Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月2日(2011.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下、本発明の乳酸菌の特性を規定するための方法に関し、順に説明する。
＜胃酸耐性＞
本発明で規定する胃酸耐性は、具体的には以下の方法により測定することができる。無調整豆乳（紀文フードケミファ社製）及び５０％（ｗ／ｖ）スクロースを９：１となるように混合して得られる豆乳培地３０ｍｌを５０ｍｌ容ファルコンチューブに入れ、被検菌（グリセロールストック）を接種（１×１０７個／ｍｌ）し、３０℃で２４時間培養（無攪拌、無通気、静置）する。得られた培養物３ｍｌを、人工胃液基礎培地（０．５％（ｗ／ｖ）脱脂粉乳、０．１２％（ｗ／ｖ）スクロース溶液を９５℃３０分加熱殺菌後、終濃度０．４％（ｗ／ｖ）となるようにペプシン（和光純薬社製、１：１００００、ブタ胃粘膜由来）を添加し、塩酸にてｐＨを２．５に調整して作製）２７ｍｌに添加し、ｐＨを２．５に再調整し、３７℃で３時間インキュベートする。培養開始前及び培養後の被検菌数を測定し、培養開始前の被検菌数に対する培養後の被検菌数の割合（％）を算出する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（胃酸耐性測定試験）
実施例１で選抜された、ＮＲＩＣ株５８株、キッコーマン単離株６５株について、胃酸耐性を測定した。無調整豆乳（紀文フードケミファ社製）及び５０％（ｗ／ｖ）スクロースを９：１となるように混合して得られる豆乳培地３０ｍｌを５０ｍｌ容ファルコンチューブに入れ、被検菌（グリセロールストック）を接種（１×１０７個／ｍｌ）し、３０℃で２４時間培養（無攪拌、無通気、静置）した。得られた培養物３ｍｌを、人工胃液基礎培地（０．５％（ｗ／ｖ）脱脂粉乳、０．１２％（ｗ／ｖ）スクロース溶液を９５℃、３０分加熱殺菌後、終濃度０．４％（ｗ／ｖ）となるようにペプシン（和光純薬社製、１：１００００、ブタ胃粘膜由来）を添加し、塩酸にてｐＨを２．５に調整して作製）２７ｍｌに添加し、ｐＨを２．５に再調整し、３７℃で３時間インキュベートし、培養開始前及び培養後の被検菌数を測定し、培養開始前の被検菌数に対する培養後の被検菌数の割合（％）を算出した。その結果、１０％以上の値を示した株として、ＮＲＩＣ株より５１株を、キッコーマン単離株より４７株を選抜し、以降の選抜工程を進めた。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月16日(2011.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大腿部および下腿部を動かす駆動部と、前記大腿部および前記下腿部からの負荷を検出する力検出器と、前記力検出器からの負荷情報から前記駆動部を柔軟に制御するインピーダンス制御部とを備えた下肢駆動装置において、
前記大腿部および前記下腿部の自重を推定する下肢自重推定部と、前記大腿部および前記下腿部のそれぞれの自重に対応するオフセット値を算出する下肢自重補償部とを備えることにより、教示時および訓練時の前記大腿部および前記下腿部の自重をキャンセルすることを特徴とする下肢駆動装置。
【請求項２】
前記下肢自重推定部は、前記大腿部の自重および前記下腿部の自重を、前記大腿部および前記下腿部の各角度検出器の出力と、前記大腿部および前記下腿部の各力検出器の出力および位置と、前記大腿部の長さを基に推定することを特徴とする請求項１記載の下肢駆動装置。
【請求項３】
前記下肢自重補償部は、前記大腿部および前記下腿部のオフセット値を、前記大腿部の自重推定値および前記下腿部の自重推定値を基に算出することを特徴とする請求項１または２記載の下肢駆動装置。
【請求項４】
前記下肢自重推定部が前記大腿部の自重Ｍ１を式（イ）より推定し、下腿部の自重Ｍ２を式（ロ）より推定することを特徴とする請求項２または３記載の下肢駆動装置。
Ｍ１・ｇ＝[Ｌ１（Ｓ１／Ｃ１−ａ２・Ｓ３／ｌ２・Ｃ３）ｆ２ｘ
−Ｌ１（ｌ−ａ２／ｌ２）ｆ２ｚ
−（ａ１／Ｃ１）ｆ１ｚ]／ｌ１       ・・・・・・式（イ）
Ｍ２・ｇ＝ａ２・[（Ｓ３／Ｃ３）ｆ２ｘ−ｆ２ｚ]／ｌ２・・・・式（ロ）
ここで、
α：大腿部の角度検出器により検出した水平方向となす股角度
γ：下腿部の角度検出器により検出した水平方向となす下腿角度
β：αとγから算出した膝角度（β＝γ―α）
Ｌ１：患者の大腿部の長さを測って装置に入力した大腿部の長さ
Ｍ１：大腿部の自重
Ｍ２：下腿部の自重
ｇ：重力加速度
ｌ１：股関節と大腿部の重心位置間の距離
ｌ２：膝関節と下腿部の重心位置間の距離
ｆ１ｚ：大腿部の力検出器からの値
ｆ２ｘ，ｆ２ｚ：下腿部の力検出器からの水平方向および垂直方向の値
ａ１：大腿部の力検出器の位置（既知）
ａ２：下腿部の力検出器の位置（既知）
Ｓ１＝sinα
Ｃ１＝cosα
Ｓ３＝sinγ
Ｃ３＝cosγ
である。
【請求項５】
前記下肢自重補償部が前記大腿部の自重推定値Ｍ１・ｇおよび前記下腿部の自重推定値Ｍ２・ｇから以下の式（ハ）〜（ホ）により前記大腿部および前記下腿部の各オフセット値を算出することを特徴とする請求項３または４記載の下肢駆動装置。
f1z_offst＝−Ｃ１・Ｍ１・ｇ  …  （ハ）
f2x_offst≒０                …  （ニ）
f2z_offst＝−Ｍ２・ｇ        …  （ホ）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１記載の下肢駆動装置の発明は、大腿部および下腿部を動かす駆動部と、前記大腿部および前記下腿部からの負荷を検出する力検出器と、前記力検出器からの負荷情報から前記駆動部を柔軟に制御するインピーダンス制御部とを備えた下肢駆動装置において、前記大腿部および前記下腿部の自重を推定する下肢自重推定部と、前記大腿部および前記下腿部のそれぞれの自重に対応するオフセット値を算出する下肢自重補償部とを備えることにより、教示時および訓練時の前記大腿部および前記下腿部の自重をキャンセルすることを特徴とするものである。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の下肢駆動装置において、前記下肢自重推定部は、前記大腿部の自重および前記下腿部の自重を、前記大腿部および前記下腿部の各角度検出器の出力と、前記大腿部および前記下腿部の各力検出器の出力および位置と、前記大腿部の長さを基に推定することを特徴としている。
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の下肢駆動装置において、前記下肢自重補償部は、前記大腿部および前記下腿部のオフセット値を、前記大腿部の自重推定値および前記下腿部の自重推定値を基に算出することを特徴としている。
