Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月14日(2009.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の処理を監視する方法において、
基板の処理中に、上記基板の面を横切って現場の監視システムのセンサを走査させることにより測定トレースを発生するステップであって、上記測定トレースは、上記センサの感知領域が上記基板を横切って進むときに上記感知領域内にある上記基板の特徴部により値が影響を受けるデータ点を含むものであるステップと、
上記基板の面を横切る上記現場の監視システムの上記センサの走査を表す基準トレースを使用して上記測定トレースを変更するステップと、
上記変更された測定トレースから、上記基板の局部的特性を評価するステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
上記測定トレースを発生する上記ステップは、上記基板内の渦電流により値が影響を受けるデータ点を取得する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記測定トレースを変更する上記ステップは、上記基準トレースを使用して、上記感知領域が上記基板を横切って進むときに上記基板の縁により上記測定トレースに生じる縁作用を補償する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
縁作用を補償する上記段階は、上記感知領域と上記基板との間の部分的重畳による信号ロスを補償することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
上記測定トレースを変更する上記ステップは、上記基準トレースを使用して、上記感知領域が上記基板を横切って進むときに上記センサの局部的感度変化を補償する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
上記測定トレースを変更する上記ステップは、上記基準トレースを使用して、上記感知領域が上記基板を横切って進むときに上記測定トレースにおける局部的バイアス変化を補償する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
上記測定トレースを変更する上記ステップは、上記測定トレースを上記基準トレースで除算する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
上記測定トレースを変更する上記ステップは、上記測定トレースから上記基準トレースを減算する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
上記基準トレースを発生するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
上記基準トレースを発生する上記ステップは、
上記センサの感知領域と上記基板との間の重畳を計算する段階と、
上記計算された重畳に基づき上記基準トレースに１つ以上の基準点を発生する段階と、
を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記基準トレースを発生する上記ステップは、上記基板の処理前に上記基板の面を横切って上記センサを走査させることにより上記基板を測定する段階を含む、請求項９に記載
の方法。
【請求項１２】
上記基板の処理は、上記基板を研磨することを含み、
上記基板の局部特性を評価する上記ステップは、上記変更された測定トレースから上記基板の金属層の厚みを評価する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
上記厚みの評価に基づいて、研磨プロセスの１つ以上のパラメータを変更することを更に含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
上記厚みの評価に基づいて、研磨終了点を検出することを更に含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
基板を保持するためのキャリアと、
研磨表面と、
上記キャリア及び上記研磨表面の少なくとも一方に接続され、上記基板と上記研磨表面との間に相対的運動を発生させるモーターと、
上記基板が上記研磨表面に接触している間に上記基板の面を横切って走査して測定トレースを発生するセンサを含む監視システムと、
コントローラであって、
上記基板の面を横切る上記現場の監視システムの上記センサの走査を表す基準トレースを使用して上記測定トレースを変更し、更に、
上記変更された測定トレースから研磨終了点を検出する、
というように構成されたコントローラと、
を備えた研磨装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長さによって区画された前方端部及び後方端部を有するジャケット付き発射体であって、
