(57)【要約】  フィルタ基板３０は、遮光マトリクス３８と、遮光マトリクス３８に積層された意匠部３７と、を備える。遮光マトリクス３８は、複数の透過部３９を区画する。意匠部３７は、意匠を形成する。意匠部３７は、遮光マトリクス３８とともに複数の透過部３９を区画する。
2020067211.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の透過部を区画する遮光マトリクスと、
意匠を形成する意匠部であって、前記遮光マトリクスに積層され、前記遮光マトリクスとともに複数の前記透過部を区画する意匠部と、を備える、フィルタ基板。
【請求項２】
前記透過部の輪郭は、円弧又は楕円弧を含んでいる、請求項１に記載のフィルタ基板。
【請求項３】
前記透過部の間隔は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、請求項１または２に記載のフィルタ基板。
【請求項４】
平面視において前記透過部が占める割合は、３％以上５０％以下である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項５】
前記遮光マトリクスと前記意匠部との間に形成された混色防止層をさらに備える、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項６】
前記透過部に形成された着色部をさらに備える、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項７】
前記透過部に形成された量子ドットを含む発光部をさらに備える、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項８】
前記意匠部は、光反応性材料を含む組成物の硬化物からなる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項９】
前記意匠部は、光反応性材料を含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項１０】
前記意匠部は、２色以上の組み合わせからなる絵柄の意匠を形成する、請求項１乃至９のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項１１】
前記意匠部は、網点によって形成される絵柄の意匠を形成する、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のフィルタ基板。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のフィルタ基板と、
前記フィルタ基板の前記遮光マトリクスの側に配置され、ＧＨ方式で駆動する液晶層、または、各透過部に対応した位置に設けられた発光素子を有する発光層と、を備える、表示パネル。
【請求項１３】
前記発光素子は、有機ＥＬ発光素子、マイクロＬＥＤ発光素子、または量子ドット発光素子である、請求項１２に記載の表示パネル。
【請求項１４】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のフィルタ基板、または請求項１２または１３に記載の表示パネルを備える、表示装置。
【請求項１５】
前記フィルタ基板を取り囲む外枠部をさらに備え、
前記意匠部は、前記外枠部よりも、濃く意匠を表示している、請求項１４に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルタ基板、フィルタ基板を有する表示パネル及びフィルタ基板または表示パネルを有する表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像を表示する表示装置が広く用いられている。このような表示装置は、画像非表示の状態では、通常、黒色に観察される。一方で、例えば自動車や家具、住宅建材等の表面部材においては、意匠性が非常に重要視される。現在、種々の分野に適用される表示装置に対し、単に表示装置に画像を表示する機能が期待されているだけでなく、周囲環境との意匠性の調和も要求されている。【０００３】
表示装置に意匠性を付与するために、例えばＪＰ２００１−３３１１３２に示すように、表示装置の表示面に対面する位置に、加飾層を有する加飾シートを設けることが考えられた。加飾シートは、表示装置に周辺環境と調和することができる意匠性を付与することができる。また、表示装置の画像光が加飾シートを透過することができるよう、加飾シートの画像表示面に対面する領域には孔等の透過部が設けられる。【０００４】
ところで、表示装置にこのような加飾シートを別途設けることは、加飾シートに透過部を設けるコストや、加飾シートを表示装置に配置するコストがかかってしまう。また、加飾シートを設けることで、表示装置の構造が複雑化してしまう。
【発明の開示】
【０００５】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、低コストかつ簡易な構成で表示装置に意匠性を付与することを目的とする。
【０００６】
本発明のフィルタ基板は、
複数の透過部を区画する遮光マトリクスと、
意匠を形成する意匠部であって、前記遮光マトリクスに積層され、前記遮光マトリクスとともに複数の前記透過部を区画する意匠部と、を備える。
【０００７】
本発明のフィルタ基板において、前記透過部の輪郭は、円弧又は楕円弧を含んでいてもよい。
【０００８】
本発明のフィルタ基板において、前記透過部の間隔は、５０μｍ以上３００μｍ以下であってもよい。
【０００９】
本発明のフィルタ基板において、平面視において前記透過部が占める割合は、３％以上５０％以下であってもよい。
【００１０】
本発明のフィルタ基板は、前記透過部に形成された着色部をさらに備えてもよい。
【００１１】
本発明のフィルタ基板は、前記透過部に形成された量子ドットを含む発光部をさらに備えてもよい。
【００１２】
本発明のフィルタ基板は、前記遮光マトリクスと前記意匠部との間に形成された混色防止層をさらに備えてもよい。
【００１３】
本発明のフィルタ基板において、前記意匠部は、光反応性材料を含む組成物の硬化物からなってもよい。
【００１４】
本発明のフィルタ基板において、前記意匠部は、光反応性材料を含んでもよい。
【００１５】
本発明のフィルタ基板において、前記意匠部は、２色以上の組み合わせからなる絵柄の意匠を形成してもよい。
【００１６】
本発明のフィルタ基板において、前記意匠部は、網点によって形成される絵柄の意匠を形成してもよい。
【００１７】
本発明の表示パネルは、
上述したいずれかのフィルタ基板と、
前記フィルタ基板の前記遮光マトリクスの側に配置され、ＧＨ方式で駆動する液晶層、または、各透過部に対応した位置に設けられた発光素子を有する発光層と、を備える。
【００１８】
本発明の表示パネルにおいて、前記発光素子は、有機ＥＬ発光素子、マイクロＬＥＤ発光素子、または量子ドット発光素子であってもよい。
【００１９】
本発明の表示装置は、上述したいずれかのフィルタ基板、または上述した表示パネルを備える。
【００２０】
本発明の表示装置は、
前記フィルタ基板を取り囲む外枠部をさらに備え、
前記意匠部は、前記外枠部よりも、濃く意匠を表示していてもよい。
【００２１】
