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【手続補正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記金属シリサイド層を構成する金属がニッケルを含有する、請求項５から９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
従来の半導体装置の製造工程では、まず、図５（ａ）に示すように、ニッケルシリサイド層５２が形成された半導体基板５１上に、シリコン窒化膜からなるコンタクトエッチングストップ層５３、シリコン酸化膜からなる層間絶縁膜５４が下層から順に形成される。次いで、図５（ｂ）に示すように、層間絶縁膜５４上に、コンタクト孔形成位置に開口部５５ａを有するレジストパターン５５ｂがリソグラフィー技術により形成される。当該レジストパターン５５ｂをマスクとしたドライエッチングにより層間絶縁膜５４およびコンタクトエッチングストップ層５３にコンタクト孔５５が形成される。この際、ドライエッチングガスと層間絶縁膜５４の構成材料との反応により有機系のエッチング堆積物５６が生成し、コンタクト孔５５の内面に付着する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
当該構造は、コンタクト孔底面として、表面部が窒化された金属シリサイド層が露出した状態で、アッシング、薬液洗浄等を行い、その後にコンタクト孔底面に形成された酸化膜を除去した結果として形成される。例えば、コンタクト孔底面の酸化膜除去の際に、自然酸化膜とともに金属シリサイド窒化層が完全に除去された場合、コンタクト孔底面は金属シリサイド層で構成されることになる。また、コンタクト孔底面の金属シリサイド窒化層が完全に除去されなかった場合、コンタクト孔の底面領域の表面部には金属シリサイド窒化層が残存することになる。いずれの場合であっても、コンタクト孔内部のアッシングの際に、コンタクト孔底面に露出する金属シリサイド層の表面に金属シリサイド窒化層が存在するため、アッシング中にコンタクト孔底面に形成される酸化膜の膜厚を従来に比べて低減される。その結果、当該酸化膜の除去を容易に行うことができ、低コンタクト抵抗のコンタクト構造を安定して形成することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
なお、以上の半導体装置および半導体装置の製造方法は、金属シリサイド層を構成する金属がニッケルを含有する場合に好適である。また、金属シリサイド窒化層中の窒素濃度は１Ｅ１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ3以上、かつ１Ｅ２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ3以下であることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図１は、本発明の一実施形態における半導体装置のコンタクト部の断面構造を示す概略図である。図１に示すように、本実施形態の半導体装置は、半導体基板（シリコン基板）１１上にニッケルシリサイド層１２が約２０ｎｍ程度の膜厚で形成されている。当該ニッケルシリサイド層１２の最表面１２ａは、窒素がニッケルシリサイド層１２中のＳｉと結合し、シリコン原子のダングリングボンドを終端している。また、このように窒化したニッケルシリサイド層の最表面１２ａ（以下、ニッケルシリサイド窒化層１２ａという。）の上層には、シリコン窒化膜からなるコンタクトエッチングストップ層１３、およびシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜１４が形成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲において、種々の変形および応用が可能である。例えば、上記では、ニッケルシリサイド層形成直後に、ニッケルシリサイド層に窒素プラズマ処理を行うことで表面の窒化を実現したが、これに代えて、図２（ｄ）に示すコンタクト孔開口直後であって、酸素プラズマによるアッシングおよび硫酸＋過酸化水素水混合液などの酸化性薬液によるレジスト膜、エッチング堆積物除去前に、ニッケルシリサイド層に窒素プラズマ処理を行っても同様の結果を得ることができる。この場合、窒素プラズマ処理によってコンタクト孔底面エッジからニッケルシリサイド層中を横方向に窒素がわずかに拡散する。したがって、完成した半導体装置のコンタクト孔底面の外周から一定の距離内にある領域にニッケルシリサイド窒化層１２ａが存在するようになる。特に、コンタクト孔底面に露出したニッケルシリサイド窒化層が完全にエッチング除去された場合には、コンタクト孔底面の外周から一定の距離内にある領域のみにニッケルシリサイド窒化層１２ａが存在するようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月28日(2010.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のスクリーンと、可視インジケータと、ユーザインタフェース装置とを備えた可視ディスプレイシステムであって、
前記複数のスクリーンは、重ねられた構成であって、かつ、物理的に互いに離間させられており、
前記複数のスクリーンは、少なくとも前景スクリーンと背景スクリーンとを含んでおり、
そして、前記複数のスクリーンは、前記背景スクリーンに表示された像が、前記前景スクリーンにおける透明部分を通して視認可能となる構成とされており、
さらに、各スクリーンは、２次元の有効な視認用の平面を有しており、
この可視ディスプレイシステムは、以下を特徴とする：
前記ユーザインタフェース装置は、前記入力装置を介して、前記可視インジケータを、ある特定のスクリーンにおける２次元平面から、他のスクリーンへ移動させることができるようになっている。
【請求項２】
上記可視インジケータは、カーソルである請求項１に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項３】
上記ユーザインタフェース装置は、マウスである請求項１又は２に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項４】
上記マウスは、少なくとも一つのマウスボタンを含む、請求項３に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項５】
前記ユーザインタフェース装置は、ペンである請求項１又は２に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項６】
上記可視インジケータをあるスクリーンから別のスクリーンへ移動させるために上記ユーザインタフェース装置のソフトウェアドライバを補足するソフトウェアを備えた、請求項１〜５のいずれか１項に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項７】
上記のそれぞれのスクリーンは、２次元平面内においてｘ及びｙ座標を持っており、上記可視インジケータは、異なるスクリーンであるが同じｘ−ｙ座標に、ユーザによって移動させられるようになっている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項８】
