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【手続補正書】
【提出日】平成23年8月5日(2011.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）平均粒子径１ｎｍ以上４０ｎｍ以下の硫酸バリウム粒子、および（Ｂ）重合性基およびカルボキシル基を有する化合物、または重合性基を有するリン酸エステル化合物を含む絶縁層形成用材料。
【請求項２】
前記重合性基およびカルボキシル基を有する化合物が、下記一般式（１）で表される化合物を含む請求項１記載の絶縁層形成用材料。
【化１】
2010037477.tif 000001
（上記一般式（１）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を示す。Ｒ２は下記一般式（２）〜（４）のいずれかで表される２価の基を示す。）
【化２】
2010037477.tif 000002
（上記一般式（２）〜（４）中、ｎおよびｍはそれぞれ１〜３の整数である。）
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＲ１が水素原子であり、Ｒ２が一般式（４）で表される２価の基であり、ｎが２である請求項２記載の絶縁層形成用材料。
【請求項４】
前記重合性基を有するリン酸エステル化合物が、下記一般式（５）で表される化合物を含む請求項１〜３のいずれか記載の絶縁層形成用材料。
【化３】
2010037477.tif 000003
（上記一般式（５）中、Ｒ３〜Ｒ５は下記一般式（６）〜（１０）のいずれかで表される１価の基または水素原子を示し、Ｒ３〜Ｒ５は同じでも異なっていてもよい。ただし、Ｒ３〜Ｒ５の全部が水素原子になることはない。）
【化４】
2010037477.tif 000004
（上記一般式（６）〜（１０）中、Ｒ６〜Ｒ９は水素原子またはメチル基を示す。Ｒ１０〜Ｒ１１は炭素数１〜１０の２価の基であり、Ｒ１２は水酸基を有する炭素数１〜１０の２価の基である。）
【請求項５】
前記一般式（５）におけるＲ３〜Ｒ５の少なくとも１つが前記一般式（８）で表される１価の基である請求項４記載の絶縁層形成用材料。
【請求項６】
さらに、重合性基を有する樹脂を含む請求項１〜５のいずれか記載の絶縁層形成用材料。
【請求項７】
前記重合性基を有する樹脂が、下記式（１１）または（１２）で表される樹脂を含む請求項６記載の絶縁層形成用材料。
【化５】
2010037477.tif 000005
【請求項８】
インダクタの絶縁層形成用材料として用いられることを特徴とする請求項１〜７のいずれか記載の絶縁層形成用材料。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか記載の絶縁層形成用材料からなる層を露光、現像して形成された凹部に導体配線を形成した電子部品。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイソシアネート（ａ１）と、ポリオール（ａ２）と、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート（ａ３）との反応により得られるウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）２５〜７５質量部、ホモポリマーのＴｇが１００℃以上である含環構造単官能モノマー（Ｂ）２５〜７５質量部の合計１００質量部、および、活性エネルギー線重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を注型重合により硬化して得られた樹脂硬化物であって、微小押し込み試験によるマルテンス硬さが３０Ｎ／ｍｍ２以上、１７０Ｎ／ｍｍ２以下の範囲内にあり、弾性変形率が６０％以下である樹脂硬化物。
【請求項２】
ポリオール（ａ２）が、ポリカプロラクトンポリオールまたはポリカーボネートポリオールである請求項１記載の樹脂硬化物。
【請求項３】
基材上に、請求項１または請求項２に記載の樹脂硬化物からなる層を有するキーシート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、ポリイソシアネート（ａ１）と、ポリオール（ａ２）と、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート（ａ３）との反応により得られるウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）２５〜７５質量部、ホモポリマーのＴｇが１００℃以上である含環構造単官能モノマー（Ｂ）２５〜７５質量部の合計１００質量部、および、活性エネルギー線重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を注型重合により硬化して得られた樹脂硬化物であって、微小押し込み試験によるマルテンス硬さが３０Ｎ／ｍｍ２以上、１７０Ｎ／ｍｍ２以下の範囲内にあり、弾性変形率が６０％以下である樹脂硬化物である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含水したゲル状のバクテリアセルロースを強化繊維とし、これに親水性の有機溶剤で溶解した液状のフェノール樹脂を混合して、水分の乾燥工程と樹脂の含浸工程を同時に行なった後、この混合物を乾燥・硬化させて、所望形状のＦＲＰ成形体を作成し、次いでこのＦＲＰ成形体を不活性雰囲気下で焼成して、バクテリアセルロースとフェノール樹脂とを炭化し、バクテリアセルロースを炭化した炭素繊維の体積含有率が２８〜７０体積％の炭素繊維強化炭素材料を製造することを特徴とする炭素繊維強化炭素材料の製造方法。
【請求項２】
