【手続補正書】
【提出日】平成21年5月19日(2009.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体平面に配置されるパターンを像平面内に結像するマイクロリソグラフィ投影対物レンズであって、少なくとも一つの鏡を含む複数の光学部品を備え、
前記パターンを前記像平面に結像するために用いることができる結像ビーム経路は、前記少なくとも一つの鏡の領域において、互いに対して斜めに延び、走行しかつ重複領域で少なくとも部分的に互いに重複し、かつ前記重複領域の外部で間隙によって互いに間隔が開けられているビーム経路セグメントを有し、
偽光を抑制する少なくとも一つのシールドが前記間隙に配置される、投影対物レンズ。
【請求項２】
前記少なくとも一つのシールドは前記第１鏡上に固定される、請求項１に記載の投影対物レンズ。
【請求項３】
前記複数の光学部品は、カタディオプトリック系を形成するための少なくとも一つのレンズをさらに含む、請求項１または２に記載の投影対物レンズ。
【請求項４】
前記複数の光学部品は光学軸を備える、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５】
システム開口を規定し、光学的有効断面を有する開口絞りをさらに備え、前記光学的有効断面は調整可能である、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項６】
前記複数の光学部品は、第１鏡および少なくとも一つの第２鏡を含み、前記ビーム経路セグメントの一つは前記第２鏡によって反射されるビーム経路セグメントであり、かつ前記ビーム経路セグメントの他の一つは前記第１鏡によって反射されるビーム経路セグメントであり、前記少なくとも一つのシールドは、前記２つの反射ビーム経路セグメント間の前記間隙における前記第１鏡と前記少なくとも一つの第２鏡との間に配置される、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項７】
前記少なくとも一つのシールドは前記第１鏡上に固定される、請求項６に記載の投影対物レンズ。
【請求項８】
前記少なくとも一つのシールドは前記第２鏡上に固定される、請求項６または７に記載の投影対物レンズ。
【請求項９】
前記少なくとも一つのシールドは板または開口である、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項１０】
物体平面に配置されるパターンを像平面内に結像するマイクロリソグラフィ投影対物レンズであって、第１対物レンズ部と、第２対物レンズ部と、少なくとも一つの第３対物レンズ部とを備え、
前記第２対物レンズ部は、前記第１対物レンズ部における光伝搬方向および前記第３対物レンズ部における光伝搬方向と異なる光伝搬方向を規定し、
前記第１対物レンズ部と前記第２対物レンズ部との間および前記第２対物レンズ部と前記第３対物レンズ部との間に少なくとも一つのビーム偏向装置をさらに備え、
少なくとも一つのシールドが、前記第１対物レンズ部から第３対物レンズ部内への直接光漏れが少なくとも減少するようにして前記ビーム偏向装置の領域に配置される、マイクロリソグラフィ投影対物レンズ。
【請求項１１】
前記シールドは、前記結像ビーム経路を制限しない、請求項１０に記載の投影対物レンズ。
【請求項１２】
前記ビーム偏向装置は、互いに対してある角度で配置される第１反射面および第２反射面を有し、かつ前記少なくとも一つのシールドは、前記ビーム偏向装置の角頂点から前記第２対物レンズ部の方向に延びている、請求項１０または１１に記載の投影対物レンズ。
【請求項１３】
前記シールドは、板である、請求項１２に記載の投影対物レンズ。
【請求項１４】
前記シールドは、吸収性であるまたは吸収層で被覆されている、請求項１２または１３に記載の投影対物レンズ。
【請求項１５】
少なくとも一つの中間像は、前記第２および／または第３対物レンズ部で生成され、かつ少なくとも一つのさらなるシールドは、前記中間像の領域に配置される、請求項１０ないし１４のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項１６】
前記少なくとも一つのさらなるシールドは、前記結像ビーム経路を制限しない開口である、請求項１５に記載の投影対物レンズ。
【請求項１７】
前記第２対物レンズ部は、カタディオプトリックである、請求項１０ないし１６のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項１８】
前記第３対物レンズ部は、ディオプトリックである、請求項１０ないし１７のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項１９】
前記少なくとも一つのシールドをその活性断面に対して位置調整および／または可変設定することができる、請求項１０ないし１８のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項２０】
