【手続補正書】
【提出日】平成20年12月4日(2008.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の側面を有するテスト部品を測定するための干渉計システムであって、
第１の参照面と、前記テスト部品の前記第１の側面と前記第１の参照面との間の光路長差を測定するための第１の測定ビームを搬送する第１の光学経路とを有する第１の干渉計と、
第２の参照面と、前記テスト部品の前記第２の側面と前記第２の参照面との間の光路長差を測定するための第２の測定ビームを搬送する第２の光学経路とを有する第２の干渉計と、
前記テスト部品の前記第１及び第２の側面の間の距離を測定するために、前記テスト部品の前記第１及び第２の側面と前記第１及び第２の参照面との間の前記光路長差の測定値を、前記第１の参照面と前記第２の参照面との間の光路長差の測定値と結合するプロセッサと、
を備え、
前記第１及び第２の参照面の間の前記光路長差を測定するために、前記第１の干渉計の前記第１の光学経路が前記テスト部品の前記第１の側面を越えて前記第２の干渉計の前記第２の参照面へと延びることを特徴とする干渉計システム。
【請求項２】
前記第１の光学経路が、前記テスト部品の前記第２の側面と前記第２の参照面との間の長さ分だけ前記第２の光学経路と重複することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
（ａ）前記第１の参照面が、前記第１の測定ビームを、前記第１の参照面から反射する第１の参照ビームと前記第１の参照面を透過する第１のテストビームとに分割し、
（ｂ）前記第１のテストビームが、前記テスト部品の前記第１の側面から反射する一次横断方向領域と、前記第２の参照面から反射する二次横断方向領域とを含み、
（ｃ）前記第１のテストビームの前記一次及び二次横断方向領域が、ほぼ垂直な入射角で前記テスト部品の前記第１の側面及び前記第２の参照面に遭遇する
ことを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記プロセッサが、（ａ）前記テスト部品の前記第１の側面と前記第１の参照面との間の第１の平行度測定値、（ｂ）前記テスト部品の前記第２の側面と前記第２の参照面との間の第２の平行度測定値、及び（ｃ）前記２つの参照面の間の第３の平行度測定値を導出し、前記３つの平行度の測定値を結合して前記テスト部品の前記第１の側面と前記第２の側面との間の第４の平行度測定値を算出するよう構成されることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項５】
前記テスト部品のための取り付け具を更に備え、前記第１及び第２の参照面が前記第１の光学経路に沿って該取り付け具の両側に位置することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項６】
（ａ）前記第１の参照面と前記第２の参照面との間の光路長差を測定するために、前記第２の干渉計の前記第２の光学経路が前記テスト部品の前記第２の側面を越えて前記第１の干渉計の前記第１の参照面まで延び、
（ｂ）前記第２の光学経路が、前記テスト部品の前記第１の側面と前記第１の参照面との間の長さ分だけ前記第１の光学経路と重複し、
（ｃ）前記プロセッサが、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計との間の差を測定するために、前記第１の干渉計による前記第１の参照面と前記第２の参照面との間の光路長差の測定値を、前記第２の干渉計による前記第１の参照面と前記第２の参照面との間の光路長差の測定値と比較するよう構成される
ことを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項７】
テスト部品の両側面を個別に且つ互いに関して測定するための干渉計システムであって、
前記テスト部品の両側面を測定するよう構成された第１及び第２の干渉計を備え、
（ａ）前記第１及び第２の干渉計が、前記第１及び第２の測定ビームを発生するための少なくとも１つの光源と、前記第１及び第２の測定ビームを用いて前記テスト部品の前記両側面を撮像するための撮像サブシステムとを有し、
（ｂ）前記第１の参照面と前記テスト部品の前記第１の側面との間の光路長差及び前記第１の参照面と前記第２の干渉計の前記第２の参照面との間の光路長差を測定するために、前記第１の干渉計の前記第１の参照面が、前記第１の測定ビームを第１の参照ビームと第１のテストビームとに分割し、
（ｃ）前記第２の参照面と前記テスト部品の前記第２の側面との間の光路長差を測定するために、前記第２の干渉計の前記第２の参照面が、前記第２の測定ビームを第２の参照ビームと第２のテストビームとに分割し、
（ｄ）前記第１のテストビームが、前記テスト部品の前記第１の側面から反射する一次横断方向領域と、前記第２の干渉計の前記第２の参照面から反射する二次横断方向領域とを有し、
（ｅ）前記第２のテストビームが、前記テスト部品の前記第２の側面から反射する横断方向領域を有し、
（ｆ）前記第１及び第２の参照面に関する前記テスト部品の前記第１及び第２の側面の位置をつきとめるために、前記撮像サブシステムが、（i）前記第１の測定ビームによって前記第１の参照面と前記テスト部品の前記第１の側面との間に形成される干渉縞、（ii）前記第２の測定ビームによって前記第２の参照面と前記テスト部品の前記第２の側面との間に形成される干渉縞、及び（iii）前記第１の測定ビームによって前記第１の参照面と前記第２の参照面との間に形成される干渉縞を撮像するよう構成される
ことを特徴とするシステム。
【請求項８】
前記撮像サブシステムが、
前記第１の参照面と前記テスト部品の前記第１の側面との間に形成された前記干渉縞の画像、及び前記第１の参照面と前記第２の参照面との間に形成された前記干渉縞の画像を同時に記録する第１のカメラと、
前記第２の参照面と前記テスト部品の前記第２の側面との間に形成された前記干渉縞の画像を記録する第２のカメラと、
