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【手続補正書】
【提出日】平成20年11月18日(2008.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの熱可塑性ポリマーと、
少なくとも１つの潤滑油含浸メソ多孔性粉末とを含み、
組成物中に存在する潤滑油の全量が組成物の全重を基準にして約０．３〜約２重量パーセントであることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の組成物から製造された成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の組成物を従来の溶融加工技術、例えば射出成形、圧縮成形、押出またはブロー成形によって成形品に加工することができる。潤滑油含浸メソ多孔性粉末は、法線力が滑り面またはその合わせ面において成形品の接触表面に加えられる時に含浸潤滑油を放出する。放出される潤滑油が成形品の表面に潤滑膜を形成し、長時間にわたって低い摩擦係数を維持するのに役立ち、摩耗量を最小にするのに役立つ。本発明の成形品は、潤滑を必要とする成分、例えばベアリングブッシュ、ギア、カム、ローラー、ベアリング、スイッチスライダおよびファスナーとして有用である。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  少なくとも１つの熱可塑性ポリマーと、
少なくとも１つの潤滑油含浸メソ多孔性粉末とを含み、
組成物中に存在する潤滑油の全量が組成物の全重を基準にして約０．３〜約２重量パーセントであることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
２．  前記熱可塑性樹脂がポリアセタール樹脂であることを特徴とする１．に記載の組成物。
３．  前記熱可塑性樹脂がポリアミド樹脂であることを特徴とする１．に記載の組成物。
４．  前記潤滑油が４０℃において１０〜１００ｍｍ2／ｓの粘度を有することを特徴とする１．に記載の組成物。
５．  前記メソ多孔性粉末が約０．１〜３００μｍの粒度を有することを特徴とする１．に記載の組成物。
６．  前記メソ多孔性粉末が、金属酸化物、金属炭酸塩、金属ケイ酸塩、および金属リン酸塩からなる群から選択される１つまたは複数であることを特徴とする１．に記載の組成物。
７．  前記メソ多孔性粉末が、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、リン酸バリウム、リン酸マグネシウム、リン酸ジルコニウム、およびアパタイトからなる群から選択される１つまたは複数であることを特徴とする１．に記載の組成物。
８．  前記メソ多孔性粉末が、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリウレタン、セルロース、およびセルロース誘導体、ポリビニルホルマール、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および尿素樹脂からなる群から選択される１つまたは複数のスポンジ状ポリマーであることを特徴とする１．に記載の組成物。
９．  前記潤滑油が、合成油、鉱油、飽和および不飽和脂肪酸、飽和および不飽和脂肪酸の金属塩、飽和および不飽和脂肪酸の塩のエステル、およびパラフィンワックスからなる群から選択される１つまたは複数であることを特徴とする１．に記載の組成物。
１０．  １．に記載の組成物から製造された成形品。
１１．  ベアリングブッシュ、ギア、カム、ローラー、ベアリング、スイッチスライダ、またはファスナーの形態にあることを特徴とする１０．に記載の成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月19日(2008.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効量の化合物Ａの塩基塩ならびに、可溶化剤、ゲル化剤および場合によっては水溶性充填剤を含む放出速度調節組成物を含む固体剤形の経口投与医薬配合物であり、
化合物Ａが
【化１】
2008521932.tif 000001
である配合物。
【請求項２】
化合物Ａの塩基塩が化合物Ａのカリウム塩である請求項１に記載の配合物。
【請求項３】
可溶化剤がポロキサマーを含み、ゲル化剤が高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースを含み、ならびに場合によって存在する水溶性充填剤がラクトースを含む請求項２に記載の配合物。
【請求項４】
化合物Ａのカリウム塩が遊離フェノール基準で約２５ないし約７５重量％の範囲の量で使用され、
ポロキサマーが約１０ないし約２０重量％の範囲の量で使用され、
高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースが約３ないし約９重量％の範囲の量で使用され、
ラクトースが３ないし約９重量％の範囲の量で使用される請求項３に記載の配合物。
【請求項５】
ポロキサマーが約５０ないし約１５０ミクロンの平均粒度に粉砕されたポロキサマー４０７であり、高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースがＨＰＭＣ  Ｋ４Ｍであり、ならびにラクトースが含水ラクトースの噴霧乾燥物である請求項４に記載の配合物。
【請求項６】
化合物Ａのカリウム塩が化合物Ａの結晶形１結晶質カリウム塩である請求項５に記載の配合物。
【請求項７】
さらに、希釈剤と滑沢剤とを含み、および
化合物Ａの塩基塩が化合物Ａのカリウム塩であり、可溶化剤がポロキサマーを含み、ゲル化剤が高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースを含み、水溶性充填剤がラクトースを含み、希釈剤が微結晶質セルロースおよび場合によってはリン酸カルシウムとを含み、ならびに滑沢剤が金属ステアレートおよび金属ステアリルフマレートとを含む請求項１に記載の配合物。
【請求項８】
化合物Ａのカリウム塩が遊離フェノール基準で約４０ないし約６０重量％の範囲の量で使用され、
ポロキサマーが約１０ないし約２０重量％の範囲の量で使用され、
高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースが約３ないし約９重量％の範囲の量で使用され、
ラクトースが３ないし約９重量％の範囲の量で使用され、ならびに
微結晶質セルロースが約５ないし約３０重量％の範囲の量で使用され、
リン酸カルシウムが０ないし約１５重量％の範囲の量で使用され、
金属ステアレートおよび金属ステアリルフマレートのおのおのが独立に約１ないし約３重量％の範囲の量で使用され、
ならびに、化合物Ａのカリウム塩が化合物Ａの結晶形１（Ｆｏｒｍ  １）結晶質カリウム塩であり、ポロキサマーが約５０ないし約１５０ミクロンの平均粒度に粉砕されたポロキサマー４０７であり、高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースがＨＰＭＣ  Ｋ４Ｍであり、ラクトースが含水ラクトースの噴霧乾燥物であり、微結晶質セルロースがＡＶＩＣＥＬ  ＰＨ−１０２であり、リン酸カルシウムが二塩基性リン酸カルシウムであり、金属ステアレートがステアリン酸マグネシウムであり、および金属ステアリルフマレートがナトリウムステアリルフマレートである請求項７に記載の配合物。
【請求項９】
