【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月24日(2009.8.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（a）少なくとも１つの検査体を有する基板をホルダー上に置き、
（b）位置決め動作により、検査装置の光学軸に対して前記基板を位置決めし、
（c）前記光学軸に対し接触ユニットを位置決めし、これにより前記接触ユニットが前記基板の位置決め動作とは独立に位置決めされ、
（d）前記接触ユニットと前記検査体の少なくとも１つの接触アセンブリとを接触させるステップを含む基板を位置決めし、検査体を接触させるための方法。
【請求項２】
前記接触ユニットが前記検査体の少なくとも１つの前記接触アセンブリに接触している間、少なくとも２つの前記接触ユニットの接触ピンが、少なくとも１つの前記接触アセンブリの接触パッドに接触しており、接触のために、前記接触ユニットの前記接触ピンは相互にそれぞれに対して動かないことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記接触ユニットは独自の駆動機構を備えて位置決めされることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
位置決めのステップ（ｂ、ｃの各々のステップ）は、光学軸に垂直方向に、少なくとも５センチ、好ましくは少なくとも２０センチ動くことを含む特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記ステップ（ｂ）〜（ｄ）は基板の検査の間、数回、好ましくは各検査体の検査の間は繰り返される請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
基板をホルダー上に置き、
第１の検査体を接触ユニットに接触させ、
前記第１の検査体の第１の領域が検査装置の第１の検査範囲内になるように、前記基板を位置決めし、
前記検査体の前記第１の領域を検査し、
前記第１の検査体の少なくとも一つの更なる領域が前記検査装置の前記検査範囲内になるように、前記基板を動かし、
前記接触ユニットの位置が基本的に前記第１の検査体に対して変わらないように、前記接触ユニットを動かし、
前記検査体の更なる領域を検査し、更なる検査体の接触が行われるように、前記接触ユニット及び前記基板を相互に対して動かすステップを含む、１つの検査装置により、いくつかの検査体を備えた基板を検査するための方法。
【請求項７】
前記接触ユニットは追従により移動（変位)されることを特徴とされる請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記接触ユニットは運ばれることにより動かされることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記接触ユニットは前記基板に対する接触を保ちつつ動かされる請求項６〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記検査範囲は１つの方向において粒子ビームのビーム偏向によりスキャンされる請求項６〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記検査範囲は１方向において粒子ビームのビーム偏向によりスキャンされ、他の方向において基板の動きにより走査される請求項６〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
前記接触ユニットは前記基板に対する接触がないようにして、動かされる請求項６〜１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記接触ユニットは異なる形の検査体に適用される請求項６〜１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記検査は粒子ビームによる前記検査範囲の走査、及び、前記第２の領域の電子の計測により行われる請求項６〜１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
前記検査は粒子ビームによる前記検査範囲の走査、及び、前記接触ユニットを介して検出される信号の計測によって行われる請求項６〜１４のいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
前記検査の前に、１×１０−３ｍｂａｒより小さい真空度が形成される請求項６〜１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
基板のためのホルダー（１３０）と、
Ｘ方向におけるホルダー移動（変位)範囲及びＹ方向におけるホルダー移動（変位)範囲を備えた前記ホルダーのための移動（変位)ユニット（１３２、１３４）と、
