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【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(1)：
【化１】
2008538115.tif 000001
[式中、
R1は独立して水素またはメチルであり；
R2は独立してC1〜C2アルキルであり；
R3は独立してC1〜C4アルキルである]
の化合物ならびにその塩および溶媒和物から選択される化合物。
【請求項２】
R1が独立して水素である、請求項1に記載の化合物。
【請求項３】
R1が独立してメチルである、請求項1に記載の化合物。
【請求項４】
R2が独立してメチルである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項５】
R2が独立してエチルである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項６】
R3が独立してメチルである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項７】
R3が独立してエチルである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項８】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸メチルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項９】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸エチルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１０】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸n-プロピルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１１】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸i-プロピルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１２】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸n-ブチルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１３】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸sec-ブチルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１４】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸i-ブチルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１５】
次の化合物：
(R)-2-[((1R,2S,5R)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボニル)アミノ]プロピオン酸t-ブチルエステル
ならびにその塩および溶媒和物から選択される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１６】
請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物、および化合物をヒトに送達するための送達媒体を含む組成物。
【請求項１７】
送達媒体が製薬上許容される担体または希釈剤である、請求項16に記載の組成物。
【請求項１８】
送達媒体が化合物をヒトの皮膚に送達するのに適合している、請求項16または請求項17に記載の組成物。
【請求項１９】
送達媒体がウェットティッシュである、請求項16から17のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項２０】
送達媒体が化合物をヒトの口腔および／または上気道に送達するのに適合している、請求項16または請求項17に記載の組成物。
【請求項２１】
化合物が組成物中に1〜10 mgの量で存在する、請求項16〜20のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項２２】
化合物が組成物中に0.01〜2% wt/volの量で存在する、請求項16〜20のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項２３】
組成物がさらに多価アルコールを含む、請求項16〜22のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項２４】
組成物がさらに粘膜粘着性ポリマーを含む、請求項16〜22のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項２５】
ヒトまたは動物の体を治療する方法に使用するための、請求項16に記載の組成物。
【請求項２６】
皮膚の刺激、かゆみ、および／または痛みを緩和する方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項２７】
咳ならびに／または上気道の刺激および／もしくは閉塞の感覚を緩和する方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項２８】
喘息、慢性閉塞性肺疾患、または他の上気道の病気の症状および徴候を緩和する方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項２９】
咳の治療方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項３０】
喘息の治療方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項３１】
禁煙治療の方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項３２】
感染性微生物の宿主伝播を減少させるための治療方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項３３】
咳および感染性微生物の空気感染を予防するための治療方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項３４】
覚醒を高めるための、または吐き気、食欲、疲労、熱感、もしくは発熱を減少させるための治療方法に使用する、請求項16に記載の組成物。
【請求項３５】
皮膚の刺激、かゆみ、および／または痛みを緩和する方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項３６】
咳ならびに／または上気道の刺激および／もしくは閉塞の感覚を緩和する方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項３７】
喘息、慢性閉塞性肺疾患、または他の上気道の病気の症状および徴候を緩和する方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項３８】
咳の治療方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項３９】
喘息の治療方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項４０】
