Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月26日(2011.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
状態が変化可能な特別遊技装置を有し、所定の特別遊技条件の成立に応じて行なわれる該特別遊技装置による特別遊技の結果が所定の態様となった場合に遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御可能となる遊技機であって、
前記遊技機の遊技状態を制御する遊技制御手段と、
該遊技制御手段と別体に設けられ、遊技状態に応じて前記遊技制御手段から出力される指令情報に対応する演出制御を行なう演出制御手段と、
遊技に関わる制御のために用いられ遊技媒体の通過を検出する検出手段とを含み、
前記演出制御手段は、
遊技状態に対応する演出態様を予め記憶している複数種類の中から選択して設定する手段であって、所定の設定可能条件が成立している期間内において、前記検出手段での検出に起因して前記遊技制御手段から出力される指令情報の入力状態に応じて遊技に用いる演出態様の種類を設定する演出態様設定手段と、
前記遊技制御手段から出力される指令情報に基づいて、前記所定の設定可能条件が成立している期間内に前記検出手段により遊技媒体の通過が検出された回数を特定する回数特定手段とを含み、
前記演出態様設定手段は、前記回数特定手段により特定された前記回数に応じて、異なる種類の演出態様を設定し、
前記遊技制御手段は、前記検出手段により遊技媒体の通過が検出されたことに基づいて、前記演出制御手段に対して前記特別遊技の開始を示す指令情報を出力し、
前記演出制御手段は、前記特別遊技の開始を示す指令情報が入力されると特別遊技を開始することを特徴とする、遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に記載の本発明は、状態が変化可能な特別遊技装置を有し、所定の特別遊技条件の成立に応じて行なわれる該特別遊技装置による特別遊技の結果が所定の態様となった場合に遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御可能となる遊技機であって、
前記遊技機の遊技状態を制御する遊技制御手段と、
該遊技制御手段と別体に設けられ、遊技状態に応じて前記遊技制御手段から出力される指令情報に対応する演出制御を行なう演出制御手段と、
遊技に関わる制御のために用いられ遊技媒体の通過を検出する検出手段とを含み、
前記演出制御手段は、
遊技状態に対応する演出態様を予め記憶している複数種類の中から選択して設定する手段であって、所定の設定可能条件が成立している期間内において、前記検出手段での検出に起因して前記遊技制御手段から出力される指令情報の入力状態に応じて遊技に用いる演出態様の種類を設定する演出態様設定手段と、
前記遊技制御手段から出力される指令情報に基づいて、前記所定の設定可能条件が成立している期間内に前記検出手段により遊技媒体の通過が検出された回数を特定する回数特定手段とを含み、
前記演出態様設定手段は、前記回数特定手段により特定された前記回数に応じて、異なる種類の演出態様を設定し、
前記遊技制御手段は、前記検出手段により遊技媒体の通過が検出されたことに基づいて、前記演出制御手段に対して前記特別遊技の開始を示す指令情報を出力し、
前記演出制御手段は、前記特別遊技の開始を示す指令情報が入力されると特別遊技を開始することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
[作用]
請求項１に記載の本発明によれば、遊技制御手段の働きにより、前記遊技機の遊技状態が制御される。該遊技制御手段と別体に設けられた演出制御手段の働きにより、遊技状態に応じて前記遊技制御手段から出力される指令情報に対応する演出制御が行なわれる。遊技に関わる制御のために用いられる検出手段の働きにより、遊技媒体の通過が検出される。遊技状態に対応する演出態様が予め記憶されている複数種類の中から選択して設定する演出態様設定手段の働きにより、所定の設定可能条件が成立している期間内において検出手段で遊技媒体の通過が検出されると、その検出手段での検出に起因して前記遊技制御手段から指令情報が出力され、遊技に用いる演出態様の種類がその指令情報の入力状態に応じて設定される。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月20日(2011.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記課題を解決するため、本発明は、加工に使用しようとする工具（３１）あるいは加工で使用した工具を、該工具に嵌合・固定した工具リング（３３）により位置決めして一時的に保持するプリント基板加工機のツールポスト（５０）において、
前記プリント基板加工機のテーブル（１）に立設して固定されるスリーブ（５１）と、
前記工具リング（３３）を保持すると共に該工具リングの下端面を載置し得る工具保持部（６０ｃ）を有し、前記スリーブ（５１）に形成された穴（５１ａ，５１ｂ，５１ｃ）に上下方向移動自在にかつ前記スリーブに対する上昇位置を規定されて支持されるホルダ（６０）と、
前記テーブル（１）と前記スリーブ（５１）の所定高さ位置（ａ）との間に縮設して配置され、前記ホルダ（６０）が前記所定高さ位置（ａ）を越えて下方向に移動した場合、該ホルダの下端に当接して該ホルダを上方に向けて付勢する第１のばね（５３）と、
前記第１のばね（５３）の上方にて直列状に配置され、かつ該第１のばねのばね定数に比して小さいばね定数からなり、前記ホルダを上方に向けて付勢する第２のばね（６２）と、を備え、
前記プリント基板加工機の工具保持手段（３２）が前記工具リング（３３）に当接して前記ホルダ（６０）を押し下げる際、前記ホルダの下端（６０ｆ）が前記スリーブの所定高さ位置（ａ）より上方にある場合、前記第２のばね（６２）が専ら変形しつつ前記ホルダ（６０）を押し下げ、前記ホルダの下端（６０ｆ）が前記スリーブの所定高さ位置（ａ）を越えて押し下げられると、前記第１のばね（５３）の付勢力が、前記ホルダ（６０）に作用してなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明によると、プリント基板加工機の工具保持手段（例えばコレットチャック）により工具がツールポストに置かれる際、まず、ばね定数の小さな第２のばねを専ら変形しつつホルダが所定長さ（ｍ）下方に移動して、工具リングがツールポストの軸線に一致するように位置決めされる。加工機の工具保持手段により工具リングを介してホルダが更に下方に移動し、前記所定長さ（ｍ）を越えると、ばね定数の大きい第１のばねが変形し、該大きな付勢力（抗力）により例えばスリットが押し拡げられて、工具リングが工具保持部に保持され、工具リングの下端面を工具保持部である例えば第１の穴の底面に当接して、工具の上下方向位置が位置決めされる。この際、上述したように、工具は、工具保持部に軸線が一致した状態から、例えばスリットの拡がりにより工具保持部に挿入されるので、常に工具は、ホルダに対して軸線が一致した状態で保持される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
