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【手続補正書】
【提出日】平成21年10月5日(2009.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2009511519.tif 000001
で示される５−（４−｛［（２−フルオロフェニル）メチル］オキシ｝フェニル）−プロリンアミドまたはその医薬上許容される塩もしくは溶媒和物。
【請求項２】
【化２】
2009511519.tif 000002
で示される化合物またはその医薬上許容される塩もしくは溶媒和物 である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
（５Ｒ）−５−（４−｛［（２−フルオロフェニル）メチル］オキシ｝フェニル）−Ｌ−プロリンアミドである請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
（５Ｒ）−５−（４−｛［（２−フルオロフェニル）メチル］オキシ｝フェニル）−Ｌ−プロリンアミド塩酸塩である請求項１または２記載の化合物。
【請求項５】
実質的に結晶形態である請求項４記載の化合物。
【請求項６】
下記の位置：４．７±０．１５（°２θ）、９．５±０．１５（°２θ）、１２．６±０．１５（°２θ）、１４．３±０．１５（°２θ）、１９．２±０．１５（°２θ）、２０．３±０．１５（°２θ）、２０．９±０．１５（°２θ）、２４．０±０．１５（°２θ）、２６．４±０．１５（°２θ）に特徴的なピークを有するＸＲＰＤパターンによって特徴付けられる請求項５記載の化合物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩もしくは溶媒和物、および医薬上許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項８】
治療において用いられる請求項１〜６のいずれか１項記載の式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩もしくは溶媒和物。
【請求項９】
電位依存性ナトリウムチャネルの変調によって媒介される疾患または状態を治療または予防するのに用いられる請求項１〜６のいずれか１項記載の式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩もしくは溶媒和物。
【請求項１０】
疾患または状態が鬱病または気分障害である請求項９記載の化合物。
【請求項１１】
疾患または状態が双極性障害である請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
疾患または状態が物質関連障害である請求項９記載の化合物。
【請求項１３】
物質関連障害がアルコール関連障害、ニコチン関連障害またはコカイン関連障害である請求項１２記載の化合物。
【請求項１４】
疾患または状態が強迫性摂食障害または過食障害である請求項９記載の化合物。
【請求項１５】
疾患または状態が癲癇である請求項９記載の化合物。
【請求項１６】
疾患または状態が炎症性疼痛またはニューロパシー痛である請求項９記載の化合物。
【請求項１７】
電位依存性ナトリウムチャネルの変調によって媒介される疾患または状態を治療または予防するための医薬の製造における請求項１〜６のいずれか１項記載の式（Ｉ）の化合物またはその医薬上許容される塩もしくは溶媒和物 の使用。
【請求項１８】
疾患または状態が鬱または気分障害である請求項１７記載の使用。
【請求項１９】
疾患または状態が双極性障害である請求項１８記載の使用。
【請求項２０】
疾患または状態が物質関連障害である請求項１７記載の使用。
【請求項２１】
物質関連障害がアルコール関連障害、ニコチン関連障害またはコカイン関連障害である請求項２０記載の使用。
【請求項２２】
疾患または状態が強迫性摂食障害または過食障害である請求項１７記載の使用。
【請求項２３】
疾患または状態が癲癇である請求項１７記載の使用。
【請求項２４】
疾患または状態が炎症性疼痛またはニューロパシー痛である請求項１７記載の使用。
【請求項２５】
請求項４記載の化合物を含む電位依存性ナトリウムの変調によって媒介される疾患または状態の治療または予防のための医薬組成物。
【請求項２６】
治療または予防されるべき疾患または状態が癲癇である請求項２５記載の医薬組成物。
【請求項２７】
治療または予防されるべき疾患または状態が双極性障害である請求項２５記載の医薬組成物。
【請求項２８】
治療または予防されるべき疾患または状態がニューロパシー痛または炎症性疼痛である請求項２５記載の医薬組成物。
【請求項２９】
式（ＩＩ）
【化３】
2009511519.tif 000003
で示される化合物と適当な溶媒中におけるアンモニア溶液の反応を特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の式（Ｉ）の化合物の製法。
【請求項３０】
請求項４記載の化合物および医薬上許容される担体を含む医薬組成物。
【請求項３１】
化合物が請求項４記載の化合物である請求項１７〜２４のいずれか１項記載の使用。
【請求項３２】
治療において用いられる請求項４記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月1日(2009.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
PAI-1阻害活性を示す少なくとも１つの酵素を含む、心血管系疾患を治療するための組成物。
【請求項２】
酵素がプロテアーゼもしくはペプチダーゼである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
酵素がプロテアーゼである、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
プロテアーゼが、セミアルカリプロテアーゼ、ブロメライン、セラペプターゼ、プロナーゼ、およびパパインからなる群から選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
酵素がセミアルカリプロテアーゼである、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
酵素がブロメラインである、請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
酵素がナットウキナーゼではない、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
PAI-1阻害活性を示す少なくとも１つの酵素を含む、心血管系疾患に関連する少なくとも１つのリスクファクターを示す被験者における心血管系疾患の発症リスクを低下させるための組成物。
【請求項９】
リスクファクターが、肥満、糖尿病、高血圧、ストレス、エストロゲンレベルの低下、慢性炎症、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
酵素がプロテアーゼである、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
プロテアーゼが、セミアルカリプロテアーゼ、ブロメライン、セラペプターゼ、プロナーゼ、およびパパインからなる群から選択される、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
