Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月31日(2011.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式：
【化１】
2009280684.tif 000001
（式中、Ｒ7は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、Ｒ8は水素又はメチル基であり、Ａは単結合又はエステル結合であり、ｊは１〜４の整数である）
で表される構造、及び
下記一般式：
【化２】
2009280684.tif 000002
（式中、Ｒ9は水素又はメチル基である）
で表される構造を構成単位として含むことを特徴とするポリマー。
【請求項２】
請求項１に記載のポリマーと光酸発生剤とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を形成した後、露光し、現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ポリマー、感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月31日(2011.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式：
【化１】
2009280683.tif 000001
（式中、Ｒ1は（メタ）アクリロイルオキシ基であり、Ｒ2は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、ｎは１〜４の整数である）
で表される構造を有することを特徴とするモノマー。
【請求項２】
下記一般式：
【化２】
2009280683.tif 000002
（式中、Ｒ3は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、Ｒ4は水素、アルキル基又はフェニル基であり、ｍは１〜４の整数である）
で表される構造を構成単位として含むことを特徴とするポリマー。
【請求項３】
下記一般式：
【化３】
2009280683.tif 000003
（式中、Ｒ5は水素又はＣ１〜４のアルキル基であり、Ｒ6は水素又はメチル基であり、ｋは１〜４の整数である）
で表される構造を構成単位として含むことを特徴とするポリマー。
【請求項４】
請求項２又は３に記載のポリマーと光酸発生剤とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項４に記載の感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を形成した後、露光し、現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】モノマー、ポリマー、感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月28日(2011.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属触媒を用いることなく、キャリアガスを用いてフラーレンと有機溶媒の混合物を加熱した雰囲気中に導入することを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項２】
前記フラーレンは、Ｃ６０であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項３】
前記フラーレンは、Ｃ７０、Ｃ７４等の高次フラーレンであることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項４】
前記有機溶媒は、エタノール、メタノール、アセトン、ヘキサン、トルエン、テレビン油、酢酸メチル、酢酸エチル、あるいはエーテルのいずれか一つであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項５】
前記キャリアガスが窒素、ヘリウム、あるいはアルゴンのいずれか一つであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項６】
超音波ネブライザを用いて前記雰囲気中に原料を導入することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項７】
前記加熱した雰囲気中において基板を置くことにより、当該基板にカーボンナノチューブ薄膜を形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項８】
前記加熱した雰囲気を構成する場所を基準にキャリアガスの供給元とは反対側の加熱をしていない場所に置かれた基板上にカーボンナノチューブ薄膜を低温で形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法を実施するための装置であって、反応チャンバと、当該反応チャンバを加熱する手段と、フラーレンと有機溶媒の混合物を当該反応チャンバに導入するための供給手段とを備えることを特徴とするカーボンナノチューブの製造装置。
【請求項１０】
前記反応チャンバは石英管であり、反応チャンバを加熱する手段として電気炉を用い、フラーレンと有機溶媒の混合物を当該反応チャンバに導入するための供給手段として超音波ネブライザを用いることを特徴とする請求項９に記載のカーボンナノチューブの製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
[１] 金属触媒を用いることなく、キャリアガスを用いてフラーレンと有機溶媒の混合物を加熱した雰囲気中に導入することを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
[２]    前記フラーレンは、Ｃ６０であることを特徴とする前記[１]に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
[３] 前記フラーレンはＣ７０、Ｃ７４等の高次フラーレンであることを特徴とする前記[１]に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
[４] 前記有機溶媒は、エタノール、メタノール、アセトン、ヘキサン、トルエン、テレビン油、酢酸メチル、酢酸エチル、あるいはエーテルのいずれか一つであることを特徴とする前記[１]乃至[３]のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
[５] 前記キャリアガスが窒素、ヘリウム、あるいはアルゴンのいずれか一つであることを特徴とする前記[１]乃至[４]のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
[６] 超音波ネブライザを用いて前記雰囲気中に原料を導入することを特徴とする前記[１]乃至[５]のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
