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【手続補正書】
【提出日】平成22年11月11日(2010.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨テープと研磨対象物とを相対移動させることにより研磨対象物を研磨する研磨装置において、
研磨対象物を保持する保持部と、
前記研磨テープを研磨対象物に接触させる研磨ヘッドと、
前記研磨テープを前記研磨ヘッドに供給する供給リールと、
研磨対象物に接触した研磨テープを回収する回収リールと、
前記研磨ヘッドを揺動運動させる揺動機構とを備えたことを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記研磨テープは、前記供給リールから前記研磨ヘッドの揺動運動の中心点を通って研磨対象物まで延びることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記揺動運動の中心点は前記研磨ヘッド内に位置することを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記研磨対象物は半導体ウエハであり、該半導体ウエハの周縁部を研磨することを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項５】
前記研磨ヘッドおよび前記揺動機構を研磨対象物の表面に対して傾斜させる傾斜機構をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項６】
前記揺動機構は、
前記研磨ヘッドが固定される揺動アームと、
前記揺動アームと連結軸を介して回転自在に連結される支持アームと、
前記揺動アームを前記連結軸を中心として揺動運動させる駆動機構とを有し、
前記傾斜機構は、
前記支持アームを支持する回転自在な支持軸と、
前記支持軸を回転させる回転機構とを有することを特徴とする請求項５に記載の研磨装置。
【請求項７】
前記連結軸と前記支持軸とは互いに平行であることを特徴とする請求項６に記載の研磨装置。
【請求項８】
揺動運動するときの前記研磨ヘッドは、前記連結軸および前記支持軸の各中心線を通りかつ該中心線に垂直に延びる基準線から同じ角度だけ時計回りおよび反時計回りに交互に回転することを特徴とする請求項７に記載の研磨装置。
【請求項９】
研磨テープと研磨対象物とを相対移動させることにより研磨対象物を研磨する研磨方法において、
研磨対象物を保持し、
前記研磨テープを供給リールから研磨ヘッドに送りながら、前記研磨ヘッドにより前記研磨テープを研磨対象物に接触させ、
前記研磨ヘッドを揺動運動させることを特徴とする研磨方法。
【請求項１０】
前記研磨テープは、前記供給リールから前記研磨ヘッドの揺動運動の中心点を通って研磨対象物まで延びることを特徴とする請求項９に記載の研磨方法。
【請求項１１】
前記揺動運動の中心点は前記研磨ヘッド内に位置することを特徴とする請求項９に記載の研磨方法。
【請求項１２】
前記研磨対象物は半導体ウエハであり、該半導体ウエハの周縁部を研磨することを特徴とする請求項９に記載の研磨方法。
【請求項１３】
前記研磨ヘッドを揺動させながら、前記研磨ヘッドを研磨対象物の表面に対して傾斜させることを特徴とする請求項９に記載の研磨方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の好ましい態様は、前記揺動運動の中心点は前記研磨ヘッド内に位置することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨対象物は半導体ウエハであり、該半導体ウエハの周縁部を研磨することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の好ましい態様は、前記研磨ヘッドおよび前記揺動機構を研磨対象物の表面に対して傾斜させる傾斜機構をさらに備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の好ましい態様は、前記揺動機構は、前記研磨ヘッドが固定される揺動アームと、前記揺動アームと連結軸を介して回転自在に連結される支持アームと、前記揺動アームを前記連結軸を中心として揺動運動させる駆動機構とを有し、前記傾斜機構は、前記支持アームを支持する回転自在な支持軸と、前記支持軸を回転させる回転機構とを有することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記連結軸と前記支持軸とは互いに平行であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、揺動運動するときの前記研磨ヘッドは、前記連結軸および前記支持軸の各中心線を通りかつ該中心線に垂直に延びる基準線から同じ角度だけ時計回りおよび反時計回りに交互に回転することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の好ましい態様は、前記揺動運動の中心点は前記研磨ヘッド内に位置することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨対象物は半導体ウエハであり、該半導体ウエハの周縁部を研磨することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の好ましい態様は、前記研磨ヘッドを揺動させながら、前記研磨ヘッドを研磨対象物の表面に対して傾斜させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月8日(2011.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を溶接する方法であって、
上記物品を全面的に囲繞する壁を備を有するエンクロージャであって、物品をその少なくとも実質的に全体で均一に加熱する構成及び寸法の付属加熱装置を有するエンクロージャ内に、物品を配置する段階と、
上記エンクロージャ内に非反応性雰囲気を確立する段階と、
上記加熱装置を作動させて、上記エンクロージャ内で物品をその少なくとも実質的に全体で溶接温度に均一に加熱する段階と、
上記エンクロージャ内で、物品の少なくとも実質的に全体で溶接温度を維持しながら物品を溶接する段階と
を含んでなる方法。
【請求項２】
