Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月7日(2011.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1の信号と、前記第1の信号とは異なる信号速度やフレームフォーマットを有する第2の信号とを収容可能な入出力ポートと、
前記第1の信号のフレームフォーマットを有する信号を処理可能な第1信号処理回路と、前記第2の信号のフレームフォーマットを有する信号を処理可能な第2信号処理回路とを含む信号処理部と、
前記第1の信号の信号速度と前記第2の信号の信号速度とに各々適した周波数を有する複数のクロックを生成するクロック生成部と、
前記第1信号処理回路及び前記第２信号処理回路のいずれかを選択する手段とを備え、
前記クロック生成部は、前記クロックを、前記第1信号処理回路及び前記第２信号処理回路のいずれかの選択された信号処理回路による信号処理に適するように生成することを特徴とするインタフェース盤。
【請求項２】
第1の信号と、前記第1の信号とは異なる信号速度やフレームフォーマットを有する第2の信号とを収容可能な入出力ポートと、
前記第1の信号のフレームフォーマットを有する信号を処理可能な信号処理回路の第1回路データと、前記第2の信号のフレームフォーマットを有する信号を処理可能な信号処理回路の第２回路データとを記憶するための不揮発性メモリと、
前記不揮発性メモリから受理する回路データの書き込みや書き換えが可能なコンフィギュラブルデバイスと、
前記第1の信号の信号速度と前記第2の信号の信号速度とに各々適した周波数を有する複数のクロックを生成するクロック生成部と、
前記第1回路データ及び前記第２回路データのいずれかを前記コンフィギュラブルデバイスに送信する回路データとして選択する手段とを有し、
前記クロック生成部は、前記クロックを、前記選択する手段に選択された回路データによる信号処理に適するように生成することを特徴とするインタフェース盤。
【請求項３】
前記コンフィギュラブルなデバイスは、FPGA(Field Programmable Gate Array)であることを特徴とする請求項2に記載のインタフェース盤。
【請求項４】
請求項1に記載のインタフェース盤を備え、複数のユーザ信号を多重化して多重化信号とする伝送装置であって、
前記入出力ポートは、前記インタフェース盤を伝送装置のユニットへ搭載する状態で外部より自由に着脱可能な光モジュールを実装するように構成されるものであり、
前記光モジュールの前記入出力ポートへの実装を認識する手段と、
前記光モジュールに格納される前記光モジュールの種類を特定するための種別コードを前記光モジュールから取得する手段とをさらに備え、
前記選択する手段は、前記種別コードから、前記光モジュールで受信した受信信号の処理に適切な信号処理回路を選択することを特徴とする伝送装置。
【請求項５】
請求項２乃至請求項3のいずれかに記載のインタフェース盤を備え、複数のユーザ信号を多重化して多重化信号とする伝送装置であって、
前記入出力ポートは、前記インタフェース盤を伝送装置のユニットへ搭載する状態で外部より自由に着脱可能な光モジュールを実装するように構成されるものであり、
前記光モジュールの前記入出力ポートへの実装を認識する手段と、
前記光モジュールに格納される前記光モジュールの種類を特定するための種別コードを前記光モジュールから取得する手段とをさらに備え、
前記選択する手段は、前記種別コードから、前記光モジュールで受信した受信信号の処理に適切な回路データを選択することを特徴とする伝送装置。
【請求項６】
前記受信信号の周波数成分を監視する手段をさらに備え、
前記選択する手段は、前記種別コードと前記周波数成分の監視結果とに基づいて、前記受信信号の処理に適切な信号処理回路を選択することを特徴とする請求項４に記載の伝送装置。
【請求項７】
前記受信信号の周波数成分を監視する手段をさらに備え、
前記選択する手段は、前記種別コードと前記周波数成分の監視結果とに基づいて、前記受信信号の処理に適切な回路データを選択することを特徴とする請求項５に記載の伝送装置。
【請求項８】
前記種別コードから前記受信信号のフレームフォーマットに対応した監視項目を決定する手段と、
前記監視項目に基づいて伝送路監視を行う手段と、
前記伝送路監視の結果情報を保守端末へ通知する手段とさらにを有することを特徴とする請求項４乃至請求項５のいずれかに記載の伝送装置。
【請求項９】
前記種別種別コードを保守者が認識可能な光モジュール名称に変換する手段と、
前記変換する手段の変換結果を保守端末の画面へ通知する手段とさらにを有することを特徴とする請求項４乃至請求項５のいずれかに記載の伝送装置。
【請求項１０】
請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のインタフェース盤を備え、前記インタフェース盤にて、2以上の異なるフレームフォーマットを有する信号を処理可能であることを特徴とする伝送装置。
【請求項１１】
前記ユーザ信号を収容する前記入出力ポートを1つ備え、多重処理を不要であることを特徴とする請求項4乃至請求項5のいずれかに記載の伝送装置。
【請求項１２】
前記光モジュールに、SFPタイプの光モジュールもしくはXFPタイプの光モジュールを用いることを特徴とする請求項4乃至請求項5のいずれかに記載の伝送装置。
【請求項１３】
ITU-T G.707で規定されているSDH信号を収容可能な請求項4乃至請求項5のいずれかに記載の伝送装置。
【請求項１４】
IEEE802.3で規定されているイーサネット信号を収容可能な請求項4乃至請求項5のいずれかに記載の伝送装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月20日(2011.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
広角レンズにより広角撮像した画像をもとに、格子状に配置した歪み補正パラメータ（ベクトル）を用いて歪み補正し、電子パンチルトズームする技術が知られている（特許文献１参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このように、広角撮像した画像をもとに、レンズ歪曲収差を格子状に配置した歪み補正パラメータ（ベクトル）を用いた歪み補正するアルゴリズムは公知である。
その技術を用い電子パンチルトするためには、任意のパンチルト角・画角の歪み補正パラメータを、マイクロプロセッサ等の演算処理により生成する必要がある。
【特許文献１】特開平７−９３５５８号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月15日(2010.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長多重信号光の光強度を調整し光伝送路間で中継する光伝送装置であって、
光伝送路から受信した波長多重信号光の光強度を減衰する、減衰量可変の光減衰器と、
前記光減衰器を通過した波長多重信号光から、ある波長の光信号を分離して光強度を監視する第１の光強度監視部と、
前記光減衰器を通過した波長多重信号光の一部を分岐して光強度を監視する第２の光強度監視部と、
前記光減衰器を通過した波長多重信号光の他の部分を増幅して出力する光増幅器と、
前記光増幅器から出力される波長多重信号光の一部を分岐して光強度を監視する第３の光強度監視部と、
