Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月13日(2011.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の領域を囲む曲線により形成された曲線図形と、
前記曲線図形に囲まれた領域内に交点を形成する少なくとも２本の直線からなる直線図形と、が同一平面状に形成され、
前記直線図形を形成する直線は、車載カメラの視野の水平面及び当該水平面に垂直な垂直面に対して角度を設けてあり、
前記曲線図形を形成する曲線と、前記直線図形を形成する直線と、により区切られる領域が、チェック模様で彩色されてある車載カメラの校正に用いられる校正指標。
【請求項２】
前記曲線図形及び前記直線図形が、他の輪郭を有する図形で囲まれている請求項１に記載の車載カメラの校正に用いられる校正指標。
【請求項３】
前記２本の直線が、前記水平面及び前記垂直面に対して略４５度の角度を有し、互いに直交して形成されてある請求項１又は２に記載の車載カメラの校正に用いられる校正指標。
【請求項４】
請求項１に記載の校正指標を車載カメラで撮像する撮像工程と、
前記撮像工程で得られた前記校正指標を含む撮像画像から前記交点を検出し、検出した前記交点を校正点として設定する校正点設定工程と、
を備える車載カメラの校正方法。
【請求項５】
請求項１に記載の校正指標を車載カメラで撮像した画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部で取得された前記校正指標を含む撮像画像から前記交点を検出する校正点特定部と、
を備える車載カメラの校正を行う校正装置。
【請求項６】
前記車載カメラと対向し、夫々が離間して一対で配設される請求項１から３のいずれか一項に記載の車載カメラの校正に用いられる校正指標を、当該車載カメラで撮像する撮像工程と、
前記撮像工程で得られた前記校正指標を含む撮像画像から前記交点を検出し、検出した前記交点を校正点として設定する校正点設定工程と、
前記一対の校正指標から設定された一対の校正点に対応し、前記車載カメラの搭載位置に応じて予め設定される一対の設定点と、前記撮像画像に含まれる前記一対の校正点とに基づいて前記車載カメラを車両に搭載した際に含まれる光軸のずれを補正する補正カメラパラメータを演算する補正カメラパラメータ演算工程と、
を備える車載カメラの校正方法。
【請求項７】
車載カメラの校正を行う校正装置のためのプログラムであって、
前記車載カメラと対向し、夫々が離間して配設される一対の校正指標を、当該車載カメラで撮像する撮像機能と、
前記撮像機能で得られた前記校正指標を含む撮像画像から前記校正指標に含まれる交点を検出し、検出した前記交点を校正点として設定する校正点設定機能と、
前記一対の校正指標から設定された一対の校正点に対応し、前記車載カメラの搭載位置に応じて予め設定される一対の設定点と、前記撮像画像に含まれる前記一対の校正点とに基づいて前記車載カメラを車両に搭載した際に含まれる光軸のずれを補正する補正カメラパラメータを演算する補正カメラパラメータ演算機能と、
をコンピュータに実行させる校正装置のためのプログラム。
【請求項８】
前記車載カメラと対向し、夫々が離間して配設される一対の請求項１から３のいずれか一項に記載の車載カメラの校正に用いられる校正指標を、当該車載カメラで撮像する撮像工程と、
前記撮像工程で得られた撮像画像を受け取って記憶部に記憶する画像受け取り工程と、
前記記憶部に記憶された撮像画像に含まれるエッジを検出するエッジ検出工程と、
前記検出されたエッジに基づいて前記曲線図形を検出する曲線図形検出工程と、
前記直線図形を検出する直線図形検出工程と、
前記検出された直線図形の交点を検出し、当該交点と前記曲線図形とに基づいて、当該交点を前記車載カメラの校正に用いられる校正点として設定する校正点設定工程と、
前記一対の校正指標から設定された一対の校正点に対応し、前記車載カメラの搭載位置に応じて予め設定される一対の設定点と、前記撮像画像に含まれる前記一対の校正点とに基づいて前記車載カメラを車両に搭載した際に含まれる光軸のずれを補正する補正カメラパラメータを演算する補正カメラパラメータ演算工程と、
を備える車載カメラの校正方法。
【請求項９】
車載カメラの校正を行う校正装置のためのプログラムであって、
前記車載カメラと対向し、夫々が離間して配設される一対の校正指標を、当該車載カメラで撮像する撮像機能と、
前記撮像機能で得られた撮像画像を受け取って記憶部に記憶する画像受け取り機能と、
前記記憶部に記憶された撮像画像に含まれるエッジを検出するエッジ検出機能と、
前記検出されたエッジに基づいて曲線図形を検出する曲線図形検出機能と、
直線図形を検出する直線図形検出機能と、
前記検出された直線図形の交点を検出し、当該交点と前記曲線図形とに基づいて、当該交点を前記車載カメラの校正に用いられる校正点として設定する校正点設定機能と、
前記一対の校正指標から設定された一対の校正点に対応し、前記車載カメラの搭載位置に応じて予め設定される一対の設定点と、前記撮像画像に含まれる前記一対の校正点とに基づいて前記車載カメラを車両に搭載した際に含まれる光軸のずれを補正する補正カメラパラメータを演算する補正カメラパラメータ演算機能と、
をコンピュータに実行させる校正装置のためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月2日(2011.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明のビルベリー類由来の非吸着画分を用いて乳酸菌を培養する場合、その条件は特に制限されず、種々の状況を考慮して培養条件を決定すればよい。例えば、本発明のビルベリー類由来の非吸着画分を乳酸菌を培養する培地に添加して、その培地中で乳酸菌を培養することができる。乳酸菌培養に用いる培地は特に限定されず、合成培地であってもよいし、食品素材であってもよく、合成培地は食品製造に用いられるものであれば何でもよく、食品素材としては牛乳、乳清などの乳を原料とする素材や、トマトなどの野菜の絞り汁、豆乳、麦汁、などの穀物の絞り汁などを用いることができる。ビルベリー類由来の非吸着画分の添加態様も特に制限されず、培養開始前に培地に添加してもよく、培養と並行してビルベリー類由来の非吸着画分を培地に添加してもよい。また、乳酸菌の培養状況をモニターし、その結果をフィードバックしてビルベリー類由来の非吸着画分を培地に添加してもよい。ビルベリー類由来の非吸着画分の添加量としては、ブリックス（Brix）１０．０のエキスの場合、培養液に対して、好ましくは０．１〜２０重量％程度、より好ましくは０．５〜１５重量％程度、さらに好ましくは１〜１０重量％程度である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月25日(2011.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
