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【手続補正書】
【提出日】平成21年8月26日(2009.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
必ずというわけではないが、コア４８は、非導電性絶縁層５０によって完全に包囲されることが好ましい。絶縁層５０は、たとえば、Ｓｉ３Ｎ４、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミナ、シリカおよびジルコニアを含む群から構成されることができる。窒化ホウ素の添加物、タンタル、ニオブ、イットリウムアルミニウムガーネット（ＹＡＧ）、イットリウム、マグネシウム、カルシウム、ハフニウムおよび他のランタノイド系列の化合物が、後の焼結工程を完成するために用いられることができる。絶縁層５０用の材料の他の例としては、マグネシウムスピネル、ムライト、コージライト、ケイ酸塩ガラスおよび窒化ホウ素が挙げられる。これらは、ほとんど有用な材料組成の例であるが、実際には、絶縁層５０は、任意の適切な純化合物または混合物から構成されることができる。絶縁層５０はまた、導電粒子が浸透限界未満で存在する場合には、導電粒子および非導電粒子の複合材料であってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図３〜図６に対応する実施形態において、絶縁層５０は、抵抗層５２によって完全に包囲される。本発明の別の実施形態は、図７および図８に示されており、抵抗層２５２が管状ではなく、代わりに、絶縁層２５０の外部に施される１つまたは複数の細長片を含みうる場合である。他の構成も同様に、本発明の範囲内で可能である。抵抗層５２は、抵抗特性または中程度の導電特性を有する周知の材料および合金のいずれかから構成されることができる。図４Ｂに示されているように、コア４８、絶縁層５０および抵抗層５２は、予備成形され、前駆物質構造の中で組み立てられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
加熱素子は、外部導電層または抵抗層が絶縁層を完全に包囲しないように設計されるこ
とも考えられる。たとえば、接頭語「２」が前に導入された対応する特徴部の参照符号に適用される図７および図８に示されているように、絶縁層２５０用の予備成形物は、その外面に１つまたは複数の溝７４を有してもよく、外側導体または抵抗層２５２用の予備成形物は、これらの溝７４に適合するように成形される。したがって、アセンブリの最終的な圧縮および次の焼成の後、グロープラグの外面は、外側導体または抵抗層２５２および絶縁層２５０の露出部分によって形成される１つまたは複数の導電経路を備える。２つの溝７４および抵抗層２５２の対応する細長片のみが図７〜図８には示されているが、１つまたは複数の任意の数を用いることができることと、溝７４は、示されているように直線状の長手方向に延在してもよく、螺旋状にねじれてもよく、または他の態様であってもよいことは十分に認識されよう。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月29日(2009.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
独立した画素（ｉｊ）を有する複数のラインを備えた自己発光型または非自己発光型マトリクスディスプレイ（Ｄ）又はこのマトリクスディスプレイ（Ｄ）の一部領域を駆動する方法であって、
前記ラインは行（ｉ）及び列（ｊ）として構成されており、
個々のラインは、行（ｉ）を所定のロウアドレス時間（ｔｉ）の間アクティブ化し、画素（ｉｊ）の所望の輝度（Ｄｉｊ）に応じて、前記アクティブ化された行（ｉ）に対して相関関係を有する列（ｊ）に動作電流（Ｉ）又はそれに対応する電圧を印加することによって、選択的に駆動されるものであり、
各行（ｉ）のロウアドレス時間（ｔｉ）は、この行（ｉ）の全ての列の最大輝度（Ｄｉｍａｘ）の関数として決定され、
前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）又はその一部領域は、別個に駆動される複数のマトリクス（Ｓ，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）に分解され、前記マトリクスの全てを重畳することにより、各画素（ｉｊ）の所望の輝度（Ｄｉｊ）で、前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）又はその一部の画像が生成され、
複数の行（ｉ）が同時に駆動され、
１つの行（ｉ）が駆動されるマトリクス（Ｓ）と、複数の行（ｉ）が駆動される１つ又は複数のマトリクス（Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）とが互いに組み合わされる
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項２】
請求項１において、
全ての行（ｉ）をアクティブ化する合計時間（ＴＦｒａｍｅ）は、一定に維持されており、全ての行に亘る前記ロウアドレス時間（ｔｉ）の合計（ＴＳｕｍ）が前記合計時間（ＴＦｒａｍｅ）に対応している
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項３】
請求項１において、
隣接する行（ｉ，ｉ＋１）が同時に駆動される
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項４】
請求項１〜３のうちいずれか１項において、
パルス幅変調を用いて輝度の制御を行う
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項５】
請求項１〜３のうちいずれか１項において、
振幅変調を用いて輝度の制御を行う
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項６】
請求項１〜３のうちいずれか１項において、
パルス幅変調を振幅変調と組み合わせて輝度の制御を行う
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項７】
請求項１〜６のうちいずれか１項において、
前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）は、前記列内の個々の画素の輝度差についてのデマンドに対応する頂点を要素として有するフローマトリクス（ｄ’）に変換される
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記フローマトリクス（ｄ’）は２つのマトリクスの差分から生成され、前記２つのマトリクスのうち、第１のマトリクスは、前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）とその末尾に付された、要素がゼロの行とからなり、第２のマトリクスは、前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）とその先頭に付された、要素がゼロの行とからなる
