Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に、遮光性膜又は透過量を調整する機能を有する半透光性膜を有するＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法であって、
レジストが塗布される膜である前記遮光性膜又は前記半透光性膜の膜組成及び製造条件を調整することによって、前記遮光性膜又は前記半透光性膜の膜表面の二乗平均平方根粗さＲｑが０．９ｎｍ以下となるように成膜し、
前記成膜後、洗浄処理を行い、
前記洗浄処理後に、レジスト液を塗布すべき表面を下向きとなるように保持した基板に対し、毛管状のノズルにより毛細管現象を用いて上昇したレジスト液をノズル先端を基板に対して走査させることによって、レジストを塗布する装置を用いて、前記遮光性膜又は前記半透光性膜上にレジストを塗布することを特徴とするＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法。
【請求項２】
前記遮光性膜又は及び前記半透光性膜の膜表面の最大高さＲｍａｘが１０ｎｍ以下となるように成膜することを特徴とする、請求項１記載のＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法。
【請求項３】
前記遮光性膜は、窒化クロム系下地膜とその上に形成された炭化クロム系遮光膜とその上に形成された酸窒化クロム系反射防止膜で構成される膜であることを特徴とする、請求項１又は２記載のＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法。
【請求項４】
前記遮光性膜は、大型インラインスパッタリング装置によって連続成膜される請求項３記載のＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法。
【請求項５】
前記半透光性膜は、クロム窒化膜系の半透光性膜、又はＭｏＳｉ系の半透光性膜であることを特徴とする、請求項１又は２記載のＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法。
【請求項６】
前記透光性基板は、サイズ８５０ｍｍ×１２００ｍｍ以上の大型ガラス基板であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のマスクブランクの製造方法によって製造されたＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランク。
【請求項８】
請求項７に記載のマスクブランクを用いて製造されたことを特徴とするＦＰＤデバイスを製造するためのフォトマスク。
【請求項９】
請求項７に記載のマスクブランクを用いるフォトマスクの製造方法であって、
レジストパターンをマスクとして、前記遮光性膜又は前記半透光性膜をエッチング液でウエットエッチングして遮光性膜パターン又は半透光性膜パターンを形成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項１０】
前記遮光性パターン上に、クロム窒化膜系の半透光性膜を、膜表面の二乗平均平方根粗さＲｑが０．７ｎｍ以下であり、かつ膜表面の最大高さＲｍａｘが６ｎｍ以下となるように成膜し、
前記成膜後、洗浄処理を行い、
前記洗浄処理後に、レジスト液を塗布すべき表面を下向きとなるように保持した基板に対し、毛管状のノズルにより毛細管現象を用いて上昇したレジスト液をノズル先端を基板に対して走査させることによって、レジストを塗布する装置を用いて、前記半透光性膜上にレジストを塗布し、
レジストパターンをマスクとして、前記半透光性膜をエッチング液でウエットエッチングして半透光性膜パターンを形成することを特徴とする請求項９記載のフォトマスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月8日(2011.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
光源ユニット１０１から射出された発散光束は、集光光学系１０２によって平行化された光束１０３に変換されて走査ユニット１０４に入射する。走査ユニット１０４は、入射した光束を２次元方向に走査する。走査ユニット１０４からの光束は、走査光学系１０５に入射する。走査光学系１０５は、入射した光束を集光する。走査光学系１０５から射出した光束は、接眼光学系１０６に入射する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ＭＥＭＳ走査デバイス２０１は、偏向面（反射面）を持つ微小ミラー２０２が、トーションバー２０３，２０４を介して支持された構造を有する。微小ミラー２０２は、トーションバー２０３がねじれることで軸２０５を中心とした共振往復運動を行い、トーションバー２０４がねじれることで軸２０６を中心とした往復運動を行う。これらの往復運動により、微小ミラー２０２の法線方向が２次元的に変化する。このため、微小ミラー２０２に入射した光束の反射方向が２次元的に変化し（偏向され）、この結果、ＭＥＭＳ走査デバイス２０１により光束が２次元方向に走査される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
図１４には、本発明の実施例４である走査型表示装置１５０１の構成を示している。本実施例の走査型表示装置１５０１は、実施例３で説明した光学系を用いて、ビデオカメラ１５０２により撮像された映像（画像）を観察者の眼に提示する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
また、接眼光学系１００６と走査光学系１００５の間の光束のなす角度は、最大で０．１１ｄｅｇである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月9日(2011.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体の光学像を電気信号に変換する撮像素子と、
前記撮像素子の前方であって撮影光軸上に配設された光学部材と、
前記光学部材に振動を与える加振手段と、
前記光学部材の前方に配置されており、露光時に開口の遮蔽状態から開放状態へ走行する少なくとも１枚の先幕羽根と、露光時に開口の開放状態から遮蔽状態へ走行する少なくとも１枚の後幕羽根と、前記先幕羽根を開口の遮蔽状態から開放状態とする重畳駆動と開口の開放状態から遮蔽状態とする展開駆動、及び、前記後幕羽根を開口の開放状態から遮蔽状態とする展開駆動と開口の遮蔽状態から開放状態とする重畳駆動を行う駆動手段とを具備したシャッタ装置と、
