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【手続補正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板キャリヤを開放するためのシステムにおいて、
１つ以上の基板を保持するように適応された基板キャリヤと、
基板キャリヤ搬送システムから基板キャリヤを受け取るためのロードポートと、
を備え、
上記ロードポートは、ドア開放機構を含み、上記ドア開放機構は、基板キャリヤドアを上記ドア開放機構に対して保持するために真空圧を使用するように適応される、
システム。
【請求項２】
上記ドア開放機構は、真空圧を真空源から上記基板キャリヤのドアへ加えるように適応されたポートを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
上記ドア開放機構は、更に、真空圧を上記真空源から上記基板キャリヤのドアへと向けるように適応された１つ以上のチャネルを含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
上記ドア開放機構は、更に、上記基板キャリヤのドアと結合し、上記基板キャリヤの上記ドアを上記ドア開放機構と整列させるように適応された１つ以上のキネマチック（kinematic）特徴部を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
上記ドアは、上記ドア開放機構が上記ドアに隣接しているときに、上記ドア開放機構のポートと整列するように配設される１つ以上のカップ特徴部を含み、
上記１つ以上のカップ特徴部は、上記ドア開放機構に対するシールを生成するよう適応される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
上記ロードポートは、更に、上記基板キャリヤが上記ロードポートに隣接して配設されるときに、上記基板キャリヤの周辺にガス流を加えるように適応される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
ロードポートにおいて基板キャリヤを受け取るステップと、
上記ロードポートのドアオープナーを上記基板キャリヤのドアと整列させるステップと、
上記ドアを保持するため上記ドアオープナーを介して上記ドアへ真空圧を加えるステップと、
を備えた方法。
【請求項８】
上記基板キャリヤの周辺にガス流を加えるステップを更に備えた、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
上記基板キャリヤの上記ドアを取り外すステップと、上記基板キャリヤのあるレベルより下へ上記ドアを下降させるステップと、を更に備えた、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
基板キャリヤに使用するための装置において、
ドア開放機構を含むロードポートを備え、上記ドア開放機構は、基板キャリヤドアを上記ドア開放機構に対して保持するため真空圧を使用するように適応される、装置。
【請求項１１】
上記ドア開放機構は、真空圧を真空源から上記基板キャリヤの上記ドアへと加えるように適応されたポートを含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
上記ドア開放機構は、更に、真空圧を上記真空源から上記基板キャリヤの上記ドアへと向けるように適応された１つ以上のチャネルを含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
上記ドア開放機構は、上記基板キャリヤの上記ドアに結合し、上記基板キャリヤの上記ドアを上記ドア開放機構と整列させるように適応された１つ以上のキネマチック特徴部を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
上記ドアは、上記ドア開放機構が上記ドアに隣接しているときに、上記ドア開放機構のポートと整列するように配設される１つ以上のカップ特徴部を含み、
上記１つ以上のカップ特徴部は、上記ドア開放機構に対するシールを生成するよう適応される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
上記ロードポートは、上記基板キャリヤが上記ロードポートに隣接して配設されるときに、上記基板キャリヤの周辺にガス流を加えるように適応される、請求項１０に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項１記載の、合金対を有する複合導体の製造法において、
少なくとも１本のより線（２２）を第１の合金から製造し、
少なくとも１本のより線（２２）を押出し成形装置内に導入し、第２の合金より成る周壁（１４）を設け、
製造された複合導体（１０，１１，１２）を少なくとも１回だけ引き抜きダイスを通して引き抜き加工し、この際に最終的な成形形状を得る、
という段階を有しており、
この場合、０．０８％乃至０．１２％のＡｇ割合を有するＣｕＡｇの合金を第１の合金とし、０．１％乃至０．７％のＭｇ割合を有するＣｕＭｇの合金を第２の合金とするか、又は０．１％乃至０．７％のＭｇ割合を有するＣｕＭｇの合金を第１の合金とし、０．０８％乃至０．１２％のＡｇ割合を有するＣｕＡｇの合金を第２の合金とする、
ことを特徴とする、複合導体の製造法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明による複合導体は、０．０８％〜０．１２％のＡｇ割合を有するＣｕＡｇのベース合金より成っていて、複合導体の縁部又は芯が、０．１％乃至０．７％のＭｇ割合を有するＣｕＭｇの合金より成っている。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月16日(2009.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インデックス情報とデータを受信する段階と、
前記インデックス情報をエントロピデコーディングする段階と、
前記エントロピデコーディングされたインデックス情報に該当するエントロピテーブルを識別する段階と、
前記エントロピテーブルを用いて前記データをエントロピデコーディングする段階と、
を有することを特徴とする信号処理方法。
【請求項２】
前記データはパラメータであり、前記パラメータを用いてオーディオ信号を復元する段階をさらに有する、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項３】
前記インデックス情報は、発生確率を特徴とする複数のインデックスに関する情報である、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項４】
インデックスのみに用いる前記エントロピテーブルを用いることにより前記インデックス情報をエントロピデコーディングする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項５】
