(57)【要約】【課題】新規なインプリント用レプリカモールドを提供する。【解決手段】下記Ａ層及び該Ａ層に接着した下記Ｂ層を備えたインプリント用レプリカモールド。Ａ層：下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物の硬化物から成る構造体（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．０１質量％乃至０．３質量％の光ラジカル重合開始剤Ｂ層：下記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分を含む組成物の硬化物から成る膜（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記Ａ層及び該Ａ層に接着した下記Ｂ層を備えたインプリント用レプリカモールド。
Ａ層：下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物の硬化物から成る構造体
（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物
（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．０１質量％乃至０．３質量％の光ラジカル重合開始剤
Ｂ層：下記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分を含む組成物の硬化物から成る膜
（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物
（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤
【請求項２】
前記（ｂ１）成分の化合物は、下記式（１）で表される基及び下記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む前記線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、下記式（３）で表される基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物である、請求項１に記載のインプリント用レプリカモールド。
【化１】
2020116397.tif 000008
（式中、Ｒ１は炭素原子数１又は２のパーフルオロアルキレン基を表し、Ｒ２ａは炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、Ｒ２ｂは炭素原子数２又は３の３価の炭化水素基を表し、＊はそれぞれ前記ウレタン結合の−Ｏ−基と結合する結合手を表し、ｐ及びｑはそれぞれ前記式（１）で表される基の繰り返し数及び前記式（２ａ）で表される基の繰り返し数を表すと共に独立して２以上の整数を表し、Ｒ３はメチル基又は水素原子を表す。）
【請求項３】
前記式（２ａ）で表される基の繰り返し数を表すｑが５乃至１２の整数である、請求項２に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項４】
前記式（２ａ）で表される基がポリ（オキシエチレン）基である、請求項２又は請求項３に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項５】
前記式（１）で表される基が、オキシパーフルオロメチレン基及びオキシパーフルオロエチレン基の双方を有する基である、請求項２乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項６】
前記（ｂ１）成分の化合物が重量平均分子量１０００乃至３００００のマクロモノマー又はポリマーである、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項７】
前記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分を含む組成物が更に光増感剤を含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項８】
前記（ａ１）成分が少なくとも２種の化合物を含有し、該２種の化合物のうち少なくとも１種の化合物は（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物である、請求項１に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項９】
前記（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物は下記式（４）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物である、請求項８に記載のインプリント用レプリカモールド。
【化２】
2020116397.tif 000009
（式中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表し、Ｒ８及びＲ９はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ１及びｒ２はそれぞれ独立に１乃至５の整数を表す。）
【請求項１０】
前記Ａ層がレンズ形状の反転パターンを有する、請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項１１】
前記Ａ層の最大厚さが２．０ｍｍである、請求項１乃至請求項１０のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
【請求項１２】
下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物をマスターモールド上に塗布する工程、
下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を介して前記マスターモールドを基材に圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しＡ層を形成する工程、
前記Ａ層上に下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を塗布する工程、及び
下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を４０℃乃至２００℃でベークし、その後露光して前記Ａ層に接着した前記Ｂ層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。
（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物
（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．１質量％乃至１質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物
（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ３）成分：溶媒
【請求項１３】
下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を基材上に塗布する工程、
下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を介して前記基材をマスターモールドに圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しＡ層を形成する工程、
前記Ａ層上に下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を塗布する工程、及び
下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を４０℃乃至２００℃でベークし、その後露光して前記Ａ層に接着した前記Ｂ層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。
（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物
（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．１質量％乃至１質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物
（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ３）成分：溶媒
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンを有するインプリント用レプリカモールドに関する。より詳しくは、厚膜であっても紫外線領域において高透明性を保持するレプリカモールドであって、離型剤の塗り直しが不要かつ繰り返し光インプリントに使用しても良好なパターン形成が可能なインプリント用レプリカモールド、および該レプリカモールドの製造方法に関する。
本明細書において“厚膜”とは、０．０１ｍｍ以上の厚さで、最大厚さ２．０ｍｍの膜を表す。
【背景技術】
【０００２】
樹脂レンズは、携帯電話、デジタルカメラ、車載カメラなどの電子機器に用いられており、その電子機器の目的に応じた、優れた光学特性を有するものであることが求められる。また、当該樹脂レンズは、使用態様に合わせて、高い耐久性、例えば耐熱性及び耐候性、並びに歩留まりよく成形できる高い生産性が求められている。このような要求を満たす樹脂レンズ用の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィンポリマー、メタクリル樹脂等の熱可塑性の透明樹脂が使用されてきた。【０００３】
樹脂レンズの製造にあたり、歩留まりや生産効率の向上、さらにはレンズ積層時の光軸ずれの抑制のために、熱可塑性樹脂の射出成型から、室温で液状の硬化性樹脂を使った押し付け成形によるウェハレベル成形への移行が盛んに検討されている。ウェハレベル成形では、生産性の観点から、ガラス基板等の支持体上にレンズを形成するハイブリッドレンズ方式が一般的である。【０００４】
ウェハレベル成形においては、モールドもウェハレベルで成型される必要がある。一般的な樹脂レンズ製造用のモールドは、金属を掘削及び研磨したものが用いられているが、ウェハレベルでは面内に多数のレンズパターンを有し、かつその面内誤差や画素間ピッチを正確に制御する必要がある。そのため、モールドの作製が非常に困難なうえ、高価となってしまう。さらに、金属製のモールドを用いる場合、樹脂レンズ用材料の硬化に用いるＵＶ光が透過しないため、レンズが成形される支持体の素材に制限が生じる。そのため、マスターモールドとレプリカモールド材料を用いてレプリカモールドを作製し、そのレプリカモールドを用いてウェハレベル成形を行うことが一般的である。その中で、特許文献１に記載のように、比較的安価な一画素分のマスターモールドと、レプリカモールド材料とを用いて、ウェハ内のステップアンドリピート成型でレプリカモールドを作製する方法が開発されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４２２６０６１号（特開２００９−１７２７７３号公報）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般的に用いられるレプリカモールドは、樹脂レンズの製造工程に用いるＵＶ光、特に波長３６５ｎｍの透過率が低い。このようなレプリカモールドを用いて樹脂レンズを成形する際、離型性を付与するために市販の離型剤を塗布する方法がある。しかし、同じレプリカモールドを用いて繰り返し樹脂レンズを成形し続ける場合、該レプリカモールドの表面から前記離型剤が剥離する。そのため、同じレプリカモールドを用いて繰り返し樹脂レンズを成形することが困難となる。【０００７】