前記先幕羽根の遮蔽状態で前記光学部材を振動させた後に又は前記光学部材を振動させた状態で、前記後幕羽根を展開駆動するように前記加振手段と前記駆動手段を制御する制御手段とを備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記後幕羽根を展開駆動した後に重畳駆動することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記先幕羽根の遮蔽状態で前記光学部材を振動させた後に、前記後幕羽根を展開駆動して開口を遮蔽状態としてから所定時間経過後に前記先幕羽根を重畳駆動することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記所定時間は、前記先幕羽根の上端から飛散した異物が開口の下辺を通過するのに十分な時間であることを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記シャッタ装置は、前記先幕羽根と前記後幕羽根の間に配設された仕切り部材を備え、前記仕切り部材は、前記後幕羽根が展開駆動したときに衝突する衝突部を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、デジタルカメラ等の撮像装置に関し、撮影光軸上に配設された光学部材の表面に付着した塵埃等の異物の除去技術に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の撮像装置は、被写体の光学像を電気信号に変換する撮像素子と、前記撮像素子の前方であって撮影光軸上に配設された光学部材と、前記光学部材に振動を与える加振手段と、前記光学部材の前方に配置されており、露光時に開口の遮蔽状態から開放状態へ走行する少なくとも１枚の先幕羽根と、露光時に開口の開放状態から遮蔽状態へ走行する少なくとも１枚の後幕羽根と、前記先幕羽根を開口の遮蔽状態から開放状態とする重畳駆動と開口の開放状態から遮蔽状態とする展開駆動、及び、前記後幕羽根を開口の開放状態から遮蔽状態とする展開駆動と開口の遮蔽状態から開放状態とする重畳駆動を行う駆動手段とを具備したシャッタ装置と、前記先幕羽根の遮蔽状態で前記光学部材を振動させた後に又は前記光学部材を振動させた状態で、前記後幕羽根を展開駆動するように前記加振手段と前記駆動手段を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月8日(2011.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
該光源からの光束を走査する走査ユニットと、
該走査ユニットからの光束を集光する走査光学系と、
該走査光学系からの光束を観察者の眼が配置される射出瞳に導く接眼光学系とを有し、
前記走査光学系から前記接眼光学系に進む光束はテレセントリック性を有し、
前記接眼光学系は、前記走査光学系からの光束を前記射出瞳に向けて反射する第１の反射面を有しており、
前記接眼光学系を、前記走査光学系及び前記走査ユニットに対して、該走査光学系から前記接眼光学系への光束の進行方向に沿った方向に移動可能とする第１の機構を有することを特徴とする走査型表示装置。
【請求項２】
前記接眼光学系の前記移動に応じて、前記光源からの光束の像点位置を移動させる可動光学系を有することを特徴とする請求項１に記載の走査型表示装置。
【請求項３】
前記接眼光学系の前記移動にかかわらず、前記接眼光学系からの光束の射出方向が不変であることを特徴とする請求項１又は２に記載の走査型表示装置。
【請求項４】
前記眼の瞳孔の位置を検出する瞳孔検出手段と、
該瞳孔検出手段により検出された前記瞳孔の位置に応じて前記第１の機構を動作させる制御手段とを有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載の走査型表示装置。
【請求項５】
前記走査光学系は、前記走査ユニットからの光束が入射する第１の走査光学系と、該第１の走査光学系からの光束を前記接眼光学系に向けて反射する第２の反射面を含む第２の走査光学系とを含み、
前記第２の走査光学系を、前記接眼光学系とともに、前記第１の走査光学系及び前記走査ユニットに対して、該第１の走査光学系から前記第２の走査光学系への光束の進行方向に沿った方向に移動可能とする第２の機構を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の走査型表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一側面としての走査型表示装置は、光源と、該光源からの光束を走査する走査ユニットと、該走査ユニットからの光束を集光する走査光学系と、該走査光学系からの光束を観察者の眼が配置される射出瞳に導く接眼光学系とを有し、前記走査光学系から前記接眼光学系に進む光束はテレセントリック性を有し、前記接眼光学系は、前記走査光学系からの光束を前記射出瞳に向けて反射する第１の反射面を有しており、前記接眼光学系を、前記走査光学系及び前記走査ユニットに対して、該走査光学系から前記接眼光学系への光束の進行方向に沿った方向に移動可能とする第１の機構を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
ＭＥＭＳ走査デバイス２０１は、偏向面（反射面）を持つ微小ミラー２０２が、トーションバー２０３，２０４を介して支持された構造を有する。微小ミラー２０２は、トーションバー２０３がねじれることで軸２０５を中心とした共振往復運動を行い、トーションバー２０４がねじれることで軸２０６を中心とした往復運動を行う。これらの往復運動により、微小ミラー２０２の法線方向が２次元的に変化する。このため、微小ミラー２０２に入射した光束の反射方向が２次元的に変化し（偏向され）、この結果、ＭＥＭＳ走査デバイス２０１により光束が２次元方向に走査される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
１００５は実施例１でも説明した水平移動機構（第１の機構）である。水平移動機構１００５は、接眼光学系８０６を、走査光学系８０５，１００１及び走査ユニット１０４に対して、第２の走査光学系１００１から接眼光学系８０６への光束の進行方向に沿った方向に移動可能に支持している。接眼光学系８０６を移動させる（接眼光学系８０６と走査光学系８０５，１００１の間の距離を変更する）ことにより、射出瞳１０７が水平方向に移動する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