前記溶接段階が、エンクロージャの壁に取付けられたマニピュレータで操作される溶接装置によって実施される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記物品が、複雑な形状のガスタービンエンジン部品として用いられるように構成されている、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記物品が、ガスタービンエンジンのタービンノズルとして用いられるように構成されている、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記溶接温度が約１５００°Ｆ以上である、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記加熱装置が誘導加熱装置、伝導加熱装置及び輻射加熱装置の少なくとも１つである、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記溶接装置が、タングステン不活性ガス（ＴＩＧ）溶接装置、アーク溶接装置及びレーザ溶接装置の少なくとも１つである、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
物品を溶接するための装置であって、
物品を収容するためのエンクロージャであって、物品を全面的に囲繞するための壁を有するエンクロージャと、
エンクロージャ内に配設され、物品をその少なくとも実質的に全体で溶接温度に加熱するように構成された加熱装置と、
エンクロージャ内に配設された溶接装置であって、エンクロージャ内に配置された溶接温度の物品を溶接するように構成された溶接装置と
を備える装置。
【請求項９】
前記エンクロージャにグローブボックスが取付けられ、該グローブボックスが、エンクロージャ内でユーザが溶接装置及び物品を操作できるように構成されている、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記溶接温度が約１５００°Ｆ以上である、請求項８又は請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記加熱装置が、誘導加熱装置、伝導加熱装置及び輻射加熱装置の少なくとも１つである、請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
前記溶接装置が、タングステン不活性ガス（ＴＩＧ）溶接装置及びアーク溶接装置の少なくとも１つである、請求項８乃至請求項１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記物品が、複雑な形状のガスタービンエンジン部品として用いられるように構成されている、請求項８乃至請求項１２のいずれかに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン源から発生された粒子線を加速する加速器と、この加速器で加速された粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドと、上記イオン源、加速器、および照射ヘッドを制御して積層原体照射を行う照射制御器とを備え、上記照射ヘッドは粒子線の偏向走査用のワブラ電磁石を有し、上記照射制御器は、上記ワブラ電磁石を励磁制御して粒子線を偏向走査するシステムであって、
上記照射制御器は、粒子線が始点から始まって始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くように上記ワブラ電磁石を励磁制御するとともに、照射する前に上記加速器から出力される粒子線の全照射期間が、粒子線が上記周回軌道を一周するのに要するワブラ周期の整数倍になるように積層原体照射の各層毎に設定するものであることを特徴とする積層原体照射システム。
【請求項２】
上記加速器は、粒子線を上記ワブラ周期よりも長いパルス幅でもって出射する加速器であり、上記照射制御器は、積層原体照射の各層ごとに粒子線の数を変更することにより被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御するとともに、粒子線の各パルスの照射期間が上記ワブラ周期の整数倍になるように制御するものである、ことを特徴とする請求項１記載の積層原体照射システム。
【請求項３】
上記加速器は、粒子線を連続的に出射する加速器であり、上記照射制御器は、各層ごとに粒子線強度を変更することにより被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御するとともに、各層ごとの粒子線の全照射期間が上記ワブラ周期の整数倍になるように各層ごとに粒子線強度を制御するものである、ことを特徴とする請求項１記載の積層原体照射システム。
【請求項４】
上記加速器は、粒子線を上記ワブラ周期よりも短いパルス幅でもって出射する加速器であり、上記照射制御器は、積層原体照射の各層ごとに粒子線のパルス数を変更することにより被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御するとともに、粒子線の各パルスの出射周期の整数倍が上記ワブラ周期の整数倍になるように制御するものである、ことを特徴とする請求項１記載の積層原体照射システム。
【請求項５】
上記照射制御器は、上記被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御することに加えて、各層ごとに粒子線の照射エネルギを変更することにより、上記被照射体に対する深さ方向の線量分布が平坦になるように制御するものであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の積層原体照射システム。
【請求項６】
上記の一筆書の周回軌道は、円軌道またはジクザク軌道であることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の積層原体照射システム。