低温下、高倍率で延伸した場合でもＰＶＡ樹脂フィルムの溶断の発生を抑制することができ、かつ、延伸後の基材フィルムにおける位相差の発現を抑えることができる。その結果、本実施形態によれば、基材フィルムを剥離せずにそのままＰＶＡ樹脂フィルムの一方の面の保護フィルムとして用いることができ、かつ無駄になる材料を減らすことができるので、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる偏光板の製造方法を提供することができる。
【００７８】
［変形例１］
以下、本発明の実施形態１に係る積層体１０を用いて製造した変形例１の偏光板１２０について図４及び図５を参照しつつ説明する。
【００７９】
図５は本発明の実施形態１に係る積層体１０を用いて製造した変形例１の偏光板１２０を模式的に示した断面図である。この偏光板１２０においては、図５に示すように、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の一方の面（図示上側面）の上に基材フィルム１１２が積層され、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の他方の面側（図示下側面）に保護フィルム１１５が積層されている。図５中、１１３，１１４は接着剤層である。保護フィルム１１５をＰＶＡ樹脂フィルムに貼り合わせるための接着剤は、ＰＶＡ樹脂フィルムに基材フィルムを貼り合わせる接着剤と同様のものを用いることができる。
【００８０】
本例に係る偏光板１２０の製造方法は、実施形態１で得られた偏光板１００のＰＶＡ樹脂フィルム１１１に、直接または接着剤を介して保護フィルム１１５を貼合する工程を含む。
【００８１】
具体的には、図４に示すように、実施形態１の偏光板１００を貼り合わせ装置３０８に搬送し、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の基材フィルム１１２の積層されていない側の面に接着剤１１４を塗布し、繰り出し装置３０７から繰り出された保護フィルム１１５と貼り合わせることにより、保護フィルム１１５を備える偏光板１２０が得られる。製造された偏光板１２０は、巻取り装置３１０により巻き取られ、ロールの形状とし、さらなる工程に供することができる。
【００８２】
本例において保護フィルム１１５としては、シクロオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、及びトリアセチルセルロース樹脂か選ばれる一種以上の樹脂からなるフィルムを用いることができる。
【００８３】
本例の偏光板も、実施形態１の偏光板と同様に、面内方向の位相差Ｒｅ１が小さく、厚みが小さいＰＶＡ樹脂フィルムと、低温で高倍率の延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を含む積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、実施形態１と同様の作用効果を有する。
【００８４】
また、本例によれば、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の基材フィルム１１２の積層されていない側の面に保護フィルム１１５を備えるので、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の表面に傷等がつくのを防止する効果も奏する。
【００８５】
［変形例２］
以下、本発明の実施形態１に係る積層体１０を用いて製造した変形例２の偏光板１３０について図６を参照しつつ説明する。
図６は本発明の実施形態１に係る積層体１０を用いて製造した変形例２の偏光板１３０を模式的に示した断面図である。
【００８６】
図６は本例の偏光板１３０を模式的に示した断面図である。この偏光板１３０においては、図６に示すように、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の一方の面（図示上側面）の上に基材フィルム１１２が積層され、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の他方の面側（図示下側面）に粘着剤層１１６が積層されている。
【００８７】
本例に係る偏光板１３０の製造方法は、実施形態１で得られた偏光板１００のＰＶＡ樹脂フィルム１１１に、粘着剤層１１６を設ける工程を含む。
【００８８】
粘着剤層１１６を形成する粘着剤としては、市販の各種の粘着剤、例えば、主成分たる重合体として、アクリル重合体を含む粘着剤を用いうる。
