Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月28日(2011.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＲＮＡ干渉を媒介する化学的に修飾された二本鎖短干渉核酸分子であって，
ａ）二本鎖核酸はセンス鎖およびアンチセンス鎖を含み；
ｂ）各鎖は，独立して，１８−２４ヌクレオチドの長さであり；
ｃ）センス鎖はその５’−および３’−末端に末端キャップ成分を含み，アンチセンス鎖はその３’−末端に末端キャップ成分を含み；および
ｄ）センス鎖およびアンチセンス鎖の１０またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−デオキシ，２’−Ｏ−メチル，または２’−デオキシ−２’−フルオロヌクレオチドで化学的に修飾されている，
ことを特徴とする二本鎖核酸分子。
【請求項２】
前記二本鎖核酸分子はリボヌクレオチドを含まない，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項３】
前記二本鎖核酸分子は１またはそれ以上のリボヌクレオチドを含む，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項４】
センス鎖に存在する１またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−Ｏ−メチルピリミジンヌクレオチドである，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項５】
センス鎖に存在する１またはそれ以上のプリンヌクレオチドは２’−デオキシプリンヌクレオチドである，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項６】
センス鎖に存在する１またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−デオキシ−２’−フルオロピリミジンヌクレオチドである，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項７】
前記アンチセンス鎖に存在する１またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−デオキシ−２’−フルオロピリミジンヌクレオチドである，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項８】
前記アンチセンス鎖に存在する１またはそれ以上のプリンヌクレオチドは２’−Ｏ−メチルプリンヌクレオチドである，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項９】
請求項１に記載の二本鎖核酸分子および薬学的に許容しうる担体または希釈剤を含む組成物。
【請求項１０】
１，２，３，４，５，６，７，８，９，または１０個のホスホロチオエートヌクレオチド間結合を含む，請求項１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１１】
ＲＮＡ干渉を媒介する化学的に修飾された二本鎖短干渉核酸分子であって，
ａ）二本鎖核酸はセンス鎖およびアンチセンス鎖を含み；
ｂ）各鎖は，独立して，１８−２４ヌクレオチドの長さであり；
ｃ）センス鎖はその５’−および３’−末端に末端キャップ成分を含み，アンチセンス鎖はその３’−末端に末端キャップ成分を含み；および
ｄ）センス鎖またはアンチセンス鎖の１０個またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−デオキシ，２’−Ｏ−メチル，または２’−デオキシ−２’−フルオロヌクレオチドで化学的に修飾されている，
ことを特徴とする二本鎖核酸分子。
【請求項１２】
前記二本鎖核酸分子はリボヌクレオチドを含まない，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１３】
前記二本鎖核酸分子は１またはそれ以上のリボヌクレオチドを含む，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１４】
センス鎖に存在する１またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−Ｏ−メチルピリミジンヌクレオチドである，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１５】
センス鎖に存在する１またはそれ以上のプリンヌクレオチドは２’−デオキシプリンヌクレオチドである，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１６】
センス鎖に存在する１またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−デオキシ−２’−フルオロピリミジンヌクレオチドである，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１７】
前記アンチセンス鎖に存在する１またはそれ以上のピリミジンヌクレオチドは２’−デオキシ−２’−フルオロピリミジンヌクレオチドである，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１８】
前記アンチセンス鎖に存在する１またはそれ以上のプリンヌクレオチドは２’−Ｏ−メチルプリンヌクレオチドである，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項１９】
１，２，３，４，５，６，７，８，９，または１０個のホスホロチオエートヌクレオチド間結合を含む，請求項１１に記載の二本鎖核酸分子。
【請求項２０】
請求項１１に記載の二本鎖核酸分子および薬学的に許容しうる担体または希釈剤を含む組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月15日(2011.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】トランジスタ及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、
前記ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に設けられ微結晶半導体を有する第１の半導体層と、
前記第１の半導体層上に設けられ非晶質半導体を有する第２の半導体層と、
前記第２の半導体層上に設けられたソース領域及びドレイン領域とを有し、
前記第２の半導体層は、少なくとも前記ソース領域と前記ドレイン領域との間に、前記ソース領域及び前記ドレイン領域と異なる導電型の不純物領域を有することを特徴とするトランジスタ。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２の半導体層は、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間に凹部を有することを特徴とするトランジスタ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記不純物領域は、前記ソース領域の端部及び前記ドレイン領域の端部の下方にも形成されていることを特徴とするトランジスタ。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記第１の半導体層の膜厚は、前記第２の半導体層の膜厚より薄いことを特徴とするトランジスタ。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記非晶質半導体はｎ型であり、
