【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装飾層を有するガラス、又はガラス・セラミック製品を製造する方法であって、少なくとも１つの装飾用顔料をゾル・ゲル結合剤と混合し、そして該ゾル・ゲル結合剤と混合された前記顔料を、アニーリングにより前記製品の前記ガラス、又はガラス・セラミック基板上で硬化して、多孔性セラミック様構造を有する装飾層を形成する、方法。
【請求項２】
前記ゾル・ゲル結合剤が前記アニーリング中に圧縮硬化を受ける、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ゾル・ゲル結合剤及び前記装飾用顔料を予備混合し、次に前記混合物を前記基板に施与する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
付加的充填剤及び／又は溶媒及び／又は添加剤を、装飾用顔料及びゾル・ゲル結合剤を有する前記混合物に添加される、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記ゾル・ゲル結合剤が加水分解反応及びそれに次ぐ縮合反応であって、少なくとも１つの加水分解可能有機金属化合物（特に、有機ケイ素化合物）と水とが反応してシリカ及び／又は有機シリカ誘導体を生成する縮合反応において生成されるゾルから調製される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記ゾル・ゲル結合剤又は前記ゾルが少なくとも一部に、１つ又は複数の有機ラジカルが加水分解反応後も結合されたままである有機金属、特に有機ケイ素化合物からなる、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ゾル又は前記ゾル・ゲル結合剤がトリエトキシメチルシランを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
顔料及び充填剤の重量分画が固化及び硬化ゾル・ゲル結合剤の重量分画より高く、好ましくは前記層中のゾル・ゲル結合剤の分画が４０重量％以下、好ましくは３０重量％以下、さらに好ましくは２０重量％以下である、装飾層が作らる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記ゾル・ゲル結合剤が少なくともテトラエトキシシラン及びトリエトキシメチルシランを含むゾルから調製される、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ゾル・ゲル結合剤がゾルから調製され、該ゾルが、トリエトキシメチルシランとテトラエトキシシランとを混合し、酸を金属酸化物分散液、特にＳｉＯ２分散液と混合し、その後、２つの化合物を一緒に混合することにより調製される、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ゾル・ゲル結合剤が前記反応において添加され及び／又は生成されたゾル溶媒の少なくとも部分的揮発により調製される、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記ゾルが前記反応において添加され及び／又は生成され、そして揮発を受けるアルコールを溶媒として含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記アニーリングに付随して、金属酸化物フレームワーク、特にＳｉＯ２フレームワークを形成する前記ゾル・ゲル結合剤からの水及び／又はアルコールの除去が起こる、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記装飾用顔料がフレーク様顔料粒子を含む、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記装飾用顔料が雲母フレーク、特に被覆雲母フレーク及び／又は金属フレーク、好ましくはアルミニウムフレークを含む、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記フレーク様粒子が前記ガラス又はガラス・セラミック基板の表面に対して主に平行に配向される、請求項１４又は１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記装飾層用の少なくとも１つの充填剤が添加される、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記充填剤が球形粒子を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ヒュームドシリカを有する充填剤が前記装飾層中に用いられる、請求項１７又は１８に記載の方法。
【請求項２０】
コロイド分散ＳｉＯ２粒子が充填剤としてコーティング組成物に添加される、請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記装飾層用の前記コーティング組成物が単数又は複数の前記フレーク様顔料の質量の４０重量％以下の充填剤分画を含む、請求項１７乃至２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
コロイド分散ＳｉＯ２粒子及び／又はヒュームドシリカ粒子の形の複数の充填剤であって、各々の場合に、単数又は複数の前記フレーク様顔料の質量の２０重量％以下の分画の充填剤が、前記装飾層用のコーティング組成物に添加される、請求項１７乃至２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記アニーリングが層成分の焼結温度より低い温度で行なわれる、請求項１乃至２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記アニーリングが少なくとも２００℃の温度で、好ましくは少なくとも時には少なくとも３８０℃の温度で、さらに好ましくは時には少なくとも４００℃で起こる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記装飾層が封止を提供される、請求項１乃至２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記装飾層がシリコーンで封止される、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記装飾層が金属酸化物ベースの層で、特にＳｉＯ２ベースの層で被覆される、請求項１乃至２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】
前記装飾層が蒸着、スパッタリング、化学蒸着、特にプラズマ誘起化学蒸着、熱分解蒸着又はゾル・ゲルコーティングにより層で被覆される、請求項１乃至２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