このように、カメラモジュールなどに用いられる樹脂レンズの成形向けレプリカモールドに使用し得ると共に、高い透明性を有し、繰り返し樹脂レンズを成形可能なレプリカモールドは未だなく、その開発が望まれていた。本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、高い透明性を有し、繰り返し樹脂レンズを成形可能なレプリカモールドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物、及び光ラジカル重合開始剤を含有する組成物の硬化物から成る構造体に、フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物、及び光ラジカル重合開始剤を含有する組成物の硬化物から成る膜を接着させることで本発明を成した。すなわち、本発明のレプリカモールドは、紫外線領域における高い透明性を有し、繰り返し樹脂レンズを成形可能である。【０００９】
すなわち本発明の第１の態様は、下記Ａ層及び該Ａ層に接着した下記Ｂ層を備えたインプリント用レプリカモールドである。
Ａ層：下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物の硬化物から成る構造体
（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物
（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．０１質量％乃至０．３質量％の光ラジカル重合開始剤
Ｂ層：下記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分を含む組成物の硬化物から成る膜
（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物
（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤【００１０】
前記（ｂ１）成分の化合物は、例えば下記式（１）で表される基及び下記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む前記線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、下記式（３）で表される基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物である。
【化１】
2020116397.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭素原子数１又は２のパーフルオロアルキレン基を表し、Ｒ２ａは炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、Ｒ２ｂは炭素原子数２又は３の３価の炭化水素基を表し、＊はそれぞれ前記ウレタン結合の−Ｏ−基と結合する結合手を表し、ｐ及びｑはそれぞれ前記式（１）で表される基の繰り返し数及び前記式（２ａ）で表される基の繰り返し数を表すと共に独立して２以上の整数を表し、Ｒ３はメチル基又は水素原子を表す。）【００１１】
前記式（２ａ）で表される基の繰り返し数を表すｑが、例えば５乃至１２の整数である。【００１２】
前記式（２ａ）で表される基が、例えばポリ（オキシエチレン）基である。【００１３】
前記式（１）で表される基が、例えばオキシパーフルオロメチレン基及びオキシパーフルオロエチレン基の双方を有する基である。【００１４】
前記（ｂ１）成分の化合物が、例えば重量平均分子量１０００乃至３００００のマクロモノマー又はポリマーである。【００１５】
前記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分を含む組成物が更に光増感剤を含有してもよい。【００１６】
前記（ａ１）成分が少なくとも２種の化合物を含有する場合、該２種の化合物のうち少なくとも１種の化合物は（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物である。【００１７】
前記（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物は、例えば下記式（４）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物である。
【化２】
2020116397.tif 000003
（式中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表し、Ｒ８及びＲ９はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ１及びｒ２はそれぞれ独立に１乃至５の整数を表す。）【００１８】
前記Ａ層が、例えばレンズ形状の反転パターンを有する。前記Ａ層の最大厚さが、例えば２．０ｍｍである。【００１９】
本発明の他の態様は、下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物をマスターモールド上に塗布する工程、下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を介して前記マスターモールドを基材に圧着する工程、前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しＡ層を形成する工程、前記Ａ層上に下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を塗布する工程、及び下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を４０℃乃至２００℃でベークし、その後露光して前記Ａ層に接着した前記Ｂ層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法である。
（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物
（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．１質量％乃至１質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物
（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ３）成分：溶媒【００２０】
さらに本発明の他の態様は、下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を基材上に塗布する工程、下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を介して前記基材をマスターモールドに圧着する工程、前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して下記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しＡ層を形成する工程、前記Ａ層上に下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を塗布する工程、及び下記（ｂ１）成分乃至（ｂ３）成分を含む組成物を４０℃乃至２００℃でベークし、その後露光して前記Ａ層に接着した前記Ｂ層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法である。
（ａ１）成分：ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物
（ａ２）成分：前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．１質量％乃至１質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ１）成分：フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物
（ｂ２）成分：前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、０．０５質量％乃至１５質量％の光ラジカル重合開始剤
（ｂ３）成分：溶媒
【発明の効果】
【００２１】
本発明のインプリント用レプリカモールドは、前記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物の硬化物から成る構造体に、前記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分を含む組成物の硬化物から成る膜が接着していることで、厚膜でも高い透明性を有し、連続転写が可能である。【００２２】
また本発明のインプリント用レプリカモールドは、任意の基材上に作製することができ、当該基材上に形成されたレプリカモールドは、厚膜でも紫外線領域において高い透明性を有する。このため、本発明のインプリント用レプリカモールドは、固体撮像素子、センサー用レンズなどの形状精度の求められる光学部材の製造に好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
［（ａ１）成分］
（ａ１）成分は、ラジカル重合性基を１分子中に少なくとも１つ有する化合物である。該ラジカル重合性基として、例えば（メタ）アクリロイルオキシ基が挙げられる。本発明において（メタ）アクリロイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基の双方を意味する。また、（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの双方を意味する。
【００２４】
上記（ａ１）成分の化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、イソへキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンスピロ−２−（１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、３−エチル−３−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール＃４００（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール＃６００（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール＃１０００（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、イソノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタクリルプロピルアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール＃２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール＃４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール＃６００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール＃１０００ジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール＃４００ジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃７００ジアクリレート、ポリテトラメチレングリコール＃６５０ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカノ���ルジ（メタ）アクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールＦジアクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールＦジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２５】
