【手続補正書】
【提出日】平成23年9月6日(2011.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩基性窒素原子を有する高分子化合物で顔料を被覆してなる加工顔料。
【請求項２】
前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物が、下記（１）〜（４）から選択される少なくとも１種の高分子化合物である請求項１に記載の加工顔料。
（１）炭素数２〜６のアルキレン基を有するポリ（アルキレンイミン）
（２）ポリアリルアミン
（３）ポリビニルアミン
（４）エステル部に塩基性窒素原子を有する（メタ）アクリル酸エステル、ビニルピリジン、及びアミノスチレンから選択される１種以上のモノマーに由来する構成単位を含む高分子化合物
【請求項３】
平均１次粒子径が５ｎｍ〜２５ｎｍの範囲である請求項１又は請求項２に記載の加工顔料。
【請求項４】
前記顔料が、ポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含む顔料である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の加工顔料。
【請求項５】
前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物が、数平均分子量５００〜１，０００，０００であるオリゴマー鎖又はポリマー鎖を側鎖に有する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の加工顔料。
【請求項６】
前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物に含まれるオリゴマー鎖又はポリマー鎖が、ポリカプロラクトンである請求項５に記載の加工顔料。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の加工顔料を、有機溶剤中に分散してなる顔料分散組成物。
【請求項８】
更に、顔料分散剤を含む請求項７に記載の顔料分散組成物。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載の顔料分散組成物と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する光硬化性組成物。
【請求項１０】
請求項９に記載の光硬化性組成物を用いて形成された着色領域を有するカラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項９に記載の光硬化性組成物を直接又は他の層を介して基板上に付与して感光性膜を形成する工程と、前記形成された感光性膜にパターン露光及び現像を順次行なうことにより着色領域を形成する工程と、を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
＜１＞  塩基性窒素原子を有する高分子化合物で顔料を被覆してなる加工顔料。
＜２＞前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物が、下記（１）〜（４）から選択されるから選択される少なくとも１種の高分子化合物である＜１＞に記載の加工顔料。
（１）炭素数２〜６のアルキレン基を有するポリ（アルキレンイミン）
（２）ポリアリルアミン
（３）ポリビニルアミン
（４）エステル部に塩基性窒素原子を有する（メタ）アクリル酸エステル、ビニルピリジン、及びアミノスチレンから選択される１種以上のモノマー成分を有する高分子化合物
＜３＞  平均１次粒子径が５ｎｍ〜２５ｎｍの範囲である＜１＞又は＜２＞に記載の加工顔料。
＜４＞  前記顔料が、ポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含む顔料である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の加工顔料。
＜５＞  前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物が、数平均分子量５００〜１，０００，０００であるオリゴマー鎖又はポリマー鎖を側鎖に有する＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の加工顔料。
＜６＞  前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物に含まれるオリゴマー鎖又はポリマー鎖が、ポリカプロラクトンである＜５＞に記載の加工顔料。
＜７＞  ＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の加工顔料を、有機溶剤中に分散してなる顔料分散組成物。
＜８＞  更に、顔料分散剤を含む＜７＞に記載の顔料分散組成物。
＜９＞  ＜７＞又は＜８＞に記載の顔料分散組成物と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する光硬化性組成物。
＜１０＞  ＜９＞に記載の光硬化性組成物を用いて形成された着色領域を有するカラーフィルタ。
＜１１＞  ＜９＞に記載の光硬化性組成物を直接又は他の層を介して基板上に付与して感光性膜を形成する工程と、前記形成された感光性膜にパターン露光及び現像を順次行なうことにより着色領域を形成する工程と、を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の加工顔料の他の好ましい態様は以下の通りである。
＜１２＞  １−メトキシ−２−プロパノールで洗浄したときの塩基性窒素原子を有する高分子化合物の遊離量が３０質量％以下である＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の加工顔料。
＜１３＞  前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物を、顔料の微細化工程で添加して製造したことを特徴とする＜１＞〜＜６＞、及び＜１２＞のいずれか１項に記載の加工顔料。
＜１４＞  前記塩基性窒素原子を有する高分子化合物の重量平均分子量が、１，０００〜１００，０００の範囲であることを特徴とする＜１＞〜＜６＞、＜１２＞及び＜１３＞のいずれか１項に記載の加工顔料。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、顔料としてポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを適用した本発明の加工顔料を含む顔料分散組成物は、その優れた分散性及び分散安定性は保持されたままに、該顔料分散組成物を含む光硬化性組成物を用いてカラーフィルタを作製した際には、輝度及びコントラストにより優れたカラーフィルタを得ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
＜グラフト型高分子＞
特定高分子化合物が、グラフト型高分子である場合、該高分子化合物としては、数平均分子量５００〜１，０００，０００であるオリゴマー鎖又はポリマー鎖を側鎖に有するものであることが好ましい。また、該オリゴマー鎖又はポリマー鎖としては、良好な分散性を得られるという観点から、ポリカプロラクトンであることが好ましい。
オリゴマー鎖又はポリマー鎖の数平均分子量はＧＰＣ法によるポリスチレン換算値により測定することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９２】
＜Ｂ５．光硬化性組成物によるカラーフィルタの作製及び評価＞
（１）パターン形成性の評価
上記のように調製した光硬化性組成物を、前記Ｂ２．で得られた下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に塗布し、着色層（塗布膜）を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が０．５μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長でパターンが２μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンマスクを通して５０〜１２００ｍＪ／ｃｍ２の種々の露光量で露光した。
その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハ基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ−３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ−２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、シリコンウエハ基板に着色パターンを形成した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９３】
着色パターンが形成されたシリコンウエハを真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハ基板を回転数５０ｒ．ｐ．ｍ．で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥した。
パターン形成性は、以上のようにして形成された着色パターンの断面形状を観察することにより評価した。パターン断面形状は矩形が好ましく、逆テーパーは好ましくない。
結果を表７に示す。