化合物Ａのカリウム塩を遊離フェノール基準で約１００ｍｇないし約６００ｍｇの範囲の量で使用する請求項２から８のいずれか一項に記載の配合物。
【請求項１０】
配合物がカプセルに封入または錠剤に圧縮された請求項９に記載の配合物。
【請求項１１】
有効量の化合物Ａのカリウム塩、可溶化剤、ゲル化剤、水溶性充填剤、第一希釈剤、第二希釈剤、第一滑沢剤および第二滑沢剤を含む圧縮錠剤型の医薬配合物の製造方法であって、
（Ａ）化合物Ａのカリウム塩、可溶化剤、ゲル化剤、水溶性充填剤、第一希釈剤、第二希釈剤、第一滑沢剤の第一部分および第二滑沢剤の混合物をブレンドする段階と、
（Ｂ）ブレンドした混合物を篩別し、および次いで篩別した混合物をさらにブレンドする段階と、
（Ｃ）篩別しおよびブレンドした混合物を圧延して成形体を形成し、および得られた成形体を次いで粉砕して顆粒を形成する段階と、
（Ｄ）顆粒を第一滑沢剤の残分とブレンドする段階と、および
（Ｅ）段階Ｄの潤滑顆粒を圧縮して錠剤とする段階と、
を含む方法。
【請求項１２】
可溶化剤がポロキサマーを含み、
ゲル化剤が高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースを含み、
水溶性充填剤がラクトースを含み、
第一希釈剤が微結晶質セルロースであり、
第二希釈剤がリン酸カルシウムであり、
第一滑沢剤が金属ステアレートであり、および
第二滑沢剤が金属ステアリルフマレートである請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
化合物Ａのカリウム塩が遊離フェノール基準で約４０ないし約６０重量％の範囲の量で使用され、
ポロキサマーが約１０ないし約２０重量％の範囲の量で使用され、
高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースが約３ないし約９重量％の範囲の量で使用され、
ラクトースが３ないし約９重量％の範囲の量で使用され、
微結晶質セルロースおよびリン酸カルシウムのおのおのが独立に約５ないし約２５重量％の範囲の量で使用され、および
金属ステアレートおよび金属ステアリルフマレートのおのおのが独立に約１ないし約３重量％の範囲の量で使用され、
ならびに、ポロキサマーが約５０−１５０ミクロンの平均粒度に粉砕されたポロキサマー４０７であり、高粘度ヒドロキシプロピルメチルセルロースがＨＰＭＣ  Ｋ４Ｍであり、ラクトースが含水ラクトースの噴霧乾燥物であり、微結晶質セルロースがＡＶＩＣＥＬ  ＰＨ−１０２であり、リン酸カルシウムが二塩基性リン酸カルシウムであり、金属ステアレートがステアリン酸マグネシウムであり、および金属ステアリルフマレートがナトリウムステアリルフマレートである請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
さらに、（Ｆ）圧縮錠剤をＯｐａｄｒｙ  ＩＩ  ＨＰでコーティングして圧縮錠剤の約２ないし約４重量％の剤皮をかけたコーテッド錠剤とする段階を含む請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ＨＩＶ感染を治療または予防するための、請求項１から１０のいずれか一項に記載の医薬配合物。
【請求項１６】
ＡＩＤＳを治療、予防または発症遅延するための、請求項１から１０のいずれか一項に記載の医薬配合物。
【請求項１７】
ＨＩＶインテグラーゼの阻害、ＨＩＶ感染の治療または予防、あるいはＡＩＤＳの治療、予防または発症遅延のための医薬の製造に使用するための請求項１から１０のいずれか一項に記載の医薬配合物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月17日(2008.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定の基準に基づいて分散コンピューティング環境においてセントラルロケーションで書類を入手する方法であって、
該環境は、少なくとも１つのデジタル資産に対する資産識別タグを格納する中央コンピューティングデバイスと、それぞれのデジタル資産をローカルに格納する１つ以上のクライアントとを有しており、該方法は、
（ａ）クライアントにおいて、該中央コンピューティングデバイスから命令を受信し、デジタル資産をコピーすることであって、該命令は資産識別タグを含む、命令を受信することと、
（ｂ）該資産識別タグによって識別される該デジタル資産をコピーすることと、
（ｃ）該中央コンピューティングデバイスからの該命令に応答して監視の跡をデジタル資産と関連付けることと、
（ｄ）該デジタル資産のコピーと該デジタル資産の該関連する監査の跡とを別のロケーションに送信することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記命令を、前記クライアントによって前記中央コンピューティングデバイスに確認することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記確認することは、定期的ベースで行われる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記中央コンピューティングデバイスからの前記命令を受信することに応答して、前記デジタル資産へのアクセスを防止することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記クライアントの前記エンドユーザーが特定のアクションを行うときには、前記中央コンピューティングデバイスを確認することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記中央コンピューティングデバイスのエンドユーザーが特定のアクションを行うときには、前記クライアントに前記命令を送信することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記中央コンピューティングデバイスによって報告を生成することであって、該報告は、前記別のロケーションに送信されたデジタル資産のコピーの量を示す、報告を生成することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
特定の基準に基づいて分散コンピューティング環境においてセントラルロケーションで書類を入手するシステムであって、
該環境は、少なくとも１つのデジタル資産に対する資産識別タグを格納する中央コンピューティングデバイスと、それぞれのデジタル資産をローカルに格納する１つ以上のクライアントとを有しており、該システムは、
（ａ）ネットワークに対する中央コンピューティングデバイスと、
（ｂ）サーバと通信するクライアントであって、該クライアントは、該中央コンピューティングデバイスから命令を受信してデジタル資産をコピーし、該命令は、資産識別タグ、該資産識別タグによって識別される該デジタル資産をコピーすること、該中央コンピューティングデバイスからの命令に応答して該デジタル資産を監査の跡と関連付けること、および、別のロケーションに該デジタル資産の該コピーと該デジタル資産の該関連する監査の跡とを送信することとを含む、クライアントと
を備える、システム。
【請求項９】
