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【手続補正書】
【提出日】平成23年5月16日(2011.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら、一般に加熱体を支持する管状の支持部材は、加熱体においてウエハ載置面とは反対側の面のほぼ中心部分に設けられるため、加熱体に埋設される発熱体に給電するための電極部の設置位置も加熱体の中心部付近となり、電極部の設置位置に自由度がない。例えば図９に示すようなパターンで内側発熱用の発熱体２ａと外側発熱用の発熱体２ｂの２つの発熱体を加熱体１に形成して温度制御する場合においては、外側発熱用の発熱体２ｂはその電極部３ｂと接続するための接続部分を管状支持部材が設置されている中心部付近まで引き込まなければならず、これがウエハ載置面の均熱性を大きく乱していた。尚、図９では明瞭にするため、内側発熱体２ａを点線で、外側発熱体２ｂを実線で示している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に、本発明の半導体製造装置用ウエハ保持体の一実施態様について、図面を用いて説明する。図１に示すウエハ保持体の加熱体１１は、ウエハ載置面を半径方向に２つに分割した内側領域と外側領域のそれぞれに、内側領域を加熱する内側発熱体１２ａと、外側領域を加熱する外側発熱体１２ｂとが互いに干渉することなく形成されている。尚、図１では明瞭にするため、内側発熱体１２ａを点線で、外側発熱体１２ｂを実線で示している。図３、図５及び図７においても同様である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
例えば図２に示すように、加熱体２１のウエハ載置面を半径方向に３つに分割し、得られた複数の領域のそれぞれに、同心円状に発熱体２２ａ、２２ｂ、２２ｃを埋設しても良い。この場合は、発熱体２２ａ、２２ｂ、２２ｃに対してそれぞれ１対の電極部２３ａ、２３ｂ、２３ｃが接続しており、発熱体２２ａ、２２ｂ、２２ｃのパターンが形成されている領域に、それぞれ熱電対２４ａ、２４ｂ、２４ｃが設けられている。尚、図２では明瞭にするため、最も内側と外側の発熱体２２ａ、２２ｃを実線で、これらに挟まれている発熱体２２ｂを点線で示している。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月18日(2011.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の別の固体撮像装置は、撮像領域、出力レジスタ、第１のコーナーレジスタ、第１の増倍レジスタ、第１のアンプ、第２のコーナーレジスタ、第２の増倍レジスタ、第２のアンプ、第１のバルブゲート電極、及び、第２のバルブゲート電極を備えている。出力レジスタは、撮像領域から転送される電荷を受けて当該電荷を転送する転送レジスタである。出力レジスタは、一方向と当該一方向と逆の他方向とに選択的に電荷を転送可能である。第１のコーナーレジスタは、出力レジスタから一方向に転送される電荷を転送する。第１の増倍レジスタは、第１のコーナーレジスタからの電荷を受けて増倍された電荷を生成しつつ転送する。第１のアンプは、第１の増倍レジスタからの増倍された電荷に基づく信号を出力する。第２のコーナーレジスタは、出力レジスタから他方向に転送される電荷を転送する。第２の増倍レジスタは、第２のコーナーレジスタからの電荷を受けて増倍された電荷を生成しつつ転送する。第２のアンプは、第２の増倍レジスタからの増倍された電荷に基づく信号を出力する。第１のバルブゲート電極は、出力レジスタと第１のコーナーレジスタとの間での電荷の転送を妨げるための電極である。第２のバルブゲート電極は、出力レジスタと第２のコーナーレジスタとの間での電荷の転送を妨げるための電極である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
出力レジスタ１４Ａは、撮像領域１２Ａから垂直方向に転送される電荷を水平方向に転送する転送レジスタである。出力レジスタ１４Ａは、撮像領域１２Ａからの電荷を、一方向Ｘ１と当該一方向と逆の他方向Ｘ２とに選択的に転送することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
以下、固体撮像装置１０Ａの動作を説明する。固体撮像装置１０Ａでは、２ポートから信号を出力する場合、即ち、第１のアンプ２０Ａ及び第２のアンプ２２Ａから信号を出力する場合には、第１のエリア１２１からの電荷が第１の出力レジスタ１４１によって一方向Ｘ１に転送される。また、第２のエリア１２２からの電荷が第２の出力レジスタ１４２によって他方向Ｘ２に、転送される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
一方、２ポートから信号を出力するのではなく、動作は遅くなるものの第１のアンプ２０Ａ及び第２のアンプ２２Ａの一方のみから撮像領域１２Ａの全エリアからの電荷に基づく信号を出力することが望まれる場合がある。これは、二つの増倍レジスタを用いた場合の当該二つの増倍レジスタ間のゲインの差異による影響を出力信号から排除するためである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
例えば、第１のアンプ２０Ａのみから信号を出力する場合には、撮像領域１２Ａの全エリアからの電荷が出力レジスタ１４Ａによって一方向Ｘ１に転送される。出力レジスタ１４Ａからの電荷は、第１のコーナーレジスタ１６１を介して第１の増倍レジスタ１８１に転送される。次いで、第１の増倍レジスタ１８１によって増倍された電荷が生成される。そして、第１の増倍レジスタ１８１によって増倍された電荷に基づく信号が、第１のアンプ２０Ａによって生成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
また、第２のアンプ２２Ａからのみ信号を出力する場合には、撮像領域１２Ａの全エリアからの電荷が出力レジスタ１４Ａによって他方向Ｘ２に転送される。出力レジスタ１４Ａからの電荷は、第２のコーナーレジスタ１６２を介して第２の増倍レジスタ１８２に転送される。次いで、第２の増倍レジスタ１８２によって増倍された電荷が生成され転送される。そして、第２の増倍レジスタ１８２によって増倍された電荷に基づく信号が、第２のアンプ２２Ａによって生成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
このように第２のアンプ２２Ａからのみ信号を出力する場合には、第１のバルブゲート電極ＶＧ１に所定の電圧が与えられる。これにより、不使用の第１のコーナーレジスタ１６１及び第１の増倍レジスタ１８１からの電荷が出力レジスタ１４Ａに流入することが妨げられる。その結果、第２のアンプ２２Ａから出力される信号におけるノイズが低減される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
撮像領域と、
前記撮像領域から転送される電荷を受けて該電荷を転送する出力レジスタであって、一方向と該一方向と逆の他方向とに選択的に電荷を転送可能な該出力レジスタと、