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項９】
請求項７又は８において、
前記頂点は、割り当てが指定された、好適にはその長さに応じて前記複数の個々に駆動されるマトリクス（Ｓ，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）の要素に対応する、弧と呼ばれる矢印によって繋がれる
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１０】
請求項９において、
マトリクス（Ｓ，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）の各行に、容量が割り当てられる
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記容量値は、可変であり、前記弧の有効な指定が得られるまで増加する
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１２】
請求項１０又は１１において、
局所基準(local criteria)に応じて選択された前記容量が増加する
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記局所基準はＭｉｎＣｕｔである
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３において、
先行するＭｉｎＣｕｔｓに関する情報を選択基準としても用いる
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のうちいずれか１項において、
前記容量値が増加するステップサイズは動的に適合される
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１６】
請求項７〜１５のうちいずれか１項において、
前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）は複数のサブマトリクスに分解され、前記サブマトリクス（Ｓ，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）はそれぞれフローサブマトリクスに分解される
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１７】
請求項７〜１６のうちいずれか１項において、
混合型局所・全体最適化が実行され、１行又は数行のマルチラインマトリクス（Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）並びに／若しくは（残差）シングルラインマトリクス（Ｓ）がフローサブマトリクスから得られる
ことを特徴とするマトリクスディスプレイの駆動方法。
【請求項１８】
表示制御システムであって、
表示コントローラと、独立した画素（ｉｊ）を有する複数のラインを備えた自己発光型または非自己発光型マトリクスディスプレイ（Ｄ）又はこのマトリクスディスプレイ（Ｄ）の一部領域を駆動する表示ドライバとを備えており、
前記ラインは行（ｉ）及び列（ｊ）として構成されており、
個々のラインは、行（ｉ）を所定のロウアドレス時間（ｔｉ）の間アクティブ化し、画素（ｉｊ）の所望の輝度（Ｄｉｊ）に応じて、前記アクティブ化された行（ｉ）に対して相関関係を有する列（ｊ）に動作電流（Ｉ）又はそれに対応する電圧を印加することによって、選択的に駆動されるものであり、
各行（ｉ）のロウアドレス時間（ｔｉ）を、この行（ｉ）の全ての列の最大輝度（Ｄｉｍａｘ）の関数として決定することを目的として設定された特定用途向け集積回路が設けられており、
前記集積回路は、
前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）又はその一部領域を、別個に駆動される複数のマトリクス（Ｓ，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）に分解し、前記マトリクスの全てを重畳することにより、各画素（ｉｊ）の所望の輝度（Ｄｉｊ）で、前記マトリクスディスプレイ（Ｄ）又はその一部の画像を生成し、
複数の行（ｉ）を同時に駆動し、
１つの行（ｉ）が駆動されるマトリクス（Ｓ）と、複数の行（ｉ）が駆動される１つ又は複数のマトリクス（Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４）とが互いに組み合わされるように、設けられている
ことを特徴とする表示制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月3日(2009.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
サイクルアキュレートなモデル１２０は、十分にシミュレートされかつ試験されると合成ツール１１２へ提供される。合成ツール１１２は、ゲートレベルの出力モデル１１４を生成する。ゲートレベルの出力モデル１１４は、実際のハードウェア集積回路１１６の生成に用いられる。本設計開発処理には、本明細書に記述している本発明の原理に密接に関連していないことから図示されていない追加のステップが存在する場合のあることは認識されるであろう。一方で、ソフトウェア開発チーム１１０はハードウェアの開発努力と並行して作業し、集積回路１１６上で実行されるソフトウェア１１８を生成することに忙しくしているかもしれない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
レジスタ転送レベルのモデルは、各内部クロックエッジ間で実行されるアクティビティの全ての詳細な仕様を含む。内部クロックエッジの所定のセット内でどのアクティビティが発生すべきかの決定は、合成ツール１０４により、例えばこれらのアクティビティの実施に用いられるリソースを割り当て、当該リソースがこれらのアクティビティを実行するために要する時間を分析し、次にこれらのアクティビティを使用可能なクロック間隔に接続することによってもたらされる。サイクルアキュレートなモデルは、各機能の実行に必要な計算を、当該計算が各クロックエッジ間に正しく配置された状態で記述するが、当該計算を抽象レベルにおいて記述する（故にシミュレート速度がより速い）。トランザクションアキュレートなモデル１０６は、各機能の実行に必要な計算を、全てグループまとめて、かつＲＴＬ及びサイクルが正確な記述において当該機能が完了する最後のサイクルにおいて実行されるようにスケジューリングされる。ここで、中間結果は入手不可である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縦方向と、前記縦方向に垂直な横方向と、物品第一側部縁と、前記物品第一側部縁とは反対側の物品第二側部縁と、１対の端部縁とを定める吸収性物品であって、