前記不純物領域はｐ型であることを特徴とするトランジスタ。
【請求項６】
基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に、微結晶半導体を有する第１の半導体層と、非晶質半導体を有する第２の半導体層と、一導電型を付与する不純物が添加された第３の半導体層とを順に積層させて形成し、
前記第３の半導体層上に導電膜を形成し、
前記導電膜上にマスクを選択的に形成し、
前記マスクを用いて、前記導電膜と前記第３の半導体層をエッチングすることによって、ソース電極及びドレイン電極とソース領域及びドレイン領域とを形成し、
前記マスクを用いて、前記ソース領域及び前記ドレイン領域と異なる導電型の不純物元素を導入することによって、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間の前記第２の半導体層に不純物領域を形成することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項７】
基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に、微結晶半導体を有する第１の半導体層と、非晶質半導体を有する第２の半導体層と、一導電型を付与する不純物が添加された第３の半導体層とを順に積層させて形成し、
前記第３の半導体層上に導電膜を形成し、
前記導電膜上にマスクを選択的に形成し、
前記マスクを用いて、前記導電膜と前記第３の半導体層をエッチングすることによって、ソース電極及びドレイン電極とソース領域及びドレイン領域とを形成し、
前記ソース電極及びドレイン電極の端部を選択的にエッチングすることによって、前記ソース領域及び前記ドレイン領域の端部の表面を露出させ、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極をマスクとして、前記ソース領域及び前記ドレイン領域と異なる導電型の不純物元素を導入することによって、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間の前記第２の半導体層に不純物領域を形成することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項８】
請求項６又は請求項７において、
前記第１の半導体層を前記第２の半導体層より薄く形成することを特徴とするトランジスタの作製方法。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一において、
前記非晶質半導体をｎ型で形成し、
前記不純物元素としてｐ型の不純物元素を用いることを特徴とするトランジスタの作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられたゲート電極と、
前記ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート電極上に前記ゲート絶縁膜を介して設けられた微結晶半導体膜と、
前記微結晶半導体膜上において、前記微結晶半導体膜と接して設けられたチャネル保護膜と、
前記ゲート絶縁膜上であり、且つ前記微結晶半導体膜及び前記チャネル保護膜の側面に設けられた非晶質半導体膜と、
前記非晶質半導体膜上に設けられた不純物半導体膜と、
前記不純物半導体膜上に接して設けられたソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記非晶質半導体膜の膜厚は、前記微結晶半導体膜の膜厚より大きい薄膜トランジスタを有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
基板上に設けられたゲート電極と、
前記ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート電極上に前記ゲート絶縁膜を介して設けられた微結晶半導体膜と、
前記微結晶半導体膜上において、前記微結晶半導体膜と接して設けられたチャネル保護膜と、
前記ゲート絶縁膜上であり、且つ前記微結晶半導体膜及び前記チャネル保護膜の側面に設けられた非晶質半導体膜と、
前記非晶質半導体膜上に設けられた不純物半導体膜と、
前記不純物半導体膜上に接して設けられたソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記非晶質半導体膜の膜厚は、前記微結晶半導体膜の膜厚より大きく、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極の外側において、前記不純物半導体膜の一部、及び前記非晶質半導体膜の一部が露出しており、
前記不純物半導体膜の端部と、前記非晶質半導体膜の端部は一致している薄膜トランジスタを有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
基板上に設けられたゲート電極と、
前記ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート電極上に前記ゲート絶縁膜を介して設けられた微結晶半導体膜と、
前記微結晶半導体膜上において、前記微結晶半導体膜と接して設けられたチャネル保護膜と、
前記ゲート絶縁膜上であり、且つ前記微結晶半導体膜及び前記チャネル保護膜の側面に設けられた非晶質半導体膜と、
前記非晶質半導体膜上に設けられた不純物半導体膜と、
前記不純物半導体膜上に接して設けられたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極、前記不純物半導体膜、並びに前記非晶質半導体膜に接する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記絶縁膜に形成されるコンタクトホールにおいて、前記ソース電極または前記ドレイン電極に接続する画素電極と、を有し、
前記非晶質半導体膜の膜厚は、前記微結晶半導体膜の膜厚より大きい薄膜トランジスタを有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
基板上に設けられたゲート電極と、
前記ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート電極上に前記ゲート絶縁膜を介して設けられた微結晶半導体膜と、
前記微結晶半導体膜上において、前記微結晶半導体膜と接して設けられたチャネル保護膜と、
前記ゲート絶縁膜上であり、且つ前記微結晶半導体膜及び前記チャネル保護膜の側面に設けられた非晶質半導体膜と、
前記非晶質半導体膜上に設けられた不純物半導体膜と、
前記不純物半導体膜上に接して設けられたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極、前記不純物半導体膜、並びに前記非晶質半導体膜に接する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記絶縁膜に形成されるコンタクトホールにおいて、前記ソース電極または前記ドレイン電極に接続する画素電極と、を有し、
前記非晶質半導体膜の膜厚は、前記微結晶半導体膜の膜厚より大きく、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極の外側において、前記不純物半導体膜の一部、及び前記非晶質半導体膜の一部が露出しており、
