Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月24日(2011.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品を撮像して得られる前記部品に対応する複数の画像部分を含む撮像画像に基づいて画像認識を行う画像認識部を備え、
前記画像認識部は、前記部品の所定部分の寸法データと比較しながら、前記部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成されている、部品認識装置。
【請求項２】
前記画像認識部は、前記部品に対応する複数の画像部分に加え、ノイズに対応する部分に基づいて画像認識を行うとともに、前記部品に対応する複数の画像部分の外方となる前記ノイズに対応する部分を囲むことなく、前記部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成されている、請求項１に記載の部品認識装置。
【請求項３】
前記画像認識部は、複数の前記画像部分と外接し、かつ、一方方向および一方方向と直交する他方方向の寸法が前記部品の所定部分の前記一方方向および前記他方方向の寸法データと比較して所定の公差内に入る外接矩形を検出することにより、前記部品に対応する前記複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成されている、請求項１または２に記載の部品認識装置。
【請求項４】
前記画像認識部は、前記部品の外接矩形の候補が複数ある場合に、前記部品の寸法以外の検出条件に基づいて前記部品の外接矩形を検出するように構成され、
前記検出条件は、前記外接矩形または前記外接矩形に含まれる画像部分の少なくとも一方の面積に関する検出条件、または、前記外接矩形に含まれる画像部分の個数に関する検出条件の少なくとも１つを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の部品認識装置。
【請求項５】
前記検出条件は、前記部品の外接矩形の複数の候補のうち、前記外接矩形の面積が最小になる外接矩形を前記部品の外接矩形とする、請求項４に記載の部品認識装置。
【請求項６】
前記検出条件は、前記部品の外接矩形の複数の候補のうち、前記外接矩形内に含まれる各画像部分の面積の合計が最大となる外接矩形を前記部品の外接矩形とする、請求項４または５に記載の部品認識装置。
【請求項７】
前記検出条件は、前記部品の外接矩形の複数の候補のうち、前記外接矩形内に含まれる各画像部分の個数が最大となる外接矩形を前記部品の外接矩形とする、請求項４〜６のいずれか１項に記載の部品認識装置。
【請求項８】
前記検出条件は、前記部品の外接矩形の複数の候補のうち、前記外接矩形の面積に対する、前記外接矩形内に含まれる各画像部分の面積の合計の比率が最大となる外接矩形を前記部品の外接矩形とする、請求項４〜７のいずれか１項に記載の部品認識装置。
【請求項９】
前記画像認識部は、前記部品の外接矩形の検出時に適用する少なくとも１つの前記検出条件を、前記部品の種類に応じて選択可能に構成されている、請求項４〜８のいずれか１項に記載の部品認識装置。
【請求項１０】
部品を吸着保持する吸着ノズルを含み、吸着された前記部品を所定の移載位置に移載するためのヘッドユニットと、
前記吸着ノズルに吸着された前記部品を撮像する撮像部と、
前記撮像部により撮像された前記部品に対応する複数の画像部分を含む撮像画像に基づいて画像認識を行う画像認識部を含む部品認識部とを備え、
前記部品認識部の画像認識部は、前記部品の所定部分の寸法データと比較しながら、前記部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成され、
前記ヘッドユニットは、画像認識結果に基づき前記吸着ノズルの位置を修正して前記部品を前記所定の移載位置に移載するように構成されている、部品移載装置。
【請求項１１】
前記ヘッドユニットは、前記吸着ノズルを回転駆動するノズル回転装置をさらに含み、前記画像認識結果に基づき前記吸着ノズルの位置および回転位置を修正して前記部品を前記所定の移載位置において所定の方向に移載するように構成されている、請求項１０に記載の部品移載装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面による部品認識装置は、部品を撮像して得られる部品に対応する複数の画像部分を含む撮像画像に基づいて画像認識を行う画像認識部を備え、画像認識部は、部品の所定部分の寸法データと比較しながら、部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この第１の局面による部品認識装置では、上記のように、画像認識部を、部品の所定部分の寸法データと比較しながら、部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成することによって、複数の画像部分を個別に認識することなく、複数の画像部分からなる部品の画像を１つの部品（外接矩形）として認識することができる。また、画像認識部を、部品の所定部分の寸法データと比較しながら、部品に対応する複数の画像部分の全てを取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成することによって、複数の画像部分のそれぞれの配置および形状などの特徴点となる情報を個別に登録することなく、認識対象の部品の画像認識可能な部分の寸法データのみにより部品を認識することができる。特に、部品の形状が複雑な場合には、特徴点の数を増やす必要がある一方、部品の寸法データは、部品毎に既に存在するものであるので、複雑な設定作業を要することなく複数の画像部分からなる部品の画像を１つの部品として認識することができる。また、上記第１の局面による部品認識装置において、好ましくは、画像認識部は、部品に対応する複数の画像部分に加え、ノイズに対応する部分に基づいて画像認識を行うとともに、部品に対応する複数の画像部分の外方となるノイズに対応する部分を囲むことなく、部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この発明の第２の局面による部品移載装置は、部品を吸着保持する吸着ノズルを含み、吸着された部品を所定の移載位置に移載するためのヘッドユニットと、吸着ノズルに吸着された部品を撮像する撮像部と、撮像部により撮像された部品に対応する複数の画像部分を含む撮像画像に基づいて画像認識を行う画像認識部を含む部品認識部とを備え、部品認識部の画像認識部は、部品の所定部分の寸法データと比較しながら、部品に対応する複数の画像部分の全部を取り囲む１つの外接矩形を検出するように構成され、ヘッドユニットは、画像認識結果に基づき吸着ノズルの位置を修正して部品を所定の移載位置に移載するように構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月8日(2011.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図１において、マルチキャストネットワーク１０００は、マルチキャストサーバ４００と、シードノード２００と、暗号化鍵管理装置１００と、４台のマルチキャストルータ３００と、複数の受信端末１０とから構成される。複数の受信端末１０は、集合Ｓ_｛１,Ｘ｝５１０、集合Ｓ_｛２,Ｙ｝５２０、…、集合Ｓ_｛ｎ,Ｚ｝５ｎ０のいずれかに含まれ、全体としてマルチキャストグループＧ_｛Ｎ｝５００を構成する。シードノード２００と、暗号化鍵管理装置１００と、４台のマルチキャストルータ３００とは、ＩＰネットワーク６００で接続されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
