【手続補正書】
【提出日】平成21年7月6日(2009.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  荷電粒子ビームを試料表面上の連続する任意の複数ポイントに向かって照射してその各ポイントを加工し、
複数の連続ポイントを加工している間に、前記複数の連続ポイントのそれぞれに対応する信号であって荷電粒子ビームのポイント加工によって発生したものを検出し、
検出された信号を基準条件と照合して、その信号の一つが基準条件に合致すれば任意の複数の連続ポイントから対応するポイントにビーム加工を変更する、荷電粒子ビーム加工方法。
【請求項２】  更に、対応するポイントに関連したメモリロケーションに複数のポイントのそれぞれのための信号を記憶する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  検出された信号を基準条件と照合することには、信号が発生したポイントをビームが加工している間に検出された信号を基準条件と照合することが含まれていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  荷電粒子ビームを連続する任意の複数ポイントに向かって照射することには、複数のパスで各ポイントに向かってビームを照射することが含まれ、そして、検出された信号を基準条件と照合することには、信号が発生したパス中に検出された信号を基準条件と照合することが含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  荷電粒子ビームを試料表面上の連続する任意の複数ポイントに向かって照射することには、収束イオンビーム又は電子ビームを試料表面上の連続する任意の複数ポイントに向かって照射することが含まれていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】  複数のポイントを加工している間に、複数のポイントのそれぞれに対応する信号を検出することには、複数ポイントのそれぞれに関連したメモリロケーションにそのポイントに対応した信号から派生する値を記憶することが含まれていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  荷電粒子ビームを試料表面上の連続する任意の複数ポイントに向かって照射することには、異なる期間連続する任意の複数ポイントのうちの異なるポイントにおいてビームを停留して、ビーム照射することが含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】  更に、ビームがあるポイントに照射されるときとそのポイントにおいてビームによって発生された信号が受信されたときの間の時間に対応するシステム遅延時間を自動的に決定する工程を含むが、複数のポイントを加工している間に、複数のポイントのそれぞれに対応する信号を検出することには、前記遅延時間を使用して各ポイントに対しどの信号が対応しているのかを決定することが含まれていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  ワークピース上の連続する任意の衝突ポイントに向かって荷電粒子ビームを照射してワークピース表面を目的に合わせて改質し、
衝突ポイントの一つにおいてワークピースから放出された粒子を検出し、
荷電粒子ビームがワークピース表面を目的に合わせて改質している間に検出された粒子に基づいて画像を形成又は更新する、荷電粒子ビームシステムを用いて同時にワークピースの表面を加工して表面情報を収集する方法。
【請求項１０】  連続する任意の衝突ポイントに向かって荷電粒子ビームを照射することには、停留期間において衝突ポイントのそれぞれに向かって荷電粒子ビームを照射することが含まれており、更に、画像を形成又は更新することには、その停留期間中に複数回画像を形成又は更新することが含まれていることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  ワークピース表面上の複数のポイントに向かって荷電粒子ビームを照射し、
前記ワークピース表面上の複数のポイントにおいて荷電粒子の衝突によって生じる信号を検出し、
ビームがある特定のポイントに向かって照射したときとそのポイントにおいてビームの衝突によって生じたビーム信号が検出されたときの間の時間に対応するシステム遅延時間を自動的に決定し、
そのシステム遅延時間に基づいて、検出された信号に対応するビームの位置を決定する、荷電粒子ビームシステムを用いて画像を形成する方法。
【請求項１２】  更に、検出された信号に対応するビーム位置に対応するメモリロケーションに、前記検出された信号に対応する値を記憶する工程を具備することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  ビーム制御システムの監督下でビームがワークピース表面上の各ポイントに照射され、検出器が該表面上の各ポイントのビーム照射によって発生された信号を検出するシステムであって、ビームを特定のポイントに移動するようにビーム制御システムに指示することとそのポイントに対するビーム照射によって発生する信号を受信することの間に遅延時間が存在するものにおいて、
