【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の端部と間隔を置いて配置された第２の端部との間を縦に延びる電気抵抗材料の抵抗膜であって、間隔を置いて配置された反対側の第１の側縁と第２の側縁の間に延びる間隔を置いて配置された反対側の第１および第２の主表面を有し、前記第１の端部と前記第２の端部との間の電流を収容するように適合された抵抗膜と、
前記第１の端部と前記第２の端部の中間に配置された前記抵抗膜の中間部分に隣接して前記抵抗膜に電気的に結合された低インピーダンス要素であって、前記中間部分の電流の電流密度を低減させて、その中間部分における膜抵抗器の抵抗のトリミングを容易にするために、前記抵抗膜の前記中間部分と平行に電流を伝導する低インピーダンス要素と、
を含む膜抵抗器。
【請求項２】
前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の前記第１の端部と前記第２の端部との間の方向の前記中間部分の長さに沿って前記抵抗膜に電気的に結合された、請求項１に記載の膜抵抗器。
【請求項３】
前記低インピーダンス要素が、前記中間部分に隣接して前記抵抗膜の前記第１の主表面の上にあり、前記低インピーダンス要素が上にある前記抵抗膜の領域の全体にわたって、前記抵抗膜に電気的に結合された、請求項１または２に記載の膜抵抗器。
【請求項４】
前記低インピーダンス要素と前記第１の側縁との間の前記中間部分にトリミング可能部分を画定するために、前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の前記第２の側縁に隣接する位置であって前記抵抗膜の前記第１の側縁から間隔を置いた位置で前記抵抗膜に電気的に結合される、請求項１から３のいずれかに記載の膜抵抗器。
【請求項５】
前記膜抵抗器の抵抗が、前記トリミング可能部分においてトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミング可能である、請求項４に記載の膜抵抗器。
【請求項６】
前記中間部分において、概ね前記抵抗膜の前記第１の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に、第１の横断縁が延び、前記第１の横断縁が、前記第１の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第１のトリミング可能領域を画定し、前記膜抵抗器の抵抗が、前記第１のトリミング可能領域において第１のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミング可能である、請求項４または５に記載の膜抵抗器。
【請求項７】
前記第１のトリミングスロットが、前記第１の横断縁から前記第１のトリミング可能領域の中へ延ばされた、請求項６に記載の膜抵抗器。
【請求項８】
前記中間部分において、概ね前記抵抗膜の前記第１の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に、前記第１の横断縁から間隔を置いて配置された第２の横断縁が延び、前記第２の横断縁が、前記第１の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第２のトリミング可能領域を画定し、前記第２の横断縁が、前記第１の横断縁と前記抵抗膜の前記第２の端部との間に配置され、前記膜抵抗器の抵抗が、前記第２のトリミング可能領域において第２のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミング可能である、請求項６または７に記載の膜抵抗器。
【請求項９】
前記第２のトリミングスロットが、前記第２の横断縁から前記第２のトリミング可能領域の中へ延ばされた、請求項８に記載の膜抵抗器。
【請求項１０】
前記膜抵抗器の抵抗を粗くトリミングするために、前記第１および第２のトリミングスロットのうちの一方が、前記第１および第２のトリミング可能領域のうちの対応する１つの領域の中へ延ばされ、前記膜抵抗器の抵抗を細かくトリミングするために、前記第１および第２のトリミングスロットのうちのもう一方が、前記第１および第２のトリミング可能領域のうちの対応する１つの領域の中へ延ばされた、請求項８または９に記載の膜抵抗器。
【請求項１１】
前記抵抗膜が、その前記第１の端部と前記第２の端部との間を縦に延びる細長い抵抗膜であり、前記低インピーダンス要素が、概ね前記抵抗膜と平行な方向に縦に延びる細長い低インピーダンス要素である、請求項１から１０のいずれかに記載の膜抵抗器。
【請求項１２】
前記低インピーダンス要素のそれぞれの反対側の端部が、前記低インピーダンス要素の前記端部に隣接した電流クラウディングを最小化するように成形された、請求項１から１１のいずれかに記載の膜抵抗器。
【請求項１３】
レーザ光トリミングビームの切削効果に対する前記低インピーダンス要素の抵抗性が前記抵抗膜よりも高い、請求項１から１２のいずれかに記載の膜抵抗器。
【請求項１４】
前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有し、前記抵抗膜が薄膜抵抗器である、請求項１から１３のいずれかに記載の膜抵抗器。