鍵管理装置１００において、鍵管理部１１０は、マルチキャストグループのテーブル管理部１５０のマルチキャストグループ毎の暗号化鍵、グループ毎にグループ内の各サブグループ用復号化鍵の登録、更新および削除を行なう。鍵生成部１２０は、鍵管理部１１０の鍵情報変更、生成および更新要求を受けた際、鍵情報の変更、生成および更新を行なう。サブグループ決定部１３０は、サブグループの決定方法および、情報送受信部１４０よりを通して受信端末からのＩＧＭＰ（Internet Group Management Protocol）のｊｏｉｎおよびＩＧＭＰのｌｅａｖｅ要求を受けた時、サブグループ決定方法よりサブグループの作成、更新、消滅を行なう。テーブル管理部１５０は、サブグループ決定部１３０のグループ情報、鍵管理部１１０の鍵情報を対応付けして登録、更新、削除を行なう。情報送受信部１４０は、メッセージの受信および鍵配布を行なう。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
マルチキャストサーバ４００は、シードノード２００に配信データを送信する（Ｓ４６）。シードノード２００は、変更された暗号化鍵（Ａ”）を用いて、マルチキャストサーバ４００から受け取った配信データを暗号化する（Ｓ４７）。シードノード２００は、暗号化した暗号化文をマルチキャストグループの受信端末１０−２に対して暗号化文を配信する（Ｓ４８）。ここでは、仮に離脱した受信端末１０−１も配信データを受信したとする（Ｓ４９）。受信端末１０−２は、更新した復号化鍵を使って暗号化文を復号化する（Ｓ５１）。しかし、離脱した受信端末１０−１は、更新した復号化鍵を持ってないため、暗号化文を復号化できない（Ｓ５２）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
図９を参照して、受信端末の離脱によるサブグループ消滅に対する暗号化鍵処理シーケンスを説明する。図９において、離脱する受信端末１０は、マルチキャストルータ３００に対してＩＧＭＰ ｌｅａｖｅ通知を送信する（Ｓ６１）。マルチキャストルータ３００は、そのメッセージを受けて鍵管理装置１００に対して受信端末のＩＧＭＰ ｌｅａｖｅ通知を送信する（Ｓ６２）。鍵管理装置１００は、受信端末１０の離脱通知を受信し、離脱したサブグループに残りの受信端末があるかどうかをチェックする。ここでは、残った受信端末がないので、鍵管理装置１００は、該当サブグループを消滅し、暗号化鍵を変更する（Ｓ６３）。鍵管理装置１００は、シードノード２００に対して変更した暗号化鍵を配布する（Ｓ６４）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
ここで暗号化鍵管理装置１００は、ＩＫＥを用いて、復号化鍵を同時に配布する（Ｓ７６）。マルチキャストサーバ４００は、配信するデータＭをシードノード２００に対して送信する（Ｓ７７）。シードノード２００は、データＭを受信し、暗号鍵Ａを用いて配信データＭを暗号化して暗号化文Ｘとする。さらにシードノード２００は、暗号化文ＸをＤＥＳで暗号化して、暗号化文ＸをＸ’とする（Ｓ７８）。シードノード２００は、暗号化文Ｘ’をマルチキャストグループの受信端末１０に対して送信する（Ｓ７９）。受信端末１０は、暗号化文Ｘ’を受信し、鍵管理装置１００から配布された復号化鍵Ｋを用いて暗号化文Ｘ’を復号化する。暗号化文Ｘ’は、Ｘとなる。また受信端末１０は、サブグループ１の復号化鍵Ｋ１を用いて、暗号化文Ｘを復号化して配信データＭを受け取る（Ｓ８１）。
（実施例４）
次に、実施例４について説明する。マルチキャストサーバ４００が配信しようとするデータがＭ、データＭの長さがＬｍ＝６４ｂｉｔ、マルチキャストグループのサブグループ２個とする。データＭよりも大きい素数を２つ取る場合、素数Ｋ１、Ｋ２の長さは、それぞれＬ１＝６４ｂｉｔ、Ｌ２＝６４ｂｉｔとする。暗号化鍵Ａは、Ａ＝Ｋ１＊Ｋ２より、暗号化鍵Ａの長さＬａはＬａ＝Ｌ１＊Ｌ２＝１２８ビットとなる。暗号化文Ｘは、Ｘ＝Ｍ＋Ａより、Ｘの長さＬｘはＬｘ＝１２８ｂｉｔとなる。実際の配信データＭより６４ｂｉｔも長くなってしまい、さらにサブグループの数が増えると暗号化鍵も大きくなるので、通信の際に無駄が生じる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
暗号化鍵Ａは、Ｋ１，Ｋ２，…，Ｋｎの最小公倍数である。最小公倍数を十分に大きく取り、Ｋ１，Ｋ２，…，Ｋｎは、因数分解が十分困難な程度に大きな素数からなるものとする。復号化鍵はサブグループ１の復号化鍵をＫ１、サブグループ２の復号化鍵をＫ２、…サブグループｎの復号化鍵Ｋｎとする。復号化鍵はサブグループの数だけある。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信キューと、この受信キューからパケットを取り出すパケット振り分け処理部と、複数の処理待ちキューと、これらの処理待ちキューとに対応する複数のパケット処理部と、送信キューとからなるネットワーク中継装置において、
前記複数のパケット処理部の負荷状態を定期的に収集する統計情報収集部と、
この統計情報収集部が収集した負荷状況と、ハッシュ値とパケット処理部とカウンタとを対応付ける振り分け情報テーブルとを保持する振り分け情報保持部とをさらに備え、
前記パケット振り分け処理部は、前記処理待ちキューにパケットを送信した後、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをインクリメントし、
前記パケット処理部は、前記送信キューにパケットを送信した後、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをデクリメントし、
