(57)【要約】  本発明は、支持体、配向層および光吸収異方性層を有する積層体において、支持体のみを剥離することが容易となる積層体、ならびに、それを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。本発明の積層体は、支持体、配向層、光吸収異方性層、粘着層をこの順に有し、支持体、粘着層を除き支持体から粘着層の間の厚みが５μｍ以下であり、粘着層の厚みが５μｍ〜５０μｍである積層体である。
2020080359.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、配向層、光吸収異方性層、および、粘着層をこの順に有し、
前記支持体および前記粘着層を含まない前記支持体から前記粘着層までの間の厚みが５μｍ以下であり、
前記粘着層の厚みが、５μｍ〜５０μｍであり、
前記配向層が、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を有するシンナモイル化合物を含有する配向層形成用組成物を用いて形成した光配向層である、積層体。
【請求項２】
前記粘着層の貯蔵弾性率が、１００ｋＰａ〜２０ＭＰａである、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記粘着層の貯蔵弾性率が、１００ｋＰａ〜２ＭＰａである、請求項２に記載の積層体。
【請求項４】
前記粘着層の厚みが、１０μｍ超５０μｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
前記光吸収異方性層が、二色性物質と液晶性化合物とを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項６】
前記光吸収異方性層が、二色性アゾ化合物を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項７】
前記光吸収異方性層の厚みが、０．１μｍ〜３μｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項８】
前記配向層の厚みが、０．１μｍ〜２μｍである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項９】
前記配向層の厚みが、０．５μｍ超２μｍ以下である、請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
前記シンナモイル化合物が、下記式（Ａ）で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の積層体。
【化１】
2020080359.tif 000051
前記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌ１は、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基を表し、前記シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
前記式（Ｂ）中、Ｒ７は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表し、Ｘは、下記式（Ｘ４）で表される架橋性基を表す。
【化２】
2020080359.tif 000052
前記式（Ｘ４）中、＊は、前記式（Ｂ）中のＬ２との結合位置を表し、Ｓは、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を表す。
【請求項１１】
前記式（Ａ）中のＬ１が、下記式（１）〜（１０）のいずれかで表される２価の連結基である、請求項１０に記載の積層体。
【化３】
2020080359.tif 000053
前記式（１）〜（１０）中、＊１は、前記式（Ａ）中の主鎖を構成する炭素原子との結合位置を表し、＊２は、前記式（Ａ）中のカルボニル基を構成する炭素原子との結合位置を表す。
【請求項１２】
前記液晶性化合物が、重合性液晶化合物である、請求項５に記載の積層体。
【請求項１３】
前記液晶性化合物が、高分子液晶性化合物である、請求項５に記載の積層体。
【請求項１４】
前記光吸収異方性層が、更に低分子液晶性化合物を含む、請求項１３に記載の積層体。
【請求項１５】
前記光吸収異方性層と前記粘着層との間に、更に厚さ１００ｎｍ以下の硬化層を有する、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１６】
前記硬化層が液晶性化合物を含む、請求項１５に記載の積層体。
【請求項１７】
前記硬化層が多官能モノマーを含む組成物を硬化させた層である、請求項１５に記載の積層体。
【請求項１８】
前記光吸収異方性層と前記粘着層との間に、更に厚さ２μｍ以下のポリビニルアルコール樹脂を含む層を有する、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１９】
前記支持体と前記配向層とが接している、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項２０】
前記配向層と前記光吸収異方性層とが接している、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の積層体と、表面フィルムとを有し、前記粘着層と前記表面フィルムとが接している、積層体。
【請求項２２】
前記支持体が剥離された、請求項２１に記載の積層体。
【請求項２３】
更に位相差フィルムを有し、前記位相差フィルムが前記配向層側に配置された、請求項２２に記載の積層体。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか１項に記載の積層体と、画像表示素子とを有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、二色性物質を用いて形成される光吸収異方性層について種々の検討が行われている。
例えば、特許文献１には、「液晶硬化膜と、粘接着剤層と、位相差フィルムと、粘接着剤層とをこの順に積層した円偏光板であって、該液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した厚さが３μｍ以下の膜であって、二色性色素を含む膜である円偏光板。」が開示されている（［請求項１６］）。【０００３】
一方で、近年の表示装置のさらなる薄型化の要望から、上述した円偏光板等に用いられていた支持体を剥離して薄型化する態様が提案されている。
そして、特許文献１では、薄型の光学異方性フィルムを与える光学異方性シートを提供することを課題としている（［０００４］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−０２７４３１公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、種々の機能発現のために層構成が複雑な場合、転写の際にどの界面で剥離するかをコントロールすることは非常に困難であった。
特に、偏光子等が薄型化している等の理由により各層が非常に薄い積層体の場合、剥離界面のコントロールは更に難易度が高いことが分かった。例えば、支持体、配向層および光吸収異方性層を有する積層体から、支持体のみを剥離しようとしても、配向層と光吸収異方性層との界面で剥離が起こってしまうことがあった。【０００６】
そこで、本発明は、支持体、配向層および光吸収異方性層を有する積層体において、支持体のみを剥離することが容易となる積層体、ならびに、それを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、他の部材と張り合わせる際の粘着層の性質により、その他の界面での剥離性が変化することを見出した。
すなわち、支持体、配向層、光吸収異方性層および粘着層をこの順に有し、支持体および粘着層を含まない支持体から粘着層までの間の厚みが５μｍ以下である積層体において、粘着層の厚みを特定の値とすることで、支持体のみを剥離することが容易となる積層体を提供することができることを見出した。【０００８】
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００９】
［１］  支持体、配向層、光吸収異方性層、および、粘着層をこの順に有し、
支持体および粘着層を含まない支持体から粘着層までの間の厚みが５μｍ以下であり、
粘着層の厚みが、５μｍ〜５０μｍであり、
配向層が、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を有するシンナモイル化合物を含有する配向層形成用組成物を用いて形成した光配向層である、積層体。
［２］  粘着層の貯蔵弾性率が、１００ｋＰａ〜２０ＭＰａである、［１］に記載の積層体。