前記エントロピテーブルはデータの種類別に分類される、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項６】
前記データをエントロピデコーディングする段階は、前記エントロピテーブルを用いて前記データを２次元でエントロピデコーディングする段階を更に有する、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項７】
前記インデックス情報はデータコーディング方式及びエントロピコーディング方式の組み合せに応じて異なるインデックスを持つ、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項８】
エントロピテーブルを用いてデータをエントロピエンコーディングする段階と、
前記エントロピテーブルを識別するためにインデックス情報を生成する段階と、
前記インデックス情報をエントロピエンコーディングする段階と、
前記エントロピエンコーディングされたインデックス情報を送る段階と、
を有することを特徴とする信号処理方法。
【請求項９】
エントロピテーブルを用いてデータをエントロピエンコーディングするエンコーディング部と、
前記エントロピテーブルを識別するインデックス情報を形成する情報生成部と、
前記インデックス情報をエントロピエンコーディングするインデックスエンコーディング部と、
前記エントロピエンコーディングされたインデックス情報を送る出力部と、
を有することを特徴とする信号処理装置。
【請求項１０】
インデックス情報とデータを受信する入力部と、
前記インデックス情報をエントロピデコーディングするデコーディング部と、
前記エントロピデコーディングされたインデックス情報に該当するエントロピテーブルを識別する識別部と、
前記エントロピテーブルを用いて前記データをエントロピデコーディングするデコーディング部と、
を有することを特徴とする信号処理装置。
【請求項１１】
前記データはパラメータであり、前記パラメータを用いてオーディオ信号を復元する複数チャンネル生成部をさらに有する、請求項１０に記載の信号処理装置。
【請求項１２】
前記インデックス情報は、発生確率を特徴とする複数のインデックスに関する情報である、請求項１０に記載の信号処理装置。
【請求項１３】
インデックスのみに用いるエントロピテーブルを用いることにより前記インデックス情報をエントロピデコーディングする、請求項１０に記載の信号処理装置。
【請求項１４】
前記エントロピテーブルはデータの種類別に分類される、請求項１０に記載の信号処理装置。
【請求項１５】
前記エントロピテーブルは、前記データを２次元でエントロピデコーディングするために用いる、請求項１０に記載の信号処理装置。
【請求項１６】
前記インデックス情報はデータコーディング方式及びエントロピコーディング方式の組み合せに応じて異なるインデックスを持つ、請求項１０に記載の信号処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月15日(2009.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオコーディングシステムによって実行されるビデオ信号デコーディング方法であって、
向上階層（enhanced  layer）の現在ブロックの第１の差分信号（residual  signal）と基礎階層（base  layer）の対応するブロックの第２の差分信号とに基づいて前記現在ブロックの第３の差分信号を得る段階であり、前記第２の差分信号は、前記対応するブロックの画素値と、前記対応するブロックのイントラ予測モードを使用した前記対応するブロックの予測画素値との間の差分値（difference  value）を表し、前記第３の差分信号は、前記第１の差分信号と前記第２の差分信号とを加算することによって得られる段階と、
前記イントラ予測モードと隣接するブロックの画素値とに基づいて前記現在ブロックの予測画素値を得る段階と、
前記現在ブロックの前記予測画素値と前記第３の差分信号とを使用することによって前記現在ブロックを復元する段階と、
を含み、前記隣接するブロックは、前記現在ブロックに隣接する、ビデオ信号デコーディング方法。
【請求項２】
前記基礎階層の空間の解像度(spatial  resolution)は、前記向上階層と同様であり、前記基礎階層の画質(image  quality)は、前記向上階層と異なる、請求項１に記載のビデオ信号デコーディング方法。
【請求項３】
前記基礎階層の画質は、前記向上階層の画質より低く、前記画質は、量子化ステップサイズ(quantization  step  size)に基づく、請求項２に記載のビデオ信号デコーディング方法。
【請求項４】
前記第３の差分信号は、変換係数のレベル(transform  coefficient  level)に対応する、請求項１に記載のビデオ信号デコーディング方法。
【請求項５】
基礎階層の対応するブロックの第２の差分信号を得る基礎階層デコーダと、
向上階層の現在ブロックの第１の差分信号と前記第２の差分信号とに基づいて前記現在ブロックの第３の差分信号を得て、前記対応するブロックのイントラ予測モードと隣接するブロックの画素値とに基づいて前記現在ブロックの予測画素値を得て、前記現在ブロックの前記予測画素値と前記第３の差分信号とを使用することによって前記現在ブロックを復元する向上階層デコーダと、
を有し、前記第２の差分信号は、前記対応するブロックの画素値と、前記対応するブロックのイントラ予測モードを使用した前記対応するブロックの前記予測画素値との間の差分値を表し、前記第３の差分信号は、前記第１の差分信号と前記第２の差分信号とを加算することによって得られ、前記隣接するブロックは、前記現在ブロックに隣接する、ビデオ信号デコーディング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記電気コネクタ組立体の各々は、第１電気コンタクト（１０２ａ）及び第２電気コンタクト（１０２ｂ）を具備し、
前記第１電気コンタクトは、嵌合部（１０４ａ）と、該嵌合部と電気的につながっている実装部（１１０ａ）とを有し、
前記第２電気コンタクトは、嵌合部（１０４ｂ）と、該嵌合部と電気的につながっている実装部（１１０ｂ）とを有し、
前記第１電気コンタクトの前記嵌合部は、前記第２コンタクトの前記嵌合部のほぼ鏡像であり、
前記第１電気コンタクトの前記実装部は、前記第２コンタクトの前記実装部をほぼ横に移行した形状であることを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気コネクタ組立体
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月4日(2009.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路であって、
複数の構成可能ハードウェア機能と、該複数の構成可能ハードウェア機能に結合された複数の構成可能相互接続とを含む構成可能回路と、
