【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月10日(2009.8.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  研磨パッドであって、
研磨表面を有する研磨層と、
前記研磨層内の固体透過性ウインドウであって、前記研磨表面と同一平面にある最上面を有し、かつ、内部に少なくとも一つの凹部が形成された底部表面を有する、前記ウインドウと、
を備える、前記研磨パッド。
【請求項２】  前記研磨層の、前記研磨表面とは反対の側に位置決めされたバッキング層を更に備える、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項３】  開口が前記バッキング層内に形成され、前記ウインドウに整列している、請求項２記載の研磨パッド。
【請求項４】  研磨システムであって、
研磨表面を有する研磨層を含む研磨パッドであって、前記研磨パッドは前記研磨層内の固体透過性ウインドウをさらに含み、前記ウインドウが、前記研磨表面と同一平面にある最上面を有し、かつ、内部に少なくとも一つの凹部が形成された底部表面を有する、研磨パッドと、
前記研磨パッドの前記研磨表面に対し基板を保持する為のキャリアと、
前記研磨表面の、前記基板とは反対の側に位置決めされた誘導コイルであって、前記研磨パッドの前記凹部に少なくとも部分的に延びる前記誘導コイル、または、前記研磨表面の、前記基板とは反対の側に位置決めされた強磁性体であって、前記研磨パッドの前記凹部に少なくとも部分的に延びる、前記強磁性体のうち、少なくとも一つを含む、渦電流モニタシステムと、
を備える、前記研磨システム。
【請求項５】  前記誘導コイルを備える、請求項４記載の研磨システム。
【請求項６】  透過性ウインドウを含む光学モニタリングシステムを更に備え、前記コイルは、前記光学モニタリングシステムの前記透過性ウインドウを少なくとも部分的に通って延びている、請求項４記載の研磨システム。
【請求項７】  前記強磁性体を備える、請求項４記載の研磨システム。
【請求項８】  透過性ウインドウを含む光学モニタリングシステムを更に備え、前記強磁性体は、前記光学モニタリングシステムの前記透過性ウインドウを少なくとも部分的に通って延びている、請求項７記載の研磨システム。
【請求項９】  前記研磨パッドに対して前記強磁性体を付勢する手段を更に備える、請求項７記載の研磨システム。
【請求項１０】  研磨方法であって、
研磨パッドの研磨表面に基板を接触させるステップであって、前記研磨パッドが、前記研磨表面を有する前記研磨層および前記研磨層内の固体透過性ウインドウを含み、前記透過性ウインドウが、前記研磨表面と同一平面にある最上面を有し、かつ、内部に少なくとも一つの凹部が形成された底部表面を有する、ステップと、
誘導コイルが前記研磨パッドの前記凹部に少なくとも部分的に延びるように、前記研磨表面の、前記基板とは反対の側に前記誘導コイルを位置決めするステップと、
前記基板と前記研磨パッドとの間に相対運動を引き起こすステップと、
前記誘導コイルを使用して磁界をモニタするステップと、
を備える、前記研磨方法。
【請求項１１】  研磨方法であって、
研磨パッドの研磨表面に基板を接触させるステップであって、前記研磨パッドが、前記研磨表面を有する前記研磨層および前記研磨層内の固体透過性ウインドウを含み、前記透過性ウインドウが、前記研磨表面と同一平面にある最上面を有し、かつ、内部に少なくとも一つの凹部が形成された底部表面を有する、ステップと、
強磁性体が前記研磨パッドの前記凹部に少なくとも部分的に延びるように、前記研磨表面の、前記基板とは反対の側に前記強磁性体を位置決めするステップと、
前記基板と前記研磨パッドとの間に相対運動を引き起こすステップと、
前記強磁性体に磁気結合する誘導コイルを使用して磁界をモニタするステップと、
を備える、前記研磨方法。
【請求項１２】  研磨パッドを製造する方法であって、
固体透過性ウインドウの底部表面内に凹部を形成するステップと、
前記固体透過性ウインドウの最上面が前記研磨パッドの研磨表面と同一平面になるように研磨層内に前記固体透過性ウインドウを設置するステップと、
を備える、前記方法。
【請求項１３】  前記凹部を形成するステップは、前記凹部を機械加工する工程を含む、
請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  前記凹部を形成するステップは、前記ウインドウを成型する工程を含む、請求項１２記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
