【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年9月7日(2009.9.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基準電位にある金属壁と、絶縁体で覆われた電極をもつ静電チャックとを有する真空プラズマ・プロセッサ・チャンバ中で誘電体工作物を加工する方法であって、前記電極と前記工作物との間に前記絶縁体が介在するように工作物をチャックに取付けることと、工作物がチャック上にある間に電極にＤＣチャッキング電圧を印加することと、チャンバ中で工作物をプラズマで加工することとを含み、プラズマは、プラズマに露出される工作物の前面が基準電位とほぼ同じ電位になるように十分に低い電気インピーダンスを有し、プラズマに露出されない工作物の裏面に伝熱流体を供給することによって、工作物がプラズマによって加工される間に工作物温度を制御することを含み、流体が、工作物をチャックに対して移動させる傾向を有し、チャッキング電圧が工作物に対してチャッキング力を生じて、工作物をチャックに対して移動させる流体の傾向を克服し、工作物および絶縁体が、抵抗率を含む決定された受動的電気特性を有し、受動的電気特性は、チャッキング電圧によって供給されるチャッキング電荷が誘電体工作物の加工中に工作物の露出される面から工作物の露出されない面まで工作物の中を通って伝導され、その結果、工作物の加工中に一定のＤＣチャッキング電圧が電極に印加される場合に工作物へのチャッキング力の増大を生じる傾向があるようなものであり、複数のデチャッキング進行ステップのうち、前記決定された受動的電気特性に基づいて少なくとも１つのデチャッキング進行ステップを選択することを含み、選択された少なくとも１つのデチャッキング進行ステップが、工作物へのチャッキング力の増加を生じる前記傾向にもかかわらず、チャックからの工作物の取り外しを容易にすることが知られており、工作物の加工が完了したときにチャックからの工作物の取り外しを容易にするために、前記選択された少なくとも１つのデチャッキング進行ステップを実行することを含む方法。
【請求項２】  デチャッキング進行ステップのうちの１つが、工作物をチャックに対して移動させる流体の傾向を克服するように、電極に加えられる電圧を十分に高い状態に維持しながら、工作物の加工中に電極に印加されるＤＣチャッキング電圧を下げることを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】  デチャッキング進行ステップのうちの１つが、工作物加工の完了時に電極に印加されるＤＣ電圧の極性を逆にし、次いでチャックから工作物を損傷なしに取り外すことができるように十分に小さい値までチャッキング力を小さくし、次いで工作物をチャックから取り外すことを含む先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項４】  デチャッキング進行ステップのうちの１つが、工作物加工の完了時に、そしてデチャッキングが完了するまで、工作物の抵抗率が室温抵抗率よりも少なくとも１桁低くなるように、プラズマによる工作物加工が完了した後で工作物の温度が大きく降下するのを防ぐことを含む先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  デチャッキング進行ステップのうちの１つが、工作物加工の完了時に、そしてデチャッキングが完了するまで、工作物の温度が大きく低下するのを防ぐことを含み、加工中に、そしてデチャッキングが完了するまで、工作物温度が加工中の工作物または工作物上に形成される構造に悪影響を及ぼす値まで上昇しないように、工作物の温度が制御される先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  工作物のプラズマ加工が完了した後で、（ａ）プラズマを消滅させるステップと、（ｂ）次いでチャンバ圧力を下げるステップと、チャンバ圧力が低下した後で、（ｃ）チャックから工作物を取り外すステップと、（ｄ）チャックに印加される電圧をほぼゼロまで下げるステップとが実行される先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  工作物がチャックから取り外される前に、チャックに印加される電圧がほぼゼロまで低下する先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  工作物がチャックから取り外された後で、チャックに印加される電圧がほぼゼロまで低下する先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  工作物がチャックから取り外された後で、工作物から電荷を除去することをさらに含む先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  