Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均一次粒径０．７μｍ以下のシリカを含み、
前記シリカの含有量が１０質量％から４０質量％である射出成形用液晶性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の射出成形用液晶性樹脂組成物を射出成形してなり、金型表面粗さＲａと、成形体表面粗さＲａと、の表面粗さの差が０．１ｍｍ以下である成形体。
【請求項３】
前記表面粗さの差が、０．０３ｍｍ以下である請求項２に記載の成形体。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の成形体からなるカメラモジュール。
【請求項５】
平均一次粒径５μｍ以下のシリカを含み、前記シリカの含有量が１０〜４０質量％である射出成形用液晶性樹脂組成物を成形してなり、
金型表面粗さＲａと成形体表面粗さＲａとの表面粗さの差が０．１ｍｍ以下であり、超音波洗浄された成形体。
【請求項６】
請求項５に記載の成形体からなるカメラモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月24日(2011.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンは、機械的強度、剛性、耐熱性、耐薬品性、耐油性、透明性、低温での耐衝撃性等に優れており、これらの特性を利用して、フィルム、シート、ボトル等の包装材料・被覆材料、または壁紙等の装飾材料として広く用いられている。しかし、ポリオレフィンは分子中に極性基を含まないため、金属、ガラス、紙、または、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアクリレートなどの極性樹脂との相溶性、極性樹脂や接着性が乏しく、これらの材料とブレンドして利用したり、積層して利用したりすることが困難であるという問題があった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このような問題を解決するために、従来ポリオレフィンに極性基含有モノマーをグラフトして、極性樹脂との親和性を向上させる方法が広く行われている。例えば、ラジカル発生能を有する過酸化物存在下、ポリオレフィンに無水マレイン酸や（メタ）アクリル酸エステル類などの極性基含有ビニルモノマーをグラフトさせる方法などが一般に広く用いられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
マレイン酸（またはその無水物）に代表される不飽和カルボン酸化合物をグラフト変性したポリオレフィンは、金属、紙、極性熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などとの接着剤、相溶化剤として広く一般的に用途展開されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
＜オレフィン系重合体中での変性プロピレン重合体（Ｐ）の溶解性評価方法＞
測定機器：透過型電子顕微鏡Ｈ−７６５０（日立製作所製）
前処理：検体にトリミングによる面出しを施し試料とし、次いで試料をＲｕＯ4で染色
を行い、凍結させた試料から超薄切片を作成し、カーボン補強を行い、測定試料とした。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
有機溶剤型接着剤として使用する場合には、変性プロピレン重合体（Ｐ）またはオレフィン系重合体組成物（Ｓ）を溶解可能な有機溶剤と混合し、特定の温度で完全に溶解させ、次いで、溶液を常温まで冷却して、変性重合体（Ｐ）などを粒子状態で析出させ、有
機溶剤中に分散させることにより得られる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
本発明の積層体（Ｔ）は、積層フィルム（シート）に限らず、中空容器、カップ、トレー等の種々公知の形状を有する。
本発明の積層体（Ｔ）は、前記変性プロピレン重合体（Ｐ）または変性プロピレン重合体を含むオレフィン系重合体組成物（Ｓ）からなる層（Ｌ）を有するので、層間接着性に優れ、しかも、たとえば８０〜１２５℃という高温で積層体（Ｔ）を加熱処理しても、層間接着力の低下を防止し得る積層体（Ｔ）が得られる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本発明の積層体（Ｔ）として、三層以上の積層体とする場合は、少なくとも基材層（Ｑ）の一層を形成する樹脂として、樹脂中に極性基を有する樹脂を用いる場合、特に、基材層（Ｑ）の一層を樹脂中に極性基を有する樹脂を用い、他の一層をポリオレフィンなどの非極性の樹脂を用いた場合にも、層間接着性に優れた積層体（Ｔ）が得られる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。
変性プロピレン重合体（Ｐ）の極限粘度［η］、グラフト化ＧＭＡ含量、非グラフト化ＰＧＭＡ含量、Ｍｗ／Ｍｎの測定法は以下に示す方法で決定した。
（１）極限粘度（［η］、単位：ｄｌ／ｇ）は、「高分子溶液、高分子実験学１１」（１９８２年共立出版株式会社刊）第４９１頁に記載の計算方法、すなわち、還元粘度を濃度に対しプロットし、濃度をゼロに外挿する外挿法によって求めた。溶媒としてテトラリンを用い、温度１３５℃で測定した。
（２）グラフト化ＧＭＡ含量は、1Ｈ−ＮＭＲ測定によるピーク強度比より求めた。測定条件は以下の通り。
溶媒 ： ｏ−ジクロロベンゼン−ｄ4
測定温度： １２０℃、
積算回数： ６４回以上。
（３）非グラフト化ＰＧＭＡ含量は、ソックスレー抽出装置を用い、アセトン溶媒にて１６時間溶媒を還流後、抽出されたＰＧＭＡの重量（Ｘ１）と仕込み量（Ｘ２）より求めた。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
［実施例１］
滴下ロート、攪拌棒を取り付けたガラス製反応器に、三井化学（株）社製プロピレン重合体（商品名 三井ハイワックス，ＮＰ８０５，Ｍｖ（粘度平均分子量）＝２９０００ｇ／ｍｏｌ，密度９００ｋｇ／ｍ3，融点１５２℃）；１００重量部およびクロロベンゼン
