(57)【要約】  配線基板は、第１面、第１面とは反対側の第２面、並びに、第１面及び第２面のそれぞれにつながる側面を有する基板と、第１面から側面にまたがって位置する第１金属膜と、第２面から側面に位置する第１金属膜の上にまたがって位置する第２金属膜とを備える。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面、前記第１面とは反対側の第２面、並びに、前記第１面及び前記第２面のそれぞれにつながる側面を有する基板と、
前記第１面から前記側面にまたがって位置する第１金属膜と、
前記第２面から前記側面に位置する前記第１金属膜の上にまたがって位置する第２金属膜と、
を備える配線基板。
【請求項２】
前記第１面に位置する前記第１金属膜は、前記側面に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有し、
前記側面に位置する前記第１金属膜は、前記第１面に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有し、
前記第２面に位置する前記第２金属膜は、前記側面に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有し、
前記側面に位置する前記第２金属膜は、前記第２面に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する、
請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記第１金属膜と前記第２金属膜との各々は、密着層とバリア層と導体層とを含む、
請求項１又は請求項２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記第１面における、前記第１面に位置する前記第１金属膜の中央よりも前記側面から離れた位置、又は、前記第２面における、前記第２面に位置する前記第２金属膜の中央よりも前記側面から離れた位置に、アライメントマークを有する、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の配線基板と、
前記配線基板に搭載された電子部品と、
を備える電子装置。
【請求項６】
請求項５記載の電子装置と、
前記電子装置を搭載したモジュール用基板と、
を備える電子モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、配線基板、電子装置及び電子モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
特開平１０−２８４４３６号公報には、炭化シリコンの基板と基板上の電極とをオーミック接触させる技術が開示されている。オーミック接触とは、ショットキー障壁が存在しない抵抗性の接触のことを言い、オーミック接触された電極により、金属抵抗に電流を流すのと同様に、電極から基板へ電流を流すことが可能となる。
【発明の概要】
【０００３】
本開示の配線基板は、
第１面、前記第１面とは反対側の第２面、並びに、前記第１面及び前記第２面のそれぞれにつながる側面を有する基板と、
前記第１面から前記側面にまたがって位置する第１金属膜と、
前記第２面から前記側面に位置する前記第１金属膜の上にまたがって位置する第２金属膜と、
を備える。
【０００４】
本開示の電子装置は、
上記の配線基板と、
前記配線基板に搭載された電子部品と、
を備える。
【０００５】
本開示の電子モジュールは、
上記の電子装置と、
前記電子装置を搭載したモジュール用基板と、
を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本開示の実施形態に係る配線基板を示す縦断面図である。
【図２】図１の配線基板を示す平面図である。
【図３】図１の配線基板を示す裏面図である。
【図４】図１の矢印Ａ−Ａ線断面図である。
【図５】本開示の実施形態に係る電子装置及び電子モジュールを示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本開示の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【０００８】
