Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年5月21日(2009.5.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共通のシステム・クロックと、
前記システム・クロックによってクロック駆動される命令ユニット（Ｉユニット）と、
前記Ｉユニットから命令を受取って実行する実行ユニット（Ｅユニット）と、
を備え、
前記Ｉユニット及び前記Ｅユニットの各々は、
複数のレジスタ・ステージであって、その各々がパイプライン処理の一のステージを処理する、複数のレジスタ・ステージと、
ローカル・クロック生成装置と、
を備え、前記Ｉユニットのローカル・クロック生成装置は、
前記Ｅユニットから、ストール状態を表すストール信号又は処理速度の減速の要求を表すスロー選択信号を受信して、クロック制御信号を出力する入力ブロックと、
前記入力ブロックの出力を受信する前記複数の段のシフト・レジスタであって、各段が一の前記レジスタ・ステージに対応付けられている１ビット・フリップ・フロップからなる、シフト・レジスタと、
前記複数のＡＮＤゲートであって、その各々が前記各１ビット・フリップ・フロップの出力又は最終段の１ビット・フリップ・フロップの出力と、前記システム・クロックの論理積を一のレジスタ・ステージに出力する、複数のＡＮＤゲートと、
を備え、
前記ストール信号の受信に応答して、前記レジスタ・ステージへのクロックの入力が各レジスタ・ステージ毎に順次停止され、又は前記スロー選択信号の受信に応答して、システム・クロックの周波数が半減されて各レジスタ・ステージに入力される、同期式集積回路。
【請求項２】
前記入力ブロックが、前記ストール信号を受信するインバータと、前記シフト・レジスタの第一段目の１ビット・フリップ・フロップを含み、前記インバータが前記ストール信号を受信して「０」を前記第一段目の１ビット・フリップ・フロップへ出力し、これにより該第一段目の１ビット・フリップ・フロップの出力と前記システム・クロックの論理積が「０」となって、第一段目のレジスタ・ステージへの前記システム・クロックの入力が停止され、前記インバータの出力「０」が前記シフト・レジスタ内をシフトするのに応じて、レジスタ・ステージへの前記システム・クロックの入力が順次停止される、請求項１記載の同期式集積回路。
【請求項３】
前記入力ブロックが、前記スロー選択信号を受信する１ビット・トグルカウンタと、前記スロー選択信号と前記システム・クロックの論理積を該トグルカウンタに出力するＡＮＤゲートを含み、前記スロー選択信号の受信に応答して、該トグルカウンタが該ＡＮＤゲートからシステム・クロックを受信して、「０」と「１」の交互シーケンスを前記シフト・レジスタ内へ出力し、これにより前記システム・クロックの周波数が半減されてレジスタ・ステージに入力される、請求項１記載の同期式集積回路。
【請求項４】
前記１ビット・フリップ・フロップが、直列に接続された２段ラッチからなり、後段のラッチにはシステム・クロックが反転されて入力される、請求項１〜３のいずれか１項記載の同期式集積回路。
【請求項５】
ストール信号及びスロー選択信号がＥユニット内で監視される状態信号の組み合わせ関数として生成される、請求項１〜４のいずれか１項記載の同期式集積回路。
【請求項６】
前記ストール信号が、Ｅユニット内の入力キューの数がＩユニットのパイプライン・レジスタ内の有効なエントリの数と等しいときにアサートされる、請求項１または２記載の同期式集積回路。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の同期式集積回路を備えるスカラ・プロセッサ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
この例において、Ｅユニットの動作監視・クロック制御論理（それぞれ図２の１２４及び１２８）は、近い将来のストール状態を感知したとき、Ｅユニットのストール・ビット１３０をアサートする。インバータ１６０によって逆にされたストール・ビット１３０は、０をＧＣＳＲ１５０に示し、次のシステム・クロック・サイクルにおいて該ＧＣＳＲ１５０にシフトされる。同じサイクルにおいて、ＧＣＳＲ１５０内に及び該ＧＣＳＲ１５０を通して０を同期的にシフトさせながら、第１のＩパイプ・ステージすなわち図２のＩキャッシュからのＩパイプ・ステージを使用不可にし、Ｉパイプ１８１Ｉへのデータ入力を停止させる。ストール・ビット１３０がアサートされる限り、システムのクロック・サイクルごとに１回、０がＧＣＳＲ１５０内にシフトされる。続いて、各々のゼロは、連続する一つ一つのＡＮＤゲート１５６を経由してシステム・クロックを送ることができない状態にし、この例においては左から右に波及する。このように、左から右に、一度に１ステージのＩパイプ・クロック１５８が、ゲートオフされる。したがって、ストール・ビット１３０をアサートする前に、有効なＩパイプ・エントリがＩパイプ１１８Ｉを通してＥユニットに続く。Ｉパイプ１１８Ｉ内の有効な情報を失うことを回避するために、少なくとも使用可能なＥユニット・バッファ（キュー１１６Ｅ）空間がＩパイプ１１８Ｉ内の有効なエントリの数と等しいときに、ストール・ビット１３０をアサートしなければならない。したがって、少なくとも使用可能なＥユニット・バッファ（キュー１１６Ｅ）空間がＩパイプ１１８Ｉ内の有効なエントリの数と等しいときに、ストール・ビット１３０をアサートしなければならない。極端な場合、後者は、単にＩパイプ１１８Ｉの長さに等しい。したがって、保守的な設計において、利用可能な（自由な）キュー・エントリの数がＩパイプ・ステージの数に等しくなる程度まで、Ｅユニットのキュー１１６Ｅが一杯になるときはいつも、Ｅユニット１２４がストール・ビット１３０をアサートする。従来の細かい粒子のステージ・レベルのクロック・ゲーティングにおけるように、Ｅユニット・キュー１１６Ｅ内の空のエントリ又は無効なエントリは、エントリごとの有効ビット（節電のために）を用いてゲート制御されると推定される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月21日(2009.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アズトレオナムＬ−リジンの水性溶液からアズトレオナムＬ−リジンを沈殿させることを含んで成るアゼトレオナムのＬ−リジン塩を調製するための方法であって、ここで前記水性溶液は約５．５以下のｐＨを有し、該アズトレオナムＬ−リジンの水性溶液をアセトン及びエタノールから選択される有機溶媒中に滴下する方法。
【請求項２】