[７] 前記加熱した雰囲気中において基板を置くことにより、当該基板にカーボンナノチューブ薄膜を形成することを特徴とする前記[１]乃至[６]のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
[８]    前記加熱した雰囲気を構成する場所を基準にキャリアガスの供給元とは反対側の加熱をしていない場所に置かれた基板上にカーボンナノチューブ薄膜を低温で形成することを特徴とする前記[１]乃至[６]のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
[９] 前記[１]乃至[８]のいずれかに記載のカーボンナノチューブの製造方法を実施するための装置であって、反応チャンバと、当該反応チャンバを加熱する手段と、フラーレンと有機溶媒の混合物を当該反応チャンバに導入するための供給手段とを備えることを特徴とするカーボンナノチューブの製造装置。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
[１０] 前記反応チャンバは石英管であり、反応チャンバを加熱する手段として電気炉を用い、フラーレンと有機溶媒の混合物を当該反応チャンバに導入するための供給手段として超音波ネブライザを用いることを特徴とする前記[９]に記載のカーボンナノチューブの製造装置。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明は、金属触媒を用いることなく、キャリアガスを用いてフラーレンと有機溶媒の混合物を加熱した雰囲気中に導入することによってカーボンナノチューブを製造することを特徴とする。本発明ではカーボンナノチューブの合成には従来用いられている金属触媒に代わりフラーレンを用いる。このため、合成したカーボンナノチューブには不純物となる金属触媒を含んでいない。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月28日(2011.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
（３）折り作動において、上記各ローラ５１、６１、５２、６２は、第１折り目Ｆ１が矢印Ｘ１方向へ進むように回転するので、用紙１００と各ローラ５１、６１、５２、６２との間でスリップが生じるのを防止でき、また、用紙１００が第１折り目Ｆ１を先頭にして第１折りローラ５１と第２折りローラ５２との間を通過するのを、促進できる。したがって、用紙１００を傷付けることなく、折り加工を円滑に実行できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
（３）折り作動において、上記各ローラ５１、６１、５２、６２は、第２折り目Ｆ２が矢印Ｘ１方向へ進むように回転するので、用紙１００と各ローラ５１、６１、５２、６２との間でスリップが生じるのを防止でき、また、用紙１００が第２折り目Ｆ２を先頭にして第１折りローラ５１と第２折りローラ５２との間を通過するのを、促進できる。したがって、用紙１００を傷付けることなく、折り加工を円滑に実行できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月29日(2011.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の記録媒体が巻かれたロール体が装着され、上記ロール体から送り出される上記記録媒体に対して記録を行う記録装置において、
上記ロール体を回転する回転手段と、
上記回転手段の回転を制御する回転制御手段と、
上記ロール体の直径を測定するロール体直径測定手段と、
を有し、
上記回転制御手段は、上記記録媒体の搬送速度または搬送距離の少なくとも一方が所定値となるように、上記ロール体直径測定手段により測定した上記ロール体の直径に基づいて、上記回転手段の回転速度または回転量を設定する、
ことを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記記録媒体の搬送速度または搬送距離の少なくとも一方が前記所定値となるように前記ロール体の直径と前記回転手段の回転速度または回転量とが対応付けられたテーブルを有し、
前記回転制御手段は、上記テーブルに基づいて、前記回転手段の回転速度または回転量の設定を行うことを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
所定の直径の前記ロール体における前記記録用紙の搬送速度を所定値とするための前記回転手段の回転速度のテーブルと、
前記ロール体直径測定手段により測定した前記ロール体の直径に対する前記ロール体の所定の直径の倍率を算出する倍率演算手段と、
を有し、
前記回転制御手段は、前記回転手段の回転速度を、上記所定回転速度の上記倍率演算手段により算出された倍率に設定することを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項４】
前記ロール体直径測定手段は、前記ロール体の回転量を検出するロール体回転量検出手段と、前記記録媒体の搬送量を検出する搬送量検出手段と、上記ロール体回転量検出手段により検出された前記ロール体の回転量と上記搬送量検出手段により検出された前記記録媒体の搬送量とに基づき前記ロール体直径を演算する演算手段とを有することを特徴とす
る請求項１から３のいずれか１項に記載の記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月25日(2011.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
カルシウムマグネシウム組成物を含有する栄養補助食品を摂取すると、副甲状腺ホルモンの分泌を正常化させ、動脈硬化、心臓病、脳梗塞、虚血性心疾患、脳出血、不整脈、突然死などを予防することができる他、さらに重要なことには骨格から溶出しすぎたカルシウムがある場合、細胞内外のカルシウム濃度を不均衡にし、腎臓のインシュリン分泌を低下させ、神経細胞の情報伝達異常、糖尿病、肝臓病、老人性痴呆症、パーキンソン病などを引き起こすことがあった。
［先行技術文献］
［特許文献１］特開２００４−２１５６７７号公報
［特許文献２］特開２００４−１８２６９８号公報
［特許文献３］特開２００１−２９９２７９号公報
［特許文献４］特開平１１−１１３５３２号公報
［特許文献５］特開平９−２２７３８９号公報
［特許文献６］特開平８−５３３５８号公報
［特許文献７］特開平７−１７０９３９号公報
［特許文献８］特開平７−８９８５２号公報
［特許文献９］特開平５−１７０６１１号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月29日(2010.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
（ここで、ｎは４〜１００の整数であり、Ｑは各々独立に水素原子またはメチル基であり、Ｑ’は炭素数１〜３０の非環状炭化水素基である。）
