【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2009508949.tif 000001
（式中、
Ａｒは、
アリール基；
ヘテロアリール基；
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、ホルミル基、ホルミル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、シアノ基、シアノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基、ヘテロシクリルアルキル基、置換されたヘテロアリール基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されるアリール基；並びに
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されるヘテロアリール基；
からなる群から選択され；
Ｘは、直接結合、Ｏ、ＳＯ、Ｓ（Ｏ２）、ＮＲ１、ＣＨ２、ＣＦ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＮＲ１、ＮＲ１ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、Ｃ＝Ｏ、ＣＨ２Ｃ＝Ｏ、ＣＲ１ａＲ１ｂ、ＯＣＲ１ａＲ１ｂ、ＣＲ１ａＲ１ｂＯ；ＳＯ２ＮＲ１、ＮＲ１ＳＯ２、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１及びＮＲ１Ｃ（＝Ｏ）からなる群から選択され；
Ｒ１は、Ｈ及び低級アルキル基からなる群から、各出現ごとに別々に選択され；
Ｒ１ａは、Ｈ、ＯＨ及び低級アルキル基からなる群から選択され；
Ｒ１ｂは、Ｈ及び低級アルキル基からなる群から選択されるか、又はＲ１ａ及びＲ１ｂが一緒になって３〜６員環を形成することができ、前記環は場合により、Ｏ、Ｓ、及びＮから選択されるヘテロ原子を含有することができ；
ＨｅｔＡｒは、環の炭素原子を介してＱに結合するアリール又はヘテロアリール環基であり、さらにＱ及びＸは前記アリール又はヘテロアリール環基の隣接位置上に存在することができないことを特徴とし；
Ｑは、−Ｏ−、−ＮＲ１−及びＳ（Ｏ）ｐから選択され；
ｐは、０、１又は２であり；
ｎは、１〜５から選択される整数であり；
ＨＥＴは、
４〜７員の飽和含窒素複素環基及び
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシ基、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、Ｎ酸化物基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基及びニトロ基からなる群から独立して選択される１又は２個の置換基で置換される４〜７員の飽和含窒素複素環基
からなる群から選択され；及び
ＺＷが一緒になってＨであるか、又は
Ｚは、（ＣＨ２）１〜１０であり、式中、１又は２個の（ＣＨ２）は、場合により−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−により置き換えることができるが、但し、前記−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−は、ＨＥＴへの結合点に存在せず、少なくとも１つの−（ＣＨ２）−により分離されるものであり；
Ｗは、アシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４、アミノアシル基、−ＣＯＯアルキル、−ＣＨＯ、ヘテロシクリル基、置換されたアリール基、置換されたヘテロシクリル基、スルホンアミド基、−Ｃ（Ｏ）フルオロアルキル、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｏアルキル、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｏフルオロアルキル、−ＳＨ、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＯＨ）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＯＨ）Ｒ４、−Ｎ（ＯＨ）Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｎ（ＯＨ）Ｃ（Ｏ）Ｒ４からなる群から選択され；並びに
Ｒ４は、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、及びフェニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基からなる群から選択されるが；
但し、
（ａ）Ｑが−Ｏ−であり、ＨＥＴが（Ｓ）−ピロリジン、ｒａｃ−ピロリジン又はピペリジンであり、Ａｒがフェニル基又はハロ置換フェニル基であり、及びＨｅｔＡｒがｐ−フェニレン基であるときは、Ｚ−Ｗの組み合わせはＨではないものとし；
（ｂ）ＱがＮＲ１であり、ＨＥＴがチアゾリジンであり、Ａｒがフェニル基又は置換されたフェニル基であり、及びＨｅｔＡｒがメタフェニレン基であるときは、ＺＷの組み合わせはＨではないものとし；並びに
（ｃ）Ｑが−Ｏ−であり、ＨＥＴがアゼチジンであり、Ａｒがフェニル基であり、ｎが１であり、及びＨｅｔＡｒが２，５−置換ピリジンであるときは、Ｚ−Ｗの組み合わせはＨではないものとする）
で表される化合物。
【請求項２】
式：
【化２】
2009508949.tif 000002
（式中、
Ｔ１及びＴ２は炭素原子であり、ベンゼン環を形成するか、あるいは、ＸがＱに対してパラ位にあるときは、Ｔ１及びＴ２のうちの１つは窒素原子であることができ、ピリジン環を形成する）
で表される請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｔ１／Ｔ２環がピリジニル基である、式：
【化３】
2009508949.tif 000003