前記クライアントは、前記命令を、前記中央コンピューティングデバイスに確認する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記確認することは、定期的ベースで行われる、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記クライアントは、前記中央コンピューティングデバイスからの前記命令に応答して前記デジタル資産へのアクセスを防止する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記クライアントは、該クライアントの前記エンドユーザーが特定のアクションを行うときには、中央コンピューティングデバイスに確認する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記中央コンピューティングデバイスは、該中央コンピューティングデバイスのエンドユーザーが特定のアクションを行うときには、前記クライアントに前記命令を送信する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１４】
前記中央コンピューティングデバイスは、報告を生成し、該報告は、別のロケーションに送信されたデジタル資産のコピーの量を示す、請求項８に記載のシステム。
【請求項１５】
コンピュータ読み取り可能な媒体であって、該コンピュータ読み取り可能な媒体は、
該コンピュータ読み取り可能な媒体上に、特定の基準に基づいて分散コンピューティング環境においてセントラルロケーションで書類を入手する実行可能な命令を有しており、
該環境は、少なくとも１つのデジタル資産に対する資産識別タグを格納する中央コンピューティングデバイスと、それぞれのデジタル資産をローカルに格納する１つ以上のクライアントとを有しており、該コンピュータ読み取り可能な媒体は、
（ａ）クライアントにおいて、中央コンピューティングデバイスからの命令を受信し、デジタル資産をコピーする命令であって、該命令は資産識別タグを含む、該命令と、
（ｂ）該資産識別タグによって識別される該デジタル資産をコピーする命令と、
（ｃ）該中央コンピューティングデバイスからの該命令に応答して、監査の跡をデジタル資産と関連付ける命令と、
（ｄ）別のロケーションに該デジタル資産の該コピーと該デジタル資産の該関連する監査の跡とを送信する命令と
を含む、コンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１６】
前記クライアントによって、前記命令に対する前記中央コンピューティングデバイスを確認する命令をさらに包含する、請求項１５に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１７】
前記確認する命令は、定期的ベースで行われる、請求項１６に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１８】
前記中央コンピューティングデバイスからの前記命令に応答して前記デジタル資産へのアクセスを防止する命令をさらに含む、請求項１７に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１９】
前記クライアントの前記エンドユーザーが、特定のアクションを行うときには、前記中央コンピューティングデバイスに確認する命令をさらに含む、請求項１７に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２０】
前記中央コンピューティングデバイスのエンドユーザーが特定のアクションを行うときには、前記クライアントに前記命令を送信する命令をさらに含む、請求項１７に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２１】
前記中央コンピューティングデバイスによって、報告を生成する命令をさらに包含し、該報告は、別のロケーションに送信されたデジタル資産のコピーの量を示す、請求項１７に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月14日(2008.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の伝搬路部分の各々を伝搬する、光学特性によって特徴付けされる第１及び第２のレーザビーム成分と、
前記第１及び第２のレーザビーム成分の前記光学特性の状態に相対変化を与えるために、また前記第１及び第２のレーザビーム成分が伝搬する共通の伝搬路部分に前記第１及び第２の伝搬路部分を結合するために協働する１セットの光学要素と、
ビーム成形された第１及び第２のレーザビーム成分を形成するために前記共通の伝搬路部分に沿って配置される画像光学機器組立体であって前記第１及び第２のレーザビーム成分の光エネルギーの空間分布を成形する画像光学機器組立体と、
前記共通の伝搬路部分に沿って伝搬する前記ビーム成形された第１及び第２のレーザビーム成分を受け取るビームスプリッタであって第１及び第２の出力路部分に沿う伝搬に対する前記光学特性の各状態にしたがって前記第１及び第２のレーザビーム成分を方向付けるために配置されるビームスプリッタとを含む、低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項２】
前記光学特性は位相であり、前記光学特性の前記状態における前記相対変化は前記第１及び第２のビーム成分間の位相変位における変化である、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム
【請求項３】
前記１セットの光学要素は、前記第１及び第２の伝搬路部分の１つに配置される位相変化デバイスと、前記第１及び第２の伝搬路部分を前記共通の伝搬路部分に結合するために配置される偏光ビーム結合器とを含む、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項４】
前記位相変化デバイスは半波板を含む、請求項３に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項５】
前記第１及び第２の伝搬路部分の各々に沿って順次伝搬する前記第１及び第２のレーザビーム成分を前記制御信号に応答して提供する２つの光学的に関連した音響光学変調器を含む、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項６】
前記２つの光学的に関連した音響光学変調器は光学的に直列に配置される、請求項５に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項７】
前記ビームスプリッタは前記ビーム成形された第１及び第２のレーザビーム成分を偏光状態にしたがって方向付ける偏光ビームスプリッタを含む、請求項１３に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項８】
前記画像光学機器組立体によって光エネルギーの空間的分布を成形することは一様な空間分布を生じる、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項９】
前記第１及び第２の出力路部分に沿って伝搬する前記ビーム成形された第１及び第２のレーザビーム成分のビーム径を設定するために前記共通の伝搬路部分に沿って前記画像光学機器組立体及び前記偏光ビームスプリッタ間に配置されたビーム拡大器を含む、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１０】
前記ビーム拡大器は可変ビーム拡大型である、請求項９に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１１】