禁煙治療の方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項４１】
感染性微生物の宿主伝播を減少させるための治療方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項４２】
咳および感染性微生物の空気感染を予防するための治療方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項４３】
覚醒を高めるための、または吐き気、食欲、疲労、熱感、もしくは発熱を減少させるための治療方法に使用する医薬品の製造における、請求項1〜15のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーおよび放射線不透過性ナノ材料を有する放射線不透過性ポリマー混合物から形成されている可撓性の層を含む、衣類の物品。
【請求項２】
ナノ材料が、ナノ粒子、ナノチューブおよびナノプレートレットからなる群より選択される、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項３】
ナノ材料が、タングステン、バリウム、ホウ素、タンタル、ビスマス、銀、金、白金、アルミニウム、銅、劣化ウラン、酸化セリウム(CeO2)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化ランタン(La2O3)および酸化ネオジム(Nd2O3)の群より選択される一つまたは複数のナノサイズの物質から形成されている、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項４】
ナノ材料が、ナノサイズの鉛またはスズを含む一つまたは複数の放射線不透過性物質から形成されている、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項５】
ナノ材料が遷移金属ジカルコゲニドを含む、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項６】
ナノ材料が、ナノ球体、ナノ半球体およびナノパラボラからなる群より選択される、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項７】
ポリマーが、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、天然ラテックス、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル、ポリエステル、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、アクリル、ポリイソプレン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、アセタール、ポリテトラフルオロエチレン、イオノマー、セルロース、ポリエーテルケトン、シリコーン、エポキシ、エラストマーおよびポリマーフォームからなる群より選択される、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項８】
ポリマー混合物が難燃性ナノ材料をさらに含む、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項９】
難燃性ナノ材料が、ナノ粘土、ナノサイズの酸化アンチモン、ナノサイズのアンチモンペントキサイト（antimony pentoxite）、ならびにモリブデンのナノサイズ化合物、チタン、ジルコニウム、亜鉛、炭化シリコン、シリコンニトレート（silicon nitrate）、窒化アルミニウム、アルミナ三水和物、水酸化マグネシウム、有機臭素化化合物、有機塩素化化合物、天然および合成のナノ粘土、パイロフィライト、緑泥石、スメクタイト、モンモリロナイト、パリゴルスカイト、滑石、バーミキュライト、ソーコナイト、サポナイト、ノントロナイトおよび雲母からなる群より選択される、請求項8記載の衣類の物品。
【請求項１０】
高められた化学的、生物学的または投射物防護を付与するための添加物をポリマー混合物内にさらに含む、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項１１】
化学的、生物学的または投射物防護添加物が、アルミナ酸化物、エアオニア(aironia)酸化物、フェライト酸化物、チアネート（tianate）酸化物、混合複合酸化物、炭化物粉末、窒化物粉末およびホウ化物粉末からなる群より選択される、請求項10記載の衣類の物品。
【請求項１２】
ナノ材料が、天然ナノ粘土、合成ナノ粘土、層状ケイ酸およびナノチューブからなる群より選択される、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項１３】
ナノ材料がポリマー混合物中に広く分散している、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項１４】
下着、ベスト、帽子、グローブ、全身スーツ、エプロン、シャツ、ズボン、ポケットまたは股間プロテクタである、請求項1記載の衣類の物品。
【請求項１５】
ポリマー混合物および放射線防護ナノ材料から形成されている可撓性の層を含む、放射線防護の衣類の物品。
【請求項１６】
放射線防護のナノ材料が、ナノサイズの鉛、スズ、タングステン、バリウム、ホウ素、タンタル、ビスマス、銀、金、白金、アルミニウム、銅、劣化ウラン、バリウム、酸化セリウム(CeO2)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化ランタン(La2O3)および酸化ネオジム(Nd2O3)の群より選択される、請求項15記載の放射線防護の衣類の物品。
【請求項１７】
ポリマーが、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、天然ラテックス、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル、ポリイソプレン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリエステル、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、アクリル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、アセタール、ポリテトラフルオロエチレン、イオノマー、セルロース、ポリエーテルケトン、シリコーン、エポキシ、エラストマーおよびポリマーフォームからなる群より選択される、請求項15記載の放射線防護の衣類の物品。
【請求項１８】
放射線防護ナノ材料が、ナノ粘土、ナノ球体、ナノ半球体およびナノパラボラの群より選択される、請求項15記載の放射線防護の衣類の物品。
【請求項１９】
鉛、スズ、バリウム、硫酸バリウム、塩化バリウム、他のバリウム化合物、タングステン、炭化タングステン、酸化タングステン、他のタングステン化合物、ビスマス、ビスマス化合物、タンタル、タンタル化合物、チタン、チタン化合物、ジアトリゾエートメグルミン(注射用)USP、アセトリゾエートナトリウム、ホウ素、ホウ酸、酸化ホウ素、ホウ素塩類、他のホウ素化合物、ベリリウム、ベリリウム化合物、ブナミオジルナトリウム、ジアトリゾエートナトリウム、エチオダイズド油、イオベンザム酸、イオカルム酸、イオセタム酸、ヨージパミド、イオジキサノール、ヨード油、ヨードアルフィオン酸、o-ヨウ化ヒプル酸ナトリウム、ヨードフタレインナトリウム、ヨードピラセット、イオグリク酸、イオヘキソール、イオメグラム酸、イオパミドール、イオパノ酸、イオペントール、ヨーフェンジラート、ヨーフェノキシ酸、イオプロミド、イオプロン酸、イオピドール、イオピドン、イオタラム酸、イオトロラン、イオベルソル、イオキサグル酸、イオキシラン、イポデート、メグルミンアセトリゾエート、メグルミンジトリゾエートメチオダールナトリウム、メトリザミド、メトリゾ酸、フェノブチオジル、フェンテチオタレインナトリウム、プロピリオドン、ヨードメタム酸ナトリウム、ソゾヨード酸、酸化トリウムおよびトリパノエートナトリウムからなる群より選択されるレギュラーサイズの追加の放射線防護材料をさらに含む、請求項15記載の放射線防護の衣類の物品。