で表される、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｔ１／Ｔ２環がピリジニル基である、式：
【化４】
2009508949.tif 000004
で表される、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
Ｔ１／Ｔ２環がパラ又はメタフェニレン基である、式：
【化５】
2009508949.tif 000005
で表される、請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
Ｑが−ＮＲ１−である、式：
【化６】
2009508949.tif 000006
で表される、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｑが−Ｓ（Ｏ）ｐ−である、式：
【化７】
2009508949.tif 000007
で表される、請求項５に記載の化合物。
【請求項８】
Ｑが−Ｏ−である、式：
【化８】
2009508949.tif 000008
（式中、
Ａｒは、
アリール基；
ヘテロアリール基；
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたアリール基；並びに
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、フェニル基、ヘテロアリール基及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたヘテロアリール基；
からなる群から選択され；
Ｘは、直接結合、Ｏ、ＳＯ、Ｓ（Ｏ２）、ＮＲ１、ＣＨ２、ＣＦ２、ＣＨ２Ｏ、Ｃ＝Ｏ、ＣＨ２Ｃ＝Ｏからなる群から選択され；
Ｒ１は、Ｈ及び低級アルキル基からなる群から、各出現ごとに独立して選択され；
ｎは、１〜５から選択される整数であり；
ＨＥＴは、
４〜７員の飽和含窒素複素環基及び
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基及びニトロ基からなる群から独立して選択される１又は２個の置換基で置換された４〜７員の飽和含窒素複素環基
からなる群から選択され；
Ｚは、（ＣＨ２）１〜１０であり、式中、１又は２個の（ＣＨ２）は、場合により−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−により置き換えることができるが、但し、前記−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−は、ＨＥＴへの結合点に存在せず、少なくとも２つの−（ＣＨ２）−により分離されるものであり；
Ｗは、アシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、カルボキサミド基、アミノアシル基、−ＣＯＯアルキル、−ＣＨＯ、ヘテロシクリル基、置換されたアリール基、及び置換されたヘテロシクリル基から選択される）
で表される、請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
Ｘが、ＣＨ２、Ｏ及びＮＲ１から選択される請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
ＨＥＴが、ピロリジノン、ピロリジン、ピペリジン、ピペリジノン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、チアゾリジン、チアゾリジノン、オキサゾリジン及びオキサゾリジノン並びに置換されたピロリジノン、置換されたピロリジン、置換されたピペリジン、置換されたピペリジノン、置換されたピペラジン、置換されたモルホリン、置換されたチオモルホリン、置換されたチアゾリジン、置換されたチアゾリジノン、置換されたオキサゾリジン及び置換されたオキサゾリジノンからなる群から選択される、請求項８に記載の化合物。
【請求項１１】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化９】
2009508949.tif 000009
（式中、
Ｒ３は、ハロゲン原子、ＣＦ３、メチル基、メトキシ基及びＣＦ３Ｏから選択される）
で表される、請求項８に記載の化合物。
【請求項１２】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１０】
2009508949.tif 000010
（式中、Ｘは、Ｏ又はＣＨ２である）
で表される、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１１】
2009508949.tif 000011
（式中、ｎは、１又は２である）
で表される、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１４】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１２】
2009508949.tif 000012
（式中、Ｚは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基である）
で表される、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１５】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１３】
2009508949.tif 000013
（式中、Ｗは、ＣＯＯＨである）
で表される、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１６】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１４】
2009508949.tif 000014
（式中、
Ｒ３は、ハロゲン原子、ＣＦ３、メチル基、メトキシ基、ＣＦ３Ｏから選択され；
Ｘは、Ｏ又はＣＨ２であり；
ｎは、１又は２であり；
Ｚは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基であり；及び
Ｗは、ＣＯＯＨである）
