Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられた少なくとも一対の電極と、前記一対の電極の間に設けられた蛍光体層と、前記一対の基板の一方の基板の表示画面視認側の表面に設けられた反射防止層を有し、
前記一方の基板は透光性を有し、
前記反射防止層は前記表示画面視認側の表面に底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
前記凸部は、隣接する凸部の底辺同士が接するように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられた少なくとも一対の電極と、前記一対の電極の間に設けられた蛍光体層と、前記一対の基板の一方の基板の表示画面視認側の表面に設けられた反射防止層を有し、
前記一方の基板は透光性を有し、
前記反射防止層は前記表示画面視認側の表面に底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
前記凸部は、隣接する凸部の底辺同士が接し、かつ頂部は互いに等間隔となるように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記凸部の周囲には６個の隣接する凸部が配列されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記表示画面視認側の表面は複数の角度を有する面によって構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角錐状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記底面と垂直な面における断面が台形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸まった曲率を有していることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角柱状構造体上に六角錐状構造体が積層された形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記凸部の頂部の間隔は３５０ｎｍ以下であり、前記凸部の高さは８００ｎｍ以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
単位面積あたりの複数の前記凸部の底面の充填率は８０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
複数の前記凸部は、前記表示画面視認側の表面が露出しないように隙間なく配置されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項において、
前記凸部の先端部から前記底面に近づくにつれて屈折率が高くなっていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
一対の基板と、前記一対の基板の一方の基板に設けられた電子放出素子と、前記一対の基板の他方の基板に設けられた電極と、前記電極に接する蛍光体層と、前記一対の基板の一方の基板の表示画面視認側の表面に設けられた反射防止層を有し、
前記一方の基板は透光性を有し、
前記反射防止層は前記表示画面視認側の表面に底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
前記凸部は、隣接する凸部の底辺同士が接するように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１４】
一対の基板と、前記一対の基板の一方の基板に設けられた電子放出素子と、前記一対の基板の他方の基板に設けられた電極と、前記電極に接する蛍光体層と、前記一対の基板の一方の基板の表示画面視認側の表面に設けられた反射防止層を有し、
前記一方の基板は透光性を有し、
前記反射防止層は前記表示画面視認側の表面に底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
前記凸部は、隣接する凸部の底辺同士が接し、かつ頂部は互いに等間隔となるように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１５】
請求項１３または１４において、
前記凸部の周囲には６個の隣接する凸部が配列されることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１６】
請求項１３乃至１５のいずれか一項において、
前記表示画面視認側の表面は複数の角度を有する面によって構成されていることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１７】
請求項１３乃至１６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角錐状であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１８】
請求項１３乃至１６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記底面と垂直な面における断面が台形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項１９】
請求項１３乃至１６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸まった曲率を有していることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項２０】
請求項１３乃至１６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角柱状構造体上に六角錐状構造体が積層された形状であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項２１】
請求項１３乃至２０のいずれか一項において、
前記凸部の頂部の間隔は３５０ｎｍ以下であり、前記凸部の高さは８００ｎｍ以上であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項２２】
請求項１３乃至２１のいずれか一項において、
単位面積あたりの複数の前記凸部の底面の充填率は８０％以上であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項２３】
請求項１３乃至２１のいずれか一項において、
複数の前記凸部は、前記表示画面視認側の表面が露出しないように隙間なく配置されていることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項２４】
請求項１３乃至２３のいずれか一項において、
前記凸部の先端部から前記底面に近づくにつれて屈折率が高くなっていることを特徴とする電界放出型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月25日(2010.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なるカラー光を出力する複数のサブ画素からなる画素がマトリックス状に配列されたディスプレイパネルにおいて、
前記サブ画素は、
回折格子を備えた反射領域、及び透過領域を有する反射透過部と、
電気的制御によって前記反射透過部からの光の透過率を調節する液晶層と、
前記液晶層を透過した光のうち所定波長帯域の光を透過させるサブカラーフィルタと、を備えることを特徴とするディスプレイパネル。
