Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月13日(2011.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影レンズを着脱自在なデジタルカメラにおいて、
上記撮影レンズを介して入射した被写体光束を撮像する撮像部と、
上記撮影レンズと上記撮像部の間に配置された開閉可能なシャッタ機構と、
上記撮影レンズが取り外された状態においては、上記シャッタ機構を開状態に維持する制御部と、
を具備したことを特徴とするデジタルカメラ。
【請求項２】
上記制御部は、上記シャッタ機構が閉状態にある場合には、上記撮影レンズの取り外し操作に連動して上記シャッタ機構を開状態に設定することを特徴とする請求項１に記載のデジタルカメラ。
【請求項３】
上記制御部は、上記デジタルカメラが低消費電力状態に移行する際に、上記シャッタ機構を閉状態に設定することを特徴とする請求項２に記載のデジタルカメラ。
【請求項４】
上記制御部は、上記デジタルカメラが低消費電力状態の場合には、上記撮影レンズが取り外されたことを割り込み処理により検知した際に上記シャッタ機構を開状態に設定することを特徴とする請求項１に記載のデジタルカメラ。
【請求項５】
さらに、上記撮像部から出力される画像データに基づいて被写体像をライブビュー表示する表示部を有し、
上記制御部は、上記ライブビュー表示中に撮影レンズが取り外された場合には、上記ライブビュー表示を停止すると共に、上記シャッタ機構を開状態に維持する、
ことを特徴とする請求項１に記載のデジタルカメラ。
【請求項６】
上記制御部は、上記デジタルカメラが低消費電力状態に移行する際には、上記シャッタ機構を開状態に維持したままで移行することを特徴とする請求項５に記載のデジタルカメラ。
【請求項７】
上記制御部は、上記撮影レンズが取り外された後に装着され、かつ低消費電力状態に移行する場合には、上記シャッタ機構を閉状態に設定することを特徴とする請求項５に記載のデジタルカメラ。
【請求項８】
撮影レンズを着脱自在なデジタルカメラにおいて、
上記撮影レンズを介して入射した被写体光束を撮像する撮像部と、
上記撮影レンズと上記撮像素子の間に配置された開閉可能なシャッタ機構と、
電源スイッチの操作に応じて上記デジタルカメラを動作状態から低消費電力状態に移行させると共に、上記シャッタ機構を閉状態にする制御部と、
を具備しており、
上記制御部は、上記低消費電力状態において上記撮影レンズの取り外し操作が行われた場合には上記デジタルカメラを上記動作状態に移行させると共に、上記シャッタ機構を開状態にすることを特徴とするデジタルカメラ。
【請求項９】
着脱自在な撮影レンズと、この撮影レンズと撮像素子の間に配置された開閉可能なシャッタ機構を有するデジタルカメラの制御方法において、
上記撮影レンズが取り外されたか否かを検出し、
上記検出の結果、上記撮影レンズが取り外されたことを検出した場合には、上記シャッタ機構を開状態に維持する、
ことを特徴とするデジタルカメラの制御方法。
【請求項１０】
上記撮影レンズが取り外されたことを検出した際に、上記シャッタ機構が閉状態であった場合には、上記シャッタ機構を開状態に設定し、上記撮像素子から出力される画像データに基づいてライブビュー表示を停止することを特徴とする請求項９に記載のデジタルカメラの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第２の発明に係わるデジタルカメラは、上記第１の発明において、上記制御部は、上記シャッタ機構が閉状態にある場合には、上記撮影レンズの取り外し操作に連動して上記シャッタ機構を開状態に設定するする。
第３の発明に係わるデジタルカメラは、上記第２の発明において、上記制御部は、上記デジタルカメラが低消費電力状態に移行する際に、上記シャッタ機構を閉状態に設定する。
第４の発明に係わるデジタルカメラは、上記第１の発明において、上記制御部は、上記デジタルカメラが低消費電力状態の場合には、上記撮影レンズが取り外されたことを割り込み処理により検知した際に上記シャッタ機構を開状態に設定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第１０の発明に係わるデジタルカメラの制御方法は、上記第９の発明において、上記撮影レンズが取り外されたことを検出した際に、上記シャッタ機構が閉状態であった場合には、上記シャッタ機構を開状態に設定し、上記撮像素子から出力される画像データに基づいてライブビュー表示を停止する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の着用可能な治療装置において、
患者の皮膚に近く、患者に隣接する治療手段と、
前記治療装置に連結され、かつ、患者の動作を表示する信号を発生する少なくとも一つの患者動作検出器と、
前記信号が治療にふさわしい患者の動作を表示しているか否かを決定するために、前記動作検出器から出る信号を評価する少なくとも一つの制御装置とを含む、患者の着用可能な治療装置。
【請求項２】
前記動作検出器が少なくとも一つの加速度計を含む請求項１に記載された治療装置。
【請求項３】
前記少なくとも一つの加速度計が少なくとも一つの多軸加速度計を含む請求項２に記載された治療装置。
【請求項４】
前記少なくとも一つの加速度計が少なくとも二つの３軸加速度計を含み、前記３軸加速度計の一方が患者のチョッキ部分に取付けられ、前記３軸加速度計の他方がディスプレー部分に取付けられている請求項３に記載された治療装置。
【請求項５】
前記ディスプレー部分における視覚ディスプレーを更に含み、前記視覚ディスプレーの向きが前記加速度計の出力によって制御されるようになっている請求項４に記載された治療装置。
【請求項６】
患者の身体の向きが、前記少なくとも一方の加速度計の出力によって検出されるようになっている請求項２に記載された治療装置。
【請求項７】
前記患者の身体の向きが、鉛直方向の立位、および、うつ伏せ状態を含む請求項６に記載された治療装置。
【請求項８】
治療アルゴリズムを更に含み、前記アルゴリズムによる治療が、前記動作検出器の出力に基づいて加速または遅延されるようになっている請求項１に記載された治療装置。
【請求項９】
前記加速度計の出力を記憶する格納装置を更に含み、前記加速度計の前記格納された出力に基づいて或る時間にわたり患者の動作レベルを検出し、それに基づいて患者の状態を検出するようになっている請求項２に記載された治療装置。
【請求項１０】
前記患者の状態が、うっ血性心不全を更に含む請求項９に記載された治療装置。
【請求項１１】
前記患者の状態が、睡眠障害を更に含む請求項９に記載された治療装置。
【請求項１２】
患者の操作によって治療を遅延できる患者用応答センサと、
心臓の状態が検出された後、患者に刺激を与える警告刺激器とを更に含み、