前記不純物半導体膜の端部と、前記非晶質半導体膜の端部は一致している薄膜トランジスタを有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記チャネル保護膜は、窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の表示装置を具備することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月9日(2010.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）から構成される液晶性ポリエステル１００重量部と（Ｂ）ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル０．１〜０．５重量部、（Ｃ）充填材３０〜１００重量部に、更に（Ｄ）脂肪酸金属塩０．０１〜０．０５重量部を含有したことを特徴とする液晶性樹脂組成物。
【化１】
2009179693.tif 000001
【請求項２】
構造単位（Ｉ）が構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の合計に対して６５〜８０モル％であり、構造単位（ＩＩ）が構造単位（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の合計に対して６０〜７５モル％であり、構造単位（ＩＶ）が構造単位（ＩＶ）および（Ｖ）の合計に対して６０〜９２モル％であることを特徴とする請求項１に記載の液晶性樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）ペンタエリスリトールの脂肪酸エステルがペンタエリスリトールテトラステアレートを少なくとも含有するものであることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶性樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｄ）脂肪酸金属塩がステアリン酸リチウムを少なくとも含有するものであることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の液晶性樹脂組成物。
【請求項５】
（Ａ）液晶性ポリエステル１００重量部と（Ｂ）ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル０．１〜０．５重量部、（Ｃ）充填材３０〜１００重量部からなる液晶性樹脂組成物を溶融混練して得た液晶性樹脂組成物に、更に（Ｄ）脂肪酸金属塩０．０１〜０．０５重量部をドライブレンドすることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の液晶性樹脂組成物の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４いずれかに記載の液晶性樹脂組成物からなることを特徴とする成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、液晶性ポリエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、充填材、脂肪酸金属塩を含有する液晶性樹脂組成物、およびその製造方法並びにそれからなる成形品に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
これまでにも離型性を改良する検討がなされている（例えば、特許文献１〜２参照）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明は
（１）（Ａ）下記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）から構成される液晶性ポリエステル１００重量部と（Ｂ）ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル０．１〜０．５重量部、（Ｃ）充填材３０〜１００重量部に、更に（Ｄ）脂肪酸金属塩０．０１〜０．０５重量部を含有したことを特徴とする液晶性樹脂組成物、
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（２）構造単位（Ｉ）が構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の合計に対して６５〜８０モル％であり、構造単位（ＩＩ）が構造単位（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の合計に対して６０〜７５モル％であり、構造単位（ＩＶ）が構造単位（ＩＶ）および（Ｖ）の合計に対して６０〜９２モル％であることを特徴とする上記（１）に記載の液晶性樹脂組成物、
（３）（Ｂ）ペンタエリスリトールの脂肪酸エステルがペンタエリスリトールテトラステアレートを少なくとも含有するものであることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の液晶性樹脂組成物、
（４）（Ｄ）脂肪酸金属塩がステアリン酸リチウムを少なくとも含有するものであることを特徴とする上記（１）〜（３）いずれかに記載の液晶性樹脂組成物、
（５）（Ａ）液晶性ポリエステル１００重量部と（Ｂ）ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル０．１〜０．５重量部、（Ｃ）充填材３０〜１００重量部からなる液晶性樹脂組成物を溶融混練して得た液晶性樹脂組成物に、更に（Ｄ）脂肪酸金属塩０．０１〜０．０５重量部をドライブレンドすることを特徴とする上記（１）〜（４）いずれかに記載の液晶性樹脂組成物の製造方法、
（６）上記（１）〜（４）いずれかに記載の液晶性樹脂組成物からなることを特徴とする成形品を提供するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
（Ｃ）充填材の配合量は、液晶性ポリエステル１００重量部に対し、通常３０〜１００重量部であり、好ましくは４０〜６０重量部である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
溶融混練には公知の方法を用いることができる。たとえば、バンバリーミキサー、ゴムロール機、ニーダー、単軸もしくは二軸押出機などを用い、液晶性ポリエステルの液晶開始温度−５０℃〜融点＋５０℃で溶融混練して液晶性樹脂組成物とすることができる。中でも、二軸押出機が好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
（１）低ガス性
成形品の任意部分を２０ｍｇ切り出し、１５０℃３時間熱風乾燥後、熱重量分析装置（ＴＧＡ）を用い、窒素下、液晶性ポリエステルの融点＋１０℃の温度で６０分間保持した際に重量減少率を測定した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
実施例１〜１１、比較例１〜１５
東芝機械製ＴＥＭ３５Ｂ型２軸押出機（噛み合い型同方向）に、シリンダーＣ１（元込めフィーダー側ヒーター）〜Ｃ６（ダイ側ヒーター）の、Ｃ３部にサイドフィーダーを設置し、Ｃ５部に真空ベントを設置した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
【表１】
2009179693.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月21日(2011.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
