【手続補正書】
【提出日】平成21年2月13日(2009.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック基板上に支持される放射線硬化可能なポリマーのパターニング方法であって：
プラスチック基板上に放射線硬化可能なポリマーを堆積し；及び
前記放射線硬化可能なポリマーの少なくとも一部を硬化エネルギー放射線にイメージ通りに曝露して硬化ポリマー領域を提供することを含み、さらに
前記プラスチック基板が前記放射線から保護される、前記パターニング方法。
【請求項２】
前記プラスチック基板が、前記硬化エネルギー放射線を吸収するために選択される添加剤の前記基板への添加によって前記硬化エネルギー放射線から保護される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プラスチック基板が、前記基板上に堆積される前記エネルギー放射線に関して不透明な障壁層によって前記硬化エネルギー放射線から保護される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記障壁層が金属膜を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記障壁層が前記エネルギー放射線を吸収する添加剤を含むポリマーを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記障壁層が前記プラスチック基板と共に同時押し出し成形される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記放射線硬化可能なポリマー層が、付加重合する能力を有する少なくとも一つの官能基を有する少なくとも一つのモノマー、オリゴマー又はポリマー及び少なくとも一つの光開始剤を含む、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項８】
前記放射線硬化可能なポリマー層のエネルギー放射線への曝露が、少なくとも一つの硬化ポリマー領域及び少なくとも一つの未曝露の放射線硬化可能なポリマー領域を提供するための、
ｉ）パターニングマスクを介した曝露又は
ii）前記エネルギー放射線の有向ビームへの曝露
である、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項９】
前記未曝露の放射線硬化可能なポリマー領域から未曝露の放射線硬化可能なポリマーを除去するための溶剤を適用することをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記の硬化ポリマー領域及び未曝露の放射線硬化可能なポリマー領域が、光学素子として機能することを可能にする屈折率差を有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも一つの光開始剤がフリーラジカル光開始剤である、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記エネルギー放射線がＵＶ放射線であって、かつ前記添加剤がＵＶ吸収体である、請求項２に記載の方法。
【請求項１３】
前記添加剤が、前記プラスチック基板の表面中に拡散される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記エネルギー放射線がＵＶ放射線である、請求項３に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも一つの官能基がエポキシ基又はエチレン性不飽和基であり、該エチレン性不飽和基が、メタクリラート基、アクリラート基、スチレン基、ビニル基又はビニルエーテル基から選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項１６】
前記放射線硬化可能なポリマーがシロキサンポリマーを含む、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項１７】
前記プラスチック基板がポリエチレンテレフタラート又はポリカルボナートである、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項１８】
光導波路の製造のために使用される、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項１９】
前記放射線硬化可能なポリマー層の堆積前に、前記プラスチック基板上に光バッファ層を堆積することをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記光導波路が光学タッチスクリーンセンサーの構成要素を形成する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
プラスチック基板；
エネルギー放射線に関して不透明な中間障壁層；及び
その上に堆積されるパターニングされる放射線硬化ポリマーを含む光学素子。
【請求項２２】
前記障壁層が金属膜である、請求項２１に記載の光学素子。
【請求項２３】
前記パターニングされる放射線硬化ポリマーがＵＶ放射線によって硬化され、かつ前記障壁層が前記ＵＶ放射線を吸収する添加剤を含有するポリマーを含む、請求項２１に記載の光学素子。
【請求項２４】
前記障壁層が前記プラスチック基板と共に同時押し出し成形される、請求項２３に記載の光学素子。
【請求項２５】
前記プラスチック基板が、ポリエチレンテレフタラート又はポリカルボナートである、請求項２１〜２４のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項２６】
プラスチック基板；及び
その上に堆積されるパターニングされる放射線硬化ポリマーを含む光学素子であって、前記プラスチック基板が、ポリマーを硬化するために用いられる放射線を吸収する添加剤を含む、前記光学素子。
【請求項２７】
前記プラスチック基板が、前記ポリマーを硬化するために用いられる放射線を吸収する添加剤を含むポリエチレンテレフタラート又はポリカルボナートである、請求項２６に記載の光学素子。
【請求項２８】
前記放射線がＵＶ放射線である、請求項２６又は２７に記載の光学素子。
【請求項２９】
プラスチック基板；
前記プラスチック基板と共に同時押し出し成形によって形成されるＵＶ放射線に関して不透明な中間層；及び
その上に堆積されるパターニングされるＵＶ硬化ポリマーを含む光学素子。
【請求項３０】
ＵＶ吸収性添加剤を含むプラスチック基板を含み、さらにその上に堆積されるパターニングされるＵＶ硬化ポリマーを有する光学素子。
【請求項３１】
請求項２１、２６、２９又は３０のいずれか１項に記載の光学素子を含む、導波路を基盤とする光学タッチスクリーンセンサー。
【請求項３２】
プラスチック基板上に支持されるＵＶ硬化可能なポリマーの光パターニング方法であって：
プラスチック基板上にＵＶ硬化可能なポリマーを堆積し；
前記ＵＶ硬化可能なポリマーの少なくとも一部をＵＶ放射線にパターニングマスクを介してイメージ通りに曝露して少なくとも一つの硬化ポリマー領域及び少なくとも一つの未曝露のＵＶ硬化可能なポリマー領域を提供し；及び
前記未曝露のＵＶ硬化可能なポリマー領域から未曝露のＵＶ硬化可能なポリマーを除去するための溶剤を適用することを含み、さらに、
前記プラスチック基板が、ＵＶ放射線を吸収するために選択される添加剤の基板への添加を手段としてＵＶ放射線から保護される、前記光パターニング方法。
【請求項３３】
プラスチック基板上に支持されるＵＶ硬化可能なポリマーの光パターニング方法であって：
プラスチック基板上にＵＶ硬化可能なポリマーを堆積し；
前記ＵＶ硬化可能なポリマーの少なくとも一部をＵＶ放射線にパターニングマスクを介してイメージ通りに曝露して少なくとも一つの硬化ポリマー領域及び少なくとも一つの未曝露のＵＶ硬化可能なポリマー領域を提供し；及び
前記未曝露のＵＶ硬化可能なポリマー領域から未曝露のＵＶ硬化可能なポリマーを除去するための溶剤を適用することを含み、さらに、
前記プラスチック基板が、前記基板上に堆積される前記エネルギー放射線に関して不透明な障壁層によってＵＶ放射線から保護される、前記光パターニング方法。
【請求項３４】
前記障壁層が金属膜である、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記障壁層が、ＵＶ放射線を吸収する添加剤を含有するポリマーを含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記障壁層が前記プラスチック基板と共に同時押し出し成形される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
光導波路の製造のために使用される、請求項３２〜３６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３８】
前記光導波路が光学タッチスクリーンセンサーの構成要素を形成する、請求項３７に記載の方法。