ここで、本発明における茶樹は、ツバキ科（Theoideae）に属する茶樹であり、ツバキ属（Camellia）の茶樹が好ましい。より具体的には、Camellia sinensisの茶樹が好ましく、例えば、Camellia sinensis var. assamicaやCamellia sinensisvar. sinensisなどが挙げられる。本発明の茶殻の原料としては、いわゆる不発酵茶、半発酵茶、発酵茶、それらの混合物のいずれも使用することができ、例えば、不発酵茶としては緑茶が挙げられ、具体的には蒸し茶、煎茶、玉露、抹茶、番茶、釜炒り茶、中国緑茶など、半発酵茶としては白茶（弱発酵茶）、黄茶（弱後発酵茶）、ウーロン茶などの青茶、発酵茶としては紅茶、プーアル茶などが挙げられる。中でも、乳酸菌培地に添加した際の香味等への影響が少ない点で、ウーロン茶の茶殻が最も好ましい。本発明は原料として茶殻を用いるため、廃棄物削減や経済性などの点において特に有利である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記のプロテアーゼとは、タンパク質、ペプチドに作用してペプチド結合の加水分解を触媒する酵素である。プロテアーゼは、タンパク質、ペプチドに作用して低分子ペプチドを生成するエンドペプチダーゼ（プロテイナーゼ）と、ペプチドに作用してアミノ酸を生成するエキソペプチダーゼ（ペプチダーゼ）の２種類に大別される。これらいずれのプロテアーゼを用いてもよいが、特にアミノ酸を生成しうるエキソペプチダーゼが好適である。このようなプロテアーゼは食品で利用可能なものであればその由来や、精製度等に限定されることなく用いることができ、作用至適ｐＨ等を考慮して選択すればよい。市販されているプロテアーゼとしては、オリエンターゼ２２ＢＦ、９０Ｎ、ＯＮＳ、２０Ａ、ヌクレイシン、（エイチビィアイ株式会社）、パンチダーゼＮＰ−２、パパインソルブル、プロテアーゼＹＰ−ＳＳ（ヤクルト薬品工業株式会社）、デナチームＡＰ、デナプシン、食品用精製パパイン（ナガセケムテック株式会社）、プロテアーゼＭ「アマノ」、Ａ「アマノ」Ｇ、Ｐ「アマノ」３Ｇ、Ｎ「アマノ」、グルタミナーゼＦ「アマノ」１００、ニューラーゼＦ、パンクレアチンＦ、パパインＷ−４０、プロメラインＦ（天野エンザイム株式会社）等が例示できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月26日(2011.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図１１はＤ型フリップフロップの具体的回路構成の第２例を示す回路図である。なお、図１１に示す回路は２ビットのマスタ−スレイブ型のＤ型フリップフロップである。
図１１において、インバータ回路９０４、９０２、及びクロックドゲートインバータ回路９０１、９０３から構成されているマスタ部の１ビットのＤ型フリップフロップと、インバータ回路１１０２、及びクロックドゲートインバータ回路１１０１、１１０３から構成されているスレイブ部の１ビットのＤ型フリップフロップと、からなっている。図１１のマスタ部のインバータ回路９０４、９０２、及びクロックドゲートインバータ回路９０１、９０３から構成は、図９のインバータ回路９０４、９０２、及びクロックドゲートインバータ回路９０１、９０３とまったく同じ構成であり、対応する素子の各番号も同一である。したがって、前記したマスタ部は１ビットのＤ型フリップフロップとしての機能を有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
また、図１１のスレイブ部のインバータ回路１１０２、及びクロックドゲートインバータ回路１１０１、１１０３の構成は、図１１のマスタ部のインバータ回路９０２、及びクロックドゲートインバータ回路９０１、９０３とまったく同じ構成であり、各番号の下一桁がそれぞれ順に対応している。したがって、インバータ９０４の入力信号と出力信号が供給されれば、図１１のインバータ回路１１０２、及びクロックドゲートインバータ回路１１０１、１１０３からなるスレイブ部も１ビットのＤ型フリップフロップとしての機能を有している。
ただし、クロックドゲートインバータ回路１１０１、１１０３に供給されるクロック信号ＣＬとその反転信号は、マスタ部のインバータ回路９０４の入力信号と出力信号を共用しており、クロックドゲートインバータ回路９０１、９０３に供給されるクロック信号ＣＬとその反転信号とはそれぞれ逆の位相関係となっている。また、マスタ部の出力部であるインバータ９０２の出力端子Ｍは、スレイブ部の入力端子であるクロックドゲートインバータ回路１１０１に入力端子に接続されている。なお、スレイブ部の入力端子に入力したマスタ部の出力端子Ｍはスレイブ部の１ビットのＤ型フリップフロップを経て、インバータ回路１１０２の出力信号にスレイブ部の出力信号Ｑとして出力されている。
したがって、図１１におけるマスタ部の１ビットのＤ型フリップフロップとスレイブ部の１ビットのＤ型フリップフロップとでは合体され、かつ動作の位相が反転しているので、２ビットのマスタ−スレイブ型のＤ型フリップフロップとして動作する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月2日(2011.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工対象上に第１のマスク層を形成し、
閉ループ構造の第１のパターンを有するテンプレートを、インプリント材を介して前記第１のマスク層上に押し付けて、前記インプリント材を固化させてインプリントを行い、
固化した前記インプリント材をマスクとして、前記第１のマスク層をエッチングして、閉ループ構造を有する第２のパターンを含む第１のマスクを形成し、
第１の加工パターンを前記第１のマスク上に形成し、
前記第１の加工パターンを用いて、前記第１のマスクの前記第２のパターンの一部を除去する閉ループ構造の除去を行って第２のマスクを形成し、
前記一部が除去された前記第２のパターンを含む前記第２のマスクを用いて、前記加工対象をエッチングすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記テンプレートは、閉ループ構造の前記第１のパターンと、閉ループ構造を有さない第３のパターンと、を有することを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記閉ループ構造の除去は、他の処理と同時に行われることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１のパターンは、フローティングゲート構造を有するメモリセルからなるＮＡＮＤ型フラッシュメモリのワード線形成用のパターンであり、