請求項４記載の発明は、請求項２または３記載の下肢駆動装置において、前記下肢自重推定部が前記大腿部の自重Ｍ１を式（イ）より推定し、下腿部の自重Ｍ２を式（ロ）より推定することを特徴としている。
Ｍ１・ｇ＝[Ｌ１（Ｓ１／Ｃ１−ａ２・Ｓ３／ｌ２・Ｃ３）ｆ２ｘ
−Ｌ１（ｌ−ａ２／ｌ２）ｆ２ｚ
−（ａ１／Ｃ１）ｆ１ｚ]／ｌ１       ・・・・・・式（イ）
Ｍ２・ｇ＝ａ２・[（Ｓ３／Ｃ３）ｆ２ｘ−ｆ２ｚ]／ｌ２・・・・式（ロ）
ここで、
α：大腿部の角度検出器により検出した水平方向となす股角度
γ：下腿部の角度検出器により検出した水平方向となす下腿角度
β：αとγから算出した膝角度（β＝γ―α）
Ｌ１：患者の大腿部の長さを測って装置に入力した大腿部の長さ
Ｍ１：大腿部の自重
Ｍ２：下腿部の自重
ｇ：重力加速度
ｌ１：股関節と大腿部の重心位置間の距離
ｌ２：膝関節と下腿部の重心位置間の距離
ｆ１ｚ：大腿部の力検出器からの値
ｆ２ｘ，ｆ２ｚ：下腿部の力検出器からの水平方向および垂直方向の値
ａ１：大腿部の力検出器の位置（既知）
ａ２：下腿部の力検出器の位置（既知）
Ｓ１＝sinα
Ｃ１＝cosα
Ｓ３＝sinγ
Ｃ３＝cosγ
である。
請求項５記載の発明は、請求項３または４記載の下肢駆動装置において、前記下肢自重補償部が前記大腿部の自重推定値Ｍ１・ｇおよび前記下腿部の自重推定値Ｍ２・ｇから以下の式（ハ）〜（ホ）により前記大腿部および前記下腿部の各オフセット値を算出することを特徴としている。
f1z_offst＝−Ｃ１・Ｍ１・ｇ  …  （ハ）
f2x_offst≒０                …  （ニ）
f2z_offst＝−Ｍ２・ｇ        …  （ホ）
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月2日(2011.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
帯電部２１においては、放電電極２２と接地電極２３との間へ印加する電位差Ｖと、放電電極２２と接地電極２３の間の距離Ｄとの関係が、実施の形態１と同様であり、本実施の形態２では極性のみ異なっているため、印加電圧が−３ｋＶ未満で−７ｋＶ以上のとき距離Ｄを３０〜４５ｍｍとし、印加電圧が−７ｋＶ未満で−１２ｋＶ以上のとき距離Ｄを４０〜６０ｍｍとしている。望ましくは、距離Ｄ＝３０ｍｍ、電圧Ｖ＝−７ｋＶである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月20日(2011.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主として化学量論的空気／燃料混合物により運転される内燃機関の排ガスから粒子、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）および窒素酸化物（ＮＯｘ）を除去するための、フィルター体および２つの互いに重ねて配置された層から成る触媒活性コーティングを含有し、その際、第二の層が流入する排ガスと直接接触しかつ第一の層を排ガス側で完全に覆い、かつ両層は酸化アルミニウムを含有し、その際、酸化アルミニウムは、第一の層においてはパラジウムにより触媒活性化されており、一方で第二の層は触媒活性成分としてロジウムを含有し、かつその際、第二の層のみが付加的に酸素吸蔵性セリウム／ジルコニウム混合酸化物を含有する、触媒活性粒子フィルターの使用。
【請求項２】
フィルター体および２つの互いに重ねて配置された層から成る触媒活性コーティングを含有し、その際、第二の層が流入する排ガスと直接接触しかつ第一の層を排ガス側で完全に覆い、かつ両層は酸化アルミニウムを含有し、その際、酸化アルミニウムは、第一の層においてはパラジウムにより触媒活性化されており、一方で第二の層は触媒活性成分としてロジウムを含有し、かつその際、第二の層のみが付加的に酸素吸蔵性セリウム／ジルコニウム混合酸化物を含有する、触媒活性粒子フィルターを含有する主として化学量論的空気／燃料混合物により運転される内燃機関の排ガスを浄化するための排ガス浄化装置の使用において、前記触媒活性粒子フィルターがエンジンに近接した位置に配置されていることを特徴とする排ガス浄化装置の使用。
【請求項３】
セラミック製または金属製のフロー型基材および触媒活性コーティングを含有する三元触媒が、粒子フィルターに対し流入側または流出側に含有されていることを特徴とする、請求項２記載の排ガス浄化装置の使用。
【請求項４】
三元触媒が、粒子フィルターに対し流入側に配置されており、かつ該三元触媒の体積に対して１００ｇ／Ｌ未満の酸素吸蔵性セリウム／ジルコニウム混合酸化物を含有することを特徴とする、請求項３記載の排ガス浄化装置の使用。
【請求項５】
三元触媒が、粒子フィルターに対し流出側に配置されており、かつ三元触媒の体積に対して１００ｇ／Ｌより大きい酸素吸蔵性セリウム／ジルコニウム混合酸化物を含有することを特徴とする、請求項３記載の排ガス浄化装置の使用。
【請求項６】
三元触媒が付加的に、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物および希土類金属酸化物またはそれらの組み合わせ物の群から選択された窒素酸化物吸蔵材料を含有することを特徴とする、請求項４または５記載の排ガス浄化装置の使用。
【請求項７】
主として化学量論的空気／燃料混合物により運転される内燃機関の排ガスの浄化法において、
排ガスを、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）および粒子の除去のために、フィルター体および２つの互いに重ねて配置された層から成る触媒活性コーティングを含有し、その際、第二の層が流入する排ガスと直接接触しかつ第一の層を排ガス側で完全に覆い、かつ両層は酸化アルミニウムを含有し、その際、酸化アルミニウムは、第一の層ではパラジウムにより触媒活性化されており、一方で第二の層は触媒活性成分としてロジウムを含有し、かつその際、第二の層のみが付加的に酸素吸蔵性セリウム／ジルコニウム混合酸化物を含有する、触媒活性粒子フィルターに送ることを特徴とする、主として化学量論的空気／燃料混合物により運転される内燃機関の排ガスの浄化法。
【請求項８】
粒子フィルターの再生を、４００〜７００℃の排ガス温度で酸素富化排ガスを導入することによって行うことを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項９】
酸素富化排ガスの発生を燃料カットオフの方法において行うことを特徴とする、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
酸素富化排ガスの発生を、排ガスラインへの二次空気の送り込みによって行うことを特徴とする、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月16日(2011.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【化２】
