【手続補正書】
【提出日】平成21年1月16日(2009.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の関係式を満たす光学面を少なくとも１つ含むことを特徴とする光学素子。
ｃｍａｘ−ｃｍｉｎ＞１ｍ−１  及び
σＲＭＳ＜１．０ｎｍ
上記関係式中、
ｃｍａｘは、前記光学面の最大曲率であり、
ｃｍｉｎは、前記光学面の最小曲率であり、
σＲＭＳは、０．３ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる平方２乗平均表面粗さである。
【請求項２】
ｃｍａｘ−ｃｍｉｎ＞５ｍ−１である請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
σＲＭＳ＜０．２ｎｍである請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項４】
σＲＭＳは、０．３ｍｍ〜３．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる請求項１〜３のいずれかに記載の光学素子。
【請求項５】
σＲＭＳは、１．０ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる請求項１〜４のいずれかに記載の光学素子。
【請求項６】
以下の関係式を満たす回転対称な光学面を少なくとも１つ含むことを特徴とする光学素子。
ｃｍａｘ−ｃｍｉｎ＞１ｍ−１  及び
σＲＭＳａ＜１．０ｎｍ
上記関係式中、
ｃｍａｘは、前記光学面の最大曲率であり、
ｃｍｉｎは、前記光学面の最小曲率であり、
σＲＭＳａは、前記光学面の絶対非回転対称表面誤差の平方２乗平均値である。
【請求項７】
ｃｍａｘ−ｃｍｉｎ＞５ｍ−１である請求項６に記載の光学素子。
【請求項８】
σＲＭＳａ＜０．２ｎｍである請求項６又は７に記載の光学素子。
【請求項９】
σＲＭＳａは、０．３ｍｍ〜３．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる請求項６〜８のいずれかに記載の光学素子。
【請求項１０】
σＲＭＳａは、１．０ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる請求項６〜９のいずれかに記載の光学素子。
【請求項１１】
目標とする非球面形状の光学面を有する光学素子の製造方法であって、
測定光のビームを生成する工程と、
前記測定光が反射面に対して実質的に垂直に入射するように前記測定光のビームを前記反射面上へ導く工程であって、前記光学面と第１のホログラムとが前記測定光のビーム経路に互いに離間して配置され、第２のホログラムが前記光学面と前記第１のホログラムとの間の前記測定光の前記ビーム経路に配置される工程と、
参照光と、前記反射面で反射され、前記光学面と相互作用し、前記第１のホログラムによって回折され、前記第２のホログラムによって回折された前記測定光とを重ね合わせることにより、少なくとも１つの干渉測定を行う工程と、
前記少なくとも１つの干渉測定に基づいて、前記光学面の、その目標とする形状からのずれを決定する工程と、
前記決定されたずれに基づいて、前記光学素子の前記光学面を加工する工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記測定光のビームは、前記第１のホログラムの位置において第１の直径を有し、前記第２のホログラムの位置において第２の直径を有し、前記第１及び第２のホログラム間の距離が、前記第１及び第２の直径の大きい方の直径の０．０１倍よりも大きい請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
互いに第１の横方向距離だけ離れて前記第１のホログラムを横切る前記測定光のビームの光線対が、互いに第２の横方向距離だけ離れて前記光学面に入射し、
以下の関係式を満たす請求項１１又は１２に記載の方法。
【数１】
2008528955.tif 000001
上記関係式中、
ｂ１は、第１の光線対の、前記第２の横方向距離に対する前記第１の横方向距離の比であり、
ｂ２は、前記第１の光線対以外の各光線対の、前記第２の横方向距離に対する前記第１の横方向距離の比である。
【請求項１４】
前記ホログラムは、ブレーズド回折格子で形成された領域を含む請求項１１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記光学面は前記反射面を形成し、前記光学面と相互作用した前記測定光が前記反射面で反射する請求項１１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記光学面は前記反射面と別個に設けられ、前記光学面と相互作用した前記測定光が前記光学面を横切る請求項１１〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
少なくとも１つのレンズが前記測定光のビームによって横切られ、
前記少なくとも１つのレンズが、前記第１のホログラムと前記光学面との間の前記測定光のビームの前記ビーム経路に配置される請求項１１〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのレンズが、前記第２のホログラムと前記光学面との間に配置される請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのレンズが、前記第１のホログラムと前記第２のホログラムとの間に配置される請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記参照光が、前記測定光のビームによって横切られるフィゾー面で反射し、前記第１のホログラムが、前記フィゾー面と前記光学面との間の前記測定光のビームの前記ビーム経路に配置される請求項１１〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
