【手続補正書】
【提出日】平成23年4月14日(2011.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先の製造からの生成物の一部（「ヒール」）またはエトキシレートを反応器に充填する工程と、
必要に応じて、約０．２重量％からヒール量と等しいかまたはそれを超える量までのＣ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールを反応器に充填する工程と、
エチレンオキシドを充填して二重金属シアン化物（「ＤＭＣ」）触媒を活性化する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールをエチレンオキシドと同時に、方法の一部の間、添加する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールおよびエチレンオキシドの同時添加の完了に続いて、エチレンオキシドの添加を続ける工程と
を含む、エトキシレートの製造方法。
【請求項２】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第一級アルコールである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第二級または第三級アルコールである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、ゲルベアルコールである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、９〜１５個の炭素原子を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、Ｃ１２〜Ｃ１５単官能性第一級アルコールの混合物を含んでなる単官能性第一級アルコールである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
エトキシレート生成物が、塩基触媒反応によって製造される同じエトキシレート生成物の分子量分布に基本的に等しい分子量分布を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
先の製造からの生成物の一部（「ヒール」）またはエトキシレートを反応器に充填する工程と、
必要に応じて、約０．２重量％からヒール量と等しいかまたはそれを超える量までのＣ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールを反応器に充填する工程と、
エチレンオキシドを充填して二重金属シアン化物（「ＤＭＣ」）触媒を活性化する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールをエチレンオキシドと同時に、方法の一部の間、添加する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールおよびエチレンオキシドの同時添加の完了に続いて所定量のエチレンオキシドの添加を続ける工程と
を含む、エトキシレートの多分散度を制御する方法。
【請求項９】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第一級アルコールである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第二級または第三級アルコールである、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、ゲルベアルコールである、請求項８に従う方法。
【請求項１２】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、９〜１５個の炭素原子を含有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、Ｃ１２〜Ｃ１５単官能性第一級アルコールの混合物を含んでなる単官能性第一級アルコールである、請求項８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本発明の上記の実施例は、本発明を制約する目的ではなく、例示の目的で提供される。本明細書に記載された実施態様は、本発明の精神および範囲を逸脱することなく、種々の方法で変形または修正され得ることは当業者には明らかである。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって判定すべきである。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
［１］  先の製造からの生成物の一部（「ヒール」）またはエトキシレートを反応器に充填する工程と、
必要に応じて、約０．２重量％からヒール量と等しいかまたはそれを超える量までのＣ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールを反応器に充填する工程と、
エチレンオキシドを充填して二重金属シアン化物（「ＤＭＣ」）触媒を活性化する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールをエチレンオキシドと同時に、方法の一部の間、添加する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールおよびエチレンオキシドの同時添加の完了に続いて、エチレンオキシドの添加を続ける工程と
を含む、エトキシレートの製造方法。
［２］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第一級アルコールである、［１］に記載の方法。
［３］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第二級または第三級アルコールである、［１］に記載の方法。
［４］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、ゲルベアルコールである、［１］に記載の方法。
［５］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、１〜２６個の炭素原子を含有する、［１］に記載の方法。
［６］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、９〜１５個の炭素原子を含有する、［１］に記載の方法。
［７］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、Ｃ１２〜Ｃ１５単官能性第一級アルコールの混合物を含んでなる単官能性第一級アルコールである、［１］に記載の方法。
［８］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、ヤシ油、パーム油、大豆油、ヒマシ油、ヒドロキシル化植物油、ヒドロキシメチルステアレート、ヒドロキシアルキルアクリレートおよびリシノール酸メチルに由来するアルコールからなる群から選択される、［１］に記載の方法。
［９］  エトキシレート生成物が、約１５０Ｄａ〜約２０，０００Ｄａの数平均分子量を有する、［１］に記載の方法。
［１０］  エトキシレート生成物が、約２５０Ｄａ〜約１２，０００Ｄａの数平均分子量を有する、［１］に記載の方法。
［１１］  エトキシレート生成物が、約３５０Ｄａ〜約６５０Ｄａの数平均分子量を有する、［１］に記載の方法。
［１２］  エトキシレート生成物が、塩基触媒反応によって製造される同じエトキシレート生成物の分子量分布に基本的に等しい分子量分布を有する、［１］に記載の方法。
［１３］  エトキシレート生成物が、塩基触媒反応によって製造される同じエトキシレート生成物の分子量分布よりも狭い分子量分布を有する、［１］に記載の方法。
［１４］  先の製造からの生成物の一部（「ヒール」）またはエトキシレートを反応器に充填する工程と、
必要に応じて、約０．２重量％からヒール量と等しいかまたはそれを超える量までのＣ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールを反応器に充填する工程と、
エチレンオキシドを充填して二重金属シアン化物（「ＤＭＣ」）触媒を活性化する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールをエチレンオキシドと同時に、方法の一部の間、添加する工程と、
Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールおよびエチレンオキシドの同時添加の完了に続いて所定量のエチレンオキシドの添加を続ける工程と
を含む、エトキシレートの多分散度を制御する方法。
［１５］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第一級アルコールである、［１４］に記載の方法。
［１６］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、第二級または第三級アルコールである、［１４］に記載の方法。
［１７］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、ゲルベアルコールである、［１４］に従う方法。
［１８］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、１〜２６個の炭素原子を含有する、［１４］に記載の方法。
［１９］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、９〜１５個の炭素原子を含有する、［１４］に記載の方法。
［２０］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、Ｃ１２〜Ｃ１５単官能性第一級アルコールの混合物を含んでなる単官能性第一級アルコールである、［１４］に記載の方法。
［２１］  Ｃ１〜Ｃ５６非フェノール性アルコールが、ヤシ油、パーム油、大豆油、ヒマシ油、ヒドロキシル化植物油、ヒドロキシメチルステアレート、ヒドロキシアルキルアクリレートおよびリシノール酸メチルに由来するアルコールからなる群から選択されるである、［１４］に記載の方法。
［２２］  エトキシレート生成物が、約１５０Ｄａ〜約２０，０００Ｄａの数平均分子量を有する、［１４］に記載の方法。
［２３］  エトキシレート生成物が、約２５０Ｄａ〜約１２，０００Ｄａの数平均分子量を有する、［１４］に記載の方法。
［２４］  エトキシレート生成物が、約３５０Ｄａ〜約６５０Ｄａの数平均分子量を有する、［１４］に記載の方法。