(57)【要約】  本発明は、上部電極（９）の表面を２つの相互に分離された領域、つまり自由領域（９ａ）およびアクティブ領域に分離する少なくとも１つのパーティション（１２）と、  下部電極（４）の表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域（４ａ）およびアクティブ領域（４ｂ）に分離する少なくとも１つのパーティション（５）と、  下部電極（４）のアクティブゾーン（４ｂ）に半田付けされた第１の電流源コネクタ（１５）を受容する上部電極（９）の少なくとも１つの自由領域（９ａ）と、  下部電極（４）に接続された自由ゾーン（９ａ）から電気的に分離された第２の電流源コネクタ（２１）に接続された接続手段（２０、２１ａ）と電気接触している上部電極（９）のアクティブエリア（９ｂ）とを備えるエレクトロクロミック素子に関する。
2012524291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの電気制御アクティブエリア（ＣＤＥＦ）の制御透過性または反射性を有し、少なくとも、下部導電性電極（４）を形成する層と、少なくとも１つがエレクトロクロミック層である種々の機能層（７）と、上部導電性電極（９）を形成する層とを順次備える多層スタックをキャリア基板（３）上に有するエレクトロクロミック素子であって、
少なくとも１つの「選択」パーティション（５）が下部電極を通過せずに、上部電極（９）および上部電極を下部電極（４）から分離する種々の層を通過し、上部電極（９）の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域（９ａ）と、アクティブエリア（ＣＤＥＦ）を含有するアクティブ領域（９ｂ）とに分割し、
少なくとも１つの「全面」パーティション（１２）が上部電極（９）および上部電極を基板（３）から分離する種々の層を通過し、下部電極（４）の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域（４ａ）と、アクティブエリア（ＣＤＥＦ）を含有するアクティブ領域（４ｂ）とに分割し、
上部電極（９）の少なくとも１つの自由領域（９ａ）が、下部電極（４）のアクティブ領域（４ｂ）に半田付けされた第１の電流源コネクタ（１５）を受容し、
上部電極（９）のアクティブ領域（９ｂ）が、下部電極（４）に接続された自由領域（９ａ）から電気的に分離された第２の電流源コネクタ（２１）に接続された接続手段（２０、２１ａ）と電気接触しているエレクトロクロミック素子。
【請求項２】
全面パーティション（１２）が上部電極（９）の表面を２つの領域、つまり第２の自由領域（９’ａ）と、アクティブエリア（ＣＤＥＦ）を含有するアクティブ領域とに分割し、第２の電流源コネクタ（２１）が上部電極（９）の第２の自由領域（９’ａ）に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項３】
接続手段が、細線導電平行ワイヤ（２０）のアレイからなることを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項４】
透明な絶縁バンドが上部電極（９）の自由領域（９ａ、９’ａ）と、ワイヤ（２０）が配置される第２の電流源コネクタ（２１）との間に配置されることを特徴とする、請求項１から３の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項５】
接続手段が、アクティブ領域（９ｂ）の周辺に配置された金属フレーム（２１ａ）、具体的には箔からなることを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項６】
接続手段（２０、２１ａ）が、具体的には、例えばポリウレタンやポリビニルブチラール（ＰＶＢ）などの熱可塑性ポリマーから形成された透明な支持体（２２）によって支持されることを特徴とする、請求項１から５の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項７】
支持体（２２）が積層中間層からなることを特徴とする、請求項６に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項８】
下部電極（４）に半田付けされた電流源コネクタ（１５）が上部電極（９）の複数の自由領域（９ａ、９’ａ）に配置され、電気分離手段が前記第２の電流源コネクタ（２１）と上部電極（９）の表面間に提供されることを特徴とする、請求項１に記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項９】