前記第１のホログラムは、第１の透明基板の表面に設けられ、前記第２のホログラムは、前記第１の透明基板とは異なる第２の透明基板の表面に設けられる請求項１１〜２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
前記第１のホログラムは、透明基板の第１の表面に設けられ、前記第２のホログラムは、前記透明基板の第２の表面に設けられる請求項１１〜２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
前記光学素子の前記光学面の前記加工工程が、前記光学素子の前記光学面のミリング、研削、ルース・アブラシブ研削、研磨、イオンビーム面出し、磁気レオロジー面出し及び仕上げ加工のうちの、少なくとも１つを含む請求項１１〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
前記仕上げ加工は、前記光学面にコーティングを塗布することを含む請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記コーティングは、反射コーティング、反射防止コーティング及び保護コーティングのうちの、少なくとも１つを含む請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
基板と、前記基板上に設けられた回折格子とを備えたホログラムであって、
前記回折格子は、その長尺方向を横切る方向に互いに隣接して繰り返し配置された複数の長尺な回折格子形成構造体によって形成され、
各回折格子形成構造体は、前記回折格子形成構造体の長尺方向を横切る方向に互いに隣接して配置された複数の異なる長尺な経路長供給素子で構成され、
各経路長供給素子は、前記経路長供給素子と相互作用する光ビームに所定の光路長を与え、
前記回折格子形成構造体の前記経路長供給素子によって与えられる前記光路長は、前記回折格子形成構造体の長尺方向を横切る方向において連続的に増加し、
前記回折格子は、前記回折格子形成構造体が第１のピッチで配置され、前記回折格子形成構造体が第１の数の異なる経路長供給素子で構成された第１の領域を備え、
前記回折格子は、前記回折格子形成構造体が第２のピッチで配置され、前記回折格子形成構造体が第２の数の異なる経路長供給素子で構成された第２の領域を備え、
前記第１のピッチが前記第２のピッチよりも小さく、前記第１の数が前記第２の数よりも小さいことを特徴とするホログラム。
【請求項２７】
以下の関係式を満たす請求項２６に記載のホログラム。
【数２】
2008528955.tif 000002
【数３】
2008528955.tif 000003
【数４】
2008528955.tif 000004
上記関係式中、
ｐ１は前記第１のピッチであり、
ｐ２は前記第２のピッチであり、
Ｎ１は前記第１の数であり、
Ｎ２は前記第２の数である。
【請求項２８】
Ｎ１≧１及びＮ２≦３２である請求項２７に記載のホログラム。
【請求項２９】
前記第１の数が２であり、前記第２の数が３である請求項２６〜２８のいずれかに記載のホログラム。
【請求項３０】
前記第１の数が２であり、前記第２の数が４である請求項２６〜２８のいずれかに記載のホログラム。
【請求項３１】
前記第１の数が２であり、前記第２の数が８である請求項２６〜２８のいずれかに記載のホログラム。
【請求項３２】
前記第１及び第２のホログラムの少なくとも１つが、請求項２６〜３１のいずれかに記載のホログラムを含む請求項１１〜２５のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
目標とする非球面形状の光学面を有する光学素子の製造方法であって、
測定光のビームを生成する工程と、
前記測定光が反射面に対して実質的に垂直に入射するように前記測定光のビームを前記反射面上へ導く工程であって、前記光学面とホログラムとが前記測定光のビーム経路において互いに離間して配置される工程と、
参照光と、前記反射面で反射され、前記光学面と相互作用し、前記ホログラムによって回折された前記測定光とを重ね合わせることにより、少なくとも１つの干渉測定を行う工程とを含み、
前記測定光のビームの回折は、前記ホログラムの回折格子形成構造体が第１のピッチで配置された第１領域を用いて、前記測定光のビームの第１の部分を第１の角度で回折することと、前記ホログラムの前記回折格子形成構造体が第２のピッチで配置された第２領域を用いて、前記測定光のビームの第２の部分を第２の角度で回折することとを含み、
前記第１の領域の前記回折格子形成構造体は、第１の数の異なる経路長供給素子で構成され、前記第２の領域の前記回折格子形成構造体は、第２の数の異なる経路長供給素子で構成され、
前記第１のピッチは前記第２のピッチよりも小さく、前記第１の角度は前記第２の角度よりも大きく、前記第１の数は前記第２の数よりも小さく、
前記方法はさらに、
前記少なくとも１つの干渉測定に基づいて、前記光学面の、その目標とする形状からのずれを決定する工程と、
前記決定されたずれに基づいて、前記光学素子の前記光学面を加工する工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項３４】
以下の関係式を満たす光学面を少なくとも１つ含むことを特徴とする光学素子。
σＲＭＳ＜１．０ｎｍ  及び
【数５】
2008528955.tif 000005
【数６】