非晶質アズトレオナムリジン塩中の不純物の量を特定するための方法であって、前記方法は：
前記アズトレオナムリジン塩を、約０．０２Ｍの濃度を有し且つｐＨを約２へと約２５重量％のリン酸により調整したＫＨ2ＰＯ4バッファー溶液中に溶かすことによってサンプル溶液を形成し；
前記アズトレオナムリジン塩溶液のサンプルをＨＰＬＣカラム中へと注入し；
前記注入したサンプルを、ＫＨ2ＰＯ4バッファー溶液（Ａ）とアセトニトリル（Ｂ）の混合物により溶離させ、ここで前記バッファー溶液（Ａ）は約０．０２Ｍの濃度を有し且つｐＨを３へと２５重量％のリン酸で調節しており、注入したサンプルを勾配溶離させ；そして
ＵＶ検出器により約２３０ｎｍの波長において測定し、約２．５ｇ／ｍｌの濃度におけるアズトレオナム標準試薬を参照することにより少なくとも１種類の不純物の量を特定する、
ことを含んで成る方法。
【請求項３】
非晶質アズトレオナムリジン塩中の不純物の量を特定するための方法であって、前記方法は：
前記アズトレオナムリジン塩を、約０．０２Ｍの濃度を有し且つｐＨを約３へと約２５重量％のリン酸により調整したＫＨ2ＰＯ4バッファー溶液とメタノールの混合物に溶かすことによってサンプル溶液を形成し；
前記アズトレオナムリジン塩溶液のサンプルをＨＰＬＣカラム中へと注入し；
前記注入したサンプルを、約０．０２Ｍの濃度を有し且つｐＨを約３へと約２５重量％のリン酸により調整したＫＨ2ＰＯ4バッファー溶液とメタノールの約８３：１７の体積比における混合物により約１．５ｍｌ／ｍｉｎで溶離させ、ここで、該注入したサンプルは定組成溶離され；
少なくとも１種類の不純物の量を約２７０ｎｍの波長でＵＶ検出器により測定し；そして
不純物の量を、約１００μｇ／ｍｌの濃度におけるアズトレオナム標準試薬を参照することにより特定する、
ことを含んで成る方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月7日(2009.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）イオン化領域に１またはそれ以上のアナライト分子を含むサンプルを導入する工程、
（ｂ）イオン化剤を供給する工程であって、該イオン化剤が式
【化１】
2008541038.tif 000001
（式中、Ｒ１は直鎖または分岐鎖アルキル、直鎖または分岐鎖アルケニル、アリール、ヘテロアリール、カルボサイクロおよびヘテロサイクルから成る群から選択され、
Ｒ２およびＲ３は独立してＨ、直鎖または分岐鎖アルキル、直鎖または分岐鎖アルケニル、アリール、ヘテロアリール、カルボサイクロおよびヘテロサイクルから成る群から選択される。）
であって、該イオン化剤がニコチンアミドでない工程、
（ｃ）反応剤イオンを発生する工程、
（ｄ）反応剤イオンを１またはそれ以上のアナライト分子と相互反応させ、相互反応が１またはそれ以上のアナライトイオンを生成する工程、
（ｅ）１またはそれ以上のアナライトイオンを含むサンプル蒸気をドリフト領域に導入する工程、および
（ｆ）ドリフト領域を通るアナライトイオンのドリフト時間からサンプル中の１またはそれ以上のアナライトイオンの存在を検出する工程、
を包含するイオン移動スペクトロメータ中でアナライトの存在を検出する方法。
【請求項２】
Ｒ１がＣ３アルキルであり、Ｒ２およびＲ３がＨである請求項１記載の方法。
【請求項３】
アミドがイソブチルアミドである請求項２記載の方法。
【請求項４】
Ｒ１がフェニルまたはアニリン基であり、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ直鎖または分岐鎖アルキル、直鎖または分岐鎖アルケニル、アリール、ヘテロアリール、カルボサイクロおよびヘテロサイクルから成る群から選択される請求項１記載の方法。
【請求項５】
Ｒ２がＣＨ３であり、Ｒ３がＣ２Ｈ５である請求項１記載の方法。
【請求項６】
Ｒ２がフェニルであり、Ｒ３がＣｎＨ（２ｎ＋１）アルキルである請求項１記載の方法。
【請求項７】
単一のアナライトのための１以上のアナライトイオンが生成され、１以上のアナライトイオンの各々が異なるドリフト時間を示す請求項１記載の方法。
【請求項８】
アナライトが爆発物、麻酔剤、生物的ワーフェアー（ｗａｒｆａｒｅ）剤、毒物および化学ワーフェアー剤から成る群から選択される請求項１記載の方法。
【請求項９】
爆発物がヘキサメチレントリパーオキシドジアミン、トリアセトントリパーオキシドおよびそれらの混合物から成る群から選択される請求項８記載の方法。
【請求項１０】
爆発物がトリアセトントリパーオキシドである請求項９記載の方法。
【請求項１１】
麻酔剤が６−アセチルモルヒネ、アルプラゾラム、アモバルビタル、アンフェタミン、アンチピリン、ベンゾカイン、ベンゾイルエクゴニン、ブロマゼパム、ブタルビタル、カーベタペンタン、カチノン、クロラジアゼポキシド、クロロフェニラミン、コカエチレン、コカイン、コデイン、ジアゼパム、エクゴニン、エクゴニンメチルエステル（ＥＭＥ）、エフェドリン、フェンタニル、フルニトラセパモム、ハシッシ、ヘロイン、ヒドロコドン、ヒドロモルフォン、ケタミン、リドカイン、ロラゼパム、リセルグ酸ジエチルアミド（ＬＳＤ）、リセルグ酸、Ｎ−メチル−１−３−（３，４−メチレンジオキシオフェニル）−２−ブタナミン（ＭＢＤＢ）、３，４−メチレンジオキシアンフェタミン（ＭＤＡ）、ＤＬ−３，４−メチレンジオキシエチルアンフェタミン（ＭＤＥＡ）、メチレンジオキシメタンフェタミン（ＭＤＭＡ）、マリファナ、メスカリン、メタドン、メタンフェタミン、メタンキアロン、メトカチノン、モルヒネ、ノスカピン、オピューム、オキサゼパム、オキシコドン、フェンシクリジン（ＰＣＰ）、ペントバービタル、フェノバービタル、プロカイン、シロシビン、セコバービタル、テマゼパム、ＴＨＣ、ＴＨＣ−ＣＯＯＨ、トリアゾラム、薬剤およびそれらの組合せから成る群から選択される請求項８記載の方法。
【請求項１２】
化学ワーフェアー剤および毒物がアミトン（ＶＧ）、アントラックス、クロロピクリン、エチルＮ，Ｎ−ジメチルホスホラミコシアニデート（Ｔａｂｕｎ）、イソプロピルメチルホスホノフルオリデート（Ｓａｒｉｎ）、ピナコリルメチルホスホンフルオリデート（Ｓｏｍａｎ）、エチル−、イソプロピルエステル（ＧＥ）、エチル−、Ｓ−（２−（ジエチルアミノ）エチル）Ｏ−エチルエステル（ＶＥ）、ホスホノチオン酸、メチル−Ｓ−（２−（ジエチルアミノ）エチル）Ｏ−エチルエステル（ＶＭ）、マスタード−Ｔ混合物、窒素マスタード１、窒素マスタード２、窒素マスタード３、フェニルジクロロアルシン、ホスゲンオキシム、セスキマスタード、アダムサイト、アフラトキシン、ボツリンヌストキシン、リシン、ザキトキシン、トリコテセンマイコトキシン、メチルホスホノチオ酸Ｓ−（２−ビス（１−メチルエチル）アミノ）エチル）Ｏ−エチルエステル（ＶＸ）、シクロヘキシルメチルホスホノフルオリデート（ＧＦ）およびそれらの組合せから成る群から選択される請求項８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
