【手続補正書】
【提出日】平成20年12月4日(2008.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）フルオロポリマー溶液を基材上にパターン化隆起凸版印刷プレートで隆起凸版印刷し、それによってパターン化フルオロポリマー溶液層を前記基材上に形成する工程であって、前記フルオロポリマー溶液がフルオロポリマーと溶剤とを含む、工程と、
（ｂ）前記溶剤を前記パターン化フルオロポリマー溶液層から乾燥させ、それによってパターン化フルオロポリマーフィルムを前記基材上に形成する工程とを含むことを特徴とする、パターン化フルオロポリマーフィルムを基材上に形成するための方法。
【請求項２】
前記隆起凸版印刷がフレキソ印刷であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記フィルムが、約８０ｎｍ〜約１２０ｎｍの厚さを有する反射防止フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
（ａ）非晶質フルオロポリマーの溶液を光学的に透明な基材上にフレキソ印刷して前記基材上に湿潤画像を形成する工程と、
（ｂ）溶剤を前記湿潤画像から乾燥させてフルオロポリマーフィルムを形成し、前記フルオロポリマーフィルムの厚さが、入射光の反射防止性を提供するように入射光の波長の約１／４であるように制御され、かつ均一である、工程とを含むことを特徴とする、反射防止フィルムを基材上に形成するための方法。
【請求項５】
（ａ）接着促進剤層を光学的に透明な基材上にフレキソ印刷する工程と、
（ｂ）非晶質フルオロポリマーの溶液を前記接着促進剤層上にフレキソ印刷して湿潤画像を前記接着促進剤層上に形成する工程と、
（ｃ）溶剤を前記湿潤画像から乾燥させて非晶質フルオロポリマーフィルムを形成する工程と、
（ｄ）ハードコート層を前記非晶質フルオロポリマーフィルム上にフレキソ印刷し、得られた反射防止フィルムの厚さが、入射光の反射防止性を提供するように入射光の波長の約１／４であるように制御され、かつ均一である、工程とを含むことを特徴とする、反射防止フィルムを基材上に形成するための方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
（実施例３）
マーク・アンディ（Ｍａｒｋ−Ａｎｄｙ）印刷プレス（１２インチの幅、米国、ミズーリ州、セントルイスのマーク−アンディ社（Ｍａｒｋ−Ａｎｄｙ，Ｉｎｃ．，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ，  ＵＳＡ））は、４４０ｌｐｉのアニロックスおよび３．５インチ×７インチの画像化および硬化されたサイレル（登録商標）ＰＬＢ４５プレートを備えた。ＰＦＯ／ＰＦＯＥの８５／１５重量比の溶剤混合物中１．２５重量％のテフロン（登録商標）ＳＦ５０（米国、デラウェア州、ウィルミントンの本願特許出願人、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの非晶質等モルコポリマー）溶液を５００Ａマイラー（米国、デラウェア州、ウィルミントンの本願特許出願人）基材上に２８、１２０および１５０フィート／分のラインスピードで連続的に堆積し、ＳＥＭ断面から推定した時におよそ２０ｎｍ〜３０ｎｍの厚さの極薄ＳＦ５０フルオロポリマーフィルムを製造した。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  （ａ）フルオロポリマー溶液を基材上にパターン化隆起凸版印刷プレートで隆起凸版印刷し、それによってパターン化フルオロポリマー溶液層を前記基材上に形成する工程であって、前記フルオロポリマー溶液がフルオロポリマーと溶剤とを含む、工程と、
（ｂ）前記溶剤を前記パターン化フルオロポリマー溶液層から乾燥させ、それによってパターン化フルオロポリマーフィルムを前記基材上に形成する工程とを含むことを特徴とする、パターン化フルオロポリマーフィルムを基材上に形成するための方法。
（２）  工程（ａ）および（ｂ）の前に接着促進剤を前記基材上にパターン化隆起凸版印刷プレートで隆起凸版印刷し、それによってパターン化定接着促進剤層を前記基材上に形成する工程をさらに含むことを特徴とする（１）に記載の方法。
（３）  ハードコート層を前記パターン化フルオロポリマーフィルム上に隆起凸版印刷する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
（４）  前記隆起凸版印刷がフレキソ印刷であることを特徴とする（１）、（２）または（３）に記載の方法。
