【手続補正書】
【提出日】平成23年1月26日(2011.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
画像を形成するように構成された表示画素アレイと、
光学的補正構造物と、を具備し、
前記表示画素アレイの各表示画素は、前記基板上に配置されて入射可視光をインターフェロメトリック変調するように構成された少なくとも１つの個々にアドレス可能な光変調素子を含み、前記少なくとも１つの個々にアドレス可能な光変調素子は、
前記基板上に配置された反射層を含む光学スタックと、
可動素子と、
前記反射層と前記可動素子間の空隙部であって、前記可動素子の移動とともに大きさが変更され、これによって前記画像の一部を形成する入射可視光をインターフェロメトリック変調する光学的空洞部を形成する空隙部と、を具備し、
前記表示画素アレイは、前記基板と前記光学的補正構造物間に配置され、
前記少なくとも１つの個々にアドレス可能な光変調素子に関して、前記光学スタックは前記基板により近くかつ、前記可動素子は前記光学補正構造物により近く配置され、
前記光学スタックから前記光学補正構造物へと延長する光路は、前記可動素子の移動とともに大きさが変更され、これによって前記画像の一部を形成する入射可視光をインターフェロメトリック変調するただ１つの空隙部を通過する表示装置。
【請求項２】
前記光学補正構造物は、ブラックマスクを具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記光学補正構造物は、カラーフィルタを具備する請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記光学補正構造物は、反射防止層をさらに具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記光学補正構造物は、散乱素子を具備する平面化層をさらに具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記光学補正構造物は、ブラックマスク及びディフューザを具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記光学補正構造物は、カラーフィルタ及びディフューザを具備する請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項８】
平面化層をさらに具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記基板は、少なくても部分的に反射性である請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記光学補正構造物は、前記基板内を透過された前記光の入射角に関して反射色のカラーシフトを軽減させるホログラフィー膜を具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記光学補正構造物は、ブラックマスクとカラーフィルタとを具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記光学補正構造物は、受動的光学補正構造物である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記基板は、少なくとも部分的に透過性である請求項１に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記基板は、少なくとも部分的に透過性でありかつ部分的に反射性である請求項１に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの光変調素子は反射性である請求項１に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記光学補正構造物はディフューザを具備する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記光学補正構造物は、複数の散乱素子を具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記光学補正構造物は、マイクロレンズアレイを具備する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記光学補正構造物は、回折光学素子を具備する請求項１に記載の表示装置。
【請求項２０】
基板と、
画像を形成するように構成された表示画素アレイと、
光を補正するための手段と、を具備し、
前記表示画素アレイの各表示画素は、光をインターフェロメトリック変調するための手段を具備し、該インターフェロメトリック変調するための手段は、
前記基板上に配置された反射層を含む光学スタックと、
可動素子と、
前記光学スタックと前記可動素子間に配置された光学的空洞部と、を具備し、
前記光学的空洞部は、前記可動素子の移動とともに大きさが変更され、これによって前記画像の一部を形成すべく入射可視光をインターフェロメトリック変調する空隙部を具備し、
前記表示画素アレイは、前記基板と前記光を補正するための手段間に動作可能に配置され、
前記光をインターフェロメトリック変調するための手段に関して、前記光学スタックは前記基板により近くかつ、前記可動素子は前記光を補正するための手段により近く配置され、
前記光学スタックから前記光を補正するための手段へと延長する光路は、前記可動素子の移動とともに大きさが変更され、これによって前記画像の一部を形成すべく入射可視光をインターフェロメトリック変調するただ１つの空洞部を通過する表示装置。
【請求項２１】
前記光をインターフェロメトリック変調するための手段は、少なくとも１つのインターフェロメトリック変調器を具備する請求項２０に記載の表示装置。
【請求項２２】
前記光を補正するための手段は、ブラックマスクと、回折光学素子と、カラーフィルタと、ディフューザと、反射防止層と、複数の散乱素子と、マイクロレンズアレイと、ホログラフィー膜からなる群から選択された構造を具備する請求項２０に記載の表示装置。
【請求項２３】
前記基板からの前記光を補正するための手段は、ディフューザを具備する請求項２０に記載の表示装置。
【請求項２４】
基板と、
前記基板上に配置されるとともに入射可視光を変調するように構成された複数の個々にアドレス可能なインターフェロメトリック光変調素子と、
少なくとも１つの光学的補正構造物と、を具備し、
前記インターフェロメトリック光変調素子の各々は、前記基板上に配置された反射層を含む光学スタックと、空隙部を具備し、前記光学スタックと可動壁間に配置された空洞部と、を具備し、
前記空洞部は、前記可動素子の移動とともに大きさが変更され、これによって前記画像の一部を形成すべく入射可視光をインターフェロメトリック変調するように構成され、