であるアルキレンオキシドコポリマーであり、その親水性や親油性を最適化するのが望ましい。ここで、Ｑ’は、炭素数１〜３０に非環状炭化水素基として、直鎖状炭化水素基でも分岐状炭化水素基でもどちらでもよく、炭化水素基は、飽和炭化水素基でも不飽和炭化水素基のどちらでもよい。このような非環状炭化水素基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチル−ヘキシル基、ｎ−ドデシル基、ステアリル基、ｎ−テトラコシル基、ｎ−トリアコンチル基等の直鎖状或いは分岐状飽和炭化水素基を挙げることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【化８】
2009280531.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
（但し、式中、Ｑは水素原子またはメチル基、Ｑ’は炭素数１〜３０の非環状炭化水素基を表し、ｎは平均値で３５である。）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
次に、得られた金属フタロシアニンスルファモイル化合物と合成した銅フタロシアニンを含む固体担体を有機溶剤中又は有機溶剤の雰囲気下で加熱を行う。本工程により、金属フタロシアニンスルファモイル化合物と銅フタロシアニンを含む金属フタロシアニンナノワイヤーを生成せしめるとともに、該固体担体からの脱離を行う。目的とする使用される有機溶剤に特に制限はないが、生成するナノワイヤーとの親和性及び加熱可能な温度を考慮すると、グリコール系溶剤が好ましく、特にグリコールエステル系溶剤が好ましく、具体的な溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを挙げることができるが、これに限定されるものではない。本操作は、有機溶剤中に金属フタロシアニンスルファモイル化合物と銅フタロシアニンを含む固体担体を投入した後、加熱してもよいが、該固体担体を、気化した有機溶剤の雰囲気下において加熱してもよい。
グリコール系溶剤が好ましい理由として本発明のフタロシアニンをナノワイヤー化させるための一方向の結晶成長を促進させる作用を挙げることができる。ここで、グリコール系溶剤以外の溶剤、例えばトルエンやキシレンなどの芳香族系有機溶剤を用いると結晶成長の促進作用が大きすぎて長径方向だけでなく、短径方向の結晶成長を促進し、フタロシアニンは粗大な針状結晶に成長する。アセトンやヘキサンなどの低沸点有機溶剤では結晶成長の促進作用が小さすぎてフタロシアニンは微細粒子化し、本発明のナノワイヤーは得られない。またグリコール系溶剤は本発明で用いる金属フタロシアニンスルファモイル化合物の側鎖（化４）との親和性が高く、該溶剤もしくは該溶剤雰囲気下での加熱後、固体担体から脱離して、フタロシアニンナノワイヤーを回収する上でも好適である。
本発明により得られる金属フタロシアニンナノワイヤーは、例えばナノデバイスの配線材料として利用可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
（製造例１）
ポリエーテルモノアミンとして、アメリカ合衆国Ｈｕｎｔｓｍａｎ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製「Ｓｕｒｆｏｎａｍｉｎｅ  Ｂ−２００」（商品名）（第一アミン−末端ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）（５／９５）コポリマー、数平均分子量約２，０００）６９２部と炭酸ナトリウム６６部と水１５０部の混合物に、銅フタロシアニンスルホニルクロリド（スルホン化度＝１）２１０部を投入し、５℃〜室温で６時間反応させた。得られた反応混合物を真空下で９０℃に加熱して水を除去し、式（４）で表される銅フタロシアニンスルファモイル化合物を得た。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
【化１０】
2009280531.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
本化合物において、プロピレンオキシド／エチレンオキシド＝２９／６（モル比）、ｎの平均値＝３５である。
（実施例１）
＜銅−アンモニア錯体水溶液調整工程＞
硝酸銅（ＩＩ）三水和物（和光純薬工業（株）社製）７．９２ｇを蒸留水１００ｍｌに溶解させ、次いで２８％アンモニア水（和光純薬工業（株）社製）を７．０ｇ添加して銅−アンモニア錯体水溶液を調整した。
＜担持工程＞
続いて青色の該銅−アンモニア錯体水溶液に白色のシリカ粒子としてワコーシルＣ−２００（和光純薬工業（株）社製）５０．０ｇを投入し、撹拌後、静置したところ、該錯体水溶液中の銅成分が該シリカ粒子表面に沈殿した薄青色銅−シリカ複合粒子が得られた。ここでシリカ粒子投入後の水溶液はほぼ無色透明であり、水溶液中に該銅−アンミン錯体の残余がないことを確認した。該銅−シリカ複合粒子をろ過して回収した後、真空乾燥機にて一昼夜乾燥した。
＜一般式（１）で表される金属フタロシアニンスルファモイル化合物の担持工程＞
一般式（１）で表される金属フタロシアニンスルファモイル化合物のうち、下記式（４）
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
【化１１】
2009280531.tif 000003
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
（実施例２）
実施例１において、一般式（１）で表される銅フタロシアニンスルファモイル化合物の代わりに、下記式（５）
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【化１２】
2009280531.tif 000004
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
（比較例１）
実施例１において、銅フタロシアニンスルファモイル化合物を担持しなかった場合には、実施例１と同様の方法で有機溶剤中で加熱を行ったが、銅フタロシアニンが固体担体から剥離せず、ナノワイヤーは得られなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月22日(2011.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成分(Ａ)、(Ｂ)、(Ｃ)及び(Ｄ)を含有する水性洗浄剤組成物。
(Ａ)ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩
(Ｂ)オクタナール、2-エチルオクタナール、ノナナール、デカナール、ウンデカナール及びドデカナールから選ばれる脂肪族アルデヒド
(Ｃ)テルペン系香料化合物
(Ｄ)イソダマスコン、ローズオキサイド、ジフェニルオキサイド及びエチル2-ｔ-ブチルシクロヘキシルカーボネートから選ばれるローズ調香料化合物
【請求項２】