本例の偏光板１３０は、例えば、実施形態１の偏光板１００の、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の基材フィルム１１２の積層されていない側の面に、市販の粘着剤層を有するフィルム（例えば藤森工業製「マスタックシリーズ」）から粘着剤層を転写して、粘着剤層を形成することにより得られる。
【００８９】
本例の偏光板１３０も、実施形態１の偏光板と同様に、面内方向の位相差Ｒｅ１が小さく、厚みが小さいＰＶＡ樹脂フィルムと、低温で高倍率の延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を含む積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、実施形態１と同様の作用効果を有する。
【００９０】
また、本例によれば、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の基材フィルム１１２の積層されていない側の面に粘着剤層１１６を備えるので、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の表面に傷等がつくのを防止する効果も奏する。
【００９１】
［実施形態２：偏光板用積層体及び偏光板］
以下、本発明の一実施形態である実施形態２の積層体１５(偏光板用積層体)及び、当該積層体１５を用いて製造した偏光板１５０及びその製造方法について図７及び図８を参照しつつ説明する。実施形態１と同様の構成及び態様については同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
【００９２】
図７は本発明の実施形態２に係る積層体１５を模式的に示した断面図であり、図８は本実施形態に係る積層体１５を用いて製造した偏光板１５０を模式的に示した断面図である。
【００９３】
[積層体]
本実施形態の積層体１５は、基材フィルム１２がＰＶＡ樹脂フィルム１１に直接積層されている点で実施形態１の積層体と相違する。
【００９４】
基材フィルム１２をＰＶＡ樹脂フィルム１１に直接積層する方法としては、例えば、熱融着、超音波融着、レーザー融着等の方法が挙げられる。本願において、ＰＶＡ樹脂フィルムの面に「直接積層」された基材フィルムとは、ＰＶＡ樹脂フィルムと基材フィルムとを別々に調製し、これらを、他の層を介さずに直接接するよう貼合する場合を含む。
【００９５】
本実施形態の積層体１５も、実施形態１の積層体１０と同様に、偏光板を製造するための材料としうる。
【００９６】
[偏光板]
以下本実施形態の積層体１５を用いて製造する本発明の偏光板１５０について説明する。偏光板１５０は本実施形態の積層体１０を一軸延伸することにより得られる。
【００９７】
図８に示すように、偏光板１５０においては、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の一方の面（図示上側面）の上に基材フィルム１１２が直接積層されている。本実施形態の偏光板１５０も、実施形態１の偏光板１００と同様の方法により製造することができる。
【００９８】
［本実施形態の効果］
本実施形態においても、実施形態１の偏光板と同様に、面内方向の位相差Ｒｅ１が小さく、厚みが小さいＰＶＡ樹脂フィルムと、低温で高倍率の延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を含む積層体を延伸することにより偏光板１５０を製造するので、実施形態１と同様の作用効果を有する。
【００９９】
また、本実施形態によれば、基材フィルム１２をＰＶＡ樹脂フィルム１１に直接積層した積層体を用いるので、破断抑制効果に優れかつ、生産環境における他物質による環境汚染の防止や、製品へのコンタミネーション（異物混入）を防止するという効果も奏する。
【０１００】
［変形例３］
以下、本発明の実施形態２に係る積層体１５を用いて製造した変形例３の偏光板１６０について図９を参照しつつ説明する。図９は本発明の実施形態２に係る積層体を用いて製造した変形例３の偏光板１６０を模式的に示した断面図である。
【０１０１】
偏光板１６０においては、図９に示すように、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の一方の面（図示上側面）の上に基材フィルム１１２が積層され、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の他方の面側（図示下側面）に接着剤層１１４を介して保護フィルム１１５が積層されている。保護フィルム１１５をＰＶＡ樹脂フィルム１１１に貼り合わせるための接着剤１１４は、実施形態１で説明したＰＶＡ樹脂フィルムに基材フィルムを貼り合わせる接着剤と同様のものを用いることができる。
