【手続補正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一部が蛍光物質を含んでよい複数のサンプルを保持するための試料ホルダ、前記複数のサンプルの各々に対し１つずつ存在し、前記蛍光物質を励起できる、複数の励起ソース、前記複数のサンプル各々に対し１つずつ存在し、励起状態での前記蛍光物質からの蛍光放出を検出できる、複数の受光部、前記複数の受光部の各々に対して設けられた放射バンドパスフィルタであって、関連する受光部と、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該受光部の受光光軸に対して直角に配置された放射バンドパスフィルタ、並びに、前記試料ホルダと関連して各励起ソース及び各受光部を保持するための光学マニホールド、を含んでなる蛍光検出システムであって、各励起ソースの操作により対応するサンプル中のあらゆる前記蛍光物質を励起し、対応する受光部によって検出するシステム。
【請求項２】
各励起ソース及び対応する受光部がオフセットで軸外にずれた位置関係にあり、互いに近接して設置され、一方で励起ソースから前記サンプルへ至り、更に対応する受光部へ戻る光路を規定する、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
各励起ソース及び対応する受光部が７度のオフセット角の軸外にずれた位置関係にある、請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記受光部の各々と接続されたアンプを更に含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項５】
前記アンプの各々に調節可能な利得制御部が設置されている、請求項４記載のシステム。
【請求項６】
前記励起ソースの前記照射が印加される前記電圧に比例し、更に前記複数の励起ソースの各々に対する可変的な電圧制御を含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項７】
前記受光部の各々がアバランシレシーバを含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項８】
前記複数の受光部から記録装置まで順次データを提供するコントローラを更に含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記試料ホルダが複数のサンプルバイアルを受ける構成をとる、請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
前記試料ホルダがサンプル保持のための複数のディンプルを含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項１１】
前記受光部が高インピーダンスの硫化カドミウムのフォトレジスタを含み、更に電気シグナルの発生のための高インピーダンスを低下させるレジスタを含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項１２】
電波干渉を減衰させるためのフィルタキャパシタを更に含んでなる、請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
複数のサンプルを保持する試料ホルダ、複数のサンプル各々に対して１つ存在する複数の励起ソース、複数のサンプルの各々に対して１つ存在する複数の受光部、前記複数の受光部の各々に対して設けられた放射バンドパスフィルタであって、関連する受光部と、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該受光部の受光光軸に対して直角に配置された放射バンドパスフィルタ、並びに、光学マニホールド、を含んでなる蛍光検出システムであって、前記光学マニホールドが前記試料ホルダに関連して前記複数の励起ソース又は前記複数の受光部を保持する構成をとり、前記試料ホルダが前記複数の励起ソースまたは複数の受光部以外のものを保持する構成をとり、各励起ソースの操作により対応するサンプル中のあらゆる前記蛍光物質を励起し、対応する受光部によって検出するシステム。
【請求項１４】
前記光学マニホールドが前記複数の励起ソースを保持し、前記試料ホルダが複数の受光部を保持する、請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】
前記光学マニホールドが前記複数の受光部を保持し、前記試料ホルダが前記複数の励起ソースを保持する、請求項１３記載のシステム。
【請求項１６】
前記受光部の各々と接続したアンプを更に含んでなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項１７】
前記アンプの各々に調節可能な利得制御部が設置されている、請求項１６記載のシステム。
【請求項１８】
前記励起ソースの前記照射が印加される前記電圧に比例し、更に前記複数の励起ソースの各々に対する可変的な電圧制御を含んでなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項１９】
