Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月10日(2008.12.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  上面（２）、底面（３）及び前記上面と底面とのあいだに延在する複数の側面（４）によって範囲が定められる切削インサートであって、且つ
前記上面（２）と逃げとして役立つ側面（４）とのあいだに少なくとも一つの切れ刃（５）と、互いに隔たって且つ上方に向かって開口する溝であって切れ刃と連絡して且つ切れ刃に向かう方向に冷却流体を供給するために前記上面（２）に備わる前記溝と、を有する切粉を除去して機械加工するための切削インサートにおいて、
隣接する溝（８）同士のあいだに突出部（９）を配置し、前記突出部が切削インサートの上面から突出して且つ切れ刃によって自由に切削された全ての切り屑（１５）に対して切り屑偏向体を互いに形成し、
切り屑を案内する個々の突出物（９）が、隣接する溝（８）の内側端部（１３）の外側に少なくとも部分的に位置し、
個々の前記溝（８）が、上方に向かって互いに隔たる断面を備えた形状であり、
且つ二つの隣接する溝（８）のあいだの個々のランド部（１２）が、前記ランド部と同じ高さにおいて、個々の前記溝の幅の大きさよりも大きい、
ことを特徴とする切削インサート。
【請求項２】  個々の前記溝（８）が、前記上面の高さにおいて、前記溝の幅より大きいな深さであることを特徴とする請求項１に記載の切削インサート。
【請求項３】  二つの隣接する溝（８）のあいだの個々のランド部（１２）が、前記ランド部と同じ高さにおいて、個々の前記溝の幅の大きさの少なくとも２倍であることを特徴とする請求項１または２に記載の切削インサート。
【請求項４】  個々の前記溝（８）が、前記切れ刃（５）から少し離れて終結することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項５】  個々の前記溝（８）が、前記逃げ（４）に開口することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の切削インサート。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
先行技術及び発明の一般的背景 切削工具例えば旋削加工用の工具の切削インサートだけでなく、その工具によって機械加工された加工物、並びに加工物から切削される切り屑に対する冷却の実施が永い間既知である。切削加工に対する今日の技術の基本的目的は、冷却流体を可能な限り高い圧力で使用可能にし、且つ一つ以上の噴流の形状で流体を主として切削インサートに向かわせて供給可能にし、それによって切り屑を除去する。使用できる流体噴流の圧力が高ければ高いほど、単なる冷却だけでなく、切り屑に及ぼす機械的は効果を与えることもでき、流体噴流の用途の発展性も高くなり、具体的には、切り屑を可能な限り小さな小片に粉砕する目的が達成される。この文脈において、なにが低流体圧力でなにが高流体圧力と考えるかについては、当業者には種々の意見がある。しかしながら、一般的に言えば、この分け方は次の範囲にしたがうことが必要である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
最近の高圧力の冷却流体技術は、切削インサートから最初に切り屑が分離される点であって、切り屑の底面と切削インサートの上面との間に設けられた実質的に楔状の空間に、冷却流体噴流を導入することに向けられている。いわゆる切り屑と切削インサートの上面のあいだの水圧楔を形成すること、及び上記楔が可能な限り切り屑の破断に寄与する必要性に基づく考えは、切削インサートに沿う切り屑の接触長さ範囲を減少させる。切り屑と切削インサートとのあいだに高圧力の冷却流体を導入する基本的な目的は、もちろん、可能な限り工具を冷却することでもある。しかしながら、慣用の切削インサートとから脱却して、冷却と切り屑の流れとを改良する従来行われてきた試みは、完全に成功してはいない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  絶縁ゲートを有し、（ａ）ＭＩＳＦＥＴあるいは（ｂ）ＩＧＢＴの形態のＳｉCトランジスターでさらに、記載の順番に積層さ0れたドレイン、ａ）ｎ型およびｂ）ｐ型、ｐ型の場合にはその上にｃ）高密度にドープされたｎ型緩衝層（３）を有するかあるいはｄ）当該緩衝層が無い高密度にドープされた基板層（２）、低密度にドープされたｎ型のドリフト層（４）を有し、さらに、ラテラル方向に離隔した複数のユニットセル（１６）、それぞれのユニットセルは高密度にドープされたｎ型のソース領域層（６）と、ソース領域層の上に形成されたソース（７）、ソース領域層をドリフト層から分離しているｐ型のチャンネル領域層（５、１４）と、チャンネル領域層に隣接してソース領域層からドリフト層とチャンネル領域層と隣接するユニットセルのソース領域層とまで伸びる絶縁層（１１）と、絶縁層の上に形成されたゲート電極（１２）であって、電圧が加えられたときにソースからドレインに電子を移送するためチャンネル領域層の絶縁層との接合部において広がる伝導反転チャネルを形成するためのゲート電極（１２）を有し、隣接する２つのユニットセルの中心間距離（Ｗｃ）がトランジスタのユニットセルのラテラル方向の幅を規定するトランジスタであって、
それぞれのセルの絶縁層に接続したドリフト層の領域として規定される蓄積層（１３）の幅（Ｗa）とラテラル方向のセル幅が、トランジスタが設計された所定のスイッチング周波数とオン状態電圧の条件の下で、トランジスタの総合パワー損失を最小限にし、スイッチングに起因するトランジスタのパワー損失が導電に関連するパワー損失に対して一定の比率になるように選択されており、
該横方向セル幅（Ｗｃ）の半分が該蓄積領域（１３）の横方向幅（Ｗａ）の２倍より大きいように
選択されており、かつ該ラテラル方向のセルの幅（Ｗｃ）は３０μｍよりも大きい
ことを特徴とするＳｉＣトランジスタ。
【請求項２】  前記ラテラル方向のセルの幅（Ｗｃ）は、前記蓄積領域（１３）のラテラル方向の幅（Ｗａ）の３倍よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のＳｉＣトランジスタ。
【請求項３】  前記ラテラル方向のセルの幅（Ｗｃ）は、前記蓄積領域（１３）のラテラル方向の幅（Ｗａ）の５倍よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のＳｉＣトランジスタ。
【請求項４】  前記ドリフト層（４）のドーピング密度が１０１３ｃｍ−３以上であることを特徴とする請求項１ないし請求項３に記載のＳｉＣトランジスタ。
