【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板プロセスチャンバ用の耐食アルミニウムチャンバコンポーネントであって、
（ａ）粗さが約１００〜約２００μｍのビーズブラスティングされた粗い面を有するアルミニウムチャンバコンポーネント本体と、
（ｂ）前記アルミニウムチャンバコンポーネント本体の前記粗い面に形成された、厚さ約１５μｍ〜約３５μｍの陽極酸化アルミニウム層と、
（ｃ）前記陽極酸化アルミニウム層の上の厚さ約２μｍ〜約５μｍの酸化アルミニウムからなるスパッタリングされた酸化アルミニウム層と、を備える、アルミニウムチャンバコンポーネント。
【請求項２】
前記アルミニウムチャンバコンポーネントがアルミニウム−マグネシウム−シリコン合金を備えている、請求項１に記載のアルミニウムチャンバコンポーネント。
【請求項３】
前記アルミニウムコンポーネントが、移動性および非移動性不純物の濃度が具体的な範囲内にあるようにコントロールされたアルミニウム合金を備えている、請求項１に記載のアルミニウムコンポーネント。
【請求項４】
表面を有する耐食アルミニウムチャンバコンポーネントを製造する方法であって、
（ａ）少なくともエンクロージャ壁の一部、ライナー、基板サポート、ガスサプライ、ガスエナジャイザー、ガス排気装置、プロセスチャンバの基板トランスポートを備えるアルミニウムチャンバコンポーネントを提供するステップと、
（ｂ）ビーズブラスティングによって前記アルミニウムチャンバコンポーネントの表面を粗くして粗さを約１００μｍ〜約２００μｍとするステップと、
（ｃ）陽極酸化アルミニウム層を形成するために前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記表面を陽極化するステップと、
（ｄ）前記陽極酸化アルミニウム層および前記スパッタリングされた酸化アルミニウム層が前記アルミニウムチャンバコンポーネントを腐食性ガスから保護することができるように、前記陽極酸化アルミニウム層上に厚さが約２μｍ〜約５μｍの酸化アルミニウムからなるスパッタリングされた酸化アルミニウム層をスパッタリングコーティングするステップと、
を備える方法。
【請求項５】
前記ステップ（ｄ）が、
（i）アルミニウムを備えるターゲットに面するプロセスゾーンに、前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記陽極表面を置く工程と、
（ii）アルゴンを備えるスパッタリングガスと酸素含有ガスとを前記プロセスゾーンに導入する工程と、
（iii）電圧をアルミニウムターゲットに印加する工程と、
（iv）前記スパッタリングガスを前記プロセスゾーンから排気する工程と、
を備える、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記陽極アルミニウム層が約１５〜約３５μｍの厚さを備える、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記アルミニウムチャンバコンポーネントがアルミニウム−マグネシウム−シリコン合金を備えている、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記アルミニウムチャンバコンポーネントが、移動性および非移動性不純物の濃度が具体的な範囲内にあるようにコントロールされたアルミニウム合金を備えている、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記アルミニウム合金が、約３．５〜約４．０重量％のマグネシウム濃度と、０．０３重量％未満のシリコン濃度と、０．０３重量％未満の鉄濃度と、約０．０２〜約０．０７重量％の銅濃度と、約０．００５〜約０．０１５重量％のマンガン濃度と、約０．０８〜約０．１６重量％の亜鉛濃度と、約０．０２〜約０．０７重量％のクロム濃度と、０．０１重量％未満のチタン濃度とを有する材料を備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記アルミニウム合金における他の不純物が各々約０．０３重量％を超えず、また他の不純物の合計が約０．１重量％を超えない、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記アルミニウム合金材料が不純物粒子を備えており、前記不純物粒子の少なくとも９５％が５μｍ未満のサイズを有しており、前記不純物粒子の最大５％が５μｍ〜２０μｍの範囲のサイズを有しており、前記粒子の最大０．１％が２０μｍより大きなサイズを有しており、４０μｍより大きなサイズを有する不純物粒子はない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ステップ（ｂ）は、前記アルミニウムチャンバコンポーネントを有機溶媒、アルカリ溶液、酸性溶液、水、脱イオン水またはこれらの混合物に浸すことによって前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記表面を洗浄する工程を備える、請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記表面を粗くするステップの後に前記表面を洗浄するステップを行う、請求項４に記載の方法。
【請求項１４】
ステップ（ｃ）は、
（i）硫酸、クロム酸、シュウ酸、リン酸、水またはこれらの混合物のうちの１つ以上を備える陽極酸性溶液に前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記表面を浸す工程と、
（ii）電圧を前記アルミニウムチャンバコンポーネントに印加する工程と、
によって前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記表面を陽極化するステップを備える、請求項４に記載の方法。
【請求項１５】
表面を有する耐食アルミニウムチャンバコンポーネントを製造する方法であって、