チャンバ中のガスをプラズマに当てて発火させることによって、工作物から電荷を除去することをさらに含む先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】  工作物がチャックから取り外されているときにチャック中を流れる電流の振幅を監視すること、監視される電流振幅に応じて、続いて加工される少なくとも１つの工作物の電極に印加される逆極性電圧を制御することをさらに含み、制御される逆極性電圧は、前記続いて加工される少なくとも１つの工作物がチャックから取り外されるときに、前記続いて加工される少なくとも１つの工作物にチャックによって加えられる力がほぼゼロになるような振幅および持続時間を有する先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】  逆極性電圧の振幅と持続時間の少なくとも一方が、監視される電流振幅に応じて制御される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  工作物が加工された後、そして工作物がチャンバ中にある間に、チャンバ中に放電を確立することによって工作物から電荷をほぼ除去することをさらに含む先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】  放電がＡＣ電源によって励起されるプラズマである請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  放電が工作物の対向する面上のＤＣタウンゼント放電であり、ＤＣタウンゼント放電は、チャンバ中にイオン化可能ガスを導入することにより生じる請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】  工作物の加工中に工作物の裏面に流れる流体の流量を監視すること、工作物の加工中に電極と絶縁体とを介して工作物に加えられる静電力を制御するために、工作物の加工中に監視される流量に応じて、工作物の加工中に電極に印加されるＤＣチャッキング電圧の振幅を制御することをさらに含む先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】  冷却流体流量が工作物の加工中にほぼ一定のままであるように、ＤＣチャッキング電圧振幅が、監視される流量によって制御される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  工作物がガラスであり、かつ最高約１０14Ω・ｍの抵抗率を有する先行する請求項のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】  先行する請求項のいずれかに記載の方法を実行するための装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、一般に、加工中に誘電体工作物を所定の位置に保持するための静電チャックを含む真空プラズマ・プロセッサに関し、より詳細には、複数のデチャッキング加工ステップの少なくとも１つが工作物のある決定された抵抗の範囲に応じて実行されるそのような方法に関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
過去において、静電チャックから半導体ウエハをデチャッキングする際に問題に遭遇している。ガラス工作物および半導体工作物のためのウエハ・チャッキング構造は、どちらも工作物を担持する絶縁体によって覆われた金属電極を含んでいるという点で類似している。工作物底面およびＪｏｈｎｓｅｎ−ＲａｈｂｅｋＧａｐ（ジョンソン−ラーベック・ギャップ）と呼ばれる絶縁体上面の非接触部分の間の真空中の空間は、異なるタイプの工作物をチャッキングするための機構の分析において考慮される。シリコン・ウエハが静電チャックに粘着された状態になり得るいくつかの状態があるが、ただ１つの方法（ウエハ底面と絶縁層の上面との間に形成されるコンデンサ上に残っている残留電荷）が本発明の背景の議論に関連すると考えられる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
半導体ウエハ用のチャックの金属電極に印加される負電圧はプラズマから正電荷を引き付ける。正電荷は、露出したウエハ上面上に止まる。半導体材料は、金属の抵抗率と比較して高い抵抗率を有するが、半導体材料の抵抗率は、フラット・パネル・ディスプレイのガラスなど、誘電体の抵抗率よりもはるかに低い。シリコン・ウエハの最大抵抗率は約１オーム・メートルであり、したがって正電荷がウエハの上面と底面の間を移動するための時定数は約１ミリ秒よりも小さい。１ミリはウエハ加工に必要な一般的な時間よりもはるかに短い時間であるので、ウエハ中のこの電荷移動は瞬時に起こると考えられる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
