【手続補正書】
【提出日】平成20年12月25日(2008.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路のチップの構造に対応する不透明サブ領域及び透明サブ領域のパターンを各々が含む１つ又は複数のチップ領域と、集積回路のカーフの構造に対応する不透明サブ領域及び透明サブ領域のパターンを各々が含む１つ又は複数のカーフ領域と、を含むセル領域と、
前記セル領域の少なくとも一部のコピーである不透明サブ領域及び透明サブ領域を含むコピー領域の側部に隣接して形成された透明領域と、
前記透明領域と前記セル領域の間の不透明領域と、
を含むフォトマスク。
【請求項２】
前記コピー領域は、前記１つ又は複数のチップ領域のうちの１つのチップ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーを含む、請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
前記コピー領域は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの１つのカーフ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーを含む、請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項４】
前記透明領域は、付加的なコピー領域をさらに含み、前記付加的なコピー領域は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの前記１つのカーフ領域の前記全部又は全部より小さい部分の付加的なコピーを含む、請求項３に記載のフォトマスク。
【請求項５】
前記コピー領域は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの１つのカーフ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーと、前記１つ又は複数のチップ領域のうちの１つのチップ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーとを含む、請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項６】
前記透明領域は前記コピー領域を完全に囲む、請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項７】
前記不透明領域は前記セル領域を完全に囲む、請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項８】
前記不透明領域は、前記セル領域及び前記透明領域を完全に囲む、請求項６に記載のフォトマスク。
【請求項９】
前記セル領域は、第１、第２、第３、及び第４の側部を有し、前記第１の側部は前記第２の側部と対向し、前記第３の側部は前記第４の側部と対向し、前記透明領域は、前記セル領域の前記第１の側部に隣接する平行な側部を有する、請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項１０】
前記セル領域の前記第２の側部に隣接する平行な側部を有する第２の透明領域と、前記セル領域の前記第３の側部に隣接する平行な側部を有する第３の透明領域と、前記セル領域の前記第４の側部に隣接する平行な側部を有する第４の透明領域とをさらに含む、請求項９に記載のフォトマスク。
【請求項１１】
前記チップ領域の少なくとも付加的な一部のコピーである不透明サブ領域及び透明サブ領域を含む付加的なコピー領域をさらに含み、前記付加的なコピー領域は、前記第２、第３、及び第４の透明領域のうちの１つ又は複数の透明領域の内部に配置された、請求項１０に記載のフォトマスク。
【請求項１２】
前記セル領域は、同一の第１の長さを各々が有する第１の側部及び対向する第２の側部と、同一の第２の長さを各々が有する第３の側部及び対向する第４の側部とを有し、
前記透明領域は、前記セル領域の前記第１の側部に隣接しかつ平行な、第３の長さをもつ第１の側部を有し、
前記第３の長さは前記第２の長さより長い、
請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項１３】
フォトマスクを検査するための方法であって、
前記フォトマスクを準備するステップであって、前記フォトマスクが、
集積回路のチップの構造に対応する不透明サブ領域及び透明サブ領域のパターンを各々が含む１つ又は複数のチップ領域と、集積回路のカーフの構造に対応する不透明サブ領域及び透明サブ領域のパターンを各々が含む１つ又は複数のカーフ領域と、を含むセル領域と、
前記セル領域の少なくとも一部のコピーである不透明サブ領域及び透明サブ領域を含むコピー領域の側部に隣接して形成された透明領域と、
前記透明領域と前記セル領域の間の不透明領域と、
を含む、ステップと、
前記コピー領域のイメージ走査を行うステップと、
前記コピー領域に対応する前記セル領域の部分のイメージ走査を行うステップと、
前記コピー領域の前記イメージ走査のデータと前記セル領域の前記対応する部分の前記イメージ走査のデータの比較を含む比較を行うステップと、
前記比較に基づいて前記セル領域の前記対応する部分における欠陥の可能性がある位置を判断するステップ、又は、前記比較に基づいて前記セル領域の前記対応する部分における前記欠陥の可能性がある位置を判断するステップと、前記コピー領域における欠陥の可能性がある対応する位置を判断するステップとの両方のステップと、
を含む方法。
【請求項１４】
前記コピー領域に対応する前記セル領域の前記位置における前記イメージ走査の表現を表示するステップ、又は、前記コピー領域に対応する前記セル領域の前記位置における前記イメージ走査の表現を表示するステップと、前記セル領域の前記対応する位置における前記イメージ走査の表現を表示するステップの両方のステップと、
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記コピー領域は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの１つのカーフ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記コピー領域は、前記１つ又は複数のチップ領域のうちの１つのチップ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記コピー領域は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの１つのカーフ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーと、前記１つ又は複数のチップ領域のうちの１つのチップ領域の全部又は全部より小さい部分のコピーとを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記フォトマスクは、前記透明領域の内部に配置された、前記コピー領域のコピーを含む付加的なコピー領域をさらに含み、
前記付加的なコピー領域のイメージ走査を行うステップと、
