【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年7月23日(2009.7.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを取り扱い処理するために少なくとも２つの真空室を有する真空システムであって、
ウェハの通過を許容する複数の第１通路を有する第１真空室と、
前記第１通路と異なる、ウェハの通過を許容する第２通路をそれぞれ有する、複数の第２真空室と、
前記複数の第１通路を前記複数の第２真空室の第２通路に適合させる複数の取り外し自在のアダプタと、
を備え、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、前記複数の第１通路の各々において前記複数の第２真空室の各々を前記第１真空室の外側に装着し、前記第１真空室と前記複数の第２真空室の各々との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、
前記第１真空室の外側から前記複数の第１通路の各々に少なくとも部分的に挿入され、前記第２真空室の各々に接触する外側部分と、
前記第１真空室の内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を有し、
前記内側部分は、前記複数の第２真空室及び前記外側部分を前記第１真空室から取り外すことなく、前記第１真空室の内側から除去及び交換可能である真空システム。
【請求項２】
ウェハの通過を許容する少なくとも１つの第１通路を有する第１真空室と、
ウェハの通過を許容する第２通路とスリットバルブ取付インターフェースとを有する少なくとも１つの第２真空室と、
前記第１通路を前記第２通路に適合させる少なくとも１つの取り外し自在のアダプタと、
を備え、
前記取り外し自在のアダプタは、前記第１通路において前記第２真空室を前記第１真空室の外側に装着し、前記第１真空室と前記第２真空室との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記取り外し自在のアダプタは、
前記第１真空室の外側から前記第１通路に少なくとも部分的に挿入され、前記第２真空室に接触する外側部分と、
前記第１真空室の内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を有し、
前記内側部分は、前記第２真空室及び前記外側部分を前記第１真空室から取り外すことなく、前記第１真空室の内側から除去及び交換可能である真空システム。
【請求項３】
チャンバ開口及び異なるスリットバルブインターフェースをそれぞれ有する複数の他の真空室を装着する複数のスリットバルブ開口を有する真空室であって、
前記複数の他の真空室のチャンバ開口及び前記複数のスリットバルブ開口は、ウェハの通過を許容し、
前記複数のスリットバルブ開口を前記複数の他の真空室のチャンバ開口に適合させる複数の取り外し自在のアダプタを備え、
前記取り外し自在のアダプタの各々は、前記複数の他の真空室の各々を前記真空室の外側に装着し、前記真空室と前記複数の他の真空室の各々との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、
前記真空室の外側から前記複数のスリットバルブ開口の各々に少なくとも部分的に挿入され、前記複数の他の真空室の各々に接触する外側部分と、
前記真空室の内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を備え、
前記内側部分は、前記複数の他の真空室及び前記外側部分を前記真空室から取り外すことなく、前記真空室の内側から除去及び交換可能である真空室。
【請求項４】
前記外側部分の選択は、前記真空室にどの異なるスリットバルブインターフェースが取り付けられるかに依存している請求項３に記載の真空室。
【請求項５】
前記内側部分の選択は、前記外側部分の選択に依存している請求項４に記載の真空室。
【請求項６】
前記内側部分の選択は、前記真空室にどの異なるスリットバルブインターフェースが取り付けられるかに依存している請求項３に記載の真空室。
【請求項７】
プロセス室開口をそれぞれ有する複数のプロセス室を装着する複数のスリットバルブ開口を有する搬送チャンバであって、
前記プロセス室開口及び前記複数のスリットバルブ開口は、ウェハの通過を許容し、
前記複数のスリットバルブ開口を前記プロセス室開口に適合させる複数の取り外し自在のアダプタを備え、
前記取り外し自在のアダプタの各々は、前記複数のプロセス室の各々を前記搬送チャンバの外側に装着し、前記搬送チャンバと前記複数のプロセス室の各々との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、
前記搬送チャンバの外側から前記複数のスリットバルブ開口の各々に少なくとも部分的に挿入され、前記複数のプロセス室の各々に接触する外側部分と、
前記搬送チャンバの内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を備え、
前記内側部分は、前記複数のプロセス室及び前記外側部分を前記搬送チャンバから取り外すことなく、前記搬送チャンバの内側から除去及び交換可能であり、