以下、本発明の熱可塑性樹脂組成物につき詳細に説明する。
−ポリアミド樹脂樹脂（Ａ）−
本発明におけるポリアミド樹脂（Ａ）としては、ナイロン３、ナイロン４、ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６Ｉ、ナイロン６／６６、ナイロン６Ｔ／６Ｉ、ナイロン６／６Ｔ、ナイロン６６／６Ｔ、ポリトリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド、ポリビス（４−アミノシクロヘキシル）メタンドデカミド、ポリビス（３−メチル−４−アミノシクロヘキシル）メタンドデカミド、ポリメタキシリレンアジパミド、ナイロン１１Ｔ、ポリウンデカメチレンヘキサヒドロテレフタルアミド等が挙げられる。なお、上記”Ｉ”はイソフタル酸成分、”Ｔ”はテレフタル酸成分を示す。
これらのうち、特にナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２が好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ポリアミド樹脂（Ａ）、グラフト共重合体（Ｂ）、不飽和カルボン酸変性共重合体（Ｃ）、共重合体（Ｄ）および扁平形状を有するガラス繊維（Ｅ）の混合順序ならびにその状態には何ら制限はなく、パウダー、ペレットなどの形態による、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）成分の一括同時混合、特定の二成分を予備混合した後残る成分を混合する方法が例示される。これらの溶融混合に際してはバンバリーミキサー、ロール、押出機等を用いることができる。
なお、混合に際し、必要に応じてポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリ乳酸や熱可塑性デンプンに代表される植物由来の熱可塑性樹脂などの他樹脂、さらには酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、滑剤、染料、顔料、可塑剤、難燃剤、離型剤、金属繊維、炭素繊維、金属フレーク等の公知の添加剤、補強材、充填材等を配合することができる。
本発明における熱可塑性樹脂組成物は、各種成形部品として使用可能であるが、特に成形部品の平面部の平均厚さが１ｍｍ以下である薄肉成形部品として例えばモバイル電子機器用成形部品等として好適に使用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
＜ポリアミド樹脂（Ａ）＞
＜ナイロン樹脂１１（Ａ−１）＞
アルケマ株式会社製  「Ｒｉｌｓａｎ  ＢＭＮＯ」
＜ナイロン樹脂６  （Ａ−２）＞
ユニチカ株式会社製  「ユニチカナイロン６  Ａ１０３０ＢＲＬ」
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月6日(2010.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
易酸化性熱可塑性樹脂および遷移金属触媒を含む酸素吸収性樹脂組成物であって、遷移金属触媒がアミン配位子を含むことを特徴とする酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項２】
易酸化性熱可塑性樹脂および遷移金属触媒を含む酸素吸収性樹脂組成物であって、遷移金属触媒が遷移金属の脂肪酸塩およびアミン配位子からなることを特徴とする酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項３】
前記易酸化性熱可塑性樹脂が、１，４−ポリブタジエン、１，２−ポリブタジエン、１，４−ポリイソプレン、３，４−ポリイソプレン、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、エチレン／アクリル酸メチル／アクリル酸シクロヘキセニルメチル共重合体、又はこれらの混合物である請求項１または２記載の酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項４】
前記易酸化性熱可塑性樹脂が、１，２−ポリブタジエンである請求項１または２記載の酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項５】
前記１，２−ポリブタジエンが、シンジオタクチック１，２−ポリブタジエンである請求項４記載の酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項６】
アミン配位子がフェナントロリン、ビピリジルから選ばれる少なくとも１種である請求項１〜５のいずれか一項に記載の酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項７】
酸素吸収性樹脂組成物がさらに光増感剤を含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の酸素吸収性樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の酸素吸収性樹脂組成物からなる脱酸素性のシートまたはフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月6日(2011.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ポリプロピレン樹脂（Ａ）
本発明で使用する変性前のポリプロピレン樹脂（Ａ）はプロピレンの単独重合体であってもよいし、他のモノマーとの共重合体であってもよい。共重合体の場合、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよい。プロピレン以外の他のモノマーとの共重合成分量は通常９０ｗｔ％未満であればよいが、８５ｗｔ％以下であるプロピレン樹脂が望ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
パーオキシエステル構造
〔式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に、式（ｉｉｉ）の分子量が、前記活性酸素量の満足すべき範囲となるものであれば特に限定されないが、炭素数１〜２４である炭化水素基が好ましく、炭素数３〜２０である炭化水素基がより好ましく、炭素数４〜１５である炭化水素基が特に好ましい。〕
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ジアシルパーオキサイド構造
〔式中、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、式（ｉｖ）の分子量が、前記活性酸素量の満足すべき範囲となるものであれば特に限定されないが、炭素数１〜２４である炭化水素基が好ましく、炭素数３〜２０である炭化水素基がより好ましく、炭素数４〜１５である炭化水素基が特に好ましい。〕