；８８３重量部を入れ、１２０℃まで昇温することで、プロピレン重合体を均一溶解させた。この高温溶液に、メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）；６０重量部と１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；６重量部の混合溶液を４時間かけて滴下した。滴下後、更に２時間１２０℃にて攪拌させた後、６０℃まで冷却させた反応溶液を、アセトン；３０００重量部のアセトンに注ぎ、重合体を析出させた。析出した重合体を桐山ロートで濾別することで、メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）がグラフト化した変性プロピレン重合体とポリメタクリル酸グリシジル（ＰＧＭＡ）（非グラフト化ＰＧＭＡ）を分離した。ロート上の変性プロピレン重合体を、減圧下（６．６７ｋＰａ）、８０℃にて一晩乾燥させることで、ＧＭＡ変性プロピレン重合体（Ｐ−１）を得た。得られた変性プロピレン重合体（Ｐ−１）の極限粘度［η］、ＧＭＡのグラフト量、非グラフト化ＰＧＭＡ含量およびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
［比較例４］
ＧＭＡのグラフト化後の反応溶液を、大量のアセトンで処理せずに、溶剤（クロロベンゼン）を減圧留去する以外は、実施例２と同様な操作を行い変性プロピレン重合体（Ｐ−１０）を得た。得られた変性プロピレン重合体（Ｐ−１０）の極限粘度［η］、ＧＭＡのグラフト量、非グラフト化ＰＧＭＡ含量およびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
【表１】
2010106069.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月26日(2010.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断熱材で構成され、内部に貯蔵室を形成する箱本体と、前記箱本体の開口部に開閉自在に取り付けられる扉体と、前記箱本体内の空気を冷却し冷気を生成する冷却手段と、前記貯蔵室と前記冷却手段との間で前記冷気が循環する冷気循環経路とを備える冷蔵庫であって、光触媒が担持される担持体と、前記光触媒を励起する励起光を前記担持体に照射する照射手段とを有する除菌装置を前記冷気循環経路中に備え、前記担持体は、平板状であり、面積の広い面の法線が前記冷気の流通方向と交差するように配置される冷蔵庫。
【請求項２】
前記除菌装置は、貯蔵室内に取り付けられ、前記除菌装置を覆う第１カバー部材を備える請求項１に記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記除菌装置は、貯蔵室内に取り付けられ、前記照射手段を覆う第２カバー部材を備える請求項２に記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記除菌装置は、前記照射部材と前記第１カバー部材との間に前記担持体が配置され、前記第１カバー部材は、前記第１カバー部材に突設され、前記担持体を支持する支持部材と、前記第１カバー部材と前記担持体とを所定の間隔で維持する突起とを備える請求項２に記載の冷蔵庫。
【請求項５】
前記除菌装置はさらに、前記第１カバー部材と所定の距離を隔てて配置される第３カバー部材を備える請求項２に記載の冷蔵庫。
【請求項６】
前記第１カバー部材は、前記貯蔵室内部と前記除菌装置の内部とを連通する連通孔を備える請求項２に記載の冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記従来の課題を解決するために、本発明に係る冷蔵庫は、断熱材で構成され、内部に
貯蔵室を形成する箱本体と、前記箱本体の開口部に開閉自在に取り付けられる扉体と、前記箱本体内の空気を冷却し冷気を生成する冷却手段と、前記貯蔵室と前記冷却手段との間で前記冷気が循環する冷気循環経路とを備える冷蔵庫であって、光触媒が担持される担持体と、前記光触媒を励起する励起光を前記担持体に照射する照射手段とを有する除菌装置を前記冷気循環経路中に備え、前記担持体は、平板状であり、面積の広い面の法線が前記冷気の流通方向と交差するように配置される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明に係る冷蔵庫は、断熱材で構成され、内部に貯蔵室を形成する箱本体と、前記箱本体の開口部に開閉自在に取り付けられる扉体と、前記箱本体内の空気を冷却し冷気を生成する冷却手段と、前記貯蔵室と前記冷却手段との間で前記冷気が循環する冷気循環経路とを備える冷蔵庫であって、光触媒が担持される担持体と、前記光触媒を励起する励起光を前記担持体に照射する照射手段とを有する除菌装置を前記冷気循環経路中に備え、担持体は、平板状であり、面積の広い面の法線が前記冷気の流通方向と交差するように配置される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
これによって、循環する冷気が脱臭、除菌されるため、脱臭、除菌効果を冷蔵庫内の広範囲に及ぼすことができ、冷蔵庫内を低臭、除菌状態で維持することが可能となり、さらに循環する冷気の風路抵抗を高めにくい状態で除菌を行うことができる。また、担持体の面と冷気の流通方向が略平行となって冷気が担持体を舐めるように通過するため、担持体と冷気との接触量を多く確保することが可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月24日(2011.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記自己反応性の物質が、過酸化ベンゾイル、メチルケトンバーオキサイド、硝酸メチル、硝酸エチル、ニトログリセリン、ニトロセルロース、ピクリン酸、トリニトロトルエン、ジニトロペンタメチレンテトラミン、アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニトロフェノール、硝酸ヒドラジン、硝酸グアニジン及びアジ化ナトリウムから選択された少なくとも１種である請求項７に記載の情報取得装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
自己反応性の物質は、同一分子内に可燃性部分と酸素供給部分が共存する物質（化合物を含む）であり、外部刺激の付与により急激な酸化反応（例えば爆発）を生じる物質である。このような自己反応性の物質には、有機過酸化物、硝酸エステル類、ニトロ化合物、ニトロソ化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物及びヒドラジン誘導体を挙げることができ、これらから選択した少なくとも１種を用いることができる。これらの自己反応性の物質としては以下の具体例を更に挙げることができる。
・有機過酸化物
過酸化ベンゾイル及びメチルケトンバーオキサイド
・硝酸エステル類
硝酸メチル、硝酸エチル、ニトログリセリン及びニトロセルロース
・ニトロ化合物、ニトロソ化合物
ピクリン酸、トリニトロトルエン及びジニトロペンタメチレンテトラミン
