【手続補正書】
【提出日】平成23年5月19日(2011.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークピース上に像を投影可能であり、前記投影中に前記ワークピースが対向する光学アセンブリと、
前記ワークピースを支持するワークピーステーブルを含むステージアセンブリと、
前記ワークピーステーブルとは異なり、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下から離れるとき、前記光学アセンブリに隣接する空間に液浸液体が実質的に維持されるように、前記ワークピーステーブルの代わりに前記光学アセンブリと対向するように位置付けられるカバー部材と、を備え、
前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは、相対移動可能である装置。
【請求項２】
前記カバー部材に連結されるモーターを備え、
前記モーターによって、前記カバー部材は光学アセンブリと対向するように位置付けられる請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ワークピーステーブル上の前記ワークピースを取り出し、第２ワークピースに置き換えるワークピース交換システムを備える請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記ワークピース交換システムは、ロボットを含む請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記ワークピースのアライメントを行うアライメントツールを備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記空間に液浸液体を供給し、前記空間から液浸液体を除去する環境システムを備える請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
パターンを定義するレチクルを保持するレチクルステージを備え、
前記光学アセンブリは、前記レチクルにより定義される前記パターンの像を前記ワークピース上に投影する請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
リソグラフィマシンである請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記ワークピースは、半導体ウエハである請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
ＡｒＦエキシマレーザを含む照明源を備え、
前記液浸液体は、水を含み、
前記ワークピースは、前記液浸液体を介して露光される請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記カバー部材は、パッドを含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下から離れるとき、前記光学アセンブリと対向するように前記カバー部材を位置付ける移動システムを備える請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記移動システムは、前記ワークピーステーブルとは個別に前記カバー部材を移動する請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記液浸液体が前記カバー部材と前記光学アセンブリとの間のギャップに維持されている間、前記ワークピーステーブルは、前記カバー部材とは個別に移動可能である請求項１〜１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記カバー部材は、プラスチック、金属、及びセラミックスの少なくとも一つで作られる請求項１〜１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下に位置付けられる第１状態から前記カバー部材が前記光学アセンブリと対向するように位置付けられる第２状態への遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項１〜１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
前記ワークピーステーブルに保持された前記ワークピースの露光中、前記カバー部材は前記ワークピーステーブルから離れるように位置付けされる請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは同期して移動される請求項１６又は１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは実質的に連続した表面を形成し、前記光学アセンブリと前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
前記連続した表面を形成するように前記ワークピーステーブルの傾きが調整される請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記遷移のために、前記ワークピーステーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係が調整される請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２２】
前記光学アセンブリから第１方向に離れて配置されたアライメントツールを備え、
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは前記第１方向に関して互いに近接される請求項１６〜２１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２３】
前記ワークピースの露光中、前記カバー部材は、前記ワークピーステーブルに関して実質的に前記アライメントツールの反対側に位置付けられる請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記ワークピーステーブルは、その一側面に干渉計のミラーを有さず、
前記遷移において、前記カバー部材は、前記ワークピーステーブルの前記一側面に近接して配置される請求項１６〜２３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２５】
前記ワークピーステーブルは、その一側面に干渉計のミラーを有し、
前記遷移において、前記カバー部材は、前記ワークピーステーブルの前記一側面に近接して配置され、
前記カバー部材が前記ワークピーステーブルの前記一側面に近接して配置されるとき、前記干渉計のビームは、前記干渉計のミラーに到達可能である請求項１６〜２３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２６】