図１は、本開示の実施形態に係る配線基板を示す縦断面図である。図２は、図１の配線基板を示す平面図である。図３は、図１の配線基板を示す裏面図である。図４は、図１の矢印Ａ−Ａ線断面図である。図２と図３では、配線導体４１、４２を二点鎖線で示し、配線導体４１、４２を取り除いた状態を示している。
【０００９】
本実施形態の配線基板１は、例えば、電子部品をモジュール基板又はパッケージに実装するために電子部品と実装先の対象との間に介在されるサブマウントである。配線基板１は、基板１０と、第１金属膜２０及び第２金属膜３０と、膜状の配線導体４１、４２とを備える。
【００１０】
基板１０は、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）等の半導体材料、又は窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等の絶縁性を有するセラミック材料から構成される。基板１０は、第１面１１と、第１面１１の反対側に位置する第２面１２と、第１面１１及び第２面１２のそれぞれにつながる側面１３とを有する。側面１３は、第１面１１の一方のエッジｅ１（図１）と第２面１２の一方のエッジｅ２（図１）との間に位置する。エッジｅ１、ｅ２は、第１面１１及び第２面１２において同一方向に位置する。側面１３は、ダイシングされた切断面であってもよい。
【００１１】
第１金属膜２０は、第１面１１から側面１３にまたがって位置する。具体的には、第１面１１上の第１金属膜２０と、側面１３に沿った第１金属膜２０とは、一体的に形成され、エッジｅ１の箇所で連続している。第１面１１に位置する第１金属膜２０は、側面１３に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する。側面１３に位置する第１金属膜２０は、第１面１１に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する。よって、エッジｅ１の箇所における第１金属膜２０の厚みは、第１面１１側と側面１３側とにエッジｅ１から最も離れた第１金属膜２０の両端部の厚みよりも大きい。
【００１２】
第１金属膜２０は、図４に示すように、基板１０に近い方から密着層Ｌ１とバリア層Ｌ２と導体層Ｌ３とが積層されて構成される。密着層Ｌ１は、導体層Ｌ３よりも基板１０との密着度が高い金属であり、例えばＴｉ（チタン）を適用できる。バリア層Ｌ２は、各層間の成分の拡散を抑制する性質を有する金属であり、例えばＰｔ（白金）を適用できる。導体層Ｌ３は、密着層Ｌ１よりも電気伝導度の高い金属であり、例えばＡｕ（金）を適用できる。第１金属膜２０の密着層Ｌ１、バリア層Ｌ２及び導体層Ｌ３の各層が、上述した第１金属膜２０の厚み勾配を有してもよいし、いずれかの層が上述した厚み勾配を有してもよい。
【００１３】
第２金属膜３０は、第２面１２から側面１３に位置する第１金属膜２０の上にまたがって位置する。具体的には、第２面１２上の第２金属膜３０と、側面１３に沿った第２金属膜３０とは、一体的に形成され、エッジｅ２の箇所で連続している。第２面１２に位置する第２金属膜３０は、側面１３に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する。側面１３に位置する第２金属膜３０は、第２面１２に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する。よって、エッジｅ２の箇所における第２金属膜３０の厚みは、第２面１２側と側面１３側とにエッジｅ２から最も離れた第２金属膜３０の両端部の厚みよりも大きい。
【００１４】
第２金属膜３０は、図４に示すように、基板１０に近い方から密着層Ｌ１とバリア層Ｌ２と導体層Ｌ３とが積層されて構成される。各層の材料は、第１金属膜２０の各層と同様である。第２金属膜３０の密着層Ｌ１、バリア層Ｌ２及び導体層Ｌ３は、各層が上述した第２金属膜３０の厚み勾配を有してもよいし、いずれかの層が上述した第２金属膜３０の厚み勾配を有してもよい。
【００１５】