酵素がセミアルカリプロテアーゼである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
酵素がブロメラインである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１４】
酵素がナットウキナーゼではない、請求項８に記載の組成物。
【請求項１５】
プロテアーゼおよびペプチダーゼから選択される酵素を含む、PAI-1活性を阻害するための組成物。
【請求項１６】
酵素がプロテアーゼである、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
プロテアーゼが、セミアルカリプロテアーゼ、ブロメライン、セラペプターゼ、プロナーゼ、およびパパインからなる群から選択される、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
酵素がセミアルカリプロテアーゼである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
酵素がブロメラインである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項２０】
酵素がナットウキナーゼではない、請求項１５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月5日(2009.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の４価のホウ素陰イオン、および
ｉ）窒素原子および陽イオンを含む有機化合物またはｉｉ）アンモニウム陽イオンの１つ以上
を含む化合物であって、
１つ以上の４価のホウ素原子のそれぞれは、アンモニウム陽イオンの窒素原子に、または少なくとも１つの窒素原子を含む有機化合物に結合していることを特徴とする化合物。
【請求項２】
該化合物は４価のホウ素陰イオンを含むアミドボラートを少なくとも１つ含み、ホウ素陰イオンは１つ以上の窒素原子と１つ以上の陽イオンを含む有機化合物の窒素原子に結合し、ボラート陰イオンと陽イオンの数が同じであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
アンモニウム陽イオンに結合した４価のホウ素陰イオンを含むアミドボラートを１つ以上含む請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
該化合物は２つ以上のアミドボラートおよび１つ以上の追加の陽イオンを含み、
それぞれのアミドボラートは４価のホウ素陰イオンを含み、
ボラート陰イオンの少なくとも１つは有機化合物の窒素原子に結合し、
ボラート陰イオンの少なくとも１つはアンモニウム陽イオンの窒素に結合し、
追加の陽イオンの数は、少なくとも１つの窒素原子を含む有機化合物の窒素原子に結合した４価のホウ素原子の数と同じであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
アミドボラートが次式の１つに相当することを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【化１】
2009511502.tif 000001
【化２】
2009511502.tif 000002
【化３】
2009511502.tif 000003
【化４】
2009511502.tif 000004
【化５】
2009511502.tif 000005
【化６】
2009511502.tif 000006
【化７】
2009511502.tif 000007
および
【化８】
2009511502.tif 000008
Ｒ１は、出現毎に独立して、アルキルもしくはシクロアルキル基であり、またはＲ１の２つ以上が結合して脂環式の環を形成していてもよく、
Ｒ２は、出現毎に独立して、アルキル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、またはアラルキル基であり、それらの基は１つ以上のヘテロ原子またはプロトンを含んでいてもよく、
Ｒ３は、出現毎に独立して、水素、アルキル基またはアリール基であり、それらの基は１つ以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、
Ｒ４は、出現毎に独立して、二価のヒドロカルビル基であり、その基は１つ以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、
Ｒ５は、出現毎に独立して、ｔ価のヒドロカルビル基であり、
Ｘは、出現毎に独立して、陽イオンであり、
Ｙは、出現毎に独立して、
【化９】
2009511502.tif 000009
または
【化１０】
2009511502.tif 000010
であり、
Ｚは、出現毎に独立して、Ｎ、Ｐ、ＳｉまたはＣであり、
ｐは、出現毎に独立して、０または１であり、
ｑは、出現毎に独立して、１または２であり、
ただし、連結したホウ素と窒素の対のそれぞれの上のｐとｑの合計は２であり、そしてｐとｑの合計は１または２であり、ｑが２のときはそれが結合した窒素は第四級であり、ボラートのホウ素上に見いだされる負電荷と釣り合う陽電荷を有し、そして陽イオンはボラートを中性にするために必要ではなく、
ｔは、出現毎に独立して、２以上であり、そして、
ｗは、出現毎に独立して、０または１である。
【請求項６】
次式の１つに相当する請求項１に記載の化合物。
【化１１】
2009511502.tif 000011
【化１２】
2009511502.tif 000012
【化１３】
2009511502.tif 000013
および
【化１４】
2009511502.tif 000014
Ｒ１は、出現毎に独立して、アルキルもしくはシクロアルキル基であり、またはＲ１の２つ以上が結合して脂環式の環を形成していてもよく、
Ｒ２は、出現毎に独立して、アルキル、シクロアルキル、アリール、アルカリール、またはアラルキル基であり、それらの基は１つ以上のヘテロ原子もしくはヘテロ原子含有官能基またはプロトンを含んでいてもよく、
Ｒ３は、出現毎に独立して、水素、アルキルまたはアリール基であり、それらの基は１つ以上のヘテロ原子またはヘテロ原子含有官能基を含んでいてもよく、
Ｒ４は、出現毎に独立して、二価のヒドロカルビル基であり、それらの基は１つ以上のヘテロ原子またはヘテロ原子含有官能基を含んでいてもよく、
Ｒ５は、出現毎に独立して、ｔ価の基であり、Ｒ５は、ｔ価のヒドロカルビレン基であり、その基は１つ以上のヘテロ原子またはヘテロ原子含有官能基を含んでいてもよく、
Ｘは、出現毎に独立して、陽イオンであり、
ｔは、出現毎に独立して、２以上であり、
Ｙは、出現毎に独立して、
【化１５】
2009511502.tif 000015
または
【化１６】
2009511502.tif 000016
であり、
Ｚは、出現毎に独立して、Ｎ、Ｐ、ＳｉまたはＣであり、
ｐは、出現毎に独立して、０または１であり、
ｑは、出現毎に独立して、１または２であり、
ただし、連結したホウ素と窒素の対のそれぞれの上のｐとｑの合計は２であり、そして
ｗは、出現毎に独立して、０または１である。
【請求項７】
式
【化１７】
2009511502.tif 000017
