Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外圧がより高い場合及び内圧がより高い場合のいづれの場合であってもチャンバのポートを封止する小型の自動摺動扉手段を有する処理チャンバであって、
内部パネル部と、前記内部パネル部に柔軟に付着する外部パネル部と、前記パネル部の双方の間に配置されて前記パネル部を分離せしめるが如く作動可能な膨張手段とからなる扉手段と、
前記扉手段を摺動自在に支持し、前記扉手段を開放位置から前記内部パネル部が前記ポートから離間する閉成位置にまで摺動させ、前記外部ドアパネル部が前記閉成位置にあるとき、前記外部ドアパネル部の表面とのあいだに隙間をおくように係止手段を支持する支持手段と、
前記扉手段が前記閉成位置に移動したときに外部パネル部を前記係止手段に圧接し、前記内部パネル部を正圧の供給によって処理チャンバのポートに圧接して前記処理チャンバを封止すべく、前記膨張手段を駆動する手段と、を有し、
前記支持手段はフレームを含み、前記フレームは、細長い垂直な側部と、下部支柱と、前記フレームを下部及び上部に分ける上部支柱と、空気圧式シリンダとを有し、前記空気圧式シリンダは前記下部支柱と上部支柱との間に設けられ、前記下部支柱と前記空気圧式シリンダとは枢動手段によって互いに接続され、それによって前記膨張手段が膨張して前記処理チャンバのポートを封止するために前記処理チャンバのポートに対して前記内部パネル部を圧接した際に、前記空気圧式シリンダ及び前記扉手段が前記下部支柱に対して僅かな角度だけ枢動することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項２】
請求項１に記載した処理チャンバであって、
前記支持手段は、前記扉手段を支持して下方の開放位置と上方の閉成位置との間を垂直方向に摺動運動させ、
前記膨張手段は前記ドアパネルを水平方向に分離して処理チャンバのポートを封止することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項３】
請求項１に記載した処理チャンバであって、
前記膨張手段は、内部パネル部と外部パネル部との間に支持された連続した膨張可能なブラダ型ガスケットと、
前記ブラダ型ガスケットを膨張せしめ、ドアパネル部を分離してポートを封止し、更に前記ブラダ型ガスケットを弛緩させて前記ポートの封止を解除する手段と、を有することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項４】
請求項２に記載した処理チャンバであって、
前記扉手段の支持手段は、
上部支持レールと、
前記下部支柱と前記上部支柱との間に設けられて、前記扉手段を支持して前記上部と前記下部との間を自動的に摺動する手段と、
前記フレーム上部の前記垂直な側部に設けられて、前記チャンバを封止するために前記パネル部が分離したときに前記扉手段の係止手段を形成するフランジ手段と、
をさらに有することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項５】
請求項４に記載した処理チャンバであって、
前記空気圧式シリンダは、
磁気ピストンと、
前記シリンダに支持されて磁気的に前記ピストンに連接して前記ピストンとともに垂直運動をする磁気ブロック手段と、
前記フレームの前記下部と上部との間を前記扉手段が前記ブロック手段と共に垂直運動するように前記扉手段を前記ブロック手段に連結する手段と、
を有することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項６】
請求項５に記載した処理チャンバであって、
前記扉支持手段は、下部支柱と上部支柱との間に前記空気圧式シリンダと平行に設けられる一対の垂直ガイドロッドをさらに有することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項７】
請求項５に記載した処理チャンバであって、
前記扉手段は、上部プレート部分と下部プレート部分とを有するヒンジ手段によって前記磁気ブロックに取り付けられ、前記ヒンジ手段の上部プレート部分は清掃のため前記扉を前記支持フレームから外方に枢動すべく前記ブロックに開放可能に連結されたことを特徴とする処理チャンバ。
【請求項８】
請求項１に記載した処理チャンバであって、
前記扉の外部パネルが内部パネルにそれらの間にある複数の板ばねによって柔軟に付着せしめられ、前記板バネの端部はそれぞれ前記パネルに接合され、前記パネルを強制的に分離することを許容し、前記膨張手段の作動が解除された場合に両パネルをもとの接触状態に戻すように付勢することを特徴とする処理チャンバ。
【請求項９】
請求項１に記載した処理チャンバであって、
前記扉の内部及び外部パネルは複数のばね付勢ボルトによって互いに柔軟に取り付けられ、前記ばね付勢ボルトは、前記パネルの整列を維持しつつ、前記膨張手段によって前記パネルを強制的に分離することを許容しかつ前記膨張手段の作動が解除された場合に両パネルをもとの接触状態に戻すように付勢することを特徴とする処理チャンバ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
図２ないし図４は、本発明にかかる新規な扉アセンブリ２６、２８を示している。各アセンブリ２６、２８は床に対して垂直方向に支持できるよう設計され、且つロードロック１５、１６のチャンバ２０にボルトで固定された支持フレーム（すなわち支持手段）３６を有する。支持フレーム３６の上半分３９は図４に開示するガスケット３８によって囲まれた、ロードロック１５，１６へのアクセス通路、すなわち開口部３７を包含する。支持フレーム３６の上半分３９は該フレームの上部そして側部から内方に延出するフランジ４０を有し、支持フレーム３６の上半分３９の開口幅を、支持フレーム３６の下半分４１の開口幅よりも小さく、且つ扉４２の幅よりも小さくなっている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
支持フレーム３６の下半分４１内には垂直方向に摺動自在なドア４２のための支持部が搭載され、上部支柱４４、下部支柱４５、垂直方向に動作する空気圧式アクチュエータシリンダ４６、一対の垂直ガイドロッド４７、取り外し自在な蝶番アセンブリ４９を介して摺動扉４２を固定するための磁気ブロック４８を有する。空気圧式シリンダ４６の作動によりシリンダ４６内の内部ピストンは上下動をし、該シリンダ４６に磁気的に固着された磁気ブロックを上方または下方にシリンダ４６とロッド４７に沿って搬送し、図２に示すように扉４２を上方に且つ閉成状態にしたり、図３に示すように下方に且つ開放状態にするように移動せしめる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年10月19日(2009.10.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１６】
前記ハプティックシステムは前記ＡＩＯＬと一体形成されており、前記少なくとも２つのハプティックはそれぞれ、インサイチュでの選択的な電磁放射線の放射によって変形可能な放射線感知領域を有していて、前記一体形成されたＡＩＯＬを、前記少なくとも２つの間隔を空けて配置された静止固定点に対して、ヒトの目の視軸に沿う所望の位置へインサイチュで選択的に変位させることができるようになっていることを特徴とする、請求項１２又は１３記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月14日(2009.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料によって封入された構造を露出させるための方法であって、