【請求項５】  前記ドリフト層（４）のドーピング密度が１０１５ｃｍ−３以上であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のＳｉＣトランジスタ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年3月2日(2009.3.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  経路に沿ってパルスレーザーエネルギーの不均一なビーム（１０２）を発生させるためのエキシマレーザー（１０４）であって、該不均一なビームが不均一な空間的強度分布およびほぼ矩形の断面を有する、エキシマレーザー（１０４）と、
該不均一なビームの該経路に配置された光学的ディフューザー（１２）であって、該不均一なビームを、実質的に均一な空間的強度分布および実質的に円形の断面を有する空間的に積分したビームに変換する、光学的ディフューザー（１２）と、
収束レンズ（２２）であって、回折性の光学的ディフューザー（１２）からの該ビームを空間的積分表面上に収束するように配置された、収束レンズ（２２）と
を備える、組織切除のためのエキシマレーザーシステムであって、
該回折性の光学的ディフューザー（１２）は、該レーザー（１０４）から間隔を空けて配置されており、該ビームの該経路にわたって配置された回折パターンを有し、ここで、該回折パターンは、該ほぼ矩形の不均一なビームを実質的に円形の空間的に積分したビームに変換するように配置されていることを特徴とする、エキシマレーザーシステム。
【請求項２】  前記レーザー（１０４）が約１９３ｎｍの波長を有するＡｒＦレーザーである、請求項１に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項３】  前記不均一なビーム（１０２）が、一軸に沿って実質的にガウス分布に従う空間的強度分布を有する、請求項１または２に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項４】  前記実質的に均一な空間的強度分布が、均一な中心領域を有するシルクハット型のプロファイルを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項５】  前記均一な中心領域が、前記空間的に積分したビームの断面の約７０％〜８５％を覆う、請求項４に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項６】  前記ディフューザー（１２）が、前記回折パターンを有する透明部分（１８）を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項７】  前記回折パターンが、複数の間隔を空けられたエッチングされた線を含む、請求項６に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項８】  前記透明部分（１８）がほぼ矩形である、請求項６または７に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項９】  前記透明部分（１８）が、石英、または溶融シリカ、またはフッ化マグネシウム、またはフッ化カルシウム、またはフッ化リチウム、またはサファイアを含む透明な材料を含む、請求項６〜８のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１０】  前記収束レンズ（２２）が、前記回折性の光学的ディフューザー（１２）の一表面上で研削される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１１】  前記空間的積分平面が、前記収束レンズ（２２）の焦点の周りに配置されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１２】  眼の角膜を形付けるための請求項１〜１１のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステムであって、
前記空間的に積分したビームの領域を通過するために、前記空間的積分平面の周りの前記回折性の光学的ディフューザー（１２）から間隔を置かれた開口（１１６）と、
通過されたビームを第２の平面（１３２）に向けるための該開口（１１６）から間隔を置かれた収束レンズ（１２２）と
を備える、エキシマレーザーシステム。
【請求項１３】  前記開口（１１６）の寸法を調節するための手段（２１６）を備える、請求項１２に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１４】  前記通過されるビームの像を変位させるための走査手段（２１２、２１４）をさらに備える、請求項１２または１３に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１５】  処置テーブル（２６０）に従って前記像を変位させるように構成された前記走査手段（２１２、２１４）用の制御手段（２０４）をさらに備える、請求項１４に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１６】  前記回折性の光学的ディフューザー（１２）を移動させるための手段（２１８）をさらに備える、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のエキシマレーザーシステム。
【請求項１７】  前記移動させるための手段（２１８）が、前記回折性の光学的ディフューザー（１２）の回転をもたらすように構成されている、請求項１６に記載のエキシマレーザーシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年10月26日(2009.10.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
認識される単語が入力された後、予め登録されている同音語について、該入力された単語を用いて事後学習処理を行うことにより音声認識システムの認識確率を向上する方法において、
（ａ）認識される単語を入力する工程と、
（ｂ）該入力された単語と音声認識システムに既に登録されている単語とを比較する工程と、
（ｃ）該入力された単語が明確に認識された場合、
（ｃ１）所望の動作を実行し、
（ｃ２）音声認識システムに登録されている対応する単語に対して、該入力された単語で事後学習処理を行い、
（ｃ３）処理を終了する工程と、
（ｄ）前記比較の結果、類似する単語やほんのわずかに異なる単語がいくつか存在する場合、
（ｄ１）入力された単語に類似する単語をシステムのユーザに対し、通知及び再生を行い、
（ｄ２）該入力された単語の再入力をシステムのユーザに対して要求する工程と、
（ｅ）所定の基準に基づいた相関比較によって、前記入力された単語が予め登録されている単語に対して不確実な認識や強い類似性や一致の可能性を示す場合、該システムは光学的または音声的にユーザに通知し、前記入力された単語の再入力を要求し、それにより事後学習処理を行う工程、
（ｆ）（ｂ）に戻り処理を続ける工程、
を含むことを特徴とする音声認識システムの認識確率向上方法。
【請求項２】
