【手続補正書】
【提出日】平成23年4月13日(2011.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、デバイス製造方法、及び洗浄方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口を囲むように設けられ、前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記液浸領域の液体と接触する部材を洗浄する露光装置。
【請求項２】
液体の性質と成分の少なくとも一方を計測する計測装置をさらに備えた請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
液体の性質と成分の少なくとも一方を計測する計測装置と、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記液浸領域の液体と接触する部材を洗浄する露光装置。
【請求項４】
前記計測装置は、前記液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計を含む請求項２又は３記載の露光装置。
【請求項５】
前記計測装置は、前記液体中の全有機体炭素を計測するための計測器を含む請求項２〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
前記計測装置は、前記液体中の異物を計測するためのパーティクルカウンタを含む請求項２〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記計測装置は、前記液体中の溶存酸素濃度を計測するための計測器、前記液体中の溶存窒素濃度を計測するための計測器、及び前記液体中のシリカ濃度を計測するためのシリカ計の少なくとも一つを含む請求項２〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記計測装置の計測結果に基づいて前記洗浄が行われる請求項２〜７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項９】
前記液浸領域の液体と接触する部材は、前記基板ステージを含む請求項１〜８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給された液体で前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成した状態で、前記基板ホルダに前記ダミー基板が保持された前記基板ステージを移動することにより、前記基板ステージを洗浄する請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記基板ステージの上面は、撥液性である請求項９又は１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記基板ステージの上面は、フッ素系樹脂材料で形成されている請求項９〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
前記基板ステージの上面は、アクリル系樹脂材料で形成されている請求項９〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１４】
前記基板ステージの上面は、シリコン系樹脂材料で形成されている請求項９〜１１のいずれか一記載の露光装置。
【請求項１５】
前記基板ステージの上面は、前記基板ホルダに保持された前記パターンが投影される前記基板の表面とほぼ面一になるように設けられている請求項９〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記液浸領域の液体と接触する部材は、前記基板ステージに設けられた光計測部を含む請求項１〜１５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１７】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給された液体で前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成した状態で、前記基板ホルダに前記ダミー基板が保持された前記基板ステージを移動することにより、前記基板ステージに設けられた光計測部を洗浄する請求項１６記載の露光装置。
【請求項１８】
前記光計測部を用いる計測処理は、前記基板上にパターンを投影するための液体で前記光計測部上に液浸領域を形成し、その液浸領域の液体を介して行われる請求項１６又は１７記載の露光装置。
【請求項１９】
前記光計測部の上面は、前記基板ステージの上面とほぼ面一である請求項１６〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２０】
前記液浸領域の液体と接触する部材は、前記基板ステージに設けられた計測部材を含む請求項１〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２１】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給された液体で前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成した状態で、前記基板ホルダに前記ダミー基板が保持された前記基板ステージを移動することにより、前記基板ステージに設けられた計測部材を洗浄する請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記計測部材は、アライメント用のマークを有し、
前記計測部材のマークの計測は、前記基板上にパターンを投影するための液体で前記計測部材上に液浸領域を形成し、その液浸領域の液体を介して行われる請求項２０又は２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記計測部材の上面は、前記基板ステージの上面とほぼ面一である請求項２０〜２２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２４】
前記供給口と前記回収口は、前記基板ホルダに保持された基板が対向するように配置されている請求項１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２５】
前記液浸領域と接触する部材は、ノズル部材を含む請求項１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２６】
前記ノズル部材は、前記回収口を有する請求項２５記載の露光装置。
【請求項２７】
前記回収口には多孔体が設けられている請求項２６記載の露光装置。
【請求項２８】
前記回収口は、前記基板ホルダに保持された基板が対向するように配置されている請求項２６又は２７記載の露光装置。
【請求項２９】
前記ノズル部材は、前記供給口を有する請求項２５〜２８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３０】
前記供給口は、前記基板ホルダに保持された基板が対向するように配置されている請求項２９記載の露光装置。
【請求項３１】
前記液浸領域の液体と接触する部材は、前記投影光学系の先端部の光学素子を含む請求項１〜３０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３２】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
パターンを基板上に投影するための投影光学系と、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記基板ステージを洗浄する露光装置。
【請求項３３】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給された液体で前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成した状態で、前記基板ホルダに前記ダミー基板が保持された前記基板ステージを移動することにより、前記基板ステージを洗浄する請求項３２記載の露光装置。