レーザービームを生成するステップと；
前記材料によって封入された前記構造上へと、前記レーザービームを方向付けるステップと；
前記方向付けを行うために、高速の検流計モータによって駆動される少なくとも１つの反射パドルを設けるステップと；
前記構造の直下の所定部分を損傷させることなく、少なくとも前記直下の所定部分を露出させ得るよう、前記レーザービームによって、前記材料を除去するステップと；
を備えていることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記封入された前記構造が、集積回路を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、
前記レーザービームが、概略２６６ｎｍ〜１０，６４０ｎｍの波長を有していることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の方法において、
前記材料の除去により、１μｍを超えないような熱影響領域を形成することを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の方法において、
前記レーザービームと前記封入された構造との間で相対変位を与えることにより、所定領域上にわたって前記材料を除去することを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、
前記封入された構造を移動させ、前記レーザービームを固定することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法において、
前記レーザービームが、前記封入された構造上へと移動可能に操作されることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７記載の方法において、
前記レーザービームを、所定の平面内において焦点合わせするステップを備えていることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項８記載の方法において、
前記レーザービームを、フラットフィールドレンズ及びテレセントリックレンズの少なくとも一方を使用することによって、前記所定の平面内において焦点合わせすることを特徴とする方法。
【請求項１０】
材料によって封入された構造を露出させるための装置であって、
レーザービーム源と；
前記材料によって封入された前記構造上へと、前記レーザービームを方向付けるように構成された第１の機構と；
前記レーザービームの位置及び深さを制御し、前記材料を除去することによって、前記構造の直下の所定部分を損傷させることなく、少なくとも前記直下の所定部分を露出させるように構成された第２の機構と；
を備え、
少なくとも前記第１の機構が、高速の検流計モータによって駆動される反射パドルであることを特徴とする装置。
【請求項１１】
前記レーザービームが、前記構造上へと操作されるように構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記構造は移動され、前記レーザービームは一定の位置にあるように構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
フラットフィールドレンズ及びテレセントリックレンズの少なくとも１つを更に備え、前記レーザービームを所定の平面内で焦点合わせすることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月15日(2009.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
この成形品３０はさらに、ＨＦ発生装置５０に接続できるＨＦコネクタ４１を含んでなる。金属製の吸い込み導管２２が同類の金属製のチューブ３８に接続される。本発明において凝固電極として用いられる（金属製）末端部３２を除いて、全体は、外部から絶縁させるために絶縁層４２で覆うように処理される。このように手術のオペレータは、ウォータージェットを用いて切開すると同時に、必要があれば“電極”３２で組織を凝固させることもできる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2007534395.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのガイドと第１および第２のガイド溝との一方を有するカバーと、
前記少なくとも１つのガイドと前記第１および第２のガイド溝の他方を有するベースと、を備え、
前記ガイドと前記第１および第２のガイド溝とが摺動方向に向けて縦方向に延び、
前記第１および第２のガイド溝は横方向に向かい合わせに配置されそれぞれが少なくとも一つの凹みを有し、摺動方向に対して直角である横方向に前記凹みが向き合っており、
前記少なくとも一つのガイドは横方向に延び出て前記凹みの少なくとも一つへと入り、
前記少なくとも１つのガイドと前記第１および第２のガイド溝とによって、前記カバーと前記ベースが互いに摺動可能に係合されており、
少なくとも１つの板ばねが、（ｉ）横方向と摺動方向の双方に対し付勢され、（ｉｉ）前記凹みの１つの面に向けて付勢されて前記カバーと前記ベースの摺動可能な係合を抑制する付勢力を提供するように、前記少なくとも１つのガイドから一体的に下がり前記凹みの１つへと横方向に延び出ていることを特徴とする肘掛け。
【請求項２】
前記少なくとも１つのガイド上に少なくとも２つの板ばねを備え、各板ばねが前記カバーと前記ベースとの摺動可能な係合を抑制する（retard）摩擦力を与えるような大きさおよび形状をなすことを特徴とする請求項４に記載の肘掛け。
【請求項３】
前記カバーと前記ベースの望ましい相対位置を定める移動止め機構をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の肘掛け。
【請求項４】
前記移動止め機構は、それぞれが前記カバーと前記ベースの一方に設けられる少なくとも１つの突起と少なくとも１つの追加凹部とを備え、前記少なくとも１つの突起と前記少なくとも１つの追加凹部とが互いに係合し、カバーとベースの前記相対位置を実現することを特徴とする請求項３に記載の肘掛け。
【請求項５】
前記少なくとも１つの突起と前記少なくとも１つの追加凹部とが、前記カバーと前記ベースが互いに摺動する方向に沿って所定の間隔で配置されていることを特徴とする請求項４に記載の肘掛け。
【請求項６】
前記少なくとも１つの突起と前記少なくとも１つの追加凹部とが、前記ベースから上方を向いているか、または前記カバーから下方を向いているかのいずれかであることを特徴とする請求項４に記載の肘掛け。
【請求項７】
前記少なくとも１つの突起と前記少なくとも１つの追加凹部とが、前記カバーと前記ベースが互いに摺動する方向に対して横方向に延びていることを特徴とする請求項４に記載の肘掛け。
【請求項８】
前記少なくとも１つのガイドと前記ガイド溝とがプラスチックで形成されることを特徴とする請求項１に記載の肘掛け。