【請求項２０】
下着、ベスト、帽子、グローブ、全身スーツ、エプロン、シャツ、ズボン、ポケットまたは股間プロテクタである、請求項15記載の放射線防護の衣類の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月10日(2009.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の処理方法であって：
上に酸化膜が形成されている前記基板を処理チャンバ内に供する工程；
前記処理チャンバと結合するリモートプラズマ源内で水素含有ガスを励起する工程；
約９００℃よりも低温である第１基板温度の前記基板を前記の励起した水素含有ガス流に曝露することで前記基板から前記酸化膜を除去する工程；
前記基板を前記第１基板温度とは異なる第２基板温度に維持する工程；及び
前記基板が前記第２基板温度のまま、Si2Cl6を含むシリコン含有ガスに前記基板上を曝露することによって、前記基板上にシリコン含有膜を成膜する工程；
を有する方法。
【請求項２】
前記水素含有ガスがＨ２ガスを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記水素含有ガスが不活性ガスをさらに有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記不活性ガスが、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ若しくはＸｅ又はこれら２以上の混合ガスを有する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記水素含有ガスの流速が、約０．０１０ｓｌｍから約２０ｓｌｍである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記シリコン含有ガスが、ＳｉＨ４、ＳｉＣｌ４、Ｓｉ２Ｈ６、若しくはＳｉＨ２Ｃｌ２又はこれら２以上の混合ガスを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記シリコン含有ガスは、ＧｅＨ４、ＧｅＣｌ４、又はこれらの混合ガスを含むゲルマニウム含有ガスをさらに有する、請求項７に記載の方法。
【請求項８】
前記の曝露工程及び前記の成膜工程が、約１００Ｔｏｒｒ未満の処理チャンバ圧力で実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記の曝露工程及び前記の成膜工程が、約１０Ｔｏｒｒ未満の処理チャンバ圧力で実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記の基板を供する工程が、前記基板をバッチ処理チャンバ内に供する工程を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板がシリコン含有膜材料を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記シリコン含有膜材料が、Ｓｉ、ＳｉＧｅ、ＳｉＧｅＣ、ＳｉＣ、ＳｉＮ、ＳｉＣＮ、又はＳｉＣＯを有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１３】
前記シリコン含有膜が、多結晶Ｓｉ、アモルファスＳｉ、エピタキシャル成長Ｓｉ又はＳｉＧｅを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１基板温度が約５００℃よりも低温である、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１基板温度が約２００℃から約３００℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記第２基板温度が約５００℃から約９００℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記第２基板温度が約５５０℃から約７５０℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記基板が、１以上のビア若しくは溝又はこれらの結合を有するパターニング基板を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記シリコン含有膜が、前記基板の曝露されたシリコン含有表面上に選択的に形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記シリコン含有膜が、前記基板上に非選択的に形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記励起工程が、前記基板の直接視野内に存在しないリモートプラズマ源内で水素含有ガスを励起する工程を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記基板を曝露する工程と前記シリコン含有膜を成膜する工程との間の期間、前記基板を大気に曝露しない工程をさらに有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
基板上にシリコン含有膜を成膜する方法であって：
バッチ処理チャンバ内に複数のシリコン含有基板を供する工程であって、該シリコン含有基板の各々は酸化物含有マスク又は窒化物含有マスクのうちの少なくとも1つを上に有し、それにより前記シリコン含有基板の曝露表面は前記マスクを介して曝露され、前記曝露表面は酸化膜を上に有する、工程；
前記バッチ処理チャンバと結合するリモートプラズマ源内で水素含有ガスを励起する工程；
前記複数のシリコン含有基板を、前記の励起された水素含有ガス流に、約５００℃よりも低温の第１基板温度で曝露して、前記複数のシリコン含有基板の各々から前記酸化膜を除去する、工程；
前記複数のシリコン含有基板の温度を、少なくとも５００℃である第２基板温度へ昇温する工程；及び
前記複数のシリコン含有基板を、Si２Cl6を含む処理ガスへ曝露することによって、前記複数のシリコン含有基板の各々の曝露表面上にシリコン含有膜を選択的に成膜する工程；
を有する方法。
【請求項２４】
基板上にシリコン含有膜を成膜する方法であって：
バッチ処理チャンバ内に複数のシリコン含有基板を供する工程であって、該シリコン含有基板の各々は酸化物含有マスク又は窒化物含有マスクのうちの少なくとも1つを上に有し、それにより前記シリコン含有基板の曝露表面は前記マスクを介して曝露され、前記曝露表面は酸化膜を上に有する、工程；
前記バッチ処理チャンバと結合するリモートプラズマ源内で水素含有ガスを励起する工程；
前記複数のシリコン含有基板を、前記の励起された水素含有ガス流に、約５００℃よりも低温の第１基板温度で曝露して、前記複数のシリコン含有基板の各々から前記酸化膜を除去する、工程；
前記複数のシリコン含有基板の温度を、少なくとも５００℃である第２基板温度へ昇温する工程；及び
前記複数のシリコン含有基板を、Si２Cl6を含む処理ガスへ曝露することによって、前記複数のシリコン含有基板の各々の曝露表面上にシリコン含有膜を非選択的に成膜する工程；
