Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月29日(2010.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2011061839.tif 000001
【図２】
2011061839.tif 000002
【図３】
2011061839.tif 000003
【図４】
2011061839.tif 000004
【図５】
2011061839.tif 000005
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
三角波形生成器は、パルス幅変調された波形を生成するための音響信号を変調するために使用される。そのような三角波形生成器は、周波数が所定の制御電圧に応答する電圧制御発振器を用い得る。そのような三角波形生成器によって生成された三角波形は、基準周波数に対して位相がロックされ得る。その三角波形は、制御電圧によって変調され得、その振幅をパルス幅にマッピングする。現在のところ、三角波形生成器は、振幅、周波数、対称性、および／または位相のうちの一つ以上を同時に制御することはできない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
正の電位Ｖｔｐ３１８および負の電位Ｖｔｎ３２０は、図１に示されるＰＷＭ増幅器１００の出力レールを示し得る。正の電位Ｖｔｐ３１８および負の電位Ｖｔｎ３２０は、２．５ボルトＤＣのＣＭＯＳ電圧、または接地電位の別個の電圧、あるいはゼロボルトなどの、所定の電圧に中心を置かれ得る。電圧（Ｖｔ）３１６は、第１および第２のコンパレータ３２２および３２４によって比較される前に、バッファ３２８によってバッファされ得る。第１のコンパレータ３２２および第２のコンパレータ３２４はウィンドウ検出器を形成し得る。コンパレータ出力は、Ｒ−Ｓフリップフロップなどの、ヒステリシススイッチ３２９をトグルするために使用され得る。ヒステリシススイッチ３２９は、コンデンサＣｔ３０２上の電荷を操作する充電電流および放電電流の制御をイネーブルし得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
チャージポンプの第１のグループ３５２は、第１主チャージポンプ３６２および第１の相互結合されたチャージポンプ３６４を含む。同様に、チャージポンプの第２のセット３５６は、第２の主チャージポンプ３６６および第２の相互結合されたチャージポンプ３６８を含む。他の例において、チャージポンプのセットの数および／または使用されるチャージポンプの数は、増やされてもよく、減らされてもよい。動作の間、第１の位相周波数検出器３４０および第２の位相周波数検出器３４２の両方は、ゼロ度エラーに集中し得る。ゼロ度エラー状況の下では、第１の位相周波数検出器３４０および第２の位相周波数検出器３４２の「アップ」出力および「ダウン」出力がオンになり、それによって、等しく、および正反対に、チャージポンプ３６２、３６４、３５６、および３５８をオンにし、その結果、ゼロとなる。充電電流制御ライン３５４および放電電流制御ライン３５８上の出力は、それぞれ、充電調整器３０４および放電調整器３０６に提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
実際の制御をインプリメントおよび維持するために、処理および調整される主要信号と比較して遅い制御信号のフィルタリングが用いられ得る。１００ピコファラドコンデンサよりも大きいような、大きなコンデンサが、制御回路においてフィルタリングするために、三角波生成システム３００において含まれ得る。大きなコンデンサを集積回路へと集積することは困難であり得、追加のパッケージ端子が、集積回路を外部コンデンサへと接続するために含まれ得る。あるいは、図３に示されるように、集積回路におけるチャージポンプ回路は、大きなコンデンサの代わりに、より遅い制御信号をフィルタリングするために使用され得る。そのようなチャージポンプ回路は、位相ロックまたは遅延ロックされたループ上において、デジタル位相周波数検出器を用いて使用されるチャージポンプと同様に動作し得る。ロックポイントはゼロ位相においてであり得、ゼロ位相では、制御信号は非常に狭く、インパルス状（ｉｍｐｕｌｓｉｖｅ）になる。ゼロ度において、チャージアップおよびダウンパルスは、非常に狭く、時間的に同時であり得、互いの電荷出力をキャンセルする。ロック状態において、僅かなリップルまたはリップル無しで、低リーク回路において、僅かなコンデンサのみを用いて、そのような信号をフィルタリングすることは比較的容易であり得る。リップルは、ロックされていない場合、大きくあり得るが、それは動作モードではない。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月13日(2011.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を符号化する符号化装置であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別する手段と、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の少なくとも１部分を選択的にフィルタリングする手段と、
前記フィルタリングされた画像を参照画像として蓄積する蓄積手段とを備え、
前記フィルタリングの強度は、前記２つのブロック間の境界に対応する境界強度が大きいほど大きくされ、
前記境界強度は、
（１）前記２つのブロックのいずれかがイントラ符号化されている場合に第１の値に設定され、
（２）前記２つのブロックのいずれもがイントラ符号化されておらず、かつ、零でない変換係数を有しない場合であって、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる参照画像が異なる場合、または、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる動きベクトルの成分の差の絶対値のいずれかが所定の閾値以上の場合に第２の値に設定され、
（３）前記２つのブロックのいずれもがイントラ符号化されておらず、かつ、零でない変換係数を有しない場合であって、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる参照画像が同一であり、かつ、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる動きベクトルの成分の差の絶対値のいずれかが所定の閾値より小さい場合に第３の値に設定され、
前記第１の値は前記第２の値より大きく、前記第２の値は前記第３の値より大きいことを特徴とする符号化装置。
【請求項２】
画像を符号化する符号化方法であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別し、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の少なくとも１部分を選択的にフィルタリングし、
前記フィルタリングされた画像を参照画像として蓄積し、
前記フィルタリングの強度は、前記２つのブロック間の境界に対応する境界強度が大きいほど大きくされ、
前記境界強度は、
（１）前記２つのブロックのいずれかがイントラ符号化されている場合に第１の値に設定され、