上記可視インジケータは、スクリーン像である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の可視ディスプレイシステム。
【請求項９】
複数のスクリーンを有する可視ディスプレイシステムを用いる方法であって、
前記可視ディスプレイシステムは、複数のスクリーンを備えており、
前記複数のスクリーンは、重ねられた構成であって、かつ、物理的に互いに離間させられており、
前記複数のスクリーンは、少なくとも前景スクリーンと背景スクリーンとを含んでおり、
そして、前記複数のスクリーンは、前記背景スクリーンに表示された像が、前記前景スクリーンにおける透明部分を通して視認可能となる構成とされており、
さらに、各スクリーンは、２次元の有効な視認用の平面を有しており、
この可視ディスプレイシステムは、さらに、可視インジケータと、ユーザインタフェース装置とを備えており、
さらに、この方法は、ユーザインタフェース装置を用いて、前記入力装置を介して、前記可視インジケータを、ある特定のスクリーンにおける２次元平面から、他のスクリーンへ移動させるステップを備えている。
【請求項１０】
上記可視インジケータは、カーソルである請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記ユーザインタフェース装置は、マウスである請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
上記マウスは、少なくとも一つのマウスボタンを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ユーザインタフェース装置は、ペンである請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１４】
上記可視インジケータをあるスクリーンから別のスクリーンへ移動させるために上記ユーザインタフェース装置のソフトウェアドライバを補足するソフトウェアを備えた請求項９ないし１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
上記のそれぞれのスクリーンは、２次元平面内においてｘ及びｙ座標を持っており、上記可視インジケータは、異なるスクリーンであるが同じｘ−ｙ座標に、ユーザにより移動できる請求項９ないし１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
上記可視インジケータは、上記複数のスクリーンの少なくとも一つを使って表示される像である請求項９ないし１５のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月26日(2011.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を人間が見た際に感じる光学密度の変動である粒状性をノイズ出現として、ノイズ出現の評価方法であって、
ａ）出力画像の輝度と、当該輝度における前記出力画像のノイズ出現の度合との対応関係を表す出力ノイズテーブルを編成するステップと、
ｂ）前記出力ノイズテーブルから、各輝度ごとの前記ノイズ出現の度合いを全ての輝度について集計した値の関数として、前記粒状性が大きいほど大きな値を有するスカラーの出力ノイズ測度を計算するステップと、
ｃ）特定の入力画像および画像処理経路を用いて生成された出力画像の画質を前記出力ノイズ測度の関数として評価する画質判定装置に、前記出力ノイズ測度を入力するステップと、
を含み、
前記出力ノイズテーブルを編成するステップは、
入力画像の輝度と、当該輝度における前記入力画像のノイズ度合との対応関係を表す入力ノイズテーブルを取得するステップと、
前記出力画像を得るために前記入力画像に適用される１個以上の画像変換にそれぞれ対応する１個以上のノイズ変換を決定するステップと、
前記決定された１個以上のノイズ変換を前記入力ノイズテーブルに適用して前記出力ノイズテーブルを生成するステップと、
を含み、
前記１個以上の画像変換は、少なくとも、人間の視覚系が画像を認識する際に実行される処理を表現する画像変換を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
画像におけるノイズ出現の評価方法であって、
ノイズ度合対画像の輝度を表す出力ノイズテーブルを編成するステップと、
前記出力ノイズテーブルからスカラーのノイズ測度を生成するステップであって、前記ノイズ測度は、人間に見られる前記画像におけるノイズ出現を表す値を有するステップと、
特定の入力画像および画像処理経路を用いて生成された出力画像の画質を前記ノイズ測度の関数として評価する画質判定装置に、前記ノイズ測度を入力するステップと、
を含み、
前記出力ノイズテーブルを編成するステップは、
ノイズ度合対入力画像の輝度を表わす入力ノイズテーブルを編成するステップと、
１個以上の画像変換を含む一連の画像処理を与えるステップと、
予め知られている多種多様なノイズ変換の中から各々の画像変換にそれぞれ対応するノイズ変換を確定するステップと、
前記１個以上のノイズ変換を前記入力ノイズテーブルに適用して前記画像中のノイズの評価を表わす出力ノイズテーブルを生成するステップと、
を含み、
前記ノイズ測度を生成するステップは、前記出力ノイズテーブルのピーク値または集計値を用いて前記ノイズ測度を得るステップを含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、
前記１個以上の画像変換は、１個以上の、デジタル画像処理ステップ、画像レンダリングステップ、人間視覚認識を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法であって、
重み付け関数により前記ノイズテーブルを重み付けするステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
前記重み付け関数は前記画像のヒストグラムを示すことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月23日(2011.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＧＰＳ機能を有し、情報処理装置に内蔵され又は着脱可能に接続され、当該情報処理装置から供給される電源により動作する無線通信装置であって、
前記情報処理装置から供給される電源を充電する充電手段と、
基準位置を設定する基準位置設定手段と、
所定のセキュリティモードの処理が実行される条件となる前記基準位置に対する位置条件を設定する位置条件設定手段と、
前記位置条件設定手段により設定された位置条件及び前記ＧＰＳ機能により取得された自己の位置情報に基づいて、所定のセキュリティモードの処理が実行される条件となったか否かを判定する位置条件判定手段と、
前記位置条件判定手段により所定のセキュリティモードの処理が実行される条件となったことが判定された場合には、所定のセキュリティモードの処理を実行するセキュリティモード処理実行手段と、を有し、
前記情報処理装置の電源がオフであるときには、前記充電手段により充電された電源により動作する、ことを特徴とする無線通信装置。
【請求項２】
請求項１に記載の無線通信装置において、
無線通信機能を有し、
