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【手続補正書】
【提出日】平成20年12月9日(2008.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射システムであり、光源が発する光を有し、光軸と光学素子とを有し、具体的には、半導体リソグラフにおける投影露光装置のための照射システムであり、光線の非回転対称の瞳孔分布を生成するための少なくとも１つの回折光学素子を有し、前記光の強度を均一化するための均一化素子を有する照射システムであって、
非対称的な瞳孔分布のために、少なくとも、非回転対称の光分布をもたらす前記回折光学素子（３，７）、及び／もしくは前記均一化素子（１０）が、ｘ−ｙ座標系のｚ軸を形成する前記光軸を回転軸として回転可能に支持され、
前記瞳孔分布が、１つの軸上に位置、もしくは、前記ｘ−ｙ座標系を回転角度ａ分回転させて、該回転角度ａによって新たに形成されるｘ’−ｙ’座標系の１つの軸を基準にして対称的に位置するように、少なくとも１つの前記回転角度ａを設定することが可能である
ことを特徴とする照射システム。
【請求項２】
照射システムであり、光源が発する光を有し、光軸と光学素子とを有し、具体的には、半導体リソグラフにおける投影露光装置のための照射システムであり、光線の非回転対称の瞳孔分布を生成するための少なくとも１つの光学素子を有し、前記光の強度を均一化するための均一化素子を有する照射システムであって、
非対称的な瞳孔分布のために、少なくとも、非回転対称の光分布をもたらす回折光学素子（３，７）、及び／もしくは前記均一化素子（１０）が、ｘ−ｙ座標系のｚ軸を形成する前記光軸を回転軸として回転可能に支持され、
前記瞳孔分布が、１つの軸上に位置、もしくは、前記ｘ−ｙ座標系を回転角度ａ分回転させて、該回転角度ａによって新たに形成されるｘ’−ｙ’座標系の１つの軸を基準にして対称的に位置するように、少なくとも１つの前記回転角度ａを設定することが可能であり、
少なくとも１つの回転可能な光学素子（３，７）及び前記均一化素子（１０）は、同一の回転角度分回転される
ことを特徴とする照射システム。
【請求項３】
照射システムであり、光源が発する光を有し、光軸と光学素子とを有し、具体的には、半導体リソグラフにおける投影露光装置のための照射システムであり、光線の非回転対称の瞳孔分布を生成するための少なくとも１つの光学素子を有し、前記光の強度を均一化するための均一化素子を有する照射システムであって、
非対称的な瞳孔分布のために、少なくとも、非回転対称の光分布をもたらす回折光学素子（３，７）、及び／もしくは前記均一化素子（１０）が、ｘ−ｙ座標系のｚ軸を形成する前記光軸を回転軸として回転可能に支持され、
前記瞳孔分布が、１つの軸上に位置、もしくは、前記ｘ−ｙ座標系を回転角度ａ分回転させて、該回転角度ａによって新たに形成されるｘ’−ｙ’座標系の１つの軸を基準にして対称的に位置するように、少なくとも１つの前記回転角度ａを設定することが可能であり、
前記均一化素子として、非対称的な瞳孔分布のために前記回転角度ａ分回転可能なロッドインテグレータ（１０’’）が設けられ、
該ロッドインテグレータ（１０’’）の断面は、少なくとも略正方形である
ことを特徴とする照射システム。
【請求項４】
請求項１に記載の照射システムであって、
少なくとも１つの回転可能な光学素子（３，７）、及び前記均一化素子（１０）は、同一の回転角度分回転される
ことを特徴とする照射システム。
【請求項５】
請求項１に記載の照射システムであって、
少なくとも１つの回転可能な光学素子（３，７）、及び前記均一化素子（１０）は、異なる回転角度分回転される
ことを特徴とする照射システム。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の照射システムであって、
回転軸は、前記少なくとも１つの光学素子内を通っている
ことを特徴とする照射システム。
【請求項７】
請求項１または請求項２に記載の照射システムであって、
前記均一化素子として配設されているのは、非対称的な瞳孔分布のために回転角度ａ分回転可能な長方形のロッドインテグレータ（１０）である
ことを特徴とする照射システム。
【請求項８】
請求項７に記載の照射システムであって、
前記ロッドインテグレータ（１０）の断面は、少なくとも略正方形である
ことを特徴とする照射システム。
【請求項９】
請求項７または請求項８に記載の照射システムであって、
前記ロッドインテグレータ（１０）は、インカップリング・オプティクス（９）と、視野絞り（１１）を有する領域面との間に配置されている
ことを特徴とする照射システム。
【請求項１０】
請求項２乃至請求項９のいずれかに記載の照射システムであって、
前記複数の光学素子（３，７）は、前記光線の方向における前記均一化素子（１０，２４）の上流に位置決めされた回折光学素子及び／もしくは屈折光学素子である
ことを特徴とする照射システム。
【請求項１１】
請求項３、または請求項７乃至請求項１０のいずれかに記載の照射システムであって、
前記ロッドインテグレータ（１０，１０’’）は、交換可能に前記照射システムに配置され、
正方形の断面を有するロッドインテグレータ（１０’’）は、回転角度の設定に関連して、長方形の断面を有するロッドインテグレータ（１０）の代わりに配設される
ことを特徴とする照射システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の照射システムであって、
長方形の断面（１０）を有する前記ロッドインテグレータの端面における対角線の長さは、少なくとも、正方形の断面を有する前記ロッドインテグレータ（１０’’）における端部の長さとほぼ一致している
ことを特徴とする照射システム。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２に記載の照射システムであって、
前記光線の方向における前記ロッドインテグレータ（１０，１０’’）の上流に配置された複数の屈折光学素子（７）は、交換可能に配置されている
ことを特徴とする照射システム。
【請求項１４】
請求項２または請求項３に記載の照射システムであって、
均一化素子として、ハニカム集光器（２４）が配設されている
ことを特徴とする照射システム。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれかに記載の照射システムを有する、半導体リソグラフにおける投影露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月9日(2009.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対の透明な基板の間に位置する液晶の層と、
Ｍ個のゾーンを有し、各ゾーンは前記液晶の層と第１の透明な基板の内向きの面との間に位置しているＬ個の個々にアドレス可能なサブゾーンを有し、ＭとＬは共に２以上の正の整数であり、Ｍ個のゾーンの各々において、個々にアドレス可能なサブゾーンの径方向位置が増加するとき、Ｌ個の個々にアドレス可能なサブゾーンの各々の径方向の幅が減少するフレネルゾーンでパターン化された電極と、
前記液晶の層と第２の透明な基板の内向きの面との間の導電層とを具備する焦点を調整可能で電気的に制御可能な電気活性なレンズ。