該構成可能回路の１つ以上の特性に構成データを適合させる複数の命令を実行するために、該構成可能回路に結合されたマイクロコントローラと
を備え、
該構成データは、初期には、該構成可能回路の１つ以上の特性とは異なる他の特性を有する他の集積回路の他の構成可能回路に適合され、該適合された構成データによって該構成可能回路を構成する、
集積回路。
【請求項２】
外部デバイスを前記集積回路に結合する入力／出力（Ｉ／Ｏ）インターフェースをさらに備え、前記マイクロコントローラは、前記複数の命令の少なくともサブセットを検索するために該外部デバイスにアクセスする、請求項１に記載の集積回路。
【請求項３】
前記複数の命令の少なくともサブセットをキャッシュするために、前記マイクロコントローラに結合された命令キャッシュをさらに備えている、請求項１に記載の集積回路。
【請求項４】
前記集積回路は、該集積回路の外部のデバイスに該集積回路を結合する入力／出力（Ｉ／Ｏ）インターフェースをさらに備え、該集積回路は、該Ｉ／Ｏインターフェースに結合された該外部デバイスから前記命令キャッシュに、前記複数の命令のサブセットを逐次的に取り出すために、該命令キャッシュと該Ｉ／Ｏインターフェースとに結合された回路をさらに備えている、請求項３に記載の集積回路。
【請求項５】
前記マイクロコントローラに結合された読み取り専用メモリをさらに備えており、該読み取り専用メモリは、その中に前記複数の命令を格納している、請求項１に記載の集積回路。
【請求項６】
前記マイクロコントローラに結合された読み取り専用メモリをさらに備えており、該読み取り専用メモリは、前記構成可能ハードウェア機能と構成可能相互接続とに関連付けられるデータを有する、請求項１に記載の集積回路。
【請求項７】
前記データは包括的なデータを含み、前記マイクロコントローラは、少なくとも部分的に該包括的なデータに基づいて、前記構成データによる前記構成可能回路の構成が該構成可能回路にとって無害であるか否かを判断する、請求項６に記載の集積回路。
【請求項８】
前記データは、前記構成可能回路の少なくとも前記１つ以上の特性を記述する回路データを含み、
前記マイクロコントローラは、少なくとも部分的に前記回路データに基づいて、該構成データによる該構成可能回路の構成が、該構成可能回路にとって無害であるか否かを判断する、請求項６に記載の集積回路。
【請求項９】
前記マイクロコントローラは、少なくとも部分的に前記命令に基づいて、前記構成データによる前記構成可能回路の構成が該構成可能回路にとって有害であるか否かを判断する、請求項５に記載の集積回路。
【請求項１０】
少なくとも部分的に前記複数の命令に基づいて、前記マイクロコントローラは、
利用可能な冗長構成可能ハードウェア機能、
利用可能な冗長構成可能相互接続、あるいは、
該利用可能な冗長構成可能ハードウェア機能と該利用可能な冗長構成可能相互接続との両方
を使用して、前記適合された構成データによる所望の構成をトランスペアレントに有効にする、請求項１に記載の集積回路。
【請求項１１】
前記命令の実行に関連付けられたワーキングデータを格納するために、前記マイクロコントローラに結合された格納装置をさらに備えている、請求項１に記載の集積回路。
【請求項１２】
前記他の集積回路の前記他の構成可能回路は、前記集積回路の前記構成可能回路の異なる製造者バージョンである、請求項１に記載の集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月1日(2009.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成され、かつ、少なくとも１つの金属層を含む半導体デバイスの形成方法であって、
前記基板を除去するとともに、前記半導体デバイスに第２基板を付着するステップと、
前記少なくとも１つの金属層上に直接、電磁放射線のビームを照射することで前記少なくとも１つの金属層をアニーリングするステップと
を備える方法。
【請求項２】
前記第２基板が、前記基板が除去される前に前記半導体デバイスに付着される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２基板が、前記基板が除去された後に前記半導体デバイスに付着される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２基板が、前記半導体デバイスの第２面において前記半導体デバイスに付着され、前記基板が、前記半導体デバイスの第１面から除去されており、前記第１面と前記第２面とが異なっている、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１面が、前記第２面の反対側にある、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
電磁放射線の前記ビームが、前記少なくとも１つの金属層における複数の箇所に照射される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記箇所の数および間隔が、前記少なくとも１つの金属層の金属と、前記少なくとも１つの金属層の厚さとによって決定される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記レーザービームが、前記複数の箇所に連続的に照射される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
電磁放射線の前記ビームの光源と前記半導体デバイスとの間にマスクが配置され、前記マスクが、電磁放射線の前記ビームが通る通路のための少なくとも１つの開口を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの開口が、前記少なくとも１つの金属層と実質的に同一に寸法形成されかつ形作られている、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記電磁ビームの照射の持続時間、波長、放射出力、および放射出力密度が、前記少なくとも１つの金属層の金属、前記少なくとも１つの金属層の厚さ、および前記半導体デバイスの材料によって決定される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記レーザービームが、前記少なくとも１つの金属層の金属、前記少なくとも１つの金属層の厚さ、および前記半導体デバイスの材料によって決定された周波数および強度のものである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
複数の金属層があり、前記複数の金属層が、連続的な態様、および、同時的な態様から構成される群より選択される態様でアニーリングされる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの金属層が、オームコンタクト層である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