前記ビーム成形された第１及び第２のレーザビーム成分に光学的に関連した第１及び第２のビーム位置決め機構を含む、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１２】
所望の光エネルギー空間分布及び直径を有する光ビームを前記画像光学機器組立体の入射用に設定するために前記第１及び第２のレーザビーム成分に光学的に関連したビーム拡大器を含む、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１３】
前記所望の光エネルギー空間分布はガウス分布形状を有する、請求項１２に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１４】
前記第１及び第２のレーザビーム成分の各々は異なるビーム拡大器に光学的に関連した別個のレーザ源から伝搬する、請求項１２に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１５】
前記第１及び第２のレーザビーム成分は１つのレーザ源によって放射されかつ前記１つのビーム拡大器を伝搬する出力ビームから得られる、請求項１２に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１６】
入射レーザビームを受け取るビームスイッチングデバイスであって前記第１及び第２の伝搬路部分に沿って伝搬する前記第１及び第２のレーザ成分を順次形成するために前記レーザビームを制御信号に応答して選択的に方向付けるビームスイッチングデバイスを含む、請求項１に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１７】
所望の光エネルギー空間分布及び直径を有する前記第１及び第２のビーム成分を前記画像光学機器組立体の入射用に設定するための前記ビームスイッチングデバイスに前記レーザビームを入射する前に前記レーザビームを受け取るために配置されるビーム拡大器を含む、請求項１６に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【請求項１８】
前記所望の光エネルギー空間分布はガウス分布形状を有する、請求項１７に記載の低価小型レーザスイッチングシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
射出流体の小滴を被印刷体上に堆積させるように構成されたプリントヘッド集合体を備え、該プリントヘッド集合体が、複数の射出アセンブリと、該複数の射出アセンブリに射出流体を供給するように構成された一対の貯留室とを備え、
前記プリントヘッド集合体を前記被印刷体に取り付けるための取付けフレームを備え、かつ、
各貯留室内の前記射出流体の容積を維持するように構成された電子コントロ−ラを備えていることを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記電子コントロ−ラが、各貯留室内の前記射出流体の容積を、前記貯留室の最大容積の約９５％以下に維持するように構成されていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記一対の貯留室を連結して該一対の貯留室間に前記射出流体のための通路を提供する第１の流体導管をさらに備えていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記第１の流体導管から前記複数の射出アセンブリまでの前記射出流体のための通路を提供する複数の付加的流体導管をさらに備えていることを特徴とする請求項３記載のシステム。
【請求項５】
前記複数の付加的流体導管が前記第１の流体導管よりも狭い内径を有することを特徴とする請求項４記載のシステム。
【請求項６】
前記第１の流体導管とは異なる第２の流体導管をさらに備え、該第２の流体導管が、前記複数の貯留室から前記複数の射出アセンブリまでの前記射出流体のための通路を提供することを特徴とする請求項３記載のシステム。
【請求項７】
前記取付けフレームは、前記プリントヘッド集合体が前記被印刷体に対する射出位置から、該被印刷体から離れた第２の位置まで移動せしめられるのを許容するアセンブリを備えていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項８】
小滴の吐出が可能な複数のノズルを備えた射出アセンブリと、
第１の貯留室および第２の貯留室であって、前記射出アセンブリと連通し、かつ相互同士連通している第１および第２の貯留室とを備えていることを特徴とする装置。
【請求項９】
前記射出アセンブリが、前記第１の貯留室から約１０ｃｍ以上離れて配置されていることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記射出アセンブリが、前記第２の貯留室から約１０ｃｍ以上離れて配置されていることを特徴とする請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の貯留室が、前記第２の貯留室から約１０ｃｍ以上離れて配置されていることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１２】
前記第１および第２の貯留室が、前記装置の加速度により発生する前記射出アセンブリ内の流体の圧力変化を低減することを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１３】
前記装置が約１０ｍｓ-2以下だけ加速されたときには、前記ノズルにおける流体不完全充填が実質的に生じないように前記圧力変化が十分に低減されることを特徴とする請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記装置が約１０ｍｓ-2以下だけ加速されたときには、インクジェット・プリントヘッド・モジュール内の流体が前記ノズルから実質的に洩出しないように前記圧力変化が十分に低減されることを特徴とする請求項１２記載の装置。
【請求項１５】
前記フレームが開口部を備え、該開口部内に前記射出アセンブリが配置されていることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１６】
前記フレーム内の対応する開口部内に配置された１個以上の付加的射出アセンブリをさらに備えていることを特徴とする請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
前記第１および第２の貯留室が、前記付加的射出アセンブリと連通していることを特徴とする請求項１５記載の装置。
【請求項１８】
前記フレームが、前記射出アセンブリおよび前記１および第２の貯留室を収容する囲いの一部であることを特徴とする請求項１５記載の装置。
【請求項１９】
前記射出アセンブリが本体およびノズルプレートを備えていることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項２０】
前記射出アセンブリの本体が複数のチャンネルおよび１個の圧電アクチュエータを備え、前記複数のチャンネルが前記ノズルプレート内の複数のノズルに対応し、前記圧電アクチュエータが前記複数のチャンネル内の圧力変化を発生させるように構成されて、前記複数のノズルを通じて流体の小滴を吐出することを特徴とする請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