本発明によれば、低コストかつ簡易な構成で表示装置に意匠性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１Ａ】図１Ａは、表示装置の一例の各要素を概略的に示す分解斜視図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、表示装置の他の例の各要素を概略的に示す分解斜視図である。
【図２】図２は、図１の表示装置の正面図である。
【図３】図３は、図１の表示装置の表示パネルの一部を拡大して示す正面図であって、一部においてフィルタ基板が省略されている図である。
【図４Ａ】図４Ａは、図３のＩＶ−ＩＶ線に沿った図１Ａの表示装置の断面図の一例である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、図３のＩＶ−ＩＶ線に沿った図１Ａの表示装置の断面図の他の例である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、図３のＩＶ−ＩＶ線に沿った図１Ｂの表示装置の断面図である。
【図５】図５は、フィルタ基板の製造方法の一例を説明するための図である。
【図６】図６は、フィルタ基板の製造方法の一例を説明するための図である。
【図７】図７は、フィルタ基板の製造方法の一例を説明するための図である。
【図８】図８は、フィルタ基板の製造方法の他の例を説明するための図である。
【図９】図９は、フィルタ基板の製造方法の他の例を説明するための図である。
【図１０】図１０は、フィルタ基板の製造方法の他の例を説明するための図である。
【図１１】図１１は、フィルタ基板の製造方法の他の例を説明するための図である。
【図１２】図１２は、フィルタ基板の製造方法の他の例を説明するための図である。
【図１３】図１３は、フィルタ基板の製造方法の他の例を説明するための図である。
【図１４】図１４は、フィルタ基板の製造方法を説明するための図である。
【図１５】図１５は、フィルタ基板の製造方法を説明するための図である。
【図１６】図１６は、フィルタ基板の製造方法を説明するための図である。
【図１７】図１７は、従来の表示装置の一例を示す断面図である。
【図１８】図１８は、従来の表示装置の一例の一部を拡大して示す正面図である。
【図１９】図１９は、表示装置及びフィルタ基板の一変形例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２４】
なお、本明細書において、「層」、「シート」及び「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別されるものではない。例えば「層」という用語は、シート或いはフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。
【００２５】
また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２６】
以下の実施の形態においては、本発明を液晶表示装置（液晶ディスプレイ）や有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）に適用した例について説明する。すなわち、以下の実施の形態において、表示装置１０は、液晶表示パネル（ＬＣＤパネル）からなる表示パネル２０や有機ＥＬ表示パネルからなる表示パネル２０を含んで構成されている。ただし、本発明は、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置への適用に限られず、他の表示装置にも適用することができる。表示装置１０は、その他の方式の光を透過させることで画像を表示する透過型表示装置であってもよいし、電子ペーパーのような外光を反射することで画像を表示する反射型表示装置であってもよい。透過型表示装置は、画像を表示している状態において後述する遮光マトリクス上の意匠部が視認されにくく、画像を明瞭に視認させることができるため、特に好ましい。
【００２７】
図１Ａ及び図１Ｂは、それぞれ本発明による別の実施の形態の表示装置１０を概略的に示す分解斜視図である。図１Ａに示された例では、表示装置１０は、液晶表示装置である。図１Ａに示す例では、表示装置１０は、表示パネル２０と、液晶表示パネルとしての表示パネル２０を背面側（非観察者側）から照明する面光源装置（バックライト）１３と、表示パネル２０を取り囲む外枠部１５と、を有している。そして、液晶表示パネルとして形成された表示パネル２０が面光源装置１３からの面状光を選択的に透過させることにより、画像を表示面１１に表示することができるようになっている。一方、図１Ｂに示された例では、表示装置１０は、有機ＥＬ表示装置である。図１Ｂに示す例では、表示装置１０は、有機ＥＬ表示パネルとしての表示パネル２０と、表示パネル２０を取り囲む外枠部１５と、を有している。そして、有機ＥＬ表示パネルとして形成された表示パネル２０において後述する発光素子２７としての有機ＥＬ発光素子が選択的に発光することにより、画像を表示面１１に表示することができるようになっている。なお、図示されている例では、表示装置１０は、平板状に示されているが、表示装置１０の各構成要素が湾曲することで、表示装置１０は、湾曲形状であってもよい。
【００２８】
図１Ａに示す例における面光源装置１３は、面状に光を発光することができる。本実施の形態では、面光源装置１３は、表示パネル２０を背面側から照明する装置として用いられている。面光源装置１３としては、例えば、エッジライト型や直下型等の面光源装置が適宜用いられ得る。
【００２９】
外枠部１５は、表示パネル２０の周辺に配置された部材である。外枠部１５は、表示装置の画像を表示しない非表示領域ＮＡ（図２参照）となっている。外枠部１５は、意匠を表示することができる。外枠部１５が表示する意匠は、全面単色のものであってもよいが、絵柄を有するものが好ましく、２色以上の組合せからなる絵柄を有するものが特に好ましい。外枠部１５は、例えば図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字等の絵柄を、意匠として表示している。具体的な例として、外枠部１５が表示する意匠は、木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様等の絵柄である。幾何学模様の絵柄は、例えば複数色のベタ印刷によって形成されてもよい。特に木目調や大理石調の絵柄は、色彩のグラデーションの意匠性を良く表示するために、表示する絵柄を色分解して、色ごとに網点によって形成されることが好ましい。また、図２に示すように、外枠部１５には、開口部１６が設けられている。この開口部１６に、表示パネル２０が配置されている。表示パネル２０が配置可能なように、正面視における開口部１６の寸法は、表示パネル２０の寸法以上となっている。表示装置１０の画像表示状態において、表示面１１に表示される画像は、開口部１６を介して、観察者に観察される。
【００３０】
次に、表示パネル２０について詳述する。表示パネル２０は、画像を表示することができる表示領域ＤＡ（図２参照）を含んでいる。表示領域ＤＡは、図３に示すように、画素領域Ａ１と、画素領域Ａ１の外側の領域である非画素領域Ａ２と、からなっている。ここで画素領域Ａ１とは、画像を形成する画像光が透過可能であるとともに画像を構成する最小要素となる画素が位置している（占めている）領域のことである。
【００３１】
