【手続補正書】
【提出日】平成20年11月20日(2008.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの座標系の間の相対的な空間パラメータを決定するシステムにおいて、
それぞれが多数のアライメント測定のうちの１つに対応する情報を含む光学エネルギーを検知し、それに応答して信号を生成するように構成されている複数の検出システムと、
信号を受信し、相対的エリアと相対的形状を有する相対的な空間パラメータを決定するため、前記複数の検出システムとデータ通信状態にあるプロセッサと、
２つの周期性の重畳に対応する一連の周期性を有する光強度に係わる前記情報の一部分を有する前記プロセッサとデータ通信状態にあるメモリと、
から構成され、
前記プロセッサによって、ｎ列およびｍ行の複数の値を具備したアレイとして前記メモリ内に前記一部分をマッピングし、前記列の１サブセットについて、それに対応する前記行の平均値を取得することを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記相対的な空間パラメータは、アライメントと向きを、さらに有することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記第１座標系は、第１プレーン内に位置する第１基板に対応し、前記第２座標系は、前記第１プレーンとは離隔した第２プレーン内に位置する第２基板に対応することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記第１および第２プレーン間の前記離隔は、１ミクロン未満であることを特徴とする請求項３記載のシステム。
【請求項５】
前記第１および前記第２プレーン間の前記離隔は、インプリント流体によって部分的または完全に充填されることを特徴とする請求項３記載のシステム。
【請求項６】
前記第１座標系は、第１基板上に配置された格子の第１の組によって決定され、前記第２座標系は、前記格子の第１の組との重畳状態にある第２基板上に配置された格子の第２の組によって決定されることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項７】
前記第１座標系は、第１基板上に配置された第１方向に沿って周期性を有する格子の第１の組によって決定され、前記第２座標系は、前記格子の第１の組との重畳状態にある第２基板上に配置された２つの直交方向において周期性を有する格子の第２の組によって決定されることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項８】
前記第１座標系は、第１基板上に配置された格子の第１の組によって決定され、前記検出システムのサブセットは、照明源と検出器を含んでおり、前記照明源は、エネルギーを経路に沿って導いて前記基板の領域上に入射させ、前記検出器は、前記領域から戻って前記経路に沿って伝播するエネルギーを検知することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記第１座標は、第１基板上に配置された格子の第１の組によって定められ、前記検出システムのサブセットは、照明源と検出器を含み、前記照明源は、エネルギーを経路に沿って導いて前記格子の第１の組の上に入射させることにより、１次回折エネルギーを生成し、前記検出器は、前記経路に沿って伝播する前記１次回折エネルギーを検知するように構成されていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
アライメントプロセスにおいて２つの基板の間の相対的な空間パラメータを決定する方法であって、この方法は、
第２基板上に配置された基板アライメントマーク素子に重畳する、第１基板上に配置された少なくとも１つのテンプレートアライメントマーク素子を使用して、位相情報から多数のアライメントデータを収集するステップと、
一組の前記アライメントマーク間の距離は通常１００ミクロンから１０ｎｍ未満の間で変化する一方で、前記アライメントマークの１つから回折された光によって一連の周期性を有する光強度を得るステップと、
から成り、
前記アライメントプロセス用に、前記一連の周期性を有する光強度を得るために使用される全ての顕微鏡は、前記２つの基板の１つに配置されるテンプレートを介して合焦される照明源からのビーム路の外側に配置されることを特徴とする方法。
【請求項１１】
空間パラメータは、アライメント、倍率、歪みのパラメータを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記２つの基板間の離隔は、空気またはインプリント流体によって充填されていることを特徴とする請求項１０記載のシステム。
【請求項１３】
前記２つの基板はテンプレートとウエハであり、前記ウエハは前記テンプレートの下に配置される基板であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記テンプレートは、前記基板の１つに配される流体に、１つのパターンをインプリントするためのインプリントリソグラフィテンプレートであって、照明源により硬化されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記照明源のビーム路は前記インプリントリソグラフィテンプレートを通おる方向に向けられていることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
アライメントプロセスにおける２つの基板間に相対的空間パラメータを決定する方法であって、この方法は、
第２基板上に配置された基板アラインメントマーク素子に重畳する、第１基板上に配置された少なくとも１つのテンプレートアラインメントマーク素子を使用して位相情報から多数のアラインメントデータを収集するステップと、