【請求項２】
前記回折格子は、前記サブ画素ごとに同じパターンで形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
【請求項３】
前記回折格子は、前記サブ画素ごとに対応するサブカラーフィルタの透過率によって異なるパターンで形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
【請求項４】
前記サブ画素の各回折格子は、前記サブカラーフィルタの透過率と前記回折格子の回折効率との積から得られる結合効率を一定にするパターンを有することを特徴とする請求項２に記載のディスプレイパネル。
【請求項５】
前記サブカラーフィルタの透過率と前記回折格子の回折効率との積は、サブカラーフィルタのうち最も低い透過率を有するサブカラーフィルタとこれに対応する回折格子とを基準に決定されることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイパネル。
【請求項６】
前記回折格子は、反射型回折格子で構成されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
【請求項７】
前記反射領域は、前記サブカラーフィルタの一部領域に備えられた透過型回折格子と、前記液晶層下部の一部領域に備えられた反射層とを備えることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
【請求項８】
前記回折格子の上部に前記液晶層と異なる屈折率を有する入射角調節層がさらに備えられることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
【請求項９】
前記回折格子が複数の領域に分割され、前記複数の領域の格子パターンの配列方向がそれぞれ異なって形成されたことを特徴とする請求項１ないし８のうち何れか１項に記載のディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記サブカラーフィルタは、赤色サブカラーフィルタ、緑色サブカラーフィルタ、青色サブカラーフィルタを備え、前記青色サブカラーフィルタの透過率と青色サブカラーフィルタに対応する回折格子の−１次回折光の回折効率との積から得られる結合効率を基準として、緑色サブカラーフィルタと青色カラーフィルタとの結合効率を一定に決定することを特徴とする請求項１ないし８のうち何れか１項に記載のディスプレイパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隔を有して隣接する複数の凸部を有し、
複数の前記凸部は被膜で覆われており、
前記被膜の屈折率は前記凸部の屈折率より高いことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
請求項１において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．０５以上０．６５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が１００ｎｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．６５以上１．１５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が５０ｎｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記凸部は円錐形状であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記凸部は底面が多角形であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸いドーム状であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、柱状構造体上に錐状構造体が積層された形状であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項８】
間隔を有して隣接する複数の凸部を表示画面上に有し、
複数の前記凸部は被膜で覆われており、
前記被膜の屈折率は前記凸部の屈折率より高いことを特徴とする表示装置。
【請求項９】
一対の基板と、一対の基板間に設けられた表示素子と、を有し、
前記一対の基板のうち少なくとも一方は透光性基板であり、前記透光性基板の外側に間隔を有して隣接する複数の凸部が設けられ、
複数の前記凸部は被膜で覆われており、
前記被膜の屈折率は前記凸部の屈折率より高いことを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項９のいずれか一項において、
前記透光性基板及び複数の前記凸部の間に偏光板を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項９または１０において、
前記表示素子は発光素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項９または１０において、
前記表示素子は液晶表示素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項８乃至１２のいずれか一項において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．０５以上０．６５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が１００ｎｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項８乃至１２のいずれか一項において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．６５以上１．１５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が５０ｎｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項８乃至１４のいずれか一項において、
前記凸部は円錐形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項８乃至１４のいずれか一項において、
前記凸部は底面が多角形であることを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
請求項８乃至１６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸いドーム状であることを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
請求項８乃至１６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、柱状構造体上に錐状構造体が積層された形状であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
複数の前記凸部は、隣接する前記凸部の底辺同士が接するように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
複数の前記凸部は、隣接する前記凸部の底辺同士が接し、かつ頂部は互いに等間隔となるように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１または２のいずれか一項において、