（５）  工程（ａ）および（ｂ）が繰り返され、それによって前記フィルムの厚さを増加させることを特徴とする（１）に記載の方法。
（６）  前記フルオロポリマーが非晶質であり、前記フィルムが透明であることを特徴とする（１）に記載の方法。
（７）  前記基材がアセチル化セルロース、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニルおよびガラスからなる群から選択されることを特徴とする（１）に記載の方法。
（８）  前記基材がトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレートおよびガラスからなる群から選択されることを特徴とする（１）に記載の方法。
（９）  前記基材が電気湿潤ディスプレイ部材であることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１０）  前記フルオロポリマーが、ａ）クロロトリフルオロエチレン、ｂ）フッ化ビニリデン、ｃ）ヘキサフルオロプロピレン、ｄ）トリフルオロエチレン、ｅ）式ＣＦ2＝ＣＦＯＲFのペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）［式中、ＲFは１〜５個の炭素原子を有するノルマルペルフルオロアルキル基である］、ｆ）式ＣＦ2＝ＣＦＯＱＺのフルオロビニルエーテル［式中、Ｑは０〜５個のエーテル酸素原子を含有する過フッ素化アルキレン基であり、Ｑ中のＣおよびＯ原子の合計は２〜１０であり、Ｚは−ＣＯＯＲ、−ＳＯ2Ｆ、−ＣＮ、−ＣＯＦまたは−ＯＣＨ3であり、ＲはＣ1−Ｃ4アルキル基である］、ｇ）フッ化ビニル、ｈ）式ＲfＣＨ＝ＣＨ2の（ペルフルオロアルキル）エチレン［式中、ＲfはＣ1−Ｃ8ノルマルペルフルオロアルキル基である］、ｉ）ペルフルオロ−２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン、ｊ）ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールおよびｋ）テトラフルオロエチレンからなる群から選択される少なくとも１つのモノマーを含む非晶質コポリマーであることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１１）  前記フルオロポリマーがテトラフルオロエチレンとペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールとの非晶質コポリマーであることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１２）  前記フィルムの厚さが約１，０００ｎｍ以下であることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１３）  前記フィルムの厚さが約２０ｎｍ〜約２００ｎｍであることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１４）  前記フィルムが、約８０ｎｍ〜約１２０ｎｍの厚さを有する反射防止フィルムであることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１５）  前記パターン化フルオロポリマーフィルムの厚さの変動が約±５ｎｍであることを特徴とする（１）に記載の方法。
（１６）
（ａ）非晶質フルオロポリマーの溶液を光学的に透明な基材上にフレキソ印刷して前記基材上に湿潤画像を形成する工程と、
（ｂ）溶剤を前記湿潤画像から乾燥させてフルオロポリマーフィルムを形成し、前記フルオロポリマーフィルムの厚さが、入射光の反射防止性を提供するように入射光の波長の約１／４であるように制御され、かつ均一である、工程とを含むことを特徴とする、反射防止フィルムを基材上に形成するための方法。
（１７）  （ａ）接着促進剤層を光学的に透明な基材上にフレキソ印刷する工程と、
（ｂ）非晶質フルオロポリマーの溶液を前記接着促進剤層上にフレキソ印刷して湿潤画像を前記接着促進剤層上に形成する工程と、
（ｃ）溶剤を前記湿潤画像から乾燥させて非晶質フルオロポリマーフィルムを形成する工程と、
（ｄ）ハードコート層を前記非晶質フルオロポリマーフィルム上にフレキソ印刷し、得られた反射防止フィルムの厚さが、入射光の反射防止性を提供するように入射光の波長の約１／４であるように制御され、かつ均一である、工程とを含むことを特徴とする、反射防止フィルムを基材上に形成するための方法。