加工に使用しようとする工具あるいは加工で使用した工具を、該工具に嵌合・固定した工具リングにより位置決めして一時的に保持するプリント基板加工機のツールポストにおいて、
前記プリント基板加工機のテーブルに立設して固定されるスリーブと、
前記工具リングを保持すると共に該工具リングの下端面を載置し得る工具保持部を有し、前記スリーブに形成された穴に上下方向移動自在にかつ前記スリーブに対する上昇位置を規定されて支持されるホルダと、
前記テーブルと前記スリーブの所定高さ位置との間に縮設して配置され、前記ホルダが前記所定高さ位置を越えて下方向に移動した場合、該ホルダの下端に当接して該ホルダを上方に向けて付勢する第１のばねと、
前記第１のばねの上方にて直列状に配置され、かつ該第１のばねのばね定数に比して小さいばね定数からなり、前記ホルダを上方に向けて付勢する第２のばねと、を備え、
前記プリント基板加工機の工具保持手段が前記工具リングに当接して前記ホルダを押し下げる際、前記ホルダの下端が前記スリーブの所定高さ位置より上方にある場合、前記第２のばねが専ら変形しつつ前記ホルダを押し下げ、前記ホルダの下端が前記スリーブの所定高さ位置を越えて押し下げられると、前記第１のばねの付勢力が前記ホルダに作用してなる、
ことを特徴とするプリント基板加工機のツールポスト。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2010234490.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月9日(2011.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、（Ａ）一般式（１）で表される重合性化合物、（Ｂ）一般式（２）で表される構造単位と一般式（３）で表される構造単位とを含有するポリマー微粒子、（Ｃ）赤外線吸収剤、及び（Ｄ）重合開始剤を含有し、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去することができる画像記録層、ならびに、オーバーコート層をこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。
【化１】
2010234586.tif 000001
式中Ａは１〜３個のエチレン性不飽和基を含有する基を表す。Ｌは炭素数５〜９のアルキレンを表す。Ｒは炭素原子数１〜１２のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。Ｄは単結合または−ＣＯＯ−基を表す。Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。
【請求項２】
オーバーコート層が無機層状化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の平版印刷版原版。
【請求項３】
前記画像記録層に下記一般式（Ｉ）で表されるベタイン化合物および（ＩＩ）で表されるベタイン化合物のうちの少なくともいずれかを含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の平版印刷版原版。
【化２】
2010234586.tif 000002
一般式（Ｉ）及び（II）中、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立に炭素原子数１〜５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。これらの基は、ヒドロキシ基またはアミノ基で置換されていてもよい。Ｚは炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、炭素原子数４以下のアルキル基またはヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｒ１〜Ｒ３及びＺの少なくとも２つが結合して複素環を形成してもよい。
【請求項４】
支持体上に、基板吸着性基及び重合性基を有する高分子化合物を含有する下塗り層を、支持体と画像記録層の間に有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、印刷機に装着した後に赤外線レーザーで画像露光し、または、赤外線レーザーで画像露光した後に印刷機に装着し、次いで、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方を供給して画像記録層の赤外線未露光部を除去する製版方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
２．オーバーコート層に無機層状化合物を含有することを特徴とする前記１記載の平版印刷版原版。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
３．前記画像記録層に下記一般式（Ｉ）で表されるベタイン化合物および（II）で表されるベタイン化合物のうちの少なくともいずれかを含有することを特徴とする前記１又は２に記載の平版印刷版原版。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
一般式（Ｉ）及び（II）中、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立に炭素原子数１〜５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。これらの基は、ヒドロキシ基またはアミノ基で置換されていてもよい。Ｚは炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、炭素原子数４以下のアルキル基またはヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｒ１〜Ｒ３及びＺの少なくとも２つが結合して複素環を形成してもよい。
４．支持体上に、基板吸着性基及び重合性基を有する高分子化合物を含有する下塗り層を、支持体と画像記録層の間に有することを特徴とする前記１〜３のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月3日(2011.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光触媒材料と、
溶媒と、
イオン添加剤と、を含み、
前記イオン添加剤は、前記溶媒中においてテトラメチルアンモニウムイオンよりも小さなイオン半径の陽イオンを生成すること、を特徴とする光触媒分散体。
【請求項２】
前記イオン添加剤を含むことで、水素イオン指数がｐＨ７．５以下とされていること、を特徴とする請求項１記載の光触媒分散体。
【請求項３】
前記イオン添加剤は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンからなる群より選ばれた少なくとも１種を生成すること、を特徴とする請求項１または２に記載の光触媒分散体。