前記出力レジスタから前記一方向に転送される電荷を転送するコーナーレジスタと、
前記コーナーレジスタからの電荷を受けて増倍された電荷を生成する増倍レジスタと、
前記増倍レジスタからの増倍された電荷に基づく信号を出力する第１のアンプと、
前記出力レジスタによって前記他方向に転送される電荷に基づく信号を生成する第２のアンプと、
前記出力レジスタと前記コーナーレジスタとの間での電荷の転送を妨げるためのバルブゲート電極と、
を備える固体撮像装置。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2010177564.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明による半導体光増幅システムは，第１の入出力ポートから入力される複数の波長成分を含む信号光を該波長成分ごとに分波して，当該複数の分波光を第２の入出力ポートからそれぞれ出力し，かつ前記第２の入出力ポートからそれぞれ入力される複数の分波光を合波して，当該複数の波長成分を含む信号光を前記第１の入出力ポートから出力する合分波器，前記複数の分波光のそれぞれについて設けられ，前記合分波器の第２の入出力ポートから出力されて第１の端面に入力する分波光を，光搬送方向に沿って形成された活性層を含む光導波路を伝播させて増幅するとともに，第２の端面において少なくとも一部を反射させて前記光導波路を逆方向に伝播させて再び増幅して，前記合分波器の第２の入出力ポートに入力させる半導体光増幅器群，前記複数の分波光のそれぞれについて設けられ，前記半導体光増幅器群の第２の端面において反射されずに出力する光を受光して，受光光量に応じた電流を出力する受光素子（光電変換素子）群，および前記受光素子群から出力される複数の電流に基づいて，すべての分波光が前記第１の入出力ポートから出力される際に所定の出力となるように，前記半導体光増幅器群における分波光ごとの利得を独立に制御する制御装置を備えたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１の入出力ポートから入力される複数の波長成分を含む信号光を該波長成分ごとに分波して，当該複数の分波光を第２の入出力ポートからそれぞれ出力し，かつ前記第２の入出力ポートからそれぞれ入力される複数の分波光を合波して，当該複数の波長成分を含む信号光を前記第１の入出力ポートから出力する合分波器，
前記複数の分波光のそれぞれについて設けられ，前記合分波器の第２の入出力ポートから出力されて第１の端面に入力する分波光を，光搬送方向に沿って形成された活性層を含む光導波路を伝播させて増幅するとともに，第２の端面において少なくとも一部を反射させて前記光導波路を逆方向に伝播させて再び増幅して，前記合分波器の第２の入出力ポートに入力させる半導体光増幅器群，
前記複数の分波光のそれぞれについて設けられ，前記半導体光増幅器群の第２の端面において反射されずに出力する光を受光して，受光光量に応じた電流を出力する受光素子群，および
前記受光素子群から出力される複数の電流に基づいて，すべての分波光が前記第１の入出力ポートから出力される際に所定の出力となるように，前記半導体光増幅器群における分波光ごとの利得を独立に制御する制御装置，
を備えた半導体光増幅システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月8日(2011.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光面と前記受光面の裏面とを含み、結晶粒の長手方向が基板の厚み方向に対してほぼ垂直となる一導電型を有する多結晶シリコン基板を備え、
前記多結晶シリコン基板の裏面側に真性の第一薄膜層を備え、
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第一領域では、前記第一薄膜層の上に逆導電型を示す第二薄膜層と、第一電極とを有し
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第二領域では、前記第一薄膜層の上に一導電型を示す第三薄膜層と、第二電極とを有することを特徴とする太陽電池素子。
【請求項２】
受光面と前記受光面の裏面とを含み、結晶粒の長手方向が基板の厚み方向に対してほぼ垂直となる一導電型を有する多結晶シリコン基板を備え、
前記多結晶シリコン基板の裏面側に真性の第一薄膜層を備え、
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第一領域では、前記第一薄膜層の上に逆導電型を示す第二薄膜層と、第一電極とを有し
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第二領域では、一導電型を示す第一拡散層と、第二電極とを有することを特徴とする太陽電池素子。
【請求項３】
前記第一拡散層の上に前記第一薄膜層を有することを特徴とする請求項２に記載の太陽電池素子。
【請求項４】
前記第一薄膜層がアモルファスシリコンであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の太陽電池素子。
【請求項５】
前記第一電極と前記第二電極とはそれぞれ、前記多結晶シリコン基板の前記裏面側に複数の電極指を有する櫛歯状電極として形成されており、
前記第一電極および前記第二電極の前記電極指の延びる方向が、結晶粒の長手方向に対してほぼ垂直となることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の太陽電池素子。
【請求項６】
受光面と前記受光面の裏面とを含み、結晶粒の長手方向が基板の厚み方向に対してほぼ垂直となる一導電型を有する多結晶シリコン基板を準備する工程と、
前記多結晶シリコン基板の裏面側に真性の第一薄膜層を形成する工程と、
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第一領域に、前記第一薄膜層の上に逆導電型を示す第二薄膜層を形成する工程と、
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第二領域に、前記第一薄膜層の上に一導電型を示す
第三薄膜層を形成する工程と、
前記第二薄膜層の上に第一電極を形成する工程と、
前記第三薄膜層の上に第二電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする太陽電池素子の製造方法。
【請求項７】
受光面と前記受光面の裏面とを含み、結晶粒の長手方向が基板の厚み方向に対してほぼ垂直となる一導電型を有する多結晶シリコン基板を準備する工程と、
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第二領域に、一導電型を示す第一拡散層を形成する工程と、
前記多結晶シリコン基板の裏面側に真性の第一薄膜層を形成する工程と、
前記多結晶シリコン基板の裏面側の第一領域に、前記第一薄膜層の上に逆導電型を示す第二薄膜層を形成する工程と、