これらの状況（半導体ウエハと高抵抗率誘電体工作物）の両方において、工作物のチャッキングおよびデチャッキングは、必要な電荷を得るためにチャック電極に印加されるＤＣ電圧の発生源の能力によって決定される（一般に１または２秒未満）時間スケールで行われる。したがって、半導体工作物と高抵抗率ガラス工作物のチャッキングおよびデチャッキングは、工作物の上面と底面の間を移動する電荷の非常に速いまたは非常に遅い時間スケールに依存しない。どちらの場合も、工作物の上面と底面の間の電荷分布は工作物加工時間中に固定であると考えることができる。以下で論じるように、低および中抵抗率（すなわち約１０8オーム・メートルと１０14オーム・メートルの間）を有する誘電体工作物の上面と底面の間の電荷分布は、工作物加工中に固定であると考えることができない。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
本発明の他の目的は、加工中に、チャックが工作物に及ぼす締め付け力が、チャック内をワークピースまで流れる冷却ガスによってワークピースがチャックに対して移動する傾向を克服するのに十分である真空プラズマ・プロセッサ中で、特にフラット・パネル・ディスプレイとして使用されるように構成された誘電体ガラス工作物を静電的にチャッキングおよびデチャッキングするための新規の改善された方法および装置を提供することである。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
本発明のさらに他の目的は、工作物が迅速にデチャッキングされるために工作物を処理する能力が増大する、すべてのタイプの誘電体ガラス工作物用の真空プラズマ・プロセッサ中で使用される新規の改善された方法および装置を提供することである。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
本発明のさらに他の目的は、工作物の受動的な電気パラメータの分析的分析に基づいて静電チャックからガラス誘電体工作物をデチャッキングする新規の改善された方法および装置を提供することである。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
さらに本発明の追加の目的は、静電チャックからのデチャッキング中に工作物から取り除かれるべき電荷の量を決定する新規の改善された方法および装置を提供することである。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
（発明の概要）
本発明は、基準電位の金属壁と、電気絶縁体によって覆われた面を有する電極を備える静電チャックを有する真空プラズマ・プロセッサ・チャンバのプラズマによる誘電体工作物の処理に適用可能である。処理は、工作物がチャック上にある間、ＤＣチャッキング電圧を電極に印加した後、実施される。プラズマは、プラズマが照射する工作物の前面が、基準電位とほぼ同じ電位であるように、十分に低い電気インピーダンスを有する。気体ヘリウムなど、プラズマに曝露されていない工作物の背面に供給された熱交換流体は、工作物がプラズマで処理されている間、工作物の温度を制御することを支援する。一般に、熱交換流体は、工作物と、比較的温度の低いチャック（これは流体によって冷却される）の間で、熱を伝導することによって工作物を冷却する。流体は、工作物をチャックに対して移動させる傾向を有する。チャッキング電圧は、工作物に対してチャッキング力を生成し、工作物をチャックに対して移動させる流体の傾向を克服する。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
抵抗率を含む、加工物および絶縁体の受動的電気特性は、測定またはサプライヤによって決定され、工作物の加工中に一定なＤＣチャッキング電圧が電極に印加される場合、増大するチャッキング力が工作物に供給される、というものである。チャッキング力は、工作物の照射されている面とチャック電極の間で泳動するプラズマの電荷から生じる。電荷は、工作物の中を通過し、工作物、ジョンソン−ラーベック・ギャップ、および絶縁層に蓄えられる。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
本発明のある態様によれば、抵抗率を含む、決定された受動電気特性に依存する１つまたは複数のデチャッキング・プロセスのステップが選択される。選択した１つまたは複数のプロセス・ステップは、加工物に対して増大するチャッキング力を生成する傾向を克服する。次いで、加工物の処理が完了したとき、チャックから加工物を除去することを支援するように、選択した１つまたは複数のデチャッキング・プロセス・ステップが実行される。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
