【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年11月20日(2008.11.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式：
【化１】
2005506354.tif 000001
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を作製する方法であって、
ここで、Ｒ１０、Ｒ２０、Ｒ６０、およびＲ７０は、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔ−ブチルから独立して選択され；
各Ｒ８０およびＲ９０は、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔ−ブチルから独立して選択され；
Ｒ３０、各Ｒ４０、およびＲ５０は、以下：
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨＯＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯＨ−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨＯＨＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨＯＨＣＨ２−および
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯＨ−
から独立して選択され；
そしてｙは、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、および１３から選択される整数であり；
該方法は、以下の工程：
ａ）式Ｈ−Ｎ（Ｒ９０）−Ｒ５１−ＣＯＮ（Ｒ６０）（Ｒ７０）のアミン化合物を提供する工程であって、
ここで、Ｒ９０が、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔ−ブチルから独立して選択され；
Ｒ６０およびＲ７０が、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔ−ブチルから独立して選択され；
Ｒ５１が、以下：
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）−、
−ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）ＣＨ２−、および
−ＣＨ２ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）−
からなる群より選択され、
ここでＰＧＨｙは、ヒドロキシ保護基である、工程；
ｂ）式ＢＧＮＮ（Ｒ８０）−Ｒ４１−ＣＯＯＨのカルボン酸化合物を提供する工程であって、ここで
保護基ＢＧＮが、アミノ保護基ならびにメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔ−ブチルからなる群より選択され；
Ｒ８０は、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、およびｔ−ブチルからなる群より選択され；
Ｒ４１が、以下：
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）−、
−ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）ＣＨ２−、および
−ＣＨ２ＣＨＯ（ＰＧＨｙ）−
からなる群より選択される、工程；
ｃ）該カルボン酸化合物のカルボキシル基を活性化する工程；
ｄ）該カルボン酸化合物を該アミン化合物にカップリングして、カップリング生成物を形成する、工程；
ｄ１）存在する場合、該カップリング生成物からアミノ保護基を除去して、別のアミン化合物を形成する、工程；
ｅ）工程ｂ）〜ｄ１）を繰り返して、式Ｈ［Ｎ（Ｒ８０）−Ｒ４１−ＣＯ］ｇ−Ｎ（Ｒ９０）−Ｒ５１−ＣＯＮ（Ｒ６０）（Ｒ７０）の化合物を形成する工程であって、ここでｇが６〜１４の整数である、工程；
ｆ）Ｈ［Ｎ（Ｒ８０）−Ｒ４１−ＣＯ］ｇ−Ｎ（Ｒ９０）−Ｒ５１−ＣＯＮ（Ｒ６０）（Ｒ７０）のアミド基を還元して、Ｈ［Ｎ（Ｒ８０）−Ｒ４１−ＣＨ２］ｇ−Ｎ（Ｒ９０）−Ｒ５１−ＣＨ２Ｎ（Ｒ６０）（Ｒ７０）のアミン基を形成する工程；ならびに
ｇ）Ｈ［Ｎ（Ｒ８０）−Ｒ４１−ＣＨ２］ｇ−Ｎ（Ｒ９０）−Ｒ５１−ＣＨ２Ｎ（Ｒ６０）（Ｒ７０）の中に存在し得るあらゆるアミノ保護基またはヒドロキシル保護基を除去する工程
を包含する、方法。
【請求項２】
以下の式：
【化２】
2005506354.tif 000002
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であって、
Ｒ１が、エチルであり；
Ｒ２が、Ｈであり；
各Ｒ３が、Ｃ３〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され；
各Ｒ４が、ＨおよびＣ１〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され；ここで、Ｒ５が結合する窒素に結合しているＲ４部分が、Ｈであり；
Ｒ５がエチルであり；
ｍが、１１、１３および１５から選択される整数である、
化合物。
【請求項３】
各Ｒ３がＣ３直鎖アルキルである、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
各Ｒ３がＣ４直鎖アルキルである、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
各Ｒ４がＨである、請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