【請求項２】
前記フレネルゾーンでパターン化された電極の個々にアドレス可能な複数のサブゾーンは、同一の水平面にある請求項１のレンズ。
【請求項３】
前記液晶は、ネマチック、コレステリック、電気活性なポリマ、高分子液晶、ポリマ分散型液晶、ポリマ安定化液晶、及び自己組織化非線形超分子構造からなるグループから選択される請求項１のレンズ。
【請求項４】
前記液晶は、ネマチックである請求項３のレンズ。
【請求項５】
前記液晶は、Ｅ７である請求項４のレンズ。
【請求項６】
前記透明な基板は、ガラスである請求項１のレンズ。
【請求項７】
前記透明な基板は、プラスチックである請求項１のレンズ。
【請求項８】
前記個々にアドレス可能な複数のサブゾーンと導電層とに電気的接続された電気的制御部をさらに具備する請求項１のレンズ。
【請求項９】
前記電気的制御部は、前記個々にアドレス可能な複数のサブゾーンに正の、又は負の電圧を印可する請求項８のレンズ。
【請求項１０】
前記電圧は、マイナス３ボルトとプラス３ボルトとの間である請求項９のレンズ。
【請求項１１】
前記電気的制御部に電気的に接続された測距装置をさらに具備する請求項８のレンズ。
【請求項１２】
前記パターン化された電極と導電層とは、透明である請求項１のレンズ。
【請求項１３】
前記パターン化された電極と導電層とは、インジウムスズ酸化物である請求項１２のレンズ。
【請求項１４】
前記液晶の層を囲んでいるアライメント層をさらに具備する請求項１のレンズ。
【請求項１５】
前記アライメント層は、ポリビニルアルコールである請求項１４のレンズ。
【請求項１６】
前記アライメント層は、ナイロン６，６である請求項１４のレンズ。
【請求項１７】
複数の前記透明な基板は、約３ミクロンないし約２０ミクロンの間で離間されている請求項１のレンズ。
【請求項１８】
前記焦点距離は、正である請求項１のレンズ。
【請求項１９】
前記焦点距離は、負である請求項１のレンズ。
【請求項２０】
レンズの焦点距離を最初の焦点距離Ｆの整数倍だけ調整する方法であって、
１対の透明な基板の間に囲まれた液晶の層を有するレンズと、前記液晶の層と第１の透明な基板の内向きの面との間に位置するフレネルゾーンでパターン化された電極とを備え、前記電極はＭ個のゾーンを有し、各ゾーンはＬ個のサブゾーンを有し、前記電極は全てでＭ・Ｌ個の個々にアドレス可能な電極を有し、ＭとＬは共に２以上の正の整数であり、Ｍ個のゾーンの各々において、個々にアドレス可能なサブゾーンの径方向位置が増加するとき、Ｌ個の個々にアドレス可能なサブゾーンの各々の径方向の幅が減少し、さらに、前記液晶の層と第２の透明な基板の内向きの面との間の導電層と、前記電極のゾーンと導電層とに電気的に接続された電気的制御部とを備えたレンズを提供することと、
ｋを１からＭ・Ｌの整数として、前記焦点距離をｋ・Ｆに調整するように、ｋ個の個々にアドレス可能な電極の各々に同一の電圧を印可することとを具備する方法。
【請求項２１】
印可される前記電圧は、マイナス３ボルトとプラス３ボルトとの間である請求項２０の方法。
【請求項２２】
（ａ）１対の透明な基板の間に囲まれた液晶の層を有するレンズと、Ｌ個の回折レベルを有し、前記液晶の層と第１の透明な基板の内向きの面との間に位置し、個々にアドレス可能な複数のリングの円形のアレイである、フレネルゾーンでパターン化された電極と、前記液晶の層と第２の透明な基板の内向きの面との間の導電層と、前記電極のゾーンと導電層とに電気的に接続された電気的制御部とを提供することと、
（ｂ）設計焦点距離（ｆ’）を決定することと、
（ｃ）前記フレネルゾーンでパターン化された電極のｍ番目のゾーンの面積を以下の式を用いて計算することと、
【数１】
2008529064.tif 000001
ここで、ｆ’は、設計焦点距離、λは、設計波長である。
（ｄ）設計サブゾーンを形成する個々にアドレス可能な複数の電極の数を決定するように、前記ｍ番目のゾーンの計算された面積をＬ以上の整数で割ることと、
（ｅ）設計サブゾーンの前記数の個々にアドレス可能な複数の電極に同一の電圧を印可することととを具備するレンズの焦点距離を連続的に調整する方法。
【請求項２３】
１つ以上の設計焦点距離を決定することと、
全ての設計焦点距離が設計サブゾーンに形成されることを可能とする、前記フレネルゾーンでパターン化された電極の最大のリングのサイズを計算することとを工程（ａ）の前にさらに具備する請求項２２の方法。
【請求項２４】
前記レンズと所望の物体との間の距離を決定するように、測距装置を用いて、設計焦点距離を決定することをさらに具備する請求項２２の方法。
【請求項２５】
印可される前記電圧は、マイナス３ボルトとプラス３ボルトとの間である請求項２２の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外端部と第１のテーパ面を有する第１のレンズ要素、及び外端部と第２のテーパ面を有する第２のレンズ要素を備え、
前記第１のレンズ要素と前記第２のレンズ要素とは相互に間隔を置いて設置され、前記第１のテーパ面の一部が前記第２のテーパ面の一部に接触することで光学軸に対して芯出しされ、前記第１のレンズ要素の前記外端部が前記第２のレンズ要素の前記外端部から間隔を置いて設置されていることを特徴とする光学システム。
【請求項２】
外端部と第１のテーパ面を有する第１のレンズ要素、外端部と第２のテーパ面と第３のテーパ面とを有する第２のレンズ要素、及び第４のテーパ面を有する第３のレンズ要素と、を備え、
前記第２のレンズ要素の前記第２のテーパ面は、前記第１のレンズ要素の前記第１のテーパ面と接触し、前記第２のレンズ要素の前記第３のテーパ面は、前記第３のレンズ要素の前記第４のテーパ面と接触し、前記第１のレンズ要素の前記外端部が前記第２のレンズ要素の前記外端部から間隔を置いて設置されることを特徴とする光学システム。
【請求項３】
第１のテーパ面を有する第１のレンズ要素と、第２のテーパ面を有する第２のレンズ要素と、第３のテーパ面を有する第３のレンズ要素と、を備え、前記第３のレンズ要素が前記第２のレンズ要素と間隔を置いて設置され、前記第２のレンズ要素の前記第２のテーパ面は、前記第１のレンズ要素の前記第１のテーパ面と接触し、前記第３のレンズ要素の前記第３のテーパ面は、前記第１のレンズ要素の前記第１のテーパ面と接触することを特徴とする光学システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、一般的に光学部品の実装に関し、特にレンズ要素の調整に効果を生じさせるテーパ面を用いた光学システムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加速度計において、
表面を有する基板と、
前記基板の表面に堅く取り付けられている一対の導電性のコンデンサプレートと、
前記基板の表面に連結され、前記導電性のコンデンサプレートの上方に掛けられている構造体であって、前記構造体は、質量が異なる第１及び第２の領域を有しており、前記第１及び第２の領域は、それぞれの前記導電性のコンデンサプレートの上方に配置されそれと共にコンデンサを形成しており、かつ可撓軸で分離されており、前記構造体は、前記基板に対し垂直に加速度が掛かっている間は、前記可撓軸周りに回転する、構造体と、