各ノズルが前記第１および第２の貯留室と連通していることを特徴とする請求項８記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月18日(2008.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）画像形成性構成成分を含有する活性層；および
（２）（ａ）基材層；および
（ｂ）結合材と、焼成カオリンと、
焼成ベントナイト、酸処理ベントナイト、高表面積アルミナ、水和アルミナ、ベーマイト、フラッシュ焼成アルミナ三水和物、シリカ、シリカゲル、ゼオライト、ゼオタイプ、非ゼオタイプモレキュラーシーブ、クラスラシル、ミクロ細孔性粒子、メソ細孔性粒子、マクロ細孔性粒子、アルミナホスフェート、金属アルミナホスフェート、マイカおよび柱状クレイからなる群から選択される少なくとも１つの細孔度改良材
とを含んでなる、基材層上に位置するベース層
を含んでなるサーマルペーパー複合前駆体を含んでなり、前記サーマルペーパー複合前駆体が細孔度改良材のないサーマルペーパー複合前駆体の熱浸透率よりも少なくとも約２％小さい熱浸透率を有し、前記焼成カオリンが８０と９０部の間で存在し、そして前記少なくとも１つの細孔度改良材が１０と２０部の間で存在し、そして前記ベース層が前記基材層と前記活性層の間に位置する、サーマルペーパー複合体。
【請求項２】
前記ベース層中の前記少なくとも１つの細孔度改良材が焼成ベントナイトである、請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項３】
前記ベース層中の前記少なくとも１つの細孔度改良材がシリカ、シリカゲルおよびゼオライトからなる群から選択される、請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項４】
前記ベース層中の前記焼成カオリンが少なくとも約７０重量％の粒子は２ミクロン以下のサイズを有すること、少なくとも約５０重量％の粒子は１ミクロン以下のサイズ、少なくとも約５ｍ2／ｇの表面積および少なくとも約０．１ｃｃ／ｇの細孔容積を有すること、の少なくとも１つを有する、請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項５】
前記ベース層中の前記少なくとも１つの細孔度改良材が少なくとも約７０重量％の粒子は２ミクロン以下のサイズを有すること、少なくとも約５０重量％の粒子は１ミクロン以下のサイズ、少なくとも約１０ｍ2／ｇの表面積および少なくとも約０．１ｃｃ／ｇの細孔容積を有すること、の少なくとも１つを有する、請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項６】
前記サーマルペーパー複合前駆体が細孔度改良材のないサーマルペーパー複合前駆体の熱浸透率よりも少なくとも約５％小さい熱浸透率を有する請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項７】
前記サーマルペーパー複合前駆体が細孔度改良材のないサーマルペーパー複合前駆体の熱浸透率よりも少なくとも約１０％小さい熱浸透率を有する請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項８】
前記サーマルペーパー複合前駆体が細孔度改良材のないサーマルペーパー複合前駆体の熱浸透率よりも少なくとも約１５％小さい熱浸透率を有する請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項９】
前記少なくとも１つの細孔度改良材がシリカである、請求項１に記載のサーマルペーパー。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの細孔度改良材がゼオライトである、請求項１に記載のサーマルペーパー。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月1日(2008.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリントのための方法であって、
１つ以上のレシーバをプリントパスに沿って移動させることと、
該プリントパスにおいて、該１つ以上のレシーバの第１のレシーバ領域上に第１のプリントヘッドから液滴を噴出することと、
該プリントパスにおいて、該１つ以上のレシーバの第２のレシーバ領域上に第２のプリントヘッドから液滴を噴出することと、
該第２のプリントヘッドが液滴を該第１のレシーバ領域または該第２のレシーバ領域上に噴出する間に、該第１のプリントヘッドの１つ以上の特性の検出に応答して、該第１のプリントヘッドにメンテナンスを提供することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記第１のプリントヘッドが前記第１のレシーバおよび前記第２のレシーバ上に液滴を噴出する間に、前記第２のプリントヘッドに対してメンテナンスを提供することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のプリントヘッドからの前記液滴の噴出を制御するために、該第１のプリントヘッドによって、第１のデジタルデータのセットを受信することと、
前記第２のプリントヘッドからの該液滴の噴出を制御するために、該第２のプリントヘッドによって、第２のデジタルデータのセットを受信することと、
該第１のプリントヘッドに対するメンテナンスコールに応答して、該第１のプリントヘッドに送信される該第１のデジタルデータのセットを変更することと、
該第１のプリントヘッドに対する該メンテナンスコールに応答して、該第２のプリントヘッドに送信される該第２のデジタルデータのセットを変更することと
をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のレシーバ領域は、前記第２のレシーバ領域と同一のレシーバ上にある、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のプリントヘッドによって前記第１のレシーバ領域上に第１の液滴パターンを形成することと、
前記同一のレシーバの該第１のレシーバ領域上に画像を生成するために、前記第２のプリントヘッドによって該第１のレシーバ領域上に第２の液滴パターンを形成することと
をさらに包含する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のレシーバ領域上に前記第１のプリントヘッドによって第１の画像を形成することと、
前記同一のレシーバの該第１のレシーバ領域上に前記第２のプリントヘッドによって別の第２の画像を形成することと
をさらに包含する、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のレシーバ領域と前記第２のレシーバ領域とは、異なるレシーバ上にある、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
レシーバ上に画像をプリントする方法であって、
プリントパスに沿って、１つ以上のレシーバを移動させることと、
第１のプリントヘッドによって、第１のデジタルデータのセットを受信することと、
該第１のデータのセットに応答して、該プリントパスにおいて、１つ以上のレシーバの第１のレシーバ領域上に、該第１のプリントヘッドから液滴を噴出することと、
第２のプリントヘッドによって、第２のデジタルデータのセットを受信することと、