ｍが１５である、請求項２に記載の化合物。
【請求項７】
ｍが１３である、請求項２に記載の化合物。
【請求項８】
以下の式
【化３】
2005506354.tif 000003
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
ｍが１１である、請求項２に記載の化合物。
【請求項１０】
以下の式
【化４】
2005506354.tif 000004
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
以下の式：
【化５】
2005506354.tif 000005
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であって、
Ｒ１が、ＨおよびＣ１〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され；
Ｒ２が、ＨおよびＣ１〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され；
各Ｒ３が、Ｃ１〜Ｃ８直鎖ヒドロキシアルキルおよびＣ１〜Ｃ８直鎖アルキルからなる群より独立して選択され、但し、少なくとも１つのＲ３がＣ１〜Ｃ８直鎖ヒドロキシアルキルであり；
各Ｒ４が、ＨおよびＣ１〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され；
Ｒ５が、ＨおよびＣ１〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され；
ｍが、７〜１５の間の整数（７および１５を含む）である、
化合物。
【請求項１２】
Ｒ１およびＲ２のうちの少なくとも１つがＨである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ５およびＲ５が結合する窒素に結合しているＲ４部分のうちの少なくとも１つがＨである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ１がＨであり、Ｒ５がＨである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒ４がＨである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１６】
Ｒ１がエチルであり、Ｒ２がＨであり、Ｒ５がエチルであり、そしてＲ５が結合する窒素に結合しているＲ４部分がＨである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１７】
各Ｒ３が、Ｃ３〜Ｃ４直鎖ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ４直鎖アルキルからなる群より独立して選択され、但し、少なくとも１つのＲ３がＣ３〜Ｃ４直鎖ヒドロキシアルキルである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１８】
各Ｒ３が、Ｃ３直鎖ヒドロキシアルキルおよびＣ３直鎖アルキルから独立して選択され、但し、少なくとも１つのＲ３がＣ３直鎖ヒドロキシアルキルである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１９】
各Ｒ３が、Ｃ４直鎖ヒドロキシアルキルおよびＣ４直鎖アルキルから独立して選択され、但し、少なくとも１つのＲ３がＣ４直鎖ヒドロキシアルキルである、請求項１１に記載の化合物。
【請求項２０】
請求項２〜１９のいずれか一項に記載の化合物の治療量を含む、個体において癌を処置するための組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
「保護基」とは、以下の特徴を示す化学基をいう：１）良好な収率で所望の官能基と選択的に反応して、保護が望ましい計画された反応に対して安定な保護された基質を与える；２）所望の官能基を生じるために、保護された基質から選択的に除去可能である；および３）このような計画された反応において存在するかまたは生成する他の官能基と適合性の試薬によって良好な収率で除去可能である。適切な保護基の例は、Ｇｒｅｅｎｅら（１９９１）Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２ｎｄ  Ｅｄ．（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）に見出され得る。アミノ保護基としては、メシチレンスルホニル（Ｍｅｓ）、ベンジルオキシカルボニル（ＣＢｚまたはＺ）、ｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＩＭＳまたはＴＢＤＭＳ）、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、トシル、ベンゼンスルホニル、２−ピリジルスルホニル、または適切な光不安定性（ｐｈｏｔｏｌａｂｉｌｅ）保護基（例えば、６−ニトロベラトリルオキシカルボニル（Ｎｖｏｃ）、ニトロピペロニル、ピレニルメトキシカルボニル、ニトロベンジル、ジメチルジメトキシベンジル、５−ブロモ−７−ニトロインドリニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。ヒドロキシ保護基としては、ｔ−ブチル、ベンジル、トリチル、Ｆｍｏｃ、ＴＢＤＩＭＳ、光不安定性保護基（例えば、ニトロベラトリルオキシメチルエーテル（Ｎｖｏｍ））、Ｍｏｍ（メトキシメチルエーテル）、およびＭｅｍ（メトキシエトキシメチルエーテル）、ＮＰＥＯＣ（４−ニトロフェネチルオキシカルボニル）およびＮＰＥＯＭ（４−ニトロフェネチルオキシメトキシカルボニル）が挙げられるが、これらに限定されない。