【０１０２】
本例に係る偏光板１６０の製造方法は、実施形態２で得られた偏光板１５０のＰＶＡ樹脂フィルム１１１に、接着剤を介して保護フィルム１１５を貼合する工程を含む。保護フィルム１１５及び保護フィルムを貼合する方法は、変形例１と同様である。
【０１０３】
本例の偏光板１６０も、実施形態１の偏光板と同様に、面内方向の位相差Ｒｅ１が小さく、厚みが小さいＰＶＡ樹脂フィルムと、低温で高倍率の延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を含む積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、実施形態１と同様の作用効果を有する。
【０１０４】
また、本例によれば、基材フィルム１２をＰＶＡ樹脂フィルム１１に直接積層した積層体１５を用いるので、破断抑制効果に優れかつ、生産環境における他物質による環境汚染の防止や、製品へのコンタミネーション（異物混入）を防止するという効果も奏する。
【０１０５】
さらに、本例によれば、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の基材フィルム１１２の積層されていない側の面に保護フィルム１１５を備えるので、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の表面に傷等がつくのを防止する効果も奏する。
【０１０６】
[変形例４]
以下、本発明の実施形態２に係る積層体１５を用いて製造した変形例４の偏光板１７０について図１０を参照しつつ説明する。図１０は本発明の実施形態２に係る積層体を用いて製造した変形例４の偏光板１７０を模式的に示した断面図である。
【０１０７】
偏光板１７０においては、図１０に示すように、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の一方の面（図示上側面）の上に基材フィルム１１２が積層され、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の他方の面側（図示下側面）に粘着剤層１１６が積層されている。
【０１０８】
本例に係る偏光板１７０の製造方法は、実施形態２で得られた偏光板１５０のＰＶＡ樹脂フィルム１１１に、粘着剤層１１６を設ける工程を含む。
粘着剤層１１６を形成する方法及び、粘着剤層１１６の形成に用いる粘着剤は、変形例２と同様である。
【０１０９】
本例の偏光板１７０も、実施形態１の偏光板と同様に、面内方向の位相差Ｒｅ１が小さく、厚みが小さいＰＶＡ樹脂フィルムと、低温で高倍率の延伸が可能な柔軟性のある樹脂からなる基材フィルムと、を含む積層体を延伸することにより偏光板を製造するので、実施形態１と同様の作用効果を有する。
【０１１０】
また、本例によれば、基材フィルム１２をＰＶＡ樹脂フィルム１１に直接積層した積層体１５を用いるので、破断抑制効果に優れかつ、生産環境における他物質による環境汚染の防止や、製品へのコンタミネーション（異物混入）を防止するという効果も奏する。
【０１１１】
さらに、本例によれば、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の基材フィルム１１２の積層されていない側の面に粘着剤層１１６を備えるので、ＰＶＡ樹脂フィルム１１１の表面に傷等がつくのを防止する効果も奏する。
【０１１２】
［実施形態３：表示装置］
本発明の偏光板用積層体を用いて製造した偏光板は液晶表示装置の材料となりうる。
通常、液晶表示装置は、光源、光源側偏光板、液晶セル及び視認側偏光板を、この順に備えるが、本発明により得られた偏光板は、光源側偏光板及び視認側偏光板のいずれに用いてもよい。
【０１１３】
液晶セルの駆動方式としては、例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モードなどが挙げられる。
【０１１４】
以下、本発明の積層体１０を用いて製造した偏光板１００を備える実施形態３に係る表示装置４００について図１１を参照しつつ説明する。本実施形態の表示装置４００は、実施形態１の偏光板１００を光源側偏光板及び視認側偏光板としてそれぞれ液晶パネルに積層することにより製造される。
【０１１５】