誘電体加工物が、低抵抗率または中間抵抗率を有する場合、前記デチャッキング・ステップは、それに応じて選択されなければならない。シリコン・ウエハおよび高抵抗率ガラスの場合のように、チャックの電極電圧は（通常の状況では負であるが、正であることも可能である）、反対の極性の電荷を、プラズマから低抵抗率または中間抵抗率ガラスの照射された上面に引きつける。チャック電極上の電荷と誘電体工作物の間の引力は、工作物の処理中、工作物を適切な位置に保持する。シリコン・ウエハおよび高抵抗率ガラスの場合のように、低抵抗率または中間抵抗率ガラス上の電荷は、ガラスを通過して、上面から底面に移動する傾向を有する。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
低抵抗率および中間抵抗率ガラス工作物をチャックするために、ＤＣ電圧を初めに静電チャックの電極に印加した直後には、曝露されたガラス面上に堆積したプラズマの電荷は、基本的に依然として上面上にあり、クランピングは、高抵抗率ガラスのものに類似している。例えば低抵抗率および中間抵抗率ガラス工作物の処理に必要な時間の長さなど、十分に長い時間電圧を電極に印加した後、ガラス工作物の上面と底面の間に、電荷分布のある定常状態が存在する。しかし、チャック絶縁層とジョンソン−ラーベック・ギャップの組み合わせた抵抗が（絶縁層とギャップは、直列回路にあると見なすことができる）、ガラスの抵抗より大きいという我々の観察に基づくと、ほとんどの電荷は工作物の底面にある。したがって、同じ印加チャッキング電圧に対して、長時間電極に通電した後では、短時間電極に通電したときの状況より、クランピング力は大きくなる。これは、長時間電極に通電した後では、短時間電極に通電した状況より、電荷の全量（ガラス上では負、電極上では正）が多いからである。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
チャックのクランピング力は、２乗した電荷の量にほぼ比例するので、時間の経過と共に増大するクランピングの効果（すなわち力）は相当なものである。低抵抗率または中間抵抗率ガラスの底面上の電荷の量は、高抵抗率ガラスより大きい。これは、そのような低抵抗率および中間抵抗率ガラスでは、電極とガラスの底面との間の静電容量は、電極とガラスの上面との間の静電容量より大きいという我々の観察による。キャパシタに蓄えられた電荷の量は、キャパシタの静電容量に比例するので（同じ印加された電圧に対し）、初めにチャックの電極に電圧を印加してから、時間が経過するにつれて、低抵抗率または中間抵抗率ガラス工作物に対するクランピング力は、高抵抗率ガラス工作物よりかなり大きくなる。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
電荷分布は、低抵抗率または中間抵抗率ガラス工作物の処理中に、はっきり認識できる程度に変化するので、一定のＤＣ電圧を静電チャックに印加する場合、クランピング力は処理中に増大する。高抵抗率ガラス、すなわち１０15オーム・メートルを超える抵抗率を有するガラスに対しては、チャッキング電圧が電極に印加されるときにプラズマによって照射されたガラスの上面上に堆積した電荷は、電圧をオフにするとき、プラズマによって容易におよび迅速に除去される。したがって、高抵抗率ガラス工作物は、容易におよび迅速にデチャックされる。しかし、低抵抗率および中間抵抗率のガラスに対しては、電極の上面と工作物の底面との間の静電容量および工作物の上面と底面との間の抵抗によって決定された時定数で、工作物の上面から工作物の底面にガラス工作物を通過して伝導された電荷は、通常、同じ時定数で、逆方向にガラスから離れるように伝導される。この時定数は、通常１と５０００秒の間であり、チャックの電極に印加されていた電圧をオフにした後、認識可能な時間の間、低抵抗率および中間抵抗率ガラス工作物を静電チャックに固着させるのに十分な長さである。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
可能なデチャッキング・プロセスのステップの１つは、工作物の処理中に、電極と絶縁体を介して誘電体工作物に印加する電圧を、（電圧の極性を反転せずに）低減することを含む。流体が工作物をチャックに対して移動させる傾向を克服するように、電極によって絶縁体を経て工作物に印加される静電力が処理中にかなり高くなるように、電圧は低減される。チャッキング電圧の低減は、複数の決められた時間ごとの複数のステップ、または連続的で、指数関数的であることが好ましく、あるいは冷却流体のフロー・レートをほぼ一定に維持する制御した方式で行われ、これにより、誘電体工作物に印加される静電力は、工作物の処理中、ほぼ一定に維持される。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
