【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
特許出願US-2001-0052468-A1は大きな粗さの曲線の上に微細な粗さの曲線を重ねるものであってEP 0407349号の中の一つとかなり類似していて、やはり中間被覆を設けずに優れた寿命特性を与えるが、基本的に一定の貴金属を含有させた（実施例では24ｇ/ｍ2）電極を対象とする。貴金属をそのように多く含有させることは経済的な観点からは厄介であり、ある場合にはそれらは許容され得ない。これは特に、製品の付加価値がそのような高い投資費用を正当化するほどに十分に高くないような（電解採取のような）一次的な電気冶金用途の場合にそうである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
先行技術から教示されることに反して、驚くべきことに、電気化学用途における気体発生用の陽極は、非常に低い平均粗さを有するバルブ金属、好ましくはチタンの支持体から得ることができ、その粗さは６ミクロメートル以下であり、またその粗さは局部化されているのが好ましいことが見いだされた。特に、最適な粗さは、それほど高くない平均結晶粒度（好ましくは20〜60ミクロメートル、さらに好ましくは30〜50ミクロメートル）を有する金属から出発して得られなければならず、それはその結晶の粒界に相当する局部化された外部表面を優先的に侵食することによって得られる。好ましい態様において、電極支持体として用いられるチタン表面の結晶粒界は、例えば酸によるエッチングによって侵食されて、結晶粒界に相当する特定の量の金属が除去され、その場合、結晶粒界は完全には脱離されない。さらに好ましい態様において、表面の結晶粒界から金属を除去する侵食は結晶粒の深さの約半分に相当する深さの貫入をもたらし、いかなる場合でも結晶粒の深さの20〜80％である。前述したように、本発明の陽極支持体は純粋なまたは合金化されたチタンからなるのが好ましいが、タンタル、ニオブまたはジルコニウムのような他のバルブ金属の使用も可能である。本発明の支持体は気体発生用陽極の分野で知られたいかなる形状のものであってもよく、用途の要件によって例えば、中実または有孔のシート、平坦でないかまたは平坦なエキスパンデッドシート、ネットまたは他のタイプのメッシュ、またはロッドまたはバーあるいはそれらの組み合わせが考えられるが、他の特定の形状のものでもよい。本発明の陽極支持体は通常は、当業者に知られた一つまたは二つ以上の被覆層で被覆される。特に、腐食と不動態化現象から保護するための一つまたは二つ以上の層の適用が可能であり、この場合、遷移金属系の非常に薄い層が通常用いられるが、他のタイプの保護被覆も可能である。工業用の実際の用途において用いるために、例えば酸素または塩素を発生させるための陽極については、陽極は、通常電解質と接触する外側の部分において、触媒被覆、好ましくは貴金属の混合物またはその酸化物で被覆されるのが好ましい。先行技術から教示されることに反して、本発明の支持体は、貴金属の含有量を有効面積１平方メートル当り10グラム以下にしながら、非常に薄い電気触媒被覆を用いて、高い電流密度を用いる電気化学プロセスにおいて最適な持続特性を有する陽極を得ることを可能にする。結果的に、驚くべきことに、結晶粒界の局部的な侵食によって、十分に均一な間隔があって制御された貫入深さを有する谷部（粗さ曲線における負のピーク）を有する特徴的な曲線が形成され、それによってこの谷部に貫入する被覆を最適に固定することができ、一般的な表面侵食によって得られる高い平均粗さが無くても、これが可能であることが見いだされた。さらに、驚くべきことに、過大な平均粗さが無くても、支持体の表面を均一に覆うのに必要な被覆の量は極めて少なく、この場合、陽極は不動態化または一般的な失活現象が起こる前に長期間にわたって作動することができて、これは最外層の被覆の貴金属の含有量が５〜10ｇ/ｍ2に限定されていても可能であることが見いだされた。本発明の範囲が特定の理論に拘束されることは望まないが、仮説として考えられることは、チタンまたはその他のバルブ金属の支持体については、触媒被覆または保護被覆の付着性は主に結晶粒界における固定点の有効性に関係していて、過度の一般的な侵食によって形成される粗さ特性は付着の観点からはあまり役に立たない谷部を生じさせ、これはさらに、ほとんど被覆されずに容易に不動態化する領域が残るのを回避するために十分な量の被覆で埋める必要がある、ということである。