Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接続端子部品を配置するための配置領域を有する電子回路基板であって、
前記配置領域は、
前記電子回路基板の端縁部から伸長した第１のスリットが両側に形成されている、
電子回路基板。
【請求項２】
前記配置領域は、
前記第１のスリットから連続するように、前記両側に形成された第１のスリットの内側方向に伸長した第２のスリットが形成されている電子回路基板。
【請求項３】
前記配置領域は、
記接続端子部品の側面に添う位置に固定部品が更に配置される請求項１又は２に記載の電子回路基板。
【請求項４】
前記配置領域は、
前記接続端子部品の半田付け端子が、前記配置領域上の対応するランドにおいて、ワイヤ部品により固定されている請求項１から３のいずれかに記載の電子回路基板。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤色を発する有機発光素子、緑色を発する有機発光素子、青色を発する有機発光素子を有し、
各有機発光素子は、それぞれ基板上に順次配置された、反射電極、正孔輸送層、有機発光層、光透過電極を有しており、
前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも電子輸送性を有し、
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は正孔輸送性を有し、
前記各有機発光素子の反射電極の反射位置と有機発光層の間の厚みは同じであり、
前記各有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の間の光学距離Ｌは、それぞれ下記式を満たすことを特徴とする多色表示装置。
０．２５×λＲ＜Ｌ＜０．７５×λＢ
（ただし、λＲ、λＢは、それぞれ赤色を発する有機発光素子と青色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長である。）
【請求項２】
前記緑色を発する有機発光素子の発光層が発光ドーパント材料とホスト材料から形成されており、前記ホスト材料が、置換もしくは無置換のピレン基と正孔輸送性を示す置換もしくは無置換のアリ−ルアミン基の両方を含むことを特徴とする請求項１に記載の多色表示装置。
【請求項３】
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層の膜厚は、前記緑色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長を増強する膜厚であることを特徴とする請求項１又は２に記載の多色表示装置。
【請求項４】
前記各有機発光素子は、有機発光層と光透過電極の間に電子輸送層を有し、前記各有機発光素子の電子輸送層の膜厚は同じであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の多色表示装置。
【請求項５】
赤色を発する有機発光素子、緑色を発する有機発光素子、青色を発する有機発光素子を有し、
各有機発光素子は、それぞれ基板上に順次配置された、反射電極、電子輸送層、有機発光層、光透過電極を有しており、
前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも正孔輸送性を有し、
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は電子輸送性を有し、
前記各有機発光素子の反射電極の反射位置と有機発光層の間の厚みは同じであり、
前記各有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の間の光学距離Ｌは、それぞれ下記式を満たすことを特徴とする多色表示装置。
０．２５×λＲ＜Ｌ＜０．７５×λＢ
（ただし、λＲ、λＢは、それぞれ赤色を発する有機発光素子と青色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長である。）
【請求項６】
赤色を発する有機発光素子、緑色を発する有機発光素子、青色を発する有機発光素子を有し、
各有機発光素子は、それぞれ基板上に順次配置された、反射電極、正孔輸送層、有機発光層、光透過電極を有しており、
前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも電子輸送性を有し、
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は正孔輸送性を有し、
前記各有機発光素子の反射電極の反射位置と有機発光層の間の厚みは同じであり、
前記赤色を発する有機発光素子と前記青色を発する有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の発光位置との光学距離Ｌは、それぞれ下記式を満たすことを特徴とする多色表示装置。
０．２５×λＲ＜Ｌ＜０．７５×λＢ
（ただし、λＲ、λＢは、それぞれ赤色を発する有機発光素子と青色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長である。）
【請求項７】
赤色を発する有機発光素子、緑色を発する有機発光素子、青色を発する有機発光素子を有し、
各有機発光素子は、それぞれ基板上に順次配置された、反射電極、電子輸送層、有機発光層、光透過電極を有しており、
前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも正孔輸送性を有し、
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は電子輸送性を有し、
前記各有機発光素子の反射電極の反射位置と有機発光層の間の厚みは同じであり、
前記赤色を発する有機発光素子と前記青色を発する有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の発光位置との光学距離Ｌは、それぞれ下記式を満たすことを特徴とする多色表示装置。
０．２５×λＲ＜Ｌ＜０．７５×λＢ
（ただし、λＲ、λＢは、それぞれ赤色を発する有機発光素子と青色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長である。）
【請求項８】
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層の膜厚は、前記緑色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長を増強する膜厚であることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の多色表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記課題を解決するために、本発明の第１の多色表示装置は、赤色を発する有機発光素子、緑色を発する有機発光素子、青色を発する有機発光素子を有し、
各有機発光素子は、それぞれ基板上に順次配置された、反射電極、正孔輸送層、有機発光層、光透過電極を有しており、