上記（ａ１）成分の化合物は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ライトエステルＭ、同Ｅ、同ＮＢ、同ＩＢ、同ＴＢ、同ＥＨ、同ＩＢ−Ｘ、同ＣＨ、ライトアクリレートＩＢ−ＸＡ、（以上、共栄社化学（株）製）、ＮＯＡＡ、ＩＯＡＡ、ＩＮＡＡ、ＬＡ、ＳＴＡ、ＩＳＴＡ、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５５、１−ＡＤＡ、１−ＡＤＭＡ、ビスコート＃１５０、ＭＥＤＯＬ−１０、ＣＨＤＯＬ−１０、ＯＸＥ−１０、ＯＸＥ−３０、ＧＢＬＡ、ＧＢＬＭＡ、ビスコート＃１９５、ビスコート＃２３０、ビスコート＃２６０、ビスコート＃２９５、ビスコート＃３００、ビスコート＃４００、ビスコート＃３６０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＬＡ、ＬＭＡ、Ａ−ＭＳ、Ａ−Ｓ、Ｓ−１８００Ａ、Ａ−ＢＨ、ＡＭ−３０Ｇ、ＡＭ−９０Ｇ、ＡＭ−１３０Ｇ、ＡＭ−２３０Ｇ、ＡＭ−３０ＰＧ、Ｍ−２０Ｇ、Ｍ−３０Ｇ、Ｍ−４０Ｇ、Ｍ−９０Ｇ、Ｍ−１３０Ｇ、Ｍ−２３０Ｇ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、Ａ−ＩＮＤ、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ、Ａ−ＮＰＧ、ＢＤ、ＨＤ−Ｎ、ＮＯＤ−Ｎ、ＤＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、７０１Ａ、７０１、Ａ−２００、Ａ−４００、Ａ−６００、Ａ−１０００、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、ＡＰＧ−７００、１Ｇ、２Ｇ、３Ｇ、４Ｇ、９Ｇ、１４Ｇ、２３Ｇ、３ＰＧ、９ＰＧ、Ａ−ＰＴＭＧ−６５、Ａ−１２０６ＰＥ、１２０６ＰＥ、Ａ−０６１２ＰＥ、Ａ−０４１２ＰＥ、Ａ−１０００ＰＥＲ、１０００ＰＥＲ、Ａ−３０００ＰＥＲ、Ａ−ＤＯＧ、Ａ−ＤＣＰ、ＤＣＰ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＡＴ−２０Ｅ、ＡＴ−３０Ｅ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＰＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−６Ｏ、ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ−３ＥＯ、ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＴＭＰＴ−３ＰＯ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｐ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｐ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｐ、ＧＬＹ−３Ｅ、ＧＬＹ−６Ｅ、ＧＬＹ−９Ｅ、ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−９３００、Ａ−９２００、Ａ−９３００−１ＣＬ、Ａ−９３００−３ＣＬ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、ＡＴＭ−４ＥＬ、ＡＴＭ−８ＥＬ、ＡＴＭ−４ＰＬ、ＴＭ−４ＥＬ、ＴＭ−４ＰＬ、Ａ−ＴＭＭＴ、ＡＴＭ−４Ｅ、ＡＴＭ−３５Ｅ、ＡＴＭ−４Ｐ、ＡＴＭ−１０Ｐ、ＴＭ−４Ｅ、ＴＭ−３５Ｅ、ＴＭ−４Ｐ、ＴＭ−１０Ｐ、ＡＤ−ＴＭＰ−Ｌ、ＡＤ−ＴＭＰ−４Ｅ、ＡＤ−ＴＭＰ−４Ｐ、Ｄ−ＴＭＰ、Ｄ−ＴＭＰ−４Ｅ、Ｄ−ＴＭＰ−４Ｐ、Ａ−ＤＰＨ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−６ＥＬ、Ａ−ＤＰＨ−１２ＥＬ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ、Ｍ−ＤＰＨ−６Ｅ、Ｍ−ＤＰＨ−１２Ｅ、Ｍ−ＤＰＨ−６Ｐ、Ａ−ＰＧ５０２７Ｅ、Ａ−ＰＧ５０５４Ｅ、Ｍ−ＰＧ５０２７Ｅ、Ｍ−ＰＧ５０５４Ｅ（以上、新中村化学工業（株））、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−５１３ＡＳ、同ＦＡ−５１２ＡＳ、同ＦＡ−５１１ＡＳ（以上、日立化成（株））、ニューフロンティア（登録商標）ＨＢＰＥ−４、同ＨＢＰＥＭ−１０（以上、第一工業製薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ−３０、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＥＡ−１２（以上、日本化薬（株）製）が挙げられる。上記（ａ１）成分は１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００２６】
［（ａ２）成分］
（ａ２）成分の光ラジカル重合開始剤は、本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層を形成するための組成物の光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。該（ａ２）成分の光ラジカル重合開始剤として、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブチレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチルプロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン���のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
【００２７】
上記（ａ２）成分の光ラジカル重合開始剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、同１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、同ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ  Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン−ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー（株）製）、アデカオプトマーＮ−１７１７、同Ｎ−１４１４、同Ｎ−１６０６（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。上記（ａ２）成分は１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。該（ａ２）成分の光ラジカル重合開始剤の含有割合は、前記（ａ１）成分１００質量％に対し、０．０１質量％乃至０．３質量％である。
【００２８】
［（ｂ１）成分］
（ｂ１）成分は、フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物である。該ラジカル重合性基として、例えば（メタ）アクリロイルオキシ基が挙げられる。
【００２９】
上記（ｂ１）成分の化合物としては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロ−ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロオクチルアクリレート、１，６−ビス（（メタ）アクリロイルオキシ）−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサンが挙げられる。
【００３０】
上記化合物は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタアクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルメタアクリレート、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチルアクリレート、（以上、ダイキン工業（株）製）、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタアクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロ−ｎ−オクチルアクリレート、１，６−ビス（アクリロイルオキシ）−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサン（以上、東京化成工業（株）製）、ＬＩＮＣ−１５１ＥＰＡ、ＬＩＮＣ−１５２ＥＰＡ、ＬＩＮＣ−１０２Ａ、ＬＩＮＣ−２Ａ、ＬＩＮＣ−５Ａ、ＬＩＮＣ−１６２Ａ、ＬＩＮＣ−３Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ（登録商標）ＭＤ５００、同ＭＤ７００、同ＭＤ４０、同ＭＤ１７００、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）ＭＴ７０（以上、ソルベイ社製）、ビスコート１３Ｆ（大阪有機化学工業（株）製）が挙げられる。
【００３１】
前記（ｂ１）成分は、前記式（１）で表される基及び前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、前記式（３）で表される基、すなわち（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物でもよい。ここで、多官能（メタ）アクリレート化合物は、単官能（メタ）アクリレート化合物を除く、２官能以上のアクリレート化合物又はメタクリレート化合物である。そして、上記ウレタン結合とは、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される構造をいう。上記多官能（メタ）アクリレート化合物は、１分子中に、ウレタン結合を２つ又は４つ、及び（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を２つ又は４つ有する。なお、前記式（１）で表される基はポリ（オキシパーフルオロアルキレン）基と称することがあり、前記式（２ａ）で表される基はポリ（オキシアルキレン）基と称することがある。
【００３２】
上記線状又は鎖状の分子鎖は、前記式（１）で表される基及び前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む分子鎖であれば特に限定されない。上記線状又は鎖状の分子鎖において、前記式（１）で表される基と前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基の結合順序は特に限定されず、また各基の数は特に限定されない。また、上記線状又は鎖状の分子鎖において、式（１）で表される基と式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基は単結合で結合（直接結合）されていてもよいし、炭素原子数１乃至３のアルキレン基、炭素原子数１乃至３のパーフルオロアルキレン基、或いはそれらの組み合わせ等の構造（連結基）を介して結合されていてもよい。