前記凸部の周囲には６個の隣接する凸部が配列されることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記表示画面視認側の表面は複数の角度を有する面によって構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角錐状であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記底面と垂直な面における断面が台形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸いドーム状であることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角柱状構造体上に六角錐状構造体が積層された形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記凸部の頂部の間隔は３５０ｎｍ以下であり、前記凸部の高さは８００ｎｍ以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
単位面積あたりの複数の前記凸部の底面の充填率は８０％以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項において、
前記凸部の先端部から前記底面に近づくにつれて屈折率が高くなっていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
表示画面視認側の表面に、底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
複数の前記凸部は、隣接する前記凸部の底辺同士が接するように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
表示画面視認側の表面に、底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
複数の前記凸部は、隣接する前記凸部の底辺同士が接し、かつ頂部は互いに等間隔となるように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた表示素子と、前記一対の基板のうち少なくとも一方は透光性基板と、前記透光性基板の表示画面視認側の表面に底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
複数の前記凸部は、隣接する前記凸部の底辺同士が接するように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた表示素子と、前記一対の基板のうち少なくとも一方は透光性基板と、前記透光性基板の表示画面視認側の表面に底面の形状が六角形状である凸部を複数有し、
複数の前記凸部は、隣接する前記凸部の底辺同士が接し、かつ頂部は互いに等間隔となるように配置されており、
前記凸部が配置されることにより形成される凹部を充填するように、前記凸部の屈折率より低い屈折率の保護層が設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１４または１５において、
前記透光性基板及び複数の前記凸部の間に偏光板を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
請求項１２乃至１６のいずれか一項において、
前記表示素子は発光素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
請求項１２乃至１６のいずれか一項において、
前記表示素子は液晶表示素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項１９】
請求項１２または１８のいずれか一項において、
前記凸部の周囲には６個の隣接する凸部が配列されることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２０】
請求項１２乃至１９のいずれか一項において、
前記表示画面視認側の表面は複数の角度を有する面によって構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２１】
請求項１２乃至２０のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角錐状であることを特徴とする表示装置。
【請求項２２】
請求項１２乃至２０のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記底面と垂直な面における断面が台形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項２３】
請求項１２乃至２０のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸いドーム状であることを特徴とする表示装置。
【請求項２４】
請求項１２乃至２０のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、六角柱状構造体上に六角錐状構造体が積層された形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項２５】
請求項１２乃至２４のいずれか一項において、
前記凸部の頂部の間隔は３５０ｎｍ以下であり、前記凸部の高さは８００ｎｍ以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２６】
請求項１２乃至２４のいずれか一項において、
単位面積あたりの複数の前記凸部の底面の充填率は８０％以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２７】
請求項１２乃至２６のいずれか一項において、
複数の前記凸部は、前記表示画面視認側の表面が露出しないように隙間なく配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２８】
請求項１２乃至２７のいずれか一項において、
前記凸部の先端部から前記底面に近づくにつれて屈折率が高くなっていることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月26日(2011.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子と、第１の光学補償層と、第２の光学補償層と、第３の光学補償層とをこの順に有し、
該第１の光学補償層が、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの屈折率分布を有し、その遅相軸方向が該偏光子の吸収軸方向と実質的に平行または実質的に直交するように配置され、
該第２の光学補償層が、可視光の領域において、直線偏光を円偏光に、または、円偏光を直線偏光に変換する層であり、
該第３の光学補償層が、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有する、
積層光学フィルム。
【請求項２】
前記第１の光学補償層のＮｚ係数が０．１〜０．６である、請求項１に記載の積層光学フィルム。
【請求項３】
前記第１の光学補償層が、１枚の位相差フィルム（Ａ）からなる、請求項１または２に記載の積層光学フィルム。
【請求項４】