液体不透過性外カバーと、
前記外カバー上に配置された吸収性本体と、
前記吸収性本体とともに配置された温度変化部材と、
を含み、
前記温度変化部材は、前記温度変化部材の前記横方向にわたり重量比で非均一に分散された状態で、前記温度変化部材とともに配置された温度変化材料を含み、  前記温度変化部材は、ここに記載された温度変化テストにより求められるものとして、少なくとも摂氏５度の温度変化を前記物品に与えることを特徴とする吸収性物品。
【請求項２】
前記温度変化部材は、第一温度変化部材領域と、第二温度変化部材領域と、前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域との間の第三温度変化部材領域を定め、前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域は、重量比で、前記第三温度変化部材領域より大きい量の温度変化材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の吸収性物品。
【請求項３】
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域は、重量比で、前記温度変化材料と実質的に同じ量を含むことを特徴とする請求項２に記載の吸収性物品。
【請求項４】
前記温度変化部材は、温度変化部材第一側部縁と、前記温度変化部材第一側部縁とは反対側の温度変化部材第二側部縁とを定め、前記第一温度変化部材領域は、前記温度変化部材第一側部縁に近い位置にあり、前記第二温度変化部材領域は、前記温度変化部材第二側部縁に近い位置あることを特徴とする請求項２に記載の吸収性物品。
【請求項５】
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域の各々は、前記第三温度変化部材領域より高い密度を定めることを特徴とする請求項４に記載の吸収性物品。
【請求項６】
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域の各々は、少なくとも０．２０グラム／ｃｍ３の密度を定めることを特徴とする請求項４に記載の吸収性物品。
【請求項７】
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域の各々は、０．２５グラム／ｃｍ３ないし０．４５グラム／ｃｍ３の密度を定めることを特徴とする請求項４に記載の吸収性物品。
【請求項８】
前記温度変化部材は、温度変化材料の全体量を定め、前記第三温度変化部材領域は、前記温度変化材料の全体量の少なくとも１０重量％を含むことを特徴とする請求項２に記載の吸収性物品。
【請求項９】
前記温度変化部材は、温度変化材料の全体量を定め、前記第三温度変化部材領域は、前記温度変化材料の全体量の５重量％より小さい量を含むことを特徴とする請求項２に記載の吸収性物品。
【請求項１０】
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域の各々は、前記第三温度変化部材領域より少なくとも１０重量％大きい前記温度変化材料を含むことを特徴とする請求項２に記載の吸収性物品。
【請求項１１】
前記温度変化部材は、温度変化材料の全体量を定め、前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域はともに、前記温度変化材料の全体量の少なくとも６０重量％を含むことを特徴とする請求項２に記載の吸収性物品。
【請求項１２】
前記温度変化部材は、ポリマー繊維と吸収性繊維を含む繊維のコフォームマトリックスを更に含み、前記温度変化材料は、前記繊維のコフォームマトリックス内に混入されることを特徴とする請求項１に記載の吸収性物品。
【請求項１３】
前記温度変化材料は、吸熱性材料または発熱性材料のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の吸収性物品。
【請求項１４】
前記温度変化材料は、キシリトール、ソルビトール、及びエリスリトールからなる群から選択されたものを含むことを特徴とする請求項１に記載の吸収性物品。
【請求項１５】
縦方向と、前記縦方向に垂直な横方向と、物品第一側部縁と、前記物品第一側部縁とは反対側の物品第二側部縁と、１対の端部縁とを定める吸収性物品であって、
液体不透過性外カバーと、
前記外カバー上に配置された吸収性本体と、
前記吸収性本体とともに配置された温度変化部材と、
を含み、
前記温度変化部材は、温度変化部材第一側部縁と、前記温度変化部材第一側部縁とは反対側の温度変化部材第二側部縁と、第一温度変化部材領域と、第二温度変化部材領域と、前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域との間の第三温度変化部材領域とを定め、前記温度変化部材は、前記温度変化部材の前記横方向にわたって重量比で非均一に分散された状態で、前記温度変化部材とともに配置された温度変化材料を含み、
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域は、重量比で、前記第三温度変化部材領域より大きい量の温度変化材料を含み、前記温度変化部材は、ここに記載された温度変化テストにより求められるものとして、少なくとも摂氏５度の温度変化を前記物品に与えることを特徴とする吸収性物品。
【請求項１６】
前記第一温度変化部材領域と前記第二温度変化部材領域各々は、前記第三温度変化部材領域より高い密度を定めることを特徴とする請求項１５に記載の吸収性物品。
【請求項１７】
前記温度変化材料は、吸熱性材料であることを特徴とする請求項１５に記載の吸収性物品。
【請求項１８】
前記温度変化部材は、ポリマー繊維と吸収性繊維とを含む繊維のコフォームマトリックスを更に含み、前記温度変化材料は、前記繊維のコフォームマトリックス内に混入されることを特徴とする請求項１５に記載の吸収性物品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月9日(2009.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー組成物を製造する方法であって、
添加剤を含む複数のマイクロカプセルをキャリヤーポリマー材料と混合して最初のブレンドを形成するステップと、
最初のブレンドを、キャリヤーポリマー材料と同じ又は異なるポリマー材料を含むポリマーマトリックス中に配合するステップと
を含み、
ここで、配合が３７０℃未満のプロセス温度であり、得られる組成物が分離したマイクロカプセル及び熱分解したシェルを実質的に含まない方法。
【請求項２】
マイクロカプセルに含まれる添加剤が、潤滑剤、油、香料、香味料、触媒及びその混合物の群から選択される相変化物質である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
配合が３００℃未満の配合温度で実施される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