・アゾ化合物、ジアゾ化合物
アゾビスイソブチロニトリル及びジアゾニトロフェノール
・ヒドラジン誘導体
硝酸ヒドラジン、硝酸グアニジン及びアジ化ナトリウム
これらの中では少なくともニトロセルロースを用いることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
最初に、試料作成について述べる。基板としては不純物を含まないシリコン基板をアセトンおよび脱イオン水の順番で洗浄し、Auを１００ｎｍ成膜させたものを用いた。ＳＩＧＭＡ社より購入したMethionine Enkephalinamide（C27H36N6O6S （平均分子量：572.7）、以下ではEnkephalinと記載）の10μM水溶液を、脱イオン水を用いて調製した。この水溶液を、マイクロピペッターを用いて、前記Au付きシリコン基板上にスポッティングし（スポット径約10mm）、自然乾燥して基板上にEnkephalinの薄膜を作成した。この薄膜位置に重ねて０．１％のニトロセルロースを溶解させたアセトン溶液２μｌを、マイクロピペッターを用いてスポッティングした（スポット径約5mm）。この基板を自然乾燥した後、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析に用いた。この時、ニトロ化合物の特性で白い膜が表面を覆うため試料は白濁するが、これは測定には好適である。逆に、ＭＡＬＤＩのマトリックス剤などは結晶化や凝集を起こしやすく、１次ビームが試料に到達できず２次イオンが生成されないなどの問題が多く発生する。また、比較対照のサンプルとして、ニトロセルロースを含まないアセトン溶液を用意して、上記と同様にEnkephalin薄膜上にスポッティングした試料を作成した。また、溶媒のアセトンは、ニトロセルロースを容易に溶かすことが可能といった理由によりこの実験で用いた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
一次イオン：２５ｋｅＶ  Ｇａ+、２．４ｐＡ（パルス電流値）、sawtoothスキャンモード
一次イオンのパルス周波数：３．３ｋＨｚ（３００μｓ／ｓｈｏｔ）
一次イオンパルス幅：約０．８ｎｓ
一次イオンビーム直径：約３μｍ
測定領域：３００μｍ×３００μｍ
二次イオン像のｐｉｘｅｌ数：１２８×１２８
積算時間：約４００秒
このような条件で正および負の二次イオン質量スペクトルを測定した。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月22日(2011.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
例えば、ＨＴＬＶ−１に感染していない健常人３２名の血液中に含まれるｓＣＤ３０濃度を測定した際の平均値±ＳＤが３８．７±２８．０Ｕ／ｍＬである場合は、健常人のｓＣＤ３０濃度を規定する基準値としては、平均値＋２ＳＤである、９４．７Ｕ／ｍＬと規定することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
くすぶり型又は慢性型ＡＴＬ患者における急性転化は基準値を基に判定することができ、該患者より採取された試料中のＣＤ３０濃度そのものからも、該ＣＤ３０濃度の基準値に対する割合からも判定することができる。くすぶり型又は慢性型ＡＴＬ患者より採取された試料中のＣＤ３０濃度の基準値に対する割合は、２．０以上、好ましくは３．０以上、より好ましくは４．０以上である。また、くすぶり型又は慢性型ＡＴＬ患者より採取された試料中のＣＤ３０濃度の基準値は、４００Ｕ／ｍＬ以上、好ましくは６００Ｕ／ｍＬ以上、より好ましくは８００Ｕ／ｍＬ以上である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
インフォームドコンセントを得たＡＴＬ患者７症例（患者Ａ、Ｂ、Ｅ、Ｖ、Ｗ、ＡＦ、Ｇ）について、骨髄移植前のｓＣＤ３０濃度およびｓＩＬ−２Ｒ濃度を測定し、移植後の患者の状態を観察した。その結果を第４表〜第１０表、および第２図〜第８図に示す。第４表〜第１０表における移植後日数とは、移植日を基準（０日）とした時の相対的な日数を示す。また、化学療法（先がダイヤ型の矢印）、ＣＨＯＰ療法（実線矢印）、前処理（点線矢印）が施された日を、図に矢印で示した。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月27日(2011.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位置測定システムであって、
ターゲットパターンのサブセットの画像を取得するように適合されたイメージセンサと、
前記画像からのピクセル値の行の合計を表わす第１の画像ベクトルと、前記画像からのピクセル値の列の合計を表わす第２の画像ベクトルとを生成する働きをするプログラマブルロジックデバイス（ＰＬＤ）と、
を備え、
前記ＰＬＤは前記ターゲットパターンの原点に対して少なくとも二次元のサブセットの絶対位置を前記画像ベクトルから測定するように構成される、位置測定システム。
【請求項２】
前記ＰＬＤに接続され、前記ＰＬＤの動作パラメータを入力するように適合されたコントローラをさらに備える、請求項１に記載の位置測定システム。
【請求項３】
前記ＰＬＤに接続され、前記ＰＬＤからデータを受け取り、前記データに基づいて前記位置測定システムの動作パラメータのステータスを判断するように適合されたコントローラをさらに備える、請求項１に記載の位置測定システム。
【請求項４】
前記ＰＬＤはフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）を備える、請求項１に記載の位置測定システム。
【請求項５】
前記ＦＰＧＡは少なくとも２つのコアをさらに備え、前記コアの各々は次元のそれぞれ１つに対する絶対位置を測定する働きをする、請求項４に記載の位置測定システム。
【請求項６】
前記ＦＰＧＡに埋め込まれたコントローラをさらに備え、前記ＦＰＧＡに動作パラメータを入力するか、または前記ＦＰＧＡからのデータを受け取って前記データに基づいて前記位置測定システムの動作パラメータのステータスを判断するか、あるいはこれらの両方を行うように適合される、請求項４に記載の位置測定システム。
【請求項７】
前記ＰＬＤにデータを提供するように適合される他のＰＬＤをさらに備える、請求項１に記載の位置測定システム。
【請求項８】
前記コアの各々は前記ＦＰＧＡで作成されるソフトウェアコアである、請求項５に記載の位置測定システム。
【請求項９】
前記コントローラはソフトウェアに埋め込まれる、請求項６に記載の位置測定システム。
【請求項１０】