電磁放射線の前記ビームが、レーザービーム、少なくとも１つの照明装置からの光、および一群の照明装置からの光から構成される群より選択される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月8日(2009.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩｎＰ基板；並びに
ＩＩ−ＶＩ及びＩＩＩ−Ｖ材料の交番層を含む層状構造体であって、
前記ＩＩ−ＶＩ材料がＣｄＺｎＳｅを含み、前記ＩＩＩ−Ｖ材料がＩｎＡｌＡｓ又はＡｌＩｎＧａＡｓを含み；その際前記ＩＩ−ＶＩ材料がＣｄxＺｎ1-xＳｅであり、ここでｘが０．４７〜０．５７であるが、０．４７〜０．５４のｘを除く、層状構造体。
【請求項２】
ＩｎＰ基板；並びに
ＩＩ−ＶＩ及びＩＩＩ−Ｖ材料の交番層を含む層状構造体であって、
前記交番層の前記材料が次のもの：ＢｅＺｎＴｅ又はＢｅＭｇＺｎＴｅを含むＩＩ−ＶＩ材料及びＩｎＡｌＡｓを含むＩＩＩ−Ｖ材料；ＣｄＺｎＳｅ又はＣｄＭｇＺｎＳｅを含むＩＩ−ＶＩ材料及びＩｎＡｌＡｓを含むＩＩＩ−Ｖ材料；又はＺｎＳｅＴｅを含むＩＩ−ＶＩ材料及びＩｎＡｌＡｓを含むＩＩＩ−Ｖ材料から選択され；その際前記ＩＩＩ−Ｖ材料がＩｎyＡｌ1-yＡｓであり、ここでｙが０．４７〜０．５７であるが、０．４７〜０．５２のｙを除く、層状構造体。
【請求項３】
ＩｎＰ基板；並びに
ＩＩ−ＶＩ及びＩＩＩ−Ｖ材料の交番層を含む層状構造体であって、
前記ＩＩ−ＶＩ材料がＺｎＳｅＴｅを含み、前記ＩＩＩ−Ｖ材料がＩｎＡｌＡｓ又はＡｌＩｎＧａＡｓを含む層状構造体。
【請求項４】
前記ＩＩ−ＶＩ及びＩＩＩ−Ｖ材料の交番層が、１以上の分布ブラッグ反射器（ＤＢＲ）を形成する、請求項１、２、又は３に記載の層状構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１の領域を有する少なくとも１つの第１の光ビーム（１１４）を生成するステップであって、前記第１の領域のうち少なくとも２つはスペクトル的に異なる、ステップと、
前記少なくとも１つの第１の光ビーム（１１４）を使用して少なくとも１つの第２の光ビーム（１１８）及び少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）を生成するステップであって、前記少なくとも１つの第２の光ビーム（１１８）は複数の第２の領域を有し、前記少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）は複数の第３の領域を有し、前記第２の領域のうち少なくとも２つはスペクトル的に異なり、前記第３の領域のうち少なくとも２つはスペクトル的に異なる、ステップと、
前記第２の領域の各々について複数の第１の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定するステップと、
前記少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）で対象（１０２）の少なくとも一部を照射して、少なくとも１つの第４の光ビーム（１２６）を生成するステップであって、前記少なくとも１つの第４の光ビーム（１２６）は複数の第４の領域を有し、前記第４の領域のうち少なくとも２つはスペクトル的に異なる、ステップと、
前記第４の領域の各々について複数の第２の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定するステップと、
前記測定されたスペクトルの少なくとも幾つかを使用して前記対象（１０２）の放射伝達因子を識別するステップとを具備する方法。
【請求項２】
前記第１の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定する前記ステップは、第１の検出器（１２４）を使用するステップを含み、
前記第２の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定する前記ステップは、第２の検出器（１３２）を使用するステップを含み、前記方法は、
前記第１及び第２の検出器（１２４、１３２）を調整するステップをさらに具備する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記対象（１０２）の少なくとも一部の照射を中断するステップをさらに具備し、
前記第４の領域の各々について複数の第２の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定する前記ステップは、照射を中断する前記ステップの前及び後の両方において、前記第４の領域の各々について前記複数の第２の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定するステップを含み、
前記放射伝達因子はリン光放射伝達因子を含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも２つの領域がスペクトル的に異なる複数の第１の領域を含む少なくとも１つの第１の光ビーム（１１４）を生成することができ、
前記少なくとも１つの第１の光ビーム（１１４）を使用して、少なくとも２つの領域がスペクトル的に異なる複数の第２の領域を含む少なくとも１つの第２の光ビーム（１１８）及び少なくとも２つの領域がスペクトル的に異なる複数の第３の領域を含む少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）を生成することができる、ビーム生成器と、
前記第２の領域の各々について複数の第１の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定することができる第１の検出器（１２４）と、
少なくとも１つの第４の光ビーム（１２６）の複数の第４の領域の各々について複数の第２の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定することができる第２の検出器（１３２）であって、前記第４の領域のうち少なくとも２つはスペクトル的に異なり、前記少なくとも１つの第４の光ビーム（１２６）は、前記少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）で対象（１０２）の少なくとも一部を照射することにより生成される、第２の検出器（１３２）とを具備する装置。
【請求項５】
少なくとも２つの領域がスペクトル的に異なる複数の第１の領域を含む少なくとも１つの第１の光ビーム（１１４）を生成することができ、
前記少なくとも１つの第１の光ビーム（１１４）を使用して、少なくとも２つの領域がスペクトル的に異なる複数の第２の領域を含む少なくとも１つの第２の光ビーム（１１８）及び少なくとも２つの領域がスペクトル的に異なる複数の第３の領域を含む少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）を生成することができる、ビーム生成手段と、