マイクロカプセルがポリオキシメチレン尿素のシェルを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
熱分解したシェルから放出されるホルムアルデヒドが１ｐｐｍ未満であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
複数のマイクロカプセルをキャリヤーポリマー材料とメルトブレンディングにより混合し、キャリヤーポリマー材料が２８５℃未満の融点を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
キャリヤーポリマーが、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド及びその混合物からなる群から選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
複数のマイクロカプセルをキャリヤーポリマー材料とドライブレンディング又はメルトブレンディングにより混合して最初のブレンドを形成し、
該最初のブレンドをポリマーマトリックス材料より下流の供給点からポリマーマトリックス中に配合する、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項９】
ポリマーマトリックスが、ポリアリーレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリフタルアミド（ＰＰＡ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、熱可塑性ポリイミド（ＴＰＩ）、高温ナイロン（ＨＴＮ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）及びそのブレンドの群から選択される高温材料を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法により製造される組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月8日(2009.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
官能化基材を作製する方法であって、
間隙及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
前記多孔質ベース基材が第一溶液を吸収し、吸収多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第一溶液が、（ａ）フリーラジカル重合性基及び（ｂ）エチレン性不飽和基、エポキシ基、アズラクトン基、イオン基、アルキレンオキシド基又はその組合せを含む追加の官能基を有する少なくとも１個のグラフト化モノマーを含む工程と、
前記多孔質ベース基材の表面に結合されるグラフト種を含む第一官能化基材を形成するように前記吸収多孔質ベース基材を調整された量の電子ビーム照射に曝露する工程であって、前記グラフト種の少なくとも１つが前記追加の官能基を有する工程とを含む方法。
【請求項２】
官能化基材を作製する方法であって、
間隙及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
前記多孔質ベース基材が第一溶液を吸収し、吸収多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第一溶液が、（ａ）フリーラジカル重合性基及び（ｂ）エチレン性不飽和基、エポキシ基、アズラクトン基、イオン基、アルキレンオキシド基又はその組合せを含む追加の官能基を有する少なくとも１つのグラフト化モノマーを含む工程と、
前記吸収多孔質ベース基材を、取り除き可能なキャリヤー層と取り除き可能なカバー層の間に位置決めし、多層構造体を形成する工程と、
前記取り除き可能なキャリヤー層と前記取り除き可能なカバー層の間に位置決めされる官能化基材を形成するように前記多層構造体を調整された量の電子ビーム照射に暴露する工程であって、前記官能化基材が、前記多孔質ベース基材の表面に結合されるグラフト種を含み、前記グラフト種の少なくとも１個が、前記追加の基を含む工程と、
前記キャリヤー層と前記カバー層を前記多層構造体から取り除く工程とを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
多相鋼の構成が少なくとも３０％のフェライト及び最高５０％のマルテンサイトを含み、標準的分析及び標準的方法操作を用いる通常の熱間圧延ライン、薄肉スラブ鋳造兼圧延プラント又は相応する狭いストリップ製造ライン及び中間ストリップ製造ライン又は線材製造ラインで製造される例えば二相鋼及びＴＲＩＰ鋼である、熱間圧延された多相鋼の場合の意図する組合せの性質を調整する方法において、熱間圧延（１０）からの冷却又は後の仕上げ段階に続いて、例えば構造部材の仕上げに続いて、変更可能な焼鈍温度及び変更可能な焼鈍期間を用いる後に連結されたあるいは中間連結された焼鈍処理（３０、３５）によって多相鋼の強度と降伏比との所望の組み合わせを調整することを特徴とする、上記方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ヨーロッパ特許第１，１０８，０７２Ｂ１号明細書（特許文献１）からは、２段階冷却を備える仕上げロール加工の後に７０〜９０％のフェライト及び３０〜１０％のマルテンサイトよりなる二相組織をもたらす、二相鋼の製造方法が公知である。第一の（ゆっくりした）冷却は一つの冷却区間で実施され、その冷却区間では熱間ストリップが間隔をおいて相前後して配置された水冷段階を通って２０〜３０Ｋ／秒の冷却速度で確実に冷却される。その際にこの冷却が、フェライト形成を迅速に行うことができるほど未だ高い温度を有する冷却曲線がフェライト領域に入り込むように調整する。この第一の冷却は、別の（速やかな）冷却をただちに又は停止時間無しに後続させる前に、オーステナイトの少なくとも７０％がフェライトに転化される程の期間継続する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ヨーロッパ特許出願公開第１，３９６，５４９Ａ１号明細書（特許文献２）から、ＴＲＩＰ特性を有し、かつ、パーライトを含まない熱間圧延された鋼ストリップを製造するために、鉄及び不可避の不純物の他に、重要な成分として元素ＴｉとＮｂの少なくとも１種類及び選択的に、最大０．８のＣｒ、最大０．８％のＣｕ、最大１．０％のＮｉの少なくとも１種類の元素を含有する溶融鋼を、８５０〜１０５０℃の入口温度でもって焼鈍炉内で１０〜６０分間１０００〜１２００℃で焼き鈍しされる薄肉スラブに鋳造する。スケールを除去した後で、この薄肉スラブを７５０〜１０００℃で仕上げ熱間圧延し、次いで３００〜５３０℃の巻取り温度まで２段階で冷却される。その際、第一段階の制御下の冷却は、少なくとも１５０Ｋ／ｓの冷却速度で４〜８秒の冷却休止時間で行われる。上記の方法操作の他に、Ｔｉおよび／またはＮｂが存在することが重要である。というのは、これらの元素が熱間圧延の開始まで溶けており、その後の析出等の際に、熱間ストリップの微細性、残留オーステナイト含有量の増加および熱間ストリップの安定性が改善されるからである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