ゲル状のバクテリアセルロースの含水率を８０重量％以上とし、液状のフェノール樹脂における有機溶剤の含有量を４０重量％以上とし、ゲル状のバクテリアセルロースに混合する液状のフェノール樹脂の混合比率を５〜４０重量％としたことを特徴とする請求項１記載の炭素繊維強化炭素材料の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】炭素繊維強化炭素材料の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の請求項１記載の炭素繊維強化炭素材料の製造方法は、含水したゲル状のバクテリアセルロースを強化繊維とし、これに親水性の有機溶剤で溶解した液状のフェノール樹脂を混合して、水分の乾燥工程と樹脂の含浸工程を同時に行なった後、この混合物を乾燥・硬化させて、所望形状のＦＲＰ成形体を作成し、次いでこのＦＲＰ成形体を不活性雰囲気下で焼成して、バクテリアセルロースとフェノール樹脂とを炭化し、バクテリアセルロースを炭化した炭素繊維の体積含有率が２８〜７０体積％の炭素繊維強化炭素材料を製造することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の請求項２記載の炭素繊維強化炭素材料の製造方法は、請求項１において、ゲル状のバクテリアセルロースの含水率を８０重量％以上とし、液状のフェノール樹脂における有機溶剤の含有量を４０重量％以上とし、ゲル状のバクテリアセルロースに混合する液状のフェノール樹脂の混合比率を５〜４０重量％としたことを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る請求項１記載の炭素繊維強化炭素材料の製造方法によれば、バクテリアセルロースとフェノール樹脂とからなるＦＲＰを炭化して、バクテリアセルロース由来の微細な繊維状炭素化合物を強化繊維とし、フェノール由来のガラス状炭素化合物をマトリックスとして強化することにより、材料自体の破壊靱性値が向上し、脆性破壊に起因する磨耗が抑制され、無潤滑下でも、充分な低摩擦性と低摩耗性を兼ね備えた炭素繊維強化炭素材料を製造することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、水分を含有しているバクテリアセルロースゲルにフェノール樹脂を直接、含浸することにより水分の乾燥工程と樹脂含浸工程を１つにすることが可能になり、工程を省略して材料コストを下げることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また請求項２記載の炭素繊維強化炭素材料の製造方法によれば、ゲル状のバクテリアセルロースの含水率が８０重量％以上であり、酢酸の製造工程で生成されるバクテリアセルロースをそのまま利用することができる。また液状のフェノール樹脂における有機溶剤の含有量を４０重量％以上とすることにより、バクテリアセルロースに液状のフェノール樹脂が十分に含浸される。またバクテリアセルロースに混合する液状のフェノール樹脂の混合比率を５〜４０重量％とすることにより、水分の乾燥工程が促進されると共に、炭化した微細な炭素繊維がガラス状炭素化合物に分散した炭素繊維強化炭素材料を得ることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
先ず、ゲル状のバクテリアセルロースを強化繊維とし、これを親水性の有機溶剤で溶解した液状のフェノール樹脂を混合する。酢酸の製造工程で生成されるゲル状のバクテリアセルロースは、一般にその含水率は８０重量％以上である。またフェノール樹脂は、バクテリアセルロースと混合しやすいように親水性の有機溶剤で溶解した液状のものを用いる。この場合、有機溶剤としては、例えばアルコール類、フェノール類、アセトン類、エーテル類を用いる。また液状のフェノール樹脂における有機溶剤の含有量は４０重量％以上とすることにより、粘性が低くバクテリアセルロースと混合・含浸し易い。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
最後に、所定の形状に成形したＦＲＰを不活性雰囲気下で、５００〜１５００度の温度範囲で焼結させることにより、ガラス状炭素中にナノーオーダーの直径の微細な炭素繊維が分散した炭素繊維強化炭素材料を得ることができる。この場合、炭素繊維強化炭素材料は、バクテリアセルロースを炭化した炭素繊維の体積含有率を２８〜７０体積％にすることにより、無潤滑下でも、０．２５以下の充分な低摩擦性と低摩耗性とが得られる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
なおこの場合、炭素繊維の体積含有率が２８体積％未満では、炭素繊維の割合が少なくなり、充分な低摩擦性と低摩耗性とが得られず、また７０体積％を超えると摩耗量が多くなるからである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上表の結果から、炭素繊維含有率が２８〜７０体積％の範囲で動摩擦係数が低く、比摩耗量が少ないことが確認された。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
請求項１５又は１６いずれか記載の皮革からなることを特徴とする自動車用カーシート材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
請求項１５又は１６いずれか記載の皮革からなることを特徴とする自動車用内装部品材料。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月28日(2011.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、ポリプロピレン樹脂１００質量部に対して極性基含有樹脂２５〜４００質量部を配合してなる粉体塗料組成物であって、
１）２３０℃、２．１６ｋｇ荷重時のメルトマスフローレイトが１５〜５０ｇ／１０分、
２）粒子径が１８０μｍを超える粒子の割合が２質量％以下、
３）粒子径が６３μｍ以下である粒子の割合が１５質量％以下、
４）中位粒子径が８０〜１７０μｍ、
５）圧縮度が１０〜２５％、
圧縮度＝〔（嵩密度−タップ密度）÷タップ密度〕×１００
である粉体塗料組成物に関する。
極性基含有樹脂は、例えば、酸変性ポリプロピレン、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体からなる群より選ばれた少なくとも１種である。
本発明の塗装物は、本発明の粉体塗料組成物を、基材の一部または全面に塗装したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両開き扉の一方の扉に取り付けられ、閉扉時に当たる他方の扉からの衝撃力を緩和する緩衝戸当たりであって、
前記一方の扉の内面に設けられ前記他方の扉から突出される錠ボルトを受け入れるストライクユニットと、該ストライクユニットとによって前記一方の扉を挟んで外面に設けられる戸当たりユニットと、を備え、
前記戸当たりユニットが、
前記外面に取り付けられる本体ケースと、
該本体ケースに設けられ前記他方の扉と当たるとともにその衝撃力により所定量後退可能となった戸当たり板と、
該戸当たり板と斜面同士を当接して前記後退方向と直交方向に移動される可動ブロックと、
該可動ブロックの移動方向において該可動ブロックと前記本体ケースの内壁面との間に挟入される弾性体と、
を具備することを特徴とする緩衝戸当たり。
【請求項２】
請求項１記載の緩衝戸当たりであって、
前記戸当たり板の前記斜面が一対のハ字状に形成され、
前記可動ブロックが、該ハ字状斜面のそれぞれに接触する三角柱体状に形成されることを特徴とする緩衝戸当たり。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の緩衝戸当たりであって、