前記動作検出器の出力が患者の動作の欠如を表示し、前記患者の応答センサからの入力がなされない場合、前記治療アルゴリズムが治療を開始するようになっている請求項８に記載された治療装置。
【請求項１３】
前記加速度計の出力の格納と、検出された動作レベルと前記患者の身体姿勢とに基づく患者の状態表示とを含む請求項２に記載された治療装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月26日(2010.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板が取り付けられた搬送ワークとはんだ印刷用のマスクとを対応させて、上記複数の基板に上記マスクを介してはんだを印刷する印刷装置であって、
上記搬送ワークに対する各基板の位置を認識する基板位置認識手段と、
この基板位置認識手段が認識した各基板の位置と、搬送ワークにおける各基板の正規位置とを比較して、各基板の位置の正規位置からのずれに係る値である基板ずれ量を算出する基板ずれ量算出手段と、
この基板ずれ量算出手段が算出した基板ずれ量が許容値よりも大きい基板の数が所定数以上である場合に、上記マスクを介した基板の印刷処理を停止する停止手段と、
この停止手段による印刷処理の停止時に、作業者に警告表示を行う警告表示手段と、
を備えたことを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
上記基板ずれ量算出手段は、
基板位置認識手段が認識した各基板の位置と正規位置とをそれぞれ比較して基板の位置の正規位置に対する平行移動量、回転移動量、縮尺量のいずれか、もしくはこれら平行移動量、回転移動量、縮尺量のうち２つ以上を組み合わせた演算値に基づいて、基板の位置の正規位置からのずれに係る値である基板ずれ量を算出するものであることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
上記マスクの位置を認識するマスク位置認識手段と、
このマスク位置認識手段が認識したマスクの位置とマスクの正規位置とを比較して、マスクの正規位置からのずれに係る値であるマスク位置補正量を算出するマスク補正量算出手段を備え、
上記許容値よりも大きい上記基板の数が所定数以上ではない場合に、上記基板ずれ量とマスク位置補正量とを考慮してマスクに対する各基板のずれを小さくするようにマスクと各基板とを合わせるように構成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の印刷装置。
【請求項４】
上記基板ずれ量に係るデータを、印刷装置を含む基板生産ラインにおける下流側の装置に送信可能な送信手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の印刷装置。
【請求項５】
上記マスク位置認識手段は、上記マスクに付される複数のマークの位置に基づき上記マスクの位置を認識し、上記マスク補正量算出手段は、上記マスク位置認識手段が認識したマスクの位置に基づいて上記マスクの伸び量を算出するものであり、
上記マスクの伸び量に基づいて上記搬送ワーク上の各基板に対する印刷ずれ量を算出する印刷ずれ量算出手段をさらに備えており、
前記送信手段は、前記基板ずれ量に係るデータに加えて各基板に対する上記印刷ずれ量に係るデータを上記下流側の装置に送信可能であることを特徴とする請求項４に記載の印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このようにすれば、送信手段が送信した基板ずれ量に係るデータに基づいて下流の工程が対応することができる結果、例えば下流の部品実装機において搭載座標を修正して印刷されたはんだ上に部品を正確に搭載できるように制御することが可能になるなど、下流の工程においてより正確な基板処理をすることができるようになる。
なお、この場合には、上記マスク位置認識手段は、上記マスクに付される複数のマークの位置に基づき上記マスクの位置を認識し、上記マスク補正量算出手段は、上記マスク位置認識手段が認識したマスクの位置に基づいて上記マスクの伸び量を算出するものであり、上記マスクの伸び量に基づいて上記搬送ワーク上の各基板に対する印刷ずれ量を算出する印刷ずれ量算出手段をさらに備えており、前記送信手段は、前記基板ずれ量に係るデータに加えて各基板に対する上記印刷ずれ量に係るデータを上記下流側の装置に送信可能であるのが好適である。
この構成によれば、下流の部品実装機において搭載座標を修正して印刷されたはんだ上に部品をより一層正確に搭載できるように制御することが可能になるなど、下流の工程においてより一層正確な基板処理をすることができるようになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
また、ステップＳ３で、搬送ワークＷの全フィデューシャルマークＷａ、Ｗｂが認識される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
そして、ステップＳ４で、搬送ワークＷのフィデューシャルマークＷａ、Ｗｂが認識されることにより得られる搬送ワークＷの正規位置からのずれである搬送ワークＷ位置補正量ｄｘｗ、ｄｙｗ、ｄθｗ、搬送ワークＷの伸び量ｄａｗが算出される。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月15日(2011.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属部材の狭いくぼみの内壁上に金属基層を堆積するための方法において、線電極が前記くぼみ内に導入され、かつ案内部を用いて前記内壁の方向に曲げられ、前記線電極を局部的に溶解するアークを発生させるため前記金属部材と前記線電極とに電圧が加えられ、前記線電極の溶解した材料が前記金属部材の内壁上に堆積され、前記線電極は前記金属基層の堆積中続けて導入され、前記くぼみの幅（ｂ）は前記内壁（３）上に造られる前記金属基層（９）の幅（Ｓ）より大きいことを特徴とする金属基層の堆積方法。
【請求項２】
前記アーク内において少なくとも前記線電極は保護ガスで囲まれることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記金属部材と同じ金属、または性質の類似した金属からなる線電極が使用されることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
熱的、化学的及び機械的の少なくともいずれかに対し高い負荷に耐え得る金属からなる線電極が使用されることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項５】