（２）前記２つのブロックのいずれもがイントラ符号化されておらず、かつ、零でない変換係数を有しない場合であって、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる参照画像が異なる場合、または、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる動きベクトルの成分の差の絶対値のいずれかが所定の閾値以上の場合に第２の値に設定され、
（３）前記２つのブロックのいずれもがイントラ符号化されておらず、かつ、零でない変換係数を有しない場合であって、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる参照画像が同一であり、かつ、前記２つのブロックの動き補償予測に用いる動きベクトルの成分の差の絶対値のいずれかが所定の閾値より小さい場合に第３の値に設定され、
前記第１の値は前記第２の値より大きく、前記第２の値は前記第３の値より大きいことを特徴とする符号化方法。
【請求項３】
請求項１に記載の符号化装置で生成された符号化データを復号する画像復号装置。
【請求項４】
請求項２に記載の符号化方法で生成された符号化データを復号する画像復号方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像符号化装置、画像符号化方法、画像復号装置及び画像復号方法
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月11日(2011.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を符号化する符号化装置であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別する手段と、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の画素値をフィルタリングする手段と、
前記フィルタリングされた画像を動き補償予測の参照画像として蓄積する蓄積手段とを備え、
（１）前記２つのブロックの双方がイントラ符号化されておらず、
（２）前記２つのブロックの双方で零でない変換係数が符号化されておらず、かつ、
（３）前記動き補償予測に用いられる動きベクトルが前記２つのブロックで同一である場合に、
前記境界にフィルタリングを行わないと共に、前記境界にフィルタリングを行わない条件のうち変換係数および動きベクトルについての評価を、輝度成分とクロミナンス成分に対して別々に行うことを特徴とする符号化装置。
【請求項２】
画像を符号化する符号化方法であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別し、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の画素値をフィルタリングし、
前記フィルタリングされた画像を動き補償予測の参照画像として蓄積し、
（１）前記２つのブロックの双方がイントラ符号化されておらず、
（２）前記２つのブロックの双方で零でない変換係数が符号化されておらず、かつ、
（３）前記動き補償予測に用いられる動きベクトルが前記２つのブロックで同一である場合に、
前記境界にフィルタリングを行わないと共に、前記境界にフィルタリングを行わない条件のうち変換係数および動きベクトルについての評価を、輝度成分とクロミナンス成分に対して別々に行うことを特徴とする符号化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月11日(2011.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を符号化する符号化装置であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別する手段と、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の画素値をフィルタリングするフィルタ手段と、
符号化パラメータに基づいて前記フィルタリングの強度を制御する制御手段と、
前記フィルタリングの強度を符号化する強度符号化手段とを備え、
前記強度符号化手段で符号化されたフィルタリングの強度を、符号化画像データと多重化することを特徴とする符号化装置。
【請求項２】
画像を符号化する符号化方法であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別し、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の画素値をフィルタリングし、
符号化パラメータに基づいて前記フィルタリングの強度を制御し、
前記フィルタリングの強度を符号化し、
前記符号化されたフィルタリングの強度を、符号化画像データと多重化することを特徴とする符号化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月11日(2011.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を復号する復号装置であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別する手段と、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の画素値をフィルタリングするフィルタ手段と、
符号化パラメータに基づいて前記フィルタリングの強度を制御する制御手段と、
前記フィルタリングの強度を復号する強度復号手段とを備え、
前記フィルタリングの強度の符号化データは符号化画像データと多重化されており、前記多重化されたデータから分離された前記フィルタリングの強度の符号化データを、前記強度復号手段で復号することを特徴とする復号装置。
【請求項２】
画像を復号する復号方法であって、
再構成された画像において隣接する２つのブロックを識別し、
前記２つのブロックの境界に近接する領域の画素値をフィルタリングし、
符号化パラメータに基づいて前記フィルタリングの強度を制御し、
前記フィルタリングの強度を復号し、
前記フィルタリングの強度の符号化データは符号化画像データと多重化されており、前記多重化されたデータから分離された前記フィルタリングの強度の符号化データを、復号することを特徴とすることを特徴とする復号方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月5日(2011.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に基板側透明電極層を形成する工程、及び、光電変換層上に裏面側透明電極層を形成する工程のうち少なくとも１つの工程が、
前記基板側透明電極層または前記裏面側透明電極層として、ＧａがドープされたＺｎＯを主とする透明導電膜を、該透明導電膜の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が所定値以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する光電変換装置の製造方法。
【請求項２】
