(57)【要約】  絶縁層に用いる材料と形成しようとするビアのサイズのうちの少なくとも一方に制約があっても、スミアの残留が無くかつ十分に充填されたビアを印刷配線板に形成できるようにする。  印刷配線板１００のビア２は、少なくとも孔１１ｃの中の中心部を充填する第一充填部２１と、孔の中の第一充填部によって充填されていない領域を充填する第二充填部２２と、を有し、第二充填部２２と第一充填部２１との間に存在する界面Ｉ、又は第二充填部２２及び絶縁層１１と第一充填部２１との間に存在する界面Ｉは、第一面１１ａから第二面１１ｂへ向かうに従って細くなるよう傾斜する錐体面Ｉａと、第二面１１ｂと平行かつ第二面１１ｂよりも第一面１１ａ側へ位置する上底面Ｉｂと、を有する円錐台状である。
2020027022.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状で厚さ方向に貫通する孔を有する絶縁層を備えた基板と、導電性材料で前記孔の中を充填するビアと、を備えた印刷配線板であって、
前記ビアは、少なくとも前記孔の中の中心部を前記導電性材料で充填する第一充填部と、前記孔の中の前記第一充填部によって充填されていない領域を前記導電性材料で充填する第二充填部と、を有し、
前記第二充填部と前記第一充填部との間に存在する界面、又は前記第二充填部及び前記絶縁層と前記第一充填部との間に存在する界面は、前記絶縁層の厚さ方向一端にある第一面から前記絶縁層における前記第一面の裏面となる第二面へ向かうに従って細くなるよう傾斜する錐体面と、前記第二面と平行かつ前記第二面よりも前記第一面側へ位置する上底面と、を有する円錐台状になっている印刷配線板。
【請求項２】
前記第一面に積層された第二基板を備える請求項１に記載の印刷配線板。
【請求項３】
前記絶縁層は、前記第二基板の絶縁層を形成する材料とは異なる材料で構成されている請求項２に記載の印刷配線板。
【請求項４】
前記絶縁層は、ポリテトラフルオロエチレンで構成されている請求項３に記載の印刷配線板。
【請求項５】
前記孔は、前記第一面側の径が前記第二面側の径以下である請求項１から４のいずれか一項に記載の印刷配線板。
【請求項６】
前記孔は、前記第一面側の径が前記第二面側の径よりも大きい請求項１から４のいずれか一項に記載の印刷配線板。
【請求項７】
平板状に形成された絶縁層を備えた銅張積層板を用いた印刷配線板の製造方法であって、
前記絶縁層の厚さ方向一端にある第一面において、前記第一面から前記絶縁層における前記第一面の裏面となる第二面へ向かうに従って細くなるよう傾斜する錐体面と、前記第二面と平行かつ前記第二面よりも前記第一面側へ位置する上底面と、を有する円錐台状の有底の穴を形成する穴形成工程と、
前記穴を導電性材料で充填し第一充填部を形成する第一充填工程と、
前記第二面側において、少なくとも前記穴の底壁を除去して前記導電性材料を露出させる底壁除去工程と、
前記底壁が除去された後にできる空間に導電性材料を充填することによりビアを形成する第二充填工程と、を有する印刷配線板の製造方法。
【請求項８】
前記穴形成工程では、形成した前記穴の内面にスミアを残し、
前記底壁除去工程において、レーザ加工により少なくとも前記底壁を除去し、さらにデスミア処理及びソフトエッチングを施すことにより、前記底壁を除去した後に残ったスミアを除去する請求項７に記載の印刷配線板の製造方法。
【請求項９】
前記第一充填工程の後に、前記第一面に第二基板を積層する基板積層工程を有する請求項７又は８に記載の印刷配線板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、印刷配線板及び印刷配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の基板が積層された印刷配線板を製造する際に、各層の配線を導通させるためのビアとして、フィルドビアを形成することがある。
フィルドビアを有する印刷配線板の製造方法としては、例えば特許文献１が提案されている。
その具体的な内容は、以下である。
まず、仮基板の表面に樹脂層を分離可能に形成する。次に、レーザ加工により樹脂層にビア下穴を形成する。次に、ビア下穴内にスミア（樹脂残渣）を残した状態で樹脂層表面及びビア下穴内面にシード層を形成する。次に、電解めっきによりビア下穴内に配線層を形成する。次に、樹脂層を仮基板から分離し、樹脂層の仮基板と接していた面に露出するスミアを除去する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−０３５１８２号公報
【発明の概要】
【０００４】
本開示の印刷配線板は、
平板状で厚さ方向に貫通する孔を有する絶縁層を備えた基板と、導電性材料で前記孔の中を充填するビアと、を備えた印刷配線板である。