前記基板の表面上に取り付けられており、前記導電性のコンデンサプレートの何れかから外側に離して配置されていて、前記構造体の回転を制限して前記構造体が前記導電性のコンデンサプレートの一方に接触するのを防ぐ少なくとも１つの保護シールドと、
を備えている加速度計。
【請求項２】
請求項１に記載の加速度計であって、
一対の保護シールドが、前記基板の表面に取り付けられており、前記対の第１の保護シールドは、前記構造体の第１の領域に相対して配置されており、前記対の第２の保護シールドは、前記構造体の第２の領域に相対して配置されている、加速度計。
【請求項３】
請求項２に記載の加速度計であって、
前記構造体は、前記第１の保護シールドに相対し、前記第１の保護シールドに向かって突き出ている第１のストッパと、前記第２の保護シールドに相対し、前記第２の保護シールドに向かって突き出ている第２のストッパと、を更に備えている、加速度計。
【請求項４】
請求項１に記載の加速度計であって、
前記構造体は、前記保護シールドに相対し、前記保護シールドに向かって突き出ている少なくとも１つのストッパを更に備えている、加速度計。
【請求項５】
請求項１に記載の加速度計であって、
前記少なくとも１つの保護シールドと、前記対の導電性のコンデンサプレートとは、同じ材料で形成されており、前記少なくとも１つの保護シールドと、前記対の導電性のコンデンサプレートとは、前記基板の表面上に直接形成されている、加速度計。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月30日(2009.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療診断システムであって、
当該医療診断システムは、椎間板の細胞の第1領域の特性を示唆する有用な情報を、前記細胞組織の第1領域の磁気共鳴(NMR)スペクトルに基づいて供するように備えられ、
前記椎間板の細胞の第1領域は、該椎間板の細胞核の少なくとも一部を有し、
前記特性が前記細胞組織の変性及び痛みのうちの少なくとも1に関連する、
医療診断システム。
【請求項２】
前記有用な情報が前記細胞組織の前記第1領域の特性の程度を示唆する、請求項1に記載のシステム。
【請求項３】
前記システムがさらに、前記第1領域の特性の程度と、前記第1領域に隣接する第2領域の特性の程度とを比較するように備えられた、請求項2に記載のシステム。
【請求項４】
前記有用な情報が供されるように、前記データを処理するように備えられた処理装置を有する、請求項1に記載のシステム。
【請求項５】
前記細胞組織の前記第1領域のNMRスペクトルを生成し、かつ前記細胞組織の前記第1領域の特性を示唆する有用な情報が供されるような処理が可能な形式で、前記スペクトルに関連するデータを処理するように備えられた核磁気共鳴(NMR)分光システム、
を有する、
請求項1に記載のシステム。
【請求項６】
前記スペクトルに関連する曲線を表示するように備えられたシステムであって、前記曲線の一部は前記有用な情報を供する、請求項1に記載のシステム。
【請求項７】
前記情報が、前記椎間板変性の程度を区別するように備えられている、請求項1に記載のシステム。
【請求項８】
前記特性が痛み及び該痛みとの相関を有する痛みの因子のうちの少なくとも1を有する、請求項1に記載のシステム。
【請求項９】
前記有用な情報が、前記細胞組織の前記第1領域中のコリンの組成に関連する、請求項1に記載のシステム。
【請求項１０】
前記有用な情報が、前記細胞組織の前記第1領域中のコンドロイシン硫酸塩に少なくとも部分的に基づく、請求項5に記載のシステム。
【請求項１１】
前記特性が、前記椎間板の水和の程度、前記椎間板に関連するプロテオグリカンマトリックスの破壊程度、及び前記椎間板に関連するコラーゲンマトリックスの破壊程度のうちの少なくとも1を有する、請求項1に記載のシステム。
【請求項１２】
前記NMR分光システムが、前記NMRスペクトルを生成するように備えられたプロトン高分解能マジック角回転法(HR-MAS)分光システムを有する、請求項1に記載のシステム。
【請求項１３】
前記有用な情報が、前記第1領域内の、2の化学的因子の各々に関連する少なくとも1の測定されたパラメータの値の比に少なくとも部分的に基づく、請求項1に記載のシステム。
【請求項１４】
前記有用な情報がプロテオグリカン関連因子に関連する、請求項1に記載のシステム。
【請求項１５】
前記有用な情報が乳酸関連因子に関連する、請求項1に記載のシステム。
【請求項１６】
前記プロテオグリカン関連因子がN-アセチルを有する、請求項14に記載のシステム。
【請求項１７】
前記有用な情報がコラーゲン関連因子を有する、請求項1に記載のシステム。
【請求項１８】
前記コラーゲン関連因子がコラーゲンの破壊を示唆する化学物質を有する、請求項17に記載のシステム。
【請求項１９】
前記有用な情報が、前記第1領域内の炭水化物に関連する、請求項1に記載のシステム。
【請求項２０】
前記細胞組織の前記第1領域で磁場を発生させるように備えられた磁気コイルをさらに有するシステムであって、
前記有用な情報が少なくとも部分的に基づくデータを供するため、
前記磁場は少なくとも1の共鳴を引き起こすのに十分で、かつ
前記少なくとも1の共鳴は前記第1領域のNMRスペクトルに従って十分に特定可能でかつ強い、
請求項1に記載のシステム。
【請求項２１】
コンピュータで読み取り可能な形式で書かれたコンピュータで読み取り可能なソフトウエアプログラムであって、前記NMRスペクトルに関連するデータを処理するように処理装置によって実行され、かつ前記処理されたデータに基づく前記有用な情報を供するように備えられているソフトウエアプログラム；及び
前記プログラムを動作させるように備えられた処理装置；
を有する、
請求項1に記載のシステム。
【請求項２２】
前記細胞組織の第1領域から取られた核磁気共鳴(NMR)スペクトルからの、乳酸共鳴、プロテオグリカン関連共鳴、及びコラーゲン関連共鳴のうちの少なくとも1を解析する手段；並びに
前記細胞組織の第1領域中の変性及び痛みのうちの少なくとも1つとの相関を有する前記解析に関連するパラメータの値を生成する手段；
を有する、
請求項1に記載のシステム。
【請求項２３】
前記パラメータが、前記プロテオグリカン関連共鳴についての測定された特徴と他の化学的パラメータの測定された特徴との比を有する、請求項22に記載のシステム。
【請求項２４】
前記パラメータが、前記プロテオグリカン関連共鳴についての測定された特徴と前記乳酸関連共鳴についての測定された特徴との比を有する、請求項22に記載のシステム。
【請求項２５】
前記プロテオグリカン関連共鳴がN-アセチル共鳴を有し、かつ
前記パラメータが、前記N-アセチル共鳴について測定された特徴と、前記乳酸共鳴について測定された特徴との比を有する、
請求項22に記載のシステム。
【請求項２６】
前記解析手段が前記プロテオグリカン関連共鳴を解析するように備えられ、かつ
前記プロテオグリカン関連共鳴がn-アセチル共鳴を有する、
請求項22に記載のシステム。
【請求項２７】
患者の脊椎に関連する医療状態を診断するのに用いられるシステムであって、前記有用な情報に基づいて、細胞組織の変性及び痛みのうちの少なくとも1つが生じている前記第1領域の場所を判断する手段を有する、