2010275115.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【化７】
2010275115.tif 000002
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
（上記一般式（５）において、Ｍは上記一般式（２）におけるものと同義である。）
で表されるものがさらに好ましく、中でも上記一般式（５）においてＭがＦｅ２＋であるものが特に好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2010275115.tif 000003
（上記一般式（１）において、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ、炭素数６〜２０の２価の芳香族基である。）
で表される繰り返し単位からなる全芳香族ポリアミド１００質量部と、
下記一般式（２）
【化２】
2010275115.tif 000004
（上記一般式（２）において、ＭはＦｅ２＋、Ｃｏ２＋、Ｃｕ２＋及びＮｉ２＋よりなる群から選ばれる金属イオンであり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシル基であり、ｈ、ｉ、ｊ及びｋは、それぞれ、０〜４の整数である。）
で表される金属フタロシアニン１〜１５０質量部と
からなる全芳香族ポリアミド組成物を、不活性ガス雰囲気下、５００℃〜１，５００℃において焼成して得られることを特徴とする炭素材料。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月16日(2011.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【化２】
2010275116.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【化１１】
2010275116.tif 000002
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（上記一般式（３）において、Ｍは上記一般式（２）におけるものと同義である。）
で表されるものが更に好ましく、中でも上記一般式（３）においてＭがＦｅ２＋であるものが特に好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（上記一般式（４）において、Ａｒ１は上記一般式（１）におけるのと同義である。）
で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物と、下記一般式（５）
Ｈ２Ｎ−Ａｒ２−ＮＨ２      （５）
（上記一般式（５）において、Ａｒ２は上記一般式（１）におけるものと同義である。）
で表される芳香族ジアミンとを、好ましくは溶液中で重合反応させることにより得られる全芳香族ポリアミド酸である。
上記一般式（４）で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物及び上記一般式（５）で表される芳香族ジアミンの使用割合としては、芳香族ジアミンを、芳香族テトラカルボン酸二無水物の１モルに対して、０．９０〜１．１０モル使用することが好ましく、０．９５〜１．０５モル使用することがより好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2010275116.tif 000003
（上記一般式（１）において、Ａｒ１は炭素数４〜４５の４価の芳香族基であり、Ａｒ２は炭素数４〜３０の２価の芳香族基である。）
で表される繰り返し単位からなる全芳香族ポリイミド１００質量部と、
下記一般式（２）
【化２】
2010275116.tif 000004
（上記一般式（２）において、ＭはＦｅ２＋、Ｃｏ２＋、Ｃｕ２＋及びＮｉ２＋よりなる群から選ばれる金属イオンであり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシル基であり、ｈ、ｉ、ｊ及びｋは、それぞれ、０〜４の整数である。）
で表される金属フタロシアニン１〜１５０質量部と
からなる全芳香族ポリイミド組成物を、不活性ガス雰囲気下、５００℃〜１，５００℃において焼成して得られることを特徴とする炭素材料。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月18日(2011.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化炭素含有粘性組成物を得るためのキットであって、
１）炭酸塩及びアルギン酸ナトリウムを含有する含水粘性組成物と、酸を含有する顆粒（細粒、粉末）剤の組み合わせ；
２）酸及びアルギン酸ナトリウムを含有する含水粘性組成物と、炭酸塩を含有する顆粒（細粒、粉末）剤の組み合わせ；又は
３）炭酸塩と酸を含有する複合顆粒（細粒、粉末）剤と、アルギン酸ナトリウムを含有する含水粘性組成物の組み合わせ；
からなり、
含水粘性組成物が、二酸化炭素を気泡状で保持できるものであることを特徴とする、
含水粘性組成物中で炭酸塩と酸を反応させることにより気泡状の二酸化炭素を含有する前記二酸化炭素含有粘性組成物を得ることができるキット。
【請求項２】
得られる二酸化炭素含有粘性組成物が、二酸化炭素を５〜９０容量％含有するものである、請求項１に記載のキット。
【請求項３】
含水粘性組成物が、含水粘性組成物中で炭酸塩と酸を反応させた後にメスシリンダーに入れたときの容量を１００としたとき、２時間後において５０以上の容量を保持できるものである、請求項１又は２に記載のキット。
【請求項４】
含水粘性組成物がアルギン酸ナトリウムを２重量％以上含むものである、請求項１〜３のいずれかに記載のキット。
【請求項５】
含有粘性組成物が水を８７重量％以上含むものである、請求項１〜４のいずれかに記載のキット。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のキットから得ることができる二酸化炭素含有粘性組成物を含む医薬組成物。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載のキットから得ることができる二酸化炭素含有粘性組成物を含む化粧料。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月15日(2011.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトまたは動物への投与のためのワクチンを作製するためのプロセスであって、以下：