ビームに命じて一又はそれ以上の行為を行わせる一又はそれ以上の指示を制御システムに提供し、前記一又はそれ以上の行為の結果に対応する信号を検出器から受信し、前記ビームに命じて一又はそれ以上の行為を行わせる一又はそれ以上の指示を提供することと、前記一又はそれ以上の行為の結果に対応する信号を受信することの間の経過時間を測定することによってシステム遅延時間を決定することと、
制御システムに、連続するポイントにビームを照射するように指示を提供することと、
連続ポイントの各ポイントへのビーム照射によって発生された信号成分を有する信号を検出器から受信することと、
前記システム遅延時間を用いて、各信号成分が連続ポイントのうちのどのポイントに対応するのかを決定することからなる、検出された信号を該信号が発生されたときの前記表面上のビーム位置と関連付ける方法。
【請求項１４】  ビームに命じて一又はそれ以上の行為を行わせる一又はそれ以上の指示を制御システムに提供することには、ビームをブランク及びアンブランクにする指示を提供することが含まれていることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  ビームに命じて一又はそれ以上の行為を行わせる一又はそれ以上の指示を制御システムに提供することには、複数回ビームをブランク及びアンブランクにする指示を提供することが含まれていることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  ビームに命じて一又はそれ以上の行為を行わせる一又はそれ以上の指示を制御システムに提供することには、一連のパターンベクトルであって、各パターンベクトルがビームが照射するポイントの座標と停留期間と、停留期間中にビームをブランクするか否かの指示を含むものを制御システムに提供することが含まれていることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】  更に、連続ポイントのうちの対応するポイントに関連するメモリロケーションに前記信号成分に対応する値を記憶する工程を具備することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】  更に、前記信号成分に対応する値を基準値と照合して、前記信号成分に対応するポイントを更に加工すべきか否かを決定する工程を具備することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】  ビーム源と、
ビームの向きを決めるためのビーム偏向器と、
ワークピースに対するビームの衝突によって発生される信号を検出する検出器と、
ビームが対処する任意の各ポイントを記憶するためのパターンメモリと、
ワークピース上で発生された信号に対応するデータを記憶するフレームメモリであって、ビームが対処する任意の各ポイントのそれぞれのためのメモリロケーションを有するものと、
システム遅延を測定し、検出器から信号を受信し、前記システム遅延を用いて前記任意のポイントのうちのどれかに前記信号が対応しているかを決定し、関連するメモリロケーションに前記任意のポイントのそれぞれに対応する対応データを記憶する制御ユニットから成る、ワークピースの各部分にビームを照射することによってワークピースを加工するためのシステム。
【請求項２０】  制御ユニットが、任意のポイントに対応する情報の提供をそのポイントに対応する信号が受信されるまで遅延する遅延メモリを有することを特徴とする請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】  制御ユニットが、ビーム偏向器に指示を送ることと検出器から対応する信号を受信することの間の遅延を測定する遅延校正器を有することを特徴とする請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】  信号に対応するデータが基準を満足するか否かを決定し、更に、前記基準が満足された場合にビーム加工を変更する論理ユニットを制御ユニットが有することを特徴とする請求項１９に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記は、本発明の以下の詳細な説明をよりよく理解できるように、本発明の特徴と技術的利点をかなり広範囲に概略したものである。本発明の別の特徴や利点は、以下に説明されている。開示された思想や特定の実施の形態が、本発明と同じ目的を実施する他の構造を改作又は設計するための基礎として容易に利用できることは、業界において通常に知識を有する者にとって理解できることである。そのようなものと均等な構造物が、添付の特許請求の範囲に記載された発明の思想と範囲から逸脱するものではないことは、業界において通常の知識を有する者にとって了解されるべきである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図２は、本発明のシステム２００の一実施形態を図示している。図２に図示された実施の形態は、パターン発生器２０４と走査ビームシステム２０８とリアルタイムモニタユニット２１４とホストコンピュータ２１６とホストインタフェース２２０を有する。いくつかの実施の形態においては、ホストコンピュータ２１６は組み込み型のコンピュータに置換可能である。走査ビームシステム２０８は、ビームがそれに向かって照射される各ポイントにおける表面特性に対応する信号を発生するための、光学カラム２０９と検出器２４０を具備する、ビームシステムの物理的ハードウェアを有する。