前記閉ループ構造の除去は、前記メモリセルのフローティングゲート電極に、所定形状の開口を形成して抵抗素子またはキャパシタンス素子を形成する処理と同時に行うことを特徴とする請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１のマスク層を形成する前に、前記加工対象上に、第２のマスク層を形成し、
前記インプリントでは、閉ループ構造の前記第１のパターンのみが形成された前記テンプレートを使用し、
前記第１のマスク形成後で前記加工対象のエッチングの前に、前記第１のマスクが形成された前記第２のマスク層上に第２の加工パターンを形成し、前記第１のマスクと前記第２の加工パターンを用いて前記第２のマスク層をエッチングして前記第２のマスクを形成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２の加工パターンは、フォトリソグラフィ技術によって形成されることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１のパターンは、隣接する一対のライン部を形成するパターンの端部間が接続された閉ループ構造であり、
前記閉ループ構造の除去は、前記第１のパターンによって形成された前記第２のパターンのラインの端部を除去することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
インプリントリソグラフィで使用されるテンプレートにおいて、
デバイスパターン形成用の閉ループ構造の第１のパターンを有することを特徴とするテンプレート。
【請求項９】
デバイスパターン形成用パターンとして閉ループ構造の前記第１のパターンのみが形成されていることを特徴とする請求項８に記載のテンプレート。
【請求項１０】
閉ループ構造の前記第１のパターンは、当該テンプレート上の所定の領域に形成され、他の領域に閉ループ構造を有さないパターンをさらに有することを特徴とする請求項８に記載のテンプレート。
【請求項１１】
テンプレート基板上にマスク層を形成し、
前記マスク層上の芯材となる位置に加工パターンを形成し、
前記加工パターンをマスクとして、前記マスク層をエッチングして芯材を形成し、
前記芯材に側壁パターンを形成し、
少なくとも閉ループ構造の前記第１のパターンを形成する領域の前記芯材を除去し、
前記第１のパターンを用いて前記テンプレート基板をエッチングすることによって得られたテンプレートであるか、または、前記形成されたテンプレートを親テンプレートとして用いたインプリントリソグラフィによって作製されたテンプレートであることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１つに記載のテンプレート。
【請求項１２】
テンプレート基板上に第１のマスク層と第２のマスク層を順に形成し、
前記第２のマスク層上の芯材となる位置に第１の加工パターンを形成し、
前記第１の加工パターンを用いて、前記第２のマスク層をエッチングして芯材を形成し、
前記芯材に側壁パターンを形成し、
少なくとも閉ループ構造の前記第１のパターンを形成する領域の前記芯材を除去し、
前記第１のパターンを用いて前記第１のマスク層をエッチングしてマスクを形成し、
前記マスクを用いて、前記テンプレート基板をエッチングすることによって得られたテンプレートであるか、または、前記形成されたテンプレートを親テンプレートとして用いたインプリントリソグラフィにより作製されたテンプレートであることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１つに記載のテンプレート。
【請求項１３】
前記芯材の除去では、前記テンプレート基板上のすべての芯材を除去することを特徴とする請求項１１または１２に記載のテンプレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法およびテンプレート
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本願発明の一態様によれば、加工対象上に第１のマスク層を形成し、閉ループ構造の第１のパターンを有するテンプレートを、インプリント材を介して前記第１のマスク層上に押し付けて、前記インプリント材を固化させてインプリントを行い、固化した前記インプリント材をマスクとして、前記第１のマスク層をエッチングして、閉ループ構造を有する第２のパターンを含む第１のマスクを形成し、第１の加工パターンを前記第１のマスク上に形成し、前記第１の加工パターンを用いて、前記第１のマスクの前記第２のパターンの一部を除去する閉ループ構造の除去を行って第２のマスクを形成し、前記一部が除去された前記第２のパターンを含む前記第２のマスクを用いて、前記加工対象をエッチングすることを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本願発明の一態様によれば、インプリントリソグラフィで使用されるテンプレートにおいて、デバイスパターン形成用の閉ループ構造の第１のパターンを有することを特徴とするテンプレートが提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月7日(2011.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放送波を受信して当該放送波に応じた映像情報を送信する外部機器から前記映像情報を受信する映像表示装置であって、
前記放送波を受信する受信手段と、
自装置外部からの操作入力を受ける受付手段と、
前記操作入力に応じてチャンネルを選択する選択手段と、
前記外部機器と通信し、前記外部機器から映像情報を取得する通信手段と、
前記選択手段により選択されたチャンネルに応じて、前記受信手段が受信した放送波に基づいた映像と、前記通信手段が取得した映像情報に基づいた映像とのうち一方の映像を表示する表示手段と
を備える映像表示装置。
【請求項２】
前記受信手段が受信した放送波を前記映像表示装置が表示可能な形式の映像情報に変換する変換手段を更に備え、
前記表示手段は、前記変換手段が前記選択されたチャンネルの放送波を前記映像情報に変換できない場合、前記通信手段が取得した映像情報に基づいた映像を表示する、請求項１記載の映像表示装置。
【請求項３】
受信する放送波の映像を表示する映像表示装置であって、
いずれの放送波の映像を表示するかを示す表示指示を入力するための入力手段と、
前記放送波を受信し表示可能な映像情報として前記映像表示装置に送信する外部機器と通信可能な複数のインターフェースと、
