【手続補正書】
【提出日】平成22年12月16日(2010.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基部の一端側から伸びる一対の振動腕とこの一対の振動腕に励振電極とを有する音叉型圧電振動片と、
前記音叉型圧電振動片の外側で前記音叉型圧電振動片を囲む外枠部と、
前記基部から前記外枠部へ伸びて前記音叉型圧電振動片を支持する支持腕と、
前記外枠部と前記音叉型圧電振動片との間の側面に形成され、前記外枠部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する鋭角部と、
を備えることを特徴とする圧電フレーム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記鋭角部は、前記外枠部の前記音叉型圧電振動片側の側面に形成される第１鋭角部を含むことを特徴とする請求項１に記載の圧電フレーム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記第１鋭角部は、前記基部から前記支持腕までの範囲の側面に対向していることを特徴とする請求項２に記載の圧電フレーム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記第１鋭角部は、前記振動腕から前記支持腕までの範囲の側面に対向していることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の圧電フレーム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記鋭角部は、前記基部の前記外枠部側の側面に形成される第２鋭角部を含むことを特徴とする請求項１に記載の圧電フレーム。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記鋭角部は、前記支持腕の前記外枠部側の側面に形成される第３鋭角部を含むことを特徴とする請求項１に記載の圧電フレーム。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記鋭角部は前記外枠部のＺ方向に斜めに形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の圧電フレーム。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記鋭角部は前記側面から突き出た突起部又は前記側面へ凹んだ凹み部であることを特徴とする請求項１に記載の圧電フレーム。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
基部の一端側から伸びる一対の振動腕を有する音叉型圧電振動片とその音叉型圧電振動子の外側で前記音叉型圧電振動片を囲む外枠部と前記基部から前記外枠部へ伸びて前記音叉型圧電振動片を支持する支持腕とを備えた圧電フレームの製造方法において、
基板にレジストを形成する工程と、
前記音叉型圧電振動片に対応する領域と、前記音叉型圧電振動片と前記外枠部との間の側面に形成され前記外枠部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する鋭角部とに対応する領域とを有するマスクで、前記基板を露光する第１露光工程と、
前記第１露光工程で露光された前記基板をエッチングするエッチング工程と、
を備えたことを特徴とする圧電フレームの製造方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記マスクは、前記鋭角部に対応するマスク領域を有する第１マスクと前記鋭角部に対応するマスク領域を有さない第２マスクとを含み、
前記第１露光工程は、前記第１マスクで前記圧電フレームの一方の主面を露光し、前記第２マスクで前記圧電フレームの他方の主面を露光することを特徴とする請求項１０に記載の圧電フレームの製造方法。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記マスクは、前記鋭角部に対応するマスク領域を有する第１マスクと前記鋭角部とは異なる大きさの領域のマスク領域を有する第２マスクとを含み、
前記第１露光工程は、前記第１マスクで前記圧電フレームの一方の主面を露光し、前記第２マスクで前記圧電フレームの他方の主面を露光することを特徴とする請求項１０に記載の圧電フレームの製造方法。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記マスクによる第１露光工程が完了後に、前記振動腕に伸びる溝部と前記鋭角部とに対応する領域とを有する溝部用マスクで、前記レジストが形成された基板を露光する第２露光工程と、