光学カラム２０９は、ビーム源とビームを収束するためのレンズ群とビーム軸を補正するための偏向器２４２とビームを中断するためのビームブランカー２４４を有する。パターン発生器２０４は一連のパターンポイントを発生し、更に、ビームシステム２０８に指示してビームをそれらのポイントに対して位置決めをする。リアルタイムモニタユニット２１４は、検出器からの信号を受信し、特定の時間においてワークピース表面上のどのポイントがその信号に対応しているのかを決定して、そのポイントからの検出器情報がそのポイントに対応するメモリロケーションに記憶されるようにすると共に、そのポイントを引き続き加工すべきか否かの判断がなされるようにする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図３は、リアルタイムモニタユニット２１４の各構成部材をより詳細に図示している。リアルタイムモニタユニット２１４は、以下に詳述されるように、ビームがそれに向かって照射される位置を記憶し、遅延校正後にその位置情報を有効にして位置情報がその位置に対応する検出器信号と同期されるようにするＦＩＦＯ遅延同期メモリ３２０を有する。リアルタイムモニタユニット２１４は、また、ビーム位置情報と検出器信号から決められた表面特性情報の関連を制御する、リアルタイムモニタ（ＲＴＭ）制御器３１０を有している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図４は、好適なメモリ構造をより詳細に図示している。そのメモリは、ワークピース２３９表面の各ポイントに対応するメモリロケーションを有するフレームメモリ４１２を具備する。これらのメモリロケーションは表面の各ポイントについての情報であって検出器信号に由来するものを記憶している。このメモリは、また、ビームがそれに向かって照射される各ポイントを任意に記憶するが、パターン発生器２０４の一部でもあり得るパターンメモリ２１０を有する。メモリ情報の読み書きは、例えば、ループカウントを追跡して個々のポイントの加工がいつ完了したのかを決定して更なる加工からそれらのポイントを取り除くことによって、加工全体をも制御しているプロセス及びメモリ制御ユニット４１０によって制御される。以下の説明は、図２乃至４に関連してなされる。各構成部材間の機能的な相互関係をより明瞭に示すために、いくつかの構成部材が複数の図に図示されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
パターン発生器２０４は、主に、ワークピース表面の画像から加工すべき一連のポイントを発生する。所望の停留期間とループカウントと一緒に、その画像は、ホストコンピュータ２１６のようなコンピュータからダウンロードされる。そのような画像は、ワークピース表面からメモリ要素の集合に対する一対一の写像を可能にする何らかの方法を用いて発生される。例えば、走査電子顕微鏡又はラスターユニット２３６を使用した収束イオンビームシステムによりワークピース表面を走査することによって、画像が生成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
ホストインタフェース２２０は、ホストコンピュータ２１６とパターン発生器２０４との間、プロセス及びメモリ制御ユニット４１０との間、そして、リアルタイムモニタ制御器３１０との間で命令とデータを転送するためのデータプロトコルを取り扱い、そして、結果のデータをホストに送り戻す。サンプルのホスト命令は、「遅延を校正せよ」、「パターンベクトルをダウンロードせよ」、「パターン化を開始せよ」、「パターン化を停止せよ」などを含んでいる。ホストコンピュータ２１６から転送されるデータには、パターンベクトル又は時間単位が含まれる。ホストコンピュータ２１６に戻されたデータが、ビデオ信号又は処理された検出器信号を有することもある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
材料加工が行われている間、適切なタイプの放出粒子が検出器２４０によって捕捉される。検出器２４０は、走査ビーム２３２による材料加工中に放出されるか、偏向されるか、吸収される荷電粒子やフォトンに対して反応するいかなるタイプの粒子検出器であってもよい。例えば材料のＦＩＢ加工に対する適切な検出器は、チャネル電子増倍管やマイクロチャネルプレートやシンチレータ／光学増倍管検出器である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
検出器２４０からの出力が増幅され、アナログからデジタルに変換され、そして、検出器信号処理ユニット３４０（図３）によって適切な信号処理がなされる。結果としてのデジタル信号は、入力検出器データがデュアルポートのＲＴＭ用のフレームメモリ４１２に書き込まれたときにそれを読み込み、各ポイントに対して必要な読み込み／編集／書き込み機能を実施するプロセス及びメモリ制御ユニット４１０に伝送される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
