Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月31日(2011.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動雲台を制御しテレビカメラの撮像方向をプリセットする方式のテレビカメラ装置において、
前記電動雲台の制御をオープンループ方式とフィードバック方式に切換えて実行する制御手段と、
前記フィードバック方式による制御において設定される不感帯の幅をＡとＢ(Ａ＜Ｂ)に切換える切換手段とを設け、
前記制御手段は、前記オープンループ方式による制御を実行してから前記フィードバック方式による制御を実行してプリセット位置に制御し、プリセット位置に停止後は前記フィードバック制御により位置補正を実行し、
前記切換手段は、前記オープンループ方式による制御の後での前記フィードバック制御には前記不感帯の幅Ａを設定し、前記停止後のフィードバック制御には前記不感帯の幅Ｂを設定するものであることを特徴とするテレビカメラ装置。
【請求項２】
電動雲台を制御しテレビカメラの撮像方向をプリセットする方式のテレビカメラ装置における位置補正方法おいて、
前記電動雲台の制御をオープンループ方式とフィードバック方式に切換えて実行するステップと、
前記フィードバック方式による制御において設定される不感帯の幅をＡとＢ(Ａ＜Ｂ)に切換えるステップと、
前記制御手段は、前記オープンループ方式による制御を実行してから前記フィードバック方式による制御を実行してプリセット位置に制御するステップと、プリセット位置に停止後は前記フィードバック制御により位置補正するステップと、
前記切換手段が、前記オープンループ方式による制御の後での前記フィードバック制御には前記不感帯の幅Ａを設定するステップと、前記停止後のフィードバック制御には前記不感帯の幅Ｂを設定するステップとを備えることを特徴とする位置補正方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】テレビカメラ装置および位置補正方法
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月14日(2011.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のコンテンツデータと、前記複数のコンテンツデータのそれぞれに対応する管理情報であって前記コンテンツデータを再生するための管理情報とを、記録媒体から再生する再生手段と、
前記記録媒体に記録されたコンテンツデータの代表画像を表示装置に出力する出力手段と、
前記記録媒体に記録された複数のコンテンツデータのうち、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されていないコンテンツデータの代表画像とを前記表示装置に出力するように前記出力手段を制御する制御手段とを備えることを特徴とする再生装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記対応する管理情報が記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が記録されていないコンテンツデータの代表画像とを識別できるように、前記代表画像を表示するように前記出力手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の再生装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記対応する管理情報が記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が記録されていないコンテンツデータの代表画像とを、同一画面で表示するように前記出力手段を制御することを特徴とする請求項１または２に記載の再生装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記対応する管理情報が記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が記録されていないコンテンツデータの代表画像とを、別の画面で表示するように前記出力手段を制御することを特徴とする請求項１または２に記載の再生装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記表示装置が表示した複数の前記代表画像から選択された代表画像に対応した前記コンテンツデータの管理情報が前記記録媒体に記録されていた場合、前記選択された代表画像に対応したコンテンツデータの管理情報に基づき、前記選択された代表画像に対応したコンテンツデータを前記記録媒体から再生するように前記再生手段を制御し、前記選択された代表画像に対応したコンテンツデータの管理情報が前記記録媒体に記録されていない場合、前記選択された代表画像に対応したコンテンツデータの再生が禁止されていることを示す情報を前記表示装置に出力するように前記出力手段を制御することを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の再生装置。
【請求項６】
前記記録媒体に記録された前記複数のコンテンツデータはそれぞれファイルとして管理され、前記管理情報は、前記複数のコンテンツデータのファイルの記録日時の情報と、ファイル名の情報とを含むことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の再生装置。
【請求項７】
前記コンテンツデータは動画データであり、前記管理情報は前記動画データを頭出しするためのタイムマップ情報を含むことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の再生装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記複数のコンテンツデータにそれぞれ対応した前記管理情報が前記記録媒体に記録されているか否かを判別し、前記コンテンツデータに対応する管理情報が前記記録媒体に記録されていない場合、前記対応する管理情報が記録されていないコンテンツデータから代表画像を作成するように前記出力手段を制御することを特徴とする請求項１から７の何れか１項に記載の再生装置。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項に記載の再生装置の各手段としてコンピュータを機能させるためのプログラムを記憶したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項１０】