線電極として中実の線または細管状の線が用いられることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】
前記金属基層の堆積中、前記線電極が前記内壁から離れるように、また前記内壁へ向かうように行きつ戻りつ往復移動されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
前記線電極の前記内壁に関する位置を点検し、前記位置を修正するため、アークの発生中に生じる電流経過及び電圧経過の少なくともいずれかを前記線電極の往復移動と関連させることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記金属基層が割れ目、溝又は穴の内壁上に堆積されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項９】
前記金属基層がガスタービンのハウジング部材の溝上に堆積されることを特徴とする請求項８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、絞り加工を行う場合、プレス機械が利用されている。この種のプレス機械においては、上金型が取り付けられたスライドの位置を検出することを目的として、スライド位置検出装置が設けられている（特許文献１、図７参照）。
開示されるスライド位置検出装置は、昇降するスライド側にスケールを設け、固定されたアプライト側に検出器を設け、この検出器によりスケールを検出してスライドの位置を検出する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−３１４３９５号公報
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月15日(2011.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
外部のコモンレールから高圧流体が導入される流体導入部、この流体導入部を介して前記高圧流体が供給される流体通路、及び前記流体通路に接続されて前記高圧流体の少なくとも一部を噴射する噴孔、を有するインジェクタボデーと、
前記インジェクタボデーとは別体形成されるとともに当該インジェクタボデーにおける前記噴孔とは反対側の一端部の接続面に一体的に固定されたヘッドボデーと、
前記ヘッドボデー内に配置され前記高圧流体が導入される導入通路と、
前記ヘッドボデー内に配置され、前記導入通路を閉鎖するように前記インジェクタボデーの前記流体通路に連通されて前記高圧流体の圧力の作用により歪み変位可能なダイアフラム部、及び前記ダイアフラム部の変位を検出する変位検出手段を有する圧力検出部と、を備えることを特徴とする燃料噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
外部のコモンレールから高圧流体が導入される流体導入部、この流体導入部を介して前記高圧流体が供給される流体通路、及び前記流体通路に接続されて前記高圧流体の少なくとも一部を噴射する噴孔、を有するインジェクタボデーと、
前記インジェクタボデーとは別体形成されるとともに当該インジェクタボデーにおける前記噴孔とは反対側の一端部の接続面に一体的に固定され、前記高圧流体の圧力を検出する燃圧検出ユニットと、を備え、
前記燃圧検出ユニットは、前記高圧流体が導入される導入通路、当該導入通路を介して前記インジェクタボデーの前記流体通路に連通されるとともに前記導入通路を閉鎖するように配置されて前記高圧流体の圧力の作用により歪み変位可能なダイアフラム部、及び前記ダイアフラム部の変位を検出する変位検出手段を有して構成されていることを特徴とする燃料噴射装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１記載の発明によれば、高圧流体が導入される導入通路を閉鎖するダイアフラム部とダイアフラム部の変位を検出する変位検出手段が配置されるヘッドボデーが、インジェクタボデーにおける噴孔とは反対側の一端部の接続面に配置される。このため、ヘッドボデーをインジェクタボデーに固定する前に、ヘッドボデー単体で変位検出手段の動作チェックを行えるので、その段階で変位検出手段が不適格か否かを判別することができる。そして、適格と判断されたものをインジェクタボデーに対して固定させることができるため、燃料噴射装置を完成させる前に、変位検出手段が原因となる燃料噴射装置の歩留まり低下を抑制できる。よって、生産性の向上を実現可能な圧力検出機能一体型の燃料噴射装置を得ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項１１記載の発明によれば、外部のコモンレールから高圧流体が導入される流体導入部、この流体導入部を介して前記高圧流体が供給される流体通路、及び前記流体通路に接続されて前記高圧流体の少なくとも一部を噴射する噴孔、を有するインジェクタボデーと、前記インジェクタボデーとは別体形成されるとともに当該インジェクタボデーにおける前記噴孔とは反対側の一端部の接続面に一体的に固定され、前記高圧流体の圧力を検出する燃圧検出ユニットと、を備え、前記燃圧検出ユニットは、前記高圧流体が導入される導入通路、当該導入通路を介して前記インジェクタボデーの前記流体通路に連通されるとともに前記導入通路を閉鎖するように配置されて前記高圧流体の圧力の作用により歪み変位可能なダイアフラム部、及び前記ダイアフラム部の変位を検出する変位検出手段を有して構成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月9日(2011.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１流路に連通するとともに、弁座を介して第２流路に連通する第１弁室と、
該第１弁室内に配置され、前記弁座に接離する弁体と、
軸線方向に移動することにより、前記弁体を前記弁座に接離させて前記第１流路と前記第２流路との間の流量制御を行う弁棒と、
該弁棒を貫通し、前記第２流路と第２弁室とを連通させる貫通孔と、
前記弁棒と連動して前記第１弁室と前記第２弁室とを区画しながら該弁棒の軸線方向に移動する移動体と、
前記弁棒の軸線方向への移動が制限された状態で該軸線回りに回転するロータと、
一端において、前記ロータとともに回転しながら前記弁棒の軸線方向に移動するとともに、他端において、前記弁棒と螺合しながら、該弁棒を該弁棒の軸線回りの回転が制限された状態で、該弁棒を該弁棒の軸線方向で、かつ前記一端の移動方向と同方向に移動させる伝達ねじとを備えることを特徴とする流量制御弁。
【請求項２】
前記弁座の開口面積と、前記第２弁室を前記弁棒の軸線方向に垂直な面で切断した開口断面の面積とが等しいことを特徴とする請求項１に記載の流量制御弁。
【請求項３】