前記無線通信機能により所定のネットワークから送信されるＧＰＳのアシストデータを受信して、自己の位置情報を取得する、ことを特徴とする無線通信装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の無線通信装置において、
前記所定のセキュリティモードの処理が、前記情報処理装置をロックする処理又は前記情報処理装置の電源をオンする処理又は前記情報処理装置の電源をオフする処理又は前記情報処理装置の所定のメモリに記憶された情報を消去する処理又は警告音を発する処理の少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする無線通信装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の無線通信装置において、
前記所定のセキュリティモードの処理が、所定のメールアドレス或いは所定の装置に宛てて自己の位置情報を含むメールを送信する処理であることを特徴とする無線通信装置。
【請求項５】
請求項４記載の無線通信装置において、
セキュリティモードが設定されたことを示す情報が含まれるメールを送信することを特徴とする無線通信装置。
【請求項６】
ＧＰＳ機能を有し、情報処理装置に内蔵され又は着脱可能に接続され、当該情報処理装置から供給される電源により動作する無線通信装置であって、
基準位置を設定する基準位置設定手段と、
所定のセキュリティモードの処理が実行される条件となる前記基準位置に対する位置条件を設定する位置条件設定手段と、
前記位置条件設定手段により設定された位置条件及び前記ＧＰＳ機能により取得された自己の位置情報に基づいて、所定のセキュリティモードの処理が実行される条件となったか否かを判定する位置条件判定手段と、
前記位置条件判定手段により所定のセキュリティモードの処理が実行される条件となったことが判定された場合には、所定のセキュリティモードの処理を実行するセキュリティモード処理実行手段と、を有し、
前記情報処理装置の電源がオフであるときには、前記情報処理装置から供給される電源により動作する、ことを特徴とする無線通信装置。
【請求項７】
請求項６に記載の無線通信装置において、
無線通信機能を有し、
前記無線通信機能により所定のネットワークから送信されるＧＰＳのアシストデータを受信して、自己の位置情報を取得する、ことを特徴とする無線通信装置。
【請求項８】
請求項６又は請求項７に記載の無線通信装置において、
前記所定のセキュリティモードの処理が、前記情報処理装置をロックする処理又は情報処理装置の電源をオンする処理又は情報処理装置の電源をオフする処理又は情報処理装置の所定のメモリに記憶された情報を消去する処理又は警告音を発する処理の少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする無線通信装置。
【請求項９】
請求項６又は請求項７に記載の無線通信装置において、
前記所定のセキュリティモードの処理が、所定のメールアドレス或いは所定の装置に宛てて自己の位置情報を含むメールを送信する処理であることを特徴とする無線通信装置。
【請求項１０】
請求項９記載の無線通信装置において、
セキュリティモードが設定されたことを示す情報が含まれるメールを送信することを特徴とする無線通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月17日(2011.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波板を有する発光キーボードであって、
キーモジュールと；
該キーモジュールの下部に設けられた発光モジュールと；を備え、該発光モジュールは、
光入射部と光出射部とを含む透明光導波板であって、該光入射部は、該光導波板で形成された断面であり、各々の該光出射部は、光線を該キーモジュールに提供するための複数の光出射体を備えた、透明光導波板と；
該光入射部に対応して配置された複数の発光体であって、該発光体により発された光線は、該断面を通って該光導波板に導入され、該発光体と同じ側に位置する該光出射部の個数は、該光出射部と該発光体との間の距離が大きくなるに従って多くなる発光体と；
該光導波板の下部に設けられた反射板と；を含み、
該発光体は、該反射板上に設けられた片側発光するＬＥＤランプであり；該反射板は、各々がその中に該発光体を収容する複数の収容孔を備え、該反射板の底面には、該複数の収容孔に対応して回路基板が設けられ、該回路基板は該発光体に電気的に接続され、該電源接続線を介して電源に接続され；複数の貫通孔が該光導波板において設けられ、それにより、該貫通孔の側壁を該光入射部にあるように形成され；該収容孔に対応して位置する該貫通孔は、各々該発光体をその中に受容し；
各々の該光出射体は円形貫通孔であり、該発光体から遠く離れている最外側の該光出射部は各々、長い貫通スロットをさらに備え；
該光出射部は複数行に配列され、該発光体と同側の該光出射部は交互に設けられていることを特徴とする、光導波板を有する発光キーボード。
【請求項２】
前記キーモジュールは、複数行のキーを備え；前記光導波板は、光入射領域と、光出射領域と、該光入射領域と該光出射領域との間で接続される接続領域とを備え；前記光入射部は該光入射領域に設けられ、前記光出射部は該光出射領域に設けられ、該接続領域は、少なくとも１行のキーに対応して設けられることを特徴とする、請求項１記載の光導波板を有する発光キーボード。
【請求項３】
光導波板を有する発光キーボードであって、複数行のキーを有するキーモジュールと；
該キーモジュールの下部に設けられた発光モジュールと；を備え、該発光モジュールは、光入射領域と光出射領域と、該光入射領域と該光出射領域との間に接続される接続領域とを有し、該光入射領域には、該光導波板上に形成された断面である複数の光入射部が設けられ、該光出射領域には、光線を該キーモジュールに提供するための複数の光出射部が設けられ、該接続領域は、少なくとも１行のキーに対応して配置された透明光導波板と；
該光入射部に対応して配置された複数の発光体であって、該発光体により発された光線は、該断面を通って該光導波板に導入される発光体と；
該光導波板の下部に設けられた反射板と；を含み、
該発光体は、該反射板上に設けられた片側発光するＬＥＤランプであり；該反射板は、各々がその中に該発光体を収容する複数の収容孔を備え、該反射板の底面には、該複数の収容孔に対応して回路基板が設けられ、該回路基板は該発光体に電気的に接続され、該電源接続線を介して電源に接続され；複数の貫通孔が該光導波板において設けられ、それにより、該貫通孔の側壁を該光入射部にあるように形成され；該収容孔に対応して位置する該貫通孔は、各々該発光体をその中に受容し；
該光出射部は複数行に配列され、該発光体と同側の該光出射部は交互に設けられていることを特徴とする、光導波板を有する発光キーボード。
【請求項４】
光導波板を有する発光キーボードであって、
キーモジュールと；
該キーモジュールの下部に設けられた発光モジュールと；を備え、該発光モジュールは、複数の光入射部を有し、光導波板で形成された断面である光入射部と、光線を該キーモジュールに提供するための複数の光出射部とを有し、各々の該光出射部は、貫通孔、凸点、凹点および凹溝から選択された少なくとも２種類の構造を有する複数の光出射体を備えた透明光導波板と；
該光入射部に対応して配置された複数の発光体であって、該発光体により発された光線は、該断面を通って該光導波板に導入される発光体と；