前記複数のプロセス室は、
第１のプロセス室と、
前記第１のプロセス室と異なる第２のプロセス室と、
を有し、
前記複数の取り外し自在のアダプタは、
前記第１のプロセス室を接続するための第１の取り外し自在のアダプタと、
前記第２のプロセス室を接続するための第2の取り外し自在のアダプタと、
を有し、
該第１の取り外し自在のアダプタは、取り外して、前記第２の取り外し自在のアダプタと交換できる、搬送チャンバ。
【請求項８】
前記外側部分は、該外側部分を備える前記取り外し自在のアダプタによって前記プロセス室が前記搬送チャンバに接続されているときには、前記スリットバルブ開口から取り外しできない請求項７に記載の搬送チャンバ。
【請求項９】
前記内側部分は、該内側部分を備える前記取り外し自在のアダプタによって前記プロセス室が前記搬送チャンバに接続されているときには、前記外側部分から取り外しできる請求項７に記載の搬送チャンバ。
【請求項１０】
搬送チャンバの搬送チャンバ開口をプロセス室のプロセス室開口に適合させるためのアダプタであって、
前記搬送チャンバ開口及び前記プロセス室開口は、ウェハの通過を許容し、
前記搬送チャンバ開口において前記プロセス室を前記搬送チャンバの外側に装着し、前記搬送チャンバとプロセス室との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記搬送チャンバの外側から前記搬送チャンバ開口に少なくとも部分的に挿入され、前記プロセス室に接触する外側部分と、
前記搬送チャンバの内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を備え、
前記内側部分は、前記プロセス室及び前記外側部分を前記搬送チャンバから取り外すことなく、前記搬送チャンバの内側から除去及び交換可能である、アダプタ。
【請求項１１】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記外側部分及び前記内側部分は、実質的に一致する、対応する滑り面を有しており、
前記内側部分は前記外側部分内に滑入するアダプタ。
【請求項１２】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記内側部分は前記プロセス室開口と適合するための開口を含むアダプタ。
【請求項１３】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記内側部分は、気密シールを形成するため、付勢圧力を受ける山形の背面を含んでいるアダプタ。
【請求項１４】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記外側部分は、実質的に矩形のブロックであり、該外側部分が、
実質的に平板状の前面と、
実質的に平板状の後面と、
該後面から前記前面に延びる実質的に矩形の穴と、
該実質的に矩形の穴の底壁を画成する頂面を有する底壁と、
該底壁から上方へ前記前面に部分的に沿って延びると共に、頂面及び内側後面を有する前壁と、
前記後面から前方へ延びる実質的に矩形の切欠きと、底面とを有する頂壁であって、該切欠きが前記頂壁の内向き後面を画成している前記頂壁とを含み、
前記内側部分は、
前記外側部分の前記前面と実質的に面一である、実質的に平板状の前面と、
上側の斜め後面と、
該上側の斜め後面から前記内側部分の前記前面に延びる実質的に矩形の穴と、
前記上側の斜め後面に対しある内角度で結合する下側の斜め後面と、
前記外側部分の前記頂壁の底面及び内向き後面，前記外側部分の前記底壁の前記頂面，並びに前記外側部分の前記前壁の前記頂面及び内側後面に実質的にならう多平面状外面とを含み、
前記内側部分は、該内側部分の前記多平面状外面の対応する外面で、前記外側部分の前記頂壁の前記底面，前記外側部分の前記底壁の前記頂面，並びに前記外側部分の前記前壁の前記頂面に沿って滑り、前記外側部分に入るアダプタ。
【請求項１５】
請求項７に記載のプロセス室と請求項７に記載の搬送チャンバとの間に請求項７に記載の取り外し自在のアダプタによって気密シールを形成するための方法であって、
前記搬送チャンバに前記取り外し自在のアダプタの外側部分を挿入し、
前記プロセス室を、前記外側部分に接触するように、前記搬送チャンバに取り付け、
前記搬送チャンバの内側から前記外側部分の中に前記取り外し自在のアダプタの内側部分を挿入し、
該内側部分に付勢圧力を加えて前記内側部分及び前記プロセス室を強制的に気密封止する方法。
【請求項１６】
請求項７に記載の搬送チャンバに取り付けられた前記プロセス室を取り外すことなく前記搬送チャンバの前記取り外し自在のアダプタの部材のサービスを行うための方法であって、前記取り外し自在のアダプタの内側部分及び前記プロセス室は、該内側部分に付勢圧力が加えられて強制的に気密封止されており、
前記搬送チャンバの蓋体を開き、
前記プロセス室及び前記取り外し自在のアダプタの内側部分の前記気密封止を取り除き、
該内側部分を前記搬送チャンバの外部に除去し、
この内側部分を別の内側部分と交換するか、或いは洗浄して前記搬送チャンバに戻す、方法。
【請求項１７】
請求項７に記載のプロセス室を請求項７に記載の搬送チャンバに請求項７に記載の取り外し自在のアダプタによって接続するための方法であって、
前記プロセス室に適合する前記取り外し自在のアダプタを選択し、
前記搬送チャンバの外側から、前記取り外し自在のアダプタの外側部分を前記搬送チャンバに挿入し、
前記搬送チャンバの内側から、前記外側部分の中に前記取り外し自在のアダプタの内側部分を挿入し、
前記取り外し自在のアダプタが前記搬送チャンバのスリットバルブ開口及び前記プロセス室のプロセス室開口を適合させるように前記プロセス室を前記搬送チャンバに取り付ける、
ことを含む方法。
【請求項１８】
請求項７に記載の搬送チャンバに取り付けられた請求項７に記載の第１のプロセス室を請求項７に記載の第２のプロセス室と交換するための方法であって、
（ａ）前記第１のプロセス室を用意し、
（ｂ）該第１のプロセス室に適合する請求項７に記載の第１のアダプタを選択し、
（ｃ）該第１のアダプタを少なくとも部分的に前記スリットバルブ開口に挿入し、
（ｄ）前記第１のアダプタが前記搬送チャンバ及び前記第１のプロセス室を適合させるように前記第１のプロセス室を前記搬送チャンバに取り付け、
（ｅ）前記第１のプロセス室を前記搬送チャンバから取り外し、
（ｆ）前記第１のアダプタを除去し、
（ｇ）前記第２のプロセス室に適合する請求項７に記載の第２のアダプタを選択し、
（ｈ）該第２のアダプタを少なくとも部分的に前記スリットバルブ開口に挿入し、
（ｉ）前記第２のアダプタが前記搬送チャンバ及び前記第２のプロセス室を適合させるように前記第２のプロセス室を前記搬送チャンバに取り付ける、
各ステップからなる方法。
【請求項１９】
前記第１のアダプタは前記第２のプロセス室に適合していない請求項１８に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
プロセス室及び搬送チャンバ間に気密シールを形成するための方法の一実施形態は、外側部分を搬送チャンバに挿入すること、その後、外側部分に接触するようにプロセス室を取り付けること、次いで内側部分を搬送チャンバの内側から外側部分内に挿入すること、そして圧力を加え内側部分を外側部分に向かって付勢させることを含んでいる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
図３は、搬送チャンバ１２の内部が見られるように蓋体を除去した具体的搬送チャンバ１２の斜視図である。開口２４，２６を有する数個のスリットバルブ及びアダプタ２８，３０の例が示されている。スリットバルブ開口２４，２６及びアダプタ２８，３０がスリットバルブを形成する。アダプタ２８，３０は、プロセス室１４を搬送チャンバ１２に、両者の間にウェハのための通路を形成して、取り付けられるようにするアダプタである。プロセス室１４は、気密シールで搬送チャンバ１２に取り付けられていて、チャンバ間の結合部で雰囲気が真空システムに入るのを防止している。異なるアダプタ２８，３０は異種のプロセス室１４に適合するようになっている。搬送チャンバ１２の床３７にある円形の開口３６は、ウェハを搬送チャンバ１２の内側で移動させたり、そこに接続された他のチャンバもしくは室１４，１６の内部及び外部へ移動させたりするためのアームを有するロボットを通常支持する。ロボットは図示していないので、搬送チャンバ内部の他の詳細が観察できる。矩形の開口３８は、付勢圧力を加えるようにスリットバルブドアを操作して該スリットバルブドアを開閉するための作動シリンダに対してアクセスを可能にする。各スリットバルブ毎に１つの開口３８がある。作動シリンダ及びスリットバルブドアは図示していないので、搬送チャンバ１２における他の特徴が観察できる。作動シリンダ及びスリットバルブドアの一例は１９９３年７月１３日に発行された米国特許第5,226,632号に見られる。これは、参照によって、以下に十分に記載されているかのようにここに組み込まれる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
外側部分２９は、穴５９を通るネジにより搬送チャンバ１２に取り付ける。内側部分３１は、外側部分２９の頂壁６４の底面６２，外側部分２９の底壁６８の頂面６６，及び外側部分２９の前壁７２の頂面７０に沿って外側部分２９に滑入する。内側部分３１は、その前面５８が外側部分２９の前面６０とほぼ面一になるまで、外側部分２９にあるほぼ矩形の開口に滑入する。内側部分３１は、穴６１に入るネジにより外側部分２９に取り付けられる。ネジは、取り付けられたプロセス室の外側面上に内側部分３１の前面５８が落ちつくまで、締め付けられる。従って、内側部分３１は外側部分２９の内面６２，６６，７０，７４，７６に対応する外面を有するが、２つの部分２９，３１はこれらの面の各々に沿って必ずしも接触しないので、内側及び外側部分間に生ずる間隙は非常に小さい。しかしながら、スリットバルブドアが後面５４に向かって付勢されているときには、内側部分３１が前方且つ上方へ押されるので、同内側部分３１は、取り付けられたプロセス室の外面に対してより強く押圧されるだけでなく、底面６２で外側部分２９にも押し付けられる。底面６２での接触は少量のガスを捕獲することがある。この接触のところで捕獲されるガスの量を最少にすると共に、接触面を最小にするため、スペース７８が接触の長さだけ延びており、搬送チャンバ１２に通じている。