複数の前記インターフェースのそれぞれと、該インターフェースに接続されるそれぞれの前記外部機器が前記映像表示装置に対して送信可能な放送波とが対応付けられた対応情報を記憶する記憶手段と、
前記入力手段によって入力された表示指示に対応する放送波が、前記記憶手段に記憶されている前記放送波と一致するとき、該放送波と対応付けられた前記インターフェースを介して受信した、該インターフェースに接続された前記外部機器が送信する該放送波の映像情報を表示する受信表示手段と
を有することを特徴とする映像表示装置
【請求項４】
前記外部機器が前記映像情報として送信可能な放送波の放送波情報を、該外部機器より取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得した放送波情報に基づいて前記対応情報を作成する作成手段とをさらに有することを特徴とする請求項３記載の映像表示装置。
【請求項５】
前記受信表示手段は、
前記記憶手段に記憶されている前記対応情報に基づいて、前記映像情報を受信する受信先の前記インターフェースから受信可能となるように設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定される前記インターフェースに接続された前記外部機器に対して、前記放送波の前記映像情報を前記表示装置に対し送信させるコマンドを送信するコマンド送信手段と、
前記外部機器より送信される前記映像情報を受信する受信手段と、
前記受信手段によって受信した前記映像情報の表示を行う表示手段と
から構成されることを特徴とする請求項３または請求項４記載の映像表示装置。
【請求項６】
所定の前記外部機器より前記映像情報の受信を行っているとき、該外部機器より映像情報の送信を中断する旨の通知を受信すると、
前記設定手段は、
前記記憶手段に記憶された前記対応情報に基づいて前記所定の外部機器が接続されたインターフェース以外のインターフェースを前記放送波の映像情報の受信先として使用すること
を特徴とする請求項５記載の映像表示装置。
【請求項７】
受信する放送波の映像を表示する映像表示装置と、放送波を受信可能な複数の映像受信装置とを具備する映像表示システムであって、
前記映像表示装置は、
いずれの放送波の映像を表示するかを示す表示指示を入力するための入力手段と、
前記複数の映像受信装置と通信可能に接続されている第１のインターフェースと、
前記第１のインターフェースと、前記第１のインターフェースに接続されるそれぞれの前記映像受信装置の、該映像表示装置で表示可能な映像情報として該映像表示装置に送信可能な放送波とが対応付けられた対応情報を記憶する記憶手段と、
前記入力手段に表示指示をされる放送波が、前記記憶手段に記憶されている放送波と一致するとき、前記対応情報で前記放送波に対応付けられている映像受信装置に、前記映像情報を前記映像表示装置に対して送信するように、映像送信コマンドを送信する第１のコマンド送信手段とを有し
前記映像受信装置は
前記映像表示装置と通信可能に接続されている第２のインターフェースと、
前記第２のインターフェースを介して前記映像表示装置から前記映像送信コマンドを受信すると、該映像表示装置に対して前記映像情報を送信する送信手段を有し、
前記映像表示手段は、
前記映像受信手段から送信される前記映像情報を受信する受信手段と、
前記受信手段によって受信する前記映像情報を表示する表示手段をさらに有する
ことを特徴とする映像表示システム。
【請求項８】
前記映像表示装置は、
前記映像表示装置に対して表示可能な映像情報として送信できる放送波の情報である送信可能情報を、該映像表示装置に送信するように、前記映像受信装置に情報送信コマンドを送信する第２のコマンド送信手段をさらに有し、
前記映像受信装置は、
前記映像表示装置より前記情報送信コマンドを受信すると、前記送信可能情報を前記映像表示装置に対して送信する第１の情報送信手段をさらに有し、
前記映像表示装置の前記記憶手段は、
前記映像受信装置より前記送信可能情報を受信すると、前記映像受信装置が接続されている前記第１のインターフェースと、前記送信可能情報の前記放送波とを対応付けて、前記対応情報として記憶すること
を特徴とする請求項７記載の映像表示システム。
【請求項９】
前記映像受信装置は、
前記映像表示装置に対する前記映像情報の送信中に、前記映像情報の送信を中断するとき、該映像表示装置に対して該映像情の送信を中断する旨の通知を送信する通知手段をさらに有し、
前記映像表示装置の前記第１のコマンド送信手段は、
前記通知を受信すると、前記対応情報によって前記前記放送波と対応付けられており、前記通知を送ってきた前記映像受信装置以外の映像受信装置に前記映像送信コマンドを送信する
ことを特徴とする請求項８記載の映像表示システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月21日(2011.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切断予定ラインに沿って切断するための半導体基板であって、
割れの起点となる改質領域が内部に形成されており、
前記改質領域は、
前記切断予定ラインに沿って形成された溶融処理領域と、
厚さ方向において前記溶融処理領域の一方の側に、前記切断予定ラインに沿って相互に離隔するように形成された複数の微小空洞と、からなる、半導体基板。
【請求項２】
前記厚さ方向において、前記溶融処理領域と前記微小空洞との間には、所定の間隔が空いている、請求項１に記載の半導体基板。
【請求項３】
前記溶融処理領域は、前記切断予定ラインに沿って連続的に形成されており、
前記微小空洞は、前記切断予定ラインに沿ってところどころに形成されている、請求項１又は２に記載の半導体基板。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の半導体基板を準備する工程と、