前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも電子輸送性を有し、
前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は正孔輸送性を有し、
前記各有機発光素子の反射電極の反射位置と有機発光層の間の厚みは同じであり、
前記各有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の間の光学距離Ｌは、それぞれ下記式を満たすことを特徴とする。
０．２５×λＲ＜Ｌ＜０．７５×λＢ
（ただし、λＲ、λＢは、それぞれ赤色を発する有機発光素子と青色を発する有機発光素子の発光スペクトルのピ−ク波長である。）
本発明の第２の多色表示装置は、上記第１の多色表示装置において、前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも正孔輸送性を有し、前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は電子輸送性を有することを特徴とする。
本発明の第３の多色表示装置は、上記第１の多色表示装置において、前記赤色を発する有機発光素子と前記青色を発する有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の発光位置との光学距離Ｌが、それぞれ前記式を満たすことを特徴とする。
本発明の第４の多色表示装置は、上記第１の多色表示装置において、前記赤色を発する有機発光素子の有機発光層と前記青色を発する有機発光素子の有機発光層はいずれも正孔輸送性を有し、前記緑色を発する有機発光素子の有機発光層は電子輸送性を有し、前記赤色を発する有機発光素子と前記青色を発する有機発光素子における反射電極の反射位置と有機発光層の発光位置との光学距離Ｌが、それぞれ前記式を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月12日(2010.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】成膜装置および半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜室と、
前記成膜室内に設けられ、前記成膜室より小さい反応室と、を有し、
前記反応室を除いた前記成膜室の空間には封止ガスが導入され、前記反応室には反応ガスが導入された状態で、前記反応室においてプラズマ励起した化学気相成長法により、基板上に半導体膜を成膜することを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
第１の供給系を有する成膜室と、
第２の供給系を有する反応室と、を有し、
前記反応室は、前記成膜室内に設けられ、前記成膜室より小さく、
前記反応室を除いた前記成膜室の空間には、前記第１の供給系より封止ガスが導入され、前記反応室には前記第２の供給系より反応ガスが導入された状態で、前記反応室においてプラズマ励起した化学気相成長法により、基板上に半導体膜を成膜することを特徴とする成膜装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記封止ガスは水素または希ガスを含み、前記水素または前記希ガス以外の元素濃度が１０−７ａｔｏｍｓ％以下であることを特徴とする成膜装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記反応室に隣接する搬送室を有し、前記搬送室から前記反応室に前記基板は導入され、前記搬送室は前記封止ガスの雰囲気であることを特徴とする成膜装置。
【請求項５】
成膜室内に設けられた前記成膜室より小さい反応室に、基板を導入し、
前記反応室を除いた前記成膜室の空間に封止ガスを導入し、前記反応室に反応ガスを導入し、
前記反応室においてプラズマを励起して、化学気相成長法により、前記基板上に半導体膜を成膜することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
成膜室内に設けられた前記成膜室より小さい反応室に、基板を導入し、
前記反応室を除いた前記成膜室の空間に封止ガスを導入し、前記反応室に反応ガスを導入し、
前記反応室においてプラズマを励起して、化学気相成長法により、前記基板上に半導体膜を成膜し、
前記半導体膜は、第１の成膜速度で成膜された第１の半導体膜と、前記第１の成膜速度よりも速い第２の成膜速度で成膜された、前記第１の半導体膜上の第２の半導体膜とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記封止ガスは、水素または希ガスを含み、前記水素または前記希ガス以外の元素濃度が１０−７ａｔｏｍｓ％以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７のいずれか一において、
前記半導体膜の成膜時に、前記反応室にフッ素またはフッ化物を含む気体を導入することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項５乃至請求項７のいずれか一において、
前記基板を前記反応室に導入する前に、前記反応室にフッ素またはフッ化物を含む気体を導入してプラズマを発生させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項５乃至請求項９のいずれか一において、
前記半導体膜の成膜時に、前記反応室にフォスフィンを含む気体を導入することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項５乃至請求項９のいずれか一において、
前記基板を前記反応室に導入する前に、前記反応室にフォスフィンを含む気体を導入することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項５乃至請求項１１のいずれか一において、
前記半導体膜は微結晶半導体膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ユーザの頭部に装着される頭部装着型機器であって、
前記頭部を押圧する押圧部材と、
前記押圧部材と接続された線状部材と、
操作部材への回転操作に応じて前記線状部材を巻き取る回転部材と、
前記回転部材が前記線状部材を巻き取ることで生じる前記線状部材の長さの変化に応じて、前記押圧部材を頭部の押圧方向へ移動させるように前記線状部材を案内する案内手段と、
前記回転部材の前記線状部材の巻き取りと逆方向の回転動作を摩擦力によって抑制する第１及び第２の抑制手段と、
前記操作部材への第１の操作により前記第１の抑制手段による前記回転部材の抑制状態が解除され、前記操作部材への第２の操作により前記第１及び第２の抑制手段による前記回転部材の抑制状態が解除されるように、前記第１及び第２の抑制手段と前記操作部材とを関連付ける解除機構とを備えることを特徴とする頭部装着型機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の目的を達成するため本発明による頭部装着型機器は以下の構成を備える。すなわち、