図１１は本発明の実施形態３に係る表示装置４００を模式的に示した断面図である。表示装置４００は図１１に示すように、２枚の基板４１０，４２０と、その間に位置する液晶層４３０と、２枚の基板４１０，４２０の外側にそれぞれ配される偏光板１００，１００と、を有する。２枚の偏光板１００は実施形態１の積層体１０を用いて製造した偏光板１００である。図１１に示すように、２枚の偏光板１００は、それぞれ、偏光板のＰＶＡ樹脂フィルム１１１と液晶層４３０との間に、偏光板の基材フィルム１１２が配されるように積層されている。
【０１１６】
本実施形態によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる偏光板を備えた表示装置を提供することができる。
【０１１７】
［実施形態４：表示装置］
本発明の偏光板を備える実施形態４に係る表示装置４５０について図１２を参照しつつ説明する。本実施形態の表示装置４５０は、光源側偏光板及び視認側偏光板のうちの一方の偏光板として本発明の偏光板を用い、当該偏光板を液晶パネルに積層することにより製造される。
図１２は本発明の実施形態４に係る表示装置４５０を模式的に示した断面図である。表示装置４５０は図１２に示すように、２枚の基板４１０，４２０とその間に位置する液晶層４３０と、下側の基板４１０の外側の面（図示下側面）に配される偏光板１２０と、を有する。偏光板１２０は変形例１の偏光板である。図１２に示すように、偏光板１２０は、偏光板のＰＶＡ樹脂フィルム１１１と液晶層４３０との間に、偏光板の基材フィルム１１２が配されるように積層されている。
【０１１８】
本実施形態によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる本発明の偏光板を備えた表示装置の製造方法を提供することができる。
【０１１９】
［実施形態５：表示装置］
本発明の偏光板１６０を備える実施形態５に係る表示装置４６０について図１３を参照しつつ説明する。本実施形態の表示装置４６０は、光源側偏光板及び視認側偏光板のうちの一方の偏光板として本発明の偏光板を用い、当該偏光板を液晶パネルに積層することにより製造される。
図１３は本発明の実施形態５に係る表示装置４６０を模式的に示した断面図である。表示装置４６０は図１３に示すように、２枚の基板４１０，４２０とその間に位置する液晶層４３０と、下側の基板４１０の外側の面（図示下側面）に配される偏光板１６０と、を有する。偏光板１６０は変形例３の偏光板である。図１３に示すように、偏光板１６０は、偏光板のＰＶＡ樹脂フィルム１１１と液晶層４３０との間に、偏光板の基材フィルム１１２が配されるように積層されている。
【０１２０】
本実施形態によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる本発明の偏光板を備えた表示装置の製造方法を提供することができる。
【０１２１】
［実施形態６：表示装置］
本発明の偏光板用積層体を用いて製造した偏光板はＥＬ表示装置の材料となりうる。
通常、有機ＥＬ表示装置は、光出射側から順に、基板、透明電極、発光層及び金属電極層を備えるが、本発明の製造方法により得られた偏光板は、基板の光出射側に配される。
ＥＬ表示装置は、２枚の基板とその間に位置する発光層と、２枚の基板のうち一方の基板の外側に配される偏光板とを有する。当該表示装置は本発明の偏光板を有機ＥＬパネルまたは無機ＥＬパネルに積層することにより製造することができる。
【０１２２】
以下、本発明の偏光板用積層体を用いて製造した偏光板を備える実施形態６に係る表示装置５００について図１４を参照しつつ説明する。本実施形態の表示装置５００は、本発明の偏光板１００を、有機ＥＬパネルに積層することにより製造される。
図１４は本発明の実施形態６に係る表示装置５００を模式的に示した断面図である。表示装置５００は、２枚の基板５１０，５２０とその間に位置する発光層５３０と、下側の基板５１０の外側の面（図示下側面）に配される偏光板１００と、を有する。偏光板１００は実施形態１の偏光板である。図１４に示すように、偏光板１００は、偏光板１００のＰＶＡ樹脂フィルム１１１と発光層５３０との間に、偏光板１００の基材フィルム１１２が配されるように積層されている。
【０１２３】
本実施形態によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる本発明の偏光板を備えた表示装置を提供することができる。
【０１２４】
［実施形態７：表示装置］