前記第二薄膜層の上に第一電極を形成する工程と、
前記第一拡散層の上に第二電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする太陽電池素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月5日(2011.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水晶で構成された圧電体基板の一方の面上に、導体層を形成し、該導体層の前記圧電体基板とは反対側の面上に、前記櫛歯電極の形状に対応した形状をなし、ノボラック系樹脂からなるレジスト材料を主材料として構成されたマスクを形成し、該マスクを用いて前記導体層をエッチングすることにより、複数の電極指を備える櫛歯電極を形成する工程と、
前記櫛歯電極の前記圧電体基板とは反対側の面上に保護膜として前記マスクを形成した状態で、前記圧電体基板をエッチングガスとしてＣＦ４を用いてドライエッチングすることにより、前記圧電体基板の前記一方の面の前記電極指同士の間に対応する部分に、溝を形成する工程とを有することを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
【請求項２】
前記保護膜は、前記溝の形成開始から形成完了まで前記櫛歯電極上に存在するように構成されている請求項１に記載の弾性表面波素子の製造方法。
【請求項３】
前記保護膜は、前記溝の形成完了時に前記櫛歯電極上に残存しないように、前記溝を形成する工程において、前記ドライエッチングにより徐々に除去される請求項１に記載の弾性表面波素子の製造方法。
【請求項４】
前記櫛歯状電極は、ＡｌまたはＡｌを主材料とする合金で構成されている請求項１ないし３のいずれかに記載の弾性表面波素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の弾性表面波素子の製造方法は、水晶で構成された圧電体基板の一方の面上に、導体層を形成し、該導体層の前記圧電体基板とは反対側の面上に、前記櫛歯電極の形状に対応した形状をなし、ノボラック系樹脂からなるレジスト材料を主材料として構成されたマスクを形成し、該マスクを用いて前記導体層をエッチングすることにより、複数の電極指を備える櫛歯電極を形成する工程と、
前記櫛歯電極の前記圧電体基板とは反対側の面上に保護膜として前記マスクを形成した状態で、前記圧電体基板をエッチングガスとしてＣＦ４を用いてドライエッチングすることにより、前記圧電体基板の前記一方の面の前記電極指同士の間に対応する部分に、溝を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、圧電体基板に形成される溝の底部を平滑なものとすることができる。その結果、得られる弾性表面波素子は、優れた各種特性（特に、ストレスマイグレーションに起因する周波数変動の抑制効果）を発揮することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の弾性表面波素子の製造方法では、前記櫛歯電極を形成する工程では、前記圧電体基板の一方の面上に、導体層を形成し、該導体層の前記圧電体基板とは反対側の面上に、前記櫛歯電極の形状に対応した形状をなすマスクを形成し、該マスクを用いて前記導体層をエッチングすることにより前記櫛歯電極を形成し、
前記溝を形成する工程では、前記マスクを前記保護膜として用いる。
これにより、平面視にて保護膜の形成領域を櫛歯電極の形成領域と一致させることができる。そのため、保護膜が櫛歯電極を確実に保護しつつ、圧電体基板の電極指間に対応する部位に高精度に溝を形成することができる。また、弾性表面波素子の製造工程が簡易化され、その結果、弾性表面波素子の低コスト化を図ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の弾性表面波素子の製造方法では、前記保護膜は、有機材料を主材料として構成されている。
有機材料は、ドライエッチングによりエッチングされるが、そのとき、気体となる。そのため、保護膜を有機材料を主材料として構成すると、ドライエッチングを阻害する物質が溝の底部に滞留または堆積するのを防止し、溝の底部を平滑にすることができる。
本発明の弾性表面波素子の製造方法では、前記有機材料は、樹脂材料である。
樹脂材料は、有機材料の中ではドライエッチングに対して比較的高い耐性を有する。したがって、保護膜の厚さを抑えつつ、保護膜が櫛歯電極を確実に保護することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の弾性表面波素子の製造方法では、前記樹脂材料は、ノボラック系樹脂からなるレジスト材料である。
これにより、保護膜を高精度に形成（パターンニング）することができる。その結果、保護膜が櫛歯電極を確実に保護しつつ、圧電体基板の電極指間に対応する部位に高精度に溝を形成することができる。
特に、ノボラック系樹脂は、レジスト材料として用いることができ、その際、高精度なパターンニングが可能である。また、ドライエッチングに対して比較的高い耐性を有する。
本発明の弾性表面波素子の製造方法では、前記ドライエッチングは、エッチングガスとしてＣＦ４を用いる。
このようなエッチングガスを用いると、例えば水晶基板のような圧電体基板を効率的かつ高精度にエッチングすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の弾性表面波素子の製造方法では、前記圧電体基板は、水晶で構成されている。
水晶は、弾性表面波素子に用いる圧電体として様々な優れた特性を有する。したがって、圧電体基板を水晶で構成することで、優れた特性を有する弾性表面波素子を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月4日(2011.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系から液体を介して露光光を照射する露光装置で用いられる洗浄方法であって、
基板を基板ホルダに、前記基板の端と前記基板ホルダとの間にギャップが形成されるように、保持する工程と、
前記投影光学系の像面側において液浸領域を形成する工程と、
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程と、を含む
洗浄方法。
【請求項２】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程は、液体を供給する供給口と液体を回収する回収口を有するノズル部材と前記基板ホルダとを相対的に移動させる工程を含む
請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程において前記ノズル部材と前記基板ホルダとを相対的に移動させる間に、前記供給口を介した液体の供給と前記回収口を介した液体の回収とを行う
請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程は、前記基板を前記基板ホルダから搬出する前に行う