（ａ）少なくともエンクロージャ壁の一部、ライナー、基板サポート、ガスサプライ、ガスエナジャイザー、ガス排気装置、プロセスチャンバの基板トランスポートを備えるアルミニウムチャンバコンポーネントを提供するステップと、
（ｂ）ビーズブラスティングによって前記アルミニウムチャンバコンポーネントの表面を粗くして粗さを約１００μｍ〜約２００μｍとするステップと、
（ｃ）表面特徴部を有する、厚さが約１５μｍ〜３５μｍの陽極酸化アルミニウム層を形成するために前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記表面を陽極化するステップと、
（ｄ）（i）アルミニウムを備えるターゲットに面するプロセスゾーンに、前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記陽極表面を置く工程と、
（ii）アルゴンを備えるスパッタリングガスと酸素含有ガスとを前記プロセスゾーンに導入する工程と、
（iii）電圧をアルミニウムターゲットに印加する工程と、
（iv）前記スパッタリングガスを前記プロセスゾーンから排気する工程と、
によって、前記陽極酸化アルミニウム層上で、酸化アルミニウムからなる厚さ約２μｍ〜約５μｍのスパッタリングされた酸化アルミニウム層をスパッタリングコーティングして前記表面特徴部をふさぐステップと、
を備え、
前記陽極酸化アルミニウム層及び酸化アルミニウムのスパッタリング層が、前記アルミニウムチャンバコンポーネントを腐食性ガスから保護する方法。
【請求項１６】
前記アルミニウムコンポーネントがアルミニウム−マグネシウム−シリコン合金を備える、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記アルミニウムコンポーネントが、移動性および非移動性不純物の濃度が具体的な範囲内にあるようにコントロールされたアルミニウム合金を備える、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記表面特徴とは、１つ以上の欠陥、ひび、亀裂、孔隙を含んでいる請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記アルミニウムチャンバコンポーネントは、少なくともエンクロージャ壁の一部、ライナー、基板サポート、ガスサプライ、ガスエナジャイザー、ガス排気装置、プロセスチャンバの基板トランスポートを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
基板プロセスチャンバ壁の表面に耐食コーティングを提供する方法であって、
（ａ）アルミニウムからなり、内側及び外側の表面を有する基板プロセスチャンバ壁を提供するステップと、
（ｂ）ビーズブラスティングによって前記チャンバ壁の内側表面を粗くして粗さを約１００μｍ〜約２００μｍとするステップと、
（ｃ）前記チャンバ壁の内側表面を陽極酸化して、特徴部を有する陽極酸化アルミニウム層を形成するステップと、
（ｄ）前記陽極酸化アルミニウム層上に、酸化アルミニウムからなる厚さ約２μｍ〜約５μｍのスパッタリングされた酸化アルミニウム層をスパッタリングコーティングして前記表面特徴部をふさぐステップと、
を備え、前記陽極酸化アルミニウム層及び酸化アルミニウムのスパッタリング層が、前記アルミニウムチャンバコンポーネントを腐食性ガスから保護する方法。
【請求項２１】
前記チャンバ壁はライナー又はシールドである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
（ａ）アルミニウムからなり、内側及び外側の表面を有する基板プロセスチャンバ壁と、ここで前記内側表面はビーズプラスティングされた粗い面を有し、その粗さは約１００μｍ〜約２００μｍであり、
（ｂ）前記基板プロセスチャンバ壁の内側表面の粗い面上に形成された、厚さが約１５μｍ〜約３５μｍの陽極酸化アルミニウム層と、
（ｃ）前記陽極酸化アルミニウム層上の酸化アルミニウムからなる、厚さが約１μｍ〜約５μｍのスパッタリング酸化アルミニウム層と、
を備えた、耐食性基板プロセスチャンバコンポーネント。
【請求項２３】
前記チャンバ壁は、ライナー又はシールドである、請求項２２に記載のチャンバコンポーネント。
【請求項２４】
耐食性の表面を有するアルミニウムコンポーネントを製造する方法であって、
（ａ）少なくともエンクロージャ壁の一部、ライナー、基板サポート、ガスサプライ、ガスエナジャイザー、ガス排気装置、プロセスチャンバの基板トランスポートを備えるアルミニウムチャンバコンポーネントを形成するステップと、
（ｂ）前記アルミニウムチャンバコンポーネントの表面をビーズブラスティングして平均の粗さを約１００μｍ〜約２００μｍとするステップと、
（ｃ）前記アルミニウムチャンバコンポーネントのビーズブラスティングした表面を洗浄するステップと、
（ｄ）ビーズブラスティングして洗浄した前記アルミニウムチャンバコンポーネントを陽極酸化して、厚さ約１５μｍ〜約３５μｍの陽極酸化アルミニウム層を形成するステップと、ここで、陽極酸化は、
（i）前記アルミニウムチャンバコンポーネントのビーズブラスティングした表面を硫酸、クロム酸、シュウ酸、リン酸、水またはこれらの混合物のうちの１つ以上を備える陽極酸性溶液に含浸する工程と、
（ii）前記陽極酸性溶液に含浸しながら電圧を前記アルミニウムチャンバコンポーネントに印加する工程と、
を含み、
（ｅ）（i）アルミニウムを備えるターゲットに面するプロセスゾーンに、前記アルミニウムチャンバコンポーネントの前記陽極表面を置く工程と、
（ii）アルゴンを備えるスパッタリングガスと酸素含有ガスとを前記プロセスゾーンに導入する工程と、
（iii）電圧をアルミニウムターゲットに印加する工程と、
（iv）前記スパッタリングガスを前記プロセスゾーンから排気する工程と、
によって、酸化アルミニウムからなる厚さ約２μｍ〜約５μｍのスパッタリングされた酸化アルミニウム層をスパッタリングコーティングして前記陽極酸化アルミニウム層の表面特徴部をふさぐステップと、
を含む方法。