【手続補正書】
【提出日】平成20年12月26日(2008.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工程：
ａ１）第一の工程において、１種以上のエチレン性不飽和モノマーを、構造要素：
【化１】
2008527130.tif 000001
（式中、Ｘは、少なくとも１個の炭素原子を有する基を表し、Ｘから誘導されるフリーラジカルＸ・は、重合を開始することができるような基である）を有する少なくとも１種のニトロキシルエーテルの存在下で重合するか；あるいは
ａ２）第一の工程において、１種以上のエチレン性不飽和モノマーを、少なくとも１種の安定なフリーニトロキシルラジカル：
【化２】
2008527130.tif 000002
及びフリーラジカル開始剤の存在下で重合し；ここで工程ａ１）又はａ２）において用いられる、少なくとも１種のモノマーは、アクリル又はメタクリル酸のＣ1〜Ｃ６アルキル又はヒドロキシＣ1〜Ｃ６アルキルエステルであり；そして第二の工程
ｂ）ａ１）又はａ２）で製造したポリマー又はコポリマーをエステル交換反応により変性することを含み、ここで、工程ｂにおいてアルコールが、非置換の直鎖もしくは分岐状Ｃ8〜Ｃ36アルキルモノアルコール、又は１００個までの炭素原子のエチレンオキシド、プロピレンオキシド、もしくはこれらの混合物から誘導されるモノアルコールである、変性されたポリマー又はコポリマーの製造方法。
【請求項２】
第一の重合工程をａ１）により実施する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
工程ａ１又はａ２を２回実施してブロックコポリマーを得る請求項１記載の方法であって、第一又は第二のラジカル重合工程において、モノマー又はモノマー混合物が、アクリル又はメタクリル酸のＣ1〜Ｃ６アルキルエステルを全モノマーに基づいて５０〜１００重量％含有し、そして第二又は第一のラジカル重合工程において、それぞれ、エチレン性不飽和モノマー又はモノマー混合物が、第一級又は第二級エステル結合なしの少なくとも１種のモノマーを含有する方法。
【請求項４】
第一の重合工程において、モノマー又はモノマー混合物が、アクリル又はメタクリル酸のＣ1〜Ｃ6アルキルエステルを全モノマーに基づいて５０〜１００重量％含有し、そして第二の重合工程において、エチレン性不飽和モノマー又はモノマー混合物が４−ビニル−ピリジンもしくはピリジニウム−イオン、２−ビニル−ピリジンもしくはピリジニウム−イオン、ビニル−イミダゾールもしくはイミダゾリニウム−イオン、ジメチルアクリルアミド、３−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、又はｐ−tert−ブチル−スチレンを含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
ブロックコポリマーがグラジエントブロックコポリマーである、請求項１記載の方法。
【請求項６】
構造要素
【化３】
2008527130.tif 000003
が、式（Ｉ）：
【化４】
2008527130.tif 000004
［式中、Ｇ1、Ｇ2、Ｇ3、Ｇ4は、独立に、Ｃ1〜Ｃ6アルキルであるか、Ｇ1とＧ2もしくはＧ3とＧ4、又はＧ1とＧ2及びＧ3とＧ4は、一緒になってＣ5〜Ｃ12シクロアルキル基を形成し、
Ｇ5、Ｇ6は、独立に、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、フェニル、ナフチル、又はＣＯＯＣ1〜Ｃ18アルキル基であり、
Ｘは、−ＣＨ2−フェニル、ＣＨ3ＣＨ−フェニル、（ＣＨ3）2Ｃ−フェニル、（Ｃ5〜Ｃ6シクロアルキル）2ＣＣＮ、（ＣＨ3）2ＣＣＮ、
【化５】
2008527130.tif 000005
−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2、ＣＨ3ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ2（Ｃ１〜Ｃ4アルキル）ＣＲ20−Ｃ（Ｏ）−フェニル、（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル−ＣＲ20−Ｃ（Ｏ）−（Ｃ１〜Ｃ4）アルコキシ、（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル−ＣＲ20−Ｃ（Ｏ）−（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル、（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル−ＣＲ20−Ｃ（Ｏ）−Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル、（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル−ＣＲ20−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル、（Ｃ１〜Ｃ4）アルキル−ＣＲ20−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ2（ここで、Ｒ20は、水素又は（Ｃ１〜Ｃ4）アルキルである）よりなる群から選択され、そして