ユーザの頭部に装着される頭部装着型機器であって、
前記頭部を押圧する押圧部材と、
前記押圧部材と接続された線状部材と、
操作部材への回転操作に応じて前記線状部材を巻き取る回転部材と、
前記回転部材が前記線状部材を巻き取ることで生じる前記線状部材の長さの変化に応じて、前記押圧部材を頭部の押圧方向へ移動させるように前記線状部材を案内する案内手段と、
前記回転部材の前記線状部材の巻き取りと逆方向の回転動作を摩擦力によって抑制する第１及び第２の抑制手段と、
前記操作部材への第１の操作により前記第１の抑制手段による前記回転部材の抑制状態が解除され、前記操作部材への第２の操作により前記第１及び第２の抑制手段による前記回転部材の抑制状態が解除されるように、前記第１及び第２の抑制手段と前記操作部材とを関連付ける解除機構とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が配列された画素配列と、
前記画素配列を制御する制御部と、
前記画素配列から信号を読み出す読み出し部と、
を備え、
前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれは、
光電変換部と、
電荷電圧変換部と、
活性状態において、前記光電変換部により蓄積された電荷を前記電荷電圧変換部へ転送し、非活性状態において、前記光電変換部により蓄積された電荷を前記電荷電圧変換部へ転送しない転送部と、
前記電荷電圧変換部の電圧に基づく信号を出力する増幅部と、
を含み、
前記制御部は、前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれにおいて、前記転送部を非活性状態にすることにより、前記光電変換部の電荷蓄積動作を開始させ、
前記読み出し部は、前記制御部により前記転送部が非活性状態にされた際に前記光電変換部から前記電荷電圧変換部にあふれ出た余剰電荷に基づく余剰信号を、前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれから読み出し、
前記制御部は、前記読み出し部により読み出された前記複数の画素の余剰信号に応じて、前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれにおいて、前記転送部を活性状態にして前記光電変換部から前記電荷電圧変換部へ電荷を転送することにより、前記光電変換部の電荷蓄積動作を完了させる
ことを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記複数の画素の余剰信号における最大値が第１の閾値に達したことに応じて、前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれに対して、前記光電変換部の電荷蓄積動作を完了させる
ことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項３】
前記電荷電圧変換部の容量は、前記複数の画素の余剰信号に応じて制御される
ことを特徴とした請求項１又は２に記載の光電変換装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記複数の画素の余剰信号における最大値と最小値との差分である差分信号に応じて、前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれに対して、前記転送部を活性状態にして前記光電変換部から前記電荷電圧変換部へ電荷を転送することにより、前記光電変換部の電荷蓄積動作を完了させる
ことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記差分信号が第２の閾値に達したことに応じて、前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれに対して、前記光電変換部の電荷蓄積動作を完了させる
ことを特徴とする請求項４に記載の光電変換装置。
【請求項６】
前記電荷電圧変換部の容量は、前記差分信号に応じて制御される
ことを特徴とした請求項４又は５に記載の光電変換装置。
【請求項７】
前記電荷電圧変換部では、前記転送部により転送された電荷と、余剰電荷とが加算される
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項８】
前記転送部は、ＭＯＳトランジスタを含み、
電荷に対する前記ＭＯＳトランジスタのチャネル領域のポテンシャルは、前記ＭＯＳトランジスタがオフした状態において、電荷に対する前記光電変換部の周辺のポテンシャルより低い
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項９】
前記画素配列の前記複数の画素のそれぞれは、前記転送部が電荷を転送できる状態で前記光電変換部をリセットするリセット部をさらに含み、
前記複数の画素のそれぞれの前記電荷電圧変換部は、
前記転送部を介して前記光電変換部に接続された第１の蓄積部と、
前記転送部が電荷を転送できない状態で前記光電変換部からあふれ出た余剰電荷を一時的に保持する第２の蓄積部と、
前記転送部および前記第１の蓄積部と前記第２の蓄積部との間に設けられたスイッチと、
を含み、
前記複数の画素のそれぞれの前記リセット部は、前記スイッチがオフして前記第２の蓄積部が余剰電荷を保持している状態で、前記第１の蓄積部をリセットする
ことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置の撮像面へ像を形成する光学系と、
前記光電変換装置から出力された信号を処理して画像データを生成する信号処理部と、
を備え、
前記信号処理部は、
前記光電変換装置から出力された信号を増幅する増幅器と、
前記光電変換装置の前記複数の画素の余剰信号に基づいて前記増幅器のゲインを決定するゲイン決定装置と、
を含み、
前記増幅器は、前記ゲイン決定装置により決定されたゲインで、前記光電変換装置から出力された信号を増幅する
ことを特徴とする撮像システム。
【請求項１１】
前記ゲイン決定装置は、前記複数の画素の余剰信号に基づいて、前記光電変換装置の前記電荷電圧変換部の容量を制御する
ことを特徴とする請求項１０に記載の撮像システム。
【請求項１２】
前記ゲイン決定装置は、前記複数の画素の余剰信号における最大値と最小値との差分である差分信号に基づいて、前記増幅器のゲインを決定する
ことを特徴とする請求項１０に記載の撮像システム。
【請求項１３】
前記ゲイン決定装置は、前記差分信号に基づいて、前記光電変換装置の前記電荷電圧変換部の容量を制御する
ことを特徴とする請求項１２に記載の撮像システム。
【請求項１４】
請求項１から９のいずれか１項に記載の複数の光電変換装置と、
異なる光路を介して前記複数の光電変換装置のそれぞれの撮像面へ像を形成する光学系と、
前記光学系を駆動する駆動部と、
前記複数の光電変換装置のそれぞれから出力された信号を処理して画像データを生成する信号処理部と、