前記改質領域を起点として前記割れを発生させ、前記切断予定ラインに沿って前記半導体基板を切断する工程と、を備える、半導体基板の切断方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体基板及びその切断方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、半導体基板及びその切断方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで本発明では、容易に切断できる半導体基板及びその切断方法を提供することを課題とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の半導体基板は、切断予定ラインに沿って切断するための半導体基板であって、割れの起点となる改質領域が内部に形成されており、改質領域は、切断予定ラインに沿って形成された溶融処理領域と、厚さ方向において溶融処理領域の一方の側に、切断予定ラインに沿って相互に離隔するように形成された複数の微小空洞と、からなる。ここで、厚さ方向において、溶融処理領域と微小空洞との間には、所定の間隔が空いていることが好ましい。また、溶融処理領域は、切断予定ラインに沿って連続的に形成されており、微小空洞は、切断予定ラインに沿ってところどころに形成されていることが好ましい。また、本発明の半導体基板の切断方法は、前述した半導体基板を準備する工程と、改質領域を起点として割れを発生させ、切断予定ラインに沿って半導体基板を切断する工程と、を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この半導体基板及びその切断方法によれば、溶融処理領域と微小空洞とからなる改質領域を起点として割れを発生させ、切断予定ラインに沿って半導体基板を容易に切断できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、容易に切断できる半導体基板及びその切断方法を提供することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月23日(2011.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の基板を並列に保持した基板保持具を先端面が外側に湾曲している反応管内に一端側の開口部から搬入し、前記反応管内を減圧した後に処理ガスを供給して、加熱雰囲気下において前記基板に対して熱処理を行う熱処理装置において、
前記反応管内を下方側から真空排気するための真空排気手段と、
前記反応管を囲むように設けられた加熱手段と、
前記反応管の先端面と基板保持具の収納領域との間の空間に設けられ、前記空間を埋めるための構造体と、
前記反応管の側壁外面に沿って当該反応管の下部から前記構造体よりも上方側まで形成されたガス供給ダクトと、
前記ガス供給ダクト内に連通し、当該ガス供給ダクト内を上昇した処理ガスを前記反応管内に供給するために、前記反応管における前記構造体よりも上方側の部位に開口するガス吐出口と、
前記ガス供給ダクトの下部に処理ガスを供給するためのガス供給部と、
を備え、
前記ガス供給ダクトにおける反応管側の壁部は、当該反応管の壁部により構成されていることを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】
多数の基板を並列に保持した基板保持具を先端面が外側に湾曲している反応管内に一端側の開口部から搬入し、前記反応管内を減圧した後に処理ガスを供給して、加熱雰囲気下において前記基板に対して熱処理を行う熱処理方法において、
前記反応管内に多数の前記基板を保持した前記基板保持具を搬入する工程と、
前記反応管内を下方側から真空排気する工程と、
前記反応管の外側にて当該反応管の下部から反応管の上部まで伸びるように形成されたガス供給ダクト内に、当該ガス供給ダクトの下部から処理ガスを供給する工程と、
前記ガス供給ダクト内を上昇した処理ガスを、前記反応管の先端面と基板保持具の収納領域との間の空間を埋めるために設けられた構造体の上部側に開口するガス供給口を介して反応管内に供給する工程と、
前記反応管を囲むように設けられた加熱手段により、前記基板を加熱して熱処理を行う工程と、を含み、
前記ガス供給ダクトにおける反応管側の壁部は、当該反応管の壁部により構成されていることを特徴とする熱処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の熱処理装置は、多数の基板を並列に保持した基板保持具を先端面が外側に湾曲している反応管内に一端側の開口部から搬入し、前記反応管内を減圧した後に処理ガスを供給して、加熱雰囲気下において前記基板に対して熱処理を行う熱処理装置において、
前記反応管内を下方側から真空排気するための真空排気手段と、
前記反応管を囲むように設けられた加熱手段と、
前記反応管の先端面と基板保持具の収納領域との間の空間に設けられ、前記空間を埋めるための構造体と、
前記反応管の側壁外面に沿って当該反応管の下部から前記構造体よりも上方側まで形成されたガス供給ダクトと、
前記ガス供給ダクト内に連通し、当該ガス供給ダクト内を上昇した処理ガスを前記反応管内に供給するために、前記反応管における前記構造体よりも上方側の部位に開口するガス吐出口と、
前記ガス供給ダクトの下部に処理ガスを供給するためのガス供給部と、
を備え、
前記ガス供給ダクトにおける反応管側の壁部は、当該反応管の壁部により構成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の熱処理方法は、多数の基板を並列に保持した基板保持具を先端面が外側に湾曲している反応管内に一端側の開口部から搬入し、前記反応管内を減圧した後に処理ガスを供給して、加熱雰囲気下において前記基板に対して熱処理を行う熱処理方法において、
前記反応管内に多数の前記基板を保持した前記基板保持具を搬入する工程と、
前記反応管内を下方側から真空排気する工程と、
前記反応管の外側にて当該反応管の下部から反応管の上部まで伸びるように形成されたガス供給ダクト内に、当該ガス供給ダクトの下部から処理ガスを供給する工程と、
前記ガス供給ダクト内を上昇した処理ガスを、前記反応管の先端面と基板保持具の収納領域との間の空間を埋めるために設けられた構造体の上部側に開口するガス供給口を介して反応管内に供給する工程と、
前記反応管を囲むように設けられた加熱手段により、前記基板を加熱して熱処理を行う工程と、を含み、
前記ガス供給ダクトにおける反応管側の壁部は、当該反応管の壁部により構成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月24日(2010.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
オリゴマー化反応は、これらを蒸留装置および攪拌機を有する反応器内に仕込み、約60℃で約1時間攪拌する。その後、酸、例えばギ酸や酢酸をアミノ基含有アルコキシシラン1モルに対し約1〜2モルを1時間以内に添加する。この際の温度は約40〜65℃に保たれる。さらに1〜5時間攪拌し、反応を進行させると同時に、加水分解によって生成したアルコールを減圧下で留去する。留去物が水しか存在しなくなった時点で留去操作を終了させ、その後シラン濃度が30〜80重量％になるように希釈して調節することにより、目的とする共重合オリゴマーが得られる。この共重合オリゴマーは、メタノール、エタノール等のアルコール系有機溶媒に可溶な程度のオリゴマーである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