更に、ヨーロッパ特許第１，３９４，２７９Ｂ１号明細書（特許文献３）からは、より高い強度及びより高い延性の、炭素含有量が少ない鋼の製造方法が公知である。この鋼は８００ＭＰａより大きい抗張力、５％より多い同様な膨張及び２０％より多い伸び率を有している。焼き入れされそして熱調質された半製品から出発して、０．２０％のＣ、１．６０％のＭｎ及び硼素と９０％より多いマルテンサイト相成分との混合物を有する鋼を全圧延の２０％より多く冷間圧延した後に５００〜６００℃の温度で焼鈍処理を実施する。その際に１００〜３００ｎｍの超微細な結晶質粒状フェライト構造を有する組織がフェライト中に析出した炭化鉄と一緒に得られる。
【特許文献１】ヨーロッパ特許第第１，１０８，０７２Ｂ１号明細書
【特許文献２】ヨーロッパ特許出願公開第１，３９６，５４９Ａ１号明細書
【特許文献３】ヨーロッパ特許第１，３９４，２７９Ｂ１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
１，２，３    方法過程
１０          熱間圧延
２０          制御下の冷却
３０          区域焼鈍処理
４０          ストリップ亜鉛メッキ
５０          連結要素のプレス成形
６０          パイプの製造
７０          構造部材のプレス成形
８０          完成品への後加工
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月28日(2009.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】
石材の表面を研磨する石材用研磨機の研磨ヘッドにおいて、
移動可能なフレームに設置されるモーターと、
前記モーターに連結されて回転する公転回転軸と、
前記公転回転軸に固定されて前記公転回転軸と一緒に回転し、上方が開放された円筒形状で形成され、内側円周面に内輪ギヤが形成される円筒形状のギヤボックスと、
前記ギヤボックスの内部に設置されて公転しながら同時に自転が可能になるように前記ギヤボックスの内輪ギヤと噛合され、下端が前記ギヤボックスの下面に設置された貫通口を貫通して突出される多数の自転ギヤ軸と、
前記ギヤボックスの内部に設置されて前記自転ギヤ軸の上端を回転自在に支持しており、前記公転回転軸に固定されて前記公転回転軸と共に回転する軸固定板と、
前記ギヤボックスの開放された上方を覆って、前記フレームに固定される上方覆いと、
前記自転ギヤ軸の下端に固定されて自転及び公転する回転円盤と、
前記回転円盤に固定されて、前記回転円盤と共に回転しながら石材の表面と接着して石材を摩耗させる研磨板と
を含むことを特徴とする、石材用研磨機の研磨ヘッド。
【請求項２】
前記公転回転軸にスプラインが形成されており、前記ギヤボックスと前記軸固定板とには前記スプラインと結合されるスプライン溝が形成されることを特徴とする、請求項１に記載の石材用研磨機の研磨ヘッド。
【請求項３】
前記自転ギヤ軸は、前記ギヤボックスに前記公転回転軸を中心に３個が等角をなして、三角配置されることを特徴とする、請求項１に記載の石材用研磨機の研磨ヘッド。
【請求項４】
前記研磨板は、材質が金属とダイヤモンドであることを特徴とする、請求項１に記載の石材用研磨機の研磨ヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス供給材料を第１の溶融炉内で第１の温度に加熱してガラス溶融体を形成する工程と、
前記ガラス溶融体を前記第１の溶融炉から、耐火金属からなる接続管を通して前記第１の溶融炉から離れた第２の溶融炉に流す工程と、
前記ガラス溶融体を前記第２の溶融炉内で、前記第１の温度より高い第２の温度に加熱する工程と、
を含み、
前記接続管を通して流れる前記ガラス溶融体が、前記接続管によって前記第１の温度に実質的に等しい温度に加熱されることを特徴とする、ガラスを製造する方法。
【請求項２】
前記接続管が、前記第２の溶融炉の少なくとも後壁内で加熱されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記接続管が、前記第１の溶融炉の前壁内で加熱されないことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ガラス供給材料を加熱してガラス溶融体を形成するための、前壁を含む第１の溶融炉と、
後壁を含む第２の溶融炉と、
前記ガラス溶融体を前記第１の溶融炉から前記第２の溶融炉に輸送するための、前記第１および第２の溶融炉を接続するための耐火金属管と、
を含み、
前記管が加熱されることを特徴とする、ガラスを製造するための装置。
【請求項５】
前記第２の溶融炉の長さが、前記第１の溶融炉の長さの約３０％〜５０％であることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月13日(2009.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機の機体構造によって互いに分離され、且つ互いに対して空気圧力差を有する航空機の機体の領域間の急速な空気圧力平衡を作り出すための装置であって、
航空機の機体構造内の少なくとも１つの流通口と、
流通口が少なくとも部分的に閉じられることができる減圧フラップ（５０）と、
臨界空気圧力差を越えるとき、減圧フラップ（５０）を、流通口が実質的に開く開位置に移動させることができるように、減圧フラップ（５０）を閉位置からロック解除するロック解除機構と、を含み、
減圧フラップ（５０）は、主減圧フラップ（６２）と減圧フラップ延長部（７０）とを有し、
主減圧フラップ（６２）は、航空機の機体に配置された床（２）の上方のキャビン側被覆材の領域に関連付けられた方法で保持され、且つ閉位置において床に延び、
減圧フラップ延長部（７０）は、床（２）に対向する主減圧フラップ（６２）の端で関連付けられた方法で保持され、
閉位置において、減圧フラップ延長部（７０）は、床（２）及び床（２）の一部を形成するように構成された減圧フラップ延長部（７０）と同じ平面で、キャビン側被覆材から遠ざかるように延び、
減圧フラップ延長部（７０）は、閉位置において、踏み段荷重及びこれに類するものを受け入れるための床（２）の一部としてフラップ支持構造（７２）によって支持されている、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
ロック解除機構は、減圧フラップ（５０）に結合された閉鎖プレート（３２）を有する、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