該第２のデータのセットに応答して、該プリントパスにおいて、１つ以上のレシーバの第２のレシーバ領域上に、該第２のプリントヘッドから液滴を噴出することと、
該第１のプリントヘッドに対するメンテナンスコールに応答して、該第１のプリントヘッドに送信される該第１のデジタルデータのセットを変更することと、
該第１のプリントヘッドに対する該メンテナンスコールに応答して、該第２のプリントヘッドに送信される該第２のデジタルデータのセットを変更することと、
該第２のプリントヘッドが、該第１のレシーバ領域または該第２のレシーバ領域上に液滴を噴出する間に、該第１のプリントヘッドの１つ以上の特性の検出に応答して、該第１のプリントヘッドにメンテナンスを提供することと
を包含する、方法。
【請求項９】
プリントのための方法であって、
プリントパスに沿って、１つ以上のレシーバを移動させることと、
該プリントパスにおいて、該１つ以上のレシーバの第１のレシーバ領域上に、第１のグループのプリントヘッドから液滴を噴出することと、
該プリントパスにおいて、該１つ以上のレシーバの第２のレシーバ領域上に、第２のグループのプリントヘッドから液滴を噴出することと、
該第１のグループのプリントヘッドの残りのプリントヘッドが該第１のレシーバ領域上に液滴を噴出し、該第２のグループのプリントヘッドが該第２のレシーバ領域上に液滴を噴出する間に、少なくとも１つのプリントヘッドの１つ以上の特性の検出に応答して、該第１のグループのプリントヘッドの少なくとも１つのプリントヘッドに対してメンテナンスを提供することと
を包含する、方法。
【請求項１０】
プリント装置であって、
１つ以上のレシーバの第１のレシーバ領域上に液滴を噴出するように構成されている第１のプリントヘッドと、
１つ以上のレシーバの第２のレシーバ領域上に液滴を噴出するように構成されている第２のプリントヘッドと、
該第２のプリントヘッドが該第１のレシーバ領域または該第２のレシーバ領域上に液滴を噴出する間に、該第１のプリントヘッドの１つ以上の特性の検出に応答して、該第１のプリントヘッドに対してメンテナンスを提供するように構成されている第１のメンテナンスステーションと
を備える、プリント装置。
【請求項１１】
前記第１のプリントヘッドが前記第１のレシーバ領域または前記第２のレシーバ領域上に液滴を噴出する間に、前記第２のプリントヘッドに対してメンテナンスを提供するように構成されている第２のメンテナンスステーションをさらに備える、請求項１０に記載のプリント装置。
【請求項１２】
前記第１のプリントヘッド、前記第２のプリントヘッド、および前記第１のメンテナンスステーションと動作可能なように結合された制御ユニットをさらに備え、該制御ユニットは、該第１のプリントヘッドおよび該第２のプリントヘッドに信号を送信することにより、液滴の前記噴出を制御し、かつ、該第１のメンテナンスステーションに信号を送信することにより、該第１のプリントヘッドに対するメンテナンス動作を制御するように構成されている、請求項１０に記載のプリント装置。
【請求項１３】
前記第１のレシーバ領域は、前記第２のレシーバ領域と同一である、請求項１０に記載のプリント装置。
【請求項１４】
前記第１のプリントヘッドは、前記第１のレシーバ領域上に第１の液滴パターンを形成し、前記第２のプリントヘッドは、該第１のレシーバ領域上に第２の液滴パターンを形成することにより、該第１のレシーバ領域上に画像を生成する、請求項１３に記載のプリント装置。
【請求項１５】
前記第１のプリントヘッドは、前記第１のレシーバ領域上に第１の画像を形成し、前記第２のプリントヘッドは、該第１のレシーバ領域上に別の第２の画像を形成する、請求項１３に記載のプリント装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被印刷体上に小滴材料の小滴を吐出するための複数のノズルを備えた射出アセンブリと、
内部において前記被印刷体上に前記射出アセンブリが印刷を施す囲われた印刷区域と、  該印刷区域の環境を制御するのに関係する、前記小滴材料とは異なる気化された環境物質を前記囲われた印刷区域内に導入するための機構と、
を備えていることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記環境物質が水を含むことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記環境物質がアルコールを含むことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記環境物質がＭＥＫを含むことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記環境物質が消毒剤を含むことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記環境物質が、バクテリアの成長を抑制するのに適したものであることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記気化された環境物質が、前記小滴材料中に溶け得るものであることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記印刷区域内に配置されたセンサをさらに備えていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記センサが、前記印刷区域内の環境を調節するのに用いられる信号を提供するように構成されていることを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記機構が、前記印刷区域の環境を制御するのに関係する環境物質を除去するための機構をさらに備えていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１１】
囲われた印刷区域内に気化された環境物質を導入し、かつ
該気化された環境物質が存在する間に、前記印刷区域内の被印刷体上に小滴を吐出させる工程を含むことを特徴とする印刷方法。
【請求項１２】
前記環境物質が水を含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記環境物質がアルコールを含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
前記環境物質がＭＥＫを含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
前記環境物質が消毒剤を含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１６】
前記環境物質が、バクテリアの成長を抑制するのに適したものであることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１７】
前記印刷区域内の環境を制御するのに関係する、前記小滴中に溶け得る環境物質を選択することをさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１８】
前記印刷区域内にセンサを配置することをさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１９】