少なくとも１つの検査体の接触のための接触ユニット（１５０）であって、この接触ユニットはＸ方向及びＹ方向に移動（変位)可能であり、前記Ｘ方向における移動（変位)範囲及びＹ方向における移動（変位)範囲はそれぞれの前記ホルダーの移動（変位)範囲より小さい接触ユニットとを含む、基板（１４０）上の少なくとも１つの検査体（３０１）の検査のために接触をするための装置。
【請求項１８】
Ｘ方向及びＹ方向の前記接触ユニット移動（変位)範囲は、前記接触ユニットの対応する配列の移動（変位)範囲（２２０、２２２）より大きい請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
少なくとも１つの検査体を備えた基板のためのホルダー（１３０）と、
前記ホルダーのための移動（変位)ユニットと、
少なくとも１つの検査体の接触のための接触ユニット（１５０）であって、この接触ユニットは移動（変位)可能であり、前記光学軸に垂直な１方向において前記ホルダーの長さの半分の長さを最大、有する接触ユニットと備え、前記基板上に少なくとも１つの検査体（３０１）の検査のために接触し、前記検査のために、光学軸（１０２）を備えた検査装置が用いられる装置。
【請求項２０】
前記接触ユニットは基本的に前記光学軸に垂直な２つの方向においてホルダーの大きさの半分の大きさを最大限有する請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
光学軸（１０２）に関し移動（変位)可能な基板のためのホルダー（１３０）と、
前記基板の検査の間、前記光学軸及び前記ホルダーに対して、変位可能な接触ユニット（１５０）とを備え、基板（１４０）を備えた少なくとも１つの検査体の検査のために接触し、前記検査のために、光学軸（１０２）を備えた検査装置が用いられる装置。
【請求項２２】
前記接触ユニットは、少なくとも５センチ、好ましくは少なくとも２０センチ、移動（変位)可能である請求項１７〜２１のいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
前記接触ユニットは、検査されるべき検査体の検査されるべき領域が前記接触ユニットにより覆われないような大きさを有する請求項１７〜２０のいずれか１項記載の装置。
【請求項２４】
前記接触ユニットは、検査の間、前記検査領域（３０２）より大きいサイズを有する請求項１７〜２３のいずれか１項記載の装置。
【請求項２５】
前記接触ユニットは、前記光学軸に対しての移動（変位)のために駆動機構（１５２）を備えた移動（変位)ユニットに接続される請求項１７〜２４いずれか１項記載の装置。
【請求項２６】
同期ユニット（１６０）が存在し、前記接触ユニット及び前記ホルダーの前記移動（変位)ユニットと同期をとる請求項１７〜２５のいずれか１項記載の装置。
【請求項２７】
前記接触ユニットは接触のための接触ピンを有する請求項１７〜２６のいずれか１項記載の装置。
【請求項２８】
前記接触ユニット（１５０）に接触するための前記接触ピンは、１枚の基板の検査の間、相互に動かない請求項２７記載の装置。
【請求項２９】
前記接触ユニット（１５０）に接触するための前記接触ピンは、相互に動かない請求項２７記載の装置。
【請求項３０】
前記接触ユニット（１５０）は異なる大きさの検査体に対し調整可能である請求項１７〜２９のいずれか１項記載の装置。
【請求項３１】
前記検査体は接触アセンブリ（２００）を備えた少なくとも１つのディスプレイ（３０１）である請求項１７〜３０のいずれか１項記載の装置。
【請求項３２】
前記装置は真空において用いられるようになっている請求項１７〜３１のいずれか１項記載の装置。
【請求項３３】
前記接触ユニットは外部の制御ユニット（１６２）及び／又は計測ユニット（１６２）に接続されている請求項１７〜３２のいずれか１項記載の装置。
【請求項３４】
前記接触ユニットは前記基板の検査の間、移動（変位)可能である請求項１７〜３２のいずれか１項記載の装置。
【請求項３５】
真空状態にし得る検査チャンバ（１０８）と、
光学軸（１０２）を備えた粒子ビームコラム（１０４）と、
請求項１７乃至３４のいずれかの装置とを含む検査システム。
【請求項３６】
ホルダーに基板を置き、
接触ユニットに第１の検査体を接触させ、
前記第１の検査体の前記第１の領域が検査装置の検査範囲内になるように、相互に前記基板及び前記光学軸を位置決めし、
前記検査体の前記第１の領域を検査し、
前記第１の検査体の少なくとも一つの更なる領域が前記検査装置の前記検査範囲内になるように、前記基板及び前記光学軸をそれぞれ相互に移動（変位)させ、
前記検査体の前記更なる領域を検査し、
更なる検査体が接触するように、相互に前記接触ユニット及び前記基板を移動（変位)させるステップを含む、検査のために光学軸を有する検査装置が用いられ、いくつかの検査体を持った基板を検査するための方法。
【請求項３７】
前記検査装置の前記光学軸は前記基板に対して位置決めされ、前記接触ユニットは前記基板に対して移動（変位)する請求項３６記載の方法。
