【手続補正書】
【提出日】平成21年2月10日(2009.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体の媒体（３）を処理するための、少なくとも１つのプラズマ発生区画（２）と、多数のプラズマ発生区画（２Ａ、２Ｂ）を直列に備えている貫流プラズマ装置（１）を作動させる方法において、
前記処理済又は未処理の媒体（３）の少なくとも１つの特性を判定する段階と、
前記判定された特性（Ｃ）に依って、前記プラズマ装置（１）の少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更する段階であって、前記少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）の変更は、プラズマ電極（６、７）に供給される交流電流又は電圧の調整ではない、作動設定値を変更する段階と、から成る方法。
【請求項２】
前記作動設定値（Ｓ）を変更する段階は、前記プラズマ装置（１）の電気的パラメータを調節する段階、前記気体の媒体（３）に化学的化合物（４）を補足する段階、前記気体の媒体（３）を、前記気体の媒体（３）の照射、加熱、又は冷却に曝す段階、及びそれらの組み合わせから成るグループから選択される段階を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記気体の媒体に補足される前記化学的化合物（４）は、電気的に負のガス、電気的に正のガス、極性液体の蒸気、及びそれらの混合物から成るグループから選択されることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記照射は、ＵＶスペクトル範囲、イオン化放射線、粒子ビーム、及び外部プラズマソースからの光子から成るグループから選択されることを特徴とする、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記調節される電気的パラメータは、プラズマ（Ｐ）を発生させるための尖端又は対向電極ではない、前記装置の貫流経路内又はその近くの導電性電極（５）に供給される電圧及び／又は電流、及び／又はその周波数それぞれであることを特徴とする、請求項２から４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記導電性電極（５）は、多孔質及び／又は金網状の電極であり、前記貫流経路の全断面を覆っていることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記媒体（３）の前記特性（Ｃ）は、温度、スペクトル吸収及び／又は放出、水分含有率、液滴の寸法、粒子含有率、粒子の寸法、生物学的活性、前記媒体（３）の組成又は前記組成の表示、前記媒体（３）の温度、又はそれらの組み合わせから成るグループから選択されることを特徴とする、請求項１から６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）の変更は、開ループ制御によって行われることを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）の変更は、閉ループ制御によって行われることを特徴とする、請求項１から８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記処理された媒体（３）の少なくとも１つの特性（Ｃ）は、連続的に判定され、前記判定の結果に依って、前記作動設定値（Ｓ）が変更されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記装置の前記作動設定値（Ｓ）は、前記少なくとも１つの判定された特性（Ｃ）が、事前に画定された受容可能な閾値より下又は上に留まっている限り、変えられないことを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記媒体（３）の特性（Ｃ）を判定する段階は、第１プラズマ発生区画（２Ａ）の上流、及び／又は前記媒体（３）の流路に沿った２つのプラズマ発生区画（２Ａ、２Ｂ）の間、及び／又は最後のプラズマ発生区画（２Ｂ）の下流で実行されることを特徴とする、請求項１から１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
作動設定値は、前記判定された特性に依って、前記装置の貫流経路の異なる区画で、異なるように変更されることを特徴とする、請求項１から１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
気体の媒体（３）を処理するための貫流プラズマ装置（１）において、前記処理済み又は未処理の媒体（３）の特性（Ｃ）を判定するためのセンサー（９）手段と、前記判定された特性（Ｃ）に依って、前記装置（１）の少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更するための制御器手段（１０）と、を備えており、少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更するための前記制御器手段（１０）は、前記プラズマ電極（６、７）に供給される交流電流又は電圧を調整するための制御器ではないことを特徴とする、貫流プラズマ装置。
【請求項１５】
少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更するための前記制御器手段（１０）は、前記プラズマ装置（１）の電気的パラメータを調節するための手段、前記気体の媒体（３）に化学的化合物（４）を補足する手段、前記気体の媒体（３）を、前記気体の媒体（３）の照射、加熱、又は冷却に曝す手段、及びそれらの組み合わせから成るグループから選択されることを特徴とする、請求項１４に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項１６】
導電性電極（５）は、前記装置（１）の前記貫流経路内又はその近くに配置されており、プラズマ、特にコロナプラズマを発生させるための尖端又は対向電極ではないことを特徴とする、特に請求項１４又は１５に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項１７】
前記導電性電極（５）は、多孔質及び／又は金網状の電極であり、前記装置（１）の前記貫流経路の全断面を覆っていることを特徴とする、請求項１６に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を開ループ制御によって変更するための制御器手段（１０）を備えていることを特徴とする、請求項１４から１７の何れか一項に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を閉ループ制御によって変更するための制御器手段（１０）を備えていることを特徴とする、請求項１４から１８の何れか一項に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項２０】
前記媒体（３）の前記少なくとも１つの特性（Ｃ）を連続的に判定するためのセンサー手段（９）と、前記判定の結果に基づいて、前記少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更するための手段を備えていることを特徴とする、請求項１９に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項２１】
前記媒体の少なくとも１つの特性（Ｃ）を判定するためのセンサー手段（９）を、第１プラズマ発生区画（２Ａ）の上流、及び／又は、前記媒体の前記流路に沿った２つのプラズマ発生区画（２Ａ、２Ｂ）の間、及び／又は最後のプラズマ発生区画（２Ｂ）の下流に備えていることを特徴とする、請求項１４から２０の何れか一項に記載の貫流プラズマ装置（１）。
【請求項２２】
気体の媒体（３）を処理する方法において、
前記気体の媒体（３）を貫流処理するための、請求項１４から２１に記載の貫流プラズマ装置（１）を提供する段階と、
請求項１から１３の何れか一項に記載の方法によって、前記貫流プラズマ装置を作動させる段階と、から成る方法。
【請求項２３】
気体の媒体（３）を殺菌するための、請求項１から１３又は２２の何れか一項に記載の方法の使用。
【請求項２４】
請求項１から１３又は２２の何れか一項に記載の、気体の媒体（３）を処理するための貫流プラズマ装置を、改良及び／又は再構築する方法において、
前記媒体（３）の特性（Ｃ）を判定するためのセンサー手段を装備する段階と、
前記判定された特性（Ｃ）に依って、前記プラズマ装置の作動設定値（Ｓ）を変更するための制御器手段を装備する段階であって、少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更するための前記制御器手段は、前記プラズマ電極（６、７）に供給される交流電流又は電圧を調整するための制御器ではない、制御器手段を装備する段階と、から成る方法。
【請求項２５】
請求項１４から２１の何れか一項に記載の貫流プラズマ装置（１）を装備する段階を含んでいる、空調装置を改良及び／又は再構築する方法。
【請求項２６】
請求項１４から２１の何れか一項に記載の貫流プラズマ装置（１）を備えていることを特徴とする、空調装置。