前記移動体とともに前記第１弁室と前記第２弁室とを区画するとともに、該移動体に摺
接するリップシールを備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の流量制御弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明は、流量制御弁であって、第１流路に連通するとともに、弁座を介して第２流路に連通する第１弁室と、該第１弁室内に配置され、前記弁座に接離する弁体と、軸線方向に移動することにより、前記弁体を前記弁座に接離させて前記第１流路と前記第２流路との間の流量制御を行う弁棒と、該弁棒を貫通し、前記第２流路と第２弁室とを連通させる貫通孔と、前記弁棒と連動して前記第１弁室と前記第２弁室とを区画しながら該弁棒の軸線方向に移動する移動体と、前記弁棒の軸線方向への移動が制限された状態で該軸線回りに回転するロータと、一端において、前記ロータとともに回転しながら前記弁棒の軸線方向に移動するとともに、他端において、前記弁棒と螺合しながら、該弁棒を該弁棒の軸線回りの回転が制限された状態で、該弁棒を該弁棒の軸線方向で、かつ前記一端の移動方向と同方向に移動させる伝達ねじとを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
加えて、本発明によれば、ロータが回転すると、伝達ねじの前記一端が回転しながら弁棒の軸線方向に移動し、さらに伝達ねじの回転により弁棒を該弁棒の軸線方向で、かつ前記一端の移動方向と同方向に移動させることができ、ロータ一回転当たりの弁のリフト量を大きくすることができ、小さなリフト量で大流量を賄うことができる。また、ロータ自身は上下動をしないため、モータとしてステータとの位置関係が不変であるため、常に最大のトルクで弁駆動を行うことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記流量制御弁において、前記弁座の開口面積と、前記第２弁室を前記弁棒の軸線方向に垂直な面で切断した開口断面の面積とを等しくすることができる。これにより、第２流路の流体圧によって弁体に加わる力と、前記第２弁室の流体圧によって移動体に加わる力が等しくなり、弁棒に加えられる弁開閉方向の力を相殺し、弁開閉に必要な駆動力を低減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
制震デバイス１は、建家構造枠２の縦材３の中間部と斜材５との間に介設される帯状鋼板製の制震素子６を備えた構成からなる。図５では、建家構造枠２の各縦材３の中間部に制震素子６を取り付けるとともに、建家構造枠２の隅角部に固定金具７を取り付け、４本の斜材５を制震素子６と固定金具７とに掛け渡した態様を示している。つまり、斜材５は、建家構造枠２内の上部と下部においてそれぞれＸ字状に交差するように架設される。固定金具７としては、一般に斜材５の端部を釘打ちや螺子締結などによって直接固定する公知の金具が適用される。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月1日(2011.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記工程（１）及び（２）を有する、無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料を含有するポリマー粒子を含むインクジェット記録用分散体の製造方法。
工程（１）：無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料を、７０〜１５０℃で２４時間以上加熱処理する工程
工程（２）：水不溶性ポリマー、有機溶媒、工程（１）で加熱処理して得られたキナクリドン固溶体顔料、及び水を含有する混合物を分散処理して、前記顔料を含有する水不溶性ポリマーからなる粒子の分散体を得る工程
【請求項２】
前記工程（１）で得られたキナクリドン固溶体顔料のＣｕＫα線源を用いた粉末Ｘ線回折により測定した結晶子径が２７０Å以上であり、かつ結晶ピーク強度とアモルファス相に起因するハローパターン強度との比（結晶ピーク強度／アモルファス相に起因するハローパターン強度）が４以上である、請求項１に記載のインクジェット記録用分散体の製造方法。
【請求項３】
水不溶性ポリマーが水不溶性グラフトポリマーである、請求項１又は２に記載のインクジェット記録用分散体の製造方法。
【請求項４】
キナクリドン固溶体顔料が、水不溶性ポリマー粒子に含有されている、顔料を含有する水不溶性ポリマー粒子の形態である、請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット記録用分散体の製造方法。
【請求項５】
下記工程（１）〜（３）を有する、無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料を含有するポリマー粒子を含む水分散体の製造方法であって、水の含有量が４０〜６０重量％である、インクジェット記録用水分散体の製造方法。
工程（１）：無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料を、７０〜１５０℃で２４時間以上加熱処理する工程
工程（２）：水不溶性ポリマー、有機溶媒、工程（１）で加熱処理して得られたキナクリドン固溶体顔料、及び水を含有する混合物を分散処理して、前記顔料を含有する水不溶性ポリマーからなる粒子の分散体を得る工程
工程（３）：前記工程（２）で得られた分散体から前記有機溶媒を除去して、前記顔料を含有する水不溶性ポリマー粒子の水分散体を得る工程
【請求項６】
下記工程（１）〜（４）を有する、無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料を含有する架橋ポリマー粒子を含む水系インクの製造方法であって、水の含有量が４０〜６０重量％である、インクジェット記録用水系インクの製造方法。
工程（１）：無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料を、７０〜１５０℃で２４時間以上加熱処理する工程
工程（２）：水不溶性ポリマー、有機溶媒、工程（１）で加熱処理して得られたキナクリドン固溶体顔料、及び水を含有する混合物を分散処理して、前記顔料を含有する水不溶性ポリマーからなる粒子の分散体を得る工程
工程（３）：前記工程（２）で得られた分散体から前記有機溶媒を除去して、前記顔料を含有する水不溶性ポリマー粒子の水分散体を得る工程
工程（４）：前記工程（３）で得られた水分散体と、分子中に２以上の反応性官能基を有する架橋剤とを混合し、前記水不溶性ポリマーを架橋して着色剤を含有する架橋ポリマー粒子を含む水系インクを得る工程
【請求項７】
請求項６に記載の方法によって得られるインクジェット記録用水系インク。