前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとが互いに近接されるとき、前記ワークピーステーブルと前記カバー部材との間のギャップへの前記液浸液体の漏れが防止される請求項１６〜２５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２７】
気体圧力によって前記液浸液体の漏れが防止される請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
マイクロデバイスを製造する方法であって、
ワークピーステーブルに保持されたワークピース上に光学アセンブリを介してデバイスパターンの像を投影することと、
前記光学アセンブリの下から離れるように前記ワークピーステーブルを移動することと、
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下から離れるように移動されるとき、前記光学アセンブリに隣接する空間に液浸液体が維持されるように、前記ワークピーステーブルの代わりに前記光学アセンブリに対向するように、前記ワークピーステーブルとは異なるカバー部材を位置付けることと、を含み、
前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは相対移動可能である方法。
【請求項２９】
前記カバー部材は、前記ワークピーステーブルとは個別に移動される請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記液浸液体が前記カバー部材と前記光学アセンブリとの間のギャップに維持されている間、前記ワークピーステーブルは、前記カバー部材とは個別に移動可能である請求項２８又は２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下に位置付けられる第１状態から前記カバー部材が前記光学アセンブリと対向するように位置付けられる第２状態への遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項２８〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは同期して移動される請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは実質的に連続した平面を形成し、前記光学アセンブリと前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項３１又は３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記遷移のために、前記ワークピーステーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係が調整される請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
前記ワークピーステーブルに保持された前記ワークピースの露光中、前記カバー部材は前記ワークピーステーブルから離れるように位置付けられる請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
露光ビームで基板を露光する液浸露光装置であって、
前記基板を露光するための前記露光ビームが通過する光学部材と、
前記光学部材と対向するように位置付け可能なカバー部材と、
前記基板を保持した状態で前記光学部材に対して相対移動可能な基板テーブルと、を備え、
前記基板テーブルと前記カバー部材とは相対移動可能であり、
前記基板テーブル及び前記カバー部材の一方が前記光学部材の下に配置される第１状態から前記基板テーブル及び前記カバー部材の他方が前記基板テーブル及び前記カバー部材の一方の代わりに前記光学部材の下に配置される第２状態への遷移中、前記光学部材は、液浸液体と接触し続ける液浸露光装置。
【請求項３７】
前記カバー部材を移動する移動システムを備える請求項３６に記載の液浸露光装置。
【請求項３８】
前記カバー部材は、前記基板テーブルに近接するように位置付け可能である請求項３７に記載の液浸露光装置。
【請求項３９】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項３７又は３８に記載の液浸露光装置。
【請求項４０】
前記カバー部材が前記光学部材と対向されるとき、前記基板テーブルは前記光学部材の下から離れるように移動可能である請求項３７〜３９のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４１】
前記カバー部材と前記基板テーブルとは同期して移動される請求項３７〜４０のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４２】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは実質的に連続した表面を形成し、
前記光学部材と前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項３７〜４１のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４３】
前記遷移のために、前記基板テーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係が調整される請求項３７〜４２のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４４】
前記調整は、前記遷移の前に行われる請求項４３に記載の液浸露光装置。
【請求項４５】
前記カバー部材が前記光学部材と対向されている間、前記基板テーブルは、前記光学部材の下から離れるように移動可能である請求項３７〜４４のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４６】
前記カバー部材は、プラスチック、金属、及びセラミックスの少なくとも一つで作られる請求項３７〜４５のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４７】
前記基板はウエハを含み、前記光学部材及び前記ウエハと前記光学部材との間のギャップに満たされた前記液浸液体を通過した前記露光ビームで露光される請求項３７〜４６のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４８】
前記液浸液体を供給する液体システムを備える請求項３７〜４７のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項４９】
前記液体システムは、前記液浸液体を回収する請求項４８に記載の液浸露光装置。
【請求項５０】
前記基板テーブル上の前記基板の露光中、前記移動システムは、前記基板テーブルから離れるように前記カバー部材を移動する請求項３７〜４９のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５１】