前記戸当たり板の後退方向において該戸当たり板と前記本体ケースの内壁面との間に背部弾性体が挟入されることを特徴とする緩衝戸当たり。
【請求項４】
請求項１，２，３のいずれか１つに記載の緩衝戸当たりであって、
召合を挟み双方の扉に対称位置で取付穴が形成され、
前記戸当たりユニット及び前記ストライクユニットが扉を挟み前記取付穴に通した固定ボルトにて相互に固定され、
前記戸当たりユニットが、外装ケースを有し、
該外装ケースが、前記ストライクユニットに固定される前記本体ケース及び補強ブロックに固定手段にて固定され、
該固定手段が、前記外装ケースの木口側面を貫通して前記補強ブロックに螺合する木口ネジと、前記外装ケースの木口反対側面に形成された係止孔と、前記本体ケースから突出して内側から該係止孔に係止する係止突起と、
からなることを特徴とする緩衝戸当たり。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ−１）成分１０〜３０質量％、（ｂ）成分並びに（ｃ）成分を含有しており、
（ｃ）成分の含有量が０．０１〜１．５質量％であり、（ｂ）成分と（ｃ）成分の含有量の質量比率が（ｂ）成分／（ｃ）成分＝１／１４．５〜１／２となるように含有している柔軟剤組成物の製造方法であって、
（ａ−１）成分とイオン交換水を混合し、２５℃におけるｐＨを１．５〜５に調整した後、（ｂ）成分、（ｃ）成分を添加する、柔軟剤組成物の製造方法。
（ａ−１）成分：エステル基、アミド基又はエーテル基で分断されていても良い総炭素数１４〜２６の炭化水素基を少なくとも一つ有する３級アミン又はその酸塩もしくはその４級化物から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）成分：酸化防止剤
（ｃ）成分：ヘキシルシンナミックアルデヒド、マイラックアルデヒド、アニスアルデヒド、ヘリオナール、アミルシンナミックアルデヒド、シクラメンアルデヒド、エチルバニリン、ヘリオトロピン及びリリアールから選ばれる少なくとも１種であるアルデヒド系香料
【請求項２】
（ａ−２）成分０．５〜２０質量％、（ｂ）成分並びに（ｃ）成分を含有しており、
（ｃ）成分の含有量が０．０１〜１．５質量％であり、（ｂ）成分と（ｃ）成分の含有量の質量比率が（ｂ）成分／（ｃ）成分＝１／１４．５〜１／２となるように含有している柔軟剤組成物の製造方法であって、
イオン交換水の２５℃におけるｐＨを１．５〜５に調整した後、（ａ−２）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分を添加する、柔軟剤組成物の製造方法。
（ａ−２）シリコーン化合物から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）成分：酸化防止剤
（ｃ）成分：ヘキシルシンナミックアルデヒド、マイラックアルデヒド、アニスアルデヒド、ヘリオナール、アミルシンナミックアルデヒド、シクラメンアルデヒド、エチルバニリン、ヘリオトロピン及びリリアールから選ばれる少なくとも１種であるアルデヒド系香料
【請求項３】
（ａ−１）成分１０〜３０質量％、（ａ−２）成分を０．５〜２０質量％、（ｂ）成分及び（ｃ）成分を含有しており、
（ｃ）成分の含有量が０．０１〜１．５質量％であり、（ｂ）成分と（ｃ）成分の含有量の質量比率が（ｂ）成分／（ｃ）成分＝１／１４．５〜１／２となるように含有している柔軟剤組成物の製造方法であって、
（ａ−１）成分とイオン交換水を混合し、２５℃におけるｐＨを１．５〜５に調整した後、（ａ−２）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分を添加する、柔軟剤組成物の製造方法。
（ａ−１）成分：エステル基、アミド基又はエーテル基で分断されていても良い総炭素数１４〜２６の炭化水素基を少なくとも一つ有する３級アミン又はその酸塩もしくはその４級化物から選ばれる少なくとも１種
（ａ−２）シリコーン化合物から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）成分：酸化防止剤
（ｃ）成分：ヘキシルシンナミックアルデヒド、マイラックアルデヒド、アニスアルデヒド、ヘリオナール、アミルシンナミックアルデヒド、シクラメンアルデヒド、エチルバニリン、ヘリオトロピン及びリリアールから選ばれる少なくとも１種であるアルデヒド系香料
【請求項４】
ｐＨを調整する前のイオン交換水に界面活性剤を添加する、請求項１〜３のいずれか１項記載の柔軟剤組成物の製造方法。
【請求項５】
（ｂ）成分の酸化防止剤が、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ブチル化ヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）、α−トコフェロール、γ−トコフェロール及びδ−トコフェロールから選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜４のいずれか１項記載の柔軟剤組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単糸繊度が５０〜２００ｄｔｅｘ、かつ引張弾性率が３００ｃＮ/ｄｔｅｘ以上であることを特徴とするセメント補強用全芳香族ポリアミド繊維。
【請求項２】
全芳香族ポリアミドが、コポリパラフェニレン・３，４’−オキシジフェニレンテレフタルアミドである請求項１記載のセメント補強用全芳香族ポリアミド繊維。
【請求項３】
全芳香族ポリアミド繊維を湿式法または半乾半湿式法により紡糸するに際し、ポリマードープ吐出後の脱溶媒工程において、浸漬長が１０ｍ以上で、かつ溶媒の濃度勾配がある複数の脱溶媒槽を使用することを特徴とする請求項１または２記載のセメント補強用全芳香族ポリアミド繊維の製造方法。
【請求項４】
脱溶媒槽の溶媒の濃度勾配が、１５重量％〜０．００１重量％の範囲である請求項３記載のセメント補強用全芳香族ポリアミド繊維の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、単糸繊度が５０〜２００ｄｔｅｘ、かつ引張弾性率が３００ｃＮ/ｄｔｅｘ以上であることを特徴とするセメント補強用全芳香族ポリアミド繊維（以下、「全芳香族ポリアミド繊維」を「アラミド繊維」ともいう）に関する。
ここで、上記全芳香族ポリアミドとしては、コポリパラフェニレン・３，４’−オキシジフェニレンテレフタルアミドが好ましい。
次に、本発明は、全芳香族ポリアミド繊維を湿式法または半乾半湿式法により紡糸するに際し、ポリマードープ吐出後の脱溶媒工程において、浸漬長が１０ｍ以上で、かつ溶媒の濃度勾配がある複数の脱溶媒槽を使用することを特徴とする上記セメント補強用全芳香族ポリアミド繊維の製造方法に関する。