本発明の積層体を用いて製造した偏光板を備える実施形態７に係る表示装置５５０について図１５を参照しつつ説明する。本実施形態の表示装置５５０は、本発明の偏光板１２０を、有機ＥＬパネルに積層することにより製造される。
図１５は本発明の実施形態７に係る表示装置５５０を模式的に示した断面図である。表示装置５５０は、２枚の基板５１０，５２０とその間に位置する発光層５３０と、下側の基板５１０の外側の面（図示下側面）に配される偏光板１２０と、を有する。偏光板１２０は変形例１の偏光板である。図１５に示すように、偏光板１２０は、偏光板１２０のＰＶＡ樹脂フィルム１１１と発光層５３０との間に、偏光板１２０の基材フィルム１１２が配されるように積層されている。
【０１２５】
本実施形態によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる本発明の偏光板を備えた表示装置を提供することができる。
【０１２６】
［実施形態８：表示装置］
本発明の積層体を用いて製造した偏光板を備える実施形態８に係る表示装置５６０について図１６を参照しつつ説明する。本実施形態の表示装置５６０は、本発明の偏光板１６０を、有機ＥＬパネルに積層することにより製造される。
図１６は本発明の実施形態８に係る表示装置５６０を模式的に示した断面図である。表示装置５６０は、２枚の基板５１０，５２０とその間に位置する発光層５３０と、下側の基板５１０の外側（図示下側）に配される偏光板１６０と、を有する。偏光板１６０は変形例３の偏光板である。図１６に示すように、偏光板１６０は、偏光板１６０のＰＶＡ樹脂フィルム１１１と発光層５３０との間に、偏光板１６０の基材フィルム１１２が配されるように積層されている。
【０１２７】
本実施形態によれば、基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる本発明の偏光板を備えた表示装置を提供することができる。
【０１２８】
［他の実施形態］
（１）実施形態３では、実施形態１の偏光板を、光源側偏光板及び視認側偏光板にそれぞれ用いたものを示したが、いずれか一方の偏光板を別の偏光板で構成してもよいし、実施形態２の偏光板又は変形例１〜４の偏光板を２枚使用してもよい。
（２）実施形態４および５では、それぞれ、変形例１の偏光板及び変形例３の偏光板を、光源側偏光板及び視認側偏光板のうちの一方に用いているが、実施形態１、実施形態２、変形例２又は変形例４の偏光板を用いてもよい。
（３）実施形態６〜８では有機ＥＬ表示装置に、実施形態１の偏光板、変形例１の偏光板、及び変形例３の偏光板をそれぞれ用いた例を示したが、これに限定されない。例えば、実施形態２の偏光板、変形例２の偏光板または変形例４の偏光板を用いてもよいし、無機ＥＬ表示装置に本発明の偏光板を用いてもよい。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例及び比較例を参照して、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下において、成分の量比に関する「部」及び「％」は、別に断らない限り重量部を表す。【０１３０】
〔評価方法〕
〔重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ〕
ブロック共重合体及びブロック共重合体水素化物の分子量は、ＴＨＦを溶離液とするＧＰＣによる標準ポリスチレン換算値として、３８℃において測定した。測定装置として、東ソー社製、ＨＬＣ８０２０ＧＰＣを用いた。【０１３１】
〔水素化率〕
ブロック共重合体水素化物の水素化率は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル又はＧＰＣ分析により算出した。水素化率９９％以下の領域は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して算出し、９９％を超える領域は、ＧＰＣ分析により、ＵＶ検出器及びＲＩ検出器によるピーク面積の比率から算出した。【０１３２】
〔ＭＦＲ（１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定したメルトフローレート）の測定〕
メルトフローレートは、ＪＩＳ  Ｋ７２１０に基づき、測定装置として押出型プラストメーター（立山科学工業株式会社製、商品名「メルトインデクサ（Ｌ２４０）」）を用いて、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇの条件で測定した。【０１３３】
〔引張弾性率の測定〕