前記コアはそれぞれの次元の絶対位置を同時に測定する、請求項５に記載の位置測定システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月4日(2011.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体液中の被分析物を測定するための分析装置と試験片マガジン（１３４）とを有する分析システム（３００）であって、
再利用可能な要素のグループ（１２０）と廃棄可能な要素のグループ（１４０）とを備え、電子素子を有しない要素（１３２、１３４）と電子素子要素（１１０、１１２、１３６）とを有し、前記電子素子を有しない要素（１３２、１３４）は、切離し点（３０２）において切離し可能であることを特徴とする分析システム。
【請求項２】
前記廃棄可能な要素のグループ（１４０）は、コーディング手段（１３０）が統合されている測定電子素子（１１０）を有することを特徴とする請求項１記載の分析システム（３００）。
【請求項３】
前記コーディング手段（１３０）は、電子メモリチップの形態であることを特徴とする請求項２記載の分析システム（３００）。
【請求項４】
測定周辺素子（１１２）と試験片マガジン（１３４）の間の第１のクリティカルインターフェイス（１５０）が、前記廃棄可能な要素のグループ（１４０）内に配置されていることを特徴とする請求項１記載の分析システム（３００）。
【請求項５】
前記測定電子素子（１１０）と前記測定周辺素子（１１２）の間の第２のクリティカルインターフェイス（１６０）は、前記廃棄可能な要素のグループ（１４０）内に配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の分析システム（３００）。
【請求項６】
前記試験片マガジン（１３４）と前記測定周辺素子（１１２）の間、
前記測定周辺素子（１１２）と前記測定電子素子（１１０）の間、および前記測定電子素子（１１０）と少なくとも１つのエネルギー貯蔵要素の間の少なくとも１つのクリティカルインターフェイス（１５０、１６０）は、
前記分析システム（３００）の製造時に、製造・検査されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の分析システム（３００）。
【請求項７】
測定電子素子（１１０）と測定周辺素子（１１２）は、未使用の廃棄可能な要素のグループ（１４０）を用いて、取付け時に更新できることを特徴とする請求項１記載の分析システム（３００）。
【請求項８】
前記分析装置の前記再利用可能な要素のグループ（１２０）は、再利用可能なディスプレイ（１０４）、ディスプレイ制御部（１０６）および演算電子素子（１０８）を備えた装置の筐体（１０２）を有することを特徴とする請求項１記載の分析システム（３００）。
【請求項９】
前記測定周辺素子（１１２）は、試験片供給部（１３４）に収容されていて、ヒトの体液で濡らすことができる試験片を光学的に評価するための光学評価システムを内蔵することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の分析システム（３００）。
【請求項１０】
前記測定周辺素子（１１２）は、前記試験片供給部（１３４）に収容されていて、ヒトの体液で濡らすことができる試験片を電気化学的に評価するための電気化学評価システム、とりわけ電流計または電位差計を内蔵することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の分析システム（３００）。
【請求項１１】
前記試験片マガジン（１３４）と前記測定周辺素子（１１２）の間の前記第１のクリティカルインターフェイス（１５０）と、前記測定周辺素子（１１２）と前記測定電子素子（１１０）の間の前記第２のクリティカルインターフェイス（１６０）とは、製造時に接続される要素に配置されていることを特徴とする請求項４または５記載の分析システム（３００）。
【請求項１２】
前記廃棄可能な要素のグループ（１４０）の一部である少なくとも１つのエネルギー貯蔵要素（１３６）を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の分析システム（３００）。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのエネルギー貯蔵要素（１３６）は、前記廃棄可能な要素のグループ（１４０）の外部にある分離した廃棄可能な要素であることを特徴とする請求項１２記載の分析システム（３００）。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月25日(2011.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測位用の衛星から送出される衛星信号を受信し、該受信した衛星信号に基づく現在位置の測位演算を繰り返し実行する際の測位方法であって、
前記受信した衛星信号に基づいて、今回の測位演算に用いる衛星の組合せである衛星組を選出する衛星組選出ステップと、
前記選出された衛星組それぞれについて、当該衛星組に含まれる各衛星の衛星信号を用いて現在位置高度を含む現在位置候補を算出する衛星組別現在位置算出ステップと、
前記算出された各衛星組の現在位置高度の散布度に基づいて受信環境を判断する環境判断ステップと、
前記算出された各衛星組の現在位置候補それぞれを、前記判断された受信環境に応じた評価方法で評価する評価ステップと、
前記評価ステップによる評価結果に基づいて、前記算出された衛星組それぞれの現在位置候補の中から択一的に現在位置候補を選択し、今回の測位位置として決定する現在位置決定ステップと、
を含む測位方法。
【請求項２】
請求項１に記載の測位方法であって、
前記環境判断ステップは、前記算出された各衛星組の現在位置高度のうちの最高高度と最低高度との差により散布度を判定して、受信環境を判断するステップである測位方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の測位方法であって、
前記環境判断ステップは、マルチパス環境を含む複数の受信環境の中から択一的に受信環境を判断するステップであり、
前記評価ステップは、前記算出された各衛星組の現在位置候補それぞれについて、前記算出された当該衛星組の現在位置高度と所定の判定基準高度との差に応じて評価結果を加減して評価するとともに、前記環境判断ステップによりマルチパス環境と判断された場合には、当該加減する量を、他の受信環境と判断された場合に比べて大きくするステップである測位方法。
【請求項４】
測位用の衛星から送出される衛星信号を受信し、該受信した衛星信号に基づく現在位置の測位演算を繰り返し実行する際の測位方法であって、