成分(Ｂ)と成分(Ｃ)の質量比が、(Ｂ)：(Ｃ)＝500：１〜１：1000である請求項１記載の水性洗浄剤組成物。
【請求項３】
成分(Ｄ)と成分(Ｃ)の質量比が、(Ｄ)：(Ｃ)＝１：100000〜１：10である請求項１又は２記載の水性洗浄剤組成物。
【請求項４】
成分(Ａ)を含有する水性洗浄剤組成物において、成分(Ａ)の製造工程に由来する基剤臭の原因成分である成分(Ｂ)を、成分(Ｃ)及び成分(Ｄ)によりマスキングする方法。
(Ａ)ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩
(Ｂ)オクタナール、2-エチルオクタナール、ノナナール、デカナール、ウンデカナール及びドデカナールから選ばれる脂肪族アルデヒド
(Ｃ)テルペン系香料化合物
(Ｄ)イソダマスコン、ローズオキサイド、ジフェニルオキサイド及びエチル2-ｔ-ブチルシクロヘキシルカーボネートから選ばれるローズ調香料化合物
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の（１）〜（３）の工程を含むことを特徴とするベシクルの製造方法。
（１）内包させる物質を溶解あるいは懸濁状態で含む水溶液と、ベシクルを構成することができる乳化能を有する脂質を含む有機溶媒相とからＷ／Ｏエマルションを製造する工程。
（２）前記Ｗ／Ｏエマルションと、ベシクル脂質膜を破壊しない水溶性乳化剤としてタンパク質乳化剤を含む外水相液からＷ／Ｏ／Ｗエマルションを製造する工程。
（３）前記Ｗ／Ｏ／Ｗエマルションから有機溶媒相を除去してベシクルを形成させる工程。
【請求項２】
前記内包させる物質が水溶性物質である請求項１に記載のベシクルの製造方法。
【請求項３】
前記内包させる物質が医薬用、食品用、サプリメント用、または化粧品用物質から選ばれる少なくとも一種類の物質である請求項１または請求項２に記載のベシクルの製造方法。
【請求項４】
前記有機溶媒相中に疎水性物質を含有させることを特徴とする請求項１に記載のベシクルの製造方法。
【請求項５】
前記疎水性物質が医薬用、食品用、サプリメント用、または化粧品用物質から選ばれる少なくとも一種類の物質である請求項４に記載のベシクルの製造方法。
【請求項６】
前記Ｗ／Ｏ／Ｗエマルションがマイクロチャネル乳化法によりエマルション化されることを特徴とする請求項１に記載のベシクルの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６に記載のベシクルの製造方法によって製造されたことを特徴とするベシクル。
【請求項８】
以下の（１）〜（２）の工程からなることを特徴とする、ベシクルを製造するためのＷ／Ｏ／Ｗエマルションの製造方法。
（１）内包させる物質を溶解あるいは懸濁状態で含む水溶液と、ベシクルを構成することができる乳化能を有する脂質を含む有機溶媒相とからＷ／Ｏエマルションを製造する工程。
（２）前記Ｗ／Ｏエマルションと、ベシクル脂質膜を破壊しない水溶性乳化剤としてタンパク質乳化剤を含む外水相液からＷ／Ｏ／Ｗエマルションを製造する工程。
【請求項９】
請求項８に記載のＷ／Ｏ／Ｗエマルションの製造方法によって製造されたことを特徴とするＷ／Ｏ／Ｗエマルション。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月7日(2011.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ触媒の存在下で直鎖アルコールにプロピレンオキシドを付加する工程〔以下、工程（Ｉ）という〕を有するポリオキシアルキレンアルキルエーテルの製造方法であって、
アルカリ触媒の割合が前記直鎖アルコールの活性水素１モルあたり０モル％超１．５モル％以下であり、
プロピレンオキシドの割合が前記直鎖アルコールの活性水素１モルあたり平均０．１〜５モルであり、
前記直鎖アルコールとプロピレンオキシドの付加反応を１４０〜１６０℃の温度で行う、
ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの製造方法。
【請求項２】
前記直鎖アルコールが、下記一般式（１）で表される化合物である、請求項１記載の製造方法。
Ｒ1−ＯＨ              （１）
（式中、Ｒ1は炭素数が６〜２２である直鎖アルキル基である。）
【請求項３】
工程（Ｉ）で得られた反応生成物に、エチレンオキシドを付加する工程（II）を有する、請求項１又は２記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月20日(2010.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマが生成された環境下で、プラズマ・ディスプレイ・パネルにおける前面ガラス基板に、材料供給部からの成膜材料を供給して堆積させる成膜装置であって、
前記材料供給部は、複数の箇所に分割され、
その各々に、互いに異なる種類の成膜材料が充填された成膜装置。
【請求項２】
前記材料供給部は、前記異なる種類の成膜材料にプラズマを選択的に照射するための切替機構を具備した請求項１記載の成膜装置。
【請求項３】
前記切替機構は、前記材料供給部が所定の角度で回転する回転機構である請求項２記載の成膜装置。
【請求項４】
前記異なる成膜材料は、ＳｉＯ２とＭｇＯとである、請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記回転機構は、成膜材料ＳｉＯ２にプラズマが照射される期間、往復運動する、請求項４に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記回転機構は、成膜材料ＳｉＯ２による成膜後に、成膜材料ＭｇＯへプラズマが照射される位置に切り換える、請求項５に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記成膜装置は、イオンプレーティング法を用いて基板に成膜物質を堆積させる請求項１から６のいずれか一つに記載の成膜装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を達成する為、本発明の成膜装置は、プラズマが生成された環境下で、プラズマ・ディスプレイ・パネルにおける前面ガラス基板に、材料供給部からの成膜材料を供給して堆積させる成膜装置であって、前記材料供給部は、複数の箇所に分割され、その各々に、互いに異なる種類の成膜材料が充填された構成を採る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、切替機構は、前記材料供給部が所定の角度で回転する回転機構である構成を採る。
上記異なる成膜材料は、ＳｉＯ２とＭｇＯとであってもよい。
上記回転機構は、成膜材料ＳｉＯ２にプラズマが照射される期間、往復運動してもよい。
回転機構は、成膜材料ＳｉＯ２による成膜後に、成膜材料ＭｇＯへプラズマが照射される位置に切り換えてもよい。