前記第２の領域の各々について複数の第１の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定することができる第１の測定手段（１２４）と、
少なくとも１つの第４の光ビーム（１２６）の複数の第４の領域の各々について複数の第２の波長帯域の各々におけるスペクトルを測定することができる第２の測定手段（１３２）であって、前記第４の領域のうち少なくとも２つはスペクトル的に異なり、前記少なくとも１つの第４の光ビーム（１２６）は、前記少なくとも１つの第３の光ビーム（１２０）で対象（１０２）の少なくとも一部を照射することにより生成される、第２の測定手段（１３２）とを具備する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析物のセンサーの初期の背景の電流の値を決定すること；
該分析物のセンサーについて、使用の際に、該初期の背景の電流の値を使用することで、初期の分析物のセンサーの出力の値を決定すること；
調節された背景の電流の値を形成するために、該決定された初期の分析物のセンサーの出力の値に基づいた因子だけ該初期の背景の電流の値を調節すること；及び
該調節された背景の電流の値を使用することで、調節された分析物のセンサーの出力の値を形成すること
：を含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記因子は、前記初期の背景の電流の値に適用された乗法の因子である、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
前記因子は、予め定義された許容可能な調節された背景の電流の値より選択された調節された背景の電流の値への前記初期の背景の電流の値の増加又は減少を含む、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、
前記初期の分析物のセンサーの出力の値に基づいたは、前記初期の分析物のセンサーの出力の値が、所定の範囲内に属するかどうかを決定することを含む、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、
前記初期の分析物のセンサーの出力の値に基づいたは、前記初期の分析物のセンサーの出力の値が、７０ｍｇ／ｄｌ及びより下のものであるかどうかを決定することを含む、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、
前記初期の背景の電流の値を決定することは、おおよそ０．５から２．０ｎＡまでの範囲内における任意の背景の電流の水準を提供することを含む、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法において、
前記調節された分析物のセンサーの出力の値は、関連させられた表示デバイスに表示される、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法において、
前記調節された背景の電流の値は、前記調節された分析物のセンサーの出力の値が変化すると、実時間においてさらに調節される、方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法において、
前記初期の背景の電流の値を使用することは、前記初期の分析物のセンサーの出力の値を形成するために、第一の測定された分析物のセンサーの出力の値から前記初期の背景の電流の値を減ずることを含むと共に、
前記調節された背景の電流の値を使用することは、前記調節された分析物のセンサーの出力の値を形成するために、第二の測定された分析物のセンサーの出力の値から前記調節された背景の電流の値を減ずることを含む、方法。
【請求項１０】
装置であって、
該装置が、プログラミングの命令が実行されるとき、
分析物のセンサーの初期の背景の電流の値を決定する、
該分析物のセンサーについて使用の際に該初期の背景の電流の値を使用することで初期の分析物のセンサーの出力の値を決定する、
調節された背景の電流の値を形成するために該決定された初期の分析物のセンサーの出力の値に基づいた因子だけ該初期の背景の電流の値を調節する、及び
該調節された背景の電流の値を使用することで、調節された分析物のセンサーの出力の値を形成する
ことを可能とするために設計された複数のプログラミングの命令を記憶しておいてある記憶媒体；並びに
該複数のプログラミングの命令を実行するための該記憶媒体へ結合させられた処理装置
：を含む、装置。
【請求項１１】
第一の正味の分析物のセンサーの出力の値を形成するために、第一の分析物のセンサーの出力の値から分析物のセンサーの第一の背景の電流の値を減ずること；
個体の毛細血管のブドウ糖の値を得ること；
感度の値を形成するために、該毛細血管のブドウ糖の値で該第一の正味の分析物のセンサーの出力の値を割ること；
該分析物のセンサーの第二の背景の電流の値を決定すること；
該分析物のセンサーについて該第二の背景の電流の値を使用することで第二の分析物のセンサーの出力の値を決定すること；
第三の背景の電流の値を形成するために、該決定された第二の分析物のセンサーの出力の値に基づいた因子だけ該第二の背景の電流の値を調節すること；
第二の正味の分析物のセンサーの出力の値を形成するために、該第二の分析物のセンサーの出力の値から該第三の背景の電流の値を減ずること；及び
見積もられたブドウ糖の値を形成するために、該感度の値で該第二の正味の分析物のセンサーの出力の値を割ること
：を含む、方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、
前記感度の値は、時間で重みを付けられた一連の先の正味の分析物のセンサーの出力の値及び先の毛細血管の血液のブドウ糖の値から形成される、方法。
【請求項１３】
分析物のセンサーを使用することで試料の分析物の値を得るための方法であって、
該分析物のセンサーに使用されるための固定された背景の電流の値を決定すること；
初期の分析物のセンサーの電流の値を形成するために、該試料と接触した状態に該分析物のセンサーをもってくること；
正味の分析物のセンサーの電流の値を形成するために、該初期の分析物のセンサーの電流の値から該固定された背景の電流の値を減ずること；
見積もられたブドウ糖の値を形成するために、該分析物のセンサーの感度の値で該正味の分析物のセンサーの電流の値を割ること；並びに
該見積もられたブドウ糖の値が予め定義された閾値より上にあるとすれば、該見積もられたブドウ糖の値を表示すること、並びに、該見積もられたブドウ糖の値が、該予め定義された閾値に又はより下にあるとすれば、調節されたブドウ糖の値を形成するために、低減する因子を適用すること、及び、そして該調節されたブドウ糖の値を表示すること
：を含む、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法において、
前記固定された背景の電流の値は、０．０ｎＡから１０ｎＡまでにある、方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法において、