複数のコンテンツデータと、前記複数のコンテンツデータのそれぞれに対応する管理情報であって前記コンテンツデータを再生するための管理情報とを、記録媒体から再生する再生工程と、
前記記録媒体に記録されたコンテンツデータの代表画像を表示装置に出力する出力工程と、
前記記録媒体に記録された複数のコンテンツデータのうち、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されていないコンテンツデータの代表画像とを前記表示装置に出力するように前記出力工程を制御する制御工程とを備えることを特徴とする再生方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の再生装置は、複数のコンテンツデータと、前記複数のコンテンツデータのそれぞれに対応する管理情報であって前記コンテンツデータを再生するための管理情報とを、記録媒体から再生する再生手段と、前記記録媒体に記録されたコンテンツデータの代表画像を表示装置に出力する出力手段と、前記記録媒体に記録された複数のコンテンツデータのうち、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されていないコンテンツデータの代表画像とを前記表示装置に出力するように前記出力手段を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の再生方法は、複数のコンテンツデータと、前記複数のコンテンツデータのそれぞれに対応する管理情報であって前記コンテンツデータを再生するための管理情報とを、記録媒体から再生する再生工程と、前記記録媒体に記録されたコンテンツデータの代表画像を表示装置に出力する出力工程と、前記記録媒体に記録された複数のコンテンツデータのうち、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されているコンテンツデータの代表画像と、前記対応する管理情報が前記記録媒体に記録されていないコンテンツデータの代表画像とを前記表示装置に出力するように前記出力工程を制御する制御工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、コンテンツ再生リストファイルやタイムマップファイルなどの管理ファイルが存在しない場合でも、記録媒体に記録されているコンテンツデータの代表画像を管理ファイルが存在する場合と同様に表示装置に表示することができる。
また、本発明の他の特徴によれば、選択された代表画像に対応したコンテンツデータの管理情報が記録媒体に記録されていた場合には、前記選択された代表画像に対応したコンテンツデータを表示装置に表示し、選択された代表画像に対応したコンテンツデータの管理情報が前記記録媒体に記録されていない場合には、前記選択された代表画像に対応したコンテンツデータの再生が禁止されていることを示す情報を前記表示装置に表示することができる。
また、本発明のその他の他の特徴によれば、対応する管理情報が記録されていないコンテンツデータから代表画像を作成するようにしたので、管理情報が記録されていないコンテンツデータの代表画像も表示装置に表示することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を撮影して第１画像データに変換する撮像手段と、
前記第１画像データを表す画像をトリミングして第２画像データを生成する電子ズーム手段と、
前記第２画像データをリサイズして第３画像データを生成するリサイズ手段と、
前記第３画像データを外部に設けられた表示手段に送信する送信手段と、
前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき所定の警告を行う警告手段と、
を備えたことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき、電子ズーム制御手段によりリサイズを行うと前記外部に設けられた表示手段による表示の画質が劣化する旨の警告を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が、前記外部に設けられた表示手段の画素数よりも少ないとき所定の警告を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき、前記被写体にもっと近づいて撮影するように警告を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき、前記電子ズーム制御手段によるリサイズに制限をかける旨の警告を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮像装置に関し、詳しくは、デジタルカメラ等の撮像装置によって撮影した画像を、テレビ等の外部の表示装置に等身大程度に再生表示するに便利な撮像装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、表示装置の画質を考慮して、画質劣化することなく、デジタルズームを有効に利用しながら、人物を等身大で迫力ある再生表示を行うことの可能な撮像装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第２の発明に係わる撮像装置は、上記第１の発明において、前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき、電子ズーム制御手段によりリサイズを行うと前記外部に設けられた表示手段による表示の画質が劣化する旨の警告を行う。
第３の発明に係わる撮像装置は、上記第１の発明において、前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が、前記外部に設けられた表示手段の画素数よりも少ないとき所定の警告を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第４の発明に係わる撮像装置は、上記第１の発明において、前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき、前記被写体にもっと近づいて撮影するように警告を行う。
