【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力を制御する装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバと流体的に結合されている排気口と、
前記真空チャンバと流体的に結合されているガス源と、
ウエハ領域圧力制御装置とを備え、前記ウエハ領域圧力制御装置は、
前記真空チャンバ内の第１調節可能閉じ込めリングと、
前記真空チャンバ内の第２調節可能閉じ込めリングと、
前記真空チャンバ内の調節可能閉じ込めブロックと、
前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記調節可能閉じ込めブロックを上げ下げするコントローラと、
を備える装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、前記ウエハ領域圧力制御装置は、前記コントローラと、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記調節可能閉じ込めブロックとの間に接続された少なくとも一つのホルダをさらに備える装置。
【請求項３】
請求項２に記載の装置であって、前記少なくとも一つのホルダは、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記調節可能閉じ込めブロックを動かす装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の装置であって、上部電極をさらに備え、前記少なくとも一つのホルダは、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記調節可能閉じ込めブロックの少なくとも一部を前記上部電極の下部表面の上の位置に動かすことができる装置。
【請求項５】
請求項２ないし４のいずれかに記載の装置であって、
前記真空チャンバ内に基板が配置されており、
前記少なくとも一つのホルダは、前記第１調節可能閉じ込めリングが前記基板と同一平面にある表面上または前記基板よりも下にある平面上に留まるように動かすことができる装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の装置であって、前記第１調節可能閉じ込めリングおよび前記第２調節可能閉じ込めリング間のスペーサをさらに備える装置。
【請求項７】
請求項２ないし６のいずれかに記載の装置であって、前記少なくとも一つのホルダは、前記第２調節可能閉じ込めリングを前記第１閉じ込めリングから離れた位置から、最大間隔を形成するために、前記第２調節可能閉じ込めリングが前記第１調節可能閉じ込めリング上に前記スペーサを挟んで留まる位置へと動かすことができる装置。
【請求項８】
請求項２ないし７のいずれかに記載の装置であって、前記ウエハ領域圧力制御装置は、前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記調節可能閉じ込めブロック間に位置し、前記ホルダに接続された第３調節可能閉じ込めリングをさらに備える装置。
【請求項９】
請求項２に記載の装置であって、
前記少なくとも一つのホルダが最も低い位置に下げられた時に、前記ウエハ領域圧力制御装置は、最大の圧力を提供し、
前記少なくとも一つのホルダが最も高い位置に上げられた時に、前記ウエハ領域圧力制御装置は、最小の圧力を提供する、装置。
【請求項１０】
圧力を制御する装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバと流体的に結合されている排気口と、
前記真空チャンバと流体的に結合されているガス源と、
ウエハ領域圧力制御装置とを備え、前記ウエハ領域圧力制御装置は、
第１調節可能閉じ込めリングと、
第２調節可能閉じ込めリングと、
第３調節可能閉じ込めリングと、
前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および、前記第３調節可能閉じ込めリングを上げ下げするコントローラと、
前記コントローラ、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および、前記第３調節可能閉じ込めリングに結合された少なくとも一つのホルダと、
を備える装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の装置であって、
前記少なくとも一つのホルダが最も低い位置に下げられた時に、前記ウエハ領域圧力制御装置は、最大の圧力を提供し、
前記少なくとも一つのホルダが最も高い位置に上げられた時に、前記ウエハ領域圧力制御装置は、最小の圧力を提供する、装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の装置であって、前記ウエハ領域圧力制御装置の前記圧力降下は、前記少なくとも一つのホルダが、前記最も低い位置から前記最も高い位置に移動される時に連続的に増大する、装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置であって、さらに、調整可能閉じ込めブロックを備え、前記少なくとも一つのホルダは、
前記コントローラおよび前記閉じ込めブロックに結合された第１のハンガーと、
前記閉じ込めブロックおよび前記第３調整可能閉じ込めリングに結合された第２のハンガーと、
前記閉じ込めブロック及び前記第２調節可能閉じ込めリングに結合された第３のハンガーと、
前記閉じ込めブロックおよび前記第１調節可能閉じ込めリングに結合された第４のハンガーと、
を備える、装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載の装置であって、前記少なくとも一つのホルダは、