前記事後学習処理は、前記入力された単語と予め登録されている同音語との相関的な比較に基づいて行い、特有の音声パターンをそれぞれ判定し保存することを特徴とする請求項１記載の音声認識システムの認識確率向上方法。
【請求項３】
前記通知及び再生する単語の数は任意に予め設定できることを特徴とする請求項１記載の音声認識システムの認識確率向上方法。
【請求項４】
前記（ｅ）において所定の基準に基づいた相関比較の結果、新しい単語の音声パターンが既に登録されている単語のそれぞれの音声パターンとは明らかに異なり、誤認や不確実な認識はあり得ないと示す場合、前記新しい単語を当該音声認識システムに登録することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の音声認識システムの認識確率向上方法。
【請求項５】
前記事後学習処理の回数は任意に選択できることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の音声認識システムの認識確率向上方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
本発明は、音声認識システムにおいて、誤認された、または全く認識されなかった単語の音声パターンの事後学習処理を提案する。ここで、事後学習処理とは、誤認または不認識の単語を繰り返し入力の後、単に上書きするだけではなく、予め登録されている単語と比較したり相互に関連付けたり、あるいは新たなパターンで補足したりすることにより、単語認識において不必要なパターンや雑音を減少させたりマスキングしたりすることを言う。本発明は、特に、移動無線通信端末や電話器など、音響干渉が多い環境において動作する音声認識システムに対して適用されるものである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明の更なる実施の形態によると、単語の認識が不確実な場合、該システムは再入力を要求し、それによって事後学習処理を行う。ここでも、学習処理回数の最大数はいつでも任意に選択及び変更できる。入力された音声パターンと登録されている音声パターンとの比較の結果、類似する、あるいは少しだけ異なる単語が数個登録されていると判断された場合、該システムはこれらの単語をユーザに対して再生し、先に入力した単語を繰り返すよう要求する。その後に認識された場合、事後学習処理は中断される。簡便性の点から、不確実な認識の場合にシステムから出力される単語の数を予め設定した数に限定し、処理の繰り返し回数も、例えば３回などに限定したほうが好ましい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
一方、入力された名前が明確に認識されず、ステップ６における入力された音声パターンと登録されている音声パターンとの比較の結果、登録されている名前のうち類似のまたは多少異なる数個の名前である可能性が認識された場合、ステップ１０において該システムは、入力された名前に似た名前をユーザに対して通知し再生する。ステップ１１において、先に入力した名前を繰り返すようユーザに要求し、ステップ１２においてユーザは名前の入力を繰り返す。ステップ１３においてカウンタｋに１を加え、ステップ３に戻り、前記処理を繰り返す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年9月25日(2009.9.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
本明細書で使用した「治療物質」なる語は、哺乳動物、特にヒトに、オメガ−３脂肪酸油と有利に共投与できる、水に溶けにくい薬物または水に溶けにくい薬物の混合物を意味する。「水に溶けにくい薬物」とは、水に対して不溶性である、即ち、２０℃で水１０００部あたり約５部未満の水溶度を有する薬物を意味する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
本明細書で使用した「親水性溶媒系」なる語は、水に溶けにくい治療物質に関する（オメガ−３脂肪酸油以外の）溶媒または共溶媒および／または約２０より大きいＨＬＢを有する共界面活性剤を含む系を意味する。親水性溶媒系成分の例は、エタノール、アルキレングリコール、例えばプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリオキシプロピレンブロックコポリマー、グリコフロール、トランスクトール、ジメチルイソソルビドおよびその混合物を含む。好ましい親水性溶媒系成分は、１，２−プロピレングリコール、エタノール、並びに平均分子量が１０００未満であるかそれに等しいポリエチレングリコールの、個々またはこれらの組合せである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
より好ましい親水性溶媒系成分は、１，２−プロピレングリコールおよびエタノールの、個々またはこれらの組合せである。本明細書で親水性溶媒系に関して使用した「少量」なる語は、前濃縮物に存在する成分の約１０重量％未満の量、好ましくは約５重量％未満、最も好ましくは製剤に存在する治療物質の量より少ない量を意味する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月28日(2009.8.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ユーザ識別子（ｕｉ）、それぞれのユーザの相対的な権利を表現して資源を使用する前記それぞれのユーザの幾つかの分担パラメータ（Ｄｉ）、及び、分担パラメータ（Ｄｉ）の単位毎に受信されたサービス・スライス（Ｑｉ）と同等でありそれぞれが各ユーザ（Ｕｉ）の前記資源のサービス・スライス（Ｑｉ）の割り当てに関して進行可能である前記それぞれのユーザの幾らかの量（Ｅｉ）を記憶可能なワークメモリ（３）と、
最小進行量（Ｅｉ）を所有するように、資源の選択されたサービス・スライス（Ｑｉ）を、選択ユーザ（ｕＳ）に割り当て、その後に、比（Ｑｉ）／（Ｄｉ）に同等な増分量（ｄＥｉ）に従ってこの選択ユーザ（ｕＳ）の前記量（Ｅｉ）を進行させるための決定手段（６）と、
待ち行列の先頭での識別子が、この待ち行列内での最小進行量（Ｅｉ）を有するユーザを常に指名するように、分担パラメータ（Ｄｉ）及び量（Ｅｉ）と、各ユーザ識別子（ｕｉ）とを結び付け、「先入れ先出し」（ＦＩＦＯ）タイプのユーザ待ち行列を定義するためのメモリ・リンク手段（５）とを有するタイプである幾人かのユーザの間における資源の分担管理用装置であって、
前記ワークメモリ（３）が前記ユーザ待ち行列の領域内で増分量（Ｐ（ｃ））の値の制限数を更に記憶可能であり、前記増分量（Ｐ（ｃ））の値の各一つがクラス（ｃ）を特徴付け、
前記メモリ・リンク手段（５）が、これらの増分量（Ｐ（ｃ））の値のうちの一つと各ユーザとを結び付けてユーザの前記増分量（ｄＥｉ）を前記増分量（Ｐ（ｃ））の値と等しくするようにすることを特徴とする幾人かのユーザの間における資源の分担管理用装置。
【請求項２】  請求項１に記載の装置であって、