いくつかの局面において、本発明は、以下を提供する：
１.  以下に使用するためのＧＰＲ９１、例えば、または以下のためのＧＰＲ９１の使用
１.１  樹状細胞における標的として；
１.２  ＧＰＲ９１活性により仲介される、例えば関連する、例えば誘発される、樹状細胞障害の診断のため。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
Ｔリンパ球(Ｔ細胞)は乾癬において重要な役割を有すると考えられており、Ｔｈ１細胞活性化が主要な役割を有することが発見された。乾癬はまた遺伝要素である：乾癬症例の約１／３において、該疾患の家族歴がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
このような標識は慣用の標識、例えばビオチンまたは、アルカリホスファターゼ(ＡＰ)、ホースラディッシュペルオキシダーゼ(ＨＲＰ)もしくはペルオキシダーゼ(ＰＯＤ)のような酵素、または蛍光分子、例えばフルオレッセインイソチオシアネートのような蛍光染料であり得る。好ましくは本標識はビオチンである。標識担持分子、例えば標識担持抗体は慣用法により、例えば蛍光測定または酵素検出法を介して検出できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
ｃ)遺伝子発現プロファイル
上記の通りに提供されるプライマーにより表されるＧＰＲ９１配列を、市販の組織由来のｃＤＮＡ(Clontech panel IおよびII)中で、および種々の細胞型において、上記の通りの定量的ＲＴ−ＰＣＲにより、Applied Biosystemsから供給された試薬を使用し、そして製造者のプロトコールに従い増幅させる。対照反応を、ハウスキーピング遺伝子ＥＦ１αに特異的なプライマーで行う。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月9日(2009.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
待機保持装置（１１）が、前記コード（１３）への情報入力のための書込み装置（１５）を有している、請求項１２または１３または１４記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルの撮影方法であって、
（ｉ）第一部分と第二部分を備え、撮影に用いる電磁線に対して透明な窓部が第一部分に設けられているフレームに、サンプルを収納し、
（ｉｉ）  電磁線検出器と、フレームを支えるためのペインのない開口部が設けられたプラットホームとを備えた撮影装置に、上記窓部が、検出装置、並びに上記窓部と検出器の間の開口部と対向するようにフレームを載置し、
（ｉｉｉ）サンプルから発せられる電磁線を、検出器で捕捉する
工程を含む方法。
【請求項２】
工程（ｉｉ）の後、サンプルを電磁線で照射する工程をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
検出器が電荷結合素子（ＣＣＤ）又は光電子増倍管（ＰＭＴ）である、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
窓部にペインが設けられていない、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
フレーム内に収納されたサンプルを撮影する撮影装置であって、フレームが、第一部分と第二部分とを備え、第一部分が、撮影用の電磁線に対して透明な窓部を備え、第二部分が、撮影用の電磁線に対して不透明な蓋の形状である装置であって、装置に、フレームを支えるためのペインのない開口部が設けられたプラットホームが設けられていることを特徴とする撮影装置。
【請求項６】
フレーム移動用のステージ機構をさらに備え、サンプルの走査が可能である、請求項５記載の撮影装置。
【請求項７】
サンプルを内部に収納するための撮影装置用フレームであって、フレームが、第一部分と、第二部分と、上記第一部分と第二部分とを封止するための解除可能なロック装置とを備えた装置であって、第一部分が、撮影用の電磁線に対して透明な窓部を画定する本体を備え、第二部分が、撮影用の電磁線に対して不透明な蓋の形状であるフレーム。
【請求項８】
窓部にペインが設けられていない、請求項７記載のフレーム。
【請求項９】
窓部に、低蛍光のガラス又はプラスチック製ペインが設けられている、請求項７記載のフレーム。
【請求項１０】
サンプルの撮影システムであって、
（ｉ）請求項７乃至請求項９のいずれか１項記載の撮影装置用フレームと、
（ｉｉ）請求項５又は請求項６記載の撮影装置と
を備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月11日(2009.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光材料マーカを周囲光の存在する中では光学的に検出可能であるには不十分であるがフィールド中または現場位置では非破壊的に光学的に検出可能である極微量で、産業プロセス材料上および内部の少なくとも一方に選択的に組み込ませ、前記極微量の発光マーカは材料制御、目録制御、在庫制御、プロセス制御、論理制御、品質制御、汚染制御の少なくとも１つに対して産業プロセス材料を追跡、識別または認証するために使用される産業プロセス材料のマーキング方法。
【請求項２】
産業プロセス材料は固有視覚識別力が低い、標準化され、および／または画一化された固体、液体または気体媒体である請求項１記載の方法。
【請求項３】
産業プロセス材料はセメント、コンクリート、木材、鉱石、プラスティック、繊維、食品、塗料、金属、爆発前駆物質、爆発材料の少なくとも１つである請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
発光マーカは個別または集合的に特有の発光放射および／または励起プロフィールを有する１以上の発光材料を含んでいる請求項１乃至３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
発光マーカの極微量の量は産業プロセス材料の質量の１０億分の１から約１％未満の範囲である請求項１乃至４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
