【手続補正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の次元で光学リサイジングを達成するように設計かつ構成された複数の導波路を有する第１光学リサイジング素子と、
第２の次元で光学リサイジングを達成するように設計かつ構成された複数の導波路を有する第２光学リサイジング素子であって、前記第２光学リサイジング素子は、前記第１光学リサイジング素子を出射した光が前記第２光学リサイジング素子に入射するように、前記第１光学リサイジング素子に結合され、したがって前記第１および前記第２の両方の次元でリサイジングが行なわれる第２光学リサイジング素子と、
を備える光学リサイジング装置であって、前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方の前記複数の導波路は少なくとも部分的にテーパを付けられる、光学リサイジング装置。
【請求項２】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方の前記複数の導波路は、前記光学リサイジングを達成するように長手方向に拡張する配列状態に、基板内に形成かつ／または埋設される、請求項１に記載の光学リサイジング装置。
【請求項３】
第１の次元で光学リサイジングを達成するように設計かつ構成された複数の導波路を有する第１光学リサイジング素子と、
第２の次元で光学リサイジングを達成するように設計かつ構成された複数の導波路を有する第２光学リサイジング素子であって、前記第２光学リサイジング素子は、前記第１光学リサイジング素子を出射した光が前記第２光学リサイジング素子に入射するように、前記第１光学リサイジング素子に結合され、したがって前記第１および前記第２の両方の次元でリサイジングが行なわれる第２光学リサイジング素子と、
を備える光学リサイジング装置であって、前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方の前記複数の導波路は、前記光学リサイジングを達成するように長手方向に拡張する配列状態に、基板内に形成かつ／または埋設される、光学リサイジング装置。
【請求項４】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方の前記複数の導波路は、少なくとも部分的にテーパを付けられる、請求項３に記載の光学リサイジング装置。
【請求項５】
前記長手方向に拡張する配列は導波路の層を含み、各層は、導波路が前記層の第１領域から前記層の第２領域まで延在し、それによって前記層内に周方向境界が画定されるように配置され、前記光学リサイジングを達成するために、前記周方向境界を特徴付ける長さは前記第１領域の方が前記第２領域より小さい、請求項２または３に記載の装置。
【請求項６】
第１ファセットと、前記第１ファセットより大きい第２ファセットとを有する基板を形成する複数の層を備える光学リサイジング素子であって、前記複数の層の各層は、前記層内に形成かつ／または埋設されかつ前記層の第１領域から前記層の第２領域まで延在する、略平行な導波路の配列を有し、前記複数の層は部分的に重複する光学配列状に配置され、それによって１次元の光学リサイジングを達成するために各層の第２領域が前記第２ファセットで光学的に露出される、光学リサイジング素子。
【請求項７】
少なくとも１層から形成される基板を備える光学リサイジング素子であって、前記少なくとも１層の各層は、前記層内に形成かつ／または埋設されかつ前記層の第１領域から前記層の第２領域まで延在し、それによって前記層内に周方向境界を画定する、導波路の配列を有し、１次元の光学リサイジングを達成するために、前記周方向境界を特徴付ける長さは前記第１領域の方が前記第２領域より小さい、光学リサイジング素子。
【請求項８】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方は、前記光学リサイジングを達成するための傾斜層を含む、請求項１または３に記載の装置。
【請求項９】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方は、前記光学リサイジングを達成するためのテラスを含む、請求項１または３に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１光学リサイジング素子は、複数の光源から光を受光し、前記光を前記第２光学リサイジング素子に伝達するように構成かつ設計される、請求項１または３に記載の装置。
【請求項１１】
複数の光源から光を受光し、前記光を前記第２光学リサイジング素子に伝達するように構成かつ設計される、請求項６または７に記載の光学リサイジング素子。
【請求項１２】
前記第１光学リサイジング素子は、単一光源から光を受光し、前記光を少なくとも２つの異なる方向に出射するように設計かつ構成される、請求項１または３に記載の装置。
【請求項１３】
単一光源から光を受光し、前記光を少なくとも２つの異なる方向に出射するように設計かつ構成される、請求項６または７に記載の光学リサイジング素子。
【請求項１４】
前記第２ファセットに付着またはエッチングされた拡散層をさらに含む、請求項１、３、６または７に記載の装置または光学リサイジング素子。
【請求項１５】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方は拡張構造を含む、請求項１、３、８または９に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方は、複数の部分光学リサイジング素子を備え、それによって各部分光学リサイジング素子が、それぞれの次元で部分光学リサイジングを達成するように設計かつ構成される、請求項１または３に記載の装置。