本実施の形態において、画素領域Ａ１は一つの画素を構成するようになる複数の単位画素部ＵＰを有し、各単位画素部ＵＰは３つのサブ画素部ＳＰから構成されている。３つのサブ画素部ＳＰはそれぞれ異なる色を選択的に透過させるようになっている。すなわち、３つのサブ画素部ＳＰから、それぞれ、互いに異なる波長域帯の光が透過する。具体的には、３つのサブ画素部ＳＰは、それぞれ、赤色光、緑色光および青色光を選択的に透過させるようになっており、これにより、表示面１１にカラー画像を表示することができる。
【００３２】
また、非画素領域Ａ２は、後述の意匠部３７によって形成される意匠を表示している。非画素領域Ａ２に表示される意匠は、好ましくは周辺環境と調和させることができる意匠であり、すなわち外枠部１５と調和させることができる意匠である。非画素領域Ａ２に表示される意匠は、外枠部１５の意匠と同様に、全面単色のものであってもよいが、絵柄を有するものが好ましく、２色以上の組合せからなる絵柄を有するものが特に好ましい。非画素領域Ａ２に表示される意匠は、外枠部１５の意匠と同様の意匠、例えば図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字等の絵柄であり、特に、木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様等の絵柄である。幾何学模様の絵柄は、例えば複数色のベタ印刷によって形成されてもよい。特に木目調や大理石調の絵柄は、色彩のグラデーションの意匠性を良く表示するために、表示する絵柄を色分解して、色ごとに網点によって形成されることが好ましい。
【００３３】
図４Ａ〜図４Ｃは、それぞれ異なる実施の形態の表示装置１０を示す断面図である。図４Ａに示された例では、表示装置１０は液晶表示装置であり、表示パネル２０が２つの偏光板３６，５６を有している。図４Ｂに示された例では、表示装置１０は液晶表示装置であるが、表示パネルは偏光板を有していない。図４Ｃに示された例では、表示装置１０は有機ＥＬ表示装置であり、偏光板を有していない。
【００３４】
図４Ａ及び図４Ｂに示された例では、液晶表示パネルとしての表示パネル２０は、背面側（面光源装置側）に配置された背面側基板（素子基板、アレイ基板とも呼ばれる）５０と、背面側基板５０に対向して配置されたフィルタ基板（対向基板とも呼ばれる）３０と、背面側基板５０およびフィルタ基板３０の間に封入された液晶層２５と、を有している。フィルタ基板３０の後述する意匠部３７より遮光マトリクス３８の側が背面側となっている。すなわち、液晶層２５及び背面側基板５０は、フィルタ基板３０の遮光マトリクス３８の側に配置されている。
【００３５】
なお、本明細書において、「基板」とは、高い剛性を有する変形しない基板だけでなく、変形可能なフィルム状の基板、いわゆるフレキシブル基板も含むものである。
【００３６】
液晶層２５は、一つのサブ画素部ＳＰ毎に、電圧の印加がなされ得るようになっている。そして、電圧の印加の有無によって液晶層２５中の液晶分子の配向方向が変化するようになる。図４Ａに示す例では、液晶層２５は、例えばＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式またはＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式で駆動する。入光側（面光源装置１３側）に配置された背面側基板５０の後述する第２偏光板５６を透過した特定方向の偏光成分は、例えば電圧印加された液晶層２５を通過する際にその偏光方向を９０°回転させ、その一方で、電圧印加されていない液晶層２５を通過する際にその偏光方向を維持する。この場合、液晶層２５への電圧印加の有無によって、第２偏光板５６を透過した特定方向に振動する偏光成分が、第２偏光板５６の出光側に配置されたフィルタ基板３０の後述する第１偏光板３６をさらに透過するか、あるいは、第１偏光板３６で吸収されて遮断されるか、を制御することができる。
【００３７】
一方、図４Ｂに示す例では、液晶層２５は、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）方式で駆動する。ＧＨ方式で駆動する液晶層２５は、二色性色素を含む。このような液晶層２５に電圧が印加されていないと、二色性色素が配向し、光が二色性色素に妨げられることなく液晶層を透過するようになる。一方、このような液晶層２５に電圧が印加されると、二色性色素が配向せず、光は液晶層２５の二色性色素に吸収されて透過しない。このように、ＧＨ方式で駆動する液晶層２５は、液晶層２５への電圧印加の有無によって、偏光板なしに、液晶層２５を透過するか遮断されるかを制御することができる。
【００３８】
このようにして液晶表示パネルとしての表示パネル２０では、面光源装置１３からの光の透過または遮断をサブ画素ＳＰ毎に制御し得るようになっている。
【００３９】
また、図４Ｃに示された例では、有機ＥＬ表示パネルとしての表示パネル２０は、背面側に配置された背面側基板（素子基板、アレイ基板とも呼ばれる）５０と、背面側基板５０に対向して配置されたフィルタ基板（対向基板とも呼ばれる）３０と、背面側基板５０およびフィルタ基板３０の間に封入された発光層２６としての有機ＥＬ層と、を有している。フィルタ基板３０の後述する意匠部３７より遮光マトリクス３８の側が背面側となっている。すなわち、発光層２６及び背面側基板５０は、フィルタ基板３０の遮光マトリクス３８の側に配置されている。
【００４０】
発光層２６は、一つのサブ画素部ＳＰ毎に、電圧の印加がなされ得るようになっている。発光層２６は、各サブ画素部ＳＰに対応した位置、すなわち後述する透過部３９に対応した位置に設けられた複数の発光素子２７としての有機ＥＬ発光素子を含んでいる。そして、電圧が印加されることによって発光層２６中の発光素子２７が発光する。具体的には、有機ＥＬ層中の有機ＥＬ発光素子が発光する。すなわち、有機ＥＬ表示パネルとしての表示パネル２０では、発光層２６への電圧の印加の有無によって、サブ画素ＳＰ毎に発光を制御することができる。
【００４１】
フィルタ基板３０は、透光性を有した第１基材３１と、第１基材３１上に所定のマトリクスパターンで形成された遮光マトリクス（ブラックマトリクス（ＢＭ））３８と、遮光マトリクス３８に積層された意匠部３７と、を有している。フィルタ基板３０は、遮光マトリクス３８と意匠部３７との間に形成された混色防止層４０をさらに有していることが好ましい。意匠部３７は、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８とともに複数の透過部３９を区画している。言い換えると、透過部３９は、意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８の非形成部である。透過部３９は、サブ画素部ＳＰを構成する。すなわち、図４Ａ及び図４Ｂに示された例では、透過部３９は、サブ画素部ＳＰを形成する位置に設けられている。一方、図４Ｃに示す例では、透過部３９は、サブ画素部ＳＰを形成する発光素子２７に対応した位置、より詳しくは発光素子２７と重なる位置に設けられている。そして、本実施の形態において、フィルタ基板３０は、各サブ画素部ＳＰを構成する透過部３９に形成され、当該サブ画素部ＳＰの表示色に着色された着色部３２をさらに有している。着色部３２は、例えば、赤色に着色された着色部３２Ｒと、緑色に着色された着色部３２Ｇと、青色に着色された着色部３２Ｂと、を含んでいる。この着色部３２を透過した光が画像を形成する。すなわち、着色部３２（透過部３９）によって画素領域Ａ１が形成され、表示領域ＤＡ内において画素領域以外の領域（意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８が形成されている領域）が、非画素領域Ａ２を形成している。