前記位相差フィルム（Ａ）が、ノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、カーボネート系樹脂、エステル系樹脂から選択される少なくとも１種の熱可塑性樹脂を含む、請求項３に記載の積層光学フィルム。
【請求項５】
前記第２の光学補償層が、その遅相軸方向が該偏光子の吸収軸方向と実質的に平行でなく且つ実質的に直交でもないように配置される、請求項１から４までのいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項６】
前記第２の光学補償層が、１枚の位相差フィルム（Ｂ）からなり、該位相差フィルム（Ｂ）の遅相軸方向が前記偏光子の吸収軸方向に対して実質的に４５°の角度で配置される、請求項１から５までのいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項７】
前記位相差フィルム（Ｂ）の波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ［５９０］が波長４８０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ［４８０］よりも大きい、請求項６に記載の積層光学フィルム。
【請求項８】
前記位相差フィルム（Ｂ）が、セルロース系樹脂、カーボネート系樹脂、ビニルアセタール系樹脂、ノルボルネン系樹脂から選択される少なくとも１種の熱可塑性樹脂を含む、請求項６または７に記載の積層光学フィルム。
【請求項９】
前記第２の光学補償層が、２枚の位相差フィルム（Ｃ）および（Ｄ）からなり、該位相差フィルム（Ｃ）は前記偏光子と該位相差フィルム（Ｄ）との間に配置され、
該位相差フィルム（Ｃ）の遅相軸方向と前記偏光子の吸収軸方向とのなす角度α°と、該位相差フィルム（Ｄ）の遅相軸方向と前記偏光子の吸収軸方向とのなす角度β°が、（２α＋３０）＜β＜（２α＋６０）の関係を有する、請求項１から５までのいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項１０】
前記位相差フィルム（Ｃ）の波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ［５９０］が波長４８０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ［４８０］以下である、請求項９に記載の積層光学フィルム。
【請求項１１】
前記位相差フィルム（Ｄ）の波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ［５９０］が波長４８０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ［４８０］以下である、請求項９または１０に記載の積層光学フィルム。
【請求項１２】
前記位相差フィルム（Ｃ）および／または前記位相差フィルム（Ｄ）が、ノルボルネン系樹脂、カーボネート系樹脂から選択される少なくとも１種の熱可塑性樹脂を含む、請求項９から１１までのいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項１３】
前記第３の光学補償層が、コレステリック配向固化層からなる位相差フィルムを含む、請求項１から１２までのいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項１４】
前記第３の光学補償層が、イミド系樹脂を含有する位相差フィルムを含む、請求項１から１３までのいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項１５】
請求項１から１４までのいずれかに記載の積層光学フィルムと液晶セルとを含む、液晶パネル。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液晶パネルを含む、液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月24日(2011.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象物にコンタクトする複数のプローブおよび上記プローブが配置されたプローブカード基板を備えた半導体検査装置であって、
上記プローブカード基板を加熱する手段、および上記加熱手段による加熱量を制御する加熱制御手段を備え、
上記プローブの先端の位置を、予め上記検査対象物が冷却されて収縮した位置に合わせて設定し、常温よりも低温での検査の際に、上記加熱制御手段によって上記発熱体による加熱量を制御することにより、上記プローブカード基板の熱変形量を制御し、上記プローブ先端の位置を調整することを特徴とする半導体検査装置。
【請求項２】
上記加熱制御手段が、検査対象物と上記プローブ先端との位置ずれ量を検出する位置検出手段と、上記位置検出手段によって検出された位置ずれ量が最小値になるように上記発熱体に供給される電流値を制御する電流制御手段を備えることを特徴とする請求項１記載の半導体検査装置。
【請求項３】
上記位置検出手段が、上記プローブの中から基準となるプローブを設定し、光学計測装置を用いて、上記基準となるプローブの先端位置を検出して２次元上の座標上に描き、上記基準となるプローブがコンタクトする予定の上記検査対象物の位置を検出して上記２次元上の座標上に描き、上記基準となるプローブが実際にコンタクトした検査対象物の位置を検出して上記２次元上の座標上に描くことにより、上記座標上での上記プローブと上記検査対象物との位置ずれを算出する機能を備え、
上記電流制御手段は、上記プローブカード基板の加熱量と熱変形量との関係、および上記加熱量と上記電流値との関係を基にして、位置補正を行うために必要な電流を上記発熱体に供給する機能を備えていることを特徴とする請求項２記載の半導体検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスチャンバー内に大面積基板を支持するように適応される基板支持アッセンブリにおいて、
１つ以上の基板支持ピンホールを有する１つの熱伝導性本体であって、金属又は金属合金材料で形成される熱伝導性本体と、
上記熱伝導性本体の表面にあって、そこに上記大面積基板を支持するように適応される基板支持面と、
上記熱伝導性本体内に埋設された１つ以上の加熱素子と、
上記熱伝導性本体内で上記１つ以上の加熱素子の上に埋設された１つ以上の冷却チャンネルと、を備え、
上記１つ以上の冷却チャンネルは、上記基板支持ピンホールから離れて配置された内側冷却ループ及び外側冷却ループを有し、
上記内側冷却ループ及び上記外側冷却ループは、冷却流体を互いに逆方向に流すように構成される基板支持アッセンブリ。
【請求項２】
上記１つ以上の冷却チャンネルは、流入ループ及び流出ループで構成される、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項３】
上記１つ以上の冷却チャンネルは、上記１つ以上の加熱素子の位置の周りにループ形成する、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項４】
上記１つ以上の冷却チャンネルは、その中に流れる約１０℃乃至約２５℃の温度のガス状材料を囲む、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項５】
上記ガス状材料は、きれいな乾燥空気、圧縮空気、及びその組合せより成るグループから選択される、請求項４に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項６】
