【手続補正書】
【提出日】平成21年4月7日(2009.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン注入ツール（１０）に対して調整プロセスを実行することで、前記イオン注入ツール（１０）の少なくとも１つのツールパラメータを得るステップと、
前記調整プロセスから得た前記少なくとも１つのツールパラメータに基づいて、前記イオン注入ツール（１０）において実行されるイオン注入プロセスの欠陥検出モデル（２４）を選択するステップと、
前記選択された欠陥検出モデル（２４）を用いて、前記イオン注入ツール（１０）において実行されたイオン注入プロセスをモニタリングするステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記イオン注入ツール（１０）において、前記調整プロセスが実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記イオン注入ツール（１０）において新しいイオン注入レシピが実行されるときに、前記調整プロセスが実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記調整プロセスにより、前記イオン注入ツール（１０）に対して複数のツールパラメータが得られる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記選択された欠陥検出モデル（２４）が、複数の既存の欠陥検出モデルから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記選択された欠陥検出モデル（２４）が、前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのツールパラメータと、前記複数の欠陥検出モデルの１つにある対応するツールパラメータとの比較に基づいて、複数の欠陥検出モデルから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、注入ドーズ、注入エネルギーレベル、ビーム電流、ねじれ角度、アーク電流、アーク電圧、フィラメント電流、フィラメント電圧、ガス流量、磁石電流、引出電流、引出電圧、抑圧電流、および抑圧電圧の少なくとも１つからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記イオン注入プロセス中に少なくとも１つのツールパラメータをモニタリングするステップと、
前記モニタリングされた少なくとも１つのツールパラメータが、前記選択された欠陥検出モデルによって確立された予め選択された許容可能な制限値内にないとき、欠陥状況を明らかにするステップとをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
イオン注入ツールに対して調整プロセスを実行することで、前記イオン注入ツールの少なくとも１つのツールパラメータを得るステップと、
前記調整プロセスから得た前記少なくとも１つのツールパラメータに基づいて、前記イオン注入ツールにおいて実行されるイオン注入プロセスの欠陥検出モデルを作成するステップと、
前記作成された欠陥検出モデルを用いて、前記イオン注入ツールにおいて実行されたイオン注入プロセスをモニタリングするステップとを含む、方法。
【請求項１０】
前記イオン注入プロセス中に少なくとも１つのツールパラメータをモニタリングするステップと、
前記モニタリングされた少なくとも１つのツールパラメータが、前記作成された欠陥検出モデルによって確立された予め選択された許容可能な制限値内にないとき、欠陥状況を明らかにするステップとをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
イオン注入ツールに対して調整プロセスを実行することで、前記イオン注入ツールの少なくとも１つのツールパラメータを得るステップと、
前記イオン注入ツールにおいて実行されたイオン注入プロセスを受けた少なくとも１つの基板に形成された注入領域の履歴計測データに基づいて、前記調整プロセスから得た前記少なくとも１つのツールパラメータが許容可能であるかを決定するステップとを含む、方法。
【請求項１２】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、許容可能であると決定されれば、前記調整プロセスから得た前記少なくとも１つのツールパラメータを用いて、前記ツールにおいてイオン注入プロセスを実行するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、許容不可能であると決定されれば、前記イオン注入ツールに対して別の調整プロセスを実行するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１つのツールパラメータが許容可能であるかを決定する前記ステップが、前記少なくとも１つのツールパラメータに関連付けられた信頼性値に基づいたものである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのツールパラメータが許容可能であるかを決定する前記ステップが、前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのツールパラメータと、前記履歴計測データに関連付けられた対応するツールパラメータとの比較に基づいたものである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、許容可能であると決定されれば、前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのツールパラメータに基づいて、前記イオン注入ツールにおいて実行されるイオン注入プロセスに対する欠陥検出モデルを選択するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、許容可能であると決定されれば、前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのツールパラメータに基づいて、前記イオン注入ツールにおいて実行されたイオン注入プロセスに対する欠陥検出モデルを作成するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
イオン注入ツールに対して調整プロセスを実行することで、前記イオン注入ツールの少なくとも１つのツールパラメータを得るステップと、
前記少なくとも１つのツールパラメータと調整設定点モデルの集まりとの比較に基づいて、前記調整プロセスから得た前記少なくとも１つのツールパラメータが許容可能であるかを決定するステップとを含む、方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、許容可能であると決定されれば、前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのツールパラメータを用いて、前記ツールにおいてイオン注入プロセスを実行するステップをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記少なくとも１つのツールパラメータが、許容不可能であると決定されれば、前記イオン注入ツールに対して別の調整プロセスを実行するステップをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのパラメータが許容可能であるかを決定するステップが、前記少なくとも１つのツールパラメータが、前記調整設定点モデルの集合の選択された群の１つと一致するかを決定するステップを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのパラメータが許容可能であるかを決定するステップが、前記少なくとも１つのツールパラメータが、前記設定点モデルの集合にある前記モデルのどれとも一致しないことを決定するステップを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記少なくとも１つのツールパラメータが許容可能であるかを決定する前記ステップが、前記調整プロセスから得られた前記少なくとも１つのパラメータと、前記イオン注入ツールにおいて実行されたイオン注入プロセスを受けた少なくとも１つの基板に形成された注入領域に対する対応するツールパラメータに関連する履歴計測データとを比較するステップをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記計測データは、ドーパント濃度、ドープ領域の深さ、およびドーパント濃度プロファイルの少なくとも１つを含む、請求項１１に記載の方法。