前記調節可能閉じ込めブロックおよび前記第１調節可能閉じ込めリングに結合された第１ホルダと、
前記調節可能閉じ込めブロックおよび前記第２調節可能閉じ込めリングに結合された第２ホルダと、
前記コントローラおよび前記調節可能閉じ込めブロックに結合された第３ホルダと、
を備える、装置。
【請求項１５】
ウエハ領域圧力制御装置で用いる調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、
前記ウエハ領域圧力制御装置は、閉じ込めブロックと、前記調節可能閉じ込めリングアセンブリおよび前記閉じ込めブロックを上げ下げするコントローラとを備え、排気口およびガス源を流体的に結合された真空チャンバ内で用いられ、
前記調節可能閉じ込めリングアセンブリは、
第１閉じ込めリングと、
前記第１閉じ込めリングに取り付けられて、前記第１閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとの間に間隔を提供し、前記閉じ込めブロックには取り付けられていない第１スペーサと、
を備える、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項１６】
ウエハ領域圧力制御装置で用いる調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、
前記ウエハ領域圧力制御装置は、閉じ込めブロックと、前記調節可能閉じ込めリングアセンブリおよび前記閉じ込めブロックを上げ下げするコントローラとを備え、排気口およびガス源を流体的に結合された真空チャンバ内で用いられ、
前記調節可能閉じ込めリングアセンブリは、
第１閉じ込めリングと、
前記第１閉じ込めリングに取り付けられた第１スペーサと、
第２閉じ込めリングと、
を備え、
前記第１スペーサは、前記第１閉じ込めリングと前記第２閉じ込めリングとの間に間隔を提供し、前記第２閉じ込めリングには取り付けられていない、
調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項１７】
請求項１６に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、前記第１スペーサは、前記第１閉じ込めリングと前記第２閉じ込めリングとの間に、０．１２７ないし１．５２４ミリメートル（０．００５ないし０．０６０インチ）の最小間隔を提供する、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項１８】
請求項１７に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、前記第１閉じ込めリングは、１．１４３ないし４．５７２ミリメートル（０．０４５ないし０．１８０インチ）の厚さを有する、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、前記第２閉じ込めリングは、１．１４３ないし４．５７２ミリメートル（０．０４５ないし０．１８０インチ）の厚さを有する、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２０】
請求項１６ないし１９のいずれかに記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、
前記真空チャンバは、上部電極をさらに備え、
前記閉じ込めリング及び前記閉じ込めブロックは、前記上部電極の外径よりも大きい内径を有することで、前記上部電極を囲む垂直高さ方向に移動されることが可能になっている、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２１】
請求項２０に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、前記閉じ込めブロックは、前記閉じ込めブロックの前記内径と前記上部電極の前記外径との間に、０．３０４８ないし１．２７ミリメートル（０．０１２５ないし０．０５００インチ）のギャップを形成する、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２２】
請求項１６ないし２１のいずれかに記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、さらに、前記第２閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとの間に間隔を提供する第２スペーサを備える、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２３】
請求項１６ないし２１のいずれかに記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、さらに、
第３閉じ込めリングと、
前記第２閉じ込めリングと前記第３閉じ込めリングとの間に間隔を提供し、前記第２閉じ込めリングに取り付けられているが前記第３閉じ込めリングには取り付けられていない第２スペーサと、
を備える、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２４】
請求項２３に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、
前記コントローラはホルダを備え、
前記第１、第２、および、第３閉じ込めリングは、前記ホルダを受けるよう適合されており、
前記ホルダは、前記第１、第２、および、第３閉じ込めリングを、最大間隔から最小間隔まで移動させることができる、