該光導波板の下部に設けられた反射板と；を含み、
該光出射体は該光導波板の対向する側に配置され、それにより該反射板の対向する側に配置された該光出射体は、光線を該キーモジュールに直接伝導入することを特徴とする、光導波板を有する発光キーボード。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月3日(2011.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロキシル基および／またはカルボキシル基を有する複素環化合物を含む粉末用表面改質剤。
【請求項２】
前記複素環化合物は、芳香族複素環および脂肪族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一種の複素環を有する請求項１に記載の粉末用表面改質剤。
【請求項３】
前記芳香族複素環は、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピペリジン環、チオフェン環、キノリン環およびフラン環からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項２に記載の粉末用表面改質剤。
【請求項４】
前記粉末は磁性粉末および非磁性粉末からなる群から選ばれる請求項１〜３のいずれか１項に記載の粉末用表面改質剤。
【請求項５】
磁性塗料用分散剤または非磁性塗料用分散剤として使用される請求項４に記載の粉末用表面改質剤。
【請求項６】
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、ヒドロキシル基および／またはカルボキシル基を有する複素環化合物を更に含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項７】
非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する請求項６に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】
前記非磁性層は、ヒドロキシル基および／またはカルボキシル基を有する複素環化合物を更に含む請求項７に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】
前記複素環化合物は、芳香族複素環および脂肪族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一種の複素環を有する請求項６〜８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】
前記芳香族複素環は、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピペリジン環、チオフェン環、キノリン環およびフラン環からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項９に記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】
前記結合剤がスルホン酸基含有結合剤である請求項６〜１０のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１２】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の粉末用表面改質剤と、磁性粉末と、結合剤とを含む磁性塗料。
【請求項１３】
前記磁性粉末は強磁性六方晶フェライト粉末または強磁性金属粉末である請求項１２に記載の磁性塗料。
【請求項１４】
前記結合剤がスルホン酸基含有結合剤である請求項１２または１３に記載の磁性塗料。
【請求項１５】
磁気記録媒体の磁性層形成用塗布液として使用される請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の磁性塗料。
【請求項１６】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の粉末用表面改質剤と、非磁性粉末と、結合剤とを含む非磁性塗料。
【請求項１７】
前記非磁性粉末は、非磁性金属粉末である請求項１６に記載の非磁性塗料。
【請求項１８】
前記結合剤がスルホン酸基含有結合剤である請求項１６または１７に記載の非磁性塗料。
【請求項１９】
磁気記録媒体の非磁性層形成用塗布液として使用される請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の非磁性塗料。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月14日(2011.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状のガラス母材を加熱して軟化させるとともに、前記ガラス母材を空間中で下方に引っ張りながら熱延してガラス薄板を形成するガラス薄板形成工程と、
前記ガラス薄板から円盤状のガラス基板を切り出すガラス基板形成工程と、
前記円盤状のガラス基板の表面に研磨加工を施す表面加工工程と、
を具備する磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
前記ガラス薄板形成工程において、前記ガラス薄板の板厚が、前記表面加工工程後の前記ガラス基板の板厚に対して＋１０％以下であることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
前記ガラス薄板形成工程において、前記ガラス母材の表面を平滑にすることによって、前記ガラス薄板の表面粗さ（Ｒａ）を２ｎｍ以下に加工することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項３】
前記ガラス薄板の２００ｍｍ四方の範囲における反りの最大値が３０μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項４】
前記表面加工工程において、研磨スラリーの遊離砥粒として、セリア研磨材及びシリカ研磨材を含有することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項５】
前記セリア研磨材の平均粒径が０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項６】
前記シリカ研磨剤の平均粒径が０．０１〜０．２μｍであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項７】
前記表面加工工程において、研磨スラリーの分散媒として、水、メタノール、エタノールの何れかを含有することを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項８】
前記研磨スラリーの分散剤として、界面活性剤を含有することを特徴とする１〜７の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項９】
前記ガラス薄板形成工程において、前記軟化したガラス母材を引っ張りローラにより下方に引っ張りながら熱延してガラス薄板を形成することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１０】
