Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月17日(2008.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の表面領域を有するＥＡＳ（電子式物品監視）構成要素と；  
所定の表面領域を有するＲＦＩＤ（無線周波識別）構成要素であって、前記ＥＡＳ構成要素の前記所定の表面領域は前記ＲＦＩＤ構成要素の前記所定の表面領域に少なくとも部分的に重なるＲＦＩＤ構成要素と；  
厚みを有するほぼ平面のスペーサであって；前記スペーサの厚みはＲＦＩＤ読取装置と前記ＲＦＩＤ構成要素の間の読出し範囲を規定し、前記ＥＡＳ構成要素の前記所定の表面領域と、前記ＲＦＩＤ構成要素の前記所定の表面領域の間に少なくとも部分的に配設されたスペーサと；
を含んでなる保全タグ。
【請求項２】
請求項１に記載の保全タグであって、前記ＲＦＩＤ読取装置は、前記ＲＦＩＤ構成要素が前記読出し範囲内にあるとき、前記ＲＦＩＤ構成要素を活性化可能である保全タグ。
【請求項３】
請求項１に記載の保全タグであって、前記ＲＦＩＤ構成要素は、前記ＥＡＳ構成要素の前記所定の表面領域に少なくとも部分的に重なるアンテナを含む保全タグ。
【請求項４】
請求項３に記載の保全タグであって、前記アンテナは複素インピーダンスを含み、前記ＥＡＳ構成要素は前記アンテナのインピーダンスマッチングネットワークの一部を形成する保全タグ。
【請求項５】
請求項４に記載の保全タグであって、前記アンテナインピーダンスは前記ＥＡＳ構成要素の負荷効果を含む保全タグ。
【請求項６】
請求項５に記載の保全タグであって、前記ＲＦＩＤ構成要素は前記アンテナと；複素インピーダンスを有するＡＳＩＣ（特定用途ＩＣ）を含む保全タグ。
【請求項７】
請求項６に記載の保全タグであって、前記ＡＳＩＣの前記複素インピーダンスは、前記ＥＡＳ構成要素の前記負荷効果を含む前記アンテナの結合複素共役インピーダンスにマッチする保全タグ。
【請求項８】
所定の表面領域を有するＥＡＳ（電子式物品監視）構成要素と；  
所定の表面領域を有するＲＦＩＤ（無線周波識別）構成要素であって、前記ＥＡＳ構成要素の前記所定の表面領域は前記ＲＦＩＤ構成要素の前記所定の表面領域に少なくとも部分的に重なるＲＦＩＤ構成要素と；  
厚みを有するほぼ平面のスペーサであって；前記スペーサの厚みはＲＦＩＤ読取装置と前記ＲＦＩＤ構成要素の間の読出し範囲を規定し、前記ＥＡＳ構成要素の前記所定の表面領域と、前記ＲＦＩＤ構成要素の前記所定の表面領域の間に少なくとも部分的に配設されたスペーサと；
を含んでなる保全タグであって、  
前記ＲＦＩＤ構成要素はアンテナと；複素インピーダンスを有するＡＳＩＣ（特定用途ＩＣ）を含み、前記ＡＳＩＣの前記複素インピーダンスは、前記ＥＡＳ構成要素の負荷効果を含む前記アンテナの結合複素共役インピーダンスにマッチすることを特徴とする保全タグ。
【請求項９】
請求項１に記載の保全タグであって、前記ＲＦＩＤ構成要素はベース部を含み、該ベース部の素材が（ａ）ベース紙、（ｂ）ポリエチレン、（ｃ）ポリエステル、（ｄ）  ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び（ｅ）ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）から成る群から選択される保全タグ。
【請求項１０】
請求項１に記載の保全タグであって、前記ＲＦＩＤ構成要素はベース部を含み、該ベース部の素材が約３．３の誘電率と約０．０１未満の損失正接を有するプラスチックである保全タグ。
【請求項１１】
請求項１に記載の保全タグであって、前記スペーサの素材は、ａ）低損失かつ低誘電素材と、ｂ）空気から成る群から選択される保全タグ。
【請求項１２】
ＥＡＳ（電子式物品監視）構成要素とＲＦＩＤ（無線周波識別）構成要素の組合せの読出し範囲を規制する方法であって：  前記ＥＡＳ構成要素と前記ＲＦＩＤ構成要素の間にスペーサを配置し；  前記スペーサの厚みを変えて前記ＲＦＩＤ構成要素の読出し可能な範囲を規制する；ステップを含む方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、前記ＲＦＩＤ構成要素の読出し可能な範囲を規制することに、前記スペーサの厚みを変えてＲＦＩＤ読取装置と前記ＲＦＩＤ構成要素の間の読出し範囲を変えることが含まれ、かつ、前記ＲＦＩＤ読取装置は、前記ＲＦＩＤ構成要素が前記読出し範囲内にあるとき、前記ＲＦＩＤ構成要素を活性化可能である方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の方法であって、前記ＲＦＩＤ構成要素の読出し可能な範囲を規制することに、ＥＡＳ構成要素の表面領域とＲＦＩＤ構成要素の表面領域のオーバラップした部分を変化させることが含まれる方法。
【請求項１５】
請求項１２に記載の方法であって、更に、ＲＦＩＤ構成要素のアンテナをチューニングするステップを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月26日(2008.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６０】
免疫蛍光染色−細胞（１０4）を、滅菌ガラスカバースリップ上で、２４ウェルプレート（１ｍｌ培地／ウェル）に播種し、３７℃で３日間インキュベートした。免疫染色のために、増殖培地を除去し、単層細胞をＰＢＳで２回洗浄し、ＰＢＳ中の４％ホルムアルデヒドを使用して１０分間固定した。固定後、カバースリップをＰＢＳで洗浄し、２回蒸留水中の８０％メタノールの溶液中で２０分間インキュベートし、ＰＢＳで２回洗浄し、１％スキムミルクを含むＰＢＳ中で室温にて１時間ブロックし、そして抗ＨＡモノクローナル抗体Ｈ１２（コバンス社、プリンストン、ＮＪ；１：１００希釈）とともに反応させた。抗ＨＡインキュベーション後、カバースリップを、ＰＢＳの存在下で洗浄し、ＦＩＴＣ−結合体化ウサギ抗マウスＩｇＧ二次抗体（シグマ；１：１００）とともにさらにインキュベートした。二次抗体とのインキュベーション後、カバースリップをＰＢＳで２回洗浄し、細胞核を、０．５μｇ／ｍｌの最終濃度で、ＤＡＰＩ（シグマ；カタログ番号Ｄ−９５６４）を用いて、室温で６０分間染色した。ＰＢＳを用いる４回の洗浄後（各々２ｍｌを用いる）、カバースリップを、フルオロマウント−ＧＴＭ（サザンバイオテック、バーミンガム、アラバマ、カタログ番号０１００−０１）を使用してスライドガラスに装着した。次いで、スライドを、ＢｉｏＲａｄ  ＭＲＣ  １０２４共焦点顕微鏡を使用して調べた。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月14日(2008.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
既圧縮デジタルファイルを圧縮する方法であって、
（ａ）最初のステップとして、１以上のデータタイプの圧縮されたデータを含む入力データストリームを受け取るステップと、
（ｂ）各データタイプを識別するステップと、
（ｃ）複数の圧縮手法から、ステップ（ｂ）において識別された各データタイプに最適化された少なくとも１つの圧縮手法を選択するステップであって、各選択された圧縮手法は入力データストリーム内の圧縮されたデータを圧縮するのに元々用いられた圧縮手法とは種類が異なっており、かつ元々用いられた圧縮手法よりもより積極的でありおよび／またはより優れているものであるようなステップと、