ａ） 刻印可能なジャケットと、
ｂ） 中間部分を有する中心コアと
を備え、
前記中間部分が、前記コアからの充分な支持によることなく前記ジャケットに刻印することができるよう該中間部分の少なくとも一部にわたって前記ジャケットと連続状に接していない状態にあり、
当該発射体が旋条付きの銃身から発射されたときにジャケットの漸増的刻印を可能にするよう、前記中間部分が、当該発射体の前記前方端部へ向かって先細になるようにテーパーが付けられており、前記中間部分の長さの少なくとも一部に沿って前記ジャケットと前記コアとの間にテーパー状の間隔を提供する、発射体。
【請求項２】
前記テーパー状の間隔は、前記ジャケットと前記コアとの間に、前記コアの前記中間部分における長さの少なくとも一部に沿った充分な環状の隙間を提供する、請求項１に記載の発射体。
【請求項３】
前記ジャケットは、前記中間部分の長さの少なくとも一部に沿って、前記間隔の長さに渡り、前記中間部分にて支持されていない、請求項２に記載の発射体。
【請求項４】
前記環状の隙間が、前記ジャケットと前記中間部分の全長との間に存在する充分な環状のテーパー状隙間の形態にある、請求項２に記載の発射体。
【請求項５】
前記中間部分が円錐台形状である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の発射体。
【請求項６】
前記コアの前記円錐台状部分の半円錐角が０．７°〜１．０°である、請求項５に記載の発射体。
【請求項７】
前記コアの前記円錐台状部分の半円錐角が０．８５°〜０．９５°である、請求項５に記載の発射体。
【請求項８】
外面を有し、前記コアの前記中間部分から後方へ延びている、前記コアの短い前記円筒状部分を備え、
前記ジャケットと前記円筒状部分の前記外面とが、前記円筒状部分の長さにおいて互いにほぼ連続状に接している、請求項１〜７のいずれか一項に記載の発射体。
【請求項９】
前記コアの前記円筒状部分が前記中間部分の長さの３０％未満である、請求項８に記載の発射体。
【請求項１０】
前記隙間が圧縮性媒体によって占められている、請求項２〜４のいずれか一項に記載の発射体。
【請求項１１】
前記圧縮性媒体が空気である、請求項１０に記載の発射体。
【請求項１２】
前記中心コアが、炭素鋼、タングステン、炭化タングステン、タングステン−ナイロン化合物、タングステン−スズ化合物及びこれらの混合物からなる群から選択された材料から主として構成されている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の発射体。
【請求項１３】
前記中心コアの硬さが、ロックウェルＣ硬度計において少なくとも４５である、請求項１２に記載の発射体。
【請求項１４】
前記コアが、前記中間部分の前方に取り付けられた前方部分を備え、前記前方部分が、その表面の少なくとも一部にわたって尖頭形状を有しており、前記前方部分と前記中間部分との間の接合部によって比較的平滑な移行区域がもたらされている、請求項１に記載の発射体。
【請求項１５】
前記円筒状部分の後方に位置付けられた前記コアの内向きテーパー状の端部分を備える、請求項１４に記載の発射体。
【請求項１６】
前記コアの後方にテーパーが付けられた前記端部分が約７度の半円錐角を有する、請求項１５に記載の発射体。
【請求項１７】
前記ジャケットの材料が光輝黄銅を含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の発射体。
【請求項１８】
光輝黄銅製の前記ジャケットが約９０％の銅と約１０％の亜鉛とを含む、請求項１７に記載の発射体。
【請求項１９】
光輝黄銅製の前記ジャケットが、同様の直径である従来型ボール状発射体に標準的に使用されたものよりも厚い、請求項１８に記載の発射体。
【請求項２０】
カートリッジを形成するためのケーシングであり、標準的な火器の中へ嵌め込まれるように寸法が決められている前記ケーシングと、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の発射体との組み合わせであって、
前記発射体の全長が、同様の直径である従来型ボール状発射体の全長よりも長く、前記発射体が、前記ケーシング内に嵌め込まれた場合に、同一の直径のケーシングを有する標準的な火器に嵌め込むのに適した長さのあるカートリッジをもたらす、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の組み合わせ。
【請求項２１】
前記カートリッジが毒性成分のないものである、請求項２０に記載のカートリッジの形態でのケーシングと発射体との組み合わせ。
【請求項２２】
前記カートリッジが鉛のないものである、請求項２０に記載のカートリッジの形態でのケーシングと発射体との組み合わせ。
【請求項２３】
前記中心コアが中実のワンピース型コアである、請求項１〜２２のいずれか一項に記載のジャケット付きの発射体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排気システムで使用するための自己洗浄式フィルタ組立体であって、