図１２には、本発明の実施例４である走査型表示装置１２０１の構成を示している。本実施例の走査型表示装置１２０１は、実施例２で説明した光学系を用いて、ビデオカメラ１２０２により撮像された映像（画像）を観察者の眼に提示する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月1日(2011.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光重合性組成物からなるマトリックスと、該マトリックス中に配置され前記マトリックスと屈折率が異なり光重合性組成物からなる円形もしくは多角形の断面を持つ複数の柱状構造体と、を備えた相分離構造を有する成形体であって、
少なくとも片側表面に前記相分離構造と同調した高さ１０ｎｍ以上１μｍ未満の凹凸を有する、
ことを特徴とする成形体。
【請求項２】
前記複数の柱状構造体の各々は、略同一方向に配向され、且つ、配向方向と垂直な面において規則的な格子状に配置されている、
請求項１に記載の成形体。
【請求項３】
前記複数の柱状構造体は、前記配向方向と垂直な断面形状が略同一である、
請求項１または２に記載の成形体。
【請求項４】
前記柱状構造体は、アスペクト比が１０以上である、
請求項１ないし３の何れか１項に記載の成形体。
【請求項５】
前記光重合性組成物がアクリル系光重合性組成物である、
請求項１ないし４の何れか１項に記載の成形体。
【請求項６】
請求項１〜５に記載の成形体を用いて構成されたことを特徴とする光学的ローパスフィルター。
【請求項７】
光重合性組成物からなるマトリックスと、該マトリックス中に配置され該マトリックスと屈折率が異なり光重合性組成物からなる複数の柱状構造体とを備えた相分離構造を有し、且つ、少なくとも片側表面に前記相分離構造と同調した凹凸を有する成形体の製造方法であって、
光硬化性モノマー又はオリゴマーと光重合開始剤とを含有する光重合性組成物を基材上に配置する工程と、
前記光重合性組成物と光源との間に、光通過域と光不通過域とを有するフォトマスクと前記光重合性組成物の上面との間に空隙を形成した状態で配置する工程と、
前記光源から、波長半値全幅が１００ｎｍ以下であり光強度分布が略一定の平行光を、前記フォトマスクを通して前記基材上の光重合性組成物に向けて照射して、前記光重合性組成物のうち平行光が照射された部位を、未完全な硬化状態に硬化させる第１の光照射工程と、
前記フォトマスクを取り外して、更に波長半値全幅が１００ｎｍ以下であり光強度分布が略一定の平行光を前記基材上の光重合性組成物に向けて照射して、前記光重合性組成物の硬化を完了させる第２の光照射工程と、を備えている、
ことを特徴とする成形体の製造方法。
【請求項８】
前記第１の光照射工程において、前記光重合性組成物が、不活性ガス雰囲気下にあることを特徴とする、請求項７に記載の成形体の製造方法。
【請求項９】
前記第１の光照射工程及び前記第２の光照射工程では、前記基材上の光重合性組成物を不活性ガス雰囲気下において平行光を照射する、
請求項７または８に記載の成形体製造方法。
【請求項１０】
前記第１の光照射工程では、前記光重合性組成物のうち平行光が照射された部位を、硬化度１０％以上、８０％以下に硬化させる、
請求項７ないし９の何れか一項に記載の成形体の製造方法。
【請求項１１】
前記フォトマスクは、前記光不通過域に多数の前記光通過域が規則的な格子状に配置されている、
請求項７ないし１０の何れか１項に記載の成形体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明のもう一つの態様によれば、
光重合性組成物からなるマトリックスと、該マトリックス中に配置され該マトリックスと屈折率が異なり光重合性組成物からなる複数の柱状構造体とを備えた相分離構造を有し、且つ、少なくとも片側表面に前記相分離構造と同調した凹凸を有する成形体の製造方法であって、
光硬化性モノマー又はオリゴマーと光重合開始剤とを含有する光重合性組成物を基材上に配置する工程と、
前記光重合性組成物と光源との間に、光通過域と光不通過域とを有するフォトマスクと前記光重合性組成物の上面との間に空隙を形成した状態で配置する工程と、
前記光源から、波長半値全幅が１００ｎｍ以下であり光強度分布が略一定の平行光を、前記フォトマスクを通して前記基材上の光重合性組成物に向けて照射して、前記光重合性組成物のうち平行光が照射された部位を、未完全な硬化状態に硬化させる第１の光照射工程と、
前記フォトマスクを取り外して、更に波長半値全幅が１００ｎｍ以下であり光強度分布が略一定の平行光を前記基材上の光重合性組成物に向けて照射して、前記光重合性組成物の硬化を完了させる第２の光照射工程と、を備えている、
ことを特徴とする成形体の製造方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記第１の光照射工程において、前記光重合性組成物が、不活性ガス雰囲気下にある。
本発明の他の好ましい態様によれば、前記第１の光照射工程及び前記第２の光照射工程では、前記基材上の光重合性組成物を不活性ガス雰囲気下において平行光を照射する。
本発明の他の好ましい態様によれば、前記第１の光照射工程では、前記光重合性組成物のうち平行光が照射された部位を、硬化度１０％以上、８０％以下に硬化させる。
本発明の他の好ましい態様によれば、前記フォトマスクは、前記光不通過域に多数の前記光通過域が規則的な格子状に配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の対物レンズ群を保持した第１の対物レンズ枠と、
前記第１の対物レンズ群と第２の対物レンズ群との間で光軸方向に沿って前後に移動させる移動レンズ枠と、
内周面に前記移動レンズ枠が摺動する被摺動面を形成し、前記移動レンズ枠よりも後方に前記第２の対物レンズ群を保持する第２の対物レンズ枠と、
前記第１の対物レンズ枠及び前記第２の対物レンズ枠の外周に嵌合し、前記第２の対物レンズ枠の先端面が当接する面が形成された位置制御部材と、
を具備したことを特徴とする対物レンズユニット。
【請求項２】
前記位置制御部材の先端面の形状が、前記移動レンズ枠及び前記第２の対物レンズ枠の先端部を覆うように前記第１の対物レンズ群側に折れ曲がった屈曲部に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の対物レンズユニット。
【請求項３】