発光マーカの極微量は産業プロセス材料の生物学的試験には使用されない量である請求項１乃至５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
発光マーカは約２５０ｎｍから３６５ｎｍの波長範囲を有する光放射を使用して光学的に検出可能である請求項１乃至６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
発光マーカはポータブル発光読取装置によりフィールドの位置または現場で光学的に検出される請求項１乃至７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
複数のライフサイクル段階を通して産業プロセス材料を追跡する方法において、
内部および／または表面上に極微量の発光マーカを選択的に組み込むことによって産業プロセス材料上に特有の発光応答特性を与え、
その特有の発光応答特性に対応するフィールド中の位置または現場で産業プロセス材料からの発光応答を検出することにより、その複数のライフサイクル段期間中に産業プロセス材料を識別または確認するステップを含んでいる方法。
【請求項１０】
産業プロセス材料は固有視覚識別力の低い、標準化され、および／または画一化された固体、液体または気体の媒体である請求項９記載の方法。
【請求項１１】
産業プロセス材料はセメント、コンクリート、木材、鉱石、プラスティック、繊維、食品、塗料、金属、爆発前駆物質、爆発材料のうちの少なくとも１つである請求項８または１０記載の方法。
【請求項１２】
発光マーカは個別または集合的に特有の発光放射および／または励起プロフィールを有する１以上の発光材料を含んでいる請求項９乃至１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
発光マーカの極微量の量は産業プロセス材料の質量の１０億分の１から約１％未満の範囲である請求項９乃至１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
発光マーカの極微量は産業プロセス材料の生物学的試験には使用されない請求項９乃至１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
発光マーカは約２５０ｎｍから３６５ｎｍの波長範囲を有する光放射を使用して光学的に検出可能である請求項９乃至１４のいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
発光マーカはポータブル発光読取装置によりフィールドの位置または現場で光学的に検出される請求項９乃至１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
特有の発光応答特性は産業プロセス材料に対応する特有のコードを表している請求項９乃至１６のいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
前記特有のコードはさらに１以上の予め定められた発光検出パラメータおよび／または発光検出アルゴリズムにより表される請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記特有のコードはさらに、発光マーカを含む対応する複数の発光材料にそれぞれ関連される複数の発光放射および／または励起プロフィールの相対的な存在および／または不存在により表される請求項１７または１８記載の方法。
【請求項２０】
産業プロセス材料に関連される情報およびその与えられた特有の発光応答特性は関連されてデータベースに記憶される請求項９乃至１９のいずれか１項記載の方法。
【請求項２１】
産業プロセス材料の複数のライフサイクル段階が生の材料の捕捉、処理、製造、処方、輸送、分配、使用、再使用、メンテナンス、リサイクル、破棄、廃棄物管理の少なくとも２つを含んでいる請求項９乃至２０のいずれか１項記載の方法。
【請求項２２】
さらに、製品、部品または構造物に損傷を与えずに産業プロセス材料から形成された製品、部品または構造物を追跡するステップを含んでいる請求項９乃至２１のいずれか１項記載の方法。
【請求項２３】
産業プロセス材料は複数のバッチで捕捉または処理され、特有の発光応答特性はその目録制御または在庫制御を可能にするために産業プロセス材料の個々のバッチについて与えられる請求項９乃至２２のいずれか１項記載の方法。
【請求項２４】
産業プロセス材料および／またはそれから形成された製品、部品または構造物に与えられた特有の発光応答特性をフィールドの位置または現場で検出するように構成されているポータブル発光読取装置と、
産業プロセス材料、製品、部品および／または構造物に関する情報と、それらの対応する与えられた特有の発光応答特性とを関連して記憶するデータベースと、
ポータブル発光読取装置により検出された発光応答と、データベース中に記憶されている与えられた特有の発光応答とをプロセッサに比較させ、産業プロセス材料、製品、部品および／または構造物を識別するプロセッサ命令を含んでいるシステム。
【請求項２５】
分光計光源と分光計検出器とを含み、これらの光路はサンプル領域を規定する開口を有する不透明なシュラウド中に共通して配置されているポータブル発光読取装置において、分光計光源と分光計検出器はサンプル領域では実質的に焦点面が同一であり、不透明なシュラウドは開口が実質的にサンプルにより閉塞されているとき分光計検出器から周囲光を実質的に遮蔽するポータブル発光読取装置。
【請求項２６】
分光計光源は約２５０ｎｍから３６５ｎｍの波長範囲を有する少なくとも１つの発光ダイオード（ＬＥＤ）を含んでいる請求項２５記載のポータブル発光読取装置。
【請求項２７】
不透明のシュラウドは産業プロセス材料またはそこから形成された製品、部品および／または構造物のサンプルを実質的にカプセル化するように適合可能である請求項２５または２６記載のポータブル発光読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月18日(2009.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験チャンバと、多孔質部分を有するセンサとを備える、回転可能なプラットフォームを有する分析装置であって、
当該センサが、化学種、生物種又は他の有機体等の特定の物質にさらされた際に変位を受ける、
前記分析装置。
【請求項２】
前記センサがカンチレバービームである、請求項１に記載の分析装置。
【請求項３】
前記装置が、前記試験チャンバ又は関連する複数の試験チャンバ及び関連する流路に連通する微小流体通路を含む、請求項１又は２に記載の分析装置。