請求項1に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月27日(2009.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上皮起源の癌についての患者の診断を容易にするための方法であって、
該患者から得られた生体試料中での少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーの存在の有無を検出するステップ
を含み、少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーの存在は、上皮起源の癌を示し、該上皮性癌バイオマーカーが、シスタチンＢ、シャペロニン１０、およびプロフィリンからなる群から選択される、方法。
【請求項２】
患者における上皮起源の癌を診断することを補助するための方法であって、
ａ．該患者から得られた生体試料である試験試料中に存在する少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーのレベルを測定するステップと、
ｂ．該試験試料中の少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーのレベルを、対照試料中に存在する上皮性癌バイオマーカーのレベルと比較するステップと
を含み、該対照試料中の上皮性癌バイオマーカーのレベルと比較して該試験試料中の少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーのレベルが高いことは、上皮起源の癌を示し、該上皮性癌バイオマーカーが、シスタチンＢ、シャペロニン１０、およびプロフィリンからなる群から選択される、方法。
【請求項３】
上皮起源の癌が、乳癌、基底細胞癌、腺癌、胃腸の癌、口唇癌、口腔癌、食道癌、小腸癌、胃癌、結腸癌、肝癌、膀胱癌、膵癌、卵巣癌、子宮頸癌、肺癌、皮膚癌、前立腺癌、および腎細胞癌からなる群から選択される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
患者における膀胱癌の診断を容易にするための方法であって、
該患者から得られた生体試料中でのシスタチンＢの存在の有無を検出するステップ
を含み、シスタチンＢ上皮性癌バイオマーカーの存在が、膀胱癌を示す、方法。
【請求項５】
患者において膀胱癌を診断することを補助するための方法であって、
ａ．該患者から得られた生体試料である試験試料中に存在するシスタチンＢのレベルを測定するステップと、
ｂ．該試験試料中のシスタチンＢのレベルを、対照試料中に存在するシスタチンＢ上皮性癌バイオマーカーのレベルと比較するステップと
を含み、該対照試料中のシスタチンＢのレベルと比較して該試験試料中のシスタチンＢのレベルが高いことは、膀胱癌を示す、方法。
【請求項６】
患者において浸潤性膀胱癌を診断することを補助するための方法であって、
ａ．該患者から得られた生体試料である試験試料中に存在するシスタチンＢのレベルを測定するステップと、
ｂ．該試験試料中のシスタチンＢのレベルを、非浸潤性対照試料中に存在するシスタチンＢのレベルと比較するステップと
を含み、該非浸潤性対照試料中のシスタチンＢのレベルと比較して該試験試料中のシスタチンＢのレベルが高いことは、浸潤性膀胱癌を示す、方法。
【請求項７】
前記生体試料が尿である、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーまたはシスタチンＢと特異的に結合する抗体に基づく結合部分を使用して、少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーまたはシスタチンＢの存在の有無を検出する、請求項１または４に記載の方法。
【請求項９】
少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカータンパク質またはシスタチンＢのタンパク質レベルを測定することによって、少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーまたはシスタチンＢのレベルを測定する、請求項２、５または６のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
上皮性癌バイオマーカーのタンパク質レベルまたはシスタチンＢのレベルを、
ａ．試験試料、またはその調製物を、上皮性癌バイオマーカーまたはシスタチンＢと特異的に結合する抗体に基づく結合部分と接触させて、抗体−上皮性癌バイオマーカー複合体を形成させるステップと、
ｂ．該複合体の存在を検出し、それによって、存在する上皮性癌バイオマーカーのレベルを測定するステップと
を含む方法によって測定する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記抗体に基づく結合部分を検出可能な標識で標識する、請求項８または１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記標識が、放射性標識、ハプテン標識、蛍光標識、および酵素標識からなる群から選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記抗体に基づく結合部分が抗体である、請求項８または１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記抗体がモノクローナル抗体である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
尿試料中で少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーを検出するためのキットであって、尿試料を保持するための容器、および上皮性癌バイオマーカーと特異的に結合する少なくとも１つの抗体を含む、キット。
【請求項１６】
前記キットが、少なくとも１種の上皮性癌バイオマーカーと特異的に結合する２つの抗体を含み、１つの抗体を固相上に固定化し、１つの抗体を検出可能となるように標識する、請求項１５に記載のキット。
【請求項１７】
尿試料中でシスタチンＢを検出するためのキットであって、尿試料を保持する容器、およびシスタチンＢと特異的に結合する少なくとも１つの抗体を含む、キット。
【請求項１８】
前記キットが、シスタチンＢと特異的に結合する２種の抗体を含み、１種の抗体は固相上に固定化されており、１種の抗体は検出可能に標識されている、請求項１７に記載のキット。
【請求項１９】
使用説明書をさらに含む、請求項１５または１７に記載のキット。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
フォトレジスト中に例えば光学的リソグラフィーによって容易に側部(laterale)構造を作製でき、それ故にＳｉＯ２中に数ｍｍ〜約４００ｎｍの側部構造を作製できる。それどころか電子線リソグラフィーによって＜５０ナノメータの構造が作製できる。この方法及びその変法を構造化のためにここに引用する。ＳｉＯ２の深部には例えば約１０ｎｍ〜４μｍの構造を作製できる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
