【手続補正書】
【提出日】平成23年6月29日(2011.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性コア粒子の表面に樹脂組成物の被覆層を有する磁性キャリアであって、前記磁性キャリアが、下記の関係式（Ａ）を満足することを特徴とする磁性キャリア。
７００≦Ｅｔ１００（ｍＪ）≦９５０・・・・・（Ａ）
［前記式（Ａ）におけるＥｔ１００（ｍＪ）は、回転式ブレードを備えた粉体流動性分析装置において、プロペラ型ブレードの最外縁部の周速を１００ｍｍ／ｓｅｃで回転させながら前記磁性キャリアが満たされた測定容器内の磁性キャリア粉体層中に垂直に侵入させ、前記粉体層の底面から１００ｍｍの位置から測定を開始し、底面から１０ｍｍの位置までブレードを進入させた時に得られる、回転トルクと垂直荷重の総和を表している。］
【請求項２】
前記磁性キャリアは、フロー式粒子像分析装置で測定される円形度分布において、円形度０．９５０以下の粒子の存在率が、２．０個数％以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁性キャリア。 
【請求項３】
前記被覆層は、微粒子を含有し、前記微粒子の個数平均粒径が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁性キャリア。
【請求項４】
前記微粒子が、ゾルゲル法により製造されたシリカ微粒子を含有することを特徴とする請求項３に記載の磁性キャリア。
【請求項５】
前記磁性キャリアは、前記樹脂組成物を磁性コア粒子の表面に被覆処理した粒子の表面に、被覆処理装置を用いて、前記微粒子を固着処理して形成された前記被覆層を有するものであり、
該被覆処理装置は、複数の攪拌部材が表面に設置された回転体と、前記攪拌部材に対して間隙を隔てて位置する内周部を有したケーシングとを備えており、前記複数の攪拌部材のうちの一部の攪拌部材により、前記樹脂組成物を磁性コア粒子の表面に被覆処理した粒子と前記微粒子とが、前記回転体の軸方向の一方向に送られる、送りと、前記複数の攪拌部材のうちの他の一部の攪拌部材により、前記樹脂組成物を磁性コア粒子の表面に被覆処理した粒子と前記微粒子とが、前記回転体の軸方向の前記一方向とは逆の方向に戻される、戻し、とが行われることによって、固着処理することを特徴とする請求項３または４に記載の磁性キャリア。
【請求項６】
前記樹脂組成物は、下記式（Ａ１）で示される構造を有するモノマーと、下記式（Ａ２）又は下記式（Ａ３）で示される構造を有するマクロモノマーとを共重合成分とする共重合体を含有する樹脂組成物であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の磁性キャリア。
【化１】
2010014851.tif 000001
【化２】
2010014851.tif 000002
【化３】
2010014851.tif 000003
【化４】
2010014851.tif 000004
【化５】
2010014851.tif 000005
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、流動性が特定範囲である磁性キャリアを提供することにより、上記要求を満足出来ることを見いだし本発明に至った。
即ち、本発明は、以下の構成を特徴とする。
［１］磁性コア粒子の表面に樹脂組成物の被覆層を有する磁性キャリアであって、前記磁性キャリアが、下記の関係式（Ａ）を満足することを特徴とする磁性キャリア。
７００≦Ｅｔ１００（ｍＪ）≦９５０・・・・・（Ａ）
［前記式（Ａ）におけるＥｔ１００（ｍＪ）は、回転式ブレードを備えた粉体流動性分析装置において、プロペラ型ブレードの最外縁部の周速を１００ｍｍ／ｓｅｃで回転させながら前記磁性キャリアが満たされた測定容器内の磁性キャリア粉体層中に垂直に侵入させ、前記粉体層の底面から１００ｍｍの位置から測定を開始し、底面から１０ｍｍの位置までブレードを進入させた時に得られる、回転トルクと垂直荷重の総和を表している。］
［２］前記磁性キャリアは、フロー式粒子像分析装置で測定される円形度分布において、円形度０．９５０以下の粒子の存在率が、２．０個数％以下であることを特徴とする［１］に記載の磁性キャリア。 
［３］前記被覆層は、微粒子を含有し、前記微粒子の個数平均粒径が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることを特徴とする［１］または［２］に記載の磁性キャリア。
［４］前記微粒子が、ゾルゲル法により製造されたシリカ微粒子を含有することを特徴とする［３］に記載の磁性キャリア。