前記メモリ（３）は、ユーザの量（Ｅｉ）として同じ単位でバーチャルタイムを表現する全量（Ｖ）を更に記憶し、
前記決定手段（６）は、前記資源の各割当に際し、ユーザ（ｕｉ）に渡っての通常の前記分担パラメータ（Ｄｉ）の合計に対して割り当てられた前記サービス・スライス（Ｑｉ）の比に同等とすることで選択された全増分量（ｐＶ）に従って全量（Ｖ）を進行させて、前記全量（Ｖ）がユーザ（ｕｉ）の量（Ｅｉ ）より少ない進行であればこのユーザ（ｕｉ）への資源の任意割当を拒否することを特徴とする幾人かのユーザの間における資源の分担管理用装置。
【請求項３】  請求項１に記載の装置であって、
前記メモリ（３）が（ＦＩＦＯ）「待ち行列」領域と、「ユーザ」領域とを備え、
前記（ＦＩＦＯ）「待ち行列」領域が各待ち行列に対して待ち行列増分量（Ｐ（ｃ））と、先頭ユーザ（ｕ（ｃ））の識別子とを有し、
前記「ユーザ」領域が、各ユーザに対してその識別子（ｕ）と、分担パラメータ（Ｄ（ｕ））と、待ち行列アイテム（ｎｄ（ｕ））の終わりとを有することを特徴とする幾人かのユーザの間における資源の分担管理用装置。
【請求項４】  請求項１に記載の装置であって、
各ユーザ（ｕｉ ）が前記資源のサービス・スライス（Ｑｉ ）をリクエストすることを可能とし、
それが入力／出力リンク（４）を有し、該入力／出力リンク（４）が前記資源の前記サービス・スライス（Ｑｉ）をリクエストするユーザ（ａ（ｕ）＝トゥルー）と、前記資源のリクエストしないユーザ（ａ（ｕ）＝フォールス）とを区別するために設けられたことを特徴とする幾人かのユーザの間における資源の分担管理用装置。
【請求項５】  請求項４記載の装置であって、
前記メモリ・リンク手段（５）が、前記入力／出力リンク（４）に協働するために、そして、新たにリクエストしたユーザ（ｔｆｓ＝「新しく」）と、以前にリクエストしたユーザ（ｔｆｓ＝「以前に」）との明確な待ち行列を定義するために更に設けられたことを特徴とする幾人かのユーザの間における資源の分担管理用装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
特に、この種の装置の機能は、使用しているユーザのうち少なくとも幾人かの中から一人のユーザを選択することである。それから、資源（リソース）はこのユーザに対して予め決定されたサービス量（service amount）を達成する。実際には、それは、例えば時分割処理又はパケット伝送によって、限定されたサービス・スライス（又はクォンタム）内で、選択されたユーザに連続的に割り当てられる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
資源管理人（リソースマネージャ）は、バーチャル最終期限の進行を計算することによって、時間内のバーチャルポイントと、各ＦＩＦＯに対するバーチャル最終期限とを監督し、それによって、ＦＩＦＯを介してユーザエンティティを管理できる。こうして、選ぶに値する状態が、各ＦＩＦＯに対して決定される。こうして、資格ある状態が各ＦＩＦＯに対して決定される。資源管理人は、資格あるＦＩＦＯの先頭（最も古いユーザエンティティ）で現れるユーザエンティティを、クォンタムに割り当てる。資格あるＦＩＦＯのバーチャル最終期限は最も近い。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月22日(2009.1.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】  有益な薬剤を送出する電気輸送装置であって、
(a)  第1の電極;
(b)  第2の電極;
(c)  これらの電極と電気的に接続された電源;
(d)  電源を調節するレギュレータ
(e)  電極と連結した少なくとも1つの有益薬剤リザーバー; および
(f)  互換性のある回路基板または回路部品
を含み、
当該レギュレータが、所定の負荷電流のパターンに基づいて負荷電流を生成させ; そして生成した負荷電流を電極に供給し、このとき供給された負荷電流が、有益薬剤の見かけの輸送効率に反比例した所望の負荷電流を達成し、その時に一定の有益薬剤送出速度が保持され、
有益薬剤の見かけの輸送効率がATE0*(1−exp(-KATE*t))であって、所望の平均電流がi0*exp(-KATE*t)(式中、ATE0とi0は、それぞれ初期の見かけの輸送効率および初期の所望の負荷電流であり、KATEは速度定数であり、tは時間である)であり、
負荷電流がパルス電流であって、パルスの大きさ、時間、および負荷サイクルのうちの1つを調節することによって負荷電流が調節され、そして
前記負荷電流パターンが互換性のある回路基板または回路部品にて実施される; 
前記装置。
【請求項２】  (a)  第1の電極;
(b)  第2の電極;
(c)  これらの電極と電気的に接続された電源;
(d)  電源を調節するレギュレータ; および
(e)  電極と連結した少なくとも1つの有益薬剤リザーバー; 
を含み、このときレギュレータが、所望の有益薬剤送出速度をもたらすのに必要な負荷電流を生成し、そして有益薬剤の送出時に見かけの輸送効率が変化するときに、当該所望の有益薬剤送出速度を維持するために所定の負荷電流パターンに従って負荷電流を変化させる、有益薬剤を送出する電気輸送装置。
【請求項３】  有益薬剤の見かけの輸送効率が時間とともに直線的に増大し、負荷電流が時間とともに直線的に減少する、請求項２記載の装置。
【請求項４】  有益薬剤の見かけの輸送効率と負荷電流が、2つの電極の一方または両方のpHレベルとともに変化する、請求項２記載の装置。
【請求項５】  有益薬剤の見かけの輸送効率と負荷電流が時間とともに非直線的に変化する、請求項２記載の装置。
【請求項６】  負荷電流が直流であって、負荷電流のレベルに調節される、請求項２記載の装置。
【請求項７】  負荷電流がパルス電流であって、パルスの大きさ、時間、および負荷サイクルのいずれかによって調節される、請求項２記載の装置。
【請求項８】  負荷電流のパターンが外部からダウンロードされる、請求項２記載の装置。
【請求項９】  負荷電流のパターンが、時間の一次関数、時間の非線形関数、および2つの電極のいずれかのpHレベルの関数から選択可能である、請求項２記載の装置。
【請求項１０】  負荷電流のパターンが
(a)  i0−KATE*t (式中、i0は初期の負荷電流であり、KATEは比例定数である);
(b)  i0*exp(-KATE*t)(式中、i0は初期の負荷電流であり、KATEは比例定数であり、tは時間である); および
(c)  2つの電極のいずれかのpHレベルの関数;
から選択可能である、請求項２記載の装置。
【請求項１１】  負荷電流が
(a)  負荷電流のレベルを変えることによって変えられた直流; および
(b)  パルスの大きさと負荷サイクルのいずれかを変えることによって変えられたパルス電流; 
のいずれかである、請求項２記載の装置。
【請求項１２】  前記装置がマイクロコントローラとマイクロプロセッサのいずれかを使用して適用される、請求項２記載の装置。
