【手続補正書】
【提出日】平成21年10月30日(2009.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁入口から弁出口への流体の流れを許容する空気圧作動式流体制御弁であって、
（ａ）弁開放位置及び弁閉鎖位置を有し、前記流体の流れを制御するピストンと、同ピストンは弁座近傍から離間して前記弁開放位置に移動可能であり、かつ前記弁閉鎖位置へと、弁座近傍に封鎖するように移動可能である磁性ピストン部を少なくとも有し、弁が弁閉鎖位置にあるとき同磁性ピストン部は弁座と協働して弁を閉鎖させることと、
（ｂ）磁束を有する永久磁束を含み、前記磁性ピストン部へ該磁束を作用させるピストンアクチュエータと、
（ｃ）前記弁開放位置及び弁閉鎖ピストン位置のうちの選択された一方へ、前記磁性ピストン部を磁気的に配置する少なくとも第１及び第２ピストンアクチュエータ位置と、
（ｄ）前記磁性ピストン部に印加される磁束に従い、かつ前記永久磁石から磁性ピストン部に機械的エネルギーを伝達するために稼動するいかなる機械的連結とは無関係に前記ピストンアクチュエータを前記第１及び第２ピストンアクチュエータ位置の一方から他方へ空気圧により移動させることにより、前記ピストンを前記弁開放及び弁閉鎖ピストン位置の一方から他方へ空気圧によりに移動させる空気圧アクチュエータ駆動回路と
を含むことを特徴とする空気圧作動式流体制御弁。
【請求項２】
前記空気圧アクチュエータ駆動回路は、空気流制御信号を受け入れる室容量を有する磁石駆動室を含むことを特徴とする請求項１の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項３】
前記室容量は前記空気流制御信号によって調整されることを特徴とする請求項２の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項４】
前記ピストンアクチュエータは前記室容量が調整された時に、前記第１及び第２ピストンアクチュエータ位置の一方から他方へ移動されることを特徴とする請求項３の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項５】
前記永久磁石は磁石アセンブリ内に配置されると共に、該磁石アセンブリは前記第１及び第２ピストンアクチュエータ位置の一方から他方へ移動されることを特徴とする請求項４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項６】
前記ピストンはピストンキャビティ内に配置されると共に、前記永久磁石は該ピストンキャビティを包囲する環状永久磁石を含むことを特徴とする請求項４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項７】
前記空気圧アクチュエータ駆動回路は前記ピストンキャビティを包囲する環状空気圧回路を含むことを特徴とする請求項６の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項８】
前記室容量が増加された時の前記ピストンアクチュエータの移動に抗して該ピストンアクチュエータに作用されるアクチュエータばねを更に含むことを特徴とする請求項７の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項９】
前記アクチュエータばねは前記ピストンキャビティを包囲することを特徴とする請求項８の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１０】
前記ピストンアクチュエータが前記第１及び第２ピストンアクチュエータ位置の一方にある時に、前記空気圧作動式流体制御弁を閉鎖するために、前記ピストンが密封的に圧迫する弁座を含むことを特徴とする請求項４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１１】
前記弁入口及び前記弁出口と流体連通する弁座室を含み、前記ピストンの前記弁座室から前記弁座への運動は、該弁入口及び該弁出口の間の流体の流れを阻止することを特徴とする請求項１０の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１２】
弁アセンブリを更に含み、該弁アセンブリは前記永久磁石及び前記磁石駆動室を含むことを特徴とする請求項２の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１３】
前記弁アセンブリは前記空気圧制御式流体制御弁に取り外し可能に固定されることを特徴とする請求項１２の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１４】
前記弁アセンブリは第１及び第２弁アセンブリ位置に取り外し可能に固定されるように構成されることを特徴とする請求項１３の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１５】
前記弁アセンブリは環状アセンブリを含むことを特徴とする請求項１４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１６】
前記環状弁アセンブリは前記ピストンを包囲することを特徴とする請求項１４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１７】
