【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月20日(2011.4.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料分析装置であって、
第１のＸ線収束ビームを試料表面に向け、第２のＸ線平行ビームを前記試料表面に向けるように構成された照射源と、
前記照射源を、前記Ｘ線が前記照射源から前記試料表面にかすめ角で向けられる第１の光源位置と、前記Ｘ線が前記照射源から前記試料表面に前記試料のブラッグ角近傍で向けられる第２の光源位置との間で移動させるように動作する動作アセンブリと、
前記第１および第２の光源位置のいずれかにあるときに、前記収束ビーム及び平行ビームのいずれかに反応して前記試料から散乱した前記Ｘ線を角度の関数として感知し、前記散乱したＸ線に反応して出力信号を生成するように構成された検出素子アセンブリと、
前記出力信号を受けてこれを処理し、試料の特性を判定するように結合された信号処理部とを備え、
前記照射源が、
前記Ｘ線を放射するように動作するＸ線管と、
前記Ｘ線を受けて前記収束ビームに集光するように構成された第１のミラーと、
前記Ｘ線を受けて前記平行ビームに集光するように構成された第２のミラーと、
を備える、
試料分析装置。
【請求項２】
前記第１および第２のミラーが二重湾曲構造を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１および第２のミラーは、前記Ｘ線を受けるとともに集光するように構成され、前記収束ビーム及び前記平行ビームの方位をずらすように配置される請求項１に記載の装置。
【請求項４】
収束ビーム及び平行ビームのいずれか一方のみが前記試料に衝突するようにＸ線管から照射されたＸ線の一部を遮断するために可動であるビーム遮断部を備える請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記動作アセンブリが、前記検出素子アセンブリが前記試料からかすめ角で散乱した前記Ｘ線を感知する第１の検出素子仰角と、前記検出素子アセンブリが前記表面からブラッグ角の近傍で散乱した前記Ｘ線を感知する第２の検出素子仰角との間で、前記検出素子アセンブリを移動するように動作する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記動作アセンブリが、前記第１の検出素子仰角にある前記検出素子アセンブリを、前記検出素子アセンブリが前記Ｘ線の小角散乱を感知する第１の方位角と、前記検出素子アセンブリが前記試料表面の面内構造から回折された前記Ｘ線を感知する第２のより大きい方位角との間で移動させるように動作する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記検出素子アセンブリが、前記試料表面に垂直な第１の軸に沿って前記散乱したＸ線を分解する第１の検出素子構成と、前記表面に平行な第２の軸に沿って前記散乱したＸ線を分解する第２の検出素子構成とを有する検出素子アレイを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記信号処理部が、前記第１の検出素子構成にある前記検出素子アセンブリからの前記出力信号を処理して、前記表面からの反射率を前記表面に対する仰角の関数として判定し、前記第２の検出素子構成にある前記検出素子アセンブリからの前記出力信号を処理して、前記表面の散乱特性を前記表面平面の方位角の関数として判定するように構成された、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記信号処理部が、前記照射源が前記第１のビームを照射し、かつ前記第１の光源位置にあるときに、前記検出素子アセンブリからの前記出力信号を処理して、前記表面のＸ線反射率（ＸＲＲ）スペクトルを獲得し、前記照射源が前記第２のビームを照射し、かつ前記第１の光源位置にあるときに、前記検出素子アセンブリからの前記出力信号を処理して、前記表面のＸ線小角散乱（ＳＡＸＳ）スペクトルおよび小角Ｘ線回折（ＸＲＤ）スペクトルの少なくとも一つを獲得し、また前記照射源が前記第２の光源位置にあるときに、前記検出アセンブリからの前記出力信号を処理して、前記表面の高角度ＸＲＤスペクトルを獲得するように構成された、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記信号処理部が、前記照射源が前記第２の光源位置にあって前記第１のビームを照射しているときに高分解能ＸＲＤスペクトルを獲得し、前記照射源が前記第２の光源位置にあって前記第２のビームを照射しているときに低分解能ＸＲＤスペクトルを獲得するように構成された、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
