Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月1日(2011.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
核酸を増幅及び検出するための機器であって、少なくとも、
複数の成分、及び励起において標的が存在する場合には標的が存在しない場合とは異なる光放射を産生することが可能な検出可能なマーカーを含む、少なくとも２つの反応領域の一方に置かれた試料、
該試料を増幅及び／又は融解反応にかけるためのデバイス、ならびに
光線を放射及び検出するための装置であって、
−少なくとも２つの反応領域、
−異なるスペクトル及び波長の励起ビームを提供することが可能な少なくとも２つの励起光源を含む励起モジュール、
−少なくとも２つの第１ライトガイド（各々の第１ライトガイドは該励起光源の１つから少なくとも１つの該反応領域に放射される光線を誘導することが可能である）、
−少なくとも２つの第２ライトガイド（各々の第２ライトガイドは該反応領域の１つから発光モジュールに放射される光線を誘導することが可能である）、
−少なくとも２つの反応領域のそれぞれから別々かつ同時に放射されたビームを検出することが可能な発光モジュール（該発光モジュールは、少なくとも、２つの検出器及びロータリー・フィルター・ホイールを備え、該ロータリー・フィルター・ホイールは、少なくとも２つの第２ライトガイドと検出器の間に位置する）、及び
−該励起光源及び該発光モジュールの起動を制御することが可能な制御ユニット、
を具備する装置、
を備える機器であって、
ここで、前記励起光源の起動及び前記発光モジュールのロータリー・フィルター・ホイールの回転が電子的に連動しており、そしてここで、前記少なくとも２つの励起光源の第１励起光源が第１波長の光を放射し、該光は第１ライトガイドを介して少なくとも第１反応領域に伝えられ、そして前記少なくとも２つの励起光源の第２励起光源が、前記第１波長とは異なる第２波長の光を放射し、該光は第２ライトガイドを介して少なくとも第２反応領域に伝えられることを特徴とする各励起ビームにより、前記反応領域が励起されるときに、各々の反応領域のために前記ロータリー・フィルター・ホイールに取り付けられたフィルターの透過スペクトルが各反応領域から放射された前記光線の発光スペクトルに対応するように該ロータリー・フィルター・ホイールが回転し、前記少なくとも２つの励起光源がロータリー・ホイール上に取り付けられ、そしてここで該励起光源を有する該ロータリー・ホイールが、前記励起光源の１つが１つの規定した第１ライトガイドに光線を放射させる前記第１ライトガイドの位置に相対して回転することができ、そしてここで該ロータリー・ホイールの所定の位置への回転が、制御ユニットにより制御され、そして前記励起光源が、発光ダイオード（ＬＥＤ）であることを特徴とする、機器。
【請求項２】
前記発光ダイオードが、それぞれ異なる励起波長を示すことを特徴とする、請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記発光ダイオードを有するロータリー・ホイールの回転と前記発光モジュールのロータリー・フィルター・ホイールの回転が電子的に連動されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の機器。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の機器を使用して試料中の特定の検体を検出するための方法であって、
−少なくとも２つの検出可能なマーカーを含んで成る少なくとも２つの反応領域の１つにおいて試料を提供する工程であって、ここで各々の検出可能なマーカーがそれぞれ、各々の励起波長の光を含む励起ビームで放射されたときに検出可能な光線を放射する、工程、
−少なくとも２つの励起光源から放射された異なる波長スペクトルの励起ビームで該試料を照射する工程、及び
−検出可能なマーカーが各々の励起ビームにより励起される間、発光モジュールにより試料から放射される放射ビームを検出する工程、
を含んで成る方法。
【請求項５】
前記特定の検体が核酸であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
さらに、
−前記試料中の少なくとも１つの標的核酸を増幅及び／又は融解する工程、
を含んで成る、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
門型のフレームと、
レーザ光を発生するレーザ光源と、  
被加工部材に対向して配置され、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記被加工部材に照射する加工ヘッドと、  
前記レーザ光源と前記加工ヘッドとを接続し、強度分布を均一化しつつレーザ光を導光する光ファイバと、 
前記フレーム上で、前記レーザ光源、前記加工ヘッドおよび前記光ファイバを一体的に移動させる移動機構と
を備えるレーザリペア装置。 
【請求項２】
前記レーザ光源は、前記フレームの水平部の鉛直上方に配置され、
前記加工ヘッドは、前記フレームの側方に配置されることを特徴とする請求項１に記載のレーザリペア装置。
【請求項３】
前記移動機構は、
前記水平部の上面に設けられるガイドレールと、
前記レーザ光源及び前記加工ヘッドを支持し、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられる取付部と、
前記水平部の側面に設けられ、前記取付部を前記ガイドレールに沿って駆動する駆動手段と、
を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザリペア装置。
【請求項４】
前記取付部は、
前記レーザ光源を支持し、前記ガイドレール上を移動するように前記水平部の鉛直上方に設けられるレーザ光源取付部と、
前記加工ヘッドを支持し、前記レーザ光源支持部及び前記駆動手段に連結されるヘッド取付部と、
を備えることを特徴とする請求項３に記載のレーザリペア装置。
【請求項５】
前記光ファイバを折り曲げた状態で固定する固定手段を前記取付部に設けたことを特徴とする請求項３又は４に記載のレーザリペア装置。
【請求項６】
前記固定手段は、前記光ファイバが前記レーザ光源と前記加工ヘッドとの間で１回以上巻かれている状態に固定することを特徴とする請求項５に記載のレーザリペア装置。
【請求項７】
