【手続補正書】
【提出日】平成23年1月24日(2011.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光装置において、
前記光を導く光学系と、
前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを計測する計測部と、
前記計測部によって計測された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも一の露光パラメータを制御する制御部とを有し、
前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、別の露光装置に対して前記レチクルのパターンを解像するために前記パターンの大きさ又は形状が部分的に変更されている場合に前記パターンの変更情報に更に基づいて、前記露光パラメータを制御することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記光学系は、前記レチクルを照明する照明光学系と、前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系とを有し、
前記露光パラメータは、前記光の波長幅、有効光源形状及び当該有効光源の輝度分布、前記照明光学系から射出される前記光の傾き、前記投影光学系の開口数、瞳透過率分布及び収差の少なくとも一を含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータを設定する設定方法であって、
前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、
前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも１つを設定する設定ステップとを有し、
前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする設定方法。
【請求項５】
前記光学系は、前記レチクルを照明する照明光学系と、前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系とを有し、
前記露光パラメータは、前記光の波長幅、有効光源形状及び当該有効光源の輝度分布、前記照明光学系から射出される前記光の傾き、前記投影光学系の開口数、瞳透過率分布及び収差の少なくとも一を含むことを特徴とする請求項４記載の設定方法。
【請求項６】
前記光学系は、前記レチクルを照明する照明光学系を有し、
前記設定ステップは、実際の偏光度の像高間の差が許容可能ではない場合に、積算露光量及び像高毎の前記照明光学系から射出される前記光の傾きの少なくとも一を含む露光パラメータを変更するステップを有することを特徴とする請求項４記載の設定方法。
【請求項７】
前記光学系は、前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系を有し、
前記設定ステップは、前記投影光学系の複屈折及び瞳透過率の少なくとも１つが許容範囲ではない場合に、前記投影光学系の収差及び瞳透過率の少なくとも一を含む露光パラメータを変更するステップを有することを特徴とする請求項４記載の設定方法。
【請求項８】
前記取得ステップは、
前記光学系の照明分布、収差分布、偏光分布及び瞳透過率分布に関する情報を含む特性情報を取得するステップと、
前記レチクルのパターンの情報を取得するステップとを有し、
前記設定方法は、前記特性情報と前記パターンの情報に基づいて前記パターンの結像状態のシミュレーションを行うステップを更に有し、
前記設定ステップは、前記シミュレーション結果に基づいて、前記光源の露光パラメータ、前記光学系の露光パラメータ、前記パターンの大きさ及び前記パターンの形状のうち少なくとも１つを設定することを特徴とする請求項４記載の設定方法。
【請求項９】
前記取得ステップでは、偏光状態として露光スリット内の平均偏光度を取得し、
前記設定ステップでは、露光スリット内の平均偏光度に基づいて前記露光パラメータを設定することを特徴とする請求項４記載の設定方法。
【請求項１０】
前記取得ステップでは、偏光状態の露光スリット内の像高分布を取得し、
前記設定ステップでは、偏光状態の露光スリット内の像高分布に基づいて前記露光パラメータを設定することを特徴とする請求項４に記載の設定方法。
【請求項１１】
光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光方法において、
請求項４乃至１０のうちいずれか一項に記載の設定方法を用いて露光パラメータを設定するステップと、
前記設定された露光パラメータを用いて前記レチクルのパターンを前記被露光体に露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法を用いて被露光体を露光するステップと、
前記露光された被露光体を現像するステップと、
前記現像された被露光体からデバイスを形成するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１３】
光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータの設定をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、
前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも１つを設定する設定ステップとを、
前記プログラムに実行させ、
前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光装置において、前記光を導く光学系と、前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを計測する計測部と、前記計測部によって計測された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも一の露光パラメータを制御する制御部とを有し、前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一側面としての設定方法は、光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータを設定する設定方法であって、前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも１つを設定する設定ステップとを有し、前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする。上記設定方法を用いた露光方法及び該露光方法を用いたデバイス製造方法も本発明の一側面を構成する。
本発明の一側面としてのプログラムは、光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータの設定をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも１つを設定する設定ステップとを、前記プログラムに実行させ、前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする。