【手続補正書】
【提出日】平成21年2月2日(2009.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉのポリフルオロアルキルスルホニルハライド
Ｒｆ−Ｒ１−ＳＯ２Ｘ        Ｉ
（式中、
Ｒｆは、２〜２０個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、２価の結合基ＣｋＨ２ｋ（式中、ｋは２〜２０である）であり、
Ｘはハロゲンである）を、
式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶのシラン化合物
式ＩＩ：
E-(O)q)3Si-O-(Si(R2)2-O)m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si-((O)q-E)3
式ＩＩＩ：
R4N-R3-Si(R2)2-O-[Si(R2)2-O]m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si(R2)2-R3-NHR4
式ＩＶ：
R4N-R3-Si(R2)2-O-[Si(R2)2-O]m-Si-((O)q-E)3
（式中、
それぞれのＲ２は、独立に、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＲ３は、独立に、炭素と、水素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ４は、独立に、ＨまたはＣ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ１〜Ｃ８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）
と接触させることによって製造されたポリマーを含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
該スルホニルハライドが、式Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２ＳＯ２Ｃｌ（式中、ｎは２〜２０である）、およびその混合物であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
Ｒｆが、４〜１６個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
該シラン化合物が、式ＩＩの化合物
(E-(O)q)3Si-O-(Si(R2)2-O)m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si-((O)q-E)3
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｅ、ｑ、ｍ、およびｎは、請求項１で定義された通りである）であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で５００〜５０００ｍＰａ．ｓの粘度を有することを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
分散液または溶液の形態であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
パーフルオロアルキルスルホンアミドがグラフトしたポリ（アルキルシロキサン）の製造方法であって、
式Ｉのポリフルオロアルキルスルホニルハライド
Ｒｆ−Ｒ１−ＳＯ２Ｘ        Ｉ
（式中、
Ｒｆは、２〜２０個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、２価の結合基ＣｋＨ２ｋ（式中、ｋは２〜２０である）であり、
Ｘはハロゲンである）を、
式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶのシラン化合物
式ＩＩ：
E-(O)q)3Si-O-(Si(R2)2-O)m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si-((O)q-E)3
式ＩＩＩ：
R4N-R3-Si(R2)2-O-[Si(R2)2-O]m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si(R2)2-R3-NHR4
式ＩＶ：
R4N-R3-Si(R2)2-O-[Si(R2)2-O]m-Si-((O)q-E)3
（式中、
それぞれのＲ２は、独立に、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＲ３は、独立に、炭素と、水素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ４は、独立に、ＨまたはＣ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ１〜Ｃ８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）
と接触させるステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
酸受容体の存在下で接触させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
酸受容体が、第三級アミンまたは塩基性イオン交換樹脂であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
基材表面に撥油性、撥水性、および汚れ抵抗性を付与する方法であって、
前記表面をポリマーと接触させるステップを含み、
該ポリマーは、式Ｉのポリフルオロアルキルスルホニルハライド
Ｒｆ−Ｒ１−ＳＯ２Ｘ        Ｉ
（式中、
Ｒｆは、２〜２０個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、２価の結合基ＣｋＨ２ｋ（式中、ｋは２〜２０である）であり、
Ｘはハロゲンである）を、
式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶのシラン化合物
式ＩＩ：
(E-(O)q)3Si-O-(Si(R2)2-O)m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si-((O)q-E)3
式ＩＩＩ：
HR4N-R3-Si(R2)2-O-[Si(R2)2-O]m-[Si(R3-NHR4)(R2)O]n-Si(R2)2-R3-NHR4
式ＩＶ：
HR4N-R3-Si(R2)2-O-[Si(R2)2-O]m-Si-((O)q-E)3
（式中、
それぞれのＲ２は、独立に、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＲ３は、独立に、炭素と、水素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ４は、独立に、ＨまたはＣ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ１〜Ｃ８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）
と接触させることによって製造される方法。
【請求項１１】
該ポリマーが水性分散液または溶液であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
該分散液または溶液が、エポキシシランまたは架橋剤をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
該ポリマーが、１〜１０重量％の濃度で塗布されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
基材表面上に被着されるポリマーの量が１０〜１０００ｇ／ｍ２であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
該接触によって、テキスタイル基材および皮革基材に柔らかさが付与されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
請求項１０に記載の方法に従って処理されたことを特徴とする基材。
【請求項１７】
請求項１に記載の組成物と接触させた表面を有することを特徴とする基材。
【請求項１８】
鉱物、ガラス、石、メーソンリー、コンクリート、無釉タイル、煉瓦、クレー、無釉コンクリート、花崗岩、石灰石、グラウト、モルタル、大理石、石灰石、彫塑、モニュメント、木材、複合材、テラゾ、および石膏ボードからなる群から選択された硬質表面であることを特徴とする請求項１６に記載の基材。
【請求項１９】
テキスタイル、繊維、不織布、紙、皮革、布地、およびカーペットからなる群から選択された繊維基材であることを特徴とする請求項１６に記載の基材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（実施例１０）
パーフルオロヘキシルエチルスルホニルクロリドを、パーフルオロブチルエチルスルホニルクロリド（４％、百分率はすべて重量による）、パーフルオロヘキシルエチルスルホニルクロリド（５０％）、パーフルオロオクチルエチルスルホニルクロリド（２９％）、パーフルオロデシルエチルスルホニルクロリド（１１％）、パーフルオロドデシルエチルスルホニルクロリド（４％）、およびパーフルオロテトラデシルエチルスルホニルクロリド（２％）を含む混合物２６．３ｇ（５．１３×１０−２モル）に代えた点以外は実施例１と同様にして、実施例１０を製造した。実施例１と同様にして、最後の洗浄を行った後、トルエン相をイソプロパノールで希釈した。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  式Ｉのポリフルオロアルキルスルホニルハライド