（ｄ）入力データを完全にまたは部分的に伸張するステップと、
（ｅ）ステップ（ｄ）に続いて、伸張されたデータを、ステップ（ｃ）で選択された圧縮手法を用いて再圧縮するステップと、
（ｆ）再圧縮されたデータを出力に送るステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光デバイスを製造する方法であって、下記の工程：
発光ダイオードを提供すること、及び
前記発光ダイオードと接触する封入材を形成すること
を含み、ここで、封入材を形成する前記工程が、
発光ダイオードと、ケイ素含有樹脂及び金属含有触媒を含む光重合性組成物とを接触させる工程であって、前記ケイ素含有樹脂がケイ素結合水素及び脂肪族不飽和を含む工程、及び
７００ｎｍ以下の波長を有する化学線放射を適用して前記ケイ素含有樹脂内でヒドロシリル化を開始させる工程
を含む、発光デバイスの製造方法。
【請求項２】
ケイ素結合水素及び脂肪族不飽和が同一の分子中に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ケイ素結合水素及び脂肪族不飽和が異なる分子中に存在する、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月18日(2008.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理するためのシステムにおいて、
プロセスチャンバを形成する第１のハウジング、
１つのシリコン基板に前記プロセスチャンバへの通路を形成する前記第１のハウジング中の開口、
複数の基板を支持するよう構成された支持手段を有する可動プレート、
前記支持手段の少なくとも一部が前記プロセスチャンバの外にあるローディング位置と前記支持手段が完全に前記プロセスチャンバ内にある処理位置の間で前記可動プレートを移動させる手段であって、前記処理位置においては前記可動プレートが前記開口を閉じる手段、
前記第１のハウジング中のガス吸気ポート、
アルコール蒸気源およびフッ化水素酸蒸気源を含む前記ガス吸気ポートと液体連結されたガス源、
前記第１のハウジング中の排気ポート、
該排気ポートに液体連結された排気システム、
前記プロセスチャンバ内にスタック配置で複数枚の基板を支持するよう構成された支持手段であって、前記スタック配置は露出表面を有する最初の基板及び露出表面を有する最後の基板を有し、前記最初の基板及び前記最後の基板の前記露出表面は放射率値を有している支持手段、及び
前記複数枚の基板が前記プロセスチャンバ内に前記スタック配置で支持されたときに前記最初の基板及び前記最後の基板の前記露出表面に対向する表面を有し、前記最初の基板及び前記最後の基板の前記露出表面の前記放射率値に相当する放射率値を有する対向表面、
を備えることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月17日(2008.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変圧器構成設計を作成する方法であって、
電源設計に含まれる変圧器のパラメータをロードするステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器の一次側巻線パラメータを計算するステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器の二次側巻線パラメータを計算するステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールドケースのタイプを決定するステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールド巻線パラメータを計算するステップと、
前記一次側および前記二次側の巻線に関するシールド巻線の巻順を含む巻線指示レポートを作成するステップと、
変圧器構成材料のリストを作成するステップと、
から構成され、前記シールド巻線パラメータは１つのシールド巻線の巻数、ワイヤサイズ、フィラー、ピンの配置を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のバイアス巻線パラメータを計算するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記変圧器を構成するのに用いられる巻線指示を作成するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記変圧器構成設計の出力レポートを作成するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記変圧器の一次側巻線パラメータを計算するステップは、前記変圧器の一次側巻の線ピン割り付けを計算するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記変圧器の一次側巻線パラメータを計算するステップは、前記変圧器構成設計において１つのピン当たりに終端されるワイヤの数に基づいて前記変圧器構成設計に含まれるピンの総数を決定するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記変圧器の二次側巻線パラメータを計算するステップは、前記変圧器の二次側巻線のピン配列を計算するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記変圧器の二次側巻線のピン配列を計算するステップは、前記変圧器に独立しているか或いはスタックされた出力があるかどうかに少なくとも部分的に基づくことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記変圧器の二次側巻線のピン配列を計算するステップは、電圧によって前記変圧器の二次側ピンを割り付けるステップを有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
電圧によって前記変圧器の二次側ピンを割り付けるステップは、電圧出力によってソートされたスタック出力シーケンスに基づいて前記二次側ピンを割り付けるステップを有することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
１つのピン当たりのワイヤの数が許容可能でない場合に付加的な二次側ピンを割り付けるステップをさらに有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記変圧器の二次側巻線のピン配列を計算するステップは、電流によって前記変圧器の二次側ピンを割り付けるステップを有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
電流によって前記変圧器の二次側ピンを割り付けるステップは、
電流によって前記二次側ピンをソートするステップと、
前記変圧器の二次側ボビン部分の中央で接地ピンを動かすステップと、
前記接地ピンに対して奇数と偶数の二次側ピンを割り当てるステップと、
１つのピン当りのワイヤの数が許容可能でない場合に付加的な二次側ピンを割り付けるステップと、
前記変圧器が負の出力を含む場合に負の出力ピンを割り当てるステップと、
二次側ピン開始を割り当てるステップと、
から成ることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