【００４２】
意匠部３７は、表示領域ＤＡに表示する意匠を形成し、表示装置１０に意匠性を付与する。意匠を表示するために、意匠部３７は、顔料、染料等の着色剤を含んでいる。着色剤は、任意の色の着色剤であってよく、例えば黒色顔料のカーボンブラックであってもよい。あるいは、意匠部３７は、表示する意匠を色分解して得られる色ごとに、複数の色の層を重ね合わせることで形成されていてもよい。各色の層は、例えば着色剤を含む樹脂によって形成される。典型的には、意匠部３７は、赤色、緑色、青色、黒色の層を含んでいる。しかしながら、意匠部３７によって表示する意匠の意匠性を向上させるため、意匠部３７は、これらの色以外の層、例えば黄色の層を含んでいてもよい。また、意匠部３７は、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各色の層の重ね合わせにより形成されていてもよい。この場合、各色の層は、色を網点によって表示する。ここで、この網点が規則的に配置されていると、網点の規則性と透過部３９の配置の規則性との干渉によるモアレが観察され得る。したがって、着色層の網点は不規則に配置されていることが好ましく、例えばＦＭスクリーンであることが好ましい。
【００４３】
図４Ａ〜図４Ｃに示されているように、意匠部３７は、観察者側すなわち表示パネル２０の出光側から、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８の全域に重なって積層されている。したがって、観察者は、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８を視認することなく、意匠部３７によって形成される意匠を観察することができる。意匠部３７は、形成される意匠を明瞭に表示するため、十分な厚さを有していることが好ましい。具体的には、意匠部３７の厚さは、例えば３μｍ以上５０μｍ以下である。
【００４４】
なお、意匠を明確に表示する観点から、意匠を形成する意匠部３７は、表示領域ＤＡの少なくとも一部において意匠部３７の下地となる層との色の差が大きくなっていることが好ましい。具体的には、表示領域ＤＡの少なくとも一部において、意匠部３７及び意匠部３７の下地となる層のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系の色空間における距離ΔＥ＊ａｂが、０．７以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、１．５以上であることがさらに好ましい。意匠部３７の下地となる層とは、意匠部３７の観察者側とは反対側に設けられた層であり、本実施の形態では、混色防止層４０が設けられている場合は混色防止層４０、混色防止層４０が設けられていない場合は遮光マトリクス３８である。ここで、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるΔＥ＊ａｂの値は、例えば、分光測色計（コニカミノルタ製「ＣＭ−７００ｄ」）を用いて、意匠部３７及び意匠部３７の下地となる層のそれぞれのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値、ａ＊の値、ｂ＊の値をそれぞれ測定することで求めることができる。
【００４５】
また、意匠部３７によって形成される意匠は、意匠部３７の非形成部である透過部３９によって、透過部３９なしに形成される意匠より薄く観察されてしまう。すなわち、透過部３９によって、意匠部３７によって形成される意匠が薄くなってしまう。このため、意匠部３７によって形成される意匠と外枠部１５の意匠を同様に形成した場合、意匠の濃さに違いが生じ得る。表示領域ＤＡにおいて形成される意匠を外枠部１５の意匠と同様の濃さで観察者に観察させるため、意匠部３７は、外枠部１５よりも、濃く意匠を表示していることが好ましい。例えば、意匠部３７の厚さが外枠部１５の意匠を形成する部材の厚さより厚くなっていること、意匠部３７に含まれる顔料の密度が外枠部１５に含まれる顔料の密度より高くなっていること、意匠部３７において意匠を形成する網点の面積比が外枠部１５において意匠を形成する網点の面積比より大きくなっていること、のいずれか１つ以上を採用することによって、意匠部３７が外枠部１５より濃く意匠を表示することができる。ただし、意匠部３７が外枠部１５より濃く意匠を表示するための構成は、これらのことに限定されない。
【００４６】
混色防止層４０は、意匠部３７によって形成される意匠の意匠性が遮光マトリクス３８の色と混ざることによって害されることを防止する。したがって、混色防止層４０は、意匠部３７によって形成される意匠の意匠性を害しにくい色となっている。典型的には、混色防止層４０は、白色となっていることが好ましい。ただし、混色防止層４０は、意匠部３７に表示する意匠の意匠性を害さない色であれば、白色以外の色であってもよい。また、混色防止層４０は、光反射成分を含んでもよい。混色防止層４０が光反射成分を含むことで、意匠部３７を透過した光が混色防止層４０で反射されて再度意匠部３７を透過して出光するため、意匠部３７による意匠がより鮮明に観察され得る。混色防止層４０に含まれる光反射成分としては、粒状の銀色顔料や、燐片状の金属を例示できる。このような混色防止層４０の厚さは、混色を防止するために、２μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。
【００４７】
遮光マトリクス３８は、透過部３９を区画し、サブ画素部ＳＰを構成する透過部３９以外から光が出射することを防止する。遮光マトリクス３８は、光を吸収する機能を有している。遮光マトリクス３８は、例えば光吸収粒子をバインダー樹脂中に含んでいる。光吸収粒子としては、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を例示することができる。このような遮光マトリクス３８の厚さは、光を十分に吸収可能なように、０．５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。
【００４８】
透過部３９は、遮光マトリクス３８、混色防止層４０及び意匠部３７の非形成部であり、遮光マトリクス３８、混色防止層４０及び意匠部３７によって区画されている。透過部３９は、光を透過させることで、観察者に観察される画像を形成することができる。表示パネル２０の画像表示状態で観察者が画像を観察できるよう、平面視におけるフィルタ基板３０の透過部３９が占める割合は、高いほうが好ましい。具体的には、平面視における透過部３９が占める割合は、３％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。しかしながら、表示パネル２０の画像非表示状態で観察者が意匠部３７によって形成される意匠を観察できるよう、平面視におけるフィルタ基板３０の意匠部３７が占める割合が高いほうが好ましい。すなわち平面視におけるフィルタ基板３０の透過部３９が占める割合は、低いほうが好ましい。具体的には、平面視における透過部３９が占める割合は、５０％以下であることが好ましく、４０％以下であることがより好ましく、３０％以下であることがさらに好ましい。平面視における透過部３９が占める割合は、例えば各透過部３９の面積を変化させることや、透過部３９の個数を変化させることで、調節することができる。
