(57)【要約】  培養装置は、培養空間に配置され加湿用の液体を貯留した加湿皿と、前記加湿皿を加熱する第１ヒータと、前記培養空間の温度を制御するための第２ヒータとを備え、前記第１ヒータと前記第２ヒータとが別々に設けられる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
培養空間に配置され、加湿用の液体を貯留した加湿皿と、
前記加湿皿を加熱する第１ヒータと、
前記培養空間の温度を制御するための第２ヒータとを備え、
前記第１ヒータと前記第２ヒータとが別々に設けられた
培養装置。
【請求項２】
前記第１ヒータが前記加湿皿の下方に配置された
請求項１に記載の培養装置。
【請求項３】
前記第２ヒータの一部が前記加湿皿を加熱する
請求項１又は２に記載の培養装置。
【請求項４】
前記一部が前記加湿皿の下方に配置された
請求項３記載の培養装置。
【請求項５】
前記第１ヒータと、前記第２ヒータの一部とが、それぞれ、前記加湿皿の下方に配置され、
前記第２ヒータの前記一部は、
前記加湿皿の第１方向の中央に配置され、前記第１方向と交差する第２方向に延在する第１部位と、
前記第１部位から前記第１方向に延在し、前記第２方向に間隔をあけて配置される複数の第２部位とを備え、
前記第１ヒータは、
前記第２ヒータの前記一部の、前記第１方向における両外側に配置され、それぞれ、前記第２方向に延在する２つの第３部位と、
前記第３部位から前記第１方向に延在し、前記第２部位の相互間にそれぞれ配置される第４部位とを備える
請求項１に記載の培養装置。
【請求項６】
前記第１ヒータの出力と、前記第２ヒータの出力とを個別に制御する制御装置をさらに備えた
請求項１〜５の何れか一項に記載の培養装置。
【請求項７】
前記培養空間を開閉する扉と、
前記扉の開閉を検出する検出装置とをさらに備え、
前記制御装置は、前記検出装置の検出結果に基づいて前記第１ヒータの出力を制御する
請求項６に記載の培養装置。
【請求項８】
前記制御装置は、
前記検出装置の検出結果に基づいて前記扉が開状態であると判定したことを条件に、前記検出結果に基づいて前記扉が閉状態であると判定した場合よりも、前記第１ヒータの出力を高く制御する
請求項７に記載の培養装置。
【請求項９】
前記制御装置は、前記培養装置の電源がオンされてから所定時間経過するまでは、前記所定時間の経過後よりも、前記第１ヒータの出力を高く制御する
請求項６〜８の何れか一項に記載の培養装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、培養装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
細胞や微生物等の培養物を培養する培養装置（インキュベータ）では、培養空間の湿度を、培養物の培養に適したものとなるように制御する必要がある（例えば特許文献１参照）。【０００３】
培養空間の加湿は、培養空間の底壁に置かれた加湿皿を使用して行われる。具体的には、当該底壁に設けられたヒータ線により加湿皿を加熱してこの加湿皿内の水を蒸発させることで培養空間が加湿される。【０００４】
加湿皿は、培養空間の温度を調整するためのヒータ線の一部分、具体的には加湿皿の周辺に位置する一部分により加熱されていた。すなわち、単一のヒータ線が調温用と調湿用とを兼ねていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１７−２０１８８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このように、従来の培養装置では単一のヒータ線が調温用と調湿用とを兼ねていたため、ヒータ線の容量が大きくなり、次のような課題が生じていた。【０００７】
（１）ヒータ線の出力の微細な制御が困難であり、ひいては湿度をきめ細かく制御することが困難であった。【０００８】