二次側ピンをシフトさせて電圧による割り付けの範囲を一致させるステップをさらに有することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールドケースのタイプを決定するステップは、前記変圧器の一次側巻線がスプリットであるかどうかを判定するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールドケースのタイプを決定するステップは、前記変圧器においてフォイル技術が利用されるかどうかを判定するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールドケースのタイプを決定するステップは、前記変圧器において一次側バイアスフィードバックがあるかどうかを判定するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記変圧器のシールド巻線パラメータを計算するステップは、計算されたシールド巻線層幅が前記変圧器の１つの層よりも多く占めるかどうか判定するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記変圧器の二次側ピンを割り付けるステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
マシンにて実行可能な動作の命令を含んだマシン可読データ記憶媒体を有する製造品であって、その動作は、
電源設計を含む変圧器のパラメータをロードするステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器の一次側巻線パラメータを計算するステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器の二次側巻線パラメータを計算するステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールドケースのタイプを決定するステップと、
前記ロードされたパラメータに応じて前記変圧器のシールド巻線パラメータを計算するステップと、
前記一次側および前記二次側の巻線に関するシールド巻線の巻順を含む巻線指示レポートを作成するステップと、
変圧器構成材料のリストを作成するステップと、
から構成され、前記シールド巻線パラメータは１つのシールド巻線の巻数、ワイヤサイズ、フィラー、ピンの配置を含むことを特徴とする製造品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月27日(2008.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図１は、エチレンアクリル酸コポリマーと共に存在するアクリルコポリマーの量が０％から１００％へ変化する時の、被覆フィルムのＣＯＦ変化を示すプロットのグラフである。被覆の組成はＸ軸に沿って、動的摩擦係数はＹ軸に沿ってプロットされている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図２は、エチレンアクリル酸コポリマーと共に存在するアクリルコポリマーの量が０％から１００％へ変化する被覆の場合、フィルムのシール強度が２００ｇ／２５ｍｍに達する、ヒートシール温度またはシール限界温度を示すプロットのグラフである。被覆の組成はＸ軸に沿って、ヒートシール温度はＹ軸に沿ってプロットされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
好ましいヒートシール範囲は２０〜５０重量％のアクリルコポリマーおよび５０〜８０重量％のエチレンアクリル酸ポリマーを用いて得られる。被覆中に用いられるポリマーブレンドが、約３５重量％のアクリルコポリマー含有率および約６０重量％のエチレンアクリル酸コポリマー含有率であるのが最も好ましい。ヒートシール強度のために好ましいのと同じ組成範囲のブレンドを選択することが、Ｄｙｎ０．３５〜Ｄｙｎ０．４０の好ましい範囲内のＣＯＦを有する被覆フィルムを結果として生じることが図１から分かる。図はまた、ブレンドを用いることが、いずれかの成分単独を用いることと比較して、ＣＯＦを減少させることになることも示している。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含むポリマー組成物。
【請求項２】
ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとの約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を含む請求項１記載のポリマー組成物。
【請求項３】
前記ポリマー状基材が、少なくとも１種のハロゲン含有ポリマーを含む、請求項１記載のポリマー組成物。
【請求項４】
ポリマー状基材の安定化方法であって、
有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との約４：１ないし約１：４の質量：質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）式（ＩＩＩ）の少なくとも１種の錯体と、
【化１】
2008521984.tif 000001
（式中、
原子Ｅ２Ｄは、それぞれ互いに独立に、炭素、窒素または燐であり、
Ｒ２０ＤおよびＲ２４Ｄは、それぞれ、互いに独立していて、水素、ハロゲン、−ＯＲ２６Ｄ、−ＮＲ２６Ｄ２、−ＳｉＲ２６Ｄ３であるか、またはＣ１−Ｃ２０−アルキル、５員環〜７員環シクロアルキルまたはシクロアルケニル、Ｃ２−Ｃ２２−アルケニル、Ｃ６−Ｃ４０−アリール、アルキル基中に１〜１０個の炭素原子を有し且つアリール基中に６〜２０個の炭素原子を有するアルキルアリールまたはアリールアルキルから選択される有機基であり、その場合、有機基Ｒ２０ＤおよびＲ２４Ｄは、ハロゲンで置換することもでき、
Ｒ２１Ｄ〜Ｒ２３Ｄは、それぞれ、互いに独立していて、水素、ハロゲン、−ＯＲ２６Ｄ、−ＮＲ２６Ｄ２、−ＳｉＲ２６Ｄ３であるか、またはＣ１−Ｃ２０−アルキル、５員環〜７員環シクロアルキルまたはシクロアルケニル、Ｃ２−Ｃ２２−アルケニル、Ｃ６−Ｃ４０−アリール、アルキル基中に１〜１０個の炭素原子を有し且つアリール基中に６〜２０個の炭素原子を有するアルキルアリールまたはアリールアルキルから選択される有機基であり、その場合、有機基Ｒ２１Ｄ〜Ｒ２３Ｄは、ハロゲンで置換することもでき、且つ／または２つのビシナル基Ｒ２１Ｄ〜Ｒ２３Ｄは結合して５員環、６員環もしくは７員環を形成しても良く、且つ／または２つのビシナル基Ｒ２１Ｄ〜Ｒ２３Ｄは結合して、Ｎ、Ｐ、ＯおよびＳから成る群から少なくとも１つの原子を含む５員環、６員環もしくは７員環の複素環を形成し、
添字ｕは、それぞれ互いに独立していて、Ｅ２Ｄが窒素または燐であるとき０であり、Ｅ２Ｄが炭素であるとき１であり、
Ｒ２７Ｄ〜Ｒ３０Ｄは、それぞれ互いに独立していて、−ＮＲ２６Ｄ２、−ＯＲ２６Ｄ、−ＳｉＲ２６Ｄ３、ハロゲンであるか、またはＣ１−Ｃ２０−アルキル、５員環〜７員環シクロアルキルもしくはシクロアルケニル、Ｃ２−Ｃ２２−アルケニル、Ｃ６−Ｃ４０−アリール、アルキル基中に１〜１０個の炭素原子を有し且つアリール基中に６〜２０個の炭素原子を有するアルキルアリールまたはアリールアルキルから選択される有機基であり、その場合、有機基Ｒ２７Ｄ〜Ｒ３０Ｄは、ハロゲンで置換することもでき、