【請求項１３】  前記装置が互換性のある回路基板を使用して適用される、請求項２記載の装置。
【請求項１４】  見かけの輸送効率が変化しても負荷電流を自動的に調節することによって所望の有益薬剤送出速度が実質的に一定に保持される、請求項２記載の装置。
【請求項１５】  薬剤がフェンタニールである、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】 有益薬剤の見かけの輸送効率がATE0＋KATE*tであって、所望の負荷電流がi0−KATE*tであり、このときATE0とi0は、それぞれ初期の見かけの輸送効率および初期の負荷電流であり、tは時間であり、そしてKATEは比例定数である、請求項３記載の装置。
【請求項１７】  有益薬剤の見かけの輸送効率がATE0*(1−exp(-KATE*t))であって、所望の負荷電流がi0*exp(-KATE*t)であり、このときATE0とi0は、それぞれ初期の見かけの輸送効率および初期の負荷電流であり、KATEは速度定数であり、そしてtは時間である、請求項５記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
さらに他の代表的な実施態様においては、ETS内部のレギュレータが互換性のある回路基板または回路部品で実現されており、このとき１通り以上の負荷電流iLのパターンが互換性の回路のそれぞれにおいて実施される。患者または医者は、投与しようとする特定の薬物に対して適切な互換性の基板または部品を挿入することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
ここで負荷電流パターンについてより詳細に説明する。負荷電流iLが直流である場合は、生成される負荷電流パターンが、負荷電流iLを、負荷電流のレベルを変えることによって、調節する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
他の実施態様において、負荷電流iLがパルス(方形波)電流である場合は、生成される負荷電流パターンが、負荷電流iLを、iLパルスの大きさを変えることによって、あるいはiLパルスの負荷サイクルを変えることによって調節する。例えば、0〜0.05mA/cm2、10%負荷サイクルパルスのIavgは0.005mA/cm2である。本実施態様の目的に適うよう、周波数は100Hz未満とする。上記のiavgを２倍にすることは、負荷サイクルを10%に一定に保持しつつ負荷電流iLを0〜0.1mA/cm2に増大させることによって、あるいは負荷電流iLを0〜0.05mA/cm2に保持しつつ負荷サイクルを２倍の20%にすることによって達成される(これらの関係は概算であることに留意)。他の変調電流が使用される場合は、波形を変えることによって負荷電流iLを変えることができる。直流またはパルス電流の場合、所望の薬剤送出速度を得るために(特にオンデマンドの供給用途において)電流印加のトータル時間を調節することもできる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年5月18日(2009.5.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも２軸及び少なくとも２本の輪距を有する自動車の横方向傾き安定性を向上させる方法であって、
その限度は、自動車の横方向加速度と相互関係のある変数の第１閾値を越えたとき横揺れを防止するのに用いられ、閾値は少なくとも走行の初めに自動車が許容できる負荷に関して、傾きの危険性につながる最小値に相当することを特徴とする方法。
【請求項２】  相関変数は、負荷をかけていない自動車の重心の位置にほぼ一致する一点の横方向加速度であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  相関変数は、自動車の横方向加速度と時間導関数に起因する関数であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  第１閾値あるいは同一の物理的構成要素のそれより低い第２閾値を越えなかったとき、安定化限度が中断されることを特徴とする前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項５】  自動車の重心高さの第１の閾値及び／又は第２の閾値を調整するために、走行中に速度を変更する自動車の反応を観測することによって判断が行われることを特徴とする前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項６】  自動車の横方向加速度は、車輪センサの信号に基づき単独で決定されることを特徴とする前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項７】  自動車の横方向加速度は、ステアリング角信号及び車輪センサの信号によって決定されることを特徴とする前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項８】  横揺れを防止する限度は前軸上のブレーキ起動を含むことを特徴とする前記請求項の何れかに記載の方法。
【請求項９】  アクティブ自動車サスペンションを有する自動車用であって、横揺れを防止する限度は、自動車サスペンションに関する干渉を含むことを特徴とする前記請求項１ないし８の何れか１項記載の方法。
【請求項１０】  過度のアンダーステアリング防止する装置を有する自動車用であって、横揺れを防止する限度は、過度のアンダーステアリングを防止する方法より優先度を有することを特徴とする前記請求項１ないし９の何れか１項記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
臨界横方向加速度は従って横方向回転中心に置かれた重心より小さくしかも高い位置にある。従って、重心の位置は横方向安定性を述べるのには重要である。  
臨界横方向加速度を求めるこの簡単な計算は擬似固定の場合にのみ有効である。振動と同様の軌跡を有する力学的なハンドル操作をする場合において、自動車は振動が増加する。従って、比較的小さい横方向加速度の場合では、安定化システムはその既存のエントリー閾値ａｙｏｎ  を有していなければならず、
ａｙｏｎ  ＝ｄ＊ａｙｋｒｉｔ
ここで０＜ｄ＜１である。  
安定化制御から出る閾値は類似して規定される。
ａｙｏｆｆ＝ｅ＊ａｙｋｒｉｔ
ここで０＜ｅ＜ｄである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
選択されたエントリー条件によれば、以下の出力条件が有効である。
ａｙ＜ａｙｏｆｆ
及び
°ａy＜°ａyｏｆｆである。
それによって°ａyｏｆｆ＝ｆ＊°ａyｏｎ及び０＜ｆ  ｙ  ｌ；又は
ｉ＊ａｙ＋ｊ＊°ａy≦ｋ＊ａｙｋｒｉｔ
であり、ここで０＜ｋ＜１であり；
あるいは更に複雑な基準である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