前記前記パケット振り分け処理部は、前記受信キューからパケットを取得したとき、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタを参照し、カウンタ値が予め定めた値のとき、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のパケット処理部を更新することを特徴とするネットワーク中継装置。
【請求項２】
入力されたパケットをハッシュ値に基づいて振り分けることによりパケット処理の負荷分散を図るパケット振り分け処理部と、パケット振り分け先を特定するために用いる各パケット処理部の負荷状態を定期的に収集する統計情報収集部と、パケットを振り分ける際に振り分け先を特定するための情報を管理する振り分け情報保持部と、振り分けられたパケットを処理する複数のパケット処理部を備えるネットワーク中継装置において、
前記情報保持部は、ハッシュ値とパケット処理部とカウンタとを対応付ける振り分け情報テーブルを備え、
前記パケット振り分け処理部は、パケット処理が終了した後、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをインクリメントし、
前記パケット処理部は、パケット処理が終了した後、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをデクリメントすることを特徴とするネットワーク中継装置。
【請求項３】
請求項２に記載のネットワーク中継装置であって、
前記前記パケット振り分け処理部は、パケットを取得したとき、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタを参照し、カウンタ値が予め定めた値のとき、前記振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のパケット処理部を更新することを特徴とするネットワーク中継装置。
【請求項４】
受信キューからパケットを取り出すステップと、
このパケットのハッシュ値を計算するステップと、
このハッシュ値に基づいて、振り分け情報テーブルを参照するステップと、
この振り分け情報テーブルのカウンタ値が予め定めた値か確認するステップと、
前記パケットを処理待ちキューに振り分けるステップと、
前記カウンタ値をインクリメントするステップと、
前記処理待ちキューから前記パケットを取り出すステップと、
前記パケットを出力するステップと、
前記カウンタ値をインクリメントするステップと、
からなるパケット振り分け方法。
【請求項５】
請求項４に記載のパケット振り分け方法であって、
前記確認するステップで、前記カウンタ値が前記予め定めた値のとき、前記振り分け情報テーブルを更新するステップをさらに含むパケット振り分け方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図１を参照して、ハッシュ法を用いたパケット振り分け方法を説明する。ここで、図１はハッシュ法を用いたパケット振り分け方法を説明するブロック図である。図１において、図示の簡便のため、パケット処理部１０５は、２個のみ記載する。また、ネットワーク中継装置の、パケット振り分け処理部１０３、処理待ちキュー１０４、パケット処理部１０５のみ抜きで出している。図１Ａの処理待ちキュー１０４−１を参照して、円形で示すパケットを説明する。処理キュー１０４−１には、パケットＡ１、Ｃ１、Ａ２、Ｃ２がこの順に保持されている。ＡはフローＡ、ＣはフローＣを意味する。ＡまたはＣに続く数字は、フローのシーケンス番号である。また処理待ちキュー１０４は、いわゆるＦＩＦＯ（First In First Out）メモリであり、左から入力され、右から出力される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上述した課題は、受信キューと、この受信キューからパケットを取り出すパケット振り分け処理部と、複数の処理待ちキューと、これらの処理待ちキューとに対応する複数のパケット処理部と、送信キューとからなり、複数のパケット処理部の負荷状態を定期的に収集する統計情報収集部と、この統計情報収集部が収集した負荷状況と、ハッシュ値とパケット処理部とカウンタとを対応付ける振り分け情報テーブルとを保持する振り分け情報保持部とをさらに備え、パケット振り分け処理部は、処理待ちキューにパケットを送信した後、振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをインクリメントし、パケット処理部は、送信キューにパケットを送信した後、振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをデクリメントし、パケット振り分け処理部は、受信キューからパケットを取得したとき、振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタを参照し、カウンタ値が予め定めた値のとき、振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のパケット処理部を更新するネットワーク中継装置により、達成できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、入力されたパケットをハッシュ値に基づいて振り分けることによりパケット処理の負荷分散を図るパケット振り分け処理部と、パケット振り分け先を特定するために用いる各パケット処理部の負荷状態を定期的に収集する統計情報収集部と、パケットを振り分ける際に振り分け先を特定するための情報を管理する振り分け情報保持部と、振り分けられたパケットを処理する複数のパケット処理部を備え、情報保持部は、ハッシュ値とパケット処理部とカウンタとを対応付ける振り分け情報テーブルを備え、パケット振り分け処理部は、パケット処理が終了した後、振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをインクリメントし、パケット処理部は、パケット処理が終了した後、振り分け情報テーブルの該当するハッシュ値のカウンタをデクリメントするネットワーク中継装置により、達成できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2010161546.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月28日(2011.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡大共役側から縮小共役側に順に、
負の屈折力を有する負レンズユニットと、
少なくとも１つの正の屈折力を有する正レンズユニットと、
絞りを含む中間レンズユニットと、
少なくとも１つの縮小側レンズユニットを有し、