分離手段が薄い絶縁シート（２６）からなることを特徴とする、請求項８に記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項１０】
キャリア基板（３）がグレージング機能を有し、具体的にはガラスまたはプラスチックからなることを特徴とする、請求項１から９の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１１】
電流源コネクタ（１５）と下部電極（４）間の半田ジョイントが超音波半田付けされることを特徴とする、請求項１から１０の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１２】
電流源コネクタ（１５）が上部電極（９）の全周に配置されることを特徴とする、請求項１１に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１３】
電極（４、９）の少なくとも１つが少なくとも１つのインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層から形成されることを特徴とする、請求項１から１２の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１４】
全面パーティション（１２）および選択パーティション（５）によって画定された自由領域（４ａ、９ａ、９’ａ）が前記素子の周辺に配置されることを特徴とする、請求項１から１３の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１５】
基板（３）が矩形であり、選択パーティション（５）および全面パーティション（１２）が、基板（３）の対向辺（３ａ、３ｂ）と平行になるようにそれぞれ生成されることを特徴とする、請求項１４に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１６】
全面パーティション（１２）および選択パーティション（５）がそれぞれ直交することを特徴とする、請求項１から１５の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
【請求項１７】
少なくとも１つの電気制御アクティブエリア（ＣＤＥＦ）の制御透過性または反射性を有し、少なくとも、下部電極（４）を形成する導電層と、少なくとも１つがエレクトロクロミック層である種々の機能層と、上部電極（９）を形成する導電層とを順次備える多層スタックをキャリア基板（３）上に有するエレクトロクロミック素子の製造プロセスであって、
基板（３）の表面の少なくとも一部に、下部電極（４）を形成する導電層と、種々の機能層（７）と、上部電極（９）を形成する導電層とを順次堆積するステップと、
上部電極（９）から開始して、上部電極ならびに上部電極を下部電極（４）から分離する他の層を通過し、下部電極を通過しない少なくとも１つの選択パーティション（５）を生成するステップであって、各選択パーティション（５）が上部電極（９）の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域（９ａ）と、アクティブエリア（ＣＤＥＦ）を含有するアクティブ領域（９ｂ）とに分割する、ステップと、
上部電極（９）から開始して、上部電極ならびに上部電極を基板（３）から分離する層を通過する少なくとも１つの全面パーティション（１２）を生成するステップであって、各全面パーティション（１２）が下部電極（４）の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域（４ａ）およびアクティブ領域（４ｂ）に分割する、ステップと、
電流源コネクタ（１５）を上部電極（９）の自由領域（９ａ）と、上部電極に合わせて配置された下部電極のアクティブ領域（４ｂ）とに半田付けするステップと、
電流源コネクタに電気接続された接続手段（２０、２１ａ）を上部電極（９）のアクティブ領域（９ｂ）と電気接触させるステップとを含む、製造プロセス。
【請求項１８】
前記半田ジョイントが超音波半田付けされることを特徴とする、請求項１７に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
【請求項１９】
パーティション（５、１２）の少なくとも１つがレーザービームによって生成されることを特徴とする、請求項１７および１８のいずれかに記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