基板上に基板側透明電極層を形成する工程、光電変換層を構成する複数の電池層のうち、隣接する２つの電池層の間に中間コンタクト層を形成する工程、及び、光電変換層上に裏面側透明電極層を形成する工程のうち少なくとも１つの工程が、
前記基板側透明電極層、前記中間コンタクト層、及び前記裏面側透明電極層として、ＧａがドープされたＺｎＯを主とする透明導電膜を、該透明導電膜の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が所定値以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する光電変換装置の製造方法。
【請求項３】
前記中間コンタクト層を、該中間コンタクト層の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が０．０２５％／ｎｍ以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する請求項２に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項４】
前記基板側透明電極層を、該基板側透明電極層の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が０．００１％／ｎｍ以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項５】
前記裏面側透明電極層を、裏面側透明電極層の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が０．０２５％／ｎｍ以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ドーパントとしての窒素原子を５原子％以下の濃度で含有する酸化亜鉛膜を形成した太陽電池が、特許文献１に開示されている。電極と半導体層との界面に窒素原子を含有する酸化亜鉛膜を設けることにより、層間の密着性を向上させることができると記載されている。
非特許文献１には、ＺｎＯターゲットを用いたスパッタリング製膜において、Ａｒ及びＮ２混合雰囲気によりＺｎｘＮｙＯｚ薄膜が形成され、窒素の添加によりバンドギャップが縮小することが開示されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、基板上に基板側透明電極層を形成する工程、及び、光電変換層上に裏面側透明電極層を形成する工程のうち少なくとも１つの工程が、前記基板側透明電極層または前記裏面側透明電極層として、ＧａがドープされたＺｎＯを主とする透明導電膜を、該透明導電膜の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が所定値以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する光電変換装置の製造方法を提供する。
また本発明は、基板上に基板側透明電極層を形成する工程、光電変換層を構成する複数の電池層のうち、隣接する２つの電池層の間に中間コンタクト層を形成する工程、及び、光電変換層上に裏面側透明電極層を形成する工程のうち少なくとも１つの工程が、前記基板側透明電極層、前記中間コンタクト層、及び前記裏面側透明電極層として、ＧａがドープされたＺｎＯを主とする透明導電膜を、該透明導電膜の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ２ガス分圧の比が所定値以下となるように、前記Ｎ２ガス分圧を制御して製膜する光電変換装置の製造方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
基板側透明電極層２または中間コンタクト層５としてＧＺＯ膜を形成する場合、裏面側透明電極層６は、他の透明導電性酸化物とされても良い。また、裏面側透明電極層６を設けない場合もある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図１４乃至図１７に、中間コンタクト層としてＧＺＯ膜を形成したタンデム型太陽電池セルの電池特性と、ＧＺＯ製膜時のＮ２ガス添加量との関係を示す。同図において、横軸はＮ２ガス添加量である。縦軸は、図１４では短絡電流、図１５では開放電圧、図１６では形状因子、図１７では光電変換効率であり、それぞれＮ２ガス添加量０％のときの値を１として規格化した。
ＧＺＯ膜製膜時のＮ２ガス添加量が増加するに従い、短絡電流及び光電変換効率は減少した。一方、開放電圧及び形状因子はＮ２ガス添加量に依存しなかった。ＧＺＯ膜への窒素混入による太陽電池セル光電変換効率の低下は、５％まで許容できる。従って、中間コンタクト層としてＧＺＯ膜を製膜した場合、Ｎ２ガス添加量は２％以下に管理する必要がある。
上述のように、短絡電流は窒素を含有するＧＺＯの膜厚に比例することから、中間コンタクト層としてＧＺＯ膜を製膜する場合、単位膜厚当たりのＮ２ガス分圧比は、０．０２５％／ｎｍ以下とする。
なお、中間コンタクト層の膜厚が２０ｎｍから１００ｎｍにおいても、Ｎ２ガス分圧比０．０２５％／ｎｍ以下で、短絡電流及び光電変換効率の低下を抑制することが確認できた。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月7日(2011.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査試料に存在する複数の欠陥のレビュー機能を有する欠陥レビュー装置に接続され
て使用されるレビュー支援装置において、
外観検査装置ないし観察装置に結線される通信回線が接続され、かつ前記複数の欠陥の位置情報と画像情報とを取り込むための通信回線端子と、
前記欠陥の位置情報と画像情報とを処理する演算手段と、
前記演算手段の処理結果が表示されるモニタとを有し、
当該モニタ上には、
前記被検査試料上における前記複数の欠陥の位置を示す欠陥マップと、当該欠陥マップの周囲に表示される、前記複数の欠陥のうち少なくとも２つ以上の欠陥のサムネイル画像と、当該２つ以上の欠陥にそれぞれ対応する識別子情報と、前記欠陥マップ、サムネイル画像あるいは識別子情報を指定するための操作ポインタとを含むレビューレポート作成画面が表示され、
かつ、前記サムネイル画像は、前記表示画面上での配置位置がそれぞれ独立に変更可能なように、前記レビューレポート作成画面上に表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項２】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記レビューレポート作成画面上に表示されているサムネイル画像に対応する前記欠陥マップ上の欠陥位置が強調表示され、