エントリー閾値ａｙｏｎ又は更に複雑なエントリー条件を用いて改良する為に、所定レベルの重心はそれから臨界横方向加速度ａｙｋｒｉｔを計算する方程式に挿入することができる。  
重心を決定するこの方法は、所定時間間隔で繰返される最初の加速及び制動の操作中の走行開始直後に用いられるか、各々の適切な制動操作及び／又は加速操作（好ましくは、ハンドルを切らない状態）中の走行開始直後に用いられる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
自動車がヨーイングモーメントを制御するシステムを備えている場合、前記システムはいくつかの方法で改良すべきであろう。ヨーイングモーメント制御は、公称値についての自動車のヨーイング度を調整する。前記公称値は通常、物理的に検出可能な値に限定される。しかし、物理的考察は一般的に道路面の摩擦係数条件でのみ考慮される。高摩擦係数の場合、固定される最大公称ヨーイング度は低摩擦係数の場合より高い。しかし高摩擦係数の場合、傾き危険性は大きな伝達可能横力によって高くなる。公称ヨーイング度は、従って横方向安定性制御に関する危険、横方向加速及び／又はエントリー閾値の考察に限定すべきである。このことは特にオーバーステアの傾向でなく過度のアンダーステアの傾向を弱めるシステムの場合に危険である。オーバーステアを防止しようとする間、原則的には傾き危険性も減らそうとする間、アンダーステアを防止しようとすることは傾き危険性を引き起こしあるいはそれを支持する可能性がある。従って、疑念があるときは、横方向傾き安定性の上昇は、アンダーステアを回避するより優先度を有する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年9月15日(2009.9.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置であって、
チャンバと、
ヒータ電源システムと、
第１金属のインナコア、このインナコアを囲む第２金属のアウターシェルであって基板を支持する表面を有する前記アウターシェル、及び前記アウターシェルの上面及び下面間で前記インナコア内に配置された抵抗加熱素子を有するヒータアセンブリと、を備え、
前記アウターシェルの上面及び下面は、前記インナコアに熱的に連結されており、
前記第１金属は、前記第２金属より高い熱電導性を有する、基板処理装置。
【請求項２】
前記アウターシェルの前記上面及び前記下面は、ロウ付けによって、前記インナコアに熱的に連結されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１金属は銅を含み、前記第２金属は少なくとも３％のモリブデン及び少なくとも１０％のクロムを含む、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第１金属は銅を含み、前記第２金属は少なくとも３％のモリブデン及び少なくとも１０％のニッケルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ヒータアッセンブリに近接して配置された金属熱シールドを更に備え、
前記熱シールドが前記ヒータアッセンブリの前記下面に実質的に平行な複数の層を有し、隣接する層は、それらの間に隙間を画成する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記抵抗加熱素子は、第１加熱素子及び第２加熱素子を有し、
前記第１加熱素子は、第１ヒータコントローラに制御され、
前記第２加熱素子は、第２ヒータコントローラに制御され、
前記インナコアは、前記インナコアの第１部分及び前記インナコアの第２部分の間に画成された熱的ギャップを有し、
前記熱的ギャップは、前記インナコアの第１部分及び前記インナコアの第２部分の間に熱的隔離を提供する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記ヒータアッセンブリは、冷媒を運搬する冷却管を有し、これにより、前記ヒータアッセンブリが冷却される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
基板を少なくとも４００℃の温度に加熱するヒータペデスタルであって、
第１金属のインナコアと、
前記第１金属を囲む第２金属のシェルであって、前記第１金属が前記第２金属の第２熱伝導率より大きい第１熱伝導率を有する前記シェルと、
前記インナコアの溝内にロウ付けされた抵抗加熱素子と、
前記シェルの下部に結合されたスタブシャフトと、
前記スタブシャフトに結合された絶縁体と、
前記絶縁体に結合された支持シャフトと、
前記インナコア、前記シェル、又は前記スタブシャフトに電気的に接続された無線周波数電極と、
を備えたヒータペデスタル。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年5月11日(2009.5.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＥｒｂＢ２レセプターの過剰発現により特徴付けられるヒト患者における悪性乳癌の治療のための医薬において、ＥｒｂＢ２細胞外ドメイン配列のエピトープ４Ｄ５に結合する抗体とアントラサイクリン誘導体以外の化学療法剤の併用薬であり、前記化学療法剤がタキソイドであり、前記併用が悪性乳癌の無増悪期間の増加によって測定される臨床効果を有し、前記併用が、該抗体とアントラサイクリン誘導体の併用と比較して心筋機能不全を減少させることを特徴とする医薬。
【請求項２】  前記抗体がヒト化４Ｄ５抗ＥｒｂＢ２抗体である請求項１に記載の医薬。
【請求項３】  前記タキソイドがパクリタキセル又はドセタキセルである請求項１又は２に記載の医薬。
【請求項４】  前記併用薬の有効量が、単一の薬剤として個々に投与した場合の、前記抗体と前記タキソイドの有効量の合計よりも少ない請求項１から３の何れか一項に記載の医薬。
【請求項５】  ＥｒｂＢ２レセプターの過剰発現により特徴付けられるヒト患者における悪性乳癌の治療のための製造品において、タキソイドと併用されるためのものであり、
容器と、
細胞外ドメイン配列のエピトープ４Ｄ５に結合する抗ＥｒｂＢ２抗体を含有する該容器内の組成物と、
該組成物と組合せてのアントラサイクリン型化学療法剤の使用を避ける旨のインストラクションを含むパッケージ挿入物とを含んでなり、
パッケージ挿入物が該組成物とタキソイドの併用投与が悪性乳癌の無増悪期間の増加によって測定される臨床効果をもたらすことを示している
ことを特徴とする製造品。
【請求項６】  前記抗体がヒト化４Ｄ５抗ＥｒｂＢ２抗体である請求項５に記載の製造品。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