前記加工ヘッドが、前記被加工部材を顕微鏡観察するための対物レンズ、落射照明光源および撮像素子を備える請求項１乃至６に記載のレーザリペア装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、門型のフレームと、レーザ光を発生するレーザ光源と、被加工部材に対向して配置され、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記被加工部材に照射する加工ヘッドと、前記レーザ光源と前記加工ヘッドとを接続し、強度分布を均一化しつつレーザ光を導光する光ファイバと、前記フレーム上で、前記レーザ光源、加工ヘッドおよび光ファイバを一体的に移動させる前記移動機構とを備えるレーザリペア装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、前記ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて前記ガラス基板の表面を研磨する研磨工程を有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨砥粒はコロイダルシリカであって、ゼータ電位の絶対値が１０ｍＶ以上であり、研磨中における前記研磨液のｐＨを１〜５の範囲に保持することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨液は、無機酸又は有機酸を含有することを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項３】
前記研磨液は、無機酸および有機酸を含有することを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項４】
前記無機酸は、塩酸、硫酸、燐酸から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項２又は３に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項５】
前記有機酸は、酒石酸、マレイン酸、マロン酸から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項２乃至４の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項６】
前記研磨液中の有機酸の含有量は、０．１重量％以上０．４重量％以下であることを特徴とする請求項２乃至５の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項７】
前記研磨砥粒は、ゼータ電位が−７０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下または＋１０ｍＶ以上＋５０ｍＶ以下であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項８】
前記研磨工程後のガラス基板の表面に対して高濃度オゾン水で洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする請求項１乃至７の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項９】
前記基板は、多成分系ガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項１０】
前記基板は、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を含むガラス基板であることを特徴とする請求項９に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法により得られるマスクブランク用基板の表面上に、露光光を反射する多層反射膜を形成することを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の多層反射膜付き基板における前記多層反射膜上に、露光光の反射を防止する吸収体膜を形成することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の反射型マスクブランクの製造方法によって得られた反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜をパターニングして吸収体パターンを形成することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、前記ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて前記ガラス基板の表面を研磨する研磨工程を有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨砥粒はコロイダルシリカであって、前記研磨液のｐＨが１〜５の範囲であり、ゼータ電位の符号（極性）が−（マイナス）である研磨液を使用することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨液は、ｐＨが１〜５の範囲におけるゼータ電位の変動が、−３０ｍＶ〜０（ゼロ）の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項３】
前記研磨液は、無機酸および有機酸を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項４】
前記無機酸は、塩酸、硫酸、燐酸から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項３に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項５】
前記有機酸は、酒石酸、マレイン酸、マロン酸から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項３又は４に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項６】
前記研磨液中の有機酸の含有量は、０．１重量％以上０．４重量％以下であることを特徴とする請求項３乃至５の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項７】
前記研磨工程後の洗浄工程で使用する洗浄液として、ゼータ電位の符号（極性）が−（マイナス）である洗浄液を使用することを特徴とする請求項１乃至６の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項８】
前記基板は、多成分系ガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項９】
前記基板は、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を含むガラス基板であることを特徴とする請求項８に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一に記載のマスクブランク用基板の製造方法により得られるマスクブランク用基板の表面上に、露光光を反射する多層反射膜を形成することを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の多層反射膜付き基板における前記多層反射膜上に、露光光の反射を防止する吸収体膜を形成することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射型マスクブランクの製造方法によって得られた反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜をパターニングして吸収体パターンを形成することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼鏡フレームのフレーム形状データを入力するデータ入力手段と、フレーム形状から得られる玉型データに基づいてレンズ前面及び後面のコバ位置を検知するコバ位置検知手段とを備え、前記コバ位置検知手段の検知結果に基づいてヤゲン軌跡を求めてヤゲン加工する眼鏡レンズ加工装置において、