に相当する請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
式
【化１８】
2009511502.tif 000018
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
式
【化１９】
2009511502.tif 000019
に相当する請求項１に記載の化合物。
【請求項１０】
式
【化２０】
2009511502.tif 000020
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１１】
式
【化２１】
2009511502.tif 000021
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１２】
式
【化２２】
2009511502.tif 000022
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１３】
式
【化２３】
2009511502.tif 000023
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１４】
式
【化２４】
2009511502.tif 000024
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１５】
式
【化２５】
2009511502.tif 000025
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１６】
式
【化２６】
2009511502.tif 000026
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１７】
式
【化２７】
2009511502.tif 000027
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１８】
式
【化２８】
2009511502.tif 000028
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項１９】
式
【化２９】
2009511502.tif 000029
に相当する請求項５に記載の化合物。
【請求項２０】
式
【化３０】
2009511502.tif 000030
に相当する請求項５に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＫＩＲ２ＤＬ１、ＫＩＲ２ＤＳ１、ＫＩＲ２ＤＬ２、ＫＩＲ２ＤＬ３、ＫＩＲ２ＤＳ４、ＣＤ９４、ＮＫＧ２Ａ、ＮＫＧ２Ｃ、ＮＫＧ２Ｄ、ＮＫＧ２Ｅ、ＮＫＧ２Ｆ、ＮＫｐ３０、ＮＫｐ４４、およびＮＫｐ４６からなる群から選択されるＮＫ受容体に特異的に結合し、ヒトＮＫ細胞上の前記ＮＫ受容体に結合する場合、前記ＮＫ細胞を涸渇させる抗体を含む、免疫増殖性障害の処置のための医薬組成物。
【請求項２】
患者内のＴ細胞またはＮＫ細胞によって顕著に発現されるＮＫ受容体に特異的に結合し、結合した前記Ｔ細胞またはＮＫ細胞を涸渇させる抗体を含む、免疫増殖性障害の患者の処置のための医薬組成物。
【請求項３】
前記受容体が、ＫＩＲ２ＤＬ１、ＫＩＲ２ＤＳ１、ＫＩＲ２ＤＬ２、ＫＩＲ２ＤＬ３、ＫＩＲ２ＤＳ４、ＣＤ９４、ＮＫＧ２Ａ、ＮＫＧ２Ｃ、ＮＫＧ２Ｄ、ＮＫＧ２Ｅ、ＮＫＧ２Ｆ、ＮＫｐ３０、ＮＫｐ４４、およびＮＫｐ４６からなる群から選択される、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記受容体が、前記ＮＫ細胞の少なくとも５０％に検出可能に存在する、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記免疫増殖性障害が、自己免疫性溶血性貧血、悪性貧血、結節性多発動脈炎、全身性エリテマトーデス、ウェゲナー肉芽腫症、自己免疫性肝炎、ベーチェット病、クローン病、原発性胆汁性肝硬変、強皮症、大腸炎、シェーグレン症候群、１型糖尿病、ぶどう膜炎、グレーブス病、甲状腺炎、１型糖尿病、心筋炎、リウマチ熱、強皮症、強直性脊椎炎、関節リウマチ、糸球体腎炎、サルコイドーシス、皮膚筋炎、重症筋無力症、多発性筋炎、ギラン・バレー症候群、多発性硬化症、円形脱毛症、天疱瘡／類天疱瘡、乾癬、および白斑からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記抗体がＦｃ受容体に結合する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記抗体が、Ｇ１またはＧ３アイソタイプのＦｃ領域を含む、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記抗体がヒト化またはキメラ抗体である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記抗体が複数のＫＩＲ受容体に結合する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記抗体が複数のＮＫＧ２受容体に結合する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記抗体がＮＫｐ４６に特異的に結合する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記抗体がＮＫＧ２Ａに特異的に結合する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記抗体がＮＫＧ２Ｃに特異的に結合する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記抗体がＮＫＧ２ＡおよびＮＫＧ２Ｃに特異的に結合する、請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記抗体が、ＮＫＧ２Ａへの結合について、Ｚ１９９またはＺ２７０と競合する、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記抗体が、抗ＮＫＧ２Ａ抗体由来の少なくとも１つの相補性決定領域を含む、請求項１５に記載医薬組成物または方法。
【請求項１７】
ａ．ヒトＫＩＲ２ＤＬ１、ＫＩＲ２ＤＳ１、ＫＩＲ２ＤＬ２、ＫＩＲ２ＤＬ３、ＫＩＲ２ＤＳ４、ＣＤ９４、ＮＫＧ２Ａ、ＮＫＧ２Ｃ、ＮＫＧ２Ｄ、ＮＫｐ３０、ＮＫｐ４４、およびＮＫｐ４６からなる群から選択されるＮＫ細胞受容体に特異的に結合すること、
ｂ．Ｆｃ受容体に結合すること、
ｃ．ヒトＮＫ細胞上の前記ＮＫ細胞受容体に結合する場合、前記ＮＫ細胞を涸渇させること
によって特徴付けられる、モノクローナル抗体。
【請求項１８】
前記抗体がヒト化またはキメラ抗体である、請求項１７に記載のモノクローナル抗体。
【請求項１９】
前記抗体がＮＫｐ４６に特異的に結合する、請求項１７に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２０】
前記抗体がＮＫＧ２Ａに特異的に結合する、請求項１７に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２１】
前記抗体がＮＫＧ２Ｃに特異的に結合する、請求項１７に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２２】