前記ビアは、少なくとも前記孔の中の中心部を前記導電性材料で充填する第一充填部と、前記孔の中の前記第一充填部によって充填されていない領域を前記導電性材料で充填する第二充填部と、を有している。
前記第二充填部と前記第一充填部との間に存在する界面、又は前記第二充填部及び前記絶縁層と前記第一充填部との間に存在する界面は、前記絶縁層の厚さ方向一端にある第一面から前記絶縁層における前記第一面の裏面となる第二面へ向かうに従って細くなるよう傾斜する錐体面と、前記第二面と平行かつ前記第二面よりも前記第一面側へ位置する上底面と、を有する円錐台状である。
【０００５】
また、本開示の印刷配線板の製造方法は、
平板状に形成された絶縁層を備えた銅張積層板を用いた印刷配線板の製造方法である。
この方法は、穴形成工程と、第一充填工程と、底壁除去工程と、第二充填工程と、を有する。
穴形成工程では、前記絶縁層の厚さ方向一端にある第一面において、前記第一面から前記絶縁層における前記第一面の裏面となる第二面へ向かうに従って細くなるよう傾斜する錐体面と、前記第二面と平行かつ前記第二面よりも前記第一面側へ位置する上底面と、を有する円錐台状の有底の穴を形成する。
第一充填工程では、前記穴を導電性材料で充填し第一充填部を形成する。
底壁除去工程では、前記第二面側において、少なくとも前記穴の底壁を除去して前記導電性材料を露出させる。
第二充填工程では、前記底壁が除去された後にできる空間に導電性材料を充填することによりビアを形成する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本開示の実施形態に係る印刷配線板の断面図である。
【図２Ａ】図１の印刷配線板を製造する際の前半の工程の一つを表す図である。
【図２Ｂ】図１の印刷配線板を製造する際の前半の工程の一つを表す図である。
【図２Ｃ】図１の印刷配線板を製造する際の前半の工程の一つを表す図である。
【図２Ｄ】図１の印刷配線板を製造する際の前半の工程の一つを表す図である。
【図３Ａ】図１の印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図３Ｂ】図１の印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図３Ｃ】図１の印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図３Ｄ】図１の印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図３Ｅ】図１の印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図３Ｆ】図１の印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図４Ａ】他の実施形態１に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図４Ｂ】他の実施形態１に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図４Ｃ】他の実施形態１に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図４Ｄ】他の実施形態１に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図５Ａ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図５Ｂ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図５Ｃ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図５Ｄ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図６Ａ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図６Ｂ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図６Ｃ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図６Ｄ】他の実施形態２に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図７Ａ】他の実施形態３に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図７Ｂ】他の実施形態３に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図７Ｃ】他の実施形態３に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【図７Ｄ】他の実施形態３に係る印刷配線板を製造する際の後半の工程の一つを表す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