前記第１の光強度監視部により監視された光信号の強度が第１の目標値に近づくように前記光減衰器の減衰量を制御し、前記第２の光強度監視部により監視された波長多重信号光の強度と、前記第３の光強度監視部により監視された波長多重信号光との強度の比が、第２の目標値に近づくように前記光増幅器の利得を制御する制御部とを有することを特徴とする光伝送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光伝送装置において、
前記制御部は、
前記第２の光強度監視部により監視された波長多重信号光の強度を波長多重数で割ることにより、一波長あたりの信号光の強度を算出し、
前記一波長あたりの信号光の強度と第３の目標値との差分を算出し、
前記差分に基いて前記第１の目標値を更新することを特徴とする光伝送装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光伝送装置において、
前記制御部は、定期的に前記第１の目標値を更新することを特徴とする光伝送装置。
【請求項４】
請求項１に記載の光伝送装置において、
前記制御部は、
前記第２の光強度監視部により監視された波長多重信号光の強度が、多重波長数の変化を検出するために設けられた第１の閾値と第２の閾値の間にあるか否かを判定し、
当該波長多重信号光の強度が前記閾値の範囲を外れたと判定した場合には、当該判定の後あらかじめ定められた時間が経過するまでの間、当該判定の時点で使用していた前記第１の目標値を用いて前記光減衰器を制御し、
前記あらかじめ定められた時間が経過すると、
前記第２の光強度監視部により監視された波長多重信号光の強度を波長多重数で割ることにより、一波長あたりの信号光の強度を算出し、
前記一波長あたりの信号光の強度と第３の目標値との差分を算出し、
前記差分に基いて前記第１の目標値を更新することを特徴とする光伝送装置。
【請求項５】
請求項４に記載の光伝送装置において、
前記制御部は、前記あらかじめ定められた時間が経過すると、前記第２の光強度監視部により監視した波長多重信号光の強度に基いて、前記第１および第２の閾値を更新することを特徴とする光伝送装置。
【請求項６】
請求項１に記載の光伝送装置において、
前記第１の光強度監視部により強度を監視されるある波長の光信号は、光伝送装置の制御に用いる情報を運ぶ監視光であり、
前記第１の光強度監視部は、光強度を監視した後の監視光を前記制御部へ出力し、
前記制御部が作成した制御用の情報を光信号に変換し、前記第３の光強度監視部からの波長多重光信号に合波する監視光挿入部を有することを特徴とする光伝送装置。
【請求項７】
請求項１に記載の光伝送装置において、
前記光強度監視部は、
波長多重信号光から前記ある波長の光信号を分離する波長分離部、または、前記波長多重信号光の一部を分岐する分岐部と、
前記波長分離部または前記分岐部からの光信号の強度を検出する検出器とを有することを特徴とする光伝送装置。
【請求項８】
請求項１に記載の光伝送装置において、
前記第１の光強度監視部により強度を監視されるある波長の光信号は、光伝送装置の制御に用いる情報を運ぶ監視光であり、
前記制御部は、波長多重信号光が無い状態でも、前記監視光と前記第１の目標値を用いて前記光減衰器を制御することを特徴とする光伝送装置。
【請求項９】
請求項１記載の光伝送装置において、
前記第１の光強度監視部は監視光の強度を監視し、
前記第２の光強度監視部は入力信号光の強度を監視し、
前記第３の光強度監視部は増幅信号光の強度を監視することを特徴とする光伝送装置。
【請求項１０】
請求項９記載の光伝送装置において、
前記制御部は、前記光減衰器に対し、前記第１の光強度監視部の前記監視光の監視結果に基づいて前記監視光の出力一定制御を行い、前記光増幅器に対し、前記第２の光強度監視部の前記入力信号光の監視結果と前記第３の光強度監視部の前記増幅信号光の監視結果とに基づいて前記信号光の利得一定制御を行うことを特徴とする光伝送装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月4日(2011.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２端子半導体整流デバイスであって、
δＰ＋＋層と、
該δＰ＋＋層の実質的に下方において該層に隣接して配置されたＰ−ボディと、
該Ｐ−ボディの実質的に下方において該ボディに隣接して配置されたＮ−ドリフト領域と、
該Ｎ−ドリフト領域の実質的に下方に配置されたＮ＋基板と、
前記δＰ＋＋層の実質的に下方において該層に隣接して配置された高次のシリサイド領域と、
前記Ｎ−ドリフト領域、前記Ｐ−ボディ領域、前記δＰ＋＋層、及び、チタンシリサイドの前記領域、のうちの少なくとも１つの実質的に上方において該少なくとも１つに隣接して配置され、ゲート誘電体として機能する酸化物の層と、
該酸化物の層の実質的に上方において該層に隣接して配置されたポリシリコンの層と、
該ポリシリコンの層の実質的に上方において該層に隣接して配置されたチタンの層と、を具備することを特徴とする半導体整流デバイス。
【請求項２】
前記チタンが約３００Åの厚みを有する、請求項１に記載の半導体整流デバイス。
【請求項３】
前記チタンの層の実質的に上方において該層に隣接して配置された窒化チタンの層をさらに含む、請求項１に記載の半導体整流デバイス。
【請求項４】
前記窒化チタンの層が約５００Åの厚みを有する、請求項３に記載の半導体清流デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月15日(2011.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
図２０は図２のリアクタの変形を図示しており、外部プラズマ供給源１３４からのプラズマ副生成物（ラジカル）は台座部１１２の底部の内側の環状プレナム６３０へと、かつ台座部１１２内を上方に向かって軸方向円筒孔６３２を通って供給され、概してウェハ１１８の周縁縁部に照準を定めた噴射口６３４から噴射される。環状プレナム６３０はガス又はプラズマ副生成物を各孔６３２の底部から供給し、噴射口又はノズル６３４は孔６３２の最上部からプラズマ副生成物を受け取る。図２１に図示されるように、孔６３２及びノズル６３４は同心に配列されている。このようにして、外部プラズマ供給源１３４からのプラズマ副生成物流は台座部１１２の内部孔６３２内で平行化され、次に、噴射口６３４からの円形に配列された指向噴霧パターンとして照準が定められる。台座部１１２は、その直径がウェハ１１８のそれよりも小さいウェハ支持表面６３６を有することから、ウェハ背面の周縁環状領域が露出する。台座部１１２は更に周縁環状表面６３８を有し、これはウェハ支持表面と平行であるがそれよりも下にあり、２つの表面６３６、６３８の間の高さの差異により周縁環状表面６３８とウェハ背面との間にガス流空間６４０が形成される