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月24日(2009.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングの内壁、外壁、及びハウジングの底壁の間のコア収容区画を含むハウジングと、
前記ハウジングの前記内壁、外壁、及び底部のうちの少なくとも１つから熱を回収するように作動する冷却機構と、
前記コア収容区画内に収容された少なくとも２つの磁気コアと、
前記少なくとも２つの磁気コアの各々の間に配置された冷却フィンと、
各それぞれの冷却フィン及び各それぞれのコアの少なくとも一方、及び前記内壁、前記外壁、又は前記底壁のそれぞれのものの中間にあり、かつ各々が該冷却フィン及び／又はコアの該それぞれ１つ、及びそれが中間にある該それぞれの内壁、外壁、又は底壁に接触している複数の捩りバネ又は板バネ要素を含むバンドを含む熱伝導率増強機構と、
を含むことを特徴とする、高パルス繰返し数ガス放電レーザシステムパルス電力システム磁気反応炉。
【請求項２】
前記熱伝導率増強機構は、複数の相互接続された捩り又は板バネ要素、又はそれら捩れ又は板バネ要素の組合せを含むバンドを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記熱伝導率増強機構のバンドは、分散集中抵抗を有する複数の接点を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記熱伝導率増強機構は、前記内壁、外壁、及び底壁の前記それぞれの１つのアリ溝内に収容された複数の相互接続捩り又は板バネ要素、又はそれら捩り又は板バネ要素の組合せを含むバンドを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記熱伝導率増強機構は、ＭｕｌｔｉｌＬａｍ電気接点ストリップを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
ハウジングの内壁、外壁、及びハウジングの底壁の間のコア収容区画を含むハウジングと、
前記ハウジングの前記内壁、外壁、及び底部のうちの少なくとも１つから熱を回収するように作動する冷却機構と、
各それぞれのコアが前記コア収容区画内に収容されたマンドレル上に巻き付けられ、該コア収容区画内に収容された少なくとも２つの磁気コアと、
前記少なくとも２つの磁気コアの各々の間に配置された冷却フィンと、
各それぞれの冷却フィン及び各それぞれのコアの少なくとも一方、及び前記内壁、前記外壁、又は前記底壁のそれぞれのものの中間にあり、かつ各々が該冷却フィン及び／又はコアの該それぞれ１つ、及びそれが中間にある該それぞれの内壁、外壁、又は底壁に接触している複数の捩りバネ又は板バネ要素を含むバンドを含む熱伝導率増強機構と、
を含むことを特徴とする、高パルス繰返し数ガス放電レーザシステムパルス電力システム磁気反応炉。
【請求項７】
前記マンドレルは、ステンレス鋼よりも良好な熱伝導率を有する材料を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記マンドレルは、ベリリウム銅合金を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
チャンバ、
電極間に第１の放電領域を形成する前記チャンバ内に収容された第１の対の電極、及び
前記第１の対の電極の間に第２の放電領域を形成する前記チャンバ内に収容された第２の対の電極、
を含む主発振器と、
ある一定のパルス繰返し数で前記第１の対の電極に、かつそのパルス繰返し数で前記第２の対の電極に該第１の対の電極と該第２の対の電極との間で交替させて並列に充電電圧を供給するパルス電力システムと、
前記第１の放電領域に発生した前記パルス繰返し数でシードレーザパルスを受け取る第１の増幅器レーザと、
前記第２の放電領域に発生した前記パルス繰返し数でシードレーザパルスを受け取る第２の増幅器レーザと、
を含むことを特徴とする、高パルス繰返し数ガス放電レーザシステム。
【請求項１０】
第１の放電領域と前記第２の放電領域とにほぼ平行である縦軸線を有し、それによって単一のファンが、それぞれ該第１の放電領域と該第２の放電領域においてガスを補充するのに十分なガスの移動を該それぞれの第１の対の電極と該第２の対の電極の間の放電の間にもたらす回転ガス流ファン、
を更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の対の電極によって形成された第１の出力レーザ光パルスビーム軸線、及び前記第２の対の電極によって形成された第２の出力レーザ光パルスビーム軸線、
を更に含み、
前記第１の出力レーザ光パルスビームは、縦方向又は横方向に前記第２のレーザ出力光パルスビームと重なり合わない、
ことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１の対の電極間の放電と前記第２の対の電極間の放電とをチックタック方式でもたらすために少なくとも１つの充電電圧を供給し、かつ該第１の組の電極間の該放電に対する前記第１の増幅器レーザ内の放電を時間調節し、該第２の対の電極間の該放電に対する前記第２の増幅器レーザの区画内の放電を時間調節するための高電圧パルス電力システム、
を更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
ガス放電チャンバと、
前記ガス放電レーザチャンバの作動によって加熱した高温チャンバ出力窓と、
前記高温チャンバ窓の下流にあり、かつ周囲温度窓を含む出力レーザ光パルスビーム経路囲いと、
前記出力窓と前記周囲窓の中間の前記ビーム経路囲いを冷却する冷却機構と、
を含むことを特徴とする、高パルス繰返し数ガス放電レーザシステム。
【請求項１４】
前記高温窓と前記周囲窓との中間にある中間窓、
を更に含み、
前記中間窓及び前記周囲窓は、前記ビーム囲いの冷却区画を形成する、
ことを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
かご形送風機ファンと、
部材の放出側の第１の側と遮断側から反対側の第２の側とを有する第１の遮断部材と、
前記遮断部材の前記放出側の渦の形成を該渦を優先的にポケット内に形成させることによって実質的に防止する形状にされた該遮断部材の前記第２の側の渦移動ポケットと、
を含むことを特徴とするガス放電レーザシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応室部、および第１の反応物を内包する貯蔵部を有するカートリッジと、
上記カートリッジと別体で、上記カートリッジを取り外し可能に収容するようになされた収容器とを有し、
上記カートリッジおよび上記収容器は相互に取り外し可能に結合され、上記収容器は、上記カートリッジが上記収容器に結合されているときに上記貯蔵部を上記反応室部に結合する流路を形成可能な流れ制御装置を有し、上記反応室部中の圧力が予め定められた圧力に達すると、上記流れ制御装置が閉じて上記第１の反応物の上記反応室部への搬送を阻止することを特徴とするガス発生装置。
【請求項２】
上記予め定められた圧力は、上記貯蔵部中の圧力および上記反応室部中の圧力の間の予め定められた差を伴う請求項１記載のガス発生装置。
【請求項３】
上記反応室部は第２の反応物を有する請求項１記載のガス発生装置。
【請求項４】
上記第１の反応物は水、アルコール、希釈酸、またはこれらの組み合わせであり、上記第２の反応物は金属水素化物または金属水素化ホウ素を有する請求項３記載のガス発生装置。
【請求項５】