印刷配線板の中には、複数積層された基板の中に、電波を送受信するためのアンテナとして機能する配線が形成されたアンテナ基板を含む通信用のものが存在する。
こうした通信用の印刷配線板においては、電波の高周波数化に伴う伝送損失の増大を抑えるため、アンテナ基板の絶縁層をポリテトラフルオロエチレン（polytetrafluoroethylene、以下、ＰＴＦＥと称する）等の、誘電率が低い材料で構成するケースが増えてきている。
また、通信用の印刷配線板を製造する際には、他の用途の印刷配線板に比べて、径が大きいビア又は絶縁層深くまで達するビアが形成されることが多い。
【０００８】
しかし、従来の印刷配線板の製造方法では、ビア下穴の内面と仮基板分離後の樹脂層にデスミア処理を施していた。
一般的なデスミア処理は、過マンガン酸水溶液を用いたウェットプロセスが主流である。しかし、上述したアンテナ基板の絶縁層として用いられるＰＴＦＥは、吸水率が高いという特性がある。このため、ＰＴＦＥで構成された絶縁層に、過マンガン酸水溶液を用いたデスミア処理を施すと、絶縁層が過マンガン酸水溶液に含有する水を吸収し、印刷配線板の製造中又は完成後に絶縁層が膨張してしまうことがある。
つまり、従来の印刷配線板の製造方法は、デスミア処理を施そうとする絶縁層の材料によっては用いることが困難となる場合がある。
【０００９】
なお、従来の印刷配線板の製造方法において、ビア下穴を形成する際のレーザを強くすることで、スミアが残らないようにすることができれば、上述したようなデスミア処理における問題を解決することができる。
しかし、実際には、レーザを強くし過ぎると、スミアの除去だけにとどまらず、レーザによってスミアの更に奥に存在する銅箔が損傷してしまうことがあるため、この方法は現実的ではない。
【００１０】
一方、従来の印刷配線板の製造方法において、絶縁層にＰＴＦＥを用いない場合には、ビア下穴の内面等にデスミア処理を施し、さらにソフトエッチングを施すことにより、デスミア処理で除去しきれなかったスミアを銅箔の表層部もろとも洗い流すことができる。
しかし、上述した通信用の印刷配線板に多く見られる従来よりも深いビア下穴の場合、ソフトエッチング液がビア下穴の奥まで入りにくく、スミアを十分に除去し切れない場合がある。
【００１１】
また、フィルドビアを形成する際に行われる電解フィルドめっきでは、初めにビア下穴の底からめっきが析出し始め、ビア下穴が充填されてから絶縁層の表層にめっきが析出する。
しかし、上述した通信用の印刷配線板に多く見られる従来よりも径が大きいビア下穴の場合、ビア下穴の充填が完了しないうちに絶縁層の表層にめっきの析出が始まり、ビア下穴内の充填が不十分となってしまう場合がある。
つまり、従来の印刷配線板の製造方法は、形成しようとするビアの径の大きさ又は深さによっては用いることが困難となる場合がある。
【００１２】
本開示の印刷配線板は、絶縁層に用いる材料と形成しようとするビアのサイズのうちの少なくとも一方に制約があっても、ビアを、スミアの残留が無くかつ十分に充填できる。
以下、図面を参照して、本開示の実施の形態について詳細に説明する。
【００１３】
〔印刷配線板の構成〕
まず、本実施形態に係る印刷配線板の構成について説明する。図１は、本実施形態に係る印刷配線板１００の断面図である。
【００１４】
本実施形態に係る印刷配線板１００は、図１に示すように、第一基板１と、ビア２と、第二基板３と、絶縁層４と、で構成されている。
【００１５】
第一基板１（基板）は、本実施形態においては、印刷配線板１００における最も端に積層されている。
この第一基板１は、第一絶縁層１１と、第一配線１２と、第二配線１３と、を備えている。
【００１６】
本実施形態に係る第一絶縁層１１は、後述する第二基板３の第二絶縁層３１を構成する材料とは異なる材料（例えばガラス繊維及びポリテトラフルオロエチレン：以下ＰＴＦＥ）で平板状に形成されている。
なお、第一絶縁層１１を構成する材料には、ＰＴＦＥ以外の他のフッ素樹脂を用いることもできるし、フッ素樹脂以外の樹脂を用いることも可能である。
以下、第一絶縁層１１の厚さ方向一端にある面（図１における下側の面）を第一面１１ａと称する。また、第一絶縁層１１における第一面１１ａの裏面となる面（図１における上側の面）を第二面１１ｂと称する。
【００１７】
また、第一絶縁層１１は、ビア下穴１１ｃを有している。
ビア下穴１１ｃ（孔）は、第一絶縁層１１を、当該第一絶縁層１１の厚さ方向に貫通している。
第一面１１ａ又は第二面１１ｂと直交する方向から見たビア下穴１１ｃは円形である。
また、本実施形態におけるビア下穴１１ｃは、第一面１１ａ側の径ｄａと第二面１１ｂ側の径ｄｂとが等しい。
また、本実施形態におけるビア下穴１１ｃの内面は、第一面１１ａ又は第二面１１ｂと直交している。