第５の発明に係わる撮像装置は、上記第１の発明において、前記警告手段は、前記第２画像データを構成する画素数が所定数以下のとき、前記電子ズーム制御手段によるリサイズに制限をかける旨の警告を行う。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、表示装置の画質を考慮して、画質劣化することなく、デジタルズームを有効に利用しながら、人物を等身大で迫力ある再生表示を行うことが可能な撮像装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月27日(2011.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共鳴光による量子干渉効果を利用した原子発振器であって、
所与の周波数ω０を有するキャリア光と、前記キャリア光の前記周波数ω０に対して周波数がωｍ異なるカップリング光及びプローブ光とを含む前記共鳴光を出射する光源と、
前記共鳴光が入射されアルカリ金属原子が封入されたガスセルと、
前記ガスセルを通過した前記共鳴光を検出する光検出手段と、
該光検出手段の検出した信号に含まれる前記ωｍに等しい周波数の信号を検出するビート成分検出手段と、を備えたことを特徴とする原子発振器。
【請求項２】
前記ωｍに等しい周波数の信号がマイクロ波であり、前記ビート成分検出手段は、前記マイクロ波の電流を電圧に変換するＩ／Ｖ変換手段と、前記電圧を増幅する増幅器と、により構成されていることを特徴とする請求項１記載の原子発振器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
擬似ノイズ信号の生成特性を記憶する記憶手段と、
所定の映像信号に重畳するノイズのノイズ源となり得る信号を参照入力信号とし、前記重畳するノイズに相当する擬似ノイズ信号を、前記記憶手段に記憶された前記参照入力信号に対応する擬似ノイズ信号の生成特性を用いて発生させる擬似ノイズ発生部と、
前記映像信号から前記擬似ノイズ発生部で発生させた擬似ノイズ信号を減算する減算手段とを備えることを特徴とするノイズ低減装置。
【請求項２】
前記記憶手段は複数の前記生成特性を記憶しており、前記擬似ノイズ発生部は前記記憶手段に記憶された前記複数の生成特性の中から選ばれた前記参照入力信号に対応する生成特性を用いて前記擬似ノイズ信号を発生させることを特徴とする請求項１記載のノイズ低減装置。
【請求項３】
前記擬似ノイズ発生部は、前記参照入力信号の立下りと立上りとに応じて、選択される前記擬似ノイズ信号の生成特性を変更することを特徴とする請求項２記載のノイズ低減装置。
【請求項４】
前記擬似ノイズ発生部は、前記映像信号の強度レベルに基づいて、選択される擬似ノイズ信号の生成特性を変更することを特徴とする請求項２記載のノイズ低減装置。
【請求項５】
前記擬似ノイズ発生部に入力される参照入力信号として、前記映像信号に重畳するノイズのノイズ源となり得る複数の信号を論理演算した信号を生成する論理演算手段をさらに備えることを特徴とする請求項２記載のノイズ低減装置。
【請求項６】
前記擬似ノイズ発生部に入力される参照入力信号として、外部信号の送受信に用いられる双方向バッファの内部入力バッファの出力を用いることを特徴とする請求項２記載のノイズ低減装置。
【請求項７】
前記擬似ノイズ発生部を複数備えることを特徴とする請求項２記載のノイズ低減装置。
【請求項８】
前記擬似ノイズ発生部に入力される参照入力信号を、前記映像信号に重畳するノイズのノイズ源となり得る信号を含む複数の信号の中から選択する選択手段を備えることを特徴とする請求項２記載のノイズ低減装置。
【請求項９】
前記擬似ノイズ発生部は、前記選択手段によって選択される参照入力信号に応じて、前記記憶手段から選択する擬似ノイズ信号の生成特性を変更することにより、生成する擬似ノイズ信号を更新することを特徴とする請求項８記載のノイズ低減装置。
【請求項１０】
前記選択手段と前記擬似ノイズ発生部とをそれぞれを複数備えることを特徴とする請求項８記載のノイズ低減装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載のノイズ低減装置を搭載することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１記載のノイズ低減装置は、擬似ノイズ信号の生成特性を記憶する記憶手段と、所定の映像信号に重畳するノイズのノイズ源となり得る信号を参照入力信号とし、前記重畳するノイズに相当する擬似ノイズ信号を、前記記憶手段に記憶された前記参照入力信号に対応する擬似ノイズ信号の生成特性を用いて発生させる擬似ノイズ発生部と、前記映像信号から前記擬似ノイズ発生部で発生させた擬似ノイズ信号を減算する減算手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
(a) 半導体基板上において下部電極を形成するステップと、
(b) 前記下部電極上の一部に磁性膜及び上部電極からなるＭＴＪ素子を選択的に形成するステップと、
(c) 前記ＭＴＪ素子の側面及び表面を少なくとも覆ってストレス絶縁膜を形成するステップと備え、
前記ストレス絶縁膜は前記ＭＴＪ素子に引っ張りストレスを印加する引張ストレス絶縁膜を含む、
半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
このように、ＭＴＪ上絶縁膜３３及び下部電極層３０を同時にパターニングするため、下部電極層３０のパターニング時にＭＴＪ素子ＭＤ１の表面及び側面はＭＴＪ上絶縁膜３３によって保護される。このため、下部電極層３０の残渣が磁性膜ＦＭ１の側面に付着する等に起因するＭＴＪ素子ＭＤ１のリーク電流発生を効果的に抑制することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２３】
2009194210.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２７】
2009194210.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２８】
2009194210.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月13日(2011.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面には低発熱量の電子部品を実装し、他方の面には高発熱量の電子部品を実装してなるプリント基板と、該プリント基板の前記高発熱量の電子部品実装側とヒートスプレッダとの間に高熱伝導性樹脂を充填したパワー半導体装置において、