【請求項４】
前記イオン添加剤の含有量は、１．５×１０−３ｍｏｌ以下であること、を特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の光触媒分散体。
【請求項５】
前記光触媒材料の含有量は、２０ｗｔ％以下であること、を特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の光触媒分散体。
【請求項６】
前記光触媒材料は、酸化タングステン複合微粒子であること、を特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の光触媒分散体。
【請求項７】
前記溶媒は、室温において蒸発すること、を特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の光触媒分散体。
【請求項８】
溶媒の水素イオン指数が、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制する範囲となるように調整する工程と、
光触媒材料を前記溶媒に混合させる工程と、
を有することを特徴とする光触媒分散体の製造方法。
【請求項９】
前記溶媒の水素イオン指数の範囲が、ｐＨ７．５以下となるように調整すること、を特徴とする請求項８記載の光触媒分散体の製造方法。
【請求項１０】
前記溶媒の水素イオン指数の調整は、前記溶媒中においてテトラメチルアンモニウムイオンよりも小さなイオン半径の陽イオンを生成するイオン添加剤を用いて行われ、イオン添加剤の含有量が１．５×１０−３ｍｏｌ以下とされること、を特徴とする請求項８または９に記載の光触媒分散体の製造方法。
【請求項１１】
基体と、
請求項１〜７のいずれか１つに記載の光触媒分散体を前記基体の表面に付着させ、乾燥させることにより形成された光触媒と、
を備えたこと、を特徴とする光触媒体。
【請求項１２】
前記光触媒は、金属酸化物を含み、金属元素と水酸基との結合を有することを特徴とする請求項１１記載の光触媒体。
【請求項１３】
前記光触媒は、フーリエ変換型赤外分光測定において、３５００ｃｍ−１〜３８００ｃｍ−１の範囲に吸収ピークを有すること、を特徴とする請求項１１記載の光触媒体。
【請求項１４】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の光触媒分散体を基体の表面に付着させること、を特徴とする光触媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月28日(2011.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決する本発明によれば、リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる二次電池用負極であって、リチウムと合金を形成する金属またはリチウムと、リチウムと合金を形成しない金属とを含む、合金または複合酸化物からなる層を備え、前記合金または複合酸化物からなる層が、Ｓｉ−Ｃｕ合金、Ｓｉ−Ｆｅ合金、またはＷＳｉ２のうちいずれかからなることを特徴とする二次電池用負極が提供される。
また本発明によれば、リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる二次電池用負極であって、リチウムと合金を形成する金属またはリチウムと、リチウムと合金を形成しない金属とを含む、合金または複合酸化物からなる層を備え、前記合金または複合酸化物からなる層が、Ｌｉ−Ｃｏ−Ｎ系アモルファス化合物、またはＬｉ−Ｔｉ−Ｏ系アモルファス化合物からなることを特徴とする二次電池用負極が提供される。
さらに本発明によれば、リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる二次電池用負極であって、第一リチウム吸蔵層と、前記第一リチウム吸蔵層の充放電電位とは異なる第二リチウム吸蔵層とを備え、前記第一リチウム吸蔵層は、Ｓｎ−Ｃｏ合金からなることを特徴とする二次電池用負極が提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる二次電池用負極であって、
リチウムと合金を形成する金属またはリチウムと、リチウムと合金を形成しない金属とを含む、合金または複合酸化物からなる層を備え、
前記合金または複合酸化物からなる層が、Ｓｉ−Ｃｕ合金、Ｓｉ−Ｆｅ合金、またはＷＳｉ２のうちいずれかからなることを特徴とする二次電池用負極。
【請求項２】
リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる二次電池用負極であって、
リチウムと合金を形成する金属またはリチウムと、リチウムと合金を形成しない金属とを含む、合金または複合酸化物からなる層を備え、
前記合金または複合酸化物からなる層が、Ｌｉ−Ｃｏ−Ｎ系アモルファス化合物、またはＬｉ−Ｔｉ−Ｏ系アモルファス化合物からなることを特徴とする二次電池用負極。
【請求項３】
リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる二次電池用負極であって、
第一リチウム吸蔵層と、前記第一リチウム吸蔵層の充放電電位とは異なる第二リチウム吸蔵層とを備え、
前記第一リチウム吸蔵層は、Ｓｎ−Ｃｏ合金からなることを特徴とする二次電池用負極。
【請求項４】
請求項３記載の二次電池用負極において、前記第二リチウム吸蔵層は、リチウム吸蔵材料からなることを特徴とする二次電池用負極。
【請求項５】
請求項４記載の二次電池用負極において、前記第二リチウム吸蔵層は、炭素を主成分とする層であることを特徴とする二次電池用負極。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれか一項に記載の二次電池用負極において、前記合金または複合酸化物からなる層が、スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法またはメッキ法によって形成された層であることを特徴とする二次電池用負極。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれか一項に記載の二次電池用負極において、前記合金または複合酸化物からなる層がアモルファス構造を有することを特徴とする二次電池用負極。
【請求項８】
請求項１、６又は７いずれか一項に記載の二次電池用負極において、前記合金または複合酸化物からなる層をリチウム吸蔵層上に備えたことを特徴とする二次電池用負極。
【請求項９】
請求項８に記載の二次電池用負極において、前記合金または複合酸化物からなる層上にさらにリチウム金属層を備えたことを特徴とする二次電池用負極。
【請求項１０】