当該強調表示された欠陥の位置近傍に当該欠陥に対応する識別子情報が表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項３】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記欠陥マップ上に表示される欠陥と当該欠陥のサムネイル画像とを結ぶ矢印が前記レビューレポート作成画面上に表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項４】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記レビューレポート作成画面上に、前記欠陥マップに代えて、当該欠陥マップ上に示されている欠陥位置の画像が一覧表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項５】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記操作ポインタによる指示を契機として、前記操作画面上に表示するサムネイル画像の個数を変更するためのプルダウンメニューが表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項６】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記サムネイル画像の個数の変更に応じて、前記サムネイル画像の前記操作画面上での大きさが変更されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項７】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記レビューレポート作成画面上で、前記欠陥マップまたは前記サムネイル画像の表示サイズを拡大あるいは縮小する機能を備えたレビュー支援装置。
【請求項８】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記識別子情報を変更するための変更ボタンが表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項９】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記ポインタを前記サムネイル画像上に移動させると、
当該サムネイル画像と識別子の同じ欠陥について、撮像方法の異なる複数の欠陥画像を選択するためのプルダウンメニューが前記操作画面上に表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項１０】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記プルダウンメニューには、当該プルダウンメニューに含まれる欠陥画像の種類を調整するための設定ボタンもあわせて表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項１１】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記検査マップ上に表示される欠陥位置に前記ポインタを移動させると、当該移動先の欠陥に対応する欠陥画像が、前記操作画面上に吹き出し表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項１２】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記吹き出し表示された欠陥画像を前記ポインタで前記サムネイル画像の表示位置にドラッグアンドドロップさせることにより、前記吹き出し表示された欠陥画像を当該ドラッグアンドドロップ先のサムネイル画像の表示位置に表示させることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項１３】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記操作画面には、前記サムネイル画像の元画像を前記識別子の順に並べて表示する一覧操作画面が表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【請求項１４】
請求項１に記載のレビュー支援装置において、
前記通信回線端子は、プリンタに接続可能な通信回線端子であり、
前記操作画面には、当該操作画面の印刷を前記プリンタに指示するための印刷ボタンが表示されることを特徴とするレビュー支援装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月1日(2011.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのリード線を有するパッケージ本体と、
サブマウント基板と、
前記サブマウント基板上の複数の発光セルが直列に接続されて形成された第１の直列発光セルアレイと、
前記２つのリード線と前記第１の直列発光セルアレイとを電気的に接続する複数のボンディングパッドとを含み、
前記複数の発光セルは、それぞれＰ型半導体層及びＮ型半導体層が前記複数の発光セルの底面側において露出され、
前記複数の発光セル間は、前記複数の発光セルの底面と前記サブマウント基板との間に形成された接続電極により接続され、
前記接続電極は前記サブマウント基板から電気的に絶縁され、
前記第１の直列発光セルアレイの一端は、前記複数のボンディングパッドの１つを通じて前記２つのリード線の一方と電気的に接続され、
前記第１の直列発光セルアレイの他端は、前記複数のボンディングパッドの他の１つを通じて前記２つのリード線の他方と電気的に接続され、
交流電源により駆動する
ことを特徴とする発光素子パッケージ。
【請求項２】
前記ボンディングパッドは、前記サブマウント基板を貫通することを特徴とする請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項３】
前記ボンディングパッドは、前記サブマウント基板上部から、前記サブマウント基板側面を通じて前記サブマウント基板下部へと延長されることを特徴とする請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項４】
さらに前記複数の発光セルを覆うモールド部材を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項５】
前記モールド部材はレンズ形状であることを特徴とする請求項２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項６】
前記モールド部材は少なくとも蛍光体及び拡散剤のいずれか１つを含むことを特徴とする請求項２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項７】
さらに前記モールド部材と発光セルとの間に介在する蛍光体を含むことを特徴とする請求項２に記載の発光素子パッケージ。
【請求項８】
前記パッケージ本体は前記リード線が印刷された回路基板であることを特徴とする請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項９】
前記接続電極はさらに前記複数の発光セルの一部と電気的に接続し、第２の直列発光セルアレイを形成することを特徴とする請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１０】
前記第１の直列発光セルアレイ及び前記第２の直列発光セルアレイは並列または逆並列に交流電源と接続されることを特徴とする請求項９に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１１】
さらに前記複数の発光セル上に形成された複数の金属層を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光素子パッケージ。
【請求項１２】