【請求項４】
前記試験チャンバ又は結合した複数の試験チャンバが、１つ又は２つ以上のカンチレバービームを含む、請求項３に記載の分析装置。
【請求項５】
前記センサが、検出すべき特定の物質を選択的に誘引し且つそれらと結合する、受容体、抗体、抗原又は酵素で官能化されている、請求項１に記載の分析装置。
【請求項６】
前記多孔質部分を、前記受容体を前記ビームに付着させる金層でコーティングして、前記試験チャンバの流体内の事前選択された種又は有機体を結合させるために前記ビームを官能化させた、請求項５に記載の分析装置。
【請求項７】
前記センサが、当該センサが作動すると変位を受ける、モニターすべき表面を含み、モニターされる表面の位置を、分析装置が載せられている機器によりモニターする、請求項１に記載の分析装置。
【請求項８】
前記表面が反射面である、請求項７に記載の分析装置。
【請求項９】
前記機器が、反射面の位置をコンピュータにより決定させ且つ表示させる当該コンピュータに接続されたＣＤドライブである、請求項７に記載の分析装置。
【請求項１０】
前記分析装置が、インレットポートから、前記カンチレバービームを含む試験チャンバ及び廃棄物チャンバに試験流体を運ぶための微小流体システムを含む、請求項１に記載の分析装置。
【請求項１１】
前記廃棄物チャンバが、前記装置のしきい値角速度より上で動く微小機械バルブにより前記試験チャンバから分離されている、請求項１０に記載の分析装置。
【請求項１２】
前記装置が、試験すべき流体全体を受け入れることができ、そして試験するために好適な状態で流体を提供するために、インレットポート導入後に、流体全体から物質をろ過するためのフィルターを含む、請求項１０又は１１に記載の分析装置。
【請求項１３】
前記フィルターが多孔質シリコンの形状をなす、請求項１２に記載の分析装置。
【請求項１４】
前記システムが、試験チャンバに接続された第二のチャンバのための設備を含み、当該第二のチャンバと試験チャンバとの間で流体を循環させることができる、請求項１３に記載の分析装置。
【請求項１５】
前記装置がコンパクトディスク（ＣＤ）の形状である、請求項１〜１４に記載の分析装置。
【請求項１６】
前記装置を回転させるためのドライブユニットと、前記センサをモニターするための読取りユニットとを含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の分析装置を支えるための試験機器。
【請求項１７】
前記機器が、前記読取りユニットに由来する情報を表示するように適合されている、請求項１６に記載の試験機器。
【請求項１８】
前記機器がＣＤドライブの形状であり、そして前記読取りユニットが当該ＣＤドライブの既設の光学読取り／書込みヘッドの一部を形成する、請求項１６又は１７に記載の試験機器。
【請求項１９】
前記機器がコンピュータに直接接続され、フィルター処理工程を開始するためのＣＤドライブの操作と、前記センサの変位を測定するための、チャンバ及び光学読取りシステムの間の流体の移動とを制御するコンピュータプログラムが、当該コンピュータにインストールされている、請求項１６又は１７に記載の試験機器。
【請求項２０】
回転可能なプラットフォームのセンシングチャンバに流体を導入するステップ、そして
センサをモニターして前記変位を検出するステップ、
を含む化学分析方法であって、
前記センシングチャンバには、多孔質部分を有するセンサが含まれ、
当該センサは、前記チャンバ内の選択された分子等の特定の物質を検出した際の変位のために配置されている、
前記方法。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の、多孔質部分を有するカンチレバーセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月11日(2009.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次標準ガス混合物を作るための方法であって、
ガス状成分のための超高純度源を用意する段階と、
温度制御された筐体の中に配置した透過装置に導管を介して前記ガス状成分を連通させる段階と、
前記透過装置を通して前記ガス状成分を拡散し、そこから拡散した成分を除去する段階と、
前記拡散した成分を、所定の期間にわたり導管を介して製品ボンベに、或いは任意選択で洗浄することのできる放出システムに供給する段階とを含み、
前記拡散した成分を製品ボンベに供給する際に、製品容器内で標準ガス混合物の既知の成分濃度を得るために、精製したバランス・ガスを高圧源から該製品容器に供給する、方法。
【請求項２】
一次標準ガス混合物を製造するための装置であって、
温度制御された筐体の中に配置され、温度に応じた一定の拡散速度を有するガス透過装置と、
前記ガス透過装置と連通しているガス状成分の供給源と、
前記供給源と前記透過装置の間に配置されて該ガス状成分の供給源の圧力を制御する調整器と、
前記ガス透過装置を通して拡散されたガス状成分を受ける製品容器と、
精製されたガスの供給源であって、バランス・ガスを供給して一次標準ガス混合物の既知の成分濃度を得るために前記製品容器に連通している供給源とを備える装置。
【請求項３】
請求項２による装置において、前記温度制御された筐体がオーブンである、装置。
【請求項４】
請求項２による装置であって、前記成分の供給及び前記精製されたバランス・ガスの供給を監視し、制御するためのプログラム・ロジック・コントローラ又はコンピュータをさらに備える、装置。
【請求項５】
請求項４による装置において、前記プログラム・ロジック・コントローラ又はコンピュータが、前記製品容器への拡散した成分の流れと該前記製品容器への精製されたガスの流れとの切換えを行うために用いられる、装置。
【請求項６】
請求項２による装置であって、前記製品容器の下に配置され、製品ボンベに送られる拡散した成分の重量を測るスケールをさらに備える、装置。
【請求項７】
一次標準ガス混合物を作るための方法であって、
調整した流れの成分を、供給源から調整器を介して、温度制御された筐体の中に配置したガス透過装置へ供給する段階と、
前記温度制御された筐体の温度を、前記ガス透過装置がほぼ一定の拡散速度である所定温度に調節する段階と、
前記拡散した成分を、製品容器内の該成分が所望量に達するまで、前記ガス透過装置から該製品容器へ送る段階と、
精製されたバランス・ガスを前記製品容器に供給して一次標準ガス混合物の所定の成分濃度を得る段階とを含む、方法。
【請求項８】
請求項７による方法において、前記温度制御された筐体の温度を調節する段階が、該温度制御された筐体内に一定温度を維持することを更に含む、方法。