Ｒｆ−Ｒ１−ＳＯ２Ｘ        Ｉ
（式中、
Ｒｆは、約２〜約２０個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、２価の結合基ＣｋＨ２ｋ（式中、ｋは０〜約２０である）であり、
Ｘはハロゲンである）を、
式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶのシラン化合物
式ＩＩ：
（Ｅ−（Ｏ）ｑ）３Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ）ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
式ＩＩＩ：
ＨＲ４Ｎ−Ｒ３−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ］ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｒ３−ＮＨＲ４
式ＩＶ：
ＨＲ４Ｎ−Ｒ３−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ］ｍ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
（式中、
それぞれのＲ２は、独立に、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＲ３は、独立に、炭素と、酸素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ４は、独立に、ＨまたはＣ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ１〜Ｃ８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高約０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）
と接触させることによって製造されたポリマーを含むことを特徴とする組成物。
［２］  スルホニルハライドが、式Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２ＳＯ２Ｃｌ（式中、ｎは約２〜約２０である）、およびその混合物であることを特徴とする［１］に記載の組成物。
［３］  Ｒｆが、約４〜約１６個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基であることを特徴とする［１］に記載の組成物。
［４］  シラン化合物が、式ＩＩの化合物
（Ｅ−（Ｏ）ｑ）３Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ）ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｅ、ｑ、ｍ、およびｎは、［１］で定義された通りである）であることを特徴とする［１］に記載の組成物。
［５］  ２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で約５００〜約５０００ｍＰａ．ｓの粘度を有することを特徴とする［１］に記載の組成物。
［６］  分散液または溶液の形態であることを特徴とする［１］に記載の組成物。
［７］  パーフルオロアルキルスルホンアミドがグラフトしたポリ（アルキルシロキサン）の製造方法であって、
式Ｉのポリフルオロアルキルスルホニルハライド
Ｒｆ−Ｒ１−ＳＯ２Ｘ        Ｉ
（式中、
Ｒｆは、約２〜約２０個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、２価の結合基ＣｋＨ２ｋ（式中、ｋは０〜約２０である）であり、
Ｘはハロゲンである）を、
式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶのシラン化合物
式ＩＩ：
（Ｅ−（Ｏ）ｑ）３Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ）ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
式ＩＩＩ：
ＨＲ４Ｎ−Ｒ３−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ］ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｒ３−ＮＨＲ４
式ＩＶ：
ＨＲ４Ｎ−Ｒ３−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ］ｍ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
（式中、
それぞれのＲ２は、独立に、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＲ３は、独立に、炭素と、酸素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ４は、独立に、ＨまたはＣ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ１〜Ｃ８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高約０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）
と接触させるステップを含むことを特徴とする方法。
［８］  酸受容体の存在下で接触させるステップをさらに含むことを特徴とする［７］に記載の方法。
［９］  酸受容体が、第三級アミンまたは塩基性イオン交換樹脂であることを特徴とする［８］に記載の方法。
［１０］  基材表面に撥油性、撥水性、および汚れ抵抗性を付与する方法であって、
前記表面をポリマーと接触させるステップを含み、
該ポリマーは、式Ｉのポリフルオロアルキルスルホニルハライド
Ｒｆ−Ｒ１−ＳＯ２Ｘ        Ｉ
（式中、
Ｒｆは、約２〜約２０個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、２価の結合基ＣｋＨ２ｋ（式中、ｋは０〜約２０である）であり、
Ｘはハロゲンである）を、
式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶのシラン化合物
式ＩＩ：
（Ｅ−（Ｏ）ｑ）３Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ）ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
式ＩＩＩ：
ＨＲ４Ｎ−Ｒ３−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ］ｍ−［Ｓｉ（Ｒ３−ＮＨＲ４）（Ｒ２）Ｏ］ｎ−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｒ３−ＮＨＲ４
式ＩＶ：
ＨＲ４Ｎ−Ｒ３−Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ２）２−Ｏ］ｍ−Ｓｉ−（（Ｏ）ｑ−Ｅ）３
（式中、
それぞれのＲ２は、独立に、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＲ３は、独立に、炭素と、酸素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ４は、独立に、ＨまたはＣ１〜Ｃ８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ１〜Ｃ８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高約０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）
と接触させることによって製造される方法。
［１１］  ポリマーが水性分散液または溶液であることを特徴とする［１０］に記載の方法。
［１２］  分散液または溶液が、エポキシシランまたは架橋剤をさらに含むことを特徴とする［１１］に記載の方法。
［１３］  ポリマーが、約１％〜約１０重量％の濃度で塗布されることを特徴とする［１０］に記載の方法。
［１４］  基材表面上に被着されるポリマーの量が約１０〜約１０００ｇ／ｍ２であることを特徴とする［１０］に記載の方法。
［１５］  接触によって、テキスタイル基材および皮革基材に柔らかさが付与されることを特徴とする［１０］に記載の方法。
［１６］  ［１０］に記載の方法に従って処理されることを特徴とする基材。
［１７］  ［１］に記載の組成物と接触させた表面を有することを特徴とする基材。
［１８］  鉱物、ガラス、石、メーソンリー、コンクリート、無釉タイル、煉瓦、クレー、無釉コンクリート、花崗岩、石灰石、グラウト、モルタル、大理石、石灰石、彫塑、モニュメント、木材、複合材、テラゾ、および石膏ボードからなる群から選択された硬質表面であることを特徴とする［１６］に記載の基材。
［１９］  テキスタイル、繊維、不織布、紙、皮革、布地、およびカーペットからなる群から選択された繊維基材であることを特徴とする［１６］に記載の基材。