この様に、数ｍｍ〜約５００ｎｍまでの側部構造を有するエラストマーを＜１０ｋＰａのヤング率の場合に、約１０ｎｍ〜４μｍの深部構造で提供することが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月23日(2009.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラム可能なＩＣを備えるプローブカードアセンブリであって、該プログラム可能なＩＣは、個別のテストチャネルを複数のテストプローブのうちの１つに選択的に接続するようにプログラム可能である、プローブカードアセンブリ。
【請求項２】
前記プログラム可能なＩＣは、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）を含む、請求項１に記載のプローブカードアセンブリ。
【請求項３】
前記ＦＰＧＡは、Ｉ／Ｏバッファリングを含まない、請求項２に記載のプローブカードアセンブリ。
【請求項４】
個別のテストチャネルを複数のテストプローブのうちの１つに接続するためのプログラム可能なＩＣと、
該プログラム可能なＩＣをプログラムするためのデータを格納するメモリと
を備える、プローブカードアセンブリであって、
該データにより、該プログラム可能なＩＣは、
まず、テストシステムコントローラから該プログラム可能なＩＣを介して該テストシステムコントローラへと戻る接続を提供して、該プログラム可能なＩＣを介する遅延の測定を可能にするようにプログラムされ、
続いて、テスト中の少なくとも１つのデバイスに接続するように再プログラムされる、プローブカードアセンブリ。
【請求項５】
個別のテストチャネルを複数のテストプローブのうちの１つに接続するためのプログラム可能なＩＣと、
ベースＰＣＢに接続されたドーターカードと
を備える、プローブカードアセンブリであって、
該ベースＰＣＢは、
テストシステムコントローラに接続するためのコネクタと、
該コネクタから該ドーターカードへのルーティングラインと
を含んでおり、
該ドーターカードは、該プログラム可能なＩＣをサポートする、プローブカードアセンブリ。
【請求項６】
前記ＦＰＧＡにロードされたテストプログラムは、ウェハ上のコンポーネントを開発するために用いられるＣＡＤ設計システムから提供される、請求項２に記載のプローブカードアセンブリ。
【請求項７】
プローブカードを含むテストアセンブリであって、
テストプローブをサポートするスペーストランスフォーマと、
ベースＰＣＢと
を備え、該ベースＰＣＢは、
テストシステムコントローラへと接続するためのテストヘッドコネクタと、
プログラム可能なＩＣと、
該テストヘッドコネクタから該プログラム可能なＩＣへと提供されるチャネルラインと、
該プログラム可能なＩＣを該スペーストランスフォーマの該テストプローブに接続するルーティングラインと
を備えており、該プログラム可能なＩＣは、該チャネルラインのうちの個々のチャネルラインを該テストプローブのうちの異なるテストプローブに選択的に接続するようにプログラム可能である、テストアセンブリ。
【請求項８】
前記プログラム可能なＩＣは、ＦＰＧＡを含む、請求項７に記載のテストアセンブリ。
【請求項９】
前記ＦＰＧＡをプログラムするためのデータを格納するメモリをさらに備え、
該データにより、該ＦＰＧＡは、
まず、前記テストシステムコントローラから該ＦＰＧＡを介して該テストシステムコントローラへと戻る接続を提供して、該ＦＰＧＡを介する遅延の測定を可能にするようにプログラムされ、
続いて、該ＦＰＧＡ、前記チャネルライン、前記ルーティングラインおよび前記プローブを介してテスト中の少なくとも１つのデバイスに、該テストシステムコントローラを接続するように再プログラムされる、請求項８に記載のテストアセンブリ。
【請求項１０】
トレースによって相互接続されたパッドを有するテスト基板をさらに備え、
まず、前記ＦＰＧＡが、前記テストシステムコントローラから該ＦＰＧＡを介して該テストシステムコントローラへと戻る接続を提供して、該ＦＰＧＡを介する遅延の測定を可能にするようにプログラムされるときに、該基板の該パッドは、前記テストプローブに接続可能である、請求項９に記載のテストアセンブリ。
【請求項１１】
前記テストヘッドコネクタから前記プログラム可能なＩＣへと提供された電力ラインをさらに備え、該プログラム可能なＩＣは、該電力ラインのうちの個々の電力ラインを前記テストプローブのうちの異なるテストプローブに選択的に接続するようにプログラム可能である、請求項９に記載のテストアセンブリ。
【請求項１２】
プローブカードのための方法であって、該方法は、
該プローブカード上のプログラム可能なＩＣをプログラムして、テストシステムコントローラからの信号をテストチャネル上で該プログラム可能なＩＣを介して該テストシステムコントローラへと戻すように選択的に配向することと、
該プログラム可能なＩＣによって該テストチャネルに導入された遅延を測定することと、
該プログラム可能なＩＣを再プログラムして、該テストシステムコントローラからの信号をテストチャネル上で該プログラム可能なＩＣを介してテスト中のデバイス（ＤＵＴ）に接続するように配向することと
を包含する、方法。
【請求項１３】
前記プログラム可能なＩＣによって導入された遅延が相殺された該プログラム可能なＩＣを再プログラムするステップの後に、前記チャネルを介する前記ＤＵＴへの遅延を測定することをさらに包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記プログラム可能なＩＣをプログラムするステップおよび前記プログラム可能なＩＣを再プログラムするステップの前に、該プログラム可能なＩＣは、前記遅延を測定するステップのためのテスト環境に置かれ、該テスト環境におけるその他のコンポーネントと実質的に同じ温度に達することが可能である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記プログラムするステップは、ウェハ上のコンポーネントを開発するために用いられるＣＡＤ設計システムからテストプログラムをロードすることによって実行される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記プログラムするステップは、前記プローブカードに接続されたユーザインターフェースによって実行され、該プローブカードは、前記テストチャネル上にテスト信号を提供するように該プローブカードに接続された自動テストシステムから分離されている、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
ＦＰＧＡを含む前記ＩＣを再構成して、ウェハ上のコンポーネントのテストの間に前記複数のテストプローブのうちの異なるテストプローブにテスト信号を再配向するステップをさらに包含する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記ＦＰＧＡは、前記ウェハ上の前記コンポーネントのピン機能の変化に応答して、再構成される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
請求項１４に記載の方法を用いてテストされるコンポーネントのうちの少なくとも１つを備えるデバイス。
【請求項２０】