【請求項１５】
一対の低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の間隔を置いて配置された対応する中間部分に隣接して、前記抵抗膜に電気的に結合され、一方の前記低インピーダンス要素および対応する前記中間部分が、前記抵抗膜の前記第１および第２の端部のうちの一方の端部に隣接して配置され、もう一方の前記低インピーダンス要素および対応する１つの前記中間部分が、前記抵抗膜の前記第１および第２の端部のうちのもう一方の端部に隣接して配置された、請求項１から１４のいずれかに記載の膜抵抗器。
【請求項１６】
前記それぞれの膜抵抗器の前記低インピーダンス要素によって直列に電気結合された請求項１から１５のいずれかに記載の一対の膜抵抗器を含む複合膜抵抗器。
【請求項１７】
電気絶縁基板層と、前記基板層上に形成された請求項１から１５のいずれかに記載の間隔を置いて配置された複数の膜抵抗器とを含み、前記抵抗膜の前記第２の主表面が前記基板層に接し、前記抵抗膜が互いに平行に延び、それぞれの抵抗膜の前記第１の側縁が、隣接する抵抗膜の前記第２の側縁に隣接し、かつ前記隣接する抵抗膜の前記第２の側縁から間隔を置いて配置された集積回路。
【請求項１８】
膜抵抗器を形成し、トリミングする方法であって、
第１の端部と間隔を置いて配置された第２の端部との間に延びる電気抵抗材料の抵抗膜を電気絶縁基板上に形成するステップであって、前記抵抗膜が、間隔を置いて配置された反対側の第１の側縁と第２の側縁の間に延びる間隔を置いて配置された反対側の第１および第２の主表面を有し、前記第１の端部と前記第２の端部との間の電流を収容するように適合されたステップと、
前記第１の端部と前記第２の端部の中間に配置された前記抵抗膜の中間部分に隣接して低インピーダンス要素を前記抵抗膜に電気的に結合するステップであって、前記低インピーダンス要素が、前記中間部分の電流の電流密度を低減させて、その中間部分における前記膜抵抗器の抵抗のトリミングを容易にするために、前記抵抗膜の前記中間部分と平行に電流を伝導するステップと、
前記抵抗膜の前記中間部分のトリミングスロットを次第に延ばすことによって前記膜抵抗器の抵抗をトリミングするステップと、
を含む方法
【請求項１９】
前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の前記第１の側縁から間隔を置いた位置で前記抵抗膜に電気的に結合され、前記中間部分の前記低インピーダンス要素と前記第１の側縁との間にトリミング可能部分を画定する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記中間部分に、概ね前記抵抗膜の前記第１の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に延びる第１の横断縁が形成され、前記第１の横断縁が、前記第１の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第１のトリミング可能領域を画定し、前記第１のトリミング可能領域が、前記第１のトリミング可能領域において第１のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミングされる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１のトリミングスロットが、前記第１の横断縁から前記第１のトリミング可能領域の中へ延ばされる、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記中間部分に、概ね前記抵抗膜の前記第１の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に延びる、前記第１の横断縁から間隔を置いて配置された第２の横断縁が形成され、前記第２の横断縁が、前記第１の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第２のトリミング可能領域を画定し、前記第２のトリミング可能領域が、前記第２のトリミング可能領域において第２のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミングされる、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記第２のトリミングスロットが、前記第２の横断縁から前記第２のトリミング可能領域の中へ延ばされる、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記膜抵抗器の抵抗を粗くトリミングするために、前記第１および第２のトリミングスロットのうちの一方が、前記第１および第２のトリミング可能領域のうちの対応する１つの領域の中へ延ばされ、前記膜抵抗器の抵抗を細かくトリミングするために、前記第１および第２のトリミングスロットのうちのもう一方が、前記第１および第２のトリミング可能領域のうちの対応する１つの領域の中へ延ばされる、請求項２２または２３に記載の方法。