前記負レンズユニット及び前記少なくとも１つの正レンズユニットのうち少なくとも２つの拡大側可動レンズユニットと、前記少なくとも１つの縮小側レンズユニットのうち少なくとも１つの縮小側可動レンズユニットが変倍に際して移動し、
以下の条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
０．９＜（ＸＴ・βＴｂ・φＷ）／（ＸＷ・βＷｂ・φＴ）＜１．１
０．９＜φＷ／φＴ＜１．１
０．８＜（βＴＳ・βＴｂ）／（βＷＳ・βＷｂ）＜１．２
１．４＜ｆＴ／ｆＷ
ただし、ＸＷは広角端における前記負レンズユニット及び前記少なくとも１つの正レンズユニットによる焦点位置と前記絞りとの間隔であり、βＷｂは広角端における前記少なくとも１つの縮小側レンズユニットによる結像倍率であり、βＷＳは広角端における前記中間レンズユニットの結像倍率であり、φＷは広角端における前記絞りの径であり、ＸＴは望遠端における前記負レンズユニット及び前記少なくとも１つの正レンズユニットによる焦点位置と前記絞りとの間隔であり、βＴｂは望遠端における前記少なくとも１つの縮小側レンズユニットによる結像倍率であり、βＴＳは望遠端における前記中間レンズユニットの結像倍率であり、φＴは望遠端における前記絞りの径であり、ｆＷは広角端における前記ズームレンズ全系の焦点距離であり、ｆＴは望遠端における前記ズームレンズ全系の焦点距離である。
【請求項２】
広角端から望遠端への変倍に際して、前記中間レンズユニットと前記少なくとも１つの縮小側レンズユニットのうち最も前記中間レンズユニットに近いレンズユニットとの間隔が減少し、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
８０＜ｆｆ＜８００
ただし、ｆｆは前記負レンズユニットから前記中間レンズユニットまでの合成焦点距離である。
【請求項３】
前記少なくとも１つの縮小側可動レンズユニットは、負の屈折力を有する負レンズ面と正の屈折力を有する正レンズ面とにより構成されたメニスカス形状の空気レンズを含み、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載のズームレンズ。
φ−／φ＋＜−１．２
ただし、φ−は負レンズ面が有する負の屈折力であり、φ＋は正レンズ面が有する正の屈折力である。
【請求項４】
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載のズームレンズ。
Ｌｂ／Ｌ＞０．０５
ただし、Ｌは前記ズームレンズの広角端での全長であり、Ｌｂは前記少なくとも１つの縮小側可動レンズユニットのうち広角端から望遠端まででの移動量が最も大きいレンズユニットの該移動量である。
【請求項５】
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載のズームレンズ。
｜ｆＷ／ｂｆ｜＜  ０．６０
ただし、ｂｆは前記ズームレンズのバックフォーカスの空気換算値である。
【請求項６】
変倍に際して、前記少なくとも１つの縮小側レンズユニットのうち最も縮小共役側のレンズユニットは不動であり、該最も縮小共役側のレンズユニットは１つの正レンズエレメントにより構成されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記正レンズユニットが１つの正レンズエレメントにより構成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記中間レンズユニットが、前記絞りと１つの接合レンズエレメントとにより構成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１つに記載のズームレンズ。
【請求項９】
光を変調する光変調素子と、
該光変調素子からの光を被投射面に投射する請求項１から８のいずれか１つに記載のズームレンズとを有することを特徴とする画像投射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来から、クランクシャフトと変速機のメインシャフト（主軸）との間に２つのクラッチ（第１クラッチ、第２クラッチ）を設け、アクチュエータによる変速操作と並行して第１および第２クラッチを交互に断接制御することで、エンジンの駆動力伝達を中断することなく順次変速を可能としたツインクラッチ式変速機が知られている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
特許文献１には、油圧供給源からの供給油圧を制御する単一のリニアソレノイドバルブと、油圧の供給先を第１および第２クラッチのいずれかに切り換えるシフトバルブとによって、２つのクラッチの断接制御を行うツインクラッチ式変速機が開示されている。
【特許文献１】特開２００７−９２９０７号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
なお、時刻ｔ１０への到達後に、第２クラッチＣＬ２の油圧値がやや上昇するのは、クラッチの作動油の温度が低くその粘度が高い場合に、リニアソレノイドバルブ２８による調圧タイミングとシフトソレノイド２５の作動タイミングとの間に作動油の粘性に基づく同期ずれが発生するためである。したがって、油温が高くその粘度が低い場合には、このような上昇は発生せずに、時刻ｔ１０への到達と共に下降を開始する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月18日(2011.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（０）：
【化１】
2010078981.tif 000001
（式中、Ｘは、水素原子の少なくとも一つがハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１乃至８の炭化水素基、置換基を有してもよいフェニル基若しくはナフチル基、又はヒドロキシル基を表す。）
で表される酸、及び溶媒を含有する、リソグラフィープロセスに適用されるリンス液。
【請求項２】
請求項１において、前記式（０）のＸは、水素原子の少なくとも１つがフッ素原子で置換されてもよい炭素原子数１乃至８のアルキル基、置換基としてメチル基を有してもよいフェニル基、又はヒドロキシル基を表す、リソグラフィープロセスに適用されるリンス液。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記酸は、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ノナフルオロ−１−ブタンスルホン酸又は硫酸である、リソグラフィープロセスに適用されるリンス液。
【請求項４】
露光され現像液に曝された表面を有する下層膜が形成された基板を請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のリンス液を用いて洗浄する工程を含む、レジストパターンの形成方法。