（２）ヒータ線の応答性が低く、培養空間の湿度を培養物の培養に適した範囲まで速やかに高めることができなかった。【０００９】
本発明は、このような課題を解決するために創案されたものであり、培養空間の湿度をきめ細かく且つ迅速に調整できるようにした培養装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記従来の課題を解決するために、本発明の培養装置は、培養空間に配置され、加湿用の液体を貯留した加湿皿と、前記加湿皿を加熱する第１ヒータと、前記培養空間の温度を制御するための第２ヒータとを備え、前記第１ヒータと前記第２ヒータとが別々に設けられる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、培養空間の湿度をきめ細かく且つ迅速に調整できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態の培養装置を右側から視た模式的な縦断面。
【図２】ヒータ線のパタンを示す模式的な平面図。
【図３】本発明の一実施形態の培養装置の制御構成の要部を示す模式的な機能ブロック図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態に係る培養装置ついて、図面を参照しながら説明する。以下に示す実施の形態はあくまでも例示に過ぎず、以下の実施の形態で明示しない種々の変形や技術の適用を排除するものではない。また、実施の形態の各構成は、それらの趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。さらに、実施の形態の各構成は、必要に応じて取捨選択することができ、あるいは適宜組み合わせることができる。
【００１４】
以下では、培養装置において、使用時にユーザが正対する側（後述の外扉３ａ及び内扉３ｂのある側）を前、その反対側を後とする。また、前から後に向かって視た場合を基準に左右を定める。
【００１５】
なお、実施の形態を説明するための全図において、同一要素は原則として同一の符号を付し、その説明を省略することもある。
【００１６】
［１．構成］
［１−１．全体構成］
本発明の一実施形態の培養装置の全体について図１を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態の培養装置を右側から視た模式的な縦断面である。
【００１７】
図１に示す培養装置１は、細胞や微生物などの培養物を培養する装置である。この培養装置１は、培養空間２０が内部に形成され前面に開口２１が形成された略箱状の断熱箱２と、開口２１を開閉する外扉３ａ及び内扉３ｂと、を備えて構成される。培養空間２０は、複数（ここでは３枚）の棚４により上下に区画されている。外扉３ａの外縁には、パッキンＰ１が設けられている。
【００１８】
培養空間２０は、培養物の培養に適切な環境となるように、温度、湿度、Ｏ２（酸素）濃度及びＣＯ２（二酸化炭素）濃度がそれぞれ適切な範囲に保持されるように制御される。
【００１９】
断熱箱２は、培養空間２０が内部に形成された略箱状の内箱２ａと、内箱２ａの外側を覆う略箱状の外箱２ｂと、を有して構成される。
【００２０】
外箱２ｂは、その内面側に断熱材２ｃを備えている。外箱２ｂの断熱材２ｃの内面と、内箱２ａの外面との間には、内箱２ａの上下左右及び後方を覆うように空間Ｓ１が設けられている。この空間Ｓ１には空気が満たされており、空間Ｓ１内に空気層（所謂エアージャケット）２ｄが形成されている。空間Ｓ１は前方に開口部を有し、この開口部はパッキンＰ２により封止されている。
【００２１】
培養空間２０には、内箱２ａの背面に上下に延在するダクト５が配置されている。ダクト５の内部には、気体通路Ｋが形成されている。この気体通路Ｋには循環用送風機５ｃが配置されている。循環用送風機５ｃを作動させることで、ダクト５の上部に形成された吸込口５ａから培養空間２０の空気が吸い込まれ、この空気がダクト５の下部に設けられた吹出口５ｂから培養空間２０に吹き出される。これにより、矢印Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４で示されるような空気の強制循環が行われる。