前記受信した衛星信号に基づいて、今回の測位演算に用いる衛星の組合せである衛星組を選出する衛星組選出ステップと、
前記選出された衛星組それぞれについて、当該衛星組に含まれる各衛星の衛星信号を用いて現在位置高度を含む現在位置候補を算出する衛星組別現在位置算出ステップと、
前記算出された各衛星組の現在位置候補それぞれについて、前記算出された当該衛星組の現在位置高度と所定の判定基準高度との差に応じて評価結果を加減する所定の評価方法で評価する評価ステップと、
前記評価ステップによる評価結果に基づいて、前記算出された衛星組それぞれの現在位置候補の中から択一的に現在位置候補を選択し、今回の測位位置として決定する現在位置決定ステップと、
を含む測位方法。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の測位方法であって、
前記評価ステップは、前回の測位演算で決定された測位位置の高度を前記所定の判定基準高度として前記評価を行うステップである測位方法。
【請求項６】
請求項５に記載の測位方法であって、
前記評価ステップは、前回の測位演算で決定された測位位置に対応する高度を、各地域の高度が定義された所定の高度データから取得し、該取得した高度を前記所定の判定基準高度として前記評価を行うステップである測位方法。
【請求項７】
測位演算に用いる衛星の組合せである衛星組を選出する衛星組選出ステップと、
前記衛星組それぞれについて、当該衛星組に含まれる各衛星の衛星信号を用いて現在位置高度を含む現在位置候補を算出する衛星組別現在位置算出ステップと、
前記各衛星組の前記現在位置高度の散布度に基づいて受信環境を判断する環境判断ステップと、
前記各衛星組の前記現在位置候補それぞれを、前記受信環境に応じた評価方法で評価する評価ステップと、
前記評価の結果に基づいて、前記衛星組それぞれの前記現在位置候補の中から択一的に現在位置候補を選択し、測位位置として決定する現在位置決定ステップと、
を含む測位方法。
【請求項８】
測位演算に用いる衛星の組合せである衛星組を選出する衛星組選出ステップと、
前記衛星組それぞれについて、当該衛星組に含まれる各衛星の衛星信号を用いて現在位置高度を含む現在位置候補を算出する衛星組別現在位置算出ステップと、
前記各衛星組の前記現在位置候補それぞれについて、当該衛星組の前記現在位置高度と所定の判定基準高度との差に応じて評価結果を加減する所定の評価方法で評価する評価ステップと、
前記評価結果に基づいて、前記衛星組それぞれの前記現在位置候補の中から択一的に現在位置候補を選択し、測位位置として決定する現在位置決定ステップと、
を含む測位方法。
【請求項９】
測位用の衛星から送出される衛星信号を受信し、該受信した衛星信号に基づく現在位置の測位演算を行う測位装置であって、
前記受信した衛星信号に基づいて、今回の測位演算に用いる衛星の組合せである衛星組を選出する衛星組選出部と、
前記選出された衛星組それぞれについて、当該衛星組に含まれる各衛星の衛星信号を用いて現在位置高度を含む現在位置候補を算出する衛星組別現在位置算出部と、
前記算出された各衛星組の現在位置高度の散布度に基づいて受信環境を判断する環境判断部と、
前記算出された各衛星組の現在位置候補それぞれを、前記判断された受信環境に応じた評価方法で評価する評価部と、
前記評価部による評価結果に基づいて、前記算出された衛星組それぞれの現在位置候補の中から択一的に現在位置候補を選択し、今回の測位位置として決定する現在位置決定部と、
を備える測位装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】測位方法及び測位装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、測位方法及び測位装置に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月2日(2011.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記化合物が、タンパク質、ペプチド及びアミノ酸からなる群から選択される分子の帯電誘導体である、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記帯電誘導体がホスフェート基またはスルフェート基を含む、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月22日(2011.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバー走査ヘッド（２０；１２０；２２０；３２０）と、少なくとも一つの測定方向（ｘ）でこの光ファイバー走査ヘッドに対して可動なスケール（１０）の相対位置を検出するための光学位置測定装置において、
光ファイバー走査ヘッド（２０；１２０；２２０；３２０）が、特定の縞パターン周期を備えた周期的縞パターンを走査し、
この縞パターンがスケール（１０）から得られ、走査を行うために、走査板（２１；１２１；２２１；３２１）が、光ファイバー走査ヘッド（２０；１２０；２２０；３２０）内の光ファイバー（２２）のスケール側端部の前方に設けられており、
光ファイバーが縞パターン周期に同調されており、
波長に依存した局部的な分離を介して部分信号光束内の一つあるいは複数の照明光束を用いて、互いに位相シフト可能な縞パターンが、縞パターン周期内で得られること、および位置に依存した位相シフト可能な走査信号を変換するための部分信号光束が使用可能であるように構成されていることを特徴とする光学位置測定装置。
【請求項２】
光ファイバー（２２）がマルチモードファイバーとして形成されており、このマルチモードファイバーを介して、照明に使用されるスケールに向かう照明光束と同様検出に使用されるスケール（１０）から離間する部分信号光束も伝達されていることを特徴とする請求項１記載の光学位置測定装置。
【請求項３】
光ファイバー（２２）の、スケールと反対側端部には、スペクトルが広帯域の光源（２３）あるいは異なる波長（λｉ）の光線を放射する複数の光源（２３．１〜２３．３）が設けられており、それらの光線が照明光束として結合手段（２４，２５，２６）を介して各々光ファイバー内に結合されていることを特徴とする請求項２記載の光学位置測定装置。
【請求項４】
光ファイバー（２２）の、スケールと反対側端部には、検出装置（３０）が設けられており、この検出装置が、部分信号光束を波長に依存して分離するための分解手段（３１）、ならびに複数の光電子検出部材（３２．１〜３２．３）を備えており、この光電子検出部材には、分離された部分信号光束が案内可能であり、かつ検出された部分信号光束が電気的に位相シフトされた走査信号に変換されることを特徴とする請求項３記載の光学位置測定装置。
【請求項５】