【請求項５】
下層膜が形成された基板上に第１レジスト膜を形成する第１工程、少なくとも前記第１レジスト膜を露光する第２工程、露光された前記第１レジスト膜を現像して第１レジストパターンを前記下層膜上に形成する第３工程、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のリンス液を用いて前記基板を洗浄する第４工程、前記第１レジストパターンを被覆する第２レジスト膜を形成する第５工程、少なくとも前記第２レジスト膜を露光する第６工程、露光された前記第２レジスト膜を現像する第７工程を含む、レジストパターンの形成方法。
【請求項６】
請求項４又は請求項５において、前記リンス液を用いた洗浄後、さらに前記リンス液に含まれる酸を含有しない溶媒を用いて前記基板を洗浄する、レジストパターンの形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月29日(2011.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の観察方法を切り替えて観察体の観察を行うことができる顕微鏡と、
前記観察体の光学画像を撮像する撮像手段と、
前記複数の観察方法のうち少なくとも１つの観察方法を選択させるための選択指示が与えられる選択指示手段と、
前記選択された観察方法に基づいて、前記撮像した画像同士を重畳させる重畳手段と、
前記重畳させた画像を表示させる制御を行う表示制御手段と、
前記観察体を撮影する観察環境の変化を生じさせる前記顕微鏡の動作を検出する検出手段と、
前記検出結果に基づいて、前記重畳させた画像の重畳状態を解除する重畳解除手段と、  を備えることを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項２】
前記重畳手段は、前記表示制御手段により表示させていた画像に対して、前記選択指示による観察方法の画像を累積的に重畳させることを特徴とする請求項１に記載の顕微鏡システム。
【請求項３】
前記検出手段は、前記観察体を載置するステージの移動、倍率の変更、及び合焦のうち少なくともいずれかに関する動作を検出することを特徴とする請求項１または２に記載の顕微鏡システム。
【請求項４】
前記重畳解除手段は、前記顕微鏡の動作が検出された場合、前記表示させていた画像に対して重畳させていた前記画像を消去して前記画像の重畳状態を解除することを特徴とする請求項１〜３のうち１項に記載の顕微鏡システム。
【請求項５】
前記選択指示手段は、前記画像を表示させるグラフィカルユーザインターフェースの一部として表示されており、
前記表示制御手段は、前記選択指示手段に前記選択指示が与えられた場合、該選択指示手段の表示形態を第１の表示形態から第２の表示形態に変更することを特徴とする請求項１〜４のうち１項に記載の顕微鏡システム。
【請求項６】
前記表示制御手段は、前記選択指示手段により選択解除指示が与えられた場合には該選択指示手段の表示形態を前記第２の表示形態から前記第１の表示形態に変更し、前記検出手段により顕微鏡の動作が検出された場合には該選択指示手段の表示形態を前記第２の表示形態から第３の表示形態に変更することを特徴とする請求項５に記載の顕微鏡システム。
【請求項７】
前記観察方法は、波長毎に蛍光観察を行う蛍光観察法であることを特徴とする請求項１〜６のうち１項に記載の顕微鏡システム。
【請求項８】
前記観察方法は、明視野観察法、暗視野観察法、位相差観察法、蛍光観察法、及び微分干渉コントラスト法のうち少なくともいずれか２つであることを特徴とする請求項１に記載の顕微鏡システム。
【請求項９】
複数の観察方法を切り替えて観察体の観察を行うことができる顕微鏡と該観察体の光学画像を撮像する撮像手段とを含む顕微鏡システムの制御をコンピュータに実行させる顕微鏡システムプログラムであって、
前記複数の観察方法のうち少なくとも１つの観察方法を選択させるための選択指示情報を取得する選択指示取得処理と、
前記選択された観察方法に基づいて、前記撮像した画像同士を重畳させる重畳処理と、
前記重畳させた画像を表示させる制御を行う表示制御処理と、
前記観察体を撮影する観察環境の変化を生じさせる前記顕微鏡の動作を検出する検出処理と、
前記検出結果に基づいて、前記重畳させた画像の重畳状態を解除する重畳解除処理と、をコンピュータに実行させることを特徴とする顕微鏡システム制御プログラム。
【請求項１０】
複数の観察方法を切り替えて観察体の観察を行うことができる顕微鏡と該観察体の光学画像を撮像する撮像手段とを含む顕微鏡システムの制御方法であって、
前記複数の観察方法のうち少なくとも１つの観察方法を選択させるための選択指示情報を取得し、
前記選択された観察方法に基づいて、前記撮像した画像同士を重畳させ、
前記重畳させた画像を表示させる制御を行い、
前記観察体を撮影する観察環境の変化を生じさせる前記顕微鏡の動作を検出し、
前記検出結果に基づいて、前記重畳させた画像の重畳状態を解除することを特徴とする顕微鏡システムの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記顕微鏡システムにおいて、前記観察方法は、波長毎に蛍光観察を行う蛍光観察法であることを特徴とする。
前記顕微鏡システムにおいて、前記観察方法は、明視野観察法、暗視野観察法、位相差観察法、蛍光観察法、及び微分干渉コントラスト法のうち少なくともいずれか２つであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月29日(2011.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に、露光光の一部を透過する半透光膜と露光光を遮光する遮光膜をこの順で有し、前記半透光膜と前記遮光膜にそれぞれパターニングが施されることにより、露光光を透過する透光部、露光光を一部透過する半透光部、露光光を遮光する遮光部が形成された多階調フォトマスクを作製するためのフォトマスクブランクであって、
前記半透光膜は、透光性基板側から下層と上層がこの順に積層した積層膜からなり、
前記下層は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域にわたる露光光に対する透過率変化量が上層に比べて相対的に小さく、かつ、所定の透過率を得るために必要な膜厚が上層に比べて相対的に薄く、
前記上層は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域にわたる露光光に対する透過率変化量が下層に比べて相対的に大きく、かつ、所定の透過率を得るために必要な膜厚が下層に比べて相対的に厚いことを特徴とするフォトマスクブランク。
【請求項２】