レンズの周縁に形成するヤゲンカーブを設定するヤゲンカーブ設定手段であって、少なくともフレーム形状データのフレームカーブに略一致するヤゲンカーブを選択するための設定画面を持つヤゲンカーブ設定手段と、
レンズのコバ上の位置に、ヤゲン軌跡を求めるための基準点となる第１点、第２点、第３点及び第４点の４つの点（ただし、対となる第１点及び第２点を通る直線ともう一方の対となる第３点及び第４点を通る直線は交差する）を設定する基準点設定手段と、
前記基準点設定手段により設定された各基準点及び前記ヤゲンカーブ設定手段により設定されたヤゲンカーブに基づいてヤゲン軌跡を演算するヤゲン軌跡演算手段であって、第１点及び第２点を結んだ第１線分の二等分点を通過してその第１線分に垂直な平面を第１平面とし、第３点及び第４点を結んだ第２線分の二等分点を通過してその第２線分に垂直な平面を第２平面としたときの前記第１平面と第２平面とが交差する交線を求め、前記ヤゲンカーブ設定手段で設定されたヤゲンカーブの半径を持つ球面（以下、ヤゲン球面）の中心が前記交線上に位置し、且つヤゲン球面が所期するコバ位置を通過するようにヤゲン球面を求め、求めたヤゲン球面と玉型データとに基づいてヤゲン軌跡を演算するヤゲン軌跡演算手段と、
を備えることを特徴とする眼鏡レンズ加工装置。
【請求項２】
請求項１の眼鏡レンズ加工装置において、前記基準点設定手段は、玉型データ及び前記コバ位置検知手段の検知結果に基づいて所定の方法により４つの点を設定する手段であることを特徴とする眼鏡レンズ加工装置。
【請求項３】
請求項２の眼鏡レンズ加工装置において、前記基準点設定手段は、前記第１線分と第２線分とが略直交する関係に設定するであることを特徴とする眼鏡レンズ加工装置。
【請求項４】
請求項２の眼鏡レンズ加工装置において、前記基準点設定手段は、４つの点のコバ上の位置を、レンズ前面からそれぞれ所定距離だけオフセットした位置、コバ厚を所定の比率で分割した位置、又は所定の比率で分割した位置をさらに所定距離だけオフセットした位置の何れかに設定することを特徴とする眼鏡レンズ加工装置。
【請求項５】
請求項１の眼鏡レンズ加工装置において、前記ヤゲン軌跡演算手段は、ヤゲン軌跡がコバ厚内に入らない場合には、コバ厚内にフレームカーブに近似したヤゲンカーブに変更し、変更後のヤゲンカーブの半径を持つヤゲン球面の中心が前記交線上に位置し、コバ厚内に入る修正ヤゲン軌跡をヤゲン球面と玉型データとに基づいて求めることを特徴とする眼鏡レンズ加工装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
（１）  眼鏡フレームのフレーム形状データを入力するデータ入力手段と、フレーム形状から得られる玉型データに基づいてレンズ前面及び後面のコバ位置を検知するコバ位置検知手段とを備え、前記コバ位置検知手段の検知結果に基づいてヤゲン軌跡を求めてヤゲン加工する眼鏡レンズ加工装置において、
レンズの周縁に形成するヤゲンカーブを設定するヤゲンカーブ設定手段であって、少なくともフレーム形状データのフレームカーブに略一致するヤゲンカーブを選択するための設定画面を持つヤゲンカーブ設定手段と、
レンズのコバ上の位置に、ヤゲン軌跡を求めるための基準点となる第１点、第２点、第３点及び第４点の４つの点（ただし、対となる第１点及び第２点を通る直線ともう一方の対となる第３点及び第４点を通る直線は交差する）を設定する基準点設定手段と、
前記基準点設定手段により設定された各基準点及び前記ヤゲンカーブ設定手段により設定されたヤゲンカーブに基づいてヤゲン軌跡を演算するヤゲン軌跡演算手段であって、第１点及び第２点を結んだ第１線分の二等分点を通過してその第１線分に垂直な平面を第１平面とし、第３点及び第４点を結んだ第２線分の二等分点を通過してその第２線分に垂直な平面を第２平面としたときの前記第１平面と第２平面とが交差する交線を求め、前記ヤゲンカーブ設定手段で設定されたヤゲンカーブの半径を持つ球面（以下、ヤゲン球面）の中心が前記交線上に位置し、且つヤゲン球面が所期するコバ位置を通過するようにヤゲン球面を求め、求めたヤゲン球面と玉型データとに基づいてヤゲン軌跡を演算するヤゲン軌跡演算手段と、
を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼鏡レンズ加工装置において、前記基準点設定手段は、玉型データ及び前記コバ位置検知手段の検知結果に基づいて所定の方法により４つの点を設定する手段であることを特徴とする。
（３）  （２）の眼鏡レンズ加工装置において、前記基準点設定手段は、前記第１線分と第２線分とが略直交する関係に設定するであることを特徴とする。
（４）  （２）の眼鏡レンズ加工装置において、前記基準点設定手段は、４つの点のコバ上の位置を、レンズ前面からそれぞれ所定距離だけオフセットした位置、コバ厚を所定の比率で分割した位置、又は所定の比率で分割した位置をさらに所定距離だけオフセットした位置の何れかに設定することを特徴とする。
（５）  （１）の眼鏡レンズ加工装置において、前記ヤゲン軌跡演算手段は、ヤゲン軌跡がコバ厚内に入らない場合には、コバ厚内にフレームカーブに近似したヤゲンカーブに変更し、変更後のヤゲンカーブの半径を持つヤゲン球面の中心が前記交線上に位置し、コバ厚内に入る修正ヤゲン軌跡をヤゲン球面と玉型データとに基づいて求めることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月10日(2010.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記食肉スライサーのスライス肉片の切り出し口付近には肉箱の揺動に連動してスライス肉片を受取る多数の針状突起を有する回転体を、針状突起の針先が切り出し口に近接するよう配設するとともに、切出されつつあるスライス肉片を針状突起の針先に向けて押し付ける押付具が取着され、前記回転体が受け取り所定の位置まで移送したスライス肉片の裏面側から剥ぎ取って搬送コンベヤまで反転移送する移送片とから構成された請求項１から４のいずれかに記載の食肉スライサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】加えて、前記食肉スライサーのスライス肉片の切り出し口付近には肉箱の揺動に連動してスライス肉片を受取る多数の針状突起を有する回転体を、針状突起の針先が切り出し口に近接するよう配設するとともに、切出されつつあるスライス肉片を針状突起の針先に向けて押し付ける押付具が取着され、前記回転体が受け取り所定の位置まで移送したスライス肉片の裏面側から剥ぎ取って搬送コンベヤまで反転移送する移送片とから構成された食肉スライサーとするも良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】  更には、前記食肉スライサーのスライス肉片の切り出し口付近には肉箱の揺動に連動してスライス肉片を受取る多数の針状突起を有する回転体を、針状突起の針先が切り出し口に近接するよう配設するとともに、切出されつつあるスライス肉片を針状突起の針先に向けて押し付ける押付具が取着され、前記回転体が受け取り所定の位置まで移送したスライス肉片の裏面側から剥ぎ取って搬送コンベヤまで反転移送する移送片とから構成された食肉スライサーとすることによって、スライス肉片の切り出し方向先端部を、前記送り込み方向に対して直交する方向にスライスするものに比して前記押付具による針状突起の針先への押付け位置に早く到達させられるので、送り込み方向に直角な高さ寸法の小さい食肉であっても乱れなく整然とした姿勢で取り出すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形形状のインク供給口と、