走査板（１２１）が階段状の位相格子として、透明な担持基体（１２２）上に形成されており、この担持基体は格子周期内で複数の段付き部を備えており、これによりそのように基体の裏側（１２３）あるいは反射被膜（１２４）と協働して、異なる透過波長を備えた格子周期毎の複数の部分エタロンが形成され、この部分エタロンは少なくとも一つの照明光束の異なる波長（λｉ）に同調されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の光学位置測定装置。
【請求項６】
走査板（１２１）が透明な担持基体（１２２）から成り、その表面に全体的に平らに第一反射被膜（１２４）が塗布されており、この第一被膜に、過透明な誘電体から成る段付けされた位相格子構造体が設けられており、この位相格子構造体に別の第二反射被膜（１２５）が設けられていることを特徴とする請求項５に記載の光学位置測定装置。
【請求項７】
検出装置（３０）の側には、部分信号光束を波長に依存して分離するための分解手段（３１）が分散性光学部材として形成されていること、そして
さらに検出装置（３１）が部分信号光束を合焦するためのレンズ（３３）を備え、レンズ（３３）の焦点平面に検出部材（３２．１〜３２．３）が設けられており、検出部材の幅が部分エタロンのスペクトル幅に同調されていることを特徴とする請求項４または５に記載の光学位置測定装置。
【請求項８】
走査板（２２１）がその一部が分割化された、鋸歯状の表面構造を備えた楔形の板により透明な担持基体（２２２）上に形成されており、この楔形の板は同じ厚さのフィゾー干渉縞パターンを生じさせ、この場合、楔形の板のエッジ角度（Θ）が、結果として得られるフィゾー干渉縞パターンの縞間隔（Λ）がスケール（１０）により得られる縞パターン周期に相当するように選択されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の光学位置測定装置。
【請求項９】
異なるスペクトル透過特性を備えた複数の縞状の部分領域の形態の走査板（３２１）が設けられており、この部分領域が少なくとも一つの照明光束の波長（λＬＱ）に同調されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の光学位置測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月8日(2011.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）試料または試薬容器を保持するために診療用分析装置で使用される標準ラックの形状及び寸法を有するハウジング（１１）と、
（ｂ）前記ハウジング（１１）の中に収納される以下のコンポーネント、すなわち、
重量測定により体積測定をするためのロードセル（１２）と、
前記ロードセルを用いて計量される液体を受ける計量容器（１３）と、
前記計量容器（１３）を空気の流れから遮蔽する風除け（１４）と、
前記計量容器（１３）の中に収容された液体の蒸発を防止する蒸発トラップ（１５）と、
前記ハウジング（１１）内部の予め決められた点でそれぞれ温度、気圧及び湿度を検知する温度センサ（２１）、気圧センサ（３１）及び湿度センサ（４１）と、
前記ロードセル（１２）及び前記センサ（２１、３１、４１）により送られた電気出力信号を処理する電子処理ユニット（１６）と、
を含むことを特徴とする、液体の計量測定による体積測定のための装置。
【請求項２】
（ａ）計量対象である液体試料を前記ロードセル（１２）に導入し、前記ロードセル（１２）で発生した出力信号を前記電子処理ユニット（１６）へ送るステップであり、前記出力信号が前記試料の重量を表す、ステップと、
（ｂ）前記温度センサ（２１）を用いて前記ロードセル（１２）の環境の温度を測定し、前記センサで発生した出力信号を前記電子処理ユニット（１６）へ送るステップと、
（ｃ）前記気圧センサ（３１）を用いて前記ロードセル（１２）の環境の気圧を測定し、前記センサで発生した出力信号を前記電子処理ユニット（１６）へ送るステップと、
（ｄ）前記湿度センサ（４１）を用いて前記ロードセル（１２）の環境の湿度を測定し、前記センサで発生した出力信号を前記電子処理ユニット（１６）へ送るステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）までに従って発生した出力信号を前記電子処理ユニット（１６）において処理するステップであり、該処理するステップが前記ロードセル（１２）を用いて測定された前記液体試料の重量に対応する前記液体試料の体積を計算するステップを含む、ステップと、
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置を用いる液体の重量の測定により体積を測定する方法。
【請求項３】
請求項１に記載の液体の重力測定による体積測定のための装置を含む診療用分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第一の態様によれば、請求項１により定義される装置を用いて請求項２により定義される方法により上記の第一の目的が達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月28日(2010.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極から電圧が印加されることにより変形する電気活性高分子層と、
前記電気活性高分子層上で互いに離隔させて配列させた、外光を反射させる複数の反射セルを有する光反射部と、
前記光反射部の上部に互いに離隔させて配列させた、外光を遮断する複数の遮断セルを有する光遮断部と、
を備え、前記反射セル間の間隔は前記電気活性高分子層が変形することによって変わることを特徴とする電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項２】
前記反射セルは、マイクロ反射ミラーからなることを特徴とする請求項１に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項３】
前記反射セルの間に、外光を反射せずに遮断するサブ遮断セルをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項４】
前記光反射部と前記光遮断部は、同じ媒質内に備えることを特徴とする請求項１に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項５】
前記媒質は、屈折率整合剤からなることを特徴とする請求項４に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項６】