で表される、請求項８に記載の化合物。
【請求項１７】
ＨＥＴがピロリジンであり、Ｚ−Ｗの組み合わせがＨではない請求項１０に記載の化合物。
【請求項１８】
ＨＥＴ−Ｚ−Ｗが、ピリジニルメチルピロリジン、オキサジアゾリルメチルピロリジン、カルボキシアルキルピロリジン、及びアルコキシカルボニルアルキルピロリジンからなる群から選択される、請求項１７に記載の化合物。
【請求項１９】
ＨＥＴ−Ｚ−Ｗがカルボキシアルキルピロリジンである、式：
【化１５】
2009508949.tif 000015
（式中、ｑは、２〜６から選択される整数である）
で表される、請求項１８に記載の化合物。
【請求項２０】
ＨＥＴ−Ｚ−Ｗがカルボキシアルキル（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１６】
2009508949.tif 000016
（式中、ｑは、２〜６から選択される整数である）
で表される、請求項１８に記載の化合物。
【請求項２１】
ＨＥＴが、ピロリジン、ピロリジノン、ピペリジン及びピペリジノンからなる群から選択される、請求項１７に記載の化合物。
【請求項２２】
ＨＥＴが（Ｒ）ピロリジンである、式：
【化１７】
2009508949.tif 000017
（式中、
Ａｒは、
アリール基；
ヘテロアリール基；
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、ホルミル基、ホルミル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、シアノ基、シアノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、置換されたフェニル基、ヘテロアリール基、ヘテロシクリルアルキル基、置換されたヘテロアリール基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたアリール基；並びに
ハロゲン原子、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基、
ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたヘテロアリール基；
からなる群から選択され；
Ｘは、直接結合、Ｏ、ＳＯ、Ｓ（Ｏ２）、ＮＲ１、ＣＨ２、ＣＦ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＮＨ、ＮＨＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、Ｃ＝Ｏ及びＣＨ２Ｃ＝Ｏからなる群から選択され；
ＺＷが一緒になってＨであるか、又は
Ｚは、（ＣＨ２）１〜１０であり、式中、１又は２個の（ＣＨ２）は、場合により−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−により置き換えることができるが、但し、前記−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−は、ＨＥＴへの結合点に存在せず、少なくとも１つの−（ＣＨ２）−により分離されるものであり；
Ｗは、アシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、カルボキサミド基、アミノアシル基、−ＣＯＯアルキル、−ＣＨＯ、ヘテロシクリル基、置換されたアリール基、置換されたヘテロシクリル基からなる群から選択される）
で表される、請求項８に記載の化合物。
【請求項２３】
ＺＷがＨである、式：
【化１８】
2009508949.tif 000018
で表される、請求項２２に記載の化合物。
【請求項２４】
Ｘが、ＣＨ２、Ｏ及びＮＲ１から選択される請求項２３に記載の化合物。
【請求項２５】
ＸがＣＨ２又はＯであり、ｎが１であり、及びＡｒがパラ置換フェニル基である請求項２４に記載の化合物。
【請求項２６】
Ａｒがヘテロアリールフェニル基である請求項２５に記載の化合物。
【請求項２７】
ＨＥＴが（Ｓ）ピロリジンである、式：
【化１９】
2009508949.tif 000019
（式中、
Ｒ３は、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基、及びハロゲン原子、メチル基、メトキシ基又はトリフルオロメトキシ基で置換されたヘテロアリール基からなる群から独立して選択される１〜３個の残基を表す）
で表される、請求項８に記載の化合物。
【請求項２８】
Ａｒが：
【化２０】
2009508949.tif 000020
（式中、波線は、Ｘへの結合点を示し、そして、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、メチル基、メトキシ基、チエニル基、フラニル基、及びハロゲン原子、トリフルオロメチル基、メチル基若しくはメトキシ基で置換されたチエニル基又はフラニル基から選択される）
である請求項１〜１０又は１７〜２６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項２９】
薬学的に許容可能な担体、及び請求項１〜２７のいずれか一項に記載の化合物少なくとも１つの治療的有効量を含む医薬組成物。
【請求項３０】
薬学的に許容可能な担体、及び請求項２８に記載の化合物すくなくとも１つの治療的有効量を含む医薬組成物。
【請求項３１】
式：
【化２１】
2009508949.tif 000021
（式中、
Ａｒは、
アリール基；
ヘテロアリール基；
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、ホルミル基、ホルミル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、シアノ基、シアノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基、ヘテロシクリルアルキル基、置換されたヘテロアリール基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたアリール基；並びに