前記インク供給口の長手方向に沿って配列された、複数のヒータからなるヒータアレイと、
前記ヒータアレイのアレイ方向に沿って配列された、前記複数のヒータを駆動する複数のトランジスタからなるトランジスタアレイと、
前記トランジスタアレイを駆動する論理回路とを有し、
前記ヒータアレイと前記トランジスタアレイとの間に前記論理回路を配置することを特徴とするヘッド基板。
【請求項２】
前記複数のヒータを配置するピッチと前記複数のトランジスタを配置するピッチとは異なることを特徴とする請求項１に記載のヘッド基板。
【請求項３】
前記複数のトランジスタを配置するピッチを前記複数のヒータを配置するピッチより狭くし、
前記トランジスタアレイのアレイ方向に空き領域を形成することを特徴とする請求項２に記載のヘッド基板。
【請求項４】
前記複数のトランジスタと前記複数のヒータとを接続する配線を斜め配線とし、
前記斜め配線の下層に、前記論理回路を配置することを特徴とする請求項３に記載のヘッド基板。
【請求項５】
前記空き領域に、前記ヘッド基板の温度をモニタする温度センサを設けることを特徴とする請求項３に記載のヘッド基板。
【請求項６】
前記空き領域に、安定な駆動を実現するためのエネルギ調整回路を設けることを特徴とする請求項３又は５に記載のヘッド基板。
【請求項７】
前記空き領域に、外部との電気的な接続を行う電極を設けることを特徴とする請求項３又は５又は６に記載のヘッド基板。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のヘッド基板を用いた記録ヘッド。
【請求項９】
請求項８に記載の記録ヘッドと該記録ヘッドにインクを供給するためのインクが貯留されたインクタンクとを有することを特徴とするヘッドカートリッジ。
【請求項１０】
請求項８に記載の記録ヘッド或は請求項９に記載のヘッドカートリッジを用いて記録を行う記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
即ち、矩形形状のインク供給口と、前記インク供給口の長手方向に沿って配列された、複数のヒータからなるヒータアレイと、前記ヒータアレイのアレイ方向に沿って配列された、前記複数のヒータを駆動する複数のトランジスタからなるトランジスタアレイと、前記トランジスタアレイを駆動する論理回路とを有し、前記ヒータアレイと前記トランジスタアレイとの間に前記論理回路を配置することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月12日(2011.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記接着剤の塗工坪量が０．５〜２０ｇ／ｍ2 である、請求項６〜８の何れかに記載の伸縮性複合シートの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
弾性フィラメント１３は、その全長にわたって各不織布１１，１２に接合している。ここで、「その全長にわたって接合している」とは、弾性フィラメント１３と接触しているすべての繊維（不織布１１，１２の構成繊維）が、該弾性フィラメント１３と接合していることを要せず、弾性フィラメント１３に、意図的に形成された非接合部が存在しないような態様で、弾性フィラメント１３と不織布１１，１２の構成繊維とが接合されていることを言う。弾性フィラメント１３が各不織布１１，１２にその全長にわたって接合していることで、弾性フィラメント１３と各不織布１１，１２との接合力を十分に高めることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
弾性フィラメント１３は、例えば熱可塑性エラストマーやゴムなどを原料とするものである。特に熱可塑性エラストマーを原料として用いると、通常の熱可塑性樹脂と同様に押出機を用いた溶融紡糸が可能であり、またそのようにして得られたフィラメントは熱融着させやすいので、本実施形態の伸縮シートに好適である。熱可塑性エラストマーとしては、ＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレン）、ＳＩＳ（スチレン−イソプレン−スチレン）、ＳＥＢＳ（スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレン）、ＳＥＰＳ（スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン）等のスチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー（エチレン系のα−オレフィンエラストマー、エチレン・ブテン・オクテン等を共重合したプロピレン系エラストマー）、ポリエステル系エラストマー、ポリウレタン系エラストマーを挙げることができる。これらは、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。またこれらの樹脂からなる芯鞘型又はサイド・バイ・サイド型の複合繊維を用いることもできる。特にスチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、又はそれらを組み合わせて用いることが、弾性フィラメント１３の成形性、伸縮特性、コストの面で好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月13日(2011.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その上に樹脂の流路形成部材が設けられる液体吐出ヘッド用基体であって、
液体を吐出するためのエネルギーを発生する発熱抵抗体と、
前記発熱抵抗体に電気的に接続する電極配線と、
前記発熱抵抗体と前記電極配線上に設けられる絶縁の保護層と、
前記保護層上に設けられる上部保護層と、
を有し、
前記上部保護層は、２２ａｔ．％以上のＳｉを含有するＴａＳｉ合金からなることを特徴とする液体吐出ヘッド用基体。
【請求項２】