前記抗体がＮＫＧ２ＡおよびＮＫＧ２Ｃに特異的に結合する、請求項１７に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２３】
前記抗体がＮＫＧ２Ａ、ＮＫＧＣおよびＮＫＧ２Ｅに特異的に結合する、請求項１７に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２４】
前記抗体が、ＮＫＧ２Ａへの結合について、Ｚ１９９またはＺ２７０と競合する、請求項１７〜２３のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２５】
前記抗体が、ＮＫＧ２Ａ抗体由来の相補性決定領域を含む、請求項２４に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２６】
前記抗体が、Ｇ１またはＧ３アイソタイプのＦｃ領域を含む、請求項１７〜２５のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項２７】
免疫増殖性障害の処置における使用に適切な抗体を産生させる方法であって、
ｉ．ＮＫ細胞の表面上に存在する１つ以上の受容体に特異的に結合する複数の抗体を提供する工程、
ｉｉ．免疫増殖性障害を伴う１人以上の患者から採取されたＮＫ細胞に結合する前記抗体の能力を試験する工程、
ｉｉｉ．前記複数の抗体から、１人以上の前記患者から採取されたＮＫ細胞の少なくとも５０％に結合する抗体を選択する工程、
ｉｖ．前記抗体をヒトへの投与に適切ならしめる工程
を含む方法。
【請求項２８】
前記抗体が、それが結合する前記ＮＫ細胞を涸渇させる、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記抗体が、ＫＩＲ２ＤＬ１、ＫＩＲ２ＤＳ１、ＫＩＲ２ＤＬ２、ＫＩＲ２ＤＬ３、ＫＩＲ２ＤＳ４、ＣＤ９４、ＮＫＧ２Ａ、ＮＫｐ３０、ＮＫｐ４４、およびＮＫｐ４６からなる群から選択される単一の受容体に結合する、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記抗体が、それをヒト化またはキメラ化することによってヒトへの投与に適切にされる、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
請求項２７〜３０のいずれか一項に記載の方法を使用して産生される抗体を含む組成物。
【請求項３２】
請求項３１に記載のいずれかの組成物または請求項１７〜２６のいずれか一項に記載の抗体、および医薬的に許容可能なキャリアを含む医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物（この式（Ｉ）の化合物は、ビオチン標識またはこの類似体との少なくとも１つの共有結合をさらに含む。）
オリゴ糖−スペーサー−ＧＰＩＩｂ／ＩＩＩａアンタゴニスト    （Ｉ）
（式中、オリゴ糖は、４から２５個の単糖類単位を含む負に帯電したオリゴ糖残基であり、電荷は正に帯電した対イオンによって相殺されており、前記オリゴ糖残基はそれ自体が（ＡＴ−ＩＩＩ媒介）抗Ｘａ活性を有するオリゴ糖から誘導されており；
スペーサーは、結合であり、または本質的に薬理学的不活性な結合残基であり；
ＧＰＩＩｂ／ＩＩＩａアンタゴニストは、互いに１０〜２０Å離れて残基内に位置するカルボキシレート部分および塩基部分を含むフィブリノゲンのＲＧＤおよび／またはＫ（ＱＡ）ＧＤ断片を模倣した残基である。）
または薬学的に許容されるこの塩もしくはプロドラッグもしくはこの溶媒和物。
【請求項２】
スペーサーが本質的に薬理学的不活性な結合残基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
スペーサーが１から５０個原子の長さを有する、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
スペーサーが少なくとも１つの−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−要素を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
オリゴ糖が４から１６個の単糖類単位を有する、請求項１から４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
オリゴ糖が硫酸化五糖類残基である、請求項１から５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
五糖類残基が構造Ａを有する、請求項６に記載の化合物
【化１】
2009511543.tif 000001
（式中、Ｒ１は、独立に、ビオチン標識もしくはこの類似体、ＯＳＯ３−または（１〜８Ｃ）アルコキシである。）。
【請求項８】
五糖類残基が構造Ｂを有する、請求項７に記載の化合物
【化２】
2009511543.tif 000002
（式中、Ｒ１は、ＯＣＨ３またはＯＳＯ３−である。）。
【請求項９】
ＧＰＩＩｂ／ＩＩＩａアンタゴニスト残基が、Ｒｏ４３５０５４、ＳＣ５４７０１（ゼミロフィバン）、ＲＷＪ５００４２、シブラフィバン（Ｒｏ４４３８８８）、ラミフィバン（Ｒｏ４４９８８３）、ＧＰＩ５６２、ＦＫ６３３、チロフィバン（ＭＫ３８３）、オルボフィバン（ＳＣ５７１０１）、エプチフィバチド（Ｃ６８２２）、ロキシフィバン（ＸＶ４５９）、エラロフィバン（ＲＷＪ５３３０８）、ＳＲ１２１５６６（ＳＲ１２１７８７の活性型）、レフラダフィバン（ＢＩＢＵ５２）、ロトラフィバン（ＳＢ２１４８５７）、ガントフィバン（ＹＭ０２８）、Ｔ−２５０、ＥＦ５０７７、ＺＤ２４８６、ＴＡＫ０２９、ＴＰ９２０１、Ｌ７０３０１４およびＵＲ−３２１６から誘導された残基から選択される、請求項１から８のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１０】
ビオチン標識またはこの類似体との１つの共有結合を含む、請求項１から９のいずれかに記載の化合物。
【請求項１１】
式Ｉの化合物のオリゴ糖残基がビオチン標識またはこの類似体との共有結合を含む、請求項１から７、９および１０のいずれかに記載の化合物。
【請求項１２】
式Ｉの化合物のオリゴ糖残基が、式−（ＮＨ−ＣＯ）ｎ−（ＣＨ２）ｐ−Ｘ−ＢＴ（式中、ｎは、０または１であり、ｐは、４または５であり、Ｘは、ＮＨ、Ｎ（１〜４Ｃ）アルキル、ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ２ＯＨ）−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ、ＮＨ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ、ＮＨ−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）−ＮＨまたはＮＨ−ＣＨ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）−ＮＨであり、ＢＴは、以下の標識
【化３】
2009511543.tif 000003
である。）のビオチン類似体との１つの共有結合を含む、ビオチン類似体との１つの共有結合を含む、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
【化４】
2009511543.tif 000004
