【手続補正書】
【提出日】平成20年11月11日(2008.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析物センサ装置を作製する方法であって、
基板層を準備するステップと、
前記基板層上に複数の分析物センサ素子を形成するステップであって、前記分析物センサ素子は、
前記基板層上に設けられた少なくとも３個の作用電極と、
前記作用電極上に設けられたグルコースオキシダーゼ層と、
前記グルコースオキシダーゼ層上に設けられた分析物調節層であって、シロキサンと非シロキサン成分のコポリマーを含むヒドロゲル組成物を含有する分析物調節層と、
前記グルコースオキシダーゼ層と前記分析物調節層との接着を促進するために、前記グルコースオキシダーゼ層と前記分析物調節層との間に設けられた接着促進層であって、シロキサン成分を有する化合物を含有する接着促進層と、を有し、分析物と接触し、分析物を感知するように適合させているステップと、
密閉可能なウェルのアレイ内のアレイ上に少なくとも１つの分析物センサ膜を形成するステップであって、分析物の接触を制御するために前記分析物センサ膜の透過性が、
（ａ）分析物が、分析物センサ装置の使用の第１の時点では前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つと接触することができずに、
（ｂ）分析物が、分析物センサ装置の使用の第２の時点では前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つと接触することができるように制御することができるステップと、
分析物センサ装置に出入りする情報を中継するための、分析物センサ装置に動作するように結合された少なくとも１つの構造体を形成するステップと、
を含む、分析物センサ装置を作製することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記分析物センサ膜が金属箔を含み、金属箔の透過性を、電流または電圧を前記分析物センサ膜に印加することによって制御することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記分析物センサ膜を酸化アルミニウム基板に空気遮断して結合させるステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、さらに、前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つの上に蓋層を形成するステップを有し、前記蓋層が、シリコン組成物、セラミック組成物、金属組成物、ポリマー組成物またはヒドロゲル組成物を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、前記蓋層にアパーチャを形成するステップをさらに含み、前記蓋層にそのように形成されたアパーチャが、分析物が前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つと接触することを可能にし得る通路を提供することを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、前記アパーチャを、前記蓋層に作られた空洞上に配置することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法であって、前記分析物センサ膜が金属箔を含む場合、金属箔の寸法が、前記アパーチャの真上で最も薄いことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項４に記載の方法であって、前記蓋層を、その上に窪みおよび／または突起を含むように製作することを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項４に記載の方法であって、前記蓋層を、はんだ接続、赤外線リフロー接続、レーザーリフロー接続、接着剤接続または超音波接続によって前記基板に取り付けることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、前記分析物センサデバイスを、哺乳動物にインプラントできるように設計することを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、前記装置を、少なくとも１つの前記複数の分析物センサ素子がリザーバまたはウェル中に配置されないように作製することを特徴とする方法。
【請求項１２】
哺乳動物に埋め込むための分析物センサ装置を作製する方法であって、
基材層を準備するステップと、
前記基板層上に複数の分析物センサ素子を形成するステップであって、前記分析物センサ素子は、
前記基板層上に設けられた少なくとも３個の作用電極と、
前記作用電極上に設けられたグルコースオキシダーゼ層と、
前記グルコースオキシダーゼ層上に設けられた分析物調節層であって、シロキサンと非シロキサン成分のコポリマーを含むヒドロゲル組成物を含有する分析物調節層と、
前記グルコースオキシダーゼ層と前記分析物調節層との接着を促進するために、前記グルコースオキシダーゼ層と前記分析物調節層との間に設けられた接着促進層であって、シロキサン成分を有する化合物を含有する接着促進層と、を有し、分析物と接触し、分析物を感知するように適合させているステップと、
前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つの上に蓋層を形成するステップと、
前記蓋層上に密封したアパーチャを形成するステップと、
前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つの上に配置した少なくとも１つの分析物センサ膜を、分析物が前記複数の分析物センサ素子の前記少なくとも１つと可逆的に接触することを防止することができ、前記分析物センサ膜の透過性が、分析物が前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つと接触することを可能にするように調節することができるように形成するステップと、
分析物センサ装置に出入りする情報を中継するための、分析物センサ装置に動作するように結合された少なくとも１つの構造体を形成するステップと、
を含む、分析物センサ装置を作製することを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、前記分析物センサ膜が、破裂させることができる金属膜を含むことを特徴とするデバイス。
【請求項１４】
請求項１２に記載の方法であって、前記蓋層が、化学エッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリング、スパッタリング、蒸着、イオンビーム補助蒸着、化学蒸着、溶着、はんだ付けまたはろう付けを含む方法によって作製される１つ以上の３次元の形体を有することを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１２に記載の方法であって、前記複数の分析物センサ素子が、そこに配置された複数の異なる分析物センサ膜を有するように、前記分析物センサ装置を作製することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、前記分析物センサ素子上に配置された複数の分析物センサ膜のそれぞれを、別々に制御することを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１２に記載の方法であって、前記分析物センサデバイスを、長期にわたる分析物センサまたは永久的な分析物センサとなるように作製することを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１２に記載の方法であって、前記分析物センサデバイスを、前記分析物センサデバイス中の前記分析物センサ素子の少なくとも２つが同一分析物を感知するように作製することを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１２に記載の方法であって、前記分析物センサデバイスを、前記分析物センサデバイス中の前記分析物センサ素子の少なくとも２つが異なる分析物を感知するように作製することを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１２に記載の方法であって、前記装置を、特定の電流または電圧の印加が分析物センサ膜を除去する逆めっきの開始をもたらし、これにより前記蓋層の前記アパーチャが露出され、それまで活性ではなかった新たなセンサ素子が活性化されるように前記アパーチャがその上部に配置されているセンサ素子の前記露出を生じるように作製することを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項１２に記載の方法であって、前記装置をマルチルーメンカテーテルに結合させるステップをさらに含み、第１のルーメンが、センサ出力、データ収集、およびディスプレイのためのコネクタを提供し、第２のルーメンが前記分析物センサ膜の透過性を変化させるために用いられる出力を提供するコネクタを提供することを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項１に記載の方法であって、さらに、前記装置をマルチルーメンカテーテルに結合させるステップをさらに含み、第１のルーメンが、センサ出力、データ収集、およびディスプレイのためのコネクタを提供し、第２のルーメンが前記分析物センサ膜の透過性を変化させるために用いられる出力を提供するコネクタを提供することを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項１に記載の方法であって、さらに、前記複数の分析物センサ素子の少なくとも１つの上に蓋層を形成するステップを有し、前記蓋層が、化学エッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリング、スパッタリング、蒸着、イオンビーム補助蒸着、化学蒸着、溶着、はんだ付けまたはろう付けを含む方法によって作製される１つ以上の３次元の形体を有することを特徴とする方法。