前記複数の金属層のそれぞれが透明電極または反射膜であることを特徴とする請求項１１に記載の発光素子パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月7日(2011.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
本実施形態におけるカウンティングと提供方法の判断について詳細な説明を行なう。本実施形態では、ＭＢＭＳ ＡＣＣＥＳＳ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮに含めるＰｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒの種類を増やす。ひとつはパスロス値がある閾値以上の際に用いるＰｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒであり、もうひとつはパスロス値がある閾値未満の際に用いるＰｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒである。また前記閾値はＭＢＭＳＡＣＣＥＳＳ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮに含めてもよく、他のメッセージとして予め報知されていてもよい。すなわち、Ｐｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒがアイドル状態ＵＥ１向けと接続状態ＵＥ１向けの２種類を用いる場合には、それぞれに対してパスロス値に基づいて異なるＰｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒを設定し、計４つとする。また、前記パスロス値の代わりに参照信号受信電力（RSRP）を用いることも可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
図１１は、本発明の第３の実施形態に係るＵＥ１におけるカウンティング応答の処理手順の一例を示したフローチャートである。ＵＥ１は、前記閾値情報を含むカウンティング信号を受信すると、図１におけるカウンティング応答信号生成部１０４において、上位レイヤから入力されるサービス要求信号に基づき、サービスを要求しているか否かの判断を行なう（ステップＳ６０１）。サービスを要求していない場合はフローを終了する。サービスを要求している場合、パスロス値と既定の閾値との比較の結果（ステップＳ６０２）、パスロス値が閾値未満の値である場合、セル内位置情報としてセル中心付近を示す符号を設定し、Ｐｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒもセル中心付近向けの値を設定する（ステップＳ６０３）。パスロス値が閾値以上の値である場合、セル内位置情報としてセル端付近を示す符号を設定し、Ｐｒｏｂａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒもセル端付近向けの値を設定する（ステップＳ６０４）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
次に、ステップＳ６０３あるいはステップＳ６０４で選択されたパスロス値から選択したＰｒｏｂａｂｉｌｉｔｙｆａｃｔｏｒを基に自局がカウンティング応答信号を送信するか否かを判定する（ステップＳ６０５）。送信しない場合はフローを終了する。カウンティング応答信号を送信する場合、ステップＳ６０３またはステップＳ６０４で設定された符号をカウンティング応答信号に含めて図２の送信装置の送信信号処理部２０１へ入力する（ステップＳ６０６）。以上が本実施形態におけるＵＥ１におけるカウンティング応答の処理手順である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月3日(2011.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２００ｎｍ未満のレーザシステムに使用するための素子であって、
基体、
各々が、少なくとも一層の高屈折率フッ化物材料および少なくとも一層の低屈折率フッ化物材料を含む、１つまたは複数の周期のフッ化物コーティング材料、および
前記フッ化物コーティング材料の周期の少なくとも１つの最上面に施された、シリカ、ＦドープトＳｉＯ2、ＮドープトＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3ドープトＳｉＯ2からなる群より選択される非晶質ＳｉＯ2系材料の少なくとも１つの層、
を備え、
前記高屈折率フッ化物材料が１．６５から１．７５の範囲の屈折率を有し、前記低屈折率フッ化物材料が１．３５から１．４５の範囲の屈折率を有し、
前記フッ化物コーティング材料の各周期の厚さが５０ｎｍから９０ｎｍの範囲にあり、該コーティング材料の各周期内にある前記高屈折率フッ化物材料の層の厚さが２０ｎｍから４０ｎｍの範囲にあり、前記コーティング材料の各周期内にある前記低屈折率フッ化物材料の層の厚さが３０ｎｍから５０ｎｍの範囲にあることを特徴とする素子。
【請求項２】
前記フッ化物コーティング材料の周期の数が１より多く、前記非晶質ＳｉＯ2系材料の少なくとも１つの層が、１より多い周期の数の少なくとも２つの周期の間に挿入されており、
前記素子に施された最後のコーティング材料が、シリカ、ＦドープトＳｉＯ2、ＮドープトＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3ドープトＳｉＯ2からなる群より選択されるＳｉＯ2材料の層であることを特徴とする請求項１記載の素子。
【請求項３】
前記高屈折率フッ化物材料と前記低屈折率フッ化物材料の周期の間に挿入された前記ＳｉＯ2系材料の層の厚さが５ｎｍから７５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項２記載の素子。
【請求項４】
前記素子に施された最後のコーティング材料が、１０ｎｍから１５０ｎｍの範囲の厚さを持つＳｉＯ2材料の層であり、該材料が、シリカ、ＦドープトＳｉＯ2、ＮドープトＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3ドープトＳｉＯ2からなる群より選択されることを特徴とする請求項２記載の素子。
【請求項５】
前記素子が、反射ミラー、ビームスプリッタ、プリズム、レンズ、および出力カプラからなる群より選択されることを特徴とする請求項１記載の素子。
【請求項６】
前記高屈折率フッ化物材料がＧｄＦ3およびＬａＦ3からなる群より選択され、
前記低屈折率フッ化物材料がＭｇＦ2、ＣａＦ2およびＡｌＦ3からなる群より選択されることを特徴とする請求項１記載の素子。
【請求項７】
前記基体と前記フッ化物コーティング材料の最初の周期との間に非晶質ＳｉＯ2材料のコーティングを備え、該非晶質ＳｉＯ2材料が、該基体に施されたときに、前記非晶質ＳｉＯ2系材料の少なくとも１つの層に加えられていることを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の素子。
【請求項８】
前記基体と前記フッ化物コーティング材料の最初の周期との間に施された前記ＳｉＯ2材料のコーティングの厚さが５ｎｍから７５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項７記載の素子。