前記上部保護層は、７０ａｔ．％以下のＳｉを含有するＴａＳｉ合金からなることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項３】
ＴａＳｉ合金からなる前記上部保護層は、前記基体の側のＳｉの含有量よりも、前記流路形成部材の側のＳｉの含有量が多くなるように設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項４】
前記基体上に設けられる流路形成部材と、前記上部保護層との間に位置するように、有機物を含む密着層を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項５】
前記密着層が、ポリエーテルアミド樹脂であることを特徴とする請求項４に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項６】
前記上部保護層の膜厚が、１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項７】
前記上部保護層の膜応力が、０より大きく１．０×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２以下の圧縮応力であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項８】
前記発熱抵抗体に対応する前記上部保護層の上層にＴａ層が設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項９】
前記上部保護層の下層にＴａ層が設けられていること特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基体。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基体と、
前記液体吐出ヘッド用基体上に設けられる流路形成部材と、を有し、
前記流路形成部材には、前記液体を吐出する吐出口が形成されていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月29日(2010.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤ表面の少なくとも一部に、乱流を発生させる乱流発生用突起が設けられ、タイヤ外径が２ｍ以上である空気入りタイヤであって、
前記乱流発生用突起は、前記タイヤ径方向へ向けて直線状又は曲線状で延在し、
前記タイヤ表面から前記乱流発生用突起の最も突出する位置までの突起高さ（ｍｍ）を“ｈ”、車両速度（ｋｍ／ｈ）を“Ｖ”、タイヤ外径（ｍ）を“Ｒ”とすると、
ｈ＝√｛１／（Ｖ／Ｒ）｝×係数κ、
ただし、係数κ＝２７．０〜２９．５、V＝１０〜６０ｋｍ／ｈ
の関係を満たすことを特徴とする空気入りタイヤ。
【請求項２】
前記乱流発生用突起の前記タイヤ径方向に対して傾く角度である傾斜角度（θ）は、−７０°≦θ≦７０°の範囲を満たすことを特徴とする請求項１に記載の空気入りタイヤ。
【請求項３】
トレッド幅方向断面において、前記乱流発生用突起の最もタイヤ径方向内側である突起最内位置から、リムフランジの最もタイヤ径方向外側であるリム最外位置までの距離である突起リム距離（ｄ）は、３０ｍｍ以上に設定されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の空気入りタイヤ。
【請求項４】
前記乱流発生用突起の最もタイヤ径方向外側である突起最外位置から前記トレッド最外位置までの距離である外側端部距離（Ｄ）は、前記タイヤ高さ（ＳＨ）に対して１０％以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の空気入りタイヤ。
【請求項５】
前記乱流発生用突起の延在方向に対して略直交する幅である突起幅（ｗ）は、２〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【請求項６】
前記乱流発生用突部は、延在方向に略直交する断面形状が略四角形で形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【請求項７】
前記乱流発生用突部は、延在方向に略直交する断面形状が略台形で形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【請求項８】
前記乱流発生用突部は、延在方向に略直交する断面形状が略三角形で形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【請求項９】
前記乱流発生用突部は、延在方向に略直交する断面形状が段差を有する段付き形状で形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【請求項１０】
前記乱流発生用突起には、延在方向に略直交する方向に貫通する貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【請求項１１】
前記タイヤ表面から前記乱流発生用突起の最も突出する位置までの突起高さを“ｈ”、互いに隣接する前記乱流発生用突起同士の間隔のピッチを“ｐ”、前記突起幅を“ｗ”としたときに、１．０≦ｐ／ｈ≦２０．０、かつ、１．０≦（ｐ−ｗ）／ｗ≦１００．０の関係を満たすことを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の空気入りタイヤ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は、次のような特徴を有している。まず、本発明の第１の特徴に係る発明は、タイヤ表面の少なくとも一部に、乱流を発生させる乱流発生用突起が設けられ、タイヤ外径が２ｍ以上である空気入りタイヤであって、乱流発生用突起が、タイヤ径方向へ向けて直線状又は曲線状で延在し、タイヤ表面から乱流発生用突起の最も突出する位置までの突起高さ（ｍｍ）を“ｈ”、車両速度（ｋｍ／ｈ）を“Ｖ”、タイヤ外径（ｍ）を“Ｒ”とすると、ｈ＝√｛１／（Ｖ／Ｒ）｝×係数κ、ただし、係数κ＝２７．０〜２９．５、Ｖ＝１０〜６０ｋｍ／ｈの関係を満たすことを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
タイヤ外径の大きな建設車両用タイヤは、速度に対して角速度が小さくなるため、速度境界層の厚さを考慮して、突起高さｈを設定する必要がある。この建設車両用タイヤにおいて、車両速度Ｖやタイヤ外径Ｒから最適な突起高さｈを求めた実験結果を表１に示す。
【表１】
2009160989.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線照射によって多様な蛍光発光を呈する積層体であって、
基材上に、少なくとも２つ以上の紫外線反射率の異なる部分を有する下地層（Ａ）が設けられ、該下地層（Ａ）の上に蛍光材料を含む蛍光発光層（Ｂ）が積層されたことを特徴とする積層体。
【請求項２】
