【手続補正書】
【提出日】平成21年6月26日(2009.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化１】
2007530687.tif 000001
を調製するための大規模プロセスであって：
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成し；
該プロセスは：
（ａ）式（ＩＩ）のホウ素「アート」錯体：
【化２】
2007530687.tif 000002
を提供する工程であって、
Ｙは離核性基であり；
Ｍ＋が陽イオンであり；そして
Ｒ１〜Ｒ５の各々が上記に規定されるとおりである工程と；
（ｂ）式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物が得られる条件下で接触させる工程であって、該接触工程は
（ｉ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；もしくは
（ｉｉ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；
を含む反応混合中で行われる工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項２】
前記反応混合物が配位性共溶媒を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記配位共溶媒がテトラヒドロフラン、ジオキサン、水およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記配位共溶媒が、前記反応混合物の約２０％（ｖ／ｖ）以下を構成する、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
前記配位共溶媒が、前記反応混合物の約１５％（ｖ／ｖ）以下を構成する、請求項３に記載のプロセス。
【請求項６】
水との低混和性を有する前記エーテル溶媒中の水の溶解度が約２％（ｗ／ｗ）未満である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項７】
水との低混和性を有する前記エーテル溶媒が、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルエチルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルメチルエーテル、イソプロピルエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
水との低混和性を有する前記エーテル溶媒が前記反応混合物の少なくとも約７０％（ｖ／ｖ）を構成する、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体の少なくとも約５モルが工程（ａ）で提供される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体の少なくとも約２０モルが工程（ａ）で提供される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体の少なくとも約５０モルが工程（ａ）で提供される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】
式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体の少なくとも約１００モルが工程（ａ）で提供される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記ルイス酸が、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第二鉄および臭化第二鉄からなる群より選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ルイス酸が湿性である、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
請求項１３に記載のプロセスであって、前記工程（ａ）において、式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体が、水との低混和性を有するエーテル溶媒を含む溶液中に提供され、かつ前記接触工程（ｂ）が：
（ｉ）ルイス酸とテトラヒドロフランとを含む溶液を提供する工程と；
（ｉｉ）工程（ａ）由来の式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体の溶液に対してルイス酸溶液を添加する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項１６】
請求項１３に記載のプロセスであって、前記工程（ａ）において、式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体が、水との低混和性を有するエーテル溶媒を含む溶液中で提供され、かつ前記接触工程（ｂ）が以下の工程：
（ｉ）ルイス酸と水とを含む溶液を提供する工程と；
（ｉｉ）工程（ａ）由来の式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体の溶液に対してルイス酸溶液を添加する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項１７】
Ｙがハロゲンである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１８】
Ｙがクロロである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１９】
Ｒ１がＣ１−８脂肪族、Ｃ６−１０アリール、または（Ｃ６−１０アリール）（Ｃ１−６脂肪族）である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２０】
