【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効成分の送達のためのコーティングを備える埋め込み型デバイスであって、前記コーティングが、
埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、厚さＸを有するプライマー領域と、
前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、厚さＹを有するリザーバー領域と
を含み、前記有効成分が前記リザーバー領域から前記プライマー領域まで移動する前に、前記プライマー領域の外表面から前記埋め込み型デバイスの表面までの厚さＸが測定され、
（ａ）前記厚さＸが、０．１ミクロンから１０ミクロンであり、前記厚さＹが、０．５ミクロンから１０ミクロンであるか、又は
（ｂ）Ｘ／Ｙが、以下の範囲、０．０１から０．２、０．０５から０．２、０．０１から２０、０．０５から２０、０．０１から１、０．０５から１及び０．０１から０．０５から選択される、
デバイス。
【請求項２】
Ｘ／Ｙが、０．０１以上及び２０以下である、請求項１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項３】
Ｘ／Ｙが、０．０１以上及び０．２以下である、請求項１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項４】
Ｘ／Ｙが、０．０５以上及び２０以下である、請求項１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項５】
Ｘ／Ｙが、０．０５以上及び０．２以下である、請求項１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項６】
前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ（ブチルメタクリレート）を含む、請求項１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項７】
前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上へのバリア領域の形成をさらに含む、請求項１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項８】
埋め込み型デバイス用のコーティングの製造方法であって、
埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、厚さＸを有するプライマー領域を形成するステップと、
前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、厚さＹを有するリザーバー領域を形成するステップとを含み、
（ａ）前記厚さＸが、０．１ミクロンから１０ミクロンであり、前記厚さＹが、０．５ミクロンから１０ミクロンであるか、又は
（ｂ）Ｘ／Ｙが、以下の範囲、０．０１から０．２、０．０５から０．２、０．０１から２０、０．０５から２０、０．０１から１、０．０５から１及び０．０１から０．０５から選択される、
製造方法。
【請求項９】
Ｘ／Ｙが、０．０１以上及び２０以下である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
Ｘ／Ｙが、０．０１以上及び０．２以下である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｘ／Ｙが、０．０５以上及び２０以下である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１２】
Ｘ／Ｙが、０．０５以上及び０．２以下である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上にバリア領域を形成するステップをさらに含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ（ブチルメタクリレート）を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１５】
有効成分の送達のためのコーティングを備える埋め込み型デバイスであって、前記コーティングが、
埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、質量Ｘを有するプライマー領域と、
前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、質量Ｙを有するリザーバー領域とを含み、
Ｘ／Ｙが、以下の範囲、０．０１から０．２、０．０５から０．２及び０．０１から０．０５から選択されるデバイス。
【請求項１６】
前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ（ブチルメタクリレート）を含む、請求項１５に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項１７】
前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上へのバリア領域の形成をさらに含む、請求項１５に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項１８】
埋め込み型デバイス用のコーティングの製造方法であって、
埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、質量Ｘを有するプライマー領域を形成するステップと、
前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、質量Ｙを有するリザーバー領域を形成するステップとを含み、
Ｘ／Ｙが、以下の範囲、０．０１から０．２、０．０５から０．２及び０．０１から０．０５から選択される製造方法。
【請求項１９】
前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上にバリア領域を形成するステップをさらに含む、請求項１８に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ（ブチルメタクリレート）を含む、請求項１８に記載の製造方法。
【請求項２１】
有効成分の送達のためのコーティングを備える埋め込み型デバイスであって、前記コーティングが、
埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含む、質量Ｘを有するプライマー領域と、
前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含む、前記有効成分を除いた質量Ｙを有するリザーバー領域とを含み、
Ｘ／Ｙが、以下の範囲、０．０１から０．２、０．０５から０．２及び０．０１から０．０５から選択されるデバイス。
【請求項２２】
前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ（ブチルメタクリレート）を含む、請求項２１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項２３】
前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上へのバリア領域の形成をさらに含む、請求項２１に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項２４】
埋め込み型デバイス用のコーティングの製造方法であって、
埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、質量Ｘを有するプライマー領域を形成するステップと、
前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、前記有効成分を除いた質量Ｙを有するリザーバー領域を形成するステップとを含み、
（ｉ）Ｘ／Ｙが、以下の範囲、０．０１から０．２、０．０５から０．２及び０．０１から０．０５から選択される製造方法。
【請求項２５】
前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上にバリア領域を形成するステップをさらに含む、請求項２４に記載の製造方法。
【請求項２６】
前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ（ブチルメタクリレート）を含む、請求項２４に記載の製造方法。
【請求項２７】
埋め込み型デバイスがステントである、請求項８、１８、２４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２８】
ステントである、請求項１、２、４、６、１５、１６、２１、２２のいずれか一項に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項２９】
有効成分が、ラパマイシン、メチルラパマイシン、エベロリムス、４２−Ｅｐｉ−（テトラゾイルイル）ラパマイシン（ＡＢＴ−５７８）、タクロリムス、４０−Ｏ−（２−ヒドロキシ）エチル−ラパマイシン、４０−Ｏ−（３−ヒドロキシ）プロピルラパマイシン、４０−Ｏ−［２−（２−ヒドロキシ）エトキシ］エチル−ラパマイシン、テトラゾール含有ラパマイシン、パクリタキセル又はドセタキセルである、請求項１、６、７、１５〜１７、２１〜２３のいずれか一項に記載の埋め込み型デバイス。
【請求項３０】
有効成分が、ラパマイシン、メチルラパマイシン、エベロリムス、４２−Ｅｐｉ−（テトラゾイルイル）ラパマイシン（ＡＢＴ−５７８）、タクロリムス、４０−Ｏ−（２−ヒドロキシ）エチル−ラパマイシン、４０−Ｏ−（３−ヒドロキシ）プロピルラパマイシン、４０−Ｏ−［２−（２−ヒドロキシ）エトキシ］エチル−ラパマイシン、テトラゾール含有ラパマイシン、パクリタキセル又はドセタキセルである、請求項８、１３、１４、１８、１９、２０、２４〜２６のいずれか一項に記載の製造方法。