上記下地層（Ａ）が、紫外線反射率が高い部分（ｐ）と、当該（ｐ）よりも紫外線反射率が低い部分（ｑ）が混在するものであることを特徴とする、請求項１に記載の積層体。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
１．  紫外線照射によって多様な蛍光発光を呈する積層体であって、
基材上に、少なくとも２つ以上の紫外線反射率の異なる部分を有する下地層（Ａ）が設けられ、該下地層（Ａ）の上に蛍光材料を含む蛍光発光層（Ｂ）が積層されたことを特徴とする積層体。
２．上記下地層（Ａ）が、紫外線反射率が高い部分（ｐ）と、当該（ｐ）よりも紫外線反射率が低い部分（ｑ）が混在すが混在するものであることを特徴とする、１．に記載の積層体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月2日(2011.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体に立体的な印刷を行う方法であって、非硬化状態の液体接着剤を用意し、該液体接着剤を前記媒体の所定の領域に置くステップと、前記液体接着剤を硬化させ、前記媒体に立体的な領域を形成するステップと、を有し、前記液体接着剤は、前記媒体に塗ることが可能であり且つ立体的な形状を維持することが可能である、媒体に立体的な印刷を行う方法。
【請求項２】
可視のインクによる第１入力情報を求めて入力媒体をスキャンするステップと、立体的な印刷による第２入力情報を求めて前記入力媒体をスキャンするステップと、前記第１入力情報を前記媒体に印刷するステップと、を更に有し、前記媒体の所定の領域は前記第２入力情報に対応する請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記硬化させるステップは、前記液体接着剤を光に晒すステップを含む請求項１記載の方法。 
【請求項４】
前記液体接着剤を部分的に硬化させるステップと、前記液体接着剤に不透明粉末を置くステップと、を更に有し、前記液体接着剤を硬化させるステップは、前記粉末及び前記液体接着剤を共に結び付ける請求項１記載の方法。
【請求項５】
立体的な印刷を行うシステムであって、通常のインクと共に印刷を行い且つ立体印刷用の接着剤と共に印刷を行う印刷アセンブリと、前記印刷アセンブリに関連して或る位置関係を有し、媒体を受け取って位置決めする供給アセンブリであって、前記印刷アセンブリと協働して前記媒体を前記印刷アセンブリ上で動かす供給アセンブリと、前記印刷アセンブリ及び前記供給アセンブリに結合され、通常のインクの印刷、前記接着剤の印刷、及び前記印刷アセンブリ上の前記媒体の動きを制御する制御回路と、を有するシステム。
【請求項６】
通所のインクを前記媒体に適用するインクサブシステムと、硬化可能な液体接着剤を前記媒体に適用する接着剤サブシステムと、前記インクサブシステム、前記接着剤サブシステム及び硬化ソースに結合されて動作を制御する印刷コントローラと、を前記印刷アセンブリが含むようにした請求項５記載のシステム。
【請求項７】
インクを提供するインクソースと、前記インクソースからのインクを受け取るよう結合されたインクプリントヘッダと、を前記インクサブシステムが含み、前記インクプリントヘッダは、前記印刷コントローラからの信号に応答して動作し及び出力を行う請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記硬化可能な液体接着剤を用意する接着剤ソースと、前記接着剤ソースからの前記液体接着剤を受け取るよう結合された接着剤塗布部と、を前記接着剤サブシステムが含み、前記接着剤塗布部は、前記印刷コントローラからの信号に応答して動作し及び硬化可能な液体接着剤を出力する請求項６記載のシステム。
【請求項９】
媒体を収集及び結合するページ蓄積部を更に有し、該ページ蓄積部は、前記ページアセンブリから出力されたシートを受けるように結合され、該ページ蓄積部は、前記シートを硬化ソースに晒し且つシート群を押圧する請求項６記載のシステム。
【請求項１０】
媒体のシートを結合するシステムであって、液体接着剤を提供する接着剤ソースと、前記接着剤ソースから前記液体接着剤を受けるように結合され、信号に応答して動作し且つ硬化可能な液体接着剤を出力する接着剤塗布部と、前記媒体のシートを受けるように結合され、結合する媒体のシートを受信及び位置決めし、シート群を押圧するページ蓄積部と、硬化状態をもたらし、前記ページ蓄積部に近接して位置し、前記ページ蓄積部内の前記シートにUV光線を照射可能な硬化ソースと、を有するシステム。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】媒体に立体的な印刷を行う方法、システム及び媒体のシートを結合するシステム
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月2日(2011.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
産業用ロボットを制御するロボットコントローラにおいて、
発熱体を収納したコントローラ筐体と、
前記コントローラ筐体の全体を収納するシャーシと、を備え、
前記コントローラ筐体の内部空間を排気する第１の排熱機構と、
前記コントローラ筐体と前記シャーシとで囲まれた空間を排気する第２の排熱機構と、
を備えたことを特徴とするロボットコントローラ。
【請求項２】
前記第１の排熱機構が、一端が前記コントローラ筐体内部に連通し、他端が前記シャーシの外部空間に連通した第１のダクトと、一端が前記コントローラ筐体内部に連通し、他端が前記シャーシの外部空間に連通し、内部に排気用ファンを有する第２のダクトと、を備え、
前記第２の排熱機構が、一端が前記コントローラ筐体と前記シャーシとで囲まれた空間に連通し、他端が外部空間に連通した第３のダクトと、一端が前記コントローラ筐体と前記シャーシとで囲まれた空間に連通し、他端が外部空間に連通し、内部に排気用ファンを有する第４のダクトと、
を備えたことを特徴とする請求項１記載のロボットコントローラ。
【請求項３】
前記第１のダクトと前記第２のダクトは、前記コントローラ筐体の対向する面においてそれぞれが互いに離れた位置に設置され、
前記第３のダクトと前記第４のダクトは、前記シャーシの対向する面においてそれぞれが互いに離れた位置に設置されたこと、
を特徴とする請求項２記載のロボットコントローラ。
【請求項４】
前記シャーシが前記コントローラ筐体を支持する固定部材に、防振ゴムが用いられたこと、
を特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載のロボットコントローラ。
【請求項５】
前記第２のダクトの前記排気用ファンの近傍と、前記第４のダクトの前記排気用ファンの近傍と、に温度センサがそれぞれ設けられ、
前記温度センサで検知された温度に応じて前記第２のダクトの前記排気用ファンと前記第４のダクトの前記排気用ファンのＯＮ／ＯＦＦを制御すること、
を特徴とする請求項２乃至４いずれかに記載のロボットコントローラ。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかに記載のロボットコントローラを搭載したことを特徴とする半導体露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記問題を解決するため、本発明は、次のようにしたのである。