これらのシラン系下塗り剤中には、有機金属化合物がさらに添加して用いられる。有機金属化合物としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)等の有機アルミニウム化合物、イソプロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、1,3−プロパンジオキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(アセチルアセトネート)、チタンテトラアセチルアセトネート等の有機チタン化合物、ジn−ブトキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジn−ブトキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)等の有機ジルコニウム化合物が例示される。これらの有機金属化合物、特にエチルアセトアセテートまたはアセチルアセトネート基を有する有機金属化合物は、これの高配合時での上塗り剤やゴムとの間にみられる相溶性の低下や接着性の低下を改善させる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月15日(2011.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソリッドインク移送システムであって、
ソリッドインクスティックを装填領域から搬送する移動支持部材を有するソリッドインクスティック装填装置と、
前記移動支持部材から受け取ったソリッドインクスティックと係合し、このソリッドインクスティックをインク溶融装置に送る移動把持装置を有するソリッドインクスティック供給装置と、
を備え、
前記移動把持装置はさらに、
前記ソリッドインクスティックを移動し、前記ソリッドインクスティックの第１面に圧力をかけるように構成される第１移動部材と、
前記ソリッドインクスティックが前記第１移動部材によって移動される際に、前記ソリッドインクスティックを移動し、前記ソリッドインクスティックの第２面に圧力をかけるように構成される第２移動部材と、
を有し、
前記ソリッドインクスティックの前記第１面と前記第２面とに圧力をかけて、前記ソリッドインクスティックが前記第１移動部材と前記第２移動部材との間で把持される、
ソリッドインク移送システム。
【請求項２】
請求項１に記載のソリッドインク移送システムであって、前記移動支持部材が、前記装填領域から搬送される前記ソリッドインクスティックの底部領域を支持する移動ベルトを備える、ソリッドインク移送システム。
【請求項３】
相転移インクプリンタであって、
接触するソリッドインクスティックを溶融するように動作可能な溶融プレートと、
ソリッドインク移送システムと、
を備え、
前記ソリッドインク移送システムは、
前記ソリッドインクスティックを装填領域から搬送する移動支持部材を有するソリッドインクスティック装填機構と、
前記移動支持部材から受け取ったソリッドインクスティックと係合し、このソリッドインクスティックをインク溶融装置に送る移動把持装置を有するソリッドインクスティック供給機構と、
を備え、
前記ソリッドインク供給機構は、第１移動ベルトと第２移動ベルトとを有し、前記第１移動ベルトは前記ソリッドインクスティックの第１面に圧力をかけるように配置され、前記第２移動ベルトは前記ソリッドインクスティックの第２面に圧力をかけるように配置される、
相転移インクプリンタ。
【請求項４】
ソリッドインクスティックであって、
長手方向の長さを有するソリッドインクスティック本体と、
前記ソリッドインクスティック本体の、前記長手方向に平行に延びる面の少なくとも１つに設けられた少なくとも１つのキーと、
前記ソリッドインクスティック本体の第１の側面の第１の角付近に位置する第１の駆動係合構造と、
前記ソリッドインクスティック本体の前記第１の側面と対向する第２の側面の第２の角付近に位置する第２の駆動係合構造と、
を備え、
前記第１および前記第２の駆動係合構造は、互いに平行であり、実質的に前記ソリッドインクスティック本体の前記長手方向に延びており、前記キーとは独立している、
ソリッドインクスティック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
相転移インク画像生成装置のソリッドインク移送システムは、ソリッドインクスティック装填装置とソリッドインクスティック供給装置とを備え、これら２つの装置が協働してソリッドインクスティックをインク溶融装置に送る。また、このソリッドインク移送システムは、ソリッドインクスティックを装填領域から運ぶための移動支持部材を有するソリッドインクスティック装填装置と、ソリッドインクスティックの移動支持部材から受け取ったソリッドインクスティックと係合する移動把持装置を有するソリッドインクスティック供給装置と、を備える。移動把持装置は、インクスティックがインク溶融装置に送られて液体インクに変換される際に、ソリッドインクスティックと係合した状態を維持する。前記移動把持装置はさらに、前記ソリッドインクスティックを移動し、前記ソリッドインクスティックの第１面に圧力をかけるように構成される第１移動部材と、前記ソリッドインクスティックが前記第１移動部材によって移動される際に、前記ソリッドインクスティックを移動し、前記ソリッドインクスティックの第２面に圧力をかけるように構成される第２移動部材と、を有する。前記ソリッドインクスティックの前記第１面と前記第２面とに圧力をかけて、前記ソリッドインクスティックが前記第１移動部材と前記第２移動部材との間で把持される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
インク移送システムを相転移インクプリンタ内に組み込んで、ソリッドインクスティックを相転移インクプリンタのインク溶融装置に装填および供給することもできる。この相転移インクプリンタは、接触するソリッドインクスティックの相を変化させるように動作可能な溶融プレートと、インク移送システムとを備え、このインク移送システムは、ソリッドインクスティックを装填領域から搬送するための移動支持部材を有するソリッドインクスティック装填機構と、ソリッドインクスティック移動支持部材から受け取ったソリッドインクスティックと係合する移動把持装置を有するソリッドインクスティック供給機構とを備える。前記ソリッドインク供給機構は、第１移動ベルトと第２移動ベルトとを有し、前記第１移動ベルトは前記ソリッドインクスティックの第１面に圧力をかけるように配置され、前記第２移動ベルトは前記ソリッドインクスティックの第２面に圧力をかけるように配置される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月14日(2010.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体収容容器に形成された孔を被覆するように前記流体収容容器に貼着された孔被覆フィルムに穴を開けるために使用される穴開け治具であって、