請求項１乃至９いずれか一項に記載の二次電池用負極と、リチウムイオンを吸蔵および放出することのできる正極と、前記負極および前記正極との間に配置された電解質と、を具備することを特徴とする二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月27日(2011.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶軸（ＸＹＺ）のＸ軸及びＺ軸を中心としてそれぞれ反時計回りにθ°及びφ°回転し、新たに生じた回転結晶軸（Ｘ′Ｙ″Ｚ′）のＹ″軸に主面が直交した水晶片からなり、前記水晶片は一方向に長い矩形状とした２回回転Ｙカットの水晶振動子において、前記水晶片の長辺方向は前記主面となる回転結晶軸のＸ′−Ｚ′面内にて前記Ｙ″軸を中心軸として前記Ｘ′軸を反時計回りにα°回転した軸方向とし、前記α°は（３０−φ）°±４５°としたことを特徴とする水晶振動子。
【請求項２】
請求項１において、前記水晶片は前記θを３３°として前記φを２２°としたＳＣカットの水晶振動子。
【請求項３】
請求項１において、前記水晶片は前記θを３３°として前記φを１９°としたＩＴカット、又は、前記θを３３°として前記φを１５°としたＦＣカットの水晶振動子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、特許請求の範囲（請求項１）に示したように、結晶軸（ＸＹＺ）のＸ軸及びＺ軸を中心としてそれぞれ反時計回りにθ°及びφ°回転し、新たに生じた回転結晶軸（Ｘ′Ｙ″Ｚ′）のＹ″軸に主面が直交した水晶片からなり、前記水晶片は一方向に長い矩形状とした２回回転Ｙカットの水晶振動子において、前記水晶片の長辺方向は前記主面となる回転結晶軸のＸ′−Ｚ′面内にてＹ″軸を中心軸として前記Ｘ′軸を反時計回りにα°回転した軸方向とし、前記α°は（３０−φ）°±４５°とした構成とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月12日(2011.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項１または３に記載のバイオセンサチップ組立用キットの第1部材と第2部材の、第1電極及び第2電極の少なくとも一方の表面の少なくとも一部にバイオセンサ用の生物材料を固定し、第1電極と第2電極の少なくとも一部が対向するように第1部材と第2部材を積層し、一般式Ｘ−Ｙで表記されるブロックコポリマーの水素添加誘導体（但し、Ｘ：ポリプロピレン系樹脂に相溶しないポリマーブロック、Ｙ：共役ジエンのエラストマー性ポリマーブロックである）を含有するアルコキシ又はアルキルシラン化合物を接合面用接着剤として用いて第1部材と第2部材の接合面を、前記生物材料が失活しない温度条件で接合することを含む、バイオセンサチップの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
外部の情報処理装置から受信した映像信号を表示する表示部と、周囲の状況を検出する検出器と、正規のユーザであることを表す情報を格納するメモリと、操作ボタンと、制御部と、を具える表示装置であって、
前記制御部は、通常動作モードにおいて前記情報処理装置からの情報信号に従って前記表示装置を通常の状態で動作させ、
前記検出器によって前記情報処理装置が使用されていない可能性がある状態が検出された場合に、前記制御部は、前記表示装置を防犯動作モードに移行させ、
前記防犯動作モードにおいて前記情報処理装置から前記正規のユーザであることを表す情報を受信した場合には、前記制御部は前記防犯動作モードを解除し、
前記防犯動作モードにおいて前記正規のユーザであることを表す情報を受信しない場合には、前記制御部は、前記表示装置を警報動作モードに移行させ、
前記警報動作モードにおいて、前記制御部は、警報動作を行うものであること
を特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の別の特徴によれば、その防犯動作モードにおいてその情報処理装置からその正規のユーザであることを表す情報を受信した場合には、その制御部はその防犯動作モードを解除し、その防犯動作モードにおいてその正規のユーザであることを表す情報を受信しない場合には、その制御部は、その表示装置を警報動作モードに移行させる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月15日(2011.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動画像を部分領域に分ける領域分割手段と、
前記個々の部分領域に動きがあるか否かを判定する動き情報判定手段と、
前記個々の部分領域に人物が存在するか否かを判定する人物情報判定手段と、
前記動き情報判定手段と前記人物情報判定手段の各判定結果を受けて、個々の部分領域を、人の動きがある移動領域、人が滞留している滞留領域あるいは人の居ない前景領域として判定する滞留判定手段と、
を備えた混雑推定装置。
【請求項２】
前記動画像より動き情報を算出する動き情報生成手段と、
前記動画像に対して画像のテクスチャ情報を生成するテクスチャ情報生成手段と、
個々の部分領域に対して動きの基準となる基準動き情報を保持・更新する基準動き情報生成手段と、
個々の部分領域に対して人の有無を判定するための基準テクスチャ情報を保持・更新する基準テクスチャ情報生成手段と、
基準動き情報や基準テクスチャ情報を格納する格納手段とを有し、
前記動き情報判定手段は、前記動き情報生成手段から出力された動き情報と前記基準動き情報生成手段により生成された基準動き情報とを比較し個々の部分領域において動きがあるかどうかを判定し、
前記人物情報判定手段は、前記テクスチャ情報生成手段から出力されたテクスチャ情報と前記基準テクスチャ情報生成手段により生成された基準テクスチャ情報とを比較し、個々の部分領域において人と同じテクスチャ情報があるかどうかを判定し、
前記滞留判定手段は、前記動き情報判定手段と前記人物情報判定手段の各判定結果を受けて、個々の領域に人が存在するか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の混雑推定装置。
【請求項３】
前記動画像を入力として人が存在するか否かを動き情報から判定し、人が存在している場合のみ前記基準動き情報生成手段および前記基準テクスチャ情報生成手段に対して更新タイミングを知らせるタイミング生成手段を備えた請求項２に記載の混雑推定装置。
【請求項４】
前記タイミング生成手段は、車両の進入タイミングを検知して、この進入タイミング毎に前記基準動き情報生成手段と前記基準テクスチャ情報生成手段に対して更新タイミングを知らせる請求項３に記載の混雑推定装置。
【請求項５】
前記基準動き情報生成手段は、前記タイミング生成手段により通知されたタイミングで基準動き情報のサンプリングを行って基準動き情報の閾値の設定を行い、
前記動き情報判定手段は、基準動き情報が前記基準動き情報の閾値を超えた場合には動きありと判定し、前記基準動き情報閾値を超えない場合は、動き無しであると判定する請求項３または請求項４に記載の混雑推定装置。
【請求項６】
前記人物情報判定手段は、入力情報に対して周波数変換処理を行い、周波数領域での類似度判定を行う請求項２乃至請求項４のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項７】