上記ガス状材料は、上記１つ以上の冷却チャンネル内を一定の流量で流れる、請求項４に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項７】
上記１つ以上の冷却チャンネルは、ステンレススチール材料で構成される、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項８】
上記基板支持面の温度は、約１００℃ないし約２００℃に維持される、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項９】
上記基板支持面の寸法は、上記大面積基板の寸法より大きい、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項１０】
上記熱伝導性本体はアルミニウム材料で構成される、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項１１】
上記基板支持面は、形状が長方形であると共に、約３７０ｍｍｘ約４７０ｍｍ以上の寸法の大面積基板を支持するように適応される、請求項１に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項１２】
プロセスチャンバー内に大面積のガラス基板を支持するように適応される基板支持アッセンブリにおいて、
金属又は金属合金材料で形成される１つの熱伝導性本体と、
上記熱伝導性本体の表面にあって、そこに上記大面積のガラス基板を支持するように適応される基板支持面と、
上記熱伝導性本体内に埋設された１つ以上の加熱素子と、
上記熱伝導性本体内の上記１つ以上の加熱素子の上に埋設されて、上記１つ以上の加熱素子の位置の周りにループ形成された１つ以上の冷却チャンネルと、を備え、
上記１つ以上の冷却チャンネルの隣接チャンネルが、冷却流体を互いに逆方向に流すように構成される基板支持アッセンブリ。
【請求項１３】
上記１つ以上の冷却チャンネルは、その中に流れる約１０℃乃至約２５℃の温度のガス状材料を囲み、上記ガス状材料は、きれいな乾燥空気、圧縮空気、及びその組合せより成るグループから選択され、更に、上記１つ以上の冷却チャンネル内を一定流量で流れる、請求項１２に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項１４】
上記基板支持アッセンブリは、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、フレキシブルディスプレイ、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、フレキシブル有機発光ダイオード（ＦＯＬＥＤ）ディスプレイ、ポリマー発光ダイオード（ＰＬＥＤ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機薄膜トランジスタ、能動的マトリクス、受動的マトリクス、頂面放射デバイス、底面放射デバイス、太陽電池、太陽パネル、及びその組み合せより成るグループから選択されたデバイスを製造するための１つ以上の大面積の長方形基板を支持するように構成される、請求項１２に記載の基板支持アッセンブリ。
【請求項１５】
プロセスチャンバー内で大面積基板の温度を維持するための方法において、
上記プロセスチャンバーの基板支持アッセンブリの基板支持面に上記大面積基板を位置させるステップであって、上記基板支持アッセンブリは、
金属又は金属合金材料で形成される１つの熱伝導性本体、
上記熱伝導性本体の表面にあって、そこに上記大面積基板を支持するように適応される基板支持面、
上記熱伝導性本体内に埋設された１つ以上の加熱素子、及び
上記熱伝導性本体内に埋設され、上記１つ以上の加熱素子の上に位置され、冷却流体を互いに逆方向に流すように構成される内側冷却ループ及び外側冷却ループを有する１つ以上の冷却チャンネル、を含むものであるようなステップと、
上記１つ以上の冷却チャンネル内に一定流量で常時ガス状の冷却材を流すステップと、
上記１つ以上の加熱素子の加熱電力を調整することにより上記大面積基板の温度を、設定点温度における約±５℃以下の温度均一性で、当該設定点温度に維持するステップと、を備えた方法。
【請求項１６】
上記大面積基板の温度は、上記１つ以上の加熱素子の加熱電力を、約１００℃乃至約２００℃の設定点温度に調整し、設定点温度における温度均一性を約±５℃以下とすることで、一定に保たれる、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
上記１つ以上の冷却チャンネルは、その中に流れる約１０℃乃至約２５℃の温度のガス状材料を含む、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月10日(2010.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の操作によって遊技媒体が打ち込まれる遊技領域と、
前記遊技領域内に配置され、前記遊技媒体を受入可能とされた普通図柄始動口と、
前記普通図柄始動口に受入れられた前記遊技媒体を検出する普通図柄始動検出手段と、
前記普通図柄始動検出手段による前記遊技媒体の検出に基づいて、普通図柄抽選を行う普通図柄抽選手段と、
前記普通図柄抽選の結果に基づいて、前記遊技領域に配置された所定の表示領域において所定の表示演出を行い、前記普通図柄抽選の結果を表示する普通演出表示制御手段と、
前記普通図柄抽選の結果が特定の結果であることを条件に、所定の開閉片が開状態となることで前記遊技媒体が進入可能となる進入口と、
所定の周期で移動し、前記進入口から進入した前記遊技媒体を第一受入口及び第二受入口の何れかに誘導しうるとともに、前記遊技媒体を所定の誘導確率で前記第一受入口へ誘導可能とされた誘導手段と、
を備え、前記進入口から進入した遊技球が前記誘導手段によって前記第一受入口に受け入れられたことに基づいて、遊技者に有利な有利遊技状態を発生させる遊技機であって、
さらに、
前記遊技領域内に配置され、前記普通図柄抽選の結果が特定の結果であるときに前記遊技媒体を受入可能とされた特別図柄始動口と、
前記特別図柄始動口に受入れられた前記遊技媒体を検出する特別図柄始動検出手段と、
前記特別図柄始動検出手段による前記遊技媒体の検出に基づいて、特別図柄抽選を行う特別図柄抽選手段と、
前記特別図柄抽選の結果に基づいて、前記特別図柄の変動時間が互いに異なる複数の変動パターンのうち何れかの変動パターンを選択し、該選択された変動パターンを前記所定の表示領域に表示する特別演出表示制御手段と、
を備え、
前記進入口は、前記複数の変動パターンのうち選択された変動パターンにかかる変動時間が経過したときに、前記所定の開閉片が開状態となるものであるとともに、
前記選択された変動パターンが前記複数の変動パターンのうち特定の変動パターンであるときに、前記進入口から進入した遊技媒体が前記誘導手段によって第一受入口に受け入れられるものであり、
前記複数の変動パターンのうち前記特定の変動パターンが選択される確率と、前記誘導確率とが、略同じ確率とされているものであることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記普通図柄抽選手段は、
前記普通図柄始動検出手段による前記遊技媒体の検出に基づいて普通図柄乱数を取得し、該取得された普通図柄乱数に基づいて前記普通図柄抽選を行うものである
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記特別図柄抽選手段は、
前記特別図柄始動検出手段による前記遊技媒体の検出に基づいて特別図柄乱数を取得し、該取得された特別図柄乱数に基づいて前記特別図柄抽選を行うものである