【請求項２０】
請求項１から１４に記載の複数のエレクトロクロミック素子が同一のキャリア基板（３）上に生成され、前記素子が完成されると、キャリア基板（３）およびこの上に堆積されたすべての層が、特定の素子（１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ）を構成するようにカットされることを特徴とする、請求項１７から１９の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
【請求項２１】
具体的に可変光および／またはエネルギー透過性および／または反射性を有する請求項１から１６の一項に記載のエレクトロクロミック素子を含み、基板または基板の少なくとも一部が透明または部分的に透明であり、プラスチックからなり、好ましくは複数および／または積層グレージングまたはダブルグレージングとして装備されることを特徴とするエレクトロクロミックグレージング。
【請求項２２】
アーキテクチャグレージングとして、自動車用グレージングとして、産業車両用、または列車、海上もしくは航空の公共輸送用、農業車両用、工事現場の機械用、バックミラーもしくはサイドミラー用または他のミラー用、表示および標識用、およびカメラシャッター用のグレージングとしての、請求項２１に記載のグレージングの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明度制御エレクトロクロミック素子、具体的には、電気制御グレージングでの使用向けに設計された素子と、前記素子の製造プロセスとに関する。本発明はまた、このような素子を具備するエレクトロクロミックグレージングと、広範な用途でのこのグレージングの使用とに関する。
【背景技術】
【０００２】
良好な透明度レベルから最大の不透明度に至るまで調整可能な光透過能力を具備するグレージングが知られている。このようなグレージングは広範な技術分野に適用されてきた。
【０００３】
したがってグレージングは、例えば、外部条件およびユーザーの希望に応じて室内に入る日光の量を調整するように、住居用の窓として使用可能である。グレージングはまた、外部に対してまたは隣接する部屋に対してある部屋の住人のプライバシーを保護するためのパーティションスクリーンとして使用されてもよい。
【０００４】
このような装置はまた、例えば、ドライバーの方に反射する光束を制御して、ドライバーのまぶしさを回避するために、自動車のフロントガラスおよび／またはサイドウィンドウまたはサンルーフの透明度、ならびに、とりわけバックミラーやサイドミラーなどの前記自動車の装備品の一部の透明度を調整するために自動車分野で使用可能である。当然これらは、具体的には、例えば航空機の客室の窓の透明度を制御するために、航空分野などの他の分野でも使用可能である。
【０００５】
エレクトロクロミック素子は、可逆的かつ同時にイオンおよび電子を挿入可能なエレクトロクロミック材料層を備えていることが知られており、この酸化状態は、挿入状態および放出状態に対応して、適切な電源を介して供給される場合には異なる色を有しており、これらの状態の一方は他方よりも高い光透過性を有している。エレクトロクロミック材料は、例えば酸化タングステンをベースとするものであってもよく、例えば透明な導電層などの電子源、およびイオン伝導性電解液などのイオン（陽イオンおよび陰イオン）源と接触されなければならない。これもまた可逆的に陽イオンを挿入可能な対向電極は、前記層に対して対称的にエレクトロクロミック材料層と関連付けられなければならず、微視的に電解液は単一のイオン媒体として現れることが知られている。対向電極は、エレクトロクロミック層が着色状態の場合に、中間色、あるいは少なくとも透明またはわずかに着色されている層から構成されなければならない。
【０００６】
酸化タングステンはカソードエレクトロクロミック材料であるため、つまりこの着色状態は最も着色の少ない状態に相当するため、酸化ニッケルや酸化インジウムをベースとするアノードエレクトロクロミック材料が、例えば対向電極に使用されてもよい。例えば酸化セリウムや、導電性ポリマー（ポリアニリン）やプルシアンブルーなどの有機材料などの、当該酸化状態では光学的に中性な材料を使用することも提案されてきた。
【０００７】
現在、エレクトロクロミックシステムは、使用される電解液に応じて２つのカテゴリーに分けられる。
【０００８】