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の積層原体照射システムを用いた粒子線治療装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の目的を達成するために、本発明にあっては、イオン源から発生された粒子線を加速する加速器と、この加速器で加速された粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドと、上記イオン源、加速器、および照射ヘッドを制御して積層原体照射を行う照射制御器とを備え、上記照射ヘッドは粒子線の偏向走査用のワブラ電磁石を有し、上記照射制御器は、上記ワブラ電磁石を励磁制御して粒子線を偏向走査するシステムにおいて、次の構成を採用している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、本発明において、上記照射制御器は、粒子線が始点から始まって始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くように上記ワブラ電磁石を励磁制御するとともに、照射する前に上記加速器から出力される粒子線の全照射期間が、粒子線が上記周回軌道を一周するのに要するワブラ周期の整数倍になるように積層原体照射の各層毎に設定するものであることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明によれば、積層原体照射を行う際、粒子線が始点から始まって始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くとともに、照射する前に上記加速器から出力される粒子線の全照射期間が、粒子線が上記周回軌道を一周するのに要するワブラ周期の整数倍になるように積層原体照射の各層毎に設定されるので、各層の最終の周回軌道上で照射欠落部分が発生するのを確実に回避することができる。つまり、粒子線の出射開始／停止のタイミングの如何にかかわず、各層において常に照射欠落領域を生じない線量分布が均一化された積層原体照射を実現することができる。また、加速器の出射ビームはパルス状ビームである場合、各層の最終の周回軌道を除き、照射した各パルスビームの照射期間において、照射欠落領域を生じない線量分布が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月8日(2011.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応容器と、
前記反応容器内に設置した回転可能なウェハーホルダーと、
前記反応容器内に設置した複数のカソードであって、前記ウェハーホルダーに対し、傾斜したカソードと、
前記カソードに接続した第１ｒｆ発生器と、
前記第１ｒｆ発生器と前記カソードとの間に直列接続させて設置した整合回路と、
ガス導入部とガス排出部を含む圧力制御機構と、
前記ウェハーホルダー内に設けられた下部電極と、
を備え、前記反応容器内にプラズマを発生するように為したイオン化物理的気相成膜装置であって、
前記下部電極は、前記プラズマの電位に対する該下部電極の電位を負バイアス電位となす第２ｒｆ発生器に接続され、前記圧力制御機構は、前記反応容器内の内部圧力を５Ｐａ（パスカル）より高い圧力に制御し、前記プラズマが前記第１ｒｆ発生器のＲＦ電力の容量的結合によって生成されるとき、選択されたカソードの上に負の自己バイアス電圧が生成し、前記カソードから放出されたスパッタ原子をイオン化し、前記負バイアス電位により加速するように為した、ことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項２】
前記カソードは、前記第１ｒｆ発生器と、さらに、ＤＣ電流源とに接続されている、ことを特徴とする請求項１記載のスパッタリング装置。
【請求項３】
前記カソードは、Ｈｉｇｈ−ｋ誘電体材料をターゲットとして備えている、ことを特徴とする請求項２記載のスパッタリング装置。
【請求項４】
前記Ｈｉｇｈ−ｋ誘電体材料は、ＨｆＳｉＯＮであることを特徴とする請求項３記載のスパッタリング装置。
【請求項５】
反応容器圧力を５Ｐａより高い圧力になるように制御すること、
反応容器内のウェハーホルダーにウェハーを配置し、該ウェハーを回転させること、
前記ウェハーに対し、複数のターゲットおよびカソードを傾斜させて配置すること、
前記カソードに第１ｒｆ電流を印加すること、
前記反応容器内にプラズマを発生させること
前記プラズマが前記第１ｒｆ発生器のｒｆ電力の容量的結合によって生成されるとき、選択されたカソードの上に負の自己バイアス電圧を生成すること、
前記カソードから放出されたスパッタ原子をイオン化すること、並びに、
前記ウェハーホルダー内に設けられた下部電極に、第２ｒｆ電流を印加し、これによって、前記下部電極に、プラズマ電位に対して負のバイアス電位を印加すること、
前記負のバイアス電位により、イオン化されたスパッタ原子を前記のウェハー表面に垂直に加速し、
前記ウェハー表面に作られた孔又は溝の内側表面に膜を堆積させること
を特徴とするスパッタリング方法。
【請求項６】
前記カソードは、第１ｒｆ電流に加えて、ＤＣ電流が更に供給されることを特徴とする請求項５に記載のスパッタリング方法。
【請求項７】
前記ターゲットはＨｉｇｈ−ｋ誘電体材料で形成されており、前記Ｈｉｇｈ−ｋ誘電体材料は、ＨｆＳｉＯＮであることを特徴とする請求項５又は６に記載のスパッタリング方法。
【請求項８】
前記複数のターゲットは、異なる材料で形成されており、前記ターゲットを同時にスパッタする場合には、前記第１ｒｆ電流を前記カソードに同時に与えることを特徴とする５乃至７のいずれか１項に記載のスパッタリング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スパッタリング装置及びスパッタリング方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係るスパッタリング装置及びスパッタリング方法は、上記の目的を達成するため、次のように構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第１のスパッタリング装置は、反応容器と、
前記反応容器内に設置した回転可能なウェハーホルダーと、
前記反応容器内に設置した複数のカソードであって、前記ウェハーホルダーに対し、傾斜したカソードと、
前記カソードに接続した第１ｒｆ発生器と、
前記第１ｒｆ発生器と前記カソードとの間に直列接続させて設置した整合回路と、
ガス導入部とガス排出部を含む圧力制御機構と、
前記ウェハーホルダー内に設けられた下部電極と、
を備え、前記反応容器内にプラズマを発生するように為したイオン化物理的気相成膜装置であって、
前記下部電極は、前記プラズマの電位に対する該下部電極の電位を負バイアス電位となす第２ｒｆ発生器に接続され、前記圧力制御機構は、前記反応容器内の内部圧力を５Ｐａ（パスカル）より高い圧力に制御し、前記プラズマが前記第１ｒｆ発生器のＲＦ電力の容量的結合によって生成されるとき、選択されたカソードの上に負の自己バイアス電圧が生成し、前記カソードから放出されたスパッタ原子をイオン化し、前記負バイアス電位により加速するように為した、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第２のスパッタリング装置は、上記の構成において、前記カソードは、前記第１ｒｆ発生器と、さらに、ＤＣ電流源とに接続されている、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第４のスパッタリング装置は、上記の構成において、前記Ｈｉｇｈ−ｋ誘電体材料は、ＨｆＳｉＯＮであることを特徴とする。