前記位置制御部材の前記第２の対物レンズ枠と嵌合する面の径方向の肉厚は、前記第２の対物レンズ枠の前記位置制御部材と嵌合する面の肉厚よりも厚く形成されていることを特徴とする、請求項２に記載の対物レンズユニット。
【請求項４】
前記位置制御部材は、前記第１の対物レンズ群を含む前記第１の対物レンズ枠と前記第２の対物レンズ群を含む前記第２の対物レンズ枠との前記光軸方向の位置決めを行い、かつ前記移動レンズ枠を当接させることで前記移動レンズの位置を規定する位置規定面が設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の対物レンズユニット。
【請求項５】
第１のレンズ群と第２のレンズ群の光軸方向の位置出しを行うために、前記第１の対物レンズ枠に径方向に沿った突き当て面を設け、前記位置制御部材の前記第１の対物レンズ枠の前記突き当て面に平行な先端面を当接させたことを特徴とする、請求項１に記載の対物レンズユニット。
【請求項６】
第１のレンズ群と第２のレンズ群の光軸方向の位置出し調整を行うために、前記第１の対物レンズ枠の前記突き当て面と前記位置制御部材の前記第１の対物レンズ枠の前記突き当て面に平行な先端面との間に、位置出し調整用のスペーサを設けたことを特徴とする、請求項１に記載の対物レンズユニット。
【請求項７】
前記移動レンズ枠の前記光軸方向の先端側及び後端側における前記第２のレンズ枠の前記被摺動面に摺動する摺動面は、該摺動面の全周に沿って円形状に形成されているとともに、前記被摺動面と同形状に形成されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の対物レンズユニット。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の対物レンズユニットを、細長な挿入部の挿入方向の先端側の内部に具備したことを特徴とする内視鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】対物レンズユニット、内視鏡
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記目的を達成するため本発明の一態様による対物レンズユニットは、第１の対物レンズ群を保持した第１の対物レンズ枠と、前記第１の対物レンズ群と第２の対物レンズ群との間で光軸方向に沿って前後に移動させる移動レンズ枠と、内周面に前記移動レンズ枠が摺動する被摺動面を形成し、前記移動レンズ枠よりも後方に前記第２の対物レンズ群を保持する第２の対物レンズ枠と、前記第１の対物レンズ枠及び前記第２の対物レンズ枠の外周に嵌合し、前記第２の対物レンズ枠の先端面が当接する面が形成された位置制御部材と、を具備したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の一態様による内視鏡は、第１の対物レンズ群を保持した第１の対物レンズ枠と、前記第１の対物レンズ群と第２の対物レンズ群との間で光軸方向に沿って前後に移動させる移動レンズ枠と、内周面に前記移動レンズ枠が摺動する被摺動面を形成し、前記移動レンズ枠よりも後方に前記第２の対物レンズ群を保持する第２の対物レンズ枠と、前記第１の対物レンズ枠及び前記第２の対物レンズ枠の外周に嵌合し、前記第２の対物レンズ枠の先端面が当接する面が形成された位置制御部材と、を具備した対物レンズユニットを、細長な挿入部の挿入方向の先端側の内部に具備したことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子の前に配置される光学フィルタであって、
前記光学フィルタは、第一の光学部材と、前記第一の光学部材よりも前記撮像素子側に配置され、赤外成分を吸収する第二の光学部材と、前記第一の光学部材の射出面と前記第二の光学部材の入射面までの間に密閉空間が形成されるように前記第一の光学部材と前記第二の光学部材とを保持する保持部材とを備え、
前記第一の光学部材の入射面には導電性を有する反射防止多層膜が成膜され、前記反射防止多層膜の最表層にはフッ素を含む材料からなる膜が成膜され、前記密閉空間に、赤外光及び紫外光を遮断するダイクロイック多層膜が成膜されることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記反射防止多層膜は、ポーラス状に成膜されたＳｉＯ2及びＴｉＯ2から構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
前記反射防止多層膜の最表層は、パーフルオロアルキル基を含有する化合物からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
前記反射防止多層膜の最表層は、ＭｇＦ2からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記反射防止多層膜は、真空蒸着にてＳｉＯ2及びＴｉＯ2が交互に成膜されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
前記ダイクロイック多層膜はイオンアシスト法にて蒸着されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
撮像素子と、前記撮像素子の前に配置される光学フィルタとを備える撮像装置であって、
前記光学フィルタは、前記撮像素子の前に配置される第一の光学部材と、前記第一の光学部材よりも撮像素子側に配置され、赤外成分を吸収する第二の光学部材と、前記第一の光学部材の射出面と前記第二の光学部材の入射面までの間に密閉空間が形成されるように前記第一の光学部材と前記第二の光学部材とを保持する保持部材とを備え、
前記第一の光学部材の入射面には導電性を有する反射防止多層膜が成膜され、前記反射防止多層膜の最表層にはフッ素を含む材料からなる膜が成膜され、前記密閉空間に、赤外光及び紫外光を遮断するダイクロイック多層膜が成膜されることを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