【請求項３４】
前記基板ステージの上面は、撥液性である請求項３２又は３３記載の露光装置。
【請求項３５】
前記基板ステージの上面は、フッ素系樹脂材料で形成されている請求項３２〜３４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３６】
前記基板ステージの上面は、アクリル系樹脂材料で形成されている請求項３２〜３４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３７】
前記基板ステージの上面は、シリコン系樹脂材料で形成されている請求項３２〜３４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３８】
前記基板ステージの上面は、前記基板ホルダに保持された前記パターンが投影される前記基板の表面とほぼ面一になるように設けられている請求項３２〜３７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３９】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
パターンを基板上に投影するための投影光学系と、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記基板ステージに設けられた光計測部を洗浄する露光装置。
【請求項４０】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給された液体で前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成した状態で、前記基板ホルダに前記ダミー基板が保持された前記基板ステージを移動することにより、前記基板ステージに設けられた光計測部を洗浄する請求項３９記載の露光装置。
【請求項４１】
前記光計測部を用いる計測処理は、前記基板上にパターンを投影するための液体で前記光計測部上に液浸領域を形成し、その液浸領域の液体を介して行われる請求項３９又は４０記載の露光装置。
【請求項４２】
前記光計測部の上面は、前記基板ステージの上面とほぼ面一である請求項３９〜４１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項４３】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
パターンを基板上に投影するための投影光学系と、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記基板ステージに設けられた計測部材を洗浄する露光装置。
【請求項４４】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給された液体で前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成した状態で、前記基板ホルダに前記ダミー基板が保持された前記基板ステージを移動することにより、前記基板ステージに設けられた計測部材を洗浄する請求項４３記載の露光装置。
【請求項４５】
前記計測部材は、アライメント用のマークを有し、
前記計測部材のマークの計測は、前記基板上にパターンを投影するための液体で前記計測部材上に液浸領域を形成し、その液浸領域の液体を介して行われる請求項４３又は４４記載の露光装置。
【請求項４６】
前記計測部材の上面は、前記基板ステージの上面とほぼ面一である請求項４３〜４５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項４７】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
パターンを基板上に投影するための投影光学系と、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、
前記回収口を有するノズル部材と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記ノズル部材を洗浄する露光装置。
【請求項４８】
前記回収口は、前記基板ホルダに保持された基板が対向するように配置されている請求項４７記載の露光装置。
【請求項４９】
投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介してパターンを基板上に投影する液浸露光装置において、
パターンを基板上に投影するための投影光学系と、
前記基板を保持する基板ホルダを支持する基板ステージと、
液体を供給するための供給口と、
前記供給口から供給された液体を回収するための回収口と、
前記供給口を有するノズル部材と、を備え、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記ノズル部材を洗浄する露光装置。
【請求項５０】
前記供給口は、前記基板ホルダに保持された基板が対向するように配置されている請求項４９記載の露光装置。
【請求項５１】
液体の性質と成分の少なくとも一方を計測する計測装置をさらに備えた請求項３２〜５０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５２】
前記計測装置は、前記液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計を含む請求項５１記載の露光装置。
【請求項５３】
前記計測装置は、前記液体中の全有機体炭素を計測するための計測器を含む請求項５１又は５２記載の露光装置。
【請求項５４】
前記計測装置は、前記液体中の異物を計測するためのパーティクルカウンタを含む請求項５１〜５３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５５】
前記計測装置は、前記液体中の溶存酸素濃度を計測するための計測器、前記液体中の溶存窒素濃度を計測するための計測器、及び前記液体中のシリカ濃度を計測するためのシリカ計の少なくとも一つを含む請求項５１〜５４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５６】
前記計測装置の計測結果に基づいて前記洗浄が行われる請求項５１〜５５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５７】
前記洗浄において前記投影光学系の像面側に供給される液体は、前記基板上にパターンを投影するための液体とは別の、所定の機能を有する機能液を含む請求項１〜５６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５８】
前記機能液は、殺菌作用を有する液体を含むことを特徴とする請求項５７記載の露光装置。
【請求項５９】
前記機能液は、過酸化水素水、あるいはオゾンを含む液体である請求項５７又は５８記載の露光装置。
【請求項６０】
前記機能液は、異物除去機能を有する請求項５７記載の露光装置。
【請求項６１】
前記機能液は、水素水を含む請求項５７又は６０記載の露光装置。
【請求項６２】
前記機能液は、導電性を有する液体を含む請求項５７記載の露光装置。
【請求項６３】
前記機能液は、炭酸ガス水を含む請求項５７又は６２記載の露光装置。
【請求項６４】
前記洗浄のときに供給される液体は、前記基板上にパターンを投影するための液体を含む請求項１〜６３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６５】
前記基板上にパターンを投影するための液体は、純水を含む請求項６４記載の露光装置。
【請求項６６】
前記ダミー基板は、前記洗浄のために前記供給口から供給される液体に対しては撥液性を有している請求項１〜６５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６７】