を備え、
前記信号処理部は、
前記複数の光電変換装置のそれぞれから出力された画像信号が示す画像の位相差を検知することにより、前記光学系のデフォーカス量を検知するデフォーカス検知部と、
前記デフォーカス検知部により検知されたデフォーカス量に基づいて、デフォーカスが補正されるように、前記駆動部を制御するデフォーカス補正部と、
を含む
ことを特徴とする撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月26日(2011.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の素線（３０、３２）を備える固定子バー（１６）を有し、１つまたは複数の前記素線（３０）が、１組の接手（１８、２０）中の水を循環させるための通路を有し、前記接手が、上記バーの反対側の端末の周りを取り巻きそれに蝋付けされて１組の接手−素線蝋付け結合部を形成する発電機において、接手−素線結合部の１つをシールする方法であって、順番に
（ａ）前記１つの接手−素線結合部の内側表面を洗浄するステップと、
（ｂ）前記１つの接手−素線結合部の内側にエポキシ樹脂（４４）を塗布するステップと、
（ｃ）前記バーの反対側の端末の接手から前記１つの接手−素線結合部の内側を真空に引き、次いで前記１つの接手−素線結合部内側の真空を解除して、前記結合部の表面をエポキシ樹脂でシールするステップと
を含む方法。
【請求項２】
ステップ（ａ）が、微粒子をブラストして１つの接手−素線結合部の内側表面に衝突させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
１つの接手−素線結合部の内側表面にＣＯ２ペレットをブラストするステップを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
ステップ（ｂ）が、皮下注射器（４５）を用いてエポキシ樹脂を内側表面に塗布するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
ステップ（ｃ）が、エポキシ樹脂を前記結合部の割れ目に入り込ませるために真空を解除するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記１つの接手−素線結合部が、内側表面のある部分に酸化第二銅の遊離型針状晶または立方晶組織層を有し、ステップ（ｂ）および（ｃ）の前に前記第二酸化銅層を除去するために、ステップ（ａ）が、ＣＯ２ペレットで前記層をブラストするステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
ステップ（ａ）が、固定子バーの素線の端末に対向する１つの接手端部を通して微粒子を加圧供給して、前記内側表面を洗浄するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
ステップ（ａ）が、１つの接手−素線結合部の前記内側表面にＣＯ２ペレット（４２）をブラストするステップを含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
複数の素線を有する発電機固定子バー（１６）であって、１つまたは複数の前記素線（３０）が水を循環させる通路を有する固定子バーと、
前記バーのそれぞれ反対側の端末の周りを取り巻き、それに蝋付けされた１組の接手（１８、２０）であって、それぞれの接手が接手−素線結合部を形成する接手と、
前記バーの一方の端末の接手−素線結合部の内側表面に衝突して前記結合部を洗浄するためにＣＯ２ペレットの高速流を供給するＣＯ２ペレット洗浄ヘッド（４０）と、
前記バーの一方の端末の接手−素線結合部を洗浄した後に、前記結合部の内側に塗布するエポキシ樹脂（４４）と、
前記バーの反対側の端末の接手−素線結合部を通して前記バーの一方の端末の接手−素線結合部の内側を真空にするための真空ポンプであって、引き続いて前記バーの一方の端末の接手−素線結合部内側の真空を解除して、エポキシ樹脂に前記バーの一方の端末の接手−素線結合部の表面をシールさせる真空ポンプと
を備える、発電機中の接手−素線結合部をシールするためのシステム。
【請求項１０】
ステップ（ｂ）が接手−素線結合部の内側表面にエポキシ樹脂（４４）を塗布するための皮下注射器（４５）を含む、請求項９記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月12日(2011.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望の活性を有する遺伝子産物をコードする1つ以上の遺伝子エレメントを単離する方法であって、その発現により該遺伝子産物をコードする遺伝子エレメントの光学特性が直接または間接的に改変され得るものであり、
(a) 遺伝子産物がそれらをコードする遺伝子に連結されるように、該遺伝子エレメントを発現させ、それらの各遺伝子産物を産生させるステップ;
(b) 遺伝子エレメントをマイクロカプセル内に区画化するステップ;および、
(c) マイクロカプセルの破壊によって、遺伝子エレメントの光学特性の変化により、所望の活性を有する遺伝子産物を産生する遺伝子エレメントを分取するステップ；
を含み、前記マイクロカプセルが油をベースとする媒体中で水性溶液の油中水型エマルジョンを形成することによりマイクロカプセル化されたものである、上記方法。
【請求項２】
所望の遺伝子産物の活性により、直接または間接的に遺伝子産物をコードする遺伝子エレメントが修飾され、遺伝子エレメントの単離が可能となる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
遺伝子エレメントの修飾が該遺伝子エレメントの光学特性の変化を誘導する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
遺伝子エレメントの一部がリガンドであり、所望の遺伝子産物が直接または間接的に該リガンドに結合することにより、遺伝子エレメントの単離が可能となる、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
リガンドもまた遺伝子エレメントによりコードされる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
遺伝子エレメントの一部が基質であり、所望の遺伝子産物の活性により該基質が、遺伝子エレメントの一部として保持されることにより該遺伝子エレメントの単離を可能にする生成物に、直接または間接的に変換される、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
所望の遺伝子産物の活性による生成物が、遺伝子エレメントと複合体を形成することにより遺伝子エレメントの単離を可能にする生成物の産生を直接または間接的にもたらす、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