前記感度の値は、測定された毛細血管のブドウ糖の値で前記正味の分析物のセンサーの出力の値を割ることによって決定される、方法。
【請求項１６】
請求項１３に記載の方法において、
前記予め定義された閾値は、９０ｍｇ／ｄｌである、方法。
【請求項１７】
請求項１３に記載の方法において、
前記低減する因子を適用することは、前記見積もられたブドウ糖の値へおおよそ１５％又はより少ないものの低減する因子を適用することを含む、方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月28日(2009.8.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明によれば、対向換気パルスの、タイミング、継続時間及び／または振幅は、シリンダ構造（ディファレンシャルシリンダ、スルーロッド型シリンダ、２ポジションシリンダ、３ポジションシリンダ）に依存する。ディファレンシャルシリンダの場合、前記のタイミング、継続時間及び／または振幅は、更に運動方向に依存し、３ポジションシリンダの場合、初期位置及び目標位置に依存する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
対向換気パルスのタイプ（Art）及び継続時間は、更に、有利な態様では、必要とされるシフト速度（例えば、パワーシフト、ジェントルシフト（Schonschaltung）、等）に依存し得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
図１は、圧力配管及び換気ポート、並びに、シフトピストンの概略図である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
図１には、シフトピストン１が開示されている。それは、シフトシリンダ２の中で、軸方向に移動可能に配置されている。可能な制御運動が、矢印によって示されている。符合３、３’は、圧力配管を示しており、符合４、４’は、換気ポートを示している。シフトピストン１の右への制御運動を得るために、圧力配管３を介して、シフトピストンの制御運動の方向とは反対側（制御側）が、制御圧力をかけられる。対向（側）換気パルスによる、シフトピストン１の制御圧とは逆の側（反対側）の規定された換気によって、本発明に従って、十分な終端位置ダンパ作用と高いシフト速度とが達成される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
この場合、対向換気パルスの継続時間及び振幅は、以下のように規定される。すなわち、ピストン速度を制限（抑制）するような最大の可能性ある換気圧力が形成できないように、規定される。特に、対向換気パルスの継続時間及び振幅によって、シフト速度（例えば、パワーシフト、ジェントルシフト（Schonschaltung）、等）と終端位置ダンパ作用とが調整される。更に、対向換気パルスの、タイミング、継続時間及び／または振幅は、シリンダ構造に依存している。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
【図１】圧力配管及び換気ポート、並びに、シフトピストンの概略図である。
【図２】対向換気のための弁の信号と、ピストンの目標位置のための弁の信号と、の例示的な経過を示している。
【図３】本発明に従う、対向換気のための弁の信号と、ピストンの目標位置のための弁の信号と、の別の更なる例示的な経過を示している。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車の駆動トレーンにて可変にトルクを分配するためのディファレンシャル装置（２）であって、
回転駆動可能な１つのディファレンシャルケージ（４）と、１回転軸線（Ａ）の上に支承された２つの出力軸（３，３′）とを有し、該出力軸（３，３′）がディファレンシャルケージ（４）と、ディファレンシャルギヤセット（７，９，９′）を介して駆動結合されており、ディファレンシャルケージ（４）と各出力軸（３，３′）との間に第１の駆動トレーンが形成されているディファレンシャルギヤ（２１）を有しており、出力軸（３，３′）あたり、ディファレンシャルケージ（４）と出力軸（３，３′）の一方とに駆動結合され、第１の駆動トレーンに対し機能的に並列である第２の駆動トレーンの部分である１つのギヤ段（１４，１４′）を有しており、ギヤ段（１４，１４′）あたり、第２の駆動トレーンを接続及び遮断するための１つの摩擦クラッチ（１５，１５′）を有しており、摩擦クラッチ（１５，１５′）あたり、摩擦クラッチを作動するためのボールランプ装置の形をした１つの軸方向調節装置（１６，１６′）を有しており、軸方向調節装置（１６，１６′）が回転軸線（Ａ）に対し同軸的な２つの円板（４２，４３；４２′，４３′）をそれぞれ有しており、これらの円板（４２，４３；４２′，４３′）の一方が軸方向に支えられかつ他方が軸方向で調節可能でありかつこれらの円板（４２，４３；４２′，４３′）の一方が回転駆動可能であって、これらの円板（４２，４３；４２′，４３′）の両方が互いに向き合った端面に複数の球溝（４４，４５；４４′，４５′）を有し、該球溝（４４，４５；４４′，４５′）がそれぞれ端面に対する平面図で見て、同じ周方向に変化する深さを有しており、互いに向き合う球溝（４４，４５；４４′，４５′）の対偶にそれぞれ１つの球（４１）が受容されており、両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の回転駆動可能な円板（４３；４３′）に駆動結合された唯一の電気モータ（５２）を有していることを特徴とする、ディファレンシャル装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
両方のボールランプ装置１６，１６′のために唯一の電気モータ５２を使用することは部品数が少なくかつ構造がコンパクトである利点を有している。この場合、装置は、零点状態から発して、電気モータ５２を第１の回転方向に作動した場合に第１のボールランプ装置の球４１がその作用区分へ移動するのに対し、第２のボールランプ装置の球４１がその空行程区分へ移動するように構成されている。したがって第１の摩擦クラッチ１５が閉鎖方向に作動される。電気モータ５２が反対の回転方向に運転されると第２のボールランプ装置が、零点状態をあらためて通過したあとで拡開させられるのに対し、第１のボールランプ装置は空行程状態にある。したがって第２の摩擦クラッチ１５′が閉鎖方向に作動される。すなわち、一時点では両方の摩擦クラッチ１５，１５′の一方だけが変化するトルクの分配のために作動されるのに対し、他方の摩擦クラッチ１５′，１５は開放しており、トルクの分配には影響を持たない。
以下、本発明の有利な実施形態を列挙しておく。