一態様において、本発明は、研磨表面を備えた研磨パッド、研磨パッドの研磨表面に対して基板を保持する為のキャリア、コイルを含む渦電流モニタリングシステムを有する研磨システムに向けられている。コイルは、研磨表面の、基板とは反対の側に位置決めされており、研磨パッドを少なくとも部分的に通って延びている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
他の態様において、本発明は、研磨表面を備えた研磨パッド、研磨パッドの研磨表面に対して基板を保持する為のキャリア、強磁性体を含む渦電流モニタリングシステムを有する研磨システムに向けられている。強磁性体は、研磨表面の、基板とは反対の側に位置決めされており、研磨パッドを少なくとも部分的に通って延びている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本発明の実施例は、以下の特徴のうち、一つ以上を含んでもよい。凹部は、研磨パッドの底部表面内に形成され、その凹部内に強磁性体が位置決めされてもよい。研磨パッドは、プラテンに付けられ、そのプラテンにより強磁性体が支持されてもよい。間隙は、強磁性体を研磨パッドから分離してもよい。研磨パッドは、それを通って形成された開口を含み、その開口内に強磁性体が位置決めされてもよい。渦電流モニタリングシステムのコアは、研磨パッドがプラテンに固定されるとき、強磁性体と整列されてもよい。強磁性体は、光学モニタリングシステムの透過性ウインドウを少なくとも部分的に通って延びてもよい。強磁性体は、例えば、ポリウレタンエポキシを用いること、又は研磨パッド内に埋め込まれることにより、研磨パッドに固定されてもよい。コイルは、強磁性体の周りに巻かれてもよい。コイルは、研磨パッドを少なくとも部分的に通って延びてもよい。強磁性体は、研磨パッドに対し付勢されてもよい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明の実施例は、以下の特徴のうち、一つ以上の特徴を含んでもよい。透過性ウインドウは、ポリウレタンで形成されてもよい。バッキング層は、研磨層の、研磨表面とは反対の側に位置決めされてもよい。開口は、バッキング層内に形成され、ウインドウと整列されてもよい。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明の実施例は、以下の特徴のうち、一つ以上を含んでもよい。研磨層は、その底部表面内に形成された凹部を含み、強磁性体は、その凹部内で位置決めされてもよい。研磨層は、複数の凹部を含み、複数の強磁性体は、凹部内で位置決めされてもよい。研磨層は、そこを通って形成された開口を含んでもよく、強磁性体は、その開口内で位置決めされてもよい。プラグは、その開口内で強磁性体を保持してもよい。プラグは、研磨層の表面と実質的に同一平面の最上面を有してもよい。強磁性体の位置は、研磨層の表面に関して調節可能でもよい。強磁性体の最上面は、研磨環境に露出されてもよい。強磁性体は、研磨層の表面と直交する縦軸で位置決めされてもよいし、強磁性体は研磨層の表面に対し０°より大きく９０°未満の角度の縦軸で位置決めされてもよい。強磁性体は、エポキシで研磨層に固定されてもよい。透過性ウインドウは、研磨層を通って形成されてもよいし、強磁性体は、その透過性ウインドウに固定されてもよい。凹部又は開口は、透過性ウインドウ内に形成されてもよい。コイルは、強磁性体の周りに巻かれてもよい。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
他の態様において、本発明は、研磨方法に向けられている。当該方法は、研磨パッドの研磨表面に基板を接触させるステップ、誘導コイルが研磨パッドを少なくとも部分的に通って延びるように、研磨表面の、基板とは反対の側に誘導コイルを位置決めするステップ、基板と研磨パッドとの間に相対運動を引き起こすステップ、誘導コイルを使用して磁界をモニタするステップを含む。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
他の態様において、本発明は、研磨方法に向けられている。当該方法は、研磨パッドの研磨表面に基板を接触させるステップ、誘導コイルが研磨パッドを少なくとも部分的に通って延びるように、研磨表面の、基板とは反対の側に強磁性体を位置決めするステップ、基板と研磨パッドとの間に相対運動を引き起こすステップ、強磁性体と磁気結合される誘導コイルを使用して磁界をモニタするステップを含む。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明の実施例は、以下の特徴のうち、１以上を含んでもよい。凹部を形成するステップは、凹部を機械加工する工程またはウインドウを成型する工程を含んでもよい。ウインドウを設置するステップは、研磨層内で開口を形成する工程および例えば接着剤で当該開口内で当該ウインドウを固定する工程を含んでもよい。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
透過性ウインドウ３６は、モジュール５０自体の一体化された一部でもよく、或いは、研磨パッド３０の一体化された一部でもよい。前者の場合、研磨パッドは、開口を備えて形成可能であり、開口は、ウインドウの寸法と合致する。研磨パッドが組み込まれるとき、開口はウインドウの周囲に適合する。後者の場合、研磨パッドは、ウインドウがモジュール５０と整列されるようにプラテン２４上に配置可能である。透過性ウインドウ３６は、比較的、純粋なポリマー又はポリウレタン（例えば、充填材なく形成されたもの）あるいは、ウインドウは、テフロン又はポリカーボネートで形成可能である。一般的に、ウインドウ３６の材料は、非磁性か非導電性である。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
凹部は、固体ウインドウ片の底部表面に凹部を機械加工することにより、或いは、凹部を備えたウインドウを成型（例えば、射出成型、圧縮成型）することにより、形成可能であるが、ウインドウの材料は、凹部を形成する窪みを備えた成型内で硬化または凝結する。いったん、ウインドウが製造されると、それは研磨パッドに固定可能である。例えば、開口は、上部研磨層内に形成可能であり、ウインドウは接着材（例えば、接着剤または接着材）を用いて当該開口内に挿入可能である。あるいは、ウインドウが開口内に挿入され、液体ポリウレタンがウインドウとパッド間の隙間に注がれ、その液体ポリウレタンが硬化されることも可能であろう。研磨パッドが２つの層を含むと仮定すると、ウインドウ３６に整列するバッキング層内に開口が形成可能であり、ウインドウの底部は接着材を用いてバッキング層の露出端部に付けられる。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
図５を参照すると、他の実施例において、透過性ウインドウ３６は、その底部表面内の凹部の代わりに、その厚みを完全に通る開口１１０を含む。コア４２’は、開口１１０内にポリウレタン製プラグ１１２で固定されている。ポリウレタン製プラグ１１２の最上面は、透過性ウインドウ３６の表面と同一平面にある。プラグ１１２は、ウインドウ３６の表面に対しコア４２’が凹むように、コア４２’の最上部側部および上部側部を被覆している。また、コイル４４’は、コア４２’に付けることができ、或いは、それは、モジュール５０内に固定される非付属要素であってもよい。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
図６を参照すると、他の実施例において、透過性ウインドウ３６は、その厚みを全体的に通り、開口１１０を含み、コア４２’は、環境に露出するがウインドウ３６の表面下方に僅かに凹むコアの最上部を備えて開口１１０内に固定されている。コア４２’の側部は、ポリウレタンエポキシ１１４で被膜されている。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
図７を参照すると、コア４２’の位置は、垂直方向に調節可能である。透過性ウインドウ３６は、その厚みを全体的に通る開口１１０を含む。エポキシ製円筒部１１６は、開口１１０内に固定されている。コア４２’の外部表面は、ネジまたは溝が形成されており、エポキシ製円筒部の内部表面は、コア４２’の外部表面とかみ合う溝またはネジを有する。そのため、コア４２’は、コア４２’を回転することにより、正確にＺ軸（ウインドウ表面に対し直交する軸）に沿って位置決め可能である。これによりコア４２’の位置の選択が許容され、研磨されている基板を傷付けることがないが、依然として、ウインドウ３６の最上面とほとんど同一平面である。さらに、コア４２’の位置は、研磨パッドが摩耗するにつれて、調節可能であり、それにより、（基板上、基板基部まで）均一な距離を基板とコアの間に維持することができる。しかし、潜在的な欠点は、コア内のネジ又は溝が磁束を集中させ、より大きなスポットサイズが生じる点である。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
同一ホール内に位置決めされているように図示されているけれども、光学モニタリングシステム１４０は、プラテン内で、渦電流モニタリングシステム４０とは異なる場所に位置決めされてもよい。例えば、光学モニタリングシステム１４０と渦電流モニタリングシステム４０は、プラテンの両側に位置決めされ、それらが交互に基板表面を走査してもよい。さらに、本発明は、また、光学モニタリングシステムが使用されていなくても、研磨パッドが全体的に不透明であっても、適用可能である。これら２つの場合、コアを保持する為の凹部と開口は、２層研磨パッドの最外部研磨層のような研磨層の一つの中に形成される。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
【図１Ａ】図１Ａは、渦電流モニタリングシステムと光学的モニタリングシステムとを含む、化学機械的研磨ステーションの、一部が横断面の、概略側面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、図１の渦電流モニタリングシステムの拡大図である。
【図２】図２は、研磨パッドに固定された強磁性体片を例示する概略的な横断側面図である。
【図３】図３は、渦電流モニタリングシステムにより発生されたチャンネル磁界に対して修正されたキャリアヘッドを例示する概略的な横断側面図である。
【図４】図４は、研磨パッドの透過性ウインドウ内の凹部内に固定されたロッド状コアを例示する概略的な横断側面図である。
【図５】図５は、エポキシプラグで研磨パッドに固定されたコアを例示する概略的な横断側面図である。
【図６】図６は、研磨パッド内の開口に固定されたコアを例示する概略的な横断側面図である。
【図７】図７は、調節可能な垂直位置で研磨パッドに固定されたコアを例示する概略的な横断側面図である。
【図８】図８は、荷重バネで研磨パッドの底部表面に対し付勢されたコアを例示する概略的な横断側面図である。
【図９】図９は、水平配向で研磨パッドに固定されたコアを例示する概略的な横断側面図である。
【図１０】図１０は、傾斜配向で研磨パッドに固定されたコアを例示する概略的な横断側面図である。
【図１１】図１１は、研磨パッド内に埋め込まれた強磁性体片を例示する概略的な横断側面図である。
【図１２】図１２は、研磨パッド内の凹部内に延びるコイルを備えた渦電流モニタリングシステムを例示する概略的な横断側面図である。
【図１３】図１３は、研磨パッド内に埋め込まれたコイルを備えた渦電流モニタリングシステムを例示する概略的な横断側面図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、蹄鉄状コアを例示する側面図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、蹄鉄状コアを例示する側面図である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、蹄鉄状コアを例示する側面図である。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
１０…基板、２０…研磨装置、２４…回転プラテン、２５…中心軸、２６…凹部、３０…研磨パッド、３２…外部層、３４…バッキング層、３６…透過性ウインドウ、３６’…ウインドウ、３８…スラリ、３９…スラリ／リンス結合アーム、４０…渦電流モニタリングシステム、４２…コア、４２’…コア、４２ａ…プロング、４２ｂ…プロング、４４…駆動コイル、４４’…駆動コイル、４４”…コイル、４６…感知コイル、４８…発振磁界、５０…モジュール、５２…窪み、５２’…窪み、５３…薄い区分、５３’…薄い区分、５４ａ…プロングエキステンダー、５４ｂ…プロングエキステンダー、５６…エポキシ、５６’…接着材、５８…間隙、７０…キャリアヘッド、７１…軸、７２…サポート構造体、７４…キャリア駆動シャフト、７６…キャリアヘッド回転モータ、９０…デジタルコンピュータ、９２…回転電気ユニオン、９４…出力装置、１００…プレート、１０２… ベース、１０４…可撓性膜、１０６…圧縮可能チャンバ、１０８…保持リング、１１０…開口、１１２…ポリウレタン製プラグ、１１４…ポリウレタンエポキシ、１１６…エポキシ製円筒部、１２０…荷重バネ、１２２…強磁性体片、１２４…電気接触パッド、１３０，１３２，１３６…蹄鉄状コア、１４０…光学モニタリングシステム、１４２…光ビーム、１４４…光源、１４６…検出器、１６０…プリント回路板