［３］  粘着層の貯蔵弾性率が、１００ｋＰａ〜２ＭＰａである、［２］に記載の積層体。
［４］  粘着層の厚みが、１０μｍ超５０μｍ以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］  光吸収異方性層が、二色性物質と液晶性化合物とを含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。
［６］  光吸収異方性層が、二色性アゾ化合物を含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］  光吸収異方性層の厚みが、０．１μｍ〜３μｍである、［１］〜［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］  配向層の厚みが、０．１μｍ〜２μｍである、［１］〜［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］  配向層の厚みが、０．５μｍ超２μｍ以下である、［８］に記載の積層体。
［１０］  シンナモイル化合物が、後述する式（Ａ）で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａと、後述する式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体である、［１］〜［９］のいずれかに記載の積層体。
［１１］  後述する式（Ａ）中のＬ１が、後述する式（１）〜（１０）のいずれかで表される２価の連結基である、［１０］に記載の積層体。
［１２］  液晶性化合物が、重合性液晶化合物である、［５］に記載の積層体。
［１３］  液晶性化合物が、高分子液晶性化合物である、［５］に記載の積層体。
［１４］  光吸収異方性層が、更に低分子液晶性化合物を含む、［１３］に記載の積層体。
［１５］  光吸収異方性層と粘着層との間に、更に厚さ１００ｎｍ以下の硬化層を有する、［１］〜［１４］のいずれかに記載の積層体。
［１６］  硬化層が液晶性化合物を含む、［１５］に記載の積層体。
［１７］  硬化層が多官能モノマーを含む組成物を硬化させた層である、［１５］に記載の積層体。
［１８］  光吸収異方性層と粘着層との間に、更に厚さ２μｍ以下のポリビニルアルコール樹脂を含む層を有する、［１］〜［１７］のいずれかに記載の積層体。
［１９］  支持体と配向層とが接している、［１］〜［１８］のいずれかに記載の積層体。
［２０］  配向層と光吸収異方性層とが接している、［１］〜［１９］のいずれかに記載の積層体。
［２１］  ［１］〜［２０］のいずれかに記載の積層体と、表面フィルムとを有し、粘着層と表面フィルムとが接している、積層体。
［２２］  支持体が剥離された、［２１］に記載の積層体。
［２３］  更に位相差フィルムを有し、位相差フィルムが配向層側に配置された、［２２］に記載の積層体。
［２４］  ［１］〜［２３］のいずれかに記載の積層体と、画像表示素子とを有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、支持体、配向層および光吸収異方性層を有する積層体において、支持体のみを剥離することが容易となる積層体、ならびに、それを用いた画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の積層体の実施形態の例を示す模式的な断面図である。
【図２】本発明の積層体の実施形態の例を示す模式的な断面図である。
【図３】本発明の積層体の実施形態の例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交とは厳密な意味での平行、直交を意味するのではなく、平行または直交から±５°の範囲を意味する。
【００１３】
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
また、本明細書において、液晶性組成物、液晶性化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。
【００１４】
［積層体］
本発明の積層体は、支持体、配向層、光吸収異方性層、および、粘着層をこの順に有する積層体である。
また、本発明の積層体は、支持体および粘着層を含まない支持体から粘着層までの間の厚みが５μｍ以下であり、かつ、粘着層の厚みが、５μｍ〜５０μｍである。
更に、本発明の積層体は、配向層が、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を有するシンナモイル化合物を含有する配向層形成用組成物を用いて形成した光配向層である。
次に、本発明の積層体の全体の構成を図１〜図３を用いて説明した後に、各構成について詳述する。
【００１５】
図１に示す積層体１０は、支持体１、配向層２、光吸収異方性層３、および、粘着層４をこの順に有する。
また、積層体１０は、支持体１および粘着層４を含まない支持体１から粘着層４までの間の厚み、すなわち支持体１の配向層２側の表面から粘着層４の光吸収異方性層３側の表面までの距離が５μｍ以下であり、１μｍ〜４μｍであることが好ましい。
また、積層体１０は、粘着層４の厚みは５μｍ〜５０μｍである。
【００１６】
本発明の積層体は、図１に示すように、支持体１と配向層２とが接していることが好ましい。
また、本発明の積層体は、図１に示すように、配向層２と光吸収異方性層３とが接していることが好ましい。
【００１７】
本発明の積層体は、図２に示すように、光吸収異方性層３と粘着層４との間に、更に厚さ１００ｎｍ以下の硬化層５を有することが好ましい。
【００１８】
本発明の積層体は、図２に示すように、光吸収異方性層３と粘着層４との間に、更に厚さ２μｍ以下のポリビニルアルコール樹脂を含む層（以下、「ＰＶＡ層」とも略す。）６を有することが好ましい。
本発明の積層体は、硬化層５とポリビニルアルコール樹脂を含む層６とを共に含む場合は、図２に示すように、光吸収異方性層３、硬化層５、ポリビニルアルコール樹脂を含む層６および粘着層４をこの順に有することが好ましい。
【００１９】
本発明の積層体は、図３に示すように、更に表面フィルム７を有していることが好ましい。この時、表面フィルム７と粘着層４が接している、すなわち表面フィルム７とその他の層が粘着層４によって貼り合わされていることが好ましい。
【００２０】
本発明の積層体は、図２に示す支持体１を剥離し、図３に示すように、支持体１を有さない状態で用いてもよい。
また、本発明の積層体は、図３に示すように、更に位相差フィルム８を有していてもよく、その場合、位相差フィルム８は配向層２側に配置されるのが好ましい。
【００２１】
〔粘着層〕
本発明に用いられる粘着層は、厚みが５μｍ〜５０μｍであれば、用いる素材としては特に限定はなく、各種公知の素材を用いることができる。
【００２２】
本発明に用いられる粘着層の貯蔵弾性率は、支持体の剥離性をより調節しやすくする観点から、１０ｋＰａ〜２０ＭＰａであることが好ましく、１０ｋＰａ〜２ＭＰａであることがより好ましい。
【００２３】
《貯蔵弾性率の測定方法》
本発明において貯蔵弾性率は、アイティー計測制御株式会社製の動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ−２００）を用いて、周波数１Ｈｚ、２５℃にて測定した値をいう。
【００２４】
本発明に用いられる粘着層の厚みは、５μｍ〜５０μｍであり、１０μｍ超５０μｍ以下であることが好ましい。
上記範囲とすることで剥離性の調整がより容易となる。
【００２５】
＜粘着層に用いられる素材＞
本発明に用いられる粘着層に含まれる素材としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、および、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
【００２６】
アクリル系粘着剤としては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基またはブチル基等の炭素数が２０以下のアルキル基である（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体などのアクリル系ポリマーが好ましい。
このようなアクリル系ポリマーを含む粘着剤は、粘着性に優れており、また、他部材に貼合した後に、剥離する際も、表示装置に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に剥離することが可能であるため好ましい。
また、このようなアクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。
