【手続補正書】
【提出日】平成23年4月6日(2011.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）、（２）または（３）：
Ｚ４−ｘＳｉ（（Ｒ’）ｐ−Ｆ）ｘ                            （１）
Ｚ４−ｘ−ｙ（Ｆ’−（Ｒ’）ｐ）ｙＳｉ（（Ｒ’）ｐ−Ｆ）ｘ      （２）
Ｚｎ−ｍａ−ｍｂ（Ｆ’−Ｌ）ｍａＭ（Ｌ−Ｆ）ｍｂ                  （３）
〔式中、
各Ｚは互いに独立にハロゲン原子または−ＯＲ基であり、
ＲはＣ１〜４アルキル基であり、
ｘおよびｙは１から３までの整数であり、ただし式（１）では４−ｘ≧１、式（２）では４−ｘ−ｙ≧０であり、
各Ｒ’は互いに独立に、Ｃ１〜４アルキレン基、Ｃ２〜４アルケニレン基、およびＣ６〜１０アリーレン基の中から選択される有機スペーサー基であり、
ｐは０または１であり、
各Ｆは、Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ２〜４アルケニル基、Ｃ２〜４アルキニル基、Ｃ６〜１０アリール基、メタクリルまたはメタクリルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基、エポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基であってそのアルキル基が直鎖、分枝鎖または環状のＣ１〜１０アルキル基であり、アルコキシ基は炭素数１〜１０であるもの、Ｃ２〜１０ハロアルキル基、Ｃ２〜１０ペルハロアルキル基、Ｃ２〜１０メルカプトアルキル基、Ｃ２〜１０アミノアルキル基、アミノ（Ｃ２〜１０アルキル）アミノ（Ｃ２〜１０アルキル）基、ジ（Ｃ２〜１０アルキレン）トリアミノ（Ｃ２〜１０アルキル）基、およびイミダゾリル（Ｃ２〜１０アルキル）基の中から選択され、
各Ｆ’および各Ｌはそれぞれ単座または多座の錯化配位子であり、
ＭはＡｌ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｓｎ（ＩＶ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｖ（Ｖ）、Ｔａ（Ｖ）、Ｈｆ（Ｖ）、またはＹ（ＩＩＩ）、Ｌａ（ＩＩＩ）およびＥｕ（ＩＩＩ）などの希土類元素であり、括弧内の数字はＭ原子の原子価を示し、
ｎはＭ原子の配位状態を表わし、
ｍはキレート化剤Ｌと金属Ｍとの間の配位結合の数であり、
ａおよびｂはｍａ＋ｍｂ≦ｎとなるような整数である〕
の官能化剤を少なくとも２種用いて官能化された、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタンまたは酸化セリウム（ＩＶ）を主成分とする少なくとも１種のナノビルディングブロックを含むナノ構造材料。
【請求項２】
ナノブロックが大きさが２〜１００ｎｍであるナノ粒子の形態であることを特徴とする請求項１に記載のナノ構造材料。
【請求項３】
前記ナノビルディングブロックがケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタンまたはセリウム（ＩＶ）の少なくとも１種のアルコキシドまたはハロゲン化物から加水分解処理によって得られることを特徴とし、
前記アルコキシドまたはハロゲン化物が次式：
Ｍ１（Ｚ１）ｎ１ （４）、
（Ｒ１’）ｘ１Ｍ１（Ｚ１）ｎ１−ｘ１  （５）、
（Ｌ１ｍ１）ｘ１Ｍ１（Ｚ１）ｎ１−ｍ１ｘ１  （６）、または
（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ−Ｒ２−Ｓｉ（ＯＲ１）３  （７）
に対応し、式（４）、（５）、（６）および（７）中、
Ｍ１はＡｌ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、Ｓｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）またはＴｉ（ＩＶ）であり、括弧内の数字はＭ１原子の原子価を示し、
ｎ１はＭ１原子の原子価を示し、
ｘ１は１からｎ１−１までの整数であり、
Ｚ１はハロゲン原子または−ＯＲ１であり、
Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基であり、
Ｒ１’は、Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ２〜４アルケニル基、Ｃ２〜４アルキニル基、Ｃ６〜１０アリール基、メタクリルまたはメタクリルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基、およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基であってそのアルキル基が直鎖、分枝鎖または環状のＣ１〜１０アルキル基であり、アルコキシ基は炭素数１〜１０であるものの中から選択される非加水分解性基であり、
Ｌ１は単座または多座の錯化配位子であり、
ｍ１は配位子Ｌ１のヒドロキシル化度を表わし、
Ｒ２は、Ｃ１〜４アルキレン基、Ｃ２〜４アルケニレン基、Ｃ２〜４アルキニレン基、Ｃ６〜１０アリーレン基、メタクリルおよびメタクリルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基、エポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基であってそのアルキル基が直鎖、分枝鎖または環状のＣ１〜１０アルキル基であり、アルコキシ基は炭素数１〜１０であるものの中から選択される２価の非加水分解性基である、請求項１に記載のナノ構造材料。
【請求項４】
溶媒および場合によっては触媒の存在下に少なくとも１種の金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物を重縮合させることによって得られる有機／無機ハイブリッドマトリックスをさらに含み、
前記金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物が一般式：
Ｍ’Ｚ′ｎ’ （８）
Ｒ″ｘ’Ｍ’Ｚ′ｎ’−ｘ’ （９）
Ｌ’ｍ’ｘ’Ｍ’Ｚ′ｍ’ｘ’ （１０）