したがって第１のカテゴリーにおいて、電解液は、例えば欧州特許第０２５３７１３号明細書および欧州特許第０６７０３４６号明細書に記載されているようなプロトン伝導性ポリマーなどのポリマーやゲル、または欧州特許第０３８２６２３号明細書、欧州特許第０５１８７５４号明細書および欧州特許第０５３２４０８号明細書に記載されているようなリチウムイオンによる伝導性ポリマーの形態をとることがある。そしてこれらのシステムは「ハイブリッド」エレクトロクロミックシステムと称される。
【０００９】
第２のカテゴリーにおいて、電解液はまた、電気分離されたイオン伝導体を形成するミネラル層から構成されてもよい。そしてこれらのエレクトロクロミックシステムは「全固体」システムと称される。読者は欧州特許第０８６７７５２号明細書および欧州特許第０８３１３６０号明細書を参照してもよい。
【００１０】
具体的に「全ポリマー」エレクトロクロミックシステムと称されるような他のタイプのエレクトロクロミックシステムが知られており、これは、２つの導電層が、カソード着色ポリマーと、（最も一般的にはＨ＋またはＬｉ＋イオンの）イオン伝導性絶縁ポリマーと、（ポリアニリンやポリピロールなどの）アノード着色ポリマーとを備える多層スタックの一方の側に配置されている。
【００１１】
現在のエレクトロクロミック素子製造技術は概略的に、透明であるか否かを問わず支持基板上に、一般的にはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層である下部導電層と、例えば酸化インジウム（ＩｒＯｘ）、酸化タングステン（ＷＯ３）および酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）などの機能性エレクトロクロミック層と、上部導電性電極とを順次堆積することからなることが知られている。通常、多層スタックは積層ポリマーおよび対向基板によって完成される。
【００１２】
当然、２つの上部導電性電極および下部導電性電極は、それぞれの電流源コネクタに接続されなければならない。この接続は通常、上部電極および下部電極と接触される金属シムによるものである。
【００１３】
コネクタを上部電極と接触させることは基本的に難しいことではないが、これはコネクタと下部電極との接触にはあてはまらず、それは、下部電極は種々の層の堆積ゆえにアクセス不可能であるからである。これは、「接続領域」と称される下部電極の領域が、エレクトロクロミック層の堆積時に接着マスクによって維持されるからである。種々の層が堆積されると、接着剤が除去され、この上に堆積されている層を同時に除去することによって下部電極へのアクセスを可能にし、そして下部電極は自身のコネクタを受容する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】欧州特許第０２５３７１３号明細書
【特許文献２】欧州特許第０６７０３４６号明細書
【特許文献３】欧州特許第０３８２６２３号明細書
【特許文献４】欧州特許第０５１８７５４号明細書
【特許文献５】欧州特許第０５３２４０８号明細書
【特許文献６】欧州特許第０８６７７５２号明細書
【特許文献７】欧州特許第０８３１３６０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本技術は、具体的には、一方では接着マスクの使用に関して、他方では電極にコネクタを固定するための手段に関して多数の関連する欠点を有している。
【００１６】
接着マスクに関して、この配置は時間のかかる細かい操作であり、一方で接着マスクは、後続層の堆積を妨げないように下部電極上に完全に適用されなければならず、他方でカバーされる長さは、特に下部電極との接続が基板の全周になされる場合に相当なものである。
【００１７】
次に、マスクの除去時に、この上に堆積された層は、分解してから、粒子状の多層スタック上に再び堆積される傾向があるため、素子を誤作動させることになる。このような欠陥を回避するために、マスクの除去は通常真空吸引を伴うものであり、これは、この操作を実行するために２つのオペレータを必要とする。
【００１８】
さらに、接着マスクの適用に続く種々の層の堆積時には、接着マスクは熱効果により収縮することがあり、結果として、上部電極を形成する導電層の適用時には、上部電極は下部電極と接触可能になり、これによって、素子がもたらし得るコントラストを低減する効果を有する多少の部分的短絡を生成することになる。このようなリスクを緩和するために、マスクによってカバーされている領域の周辺に制御マージンが生成され、これはいわば、種々の堆積層を通過して、下部電極を形成する層上で停止するギャップである。
【００１９】