【００４９】
また、画素を十分に細かく配置するため、透過部３９が構成するサブ画素ＳＰは十分に狭い間隔で配置されることが好ましい。すなわち、透過部３９の間隔は、小さくなっていることが好ましい。具体的には、透過部３９の間隔は、３００μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下であることがより好ましく、１５０μｍ以下であることがさらに好ましい。しかしながら、意匠部３７によって形成される意匠が観察されるよう、意匠部３７の大きさ、すなわち隣り合う透過部３９の間の距離は、大きくなっていることが好ましい。このため、透過部３９の間隔は、大きくなっていることが好ましい。具体的には、透過部３９の間隔は、５μｍ以上であることが好ましく、２０μｍ以上であることがより好ましい。なお、透過部３９の間隔とは、隣り合う２つの透過部３９の間の最短の長さのことを意味している。
【００５０】
このような透過部３９は、意匠部３７の大きさを十分に大きくして意匠部３７によって形成される意匠が観察されやすくするために、透過部３９の輪郭は、円弧又は楕円弧を含んでいることが好ましい。図示された例では、透過部３９の輪郭は、全体として楕円弧となっている。しかしながら、これに限らず、透過部３９は、矩形、Ｖ字型、Ｗ字型等の任意の形状とすることができる。また、透過部３９は、全体として矩形、Ｖ字型、Ｗ字型等であり、その一部、とりわけ角部において、円弧又は楕円弧を含んでいてもよい。
【００５１】
図４Ａ〜図４Ｃに示された例では、透過部３９は、遮光マトリクス３８、混色防止層４０及び意匠部３７が積層された方向に大きさを維持したまま延びる開口部として設けられている。しかしながら、透過部３９は、遮光マトリクス３８、混色防止層４０及び意匠部３７が積層された方向に大きさを変化させながら延びる開口部として設けられていてもよい。すなわち、例えば透過部３９は、テーパー状に設けられていてもよい。透過部３９がテーパー状になっていることで、透過部３９を透過する光が観察される視野角を大きくすることができる。
【００５２】
意匠部３７及び透過部３９は、後述するように、意匠部３７及び透過部３９が形成される部分に設けられた光反応性材料を含む組成物に、光を照射することで形成されることができる。意匠部３７を形成する部分または透過部３９を形成する部分に光を照射することで、意匠部３７及び透過部３９が形成される。光反応性材料として光に反応して重合する材料を利用する場合、意匠部３７を形成する部分に光を照射することで組成物が光に反応して重合し、その後に後述するエッチングの処理を行うことで、光が照射されずに未重合のままになっている部分の組成物が除去されて透過部３９が形成され、除去されずに残存した部分が意匠部３７となる。すなわち、意匠部３７は、光反応性材料を含む組成物の硬化物からなっている。このような光反応性材料として、例えば環化ポリイソプレンや環化ポリプタジエン等の光硬化性樹脂を用いることができる。一方、光反応性材料として光に反応して分解する材料を利用する場合、透過部３９を形成する部分に光を照射することで組成物が光に反応して分解し、その後に後述するエッチングの処理を行うことで、分解した組成物が除去されて透過部３９が形成される。一方、光が照射されなかった部分では、光反応性材料を含んだ組成物が意匠部３７としてそのまま残る。言い換えると、意匠部３７は、光反応性材料を含んでいる。このような光反応性材料として、例えばフェノール樹脂系化合物等の光分解性樹脂を用いることができる。
【００５３】
さらに、フィルタ基板３０には、表示パネルの観察者側の基板（対向基板）として有効に機能するため、その他の構成要素が適宜設けられている。図４Ａ及び図４Ｂに示す例では、着色部３２上には、第１保護膜３３、透明電極層３４および第１配向膜３５が、液晶層２５の側に向けてこの順番で形成されている。また、図４Ａに示す例では、フィルタ基板３０の第１基材３１の液晶層２５とは反対の側、つまりフィルタ基板３０の第１基材３１の観察者側には、第１偏光板３６が積層されている。一方、図４Ｃに示す例では、着色部３２上には、保護膜３３及び透明電極層３４が、発光層２６に向けてこの順番で形成されている。
【００５４】
図３および図４Ａ〜図４Ｃに示すように、背面側基板５０は、透光性を有した第２基材５１と、第２基材５１上の画素領域Ａ１にそれぞれ配置された画素電極５２と、を有している。また、画素電極５２に対する電圧の印加を制御するスイッチング素子５８（図３参照）が、画素電極５２（サブ画素部ＳＰ）毎に別個に設けられている。スイッチング素子５８は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）として形成され得る。このスイッチング素子５８は、図示しない制御装置の制御に基づいて動作する。なお、第２基材５１上には、スイッチング素子５８の駆動に必要となる、走査線や信号線（データ線）等の種々の回路配線（図示せず）が形成されている。
【００５５】
さらに、背面側基板５０には、その他の構成要素が適宜設けられている。例えば、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、液晶表示パネルの面光源装置側の基板（素子基板、アレイ基板）として有効に機能するため、画素電極５２上には、第２保護膜５３および第２配向膜５５が、液晶層２５の側に向けてこの順番で形成されている。また、図４Ａに示す例では、背面側基板５０の第２基材５１の液晶層２５とは反対の側、つまり背面側基板５０の第２基材５１の面光源装置側には、第２偏光板５６が積層されている。一方、図４Ｃに示す例では、画素電極５２上に、第２保護膜５３のみが設けられている。
【００５６】
なお、意匠部３７によって表示パネル２０に表示される意匠及び外枠部１５に表示される意匠は、上述したような絵柄に限らず、拡散層による光沢やつや出し等であってもよい。
【００５７】
次に、本実施の形態のフィルタ基板３０の製造方法の一例及び他の例について、図５乃至図１６を参照しながら説明する。
【００５８】
まず、エッチングによりパターニングされた意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８を得る方法について、図５乃至図７を参照しながら説明する。図５に示すように、第１基材３１上に意匠部３７を形成するようになる意匠膜３７ａを設け、意匠膜３７ａ上に混色防止層４０を形成するようになる混色防止膜４０ａを設け、混色防止膜４０ａ上に遮光マトリクス３８を形成するようになる遮光膜３８ａを設ける。意匠膜３７ａ、混色防止膜４０ａ及び遮光膜３８ａは、例えば印刷によって形成され得る。
【００５９】
その後、図６に示すように、遮光膜３８ａ上に、レジストパターン６０を設ける。レジストパターン６０は、形成されるべき意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８の配置パターンに対応した形となっている。このレジストパターン６０は、例えば公知のフォトリソグラフィ技術を用いたパターニングにより形成することができる。
【００６０】