引張弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ７１２７に基づき、引張試験機（インストロンジャパン  カンパニイリミテッド社製、商品名「電気機械式万能材料試験機（５５６４）」）を用いて、下記の方法によって測定した。
基材フィルムをＪＩＳ  Ｋ７１２７記載の試験片タイプ１Ｂの形状に打ち抜き、この試験片を長辺方向に引っ張って歪ませる際の応力を測定した。応力の測定条件は、温度２３℃、湿度６０±５％ＲＨ、チャック間距離１１５ｍｍ、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎとした。応力の測定は、５回行なった。測定された応力と、その応力に対応した歪みの測定データから、試験片の歪が０．６％〜１．２％の範囲で０．２％毎に４点の測定データ（即ち、歪みが０．６％、０．８％、１．０％及び１．２％の時の測定データ）を選択し、５回の測定の４点の測定データ（合計２０点）から、最小二乗法を用いて、引張弾性率を算出した。【０１３４】
〔位相差の測定方法〕
ポリビニルアルコール樹脂フィルムの面内方向の位相差Ｒｅ１、基材フィルムの延伸物の面内方向の位相差Ｒｅ２、及び偏光板における基材フィルムの面内方向の位相差は、位相差計（株式会社オプトサイエンス社製、商品名「ミューラマトリクス・ポラリメータ（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ）」）を用いて測定した。測定に際し、測定波長は５５０ｎｍとした。
積層体を５０℃の温度条件下で６．０倍に自由端一軸延伸した際に発生する基材フィルムの面内方向の位相差、及び積層体を１２０℃の温度条件下で６．０倍に自由端一軸延伸した際に発生する基材フィルムの面内方向の位相差の双方が０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内であれば、積層体を５０℃〜１２０℃の温度条件下、６．０倍に自由端一軸延伸した際に発生する、基材フィルムの面内方向の位相差Ｒｅ２が、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であると判断した。【０１３５】
〔厚みの測定方法〕
積層体に含まれる各フィルム（ポリビニルアルコール樹脂フィルムと基材フィルム）の厚み、偏光板に含まれる各フィルムの厚みは、厚み計（株式会社ミツトヨ社製、商品名「ＡＢＳデジマチックシックネスゲージ（５４７−４０１）」）を使用して５回測定し、その平均値を各フィルムの厚みとした。【０１３６】
〔密着性の評価〕
各例の偏光板の製造における第二延伸処理までの工程で、ポリビニルアルコール樹脂フィルムと基材フィルムとの間に剥離が発生しなかったものをＡ、一部に剥離が見られたものをＢ、完全に剥離したものをＣとした。【０１３７】
〔乾燥工程性の評価〕
各例の偏光板の製造における７０℃、５分の乾燥工程で、偏光子にクラックが発生しなかったものをＡ、クラックが発生したものをＣとした。【０１３８】
〔ブラックカラーシフト〕
液晶表示装置（ＬＧエレクトロニクス・ジャパン社製、商品名「ＩＰＳパネルモニター（２３ＭＰ４７）」）から液晶表示パネルを取り外し、視認側に配置されている偏光板を剥離して、実施例及び比較例で作製した偏光板を、基材フィルムがパネル側になるように貼合した。また、保護フィルムの無い偏光子単体を実施例及び比較例で作製した偏光板の隣に貼合し、液晶表示装置を組み直した。実施例及び比較例で作成した偏光板、保護フィルムの無い偏光子単体の吸収軸は、剥離前の偏光板の吸収軸と同方向になるように貼合した。
視認側に配置されている偏光板の吸収軸の方向を方位角０°、パネルの垂直方向を極角０°とした際、パネルを黒表示状態（即ちパネルの表示画面全面に黒い色を表示した状態）にして、方位角４５°、極角４５°の方位から目視して保護フィルムの無い偏光子の場合と色味変化が同じものをＡ、わずかに色味変化があるものをＢ、変化が大きいものをＣと判断した。【０１３９】
〔実施例１〕
（１−１）重合体Ｘの作製
特開２００２−１０５１５１号公報に記載の製造例を参照して、第１段階でスチレンモノマー２５部を重合させた後、第２段階でスチレンモノマー３０部及びイソプレンモノマー２５部を重合させ、その後に第３段階でスチレンモノマー２０部を重合させてブロック共重合体［Ｄ１］を得た後、該ブロック共重合体を水素化してブロック共重合体水素化物［Ｅ１］を合成した。ブロック共重合体水素化物［Ｅ１］のＭｗは８４，５００、Ｍｗ／Ｍｎは１．２０、主鎖及び芳香環の水素化率はほぼ１００％であった。