前記第２露光工程で露光された基板を途中までエッチングするハーフエッチング工程と、
を備えたことを特徴とする請求項１０ないし請求項１２のいずれか一項に記載の圧電フレームの製造方法。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記マスクは、前記外枠部の前記音叉型圧電振動片側の側面に形成され前記外枠部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する第１鋭角部に対応するマスク領域を含むことを特徴とする請求項１０ないし請求項１２のいずれか一項に記載の圧電フレームの製造方法。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記マスクは、前記基部の前記外枠部側に形成され前記基部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する第２鋭角部に対応するマスク領域を含むことを特徴とする請求項１０ないし請求項１２のいずれか一項に記載の圧電フレームの製造方法。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記マスクは、前記支持腕の前記外枠部側に形成され、前記基部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する第３鋭角部に対応するマスク領域を含むことを特徴とする請求項１０ないし請求項１２のいずれか一項に記載の圧電フレームの製造方法。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
移動体通信機器やＯＡ機器等の小型軽量化及び高周波数化に伴って、それらに用いられる圧電振動素子も、より一層の小型化への対応が求められている。また、回路基板に表面実装（ＳＭＤ：Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｍｏｕｎｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）が可能な圧電振動素子が要求されている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第１の観点の圧電フレームは、基部の一端側から伸びる一対の振動腕とこの一対の振動腕に励振電極とを有する音叉型圧電振動片と、音叉型圧電振動片の外側で音叉型圧電振動子を囲む外枠部と、基部から外枠部へ伸びて音叉型圧電振動片を支持する支持腕と、外枠部と音叉型圧電振動片との間の側面に形成され、外枠部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する鋭角部と、を備える。
上記構成によれば、外枠部と音叉型圧電振動片との間に鋭角部が形成される。この鋭角部は、電極を形成する際に圧電フレームのＺ方向から垂直に照射される露光光を反射する。このため、電極を形成する際に圧電フレームの側面に塗布されたフォトレジストに露光光が十分に照射される。このため鋭角部は側面と圧電フレーム側面との電極膜がエッチングで除去され、電極パターンがショートすることがない。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の観点の圧電フレームの鋭角部は、外枠部の音叉型圧電振動片側の側面に形成される第１鋭角部を含む。
第３の観点の圧電フレームの鋭角部は、基部の外枠部側の側面に形成される第２鋭角部を含む。
第４の観点の圧電フレームの鋭角部は、支持腕の外枠部側の側面に形成される第３鋭角部を含む。
このように複数の領域に鋭角部を設けることで、電極を形成する際に圧電フレームの側面に塗布されたフォトレジストに露光光が十分に照射され、鋭角部の側面と圧電フレーム側面との電極膜がエッチングで除去される。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第６の観点の圧電フレームの製造方法は、基部の一端側から伸びる一対の振動腕を有する音叉型圧電振動片とその音叉型圧電振動片の外側で音叉型圧電振動子を囲む外枠部と基部から外枠部へ伸びて音叉型圧電振動片を支持する支持腕とを備えた圧電フレームを製造する。この方法は、基板にレジストを形成する工程と、音叉型圧電振動片に対応する領域（範囲）と音叉型圧電振動片と外枠部との間の側面に形成され外枠部のＺ方向から観て鋭角な形状を有する鋭角部とに対応する領域（範囲）とを有するマスクで基板を露光する第１露光工程と、第１露光工程で露光された基板をエッチングするエッチング工程と、を備える。