上記カートリッジは上記収容器に、カーシーリング急動カプラー、遮断バルブ、カモノハシバルブ、ソレノイドバルブ、ニードル・セプタムの組み合わせ、電気バルブ、または磁気バルブのうちの少なくとも１つにより結合される請求項１記載のガス発生装置。
【請求項６】
触媒をさらに有し、上記触媒は、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、プラチナ、パラジウム、オスミウム、イリジウム、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、およびマンガンを有する請求項１記載のガス発生装置。
【請求項７】
上記第２の反応物は粉末、ペレット、多孔構造、ボール、チューブ、溶解性シート、上記反応室部の壁への被着、またはこれらの組み合わせの形態をとる請求項３記載のガス発生装置。
【請求項８】
上記反応室部は初めての使用の前に圧縮ガスを内包する請求項１記載のガス発生装置。
【請求項９】
上記ガスは窒素、酸素、フッ素、塩素、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、ラドン、水素、またはこれらの組み合わせを有する請求項８記載のガス発生装置。
【請求項１０】
上記貯蔵部は圧縮される請求項１記載のガス発生装置。
【請求項１１】
上記貯蔵部は、バネ、ピストン、液化炭化水素、推進剤ガス、自己収縮壁、またはこれらの組み合わせにより圧縮される請求項１０記載のガス発生装置。
【請求項１２】
上記反応室部に配された液体非透過性／気体透過性部材をさらに有する請求項１記載のガス発生装置。
【請求項１３】
上記反応室部の圧力が上記貯蔵部の圧力より予め定められた量以上小さいときに上記第１の反応物が上記貯蔵部から上記反応室部へ搬送される請求項１記載のガス発生装置。
【請求項１４】
上記反応室部の圧力が上記貯蔵部の圧力より約２ｐｓｉ以上小さいときに上記第１の反応物が上記貯蔵部から上記反応室部へ搬送される請求項１３記載のガス発生装置。
【請求項１５】
上記金属は元素の周期律表のＩＡ族おおびＩＩＡ族から選択される金属である請求項４記載のガス発生装置。
【請求項１６】
上記第１の反応物、上記第２の反応物、またはその組み合わせは触媒、酸、または添加物を有する請求項３記載のガス発生装置。
【請求項１７】
上記触媒は元素の周期律表のＩＢ族からＶＩＩＩＢ族から選択された金属を有する請求項１６記載のガス発生装置。
【請求項１８】
上記触媒はＣｏＣｌ２である請求項１６記載のガス発生装置。
【請求項１９】
上記添加物は少なくとも１つのアルコールを有する請求項１６記載のガス発生装置。
【請求項２０】
上記アルコールはＣＨ３ＯＨである請求項１６記載のガス発生装置。
【請求項２１】
固体金属水素化物と、
水、触媒、およびアルコールを有する液体溶液を有することを特徴とする水素発生システム用の燃料。
【請求項２２】
上記液体溶液のｐＨは約２から約７である請求項２１記載の燃料。
【請求項２３】
上記液体溶液は酢酸を有する請求項２１記載の燃料。
【請求項２４】
反応室部を有するカートリッジ中に第１の反応物を有する貯蔵部を設けるステップと、
上記カートリッジを、上記貯蔵部を上記反応室部と連通して配置するバルブ、および、配管を有する収容器に連結させるステップと、
上記バルブを開にして上記第１の反応物を上記反応室部へ案内するステップと、
ガスを発生するステップとを有することを特徴とするガスを発生させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月3日(2009.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ろ過する溶剤を貯蔵するために貯蔵タンクを準備する段階と；
前記貯蔵タンクに接続されたフィルタを準備する段階と；
前記溶剤における水分が所定量以下になるまで水分を除去するべく前記溶剤をろ過するために、前記タンクから前記フィルタへそして前記フィルタから前記タンクへと前記溶剤を繰返し循環する段階と；
を含んでいる、溶剤ろ過方法。
【請求項２】
さらに、前記溶剤から酸素を除去する段階を含んでいる、請求項１に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項３】
前記溶剤ろ過方法において、前記貯蔵タンクとフィルタとが携帯式装置を画成していて、前記装置が第一の場所にある場合、前記溶剤はろ過された溶剤の第一バッチであり、前記溶剤ろ過方法が、さらに、前記携帯式装置を前記第一の場所とは異なる第二の場所に移動する段階と、前記携帯式装置を用いて溶剤の別のバッチをろ過する段階とを含んでいる、請求項１に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項４】
前記所定量が約１ppmの水分である、請求項１に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項５】
前記所定量が１ppmより少ない水分である、請求項１に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項６】
さらに、前記酸素を除去するために供給されている前記不活性ガスの少なくとも一部分を出口へ導入する段階と；
前記出口を真空引きする段階と；
ガラス器具を除染するために前記出口において前記不活性ガスと真空引きとを使用する段階と；
前記溶剤の水分量を測定するための前記溶剤のサンプルを収集するために、前記除染したガラス器具を使用する段階と；を含んでいる請求項１に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項７】
前記溶剤は、合成化学及び有機金属化学の少なくとも一方に使用するための溶剤である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項８】
さらに、前記フィルタを再生する必要がある場合は常に前記フィルタを交換する段階を含んでいる、請求項１に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項９】
合成化学又は有機金属化学の一方に使用するためにろ過する溶剤を貯蔵する貯蔵タンクを準備する段階と；
前記貯蔵タンクに接続されたフィルタを準備する段階と；
溶剤を前記貯蔵タンクから前記フィルタに繰り返し供給し、水分を除去するために前記溶剤をろ過し、そして前記ろ過した溶剤を前記貯蔵タンクへもどす段階と；
を含んでいる、溶剤ろ過方法。
【請求項１０】
さらに、前記フィルタを再生する必要がある場合は常に前記フィルタを交換する段階を含んでいる、請求項９に記載の溶剤ろ過方法。
【請求項１１】
溶剤を貯蔵するための溶剤の貯蔵タンクと；
前記溶剤から水分をろ過するために前記貯蔵タンクに接続されたフィルタであって、前記フィルタが、前記貯蔵タンクから溶剤を受け入れるための入口と、ろ過された溶剤を前記貯蔵タンクへ流す出口とを有しているフィルタと；
不活性ガスを前記貯蔵タンクの中へ供給するために前記貯蔵タンクに接続された不活性ガス源と；を具備する溶剤精製装置において、
前記溶剤精製装置が携帯式である、
溶剤精製装置。
【請求項１２】
前記貯蔵タンクが約４ｌの溶剤を貯蔵している、請求項１１に記載の溶剤精製装置。
【請求項１３】
さらに、前記溶剤を前記貯蔵タンクから前記フィルタに流すようになっている第一ポンプと；
第二溶剤を貯蔵するための第二溶剤の第二貯蔵タンクと；
前記第二溶剤から水分をろ過するために前記第二貯蔵タンクに接続された第二フィルタであって、前記第二フィルタが、前記第二貯蔵タンクから溶剤を受け入れるための入口と、ろ過された溶剤を前記第二貯蔵タンクへ流す出口とを有している第二フィルタと；
前記第二溶剤を前記第二貯蔵タンクから前記第二フィルタに流すようになっている第二ポンプであって、前記ポンプと前記第二ポンプとの両方が単一モータにより駆動されている、第二ポンプと、；