である、請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
式Ｉの化合物のスペーサーがビオチン標識またはこの類似体との共有結合を含む、請求項１から１０のいずれかに記載の化合物。
【請求項１５】
式Ｉの化合物のスペーサーが、式
−（ＣＨ２）４−Ｘ−ＢＴ
（式中、ＸおよびＢＴは、請求項１２の定義の通りである。）のビオチン類似体との１つの共有結合を含む、ビオチン類似体との１つの共有結合を含む、請求項１４に記載の化合物。
【請求項１６】
【化５】
2009511543.tif 000005
である、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
このナトリウム塩の形態である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
【化６】
2009511543.tif 000006
である、請求項１７に記載の化合物。
【請求項１９】
式Ｉの化合物のＧＰＩＩｂ／ＩＩＩａアンタゴニスト残基がビオチン標識またはこの類似体との共有結合を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項２０】
式Ｉの化合物のＧＰＩＩｂ／ＩＩＩａアンタゴニスト残基がビオチン標識またはこの類似体との共有結合を含む、ビオチン標識またはこの類似体との１つの共有結合を含む、請求項１９に記載の化合物。
【請求項２１】
請求項１から２０のいずれか一項に記載の化合物および薬学的に適切な助剤を含む医薬組成物。
【請求項２２】
治療に使用するための請求項１から２０のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項２３】
血栓症またはトロンビン関連疾患を治療もしくは予防するための医薬の製造における、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の使用。
【請求項２４】
患者において請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の抗トロンビン作用を中和する方法であって、患者に有効量のアビジンまたはストレプトアビジンを投与することを含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月29日(2009.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ほぼ連続的で且つ無孔性の無機結合剤によって三次元構造で互いに結合された複数の砥粒を含む砥粒塊であって、前記砥粒が、約０．５ミクロン〜約１５００ミクロンの平均サイズを有し、前記無機結合剤が、前記砥粒塊の約７５重量パーセント未満をなし、前記砥粒塊の嵩密度が、前記砥粒の嵩密度の約９０パーセント未満である砥粒塊。
【請求項２】
前記砥粒が、不連続な単層を前記無機結合剤の上に形成する、請求項１に記載の砥粒塊。
【請求項３】
前記砥粒１グラム当たり約０．０５グラム〜約０．５グラムのガラス結合剤を含む、請求項１に記載の砥粒塊。
【請求項４】
複数のガラス体を提供するステップであって、各ガラス体がある規定された形状を有し、前記ガラス体がある軟化温度を有するステップと、
複数の砥粒を提供するステップと、
前記複数のガラス体と前記複数の砥粒を混合して混合物を形成するステップと、
前記ガラス体が前記規定された形状をほぼ維持しながらも軟化するように、前記混合物を前記軟化温度まで加熱するステップと、
砥粒を前記軟化したガラス体に付着させて複数の砥粒塊を形成するステップと、
前記ガラス体が硬化するように、前記砥粒塊を冷却するステップと、を含む複数の砥粒塊を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月29日(2009.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨製品を製造する方法であって、
ａ）実質的に水平に配置された裏材を提供する工程と、
ｂ）平均粒子サイズ４５μ以下を有する研磨粒子及び微粒子硬化性結合剤前駆体を含む乾燥流動性粒子混合物を提供する工程と、
ｃ）前記乾燥流動性粒子混合物の層を前記裏材に堆積させる工程と、
ｄ）前記乾燥流動性粒子混合物の前記層の少なくとも一部を焼結し凝集層を提供する工程であって、隣接した研磨粒子を前記硬化性結合剤前駆体により互いに付着する工程と、
ｅ）前記凝集層を圧縮し圧縮層を提供する工程と、
ｆ）前記圧縮層のエンボス加工又は少なくとも部分的な切断の少なくとも１つを実施して、前記裏材から間隔を置いて配置された遠位端及び前記裏材に付着された接触端を有する硬化性成形構造体を提供する工程と、
ｇ）少なくとも部分的に前記硬化性結合剤前駆体を硬化し研磨粒子及び結合剤を含む前記裏材に取り付けられた成形研磨構造体を形成する工程とを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月24日(2009.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期律表の第ＩＶａ族〜第ＶＩａ族の金属の炭窒化物からなる少なくとも１つの層のＣＶＤ堆積による、被覆された基材成形体の製造法において、ガス雰囲気中に有機炭素キャリアとしての少なくとも１種の単環式炭化水素及び窒素キャリアとしての少なくとも１種のニトリル又はアミン又は複素環式炭化水素又はこれらの混合物が存在し、その際、窒素キャリア対単環式炭化水素の比が２：１〜１：１６であることを特徴とする、被覆された基材成形体の製造法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第一に述べた課題は、請求項１記載の方法により解決される。本発明によれば、ガス雰囲気中でＣＶＤ堆積の間に有機窒素キャリア、有利にニトリルに加えて、更に有機炭素キャリア、有利に単環式炭化水素が使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月13日(2009.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶存物質を含んだ水の供給源から比較的精製された水を生成するための水処理の方法であって、前記供給源からの水を少なくとも１つの処理表面に送出するステップと、前記水の分子の水和層を前記処理表面の近傍において前記水中に生成するために、前記処理表面にまたは前記処理表面の近傍に電場を生成するステップと、前記処理表面の近傍から前記水和層の前記水を抽出するステップと、を含む方法。
【請求項２】
