【手続補正書】
【提出日】平成21年5月15日(2009.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビームの径路に沿って質量分析器の入口近くに配置された入口ビームストップを含んでいる、質量分析器用のビームストップアセンブリであって、
前記入口ビームストップは、イオンビームに対して選択的に位置決め可能であり、かつ、イオンビームに対する前記入口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器に入るのを選択的に防止するように作動することを特徴とするビームストップアセンブリ。
【請求項２】
前記入口ビームストップは、質量分析器に対して滑動可能に結合されているプレートからなることを特徴とする請求項１記載のビームストップアセンブリ。
【請求項３】
前記プレートに結合され作動可能なアクチュエータを含み、該アクチュエータは、前記プレートを選択的に位置決めるように作動可能であることを特徴とする請求項１記載のビームストップアセンブリ。
【請求項４】
前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記プレートを選択的に回転させるように作動可能な回転アクチュエータからなることを特徴とする請求項３記載のビームストップアセンブリ。
【請求項５】
前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記プレートを選択的に直線的に並進するように作動可能なリニアアクチュエータからなることを特徴とする請求項３記載のビームストップアセンブリ。
【請求項６】
前記プレートは、炭素系材料からなることを特徴とする請求項２記載のビームストップアセンブリ。
【請求項７】
前記炭素系材料は、グラファイトからなることを特徴とする請求項６記載のビームストップアセンブリ。
【請求項８】
前記入口ビームストップの上流に位置する測定装置をさらに含み、該測定装置は、イオンビームの１つ以上の特性を検出するように作動可能であることを特徴とする請求項１記載のビームストップアセンブリ。
【請求項９】
前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの１つまたは複数を含むことを特徴とする請求項８記載のビームストップアセンブリ。
【請求項１０】
イオンビームの径路に沿って前記質量分析器の出口近くに配置された出口ビームストップをさらに含み、この出口ビームストップは、イオンビームに対して選択的に位置決められ、かつイオンビームに対する前記出口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器から排出するのを選択的に防止するように作動可能であることを特徴とする請求項１記載のビームストップアセンブリ。
【請求項１１】
前記出口ビームストップの上流に配置された測定装置をさらに含み、この測定装置は、イオンビームの１つ以上の特性を検出するように作動可能であることを特徴とする請求項１０記載のビームストップアセンブリ。
【請求項１２】
前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの１つまたは複数を含むことを特徴とする請求項１１記載のビームストップアセンブリ。
【請求項１３】
出口開口を有し、該出口開口を通るイオンビームを形成するように作動可能なイオン源と、
質量分析器と、
イオンビームの径路に沿って該質量分析器の入口近くに配置された入口ビームストップを含み、該入口ビームストップがイオンビームに対して選択的に位置決め可能であり、かつイオンビームに対する入口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器に入るのを選択的に防止するように作動可能である、ビームストップアセンブリと、
前記入口ビームストップの位置を制御するように作動し、この制御が、イオン源から形成されたイオンビームの安定性に基づいている、コントローラと、
を含んでいることを特徴とするイオン注入システム。
【請求項１４】
前記入口ビームストップに結合して作動するアクチュエータを含み、該アクチュエータは、少なくともイオンビームの安定性に基づいて、入口ビームストップを選択的に位置決めるように作動可能であることを特徴とする請求項１３記載のイオン注入システム。
【請求項１５】
前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記入口ビームストップを選択的に回転させるように作動可能な回転アクチュエータからなることを特徴とする請求項１４記載のイオン注入システム。
【請求項１６】
前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記前記入口ビームストップを選択的に直線的に並進するように作動可能なリニアアクチュエータからなることを特徴とする請求項１４記載のイオン注入システム。
【請求項１７】
前記入口ビームストップは、グラファイトプレートからなることを特徴とする請求項１３記載のイオン注入システム。
【請求項１８】
前記入口ビームストップの上流に配置された測定装置をさらに含み、この測定装置は、イオンビームの１つ以上の特性を検出するように作動可能であり、前記コントローラは、前記１つ以上の特性に基づいてイオンビームの安定性を決定するように作動可能であることを特徴とする請求項１３記載のイオン注入システム。
【請求項１９】
前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの１つまたは複数を含むことを特徴とする請求項１８記載のイオン注入システム。
【請求項２０】
イオンビームの径路に沿って前記質量分析器の出口近くに配置された出口ビームストップをさらに含み、この出口ビームストップは、イオンビームに対して選択的に位置決められ、かつイオンビームに対する前記出口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器から排出するのを選択的に防止するように作動可能であることを特徴とする請求項１３記載のイオン注入システム。
【請求項２１】
前記出口ビームストップの上流に配置された測定装置をさらに含み、この測定装置は、イオンビームの１つ以上の特性を検出するように作動可能であり、前記コントローラは、前記１つ以上の特性に基づいてイオンビームの安定性を決定するように作動可能であることを特徴とする請求項２０記載のイオン注入システム。
【請求項２２】
前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの１つまたは複数を含むことを特徴とする請求項２１記載のイオン注入システム。
【請求項２３】
イオン注入システムにおける粒子汚染を防止するための方法であって、
質量分析器の入口を選択的に塞ぎ、
未分化のイオンビームを形成するイオン源内のイオンを励起し、
前記イオン源が安定化した時点で、前記質量分析器の入口を選択的に開く、各動作を含むことを特徴とする方法。
【請求項２４】
さらに、前記質量分析器の入口近くの未分化のイオンビームの１つ以上の測定された特性を測定し、
前記未分化のイオンビームの１つ以上の測定された特性に基づいて、前記イオン源及び質量分析器の１つまたは両方を制御する、動作を含むことを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
さらに、前記質量分析器の出口を塞ぎ、
未分化のイオンビームを質量分析器、選択されたイオンビームを形成し、
前記質量分析器の出口近くの選択されたイオンビームの１つ以上の特性を測定し、
選択されたイオンビームの１つ以上の測定された特性に基づいて、前記イオン源及び質量分析器の１つまたは複数を制御する、各動作を含むことを特徴とする請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
前記質量分析器の出口が塞がれるとき、イオンビームの径路に沿って加工物を配置し、そして、出口が開いているとき、前記加工物内にイオンを注入する、各動作を含むことを特徴とする請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
さらに、イオンが加工物内に注入された後で、前記質量分析器の出口が塞がれるとき、イオンビームの径路から前記加工物を取り除く動作を含むことを特徴とする請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
さらに、前記質量分析器の入口が塞がれるとき、イオンビームの径路に沿って加工物を配置し、そして、入口が開いているとき、前記加工物内にイオンを注入する、各動作を含むことを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２９】
さらに、イオンが加工物内に注入された後で、前記質量分析器の入口が塞がれるとき、イオンビームの径路から前記加工物を取り除く動作を含むことを特徴とする請求項２８記載の方法。