第１のスパッタリング方法は、反応容器圧力を５Ｐａより高い圧力になるように制御すること、
反応容器内のウェハーホルダーにウェハーを配置し、該ウェハーを回転させること、
前記ウェハーに対し、複数のターゲットおよびカソードを傾斜させて配置すること、
前記カソードに第１ｒｆ電流を印加すること、
前記反応容器内にプラズマを発生させること
前記プラズマが前記第１ｒｆ発生器のｒｆ電力の容量的結合によって生成されるとき、選択されたカソードの上に負の自己バイアス電圧を生成すること、
前記カソードから放出されたスパッタ原子をイオン化すること、並びに、
前記ウェハーホルダー内に設けられた下部電極に、第２ｒｆ電流を印加し、これによって、前記下部電極に、プラズマ電位に対して負のバイアス電位を印加すること、
前記負のバイアス電位により、イオン化されたスパッタ原子を前記のウェハー表面に垂直に加速し、
前記ウェハー表面に作られた孔又は溝の内側表面に膜を堆積させること
を特徴とする。
第２のスパッタリング方法は、上記の構成において、前記カソードは、第１ｒｆ電流に加えて、ＤＣ電流が更に供給されることを特徴とする。
第３のスパッタリング方法は、上記の構成において、前記ターゲットはＨｉｇｈ−ｋ誘電体材料で形成されており、前記Ｈｉｇｈ−ｋ誘電体材料は、ＨｆＳｉＯＮであることを特徴とする。
第４のスパッタリング方法は、上記の構成において、前記複数のターゲットは、異なる材料で形成されており、前記ターゲットを同時にスパッタする場合には、前記第１ｒｆ電流を前記カソードに同時に与えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に平滑な非晶質テルル化ゲルマニウムアンチモン膜を蒸着するための蒸着方法であって、ゲルマニウム含有前駆体蒸気を形成するために［｛ｎＢｕＣ（ｉＰｒＮ）2｝2Ｇｅ］を含むテトラアミドゲルマニウム前駆体を揮発させる工程と、アンチモン含有前駆体蒸気を形成するために有機アンチモン前駆体を揮発させる工程と、テルル含有前駆体蒸気を形成するためにテルル前駆体を揮発させる工程と、平滑な非晶質テルル化ゲルマニウムアンチモン膜の形成が起こる条件でゲルマニウム含有前駆体蒸気、アンチモン含有前駆体蒸気及びテルル含有前駆体蒸気を基材と接触させる工程と、前記平滑な非晶質テルル化ゲルマニウムアンチモン膜を基材上に蒸着させる工程を含む方法。
【請求項２】
テルル前駆体がジブチルテルルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
アンチモン含有前駆体が、トリアルキルまたはトリアミドアンチモン化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
アンチモン含有前駆体が、トリス（ジメチルアミノ）アンチモンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法によって得ることができるテルル化ゲルマニウムアンチモン膜。
【請求項６】
請求項５に記載のテルル化ゲルマニウムアンチモン膜を含む、相変化型ランダムアクセスメモリー素子。
【請求項７】
請求項１に記載の蒸着方法を含む、相変化型ランダムアクセスメモリー素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月18日(2010.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
一方、下側ケース９ｂは、所定間隔を隔てて対向配置される一対の略矩形状からなる第１、第２の平板部９ｇ、９ｈと、ハンドルバー１１側となる各平板部９ｇ、９ｈの上部側開口を除いた他の開口である下部側開口及び一対の側部側開口を塞ぐ略「コ」字形状の壁部９ｉとから主に構成されている。なお、上側ケース９ａ、下側ケース９ｂは、非磁性金属材料からなる図示しないボルト等の適宜固定手段によって固定される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本実施形態では、渦巻きばね１０によって、被検出体１３を回動始点まで復帰するものであり、被検出体１３を構成する樹脂フレーム１３ａのフランジ部１３ｅがスロットルグリップ１のフランジ１ｄに当接して、スロットルグリップ１を回動始点方向に復帰する。  被検出体１３は、フランジ１３ｂが被検出体ストッパ１７に当接して、復帰方向への回動が停止する。この時、スロットルグリップ１のフランジ１ｄはスロットルグリップストッパ１６に当接せず、スロットルグリップ１は、スロットルグリップストッパ１６と、被検出体ストッパ１７に当接した被検出体１３との間で、被検出体１３が回動しないために被検出体１３の回動に伴う信号が出力されない状態で、回動可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2009133699.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月6日(2011.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２極着磁した円筒形状の永久磁石と、
前記永久磁石の外周に設けられ、前記永久磁石の内側の空間に均一な磁界強度を有する磁気回路を構成する円筒形状の強磁性体と、
前記磁気回路の回転による磁界の変化を検出する磁界検出素子と、
前記磁気回路と前記磁界検出素子との相対的な回転による前記磁界検出素子からの出力信号を処理する処理回路と、
を備え、
前記永久磁石の材質、密度から決まる前記永久磁石の残留磁束密度をＢｒとし、前記永久磁石の肉厚をｔｍとし、強磁性体の肉厚をｔｙとし、前記永久磁石の肉厚ｔｍを前記永久磁石の肉厚ｔｍと前記強磁性体の肉厚ｔｙの和で除した比で求められる永久磁石の肉厚比をｋｍとした場合において、
前記残留磁束密度Ｂｒが高い場合には、肉厚比ｋｍを小さく、
前記残留磁束密度Ｂｒが低い場合には、肉厚比ｋｍを大きくする、磁気式エンコーダ。
【請求項２】
前記残留磁束密度Ｂｒが１．０Ｔ以上の場合、前記肉厚比ｋｍが０．５未満である、請求項１記載の磁気式エンコーダ。
【請求項３】
前記残留磁束密度Ｂｒが０．５５Ｔ以上１．０Ｔ未満の範囲の場合、前記肉厚比ｋｍが０．５以上０．６５未満の範囲である、請求項１又は２に記載の磁気式エンコーダ。
【請求項４】
前記残留磁束密度Ｂｒが０．５５Ｔ未満の場合、前記肉厚比ｋｍが０．６５以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気式エンコーダ。
【請求項５】