前記表面加工工程において、前記研磨加工を１段で行うことを特徴とする請求項１〜９の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１１】
前記表面加工工程において、前記ガラス基板の両面に研磨加工を同時に施すことを特徴とする請求項１〜１０の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１２】
前記ガラス薄板形成工程において、前記ガラス母材として、結晶化ガラスを用いることを特徴とする請求項１〜１１の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意努力検討した結果、磁気記録媒体用基板の基となるガラス板としてリドロー成形法で製造したガラス板を使用することにより、ガラス板の反りを減らし、またガラス表面の平滑性を容易に高めることが可能となること、これにより、従来の基板の加工方法では必須であった研削加工を省略でき、磁気記録媒体用基板の生産性を著しく高めることが可能となることを見出し、本願発明を完成させた。すなわち、本願発明は以下に関する。
〔１〕  板状のガラス母材を加熱して軟化させるとともに、前記ガラス母材を空間中で下方に引っ張りながら熱延してガラス薄板を形成するガラス薄板形成工程と、
前記ガラス薄板から円盤状のガラス基板を切り出すガラス基板形成工程と、
前記円盤状のガラス基板の表面に研磨加工を施す表面加工工程と、
を具備する磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
前記ガラス薄板形成工程において、前記ガラス薄板の板厚が、前記表面加工工程後の前記ガラス基板の板厚に対して＋１０％以下であることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔２〕  前記ガラス薄板形成工程において、前記ガラス母材の表面を平滑にすることによって、前記ガラス薄板の表面粗さ（Ｒａ）を２ｎｍ以下に加工することを特徴とする前記〔２〕に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔３〕  前記ガラス薄板の２００ｍｍ四方の範囲における反りの最大値が３０μｍであることを特徴とする前記〔１〕又は〔２〕に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔４〕  前記表面加工工程において、研磨スラリーの遊離砥粒として、セリア研磨材及びシリカ研磨材を含有することを特徴とする前記〔１〕〜〔３〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔５〕 前記セリア研磨材の平均粒径が０．１〜５μｍであることを特徴とする前記〔４〕に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔６〕 前記シリカ研磨剤の平均粒径が０．０１〜０．２μｍであることを特徴とする前記〔４〕に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔７〕 前記表面加工工程において、研磨スラリーの分散媒として、水、メタノール、エタノールの何れかを含有することを特徴とする前記〔１〕〜〔６〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔８〕 前記研磨スラリーの分散剤として、界面活性剤を含有することを特徴とする前記〔１〕〜〔７〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔９〕 前記ガラス薄板形成工程において、前記軟化したガラス母材を引っ張りローラにより下方に引っ張りながら熱延してガラス薄板を形成することを特徴とする前記〔１〕  〜〔８〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔１０〕 前記表面加工工程において、前記研磨加工を１段で行うことを特徴とする前記〔１〕〜〔９〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔１１〕 前記表面加工工程において、前記ガラス基板の両面に研磨加工を同時に施すことを特徴とする前記〔１〕〜〔１０〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
〔１２〕 前記ガラス薄板形成工程において、前記ガラス母材として、結晶化ガラスを用いることを特徴とする前記〔１〕〜〔１１〕の何れか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
燃料ガス流路及び酸化剤ガス流路を有する燃料電池と、
前記燃料ガス流路に燃料ガスを供給する燃料ガス供給手段と、
前記燃料ガス流路における燃料ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、
を備え、
前記燃料ガス供給手段が、発電要求量に基づいて算出された目標燃料ガス圧力となるように、燃料ガスを前記燃料ガス流路に供給する燃料電池システムであって、
前記圧力検出手段が検出した燃料ガスの圧力が、前記目標燃料ガス圧力以下である場合、システムが異常であると判定する異常判定部をさらに備える
ことを特徴とする燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
燃料ガス流路及び酸化剤ガス流路を有する燃料電池と、
前記燃料ガス流路に燃料ガスを供給する燃料ガス供給手段と、
前記燃料ガス流路における燃料ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、
を備え、
前記燃料ガス供給手段が、発電要求量に基づいて算出された目標燃料ガス圧力となるように、燃料ガスを前記燃料ガス流路に供給する燃料電池システムの運転方法であって、
前記圧力検出手段が検出した燃料ガスの圧力が、前記目標燃料ガス圧力以下である場合、システムが異常であると判定する
ことを特徴とする燃料電池システムの運転方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するための手段として、本発明は、燃料ガス流路及び酸化剤ガス流路を有する燃料電池と、前記燃料ガス流路に燃料ガスを供給する燃料ガス供給手段と、前記燃料ガス流路における燃料ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、を備え、前記燃料ガス供給手段が、発電要求量に基づいて算出された目標燃料ガス圧力となるように、燃料ガスを前記燃料ガス流路に供給する燃料電池システムであって、前記圧力検出手段が検出した燃料ガスの圧力が、前記目標燃料ガス圧力以下である場合、システムが異常であると判定する異常判定部をさらに備えることを特徴とする燃料電池システムである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このような燃料電池システムによれば、燃料ガス供給手段が、発電要求量に基づいて算出された目標燃料ガス圧力となるように、燃料ガスを前記燃料ガス流路に供給する。そして、圧力検出手段が検出した燃料ガスの圧力が、目標燃料ガス圧力以下である場合、異常判定部によって、システムが異常であると速やかに判定できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、燃料ガス流路及び酸化剤ガス流路を有する燃料電池と、前記燃料ガス流路に燃料ガスを供給する燃料ガス供給手段と、前記燃料ガス流路における燃料ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、を備え、前記燃料ガス供給手段が、発電要求量に基づいて算出された目標燃料ガス圧力となるように、燃料ガスを前記燃料ガス流路に供給する燃料電池システムの運転方法であって、前記圧力検出手段が検出した燃料ガスの圧力が、前記目標燃料ガス圧力以下である場合、システムが異常であると判定することを特徴とする燃料電池システムの運転方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