次に、レジストパターン６０をマスクとして、意匠膜３７ａ、混色防止膜４０ａ及び遮光膜３８ａをエッチングする。このエッチングにより、意匠膜３７ａ、混色防止膜４０ａ及び遮光膜３８ａがレジストパターン６０と略同一のパターンにパターニングされる。この結果、図７に示すように、パターニングされた意匠膜３７ａから、意匠部３７が形成される。また、パターニングされた混色防止膜４０ａから、混色防止層４０が形成される。同様に、パターニングされた遮光膜３８ａから、遮光マトリクス３８が形成される。さらに、エッチングによって意匠膜３７ａ、混色防止膜４０ａ及び遮光膜３８ａが除去された部分が、意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８が区画する透過部３９となる。すなわち、遮光マトリクス３８、混色防止層４０及び意匠部３７は同時に形成され、遮光マトリクス３８の非形成部であり、混色防止層４０の非形成部であり、且つ意匠部３７の非形成部である透過部３９が設けられる。
【００６１】
なお、エッチング方法は、公知の方法が採用できる。例えば、エッチング方法は、エッチング液等を用いるウェットエッチングやプラズマエッチング、反応性イオンスパッタなどのドライエッチング、またはサンドブラストなどであってもよい。
【００６２】
また、別の方法として、フォトリソグラフィ技術によってパターニングされた意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８を得る方法について、図８乃至図１３を参照しながら説明する。まず、図８に示すように、第１基材３１上に意匠部３７を形成するようになる意匠膜３７ａを設け、意匠膜３７ａ上にフォトマスク６１を配置する。フォトマスク６１は、例えばガラス基板上にクロム等を用いて設けられており、形成されるべき意匠部３７の配置パターンに対応した形となっている。図８に示された例では、意匠膜３７ａは、光反応性材料、とりわけ光分解性樹脂からなる。したがって、フォトマスク６１は、意匠部３７の形成部が露光されないように設けられている。
【００６３】
光を照射することで、図９に示すように、フォトマスク６１によって光が遮られ硬化しなかった意匠膜３７ａは分解されずに残り、意匠部３７が形成される。一方、光が照射された意匠膜３７ａは、アルカリ溶液（水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル-2-ヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド)など）を用いて、現像処理することで除去される。
【００６４】
その後、フォトマスク６１を一旦除去する。次に、図１０に示すように、第１基材３１上及び意匠部３７上に混色防止層４０を形成するようになる混色防止膜４０ａを設け、混色防止膜４０ａ上にフォトマスク６１を再度配置する。混色防止膜４０ａは、光分解性樹脂からなる。このとき、フォトマスク６１は、形成された意匠部３７と重なるように設けられる。フォトマスク６１は、意匠部３７と重なるよう、例えばカメラ等によって意匠部３７を撮像することで位置合わせしながら配置される。
【００６５】
光を照射することで、図１１に示すように、フォトマスク６１によって光が遮られ硬化しなかった混色防止膜４０ａは分解されずに残り、混色防止層４０が形成される。一方、光が照射された混色防止膜４０ａは、除去される。
【００６６】
その後、フォトマスク６１を一旦除去する。次に、図１２に示すように、第１基材３１上及び混色防止層４０上に遮光マトリクス３８を形成するようになる遮光膜３８ａを設け、遮光膜３８ａ上にフォトマスク６１を再度配置する。遮光膜３８ａは、光分解性樹脂からなる。このとき、フォトマスク６１は、形成された意匠部３７及び混色防止層４０と重なるように位置合わせされて配置される。
【００６７】
光を照射することで、図１３に示すように、フォトマスク６１によって光が遮られ硬化しなかった遮光膜３８ａは分解されずに残り、遮光マトリクス３８が形成される。一方、光が照射された遮光膜３８ａは、除去される。意匠膜３７ａ、混色防止膜４０ａ及び遮光膜３８ａが除去された部分によって透過部３９が形成される。
【００６８】
なお、意匠部３７は、１回の露光で設けられるのではなく、表示する意匠の色ごとに複数回にわたって上述の工程を繰り返すことにより、設けられてもよい。すなわち、意匠部３７に含まれる例えば赤色、緑色、青色、黒色の層の各色の層を形成するように、露光される各色の膜及びフォトマスク６１の形成と、光の照射と、を繰り返し行ってもよい。この場合、フォトマスク６１は、各色の層を設ける位置に対応した形状となっている。
【００６９】
また、露光される光反応性材料の各膜（意匠膜３７ａ、混色防止膜４０ａ及び遮光膜３８ａ）は、光分解性樹脂でなく、光硬化性樹脂であってもよい。この場合、フォトマスク６１は、意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８の非形成部が露光されないように配置される。
【００７０】
なお、上述した例に限らず、透過部３９は、例えば図５に示した遮光膜３８ａ、混色防止膜４０ａ及び意匠膜３７ａの一部をレーザーによって除去することで形成されてもよい。
【００７１】
図５乃至図７に示されたエッチングにより、または図８乃至図１３に示されたフォトリソグラフィ技術により、あるいは他の方法により、パターニングされた意匠部３７、混色防止層４０及び遮光マトリクス３８が得られる。その後、図１４に示すように、レジストパターン６０やフォトマスク６１を除去する。なお、レジストパターン６０は、背面側基板５０に対面する側に設けられていることから、視認されないため、除去されなくてもよい。
【００７２】
その後、図１５に示すように、透過部３９に着色部３２を形成する。着色部３２は、例えばフォトリソグラフィ技術やインクジェット印刷によって各色の着色部ごとに順に形成することができる。
【００７３】
最後に、図１６に示すように、必要に応じて、第１基材３１が設けられた側に第１偏光板３６を形成し、遮光マトリクス３８が設けられた側に第１保護膜３３，透明電極層３４及び第１配向膜３５を順に形成する。以上の工程によって、フィルタ基板３０が作製される。
【００７４】
次に、本実施の形態の表示装置１０の作用について説明する。
【００７５】
表示装置１０の表示面１１に画像を表示しない状態では、表示面１１にはフィルタ基板３０の意匠部３７によって形成される意匠が表示される。すなわち、表示装置１０は、観察されることが意図された意匠を表示することができる。表示された意匠によって、意匠性において表示装置１０を周辺環境と調和させることができる。
【００７６】
一方、図４Ａ及び図４Ｂに示す例では、表示装置１０の表示面１１に画像を表示した状態では、面光源装置１３で発光された光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は、表示パネル２０内に進む。そして、図示しない制御装置からの信号によりスイッチング素子５８が駆動され、面光源装置１３で発光された光は、透過率を調整されながら、透過部３９に形成され各サブ画素部ＳＰを構成する各着色部３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを透過する。図４Ａに示された光Ｌ１及び図４Ｂに示された光Ｌ３は、着色部３２Ｒを透過している。着色部３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを透過して表示パネル２０から出射する光は、画像光として映像を形成する。表示装置１０は、表示面１１に観察されることが意図された画像を表示することができ、外部の観察者は、画像を観察することができる。