電場がそこにあるいはその近傍に生成される１つまたは複数の前記処理表面が半透膜を含み、前記水和層からの水が、前記半透膜を通る前記水和層の水の浸透流を引き起こすために前記供給水に圧力を加えることにより抽出される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記処理表面の前記電場が、前記処理表面にあるいは前記処理表面の近傍の電極に電荷をかけることにより生成される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記電荷が、空白時間により分離される正方形のパルスを有する方形波信号として印加される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記処理表面が、前記水の供給源に対して移動可能である少なくとも１つの要素上に用意され、この処理表面の少なくとも一部分が、その上にある前記水和層の水を含む前記供給水から引っ込められることができ、それに続いて、前記水和層の水が前記少なくとも１つの要素から除去される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記供給水中に浸漬される周縁部と前記供給水の上を延在する部分とを有する要素を回転させるステップであって、水和層の水が、前記回転により、前記水和層の水が前記要素から抽出されることができる前記供給水の上の位置まで引き上げられることができるようになる、ステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
複数の個別の要素上に処理表面を用意するステップであって、前記複数の個別の要素が、前記供給水内で移動可能であり、さらに、後でこれらの要素から除去される水和層の水を運びながら前記処理表面から離脱することができる、ステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
溶存物質を含んだ水の供給源から比較的精製された水を生成するために水を処理する装置であって、前記供給源からの水を少なくとも１つの処理表面に送出する手段と、前記処理表面の近傍に前記供給源からの水内に電場を生成して前記水和層を前記電場内に確立する手段と、前記処理表面の近傍から前記水和層の水を抽出する手段と、を含む装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの処理表面が半透膜を含み、前記半透膜を通る前記水和層の水の浸透流を引き起こすために前記供給水に圧力を加える手段が存在する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記半透膜が、電荷を印加して前記電場を生成するための導電性要素を有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記半透膜の近傍での前記電場の生成を実現するための、前記半透膜に隣接する電極を含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記膜または電極に方形波の電気信号を印加するための手段を含む、請求項１０または請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの処理表面が、その上に水和層を生成するために表面部分が前記供給水内に浸漬されることができるよう、ならびにその上にある前記水和層を含む前記供給水から前記水和層の水が前記要素から除去されることができる位置まで引っ込められることができるようにするために移動可能である少なくとも１つの要素上に設けられる、請求項８に記載の装置。
【請求項１４】
前記要素が、回転可能であり、一部分が前記供給水に浸漬される周縁部と前記供給水の上を延在する部分とを有する、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記回転可能な要素が、その上に水和層を生成するために電荷を帯びることができさらに前記水和層を解放するために放電されることができる表面を有する、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記回転可能な要素が、前記供給水内のある位置においてこの要素の表面に電荷をかけるための内側帯電電極と、前記供給水の液位より上の位置にある放電電極と、を有する中空ローラを含む、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの処理表面が複数の個別の要素によって与えられ、前記複数の個別の要素が、前記供給水内で移動可能であり、さらに、後でこれらの要素から除去される前記水和層の水を運びながら前記処理表面から離脱することができる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記要素が、前記供給水に入れられるときならびに前記供給水から取り出されるときにそれぞれ前記要素に印加されるならびに前記要素から放電される電荷を有することができる材料である、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記要素が磁気的に引きつけ可能になることができ、前記供給水からの前記要素の除去を行うための磁気的手段が用意される、請求項１８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月17日(2009.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【図１】装置の全体図である。
【図２】補償器の１実施例を示す図である。
【図３】図１の詳細図である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−Ｓｉ−ＯＨ−Ａｌ−骨格を有する分子ふるい１００質量部、水−不溶性金属塩０．０１〜５．０質量部、及びリン酸化合物０．０５〜１７．０質量部を含む原料混合物の水分蒸発により得られる生成物からなり、該分子ふるいの表面気孔が下記化学式１〜化学式３で表される化合物の一つで修飾されている、水熱安定性の多孔性分子ふるい触媒。
［化学式１］
Ｍx（Ｈ2ＰＯ4）y
（式中、Ｍは金属であり、ｘは１であり、ｙは２〜６の整数である。）；
［化学式２］
Ｍx（ＨＰＯ4）y
（式中、Ｍは金属であり、ｘは２であり、ｙは２〜６の整数である。）；及び
［化学式３］
Ｍx（ＰＯ4）y
（式中、Ｍは金属であり、ｘは３であり、ｙは２〜６の整数である。）
【請求項２】
前記水−不溶性金属塩と前記リン酸化合物のモル比が１．０：０．３〜１０．０である、請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
前記分子ふるいが、Ｓｉ／Ａｌモル比が１〜３００であり、かつ気孔サイズが４〜１０Åであるゼオライト、又は気孔サイズが１０〜１００Åであるメソ細孔型分子ふるいである、請求項１又は２に記載の触媒。
【請求項４】
前記分子ふるいが、ＺＳＭ−５、フェリエライト、ＺＳＭ−１１、モルデナイト、β−ゼオライト、ＭＣＭ−２２、Ｌ−ゼオライト、ＭＣＭ−４１、ＳＢＡ−１５、及びＹ−ゼオライトよりなる群から選択される、請求項３に記載の触媒。
【請求項５】
前記水−不溶性金属塩は、アルカリ土類金属、遷移金属、及び＋３〜＋５の酸化状態である重金属よりなる群から選択される少なくとも一つの金属の、酸化物、水酸化物、炭酸化物又はシュウ酸塩である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項６】
前記リン酸化合物が、リン酸（Ｈ3ＰＯ4）、リン酸アンモニウム塩又はアルキルリン酸塩である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項７】
水熱安定性の多孔性分子ふるい触媒の製造方法であって、
（ａ）リン酸化合物と水溶性金属塩を含む水性スラリーに、−Ｓｉ−ＯＨ−Ａｌ−骨格を持つ分子ふるいを、該水性スラリーが前記分子ふるい１００質量部、前記水−不溶性金属塩０．０１〜５．０質量部、及び前記リン酸化合物０．０５〜１７．０質量部の原料組成を持つように加える工程；及び
