【手続補正書】
【提出日】平成23年2月14日(2011.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はステージ駆動方法及びステージ装置、露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、液体が局所的に供給される２次元面内の第１領域を含む領域を移動可能な２つのステージを駆動するステージ駆動方法及び該ステージ駆動方法の実施に好適なステージ装置、投影光学系と基板との間に液体を供給し、投影光学系と前記液体とを介して基板を露光する露光装置、露光方法、並びに該露光装置及び露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系が配置される第１領域と、所定方向に関して前記第１領域の一側に位置する第２領域とを含む領域内で、前記基板を載置して移動可能な第１ステージと、
前記第１領域と、前記所定方向に関して前記第１領域の他側に位置する第３領域とを含む領域内で移動可能な第２ステージと、
前記投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記所定方向に関して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備える。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移においてその対向する側面が、前記第１状態から前記第２状態への遷移と前記第２状態から前記第１状態への遷移とで同一となるように移動される。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記第２状態で実行される所定の計測に用いられる。
【請求項４】
請求項３に記載の露光装置において、
前記計測は、前記投影光学系及び前記液体を介して行われる。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の露光装置において、
前記計測は、前記第１ステージに載置される基板のマーク検出及び／又は交換と並行して行われる。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記基板の載置領域が設けられていない。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記基板を載置し、
前記第２領域に配置され、前記第１ステージに載置される基板のマークを検出する第１マーク検出系と、
前記第３領域に配置され、前記第２ステージに載置される基板のマークを検出する第２マーク検出系と、をさらに備え、
前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光と、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板のマーク検出とは並行して行われる。
【請求項８】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を載置して移動可能な第１ステージと、
前記第１ステージとは独立して移動可能な第２ステージと、
前記投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記投影光学系の下方で前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２ステージは、前記遷移においてその対向する側面が、前記第１状態から前記第２状態への遷移と、前記第２状態から前記第１状態への遷移とで同一となるように移動される。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記第１状態から前記第２状態への遷移において前記第１ステージの第１側面と前記第２ステージの第２側面とが対向するように配置され、かつ前記第２状態から前記第１状態への遷移においても前記第１側面と前記第２側面とが対向するように配置される。
【請求項１０】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を載置して移動可能な第１ステージと、
前記第１ステージとは独立して移動可能な第２ステージと、
前記投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記投影光学系の下方で前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２ステージは、前記第１状態から前記第２状態への遷移において前記第１ステージの第１側面と前記第２ステージの第２側面とが対向するように配置され、かつ前記第２状態から前記第１状態への遷移においても前記第１側面と前記第２側面とが対向するように配置される。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、かつ前記第１領域から前記第２領域への移動と前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項１２】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を載置して移動可能な第１ステージと、
前記第１ステージとは独立して移動可能な第２ステージと、
前記投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記投影光学系の下方で前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、かつ前記第１領域から前記第２領域への移動と前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の露光装置において、
前記第１、第２領域は所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域に配置され、前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備える。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域において、前記第１ステージに載置される基板の交換が行われる。
【請求項１６】
請求項８〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と直交する所定方向に移動される。
【請求項１７】
請求項８〜１６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項１８】
請求項８〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記基板を載置し、前記第２状態において前記載置した基板を前記液浸領域に対して相対的に移動する。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光装置において、
複数の基板の露光動作において、前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記遷移がその露光動作の間に行われる。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記基板はその露光動作に先立ち、前記マーク検出系によってマーク検出が行われる。
【請求項２１】
請求項２０に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光動作と並行して、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板のマーク検出動作が実行されるように移動される。
【請求項２２】
請求項２０又は２１に記載の露光装置において、
前記遷移において、前記第１、第２ステージの一方は露光後の基板が載置され、前記第１、第２ステージの他方はマーク検出後の基板が載置される。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準マークを有し、
前記遷移前、前記マーク検出系によって前記他方のステージの基準マークが検出される。
【請求項２４】
請求項２３に記載の露光装置において、
前記遷移後、前記他方のステージはその基準マークが前記投影光学系の直下を通るように移動される。