【００２２】
また、ダクト５内には、紫外線ランプ７、培養空間２０のＯ２ガス濃度及びＣＯ２ガス濃度を調整する調整用ガス（Ｏ２ガス，Ｎ２ガス及びＣＯ２ガス）を、培養空間２０に供給するためのガス供給管１２ａ，１２ｂが設置されている。紫外線ランプ７は、後述の加湿皿６内の水Ｗを殺菌するものである。
【００２３】
また、ダクト５の下部と内箱２ａの底壁２ａ１と間には、加湿用の水Ｗ（以下「加湿水Ｗ」という）を貯溜する加湿皿６が設置される。加湿皿６は、内箱２ａの底壁２ａ１の下面に設けられた線状のヒータ（以下「ヒータ線」という）Ｈ１（図２及び図３参照）により加熱される。このヒータ線Ｈ１の加熱により加湿水Ｗが蒸発して培養空間２０が加湿される。すなわち、ヒータ線Ｈ１は調湿用のヒータである。
【００２４】
また、内箱２ａの右側壁，左側壁，後壁，天壁及び底壁の各背面（外箱２ｂ側の面）には、調温用、すなわち培養空間２０の温度を制御するためのヒータ線Ｈ２（図２及び図３参照）がそれぞれ設置されている。なお、ヒータ線Ｈ２は、培養装置１の作動中は、原則、通電され発熱した状態にある。
【００２５】
これらのヒータ線Ｈ１とヒータ線Ｈ２とは、別々に設けられており、制御装置１００により個別に通電率が制御され、出力（加熱力）が個別に制御される。
【００２６】
また、培養装置１は、外扉３ａに設けられている操作装置５０から、培養装置１の起動及び停止の指示や、培養空間２０の各種設定値の入力を受け付ける。培養空間２０の各種設定値は、設定温度、設定湿度、Ｏ２ガスの設定濃度及びＣＯ２ガスの設定濃度等である。制御装置１００は、培養空間２０の温度や、湿度や、Ｏ２濃度や、ＣＯ２濃度等が上記設定値になるように制御を行う。
【００２７】
断熱箱２の外箱２ｂの背面及び底面は、カバー１０で覆われている。外箱２ｂの背面とカバー１０との間の空間は、各種機器を配置するための機械室Ｓ２を形成している。機械室Ｓ２には電装ボックス１３が設けられている。電装ボックス１３の内部１３ａには、制御装置１００とその他の図示しない電装品とが収容される。
【００２８】
また、培養空間２０には結露部材１１ａの先端が挿入されている。この結露部材１１ａは、ペルチェ素子（図示省略）によって冷却される。これにより、培養空間２０内において結露部材１１ａ表面に結露水が生成する。結露水を生成させることで、培養空間２０内の湿度を低下させて適正な範囲内に制御することが可能となる。なお、結露部材１１ａの表面に生成した結露水は、結露部材１１ａの先端から加湿皿６内に滴下する。
【００２９】
［１−２．ヒータパタン］
図２を参照してヒータ線Ｈ１，Ｈ２のパタン（ヒータパタン）について説明する。図２は、上方から視たヒータ線Ｈ１，Ｈ２のパタンを示す模式図である。図２では、便宜的に、内箱２ａの底壁２ａ１と加湿皿６とを破線で示す。
【００３０】
図２に示すように、ヒータ線Ｈ１は、圧着端子ｃ１０，ｃ１１を介してパワーケーブルｅ１０，ｅ１１に接続されている。同様に、ヒータ線Ｈ２は、圧着端子ｃ２０，ｃ２１を介してパワーケーブルｅ２０，ｅ２１に接続されている。
【００３１】
調湿用のヒータ線Ｈ１は、前後方向（第２方向）又は左右方向（第１方向）に対してＵ字状に蛇行を繰り返し、その殆どが加湿皿６の下方に配置される。調温用のヒータ線Ｈ２は、同様に前後方向又は左右方向に対してＵ字状に蛇行を繰り返して、底壁２ａ１の略全体に亘って配置される。
【００３２】
加湿皿６の下方について着目すると、加湿皿６の下方に配置された調温用のヒータ線Ｈ２の一部は、左右方向における中央に、前後方向に延在するＵターン部ｈ２０（第１部位）を備える。このＵターン部ｈ２０には、左方向に延在するＵターン部ｈ２１（第２部位）と、右方向に延在するＵターン部ｈ２２（第２部位）とがそれぞれ複数連設されている。Ｕターン部ｈ２１，ｈ２２は前後方向に関して同じ配置であり、Ｕターン部ｈ２１，ｈ２２が一組となって、前後方向に間隔を開けて複数組配置される。