【請求項８】
無置換キナクリドンとジクロロキナクリドンからなるキナクリドン固溶体顔料１〜２０重量％と水４０〜６０重量％を含有する水系インクであって、ＣｕＫα線源を用いた粉末Ｘ線回折により測定した該固溶体顔料の結晶子径が２７０Å以上であり、かつ結晶ピーク強度とアモルファス相に起因するハローパターン強度との比（結晶ピーク強度／アモルファス相に起因するハローパターン強度）が４以上である、インクジェット記録用水系インク。
【請求項９】
キナクリドン固溶体顔料が、７０〜１５０℃で２４時間以上加熱処理されたものである、請求項８に記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項１０】
親水性有機溶媒を１０〜４０重量％含有する、請求項８又は９に記載のインクジェット記録用水系インク。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月11日(2011.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素原子と結合しているケイ素原子を有するＳiＨ基含有シロキサン系化合物と、
前記ＳiＨ基と付加反応し得る炭素間二重結合を有するＣ＝Ｃ結合含有シロキサン系  化合物と、
ヒドロシリル化付加反応触媒と
を含有し、硬化によって生じるシリコーン樹脂のガラス転位温度が５０℃以下である付加重合硬化型シリコーン樹脂材料と、
前記ＳiＨ基含有シロキサン系化合物及び前記Ｃ＝Ｃ結合含有シロキサン系化合物と  反応せず、
前記付加重合硬化型シリコーン樹脂材料と相溶性があり、
流動点が０℃以下である
非反応性シロキサン系化合物と
を含有する、硬化性樹脂材料組成物。
【請求項２】
前記付加重合硬化型シリコーン樹脂材料に対する、前記非反応性シロキサン系化合物の配合質量比が、０．０１〜１００である、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項３】
前記配合質量比が０．１〜１０である、請求項２に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項４】
前記非反応性シロキサン系化合物が、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物である、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
一般式（１）：
【化１】
2009275196.tif 000001
一般式（２）：
【化２】
2009275196.tif 000002
（一般式（１）及び（２）中、ＲA、ＲB、及びＲDは、アルキル基、アラルキル基、ポリエーテル基、高級脂肪酸エステル基、高級脂肪酸アミド基、又はフルオロアルキル基である。また、ＲCは、アルキル基、アラルキル基、ポリエーテル基、高級脂肪酸エステル基、高級脂肪酸アミド基、フルオロアルキル基、又はフェニル基である。そして、ｌ、ｍ、及びｎは０以上の整数であり、且つ、(ｍ＋ｎ)は１以上である。）
【請求項５】
前記ＳiＨ基含有シロキサン系化合物は、主として、フェニル基を含有する有機シロキサンの構造を有する部分からなる、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項６】
屈折率が１．５０以上である、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項７】
前記非反応性シロキサン系化合物の粘度が８０℃で１Ｐａ・ｓ以下である、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項８】
８０℃における粘度が１００Ｐａ・ｓ以下である、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項９】
発光装置の光路に屈折率調整部材を配置するための発光装置用充填材料として用いられる、請求項１に記載した硬化性樹脂材料組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載した硬化性樹脂材料組成物が硬化してなる硬化物からなる、光学材料。
【請求項１１】
屈折率調整材料、光学レンズ材料、光導波路材料、反射防止材料又は発光装置用充填部材として用いられる、請求項１０に記載した光学材料。
【請求項１２】
発光素子から出射された光が、請求項１０に記載した光学材料を介して外部に取り出されるように構成されている、発光装置。
【請求項１３】
反射カップの凹部に前記発光素子が配置され、前記発光素子に接して前記凹部を埋め込むように前記封止部材が配置されており、前記発光素子から出射された光が、直接に、或いは反射カップの壁面で反射されて、前記発光素子の封止部材を構成する前記光学材料を介して外部に取り出されるように構成されている、請求項１２に記載した発光装置。
【請求項１４】
前記発光素子、前記発光素子を封止する封止部材、及び前記発光素子と前記封止部材との間に存在する隙間を埋める充填部材を具備する発光装置であって、前記充填部材が前記光学材料からなる、請求項１２に記載した発光装置。
【請求項１５】
反射カップの凹部に前記発光素子が配置され、前記発光素子に接して前記凹部を埋め込むように前記充填部材が配置され、前記充填部材に接して前記封止部材が配置されており、前記発光素子から出射された光が、直接に、或いは反射カップの壁面で反射されて、前記充填部材を構成する前記光学材料を介して外部に取り出されるように構成されている、請求項１４に記載した発光装置。
【請求項１６】
前記封止部材は、円形の底面と、凸レンズ形状の側面と、凹レンズ形状の頂面とを有する軸対称形状をもち、前記底面に凹部が設けられ、前記発光素子は前記凹部内で前記底面の中心の位置に配置されており、前記発光素子から出射された光が、主として、直接に、或いは前記頂面で反射されて前記側面から外部へ取り出されるように構成されている、請求項１４に記載した発光装置
【請求項１７】
前記封止部材の表面に防汚層が設けられている、請求項１４に記載した発光装置。
【請求項１８】
配線基板上に１つ以上の前記発光素子が配置され、前記発光素子を封止する封止部材が配線基板上に設けられている発光装置であって、前記封止部材が前記光学材料からなる、請求項１２に記載した発光装置。
【請求項１９】
前記発光素子として発光ダイオードが配置され、アレイ状又はマトリックス状に配置されてバックライト装置を形成するように構成されている、請求項１８に記載した発光装置。
【請求項２０】
基体に発光素子を搭載する工程と、
請求項１〜９のいずれか１項に記載した硬化性樹脂材料組成物を、前記発光素子を被  覆するように前記基体上に配置する工程と、