前記センサを、前記印刷区域内の環境を調節するのに用いられる信号を提供するように構成することをさらに含むことを特徴とする請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記印刷区域の環境を制御するのに関係する環境物質を除去することをさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月2日(2008.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長い円筒状のドラムであって、その側面で支持部に回転可能に取り付けられて、該ドラムの長手方向中心軸周りで回転可能であり、前記原材料入口と、前記原材料入口から離れた処理済材料出口とを有する前記ドラムと、
前記支持部上で前記ドラムを回転させるように動作可能なドラム回転手段と、
前記原材料入口と前記処理済材料出口との間で前記ドラム内に取り付けられ、前記原材料入口と前記処理済材料出口との間で前記ドラムを通じた材料の流れを制御する少なくとも１つのバッフル板と、を備え、
前記１又は複数のバッフル板は、前記ドラムの内部を２以上の処理区画に分割し、
前記１又は各バッフル板は、１つの区画から次の隣接する区画への材料の通過通路としての開口を有し、
前記１又は各バッフル板は、該バッフル板から前記ドラムの円筒状の側壁を通じて外方に延在する取付手段によって、前記ドラムに固定されている、消化槽。
【請求項２】
請求項１に記載の消化槽において、
前記取付手段が前記ドラムの外側に固定されている、消化槽。
【請求項３】
請求項１に記載の消化槽において、
前記ドラムは、前記ドラム内の各バッフル板と整合して、前記ドラムの周りに延在する支持リングを有する、消化槽。
【請求項４】
請求項３に記載の消化槽において、
前記支持リングは、前記ドラムの外側の周りに延在している、消化槽。
【請求項５】
請求項３に記載の消化槽において、
前記支持リングは、前記ドラム側壁の内面の周りに延在している、消化槽。
【請求項６】
請求項３乃至５の何れかに記載の消化槽において、
前記取付手段は、前記支持リングに固定されている、消化槽。
【請求項７】
請求項１に記載の消化槽において、
前記取付手段は、互いに離間した複数のロッドを有し、各ロッドは内方端及び外方端を有し、該内方端は前記バッフル板に固定されており、該外方端は前記ドラムに固定されている、消化槽。
【請求項８】
請求項７に記載の消化槽において、
各ロッドの前記内方端は、前記バッフル板の前面及び背面から内方に離間して、前記バッフル板の外周縁に固定されている、消化槽。
【請求項９】
請求項７に記載の消化槽において、
前記ロッドの前記内方端は、前記バッフル板の外縁において相補的な半径方向スロットに配置され、
前記ロッドは、前記バッフル板から前記ドラム側壁を通じて外方に延在し、
各ロッドの外方端は、前記支持リングにおける相補的な半径方向取付孔に係合している、消化槽。
【請求項１０】
請求項１に記載の消化槽において、
材料の通過通路としての各バッフル板の前記開口は、前記バッフル板に偏心して配置され、前記開口は長円形状である、消化槽。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月31日(2008.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機廃棄材料を含む廃棄物原材料を収集し、
有機材料消化槽を通じて該消化槽の入口と出口との間で前記廃棄物原材料を制御して搬送し、該消化槽内で該廃棄物原材料を好気性バクテリアによって処理して、該廃棄物原材料中の有機廃棄物材料の内容物をバイオ燃料に変換し、
前記消化槽の前記出口から処理済材料を放出し、
前記処理済材料中の無機材料から前記バイオ燃料を分離し、
生成されたバイオ燃料をエネルギーの生成に利用する、バイオエネルギー・システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記バイオ燃料材料を少なくとも部分的に乾燥し、該バイオ燃料をエネルギーの生成に使用する前に、該バイオ燃料材料中の水分を低減する、システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムにおいて、
前記バイオ燃料材料を圧縮して該バイオ燃料材料中の水分を低減する、システム。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載のシステムにおいて、
前記処理済材料を選別してバイオ燃料と無機材料とに分離する、システム。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載のシステムにおいて、
前記無機材料をリサイクル可能廃棄物材料とリサイクル不可廃棄物材料とに選別する、システム。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載のシステムにおいて、
前記消化槽は、
前記原材料入口を一端に、処理済材料出口を他端に有する円筒状のドラムであって、廃棄材料の処理用の少なくとも１つの内部区画を有し、支持部材に回転可能に取り付けられて、該ドラムの中心軸の周りに回転する円筒状ドラムと、
前記ドラムの中心軸周りに該ドラムを回転させる手段と、
を含み、
少なくとも１つのバッフル板が前記ドラム内に取り付けられて、前記ドラムの内部を２以上の処理区画に分割し、前記入口と前記出口との間での前記ドラムを通じた材料の流れを制御し、
前記１又は各バッフル板は、該バッフル板から前記ドラムの円筒状の側壁を通じて外方に延在する取付手段によって前記ドラムに固定されている、システム。
【請求項７】
請求項６に記載のシステムにおいて、
前記ドラムは、該ドラム内の各バッフル板に整合されて該ドラムの周りに延在する支持リングを有し、  前記取付手段は、前記支持リングに固定されている、システム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、
前記取付手段は、互いに離間した複数のロッドを有し、各ロッドは内方端及び外方端を有し、該内方端は前記バッフル板に固定されており、該外方端は前記ドラムに固定されている、システム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムにおいて、
各ロッドの前記内方端は、前記バッフル板の前面及び背面から内方に離間して、前記バッフル板の外周縁に固定され、
前記ロッドの前記内方端は、前記バッフル板の外縁において相補的な半径方向スロット内に配置され、
前記ロッドは、前記バッフル板から前記ドラム側壁を通じて半径方向外方に延在し、
各ロッドの外方端は、前記支持リングにおける相補的な半径方向取付孔に係合している、システム。
【請求項１０】
請求項６に記載のシステムにおいて、
互いに離間する複数のバッフル板が、前記入口と前記出口との間で前記ドラム内に取り付けられ、前記入口と前記出口との間での前記ドラムを通じた材料の流れを制御し、
各バッフル板は、該バッフル板に偏心して配置された材料の通過通路としての開口を有し、
前記開口は長円形状である、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式(I)：
【化１】
2008521861.tif 000001
（式中、
R1は、塩素、フッ素、臭素、メタンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、パラ-トルエンスルホニル、CH3S(=O)-及びフェニルS(=O)-から成る群より選択される基を表し、
R2は、水素又はC1-C3-アルキルを表し、