所望の遺伝子産物の活性により、直接または間接的に区画内で第２の遺伝子の発現の変化をもたらし、該第２の遺伝子の産物の活性により、遺伝子エレメントの光学特性の変化を用いる遺伝子エレメントの単離が可能となる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ステップ(a)が；
遺伝子エレメントを発現させ、そのそれぞれの遺伝子産物を産生させ、該遺伝子産物をそれらをコードする遺伝子エレメントに連結させ、その結果形成される複合体を単離することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ステップ(c)において、前記複合体の変化した光学特性に基づいて該複合体を直接分取し、所望の活性を有する遺伝子産物をコードする遺伝子エレメントを単離する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ステップ(c)において、前記複合体がさらに反応して、遺伝子エレメントの光学特性の、複合体中の所望の活性を有する遺伝子産物の存在に依存する条件的変化を誘導する、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
所望の活性を有する遺伝子産物をコードする遺伝子エレメントを単離するために前記複合体をさらなる区画化ステップに供する、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
遺伝子エレメントの光学特性の変化が、特有の光学特性を有する遺伝子産物が遺伝子エレメントに結合することに起因する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
遺伝子エレメントの光学特性の変化が、特有の光学特性を有するリガンドが遺伝子産物と結合することに起因する、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
遺伝子エレメントの光学特性の変化が、リガンドに結合した際の遺伝子産物の光学特性の変化に起因する、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
遺伝子エレメントの光学特性の変化が、遺伝子産物が結合した際のリガンドの光学特性の変化に起因する、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
遺伝子エレメントの光学特性の変化が、結合した際のリガンドおよび遺伝子産物の双方の光学特性の変化に起因する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
遺伝子エレメントの光学特性の変化が、選択された反応の基質および生成物の異なる光学特性に起因する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
基質および生成物の双方が同様の光学特性を有するが、選択された反応の生成物だけが遺伝子エレメントと結合または反応するが、基質はそれと結合または反応せず、そのことにより遺伝子エレメントの光学特性が変化する、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
さらに別の試薬が、遺伝子エレメントに結合した生成物と特異的に結合または特異的に反応するが、基質とは結合または反応せず、そのことにより遺伝子エレメントの光学特性を変化する、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
遺伝子産物の所望ではない活性により遺伝子エレメントの所望の活性により生じるものとは異なる光学特性の変化が起こる、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
所望ではない活性により起こる光学的変化を、遺伝子エレメントのネガティブな選択に用いる、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
ネガティブな選択をポジティブな選択と組合せて反応特異性を改善する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
改善される反応特異性が結合特異性の改善である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
改善される反応特異性が、基質ならびに/または生成物に対する部位および/もしくは立体選択性の改善である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
遺伝子産物のレパートリーをコードする遺伝子エレメントのライブラリーから遺伝子エレメントが単離される、請求項１〜２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
各遺伝子エレメントが2以上の遺伝子をコードし、各遺伝子産物が、遺伝子エレメントの光学特性が改変されることにより遺伝子エレメントの分取を可能とするような所望の活性を有している、請求項１〜２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
各遺伝子エレメントが2以上の遺伝子をコードし、該遺伝子産物が互いに結合し、遺伝子エレメントの光学特性を改変することにより遺伝子エレメントの分取が可能となる、請求項１〜２７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
付加的ステップ；
(d) ステップ(c)において単離された遺伝子エレメント中に1つ以上の変異を導入すること、
をさらに含む、請求項１〜２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
遺伝子エレメントを増幅することをさらに含む、請求項１〜２９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３１】
遺伝子エレメントがマイクロビーズに結合する遺伝子を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３２】
マイクロビーズが非磁性、磁性、または常磁性である、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
遺伝子エレメントの蛍光の変化を検出することにより遺伝子エレメントを分取する、請求項１に記載の方法。
【請求項３４】
蛍光活性化セルソーター(FACS)を用いて、遺伝子エレメントを分取する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
基質および生成物の異なる蛍光特性が、蛍光共鳴エネルギー移動(FRET)によるものである、請求項３３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外科手術用アクセス装置であって、以下：
物体を受容するための第１の通路を有するアクセスハウジング；および
アクセスハウジングに取り付け可能な基部であって、該基部が、以下：