【請求項２５】
請求項２３又は２４に記載の露光装置において、
前記投影光学系と前記液体とを介して、前記露光に用いられるマスクのマークと前記基準マークとを検出する検出システムを、さらに備え、
前記遷移後、前記検出システムによる、前記他方のステージの基準マークの検出が行われる。
【請求項２６】
請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記遷移後、前記一方のステージは、所定の基板交換位置に移動されて前記基板の交換が行われ、かつその交換後の基板のマーク検出が行われる。
【請求項２７】
請求項２０〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記露光が前記液体を介して行われ、前記マーク検出が液体を介することなく行われる。
【請求項２８】
請求項１８〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の載置領域、及びその周囲領域を有し、かつその表面が前記周囲領域の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、その表面が前記周囲領域の表面とほぼ面一となる基準マーク部材を有する。
【請求項３０】
請求項８〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記第１状態から前記第２状態への遷移において対向して配置される上端部が、前記第２状態から前記第１状態への遷移においても対向して配置される。
【請求項３１】
請求項１〜３０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２状態の間の過渡状態では、前記第１、第２ステージの両方によって前記液浸領域が前記投影光学系の直下に維持される。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において近接あるいは接触した状態で移動される。
【請求項３３】
請求項１〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において、前記投影光学系の直下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態、あるいは、前記液体の漏出が防止または抑制されるように近接した状態で移動される。
【請求項３４】
請求項１〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、所定方向に関して接近するように相対移動され、かつ前記遷移において前記接近した状態で前記所定方向に移動される。
【請求項３５】
請求項１〜３４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において所定方向に関してその位置関係が維持されつつ同時に移動される。
【請求項３６】
請求項３４又は３５に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向に関して接近するための相対移動と、前記所定方向と直交する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項３７】
請求項１〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記遷移において前記第１、第２ステージの間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材を、さらに備える。
【請求項３８】
請求項３７に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、前記遷移において前記第１、第２ステージの間に配置される。
【請求項３９】
請求項３７又は３８に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方に着脱可能に設けられる。
【請求項４０】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項４１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系が配置される第１領域と、所定方向に関して前記第１領域の一側に位置する第２領域とを含む領域内で、前記基板を載置する第１ステージを移動することと、
前記第１領域と、前記所定方向に関して前記第１領域の他側に位置する第３領域とを含む領域内で、前記第１ステージとは独立して第２ステージを移動することと、
前記投影光学系の直下に液体を供給して形成される液浸領域を介して、前記第１ステージに載置される基板を露光することと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記所定方向に関して前記第１、第２ステージを移動することと、を含む。
【請求項４２】
請求項４１に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移においてその対向する側面が、前記第１状態から前記第２状態への遷移と前記第２状態から前記第１状態への遷移とで同一となるように移動される。
【請求項４３】
請求項４１又は４２に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、前記第２状態で実行される所定の計測に用いられる。
【請求項４４】
請求項４３に記載の露光方法において、
前記計測は、前記投影光学系及び前記液体を介して行われる。
【請求項４５】
請求項４３又は４４に記載の露光方法において、
前記計測は、前記第１ステージに載置される基板のマーク検出及び／又は交換と並行して行われる。
【請求項４６】
請求項４１〜４５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、前記基板の載置領域が設けられていない。
【請求項４７】
請求項４１又は４２に記載の露光方法において、
前記第１ステージに載置される基板はその露光動作に先立ち、前記第２領域に配置される第１マーク検出系によるマーク検出が行われ、
前記第２ステージに載置される基板はその露光動作に先立ち、前記第３領域に配置される第２マーク検出系によるマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光と、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板のマーク検出とは並行して行われる。
【請求項４８】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系の直下に液体を供給して形成される液浸領域を介して、第１ステージに載置される基板を露光することと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第１ステージとは独立して移動可能な第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記投影光学系の下方で前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージは、前記遷移においてその対向する側面が、前記第１状態から前記第２状態への遷移と、前記第２状態から前記第１状態への遷移とで同一となるように移動される。
【請求項４９】
請求項４８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記第１状態から前記第２状態への遷移において前記第１ステージの第１側面と前記第２ステージの第２側面とが対向するように配置され、かつ前記第２状態から前記第１状態への遷移においても前記第１側面と前記第２側面とが対向するように配置される。
【請求項５０】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系の直下に液体を供給して形成される液浸領域を介して、第１ステージに載置される基板を露光することと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第１ステージとは独立して移動可能な第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記投影光学系の下方で前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージは、前記第１状態から前記第２状態への遷移において前記第１ステージの第１側面と前記第２ステージの第２側面とが対向するように配置され、かつ前記第２状態から前記第１状態への遷移においても前記第１側面と前記第２側面とが対向するように配置される。