を具備している請求項１１に記載の溶剤精製装置。
【請求項１４】
溶剤を貯蔵するための溶剤の貯蔵タンクと；
前記溶剤から水分をろ過するために前記貯蔵タンクに接続されたフィルタであって、前記フィルタが、前記貯蔵タンクから溶剤を受け入れるための入口と、ろ過された溶剤を前記貯蔵タンクへ流す出口とを有しているフィルタと；
前記貯蔵タンクに接続された、前記溶剤から酸素を除去するための手段と；を具備する溶剤精製装置において、
前記溶剤精製装置が携帯式である、
溶剤精製装置。
【請求項１５】
さらに、ろ過された溶剤のサンプルを収集するために使用されるガラス器具を除染するためのガラス器具調整手段を備えていて、前記ガラス器具調整手段は前記貯蔵タンクに接続されている、請求項１４に記載の溶剤精製装置。
【請求項１６】
前記貯蔵タンクが約４ｌの溶剤を貯蔵している、請求項１４に記載の溶剤精製装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検証識別子に関連付けられた製品の真正性を検証する方法であって、
前記製品の前記真正性を検証する試みに関連して前記検証センタに情報を自動的に伝えること、
前記製品が本物か否かを示す前記検証センタからの応答を自動的に受信すること、
を備える、方法。
【請求項２】
前記識別子が、電話、インターネット、コンピュータ、無線、セルラ電話、ＶＯＩＰまたはその組合せを介して前記検証センタに伝えられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記識別子が本物であり、且つ前記製品が本物かどうかを示す前記検証センタからの応答を以前に受信している場合は、前記製品が偽造である可能性があることを示す第２の応答を前記検証センタから受信することすることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記識別子を前記検証センタに伝えることを自動的に指示するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
コンピュータのメモリに識別子のデータベースを維持すること、
前記識別子が前記検証センタに伝えられたことに応答して、前記コンピュータメモリにアクセスして前記データベースを検証し、前記一意の識別子が本物か否か判断すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記識別子が伝えられたことを示す記録を前記データベース内に記録することをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記自動的に伝えられた情報は、ＡＮＩ情報を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記方法は、ユーザによる事前登録を必要としない、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の化学物質と第二の化学物質との間の特異結合を検出するための方法であって、
第一のフルオロフォアに関連する前記第一の化学物質を固定化する工程と、
前記第二の化学物質を、前記固定化した第一の化学物質と結合可能にする工程であって、前記第二の化学物質は、前記第一のフルオロフォアとのＦＲＥＴペアを形成する、第二のフルオロフォアであるか、または、第二のフルオロフォアと結合した状態になる工程と、
前記結合化学物質を、前記第一または前記第二のフルオロフォアの何れかの励起周波数での放射に露出する工程と、
前記第一及び第二の化学物質間の特異結合を検出するために、前記結合化学物質からのＦＲＥＴ蛍光信号の偏光異方性を測定する工程と、を備える方法。
【請求項２】
更に、前記第一または第二のフルオロフォアの少なくとも一方のドナー発光継続時間を測定する工程を備える、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記偏光異方性は、単一の波長で測定される、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記第一及び第二のフルオロフォアは、同一（ホモＦＲＥＴ）である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
更に、前記第一及び第二の化学物質の少なくとも一方に所定の処理を施す工程を備え、前記第一及び第二の化学物質間の特異結合は、前記所定の処理の結果として前記第一及び第二の化学物質の少なくとも一方が特定の状態になる場合にのみ生じる、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記偏光異方性は、第一の波長と第二の波長とで測定される、請求項１記載の方法。
【請求項７】
更に、第一の波長での前記異方性を、前記第二の波長での前記異方性の変化を判断するための基準として使用する工程を備える、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記第一及び第二の波長の前記異方性は、信号読み出しの際の系統的な測定変化にとって短い時間枠の中で、連続して測定される、請求項６記載の方法。
【請求項９】
更に、基準源の偏光異方性を測定する工程を備える、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
前記基準源は、前記フルオロフォアの一方に対するレーザ励起源である、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
更に、ＦＲＥＴ相互作用が生じているかを判断するために、前記第一及び第二の波長の前記異方性を、前記基準源の前記異方性と比較する工程を備える、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
前記第一及び第二の波長及び基準源の前記異方性は、信号読み出しの際の系統的な測定変化にとって短い時間枠の中で、連続して測定される、請求項９記載の方法。
【請求項１３】
ドナーフルオロフォアに関連する第一の化学物質とアクセプタフルオロフォアに関連する第二の化学物質との間でＦＲＥＴ相互作用が発生しているかを検出するための方法であって、
前記フルオロフォアの少なくとも一方を、前記ドナーフルオロフォアの励起波長での放射に露出する工程と、
蛍光信号の偏光異方性を、前記ドナーフルオロフォアの発光波長と、前記アクセプタフルオロフォアの発光波長とにおいて測定する工程と、
前記第一及び第二の化学物質間でＦＲＥＴ相互作用が発生しているかを判断するために、前記測定した異方性を比較する工程と、を備える方法。
【請求項１４】
前記ドナーフルオロフォアの発光波長での前記異方性を使用することは、前記アクセプタフルオロフォアの発光波長の前記異方性の変化を判定または定量化するための内部基準の役割を果たす、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記第一及び第二の波長の前記異方性は、信号読み出しの際の系統的な測定変化にとって短い時間枠の中で、連続して測定される、請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
前記ドナーフルオロフォアの前記発光波長での前記測定された異方性に対して、前記アクセプタフルオロフォアの前記発光波長での前記測定された異方性が相対的に変化した場合に、ＦＲＥＴ相互作用が生じたと判断される、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記第一及び第二の化学物質の一方は、前記第一及び第二の化学物質の他方との結合時に立体障害を受ける小分子である、請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