また、このようなアクリル系ポリマーの重量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。
【００２７】
〔支持体〕
本発明に用いられる支持体は、特に限定されず、各種公知のものが使用できる。支持体としては剥離可能な支持体であることが好ましい。
【００２８】
本発明に用いられる支持体を構成する材料としては、例えば、セルロース系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂およびこれらから選ばれた複数種の樹脂の混合樹脂が挙げられ、中でも、セルロース系樹脂またはポリエステル系樹脂が好ましい。
【００２９】
剥離性の調整をより容易にしやすくする観点から、支持体の厚みは１０〜２００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがさらに好ましく、１００〜２００μｍがより好ましい。
【００３０】
また、粘着層の貯蔵弾性率に応じて、支持体の弾性率を調整することで、剥離性の調整をより容易にすることができる。
【００３１】
また、配向層の組成物に応じて、染み込み難い支持体を選択することで支持体/配向層の密着力を下げることにより、剥離性の調整をより容易にすることができる。
【００３２】
〔配向層〕
本発明に用いられる配向層は、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を有するシンナモイル化合物を含有する配向層形成用組成物を用いて形成した光配向層である。
【００３３】
本発明に用いられる配向層の厚みは、０．１μｍ〜２μｍであることが好ましく、０．５μｍ超２μｍ以下であることがより好ましい。
【００３４】
本発明に用いられる光配向層は、上述した通り、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基（以下、本段落において「重合性基」と略す。）を有するシンナモイル化合物を含有する配向層形成用組成物を用いて形成した光配向層であり、中でも、シンナモイル化合物として後述の光配向性共重合体を用いて形成した光配向層がより好ましい。光吸収異方性層の組成物に含まれるものと同種の重合性基（例えば、メタクリロイル基またはアクリロイル基）が、光配向層の組成物にも含まれることで互いの層が化学結合して光配向層／光吸収異方性層の層間密着力が高まり、本発明の課題である支持体のみを剥離することが容易となる積層体を実現するのに有利である。
【００３５】
＜光配向性共重合体＞
本発明に用いられる光配向性共重合体は、下記式（Ａ）で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性の共重合体である。
【化１】
2020080359.tif 000003
上記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌ１は、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基を表し、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
上記式（Ｂ）中、Ｒ７は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表し、Ｘは、下記式（Ｘ４）で表される架橋性基を表す。
【化２】
2020080359.tif 000004
上記式（Ｘ４）中、＊は、上記式（Ｂ）中のＬ２との結合位置を表し、Ｓは、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を表す。
【００３６】
本発明においては、上記式（Ａ）で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａと、上記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する光配向性共重合体を用いることにより、得られる光配向膜の耐溶剤性および液晶配向性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、水素結合性および分子剛直性が高まることで分子運動が抑制され、その結果、耐溶剤性が向上したと考えられる。
同様に、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、共重合体のガラス転移温度が上昇し、得られる光配向膜の経時安定性が向上した結果、光学異方性層を形成するタイミングに寄らず、液晶配向性が良好になったと考えられる。
【００３７】
次に、上記式（Ａ）中のＬ１が表す、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基について説明する。なお、本発明においては、上述した通り、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部は、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。また、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が窒素原子で置換されている場合は、シクロアルカン環とは別に窒素原子を有していなくてもよい。
【００３８】
また、上記式（Ａ）中のＬ１が表す２価の連結基に含まれるシクロアルカン環は、炭素数６以上のシクロアルカン環であることが好ましく、その具体例としては、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、シクロドコサン環等が挙げられる。
【００３９】
本発明においては、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）中のＬ１が、下記式（１）〜（１０）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
【化３】
2020080359.tif 000005
上記式（１）〜（１０）中、＊１は、上記式（Ａ）中の主鎖を構成する炭素原子との結合位置を表し、＊２は、上記式（Ａ）中のカルボニル基を構成する炭素原子との結合位置を表す。
【００４０】
上記式（１）〜（１０）のいずれかで表される２価の連結基のうち、光配向膜を形成する際に用いる溶媒に対する溶解性と、得られる光配向膜の耐溶剤性とのバランスが良好となる理由から、上記式（２）、（３）、（７）および（８）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
【００４１】
なお、上記式（Ａ）中のＬ１は、上述した「窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基」以外の２価の連結基であってもよい。
このような２価の連結基としては、光配向性基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリーレン基、エーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（−ＮＨ−）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。
【００４２】
次に、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基について説明する。なお、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６が、置換基ではなく水素原子であってもよいことは上述した通りである。
【００４３】
上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基は、光配向性基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（１１）で表される基であることが好ましい。
【化４】
2020080359.tif 000006
ここで、上記式（１１）中、＊は、上記式（Ａ）中のベンゼン環との結合位置を表し、Ｒ９は、１価の有機基を表す。
【００４４】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【００４５】
炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【００４６】
炭素数１〜２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。
【００４７】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数６〜１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６〜１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基がより好ましい。