Ｒ３１Ｄ〜Ｒ３６Ｄは、それぞれ互いに独立していて、水素、−ＮＲ２６Ｄ２、−ＯＲ２６Ｄ、−ＳｉＲ２６Ｄ３、ハロゲンであるか、またはＣ１−Ｃ２０−アルキル、５員環〜７員環シクロアルキルもしくはシクロアルケニル、Ｃ２−Ｃ２２−アルケニル、Ｃ６−Ｃ４０−アリール、アルキル基中に１〜１０個の炭素原子を有し且つアリール基中に６〜２０個の炭素原子を有するアルキルアリールまたはアリールアルキルから選択される有機基であり、その場合、有機基Ｒ３１Ｄ〜Ｒ３６Ｄは、ハロゲンで置換することもでき、且つ／または２つのビシナル基Ｒ２７Ｄ〜Ｒ３６Ｄは結合して５員環、６員環もしくは７員環の炭素環を形成しても良く、且つ／または２つのビシナル基Ｒ２７Ｄ〜Ｒ３６Ｄは結合して、Ｎ、Ｐ、ＯおよびＳから成る群から少なくとも１つの原子を含む５員環、６員環もしくは７員環の複素環を形成し、
基ＸＤは、それぞれに互いに独立に、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ２−Ｃ２０−アルケニル、Ｃ６−Ｃ４０−アリール、アルキル基中に１〜１０個の炭素原子を有し且つアリール基中に６〜２０個の炭素原子をそれぞれ有するアリールアルキル、−ＮＲ２６Ｄ２、−ＯＲ２６Ｄ、−ＳＲ２６Ｄ、−ＳＯ３Ｒ２６Ｄ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ２６Ｄ、−ＣＮ、−ＳＣＮ，β−ジケトネート、ＣＯ、ＢＦ４−、ＰＦ６−、またはバルキーな非配位アニオンであるか、または２つの基ＸＤは互いに結合させることができる、
基Ｒ２６Ｄは、それぞれ互いに独立していて、水素であるか、またはＣ１−Ｃ２０−アルキル、Ｃ２−Ｃ２０−アルケニル、Ｃ６−Ｃ２０−アリール、アルキル基中に１〜１０個の炭素原子を有し且つアリール基中に６〜２０個の炭素原子を有するアルキルアリールまたはアリールアルキルから選択される有機基であり、その場合、有機基Ｒ２６Ｄはハロゲンもしくは窒素含有基および酸素含有基で置換することもでき、また、２つの基Ｒ２６Ｄが結合して５員環または６員環を形成することもでき、
ｓは、１、２、３または４であり、
Ｄは、非荷電供与体であり、そして
ｔは、０〜４である）
Ｂ）少なくとも１種のアルミノキサンとを互いに接触させ、そしてその場合、
Ｃ）下式（Ｉ）                                    
【化２】
2008521984.tif 000002
（式中、
Ｒ１は１〜４０個の炭素原子を有する有機基であり、
Ｒ２は、水素であるか、または１〜４０個の炭素原子を有し且つ炭素原子を介して結合されている有機基であり、
ａは１または２であり、
ｂは１または２であり、そして
ａ＋ｂ＝３である）
で表される少なくとも１種のホウ素化合物を、成分Ａ）およびＢ）を含む溶液に加えることによって得ることができる、オレフィン重合のための触媒系を調製する方法。
【請求項２】
更なる成分として、Ｄ）少なくとも１種の担体を加える請求項１記載のオレフィン重合のための触媒系を調製する方法。
【請求項３】
該アルミノキサンが、メチルアルミノキサンである請求項１または２に記載のオレフィン重合のための触媒系を調製する方法。
【請求項４】
成分Ｂ）由来のアルミニウム対成分Ｃ）由来のホウ素のモル比が、１：０．００２〜１：０．０５である請求項１〜３のいずれかに記載のオレフィン重合のための触媒系を調製する方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の方法によって得ることができる触媒系。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかにしたがって調製される触媒系をオレフィン重合のために使用すること。
【請求項７】
請求項５記載の触媒系の存在下で、少なくとも１種のオレフィンを重合または共重合させることによってポリオレフィンを調製する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月21日(2008.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
フラウデ数は２０もしくはそれ以下、たとえば２０〜１の範囲、好ましくは１５〜２の範囲、より好ましくは１０〜３の範囲に維持される。フラウデ数はスラリーにおける粒子の懸濁物と沈降傾向との間のバランスを示すジメンションなしのパラメータである。これは、流体と比較した粒子からのパイプ壁部へのモーメント移動プロセスの相対尺度を与える。フラウデ数の一層低い数値はより強力な粒子壁部（流体−壁部に対する）相互作用を示す。フラウデ数（Ｆｒ）はｖ２／（ｇ（ｓ−１）Ｄ）として規定され、ここでｖはスラリーの平均速度であり、ｇは重力定数であり、ｓは希釈剤における固形物の比重であり、Ｄはパイプの内径である。懸濁媒体の密度に対するポリマーの密度の比である固体ポリマーの比重は実質的に蒸発除去された後かつ押し出しの直前における方法ＩＳＯ  １１８３Ａを用いて測定された脱ガスポリマーのアニール密度に基づいている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月27日(2008.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの多官能性イソシアネート、全て又は主として１５００以上の分子量を有するポリエーテルポリオールである少なくとも一つのポリオール及びフォーム形成成分に、少なくとも一つの反応性の二重結合成分の存在下で重付加及びフォーム形成反応を行って、ポリウレタン（ＰＵ）マトリックスで発泡体を生成し、ここで前記少なくとも一つの多官能性イソシアネートが実質的にＭＤＩを構成又は含まず、前記発泡体に前記反応性の二重結合成分でのラジカル開始架橋を施し、前記反応性二重結合成分が前記ＰＵマトリックス内で結合させるために前記イソシアネートと反応するポリオール反応性二重結合成分であることを特徴とするポリウレタンフォームの製造方法。
【請求項２】
前記フォームをＨＲフォームとして調製する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記フォームを非ＨＲフォームとして調製する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリオールが少なくとも一つのポリマー変性ポリオールからなるか又はこれを含む請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
少なくとも一つのラジカル形成剤、好ましくは有機過酸化物を、前記基本成分の混合物に添加する請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記反応性の二重結合を有する成分の濃度を、前記添加したラジカル形成剤の濃度に調節し、及び／又は、少なくとも一つのラジカル捕捉剤、特に少なくとも一つの抗酸化剤を前記基本成分の混合物に添加する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記反応性の二重結合成分が、ヒドロキシル基又は他のＮＣＯ活性基、特にヒドロキシル基を含むアクリレート又はメタクリレートポリマーを含む請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記ポリオール及び／又は前記二重結合成分の少なくとも一部を、多官能性イソシアネートとの前反応によって形成したプレポリマーとして用いる請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記有機過酸化物が、１２０〜２５０℃の温度範囲内で約１５分から約５秒までの範囲の半減期を有する請求項５又はそれに従属する項に記載の方法。
【請求項１０】