請求項１または２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月10日(2010.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の操作によって遊技媒体が打ち込まれる遊技領域と、
前記遊技領域内に配置され、前記遊技媒体を受入可能とされた始動口と、
前記始動口に受入れられた前記遊技媒体を検出する始動検出手段と、
前記始動検出手段による前記遊技媒体の検出に基づいて、所定の抽選を行う抽選手段と、
前記所定の抽選の結果に基づいて、前記遊技領域に配置された所定の表示領域において所定の表示演出を行い、前記所定の抽選の結果を表示する演出表示制御手段と、
前記所定の抽選の結果が特定の結果であることを条件に、所定の開閉片が開状態となることで前記遊技媒体が進入可能となる進入口と、
所定の周期で移動し、前記進入口から進入した前記遊技媒体を第一受入口及び第二受入口の何れかに誘導しうるとともに、前記遊技媒体を所定の誘導確率で前記第一受入口へ誘導可能とされた誘導手段と、
を備え、前記進入口から進入した遊技球が前記誘導手段によって前記第一受入口に受け入れられたことに基づいて、遊技者に有利な有利遊技状態を発生させる遊技機であって、
さらに、
互いに異なる複数の待機時間のうち何れかを選択する待機時間選択手段を備えており、
前記進入口は、前記複数の待機時間のうち前記待機時間選択手段によって選択された待機時間が経過したときに、前記所定の開閉片が開状態となるものであるとともに、
前記選択された待機時間が前記複数の待機時間のうち特定の待機時間であるときに、前記進入口から進入した遊技媒体が前記誘導手段によって第一受入口に受け入れられるものであり、
前記複数の待機時間のうち前記特定の待機時間が選択される確率と、前記誘導確率とが、略同じ確率とされているものであることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記抽選手段は、
前記始動検出手段による前記遊技媒体の検出に基づいて乱数を取得し、該取得された乱数に基づいて前記所定の抽選を行うものである
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記所定の表示領域は、液晶表示器の表示領域である
請求項１または２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月8日(2011.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに電気的に接続されている複数の太陽電池セルと、
前記複数の太陽電池セルが配置される領域の両端部側にそれぞれ設けられ、前記複数の
太陽電池セルにおいて発電された電力を取り出すための取出電極と、
前記太陽電池セルと前記取出電極との間に前記取出電極が延びる方向に沿って設けられ、前記太陽電池セルと前記取出電極とを電気的に接合するための複数の導通部と、
前記複数の太陽電池セルと前記取出電極とを覆うように設けられ、前記複数の太陽電池セルおよび前記取出電極側に規則的に設けられる凹凸面を有する充填材とを備え、
前記複数の導通部は、規則的に設けられ、前記複数の太陽電池セルが配置される領域の一方端部側に配置される複数の第１導通部と、規則的に設けられ、他方端部側に配置される複数の第２導通部とを含み、
前記複数の第１導通部と前記複数の第２導通部とは、平面的に見て、前記複数の第１導通部と前記複数の第２導通部との間の中心線に対して、非対称に配置されている、太陽電池モジュール。
【請求項２】
前記複数の第１導通部および前記複数の第２導通部は、それぞれ、前記取出電極が延びる方向に沿って直線状に配置されており、前記複数の第１導通部のピッチと、前記複数の第２導通部のピッチとは、略等しく、
前記複数の第１導通部は、前記複数の第２導通部に対して、所定の長さ分、前記取出電極が延びる方向にずれて配置されている、請求項３に記載の太陽電池モジュール。
【請求項３】
ガラス基板上に複数の太陽電池セルを形成する工程と、
前記複数の太陽電池セルが配置される領域の両端部側に設けられた発電に寄与しない太陽電池セルの上に、前記複数の太陽電池セルにおいて発電された電力を取り出すための取出電極を設ける工程と、
前記取出電極上を溶融して、前記太陽電池セルと前記取出電極とを接合する複数の導通部を設ける工程と、
凹凸面を有する充填材を、前記凹凸面が前記複数の太陽電池セルおよび前記取出電極側となるように配置し、真空ラミネート処理を行う工程と、を備え、
前記複数の導通部は、規則的に設けられ、前記複数の太陽電池セルが配置される領域の一方端部側に配置される複数の第１導通部と、規則的に設けられ、他方端部側に配置される複数の第２導通部とを含み、
前記複数の第１導通部と前記複数の第２導通部とは、平面的に見て、前記複数の第１導通部と前記複数の第２導通部との間の中心線に対して、非対称に配置されている、太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項４】
平面的に見て、少なくとも前記複数の導通部のうちの一部の導通部の中心部が、前記充
填材の凹部の中心部と一致しないように、前記複数の導通部が配置されている、請求項３に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項５】
前記複数の第１導通部および前記複数の第２導通部は、それぞれ、前記取出電極が延び
る方向に沿って直線状に配置されており、前記複数の第１導通部のピッチと、前記複数の
第２導通部のピッチとは、略等しく、
前記複数の第１導通部は、前記複数の第２導通部に対して、所定の長さ分、前記取出電
極が延びる方向にずれて配置されている、請求項３または４に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】太陽電池モジュールおよびその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、太陽電池モジュールおよびその製造方法に関し、特に、複数の半田接続部（導通部）を備えた太陽電池モジュールおよびその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、気泡が残るのを
抑制することが可能な太陽電池モジュールおよびその製造方法を提供することをその目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月26日(2011.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面と底面とエッジとを有する基板をエッチングするためのプラズマ処理チャンバであって、
前記基板の前記底面の少なくとも一部を支持し、高周波（ＲＦ）電力を供給されるチャックと、
前記高周波電力を供給されるチャックを囲むように、前記高周波電力を供給されるチャックの張り出し部に設けられた高周波カプラと、
前記基板を取り囲むと共に前記基板のエッジに隣接するように前記高周波カプラ上に配置される内側高周波結合エッジリングと、
前記内側高周波結合エッジリングを取り囲み、前記高周波カプラとは独立した別の部材である外側エッジリングと、を備え、
前記高周波電力を供給されるチャックにより供給された高周波エネルギの一部が、前記高周波カプラを介して前記内側高周波結合エッジリングに結合される、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記基板はウェーハである、プラズマ処理チャンバ。
【請求項３】