前記基準テクスチャ情報生成手段は、前記タイミング生成手段により通知されたタイミングで基準テクスチャ情報のサンプリングを行って基準テクスチャ情報の設定を行い、
前記人物情報判定手段は、前記テクスチャ情報生成手段により得られるテクスチャ情報と前記基準テクスチャ情報生成手段より得られる基準テクスチャ情報との類似度を判定し、類似している場合は人が存在すると判定する請求項２乃至請求項６のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項８】
前記滞留判定手段は、前記動き情報判定手段と前記人物情報判定手段の各判定結果を入力とし、個々の領域の状態として滞留領域、移動領域、ノイズ領域、前景領域のいずれかの状態を出力する請求項２乃至請求項７のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項９】
前記滞留判定手段から出力される情報を入力とし、入力された各状態を解析して異常混雑であるかどうかを判定する異常判定手段を備えた請求項２乃至請求項８のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項１０】
前記異常判定手段は、前記滞留判定手段により出力される個々の領域毎の各種状態、滞留領域、移動領域、ノイズ領域、前景領域をカウントしておき、前記タイミング生成手段により得られる車両の進入タイミング後に滞留領域と移動領域を加算した混雑度指標が予め設定しておいた閾値以上減少しない場合に異常状態であると判定する請求項２乃至請求項９のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項１１】
前記異常判定手段は、前記滞留判定手段により出力される個々の領域毎の各種状態、滞留領域、移動領域、ノイズ領域、前景領域をカウントしておき、滞留領域の割合が予め設定をしておいた値よりも超えた場合に異常状態であると判定する請求項２乃至請求項９のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項１２】
前記異常判定手段は、前記滞留判定手段により出力される個々の領域毎の各種状態、滞留領域、移動領域、ノイズ領域、前景領域をカウントしておき、滞留領域、移動領域の時系列の割合から、滞留開始、滞留解消、通常状態などの人物の流量傾向を判定する請求項２乃至請求項１１のいずれか一項に記載の混雑推定装置。
【請求項１３】
プログラムされたコンピュータによって混雑を推定する混雑推定方法であって、
動画像を部分領域に分ける領域分割ステップと、
前記個々の部分領域に動きがあるか否かを判定する動き情報判定ステップと、
前記個々の部分領域に人物が存在するか否かを判定する人物情報判定ステップと、
前記動き情報判定ステップと前記人物情報判定ステップの各判定結果を受けて、個々の部分領域を、人の動きがある移動領域、人が滞留している滞留領域あるいは人の居ない前景領域として判定する滞留判定ステップと、
を備えた混雑推定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】混雑推定装置および方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像を基に人物の混雑度を推定する混雑推定装置および方法に関し、特に人物の滞留状態や移動状態の種類を判定し、異常状態を検出する混雑推定装置および方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、画像を用いた人物の混雑度の推定を容易に且つ精度良く行うことができる混雑推定装置および方法を提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月5日(2011.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録メディアであって、
記録ヘッドが記録トラックの長さに沿って移動する際に前記ヘッドが連続してアクセスするように、前記記録トラックの長さに沿った異なる第１及び第２の半径のところに、連続して配置された、複数の第１及び第２のパターンド・メディア・アイランド
を備え、
前記トラックの前記長さに沿った、前記連続する第１のアイランドと第２のアイランドとの間の間隔が、トラック半径のスキュー関数として変化する
記録メディア。
【請求項２】
前記スキュー関数が、前記ヘッドのスキュー角の変化を補償する、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項３】
前記補償が、前記第１及び第２のアイランドにデータを書き込む際、および読み取る際の少なくとも一方のタイミングばらつきを低減させる、請求項２に記載の記録メディア。
【請求項４】
連続する第１のアイランドと第２のアイランドとの間の前記間隔が、より短い間隔とより長い間隔を交互に繰り返す、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項５】
スキュー関数としての前記間隔の前記変化が、書込みデータおよび読取りデータの少なくとも一方のビット誤り率を低減させる、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項６】
前記第１及び第２の半径が、前記トラック半径の第２のスキュー関数として変更される、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項７】
第３の半径のところに第３のパターンド・メディア・アイランドを更に備える、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項８】
前記トラックが円形トラックを備える、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項９】
前記トラックがうずまきトラックを備える、請求項１に記載の記録メディア。
【請求項１０】
パターンド記録メディアを形式化する方法であって、
記録ヘッドが記録トラックの長さに沿って移動する際に前記ヘッドが前記第１及び第２のアイランドに連続してアクセスするように、複数の第１及び第２のパターンド・メディア・アイランドを前記記録トラックの長さに沿った異なる第１及び第２の半径のところに、連続して配置すること、並びに
前記トラックの前記長さに沿った、連続する第１のアイランドと第２のアイランドとの間の間隔を、トラック半径のスキュー関数として変化させること
を含む方法。
【請求項１１】
パターンド記録メディアであって、
記録トラックの長さに沿った異なる第１及び第２の半径のところに連続して配置された、複数の第１及び第２のパターンド・メディア・アイランドを備え、前記トラックの前記長さに沿った、連続する第１のアイランドと第２のアイランドとの間の間隔が、トラック半径のスキュー関数として変化する
パターンド記録メディア。
【請求項１２】