【００３３】
同様に、加湿皿６の下方について着目すると、加湿皿６の下方に配置された調湿用のヒータ線Ｈ１の大部分は、加湿皿６の左右両側縁において、前後方向に延在するＵターン部ｈ１０，ｈ１１（第３部位）をそれぞれ備える。これらのＵターン部ｈ１０，ｈ１１には、加湿皿６の左右方向の中心線ＣＬ近くまで延在するＵターン部ｈ１２，１３（第４部位）がそれぞれ複数連設されている。詳しくは、左側のＵターン部ｈ１０には右方向に延在するＵターン部ｈ１２が複数連設され、右側のＵターン部ｈ１１には、左方向に延在するＵターン部ｈ１３が複数連設されている。Ｕターン部ｈ１２，ｈ１３は、前後方向に対して同じ配置であり、Ｕターン部ｈ１２は、調温用のヒータ線Ｈ２のＵターン部ｈ２１の相互間及び前後に配置され、Ｕターン部ｈ１３は、調温用のヒータ線Ｈ２のＵターン部ｈ２２の相互間及び前後に配置されている。換言すれば、Ｕターン部ｈ１２とＵターン部ｈ２１とが前後方向に対し交互に並べられ、同様に、Ｕターン部ｈ１３とＵターン部ｈ２２とが前後方向に対し交互に並べられている。
【００３４】
［２．制御構成］
以下、図３を参照して、本発明の一実施形態の培養装置１の制御構成の要部を説明する。
図３は、本発明の一実施形態の培養装置１の制御構成の要部を示す模式的な機能ブロック図である。
【００３５】
図３に示すように、制御装置１００は、操作装置５０，温度センサＳｔ，扉スイッチＳｄから制御信号が入力される。また、制御装置１００は、ヒータ線Ｈ１，Ｈ２に制御指令を出力する。
【００３６】
操作装置５０は、各種入力を受け付ける。具体的には、操作装置５０は、培養装置１を起動（電源オン）する操作、培養装置１を停止（電源オフ）する操作、及び、培養空間２０の設定温度Ｔ，設定湿度，設定ＣＯ２濃度ｘ［％］，設定Ｏ２濃度ｙ［％］などの各種設定を入力する操作を受け付ける。操作装置５０は、これらを制御信号として、制御装置１００に入力する。なお、湿度を設定する機能を省略してもよい。
【００３７】
温度センサＳｔは、培養空間２０の温度を検出し、検出した温度を制御信号として制御装置１００に出力する。
【００３８】
扉スイッチＳｄは外扉３ａの開閉を検出する。扉スイッチＳｄは、外扉３ａの閉状態では閉信号を出力し、外扉３ａの開状態では閉信号を出力するものであってもよいし、外扉３ａの閉状態及び開状態の何れか一方の場合にだけ信号を出力するものであってもよい。
【００３９】
また、制御装置１００は、温度センサＳｔにより検出された培養空間２０の温度（以下「温度検出値」という）に基づいて、調温用のヒータ線Ｈ２の出力を制御する。具体的には、温度検出値が設定温度Ｔよりも所定値以上低い場合にはヒータ線Ｈ２の加熱力が高くなるように、温度検出値が設定温度Ｔよりも所定値以上高い場合にはヒータ線Ｈ２の加熱力が低くなるように、ヒータ線Ｈ２への通電率が制御される。
【００４０】
そして、制御装置１００は、培養空間２０の湿度を速やかに高める必要があるとき、調湿用のヒータ線Ｈ１への通電率を高くしてヒータ線Ｈ１の加熱力（出力）を増大させる。
【００４１】
また、制御装置１００は、以下の条件１を満たす場合と、以下の条件２を満たす場合とのそれぞれの場合に、培養空間の湿度を速やかに高める必要があると判定して、ヒータ線Ｈ１の出力を通常時よりも増大させる。ここで、通常時とは、条件１及び条件２の何れも満たさない場合のことをいう。ヒータ線Ｈ１の通常時の出力には０（零）の場合も含む。すなわち、以下の条件１を満たす場合と、以下の条件２を満たす場合とのそれぞれの場合にだけヒータ線Ｈ１に通電し、それ以外の通常時にはヒータ線Ｈ１に通電しない場合も、本発明の態様に含まれる。
【００４２】
（１）条件１