ここで開示された支持体を触媒被覆と最新の任意の保護被覆で覆うことによって得られる本発明の完成した陽極は、極めて滑らかな表面を提供し、典型的には２〜4.5ミクロメートルの平均粗さを示す。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明の陽極支持体を製造するための好ましい方法は、結晶粒界を選択的に侵食することができる腐食媒体を用いるエッチング工程を含む。高い粗さを得るための最新の先行技術で開示された方法は、サンドブラスト工程、熱処理、プラズマ技術による物質の堆積、または塩酸のような腐食媒体を用いるエッチングによるものであり、多少は制御された粗さ曲線を与えることができるが、しかしいずれの場合も表面全体で普遍的に行われる。驚くべきことに、制御された条件下での硫酸、そして好ましくは80〜90℃の温度での20〜30重量％の濃度の水溶液としての硫酸は、バルブ金属、特にチタンの結晶粒界での特殊な局部的な侵食を達成可能なことが見いだされた。好ましい態様において、本発明の電極支持体が処理されるエッチング浴は所望の粗さ曲線が確実に得られるようなやり方で侵食速度を調整することができる不動態化剤をも含有していてもよい。そのようなやり方とはすなわち（被覆の不十分な固定が行われないように）結晶粒の平均直径の20％以上の貫入深さで、かつ（最も小さい結晶粒の脱離が起きないように）平均直径の80％以下の貫入深さでの結晶粒界の侵食が達成されることである。不動態化剤が存在することによって結晶粒界の侵食の選択性が増大するが、もっと重要なことは、侵食時間を均一にして、プロセスの高度な制御を可能にすることである。不動態化剤として、例えばイオンの形での鉄を添加することができるが、しかしエッチング浴中に溶解しているチタンそのものであっても特定の濃度（例えば２ｇ/ｌ）以上で最適な不動態化を達成することができる。従って、エッチング浴を使用する前に浴にイオンの形での相当する量のチタンを添加するのが好都合であるが、エッチング浴が30ｇ/ｌを超える量のチタンを含有していると、その効果を失ってしまう。チタンは塩として添加することができるが、チタンの金属を最適な濃度に達するまで溶解させるのが、より好ましい。他の用途に使用されるチタンをエッチングするための硫酸浴を用いてもよく、適切な制御を可能にするチタン濃度に達したら、本発明の電極支持体のためにこれの使用を開始できる。本発明の支持体は不動態化剤を含有していない硫酸浴を用いて製造することもできるが、しかし所望の仕様に達するまで粗さ曲線の精確なチェックをその後の時間において行う必要がある。２〜30ｇ/ｌの濃度のチタンまたは同等の不動態化剤を含有する20〜30重量％の濃度の水溶液中の硫酸からなるエッチング浴を80〜95℃の温度で用いるとき、エッチング処理を45〜120分の時間行うのが好ましい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
同じ試料を半分に切断して断面を観察した。結果を図５に示す。非常に整った表面の曲線が示されていて、谷の部分は結晶粒界に相当する。最後に、板材の二つの半割りのものに35対65の原子比のチタン-タンタル酸化物系の最新の保護層を塗布し、そしてＴａとＩｒの元素の合計で５ｇ/ｍ2の合計の貴金属含有量を有するイリジウム-タンタル酸化物系の触媒被覆を塗布した。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
比較例２
同じ板材を用いて実施例１の試験が繰り返されたが、唯一の相違点はエッチング処理が180分間行われたことである。エッチング後の表面の写真を図３に示す。結晶粒界上で結晶粒の平均の厚さの80％を超える局部的な侵食が示されていて、従って、かなりの割合の結晶粒が完全に除去され、金属は結晶粒の最初の列を超えて侵食された。同じ試料を半分に切断して断面を観察した。結果を図６に示す。全体的に整っていない曲線が示されていて、幾つかの結晶粒は完全に除去されている。板材の二つの半割りのものに実施例１と同様にして塗装を行った。活性化した試料の断面を図８に示す。幾つかの結晶粒から被覆が除去されて、ほとんど被覆されていない。しかし、他の領域では結晶粒の全体の厚さを超えて貫入されていて、それによって完全に埋められている。被覆されていない領域は不動態化を直接受けて、一方、完全に埋められた結晶粒の部分では容易に脱離が起きて、特に高い電流密度でガスが発生する場合にそれが起きる、ということが当業者には明らかである。