（ａ）細胞培養においてインフルエンザウイルスを複製させる工程であって、該工程において、インフルエンザウイルスによって感染され得るＭＤＣＫ細胞が細胞培養において培養され、そして、該細胞がインフルエンザウイルスで感染され、そして感染後、ウイルス複製のために３３℃の温度で培養され、該インフルエンザウイルスでの感染の前、間もしくは後に、該培養細胞にプロテアーゼが添加される、工程；
（ｂ）感染から２〜１０日後に、複製されたインフルエンザウイルスを採取および単離する工程であって、該培養培地から細胞または細胞片を分離する工程を包含する、工程；ならびに
（ｃ）該複製されたウイルスを処方して、該ワクチンを生じる工程
を包含する、プロセス。
【請求項２】
前記培養培地からの細胞または細胞片の分離が、分離器またはフィルターによって行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記工程（ｂ）がさらに、前記培養培地中に存在するインフルエンザウイルスを濃縮する工程を包含する、請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記培養培地中に存在するインフルエンザウイルスの濃縮が、勾配遠心分離、濾過または沈殿によって行われる、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
前記工程（ａ）における細胞が、無血清培地中の懸濁物において培養される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記複製されたインフルエンザウイルスの感染性が、界面活性剤またはホルムアルデヒドによって破壊される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記ＭＤＣＫ細胞が、ＭＤＣＫ  ３３０１６細胞株（受託番号ＤＳＭ  ＡＣＣ  ２２１９の下で１９９５年６月７日に寄託された）の細胞である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記インフルエンザウイルスによって感染され得る細胞が、接着性増殖するか、または、懸濁物において増殖する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記インフルエンザウイルスの採取および単離が、感染から２〜７日後に行われる、請求項１〜８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記複製されたインフルエンザウイルスが、ワクチン中で免疫応答を増大させる物質と組み合わされる、請求項１〜９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記複製されたウイルスの感染性が、化学および／または物理的方法によって破壊される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記ウイルスが、生きた弱毒化ウイルスとしてワクチン中に存在する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記プロテアーゼがセリンプロテアーゼである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記セリンプロテアーゼがトリプシンである、請求項１３に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月22日(2011.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物、およびそれらの薬学的に受容可能な塩：
【化１】
2010275317.tif 000001

ここで、Ｘ１およびＸ２は、Ｘ１およびＸ２のうちの一方が＝Ｎ−になり、そして他方がＳまたはＯになるように、別個に、＝Ｎ−、−Ｓ−または−Ｏ−から選択される；
Ｙは、Ｏである；
Ａ１は、フェニル、ヘテロシクリルカルボニルフェニル、ヘテロシクリルフェニル、ヘテロシクリルアルキルフェニル、クロロフェニル、フルオロフェニル、ブロモフェニル、ヨードフェニル、ジハロフェニル、ニトロフェニル、４−ブロモフェニル、４−クロロフェニル、アルキルベンゾエート、アルコキシフェニル、ジアルコキシフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、チオフェン、チオフェン−２−カルボキシレート、アルキルチオフェニル、トリフルオロメチルフェニル、アセチルフェニル、スルファモイルフェニル、ビフェニル、シクロヘキシルフェニル、フェニルオキシフェニル、ジアルキルアミノフェニル、アルキルブロモフェニル、アルキルクロロフェニル、アルキルフルオロフェニル、トリフルオロメチルクロロフェニル、トリフルオロメチルブロモフェニル、トリフルオロフェニル、（トリフルオロメチル）チオフェニル、アルコキシビフェニル、ヒドロキシフェニル、ヒドロキシアルキルフェニル、４−アミノ（イミノ）メチルフェニル、フラニルフェニル、および（１，４’−ビピペリジン−１’−イルカルボニル）フェニルからなる群から選択される；
Ａ２は、ピリジルである；
Ｒ１は、ＯまたはＨであり、そしてＲ２は、ＮＲ５Ｒ６またはヒドロキシルである；またはＲ１は、Ｒ２と一緒になって、置換または非置換のＣ３−８ヘテロシクロアルキルまたはＣ３−１４ヘテロアリール基を形成し、置換される場合、該置換基は、ヒドロキシル、ニトロ、アミノ、イミノ、シアノ、ハロ、チオ、スルホニル、チオアミド、アミジノ、イミジノ、オキソ、オキサミジノ、メトキサミジノ、イミジノ、グアニジノ、スルホンアミド、カルボキシル、ホルミル、Ｃ１−６アルキル、ハロ置換Ｃ１−６アルキル、アミノ置換Ｃ１−６アルキル、メトキシ、エトキシ、ｔ−ブトキシ、トリフルオロメトキシ、アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、アルキルチオ、アミノアルキル、シアノアルキル、およびアリールからなる群から選択される；ここで、
【化２】
2010275317.tif 000002
における破線は、単結合または二重結合を表わすが、但し、Ｒ１がＯである場合、該破線は二重結合を表し、Ｒ１がＨである場合、該破線は単結合を表す；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、Ｃ１−６アルキルまたはＣ１−６アルコキシである；
