【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射を提供する１つ以上の第１装置であって、該放射がサンプルに向かう少なくとも１つの第１電磁放射及び参照部に向かう少なくとも１つの第２の電磁放射を含み、時間経過につれて周波数が変化する前記放射を提供する第１装置と、
前記少なくとも１つの第１電磁放射に関連した１つ以上の第３放射と、前記少なくとも１つの第２電磁放射に関連した１つ以上の第４放射との間の干渉を検出するように構成された１つ以上の第２装置と、を備え、
前記１つ以上の第２装置が、前記干渉における少なくとも１つの周波数成分の１つ以上の位相に関連した特定の信号を得るように構成されて、該特定の信号を、少なくとも１つの特定の情報と比較する機能をもつ装置。
【請求項２】
少なくとも１つの前記特定の情報が予め定められたデータを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記１つ以上の第２装置が、前記干渉における少なくとも１つの別の周波数成分についての１つ以上の別位相と関連した追加信号を定量化するように構成され、少なくとも１つの前記特定の情報が前記追加信号である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記１つ以上の第２装置が、別の干渉における少なくとも１つの別の周波数成分についての１つ以上の別位相と関連した追加信号を定量化するように構成され、前記別の干渉が前記干渉とは異なり、少なくとも１つの前記特定の情報が前記追加信号である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記別の干渉が前記放射及び前記少なくとも１つの第２電磁放射に基づく、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記干渉及び前記別の干渉が異なる時間に得られる、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記干渉及び前記別の干渉がサンプルの異なる位置で得られる、請求項４に記載の装置。
【請求項８】
１つ以上の第３装置が、前記放射に関連した追加信号を生成するように構成され、前記１つ以上の第２装置が、前記追加信号に基づいて前記特定の情報を提供するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記１つ以上の第３装置が干渉計装置を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記放射の少なくとも一部を受けて別の放射を提供するように構成した第３装置を更に備え、前記特定の信号又は前記特定の情報の少なくとも１つが前記別の放射と関連している、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記１つ以上の第２装置が、追加信号に基づいて前記特定の信号の較正を行うように構成された、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記較正が、サンプルと前記第１装置との間の実際の距離又は光学距離のうち、少なくとも１つに基づいて行われる、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記１つ以上の第２装置が、サンプルと前記第１装置との間の実際の距離又は光学距離のうち、少なくとも１つに基づいて、前記特定の信号の較正を行うように構成された、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
放射を提供する１つ以上の第１装置であって、該放射がサンプルアームに向かう少なくとも１つの第１電磁放射及びリファレンスアームに向かう少なくとも１つの第２電磁放射を含み、時間経過につれて周波数が変化する前記放射を提供する第１装置と、
前記少なくとも１つの第１電磁放射に関連した１つ以上の第３放射と、前記少なくとも１つの第２電磁放射に関連した１つ以上の第４放射との間の干渉を検出するように構成された１つ以上の第２装置であって、（ｉ）前記干渉における少なくとも１つの周波数成分および(ｉｉ)サンプルに関連した特定の信号を得るように構成された第２装置と、
前記放射の少なくとも一部を受けて、別の放射を提供するように構成した１つ以上の第３装置と、を備え、前記１つ以上の第２装置が、別の放射に基づいて前記特定の信号の較正を行うように構成され、前記別の放射は前記サンプルのあらゆる特性から独立している、装置。
【請求項１５】
前記１つ以上の第３装置が前記サンプルアームに設けられた、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
サンプルに向かう少なくとも１つの第１電磁放射及び参照部に向かう少なくとも１つの第２の電磁放射を含む放射であって、時間経過につれて周波数が変化する放射を提供し、
前記少なくとも１つの第１電磁放射に関連した１つ以上の第３放射と、前記少なくとも１つの第２電磁放射に関連した１つ以上の第４放射との間の干渉を検出し、
前記干渉における少なくとも１つの周波数成分の１つ以上の位相に関連した特定の信号を取得し、
前記特定の信号を、少なくとも１つの特定の情報と比較すること、を含む方法。
【請求項１７】
少なくとも１つの前記特定の情報が予め定められたデータを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記干渉における少なくとも１つの別の周波数成分についての１つ以上の別位相と関連した追加信号を定量化し、少なくとも１つの前記特定の情報が前記追加信号であることをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
別の干渉における少なくとも１つの別の周波数成分についての１つ以上の別位相と関連した追加信号を定量化し、前記別の干渉が前記干渉とは異なり、少なくとも１つの前記特定の情報が前記追加信号であることをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記別の干渉が前記放射及び前記少なくとも１つの第２電磁放射に基づく、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記干渉及び前記別の干渉を異なる時間に得る、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記干渉及び前記別の干渉をサンプルの異なる位置で得る、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
