【手続補正書】
【提出日】平成21年4月3日(2009.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルムを作製する方法であって、
複屈折を発現できる高分子材料を含んでなるフィルム（３２）を供給し、
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向し、ここで、前記配向フィルム（３２）が、０．２に等しいか又は約０．２を超える範囲の一軸特性度Ｕを示す、及び
前記配向フィルム（３２）をヒートセットする、
ことを含む光学フィルム作製方法。
【請求項２】
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を、該少なくとも１つの高分子材料のガラス転移温度を超えかつ融点未満の温度に加熱することを含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
フィルム（３２）を加工する方法であって、
フィルム（３２）を機械方向に沿って搬送すると同時に前記フィルム（３２）の対向する端部部分を保持する工程、
前記対向する端部部分を広がった経路に沿って移動することにより前記フィルム（３２）を延伸して延伸フィルム（３２）を形成する工程、及び
前記延伸フィルム（３２）をヒートセット工程を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０９】
本明細書に記載した実施例及び実施形態は、説明に役立つ目的だけのためであり、それらを考慮した様々な修正又は変更は、当業者に示唆されたもので、この出願の精神及び範囲内に含まれると理解されるべきである。
以下に、本願発明に関連する発明の実施の形態を列挙する。
実施形態１
光学フィルムを作製する方法であって、
複屈折を発現できる高分子材料を含んでなるフィルム（３２）を供給し、
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向し、及び
前記配向フィルム（３２）をヒートセットする、
ことを含む光学フィルム作製方法。
実施形態２
前記配向フィルム（３２）が、約０．２に等しいか又は約０．２を超える範囲の一軸特性度Ｕを示す、実施形態１に記載の方法。
実施形態３
前記配向フィルム（３２）が、約０．７に等しいか又は約０．７を超える範囲の一軸特性度Ｕを示す、実施形態１に記載の方法。
実施形態４
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を、該少なくとも１つの高分子材料のガラス転移温度を超え及びその高分子材料の融点未満の温度に加熱することを含んでなる、実施形態１に記載の方法。
実施形態５
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を約１秒〜約１０分の間加熱することを含んでなる、実施形態１に記載の方法。
実施形態６
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を、該各高分子材料のガラス転移温度を超え及び該各高分子材料の融点未満の温度に加熱することを含んでなる、実施形態１に記載の方法。
実施形態７
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向する前記行程を第１温度で実施し、及び
前記ヒートセット工程において、前記フィルム（３２）を前記第１温度よりも高い第２温度に加熱する、実施形態１に記載の方法。
実施形態８
複屈折を発現できる前記高分子材料が、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、及びシンジオタクチックポリスチレンから成る群から選択される、実施形態１に記載の方法。
実施形態９
複屈折を発現できる前記高分子材料が、ポリエステルを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態１０
複屈折を発現できる前記高分子材料が、半結晶質高分子を含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態１１
前記フィルム（３２）が、更にポリエステル／ポリカーボネートブレンドをむ、実施形態１に記載の方法。
実施形態１２
前記配向光学フィルム（３２）が、反射偏光子である、実施形態１に記載の工程により作製される光学フィルム（３２）。
実施形態１３
前記配向光学フィルム（３２）が、多層反射偏光子又は拡散反射偏光子である、実施形態１２に記載の工程により作製される光学フィルム（３２）。
実施形態１４
前記配向光学フィルム（３２）が、補償素子である、実施形態１に記載の工程により作製される光学フィルム（３２）。
実施形態１５
フィルム（３２）を供給する前記行程が、フィルムひと巻きを供給する、実施形態１に記載の方法。
実施形態１６
フィルム（３２）を供給する前記行程が、押出成形機から前記フィルム（３２）を供給することを含んでなる、実施形態１に記載の方法。
実施形態１７
フィルム（３２）を供給する前記行程が、延伸方向の初期屈折率、前記延伸方向と直交する面内方向の初期屈折率及び厚さ方向の初期屈折率を有するフィルム（３２）を供給し、並びに
前記ヒートセット工程が、前記延伸方向と直交する前記面内方向の前記初期屈折率より大きい前記延伸方向と直交する前記面内方向の最終屈折率をもたらす、実施形態１に記載の方法。
実施形態１８
前記ヒートセット工程が、前記厚さ方向の前記初期屈折率より大きい前記厚さ方向の最終屈折率をもたらす、実施形態１７に記載の方法。
実施形態１９
フィルム（３２）を供給する前記行程が、延伸方向の初期屈折率、前記延伸方向と直交する面内方向の初期屈折率及び厚さ方向の初期屈折率を有するフィルム（３２）を供給し、並びに
前記ヒートセット工程が、前記厚さ方向の前記初期屈折率より大きい前記厚さ方向の最終屈折率をもたらす、実施形態１に記載の方法。
実施形態２０
フィルム（３２）を供給する前記行程が、延伸方向と直交する面内方向の初期屈折率と厚さ方向の初期屈折率との初期差を有するフィルム（３２）を供給し、及び
前記ヒートセット工程が、前記延伸方向と直交する前記面内方向の最終屈折率と前記厚さ方向の最終屈折率の最終差をもたらし、前記最終差が、前記初期差未満である、実施形態１に記載の方法。
実施形態２１
フィルム（３２）を供給する前記行程が、延伸方向の初期屈折率、前記延伸方向と直交する面内方向の初期屈折率及び厚さ方向の初期屈折率を有するフィルム（３２）を供給し、及び
前記ヒートセット工程が、前記延伸方向の前記初期屈折率より大きい前記延伸方向の最終屈折率をもたらす、実施形態１に記載の方法。