（Ｃ）成分の具体的として、ジオクタノイルパーオキイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジサクシニックアシッドパーオキサイドのジアシルパーオキイド類；ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス２−エチルヘキサノイルパーオキシヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート等のパーオキシエステル類などをあげることができる。これらの中ではジベンゾイルパーオキサイド、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジサクシニックアシッドパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレートなどが好ましい。これらは１種単独で、あるいは二種以上組み合わせて用いることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
グラフト共重合に供する混合物を調製する際の、各成分の使用量は、ポリプロピレン樹脂（Ａ）、（メタ）アクリル酸の金属塩（Ｂ）、および有機過酸化物（Ｃ）を用いる場合には、好ましくは成分（Ａ）１００重量部に対して、成分（Ｂ）０．１〜１０重量部、成分（Ｃ）０．０１〜１０重量部の割合で、より好ましくは、成分（Ａ）１００重量部に対して、成分（Ｂ）０．５〜５重量部、成分（Ｃ）０．１〜５重量部の割合である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）とともに、（メタ）アクリル酸の金属塩（Ｂ）と異なる不飽和カルボン酸、および／またはその誘導体（Ｄ）を用いる場合には、好ましくは成分（Ａ）１００重量部に対して、成分（Ｂ）０．１〜１０重量部、成分（Ｃ）０．０１〜１０重量部、成分（Ｄ）０．０１〜１０重量部の割合で、より好ましくは、成分（Ａ）１００重量部に対して、成分（Ｂ）０．５〜５重量部、成分（Ｃ）０．１〜５重量部、成分（Ｄ）０．１〜５重量部の割合である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明において、前記混合物を溶融混合してグラフト共重合を行う方法としては、樹脂同士あるいは樹脂と固体もしくは液体の添加物を混合するための公知の各種方法が採用可能である。好ましい例としては、各成分の全部もしくはいくつかを組み合わせて別々にヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、ブレンダー等により混合して均一な混合物とした
後、該混合物を混練する等の方法を挙げることができる。混練の手段としては、バンバリーミキサー、プラストミル、ブラベンダープラストグラフ、一軸又は二軸の押出機等の従来公知の混練手段が広く採用可能である。混練機の混練を行う場合の温度は（例えば、押出機ならシリンダー温度）、通常１００〜３００℃、好ましくは１６０〜２５０℃である。温度が低すぎるとグラフト量が向上しない場合があり、また、温度が高すぎると樹脂の分解が起こる場合がある。また、未グラフト成分を除去するため、真空ベント装置を設けた混練機を使用することが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
上記のようにして得られた変性ポリプロピレン樹脂において、（メタ）アクリル酸の金属塩（Ｂ）に由来する構成単位の含有量（グラフト量）は、通常０．１〜８重量％であり、好ましくは、０．１〜５重量％である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明に係る変性ポリプロピレン樹脂は、（メタ）アクリル酸の金属塩（Ｂ）に由来する構成単位を通常０．１〜８重量％、好ましくは０．１〜５重量％含有する。また、本発明に係るポリプロピレン樹脂は、上述した成分（Ｄ）を用いて製造する場合には、成分（Ｄ）に由来する構成単位を通常０．１〜５重量％含有する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月6日(2011.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明で使用する変性前のポリプロピレン樹脂（Ａ）のメルトフローレート（ＭＦＲ；
２３０℃、２１６０ｇ荷重）は、通常０．１〜１００ｇ／１０ｍｉｎ、好ましくは０．５〜２０ｇ／１０ｍｉｎである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
パーオキシエステル構造
〔式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に、炭素数１〜３０の炭化水素基を示し、好ましくは炭素数３〜１５の範囲にある炭化水素基である。〕
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
ジアシルパーオキサイド構造
〔式中、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、炭素数１〜３０の炭化水素基を示し、好ましくは炭素数３〜２０の範囲にある炭化水素基である。〕
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の変性ポリプロピレン樹脂の製造方法における各成分の使用割合は、好ましくは（Ａ）成分１００重量部に対して、（Ｂ）成分０．１〜１０重量部、（Ｃ）成分０．０１〜１０重量部であって、より好ましくは（Ａ）成分１００重量部に対して、（Ｂ）成分０．５〜５重量部、（Ｃ）成分０．５〜５重量部である。この割合にて溶融混合することにより、変性ポリプロピレン樹脂の分子量を極端に低下させることなく高グラフト化することができ、しかも成分（Ａ）として使用したポリプロピレン樹脂の機械的特性を保持することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明での溶融混合の方法としては、樹脂同士あるいは樹脂と固体もしくは液体の添加物を混合するための公知の各種方法が採用可能である。好ましい例としては、各成分の全部もしくはいくつかを組み合わせて別々にヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、ブレンダー等により混合して均一な混合物とした後、該混合物を混練する等の方法を挙げることができる。混練の手段としては、バンバリーミキサー、プラストミル、ブラベンダープラストグラフ、一軸又は二軸の押出機等の従来公知の混練手段が広く採用可能である。混練機の混練を行う場合の温度（例えば、押出機ならシリンダー温度）は、通常１００〜３００℃、好ましくは１６０〜２５０℃である。温度が低すぎるとグラフト量が向上しない場合があり、また、温度が高すぎると過度に樹脂の分解が起こる場合がある。また、未グラフト成分を除去するため、真空ベント装置を設けた混練機を使用することが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記のようにして得られた変性ポリプロピレン樹脂において、不飽和カルボン酸および／またはその誘導体（Ｂ）に由来する構成単位の含有量（グラフト量）は、通常０．３〜５重量％であり、好ましくは、０．４〜３重量％である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月18日(2011.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この様な状況下において、気相堆積による耐久性二酸化チタン顔料を製造する方法が、特許文献６に、また、有機添加物処理され、熱分解シリカで封入された二酸化チタン粒子の調整が特許文献７記載されるに至っている。すなわち特許文献７（特開２００５-３１４７０１号公報）には、その有機添加物処理による用途・利用に関して触れられているものの、しかしながら、そこでは分散および熱安定性、特にレーシング耐性が重要性に触れられているのみで、本願がその発明技術の根幹としている、無機表面処理物に内存する結晶水に起因する、ポリカーボネート系樹脂組成物の、主としてその加水分解に起因する安定性に関しては何らの記載もない。