【請求項５１】
請求項４８〜５０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、かつ前記第１領域から前記第２領域への移動と前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項５２】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系の直下に液体を供給して形成される液浸領域を介して、第１ステージに載置される基板を露光することと、
前記投影光学系と前記第１ステージとの間に前記液浸領域が維持される第１状態と、前記投影光学系と前記第１ステージとは独立して移動可能な第２ステージとの間に前記液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ、前記投影光学系の下方で前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、かつ前記第１領域から前記第２領域への移動と前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項５３】
請求項５１又は５２に記載の露光方法において、
前記第１、第２領域は所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記第２領域に配置されるマーク検出系によるマーク検出が行われる。
【請求項５５】
請求項５１〜５４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２領域において、前記第１ステージに載置される基板の交換が行われる。
【請求項５６】
請求項４８〜５５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と直交する所定方向に移動される。
【請求項５７】
請求項４８〜５６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によるマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項５８】
請求項４８〜５７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、前記基板を載置し、前記第２状態において前記載置した基板を前記液浸領域に対して相対的に移動する。
【請求項５９】
請求項５８に記載の露光方法において、
複数の基板の露光動作において、前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記遷移がその露光動作の間に行われる。
【請求項６０】
請求項５８又は５９記載の露光方法において、
前記基板はその露光動作に先立ち、マーク検出系によってマークの検出が行われる。
【請求項６１】
請求項６０に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光動作と並行して、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板のマーク検出動作が実行されるように移動される。
【請求項６２】
請求項６０又は６１に記載の露光方法において、
前記遷移において、前記第１、第２ステージの一方は露光後の基板が載置され、前記第１、第２ステージの他方はマーク検出後の基板が載置される。
【請求項６３】
請求項６２に記載の露光方法において、
前記遷移前、前記マーク検出系によって前記他方のステージの基準マークが検出される。
【請求項６４】
請求項６３に記載の露光方法において、
前記遷移後、前記他方のステージはその基準マークが前記投影光学系の直下を通るように移動される。
【請求項６５】
請求項６３又は６４に記載の露光方法において、
前記遷移後、前記投影光学系と前記液体とを介して、前記露光に用いられるマスクのマークと前記他方のステージの基準マークとの検出が行われる。
【請求項６６】
請求項６１〜６５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記遷移後、前記一方のステージは、所定の基板交換位置に移動されて前記基板の交換が行われ、かつその交換後の基板のマーク検出が行われる。
【請求項６７】
請求項６０〜６６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記露光が前記液体を介して行われ、前記マーク検出が液体を介することなく行われる。
【請求項６８】
請求項５８〜６７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の載置領域の周囲領域の表面とその表面がほぼ面一となるように前記基板をその載置領域に載置する。
【請求項６９】
請求項６８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、その表面が前記周囲領域の表面とほぼ面一となる基準マーク部材が設けられる。
【請求項７０】
請求項４８〜６９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記第１状態から前記第２状態への遷移において対向して配置される上端部が、前記第２状態から前記第１状態への遷移においても対向して配置される。
【請求項７１】
請求項４１〜７０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２状態の間の過渡状態では、前記第１、第２ステージの両方によって前記液浸領域が前記投影光学系の直下に維持される。
【請求項７２】
請求項４１〜７１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において近接あるいは接触した状態で移動される。
【請求項７３】
請求項４１〜７２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において、前記投影光学系の直下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態、あるいは、前記液体の漏出が防止または抑制されるように近接した状態で移動される。
【請求項７４】
請求項４１〜７３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、所定方向に関して接近するように相対移動され、かつ前記遷移において前記接近した状態で前記所定方向に移動される。
【請求項７５】
請求項４１〜７４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記遷移において所定方向に関してその位置関係が維持されつつ同時に移動される。
【請求項７６】
請求項７４又は７５に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向に関して接近するための相対移動と、前記所定方向と直交する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項７７】
請求項４１〜７６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記遷移において前記第１、第２ステージの間隙からの前記液体の漏れを抑制することを含む。
【請求項７８】
請求項７７に記載の露光方法において、
前記遷移において、前記第１、第２ステージの間に配置される抑制部材によって前記液体の漏れが抑制される。
【請求項７９】
請求項７７又は７８に記載の露光方法において、
前記遷移において、前記第１、第２ステージの少なくとも一方に着脱可能に設けられる抑制部材によって前記液体の漏れが抑制される。
【請求項８０】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項４１〜７９のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。