有機過酸化物が、ヒドロキシパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、過酸、ケトンパーオキサイド及びエピジオキサイドの群から選択した反応開始剤として含まれる請求項５又はそれに従属する項に記載の方法。
【請求項１１】
前記発泡ＰＵ体に、電離線の影響下でラジカル開始架橋を施す請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記電離線がｅビーム線である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の方法で得られるポリウレタンフォーム。
【請求項１４】
少なくとも一つの多官能性ポリイソシアネート、少なくとも一つのポリオール及びフォーム形成成分に、反応性の二重結合成分の存在下で重付加及びフォーム形成反応を行って発泡ＰＵ体を生成し、ここで前記ＰＵ体に、前記重付加及びフォーム形成反応と平行して生ずる前記反応性の二重結合成分でのラジカル開始架橋を施すことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のポリウレタンフォームの製造方法。
【請求項１５】
少なくとも一つの多官能性イソシアネート、少なくとも一つのポリオール及びフォーム形成成分に、反応性の二重結合成分の存在下で重付加及びフォーム形成反応を行ってポリウレタン（ＰＵ）マトリックスで発泡体を生成し、前記発泡体に、電離線の下で前記反応性の二重結合成分でのラジカル開始架橋を施し、前記反応性二重結合成分が前記ＰＵマトリックス内で結合させるために前記イソシアネートと反応するポリオール反応性二重結合成分であることを特徴とするポリウレタンフォームの製造方法。
【請求項１６】
少なくとも一つのポリオールが全て又は主としてポリエーテルポリオールである請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記ポリエーテルポリオールが１５００以上の分子量を有する請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記イソシアネートが実質的にＭＤＩを構成又は含まない請求項１５〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
前記電離線がｅビーム線である請求項１５〜１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
前記反応性二重結合成分が４００〜１００００の範囲内で分子量を有する請求項１〜１２及び１４〜１９のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月17日(2008.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｐ（ＶＤＦ−ＴｒＦＥ）コポリマーを精製するためのプロセスであって、
Ｐ（ＶＤＦ−ＴｒＦＥ）コポリマーのペレットを得るステップと、
前記ペレットを溶媒中に溶解させて溶液を形成させるステップと、
無水エタノールを前記溶液に添加して、コポリマーのゲル化沈殿を開始させるステップと、
前記溶液と前記ゲル沈殿物とを分離させるステップと、
適切な洗い液を用いて前記ゲル沈殿物を洗浄するステップと、
前記ゲル沈殿物を乾燥させるステップと、
から構成されることを特徴とするプロセス。
【請求項２】
前記溶媒はメチルエチルケトンであることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記溶液とゲル沈殿物は濾過により分離されることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記ゲル沈殿物により分極時間は短縮されることを特徴とする請求項２に記載のプロセス。
【請求項５】
前記ゲル沈殿物を乾燥させるステップは空気乾燥をともなうことを特徴とする請求項２に記載のプロセス。
【請求項６】
請求項１に記載のプロセスによって製造された場合の精製されたコポリマー。
【請求項７】
請求項２乃至５のいずれかに記載のプロセスによって製造された場合の精製されたコポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月14日(2008.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）（ｉ）水溶性ポリマーを含有する不連続相、（ｉｉ）クロモニック材料を含有する連続相、および（ｉｉｉ）非イオン性界面活性剤を含む水性混合物を調製する工程と、
（ｂ）基材の表面に前記混合物を適用する工程と、
（ｃ）前記混合物を乾燥させる工程と、
（ｄ）前記混合物が乾燥した後に、前記水溶性ポリマーを除去する工程と
を含む、ナノ構造表面を製造する方法。
【請求項２】
（ａ）（ｉ）水溶性ポリマーを含有する不連続相、（ｉｉ）クロモニック材料を含有する連続相、（ｉｉｉ）非水溶性粒子、および（ｉｖ）非イオン性界面活性剤を含む水性混合物を調製する工程と、
（ｂ）基材の表面に前記混合物を適用する工程と、
（ｃ）前記混合物を乾燥させる工程と
を含む、ナノ構造表面を製造する方法。
【請求項３】
（ａ）（ｉ）水溶性ポリマーを含有する不連続相、（ｉｉ）クロモニック材料を含有する連続相、（ｉｉｉ）金属塩、および（ｉｖ）非イオン性界面活性剤を含む水性混合物を調製する工程と、
（ｂ）基材の表面に前記混合物を適用する工程と、
（ｃ）前記混合物を乾燥させる工程と
を含む、ナノ構造表面を製造する方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の方法によって形成されたナノ構造表面を有する物品。
【請求項５】
水溶性ポリマーと、クロモニック材料と、非イオン性界面活性剤と、（ｉ）非水溶性粒子及び（ｉｉ）金属塩のうち少なくとも１つとを含む、水性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月19日(2008.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法であって、
ａ）予め設定された露出時間、ＰＴＦＥ膜を前記ＰＴＦＥ膜の融点より上に上昇した温度に晒す工程と、
ｂ）予め設定された露出時間、前記ＰＴＦＥ膜を上昇した圧力に晒す工程と、
を有し、
前記ＰＴＦＥ膜は、前記上昇した温度と前記上昇した圧力とに同時に晒され、
前記ＰＴＦＥ膜の寸法の安定性への影響は、少なくとも一部が、前記温度と圧力と露出時間との組み合わせによって決定されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ＰＴＦＥ膜が約３２７℃より上の温度まで上昇されることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法。
【請求項３】
前記ＰＴＦＥ膜が約３２５℃より上で約４００℃未満の温度まで上昇されることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法。
【請求項４】
前記ＰＴＦＥ膜が約３２７℃より上の温度まで加熱され、同時に、少なくとも１ポンド／平方インチの圧力の下で圧縮されることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法。
【請求項５】
前記ＰＴＦＥ膜が約３２７℃より上の温度まで加熱され、同時に、少なくとも５ポンド／平方インチの圧力の下で圧縮されることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法。
