【手続補正書】
【提出日】平成21年4月21日(2009.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下からなる群から選択される臭化チオトロピウムの新規な結晶物：
-  Ｘ線構造解析によるパラメータａ＝11.7420(4)Å、ｂ＝17.7960(7)Å、ｃ＝19.6280(11)Å、セル体積＝4101.5(3)Å3である斜方晶系の基本セルを特徴とする、結晶性臭化チオトロピウム無水物、
-  結晶性臭化チオトロピウムの１，４−ジオキサン溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのエタノール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのメタノール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのアニソール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのｎ‐ブタノール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのＮ,Ｎ-ジメチルアセトアミド溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのイソプロパノール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムの１，２−プロパンジオール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのピリジン溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのｔ−ブタノール溶媒和物、
-  結晶性臭化チオトロピウムのテトラヒドロフラン溶媒和物、及び
-  結晶性臭化チオトロピウムのテトラヒドロピラン溶媒和物。
【請求項２】
Ｘ線構造解析によるパラメータａ＝13.6650(3)Å、ｂ＝12.0420(3)Å、ｃ＝13.7090(3)Å、β＝103.8150(13)°、セル体積＝2190.61(9)Å3である単斜晶系の基本セルを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムの1,4-ジオキサン溶媒和物。
【請求項３】
Ｘ線構造解析によるパラメータａ＝13.5380(2)Å、ｂ＝11.9830(2)Å、ｃ＝26.9410(5)Å、β＝105.1990(6)°、セル体積＝4217.65(12)Å3である単斜晶系の基本セルを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのエタノール溶媒和物。
【請求項４】
Ｘ線構造解析によるパラメータａ＝13.4420(2)Å、ｂ＝37.0890(5)Å、ｃ＝13.6290(2)Å、β＝104.7050(10)°、セル体積＝6572.18(16)Å3である単斜晶系の基本セルを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのメタノール溶媒和物。
【請求項５】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝6.55Å、4.88Å及び4.14Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのアニソール溶媒和物。
【請求項６】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝13.38Å、17.95Å及び21.41Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのｎ‐ブタノール溶媒和物。
【請求項７】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝4.89Å、4.42Å及び4.10Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのＮ,Ｎ-ジメチルアセトアミド溶媒和物。
【請求項８】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝4.89Å、4.43Å及び4.12Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド溶媒和物。
【請求項９】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝18.06Å、19.80Å及び21.33Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのイソプロパノール溶媒和物。
【請求項１０】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝4.90Å、4.44Å及び4.17Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムの1,2-プロパンジオール溶媒和物。
【請求項１１】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝5.76Å、4.89Å及び4.16Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのピリジン溶媒和物。
【請求項１２】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝5.76Å、4.89Å及び4.14Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのｔ−ブタノール溶媒和物。
【請求項１３】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝4.85Å、4.09Å及び3.69Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのテトラヒドロフラン溶媒和物。
【請求項１４】
粉体Ｘ線ダイアグラムの特性値ｄ＝4.89Å、4.44Å及び4.13Åであることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウムのテトラヒドロピラン溶媒和物。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項記載のチオトロピウムを含有することを特徴とする医薬組成物。
【請求項１６】
前記医薬組成物が、請求項１〜１４のいずれか１項記載のチオトロピウムと共に、ベータ受容体刺激薬(betamimetics)、ＥＧＦＲ阻害剤、ＰＤＥIV-阻害剤、ステロイド類及びＬＴＤ４拮抗薬から選択される１種以上の有効成分とを含み、さらに、医薬的に許容される賦形剤を一緒に含んでいてもよい、請求項１５記載の医薬組成物。
【請求項１７】
呼吸器系疾患の治療用、好ましくは喘息又はＣＯＰＤの治療用の医薬組成物を製造するための、請求項１〜１４のいずれか１項記載のチオトロピウムの使用。
【請求項１８】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を好適な溶媒、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを含む溶媒混合物に溶解させ、約30〜70℃に加熱し、その後、15℃未満に冷却して結晶性の無水物を導き、こうして得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の結晶性臭化チオトロピウム無水物の製造方法。
【請求項１９】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、メタノール含有溶媒に溶解させ、引き続き０℃未満に冷却し、こうして得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性メタノール溶媒和物の製造方法。
【請求項２０】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、エタノール含有溶媒に溶解させ、引き続き０℃未満に冷却し、こうして得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性エタノール溶媒和物の製造方法。
【請求項２１】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、メタノール含有溶媒に溶解させ、得られた溶液をイソプロパノール含有溶媒に添加し、引き続き15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性イソプロパノール溶媒和物の製造方法。
【請求項２２】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、メタノール含有溶媒に溶解させ、得られた溶液をｎ‐ブタノール含有溶媒に添加し、引き続き15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ｎ‐ブタノール溶媒和物の製造方法。
【請求項２３】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、メタノール含有溶媒に溶解させ、得られた溶液をＴＨＦ含有溶媒に添加し、引き続き15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ＴＨＦ溶媒和物の製造方法。
【請求項２４】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、メタノール含有溶媒に溶解させ、得られた溶液をジオキサン含有溶媒に添加し、引き続き15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ジオキサン溶媒和物の製造方法。
【請求項２５】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、１，２−プロパンジオール含有溶媒に溶解させ、得られた溶液を30〜70℃の範囲の温度に保ち、その後15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性１，２−プロパンジオール溶媒和物の製造方法。
【請求項２６】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、アニソール含有溶媒に溶解させ、得られた溶液を30〜70℃の範囲の温度に保ち、その後15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性アニソール溶媒和物の製造方法。
【請求項２７】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、ＴＨＰ含有溶媒に溶解させ、得られた溶液を30〜70℃の範囲の温度に保ち、その後15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ＴＨＰ溶媒和物の製造方法。
【請求項２８】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、ＤＭＦ含有溶媒に懸濁させ、得られた液に貧溶媒を添加することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ＤＭＦ溶媒和物の製造方法。
【請求項２９】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物を60〜90℃で乾燥させた後、ＤＭＡ含有溶媒に懸濁させ、得られた液に貧溶媒を添加することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ＤＭＡ溶媒和物の製造方法。
【請求項３０】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物をアセトン含有溶媒に溶解させ、溶媒分をゆっくり蒸発させて残留固形物をＴＨＦ含有溶媒で処理し、得られた溶液を30〜70℃の範囲の温度に保ち、その後15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ＴＨＦ溶媒和物の製造方法。
【請求項３１】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物をアセトン含有溶媒に溶解させ、溶媒分をゆっくり蒸発させて残留固形物をｔ−ブタノール含有溶媒で処理し、得られた溶液を30〜70℃の範囲の温度に保ち、その後15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ｔ−ブタノール溶媒和物の製造方法。
【請求項３２】
結晶性臭化チオトロピウム一水和物をアセトン含有溶媒に溶解させ、溶媒分をゆっくり蒸発させて残留固形物をピリジン含有溶媒で処理し、得られた溶液を30〜70℃の範囲の温度に保ち、その後15℃未満に冷却することによって得られた結晶を単離、乾燥させることを特徴とする、請求項１記載の臭化チオトロピウムの新規な結晶性ピリジン溶媒和物の製造方法。
【請求項３３】
請求項１記載のチオトロピウム結晶物を製造するための、出発物質としての結晶性臭化チオトロピウム一水和物の使用。