Ｍ＋がＬｉ＋、Ｎａ＋、およびＫ＋からなる群より選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２１】
Ｒ４およびＲ５が、介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、必要に応じて置換された５員の環を形成する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項２２】
Ｒ４およびＲ５が一緒になって、キラル部分である、請求項２１に記載のプロセス。
【請求項２３】
式（ＩＩ）の前記ホウ素「アート」錯体が：
【化３】
2007530687.tif 000003
である、請求項２２に記載のプロセス。
【請求項２４】
請求項２２に記載のプロセスであって、前記工程（ｂ）が式（Ｉ）の前記ボロン酸エステル化合物を提供し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３を保有する炭素原子が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分中のキラル中心に対して少なくとも約９６：４のジアステレオマー比を有するキラル中心である、プロセス。
【請求項２５】
請求項２２に記載のプロセスであって、前記工程（ｂ）が式（Ｉ）の前記ボロン酸エステル化合物を提供し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３を保有する炭素原子が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分中のキラル中心に対して少なくとも約９７：３のジアステレオマー比を有するキラル中心である、プロセス。
【請求項２６】
以下の特徴：
（ａ）前記接触工程（ｂ）がｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを含む反応混合物中で行われる；
（ｂ）前記ルイス酸が塩化亜鉛である；
（ｃ）式（ＩＩ）のボロン酸エステルの少なくとも約５モルが工程（ａ）で提供される；
（ｄ）前記接触工程（ｂ）が約−６０℃〜約−３０℃の範囲の反応温度で行なわれる；
（ｅ）前記ルイス酸が湿性である；
（ｆ）Ｙがクロロである；
（ｇ）Ｒ３がクロロである；
（ｈ）Ｒ２が水素である；そして
（ｉ）Ｒ１がＣ１−４脂肪族である；
のうちの少なくとも１つによって特徴付けられる、請求項２２に記載のプロセス。
【請求項２７】
前記特徴（ａ）〜（ｉ）のうちの少なくとも２つによって特徴付けられる、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記特徴（ａ）〜（ｉ）のうちの少なくとも３つによって特徴付けられる、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記特徴（ａ）〜（ｉ）のうちの８つ全てによって特徴付けられる、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項３０】
請求項２４に記載のプロセスであって、さらに：
（ｃ）水溶液を用いて前記反応混合物を洗浄する工程と；
（ｄ）該洗浄された反応混合物を溶媒の除去によって濃縮して、式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物を含む残渣を得る工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項３１】
請求項３０に記載のプロセスであって、前記残渣が、式（Ｉ）の前記ボロン酸エステル化合物の少なくとも約５モルを含む、プロセス。
【請求項３２】
請求項３１に記載のプロセスであって、前記残渣中に存在する式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分におけるキラル中心に対して、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３を保有する炭素原子で少なくとも約９６：４のジアステレオマー比を有する、プロセス。
【請求項３３】
請求項３１に記載のプロセスであって、前記残渣中に存在する式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分におけるキラル中心に対して、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３を保有する炭素原子で少なくとも約９７：３のジアステレオマー比を有する、プロセス。
【請求項３４】
水と低混和性を有するエーテル溶媒、および式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化４】
2007530687.tif 000004
の少なくとも約１０モルを含む組成物であって：
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基もしくは芳香族基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成する、組成物。
【請求項３５】
水と低混和性を有するエーテル溶媒、および式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化５】
2007530687.tif 000005
の少なくとも約１０モルを含む組成物であって：
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基もしくは芳香族基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成し；
ここで、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が結合される炭素原子が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分におけるキラル中心に対して、少なくとも約９６：４のジアステレオマー比を有するキラル中心である、組成物。