【請求項３８】
前記検査範囲は光の光学システムにより検出される請求項３６又は３７記載の方法。
【請求項３９】
前記接触ユニットは前記検査体の異なる形に適用される請求項３６〜３８のいずれか１項記載の方法。
【請求項４０】
少なくとも１つの検査体を備えた基板のためのホルダー（１３０）と、
前記光学軸（１０２）の動かすための変位ユニットと、
少なくとも１つの検査体の接触のための接触ユニットと（５０）であって、前記光学軸に対して変位可能であり、前記ホルダーに対して独立であり、光学軸に垂直な１方向において前記ホルダーの大きさの半分の大きさを基本的に最大限有する接触ユニットとを備え、検査のために光学軸を備えた検査装置が用いられ、前記基板上の少なくとも１つの検査体（３０１）の検査のための接触を行う装置。
【請求項４１】
前記接触ユニットは光学軸に垂直な２つの方向において、前記ホルダーの大きさの半分の大きさを基本的に最大限有する請求項４０記載の装置。
【請求項４２】
基板のためのホルダー（１３０）に対して移動（変位)可能である光学軸（１０２）と、
前記光学軸及び前記ホルダーに関して、前記基板の検査の間、移動（変位)可能である接触ユニット（１５０）と、
を備え、検査のために光学軸を備えた検査装置（１０２）が用いられ、前記基板（１４０）上の少なくとも１つの検査体の検査のために接触する装置。
【請求項４３】
前記接触ユニットは少なくとも５０mm、好ましくは少なくとも２００mm、移動（変位)可能である請求項４０〜４２のいずれか１項記載の装置。
【請求項４４】
前記接触ユニットは前記検査体の検査されるべき領域が前記接触ユニットにカバーされないような大きさを有する請求項４０〜４３のいずれか１項記載の装置。
【請求項４５】
前記接触ユニットは、検査の間、前記検査領域（３０２）より大きい大きさを有する請求項４０〜４４のいずれか１項記載の装置。
【請求項４６】
前記接触ユニットは前記光学軸に対する移動（変位)のための駆動機構（１５２）を備えた移動（変位)ユニットに接続される請求項４０〜４５のいずれか１項記載の装置。
【請求項４７】
同期ユニット（１６０）が存在し、前記接触ユニットの前記移動（変位)ユニット及び更なる移動（変位)ユニットとの同期を行う請求項４０〜４６のいずれか１項記載の装置。
【請求項４８】
前記更なる移動（変位)ユニットは前記光学軸のための移動（変位)ユニットである請求項４７記載の装置。
【請求項４９】
前記接触ユニットは接触のための接触ピンを有する請求項４０〜４８のいずれか１項記載の装置。
【請求項５０】
前記接触ユニット（１５０）は異なるサイズの検査体に適用可能である請求項４０〜４９のいずれか１項記載の装置。
【請求項５１】
前記検査体は１つの接触子（２００）を備えた少なくとも１つのディスプレイ（３０１）である請求項４０〜５０のいずれか１項記載の装置。
【請求項５２】
前記接触ユニットは外部の制御ユニット（１６２）及び／又は計測ユニット（１６２）に接続される請求項４０〜５１のいずれか１項記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
また、他の分野において、ますます多くの要素が検査されなければならない。これは、例えば、マイクロエレクトロニック、及び／又はマイクロメカニック要素である。これらの要素は、例えば、薄膜トランジスタ、チップの接続ネットワーク、トランジスタ、エミッタアレイの電子エミッタ、ディスプレイのピクセル（画素）のための電極、アレイ又は他の要素のマイクロメカニックミラーである。これらは複数の要素（１０００００〜数１００００００）として存在し、各要素は電気的に制御可能であることにおいて、識別できる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
例えば、表示要素の良好な画像品質を得るために、数百万画素の少数のみが欠陥を有することが許される。コスト効率のよい生産を保証するために、継続的にサイズが大きくなる表示要素にとって、インサイチュ（（その場で（in situ））で検査する方法において、大きな容量を提供することは重要なことである。そのような検査は、例えば、ＥＰ５２３５９４の出願に開示されている。この検査方法により、個々の画素は粒子ビームにより検査される。この粒子ビームは、供給線を介して適用される電荷を検出するため、及び／又は、画素電極上に電荷を荷電するための、いずれかのために用いられる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
そのような検査方法のために、接触ユニットが用いられる。それは一方では、外部デバイスへの信号転送を可能とし、他方では、電子ビームによる走査を可能とする。これにより、現技術水準によれば、異なる解決法が存在する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