ここで、上記のセメント補強用全芳香族ポリアミド繊維の製造方法における上記脱溶媒槽の濃度勾配は、好ましくは１５％〜０．００１％の範囲である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月18日(2011.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
炭素繊維束（ａ）を形成する単繊維の表面積比が１．００〜１．０５であり、他の強化繊維束（ｂ）を形成する単繊維の表面積比が１．０６以上である、請求項１に記載の炭素繊維ウェブの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
炭素繊維束（ａ）の単繊維の表面の二乗平均粗さが１ｎｍ以上２０ｎｍ未満であり、他の強化繊維束（ｂ）の単繊維の表面の二乗平均粗さが２０ｎｍ以上である、請求項１又は２に記載の炭素繊維ウェブの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
炭素繊維束（ａ）は長さ５〜５０ｍｍであり、強化繊維束（ｂ）は長さ５ｍｍ未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の炭素繊維ウェブの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月1日(2011.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＺｎとＳｎの酸化物からなる酸化物焼結体の製造方法であって、
ＢＥＴ比表面積が１〜２０ｍ２／ｇであるＺｎＯ粉末とＢＥＴ比表面積が１〜２０ｍ２／ｇであるＳｎＯ２粉末とを配合比率がＺｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）原子数比で０．３〜０．９５の範囲で配合し、非還元性雰囲気中で９００〜１１００℃の範囲の温度で焼成した仮焼粉体を粉末化することで、ＢＥＴ比表面積が１〜２０ｍ２／ｇの仮焼粉末を製造する仮焼粉末製造工程と、
前記仮焼粉末を用い、造粒・成形した成形体を、非還元性雰囲気中で１３００〜１６００℃の範囲の温度で１〜１０時間の焼成時間で焼成して酸化物焼結体を得る本焼成工程とからなることを特徴とする酸化物焼結体の製造方法。
【請求項２】
前記本焼成工程において、前記仮焼粉末にさらにＺｎＯ粉末を混合して、造粒・成形して前記成形体を得ることを特徴とする請求項１に記載の酸化物焼結体の製造方法。
【請求項３】
前記本焼成工程において、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｕのうちいずれか１種からなる添加物元素の酸化物粉末が前記仮焼粉末に配合されることを特徴とする請求項１又は２に記載の酸化物焼結体の製造方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の酸化物焼結体の製造方法によって製造されたことを特徴とする酸化物焼結体。
【請求項５】
Ｚｎ２ＳｎＯ４相が含まれることを特徴とする請求項４に記載の酸化物焼結体。
【請求項６】
Ｚｎ２ＳｎＯ４相とＳｎＯ２相とからなることを特徴とする請求項４又は５に記載の酸化物焼結体。
【請求項７】
Ｚｎ２ＳｎＯ４相の平均結晶粒径が１〜１０μｍの範囲であることを特徴とする請求項５又は６に記載の酸化物焼結体。
【請求項８】
相対密度が９０％以上であることを特徴とする請求項４から請求項７までのいずれか１項に記載の酸化物焼結体。
【請求項９】
請求項４から請求項８までのいずれか１項に記載の酸化物焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
【請求項１０】
請求項９に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法によって成膜されたことを特徴とする半導体薄膜。
【請求項１１】
常温でのキャリア密度が１０２１ｃｍ−３未満であることを特徴とする請求項１０に記載の半導体薄膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決すべく、以下に掲げる構成とした。
請求項１記載の発明の要旨は、ＺｎとＳｎの酸化物からなる酸化物焼結体の製造方法であって、ＢＥＴ比表面積が１〜２０ｍ２／ｇであるＺｎＯ粉末とＢＥＴ比表面積が１〜２０ｍ２／ｇであるＳｎＯ２粉末とを配合比率がＺｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）原子数比で０．３〜０．９５の範囲で配合し、非還元性雰囲気中で９００〜１１００℃の範囲の温度で焼成した仮焼粉体を粉末化することで、ＢＥＴ比表面積が１〜２０ｍ２／ｇの仮焼粉末を製造する仮焼粉末製造工程と、前記仮焼粉末を用い、造粒・成形した成形体を、非還元性雰囲気中で１３００〜１６００℃の範囲の温度で１〜１０時間の焼成時間で焼成して酸化物焼結体を得る本焼成工程とからなることを特徴とする酸化物焼結体の製造方法に存する。
請求項２記載の発明の要旨は、前記本焼成工程において、前記仮焼粉末にさらにＺｎＯ粉末を混合して、造粒・成形して前記成形体を得ることを特徴とする請求項１に記載の酸化物焼結体の製造方法に存する。
請求項３記載の発明の要旨は、前記本焼成工程において、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｕのうちいずれか１種からなる添加物元素の酸化物粉末が前記仮焼粉末に配合されることを特徴とする請求項１又は２に記載の酸化物焼結体の製造方法に存する。
請求項４記載の発明の要旨は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の酸化物焼結体の製造方法によって製造されたことを特徴とする酸化物焼結体に存する。
請求項５記載の発明の要旨は、Ｚｎ２ＳｎＯ４相が含まれることを特徴とする請求項４に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項６記載の発明の要旨は、Ｚｎ２ＳｎＯ４相とＳｎＯ２相とからなることを特徴とする請求項４又は５に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項７記載の発明の要旨は、Ｚｎ２ＳｎＯ４相の平均結晶粒径が１〜１０μｍの範囲であることを特徴とする請求項５又は６に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項８記載の発明の要旨は、相対密度が９０％以上であることを特徴とする請求項４から請求項７までのいずれか１項に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項９記載の発明の要旨は、請求項４から請求項８までのいずれか１項に記載の酸化物焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲットに存する。