側面１３に沿った第１金属膜２０の厚み勾配と、側面１３に沿った第２金属膜３０の厚み勾配とは、勾配の向きが逆であるが、勾配の大きさはほぼ同一であってもよい。したがって、側面１３の面上において、第１金属膜２０と第２金属膜３０とを合わせた膜の厚みは、一方のエッジｅ１に近い方から他方のエッジｅ２に近い方にかけて、ほぼ一定となってもよい。上記の構成により、通電時に、側面１３の第１金属膜２０と第２金属膜３０との界面に生じるジュール熱を均一に拡散させることができ、上記のジュール熱に基づき第１金属膜２０と第２金属膜３０とに生じる応力集中を低減できる。ここでは、第２面１２から第１面１１の方向を高さと呼んでいる。以下、同様である。
【００１６】
さらに、側面１３に沿った第１金属膜２０の平均的な厚みと、側面１３に沿った第２金属膜３０の平均的な厚みとは、ほぼ同一としてもよい。また、第１金属膜２０が形成される側面１３の高さ方向の長さと、第２金属膜３０が形成される側面１３の高さ方向の長さとは、例えば基板１０の高さ方向のほぼ全域とするなど、ほぼ同一にしてもよい。上記の構成により、基板１０の高さ方向の中央において、第１金属膜２０の厚みと第２金属膜３０の厚みとをほぼ同一にすることができる。したがって、側面１３の第１金属膜２０及び第２金属膜３０に生じる膜応力を均一にできる。ここでの膜応力とは、成膜時から加わっているものと、基板１０との熱膨張率の差によって生じるものとが含まれる。
【００１７】
配線導体４１は、電子部品が搭載されて、電子部品と電気的に接続される部位であり、第１金属膜２０を介して第１面１１上に形成される。もう一方の配線導体４２は、実装先に接合される部位であり、第２金属膜３０を介して第２面１２上に形成される。配線導体４１、４２としては、例えばＡｕＳｚ（金スズ）を適用できる。ＡｕＳｚを材料とする場合、配線導体４１と第１金属膜２０との間、並びに、配線導体４２と第２金属膜３０との間には、Ｐｔ（白金）等のバリア膜が介在されてもよい。
【００１８】
図示では、第１面１１上の第１金属膜２０の厚み勾配と、第２面１２上の第２金属膜３０の厚み勾配とを、誇張して示している。実際の厚み勾配は、基板１０の第１面１１及び第２面１２の平行度の公差と同程度であり、それゆえ、配線導体４１の上面と配線導体４２の下面との平行度は、図示のものとは異なり、比較的に高くなる。
【００１９】
図２に示すように、第１面１１側の第１金属膜２０にはアライメントマーク２３ａ〜２３ｃが形成されている。アライメントマーク２３ａ〜２３ｃは、配線基板１に電子部品を実装する際に、あるいは、配線基板１を実装先に実装する際に、カメラ等の映像から識別し、配線基板１の向き及び位置を調整するためのマークである。アライメントマーク２３ａ〜２３ｃは、第１金属膜２０の成膜パターンにより形成され、金属膜が無い部分を包含する。アライメントマーク２３ａ〜２３ｃは、第１金属膜２０の成膜時のパターニングあるいは第１金属膜２０をエッチングすることで形成される。
【００２０】
アライメントマーク２３ａ〜２３ｃは、第１面１１における、第１面１１に位置する第１金属膜２０の中央よりも側面１３から離れた方に配置される。アライメントマーク２３ａ〜２３ｃは、第２面１２における、第２面１２に位置する第２金属膜３０の中央よりも側面１３から離れた方に配置されてもよい。アライメントマーク２３ａ〜２３ｃは、配線導体４１よりも側面１３の反対側に配置されていてもよい。
【００２１】
＜製造方法＞
続いて、上記のような厚み勾配を有する第１金属膜２０及び第２金属膜３０の製造方法について説明する。
【００２２】
第１金属膜２０は、例えば蒸着又はスパッタリングなどの真空成膜装置を用いて形成される。基板１０は、エッジｅ１が成膜材料の発生源を向くように真空成膜装置に配置される。第１面１１と側面１３とが直交する場合、上記の配置により、第１面１１と側面１３とが、成膜成分の発生源に対して４５度傾く。上記の配置で、成膜処理を実行することで、エッジｅ１の部分が厚く、エッジｅ１から離れるほど厚みが小さい第１金属膜２０を形成できる。第２金属膜３０についても、同様に、真空成膜装置において基板１０のエッジｅ２を成膜成分の発生源に向けて配置し、成膜処理を実行することで上記の厚み勾配を達成することができる。
【００２３】
第１金属膜２０の成膜時と、第２金属膜３０の成膜時には、第１面１１、第２面１２及び側面１３の各面を除く、基板１０の他の面にフォトレジストを形成しておくことで、他の面への金属膜の形成が省かれる。フォトレジストは、第１面１１、第２面１２及び側面１３のうち、これら以外の他の面と隣接する縁部にも形成され、成膜処理が行われてもよい。