前記上層の膜厚は、前記下層の膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項１記載のフォトマスクブランク。
【請求項３】
前記下層は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域に亘る透過率変化量を抑制する機能を有する膜であり、
前記上層は、膜厚を調整することによって、前記積層膜からなる半透光膜を透過する露光光の透過率を所望の値に調整することを特徴とする請求項１又は２に記載のフォトマスクブランク。
【請求項４】
前記積層膜からなる半透光膜は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域に亘る露光光に対する透過率変化量が、２．０％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
【請求項５】
前記下層は、シート抵抗値が前記上層よりも小さいことを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載のフォトマスクブランク。
【請求項６】
前記下層は、シート抵抗が０．５５ｋΩ／□以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
【請求項７】
透光性基板上に、
クロムと窒素を含む材料からなる下層と、モリブデンとシリコンを含む材料又はモリブデンとシリコンと窒素を含む材料からなる上層と、をこの順で積層してなる半透光膜の積層膜と、
クロムを含む材料からなる遮光膜と、
をこの順で積層してなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
【請求項８】
透光性基板上に、露光光の一部を透過する半透光膜と露光光を遮光する遮光膜をこの順で有し、前記半透光膜と前記遮光膜にそれぞれパターニングが施されることにより、露光光を透過する透光部、露光光を一部透過する半透光部、露光光を遮光する遮光部が形成された多階調フォトマスクであって、
前記半透光膜は、透光性基板側から下層と上層がこの順に積層した積層膜からなり、
前記下層は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域にわたる露光光に対する透過率変化量が上層に比べて相対的に小さく、かつ、所定の透過率を得るために必要な膜厚が上層に比べて相対的に薄く、
前記上層は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域にわたる露光光に対する透過率変化量が下層に比べて相対的に大きく、かつ、所定の透過率を得るために必要な膜厚が下層に比べて相対的に厚いことを特徴とする多階調フォトマスク。
【請求項９】
前記上層の膜厚は、前記下層の膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項８記載の多階調フォトマスク。
【請求項１０】
前記下層は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域に亘る透過率変化量を抑制する機能を有する膜であり、
前記上層は、膜厚を調整することによって、前記積層膜からなる半透光膜を透過する露光光の透過率を所望の値に調整することを特徴とする請求項８又は９に記載の多階調フォトマスク。
【請求項１１】
前記積層膜からなる半透光膜は、ｉ線〜ｇ線の波長帯域に亘る露光光に対する透過率変化量が、２．０％以下であることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
【請求項１２】
前記下層は、シート抵抗値が前記上層よりも小さいことを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
【請求項１３】
前記下層は、シート抵抗が０．５５ｋΩ／□以下であることを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
【請求項１４】
前記半透光部は、透光性基板上に、前記積層構造の半透光膜で構成される半透光部が形成されてなることを特徴とする請求項８〜１３のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
【請求項１５】
前記半透光部は、露光光の透過率の異なる第１の半透光部と第２の半透光部を有し、前記第１の半透光部は、透光性基板上に、前記積層構造の半透光膜の下層膜のみで構成される半透光部が形成されてなり、前記第２の半透光部は、透光性基板上に、前記積層構造の半透光膜の下層膜及び上層膜の積層膜で構成される半透光部が形成されてなることを特徴とする請求項８〜１３のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
【請求項１６】
請求項８〜１５のいずれかに記載の多階調フォトマスクを用い、ｉ線〜ｇ線の波長帯域に亘る露光光によって、フォトマスクに形成された多階調パターンを被転写体上に転写する工程を含む、パターン転写方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月14日(2011.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有する樹脂（ａ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対してモノカルボン酸（ｂ）を０．３〜０．９モルの割合で反応させ、得られた反応生成物（ｃ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対して多塩基酸（ｄ）を０．２〜５モルの割合で反応させ、得られた反応生成物（ｅ）のエポキシ基に、エポキシ基１当量に対してモノカルボン酸（ｆ）を０．０〜５．０モルの割合で反応させて得られる酸価１８〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇの反応生成物（ｇ）の２級のアルコール性水酸基に、さらに多塩基酸無水物（ｈ）を反応させて得られる酸価４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇのカルボキシル基含有化合物、
（Ｂ）前記カルボキシル基含有化合物（Ａ）以外のカルボキシル基含有化合物、
（Ｃ）感光性（メタ）アクリレート化合物、及び
（Ｄ）光重合開始剤
を含有することを特徴とするアルカリ現像可能な硬化性組成物。
【請求項２】
前記モノカルボン酸（ｂ）及び（ｆ）が不飽和基含有モノカルボン酸である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