加えて、種々の層の堆積時に示される種々の物理的ストレスにも関わらず接着マスクがこの一体性を保持しなければならない限り、接着マスクの選択は細かい操作である。したがって、具体的には、気体放出なしにかなり低い圧力に耐え、かつ良好な温度耐性を有することができなければならない。このような非常に厳しい仕様の結果として、通常接着マスクのコストは高い。
【００２０】
本発明の目的は、透明度制御エレクトロクロミック素子を提供することによって、具体的にはマスキングテープの使用に固有の問題を回避することによって上述の欠点を改善することである。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明の目的の１つは、少なくとも１つの電気制御アクティブエリアの制御透過性または反射性を有し、少なくとも、下部導電性電極を形成する層と、少なくとも１つがエレクトロクロミック層である種々の機能層と、上部導電性電極を形成する層とを順次備える多層スタックをキャリア基板上に有するエレクトロクロミック素子であり、
少なくとも１つの「選択」パーティションが、下部電極を通過せずに、上部電極および上部電極を下部電極から分離する種々の層を通過し、上部電極の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域と、アクティブエリアを含有するアクティブ領域とに分割し、
少なくとも１つの「全面」パーティションが、上部電極および上部電極を基板から分離する種々の層を通過し、下部電極の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域と、アクティブエリアを含有するアクティブ領域とに分割し、
上部電極の少なくとも１つの自由領域が、下部電極のアクティブ領域に半田付けされた第１の電流源コネクタを受容し、
上部電極のアクティブエリアが、下部電極の自由領域から電気的に分離された第２の電流源コネクタに接続された接続手段と接触している。
【００２２】
本発明によると、全面パーティションは上部電極の表面を２つの領域、つまり第２の自由領域と、アクティブエリア（ＣＤＥＦ）を含有するアクティブ領域とに分割し、そして第２の電流源コネクタが上部電極の第２の自由領域に配置される。
【００２３】
接続手段は場合によっては、細線導電平行ワイヤのアレイ、または、例えば上部電極の周辺に配置された金属フレーム、具体的には箔からなる。
【００２４】
好ましくは、接続手段は、具体的には、例えばポリウレタンやポリビニルブチラール（ＰＶＢ）などの熱可塑性ポリマーからなる透明な支持体によって支持され、この支持体は積層中間層であってもよい。
【００２５】
本発明の実現変形例において、下部電極に半田付けされた電流源コネクタは場合によっては、上部電極の複数の自由領域に配置され、電気分離手段が前記第２の電流源コネクタと上部電極の表面間に提供され、この分離手段は、具体的には薄い絶縁シートからなってもよい。
【００２６】
キャリア基板はさらに、具体的にはガラスまたはプラスチックからなる、グレージング機能を具備する基板であってもよい。
【００２７】
好ましくは、電流源コネクタと下部電極間の半田ジョイントは超音波半田付けされる。加えて、電極の少なくとも１つが少なくとも１つの混合インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）から形成される。
【００２８】
全面および選択パーティションによって画定された自由領域は、好ましくは基板の周辺に配置される。さらに、基板は場合によっては矩形であり、全面および選択パーティションはそれぞれ直交しており、基板の対向辺と平行になるように生成される。
【００２９】
本発明の目的はまた、少なくとも１つの電気制御アクティブエリアの制御透過性または反射性を有し、少なくとも、下部電極を形成する導電層と、少なくとも１つがエレクトロクロミック層である種々の機能層と、上部電極を形成する導電層とを順次備える多層スタックをキャリア基板上に有するエレクトロクロミック素子の製造プロセスであり：
基板の表面の少なくとも一部に、下部電極を形成する導電層と、種々の機能層と、上部電極を形成する導電層とを順次堆積するステップと、
上部電極から開始して、上部電極ならびに上部電極を下部電極から分離する他の層を通過し、下部電極を通過しない少なくとも１つの選択パーティション生成するステップであって、各選択パーティションが上部電極の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域と、アクティブエリア（ＣＤＥＦ）を含有するアクティブ領域とに分割する、ステップと、