前記シールドの設定を、前記結像ビーム経路を制限する前記対物レンズの開口の設定と共通に行うことができる、請求項１９に記載の投影対物レンズ。
【請求項２１】
前記シールドの設定は、結像に用いられる前記像視野の大きさに応じて行われる、請求項１９または２０に記載の投影対物レンズ。
【請求項２２】
前記シールドの設定を、照明設定として行うことができる、請求項１９ないし２１のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項２３】
少なくともさらなるシールドが前記物体平面からオーバ開口光を遮蔽するように配置される、請求項１０ないし２２のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項２４】
物体平面に配置されるパターンを像平面内に結像するマイクロリソグラフィ投影対物レンズであって、少なくとも一つの光学活性表面をそれぞれ有する複数の光学部品を備え、
前記複数の光学部品のうち、前記投影対物レンズの作動中、前記パターンを前記像平面内に結像する前記結像ビーム経路に用いられない第１表面領域を有する少なくとも一つの第１光学作用表面を持った少なくとも一つの第１光学部品が存在し、
前記少なくとも一つの第１光学作用表面には、偽光を抑制するために前記第１光学作用表面の、前記結像ビーム経路に用いられない前記第１表面領域をマスクする少なくとも一つの第１シールドが割り当てられる、投影対物レンズ。
【請求項２５】
前記少なくとも一つの第１シールドは、前記少なくとも一つの第１光学作用表面の直近傍に配置される平面である、請求項２４に記載の投影対物レンズ。
【請求項２６】
前記少なくとも一つの第１シールドは、前記少なくとも一つの第１光学作用表面の前記直近傍に配置される開口であり、かつ前記結像ビーム経路の断面形状に適合する開口部を前記開口の位置に有する、請求項２４に記載の投影対物レンズ。
【請求項２７】
前記開口部は実質的に長方形である、請求項２６に記載の投影対物レンズ。
【請求項２８】
前記少なくとも一つの第１シールドは、前記結像ビーム経路によって用いられない前記第１表面領域上の遮蔽コーティングである、請求項２４に記載の投影対物レンズ。
【請求項２９】
前記少なくとも一つの第１シールドは、結像に用いられる前記光の波長において反射性である、請求項２４ないし２８のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３０】
前記少なくとも一つの第１シールドは、結像に用いられる前記光の波長について吸収性である、または吸収コーティングが設けられる、請求項２４ないし２９のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３１】
前記シールドの吸収度は、少なくとも約９５％であり、好ましくは少なくとも約９８％である、請求項３０に記載の投影対物レンズ。
【請求項３２】
前記少なくとも一つの第１シールドは光触媒特性を有する、請求項３０または３１に記載の投影対物レンズ。
【請求項３３】
前記少なくとも一つの第１シールドが割り当てられる前記少なくとも一つの第１光学作用表面は、近傍表面、特に前記結像ビーム経路の中間像の近傍または前記像平面もしくは前記物体表面の近傍に位置決めされる表面である、請求項２４ないし３２のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３４】
前記少なくとも一つのシールドは、前記物体平面と前記投影対物レンズの前記第１光学部品との間および／または前記投影対物レンズの最後の光学部品と前記像平面との間に配置される、請求項２４ないし３３のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３５】
少なくとも一つの光学作用表面に前記少なくとも一つのシールドが割り当てられる前記少なくとも一つの光学部品は鏡である、請求項２４ないし３４のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３６】
少なくとも一つの光学作用表面に前記少なくとも一つのシールドが割り当てられる前記少なくとも一つの光学部品はレンズである、請求項２４ないし３５のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３７】
前記少なくとも一つの第１シールドをその活性断面に対して位置調整および／または可変設定することができる、請求項２４ないし３６のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項３８】
前記少なくとも一つの第１シールドの設定を、前記結像ビーム経路を制限する前記投影対物レンズの開口の設定と共通に行うことができる、請求項３７に記載の投影対物レンズ。
【請求項３９】
前記少なくとも一つの第１シールドの設定は、結像に用いられる前記像視野の大きさに応じて行われる、請求項３７または３８に記載の投影対物レンズ。