【００３３】
前記式（１）で表される基におけるオキシパーフルオロアルキレン基：−（Ｏ−Ｒ１）−のＲ１の炭素原子数は１又は２である。すなわち、前記式（１）で表される基は、炭素原子数１又は２の２価のフッ化炭素基と酸素原子が交互に連結した構造を有し、オキシパーフルオロアルキレン基は炭素原子数１又は２の２価のフッ化炭素基と酸素原子が連結した構造を有する。該オキシパーフルオロアルキレン基として具体的には、−（ＯＣＦ２）−（すなわちオキシパーフルオロメチレン基）及び−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−（すなわちオキシパーフルオロエチレン基）が挙げられる。上記オキシパーフルオロアルキレン基は、−（ＯＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−のうちいずれか１種を単独で使用してもよく、２種を組み合わせて使用してもよい。２種を組み合わせて使用する場合、−（ＯＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−の結合はブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。
【００３４】
モールドの離型性を高める観点から、前記式（１）で表される基として、−（ＯＣＦ２）−（すなわちオキシパーフルオロメチレン基）と−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−（すなわちオキシパーフルオロエチレン基）の双方を有する基を用いることが好ましい。前記式（１）で表される基として、−（ＯＣＦ２）−と−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−とが、モル比率で［−（ＯＣＦ２）−］：［−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−］＝２：１〜１：２となる割合で含む基であることが好ましく、およそ１：１となる割合で含む基であることがより好ましい。これらの結合は、ブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。前記式（１）で表される基の繰り返し数ｐは、２以上の整数であり、５乃至３０の範囲であることが好ましく、７乃至２１の範囲であることがより好ましい。
【００３５】
また、前記式（１）で表される基のゲル浸透クロマトグラフィーによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００乃至５，０００、好ましくは１，５００乃至３，０００である。
【００３６】
前記式（２ａ）で表される基におけるオキシアルキレン基：−（Ｏ−Ｒ２）−のＲ２の炭素原子数は２又は３である。すなわち、前記式（２ａ）で表される基は、炭素原子数２又は３のアルキレン基と酸素原子が交互に連結した構造を有し、オキシアルキレン基は炭素原子数２又は３のアルキレン基と酸素原子が連結した構造を有する。上記オキシアルキレン基としては、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、及びオキシトリメチレン基が挙げられる。上記オキシアルキレン基は、１種を単独で使用してもよく、或いは２種以上を組み合わせて使用してもよい。該オキシアルキレン基を２種以上組み合わせて使用する場合、２種以上のオキシアルキレン基の結合はブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。
【００３７】
前記式（２ａ）で表される基は、例えばポリ（オキシエチレン）基である。前記式（２ａ）で表される基の繰り返し数ｑは２以上の整数であり、例えば２乃至１５の範囲であり、好ましくは２乃至１２の範囲、又は５乃至１２の範囲、或いは７乃至１２の範囲である。
【００３８】
前記式（２ｂ）で表される基における３価の炭化水素基：Ｒ２ｂの炭素原子数は２又は３である。すなわち、前記式（２ｂ）で表される基は、炭素原子数２又は３のアルカントリレン基（炭素原子数２又は３のアルキレン基の任意の炭素原子から一個の水素原子を除去した３価の基）に１つの酸素原子が連結した構造を有する。前記式（２ｂ）で表される基の中でも、１，２，３−プロパントリイル基の１位（又は３位）に１つの酸素原子が連結した基であることが好ましい。
【００３９】
前記（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有するものに限らず、２つ以上有するものであってもよい。前記（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基として、例えば、以下に示す式［Ｘ１］乃至式［Ｘ５］で表される構造（末端基）、及びこれらの構造（末端基）におけるアクリロイルオキシ基をメタクリロイルオキシ基に置換した構造が挙げられる。
【００４０】
【化３】
2020116397.tif 000004
【００４１】
前記（ｂ１）成分が前記（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物である場合、工業的製造が容易であるという点から、以下に示す構造式（Ａ−１）で表される化合物、（Ａ−２）で表される化合物及び（Ａ−３）で表される化合物、並びにこれらの化合物中のアクリロイルオキシ基をメタクリロイルオキシ基に置換した化合物を好ましい例として挙げることができる。なお、下記構造式中、２つのＸ又は４つのＸはそれぞれ前記式［Ｘ１］乃至式［Ｘ５］で表される構造（末端基）のうちの１つを表し、ＰＦＰＥはポリ（オキシパーフルオロアルキレン）基を表し、ｑ１及びｑ２はそれぞれ独立してオキシエチレン基の数、例えば２乃至１５の整数を表し、好ましくは２乃至１２の整数を表し、又は５乃至１２の整数を表し、或いは７乃至１２の整数を表す。
【化４】
2020116397.tif 000005
【００４２】
前記（ｂ１）成分が前記（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物である場合、該（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する、例えば上記式［Ｘ３］乃至式［Ｘ５］で表される構造（末端基）であることが好ましい。
【００４３】
前記（ｂ１）成分は１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。該（ｂ１）成分は、該（ｂ１）成分と、後述する（ｂ２）成分、（ｂ３）成分及び任意成分であるその他添加剤との総質量１００質量％に対し、好ましくは０．１質量％乃至１０質量％、より好ましくは０．５質量％乃至８質量％の割合で使用することが望ましい。
【００４４】
前記（ｂ１）成分は、例えば、前記式（１）で表される基の両末端に、直接結合するか或いは前記連結基を介して結合する、前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を介して少なくとも２つのヒドロキシ基を有する化合物において、該少なくとも２つのヒドロキシ基に対して、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等の、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート化合物を、ウレタン化反応させる方法により得られる。
【００４５】
前記（ｂ１）成分のゲル浸透クロマトグラフィーによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量（Ｍｗ）は１，５００乃至７，０００、好ましくは２，０００乃至６，０００である。
【００４６】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＢ層を形成するための組成物は、前記（ｂ１）成分に加えて、前記式（１）で表される基及び前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の一部の末端にのみウレタン結合を介して、（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を有し、且つ該線状又は鎖状の分子鎖の他の末端にヒドロキシ基を有する化合物（すなわち該他の末端においては重合性基を有していない化合物）が含まれていてもよい。前記Ｂ層を形成するための組成物はさらに、前記式（１）で表される基及び前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端にヒドロキシ基を有する化合物、すなわち上記重合性基を有していない化合物が含まれていてもよい。前記Ｂ層を形成するための組成物は、離型剤と称することがある。
【００４７】
［（ｂ２）成分］
（ｂ２）成分の光ラジカル重合開始剤は、本発明のインプリント用レプリカモールドのＢ層を形成するための組成物の光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。該（ｂ２）成分として、前記（ａ２）成分と同様の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。前記（ｂ２）成分は１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。該（ｂ２）成分の光ラジカル重合開始剤の含有割合は、前記（ｂ１）成分１００質量％に対し０．０５質量％乃至１５質量％である。
【００４８】
［（ｂ３）成分］
（ｂ３）成分である溶媒は、前記（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分の粘度調節の役割を果たし、該（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。該（ｂ３）成分は、前記Ｂ層を形成する工程で除去される。
【００４９】
該溶媒としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジン、メチルパーフルオロプロピルエーテル、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフロオロ−３−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）−ペンタン、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、１，１，１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、ペンタフルオロノナン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘプタデカフルオロ−ｎ−オクチルブロミド、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メトキシプロパン、オクタデカフルオロオクタン、オクタフルオロシクロペンテン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロデカリン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロヘプタン、オクタフルオ���トルエン、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオロトリエチルアミン、パーフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキサン）、パーフルオロイソヘキサンが挙げられる。