請求項１から３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項５】
液体を供給する供給口を有するノズル部材を備える露光装置で用いられる洗浄方法であって、
基板を基板ホルダに、前記基板の端と前記基板ホルダとの間にギャップが形成されるように、保持する工程と、
前記供給口を介して供給される液体により形成される液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程と、を含む
洗浄方法。
【請求項６】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程において前記ノズル部材と前記基板ホルダとを相対的に移動させる間に、前記供給口を介した液体の供給を行う
請求項５に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記ノズル部材は、液体を回収する回収口を有し、
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程において前記ノズル部材と前記基板ホルダとを相対的に移動させる間に、前記回収を介した液体の回収を行う
請求項５又は６に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程は、前記基板を前記基板ホルダから搬出する前に行う
請求項５から７のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程は、前記ギャップに沿った円周方向に前記液浸領域を移動させる工程を含む
請求項１から８のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程は、前記基板の周縁部を含む領域において前記液浸領域を移動させる工程を含む
請求項１から９のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１１】
前記液浸領域を前記ギャップに沿って移動させる工程は、前記基板ホルダの端を含む領域において前記液浸領域を移動させる工程を含む
請求項１から１０のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１２】
第１の液体の液浸領域を基板上に形成し、前記第１の液体を介して前記基板を露光する露光工程と、
前記露光工程よりも前に、前記基板に感光材を塗布する工程と、
前記露光工程よりも前に、前記感光材が塗布された基板を熱処理するプリベーク工程と、
前記露光工程よりも前に、前記熱処理された基板を第２の液体に浸漬する工程と、を含む
基板処理方法。
【請求項１３】
前記基板に関する情報に応じて、前記浸漬する工程の浸漬条件が設定される
請求項１２に記載の基板処理方法。
【請求項１４】
前記露光工程よりも前に、前記浸漬を行った基板から前記第２の液体を除去する工程を含み、
前記浸漬条件は、前記第２の液体の除去条件を含む
請求項１３に記載の基板処理方法。
【請求項１５】
前記浸漬条件は、浸漬時間を含む
請求項１３又は１４に記載の基板処理方法。
【請求項１６】
前記第１の液体と前記第２の液体とは同じである
請求項１２から１５のいずれか一項に記載の基板処理方法。
【請求項１７】
前記第１の液体と前記第２の液体とは異なる
請求項１２から１５のいずれか一項に記載の基板処理方法。
【請求項１８】
第１の液体を介して露光するデバイス製造システムであって、
基板に感光材を塗布する塗布装置と、
前記感光材が塗布されてプリベークされた基板を第２の液体に浸漬する浸漬装置と、
前記浸漬を行った基板を保持する基板ホルダと、
前記基板ホルダに保持された基板に前記第１の液体を介して露光光を照射する投影光学系と、を備える
デバイス製造システム。
【請求項１９】
前記浸漬装置は、前記浸漬を行った基板から前記第２の液体を除去する
請求項１８に記載のデバイス製造システム。
【請求項２０】
前記基板に関する情報に応じて前記浸漬装置による浸漬条件が設定される
請求項１８又は１９に記載のデバイス製造システム。
【請求項２１】
前記基板ホルダは、前記第２の液体が除去された基板を保持し、
前記浸漬条件は、前記第２の液体の除去条件を含む
請求項２０に記載のデバイス製造システム。
【請求項２２】
前記浸漬条件は、浸漬時間を含む、請求項２０又は２１に記載のデバイス製造システム。
【請求項２３】
前記第１の液体と前記第２の液体とは同じである
請求項１８から２２のいずれか一項に記載のデバイス製造システム。
【請求項２４】
前記第１の液体と前記第２の液体とは異なる
請求項１８から２２のいずれか一項に記載のデバイス製造システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】洗浄方法、基板処理方法、及びデバイス製造システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、洗浄方法、基板処理方法、及びデバイス製造システムに関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表面に形成された第２導電型のベース領域と、
前記ベース領域の表面に形成された第１導電型のソース領域と、
前記半導体基板の裏面に形成された第２導電型のコレクタ領域と、
前記ソース領域および前記ベース領域を貫通するように形成されたトレンチ溝内にゲート絶縁膜を介して形成されたトレンチゲートと、
前記ソース領域を貫通するように形成されたコンタクト溝内に形成された導電層と、
前記導電層及び前記ソース領域と接するソース電極と、
前記導電層と接して前記ベース領域に形成された、不純物濃度が前記ベース領域より高い第２導電型のラッチアップ抑制領域とを備え、
前記ゲート絶縁膜と前記ラッチアップ抑制領域との距離は、前記トレンチゲートが前記ベース領域に形成する最大空乏層幅以上であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本願の発明にかかる半導体装置は、第１導電型の半導体基板と、該半導体基板の表面に形成された第２導電型のベース領域と、該ベース領域の表面に形成された第１導電型のソース領域と、該半導体基板の裏面に形成された第２導電型のコレクタ領域と、該ソース領域および該ベース領域を貫通するように形成されたトレンチ溝内にゲート絶縁膜を介して形成されたトレンチゲートと、該ソース領域を貫通するように形成されたコンタクト溝内に形成された導電層と、該導電層及び該ソース領域と接するソース電極と、該導電層と接して該ベース領域に形成された、不純物濃度が該ベース領域より高い第２導電型のラッチアップ抑制領域とを備える。そして、該ゲート絶縁膜と該ラッチアップ抑制領域との距離は、該トレンチゲートが該ベース領域に形成する最大空乏層幅以上であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月24日(2011.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スイッチに接続された複数のインターフェース（ＩＦ）カードを備え、送信元ＭＡＣアドレス領域と宛先ＭＡＣアドレス領域とを備えたデータフレームを送受信するネットワーク通信装置であって、