【００７７】
また、意匠部３７は、遮光マトリクス３８によって面光源装置１３の側から覆われている。したがって、図４Ａに示された光Ｌ２及び図４Ｂに示された光Ｌ４のように、遮光マトリクス３８によって、光が意匠部３７へ入射することが妨げられる。このため、意匠部３７を光が透過して、意匠部３７によって表される意匠と各着色部３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを透過した画像光とが混合して観察されることを防止することができる。すなわち、意匠部３７で特定波長域の可視光が吸収されることに起因して画像の色再現性が劣化することを効果的に防止することができる。
【００７８】
図４Ｃに示した例では、表示装置１０の表示面１１に画像を表示している。図示しない制御装置からの信号によりスイッチング素子５８が駆動されることで、発光素子２７が発光する。発光素子２７で発光した光Ｌ５は、表示パネル２０内を進み、透過部３９に形成され各サブ画素部ＳＰを構成する各着色部３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを透過する。図４Ｃに示された光Ｌ５は、着色部３２Ｒを透過している。着色部３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを透過して表示パネル２０から出射する光は、画像光として映像を形成する。このようにして、表示装置１０は、表示面１１に観察されることが意図された画像を表示することができ、外部の観察者は、画像を観察することができる。
【００７９】
ところで、上述したように、図１７に示すような従来の表示装置１１０では、意匠性の付与のために、表示装置１１０の表示面１１１に対面する位置に加飾シート１３０が設けられていた。このような加飾シート１３０は、表示パネルとは独立した構成要素として設けられていた。したがって、加飾シート１３０に関する工程、具体的には加飾シート１３０を印刷して透過部１３９を設ける工程、加飾シート１３０を表示装置１１０の前面に配置する工程を別途に行う必要があった。このような工程は、表示装置１１０を製造するコストとなってしまう。さらに、加飾シート１３０を設けることで、表示装置の構成要素が増えて構造が複雑になり、表示装置１１０が取り扱いにくくなっていた。
【００８０】
一方、本実施の形態の表示装置１０のフィルタ基板３０では、意匠性を付与する意匠部３７は、遮光マトリクス３８に積層されている。フィルタ基板３０が遮光マトリクス３８を有するため、意匠部３７をフィルタ基板３０の一構成要素として、表示装置１０に設けることができる。また、遮光マトリクス３８と同時に意匠部３７を表示パネル２０に設けることができる。言い換えると、意匠性を付与する意匠部３７を有する部材を表示パネル２０とは別途に設ける工程を省略することができる。さらに、意匠性を付与する意匠部３７が遮光マトリクス３８に積層されているため、表示装置１０の構成を簡易にすることができる。
【００８１】
また、図１７に示すような従来の加飾シート１３０が設けられた表示装置１１０では、表示装置１１０の表示面１１１に対面して加飾シート１３０が設けられているため、加飾シートの表面１３１と画像を表示する表示面１１１とが、異なる面となる。このことが加飾シート付き表示装置の観察者に認識されると、観察者に違和感を与えてしまう。一方、本実施の形態の表示装置１０では、フィルタ基板３０が意匠性を付与する意匠部３７を有している。このため、表示装置１０の表面と画像を表示する表示面とを同一の面とすることができる。したがって、表示装置１０の観察者は、違和感なく画像を観察することができる。
【００８２】
さらに、図１８には、従来の加飾シート１３０が設けられた表示装置１１０の表面の拡大図が示されている。図１８に示すように、従来の加飾シート１３０が設けられた表示装置１１０では、加飾シート１３０の透過部１３９を介して、表示装置１１０から出射した画像光が観察される。したがって、透過部１３９は、表示装置１１０のサブ画素部ＳＰ及びサブ画素部ＳＰを区画する遮光マトリクス１３８と重なっている。このため、透過部１３９が設けられている周期性とサブ画素部ＳＰや遮光マトリクス１３８の周期性とによって、モアレが観察されてしまうことがある。一方、本実施の形態のフィルタ基板３０では、遮光マトリクス３８とともに意匠部３７によって、サブ画素部ＳＰを構成する透過部３９が区画されている。透過部３９が設けられている周期性と遮光マトリクス３８の周期性が一致しており、したがってこれらの周期性によるモアレは観察されない。
【００８３】
また、遮光マトリクス１３８が透過部１３９と重なっていると、遮光マトリクス１３８からは光が出射しないため、透過部１３９の全域から画像光が出射しない。このため、観察される画像光の輝度が意図されずに小さくなってしまう。一方、本実施の形態のフィルタ基板３０では、透過部３９は、遮光マトリクス３８とは重ならず、画像光は透過部３９の全域から出射する。このため、画像光の輝度が意図されずに小さくなってしまうことがない。
【００８４】
さらに、透過部１３９は、サブ画素部ＳＰのうちのいずれかと他のサブ画素部ＳＰより大きな領域で重なり得る。この場合、透過部１３９において、画像光は、より大きな領域で重なっているサブ画素部ＳＰの光（例えば緑色の光）を他のサブ画素部ＳＰの光（例えば赤色の光及び青色の光）より多く透過することになる。すなわち、従来の加飾シート１３０が設けられた表示装置１１０では、表示しようとしている画像の色再現性が低下してしまう。一方、本実施の形態のフィルタ基板３０では、透過部３９によってサブ画素部ＳＰが構成されているため、サブ画素部ＳＰからの光の一部しか透過部３９を透過しないことはない。このため、表示しようとしている画像の色再現性が低下してしまうことがない。
【００８５】
また、本実施の形態のフィルタ基板３０では、透過部３９の輪郭は、円弧又は楕円弧を含んでいる。透過部３９の輪郭が円弧又は楕円弧を含んでいると、円弧又は楕円弧を含まない矩形等となっている場合に比べて、各透過部３９の大きさを同一とした場合、まとまっている意匠部３７の大きさ、言い換えると隣り合う透過部３９の間の距離を大きくすることができる。このため、意匠部３７が形成する意匠の各部分が認識されやすくなり、意匠の全体が観察されやすくなる。
【００８６】
さらに、本実施の形態のフィルタ基板３０では、透過部３９の間隔は、５０μｍ以上３００μｍ以下となっている。すなわち、透過部３９が構成するサブ画素ＳＰを十分に狭い間隔で配置することができ、且つ意匠部３７の大きさ、すなわち隣り合う透過部３９の間の距離を十分に大きくすることができる。このため、画素を十分に細かく配置することと、意匠部３７が形成する意匠の各部分が認識されやすくすることを、両立させることができる。
【００８７】
また、本実施の形態のフィルタ基板３０では、平面視において透過部３９が占める割合は、３％以上５０％以下となっている。この場合、面光源装置１３からの光を十分に透過させて画像表示状態で画像を観察させやすくすることができることと、意匠部３７が占める割合を高くして画像非表示状態で意匠を観察させやすくすることができることとを、両立させることができる。
【００８８】