前記磁気回路の内側の空間に前記磁界検出素子を設置した、請求項１〜４のいずれか1項に記載の磁気式エンコーダ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したものである。
すなわち、本発明の一の観点による磁気式エンコーダは、２極着磁した円筒形状の永久磁石と、前記永久磁石の外周に設けられ、前記永久磁石の内側の空間に均一な磁界強度を有する磁気回路を構成する円筒形状の強磁性体と、前記磁気回路の回転による磁界の変化を検出する磁界検出素子と、前記磁気回路と前記磁界検出素子との相対的な回転による前記磁界検出素子からの出力信号を処理する処理回路とを備えた磁気式エンコーダにおいて、前記永久磁石の材質、密度から決まる残留磁束密度をＢｒ、前記永久磁石の肉厚をｔｍ、強磁性体の肉厚をｔｙとしたとき、永久磁石の肉厚ｔｍを永久磁石の肉厚ｔｍと強磁性体の肉厚ｔｙの和で除した比で求められる永久磁石の肉厚比ｋｍを、使用する永久磁石の前記残留磁束密度Ｂｒが高いときには肉厚比ｋｍを小さく、前記残留磁束密度Ｂｒが低いときには肉厚比ｋｍを大きくしたことを特徴とする。
また、上記一の観点による磁気式エンコーダは、永久磁石の残留磁束密度Ｂｒが１．０Ｔ以上の場合、永久磁石の肉厚比ｋｍが０．５未満であることを特徴としてもよい。
また、上記一の観点による磁気式エンコーダは、永久磁石の残留磁束密度Ｂｒが０．５５Ｔ以上１．０Ｔ未満の範囲の場合、永久磁石の肉厚比ｋｍが０．５以上ら０．６５未満の範囲であることを特徴としてもよい。
また、上記一の観点による磁気式エンコーダは、永久磁石の残留磁束密度Ｂｒが０．５５Ｔ未満の場合、永久磁石の肉厚比ｋｍが０．６５以上であることを特徴としてもよい。
また、上記一の観点による磁気式エンコーダは、前記磁気回路の内側の空間に前記磁界検出素子を設置したことを特徴としてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一の観点による磁気式エンコーダによると、どのような磁気特性の永久磁石を用いても非常に高調波歪みの少ない正弦波波形を得ることができ、これにより角度位置情報が極めて高い磁気式エンコーダを提供できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月30日(2011.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
各アンテナ間に複数のそれぞれのギャップが形成されるように、前記基板上に互いに関して配置された複数のアンテナと、
前記複数のそれぞれのギャップ中の少なくとも１つのギャップに配置された少なくとも１つのナノワイヤとを具備し、前記複数のアンテナと通信する前記少なくとも１つのナノワイヤ及び前記基板がマルチスペクトル画像化システムを構成する、マルチスペクトル画像化アレイシステム。
【請求項２】
基板と、
各アンテナ間に複数のそれぞれのギャップが形成されるように、前記基板上に互いに関して配置された複数のアンテナと、
前記複数のそれぞれのギャップ中の少なくとも１つのギャップに配置された少なくとも１つのナノワイヤであって、前記複数のアンテナと通信する前記少なくとも１つのナノワイヤ及び前記基板がマルチスペクトル画像化システムを構成する、少なくとも１つのナノワイヤと、
前記複数のアンテナ、前記少なくとも１つのナノワイヤ及び前記基板からなる画素アレイであって、前記複数のアンテナ中のアンテナのグループが前記画素アレイの画素を構成する、画素アレイとを具備するマルチスペクトル画像化アレイシステム。
【請求項３】
マルチスペクトル画像化アレイを形成する方法であって、
基板を用意するステップと、
前記基板上に互いに関して配置され、複数のアンテナグループを含む、複数のアンテナを構成するステップと、
前記複数のアンテナ中の各アンテナグループ間に複数のそれぞれのギャップを形成するステップと、
前記複数のそれぞれのギャップ中の少なくとも１つのギャップに少なくとも１つのナノワイヤを配置するステップであって、前記複数のアンテナと通信する前記少なくとも１つのナノワイヤと前記基板とがマルチスペクトル画像化アレイを構成する、少なくとも１つのナノワイヤを配置するステップとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月9日(2011.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスストリームが流れる管路（１４）の中に挿入された上流端部（２４）を有した空気取出し管を備え、取出し管のオリフィスにガスストリーム流入速度調整手段が設けられた、等速性プローブ、特に航空機エンジンによって発生されたガスの汚染に対する分析のための等速性プローブであって、管（４）が、基部（１０）に固定された形で取り付けられた下流端部を有し、前記基部（１０）が、通路ブッシュ（１２）の内径ｄに取り付けられた外径を有し、通路ブッシュの内径が、管（４）の上流端部（２４）が通路ブッシュ（１２）の内径を通って嵌合するのに適切であるように充分大きく、このプローブが、基部に連結された端部を有した測定チャンバ（６）も備えることを特徴とする、等速性プローブ。
【請求項２】
試料採取管の上流端部（２４）が湾曲されていることを特徴とする、請求項１に記載の等速性プローブ。
【請求項３】
基部（１０）が、通路ブッシュ（１２）の対応するフレア部（１８）内に挿入されたフレア部（１６）を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の等速性プローブ。
【請求項４】
基部のフレア部が、ナット（２２）によって、通路ブッシュのフレア部（１８）に載って適所にしっかりと保持されていることを特徴とする、請求項３に記載の等速性プローブ。
【請求項５】
測定チャンバがノズル（２０）を有するテーパ付けされた端部を有し、前記ノズルが、ナット（２２）によって、基部のフレア部に載って適所にしっかりと保持されていることを特徴とする、請求項４に記載の等速性プローブ。
【請求項６】
測定チャンバ内（６）に設けられた、静圧測定手段、全圧測定手段、および温度測定手段（３０、３２、３４）を備えることを特徴とする、請求項１に記載の等速性プローブ。
【請求項７】
全圧測定手段がピトー管（３０）であることを特徴とする、請求項６に記載の等速性プローブ。
【請求項８】
温度測定手段が熱電対からなることを特徴とする、請求項６または７に記載の等速性プローブ。
【請求項９】
異なる直径の上流端部を有したいくつかの取出し管（４ａ、４ｂ、４ｃ）を備え、前記取出し管がそれぞれ、共通の外径ｄの基部上に取り付けられ、前記直径が、最大直径（４ａ）を備えた管の湾曲端部が通路ブッシュ（１２）の内径を通って嵌合するのに適切であるように充分大きいことを特徴とする、請求項１または２に記載の等速性プローブ。