（ｂ）前記水性スラリー内の水分を蒸発過程によって除去した後、濾過して固体生成物を回収する工程を含む製造方法。
【請求項８】
前記水−不溶性金属塩と前記リン酸化合物のモル比が１．０：０．３〜１０．０である、請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の製造方法であって、
工程（ａ）が、
（i）前記リン酸化合物、前記水−不溶性金属塩及び水を互いに混合して水性スラリーを製造する副工程；
（ii）前記スラリー内で前記リン酸化合物がリン酸水素イオン（［ＨＰＯ4］2-）、リン酸二水素イオン（［Ｈ2ＰＯ4］-）及びリン酸イオン（［ＰＯ4］3-）から選択される１種のイオンとして存在するようにスラリーのｐＨを調節し、スラリーを攪拌する副工程；及び、
（iii）工程（ii）のスラリーに、−Ｓｉ−ＯＨ−Ａｌ−骨格を持つ分子ふるいを添加する副工程を含む製造方法。
【請求項１０】
工程（ii）の攪拌が２０〜６０℃の温度で３０分〜３時間行われる、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
工程（ｂ）の蒸発過程が１０〜９０℃の温度で行われる、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記分子ふるいが、Ｓｉ／Ａｌモル比が１〜３００であり、かつ気孔サイズが４〜１０Åであるゼオライト、又は気孔サイズが１０〜１００Åであるメソ細孔型分子ふるいである、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記分子ふるいが、ＺＳＭ−５、フェリエライト、ＺＳＭ−１１、モルデナイト、β−ゼオライト、ＭＣＭ−２２、Ｌ−ゼオライト、ＭＣＭ−４１、ＳＢＡ−１５、及びＹ−ゼオライトよりなる群から選択される、請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記水−不溶性金属塩が、アルカリ土類金属、遷移金属、及び＋３〜＋５の酸化状態を有する重金属よりなる群から選択される少なくとも一つの金属の、酸化物、水酸化物又は炭酸化物である、請求項７〜１３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記リン酸化合物が、リン酸、リン酸アンモニウム塩又はアルキルリン酸塩である、請求項７〜１４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１６】
水熱安定性の多孔性分子ふるい触媒の製造方法であって、
（ａ）リン酸化合物と水−不溶性金属塩とを含む水性スラリーを製造する工程；
（ｂ）前記水性スラリーから水分を第１蒸発過程によって除去した後、濾過して第１固体生成物を回収する工程；
（ｃ）−Ｓｉ−ＯＨ−Ａｌ−骨格を持つ分子ふるいを含む水性スラリーを製造する工程；及び
（ｄ）前記分子ふるいを含む水性スラリーに前記第１固体生成物を添加して、第２蒸発過程によって得られた混合物から水分を除去した後、濾過して第２固体生成物を分離する工程を含み、
前記リン酸化合物及び前記水−不溶性金属塩は、前記分子ふるい１００質量部に対してそれぞれ０．０５〜１７．０質量部及び０．０１〜５．０質量部の量で使用される製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の製造方法であって、工程（ａ）が、
（i）前記リン酸化合物、前記水−不溶性金属塩及び水を混合する副工程；及び
（ii）得られた混合物内で前記リン酸化合物がリン酸水素イオン、リン酸二水素イオン及びリン酸イオンから選択される１種のイオンとして存在するように混合物のｐＨを調節し、混合物を攪拌する副工程
を含む製造方法。
【請求項１８】
工程（ii）の混合過程が、２０〜６０℃の温度で３０分〜３時間の範囲の時間行われる、請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記水−不溶性金属塩と前記リン酸化合物とのモル比が１．０：０．３〜１０．０である、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記分子ふるい１００質量部に対して前記第１固体生成物０．０１〜２０．０質量部が添加される、請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２１】
前記第１蒸発過程が、１０〜９０℃の温度で行われる、請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２２】
前記第２蒸発過程が、２０〜６０℃の温度で行われる、請求項１６〜２１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２３】
前記分子ふるいが、Ｓｉ／Ａｌモル比が１〜３００であり、かつ気孔サイズが４〜１０Åであるゼオライト、又は気孔サイズが１０〜１００Åであるメソ細孔型分子ふるいである、請求項１６〜２２のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２４】
前記水−不溶性金属塩が、アルカリ土類金属、遷移金属、及び＋３〜＋５の酸化状態である重金属よりなる群から選択される少なくとも一つの金属の、酸化物、水酸化物又は炭酸化物である、請求項１６〜２３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項２５】
前記リン酸化合物が、リン酸、リン酸アンモニウム塩又はアルキルリン酸塩である、請求項１６〜２４のいずれか一項に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月12日(2009.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドリルロッドが取り付けられたロックドリルを含み、該ドリルロッドの一端にはドリルビットが取り付けられ、前記ロックドリルは衝撃装置および回転式モータを含むトップハンマ式削岩装置で岩に孔をあける方法であって、前記ドリルロッドおよび前記ドリルビットは前記回転式モータによって回転し、応力パルスを前記衝撃装置によって前記ドリルロッドおよび前記ドリルビットを介して前記岩へ送って該岩を砕く方法において、前記使用されるドリルビットは円錐状ローラビットであり、前記衝撃装置は、前記ドリルビットの負荷係数が少なくとも0.075になるような高い周波数で低い振幅の応力パルスを生成することを特徴とする岩に穴をあける方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記応力パルスの周波数は少なくとも200Hzであることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、前記応力パルスの振幅は最大で150MPa、好ましくは100MPaであることを特徴とする方法。
【請求項４】
トップハンマ式ロックドリルと、該ロックドリルに取り付けられたドリルロッドと、該ドリルロッドの端部に取り付けられたドリルビットとを含み、前記ロックドリルは、前記ドリルロッドおよび前記ドリルビットを介して岩へ応力パルスを供給する衝撃装置と、前記ドリルロッドおよび前記ドリルビットを回転させる回転式モータとを含む、岩に孔をあけるための削岩装置において、前記ドリルビットは円錐状ローラビットであり、前記衝撃装置は、前記ドリルビットの負荷係数が少なくとも0.075になるような高い周波数で低い振幅の応力パルスを前記ドリルロッドおよび前記ドリルビットを介して前記岩へ与えるように構成されていることを特徴とする削岩装置。