【請求項９】
請求項７による方法において、前記成分が酸化窒素であり、前記精製されたバランス・ガスが窒素である、方法。
【請求項１０】
請求項７による方法において、前記成分が、一酸化炭素、二酸化炭素、亜酸化酸素、メタン、フッ化水素、塩化水素、塩素、ヘキサフルオロエタン及び六フッ化硫黄、並びにこれらの混合物で構成される群から選択される、方法。
【請求項１１】
請求項７による方法において、前記精製されたバランス・ガスが、ヘリウム、窒素、空気、酸素、二酸化炭素及びアルゴン、並びにこれらの混合物で構成される群から選択される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月8日(2009.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの異なる接近方向での物体の接触によって物体の寸法測定をする測定用プローブであって、
物体接触領域を有し、ほぼ軸に沿って延在するステムを有する針、
各々が針の物体接触領域により物体の接触を検出する出力を有する複数のセンサー素子を有する針接触決定装置、及び
センサー素子の出力を処理するプロセッサーであって、少なくとも２つのセンサー素子からの出力を処理するプロセッサー、
を備え、
センサー素子からの出力は、物体が軸に平行な接近方向に沿って接近するときの感度が、物体が軸と直交する接近方向に沿って接近するときの感度と比較して異なるように、プロセッサーで組み合わされ、
それにより、針の物体接触領域の所定の変位により引き起こされる物体接触トリガー信号を提供し、所定の変位は、測定プローブと物体との間の接近方向と無関係であることを特徴とする測定用プローブ。
【請求項２】
プロセッサーは、アルゴリズムまたは計算式にしたがって、センサー素子からの出力を組み合わせることを特徴とする請求項１に記載の測定用プローブ。
【請求項３】
アルゴリズムまたは計算式は、
Ｇ＝１／α｛ΔＲ１２＋ΔＲ２２＋ΔＲ３２＋β（ΔＲ１ΔＲ２＋ΔＲ２ΔＲ３＋ΔＲ３ΔＲ１）｝
であり、ここで、ΔＲ１、ΔＲ２及びΔＲ３は、センサー素子の出力を意味することを特徴とする請求項２に記載の測定用プローブ。
【請求項４】
プロセッサーは、センサー素子からの出力をルックアップテーブルの所定のデータと比較することを特徴とする請求項１に記載の測定用プローブ。
【請求項５】
各センサー素子は、歪ゲージを備えることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の測定用プローブ。
【請求項６】
プローブ本体を含み、
プロセッサーは、該プローブ本体内に配置されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の測定用プローブ。
【請求項７】
針接触決定装置は、３つのセンサー素子を備えていることを特徴とする請求項１に記載の測定用プローブ。
【請求項８】
センサー素子は、軸の周囲に放射状に延在していることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の測定用プローブ。
【請求項９】
プロセッサーは、ディジタルプロセッサーであることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の測定用プローブ。
【請求項１０】
針は、軸に沿って実質的に硬く、軸に直交する方向に曲がることができることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の測定用プローブ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月17日(2009.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動するウェブ（１０）の繊維配向を測定する方法であって、
（ａ）異なる偏光特性を有する少なくとも４つの平面偏光された入射光ビーム（１３、１５、１７、１９）を用いて、ウェブ（１０）の第１の側上の少なくとも４つの光スポットを本質的に同時に照射するステップであって、前記少なくとも４つの平面偏光された光ビーム（１３、１５、１７、１９）のそれぞれが、ウェブ表面に対して実質的に垂直に入射し、前記ウェブ（１０）を通って透過されて、少なくとも４つの対応する透過出射光スポット（２２、２４、２６、２８）を前記第１の側に反対の前記ウェブ（１０）の第２の側上に生成するステップと、
（ｂ）前記少なくとも４つの平面偏光された光ビーム（１３、１５、１７、１９）のそれぞれに対して、対応する前記平面偏光された入射光ビームの偏光平面に対して既知の角度である少なくとも１つの直線区間に沿った前記出射光スポット（２２、２４、２６、２８）の分散を測定するステップであって、少なくとも１つのこの直線区間が、前記透過出射光スポットの中心を実質的に横切って位置しさらに前記透過出射光スポットの幅を実質的に横切って延在するステップと、
（ｃ）前記少なくとも４つの平面偏光された光ビームに対して、前記透過出射光スポットの分散のばらつきが存在する場合には、該ばらつきを計算するステップと、
（ｄ）前記ばらつきから前記ウェブの前記繊維配向を推定するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
ステップ（ｂ）が、前記ウェブ（１０）の前記第２の側上で照射領域（３２）の画像を得るステップであって、前記照射領域（３２）が、前記少なくとも４つの入射光ビーム（１３、１５、１７、１９）からの前記透過出射光スポット（２２、２４、２６、２８）を含む、ステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
異なる偏光特性を有する少なくとも４つの平面偏光された入射光ビーム（１３、１５、１７、１９）を用いて、ウェブ（１０）の第１の側上の少なくとも４つの光スポット（２０、１２、１４、１６、１８）を本質的に同時に照射する手段であって、
前記少なくとも４つの平面偏光された光ビーム（１３、１５、１７、１９）のそれぞれが、ウェブ表面に実質的に垂直に入射し、前記ウェブ（１０）を通って透過されて、少なくとも４つの対応する透過出射光スポット（２２、２４、２６、２８）を前記第１の側に反対の前記ウェブ（１０）の第２の側上に生成する手段と、
前記ウェブ（１０）の前記第２の側上で照射領域（３２）の少なくとも１つの画像を得る画像取得手段（３０）であって、前記照射領域（３２）が、前記少なくとも４つの入射光ビーム（１３、１５、１７、１９）からの前記透過出射光スポット（２２、２４、２６、２８）を含む手段と、