空気流の通路の中に配置させるための筐体と、少なくとも一つの噴霧口とを有しており、
前記筐体は、第１のフィルタと、洗浄流体が前記第１のフィルタから滴下して当該筐体から外に滴下するのを防止するために当該筐体に隣接して配置させるための障壁体とを含み、
前記少なくとも一つの噴霧口は、前記筐体の内部かつ前記フィルタの上に流体を分散するための液滴を形成すると共に、汚染物質の液滴と結合して前記空気流の中に結合液滴を形成できるサイズの前記洗浄流体の液滴を形成し、
前記第１のフィルタは、前記汚染物質の前記結合液滴および前記噴霧口からの液滴を捕獲する、自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項２】
前記障壁体は、前記排気システムが動作しているとき、開口を形成する複数のルーバである、請求項１に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項３】
前記障壁体は、前記排気システムが動作しているとき、開口を形成するために前記筐体の中へ滑動可能である、請求項１に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項４】
前記障壁体は前記空気流を減速するバッフルを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項５】
前記障壁体は流体の前記汚染物質用の少なくとも１つのチャンバを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項６】
前記少なくとも１つのチャンバの中に流体排出用の導管が存在する、請求項５に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項７】
それぞれの噴霧口は、６０度と１８０度との間の円弧を成して流体を分散する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項８】
それぞれの噴霧口は、１１０度の円弧を成して流体を分散する、請求項７に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項９】
それぞれの噴霧口は、ファンジェット噴霧器およびノズルから成る放出口の群から選択される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項１０】
前記洗浄流体は、水および脱脂剤を１：１０〜１：５０の範囲内にある所定の比率で含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項１１】
前記少なくとも一つの噴霧口は、前記第１のフィルタ、および、前記第１のフィルタの下流に位置する第２のフィルタから成る群から選択されるフィルタの吸気口側にある、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項１２】
前記少なくとも一つの噴霧口は、前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタから成る群から選択されるフィルタのそれぞれの縁部にある、請求項１１に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項１３】
前記少なくとも一つの噴霧口は、前記第１のフィルタ、および、前記第１のフィルタの下流に位置する第２のフィルタから成る群から選択されるフィルタのそれぞれの辺の中間部分に配置される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項１４】
前記少なくとも一つの噴霧口は、前記第１のフィルタ、および、前記第１のフィルタの下流に位置する第２のフィルタから成る群から選択されるフィルタの対向する角に配置される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【請求項１５】
前記少なくとも一つの噴霧口は前記筐体の内部に配置される、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の自己洗浄式フィルタ組立体。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項５】
支持面（１１１、１１２；２１１、２１２）が記録板を通して伸張する複数の保持開口部（１１９；２１９）を有し、すべての保持開口部の合計面積が、最大ですべての支持面の合計面積に対して３分の１となっていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