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図１〜３の実施形態と同様に、上方及び下方処理ゾーン１３０、１３２との間の境界は、ウェハ１１８の周縁縁部でガス流を妨げることで確立される。図２０のリアクタ内において、これは台座部１１２を取り巻き、ウェハの縁部１１８ａに隣接する内縁部６４２ａを有する閉じ込めリング６４２を設けることで達成され、２つの縁部１１８ａと６４２ａは約０．５〜５ｍｍの狭い間隙によって隔てられている。この間隙は、上方及び下方処理ゾーン１３０、１３２との間のガス流を制限し、これによりウェハ背面縁部からの重合体のエッチング中にウェハ正面側を保護するに十分なだけ狭い。重合体エッチング種の排気は、台座部の環状周縁表面６３８とリング６４２の底面６４４との間の水平方向の放射状空間６４０を通して主要真空ポンプ１４６により行う。この排気は、台座部１１２の側壁６４８とリング６４２の垂直表面６４９との間の垂直軸方向空間６４６を通って広がっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１９】
2008227466.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２０】
2008227466.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月20日(2010.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換装置及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント基板に実装された光電変換装置であって、
前記光電変換装置は、光を受光するフォトダイオードと、前記フォトダイオードの出力を増幅する増幅回路とを有し、
前記フォトダイオードを被覆する絶縁層の表面に、前記フォトダイオードと電気的に接続する第１の端子を有し、
前記増幅回路を被覆する前記絶縁層の表面に、前記増幅回路と電気的に接続する第２の端子を有し、
前記第１の端子と電気的に接続し、前記絶縁層の上面から前記第１の端子側の側面にかけて連続して延びる第１の接続電極を有し、
前記第２の端子と電気的に接続し、前記絶縁層の上面から前記第２の端子側の側面にかけて連続して延びる第２の接続電極を有し、
前記第１の接続電極及び前記第２の接続電極は、印刷法を用いて形成され、
前記第１の接続電極は、前記プリント基板上の第１の電極と電気的に接続され、
前記第２の接続電極は、前記プリント基板上の第２の電極と電気的に接続されていることを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記フォトダイオード及び前記増幅回路は、絶縁表面を有する基板の一表面に設けられ、
前記第１の接続電極及び前記第２の接続電極は、前記印刷法を用いて形成されたことによって、前記絶縁層上では、前記第１の接続電極及び前記第２の接続電極の形状が、前記絶縁表面を有する基板から離れるにしたがって細くなっていることを特徴とする光電変換装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記絶縁表面を有する基板は、前記一表面と対向する端面から前記一表面に向けて内側に傾斜するテーパを有し、
前記第１の接続電極及び前記第２の接続電極は、前記印刷法を用いて、前記テーパに沿って形成されたことを特徴とする光電変換装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記第１の接続電極は、前記絶縁層の上面から前記第１の端子側の側面及び前記絶縁表面を有する基板の前記第１の端子側の側面にかけて連続して延び、
前記第２の接続電極は、前記絶縁層の上面から前記第２の端子側の側面及び前記絶縁表面を有する基板の前記第２の端子側の側面にかけて連続して延びていることを特徴とする光電変換装置。
【請求項５】
請求項２乃至請求項４のいずれか一において、
前記絶縁表面を有する基板は、ガラス基板でなることを特徴とする光電変換装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記フォトダイオードは光電変換層を有し、
前記光電変換層の最下層の電極の一端は、前記増幅回路と電気的に接続され、
前記最下層の電極の他端の形状は、上面からみて格子状であることを特徴とする光電変換装置。
【請求項７】
プリント基板に実装された光電変換装置の作製方法であって、
前記光電変換装置は、光を受光するフォトダイオードと、前記フォトダイオードの出力を増幅する増幅回路とを有し、
前記フォトダイオード、及び前記増幅回路を含む複数の集積回路を形成し、
前記複数の集積回路を被覆する絶縁層を形成し、
前記複数の集積回路のそれぞれにおいて、前記フォトダイオードと電気的に接続する第１の端子と、前記増幅回路と電気的に接続する第２の端子を形成し、
前記複数の集積回路に対して、一の集積回路と、他の集積回路との間の前記絶縁層に、複数のＶ字状の溝を形成し、
前記複数のＶ字状の溝の一を充填するように、印刷法を用いて第１の接続電極を、前記第１の端子と電気的に接続するように形成し、かつ前記複数のＶ字状の溝の他を充填するように、前記印刷法を用いて第２の接続電極を、前記第２の端子と電気的に接続するように形成し、
前記複数のＶ字状の溝で分断して、前記複数の集積回路を形成し、
前記第１の接続電極と、前記プリント基板上の第１の電極とを電気的に接続し、かつ前記第２の接続電極と、前記プリント基板上の第２の電極とを電気的に接続することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記複数のＶ字状の溝は、前記フォトダイオード、及び前記増幅回路が設けられた絶縁表面を有する基板に達するように形成することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年3月23日(2011.3.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
電流中断方法でメッキされた基体は、電気用品の製造など、金属メッキされた基体が用いられる任意の産業において使用することができる。そのような電気用品の例はプリント配線基板、集積回路、電気的な接触表面およびコネクター、電解箔、マイクロチップ用途のためのシリコンウェーハ、半導体および半導体のパッケージング、リードフレーム、光電子工学製品および光電子工学製品のパッケージングを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月10日(2011.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｂ）芳香族基を有さない共重合成分を８０モル％以上含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び
（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物
を含有し、（Ａ）成分から発生する酸と、（Ｃ）成分から発生する酸のｐＫａの差の絶対値が２以下であり、かつ、分子量の差の絶対値が５０以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【請求項２】
（Ｂ）成分の樹脂が、下記一般式（Ｉａ）で表される繰り返し単位及び／又は一般式（Ｉｂ）で表される繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１】
2009048182.tif 000001
一般式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）に於いて、