前記反射防止多層膜は、ポーラス状に成膜されたＳｉＯ2及びＴｉＯ2から構成されていることを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記反射防止多層膜の最表層は、パーフルオロアルキル基を含有する化合物からなることを特徴とする請求項７又は８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記反射防止多層膜の最表層は、ＭｇＦ2からなることを特徴とする請求項７又は８に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記反射防止多層膜は、真空蒸着にてＳｉＯ2及びＴｉＯ2が交互に成膜されることを特徴とする請求項７ないし１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記ダイクロイック多層膜はイオンアシスト法にて蒸着されることを特徴とする請求項７ないし１１のいずれか１項に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学フィルタ及び撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮影レンズと撮像素子の間に配置され、該撮像素子に導かれる光束の高周波成分を減衰するとともに、光束の赤外波長成分をカットするのに好適な光学フィルタ及び撮像装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の光学フィルタは、撮像素子の前に配置される光学フィルタであって、前記光学フィルタは、第一の光学部材と、前記第一の光学部材よりも前記撮像素子側に配置され、赤外成分を吸収する第二の光学部材と、前記第一の光学部材の射出面と前記第二の光学部材の入射面までの間に密閉空間が形成されるように前記第一の光学部材と前記第二の光学部材とを保持する保持部材とを備え、前記第一の光学部材の入射面には導電性を有する反射防止多層膜が成膜され、前記反射防止多層膜の最表層にはフッ素を含む材料からなる膜が成膜され、前記密閉空間に、赤外光及び紫外光を遮断するダイクロイック多層膜が成膜されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月30日(2011.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のオーディオ信号および第２のオーディオ信号を入力する入力手段と、前記入力手段から入力された第１のオーディオ信号および第２のオーディ信号を遅延させる遅延手段と、前記入力手段から入力された第１のオーディオ信号と第２のオーディオ信号を同位相成分信号と差位相成分信号に分割する位相分割手段と、前記同位相成分信号および前記差位相成分信号に高周波成分を補間する処理を施す補間処理手段と、前記補間処理手段により高周波成分が補間された同位相成分信号と差位相成分信号を合成し、第３のオーディオ信号と第４のオーディオ信号を出力する位相合成手段と、前記位相合成手段から出力された第３のオーディオ信号にハイパスフィルタ処理を施す第１のハイパスフィルタ手段と、前記位相合成手段から出力された第４のオーディオ信号にハイパスフィルタ処理を施す第２のハイパスフィルタ手段と、前記遅延手段により遅延された第１のオーディオ信号と前記第１のハイパスフィルタ手段から出力された信号を加算する第１の加算処理部と、前記遅延手段により遅延された第２のオーディオ信号と前記第２のハイパスフィルタ手段から出力された信号を加算する第２の加算処理部と、前記補間処理手段により高周波帯域が補間されたオーディオ信号から複数のチャンネルのオーディオ信号を生成する信号生成手段と、前記信号生成手段により生成されるオーディオ信号のチャンネル数を設定するチャンネル設定手段とを備えることを特徴とするオーディオ信号補間装置。
【請求項２】
請求項１に記載のオーディオ信号補間装置において、前記補間処理手段は、前記同位相成分信号および前記差位相成分信号のカットオフ周波数を検出するカットオフ周波数検出手段と、前記カットオフ周波数検出手段により検出された前記同位相成分信号のカットオフ周波数における包絡線情報を生成し、前記カットオフ周波数検出手段により検出された前記差位相成分信号のカットオフ周波数における包絡線情報を生成する包絡線生成手段と、前記同位相成分信号の包絡線情報に応じて前記同位相成分信号のカットオフ周波数より高周波成分を補間する周波数帯域を定め、当該周波数帯域を補間し前記差位相成分信号の包絡線情報に応じて前記差位相成分信号のカットオフ周波数から高周波成分を補間する周波数帯域を定め当該周波数帯域を補間する高周波成分補間手段とを備えることを特徴とするオーディオ信号補間装置。
【請求項３】
請求項１乃至請求項２の何れか１項に記載のオーディオ信号補間装置において、
前記高周波成分補間手段が高周波成分を補間する周波数帯域は、所定のナイキスト周波数以下であることを特徴とするオーディオ信号補間装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月26日(2010.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに平行な複数の走査信号線と前記各走査信号線に交差するデータ信号線とが表示領域に形成された表示素子と、
各フレームを表示期間と帰線期間とに時分割し、前記表示期間に前記走査信号線を順に選択するとともに、前記帰線期間に前記走査信号線の選択を停止する走査信号線駆動手段と、
前記表示領域上に配置されたタッチパネルと、
前記タッチパネルを駆動して、前記表示期間に検出された前記タッチパネルへのタッチ情報を省いて、前記タッチパネルへのタッチ点を導出する駆動手段と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記駆動手段は、前記走査信号線駆動手段から出力される制御信号に基づいて前記表示期間を検出することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の表示装置は、互いに平行な複数の走査信号線と前記各走査信号線に交差するデータ信号線とが表示領域に形成された表示素子と、各フレームを表示期間と帰線期間とに時分割し、前記表示期間に前記走査信号線を順に選択するとともに、前記帰線期間に前記走査信号線の選択を停止する走査信号線駆動手段と、前記表示領域上に配置されたタッチパネルと、前記タッチパネルを駆動して、前記表示期間に検出された前記タッチパネルへのタッチ情報を省いて、前記タッチパネルへのタッチ点を導出する駆動手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、請求項２に記載の表示装置は、請求項１に記載の表示装置において、前記駆動手段は、前記走査信号線駆動手段から出力される制御信号に基づいて前記表示期間を検出することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月30日(2011.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アームレストと、