【請求項５】
請求項４に記載の削岩装置において、前記衝撃装置は、少なくとも200Hzの周波数で応力パルスを生ずるように構成されていることを特徴とする削岩装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の削岩装置において、前記衝撃装置は、最大で150MPa、好ましくは100MPaの振幅を有する応力パルスを生ずるように構成されていることを特徴とする削岩装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月2日(2009.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ＩＳＯ  ７７６５−１に従って少なくとも２２０ｇ／ミルのダートインパクト値(dart impact value)、
（ｂ）ＡＳＴＭ  Ｄ−１９２２に従って、縦方向(machine direction)で少なくとも１１５ｇ／ミルのエルメンドルフ引裂き強度、
（ｃ）ＡＳＴＭ  Ｄ−１９２２に従って、横方向(cross direction)で少なくとも２７０ｇ／ミルのエルメンドルフ引裂き強度、
（ｄ）その原長の２００パーセントの歪度まで伸長した後、横方向で少なくとも７８パーセントの弾性回復率(elastic recovery)、および
（ｅ）伸縮フード試験(a stretch hood test)において少なくとも７００ｌｂｆｔ／インチ２の最終保持力(final holding force)（高伸張（２００％〜１７５％）試験後）
を示す、多層弾性空気急冷インフレーションフィルム構造(a multi-layer elastic air quenched blown film structure)であって、
前記フィルムが、
Ａ．そのフィルム構造の４０から８０重量パーセントを構成する第一層（該第一層は、
（１）実質的にアイソタクチックなプロピレン配列を有し、且つ、８４から９１重量パーセントのプロピレン由来単位および９から１６重量パーセントのエチレン由来単位を含み、且つ、０．１から１０ｇ／１０分のメルトフローレート（ＭＦＲ）、２から５０ジュール／グラムの融解熱、４未満の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）および０．８５５から０．８７６ｇ／ｍＬの密度を有する、５０から８５重量％のプロピレン系コポリマーと；
（２）場合により、０．１から１０ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）および０．９００から０．９２３ｇ／ｍＬの密度を有する５０から１５重量パーセントの線状低密度ポリエチレンコポリマーとを含む）；および
Ｂ：そのフィルム構造の１０から３０重量パーセントを構成する第二層（該第二層は、
（１）０．９００から０．９２８ｇ／ｍＬの密度を有し、且つ、０．１から９のメルトインデックス（ＭＩ）を有する、５５から１００重量パーセントの低密度ポリエチレンと；
（２）０．９００から０．９２８ｇ／ｍＬの密度および０．１から１０ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）を有する、０から４５重量パーセントの線状低密度ポリエチレンコポリマーと；
（３）場合により、１０００から２０，０００ｐｐｍの粘着防止剤(anti-block additive)とを含む）
を含む、フィルム構造。
【請求項２】
第一層Ａからなる芯（コア）層と二つの外層とを有し、前記外層の少なくとも一方が第二層Ｂからなる、請求項１に記載のフィルム構造。
【請求項３】
二つの第二層Ｂの間にサンドイッチされた第一層Ａからなる芯（コア）層を有する、請求項２に記載のフィルム構造。
【請求項４】
伸縮フード試験において高伸張（２００％〜１７５％）試験後に少なくとも７３０ｌｂｆｔ／インチ２の最終保持力を示す、請求項１に記載のフィルム構造。
【請求項５】
伸縮フード試験において標準伸張（１６０％〜１４０％）試験後に少なくとも３６３ｌｂｆｔ／インチ２の最終保持力を示す、請求項１に記載のフィルム構造。
【請求項６】
プロピレン系コポリマーが、３．５未満の分子量分布を有する、請求項１から５のいずれかに記載のフィルム構造。
【請求項７】
プロピレン系コポリマーが、３．０未満の分子量分布を有する、請求項１から５のいずれかに記載のフィルム構造。
【請求項８】
前記第一層は、
（１）実質的にアイソタクチックなプロピレン配列を有する、５０から１００重量％のプロピレン系コポリマーと；
（２）０．１から１０ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）および０．９００から０．９２３ｇ／ｍＬの密度を有する５０から１５重量パーセントの線状低密度ポリエチレンコポリマーとを含み；および
前記第二層はフィルム構造の１０から３０重量パーセントを構成し、前記第二層は、
（１）０．９００から０．９２５ｇ／ｍＬの密度および０．５から１．５ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）を有する、７０から１００パーセントの実質的に線状のポリエチレン（または均一に分枝した線状のポリエチレン）と線状低密度ポリエチレンの反応器内ブレンド(an in-reactor blend)と；
（２）０．９１８から０．９２８ｇ／ｍＬの密度を有し、且つ、０．２５から１ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）を有する、０から３０パーセントの低密度ポリエチレンとを含む、
請求項１に記載のフィルム構造。
【請求項９】
前記第一層は、０．１から５ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）および０．９１８から０．９２８ｇ／ｍＬの密度を有する、６０から１５重量パーセントの低密度ポリエチレンポリマーを含み；および
前記第二層は、
（１）０．９１８から０．９２３ｇ／ｍＬの密度を有し、且つ、０．１から１０ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）を有する、４０から１００重量パーセントの線状低密度ポリエチレンコポリマーと；
（２）０．９１８から０．９２８ｇ／ｍＬの密度および０．１から９ｇ／１０分のメルトインデックス（ＭＩ）を有する、０から６０重量パーセントの低密度ポリエチレンと；
（３）実質的にアイソタクチックなプロピレン配列を有し、且つ、８４から９１重量パーセントのプロピレン由来単位および９から１６重量パーセントのエチレン由来単位を含み、且つ、０．１から１０ｇ／１０分のメルトフローレート（ＭＦＲ）、２から５０ジュール／グラムの融解熱、４未満の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）および０．８５５から０．８７６ｇ／ｍＬの密度を有する、０から２０重量パーセントのプロピレン系コポリマーとを含む、
請求項１に記載のフィルム構造。
【請求項１０】
ＡＳＴＭ  Ｄ−１７２０（タイプＢ）に従って少なくとも３５０ｇ／ミルのダートインパクトを示す、請求項１から９のいずれかに記載のフィルム構造。