【手続補正書】
【提出日】平成21年9月9日(2009.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施す方法であって、該方法が：
ゲートフィールドエミッター電子源と二つの電子ターゲットを具備するＸ線放射源を用意し、ここで、前記電子源は少なくとも二つの反対方向に電子を放射し、一方、前記Ｘ線放射源は両電子ターゲットからのＸ線放射を同方向に放射し；
前記Ｘ線放射源は、反射モード及び透過モードで作動し、；
前記Ｘ線放射源のターゲットゾーン内に前記ターゲット物質を配置し；
前記ターゲット物質に、Ｘ線放射源からの放射線を照射することにより、
前記ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減する、方法。
【請求項２】
該ターゲット物質が食用物質を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における感染リスクを低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の腐敗を低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
該汚染物質が化学物質であり、そして該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における毒性反応のリスクを低減するのに十分な量の汚染物質を化学的に改質することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
該ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施すことは、所定の時間にわたって所定の線量レベルで該ターゲット物質に照射を施すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
Ｘ線放射源を用意する工程が、少なくとも１つのフラットパネルＸ線源が、該ターゲットゾーンに照射を施すように配列された複数のフラットパネルＸ線源を用意する工程を含み、そして該放射線を照射する工程がさらに、複数のフラットパネルＸ線源のそれぞれからの放射線を該ターゲット物質に照射することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ゲートフィールドエミッター電子源により提供される該電子が、前記電子ターゲットに向って加速され、そしてターゲットに衝突し、これにより、前記電子ターゲットからＸ線の放射をさせる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
該ターゲットは、該電子源に対して正に偏倚される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
該ターゲットが接地され、そして該電子源が該ターゲットに対して負に偏倚される、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施す処理システムであって、該処理システムが、一つ以上のＸ線放射源及び
ターゲットゾーンを含み、
前記一つ以上のＸ線放射源の各々は、二つの反対方向に向けられた電子を受ける二つの電子ターゲットであって、一方、両電子ターゲットからのＸ線放射を同方向に放射する構成の二つの電子ターゲットを有し、ここで、前記一つ以上のＸ線放射源は、ゲートフィールドエミッター電子源を含み、また、反射モード及び透過モードの組合せで作動し、
これにより、一つ以上のＸ線Ｘ線放射源から放射された放射線を該ターゲット物質に照射して、前記ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減する、処理システム。
【請求項１２】
該ターゲット物質が食用物質を含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における感染リスクを低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の腐敗を低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
該汚染物質が化学物質であり、そして該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における毒性反応のリスクを低減するのに十分な量の汚染物質を化学的に改質することを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】
該１つ以上のＸ線放射源が、所定の時間にわたって所定の線量レベルで該ターゲット物質に照射を施すように制御される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１７】
該１つ以上のＸ線放射源が、それぞれが該ターゲットゾーンに照射を施すように配列された複数のＸ線放射源を含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１８】
該ターゲット物質が液体又は気体であり、該システムはさらに、該ターゲット・ゾーンを通して該ターゲット物質を搬送するための、該ターゲット・ゾーンを貫通する導管を含み、該導管が、少なくとも該ターゲット・ゾーン内部に位置する導管部分内でＸ線に対して透過性である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１９】
ターゲット物質に照射をして、前記ターゲット物質を重合させる方法であって、前記方法は、該方法が：
ゲートフィールドエミッター電子源と二つの電子ターゲットを具備するＸ線放射源を用意し、ここで、前記電子源は少なくとも二つの反対方向に電子を放射し、一方、前記Ｘ線放射源は両電子ターゲットからのＸ線放射を同方向に放射する工程；
前記Ｘ線放射源は、反射モード及び透過モードで作動し、；
少なくとも一つの前記Ｘ線放射源のターゲットゾーンを通して前記ターゲット物質を移動させる工程；及び
前記ターゲット物質に、Ｘ線放射源から放射された放射線を照射することにより、
前記ターゲット物質を重合させる方法。
【請求項２０】
ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施す方法であって、該方法が：
少なくとも一つのＸ線放射源を用意し、ここで、前記少なくとも一つのＸ線放射源は電子と二つの電子ターゲットを含み、これにより、前記電子源は少なくとも二つの反対方向に電子を放射し、一方、前記Ｘ線放射源は両電子ターゲットからのＸ線放射を同方向に放射し；ここで、前記電子源により用意された前記電子が前記二つ電子ターゲットに向けて加速されて、衝突し、これにより、前記二つの電子ターゲットからＸ線の放射をさせ、前記少なくとも一つのＸ線放射源は、反射モード及び透過モードで作動する工程；
前記少なくとも一つのＸ線放射源のターゲットゾーン内に前記ターゲット物質を配置する工程；及び
前記ターゲット物質に、前記少なくとも一つのＸ線放射源から放射された放射線を照射する工程を含む、
前記ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減する、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
従って、本明細書中に記載された本発明は、添付の特許請求の範囲及びこれらの同等のものの範囲内に含まれ得るような実施態様全てを意図する。
以下に、本願発明に関連する発明の実施形態を列挙する。
［実施形態１］
ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施す方法であって、該方法が：
幅及び高さの次元を有する少なくとも１つのフラットパネルＸ線源を用意し；