前記放射と関連した追加信号を生成し、
前記追加信号に基づいて前記特定の情報を提供することを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
前記特定の信号が干渉計信号である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記放射の少なくとも一部を受けて別の放射を提供することを更に含み、前記特定の信号又は前記特定の情報の少なくとも１つが前記別の放射と関連している、請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】
追加信号に基づいて前記特定の信号を較正することを更に含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記較正を、サンプルと特定の装置との間の実際の距離又は光学距離のうち、少なくとも１つに基づいて行う、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
サンプルと特定の装置との間の実際の距離又は光学距離のうち、少なくとも１つに基づいて、前記特定の信号を較正することを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２９】
サンプルアームに向かう少なくとも１つの第１電磁放射及びリファレンスアームに向かう少なくとも１つの第２電磁放射を含む放射であって、時間経過につれて周波数が変化する放射を提供し、
前記少なくとも１つの第１電磁放射に関連した１つ以上の第３放射と、前記少なくとも１つの第２電磁放射に関連した１つ以上の第４放射との間の干渉を検出し、
（ｉ）前記干渉における少なくとも１つの周波数成分および(ｉｉ)サンプルに関連した特定の信号を取得し、
前記放射の少なくとも一部を受けて、別の放射を提供し、
前記別の放射に基づいて前記特定の信号を較正し、前記別の放射が前記サンプルのあらゆる特性から独立していること、を含む方法。
【請求項３０】
前記放射の少なくとも一部を前記サンプルアームで受ける、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
サンプルから受けた放射の第１分割部と関連した少なくとも１つの第１放射と、参照部から受けた放射の第２分割部との間の干渉を検出するように構成された１つ以上の装置を備え、
前記放射の周波数が時間経過につれて変化し、前記１つ以上の装置が、前記干渉における少なくとも１つの周波数成分についての１つ以上の位相に関連した特定の信号を得るように構成され、該特定の信号を少なくとも１つの特定の情報と比較する機能を有するシステム。
【請求項３２】
サンプルから受けた放射の第１分割部と関連した少なくとも１つの第１放射と、参照部から受けた放射の第２分割部との間の干渉を検出するように構成された１つ以上の第１装置であって、前記干渉における１つ以上の周波数成分に関連した特定の信号を取得するように構成された第１装置と、
前記放射の少なくとも一部を受けて、別の放射を提供するように構成した１つ以上の第２装置を備え、
前記１つ以上の第１装置が、前記別の放射に基づいて前記特定の信号の較正を行うように構成され、前記別の放射が前記サンプルのあらゆる特性から独立している、システム。
【請求項３３】
前記１つ以上の第１装置が、前記放射の前記第１分割部と前記第２分割部との間の前記干渉に対応する追加信号を検出するように構成され、前記特定の信号が、前記追加信号の少なくとも１つの周波数成分の少なくとも１つの位相に関連する、請求項３２に記載の装置。
【請求項３４】
前記１つ以上の第１装置が、前記放射の前記第１分割部と前記第２分割部との間の前記干渉に対応する追加信号を検出するように構成され、前記特定の信号が、前記追加信号の少なくとも１つの周波数成分の少なくとも１つの位相に関連する、請求項３１に記載の装置。
【請求項３５】
前記１つ以上の第２装置が、前記少なくとも１つの第２放射と第３放射との間の前記干渉に対応する追加信号を検出するように構成され、前記特定の信号が、前記追加信号の少なくとも１つの周波数成分の少なくとも１つの位相と関連する、請求項１に記載の装置。
【請求項３６】
前記１つ以上の第２装置が、前記少なくとも１つの第２放射と第３放射との間の前記干渉に対応する追加信号を検出するように構成され、前記特定の信号が、前記追加信号の少なくとも１つの周波数成分の少なくとも１つの位相と関連する、請求項１４に記載の装置。
【請求項３７】
前記少なくとも１つの第２放射と第３放射との間の前記干渉に対応する追加信号を検出することをさらに含み、前記特定の信号が、前記追加信号の少なくとも１つの周波数成分の少なくとも１つの位相と関連する、請求項１６に記載の方法。
【請求項３８】
前記少なくとも１つの第２放射と第３放射との間の前記干渉に対応する追加信号を検出することをさらに含み、前記特定の信号が、前記追加信号の少なくとも１つの周波数成分の少なくとも１つの位相と関連する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３９】
前記１つ以上の第３装置が、前記１つ以上の第２装置に少なくとも一部を直接反射するように配置されるミラーを備える、請求項１４に記載の方法。
【請求項４０】
前記別の放射が、前記サンプルから前記１つ以上の第２装置に与えられた放射の強度の半分未満である強度を有する、請求項１４に記載の方法。
【請求項４１】
前記別の放射が、前記サンプルから与えられた放射の強度の半分未満である強度を有する、請求項２９に記載の方法。
【請求項４２】
前記１つ以上の第２装置が、前記１つ以上の第１装置に少なくとも一部を直接反射するように配置されるミラーを備える、請求項３２に記載の方法。
【請求項４３】
前記別の放射が、前記サンプルから前記１つ以上の第１装置に与えられた放射の強度の半分未満である強度を有する、請求項３２に記載の方法。