上記構成によれば、外枠部と音叉型圧電振動片との間に鋭角部が形成される。この鋭角部は、電極を形成する際に圧電フレームのＺ方向から垂直に照射される露光光を反射する。このため、電極を形成する際に圧電フレームの側面に塗布されたフォトレジストに露光光が十分に照射される。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第７の観点の圧電フレームの製造方法は、マスクによる第１露光工程が完了後に、振動腕に伸びる溝部と鋭角部とに対応する領域（範囲）とを有する溝部用マスクで、レジストが形成された基板を露光する第２露光工程と、第２露光工程で露光された基板を途中までエッチングするハーフエッチング工程と、を備える。
第２露光工程により、複雑な鋭角部が形成される。したがって、電極を形成する際に圧電フレームの側面にＺ方向から垂直に照射される露光光を複数の方向へ反射することができる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の圧電デバイスは、複雑な工程を行うことなく、露光不足に伴い金属膜が残存することによる配線のショートが発生する圧電フレーム、圧電デバイスの不具合を解消する。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
＜第１実施形態＞
≪圧電デバイス１００の構成≫
図１（ａ）は、本発明の圧電デバイス１００の構成を示す斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面で圧電デバイス１００の分離した状態を示した概略断面図である。図１（ａ）、（ｂ）に示されるように圧電デバイス１００は、水晶単結晶ウエハに形成されたリッド１０と、水晶単結晶ウエハに形成された音叉型水晶振動片３０を備えた第１水晶フレーム２０と、水晶単結晶ウエハに形成されたベース４０との３層でパッケージ８０を形成している。図１（ａ）は、表面実装（ＳＭＤ）タイプの圧電デバイス１００をリッド１０のリッド部側から見た図である。ベース４０は、底面に第１外部電極４５及び第２外部電極４６を備えている。第１水晶フレーム２０の音叉型水晶振動片３０は、外枠部２２と支持腕２６とを形成している。第１水晶フレーム２０は、外枠部２２の両面に第１接続端子３５及び第２接続端子３６を備えている。外枠部２２は、側面に第１鋭角を有する突起部１１を備えている。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第１水晶フレーム２０は、外枠部２２の側面に外枠部２２のＺ方向から観て鋭角な形状を有する第１鋭角を有する突起部１１を備える。第１水晶フレーム２０の第１鋭角を有する突起部１１は、外枠部２２の音叉型水晶振動片３０の側の側面に形成されている。図２において、左側の第１鋭角を有する突起部１１は、基部２３から支持腕２６までの範囲に形成されている。また右側の第１鋭角を有する突起部１１は、振動腕２１から支持腕２６までの範囲に形成されている。また、第１鋭角の突起部１１は、外枠部２２のＺ方向に斜めに形成されている。外枠部２２に形成された第１鋭角を有する突起部１１は音叉型水晶振動片３０の振動周波数に影響を与えない。第１鋭角を有する突起部１１の形成の方法は、図６などを用いて後述する。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
第１水晶フレーム２０には、公知のフォトレジスト・エッチング技術を用いて外形と音叉型水晶振動片３０と、外枠部２２と、支持腕２６と溝部２７とが形成される。第１水晶フレーム２０は、外枠部２２の側面に第１鋭角を有する突起部１１を形成する。また外形を形成した第１水晶フレーム２０に対して公知のフォトレジスト・エッチング技術を用いて電極が形成される。これらの処理を経て図２に示す第１水晶フレーム２０が完成する。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
＜第２実施形態＞
≪第２水晶フレーム２０Ａの構成≫
図３は、第２実施形態の第２水晶フレーム２０Ａの上面図である。第２実施形態の第２水晶フレーム２０Ａと第１実施形態の第１水晶フレーム２０とが異なる点は、外枠部２２の側面に第１鋭角を有する凹み部が形成された点である。以下、第１実施形態と同じ部材には同じ符号を付し、第１実施形態と異なる点を説明する。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