一連の周期性のある光強度を得る顕微鏡より遠くにある前記基板上のアライメントマークから回折された光によって、前記一連の周期性のある光強度を得るステップと、
各顕微鏡を制御して、もう一方の基板に転送されるべきパターンを含んだ前記基板上のアライメントマークを使用して、フィードバックループが閉じた状態にあるとき、前記一連の周期性のある光強度を得るステップと、
から構成され、
重畳した基板アライメントマークは１００ミクロンから１０ｎｍ未満の間で変化することを特徴とする方法。
【請求項１７】
前記２つの基板はテンプレートとウエハであり、前記ウエハの方が遠くに配置される基板であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記２つの基板の離隔は、空気またはインプリント流体によって充填されていることを特徴とする請求項１６記載のシステム。
【請求項１９】
前記相対的空間パラメータは、アライメント、倍率、歪みのパラメータを含むことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図３を参照すれば、本発明は、テンプレートステージ５４内に保持されたテンプレート５２と基板ステージ６０上に支持された基板５６を具備するインプリントリソグラフィーシステム５０を含んでおり、干渉分析ツール（ｉＭＡＴ（商標））６２が、テンプレート５２と基板５６の両方と光学的な通信状態にある。重合体流体供給システムと化学作用を有する放射線の供給源も存在しているが（図１との関連において説明したように、これらは、いずれも、通常、インプリントリソグラフィーシステムに包含されている）、わかりやすくするように、これは図示されてはいない。模範的なテンプレートステージは、屈曲システム（図示されてはいない）を通じてインプリントヘッド２０に結合されたチャックシステム（図示されてはいない）及びアクチュエータサブアセンブリ（図示されてはいない）を含んでいるが、これらについては、いずれも、Ａｎｓｈｕｍａｎ  Ｃｈｅｒａｌａ、Ｂｙｕｎｇ−Ｊｉｎ  Ｃｈｏｉ、Ｐａｗａｎ  Ｋｕｍａｒ  Ｎｉｍｍａｋａｙａｌａ、Ｍａｒｉｏ  Ｊ．  Ｍｅｉｓｓｌ  及びＳｉｄｌｇａｔａ  Ｖ．  Ｓｒｅｅｎｉｖａｓａｎを発明者とする「ＳＹＳＴＥＭ  ＦＯＲ  ＭＡＧＮＩＦＩＣＡＴＩＯＮ  ＡＮＤ  ＤＩＳＴＯＲＴＩＯＮ  ＣＯＲＲＥＣＴＩＯＮ  ＤＵＲＩＮＧ  ＮＡＮＯ−ＳＣＡＬＥ  ＭＡＮＵＦＡＣＴＵＲＥ」という発明の名称の２００４年１１月３０日に出願された米国特許出願番号１０／９９９，８９８の米国特許公開公報ＵＳ２００５−０２７０５６に記述されており、この内容は、本引用により、本明細書に包含される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図５を参照すれば、モールド１９８のそれぞれのコーナーには、参照符号２２０、２３０、２４０、２５０として示されているアライメントマークの組が配置されている。アライメントマークのそれぞれの組は、１つの方向に沿って離隔した複数の平行ラインから構成されるテンプレートアライメントマーク要素（Ｔｅｍｐｌａｔｅ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｍａｒｋ  Ｅｌｅｍｅｎｔ：ＴＡＭＥ）を含んでおり、ＴＡＭＥの中の１つと関連付けられている複数のラインが沿って離隔している方向は、残りのＴＡＭＥと関連付けられている複数のラインが沿って離隔している方向と直交している。例えば、組２２０は、ＴＡＭＥ２２１と２２２を含んでいる。ＴＡＭＥ２２１は、ピッチ２２４でＸ方向に沿って離隔した複数の平行ライン２２３を含んでいる。ＴＡＭＥ２２２は、ピッチ２２６でＹ方向に沿って離隔した複数の平行ライン２２５を含んでいる。同様に、ＴＡＭＥ２３１のライン２３３は、ＴＡＭＥ２４１のライン２４３とＴＡＭＥ２５１のライン２５３と同様に、Ｘ方向に沿って離隔している。ＴＡＭＥ２３２のライン２３５は、ＴＡＭＥ２４２のライン２４５及びＴＡＭＥ２５２のライン２５５と同様に、Ｙ方向に沿って離隔している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図４、図５、図１６を参照すれば、代替実施形態においては、複数のグループ５００〜５０７を省略した状態において、ＲＯＩ ４７８の適切な重ね合わせを実現可能である。
具体的には、この例は、１次回折波長ではなく、検出器７２、８２、９２、１０２、１１２、１２２による鏡面反射光の検知を利用している。尚、この方法は、検出器７２との関連において説明することとするが、複数の検出器７２、８２、９２、１０２、１１２、１２２の中の残りの検出器にも等しく適用される。検出器７２、８２、９２、１０２、１１２、１２２の中の１つが光束の大きな変化を検出するまで照明源８００を移動させる。このためには、領域６０１は、照明源８００によって生成された照明に対する反射性を有することが望ましい。望ましいエネルギー束を検知した際に、検出器７２と照明源８００の相対的な位置をロックし、これにより、この両方がモールド１９８のエリア上を同期して移動し、ＴＡＭＥ２２１、２２３、２３１、２３３、２４１、２４３、２５１、２５３の中の１つ（この場合には、ＴＡＭＥ２２１）を照明及び検知するようにする。その後、検出器７２の位置をＴＡＭＥ２２１に対して固定し、残りの検出器の中の１つ（例えば、検出器８２、９２、１０２、１１２、１２２）が光束の大きな変化を検知する位置に供給源８００を移動させる。そして、このプロセスを反復する。検出器７２、８２、９２、１０２、１１２、１２２のそれぞれの位置がＴＡＭＥ２２１、２２３、２３１、２３２、２４１、２４２、２５１、２５２との関連において固定された後に、前述の微細アライメント技法を実行してＲＯＩ ４７８を適切に重ね合わせする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2008522412.tif 000001