＊は、原子価を意味する］で示される構造要素である、請求項１記載の方法。
【請求項７】
構造要素：
【化６】
2008527130.tif 000006
が、式（ＩＩ）：
【化７】
2008527130.tif 000007
（式中、Ｇ1、Ｇ2、Ｇ3、Ｇ4は、独立に、Ｃ1〜Ｃ6アルキルであるか、Ｇ1とＧ2もしくはＧ3とＧ4、又はＧ1とＧ2及びＧ3とＧ4は、一緒になってＣ5〜Ｃ12シクロアルキル基を形成し、
Ｇ5、Ｇ6は、独立に、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、フェニル、ナフチル、又はＣＯＯＣ1〜Ｃ18アルキル基である）の構造要素である、請求項１記載の方法。
【請求項８】
式（Ｉ）の構造要素が式（Ｏ１）：
【化８】
2008527130.tif 000008
の化合物である、請求項１記載の方法。
【請求項９】
工程ａ１又はａ２におけるモノマーが、イソプレン、１，３−ブタジエン、α−Ｃ5〜Ｃ18アルケン、４−ビニル−ピリジンもしくはピリジニウム−イオン、２−ビニル−ピリジンもしくはピリジニウム−イオン、ビニル−イミダゾールもしくはイミダゾリニウム−イオン、ジメチルアクリルアミド、３−ジメチルアミノ−プロピルメタクリルアミド、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−tert−ブチル−スチレン、又は式ＣＨ2＝Ｃ（Ｒa）−（Ｃ＝Ｚ）−Ｒb〔ここで、Ｒaは、水素又はメチルであり、Ｒbは、ＮＨ2、Ｏ-（Ｍｅ+）、非置換Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、少なくとも１個のＮ及び／又はＯ原子で中断されたＣ2〜Ｃ100アルコキシ、又はヒドロキシ−置換Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、非置換Ｃ1〜Ｃ18アルキルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ18アルキル）−アミノ、ヒドロキシ−置換Ｃ1〜Ｃ18アルキルアミノ又はヒドロキシ−置換ジ（Ｃ1〜Ｃ18アルキル）アミノ、−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2、又は−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ+Ｈ（ＣＨ3）2Ａｎ-であり；
Ａｎ-は、一価の有機又は無機酸のアニオンであり；
Ｍｅは、一価の金属原子又はアンモニウムイオンであり、
Ｚは、酸素又は硫黄である〕の化合物から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
工程ｂにおけるアルコールが、式（Ａ）：
ＲA−［Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−］n−ＯＨ （Ａ）
（式中、ＲAは、１〜２２個の炭素原子の飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分岐状のアルキル、又は２４個までの炭素原子のアルキルアリールもしくはジアルキルアリールであり、そしてｎは、１〜１５０である）のエトキシレートである、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
アルコールが、非置換直鎖又は分岐状Ｃ8〜Ｃ36アルキルモノアルコールである、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
工程ｂにおけるアルコールが、式（Ｂ）：
【化９】
2008527130.tif 000009
（式中、ＲBは、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、フェニル、又はＣ7〜Ｃ15アラルキルであり；ｎは、１〜５０であり、そしてＲ’は、１〜２０個の炭素原子の結合基である）のポリジメチルシリコーンオリゴマーである、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
工程ｂにおけるアルコールが、部分的に又は完全にフッ素化された第一級アルコールである、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
請求項１記載の方法で得ることができるポリマー又はコポリマー。
【請求項１５】
請求項１にしたがって製造したポリマー又はコポリマーの、顔料分散剤又はレオロジー改質剤又はレベリング剤としての使用。
【請求項１６】
ａ）顔料、及び
ｂ）請求項１の方法にしたがって製造したポリマー又はコポリマー
を含む顔料濃縮物。
【請求項１７】
ａ）熱可塑性、化学的に架橋されたか又は構造的に架橋されたポリマー、及び
ｂ）請求項１の方法にしたがって製造したポリマー又はコポリマー
を含む組成物。
【請求項１８】
成分ａ）がフィルム形成接着剤の材料である、請求項１７記載の組成物。
【請求項１９】
さらに有機もしくは無機顔料又はこれらの混合物を含有する、請求項１７記載の組成物。