【請求項９】
２００ｎｍ未満のレーザシステムに使用するための反射ミラー素子であって、
基体、
各々が、少なくとも一層の高屈折率フッ化物材料および少なくとも一層の低屈折率フッ化物材料を含む、複数の周期のフッ化物コーティング材料、および
前記フッ化物コーティング材料の周期の間または前記複数の周期の積層体の間に挿入された、シリカ、ＦドープトＳｉＯ2、ＮドープトＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3ドープトＳｉＯ2からなる群より選択される非晶質ＳｉＯ2系材料の複数の層、
を備え、
前記基体と前記フッ化物コーティング材料の最初の周期との間のＳｉＯ2系材料の層の厚さおよび前記複数の周期の間の厚さが５ｎｍから７５ｎｍの範囲にあり、
前記ミラー素子の最後のコーティング材料が、非晶質ＳｉＯ2材料の層であり、該層が１０ｎｍから１５０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする反射ミラー素子。
【請求項１０】
前記基体と前記高屈折率フッ化物材料および前記低屈折率フッ化物材料の最初の周期との間に非晶質ＳｉＯ2材料のコーティングを備えることを特徴とする請求項９記載の反射ミラー素子。
【請求項１１】
２００ｎｍ未満のレーザシステムに使用するのに適したフッ化物被覆素子を製造する方法であって、
基体を提供し、
エネルギーを用いた蒸着技法を用いて、前記基体を１つまたは複数の周期のフッ化物コーティング材料で被覆し、
さらに、エネルギーを用いた蒸着技法を用いて、非晶質ＳｉＯ2材料で被覆し、それによって、２００ｎｍ未満のレーザシステムに使用するのに適したフッ化物被覆素子を形成する、
各工程を有してなり、
前記基体を１つまたは複数の周期のフッ化物コーティング材料で被覆する工程が、各周期が、一層の高屈折率フッ化物材料および一層の低屈折率フッ化物材料を含むような被覆を意味することを特徴とする方法。
【請求項１２】
複数のフッ化物コーティング材料による被覆が完了した後に、前記素子を非晶質シリカの最終層で被覆する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記フッ化物コーティング材料の最初の周期を施す前に、前記基体を一層の非晶質ＳｉＯ2材料で被覆する工程をさらに含み、該非晶質ＳｉＯ2材料が、シリカ、ＦドープトＳｉＯ2、ＮドープトＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3ドープトＳｉＯ2からなる群より選択されることを特徴とする請求項１１または１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月27日(2011.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光管と、
前記発光管の両端内部に各々支持され、電極棒及びその先端部に巻回されたコイルを有する一対の電極と、
前記発光管の一対の電極に並列に接続された始動装置と、
前記発光管の外表面に沿ってその軸方向に延在させて配置された線材からなる始動補助導体と、
前記発光管、前記始動装置及び前記始動補助導体を収容し、その一端がガラスステムにより封止された外管ガラスバルブとを備えた高圧放電ランプにおいて、
前記始動補助導体は、少なくとも一方の端部において前記発光管に巻回されて閉ループを形成し、
前記閉ループの部分では、前記始動補助導体の一部と前記発光管の外表面との間に前記始動補助導体の他の部分が挟み込まれた交差部が形成され、
前記発光管の軸方向における前記始動補助導体の交差部の位置が、前記電極のコイルと重なるように設定されていることを特徴とする高圧放電ランプ。
【請求項２】
前記始動補助導体は、前記交差部から他端に向かう部分が前記発光管に螺旋状に巻回されている請求項１に記載の高圧放電ランプ。
【請求項３】
前記閉ループを形成している部分における前記始動補助導体は、前記交差部において上側となった部分の近傍を除き、前記発光管の外表面との間の間隙が０．３ｍｍ以内に調整されている請求項１〜２のいずれか１項に記載の高圧放電ランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記課題を解決するために、本発明の高圧放電ランプは、発光管と、前記発光管の両端内部に各々支持され、電極棒及びその先端部に巻回されたコイルを有する一対の電極と、前記発光管の一対の電極に並列に接続された始動装置と、前記発光管の外表面に沿ってその軸方向に延在させて配置された線材からなる始動補助導体と、前記発光管、前記始動装置及び前記始動補助導体を収容し、その一端がガラスステムにより封止された外管ガラスバルブとを備え、前記始動補助導体は、少なくとも一方の端部において前記発光管に巻回されて閉ループを形成し、前記閉ループの部分では、前記始動補助導体の一部と前記発光管の外表面との間に前記始動補助導体の他の部分が挟み込まれた交差部が形成され、前記発光管の軸方向における前記始動補助導体の交差部の位置が、前記電極のコイルと重なるように設定されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明によれば、始動補助導体の端部に形成された閉ループの部分に、始動補助導体の一部と発光管の外表面の間に始動補助導体の他の部分が挟み込まれた交差部が形成されていることにより、始動補助導体を発光管に対して締め付ける作用が得られる。その結果、スプリングバック等に抗することができ、発光管の外表面に対する始動補助導体の密着度の低下を抑制することができる。また、発光管の軸方向における始動補助導体の交差部の位置が、電極のコイルと重なるように設定されていることにより、始動補助効果が最も有効に発揮される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月27日(2011.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
来店者の顔を撮像する撮像装置と、
該撮像装置により撮像された来店者の顔画像に基づいて来店者数を集計管理する管理装置とを備え、
前記管理装置は、
予め定められた来店者数集計期間に前記撮像装置により撮像された顔画像に基づいて該顔画像の来店者が来店した旨を特定可能な情報である来店済み情報を登録する来店済み情報登録手段と、
前記撮像装置により撮像された顔画像の来店者について、前記来店済み情報が前記来店済み情報登録手段に登録されているか否かを判定する来店判定手段と、
該来店判定手段により登録されていないと判定されたことを条件として来店者数を加算更新する実来店者数集計手段とを含む、来店者管理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（２）  上記（１）の来店者管理システムにおいて、前記管理装置は、
前記来店者数集計期間よりも前の過去所定期間において来店した来店者の顔画像データ（過去来店者テーブルＭ４）を登録する既来店者登録手段（メモリ２３）と、
前記撮像装置により撮像された来店者の顔画像データが前記既来店者登録手段に登録されているか否か判定する（ステップＳ３３０）既来店判定手段（ＣＰＵ２１）と、を有し、