請求項１０記載の発明の要旨は、請求項９に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法によって成膜されたことを特徴とする半導体薄膜に存する。
請求項１１記載の発明の要旨は、常温でのキャリア密度が１０２１ｃｍ−３未満であることを特徴とする請求項１０に記載の半導体薄膜に存する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月15日(2011.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外形が長軸と短軸を有し、かつ長軸を回転軸とする回転対称性をもつ形状であり、前記外形をなす殻の内部に前記外形とほぼ相似の形状の空洞が形成されている、中空粒子。
【請求項２】
前記外形が、おおむね、針状、両円錐形、円柱の両端に円錐を付した形、又は楕円体状である、請求項１に記載した中空粒子。
【請求項３】
前記短軸長を直径とする球に比べて、より大きな体積を有する、請求項１に記載した中空粒子。
【請求項４】
短軸長に対する長軸長の比（アスペクト比）が２以上である、請求項３に記載した中空粒子。
【請求項５】
前記短軸長を直径とする球に比べて、体積に対する表面積の比が小さい、請求項３に記載した中空粒子。
【請求項６】
長軸長が１００〜１０００ｎｍ、短軸長が２０〜４００ｎｍである、請求項１に記載した中空粒子。
【請求項７】
前記殻の材料がシリカである、請求項１に記載した中空粒子。
【請求項８】
第１の材料からなり、外形が長軸と短軸を有し、かつ長軸を回転軸とする回転対称    性をもつ形状である核粒子を作製する工程と、
前記第１の材料とは異なる第２の材料からなる層で前記核粒子の表面を被覆し、前    記核粒子と前記第２の材料からなる層との複合体粒子を形成する工程と、
前記複合体粒子から前記核粒子を除去し、前記第２の材料からなる層を殻とする中    空粒子を作製する工程と
を有する、中空粒子の製造方法。
【請求項９】
前記第１の材料が炭酸ストロンチウムである前記核粒子を作製する、請求項８に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１０】
ストロンチウムイオン含有物質と炭酸イオン前駆体含有物質とを均一に溶解させた反応溶液を調製する反応溶液調製工程と、前記反応溶液に結晶成長制御剤を添加する結晶成長制御剤添加工程とを有し、前記反応溶液調製工程の後、前記結晶成長制御剤添加工程と同時か又はその後に、前記炭酸イオン前駆体から炭酸イオンを生成させ、炭酸ストロンチウム核粒子を析出させる工程を開始する、請求項９に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１１】
前記結晶成長制御剤として、炭酸ストロンチウム微粒子表面を適度な結合力で被覆し、過度な結晶成長を抑制するとともに、適度な結晶成長を妨げない物質を用いる、請求項１０に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１２】
前記結晶成長制御剤として、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、6-メルカプト-1-ヘキサノール、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ベタイン（N+(CH3)3CH2COO-）、及びこはく酸ジ(2-エチルヘキシル)スルホン酸ナトリウム（CH2(COOCH2CH(C2H5)CH2CH2CH2CH3)CH(COOCH2CH(C2H5)CH2CH2CH2CH3)SO3Na）からなる群から選ばれた少なくとも１種を用いる、請求項１１に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１３】
前記ストロンチウムイオン含有物質として、ストロンチウム塩又は水酸化ストロンチウムを用いる、請求項８に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１４】
前記炭酸イオン前駆体含有物質として尿素又は炭酸水素塩を用いる、請求項８に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１５】
尿素の加水分解酵素を加えて前記尿素の加水分解反応を促進する、請求項１４に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１６】
前記第２の材料をシリカとして、中空シリカ粒子を作製する、請求項８に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１７】
アルコール類を主成分とするアルコール系溶媒中に前記核粒子を分散させた後、前記アルコール系溶媒にシリコンアルコキシドと塩基性触媒とを加えて混合し、このとき起こる前記シリコンアルコキシドの加水分解反応によって、前記第２の材料からなる層であるシリカ層で前記核粒子の表面を被覆し、前記核粒子と前記シリカ層とからなる前記複合体粒子を形成する、請求項１６に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１８】
前記アルコール系溶媒中に非イオン性の界面活性剤からなる凝集防止剤を添加する、請求項１７に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項１９】
前記非イオン性界面活性剤として、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、及びポリビニルアルコールからなる群から選ばれた少なくとも１種を用いる、請求項１８に記載した中空粒子の製造方法。
【請求項２０】
前記シリコンアルコキシドとしてテトラエトキシシランＳi(ＯＣ2Ｈ5)4を用い、前記塩基性触媒としてアンモニアを用いる、請求項１７に記載した中空粒子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月24日(2011.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル化合物の少なくとも１種から選ばれる化合物からなる原料を、キャリアガスとして空気を用いて、連続的に反応管内に誘導し、該反応管内を通過する間に前記化合物を、触媒の不存在下で、３５０℃〜５３０℃の温度で熱分解することを特徴とするフッ化カルボニルの製造方法。