このような燃料電池システムの運転方法によれば、燃料ガス供給手段が、発電要求量に基づいて算出された目標燃料ガス圧力となるように、燃料ガスを前記燃料ガス流路に供給する。そして、圧力検出手段が検出した燃料ガスの圧力が、目標燃料ガス圧力以下である場合、異常判定部によって、システムが異常であると適切に判定できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月6日(2011.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を載置するステージと、
前記試料に一次荷電粒子線を照射し、前記試料から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、
前記一次荷電粒子線を前記試料上に集束させる、前記一次荷電粒子線を通過させる開口を備えた対物レンズと、
前記ステージに負電圧を印加する電源とを備え、
前記対物レンズは、前記一次荷電粒子線が前記開口の周囲に配置され、前記試料側の末端部が前記対物レンズの上部磁極となる第１の磁極部材と、
前記第１の磁極部材に磁束を供給する、内部が中空の第２の磁極部材と、
前記第２の磁極部材の内部に配置された、前記第２の磁束部材に磁束を供給するコイルと、
前記ステージと前記第２の磁極部材との間に配置され、前記開口を備えた、前記対物レンズの下部磁極となる第３の磁極部材を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料に対してリターディング電位を印加する手段を備え、
前記第３の磁極部材の電位が、前記リターディング電位以上かつ第２の磁極部材の電位よりも低い値に制御されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項２に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料の電位と前記第３の磁極部材の電位との電位差が１００Ｖ以内に制御されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項３に記載の荷電粒子線装置において、
前記第３の磁極部材の電位が前記試料の電位と同電位になるように制御されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項２に記載の荷電粒子線装置において、
前記第１の磁極部材に対して前記一次荷電粒子線を加速するための加速電位が印加されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の磁極部材と前記第３の磁極部材を電気的に絶縁する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の磁極部材が接地電位にあることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の磁極部材の底面は、前記開口を有する円錐形状であり、
前記第３の磁極部材は、当該円錐形状の円錐面から所定のギャップを介して当該円錐面に対して平行に配置された磁性板であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料を保持する静電吸着装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の荷電粒子線装置において、
前記静電吸着装置は、
前記試料に対して誘電体を介して配置される内部電極と、前記試料にリターディング電位を印加するコンタクト電極とを備え、
更に前記荷電粒子線装置は、
前記コンタクト電極の電位と前記第３の磁極部材の電位との電位差を±１００Ｖ以内に保つ手段とを有することを特徴とする電子顕微鏡。
【請求項１１】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記第３の磁極部材の冷却手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記一次荷電粒子線の照射位置の陰影像を取得する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記第３の磁極部材は、上側磁性板と下側磁性板の２つの磁性板を備え、
当該下側磁性板が前記試料と同電位に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明では、試料を載置するステージと、試料に一次荷電粒子線を照射し、試料から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、一次荷電粒子線を試料上に集束させる、一次荷電粒子線を通過させる開口を備えた対物レンズと、ステージに負電圧を印加する電源とを備え、対物レンズは、一次荷電粒子線が前記開口の周囲に配置され、試料側の末端部が対物レンズの上部磁極となる第１の磁極部材と、第１の磁極部材に磁束を供給する、内部が中空の第２の磁極部材と、第２の磁極部材の内部に配置された、第２の磁束部材に磁束を供給するコイルと、ステージと第２の磁極部材との間に配置され、開口を備えた、対物レンズの下部磁極となる第３の磁極部材を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月18日(2011.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左右横長の電池缶の開口上面を塞ぐ蓋に、出力端子を挿通させるための貫通孔を形成しておき、前記出力端子と前記蓋との間に絶縁パッキングを介在させた状態で前記出力端子を前記貫通孔に挿通させ、前記蓋の下側に突出した前記出力端子の下端部に、樹脂製の絶縁材と共に左右横長のリード体を取り付け、
該リード体に、前記電池缶内に収容した電極体から延出する集電リードを接続する密閉型電池の製造方法において、
前記リード体には、前記出力端子の下端部が挿通する挿通孔を形成してあるとともに、前記リード体に前記絶縁材が一体成形されるようになっており、
前記リード体に前記絶縁材を一体成形するための金型の内部空間には、前記リード体の前記挿通孔が係合する係合ピンと、前記リード体を前後から挟み込む前後一対の挟持ピンとを配置してあり、
前記係合ピンに前記リード体の前記挿通孔を係合させるとともに、前記一対の挟持ピンの間に前記リード体を嵌め込んで、該リード体を前記金型の前記内部空間に装着したのち、前記金型の前記内部空間に溶融樹脂を注入して、前記リード体の前後左右と上面とに前記絶縁材を被覆させたことを特徴とする密閉型電池の製造方法。