前記硬化性樹脂材料組成物を硬化させ、その硬化物で前記発光素子を封止する工程と
を有する、発光装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】硬化性樹脂材料組成物、光学材料、発光装置及びその製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月24日(2010.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２３０℃におけるメルトフローレート（ＭＦＲ）が２０ｄｇ／ｍｉｎ以上のポリオレフィン系樹脂に対し、下記一般式（１）、
2009275188.tif 000001
（式中、ｎは、０乃至２の整数であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数２〜４のアルケニル基、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基及び炭素原子数１〜４のヒドロキシハロゲン化アルキル基からなる群から選択される）で表されるジベンジリデンソルビトール化合物（Ａ）及び、下記一般式（２）、
2009275188.tif 000002
（式中、Ｒ６〜Ｒ９は各々独立して、水素原子又は炭素原子数１〜９のアルキル基を表し、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す）で表される有機リン酸エステルのアルカリ金属塩化合物（Ｂ）を配合してなるものであって、上記ポリオレフィン系樹脂１００質量部に対し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総和が０．０１〜１．０質量部で、かつ（Ａ）成分と（Ｂ）成分の比率（質量比）が、（Ａ）／（Ｂ）＝９９／１〜８０／２０の範囲内であることに特徴を有するポリオレフィン系樹脂組成物。
【請求項２】
上記ポリオレフィン系樹脂が、２３０℃におけるメルトフローレートが２０〜１００ｄｇ／ｍｉｎのポリプロピレン系樹脂である請求項１記載のポリオレフィン系樹脂組成物。
【請求項３】
上記一般式（１）におけるＲ１〜Ｒ４は各々独立して、水素原子および炭素原子数１〜４のアルキル基の群から選択され、Ｒ５は水素原子である請求項１又は２記載のポリオレフィン系樹脂組成物。
【請求項４】
上記一般式（２）におけるＭがリチウムであり、Ｒ６〜Ｒ９が第三ブチル基である請求項１〜３の何れかに記載のポリオレフィン系樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
即ち、本発明のポリオレフィン系樹脂組成物は、２３０℃におけるメルトフローレート（ＭＦＲ）が２０ｄｇ／ｍｉｎ以上のポリオレフィン系樹脂に対し、下記一般式（１）、
2009275188.tif 000003
（式中、ｎは、０乃至２の整数であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数２〜４のアルケニル基、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基及び炭素原子数１〜４のヒドロキシハロゲン化アルキル基からなる群から選択される）で表されるジベンジリデンソルビトール化合物（Ａ）及び、下記一般式（２）、
2009275188.tif 000004
（式中、Ｒ６〜Ｒ９は各々独立して、水素原子又は炭素原子数１〜９のアルキル基を表し、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す）で表される有機リン酸エステルのアルカリ金属塩化合物（Ｂ）を配合してなるものであって、上記ポリオレフィン系樹脂１００質量部に対し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総和が０．０１〜１．０質量部で、かつ（Ａ）成分と（Ｂ）成分の比率（質量比）が、（Ａ）／（Ｂ）＝９９／１〜８０／２０の範囲内であることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月12日(2011.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】潜熱蓄熱式加熱システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱を発生する熱源として潜熱蓄熱材が収容され、エンジン回りの加熱対象物に凝固熱を直接伝熱する、過冷却状態にある潜熱蓄熱材を利用する加熱装置と、
前記潜熱蓄熱材の過冷却状態を解除する発核操作を行う過冷却解除手段と、
一方向に熱伝導性の高い特性を有する伝熱部材を利用し、前記潜熱蓄熱材に蓄熱するときにはエンジンの廃熱を前記伝熱部材を介して前記潜熱蓄熱材へ伝熱することにより前記潜熱蓄熱材を加熱して溶解させ、前記潜熱蓄熱材が発熱するときには前記加熱装置から前記エンジン側へは伝熱し難い伝熱手段と、
からなることを特徴とする潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項２】
前記伝熱手段は、サーモサイフォン式のヒートパイプからなり、低位置にあるエンジンから高位置にある前記加熱装置への一方向に伝熱することを特徴とする請求項１に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項３】
前記加熱対象物は、燃料をインジェクタに分配するフューエルインジェクションレールであることを特徴とする請求項１に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項４】
前記加熱対象物は、空気をエンジンの燃焼室に供給する給気マニホールドであることを特徴とする請求項１に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項５】
前記加熱装置は、前記フューエルインジェクションレールの本体部の一部または全体を収納可能なケースを有することを特徴とする請求項３に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項６】
前記過冷却解除手段は、エンジン吸気の負圧を利用して発核操作を行うことを特徴とする請求項３または４に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項７】
前記過冷却解除手段は、エンジンの吸気系からクランキング時の吸気負圧を前記加熱装置に導入する吸気負圧ラインと、
前記吸気負圧配管を開閉する発核操作用バルブと、
エンジンを始動させるスターターモータの起動と前記発核操作用バルブを開く操作を連動させる制御手段と、
を有することを特徴とする請求項６に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項８】