動作センサが、前記高分解能ＸＲＤスペクトルを獲得するように、前記検出素子アセンブリを前記試料表面からの第１の距離に配置し、前記低分解能ＸＲＤスペクトルを獲得するように、前記検出素子アセンブリを、前記第１の距離よりも小さい前記表面からの第２の距離に配置するように構成された、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記試料が少なくとも１つの表面層を備え、前記信号処理部が、前記ＸＲＲ、ＳＡＸＳおよびＸＲＤスペクトルの２つ以上を共に分析するように構成されて、前記少なくとも１つの表面層の特性を判定する、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記特性が、膜厚、密度、表面品質、空隙率、および結晶構造の少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記試料表面に平行に、かつ選択領域に隣接して配置されたナイフエッジを備え、前記表面と前記ナイフエッジとの間に空隙を画定して、前記空隙を通過しない前記ビームの一部を遮断する、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
対象となる角度範囲に散乱する前記Ｘ線を遮断することなく、前記空隙を通過してさらに前記ビーム軸に沿って伝播する前記Ｘ線を遮断するように構成されたビーム遮断部を備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記ナイフエッジがＸ線吸収材料のシリンダを備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】
分析中に前記試料の配向を受けてこれを調整する搭載アセンブリを備え、前記照射源が、前記Ｘ線ビームを前記試料表面の選択領域に向けるように構成され、前記信号処理部が、前記表面の特徴的な傾き角を示す傾きマップを受けて、前記傾きマップを基に前記選択領域の傾き角を決定し、前記搭載アセンブリで前記試料の配向を調整させて前記決定された傾き角を補償するように構成された、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
Ｘ線源からの前記Ｘ線を前記収束ビームに集光する第１のミラーを配置し、前記Ｘ線源からの前記Ｘ線を前記平行ビームに集光する第２のミラーを配置することにより、第１のＸ線収束ビームを試料表面に向け、第２のＸ線平行ビームを前記試料表面に向けるように照射源を操作し、
前記照射源を、前記Ｘ線が前記照射源から前記試料表面にかすめ角で向けられる第１の光源位置と、前記Ｘ線が前記照射源から前記試料表面に前記試料のブラッグ角近傍で向けられる第２の光源位置との間で移動させ、
前記照射源が、前記第１および第２の光源位置のいずれかにあるときに、前記収束ビーム及び平行ビームのいずれかに反応して前記試料から散乱した前記Ｘ線を角度の関数として感知して、前記試料の特性を判定する試料分析方法。
【請求項１９】
前記第１および第２のミラーが二重湾曲構造を有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１および第２のミラーは、前記Ｘ線を受けるとともに集光するように構成され、前記収束ビーム及び前記平行ビームの方位角をずらすように配置される請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記照射源を操作することは、収束ビーム及び平行ビームのいずれか一方のみが前記試料に衝突するようにＸ線管から照射されたＸ線の一部を遮断するためにビーム遮断部を移動させることを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記Ｘ線を感知することが、前記散乱したＸ線を検出素子を用いて捕捉し、前記検出素子を、前記照射源が前記第１の光源位置にあるときに、前記検出素子が前記試料からかすめ角で散乱した前記Ｘ線を感知する第１の検出素子仰角と、前記照射源が前記第２の光源位置にあるときに、前記検出素子が前記表面からブラッグ角の近傍で散乱した前記Ｘ線を感知する第２の検出素子仰角との間で、前記検出素子を移動させることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記検出素子を移動させることが、前記第１の検出素子仰角にある前記検出素子を、前記検出素子アセンブリが前記Ｘ線の小角散乱を感知する第１の方位角と、前記検出素子アセンブリが前記試料表面の面内構造から回折された前記Ｘ線を感知する第２のより大きい方位角との間で移動させることをさらに特徴とする、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記Ｘ線を感知することが、前記試料表面に垂直な第１の軸に沿って前記散乱したＸ線を分解する第１の検出素子構成と、前記表面に平行な第２の軸に沿って前記散乱したＸ線を分解する第２の検出素子構成とに配置することを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