第２水晶フレーム２０Ａは、外枠部２２のＺ方向から観て鋭角な形状を有する第１鋭角の凹み部１２を備える。第２水晶フレーム２０Ａの第１鋭角の凹み部１２は、外枠部２２の音叉型水晶振動片３０の側の側面に形成されている。図３において、左側の第１鋭角の凹み部１２は、基部２３から支持腕２６までの範囲に形成されている。また右側の第１鋭角の凹み部１２は、振動腕２１から支持腕２６までの範囲に形成されている。外枠部２２に形成された第１鋭角の凹み部１２は音叉型水晶振動片３０の振動周波数に影響を与えない。また、第１鋭角の凹み部１２は、外枠部２２のＺ方向に斜めに形成されている。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
＜第３実施形態＞
≪第３水晶フレーム２０Ｂの構成≫
図４は、第３実施形態の第３水晶フレーム２０Ｂの上面図である。第３実施形態の第３水晶フレーム２０Ｂと第１実施形態の第１水晶フレーム２０とが異なる点は、第２鋭角の突起部１３及び第３鋭角の突起部１４が形成された点である。以下、第１実施形態と同じ部材には同じ符号を付し、第１実施形態と異なる点を説明する。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図４において、左側の第２鋭角の突起部１３は基部２３の側面に形成される。基部２３に突起部１３が形成されても、音叉型水晶振動片３０の振動周波数には影響を与えない。また支持腕２６の外枠部２２側の側面である第３鋭角に突起部１４が形成されている。支持腕２６に突起部１４が形成されても、音叉型水晶振動片３０の振動周波数には影響を与えない。また、第２及び第３鋭角の突起部１３及び突起部１４は、外枠部２２のＺ方向に斜めに形成されている。なお、特に図示しないが、第２及び第３鋭角を有する突起部１３及び突起部１４ではなく、図３で説明した鋭角な形状を有する凹み部１２を設けても良い。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
≪第１水晶フレーム２０の外形形成及び溝部と突起部との形成工程≫
図５は第１水晶フレーム２０の外形形成及び溝部と突起部との形成の工程を示したフローチャートである。
ステップＳ１０２では、所定の厚みに研磨し表面変質層が除去された水晶単結晶ウエハを用意する。水晶単結晶ウエハの全面に、耐蝕膜をスパッタリングもしくは蒸着などの手法により形成する。すなわち、圧電材料としての水晶単結晶ウエハには、金（Ａｕ）や銀（Ａｇ）等を直接成膜することは困難なため、下地としてクロム（Ｃｒ）やチタン（Ｔｉ）等を使用する。つまり、この実施形態では、耐蝕膜としてクロム層の上に金層を重ねた耐蝕膜を使用する。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
ステップＳ１２４では、電極パターンと対応した不図示の電極用フォトマスクを用意して、電極パターンをフォトレジスト膜が塗布された水晶単結晶ウエハに露光する。この電極パターンは第１水晶フレーム２０の両面に露光される。第１水晶フレーム２０は、外枠部２２の側面に第１鋭角を有する突起部１１を形成し、外枠部２２のＺ方向に斜面が形成されている。また突起部１１は鋭角であるため、ステップＳ１１０のエッチングの際に水晶のエッチング異方性のため複雑な形状になる。このため、水晶単結晶ウエハの第１主面及び第２主面にほぼ垂直に入る露光光が乱反射する。したがって、露光光が当たりにくい外枠部２２の側面に照射されるにもかかわらず、突起部１１の周辺の側面には露光光が反射されて、側面のフォトレジスト膜に露光が十分に照射される。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
続いて、ステップＳ１２８でフォトレジスト膜を除去する。これらの工程を経て、第１水晶フレーム２０に引出電極３１、３２、励振電極３３，３４及び錘部２８の金属膜が正確な位置および電極幅で形成される。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ステップＳ１３０で、第１水晶フレーム２０が形成された水晶単結晶ウエハに対して周波数調整が行われる。例えば、不図示のフェムト秒レーザーＦＬを用いて振動腕２１の先端の錘部２８の金属膜を昇華させることで調整が可能である。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
ステップＳ１３６では、パッケージ内が真空になった又は不活性ガスで満たされた圧電デバイス１００が形成された水晶単結晶ウエハをダイシングソー又はレーザソーで切断して切り離す。これにより、個々の圧電デバイス１００が完成する。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