一般式（１）
【化１】
2010037151.tif 000001
〔一般式（１）において、Ｒｆは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、ａは１〜３の自然数であり、ｂは１〜２の自然数であり、ｃは０〜３０までの整数である。〕
【請求項２】
熱分解する温度が、４５０〜５３０℃の範囲であることを特徴とする請求項１記載のフッ化カルボニルの製造方法。
【請求項３】
前記一般式（１）で示される化合物が、ヘキサフルオロプロピレンを酸化してヘキサフルオロプロピレンオキサイドを製造する際に蒸留残渣として副生する化合物であることを特徴とする許求項１又は２記載のフッ化カルボニルの製造方法。
【請求項４】
原料導入量Ｆと反応管内容積Ｖの比であるＦ／Ｖが１０〜５０ｇ／ｍｌ・ｍｉｎの範囲で連続反応を行った際に、前記原料のうちの未反応原料の回収率が、１０％以下であることを特徴とする許求項１、２又は３記載のフッ化カルボニルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（請求項１）
下記一般式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル化合物の少なくとも１種から選ばれる化合物からなる原料を、キャリアガスとして空気を用いて、連続的に反応管内に誘導し、該反応管内を通過する間に前記化合物を、触媒の不存在下で、３５０℃〜５３０℃の温度で熱分解することを特徴とするフッ化カルボニルの製造方法。
一般式（１）
【化２】
2010037151.tif 000002
〔一般式（１）において、Ｒｆは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、ａは１〜３の自然数であり、ｂは１〜２の自然数であり、ｃは０〜３０までの整数である。〕
（請求項２）
熱分解する温度が、４５０〜５３０℃の範囲であることを特徴とする請求項１記載のフッ化カルボニルの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（請求項３）  
前記一般式（１）で示される化合物が、ヘキサフルオロプロピレンを酸化してヘキサフルオロプロピレンオキサイドを製造する際に蒸留残渣として副生する化合物であることを特徴とする許求項１又は２記載のフッ化カルボニルの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（請求項４）
原料導入量Ｆと反応管内容積Ｖの比であるＦ／Ｖが１０〜５０ｇ／ｍｌ・ｍｉｎの範囲で連続反応を行った際に、前記原料のうちの未反応原料の回収率が、１０％以下であることを特徴とする許求項１、２又は３記載のフッ化カルボニルの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置及び基板処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理室と、該処理室を囲繞し、該処理室内を加熱する金属発熱体を有する加熱手段と、前記処理室と前記加熱手段との間の空間を不活性ガス雰囲気とした状態で前記処理室内に処理ガスを導入しつつ排気し、基板を処理する基板処理装置に於いて、前記空間を少なくとも酸素を含む雰囲気に置換し、該雰囲気で前記金属発熱体を発熱して該金属発熱体の表面に酸化膜を形成する制御部を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を処理する処理方法において、
加熱手段処理室を囲繞した、金属発熱体により処理室内を加熱するステップと、
処理室と加熱手段との間の空間を不活性ガス雰囲気とした状態で処理室内に処理ガスを導入しつつ排気するステップと、
前記空間を少なくとも酸素を含む雰囲気に置換し、該雰囲気で前記金属発熱体を発熱して該金属発熱体の表面に酸化膜を形成するステップ
とを有する基板処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上にトランジスタを有し、
前記トランジスタの半導体層と電気的に接続された第１の電極と、前記第１の電極の端部を覆う絶縁物と、前記第１の電極上に設けられたバッファ層と、前記バッファ層上に設けられた有機化合物を含む層と、前記有機化合物を含む層上に設けられた第２の電極とを有する発光素子を有し、
前記第１の電極は、複数の金属層の積層構造を有し、第１領域と、前記第１領域と積層数が異なる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との境界部に段差部とを有し、
前記段差部は、前記絶縁物で覆われていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、前記発光装置は、前記発光素子が複数設けられた画素部と、複数のトランジスタを有する駆動回路とを有し、
前記駆動回路は、前記第２領域と同じ積層構造を有する配線を有することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１領域に接して前記バッファ層が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１領域における金属層の積層数は、前記第２領域における金属層の積層数よりも少ないことを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の電極は、Ｔｉ、ＴｉＮ、ＴｉＳｉＸＮＹ、Ａｌ、Ａｇ、Ｎｉ、Ｗ、ＷＳｉＸ、ＷＮＸ、ＷＳｉＸＮＹ、Ｔａ、ＴａＮＸ、ＴａＳｉＸＮＹ、ＮｂＮ、ＭｏＮ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｉｎ、及びＭｏから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料もしくは化合物材料を主成分とする膜またはそれらの積層膜を有することを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