【００４８】
炭素数６〜２０のアリール基としては、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
【００４９】
炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、炭素数６〜１２のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。
【００５０】
アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（−ＮＨ２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。
【００５１】
上記式（１１）で表される基について、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。
【００５２】
本発明においては、光配向性基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、少なくともＲ４が上述した置換基を表していることが好ましく、更に、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性が更に良好となる理由から、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６がいずれも水素原子を表すことがより好ましい。
【００５３】
本発明においては、得られる光配向膜に光照射した際に反応効率が向上する理由から、上記式（Ａ）中のＲ４が電子供与性の置換基であることが好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、液晶配向性がより良好となる理由から、炭素数が６〜１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７〜１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。
【００５４】
次に、上記式（Ｂ）中のＬ２が表す２価の連結基について説明する。
【００５５】
２価の連結基としては、光配向性基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリーレン基、エーテル基（−Ｏ−）、カルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（−ＮＨ−）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。
【００５６】
ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、α−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン−４−イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン−３−イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。
【００５７】
炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、２−エチル−２−メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン−ジイル基、ノルボルナン−ジイル基、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン−ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。
【００５８】
炭素数６〜１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’−メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。
【００５９】
次に、上記式（Ｂ）中のＸが表す架橋性基について説明する。
【００６０】
上記式（Ｂ）中のＸ（架橋性基）は、下記式（Ｘ１）〜（Ｘ４）で表される架橋性基のうち、下記式（Ｘ４）で表される架橋性基である。
【化５】
2020080359.tif 000007
上記式（Ｘ１）〜（Ｘ４）中、＊は、上記式（Ｂ）中のＬ２との結合位置を表し、Ｒ８は、水素原子、メチル基およびエチル基のいずれかを表し、上記式（Ｘ４）中、Ｓは、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を表す。
ここで、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
【００６１】
本発明においては、後述する本発明の光学積層体の強度が高くなり、後述する本発明の光学積層体を用いて他の層を形成する際のハンドリング性が良好となる理由から、繰り返し単位Ｂが、上記式（Ｂ）中のＸが上記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）のいずれかで表される架橋性基である繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｂ１」とも略す。）と、上記式（Ｂ）中のＸが上記式（Ｘ４）で表される架橋性基である繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｂ２」とも略す。）とを含んでいることが好ましい。
【００６２】
上記式（Ａ）表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ−１〜Ａ−４４が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。なお、以下の具体例中、繰り返し単位Ａ−１〜Ａ−１０の２価の連結基に含まれる「１，４−シクロヘキシル基」は、シス体およびトランス体のいずれであってもよいが、トランス体であることが好ましい。
【化６】
2020080359.tif 000008
2020080359.tif 000009
2020080359.tif 000010
2020080359.tif 000011
【化７】
2020080359.tif 000012
2020080359.tif 000013
2020080359.tif 000014
2020080359.tif 000015
2020080359.tif 000016
2020080359.tif 000017
【００６３】
一方、上記式（Ｂ）表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ（繰り返し単位Ｂ１）としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ−１〜Ｂ−１７が挙げられる。
【化８】
2020080359.tif 000018
2020080359.tif 000019
2020080359.tif 000020
【００６４】
また、上記式（Ｂ）表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ（繰り返し単位Ｂ２）としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ−１８〜Ｂ−４７が挙げられる。
【化９】
2020080359.tif 000021
2020080359.tif 000022
2020080359.tif 000023
2020080359.tif 000024
【００６５】
本発明に用いられる光配向性共重合体は、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１２）を満たしていることが好ましく、下記式（１３）を満たしていることがより好ましく、下記式（１４）を満たしていることが更に好ましく、下記式（１５）を満たしていることが特に好ましい。
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．５  ・・・（１２）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．３  ・・・（１３）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２  ・・・（１４）
０．０５ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２  ・・・（１５）
【００６６】