前記Ｘ線を感知することが、前記第１の検出素子構成にある前記検出素子アレイの出力を処理して、前記表面からの反射率を前記表面に対する仰角の関数として判定し、前記第２の検出素子構成にある前記検出素子アレイの出力を処理して、前記表面の散乱特性を前記表面平面の方位角の関数として判定することを特徴とする、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記Ｘ線を感知することが、前記照射源が前記第１の光源位置にあって前記表面に前記第１のビームを向けているときに、前記表面のＸ線反射率（ＸＲＲ）スペクトルを獲得し、前記照射源が前記第１の光源位置にあって前記表面に前記第１のビームを向けているときに、前記表面のＸ線小角散乱（ＳＡＸＳ）スペクトルおよび小角Ｘ線回折（ＸＲＤ）スペクトルの少なくとも一つを獲得し、また前記照射源が前記第２の光源位置にあるときに、前記表面の高角度ＸＲＤスペクトルを獲得することを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２７】
前記ＸＲＤスペクトルを獲得することが、前記照射源が前記第２の光源位置にあって前記表面に前記第１のビームを向けているときに高分解能ＸＲＤスペクトルを獲得し、前記照射源が前記第２の光源位置にあって前記表面に前記第２のビームを向けているときに低分解能ＸＲＤスペクトルを獲得することを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記Ｘ線を感知することが、前記高分解能ＸＲＤスペクトルを獲得するために、前記試料表面からの第１の距離で前記散乱したＸ線を受けるように検出素子を配置し、前記低分解能ＸＲＤスペクトルを獲得するために、前記第１の距離よりも小さい前記表面からの第２の距離で前記散乱したＸ線を受けるように前記検出素子を配置することを特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記試料が少なくとも１つの表面層を備え、前記少なくとも１つの表面層の特性を判定するために、前記ＸＲＲ、ＳＡＸＳおよびＸＲＤスペクトルの２つ以上を共に分析することを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項３０】
前記特性が、膜厚、密度、表面品質、空隙率、および結晶構造の少なくとも１つを含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記試料表面に平行に、かつ選択領域に隣接してナイフエッジを配置し、前記表面と前記ナイフエッジとの間に空隙を画定して、前記空隙を通過しない前記ビームの一部を遮断することを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項３２】
対象となる角度範囲に散乱する前記Ｘ線を遮断することなく、前記空隙を通過してさらに前記ビーム軸に沿って伝播する前記Ｘ線を遮断するビーム遮断部を配置することを特徴とする、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記ナイフエッジがＸ線吸収材料のシリンダを備える、請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】
前記照射源を操作することが、前記Ｘ線ビームを前記試料表面の選択領域に向けることを特徴とし、さらに、
前記表面の特徴的な傾き角を示す傾きマップを提供し、
前記傾きマップに基づいて前記選択領域の傾き角を決定し、
前記試料の配向を調整して前記決定された傾き角を補償することを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
したがって、本発明の一実施形態にしたがって、
第１のＸ線収束ビームを試料表面に向け、第２のＸ線平行ビームを試料表面に向けるように構成された照射源と、
放射源を、Ｘ線が放射源から試料表面にかすめ角で向けられる第１の光源位置と、Ｘ線が試料のブラッグ角近傍で放射源から試料表面に向けられる第２の光源位置との間で移動させるように作動する動作アセンブリと、