【請求項１０】
測定チャンバに連結された少なくとも１つの取入れポンプを備え、前記ポンプが、取出し管（２６）のオリフィスにおけるガス取入れ速度を調整することを可能にすることを特徴とする、請求項１または２に記載の等速性プローブ。
【請求項１１】
空気取出し管の端部の入口における通路断面を変化させることを可能にする隔膜を備えることを特徴とする、請求項１または２に記載の等速性プローブ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月3日(2010.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より順に、
正の屈折力を有する第１レンズ群と、
負の屈折力を有する第２レンズ群と、
正の屈折力を有する第３レンズ群と、を有し、
前記第１レンズ群は、第１ａ部分レンズ群と、当該第１ａ部分レンズ群の像側に空気間隔を隔てて配置された第１ｂ部分レンズ群とを有し、無限遠から近距離物体への焦点調節に際して、前記第１ｂ部分レンズ群を光軸方向に沿って移動させるように構成され、
前記第１ａ部分レンズ群の焦点距離をｆ１ａとし、前記第１ｂ部分レンズ群の焦点距離をｆ１ｂとしたとき、次式
０．１７  ＜  ｜ｆ１ｂ｜／｜ｆ１ａ｜  ＜  ０．５１
の条件を満足するズームレンズ。
【請求項２】
前記第３レンズ群は、第３ａ部分レンズ群と、当該第３ａ部分レンズ群の像側に空気間隔を隔てて配置された第３ｂ部分レンズ群とから構成される請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第３レンズ群中の前記第３ａ部分レンズ群は、正の屈折力を有し、
前記第３レンズ群中の前記第３ｂ部分レンズ群は、負の屈折力を有する請求項２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第３レンズ群中の前記第３ｂ部分レンズ群は、物体側から順に、接合負レンズと、像側に凸面を向けた負メニスカスレンズとで構成される請求項２または３に記載のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、全系の焦点距離をｆｗとしたとき、次式
１．７  ＜  ｆ１／ｆｗ  ＜  ２．６
の条件を満足する請求項１〜４いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、前記第１ｂ部分レンズ群の焦点距離をｆ１ｂとしたとき、次式
１．１５  ＜  ｜ｆ１ｂ｜／ｆ１  ＜  １．５０
の条件を満足する請求項１〜５いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記第１レンズ群中の前記第１ａ部分レンズ群は、近距離合焦状態から無限遠合焦状態までレンズ位置状態が変化する際に、像面に対して固定である請求項１〜６いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第１レンズ群中の前記第１ａ部分レンズ群は、正の屈折力を有する請求項１〜７いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記第１レンズ群中の前記第１ｂ部分レンズ群は、正の屈折力を有する請求項１〜８いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２としたとき、次式
２．７３  ＜  ｆ１／（−ｆ２）  ＜  ６．２０
の条件を満足する請求項１〜９いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１１】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３としたとき、次式
２．７４  ＜  ｆ１／ｆ３  ＜  ５．１４
の条件を満足する請求項１〜１０いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１２】
広角端状態から望遠端状態までレンズ位置状態が変化する際に、少なくとも前記第１レンズ群及び前記第３レンズ群が物体側へ移動する請求項１〜１１いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１３】
広角端状態から望遠端状態までレンズ位置状態が変化する際に、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群との間隔が増大し、前記第２レンズ群と前記第３レンズ群との間隔が減少するように構成された請求項１〜１２いずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１４】
物体の像を所定の像面上に結像させる、請求項１〜１３いずれか一項に記載のズームレンズを備えた光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第３レンズ群は、第３ａ部分レンズ群と、当該第３ａ部分レンズ群の像側に空気間隔を隔てて配置された第３ｂ部分レンズ群とから構成されることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このとき、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第３レンズ群中の第３ａ部分レンズ群は、正の屈折力を有し、第３レンズ群中の第３ｂ部分レンズ群は、負の屈折力を有するように構成することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
さらに、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第３レンズ群中の第３ｂ部分レンズ群は、物体側から順に、接合負レンズと、像側に凸面を向けた負メニスカスレンズとで構成されることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような本発明に係るズームレンズは、第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、全系の焦点距離をｆｗとしたとき、次式
１．７  ＜  ｆ１／ｆｗ  ＜  ２．６
の条件を満足するように構成されることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、第１ｂ部分レンズ群の焦点距離をｆ１ｂとしたとき、次式
１．１５  ＜  ｜ｆ１ｂ｜／ｆ１  ＜  １．５０