前記プリント基板と前記ヒートスプレッダと前記高熱伝導性樹脂より成る構造体の側面には凹部が形成されており、前記凹部は前記高熱伝導性樹脂で被った構造であることを特徴とするパワー半導体装置。
【請求項２】
前記凹部に嵌合する爪と、前記プリント基板面から前記ヒートスプレッダ側に加圧できるリブを有し、前記ヒートスプレッダ面をヒートシンクに取り付けるためのケースを備えたことを特徴とする請求項１に記載のパワー半導体装置。
【請求項３】
前記ケースは、複数の前記パワー半導体装置を複数個並べたときに隣接する前記パワー半導体装置の前記凹部に嵌合する爪をさらに備えたことを特徴とする請求項２に記載のパワー半導体装置。
【請求項４】
前記ケースの材料は汎用プラスチックまたはエンジニアプラスチックを使用することを特徴とする請求項２または３に記載のパワー半導体装置。
【請求項５】
複数の前記パワー半導体装置を一括して冷却できるヒートシンクを有することを特徴とする請求項３に記載のパワー半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のパワー半導体装置を用いたインバータ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記問題を解決するため，本発明は、次のように構成したものである。
請求項１に記載の発明は、一方の面には低発熱量の電子部品を実装し、他方の面には高発熱量の電子部品を実装してなるプリント基板と、該プリント基板の前記高発熱量の電子部品実装側とヒートスプレッダとの間に高熱伝導性樹脂を充填したパワー半導体装置において、
前記プリント基板と前記ヒートスプレッダと前記高熱伝導性樹脂より成る構造体の側面には凹部が形成されており、前記凹部は前記高熱伝導性樹脂で被った構造としたものである。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパワー半導体装置において、前記凹部に嵌合する爪と、前記プリント基板面から前記ヒートスプレッダ側に加圧できるリブを有し、前記ヒートスプレッダ面をヒートシンクに取り付けるためのケースを備えたものである。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のパワー半導体装置において、前記ケースは、複数の前記パワー半導体装置を複数個並べたときに隣接する前記パワー半導体装置の前記凹部に嵌合する爪をさらに備えたものである。
請求項４に記載の発明によれば、請求項２または３に記載のパワー半導体装置において、前記ケースの材料は汎用プラスチックまたはエンジニアプラスチックを使用するものである。
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載のパワー半導体装置において、複数の前記パワー半導体装置を一括して冷却できるヒートシンクを有するものである。
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のパワー半導体装置を用いたインバータ装置を構成するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月14日(2011.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
撮像素子と、前記投影光学系を通過した光を前記撮像素子に入射させる結像光学系を含み、前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定する測定部と、
前記測定部の校正時において、前記結像光学系の複屈折を測定するために前記投影光学系の物体面側に配置され、前記測定部からの光を反射して前記投影光学系を介さずに前記測定部に戻す校正部と、
前記測定部によって前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定した結果から前記投影光学系の物体面側に前記校正部を配置して前記測定部によって測定した前記結像光学系の複屈折を分離して、前記投影光学系の複屈折を算出する算出部と、
を有し、
前記結像光学系は、光源からの光を前記投影光学系に入射させる往路光学系と、前記投影光学系を通過した光を前記撮像素子に入射させる復路光学系とを含み、
前記校正部が入射光を反射して前記測定部に戻すことで前記結像光学系の複屈折が前記測定部によって測定され、前記校正部が入射光のうち互いに異なる少なくとも３つの直線偏光を反射して前記測定部に戻すことで前記復路光学系の複屈折が前記測定部によって測定されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記校正部は、前記マスクを保持するステージに載置されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記校正部は、前記投影光学系に載置されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記校正部は、前記結像光学系の光路に挿脱可能に構成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記校正部は、
入射光を反射して前記測定部に戻すミラーと、
入射光のうち互いに異なる前記少なくとも３つの直線偏光をそれぞれ透過する複数のプリズムと、
前記複数のプリズムを透過した光をそれぞれ反射して前記測定部に戻す複数のミラーと、
を含むことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記複数のプリズムのそれぞれは、ウォラストンプリズムを含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記校正部は、
入射光のうち所定の直線偏光のみを反射する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームスプリッタで反射された光を反射して前記測定部に戻すミラーとを含む複数の光学ユニットを有し、
前記複数の光学ユニットは、それぞれの前記偏光ビームスプリッタが互いに異なる前記少なくとも３つの直線偏光を反射するように配置され、
前記複数の光学ユニットのうち１つの光学ユニットは、入射光を反射して前記測定部に戻すミラーを更に含むことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記算出部は、前記測定部によって測定された前記結像光学系の複屈折から前記測定部によって測定された前記復路光学系の複屈折を分離して、前記往路光学系の複屈折を算出することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１０】