Ｒ５およびＲ６は、別個に、水素、および置換または非置換のＣ１−１２アルキル、Ｃ１−１２アルコキシＣ１−１２アルキル、アミノＣ１−１２アルキル、アミドＣ１−１２アルキル、アシル、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ３−８ヘテロシクロアルキル、Ｃ３−１４アリール、Ｃ３−１４ヘテロアリール、Ｃ１−１２アルキルオキシＣ１−１２アルキルＣ３−８ヘテロシクロアルキル、およびＣ３−１４ヘテロアリールＣ１−１２アルキルから選択される；またはＲ５およびＲ６は、一緒になって、置換または非置換Ｃ３−８ヘテロシクロアルキルまたはＣ３−１４ヘテロアリールを形成する；置換される場合、該置換基は、ヒドロキシル、ニトロ、アミノ、イミノ、シアノ、ハロ、チオ、スルホニル、チオアミド、アミジノ、イミジノ、オキソ、オキサミジノ、メトキサミジノ、イミジノ、グアニジノ、スルホンアミド、カルボキシル、ホルミル、Ｃ１−６アルキル、ハロ置換Ｃ１−６アルキル、アミノ置換Ｃ１−６アルキル、メトキシ、エトキシ、ｔ−ブトキシ、トリフルオロメトキシ、アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、アルキルチオ、アミノアルキル、シアノアルキル、およびアリールからなる群から選択される、
化合物。
【請求項２】
Ｘ１がＳまたはＯであり、Ｘ２がＮである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ａ１が、トリフルオロメチルフェニルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ａ２が、
【化３】
2010275317.tif 000003
である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１が、Ｒ２と一緒になって、置換または非置換のＣ３−８ヘテロシクロアルキルまたはＣ３−１４ヘテロアリール基を形成し、置換される場合、該置換基は、ヒドロキシル、ニトロ、アミノ、イミノ、シアノ、ハロ、チオ、スルホニル、チオアミド、アミジノ、イミジノ、オキソ、オキサミジノ、メトキサミジノ、イミジノ、グアニジノ、スルホンアミド、カルボキシル、ホルミル、Ｃ１−６アルキル、ハロ置換Ｃ１−６アルキル、アミノ置換Ｃ１−６アルキル、メトキシ、エトキシ、ｔ−ブトキシ、トリフルオロメトキシ、アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、アルキルチオ、アミノアルキル、シアノアルキル、およびアリールからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１が、Ｒ２と一緒になって、フェニル、ピリジル、ピリミジニル、チアゾリル、インドリル、イミダゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピラジニル、トリアゾリル、チオフェニル、フラニル、キノリニル、プリニル、ナフチル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピリジルおよびベンゾイミダゾリルから選択される基を形成する、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ１が、Ｒ２と一緒になって、置換または非置換のイミダゾリル基を形成し、置換される場合、該置換基は、ヒドロキシル、ニトロ、アミノ、イミノ、シアノ、ハロ、チオ、スルホニル、チオアミド、アミジノ、イミジノ、オキソ、オキサミジノ、メトキサミジノ、イミジノ、グアニジノ、スルホンアミド、カルボキシル、ホルミル、Ｃ１−６アルキル、ハロ置換Ｃ１−６アルキル、アミノ置換Ｃ１−６アルキル、メトキシ、エトキシ、ｔ−ブトキシ、トリフルオロメトキシ、アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、ヘテロアラルキルカルボニル、アルキルチオ、アミノアルキル、シアノアルキル、およびアリールからなる群から選択される、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
前記イミダゾリル基が、ハロＣ１−６アルキル基で置換されている、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
前記イミダゾリル基が、トリフルオロメチル基で置換されている、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ１が、水素である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月25日(2011.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図３ではフランジ２０４に供給管１１２、戻し管１２１を接続しているが、これらをフランジ２０２に接続すれば、蓋２０３は特別な構成を有しない単純な板状の蓋とすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2010151225.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月28日(2011.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１吸排口と第２吸排口とを有する反転作動可能な油圧ポンプと、
ピストンと、該ピストンによって内部空間が第１圧力室と第２圧力室に区切られるスリーブと、該ピストンに連結されると共に先端が該スリーブの外部に突出するピストンロッドとを備えた油圧シリンダユニットと、
前記第１圧力室と前記第１吸排口とを接続する第１配管と、
前記第２圧力室と前記第２吸排口とを接続する第２配管と、
を有し、前記油圧ポンプが反転作動することによって前記第１及び第２圧力室に交互に油圧を掛けて前記ピストンを上下動させるアクチュエータであって、
前記第１及び第２配管を連通させるバイパス管と、
前記バイパス管の中途に設けられた、前記第１及び第２の圧力室に所定の圧力を加えるアキュムレータと、をさらに有し、
前記所定の圧力の大きさは、前記油圧シリンダユニットの駆動に必要な最低圧力よりも大きく設定されていることを特徴とするアクチュエータ。
【請求項２】
前記油圧ポンプを駆動するサーボモータをさらに有することを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータ。
【請求項３】
前記油圧ポンプがピストンポンプであることを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータ。
【請求項４】
センサと、前記サーボモータを制御するコントローラとをさらに有し、
前記コントローラは、前記センサの検出結果に基づいて前記サーボモータを制御する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
【請求項５】
前記センサが、前記ピストンロッドの変位、速度或いは加速度を計測する第２のセンサを含み、
