【手続補正書】
【提出日】平成21年2月23日(2009.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー末端基の少なくとも一部が、式、−Ｏ−Ｓｉ（Ｘ）（Ｙ）（Ｚ）（式中、同一でもまたは異なってもよいＸおよびＹは水および／またはアルコールとの反応によってケイ素から容易に置換可能な基であり、Ｚは（ａ）Ｃ1〜Ｃ20直鎖または分枝鎖アルキル基、（ｂ）脂環式基、（ｃ）芳香族基、（ｄ）水素、および（ｅ）水および／またはアルコールによってケイ素から容易に置換可能な基からなる群から選択され、（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）のそれぞれは、Ｏ、Ｎ、Ｐ、およびＳからなる群から選択されるメンバーで任意に置換されていてもよい）で表されるケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルであって、ケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルの反復単位の約５０〜１００モル％がトリメチレンエーテル単位である、ケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテル。
【請求項２】
照射に際してカチオン種を発生させる光重合開始剤と、カチオン重合する反応性モノマーまたはオリゴマーと、請求項１に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルを含んでなる架橋剤とを含んでなる、カチオン硬化された放射線硬化性コーティングまたはインク。
【請求項３】
有機ポリオールフィルム形成化合物および請求項１に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルを含んでなる組成物。
【請求項４】
（ａ）ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルエーテルグリコール、および
（ｂ）式、Ｓｉ（Ｗ）（Ｘ）（Ｙ）（Ｚ）（式中、Ｗ、Ｘ、およびＹは水および／またはアルコールとの反応によってケイ素から容易に置換可能な基であり、Ｚは（ｉ）Ｃ1〜Ｃ20直鎖または分枝鎖アルキル基、（ｉｉ）脂環式基、（ｉｉｉ）芳香族基、（ｉｖ）水素、および（ｖ）水および／またはアルコールによってケイ素から容易に置換可能な基からなる群から選択され、（ｉ）、（ｉｉ）、および（ｉｉｉ）のそれぞれは、Ｏ、Ｎ、Ｐ、およびＳからなる群から選択されるメンバーで任意に置換されていてもよい）で表されるケイ素含有反応物質を含んでなる反応物質を提供するステップと、
前記ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルエーテルグリコールと前記ケイ素含有反応物質との反応を高温で実施するステップとを含んでなる、ケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルを調製する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
ポリトリメチレンエーテルグリコール反応物質の分子量および重合度は、実施例２ではそれぞれ１，０７９および１８．２７、および実施例３ではそれぞれ２，０３２および３４．１２であった。全末端基（ｍｅｑ／ｋｇ）は表現式２×１０6／Ｍｎから計算できる。実施例２および３のポリトリメチレンエーテルグリコール反応物質の総末端基は、それぞれ１８５３ｍｅｑ／ｋｇおよび９８４．２ｍｅｑ／ｋｇであった。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  ポリマー末端基の少なくとも一部が、式、−Ｏ−Ｓｉ（Ｘ）（Ｙ）（Ｚ）（式中、同一でもまたは異なってもよいＸおよびＹは水および／またはアルコールとの反応によってケイ素から容易に置換可能な基であり、Ｚは（ａ）Ｃ1〜Ｃ20直鎖または分枝鎖アルキル基、（ｂ）脂環式基、（ｃ）芳香族基、（ｄ）水素、および（ｅ）水および／またはアルコールによってケイ素から容易に置換可能な基からなる群から選択され、（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）のそれぞれは、Ｏ、Ｎ、Ｐ、およびＳからなる群から選択されるメンバーで任意に置換されていてもよい）で表されるケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルであって、ケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルの反復単位の約５０〜１００モル％がトリメチレンエーテル単位である、ケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテル。
2.  前記水および／またはアルコールとの反応によってケイ素から容易に置換可能な基が、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミド基、カルバメート基、尿素基、ケトキシミン基、アミン基、およびハロゲンからなる群から選択される、上記１に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテル。
3.  Ｘ、Ｙ、およびＺが、式、（−ＯＲ1）、（−ＯＲ2）、および（−ＯＲ3）（式中、同一または異なることができるＲ1、Ｒ2、およびＲ3はＣ1〜Ｃ12一価炭化水素ラジカル、−Ｐx−ＯＨ、および−Ｐx−ＯＳｉ（−ＯＲ1）（−ＯＲ2）（−ＯＲ3）（式中、Ｐxはポリトリメチレンエーテル、ポリ（トリメチレン−エチレンエーテル）、またはランダムポリ（トリメチレンエーテルエステル）のポリマー鎖を表す）からなる群から選択される）で表される、上記１に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテル。
4.  前記一価の炭化水素ラジカルがＣ1〜Ｃ12一価アルキル基である、上記３に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテル。
5.  約２５０〜約１０，０００の数平均分子量を有する、上記１〜４のいずれか一項に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテル。
6.  照射に際してカチオン種を発生させる光重合開始剤と、カチオン重合する反応性モノマーまたはオリゴマーと、上記１〜５のいずれか一項に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルを含んでなる架橋剤とを含んでなる、カチオン硬化された放射線硬化性コーティングまたはインク。
7.  有機ポリオールフィルム形成化合物および上記１〜５のいずれか一項に記載のケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルを含んでなる組成物。
8.  前記有機ポリオールフィルム形成化合物が、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ウレタン、ポリエステル、エポキシド、およびそれらの混合物からなる群から選択される、上記７に記載の組成物。
9.  コーティング、接着剤、インク、およびシーラントからなる群から選択される、上記７に記載の組成物。
10.  （ａ）ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルエーテルグリコール、および
（ｂ）式、Ｓｉ（Ｗ）（Ｘ）（Ｙ）（Ｚ）（式中、Ｗ、Ｘ、およびＹは水および／またはアルコールとの反応によってケイ素から容易に置換可能な基であり、Ｚは（ｉ）Ｃ1〜Ｃ20直鎖または分枝鎖アルキル基、（ｉｉ）脂環式基、（ｉｉｉ）芳香族基、（ｉｖ）水素、および（ｖ）水および／またはアルコールによってケイ素から容易に置換可能な基からなる群から選択され、（ｉ）、（ｉｉ）、および（ｉｉｉ）のそれぞれは、Ｏ、Ｎ、Ｐ、およびＳからなる群から選択されるメンバーで任意に置換されていてもよい）で表されるケイ素含有反応物質を含んでなる反応物質を提供するステップと、
前記ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルエーテルグリコールと前記ケイ素含有反応物質との反応を高温で実施するステップとを含んでなる、ケイ素含有ポリトリメチレンホモ−またはコポリエーテルを調製する方法。
11.  前記水および／またはアルコールとの反応によってケイ素から容易に置換可能な基が、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミド基、カルバメート基、尿素基、ケトキシミン基、アミン基、およびハロゲンからなる群から選択される、上記１０に記載の方法。