請求項１または２記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記内側高周波結合エッジリングが、半導体材料で形成されている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記内側高周波結合エッジリングが、炭化ケイ素で形成されている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記外側エッジリングが、前記高周波カプラと、前記高周波カプラの下に配置される前記高周波電力を供給されるチャックの前記張り出し部と、をさらに取り囲んでいる、プラズマ処理チャンバ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記内側高周波結合エッジリングが、前記基板の前記エッジから所定の距離だけ外側に延びている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、前記内側高周波結合エッジリングと前記高周波カプラとが、前記高周波電力を供給されるチャックの前記張り出し部の外側エッジを越えて所定量だけ外側に延びている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、前記内側高周波結合エッジリングが、前記基板のエッジ部分を収容する陥凹領域を備える、プラズマ処理チャンバ。
【請求項９】
請求項８記載のプラズマ処理チャンバであって、前記内側高周波結合エッジリングの上面が、前記基板の上面と同じ高さにある、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、前記外側エッジリングが、前記内側高周波結合エッジリングの上面の上に延びる重複部分を備える、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１１】
請求項１ないし４、６、８および９のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、さらに、
前記高周波カプラを取り囲むように、前記高周波電力を供給されるチャックの前記張り出し部上に設けられる第１の絶縁性充填材を備える、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１２】
請求項１１記載のプラズマ処理チャンバであって、さらに、
前記外側エッジリングの下に設けられ、前記第１の絶縁性充填材と前記高周波電力を供給されるチャックの前記張り出し部の外側エッジとを取り囲む第２の絶縁性充填材を備える、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１３】
請求項１２記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記第１の絶縁性充填材と前記第２の絶縁性充填材とが、セラミック、石英、ポリマーおよびテフロン（登録商標）の少なくとも一つで形成される、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１４】
請求項１１ないし１３のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、さらに、
前記第２の絶縁性充填材を取り囲むグラウンドリングを備える、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記高周波カプラが、導電性材料で形成されている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１６】
請求項１ないし１５のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記高周波カプラが、絶縁被膜を有する金属である、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１７】
請求項１６記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記高周波電力を供給されるチャックから前記高周波カプラを介して前記内側高周波結合エッジリングに達する高周波エネルギーの量は、前記絶縁被膜の厚さによって決まる、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１８】
上面と底面とエッジとを有する基板をエッチングするためのプラズマ処理チャンバであって、
前記基板の前記底面の少なくとも一部を支持し、高周波（ＲＦ）電力を供給されるチャックと、
前記高周波電力を供給されるチャックの一部の上方であって、前記基板のエッジに隣接する位置に設けられた内部表面を有する溝付きエッジリングと、を備え、
前記溝付きエッジリングが前記基板の前記エッジ付近に溝領域を提供する、プラズマ処理チャンバ。
【請求項１９】
請求項１８記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝付きエッジリングが前記基板を取り囲む、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２０】
請求項１８または１９記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝領域の底面が、前記基板の前記底面から所定の距離だけ下方に位置する、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２１】
請求項１８ないし２０のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝領域が、第一の傾斜表面と、前記基板の前記底面により部分的に覆われた傾斜表面である第二の部分的に覆われた傾斜表面と、により画定され、
第一の傾斜表面が、上部表面を、前記部分的に覆われた傾斜表面に接続する、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２２】
請求項１８ないし２１のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝付きエッジリングは、前記基板の前記エッジの下方に前記溝領域を提供する、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２３】
請求項１８ないし２２のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝領域は、前記基板の前記エッジの前記底面の下に及ぶ、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２４】
請求項２２記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝領域は、前記基板の前記底面に延びる、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２５】
請求項１８ないし２４のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記基板はウェーハである、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２６】
請求項１８ないし２５のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝付きエッジリングは主として半導体材料で構成されている、プラズマ処理チャンバ。