上部電極から開始して、上部電極ならびに上部電極を基板から分離する層を通過する少なくとも１つの全面パーティションを生成するステップであって、各全面パーティションが下部電極の少なくとも表面を２つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域およびアクティブ領域に分割する、ステップと、
電流源コネクタを上部電極の自由領域と、上部電極に合わせて配置された下部電極のアクティブ領域とに半田付けするステップと、および
電流源コネクタに電気接続された接続手段を上部電極のアクティブエリアと電気接触させるステップ、とを含むプロセスである。
【００３０】
半田ジョイントは好ましくは超音波半田付けされる。さらに、パーティションの少なくとも１つがレーザービームによって生成される。
【００３１】
本発明にしたがったプロセスの有利な変形例では、上述のタイプの複数のエレクトロクロミック素子が同一の基板上に生成され、前記素子が完成されると、キャリア基板およびこの上に堆積されたすべての層が、特定の素子を構成するようにカットされる。
【００３２】
本発明の目的はまたエレクトロクロミックグレージングであり、具体的には可変光および／またはエネルギー透過性および／または反射性を有する上述したようなエレクトロクロミック素子を含んでおり、基板または基板の少なくとも一部が透明または部分的に透明であり、プラスチックからなり、かつ好ましくは複数および／または積層グレージングとしてあるいはダブルグレージングとして装備されていることを特徴とする。
【００３３】
本発明の目的はまた、上述のグレージングを、アーキテクチャグレージングとして、自動車用グレージングとして、産業車両用または列車、海上もしくは航空の公共輸送用、農業車両用、工事現場の機械用、バックミラーもしくはサイドミラー用または他のミラー用、表示および標識用、およびカメラシャッター用のグレージングとして使用することである。
【００３４】
本発明の種々の実施形態は、非制限的例として、添付の図面を参照して以下に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１ａ】図１ｂの線ＡＡに沿った概略垂直断面図を示している。
【図１ｂ】本発明にしたがったエレクトロクロミック素子の第１の実施形態の第１の段階の概略平面図を示している。
【図２ａ】図２ｂの線ＡＡに沿った概略垂直断面図である。
【図２ｂ】本発明にしたがった選択パーティションの生成段階を図示する概略平面図である。
【図３ａ】図３ｂの線ＢＢに沿った概略垂直断面図である。
【図３ｂ】本発明にしたがった全面パーティションの別の生成段階を図示する概略平面図である。
【図４ａ】図４ｂの線ＡＡに沿った概略垂直断面図である。
【図４ｂ】先行図面に示された本発明にしたがった素子の下部電極に接続要素を半田付けする段階を図示する概略平面図である。
【図５ａ】図５ｂの線ＢＢに沿った概略垂直断面図を示している。
【図５ｂ】先行図面に示された本発明にしたがった素子の上部電極に接続要素を接触させる段階を図示する概略平面図を示している。
【図５ｃ】先行図面に示された本発明にしたがった素子の最終生成段階を図示する図５ｂの線ＢＢに沿った概略垂直断面図である。
【図６】本発明にしたがった上記の素子によって取得された例示的掩蔽プロファイルの概略平面図を示している。
【図７ａ】図７ｂの線ＡＡに沿った概略垂直断面図を示している。
【図７ｂ】本発明の別の例示的実現を示している。
【図８】本発明の実現変形例の平面図である。
【図９】本発明にしたがった複数の素子を同一の基板から生成することを示す別の変形例の概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
本発明にしたがった透過性制御エレクトロクロミック素子１の製造プロセスの第１の例の基本的段階が図１ａから図５ｃに示されており、これは具体的に、透明度が調整可能であることが望ましいグレージング構成への適用が意図されている。
【００３７】
本発明にしたがった、図１ａおよび図１ｂに示されているようなプロセスの第１のステップにおいて、下部電極４を形成する導電層が、本実現モードではガラス支持体から構成されたキャリア基板３上に堆積される。この堆積は具体的に、従来のスパッタリングプロセスによって実行される。知られているように、この電極は金属タイプであっても、または、Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２：ＦもしくはＺｎＯ：Ａｌからなる透明な導電性酸化物（ＴＣＯ）タイプであってもよい。場合によっては、具体的には金属が銀、金、プラチナおよび銅から選択されるＴＣＯ／金属／ＴＣＯタイプの多層であっても、または具体的には金属が銀、金、プラチナおよび銅から選択されるＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒタイプの多層であってもよい。