第１実施形態によれば、処理が完了したとき、すなわち、処理後にチャックに印加されるＤＣ電圧の極性が、処理中にチャックに印加されていたＤＣ電圧の極性と反対であるとき、チャックに極性を反転した電圧を印加することによって、工作物はデチャックされる。反転電圧の大きさと、反転ＤＣ電圧をチャックに印加する持続期間は、反転電圧がオフになった後は、工作物に対する静電力は十分に低減され、（１）再び工作物をチャックに固着させる、または（２）工作物を損傷する、ということなく、リフティングメカニズムがチャックからガラス工作物を除去することを可能にするというものである。第１実施形態では、第１工作物をチャックから除去するときに、チャックを通って流れる電流の大きさが、１つまたは複数の続いて処理する工作物のために、電極に印加される反転極性電圧の大きさ、および／または反転極性電圧を電極に印加する時間の長さを制御することが好ましい。そのような電流の流れを可能にするために、第１工作物が除去される際に、プラズマがチャンバ内に存在しなければならない。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
第２実施形態によれば、処理が完了したとき、反転極性ＤＣ電圧がチャックに印可され、したがって、電圧が依然として印加されている間に、工作物に対する静電力はゼロまで減少し、工作物はチャックから除去される。以下のステップは、工作物に加えられた静電力が十分に減少し、リフティングメカニズムによって工作物をチャックから除去することが可能となった後に実施されることが好ましい：（１）プラズマを消去する、（２）次いでチャンバを真空にする、（３）次いで工作物をチャックから除去する、（４）チャックに印加されていた電圧をほぼゼロまで低減する。チャックに印加されていた電圧をほぼゼロまで低減し、その後、工作物をチャックから除去して、工作物を損傷することを回避することが好ましい。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
（好ましい実施形態の説明）
そこで、図１を参照すると、誘電性基板をエッチングするか、または膜を誘電性基板上に堆積するのに使用できるプラズマ・プロセッサが、電気的に接地される、かつ方形の金属の、できれば陽極酸化アルミニウムの側壁１２によって形成される封止された外面を有するとともに、平行に配管されて構成されることが好ましい真空チャンバ１０を含んで示される。また、真空チャンバ１０は、方形の金属の、できれば陽極酸化アルミニウムの底板１６、および方形の上板構造１８、ならびに誘電性窓構造１９を含む。チャンバ１０のこれらの外面の封止が、従来のガスケット（示されない）によって施される。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
静電チャック３０が、チャンバ１０内の電気的絶縁シート２９によってチャックから電気的に絶縁された接地金属ベース２７を含む支持構造上に固定されている。ベース２７は底板１６に固定される。チャック３０は、非プラスチック誘電性基板を含む工作物３２、典型としては、フラットパネルディスプレイ装置を形成するために使用される平らなガラス基板シートを選択的に保持するように特別に設計されている。ガラスは、限定された受動的な電気的特徴、例えば限定された誘電率および抵抗率を有するいくつかの異なるタイプのどれかであり得る。ガラスの抵抗率は、小さい、中間の、または大きい範囲のどれかを有することによって特徴づけられて、小さい抵抗率は約１×１０8〜約１×１０11オーム・メートル（Ω・ｍ）、中間の抵抗率は約２×１０11〜約１×１０15Ω・ｍ、そして大きい抵抗率は約１×１０15Ω・ｍを超える。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
管路３７を通して流れる冷却液によって、チャックを通って基板３２へ至る熱伝導度が大きい経路が設けられるように、チャック３０は構成される。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
ヘリウム・ガスがガラス工作物３２の背面のかなりの部分と接触することを可能にするために、板３６の滑らかで平らな上面５３に間隔をおいて配置されて相互に連結した溝５４（図３）が設けられて、これらのすべてはお互いに、かつ管路３４とも流体が流れる関係にある。管路３４は、管路および溝が接続されている中心穴５５を含むチャックによってチャック３０を通して有効に延びる。工作物３２がチャック３０上の所定の位置に締め付けられる場合に、工作物の露出された平らな上面は上面５３に平行な面内で延びる。絶縁体ボデー４４は管路３７に流体の流れが通ずる通路６５を含むので、冷却液は通路を通って流れる。絶縁体ボデー４４および金属板３６は大きい熱伝導度を有し、通路と工作物３２の間の距離が短いので、熱が工作物３２から通路６５内の冷却液に簡単に伝えられる。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
工作物３２は、チャック電極３６に電気的に接続されて、チャックを通して縦方向に延びて、チャックの上面より上に揚げられる１組の金属製の縦方向に駆動される持ち上げピン（示されない）に工作物を送り出すロボット・アーム（示されない）によって、チャック３０上に配置される。工作物３２はガラスなので、工作物の底面の電圧は電極３６と持ち上げピンの電圧と関係が無い。ピンが下げられた場合に、工作物３２はそのまま絶縁体５９上にあり、ピンから隔てられる。処理完了後に、小さい締め付け力がチャック３０によって工作物３２に加えられる間に時として、工作物に対してピンを揚げることによって、工作物はチャックから除かれる。そして、ピンは処理された工作物をロボット・アームに戻す。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