前記光遮断部は前記光反射部から離隔されて配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項７】
前記光反射部は、前記電気活性高分子層に電圧が印加されないとき、外光が前記光反射部によって反射されずに、前記光遮断部によって遮断されるように前記光反射部をなす反射セルが前記光遮断部をなす遮断セルの背面にそれぞれ対向して配置されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項８】
前記電極は、前記電気活性高分子層の下部に備わった第１電極と、上部に備わった第２電極と、を備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項９】
前記電極は、前記電気活性高分子層の変形によって共に変形する柔軟性のある材質からなることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気活性高分子を利用した反射ユニット。
【請求項１０】
複数の画素を有するフレキシブル・ディスプレイであって、
前記画素は、
電圧が印加されることにより変形する電気活性高分子層と、
前記電気活性高分子層上で互いに離隔させて配列させた、外光を反射させる複数の反射セルを有する光反射部と、
前記光反射部の上部に互いに離隔させて配列させた、外光を遮断する複数の遮断セルを有する光遮断部と、を有し、
前記反射セル間の間隔は前記電気活性高分子層が変形することによって変わることを特徴とする、フレキシブル・ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月4日(2011.5.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板のうち、一方の基板上にシール材を形成し、
前記シール材で囲まれた領域上に液晶を滴下し、
前記一対の基板を貼り合わせる前に少なくとも一方の基板にスクライブ装置の切り込み深さを設定してスクライブを行い、
減圧下で前記一対の基板の貼り合わせを行い、
貼り合わせた後、前記切り込み深さを与えた帯状領域に沿って一対の基板の分断を行う液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
一対の基板のうち、一方の基板上にシール材を形成し、
第１の減圧下で前記一方の基板を配置して前記シール材から気体成分を取り除き、
前記一対の基板を貼り合わせる前に少なくとも一方の基板にスクライブ装置の切り込み深さを設定してスクライブを行い、
前記第１の減圧とは異なる第２の減圧下で前記一対の基板の貼り合わせを行い、
貼り合わせた後、前記切り込み深さを与えた帯状領域に沿って一対の基板の分断を行う液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記第２の減圧下よりも前記第１の減圧下のほうが減圧である液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記一対の基板はガラス基板または石英基板である液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記スクライブ装置の切り込み深さは、前記スクライブを行う基板の厚さに対して２／７以上５／７未満である液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
一対の基板のうち、一方の基板上にシール材を形成し、
前記シール材で囲まれた領域上に液晶を滴下し、
少なくとも一方の基板に溝を形成し、
前記溝を形成した後に、減圧下で前記一対の基板の貼り合わせを行い、
貼り合わせた後、前記溝に沿って前記一対の基板の分断を行う液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記溝の深さは、前記溝を形成する基板の厚さに対して２／７以上５／７未満である液晶表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月5日(2011.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板にシール材を形成し、
前記シール材に第１の硬化処理を行い前記シール材の表面を硬化し、
前記第１の基板上に液晶を滴下し、
前記第１の基板と、凸部が設けられた第２の基板とを、前記シール材の未硬化領域に前記凸部が接するように貼り合わせることにより、前記液晶を前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持し、
前記シール材に第２の硬化処理を行い前記シール材の前記未硬化領域を硬化することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記凸部は、前記第２の基板を加工することにより形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記凸部は、前記凸部を形成する材料を、前記第２の基板上に成膜することにより形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１において、
前記凸部は、前記凸部を形成する材料を、接着剤を用いて前記第２の基板に貼り付けることにより形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記凸部の表面に凹凸を設けることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記第１の基板と前記第２の基板とを減圧下で貼り合わせることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記第２の硬化処理の後、加熱処理を行うことを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項８】
シール材を用いて液晶を挟持する第１の基板及び第２の基板を有し、
前記第２の基板には凸部が設けられ、
前記凸部は、前記シール材に埋め込まれていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記凸部は表面に凹凸を有する形状であることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月4日(2011.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の端子及び第２の端子を有する電気光学パネルと、
該電気光学パネルを収容する収容ケースと、