【００３８】
次に、機能性エレクトロクロミックアセンブリを形成する一連の層７、つまり第１の電気アクティブ層７ａ、続いて電解層７ｂおよび第２の電気アクティブ層７ｃが堆積される。最終的に、上部電極９を形成する第２の導電層が堆積される。
【００３９】
図２ａおよび図２ｂに示されているプロセスの第２のステップにおいて、直線パーティション５が、ガラス基板３の２つの対向辺３ａの境界として生成され、各辺に平行である。
【００４０】
用語「パーティション」は、素子の特定の層からなる横断面を意味するように本書では理解されるべきであり、この幅は、横断層の各部分が他の部分から電気的に分離されるのに十分である。パーティションは、上部電極９から深さ方向に延び、上部電極ならびに上部電極を基板３から分離するすべての層を通過する場合に、「全面」であるとされる。パーティションは、上部電極９から延び、上部電極ならびに上部電極を下部電極から分離するすべての層を通過し、下部電極を通過しない場合に「選択的」であるとされる。
【００４１】
これらのパーティションは好ましくは、知られている方法でレーザービームによって生成されるが、上記のような他の生成手段もまた使用可能である。
【００４２】
選択パーティション５、つまり上部電極９および上部電極を下部電極４から分離するすべての層を通過し、下部電極４を通過しないパーティションが図２ａおよび図２ｂに（点線で）示されている。したがって２つの選択パーティション５の各々が上部電極９の表面を２つの領域、つまり第１の「自由」領域９ａおよび第２の「アクティブ」領域９ｂに分割する。本実現モードでは、アクティブ領域は両パーティションに共通であり、素子のアクティブエリアＣＤＥＦである領域を含有し、これはいわば、光透過性が後述されるように制御されるエリアである。
【００４３】
次に、図３ａおよび図３ｂに示されているように、２つの他のパーティション１２が基板３の２つの他の対向辺３ｂの境界として生成され、これら他のパーティションは図面に実線として示されている。これら２つのパーティションは、上部電極９およびこれを基板３から分離する層、つまり本例では３つの機能性エレクトロクロミック層７ａ、７ｂおよび７ｃと下部電極４を介して延びる全面タイプパーティションである。したがってこれら２つのパーティション１２の各々は上部電極９の表面を２つの領域、つまり第２の自由領域９’ａと、素子のアクティブエリアＣＤＥＦを含有するアクティブ領域９ｂとに分割する。
【００４４】
２つのパーティション１２の各々もまた他の層、具体的には下部電極４を２つの領域、つまり第１の「自由」領域４ａおよび第２の「アクティブ」領域４ｂに分割する。本実現モードでは、アクティブ領域は両パーティションに共通であり、後述されるように素子のアクティブエリアＣＤＥＦを含有している。
【００４５】
本発明にしたがったプロセスにおいて、当然、選択パーティション５および全面パーティション１２が生成される順序を反対にすることも可能である。
【００４６】
各選択パーティション５によって画定された自由領域９ａの各々と、各全面パーティション１２によって画定された自由領域４ａ、９ａ’の各々は、一方では他の自由領域から、他方ではそれぞれのアクティブ領域４ｂおよび９ｂ、または素子のアクティブエリアＣＤＥＦを含有する下部および上部電極から電気的に分離される点に留意されたい。したがって電極の自由領域の各々は、短絡をもたらすことなく他の電極のアクティブ領域に接続可能である。
【００４７】
したがって本発明によって、図４ａおよび図４ｂに示されているような第３のステップにおいて、この短絡を招く操作なしに、接続リード１５を上部電極９の自由領域９ａから下部電極４に超音波半田付けすることが可能になる。
【００４８】
上部電極９への電気接続は、導電要素のアレイ、具体的には図５ａから図５ｃに示されているような導電ワイヤ２０のアレイからなる接続手段によって得られる。
【００４９】
このアレイは、およそ１から３ｍｍの距離で分離され、かつ接続リード２１に半田付けされた平行ワイヤからなる。ワイヤ２０のアレイは、熱可塑性ポリマーベースの層間支持シート２２、具体的にはポリウレタンやポリビニルブチラール（ＰＶＢ）からなるシート上に配置され、このことは、図５ｃに示されているようにアレイが適所に維持されることを保証する。
【００５０】