露出面はチャンバ１０内の実質上基準電位のイオンと接するので、電荷層５８がガラス工作物３２の露出された上面に生ずる。その結果、層５８はチャンバ１０の接地電圧に近い基準電位にある。電源３８がオンされて、スイッチ６１が閉じられる場合に、電流が端子４０から電極３６へ流れて、変位電流が電極３６から絶縁層５９とガラス工作物３２を通って流れて、電流が工作物３２の露出された上面からチャンバ１０内のプラズマを通ってチャンバ壁へ、したがって電源３８の接地端子４２へ流れて、回路を完結する。この電流の流れは、電極３６と工作物３２の上面の間に形成されるコンデンサの誘電体の充電をもたらす。電源３８の電圧は十分に高いので、電極３６と工作物３２の上面の間に形成されるコンデンサの誘電体の電荷が、工作物３２をチャック３０に締め付けるのに十分な工作物３２と電極３６の間の引付け力を生成する。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
抵抗率が小さい、および中間のガラス工作物の場合は、処理が完了された場合に、電荷および電圧が工作物３２に留まる傾向があり、ピンが工作物をチャック３０から揚げる時に、電荷および電圧は、ガラス工作物に留まる。ガラス工作物３２がチャック３０から完全に離されない時に、そして処理プラズマが電気回路を完結するために存在している時に、電荷はガラス工作物の底面にトラップされて、イメージ電荷がガラス工作物の上面および電極３６の上に生ずる。イメージ電荷は、工作物３２の底面にトラップされた電荷に引付けられるので、イメージ電荷は電極３６上にある。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
プラズマがチャンバ１０内にあって工作物の上面を基準電圧に維持する間に、工作物３２はチャック３０から揚げられるにつれて、電極と工作物の底面の間の静電容量が減少するので、電荷は電極３６と工作物の上面の間で移動させられる。その結果、ピンがガラス工作物をチャック３０から揚げた時に、電流パルスが電極３６とガラス工作物３２の底面の間を流れる。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
電流パルスの振幅が、板３６と電源３８の端子４０の間に接続される電流計６１によって監視される。ピンが工作物をチャック３０から揚げる時、メータ６１のピーク測定値は工作物３２上の残留電圧および電荷に正比例する。一方、メータ６１によって検知される電流の瞬時振幅が、ピンが工作物３２を揚げ始めてから数マイクロ秒後に開始してパルスが終わる前に終結する所定期間中の間検出される。メータ６１の瞬時出力はこの期間中に積分される。コンピュータ・システム６４はピーク振幅を測定するか、またはメータ６１によって検知される電流の値を積分する。後述のように、コンピュータ・システム６４はメータ６１の測定値に応答して、少なくとも１つの続いて処理される工作物がチャックから除かれる間に、そのようなガラス工作物３２にチャック３０が適用する締め付け力を制御する。
【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
フラットパネルディスプレイ用に使用される様々なタイプのガラス工作物は、ガラス基板３２をチャック３０からデチャックするのに影響を及ぼす様々な受動的な電気特性、例えば、抵抗率および容量を有する。抵抗率が大きいガラス誘電性基板３２は、チャック３０に締め付けられる場合に、源３８によってチャックに印加される電圧がゼロに減少された時、基板から容易に離される。上に示されたように、チャックに印加される高電圧がゼロに減少される場合に、抵抗率が小さい、および中間の誘電性工作物３２がチャック３０から離されないことが分かった。異なる抵抗率が、特にガラス誘電性工作物内に蓄積される電荷に影響を及ぼし、工作物をチャック３０から速やかに除く機能に悪影響を及ぼす。
【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７３】
フラット・パネル・ディスプレイのメーカーで使用されるさまざまなガラスの抵抗値が（表１に示したように）５桁以上変化するので、時定数τ-もまた非常に変化し、すべてのタイプのガラスに有効な１つのデチャッキング手法というものは無い。
【誤訳訂正３１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７５】