【請求項３６】
水と低混和性を有するエーテル溶媒、および式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化６】
2007530687.tif 000006
の少なくとも約１０モルを含む組成物であって：
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基もしくは芳香族基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素およびホウ素と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成し；
ここで、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が結合される炭素原子が、少なくとも約９６：４のエピマー性比を有するキラル中心である、組成物。
【請求項３７】
前記エーテル溶媒中の水の溶解度が約２％（ｗ／ｗ）未満である、請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３８】
前記エーテル溶媒が、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルエチルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルメチルエーテル、イソプロピルエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３９】
Ｒ１がＣ１−８脂肪族、Ｃ６−１０アリール、または（Ｃ６−１０アリール）（Ｃ１−６脂肪族）である、請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４０】
以下の特徴：
（ａ）Ｒ３がクロロである；
（ｂ）Ｒ２が水素である；そして
（ｃ）Ｒ１がＣ１−４脂肪族である；
のうちの少なくとも１つによって特徴付けられる、請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４１】
Ｒ４およびＲ５が、介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、必要に応じて置換された５員の環を形成する、請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４２】
式（Ｉ）の前記化合物：
【化７】
2007530687.tif 000007
である、請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４３】
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化８】
2007530687.tif 000008
の少なくとも約１０モルを含む組成物であって：
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環のキラル環を形成し；
ここで、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が結合される炭素原子が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分におけるキラル中心に対して、少なくとも約９６：４のジアステレオマー比を有する、キラル中心であって、
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物が該組成物の少なくとも約７０％（ｗ／ｗ）を構成する、組成物。
【請求項４４】
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物の少なくとも約２０モルを含む、請求項３６に記載の組成物。
【請求項４５】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が結合される炭素原子が、Ｒ４−Ｒ５キラル部分におけるキラル中心に対して、少なくとも約９７：３のジアステレオマー比を有する、請求項３６に記載の組成物。
【請求項４６】
前記組成物に存在する式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物の全てが単回バッチの試行で生成される、請求項３６に記載の組成物。
【請求項４７】
前記組成物に存在する式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物の全てが請求項１に記載のプロセスの単回バッチの試行で生成される、請求項３６に記載の組成物。
【請求項４８】
以下の特徴：
（ａ）Ｒ３がクロロである；
（ｂ）式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物が：
【化９】
2007530687.tif 000009
である；
（ｃ）Ｒ２が水素である；そして
（ｄ）Ｒ１がＣ１−４脂肪族である；
のうちの少なくとも１つが存在する、請求項３６に記載の組成物。
【請求項４９】
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化１０】
2007530687.tif 000010
を調製するための大規模プロセスであって、
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成し；
該プロセスは：
（ａ）以下；
（ｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル：
【化１１】
2007530687.tif 000011
であって、Ｒ１、Ｒ４およびＲ５が上記のとおりであるボロン酸エステル；ならびに
（ｉｉ）水との低混和性を有するエーテル溶媒；
を含む溶液を提供する工程と、
（ｂ）式（ＩＶ）の試薬；
【化１２】
2007530687.tif 000012
を用いて該溶液を処理して、式（ＩＩ）のホウ素「アート」錯体：
【化１３】