前記第１弁アセンブリ位置は常閉弁アセンブリ位置を含むと共に、前記磁石駆動アセンブリへの積極空気流制御信号は、徐々に増加していく磁束を前記ピストンへ作用させ、且つ該ピストンを前記弁閉鎖位置から前記弁開放位置へ移動させるために、前記室容量を調整することを特徴とする請求項１４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１８】
前記徐々に増加していく磁束の力は、前記ピストンを前記弁開放位置へ移動させるために、該ピストンへ作用される圧縮力に対向し、且つ該圧縮力に打ち勝つことを特徴とする請求項１７の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項１９】
前記第２弁アセンブリ位置は常開弁アセンブリ位置を含むと共に、前記磁石駆動室への積極的空気流制御信号は、徐々に減っていく磁束を前記ピストンへ作用させ、且つ該ピストンを前記弁開放位置から前記弁閉鎖位置へ移動させるために、前記室容量を調整することを特徴とする請求項１４の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項２０】
徐々に増加していく室容量は、前記ピストンが弁座へ向けて圧縮移動させられるのを許容するために、前記アクチュエータを該ピストンから離れるように移動させることを特徴とする請求項１９の空気圧作動式流体制御弁。
【請求項２１】
前記第１及び第２弁アセンブリ位置は転位アセンブリ位置及び非転位アセンブリ位置を含むことを特徴とする請求項１４の空気圧作動式流体制御弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
次に図４を参照すると、空気圧作動式パイロット弁２０の制御下において作動する差圧ダイアフラム弁１９０が示されている。差圧ダイアフラム弁１９０は弁ハウジング１９２を含む。弁ハウジング１９２の内部は上側弁室１８８及び下側弁室２１６に隔てられる。上側弁室１８８はダイアフラム２００によって下側弁室２１６から離隔される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
下側弁室２１６には弁入口ポート２１２及び弁出口ポート２１４が設けられ、それらの間における流体の流通を許容する。下側弁室２１６内の弁出口管２２８は一端において下側弁室２１６の内部と連通すると共に、他端において弁出口ポート２２４と連通する。弁出口管２２８の内端２１８はダイアフラム部分２２０において、下ダイアフラム側２０８の環状域を密封的に圧迫する。下ダイアフラム側２０８は弁出口管２２８の内部端２１８を圧迫することにより、下側弁室２１６から弁出口管２２８及び出口ポート２２４への流体の流入が阻止され、これにより差圧ダイアフラム弁１９０は密封される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ダイアフラム２００にはダイアフラム２００を貫通する漏出穴２０４が少なくとも設けられる。ダイアフラム２００を貫通する漏出穴２０４は、ダイアフラム弁１９０が閉鎖された時に、上側弁室１８８の圧力を下側弁室２１６の圧力と等しくさせる。上側弁室１８８内の圧力は、上ダイアフラム側２１６へ下方への力を作用させる。このように作用される下方への力の大きさは、上側弁室２１８内圧力及びその圧力が作用される上ダイアフラム側２２２の表面積に関連する。このようにして生じさせられたダイアフラム２００への下方への圧力は、ダイアフラム２００を弁出口管２２８の内端２１８へ向けて押しやる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
下側弁室２１６内の流体圧力は、下ダイアフラム側２０８へ上方への力を作用させる。
このようにして下ダイアフラム側２０８へ作用される上方への力は、下側弁室２１６内の流体圧力及びその圧力が作用される表面積に関連する。しかしながら、下ダイアフラム側２０８へ作用される圧力は、上ダイアフラム側２２２に作用される圧力と同じ表面積に作用しない。なぜならば、弁出口管２２８の内端２１８は、圧力がダイアフラム部分２２０内のダイアフラム２００に作用されるのを阻止するからである。従って、漏出穴２０４により弁室１８８，２１６間において等しくされた圧力によって、上方への力よりも多くの下方への力がダイアフラム２００に作用される結果となる。ダイアフラム２００へのこの差による下方への力は、ダイアフラム２００を弁出口管２２８の内端２１８へ密封的に押しやり、且つ差圧ダイアフラム弁１９０を閉鎖する力である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
ダイアフラム２００が内端２１８を圧迫しなくなった時に、下側弁室２１６内の流体は弁出口管２２８に流入する。出口管２２８の流体は、ダイアフラム弁１９０の上流側圧力が下流側圧力よりも大きいとすると、弁出口管２２８を流通し、且つ出口ポート２２４を経由してダイアフラム弁１９０を出る。それ故、空気圧作動式パイロット弁２０は電気を使用することなく差圧ダイアフラム弁１９０を制御し得、従って危険な環境に配置された時に、本質的に安全に弁を制御する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
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