【請求項１７】
前記第１光学リサイジング素子および前記第２光学リサイジング素子の少なくとも一方は、光を偏光させるように設計かつ構成される、請求項１または３に記載の装置。
【請求項１８】
光を偏光させるように設計かつ構成される、請求項６または７に記載の光学リサイジング素子。
【請求項１９】
部分的に重複する光学配列状に配置される、第１ファセットおよび第２ファセットを有する基板を形成する複数の層を含む光学リサイジング装置であって、前記複数の層の各層は、前記層に形成かつ／または埋設されかつ前記層の第１領域から前記層の第２領域まで延在し、それによって前記層内に周方向境界を画定する導波路の配列を有し、前記周方向境界を特徴付ける長さは前記第１領域の方が前記第２領域より小さく、前記第２領域は前記第２ファセットに光学的に露出される、光学リサイジング装置。
【請求項２０】
（ａ）基板の第１領域から前記基板の第２領域まで延在する拡張配列状の複数の導波路を基板上に形成し、それによって導波路の層を設けるステップと、
（ｂ）前記ステップ（ａ）を複数回繰り返し、それによって複数の層を設けるステップと、
（ｃ）前記複数の層の端部によって画定される第１ファセットと、前記複数の層のうちの１層の露出表面によって画定される第２ファセットとを形成するように複数の層を積層し、それによって光学リサイジング素子を製造するステップと
を含む、光学リサイジング素子を製造する方法。
【請求項２１】
（ｄ）前記基板の第１領域から前記基板の第２領域まで延在する複数の略平行な導波路を基板上に形成し、それによって導波路の層を設けるステップと、
（ｅ）前記ステップ（ｄ）を複数回繰返し、それによって複数の層を設けるステップと、
（ｆ）第１ファセットおよび第２ファセットを形成し、前記第２ファセットが前記複数の層の光学的に露出した部分によって画定されるように、各層の第２領域が光学的に露出する、部分的に重複する光学配列状に前記複数の層を積層し、それによって第２光学リサイジング素子を製造するステップと、
（ｇ）前記光学リサイジング素子から前記第２光学リサイジング素子への光の伝搬が可能となり、前記光学リサイジング素子内では第１の次元で、前記第２光学リサイジング素子内では第２の次元で前記光をリサイズするように、前記光学リサイジング素子を前記第２光学リサイジング素子に光結合するステップと
をさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
（ａ）基板の第１領域から前記基板の第２領域まで延在する複数の平行な導波路を基板上に形成し、それによって導波路の層を設けるステップと、
（ｂ）前記ステップ（ａ）を複数回繰り返し、それによって複数の層を設けるステップと、
（ｃ）第１ファセットおよび第２ファセットを形成し、前記第２ファセットが前記複数の層の光学的に露出した部分によって画定されるように、各層の第２領域が光学的に露出する、部分的に重複する光学配列状に前記複数の層を積層し、それによって光学リサイジング素子を製造するステップと
を含む、光学リサイジング素子を製造する方法。
【請求項２３】
（ｄ）第２光学リサイジング素子を形成するために前記ステップ（ｂ）〜（ｃ）を繰り返すステップと、
（ｅ）前記光学リサイジング素子から前記第２光学リサイジング素子への光の伝搬が可能となり、前記光学リサイジング素子内では第１の次元で、前記第２光学リサイジング素子内では第２の次元で前記光をリサイズするように、前記光学リサイジング素子を前記第２光学リサイジング素子に光結合するステップと
をさらに含む、請求項２０または２２に記載の方法。
【請求項２４】
（ａ）基板の第１領域から前記基板の第２領域まで延在する複数の導波路を基板上に形成し、それによって前記基板内に周方向境界を画定し、前記周方向境界を特徴付ける長さは前記第１領域の方が前記第２領域より小さいステップと、
（ｂ）前記ステップ（ａ）を複数回繰り返し、それによって複数の層を設けるステップと、
（ｃ）第１ファセットおよび第２ファセットを形成し、前記第２ファセットが前記複数の層の光学的に露出した部分によって画定されるように、各層の第２領域が光学的に露出する、部分的に重複する光学配列状に前記複数の層を積層し、それによって光学リサイジング装置を製造するステップと
を含む、光学リサイジング装置を製造する方法。
【請求項２５】
前記複数の層は前記第２ファセットで部分的に露出される、請求項６、１９、２１、２２または２４に記載の光学リサイジング装置、光学リサイジング素子、または方法。
【請求項２６】
前記複数の導波路の少なくとも少数は平面光回路を形成する、請求項２、３、６、７、１９、２０、２２または２４に記載の光学リサイジング装置、光学リサイジング素子、または方法。
【請求項２７】
請求項１〜５、８〜１１、１２、１４〜１７、１９、および２５〜２６のいずれかに記載の光学リサイジング装置に光を透過させるステップを含む、光点をリサイズする方法。
【請求項２８】
輝度勾配を提供し、それによって不均質な光損失を補償するために、光点を歪めるステップをさらに含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記光は像を構成する、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
輝度勾配を提供し、それによって不均質な光損失を補償するために、前記像を歪めるステップをさらに含む、請求項２９に記載の方法。