前記電気光学パネルを駆動するための第１の集積回路が形成されており、一端が前記第１の端子に接続されている第１のフレキシブル基板と、
前記電気光学パネルを駆動するための第２の集積回路が形成されており、一端が前記第２の端子に接続されている第２のフレキシブル基板と、
前記第１及び第２の集積回路が固定された放熱部材と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記放熱部材は、前記第１及び第２のフレキシブル基板の少なくとも一方を引き出すためのスリット部を有していることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の集積回路は、前記放熱部材を介して対向するように配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の集積回路は、前記第１及び第２のフレキシブル基板上で平面的に見て重ならないように、互いにずれて配置されることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記放熱部材は、その内側に空洞部を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第１及び第２の集積回路のうちいずれか一方は、前記空洞部に固定されており、他方は前記放熱部材の外表面に固定されていることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記第１及び第２の集積回路は共に、前記放熱部材の内表面に固定されていることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記第１及び第２の集積回路は共に、前記空洞部に固定されていることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記放熱部材は、前記収容ケースに固定されている、又は前記収容ケースから延在する形で前記収容ケースの少なくとも一部と一体的に形成されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記放熱部材及び前記収容ケース間には、断熱部材が介在していることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記放熱部材は、前記空洞部に冷却風を取り込むための開口部を備えることを特徴とする請求項５から１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
前記放熱部材は、前記空洞部に冷却風を取り込むためのフィンを備えることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、第１の端子及び第２の端子を有する電気光学パネルと、該電気光学パネルを収容する収容ケースと、前記電気光学パネルを駆動するための第１の集積回路が形成されており、一端が前記第１の端子に接続されている第１のフレキシブル基板と、前記電気光学パネルを駆動するための第２の集積回路が形成されており、一端が前記第２の端子に接続されている第２のフレキシブル基板と、前記第１及び第２の集積回路が固定された放熱部材とを備える。
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、外部回路接続端子部を有する電気光学パネルと、該電気光学パネルを収容する収容ケースと、前記電気光学パネルを駆動するための第１の集積回路が形成されており、一端が前記外部回路接続端子部の一部に接続されている第１のフレキシブル基板と、前記電気光学パネルを駆動するための第２の集積回路が形成されており、一端が前記外部回路接続端子部の他部に接続されている第２のフレキシブル基板と、前記第１及び第２の集積回路において発生した熱を放散するために、前記第１及び第２の集積回路が固定された放熱部材とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月6日(2011.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）三価の有機リン化合物とナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも１種との存在下で、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを反応させ、更に多塩基酸無水物を反応させることにより生成したカルボキシル基に不飽和二重結合を有するモノエポキシ化合物及び水溶性モノエポキシ化合物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）光重合開始剤並びに（Ｄ）反応性希釈剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記感光性樹脂が、前記カルボキシル基１モルに対して、前記不飽和二重結合を有するモノエポキシ化合物及び前記水溶性モノエポキシ化合物を総量で０．１５モル〜０．２５モル（但し、水溶性モノエポキシ化合物は０．０３モル未満）反応させて得られたものであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記ナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも１種を、質量基準で、三価の有機リン化合物の少なくとも４倍使用することを特徴とする請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
三価の有機リン化合物とナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも１種との存在下で、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを反応させる第一工程と、
第一工程で得られた生成物に多塩基酸無水物を反応させる第二工程と、
第二工程で得られた生成物に不飽和二重結合を有するモノエポキシ化合物及び水溶性モノエポキシ化合物を反応させる第三工程と
を含むことを特徴とする感光性樹脂の製造方法。
【請求項５】
空気を吹き込みながら前記第一工程における反応を行うことを特徴とする請求項４に記載の感光性樹脂の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を塗工し、乾燥して乾燥塗膜を得、この塗膜を露光した後、加熱することを特徴とする硬化塗膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】感光性樹脂組成物、それに用いる感光性樹脂の製造方法及び硬化塗膜の製造方法