【００５０】
前記（ｂ３）成分である溶媒は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）７０００、同７１００、同７２００、同７３００（以上、スリーエムジャパン（株）製）、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００、同ＡＥ−３１００Ｅ（以上、ＡＧＣ（株）製）、バートレル（登録商標）ＸＦ、同ＸＦ−ＵＰ、同ＸＥ−ＸＰ、同Ｘ−Ｅ１０、同Ｘ−Ｐ１０、同Ｘ−Ｄ、同Ｘ−ＧＹ、同ＭＣＡ、同ＳＤＧ、同ＳＭＴ、同ＳＦＲ、同ＤＣ、同シネラ、同スープリオン、同サイオン（以上、三井・デュポン  フロロケミカル（株）製）が挙げられる。前記（ｂ３）成分は１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００５１】
［その他添加剤］
本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層を形成するための組成物は、必要に応じて溶媒を含有することができる。また、前記Ａ層を形成するための組成物及び前記Ｂ層を形成するための組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて界面活性剤、連鎖移動剤、及び光増感剤を含有することができる。
【００５２】
該溶媒としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジン、メチルパーフルオロプロピルエーテル、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフロオロ−３−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）−ペンタン、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、１，１，１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、ペンタフルオロノナン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘプタデカフルオロ−ｎ−オクチルブロミド、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メトキシプロパン、オクタデカフルオロオクタン、オクタフルオロシクロペンテン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロデカリン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロヘプタン、オクタフルオ���トルエン、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオロトリエチルアミン、パーフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキサン）、パーフルオロイソヘキサンが挙げられる。上記溶媒は１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００５３】
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。上記界面活性剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４８６、同Ｆ−５５４、同Ｆ−５５６、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−３０Ｎ、同Ｒ−４０、同Ｒ−４０−ＬＭ、同ＲＳ−５６、同ＲＳ−７５、同ＲＳ−７２−Ｋ、同ＲＳ−７６−Ｅ、同ＲＳ−７６−ＮＳ、同ＲＳ−７８、同ＲＳ−９０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、スリーエムジャパン（株）製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（以上、ＡＧＣ（株）製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ  ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ  ３５７０（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）が挙げられる。上記界面活性剤は、１種単独で用いてもよく、又は２種以上を混合して用いてもよい。前記Ａ層を形成するための組成物及び前記Ｂ層を形成するための組成物が上記界面活性剤を含有する場合、その含有割合は、（ａ１）成分１００質量％に対し、０．０１質量％乃至１０質量％であることが好ましい。
【００５４】
上記連鎖移動剤としては、例えば、チオール化合物として、メルカプト酢酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸３−メトキシブチル、３−メルカプトプロピオン酸ｎ−オクチル、３−メルカプトプロピオン酸ステアリル、１，４−ビス（３−メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトブチレート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリス［２−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［２−（３−メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチリルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等のメルカプトカルボン酸エステル類；エタンチオール、２−メチルプロパン−２−チオール、１−ドデカンチオール、２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−チオール（ｔｅｒｔ−ドデカンチオール）、エタン−１，２−ジチオール、プロパン−１，３−ジチオール、ベンジルチオール等のアルキルチオール類；ベンゼンチオール、３−メチルベンゼンチオール、４−メチルベンゼンチオール、ナフタレン−２−チオール、ピリジン−２−チオール、ベンゾイミダゾール−２−チオール、ベンゾチアゾール−２−チオール等の芳香族チオール類；２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール等のメルカプトアルコール類；３−（トリメトキシシリル）プロパン−１−チオール、３−（トリエトキシシリル）プロパン−１−チオール等のシラン含有チオール類；ビス（２−メルカプトエチル）エーテルが挙げられ、ジスルフィド化合物として、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド、ジペンチルジスルフィド、ジイソペンチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ビス（２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−イル）ジスルフィド（ジ−ｔｅｒｔ−ドデシルジスルフィド）、ビス（２，２−ジエトキシエチル）ジスルフィド、ビス（２−ヒドロキシエチル）ジスルフィド、ジベンジルジスルフィド等のアルキルジスルフィド類；ジフェニルジスルフィド、ジ−ｐ−トリルジスルフィド、ジ（ピリジン−２−イル）ピリジルジスルフィド、ジ（ベンゾイミダゾール−２−イル）ジスルフィド、ジ（ベンゾチアゾール−２−イル）ジスルフィド等の芳香族ジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ビス（ペンタメチレン）チウラムジスルフィド等のチウラムジスルフィド類；α−メチルスチレンダイマーが挙げられる。この連鎖移動剤は、１種単独で使用することができ、２種以上を組み合わせて使用することができる。前記Ａ層を形成するための組成物及び前記Ｂ層を形成するための組成物が上記連鎖移動剤を含有する場合、その含有割合は、（ａ１）成分１００質量％に対し、０．０１質量％乃至２０質量％であることが好ましい。
【００５５】
上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、チオキサントン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系が挙げられる。該光増感剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ−５８１、同ＵＶＳ−１３３１（以上、川崎化成工業（株）製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）が挙げられる。この光増感剤は、１種単独で使用することができ、２種以上を組み合わせて使用することができる。上記光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。前記Ａ層を形成するための組成物及び前記Ｂ層を形成するための組成物が上記光増感剤を含有する場合、その含有割合は、前記（ａ１）成分または前記（ｂ１）成分１００質量％に対し、例えば０．０１質量％乃至１０質量％であり、好ましくは０．０５質量％乃至５質量％である。
【００５６】
［インプリント用レプリカモールド材料の調製］
本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層を形成するための組成物及びＢ層を形成するための組成物の調製方法は、特に限定されない。前記Ａ層を形成するための組成物の場合、例えば前記（ａ１）成分、前記（ａ２）成分、及び必要に応じてその他添加剤を混合し、組成物が均一な状態となっていればよい。また、前記Ｂ層を形成するための組成物の場合、例えば（ｂ１）成分、（ｂ２）成分、（ｂ３）成分、及び必要に応じてその他添加剤を混合し、組成物が均一な状態となっていればよい。そして、前記Ａ層を形成するための組成物及び前記Ｂ層を形成するための組成物の各成分を混合する順序は、均一な組成物が得られるなら問題なく、特に限定されない。
【００５７】
本発明のインプリント用レプリカモールドは、光インプリントにより前記Ａ層を形成後、該Ａ層上に、前記Ｂ層を光硬化により形成することで得ることができる。
【００５８】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層は、前記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物を基材上またはマスターモールド上に塗布し、該基材と該マスターモールドとを貼り合わせて光硬化させ、離型することで所望の構造体を得ることができる。前記（ａ１）成分及び（ａ２）成分を含む組成物の塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、ポッティング法、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
【００５９】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層が形成される基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が製膜されたガラス（ＩＴＯ基板）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が製膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が製膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材、例えば、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン（コ）ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、及びこれらポリマーを組み合わせた共重合体からなる基材を用いることも可能である。