なお、ビア下穴１１ｃは、第一面１１ａ側の径ｄａが第二面１１ｂ側の径ｄｂより小さくてもよいし、第一面１１ａ側の径ｄａが第二面１１ｂ側の径ｄｂよりも大きくてもよい。このような場合（他の実施形態）については後述する。
【００１８】
第一配線１２は、第一絶縁層１１の第一面１１ａに導電性材料（例えば銅）で形成されている。
第二配線１３は、第一絶縁層１１の第二面１１ｂに導電性材料（例えば銅）で形成されている。
本実施形態に係る第一配線１２及び第二配線１３のうちの少なくともいずれかの配線は、電波を送受信するためのアンテナとして機能する形状である。
【００１９】
ビア２は、導電性材料（例えば銅）でビア下穴１１ｃの中を充填するフィルドビアである。
そして、ビア２は、第一基板１の第一，第二配線１２，１３と後述する第二基板３とを導通させている。
このビア２は、第一充填部２１と、第二充填部２２と、を有している。
また、本実施形態に係るビア２は、第一ランド部２３と、第二ランド部２４と、を有している。
【００２０】
第一充填部２１は、少なくともビア下穴１１ｃの中の中心部を、導電性材料（例えば銅）で充填している。
本実施形態に係る第一充填部２１は、ビア下穴１１ｃの中を充填するだけでなく、その一部が第一面１１ａよりもビア下穴１１ｃの外側へ出ている。
【００２１】
第二充填部２２は、ビア下穴１１ｃの中の第一充填部２１によって充填されていない領域を、導電性材料（例えば銅）で充填している。
本実施形態に係る第二充填部２２は、ビア下穴１１ｃの中を充填するだけでなく、その一部が第二面１１ｂよりもビア下穴１１ｃの外側へ出ている。
【００２２】
第一ランド部２３は、導電性材料（例えば銅）で、第一面１１ａにおけるビア下穴１１ｃの周囲に、第一充填部２１と一体である。
また、第一ランド部２３は、第一基板１の第一配線１２と導通している。
第二ランド部２４は、導電性材料（例えば銅）で、第二面１１ｂにおけるビア下穴１１ｃの周囲に、第二充填部２２と一体である。
また、第二ランド部２４は、第一基板１の第二配線１３と導通している。
【００２３】
第一充填部２１と第二充填部２２とはビア下穴１１ｃの中で一体化している。しかし、第二充填部２２と第一充填部２１との間には、図１に一点鎖線で示したような界面Ｉが存在している。
この界面Ｉは、錐体面Ｉａと、上底面Ｉｂを有している。
錐体面Ｉａは、第一面１１ａから第二面１１ｂへ向かうに従って細くなるよう、第一面１１ａに対して所定角度θａ傾斜している。
上底面Ｉｂは、第二面１１ｂと平行かつ第二面１１ｂよりも第一面１１ａ側へ所定距離ｄ離れている。
界面Ｉは、このような錐体面Ｉａと、上底面Ｉｂと、を有した円錐台状である。
第二面１１ｂと上底面Ｉｂとの距離ｄは、第一絶縁層１１の厚さの半分を超えない長さである。
【００２４】
第二基板３は、絶縁層４を介して、上記第一基板１の第一面１１ａに積層されている。
この第二基板３は、第二絶縁層３１と、第三配線３２と、を備えている。
第二絶縁層３１及び絶縁層４は、絶縁材料（例えばガラス織布及びエポキシ樹脂）で平板状である。
第三配線３２は、第二絶縁層３１の表面に導電性材料（例えば銅）で形成されている。
なお、図１には、第二基板３として、１層の第二絶縁層３１の両面に第三配線３２がそれぞれ積層された２層基板を例示した。さらに、第二基板３は、複数の第二絶縁層３１と第三配線３２とが交互に積層された多層基板であってもよい。
【００２５】
〔印刷配線板の製造方法〕
次に、上記印刷配線板１００の製造方法について説明する。図２Ａ、図２Ｂ、図２Ｃ、図２Ｄは印刷配線板１００を製造する際の前半の工程を表す断面図である。図３Ａ、図３Ｂ、図３Ｃ、図３Ｄ、図３Ｅ，図３Ｆは印刷配線板１００を製造する際の後半の工程を表す断面図である。
【００２６】
本実施形態に係る印刷配線板１００の製造方法は、穴形成工程と、第一充填工程と、基板積層工程と、開口形成工程と、底壁除去工程と、第二充填工程と、回路形成工程と、を有する。
【００２７】
穴形成工程に先立ち、銅張積層板１Ａを用意する。この銅張積層板１Ａは、後に第一基板１となる部材である。
銅張積層板１Ａとしては、例えば図２Ａに示すように、絶縁層１１Ａと、絶縁層１１Ａの厚さ方向一端にある第一面１１ａ全体に形成された第一銅箔層１２Ａと、絶縁層１１Ａにおける第一面１１ａの裏面となる第二面１１ｂ全体に形成された第二銅箔層１３Ａと、を備えたものを用いる。
【００２８】
初めの穴形成工程では、図２Ｂに示すように、絶縁層１１Ａの第一面１１ａに、有底のビア下穴１１ｄを形成する。
ビア下穴１１ｄの形成は、例えばレーザ加工により行う。
ビア下穴１１ｄの形成には、様々な方法を用いることができる。
その一つとして、例えば、第一銅箔層１２Ａにおけるビア２を形成しようとする箇所に、サブトラクティブ法のエッチング等で第一開口１２ａを形成し、絶縁層１１Ａにおける第一開口１２ａから露出する部位にレーザ加工を行う方法がある。また、第一銅箔層１２Ａにおけるビア２を形成しようとする箇所に、事前に第一開口１２ａを形成することなく直接レーザ加工を行う方法もある。