切開部を少なくとも部分的に裏から覆うように患者の切開部内に位置付け可能な可撓性ライナー部材；
該ライナー部材の１つの端部に接続され、身体の内部表面に係合するように該身体内に位置付けるために適合された第１の部材；
該ライナー部材の他の端部に接続される第２の部材；および
該基部の第２の部材を係合するためのアクセスハウジングに隣接して配置された膨張可能部材であって、該膨張可能部材が、第２の部材を変位させるように膨張可能であり、これによって、該ライナー部材が、切開部を形成する組織に係合し、少なくとも部分的に該切開部を開創し、該第２の部材が、該アクセスハウジングの通路の内部寸法よりも小さい内部寸法を規定する、膨張可能部材、
を備える、基部、
を備える、外科手術用アクセス装置。
【請求項２】
請求項１に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記基部の第１の部材が弾性である、外科手術用アクセス装置。
【請求項３】
請求項２に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記基部が、前記アクセスハウジングに取り付けられ、前記膨張可能部材に隣接して配置されるハウジングマウントを備え、該ハウジングマウントが、該基部の第２の部材に連結され、かつ該第２の部材を変位させるために該膨張可能部材の膨張の際に該アクセスハウジングに対して移動可能である、外科手術用アクセス装置。
【請求項４】
請求項２に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記膨張可能部材が、バルーン部材を備える、外科手術用アクセス装置。
【請求項５】
請求項２に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記第１の部材および第２の部材が、それぞれ、弾性環状部材である、外科手術用アクセス装置。
【請求項６】
請求項５に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記バルーン部材が、環状形状を規定する、外科手術用アクセス装置。
【請求項７】
請求項１に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記アクセスハウジングが、外側トラフを備え、前記膨張可能部材が、該外側トラフに少なくとも部分的に収容される、外科手術用アクセス装置。
【請求項８】
請求項７に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記基部が、第２の部材に連結され、前記外側トラフに隣接して配置されるハウジングマウントを備え、該ハウジングマウントが、前記アクセスハウジングに対して移動するように適合され、これによって、膨張可能部材の膨張の際に、該ハウジングマウントが、前記第１の部材から変位する、外科手術用アクセス装置。
【請求項９】
請求項１に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記アクセスハウジングが、実質的に流体密な関係で前記物体を受容するために適合されたシールを有する、外科手術用アクセス装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記アクセスハウジングに取り付け可能であるアダプターを備え、該アダプターが、前記シールを通る第２の通路を規定するアクセス部材を有する、外科手術用アクセス装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記アダプターが、前記第２の通路を横切って配置される弁を有し、該弁が、実質的に流体密な関係で外科手術用機器を受容するように適合されている、外科手術用アクセス装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記膨張可能部材が、バルーンである、外科手術用アクセス装置。
【請求項１３】
外科手術用アクセス装置であって、以下：
アクセスハウジングであって、該アクセスハウジングが、中心長手軸を規定し、外科医の手の通過のために該アクセスハウジングの中を延びる長手方向開口部を有するアクセスハウジング；
該アクセスハウジングに取り付けられた開創器基部であって、該開創器基部が、切開部を規定する組織部分に係合するように該切開部内に位置付けるための可撓性ライナーを有する、開創器基部；および
該アクセスハウジングに取り外し可能に取り付けられたトロカールアダプターであって、該トロカールアダプターが、該長手方向開口部内に受容するように位置付けられたトロカールスリーブ、および流体密な関係で外科手術用機器を受容するように適合されたトロカール弁を備える、トロカールアダプター、
を備え、
該開創器基部が、該ライナーのそれぞれの端部に接続される第１の環状部材および第２の環状部材を備え、該第１の環状部材が、体腔内の内側組織部分に係合するように、切開部を通して位置付け可能であり、該第２の環状部材は、該アクセスハウジングに関して取り付けられ、
該第２の環状部材が、該アクセスハウジングの通路の内部寸法よりも小さい内部寸法を規定する、外科手術用アクセス装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記アクセスハウジングが、外科医の腕および前記トロカールスリーブのそれぞれの周りにシールを形成するように適合されたシールを備える、外科手術用アクセス装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記シールが、外科医の腕の非存在下または前記トロカールスリーブの非存在下において閉鎖するように適合されている、外科手術用アクセス装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記シールが、ゲル材料を含む、外科手術用アクセス装置。
【請求項１７】
請求項１３に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記開創器基部が、前記アクセスハウジングに取り付けられ、かつ前記第２の環状部材に係合可能な膨張可能部材を備え、該膨張可能部材が、前記第１の環状部材に対して該第２の環状部材を変位するように膨張して、前記ライナーが、切開部を規定する組織を少なくとも部分的に引き出すように適合されている、外科手術用アクセス装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記膨張可能部材が、環状バルーンを備える、外科手術用アクセス装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記開創器基部が、第２の環状部材に結合され、かつ前記環状バルーンによって係合されるように前記アクセスハウジングに対して位置付けられる環状マウントを備え、該環状マウントが、第１の環状部材に対して該第２の環状部材を変位させるために、該環状バルーンの膨張の際に該アクセスハウジングに対してより適合される、外科手術用アクセス装置。
【請求項２０】