【００２４】
＜電子装置及び電子モジュール＞
図５は、本開示の実施形態に係る電子装置及び電子モジュールを示す断面図である。
【００２５】
本実施形態に係る電子装置６０は、配線基板１に電子部品５０を実装して構成される。図示は省略するが、電子装置６０は、さらに、配線基板１と電子部品５０とを収容するパッケージを有する構成であってもよい。
【００２６】
電子部品５０としては、ＬＤ（Laser Diode）、ＰＤ（Photo Diode）、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の光素子、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）型、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）型等の撮像素子、水晶振動子等の圧電振動子、弾性表面波素子、半導体集積回路素子（ＩＣ：Integrated Circuit）等の半導体素子、電気容量素子、インダクタ素子又は抵抗器等の種々の電子部品を適用できる。
【００２７】
電子部品５０と、配線基板１の配線導体４１とは、半田等の接合材を介して接続されてもよいし、電子部品５０が配線基板１に接合された上で、電子部品５０の端子と配線導体４１とがボンディングワイヤ等を介して電気的に接続されてもよい。
【００２８】
本実施形態に係る電子モジュール１００は、モジュール用基板１１０に電子装置６０を実装して構成される。モジュール用基板１１０には、電子装置６０に加えて、他の電子装置、電子素子及び電気素子などが実装されていてもよい。モジュール用基板１１０には電極パッド１１１が設けられ、電子装置６０は、電極パッド１１１に半田等の接合材１１３を介して接合される。図５では、電極パッド１１１に配線基板１の配線導体４２が接合されているが、電子装置６０がパッケージを有する場合、モジュール用基板１１０の電極パッド１１１にはパッケージの配線導体が接合されてもよい。
【００２９】
以上のように、本実施形態の配線基板１によれば、第１金属膜２０が基板１０の第１面１１から側面１３にまたがって位置し、第２金属膜３０が基板１０の第２面１２から側面１３に位置する第１金属膜２０の上にまたがって位置する。したがって、基板１０の第１面１１側から第２面１２側に電流を流す場合に、側面１３の第１金属膜２０及び第２金属膜３０を介して多くの電流が流れる。したがって、基板１０に発生するジュール熱が抑制され、例えば、配線基板１に搭載された電子部品の放熱が必要である場合に、基板１０を介した放熱特性を向上できる。
【００３０】
さらに、本実施形態の配線基板１によれば、基板１０の第１面１１から第２面１２まで導体を介して電流を流すことができる。第１金属膜２０及び第２金属膜３０の電気抵抗は、半導体である基板１０の電気抵抗と比較して、４桁以上小さい。したがって、本実施形態の配線基板１によれば、少ない損失で、第１面１１から第２面１２へ電流を流すことができ、ジュール熱の発生を顕著に低減することができる。
【００３１】
さらに、基板１０の側面１３には、第１面１１側にまたがって存在する第１金属膜２０と、第２面１２側にまたがって存在する第２金属膜３０とが積層されている。上記の構成により、例えば配線基板１に熱が加わって、熱膨張率の違いにより、基板１０と第１金属膜２０又は第２金属膜３０との界面に応力が生じた場合でも、側面１３から第１金属膜２０又は第２金属膜３０が剥離することを抑制できるという効果が奏される。
【００３２】
さらに、実施形態の配線基板１によれば、第１面１１に位置する第１金属膜２０は、側面１３に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有し、側面１３に位置する第１金属膜２０は、第１面１１に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する。また、第２面１２に位置する第２金属膜３０は、側面１３に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有し、側面１３に位置する第２金属膜３０は、第２面１２に近づくほど厚みが増す厚み勾配を有する。上記の厚み勾配により、応力が集中しやすいエッジｅ１、ｅ２の箇所において、第１金属膜２０と第２金属膜３０との強度を高めることができ、エッジｅ１、ｅ２の部分にクラック等が発生することを抑制できる。したがって、基板１０の第１面１１から第２面１２までの低い電気抵抗が堅持され、電気的な特性の信頼性を向上できる。