【請求項９】
相対位置が最大に達したとき、前記カバーと前記ベースとが互いに外れることを防止する停止手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の肘掛け。
【請求項１０】
前記停止手段は前記カバーと前記ベースの一方に垂直壁を有しており、相対位置が最大に達したとき、前記垂直壁が前記カバーと前記ベースの他方の端部と係合するように動作することを特徴とする請求項９に記載の肘掛け。
【請求項１１】
前記垂直壁は、相対位置が最大に達したとき、前記端部に当接する１つ以上のリブを備えることを特徴とする請求項１０に記載の肘掛け。
【請求項１２】
前記肘掛けは、座席のそばにある車両用コンソールの仕切り部（compartment）の蓋として機能することを特徴とする請求項１に記載の肘掛け。
【請求項１３】
収納仕切り部と、
前記仕切り部を覆う蓋であって、ガイド−溝構造によって互いに接続されるカバーとベースとを有し、この構造によって前記カバーが前記ベースに対して摺動方向に摺動可能となっている蓋と、を備え、
前記ガイド−溝構造は、
少なくとも１つのガイドと第１および第２の溝との一方が前記カバー上に配置され、
前記少なくとも１つのガイドと前記第１および第２の溝の他方が前記ベース上に配置され、
前記ガイドと前記第１および第２のガイド溝とが摺動方向に向けて縦方向に延び、
前記第１および第２のガイド溝は横方向に向かい合わせに配置されそれぞれが凹みを有し、摺動方向に対して直角である横方向に前記凹みが向き合っており、
前記少なくとも一つのガイドは横方向に延び出て前記凹部の少なくとも一つへと入り、
前記少なくとも１つのガイドと前記第１および第２のガイド溝とによって、前記カバーと前記ベースが互いに摺動可能に係合されており、
少なくとも１つの板ばねが、（ｉ）横方向と摺動方向の双方に対し付勢され、（ｉｉ）前記凹みの１つの面に向けて付勢されて前記カバーと前記ベースの摺動可能な係合を抑制する付勢力を提供するように、前記少なくとも１つのガイドから一体的に下がり前記凹みの１つへと横方向に延び出ていることを特徴とする車両用コンソール。
【請求項１４】
前記仕切り部を開閉するために、前記ベースの一端がヒンジによって前記仕切り部に枢動可能に接続されることを特徴とする請求項１３に記載の車両用コンソール。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月3日(2009.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）上端部、下端部及び内部を有するキャビネットと、
ｂ）キャビネット内に配備され、水を収容できるリザーバと、
ｄ）リザーバと流体の流通が可能で、水を分配するための少なくとも１つのスピゴットと、
ｅ）リザーバ内の水を冷却する冷蔵システムと、
ｆ）リザーバ内に配備され、リザーバの中へ気泡を放出するディフューザと、
ｇ）ディフューザに操作可能に連繋されたオゾン発生器と、
ｈ）オゾン発生器に操作可能に連繋されたコントローラと、を具え、
ｉ）コントローラは、オゾン発生器によって発生してディフューザへ送られるオゾンの発生タイミング及び発生時間長さに関してプログラム制御可能である、
水ディスペンサー。
【請求項２】
ディスペンサーは、ポンプを含んでおり、該ポンプはディフューザに操作可能に連繋され、コントローラはポンプからディフューザへ送られる空気の送給タイミング及び送給時間長さに関してプログラム制御可能である請求項１の水ディスペンサー。
【請求項３】
ポンプはオゾン発生器と距離をあけて配備される請求項２の水ディスペンサー。
【請求項４】
ポンプは、ポンプによって送給される空気が、オゾン発生器に到達する前に室温に近い温度まで冷却されるように十分な距離をあけて配備される請求項３の水ディスペンサー。
【請求項５】
コントローラはオゾン発生量をプログラム制御可能であり、オゾン発生量は、２５％、５０％、７５％及び１００％の中から選択される請求項１の水ディスペンサー。
【請求項６】
コントローラは、オゾン発生前の所定時間に亘って、空気がディフューザを通って送給されるようにプログラムされる請求項２の水ディスペンサー。
【請求項７】
コントローラは、オゾンがディフューザを通して送られる前の所定時間及びオゾン発生後の所定時間に亘って、空気がディフューザを通って送給されるようにプログラムされる請求項２の水ディスペンサー。
【請求項８】
コントローラは、オゾン発生後の所定時間に亘って、空気がディフューザを通って送給されるようにプログラムされる請求項２の水ディスペンサー。
【請求項９】
コントローラは、冷蔵システムに操作可能に連繋され、該冷蔵システムの稼働のタイミング及び稼働時間長さに関してプログラムされる請求項１の水ディスペンサー。
【請求項１０】
コントローラは、オゾン発生前の所定時間に亘り、冷蔵システムを停止するようにプログラムされる請求項９の水ディスペンサー。
【請求項１１】
冷蔵システムは、オゾン発生前に１時間停止する請求項１０の水ディスペンサー。
【請求項１２】
ディスペンサーは電源レギュレータ回路を含んでおり、異なる電源電圧のとき、前記電源レギュレータ回路は、電源電圧に適合するように、コントローラへの入力電圧を調節する請求項１の水ディスペンサー。
【請求項１３】
電源レギュレータ回路、オゾン発生器及びコントローラは、単一のケースの中に入れられる請求項１２の水ディスペンサー。
【請求項１４】
コントローラは、異なる電源電圧に対する調節を自動的に行なう請求項１の水ディスペンサー。
【請求項１５】
コントローラは、週の曜日に関してプログラムされる請求項１の水ディスペンサー。
【請求項１６】
コントローラは、２４時間に亘ってプログラムされる請求項１の水ディスペンサー。
【請求項１７】
コントローラから距離を有し、コントローラに対して操作可能に接続された遠隔ディスプレイをさらに具えており、遠隔ディスプレイは、コントローラの操作に関する少なくとも１つのインジケータを有している請求項１の水ディスペンサー。
【請求項１８】
インジケータは、オゾン処理用である請求項１７の水ディスペンサー。
【請求項１９】
遠隔ディスプレイは、３つのインジケータを含んでおり、第１のインジケータはオゾン用、第２のインジケータは電源用、第３のインジケータは警告信号用である請求項１７の水ディスペンサー。
【請求項２０】
オゾン用インジケータは赤色、電源用インジケータは緑色、警告信号用インジケータは黄色である請求項１９の水ディスペンサー。
【請求項２１】
水ディスペンサーを消毒する方法であって、前記水ディスペンサーは、コンプレッサを含む冷蔵ユニットによって冷却され、アイスリングが生成されるリザーバを含む水供給源を有するキャビネットを有しており、キャビネットのスピゴットを操作することにより、水がキャビネット及びその水供給源から分配されるものにおいて、
ａ）プログラム制御可能なオゾン発生器がコンプレッサへの電力供給を停止する工程、
ｂ）プログラム制御可能なオゾン発生器が空気をリザーバに導入して、アイスリングの少なくとも一部分を溶解する工程、
ｃ）プログラム制御可能なオゾン発生器がオゾンを発生させて、オゾンをリザーバへ導入する工程、
ｄ）工程ｃにおいて、オゾンは、少なくとも１つのディフューザ要素を経てリザーバに入る工程、
を有している方法。
【請求項２２】