前記モノカルボン酸（ｂ）が不飽和基含有モノカルボン酸であり、前記モノカルボン酸（ｆ）が不飽和基を含有しないモノカルボン酸である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
前記モノカルボン酸（ｂ）が不飽和基を含有しないモノカルボン酸であり、前記モノカルボン酸（ｆ）が不飽和基含有モノカルボン酸である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
前記モノカルボン酸（ｂ）及び（ｆ）が不飽和基を含有しないモノカルボン酸である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項６】
前記モノカルボン酸（ｂ）及び／又は（ｆ）が不飽和基含有モノカルボン酸と不飽和基を含有しないモノカルボン酸の混合物である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
前記多塩基酸（ｄ）がマロン酸又はマロン酸と他の二塩基酸との混合物である請求項１〜６のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項８】
１分子中に２個以上のエポキシ基を有する樹脂（ａ）がノボラック型エポキシ樹脂である請求項１〜７のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の硬化性組成物の硬化物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
合成例４
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のＹＤＣＮ−７００−５（東都化成（株）製、エポキシ当量：２０３ｇ／ｅｑ．）１５９．５部及びビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のエピコート８２８（ジャパンエポキシレジン（株）製、エポキシ当量：１８６ｇ／ｅｑ．）３９．９部を温度計、撹拌機、還流冷却器及び空気吹き込み管を備えた反応容器に入れ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１０７部を加え、加熱溶解した。次に、アクリル酸５０．４部、メチルハイドロキノン０．３部及びトリフェニルホスフィン１部を加え、空気を吹き込みながら９５〜１０５℃で６時間反応させた。その後、マレイン酸４０．６部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート７９部及びメチルハイドロキノン０．２部を加え９５〜１０５℃で４時間反応させ、エポキシ当量４８２３２ｇ／ｅｑ．の反応生成物を得た。次いでテトラヒドロ無水フタル酸１５．２部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート９部を加え９５〜１０５℃で４時間反応させて、不揮発分６１％の溶液を得た。このようにして得られたカルボキシル基含有化合物は、酸価１０７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。以下、この溶液をＡ−４と称す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
（８）無電解金めっき耐性
上記評価基板を、無電解ニッケルめっき、次いで無電解金めっきを行い、外観の変化及びセロハン粘着テープを用いたピーリング試験を行ない、硬化膜の剥離状態を判定した。
○：外観変化もなく、硬化膜の剥離も全くない。
△：外観の変化はないが、硬化膜にわずかに剥れがある。
×：硬化膜の浮きが見られ、めっき潜りが認められ、ピーリング試験で硬化膜の剥れが大きい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（１１）可撓性
パターン形成されている銅スルーホールプリント配線基板の代わりに、ポリエステルフィルムを用い、前記の方法にて硬化性組成物の塗布、硬化を行ない、その後ポリエステルフィルムから硬化塗膜をはがし、長さ５ｃｍ、幅２ｃｍの評価フィルムを得た。得られたフィルムを折り曲げ、以下の基準にて評価した。
○：フィルムを１７０°折り曲げて割れなかったもの。
△：フィルムを１７０°折り曲げると割れるが、１６０°折り曲げて割れなかったもの。
×：フィルムを１６０°折り曲げて割れたもの。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月24日(2011.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、
第１の方向に延在する走査線と、
前記第１の方向に交差する第２の方向に延在するデータ線と、
前記走査線及び前記データ線の交差に対応して画素毎に設けられた画素電極と、
前記第１の方向及び前記第２の方向のうち一方の方向に沿ったチャネル長を有するチャネル領域、前記第２の方向に沿った部分を有し、前記データ線に電気的に接続されたソース領域、前記第１の方向に沿った部分を有し、前記画素電極に電気的に接続されたドレイン領域、前記チャネル領域及び前記ソース領域間に形成された第１の接合領域、並びに前記チャネル領域及び前記ドレイン間に形成された第２の接合領域を有し、前記基板上で平面的に見て前記データ線及び前記走査線の交差に対応して前記ドレイン領域で折れ曲がっている半導体層と、
前記チャネル領域にゲート絶縁膜を介して対向するように形成された本体部、及び前記基板上で平面的に見て、前記半導体層における折れ曲がった部分に沿って、少なくとも前記第２の接合領域を包囲するＬ字部分を含む包囲部を有するゲート電極と、
前記包囲部から立ち上がり又は立ち下がっており、前記第２の接合領域を側方から囲むように形成された部分を含む側壁部と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記側壁部は、前記包囲部及び前記走査線間を電気的に接続するコンタクト用に形成された部分を含むことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第２の接合領域は、前記基板上で平面的に見て、前記データ線及び前記走査線の交差する交差領域内又は前記チャネル領域に比べて前記交差領域に近接する近接領域内に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記包囲部は、前記基板上で平面的に見て、前記Ｌ字部分の逆側から、前記第２の接合領域を包囲する部分を更に含み、
前記側壁部は、前記第２の接合領域を前記逆側における側方から囲むように形成された部分を更に含む