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたヘテロアリール基；
からなる群から選択され；
Ｘは、直接結合、Ｏ、ＳＯ、Ｓ（Ｏ２）、ＮＲ１、ＣＨ２、ＣＦ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＮＲ１、ＮＲ１ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、Ｃ＝Ｏ、ＣＨ２Ｃ＝Ｏ、ＣＲ１ａＲ１ｂ、ＯＣＲ１ａＲ１ｂ、ＣＲ１ａＲ１ｂＯ；ＳＯ２ＮＲ１、ＮＲ１ＳＯ２、Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１及びＮＲ１Ｃ（＝Ｏ）からなる群から選択され；
Ｒ１は、Ｈ及び低級アルキル基からなる群から、各出現ごとに別々に選択され；
Ｒ１ａは、Ｈ、ＯＨ及び低級アルキル基からなる群から選択され；
Ｒ１ｂは、Ｈ及び低級アルキル基からなる群から選択されるか、又はＲ１ａ及びＲ１ｂが一緒になって３〜６員環を形成することができ、前記環は場合により、Ｏ、Ｓ、及びＮから選択されるヘテロ原子を含有することができ；
Ｔ１及びＴ２は炭素原子であり、ベンゼン環を形成するか、又はＸがＱに対してパラ位にあるとき、Ｔ１及びＴ２のうちの１つは窒素原子であることができ、ピリジン環を形成し；
Ｑは、−Ｏ−、−ＮＲ１−及びＳ（Ｏ）ｐから選択され；
Ｑ及びＸは、前記ベンゼン又はピリジン環基の隣接位置上に存在することができず；
ｐは、０、１又は２であり；
ｎは、１〜５から選択される整数であり；
ＨＥＴは、
４〜７員の飽和含窒素複素環基及び
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシ基、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、Ｎ酸化物基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基及びニトロ基からなる群から独立して選択される１又は２個の置換基で置換された４〜７員の飽和含窒素複素環基
からなる群から選択され；及び
ＺＷが一緒になってＨであるか、又は
Ｚは、（ＣＨ２）１〜１０であり、式中、１又は２個の（ＣＨ２）は、場合により−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−により置き換えることができるが、但し、前記−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−は、ＨＥＴへの結合点に存在せず、少なくとも１つの−（ＣＨ２）−により分離されるものであり；
Ｗは、アシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ４、アミノアシル基、−ＣＯＯアルキル、−ＣＨＯ、ヘテロシクリル基、置換されたアリール基、置換されたヘテロシクリル基、スルホンアミド基、−Ｃ（Ｏ）フルオロアルキル、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｏアルキル、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｏフルオロアルキル、−ＳＨ、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＯＨ）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＯＨ）Ｒ４、−Ｎ（ＯＨ）Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｎ（ＯＨ）Ｃ（Ｏ）Ｒ４からなる群から選択され；並びに
Ｒ４は、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、及びフェニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基からなる群から選択される）
で表される化合物の治療的有効量を含む、ロイコトリエンＡ４ヒドロラーゼの阻害用医薬組成物。
【請求項３２】
式：
【化２２】
2009508949.tif 000022
（式中、
Ａｒは、
アリール基；
ヘテロアリール基；
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたアリール基；並びに
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたヘテロアリール基；
からなる群から選択され；
Ｘは、直接結合、Ｏ、ＳＯ、Ｓ（Ｏ２）、ＮＲ１、ＣＨ２、ＣＦ２、ＣＨ２Ｏ、Ｃ＝Ｏ及びＣＨ２Ｃ＝Ｏからなる群から選択され；
Ｒ１は、Ｈ及び低級アルキル基からなる群から、各出現ごとに独立して選択され；
ｎは、１〜５から選択される整数であり；
ＨＥＴは、
４〜７員の飽和含窒素複素環基及び
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アシル基、低級アルコキシ基、フルオロ低級アルキル基、フルオロ低級アルコキシ基、ホルミル基、シアノ基、ベンジル基、ベンジルオキシ基、フェニル基、ヘテロアリール基及びニトロ基からなる群から独立して選択される１又は２個の置換基で置換された４〜７員の飽和含窒素複素環基
からなる群から選択され；
ＺＷが一緒になってＨであるか、又は
Ｚは、（ＣＨ２）１〜１０であり、式中、１又は２個の（ＣＨ２）は、場合により−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−により置き換えることができるが、但し、前記−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＳＯ−、−Ｓ（Ｏ）２−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−Ｃ＝Ｏ（ＮＨ）−は、ＨＥＴへの結合点に存在せず、少なくとも２つの−（ＣＨ２）−により分離されるものであり；並びに