放射源が第１および第２の光源構成のいずれか、ならびに第１および第２の光源位置のいずれかにあるときに、試料から散乱したＸ線を角度の関数として感知し、散乱したＸ線に反応して出力信号を生成するように構成された検出素子アセンブリと、
出力信号を受けて処理し、試料の特性を判定するように結合した信号処理部とを備える試料分析装置が提供される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
また、本発明の一実施形態にしたがって、
Ｘ線平行ビームを、ビーム軸に沿ってかすめ角で試料の選択領域に向け、Ｘ線の一部が方位角範囲全体の領域から散乱するように機能する照射源と、
試料表面に平行に、かつ選択領域に近接して配置されて、表面とナイフエッジとの間に空隙を画定し、空隙を通過しないビームの部分を遮断するナイフエッジと、
方位角範囲の少なくとも一部分に散乱したＸ線を遮断することなく、空隙を通過してさらにビーム軸に沿って伝播するＸ線を遮断するように構成されたビーム遮断部と、
散乱したＸ線を方位角の関数として感知し、散乱したＸ線に反応して出力信号を生成するように構成された検出素子アセンブリと、
出力信号を受けて処理し、試料特性を判定するように結合された信号処理部とを備える試料分析装置が提供される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
さらに、本発明の一実施形態にしたがって、
Ｘ線ビームを試料の選択領域に向け、Ｘ線の一部が領域から散乱するように機能する照射源と、
試料表面に平行に、かつ選択領域に近接して配置されて、表面とシリンダとの間に空隙を画定し、空隙を通過しないビームの部分を遮断する、Ｘ線吸収材料のシリンダを包含するナイフエッジと、
散乱したＸ線を角度の関数として感知し、散乱したＸ線に反応して出力信号を生成するように構成された検出素子アセンブリと、
出力信号を受けて処理し、試料特性を判定するように結合された信号処理部とを備える試料分析装置が提供される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
さらにまた、本発明の一実施形態にしたがって、
分析中に試料を支持し、配向を調整する取付アセンブリ、
Ｘ線平行ビームを試料表面上の選択領域に向け、Ｘ線の一部が方位角範囲全体の領域から散乱するように機能する照射源と、
散乱したＸ線を方位角の関数として感知し、散乱したＸ線に反応して出力信号を生成するように構成した検出素子アセンブリと、
特徴的な表面の傾き角を示す傾きマップを受け入れ、傾きマップに基づいて選択領域の傾き角を判定し、推定傾き角に反応して取付アセンブリを方向付けて試料の配向を調整するように機能する信号処理部であって、配向を調整した後に、出力信号を処理して試料の特性を判定する、信号処理部とを備える試料分析装置が提供される。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
通常、照射源は、Ｘ線の収束ビームを試料の複数の位置それぞれに向けるように機能し、検出素子アセンブリは、表面から反射したＸ線を表面に対する仰角の関数として感知するように機能し、信号処理部は、反射したＸ線に反応して各位置のＸ線反射率（ＸＲＲ）スペクトルを測定し、ＸＲＲスペクトルに基づいて各位置の傾き角を判定するように機能する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
図２は、本発明の一実施形態にしたがったシステム２０の概略上面図を示している。この図は、管３８からのＸ線が、集光光学素子４２および視準光学素子７２（例示を明確にするため図１では省略されていた）の両方に衝突する。光源搭載アセンブリ４０は、管からのビームが適切な角度で光学素子４２に衝突してビーム４４が領域５０上で収束するように、管３８を配置する。Ｘ線管３８からのビームはまた、視準光学素子７２にも適切な角度で衝突し、同様に領域５０に衝突する平行ビーム７４を生成する。光学素子７２は、例えば、８ｋｅＶの放射光を反射して、開き度＜０．３°およびスポットサイズ＜１００μｍのビームを生成する、多機能コーティングを施した二重湾曲ミラーを備えてもよい。この種の光学素子は、アプライドＸレイオプティクス（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｘ−ｒａｙ  Ｏｐｔｉｃｓ、ＡＸＯ、ドイツ、ドレスデン）など、多くの製造元から入手可能である。この光学素子もまた、Ｘ線ビームを単色化する。上述した集光光学素子および視準光学素子では、Ｘ線管および光学素子は通常、管からのＸ線が光学素子４２に約１４°の角度で、また光学素子７２に約１°の角度で衝突するように配置される。