前記複数の個々にアドレス可能なインターフェロメトリック光変調素子は前記基板と前記光学的補正構造物間に配置され、前記光学的補正構造物は、反射防止層と、回折光学素子と、光を散乱する構造と、ディフューザと、マイクロレンズアレイと、ホログラフィー膜からなる群から選択された構造を具備し、
前記複数の個々にアドレス可能な光変調素子の各々に関して、前記光学スタックは前記基板により近くかつ、前記可動素子は前記光学補正構造物により近く配置され、
前記光学スタックから前記光学補正構造物へと延長する光路は、前記可動壁の移動とともに大きさが変更され、これによって前記画像の少なくとも一部を形成すべく入射可視光をインターフェロメトリック変調するように構成されたただ１つの空洞部を通過する空間光変調器。
【請求項２５】
前記少なくとも１つの光学補正構造物は、ブラックマスクを具備する請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの光学補正構造物は、カラーフィルタを具備する請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項２７】
平面化層をさらに具備する請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項２８】
前記基板は、少なくとも部分的に反射性である請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項２９】
前記光学補正構造物は、受動的光学補正構造物である、請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項３０】
前記基板は、少なくとも部分的に透過性である請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項３１】
前記基板は、部分的に透過性でありかつ部分的に反射性である請求項２４に記載の空間光変調器。
【請求項３２】
基板と、
前記基板の上方に配置され、前記基板内を透過された光をインターフェロメトリック変調するように構成された複数の光変調素子と、
前記基板の下方に配置された第１の光補正構造物と、
前記基板と、前記光変調素子との間に配置された第２の光補正構造物であって、該第２の光補正構造物の少なくとも一部が実質的に非平面である第２の光補正構造物と、
を具備する空間光変調器。
【請求項３３】
前記基板は光に対して透過である請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項３４】
前記第１の光補正構造物は、ディフューザを含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項３５】
前記第２の光補正構造物は、複数の散乱素子を含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項３６】
前記第２の光補正構造物は、マイクロレンズアレイを含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項３７】
前記第２の光補正構造物は、回折光学素子を含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項３８】
前記第２の光学補正構造物は、散乱素子を含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項３９】
前記第１の光学補正構造物は、受動的光学補正構造物である、請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４０】
前記第２の光学補正構造物は、受動的光学補正構造物である、請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４１】
前記第２の光学補正構造物は、複数の散乱素子、マイクロレンズアレイ、ディフューザ、ブラックマスク、回折光学素子からなる１つまたはそれ以上の群を含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４２】
前記第１の光学補正構造物は、ディフューザ、カラーフィルタ、ブラックマスク、複数の散乱素子、マイクロレンズアレイ、ホログラフィー膜、回折光学素子からなる１つまたはそれ以上の群を含む請求項４１に記載の空間光変調器。
【請求項４３】
前記光変調素子は、各々インターフェロメトリック変調器を含む請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４４】
前記光変調素子は各々空洞部と可動壁とを含む請求項４３に記載の空間光変調器。
【請求項４５】
前記第１の光学補正構造物は、前記第２の光学補正構造物とは異なる光学効果を達成する請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４６】
前記光変調素子と、前記第２の光学補正構造物との間に平面化層をさらに備える請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４７】
前記第１の光学補正構造物は、実質的に非平面である請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４８】
前記第２の光学補正構造物と前記複数の光変調素子間に平面化層をさらに備え、該平面化層は、前記第２の光学補正構造物の非平面部に接触する請求項３２に記載の空間光変調器。
【請求項４９】
基板と、
前記基板の上方に配置され、前記基板内を透過された光をインターフェロメトリック変調するように構成された複数の光変調素子と、
前記基板の下方に配置された第１の光補正構造物と、
前記基板と、前記光変調素子との間に配置された第２の光学補正構造物と、
を具備し、
前記第２の光学補正構造物は、複数の散乱素子、マイクロレンズアレイ、ディフューザ、回折光学素子からなる１つまたはそれ以上の群を含む空間光変調器。
【請求項５０】
前記第２の光学補正構造物は、非平面部を備える請求項４９に記載の空間光変調器。
【請求項５１】
前記第２の光学補正構造物と前記複数の光変調素子間の平面化層をさらに備え、該平面化層は、前記第２の光学補正構造物の非平面部に接触する請求項５０に記載の空間光変調器。
【請求項５２】
基板と、
前記基板の上方に配置され、前記基板内を透過された光をインターフェロメトリック変調するように構成された複数の光変調素子と、
前記基板の下方に配置された第１の光補正構造物と、
前記基板と、前記光変調素子との間に配置された第２の光学補正構造物と、
を具備し、
前記第１の光学補正構造物は、前記第２の工学補正構造物とは異なる光学効果を達成するように構成されている空間光変調器。
【請求項５３】
前記第２の光学補正構造物と前記複数の光変調素子間の平面化層をさらに備え、該平面化層は、前記第２の光学補正構造物の非平面部に接触する請求項５２に記載の空間光変調器。