工程ｃの後、プログラム制御可能なオゾン発生器が、空気をリザーバへ導入する工程をさらに有している請求項２１の方法。
【請求項２３】
工程ａにおいて、プログラム制御可能なオゾン発生器はコントローラを含んでいる請求項２１の方法。
【請求項２４】
明細書及び図面に実質的に示され記載された発明。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月6日(2009.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
Ｍａｒｋｏｗｉｔｚらによると、アルコールを一緒に摂取してメチルフェニデートを過剰摂取した後、血漿中において新しい代謝生成物としてエチルフェニデートが検出されることがわかっている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｐｓｙｃｈｏｐｈａｒｍａｃｏｌ、１９９９；１９：３６２−６）。Ｃｏｎｃｅｒｔａ（登録商標）、Ｒｉｔａｌｉｎ（登録商標）、およびＭｅｔａｄａｔｅ（登録商標）のような多くのメチルフェニデート製品は、エチルフェニデートがこれらの製品の代謝生成物であるので、同時乱用の高い可能性を有するものである。Ｍａｒｋｏｗｉｔｚらは、ヒト被験者において、メチルフェニデートおよびエタノールを単回同時投与した後、血漿および尿中にエチルフェニデートが検出されたことを記載している（Ｄｒｕｇ  Ｍｅｔａｂｏｌｉｓｍ  ａｎｄ  Ｄｉｓｐｏｓｉｔｉｏｎ，２０００；２８：６２０−５）。エチルフェニデートは、ドーパミン効果を有することで知られている。最近、Ｔｈｏｍｓｏｎらによって、ラセミ体のメチルフェニデートとエタノールの同時投与の後に、ｌ−メチルフェニデートはエナンチオ選択的にｌ−エチルフェニデートにトランスエステル化することが見出された（３１ｓｔ  Ａｎｎｕａｌ  Ａｍ．Ｃｏｌｌｅｇｅ  ｏｆ  ＣＨｎ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｍｅｅｔｉｎｇ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，２００２）。エチルフェニデート代謝生成物は、主にｌ−異性体として尿に排泄された。メチルフェニデートは、主にｄ−異性体として排泄された。エチルフェニデートは、潜在的に、同時乱用者の陶酔効果、及びＡＤＨＤを持つ患者、癌患者、および神経または精神神経性障害を有する患者における副作用に寄与している。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
【先行技術文献】 
【特許文献】
【特許文献１】
米国特許第６，１２７，３８５号明細書
【特許文献２】
国際公開第９９／１６４３９号明細書
【特許文献３】
米国特許第５，９０８，８５０号明細書
【特許文献４】
米国特許出願第２００３／００１７０１８１第号明細書
【特許文献５】
米国特許第６，５２８，５３０号明細書
【特許文献６】
米国特許第６，２５５，３２５号明細書
【非特許文献１】
Ｂａｒｒｅｔｔ，Ｓ．Ｐ．，  ｅｔ  ａｌ．，  "Ｏｒａｌ  Ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ−ａｌｃｏｈｏｌ  ｃｏ−ａｂｕｓｅ，"  Ｊ．  Ｃｌｉｎ．Ｐｓｙｃｈｏｐｈａｒｍａｃｏｌ，  ２００２，２２（６），  ６３３−６３４
【非特許文献２】
Ｅｒｃａｎ，  Ｅ．Ｓ．，  ｅｔ  ａｌ．，  "Ｃｈｉｌｄｈｏｏｄ  ａｔｔｅｎｔｉｏｎ  ｄｅｆｉｃｉｔ／ｈｙｐｅｒａｃｔｉｖｉｔｙ  ｄｉｓｏｒｄｅｒ  ａｎｄ  ａｌｃｏｈｏｌ  ｄｅｐｅｎｄｅｎｃｅ：  ａ  １−ｙｅａｒ  ｆｏｌｌｏｗ−ｕｐ，"  Ａｌｃｏｈｏｌ  &  Ａｌｃｏｈｏｌｉｓｍ，  ２００３，  ３８（４），  ３５２−３５６
【非特許文献３】
Ｍａｒｋｏｗｉｔｚ，  Ｊ．Ｓ．，  ｅｔ  ａｌ．，"Ｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｉｎ  ｈｕｍａｎ  ｓｕｂｊｅｃｔｓ  ａｆｔｅｒ  ｔｈｅ  ａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  ａ  ｓｉｎｇｌｅ  ｄｏｓｅ  ｏｆ  ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ａｎｄ  ｅｔｈａｎｏｌ，  "  Ｄｒｕｇ  Ｍｅｔａｂｏｌｉｓｍ  &  Ｄｉｓｐｏｓｉｔｉｏｎ，  ２０００，  ２８（６），  ６２０−６２４
【非特許文献４】
Ｍａｒｋｏｗｉｔｚ，  Ｊ．Ｓ．，  ｅｔ  ａｌ．，  "Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｎｏｖｅｌ  ｍｅｔａｂｏｌｉｔｅ  ｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ａｆｔｅｒ  ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ｏｖｅｒｄｏｓｅ  ｗｉｔｈ  ａｌｃｏｈｏｌ  ｃｏｉｎｇｅｓｔｉｏｎ，"  Ｊ．  Ｃｌｉｎ．  Ｐｓｙｃｈｏｐｈａｒｍａｃｏｌ，  １９９９，  １９（４），  ３６２−３６６
【非特許文献５】
Ｔｅｔｅｒ，  Ｃ．Ｊ．，  ｅｔ  ａｌ．，  "Ｉｌｌｉｃｉｔ  ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ｕｓｅ  ｉｎ  ａｎ  ｕｎｄｅｒｇｒａｄｕａｔｅ  ｓｔｕｄｅｎｔ  ｓａｍｐｌｅ：  ｐｒｅｖａｌｅｎｃｅ  ａｎｄ  ｒｉｓｋ  ｆａｃｔｏｒｓ，"  Ｐｈａｒｍａｃｏｔｈｅｒａｐｙ，  ２００３，  ２３（５），  ６０９−６１７
【非特許文献６】
Ｔｈｏｍｓｏｎ，  Ｍ．Ｒ．，  ｅｔ  ａｌ．，  "Ｅｎａｎｔｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｔｒａｎｓｅｓｔｅｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ｔｏ  ｅｔｈｙｌｐｈｅｎｉｄａｔｅ  ａｆｔｅｒ  ｃｏａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  ｅｔｈａｎｏｌ，"３１ｓｔ  Ａｎｎｕａｌ  Ａｍ．  Ｃｏｌｌｅｇｅ  ｏｆ  Ｃｌｉｎ．  Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．  Ｍｅｅｔｉｎｇ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，  ｎｕｍｂｅｒ  ８０，  ２００２，  １  ｐａｇｅ
【非特許文献７】
Ｃｌｕｒｅ，  Ｃ．，  ｅｔ  ａｌ．，"Ａｔｔｅｎｔｉｏｎ−ｄｅｆｉｃｉｔ／ｈｙｐｅｒａｃｔｉｖｉｔｙ  ｄｉｓｏｒｄｅｒ  ａｎｄ  ｓｕｂｓｔａｎｃｅ  ｕｓｅ：  ｓｙｍｐｔｏｍ  ｐａｔｔｅｒｎ  ａｎｄ  ｄｒｕｇ  ｃｈｏｉｃｅ"，  Ａｍ．  Ｊ．  Ｄｒｕｇ  Ａｌｃｏｈｏｌ  Ａｂｕｓｅ，  １９９９，  ２５（３），  ４４１−４４８