【請求項４０】
前記少なくとも一つの第１シールドの設定を、照明設定として行うことができる、請求項３７ないし３９のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項４１】
前記複数の光学部品は、前記投影対物レンズの作動中、前記パターンを前記像平面内に結像するための前記結像ビーム経路によって用いられないさらなる表面領域を有する、少なくとも一つのさらなる光学作用表面を有する少なくとも一つのさらなる光学部品を有し、前記少なくとも一つのさらなる光学作用表面は、前記さらなる光学作用表面の前記結像ビーム経路によって用いられない前記さらなる表面領域をマスクする少なくとも一つのさらなるシールドが割り当てられる、請求項２４ないし４０のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項４２】
前記複数の光学部品は少なくとも２つの鏡を備える、請求項２４ないし４１のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項４３】
前記複数の光学部品は少なくとも４つの鏡を備える、請求項４２に記載の投影対物レンズ。
【請求項４４】
液浸対物レンズとして設計される、請求項２４ないし４３のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項４５】
少なくともさらなるシールドが前記物体平面からのオーバ開口光を遮蔽するように配置される、請求項２４ないし４４のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項４６】
物体平面に配置されるパターンを像平面内に結像するマイクロリソグラフィ投影対物レンズであって、複数の光学部品と、第１瞳孔平面および少なくとも第２瞳孔平面とを備え、
システム開口を規定する第１開口絞りは、前記第１瞳孔平面の近くに少なくとも配置され、少なくとも第２開口絞りをさらに備える、投影対物レンズ。
【請求項４７】
前記少なくとも一つの第２開口絞りは前記第１または第２瞳孔平面の近くに配置される、請求項４６に記載の投影対物レンズ。
【請求項４８】
前記少なくとも一つの第２開口絞りは前記少なくとも一つの第２瞳孔平面に配置される、請求項４７に記載の投影対物レンズ。
【請求項４９】
前記少なくとも一つの第２開口絞りは固定開口絞りである、請求項４６ないし４８のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５０】
前記少なくとも一つの第１開口絞りはその有効断面に対して調整可能である、請求項４６ないし４９のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５１】
前記少なくとも一つの第２開口絞りは前記複数の光学部品のうちの一つの光学部品上の非透過コーティングによって形成される、請求項４６ないし５０のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５２】
前記少なくとも一つの第２開口絞りは前記複数の光学部品のうち２つの隣接する部品間に配置される板によって形成される、請求項４６ないし５０のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５３】
前記複数の光学部品のうちの前記光学部品の少なくとも一つは、非球面光学作用表面を有する、請求項４６ないし５２のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５４】
約０．８より大きく、好ましくは約１より大きい像側の開口数を有する、請求項４６ないし５３のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５５】
前記少なくとも一つの第２開口絞りの前記像平面に最も近い前記瞳孔平面からの距離Ｌは、０．５Ｄ＜Ｌ＜２Ｄとなるように選択され、式中Ｄは前記複数の光学部品のうち、前記光学部品の最大直径を有する一つの光学部品の直径である、請求項４６ないし５４のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５６】
前記第１瞳孔平面と前記少なくとも一つの第２瞳孔平面との間に、少なくとも一つの中間像平面を有する、請求項４６ないし５５のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５７】
請求項１ないし５６のいずれか１項に記載の投影対物レンズを有する、マイクロリソグラフィ投影露光機。
【請求項５８】
半導体部品および他の微細構造サブアセンブリを製造する方法であって、規定パターンを有するマスクが設けられ、前記マスクは、規定波長の紫外光で照射され、かつ請求項１ないし５６のいずれか１項に記載の投影対物レンズを用いて、前記投影対物レンズの像平面の領域に配置される感光性基板上に前記パターンが結像される方法。