【請求項２７】
請求項１８ないし２６のいずれかに記載のプラズマ処理チャンバであって、
前記溝付きエッジが主として絶縁材料で構成される、プラズマ処理チャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月1日(2011.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リアクトル
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一連の巻線から構成されると共に連結部を介して並列された一対のコイルと、一部が両コイルに嵌め込まれ、残部が両コイルから露出する環状のコアとを備えるリアクトルであって、
前記各コイルは、平角線を具える巻線をエッジワイズ巻きして構成され、
前記コイルの連結部は、前記巻線をヘアピン状に屈曲して構成されており、並列された両コイルのターン部で形成されるターン形成面よりもターン部の外側に突出され、
リアクトルの設置面と実質的に並列関係となるコア表面のうち、コイルから露出する露出面が、コイルに覆われる被覆面よりも連結部側および連結部側とは反対側の少なくとも一方に突出され、
前記コイルの連結部が前記コア表面の露出面の上方に配置されていると共に、この連結部が配置されている露出面が前記ターン形成面よりも下方に配置されていることを特徴とするリアクトル。
【請求項２】
前記コア表面のうち、連結部側に配置される露出面と被覆面とが面一であることを特徴とする請求項１に記載のリアクトル。
【請求項３】
前記露出面が被覆面よりも前記連結部側に突出されていることを特徴とする請求項１に記載のリアクトル。
【請求項４】
前記コイルの連結部の下面が、前記ターン形成面よりも下方に配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項５】
前記コアは、両コイルから露出する一対の端部コア片を具えており、
前記各端部コア片の連結部側の露出面は、前記被覆面に対する突出高さが異なることを特徴とする請求項１又は３に記載のリアクトル。
【請求項６】
前記コイルの連結部は、前記ターン形成面よりも前記平角線の幅の半分程度突出していることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１に記載のリアクトル。
【請求項７】
前記露出面が被覆面よりも前記連結部側とは反対側に突出されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のリアクトル。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【図１】実施例１に係る本発明コイルを示し、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は側面図である。
【図２】実施例１に係る本発明リアクトルを示し、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は側面図である。
【図３】実施例に係るリアクトルと従来のリアクトルとを対比して示し、（Ａ）は従来リアクトルの模式説明図、（Ｂ）はコイルの連結部がターン形成面よりも外側に突出されたリアクトルの模式説明図である。
【図４】参考例１のリアクトルの側面図である。
【図５】参考例２に係るコイルの斜視図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
［参考例1］
次に、コアをリアクトルの設置面に固定するための取付部材を用いたリアクトルを図４に基づいて説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
［参考例2］
次に、実施例１とは異なる構成のコイルを図５に基づいて説明する。このコイル10は、コイルの連結部13がターン部の上に重なるように構成されている点で図１のコイルと相違する。他の構成は、図１のコイルと共通であるため、以下の説明は相違点を中心に行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
つまり、本例のコイルによっても、実施例１や参考例１と同様に、コアの上部被覆面と上部露出面とを面一にする必要がない。そのため、上部露出面を上部被覆面よりも上方に突出させて、端部コアの高さを高く採ることができ、投影面積の小さなリアクトルを構成できる。もちろん、コアの下部露出面を下部被覆面よりも下方に突出させても良い。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
上述のコイルは、リアクトルの構成部品として利用することができ、本発明のリアクトルは、コンバータなどの部品として利用することができる。特に、ハイブリッド自動車や電気自動車などの自動車用リアクトルとして好適に利用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月26日(2011.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の基板洗浄装置は、基板を水平に保持する回転自在な基板保持部と、
この基板保持部に保持された基板の表面に洗浄液を供給するための洗浄液ノズルと、
前記基板が回転しているときに、この洗浄液ノズルからの洗浄液の供給位置が基板の中央部から周縁に向かって移動するように洗浄液ノズルを移動させるための駆動部と、を備え、
前記洗浄液ノズルにおける基板と対向する部位は、基板の周縁側に開口端が形成されると共に基板の周縁側に向けてその幅が拡大されて平面形状がＶ字状に形成された凹部と、この凹部を囲むように形成され、洗浄液を拘束するための液押さえ面部と、前記凹部のＶ字状の天井面における根元側に開口する洗浄液の吐出口と、により構成されていることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この場合、前記液押さえ面部は基板の回転方向に沿って順次高さが低くなるように形成されていてもよいし、また前記液押さえ面部は、第１の高さの面部とこの第１の高さの面部に段部を介して連続し、第１の高さよりも低い第２の高さの面部と含む構成であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の基板洗浄方法は、基板と対向する部位が、基板の周縁側に開口端が形成されると共に基板の周縁側に向けてその幅が拡大されて平面形状がＶ字状に形成された凹部と、この凹部を囲むように形成され、洗浄液を拘束するための液押さえ面部と、前記凹部のＶ字状の天井面における根元側に開口する洗浄液の吐出口と、により構成されている洗浄液ノズルを用い、
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで基板保持部を鉛直軸の回りに回転させながら洗浄液ノズルの前記吐出口から洗浄液を基板の表面に吐出させて洗浄液を前記凹部内に拘束し、拘束された洗浄液を凹部の開口端から外側に移動させると共に、洗浄液の吐出位置が基板の中央部から周縁に向かって移動するように洗浄液ノズルを移動させる工程と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明によれば、洗浄液ノズルから吐出された洗浄液を、吐出口と同じ高さかそれよりも低い位置に形成された液押さえ面部により拘束することにより、液の塊ができるので、低回転でも遠心力が大きくなってその液の塊が外に向かう作用が大きくなり、液流が同じ半径位置に滞留することがなく、確実に水滴を除去しながら速やかに洗浄処理を行うことができる。