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月2日(2009.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上のカルボン酸多糖を含有する皮膚保護用アルカリ度制御組成物であって、前記カルボン酸多糖の少なくとも１が、エステル化度（DE）８０％〜１００％を有するペクチンエステル、アルギン酸エステル、エステル化セルロースエーテル、エステル化ヒドロキシエチルセルロース、エステル化カルボキシメチルセルロース、エステル化グァーゴム、エステル化陽イオングァーゴム、エステル化ヒドロプロピルグァーゴム、デンプンエステル、及び高分子化糖エステルからなる群から選ばれる高ＤＥカルボン酸多糖であることを特徴とする組成物。
【請求項２】
高DEカルボン酸多糖が、脂肪族、アリール脂肪族、脂環式又は複素環式アルコールのペクチンエステルである請求項１記載の組成物。
【請求項３】
高DEカルボン酸多糖が、5,000〜140,000の範囲の分子量を有するペクチンである請求項１記載の組成物。
【請求項４】
多糖のエステル基が、ブロック様式で分布している請求項３記載の組成物。
【請求項５】
多糖のエステル基が、ランダム式で分布している請求項３記載の組成物。
【請求項６】
皮膚保護用アルカリ度コントロール組成物であって、エステル化度（DE）７０％〜１００％を有するペクチンエステル、アルギン酸エステル、エステル化セルロースエーテル、エステル化ヒドロキシエチルセルロース、エステル化カルボキシメチルセルロース、エステル化グァーゴム、エステル化陽イオングァーゴム、エステル化ヒドロプロピルグァーゴム、デンプンエステル、及び高分子化糖エステルからなる群から選ばれる少なくとも１の高DEカルボン酸多糖、及びエステル化度（DE）５％〜７０％を有する少なくとも１の低DEカルボン酸多糖の混合物を含有することを特徴とする組成物。
【請求項７】
低DEカルボン酸多糖が、ペクチンエステル、アルギン酸エステル、エステル化セルロースエーテル、エステル化ヒドロキシエチルセルロース、エステル化カルボキシメチルセルロース、エステル化グァーゴム、エステル化陽イオングァーゴム、エステル化ヒドロプロピルグァーゴム、デンプンエステル、及び高分子化糖エステルからなる群から選ばれるものである請求項６記載の組成物。
【請求項８】
高DEカルボン酸多糖及び低DEカルボン酸多糖が、脂肪族、アリール脂肪族、脂環式又は複素環式アルコールのペクチンエステルである請求項７記載の組成物。
【請求項９】
高DEカルボン酸多糖及び低DEカルボン酸多糖が、5,000〜140,000の範囲の分子量を有するペクチンである請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
高DEカルボン酸多糖及び低DEカルボン酸多糖が、エステル化アルギン酸である請求項６記載の組成物。
【請求項１１】
エステル化アルギン酸が、エチレングリコール又はプロピレングリコールアルギン酸エステルを含む２価の脂肪族アルコールのエステルである置換アルコールから誘導されるエステル、脂肪族、芳香族、アリール脂肪族、脂環式及び複素環式アルコールのアルギン酸エステルである請求項１０記載の組成物。
【請求項１２】
高DEカルボン酸多糖及び低DEカルボン酸多糖のエステル基が、ブロック様式で分布している請求項６記載の組成物。
【請求項１３】
高DEカルボン酸多糖及び低DEカルボン酸多糖のエステル基が、ランダム式で分布している請求項６記載の組成物。
【請求項１４】
エステル化度８０〜１００0％を有するペクチンエステルでなる群から選ばれる少なくとも１のカルボン酸多糖を含有する組成物の、皮膚保護及び／又はアルカリ度制御のための使用。
【請求項１５】
カルボン酸多糖が、脂肪族、アリール脂肪族、脂環式又は複素環式アルコールのペクチンエステルである請求項１４記載の使用。
【請求項１６】
カルボン酸多糖が、5,000〜140,000の範囲の分子量を有するペクチンである請求項１５記載の使用。
【請求項１７】
多糖のエステル基が、ブロック様式で分布している請求項１4記載の使用。
【請求項１８】
多糖のエステル基が、ランダム式で分布している請求項１４記載の使用。
【請求項１９】
少なくとも１のカルボン酸多糖を含有する組成物であって、前記カルボン酸多糖の少なくとも１が、エステル化度（DE）５％〜４０％を有する低DEカルボン酸多糖である組成物の、皮膚保護及び／又はアルカリ度制御のための使用。
【請求項２０】
少なくとも1のカルボン酸多糖を含有する組成物であって、エステル化度（DE）７０％〜１００％を有する少なくとも１のカルボン酸多糖、及びエステル化度（DE）５％〜４０％を有する少なくとも１のカルボン酸多糖の混合物を含有する組成物の、皮膚保護及び／又はアルカリ度制御のための使用。
【請求項２１】
ヒトの皮膚における請求項１４記載の使用。
【請求項２２】
動物の皮膚における請求項１４記載の使用。
【請求項２３】
スキンクリーム、スキンローション、消臭剤製品、フレグランス製品、ヘア・ケア製品、シェービング製品、セッケン製品、及び入浴用塩製品でなる群から選ばれる製品における請求項１４記載の使用。
【請求項２４】
女性用衛生製品及びおむつでなる群から選ばれる製品における請求項１４記載の使用。
【請求項２５】
ストーマ製品及び傷ケア製品でなる群から選ばれる製品における請求項１４記載の使用。
【請求項２６】
ローション含有ティッシュペーパー、布処理製品、及び洗濯リンス製品でなる群から選ばれる製品における請求項１４記載の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月20日(2009.2.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）５−２５重量％のＣ１２−Ｃ２０脂肪酸と、
（Ｂ）０．１−１０重量％の脂肪酸セッケンと、
（Ｃ）０．０５−１０重量％のα−アシルオキシカルボン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩と、
を含むヒトの皮膚に外用塗布するための皮膚美白用化粧品組成物。
【請求項２】  アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩がアシルオキシラクチレートの塩であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  アシルオキシラクチレートがステアロイルラクチレートであることを特徴とする請求項２に記載の組成物。
【請求項４】  α−アシルオキシカルボン酸のナトリウム塩を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】  １０−２０重量％のＣ１２−Ｃ２０脂肪酸を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】  １−５重量％の脂肪酸セッケンを含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】  追加の皮膚美白剤を含むことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
即ち本発明は、
（Ａ）５−２５重量％のＣ１２−Ｃ２０脂肪酸と、
（Ｂ）０．１−１０重量％の脂肪酸セッケンと、
（Ｃ）０．０５−１０重量％のα−ヒドロキシカルボン酸及び／またはα−アシルオキシカルボン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩と、