また、上記成膜装置において、イオンプレーティング法を用いて基板に成膜物質を堆積させる構成（イオンプレーティング装置）を採る。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月24日(2011.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼板、非鉄金属板、樹脂板、あるいはフィルム状からなる被洗浄面に付着した水分、油分、あるいは薬品成分等の液体を除去、搾取、洗浄する為のロールにおいて、前記ロールはロール部及び台座を有し、前記台座は開口部が形成された本体部、及び前記本体部の両端に連接される継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂを有し、前記継ぎ手部Ａ及び／又は前記継ぎ手部Ｂは中空部が形成され、前記中空部は前記開口部と連通されてあり、前記本体部の外周には前記開口部に連通する孔部が開設されてあり、前記本体部の外周外側には前記ロール部が形成され、前記ロール部は不織布からなる概円環状の複数のロール片が積層されると共に、内周に切欠き部が設けられた前記ロール片を有し、前記切欠き部が前記本体部の長手方向に連なることにより、前記本体部の外周との間に複数の流体拡散溝部が形成され、前記孔部の前記ロール部側に前記流体拡散溝部が位置することを特徴とするロール。
【請求項２】
請求項１記載の構成よりなるロールにおいて、流体拡散溝部はロール部の長手方向における一方の端部の近傍と他方の端部の近傍との範囲内に形成されてあることを特徴とするロール。
【請求項３】
請求項１又は２記載の構成よりなるロールにおいて、ロール部はロール片よりも回転外径が小である補強部材を有することを特徴とするロール。
【請求項４】
請求項３記載の構成よりなるロールにおいて、補強部材の内周には切欠き部が形成されてあることを特徴とするロール。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の構成よりなるロールにおいて、ロール片及び補強部材の有する切欠き部は内周の等分箇所に形成されてあることを特徴とするロール。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の構成よりなるロールにおいて、本体部の外周にたいする孔部の開口面積の比率が、本体部の端部の近傍よりも略中央部の方が大にて形成されてあることを特徴とするロール。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載されたロールと、前記ロールを回転駆動する駆動手段と、継ぎ手部Ａあるいは継ぎ手部Ｂの少なくとも一方に配管を介して連通されるコンプレッサーを有する洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記従来の課題を解決する為に、請求項１の発明のロールは、鋼板、非鉄金属板、樹脂板、あるいはフィルム状からなる被洗浄面に付着した水分、油分、あるいは薬品成分等の液体を除去、搾取、洗浄する為のロールにおいて、前記ロールはロール部及び台座を有し、前記台座は開口部が形成された本体部、及び前記本体部の両端に連接される継ぎ手部Ａ及び継ぎ手部Ｂを有し、前記継ぎ手部Ａ及び／又は前記継ぎ手部Ｂは中空部が形成され、前記中空部は前記開口部と連通されてあり、前記本体部の外周には前記開口部に連通する孔部が開設されてあり、前記本体部の外周外側には前記ロール部が形成され、前記ロール部は不織布からなる概円環状の複数のロール片が積層されると共に、内周に切欠き部が設けられた前記ロール片を有し、前記切欠き部が前記本体部の長手方向に連なることにより、前記本体部の外周との間に複数の流体拡散溝部が形成され、前記孔部の前記ロール部側に前記流体拡散溝部が位置するもので、液体が付着した被洗浄面は、ロール部と接触すると、ロールのダム機能と吸排機能により、液体が除去される。ロールは、吸排機能により、ロール部を構成する不織布が有する繊維の毛細管現象により、ロール部の内部に液体を放出すると共に、外部に排出する。前記の吸排機能を繰り返す内に、ロール部は徐々に吸液飽和状態となる。ところで、本発明のロールは、台座を構成する継ぎ手部Ａ及び／又は継ぎ手部Ｂに中空部が形成されると共に、本体部に開口部が形成され、中空部と開口部は連通している。継ぎ手部Ａ及び／又は継ぎ手部Ｂに配管を介してコンプレッサーを接続し、コンプレッサーから圧縮流体を噴射すると、圧縮流体は配管を介して、継ぎ手部Ａ及び／又は継ぎ手部Ｂに形成された中空部、次いで、本体部に形成された開口部の順に流入する。そして、圧縮流体は、開口部に充満すると、本体部の外周に開口部に連通するよう形成された孔部を介して流体拡散溝部に流れ込み、均一にロール部に流出すると共に、ロール部に吸収された液体と共にロールの外部に排出される。従って、吸液飽和状態となったロール部は、液体が圧縮流体と共にロールの外部に排出されることから、吸排機能により吸い上げられる液体を、吸収する空隙部が再び確保されるので、吸液飽和状態が解消され、吸排機能が持続する為、ロールは長期間に亘って、被洗浄面に付着した液体を、確実に除去、搾取、洗浄することができる。なお、圧縮流体を噴射するタイミングとしては、ロールの非稼動時がよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項３の発明のロールは、特に、請求項１又は２のロールにおいて、ロール部はロール片よりも回転外径が小である補強部材を有するもので、ロール部の表面部は、芯部に比べて硬度が低く、柔軟性が高いことから、ロールの弾力性が向上し、ロール部と被洗浄面の接触面積が広がり、被洗浄面から効率よく確実に液体が除去、搾取、洗浄される。一方、ロール部の芯部は、ロール片と補強部材が積層されているので、表面部に比べて硬く、ロールの回転中において、ロール片が本体部から位置ズレを生じ、ロール部の表面部に凹凸が発生することが防止される。その為、ロールは被洗浄面に残滓マークを発生させることがなく、被洗浄面に付着した液体を、確実に除去、搾取、洗浄することができると共に、高い耐久性を保持することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項５の発明のロールは、特に、請求項１から４のいずれかのロールにおいて、ロール片及び補強部材の有する切欠き部は内周の等分箇所に形成されてあるもので、ロールはバランスがよく、回転ブレを発生することがなく、安定した回転が保持される為、長期間に亘り、優れた液体除去性能が発揮される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項６の発明のロールは、特に、請求項１から５のいずれかのロールにおいて、本体部の外周にたいする孔部の開口面積の比率が、本体部の端部の近傍よりも略中央部の方が大にて形成されてあるもので、本体部の略中央部の近傍において、より多くの圧縮流体が流体拡散溝部に沿って流れると共に、ロール部の外周からロールの外部に流出する。ところで、鋼板、非鉄金属板、樹脂板、あるいはフィルム状からなる被洗浄面は、さまざまな幅のものがロール部に接触し、通過するが、ロール部の略中央部の近傍は、必ず前記被洗浄面が通過する。従って、ロール部の略中央部の近傍は、最も液体が吸収される箇所である。その為、本体部の略中央部の近傍から、より多くの圧縮流体がロール部に流れ込む形態とすることにより、ロール部からの液体の排出性能が飛躍的に向上する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月15日(2011.4.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