また、レーザ加工を行う際、ビア下穴１１ｄの形状が、のちに形成される第一充填部２１の形状となるように、レーザの照射を調節する。
具体的には、ビア下孔１ｄの形状が、第一面１１ａにおける第一開口１２ａの縁から第二面１１ｂへ向かうに従って細くなるよう所定角度θａ傾斜する錐体面１１ｅと、第二面１１ｂと平行かつ第二面１１ｂよりも第一面１１ａ側へ所定距離ｄ離れて位置する上底面１１ｆと、を有する円錐台状となるようにする。
【００２９】
以下、銅張積層板１Ａにおけるビア下穴１１ｄの上底面１１ｆを形成する部位を底壁１ａと称する。
この段階における底壁１ａは、第二銅箔層１３Ａと、第二銅箔層１３Ａの表面に残留したスミアＳと、が含まれる。
形成するビア下穴１１ｄの深さによっては、底壁１ａに、レーザで削られずに薄く残った絶縁層１１ＡがスミアＳとなる。
すなわち、穴形成工程では、形成したビア下穴１１ｄの内面にスミアＳを残してもよい。
【００３０】
なお、ビア下穴１１ｄの内面にデスミア処理を施してもよい。ここで行うデスミア処理には、例えばＯ２プラズマ処理する等、ドライ方式を用いる。
また、ビア下穴１１ｄの内面にソフトエッチングを施して、デスミア処理で除去し切れなかったスミアＳを洗い流してもよい。
ただし、形成したビア下穴１１ｄの形状によっては、ソフトエッチングの効果が十分に得られず、この段階ではスミアＳが除去し切れない場合がある。
【００３１】
ビア下穴１１ｄを形成した後は、第一充填工程に移る。この工程では、電解フィルドめっきにより、図２Ｃに示すように、ビア下穴１１ｄ及び第一開口１２ａの中の空間を導電性材料（例えば銅）で充填する。
このビア下穴１１ｄ及び第一開口１２ａに充填された導電性材料は、ビア２の第一充填部２１となる。
【００３２】
また、第一配線１２を形成する。
第一配線１２の形成は、ビア下穴１１ｄを充填した後にサブトラクティブ法を用いて行ってもよいし、ＭＳＡＰ（Modified Semi Additive Process）を用いてビア下穴１１ｄの充填と並行して行ってもよい。
第一配線１２が形成されると、図２Ｄに示したように、第一銅箔層１２Ａからビア２の第一ランド部２３が形成される。
【００３３】
ビア下穴１１ｄを充填した後は、基板積層工程に移る。この工程では、図３Ａ，図３Ｂに示すように、第一面１１ａ側が加工された銅張積層板１Ａの第一面１１ａに、第二基板３を、半硬化状態の絶縁材料であるプリプレグ４ｐを介して積層する。
積層後、銅張積層板１Ａの絶縁層１１Ａは、第一絶縁層１１となる。
また、プリプレグ４ｐは、硬化後、第二基板３に隣接する第一基板１側の絶縁層４となる。
【００３４】
銅張積層板１Ａに第二基板３を積層した後は、開口形成工程に移る。この工程では、銅張積層板１Ａの第二銅箔層１３Ａにおけるビア２を形成しようとする箇所に、図３Ｃに示すように第二開口１３ａを形成する。本実施形態においては、この第二開口１３ａの径（後に形成されるビア下穴１１ｃの第二面１１ｂ側の径ｄｂと等しい）が、上記穴形成工程で形成したビア下穴１１ｄの第一面１１ａにおける径ｄａと等しくする。
第二開口１３ａの形成は、例えばサブトラクティブ法でエッチングする。
【００３５】
第二開口１３ａを形成した後は、底壁除去工程に移る。この工程では、銅張積層板１Ａの第二面１１ｂ側において、ビア下穴１１ｄの少なくとも底壁１ａを除去する。
本実施形態においては、第二開口１３ａの径ｄｂが、ビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆよりも大きい。このため、ビア下穴１１ｄの底壁１ａに加え、第一絶縁層１１におけるビア下穴１１ｄの錐体面１１ｅを形成する部位である側壁１１ｈも、第二開口１３ａの縁を通り第二面１１ｂと直交する面で切り取られて除去される。
底壁１ａ及び側壁１１ｈの除去は、例えばレーザ加工により行う。
底壁１ａ及び側壁１１ｈが除去されると、図３Ｄに示すように、第一充填部２１の上底面２１ｂ、及び第一充填部２１の錐体面２１ａ全体が露出する。
【００３６】
また、底壁１ａ及び側壁１１ｈが除去されると、ビア下穴１１ｄが第一絶縁層１１を貫通し、ビア下穴１１ｃとなる。
そして、ビア下穴１１ｃの内面にデスミア処理を施すことにより、底壁１ａ及び側壁１１ｈを除去した後にビア下穴１１ｃ内面及び第一充填部２１表面に残ったスミアＳを除去する。
ここで行うデスミア処理にも、Ｏ２プラズマ処理する等、ドライ方式の方法を用いる。
また、ビア下穴１１ｃの内面にソフトエッチングを施すことにより、デスミア処理で除去し切れなかったスミアＳを洗い流す。
これにより、スミアＳを含むビア下穴１１ｄの底壁１ａを形成していたものが完全に除去される。
【００３７】