前記パターンド記録メディアが、磁気メディア、光磁気メディア、および光メディアの少なくとも１つを備える、請求項１１に記載のパターンド記録メディア。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月31日(2011.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
技術的装置の少なくとも１つの動作状態を光学的に表示するための警告灯であって、特定の動作状態の表示中に、特定の時間間隔内に一連の複数の照射パルスを発生するための、少なくとも１つの発光素子（２）を備え、前記照射パルスの照明特性は、少なくとも１つの照射パラメータ（Ｐ）によって決定される警告灯において、
前記照射パラメータ（Ｐ）の少なくとも１つにおける非周期的変化が、前記時間間隔内に設けられている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項２】
請求項１に記載の警告灯であって、
前記少なくとも１つの動作状態は、複数の異なる動作状態である
ことを特徴とする警告灯。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の警告灯であって、
前記少なくとも１つの照射パラメータ（Ｐ）は、輝度、照射継続時間、周波数、色、発光方向のうちの少なくとも１つを含む
ことを特徴とする警告灯。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の警告灯であって、
少なくとも２つの前記照射パルスは、少なくとも１つの暗パラメータを有する暗期によって区切られている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の警告灯であって、
前記暗パラメータにおける非周期的変化は、前記時間間隔内に設けられている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の警告灯であって、
少なくとも２つの前記照射パルスが重畳する
ことを特徴とする警告灯。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の警告灯であって、
前記照射パルスの形態は、非周期的に変化する前記照射パラメータ（Ｐ）である
ことを特徴とする警告灯。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の警告灯であって、
前記照射パルスのパルスエネルギーは、非周期的に変化する前記照射パラメータ（Ｐ）である
ことを特徴とする警告灯。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の警告灯であって、
前記時間間隔は、少なくとも１０個の異なる前記照射パルスおよび少なくとも１０個の異なる前記暗期の少なくとも一方を備えている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の警告灯であって、
前記時間間隔は、少なくとも１，０００個の異なる前記照射パルスおよび少なくとも１，０００個の異なる前記暗期のうちの少なくとも一方を備えている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の警告灯であって、
毎秒１０回から６０回の前記照射パルスの変化が少なくとも前記時間間隔内に設定されている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の警告灯であって、
毎秒２０回から３０回の前記照射パルスの変化が少なくとも前記時間間隔内に設定されている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の警告灯であって、
前記照射パルスと前記暗期との間の変化は、時間的に周期的な変化として形成されている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の警告灯であって、
複数の前記発光素子（２）が設けられている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の警告灯であって、
発光している前記発光素子（２）の数が、非周期的に変化する前記照射パラメータ（Ｐ）である
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載の警告灯であって、
少なくとも２つの前記発光素子（２）は、同一の前記照射パラメータ（Ｐ）を有する発光素子群（４）を形成している
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれかに記載の警告灯であって、
前記発光素子（２）は、発光ダイオード（２）として設計されている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれかに記載の警告灯であって、
前記発光素子（２）は、複数色発光ダイオードとして設計されている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれかに記載の警告灯であって、
個々の前記発光素子（２）の前記照射パラメータ（Ｐ）と、個々の前記発光素子（２）の前記暗パラメータと、個々の前記発光素子群（４）の前記照射パラメータ（Ｐ）と、個々の前記発光素子群（４）の前記暗パラメータとのうちの少なくとも１つを制御するための少なくとも１つの制御装置が設けられている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれかに記載の警告灯であって、
前記制御装置は、個々の前記発光素子（２）の前記照射パラメータ（Ｐ）の疑似ランダムな非周期的変化と、個々の前記発光素子（２）の前記暗パラメータの疑似ランダムな非周期的変化と、個々の前記発光素子群（４）の前記照射パラメータ（Ｐ）の疑似ランダムな非周期的変化と、個々の前記発光素子群（４）の前記暗パラメータの疑似ランダムな非周期的変化のうちの少なくとも１つを発生させるための、少なくとも１つのランダム発生器を有する
ことを特徴とする警告灯。
【請求項２１】
技術的装置の少なくとも１つの動作状態を光学的に表示するための警告灯であって、特定の動作状態の表示中に、特定の時間間隔内に一連の複数の照射パルスを発生するための、少なくとも１つの発光素子（２）を備え、前記照射パルスの照明特性は、少なくとも１つの照射パラメータ（Ｐ）によって決定される警告灯において、
前記照射パラメータ（Ｐ）の少なくとも１つにおける非周期的変化が、前記時間間隔内に設けられ、
毎秒１０回から６０回の前記照射パルスの変化が少なくとも前記時間間隔内に設定されている
ことを特徴とする警告灯。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれかに記載の警告灯であって、
前記技術的装置は、機械、設備、および輸送機器のいずれかである
ことを特徴とする警告灯。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月21日(2011.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス幅変調信号に応答して発光部に駆動電圧を供給又は遮断する駆動電圧発生部と、