付加的な比較を行うステップであって、前記付加的な比較は、前記セル領域の前記対応部分の前記イメージ走査を前記付加的なコピー領域の前記付加的なイメージ走査と比較することを含む、ステップと、
をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記比較及び前記付加的な比較に基づいて、前記セル領域の前記対応部分における欠陥の可能性がある位置を判断するステップ、又は、前記比較及び前記付加的な比較に基づいて、前記セル領域の前記対応部分における欠陥の可能性がある位置を判断するステップと、前記コピー領域の対応部分における欠陥の可能性がある位置を判断するステップと、前記付加的なコピー領域の付加的な対応部分における欠陥の可能性がある位置を判断するステップと、をさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
第２の付加的な比較を行うステップであって、前記第２の付加的な比較は、前記コピー領域の前記イメージ走査のデータを前記付加的なコピー領域の前記イメージ走査のデータと比較することを含む、ステップと、
前記比較、前記付加的な比較、及び前記第２の付加的な比較に基づいて、前記セル領域の前記対応部分における前記欠陥の可能性がある位置を判断するステップ、又は、前記比較、前記付加的な比較、及び前記第２の付加的な比較に基づいて、前記セル領域の前記対応部分における欠陥の可能性がある位置を判断するステップと、前記コピー領域における欠陥の可能性がある対応位置を判断するステップと、前記付加的なコピー領域における欠陥の可能性がある付加的な対応位置を判断するステップと、
をさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
フォトマスクを設計する方法であって、
前記フォトマスクのセル領域に含まれる集積回路チップ設計を表すチップ・データセットを生成するステップと、
前記セル領域に含まれるカーフ設計を表すカーフ・データセットを生成するステップと、
前記カーフ・データセットのコピーする部分を判断するステップと、
前記カーフ・データセットのコピーする前記部分を含むカーフ・コピー・データセットを生成するステップと、
前記チップ・データセット、前記カーフ・データセット、及び前記カーフ・コピー・データセットを、前記フォトマスクの透明領域及び不透明領域のパターンを表すフォトマスク・データセットに統合するステップと、
を含む方法。
【請求項２２】
前記統合するステップは、前記チップ・データセット及び前記カーフ・データセットによって画定される透明領域及び不透明領域のパターンを前記フォトマスクの前記セル領域に置き、さらに、前記カーフ・コピー・データセットによって画定される透明領域及び不透明領域のパターンを前記フォトマスクの透明バー領域に置く、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記透明領域及び不透明領域の前記パターンを表す前記フォトマスク・データセットをフォトマスク製造ラインのブランク・マスク基板上に転送するためのツールの動作を制御するコード化命令を含む書き込みファイルを生成するステップをさらに含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記統合するステップの前に、前記チップ・データセットのコピーする部分を判断して、前記チップ・データセットのコピーする前記部分を含むチップ・コピー・データセットを生成するステップをさらに含み、
前記統合するステップは、前記チップ・コピー・データセットを前記フォトマスク・データセットに統合するステップも含む、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記統合するステップは、前記チップ・コピー・データセットによって画定される透明領域及び不透明領域のパターンをも前記フォトマスクの透明バー領域に置く、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記透明領域及び不透明領域の前記パターンを表す前記フォトマスク・データセットをフォトマスク製造ラインのブランク・マスク基板上に転送するためのツールの動作を制御するコード化命令を含む書き込みファイルを生成するステップをさらに含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
プロセッサと、前記プロセッサに結合されたアドレス／データ・バスと、前記プロセッサと通信するように結合され、フォトマスクを設計するための方法ステップをコンピュータに実行させる命令を含むコンピュータ可読メモリ・ユニットと、を備えるコンピュータ・システムであって、前記方法は、
前記フォトマスクのセル領域に含まれる集積回路チップ設計を表すチップ・データセットを生成するステップと、
前記セル領域に含まれるカーフ設計を表すカーフ・データセットを生成するステップと、
前記カーフ・データセットのコピーする部分を判断するステップと、
前記カーフ・データセットのコピーする前記部分を含むカーフ・コピー・データセットを生成するステップと、
前記チップ・データセット、前記カーフ・データセット、及び前記カーフ・コピー・データセットを、前記フォトマスクの透明領域及び不透明領域のパターンを表すフォトマスク・データセットに統合するステップと、
を含む、コンピュータ・システム。
【請求項２８】
フォトマスクを製造する方法であって、
不透明コーティングを有する透過性基板を準備するステップと、
前記不透明コーティングの第１のエリアを除去することによって、１つ又は複数のチップ領域と１つ又は複数のカーフ領域とを含むセル領域を形成するステップと、
前記不透明コーティングの第２のエリアを除去することによって、前記セル領域の一部のコピーを含むコピー領域を形成するステップと、
前記不透明コーティングの第３のエリアを完全に除去することによって透明領域を形成するステップと、
を含み、
前記透明領域は、前記基板の側部と前記セル領域の側部との間に形成され、かつ、不透明領域によって前記セル領域から分離されており、前記透明領域のサブ領域が前記不透明領域から前記コピー領域を分離する、方法。
【請求項２９】
前記不透明コーティングの付加的な第２のエリアを除去することによって、前記セル領域の前記一部とは異なる前記セル領域の少なくとも付加的な一部のコピーを含む付加的なコピー領域を形成するステップをさらに含み、前記透明領域の付加的なサブ領域が、前記コピー領域及び前記不透明領域から前記付加的なコピー領域を分離する、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記セル領域の前記一部は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの１つのカーフ領域の全部又は全部より小さい部分を含み、前記付加的なコピー領域は、前記１つ又は複数のカーフ領域のうちの前記コピー領域に含まれるものとは異なるカーフ領域の全部又は全部より小さい部分を含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記透明領域は、前記セル領域の少なくとも前記一部の前記コピーをも含む付加的なコピー領域をさらに含む、請求項２８に記載の方法。