を含むヒトの皮膚に外用塗布するための皮膚美白用化粧品組成物に関する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
（式中、
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、Ｃ4およびＣ5は、他から独立して、非置換か、あるいは場合によっては、フッ素、塩素、シアノ、ニトロ、または２４個までの炭素原子を有するアルキル基もしくはアルケニル基（１個もしくは２個以上の隣接しないＣＨ2基が、基−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−および−Ｃ≡Ｃ−からなる群より選ばれる基で置き換えられていてもよく、１個もしくは２個以上の水素原子が、場合によっては、フッ素、塩素、シアノで置換されていてもよい）で置換されている１，４−フェニレン；あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイル、ピペラジン−１，４−ジイル、チオフェニレン、ナフチレン、〔１，３，４〕チアジアゾール類または〔１，３，４〕オキサジアゾール類を表し；
Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4およびＺ5は、他から独立して、共有単結合、−（ＣＨ2)t−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＯＣ−、−ＮＲ1−、−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−、−（ＣＨ2)u−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2)u−、（ＣＨ2)u−ＮＲ1−または−ＮＲ1−（ＣＨ2)u−（式中、Ｒ1は、水素または低級アルキルを表し、ｔは、１〜４の整数であり、ｕは、１〜３の整数である）を表し；
Ｓ3は、共有単結合であるか、あるいは場合によっては、フッ素、塩素、低級アルキルまたはシアノによってモノもしくはポリ置換されている直鎖状アルキレン基−（ＣＨ2)r−、あるいは式−（ＣＨ2)r−Ｌ1−（ＣＨ2)s−Ｌ2−の原子鎖（式中、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ他から独立して、単結合であるか、または−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯＯ−（式中、Ｒ2は、水素または低級アルキルを表し、ｒおよびｓは、ｒ＋ｓ≦２４という前提で、それぞれ１〜２０の整数である）のような結合官能基であることができる）のようなスペーサー単位を表し；
Ｓ4は、共有単結合であるか、あるいは場合によっては、フッ素、塩素、低級アルキルまたはシアノによってモノもしくはポリ置換されている直鎖状アルキレン基−（ＣＨ2)r−、あるいは式−（ＣＨ2)r−Ｌ1−（ＣＨ2)s−Ｌ2−の原子鎖（式中、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ他から独立して、単結合であるか、または−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯＯ−（式中、Ｒ2は、水素または低級アルキルを表し、ｒおよびｓは、ｒ＋ｓ≦２４という前提で、それぞれ１〜２０の整数である）のような結合官能基であることができる）のようなスペーサー単位を表し；
ｏ、ｐおよびｑは、０または１であり；
Ｐ5およびＰ6は、他から独立して、場合によっては、メチル、メトキシ、シアノおよび／もしくはハロゲンで置換されていてもよい、アクリラート、メタクリラート、２−クロロアクリラート、２−フェニルアクリラート、アクリロイルフェニレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−フェニルアクリルアミド、エポキシ、イタコン酸エステル類、ビニルオキシ、ビニルオキシカルボニル、スチレン誘導体、マレイン酸誘導体、フマル酸誘導体またはケイ皮酸誘導体のような架橋性基を表す）
の化合物にそれぞれ相当する液晶混合物である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
（式中、
Ｄは、シクロプロパンジイル、シクロブタンジイル、シクロペンタンジイル、シクロヘキサンジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル；非置換か、あるいは場合によっては、フッ素、塩素、シアノ、ニトロ、または２４個までの炭素原子を有するアルキル基もしくはアルケニル基（１個もしくは２個以上の隣接しないＣＨ2基が、基−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−および−Ｃ≡Ｃ−からなる群より選ばれる基で置き換えられていてもよく、１個もしくは２個以上の水素原子が、場合によっては、フッ素、塩素、シアノで置換されていてもよい）で置換されているフェニレン；あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイル、ピペラジン−１，４−ジイル、チオフェニレン、〔１，３，４〕チアジアゾール類または〔１，３，４〕オキサジアゾール類を表し；
Ｆ1およびＦ2は、場合によっては、フッ素、塩素、低級アルキルまたはシアノによってモノもしくはポリ置換されていて、その１個もしくは２個以上の隣接しないＣＨ2基が、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＮＲ3−、−ＮＲ3−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ3−、−ＮＲ3−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ3−、−ＮＲ3−ＣＯ−ＮＲ3−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯＯ−のような結合原子もしくは基で、または式：
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
（式中、Ｒ3は、水素または低級アルキルを表し、ｗ′は、Ｆ1およびＦ2において、炭素原子とそれらを置換するヘテロ原子の合計数が４０を越えないという前提で、０〜２の整数である）の原子鎖で置き換えられていてもよい直鎖状アルキレン基を表し；
Ｐ7およびＰ8は、他から独立して、場合によっては、メチル、メトキシ、シアノおよび／もしくはハロゲンで置換されていてもよい、アクリラート、メタクリラート、２−クロロアクリラート、２−フェニルアクリラート、アクリロイルフェニレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−フェニルアクリルアミド、エポキシ、イタコン酸エステル類、ビニルオキシ、ビニルオキシカルボニル、スチレン誘導体、マレイン酸誘導体、フマル酸誘導体またはケイ皮酸誘導体のような架橋性基を表し；
ｑ′は、０または１であり；そして
ｌ′、ｏ′およびｐ′は、ｌ′＋ｏ′＋ｐ′≧１であるという前提で、０または１である）
の化合物に相当する液晶混合物である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