さらに、本実施の形態のフィルタ基板３０は、遮光マトリクス３８と意匠部３７との間に形成しれた混色防止層４０をさらに備えている。混色防止層４０によれば、意匠部３７によって形成される意匠の意匠性が遮光マトリクス３８の色と混ざることによって害されることを防止することができる。したがって、フィルタ基板３０は、意匠部３７による意匠をより明瞭に表示することができる。
【００８９】
また、本実施の形態の表示パネル２０は、フィルタ基板３０と、フィルタ基板３０の背面側、すなわち遮光マトリクス３８の側に配置され、ＧＨ方式で駆動する液晶層２５、または、各透過部３９に対応した位置に設けられた発光素子（有機ＥＬ発光素子）２７を有する発光層（有機ＥＬ層）２６と、を備えている。この場合、図４Ｂ及び図４Ｃに示すように、表示パネル２０は、偏光板を含まないことができる。表示パネル２０に偏光板を含まれている場合、偏光板は、例えば図４Ａに示すように、意匠部３７より光を出射する側、すなわち意匠部３７より観察者側に設けられることになる。意匠部３７による意匠は、意匠部３７で外光が反射して、その反射光として表示される。意匠部３７より観察者側に偏光板が設けられていると、意匠部３７で反射した光の一部が偏光板で吸収されてしまう。すなわち、意匠部３７による意匠が不明瞭に表示されてしまう。一方、表示パネルに偏光板が含まれていないと、意匠部３７で反射した光が、吸収されることなく、意匠として表示される。したがって、表示パネル２０がＧＨ方式で駆動する液晶層２５、または、各透過部３９に対応した位置に設けられた発光素子２７を有する発光層２６を有している場合、意匠部３７による意匠をより明瞭に表示することができる。
【００９０】
以上のように、本実施の形態のフィルタ基板３０は、複数の透過部３９を区画する遮光マトリクス３８と、意匠を形成する意匠部３７であって、遮光マトリクス３８に積層され、遮光マトリクス３８とともに複数の透過部３９を区画する意匠部３７と、を備える。このようなフィルタ基板３０によれば、意匠部３７をフィルタ基板３０の一構成要素として、表示装置１０に設けることができる。このため、意匠部３７を別途に製造するコストや、意匠部３７を表示装置１０に別途配置するコストがかからず、また、意匠部３７が遮光マトリクス３８に積層されているため、表示装置１０の構成を簡易にすることができる。すなわち、低コストかつ簡易な構成で表示装置１０に意匠性を付与することができる。
【００９１】
本発明の態様は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、当業者が想到しうる種々の変形も含むものであり、本発明の効果も上述した内容に限定されない。すなわち、特許請求の範囲に規定された内容およびその均等物から導き出される本発明の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更および部分的削除が可能である。
【００９２】
上述した実施の形態では、偏光板を含まない表示装置として、有機ＥＬ表示装置が示されている。しかしながら、偏光板を含まない表示装置としては、有機ＥＬ表示装置に限らず、マイクロＬＥＤ表示装置や量子ドット表示装置であってもよい。マイクロＬＥＤ表示装置や量子ドット表示装置としての表示装置１０は、マイクロＬＥＤ表示パネルや量子ドット表示パネルとしての表示パネル２０と、表示パネル２０を取り囲む外枠部１５と、を有している。そして、このような表示パネル２０は、上述した実施の形態と同様のフィルタ基板３０と、発光層２６としてのマイクロＬＥＤ層や量子ドット層を有している。マイクロＬＥＤ層は、発光素子２７として、透過部３９に対応した位置に設けられた複数のマイクロＬＥＤ発光素子を有している。量子ドット層は、発光素子２７として、透過部３９に対応した位置に設けられた複数の量子ドット発光素子を有している。発光素子２７としてのマイクロＬＥＤ発光素子や量子ドット発光素子が選択的に発光することにより、画像を表示面１１に表示することができるようになっている。
【００９３】
表示装置がマイクロＬＥＤ表示装置や量子ドット表示装置である場合でも、表示パネル２０に偏光板が含まれていないため、意匠部３７で反射した光が、吸収されることなく、意匠として表示される。したがって、意匠部３７による意匠をより明瞭に表示することができる。
【００９４】
また、フィルタ基板３０は、上述した実施の形態における着色部３２に変えて、透過部３９に形成された量子ドットを含む発光部４２を有していてもよい。このような発光部４２は、光が入射すると特定波長の光を発光する。発光部４２は、例えば、赤色に発光する発光部４２Ｒと、緑色に発光する発光部４２Ｇと、青色に発光する発光部４２Ｂと、を含んでいる。各発光部４２に入射する光を制御することで、発光部４２で発光した光によって、画像を形成することができる。
【００９５】
なお、フィルタ基板３０が量子ドットを含む発光部４２を有している場合、液晶表示装置としての表示装置１０におけるフィルタ基板３０は、図１９に示すように、第１偏光板３６は、発光部４２より液晶層２５の側に積層されている。意匠部３７より観察者側に偏光板が含まれていないため、意匠部３７で反射した光が、吸収されることなく、意匠として表示される。したがって、意匠部３７による意匠をより明瞭に表示することができる。
【符号の説明】
【００９６】
１０    表示装置
１１    表示面
１３    面光源装置
１５    外枠部
１６    開口部
２０    表示パネル
２５    液晶層
２６    発光層
２７    発光素子
３０    フィルタ基板
３１    第１基材
３２    着色部
３３    第１保護膜
３４    透明電極層
３５    第１配向膜
３６    第１偏光板
３７    意匠部
３８    遮光マトリクス
３９    透過部
４０    混色防止層
５０    背面側基板
５１    第２基材
５２    画素電極
５３    第２保護膜
５５    第２配向膜
５６    第２偏光板
５８    スイッチング素子
６０    レジストパターン
６１    フォトマスク
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
2020067211.tif 000004
【図２】
2020067211.tif 000005
【図３】
2020067211.tif 000006
【図４Ａ】
2020067211.tif 000007
【図４Ｂ】
2020067211.tif 000008
【図４Ｃ】
2020067211.tif 000009
【図５】
2020067211.tif 000010
【図６】
2020067211.tif 000011
【図７】
2020067211.tif 000012
【図８】
2020067211.tif 000013
【図９】
2020067211.tif 000014
【図１０】
2020067211.tif 000015
【図１１】
2020067211.tif 000016
【図１２】
2020067211.tif 000017
【図１３】
2020067211.tif 000018
【図１４】
2020067211.tif 000019
【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【国際調査報告】
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