【請求項２】
前記蓋の下面には、係合突起が突出しており、
前記リード体に前記絶縁材を一体成形する際に、前記絶縁材の上面に、前記係合突起が係合する係合部を形成する請求項１記載の密閉型電池の製造方法。
【請求項３】
前記リード体に前記絶縁材を一体成形する際に、前記絶縁材の下面に、該絶縁材の上下を識別するための識別部を形成する請求項１又は２記載の密閉型電池の製造方法。
【請求項４】
左右横長の開口上面を有する電池缶と、
前記電池缶の開口上面を塞ぐ蓋と、
前記蓋に設けられた貫通孔に挿通された状態で固定される出力端子と、
前記蓋と前記出力端子との間に介在される絶縁パッキングと、
前記蓋の下側に突出した前記出力端子の下端部に取り付けられる左右横長のリード体と、
を備え、
前記リード体に、前記電池缶内に収容した電極体から延出する集電リードが接続されており、
前記リード体には、前記出力端子の下端部が挿通される挿通孔が形成されており、
前記リード体が、該リード体の上面および左右の側面を被覆する絶縁材に一体に成形されていることを特徴とする密閉型電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】密閉型電池の製造方法、および密閉型電池
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、出力端子と蓋との間に絶縁パッキングを介在させた状態で、出力端子を蓋の貫通孔に挿通させ、蓋の下側に突出した出力端子の下端部に絶縁材と共にリード体を取り付け、リード体に電池缶内の電極体から延出する集電リードを接続する密閉型電池の製造方法および密閉型電池に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の目的は、絶縁材とリード体との部品管理の手間の軽減を図ることができ、かつリード体が電池缶の内面等に接触することを確実に防止できるとともに電池の薄型化を図ることができる密閉型電池の製造方法および密閉型電池を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
蓋３の下面に係合突起２６が突出している。そして、リード体１３に絶縁材１１を一体成形する際に、絶縁材１１の上面に、係合突起２６が係合する係合部３０を形成するものとすることができる。
また、リード体１３に絶縁材１１を一体成形する際に、絶縁材１１の下面に、該絶縁材１１の上下を識別するための識別部３１を形成することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明に係る密閉型電池は、左右横長の開口上面を有する電池缶１と、電池缶１の開口上面を塞ぐ蓋３と、蓋３に設けられた貫通孔２５に挿通された状態で固定される出力端子１２と、蓋３と出力端子１２との間に介在される絶縁パッキング１０と、蓋３の下側に突出した出力端子１２の下端部に取り付けられる左右横長のリード体１３とを備える。リード体１３には、電池缶１内に収容した電極体２から延出する集電リード９が接続されている。リード体１３には、出力端子１２の下端部が挿通される挿通孔２７が形成されており、リード体１３が、該リード体１３の上面および左右の側面を被覆する絶縁材１１に一体に成形されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月22日(2011.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
前記例示の有機バインダの中でも、ＥＶＡ、エチレン−アクリル酸共重合体、フッ素系ゴム、ＳＢＲなどの柔軟性の高いバインダが好ましい。このような柔軟性の高い有機バインダの具体例としては、三井デュポンポリケミカル社の「エバフレックスシリーズ（ＥＶＡ）」、日本ユニカー社のＥＶＡ、三井デュポンポリケミカル社の「エバフレックス−ＥＥＡシリーズ（エチレン−アクリル酸共重合体）」、日本ユニカー社のＥＥＡ、ダイキン工業社の「ダイエルラテックスシリーズ（フッ素ゴム）」、ＪＳＲ社の「ＴＲＤ−２００１（ＳＢＲ）」、日本ゼオン社の「ＢＭ−４００Ｂ（ＳＢＲ）」などがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
得られたセパレータにおける多孔質層（II）は、単位面積あたりの質量が４．３ｇ／ｍ２で、厚みは３．３μｍであった。また、このセパレータの多孔質層（II）における前記フィラーの体積含有率は４３体積％であり、多孔質層（II）の空孔率は５３％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月23日(2011.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッテリ液が貯留された貯留部、及び、前記貯留部に貯留されたバッテリ液をバッテリへ供給する補水手段を備えたバッテリ液補水装置であって、
前記補水手段を作動させる制御手段と、
前記貯留部と前記バッテリとの間を結ぶ補水経路に設けられ、前記貯留部から前記バッテリへ供給されるバッテリ液の流量を検出する流量検出手段と、を備え、
前記制御手段は、前記補水手段が作動してから所定時間経過するまでの間に前記流量検出手段により流量が検出されない場合、前記補水手段の作動を停止させることを特徴とするバッテリ液補水装置。
【請求項２】
前記補水手段が、前記貯留部内のバッテリ液を前記バッテリへ供給するためのポンプ、及び、前記ポンプを駆動するモータを有する場合において、
前記制御手段は、前記補水手段を作動させる際、作動開始から所定時間経過するまでの高速回転期間内は前記モータの回転数が第１の回転数となるように前記モータを制御し、前記高速回転期間が経過した後は、前記モータの回転数が前記第１の回転数よりも少ない第２の回転数となるように前記モータを制御すること
を特徴とする請求項１に記載のバッテリ液補水装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記補水手段が作動を開始しても前記流量検出手段により所定時間内に流量が検出されなかった場合、前記補水手段又は前記流量検出手段に不具合が発生している旨を報知し、前記補水手段が作動を開始してからの補水作業時間が所定時間経過したときに、前記補水手段の作動を停止させること
を特徴とする請求項１又は請求項２に記載のバッテリ液補水装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記補水手段が作動を開始した後、前記流量検出手段により流量が検出されなくなる前に前記補水作業時間が所定時間経過した場合には、前記補水手段の作動を停止させるとともに、前記バッテリ液の漏れが生じている旨を報知すること