投影光学系を用いて基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系を通過した光を撮像素子に入射させる結像光学系を含む測定部を用いて、前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定するステップと、
前記結像光学系の複屈折を測定するために前記投影光学系の物体面側に配置された校正部を用いて、前記測定部からの光を反射して前記投影光学系を介さずに前記測定部に戻すステップと、
前記測定部によって前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定した結果から前記投影光学系の物体面側に前記校正部を配置して前記測定部によって測定した前記結像光学系の複屈折を分離して、前記投影光学系の複屈折を算出するステップと、
前記算出された複屈折に基づいて、前記投影光学系の複屈折を調整するステップと、
前記調整された投影光学系を用いて前記基板を露光するステップと、を有し、
前記結像光学系は、光源からの光を前記投影光学系に入射させる往路光学系と、前記投影光学系を通過した光を前記撮像素子に入射させる復路光学系とを含み、
前記校正部が入射光を反射して前記測定部に戻すことで前記結像光学系の複屈折が前記測定部によって測定され、前記校正部が入射光のうち互いに異なる少なくとも３つの直線偏光を反射して前記測定部に戻すことで前記復路光学系の複屈折が前記測定部によって測定されることを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、撮像素子と、前記投影光学系を通過した光を前記撮像素子に入射させる結像光学系を含み、前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定する測定部と、前記測定部の校正時において、前記結像光学系の複屈折を測定するために前記投影光学系の物体面側に配置され、前記測定部からの光を反射して前記投影光学系を介さずに前記測定部に戻す校正部と、前記測定部によって前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定した結果から前記投影光学系の物体面側に前記校正部を配置して前記測定部によって測定した前記結像光学系の複屈折を分離して、前記投影光学系の複屈折を算出する算出部と、を有し、前記結像光学系は、光源からの光を前記投影光学系に入射させる往路光学系と、前記投影光学系を通過した光を前記撮像素子に入射させる復路光学系とを含み、前記校正部が入射光を反射して前記測定部に戻すことで前記結像光学系の複屈折が前記測定部によって測定され、前記校正部が入射光のうち互いに異なる少なくとも３つの直線偏光を反射して前記測定部に戻すことで前記復路光学系の複屈折が前記測定部によって測定されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工領域を有する第１基板と第２基板とを中間材を介して貼り合わせる基板貼り合わせ方法において、
第１基板保持部によって前記第１基板を保持し、第２基板保持部によって前記第２基板を保持する保持工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせる前に、前記第１基板保持部及び第２基板保持部の周縁部に複数本のピンを配置するピン配置工程と、
重ね合わせた前記第１基板と前記第２基板とに予備加圧をかける予備加圧工程と、
この予備加圧工程中に、前記第１基板保持部と前記第２基板保持部とのずれを観察部で観察する観察工程と、
前記予備加圧工程中に、前記第１基板保持部及び前記第２基板保持部の周縁部からピン抜き部を使って前記ピンを抜くピン抜き工程と、
を備えることを特徴とする基板貼り合わせ方法。
【請求項２】
前記ピン抜き工程において、前記基板のずれは、前記第１基板保持部及び前記第２基板保持部の側面を観察部が観察することを特徴とする請求項２に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項３】
前記観察部は、前記第１基板及び前記第２基板の中心にして均等に複数配置されていることを特徴とする請求項２に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項４】
前記観察部と前記ピン抜き部とは、前記第１基板保持部と前記第２基板保持部の中央に移動可能な移動アームに取り付けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項５】
被加工領域を有する第１基板と第２基板とを中間材を介して貼り合わせる基板貼り合わせ方法において、
第１基板保持部によって前記第１基板を保持し、第２基板保持部によって前記第２基板を保持する保持工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせる前に、前記第１基板及び第２基板の周縁部に複数本のピンを配置するピン配置工程と、
重ね合わせた前記第１基板と前記第２基板とに予備加圧をかける予備加圧工程と、
この予備加圧工程中に、前記第１基板保持部と前記第２基板保持部とのずれを観察部で観察する観察工程と、
前記予備加圧工程中に、前記第１基板及び前記第２基板の周縁部からピン抜き部を使って前記ピンを抜くピン抜き工程と、
を備えることを特徴とする基板貼り合わせ方法。
【請求項６】
被加工領域を有する第１基板と第２基板とを中間材を介して貼り合わせる基板貼り合わせ方法において、
前記第１基板及び第２基板の周縁部に複数本のピンを配置するピン配置工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを位置合わせして前記ピンを配置したまま重ね合わせる重ね合わせ工程と、
重ね合わせた前記第１基板と前記第２基板とに予備加圧をかける予備加圧工程と、
この予備加圧工程中に、前記第１基板と前記第２基板とのずれを観察部で観察しながら前記第１基板及び前記第２基板の周縁部から前記ピンを抜くピン抜き工程と、
を備えることを特徴とする基板貼り合わせ方法。
【請求項７】
前記第１基板は第１基板保持部によって保持され、前記第２基板は第２基板保持部によって保持されており、