調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２５】
ウエハ領域圧力制御装置で用いる調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、
前記ウエハ領域圧力制御装置は、閉じ込めブロックと、前記調節可能閉じ込めリングアセンブリおよび前記閉じ込めブロックを上げ下げする少なくとも１つのハンガーとを備え、排気口およびガス源を流体的に結合された真空チャンバ内で用いられ、
前記調節可能閉じ込めリングアセンブリは、
第１のハンガーを受けるよう適合された第１閉じ込めリングと、
第２のハンガーを受けるよう適合された第２閉じ込めリングと、
前記第２閉じ込めリングに取り付けられ、前記第１閉じ込めリングと前記第２閉じ込めリングとの間に配置された第１スペーサと、
を備え、
前記第１と第２のハンガーは、前記第１閉じ込めリングと前記第２閉じ込めリングとの間の間隔を変化させ、
前記第１スペーサは、前記第１閉じ込めリングには取り付けられておらず、前記第１閉じ込めリングと前記第２閉じ込めリングとの間に、０．１２７ないし１．５２４ミリメートル（０．００５ないし０．０６０インチ）の最小間隔を提供し、前記第１、第２のハンガーから離間している、
調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２６】
請求項１５または１６に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、前記第１スペーサは、前記第１閉じ込めリングの表面から伸びている、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２７】
請求項１６に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、さらに、前記コントローラに結合され、第１の閉じ込めリング、第２の閉じ込めリング、閉じ込めブロックを保持するホルダを備え、前記第１スペーサは、前記ホルダから離間されている、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２８】
請求項１６または２５に記載の調節可能閉じ込めリングアセンブリであって、前記第１スペーサは、約０．６３５ミリメートル（約０．０２５インチ）の最小間隔を提供する、調節可能閉じ込めリングアセンブリ。
【請求項２９】
ウエハ領域圧力を制御する方法であって、
基板を真空チャンバに置くことと、
前記真空チャンバにガス源を供給することと、
前記真空チャンバからガスを排気させることと、
少なくとも一つの閉じ込めリングと閉じ込めブロックとを同時に動かして、１００％より大きいウエハ領域圧力制御範囲を提供することと
を備え、
前記閉じ込めブロックは、前記閉じ込めブロックの最上部が上部電極の最下部よりも常に上に位置するのに十分な厚さを有する、方法。
【請求項３０】
請求項２９に記載の方法であって、前記少なくとも一つの閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとを動かすことは、
（１）第１調節可能閉じ込めリング、第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを、前記第１調節可能閉じ込めリングが前記真空チャンバの底に留まるウエハ領域圧力制御開始点に下げることと、
（２）前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを、前記第２調節可能閉じ込めリングが前記第１調節可能閉じ込めリング上に留まり、前記第１調節可能閉じ込めリングからスペーサによって距離をおかれるまで下げることと、を備え、
前記（１）においては、前記第２調節可能閉じ込めリングは、前記第１調節可能閉じ込めリングおよび前記第２調節可能閉じ込めリング間の最大距離だけ前記第１調節可能閉じ込めリングから離れており、
前記閉じ込めブロックは、前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記調節可能閉じ込めブロック間の最大距離だけ前記第２調節可能閉じ込めリングから離れており、
前記（２）においては、前記閉じ込めブロックは前記第２調節可能閉じ込めリングから前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロック間の前記最大距離だけ離れている、
方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の方法であって、前記少なくとも一つの閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとを動かすことは、前記閉じ込めブロックが前記第２調節可能閉じ込めリング上に留まるように前記閉じ込めブロックを下げることをさらに備える方法。
【請求項３２】
請求項３１に記載の方法であって、前記第２の調整可能閉じ込めリングは最も高い位置の閉じ込めリングであり、前記閉じ込めブロックは、前記第２調節可能閉じ込めリング上に留まる時に前記上部電極を囲む、方法。
【請求項３３】
請求項３１または３２に記載の方法であって、前記閉じ込めブロックは、前記ウエハ領域圧力制御開始点にある時に前記上部電極を囲む、方法。
【請求項３４】 請求項３１ないし３３のいずれかに記載の方法であって、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを、前記ウエハ領域圧力制御開始点から、前記閉じ込めブロックが前記第２調節可能閉じ込めリング上に留まるまで下げることは、１００％より大きいウエハ領域制御圧力範囲を提供する、方法。
【請求項３５】