支持面１１１、１１２及び２１１、２１２はそれぞれ、すでに言及されたように、歯科用シリコンによって歯の表面又はワックステンプレート上に支持面を固定するのに役立つ、複数の連続する保持開口部１１９と２１９を備える。この固定効果に関して、支持面と保持開口部の相対的な面積との有利な妥協案は、支持面上の保持開口部１１９、２１９の合計面積が、総支持面１１１、１１２及び２１１、２１２の面積の３分の１までを表す有利な妥協案である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年11月21日(2008.11.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
ここ数年、化粧品及び薬剤製品の色素除去に関して増大する要求が存在してきた。後天性の色素沈着過剰、例えば、黒皮症（melasma）（肝斑（chloasma））、炎症後の黒皮症（postinflammatory melanoderma）、太陽による黒子（solar lentigo）、ソバカス（雀卵斑（ephelides））、老化による斑点（age spots）（老人性黒子（lentigo senile））、太陽への露出に際してしばしば薬剤、例えばバースコントロールピル又は他のホルモン薬、又は香水と共に、あるいは妊娠中に皮膚上に出現する色素沈着斑点の異常な色素沈着パターンが、炎症、ホルモンのアンバランス、及びいくつかの時間が生む障害を含む様々な因子により引き起こされる。紫外線照射はさらにこれらの皮膚のコンディションを悪化させ得る。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
特に好ましいのは白斑の治療であり、副作用を呈する現在使われているヒドロキノン含有組成物よりも良好な代替物を提供する。
本発明による化粧品組成物は、後天性の色素沈着過剰、例えば黒皮症（肝斑）；炎症後の黒皮症；太陽による黒子；ソバカス（雀卵斑（ephelides））;老化による斑点（age spots）（老人性黒子（lentigo senile））;太陽への露出に際してしばしば薬剤、例えばバースコントロールピル又は他のホルモン薬、香水と共にしばしば太陽への露出に際して、あるいは妊娠中に出現する皮膚上に出現する色素沈着斑点の異常な色素沈着パターン、化学剥離（peels）及び皮膚剥離による退色、レーザー前と後の再出現（resurfacing）、又はレーザー脱毛前と後の；着色された角化症又は外傷後の色素沈着過剰（瘢痕）の場合のヒトの皮膚を色素除去に使用してよい。さらに、それらは、上記の色素沈着過剰及び低色素沈着（hypopigmentation）の外観又は形態をライトニング／ブライトニングするために使用してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
親インスリンのＢ鎖のＮ-末端アミノ酸残基のα-アミノ基に結合した側鎖、又は該Ｂ鎖に存在するLys残基のε-アミノ基に結合した側鎖を有し、該側鎖が一般式
−W−X−Y−Z
である、天然のインスリン又はそのアナログであるインスリン誘導体、及びそれらの任意のZn2+ 錯体：
ここにおいて、Ｗは、
・側鎖にカルボン酸基を有するα-アミノ酸残基であり、該アミノ酸は、α-Asp、β-Asp、α-Glu、γ-Glu、α-hGlu及びδ-hGluから成る群から選択され、該残基は、そのカルボン酸基の一つによって、親インスリンのB鎖のN-末端アミノ酸残基のα-アミノ基と共に或いは該B鎖に存在するLys残基のε-アミノ基と共にアミド基を形成する；
Ｘは、−CO−であり、
Ｙは、−(CH2)m−であり、ここでmは6〜32の範囲の整数である;
及び、
Ｚは、−COOHである。
【請求項２】
前記側鎖−W-X-Y-Zが親インスリンの該B鎖に存在するLys残基のε-アミノ基に結合している、請求項１に記載のインスリン誘導体。
【請求項３】
前記Ｙが−(CH2)m−であり、mが12〜16の範囲の整数である、請求項１〜２の何れか一項に記載のインスリン誘導体。
【請求項４】
前記親インスリンが、des(B30)ヒトインスリンである、請求項１〜３の何れか一項に記載のインスリン誘導体。
【請求項５】
前記インスリン誘導体が、NεB29−(Nα-(HOOC(CH2)14CO)-γ-Glu) des(B30)ヒトインスリンである、請求項１に記載のインスリン誘導体。
【請求項６】
各インスリン六量体が２亜鉛イオン、３亜鉛イオン又は４亜鉛イオンを結合する、請求項１〜５の何れか一項に記載のインスリン誘導体の亜鉛錯体。
【請求項７】
請求項１に記載のインスリン誘導体の治療的有効量を、薬学的に許容される担体と共に含む、糖尿病の治療を必要とする患者における糖尿病の治療のための薬学的組成物。
【請求項８】
請求項１に記載のインスリン誘導体の治療的有効量を、作用の急速な開始を有するインスリン又はインスリンアナログとの混合物中に、薬学的に許容される担体と共に含む、糖尿病の治療を必要とする患者における糖尿病の治療のための薬学的組成物。
【請求項９】
糖尿病を治療するための薬剤を製造するための、請求項１に記載のインスリン誘導体の使用。