2007530687.tif 000013
を形成する工程であって
Ｙが離核性基であり；
Ｍ＋が陽イオンであり；そして
Ｒ１〜Ｒ５の各々が上記のとおりである工程と；
（ｃ）式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物が得られる条件下で接触させる工程であって、該接触工程は
（ｉ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；もしくは
（ｉｉ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；
を含む反応混合中で行われる工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項５０】
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化１４】
2007530687.tif 000014
を調製するための大規模プロセスであって、
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成し；
該プロセスは：
（ａ）以下；
（ｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル：
【化１５】
2007530687.tif 000015
であって、Ｒ１、Ｒ４およびＲ５が上記のとおりであるボロン酸エステル；
（ｉｉ）式（Ｖ）の化合物：
【化１６】
2007530687.tif 000016
であって、Ｙが離核性基であり、かつＲ２およびＲ３が上記のとおりである化合物；ならびに
（ｉｉｉ）溶媒であって、
（ａａ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；もしくは
（ｂｂ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；を含む溶媒；
を含む溶液を提供する工程と；
（ｂ）工程（ａ）の溶液を強力な、立体的に干渉される塩基を用いて処理して、式（ＩＩ）のホウ素「アート」錯体：
【化１７】
2007530687.tif 000017
を形成する工程であって
Ｍ＋が該塩基由来の陽イオンであり、かつＹおよびＲ１〜Ｒ５の各々が上記のとおりである工程と；
（ｃ）式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを、水との低混和性を有するエーテル溶媒を含む溶液中で接触させて、式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項５１】
式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化１８】
2007530687.tif 000018
を調製するための大規模プロセスであって、
Ｒ１が必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；
Ｒ２が水素、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；
Ｒ３が、離核性基、または必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５が一緒になって、２〜５個の炭素原子、ならびにＯ、ＮおよびＳからなる群より選択された０〜２個のヘテロ原子を含む、必要に応じて置換された連結している鎖を形成し；
該プロセスは：
（ａ）以下；
（ｉ）式（ＶＩ）のボロン酸化合物：
【化１９】
2007530687.tif 000019
であって、Ｒ１が上記のとおりであるボロン酸化合物と；
（ｉｉ）式ＨＯ−Ｒ４−Ｒ５−ＯＨの化合物であって、Ｒ４およびＲ５が上記のとおりである、化合物；および
（ｉｉｉ）水との共沸混合物を形成する有機溶媒；
を含む溶液を提供する工程と；
（ｂ）水の共沸除去をしながら、工程（ａ）の溶液を加熱還流して、Ｒ１、Ｒ４およびＲ５が上記のとおりである式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル
【化２０】
2007530687.tif 000020
を形成する工程と：
（ｃ）以下；
（ｉ）式（ＩＩＩ）のボロン酸エステル：
（ｉｉ）式（Ｖ）の化合物：
【化２１】
2007530687.tif 000021
であって、Ｙが離核性基であり、かつＲ２およびＲ３が上記のとおりである化合物；ならびに
（ｉｉｉ）溶媒であって、
（ａａ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；もしくは
（ｂｂ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；を含む溶液を提供する工程と；
（ｄ）工程（ｃ）由来の溶液を強力な、立体的に干渉される塩基を用いて処理して、式（ＩＩ）のホウ素「アート」錯体：
【化２２】
2007530687.tif 000022
を形成する工程であって
Ｍ＋が該塩基由来の陽イオンであり、かつＹおよびＲ１〜Ｒ５の各々が上記のとおりである工程と；
（ｅ）式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを、水との低混和性を有するエーテル溶媒を含む溶液中で接触させて、式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項５２】
前記立体的に干渉される塩基が式Ｍ２Ｎ（Ｒ＃）２のアルカリ金属ジアルキルアミド塩基であり、Ｍ２が、Ｌｉ、ＮａおよびＫからなる群より選択され、そして各々のＲ＃が独立して分枝したまたは環状のＣ３−６脂肪族である、請求項５０または５１に記載のプロセス。
【請求項５３】
工程（ａ）における前記有機溶媒が、アセトニトリル、トルエン、ヘキサン、ヘプタンおよびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項５１に記載のプロセス。
【請求項５４】
請求項５１に記載のプロセスであって、工程（ａ）の有機溶媒が水との低混和性を有するエーテル溶媒である、プロセス。
