【手続補正書】
【提出日】平成23年10月31日(2011.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）感光性エレメント中の光重合性層に隣接するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップであって、前記光重合性層は、結合材、エチレン性不飽和化合物および光開始剤を含むステップと、
（ｂ）密閉露光チャンバ内に前記感光性エレメントを密閉するステップと、
（ｃ）１９０，０００ｐｐｍから１００ｐｐｍの間の範囲内に、前記密閉露光チャンバ内の酸素濃度を調整するステップと、
（ｄ）前記ｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に前記感光性エレメントを露光させるステップと
を含むことを特徴とする感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法。
【請求項２】
前記調整するステップは、不活性ガスを導入するステップと、
（ｉ）１９０，０００ｐｐｍの酸素濃度から初めて、固定の低減率で、若しくは可変的な低減率で、密閉露光チャンバ内の酸素濃度を低減させるステップ、または
（ｉｉ）１９０，０００ｐｐｍから約１００ｐｐｍの間に酸素濃度を維持するステップと
によって実施されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記露光させるステップは、酸素濃度が１９０，０００ｐｐｍ以下であるときに開始することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
（ａ）密閉露光チャンバ内に不活性ガスを導入するための入口、および前記密閉露光チャンバから少なくとも酸素を除去するための出口を備え、前記密閉露光チャンバの外部環境から前記密閉露光チャンバをシールするための手段を有する密閉露光チャンバと、
（ｂ）前記密閉露光チャンバに隣接して配置される化学線源と、
（ｃ）前記入口に連結される不活性ガス源と、
（ｄ）前記密閉露光チャンバ内の酸素濃度を測定するための手段と
を備えることを特徴とする大気酸素未満の酸素濃度を有する環境内において化学線に感光性エレメントを露光させるための装置。
【請求項５】
前記密閉露光チャンバは、少なくとも１つの壁、および前記少なくとも１つの壁に装着されるルーフを備えることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記密閉露光チャンバは、４つの壁を備え、前記ルーフは、前記壁に対する前記ルーフの交差部分で前記壁に対して垂直に形成される面の約０．１２５から約１．５インチ（約３．１７５ｍｍから約３．８１ｃｍ）上方に丸天井を形成することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
【表１３】
2010175964.tif 000001
以下、本明細書に記載の発明を列挙する。
１．
（ａ）感光性エレメント中の光重合性層に隣接するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップであって、前記光重合性層は、結合材、エチレン性不飽和化合物および光開始剤を含むステップと、
（ｂ）密閉露光チャンバ内に前記感光性エレメントを密閉するステップと、
（ｃ）１９０，０００ｐｐｍから１００ｐｐｍの間の範囲内に、前記密閉露光チャンバ内の酸素濃度を調整するステップと、
（ｄ）前記ｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に前記感光性エレメントを露光させるステップと
を含むことを特徴とする感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法。
２．
前記調整するステップは、不活性ガスを導入するステップと、
（ｉ）１９０，０００ｐｐｍの酸素濃度から初めて、固定の低減率で、若しくは可変的な低減率で、密閉露光チャンバ内の酸素濃度を低減させるステップ、または
（ｉｉ）１９０，０００ｐｐｍから約１００ｐｐｍの間に酸素濃度を維持するステップと
によって実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
３．
ステップｂ）の後に、前記密閉露光チャンバの内部環境が１９０，０００ｐｐｍ以下の酸素濃度を有するまで、前記内部環境から不活性ガスを用いて約２１０，０００ｐｐｍの酸素濃度を有する大気をパージするステップをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
４．
前記パージするステップの後に、前記露光させるステップを開始し、前記調整するステップは、酸素濃度を連続的に低減させることを特徴とする前記３．に記載の方法。
５．
前記露光させるステップは、酸素濃度が１９０，０００ｐｐｍ以下であるときに開始することを特徴とする前記１．に記載の方法。
６．
前記露光させるステップの間に、酸素濃度を連続的に低減させるステップをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
７．