前記装飾層が側面構造化によって、特に全域に亘ってではなく、前記基板に施与される、請求項１乃至２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
前記基板の前記表面の異なる領域が、組成及び／又は外観及び／又は色の異なる装飾層を提供される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
さらなる層が前記基板に適用され、少なくとも１つの装飾用顔料がゾル・ゲル結合剤と混合され、そして該ゾル・ゲル結合剤の混合されるさらなる層の顔料が、アニーリングにより前記製品の前記ガラス、又はガラス・セラミック基板上で硬化されて装飾層を形成する、請求項１乃至３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記最初に施与された層がアニールされた後、前記さらなる層が施与される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記最初に施与された層が前記さらなる層より高温でアニールされ、好ましくは第１の層は時には少なくとも３５０℃の温度で焼成され、そして前記さらなる層が３００℃以下の温度で焼成される、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
装飾コーティングを有する、特に装飾層を有するガラス、又はガラス・セラミック基板を含む、請求項１乃至３３のいずれか一項に記載の方法で製造されるガラス、又はガラス・セラミック製品であって、前記装飾層が顔料及び硬化ゾル・ゲル結合剤を有する多孔性の、特にナノ多孔性のセラミック様構造を含む、ガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項３５】
前記硬化ゾル・ゲル結合剤がＳｉＯ２を含有する、請求項３４に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項３６】
前記硬化ゾル・ゲル結合剤が金属酸化物網状構造、好ましくはＳｉＯ２網状構造に結合した有機成分を含む、請求項３４又は３５に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項３７】
前記装飾層中の顔料及び充填剤の前記重量分画が固化及び硬化ゾル・ゲル結合剤の重量分画より高く、特にゾル・ゲル結合剤の前記分画が前記層中で４０重量％以下、好ましくは３０重量％以下、さらに好ましくは２０重量％以下である、請求項３４乃至３６のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項３８】
前記装飾層中に酸化ケイ素を含有するゾル・ゲル結合剤を含み、該ゾル・ゲル結合剤中のケイ素の重量分画が、ＳｉＯ２として算定される場合、前記層の総質量の２５重量％以下、好ましくは前記層の総質量の２０重量％以下である、請求項３４乃至３７のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項３９】
前記装飾用顔料がフレーク様顔料粒子を含む、請求項３４乃至３８のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４０】
前記装飾用顔料が雲母及び／又は金属フレーク、好ましくはアルミニウムフレークを含む、請求項３９に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４１】
前記フレーク様粒子が前記ガラス、又はガラス・セラミック基板の表面に対して主に平行に配向される、請求項３９又は４０に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４２】
前記装飾層が充填剤を含む、請求項３４乃至４１のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４３】
前記充填剤が小球形粒子を含む、請求項４２に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４４】
前記充填剤がヒュームドシリカ及び／又はコロイド分散ＳｉＯ２分散液の粒子を含む、請求項４２又は４３に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４５】
前記装飾層が単数又は複数の前記フレーク様顔料の質量の４０重量％以下の充填剤分画を含む、請求項４２乃至４４のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４６】
前記装飾層が各場合に単数又は複数の前記フレーク様顔料の質量の２０重量％以下の重量分画でヒュームドシリカ粒子及び／又はコロイド分散ＳｉＯ２分散液の粒子を含む、請求項４２乃至４５のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４７】
封止装飾層を特徴とする、請求項３４乃至４６のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４８】
前記装飾層の封止が以下封止層:
シリコーン、
金属酸化物ベースの層、特にＳｉＯ２ベースの層
の少なくとも１つからなる、請求項４７に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項４９】
側面構造化装飾層、特に全域に亘らない装飾層を含む、請求項３４乃至４８のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項５０】
前記基板の表面の異なる領域が組成及び／又は外観及び／又は色の異なる装飾層を提供されている、請求項４９に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項５１】
発光リン光体を含む装飾層を含む、請求項３４乃至５０のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項５２】
顔料及び硬化ゾル・ゲル結合剤を有する多層、好ましくは二層の装飾層を含む、請求項３４乃至５１のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項５３】
前記装飾層の二層又はそれより多い薄層が顔料及び硬化ゾル・ゲル結合剤を含む、請求項５２に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項５４】
７０マイクロメートル以下の層厚を有する装飾層を含む、請求項３４乃至５３のいずれか一項に記載のガラス、又はガラス・セラミック製品。
【請求項５５】
請求項１〜３３のいずれか一項に記載の方法を用いて被覆されるか、又は請求項３４乃至５４のいずれか一項に記載のガラス・セラミック製品を含むガラス・セラミック製レンジ上面。
【請求項５６】
前記装飾層が下面に配置される、請求項５５に記載のガラス・セラミック製レンジ上面。
【請求項５７】
前記装飾層が前記レンジ上面の少なくとも１つの加熱帯も被覆する、請求項５５又は５６に記載のガラス・セラミック製レンジ上面。