請求項１に記載の発明は、産業用ロボットを制御するロボットコントローラにおいて、
発熱体を収納したコントローラ筐体と、前記コントローラ筐体の全体を収納するシャーシと、を備え、前記コントローラ筐体の内部空間を排気する第１の排熱機構と、前記コントローラ筐体と前記シャーシとで囲まれた空間を排気する第２の排熱機構と、を備えたことを特徴とするロボットコントローラとするものである。
また、請求項２に記載の発明は、前記第１の排熱機構が、一端が前記コントローラ筐体内部に連通し、他端が前記シャーシの外部空間に連通した第１のダクトと、一端が前記コントローラ筐体内部に連通し、他端が前記シャーシの外部空間に連通し、内部に排気用ファンを有する第２のダクトと、を備え、前記第２の排熱機構が、一端が前記コントローラ筐体と前記シャーシとで囲まれた空間に連通し、他端が外部空間に連通した第３のダクトと、一端が前記コントローラ筐体と前記シャーシとで囲まれた空間に連通し、他端が外部空間に連通し、内部に排気用ファンを有する第４のダクトと、を備えたことを特徴とする請求項１記載のロボットコントローラとするものである。
また、請求項３に記載の発明は、前記第１のダクトと前記第２のダクトは、前記コントローラ筐体の対向する面においてそれぞれが互いに離れた位置に設置され、前記第３のダクトと前記第４のダクトは、前記シャーシの対向する面においてそれぞれが互いに離れた位置に設置されたこと、を特徴とする請求項２記載のロボットコントローラとするものである。
また、請求項４に記載の発明は、前記シャーシが前記コントローラ筐体を支持する固定部材に、防振ゴムが用いられたこと、を特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載のロボットコントローラとするものである。
また、請求項５に記載の発明は、前記第２のダクトの前記排気用ファンの近傍と、前記第４のダクトの前記排気用ファンの近傍と、に温度センサがそれぞれ設けられ、前記温度センサで検知された温度に応じて前記第２のダクトの前記排気用ファンと前記第４のダクトの前記排気用ファンのＯＮ／ＯＦＦを制御すること、を特徴とする請求項２乃至４いずれかに記載のロボットコントローラとするものである。
また、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５いずれかに記載のロボットコントローラを搭載したことを特徴とする半導体露光装置とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によると、ロボットコントローラからの発熱をその搭載空間から外気へ極限まで排熱すること、またコントローラ筐体表面からの放熱についても外気へ排熱することができるので、ロボットコントローラ搭載空間内の温度上昇を防ぐことができ、かつ、限られた装置のスペースに搭載できるよう省スペースで排熱を行う方法を提供することができる。
また、本発明によると、効率よくコントローラ筐体内部及びシャーシ内部の気体を排気できる。
また、本発明によると、コントローラの振動がシャーシ外部に伝わることを抑制できる。
また、本発明によると、温度により排気用ファンのＯＮ／ＯＦＦ駆動を制御できるので、排気用ファン駆動用の電力を省力化することができ、発熱の低減及び電源の小型化を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面に沿って遊技球が流下可能な遊技板と、
前記遊技板の前面側に打ち込まれる遊技釘と、
を備える遊技機であって、
前記遊技板の裏面側において、前記遊技釘からそれらの打ち込まれた方向へ沿って延ばした仮想延長線と交差する傾斜面を有する壁を備えている、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記壁が有する前記傾斜面は、前記遊技板の裏面に対して下向きに傾斜して対向する下向き対向面であり、
頭部が破断した前記遊技釘が前記遊技板の裏面側に押し出されたのち前記下向き対向面に当接して落下した場合に、当該遊技釘を受け止める遊技釘捕集手段を備えている、
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記遊技釘捕集手段は、捕集した前記遊技釘を立てた状態で収容可能である、
請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記遊技板の裏面側に制御装置が配設され、
前記制御装置と前記遊技板との間に前記壁が設けられている、
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の遊技機。
【請求項５】
前記遊技板は、前記遊技釘の挿通される挿通部と、前記挿通部に連通し、頭部が破断した前記遊技釘が裏面側から押し出される際に当該遊技釘が通過する通過部とを含む連通孔を有し、
前記遊技釘の打ち込み方向に垂直な前記通過部の断面の面積は、前記遊技釘の軸方向に垂直な前記遊技釘の前記挿通部に配置される部分の断面の面積より広い、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の遊技機。
【請求項６】
前記遊技釘が前記遊技板に植設された状態において、前記遊技釘の先端は、前記通過部に突出するように配置され、
前記遊技釘が前記遊技板に植設された状態において、前記遊技釘の先端から前記遊技板の裏面までの距離は、前記遊技釘の打ち込み深さの半分未満である、
請求項５に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面に沿って遊技球が流下可能な遊技板と、
前記遊技板の前面側に設けられ、上方を向いて開口し遊技球が入球可能な入球口と、
前記遊技板の前面から裏面に貫通する貫通穴に配設され、前記入球口に入球した遊技球を前記遊技板の裏面側へ誘導する通路部と、
前記入球口の上方近傍において当該入球口の開口幅に対応した間隔をあけて前記遊技板の前面に打ち込まれる一対の遊技釘と、
を備える遊技機であって、
前記通路部は、上方が開放した溝状に設けられ、
前記通路部のうち前記遊技板の前記貫通穴よりも裏面側に突出した部位と、当該部位の上方において前記一対の遊技釘からそれらの打ち込まれた方向へ沿って延ばした仮想延長線が通過する部位とが、壁によって区画されている、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記壁の上面は、前記一対の遊技釘が打ち込まれた方向と交差する所定方向へ向けて下り傾斜する傾斜面とされている、
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記通路部の溝深さは、遊技球の直径以下とされている、
請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記壁の上面の傾斜方向は、前記一対の遊技釘が対面する側の領域からその外側の領域へ向かいつつ後方へ下る傾斜面であり、