Ｘａ1は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。
Ｒｙ1〜Ｒｙ3は、各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ1〜Ｒｙ3の内の少なくとも２つが結合して単環又は多環の環状炭化水素構造を形成してもよい。
Ｚは、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
Ｒｙ4は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ5は、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ4及びＲｙ5が結合して単環又は多環の環状炭化水素構造を形成してもよい。
Ｌ1は、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ｎは、１〜３の整数を表す。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のポジ型レジスト組成物により形成されたレジスト膜。
【請求項４】
請求項３に記載のレジスト膜を露光、現像する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項５】
前記レジスト膜を液浸露光する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載のパターン形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一般式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）に於いて、
Ｘａ1は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。
Ｒｙ1〜Ｒｙ3は、各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ1〜Ｒｙ3の内の少なくとも２つが結合して単環又は多環の環状炭化水素構造を形成してもよい。
Ｚは、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
Ｒｙ4は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ5は、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ4及びＲｙ5が結合して単環又は多環の環状炭化水素構造を形成してもよい。
Ｌ1は、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ｎは、１〜３の整数を表す。
（３）  （１）又は（２）に記載のポジ型レジスト組成物により、レジスト膜を形成し、該レジスト膜を露光、現像する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
（３’）  前記レジスト膜を液浸露光する工程を含むことを特徴とする（３）に記載のパターン形成方法。
（３”）（１）又は（２）に記載のポジ型レジスト組成物により形成されたレジスト膜。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
一般式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）に於いて、
Ｘａ1は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。
Ｒｙ1〜Ｒｙ3は、各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ1〜Ｒｙ3の内の少なくとも２つが結合して単環又は多環の環状炭化水素構造を形成してもよい。
Ｚは、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
Ｒｙ4は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ5は、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒｙ4及びＲｙ5が結合して単環又は多環の環状炭化水素構造を形成してもよい。
Ｌ1は、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ｎは、１〜３の整数を表す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
【化１６】
2009048182.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
一般式（１−Ａ）における、
Ｘａ1及びＲｙ５は、一般式（Ｉｂ）に於けるものと同義である。
Ｌ2は、一般式（Ｉｂ）におけるＬ1の（ｎ＋１）価の連結基の内の２価の連結基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲX−（ＲXは水素原子、アルキル基、またはアリール基を表す）から選ばれる連結基を表す。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月17日(2011.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板及び第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板とがシール材を介して貼り合わされた隙間に封入された液晶と、
複数の画素を有する表示領域と、
前記表示領域の周囲に位置して、前記シール材が配置される非表示領域と、を有する液晶表示パネルであって、
前記第２の基板は、前記複数の画素を区画する第１の遮光膜と、前記複数の画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、前記非表示領域に設けられた第２の遮光膜と、を備え、
前記表示領域には、前記第１の遮光膜に対応する位置に第１の柱状スペーサが配置されており、
前記非表示領域は、前記第２の遮光膜の表面に前記カラーフィルタ層が形成された内側領域と、前記内側領域よりも外側であって、前記シール材よりも内側に第２の柱状スペーサが配置された外側領域と、を有する液晶表示パネル。
【請求項２】
前記第１の遮光膜及び前記第２の遮光膜は、樹脂製である請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記カラーフィルタ層の表面、及び、前記カラーフィルタ層が重畳されない前記第２の遮光膜の表面に、オーバーコート層が形成されている請求項１又は請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記第１の基板は、第１電極及び第２電極を有し、前記第１電極と前記第２電極との間に生じる横方向電界により前記液晶が駆動される請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
第１の基板及び第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるシール材と、
複数の画素を有する表示領域と、
前記シール材が配置される非表示領域と、を有し、