アームレストに回動自在に連結された前脚および後脚と、
アームレストに回動自在に連結され且つブラケットを介して後脚に回動自在に連結された連結杆と、
アームレストまたは連結杆に支持され、アームレストと連結杆との間の隙間を埋める挟み込み防止部材と、を備えたことを特徴とする折り畳み可能なベビーカー。
【請求項２】
アームレストは、アームレスト本体と、アームレスト本体の後端から延び出て連結杆に回動自在に接続される延出部と、を有し、
挟み込み防止部材は、アームレスト本体の後端と連結杆との間の隙間を埋めることを特徴とする請求項１に記載のベビーカー。
【請求項３】
挟み込み防止部材は、連結杆の上端に嵌め込まれ連結杆によって支持されることを特徴とする請求項１または２に記載のベビーカー。
【請求項４】
挟み込み防止部材は、アームレストと連結杆とを連結する連結部材によって連結杆に固定されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のベビーカー。
【請求項５】
挟み込み防止部材は、アームレストと連結杆との回動軸に直交する断面において弧状の輪郭を有した部分を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のベビーカー。
【請求項６】
挟み込み防止部材はアームレストに摺動自在に支持され、ばねにより連結杆に向けて押圧されていることを特徴とする請求項１または２に記載のベビーカー。
【請求項７】
挟み込み防止部材を摺動自在に支持するレールがアームレストに形成されていることを特徴とする請求項６に記載のベビーカー。
【請求項８】
アームレストと、
アームレストに回動自在に連結された前脚および後脚と、
アームレストに回動自在に連結され且つブラケットを介して後脚に回動自在に連結された手押し杆と、
アームレストまたは手押し杆に支持され、アームレストと手押し杆との間の隙間を埋める挟み込み防止部材と、を備えたことを特徴とする折り畳み可能なベビーカー。
【請求項９】
アームレストは、アームレスト本体と、アームレスト本体の後端から延び出て手押し杆に回動自在に接続される延出部と、を有し、
挟み込み防止部材は、アームレスト本体の後端と手押し杆との間の隙間を埋めることを特徴とする請求項８に記載のベビーカー。
【請求項１０】
挟み込み防止部材は、アームレストと手押し杆とを連結する連結部材によって手押し杆に固定されていることを特徴とする請求項８または９に記載のベビーカー。
【請求項１１】
挟み込み防止部材は、アームレストと手押し杆との回動軸に直交する断面において弧状の輪郭を有した部分を有することを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載のベビーカー。
【請求項１２】
挟み込み防止部材はアームレストに摺動自在に支持され、ばねにより手押し杆に向けて押圧されていることを特徴とする請求項８または９に記載のベビーカー。
【請求項１３】
挟み込み防止部材を摺動自在に支持するレールがアームレストに形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のベビーカー。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月16日(2011.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の接続孔を有する吐出部積層体を準備するステップと、
複数個の圧電素子及びその隙間を埋めて平坦化するポリマを有する圧電素子アレイを準備するステップと、
各接続孔の開口が上記ポリマで塞がれるよう吐出部積層体の片面に圧電素子アレイを固着させるステップと、
レーザ光源により発生させたレーザビームを用い且つ吐出部積層体をマスクとして用い、圧電素子アレイを固着させた面とは逆側の面から上記ポリマを一部切除することにより、接続孔を上記ポリマ内に延長するステップと、
を有するインクジェットプリントヘッド製造方法。
【請求項２】
請求項１記載のインクジェットプリントヘッド製造方法であって、振動板、躯体板及び導入板をこの順で積層し、更に、振動板、躯体板及び導入板を通る複数個の接続孔並びに導入板上の対応する導入溝及び吐出孔からなる複数本の流路をそれと前後して形成することによって、吐出部積層体を準備するインクジェットプリントヘッド製造方法。
【請求項３】
請求項１記載のインクジェットプリントヘッド製造方法であって、
上記接続孔延長ステップの実行に先立ち圧電素子アレイにスタンドオフ層を固着させるステップを有し、
上記接続孔延長ステップでは接続孔を更にスタンドオフ層の内部に延長するインクジェットプリントヘッド製造方法。
【請求項４】
振動板上に開口する複数個の接続孔が導入板上の対応する導入溝及び吐出孔第１区間に連通するよう振動板、躯体板及び導入板をこの順で積層した吐出部積層体と、
複数個の吐出孔第２区間を有し各吐出孔第２区間が対応する吐出孔第１区間と略重なる位置になるよう吐出部積層体の導入板側表面に固着された開口板と、
複数個の圧電素子、その隙間を埋めて平坦化するポリマ及びそのポリマ内に形成された接続孔延長区間を有し吐出部積層体の振動板側表面に固着された圧電素子アレイと、
ビアホール及び接続パッドを各複数個有し、接続孔と回路基板の間の流体漏れがスタンドオフ層により妨げられ且つそのビアホールが接続孔に連通するよう、スタンドオフ層を介し圧電素子アレイに固着された回路基板と、
各ビアホール及びそれに連通する個々の接続孔を介して各吐出孔第２区間に連通しインクの流路を形成するよう設けられたインク導管と、
を備えるインクジェットプリントヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月17日(2011.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着脱可能な１つ以上の給紙装置と接続された画像形成装置であって、
給紙対象となる給紙装置に対して信号線を介して給紙指示を送信する送信部と、
前記給紙装置から給紙された用紙を検出する、前記給紙装置に配置された第１用紙検出部よりも用紙の搬送方向の下流に設けられた第２用紙検出部と、
前記第１用紙検出部及び前記第２用紙検出部による各検出結果を含むステータスデータを、信号線を介して受信する受信部と、
前記給紙指示を送信して複数の用紙を前記給紙装置から給紙した場合に、前記第１用紙検出部の検出結果が紙ありを示している状態で、前記第２用紙検出部によって用紙の紙間が検出されれば画像形成を継続させ、前記第２用紙検出部によって用紙の紙間が検出されなければ前記画像形成を停止させる画像形成制御部と