【請求項６】
前記予め設定された露出時間が０．１〜１秒であることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法。
【請求項７】
前記予め設定された露出時間が０．０５〜０．５秒であることを特徴とする請求項１に記載のＰＴＦＥ膜の寸法の安定性に影響を及ぼす方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法を用いて製造されたＰＴＦＥ膜。
【請求項９】
前記ＰＴＦＥ膜は、０．７バールで少なくとも４リットル／分・ｃｍ2の空気透過率を有することを特徴とする請求項８に記載のＰＴＦＥ膜。
【請求項１０】
前記ＰＴＦＥ膜は、少なくとも０．２５ＭＦＰのコールタ・ポロメータを有することを特徴とする請求項８に記載のＰＴＦＥ膜。
【請求項１１】
前記ＰＴＦＥ膜は、機械方向に１０％未満の収縮を有することを特徴とする請求項８に記載のＰＴＦＥ膜。
【請求項１２】
ＰＴＦＥ膜の処理方法であって、
ａ）少なくとも一方向に配向されている、配向したＰＴＦＥ膜を提供する工程と、
ｂ）前記ＰＴＦＥ膜を１秒未満の期間の少なくとも３４０℃の温度と、少なくとも１ポンド／平方インチの圧力に、同時に晒す工程と、
を有すること特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月2日(2008.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体における潰瘍性大腸炎の少なくとも1つの指標を持続的に改善するための、約15〜30個の長さの核酸塩基単位のアンチセンスオリゴヌクレオチドであってSEQ ID No: 1のヌクレオチド2114〜2133と特異的にハイブリダイズするものを含む組成物を含む、医薬組成物。
【請求項２】
個体における潰瘍性大腸炎の少なくとも1つの指標を持続的に改善するための、SEQ ID No: 2のアンチセンスオリゴヌクレオチドを含む組成物を含む、医薬組成物。
【請求項３】
前記組成物を個体に対して少なくとも60日間投与する治療期間の終了後に、潰瘍性大腸炎の少なくとも1つの指標を改善させることを含む、潰瘍性大腸炎の持続的改善が、請求項1または2に記載の医薬組成物。
【請求項４】
潰瘍性大腸炎の持続的改善が、潰瘍性大腸炎の少なくとも1つの指標を改善することを含む、前記組成物を個体に対して少なくとも90日間投与する治療期間の終了後に、請求項1または2に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記組成物が、ヒドロキシプロピルメチルセルロースをさらに含む、請求項1または2に記載の医薬組成物。
【請求項６】
個体における潰瘍性大腸炎の少なくとも1つの指標を改善するための、約15〜30個の長さの核酸塩基単位のアンチセンスオリゴヌクレオチドであってSEQ ID No: 1のヌクレオチド2114〜2133と特異的にハイブリダイズするものおよびヒドロキシプロピルメチルセルロースを含む組成物を含む、オリゴヌクレオチドに対する最小限の全身性暴露をもたらす様に投与される、医薬組成物。
【請求項７】
オリゴヌクレオチドに対する全身性の曝露が、投与量の5％未満である、請求項1、2または6に記載の医薬組成物。
【請求項８】
潰瘍性大腸炎の指標が、粘膜脆弱性、排便頻度、直腸出血、または疾患活動性指数から選択される指標を含む、請求項1、2または6に記載の医薬組成物。
【請求項９】
アンチセンスオリゴヌクレオチドが修飾されている、請求項1、2または6に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
アンチセンスオリゴヌクレオチドが、少なくとも一つのホスホロチオエートヌクレオチド結合を含む、請求項9に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
アンチセンスオリゴヌクレオチドが、もっぱらホスホロチオエートヌクレオチド結合を含む、請求項9に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
直腸投与された組成物が浣腸剤である、請求項1、2または6に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
投与あたり少なくとも約240 mgのアンチセンスオリゴヌクレオチドを含む、請求項1、2または6に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
オリゴヌクレオチドが、約18〜22個の長さの核酸塩基単位である、請求項1または6に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
オリゴヌクレオチドが、20個の長さの核酸塩基単位である、請求項1または6に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
オリゴヌクレオチドが、SEQ ID NO: 2の配列を有する、請求項15に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
最高で1日おきに1回の頻度で投与される、請求項1、2または6に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
1日おきに1回投与される、請求項17に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
腫瘍性疾患患者における腫瘍性疾患を治療するための医薬であって、式（Ｉ）：
【化１】
2008521928.tif 000001
（式中、Ｘはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素から成る群から選択される）
の化合物又はその薬学的に許容可能な塩若しくはプロドラッグを含み、該腫瘍性疾患が少なくとも１つの他の化学療法剤に対する耐性になりやすい、医薬。
【請求項２】
Ｘが塩素である、請求項１に記載の医薬。
【請求項３】
前記式（Ｉ）の化合物が式（ＩＩ）：
【化２】
2008521928.tif 000002
の構造を有する、請求項１に記載の医薬。
【請求項４】
前記腫瘍性疾患が癌である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項５】
前記癌が乳癌、肉腫、白血病、卵巣癌、子宮癌、膀胱癌、前立腺癌、結腸癌、直腸癌、胃癌、肺癌、リンパ腫、多発性骨髄腫、膵臓癌、肝臓癌、腎臓癌、内分泌癌、皮膚癌、黒色腫、血管腫、及び脳又は中枢神経系（ＣＮＳ）癌から成る群から選択される、請求項４に記載の医薬。
【請求項６】
前記癌が多発性骨髄腫、結腸直腸癌、前立腺癌、乳腺癌、非小細胞肺癌及び卵巣癌又は黒色腫から成る群から選択される、請求項５に記載の医薬。
【請求項７】
前記癌が多発性骨髄腫である、請求項６に記載の医薬。
【請求項８】
前記患者がヒトである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項９】
前記他の化学療法剤がデキサメタゾン、ドキソルビシン及びサリドマイドから成る群から選択される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項１０】
前記他の化学療法剤がプロテアソーム阻害薬である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項１１】