【００３３】
さらに、実施形態の配線基板１によれば、側面１３において第１金属膜２０と第２金属膜３０とを合わせた厚みを、第１面１１側から第２面１２側まで均一にできる。上記の構成により、通電時、側面１３の第１金属膜２０と第２金属膜３０との間の界面に生じるジュール熱を均等に拡散することができ、上記のジュール熱に基づき第１金属膜２０と第２金属膜３０とに発生する応力集中を低減できる。したがって、基板１０の第１面１１から第２面１２までの低い電気抵抗が堅持され、電気的な特性の信頼性を向上できる。
【００３４】
さらに、実施形態の配線基板１によれば、基板１０の高さ方向の中央において、第１金属膜２０の厚みと、第２金属膜３０の厚みとを、ほぼ同一にできる。上記の構成により、側面１３の第１金属膜２０及び第２金属膜３０に生じる膜応力を、高さ方向で均一化でき、膜応力の均一化により、第１金属膜２０又は第２金属膜３０の剥離をより抑制できる。
【００３５】
さらに、実施形態の配線基板１によれば、第１金属膜２０と第２金属膜３０との各々は、密着層Ｌ１とバリア層Ｌ２と導体層Ｌ３とを含む。したがって、第１金属膜２０又は第２金属膜３０が単独で存在する第１面１１上と第２面上において、第１金属膜２０と第２金属膜３０の高い安定性が得られる。さらに、第１金属膜２０と第２金属膜３０とが重なって存在する側面１３においても、上記の三層構造により第１金属膜２０と第２金属膜３０との高い安定性が得られる。
【００３６】
さらに、実施形態の配線基板１によれば、アライメントマーク２３ａ〜２３ｃが、側面１３から離れた方に配置されている。上記の配置により、アライメントマーク２３ａ〜２３ｃが、第１面１１上の第１金属膜２０から第２面１２上の第２金属膜３０までの主要な電流経路において、断面を狭めることがない。したがって、第１面１１上の第１金属膜２０から第２面１２上の第２金属膜３０まで、低損失で電流を流すことができ、第１金属膜２０と第２金属膜３０とに発生するジュール熱をより低減することができる。
【００３７】
さらに、本実施形態の電子装置６０及び電子モジュール１００によれば、配線基板１における基板１０のジュール熱の発生が低減されるので、電子部品５０の放熱性の向上を図ることができる。したがって、電子装置６０及び電子モジュール１００の信頼性を向上できる。
【００３８】
以上、本開示の実施形態について説明した。なお、上記実施形態では、基板の材料として半導体を一例として挙げたが、基板は絶縁材料から構成されてもよい。また、上記実施形態では、配線基板の側面の高さ方向におけるほぼ全域に第１金属膜と第２金属膜とが形成された例を示したが、側面の高さ方向における一部でのみ第１金属膜と第２金属膜とが積層される構成としてもよい。また、上記実施形態では、第１金属膜と第２金属膜とを三層構造とした例を示したが、各層の材料は適宜変更可能であるし、第１金属膜又は第２金属膜は三層以外の複数層の構造としてもよいし、単層構造としてもよい。また、上記実施形態では、電子部品が搭載される側を第１面として説明したが、電子部品が搭載される側を第２面としてもよい。すなわち、側面における金属膜の積層順は、図１に示した積層順の逆としてもよい。本実施形態の説明は、全ての局面において例示であって、本発明が上記に限定されるものではない。本開示は、相互に矛盾しない限り、適宜、組み合わせ、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用可能である。そして、例示されていない無数の変形例が、本発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本開示は、配線基板、電子装置及び電子モジュールに利用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2020138221.tif 000009
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