前記コントローラは、前記センサの検出結果に基づいて前記ピストンロッドが所定の変位、速度或いは加速度で駆動されるよう前記サーボモータを制御する
ことを特徴とする請求項４に記載のアクチュエータ。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載のアクチュエータと、
前記ピストンロッドの先端に設けられた加振テーブルと
を有し、前記油圧ポンプを正逆方向に反転作動することによって前記加振テーブル上に固定された被検体を振動させる振動試験装置。
【請求項７】
前記コントローラは、前記センサの検出結果に基づいて前記加振テーブルが所定の変位、速度或いは加速度の波形で振動するよう前記サーボモータを制御することを特徴とする請求項４を引用する請求項６に記載の振動試験装置。
【請求項８】
前記センサが、前記被検体に加わる荷重を計測する荷重センサを含み、
前記コントローラは、前記センサの検出結果に基づいて、前記被検体に加わる荷重が所定の波形に従って変化するよう前記油圧シリンダユニットを制御する
ことを特徴とする請求項４を引用する請求項６に記載の振動試験装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アクチュエータ及び振動試験装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、正逆両方向に駆動可能なポンプによって油圧シリンダユニットを駆動し、油圧シリンダユニットのピストンロッドを上下動させるアクチュエータ及び、該ピストンロッドを往復移動させることによって該ピストンロッドに取り付けられた加振テーブルを往復移動させてこの加振テーブル上の被検体を加振する振動試験装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、大型のポンプや作動油タンクを必要とせず、また大荷重を被検体に加えながら高周波で被検体を加振可能な振動試験装置及び該振動試験装置に使用可能なアクチュエータを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の目的を達成するため、本発明のアクチュエータは、第１吸排口と第２吸排口とを有する反転作動可能な油圧ポンプと、ピストン、ピストンによって内部空間が第１圧力室と第２圧力室に区切られるスリーブ及びピストンに連結されると共に先端がスリーブの外部に突出するピストンロッドとを備えた油圧シリンダユニットと、第１圧力室と第１吸排口とを接続する第１配管と、第２圧力室と第１吸排口とを接続する第２配管とを有し、油圧ポンプが反転作動することによって第１及び第２の圧力室に交互に油圧を掛けピストンを上下動させるものであり、第１配管と第２配管とを連通させるバイパス管とバイパス管の中途に設けられ第１及び第２圧力室に所定の圧力を加えるアキュムレータとをさらに有し、アキュムレータが第１圧力室と第２圧力室に加える所定の圧力の大きさは、油圧シリンダユニットのシリンダの駆動に必要な最低圧力よりも大きく設定されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明のアクチュエータにおいては、サーボモータによって正逆両方向に駆動されるポンプを使用し、このポンプを油圧シリンダユニットにサーボバルブを介さずに直接接続して油圧シリンダユニットを駆動する。本発明のアクチュエータにおいては、ポンプから出力される作動油の流量及び方向に応じて油圧シリンダユニットが駆動されるものであるため、サーボバルブ式のアクチュエータのように大型のポンプや作動油タンクを必要としない。また、上記の理由により、本発明のアクチュエータによるエネルギの消費量はさほど大きいものとはならないため、サーボバルブ式のアクチュエータと比較してエネルギ消費量を大幅に抑えることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月7日(2011.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顕微鏡のスライド上に堆積された細胞診標本を観察し、該細胞診標本内の対象領域の位置を検証するための装置であって、該装置は、
画像生成システムと、
該画像生成システムと通信するコンピュータサーバと、
該サーバと通信するレビューステーションと
を備え、該画像生成システムは、
第１の光学システムと、
該第１の光学システムに対して移動可能なステージであって、該光学システムおよび該ステージのうち少なくとも１つは、該第１の光学システムの光路中に該標本を位置決めするように動作可能であり、該画像生成システムは、該顕微鏡のスライド上の基準マークに少なくとも部分的に基づいて確立された、第１の座標系に対する該標本内の対象領域の位置を識別するように構成されている、ステージと
を備え、
該レビューステーションは、第２の光学システムを備え、
該第１の光学システムおよび該第２の光学システムは、該顕微鏡のスライド上の該基準マークを空間的に位置特定し、該第１の光学システムおよび該第２の光学システムの各座標系を標準化するように動作可能であり、該画像生成システムは、該基準マークと、再び位置特定された基準マークとの間の空間的なオフセット値を決定するように構成され、該空間オフセット値が許容値未満である場合には、該標本が該レビューステーションでレビューされることを可能にするようにさらに構成されている、装置。
【請求項２】
前記第１の光学システムは、カメラと顕微鏡とを備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の光学システムは、１つ以上のレンズシステムを備えている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記画像生成システムは、前記第１の光学システムを使用することによって、少なくとも２つの基準マークに基づいて確立された、第１の座標系に対する前記標本内の対象領域の位置を識別する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記画像生成システムは、各対象領域が、良性の細胞よりも前悪性の細胞または悪性の細胞内により多く見られる可能性のある特徴を有する程度に基づいて、前記標本内の対象領域をランク付けするように構成されている、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記画像生成システムは、潜在的に異常な細胞が配置され得る前記標本内の対象領域を自動的にマークするように構成されているマーカをさらに備えている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記画像生成システムは、潜在的に異常な細胞の位置に基づいて、前記標本内でマークされる１つ以上の対象領域を自動的に決定する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記画像生成システムは、前記標本内の対象領域が識別された後で、前記基準マークを再び位置特定することによって前記第１の座標系内の該対象領域の位置を検証するように構成されている、請求項４に記載の装置。