半導体チップ(3)とウエーブガイド(4)との間には中間層(15)が配置され、中間層の光屈折率はウエーブガイド(4)の屈折率より小さく、中間層(15)は半導体チップ(3)に直接隣接する半導体チップ(3)のネガの形状を有し、半導体チップ(3)と対向してウエーブガイド(4)に隣接する中間層(15)の前側で直接に本質的に平坦に構成されることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項に記載の装置(1)。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
図６の実施例では、半導体チップ３とウエーブガイド４との間に中間層１５が配置され、中間層は半導体チップ３の延長面に対してほぼ平行に走り、その光屈折率はウエーブガイド４の光屈折率より小さい。中間層１５は半導体チップ３に直接に隣接し、半導体チップ３のネガの形状を有する。この形状は、例えば、中間層１５の材料が装置１の製造の場合に遠心法での液化形状で半導体チップ３上に載置され、半導体チップ３の表面上に均一に分配された後で硬化されることにより達成できる。半導体チップ３と離れた側では、中間層１５は平坦に構成される。中間層１５上には別の層としてウエーブガイド４が載置される。つまり、中間層１５とウエーブガイド４と間に平坦な境界面が生じ、この境界面はウエーブガイド４への励起ビーム９の著しく障害のない案内を可能にする。その際、ウエーブガイド４は半導体チップ３上で均一に延長できる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月1日(2008.12.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
基準電流を求めた後に、エレベータの通常の使用中に、典型的にはエレベータの任意の通常走行において、モータ電流が同様の条件における基準電流の許容範囲内にあるか否かが点検される。抵抗点検を実行する方法は、図２に示したルーチンのような形態とすることができる。図２では、入口点２０を通してルーチンに到達し、第１の試験２１でエレベータドアが閉じているか否かを判断する。閉じていなければ、ドアが閉じるまで試験２１が繰り返される。続いて、かご荷重がサブルーチン２２によって記録される。ステップ２５では、階床表示器Ｆが、かごがこれから離れる階床の階床数と等しく設定される。次に、ステップ２６において、方向フラグがエレベータかごの方向（ＤＩＲ）と等しく設定される。続いて、サブルーチン２８が、ルーチン２２およびステップ２６で求められた方向および荷重に対して、エレベータが移動する方向における次の階床の委託位置でのモータ電流を予測する。このとき、次の階床は、かごが上昇しているか下降しているかによって＋１または−１である（Ｆ±１，ＤＩＲ）。基準電流が荷重なしおよび定格荷重のみで設定された場合には、現在の移動方向および次の階床の特定の委託位置について、サブルーチン２２で記録された定格荷重の割合が補間される。周知のように、定格速度で５０％の荷重を移動するのに要求されるモータ電流は非常に小さく、荷重が定格荷重の半分より小さいかごを下降させるか、または荷重が定格荷重の半分よりも大きいかごを上昇させるためには一方向への比較的大きい電流が要求され、上記よりも荷重が小さいかごを上昇させるか、上記よりも荷重が大きいかごを下降させるためには反対方向への電流が要求される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
前記平均が幾何平均である請求項１の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
前記平均が幾何平均である請求項５の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１１】
前記平均が幾何平均である請求項９の方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
“中心”のために指定された特定位置は、例えば平均位置かもしれない。“平均”位置は、算術平均、幾何平均または、ＭＳがそのＢＴＳだけと通信することができるＢＴＳのカバレージエリアの部分に関して指定された他の適切な平均の計算かもしれない。他方では、特定位置は、ＭＳがそのＢＴＳだけと通信することができるＢＴＳのカバレージエリアの部分に関して任意に指定されてもよい。これは例えば、１つのＢＴＳだけがそのＢＴＳの全カバレージ領域の境界に対して検知することができるカバレージ領域の境界の比率として測定された１／２、１／３、１／４の距離、または他の距離であると明示されてもよい。メトリックがその選択されることによって決定されたその距離は、点の軌跡を定義する。例えば、そのＢＴＳとだけ通信することができるＢＴＳのカバレージエリアの部分が円ならば（それは一般にありそうもない）、軌跡は全体のカバレージエリアの半径より小さな半径の円を定義するだろう。したがって、ＭＳの位置は円の周囲上にあると推測されてもよい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
この例において、ＭＳはＢＴＳ２０の周りに集中された半径Ｒ３（それはＲ２の２分の１である）を持つ点のある円２７に位置すると推測され、その周囲は、ＭＳがＢＴＳ２０とのみ通信することができるカバレージエリア２８の算術および幾何平均である。以下に実証されるように、ＭＳがＢＴＳ２０とのみ通信することができれば、ＭＳは、円２７の周囲に位置する可能性がありそうである。数学的な平均の計算、または別の適切な技術によって、以下に議論されるように、この位置は蓋然性の予測技術によって決定されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月19日(2009.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
エレベータプレート２０２は、外側カラー２１４の周囲にある３つの固定されたカムリフター２１０−２１２を有している。この外側カラー２１４は、３つの突出部を有するカム２０４の内側カラー２１６に適合する。３つの同一のカム突出部２１８−２２０が、固定されたカムリフター２１０−２１２の配置に適合する。３つの突出部を有するカム２０４は、エレベータプレート２０２に対して回転するよう設計されており、この回転により、エレベータプレート２０２のスムーズな持ち上げおよび降下が行われる。３つの固定されたカムリフター２１０−２１２により、ベース２２２に対するエレベータプレート２０２の頂面の平行な配置を維持するための３点の支持が得られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
複数の突出部を有するカムおよびカムリフターにより、相互に、エレベータプレートをその昇降において最小および最大高さに静止させるような平らな箇所２４０−２４４が得られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2007512207.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月16日(2009.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力回路と干渉除去回路を有する受信機であり、