理想的には、電源３８に由来するＶESCの値が指数関数的に低下させられ、誘電体、ガラス工作物３２を処理している間においてチャックする電圧ＶAとチャックする力が実質的に一定に維持される。しかしながら、ＲＯＭ６８に指数関数をプログラムすることおよび高電圧電源の電圧を時間の関数として指数関数的に低下するように制御することは幾分難しい。指数関数的に低下する電圧とそれにより得られる効果は、チャンバ１０内部でプラズマによりガラスの誘電体工作物３２を処理している間において時間間隔をおいて低下する一連のステップ電圧を導き出すように電源３８を制御するためのマイクロプロセッサ６６のプログラムを保存するＲＯＭ６８による大きな範囲まで近似させられる。例えば、処理中の指数関数的低下電圧は、ガラス誘電体工作物３２処理の最初の１５秒間において電源３８がプレート３６に対して最初−１５００Ｖの電圧を印加することに近似させられる。それから、ＲＯＭ６８はマイクロプロセッサ６４を制御して、工作物処理の１５〜４５秒の間、電源３８の出力電圧を−８００Ｖまで低下させる。それから処理時間４５〜７５秒の期間において、ＲＯＭ６８は電源３８の電圧が−６００Ｖとなるようにマイクロプロセッサ６６を制御する。処理時間７５秒が経過した後は、ＲＯＭ６８はマイクロプロセッサ６６に電源３８の出力電圧が−５００Ｖまで低下するようにさせる。持続時間が６０秒の程度の比較的短い処理では、このような処理順序は絶縁体５９に保存されたクランプ・チャージを充分に低くしてそれによりガラス工作物３２が絶縁体から損傷なしに持ち上げられる。中程度の抵抗値のガラス工作物において特にこの処理は応用可能である。高い抵抗値のガラス工作物ではプログラム化した電圧電源を採用する必要はなく、従来技術である一定電圧技術がデチャッキング目的にとって適合している。
【誤訳訂正３２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
センサ７０の出力信号に応答した電源３８電圧の制御は、ヘリウム流速が（１）チャック３０による工作物３２へのクランプ力の増加に反応して低下し、（２）チャック３０による工作物３２へのクランプ力の減少に反応して増大することの認識に基づいたものである。最初に電源３８がチャック３０に対して一定のＤＣ電圧を印加するとすぐに、工作物３２に加えられるクランプ力は指数関数的に増大し始め、配管３４を通る冷却剤の流速が低下する。低下した流速はセンサ７０により検知され、これによりマイクロプロセッサ６６はチャック力がほぼ一定に維持されるように電源３８がチャック３０に印加するＤＣ電圧を低下させる。工作物３２が処理される時間を通じて、この様に動作が持続する。
【誤訳訂正３３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
多くの中程度および低い抵抗値のガラス工作物において、とりわけ１分以上プラズマで処理されたものにおいて、電源３６により工作物に印加される電圧が時間の関数として低下されていたとしても、処理時間が終了したときに工作物に蓄積されたチャージ量は大きくなりがちであり、ピンによりチャック３０から工作物を取り外すことができないほどである。これらの状況において、工作物の処理が完了した後で、工作物の暴露面の電位がほぼゼロとなるように低パワーのプラズマがチャンバ１０に存在する間において、ＲＯＭ６８はマイクロプロセッサ６６を動作させて電源３８から端子４０に対し、端子４０に供給された極性と反対の極性を有するＤＣ電圧を供給させる。この反対、すなわち逆極性電圧は、電源３６の電圧を処理の間において低下させた後で印加される。
【誤訳訂正３４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８１】
逆極性電圧の大きさは、電源３８の電圧のわずか５〜１０％しかキャパシタＣAに加わらないように絶縁体５９とガラス工作物３２の相対的インピーダンスがなるよう留意しながら、この結果を得るに充分なものにするべきである。このデチャッキング法は、通常でのデチャッキング時定数τ-が非常に長い場合のためのものである。例えば、この非常に長い時定数τ-は、高温で処理している間においてガラス工作物が固定状態となる場合に起こり得る。高い温度は工作物の抵抗値を低下させ、固定／デチャッキング時定数が低温の場合よりも速くなる原因となる。
【誤訳訂正３５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８３】
キャパシタＣAに亘って加わる電圧がゼロまで低下した後、マイクロプロセッサ６６がバルブ２１を閉じてｒ．ｆ．電源をオフに切り換えることによりチャンバ１０内のプラズマはオフにされる。その後、マイクロプロセッサ６６はポンプ（図示せず）を動作させてチャンバ１０を圧力１ミリトール以下（好ましくは、少なくとも１ミリトールより小さい程度）になるまで排気し、この間、電極３６はまだ電源３８に接続されている。これによりプラズマを経由してのチャンバ壁１２との回路は切断される。それから、マイクロプロセッサ６６は電源３８の電圧がゼロまで低下するよう指示を出す。電圧ＶAの値はゼロのままであり、電圧ＶGの値は比較的大きいままである。