ディスプレイが検査される場合、そのディスプレイに電気的に接触するフレームをディスプレイの領域の周りに配置することができる。通常、１枚の基板上に、５〜６枚のディスプレイが配置されている。電子ビームシステムの限られた検査範囲に鑑みると、１つのディスプレイのみが検査可能である。その理由は、更なるディスプレイの検査のためには、接触ユニットが上げられ、基板が動かされ、接触ユニットを次のディスプレイにセットするからである。しかしながら、このような構成を用いると、粒子ビームの走査が届き得る表面全体のディスプレイのみしか検査され得ない。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
更に、１枚のガラス基板の全てのディスプレイに同時に接触する接触フレームがある。他のディスプレイが検査される場合、そのような接触フレームが基板に配置される。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
これにより、本発明の中で検査体は、例えば、個々の回路、ディスプレイ、一群のディスプレイ、他のマイクロエレクロトニック又はマイクロメカニックな要素のアレイであり、こららは、例えば、回路の領域間でのショート及び接触不良が検査される。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明の上述の特徴によって、接触ユニットを交換する必要なしに、異なる形の検査体の接触も可能となる。更に、検査装置の検査範囲を超えるようなサイズの検査体も、本検査装置によって検査することが可能である。この脈絡において、計測信号を発生するためのコンポーネントは検査装置として理解される。それらは、主に、粒子ビームを発生するソース、計測信号を取得するために用いられる、基板上のビームをガイドするためのビーム形成及びビーム偏向要素(beam shaping- and beam-deflection components) 、検出ユニット上に計測信号をガイド、及び／又は、イメージするための要素及び検出ユニットである。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
本発明の主要な特徴は、接触するための装置である。これは基板及び対応する移動（変位)ユニットのためのホルダーを含む。更に、移動（変位)可能な接触ユニットも存在し、これは粒子ビームテスターの光学軸に垂直なす少なくとも１の方向を有し、これはその方向におけるホルダーの寸法の最大半分である。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明により改善し得る装置は、基板よりも大きいホルダーを有することもできる。基板がホルダーよりも大きい場合、接触ユニット及びホルダーとの間の上述した相対的な大きさは、少なくとも検査されるべき基板との関係となる。これは、相対的大きさが基板に対する接触ユニットとして与えられることを意味する。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
これにより、接触ユニットが粒子ビームテスターの光学軸に垂直な２つの方向を有し、その方向におけるホルダの寸法が最大半分であることが特に好ましい。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
これにより、検査チャンバは真空化されれば好ましい。更に、粒子ビームコラムが電子ビーム・コラムであれば好ましい。これにより、特にエミッタ、偏向ユニット、及びビーム・シェーピング光学部品(beam shaping optics)がコラム内に含まれることになる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
使用される用語が図９に関連して説明される。図９はサンプル支持体１３０上のガラス基板１４０の平面図を示す。この基板上に、６個のディスプレイ３０１が形成されている。例として、このディスプレイは、均一な距離によりガラス基板上に配置されている。ガラス基板は、検査チャンバ（図１参照）内に設けられる。これはディスプレイの検査の間、電子ビーム・コラムが図９に示されるガラス基板の上に位置することを意味する。明確にするために、電子ビームの光学軸１０２は図９に示される。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
ディスプレイの検査のために、電子ビームは偏向器によりガラス基板上で走査される。これにより、領域３０２は電子ビームにより検出される。この領域は検査領域３０２として示され、灰色により示される。そして、検査領域３０２は、粒子ビームにより最大限に、若しくは、合理的な方法により、検査され得る領域である。これは検査範囲３０２の外部のサンプルの領域において、この検査方法によって集められる計測結果はないことを示す。結果として、その検査範囲は検査されるべき基板とは独立となる。これは検査装置、即ち、電子ビーム検査デバイスの特性である。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