一又はそれ以上のＬＵＴ（参照テーブル）４３０は、また、ホストインタフェース２２０を介してホストコンピュータ２１６からプロセス及びメモリ制御ユニット４１０にダウンロードされる。ＬＵＴ４３０に含まれている値は、各画素位置において、検出器信号処理ユニット３４０から受信したデータと比較される。例えば、ＬＵＴ４３０は、収束イオンビームシステムに伴うスパッタによる所望の深さの材料除去に対応する値を保持することができる。それとは別に、ＬＵＴ４３０内の値は、材料境界の変わり目を示すために使用されることができる。いずれの場合にも、特定画素位置に対する値がその画素位置に対するＬＵＴ４３０に含まれる許容値に達したときには、プロセス及びメモリ制御ユニット４１０は、パターンメモリ２１０からその画素位置を排除するか、若しくはその画素を処理する命令を単純にマスクするかフィルタ除去することによって、以後の加工からその画素位置を排除する。この機能は、図３の限界点検出ユニット３４４として略式に図示されている。全ての画素位置がパターンメモリ２１０から取り去られるまで、このプロセスは継続する。限界点すなわち検出工程の終わりは、このように、検出器２４０からのリアルタイムのフィードバックに基づいて可能となる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
検出器信号処理ユニット３４０からのデジタル信号がプロセス及びメモリ制御ユニット４１０に転送されている間、同じデータがＲＴＭ（リアルタイムモニタ）制御器３１０によって受信されて、それがパターン発生器２０４からのパターン画素位置データと連結する。パターン発生器２０４がパターン化を実行している、すなわちビーム２３２の偏向を制御しているのと同時に、リアルタイムモニタユニット２１４はビデオデータ又は他の検出器データを取り込んでいる。適当な場合には、システム遅延時間の計算後に、ＲＴＭ制御器３１０はデュアルポートのＲＴＭ用のフレームメモリ４１２を対応する画素位置の処理された検出器の値で一杯にする。システム遅延時間の校正は、サンプルクロックが画素パターンクロックに関して遅延されることを可能にする。デュアルポートのＲＴＭ用のフレームメモリ４１２は、２５６×２５６個から１６Ｋ×１６Ｋ個又はそれ以上の画素に対応するデュアルポートＲＡＭを具備する。各画素はメモリの８ビット以上を必要とする。ＳＤＲＡＭがまた使用される。ＲＴＭ制御器３１０は、そして、デュアルポートのＲＴＭ用のフレームメモリ４１２に記憶されたデータをホストインタフェース２２０を介してホストコンピュータ２１６に送信する。ビームがそれに向かって照射されるポイントのみがメモリ内で更新される必要がある。一つの実施の形態において、リアルタイムモニタユニット２１４は、画素毎に２５ｎ秒の速度で検出器情報を取り込むことができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
パターンのミリングに先立って、ＲＴＭ制御器３１０はＦＩＦＯ遅延同期メモリ３２０を空にして、それを＜（−１，―１），Ｄ０＞の値を有する項目＜（ｘｋ，ｙｋ），Ｄｋ＞で初期化するが、ここで、（−１，―１）はフレームメモリ外のダミー位置であり、Ｄ０はシステム遅延時間である。その値Ｄ０は、システム特性であり、図３に示された遅延校正器３２４によって以下の説明のように計算される。各パターンポイントに対して、パターン発生器２０４は、パターンメモリ２１０からパターンベクトル＜Ｂｉ，（ｘｉ，ｙｉ），Ｄｉ＞を取り出す。パターン発生器２０４は、Ｂｉをビームブランカー２４４に送り、（ｘｉ，ｙｉ）をビーム偏向器２４２に送る。同時に、パターン発生器２０４は、＜（ｘｉ，ｙｉ），Ｄｉ＞をＲＴＭ制御器３１０に送る。ＲＴＭ制御器３１０は、ＦＩＦＯ遅延同期メモリ３２０のトップに、到着したベクトル＜（ｘｉ，ｙｉ），Ｄｉ＞を置く。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
＜（ｘｋ，ｙｋ），Ｄｋ＞が正にＦＩＦＯ遅延同期メモリ３２０の基部に降下されたとすると、ＲＴＭ制御器３１０は停留期間カウンタをクリアしてゼロにし、例えば、各カウント毎に２５ｎ秒である時間単位でカウントを開始する。主に２５ｎ秒である画素クロックの各カウントの後で、フレームメモリロケーションの（ｘｋ，ｙｋ）におけるデータ値がＶｋに更新されるが、それはパターンポイント（ｘｋ，ｙｋ）からの到着した被処理検出器出力データである。したがって、停留カウンタが最終カウンタ以外において、カウントしている最中、画素クロックの全ての瞬間においてビデオ値Ｖｋがフレームメモリロケーション（ｘｋ，ｙｋ）に書き込まれる。システムは、できるだけ何度も停留期間中に検出器出力の変化を観察し、そのポイントにおけるミリングを続行するか否かに関して現状の判断を行う。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