前記駆動電圧発生部に前記パルス幅変調信号を供給し、前記発光部に誤動作が発生した場合、その動作を中止するパルス幅変調信号発生部と、
前記パルス幅変調信号発生部の動作が中止した場合、前記パルス幅変調信号発生部にリセット信号を供給し、前記パルス幅変調信号発生部を再起動させる自動リセット部と、を有することを特徴とするバックライトドライバ。
【請求項２】
前記パルス幅変調信号発生部は、前記発光部に過電圧（ｏｖｅｒ−ｖｏｌｔａｇｅ）が印加された場合、その動作を中止することを特徴とする請求項１に記載のバックライトドライバ。
【請求項３】
前記自動リセット部は、前記発光部に誤動作が発生したか否かを検出して検出信号を出力する検出回路と、
前記検出信号の供給を受け、前記パルス幅変調信号発生部の動作を再起動させるリセット信号を出力するパルス発生回路と、を含むことを特徴とする請求項１に記載のバックライトドライバ。
【請求項４】
前記検出回路は、前記発光部に過電圧が印加されたか否かを検出することを特徴とする請求項３に記載のバックライトドライバ。
【請求項５】
前記検出回路は、前記駆動電圧と基準電圧を比較し、比較した結果に従って検出信号を出力することを特徴とする請求項４に記載のバックライトドライバ。
【請求項６】
前記パルス発生回路は、単安定マルチバイブレータ（ｍｏｎｏ−ｓｔａｂｌｅ  ｍｕｌｔｉｖｉｂｒａｔｏｒ）であることを特徴とする請求項３に記載のバックライトドライバ。
【請求項７】
前記パルス幅変調信号発生部は、電源電圧を供給し、前記リセット信号に応答してターンオン又はターンオフされる電源電圧供給回路と、
前記電源電圧の供給を受け、前記電源電圧が特定の電圧以上になる場合、パワーオンリセット信号を出力するパワーオンリセット回路と、
前記パワーオンリセット信号に応答してターンオン又はターンオフされ、光データの供給を受けて該光データに対応するパルス幅変調信号を出力する信号発生回路とを含むことを特徴とする請求項１に記載のバックライトドライバ。
【請求項８】
前記パルス幅変調信号発生部は、前記駆動電圧と基準電圧を比較し、その比較した結果に従って制御信号を前記信号発生回路に出力する過電圧保護回路をさらに含み、
前記信号発生回路は、前記制御信号及び前記パワーオンリセット信号に応答してターンオン又はターンオフされ、光データの供給を受けて該光データに対応するパルス幅変調信号を出力することを特徴とする請求項７に記載のバックライトドライバ。
【請求項９】
前記過電圧保護回路は、前記駆動電圧と基準電圧を比較し、比較結果を出力する比較部と、
前記比較結果の供給を受けて保存し、保存された情報に対応する制御信号を出力する保存部とを含むことを特徴とする請求項８に記載のバックライトドライバ。
【請求項１０】
前記保存部は、フリップフロップであることを特徴とする請求項９に記載のバックライトドライバ。
【請求項１１】
前記保存部は、前記パルス幅変調信号発生部がその動作を再起動する時、リセットされることを特徴とする請求項９に記載のバックライトドライバ。
【請求項１２】
パルス幅変調信号に応答して発光部に駆動電圧を供給又は遮断する駆動電圧発生部と、
前記発光部に誤動作が発生したか否かを検出して検出信号を出力する検出部と、
前記検出信号の供給を受け、リセット信号を出力するパルス発生部と、
電源電圧を供給し、前記リセット信号に応答してターンオン又はターンオフされる電源電圧供給部と、
前記電源電圧が特定の電圧以上になればターンオンされ、光データの供給を受けて該光データに対応するパルス幅変調信号を出力する信号発生部と、を有することを特徴とするバックライトドライバ。
【請求項１３】
複数の表示ブロックに区分される液晶パネルと、
前記複数の表示ブロックに対応する複数の発光ブロックを含んで、前記液晶パネルに光を提供する発光部と、
パルス幅変調信号に応答して対応する各々の前記発光ブロックに駆動電圧を供給したり遮断したりする複数の駆動電圧発生部と、
対応する各々の前記駆動電圧発生部に前記パルス幅変調信号を供給し、対応する前記発光ブロックに誤動作が発生した時、その動作を中止させる複数のパルス幅変調信号発生部と、
前記パルス幅変調信号発生部がその動作を中止した時、対応する前記パルス幅変調信号発生部にリセット信号を供給して、対応する前記パルス幅変調信号発生部の動作を再起動させる複数の自動リセット部と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極活物質を含む正極合剤層を有する正極、負極および非水電解質を備えた非水二次電池であって、
上記正極活物質として、平均粒子径が異なる２種以上のリチウム含有遷移金属酸化物を含み、
上記リチウム含有遷移金属酸化物のうち、最小の平均粒子径を有する活物質が、下記一般式（１）で表される化合物であり、
上記正極合剤層の密度が３．６ｇ／ｃｍ３以上であり、
上記非水電解質が、炭素数１〜４の直鎖または分岐を有するアルキル基を備えたアルコキシ基を有する芳香族化合物を０．０２質量％以上３質量％以下の範囲で含有していることを特徴とする非水二次電池。
ＬｉｘＭ１ｙＭ２ｚＭ３ｖＯ２                          （１）
〔ただし、上記一般式（１）中、Ｍ１は、Ｃｏ、ＮｉまたはＭｎのうちの少なくとも１種の遷移金属元素、Ｍ２は、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ、Ｎｂ、ＡｌおよびＳｎよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素、Ｍ３は、Ｌｉ、Ｍ１およびＭ２以外の元素であり、０．９７≦ｘ＜１．０２、０．８≦ｙ＜１．０２、０．００２≦ｚ≦０．０５、０≦ｖ≦０．０５である。〕
【請求項２】
正極活物質を含む正極合剤層を有する正極、負極および非水電解質を備えた非水二次電池であって、
上記正極活物質として、平均粒子径が異なる２種以上のリチウム含有遷移金属酸化物を含み、
上記リチウム含有遷移金属酸化物のうち、最大の平均粒子径を有する活物質が、下記一般式（２）で表される化合物であり、
上記非水電解質が、炭素数１〜４の直鎖または分岐を有するアルキル基を備えたアルコキシ基を有する芳香族化合物を０．０２質量％以上３質量％以下の範囲で含有していることを特徴とする非水二次電池。
ＬｉａＭ１ｂＭ２ｃＭ３ｄＯ２                          （２）
〔ただし、上記一般式（２）中、Ｍ１は、Ｃｏ、ＮｉまたはＭｎのうちの少なくとも１種の遷移金属元素、Ｍ２は、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ、Ｎｂ、ＡｌおよびＳｎよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素、Ｍ３は、Ｌｉ、Ｍ１およびＭ２以外の元素であり、０．９７≦ａ＜１．０２、０．８≦ｂ＜１．０２、０≦ｃ≦０．０２、０≦ｄ≦０．０２である。〕
【請求項３】