その反面、両方のリンクが同一のＡＣＭ設定を具備するように制約されているため、いくつかのケースにおいては、リンクの中の１つが準最適に動作する可能性がある。例えば、特定のポリシーにおいては、許容可能な性能を具備するフレームを両方のリンクが生成するように、システムコントローラは、そのチャネル状態が最悪であるリンクから導出されたＡＣＭ設定に両方のリンクを設定している。この場合には、良好なチャネル状態を具備したリンクは、高いスループットを潜在的に提供可能であるにも拘わらず、劣悪なリンクに対してヒットレス保護を提供するべく、相対的に低いデータレートに留まることを強いられることになる。この場合には、保護のために、潜在的なスループットが犠牲にされている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキャニング装置であって、
スキャンすべき原稿の一部分を照明するための照明器であって、
光学要素に光を向けるよう配置された少なくとも一つの光源と、
前記光源によって放出された光を向け直すよう配置された前記光学要素と、
前記光学要素によって向け直された光の少なくとも一部分を遮断するよう前記光源と前記書類との間に配設された燐光体材料と、
を含む、前記照明器と、
前記原稿の画像を記録するため前記原稿から反射された光を受け取るよう配置された感光装置と、
を含むことを特徴とするスキャニング装置。
【請求項２】
前記光学要素は、光透過材料からなる基部と、前記燐光体材料を含む層と、を含み、
前記基部は、前記光源からの光を前記原稿に向けなおすための少なくとも一つの反射要素を含む、
請求項１に記載のスキャニング装置。
【請求項３】
前記光学要素は、対向する後面及び出射面を含み、
前記光学要素により向けなおされた光は前記出射面を介して出射し、
前記少なくとも一つの反射要素は、前記光学要素の前記後面の複数のノッチを含む、
請求項２に記載のスキャニング装置。
【請求項４】
原稿をスキャンする方法であって、
スキャニング装置を使用して、光源を起動して光を放出することと、
前記原稿を照明するプリズム型の光学要素を通して前記光を伝達することであって、前記光学要素の層を通して前記光を伝達することを含み、前記層は粒子材料を含み、前記粒子材料は、前記光源と前記原稿との間に配置され、前記伝達された光を拡散し、これにより前記原稿の照明の均等性を高める、前記伝達することと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月24日(2011.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料分散剤と、顔料と、アルカリ可溶性樹脂と、多官能性モノマーと、光開始剤と、溶剤とを有するカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物であって、前記顔料分散剤が、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位（１）と、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位（２）とを有し、さらに前記構成単位（１）が有するアミノ基と、下記一般式（ＩＩＩ）で表される酸性リン酸エステルとが塩を形成したブロック共重合体であることを特徴とするカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物。
【化１】
2008242414.tif 000001
【化２】
2008242414.tif 000002
【化３】
2008242414.tif 000003
（式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、Ｒ１は、水素、またはメチル基であり、Ｒ２およびＲ３は、水素、または炭素数が１〜８の直鎖、分岐または環状のアルキル基であり、Ｑ１は、炭素数１〜８のアルキレン基、−（ＣＨ（Ｒ６）−ＣＨ（Ｒ７）−Ｏ）ｘ−ＣＨ（Ｒ６）−ＣＨ（Ｒ７）−および−（（ＣＨ２）ｙ−Ｏ）ｚ−（ＣＨ２）ｙ−からなる群から選択される置換基である。また、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に水素、またはメチル基である。
また、Ｒ４およびＲ５は、炭素数が１〜１８の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、ビフェニル基、−（ＣＨ（Ｒ６）−ＣＨ（Ｒ７）−Ｏ）ｘ−Ｒ８および−（（ＣＨ２）ｙ−Ｏ）ｚ−Ｒ８からなる群から選択される置換基であり、芳香環中の水素は、炭素数が１〜４の直鎖または分枝のアルキル基で置換することができる。
ここで、Ｒ８は水素、または炭素数が１〜１８の直鎖、分枝または環状のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、ビフェニル基、−ＣＨＯ、−ＣＨ２ＣＨＯ、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、および−ＣＨ２ＣＯＯＲ９からなる群から選択される置換基である。Ｒ８が水素以外である場合、Ｒ８中の炭素原子上の水素は、炭素数が１〜４の直鎖または分枝のアルキル基またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒで置換することができる。また、Ｒ９は水素、または炭素数が１〜５のアルキル基である。
また、ｘは０〜１８の整数であり、ｙは１〜５の整数であり、ｚは０〜１８の整数である。ｌ、ｍは１〜２００の整数であり、ｎは１〜２の整数である。）
【請求項２】
前記酸性リン酸エステルに含まれるＲ５が、−（ＣＨ（Ｒ６）−ＣＨ（Ｒ７）−Ｏ）ｘ−Ｒ８または−（（ＣＨ２）ｙ−Ｏ）ｚ−Ｒ８であり、かつＲ８が−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２または−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物。
【請求項３】
前記顔料の粒径が、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物を用いて形成された着色層を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４に記載のカラーフィルタを有することを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化１】
2008242414.tif 000004