ブロック共重合体水素化物［Ｅ１］１００部に、酸化防止剤としてペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（松原産業社製、製品名「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．１部を溶融混練して配合した後、ペレット状にして、成形用の重合体Ｘを得た。【０１４０】
（１−２）基材フィルムの製造
（１−１）で製造した重合体Ｘをシクロヘキサンに溶解させた後、重合体Ｘ１００重量部に対して４０重量部のポリイソブテン（ＪＸ日鉱日石エネルギー社製「日石ポリブテン  ＨＶ−３００」、数平均分子量１，４００）、及び０．１重量部の有機ケイ素化合物（３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ＫＢＭ９０３、信越化学社製）を添加し、キャスト製膜用塗布液を作製した。
得られた製膜用塗布液を、セパレーターフィルム（三菱化学社製、「ＭＲＶ３８」）にダイコーターを用いて塗布、乾燥した。これにより、幅６５０ｍｍ、長さ５００ｍ、厚み１０μｍの重合体Ｘを含む長尺の基材フィルムを得た。基材フィルムのＭＦＲは１０ｇ／１０分で、引張弾性率は６００ＭＰａであった。【０１４１】
（１−３）積層体の製造
水１００重量部、ポリビニルアルコール系接着剤（日本合成化学社製「Ｚ−２００」）３重量部、及び架橋剤（日本合成化学社製「ＳＰＭ−０１」）０．３重量部を混合して、接着剤を得た。この接着剤を、（１−２）で製造した基材フィルムの一方の面に塗布し、未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％、幅６５０ｍｍ、厚み２０μｍ、以下において「ＰＶＡ２０」ともいう）を貼り合わせた。この状態で、接着剤を７０℃において５分間加熱乾燥させ、積層体を得た。
得られた積層体における基材フィルムの厚み、ポリビニルアルコール樹脂フィルムの厚み及び面内方向の位相差Ｒｅ１、並びに位相差Ｒｅ２を測定した。結果を表１に記載する。前記自由端一軸延伸の温度条件は５０℃と１２０℃とした。【０１４２】
（１−４）偏光板の製造
（１−３）で製造した積層体を、ガイドロールを介して長手方向に連続搬送しながら、下記の操作を行った。
前記の積層体を、水に浸漬する膨潤処理、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含む染色溶液に浸漬する染色処理、並びに、染色処理後の積層体を延伸する第一延伸処理を行った。次いで、第一延伸処理後の積層体を、ホウ酸及びヨウ化カリウムを含む浴槽中で延伸する第二延伸処理を行った。第一延伸処理での延伸倍率と第二延伸処理での延伸倍率との積で表されるトータルの延伸倍率が６．０となるように設定した。第二延伸処理後の積層体を乾燥機中で、７０℃で５分間乾燥し（乾燥工程）、偏光板を得た。
第二延伸処理までの工程において密着性の評価を行い、乾燥工程において乾燥工程性の評価を行い、得られた偏光板についてブラックカラーシフトの評価を行った。評価結果を表１に示す。
また、得られた偏光板における基材フィルムの厚み及び位相差、ならびにポリビニルアルコール樹脂フィルムの厚みを測定した。測定結果を表１に示す。【０１４３】
〔実施例２〕
実施例１の（１−２）において、０．１重量部の有機ケイ素化合物に代えて、０．１重量部の有機チタン化合物（テトライソプロピルチタネート、オルガチックスＴＡ−８、マツモトファインケミカル社製）を添加して得られた基材フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、積層体及び偏光板を作製し、実施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１４４】
〔実施例３〕
実施例１の（１−２）において、０．１重量部の有機ケイ素化合物に代えて、０．１重量部の有機ジルコニウム化合物（ノルマルプロピルジルコネート、オルガチックスＺＡ−４５、マツモトファインケミカル社製）を添加して得られた基材フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、積層体及び偏光板を作製し、実施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１４５】
〔実施例４〕
実施例１の（１−２）において、製膜用塗布液を、セパレーターフィルムにダイコーターを用いて塗布、乾燥する操作を行う際に、塗布量等を調整して、厚みが５μｍの長尺の基材フィルム（幅及び長さは実施例１と同じ）を製造したこと以外は、実施例１と同様にして、積層体及び偏光板を作製し、実施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１４６】