を含むことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記給紙指示を送信してから前記第１用紙検出部によって用紙が検知されるまでの時間を計時する第１カウンタと、
前記第１カウンタにより計時された時間が第１閾値時間を超えるまで継続して前記第１用紙検出部が紙なしを示すと給紙不良と判定する給紙不良判定手段と、
前記第１用紙検出部による検出結果に応じて計時を開始する第２カウンタと、
前記第２カウンタにより計時された時間が第２閾値時間を超えてもなお前記第２用紙検出部が前記紙間を検出できなければ、滞留ジャムが発生したと判定する滞留ジャム判定手段と
をさらに含み、
前記画像形成制御部は、前記給紙不良または前記滞留ジャムが発生すると前記画像形成を停止させることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記給紙指示を送信したことを契機として前記第２カウンタによる計時をスタートさせることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記給紙装置から給紙された用紙が給紙不良と判定されたことによって実行される給紙のリトライ動作を契機として前記第２カウンタによる計時をリスタートさせることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記第１用紙検出部の検出結果が紙なしから紙ありに変化したことを契機として前記第２カウンタによる計時をスタートさせることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項６】
着脱可能な１つ以上の給紙装置と、該給紙装置を接続された画像形成装置とを含む画像形成システムであって、
前記給紙装置は、
前記給紙装置から給紙された用紙を検出する第１用紙検出部と、
信号線を介して前記画像形成装置から送信される給紙指示を受信する第１受信部と、
前記第１用紙検出部による検出結果を含むステータスデータを、信号線を介して前記画像形成装置へ送信する第１送信部と
を含み、
前記画像形成装置は、
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載された画像形成装置である
ことを特徴とする画像形成システム。
【請求項７】
着脱可能な１つ以上の給紙装置と接続された画像形成装置の制御方法であって、
給紙対象となる給紙装置に対して信号線を介して給紙指示を送信する送信工程と、
前記給紙装置において、前記給紙装置から給紙された用紙を検出する第１用紙検出工程と、
前記第１用紙検出工程の検出位置よりも用紙の搬送方向の下流において、用紙を検出する第２用紙検出工程と、
前記第１用紙検出工程及び前記第２用紙検出工程による各検出結果を含むステータスデータを、前記信号線を介して受信する受信工程と、
前記給紙指示を送信して複数の用紙を前記給紙装置から給紙した場合に、前記第１用紙検出部の検出結果が紙ありを示している状態で、前記第２用紙検出部によって用紙の紙間が検出されたか否かに基づいて、画像形成を継続させるか停止させるかを判断する画像形成制御工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。
【請求項８】
着脱可能な１つ以上の給紙装置と接続された画像形成装置であって、
給紙対象となる給紙装置に対して信号線を介して給紙指示を送信する送信部と、
前記給紙装置に配置され、前記給紙装置から給紙された用紙を検出する第１用紙検出部による検出結果を、信号線を介して受信する受信部と、
前記検出結果に基づいて先行する用紙と後続の用紙との紙間を検出する第１紙間検出部と、
前記第１用紙検出部よりも搬送方向で下流の搬送路に設けられた第２用紙検出部と、
前記第１紙間検出部により紙間を検出できない場合に、前記第２用紙検出部の検出結果が紙ありを示しているか紙なしを示しているかに応じて先行する用紙と後続の用紙との紙間を検出する第２紙間検出部と、
前記第１紙間検出部又は前記第２紙間検出部の検出結果により画像形成を継続させるか停止させるかを制御する制御部と
を含むことを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
着脱可能な１つ以上の給紙装置と接続された画像形成装置の制御方法であって、
給紙対象となる給紙装置に対して信号線を介して給紙指示を送信する送信工程と、
前記給紙装置において、前記給紙装置から給紙された用紙を検出する第１用紙検出部による検出結果を、信号線を介して受信する受信工程と、
前記検出結果に基づいて先行する用紙と後続の用紙との紙間を検出する第１紙間検出工程と、
前記第１用紙検出部よりも搬送方向で下流の搬送路に設けられた第２用紙検出部により、用紙を検出すると用紙検出工程と、
前記第１紙間検出部により紙間を検出できない場合に、前記第２用紙検出部の検出結果が紙ありを示しているか紙なしを示しているかに応じて先行する用紙と後続の用紙との紙間を検出する第２紙間検出工程と、
前記第１紙間検出工程又は前記第２紙間検出工程の検出結果により画像形成を継続させるか停止させるかを制御する制御工程と
を含むことを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、例えば、着脱可能な１つ以上の給紙装置と接続された画像形成装置として実現できる。送信部は、給紙対象となる給紙装置に対して信号線を介して給紙指示を送信する。第１用紙検出部は、給紙装置に配置され、給紙装置から給紙された用紙を検出する。第２用紙検出部は、第１用紙検出部よりも用紙の搬送方向の下流に設けら、給紙装置から給紙された用紙を検出する。受信部は、第１用紙検出部及び第２用紙検出部による各検出結果を含むステータスデータを、信号線を介して受信する。画像形成制御部は、給紙指示を送信して複数の用紙を給紙装置から給紙した場合に、第１用紙検出部の検出結果が紙ありを示している状態で、第２用紙検出部によって複数の用紙の紙間が検出されれば画像形成を継続させ、第２用紙検出部によって用紙の紙間が検出されなければ画像形成を停止させる。なお、本発明は、画像形成システム及び画像形成装置の制御方法として実現されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月22日(2011.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下方に移動してシートを断裁する可動刃と、
