【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月8日(2009.6.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
湿式エッチングによって、導電性のエッチング材料(５)のエッチング表面の選択された部分に、エッチングパターンを構成する窪み(７)を形成する方法であって、エッチング材料(５)がエッチング液（２２）と接触することを含む方法において、この方法は、
表面上のエッチング液のエッチング能力を減少あるいは防止し、電磁照射にさらされたときには化学反応で溶解されるパッシベーション層を前記エッチング材料上に形成するステップと、
電極（１）を、エッチングパターンと対応するその導電性電極部分（３）が電極表面の選択された部分に位置するようにするステップと、
エッチング液（２２）およびエッチング材料(５)のエッチング表面に向いた電極部分(３)と接触するように前記電極（１）を配置するステップと、
電極(１)とエッチング材料(５)との間に電圧を印加するステップと、
エッチング材料を本質的にエッチング表面に対して垂直な少なくとも１つの波長帯域の電磁照射に前記電極部分（３）を介してさらしてエッチングされる表面からパッシベーション物質を取り除くステップとを備えた方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
電磁照射の波長範囲は０．１-１０μｍであることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、
エッチング材料上にパッシベーション層を形成している物質をエッチング液に加えることによってエッチング材料がパッシベーション層で被覆されることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、
エッチング液は、最高で２００ｍＭの濃度で存在することを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、
エッチング液は、最高で１００ｍＭの濃度で存在することを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、
エッチング液は、最高で５０ｍＭの濃度で存在することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、
エッチング液は、最高で１０ｍＭの濃度で存在することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の方法において、
凝縮された溶液中のエッチング液は、エッチング材料(５)のエッチングを電界なしで行い、
凝縮された溶液中でエッチング材料(５)の等方的エッチングを電界なしで行うエッチング液は、前記等方的エッチングに使用できないほど薄められた溶液中ではエッチング材料（５）に接し、
電極（１）と前記エッチング材料（５）の間に電圧が印加されることにより前記エッチング材料（５）の異方性エッチングが、行われるものである方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の方法において、    
電極(１)には、電極表面の電極部分間に、電気的な絶縁部分(２)が与えられたことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、
電極表面の電極部分間の電極(１)には照射が貫通しない部分（２）が設けられたことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、
電極(１)の絶縁部分（２）は、電極部分(３)間で電極(１)のエッチング表面に絶縁層（２）が設けられていることにより設けられたことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の方法において、
電極部分(３)はエッチング材料(５)から、２０００μｍ未満の距離をもって配置されていることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の方法において、
電極部分(３)はエッチング材料(５)から、１０００μｍ未満の距離をもって配置されていることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の方法において、
電極部分(３)はエッチング材料(５)から、５００μｍ未満の距離をもって配置されていることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の方法において、    
電界が変化する複数の第１の期間の間に、エッチングは起こり、この変化は第２期間の間に逆の電界を与えるステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１ないし１５のいずれかに記載の方法による、導電性エッチング材料(５)の表面にくぼみをエッチングするための電極であって、
電極部分が電極パターンを構成し、電極パターンに対応するエッチングパターンにしたがってエッチング表面にエッチング時にくぼみを形成するための、電極表面の選択された位置にある導電性電極部分（３）を有し、この電極部分（３）は照射源からの波長範囲が０．１〜１０μｍである照射（λ）を通過させることができるものであることを特徴とする電極。
【請求項１７】
請求項１６に記載の電極において、
電極(１)は、電極部分(３)間の絶縁部分（２）を有し、前記絶縁部分(２)は前記照射に対するバリヤーを形成することを特徴とする電極。
【請求項１８】
請求項１６に記載の電極において、
電極(１)の絶縁部分（２）は、絶縁層（２）で画定される電極部分(３)間で電極(１)のエッチング表面に適用される絶縁層を備えたことを特徴とする電極。
【請求項１９】
請求項１ないし１５のいずれかに記載の方法によるエッチングのための装置であって、
所要量のエッチング液（２２）を含むエッチング容器（２１）と、
電極（１）とエッチング材料(５)に対する接続手段を有する電圧源（２３）を備えたエッチング装置において、
請求項１６ないし１８のいずれかによる電極(１)を備えたことを特徴とする装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
電界は、一方では、エッチング液を局部的に凝縮させ、他方ではエッチングを加速させるという２つの機能を有するべきと考えられるが、第１の機能がより重要なものと考えられる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
エッチング時には、導電性のエッチング材料５から、このエッチング材料５に対向する電極部分３を有する電極１が距離ｄ１隔てるように配置される。エッチング時には、電極１とエッチング材料５の全体の組立体はエッチング流体２２中に親戚され、保持手段（図示せず）により固定された関係が維持される。エッチング流体２２は、エッチング材料５と電極１との間に電位差があるときに、エッチング材料５とエッチングのように反応するエッチング液を含む。電極は照射源（図示せず）からの照射λに対して透過性である。これは、例えば、電極を非常に薄く作ることにより実現される。絶縁層２は、電気的絶縁体に加えて、照射バリアを形成し、すなわち、照射λは単に電極表面３の電極を透過する。照射は、例えば紫外光の平行ビームであり得る。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
エッチング中、電圧が電極１およびエッチング材料５との間に電圧源２３により印加され、その電圧がエッチング作用を行う。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
この実施例は、自然に又はエッチング材料５に接する時若しくはエッチング中にエッチングを制限し、あるいはエッチングを防止するパッシベーション層をなす物質を含む液体とともにエッチングすることに特に適している。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
ある場合には、このようなパッシベーション膜は照射に暴露されることにより刺激され、除去され得る。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
このように、図１に示される電極１については、適切な液体との組み合わせで窪みの底部領域のパッシベーション膜を選択的に除去し、側壁上の層を残すことが可能である。エッチングが行われると、被覆されていない底部領域のみが、同時にまたはその後、エッチングされ、これはエッチング材料５上のエッチング防止層が存在しないにもかかわらず、良好な方向性を持ったエッチング効果が達成されることを示す。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
好ましい実施例においては、エッチング液は低濃度でもエッチング材料５をエッチングすることのできる本来的な、化学的なエッチング液であるが、本発明の概念は電解エッチングにも使用できる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
エッチング液はエッチング流体中で、そのエッチング流体が本来的な化学的エッチングには使用されないような希釈された溶液として存在している。エッチング流体は、市場で通常にエッチング材料の化学エッチングに使用される濃縮化された形態のエッチング溶液の２０倍、１００倍以上に希釈することにより製造できる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
図２は、本発明の第２の実施例による電極を有する第２のエッチング装置を示す。この場合、電極１１はロールとして形成される。電極ロール１１の表面には、第１の実施例と同様の方法で、絶縁層１２が配置されている。電極１１は、エッチングのときには導電性のエッチング材料５から距離ｄ２をもって配置される。この距離ｄ２は１０００μｍ未満であるため好ましい。２つの実施例における大きな差異は、この場合にはロール表面に形成されていることである。エッチングのとき、好ましくはエッチング材料５上に電極ロール１１が係合して転動されることにより、電圧は電極ロール１１とエッチング材料１５の間に電圧アセンブリ（図示せず）によって印加される。ロールはエッチング材料５の上方の制御手段（図示せず）に接続されている。電極１１の微小表面のみがエッチング材料に近接位置決めされるので、この実施例においては、不満足なエッチング液の循環についての問題はない。