上記アルコキシ基を有する芳香族化合物が、アニソールまたはその誘導体である請求項１または２に記載の非水二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の非水二次電池では、上記正極合剤層の密度を３．６ｇ／ｃｍ３以上として、正
極合剤層における正極活物質の充填量を高めると共に、高電圧での充電状態においても安
定性の高い、特定の金属元素を含有するリチウム含有遷移金属酸化物を正極活物質に使用
することで、高電圧での充電を可能としており、これらによって高容量化を達成する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月8日(2011.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主鎖に炭素−窒素結合、又は炭素−酸素結合を含む第１の有機化合物を含む層と、
前記第１の有機化合物を含む層上に接し、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、又はノボラック樹脂である第２の有機化合物を含む層と、を有し、
前記第２の有機化合物を含む層は、前記第１の有機化合物を含む層の上面を底面とする開口を有し、
前記開口には機能層が設けられ、
前記開口の底面と前記機能層とは接しており、
前記開口の隔壁と前記機能層との間には、前記開口の隔壁に接する第１の酸化層と前記第１の酸化層上のフッ化炭素層が設けられ、
前記フッ化炭素層は、前記機能層の形成材料を含む組成物に対してぬれ性は低く、前記開口の底面は前記機能層の形成材料を含む組成物に対してぬれ性は高いことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
主鎖に炭素−窒素結合、又は炭素−酸素結合を含む第１の有機化合物を含む層と、
前記第１の有機化合物を含む層上に接し、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、又はノボラック樹脂である第２の有機化合物を含む層と、を有し、
前記第２の有機化合物を含む層は、前記第１の有機化合物を含む層の上面を底面とする開口を有し、
前記開口には機能層が設けられ、
前記開口の隔壁及び底面と前記機能層との間には、前記開口の隔壁に接する第１の酸化層と、前記開口の底面に接する第２の酸化層と、前記第１及び前記第２の酸化層上のフッ化炭素層とが設けられ、
前記第１の酸化層上の前記フッ化炭素層は、前記機能層の形成材料を含む組成物に対してぬれ性は低く、前記第２の酸化層上の前記フッ化炭素層は、前記機能層の形成材料を含む組成物に対してぬれ性は高いことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
主鎖に炭素−窒素結合、又は炭素−酸素結合を含む第１の有機化合物を含む層と、
前記第１の有機化合物を含む層上に接し、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、又はノボラック樹脂である第２の有機化合物を含む層と、を有し、
前記第２の有機化合物を含む層は、前記第１の有機化合物を含む層の上面を底面とする開口を有し、
前記開口には機能層が設けられ、
前記開口の隔壁及び底面と前記機能層との間には、前記開口の隔壁に接する第１の酸化層と、前記開口の底面に接する第２の酸化層と、前記第１及び前記第２の酸化層上のフッ化炭素層とが設けられ、
前記第２の酸化層上の前記フッ化炭素層のフッ素密度は、前記第１の酸化層上の前記フッ化炭素層のフッ素密度より低いことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項２又は３において、前記第２の酸化層の膜厚は前記第１の酸化層の膜厚より薄いことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記機能層は着色層であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記機能層は導電層であることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、前記第１の有機化合物はポリイミド、ポリアミック酸、ポリアミド、又は芳香族ポリアミドであることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
主鎖に炭素−窒素結合、又は炭素−酸素結合を含む第１の有機化合物を含む層を形成し、
前記第１の有機化合物を含む層上に接して、前記第１の有機化合物を含む層上面を底面とする開口を有する第２の有機化合物を含む層を形成し、前記第２の有機化合物は、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、又はノボラック樹脂であり、
前記開口の側壁に第１の酸化層及び前記開口の底面に第２の酸化層を形成し、
前記第１及び前記第２の酸化層上にフッ化炭素層を形成し、
前記第２の酸化層及び前記第２の酸化層上の前記フッ化炭素層を有機溶剤により除去し、
前記開口に機能層形成材料を含む組成物を吐出して機能層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項９】
主鎖に炭素−窒素結合、又は炭素−酸素結合を含む第１の有機化合物を含む層を形成し、
前記第１の有機化合物を含む層上に接して、前記第１の有機化合物を含む層上面を底面とする開口を有する第２の有機化合物を含む層を形成し、前記第２の有機化合物は、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、又はノボラック樹脂であり、
前記第１の有機化合物を含む層及び前記第２の有機化合物を含む層に酸素を含む雰囲気下で紫外線を照射することにより、前記開口の側壁に第１の酸化層及び前記開口の底面に第２の酸化層を形成し、
前記第１及び前記第２の酸化層上にフッ化炭素層を形成し、
前記第２の酸化層及び前記第２の酸化層上の前記フッ化炭素層を有機溶剤により除去し、
前記開口に機能層形成材料を含む組成物を吐出して機能層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項８又は９において、前記第２の酸化層及び前記第２の酸化層上の前記フッ化炭素層を除去することにより、前記第１の酸化層上の前記フッ化炭素層は、前記開口の底面よりも、前記機能層形成材料を含む組成物に対するぬれ性が高くなることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項８又は９において、前記第２の酸化層及び前記第２の酸化層上の前記フッ化炭素層を除去することにより、前記第１の酸化層上の前記フッ化炭素層は、前記開口の底面よりも、フッ素密度が高くなることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項８乃至１１のいずれか一項において、前記機能層は着色層であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１３】
請請求項８乃至１１のいずれか一項において、前記機能層は導電層であることを特徴とする表示装置の作製方法。