【請求項５５】
工程（ａ）および（ｃ）における溶液が各々同じエーテル溶媒を含む、請求項５４に記載のプロセス。
【請求項５６】
工程（ｂ）が式（ＩＩＩ）のボロン酸エステルを含む生成物溶液を提供し、そして工程（ｂ）由来の該生成物溶液が、式（ＩＩＩ）のボロン酸エステルの単離なしに工程（ｃ）において用いられる、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５７】
式（ＶＩＩ）のアミノボロン酸エステル化合物：
【化２３】
2007530687.tif 000023
またはその酸付加塩を調製するための大規模プロセスであって、
Ｒ１が、必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５の各々が独立して、必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基もしくは芳香族複素環基であるか；またはＲ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、Ｎ、ＯもしくはＳから選択された０〜２個のさらなる環のヘテロ原子を有する、必要に応じて置換された５員環〜１０員環の環を形成し；
該プロセスは：
（ａ）式（ＩＩ）のホウ素「アート」錯体：
【化２４】
2007530687.tif 000024
であって
Ｙが離核性基であり；
Ｍ＋が陽イオンであり；
Ｒ２が水素であり；
Ｒ３は離核性基であり；かつ
Ｒ１、Ｒ４およびＲ５の各々が上記のとおりである錯体を提供する工程と；
（ｂ）式（ＩＩ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを、Ｒ１〜Ｒ５の各々が上記のとおりである式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物：
【化２５】
2007530687.tif 000025
が得られる条件下で接触させる工程であって、該接触工程は、
（ｉ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；または
（ｉｉ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；
を含む反応混合物中で行われる工程と；
（ｃ）式（Ｉ）のボロン酸エステル化合物を、Ｍ１がアルカリ金属であって、各々のＲ６が独立してアルキル、アラルキルおよびアリールからなる群より選択され、該アラルキルのアリールまたはアリール部分は必要に応じて置換されている式Ｍ１−Ｎ（Ｓｉ（Ｒ６）３）２の試薬を用いて処理して、式Ｍ１−Ｒ３の副生成物ならびに各々のＧが−Ｓｉ（Ｒ６）３でありかつＲ１〜Ｒ５が上記のとおりである式（ＶＩＩＩ）の化合物：
【化２６】
2007530687.tif 000026
を形成する工程と；
（ｄ）該Ｇ基を除去して、式（ＶＩＩ）の化合物：
【化２７】
2007530687.tif 000027
またはその酸付加塩を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項５８】
工程（ｃ）における前記反応混合物が、有機溶媒を含み、前記副生成物Ｍ１−Ｒ３が低溶解度を有する、請求項５７に記載のプロセス。
【請求項５９】
Ｍ１がＬｉでありかつＲ３がＣｌである請求項５８に記載のプロセス。
【請求項６０】
工程（ｃ）における前記反応混合物が、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ヘキサン、トルエンおよびそれらの混合物からなる群より選択される有機溶媒を含む、請求項５９に記載のプロセス。
【請求項６１】
工程（ｃ）における前記反応が、約−１００℃〜約５０℃の範囲の反応温度で行われる、請求項５７に記載のプロセス。
【請求項６２】
前記反応温度が、約−５０℃〜約２５℃の範囲内である、請求項６１に記載のプロセス。
【請求項６３】
前記反応温度が、約−３０℃〜約０℃の範囲内である、請求項６１に記載のプロセス。
【請求項６４】
工程（ｄ）が、酸を用いて式（ＶＩＩＩ）の化合物を処理する工程と、酸付加塩として式（ＶＩＩ）の化合物を単離する工程とを包含する、請求項５７に記載のプロセス。
【請求項６５】
前記酸がトリフルオロ酢酸である、請求項６４に記載のプロセス。
【請求項６６】
工程（ｃ）が前記反応混合物を濾過して、式（ＶＩＩＩ）の化合物を含む濾液を提供する工程をさらに包含する、請求項５７に記載のプロセス。
【請求項６７】
工程（ｃ）において式Ｍ１−Ｎ（Ｓｉ（Ｒ６）３）２の前記試薬が、テトラヒドロフランを含む溶液として反応混合物に添加され、かつ工程（ｃ）がさらに、該反応物を濾過する前に該テトラヒドロフランを除去する工程を包含する、請求項６６に記載のプロセス。
【請求項６８】
前記濾液が工程（ｄ）において直接用いられる、請求項６６に記載のプロセス。
【請求項６９】
請求項５７に記載のプロセスであって、さらに以下の工程：
（ｅ）式（ＶＩＩ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物：
【化２８】
2007530687.tif 000028
であって、
Ｐ１がアミノ基ブロッキング部分であり；
Ｒ７が水素、Ｃ１−１０脂肪族、必要に応じて置換されたＣ６−１０アリール、またはＣ１−６脂肪族−Ｒ８からなる群より選択され；そして
Ｒ８がアルコキシ、アルキルチオ、必要に応じて置換されたアリール、ヘテロアリール、およびヘテロシクリル基、および必要に応じて保護されたアミノ、ヒドロキシおよびグアニジノ基からなる群より選択され；そして
ＸがＯＨまたは脱離基である、化合物；
とをカップリングさせて、各々のＰ１、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５およびＲ７が上記のとおりである式（Ｘ）の化合物：
【化２９】
2007530687.tif 000029
を形成する工程を包含する、プロセス。
【請求項７０】
Ｐ１が切断可能な保護基である、請求項６９に記載のプロセス。