請求項１４に記載の方法に従った前記ＩＣのプログラミングを可能にするコードを格納するプロセッサ読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月28日(2009.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射屈折投影対物レンズであって、
投影対物レンズの物体面上に配置されたマスクのパターンを投影対物レンズの像面上に配置された像側視野上に縮小結像スケールで結像するように構成された複数の光学要素を備え、
前記光学要素は、物体面からのパターンを第１中間像へ結像するように構成された第１結像部分系と、第１中間像を第２中間像へ結像するように構成された第２結像部分系であって、該第２結像部分系のひとみ表面の近くの凹面鏡を含む第２結像部分系と、第２中間像を像面に結像するように構成された第３結像部分系とを形成し、
物体面及び像面は、互いに平行な向きにあり、
前記反射屈折投影対物レンズは、１８０°にわたって像回転を行う像回転装置を含み、
それにより、結像スケールは、光軸に対して垂直、且つ互いに垂直である２つの平面で同一符号を有する、反射屈折投影対物レンズ。
【請求項２】
像回転装置は、平面的な反射面での多重反射によって１８０°にわたって像回転を行う互いに対して角度をなして位置する複数の平面的な反射面を含む像回転反射装置である、請求項１に記載の投影対物レンズ。
【請求項３】
光線束を投影対物レンズの１つの部分から投影対物レンズの別の部分へ偏向する偏向系を含み、該偏向系は前記像回転反射装置を含む、請求項２に記載の投影対物レンズ。
【請求項４】
像回転反射装置は、反射プリズムを有する、請求項２に記載の投影対物レンズ。
【請求項５】
反射プリズムは、屋根型プリズムとして構成される、請求項４に記載の投影対物レンズ。
【請求項６】
像回転反射装置は、山形鏡を有する、請求項２に記載の投影対物レンズ。
【請求項７】
山形鏡は、位置を互いに対して調節可能なように構成されている２枚の平面鏡を含む、請求項６に記載の投影対物レンズ。
【請求項８】
像回転反射装置は、像回転反射装置の反射面を形成する平面的なビームスプリッタ面を備えた物理的ビームスプリッタを有する、請求項２に記載の投影対物レンズ。
【請求項９】
物理的ビームスプリッタは、少なくとも１つの偏光選択型ビームスプリッタ面を有する、請求項８に記載の投影対物レンズ。
【請求項１０】
唯一の凹面鏡を有する、請求項１に記載の投影対物レンズ。
【請求項１１】
光線束を物体面から凹面鏡に向かって偏向する第１の偏光面と、光線束を凹面鏡から像面に向かって偏向する第２の偏光面とを有する偏向系を含む、請求項１０に記載の投影対物レンズ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月29日(2009.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルラー電話ネットワーク通信によりデータを送信する手段および楽器機能を備える携帯電子通信装置であって、
（ａ）（ｉ）パッドまたはＪｏｇ（ジョグ）ディスクの表面に配置され、接触を感知する領域を提供する複数の接触センサと、（ii）前記接触センサに加えられた衝撃の応答を得て楽器サウンドに変換するデジタルシグナルプロセッサと、を備える少なくとも１個の楽器インターフェース、および
（ｂ）前記楽器インターフェースにより提供された前記楽器サウンドを、個別のサウンドシステムにより提供される異なるサウンド信号に関係付ける少なくとも１個のアダプタを、備えることを特徴とする携帯電子通信装置。
【請求項２】
セルラーネットワーク通信システムと互換性のある少なくとも１個の無線周波数モジュールを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記楽器インターフェースに関係し、パッドまたはＪｏｇ（ジョグ）ディスクの表面に配置され、接触を感知する領域を提供する複数の接触センサを備える遠隔センサを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記デジタルシグナルプロセッサは、音声信号、サウンド、通信インジケータおよび曲の処理、制御通信機能および前記サウンドの２つ以上の混合を実行することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記デジタルシグナルプロセッサにより実行される前記サウンド信号は、フラッシュメモリ装置またはメモリカードに記憶されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
ＬＥＤが、前記パッドまたはジョグディスクの表面下に配置され、ユーザーの接触に対する光指示を提供することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記接触センサは、圧電性、容量性、抵抗性、誘導性、電界効果型の変換器、または圧力、延伸、振動、変位、加速度センサの変換器を含むことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記遠隔センサは、接着部を有する調整可能弾性ベルトを備えることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
無線周波数、超音波または赤外光により、少なくとも１個の遠隔センサとの通信を提供する通信システムを備えることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記通信システムは、コンピュータ、個別のサウンドシステムおよびアダプタとの通信を確立し、複数のオーディオおよびビデオ電子装置のデータおよび情報を変化させることを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記通信システムは、前記楽器インターフェースのデジタルシグナルプロセッサにより制御されることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
コンピュータ通信インターフェースおよび各種のデータ記憶手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
ユーザーの能力が、同調性、リズム、強度、選択楽器および音符のような記憶手段に記憶された基準パラメータにより評価されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
少なくとも１個のグラフィックディスプレイ、マイクロフォン、フォンおよび少なくとも１個のキーボードを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記マイクロフォンは、接触を感知する領域内の接触とは異なる手段により、ユーザーのサウンドを受けることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
セルラー電話ネットワーク通信によりデータを送信する手段および楽器機能を備える携帯電子通信装置であって、
（ａ）パッドまたはＪｏｇ（ジョグ）ディスクの表面に配置され、接触を感知する領域を提供する複数の接触センサ、
（ｂ）前記接触センサに加えられた衝撃の応答を受けて楽器サウンドに変換するデジタルシグナルプロセッサ、および