穴開け時に前記孔被覆フィルムにおける前記孔の被覆領域内に先端が突き入れられる刃
体を備え、
該刃体の先端には前記孔被覆フィルムに片持ち状の切片を切り込み形成可能な刃部が形
成されており、
前記刃体の前記一点を中心とする回転方向の角度位置を調節可能とする調節機構を備える穴開け治具。
【請求項２】
前記刃体が先端を前記孔被覆フィルムに対して突き入れた場合に、前記流体収容容器の一部に当接することにより前記孔被覆フィルムに対する前記刃体のそれ以上の突き入れを規制する規制部を備えた請求項１に記載の穴開け治具。
【請求項３】
前記規制部は、前記孔被覆フィルムに対する前記刃体の突き入れ方向における位置取りを調節可能に設けられた変位部材により構成されている請求項２に記載の穴開け治具。
【請求項４】
前記刃体が先端を前記孔被覆フィルムに突き入れる場合に、前記流体収容容器における前記孔被覆フィルムと直交する方向に沿って延びる部分と摺接することにより、前記刃体を前記孔被覆フィルムと直交する方向にガイドするガイド部を備えた請求項１〜請求項３
のうち何れか一項に記載の穴開け治具。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月7日(2011.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
研削加工工程に応じて使い分ける第１の砥石及び第２の砥石を備え、前記各砥石の研削面と工作物との接触面に向けて研削液を供給しながら前記各砥石によって前記工作物を研削加工する研削盤において、
前記第１の砥石として、当該研削面を平滑に形成した砥石を備え、
前記第２の砥石として、当該研削面に砥石円周方向に対して傾斜した複数の傾斜溝を刻設した砥石を備え、
前記第２の砥石の研削面と前記工作物との接触面内であって、前記第２の砥石を円周上の任意の位置で砥石軸と平行に、且つ、砥石径の方向に切断したときの当該切断線上に存在する前記傾斜溝の幅の和が常に等しいことを特徴とする研削盤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１に記載の研削盤において、前記複数の傾斜溝は、所定の角度傾斜し、等間隔に、且つ、前記第２の砥石の両側面をつき抜け、一の前記傾斜溝における前記第２の砥石の一方の側面側の砥石円周方向の一部と、前記一の傾斜溝と隣接する前記傾斜溝における前記第２の砥石の他方の側面側の砥石円周方向の一部とが所定のオーバラップ量だけオーバラップするように刻設され、
前記第２の砥石によって前記工作物を研削加工する際には、当該研削面と前記工作物との接触面の砥石円周方向長さが前記オーバラップ量よりも小さくなるように、前記工作物に対する前記砥石の切込み量と、前記傾斜溝の傾斜角度及び間隔との少なくとも一方を設定して研削加工することを特徴とする研削盤。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に係る発明の構成上の特徴は、研削加工工程に応じて使い分ける第１の砥石及び第２の砥石を備え、前記各砥石の研削面と工作物との接触面に向けて研削液を供給しながら前記各砥石によって前記工作物を研削加工する研削盤において、前記第１の砥石として、当該研削面を平滑に形成した砥石を備え、前記第２の砥石として、当該研削面に砥石円周方向に対して傾斜した複数の傾斜溝を刻設した砥石を備え、前記第２の砥石の研削面と前記工作物との接触面内であって、前記第２の砥石を円周上の任意の位置で砥石軸と平行に、且つ、砥石径の方向に切断したときの当該切断線上に存在する前記傾斜溝の幅の和が常に等しいことである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３に係る発明の構成上の特徴は、請求項１に記載の研削盤において、前記複数の傾斜溝は、所定の角度傾斜し、等間隔に、且つ、前記第２の砥石の両側面をつき抜け、一の前記傾斜溝における前記第２の砥石の一方の側面側の砥石円周方向の一部と、前記一の傾斜溝と隣接する前記傾斜溝における前記第２の砥石の他方の側面側の砥石円周方向の一部とが所定のオーバラップ量だけオーバラップするように刻設され、前記第２の砥石によって前記工作物を研削加工する際には、当該研削面と前記工作物との接触面の砥石円周方向長さが前記オーバラップ量よりも小さくなるように、前記工作物に対する前記砥石の切込み量と、前記傾斜溝の傾斜角度及び間隔との少なくとも一方を設定して研削加工することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１に係る発明によれば、研削加工工程に応じて使い分ける第１の砥石及び第２の砥石を備え、各砥石の研削面と工作物との接触面に向けて研削液を供給しながら各砥石によって工作物を研削加工する研削盤において、第１の砥石として、当該研削面を平滑に形成した砥石を備え、第２の砥石として、当該研削面に傾斜溝を刻設した砥石を備えているので、以下の理由により第２の砥石による研削加工精度及び第２の砥石の砥石寿命の向上を図ることができる。
即ち、第１の砥石は、一般的な砥石であり、第２の砥石を使用した場合には寿命が短くなるような研削加工工程において使用しても寿命が極端に短くなることはない。一方、第２の砥石は、上方から供給された研削液が傾斜溝を通って上方及び下方から流出し、研削面と工作物との間に発生する研削液の動圧を開放することができる。これにより、研削液の供給量を減少させなくても、工作物が研削液の動圧よって第２の砥石から離間する方向に変位され、或いは研削液に発生する動圧が変動して工作物が第２の砥石から離間する距離が変化することがなくなり、第２の砥石による工作物の研削加工精度を高めることができる。そして、第２の砥石を使用した場合には寿命が短くなるような研削加工工程においては第１の砥石が使用されるので、第２の砥石の長寿命化を図ることができる。そして、傾斜溝による研削液に発生する動圧の低減効果は傾斜溝の幅に比例するが、第２の砥石の研削面全周にわたって傾斜溝の幅が一定となるように傾斜溝を刻設しているので研削面全周にわたって動圧低減効果も一定となり、工作物に対しむらのない研削加工が可能となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項３に係る発明によれば、第２の砥石は、一の傾斜溝における第２の砥石の一方の側面側の砥石円周方向の一部と、一の傾斜溝と隣接する傾斜溝における第２の砥石の他方の側面側の砥石円周方向の一部とが所定のオーバラップ量だけオーバラップし、接触面の砥石円周方向長さがオーバラップ量よりも小さくなるようにするので、少なくとも１本の傾斜溝が第２の砥石の研削面と工作物とが接触する接触面を上下方向に貫通し、上方から供給された研削液が傾斜溝を通って上方及び下方から流出し、研削面と工作物との間に発生する研削液の動圧を開放することができる。