を含み、
前記干渉計システムが、
前記第１の測定ビームを前記第１の参照面、前記テスト部品の前記第１の側面及び前記第２の参照面に向かわせると共に、前記第１の参照面、前記テスト部品の前記第１の側面及び前記第２の参照面からの前記第１の測定ビームを前記第１のカメラに向けて方向転換する第１のビームスプリッタと、
前記第２の測定ビームを前記第２の参照面及び前記テスト部品の前記第２の側面に向かわせると共に、前記第２の参照面及び前記テスト部品の前記第２の側面からの前記第２の測定ビームを前記第２のカメラに向けて方向転換する第２のビームスプリッタと
を含むことを特徴とする請求項７記載のシステム。
【請求項９】
前記第１及び第２のビームスプリッタが偏光ビームスプリッタであり、
前記反射された第１の測定ビームを前記第１のカメラに向けて方向転換するための、前記第１のビームスプリッタと前記第１の参照面との間に配置された第１の偏光修正要素と、
前記反射された第２の測定ビームを前記第２のカメラに向けて方向転換するための、前記第２のビームスプリッタと前記第２の参照面との間に配置された第２の偏光修正要素と
を更に備えることを特徴とする請求項８記載のシステム。
【請求項１０】
前記光源を前記第１及び第２の測定ビームに分割し、前記反射された第１及び第２の測定ビームを前記撮像サブシステムに向けて方向転換するビームスプリッタと、
前記反射された第１の測定ビームを前記撮像サブシステムに向けて方向転換するための、前記ビームスプリッタと前記第１の参照面との間に配置された第１の偏光修正要素と、
前記反射された第２の測定ビームを前記撮像サブシステムに向けて方向転換するための、前記ビームスプリッタと前記第２の参照面との間に配置された第２の偏光修正要素と
を更に備えることを特徴とする請求項７記載のシステム。
【請求項１１】
前記第１及び第２の測定ビームの反射された部分を前記撮像サブシステムに向かわせるため、及び両方の前記参照面を透過した前記第１及び第２の測定ビームの通過した部分が前記撮像サブシステムに到達するのを防止するために、前記偏光修正要素が累積的偏光回転を提供することを特徴とする請求項１０記載のシステム。
【請求項１２】
前記ビームスプリッタが第１のビームスプリッタであり、
前記第１の参照面と前記テスト部品の前記第１の側面との間に形成された前記干渉縞の画像、及び前記第１の参照面と前記第２の参照面との間に形成された前記干渉縞の画像を同時に記録する第１のカメラと、
前記第２の参照面と前記テスト部品の前記第２の側面との間に形成された前記干渉縞の画像を記録する第２のカメラと、
前記反射された第１の測定ビームを前記第１のカメラに向かわせ、前記反射された第２の測定ビームを前記第２のカメラに向かわせる第２のビームスプリッタと
を更に備えることを特徴とする請求項１０記載のシステム。
【請求項１３】
テスト部品の両側面を測定し、前記テスト部品の両側面の互いに関する位置をつきとめる方法であって、
前記テスト部品を第１の干渉計の第１の参照面と第２の干渉計の第２の参照面との間に取り付ける工程と、
第１の測定ビームを前記第１の干渉計を通るよう伝搬させる工程と、
第２の測定ビームを前記第２の干渉計を通るよう伝搬させる工程と、
前記第１の測定ビームの第１の参照ビーム部分を前記第１の参照面から反射させる工程と、
前記第１の測定ビームの第１のテストビーム部分を前記第１の参照面を通して通過させる工程と、
前記第１のテストビームの一次横断方向領域を前記テスト部品の第１の側面から反射させる工程と、
前記第１のテストビームの二次横断方向領域を前記第２の参照面から反射させる工程と、
前記第１の測定ビームによって前記第１の参照面と前記テスト部品の前記第１の側面との間に形成された干渉縞、及び前記第１の参照面と前記第２の参照面との間に形成された干渉縞を同時に撮像する工程と、
前記第２の測定ビームの第２の参照ビーム部分を前記第２の参照面から反射させる工程と、
前記第２の測定ビームの第２のテストビーム部分を前記第２の参照面を通して通過させる工程と、
前記第２のテストビームの横断方向領域を前記テスト部品の第２の側面から反射させる工程と、
前記第２の測定ビームによって前記第２の参照面と前記テスト部品の前記第２の側面との間に形成された干渉縞を撮像する工程と、
前記テスト部品の前記第１及び第２の側面を測定するため、及び前記テスト部品の前記第１及び第２の側面の互いに関する位置をつきとめるために、前記第１の測定ビームによって形成された２つの前記干渉縞及び前記第２の測定ビームによって形成された前記干渉縞を処理する工程と、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項１４】
（ａ）前記第２のテストビームの前記横断方向領域を反射させる前記工程が、前記第２のテストビームの一次横断方向領域を前記テスト部品の第２の側面から反射させることを含むと共に、前記第２のテストビームの二次横断方向領域を前記第１の参照面から反射させる工程を更に含み、
（ｂ）前記撮像する工程が、前記第２の測定ビームによって前記第２の参照面と前記テスト部品の前記第２の側面との間に形成された前記干渉縞を、前記第２の測定ビームによって前記第１の参照面と前記第２の参照面との間に形成された干渉と同時に撮像することを含み、
（ｃ）前記処理する工程が、前記第１及び第２の参照面のそれぞれに関する前記テスト部品の前記第１及び第２の側面の位置を個別につきとめるために、前記第２の測定ビームによって前記第１の参照面と第２の参照面との間に形成された前記干渉縞を処理することも含む
ことを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記第２の測定ビームの波長を複数の異なる波長にわたってシフトする工程を更に備え、前記第２の測定ビームによって形成された前記干渉縞を撮像する前記工程が、前記第２の測定ビームによって前記複数の異なる波長の各波長で形成された干渉縞を撮像することを含むよう拡張されることを特徴とする請求項１３記載の方法。