（ｃ）楽器インターフェースにより提供された前記楽器サウンドを、個別のサウンドシステムにより提供される異なるサウンド信号に関係付ける少なくとも１個のアダプタを、備えることを特徴とする携帯電子通信装置。
【請求項１７】
セルラーネットワーク通信システムと互換性のある少なくとも１個の無線周波数モジュールを備えることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記デジタルシグナルプロセッサは、音声信号、サウンド、通信インジケータおよび曲の処理、制御通信機能および前記サウンドの２つ以上の混合を実行することを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記デジタルシグナルプロセッサにより実行される前記サウンド信号は、フラッシュメモリ装置またはメモリカードに記憶されることを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
ＬＥＤが、前記パッドまたはＪｏｇ（ジョグ）ディスクの表面下に配置され、ユーザーの接触に対する光指示を提供することを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２１】
前記接触センサは、圧電性、容量性、抵抗性、誘導性、電界効果型の変換器、または圧力、延伸、振動、変位、加速度センサの変換器を含むことを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２２】
前記遠隔センサは、接着部を有する調整可能弾性ベルトを備えることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２３】
無線周波数、超音波または赤外光により、少なくとも１個の遠隔センサとの通信を提供する通信システムを備えることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２４】
前記通信システムは、コンピュータ、個別のサウンドシステムおよびアダプタとの通信を確立し、複数のオーディオおよびビデオ電子装置のデータおよび情報を変化させることを特徴とする請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記通信システムは、前記楽器インターフェースのデジタルシグナルプロセッサにより制御されることを特徴とする請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
コンピュータ通信インターフェースおよび各種のデータ記憶手段を備えることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２７】
ユーザーの能力が、同調性、リズム、強度、選択楽器および音符のような記憶手段に記憶された基準パラメータにより評価されることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２８】
少なくとも１個のグラフィックディスプレイ、マイクロフォン、フォンおよび少なくとも１個のキーボードを備えることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項２９】
前記マイクロフォンは、接触を感知する領域内の接触とは異なる手段により、ユーザーのサウンドを受けることを特徴とする請求項２８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月21日(2009.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光部と、
該発光部から射出された発散光を平行光の光束に変換するレンズ系と、
該レンズ系によって得られた前記平行光の光束の断面積を調整するアフォーカル光
学系と、
該アフォーカル光学系によって断面積を調整された前記平行光から複数光源像を形
成するフライアイレンズと、
該フライアイレンズが形成した前記複数光源像を光源として用いるケーラー照明光
学系とを有し、
前記発光部が、互いの光軸を平行にして複数配置されており、
前記レンズ系が、前記複数の発光部のそれぞれに対応するレンズ素子を備え該レン
ズ素子によって対応する前記発光部の発する光を平行光に変換するレンズアレイであ る照明光学装置。
【請求項２】
前記レンズ系によって得られた前記平行光の、前記アフォーカル光学系通過直後の 光束径をＤ１、前記アフォーカル光学系への入射直前の光束系をＤ２とし、β＝Ｄ １／Ｄ２とすると、βが条件式０．２５＜β＜２を満足する請求項１記載の照明光学 装置。
【請求項３】
前記レンズ素子の個数をＫＳ個とし、前記フライアイレンズを構成する要素レンズ
の個数をＫＦ個とすると、ＫＦ＞４ＫＳとされている請求項１記載の照明光学装置。
【請求項４】
前記発光部及び前記レンズ素子が、それぞれ光軸を前記アフォーカル光学系の光軸
と平行にして、前記アフォーカル光学系の光軸に直交する平面上に配列されている請    求項１記載の照明光学装置。
【請求項５】
前記複数の発光部が、同一波長の光を発する構成とされている請求項１記載の照明
光学装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の照明光学装置を有する光学装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月16日(2008.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固有偏光子フィルムと、
基材と、
前記固有偏光子フィルムと前記基材との間に配置されたＵＶ硬化接着剤であって、シランを含むＵＶ硬化接着剤と、を含む、偏光子積層体。
【請求項２】
前記基材が非加水分解トリアセテート材料を含む、請求項１に記載の偏光子積層体。
【請求項３】
前記固有偏光子フィルムがＫＥ型偏光子フィルムである、請求項１または２に記載の偏光子積層体。
【請求項４】
前記ＵＶ硬化性接着剤がウレタンアクリレート系接着剤を含む、請求項１から請求項３のいずれかに記載の偏光子積層体。
【請求項５】
前記シランがＮ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランを含む、請求項１から請求項４のいずれかに記載の偏光子積層体。
【請求項６】
照明光を発生させる光源と、
前記照明光を受光するために配置され、液晶光変調器と請求項１から請求項５のいずれかに記載の偏光子積層体とを含むイメージャーと、
前記イメージャーからの前記照明光を受光するために配置された投影レンズと、を含む、投影システム。
【請求項７】
前記偏光子積層体は前記液晶光変調器上に配置され、
前記固有偏光子と前記液晶光変調器との間には感圧接着剤が配置されている請求項６記載の投影システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音声信号(audio signal)の少なくとも１つの音響的特徴(acousticfeature)を修正するための方法であって、
第１の及び第２のサンプルされた音声信号を比較して、当該第２の信号における時間に依存する特徴の発生の時間と、当該第１の信号における時間に依存する特徴の発生の時間の間のタイミング差から時間整列データを決定し、