前記ドナーフルオロフォアと前記アクセプタフルオロフォアとは同一である、請求項１３記載の方法。
【請求項１９】
ドナーフルオロフォアに関連する第一の化学物質とアクセプタフルオロフォアに関連する第二の化学物質との間でＦＲＥＴ相互作用が発生しているかを検出するための方法であって、
前記フルオロフォアを含有する領域を、前記ドナーフルオロフォアの励起波長での放射に露出する工程と、
蛍光信号の偏光異方性を、前記アクセプタフルオロフォアの発光波長において測定する工程と、
前記フルオロフォアを含有する前記領域における基準信号の波長において偏光異方性を測定する工程と、
前記第一及び第二の化学物質間でＦＲＥＴ相互作用が発生しているかを判断するために、前記測定した異方性を比較する工程と、を備える方法。
【請求項２０】
前記基準信号は、前記ドナーフルオロフォアの蛍光以外の放射を含む、請求項１９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月24日(2009.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飛行中に回転しているスポーツボールの回転速度又は回転振動数を推定する方法であって、
１．飛行中の多数の時点で、回転しているスポーツボールから反射された電磁波を受けて、対応する信号を提供することと、
２．信号の振動数解析を実行し、少なくとも振動数が実質的に等間隔で離れた位置にあって、時間的に継続している、二、又は、それ以上の、離散スペクトルトレースを特定することと、
３．離散スペクトルトレース同士の間における振動数の間隔から回転速度／回転振動数を推定することと、
を含んでいる、
方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、
ステップ１が、受信機を用いて反射電磁波を受信すること、を含み、ステップ２が、振動数解析に続いて、受信機に近づく方向又は離れる方向においてボールの速度に対応する第一の振動数を特定することを含んでおり、スペクトルトレースの特定が、第一の振動数のまわりで対称的に位置するスペクトルトレースを特定すること、を含んでいる、
方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、
ステップ２が、各時点に対して、及び時間的に連続して、
ある時点に対して、振動数解析と、等間隔にある候補振動数の特定と、を実行することと、
次に、一つ以上前の時点における候補振動数から、丁度所定量だけ逸脱した振動数を各々が有している候補を、特定することと、
そして、振動数トレースとして、特定された候補のトレースを特定することと、
を含んでおり、
ステップ３が、特定されたスペクトルトレースに基づいて回転速度／回転振動数を推定すること、を含んでいる、
方法。
【請求項４】
飛行中に回転しているスポーツボールの回転速度又は回転振動数を推定するシステムであって、
１．飛行中の多数の時点で、回転しているスポーツボールから反射された電磁波を受信して、対応する信号を提供するように、構成されている受信機と、
２．信号の振動数解析を実行し、少なくとも振動数が実質的に等間隔で離れた位置にあって、時間的に継続している、二、又は、それ以上の離散スペクトルトレースを特定する、手段と、
３．離散スペクトルトレース同士の間における振動数の間隔から、回転速度／回転振動数を推定する、手段と、
を含んでいる、
システム。
【請求項５】
請求項４記載のシステムであって、
手段２が、振動数解析に続いて、受信機に近づく方向又は離れる方向におけるボールの速度に対応する第一の振動数を特定し、スペクトルトレースとして、第一の振動数のまわりで対称的に位置するスペクトルトレースを特定するように、構成されている、
システム。
【請求項６】
請求項４又５に記載のシステムであって、
手段２が、各時点に対して、及び、時間的に連続して、
ある時点に対して、振動数解析と、等間隔にある候補振動数の特定と、を実行し、
次に、一つ以上前の時点における候補振動数から、丁度所定量だけ逸脱した振動数を有する候補を特定し、
そして、振動数のトレースとして、特定された候補のトレースを特定するように、構成されており、
手段３が、特定されたスペクトルトレースに基づいて回転速度／回転振動数を推定するように構成されている、
システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の第三の態様は、飛行中に回転しているスポーツボールの回転速度又は回転振動数を推定する方法に関し、
この方法は、
１．飛行中の多数の時点で、回転しているスポーツボールから反射された電磁波を受けて、対応する信号を提供することと、
２．信号の振動数解析を実行し、少なくとも振動数が実質的に等間隔で離れた位置にあって、時間的に継続している、二、又は、それ以上の、離散スペクトルトレースを特定することと、
３．離散スペクトルトレース同士の間における振動数の間隔から回転速度／回転振動数を推定することと、
を含んでいる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の第四の態様は、飛行中に回転しているスポーツボールの回転速度又は回転振動数を推定するシステムに関し、
このシステムは、
１．飛行中の多数の時点で、回転しているスポーツボールから反射された電磁波を受信して、対応する信号を提供するように、構成されている、受信機と、
２．信号の振動数解析を実行し、少なくとも振動数が実質的に等間隔で離れた位置にあって、且つ、長期間継続している、二、又は、それ以上の離散スペクトルトレースを特定する、手段と、
３．離散スペクトルトレース同士の間における振動数の間隔から、回転速度／回転振動数を推定する、手段と、
を含んでいる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のアプリケーションに対して監視および管理を提供することが可能な管理要素を含む管理プログラムと、
前記複数のアプリケーションと共に使用するためのポリシーセットであって、サポートされる各アプリケーションについて、前記管理プログラムの各管理要素に関する情報を含むポリシーセットを有するＤＢと、
サーバの中身および前記ポリシーセットの知識を利用して前記管理要素の中から前記サーバに必要とされるものを判断するために接続されるポリシーベースエンジンと、
前記サーバで実行されるように構成されるエージェントと、
前記ポリシーベースエンジンと前記エージェントとの間のインタフェースとして機能し、プログラムを前記エージェントにダウンロードするように構成されるエージェントマネージャと、
を有し、
前記エージェントは前記エージェントマネージャのアドレスを含み、かつ前記エージェントマネージャからスキャナを要求し、前記スキャナをインストールして実行し、前記スキャナの出力を前記エージェントマネージャに渡すように構成される、インストール管理システム。
【請求項２】
前記エージェントは、前記管理要素のうち、前記必要とされるものを前記エージェントマネージャから受け取り、前記管理要素のインスタンス化を監督するようにさらに構成される、請求項１に記載のインストール管理システム。
【請求項３】
前記ポリシーセットは、好ましい実施、好ましい構成、およびライセンスの必要性をさらに含む、請求項１に記載のインストール管理システム。
【請求項４】
前記エージェントマネージャは、前記スキャナの前記出力を前記ポリシーベースエンジンに渡すようにさらに構成される、請求項１に記載のインストール管理システム。
【請求項５】