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化２】
2008242414.tif 000005
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【化４】
2008242414.tif 000006
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【化５】
2008242414.tif 000007
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【化７】
2008242414.tif 000008
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【化８】
2008242414.tif 000009
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
本発明に用いられる酸性リン酸エステルの含有量としては、上記顔料分散剤の顔料分散性等を阻害しないものであれば特に限定されるものではないが、上記構成単位（１）に含まれるアミノ基に対して、０．１ｍｏｌ当量〜４．０ｍｏｌ当量の範囲内であることが好ましく、なかでも、０．５ｍｏｌ当量〜２．０ｍｏｌ当量の範囲内であることが好ましく、特に１．０ｍｏｌ当量〜１．５ｍｏｌ当量の範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、顔料の分散安定性に優れたものとすることができるからである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体の下方に配置され、前記像担持体に向けて出射された光が透過する透過部材を備えた光学ユニットと、前記透過部材の表面を清掃する清掃部材と、を有する画像形成装置において、
前記清掃部材は、前記透過部材の表面にある異物を移動させるためのシートと、前記透過部材の表面にある異物を拭き取るための拭き取り部と、を有し、
前記清掃部材が前記透過部材の表面を清掃する際には、前記シート及び前記拭き取り部が前記透過部材の表面と接触し移動するものであり、前記シートが接触し移動した前記透過部材の表面部分を前記拭き取り部が接触し移動することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記透過部材は長尺状で、前記像担持体は回転可能であり、前記透過部材の長手方向は前記像担持体の回転軸方向と一致し、前記清掃部材は前記透過部材の長手方向に移動することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記清掃部材が清掃開始位置から清掃終了位置へ移動して前記透過部材の表面を清掃する際には、前記シート及び前記拭き取り部は前記透過部材の表面と接触し、前記清掃部材が該清掃開始位置へ戻る際には、前記シート及び前記拭き取り部は前記透過部材の表面と接触しないことを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記像担持体と前記像担持体に作用するプロセス手段とを有し、画像形成装置本体に対して挿抜可能なプロセスカートリッジを有し、
前記清掃部材は、前記プロセスカートリッジが前記画像形成装置本体に対して挿入される動きに連動して移動することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記清掃部材のシートによって前記透過部材の表面から前記透過部材の表面外に移動された異物を溜める溜め込み部を有し、
前記溜め込み部は、前記清掃部材が清掃開始位置から清掃終了位置に向かって移動する方向において、前記透過部材の下流側に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記清掃部材は、前記清掃部材が前記透過部材の表面にある異物を清掃する際に前記拭き取り部が前記透過部材と接触する方向における前記拭き取り部の変位が所定値に達したときに前記透過部材の光を透過する領域外において前記透過部材の表面に突き当たる突き当て部を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記清掃部材は、前記シートと前記拭き取り部を保持する保持部を有し、 前記保持部を弾性部材によって支持していることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記像担持体は複数であり、前記複数の像担持体の配列方向が前記画像形成装置の設置面に対して傾斜していることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記光学ユニットは、前記複数の像担持体の配列方向に沿うように前記画像形成装置の設置面に対して傾斜していることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記清掃部材のシートによって前記透過部材の表面から前記透過部材の表面外に移動された異物を溜める溜め込み部を有し、
前記透過部材の表面は、前記画像形成装置の設置面に対して傾斜し、前記溜め込み部は、前記透過部材の表面の傾斜に沿った下方側に設けられていることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記透過部材と接触する前記シートの先端は、前記清掃部材が清掃開始位置から清掃終了位置に向かって移動する方向と直交する方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体の下方に配置され、前記像担持体に向けて出射された光が透過する透過部材を備えた光学ユニットと、前記透過部材の表面を清掃するための第１清掃部及び第２清掃部を有する清掃部材と、を有する画像形成装置において、
前記清掃部材が清掃開始位置から清掃終了位置へ移動して前記透過部材の表面を清掃する際に、前記第１清掃部及び前記第２清掃部は前記透過部材の表面と接触し、
前記清掃部材が該清掃開始位置へ戻る際には、前記第１清掃部及び前記第２清掃部は前記透過部材の表面と接触しないことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】
トナー像を担持する回転可能な像担持体と前記像担持体に作用するプロセス手段とを有し、前記像担持体の回転軸方向において画像形成装置本体に対して挿抜可能なプロセスカートリッジと、
前記像担持体の下方に配置され、前記像担持体に向けて出射された光が透過する透過部材を備えた光学ユニットと、
前記透過部材の表面を清掃する清掃部材と、を有する画像形成装置において、
前記清掃部材は、前記プロセスカートリッジが前記像担持体の回転軸方向に前記画像形成装置本体に対して挿入される動きに連動して移動する画像形成装置。
【請求項１４】