R3は、水素或いは任意に置換されていてもよいC1-C12-アルキル、C2-C12-アルケニル、C2-C12-アルキニル及びC6-C14-アリールから成る群より選択される基、
或いは任意に置換及び／又は架橋されていてもよいC3-C12-シクロアルキル、C3-C12-シクロアルケニル、C7-C12-ポリシクロアルキル、C7-C12-ポリシクロアルケニル、C5-C12-スピロシクロアルキル及び飽和若しくは不飽和C3-C12-ヘテロシクロアルキル（1〜2個のヘテロ原子を含む）から成る群より選択される基を表し、
R4、R5は、同一又は異なってよく、水素又は任意に置換されていてもよいC1-C6-アルキルを表し、或いは
R4とR5が一緒に2-員〜5-員アルキルブリッジ（1〜2個のヘテロ原子を含んでよい）を表し、或いは
R4とR3又はR5とR3が一緒に飽和若しくは不飽和C3-C4-アルキルブリッジ（任意に1個のヘテロ原子を含んでよい）を表し、
かつ
A1及びA2は、同一又は異なってよく、-CH=又は-N=を表す）
の化合物の製造方法であって、下記式(II)
【化２】
2008521861.tif 000002
（式中、
R1〜R5、A1及びA2は、請求項１で与えた意味を有し、かつ
R6は、C1-C4-アルキルを表す）
の化合物を、
a)水素化触媒の存在下で水素によって水素化し、及び
b)銅、鉄又はバナジウム化合物を添加する
（ここで、前記工程a)及びb)は、同時又は連続的に行ってもよい）
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記工程b)において、銅化合物を添加することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記工程b)において、鉄化合物を添加することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記工程b)において、バナジウム化合物を添加することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記工程a)とb)を連続的に行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１工程a)の後に、まず下記式(III)：
【化３】
2008521861.tif 000003
の中間生成物を得、この生成物を任意に単離してもよく、
引き続き工程b)の後に、式(I)の化合物を得ることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記工程a)とb)を同時に行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記水素化触媒が、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、白金、パラジウム及びニッケルから成る群より選択されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
添加する前記水素化触媒の量が、使用する式(II)の化合物の量に対して、0.1〜10wt.-％であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
添加する銅、鉄又はバナジウム化合物の量が、使用する式(II)の化合物の量に対して、0.01〜10wt.-％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
双極性の非プロトン性溶媒、アルコール、エーテル、エステル、カルボン酸、無極性溶媒、アセトニトリル、塩化メチレン及び水から成る群より選択される溶媒又は溶媒混合物中で反応を行うことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
反応温度が、0℃〜150℃であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
水素圧が、1バール〜100バールであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
下記式(III)の化合物。
【化４】
2008521861.tif 000004
（式中、R1〜R5は、請求項１で定義したとおりの意味を有する。）
【請求項１５】
下記一般式(I)：
【化５】
2008521861.tif 000005
（式中、
R1〜R5、A1及びA2は、請求項１で定義したとおりの意味を有する）
の化合物の製造方法であって、
下記式(III)：
【化６】
2008521861.tif 000006
（式中、
R1〜R5及びA1、A2は、請求項１で定義したとおりの意味を有する）
の化合物を、水素化触媒と、銅、鉄又はバナジウム化合物の存在下で水素によって水素化することを特徴とする方法。
【請求項１６】
下記構造式で表され、名称：(7R)-2-クロロ-7-エチル-8-イソプロピル-7,8-ジヒドロ-5H-プテリジン-6-オンを有する化合物。
【化７】
2008521861.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月12日(2008.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の一般構造：
【化１】
2008521811.tif 000001
（式中、
各Ｒ2が、電子供与基、電子求引基および電子中性基からなる群から独立して選択され、
Ｒ3が、置換および非置換の芳香族複素環ならびに置換および非置換の複素環からなる群から選択され、前記環が、Ｒ3の環内の窒素原子を介してトリアジン基に結合し、そして
Ｍ＋が、貴金属カチオンまたは遷移金属カチオンである）
の１つによって表される化合物およびそれらの双性イオン。
【請求項２】
以下の構造：
【化２】
2008521811.tif 000002
によって表される請求項１に記載の化合物およびそれらの双性イオン。
【請求項３】
（ａ）請求項１に記載の化合物を含む溶液を基材の表面に適用する工程と、（ｂ）該金属を還元する工程とを含む、配向金属性ナノ構造の生成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月21日(2008.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５２】
無水ＴＨＦ（３０ｍＬ）中、ｔｅｒｔ−ブチル−１Ｈ−スピロ［イソキノリン−４，４’−ピペリジン］−２（３Ｈ）−カルボキシレート塩酸塩 ９ａ（２．０ｇ、５．９ｍｍｏｌ）、１−カルボエトキシ−４−ピペリドン（１．３５ｇ、８．９ｍｍｏｌ）およびチタンテトライソプロポキシド（３．５ｍＬ、１１．７ｍｍｏｌ）の懸濁液を、室温で１時間撹拌した。ポリ（メチルヒドロシロキサン）（ＰＨＭＳ、１．１ｇ、１８．３ｍｍｏｌ）を添加し、反応物を室温で４日間撹拌した。ＭｅＯＨ（５ｍＬ）を添加し、反応物を室温で１時間撹拌した。溶媒を真空除去し、粗生成物をＣＨ２Ｃｌ２中に再溶解し、セライト上に吸着させ、シリカゲルクロマトグラフィーにより、２％ＮＨ４ＯＨを含むＣＨ２Ｃｌ２中３−１０％ＭｅＯＨで溶出して精製し、ｔｅｒｔ−ブチル １’−（１−（エトキシカルボニル）ピペリジン−４−イル）−１Ｈ−スピロ［イソキノリン−４，４’−ピペリジン］−１−イル）−２（３Ｈ）−カルボキシレート ９ｂを黄色固体として得た（１．５５ｇ、５８％収率）。LC-MS m/z [M＋H]＋ 458.31、保持時間２．２６分（１０−９０％ＣＨ３ＣＮ−Ｈ２Ｏ勾配、０．０５％ＴＦＡ含有、５分）。