前記入力回路は、少なくとも１つのアンテナと結合し、第１と第２の信号を受信し、信号処理し、デジタル化し、これにより入力サンプルの第１と第２のストリームを生成し、
前記干渉除去回路は、
それぞれ第１と第２の係数を用いて、入力サンプルの前記第１と第２のストリームをフィルターにかけ、それぞれ第１と第２のフィルター出力を生成する第１と第２の適応フィルターと、
前記第１と第２の信号間の位相偏差を補償する可変位相シフトを適用するよう適合され、少なくとも１つの構成パラメータを有する位相回転器と、
前記干渉除去回路の信号特性を推定し、該推定信号特性に応じて前記位相回転器の前記少なくとも１つの構成パラメータを設定するよう動作する制御モジュール、
を有する、受信機。
【請求項２】
前記第１の信号は、前記第２の信号による干渉を含み、前記干渉除去回路は、入力サンプルの前記第１と第２のストリームに応じて、前記第１の信号に相当し、減じられた該干渉のレベルを有する出力サンプルの第３のストリームを生成するよう動作する、請求項１に記載の受信機。
【請求項３】
前記制御モジュールは、前記干渉のレベルの増加を識別し、該識別した増加に応じて前記少なくとも１つの構成パラメータを設定するよう動作する、請求項２に記載の受信機。
【請求項４】
前記位相回転器は、位相同期回路（PLL）を有し、前記少なくとも１つの構成パラメータが該PLLの周波数設定を有し、前記制御モジュールは、前記干渉レベルの前記増加の識別に続き、既定の周波数設定範囲にわたり、前記推定信号特性に応じて決定される最良周波数設定を探索し、該最良周波数設定を該PLLに書き込むよう動作する、請求項３に記載の受信機。
【請求項５】
前記第１と第２の信号は、それぞれ相互に直交した第１と第２の偏波を持って送信され、前記干渉除去回路は、前記第２の信号から前記第１の信号に結合するクロス偏波干渉を減じるよう動作する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項６】
前記位相回転器は、位相同期回路（PLL）を有し、前記少なくとも１つの構成パラメータは、該PLLのループバンド幅とループ利得の少なくとも１つを有する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項７】
前記制御モジュールは、パイロット基準とバッチ基準位相推定方法の少なくとも１つを用いて、前記可変位相シフトを計算するよう動作する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項８】
前記信号特性は、前記第１と第２の信号の間のクロス結合レベルを有する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項９】
前記第１と第２の係数は、前記第１と第２の信号が受信される通信チャネルの条件に従い適応的に決定され、前記制御モジュールは、前記第１と第２の係数の少なくとも幾つかに基づき計算を実行し、前記クロス結合レベルを推定するよう動作する、請求項８に記載の受信機。
【請求項１０】
前記制御モジュールは、前記少なくとも１つの構成パラメータの２つ以上の既定の制御セットを蓄積し、前記推定信号特性に応じてメトリック関数を評価し、該評価されたメトリック関数に応じて該２つ以上の既定の制御セットの中から１つの制御セットを選択し、該選択された制御セットを前記位相回転器に書き込むよう動作する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項１１】
前記制御モジュールは、前記推定信号特性に応じ前記少なくとも１つの構成パラメータを適応的に計算するよう動作する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項１２】
前記第２の信号は前記第１の信号による干渉を含み、前記干渉除去回路は、入力サンプルの前記第１と第２のストリームに応じて、前記第２の信号に相当し、減じられた該干渉のレベルを有する出力サンプルの第４のストリームを生成するよう動作する、請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項１３】
送信機と受信機を有するワイヤレス通信システムであり、
前記送信機は、第１と第２の信号を空間上に送信するよう動作し、
前記受信機は、入力回路と干渉除去器を有し、
前記入力回路は、少なくとも１つのアンテナと結合し、前記第１と第２の信号を受信し、信号処理し、デジタル化し、これにより入力サンプルの第１と第２のストリームを生成し、
前記干渉除去回路は、
それぞれ第１と第２の係数を用いて、入力サンプルの前記第１と第２のストリームをフィルターにかけ、それぞれ第１と第２のフィルター出力を生成する第１と第２の適応フィルターと、
前記第１と第２の信号間の位相偏差を補償する可変位相シフトを適用するよう適合され、少なくとも１つの構成パラメータを有する位相回転器と、
前記干渉除去回路の信号特性を推定し、該推定信号特性に応じて前記位相回転器の前記少なくとも１つの構成パラメータを設定するよう動作する制御モジュール、
を有する、ワイヤレス通信システム。
【請求項１４】
それぞれ第１と第２の信号に相当する入力サンプルの第１と第２のストリームを処理するための干渉除去回路であり、
それぞれ第１と第２の係数を用いて、入力サンプルの前記第１と第２のストリームをフィルターにかけ、それぞれ第１と第２のフィルター出力を生成する第１と第２の適応フィルターと、
前記第１と第２の信号間の位相偏差を補償する可変位相シフトを適用するよう適合され、少なくとも１つの構成パラメータを有する位相回転器と、
前記干渉除去回路の信号特性を推定し、該推定信号特性に応じて前記位相回転器の前記少なくとも１つの構成パラメータを設定するよう動作する制御モジュール、
を有する干渉除去回路。
【請求項１５】
空間に送信された第１と第２の信号を受信し、信号処理し、デジタル化し、入力サンプルの第１と第２のストリームを生成し、
それぞれ第１と第２の係数を用い、入力サンプルの前記第１と第２のストリームをフィルターにかけ、それぞれ第１と第２のフィルター出力を生成し、
少なくとも１つの構成パラメータを有する位相回転器を用い、前記第１と第２のフィルター出力の１つに可変位相シフトを適用し、前記第１と第２の信号間の位相偏差を補正した位相シフトされた出力を生成し、
前記第１と第２のフィルター出力を加算し、前記第１の信号に相当する出力サンプルの第３のストリームを生成し、
干渉除去回路の信号特性を推定し、
該推定信号特性に応じて前記位相回転器の前記少なくとも１つの構成パラメータを設定する、
ワイヤレス通信における方法。
【請求項１６】
第１と第２の信号を受信し、信号処理し、デジタル化し、入力サンプルの第１と第２のストリームを生成すること、
それぞれ第１と第２の係数を用い、入力サンプルの前記第１と第２のストリームをフィルターにかけ、それぞれ第１と第２のフィルター出力を生成すること、
前記第１と第２の係数に基づき前記第２の信号による前記第１の信号内に含まれる干渉レベルを推定すること、
を有する干渉レベルを推定するための方法。
【請求項１７】
入力サンプルの前記第１と第２のストリームをフィルターにかけることは、それぞれ第１と第２の適応等化器を用いて、前記サンプルをフィルターにかけることを有する、請求項１６に記載の方法。