前記カバー部材が前記光学部材と対向する間、前記基板テーブルは前記光学部材の下から離れるように移動可能である請求項５０に記載の液浸露光装置。
【請求項５２】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項３６〜５１のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５３】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは実質的に連続した表面を形成し、前記光学部材と前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項３６〜５２のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５４】
前記基板テーブル上の前記基板の露光中、前記カバー部材は、前記基板テーブルから離れるように位置付けられる請求項３６〜５３のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５５】
前記光学部材から第１方向に離れて配置されたアライメントシステムを備え、
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは前記第１方向に関して互いに近接される請求項３６〜５４のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５６】
前記基板の露光中、前記カバー部材は、前記基板テーブルに関して前記アライメントシステムの反対側に位置付けられる請求項５５に記載の液浸露光装置。
【請求項５７】
前記基板テーブルは、その一側面に干渉計のミラーを有さず、
前記遷移において、前記カバー部材は、前記基板テーブルの前記一側面に近接して配置される請求項３６〜５６のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５８】
前記基板テーブルは、その一側面に干渉計のミラーを有し、
前記遷移において、前記カバー部材は、前記基板テーブルの前記一側面に近接して配置され、
前記カバー部材が前記基板テーブルの前記一側面に近接して配置されるとき、前記干渉計のビームは、前記干渉計のミラーに到達可能である請求項３６〜５７のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項５９】
前記カバー部材と前記基板テーブルとが互いに近接されるとき、前記基板テーブルと前記カバー部材との間のギャップへの前記液浸液体の漏れが防止される請求項３６〜５８のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
【請求項６０】
気体圧力によって前記液浸液体の漏れが防止される請求項５９に記載の液浸露光装置。
【請求項６１】
露光ビームで基板を露光する液浸露光方法であって、
光学部材の下方から離れるように、前記基板を保持した基板テーブルを移動することと、
前記基板テーブルの代わりに、前記光学部材と対向するようにカバー部材を位置付けることと、を含み、
前記カバー部材と前記基板テーブルとは相対移動可能であり、
前記基板テーブルが前記光学部材の下に配置される第１状態から前記カバー部材が前記光学部材と対向する第２状態への遷移中、前記光学部材は、前記液浸液体に接触し続ける液浸露光方法。
【請求項６２】
前記遷移において、前記カバー部材と基板テーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項６１に記載の液浸露光方法。
【請求項６３】
前記カバー部材が前記光学部材と対向するとき、前記基板テーブルは、前記光学部材の下から離れるように移動する請求項６１又は６２に記載の液浸露光方法。
【請求項６４】
前記カバー部材と前記基板テーブルとは同期して移動される請求項６１〜６３のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項６５】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは実質的に連続した表面を形成し、前記光学部材と前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項６１〜６４のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項６６】
前記遷移のために、前記基板テーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係を調整することを含む請求項６１〜６５のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項６７】
前記遷移の前に前記調整が行われる請求項６６に記載の液浸露光方法。
【請求項６８】
前記カバー部材が前記光学部材と対向するとき、前記基板テーブルは前記光学部材の下から離れるように移動される請求項６１〜６７のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項６９】
前記基板はウエハを含み、前記光学部材及び前記ウエハと前記光学部材との間のギャップに満たされた前記液浸液体を通過した前記露光ビームで露光される請求項６１〜６８のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項７０】
前記基板テーブル上の前記基板の露光中に、前記カバー部材が前記基板テーブルから離れるように位置付けられる請求項６１〜６９のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項７１】
前記遷移において、前記カバー部材は移動システムによって移動される請求項６１〜７０のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項７２】
デバイスの製造方法であって、
光学部材の下方から離れるように、前記基板を保持した基板テーブルを移動することと、
前記基板テーブルの代わりに、前記光学部材と対向するようにカバー部材を位置付けることと、を含み、
前記カバー部材と前記基板テーブルとは相対移動可能であり、
前記基板テーブルが前記光学部材の下に配置される第１状態から前記カバー部材が前記光学部材と対向する第２状態への遷移中、前記光学部材は、前記液浸液体に接触し続ける液浸露光方法。
【請求項７３】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項７２に記載のデバイス製造方法。
【請求項７４】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは実質的に連続した表面を形成し、前記光学部材と前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項７２又は７３に記載のデバイス製造方法。
【請求項７５】