【請求項７１】
請求項７０に記載のプロセスであって、さらに以下の工程：
（ｆ）保護基Ｐ１を切断して、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５およびＲ７の各々が上記のとおりである式（ＸＩ）の化合物：
【化３０】
2007530687.tif 000030
またはその酸付加塩を形成する工程と；
（ｇ）式（ＸＩ）の化合物と、Ｐ２がアミノ基ブロッキング部分であって、Ｘが脱離基である式Ｐ２−Ｘの試薬とをカップリングさせて、Ｐ２、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５およびＲ７の各々が上記のとおりである式（ＸＩＩ）の化合物：
【化３１】
2007530687.tif 000031
を形成する工程と；
（ｈ）ボロン酸部分を脱保護して、Ｐ１、Ｒ１およびＲ７の各々が上記のとおりである式（ＸＩＩＩ）の化合物：
【化３２】
2007530687.tif 000032
またはそのボロン酸無水物を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項７２】
式（ＶＩＩａ）または（ＶＩＩｂ）のアミノボロン酸エステル化合物：
【化３３】
2007530687.tif 000033
またはその酸付加塩を調製するための大規模プロセスであって、
Ｒ１が、必要に応じて置換された脂肪族基、芳香族基または芳香族複素環基であり；そして
Ｒ４およびＲ５が介在する酸素原子およびホウ素原子と一緒になって、必要に応じて置換されたキラル環状ボロン酸エステルを形成し；
該プロセスは：
（ａ）式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）のホウ素「アート」錯体：
【化３４】
2007530687.tif 000034
であって、
Ｙが離核性基であり；
Ｍ＋が陽イオンであり；
Ｒ２が水素であり；
Ｒ３は離核性基であり；かつ
Ｒ４およびＲ５が上記のとおりである錯体を提供する工程と；
（ｂ）式（ＩＩａ）または（ＩＩｂ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを、Ｒ１〜Ｒ５の各々が上記のとおりである式（Ｉａ）または（Ｉｂ）のボロン酸エステル化合物：
【化３５】
2007530687.tif 000035
が得られる条件下で接触させる工程であって、該接触工程は、
（ｉ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；または
（ｉｉ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；
を含む反応混合物中で行われる工程と；
（ｃ）式（Ｉａ）または（Ｉｂ）のボロン酸エステル化合物を、Ｍ１がアルカリ金属であって、かつ各々のＧがアミノ基保護部分である式Ｍ１−Ｎ（Ｇ）２の試薬を用いて処理して、各々のＧおよびＲ１〜Ｒ５が上記のとおりである式（ＶＩＩＩａ）または（ＶＩＩＩｂ）の化合物：
【化３６】
2007530687.tif 000036
を形成する工程と；
（ｄ）該Ｇ基を除去して、式（ＶＩＩａ）または（ＶＩＩｂ）の化合物：
【化３７】
2007530687.tif 000037
またはその酸付加塩を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項７３】
式（ＸＩＶ）の化合物：
【化３８】
2007530687.tif 000038
またはそのボロン酸無水物を形成するための大規模プロセスであって、該プロセスが：
（ａ）  Ｒ３が離核性基であり；
Ｙが離核性基であり；かつ
Ｍ＋がアルカリ金属である式（ＸＶ）のホウ素「アート」錯体：
【化３９】
2007530687.tif 000039
を提供する工程と；
（ｂ）式（ＸＶ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを、式（ＸＶＩ）のボロン酸エステル化合物：
【化４０】
2007530687.tif 000040
が得られる条件下で接触させる工程であって、該接触工程は、水との低混和性を有するエーテル溶媒を含む反応混合物中で行われる工程と；
（ｃ）式（ＸＶＩ）のボロン酸エステル化合物を、Ｍ１がアルカリ金属であって、かつ各々のＧが個々にまたは一緒になって、アミノ基保護基である式Ｍ１−Ｎ（Ｇ）２の試薬を用いて処理して、式（ＸＶＩＩ）の化合物：
【化４１】
2007530687.tif 000041
を形成する工程と；
（ｄ）該Ｇ基を除去して、式（ＸＶＩＩＩ）の化合物：
【化４２】
2007530687.tif 000042
またはその酸付加塩を形成する工程と；
（ｅ）式（ＸＶＩＩＩ）の化合物と、
Ｐ１が切断可能なアミノ基保護部分であり；かつ
ＸがＯＨまたは脱離基である
式（ＸＩＸ）の化合物：
【化４３】
2007530687.tif 000043
とをカップリングさせて、Ｐ１が上記のとおりである式（ＸＸ）の化合物：
【化４４】
2007530687.tif 000044
を形成する工程と；
（ｆ）保護基Ｐ１を除去して、式（ＸＸＩ）の化合物：
【化４５】
2007530687.tif 000045
またはその酸付加塩を形成する工程と；
（ｇ）式（ＸＸＩ）の化合物と、ＸがＯＨまたは脱離基である式（ＸＸＩＩ）の試薬：
【化４６】
2007530687.tif 000046
とをカップリングさせて、式（ＸＸＩＩＩ）の化合物：
【化４７】
2007530687.tif 000047
を形成する工程と；
（ｈ）該ボロン酸部分を脱保護して、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項７４】
請求項７３に記載のプロセスであって、以下の特徴（１）〜（５）のうちの少なくとも１つによって特徴付けられる、プロセス：
（１）式（ＸＶ）のホウ素「アート」錯体において、Ｒ３およびＹの両方がクロロである；
（２）前記カップリング工程（ｅ）が、以下の工程：