ビア下穴１１ｄの底壁１ａを除去した後は、第二充填工程へ移る。この工程では、電解フィルドめっきにより、図３Ｅに示すように、ビア下穴１１ｄの底壁１ａが除去された後にできる空間を導電性材料（例えば銅）で充填するとともに、第二銅箔層１３Ａの表面にめっき層１３Ｂを形成する。
この空間に充填された導電性材料は、ビア２の第二充填部２２となる。
また、第二充填部２２が形成されると、第二充填部２２と第一充填部２１とによって円錐台状の界面Ｉが形成される。
【００３８】
導電性材料を充填した後は、回路形成工程に移る。この工程では、第二充填部２２の表面及びめっき層１３Ｂにおける後に第二配線１３となる部位の表面にエッチングレジストを形成し、エッチングを施す。
エッチングが施されると、図３Ｆに示すように、めっき層１３Ｂ及び第二銅箔層１３Ａから不要な部分が除去され、ビア２の第二ランド部２４、及び第二配線１３が形成される。
【００３９】
以上説明してきたように、本実施形態に係る印刷配線板１００は、絶縁層１１Ａに円錐台状のビア下穴１１ｄを形成し、第一充填部２１を形成し、ビア下穴１１ｄの底壁１ａを除去し、最後に残ったスミアＳを完全に除去してから、第二充填部２２を形成することにより得られる。
このため、第一絶縁層１１に用いる材料と形成しようとするビア２のサイズ（径、深さ）のうちの少なくとも一方に制約があっても、スミアＳの残留が無くかつ十分に充填されたビアを印刷配線板１００に形成できる。
また、本実施形態の第一絶縁層１１の材料であるＰＴＦＥは、加工性が悪い材料であるが、本実施形態の製造方法を用いれば、加工が容易である。
また、ＰＴＦＥは、吸水性を有するが、デスミア処理を行う際にドライ方式を用いることで、ＰＴＦＥで形成された絶縁層１１Ａの膨張を防ぐことができる。
【００４０】
また、ビア下穴１１ｄの径が大きい場合又は深い場合であっても、ビア下穴１１ｄの充填は容易である。
また、ビア２が十分に充填されないという異常は低減できる。
また、ビア下穴１１ｄの径が大きい場合又は深い場合であっても、ビア下穴１１ｄの上底面１１ｆに残留したスミアＳは容易に除去できる。
また、応力が掛かりやすいビア２の第二充填部２２の径（ビア下穴１１ｃの第二面１１ｂ側の径ｄｂと等しい）が、小さくなっていないため、ビア２の導通性能の信頼性を高めることができる。
また、ビア２の第二充填部２２の径ｄｂが、第一開口１２ａの径（ビア下穴１１ｄの第一面１１ａにおける径ｄａと等しい）と等しくなるため、第二充填部２２の径ｄｂを含むビア２の第二面１１ｂ側の径を容易にコントロールすることができる。
【００４１】
（他の実施形態１）
なお、上記実施形態においては、印刷配線板１００として、ビア下穴１１ｃの第一面１１ａ側の径ｄａと第二面１１ｂ側の径ｄｂが等しく、かつビア下穴１１ｃの内面が第一面１１ａ又は第二面１１ｂと直交しているものを例示した。他の実施形態としてはビア下穴１１ｃの第一面１１ａ側の径ｄａと第二面１１ｂ側の径ｄｂを等しくするとともに、ビア下穴１１ｃの内面を第一面１１ａに対して傾斜させてもよい。
このような印刷配線板１００Ａを製造する方法は、図４Ａに示すように、開口形成工程（図３Ｃ参照）までは上記実施形態と同じとなる。
【００４２】
他の実施形態１においても上記実施形態と同様、第二開口１３ａの径ｄｂが、ビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆよりも大きいため、次の底壁除去工程では、底壁１ａに加え、側壁１１ｈの一部を除去することになる。
しかし、ここでは、除去する部位の切断面が、図４Ｂに示すように、第二面１１ｂにおける第二開口１３ａの縁から第一面１１ａへ向かうに従って細くなり、かつ第二面１１ｂに対して所定角度θｂ傾斜する錐体面１１ｉとなるように、レーザの照射を調節する。この角度θｂは、第一面１１ａ側からビア下穴１１ｄを形成する際の錐体面１１ｅの角度θａと同じでもよいし異なっていてもよい。
【００４３】
ビア下穴１１ｄの底壁１ａ及び側壁１１ｈの一部が除去されると、ビア下穴１１ｄが第一絶縁層１１を貫通し、ビア下穴１１ｃが形成される。
その際、第一面１１ａ側から形成したビア下穴１１ｄの錐体面１１ｅと、側壁１１ｈの一部を除去することで形成される錐体面１１ｉとが、第一絶縁層１１の厚さ方向中間部で交差する。
すなわち、ビア下穴１１ｃの形状は、第一絶縁層１１の厚さ方向中間部で円錐台同士が上底面を向い合せた（中間部がくびれた）形状となる。
【００４４】
その後、図４Ｃに示す第二充填工程及び回路形成工程を経て、図４Ｄに示すように、上記実施形態とはビア下穴１１ｃと第二充填部２２の形状が異なる他の実施形態１の印刷配線板１００Ａが製造される。
上記実施形態の場合には、第二充填部２２と第一充填部２１とによって円錐台状の界面Ｉが形成された。一方、他の実施形態１の場合は、第二充填部２２と第一充填部２１とによって上記実施形態よりも低い円錐台状の界面Ｉが形成される。しかし、第一充填部２１全体の輪郭は、上記第一実施形態の界面Ｉと類似の円錐台状となる。