【請求項９】
前記顕微鏡のスライドをさらに備え、該顕微鏡のスライドは前記標本の堆積のための領域を有し、該領域は、該顕微鏡のスライド上の少なくとも２つの基準マークによって、少なくとも部分的に境界づけられる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
前記標本の堆積のための領域は、前記顕微鏡のスライド上の少なくとも３つの基準マークによって、少なくとも部分的に境界づけられる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
基準マークは、それぞれ、約０．０１０”の直径と、約＋／−０．０１５”の位置公差とを有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記画像生成システムは、前記顕微鏡のスライドが、前記少なくとも２つの基準マークに基づいて適切に装着されることを検証するように構成されている、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記境界づけられた標本領域は、１平方インチの領域を有する、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記レビューステーションは、該スライドをレビューした後で、再び前記基準マークを見つけることによって、前記スライドが動かなかったことと、該スライドのレビュー中に他の座標系の機能不全が起こらなかったこととを検証するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月6日(2011.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と第２の面を有する液晶素子と、
透明な板状部材からなり、当該板状部材の端面に光を入射させる入射端面が形成され、当該板状部材の２つの板面の一方に当該入射端面から入射した光の出射面が形成され、当該出射面を前記液晶素子の前記第２の面に対向させて配置された導光板と、
前記導光板の前記入射端面に対向させて配置された発光素子と、
前記導光板の前記出射面に密着させて配置された薄膜状偏光層と、
前記液晶素子の前記第１の面に対向させて配置された偏光板と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記薄膜状偏光層の上には保護フィルムが密着させて配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記保護フィルムは前記液晶素子の前記第２の面に密着させて配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記薄膜状偏光層は前記液晶素子の前記第２の面に密着させて配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記薄膜状偏光層はヨウ素分子を含有したポリビニルアルコールの樹脂層からなり、当該ヨウ素分子を一方方向に配向させた薄膜からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記保護フィルムはトリアセチルセルロースの樹脂フィルムからなることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記導光板の前記２つの板面の他方側に配置され、前記液晶素子の前記第１の面側から入射し前記偏光板と前記液晶素子と前記偏光層と前記導光板とを透過した光を再び前記第１の面側へ反射する反射膜をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この発明の請求項１に記載の液晶表示装置は、第１の面と第２の面を有する液晶素子と、  透明な板状部材からなり、当該板状部材の端面に光を入射させる入射端面が形成され、当該板状部材の２つの板面の一方に当該入射端面から入射した光の出射面が形成され、当該出射面を前記液晶素子の前記第２の面に対向させて配置された導光板と、前記導光板の前記入射端面に対向させて配置された発光素子と、前記導光板の前記出射面に密着させて配置された薄膜状偏光層と、前記液晶素子の前記第１の面に対向させて配置された偏光板と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示装置において、前記薄膜状偏光層の上には保護フィルムが密着させて配置されていることを特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、前記請求項２に記載の液晶表示装置において、前記保護フィルムは前記液晶素子の前記第２の面に密着させて配置されていることを特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示装置において、前記薄膜状偏光層は前記液晶素子の前記第２の面に密着させて配置されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項５に記載の発明は、前記請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示装置において、前記薄膜状偏光層はヨウ素分子を含有したポリビニルアルコールの樹脂層からなり、当該ヨウ素分子を一方方向に配向させた薄膜からなることを特徴とする。
また、請求項６に記載の発明は、前記請求項２に記載の液晶表示装置において、前記保護フィルムはトリアセチルセルロースの樹脂フィルムからなることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項７に記載の発明は、前記請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置において、前記導光板の前記２つの板面の他方側に配置され、前記液晶素子の前記第１の面側から入射し前記偏光板と前記液晶素子と前記偏光層と前記導光板とを透過した光を再び前記第１の面側へ反射する反射膜をさらに備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィを用いて情報を記録及び再生する光情報記録媒体において、
前記光情報記録媒体は、信号光と参照光とで生じる干渉パターンが記録される記録層と、
情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を吸収する第１の状態と、情報を再生するときには、前記参照光を反射させて位相共役光を生成する第２の状態と、の間で可逆的に変化可能である光吸収／反射層と、