前記ＩＦカードは処理部、記憶部、および物理ポート部を有し、
前記処理部は、前記スイッチから受信した前記データフレームを送信する際、
前記記憶部に記憶するＭＡＣアドレス学習表の宛先ＭＡＣアドレスを検索して、検索した前記宛先ＭＡＣアドレスを用いてＭＡＣヘッダを作成するか、あるいは
受信した前記データフレーム中の前記送信元ＭＡＣアドレス領域の内容、ランダムな値、又は事前に設定された固定値を、前記宛先アドレス領域にコピーして前記ＭＡＣヘッダを作成するか、の切り替え制御を行う、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項２】
請求項１に記載のネットワーク通信装置であって、
前記処理部は、
前記データフレームを受信した際、前記送信元ＭＡＣアドレス領域の前記ＭＡＣアドレスを学習して前記ＭＡＣアドレス学習表に保持するか否かの切り替え制御を行う、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項３】
請求項１に記載のネットワーク通信装置であって、
前記処理部は、
装置外部からの制御に従い、前記切り替え制御を実行する、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項４】
請求項２に記載のネットワーク通信装置であって、
前記処理部は、
装置外部からの制御に従い、前記ＭＡＣアドレス学習表に保持するか否かの前記切り替え制御を実行する、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項５】
請求項１に記載のネットワーク通信装置であって、
前記処理部は、
あらかじめ装置自身に設定されたＭＡＣアドレスを、前記データフレームの前記送信元ＭＡＣアドレス領域に記述して送信するよう制御する、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項６】
請求項２に記載のネットワーク通信装置であって、
前記処理部は、
前記データフレームを受信した際、受信した前記データフレームの前記宛先ＭＡＣアドレス領域内の前記ＭＡＣアドレスと、あらかじめ自身に設定されたＭＡＣアドレスとを比較した結果に基づき、前記送信元ＭＡＣアドレス領域の前記ＭＡＣアドレスを学習して前記ＭＡＣアドレス学習表に保持するか否かを決定する、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項７】
請求項２に記載のネットワーク通信装置であって、
前記処理部は、当該装置自身に設定されたＭＡＣアドレスを前記送信元ＭＡＣアドレス領域に記述した試験フレームを対向する装置に送信し、前記対向する装置から受信したデータフレーム中の前記送信元ＭＡＣアドレス領域から抽出できた最初のＭＡＣアドレスを、送信時に使用する宛先ＭＡＣアドレスとして保持する、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【請求項８】
請求項７に記載のネットワーク通信装置であって、
前記ＩＦカードによる前記対向する装置との間の接続がポイントツーポイント（ＰｔＰ）接続である、
ことを特徴とするネットワーク通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月25日(2011.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパレット収納室が鉛直方向に配備されたパレットマガジンと、前記複数のパレット収納室にそれぞれ配備され、パレット収納室に収納されたパレットの側方に位置するパレット位置決め部材と、前記パレット位置決め部材を、前記パレット収納室に収納されたパレットの側部に接触する位置と接触しない位置とに変位させるパレット位置決め部材変位手段と、前記パレットマガジンに対してパレットを出し入れする方向に配置されたパレット固定テーブルと、前記パレット固定テーブルに配備され、パレットの被係合部と係合するパレット係合部材と、前記パレット固定テーブルを前記パレットマガジンに対して接近する方向と離反する方向とに移動させるパレット移動手段と、前記パレット固定テーブルに配備され、前記パレット係合部材を旋回させるパレット旋回手段とを備えたパレット自動交換装置において、
前記パレット位置決め部材をパレットに接触させて、前記パレットマガジンに対するパレットの位置を位置決めする工程と、前記位置決めされたパレットの被係合部に前記パレット係合部材を係合させる工程と、前記パレット位置決め部材をパレットから離反させる工程と、前記パレットマガジンからパレットを取り出す工程と、前記パレットマガジンから完全に取り出したパレットを旋回させ、前記パレット固定テーブル上の所定の位置に固定する工程とを含むことを特徴とするパレット自動交換方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のパレット自動交換方法は、複数のパレット収納室が鉛直方向に配備されたパレットマガジンと、前記複数のパレット収納室にそれぞれ配備され、パレット収納室に収納されたパレットの側方に位置するパレット位置決め部材と、前記パレット位置決め部材を、前記パレット収納室に収納されたパレットの側部に接触する位置と接触しない位置とに変位させるパレット位置決め部材変位手段と、前記パレットマガジンに対してパレットを出し入れする方向に配置されたパレット固定テーブルと、前記パレット固定テーブルに配備され、パレットの被係合部と係合するパレット係合部材と、前記パレット固定テーブルを前記パレットマガジンに対して接近する方向と離反する方向とに移動させるパレット移動手段と、前記パレット固定テーブルに配備され、前記パレット係合部材を旋回させるパレット旋回手段とを備えたパレット自動交換装置において、前記パレット位置決め部材をパレットに接触させて、前記パレットマガジンに対するパレットの位置を位置決めする工程と、前記位置決めされたパレットの被係合部に前記パレット係合部材を係合させる工程と、前記パレット位置決め部材をパレットから離反させる工程と、前記パレットマガジンからパレットを取り出す工程と、前記パレットマガジンから完全に取り出したパレットを旋回させ、前記パレット固定テーブル上の所定の位置に固定する工程とを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月25日(2011.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパレット収納室が鉛直方向に配備されたパレットマガジンと、前記複数のパレット収納室にそれぞれ配備され、パレット収納室に収納されたパレットの側方に位置するパレット位置決め部材と、前記パレット位置決め部材を、前記パレット収納室に収納されたパレットの側部に接触する位置と接触しない位置とに変位させるパレット位置決め部材変位手段と、前記パレットマガジンに対してパレットを出し入れする方向に配置されたパレット固定テーブルと、前記パレット固定テーブルに配備され、パレットの被係合部と係合するパレット係合部材と、前記パレット固定テーブルを前記パレットマガジンに対して接近する方向と離反する方向とに移動させるパレット移動手段と、前記パレット固定テーブルに配備され、前記パレット係合部材を旋回させるパレット旋回手段とを備え、