【特許文献１】特開平７−２５８４６４号公報
【特許文献２】特開平７−２４２８０４号公報
【特許文献３】特開平９−３２１１号公報
【特許文献４】特開２００１−２９４０号公報
【特許文献５】ＷＯ１９９７／０２４２８９
【特許文献６】米国公開２００３００５１６３５号公報
【特許文献７】特開２００５-３１４７０１号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明における二酸化チタンは、特許文献６（米国公開２００３００５１６３５号公報）記載の、プラグフロー反応器中で四塩化チタン蒸気と酸素含有ガスと塩化アルミニウムとを反応させて二酸化チタンを含有する生成物ストリームを形成する工程と、四塩化チタンと酸素とを接触させた箇所の下流で、かつ四塩化チタンの少なくとも９７％が二酸化チタンに変換されているかまたは反応温度が約１２００℃以下、好ましくは約１１００℃以下である箇所で反応器に四塩化ケイ素を導入する工程とによって、二酸化チタン表面上に表面処理剤を気相堆積させて耐久性二酸化チタン顔料を製造する方法によるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月11日(2010.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図４はエアバッグ装置の分解斜視図、図５〜図８は各々エアバッグ装置を模式的に示す図である。図４〜図８に示すように、エアバッグ装置５０は、エアバッグ５１とインフレータ５２とを収納するケース５３を備えている。ケース５３は上部が開口し、左右の側壁５４と前壁５５と後壁５６と底壁５７で方形状の箱形に形成されている。側壁５４には車体フレーム５に固定されるブラケット５８が各々固定されている。このブラケット５８は機種毎に異なったものが使用される。
ケース５３の前壁５５、後壁５６の上部にはリベット８０の取付孔６０が、例えば三箇所、側壁５４には二箇所設けられ、前壁５５の下部にはピン６１が二個設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月24日(2010.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項４の発明によれば、給油口のメンテナンス用開口を傾斜面に配置することで、給油口を上向きに抜けて配置できるため、給油が容易に行える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
インナーカバー２５はフロントカバー２０の上部を覆い、特に左側の収納ボックス２７はこの上面からキー２９をキーシリンダ３０へ差し込むことにより、アウターリッド２８を解錠して開くことができるようになっている。キーシリンダ３０はインナーカバー２５に配置されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
図１６は給油口リッド２６のヒンジ４８の機構を示す図である。給油口リッド２６の裏面には一体に軸支部８０が形成されている。軸支部８０は略門型に突出する部材であり、横部とその左右の支柱部を設け、各支柱部に長穴８１を形成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
一方、ヒンジ部材８２は、その台座８３の左右に設けた取付穴８３ａにて取付座５６（図４）へネジ止めするとともに、台座８３上から横部の長さと対応する間隔で平行に突出する支柱部８４を設け、それぞれの先端に内向きに軸部８５を突出させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2009179282.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2009179282.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月24日(2010.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
フロントアッパーフレーム１８とフロントロアーフレーム１９の間には縦長の燃料タンク２１が支持され、その底部はステップフロア３の下方に位置する。また、上部に設けられる注入口２２はトンネル部７内の上面近傍に位置し、後述するようにトンネル部７の上方から給油できるようになっている。フロントアッパーフレーム１８とフロントロアーフレーム１９及び燃料タンク２１はトンネル部７の空間内に配置されている。燃料タンク２１の前方にはラジエタ２３が位置する。このような重量物の配置によりマスの集中と低重心化に貢献している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
しかし、フロントカバー３０やフロアスカートパネル３４等の本来大型のカバー部材と一体化しようとすると、さらに大型化してしまい、この中でフロントサイドカバー５１だけを独自に自由なデザイン形状等にするようなことは困難になる。しかも金型が大型化するので、これらのカバー部材との一体化は実現しにくい実情にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
これに対して本願発明は、比較的小型のフロントサイドカバー５１をトンネル部サイドカバー３２の本体部５０と一体成形して一体化することにより、あまり一体化したカバーを大型にせず、部品点数を削減（増加抑制）とデザインの自由度向上という相反する要請を両立できるようにすることが可能になった。
また、トンネル部サイドカバー３２とリヤサイドカバー３６が車両の前部から後部にかけて一体的に連続するように構成したため、車両のデザインの一体感を向上できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2009179279.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月26日(2010.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図４は荷掛け部材１３の取付を説明する図である。なおフック１５の取付も同様である。荷掛け部材１３の軸心部には貫通穴３６が貫通し、その一端は凹部３２の底部へ開口する。そこで、荷掛け部材１３の小径部３１先端をフロントカバー１１の所定位置へ重ね、貫通穴３６へ取付用ボルト３３を入れ、頭部３４に設けられた工具溝３５へ専用ドライバー３７を差し込んで回転させることにより、取付用ボルト３３を後から詳述する取付部材５０へ締結することにより荷掛け部材１３を取付ける。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