前記ピン抜き工程において、前記基板のずれは、前記第１基板保持部及び前記第２基板保持部に設けられた観察孔を介して前記観察部が観察することを特徴とする請求項６に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項８】
前記観察孔は、前記第１基板及び前記第２基板を中心にして均等に複数配置されていることを特徴とする請求項７に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項９】
前記ピン抜き工程は、前記観察部による前記第１基板と前記第２基板とのずれの観察結果に応じて、前記複数本のピンを抜く速度を可変することを特徴とする請求項６ないし請求項８のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年6月15日(2011.6.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
[0064]  表面の曲率は、凸状または凹状のいずれであってもよい。当業者には理解されるように、Ｘ方向に沿った基板の傾斜は、像平面のレベルと、凸状表面または凹状表面のいずれかと、を整合させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換部が遮光されていない有効領域と、光電変換部が遮光された遮光領域とを有する光電変換装置であって、
前記有効領域の光電変換部と前記遮光領域の光電変換部とが配された半導体基板と、
前記半導体基板の上に配された多層配線構造と、
を備え、
前記多層配線構造は、
前記有効領域における最上配線層であり、アルミニウムを主成分とする第１配線層と、
前記第１配線層を覆うように、前記有効領域および前記遮光領域に配された絶縁膜と、
前記遮光領域の前記絶縁膜の上に配された前記遮光領域における最上配線層であり、アルミニウムを主成分とする第２配線層と、
を含み、
前記絶縁膜は、前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が層内レンズの少なくとも一部として機能する
ことを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記絶縁膜は、前記有効領域における上面が前記遮光領域における上面より前記半導体基板の表面に近く、かつ、前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が前記半導体基板の表面から離れる方向へ凸形状であることにより前記層内レンズの少なくとも一部として機能する
ことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項３】
前記多層配線構造は、
前記絶縁膜における前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分を覆うように前記有効領域に配されているとともに、前記第１配線層を覆うように前記遮光領域に配された保護膜をさらに含み、
前記保護膜は、前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が前記層内レンズの他の一部として機能する
ことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項４】
前記保護膜は、前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が前記半導体基板の表面から離れる方向へ凸形状であることにより前記層内レンズの他の一部として機能する
ことを特徴とする請求項３に記載の光電変換装置。
【請求項５】
前記層内レンズの上方に配されたカラーフィルターと、
前記カラーフィルターと前記層内レンズとの間に配された平坦化層と、
をさらに備え、
前記多層配線構造は、前記平坦化層と前記層内レンズとの界面における光の反射を防止するように配された反射防止膜をさらに含む
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項６】
前記層内レンズは、シリコン窒化物で形成され、
前記反射防止膜は、シリコン酸窒化物で形成された
ことを特徴とする請求項５に記載の光電変換装置。
【請求項７】
前記反射防止膜は、前記カラーフィルターを透過した光の波長をλ、前記絶縁膜の屈折率をｎ２、前記平坦化層の屈折率をｎ３とする場合、膜厚がλ／４√（ｎ２×ｎ３）、かつ、屈折率が√（ｎ２×ｎ３）になるように形成されている
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の光電変換装置。
【請求項８】
前記多層配線構造は、
前記第１配線層の下方に配され、アルミニウムを主成分とする第３配線層と、
前記第３配線層を覆うとともに、前記第１配線層と前記第３配線層とを絶縁するように、前記有効領域および前記遮光領域に配された他の絶縁膜と、
前記絶縁膜と前記他の絶縁膜との界面における光の反射を防止するように配された他の反射防止膜と、
をさらに含む
ことを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項９】
前記絶縁膜は、シリコン窒化物で形成され、
前記他の反射防止膜は、シリコン酸窒化物で形成され、
前記他の絶縁膜は、シリコン酸化物で形成された
ことを特徴とする請求項８に記載の光電変換装置。
【請求項１０】
前記他の反射防止膜は、前記カラーフィルターを透過した光の波長をλ、前記他の絶縁膜の屈折率をｎ１、前記絶縁膜の屈折率をｎ２とする場合、膜厚がλ／４√（ｎ１×ｎ２）、かつ、屈折率が√（ｎ１×ｎ２）になるように形成されている
ことを特徴とする請求項８又は９に記載の光電変換装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置の撮像面へ像を形成する光学系と、
前記光電変換装置から出力された信号を処理して画像データを生成する信号処理部と、
を備えたことを特徴とする撮像システム。
【請求項１２】
有効領域と遮光領域とを有する光電変換装置の製造方法であって、
半導体基板に、前記有効領域の光電変換部と前記遮光領域の光電変換部とを形成する第１の工程と、
前記半導体基板の上に多層配線構造を形成する第２の工程と、
を備え、
前記第２の工程は、
第１の金属層を形成する工程と、
フォトリソグラフィー法を用いて前記第１の金属層をパターニングすることにより、前記有効領域における最上配線層とすべき第１配線層を形成する工程と、
前記第１配線層を覆うように、前記有効領域および前記遮光領域に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の上に第２の金属層を形成する工程と、
