【手続補正書】
【提出日】平成21年9月15日(2009.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2009508873.tif 000001
の化合物を、式
【化２】
2009508873.tif 000002
の化合物と反応させて、式
【化３】
2009508873.tif 000003
の反応生成物を形成する工程を含む、プロセス。
［式中、
Ｒ１は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から選択され、
Ｒ２は、水素、またはそれぞれ置換若しくは無置換の、（Ｃ１−１０）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール、ヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリール、ヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、アミノ、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選択され、
Ｒ３は、それぞれ置換または無置換の、（Ｃ１−１０）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール、ヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリール、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、アミノ、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アルケニル、アルキニル、カルボニル基、シアノ、イミノ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選択され、そして
Ｌ１は、脱離基である。］
【請求項２】
反応工程が、ジメチルスルホキシド中、Ｋ２ＣＯ３の存在下で行われる、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
反応工程が、４５℃と７５℃の間の温度で行われる、請求項２記載のプロセス。
【請求項４】
反応工程が、少なくとも１時間行われる、請求項２記載のプロセス。
【請求項５】
酢酸エチルを用いて反応生成物を抽出する工程をさらに含む、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項６】
反応生成物を精製する工程をさらに含む、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項７】
反応生成物の精製がカラムクロマトグラフィーによる、請求項６記載のプロセス。
【請求項８】
Ｒ１が、脱離基であり、そして反応生成物を式
【化４】
2009508873.tif 000004
のピペリジンと反応させて、式
【化５】
2009508873.tif 000005
の二次反応生成物を形成する工程をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項記載のプロセス。
［式中、
ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９および１０からなる群から選択され、
各Ｒ５は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から独立して選択され、
その他の記号は請求項１と同意義である。］
【請求項９】
水素化ナトリウムおよび臭化リチウムと、式
【化６】
2009508873.tif 000006
の化合物との混合物を形成する工程、及び
式
【化７】
2009508873.tif 000007
の化合物を該混合物に加える工程を含む、請求項１記載のプロセス。
［式中、各記号は請求項１と同意義である。］
【請求項１０】
プロセスの少なくとも一部が、−５℃と５℃の間の温度で行われる、請求項９記載のプロセス。
【請求項１１】
反応生成物を、式
【化８】
2009508873.tif 000008
の化合物と反応させて、式
【化９】
2009508873.tif 000009
の二次反応生成物を形成する工程をさらに含む、請求項９記載のプロセス。
［式中、
Ｒ２’は、置換または無置換の（Ｃ１−１０）アルキルであり、
Ｘは、ハロであり、
その他の記号は請求項１と同意義である。］
【請求項１２】
Ｒ１が、脱離基であり、そして二次反応生成物を、式
【化１０】
2009508873.tif 000010
のピペリジンと反応させて、式
【化１１】
2009508873.tif 000011
の化合物を形成する工程をさらに含む、請求項１１記載のプロセス。
［式中、
ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９および１０からなる群から選択され、
各Ｒ５は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から独立して選択され、
その他の記号は請求項１１と同意義である。］
【請求項１３】
式
【化１２】
2009508873.tif 000012
の化合物を、式
【化１３】
2009508873.tif 000013
の化合物と反応させて、式
【化１４】
2009508873.tif 000014
の反応生成物を形成する工程を含む、請求項１記載のプロセス。
［式中、
ｎは、０、１、２、３、４および５からなる群から選択され、
各Ｒ４は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から独立して選択され、
その他の記号は請求項１と同意義である。］
【請求項１４】
Ｒ１が、脱離基であり、そして反応生成物を、式
【化１５】
2009508873.tif 000015
のピペリジンと反応させて、式
【化１６】
2009508873.tif 000016
の二次反応生成物を形成する工程をさらに含む、請求項１３記載のプロセス。
［式中、
ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９および１０からなる群から選択され、
各Ｒ５は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から独立して選択され、
その他の記号は請求項１３と同意義である。］
【請求項１５】
Ｒ３が２−シアノフェニルである、請求項１記載のプロセス。
【請求項１６】
Ｒ１が、脱離基であり、そして反応生成物を、式
【化１７】
2009508873.tif 000017
のピペリジンと反応させて、式
【化１８】
2009508873.tif 000018
の二次反応生成物を形成する工程をさらに含む、請求項１５記載のプロセス。
