【手続補正書】
【提出日】平成23年4月15日(2011.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、デバイス製造方法、及び液体回収方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の一部に液浸領域を形成し、投影光学系と液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域を形成するために液体の供給を行う液体供給機構と、
前記基板上の液体を回収する第１液体回収機構と、
前記基板ステージに設けられた回収口を有し、前記基板の露光終了後に液体の回収を行う第２液体回収機構と、を備える露光装置。
【請求項２】
前記基板の露光終了後に、前記第１及び第２液体回収機構の両方を使って液体の回収を行う請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板の露光中に前記液浸領域を形成するために、前記液体供給機構による液体供給と前記第１液体回収機構による液体回収とを同時に行うことを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２液体回収機構は、前記基板の露光中に前記基板の外側に流出した液体の回収を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
更に、前記第１及び第２液体回収機構とは異なる液体除去機構を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
基板上の一部に液浸領域を形成し、投影光学系と液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域を形成するために液体の供給を行う液体供給口と、
前記液体供給口を囲むように配置され、前記液体供給口から供給された液体を前記基板ステージの上方から回収する回収口と、
前記基板ステージに設けられ、前記液体供給口から供給された液体を回収する回収口と、を備える露光装置。
【請求項７】
前記基板の露光終了後に、前記基板ステージに設けられた前記回収口から液体回収が行われる請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記基板の露光中に、前記基板ステージに設けられた前記回収口から液体回収が行われる請求項６又は７記載の露光装置。
【請求項９】
前記回収口は、前記基板ステージに設けられた流路を介して前記基板ステージの外部に設けられたタンクに接続され、
前記タンクは、吸引装置に接続されている請求項６〜８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
前記基板ステージの基板ホルダに保持された前記基板の周囲の平面は、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面とほぼ同じ高さである請求項６〜９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１１】
前記平面は、前記基板ホルダに保持された前記基板と前記基板ステージに設けられた回収口の間に位置する請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記基板ステージに設けられた前記回収口は、前記基板ステージに環状に形成されている請求項６〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
前記基板ステージに設けられた前記回収口には液体吸収部材が配置されている請求項６〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１４】
基板上の一部に液浸領域を形成し、投影光学系と液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域を形成するために液体の供給を行う液体供給口と、
前記液体供給口を囲むように配置され、前記液体供給口から供給された液体を前記基板ステージの上方から回収する回収口と、
前記液体供給口から供給され、前記基板ステージに形成された溝部に流入した液体を排出するために、前記基板ステージに設けられた流路と、を備える露光装置。
【請求項１５】
前記基板の露光終了後に、前記溝部と前記流路を介して液体回収を行う請求項１４記載の露光装置。
【請求項１６】
前記基板の露光中に、前記溝部に流入した液体を、前記流路を介して回収する請求項１４又は１５記載の露光装置。
【請求項１７】
前記回収口は、前記流路を介して前記基板ステージの外部に設けられたタンクに接続され、
前記タンクは、吸引装置に接続されている請求項１４〜１６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１８】
前記基板ステージの基板ホルダに保持された前記基板の周囲の平面は、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面とほぼ同じ高さである請求項１４〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記平面は、前記基板ホルダに保持された前記基板と前記溝部との間に位置する請求項１８記載の露光装置。
【請求項２０】
前記溝部は、環状に形成されている請求項１４〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２１】
前記溝部には、液体吸収部材が配置されている請求項１４〜２０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２２】
前記液体吸収部材は、多孔性材料で形成されている請求項１３又は２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記多孔性材料は、多孔質セラミックスを含む請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記多孔性材料は、スポンジを含む請求項２２記載の露光装置。
【請求項２５】
前記液体供給口は、前記基板の露光中に、前記基板と対向するように配置されている請求項６〜２４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２６】
前記液体供給口を囲むように配置された前記回収口は、前記基板の露光中に、前記基板と対向するように配置されている請求項６〜２５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２７】
前記基板ステージに設けられた基準部材と前記投影光学系との間を前記液体で満たした状態で、前記基準部材に設けられた基準マークを使って、前記パターン像の投影位置情報を検出するアライメント系をさらに備える請求項１〜２６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２８】
前記基板上のアライメントマークを、前記液体を介さずに検出するアライメント系をさらに備える請求項２７記載の露光装置。
【請求項２９】
請求項１〜２８のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【請求項３０】
基板ステージに保持された基板上の一部に液浸領域を形成し、投影光学系と液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記液浸領域を形成するために液体供給口から供給された液体を、前記液体供給口を囲むように配置された、前記基板ステージの上方の回収口から回収することと、
前記液体供給口から供給された液体を、前記基板ステージに設けられた回収口から回収することと、を含む液体回収方法。
【請求項３１】
前記基板の露光終了後に、前記基板ステージに設けられた前記回収口からの液体回収を行う請求項３０記載の液体回収方法。
【請求項３２】
前記基板の露光中に、前記基板ステージに設けられた前記回収口からの液体回収を行う請求項３０又は３１記載の液体回収方法。
【請求項３３】
前記基板ステージの基板ホルダに保持された前記基板の露光中に、前記基板の外側に流出した液体を、前記基板ステージに設けられた前記回収口から回収する請求項３２記載の液体回収方法。
【請求項３４】
基板ステージに保持された基板上の一部に液浸領域を形成し、投影光学系と液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記液浸領域を形成するために液体供給口から供給された液体を、前記液体供給口を囲むように配置された、前記基板ステージの上方の回収口から回収することと、
前記液体供給口から供給され、前記基板ステージに形成された溝部に流入した液体を、前記基板ステージに設けられた流路を介して回収することと、
を含む液体回収方法。
【請求項３５】
前記基板の露光終了後に、前記溝部と前記流路を介して液体回収を行う請求項３４記載の液体回収方法。
【請求項３６】
前記基板の露光中に、前記溝部に流入した液体を、前記流路を介して回収する請求項３４又は３５記載の液体回収方法。
【請求項３７】
前記基板ステージの基板ホルダに保持された前記基板の露光中に、前記基板の外側に流出した液体を、前記基板ステージに形成された前記溝部から回収する請求項３６記載の液体回収方法。