【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、
前記検出器の検出結果に応じて、前記基板ステージの可動領域を変更する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基板上に液体を供給する供給口及び液体を回収する回収口のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材を備え、
前記検出器が基板もしくは前記ダミー基板を検出しないときは、前記制御装置は、前記基板ステージの可動領域を前記ノズル部材の下に前記基板ホルダが位置しない領域とすることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記検出器が基板もしくは前記ダミー基板を検出しないときは、前記制御装置は、前記基板ステージの可動領域を前記投影光学系の先端部の光学素子の下に前記基板ホルダが位置しない領域とすることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
液体を供給する液体供給機構を備え、
前記検出器が前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板を検出しないときは、前記制御装置は、前記液体供給機構による液体供給を停止することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
液体を供給する液体供給機構と、
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、
前記検出器の検出結果に基づいて、前記液体供給機構の動作を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されていないことが検出された場合、前記制御装置は、前記液体供給機構による液体供給を停止する請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記基板ホルダに基板を吸着するための基板吸着保持機構を備え、前記検出器は、前記基板吸着保持機構と流体接続された圧力検出器であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ホルダ上に基板又はダミー基板が保持されている場合に限り、前記基板ステージ上に液体を供給する液体供給機構とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、を備え、
前記基板ホルダ上に基板又はダミー基板が保持されていない場合に、前記液体供給機構による液体供給が禁止される露光装置。
【請求項１０】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
基板上にパターンの像を投影する投影光学系と、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージに基板又はダミー基板が保持されている場合に限り、前記基板ステージ上に液浸領域を形成する液浸機構とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
基板上にパターンの像を投影する投影光学系と、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージに基板又はダミー基板が保持されていない場合、前記基板ステージ上での液浸領域の形成が禁止される露光装置。
【請求項１２】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
基板上にパターンの像を投影する投影光学系と、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板上に液体を供給する供給口及び液体を回収する回収口のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材と、
前記基板ステージに基板又はダミー基板が保持されていない場合、前記ノズル部材の下への前記基板ステージの移動が禁止される露光装置。
【請求項１３】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
基板上にパターンの像を投影する投影光学系と、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージに基板又はダミー基板が保持されていない場合、前記投影光学系の先端部の光学素子の下への前記基板ステージの移動が禁止される露光装置。
【請求項１４】
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器をさらに備える請求項８〜１３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１５】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、を備え、
前記基板ホルダ上に基板又はダミー基板が保持されていないことが検出された場合に、前記液体供給機構による液体供給が停止される露光装置。
【請求項１６】
前記液体を供給する供給口を有するノズル部材を備え、
前記液体供給機構による液体供給の停止は、前記ノズル部材に接続された供給管の流路を閉じることを含む請求項１５記載の露光装置。
【請求項１７】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板上に液体を供給する供給口及び液体を回収する回収口のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材と、
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、を備え、
前記基板ホルダ上に基板又はダミー基板が保持されていないことが検出された場合、前記基板ステージの可動領域が、前記ノズル部材の下に前記基板ホルダが位置しない領域に設定される露光装置。
【請求項１８】
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記基板ホルダに前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、を備え、
前記基板ホルダ上に基板又はダミー基板が保持されていないことが検出された場合、前記基板ステージの可動領域が、前記投影光学系の先端部の光学素子の下に前記基板ホルダが位置しない領域に設定される露光装置。
【請求項１９】
前記基板ステージは、その保持された基板又はダミー基板の周囲に、その保持された基板又はダミー基板の表面とほぼ面一の平坦部を有することを特徴とする請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記基板ステージの平坦部に配置された計測部材と、
前記計測部材上の少なくとも一部に液浸領域を形成した状態で、前記計測部材からの光を検出する検出系とを備えたことを特徴とする請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記ダミー基板を収容するダミー基板ライブラリを備えたことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
基板上にパターンの像を投影する投影光学系と、
前記基板を保持するための凹部と、前記凹部の周囲に配置され、前記凹部に保持された前記基板の表面とほぼ面一の平坦部とを有する基板ステージとを備え、
前記基板ステージ上の凹部に物体が配置され、前記物体表面と前記平坦部とがほぼ面一になっている場合に限り、前記基板ステージ上に液浸領域を形成することを特徴とする露光装置。
【請求項２３】