〔実施例５〕
実施例１の（１−２）において、ポリイソブテンを用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして、積層体及び偏光板を作製し、実施例１と同様に評価を行った。結果を表２に示す。当該実施例５で用いた基材フィルムのＭＦＲは３ｇ／１０分で、引張弾性率は８００ＭＰａであった。【０１４７】
〔実施例６〕
実施例１の（１−２）において、有機ケイ素化合物を用いなかったこと、及び製膜用塗布液を、セパレーターフィルムにダイコーターを用いて塗布、乾燥する操作を行う際に、塗布量等を調整して、厚みが５μｍの長尺の基材フィルム（幅及び長さは実施例１と同じ）を製造したこと以外は、実施例１と同様にして、積層体及び偏光板を作製し、実施例１と同様に評価を行った。結果を表２に示す。【０１４８】
〔比較例１〕
実施例１の（１−４）において、（１−３）で製造した積層体に代えて、未延伸のポリビニルアルコール樹脂フィルム（ＰＶＡ２０）のみを用いて、（１−４）と同じ操作を行ったところ、第一延伸処理及び第二延伸処理において溶断が多発し、乾燥工程において破断が多発し密着性およびブラックカラーシフトの評価ができなかった。【０１４９】
〔比較例２〕
実施例１の（１−３）において、（１−２）で製造した基材フィルムに代えて弾性率が２３００ＭＰａのシクロオレフィン系樹脂フィルム（ゼオノアフィルム、日本ゼオン製、厚み１３μｍ、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇでのＭＦＲは測定不可）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を製造した。当該積層体を用いて実施例１の（１−４）と同じ操作を行ったところ、第一延伸処理において破断が生じ偏光板を作製することができなかった。【０１５０】
実施例及び比較例の評価結果を表１及び表２に示す。
表中、「ＣＯＰ」とはシクロオレフィン系樹脂を意味する。
表中、「Ｒｅ２（５０℃）」とは、積層体を５０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸した際に発生する基材フィルムの面内方向の位相差を意味し、「Ｒｅ２（１２０℃）」とは、積層体を１２０℃の温度条件下６．０倍に自由端一軸延伸した際に発生する基材フィルムの面内方向の位相差を意味する。
表中、「Ｒｅ１」とは、積層体におけるポリビニルアルコール樹脂フィルムの面内方向の位相差を意味する。  【０１５１】
【表１】
2019131684.tif 000003
【０１５２】
【表２】
2019131684.tif 000004
【０１５３】
表１及び表２の結果から、本発明によれば、積層体を延伸する工程を経た後の基材フィルムに発現する位相差を小さくすることができ、密着性、乾燥工程性及び光学物性に優れた偏光板を得ることができることが分かる。これにより基材フィルムを保護フィルムとしても用いることができ、厚みが薄くても効率的に製造することができる偏光板用積層体、当該積層体を用いた偏光板及び表示装置、並びに偏光板の製造方法を提供しうることが分かる。
【符号の説明】
【０１５４】
１０，１５…積層体（偏光板用積層体）
１１…ポリビニルアルコール樹脂フィルム（ＰＶＡ樹脂フィルム）
１２…基材フィルム
１３…接着剤層
１００，１２０，１３０，１５０，１６０，１７０…偏光板
１１１…ポリビニルアルコール樹脂フィルム（ＰＶＡ樹脂フィルム）
１１２…基材フィルム
１１３，１１４…接着剤層
１１５…保護フィルム
１１６…粘着剤層
２００…製造装置
２０１，２０２…繰り出し装置
２０３…巻き取り装置
２０５…貼り合わせ装置
３００…製造装置
３０１，３０７…繰り出し装置
３０２〜３０５…処理装置
３０６，３０９…乾燥装置
３０８…貼り合わせ装置
３１０…巻き取り装置
４００，４５０，４６０…表示装置(液晶表示装置)
４１０，４２０…基板
４３０…液晶層
５００，５５０，５６０…表示装置（有機ＥＬ表示装置）
５１０，５２０…基板
５３０…発光層
【図１】
2019131684.tif 000005
【図２】
2019131684.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【国際調査報告】
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