の条件を満足するように構成されることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第１レンズ群中の第１ａ部分レンズ群は、近距離合焦状態から無限遠合焦状態までレンズ位置状態が変化する際に、像面に対して固定であることが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
なお、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第１レンズ群中の第１ａ部分レンズ群は、正の屈折力を有するように構成することが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、このような本発明に係るズームレンズにおいて、第１レンズ群中の第１ｂ部分レンズ群は、正の屈折力を有するように構成することが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、このような本発明に係るズームレンズは、第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、第２レンズ群の焦点距離をｆ２としたとき、次式
２．７３  ＜  ｆ１／（−ｆ２）  ＜  ６．２０
の条件を満足するように構成することが好ましい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、このような本発明に係るズームレンズは、第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、第３レンズ群の焦点距離をｆ３としたとき、次式
２．７４  ＜  ｆ１／ｆ３  ＜  ５．１４
の条件を満足するように構成することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月29日(2010.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像の少なくとも一つの色に対応した画像データを記憶する画像データ記憶手段と、
前記画像データ記憶手段の各色に対応した画像データの読み出し位置を指示しながら前記画像データを読み出す読み出し手段と、
前記読み出し手段により、前記画像データ記憶手段から読み出された前記画像データに基づいて、各色の画像を用紙に転写する画像形成部と、
前記画像形成部の露光部の主走査方向の露光の湾曲補正情報を記憶する湾曲補正情報記憶手段を有し、前記読み出し手段が前記画像データの読み出しの際、併せて該湾曲補正情報記憶手段から各色の湾曲補正情報を読み出し、各湾曲補正情報に従って、各色の画像データの読み出し位置を補正する画像形成装置において、
主走査方向の画像データの画像形成位置と、前記湾曲補正情報とから、画像形成を行う副走査方向のずれ量を求める手段を有して、該ずれ量を求める手段より求められたずれ量に応じて、画像形成開始位置における画像データの読み出し位置を移動させるライン数分、ダミーデータを付加し、該付加したダミーデータと画像データとを、前記画像形成部に送出することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
画像の少なくとも一つの色に対応した画像データを記憶する画像データ記憶手段と、
前記画像データ記憶手段の各色に対応した画像データの読み出し位置を指示しながら前記画像データを読み出す読み出し手段と、
前記読み出し手段により、前記画像データ記憶手段から読み出された前記画像データに基づいて、各色の画像を用紙に転写する画像形成部と、
前記画像形成部の露光部の主走査方向の露光の湾曲補正情報を記憶する湾曲補正情報記憶手段を有し、前記読み出し手段が前記画像データの読み出しの際、併せて該湾曲補正情報記憶手段から各色の湾曲補正情報を読み出し、各湾曲補正情報に従って、各色の画像データの読み出し位置を補正する画像形成装置における画像形成方法であって、
主走査方向の画像データの画像形成位置と、前記湾曲補正情報とから、画像形成を行う副走査方向のずれ量を求めるステップと、
前記ずれ量を求めるステップより求められたずれ量に応じて、画像形成開始位置における画像データの読み出し位置を移動させるライン数分、ダミーデータを付加し、該付加したダミーデータと画像データとを、前記画像形成部に送出するステップと
を含むことを特徴とする画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明は、画像の少なくとも一つの色に対応した画像データを記憶する画像データ記憶手段と、前記画像データ記憶手段の各色に対応した画像データの読み出し位置を指示しながら前記画像データを読み出す読み出し手段と、前記読み出し手段により、前記画像データ記憶手段から読み出された前記画像データに基づいて、各色の画像を用紙に転写する画像形成部と、前記画像形成部の露光部の主走査方向の露光の湾曲補正情報を記憶する湾曲補正情報記憶手段を有し、前記読み出し手段が前記画像データの読み出しの際、併せて該湾曲補正情報記憶手段から各色の湾曲補正情報を読み出し、各湾曲補正情報に従って、各色の画像データの読み出し位置を補正する画像形成装置において、主走査方向の画像データの画像形成位置と、前記湾曲補正情報とから、画像形成を行う副走査方向のずれ量を求める手段を有して、該ずれ量を求める手段より求められたずれ量に応じて、画像形成開始位置における画像データの読み出し位置を移動させるライン数分、ダミーデータを付加し、該付加したダミーデータと画像データとを、前記画像形成部に送出することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、画像の少なくとも一つの色に対応した画像データを記憶する画像データ記憶手段と、前記画像データ記憶手段の各色に対応した画像データの読み出し位置を指示しながら前記画像データを読み出す読み出し手段と、前記読み出し手段により、前記画像データ記憶手段から読み出された前記画像データに基づいて、各色の画像を用紙に転写する画像形成部と、前記画像形成部の露光部の主走査方向の露光の湾曲補正情報を記憶する湾曲補正情報記憶手段を有し、前記読み出し手段が前記画像データの読み出しの際、併せて該湾曲補正情報記憶手段から各色の湾曲補正情報を読み出し、各湾曲補正情報に従って、各色の画像データの読み出し位置を補正する画像形成装置における画像形成方法であって、主走査方向の画像データの画像形成位置と、前記湾曲補正情報とから、画像形成を行う副走査方向のずれ量を求めるステップと、前記ずれ量を求めるステップより求められたずれ量に応じて、画像形成開始位置における画像データの読み出し位置を移動させるライン数分、ダミーデータを付加し、該付加したダミーデータと画像データとを、前記画像形成部に送出するステップとを含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月29日(2010.