前記実来店者数集計手段は、前記来店判定手段により来店済み情報が登録きれていないと判定され、かつ前記既来店判定手段により顔画像データが登録されていると判定されたことを条件として既来店者数を加算更新する（ステップＳ３３２）一方、前記来店判定手段により来店済み情報が登録されていないと判定され、かつ前記既来店判定手段により顔画像データが登録されていないと判定されたことを条件として新規来店者数を加算更新する（ステップＳ３３６）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（３）  上記（１）または（２）の来店者管理システムにおいて、前記管理装置は、
前記来店者の顔画像データに対応付けて、当該来店者の来店回数を管理する来店者別来店回数管理手段（遊技履歴テーブルＴＢ２ｉ）と、
前記来店判定手段により来店済み情報が登録されていないと判定されたことを条件として、判定の対象となった来店者の顔画像データに対応付けて管理されている来店回数を加算更新する（ステップＳ３３４）来店者別来店回数集計手段（ＣＰＵ２１）と、を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（４）  上記（１）から（３）のいずれかの来店者管理システムにおいて、前記撮像装置は、店内に複数設置される遊技機の周辺を撮像可能な撮像装置（場内カメラ６０ｂ）を含み、
前記管理装置は、
前記遊技機における遊技に関連して発生する遊技情報を収集する（ステップＳ３７６）遊技情報収集手段（ＣＰＵ２１）と、
前記撮像装置の撮像画像に基づいて、前記来店者が遊技を行っている遊技機を特定する（ステップＳ３５２）遊技機特定手段（ＣＰＵ２１）と、
該遊技機特定手段により特定した遊技機について前記遊技情報収集手段により収集した遊技情報を前記来店者の遊技履歴として集計する（ステップＳ３７８）遊技履歴集計手段（ＣＰＵ２１）と、
該来店者の顔画像データに対応付けて前記遊技履歴集計手段により集計された遊技履歴（遊技履歴テーブルＴＢ２ｉ）を管理する遊技履歴管理手段（メモリ２３）と、を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（５）  上記（３）または（４）の来店者管理システムにおいて、前記管理装置は、
前記撮像装置の撮像画像を表示する表示手段（出力部２５）と、
該表示手段に表示された撮像画像において、来店者の指定を受け付ける来店者指定手段（入力部２４）と、を有し、
該来店者指定手段にて指定を受け付けた来店者の顔画像データに対応付けて管理されている来店回数または遊技履歴を前記表示手段に表示する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（６）  上記（３）から（５）のいずれかの来店者管理システムにおいて、前記管理装置は、
前記撮像装置により撮像された来店者の顔画像データに対応付けて管理されている来店回数または遊技履歴が予め定められた報知条件を満たしていることを条件として報知処理を行う（ステップＳ３１２およびステップＳ３１４）報知処理手段（ＣＰＵ２１）を有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（７）  上記（１）から（６）のいずれかの来店者管理システムにおいて、前記管理装置は、会員登録を行った会員に対して発行される記録媒体に記録され、当該会員を個々に識別するための識別情報（会員ＩＤ）に対応付けて該会員に関する会員情報（会員情報テーブルＴＢ３）を管理する会員情報管理手段（メモリ２３）を有し、
前記撮像装置は、店内に設置され前記記録媒体を受け付けて処理する記録媒体処理装置の周辺を撮像可能な撮像装置（場内カメラ６０ｂ）を含み、
前記管理装置は、前記記録媒体処理装置にて受け付けられた記録媒体の識別情報を受信したことに基づいて、前記撮像装置により撮像された該記録媒体を所有する来店者の顔画像データと前記受信した識別情報とを対応付けて管理する（ステップＳ３７６）。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（８）  上記（１）から（７）のいずれかの来店者管理システムにおいて、前記来店者管理システムは、
前記撮像装置により撮像された顔画像のうち、要報知来店者の顔画像の指定を受付ける要報知来店者受付手段（入力部２４）と、
該要報知来店者受付手段により指定を受け付けた要報知来店者の顔画像データを登録する（ステップＳ３２８）ための要報知来店者登録手段（ＣＰＵ２１）と、
前記撮像装置により撮像された来店者の顔画像データが前記要報知来店者登録手段に登録されているか否かを判定する（ステップＳ３０８）要報知登録判定手段（ＣＰＵ２１）と、
該要報知登録判定手段により登録されていると判定されたことを条件として、要報知来店者が来店した旨を報知するための処理（ステップＳ３１０）を行う要報知来店者報知手段（ＣＰＵ２１）と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月21日(2011.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散溶剤と、前記分散溶剤に接触すると膨潤する樹脂からなる絶縁性粒子と、前記分散溶剤に接触しても膨潤しない導電性粒子と、前記分散溶剤に溶解する接着剤樹脂とを混合し、接着剤を製造する製造方法であって、
混合前の前記絶縁性粒子の粒径を、混合によって膨潤された前記絶縁性粒子の粒径が、前記導電性粒子の粒径未満になるようにする接着剤の製造方法。
【請求項２】
分散溶剤と、前記分散溶剤に接触すると膨潤する樹脂からなる絶縁性粒子と、前記分散溶剤に接触しても膨潤しない導電性粒子と、前記分散溶剤に溶解する接着剤樹脂とを混合してペースト状の接着剤を作成した後、
前記接着剤を加熱してフィルム化するフィルム状の接着剤の製造方法であって、
混合前の前記絶縁性粒子の粒径を、前記接着剤の加熱によって膨潤された前記絶縁性粒子の粒径が、前記導電性粒子の粒径未満になるようにする接着剤の製造方法。
【請求項３】
前記分散溶剤として、メチルエチルケトンと、トルエンと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、酢酸エチルとからなる有機溶剤群より選択されるいずれか１種類以上の有機溶剤を含有するものを用い、
前記絶縁性粒子としてメタクリル樹脂を主成分とする樹脂粒子を用いる請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の接着剤の製造方法。
【請求項４】
第一の電気部品の第一の端子と、第二の電気部品の第二の端子とを、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の前記接着剤を挟んで対向させ、
前記第一、第二の端子間に熱と押圧力を加え、前記第一、第二の端子で前記導電性粒子を挟み込む電気部品の接続方法。
【請求項５】
前記第一の電気部品として、基板を有し、前記基板の縁部分に前記第一の端子が配置されたものを用いる請求項４記載の電気部品の接続方法。
【請求項６】
前記第一、第二の電気部品と、前記第一、第二の端子と、前記接着剤とを有し、前記第一、第二の電気部品が機械的に接続された接合体であって、