（ｉ）式（ＸＶＩＩＩ）の化合物と、ＸがＯＨである式（ＸＩＸ）の化合物とを、ジクロロメタン中に含まれる２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）および三級アミンの存在下においてカップリングさせる工程と；
（ｉｉ）酢酸エチルでジクロロメタンを置換するように溶媒交換を行う工程と；
（ｉｉｉ）酢酸エチル溶液の水洗浄を行う工程と；を包含する；
（３）前記保護基除去工程（ｆ）が以下の工程：
（ｉ）酢酸エチルに含まれるＨＣｌを用いて式（ＸＸ）の化合物を処理する工程と；
（ｉｉ）該反応混合物に対してヘプタンを添加する工程と；
（ｉｉｉ）式（ＸＸＩ）の化合物を結晶化することによってそのＨＣｌ付加塩として単離する工程と；を包含する；
（４）前記カップリング工程（ｇ）が以下の工程：
（ｉ）式（ＸＸＩ）の化合物と２−ピラジン−カルボン酸とを、ジクロロメタン中にＴＢＴＵおよび三級アミンの存在下でカップリングさせる工程と；
（ｉｉ）酢酸エチルでジクロロメタンを置換するように溶媒交換を行う工程と；
（ｉｉｉ）酢酸エチル溶液の水洗浄を行う工程と；を包含する；
（５）前記ボロン酸脱保護工程（ｈ）が以下の工程：
（ｉ）式（ＸＸＩＩＩ）の化合物と、有機ボロン酸アクセプターと、低級アルカノールと、Ｃ５−８炭化水素溶媒と無機酸水溶液とを含む二相性混合物を提供する工程と；
（ｉｉ）該二相性混合物を撹拌して式（ＸＩＶ）の化合物を得る工程と；
（ｉｉｉ）該溶媒層を分離する工程と；
（ｉｖ）式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物を有機溶媒中に抽出する工程と；を包含する。
【請求項７５】
５つの特徴（１）〜（５）の全てによって特徴付けられる、請求項７４に記載のプロセス。
【請求項７６】
請求項７４に記載のプロセスであって、工程（ｈ）（ｉｉｉ）が：
（１）前記溶媒層を分離する工程と；
（２）前記水層を塩基性のｐＨに調節する工程と；
（３）有機溶媒を用いて該水層を洗浄する工程と；
（４）約８未満のｐＨまで該水層を調節する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項７７】
工程（ｈ）（ｉｉｉ）（３）において、前記水層がジクロロメタンで洗浄される、請求項７６に記載のプロセス。
【請求項７８】
請求項７６に記載のプロセスであって、工程（ｈ）（ｉｖ）において、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物が、ジクロロメタン中に抽出され、前記溶媒が酢酸エチルに交換され、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物が、ヘキサンまたはヘプタンの添加によって結晶化される、プロセス。
【請求項７９】
ヘキサンまたはヘプタンの添加が式（ＸＸＩＶ）の環状三量体ボロン酸無水物：
【化４８】
2007530687.tif 000048
の結晶化を生じる、請求項７８に記載のプロセス。
【請求項８０】
式（ＸＩＶ）の化合物：
【化４９】
2007530687.tif 000049
またはそのボロン酸無水物を形成するための大規模プロセスであって、以下の工程：
（ａａ）式（ＸＶＩＩＩ）の化合物：
【化５０】
2007530687.tif 000050
またはその酸付加塩と、
Ｐ１が切断可能なアミノ基保護部分であり；かつ
ＸがＯＨまたは脱離基である；
式（ＸＩＸ）の化合物
【化５１】
2007530687.tif 000051
とをカップリングさせて、Ｐ１が上記のとおりである式（ＸＸ）の化合物：
【化５２】
2007530687.tif 000052
を形成する工程であって、該カップリング工程（ａａ）が以下の工程：
（ｉ）式（ＸＶＩＩＩ）の化合物と、ＸがＯＨである式（ＸＩＸ）の化合物とを、ジクロロメタン中に含まれる２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）および三級アミンの存在下においてカップリングさせる工程と；
（ｉｉ）酢酸エチルでジクロロメタンを置換するように溶媒交換を行う工程と；
（ｉｉｉ）酢酸エチル溶液の水洗浄を行う工程と；を包含する、工程と；
（ｂｂ）該保護基Ｐ１を除去して式（ＸＸＩ）の化合物：
【化５３】
2007530687.tif 000053
またはその酸付加塩を形成する工程であって、該保護基除去工程（ｂｂ）が以下の工程：
（ｉ）酢酸エチルに含まれるＨＣｌを用いて式（ＸＸ）の化合物を処理する工程と；
（ｉｉ）該反応混合物に対してヘプタンを添加する工程と；
（ｉｉｉ）式（ＸＸＩ）の化合物をそのＨＣｌ付加塩として結晶化することによって単離する工程と；を包含する工程と；
（ｃｃ）該式（ＸＸＩ）の化合物と、ＸがＯＨまたは脱離基である式（ＸＸＩＩ）の試薬
【化５４】
2007530687.tif 000054
とをカップリングさせて、式（ＸＸＩＩＩ）の化合物：
【化５５】
2007530687.tif 000055
を形成する工程であって、該カップリング工程（ｃｃ）が以下の工程：
（ｉ）式（ＸＸＩ）の化合物と２−ピラジンカルボン酸とを、ジクロロメタン中にＴＢＴＵおよび三級アミンの存在下でカップリングさせる工程と；
（ｉｉ）酢酸エチルでジクロロメタンを置換するように溶媒交換を行う工程と；
（ｉｉｉ）酢酸エチル溶液の水洗浄を行う工程と；を包含する工程と；
（ｄｄ）該ボロン酸部分を脱保護して、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物を形成する工程であって、該脱保護工程（ｄｄ）が以下の工程：
（ｉ）式（ＸＸＩＩＩ）の化合物と、有機ボロン酸アクセプター、低級アルカノール、Ｃ５−８炭化水素溶媒および無機酸水溶液を含む二相性混合物を提供する工程と；
（ｉｉ）該二相性混合物を撹拌して式（ＸＩＶ）の化合物を得る工程と；
（ｉｉｉ）該溶媒層を分離する工程と；
（ｉｖ）式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物を有機溶媒中に抽出する工程と；を包含する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項８１】