主減圧フラップ（６２）が、航空機の乗客キャビン（１２）の側方被覆材及び／又はそのフレームに組み込まれている、
請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
キャビン側被覆材（２８）は、キャビン床（２）に垂直に延びる、
請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
主減圧フラップ（６２）は、閉位置において、床（２）に実質的に垂直に配置されている、
請求項１から４の何れか１項に記載の装置。
【請求項６】
主減圧フラップ（６２）は、客室キャビン（１２）から空気を出すための通気口を有する、
請求項１から５の何れか１項に記載の装置。
【請求項７】
航空機、特に旅客機であって、航空機の機体と、航空機の機体構造によって互いに分離され、且つ互いに対して空気圧力差を有する航空機の機体の領域間の急速な空気圧力平衡を作り出すための装置とを含み、
航空機の機体構造内の少なくとも１つの流通口と、
流通口が少なくとも部分的に閉じられることができる減圧フラップ（５０）と、
臨界空気圧力差を越えるとき、減圧フラップ（５０）を、流通口が実質的に開く開位置に移動させることができるように、減圧フラップ（５０）を閉位置からロック解除するロック解除機構と、を含み、
減圧フラップ（５０）は、主減圧フラップ（６２）と減圧フラップ延長部（７０）とを有し、
主減圧フラップ（６２）は、航空機の機体に配置された床（２）の上方のキャビン側被覆材の領域に関連付けられた方法で保持され、且つ閉位置において床に延び、
減圧フラップ延長部（７０）は、床（２）に対向する主減圧フラップ（６２）の端で関連付けられた方法で保持され、
閉位置において、減圧フラップ延長部（７０）は、床（２）及び床（２）の一部を形成するように構成された減圧フラップ延長部（７０）と同じ平面で、キャビン側被覆材から遠ざかるように延び、
減圧フラップ延長部（７０）は、閉位置において、踏み段荷重及びこれに類するものを受け入れるための床（２）の一部としてフラップ支持構造（７２）によって支持されている、
ことを特徴とする航空機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月7日(2009.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記第１〜第Ｎのサブチャネルが、全て同じ周波数幅であることを特徴とする、請求項２に記載の通信システム（Ａ）に属する通信装置（Ａ１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図２１は、特許文献１で用いられているフレーム構成を示す図である。特許文献１では、図２１のフレームを繰り返すことにより通信を行っている。図２１において、同期スロット５０１は、アクセスシステムと宅内システムとが同期を取るためのスロットであり、特定の同期信号を含んでいる。これにより、アクセスシステムと宅内システムは、フレーム単位で同期を取ることができる。次に、制御スロット５０２は、続くデータ用スロット５０３をアクセスシステムと宅内システムとがどのように利用するか、を通知するためのスロットである。アクセスシステムの基地局は、このスロットを利用して、宅内システムの各基地局に対して利用可能なスロットを通知する。以上の仕組みによって、アクセスシステムと宅内システムとの時間領域での共存を確保している。
【特許文献１】特開２０００−１５１５４７号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
以下、図１に示した電力線通信システムにおいて、アクセス系通信システムＡ、宅内系通信システムＢ及びＣが、互いの通信を妨害することなく共存するための手法を説明する。なお、この第１の実施形態では、アクセス系通信システムＡ＞宅内系通信システムＢ＞宅内系通信システムＣの順で、周波数帯域を利用する優先順位が予め定められている、換言すれば優先的に周波数帯域を使用する権利を有しているものとする。また、各通信システムＡ〜Ｃでは、２ＭＨｚから３０ＭＨｚまでの周波数帯域が使用可能であるものとする。但し、各通信システムＡ〜Ｃが使用可能な周波数帯域は、２ＭＨｚから３０ＭＨｚに限られず、また全て同一である必要もない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
以上の処理によって、各通信システムＡ〜Ｃが、重なりや衝突することなく周波数帯域を分け合って使用することが可能となる。上述した例を当てはめた共存信号は、図４Ｂに示す時間−周波数マトリクスの情報を有することになる。なお、図５では、宅内系通信システムＢ及びＣは、他の通信システムから共存信号を受信した後にゼロクロス点を検出して共存信号を送信するようにしているが、先にゼロクロスかどうかを判断した上で共存信号の受信を試みるようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図９Ａは、宅内系コントローラＢ１及びＣ１の構成例を示す図である。図９Ａに示す宅内系コントローラＢ１及びＣ１は、データ通信を行うための構成であるフレーム送信部９１、フレーム受信部９２、通信制御部９３及びデータ送受信Ｉ／Ｆ部９４と、共存制御を行うための構成である共存信号受信部９５ａ、共存信号送信部９５ｂ、共存信号生成部９６と、ゼロクロス点検出部９７、共存信号送受信Ｉ／Ｆ部９８及び共存制御部９９とに、大別される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
フレーム受信部９２は、データ送受信Ｉ／Ｆ部９４が受信した伝送フレームに必要な処理を施して、受信データを生成する。フレーム送信部９１は、宅内系通信システムＢ又はＣ内で通信する送信データをフレーム化し、データ送受信Ｉ／Ｆ部９４を介して送信する。通信制御部９３は、フレーム受信部９２からの情報を参照して、フレーム送信部９１にデータ送信のタイミングを指示すると共に、自システムが利用するサブチャネルに関する情報を共存制御部９９から取得する。共存信号受信部９５ａは、共存信号送受信Ｉ／Ｆ部９８を介して受信した共存信号を解析し、自システムが使用すべきサブチャネルに関する情報を得る。共存制御部９９は、この自システムが使用すべきサブチャネルに関する情報を通信制御部９３及び共存信号生成部９６に通知する。共存信号生成部９６は、この通知に基づいて、宅内系通信システムＢ又はＣが使用するサブチャネル情報を含む共存信号を生成する。ゼロクロス点検出部９７は、電力線を流れる交流電流のゼロクロス点を検出する。共存制御部９９は、検出されたゼロクロス点のタイミングを共存信号送信部９５ｂに通知する。共存信号送信部９５ｂは、共存制御部９９が通知するタイミングで、共存信号送受信Ｉ／Ｆ部９８を介して共存信号を送信する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９Ａ】
2008543117.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像信号をデコーディングする方法であって、