［５］前記磁性キャリアは、前記樹脂組成物を磁性コア粒子の表面に被覆処理した粒子の表面に、被覆処理装置を用いて、前記微粒子を固着処理して形成された前記被覆層を有するものであり、
該被覆処理装置は、複数の攪拌部材が表面に設置された回転体と、前記攪拌部材に対して間隙を隔てて位置する内周部を有したケーシングとを備えており、前記複数の攪拌部材のうちの一部の攪拌部材により、前記樹脂組成物を磁性コア粒子の表面に被覆処理した粒子と前記微粒子とが、前記回転体の軸方向の一方向に送られる、送りと、前記複数の攪拌部材のうちの他の一部の攪拌部材により、前記樹脂組成物を磁性コア粒子の表面に被覆処理した粒子と前記微粒子とが、前記回転体の軸方向の前記一方向とは逆の方向に戻される、戻し、とが行われることによって、固着処理することを特徴とする［３］または［４］に記載の磁性キャリア。
［６］前記樹脂組成物は、下記式（Ａ１）で示される構造を有するモノマーと、下記式（Ａ２）又は下記式（Ａ３）で示される構造を有するマクロモノマーとを共重合成分とする共重合体を含有する樹脂組成物であることを特徴とする［１］乃至［５］のいずれか一に記載の磁性キャリア。
【化１】
2010014851.tif 000006
【化２】
2010014851.tif 000007
【化３】
2010014851.tif 000008
【化４】
2010014851.tif 000009
【化５】
2010014851.tif 000010
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の磁性キャリアが、本発明において規定する流動性を得るためには、磁性キャリアの形状を制御することが好ましい。すなわち、本発明の磁性キャリアは、フロー式粒子像分析装置で測定される円形度分布において、円形度０．９５０以下の粒子の存在率が、２．０個数％以下であることが好ましく、１．０個数％以下であることがより好ましい。
上記円形度０．９５０以下の粒子の存在率が、２．０個数％より多くなると、歪な形状の磁性キャリアが障害となって、流動性が悪くなる。また、歪な形状の磁性キャリアは、感光体に対するキャリア付着を生じた場合、綺麗な球形の磁性キャリアに比して、感光体への傷や、クリーニングブレードの欠けによる画像スジを生じさせやすくなる傾向にある。なお、上記円形度０．９５０以下の粒子の存在率は、磁性コア粒子作製時の分級回数や、組成、重合条件を制御することで、上記範囲に調整することが可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
＜磁性キャリアの平均円形度及び円形度分布の測定＞
磁性キャリアの平均円形度は、フロー式粒子像分析装置「ＦＰＩＡ−３０００型」（シスメックス社製）によって、校正作業時の測定・解析条件で測定した。
具体的な測定方法としては、イオン交換水２０ｍｌに、分散剤として界面活性剤、好ましくはアルキルベンゼンスルホン酸塩を適量加えた後、測定試料０．０２ｇを加え、発振周波数５０ｋＨｚ、電気的出力１５０Ｗの卓上型の超音波洗浄器分散機（例えば「ＶＳ−１５０」（ヴェルヴォクリーア社製など）を用いて２分間分散処理を行い、測定用の分散液とした。その際、分散液の温度が１０℃以上４０℃以下となる様に適宜冷却する。
測定には、標準対物レンズ（１０倍）を搭載した前記フロー式粒子像分析装置を用い、シース液にはパーティクルシース「ＰＳＥ−９００Ａ」（シスメックス社製）を使用した。前記手順に従い調整した分散液を前記フロー式粒子像分析装置に導入し、ＨＰＦ測定モードで、トータルカウントモードにて２０００個のトナー粒子を計測して、粒子解析時の２値化閾値を８５％とし、解析粒子径を円相当径２．００μｍ以上、２００．００μｍ以下に限定し、磁性キャリアの平均円形度を求めた。
そして０．２００以上０．９５０以下に円形度を規定することで、磁性キャリアの円形度が０．９５０以下の個数とした。０．９５０以下の個数を、円形度を規定しない場合の数（円形度が０．２００以上１．０００以下）で割ることで、存在率を算出した。
測定にあたっては、測定開始前に標準ラテックス粒子（例えばＤｕｋｅ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製５２００Ａをイオン交換水で希釈）を用いて自動焦点調整を行った。その後、測定開始から２時間毎に焦点調整を実施した。
なお、本願実施例では、シスメックス社による校正作業が行われた、シスメックス社が発行する校正証明書の発行を受けたフロー式粒子像分析装置を使用し、解析粒子径を円相当径２．００μｍ以上、２００．００μｍ以下に限定した以外は、校正証明を受けた時の測定及び解析条件で測定を行った。