請求項８０に記載のプロセスであって、工程（ｄｄ）（ｉｉｉ）が：
（１）前記溶媒層を分離する工程と；
（２）前記水層を塩基性のｐＨに調節する工程と；
（３）有機溶媒を用いて該水層を洗浄する工程と；
（４）約８未満のｐＨまで該水層を調節する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項８２】
工程（ｄｄ）（ｉｖ）において、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物が、ジクロロメタン中に抽出され、前記溶媒が酢酸エチルに交換され、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物が、ヘキサンまたはヘプタンの添加によって結晶化される、請求項８１に記載のプロセス。
【請求項８３】
請求項８２に記載のプロセスであって、ヘキサンまたはヘプタンの添加が式（ＸＸＩＶ）の環状三量体ボロン酸無水物：
【化５６】
2007530687.tif 000056
の結晶化を生じる、プロセス。
【請求項８４】
式（ＸＩＶ）の化合物：
【化５７】
2007530687.tif 000057
またはそのボロン酸無水物を形成するための大規模プロセスであって、該プロセスは以下の工程：
（ａ）式（ＸＶ）のホウ素「アート」錯体：
【化５８】
2007530687.tif 000058
を提供する工程であって、
Ｒ３が離核性基であり；
Ｙが離核性基であり；かつ
Ｍ＋がアルカリ金属である、工程と；
（ｂ）式（ＸＶ）の該ホウ素「アート」錯体とルイス酸とを式（ＸＶＩ）のボロン酸エステル化合物：
【化５９】
2007530687.tif 000059
を得る条件下で接触させる工程であって、該接触工程が：
（ｉ）水との低混和性を有する配位性エーテル溶媒；または
（ｉｉ）水との低混和性を有するエーテル溶媒および配位性共溶媒；
を含む反応混合物中で行われる、工程と；
（ｃ）式（ＸＶＩ）の該ボロン酸エステル化合物を、式Ｍ１−Ｎ（Ｓｉ（Ｒ６）３）２の試薬であって、Ｍ１がアルカリ金属であり、かつＲ６が独立して、アルキル、アラルキルおよびアリールからなる群より選択され、ここで該アラルキルのアリール部分またはアリール部分が必要に応じて置換された試薬を用いて処理して、式（ＸＶＩＩ）の化合物：
【化６０】
2007530687.tif 000060
を形成する工程と；
（ｄ）該（Ｒ６）３Ｓｉ基を除去して、式（ＸＶＩＩＩ）の化合物：
【化６１】
2007530687.tif 000061
またはその酸付加塩を形成する工程と；
（ｅ’）式（ＸＶＩＩＩ）の化合物と、ＸがＯＨまたは脱離基である式（ＸＩＸａ）の化合物
【化６２】
2007530687.tif 000062
とをカップリングさせて、式（ＸＸＩＩＩ）の化合物
【化６３】
2007530687.tif 000063
を形成する工程と：
（ｆ’）ボロン酸部分を脱保護して、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物を形成する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項８５】
請求項８４に記載のプロセスであって、以下の特徴（１）〜（３）：
（１）式（ＸＶ）のホウ素「アート」錯体において、Ｒ３およびＹの両方がクロロである；
（２）前記カップリング工程（ｅ’）が、以下の工程：
（ｉ）式（ＸＶＩＩＩ）の化合物と、ＸがＯＨである式（ＸＩＸａ）の化合物とを、ジクロロメタン中に含まれる２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）および三級アミンの存在下においてカップリングさせる工程と；
（ｉｉ）酢酸エチルでジクロロメタンを置換するように溶媒交換を行う工程と；
（ｉｉｉ）酢酸エチル溶液の水洗浄を行う工程と；を包含する；
（３）前記ボロン酸脱保護工程（ｆ’）が以下の工程：
（ｉ）式（ＸＸＩＩＩ）の化合物、有機ボロン酸アクセプター、低級アルカノール、Ｃ５−８炭化水素溶媒および無機酸水溶液を含む二相性混合物を提供する工程と；
（ｉｉ）該二相性混合物を撹拌して式（ＸＩＶ）の化合物を得る工程と；
（ｉｉｉ）該溶媒層を分離する工程と；
（ｉｖ）式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物を有機溶媒中に抽出する工程と；を包含する；
のうちの少なくとも１つによって特徴付けられる、プロセス。
【請求項８６】
請求項８５に記載のプロセスであって、工程（ｆ’）（ｉｉｉ）が：
（１）前記溶媒層を分離する工程と；
（２）前記水層を塩基性のｐＨに調節する工程と；
（３）有機溶媒を用いて該水層を洗浄する工程と；
（４）約８未満のｐＨまで該水層を調節する工程と；
を包含する、プロセス。
【請求項８７】
工程（ｆ’）（ｉｉｉ）（３）において、前記水層がジクロロメタンで洗浄される、請求項８６に記載のプロセス。
【請求項８８】
請求項８６に記載のプロセスであって、工程（ｆ’）（ｉｖ）において、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物が、ジクロロメタン中に抽出され、前記溶媒が酢酸エチルに交換され、式（ＸＩＶ）の化合物またはそのボロン酸無水物が、ヘキサンまたはヘプタンの添加によって結晶化される、プロセス。
【請求項８９】
ヘキサンまたはヘプタンの添加が式（ＸＸＩＶ）の環状三量体ボロン酸無水物：
【化６４】
2007530687.tif 000064
の結晶化を生じる、請求項８８に記載のプロセス。
【請求項９０】
式（ＸＸＩＶ）の化合物：
【化６５】
2007530687.tif 000065
の少なくとも１キログラムを含む組成物であって、式（ＸＸＩＶ）の該化合物が、請求項７３または８０に記載のプロセスに従って調製される、組成物。
【請求項９１】
式（ＸＸＩＶ）の化合物
【化６６】
2007530687.tif 000066
の少なくとも１キログラムを含む組成物であって、式（ＸＸＩＶ）の該化合物が、該組成物の少なくとも９９％（ｗ／ｗ）を構成する、組成物。