対応する前記平面偏光された入射光ビームの前記偏光平面に対して既知の角度にある少なくとも１つの直線区間に沿って、前記出射光スポットの分散を測定するための、前記少なくとも４つの平面偏光された光ビーム（１３、１５、１７、１９）のそれぞれ関連する制御手段（１４５）であって、少なくとも１つのこの直線区間が、前記透過出射光スポットの中心を実質的に横切って位置しさらに前記透過出射光スポットの幅を実質的に横切って延在する手段と、
前記少なくとも４つの平面偏光された光ビーム（１３、１５、１７、１９）に対する前記透過出射光スポットの分散のばらつきが存在する場合には、該ばらつきを計算する手段と、
前記ばらつきから前記ウェブ（１０）の繊維配向を推定する手段と
を含む、前記ウェブ（１０）の前記繊維配向を測定するシステム。
【請求項４】
前記少なくとも４つの平面偏光された光ビーム（１３、１５、１７、１９）のそれぞれに対して、
（ｉ）前記入射光ビームの前記偏光平面に実質的に一致する角度にある１つの直線区間、
（ｉｉ）前記入射光ビームの前記偏光平面に対して実質的に垂直の角度にある１つの直線区間、および、
（ｉｉｉ）前記入射光ビームの前記偏光平面に実質的に一致する角度にある１つの第１の直線区間のうちのいずれかの直線区間であって、かつ、
前記入射光ビームの前記偏光平面に実質的に垂直の角度にある１つの第２の直線区間に沿って、前記出射光スポットの分散が測定される、請求項３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月1日(2009.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感知電極と計数電極および多孔性がそれぞれで異なる第一（センサ）マトリックスと第二（リザーバ）マトリックスを備えてなり、各マトリックスが電解質を含有している電気化学センサであって、第二マトリックスに隣接している第一マトリックスの表面には、感知電極として触媒コーティングが塗布されており、第二マトリックスの中に含有されている電解質は、第一マトリックスへまたは第一マトリックスから流動可能である、電気化学センサ。
【請求項２】
請求項１に記載の電気化学センサにおいて、
前記第一マトリックス上に塗布または配された触媒コーティングが最も細孔の多孔性すなわち最大の表面積を有する
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気化学センサにおいて、
前記センサマトリックスが中間の多孔性すなわち中間の表面積を有し、リザーバマトリックスが最小の表面積を有する
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気化学センサにおいて、
前記計数電極が、第一マトリックスまたは第二マトリックスに塗布された触媒コーティングを備えて構成されている
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気化学センサにおいて、
前記両マトリックスが、プラスチック材料で形成されているか、または約１２０℃以上の周囲温度で使用するためセラミック材料で形成されている
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気化学センサにおいて、
前記両マトリックスが、試料ガスまたは試験用ガス流を受け入れる手段を含むハウジング内に入っている
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気化学センサであって、さらに、
第三の電極を有する
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気化学センサにおいて、
前記電解質が硫酸を含んで構成されている
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項９】
電解質として一塩基性酸を備えてなる電気化学センサ。
【請求項１０】
請求項９に記載の電気化学センサにおいて、
前記一塩基性酸が、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸および過塩素酸から選択される
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の電気化学センサにおいて
前記電解質が湿潤剤を含有している
ことを特徴とする電気化学センサ。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれか一項に記載の電気化学センサにおいて
前記電解質が一塩基性酸ならびに硫酸および／またはオルトリン酸を含んで構成されている
ことを特徴とする電気化学センサ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月14日(2009.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）再充電電位を有する正極、
（ｂ）負極、
（ｃ）電荷担持媒体及びリチウム塩を含む、電荷担持電解質、並びに
（ｄ）前記電解質に溶解した又は溶解可能なＮ−置換又はＣ−置換のフェノチアジン化合物を含み、かつ、前記正極の再充電電位よりも高い酸化電位を有する、循環可能な酸化還元化学シャトル物質
を備え、Ｎ−置換フェノチアジンのＮ−置換基は芳香族基を含まないことを特徴とする、再充電可能なリチウムイオン電池。
【請求項２】
（ａ）再充電電位を有し、かつ、ＬｉＦｅＰＯ４、Ｌｉ２ＦｅＳｉＯ４、ＬｉｘＭｎＯ２（式中ｘは約０．３〜約０．４である）、又はＭｎＯ２を含む正極、
（ｂ）黒鉛化カーボン、リチウム金属又はリチウム合金を含む負極、並びに
（ｃ）電荷担持電解質
を備えており、前記電荷担持電解質が、
（ｉ）エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート又はそれらの組み合わせを含む電荷担持媒体；
（ｉｉ）ＬｉＰＦ６、リチウムビス（オキサラト）ボレート、又はそれらの組み合わせを含むリチウム塩；並びに
（ｉｉｉ）電解質中に溶解した１０−メチル−フェノチアジン、１０−エチル−フェノチアジン、３−クロロ−１０−エチルフェノチアジン、又は１０−アセチル−フェノチアジン又はそれらの混合物を含み、かつ、前記正極の再充電電位よりも高い酸化電位を有する、循環可能な酸化還元化学シャトル物質
を含むことを特徴とする、再充電可能なリチウムイオン電池。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月8日(2009.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