前記過冷却解除手段の制御手段は、潜熱蓄熱材および／またはフューエルインジェクションレール内の燃料の温度を検出し、エンジン始動時の温度に応じて、エンジンの始動と当該加熱システムを連動させることを特徴とする請求項６に記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【請求項９】
前記エンジンの燃料には、ガソリン、エタノール、若しくはこれらの混合燃料が用いられることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の潜熱蓄熱式加熱システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、潜熱蓄熱式加熱システムに係り、特に、寒冷地での自動車エンジンの始動性を高め、また、廃熱を利用して燃料・吸気を加熱することにより燃費の向上を図る潜熱蓄熱式加熱システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明の目的は、前記従来技術の有する問題点を解消し、燃料を加熱する熱源として潜熱蓄熱材を用いた加熱システムにおいて、潜熱蓄熱材発熱時の熱損失を少なくするとともに、エンジンの廃熱を効率的に利用してエネルギー効率の高い潜熱蓄熱式加熱システムを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記の目的を達成するために、本発明による潜熱蓄熱式加熱システムは、熱を発生する熱源として潜熱蓄熱材が収容され、エンジン回りの加熱対象物に凝固熱を直接伝熱する、過冷却状態にある潜熱蓄熱材を利用する加熱装置と、前記潜熱蓄熱材の過冷却状態を解除する発核操作を行う過冷却解除手段と、一方向に熱伝導性の高い特性を有する伝熱部材を利用し、前記潜熱蓄熱材に蓄熱するときにはエンジンの廃熱を前記伝熱部材を介して前記潜熱蓄熱材へ伝熱することにより前記潜熱蓄熱材を加熱して溶解させ、前記潜熱蓄熱材が発熱するときには前記加熱装置から前記エンジン側へは伝熱し難い伝熱手段と、からなることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月25日(2011.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド：１００質量部、（Ｂ）数平均分子量が３００以上のポリエステル化合物、及び数平均分子量が２００以上のポリアルキレングリコール化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物：１〜５０質量部、を含有することを特徴とする耐熱性樹脂組成物。
【化１】
2009275078.tif 000001
（式中、Ｘ1は２個以上の炭素原子を有する４価の有機基、Ｘ2、Ｙ1およびＹ2は２個以上の炭素原子を有する２価の有機基、ｍは２〜１０００の整数、ｎは０〜５００の整数であって、ｍ／（ｍ＋ｎ）＞０．５である。なお、Ｘ1およびＹ1を含むｍ個のジヒドロキシジアミド単位、並びにＸ2およびＹ2を含むｎ個のジアミド単位の配列順序は問わない。）
【請求項２】
上記（Ｂ）化合物が、数平均分子量が３００以上のポリエステル化合物である、請求項１に記載の耐熱性樹脂組成物。
【請求項３】
さらに（Ｃ）感光性ジアゾキノン化合物１〜５０質量部を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の耐熱性樹脂組成物。
【請求項４】
上記（Ｂ）数平均分子量が３００以上のポリエステル化合物が、脂肪酸を原料の一つとして得られるポリエステル化合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の耐熱性樹脂組成物。
【請求項５】
上記（Ｂ）数平均分子量が２００以上のポリアルキレングリコール化合物が、エチレングリコールの繰り返し単位を有するポリアルキレングリコール化合物であることを特徴とする請求項１又は３に記載の耐熱性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１又は２記載の耐熱性樹脂組成物からなる耐熱性樹脂層を基板上に積層し、耐熱性樹脂層を加熱処理することを特徴とする耐熱性樹脂層の硬化膜付き基板の製造方法。
【請求項７】
（１）請求項３〜５のいずれか１項に記載の耐熱性樹脂組成物からなる耐熱性樹脂層を基板上に積層し、（２）耐熱性樹脂層に、マスクを介して、化学線を露光するか、光線、電子線またはイオン線を照射し、（３）露光部または照射部を溶出除去し、（４）得られたパターンを加熱処理することを特徴とする耐熱性樹脂層の硬化膜付き基板の製造方法。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の製造方法により得られる硬化膜を有してなる半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
２．上記（Ｂ）化合物が、数平均分子量が３００以上のポリエステル化合物である、上記１に記載の耐熱性樹脂組成物。
３．さらに（Ｃ）感光性ジアゾキノン化合物１〜５０質量部を含有することを特徴とする上記１又は２に記載の耐熱性樹脂組成物。
４．上記（Ｂ）数平均分子量が３００以上のポリエステル化合物が、脂肪酸を原料の一つとして得られるポリエステル化合物であることを特徴とする上記１〜３のいずれか１項に記載の耐熱性樹脂組成物。
５．上記（Ｂ）数平均分子量が２００以上のポリアルキレングリコール化合物が、エチレングリコールの繰り返し単位を有するポリアルキレングリコール化合物であることを特徴とする上記１又は３に記載の耐熱性樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
６．上記１又は２記載の耐熱性樹脂組成物からなる耐熱性樹脂層を基板上に積層し、耐熱性樹脂層を加熱処理することを特徴とする耐熱性樹脂層の硬化膜付き基板の製造方法。
７．（１）上記３〜５のいずれか１項に記載の耐熱性樹脂組成物からなる耐熱性樹脂層を基板上に積層し、（２）耐熱性樹脂層に、マスクを介して、化学線を露光するか、光線、電子線またはイオン線を照射し、（３）露光部または照射部を溶出除去し、（４）得られたパターンを加熱処理することを特徴とする耐熱性樹脂層の硬化膜付き基板の製造方法。
８．上記６又は７に記載の製造方法により得られる硬化膜を有してなる半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月11日(2011.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モース硬度６超の硬質物質を実質上含まず、かつ層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物を０．５〜２０質量％の割合で含むことを特徴とする摩擦材。