前記露光させるステップは、酸素濃度が５０００ｐｐｍ以下であるときに完了されることを特徴とする前記６．に記載の方法。
８．
前記露光させるステップは、酸素濃度が２０，０００ｐｐｍから１００ｐｐｍの間であるときに開始することを特徴とする前記１．に記載の方法。
９．
前記感光性エレメントを露光させるステップは、前記光重合性層の部分を光重合するのに十分な時間の間行われ、前記露光時間の少なくとも３０％は、約２０，０００ｐｐｍ未満の酸素濃度で実施されることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１０．
前記密閉露光チャンバは、内部環境を有し、前記露光させるステップは、８０，０００ｐｐｍ以下の平均酸素濃度を有する前記内部環境内において行われることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１１．
前記密閉露光チャンバは、内部環境を有し、前記露光させるステップは、３０，０００ｐｐｍ以下の平均酸素濃度を有する前記内部環境内において行われることを特徴とする前記１．に記載の方法。
１２．
浮出し面エレメントのパターンを有する凸面を形成するために、前記露光させるステップにより得られた前記感光性エレメントを処理するステップをさらに含むことを特徴とする前記１．に記載の方法。
１３．
前記凸面は、複数の前記浮出し面エレメントを含み、前記浮出し面エレメントはそれぞれ、インク担持頂面区域、側壁面区域およびショルダ面区域を有し、前記ショルダ面区域は、前記頂面区域と前記側壁面区域との間の移行区域となっており、前記浮出し面エレメントはそれぞれ、前記頂面区域および前記ショルダ面区域の和である全印刷区域を有し、各前記ショルダ面区域により被印刷体に転写されるインクが、前記全印刷区域面積の３０％以下を提供することを特徴とする前記１２．に記載の方法。
１４．
各前記ショルダ面区域による被印刷体に転写されるインクは、前記全印刷区域面積の５％以下を提供することを特徴とする前記１３．に記載の方法。
１５．
（ａ）密閉露光チャンバ内に不活性ガスを導入するための入口、および前記密閉露光チャンバから少なくとも酸素を除去するための出口を備え、前記密閉露光チャンバの外部環境から前記密閉露光チャンバをシールするための手段を有する密閉露光チャンバと、
（ｂ）前記密閉露光チャンバに隣接して配置される化学線源と、
（ｃ）前記入口に連結される不活性ガス源と、
（ｄ）前記密閉露光チャンバ内の酸素濃度を測定するための手段と
を備えることを特徴とする大気酸素未満の酸素濃度を有する環境内において化学線に感光性エレメントを露光させるための装置。
１６．
前記密閉露光チャンバは、少なくとも１つの壁、および前記少なくとも１つの壁に装着されるルーフを備えることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
１７．
前記化学線源は前記密閉露光チャンバの内部に配置されることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
１８．
前記化学線源は前記密閉露光チャンバの外部に配置されることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
１９．
前記密閉露光チャンバの前記ルーフは化学線に対して透過性であることを特徴とする前記１６．に記載の装置。
２０．
前記ルーフの材料は、ポリカーボネート、アクリル樹脂、フッ化炭素樹脂およびガラスからなる群より選択されることを特徴とする前記１９．に記載の装置。
２１．
前記密閉露光チャンバは、前記化学線源を有する露光ユニットの平坦な支持体の上に配置されることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
２２．
前記平坦な支持体は、前記ルーフの反対側で、前記密閉露光チャンバの底部を形成することを特徴とする前記２１．に記載の装置。
２３．
前記平坦な支持体は化学線に対して透過性であることを特徴とする前記２１．に記載の装置。
２４．
前記密閉露光チャンバは、露光ユニットのフレームの上に配置されることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
２５．
酸素濃度を測定するための前記手段は、前記出口または前記密閉露光チャンバに連結される少なくとも１つの酸素メータを備えることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
２６．
前記酸素メータと前記ガス源との間にフィードバック制御装置をさらに備え、前記酸素濃度の制御は、自動的に調節されることを特徴とする前記２５．に記載の装置。
２７．
前記ルーフは丸天井形であることを特徴とする前記１５．に記載の装置。
２８．
前記丸天井形ルーフは、前記チャンバの底部支持体の上方に曲げられる１つまたは複数のドーム、アーチまたはキャンバを形成することを特徴とする前記２７．に記載の装置。
２９．
前記密閉露光チャンバは、４つの壁を備え、前記ルーフは、前記壁に対する前記ルーフの交差部分で前記壁に対して垂直に形成される面の約０．１２５から約１．５インチ（約３．１７５ｍｍから約３．８１ｃｍ）上方に丸天井を形成することを特徴とする前記１５．に記載の装置。