2008528955.tif 000006
上記関係式中、
σＲＭＳは、０．３ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる前記光学面の表面粗さの平方２乗平均値であり、
ｍａｘ（β（φ，ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）及びすべての向きφでのβの最大値であり、
ｍｉｎ（β（φ，ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）及びすべての向きφでのβの最小値であり、
α（ｘ，ｙ）は、点（ｘ，ｙ）での前記光学面の表面法線と、前記光学面のすべての点での表面法線の平均とがなす角度であり、
ｃ（φ，ｘ，ｙ）は、向きφで求められた点（ｘ，ｙ）での前記光学面の曲率であり、
ｚ（ｘ，ｙ）は、点（ｘ，ｙ）での前記光学面の表面高さであり、少なくとも１つの点（ｘ０，ｙ０）において、ｚ（ｘ０，ｙ０）＝０が満たされ、
ｄは、ｄ＝ｍａｘ（ｚ（ｘ，ｙ））＋５０ｍｍで表わされる定数であり、ｍａｘ（ｚ（ｘ，ｙ））は前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）のｚの最大値である。
【請求項３５】
以下の関係式を満たす請求項３４に記載の光学素子。
【数７】
2008528955.tif 000007
【請求項３６】
σＲＭＳ＜０．２ｎｍである請求項３４又は３５に記載の光学素子。
【請求項３７】
σＲＭＳは、０．３ｍｍ〜３．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる請求項３４〜３６のいずれかに記載の光学素子。
【請求項３８】
σＲＭＳは、１．０ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲の空間的な長さスケ−ルのために求められる請求項３４〜３７のいずれかに記載の光学素子。
【請求項３９】
以下の関係式を満たす回転対称な光学面を少なくとも１つ含むことを特徴とする光学素子。
σＲＭＳａ＜１．０ｎｍ  及び
【数８】
2008528955.tif 000008
【数９】
2008528955.tif 000009
上記関係式中、
σＲＭＳａは、前記光学面の絶対非回転対称表面誤差の平方２乗平均値であり、
ｍａｘ（β（φ，ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）及びすべての向きφでのβの最大値であり、
ｍｉｎ（β（φ，ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）及びすべての向きφでのβの最小値であり、
α（ｘ，ｙ）は、点（ｘ，ｙ）での前記光学面の表面法線と、前記光学面のすべての点での表面法線の平均とがなす角度であり、
Ｒ（ｘ，ｙ）は、点（ｘ，ｙ）での前記光学面の曲率半径であり、
ｃ（φ，ｘ，ｙ）は、向きφで求められた点（ｘ，ｙ）での前記光学面の曲率であり、
ｄは、ｄ＝ｍａｘ（ｚ（ｘ，ｙ））＋５０ｍｍで表わされる定数であり、ｍａｘ（ｚ（ｘ，ｙ））は前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）のｚの最大値である。
【請求項４０】
以下の関係式を満たす請求項３９に記載の光学素子。
【数１０】
2008528955.tif 000010
【請求項４１】
σＲＭＳａ＜０．２ｎｍである請求項３９又は４０に記載の光学素子。
【請求項４２】
目標とする非球面形状の光学面を有する光学素子の検査方法であって、
測定光のビームを生成する工程と、
前記測定光が前記光学面に対して実質的に垂直に入射するように前記測定光のビームを前記光学面上へ導く工程と、
前記光学面で反射した前記測定光を用いて検出器上に前記光学面を結像し、参照光を前記検出器上へ導く工程と、
前記検出器によって生成された画像情報を分析することにより、少なくとも１つの干渉測定を行う工程とを含み、
前記光学面が以下の関係式を満たし、
【数１１】
2008528955.tif 000011
【数１２】
2008528955.tif 000012
上記関係式中、
ｍａｘ（β（φ，ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）及びすべての向きφでのβの最大値であり、
ｍｉｎ（β（φ，ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）及びすべての向きφでのβの最小値であり、
α（ｘ，ｙ）は、点（ｘ，ｙ）での前記光学面の表面法線と、前記光学面のすべての点での表面法線の平均とがなす角度であり、
ｃ（φ，ｘ，ｙ）は、向きφで求められた点（ｘ，ｙ）での前記光学面の曲率であり、
ｚ（ｘ，ｙ）は、点（ｘ，ｙ）での前記光学面の表面高さであり、少なくとも１つの点（ｘ０，ｙ０）において、ｚ（ｘ０，ｙ０）＝０が満たされ、
ｄは、ｄ＝ｍａｘ（ｚ（ｘ，ｙ））＋５０ｍｍで表わされる定数であり、ｍａｘ（ｚ（ｘ，ｙ））は前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）のｚの最大値であり、
前記結像工程が、以下の関係式を満たすように行われることを特徴とする方法。
【数１３】
2008528955.tif 000013
上記関係式中、
μ（φ，ｘ，ｙ）は、前記光学面上の点（ｘ，ｙ）での結像の方向φにおける結像倍率の値であり、
ｍａｘ（μ（ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）でのμの最大値であり、
ｍｉｎ（μ（ｘ，ｙ））は、前記光学面上のすべての点（ｘ，ｙ）でのμの最小値である。