第１階層に含まれる対象ブロックのブロック類型情報を得る段階と、
前記第１階層の対象ブロックに対応する第２階層のブロックのテクスチュア情報が、前記対象ブロックのブロック類型情報に基づく階層間予測で取得可能か否かを示す、階層間予測制限フラグ情報を得る段階と、
前記階層間予測制限フラグ情報に基づいて、対応ブロックのテクスチュア情報を得る段階と、
前記テクスチュア情報、レジデュアル情報、前記ブロック類型情報及び前記階層間予測制限フラグ情報に基づいて、対象ブロックをデコーディングする段階と、を有し、
前記レジデュアル情報は、前記第１階層の対象ブロックと対応するブロックとの間の差分値情報であることを特徴とする映像信号のデコーディング方法。
【請求項２】
前記ブロック類型情報は、ピクチャの類型によって分類され、割り当てられた複数の情報を有する、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項３】
前記ブロック類型情報は、イントラブロックである、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項４】
前記階層間予測制限フラグ情報は、イントラモードでコーディングされた基本階層の参照ブロックを示す、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項５】
前記対応するブロックは、完全に復元され、動き補償を実行する、請求項４に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項６】
前記階層間予測制限フラグ情報は、スライスヘッダー、ピクチャヘッダー、シーケンスヘッダー及びピクチャグループヘッダーのうちの１つに含まれている、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項７】
第２階層において対応ブロックのエンコーディングに、どのモードが用いられるかを示す対応ブロック類型情報を得る段階をさらに有する、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項８】
前記ブロック類型情報は、スライスヘッダーから得られる、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項９】
前記映像信号は放送信号として受信される、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項１０】
前記映像信号はデジタルメディアに受信される、請求項１に記載の映像信号のデコーディング方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法を実行するためのプログラムが記録されたコンピュータ読取可能媒体。
【請求項１２】
受信データから、圧縮された動きベクトルストリーム、圧縮されたマクロブロック情報ストリーム及び基本階層ストリームを分離するデマルチプレクサーと、
前記圧縮されたマクロブロック情報ストリームを非圧縮ストリームにデコーディングするテクスチュアデコーディング部と、
前記圧縮された動きベクトルストリームを非圧縮ストリームに復元するモーションデコーディング部と、
現在ブロックをデコーディングするためのレジデュアル情報を得るために、前記基本階層のストリームをデコーディングする基本階層デコーダーと、
前記基本階層デコーダーからの前記デコーディングされたマクロブロック情報、非圧縮動きベクトルストリーム、レジデュアル情報から得られた対応ブロックのテクスチュア情報を用いることによって現在ブロックをデコーディングする拡張階層デコーダーと、を有し、
前記対応ブロックのテクスチュア情報は、前記対応ブロックの類型情報及び階層間予測制限フラグ情報に基づいて取得され、
前記階層間予測制限フラグ情報は、基本階層の対応ブロックのテクスチュア情報が階層間予測により取得可能か否かを示すことを特徴とする映像信号のデコーディング装置。
【請求項１３】
第１スキームによって拡張階層をエンコーディングする拡張階層エンコーダーと、
第２スキームによって基本階層をエンコーディングする基本階層エンコーダーと、
前記現在ブロックのエンコーディングされた情報を圧縮されたストリームに変換するテクスチュアコーディング部と、
前記拡張階層のエンコーディングされた動きベクトルを圧縮されたストリームに変換するモーションコーディング部と、
前記テクスチュアコーディング部の出力データ、エンコーディングされた拡張階層及び前記モーションコーディング部の出力ベクトルデータをカプセル化するマルチプレクサーと、を有し、
前記拡張階層エンコーダーは、基本階層の対応する参照ブロックのテクスチュア情報が階層間予測により取得可能か否かを示す階層間予測制限フラグ情報と、前記エンコーディングされたビットストリーム上の現在ブロックのブロック類型情報とを設定することを特徴とする映像信号のエンコーディング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】階層間予測を通じてエンコードされた映像信号のデコーディング方法及びエンコーディング／デコーディング装置並びにコンピュータ読取可能媒体
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シングルイベント効果状態に対してラッチ回路を強化する装置であって、該装置が、
入力ノードおよび出力ノードを有する論理回路であって、放射線事象に起因する入力信号イベントが前記入力ノード上に印加され、その出力ノードから前記入力信号イベントの少なくとも一部の関数として出力信号イベントを伝播させる論理回路と、
前記論理回路の前記出力ノードに結合されているグリッチフィルタであって、前記グリッチフィルタが前記出力信号イベントの一部を前記ラッチからフィルタし、前記出力信号イベントの持続時間が所与の時間より短い場合には、前記グリッチフィルタが前記出力信号イベントの全てを前記ラッチ回路からフィルタし、それによって前記入力信号イベントのさらなる伝播を防止するグリッチフィルタと
を備える装置。
【請求項２】
シングルイベント効果状態に対してラッチ回路を強化する装置であって、該装置が、
入力信号を受け取る入力ノードと、前記入力信号の関数として出力信号を与える出力ノードとを有する論理回路であって、前記入力信号の状態を変化させる放射線起因信号イベントが前記入力ノード上に印加される場合には、その出力ノードから出力信号イベントを伝播させ、前記出力信号の状態を変化させるように操作できる論理回路と、
前記論理回路の前記出力ノードに結合されているグリッチフィルタであって、前記グリッチフィルタが前記出力信号イベントの少なくとも一部を前記ラッチからフィルタし、前記出力信号イベントの持続時間が所与の時間より短い場合には、前記グリッチフィルタが前記出力信号イベントの全てを前記ラッチ回路からフィルタし、それによって前記出力信号の状態変化を防止するグリッチフィルタと
を備える装置。
【請求項３】
