【手続補正書】
【提出日】平成21年7月27日(2009.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス室から排出されるガスの処理方法であって、
排気ガスを真空ポンプに運ぶステップと、
ポンプからの排気ガスを除害装置に運ぶステップと、を含み、
パージガスを、除害装置の上流で排気ガスに加え、排気ガスに加えられるパージガスの量を、排気ガスの除害を最適にするように制御する、
ことを特徴とするプロセス室から排出されるガスの処理方法。
【請求項２】
排気ガスに加えられるパージガスの量を、プロセス室に供給され、またはプロセス室から排出されるガスの組成の変化に応答して調整する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
室に供給され、または室から排出されるガスがフッ素含有成分を含むとき、排気ガスに加えられるパージガスの量を減ずる、
請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
第１ガス及び第２ガスが異なる時間に供給され、第２ガスがフッ素含有成分を含む、プロセス室から排出されるガスの処理方法であって、
排気ガスを真空ポンプに運ぶステップと、
ポンプからの排気ガスを除害装置に運ぶステップと、を含み、
パージガスを、除害装置の上流で排気ガスに加え、排気ガスに加えられるパージガスの量は、第１ガスがプロセス室に供給されるとき、第１の値、及び第２ガスがプロセス室に供給されるとき、第１の値より低い第２の値を有する、
ことを特徴とするプロセス室から排出されるガスの処理方法。
【請求項５】
フッ素含有成分は、Ｆ2及びペルフルオロ化合物のうちの１つを含む、
請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
排気ガスに加えられるパージガスの量を、前記フッ素含有成分が室に供給されない、または室から排出されないとき、その後増加させる、
請求項３から５の何れか１項に記載の方法。
【請求項７】
排気ガスに加えられるパージガスの量を、排気ガスが１つまたはそれ以上の凝縮可能な種を含むとき、その後増加させる、
請求項３から６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
排気ガスに加えられるパージガスの量を、プロセス室に供給され、またはプロセス室から排出されるガスの組成の変化を示すデータの受取りに応答して調整する、
請求項１から７の何れか１項に記載の方法。
【請求項９】
排気ガスは、プロセスツールのプロセス室からの排気であり、前記組成の変化を示すデータは、プロセスツールによって供給される、
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記組成の変化を示すデータを、プロセス室にガスを供給するのに使用される１つまたはそれ以上の可変流量制御装置を監視することによって得る、
請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
排気ガスに加えられるパージガスの量を、パージガスが排気ガスに供給される流量を変更することによって調整する、
請求項１から１０の何れか１項に記載の方法。
【請求項１２】
排気ガスに加えられるパージガスの量を、５ないし１５ｓｌｍの値より上に維持する、  請求項１から１１の何れか１項に記載の方法。
【請求項１３】
パージガスを、ポンプの上流で排気ガスに加える、
請求項１から１２の何れか１項に記載の方法。
【請求項１４】
ポンプは、多段ポンプであり、パージガスは、ポンプの段の間で排気ガスに加えられる、
請求項１から１３の何れか１項に記載の方法。
【請求項１５】
パージガスを、ポンプの下流で排気ガスに加える、
請求項１から１４の何れか１項に記載の方法。
【請求項１６】
ポンプの下流で排気ガスに加えられるパージガスの量を、ポンプの上流またはポンプの段の間で排気ガスに加えられるパージガスの量に応じて調整する、
請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
プロセス室から排出されるガスの処理装置であって、
プロセス室からの排気ガスを受けるための真空ポンプと、
ポンプからの排気ガスを受け入れるための除害装置と、
除害装置の上流で排気ガスにパージガスを加えるためのパージガス供給システムと、排気ガスの除害を最適にするように、排気ガスに加えられるパージガスの量を調整するための制御システムと、を含む、
ことを特徴とするプロセス室から排出されるガスの処理装置。
【請求項１８】
制御システムは、プロセス室に供給される、またはプロセス室から排出されるガスの組成の変化に応答して、排気ガスに加えられるパージガスの量を調整するように構成されている、
請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
制御システムは、排気ガスがフッ素含有成分を含むとき、パージガスを排気ガスに供給する流量を減ずるように構成されている、
請求項１７または１８に記載の装置。
【請求項２０】
第１ガス及び第２ガスが異なる時間に供給され、第２ガスがフッ素含有成分を含む、プロセス室から排出されるガスの処理装置であって、
プロセス室からの排気ガスを受けるための真空ポンプと、
ポンプからの排気ガスを受け入れるための除害装置と、
除害装置の上流で排気ガスにパージガスを加えるためのパージガス供給システムと、
排気ガスに加えられるパージガスの量が、第１ガスがプロセス室に供給されるとき、第１の値、及び第２ガスがプロセス室に供給されるとき、第１の値より低い第２の値を有するように、排気ガスに加えられるパージガスの量を調整するための制御システムと、を含む、
ことを特徴とするプロセス室から排出されるガスの処理装置。
【請求項２１】
制御システムは、排気ガスが、１つまたはそれ以上の凝縮可能な種を含むとき、パージガスが排気ガスに供給される流量を増加させるように構成されている、
請求項１９又は２０に記載の装置。
【請求項２２】
制御システムは、プロセス室に供給される、またはプロセス室から排出されるガスの組成の変化を示すデータを受け、それに応答して排気ガスに加えられるパージガスの量を調整するためのコントローラを含む、
請求項１７から２１の何れか１項に記載の装置。
【請求項２３】
制御システムは、パージガスを排気ガスに供給する流量を変更するための可変流量制御装置を含み、コントローラは、前記組成の変化で可変流量制御装置を制御するように構成されている、
請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
制御システムは、パージガスを前記組成に応じて、１０乃至４０ｓｌｍの間で、排気ガスに供給する流量を変更するように構成されている、
請求項２２又は２３に記載の装置。
【請求項２５】
制御システムは、除害装置によって受け入れられた排気ガス内のパージガスの量を、５乃至１５ｓｌｍの間の値より上に維持するように構成されている、
請求項１７から２４の何れか１項に記載の装置。
【請求項２６】
パージガス供給システムは、ポンプの上流で排気ガスにパージガスを加えるように構成されている、
請求項１７から２５の何れか１項に記載の装置。
【請求項２７】
ポンプは、多段ポンプであり、パージガス供給システムは、ポンプの段の間で排気ガスにパージガスを加えるように構成されている、
請求項１７から２６の何れか１項に記載の装置。
【請求項２８】
パージガス供給システムは、ポンプの下流で排気ガスにパージガスを加えるように構成されている、
請求項１７から２７の何れか１項に記載の装置。
【請求項２９】
制御システムは、ポンプの上流またはポンプ内で排気ガスに加えられるパージガスの量に依存して、ポンプの下流で排気ガスに加えられるパージガスの量を調整するように構成されている、
請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
除害装置は、プラズマ除害装置である、
請求項１７から２９の何れか１項に記載の装置。