前記パレット係合部材と係合したパレットを旋回および移動させることで前記パレット固定テーブルと前記パレットマガジンとの間でパレットの交換を行うことを特徴とするパレット自動交換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のパレット自動交換装置は、複数のパレット収納室が鉛直方向に配備されたパレットマガジンと、前記複数のパレット収納室にそれぞれ配備され、パレット収納室に収納されたパレットの側方に位置するパレット位置決め部材と、前記パレット位置決め部材を、前記パレット収納室に収納されたパレットの側部に接触する位置と接触しない位置とに変位させるパレット位置決め部材変位手段と、前記パレットマガジンに対してパレットを出し入れする方向に配置されたパレット固定テーブルと、前記パレット固定テーブルに配備され、パレットの被係合部と係合するパレット係合部材と、前記パレット固定テーブルを前記パレットマガジンに対して接近する方向と離反する方向とに移動させるパレット移動手段と、前記パレット固定テーブルに配備され、前記パレット係合部材を旋回させるパレット旋回手段とを備え、前記パレット係合部材と係合したパレットを旋回および移動させることで前記パレット固定テーブルと前記パレットマガジンとの間でパレットの交換を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月28日(2011.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
荷電粒子ビーム照射装置では、試料ステージの温度変化は試料ステージの移動による摩擦熱が原因であるため、試料ステージの温度変化の代わりに試料ステージの移動量を管理し、アライメントを行う方法も好適である。測定開始前のアライメントにおけるアライメント各点の座標とあらかじめ規定した回数で実施したアライメントにおける各点の座標から算出した位置変化量の最大値と、その間の試料ステージ移動量と荷電粒子ビームの偏向範囲から許容できる位置ずれ量を用いて測定中にアライメントを実施する試料ステージの管理移動量を決定する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2010177479.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月30日(2011.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動板と、
前記振動板の一方の面の側に第１方向に沿って配置される第１の圧電素子及び第２の圧電素子と、
前記振動板の他方の面の側に前記第１方向に沿って配置される第１のキャビティおよび第２のキャビティと、
前記第１のキャビティと前記第２のキャビティとの間に配置される隔壁と、
を含み、
前記第１の圧電素子は前記振動板の側から第１電極、第１圧電体、第２電極の順に積層され、
前記第２の圧電素子は前記振動板の側から第３電極、第２圧電体、第４電極の順に積層され、
前記第１方向に交差する第２方向から見たとき、前記第１圧電体の幅は、前記第１のキャビティの幅より小さく、前記第１圧電体の両端は前記第１のキャビティの両端の内側にあり、前記第２圧電体の幅は、前記第２のキャビティの幅より小さく、前記第２圧電体の両端は前記第２のキャビティの両端の内側にあり、
前記第１電極及び前記第３電極は共通の導電体であり、
前記導電体は、前記第１電極と前記第３電極を接続する橋部と、前記第１電極、前記第３電極及び前記橋部に囲まれる開口部と、
を含むことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
前記導電体は、さらに、
前記第１の圧電素子および第２の圧電素子の間において、前記橋部を前記第２方向に接続する接続部を有することを特徴とする請求項１記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
前記第１の圧電体および前記第２の圧電体は、前記第２方向に長辺を有する略矩形状であることを特徴とする請求項１又は２記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
前記導電体は、格子状のパターンであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
前記導電体は、白金（Ｐｔ）又はイリジウム（Ｉｒ）を含有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
インク吐出ヘッドとして請求項１乃至５のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッドを有することを特徴とするインクジェットプリンタ。
【請求項７】
基板上に振動板を形成する工程と、
前記振動板上に、導電体を形成し、前記導電体を選択的に除去することにより、開口部を有する下部電極を形成する工程と、
前記開口部を除く領域上に圧電体を形成する工程と、
前記圧電体の上部に上部電極を形成する工程と、
前記振動板の下部の前記基板を選択的に除去することにより前記圧電体の下部に、第１方向の幅が前記圧電体の前記第１方向の幅より大きいキャビティを形成する工程と、
を有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
基板上に振動板を形成する工程と、
前記振動板上に、導電体を形成する工程と、
前記導電体上に圧電体を形成する工程と、
前記圧電体の上部に上部電極を形成する工程と、
前記圧電体の両側の前記導電体を選択的に除去することにより開口部を有する下部電極を形成する工程と、
前記振動板の下部の前記基板を選択的に除去することにより前記圧電体の下部にキャビティであって、第１方向の幅が前記圧電体の前記第１方向の幅より大きいキャビティを形成する工程と、
を有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記圧電体は、下部電極を下地として結晶成長させることを特徴とする請求項７又は８記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記圧電体は、前記第１方向と交差する第２方向に長辺を有する略矩形状であることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記下部電極は、格子状のパターンであることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記下部電極は、白金（Ｐｔ）又はイリジウム（Ｉｒ）を含有することを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