前記第２の基板は、前記表示領域に設けられた第１の遮光膜と、カラ―フィルタ層と、前記非表示領域に設けられた第２の遮光膜と、を備え、
前記表示領域には、前記第１の遮光膜に対応する位置に第１の柱状スペーサが配置されており、
前記非表示領域には、前記カラ―フィルタ層よりも外側であって、前記シール材よりも内側の前記第２の遮光膜に対応する位置に第２の柱状スペーサが配置された
表示パネル。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の液晶表示パネルまたは請求項５に記載の表示パネルを備えた電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示パネル及び表示パネル並びに電子機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示ムラのない安定した表示品質を達成し得る液晶表示パネル及び表示パネル、並びにこの液晶表示パネルまたは表示パネルを使用した電子機器に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［適用例１］本適用例に係る液晶表示パネルは、第１の基板及び第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板とがシール材を介して貼り合わされた隙間に封入された液晶と、複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の周囲に位置して、前記シール材が配置される非表示領域と、を有する液晶表示パネルであって、前記第２の基板は、前記複数の画素を区画する第１の遮光膜と、前記複数の画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、前記非表示領域に設けられた第２の遮光膜と、を備え、前記表示領域には、前記第１の遮光膜に対応する位置に第１の柱状スペーサが配置されており、前記非表示領域は、前記第２の遮光膜の表面に前記カラーフィルタ層が形成された内側領域と、前記内側領域よりも外側であって、前記シール材よりも内側に第２の柱状スペーサが配置された外側領域と、を有する。また、本適用例に係る表示パネルは、第１の基板及び第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素を有する表示領域と、前記シール材が配置される非表示領域と、を有し、前記第２の基板は、前記表示領域に設けられた第１の遮光膜と、カラ―フィルタ層と、前記非表示領域に設けられた第２の遮光膜と、を備え、前記表示領域には、前記第１の遮光膜に対応する位置に第１の柱状スペーサが配置されており、前記非表示領域には、前記カラ―フィルタ層よりも外側であって、前記シール材よりも内側の前記第２の遮光膜に対応する位置に第２の柱状スペーサが配置される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本適用例の液晶表示パネル及び表示パネルによれば、カラーフィルタ層が存在していない外側領域に第２の柱状スペーサが配置されているので、カラーフィルタ層に起因する柱状スペーサの高さの差を抑えることが可能となり、基板間のギャップを確保すると共に表示領域と非表示領域との境界付近で生じる表示ムラを防ぐことができる。したがって、カラーフィルタ層の層厚を調整するなど別途特殊な製造工程を有さずとも、表示領域のセルギャップが均一となるようにすることができ、表示ムラのない安定した均一な表示品質を達成し得る液晶表示パネル及び表示パネルとなる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［適用例５］本適用例に係る電子機器は、上記した液晶表示パネルまたは表示パネルを備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月11日(2011.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ一定の周期で配列された格子によって入射光を反射させる複数の回折格子セルを備え、前記入射光に対する反射光の反射方向の分布を限定するために、前記複数の格子セルは、それぞれ格子の配列周期及び配列方向のうち少なくとも１つが調節されることを特徴とする反射板。
【請求項２】
前記回折格子セルは、入射光に対する反射光の反射方向の分布が、横または縦方向に比べて、対角線方向が短く反射方向の分布を限定することを特徴とする請求項１に記載の反射板。
【請求項３】
前記回折格子セルは、入射光に対する反射光の反射方向の分布が四角形態、ダイヤモンド形態、十字形態のうち何れか１つとなるように反射方向の分布を限定することを特徴とする請求項１に記載の反射板。
【請求項４】
前記回折格子セルの格子は、入射光の波長に対する格子の深さの比が０.２±０.０４の範囲を有することを特徴とする請求項１に記載の反射板。
【請求項５】
請求項１による反射板と、
前記反射板上に設けられて、入射光のうち所定波長の光を透過させるカラーユニットと、
を備えることを特徴とするディスプレイ。
【請求項６】
前記回折格子セルは、入射光に対する反射光の反射方向の分布が、横または縦方向に比べて、対角線方向が短くなるように反射方向の分布を限定することを特徴とする請求項５に記載の反射板。
【請求項７】
前記回折格子セルは、入射光に対する反射光の反射方向の分布が四角形態、ダイヤモンド形態、十字形態のうち何れか１つとなるように反射方向の分布を限定することを特徴とする請求項５に記載の反射板。
【請求項８】
前記回折格子セルの格子は、入射光の波長に対する格子の深さの比が０.２±０.０４の範囲を有することを特徴とする請求項５に記載の反射板。
【請求項９】
前記反射板に隣接して備えられた透過部と、
前記反射板と透過部との下部に配置されて、前記透過部に光を供給するバックライトと、
をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ。
【請求項１０】
それぞれ一定の周期で配列された格子によって入射光を反射させる複数の回折格子セルを配列するステップと、
入射光の反射方向の分布を限定するために、前記複数の回折格子セルのそれぞれの格子の配列周期及び配列方向のうち少なくとも１つを調節するステップと、
を含むことを特徴とする反射光分布の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月18日(2011.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する光源部と、
入射面から入射した光を導光して出射面から面発光させる導光板と、
前記光源部から出射された光を前記導光板の入射面上で走査する走査手段と、を備える面発光装置であって、
前記走査手段は、
前記光源部から出射された光を反射して前記導光板の入射面に入射させる螺旋状の反射部材と、
前記反射部材をその螺旋の中心軸周りに回転させて、前記反射部材で反射された光を前記導光板の入射面上で走査する回転制御部と、を備える
面発光装置。
【請求項２】
前記反射部材で反射された光を屈折して、前記導光板の入射面に垂直に入射させる屈折部材を、さらに備える、
請求項１記載の面発光装置。
【請求項３】
前記走査手段は、前記光源部から出射された光を走査する副走査機構、を有し、
前記副走査機構は、前記光源部から出射された光を反射して反射部材に入射させるように形成された、
