【手続補正書】
【提出日】平成21年3月13日(2009.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グループＩＢおよびＩＩＩＡの少なくとも一方の元素、および任意で少なくとも１つのグループＶＩＡの元素の粒子の分散剤を形成する工程と、
基板の上に層を形成するために、該基板に該分散剤をコーティングする工程と、
膜を形成するために、１つ以上のステップによって該層を反応させる工程と
を含む方法。
【請求項２】
前記グループＩＩＩＡの粒子の少なくとも一部がナノ球体である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分散剤中の前記粒子の少なくとも一部は元素ナノ粒子からなり、
前記粒子の分散剤は液体ガリウムの乳濁液を溶液中に生成することにより形成された複数のガリウムのナノ球体を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ガリウムが室温未満に急冷される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記粒子の直径が５００ナノメートル以下である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
１つまたは複数の等級の前記粒子が、アルミニウム（Ａｌ）、硫黄（Ｓ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、リチウム（Ｌｉ）またはこれらの混合物のグループから選択される１つまたは複数の無機材料でドープされる、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記層を適切な雰囲気中で反応させ、組成の範囲が０．０１乃至１．０のＣｕ／（Ｉｎ＋Ｇａ）および組成の範囲が０．０１ないし１．０のＧａ／（Ｉｎ＋Ｇａ）を有する化合物膜を形成する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記分散剤を形成する工程が、
グループＩＢの元素を含有する非酸化物量子ナノ粒子を形成する工程と、
グループＩＩＩＡの元素を含有する非酸化物量子ナノ粒子を形成する工程と、
任意でグループＶＩＡの元素を含有する非酸化物量子ナノ粒子を形成する工程と、
グループＩＢ、ＩＩＩＡおよび任意でＶＩＡからの該非酸化物量子ナノ粒子を混合する工程であって、該非酸化物量子ナノ粒子の粒子サイズが、直径０．１ｎｍ〜１０ｎｍの望ましい範囲内にあり、個々の元素に対して、該非酸化物量子ナノ粒子の集団の大半のサイズが、平均粒子サイズの上下４０％以内の範囲であるか、あるいは平均粒子サイズが５ナノメートル未満である場合は、該平均粒子サイズの上下２ナノメートル以内である工程と、
該非酸化物ナノ粒子を液体と混合して前記分散剤を形成する工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記分散剤を形成する工程が、
グループＩＢからナノ粒子を形成する工程と、
グループＩＢからの該ナノ粒子をグループＩＩＩＡの元素と混合する工程であって、グループＩＩＩＡの該元素が溶融形態であり、グループＩＢからの該ナノ粒子が、直径０．１ｎｍ〜５００ｎｍの望ましい粒子サイズの範囲内にある粒子を含有し、該ナノ粒子の集団の大半のサイズが、平均粒子サイズの上下４０％以内の範囲であるか、あるいは平均粒子サイズが５ナノメートル未満である場合は、該平均粒子サイズの上下２ナノメートル以内である工程と、
該ナノ粒子と溶融した元素を混合して前記分散剤を形成する工程と
を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記分散剤を形成する工程が、グループＩＢ、ＩＩＩＡおよび任意でＶＩＡの元素を含有するナノ粒子を形成する工程であって、該粒子の粒子サイズが、直径０．１ｎｍ〜５００ｎｍの望ましい粒子サイズの範囲内にあり、該ナノ粒子の集団の大半のサイズが、平均粒子サイズの上下４０％以内の範囲であるか、あるいは平均粒子サイズが５ナノメートル未満である場合は、該平均粒子サイズの上下２ナノメートル以内である工程と、
該ナノ粒子を液体と混合して前記分散剤を形成する工程と
を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記化合物層を形成するために、前記形成工程、付着工程および反応工程を２回以上繰返す工程を更に含み、少なくとも１回の繰り返しにおいて、前記形成工程が、化合物膜内の前記ＩＢ、ＩＩＩＡまたはＶＩＡの元素の濃度が深さの関数として変化するよう、前記ＩＢ、ＩＩＩＡまたはＶＩＡの元素ナノ粒子の相対濃度を変化させる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記基板が、ガラス、ソーダ石灰ガラス、鋼、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム箔、モリブデン、モリブデン箔、チタン、チタン箔、重合体、セラミック、金属プレート、金属化セラミック・プレート、金属化重合体プレート、金属化ガラス・プレートおよびこれらの混合物からなる群より選択される少なくとも１つの材料からなる、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記膜が、前記粒子の前記前躯体層と、前記前躯体層と接触する材料を含有したナトリウムの層とから形成される、請求項１，３及び１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記粒子が、Ｃｕ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｎａ、Ｇａ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｇａ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｇａ−Ｎａ、Ｎａ−Ｓｅ、Ｃｕ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｎａ−Ｓ、Ｃｕ−Ｓ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｓ−Ｎａ、Ｇａ−Ｓ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｓ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｇａ−Ｓ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｇａ−Ｓ−ＮａまたはＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓ−Ｎａの材料のうちの少なくとも１つを含有している、請求項１，３及び１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記膜が、前記粒子の前躯体層と、有機対イオンを含有したナトリウム化合物または無機対イオンを含有したナトリウム化合物を含有したインクとから形成される、請求項１，３及び１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記膜が、前記粒子の前躯体層および該前躯体層に接触する材料を含有するナトリウムの層と、Ｃｕ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｎａ、Ｇａ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｇａ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｇａ−Ｎａ、Ｎａ−Ｓｅ、Ｃｕ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ−Ｎａ、Ｎａ−Ｓ、Ｃｕ−Ｓ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｓ−Ｎａ、Ｇａ−Ｓ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｓ−Ｎａ、Ｃｕ−Ｇａ−Ｓ−Ｎａ、Ｉｎ−Ｇａ−Ｓ−ＮａまたはＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓ−Ｎａの材料のうちの少なくとも１つを含有する粒子と、該粒子および有機対イオンを含有するナトリウム化合物または無機対イオンを含有するナトリウム化合物を含んだインクとの少なくともいずれか一つから形成される、請求項１，３及び１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記処理工程の後に、ナトリウムを含有した材料を前記膜に添加する工程をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記膜が、セレン、硫黄もしくはテルルまたはこれらの組合せあるいはブレンドのうちの少なくとも１つを含有している雰囲気中で反応させることにより形成される、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
分散剤、界面活性剤、重合体、結合剤、交差結合剤、乳化剤、消泡剤、乾燥剤、溶媒、充填剤、エキステンダ、シックニング剤、膜コンディショナ、酸化防止剤、流動剤、レベリング剤および腐食防止剤からなる群より選択される少なくとも１つの化学添加剤を添加する工程を更に含む、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法により形成された光吸収層を有する光起電力デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】化合物膜の形成方法および光起電力デバイス