前記傾斜面の下流端部には、頭部が破断した形態で前記傾斜面に沿って転動する前記遊技釘を受け止め可能な保持部が設けられている、
請求項２又は請求項３に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光源から発せられた光を参照光と測定光とに分割し，該測定光を被検眼に向けて照射する照射手段と、前記照射手段によって被検眼に照射される前記測定光を走査する走査手段と、前記参照光の光路長と被検眼に照射される前記測定光の光路長との光路差を変更する光路差変更手段と、前記参照光と前記測定光の反射光との合成により得られる干渉光を受光することにより被検眼の断層画像を得る干渉光学系と、前記干渉光学系によって取得された前記断層画像を表示する表示手段と、を備える眼科撮影装置において、
前記表示手段に表示される前記断層画像上における任意の位置を指定する位置指定手段と、
該位置指定手段の前記指定位置情報，または前記指定位置の移動情報に基づいて前記光路差変更手段によって前記光路差を変更して、前記参照光の光路長に対応する被検眼の深さ位置を変更する制御手段と、を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項２】
請求項１の眼科撮影装置において、
前記表示手段には、前記表示手段の表示画面上における任意の位置を指定するためのカーソルが表示され、
前記位置指定手段は、前記カーソルを前記表示手段の表示画面上で移動させるためのポインティングデバイスを備え、
前記ポインティングデバイスは、さらに、検者の手によって押圧されたことを検知する押圧検知手段を有し、
前記制御手段は、前記表示手段の表示画面上における前記断層画像の表示領域に前記カーソルが置かれた状態で、前記押圧検知手段からの検知信号が出力され、前記検知信号が出力された状態のまま前記ポインティングデバイスから出力される操作信号に基づいて前記指定位置の移動情報を取得し、
該位置指定手段の上下方向における前記指定位置の移動情報に基づいて前記光路差変更手段又は前記走査手段のうちの一方を制御し、該位置指定手段の左右方向における前記指定位置の移動情報に基づいて前記光路差変更手段又は前記走査手段のうちの他方を制御することを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項３】
請求項２の眼科撮影装置において、
前記制御手段は、前記ポインティングデバイスから出力される操作信号に基づいて取得される前記指定位置の移動情報に基づいて前記表示手段の画面上を移動される前記カーソルに追従して前記断層画像が前記表示領域内で移動されるように前記前記光路差変更手段及び前記走査手段を制御することを特徴とする眼科撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）  測定光源から発せられた光を参照光と測定光とに分割し，該測定光を被検眼に向けて照射する照射手段と、前記照射手段によって被検眼に照射される前記測定光を走査する走査手段と、前記参照光の光路長と被検眼に照射される前記測定光の光路長との光路差を変更する光路差変更手段と、前記参照光と前記測定光の反射光との合成により得られる干渉光を受光することにより被検眼の断層画像を得る干渉光学系と、前記干渉光学系によって取得された前記断層画像を表示する表示手段と、を備える眼科撮影装置において、
前記表示手段に表示される前記断層画像上における任意の位置を指定する位置指定手段と、
該位置指定手段の前記指定位置情報，または前記指定位置の移動情報に基づいて前記光路差変更手段によって前記光路差を変更して、前記参照光の光路長に対応する被検眼の深さ位置を変更する制御手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼科撮影装置において、
前記表示手段には、前記表示手段の表示画面上における任意の位置を指定するためのカーソルが表示され、
前記位置指定手段は、前記カーソルを前記表示手段の表示画面上で移動させるためのポインティングデバイスを備え、
前記ポインティングデバイスは、さらに、検者の手によって押圧されたことを検知する押圧検知手段を有し、
前記制御手段は、前記表示手段の表示画面上における前記断層画像の表示領域に前記カーソルが置かれた状態で、前記押圧検知手段からの検知信号が出力され、前記検知信号が出力された状態のまま前記ポインティングデバイスから出力される操作信号に基づいて前記指定位置の移動情報を取得し、
該位置指定手段の上下方向における前記指定位置の移動情報に基づいて前記光路差変更手段又は前記走査手段のうちの一方を制御し、該位置指定手段の左右方向における前記指定位置の移動情報に基づいて前記光路差変更手段又は前記走査手段のうちの他方を制御することを特徴とする。
（３）  （２）の眼科撮影装置において、
前記制御手段は、前記ポインティングデバイスから出力される操作信号に基づいて取得される前記指定位置の移動情報に基づいて前記表示手段の画面上を移動される前記カーソルに追従して前記断層画像が前記表示領域内で移動されるように前記前記光路差変更手段及び前記走査手段を制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月13日(2011.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記：
支持ビームおよびトレイパネルとして作用しおよび設置した際に、構造の接合部および容器の形成されたトレイと内壁との間で本質的に漏れの無いトレイを形成する複数個の水平の自立構造を含み；
該水平の自立構造の各々は、少なくとも一列の等しいサイズの開口で穿孔された底板からなり、各々の開口に細長い下降流流路が取り付けられ、該流路は、該底板における開口と同じ幾何学的横断面形状を有する管または任意の他の幾何学的形状の形態でありそして下降流流路の各々は、並流２相流用の入口を備え、および該下降流流路の内の少なくとも２つに共通のライザーキャップが取り付けられ、共通のライザーキャップは、下降流流路の各々の少なくとも一つの壁部分に取り付けられおよびそれに沿いならびに下降流流路の各々の入口の上に装着されそして入口から離して間隔があけられ、分割板が該下降流流路の1つ以上の間に配置された、下降流容器において並流２相流を分配するための気液分配装置。
【請求項２】
下降流流路が水平自立構造上の全ての点で同じ高さを有する、請求項1記載の気液分配装置。
【請求項３】
ライザーキャップが、それの側面中に切り込まれた垂直なスロットを１つ以上有し、スロット高さは、下降流流路の入口のレベルでまたはそれより下で終わる、請求項1記載の気液分配装置。
【請求項４】
ライザーキャップの入口端部が自立構造の底板のレベルより上で終了する、請求項1記載の気液分配装置。
【請求項５】
共通のライザーキャップが、各々の下降流流路の２つの対壁に取り付けられる、請求項1記載の気液分配装置。
【請求項６】
請求項1〜5のいずれか一に記載の気液分配装置を含む２相流並流下降流容器。
【請求項７】
請求項1〜6のいずれか一に記載の気液分配装置を１つ以上備えた反応装置。