一つの前記発光素子における発光領域の面積は、一つの前記発光素子における前記第１領域の面積よりも小さいことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記バッファ層は、有機化合物と無機化合物とを含む複合材料であり、前記無機化合物は、前記有機化合物に対して電子受容性を示すことを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記バッファ層は、有機化合物と無機化合物とを含む複合材料であり、前記無機化合物は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、および酸化レニウムからなる群より選ばれるいずれか一または複数であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記バッファ層は、ホール輸送性を有する有機化合物と、無機化合物とを含む複合材料であることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記第２の電極は透光性を有する導電膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一に記載の発光装置を具備していることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月19日(2011.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の開口を有する第１基材と複数の開口を有する第２基材とを、互いの開口が連通さ
れるように複数の連結繊維にて連結して形成された三次元構造体をフィルタ基材とする気
化フィルタと、
気化フィルタに水を供給して、フィルタ基材を湿潤させる給水装置と、
湿潤したフィルタ基材に対して空気を送り、連通された開口に空気を通過させて、気化
フィルタより加湿空気を送り出す送風装置とを備え、
第１基材および第２基材が複数の開口を有する編地であり、複数の連結繊維により２枚
の編地が間隔をあけて連結されて、編地および連結繊維間に水を保持する立体編物がフィ
ルタ基材として構成され、
フィルタ基材において、一方の編地において一の開口を画定する部分が有する複数の編
目のうちの少なくとも１つの編目から、他方の編地において相対する一の開口を画定する
部分が有する複数の編目に、４本以上の連結繊維が延在して、互いの開口を画定する編地
同士が連結され、
隣接する連結繊維間の間隙にて水を保持する、加湿装置。
【請求項２】
複数の開口を有する第１基材と複数の開口を有する第２基材とを、互いの開口が連通さ
れるように複数の連結繊維にて連結して形成された三次元構造体をフィルタ基材とする気
化フィルタと、
空気を浄化する空気浄化フィルタと、
気化フィルタに水を供給して、フィルタ基材を湿潤させる給水装置と、
空気浄化フィルタを通過させて浄化された空気を湿潤したフィルタ基材に送り、フィル
タ基材において連通された開口に空気を通過させて、気化フィルタより浄化された加湿空
気を送り出す送風装置とを備え、
第１基材および第２基材が複数の開口を有する編地であり、複数の連結繊維により２枚
の編地が間隔をあけて連結されて、編地および連結繊維間に水を保持する立体編物がフィ
ルタ基材として構成され、
フィルタ基材において、一方の編地において一の開口を画定する部分が有する複数の編
目のうちの少なくとも１つの編目から、他方の編地において相対する一の開口を画定する
部分が有する複数の編目に、４本以上の連結繊維が延在して、互いの開口を画定する編地
同士が連結され、
隣接する連結繊維間の間隙にて水を保持する、加湿機能付き空気清浄機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の加湿装置は、複数の開口を有する第１基材と複数の開口を有する第２基材とを、互いの開口が連通されるように複数の連結繊維にて連結して形成された三次元構造体をフィルタ基材とする気化フィルタと、気化フィルタに水を供給して、フィルタ基材を湿潤させる給水装置と、湿潤したフィルタ基材に対して空気を送り、連通された開口に空気を通過させて、気化フィルタより加湿空気を送り出す送風装置とを備え、第１基材および第２基材が複数の開口を有する編地であり、複数の連結繊維により２枚の編地が間隔をあけて連結されて、編地および連結繊維間に水を保持する立体編物がフィルタ基材として構成され、フィルタ基材において、一方の編地において一の開口を画定する部分が有する複数の編目のうちの少なくとも１つの編目から、他方の編地において相対する一の開口を画定する部分が有する複数の編目に、４本以上の連結繊維が延在して、互いの開口を画定する編地同士が連結され、隣接する連結繊維間の間隙にて水を保持するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の加湿機能付き空気清浄機は、複数の開口を有する第１基材と複数の開口を有する第２基材とを、互いの開口が連通されるように複数の連結繊維にて連結して形成された三次元構造体をフィルタ基材とする気化フィルタと、空気を浄化する空気浄化フィルタと、気化フィルタに水を供給して、フィルタ基材を湿潤させる給水装置と、空気浄化フィルタを通過させて浄化された空気を湿潤したフィルタ基材に送り、フィルタ基材において連通された開口に空気を通過させて、気化フィルタより浄化された加湿空気を送り出す送風装置とを備え、第１基材および第２基材が複数の開口を有する編地であり、複数の連結繊維により２枚の編地が間隔をあけて連結されて、編地および連結繊維間に水を保持する立体編物がフィルタ基材として構成され、フィルタ基材において、一方の編地において一の開口を画定する部分が有する複数の編目のうちの少なくとも１つの編目から、他方の編地において相対する一の開口を画定する部分が有する複数の編目に、４本以上の連結繊維が延在して、互いの開口を画定する編地同士が連結され、隣接する連結繊維間の間隙にて水を保持するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る空気調和機の室内ユニットは、天面に吸込み口を有し、内部に熱交換器、送風機、風路などが設けられ、下部に前記熱交換器により熱交換された空気を吹出す吹出し口が設けられた本体部を備え、該本体部の前記吹出し口の上部に溝部を設けると共に、前記本体部の両サイドパネルに前記溝部に対応して切除部を設け、前記溝部及び切除部に着脱可能に意匠部材を取付けると共に、該意匠部材の一部を露出させて開閉かつ着脱可能に第１のフロントパネルが設けられる、又は前記溝部及び切除部を覆って開閉かつ着脱可能に第２のフロントパネルが設けられるものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天面に吸込み口を有し、内部に熱交換器、送風機、風路などが設けられ、下部に前記熱交換器により熱交換された空気を吹出す吹出し口が設けられた本体部を備え、
該本体部の前記吹出し口の上部に溝部を設けると共に、前記本体部の両サイドパネルに前記溝部に対応して切除部を設け、前記溝部及び切除部に着脱可能に意匠部材を取付けると共に、該意匠部材の一部を露出させて開閉かつ着脱可能に第１のフロントパネルが設けられる、又は前記溝部及び切除部を覆って開閉かつ着脱可能に第２のフロントパネルが設けられることを特徴とする空気調和機の室内ユニット。