このように、取付部材５０を車体カバーであるフロントカバー１１で覆うとともに、フック１５及び荷掛け部材１３の取付部に対向する部分に取付穴５３を設け、この取付穴５３を介してフック１５及び荷掛け部材１３が取付けられるようにすると、取付部材５０を車体フレーム（ヘッドパイプ７）と車体カバー（フロントカバー１１）とで支持することができ、取付部材５０の剛性を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ネイルエナメル、ネイルコート、マニキュア、ペディキュアなどの爪用の化粧料は、爪を保護したり、或いは、色彩を付与して美しく見せたりする目的で使用される化粧料であり、通常は、ニトロセルロースなどの皮膜形成剤をイソプロパノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル等で溶解し、有機色素などの他の成分と混合させた製剤を使用することが多い（例えば、特許文献１を参照）。ここにおいて、溶解した有機色素などの光不安定成分の光安定性を保つ目的で紫外線吸収剤を含有させる。かかる紫外線吸収剤としては、オキシベンゾン、スリソベンゾン等のベンゾフェノン類、ｐ−メトキシ桂皮酸−２−エチルヘキシルなどのｐ−メトキシ桂皮酸エステル類、ｔ−ブチルメトキシベンゾイルメタンなどのベンゾイルメタン類、オクトクリレンなどのシアノジフェニルプロペン酸エステル類が使用される（例えば、特許文献２を参照）。中でも、ベンゾイルメタン類はそのものの着色性が少ないために多用されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
近年、科学技術の発達に伴い、新しい光学技術として、高分子薄膜や金属薄膜を積層させて、小片に切り出して作成した積層小片による煌びやかな真珠様光沢創出技術があり、この様な技術が爪用の化粧料にも応用されるようになってきた（例えば、特許文献３を参照）。この様な素材の開発により、爪用の化粧料、取り分け、ネイルカラーでは、従来のように、着色された被膜自身の色による光学効果を重んじることから、真珠様光沢や煌めき感などの視覚刺激を重んじる方向に嗜好性が変わり、これに伴い要求品質も変化してきている。特に、この様な真珠様光沢を利用する場合には、被膜自身の無色透明性が要求されるようになるとともに、パール剤や積層小片などの素材の分散安定性の重要性も高まりつつある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この様な状況に鑑みて、本発明者らは、パール光沢剤を含有する爪用の化粧料に於いて、被膜自身の無色透明性やパール光沢剤の分散安定性などの新規要求品質を向上せしめる手段を求めて、鋭意研究努力を重ねた結果、１）ニトロセルロース及びアルキッド樹脂を含有する爪用の化粧料に於いて、２）パール光沢剤と３）オクトクリレンとを含有する化粧料がその様な特性を有していることを見出し、発明を完成させるに至った。即ち、本発明は以下に示すとおりである。
＜１＞１）ニトロセルロース及びアルキッド樹脂を含有する爪用の化粧料に於いて、２）パール光沢剤と３）オクトクリレンとを含有することを特徴とする、化粧料。
＜２＞前記ニトロセルロースの含有量は、１〜２０質量％であり、前記アルキッド樹脂の含有量は、１〜１５質量％であることを特徴とする、＜１＞に記載の化粧料。
＜３＞前記オクトクリレンの含有量は、０．１〜 ５質量％であることを特徴とする、＜１＞又は＜２＞に記載の化粧料。
＜４＞前記パール光沢剤として、積層樹脂小片を含有することを特徴とする、＜１＞〜＜３＞何れかに記載の化粧料。
＜５＞紫外線吸収剤として、ベンゾフェノン誘導体、ｐ−メトキシ桂皮酸エステル類及びベンゾイルメタン誘導体を実質的に含有しないことを特徴とする、＜１＞〜＜４＞何れかに記載の化粧料。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（２）本発明の爪用の化粧料の必須成分であるパール光沢剤
本発明の爪用の化粧料は、前記皮膜成分によって光学効果を著しく奏する素材であるパール光沢剤を含有することを特徴とする。ここで、パール光沢剤とは、粉体表面に存する光回折格子による干渉光により、真珠様光沢、煌めき感を呈する粉体の総称であり、大きく分けて、チタンマイカなどの二酸化チタンの微粒子で表面を被覆された、マイカや硝子フレークなどの板状粉体と、高分子薄膜や金属薄膜を積層させて、小片に切り出して作成した積層小片の２種が存し、本発明ではこれらの何れもが使用可能である。これらのパール光沢剤は、所望により、何れも無機顔料や有機色素で着色されていても良い。これらの具体例を示せば、例えば、チタンマイカとしては、ＢＡＳＦ社から、フラメンコ（Flamenco；登録商標）レッド１００、フラメンコ（Flamenco；登録商標）ゴールド、フラメンコ（Flamenco；登録商標）グリーン、フラメンコ（Flamenco；登録商標）ブルー、フラメンコ（Flamenco；登録商標）スパークルオレンジ等のフラメンコシリーズ、クロイゾネ（ＣＬＯＩＳＯＮＮＥ；登録商標）Ｇ  ブロンズ等のクロイゾネシリーズ、ジェムトン（登録商標）タン  オパール等のジェムトンシリーズ、デュオクロム（DUOCROME；登録商標）ＹＲ、デュオクロム（DUOCROME；登録商標）Ｒ、デュオクロム（DUOCROME；登録商標）ＧＹ等のデュオクロムシリーズ、ティミカ（TIMICA；登録商標）カッパー、ティミカ（TIMICA；登録商標）パールホワイト、ティミカ（TIMICA；登録商標）ゴールドＳＰ、ティミカ（TIMICA；登録商標）Ｇブロンズ等のティミカシリーズなどが市販されており、メルク・ジャパン社から、ティミロン（登録商標）１００１、ティミロン（登録商標）ＭＰ１００５、ティミロン（登録商標）ＭＰ１１５、ティミロン（登録商標）ＭＰ１４９等のティミロンシリーズ、コロロナ（登録商標）ブライトゴールド、コロロナ（登録商標）ブロンズファイン等のコロロナシリーズなどが市販されており、日本光研（株）より、プロミネンス（ＰＲＯＭＩＮＥＮＣＥ；登録商標）ＳＦなどのプロミネンスシリーズが市販されており、またガラスフレーク系のパール粉体としては、ＢＡＳＦ社より、リフレクスポインツオブパール等のリフレクスシリーズ、日本板硝子（株）よりメタシャイン（登録商標）ＭＣ１０８０ＲＹＳ１などのメタシャインシリーズが市販されており、積層小片としては、角八魚燐箔株式会社より、アルミフレークシルバー０．０１等のアルミフレークシリーズが、ダイヤ工業株式会社より、ダイヤホログラムＨＧ−Ｓ４０ＥＰ、ダイヤホログラムＨＧ−Ｓ６０ＥＰ等のダイヤホログラムシリーズ、ＤＣグリッターシルバーＣＮｏ．０．００５等のＤＣグリッターシリーズ、尾池工業株式会社より、ＭＡｕグリッター等のＭＡｕグリッターシリーズ、イリデセント・グリッターＩＦ−４１０１（ＢＡＳＦ社製）、（ＰＥＴ／Ａｌ）ラミネート、（ＰＥＴ／ＭＭＰ）ラミネート等が市販されており、これらが好ましく例示できる。かかる成分は総量で、０．１〜２０質量％含有することが好ましく、１〜１０質量％がより好ましい。本発明の爪用の化粧料では、皮膜形成剤を無色透明に保持できるので、長期にわたって、美麗にパール感、煌めき感を奏する性質を有する。又、系全体の安定性も著しく向上しているため、金���ボールなどを含有させて再攪拌をしなくとも、パール光沢剤が均一に分散しているため、化粧効果の再現性が高い性質も有する。特に、積層小片のように光学効果の大きい粉体を用いた場合には、この様な再現性向上効果は著しいので、この様な粉体を含有する形態が、本発明の化粧料としては好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月25日(2010.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）：
【化１】
2009179576.tif 000001
で表される還元型補酵素Ｑ１０を含有することを特徴とする、透析患者のクオリティオブライフ（ＱＯＬ）の改善剤。
【請求項２】
さらに下記式（２）：
【化２】
2009179576.tif 000002
で表される酸化型補酵素Ｑ１０を含有する、請求項１記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項３】