該少なくとも１つのフラットパネルＸ線源の幅及び高さの次元と整列し、そして該次元と実質的に同じであるか又は該次元よりも小さい幅及び高さの次元を有するターゲット・ゾーン内部に、該ターゲット物質を入れ；そして
該ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために、該少なくとも１つのフラットパネル源からの輻射線を、該ターゲット物質に照射する
ことを含む、
ターゲット物質に照射を施す方法。
［実施形態２］
該ターゲット物質が食用物質を含む、実施形態１に記載の方法。
［実施形態３］
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における感染リスクを実質的に低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、実施形態１に記載の方法。
［実施形態４］
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の腐敗を実質的に低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、実施形態１に記載の方法。
［実施形態５］
該汚染物質が化学物質であり、そして該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における毒性反応のリスクを実質的に低減するのに十分な量の汚染物質を化学的に改質することを含む、実施形態１に記載の方法。
［実施形態６］
該ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施すことは、所定の時間にわたって所定の線量レベルで該ターゲット物質に照射を施すことを含む、実施形態１に記載の方法。
［実施形態７］
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源が、ゲート電界エミッター電子源を含み、そして反射単独モード、透過単独モード、及び反射／透過組み合わせモードから成る群から選択されたモードで作業する、実施形態１に記載の方法。
［実施形態８］
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源が、熱イオン・エミッター電子源を含み、そして反射単独モード、透過単独モード、及び反射／透過組み合わせモードから成る群から選択されたモードで作業する、実施形態１に記載の方法。
［実施形態９］
該少なくとも１つのフラットパネルＸ線源が、該ターゲットゾーンに照射を施すように配列された複数のフラットパネルＸ線源を含み、そして該フラットパネル源からの輻射線を該ターゲット物質に照射する該工程がさらに、複数のフラットパネルＸ線源のそれぞれからの輻射線を該ターゲット物質に照射することを含む、実施形態１に記載の方法。
［実施形態１０］
該少なくとも１つのフラットパネルＸ線源が、電子を提供するための電子源とターゲットとを含み、該電子源によって提供される該電子が、該ターゲットに向かって加速され、そして該ターゲットに衝突し、これにより、該ターゲットからＸ線を放出させる、実施形態１に記載の方法。
［実施形態１１］
該ターゲットは、該電子源に対して正に偏倚される、実施形態１０に記載の方法。
［実施形態１２］
該ターゲットが接地され、そして該電子源が該ターゲットに対して負に偏倚される、実施形態１０に記載の方法。
［実施形態１３］
ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施す処理システムであって、該処理システムが：
それぞれが幅及び高さの次元を有する１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源；及び
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源のそれぞれの幅及び高さの次元と整列し、そして該次元と実質的に同じであるか又は該次元よりも小さい幅及び高さの次元を有するターゲットゾーン内部
を含み、これにより、該１つ又は２つ以上のフラットパネル源からの輻射線を該ターゲット物質に照射することが、該ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するのに役立つ、処理システム。
［実施形態１４］
該ターゲット物質が食用物質を含む、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態１５］
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における感染リスクを実質的に低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態１６］
該汚染物質が、細菌性、菌性、又はウィルス性であり、そして、該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の腐敗を実質的に低減するのに十分な量の汚染物質を殺すことを含む、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態１７］
該汚染物質が化学物質であり、そして該汚染物質の存在の生物学的作用を低減することは、該ターゲット物質の消費者における毒性反応のリスクを実質的に低減するのに十分な量の汚染物質を化学的に改質することを含む、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態１８］
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源が、所定の時間にわたって所定の線量レベルで該ターゲット物質に照射を施すように制御される、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態１９］
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源のうちの少なくとも１つが、ゲート電界エミッター電子源を含み、そして反射単独モード、透過単独モード、及び反射／透過組み合わせモードから成る群から選択されたモードで作業する、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態２０］
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源のうちの少なくとも１つが、熱イオン放出電子源を含み、そして反射単独モード、透過単独モード、及び反射／透過組み合わせモードから成る群から選択されたモードで作業する、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態２１］
該１つ又は２つ以上のフラットパネルＸ線源が、それぞれが該ターゲットゾーンに照射を施すように配列された複数のフラットパネルＸ線源を含む、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態２２］
該ターゲット物質が液体又は気体であり、該システムはさらに、該ターゲット・ゾーンを通して該ターゲット物質を搬送するための、該ターゲット・ゾーンを貫通する導管を含み、該導管が、少なくとも該ターゲット・ゾーン内部に位置する導管部分内でＸ線に対して実質的に透明である、実施形態１３に記載のシステム。
［実施形態２３］
該ターゲット物質を重合するためにターゲット物質に照射を施す方法であって、該方法は：
幅及び高さの次元を有する少なくとも１つのフラットパネルＸ線源を用意し；
該少なくとも１つのフラットパネルＸ線源の幅及び高さの次元と整列し、そして該次元と実質的に同じであるか又は該次元よりも小さい幅及び高さの次元を有するターゲット・ゾーンを通して、該ターゲット物質を輸送し；そして
該ターゲット物質を重合するために、該少なくとも１つのフラットパネル源からの輻射線を、該ターゲット物質に照射する
ことを含む、ターゲット物質に照射を施す方法。