遅延校正器３２４は、ビームがブランクされたときには検出器からの信号が存在しないという利点を有する。非ブランク状態（信号あり）とブランク状態（信号無し）の間の変わり目が校正パターンを確立するのに使用されることがある。固有のベクトルパターンをビームシステム２０８に送るときと検出器２４０を通して固有のパターンを検出するときの間の時間がシステム遅延時間を確定する。検出器から受信した信号は、その固有のパターンのために認識される。図５は、好適な遅延校正器３２４に使用された各構成部材が転移点カウンタ５０２と総合カウンタ５０４とシフトレジスタ５０６と閾値変換器５１４と校正レジスタ５１８と論理回路５２２から成ることを示している。遅延校正器３２４の全ての構成部材は、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）又は論理設計分野で通常の知識を有する者に知られている他の手段で実装される。図６は、遅延を校正するために使用される各工程を示すフローチャートである。先行技術とは異なり、遅延校正は自動的に行われるが、操縦者によって要求されるとき、又は温度変化のようないくつかの出来事が遅延校正を初期化してしまうようなときには、それがシステムによって実行されることを意味する。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
工程６１０において、転移点カウンタ５０２と総合カウンタ５０４とシフトレジスタ５０６がクリアされる。工程６１２において、認識可能なベクトルパターンが走査ビームシステム２０８に送られる。例えば、単純な一連のパターンのベクトル＜ｂｌａｎｋ，（ｘ，ｙ），１０＞、＜ｕｎｂｌａｎｋ，（ｘ，ｙ），１０＞；＜ｂｌａｎｋ，（ｘ，ｙ），１０＞；＜ｕｎｂｌａｎｋ，（ｘ，ｙ），１０＞が、パターン発生器２０４によって走査ビームシステム２０８に送られる。上記のパターンが何度も繰り返される。そのような連続が周期的にビームをブランク又は非ブランク状態にするが、そのことは、対応する繰り返し信号を検出器から取り出させることとなる。遅延校正器３２４の各構成部材は、その信号を認識して、前記パターンがビームシステム２０８に送られたときと前記対応信号が受信されたときの間の遅延を決定する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
工程６１６において、遅延校正器３２４は、検出器信号処理ユニット３４０を介して、検出器２４０から受信される信号の受信を開始する。パターン認識を容易にするために、工程６２０において、閾値変換器５１４が検出器信号処理ユニット３４０からの信号を、実験によって確立された所定の閾値に従って、二進数値（１又は０）に変換して平均的なノイズレベルを決定する。工程６３０において、その二進数値がシフトレジスタ５０６によって処理されて転移点を決定する。シフトレジスタ５０６は、各時間段階でその値を保存し、そして値を読み出す。その場合、対応する時間段階で、（１，０）の値は、デジタル信号がハイからローに変化したことを示している。転移点カウンタ５０２は、転移点間の時間をカウントするが、一方、総合カウンタ５０４は校正サイクルの開始からの時間をカウントする。論理回路５２２は、転移パターンを校正パターンと比較して、工程６３２において校正パターンを認識する。既知信号の検出は、例えば電気通信分野において通有のことである。工程６３４において、一度校正パターンが認識されると、パターンが送られた既知の時間とパターンが受信された時間との間の遅延時間が、総合カウンタ５０４と校正パターンの持続時間から容易に決定される。この値は、工程６３８において、遅延校正レジスタ５１８に保存され、そしてＦＩＦＯ遅延同期メモリ３２０へ送られる。任意の連続ポイントに対処するシステムに関連して遅延校正と遅延の使用が説明されているが、この遅延はラスター走査の精度を上げるためにも使用される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
工程８２０において、ミリングが開始される。工程８２４において、画素すなわち座標点が最大の許容値に達したときには、プロセル及びメモリ制御ユニット４１０がアドレス（ＸとＹ）をマークすることによって、工程８２６でパターンメモリ２１０からこの画素ポイントを取り除き、このアドレスを次回から飛ばすようにする。工程８２４において最大のグレースケール値に達していなくて、かつ、工程８３０において停留期間が満了していない場合、工程８３０で停留期間が満了するまで、工程８３６でビームは引き続きそのポイントにおいて停留し続ける。このことが、全ての画素が取り除かれるか、又は前もってループの数として計算されている総ミリング時間が工程８４０で満了するまで繰り返される。本発明に関連して、ミリングの最中にグレースケールレベルが点検される。したがって、ミリングを停止して、別の画像走査を実行する必要はない。停留期間中にグレースケールレベルが繰り返し点検され、過ミリングを少なくする。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2004510295.tif 000001
【手続補正１９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004510295.tif 000002
【手続補正２０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2004510295.tif 000003
【手続補正２１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2004510295.tif 000004
【手続補正２２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2004510295.tif 000005
【手続補正２３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2004510295.tif 000006