【００４５】
レーザ加工は、奥に向かうに従って径が狭まる（すり鉢状の）穴の加工に向いているため、他の実施形態１のようにすれば、上記実施形態で挙げた効果に加え、上記実施形態よりもビア下穴１１ｃを容易に形成することができる、という効果が得られる。
【００４６】
（他の実施形態２）
また、上記実施形態及び他の実施形態１と異なり、ビア下穴１１ｃの第二面１１ｂ側の径ｄｂを第一面１１ａ側の径ｄａより小さくしてもよい。
この場合には、第二面１１ｂ側の径ｄｂをビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆより小さくする形成例１と、上底面１１ｆの径ｄｆと等しくする形成例２と、がある。
【００４７】
・形成例１
ビア下穴１１ｃの第二面１１ｂ側の径ｄｂがビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆより小さい印刷配線板１００Ｂを製造する方法は、基板積層工程（図３Ｂ参照）までは上記実施形態と同じとなる。
次の開口形成工程では、銅張積層板１Ａの第二銅箔層１３Ａにおける、ビア２を形成しようとする箇所に、図５Ａに示すように、ビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆより小さい径ｄｂの第二開口１３ａを、上記実施形態と同一の方法で形成する。
なお、第二開口１３ａの径ｄｂの大きさは、これから形成されるビアが所定の大きさの電流を流すことのできる太さを下回らないようにする。
【００４８】
他の実施形態２においては、第二開口１３ａから、第一絶縁層１１の底壁１ａの一部（周縁部を除いた中央部）のみが露出するため、次の底壁除去工程では、底壁１ａの一部のみを除去することになる。
底壁１ａの一部が除去されると、図５Ｂに示すように、円錐台状のビア下穴１１ｄの上底面１１ｆに、上底面１１ｆより一回り小さい円板を重ね合わせたような形状のビア下穴１１ｃが形成される。
【００４９】
その後、図５Ｃに示す第二充填工程及び回路形成工程を経て、図５Ｄに示すように、上記実施形態及び他の実施形態１とはビア下穴１１ｃと第二充填部２２の形状が異なる他の実施形態２の印刷配線板１００Ｂが製造される。
他の実施形態２の場合は、第二充填部２２と第一充填部２１とによって平面状の界面Ｉが形成される。しかし、第二充填部２２及び第一絶縁層１１と、第一充填部２１と、の間に存在する界面（第一充填部２１全体の輪郭）は、上記第一実施形態の界面Ｉと類似の円錐台状となる。
【００５０】
・形成例２
一方、ビア下穴１１ｃの第二面１１ｂ側の径ｄｂがビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆと等しい印刷配線板１００Ｃを製造する方法も、基板積層工程（図３Ｂ参照）までは上記実施形態と同じである。
次の開口形成工程では、銅張積層板１Ａの第二銅箔層１３Ａにおける、ビア２を形成しようとする箇所に、図６Ａに示すように、ビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆと等しい径ｄｂの第二開口１３ａを、上記実施形態と同一の方法で形成する。
【００５１】
他の実施形態２においては、第二開口１３ａから、第一絶縁層１１の底壁１ａ全体のみが露出するため、次の底壁除去工程では、底壁１ａ全体のみを除去する。
【００５２】
底壁１ａ全体が除去されると、図６Ｂに示すように、円錐台状のビア下穴１１ｄの上底面１１ｆに、上底面１１ｆと同径の円板を重ね合わせたような形状のビア下穴１１ｃが形成される。
【００５３】
その後、図６Ｃに示す第二充填工程及び回路形成工程を経て、図６Ｄに示すように、上記実施形態及び他の実施形態１，２とはビア下穴１１ｃと第二充填部２２の形状が異なる他の実施形態２の印刷配線板１００Ｃが製造される。
他の実施形態２の場合は、上記形成例２と同様に、第二充填部２２と第一充填部２１とによって平面状の界面Ｉが形成される。しかし、第二充填部２２及び第一絶縁層１１と、第一充填部２１と、の間に存在する界面（第一充填部２１全体の輪郭）は、上記第一実施形態の界面Ｉと類似の円錐台状となる。
【００５４】
他の実施形態２のいずれかの形成例のようにすれば、ビア２の第二充填部２２の径ｄｂが小さくなるため、第二ランド部２４の径を小さくすることができる。このため、他の実施形態２のようにすれば、上記実施形態で挙げた効果に加え、第二配線１３の形成に使用できるスペースが広がり、第二配線１３の設計の自由度を高める効果が得られる。
【００５５】
（他の実施形態３）
また、上記実施形態及び他の実施形態１，２と異なり、ビア下穴１１ｃの第二面１１ｂ側の径ｄｂを第一面１１ａ側の径ｄａより大きくしてもよい。
このような印刷配線板１００Ｄを製造する方法は、基板積層工程（図３Ｂ参照）までは上記実施形態と同じである。