請求項１に記載の外科手術用アクセス装置であって、前記アクセスハウジングが、長手軸を規定し、外側トラフを備え、前記膨張可能部材が、該外側トラフに対して前記基部の前記第２の部材を長手方向に変位させる、外科手術用アクセス装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月30日(2011.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
マウスのサイトメガロウイルス（mCMV）は、ヘルペスウイルス（herpesviridae）の非常に多様な群のメンバーである。異なる宿主種のサイトメガロウイルスの間にさえ、広い変異があることもある。たとえば、mCMVは、生物学的性質、前初期（IE）遺伝子組織、および全体のヌクレオチド配列に関して、ヒトサイトメガロウイルス（hCMV）とはかなり異なる。また、mCMVの235kbpゲノムは、hCMVの大部分の内部および末端の反復の特徴を欠いている。従って、MCMVゲノムのアイソマー形態は、現存しない（Ebeling, A.ら、（1983）, J. Virol. 47,421-433 ; Mercer, J. A.ら、（1983）, Virology 129,94-106）。本発明によれば、本質的に米国特許第4968615号に記載されている大きな約2.1kbのPstI断片またはこれらの任意の機能的な断片と一致するプロモーター領域を使用することが可能である。より好ましい態様において、使用されるmCMVプロモーター断片は、転写開始部位（+0）を含み、上流域から約位置-500に伸びる。驚くべきことに、このような断片は、位置-500を越えてさらに上流に800塩基対伸びているプロモーター・カセットよりも強力に発現を促進することを見いだした。最も好ましい態様において、コア・プロモーター領域には、転写開始部位上流域から、しかし天然の転写開始部位から約位置-150のXhoI制限部位まで伸びているか、またはしかし天然の転写開始部位から位置-100の上流域まで伸び得ているものが使用される。転写開始部位は、組換え産物遺伝子の挿入のための適切な制限部位を含むように設計してもよいことは言うまでもない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】 ターボ機の軸に沿って対称な壁によって限定される空気流又はガス流の径路上に複数の羽根段階を含み、前記壁部が空気流の外側にあるほぼ軸対称又は環状に対称な構造の空洞１１と連通する開口部１３を備えたターボ機において、対称性弱化手段が前記空洞内に設けられていることを特徴とするターボ機。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によるターボ機は、ターボ機の軸に沿って対称な壁に限定された空気流又はガス流の径路上に複数の羽根段階を含むターボ機であり、前記壁部は、空気流の外側にあるほぼ軸対称又は環状に対称な構造の空洞と連通する開口部を備えている。対称性弱化手段は、前記空洞内に設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月12日(2011.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板ブランケット上にインクを塗布する塗布工程と、
前記平板ブランケットと、所定のパターンからなる凸部を有する凸版とを互いに向かい合わせ、これらを加圧圧縮によって接触させることにより、前記平板ブランケット上のインクのうちの前記凸部に対応する部分を前記凸版上に転写させる第１転写工程と、
前記第１転写工程後の平板ブランケットと基板とを互いに向かい合わせ、これらを加圧圧縮によって接触させることにより、前記平板ブランケット上に残留するインクを前記基板上に転写させる第２転写工程と
を含むパターン転写方法。
【請求項２】
前記第１転写工程においては、
前記平板ブランケットまたは前記凸版の背面側から圧縮空気を噴射することにより、前記平板ブランケットと前記凸版とを接触させる
請求項１に記載のパターン転写方法。
【請求項３】
前記第２転写工程においては、
前記平板ブランケットまたは前記基板の背面側から圧縮空気を噴射することにより、前記平板ブランケットと前記基板とを接触させる
請求項１または請求項２に記載のパターン転写方法。
【請求項４】
前記第１転写工程の後に、
前記第１転写工程において圧縮空気を噴射した空間を真空排気することにより、前記平板ブランケットと前記凸版とを分離させる分離工程を含む
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のパターン転写方法。
【請求項５】
前記第１転写工程または前記第２転写工程においては、
前記平板ブランケットの背面側に伸縮性フィルムを設け、前記伸縮性フィルムを介して圧縮空気を噴射することにより、前記平板ブランケットと前記凸版または前記基板とを接触させる
請求項２ないし請求項４のいずれか１項に記載のパターン転写方法。
【請求項６】
前記平板ブランケットは第１のアライメントマークを有し、
前記基板は第２のアライメントマークを有し、
前記第２転写工程の前に、前記第１のアライメントマークと前記第２のアライメントマークとに基づいて前記平板ブランケットと前記基板との位置合わせをする位置合わせ工程を含む
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のパターン転写方法。
【請求項７】
前記第１のアライメントマークは、
前記第１転写工程において形成された前記平板ブランケット上のパターンの一部からなる
請求項６に記載のパターン転写方法。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の金属薄膜パターン転写方法。
【請求項９】
平板ブランケットを固定するための第１のステージと、
凸版または基板を固定するための第２のステージと、
前記平板ブランケットの外周部を、前記第１のステージに固定するための固定部と
を備え、
前記第１のステージには、圧縮空気を噴射するための空気導入口が設けられている
転写装置。
【請求項１０】
前記第１のステージは、前記空気導入口の外側に設けられた複数の開口を更に有し、
前記空気導入口から圧縮空気が噴射され、
前記開口は真空排気を行う
請求項９に記載の転写装置。
【請求項１１】
前記固定部によって前記平板ブランケットの外周部が前記第１のステージに固定されている間に、前記空気導入口から前記圧縮空気が噴射される
請求項９に記載の転写装置。
【請求項１２】
前記固定部は、前記平板ブランケットを前記第１のステージに固定するための固定フレームからなる
請求項９または請求項１１に記載の転写装置。
【請求項１３】
前記固定フレームは、Ｏリングを備えてなる
請求項１２に記載の転写装置。
【請求項１４】
前記固定部は、前記第１のステージに設けられた前記開口からなり、
前記開口から前記平板ブランケットを真空吸着することにより、前記平板ブランケットを前記第１のステージに固定する
請求項１０ないし請求項１３のいずれか１項に記載の転写装置。
【請求項１５】