前記凹部に前記物体が配置されていない場合、前記基板ステージ上に液浸領域を形成することを禁止する制御装置を備えたことを特徴とする請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記液浸領域を形成するために液体を供給する液浸機構を更に備え、前記制御装置は、前記凹部に前記物体が配置されていない場合に、前記液浸機構による液体の供給を中止することを特徴とする請求項２２又は２３に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記制御装置は、前記凹部に前記物体が配置されていない場合に、前記基板ステージと前記投影光学系の終端の光学素子とが対向しないように、前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２６】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記パターンの像を投影する投影光学系と、
前記基板を保持するための凹部と、前記凹部の周囲に配置され、前記凹部に保持された前記基板の表面とほぼ面一となるように設けられた平坦部とを有する基板ステージと、を備え、
前記平坦部とほぼ面一となるような表面を有する物体が前記凹部に配置されてない場合、前記基板ステージ上に液浸領域を形成することが禁止される露光装置。
【請求項２７】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記パターンの像を投影する投影光学系と、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記基板を保持するための凹部と、前記凹部の周囲に配置され、前記凹部に保持された前記基板の表面とほぼ面一となるように設けられた平坦部とを有する基板ステージと、を備え、
前記平坦部とほぼ面一となるような表面を有する物体が前記凹部に配置されていない場合、前記液体供給機構による液体供給が停止される露光装置。
【請求項２８】
液体を介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記パターンの像を投影する投影光学系と、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記基板を保持するための凹部と、前記凹部の周囲に配置され、前記凹部に保持された前記基板の表面とほぼ面一となるように設けられた平坦部とを有する基板ステージと、を備え、
前記平坦部とほぼ面一となるような表面を有する物体が前記凹部に配置されていない場合、前記基板ステージと前記投影光学系の先端部の光学素子とが対向しないように、前記基板ステージの移動が制限される露光装置。
【請求項２９】
前記物体は、基板又はダミー基板を含むことを特徴とする請求項２２〜２８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３０】
前記露光される基板上のアライメントマークを液体を介さずに検出するとともに、前記基板ステージに設けられた基準を液体を介さずに検出する第１検出系と、
前記基板ステージに設けられた基準を液体を介して検出する第２検出系と、を備える請求項１〜２９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３１】
請求項１〜請求項３０のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３２】
移動可能な基板ステージの基板ホルダに保持された基板上に液体を介してパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光方法において、
前記基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出することと、
前記検出結果に応じて、前記基板ステージの可動領域を設定することを含む露光方法。
【請求項３３】
移動可能な基板ステージに保持された基板上に液体を介してパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光方法において、
前記基板ステージに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出することと、
前記検出結果に応じて、前記基板ステージ上に液浸領域を形成するか否かを判断することを含む露光方法。
【請求項３４】
基板ステージに保持された基板上に液体を介してパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光方法において、
前記基板ステージに基板が保持されていない場合、前記基板ステージ上での液浸領域の形成が禁止される露光方法。
【請求項３５】
請求項３２〜請求項３４のいずれか一項に記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３６】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上に投影光学系と液体を介してパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置における、前記基板ステージの制御方法であって、
前記基板ホルダに基板またはダミー基板が保持されていない場合に、前記液体を供給する供給口及び前記液体を回収する回収口のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材の下への前記基板ステージの移動を禁止する制御方法。
【請求項３７】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上に投影光学系と液体を介してパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置における、前記基板ステージの制御方法であって、
前記基板ホルダに基板またはダミー基板が保持されていない場合に、前記投影光学系の先端部の光学素子の下への前記基板ステージの移動を禁止する制御方法。
【請求項３８】
液体供給機構から供給された液体と投影光学系を介して、基板ステージの基板ホルダに保持された基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置における、前記液体供給機構の制御方法であって、
前記基板ホルダに基板またはダミー基板が保持されていない場合に、前記液体供給機構による液体供給を禁止する制御方法。
【請求項３９】
前記ダミー基板は、撥液性の材料でコーティングされている請求項３６〜３８のいずれか一項記載の制御方法。
【請求項４０】
基板ステージの凹部に保持された基板上に投影光学系と液体を介してパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置における、前記基板ステージの制御方法であって、
前記基板ステージは、前記凹部の周囲に配置され、前記凹部に保持された前記基板の表面とほぼ面一となるように設けられた平坦部を有し、
前記平坦部とほぼ面一となるような表面を有する物体が前記凹部に配置されていない場合、前記基板ステージと前記投影光学系の先端部の光学素子とが対向しないように、前記基板ステージの移動を制限する制御方法。
【請求項４１】
液体供給機構から供給された液体と投影光学系を介して、基板ステージの凹部に保持された基板上にパターンの像を投影することによって前記基板を露光する露光装置における、前記液体供給機構の制御方法であって、
前記基板ステージは、前記凹部の周囲に配置され、前記凹部に保持された前記基板の表面とほぼ面一となるように設けられた平坦部を有し、
前記平坦部とほぼ面一となるような表面を有する物体が前記凹部に配置されていない場合、前記液体供給機構による液体供給を禁止する制御方法。