両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の球溝（４４，４５；４４′，４５′）が深さが変化するように構成され、電気モータ（５２）を一方の回転方向に作動した場合に両方の円板（４２，４３；４２′，４３′）が互いに接近するのに対し、他方の軸方向調節装置（１６′，１６）の円板（４２′，４３′；４２，４３）が互いに同じ間隔を維持し、かつその反対であるように構成されている。
両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の回転駆動可能な円板（４３；４３′）の球溝（４５；４５′）が、それぞれ端面に対する平面図で見て、同じ周方向に、変化する深さを有しており、電気モータ（５２）が回転駆動可能な円板（４３；４３′）と駆動結合され、電気モータ（５２）が作動させられた場合に前記円板（４３；４３′）が同じ回転方向に回動させられる。
両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の軸方向で支えられた円板（４２；４２′）がそれぞれ回動不能にケーシング（５）に保持されており、両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の軸方向に移動可能な円板（４３；４３′）がそれぞれ電気モータ（５２）により回転駆動可能である。
両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の両方の円板（４２，４３；４２′，４３′）の球溝（４４，４５；４４′，４５′）がそれぞれ深さの変わらない空行程区分（６４，６４′）とこれに続く変化するリードを有する作用区分（６５，６５′）とを有している。
空行程区分（６４，６４′）が少なくとも、作用区分（６５，６５′）と同じ大きさの円弧区分に亙って延びている。
空行程区分（６４，６４′）と作用区分（６５，６５′）との間に零点状態が規定されている。
電気モータ（５２）を作動した場合に、零点状態から発して、一方の軸方向調節装置（１６，１６′）の球（４１）が空行程区分（６４，６４′）へ案内される一方、他方の軸方向調節装置（１６，１６′）の球（４１）が作用区分（６５′，６５）へ案内されるように両方の軸方向調節装置（１６，１６′）が構成されている。
軸方向調節装置（１６，１６′）の少なくとも一方の球溝（４４，４５；４４′，４５′）にてそれぞれ作用区分（６５，６５′）と空行程区分（６４，６４′）との間の移行領域に設けられた係止切欠き（６９）によって零点状態が与えられるように形成され、前記係止切欠き（６９）に対応する球（４１）が係止できる。
両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の作用区分（６５，６５′）がリードの大きい第１の部分区分（６６，６６′）とこれに続くリードの小さい第２の部分区分（６７，６７′）とを有している。
第１の部分区分（６６，６６′）が第２の部分区分（６７，６７′）よりも小さな円弧区分（α）に亙って延びている。
電気モータ（５２）が駆動ジャーナル（５６）を有し、該駆動ジャーナル（５６）が中間伝動装置（５３）を介して、両方の軸方向調節装置（１６，１６′）の回転駆動される円板（４３；４３′）と駆動結合されている。
中間伝動装置（５３）が回転軸（Ａ）に対し平行に延びる中間軸（５５）を有している。
電気モータ（５２）が軸方向で両方の摩擦クラッチの一方の領域に、つまり第１又は第２の摩擦クラッチの領域に配置されている。
出力軸（３，３′）あたりギヤ段（１４，１４′）がそれぞれ、ディファレンシャルケージ（４）と回動不能に結合された第１の太陽歯車（２７，２７′）と、対応する出力軸（３，３′）と回動不能に結合された第２の太陽歯車（２９，２９′）と、両方の太陽歯車（２７，２９；２７′，２９′）と噛合う少なくとも１つの遊星歯車（２８，２８′）と、少なくとも１つの遊星歯車（２８，２８′）を保持する、長手方向軸線（Ａ）を中心として回転するウエブエレメント（３６，３６′）とを有しており、摩擦クラッチ（１５，１５′）がギヤ段（１４，１４′）あたりそれぞれ、ケーシング（１８，１８′）と回動不能に結合された外積層板（３９，３９′）と、ギヤ段（１４，１４′）のウエブエレメント（３６，３６′）と結合された内積層板（３８，３８′）とを有している。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
缶の上部エッジの全部に適合する保護カバー（３）を備えた飲料缶であって、前記保護カバー（３）は該カバー（３）と一体となった舌部（４）を介して缶（１）と連結されており、前記カバー（３）及び前記舌部（４）は前記缶（１）と同じ金属又は合金金属から一体的に作られており、そしてカバー（３）に対し反対側の舌部（４）の端は該缶（１）に固定されていることを特徴とする前記飲料缶。
【請求項２】
カバー（３）に対し反対側の該舌部（４）の端は、該舌部（４）の軸が缶の上面（２）の中に形成される開口蓋（１０）から角度的に約１４０度の角度でシフトして該缶（１）へ固定されていることを特徴とする請求項１に記載の飲料缶。
【請求項３】
該舌部（４）の自由端は、前記缶（１）の上に接着又は溶接により固定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の金属缶。
【請求項４】
該カバー（３）は、その折り曲げられた外側エッジ上にその間に弾性変形可能なタブを形成するスロットを備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の金属缶。
【請求項５】
該カバー（３）は、それが缶の上部エッジの上に切り取ることができるように適合されている請求項１に記載の金属缶。
【請求項６】
該カバー（３）の中央区域は缶（１）へ向いたドーム形状であり、そのため缶が開けられた後、それは缶内部のガス圧により反対向きに変形することができることを特徴とする請求項１に記載の金属缶。
【請求項７】
該カバー（３）は、把持付属片を備えていることを特徴とする請求項１に記載の金属缶。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性フィルム材料（１３、１３０）によって少なくとも部分的に形成される廃棄処理可能な缶（１０、２０、３０、４０、６０、７０、８０、９０）であって、
該缶（１０、２０、３０、４０、６０、７０、８０、９０）は、上面（１６、２６、４６）を有し、且つ少なくとも１つの再封構造部（１４、２４、３４、４４、５４、６４、８４、９４、１１４、１２４）を備える少なくとも１つの注出機構を有し、該注出機構は該缶の外側に取り付けられる、廃棄処理可能な缶。
【請求項２】
前記注出機構は、前記缶の前記上面に取り付けられる、請求項１に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項３】
前記注出機構は、前記缶の前記可撓性フィルム材料に取り付けられる、請求項１又は２に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項４】