請求項１記載の面発光装置。
【請求項４】
光を出射する光源部と、
入射面から入射した光を導光して出射面から面発光させる導光板と、
前記光源部から出射された光を前記導光板の入射面上で走査する走査手段と、
前記導光板の出射面側に配置された表示パネルと、を備える画像表示装置であって、
前記走査手段は、
前記光源部から出射された光を反射して前記導光板の入射面に入射させる螺旋状の反射部材と、
前記反射部材をその螺旋の中心軸周りに回転させて、前記反射部材で反射された光を前記導光板の入射面上で走査する回転制御部と、を備える、
画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月24日(2011.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
バッファメモリ（１９）への読取アクセスが固有機能の範囲内において可能である請求項１乃至４の１つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月5日(2011.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空間光変調器と複数の矩形の位相セルを備えた位相マスクとを用いて、ホログラフィック記憶媒体から読み取り、かつ／またはホログラフィック記憶媒体に書き込むための装置であって、
隣接する前記矩形の位相セル間の境界が前記空間光変調器の隣接する画素間の境界と一致するように、各前記空間位相セルが前記区間光変調器のｎ×ｍ 画素（ピクセル）に関連付けられ、ｎとｍは整数であり、各前記矩形の位相セルはサブセルスケール上で２値あるいは多値レベルの位相バリエーションを有し、
前記サブセルスケール位相バリエーションが、円形、環状、あるいは多角形状のパターンの１つ、あるいはこれらのパターンの組み合わせの１つであり、かつ
本質的に前記位相セルの個数の半分が同一の第１のサブセル位相バリエーションを有し、その残りの位相セルが同一の第２のサブセル位相バリエーションを有していて、それは前記第１のサブセル位相バリエーションを反転したものであることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記位相マスクが、変動する表面高さ、もしくは変動する屈折率、または切替え可能な位相分布もしくは切替え可能な位相シフトを有する透明な光学要素であり、あるいは、前記位相マスクが、変動する表面高さを有する反射光学要素であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記位相マスクが、オブジェクトビームの光路内に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記位相マスクが、参照ビームの光路内配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項５】
前記位相マスクが、前記空間光変調器の一体部分であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
ホログラフィック記憶媒体に書き込むための方法であって、
オブジェクトビームの位相分布を、複数の矩形の位相セルを用いて修正するステップであって、隣接する前記矩形の位相セル間の境界が前記空間光変調器の隣接する画素間の境界と一致するように、前記オブジェクトビームに対する各前記空間位相セルが前記区間光変調器のｎ×ｍ 画素（ピクセル）に関連付けられ、ｎとｍは整数である、修正するステップと、
前記オブジェクトビームの位相分布を、前記矩形の位相セルの２値あるいは多値レベルのサブセルスケールの位相バリエーションを用いてさらに修正するステップとを有し、
前記サブセルスケール位相バリエーションが、円形、環状、あるいは多角形状のパターンの１つ、あるいはこれらのパターンの組み合わせの１つであり、かつ
本質的に前記位相セルの個数の半分が同一の第１のサブセル位相バリエーションを有し、その残りの位相セルが同一の第２のサブセル位相バリエーションを有していて、それは前記第１のサブセル位相バリエーションを反転したものであることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月3日(2011.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラム記憶システムを較正する方法であって、
１組の検査データ・ページを前記ホログラム記憶システムの少なくとも一部を貫通するように送出するステップと、
検出器で１組の伝送された検査データ・ページを受信するステップと、
前記１組の伝送された検査データ・ページと前記１組の送出された検査データ・ページとを比較するステップと、
前記比較するステップの結果に基づいて、前記ホログラム記憶システムのパラメータ変動を補正するステップと、
を含み、
前記送出するステップの期間中、ホログラム記憶媒体が前記ホログラム記憶システムに配置されていない、あるいは、ホログラム記憶媒体の部分でありデータが記憶されていないニュートラルな部分に物体光のみが照射される、前記方法。
【請求項２】
前記ホログラム記憶システムの始動時に、および／または、読出し動作および／または書込み動作の前に行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記比較するステップに於いて前記検出器のピクセル毎に特性曲線が求められる、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記１組の検査データ・ページが、空間光変調器によって、前記ホログラム記憶システムを貫通するように送出される、請求項１から請求項３の何れか１つの請求項に記載の方法。
【請求項５】
前記ホログラム記憶システムの参照光の光路に、ホログラム記憶媒体に形成された別の１組の検査データ・ページを配置するステップと、
前記ホログラム記憶媒体に形成された前記別の１組の検査データ・ページに前記参照光を照射することによって、前記別の１組の検査データ・ページを前記ホログラム記憶システムを貫通するように送出するステップと、
を更に含む、請求項１から請求項３の何れか１つの請求項に記載の方法。
【請求項６】
前記１組の検査データ・ページには、各々が１つのグレー値を有する複数の検査データ・ページが含まれている、請求項１から請求項５の何れか１つの請求項に記載の方法。
【請求項７】
前記１組の検査データ・ページには、記録に使用する光線と読出しに使用する光線との間の波長不整合を検出するためのピクセル・パターンを有する少なくとも１枚の検査データ・ページが含まれている、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記１組の伝送された検査データ・ページと前記１組の送出された検査データ・ページとを比較する前記ステップには、前記検出器上での検査データ・ページのスミアを検出するステップが含まれている、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ホログラム記憶媒体に対する読出しおよび／または書込みを行う装置であって、請求項１から請求項８の何れか１つの請求項に記載の方法を実施するように構成された装置。
【請求項１０】