前記第１の信号に沿った選択された位置において、前記第１の信号の少なくとも１つの音響的特徴を測定して、そこから、第１の信号特徴測定のシーケンスを生成し、
第１の信号特徴測定の前記シーケンスを処理して、特徴修正データのシーケンスを生成し、そして、
特徴修正データの前記シーケンスを、前記第２の信号に適用して、前記時間整列データによって、前記第２の信号の選択された部分の少なくとも１つの音響的特徴を修正する、ステップを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月15日(2009.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッシブマトリックスディスプレイパネルであって、
前記ディスプレイの所定の走査周波数で走査するように適合されている複数のロウと、
前記所定の走査周波数で前記複数のロウを走査するためのロウドライバと、
前記ロウと交差し、可変パネル静電容量(Cp)により特徴付けられる複数のピクセルを形成する複数のカラムと、
出力電圧を前記複数のカラムのうちのそれぞれのカラムに印加し、前記ピクセルの階調表示制御を行うためのボルテージフォロワとして構成される出力バッファを備えるカラムドライバと、
前記ディスプレイの実効パネル静電容量(Cp)を低減するためステップダウントランスを組み込み、電気エネルギーを受け取って、それに対する応答として、正弦波電圧を発生し、前記ディスプレイの走査周波数に実質的に同期する共振周波数で前記ディスプレイに電力を供給する、共振エネルギー回収回路と、
前記パネル静電容量(Cp)が放電している間に前記出力バッファを高出力インピーダンスに切り替え、前記パネルコンデンサ(Cp)から出る実質的にすべての放電電流が前記共振エネルギー回収回路の前記ステップダウントランスの二次巻き線を通して還流するようにする回路と、を備えるパッシブマトリックスディスプレイ。
【請求項２】
切り替えるための前記回路は、前記パネル静電容量(Cp)が放電している間に前記出力バッファのゲート端子およびソース端子を短絡し、前記バッファのそれぞれのゲート-ソース間電位がそのターンオンスレショルド電圧よりも低くなるようにする複数のアナログスイッチを備える請求項１に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項３】
切り替えるための前記回路は、前記出力バッファの前記ゲート端子と前記ソース端子との間の短絡電流経路を確立するアナログスイッチ(S1、S2)を備える請求項２に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項４】
前記ステップダウントランスは、
他の静電容量(Ci)が接続されている一次巻き線であって、前記パネル静電容量(Cp)は前記二次巻き線間に接続され、前記他の静電容量(Ci)の値は、前記共振周波数と前記走査周波数との実質的同期を維持するために前記パネル静電容量(Cp)と比較して十分に大きい、一次巻き線と、
全波整流器間に接続された蓄積コンデンサ(Cs)とともに全波整流器に接続され、前記パネル静電容量(Cp)と直列に接続されている他の二次巻き線であって、前記蓄積コンデンサ(Cs)の値は、(i)前記パネル静電容量(Cp)が最大値であるか、または最大値に近い重いパネル負荷の場合に、前記エネルギーの大半は、前記二次巻き線に流れ、前記パネルを荷電し、残りのエネルギーは前記蓄積コンデンサ(Cs)を充電し、(ii)前記パネル静電容量が、平均値をとる平均負荷の場合に、前記エネルギーの約半分は、前記パネルに流れ、前記エネルギーの半分は、前記蓄積コンデンサ(Cs)を充電し、(iii)前記パネル静電容量が最小値であるか、または最小値に近い軽い負荷の場合に、前記エネルギーの大半は、前記蓄積コンデンサに流れ、残りのエネルギーは、前記パネルに流れる、前記パネル静電容量(Cp)と比較して十分に大きい、他の二次巻き線と、を備える請求項３に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項５】
前記蓄積コンデンサ(Cs)の前記静電容量と前記最大パネル静電容量との比は、少なくとも約１０：１、少なくとも約２０：１及び少なくとも約３０：１から選択される１つである請求項４に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項６】
前記全波整流器は、ダイオード順方向電圧降下を最小にするためショットキーダイオードを組み込んでいる請求項４に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項７】
前記他の二次巻き線と前記二次巻き線との巻き数比は、少なくとも１．０５：１、少なくとも１．１：１及び１．１：１から１．２：１までの範囲から選択される１つである請求項４に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項８】
Ci >> (n2/n1)2×Cpとなるように、前記一次巻き線の巻き数はniであり、前記二次巻き線の巻き数はn2である請求項４に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項９】
前記共振周波数を変えるため追加のコンデンサをさらに備える請求項４に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記電気エネルギーの供給源をさらに備え、前記供給源は直流電圧を発生する電圧手段と前記直流電圧を通電遮断で電気エネルギーのパルスに変えるパルス幅変調器とを備える請求項１に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記共振器回路で受け取る電気エネルギーの割合を制御し、これにより、前記ディスプレイパネルの変化するインピーダンスおよび前記ディスプレイパネルによるエネルギー使用量に起因する前記正弦波電圧の変動を制御するコントローラをさらに備える請求項１に記載のパッシブマトリックスディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記コントローラは、前記共振器回路からの入力を使用して前記正弦波電圧の変動を感知し、それに応じて、帰還信号を前記コントローラに供給する帰還回路をさらに備える請求項１１に記載のパッシブマトリックスディスプレイ。
【請求項１３】
前記入力は、前記共振器回路のステップダウントランスの一次巻き線から出ている請求項１２に記載のパッシブマトリックスディスプレイ。
【請求項１４】
前記正弦波電圧は、前記コントローラに送られる前記帰還信号を調節することにより所定の値でクランプされる請求項１３に記載のパッシブマトリックスディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月16日(2009.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
【図１】本発明の第１実施形態の概略図である。
【図２】本発明の第２実施形態の概略図である。
【図３】本発明によるフットプリント・データ・ベクトルの概略図である。