フォトリソグラフィー法を用いて前記第２の金属層をパターニングすることにより、前記遮光領域における最上配線層とすべき第２配線層を形成する工程と、
前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が層内レンズの少なくとも一部として機能するように、前記有効領域における前記絶縁膜の上面をエッチングするエッチング工程と、
を含む
ことを特徴とする光電変換装置の製造方法。
【請求項１３】
前記エッチング工程では、前記有効領域における上面が前記遮光領域における上面より前記半導体基板の表面に近く、かつ、前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が前記半導体基板の表面から離れる方向へ凸形状になることにより前記層内レンズの少なくとも一部として機能するように、前記有効領域における前記絶縁膜の上面をエッチングする
ことを特徴とする請求項１２に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第２の工程は、
前記エッチング工程の前に、前記第１配線層及び前記絶縁膜を覆うように、前記有効領域および前記遮光領域に保護膜を形成する工程をさらに含み、
前記エッチング工程では、
フォトリソグラフィー法を用いて、前記第２配線層の一部を露出させるための開口を形成するように、前記遮光領域における前記保護膜をエッチングするとともに、前記有効領域の光電変換部の上方に位置する部分が前記層内レンズとして機能するように、前記有効領域における前記保護膜および前記絶縁膜の上面をエッチングする
ことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の光電変換装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月6日(2010.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、隣接する前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、
前記絶縁層のうちの外側の絶縁層には、文字や記号等として認識可能な基板管理情報を構成する複数の穴が形成されており、
前記外側の絶縁層上には、前記外側の絶縁層に積層された配線層を覆い、前記複数の穴を露出するソルダーレジストが形成されていることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記複数の穴は、それぞれ内部が充填されていない凹形状の穴であることを特徴とする請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記複数の穴は、前記外側の絶縁層を貫通する貫通穴であることを特徴とする請求項１記載の配線基板。
【請求項４】
前記複数の穴からは、何れかの配線層が露出していることを特徴とする請求項１又は２記載の配線基板。
【請求項５】
前記複数の穴からは、Ａｕ膜が露出していることを特徴とする請求項１又は２記載の配線基板。
【請求項６】
前記複数の穴は、平面視において互いに重複しないように形成されていることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の配線基板。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項記載の配線基板と、半導体チップとを有する半導体パッケージであって、前記半導体チップは、前記配線基板の前記外側の絶縁層側に搭載されていることを特徴とする半導体パッケージ。
【請求項８】
複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、隣接する前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板の製造方法であって、
前記絶縁層のうちの外側の絶縁層に、文字や記号等として認識可能な基板管理情報を構成する複数の穴を形成する穴形成工程と、
前記外側の絶縁層上に、配線層を積層する配線層積層工程と、
前記外側の絶縁層上に、前記配線層積層工程で積層された配線層を覆い、前記複数の穴を露出するソルダーレジストを形成するソルダーレジスト形成工程と、を有し、
前記穴形成工程は、前記外側の絶縁層に前記ビアホールを形成するビアホール形成工程と同一工程であることを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記複数の穴は、前記外側の絶縁層を貫通する貫通穴であり、前記複数の穴からは、何れかの配線層が露出していることを特徴とする請求項８記載の配線基板の製造方法。
【請求項１０】
更に、前記穴から認識可能な配線層上に、Ａｕ膜を有する金属層を形成する金属層形成工程を有することを特徴とする請求項８又は９記載の配線基板の製造方法。
【請求項１１】
前記金属層形成工程は、前記穴から認識可能な配線層上に、Ａｕ膜のみを形成する工程であることを特徴とする請求項１０記載の配線基板の製造方法。
【請求項１２】
前記金属層形成工程は、前記穴から認識可能な配線層上に、Ｎｉ膜、Ａｕ膜を順次積層形成する工程であることを特徴とする請求項１０記載の配線基板の製造方法。
【請求項１３】
前記金属層形成工程は、前記穴から認識可能な配線層上に、Ｎｉ膜、Ｐｄ膜，Ａｕ膜を順次積層形成する工程であることを特徴とする請求項１０記載の配線基板の製造方法。
【請求項１４】
前記複数の穴は、それぞれ内部が充填されていない凹形状の穴であることを特徴とする請求項８乃至１３の何れか一項記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本配線基板は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、隣接する前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、前記絶縁層のうちの外側の絶縁層には、文字や記号等として認識可能な基板管理情報を構成する複数の穴が形成されており、前記外側の絶縁層上には、前記外側の絶縁層に積層された配線層を覆い、前記複数の穴を露出するソルダーレジストが形成されていることを要件とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本配線基板の製造方法は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、隣接する前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板の製造方法であって、前記絶縁層のうちの外側の絶縁層に、文字や記号等として認識可能な基板管理情報を構成する複数の穴を形成する穴形成工程と、前記外側の絶縁層上に、配線層を積層する配線層積層工程と、前記外側の絶縁層上に、前記配線層積層工程で積層された配線層を覆い、前記複数の穴を露出するソルダーレジストを形成するソルダーレジスト形成工程と、を有し、前記穴形成工程は、前記外側の絶縁層に前記ビアホールを形成するビアホール形成工程と同一工程であることを要件とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