また、本発明に用いられる光配向性共重合体は、上述した繰り返し単位Ｂ１とともに上述した繰り返し単位Ｂ２を有する場合、良好な液晶配向性、密着性を維持しつつ、光配向膜を含む光学異方性層の強度をより高められる理由から、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂ１の含有量ｂ１と、上述した繰り返し単位Ｂ２の含有量ｂ２とが、質量比で下記式（１６）を満たしていることが好ましく、下記式（１７）を満たしていることがより好ましい。
０．０５ ≦ ｂ２／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．７  ・・・（１６）
０．１０ ≦ ｂ２／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．５  ・・・（１７）
【００６７】
本発明に用いられる光配向性共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
【００６８】
本発明に用いられる光配向性共重合体の合成法は特に限定されず、例えば、上述した繰り返し単位Ａを形成するモノマー、上述した繰り返し単位Ｂを形成するモノマー、および、任意の他の繰り返し単位を形成するモノマーを混合し、有機溶剤中で、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。
【００６９】
本発明に用いられる光配向性共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、液晶配向性がより向上する理由から、１００００〜５０００００が好ましく、３００００〜３０００００がより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ
）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【００７０】
〔光吸収異方性層〕
本発明に用いられる光吸収異方性層は、方向によって光吸収の程度が異なる層であって、通常、吸収軸と偏光軸（透過軸）とを有する。
【００７１】
本発明に用いられる光吸収異方性層の厚みは０．１μｍ〜３μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜２μｍであることがより好ましい。
【００７２】
本発明に用いられる光吸収異方性層は、二色性物質を含むことが好ましい。
また、本発明に用いられる光吸収異方性層は、二色性物質とともに液晶性化合物を含むことが好ましい。
また、本発明に用いられる光吸収異方性層は、二色性アゾ化合物を含むことが好ましい。
【００７３】
＜二色性物質＞
本発明に用いられる二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素、二色性アゾ化合物）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。また、液晶性を有する二色性物質も好ましい。
【００７４】
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特開２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１］段落、国際公開第２０１６／０６０１７３号の［０００５］〜［００４１］段落、国際公開第２０１６／１３６５６１号の［０００８］〜［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］〜［００３７］段落などに記載されたものが挙げられる。
【００７５】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、偏光子を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
【００７６】
上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００７７】
上記二色性物質は、光吸収異方性層の固形分に対して、１〜５０質量％が好ましく、３〜３０質量％がより好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。
【００７８】
＜液晶性化合物＞
本発明に用いられる液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。
ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
【００７９】
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
【００８０】
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。
また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
【００８１】
本発明に用いられる液晶性化合物は、重合性基を有する液晶性化合物（重合性液晶化合物）であることが好ましい。
ここで、重合性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００８２】
本発明においては、液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、本発明においては、高分子液晶性化合物を含有していることが好ましく、高分子液晶性化合物とともに低分子液晶性化合物を併用することがより好ましい。
【００８３】
液晶性化合物の含有量は、二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５〜２０００質量部が好ましく、３３〜１０００質量部がより好ましく、５０〜５００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。
【００８４】
〔硬化層〕
本発明に用いられる任意の硬化層は、厚み１００ｎｍ以下の硬化層であることが好ましい。
硬化層としては、各種公知のものを使用できる。例えば、液晶性化合物を含む層や、多官能モノマーを含む組成物を硬化させた層があげられる。光吸収異方性層とインデックスマッチングを行えるような屈折率を有することが好ましい。
【００８５】
〔ポリビニルアルコール樹脂を含む層〕
本発明に用いられる任意のポリビニルアルコール樹脂を含む層（ＰＶＡ層）は、厚み２μｍ以下のポリビニルアルコール樹脂を含む層であることが好ましい。
【００８６】
〔表面フィルム〕
本発明に用いられる任意の表面フィルムは、通常、得られる光学積層体中の最も外側に配置されることが好ましい。
表面フィルムとしては特に限定がなく、各種公知のものを使用できる。例えば、表面フィルムがハードコート層および基材を有する態様が挙げられる。
【００８７】
表面フィルムを構成する材料としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、およびこれらから選ばれた複数種の樹脂の混合樹脂が挙げられ、なかでも、環状ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、または、ポリエステル系樹脂が好ましい。また、フレキシブル性が優れる観点で、ポリイミド系樹脂が好ましい。
表面フィルムは、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。
【００８８】
（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、メタクリル系樹脂、アクリル系樹脂の他に、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体、すなわち、ラクトン環を有する重合体、無水コハク酸環を有する無水マレイン酸系重合体、無水グルタル酸環を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体などが挙げられる。
【００８９】
ハードコート層は、積層体に硬度または耐傷性を付与するための層である。
ハードコート層は、例えば、ハードコート層形成用組成物を基材上に塗布し、硬化させることによって形成できる。
また、他の機能を付加することを目的として、ハードコート層上に、他の機能層を積層してもよい。
また、ハードコート層にフィラーまたは添加剤を加えることで、機械的、電気的もしくは光学的な物理的な性能、または、撥水もしくは撥油性などの化学的な性能をハードコート層自体に付与できる。
ハードコート層は、耐擦傷性に優れるのが好ましい。具体的には、耐擦傷性の指標となる鉛筆硬度試験を実施した場合に、３Ｈ以上を達成するのが好ましい。
ハードコート層の厚みは、０．１〜６μｍが好ましく、３〜６μｍがより好ましい。