前記透過部材は長尺状で、前記透過部材の長手方向は前記像担持体の回転軸方向と一致していることを特徴とする請求項１３に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月14日(2011.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブルな基体の上に発光素子が形成されており、発光面側の表面と裏面側の表面とが接触するように巻き取り可能なフレキシブル表示装置において、
発光面側の表面の硬さは、裏面側の表面の硬さより大きいことを特徴とする、フレキシブル表示装置。
【請求項２】
発光面側の表面の硬さＨ（Ｆ）は、裏面側の表面の硬さＨ（Ｂ）に対して、１．６≦Ｈ（Ｆ）／Ｈ（Ｂ）≦３．５であることを特徴とする、請求項１に記載のフレキシブル表示装置。
【請求項３】
発光面側の表面の粗さに対して裏面側の表面の粗さは、算術平均粗さＲａ≧１．５ｎｍであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記背景技術の課題を解決するための手段として、請求項１に記載した発明に係るフレキシブル表示装置は、
フレキシブルな基体の上に発光素子が形成されており、発光面側の表面と裏面側の表面とが接触するように巻き取り可能なフレキシブル表示装置において、
発光面側の表面の硬さは、裏面側の表面の硬さより大きいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月14日(2010.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の被取付け体と、
前記第１の被取付け体を保護するシールドカバーと、
前記第１の被取付け体に沿って設けられた第２の被取付け体を有する部材と、を備え、
前記シールドカバーは、前記第１の被取付け体と前記第２の被取付け体との間に形成される隙間に挿入され、弾性変形可能な凸部が形成された挿入部を有し、
前記挿入部に形成された前記凸部と前記第１の被取付け体とを接触させるとともに、前記凸部を支点とする弾性力により、前記挿入部の端部と前記第２の被取付け体とを接触させる、
シールドカバーの取付け構造。
【請求項２】
前記第１の被取付け体は、回路基板であり、
前記第２の被取付け体は、前記回路基板に対して前記隙間を介して配置された固定部である、
請求項１に記載のシールドカバーの取付け構造。
【請求項３】
前記シールドカバーは金属製であり、
前記回路基板は、表面に設けられたグランドパターンを備え、
前記シールドカバーの前記凸部は、前記回路基板の前記グランドパターンと接触する、
請求項２に記載のシールドカバーの取付け構造。
【請求項４】
前記第１の被取付け体は、平面視略四角形状であって、少なくとも１辺に、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のシールドカバーの取付け構造を少なくとも１つ備える、
表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る請求項１に係るシールドカバーの取付け構造は、第１の被取付け体と、前記第１の被取付け体を保護するシールドカバーと、前記第１の被取付け体に沿って設けられた第２の被取付け体を有する部材と、を備える。前記シールドカバーは、前記第１の被取付け体と前記第２の被取付け体との間に形成される隙間に挿入され、弾性変形可能な凸部が形成された挿入部を有し、前記挿入部に形成された前記凸部と前記第１の被取付け体とを接触させるとともに、前記凸部を支点とする弾性力により、前記挿入部の端部と前記第２の被取付け体とを接触させる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月29日(2011.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面と裏面との双方に研磨が施された半導体ウェーハを製造する半導体ウェーハの製造方法であって、
前記半導体ウェーハの研磨に先立って前記半導体ウェーハの表面を研削する研削工程と、
砥粒を含有する第１研磨剤を用いて前記半導体ウェーハの表面と裏面との双方を研磨した後に引き続いて、砥粒を含有しない第２研磨剤を用いて前記半導体ウェーハの表面と裏面との双方を研磨し、前記半導体ウェーハの表面を鏡面にするとともに裏面を曇化状態にする研磨工程を含むことを特徴とする半導体ウェーハの製造方法。
【請求項２】
前記研磨工程は、前記半導体ウェーハの裏面側の光沢度を表面側の光沢度の５０〜９９％の範囲における所定の光沢度にすることで、前記半導体ウェーハの裏面を曇化状態にする工程であることを特徴とする請求項１記載の半導体ウェーハの製造方法。
【請求項３】
前記研磨工程は、前記半導体ウェーハの表面を下側に配置し、裏面を上側に配置して研磨する工程であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の半導体ウェーハの製造方法。
【請求項４】
前記研磨工程は、前記第１研磨剤を前記半導体ウェーハの下側に供給して前記半導体ウェーハの研磨を行う工程であることを特徴とする請求項３記載の半導体ウェーハの製造方法。
【請求項５】
前記第２研磨剤は、アルカリ性を示す有機又は無機の研磨剤であることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一項に記載の半導体ウェーハの製造方法。
【請求項６】
表面と裏面との双方に研磨が施された半導体ウェーハを製造する半導体ウェーハの製造方法であって、
前記半導体ウェーハの研磨に先立って、前記半導体ウェーハの表面を研削する研削工程と、
無砥粒研磨剤を用いて前記半導体ウェーハの表面及び裏面を同時に研磨し、前記半導体ウェーハの表面を鏡面にするとともに裏面を曇化状態にする研磨工程と
を含むことを特徴とする半導体ウェーハの製造方法。
【請求項７】
前記研磨工程は、前記半導体ウェーハの裏面側の光沢度を表面側の光沢度の５０〜９９％の範囲における所定の光沢度にすることで、前記半導体ウェーハの裏面を曇化状態にする工程であることを特徴とする請求項６記載の半導体ウェーハの製造方法。
【請求項８】
前記無砥粒研磨剤は、砥粒を含有しないアルカリ性を示す有機又は無機の研磨剤であることを特徴とする請求項６又は請求項７記載の半導体ウェーハの製造方法。
【請求項９】
表面と裏面との双方に研磨が施された半導体ウェーハを製造する半導体ウェーハの製造装置において、
研磨が行われる半導体ウェーハを下側から支持し、砥粒を含有する第１研磨剤を前記半導体ウェーハの裏面側に供給可能な第１回転定盤と、
前記第１回転定盤上における半導体ウェーハを上側から支持し、砥粒を含有しない第２研磨剤を前記半導体ウェーハの表面側に供給可能な第２回転定盤と
を備えることを特徴とする半導体ウェーハの製造装置。
【請求項１０】
前記第１，第２回転定盤の回転中心部に設けられた太陽歯車と、
前記第１，第２回転定盤間の外周部に設けられた環状の内歯歯車とを備えており、
前記半導体ウェーハの収容孔となるホールが複数設けられており、前記太陽歯車及び前記内歯歯車にそれぞれ噛み合う遊星歯車となるキャリアが前記第１回転定盤と前記第２回転定盤との間に配置されることを特徴とする請求項９記載の半導体ウェーハの製造装置。