前記他の化学療法剤がボルテゾミブである、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１２】
腫瘍性疾患患者における腫瘍性疾患を治療するための医薬であって、少なくとも１つの付加的な化学療法剤と組合わせて、式（Ｉ）：
【化３】
2008521928.tif 000003
（式中、Ｘはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素から成る群から選択される）
の化合物又はその薬学的に許容可能な塩若しくはプロドラッグを含む医薬。
【請求項１３】
Ｘが塩素である、請求項１２に記載の医薬。
【請求項１４】
前記式（Ｉ）の化合物が式（ＩＩ）：
【化４】
2008521928.tif 000004
の構造を有する、請求項１２に記載の医薬。
【請求項１５】
前記腫瘍性疾患が癌である、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項１６】
前記癌が乳癌、肉腫、白血病、卵巣癌、子宮癌、膀胱癌、前立腺癌、結腸癌、直腸癌、胃癌、肺癌、リンパ腫、多発性骨髄腫、膵臓癌、肝臓癌、腎臓癌、内分泌癌、皮膚癌、黒色腫、血管腫、及び脳又は中枢神経系（ＣＮＳ）癌から成る群から選択される、請求項１５に記載の医薬。
【請求項１７】
前記癌が多発性骨髄腫、結腸直腸癌、前立腺癌、乳腺癌、非小細胞肺癌及び卵巣癌又は黒色腫から成る群から選択される、請求項１６に記載の医薬。
【請求項１８】
前記癌が多発性骨髄腫である、請求項１７に記載の医薬。
【請求項１９】
前記患者がヒトである、請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項２０】
前記他の化学療法剤がデキサメタゾン、ドキソルビシン及びサリドマイドから成る群から選択される、請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項２１】
前記他の化学療法剤がプロテアソーム阻害薬である、請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項２２】
前記他の化学療法剤がボルテゾミブである、請求項２１に記載の医薬。
【請求項２３】
前記組合せが相乗的である、請求項１２〜２２のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項２４】
前記組合せが相加的である、請求項１２〜２２のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項２５】
式（Ｉ）：
【化５】
2008521928.tif 000005
（式中、Ｘはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素から成る群から選択される）
の化合物又はその薬学的に許容可能な塩若しくはプロドラッグ、および少なくとも１つの付加的化学療法剤を含む薬学的組成物。
【請求項２６】
Ｘが塩素である、請求項２５に記載の薬学的組成物。
【請求項２７】
前記式（Ｉ）の化合物が式（ＩＩ）：
【化６】
2008521928.tif 000006
の構造を有する、請求項２５に記載の薬学的組成物。
【請求項２８】
前記他の化学療法剤がデキサメタゾン、ドキソルビシン及びサリドマイドから成る群から選択される、請求項２５〜２７のいずれか１項に記載の薬学的組成物。
【請求項２９】
前記他の化学療法剤がプロテアソーム阻害薬である、請求項２５〜２７のいずれか１項に記載の薬学的組成物。
【請求項３０】
前記他の化学療法剤がボルテゾミブである、請求項２９に記載の薬学的組成物。
【請求項３１】
少なくとも２つのプロテアソーム阻害薬の相乗的組合せを含む、腫瘍性疾患患者における腫瘍性疾患を治療するための医薬。
【請求項３２】
前記腫瘍性疾患が癌である、請求項３１に記載の医薬。
【請求項３３】
前記癌が乳癌、肉腫、白血病、卵巣癌、子宮癌、膀胱癌、前立腺癌、結腸癌、直腸癌、胃癌、肺癌、リンパ腫、多発性骨髄腫、膵臓癌、肝臓癌、腎臓癌、内分泌癌、皮膚癌、黒色腫、血管腫、及び脳又は中枢神経系（ＣＮＳ）癌から成る群から選択される、請求項３２に記載の医薬。
【請求項３４】
前記癌が多発性骨髄腫、結腸直腸癌、前立腺癌、乳腺癌、非小細胞肺癌及び卵巣癌又は黒色腫から成る群から選択される、請求項３３に記載の医薬。
【請求項３５】
前記癌が多発性骨髄腫である、請求項３４に記載の医薬。
【請求項３６】
前記患者がヒトである、請求項３１〜３５のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項３７】
少なくとも１つの前記プロテアソーム阻害薬が、式（Ｉ）：
【化７】
2008521928.tif 000007
（式中、Ｘはフッ素、塩素、臭素又はヨウ素から成る群から選択される）
の化合物又はその薬学的に許容可能な塩若しくはプロドラッグから成る群から選択される、請求項３１〜３６のいずれか１項に記載の医薬。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の別の態様は、少なくとも２つのプロテアソーム阻害薬の相乗的組合せを腫瘍性疾患患者に投与することを包含する、腫瘍性疾患の治療方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に適用され、第１の利益および少なくとも１つの第２の利益を提供することに適合した基材ケア製品であって、第２の利益がヒドロゲル殻および油性コアを有するカプセルにカプセル化された少なくとも１種のカプセル化揮発性物質により提供され、前記揮発性物質が水の存在下で空のカプセルに充填されたものである、前記基材ケア製品。
【請求項２】
カプセルの殻がアラビアゴムおよびタンパク質から選択される材料から形成される、請求項１に記載の基材ケア製品。
【請求項３】
提供される第２の利益が香料であり、香料成分の２０％より多くが、３００ｎｇ／ｌ未満、好ましくは２０ｎｇ／ｌ未満、そして最も好ましくは１０ｎｇ／ｌ未満の知覚閾値を有する、請求項１に記載の基材ケア製品。
【請求項４】
基材に第１の利益および少なくとも１つの第２の利益を提供する方法であって、少なくとも１つの第２の利益が揮発性物質により与えられ、ヒドロゲル殻および油性コアを有するカプセルにカプセル化された少なくとも１種の揮発性物質を含み、前記揮発性物質が水の存在下で空のカプセルへ充填された基材ケア製品で、基材を処理することを含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月27日(2008.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
免疫不全疾患又は障害を治療又は予防するための医薬組成物であって、免疫調節化合物、又は医薬として許容し得るその塩、溶媒和物、若しくは立体異性体を含む、前記医薬組成物。
【請求項２】
免疫不全疾患又は障害を治療又は予防するための医薬組成物であって、免疫調節化合物、又は医薬として許容し得るその塩、溶媒和物、若しくは立体異性体、及び第２の活性剤を含む、前記医薬組成物。
【請求項３】