これにより、研削液の供給量を減少させなくても、工作物が研削液の動圧よって第２の砥石から離間する方向に変位され、或いは研削液に発生する動圧が変動して工作物が第２の砥石から離間する距離が変化することがなくなり、第２の砥石による工作物の研削加工精度を高めることができる。そして、第２の砥石を使用した場合には寿命が短くなるような研削加工工程においては第１の砥石が使用されるので、第２の砥石の長寿命化を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月7日(2011.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周に砥石層が形成されており、前記砥石層の外周面と工作物との接触面に向けて研削液を供給しながら前記工作物を研削加工する砥石において、
前記砥石層の内周面に砥石円周方向に対して所定の角度傾斜し、等間隔に複数の傾斜溝が刻設され、
前記傾斜溝と前記接触面の砥石円周方向と平行な一方の縁の延長線との交点を一方交点、他方の縁の延長線との交点を他方交点と定義した場合、一の傾斜溝の他方交点と、一の傾斜溝と隣接する傾斜溝の一方交点とが砥石円周方向において所定のオーバラップ量だけオーバラップし、
前記砥石層の摩耗により前記傾斜溝が前記砥石層の外周面に出現したとき、前記接触面の砥石円周方向長さが前記オーバラップ量よりも小さくなるように、前記工作物に対する前記砥石の切込み量と、前記傾斜溝の傾斜角度及び間隔との少なくとも一方が設定されていることを特徴とする砥石。
【請求項２】
請求項１に記載の砥石において、前記砥石層の外周面と前記工作物との接触面内であって、前記砥石層を円周上の任意の位置で砥石軸と平行に、且つ、砥石径の方向に切断したときの当該切断線上に存在する前記傾斜溝の幅の和が常に等しいことを特徴とする砥石。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の砥石において、前記砥石層の内周面側から外周面側に向かって溝幅が徐々に縮小する傾斜溝が刻設されていることを特徴とする砥石。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の砥石において、前記砥石層の内周面側からの溝深さが異なる複数の傾斜溝が刻設されていることを特徴とする砥石。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決するため、請求項１に係る発明の構成上の特徴は、外周に砥石層が形成されており、前記砥石層の外周面と工作物との接触面に向けて研削液を供給しながら前記工作物を研削加工する砥石において、
前記砥石層の内周面に砥石円周方向に対して所定の角度傾斜し、等間隔に複数の傾斜溝が刻設され、
前記傾斜溝と前記接触面の砥石円周方向と平行な一方の縁の延長線との交点を一方交点、他方の縁の延長線との交点を他方交点と定義した場合、一の傾斜溝の他方交点と、一の傾斜溝と隣接する傾斜溝の一方交点とが砥石円周方向において所定のオーバラップ量だけオーバラップし、
前記砥石層の摩耗により前記傾斜溝が前記砥石層の外周面に出現したとき、前記接触面の砥石円周方向長さが前記オーバラップ量よりも小さくなるように、前記工作物に対する前記砥石の切込み量と、前記傾斜溝の傾斜角度及び間隔との少なくとも一方が設定されていることである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に記載の発明の構成上の特徴は、請求項１に記載の砥石において、前記砥石層の外周面と前記工作物との接触面内であって、前記砥石層を円周上の任意の位置で砥石軸と平行に、且つ、砥石径の方向に切断したときの当該切断線上に存在する前記傾斜溝の幅の和が常に等しいことである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３に記載の発明の構成上の特徴は、請求項１又は２に記載の砥石において、前記砥石層の内周面側から外周面側に向かって溝幅が徐々に縮小する傾斜溝が刻設されていることである。
請求項４に記載の発明の構成上の特徴は、請求項１又は２に記載の砥石において、前記砥石層の内周面側からの溝深さが異なる複数の傾斜溝が刻設されていることである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
特に、傾斜溝と、接触面の砥石円周方向と平行な一方の縁の延長線との交点を一方交点、他方の縁の延長線との交点を他方交点と定義した場合、一の傾斜溝の他方交点と、一の傾斜溝と隣接する傾斜溝の一方交点とが砥石円周方向において所定のオーバラップ量だけオーバラップし、接触面の砥石円周方向長さがオーバラップ量よりも小さくなるようにするので、少なくとも１本の傾斜溝が砥石の研削面と工作物とが接触する接触面を上下方向に貫通し、上方から供給された研削液が傾斜溝を通って上方及び下方から流出し、研削面と工作物との間に発生する研削液の動圧を開放することができる。これにより、研削液の供給量を減少させなくても、工作物が研削液の動圧よって砥石から離間する方向に変位され、或いは研削液に発生する動圧が変動して工作物が砥石から離間する距離が変化することがなくなり、工作物の研削加工精度を高めることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項２に係る発明によれば、傾斜溝による研削液に発生する動圧の低減効果は傾斜溝の幅に比例するが、研削面全周にわたって傾斜溝の幅が一定となるように傾斜溝を刻設しているので研削面全周にわたって動圧低減効果も一定となり、工作物に対しむらのない研削加工が可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項３に係る発明によれば、砥石層の内周面側から外周面側に向かって溝幅（溝面積）が徐々に縮小する傾斜溝を刻設しているため、砥石の使用が進むに従って溝幅（溝面積）は拡大することになる。よって、砥石の使用が進むに従って目詰まりが増加しても、溝幅（溝面積）が徐々に拡大するために研削液の動圧を効果的に開放することができ、工作物の研削加工精度を高めることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項４に係る発明によれば、砥石層の内周面側からの溝深さが異なる複数の傾斜溝を刻設しているため、砥石の使用が進むに従って出現する傾斜溝の本数は増加することになる。よって、砥石の使用が進むに従って目詰まりが増加しても、傾斜溝の本数が順次増加するために研削液の動圧を効果的に開放することができ、工作物の研削加工精度を高めることができる。