【手続補正書】
【提出日】平成22年12月15日(2010.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンで基板を露光する露光装置であって、
前記原版を支持する原版ステージと、
前記基板を支持する基板ステージと、
前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、
前記投影光学系の収差を計測する計測系と、を備え、
前記計測系は、
前記原版ステージに配置された第１の収差計測用パターンと、
前記基板ステージに配置された第２の収差計測用パターンと、
前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるために前記原版ステージに配置された第３のパターンと、
前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるために前記基板ステージに配置された第４のパターンと、
前記第３のパターンと前記第４のパターンとの相対位置を検出する検出系と、
前記検出系によって検出された前記第３のパターンと前記第４のパターンとの相対位置に基づいて、前記第３のパターンから予め定められた距離だけ離れた位置に配置されている前記第１の収差計測用パターンと前記第４のパターンから予め定められた距離だけ離れた位置に配置されている前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御する制御器と、
を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記検出系は、前記第３のパターンと前記第４のパターンとの双方を同時に撮像し、その撮像結果から前記第３のパターンと前記第４のパターンとの相対位置を決定するＴＴＲアライメントスコープを含み、
前記制御器は、前記ＴＴＲアライメントスコープによって決定された前記第３のパターンと前記第４のパターンとの相対位置に基づいて、前記第１の収差計測用パターンと第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記検出系は、前記基板ステージに配置され、前記第３のパターンと前記第４のパターンとの双方を通過した光を検出する検出器を含み、
前記制御器は、前記検出器の出力に基づいて、前記第１の収差計測用パターンと第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記検出系は、前記第３のパターンを撮像し、その撮像結果から前記第３のパターンの位置を決定する原版アライメントスコープと、前記第４のパターンを撮像し、その撮像結果から前記第４のパターンの位置を決定する基板アライメントスコープとを含み、
前記制御器は、前記原版アライメントスコープによって決定された前記第３のパターンの位置と前記基板アライメントスコープによって決定された前記第４のパターンの位置とに基づいて、前記第１の収差計測用パターンと第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第３のパターン及び前記第４のパターンはそれぞれ複数形成されることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
原版のパターンで基板を露光する露光装置であって、
前記原版を支持する原版ステージと、
前記基板を支持する基板ステージと、
前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、
前記投影光学系の収差を計測する計測系と、を備え、
前記計測系は、
前記原版ステージに配置された第１の収差計測用パターンと、
前記基板ステージに配置された第２の収差計測用パターンと、
前記第１の収差計測用パターン及び前記第２の収差計測用パターンを撮像し、その撮像結果から前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとの相対位置を決定する検出系と、
前記検出系によって決定された前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとの相対位置に基づいて、前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御する制御器と、
を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記検出系は、前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとの双方を同時に撮像し、その撮像結果から前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとの相対位置を決定するＴＴＲアライメントスコープを含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記検出系は、前記第１の収差計測用パターンを撮像し、その撮像結果から前記第１の収差計測用パターンの位置を決定する原版アライメントスコープと、前記第２の収差計測用パターンを撮像し、その撮像結果から前記第２の収差計測用パターンの位置を決定する基板アライメントスコープとを含み、
前記制御器は、前記原版アライメントスコープによって決定された前記第１の収差計測用パターンの位置と前記基板アライメントスコープによって決定された前記第２の収差計測用パターンの位置とに基づいて、前記第１の収差計測用パターンと第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第１の側面は、原版のパターンで基板を露光する露光装置であって、前記原版を支持する原版ステージと、前記基板を支持する基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、前記投影光学系の収差を計測する計測系と、を備え、前記計測系は、前記原版ステージに配置された第１の収差計測用パターンと、前記基板ステージに配置された第２の収差計測用パターンと、前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるために前記原版ステージに配置された第３のパターンと、前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるために前記基板ステージに配置された第４のパターンと、前記第３のパターンと前記第４のパターンとの相対位置を検出する検出系と、前記検出系によって検出された前記第３のパターンと前記第４のパターンとの相対位置に基づいて、前記第３のパターンから予め定められた距離だけ離れた位置に配置されている前記第１の収差計測用パターンと前記第４のパターンから予め定められた距離だけ離れた位置に配置されている前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御する制御器と、を含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第２の側面は、原版のパターンで基板を露光する露光装置であって、前記原版を支持する原版ステージと、前記基板を支持する基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、前記投影光学系の収差を計測する計測系と、を備え、前記計測系は、前記原版ステージに配置された第１の収差計測用パターンと、前記基板ステージに配置された第２の収差計測用パターンと、前記第１の収差計測用パターン及び前記第２の収差計測用パターンを撮像し、その撮像結果から前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとの相対位置を決定する検出系と、前記検出系によって決定された前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとの相対位置に基づいて、前記第１の収差計測用パターンと前記第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくともいずれかを制御する制御器と、を含むことを特徴とする。