【請求項２】
前記意匠部材又は第２のフロントパネルの形状、材質、色彩、模様、質感などの異なるものを用意し、室内ユニットの本体部の構造を変えることなく前記意匠部材又は第２のフロントパネルを変えることにより、多様なシリーズデザインに対応しうるように構成したことを特徴とする請求項１記載の空気調和機の室内ユニット。
【請求項３】
請求項１又は２の室内ユニットを備えたことを特徴とする空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】オーディオファイル再生装置及びオーディオファイル再生方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーディオデータの波形データとユーザが指定した前記波形データの区間又は位置に関するユーザ指定情報がタグ情報として格納されたオーディオファイルを再生する再生部と、前記再生部が再生したオーディオデータを記憶するメモリと、前記メモリが記憶したオーディオデータの読み出しに関する指示をユーザから受け付ける操作部と、前記操作部が受け付けた指示に基づいて前記メモリに記憶されたオーディオデータの読出し制御を行う制御部と、前記タグ情報に格納された前記波形データに基づいて波形画像を生成し、前記タグ情報に格納されたユーザ指定情報によって指定される前記波形データの区間又は位置に前記再生部の再生位置が予め定められた時間よりも近づいたときにアラーム表示を生成するアラーム処理部とを備えることを特徴とするオーディオファイル再生装置。
【請求項２】
オーディオデータの波形データとユーザが指定した前記波形データの区間又は位置に関するユーザ指定情報がタグ情報として格納されたオーディオファイルを再生するステップと、再生したオーディオデータをメモリに記憶するステップと、記憶したオーディオデータの読み出しに関する指示操作を受け付けるステップと、受け付けた指示操作に基づいて前記メモリに記憶されたデータの読出し制御を行うステップと、前記タグ情報に格納された波形データに基づいて波形画像を生成するステップと、前記タグ情報に格納されたユーザ指定情報によって指定される前記波形データの区間又は位置に前記再生部の再生位置が予め定められた時間よりも近づいたときにアラーム表示を生成するステップとを含むことを特徴とするオーディオファイル再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月22日(2011.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、前記像担持体に摺接するクリーニング部材とを備えた画像形成装置において、
前記像担持体に対する前記クリーニング部材の押圧力を、第１の押圧力と、前記第１の押圧力より低い第２の押圧力との少なくとも２つに切替える押圧力切替手段を設け、
前記押圧力切替手段は、前記クリーニング部材の温度が高いときに、前記クリーニング部材の押圧力を、前記第２の押圧力に切替えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記押圧力切替手段は、所定時間の間での前記像担持体の回転回数が、基準回転回数以上のときに、前記第２の押圧力に切替えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記押圧力切替手段は、前記画像形成装置が設置される環境温度が、基準温度以上のときに、前記第２の押圧力に切替えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
像担持体と、前記像担持体を帯電させる帯電部材と、帯電された前記像担持体上をドット単位で露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像に現像剤を付着させて現像剤像を形成する現像部材と、前記現像剤像を媒体に転写させる転写部材と、転写後に前記像担持体に残留した前記現像剤を掻き取るクリーニング部材とを備えた画像形成装置において、
前記像担持体に対する前記クリーニング部材の押圧力を切替える押圧力切替手段と、
所定時間の経過を計測する手段と、
前記所定時間の間の、前記像担持体の回転回数を計測する手段と、を備え、
前記所定時間の間での前記像担持体の回転回数が、基準回転回数未満の場合は、前記押圧力切替手段により、前記クリーニング部材の押圧力を高くし、
前記所定時間の間での前記像担持体の回転回数が、基準回転回数以上の場合は、前記押圧力切替手段により、前記クリーニング部材の押圧力を低くすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記像担持体、前記帯電部材、前記現像部材、前記クリーニング部材を含む画像形成ユニットの周辺温度を検出する温度検出手段を備え、
前記所定時間の経過後の前記温度検出手段による検出温度が、基準温度を超えている場合は、前記押圧力切替手段により、前記クリーニング部材の押圧力を低くし、
前記所定時間の経過後の前記温度検出手段による検出温度が、基準温度以下の場合は、前記所定時間の間での前記像担持体の回転回数に応じて、前記クリーニング部材の押圧力を切替えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
像担持体と、前記像担持体に摺接するクリーニング部材とを備えた画像形成装置において、
前記像担持体に対する前記クリーニング部材の押圧力を、第１の押圧力と、前記第１の押圧力より低い第２の押圧力との少なくとも２つに切替える押圧力切替手段を設け、
前記押圧力切替手段は、所定時間の間での前記像担持体の回転回数が、基準回転回数以上のときに、前記第２の押圧力に切替えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、像担持体と、前記像担持体に摺接するクリーニング部材とを備えた画像形成装置において、前記像担持体に対する前記クリーニング部材の押圧力を、第１の押圧力と、前記第１の押圧力より低い第２の押圧力との少なくとも２つに切替える押圧力切替手段を設け、前記押圧力切替手段は、前記クリーニング部材の温度が高いときに、前記クリーニング部材の押圧力を、前記第２の押圧力に切替えることを特徴とする。
また、像担持体と、前記像担持体に摺接するクリーニング部材とを備えた画像形成装置において、前記像担持体に対する前記クリーニング部材の押圧力を、第１の押圧力と、前記第１の押圧力より低い第２の押圧力との少なくとも２つに切替える押圧力切替手段を設け、前記押圧力切替手段は、所定時間の間での前記像担持体の回転回数が、基準回転回数以上のときに、前記第２の押圧力に切替えることを特徴とする。