「治療的有効量」という用語は、増殖抑制効果を有する量を指すために使用される。好ましくは、治療的有効量はアポトーシス活性を有するか、又は細胞死、好ましくは良性又は悪性の腫瘍細胞、特に癌細胞の死を誘発可能なものである。効力は、治療される状態に応じて、通常の方法で測定することができる。癌治療に対しては、効力は、例えば疾患の無増悪期間(ＴＴＰ)の評価、又は奏効(ＲＲ)の決定により測定され得る(以下の実施例を参照)。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３３】
完全奏効
最小４週間で、放射線撮影及び／又は視覚的に明らかな腫瘍が全て消失。皮膚及び胸壁の完全反応がバイオプシーにより確認されなければならない。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３４】
部分奏効
最小４週間で、全ての測定可能な病変の直交直径の生成物の合計が少なくとも５０％低減。新しい病変は現れないか、又はいずれの病変も大きくならない。
やや奏効
全ての測定可能な病変の直交直径の生成物の合計が２５％ないしは４９％低減。新しい病変は現れないか、又はいずれの病変も大きくならない。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３５】
安定
測定可能な病変の大きさが２５％を越えて変化しない。病変は現れなかった。
腫瘍の無増悪期間(ＴＴＰ)を治療の開始から進行まで算出した。奏効の信頼限界は単一割合に対する厳密な方法を使用して算出した(Fleiss, JL, Statistical Methods for Rates and Proportions (２版), New York, Wiley, 1981, pp13-17)。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年7月21日(2009.7.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記式：
【化１】
2002508361.tif 000001
［式中、ｎは０〜２の整数であり；
Ｒは
【化２】
2002508361.tif 000002
であり；
Ａは水素であり；そして
Ｂは
炭素原子１〜１１個の直鎖または分枝鎖のアルキルである］の化合物または製薬上許容しうるその塩。
【請求項２】  ｎが１であり、そしてＲが
【化３】
2002508361.tif 000003
である請求項１記載の化合物。
【請求項３】  下記： 
３−（２−アミノメチル−４−メチル−ペンチル）−４Ｈ−［１,２,４］オキサジアゾール−５−オン、ＨＣｌ
である請求項１記載の化合物。
【請求項４】  請求項１に記載の化合物の治療有効量および製薬上許容しうる担体を含有する医薬組成物。
【請求項５】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する癲癇治療剤。
【請求項６】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する失神発作、運動低下症および頭蓋疾患治療剤。
【請求項７】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する神経変性性疾患治療剤。
【請求項８】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する抑鬱症治療剤。
【請求項９】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する不安症治療剤。
【請求項１０】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有するパニック治療剤。
【請求項１１】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する疼痛治療剤。
【請求項１２】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する神経病理学的疾患治療剤。
【請求項１３】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する胃腸損傷治療剤。
【請求項１４】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する炎症治療剤。
【請求項１５】  請求項１に記載の化合物の治療有効量を含有する胃腸疾患治療剤。
【請求項１６】  胃腸疾患が過敏性腸症候群である請求項１５に記載の治療剤。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月15日(2009.6.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
本発明は、少なくとも１種類の植物成長調節剤；少なくとも１種類の結合剤；少なくとも１種類の二糖；および少なくとも１種類の界面活性剤を含む水溶性顆粒状組成物に向けられる。より具体的には、植物成長調節剤はジベレリン、オーキシン、有機酸、サイトキニン、およびエチレン生合成阻害剤またはそれらの組合せであり得；結合剤はポリビニルピロリドン、リグノスルホネート、リグニン、レシチン、デンプン、グルテン、ポリエチレングリコールまたはそれらの組合せであり得；二糖はスクロース、ラクトース、マルトース、加水分解されたデンプン、例えば、マルトデキストリンおよびコーンシロップ固体、糖アルコール、例えば、ソルビトールおよびマンニトール並びに他の糖、例えば、グルコースおよびフルクトースまたはそれらの組合せであり得；界面活性剤はエトキシル化脂肪酸、グリコールエステル、エトキシル化アルコール、ソルビタン脂肪酸エステルまたはそれらの組合せであり得る。この組成物は、少なくとも１種類のさらなる成分、例えば、表面活性剤、粘着剤、展着性粘着剤、殺線虫剤、全身獲得抵抗性誘発剤、消泡剤、保存剤、加湿剤、染料、Ｕ．Ｖ．保護剤、緩衝剤、流動剤、担体またはそれらの組合せも含有することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
配合剤の他の成分には、さらなる表面活性剤、粘着剤、展着性粘着剤、殺線虫剤、全身獲得抵抗性誘発剤、不活性担体、保存剤、加湿剤、染料、Ｕ．Ｖ．（紫外線）保護剤、緩衝剤、流動剤、消泡剤または生成物の取り扱いおよび塗布を促進する他の成分が含まれ得る。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年4月21日(2009.4.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
本発明による化合物は単独でまたは剤型で乾癬、カポジ肉腫、たとえばステント誘発性再狭窄のような再狭窄、子宮内膜症、クローン病、ホジキン病、白血病、リウマチ性関節炎のような関節炎、血管腫、血管繊維腫、糖尿病網膜症、血管新生緑内障のような眼疾患、糸球体腎炎、糖尿病性ネフロパシー、悪性腎硬化症、血栓性微小血管障害症候群、移植拒絶反応および腎糸球体症のような腎臓疾患、肝硬変症のような繊維形成疾患、糸球体間質細胞増殖性疾患、動脈硬化症、バルーンカテーテル処置後、人工血管装入時またはステントのような血管の開放保持のための機械的装置類の使用後の神経組織の損傷および血管の再閉塞の抑制の処置のための医薬品として、免疫抑制薬として、瘢痕なしの創傷治癒、老人性斑および接触性皮膚炎における支援のために使用することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