前記再封構造部を通る通路は初め、前記缶を形成する材料の一部（５８０１）によって遮断されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項５】
前記再封構造部を通る通路は初め、前記缶を形成するフィルム材料の一部（５８０１）によって遮断されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項６】
前記再封構造部は、破断されて注出に使用される前記上面の或る領域を囲む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項７】
前記再封構造部は、再封体（２０５、４０５、５０５、６０５、８０５、９０５、１００５）が嵌合されるか、又は該再封体の取り付けを容易にする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の可撓性フィルム材料（１３、１３０）によって少なくとも部分的に形成される廃棄処理可能な缶（１０、２０、３０、４０、６０、７０、８０、９０）であって、
該缶は、上面（１６、２６、４６）を有し、且つ少なくとも１つの再封構造部（１４、２４、３４、４４、５４、６４、８４、９４、１１４、１２４）を備える少なくとも１つの注出機構を有し、該注出機構は該缶に取り付けられ、該缶は、前記再封構造部に取り外し可能に嵌合される少なくとも１つの再封体（２０５、４０５、５０５、６０５、８０５、９０５、１００５）をさらに備える、廃棄処理可能な缶。
【請求項９】
前記バリア機構はフィルタを含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１０】
前記注出機構は、前記クロージャが最初に取り外されると前記上面（１６、２６、４６）に開口（２８０、３８０、４８０、５８０）を有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１１】
前記開口（２８０、３８０、４８０、５８０）は、少なくとも部分的に、前記上面（１６、２６、３６、４６）のシート材料に形成される切欠き開口又は穿孔された開口又は剥離可能な開口である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１２】
前記上面及び前記少なくとも１つの接合部は外側リザーバ（２０１）を形成する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１３】
前記外側支持機構（６０１、７０１）は、形状安定板紙によって形成される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１４】
前記外側支持機構（６０１、７０１）は管状形状を有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１５】
前記缶は焼却可能である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【請求項１６】
前記缶は、切断手段、押圧手段、又は穿孔手段を含む再封体を有する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の廃棄処理可能な缶。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月6日(2009.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記のＮ末端配列Ｇｌｙ−Ｈｉｓ−Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ａｓｐ−Ｌｙｓ−Ｌｙｓ−Ａｒｇ−Ｇｌｕ−Ｇｌｕ−Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｓｅｒ−Ｌｅｕ−Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−Ｉｌｅ−Ｓｅｒ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｔｙｒ−Ａｒｇを含むペプチド、または、ヒトフィブリンのＢβ鎖（すなわち、Ｂβ１５−４２）における誘導性ＶＥ−カドヘリン結合モチーフと一致する生物学的特性を有する前記ペプチドの対立遺伝子の変異体または誘導体を含む、出血性ショック及びその続発症の治療用の医薬組成物。
【請求項２】
前記ペプチドが、
Ｇｌｙ−Ｈｉｓ−Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ａｓｐ−Ｌｙｓ−Ｌｙｓ−Ａｒｇ−Ｇｌｕ−Ｇｌｕ−Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｓｅｒ−Ｌｅｕ−Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−Ｉｌｅ−Ｓｅｒ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｔｙｒ−Ａｒｇ
であることを特徴とする、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
フィブリンＥ断片を用いた誘発の後に内皮細胞からのインターロイキン−６（ＩＬ−６）の放出の阻害を測定することによって、ペプチドの抗炎症作用を判定する方法。
【請求項４】
ショックが、適切な組織潅流の維持の能力をもたらす大量出血に関連するか、それによって引き起こされるものであり、医薬組成物は全身性炎症反応症候群（ＳＩＲＳ）、急性呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）、肝不全、腎不全、および多臓器不全を含むこの状況の有害な結果を低減または除去するものである、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ストッパケージとスピンドルとを有するハウジングであって、前記スピンドルが前記ハウジング内に回転可能に且つ軸方向に移動可能に装着されるハウジングと、
ドリルの前進を制限するために配置され、軸方向に調整可能なストッパと
を備える、ドリル穿孔動作中に前進を制限するための装置において、
前記ストッパケージ（２ａ）はチップを破壊するために、プラスチックから形成され、そして、前記ハウジングに固定されたチップ破壊具（１３；１９）を備え、前記チップ破壊具（１３；１９）は、ハウジング側端部と自由端部とを有し、前記自由端部は、工作物の表面と略平行に、且つ、前記表面の直近の位置において外側から穴あけ工具（段付きドリルビット１２）へ向けて略径方向に延びており、そして、皿もみ部（１２ｂ）と略接触するように前進している間、前記自由端は前記皿もみ部（１２ｂ）から離れている、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
段付きドリルビット（１２）上にコーン（１４）が押し付けられて固定されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。