前記免疫不全疾患又は障害が、原発性免疫不全又は続発性免疫不全である、請求項１又は２記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記免疫不全疾患又は障害が原発性免疫不全である、請求項３記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記免疫不全疾患又は障害が、アデノシンデアミナーゼ欠乏症、正常なＩｇ又はＩｇの上昇を伴う抗体欠乏症、毛細血管拡張性運動失調症、不全リンパ球症候群、分類不能型免疫不全症、ディジョージ症候群、高ＩｇＭを伴うＩｇ欠乏症、Ｉｇ重鎖欠損症、ＩｇＡ欠乏症、胸腺腫を伴う免疫不全、網状変性、ネゼロフ症候群、選択的ＩｇＧサブクラス欠乏症、新生児一過性低ガンマグロブリン血症、ウィルスコット-アルドリッチ症候群、Ｘ連鎖無ガンマグロブリン血症、又はＸ連鎖重症複合型免疫不全症である、請求項１又は２記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記免疫不全疾患又は障害がＸ連鎖無ガンマグロブリン血症である、請求項５記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記第２の活性剤が抗生物質、抗ウイルス薬、免疫グロブリン、血漿、免疫増強薬、生物製剤、又はホルモンである、請求項２記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記抗生物質がアンピシリン、テトラサイクリン、ペニシリン、セファロスポリン、ストレプトマイシン、カナマイシン、又はエリスロマイシンである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記抗ウイルス薬がアマンタジン、リマンタジン、アシクロビル、又はリバビリンである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記免疫増強薬がレバミゾール又はイソプリノシンである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記生物製剤が転写因子、インターロイキン、又はインターフェロンである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記ホルモンが胸腺ホルモンである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項１３】
免疫原に対する免疫応答を増強するための医薬組成物であって、免疫調節化合物、又は医薬として許容し得るその塩、溶媒和物、若しくは立体異性体を含む、前記医薬組成物。
【請求項１４】
前記免疫調節化合物が４−（アミノ）−２−（２，６−ジオキソ（３−ピペリジル））−イソインドリン−１，３−ジオンである、請求項１、２、又は１３記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記免疫調節化合物が鏡像異性的に純粋である、請求項１４記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記免疫調節化合物が３−（４−アミノ−１−オキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イル）−ピペリジン−２，６−ジオンである、請求項１、２、又は１３記載の医薬組成物。
【請求項１７】
前記免疫調節化合物が鏡像異性的に純粋である、請求項１６記載の医薬組成物。
【請求項１８】
前記免疫調節化合物が式（Ｉ）である、請求項１、２、又は１３のいずれか一項記載の医薬組成物：
【化１】
2008521916.tif 000001
（式中、Ｘ及びＹの一方はＣ＝Ｏであり、Ｘ及びＹの他方はＣ＝Ｏ又はＣＨ２であり、Ｒ２は、水素又は低級アルキルである。）。
【請求項１９】
前記免疫調節化合物が鏡像異性的に純粋である、請求項１８記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記免疫調節化合物が式（ＩＩ）である、請求項１、２、又は１３のいずれか一項記載の医薬組成物：
【化２】
2008521916.tif 000002
（式中、Ｘ及びＹの一方はＣ＝Ｏであり、他方は、ＣＨ２又はＣ＝Ｏであり；
Ｒ１は、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル、（Ｃ３〜Ｃ７）シクロアルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルキニル、ベンジル、アリール、（Ｃ０〜Ｃ４）アルキル−（Ｃ１〜Ｃ６）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ０〜Ｃ４）アルキル−（Ｃ２〜Ｃ５）ヘテロアリール、Ｃ（Ｏ）Ｒ３、Ｃ（Ｓ）Ｒ３、Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−Ｎ（Ｒ６）２、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−ＯＲ５、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ３、Ｃ（Ｓ）ＮＨＲ３、Ｃ（Ｏ）ＮＲ３Ｒ３’、Ｃ（Ｓ）ＮＲ３Ｒ３’又は（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−Ｏ（ＣＯ）Ｒ５であり；
Ｒ２は、Ｈ、Ｆ、ベンジル、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルケニル又は（Ｃ２〜Ｃ８）アルキニルであり；
Ｒ３及びＲ３’は、独立に、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル、（Ｃ３〜Ｃ７）シクロアルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルキニル、ベンジル、アリール、（Ｃ０〜Ｃ４）アルキル−（Ｃ１〜Ｃ６）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ０〜Ｃ４）アルキル−（Ｃ２〜Ｃ５）ヘテロアリール、（Ｃ０〜Ｃ８）アルキル−Ｎ（Ｒ６）２、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−ＯＲ５、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル−Ｏ（ＣＯ）Ｒ５又はＣ（Ｏ）ＯＲ５であり；
Ｒ４は、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルキニル、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル−ＯＲ５、ベンジル、アリール、（Ｃ０〜Ｃ４）アルキル−（Ｃ１〜Ｃ６）ヘテロシクロアルキル又は（Ｃ０〜Ｃ４）アルキル−（Ｃ２〜Ｃ５）ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルキニル、ベンジル、アリール、又は（Ｃ２〜Ｃ５）ヘテロアリールであり；
Ｒ６の各基は、独立に、Ｈ、（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ８）アルキニル、ベンジル、アリール、（Ｃ２〜Ｃ５）ヘテロアリール又は（Ｃ０〜Ｃ８）アルキル−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｒ５であり、或いはＲ６基が結合して、ヘテロシクロアルキル基を形成し；
ｎは、０又は１であり；
＊は、キラル−炭素中心を表す。）。
【請求項２１】
前記免疫調節化合物が鏡像異性的に純粋である、請求項２０記載の医薬組成物。