制御装置１００が、扉スイッチＳｄの検出信号に基づいて外扉３ａが開状態にあること判定したこと。詳しくは、制御装置１００が、扉スイッチＳｄの検出信号に基づき外扉３ａが開状態であるとの判断を継続している最中に、温度センサＳｔの検出信号に基づいて培養空間２０の温度が所定値以上低下したことで、培養空間２０が開放状態にあると判定したこと。すなわち、培養空間２０が開放状態にあるため培養空間２０内の湿度の高い空気が放出され、替わりに相対的に湿度の低い培養装置１の周囲の空気が培養空間２０内に流入したと推測されたこと。
【００４３】
制御装置１００は、この条件１が満たされてヒータ線Ｈ１の出力を通常時よりも高く制御した場合、扉スイッチＳｄの検出信号に基づいて外扉３ａが閉状態に切り替わったと判断してから所定時間が経過すると、ヒータ線Ｈ１の出力を通常時の出力に戻す。なお、制御装置１００は、タイマ機能を有しており、このタイマ機能を使用して当該所定時間をカウントする。
【００４４】
（２）条件２
制御装置１００が、操作装置５０から電源オンの操作を受け付けてから所定時間経過していない場合。すなわち、ヒータＨ１の使用による培養空間２０の加湿が、開始されたばかりで、培養空間２０の湿度が、適正範囲（培養物の培養に適した範囲）よりも大幅に低い場合。
【００４５】
制御装置１００は、この条件２が満たされてヒータ線Ｈ１の出力を通常時よりも高く制御した場合、操作装置５０から電源オンの操作を受け付けてから所定時間が経過すると、ヒータ線Ｈ１の出力を通常時の出力に戻す。
【００４６】
なお、制御装置１００が、上述の条件１を満たすとヒータ線Ｈ１の出力を通常時よりも高く制御する一方、上述の条件２を満たしてもヒータ線Ｈ１の出力を通常時の出力としてもよい。逆に、制御装置１００が、上述の条件１を満たしてもヒータ線Ｈ１の出力を通常時の出力とする一方、上述の条件２を満たすとヒータ線Ｈ１の出力を通常時よりも高く制御するようにしてもよい。
【００４７】
［３．効果］
本発明の一実施形態によれば、次のような効果が得られる。
【００４８】
（１）調湿用のヒータ線Ｈ１が、調温用のヒータ線Ｈ２とは別体に設けられている。これにより、単一のヒータ線が、調温用のヒータ線と調湿用のヒータ線とを兼用する従来技術に比べ、ヒータ線Ｈ１の容量を小さくできる。この結果、従来に較べて、調湿用のヒータ線Ｈ１の温度をきめ細やかに且つ高い応答性で制御できる。したがって、本発明の一実施形態によれば、培養空間２０の湿度をきめ細かく且つ迅速に調整できる。
【００４９】
（２）内箱２ａの底壁２ａ１と加湿皿６との底壁２ａ１との間の箇所に結露が発生しやすいが、調湿用のヒータ線Ｈ１が、加湿皿６の下方に設けられているので、このヒータ線Ｈ１により当該箇所の結露を効果的に抑制できる。
【００５０】
（３）調温用のヒータ線Ｈ２の一部により加湿皿６を加熱する。したがって、特に加湿水Ｗの蒸発量を増大させる必要の無い通常時には、ヒータ線Ｈ２のみで培養空間２０内の湿度を調整するための加熱量を賄うことが可能となる。または、当該通常時には、調湿用のヒータ線Ｈ１の出力を低減することが可能となる。
【００５１】
（４）調温用のヒータ線Ｈ２も、加湿皿６の下方に設けられているので、内箱２ａの底壁２ａ１と加湿皿６との底壁との間の結露の生じやすい箇所を加熱して、当該箇所の結露を効果的に抑制できる。
【００５２】
（５）定常的に通電される調温用のヒータＨ２には、平面視において加湿皿６の中心線ＣＬ上（または中心線ＣＬの近傍）に配置されるＵターン部ｈ２０と、このＵターン部ｈ２０から左右に延在するＵターン部ｈ２１，ｈ２２が備えられている。したがって、加湿皿６に対して偏り無く配置され、加湿皿６に局所的に温度の低いコールドスポットが生じることを抑制でき、培養空間２０を定常的に安定して加湿できる。
【００５３】
また、調湿用のヒータＨ１のＵターン部ｈ１０，ｈ１１，ｈ１２，ｈ１３が、調温用のヒータＨ２のＵターン部ｈ２０，ｈ２１，ｈ２２の隙間を埋めるように配置されている。したがって、コールドスポットが加湿皿６に生じることをより一層効果的に抑制でき、培養空間２０の湿度を適正範囲まで早期に加湿できる。