を備えた光情報記録媒体。
【請求項２】
前記光吸収／反射層は、電圧の印加の有無によって反射率が変化する材料から構成される事を特徴とする、請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記光吸収／反射層が回析格子の形状を有することを特徴とする、請求項２記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記光吸収／反射層は、回折格子状に形成されたＵＶレジン上に、エレクトロクロミック層を形成することで構成されてなる、請求項３記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記光吸収／反射層の回折格子の形状がブレーズ形状であることを特徴とする、請求項３記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記光吸収／反射層を構成するエレクトロクロミック材料が、マグネシウム・ニッケル合金であることを特徴とする、請求項２記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
前記光吸収／反射層の情報再生時の反射率が５０％以上である事を特徴とする、請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
ホログラフィを用いて情報を記録する光情報記録媒体において、
前記光情報記録媒体は、信号光と参照光とで生じる干渉パターンが記録される記録層と、
情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層と、
を備えた光情報記録媒体。
【請求項９】
前記情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層は、電圧の印加量に応じて反射率が変化するエレクトロクロミック材料から構成される、
請求項８記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
前記情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層は、回析格子の形状である、
請求項９記載の光情報記録媒体。
【請求項１１】
前記情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層は、回折格子状に形成されたＵＶレジン上に、エレクトロクロミック層を形成することで構成される、
請求項９記載の光情報記録媒体。
【請求項１２】
前記情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層は、ブレーズ形状の回折格子である、
請求項１０記載の光情報記録媒体。
【請求項１３】
前記情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層を構成するエレクトロクロミック材料が、マグネシウム・ニッケル合金である、
請求項９記載の光情報記録媒体。
【請求項１４】
前記情報を記録するときには、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を、情報を再生するときよりも、吸収および／または透過することが可能な層は、記録の際は反射率が２０％以下である、
請求項８記載の光情報記録媒体。
【請求項１５】
ホログラフィを用いて情報を記録及び再生する光情報記録媒体において、
前記光情報記録媒体は、信号光と参照光とで生じる干渉パターンが記録される記録層と、
情報を記録するときには、情報を再生するときに比べて、前記記録層を通過した前記信号光と前記参照光を吸収および／または透過する第１の状態と、情報を再生するときには、情報を記録するときに比べて、前記参照光を反射させて位相共役光を生成する第２の状態とに変化可能である光吸収／反射層と、
を備えた光情報記録媒体。
【請求項１６】
ホログラフィを用いて情報を再生する再生装置であって、該再生装置は電圧の印加量に応じて反射率の異なる層を有する記録媒体を装着可能であって、
参照光を生成する光源と、
前記光源が生成する参照光を記録媒体に照射する照射手段と、
前記照射手段により照射され再生された再生光を処理する信号処理回路と、
記録媒体への電圧の印加量を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、情報を再生するときには、記録媒体で位相共役光を得るように電圧印加量を制御する、
光情報再生装置。
【請求項１７】
情報を記録するときには、信号光と参照光とで生じる干渉パターンを光情報記録媒体に記録し、情報を再生するときには、光情報記録媒体に照射された参照光を該光情報記録媒体の反射層で反射し得られた位相共役光を用いて情報を再生する光情報記録再生装置であって、
信号光と参照光を生成する光源と、
情報を記録するときには、該情報で前記信号光を空間光変調する空間光変調器と、
前記空間変調器により変調された信号光を参照光とともに記録媒体に照射する手段と、
情報を再生するときには、参照光を記録媒体に照射する照射手段と、
前記照射により照射され再生された再生光を処理する信号処理回路と、
記録媒体の反射層の特性を変更させる手段と、
を備え、
前記記録媒体の反射層の特性を変更させる手段は、情報を記録するときには、情報を再生するときに比べ、前記反射層で反射率を抑制させ、情報を再生するときには、情報を記録するときに比べ、前記反射層で反射率を向上させるように、前記反射層の特性を変更する、
光情報記録再生装置。
【請求項１８】
情報を記録するときには、信号光と参照光とで生じる干渉パターンを光情報記録媒体に記録し、情報を再生するときには、光情報記録媒体に照射された参照光を該光情報記録媒体の反射層で反射し得られた位相共役光を用いて情報を再生する光情報記録再生方法であって、
信号光と参照光を生成し、
情報を記録するときには、該情報で前記信号光を空間光変調し、
前記変調された信号光を参照光とともに記録媒体に照射し、
情報を再生するときには、参照光を記録媒体に照射し、
前記参照光が照射され再生された再生光を処理し、
情報を記録するときには、情報を再生するときに比べ、前記反射層で反射率を抑制させ、
情報を再生するときには、情報を記録するときに比べ、前記反射層で反射率を向上させる、
光情報記録再生方法。
【請求項１９】
ホログラフィを用いて情報を再生する再生方法であって、
参照光を生成し、
前記参照光を電圧の印加量に応じて反射率が変化する層を有する記録媒体に照射し、
前記参照光が照射され再生された再生光を処理し、
前記記録媒体への電圧の印加量を制御し、
前記記録媒体で位相共役光を得るように電圧印加量を制御する、
光情報再生方法。