［式中、
ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９および１０からなる群から選択され、
各Ｒ５は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から独立して選択され、
Ｒ２は請求項１と同意義である。］
【請求項１７】
Ｒ３が２−シアノ−５−フルオロフェニルである、請求項１記載のプロセス。
【請求項１８】
Ｒ１が、脱離基であり、そして反応生成物を、式
【化１９】
2009508873.tif 000019
のピペリジンと反応させて、式
【化２０】
2009508873.tif 000020
の二次反応生成物を形成する工程をさらに含む、請求項１７記載のプロセス。
［式中、
ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、８、９および１０からなる群から選択され、
各Ｒ５は、それぞれ置換または無置換の、水素、ハロ、ニトロ、シアノ、チオ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、カルボニル、アミノ、（Ｃ１−１０）アルキルアミノ、スルホンアミド、イミノ、スルホニル、スルフィニル、（Ｃ１−１０）アルキル、ハロ（Ｃ１−１０）アルキル、カルボニル（Ｃ１−３）アルキル、チオカルボニル（Ｃ１−３）アルキル、スルホニル（Ｃ１−３）アルキル、スルフィニル（Ｃ１−３）アルキル、アミノ（Ｃ１−１０）アルキル、イミノ（Ｃ１−３）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル（Ｃ１−５）アルキル、アリール（Ｃ１−１０）アルキル、ヘテロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、ヘテロ（Ｃ８−１２）ビシクロアリール（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ３−１２）シクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）シクロアルキル、（Ｃ９−１２）ビシクロアルキル、ヘテロ（Ｃ３−１２）ビシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、（Ｃ９−１２）ビシクロアリールおよびヘテロ（Ｃ４−１２）ビシクロアリールからなる群から独立して選択され、
Ｒ２は請求項１と同意義である。］
【請求項１９】
Ｒ１が、ハロである、請求項１〜１８のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項２０】
Ｒ１が、クロロである、請求項１９記載のプロセス。
【請求項２１】
Ｒ２が、水素である、請求項１〜８および１３〜２０のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項２２】
Ｒ２が、置換または無置換のＣ１−６アルキルである、請求項１〜８および１３〜２０のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項２３】
Ｒ２が、メチルである、請求項２２記載のプロセス。
【請求項２４】
Ｒ２’が、置換または無置換のＣ１−６アルキルである、請求項１１、１２、１９および２０のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項２５】
Ｒ２’が、メチルである、請求項２４記載のプロセス。
【請求項２６】
Ｒ３が、置換もしくは無置換の、アリールまたはヘテロアリールである、請求項１〜１２および１９〜２５のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項２７】
Ｒ３が、置換または無置換のフェニルである、請求項２６記載のプロセス。
【請求項２８】
Ｒ３が、それぞれ置換または無置換の、ハロ、パーハロ（Ｃ１−１０）アルキル、ＣＦ３、（Ｃ１−１０）アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アミノ、チオ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アルコキシ、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基およびスルフィニル基からなる群から選択される１つ以上の置換基で置換されたフェニルである、請求項２７記載のプロセス。
【請求項２９】
Ｒ３が、シアノフェニルである、請求項２８記載のプロセス。
【請求項３０】
Ｒ３が、２−シアノフェニルである、請求項２９記載のプロセス。
【請求項３１】
Ｒ３が、ハロシアノフェニルである、請求項２８記載のプロセス。
【請求項３２】
Ｒ３が、２−シアノ−５−フルオロフェニルである、請求項３１記載のプロセス。
【請求項３３】
各Ｒ４が、シアノおよびハロからなる群から独立して選択される、請求項１３、１４および１９〜２９のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項３４】
少なくとも１つのＲ５が、アミノである、請求項８、１２、１４、１６および１８〜３０のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項３５】
式
【化２１】
2009508873.tif 000021
の化合物を、式
【化２２】
2009508873.tif 000022
の化合物と反応させて、式
【化２３】
2009508873.tif 000023
の反応生成物を形成する工程；ならびに
該反応生成物を、式
【化２４】
2009508873.tif 000024
のピペリジンと反応させて、式
【化２５】
2009508873.tif 000025
の二次反応生成物を形成する工程：
を含む、請求項１記載のプロセス。
［式中、
Ｒ１は、ハロであり、そして
Ｌ１は、脱離基である。］
【請求項３６】
式
【化２６】
2009508873.tif 000026
の化合物を、式
【化２７】
2009508873.tif 000027
の化合物と反応させて、式
【化２８】
2009508873.tif 000028
の反応生成物を形成する工程；ならびに、
該反応生成物を、式
【化２９】
2009508873.tif 000029
のピペリジンと反応させて、式
【化３０】
2009508873.tif 000030
の二次反応生成物を形成する工程：
を含む、請求項１記載のプロセス。
［式中、
Ｒ１は、ハロであり、そして
Ｌ１は、脱離基である。］
【請求項３７】
Ｌ１が、ハロである、請求項１〜３６のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項３８】
Ｌ１が、ブロモである、請求項３７記載のプロセス。