【００６０】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層を形成するために光硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ２エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）、紫外線ＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ）を挙げることができる。また、前記光源の波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０ｍＪ／ｃｍ２乃至１００００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２乃至８０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００６１】
なお、前記Ａ層を形成するための組成物が溶媒を含有する場合には、光照射前の塗膜及び光照射後に得られた光硬化物の少なくとも一方に対し、溶媒を蒸発させる目的で、ベーク工程を加えてもよい。ベーク工程に使用する機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中でベークすることができるものであればよい。ベーク温度は、溶媒を蒸発させる目的を達成できるなら特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
【００６２】
光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば特に限定されないが、例えば、東芝機械（株）製のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工（株）製のＮＭ−０８０１ＨＢ等の市販されている装置にて、基材とマスターモールドを圧着し、光硬化後に該マスターモールドから硬化物を離型する方法を用いることができる。
【００６３】
また、本発明で用いる光インプリントに使用するマスターモールドの材料としては、例えば、石英、シリコン（Ｓｉ）、ニッケル、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、マスターモールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行ってもよい。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業（株）製のオプツール（登録商標）ＨＤ、同ＤＳＸが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。
【００６４】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＡ層は、前記マスターモールドから離型後に加熱することで、紫外線領域における透明性を向上させることができる。前記Ａ層の加熱方法は、ホットプレート、オーブン等の加熱手段を使用する方法が挙げられる。
【００６５】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＢ層は、前記（ｂ１）成分、（ｂ２）成分及び（ｂ３）成分を含む組成物を前記Ａ層上に塗布し、光硬化させることで所望の被膜を得ることができる。前記（ｂ１）成分、（ｂ２）成分及び（ｂ３）成分を含む組成物の塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、ポッティング法、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
【００６６】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＢ層を形成するために光硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ２エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）、紫外線ＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ）を挙げることができる。また、前記光源の波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０ｍＪ／ｃｍ２乃至２０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは３０ｍＪ／ｃｍ２乃至１０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００６７】
本発明のインプリント用レプリカモールドのＢ層を形成する工程において、（ｂ３）成分である溶媒を蒸発させる目的で、前記Ｂ層を形成するための組成物を塗布後、光硬化前もしくは光硬化後にベーク工程を加えてもよい。該ベーク工程に使用する機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、又はファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中でベークすることができるものであればよい。前記ベーク工程におけるベーク温度は、溶媒を蒸発させることが可能な、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
【００６８】
本発明により得られるインプリント用レプリカモールドのパターンサイズは特に限定されず、例えばナノメートルオーダー、マイクロメートルオーダー、ミリメートルオーダーでも良好なパターンを得ることが可能である。
【実施例】
【００６９】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。なお、下記合成例で得られた化合物の、物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。【００７０】
（１）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
装置：（株）島津製作所製  ＧＰＣシステム
ＧＰＣカラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＧＰＣ  ＫＦ−８０４Ｌ及びＧＰＣ  ＫＦ−８０３Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１ｍＬ／分
標準試料：ポリスチレン【００７１】
また、下記略記号は以下の意味を表す。
ＰＦＰＥ１：ポリ（オキシエチレン）基（繰り返し単位の数８乃至９）を介して両末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル［ソルベイスペシャルティポリマーズ社製  Ｆｌｕｏｒｏｌｉｎｋ（登録商標）５１４７Ｘ］
ＰＦＰＥ２：両末端それぞれに、前記式（２ｂ）で表される基を介してヒドロキシ基を２つずつ有するパーフルオロポリエーテル［ソルベイスペシャルティポリマーズ社製  Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）Ｔ４］
ＢＥＩ：１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート［昭和電工（株）製  カレンズ（登録商標）ＢＥＩ］
ＤＢＴＤＬ：ジラウリン酸ジブチル錫［東京化成工業（株）製］
ＤＯＴＤＤ：ジオクチル錫ジネオデカノエート［日東化成（株）製  ネオスタン（登録商標）Ｕ−８３０］
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート【００７２】
＜合成例１＞
２Ｌの四つ口フラスコにＰＧＭＥＡを１７８．８４ｇ入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）１２０ｇ、イソボルニルアクリレート（東京化成工業（株）製）２４９．６６ｇ、ＡＩＢＮ（関東化学（株）製）５．９０４ｇ、及びＰＧＭＥＡ６９７．４８ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）６．３ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、非架橋性の共重合体ＭＩ５５を３３０．４ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＩ５５の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で２０，１００であった。【００７３】
＜合成例２＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ１  １０．５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ  ２．３９ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、ＤＢＴＤＬ  ０．１２９ｇ及びＭＥＫ  １２．９ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、スターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で２４時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを３０．３７ｇ加え、エバポレーターにてＭＥＫを留去し、（ｂ１）成分である、ＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分３０質量％で得た。得られたＳＭ１のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３，４００、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。【００７４】
＜合成例３＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ１  １０．５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ  ２．３９ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、ＤＯＴＤＤ  ０．０６４４ｇ及びＰＧＭＥＡ１２．９ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、スターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で４８時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを３８．９ｇ加え、（ｂ１）成分であるＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２０質量％で得た。得られたＳＭ２のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３，４１０、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。【００７５】