図８ａは、ガラス基板１４０を図示する。接触ユニット８０６は、検査の実現のために全てのディスプレイ１０８に接触する。全てのディスプレイ８０８に信号を供給することができるようにするために、若しくは、全てのディスプレイからの信号を受信することができるようにするために、それぞれ接触ユニット８０６は接続ブリッジ(bond bridge)８１０を有する。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
図８ｂ内のアセンブリ８００ｂは、アセンブリ８００に比較され得る。接触ユニット８０６ｂは、単にグリッドのような接続ブリッジ８１０ｂを含む。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
図１は、検査システム１００を図示する。この検査システムは、粒子ビームの手段によって、ガラス基板１４０、若しくは、他の基板上に設けられた、例えばディスプレイのような検査対象を検査する。この検査システムは、例えばコラム１０４などの検査装置をその一部として含む。コラム内では、粒子線がエミッタ１０において生成される。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
本発明に関して、粒子線は、例えば、電子又はイオンビーム、レーザビームのような電荷された粒子（粒子ビーム）のビームとして理解されるべきである。これは、粒子がイオン、原子、電子、他の粒子である粒子ビームと同様に、粒子状の粒子、又はフォトンであるレーザビームとして、量子ビームという言葉が理解されるべきであることを意味する。例として、以下においては電子ビームを指す。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
更に、図１は、穴１２、偏向器１４及びレンズ１６を図示する。これらは光学軸１０２に沿って電子ビームをイメージ化するのに役立つ。移動（変位)ユニット１３２及び１３４は、検査チャンバ１０８に設けられる。サンプル支持体１３０は、移動（変位)ユニットとともにＸ方向及びＹ方向に移動（変位)され得る。図１において、これは相互に移動（変位)可能な２つの移動（変位)ユニットによって実現される。こうしてＸ方向における移動（変位)ユニットの移動（変位)に関しては、基板を備えたホルダーと同様、移動（変位)ユニット１３２がＸ方向に動かされる。それとは独立に、移動（変位)ユニット１３２はＹ方向におけるガラス基板１４０を備えたサンプル支持体１３４の移動（変位)のために制御される。これにより、基板を備えたサンプル支持体はＸ−Ｙ平面内で動かされ得る。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
以下、図１を参照して、検査システムの機能を説明する。エミッタ１０により生成される電子ビームは、検査チャンバ１０８内のレンズ１６と同様に、ビームの位置決め及び走査のための孔１２、偏向器１４のような要素を介してガイドされる。追加的に、ビームは光学的要素により形成される。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
検査方法のために、電子ビームは基板上のディスプレイの要素に指向される。これにより、検査されるべき要素の全領域は領域の荷電がなされ得る。更に、放出された２次粒子を検出器により計測することも可能である。２次電子の計測によって、トポロジー(topologies)又は物質成分が他の検査方法によって検出され得ると同様に、ディスプレイ上の電位分布を計測することができる。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
移動（変位)ユニット（１３２＋１３４）は、検査チャンバ１０８内に設けられる。これは、例えば２つの線形移動（変位）ユニットにより形成される。これにより、Ｘ方向の移動（変位)は移動（変位)ユニット１３４によりなされ、Ｙ方向の移動（変位)は移動（変位)ユニット１３２によってなされる。これらの移動（変位)ユニットは、制御ユニット１３５に接続される。この制御ユニットは、Ｘ−Ｙ平面内でホルダー１３０（サンプル支持体）の位置決めを制御する。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
この接触アセンブリ２００、若しくは、いくつかの接触アセンブリ２００は、基板上のディスプレイとともに設けられる。ディスプレイの制御ライン又は計測ラインは、フィードラインを介して、接触アセンブリのパッド２１２に接続される。パッドは、Ｘ方向２２０において標準化された距離を有し、方向２２２において標準化された距離を有する。これにより、自動化された接触が可能となる。実施例に示される２つの例は、接触パッドの数及び配置に関して異なる。表示要素を伴った接触ユニットの接触のために、接触ユニットの接触ピンは接触アセンブリ２００の接触パッド上に導かれる。これにより、標準化された接触アセンブリのための個々の接触ピンは、好ましくはそれぞれに関して固有の距離を有する。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