前記基板はウエハを含み、前記光学部材及び前記ウエハと前記光学部材との間のギャップに満たされた前記液浸液体を通過した露光ビームで露光される請求項７２〜７４のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項７６】
前記カバー部材が前記光学部材と対向するとき、前記基板テーブルは前記光学部材の下から離れるように移動される請求項７２〜７５のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項７７】
前記カバー部材と前記基板テーブルとは同期して移動される請求項７２〜７６のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項７８】
前記遷移のために、前記基板テーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係が調整される請求項７２〜７７のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項７９】
前記基板テーブル上の前記基板の露光中、前記カバー部材は、前記基板テーブルから離れるように位置付けされる請求項７２〜７８のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項８０】
前記遷移において、前記カバー部材は移動システムによって移動される請求項７２〜７９のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
【請求項８１】
露光ビームで基板を露光する液浸露光装置を製造する方法であって、
前記基板を露光するための前記露光ビームが通過する光学部材をもたらすことと、
前記光学部材と対向するように位置付け可能なカバー部材をもたらすことと、
前記基板を保持しつつ前記光学部材に対して相対移動可能な基板テーブルをもたらすことと、を含み、
前記基板テーブルと前記カバー部材とは相対移動可能であり、
前記基板テーブル及び前記カバー部材の一方が前記光学部材の下に配置される第１状態から前記基板テーブル及び前記カバー部材の他方が前記基板テーブル及び前記カバー部材の一方の代わりに前記光学部材の下に配置される第２状態へ遷移する間、前記光学部材は前記液浸液体に接触し続ける方法。
【請求項８２】
前記カバー部材を移動する移動システムをもたらすことを含む請求項８１に記載の方法。
【請求項８３】
前記カバー部材と前記基板テーブルとは互いに近接しつつ移動される請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
前記遷移において、前記カバー部材と前記基板テーブルとは実質的に連続した表面を形成し、前記光学部材と前記連続した表面との間のギャップは前記液浸液体で満たされる請求項８１〜８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８５】
液浸露光方法であって、
ワークピーステーブルに保持されたワークピースに光学アセンブリを介してパターンの像を投影することと、
前記光学アセンブリの下から離れるように前記ワークピーステーブルを移動することと、
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下から離れるように移動されるとき、前記光学アセンブリに隣接する空間に液浸液体が維持されるように、前記ワークピーステーブルの代わりに前記光学アセンブリと対向するように、前記ワークピーステーブルとは異なるカバー部材を位置付けることと、を含み、
前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは相対移動可能である液浸露光方法。
【請求項８６】
前記カバー部材は、前記ワークピーステーブルとは個別に移動される請求項８５に記載の液浸露光方法。
【請求項８７】
前記液浸液体が前記カバー部材と前記光学アセンブリとの間のギャップに維持される間、前記ワークピーステーブルは前記カバー部材とは個別に移動可能である請求項８５又は８６に記載の液浸露光方法。
【請求項８８】
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下に位置付けられる第１状態から前記カバー部材が前記光学部材と対向するように位置付けられる第２状態への遷移において、  前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとが互いに近接しつつ移動することを含む請求項８５〜８７のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項８９】
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは同期して移動される請求項８８に記載の液浸露光方法。
【請求項９０】
前記遷移において、前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは実質的に連続した表面を形成し、前記光学アセンブリと前記連続した表面との間のギャップが前記液浸液体で満たされる請求項８８又は８９記載の液浸露光方法。
【請求項９１】
前記ワークピーステーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係は、前記連続した表面が形成されるように調整される請求項９０に記載の液浸露光方法。
【請求項９２】
前記遷移のために、前記ワークピーステーブルの表面と前記カバー部材の表面との位置関係が調整される請求項８８〜９１のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項９３】
前記位置関係の調整は、前記ワークピーステーブルの傾きの調整を含む請求項９１又は９２に記載の液浸露光方法。
【請求項９４】
前記ワークピーステーブルに保持された前記ワークピースの露光中、前記カバー部材は前記ワークピーステーブルから離れるように位置付けされる請求項８５〜９３のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【請求項９５】
液浸露光装置を製造する方法であって、
投影中に対向するワークピース上に像を投影する光学アセンブリをもたらすことと、
前記ワークピースを支持するワークピーステーブルを含むステージアセンブリをもたらすことと、
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリの下から離れるように移動されたとき、前記光学アセンブリと隣接する空間に液浸液体が実質的に維持されるように、前記ワークピーステーブルの代わりに前記光学アセンブリと対向するように位置づけされる、前記ワークピーステーブルとは異なるカバー部材をもたらすことと、を含み、
前記カバー部材と前記ワークピーステーブルとは相対移動可能である方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液浸露光装置、液浸露光方法、デバイス製造方法、及び液浸露光装置の製造方法