雌型電気コネクタにおいて、
電気プラグを受け入れるための貫通ボアを備えた本体と；
上記ボア内に形成された螺旋状の溝と；
上記螺旋状の溝内に位置し、上記プラグへの電気的接続及び上記ボア内での当該プラグの保持の双方を提供するように当該螺旋状の溝から突出する傾斜したコイルバネと；
上記本体内に埋設され、上記ボアを取り囲み、上記バネと相互接続し、当該本体の外部へ延びるワイヤセグメントを有する接続ラグと；
を有することを特徴とするコネクタ。
【請求項２】
上記本体が非導電性材料から形成されることを特徴とする請求項１に記載のコネクタ。
【請求項３】
上記溝が平坦な底部を備えた溝であることを特徴とする請求項１に記載のコネクタ。
【請求項４】
上記傾斜したコイルバネが軸方向の傾斜したコイルバネであることを特徴とする請求項３に記載のコネクタ。
【請求項５】
上記傾斜したコイルバネが半径方向の傾斜したコイルバネであることを特徴とする請求項３に記載のコネクタ。
【請求項６】
上記溝がＶ字状の底部を備えた溝であることを特徴とする請求項１に記載のコネクタ。
【請求項７】
上記バネが軸方向の傾斜したコイルバネであることを特徴とする請求項６に記載のコネクタ。
【請求項８】
上記バネが半径方向の傾斜したコイルバネであることを特徴とする請求項６に記載のコネクタ。
【請求項９】
上記溝がテーパ状の底部を有することを特徴とする請求項１に記載のコネクタ。
【請求項１０】
上記バネが軸方向の傾斜したコイルバネであることを特徴とする請求項９に記載のコネクタ。
【請求項１１】
上記バネが半径方向の傾斜したコイルバネであることを特徴とする請求項９に記載のコネクタ。
【請求項１２】
雌型電気コネクタにおいて、
電気プラグを受け入れるための貫通ボアを備えた本体と；
上記ボア内に形成された螺旋状の溝と；
上記螺旋状の溝内に位置し、上記プラグへの電気的接続及び上記ボア内での当該プラグの保持の双方を提供するように当該螺旋状の溝から突出する傾斜したコイルバネと；
上記本体上に位置し、上記ボアを取り囲み、上記バネと相互接続し、当該本体の外部へ延びるワイヤセグメントを有する接続ラグと；
を有することを特徴とするコネクタ。
【請求項１３】
上記接続ラグが上記本体の端部上に位置することを特徴とする請求項１２に記載のコネクタ。
【請求項１４】
上記接続ラグが当該ラグを上記本体に取り付けるように当該本体内に埋設された端部を有することを特徴とする請求項１３に記載のコネクタ。
【請求項１５】
上記バネと上記ラグとの間の相互接続が上記本体内及び当該ラグの内側表面上で行われることを特徴とする請求項１４に記載のコネクタ。
【請求項１６】
上記ボアが円形の横断面を有することを特徴とする請求項１２に記載のコネクタ。
【請求項１７】
上記バネと上記ラグとの間の相互接続が溶接により行われることを特徴とする請求項１２に記載のコネクタ。
【請求項１８】
電気プラグへの電気的接続を提供する方法において、
電気プラグを受け入れるための貫通ボアを備えた本体と；上記ボア内に形成された螺旋状の溝と；上記螺旋状の溝内に位置し、上記プラグへの電気的接続及び上記ボア内での当該プラグの保持の双方を提供するように当該螺旋状の溝から突出する傾斜したコイルバネと；上記本体内に埋設され、上記ボアを取り囲み、上記バネと相互接続し、当該本体の外部へ延びるワイヤセグメントを有する接続ラグと；を有する雌型電気コネクタを提供する工程と；
上記プラグを上記ボア内に挿入する工程と；
を有し、上記バネが上記プラグを上記ボア内に保持し、当該プラグとの電気的接続を提供することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月27日(2009.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスの集積回路を試験するための装置であって、
装置フレームと、
前記装置フレーム上のアラインメント構造と、
前記装置フレームに取り付けられ、前記デバイスを保持することができる保持具と、
カートリッジフレームと、
前記カートリッジフレームに取り付けられた接触器支持構造体と、
前記接触器支持構造体上の複数の端子と、
前記端子が前記デバイスの接点と該端子及び該接点が互いに向けて相対的に移動する時に接触することができる位置に前記カートリッジフレームを前記装置フレーム上で位置決めするように前記アラインメント構造と嵌合する、該カートリッジフレーム上の位置決め構造と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記装置フレーム上の複数のアラインメント構造と、各々が該アラインメント構造のそれぞれのものと嵌合する前記カートリッジフレーム上の複数の位置決め構造とを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記端子が前記接点に押圧される時に前記装置フレームから離れる前記カートリッジフレームの移動を防止するために該装置フレームと該カートリッジフレームを解除可能に相互接続する保持機構を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記保持機構は、遠隔操作で作動可能であることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記アラインメント構造は、前記フレームにおける開口部であり、前記位置決め構造は、該開口部に挿入された位置決めピンであり、前記保持構造は、該位置決めピン上の保持構造と係合することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記接触器支持構造体上のインタフェースと、前記端子を該インタフェースの接点に相互接続する複数の導体と、信号を通過させて該端子と前記デバイス上の前記接点とに経路指定することができる該インタフェースに取り付けられた撓みコネクタとを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
カートリッジフレームと、
各々が、装置フレームのそれぞれの開口部に挿入可能であり、かつ各々が、保持構造を有し、それを用いて該装置フレーム上の保持機構が前記カートリッジフレームを該装置フレームに固定するように係合可能である、カートリッジ上の複数の位置決めピンと、
前記カートリッジフレームに取り付けられた接触器支持構造体と、
各々が、デバイスのそれぞれの接点に接触するために位置決めされている、前記接触器支持構造体上の複数の端子と、
前記接触器支持構造体上のインタフェースと、
前記端子を前記インタフェースの接点に相互接続する複数の導体と、
を含むことを特徴とするカートリッジ。