ＱＯＬの改善が、透析治療中の不快事象の軽減、腎疾患治療剤に起因する副作用の軽減、および腎疾患に由来する異常状態の改善からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項１または２に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項４】
さらに腎疾患治療剤を含有する請求項１〜３いずれか１項記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項５】
腎疾患治療剤が、降圧剤、昇圧剤、利尿剤、ビタミン剤、リン吸着薬、カリウム吸着薬、貧血治療剤、重炭酸ナトリウム、ホルモン剤およびアミノ酸製剤からなる群より選択される少なくとも一種である請求項４記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項６】
さらに栄養補助成分および／または健康食品素材を含有する、請求項１〜５いずれか１項に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項７】
栄養補助成分が、アミノ酸、金属イオン、糖類、蛋白質類、脂肪酸類、ビタミン類、ビタミンＢ誘導体、テアニン、γ−アミノ酪酸、アンセリン、大豆ペプチド、チオレドキシン、小麦グルテン加水分解物、グルタミン、ミルクペプチド、ω−３脂肪酸、ホスファチジルセリン、アスタキサンチン、ピクノジェノール、フラバンジェノール、クレアチン、カルニチン、α−リポ酸、ポリフェノール類、緑茶カテキン、サポニン、イチョウ葉エキス、セントジョーンズワート、羅布麻エキス、エゾウコギ、ワサビ、Ｎ−アセチルグルコサミン、リグナン類からなる群より選択される少なくとも一種である請求項６に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項８】
健康食品素材が、ハーブ類、生薬類およびきのこ類ならびにそれらの抽出物からなる群より選択される少なくとも一種である請求項６に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項９】
さらに抗酸化物質および／または抗酸化酵素を含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項１０】
抗酸化物質がビタミンＥ、ビタミンＥ誘導体、ビタミンＣ、ビタミンＣ誘導体、リコペン、ビタミンＡ、カロテノイド類、ビタミンＢ、ビタミンＢ誘導体、フラボノイド類、グルタチオンおよびセレンからなる群から選択される少なくとも一種である、請求項９に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項１１】
抗酸化酵素がスーパーオキサイドディスムターゼ（ＳＯＤ）、グルタチオンペルオキシダーゼ、グルタチオン−Ｓ−トランスフェラーゼ、グルタチオン還元酵素、カタラーゼおよびアスコルビン酸ペルオキシダーゼからなる群から選択される少なくとも一種である、請求項９に記載のＱＯＬ改善剤。
【請求項１２】
食品、健康食品、栄養補助食品、サプリメント、医薬品または医薬部外品である、請求項１〜１１いずれか１項に記載のＱＯＬ改善剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
一次燃料を水素に転化するリフォーミングプロセスを実行するための装置ならびにＣＯからリフォーミングプロセスを去っていく水素燃料の流れをクリーニングする少なくとも１つの装置を包含し、該クリーニング装置が、第一の流路（２１）および第二の流路（２４）に面するＣＯに対して選択的透過性を示す膜（２２）を包含し、膜（２２）から第二の流路（２４）にＣＯを運び去さる燃料電池用水素燃料発生システムであって、
前記膜（２２）が本質的にＣＯを膜に吸着させてＣＯに対して選択的透過性を示すとともに、マイクロポーラス構造を示すセラミック材料によって構成され、細孔のサイズがＣＯを吸着する膜を通しての水素の輸送を阻害するように形成されていることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月13日(2011.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明の好ましい実施態様の他の一つにおいて、前記下層シートから前記上層シートへ向かう方向では、前記非表示部で最上部を成している第１部分に対して、前記表示部で最上部を成している第２部分が下記ａ，ｂ，ｃいずれかの態様にある；
ａ．同じ高さに形成されている態様、
ｂ．高く形成されている態様、
ｃ．低く形成されている態様。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月27日(2010.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料の炭素繊維を600〜1500℃の液体Ga中に連続的に供給して浸漬する工程を含むことを特徴とする高導電性炭素繊維の製造方法。
【請求項２】
原料の炭素繊維は、アモルファスカーボンを含有することを特徴とする請求項１に記載の高導電性炭素繊維の製造方法。
【請求項３】
原料の炭素繊維を液体Ga中に浸漬する前に、当該炭素繊維を圧延することを特徴とする請求項１または２に記載の高導電性炭素繊維の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の方法により製造された高導電性炭素繊維をシースに埋抱する工程を含むことを特徴とする送電用フィラメントの製造方法。
【請求項５】
高導電性炭素繊維をシースに埋抱した後、線引き処理する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の送電用フィラメントの製造方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載の方法により製造された送電用フィラメントを束ねて送電用ケーブルとする工程を含むことを特徴とする送電用ケーブルの製造方法。
【請求項７】
相互に分離していたグラフェン同士が接合された構造を含む多層グラフェン構造を少なくとも表面に有することを特徴とする高導電性炭素繊維。
【請求項８】
表面の多層グラフェン構造の内部にアモルファスカーボン、カーボンナノチューブ、およびグラファイトから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項７に記載の高導電性炭素繊維。
【請求項９】
請求項７または８に記載の高導電性炭素繊維をシースに埋抱したものであることを特徴とする送電用フィラメント。
【請求項１０】
請求項９に記載の送電用フィラメントを束ねたものであることを特徴とする送電用ケーブル。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月24日(2010.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
その際、前記第1直管部3a、曲管部3b、及び第２直管部3cのいずれかの場所において、凝固液調整器5を配設して、流管3内を通過する繊維を可塑化する「溶剤濃度の高い追加凝固液L2」を供給する。なお、この凝固液調整器5は、追加凝固液L2を貯める貯部5aと追加凝固液L2を供給する供給部5bを備えており、凝固液調整器5の内部には第1直管部3aの周辺方向から安定的に液流を供給することができる整流供給管5cを通して、第1直管部3aから流れてくる凝固液Lａに対して周辺から追加凝固液L2を供給し可塑化凝固液Lbを得るようにしている。