前記パターンを前記基板上に投影するときに前記投影光学系の像面側に形成される液浸領域は、前記投影光学系の投影領域よりも大きく、前記基板ホルダ上に保持される基板よりも小さい請求項１〜６６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６８】
前記洗浄は、所定時間間隔毎に実行される請求項１〜６７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６９】
前記ダミー基板は、前記パターンが投影される前記基板とほぼ同じ大きさである請求項１〜６８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７０】
前記ダミー基板は、前記パターンが投影される前記基板とほぼ同じ大きさである請求項１〜６９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７１】
請求項１〜７０のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【請求項７２】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上に投影光学系によりパターンを投影する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記基板ステージを洗浄する洗浄方法。
【請求項７３】
前記洗浄において、前記基板ステージに設けられた光計測部を洗浄する請求項７２記載の洗浄方法。
【請求項７４】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上に投影光学系によりパターンを投影する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記基板ステージに設けられた光計測部を洗浄する洗浄方法。
【請求項７５】
前記液浸露光装置において、前記光計測部を用いる計測処理は、前記基板上にパターンを投影するための液体で前記光計測部上に液浸領域を形成し、その液浸領域の液体を介して行われる請求項７３又は７４記載の洗浄方法。
【請求項７６】
前記洗浄において、前記基板ステージに設けられた計測部材を洗浄する請求項７２〜７５のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項７７】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上に投影光学系によりパターンを投影する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記基板ステージに設けられた計測部材を洗浄する洗浄方法。
【請求項７８】
前記計測部材は、アライメント用のマークを有し、
前記液浸露光装置において、前記計測部材のマークの計測は、前記基板上にパターンを投影するための液体で前記計測部材上に液浸領域を形成し、その液浸領域の液体を介して行われる請求項７６又は７７記載の洗浄方法。
【請求項７９】
前記洗浄において、前記基板上の液体を回収する回収口を有するノズル部材を洗浄する請求項７２〜７８のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項８０】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上への供給口からの液体の供給と、前記基板上の液体の回収口からの回収とを行うとともに、前記投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介して前記投影光学系により前記基板上にパターンを投影する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記回収口を有するノズル部材を洗浄する洗浄方法。
【請求項８１】
前記液浸露光装置において、前記ノズル部材の前記回収口は、前記ダミー基板が対向するように配置されている請求項７９又は８０記載の洗浄方法。
【請求項８２】
前記ノズル部材は、前記基板上に液体を供給する供給口を有する請求項７９〜８１のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項８３】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上への供給口からの液体の供給と、前記基板上の液体の回収口からの回収とを行うとともに、前記投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介して前記投影光学系により前記基板上にパターンを投影する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記供給口を有するノズル部材を洗浄する洗浄方法。
【請求項８４】
前記液浸露光装置において、前記ノズル部材の前記供給口は、前記ダミー基板が対向するように配置されている請求項８２又は８３記載の洗浄方法。
【請求項８５】
前記洗浄において、前記投影光学系の先端部の光学素子を洗浄する請求項７２〜８４のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項８６】
基板ステージの基板ホルダに保持された基板上への供給口からの液体の供給と、前記供給口を囲むように設けられた回収口からの前記基板上の液体の回収とを行うとともに、前記投影光学系の像面側に形成された液浸領域の液体を介して前記投影光学系により前記基板上にパターンを投影する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
前記基板ホルダにダミー基板が保持された前記基板ステージを前記投影光学系の像面側に配置するとともに、前記投影光学系の像面側に液体を供給して、前記液浸領域の液体と接触する部材を洗浄する洗浄方法。
【請求項８７】
前記洗浄において、前記投影光学系の像面側に供給される液体は、前記基板上にパターンを投影するための液体とは別の、所定の機能を有する機能液を含む請求項７２〜８６のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項８８】
前記機能液は、殺菌作用を有する液体を含むことを特徴とする請求項８７記載の洗浄方法。
【請求項８９】
前記機能液は、過酸化水素水、あるいはオゾンを含む液体である請求項８７又は８８記載の洗浄方法。
【請求項９０】
前記機能液は、異物除去機能を有する請求項８７記載の洗浄方法。
【請求項９１】
前記機能液は、水素水を含む請求項８７又は９０記載の洗浄方法。
【請求項９２】
前記機能液は、導電性を有する液体を含む請求項８７記載の洗浄方法。
【請求項９３】
前記機能液は、炭酸ガス水を含む請求項８７又は９２記載の洗浄方法。
【請求項９４】
前記洗浄のときに供給される液体は、前記基板上にパターンを投影するための液体を含む請求項７２〜９３のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項９５】
前記基板上にパターンを投影するための液体は、純水を含む請求項９４記載の洗浄方法。
【請求項９６】
前記ダミー基板は、前記洗浄のために前記供給口から供給される液体に対しては撥液性を有している請求項７２〜９５のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項９７】
前記液浸露光装置は、液体の性質と成分の少なくとも一方を計測する計測装置を備え、
前記洗浄は、前記計測装置の計測結果に基づいて行われる請求項７２〜９６のいずれか一項記載の洗浄方法。
【請求項９８】
前記計測装置は、前記液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計、前記液体中の全有機体炭素を計測するための計測器、前記液体中の異物を計測するためのパーティクルカウンタ、前記液体中の溶存酸素濃度を計測するための計測器、前記液体中の溶存窒素濃度を計測するための計測器、及び前記液体中のシリカ濃度を計測するためのシリカ計の少なくとも一つを含む請求項９７記載の洗浄方法。
【請求項９９】
前記洗浄は、所定時間間隔毎に実行される請求項７２〜９８のいずれか一項記載の洗浄方法。