【手続補正書】
【提出日】平成23年10月5日(2011.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート絶縁膜の下層側にゲート電極が形成され、前記ゲート絶縁膜の上層側にドレイン電極及びソース電極が形成された薄膜トランジスタと、
前記ゲート電極と同一層に形成された補助容量電極と、
を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置であって、
前記ゲート絶縁膜を介して前記補助容量電極と重畳するように形成された金属薄膜と、
前記ソース電極及び前記金属薄膜の上層側に形成され、前記ソース電極の上面の少なくとも一部及び前記金属薄膜の上面の少なくとも一部にそれぞれコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上層側に形成され、前記ソース電極と前記金属薄膜とを前記コンタクトホールを介して電気的に接続する透明な画素電極と、
を備え、
前記金属薄膜の上層側に形成された前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域に複数形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記金属薄膜の上層側に形成された複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域にマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに所定の間隔を空けて配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに所定の間隔を空けて配置され、偶数行のコンタクトホールは奇数行のコンタクトホールの間に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに稠密に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに交互に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、ランダムに配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記金属薄膜は反射率が高いアルミニウム又は銀の金属膜からなることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記金属薄膜は下層側にクロムやチタンの金属膜を配置した多層構造からなることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記ソース電極と前記金属薄膜とは同一材料により一括形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記コンタクトホールが複数形成された、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する前記領域は外光を散乱拡散反射させる反射部となることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記層間絶縁膜は酸化シリコン膜または窒化シリコン膜であり、前記画素電極はＩＴＯであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記層間絶縁膜は透明樹脂膜であり、前記画素電極はＩＴＯであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
液晶層を介して前記画素電極に対向配置される対向電極を備え、前記補助容量電極は前記対向電極と等しい電位に設定されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項１に記載の発明は、ゲート絶縁膜の下層側にゲート電極が形成され、前記ゲート絶縁膜の上層側にドレイン電極及びソース電極が形成された薄膜トランジスタと、前記ゲート電極と同一層に形成された補助容量電極と、を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置であって、前記ゲート絶縁膜を介して前記補助容量電極と重畳するように形成された金属薄膜と、前記ソース電極及び前記金属薄膜の上層側に形成され、前記ソース電極の上面の少なくとも一部及び前記金属薄膜の上面の少なくとも一部にそれぞれコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の上層側に形成され、前記ソース電極と前記金属薄膜とを前記コンタクトホールを介して電気的に接続する透明な画素電極と、を備え、前記金属薄膜の上層側に形成された前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域に複数形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置において、前記金属薄膜の上層側に形成された複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域にマトリクス状に配置されていることを特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の液晶表示装置において、前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに所定の間隔を空けて配置されていることを特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の液晶表示装置において、前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに所定の間隔を空けて配置され、偶数行のコンタクトホールは奇数行のコンタクトホールの間に配置されていることを特徴とする。
また、請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の液晶表示装置において、前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに稠密に配置されていることを特徴とする。
また、請求項６に記載の発明は、請求項２に記載の液晶表示装置において、前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、行方向と列方向ともに交互に配置されていることを特徴とする。
また、請求項７に記載の発明は、請求項２に記載の液晶表示装置において、前記マトリクス状に配置されている複数の前記コンタクトホールは、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する領域において、ランダムに配置されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、前記金属薄膜は反射率が高いアルミニウム又は銀の金属膜からなることを特徴とする。
また、請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の液晶表示装置において、前記金属薄膜は下層側にクロムやチタンの金属膜を配置した多層構造からなることを特徴とする。
また、請求項１０に記載の発明は、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、前記ソース電極と前記金属薄膜とは同一材料により一括形成されていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１１に記載の発明は、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、前記コンタクトホールが複数形成された、前記金属薄膜と前記画素電極とが重畳する前記領域は外光を散乱拡散反射させる反射部となることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１２に記載の発明は、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、前記層間絶縁膜は酸化シリコン膜または窒化シリコン膜であり、前記画素電極はＩＴＯであることを特徴とする。
また、請求項１３記載の発明は、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、前記層間絶縁膜は透明樹脂膜であり、前記画素電極はＩＴＯであることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１４に記載の発明は、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、液晶層を介して前記画素電極に対向配置される対向電極を備え、前記補助容量電極は前記対向電極と等しい電位に設定されていることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
そして、薄膜トランジスタ２５や金属薄膜３７、データライン２３の上層側には、これら金属薄膜３７、薄膜トランジスタ２５及びデータライン２３を覆うように酸化シリコン又は窒化シリコン等からなる層間絶縁膜としてのオーバーコート膜５０が形成されている。このオーバーコート膜５０におけるソース電極３５の上面には第一コンタクトホール３９が形成されている。具体的には、第一コンタクトホール３９は、ソース電極３５におけるチャネル保護膜３２から離間した部分の上面に対して形成されている。また、オーバーコート膜５０における金属薄膜３７の上面には第二コンタクトホール４０が形成されている。この第二コンタクトホール４０は、平面的に見ると図２に示すように金属薄膜３７上に複数形成されている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本実施形態では、第二コンタクトホール４０を複数形成しているため、金属薄膜３７上の層間絶縁膜５０に多くの起伏（凹凸）を持たせることができる。そしてこの起伏領域は、比較的屈折率の高いＩＴＯをそれよりは屈折率の低い酸化シリコン又は窒化シリコンと液晶層とで挟持した構成になっている。このため、液晶層側から金属薄膜３７上に入射されてくる光を、この起伏と金属薄膜３７とにより散乱反射させることができ、金属薄膜３７が形成された領域を反射表示領域として有効に活用することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
なお、本発明は上記実施形態に限らず適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、層間絶縁膜としてのオーバーコート膜５０が酸化シリコン膜又は窒化シリコン膜等により形成されている場合を例示して説明したが、層間絶縁膜は絶縁性の透明樹脂膜から形成されていてもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また、本実施形態では、複数の第二コンタクトホール４０が金属薄膜３７と画素電極２４とが重畳する領域に行方向に一列配置されている場合を例示して説明したが、図３に示すとおり金属薄膜３７上に、第二コンタクトホール４０をマトリクス状に複数配置することも可能である。図４は図３におけるＩＶ−ＩＶ断面図である。この場合、金属薄膜３７を補助容量ラインとの重畳領域外まで延伸させて金属薄膜３７の面積を上述の実施形態より大きくとるとともに、第二コンタクトホール４０の設置個数を増加させている。図５に示すとおり、対向パネル表面側から入射する外光（実線で図示）を第二コンタクトホール４０によって散乱拡散反射光（点線で図示）として反射させることが可能となり、鏡面反射を防止し反射光の指向性がなくなるので映り込みのない全視野角方向に均一なコントラストの反射型表示が可能となる。第二コンタクトホール４０の散乱拡散効果はオーバーコート層５０と画素電極の屈折率の差が大きいほど高くなる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2010145927.tif 000001
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2010145927.tif 000002