【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年2月25日(2011.2.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
計測ツールのキャリブレーションに使用するのに適切な基板を形成する方法であって、
放射感応性材料の層を基板の表面に設け、
第一セットのパターンフィーチャおよび第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンを提供するパターニングデバイスを使用して、第一放射ビームにパターンを与え、
前記第一セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第一キャリブレーションマークを前記基板の第一領域に形成し、前記第二セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、前記第一キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向と異なる方向に細長いパターンフィーチャのセットを有する第二キャリブレーションマークを前記基板の第二領域に形成するように、前記パターン付き第一放射ビームを前記放射感応性材料に投影し、
前記基板の前記表面に対して実質的に直角の軸の周囲で、前記投影システムに対して所定の角度だけ前記基板を回転し、
前記第一セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第三キャリブレーションマークを、前記基板を回転する前の第一キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向と同じ方向に形成し、前記第二セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第四キャリブレーションマークを、前記基板を回転する前の第二キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向と同じ方向に形成するように、前記パターニングデバイスを使用して、第二放射ビームにパターンを与え、それを前記放射感応性材料に投影することを含み、
前記所定の角度は、前記第二キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向が、前記第三キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向に実質的に平行であるような角度である、方法。
【請求項２】
前記キャリブレーションパターンがさらに第三セットのパターンフィーチャを含み、前記第三セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられる前記パターン付き第一放射ビームの放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第五キャリブレーションマークを形成し、さらに、
前記基板を前記投影システムに対して、前記軸の周囲でさらに第二所定角度だけ回転し、
前記第一セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第六キャリブレーションマークを形成するように、前記パターニングデバイスを使用して第三放射ビームにパターンを与えて、それを前記放射感応性材料に投影することを含み、
前記第二所定角度は、前記第五キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向が、前記第六キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向に実質的に平行であるような角度である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一、第二および第五キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャのうち、２つの前記細長いパターンフィーチャの前記方向は、実質的に平行ではない、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第二放射ビームがパターンを与えられ、前記放射感応性材料に投影されると、前記キャリブレーションパターンの前記第三セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、細長いパターンフィーチャを有するキャリブレーションマークを形成し、前記第三放射ビームがパターンを与えられ、前記放射感応性材料に投影されると、前記キャリブレーションパターンの前記第三セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、細長いパターンフィーチャを有する個々のキャリブレーションマークを形成する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記キャリブレーションパターンがさらに、第四セットのパターンフィーチャを含み、前記第四セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた前記パターン付き第一放射ビームの放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第七キャリブレーションマークを形成し、
前記方法がさらに、前記基板を前記投影システムに対して、前記軸の周囲でさらに第三所定角度だけ回転し、
前記キャリブレーションパターンの前記第一セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第八キャリブレーションマークを形成するように、前記パターニングデバイスを使用して第四放射ビームにパターンを与えて、それを前記放射感応性材料に投影することを含み、
前記第三所定角度は、前記第七キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向が、前記第八キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向に実質的に平行であるような角度である、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記第一、第二、第五および第七キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャのうち、２つの前記細長いパターンフィーチャの前記方向は、実質的に平行ではない、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第二放射ビームがパターンを与えられ、前記放射感応性材料に投影されると、前記キャリブレーションパターンの前記第三および第四セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、細長いパターンフィーチャを有する個々のキャリブレーションマークを形成し、前記第三および第四放射ビームがパターンを与えられ、前記放射感応性材料に投影されると、それぞれ前記キャリブレーションパターンの前記第二、第三および第四セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、細長いパターンフィーチャを有する個々のキャリブレーションマークを形成する、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
さらに、前記基板が前記投影システムに対して、各放射ビームがパターンを与えられて、前記放射感応性材料に投影される場合と同じ方向にある状態で、放射の各追加ビームが、その基板の方向だが基板の異なる位置で前記放射感応性材料に投影される前記パターン付き放射ビームによって形成されるビームに対応するように、前記パターニングデバイスを使用して少なくとも１つの追加の放射ビームにパターンを与え、前記放射感応性材料に投影することを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
さらに、前記基板が前記投影システムに対して、各放射ビームがパターンを与えられて、前記放射感応性材料に投影される場合と同じ方向にある状態で、放射の各追加ビームが、その基板の方向だが基板の異なる位置で前記放射感応性材料に投影される前記パターン付き放射ビームによって形成されるビームに対応するように、前記パターニングデバイスを使用して少なくとも１つの追加の放射ビームにパターンを与え、前記放射感応性材料に投影することを含む、請求項１から８いずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
さらに、前記放射感応性材料の選択的露光によって、前記基板に形成された前記パターンを現像することを含む、請求項１から９いずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
複数のキャリブレーションマークを有する基板を使用して、計測ツールをキャリブレーションする方法であって、
放射感応性材料の層を前記基板の表面に設け、
第一セットのパターンフィーチャおよび第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンを提供するパターニングデバイスを使用して、第一放射ビームにパターンを与え、
前記第一セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第一キャリブレーションマークを前記基板の第一領域に形成し、前記第二セットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射が、前記第一キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向と異なる方向に細長いパターンフィーチャのセットを有する第二キャリブレーションマークを前記基板の第二領域に形成するように、前記パターン付き第一放射ビームを前記放射感応性材料に投影し、
前記基板の前記表面に対して実質的に直角の軸の周囲で、前記投影システムに対して所定の角度だけ前記基板を回転し、
前記第一セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第三キャリブレーションマークを、前記基板を回転する前の第一キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向と同じ方向に形成し、前記第二セットのパターンフィーチャによってパターンを与えられた放射が、細長いパターンフィーチャのセットを有する第四キャリブレーションマークを、前記基板を回転する前の第二キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向と同じ方向に形成するように、前記パターニングデバイスを使用して、第二放射ビームにパターンを与え、それを前記放射感応性材料に投影することを含み、
前記所定の角度は、前記第二キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向が、前記第三キャリブレーションマークの前記細長いパターンフィーチャの方向に実質的に平行であるような角度である、方法。
【請求項１２】
前記キャリブレーションパターンの同じセットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射によって形成されているが、相互に平行ではない細長いパターンフィーチャを有する複数のキャリブレーションマークを検査した結果間の違いを使用して、前記計測ツールの方向のオフセットをキャリブレーションする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記キャリブレーションパターンの同じセットのパターンフィーチャによってパターンが与えられた放射によって形成されているが、他のいずれとも平行ではない３つ以上のキャリブレーションマークを検査した結果間の違いを使用して、前記計測ツールの前記キャリブレーションマークを照明するために使用する前記放射ビームの形状のオフセット、および前記計測ツールの前記キャリブレーションマークを照明するために使用する前記放射ビームの入射角度のオフセットのうち少なくとも１つについて、前記計測ツールをキャリブレーションする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
相互に実質的に平行である細長いパターンフィーチャを有する複数のキャリブレーションマークを検査した結果間の違いを使用して、前記キャリブレーションマークの形成に使用する様々な前記放射ビームの放射強度の変動を補償する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
相互に実質的に平行である細長いパターンフィーチャを有する複数のキャリブレーションマークを検査した結果間の違いを使用して、前記キャリブレーションマークの形成に使用する様々な前記放射ビームの放射強度の変動を補償する、請求項１３に記載の方法。
ｓ
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
[00057]  図７は、キャリブレーションマークのセットの好ましい構成を示している。図示のように、キャリブレーションマーク５１、５２、５３、５４の各セットは、キャリブレーションパターン内の８つの対応するセットのパターンフィーチャを使用して同時に形成された８つのキャリブレーションマークを含む。キャリブレーションマークの各セット内には４対のキャリブレーションマークがあり、キャリブレーションマークの各対は、個々の細長いパターンフィーチャが実質的に平行であるように構成される。第一および第二対のキャリブレーションマークは、その細長いパターンフィーチャが相互に直角であるように構成される。第三および第四対のキャリブレーションマークは、その個々の細長いパターンフィーチャが相互に直角であり、それぞれがキャリブレーションマークの第一および第二対の一方の細長いパターンフィーチャに対して約４５°であるように構成される。また、図７に示す個々の方向マーク５５、５６、５７、５８によって示されるように、各セットのキャリブレーションマーク５１、５２、５３、５４を形成する間に、基板は約４５°で回転される。