請求項３２に記載の方法であって、前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロックを下げることは、前記上部電極に対して前記閉じ込めブロックを移動させる、方法。
【請求項３６】
請求項３０に記載の方法であって、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを下げることは、
前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロック間の第３調節可能閉じ込めリングをさらに下げ、
前記第３調節可能閉じ込めリングは、前記第３調節可能閉じ込めリングを前記第２調節可能閉じ込めリングから離す最大距離だけ、前記第２調節可能閉じ込めリングから離れており、
前記閉じ込めブロックは、前記第３調節可能閉じ込めリングを前記閉じ込めブロックから離す最大距離だけ、前記第３調節可能閉じ込めリングから離れており、
前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロックを下げることは、前記第３調節可能閉じ込めリングをさらに下げ、
前記第３調節可能閉じ込めリングは、前記第３調節可能閉じ込めリングを前記閉じ込めブロックから離す最大距離だけ、前記閉じ込めブロックから離れており、
前記第３調節可能閉じ込めリングは、前記第３調節可能閉じ込めリングを前記第２調節可能閉じ込めリングから離す最大距離だけ、前記第２調節可能閉じ込めリングから離れている方法。
【請求項３７】
請求項３６に記載の方法であって、前記少なくとも１つの閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとを動かすことは、
前記第３調節可能閉じ込めリングが前記第２調節可能閉じ込めリング上に留まり、前記第２調節可能閉じ込めリングとスペーサによって分離されるまで、前記第３調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロックを下げることをさらに備え、
前記閉じ込めブロックは、前記第３調節可能閉じ込めリングを前記閉じ込めブロックから離す前記最大距離だけ、前記第３調節可能閉じ込めリングから離れている方法。
【請求項３８】
請求項３７に記載の方法であって、前記少なくとも一つの閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとを動かすことは、前記閉じ込めブロックを、前記閉じ込めブロックが前記第３調節可能閉じ込めリング上に留まるまで下げることをさらに備える方法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の方法であって、前記閉じ込めブロックは、前記第３調節可能閉じ込めリング上に留まる時に前記上部電極を囲む、方法。
【請求項４０】
請求項３８または３９に記載の方法であって、前記閉じ込めブロックは、前記ウエハ領域圧力制御開始点にある時に前記上部電極を囲む、方法。
【請求項４１】
請求項４０に記載の方法であって、前記第１調節可能閉じ込めリング、前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを、前記ウエハ領域圧力制御開始点から、前記閉じ込めブロックが前記第３調節可能閉じ込めリング上に留まるまで下げることは、１００％より大きいウエハ領域制御圧力範囲を提供する、方法。
【請求項４２】
請求項４０に記載の方法であって、前記閉じ込めブロックは、前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロックを下げる間に、前記上部電極に対して移動する、方法。
【請求項４３】
ウエハ領域圧力を制御する方法であって、
基板を真空チャンバに置くことと、
前記真空チャンバにガス源を供給することと、
前記真空チャンバからガスを排気させることと、
少なくとも一つの閉じ込めリングと閉じ込めブロックとを同時に動かして、１００％より大きいウエハ領域圧力制御範囲を提供することと
を備え、
前記閉じ込めブロックは、前記閉じ込めブロックの最上部が上部電極の最下部よりも常に上に位置するのに十分な厚さを有し、
前記少なくとも一つの閉じ込めリングと前記閉じ込めブロックとを動かすことは、
（１）第１調節可能閉じ込めリング、第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを、前記第１調節可能閉じ込めリングが前記真空チャンバの底に留まるウエハ領域圧力制御開始点に下げることと、
（２）前記第２調節可能閉じ込めリング、および前記閉じ込めブロックを、前記第２調節可能閉じ込めリングが前記第１調節可能閉じ込めリング上に留まり、前記第１調節可能閉じ込めリングからスペーサによって距離をおかれるまで下げることと、
（３）前記閉じ込めブロックが前記第２調節可能閉じ込めリング上に留まるように前記閉じ込めブロックを下げることと
を備え、
前記（１）においては、前記第２調節可能閉じ込めリングは、前記第１調節可能閉じ込めリングおよび前記第２調節可能閉じ込めリング間の最大距離だけ前記第１調節可能閉じ込めリングから離れており、
前記閉じ込めブロックは、前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記調節可能閉じ込めブロック間の最大距離だけ前記第２調節可能閉じ込めリングから離れており、
前記（２）においては、前記閉じ込めブロックは前記第２調節可能閉じ込めリングから前記第２調節可能閉じ込めリングおよび前記閉じ込めブロック間の前記最大距離だけ離れており、
前記閉じ込めブロックは、前記第２調節可能閉じ込めリング上に留まる時に前記上部電極を囲み、
前記閉じ込めブロックは、前記ウエハ領域圧力制御開始点にある時に前記上部電極を囲む、
方法。