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一端部に外筒部及び内筒部が互いに同軸に形成され、上記外筒部と上記内筒部との間に形成される環状の収容空間にその一端開口部から管体が挿入される継手本体と、上記内筒部の外周面に設けられ、上記内筒部の外周面と上記収容空間に挿入された上記管体の内周面との間を封止する弾性材からなるシール部材と、このシール部材より上記収容空間の開口部側の端部に上記収容空間の軸線方向へ移動可能に設けられ、内周面に上記収容空間の内部側から開口部側へ向かって小径になるテーパ面が形成された環状をなすガイド部材とを備え、上記収容空間内に挿入される管体によって上記ガイド部材が上記収容空間の内部側へ移動させられると、上記シール部材が上記テーパ面によって弾性的に押し潰される管継手において、
上記ガイド部材の外周面には、上記テーパ面が形成された上記ガイド部材の内周面が上記シール部材を押し潰しているときに上記外筒部の内周面に弾性的に押圧接触する突起が設けられていることを特徴とする管継手。
【請求項２】
一端部に外筒部及び内筒部が互いに同軸に形成され、上記外筒部と上記内筒部との間に形成される環状の収容空間にその一端開口部から管体が挿入される継手本体と、上記内筒部の外周面に設けられ、上記内筒部の外周面と上記収容空間に挿入された上記管体の内周面との間を封止する弾性材からなるシール部材と、このシール部材より上記収容空間の開口部側の端部に上記収容空間の軸線方向へ移動可能に設けられ、内周面に上記収容空間の内部側から開口部側へ向かって小径になるテーパ面が形成された環状をなすガイド部材とを備え、上記収容空間内に挿入される管体によって上記ガイド部材が上記収容空間の内部側へ移動させられると、上記シール部材が上記テーパ面によって弾性的に押し潰される管継手において、
上記ガイド部材の外周面に上記外筒部の内周面に弾性的に押圧接触する突起が設けられ、この突起と上記外筒部の内周面との間に発生する摩擦抵抗の大きさは、上記収容空間の開口部を上方に向けた状態において上記テーパ面が形成された上記ガイド部材の内周面が上記シール部材に接触しているときに、上記ガイド部材がその自重によって下方へ移動することを阻止する大きさに設定されていることを特徴とする管継手。
【請求項３】
上記外筒部の内周面には、上記シール部材と対向する箇所から上記収容空間の内側に向かって延びるストレート孔部が上記収容空間と同軸に形成され、上記ストレート孔部に上記突起が弾性的に押圧接触することを特徴とする請求項１又は２に記載の管継手。
【請求項４】
上記突起が三つ以上設けられ、この三つ以上の突起だけが上記ストレート孔部の内周面に押圧接触するよう、上記三つ以上の突起が周方向へ互いに離間して配置されていることを特徴とする請求項３に記載の管継手。
【請求項５】
上記ガイド部材にその一端から他端側へ向かって延び、両側部が上記ガイド部材の外周面に開口するスリットが形成されることにより、上記ガイド部材の一端部に、上記ガイド部材の他端側に位置する基端部を中心として先端部が上記ガイド部材の径方向へ弾性的に変位可能である舌片が設けられ、この舌片の外面の先端部に上記突起が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の管継手。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明は、上記の問題を解決するために、一端部に外筒部及び内筒部が互いに同軸に形成され、上記外筒部と上記内筒部との間に形成される環状の収容空間にその一端開口部から管体が挿入される継手本体と、上記内筒部の外周面に設けられ、上記内筒部の外周面と上記収容空間に挿入された上記管体の内周面との間を封止する弾性材からなるシール部材と、このシール部材より上記収容空間の開口部側の端部に上記収容空間の軸線方向へ移動可能に設けられ、内周面に上記収容空間の内部側から開口部側へ向かって小径になるテーパ面が形成された環状をなすガイド部材とを備え、上記収容空間内に挿入される管体によって上記ガイド部材が上記収容空間の内部側へ移動させられると、上記シール部材が上記テーパ面によって弾性的に押し潰される管継手において、上記ガイド部材の外周面には、上記テーパ面が形成された上記ガイド部材の内周面が上記シール部材を押し潰しているときに上記外筒部の内周面に弾性的に押圧接触する突起が設けられていることを特徴としている。
また、この発明は、上記の問題を解決するために、一端部に外筒部及び内筒部が互いに同軸に形成され、上記外筒部と上記内筒部との間に形成される環状の収容空間にその一端開口部から管体が挿入される継手本体と、上記内筒部の外周面に設けられ、上記内筒部の外周面と上記収容空間に挿入された上記管体の内周面との間を封止する弾性材からなるシール部材と、このシール部材より上記収容空間の開口部側の端部に上記収容空間の軸線方向へ移動可能に設けられ、内周面に上記収容空間の内部側から開口部側へ向かって小径になるテーパ面が形成された環状をなすガイド部材とを備え、上記収容空間内に挿入される管体によって上記ガイド部材が上記収容空間の内部側へ移動させられると、上記シール部材が上記テーパ面によって弾性的に押し潰される管継手において、上記ガイド部材の外周面に上記外筒部の内周面に弾性的に押圧接触する突起が設けられ、この突起と上記外筒部の内周面との間に発生する摩擦抵抗の大きさは、上記収容空間の開口部を上方に向けた状態において上記テーパ面が形成された上記ガイド部材の内周面が上記シール部材に接触しているときに、上記ガイド部材がその自重によって下方へ移動することを阻止する大きさに設定されていることを特徴としている。
上記の発明においては、上記外筒部の内周面には、上記シール部材と対向する箇所から上記収容空間の内側に向かって延びるストレート孔部が上記収容空間と同軸に形成され、上記ストレート孔部に上記突起が弾性的に押圧接触することが望ましい。
上記突起が三つ以上設けられ、この三つ以上の突起だけが上記ストレート孔部の内周面に押圧接触するよう、上記三つ以上の突起が周方向へ互いに離間して配置されていることが望ましい。
上記ガイド部材にその一端から他端側へ向かって延び、両側部が上記ガイド部材の外周面に開口するスリットが形成されることにより、上記ガイド部材の一端部に、上記ガイド部材の他端側に位置する基端部を中心として先端部が上記ガイド部材の径方向へ弾性的に変位可能である舌片が設けられ、この舌片の外面の先端部に上記突起が形成されていることが望ましい。