＜露光マスクの構成＞
図７ないし図１３は、第１水晶フレーム２０及び第２水晶フレーム２０Ａ並びに第３水晶フレーム２０Ｂ用の第１フォトマスク及び第２フォトマスクの一部を示した上面図である。第１フォトマスク及び第２フォトマスクは、第１、第２及び第３鋭角を有する突起形状又は凹み形状を備える。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
フォトレジスト層がネガフォトレジストの場合には、マスク枠９５と音叉型振動片パターンを有する水晶フレームパターン９７と突起形状又は凹み形状とが、石英ガラスのままの透明領域であり、斜線部９６は石英ガラス上にクロムで描かれている遮光領域である。フォトレジスト層がポジフォトレジストの場合には、逆に、斜線部９６が石英ガラスのままの透明領域になっている。本実施形態では以下、ネガフォトレジストを前提として説明する。以下、第１フォトマスク及び第２フォトマスクの同じ部材には同じ符号を付し、第１フォトマスク及び第２フォトマスクの異なる点を説明する。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
＜＜実施例１＞＞
図７（ａ）は、第１水晶フレーム２０の外形形成用の第１フォトマスク９１−１を示す上面図である。第１フォトマスク９１−１は、理解を助けるため１つの第１水晶フレーム２０に対応するマスク枠９５の外形部分を仮想線（一点鎖線）で示している。第１フォトマスク９１−１には、図２で示された第１水晶フレーム２０の音叉型水晶振動片３０と外枠部２２と支持腕２６とに対応する遮光部が描かれている。また第１鋭角を有する突起部１１に対応する遮光部９６１が描かれている。第１フォトマスク９１−１には複数の第１水晶フレーム２０が描かれており、また水晶単結晶ウエハとフォトマスクとの正確な位置合わせができるようにアライメントマークが描かれている。図７（ｂ）は、外形形成用の第１フォトマスク９１−２を示す上面図である。第１フォトマスク９１−２には、第１水晶フレーム２０の音叉型水晶振動片３０と外枠部２２と支持腕２６とが描かれているが、突起部１１の領域に遮光部９６１が描かれていない。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
図９（ｂ）は、第１水晶フレーム２０の溝部形成用の第２フォトマスク９４−２を示す上面図である。第２フォトマスク９４−２には、音叉型水晶振動片３０の振動腕２１の溝パターン９８と第１鋭角を有する突起部１１に対応する小さな突起形状の遮光部９６２とが描かれている。理解を助けるため第１水晶フレーム２０の外形を水晶フレームパターン９７（仮想線）で示し、マスク枠９５の外形部分も仮想線で示している。第２フォトマスク９４−１には、音叉型水晶振動片３０の振動腕２１の溝パターン９８のみが描かれているが、第２フォトマスク９４−２は溝パターン９８に加えて小さな突起形状の遮光部９６２が描かれている。小さな突起形状の遮光部９６２は第１フォトマスク９１−１の突起形状の遮光部９６１より小さい。突起形状の大きさの違いにより水晶エッチング工程で外枠部２２のＺ方向に斜面が形成される。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
なお、図９（ｃ）の形状を形成するために、ステップＳ１１２で第１主面又は第２主面の一方に第２フォトマスク９４−２を使って露光し他方は図８（ｂ）で説明した第２フォトマスク９４−１を使って露光した。しかしながら、第１主面又は第２主面の両方に第２フォトマスク９４−２を使って露光してもよい。図９（ｃ）に示されるような突起形状１１３とは異なった突起形状を形成することができる。
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図１０（ｂ）は、第１水晶フレーム２０の溝部形成用の第２フォトマスク９４−３を示す上面図である。第２フォトマスク９４−３には、音叉型水晶振動片３０の振動腕２１の溝パターン９８と第１鋭角の突起部１１を覆う遮光部９６３とが描かれている。
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