Ｚ′ｎ’−１Ｍ’−Ｒ″′−ＭＺ′ｎ’−１ （１１）
〔式中、
ｎ’はＭ’金属原子の原子価を示し、好ましくは３、４または５であり、
ｘ’は１からｎ’−１までの整数であり、
Ｍ’はＡｌなどの三価金属原子、Ｓｉ、Ｃｅ、ＺｒおよびＴｉなどの四価金属原子、またはＮｂなどの五価金属原子であり、
Ｚ′は、ハロゲン原子、Ｃ１〜４アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、Ｃ１〜４アシルオキシ基、およびＣ１〜１０アルキルカルボニル基の中から選択される加水分解性基であり、
Ｒ″は、Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ２〜４アルケニル基、Ｃ２〜４アルキニル基、Ｃ６〜１０アリール基、（メタ）アクリルまたはメタクリルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基、およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基であってそのアルキル基が直鎖、分枝鎖または環状のＣ１〜１０アルキル基であり、アルコキシ基は炭素数１〜１０であるものの中から選択される１価の非加水分解性基であり、
Ｒ″′は、Ｃ１〜４アルキレン基、Ｃ２〜４アルケニレン基、Ｃ２〜４アルキニレン基、Ｃ６〜１０アリーレン基、メタクリルまたはメタクリルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基、およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基であってそのアルキル基が直鎖、分枝鎖または環状のＣ１〜１０アルキル基であり、アルコキシ基は炭素数１〜１０であるものの中から選択される２価の非加水分解性基であり、
Ｌ’は、好ましくは多座の錯化配位子であり、
ｍ′は配位子Ｌ’のヒドロキシル化度を表わす〕を有する、請求項１に記載のナノ構造材料。
【請求項５】
ｎ’が４であり、
ｘ’は１から３までの整数であり、
Ｍ’はケイ素、セリウムまたはジルコニウム原子であり、
Ｚ’は、ＣｌおよびＢｒ、ならびにメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基およびアセチル基の中から選択される加水分解性基であり、
Ｒ″は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブテニル基、アセチレニル基、プロパルギル基、フェニル基、ナフチル基、メタクリル基、メタクリルオキシプロピル基、グリシジル基およびグリシジルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基の中から選択される１価の非加水分解性基であり、
Ｒ″′は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ビニレン基、１−プロペニレン基、２−プロペニレン基、ブテニレン基、アセチレニレン基、プロパルギレン基、フェニレン基、ナフチレン基、メタクリル基、メタクリルオキシプロピル基、グリシジル基およびグリシジルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基の中から選択される２価の非加水分解性基であり、
Ｌ’はカルボン酸、β−ジケトン、β−ケトエステル、α−もしくはβ−ヒドロキシ酸、アミノ酸、ホスホン酸、またはホスホネートである
ことを特徴とする、請求項４に記載のナノ構造材料。
【請求項６】
前記溶媒が溶媒総重量に対して８０〜１００重量％の水を含み、場合によってはＣ１〜４アルコールをも含むことを特徴とする、請求項４または５に記載のナノ構造材料。
【請求項７】
触媒が酸またはＣＯ２であることを特徴とする、請求項４または５に記載のナノ構造材料。
【請求項８】
少なくとも１種の、請求項１に定義したものとは異なる官能化ナノビルディングブロックまたは非官能化ナノビルディングブロックをさらに含む、請求項１または４に記載のナノ構造材料。
【請求項９】
請求項１または４に記載のナノ構造材料の製造方法であって、
（ａ）少なくとも１種の請求項３に定義したような金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物からナノビルディングブロックを非加水分解処理または加水分解処理により製造する工程、および
（ｂ）ナノビルディングブロックを請求項１に定義したような官能化剤で官能化する工程、ならびに、所望により、
（ｃ）少なくとも１種の請求項４に定義したような金属アルコキシドから有機／無機ハイブリッドマトリックスを、溶媒および場合によっては触媒の存在下にゾルゲル法を行なうことにより製造する工程、および
（ｄ）工程ｂ）で得られた官能化ナノビルディングブロックと工程ｃ）で得られたマトリックスとを混合する工程
を含む製造方法。
【請求項１０】
工程ａ）において、工程ｄ）において、または工程ａ）およびｄ）の両方において、少なくとも１種の添加剤を添加することを特徴とする、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記添加剤が、金属支持体に対するゾルの湿潤性を改善するための界面活性剤、着色剤、架橋剤、カップリング剤、腐食抑制剤、およびこれらの混合物の中から選択されることを特徴とする、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
請求項１または４に記載のナノ構造材料の航空機産業および航空宇宙機産業における金属表面保護被膜としての使用方法。
【請求項１３】
金属支持体と、少なくとも１種の請求項１または４に記載のナノ構造材料から成る少なくとも一つの被膜とを含むことを特徴とする物品。
【請求項１４】
前記金属支持体がチタン、アルミニウム、またはこれらの合金の一つで形成されていることを特徴とする、請求項１３に記載の物品。
【請求項１５】
少なくとも１種の請求項１または４に記載のナノ構造材料を、浴に浸漬するか、スピン塗布、スプレー塗布もしくは層流塗布により支持体にデポジットするか、またはブラシを用いてデポジットする工程を含むことを特徴とする、請求項１３に記載の物品の製造方法。