ホログラム記憶媒体であって、ホログラム記憶システムを較正するための少なくとも１組の検査データ・ページを含んでいる、ホログラム記憶媒体。
【請求項１１】
前記１組の検査データ・ページには、各々が１つのグレー値を有する複数の検査データ・ページが含まれている、請求項１０に記載のホログラム記憶媒体。
【請求項１２】
前記１組の検査データ・ページには、記録に使用する光線と読出しに使用する光線との間の波長不整合を検出するためのピクセル・パターンを有する少なくとも１枚の検査データ・ページが含まれている、請求項１０に記載のホログラム記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月1日(2011.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光情報記録媒体と組み合わせて使用される光ピックアップにおいて、
光源と、
当該光源から出射した光ビームを第１の光束と第２の光束とに分離する手段と、
当該第１の光束を受光する空間光変調器と、
当該空間光変調器によって変調された前記第１の光束を集光する第１のレンズと、
前記第２の光束を前記第１のレンズのバックフォーカス面に集光する第２のレンズと、を有し、
前記第１のレンズを透過した前記第１の光束は、信号光として前記光情報記録媒体に収束光の状態で照射され、
前記第１のレンズを透過した前記第２の光束は、参照光として前記光情報記録媒体に平行光の状態で照射され、
前記信号光と前記参照光とを前記光情報記録媒体上で光学的に干渉させ、当該干渉により生じる干渉縞をホログラムとして前記光情報記録媒体に記録する光ピックアップであって、
前記第２のレンズと、前記第１の光束と第２との光束の分離手段とが、１つの回折レンズで構成されていることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記信号光として前記回折レンズに入射する光ビームの０次光を用い、
前記参照光として前記回折レンズに入射する光ビームの回折光を用いることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項３】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記信号光として前記回折レンズに入射する光ビームの回折光を用い、
前記参照光として前記回折レンズに入射する光ビームの０次光を用いることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項４】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記第１のレンズまたは前記回折レンズの位置を駆動する手段を備え、
前記第１のレンズまたは前記回折レンズを、当該駆動手段によりレンズの光軸と垂直な方向に動かすことにより、前記参照光の前記光情報記録媒体への入射角度が変化させ、
もって前記光情報記録媒体に記録するホログラムを角度多重化することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項５】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記光情報記録媒体に記録されたホログラムの再生時には、前記参照光または前記参照光の位相共役光を前記光情報記録媒体に照射して前記光情報記録媒体に記録されたホログラムの再生光を生成することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項６】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記空間光変調器と前記光情報記録媒体との間に光遮蔽機構を具備し、
前記ホログラムの再生時に、当該光遮蔽機構で前記信号光を遮蔽することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項７】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記ホログラムの再生時に、前記空間光変調器の反射率を略０とし、前記信号光を遮蔽することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項８】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記光情報記録媒体の基準位置に対する傾きに応じて、前記第１のレンズまたは前記回折レンズの位置を、該レンズの光軸に垂直な面と、前記光情報記録媒体の傾きを含む面との交わる直線と光学的に平行な方向に補正駆動する手段を備えたことを特徴とする光ピックアップ。
【請求項９】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
前記光源の波長の基準波長からのシフト量に応じて、前記第１のレンズまたは前記回折レンズの位置を、該レンズの光軸方向に補正駆動する手段を備えたことを特徴とする光ピックアップ。
【請求項１０】
請求項１に記載の光ピックアップにおいて、
角度フィルタを前記再生光に配置することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項１１】
干渉縞をホログラムとして光情報記録媒体に記録する光学的情報記録方法であって、
光源で発生した光を第１の光束および第２の光束に分離し、
前記第１の光束を強度変調して、レンズを用いて前記光情報記録媒体に収束光として照射し、
前記第２の光束を前記レンズのバックフォーカス面に集光し、前記レンズにより前記光情報記録媒体に対して平行光として照射し、
前記収束光の照射と平行光の照射により前記光情報記録媒体上に干渉縞を形成し、
もって前記干渉縞を形成する各段階を備え、
前記第１と第２の光束に分離する段階と前記第２の光束を前記レンズのバックフォーカス面に集光する段階とが１つの回折レンズで実施されることを特徴とする光学的情報記録再生方法。
【請求項１２】
干渉光を用いたホログラムが記録される光情報記録媒体と、
当該ホログラムの記録または再生を行う光ピックアップとを備え、
当該光ピックアップは、
光源と、
当該光源から出射した光ビームを第１の光束と第２の光束とに分離する手段と、
当該第１の光束を受光する空間光変調器と、
当該空間光変調器によって変調された前記第１の光束を集光する第１のレンズと、
前記第２の光束を前記第１のレンズのバックフォーカス面に集光する第２のレンズとを有し、
前記第２のレンズと、前記第１の光束と第２との光束とに分離する手段とが、１つの回折レンズで構成されていて、
前記第１のレンズを透過した前記第１の光束は、信号光として前記光情報記録媒体に収束光の状態で照射され、
前記第１のレンズを透過した前記第２の光束は、参照光として前記光情報記録媒体に平行光の状態で照射され、
前記信号光と前記参照光とを前記光情報記録媒体上で光学的に干渉させ、当該干渉により生じる干渉縞をホログラムとして前記光情報記録媒体に記録することを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項１３】
請求項１記載の光ピックアップであって、さらに前記空間変調器と略同一面に配置されたミラーと、前記回折レンズと前記第１のレンズとの間に配置された偏光ビームスプリッタと、を備え、前記ミラーで反射された第２の光束と前記空間変調器で変調された前記第１の光束とが前記偏光ビームスプリッタを経由して前記第１のレンズに入射することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項１４】