【請求項２】
層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物が、ゾルゲル法により形成されたチタニア前駆体を層間にインターカレートした層状粘土鉱物を、５００℃以上の温度で焼成してなるものである請求項１に記載の摩擦材。
【請求項３】
層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物におけるチタニア粒子の平均粒径が、３〜２００ｎｍである請求項１または２に記載の摩擦材。
【請求項４】
層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物におけるチタニア粒子の含有量が、１０〜８０質量％である請求項１〜３のいずれか１項に記載の摩擦材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１） モース硬度６超の硬質物質を実質上含まず、かつ層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物を０．５〜２０質量％の割合で含むことを特徴とする摩擦材、
（２） 層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物が、ゾルゲル法により形成されたチタニア前駆体を層間にインターカレートした層状粘土鉱物を、５００℃以上の温度で焼成してなるものである上記（１）項に記載の摩擦材、
（３） 層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物におけるチタニア粒子の平均粒径が、３〜２００ｎｍである上記（１）または（２）項に記載の摩擦材、および
（４） 層間にチタニア粒子を挿入してなる層状粘土鉱物におけるチタニア粒子の含有量が、１０〜８０質量％である上記（１）〜（３）項のいずれか１項に記載の摩擦材、
を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）下記一般式（１）
ＲＯ−（ＰＯ）ｍ（ＥＯ）ｎＳＯ３Ｍ          （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜２４のアルキル基であり、ＰＯはプロピレンオキシ基、ＥＯはエチレンオキシ基である。ｍ及びｎはＰＯ又はＥＯの平均付加モル数を示し、それぞれ０＜ｍ＜１、０＜ｎ≦２．３の数である。Ｍは陽イオンである）
で表される硫酸塩型界面活性剤    ５〜３０質量％、
（Ｂ）硫酸塩型界面活性剤以外のアニオン界面活性剤
を含有する皮膚洗浄剤組成物。
【請求項２】
成分（Ｂ）のアニオン界面活性剤が、α−オレフィンスルホン酸又はその塩、アルカンスルホン酸又はその塩、α−スルホ脂肪酸エステル又はその塩、モノアルキルリン酸エステル又はその塩、アシルグルタミン酸又はその塩、ココイルイセチオン酸又はその塩、スルホコハク酸モノエステル又はその塩、高級脂肪酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩から選ばれるものである請求項１記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項３】
更に、（Ｃ）両性界面活性剤を含有する請求項１又は２記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項４】
更に、（Ｄ）非イオン界面活性剤を含有する請求項１〜３のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項５】
更に、（Ｅ）ポリオールを含有する請求項１〜４のいずれか1項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項６】
更に、（Ｆ）ポリマーを含有する請求項１〜５のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項７】
更に、（Ｇ）高級脂肪酸及び／又は高級アルコールを含有する請求項１〜６のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項８】
更に、（Ｈ）粉体を含有する請求項１〜７のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月31日(2011.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）下記一般式（１）
ＲＯ−（ＰＯ）ｍ（ＥＯ）ｎＳＯ３Ｍ          （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜２４のアルキル基であり、ＰＯはプロピレンオキシ基、ＥＯはエチレンオキシ基である。ｍ及びｎはＰＯ又はＥＯの平均付加モル数を示し、それぞれ０＜ｍ＜５、０≦ｎ＜５の数である。Ｍは陽イオンである）
で表される硫酸塩型界面活性剤    ５〜３０質量％、
（Ｂ）カチオン基含有ポリマー    ０．０１〜１０質量％
を含有する皮膚洗浄剤組成物。
【請求項２】
成分（Ｂ）のカチオン基含有ポリマーが、４．５meq／ｇ以上のカチオン電荷密度を有するものである請求項１記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項３】
更に、（Ｃ）硫酸塩型界面活性剤以外のアニオン界面活性剤を含有する請求項１又は２記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項４】
成分（Ｃ）のアニオン界面活性剤が、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸塩である請求項３記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項５】
成分（Ｂ）のカチオン基含有ポリマーが、５．５meq／ｇ以上のカチオン電荷密度を有するものである請求項１〜４のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項６】
更に、（Ｄ）両性界面活性剤を含有する請求項１〜５のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項７】
更に、（Ｅ）非イオン界面活性剤を含有する請求項１〜６のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。
【請求項８】
更に、高級脂肪酸及び／又は高級アルコールを含有する請求項１〜７のいずれか１項記載の皮膚洗浄剤組成物。