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記包囲部は、前記基板上で平面的に見て環形状を有していることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記側壁部は、前記基板上で平面的に見て、その前記第２の接合領域における前記半導体層との第１距離よりも、その先端側における前記半導体層との第２距離の方が短くなるように、前記半導体層側に向かって突出する突出部を有する
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記第２の接合領域は、ＬＤＤ領域であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記半導体層より上層側に積層され、前記基板上で平面的に見て、少なくとも前記チャネル領域及び前記第２の接合領域より広く形成された上側遮光膜を備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記上側遮光膜は、前記データ線を兼ねる部分を有することを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記半導体層より下層側に積層され、前記基板上で平面的に見て、少なくとも前記チャネル領域及び前記第２の接合領域より広く形成された下側遮光膜を備えることを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記下側遮光膜は、前記走査線を兼ねる部分を有することを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第１の方向に延在する走査線と、前記第１の方向に交差する第２の方向に延在するデータ線と、前記走査線及び前記データ線の交差に対応して画素毎に設けられた画素電極と、前記第１の方向及び前記第２の方向のうち一方の方向に沿ったチャネル長を有するチャネル領域、前記第２の方向に沿った部分を有し、前記データ線に電気的に接続されたソース領域、前記第１の方向に沿った部分を有し、前記画素電極に電気的に接続されたドレイン領域、前記チャネル領域及び前記ソース領域間に形成された第１の接合領域、並びに前記チャネル領域及び前記ドレイン間に形成された第２の接合領域を有し、前記基板上で平面的に見て前記データ線及び前記走査線の交差に対応して前記ドレイン領域で折れ曲がっている半導体層と、前記チャネル領域にゲート絶縁膜を介して対向するように形成された本体部、及び前記基板上で平面的に見て、前記半導体層における折れ曲がった部分に沿って、少なくとも前記第２の接合領域を包囲するＬ字部分を含む包囲部を有するゲート電極と、前記包囲部から立ち上がり又は立ち下がっており、前記第２の接合領域を側方から囲むように形成された部分を含む側壁部とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月22日(2011.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視域を含む使用波長領域で反射防止機能を有する光学素子であって、
該使用波長領域は、該使用波長領域の最長波長λＨが該使用波長領域の最短波長λＬに比べて２倍以上となる範囲であり、
該光学素子は基板の光入出射面の少なくとも一方の面に、平均ピッチが最短波長λＬ以下の微細凹凸構造体が最外層となるように構成された反射防止構造体を備え、
Ｐを微細凹凸構造体の平均ピッチ、ｎ１を微細凹凸構造体を形成している材料の屈折率、ｈを微細凹凸構造体の平均高さ、θを空気側から微細凹凸構造体へ入射する光の入射角とするとき、
Ｐ＜λＬ／（ｎ１＋Ｓｉｎθ）
０．２λＬ≦ｈ≦０．８λＨ
なる条件を満足することを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記反射防止構造体は、入射角が６０度において反射率が３％以下となる波長領域が、前記使用波長領域に１／２以上存在するような構成より成ることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記微細凹凸構造体は、等価屈折率が前記基板側から連続的に減少するような形状より成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記微細凹凸構造体は、アルミニウム又は酸化アルミニウムを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記微細凹凸構造体は前記基板の一方の面に直接に形成されているか、又は前記微細凹凸構造体と前記基板との間には、該微細凹凸構造体とは材料の異なる均質層が一層以上形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記均質層のうち、少なくとも一層はジルコニア、シリカ、チタニア、酸化亜鉛のうち一種を含むことを特徴とする請求項５に記載の光学系。
【請求項７】
互いに波長領域が異なる第１、第２波長領域の２つの波長領域において反射防止機能を有する光学素子であって、
該光学素子は基板の光入出射側の少なくとも一方の面に、平均ピッチが該２つの波長領域内における最短波長以下の微細凹凸構造体が最外層となるように構成した反射防止構造体を備え、
第１の波長領域内の長波長側の波長をλａ、
第１の波長領域より長波長側の第２の波長領域内の短波長側の波長をλｂ、
λｃ＝（λａ＋λｂ）／２
とし、微細凹凸構造体の高さをｈとするとき
λａ＜λｂ
０．４４＜ｈ／λｃ＜０．５６
なる条件を満足することを特徴とする光学素子。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項の光学素子が配置されている光学系であって、該最も物体側の光学素子の光入射側の有効径をＤａ、該光学系の焦点距離（光学系がズームレンズのときは広角端における焦点距離）をｆとするとき
３≦Ｄａ／ｆ
なる条件を満足することを特徴とする光学系。
【請求項９】
前記光学系はズーム部を有し、該光学系のズーム比をＺとするとき、
１５≦Ｚ
なる条件を満足することを特徴とする請求項８の光学系。
【請求項１０】
請求項８又は９の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の光学素子は、可視域を含む使用波長領域で反射防止機能を有する光学素子であって、
該使用波長領域は、該使用波長領域の最長波長λＨが該使用波長領域の最短波長λＬに比べて２倍以上となる範囲であり、
該光学素子は基板の光入出射面の少なくとも一方の面に、平均ピッチが最短波長λＬ以下の微細凹凸構造体が最外層となるように構成された反射防止構造体を備え、
Ｐを微細凹凸構造体の平均ピッチ、ｎ１を微細凹凸構造体を形成している材料の屈折率、ｈを微細凹凸構造体の平均高さ、θを空気側から微細凹凸構造体へ入射する光の入射角とするとき、
Ｐ＜λＬ／（ｎ１＋Ｓｉｎθ）
０．２λＬ≦ｈ≦０．８λＨ
なる条件を満足することを特徴としている。