請求項１２記載の光情報記録再生装置において、前記光ピックアップは、さらに前記空間変調器と略同一面に配置されたミラーと、前記回折レンズと前記第１のレンズとの間に配置された偏光ビームスプリッタと、を備え、前記ミラーで反射された第２の光束と前記空間変調器で変調された前記第１の光束とが前記偏光ビームスプリッタを経由して前記第１のレンズに入射することを特徴とする光情報記録再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マーク／スペースのデータ構造を持つトラックを有する光記録媒体であって、
所定のトラック（Ｔ１、Ｔ３）は、非分割マーク（２）を有し、および
これと隣接するトラックは、トラック情報を提供するため、入射光のＴＥ偏光成分とＴＭ偏光成分とに対して異なる反射係数を使用することによって、トラッキング方向に同じ長さおよびその間にランド区域を有する、少なくとも２つの部分に分割された分割マークを有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記分割マークは、２つの同じ部分に分割されることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記２個の隣接するトラック間のトラックピッチは、データを読み出すための対応する光ピックアップの光分解能限界値以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記分割マークは、前記ＴＭ偏光成分と相互に作用するが、前記ＴＥ偏光成分とは相互に作用しないような寸法とし、および前記非分割マークは、前記ＴＥ偏光成分と相互に作用するか、または前記ＴＭ偏光成分および前記ＴＥ偏光成分と相互に作用するような寸法とすることを特徴とする請求項１または３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記分割マークを有するトラックの最短のマークは、分割のない一体のマークであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】
超解像近接場構造を有する読み出し専用記録媒体であって、
前記トラックピッチは、３００ｎｍ以下、またはより具体的には２５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項７】
データ構造として、分割マークか非分割マークかのいずれかを有する２個の螺旋、または分割マークと非分割マークとを交互に有する１個の螺旋を含む光ディスクであることを特徴とする請求項６に記載の光記録媒体。
【請求項８】
超解像近接場効果を有する適当な材料を持つマスク層をさらに含むことを特徴とする請求項６または７に記載の光記録媒体。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の光記録媒体からデータを読み出す装置であって、
レーザとＴＥ偏光ビーム、およびＴＭ偏光ビームで前記光記録媒体を照射する第１の光部品を有するピックアップ・ユニットと、
第２の光部品並びに第１および第２の検出器を有する検出ユニットであって、前記第１の検出器は、前記ＴＭ偏光ビームを検出してデータ信号を提供するように構成され、および前記第２の検出器は前記ＴＥ偏光ビームを検出してトラッキング信号を提供し、漏話信号を検出して前記第１の検出器のデータ信号に含まれる漏話を削減するように構成される検出ユニットと、
を備えたことを特徴とする装置。
【請求項１０】
第２の検出器は、プッシュプル・トラッキング信号を提供する３個または４個の要素の検出器を有することを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の光部品は、半波長板または１／４波長板であり、
前記第２の光部品は、偏光ビームスプリッタであり、
前記第１の光部品は、ＴＥ偏光ビームとＴＭ偏光ビームとの強度比が０．５：０．５となるよう調整されることを特徴とする請求項９または１０に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１ａ】
2008226436.tif 000001
【図１ｂ】
2008226436.tif 000002
【図２】
2008226436.tif 000003
【図３】
2008226436.tif 000004
【図４ａ】
2008226436.tif 000005
【図４ｂ】
2008226436.tif 000006
【図５ａ】
2008226436.tif 000007
【図５ｂ】
2008226436.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する保持装置であって、
前記基板の一方の面を静電力で保持可能な第１面を有し、前記第１面の少なくとも一部が該第１面の法線方向に変形可能な保持部材と、
前記第１面と略平行な平面内で互いに離れた少なくとも３つの位置に配置され、前記第１面に保持された前記基板の前記法線方向への移動を抑える支持部を有する支持部材と、
を備えた保持装置。
【請求項２】
前記少なくとも３つの位置に配置される前記支持部材は、前記第１面の法線方向に固定して配置される請求項１記載の保持装置。
【請求項３】
前記保持部材は、絶縁層及び電極層を備えた可撓性を有するプレート部材を含む請求項１又は２記載の保持装置。
【請求項４】
前記プレート部材は、前記第１面及び該第１面と反対側の第２面を有し、
前記支持部材の支持部は、前記プレート部材の前記第２面の少なくとも３つの位置を支持する請求項３記載の保持装置。
【請求項５】
前記プレート部材の前記第２面の周縁を固定する固定部材を備えた請求項３又は４記載の保持装置。
【請求項６】
前記保持部材は、少なくとも前記法線方向に弾性変形可能な表面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記表面と反対側の裏面と対向する電極部材とを備え、
前記第１面は、前記絶縁部材の表面を含む請求項１又は２記載の保持装置。
【請求項７】
前記支持部材の支持部は、前記基板の一方の面の少なくとも３つの位置を支持する請求項６記載の保持装置。
【請求項８】
前記絶縁部材は、前記支持部材の少なくとも一部を配置するための孔を有する請求項６又は７記載の保持装置。
【請求項９】
前記基板の他方の面に露光光が照射される請求項１〜８のいずれか一項記載の保持装置。
【請求項１０】
パターンが形成された第１基板を露光光で照明し、前記第１基板からの前記露光光で感光性を有する第２基板を露光する露光装置であって、
前記第１基板を保持する第１保持装置、及び前記第２基板を保持する第２保持装置を備え、
前記第１保持装置及び前記第２保持装置の少なくとも一方は、請求項１〜９のいずれか一項記載の保持装置を含む露光装置。
【請求項１１】
前記露光光は極端紫外光を含む請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１記載の露光装置を用いて前記第２基板を露光することと、
前記露光された前記第２基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。