＜合成例４＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ２  １１．４５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ  ４．７９ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ＤＯＴＤＤ  ０．１６２ｇ及びＭＥＫ  １６．２４ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、窒素雰囲気下にてスターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で７２時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを６４．９６ｇ加え、エバポレーターにてＭＥＫを留去し、（ｂ１）成分であるＳＭ３を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２０質量％で得た。得られたＳＭ３のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２，７５０、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。【００７６】
＜合成例５＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ２  １１．４５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ  ４．７９ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ＤＯＴＤＤ  ０．１６２ｇ及びＰＧＭＥＡ  １６．２４ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、窒素雰囲気下にてスターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で７２時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを４８．７２ｇ加え、（ｂ１）成分であるＳＭ４を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２０質量％で得た。得られたＳＭ４のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２，７６０、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。【００７７】
［Ａ層を形成するための組成物の調製］
＜調製例１＞
ニューフロンティア（登録商標）ＨＢＰＥ−４（第一工業製薬（株）製）（以下、本明細書では「ＨＢＰＥ−４」と略称する。）７ｇ、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）（以下、本明細書では「ＰＥＴ−３０」と略称する。）を３ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４」と略称する。）を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＰＥＴ−３０の総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ１を調製した。【００７８】
＜調製例２＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得たＭＩ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５の総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ２を調製した。【００７９】
＜調製例３＞
ＨＢＰＥ−４を９．５ｇ、合成例１で得たＭＩ５５を０．５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５の総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ３を調製した。【００８０】
＜調製例４＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得たＭＩ５５を０．２５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５の総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ４を調製した。【００８１】
＜調製例５＞
ＨＢＰＥ−４を５ｇ、ＮＫエステル  Ａ−ＤＯＧ（以下、本明細書では「Ａ−ＤＯＧ」と略称する。）（新中村化学工業（株）製）を５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、Ａ−ＤＯＧ総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ５を調製した。【００８２】
＜調製例６＞
ＰＥＴ−３０を７ｇ、ＮＫエステル  Ａ−２００（新中村化学工業（株）製）を１．５ｇ、Ａ−ＤＯＧを１．５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（ＰＥＴ−３０、Ａ−２００、Ａ−ＤＯＧ総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ６を調製した。【００８３】
＜調製例７＞
ＨＢＰＥ−４を５ｇ、ＮＫエステル  Ａ−ＤＣＰ（以下、本明細書では「Ａ−ＤＣＰ」と略称する。）（新中村化学工業（株）製）を５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、Ａ−ＤＣＰ総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ７を調製した。【００８４】
＜調製例８＞
Ａ−ＤＣＰを５ｇ、１−ＡＤＭＡ（大阪有機化学工業（株）製）を５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．０１ｇ（Ａ−ＤＣＰ、１−ＡＤＭＡ総質量に対して０．１質量％）加え、組成物Ａ８を調製した。【００８５】
＜調製例９＞
Ａ−ＤＣＰを５ｇ、１−ＡＤＭＡ（大阪有機化学工業（株）製）を５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４を０．５ｇ（Ａ−ＤＣＰ、１−ＡＤＭＡ総質量に対して５質量％）加え、組成物Ａ９を調製した。【００８６】
［Ｂ層を形成するための組成物（離型剤）の調製］
＜調製例１０＞
ＬＩＮＣ−５Ａ（共栄社化学（株）製）を０．２８５ｇ、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート（ダイキン工業（株）製）を０．０１５ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９（ＢＡＳＦジャパン（株）製、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９」と略称する。）を０．００６ｇ、及びＰＧＭＥＡを８．４４ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ１を調製した。【００８７】
＜調製例１１＞
ＬＩＮＣ−１６２Ａ（共栄社化学（株）製）を０．３ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００６ｇ、及びＰＧＭＥＡを８．４４ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ２を調製した。【００８８】
＜調製例１２＞
ＬＩＮＣ−１０２Ａ（共栄社化学（株）製）を０．３ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００６ｇ、及びＰＧＭＥＡを８．４４ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ３を調製した。【００８９】
＜調製例１３＞
ＬＩＮＣ−５Ａ（共栄社化学（株）製）を０．３ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００６ｇ、及びＰＧＭＥＡを８．４４ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ４を調製した。【００９０】
＜調製例１４＞
ＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン工業（株）製）を１．０ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００４ｇ、及びＰＧＭＥＡを４．８２ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ５を調製した。【００９１】
＜調製例１５＞
合成例２で得られたＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１２７（ＢＡＳＦジャパン（株）製、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチルプロパン−１−オン）を０．００６０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを７．６７ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ６を調製した。【００９２】
＜調製例１６＞
合成例３で得られたＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００４０ｇ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）（以下、本明細書では「ＤＥＴＸ−Ｓ」と略称する。）を０．０００２ｇ及びＰＧＭＥＡを４．８０ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ７を調製した。【００９３】
＜調製例１７＞
合成例４で得られたＳＭ３を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００４０ｇ、ＤＥＴＸ−Ｓを０．０００２ｇ及びＰＧＭＥＡを４．８３ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ８を調製した。【００９４】
＜調製例１８＞
合成例５で得られたＳＭ４を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．００４０ｇ、ＤＥＴＸ−Ｓを０．０００２ｇ及びＰＧＭＥＡを４．８３ｇ混合し、組成物（離型剤）Ｂ９を調製した。【００９５】
［インプリント用レプリカモールドの作製］