次の開口形成工程では、銅張積層板１Ａの第二銅箔層１３Ａにおける、ビア２を形成しようとする箇所に、図７Ａに示すように、ビア下穴１１ｄの上底面１１ｆの径ｄｆより大きい径ｄｂの第二開口１３ａを、上記実施形態と同一の方法で形成する。
【００５６】
他の実施形態３においては、第二開口１３ａの径ｄｂが、ビア下穴１１ｄの第一面１１ａ側の径ｄａよりも大きいため、次の底壁除去工程では、底壁１ａに加え、側壁１１ｈも除去する。
ここでは、除去する部位の切断面が、第二面１１ｂにおける第二開口１３ａの縁から第一面１１ａへ向かうに従って細くなるよう所定角度θｂ傾斜する錐体面１１ｉとなるように、レーザの照射を調節する。
【００５７】
ビア下穴１１ｄの底壁１ａ及び側壁１１ｈが除去されると、図７Ｂに示すように、第二面１１ｂから第一面１１ａへ向かうに従って細くなり、かつ第二面１１ｂに対して所定角度θｂ傾斜する錐体面１１ｉを有する円錐台状のビア下穴１１ｃとなる。
【００５８】
その後、図７Ｃに示す第二充填工程及び回路形成工程を経て、図７Ｄに示すように、上記実施形態及び変形例１，２とはビア下穴１１ｃと第二充填部２２の形状が異なる他の実施形態３の印刷配線板１００Ｄが製造される。
他の実施形態３の場合は、上記実施形態と同様に、第二充填部２２と第一充填部２１とによって円錐台状の界面Ｉが形成される。
【００５９】
他の実施形態３のようにすれば、上記実施形態で挙げた効果に加え、大口径のビア２を形成でき、ビア２の導通性能の信頼性をより一層高める効果が得られる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本開示の内容は、印刷配線板及び印刷配線板の製造方法に利用することができる。
【符号の説明】
【００６１】
１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ  印刷配線板
１  第一基板（基板）
１１  第一絶縁層（絶縁層）
１１ａ  第一面
１１ｂ  第二面
１１ｃ  ビア下穴（孔）
１２  第一配線
１３  第二配線
１Ａ  銅張積層板
１ａ  底壁
１１Ａ  絶縁層
１１ｄ  ビア下穴
１１ｅ  錐体面
１１ｆ  上底面
１１ｈ  側壁
１１ｉ  錐体面
１２Ａ  第一銅箔層
１２ａ  第一開口
１３Ａ  第二銅箔層
１３ａ  第二開口
１３Ｂ  めっき層
２  ビア
２１  第一充填部
２１ａ  錐体面
２１ｂ  上底面
２２  第二充填部
２３  第一ランド部
２４  第二ランド部
３  第二基板
３１  第二絶縁層
３２  第三配線
４  絶縁層
４ｐ  プリプレグ
ｄ  第二面と錐体面との距離
ｄａ  ビア下穴の第一面側（開口）の径
ｄｂ  ビア下穴の第二面側（開口）の径
ｄｆ  ビア下穴（第一充填部）の上底面の径
Ｉ  界面
Ｉａ  錐体面
Ｉｂ  上底面
Ｓ  スミア
θａ  第一面と錐体面とがなす角度
θｂ  第二面と錐体面とがなす角度
【図１】
2020027022.tif 000003
【図２Ａ】
2020027022.tif 000004
【図２Ｂ】
2020027022.tif 000005
【図２Ｃ】
2020027022.tif 000006
【図２Ｄ】
2020027022.tif 000007
【図３Ａ】
2020027022.tif 000008
【図３Ｂ】
2020027022.tif 000009
【図３Ｃ】
2020027022.tif 000010
【図３Ｄ】
2020027022.tif 000011
【図３Ｅ】
2020027022.tif 000012
【図３Ｆ】
2020027022.tif 000013
【図４Ａ】
2020027022.tif 000014
【図４Ｂ】
2020027022.tif 000015
【図４Ｃ】
2020027022.tif 000016
【図４Ｄ】
2020027022.tif 000017
【図５Ａ】
2020027022.tif 000018
【図５Ｂ】
2020027022.tif 000019
【図５Ｃ】
2020027022.tif 000020
【図５Ｄ】
2020027022.tif 000021
【図６Ａ】
2020027022.tif 000022
【図６Ｂ】
2020027022.tif 000023
【図６Ｃ】
2020027022.tif 000024
【図６Ｄ】
2020027022.tif 000025
【図７Ａ】
2020027022.tif 000026
【図７Ｂ】
2020027022.tif 000027
【図７Ｃ】
2020027022.tif 000028
【図７Ｄ】
2020027022.tif 000029
【国際調査報告】
2020027022.tif 000030
2020027022.tif 000031
2020027022.tif 000032
2020027022.tif 000033