なお、基板管理情報１１ａを構成する貫通穴１５ｙを形成するためにレーザ加工時間が増加するが、第２ビアホール１５ｘを形成する工程と同一の工程において対応できるため、従来のように、配線パターン形成時の露光は投影露光方法で行い、その後、基板管理情報形成のためだけの露光を、一括コンタクト露光方法で行うことにより基板管理情報を形成する際に生ずるような大幅な加工時間の増加はともなわず、集合配線基板２０の製造コストが大幅に増加することはない。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月14日(2011.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上り通信を送信する少なくとも１つのドミナント・ノードと、
下り通信を送信する少なくとも１つのトニック・ノードと、
上り通信を送信する契機を与えるための上り通信督促メッセージと、下り通信を送信する契機を与えるための下り通信督促メッセージを送信する少なくとも１つのリズム・ノードと、
全二重の通信路と、を備え、
リズム・ノードが、上り通信督促メッセージと下り通信の衝突が発生しないよう、かつ、下り通信督促メッセージと上り通信の衝突が発生しないよう、上り通信督促メッセージと、下り通信督促メッセージを同期して送信し、
リズム・ノードが、通信が必要なドミナント・ノードに通信順序番号を付することにより通信権を与え、
リズム・ノードが、通信が必要なトニック・ノードに通信順序番号を付することにより通信権を与え、
各ドミナント・ノードが上り通信督促メッセージを受信することを契機として、通信権のある各ドミナント・ノードがそれぞれ保有する所定の待ち時間後に、ドミナント・ノードからデータを上り通信として送信し、
各トニック・ノードが下り通信督促メッセージを受信することを契機として、通信権のある各トニック・ノードがそれぞれ保有する所定の待ち時間後に、トニック・ノードからデータを下り通信として送信する、通信システム。
【請求項２】
請求項１記載の通信システムにおいて、
前記リズム・ノードを１つ備えた通信システム。
【請求項３】
請求項１記載の通信システムにおいて、
前記リズム・ノードを複数備え、
各々のリズム・ノードが送信する上り通信督促メッセージは、リズム・ノード間で同期せず送信し、
各々のリズム・ノードが送信する下り通信督促メッセージは、リズム・ノード間で同期せず送信し、
リズム・ノード毎に保有する、上り通信メッセージと下り通信メッセージを格納する記憶装置をさらに備えた通信システム。
【請求項４】
請求項１記載の通信システムにおいて、
トニック・ノードから他のトニック・ノードへの通信を可能とするため、下り通信を記憶して上り通信として送信し、
ドミナント・ノードから他のドミナント・ノードへの通信を可能とするため、上り通信を記憶して下り通信として送信する、
ブローカーをさらに備えた通信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の特徴は、上り通信督促メッセージと下り通信督促メッセージを送信するリズム・ノードと、上り通信督促メッセージを受信したことを契機としてデータを送信する複数のドミナント・ノードと、下り通信督促メッセージを受信したことを契機としてデータを送信する複数のトニック・ノードと、通信路とを備え、リズム・ノードが上り通信督促メッセージを送信し、各ドミナント・ノードが上り通信督促メッセージを受信することを契機として、各ドミナント・ノードがそれぞれ保有する所定の待ち時間後に、ドミナント・ノードからデータを上り通信として送信し、リズム・ノードが下り通信督促メッセージを送信し、各トニック・ノードが下り通信督促メッセージを受信することを契機として、各トニック・ノードがそれぞれ保有する所定の待ち時間後に、トニック・ノードからデータを下り通信として送信し、上り通信督促メッセージの送信と、下り通信督促メッセージの送信の同期をとる通信システムおよび通信方式にある。
また、本発明の特徴は、上り通信を送信する少なくとも１つのドミナント・ノードと、
下り通信を送信する少なくとも１つのトニック・ノードと、
上り通信を送信する契機を与えるための上り通信督促メッセージと、下り通信を送信する契機を与えるための下り通信督促メッセージを送信する少なくとも１つのリズム・ノードと、
全二重の通信路と、を備え、
リズム・ノードが、上り通信督促メッセージと下り通信の衝突が発生しないよう、かつ、下り通信督促メッセージと上り通信の衝突が発生しないよう、上り通信督促メッセージと、下り通信督促メッセージを同期して送信し、
リズム・ノードが、通信が必要なドミナント・ノードに通信順序番号を付することにより通信権を与え、
リズム・ノードが、通信が必要なトニック・ノードに通信順序番号を付することにより通信権を与え、
各ドミナント・ノードが上り通信督促メッセージを受信することを契機として、通信権のある各ドミナント・ノードがそれぞれ保有する所定の待ち時間後に、ドミナント・ノードからデータを上り通信として送信し、
各トニック・ノードが下り通信督促メッセージを受信することを契機として、通信権のある各トニック・ノードがそれぞれ保有する所定の待ち時間後に、トニック・ノードからデータを下り通信として送信する、通信システムにある。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月18日(2011.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１記載の高周波増幅器において、前記増幅手段は、トランジスタによって構成され、そのコレクタ電流が前記制御手段によって増加させられる高周波増幅器。