前記圧電体は、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）であることを特徴とする請求項７乃至１２のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
インク吐出ヘッドの製造方法として請求項７乃至１３のいずれか一項記載の液滴吐出ヘッドの製造方法を有することを特徴とするインクジェットプリンタの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月27日(2011.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給側ボビンから供給されたインクリボンを巻き取り側ボビンに巻き取るためのインクリボン巻き取り手段と、サーマルヘッドとを有し、前記供給側ボビンから供給されたインクリボンに担持されたインクを、用紙を副走査方向に搬送させながら前記サーマルヘッドの主走査方向に配列された発熱体を駆動することにより前記用紙に転写させて画像を印刷する印刷装置であって、
印刷対象となる画像の画像データと印刷設定情報とを取得する取得手段と、
前記画像データ及び前記印刷設定情報に基づいて生成される、前記用紙に画像が転写される印刷領域の印画データに、前記インクリボンの両端部であって前記印刷領域外の領域における補正データを付加して印刷データを生成し、生成した印刷データに基づいて前記サーマルヘッドを駆動させる制御手段とを有し、
前記制御手段は、環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じて、補正データを付加することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記用紙サイズに応じた範囲に、補正データを付加することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記制御手段は、環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じたフィルタを用いて生成した補正データを前記インクリボンの両端部であって前記印刷領域外の領域に付加することを特徴とする請求項１または２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記印刷領域の両端の画像データに基づいたデータを付加し、付加したデータに環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じたフィルタを適用して補正データを生成することを特徴とする請求項３に記載の印刷装置。
【請求項５】
前記サーマルヘッドの主走査方向の幅をＡ、前記インクリボンの幅をＢ、前記用紙の幅をＣ、前記印刷領域の幅をＤとすると、Ａ＞Ｂ＞Ｃ≧Ｄの関係が成り立つことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項６】
供給側ボビンから供給されたインクリボンを巻き取り側ボビンに巻き取るためのインクリボン巻き取り手段と、サーマルヘッドとを有し、供給側ボビンから供給されたインクリボンに担持されたインクを、用紙を副走査方向に搬送させながら前記サーマルヘッドの主走査方向に配列された発熱体を駆動することにより前記用紙に転写させて画像を印刷する印刷装置の制御方法であって、
印刷対象となる画像の画像データと印刷設定情報とを取得する取得工程と、
前記画像データ及び前記印刷設定情報に基づいて生成される、前記用紙に画像が転写される印刷領域の印画データに、前記インクリボンの両端部であって前記印刷領域外の領域における補正データを付加して印刷データを生成し、生成した印刷データに基づいて前記サーマルヘッドを駆動させる制御工程とを有し、
前記制御工程では、環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じて、補正データを付加することを特徴とする印刷装置の制御方法。
【請求項７】
前記制御工程では、前記用紙サイズに応じた範囲に、補正データを付加することを特徴とする請求項６に記載の印刷装置の制御方法。
【請求項８】
前記制御工程では、環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じたフィルタを用いて生成した補正データを前記インクリボンの両端部であって前記印刷領域外の領域に付加することを特徴とする請求項６または７に記載の印刷装置の制御方法。
【請求項９】
前記制御工程では、前記印刷領域の両端の画像データに基づいたデータを付加し、付加したデータに環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じたフィルタを適用して補正データを生成することを特徴とする請求項８に記載の印刷装置の制御方法。
【請求項１０】
前記サーマルヘッドの主走査方向の幅をＡ、前記インクリボンの幅をＢ、前記用紙の幅をＣ、前記印刷領域の幅をＤとすると、Ａ＞Ｂ＞Ｃ≧Ｄの関係が成り立つことを特徴とする請求項６ないし９のいずれか１項に記載の印刷装置の制御方法。
【請求項１１】
請求項６ないし１０のいずれか１項に記載の制御方法を印刷装置のコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１２】
請求項６ないし１０のいずれか１項に記載の制御方法を印刷装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータによる読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明の印刷装置は、供給側ボビンから供給されたインクリボンを巻き取り側ボビンに巻き取るためのインクリボン巻き取り手段と、サーマルヘッドとを有し、前記供給側ボビンから供給されたインクリボンに担持されたインクを、用紙を副走査方向に搬送させながら前記サーマルヘッドの主走査方向に配列された発熱体を駆動することにより前記用紙に転写させて画像を印刷する印刷装置であって、印刷対象となる画像の画像データと印刷設定情報とを取得する取得手段と、前記画像データ及び前記印刷設定情報に基づいて生成される、前記用紙に画像が転写される印刷領域の印画データに、前記インクリボンの両端部であって前記印刷領域外の領域における補正データを付加して印刷データを生成し、生成した印刷データに基づいて前記サーマルヘッドを駆動させる制御手段とを有し、前記制御手段は、環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じて、補正データを付加する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の印刷装置の制御方法は、供給側ボビンから供給されたインクリボンを巻き取り側ボビンに巻き取るためのインクリボン巻き取り手段と、サーマルヘッドとを有し、前記供給側ボビンから供給されたインクリボンに担持されたインクを、用紙を副走査方向に搬送させながら前記サーマルヘッドの主走査方向に配列された発熱体を駆動することにより前記用紙に転写させて画像を印刷する印刷装置の制御方法であって、印刷対象となる画像の画像データと印刷設定情報とを取得する取得工程と、前記画像データ及び前記印刷設定情報に基づいて生成される、前記用紙に画像が転写される印刷領域の印画データに、前記インクリボンの両端部であって前記印刷領域外の領域における補正データを付加して印刷データを生成し、生成した印刷データに基づいて前記サーマルヘッドを駆動させる制御工程とを有し、前記制御工程では、環境温度、ヘッド温度、インクリボンの残量、および、用紙サイズの少なくともいずれか１つに応じて、補正データを付加する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