前記エージェントは所定のベンダーに特有のものであり、前記ポリシーセットは前記所定のベンダーに特有の管理プログラムに関する情報を含む、請求項１に記載のインストール管理システム。
【請求項６】
前記エージェントはベンダーニュートラルエージェントであり、サポートされる各アプリケーションについて、（ａ）前記アプリケーションの管理に利用できる複数のベンダーからの管理プログラムリストおよび（ｂ）各重み値を提供する重みのセットをさらに含む、請求項１に記載のインストール管理システム。
【請求項７】
各重み値は、管理プログラムとアプリケーションの組み合わせの適性度の判断を提供する、請求項６に記載のインストール管理システム。
【請求項８】
前記ベンダーニュートラルエージェントは、前記重みのセットおよびユーザプリファレンスに従って選択される好ましい管理プログラムを受け取り、前記好ましい管理プログラムを前記サーバ上でインスタンス化するようにさらに構成される、請求項６に記載のインストール管理システム。
【請求項９】
前記ポリシーベースエンジンは、前記ユーザプリファレンスにより制約を受けない場合、前記サーバに複数の好ましい管理プログラムを選択することが可能である、請求項６に記載のインストール管理システム。
【請求項１０】
前記エージェントは、ネットワークを形成する複数のサーバでインスタンス化することができ、前記エージェントマネージャは、各スキャナをすべてのインスタンス化に対し、それぞれのスキャナを提供し、前記それぞれのスキャナからの出力を受け取る、請求項６に記載のインストール管理システム。
【請求項１１】
サポートされる各アプリケーションについて、関連する管理要素、好ましい実施、好ましい構成、およびライセンスの必要性に関する各情報を含むポリシーセットを保持するステップと、
エージェントマネージャにコンタクトをとるように構成されるエージェントを前記サーバにインストールするステップと、
前記エージェントからの要求により、インベントリを提供可能であると共に、前記インベントリが前記サーバにインストールされているアプリケーションのリストを含むものであるものを提供可能なスキャンプログラムを提供するステップと、
前記インベントリおよび前記ポリシーセットの使用によって前記サーバに必要とされる管理要素、好ましい実施、好ましい構成、およびライセンスの必要性を判断するように、使用するステップと、
前記サーバでのインスタンス化のために、前記好ましい実施、好ましい構成、および前記必要とされる管理要素（前記サーバにまだない場合）を前記エージェントに転送するステップと、
を有するサーバ管理方法。
【請求項１２】
ポリシーベースエンジンが前記インベントリを使用して前記ポリシーセットにアクセスし、前記必要とされる管理要素を判断する、請求項１１に記載のサーバ管理方法。
【請求項１３】
前記エージェントは前記サーバに残され、前記ポリシーセットが変更されたときに呼び出し可能な、請求項１１に記載のサーバ管理方法。
【請求項１４】
前記エージェントは、異なるベンダーにより作製された複数の管理要素の中から選択することができ、該方法は重みのセットを保持するステップをさらに有し、前記重みのセットは、サポートされるアプリケーションについて、利用可能な管理要素のリストおよび該管理要素に関連する各重み値を含む、請求項１１に記載のサーバ管理方法。
【請求項１５】
前記インベントリ、前記重みセット、およびユーザプリファレンスを使用して、前記サーバに第１の好ましい管理プログラムを判断するステップと、前記第１の好ましい管理プログラムを、前記サーバへのインストールのために前記エージェントに転送するステップと、をさらに含む、請求項１４に記載のサーバ管理方法。
【請求項１６】
前記使用して判断するステップは、前記サーバに対する第２の好ましい管理プログラムを判断するステップをさらに含み、前記第１の好ましい管理プログラムは、前記サーバでの第１のアプリケーション群を管理するためにインスタンスタンス化され、前記第２の好ましい管理プログラムは、前記サーバでの第２のアプリケーション群を管理するためにインスタンス化される、請求項１５に記載のサーバ管理方法。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれか１項に記載の方法の各ステップをコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月10日(2009.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のビームを含むビームフォームされたネットワークにおける無線通信の方法であって、
供給するアクセスネットワークが、前記供給するアクセスネットワークによって取り扱われるアクセス端末へ主パイロットを送信することを含み、前記主パイロットは前記供給するアクセスネットワークを送信の源として識別し、さらに、
前記供給するアクセスネットワークが、前記複数のビームのうちの少なくとも１つのビームでアクセス端末から受信した選択信号に基づいて、副パイロットを前記少なくとも１つのビームに割り振り、そして、
前記副パイロットを少なくとも１つのアクセス端末へ送信する、
こととを含む方法。
【請求項２】
複数の前記副パイロットがビームフォーミングされる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
副パイロットの少なくとも１つの特性に基づいて判定されるデータ・レート以下でデータを送信する、
ことをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記特性は、信号対干渉雑音比である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記判定されたデータ・レートを示す制御メッセージを受信し、
前記受信された制御メッセージに応答して前記判定されたデータ・レート以下でデータを送信する、
ことをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記制御メッセージは、データ・レート制御（ＤＲＣ）メッセージである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記選択信号が、制御チャネルの部分を介して受信される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
各ビームについて副パイロットを割り振り、
前記判定されたデータ・レートを示すインジケータを受信し、
前記受信したインジケータに基づいて、データを送信するビームを選択し、そして、
前記受信したインジケータに基づいて、前記判定されたデータ・レート以下でデータを送信する、
ことをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
複数のビームを含むビームフォームされたネットワークにおける無線通信の方法であって、
アクセス端末において、供給するアクセスネットワークから主パイロットを受信することを含み、前記主パイロットは前記供給するアクセスネットワークを送信の源として識別し、さらに、
前記アクセス端末が、前記供給するアクセスネットワークへ選択信号を送信し、そして、
前記アクセス端末で、前記供給するアクセスネットワークから少なくとも１つの副パイロットを受信することを含み、前記副パイロットが、前記選択信号に基づいて前記供給するアクセスネットワークによって割り振られ、そして、前記副パイロットが、前記アクセス端末が配置される前記複数のビームのうちの１つのビームと関連する、
方法。
【請求項１０】
前記副パイロットのチャネル特性に基づいてデータ・レートを判定し、
前記判定されたデータ・レートをネットワークに示し、そして、
前記判定されたデータ・レート以下でデータを受信する、
ことをさらに含む、請求項９に記載の方法。