を特徴とする請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載のバッテリ液補水装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明では、バッテリ液が貯留された貯留部、及び、貯留部に貯留されたバッテリ液をバッテリへ供給する補水手段を備えたバッテリ液補水装置であって、前記補水手段を作動させる制御手段と、前記貯留部と前記バッテリとの間を結ぶ補水経路に設けられ、前記貯留部から前記バッテリへ供給されるバッテリ液の流量を検出する流量検出手段と、を備え、前記制御手段は、前記補水手段が作動してから所定時間経過するまでの間に前記流量検出手段により流量が検出されない場合、前記補水手段の作動を停止させることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、請求項１に記載の発明では、バッテリの充電中に、バッテリ内におけるバッテリ液の電気分解によってガスが発生したことを検出するガッシング検出手段を備え、計測手段が、充電時間のうち、バッテリ内で電気分解によるガスの発生が検出されてから充電が終了するまでの時間を計測し、積算手段による計測時間の積算結果が所定値に達した以降に、バッテリ液の補充（補水）を行うようにしてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このようにすれば、充電時間のうち、バッテリ内で電気分解によるガスの発生が検出されてから充電が終了するまでの時間を計測しているので、バッテリ内におけるバッテリ液の減少量を正確に把握することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
そこで、制御手段は、バッテリの充電が終了した後、積算手段による計測時間の積算結果が所定値に達していた場合に、補水手段を作動させるようにするとよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、請求項１に記載の発明では、補水手段が作動して流量検出手段が流量を検出した後、流量検出手段により流量が検出されなくなったときに、補水手段の作動を停止させるようにすれば、バッテリ内が満水になったときに補水作業を終了することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
そこで、請求項２に記載の発明では、補水手段が、貯留部内のバッテリ液をバッテリへ供給するためのポンプ、及び、ポンプを駆動するモータを有する場合において、制御手段は、補水手段を作動させる際、作動開始から所定時間経過するまでの高速回転期間内はモータの回転数が第１の回転数となるようにモータを制御し、高速回転期間が経過した後は、モータの回転数が第１の回転数よりも少ない第２の回転数となるようにモータを制御するようにされている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項３に記載の発明では、制御手段は、補水手段が作動を開始しても流量検出手段により所定時間内に流量が検出されなかった場合、補水手段又は流量検出手段に不具合が発生している旨を報知し、補水手段が作動を開始してからの補水作業時間が所定時間経過したときに、補水手段の作動を停止させることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
請求項４に記載の発明では、制御手段は、補水手段が作動を開始した後、流量検出手段により流量が検出されなくなる前に上記補水作業時間が所定時間経過した場合には、補水手段の作動を停止させるとともに、バッテリ液の漏れが生じている旨を報知することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月8日(2011.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）インジウム酸化物粒子あるいは亜鉛酸化物粒子、（Ｂ）下記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、および（Ｃ）有機溶媒を含むペースト組成物。
【化１】
2009259674.tif 000001
（上記一般式（１）〜（４）中、Ｒ１は重合性基を有する１価の基を示す。Ｒ２は水素原子または下記一般式（５）で表される１価の基を示す。）
【化２】
2009259674.tif 000002
（上記一般式（５）中、ｍは１〜３の整数である。）
【請求項２】
前記一般式（１）〜（４）におけるＲ１が下記一般式（６）で表される１価の基である請求項１記載のペースト組成物。
【化３】
2009259674.tif 000003
（上記一般式（６）中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を示す。また、ｎは１〜３の整数である。）
【請求項３】
（Ｂ）の化合物が前記一般式（４）で表され、一般式（４）中、Ｒ２が水素原子であり、Ｒ１が前記一般式（６）で表される１価の基であり、一般式（６）中、ｎが２である請求項２記載のペースト組成物。
【請求項４】
（Ａ）の粒子の平均粒径が０．００２μｍ以上０．０６μｍ以下である請求項１〜３のいずれか記載のペースト組成物。
【請求項５】
さらに、樹脂を含む請求項１〜４のいずれか記載のペースト組成物。
【請求項６】
樹脂が熱硬化性あるいは光硬化性樹脂である請求項５記載のペースト組成物。
【請求項７】
請求項１〜６いずれか記載のペースト組成物を硬化させてなる導電性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
すなわち本発明は、（Ａ）インジウム酸化物粒子あるいは亜鉛酸化物粒子、（Ｂ）下記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、および（Ｃ）有機溶媒を含むペースト組成物である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のペースト組成物は、（Ａ）インジウム酸化物粒子あるいは亜鉛酸化物粒子（以下、単に「無機粒子」と言う）、（Ｂ）下記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、および（Ｃ）有機溶媒を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（上記一般式（５）中、ｍは１〜３の整数である。）
以下、特に断らないかぎり、上記（Ｂ）の化合物を「化合物Ａ」とし、インジウム酸化物粒子あるいは亜鉛酸化物粒子を無機粒子とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明のペースト組成物は、インジウム酸化物粒子あるいは亜鉛酸化物粒子を含有する。これら無機粒子は、要求される屈折率、光学特性や導電率などの特性に応じて、インジウム酸化物粒子、錫酸化物粒子あるいは亜鉛酸化物粒子、およびそれらの固溶体粒子から適宜選択して用いることができる、２種類以上のものを混合して用いても良い。これらの固溶体としては、Ｉｎ２Ｏ３にＳｎＯ２をドープしたもの、Ｉｎ２Ｏ３にＺｎＯ２をドープしたもの、ＺｎＯにＳｎＯ２をドープしたものなどを用いることができる。これらの中でも、導電率を高くし易いことや化学的安定性が高いことから、Ｉｎ２Ｏ３にＳｎＯ２をドープしたものが好ましい。このドープ量は導電率が高くなることから、ＳｎＯ２の含有量を２重量％から２０重量％であることがより好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
実施例２〜７、参考例１〜３
表１に示す組成のペースト組成物を実施例１と同様の方法で製造し、これを用いて評価用導電性組成物を得た。評価結果を表１に示した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
【表１】
2009259674.tif 000004