【００９０】
ハードコート層は、硬化性組成物を硬化することで形成するのが好ましい。
硬化性組成物は、液状の塗布組成物として調製されるのが好ましい。
硬化性組成物の一例は、マトリックス形成バインダー用モノマー、オリゴマー、または、ポリマーと、有機溶媒とを含む。
【００９１】
本発明において表面フィルムは基材とハードコート層とを有する態様に限定されず、例えば、基材のみであってもよい、ハードコート層のみであってもよい。
【００９２】
〔位相差フィルム〕
本発明に用いられる任意の位相差フィルムは、各種公知のものが利用できる。位相差フィルムの面内レタデーションの値は特に限定されず、位相差フィルムはλ／４板またはλ／２板であってもよい。また、複数層からなる位相差フィルムでもよい。
【００９３】
本明細書において、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
【００９４】
位相差フィルムを構成する材料に特に限定はなく、各種ポリマーフィルム、各種液晶性化合物を含む層等が挙げられる。
【００９５】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した積層体と、画像表示素子とを含む。
本発明の画像表示装置に用いられる画像表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、画像表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、有機ＥＬ表示装置であるのがより好ましい。
【００９６】
〔液晶セル〕
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【００９７】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、必要に応じて、表面フィルム、粘着層、光吸収異方性層、配向層、位相差フィルムの順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【００９８】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【００９９】
［実施例１］
＜光配向層ＰＡ１の形成＞
支持体として、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム（ＴＪ４０ＵＬ、厚み４０μｍ、富士フイルム社製）を用いた。
次いで、後述する配向層形成用組成物ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に支持体上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
なお、光配向層ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。【０１００】
─────────────────────────────────
配向層形成用組成物ＰＡ１
─────────────────────────────────
・下記記重合体ＰＡ−１                          １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ−１                            ５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ−１１０ＴＦ                  ０．００５質量部
・キシレン                                    １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン                        １２２．００質量部
─────────────────────────────────【０１０１】
重合体ＰＡ−１
【化１０】
2020080359.tif 000025
【０１０２】
酸発生剤ＰＡＧ−１
【化１１】
2020080359.tif 000026
【０１０３】
酸発生剤ＣＰＩ−１１０Ｆ
【化１２】
2020080359.tif 000027
【０１０４】
＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
得られた光配向層ＰＡ１上に、下記組成の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を形成した。
なお、光吸収異方性層Ｐ１の膜厚は０．４μｍであった。【０１０５】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・下記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ−１                              ０．６５質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ−１                    ３．５９質量部
・下記液晶化合物Ｌ−１                            ０．１２質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ社製）  ０．２００質量部
・下記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０２６質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１０６】
アゾ色素Ｙ−１
【化１３】
2020080359.tif 000028
【０１０７】
アゾ色素Ｍ−１
【化１４】
2020080359.tif 000029
【０１０８】
アゾ色素Ｃ−１
【化１５】
2020080359.tif 000030
【０１０９】
高分子液晶性化合物Ｐ−１
【化１６】
2020080359.tif 000031
【０１１０】
液晶性化合物Ｌ−１
【化１７】
2020080359.tif 000032
【０１１１】
界面改良剤Ｆ−１
【化１８】
2020080359.tif 000033
【０１１２】
＜硬化層Ｌ１の形成＞
得られた光吸収異方性層Ｐ１上に、下記組成の硬化層形成用組成物Ｌ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、組成物層Ｌ１を形成した。
次いで、組成物層Ｌ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１０秒間照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に硬化層Ｌ１を形成した。
なお、硬化層Ｌ１の膜厚は、３０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化層形成用組成物Ｌ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ−２              ２．４３質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ０．９８質量部
・下記光重合開始剤Ｉ−１                          ０．２０質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                            ０．１４質量部
・１、４‐フェニレンジジボロン酸（東京化成工業）  ０．１０質量部
・メチルエチルケトン                                ３７１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１３】
棒状液晶性化合物の混合物Ｌ−２（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）
【化１９】
2020080359.tif 000034
【０１１４】
変性トリメチロールプロパントリアクリレート
【化２０】
2020080359.tif 000035
【０１１５】
下記光重合開始剤Ｉ−１
【化２１】
2020080359.tif 000036
【０１１６】
＜ＰＶＡ層Ｂ１の形成＞
硬化層Ｌ１上に、下記組成のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）層形成用塗布液Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。