接触ユニットの接触ピンは、接触アセンブリの接触経路との接触のために、互いに動かないようになっている。これは、互いに全ての接触ピンに適用さる。ここで、接触ピンの少なくとも９０パーセント、好ましくは接触ピンの１００パーセントとして理解されるべきである。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
以下において、検査システム１００による検査方法が電子ビームの方法により記述されるが、本発明はそれに制限されるものではない。可能な検査方法は、例えば、入力リードを介してディスプレイの画素の電極を電気的にチャージすることである。時間軸上の電位及びそのばらつきは、粒子ビームにより計測され得る。これにより、寄
生素子及びその幅を決定することができると共に、ショートした回路若しくは接触不良などの欠陥を検出することも可能である。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８０】
以上により、同期ユニット１６０により、基板１４０及び接触ユニットは同期して移動される。基板及び接触ユニットの移動（変位)は、電気的接触を切断することなく実現され得る。接触ユニット自身の駆動機構によって、接触ユニットを持ち上げ、基板から外された接触ユニットを動かすことも可能である。この場合において、それは新しく置かれることとなる。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９７】
図４に見られるように、接触ユニット１５０は計測されるべきディスプレイに対して、ディスプレイ４０１の４つの全ての場所に直接接触をするわけではない。接触ユニット１５０とディスプレイの間に接触が形成されることにより、接触アセンブリ２００又は接触アセンブリ２００のいくつかが配置され、接触が様々な寸法で生じることは、本発明にとって有利である。図４において、全ての接触アセンブリ２００は各ディスプレイ４０１の上側に配置されている。従って、この場合において、接触ユニット１５０の接触はディスプレイの寸法に拘わらず生じる。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１３】
上記実施例は、例示的に、荷電粒子のビームによる検査方法について言及した。これらの検査方法はとても敏感なものであるので、ビーム源、ビームの形成、ビームの偏向及び信号の検出を行う検査装置を動かさないほうが好ましい。これにより、例えば、振動によるミスアライメントが少なくなる。
【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１４】
更に、アライメント感受性の低い検査方法が、図１０に説明される。従って、検査装置の光学軸もまた、以下の例において動かされ得る。図１０は、ビームを形成する光学要素９１１を備えたランプ９１０の形状のビームソースを図示する。平行な光ビームは、ビーム分割器９１２を介して基板１４０の表面の方向に案内される。例えば、ディスプレイの形をした検査体は、基板上に配置される。ビームは、計測ヘッド９１４内で偏向される。更に、検査されるべきディスプレイに容量的に結合する計測ヘッド９１４内にモジュレータがある。このモジュレータは、ディスプレイの個々の画素に結合する容量次第で、その局所の伝送特性を変える。光学軸１０２に沿って伝搬する光のビームは、その変化する伝送特性により影響される。この画素に対応する光ビームの局所のばらつきが、計測ヘッド９１４のところで偏向される光ビームをビーム分割器に通過させ、光学システム９１７を備えた検出カメラ９１６上に画像化させることにより計測される。
【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１６】
図１１ａ内において、ガラス基板１４０を備えたサンプル支持体１３０が図示されている。このサンプル支持体は、検査の間、ほぼ固定されている。図１１ａにおいて、その配置が示され、まず、ディスプレイの第１の領域３０３が検査される。従って、とりわけ検査装置若しくはその光学軸１０２はそれぞれ、グレーで示されている検査領域３０２が少なくとも検査されるべき第１のディスプレイの第１の領域３０３をカバーするように位置決めされる。光の光学方法では、例えば、全体的な検査範囲は、準平行光子ビームにより検査され得る。これにより、検査されるべきディスプレイの真上にある計測装置は、容量結合を介してディスプレイの画素特性に反応する光学モジュレータを含む。この光学モジュレータは、平行光子ビームのための伝送特性を変化させる。カメラ上の光子ビームの画像は、評価され得る計測結果となり得る。