＜実施例１＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を、予めＮＯＶＥＣ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）（以下、本明細書では「ＮＯＶＥＣ１７２０」と略称する。）を用いて離型処理したニッケル製モールド（２ｍｍ径×３００μｍ深さの凹レンズ型を縦３列×横５列の１５個配置）へポッティングし、その上に石英ガラス基板を被せ、ナノインプリント装置ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工（株）製）を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）ニッケル製モールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、該石英ガラス基板上に２ｍｍ径×３００μｍ高さの凸レンズパターンを得た。その石英ガラス基板上に得られた凸レンズパターンを１５０℃のホットプレートで５分間加熱し、Ａ層を形成した。使用した前記石英ガラス基板は、予めＫＢＭ−５１０３（信越化学工業（株）製）をスピンコートし、１５０℃のホットプレートで５分間加熱することにより、密着処理を行ったものである。得られたＡ層上へ調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１をスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて、ｉ線透過フィルターを通し、４０ｍＷ／ｃｍ２で１２５秒間ＵＶ露光し、Ａ前記層上へＢ層を形成し、インプリント用レプリカモールドＲＭ−１を作製した。【００９６】
＜実施例２＞
調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１１で得られた組成物（離型剤）Ｂ２へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−２を作製した。【００９７】
＜実施例３＞
調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１２で得られた組成物（離型剤）Ｂ３へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−３を作製した。【００９８】
＜実施例４＞
調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１３で得られた組成物（離型剤）Ｂ４へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−４を作製した。【００９９】
＜実施例５＞
調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１４で得られた組成物（離型剤）Ｂ５へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−５を作製した。【０１００】
＜実施例６＞
調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−６を作製した。【０１０１】
＜実施例７＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例２で得られた組成物Ａ２へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−７を作製した。【０１０２】
＜実施例８＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例３で得られた組成物Ａ３へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−８を作製した。【０１０３】
＜実施例９＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例４で得られた組成物Ａ４へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１５で得られた組成物（離型剤）Ｂ６へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−９を作製した。【０１０４】
＜実施例１０＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例４で得られた組成物Ａ４へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１０を作製した。【０１０５】
＜実施例１１＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例４で得られた組成物Ａ４へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１７で得られた組成物（離型剤）Ｂ８へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１１を作製した。【０１０６】
＜実施例１２＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例４で得られた組成物Ａ４へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１８で得られた組成物（離型剤）Ｂ９へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１２を作製した。【０１０７】
＜実施例１３＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例５で得られた組成物Ａ５へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１３を作製した。【０１０８】
＜実施例１４＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例６で得られた組成物Ａ６へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１４を作製した。【０１０９】
＜実施例１５＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例７で得られた組成物Ａ７へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１５を作製した。【０１１０】
＜実施例１６＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例８で得られた組成物Ａ８へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１６で得られた組成物（離型剤）Ｂ７へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−１６を作製した。【０１１１】
＜比較例１＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例８で得られた組成物Ａ８へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でＡ層を形成した。得られたＡ層上へＮＯＶＥＣ１７２０をスピンコートし、１５０℃のホットプレートで５分間加熱することにより、インプリント用レプリカモールドＲＭ−１９を作製した。【０１１２】
＜比較例２＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例８で得られた組成物Ａ８へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でＡ層を形成した。得られたＡ層上へＰＦＰＥ１をスピンコートし、１５０℃のホットプレートで５分間加熱することにより、インプリント用レプリカモールドＲＭ−２０を作製した。【０１１３】
＜比較例３＞
調製例１で得られた組成物Ａ１を調製例９で得られた組成物Ａ９へ変更し、調製例１０で得られた組成物（離型剤）Ｂ１を調製例１１で得られた組成物（離型剤）Ｂ２へ変更した以外は、実施例１と同様の方法でインプリント用レプリカモールドＲＭ−２１を作製した。【０１１４】
［インプリント材料の調製］
ＮＫエステル  Ａ−ＤＯＧ（新中村化学工業（株）製）を５ｇ及びラジカル重合性基含有ポリカーボネートＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＵＭ−９０（１／３）ＤＡ（宇部興産（株）製）５ｇを混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．２ｇ加え、インプリント材料を調製した。【０１１５】
［インプリント用レプリカモールドを用いた凹レンズパターンの作製］
調製したインプリント材料を、実施例１に記載した方法で密着処理した石英ガラス基板上へポッティングし、その上に実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例３で得られた各インプリント用レプリカモールドを被せ、ナノインプリント装置ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工（株）製）を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）レプリカモールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、該石英ガラス基板上に凹レンズパターンを得た。工業用顕微鏡  ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｌ１５０（（株）ニコン製）を用いて、得られた凹レンズパターンの剥がれ・割れの有無を観察した。その結果を表１及び表２に示す。【０１１６】
［光学特性評価］
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例３で得られた各インプリント用レプリカモールドの波長３６５ｎｍにおける透過率を、分光光度計ＵＶ２６００（（株）島津製作所製）を用い、リファレンスを石英ガラスにした状態で測定した。その結果を表１及び表２に示す。透過率を測定した前記インプリント用レプリカモールドは、２ｍｍ径×３００μｍ高さの凸レンズパターンを有する。【０１１７】
［繰り返しインプリント可能回数の測定］
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例３で得られた各インプリント用レプリカモールドをそのまま用いて、前述と同様の光インプリントを繰り返し、最大１０回まで行い、２ｍｍ径×３００μｍ深さの凹レンズ形状パターンが形成されなくなるまでの、光インプリントの回数を測定した。得られた結果を表１及び表２に示す。【０１１８】
【表１】
2020116397.tif 000006
【０１１９】
【表２】
2020116397.tif 000007
【０１２０】
表１及び表２に示す結果より、実施例１乃至実施例１６で作製されたインプリント用レプリカモールドを用いて作製された凹レンズパターンは、割れ・剥がれがいずれも観察されなかった。そして、実施例１乃至実施例１６で作製されたインプリント用レプリカモールドは、いずれも８回以上の繰り返しインプリントが可能であった。さらに実施例１乃至実施例１６で作製されたインプリント用レプリカモールドは、３６５ｎｍにおける透過率はいずれも８０％以上であり、紫外線領域における高い透明性が確認された。一方、比較例２及び比較例３で作製されたインプリント用レプリカモールドを用いて作製された凹レンズパターンは、剥がれが観察された。そして比較例１及び比較例２で作製されたインプリント用レプリカモールドは、繰り返しインプリント可能な回数が１回または０回であった。さらに比較例３で作製されたインプリント用レプリカモールドは、波長３６５ｎｍにおける透過率が８０％を下回る結果となった。【０１２１】
以上の結果から、本発明のインプリント用レプリカモールドは、紫外線領域における高い透明性を有するものとなり、繰り返しのインプリントが可能である。更に該インプリント用レプリカモールドを用いて作製されたパターンは、割れ・剥がれが無いものとなる。
【国際調査報告】
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