シングルイベント効果状態に対してラッチ回路を強化する装置であって、該装置が、
複数の出力信号イベントを第２論理回路に与える第１論理回路と、
所与の時間量により前記第１出力信号イベントの変化の速度を遅くするグリッチフィルタであって、前記第１出力信号イベントの持続時間が前記所与の時間より短い場合には、前記グリッチフィルタが、前記第１出力信号イベントが前記望ましくない状態の閾値に達するのを防ぎ、それによって前記第２論理回路が前記望ましくない状態で動作するのを防止するグリッチフィルタと
を備え、
前記第１論理回路は、グリッチを含む第１出力信号イベントを、前記第２論理回路に与え、かつ、前記第１出力信号イベントが望ましくない状態の閾値に適合する場合には、前記第２論理回路が望ましくない状態で動作する、
ことを特徴とする装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
シングルイベント効果状態に対して回路を強化するための装置と方法が開示される。この装置は、複数の出力信号イベントを第２論理回路に提供するための第１論理回路を含んでよい。この入力上にグリッチを受け取っているとき、第１論理回路は、その上にグリッチを含む第１出力信号イベントを第２論理回路に対し提供することができる。装置は、与えられた時間量によって第１出力信号イベントの変化の速度を遅くするためのグリッチフィルタをさらに含んでよい。第１出力信号イベントの持続時間が与えられた時間量より短い場合、次いでグリッチフィルタは、第１出力信号イベントが望ましくない状態の閾値に達するのを防ぎ、それによって第２論理回路が望ましくない状態で動作するのを防ぐ。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
図５ａに戻ると、フィードフォワード３状態インバータ３０６の入力ノード３１８上で受け取れられたグリッチ起因信号が、冗長なトランジスタと共に構成された場合でさえ入力を過ぎて伝播することがある。以下にもっと詳しく説明するように、これは、グリッチ起因信号がフィードフォワード３状態インバータ３０６の入力端子上に印加され、さらにクロック信号が非ブロックモードにある場合に起こる可能性がある。つまり、クロック信号が、フィードフォワード３状態インバータ３０６の入力ノード３１８上にある信号を、ノード３２０の所の出力の方へ通過させることを可能にする。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
曲線３５４に示したように、時刻ｔ４で、入力信号は入力信号に含まれるグリッチの結果、望ましくないことにＨＩＧＨ状態からＬＯＷ状態に遷移する。曲線２２に示したように、時刻ｔ５で、次にフィードフォワード信号が望ましいＬＯＷ状態から望まれていないＨＩＧＨ状態に遷移する。その結果、ノード３２８に送り込まれる遅くした出力信号が、時刻ｔ６で、適切なＨＩＧＨ状態から不適切なＬＯＷ状態に遷移し始める。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
しかし、曲線３７６に示したように、時刻ｔ４で、フィードフォワード信号が、それに含まれるグリッチの結果として望ましくないことにＬＯＷ状態からＨＩＧＨ状態に遷移する。次に、時刻ｔ５で、ノード３２８に送り込まれる遅くした出力信号が、その適切なＨＩＧＨ状態から不適切なＬＯＷ状態に遷移し始める。しかしグリッチフィルタ１０２のために、ノード３２８上の遅くした出力信号は、すぐにＬＯＷ状態に遷移せず、むしろＨＩＧＨ状態閾値３６０に適合し続け、ノード３２８を適切なＨＩＧＨ状態に維持する。
したがって、ノード３２８が適切なＨＩＧＨ状態にある結果として、時刻ｔ６で、ＬＯＷ状態にある帰還信号がノード３２０に送り込まれる。曲線３７６に示したように、ノード３２０上のノードの信号が所望のＬＯＷ状態に遷移する。次に、遅くした出力信号がノード３２８で、適切なＨＩＧＨ状態に遷移し始める。上と同様にグリッチは、ノード３２８に伝播されず、あるいは、このようなノードから下流のどんな他の回路にも伝播されない。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連結されて光通信経路を形成する一連の光ファイバ伝送スパンと、
１つまたは複数の全光信号プロセッサであって、各プロセッサが前記スパンの対応する隣接対を直接連結し、
入力ポートおよび出力ポートを有する光波長変換器と、および
同じプロセッサの前記波長変換器の前記入力ポートに連結され、いくつかの受け入れた光パルスの累積分散を、同じプロセッサの直前の前記スパン内の対応する光パルスの前記累積分散のための範囲の外側の値に調整するように構成された分散調整モジュールを含む
全光信号プロセッサを備える
光ファイバ伝送システム。
【請求項２】
前記分散調整モジュールが、いくつかの受け入れた光パルスの累積分散を、系内の同じプロセッサの直後の前記スパン内の対応する光パルスの前記累積分散のための範囲の外側の値に調整するように構成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
各プロセッサが、同じプロセッサの前記光波長変換器の前記出力ポートに連結されている第２の分散調整モジュールを有し、かついくつかの受け入れた波長変換された光パルスの累積分散を、同じプロセッサの直後のスパン内の対応する光パルスの前記累積分散のための範囲内にリセットするように構成されている請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記分散調整モジュールが、前記いくつかの受け入れた光パルスの累積分散を調整して、前記累積分散がギガ・ビット毎秒での波長チャンネル当たりビット・レートの二乗にわたって大体０．２５×１０５より大きな値をピコ秒毎ナノメートルで有するように構成されている請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
光パルスを複数の波長チャンネルにわたる前記スパンに伝送するように構成されている光送信器をさらに備える請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
前記プロセッサの２番目が、前記スパンの対応する隣接対を直接連結し、かつ、
入力および出力ポートを有する第２の光波長変換器と、
光パルスを前記プロセッサの前記２番目の前記波長変換器の前記入力ポートに伝送するように構成され、かついくつかの受け入れた光パルスの累積分散を前記プロセッサの前記第２番目によって直接連結されたスパン内の対応する光パルスの累積分散のための範囲の外側に調整する第２の分散調整モジュールを備える請求項２に記載のシステム。
【請求項７】
前記第２の分散調整モジュールが、前記いくつかの受け入れたパルスの累積分散を調整して、前記累積分散がギガ・ビット毎秒での波長チャンネル当たりビット・レートの二乗にわたって大体０．２５×１０５と波長チャンネル当たりギガ・ビット毎秒でのビット・レートの二乗にわたって大体４×１０５の間の値をピコ秒毎ナノメートルで有するように構成されている請求項６に記載のシステム。