【請求項１０】
糖尿病を治療するための薬剤を製造するための、請求項１に記載のインスリン誘導体の使用であって、該インスリン誘導体を作用の急速な開始を有するインスリン又はインスリンアナログとともに用いることを特徴とする使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月11日(2009.8.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、電気化学的電池、具体的には、電解槽、燃料電池、または他の種類の、少なくとも２つの隔室（区画）に隔離された電池（セル）に有用な新規の集電体に関し、その隔離板が、制限された機械抵抗（力学抵抗）を特徴とするイオン交換膜または他の任意の種類の半透過性隔膜である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
別の態様では、本発明の１つの目的は、好ましくは自動組立が可能な、電気化学的電池のための集電体を提供することである。
別の態様では、本発明の１つの目的は、電気化学的電池、例えば、従来技術の不都合を克服する集電体を備える電解槽または燃料電池を提供することである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
図１は、薄膜または隔膜（２）によって分割され、かつ２つの導電板（３）によって区切られた一般的な電気化学的電池（１）を示すが、この電池は、一般に電解槽もしくは燃料電池、または他の種類の電気化学的な反応槽であり得る。符号（４）によって示す電極上でアノード反応とカソード反応が起きる。これらの電極（４）は、電気化学的な適用例で一般に知られている任意の種類の電極、例えば、任意選択で電気触媒的被覆によって活性化される金属板、カーボン織布または黒鉛、焼結金属などの多孔表面上に得られるガス拡散電極でよい。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水蒸気改質装置／シフトコンバータからの水素製造流を溶剤系酸性ガス除去システムおよびメタン生成装置に供給して、それにより二酸化炭素流と水素流を製造すること、
前記水素製造流を、流動接触分解オフガス、熱分解オフガス、水素化処理オフガス、および接触改質オフガスからなる群から選択される供給源からの廃ガス流と組み合わせて、混合流を形成し、該混合流を圧力スイング式吸着装置に供給して水素製品と圧力スイング式吸着装置オフガスを製造することにより、前記溶剤系酸性ガス除去システムとメタン生成装置を一時的または恒久的に迂回すること、ならびに、
前記圧力スイング式吸着装置オフガスを燃料ガスとして使用すること、
を含む水素製造プラントの製造能力を増やす方法。
【請求項２】
前記燃料ガスが水蒸気改質装置で燃焼される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記廃ガス流の圧力を前記水素製造流の圧力まで増加させる増圧機をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記水素製造流が少なくとも４０モル％の水素を含み、前記廃ガス流が５〜３０モル％の水素を含む請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
別法として、図２に示すように、例示的なＰＳＡ共用構成が既存の水素製造プラントに統合されている。この図で、統合されたプラント２００は、炭化水素供給原料２１３および水蒸気２１４を受け入れる水蒸気改質装置２１２で製造される水素製造流２１０を有している。廃熱回収装置２１５が水素製造流２１０から熱を回収し、シフト反応コンバータ２１６が一酸化炭素を二酸化炭素に転換する。水素含有非循環廃ガス流２２０（１つの流れでもまたは複数の流れでもよい）および水素製造流２１０は、精製水素２４０（水素製品）および非循環テールガス２５０を製造する水素ＰＳＡ２３０に入る前に多岐管（図示せず）でひとつになり、非循環テールガス２５０は改質装置における燃料として使用するか、またはプラントの燃料ヘッダーに供給することができる。企図するＰＳＡを共用する構成が既存の水素製造プラントの性能を向上するものとして統合される場合には、このようなプラントがメタン生成装置２７０と組み合わせて溶剤系酸性ガス除去システム２６０をさらに含むことができることを、当然のことながら認識すべきである。溶剤系酸性ガス除去システム２６０とメタン生成装置２７０の両方を一時的または恒久的に非直結にすることができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月24日(2009.2.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