本発明はそのためさらに乾癬、カポジ肉腫、たとえばステント誘発性再狭窄のような再狭窄、子宮内膜症、クローン病、ホジキン病、白血病、リウマチ性関節炎のような関節炎、血管腫、血管繊維腫、糖尿病網膜症、血管新生緑内障のような眼疾患、糸球体腎炎、糖尿病性ネフロパシー、悪性腎硬化症、血栓性微小血管障害症候群、移植拒絶反応および腎糸球体症のような腎臓疾患、肝硬変症のような繊維形成疾患、糸球体間質細胞増殖性疾患、動脈硬化症、バルーンカテーテル処置後、人工血管装入時またはステントのような血管の開放保持のための機械的装置類の使用後の神経組織の損傷および血管の再閉塞の抑制、免疫抑制薬として、瘢痕なしの創傷治癒、老人性斑、接触性皮膚炎における支援としての使用もしくはそれらを処置する医薬品の製造のための一般式Iの化合物の使用に関する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月17日(2009.6.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属−金属および金属−セラミック結合のための仮接着剤の製造方法であって、
接着剤の全量に対し１５〜５０重量％の、モノマーを含まないポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）とＰＭＭＡに対し生物学的適合性の有機溶媒または溶媒混合物を混合する工程であって
前記ＰＭＭＡの平均分子量は３,０００〜２００,０００ダルトンであり、前記ＰＭＭＡの酸価はポリマー１グラムにつき１０〜３５０mgＫＯＨである前記工程、
接着剤の全量に対し、０.０５〜８０重量％の生理活性ガラス状−結晶性物質を混合物に添加する工程であって、
前記ガラス状−結晶性物質の粒径は０.０５〜２０μｍであり、
前記ガラス状−結晶性物質は、前記ガラス状−結晶性物質の全量に対し、１５〜４５重量％のＣａＯ、４０〜４５重量％のＰ2Ｏ5、１０〜４０重量％のＺｒＯ2および０.７〜３.５重量％のフッ化物からなり、
前記ガラス状−結晶性物質は、主結晶相としてアパタイトとカルシウムジルコニウムホスフェート及び補助成分としてガラス相を含み、前記主結晶相は少なくとも３５重量％からなり、前記補助成分は５〜１５重量％からなる前記工程、及び
１０〜５０℃で１〜２０分のオープンプロセス時間で流動性混合物が得られるまで攪拌する工程
を含む前記方法。
【請求項２】
ポリメチルメタクリレートが３０〜３５重量％である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
他の長期安定性または全体的または部分的に吸収できる生体セラミックをガラス状−結晶性物質に添加する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
使用した生体セラミック物質がＣａ2ＫＮａ(ＰＯ4)2の結晶相からなる吸収可能な物質またはアパタイト／珪灰石を基礎とした長期安定性ガラスセラミックである、請求項３記載の方法。
【請求項５】
さらに亜鉛含有の生物学的適合粉末３〜３０重量％を混合物に添加する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
さらに酸化亜鉛または亜鉛石鹸含有の生物学的適合粉末３〜３０重量％を混合物に添加する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
接着剤の粘性率を、混合物を作る成分の量および／またはＰＭＭＡの分子量によって調整する、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
ポリメチルメタクリレートに基づく接着キットであって、互いに別々の以下の成分
ａ）接着剤の全重量に対し１５〜５０重量％の、モノマーを含まないポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）であって、
平均モル量は３,０００〜２００,０００ダルトンであり、酸価はポリマー１ｇに対し１０〜３５０ｍｇＫＯＨである前記ＰＭＭＡ；
ｂ）接着剤の全重量に対し１０〜４０重量％の、ＰＭＭＡのための生物学的適合性の有機溶媒または溶媒混合物；
ｃ）接着剤の全重量に対し０.０５〜８０重量％の、生理活性ガラス状−結晶物質であって、
前記ガラス状−結晶物質の全量に対して、１５〜４５重量％のＣａＯ、４０〜４５重量％のＰ2Ｏ5、１０〜４０重量％のＺｒＯ2および０.７〜３.５重量％のＣａＦ2からなり、前記ガラス状−結晶物質の粒径が０.０５〜２０μｍであり、そして
前記ガラス状−結晶物質は主結晶相としてアパタイトならびにカルシウムジルコニウムホスフェート及び補助成分としてガラス相を含み、
前記ガラス状−結晶物質の前記主結晶相は接合して少なくとも３５重量％からなり、前記補助成分は５〜１５重量％からなる前記ガラス状−結晶物質
を含む前記接着キット。
【請求項９】
前記キットがさらに、ＴｉＯ2、Ｘ線造影剤であるＣａＺｒ4(ＰＯ4)6、Ｘ線造影剤であるＣａＴｉ4(ＰＯ4)6、ＣａＴｉ4(ＰＯ4)6の結晶相からなる吸収可能な生体セラミック物質、またはアパタイト／珪灰石を基礎とした長期安定性ガラスセラミックまたはそれらの混合物の群から選ばれる成分を含む、請求項８記載の接着キット。
【請求項１０】
使用した生物学的適合性溶媒がエチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートとエタノールの混合物であり、エタノールが４重量％の量までの水を含む、請求項８記載の接着キット。
【請求項１１】
使用した生物学的適合性溶媒がエチルアセトアセテートである、請求項８記載の接着キット。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
さらに、骨セメントキットはTiO2を、成分ｃ）と混合しまたは別に用意して、ならびにＸ線造影剤を、成分ｃ）と混合しまたは別に用意し、好ましくは３０重量％のCaZr4(PO4)6またはCaTi4(PO4)6またはその混合物を含むことができる。
本発明による接着剤キットに含まれる生物学的適合性の溶媒はエチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートとエタノールの混合物であり、エタノールは４容量％の量までの水を含む。
亜鉛を含む生物学的適合性の粉末は酸化亜鉛または亜鉛石鹸であることが有利である。
本発明によるキットは酸化エチレンを用いてまたは放射によって殺菌され殺菌形態で供給される。
さらにキットは医薬成分を含み、これは各成分と混合するかまたは別に、特に抗生物質を用意する。
本発明は以下さらに詳細に説明する。パーセントはすべて重量である。