図５で示されたステップＳ１０８で、第１主面及び第２主面に第１フォトマスク９１−１を使って露光し、ステップＳ１１０において水晶単結晶ウエハに対してウェットエッチングが行われると、外枠部２２の側面に先に説明した図８（ｃ）の突起形状１１２が現れる。また、図５で示されたステップＳ１１２で、第１主面又は第２主面の一方に第２フォトマスク９４−３を使って他方は図８（ｂ）で説明した第２フォトマスク９４−１を使って露光する。そしてステップＳ１１６において水晶単結晶ウエハに対してハーフエッチングが行われると、図８（ｃ）で示された突起形状１１２がさらにハーフエッチングされることになる。したがって、図１０（ｃ）に示されるような突起形状１１４が形成される。その突起形状１１４は、図８で示された突起形状１１２よりより複雑な形状となり、水晶単結晶ウエハの第１主面及び第２主面にほぼ垂直に入る露光光が乱反射する。なお、図１０（ｃ）ではステップＳ１１２で第１主面又は第２主面の一方に第２フォトマスク９４−３を使って露光し他方は図８（ｂ）で説明した第２フォトマスク９４−１を使って露光した。しかしながら、第１主面又は第２主面の両方に第２フォトマスク９４−３を使って露光してもよい。
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図１１（ｂ）は、図７で説明した外形形成用の第１フォトマスク９１−２を示す上面図である。第１フォトマスク９１−２には、第１水晶フレーム２０の音叉型水晶振動片３０と外枠部２２と支持腕２６とが描かれているが、第１鋭角の凹み部１２の領域に遮光部９６４が描かれていない。
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
図１２（ｂ）は、第２水晶フレーム２０Ａの溝部形成用の第２フォトマスク９４−４を示す上面図である。第２フォトマスク９４−４には、音叉型水晶振動片３０の振動腕２１の溝パターン９８と第１鋭角の凹み部１２に対応する大きな凹み形状の遮光部９６５とが描かれている。理解を助けるため第２水晶フレーム２０Ａの外形を水晶フレームパターン９７（仮想線）で示し、マスク枠９５の外形部分も仮想線で示している。第２フォトマスク９４−４は溝パターン９８に加えて大きな凹み形状の遮光部９６５が描かれている。大きな凹み形状の遮光部９６５は第１フォトマスク９１−４の凹み形状の遮光部９６１より大きい。凹み形状の大きさの違いにより水晶エッチング工程で外枠部２２のＺ方向に斜面が形成される。
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
＜＜実施例７＞＞
図１３（ａ）は、第３水晶フレーム２０Ｂの外形形成用の第１フォトマスク９１−５を示す上面図である。第１フォトマスク９１−５は、理解を助けるため１つの第３水晶フレーム２０Ｂに対応するマスク枠９５の外形部分を仮想線（一点鎖線）で示している。第１フォトマスク９１−５には、図４で示された第３水晶フレーム２０Ｂの音叉型水晶振動片３０と外枠部２２と支持腕２６とに対応する遮光部が描かれている。また第１鋭角を有する突起部１１に対応する遮光部９６１が描かれており、第２及び第３鋭角を有する突起形状１３及び突起形状１４に対応する遮光部９６６が描かれている。第１フォトマスク９１−５には複数の第３水晶フレーム２０Ｂが描かれており、また水晶単結晶ウエハとフォトマスクとの正確な位置合わせができるようにアライメントマークが描かれている。
【手続補正４４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
図１３（ｂ）に示される第２フォトマスク９４−５は、溝パターン９８に加えて小さな突起形状の遮光部９６２及び遮光部９６７が描かれている。小さな突起形状の遮光部９６２は第１フォトマスク９１−５の突起形状の遮光部９６６より小さい。突起部の大きさの違いにより水晶エッチング工程で外枠部２２のＺ方向に斜面が形成される。そして上記実施例３で説明したと同様な突起形状１１３（図９（ｃ））が現れる。特に図示しないが、実施例１もしくは実施例２、実施例４から実施例６までの組み合わせで、いろいろな突起部又は凹み部を形成できることは当業者には容易に想到することができるであろう。
【手続補正４５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
以上、本発明の好適実施例について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において上記各実施例に様々な変更・変形を加えて実施することができる。たとえば、本発明の音叉型圧電振動片３０を有する第１水晶フレーム２０は、水晶以外にニオブ酸リチウム等の様々な圧電単結晶材料を用いることができる。また、本発明では、第１鋭角、第２鋭角及び第３鋭角の突起部又は凹み部を１又は２個形成したが、複数の突起部又は凹み部からなる鋸状または波状の突起を複数個配置してもよい。