請求項４又は請求項５のいずれか１項記載の接続方法によって、前記第一、第二の端子とが接着された接合体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明は、分散溶剤と、前記分散溶剤に接触すると膨潤する樹脂からなる絶縁性粒子と、前記分散溶剤に接触しても膨潤しない導電性粒子と、前記分散溶剤に溶解する接着剤樹脂とを混合し、接着剤を製造する製造方法であって、混合前の前記絶縁性粒子の粒径を、混合によって膨潤された前記絶縁性粒子の粒径が、前記導電性粒子の粒径未満になるようにする接着剤の製造方法である。
本発明は、分散溶剤と、前記分散溶剤に接触すると膨潤する樹脂からなる絶縁性粒子と、前記分散溶剤に接触しても膨潤しない導電性粒子と、前記分散溶剤に溶解する接着剤樹脂とを混合してペースト状の接着剤を作成した後、前記接着剤を加熱してフィルム化するフィルム状の接着剤の製造方法であって、混合前の前記絶縁性粒子の粒径を、前記接着剤の加熱によって膨潤された前記絶縁性粒子の粒径が、前記導電性粒子の粒径未満になるようにする接着剤の製造方法である。
本発明は、接着剤の製造方法であって、前記分散溶剤として、メチルエチルケトンと、トルエンと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、酢酸エチルとからなる有機溶剤群より選択されるいずれか１種類以上の有機溶剤を含有するものを用い、前記絶縁性粒子としてメタクリル樹脂を主成分とする樹脂粒子を用いる接着剤の製造方法である。
本発明は電気部品の製造方法であって、第一の電気部品の第一の端子と、第二の電気部品の第二の端子とを、前記接着剤を挟んで対向させ、前記第一、第二の端子間に熱と押圧力を加え、前記第一、第二の端子で前記導電性粒子を挟み込む電気部品の接続方法である。
本発明は電気部品の製造方法であって、前記第一の電気部品として、基板を有し、前記基板の縁部分に前記第一の端子が配置されたものを用いる電気部品の接続方法である。
本発明は、前記第一、第二の電気部品と、前記第一、第二の端子と、前記接着剤とを有し、前記第一、第二の電気部品が機械的に接続された接合体であって、請求項４又は請求項５のいずれか１項記載の接続方法によって、前記第一、第二の端子とが接着された接合体である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
熱硬化性樹脂は特に限定されないが、エポキシ樹脂と、マイクロカプセル化アミン系硬化剤を硬化剤に用いたアニオン硬化系エポキシ樹脂やオニウム塩を硬化剤に用いたカチオン硬化系エポキシ樹脂、有機過酸化物を硬化剤に用いたラジカル硬化系樹脂等を用いることができる。
異方導電性接着剤の固形分には、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、硬化剤、シラン以外にも、フィラー、着色剤等種々の添加剤を添加することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
石灰仕上げおよび／またはセメント仕上げ建築材料、アスファルト、塗料、ワニス、紙またはプラスチックを着色するための顔料調製物であって、
−液体の中に分散された１種または複数の有機および／または無機顔料；および
−所望により、さらなる助剤および／または充填剤、
を含み、
−ペースト状またはゲル状の粘稠度であり；そして
−相分離を起こす傾向がない、
顔料調製物。
【請求項２】
使用される無機顔料が、酸化鉄、二酸化チタン、酸化クロム、酸化亜鉛およびルチル混合相顔料、ならびにカーボンブラック（炭素顔料）またはそれらの混合物であることを特徴とする、請求項１に記載の顔料調製物。
【請求項３】
使用される有機顔料が、アゾ、キナクリドン、フタロシアニンおよびペリレン顔料ならびにインジゴイドまたはそれらの混合物であることを特徴とする、請求項１または２に記載の顔料調製物。
【請求項４】
前記顔料調製物のペースト状またはゲル状の粘稠度が、少なくとも１種の増粘剤、および／または協働して固さを上昇させる１種または複数の化合物と組み合わせた少なくとも１種の増粘剤を添加することによってもたらされることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の顔料調製物。
【請求項５】
使用される増粘剤が、有機増粘剤たとえば有機天然増粘剤、有機変性天然物質、有機全合成増粘剤、有機協働的増粘剤、または低分子質量有機製品であることを特徴とする、請求項４に記載の顔料調製物。
【請求項６】
協働して固さを上昇させるような１種または複数の化合物と組み合わせた少なくとも１種の増粘剤を、前記顔料調製物を基準にして、０．００１〜１０重量％の全量で使用することを特徴とする、請求項４または５に記載の顔料調製物。
【請求項７】
１種または複数の化合物と組み合わせた少なくとも１種の増粘剤を、前記顔料調製物を基準にして、０．１〜５重量％の全量で使用することを特徴とする、請求項６に記載の顔料調製物。
【請求項８】
使用される増粘剤が、部分的または完全に加水分解されたポリビニルアルコールおよびまたそれらの誘導体もしくは他のポリヒドロキシ化合物を、ホウ素化合物、特にはオルト−ホウ酸、テトラ−ホウ酸、メタ−ホウ酸もしくはそれらの塩と組み合わせるか、または、元素周期律表の遷移族ＩＶ〜ＶＩからの元素、特にはチタン、バナジウムおよびクロムの塩もしくは錯塩、たとえばチタン（ＩＩＩ）塩もしくはチタン（ＩＶ）−トリエタノールアミンと組み合わせたものであり、適切であるならばそのｐＨを中性またはわずかにアルカリ性としておくことを特徴とする、請求項４に記載の顔料調製物。
【請求項９】
−所望により、助剤および／または充填剤をさらに含む液体中の、１種または複数の有機および／または無機顔料の分散体に、
−前記分散操作の前、その間、またはその後に、少なくとも１種の増粘剤、および／または協働して固さを上昇させる１種または複数の化合物と組み合わせた少なくとも１種の増粘剤を添加し、そして、
−前記ペースト状またはゲル状の顔料調製物を充分に長時間かけて均質化させ、そして
−適切であるならば、最後にさらなる助剤を添加する、
ことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の顔料調製物を調製するための方法。
【請求項１０】
有機または無機の増粘剤を添加することを特徴とする、請求項９に記載の調製方法。
【請求項１１】
使用される有機増粘剤が、部分的または完全に加水分解されたポリビニルアルコールおよびまたそれらの誘導体もしくは他のポリヒドロキシ化合物を、ホウ素化合物、たとえばオルト−ホウ酸、テトラ−ホウ酸、メタ−ホウ酸もしくはそれらの塩と組み合わせるか、または、元素周期律表の遷移族ＩＶ〜ＶＩからの元素、特にはチタン、バナジウムおよびクロムの塩もしくは錯塩、たとえばチタン（ＩＩＩ）塩もしくはチタン（ＩＶ）−トリエタノールアミンと組み合わせたものであり、必要に応じて、そのｐＨを中性またはわずかにアルカリ性としておくことを特徴とする、請求項１０に記載の調製方法。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の、あるいは請求項９〜１１のいずれか１項の記載により調製された前記顔料調製物を使用して、石灰仕上げおよび／またはセメント仕上げ建築材料、アスファルト、塗料、ワニス、紙またはプラスチックを着色する方法であって、前記顔料調製物を、前記石灰仕上げおよび／またはセメント仕上げ建築材料、アスファルト、塗料、ワニス、紙またはプラスチックと混合することを特徴とする、着色方法。