Ｗは、アシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、カルボキサミド基、アミノアシル基、−ＣＯＯアルキル、−ＣＨＯ、ヘテロシクリル基、置換されたアリール基、及び置換されたヘテロシクリル基からなる群から選択される）
で表される化合物の治療的有効量を含む、ロイコトリエンＡ４ヒドロラーゼの阻害用医薬組成物。
【請求項３３】
治療的有効量の請求項１〜２７のいずれか一項に記載の化合物を含む、ロイコトリエンＡ４ヒドロラーゼ関連障害の治療用医薬組成物。
【請求項３４】
前記ロイコトリエンＡ４ヒドロラーゼ関連障害が炎症である、請求項３３に記載の医薬組成物。
【請求項３５】
前記障害が、アレルギー性炎症、急性炎症及び慢性炎症から選択される、請求項３３に記載の医薬組成物。
【請求項３６】
前記障害が、喘息、慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）、リウマチ性関節炎、多発性硬化症、炎症性腸疾患（ＩＢＤ）及び乾癬から選択される、請求項３３に記載の医薬組成物。
【請求項３７】
前記障害が、アテローム性動脈硬化症、血栓症、脳卒中、急性冠症候群、安定狭心症、末梢血管疾患、重症下肢虚血、間欠性跛行、腹部大動脈瘤及び心筋梗塞から選択される、請求項３３に記載の医薬組成物。
【請求項３８】
請求項２８に記載の化合物の治療的有効量を含む、ロイコトリエンＡ４ヒドロラーゼ関連障害の治療用医薬組成物。
【請求項３９】
請求項１〜２７のいずれか一項に記載の化合物の治療的有効量、及び５−リポキシゲナーゼ活性化タンパク質（ＦＬＡＰ）阻害剤を含む、炎症の治療用医薬組成物。
【請求項４０】
請求項１〜２７のいずれか一項に記載の化合物の治療的有効量、及びロイコトリエンＢ４（ＬＴＢ４）アンタゴニストを含む、炎症の治療用医薬組成物。
【請求項４１】
式：
【化２３】
2009508949.tif 000023
で表される各化合物からなる群から選択される化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
用語「溶媒和物」は、固体状態にある式Ψで表される化合物であって、そこでは適当な溶媒分子が結晶格子に組み込まれている化合物を指す。治療的投与に適した溶媒は、投与用量において生理学的に許容可能なものである。治療的投与に適した溶媒の例は、エタノール及び水である。水が溶媒であるとき、溶媒和物は水和物と言われる。一般に、溶媒和物は化合物を適当な溶媒に溶解し、冷却して又は反溶媒（antisolvent）を用いて溶媒和物を単離することにより形成される。溶媒和物は典型的には周囲条件下に乾燥されるか又は共沸される。共結晶は、独特な結晶形を生じるように構成された２以上の別個の分子の組合せであり、その物理的特性がその純粋な構成物質の特性と異なるものである。医薬的共結晶は、最近、イトラコナゾール［Ｒｅｍｅｎａｒ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１２５，８４５６−８４５７（２００３）を参照のこと］及びフルオキセチンのような薬物の溶解性、製剤及び生体利用率を改善するために、重要な興味の対象になってきた。包摂錯体は、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ：Ｔｈｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｐｒａｃｔｉｃｅ  ｏｆ  Ｐｈａｒｍａｃｙ  １９ｔｈＥｄ．（１９９５）ｖｏｌｕｍｅ  １，ｐａｇｅ  １７６−１７７に記載されている。最も一般的に用いられる包摂錯体は、シクロデキストリンとの包摂錯体であり、そして米国特許第５，３２４，７１８号及び第５，４７２，９５４号明細書に記載されているように、追加された添加剤及びポリマー（単数又は複数）を含む状態で又は含まない状態で、天然及び合成のすべてのシクロデキストリン錯体が、特に特許請求の範囲内に包含される。Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ並びに’７１８及び’９５４特許の開示は、参照することにより本明細書に組み込まれる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
式Ψで表される化合物をそのままの化学物質として投与することは可能であるが、化合物を医薬組成物として与えるのが好ましい。更なる観点によれば、本発明は、式Ψで表される化合物、又はその薬学的に許容可能な塩若しくは溶媒和物を、１以上の薬学的担体及び場合により１以上の他の治療成分と一緒に含む医薬組成物を提供する。担体（単数又は複数）は、他の製剤成分と適合性がよく医薬組成物の受容者（recipient）に有害でないという意味で「許容可能な」ものでなければならない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６８】
工程２：
４−（｛（Ｓ）−１−［４−（４−クロロ−フェノキシ）−フェノキシメチル］−プロピル｝−エチル−アミノ）−Ｎ−ヒドロキシ−ブチルアミド塩酸塩：
工程２の生成物（０．２６０ｇ，０．５３２ｍｍｏｌ）／４Ｎ  ＨＣｌ／ジオキサン（０．２０３ｍＬ，１０．６ｍｍｏｌ）溶液を周囲温度で約２時間撹拌し、次いで真空中で濃縮した。残渣をジエチルエーテルと共に摩砕して、所望生成物を赤色固体（０．１００ｇ，４３％）として得た。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：２．０１−２．４０６（ｍ，７Ｈ），３．２４−３．２８（ｍ，３Ｈ），３．５６−３．７９（ｍ，２Ｈ），３．９７−３．９８（ｍ，１Ｈ），４．２０−４．２５（ｍ，１Ｈ），４．３６−４．３９（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０３（ｄｄ，４Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ，Ｊ＝２７．６Ｈｚ），７．３０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）；ＭＳ：ｍ／ｚ４０３（ＭＨ）-；ＬＣＭＳ（ＵＶ）９０％．