その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｌ１上に厚み１．０μｍのＰＶＡ層を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＶＡ層形成用塗布液Ｂ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール                  ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９                            ０．２０質量部
・水                                                  ７０質量部
・メタノール                                          ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１７】
変性ポリビニルアルコール
【化２２】
2020080359.tif 000037
【０１１８】
＜積層体１の作製＞
上記ＰＶＡ層Ｂ１上に、以下で作製した粘着シートＮ１の粘着層Ｎ１側を圧着し、実施例１の積層体１を完成した。なお、粘着層の厚みは、２０μｍであった。
（粘着シートＮ１の作製）
攪拌機、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、この反応装置内の空気を窒素ガスに置換した。
その後、この反応装置中に、ブチルアクリレート７０質量部、メチルアクリレート３０質量部、アクリル酸４質量部、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド２質量部、アゾビスイソブチロニトリル０．１質量部および酢酸エチル１２０質量部を加えた。
これを攪拌させながら、窒素ガス気流中において、６０℃で８時間反応させ、重量平均分子量１５０万のアクリル系共重合体の溶液を得た。さらに酢酸エチルで希釈して固形分１５％の共重合体溶液１を得た。
次いで、共重合体溶液１の固形分１００質量部に対して、ポリイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業社製）３質量部、アルミニウムトリスアセチルアセトネート（アルミキレートＡ、川研ファインケミカル社製）０．２質量部、および、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０３、信越化学工業社製）０．１質量部を混合した溶液（粘着剤組成物Ｎ１）を調製した。
次いで、調製した粘着剤組成物Ｎ１を、シリコーン樹脂コートされたＰＥＴフィルム（以下、「剥離フィルム」とも略す。）上に塗布し、９０℃で乾燥することによって溶媒を除去し、厚さ２０μｍの粘着層Ｎ１を有する粘着シートＮ１を作製した。粘着層Ｎ１の貯蔵弾性率は、０．３ＭＰａであった。【０１１９】
［実施例２］
実施例１の光吸収異方性層の形成において、支持体をＰＥＴ（厚み４０μｍ）に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２の積層体を得た。【０１２０】
［実施例３］
実施例１の光吸収異方性層の形成において、支持体をセルロースアシレートフィルムＴＪ１００ＵＬ（厚み１００μｍ、富士フイルム社製）に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例３の積層体を得た。【０１２１】
［実施例４〜７］
実施例１の光吸収異方性層の形成において、光吸収異方性層形成用組成物、および、光配向層の厚みをそれぞれ下記表２に示すように変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例４〜７の積層体を得た。
なお、下記表２中、光吸収異方性層形成用の組成物Ｐ２およびＰ３の詳細は、以下の通りである。【０１２２】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記アゾ色素Ｙ−１                              ０．２５質量部
・上記アゾ色素Ｍ−１                              ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ−２                              ０．６５質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ−２                    ３．７１質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦ社製）  ０．１５１質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０２６質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２３】
アゾ色素Ｃ−２
【化２３】
2020080359.tif 000038
【０１２４】
高分子液晶性化合物Ｐ−２
【化２４】
2020080359.tif 000039
【０１２５】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ−２                              ０．１７質量部
・下記アゾ色素Ｍ−２                              ０．１９質量部
・下記アゾ色素Ｃ−３                              ０．４５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ−２                    ４．０７質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ-０３（ＢＡＳＦ社製）   ０．１５１質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                          ０．０２６質量部
・シクロペンタノン                              ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン                            ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２６】
アゾ色素Ｙ−２
【化２５】
2020080359.tif 000040
【０１２７】
アゾ色素Ｍ−２
【化２６】
2020080359.tif 000041
【０１２８】
アゾ色素Ｃ−３
【化２７】
2020080359.tif 000042
【０１２９】
［実施例８］
＜光吸収異方性層Ｐ４の形成＞
実施例１と同様の方法で、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
得られた光配向層ＰＡ１上に、以下で調製した光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ４を形成した。
次いで、塗布層Ｐ４を１２０℃で６０秒間加熱し、塗布層Ｐ４を室温（２３℃）になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ４を形成した。
なお、光吸収異方性層Ｐ４の膜厚は１．７μｍであった。【０１３０】
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ−３                                ２．７質量部
・下記アゾ色素Ｍ−３                                ２．７質量部
・下記アゾ色素Ｃ−４                                ２．７質量部
・下記液晶化合物Ｐ−３                            ７５．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）  ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１                              ０．６質量部
・シクロペンタノン                              ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン                            ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１３１】