【００５４】
（６）制御装置１００は、ヒータ線Ｈ１，Ｈ２を個別に制御できる。したがって、調温用のヒータ線Ｈ２の出力を変更せずに、加湿水Ｗの蒸発量を増大させるためにヒータ線Ｈ１の出力だけを上げることができる。したがって、培養空間２０の温度に外乱を与えることを抑制しつつ、培養空間２０の湿度を調整できる。なお、ヒータ線Ｈ１の出力を上げた際、培養空間２０の温度の変動（上昇）をより一層抑制できるよう、ヒータ線Ｈ２の出力を僅かに下げるようにしてもよい。
【００５５】
（７）制御装置１００は、扉スイッチＳｄが外扉３ａの開状態を検出していることを条件として、通常時（扉スイッチＳｄが外扉３ａの閉状態を検出している時）よりもヒータ線Ｈ１の出力を増大させる。この結果、外扉３ａ及び内扉３ｂが開いているため培養空間２０の湿度が急激に減少する場合でも、この減少分が、ヒータ線Ｈ１の出力の増大による加湿水Ｗの蒸発の増量によって相殺される。したがって、培養空間２０の湿度を適正範囲に保持できる。
【００５６】
（８）制御装置１００は、操作装置５０から電源オンの操作を受け付けてから所定時間経過していないことを条件として、通常時（電源オンの操作を受け付けてから所定時間経過後）よりもヒータ線Ｈ１の出力を増大させる。この結果、培養装置１が起動したばかりで培養空間２０の湿度が未だ適正範囲まで上昇していない場合、培養空間２０の湿度を早期に適正範囲まで上昇させることができる。
【００５７】
［４．変形例］
（１）調温用のヒータ線Ｈ２を加湿皿６の下面から外して、ヒータ線Ｈ２により加湿皿６を加熱しないようにしてもよい。すなわち、調湿用のヒータ線Ｈ１だけで加湿皿６を加熱するようにしてもよい。
【００５８】
（２）ヒータＨ１，Ｈ２の各出力を、制御装置１００の制御と共にまたは制御装置１００の制御に替えて、オペレータの手動操作により行うようにしてもよい。
【００５９】
（３）ヒータＨ１，Ｈ２のパタンは図２に示されるものに限定されず、加湿皿６の大きさや形状などに応じて適宜変更される。
【００６０】
２０１８年１０月２６日出願の特願２０１８−２０１７０２の日本出願に含まれる明細書、特許請求の範囲、図面および要約書の開示内容は、すべて本願に援用される。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、培養装置として好適に利用される。
【符号の説明】
【００６２】
１  培養装置
２  断熱箱
２ａ  内箱
２ａ１  底壁
２ｂ  外箱
２ｃ  断熱材
２ｄ  空気層
３ａ  外扉
３ｂ  内扉
４  棚
５  ダクト
５ａ  吸込口
５ｂ  吹出口
５ｃ  循環用送風機
６  加湿皿
７  紫外線ランプ
１０  カバー
１１ａ  結露部材
１２ａ，１２ｂ  ガス供給管
１３  電装ボックス
１３ａ  電装ボックスの内部
２０  培養空間
２１  開口
５０  操作装置
１００  制御装置
ｃ１０，ｃ１１，ｃ２０，ｃ２１  圧着端子
ＣＬ  加湿皿６の左右方向の中心線
ｅ１０，ｅ１１，ｅ２０，ｅ２１  パワーケーブル
Ｈ１  調湿用のヒータ線（第１ヒータ）
Ｈ２  調温用のヒータ線（第２ヒータ）
ｈ１０，ｈ１１  Ｕターン部（第３部位）
ｈ１２，ｈ１３  Ｕターン部（第４部位）
ｈ２０  Ｕターン部（第１部位）
ｈ２１，ｈ２２  Ｕターン部（第２部位）
Ｋ  気体通路
Ｐ１，Ｐ２  パッキン
Ｓ１  空間
Ｓ２  機械室
Ｓｔ  温度センサ
Ｓｄ  扉スイッチ
Ｗ  水
【図１】
2020085006.tif 000003
【図２】
2020085006.tif 000004
【図３】
2020085006.tif 000005
【国際調査報告】
2020085006.tif 000006
2020085006.tif 000007
2020085006.tif 000008
2020085006.tif 000009