層間支持シート２２の寸法は好ましくは、接続リード１５および２１が通過することによって、リードを適所に維持することに寄与するシール２３を周辺に適用できるようにするために、多層スタックの他の層の寸法よりわずかに小さい。
【００５１】
多層スタックはガラスバック基板２５によって仕上げられ、次いでアセンブリが積層される。この操作時に、図５ｃに示されるように、層間支持シート２２はワイヤ２０のアレイを上部電極９に対して適用することによって、ワイヤ２０と上部電極間の優れた電気接触を保証することができる。
【００５２】
このような実現によって約０．５Ω／□の低い上部電極の抵抗率が取得され、これによって、システムのスイッチング時間、ならびにこのタイプの素子によって生じる傾向があるハロ現象を短縮および低減することができる。
【００５３】
これは、知られているように、アクティブ表面の透過性変動が必要な場合、例えば透明度の変動に関して、この変動は、このアクティブ表面全体に対する即時の均一密度の変動ではないからである。当該種々のエレクトロクロミック層の抵抗率、ならびに上下の電極間の抵抗率の差と具体的に関連した問題ゆえに、以下「掩蔽プロファイル」と称されるアクティブ表面の透明度の時間的な幾何学的変動は、電極への接続リード１５および２１の配置に応じて種々の態様をとることができる。
【００５４】
本発明によって素子設計者は極めて容易にエレクトロクロミック素子を生成することができ、この接続リードは、所望の掩蔽プロファイルに応じて電極に成形および配置されてもよい。
【００５５】
したがって、上述した配置によって、図６に概略的に示されている、縁部３ａから中心に移動するカーテン形態の掩蔽プロファイルが取得される。
【００５６】
さらに、本発明の本実現モードにおいて、素子のアクティブエリアＣＤＥＦは（点線で図示されている）選択パーティション５および（実線で図示されている）全面パーティション１２によって境界設定される。本発明は、これに合わせて接続がなされる自由領域の面積を最小化することができるため、従来技術の手段と比較して素子のアクティブエリアを増大させることができる。
【００５７】
図７ａおよび図７ｂに示されている実施形態の変形例において、上部電極９の全周、より正確にはこの自由領域９ａおよび９’ａに配置された接続リード１５を形成することも可能であり、この接続リードは下部電極４に超音波半田付けされている。
【００５８】
このような構成では、短絡を回避するために、透明な絶縁バンド２６が上部電極４の領域９ａおよび９’ａと、ワイヤ２０が配置されている接続リード２１との間に介在される。
【００５９】
図８に示されている本発明の別の実現変形例では、上部電極９への接続は、アクティブ領域９ｂの周辺に配置され、かつ接続リード２１ｂに半田付けされたフレーム型金属箔２１ａによってなされる。これらの箔２１ａは、積層操作時に、層間シート２２によってアクティブ領域９ｂに適用されることによって、アクティブ領域との良好な電気接触を確立することができる。
【００６０】
したがって本発明によって、マスキング接着剤の配置および除去のクリチカルステップがエレクトロクロミック素子製造プロセスから排除可能になり、このことはかなりの時間短縮をもたらし、同時に、これらの素子の経時的な信頼性は、下部電極（４）が接続手段に半田付けされているために改良される。漏洩電流を大きく低減することによって、本発明は、応答時間が短縮され、かつ生じる電気消費の少ないエレクトロクロミック素子の製造も可能にする。最終的には本発明によって、アクティブエリアＣＤＥＦが支持基板のサイズにまで最大化可能になり、素子の掩蔽プロファイルの形状が制御可能になる。
【００６１】
同様に、本発明によると、複数のエレクトロクロミック素子１が同一の支持基板３上に生成されてもよい。製造プロセスの終わりには、これらの素子は、具体的なエレクトロクロミック素子１ａ、１ｂ、１ｃ、および１ｄを構成するように、図９に点破線で示されている線２８に沿って基板をカットすることによって分離される。
【００６２】
このような実現モードによって、例えば、４つの素子に対して４つの全面パーティションおよび４つの選択パーティションのみの製造が可能になり、このことは製造時の簡略化および時間短縮を表している。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図６】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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