実施形態２２
フィルム（３２）を供給する前記行程が、延伸方向の初期屈折率と延伸方向と直交する面内方向の初期屈折率との初期差を有するフィルム（３２）を供給し、また
前記ヒートセット工程が、前記延伸方向の最終屈折率と前記延伸方向と直交する前記面内方向の最終屈折率との初期差をもたらし、前記最終差が前記初期差未満である、実施形態１に記載の方法。
実施形態２３
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向する前記行程が、前記フィルム（３２）の非連続部分をテンター装置で延伸することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態２４
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向する前記行程が、前記フィルム（３２）を横方向に延伸することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態２５
更に、前記配向フィルム（３２）を冷却することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態２６
前記フィルム（３２）が、複数個の層を含み、及び
前記フィルム（３２）が、複数個の層を含み、及び
前記ヒートセット工程が、隣接した層間の接着を増加させる、実施形態１に記載の方法。
実施形態２７
前記フィルム（３２）が、有意なひずみ誘起結晶化が発生する延伸比であるひずみ誘起結晶点を有し、及び
前記フィルム（３２）を実質的に配向にする前記行程が、前記ひずみ誘起結晶点より大きい延伸比で前記フィルム（３２）を延伸することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態２８
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向する前記行程が、前記フィルム（３２）を第１延伸比で延伸方向に延伸することを含み、また
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を前記前記第１延伸比より大きい第２延伸比で前記延伸方向に延伸することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態２９
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向する前記行程が、前記フィルム（３２）を第１延伸比で延伸方向に延伸することを含み、また
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を前記前記第１延伸比より小さい第２延伸比で前記延伸方向に延伸することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態３０
前記フィルム（３２）を実質的に一軸配向する前記行程が、前記フィルム（３２）を第１延伸比で延伸方向に延伸することを含み、また
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を前記前記第１延伸比にほぼ等しい第２延伸比で前記延伸方向に延伸することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態３１
前記フィルム（３２）が、初期密度を備え、また
前記ヒートセット工程が、前記初期密度より大きい最終密度を有する前記フィルム（３２）を生成する、実施形態１に記載の方法。
実施形態３２
フィルム（３２）を供給する前記行程が、層の少なくとも１つが非晶質材料を含む複数個の層を有するフィルム（３２）を供給することを含み、また
前記ヒートセット工程が、前記非晶質材料を含む前記層の非晶質特性を保持することを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態３３
前記非晶質材料が、ポリカーボネート又はポリカーボネートとコポリエステルのブレンドを含む、実施形態３２に記載の方法。
実施形態３４
更に、第２ヒートセット工程を含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態３５
フィルム（３２）を加工する方法であって、
フィルム（３２）を機械方向に沿って搬送すると同時に前記フィルム（３２）の対向する端部部分を保持する工程、
前記対向する端部部分を広がった曲線状経路に沿って移動することにより前記フィルム（３２）を延伸して延伸フィルム（３２）を形成する工程、及び
前記延伸フィルム（３２）をヒートセット工程を含む方法。
実施形態３６
前記広がった経路が、実質的に放物線状である、実施形態３５に記載の方法。
実施形態３７
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を、そのフィルムの少なくとも１つの高分子構成成分のＴｇを超える温度に加熱することを含む、実施形態３５に記載の方法。
実施形態３８
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を、そのフィルムのすべての高分子構成成分のＴｇを超える温度に加熱する、実施形態３５に記載の方法。
実施形態３９
前記ヒートセット工程が、前記フィルム（３２）を、前記フィルム（３２）のＴｇと融点の間の温度に加熱することを含む、実施形態３５に記載の方法。
実施形態４０
前記フィルム（３２）の延伸工程は、前記フィルム（３２）を、４を超過する延伸比まで延伸することを含む、実施形態３５に記載の方法。
実施形態４１
実施形態３５に記載の工程により作製されるフィルム（３２）。
実施形態４２
３３％を超える結晶化度を有するポリエチレンテレフタレートを含む光学フィルム（３２）。
実施形態４３
３６％を超える結晶化度を有するポリエチレンテレフタレートを含む、実施形態４２に記載の前記光学フィルム（３２）。
実施形態４４
３９％を超える結晶化度を有するポリエチレンテレフタレートを含む、実施形態４２に記載の前記光学フィルム（３２）。
実施形態４５
２８％を超える結晶化度を有するポリエチレンナフタレート（napthalate）を含む光学フィルム（３２）。
実施形態４６
３０％を超える結晶化度を有するポリエチレンナフタレート（napthalate）を含む、実施形態４５に記載の前記光学フィルム（３２）。
実施形態４７
４８％を超える結晶化度を有するポリエチレンナフタレート（napthalate）を含む、実施形態４５に記載の前記光学フィルム（３２）。