前記受光部の各々がアバランシレシーバを含んでなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項２０】
前記複数の受光部から記録装置まで順次データを提供するコントローラを更に含んでなる、請求項１記載のシステム。
【請求項２１】
前記試料ホルダが複数のサンプルバイアルを受ける構成をとる、請求項１３記載のシステム。
【請求項２２】
前記試料ホルダがサンプル保持のための複数のディンプルを含んでなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項２３】
前記受光部が高インピーダンスの硫化カドミウムのフォトレジスタを含み、更に電気シグナルの発生のための高インピーダンスを低下させるレジスタを含んでなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項２４】
電波干渉を減衰させるためのフィルタキャパシタを更に含んでなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項２５】
複数のサンプルを保持する試料ホルダ、複数のサンプル各々に対して１つ存在する複数の励起ソース、複数のサンプルの各々に対して１つ存在する複数の受光部、並びに、前記複数の受光部の各々に対して設けられた放射バンドパスフィルタであって、関連する受光部と、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該受光部の受光光軸に対して直角に配置された放射バンドパスフィルタ、を含んでなる蛍光検出システムであって、前記試料ホルダが前記複数の励起ソースまたは複数の受光部を保持する構成をとり、各励起ソースの操作により対応するサンプル中のあらゆる前記蛍光物質を励起し、対応する受光部によって検出するシステム。
【請求項２６】
前記受光部が高インピーダンスの硫化カドミウムのフォトレジスタを含み、更に電気シグナルの発生のための高インピーダンスを低下させるレジスタを含んでなる、請求項２５記載のシステム。
【請求項２７】
電波干渉を減衰させるためのフィルタキャパシタを更に含んでなる、請求項２５記載のシステム。
【請求項２８】
蛍光材料を含む複数のサンプルを準備し、前記複数のサンプルの各々に前記蛍光材料を励起するための励起ソースを準備し、前記複数のサンプルの各々に前記蛍光材料が励起されたときに該蛍光材料から放射される蛍光を検出するための受光部を準備し、前記複数の受光部の各々に放射バンドパスフィルタを準備し、該放射バンドパスフィルタを、関連する受光部と、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該受光部の受光光軸に対して直角に配置し、各励起ソースを活性化させ、各受光部の前記出力を測定することを含んでなる、複数のサンプルの蛍光検出方法。
【請求項２９】
前記ポリメラーゼ連鎖反応を使用した増幅の蛍光モニタリング方法であって、黒い不透明な低蛍光サンプルバイアルを準備する工程、前記ポリメラーゼ連鎖反応を実施する工程、及び蛍光検出システムを使用して前記サンプルバイアル中の前記ポリメラーゼ連鎖反応中の蛍光放射をモニターする工程、を含む方法。
【請求項３０】
前記複数の励起ソースの各々に対して設けられた励起バンドパスフィルタを更に含み、前記励起バンドパスフィルタが、関連する励起ソースと、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該励起ソースの光軸に対して直角に配置されてなる、請求項１記載のシステム。
【請求項３１】
各励起ソースが対応する受光部を有し、対応する励起ソース及び関連する励起バンドパスフィルタの光軸が、対応する受光部及び関連する放射バンドパスフィルタの光軸に対して１８０°ずれた位置関係で配置されてなる、請求項１記載のシステム。
【請求項３２】
各励起ソースが対応する受光部を有し、対応する励起ソース及び関連する励起バンドパスフィルタの光軸が、対応する受光部及び関連する放射バンドパスフィルタの光軸に対して１８０°ずれた位置関係で配置されてなる、請求項３０記載のシステム。
【請求項３３】
前記複数の励起ソースの各々に対して設けられた励起バンドパスフィルタを更に含み、前記励起バンドパスフィルタが、関連する励起ソースと、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該励起ソースの光軸に対して直角に配置されてなる、請求項１３記載のシステム。
【請求項３４】
前記複数の励起ソースの各々に対して設けられた励起バンドパスフィルタを更に含み、前記励起バンドパスフィルタが、関連する励起ソースと、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該励起ソースの光軸に対して直角に配置されてなる、請求項２５記載のシステム。
【請求項３５】
前記複数の励起ソースの各々に対して励起バンドパスフィルタを準備し、該励起バンドパスフィルタを、関連する励起ソースと、関連するサンプルとの間に他の光学素子が介在しないように、当該励起ソースの光軸に対して直角に配置することを更に含む、請求項２８記載の方法。