【手続補正書】
【提出日】平成21年1月16日(2009.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子分散液晶セルを形成する方法であって、
ａ）第１および第２の基板の間でモノマーおよび／またはオリゴマーから多孔質ポリマーマトリクスを調製し、ここでは、前記多孔性ポリマーマトリクスの気孔は第１の材料好ましくは第１液晶材料で充填され、
ｂ）前記多孔質ポリマーマトリクスの表面から前記第２の基板をリフト・オフし、
ｃ）前記多孔質ポリマーマトリクスから前記第１の材料を除去し、
ｄ）工程ｂ）において前記第２の基板の表面がリフト・オフされた、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面に第３の基板を配置し、
ｅ)いくつかのまたは実質的に全ての前記多孔質ポリマーマトリクスの前記気孔を液晶である第２の材料で充填する、
工程を具備する高分子分散液晶セルを形成する方法。
【請求項２】
少なくとも前記第２の基板は、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面特性と十分に異なる表面特性を有し、前記第２の基板を工程ｂ）において容易にリフト・オフ可能とすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の基板は、第１の溶媒に溶解する表面層を有し、および前記第２の基板が前記第１の溶媒に浸漬された後に工程ｂ）を行われることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
前記ポリマーマトリクスが実質的に親水性の表面特性を有する場合、前記第２の基板が実質的に疎水性の表面特性を有する、および、その逆であることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記第２の基板は、前記第２の基板に対して、0から180度の範囲、好ましくは0から10から180度、より好ましくは９０度より大きい範囲である、モノマー溶液またはオリゴマー溶液またはモノマーおよびオリゴマー溶液の接触角を有することを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記第２の基板は、滑らかな、好ましくは20μｍ以下の表面粗さがある表面を有することを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記第２の基板は、低表面エネルギーを有し、また好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ポリメタクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）、ポリスチレン、アセタール、エチル酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ、テドラー（tedlar））、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、テフロン（登録商標））、表面が改質されたガラス、例えばシラン化ガラスを具備する群から選択されることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記多孔質ポリマーマトリクスは、PN393プレポリマー、ポリメタクリル酸、ポリウレタン、ＰＶＡ、エポキシを有する群から選択される材料で形成されることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記第２の基板は、PET、ポリ酢酸ビニル(PVA)、ポリスチレン、アセタール、エチル酢酸ビニル（EVA）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ、テドラー（tedlar））、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、テフロン（登録商標））を具備する群から選択され、
また前記多孔質ポリマーマトリクスはポリメタクリル酸、ポリウレタン、PVA、エポキシを具備する群から選択される材料で製造されることを特徴とする請求項７および８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記工程ｄ）は、工程ｅ）の後または工程ｅ）と同時に生じることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記工程ｂ）は、工程ｃ）の後に生じることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記工程ｃ）および工程ｅ）は同時に生じることを特徴とする先行の請求項、請求項１０および１１を含む、いずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記工程ｃ）、ｄ）およびｅ）は同時に生じることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
工程ｃ）は、以下の第２の溶媒での洗浄、蒸発、昇華、分解、気体除去および吸引の処理のいずれかひとつまたは組み合わせにより生じることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記第２の溶媒は、前記第１の材料を溶解する能力があることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記第2および前記第1の溶媒は、メタノール、アセトン、トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、2-プロパノール、1-プロパノール、水、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)を具備する群から独立して選択されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
【請求項１７】
工程ｃ）の後に、ｃ‘）好ましくは真空下で乾燥する工程が後に続くことを特徴とする請求項14から16のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
前記乾燥は20℃〜200℃、好ましくは50℃〜90℃、好ましくは８０℃前後の温度範囲において行われることを特徴とする請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
前記第1の基板は前記溶媒中での溶解に耐性を示すことを特徴とする請求項14〜18のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
前記第2の基板は前記溶媒中での溶解に耐性を示さないことを特徴とする請求項14〜19のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
前記第1および第3の基板の少なくとも1つは可視光線を通すことを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
前記第1および第3の基板は導電性である、または、導電層で被覆されていることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
ｌ）前記多孔質ポリマーマトリクスの他の表面から前記第1の基板をリフト・オフする付加的な工程を含み、工程ｌ）は以下のa)とｂ）との間、工程ｂ）と同時、ｂ）とｃ）との間、ｃ）とｄ）との間、ｄ）とｅ）との間、工程ｂ）とｅ）と同時および工程ｂ）、ｃ）およびｅ）と同時、から
選択されるいずれかの点で行われる、
ことを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
前記第1の基板は、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面特性と十分に異なる表面特性を有し、前記第1の基板を工程ｌ）において容易にリフト・オフ可能とすることを特徴とする請求項23に記載の方法。
【請求項２５】
前記第1の基板は、請求項2〜7のいずれかにおいて、前記第2の基板に関して定義されたような少なくとも１つの特性を有することを特徴とする請求項23〜24のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
m)第４の基板を、工程ｌ）の後に工程m)が生じる前記多孔質ポリマーマトリクスの前記他の表面に配置する付加的な工程を具備することを特徴とする請求項23〜25のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
前記ポリマーマトリクスの前記他の表面は、工程ｄ）において前記第3の基板が配置された前記表面の反対側であることを特徴とする請求項26に記載の方法。
【請求項２８】
前記第2の材料、ここでは液晶は、色素がドープされていることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
前記第1の材料は液晶材料であることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項３０】
前記第1および第２の液晶材料は異なることを特徴とする請求項29に記載の方法。
【請求項３１】
先行の請求項のいずれかに記載の方法によって、製造された高分子分散液晶セル。
【請求項３２】
前記多孔質ポリマーマトリクスは、第1と第3の基板とが接触しているにもかかわらず、1つの基板、例えば、第1の基板にだけ接着し、あるいは、それは、第3と第4の基板とが接触しているのもかかわらず、基板に接着していない、
ことを特徴とする請求項31に記載のセル。
【請求項３３】
ディスプレイ、スマートウインドウ、膜、オプティカルバルブ、ブラッグ格子、光学的に敏感なメモリ、赤外線シャッター、ガスフローセンサー、光学波面センサー、光学波面コレクター、圧力センサーおよび／または偏光板における請求項31〜32のいずれかに記載の高分子分散液晶セルの使用。