移動方向において前記可動刃の先端より引っ込んだ位置に設けられ、前記可動刃とともに移動して前記可動刃が断裁したシートの断裁片を押すための押し面を有する押し部材と、
を有することを特徴とするシート断裁装置。
【請求項２】
前記可動刃は、シートを断裁するための刃先を形成するテーパ面を有し、前記押し面は、前記可動刃の移動方向を基準として前記テーパ面がなす角度より大きな角度をなすことを特徴とする請求項１に記載のシート断裁装置。
【請求項３】
前記押し面は、前記可動刃のテーパ面に一体的に設けられることを特徴とする請求項２に記載のシート断裁装置。
【請求項４】
前記押し面は、前記可動刃の先端に沿って、間隔をあけて複数設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシート断裁装置。
【請求項５】
前記押し部材は、導電性を有する材料であり、電気的に接地されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシート断裁装置。
【請求項６】
前記押し部材と前記可動刃を同一の部材で一体成形することを特徴とする請求項１に記載のシート断裁装置。
【請求項７】
前記可動刃とともにシートを断裁する固定刃を有し、前記可動刃は前記押し面が前記固定刃の刃先を越えるように移動することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシート断裁装置。
【請求項８】
前記可動刃の下方に、前記シートの断裁片を収容する収容箱を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシート断裁装置。
【請求項９】
下方に移動をしてシートを断裁する可動刃を有し、
移動方向において前記可動刃の先端から所定距離引っ込んだ位置に、段差が形成されることを特徴とするシート断裁装置。
【請求項１０】
前記段差は、前記可動刃の先端に沿って、間隔をあけて複数設けられていることを特徴とする請求項９に記載のシート断裁装置。
【請求項１１】
シートに画像を形成する画像形成部と、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のシート断裁装置と、を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するための本発明の代表的な構成は、下方に移動して前記シートを断裁する可動刃と、前記可動刃の先端より引っ込んだ位置に設けられ、前記可動刃とともに移動して前記可動刃が断裁したシートの断裁片を押すための押し面を有する押し部材と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図７は上刃６３３付近の拡大図である。この図７にも示すように、上刃６３３は可動刃であり、シート（ここではシート束）を断裁するための鋭角な刃先を形成するテーパ面６７０を有している。６７２は押し部材であり、上刃６３３とともに下降して上刃６３３が断裁したシート束の断裁片を上刃６３３から引き離す方向に押すように、上刃６３３に固定されている。押し部材６７２には、上刃６３３の刃先を形成するテーパ面６７０が上刃６３３の移動方向を基準にしてなす角度αより大きな角度βをなす押し面６７１が設けられている。この押し面６７１は、上刃６３３の先端より移動方向上流側に位置し、その端部が上刃６３３のテーパ面６７０に一体的に設けられ、密着している。上刃６３３の刃先と押し面６７１は長手方向に略平行（図５参照）に、かつ押し面６７１は上刃６３３の先端から所定量引っ込んだ位置になるように配置されている。ここでは押し面６７１は、カッターユニット６３１の移動方向と略直角な面を成しており、断裁動作に連動して上刃６３３と共に下降をして、断裁されたシートの断裁片を押し下げる。押し面６７１が断裁片を押し下げる効果は、押し面６７１が上刃６３３の先端に近いほど高いため、押し面６７１は断裁を阻害しない程度に上刃６３３の先端に近づけられている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月14日(2010.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体集積回路を含む半導体装置の半導体基板上に設けられた第１の絶縁層上に、圧電体層と第１の電極と第２の電極とを含む構造体を形成する第１の工程と、
前記半導体装置をダイシングして前記第１の絶縁層の断面を露出する第２の工程と、
露出された前記断面から前記第１の絶縁層の一部を選択的エッチングにより除去する第３の工程と、を含み、
前記構造体は固定部と可動部とを有し、
前記第１の絶縁層の一部は、前記可動部が前記固定部を軸にして可動することを可能とする領域であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第１の工程は、
前記第１の絶縁層上に半導体層と第２の絶縁層とを順次形成する第４の工程と、
前記第２の絶縁層上に、所定の形状に、前記第１の電極と前記圧電体層と前記第２の電極と、を順次形成する第５の工程と、
前記半導体層及び前記第２の絶縁層における前記所定の形状と重ならない部分を除去する第６の工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第２の工程の前に、前記半導体基板上に前記半導体集積回路を形成する第７の工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
本適用例に係るひとつの半導体装置の製造方法は、半導体集積回路を含む半導体装置の半導体基板上に設けられた第１の絶縁層上に、圧電体層と第１の電極と第２の電極とを含む構造体を形成する第１の工程と、前記半導体装置をダイシングして前記第１の絶縁層の断面を露出する第２の工程と、露出された前記断面から前記第１の絶縁層の一部を選択的エッチングにより除去する第３の工程と、を含み、前記構造体は固定部と可動部とを有し、前記第１の絶縁層の一部は、前記可動部が前記固定部を軸にして可動することを可能とする領域であることを特徴とする。
上記のひとつの半導体装置の製造方法において、前記第１の工程は、前記第１の絶縁層上に半導体層と第２の絶縁層とを順次形成する第４の工程と、前記第２の絶縁層上に、所定の形状に、前記第１の電極と前記圧電体層と前記第２の電極と、を順次形成する第５の工程と、前記半導体層及び前記第２の絶縁層における前記所定の形状と重ならない部分を除去する第６の工程と、を含むことを特徴とする。
上記のひとつの半導体装置の製造方法において、前記第２の工程の前に、前記半導体基板上に前記半導体集積回路を形成する第７の工程を含むことを特徴とする。