上述の様な操舵装置に関して、運転者の体格や運転姿勢に応じて上記ステアリングホイール１の前後位置や上下位置の調節を可能とする事が広く行われている。このうちの前後位置を調節する為の機構は、テレスコピック機構と呼ばれるもので、上記ステアリングシャフト５及び上記ステアリングコラム６を伸縮自在とする事で構成している。即ち、このステアリングシャフト５を、アウタチューブ１０とインナシャフト１１とを、スプライン係合等により、トルク伝達自在に、且つ、伸縮自在に組み合わせた構造としている。又、上記ステアリングコラム６を、アウタコラム１２とインナコラム１３とをテレスコープ状に伸縮自在に組み合わせた構造としている。尚、図示の例は、上記テレスコピック機構に加えて、上記ステアリングホイール１の上下位置を調節する為のチルト機構と、電動モータ１４を補助動力源として上記ステアリングホイール１を操作する為に要する力の低減を図る、電動式パワーステアリング装置とを組み込んでいる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この様なスリーブ２２ｂは、上記通孔２９に上記ガイドピン２８を係合させた状態で、上記主部２３ａを前記アウタコラム１２ｂの後端部内周面と前記インナコラム１３ｂの前端部外周面との間に挟持する。又、この状態で、上記鍔部２４ｄを上記アウタコラム１２ｂの後端面に突き当てる。この様に上記スリーブ２２ｂを上記アウタコラム１２ｂと上記インナコラム１３ｂとの間に組み付けた状態で、ステアリングホイール１（図７参照）の前後位置を調節すべく、上記アウタコラム１２ｂに対し上記インナコラム１３ｂを摺動させる際には、上記通孔２９と上記ガイドピン２８との係合に基づいて、上記スリーブ２２ｂが前後方向にずれ動く事を阻止する。この状態では、上記インナコラム１３ｂには、ほぼ軸方向の力が加わるのみである為、上記スリーブ２２ｂに作用する力は小さくて済む。従って、上記通孔２９と上記ガイドピン２８との係合のみで、上記スリーブ２２ｂの軸方向位置を十分に規制できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月7日(2011.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の荷台に対する荷物の積み卸し作業を支援する荷受台昇降装置において、
荷受台と、
前記荷受台を動作させる駆動装置と、
前記荷受台に設けられ、電波を受けて電磁誘導により起電するコイルと該コイルを流れる電流で発光する発光手段を有する標識灯と、
当該荷受台昇降装置の電源の入り切りを切り換える電源スイッチと、
前記荷受台の動作を指示する無線操作式の操作装置と、
前記操作装置からの操作信号を入力して前記駆動装置の動作を指示する指令信号を出力するコントローラとを備え、
前記コントローラが、
前記操作装置からの操作信号を入力する入力部と、
前記電源スイッチを介する電源の入力又は前記操作装置からの操作信号を基に発光信号を生成する演算部と、
前記演算部で生成された発光信号を電波に変換し前記標識灯に発信する送信部と
を備えていることを特徴とする荷受台昇降装置。
【請求項２】
車両の荷台に対する荷物の積み卸し作業を支援する荷受台昇降装置において、
荷受台と、
前記荷受台を動作させる駆動装置と、
前記荷受台に設けられ、電波を受けて電磁誘導により起電するコイルと該コイルを流れる電流で発光する発光手段を有する標識灯と、
当該荷受台昇降装置の電源の入り切りを切り換える電源スイッチと、
前記駆動装置の動作を指示する指令信号を出力するコントローラとを備え、
前記コントローラが、
前記電源スイッチを介する電源の入力を基に発光信号を生成する演算部と、
前記演算部で生成された発光信号を電波に変換し前記標識灯に発信する送信部と
を備えていることを特徴とする荷受台昇降装置。
【請求項３】
請求項２の荷受台昇降装置において、前記荷受台の動作を指示する操作信号を前記コントローラに出力する有線操作式の操作装置を備えたことを特徴とする荷受台昇降装置。
【請求項４】
車両の荷台に対する荷物の積み卸し作業を支援する荷受台昇降装置において、
荷受台基端部及びこれに折り重ねられる荷受台本体部を有し前記車両の下部に格納可能な荷受台と、
前記車両の下部に設けたガイドレールと、
前記ガイドレールに沿って走行可能なスライダと、
前記スライダを前後に移動させるスライドシリンダと、
前記スライダに対して前記荷受台を昇降可能に連結する平行リンクと、
前記荷受台を昇降させるリフトシリンダと、
前記荷受台に設けられ、電波を受けて電磁誘導により起電するコイルと該コイルを流れる電流で発光する発光手段を有する標識灯と、
当該荷受台昇降装置の電源の入り切りを切り換える電源スイッチと、
前記荷受台の動作を指示する無線操作式の操作装置と、
前記操作装置からの操作信号を入力して前記スライドシリンダ又は前記リフトシリンダの動作を指示する指令信号を出力するコントローラとを備え、
前記コントローラが、
前記操作装置からの操作信号を入力する入力部と、
前記電源スイッチを介する電源の入力又は前記操作装置からの操作信号を基に発光信号を生成する演算部と、
前記演算部で生成された発光信号を電波に変換し前記標識灯に発信する送信部と
を備えていることを特徴とする荷受台昇降装置。
【請求項５】
車両の荷台に対する荷物の積み卸し作業を支援する荷受台昇降装置において、
荷受台基端部及びこれに折り重ねられる荷受台本体部を有し前記車両の下部に格納可能な荷受台と、
前記車両の下部に設けたガイドレールと、
前記ガイドレールに沿って走行可能なスライダと、
前記スライダを前後に移動させるスライドシリンダと、
前記スライダに対して前記荷受台を昇降可能に連結する平行リンクと、
前記荷受台を昇降させるリフトシリンダと、
前記荷受台に設けられ、電波を受けて電磁誘導により起電するコイルと該コイルを流れる電流で発光する発光手段を有する標識灯と、
当該荷受台昇降装置の電源の入り切りを切り換える電源スイッチと、
前記スライドシリンダ又は前記リフトシリンダの動作を指示する指令信号を出力するコントローラとを備え、
前記コントローラが、
前記電源スイッチを介する電源の入力を基に発光信号を生成する演算部と、
前記演算部で生成された発光信号を電波に変換し前記標識灯に発信する送信部と
を備えていることを特徴とする荷受台昇降装置。
【請求項６】
請求項５の荷受台昇降装置において、前記荷受台の動作を指示する操作信号を前記コントローラに出力する有線操作式の操作装置を備えたことを特徴とする荷受台昇降装置。