前記平板ブランケットと前記基板との位置合わせを行うためのアライメント用顕微鏡を更に備えた
請求項９ないし請求項１４のいずれか１項に記載の転写装置。
【請求項１６】
前記アライメント用顕微鏡は、多焦点アライメント機構を有する
請求項１５に記載の転写装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パターン転写方法および金属薄膜パターン転写方法、ならびに転写装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、反転オフセット印刷法を用いたパターン転写方法および金属薄膜パターン転写方法、ならびにこれらの転写方法に適用される転写装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、薄膜の抵抗値を必要以上に高くすることなく、従来よりも微細化および高歩留り化を実現することが可能なパターン転写方法および金属薄膜パターン転写方法ならびに転写装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のパターン転写方法および金属薄膜パターン転写方法は、以下の要件（Ａ）〜（Ｃ）を含むものである。
（Ａ）平板ブランケット上にインクを塗布する塗布工程
（Ｂ）平板ブランケットと、所定のパターンからなる凸部を有する凸版とを互いに向かい合わせ、これらを加圧圧縮によって接触させることにより、平板ブランケット上のインクのうちの凸部に対応する部分を凸版上に転写させる第１転写工程
（Ｃ）第１転写工程後の平板ブランケットと基板とを互いに向かい合わせ、これらを加圧圧縮によって接触させることにより、平板ブランケット上に残留するインクを基板上に転写させる第２転写工程
本発明の転写装置は、平板ブランケットを固定するための第１のステージと、凸版または基板を固定するための第２のステージと、平板ブランケットの外周部を第１のステージに固定するための固定部とを備え、第１のステージには、圧縮空気を噴射するための空気導入口が設けられているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月7日(2011.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電灯の駆動装置であって、
前記放電灯の２つの電極間に交流電流を供給する交流電流供給部と、
変調の一周期内において、前記交流電流の周波数が互いに異なる複数の期間を設けることにより前記周波数を変調する周波数変調部と
を備え、
前記周波数変調部は、前記放電灯の劣化が進行している場合に、前記複数の期間のうちの、前記周波数が所定の基準周波数以下である少なくとも一期間を、前記劣化が進行する前と比べて短縮する
放電灯の駆動装置。
【請求項２】
請求項１記載の放電灯の駆動装置であって、
前記周波数変調部は、前記短縮を行う際に、前記複数の期間のうち、前記周波数が第１の周波数である第１の期間の長さを、前記周波数が前記第１の周波数よりも高い第２の周波数である第２の期間よりも短くする
放電灯の駆動装置。
【請求項３】
請求項２記載の放電灯の駆動装置であって、
前記周波数変調部は、前記短縮を行う際に、前記周波数が低くなるに従って当該周波数の期間を短くする
放電灯の駆動装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか記載の放電灯の駆動装置であって、
前記周波数変調部は、前記期間の短縮を、前記複数の期間のそれぞれで行う
放電灯の駆動装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか記載の放電灯の駆動装置であって、さらに、
前記劣化状態を表すパラメータとして前記放電灯の使用開始からの累積点灯時間を算出する点灯時間累算部を備え、
前記周波数変調部は、前記放電灯の劣化が進行している場合として、前記累積点灯時間が所定の上限時間を超えた場合に、前記短縮を行う
放電灯の駆動装置。
【請求項６】
放電灯の駆動装置であって、
前記放電灯の２つの電極間に交流電流を供給する交流電流供給部と、
変調の一周期内において、前記交流電流の周波数が互いに異なる複数の期間を設けることにより前記周波数を変調する周波数変調部と、
前記放電灯におけるフリッカの発生を検出するフリッカ検出部と、
を備え、
前記周波数変調部は、前記周波数が前記基準周波数以下である期間において前記フリッカが検出された場合に、前記複数の期間のうちの、前記周波数が所定の基準周波数以下である少なくとも一期間を、前記フリッカが検出される前と比べて短縮する
放電灯の駆動装置。
【請求項７】
請求項６記載の放電灯の駆動装置であって、
前記周波数変調部は、前記短縮から所定の時間が経過した後、前記フリッカが検出された周波数においてフリッカが発生しているか否かを判断し、フリッカが発生していない場合には、前記短縮された期間を短縮前の長さに復元する
放電灯の駆動装置。
【請求項８】
放電灯の駆動装置であって、
前記放電灯の２つの電極間に交流電流を供給する交流電流供給部と、
変調の一周期内において、前記交流電流の周波数が互いに異なる複数の期間を設けることにより前記周波数を変調する周波数変調部と
を備え、
前記交流電流供給部は、前記放電灯に供給する前記交流電流の電力を変更可能に構成されており、
前記周波数変調部は、前記放電灯に供給される前記交流電流の電力が所定の基準電力より低い場合に、前記複数の期間のうちの、前記周波数が所定の基準周波数以下である少なくとも一期間を、前記電力が前記所定の基準電力より低くなる前と比べて短縮する
放電灯の駆動装置。
【請求項９】
光源装置であって、
放電灯と、
前記放電灯を点灯するために、前記放電灯の２つの電極間に交流電流を供給する交流電流供給部と、
変調の一周期内において、前記交流電流の周波数が互いに異なる複数の期間を設けることにより前記周波数を変調する周波数変調部と
を備え、
前記周波数変調部は、前記放電灯の劣化が進行している場合に、前記複数の期間のうちの、前記周波数が所定の基準周波数以下である少なくとも一期間を、前記劣化が進行する前と比べて短縮する
光源装置。
【請求項１０】
画像表示装置であって、
画像表示用の光源である放電灯と、
前記放電灯を点灯するために、前記放電灯の２つの電極間に交流電流を供給する交流電流供給部と、
変調の一周期内において、前記交流電流の周波数が互いに異なる複数の期間を設けることにより前記周波数を変調する周波数変調部と
を備え、
前記周波数変調部は、前記放電灯の劣化が進行している場合に、前記複数の期間のうちの、前記周波数が所定の基準周波数以下である少なくとも一期間を、前記劣化が進行する前と比べて短縮する
画像表示装置。
【請求項１１】
放電灯の駆動方法であって、
前記放電灯の２つの電極間に供給する交流電流の周波数を、変調の一周期内において前記交流電流の周波数が互いに異なる複数の期間を設けることにより変調し、
前記放電灯の劣化が進行している場合に、前記複数の期間のうちの、前記周波数が所定の基準周波数以下である少なくとも一期間を、前記劣化が進行する前と比べて短縮する
放電灯の駆動方法。