アゾ色素Ｍ−３
【化２８】
2020080359.tif 000043
【０１３２】
アゾ色素Ｙ−３
【化２９】
2020080359.tif 000044
【０１３３】
アゾ色素Ｃ−４
【化３０】
2020080359.tif 000045
【０１３４】
液晶化合物Ｐ−３（下記化合物Ａ／下記化合物Ｂ＝７５／２５で混合）【０１３５】
化合物Ａ
【化３１】
2020080359.tif 000046
【０１３６】
化合物Ｂ
【化３２】
2020080359.tif 000047
【０１３７】
＜積層体８の作製＞
上記光吸収異方性層Ｐ４上に、実施例１と同様にして、ＰＶＡ層Ｂ１、粘着層を形成し、実施例８の積層体８を完成した。【０１３８】
［実施例９〜１６］
実施例１の粘着層の形成において、上述した粘着シートＮ１および後述する粘着シートＮ２〜Ｎ６における粘着層のうち、下記表２に示す粘着層を用い、下記表２に示す厚みに変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例９〜１６の積層体を得た。【０１３９】
＜粘着シートＮ２の作製＞
粘着シートＮ１と同様にして、ブチルアクリレート９５質量部、および、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ/Ｍｎ）３．０のアクリル系共重合体２を得た。
次いで、アクリル系共重合体２の固形分１００質量部に対して、多官能アクリレート系モノマー（アロニックスＭ−３１５、東亜合成社製）１０質量部、光重合開始剤（イルガキュア５００、ＢＡＳＦ社製）１質量部、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）１質量部、および、シランカップリング剤（ＫＢＭ−４０３、信越化学工業社製）０．２質量部を混合した溶液（粘着剤組成物Ｎ２）を調製した。
次いで、調製した粘着剤組成物Ｎ２を、シリコーン樹脂コートされたＰＥＴフィルム（剥離フィルム）上に塗布し、９０℃で乾燥することによって溶媒を除去し、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、厚さ２０μｍの粘着層Ｎ２を有する粘着シートＮ２を作製した。粘着層Ｎ２の貯蔵弾性率は、０．６ＭＰａであった。
（ＵＶ照射条件）
・フュージョン社無電極ランプ  Ｈバルブ
・照度：６００ｍＷ／ｃｍ２
・光量：１５０ｍＪ／ｃｍ２
なお、ＵＶ照度および光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ−３６」を用いて測定した。【０１４０】
＜粘着シートＮ３〜Ｎ５の作製＞
まず、以下の手順に従い、アクリル系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、２−エチルヘキシルアクリレート７０質量部、アクリル酸エチル２０質量部、ヒドロキシエチルメタクリレート６質量部、および、アクリル酸４質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量３０万のアクリル系ポリマーＡ１を得た。
次に得られたアクリル系ポリマーＡ１を用いて、以下の手順に従い、粘着シートＮ３〜Ｎ５を作製した。
具体的には、アクリル系ポリマーＡ１の固形分１００質量部に対して、下記表１に示す質量部のトリメチロールプロパントリレンジイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）を添加し、粘着剤組成物を調製した。
次いで、調製した粘着剤組成物を、シリコーン樹脂コートされたＰＥＴフィルム（剥離フィルム）にダイコーターを用いて塗布し、１５０℃で３時間乾燥させ、所望の厚みの粘着層Ｎ３〜５を有する粘着シートＮ３〜５を作製した。粘着層Ｎ３〜Ｎ５の貯蔵弾性率は、下記表１に示す通りであった、【０１４１】
【表１】
2020080359.tif 000048
【０１４２】
＜粘着シートＮ６の作製＞
粘着シートＮ２と同様にして、アクリル系共重合体２を得た。
次いで、アクリル系共重合体２の固形分１００部に対して、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）１質量部、および、シランカップリング剤（ＫＢＭ−４０３、信越化学工業社製）０．２質量部を混合した溶液（粘着剤組成物Ｎ６）を調製した。
次いで、調製した粘着剤組成物Ｎ６を、シリコーン樹脂コートされたＰＥＴフィルム（剥離フィルム）上に塗布し、９０℃で乾燥することによって溶媒を除去し、厚さ２５μｍの粘着層Ｎ６を有する粘着シートＮ６を作製した。粘着層Ｎ６の貯蔵弾性率は、０．１ＭＰａであった。【０１４３】
［実施例１７］
支持体として、ＴＪ４０ＵＬに代えてＴＪ１００ＵＬ（厚み１００μｍ、富士フイルム社製）を用いた以外は、実施例１５と同様の方法にて、実施例１７の積層体を得た。【０１４４】
［比較例１］
粘着層の厚みを下記表２に示す値に変更した以外は、実施例１０と同様の方法にて、比較例１の積層体を得た。【０１４５】
［比較例２］
配向層形成用組成物ＰＡ１を下記組成の配向層形成用組成物ＰＡ２に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例２の積層体を得た。【０１４６】
─────────────────────────────────
配向層形成用組成物ＰＡ２
─────────────────────────────────
・下記記重合体ＰＡ−２                          １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ−１                            ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ−１１０ＴＦ                  ０．００５質量部
・キシレン                                    １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン                        １２２．００質量部
─────────────────────────────────【０１４７】
重合体ＰＡ−２
【化３３】
2020080359.tif 000049
【０１４８】
［評価］
《剥離評価》
得られた積層体を２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、剥離フィルムを剥がした後、粘着層側をガラス基板（コーニング社Ｅａｇle  ＸＧ）上に圧着した。
この後、積層体の支持体にテープを貼りつけて剥離した。
剥離した支持体の剥離面を観察し、以下の基準に沿って評価した。結果を下記表２に示す。
ＡＡ：剥離面の荒れ無し
Ａ：剥離面がざらついている
Ｂ：配向層に起因する剥離残りが観察され、剥離面の面積に対する剥離残りの面積が５％未満
Ｃ：配向層に起因する剥離残りが観察され、剥離面の面積に対する剥離残りの面積が５％以上【０１４９】
【表２】
2020080359.tif 000050
【０１５０】
表２に示す結果から、支持体および粘着層の厚みを除いた支持体から粘着層までの間の厚みが５μｍ以下である場合において、粘着層の厚みが５μｍ未満であると、支持体のみを剥離することが困難であることが分かった（比較例１）。
また、配向層の形成に用いるシンナモイル化合物が、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を有していない場合、支持体のみを剥離することが困難であることが分かった（比較例２）。
これに対し、支持体および粘着層の厚みを除いた支持体から粘着層までの間の厚みが５μｍ以下である場合において、粘着層の厚みが５〜５０μｍであり、配向層が、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を有するシンナモイル化合物を含有する配向層形成用組成物を用いて形成した光配向層であると、支持体を剥離することが容易であることが分かった（実施例１〜１７）。
【符号の説明】
【０１５１】
１  支持体
２  配向層
３  光吸収異方性層
４  粘着層
５  硬化層
６  ポリビニルアルコール樹脂を含む層
７  表面フィルム
８  位相差フィルム
１０  積層体
【図１】
2020080359.tif 000054
【図２】
2020080359.tif 000055
【図３】
2020080359.tif 000056
【国際調査報告】
2020080359.tif 000057
2020080359.tif 000058
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