本発明のさらに特別な実施態様は、前記多層製品であって、層Ａ、ＢおよびＣの少なくとも１つの透明な熱可塑性プラスチック材料は、ジカルボン酸とジオールから誘導されたコポリエステルであり、ジカルボン酸は、テレフタル酸、イソフタル酸およびシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸からなる群から選択され、ジオールはエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノールおよびジエチレングリコールからなる群から選択され、ジエチレングリコールから誘導される繰り返し単位はジオールから誘導される全繰り返し単位の５モル％以下の含有量を有する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年5月14日(2009.5.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
オーロフ型シリンダ（１２）、版シリンダ（０７）、および少なくとも一つのシャブロンシリンダ(schablonenzylinder)（１３）を回転自在に取付けたラック（０１，１１，１４）を含み、前記ラック（（０１，１１，１４）は、前記版シリンダ（０７）を担持する固定部（０１）、および前記固定部（０１）に対して移動可能でありかつオーロフ型シリンダ（１２）を担持する第一移動部（１１）を含む凹版印刷機において、
前記第一移動部（１１）および第二移動部（１４）はレール（０４）上に懸架状態で取付けられ、かつ少なくとも一つのシャブロンシリンダ（１３）のインクユニット（１６）が前記ラックの第二移動部（１４）に取付けられていることを特徴とする、凹版印刷機。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２】
少なくとも一つのシャブロンシリンダ（１３）は第一移動部（１１）に取付けられていることを特徴とする、請求項１の凹版印刷機。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月23日(2009.2.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトの個体中で、ヒトＣＤ４を有する細胞を含む細胞集団の移動パターンおよび／または分布パターンを分析するためのin vivo-診断薬を製造するための、抗体Max.１６H５のＦ（ａｂ´）２、Ｆａｂ´及びＦａｂ‐フラグメントから選択される抗体フラグメントおよび抗体Max.１６H５のＦ（ａｂ´）２、Ｆａｂ´及びＦａｂ‐フラグメントから選択される組換え抗体フラグメントから成る群から選択されるヒトＣＤ４分子に特異性を有する標識リガンドの使用。
【請求項２】
抗体フラグメントまたは組換え抗体フラグメントは、モノクロナール抗体フラグメントであるか、またはこれらから由来する、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
抗体フラグメントまたは組換え抗体フラグメントは、SEQ ID NO.1からSEQ ID NO.6に記載される配列を認識し、これに結合する、請求項１または２に記載の使用。
【請求項４】
抗体フラグメントまたは組換え抗体フラグメントは、ヒトＣＤ４のコンフォメーションエピトープを認識し、かつこれに結合する請求項１から３までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】
リガンドの標識は、γ−エミッター、ポジトロンエミッター、磁気材料、密度コントラスト材料およびこれらの混合物から成る群から選択される、請求項１から４までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】
リガンドの標識は、インジウム−１１１、テクネチウム９９ｍ、テクネチウム−９９、ヨウ素−１３２、医学的画像提供法のための他のラジオアイソトープならびにこれらの混合物から成る群から選択される１種以上のラジオアイソトープを含むγ−エミッターである、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
ラジオアイソトープがテクネチウム９９ｍまたはインジウム−１１１である、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
リガンドの標識は、フッ素−１８、炭素−１１、ヨウ素−１２４、医学的画像提供法のための他のアイソトープならびにこれらの混合物から成る群から選択される１種以上のアイソトープを含むポジトロンエミッターである、請求項５に記載の使用。
【請求項９】
リガンドの標識は、ガドリニウム、超常磁性物質、水化酸化鉄粒子、医学的画像提供法のための他の材料ならびにこれらの混合物から成る群から選択される磁気材料を含む、請求項５に記載の使用。
【請求項１０】
標識リガンドは、密度コントラスト材料を含む、請求項５に記載の使用。
【請求項１１】
ヒト−ＣＤ４を有する細胞は、Ｔ−リンパ球、Ｂ−リンパ球、単球、マクロファージ、樹状細胞およびランゲルハンス細胞および好酸性顆粒から成る群から選択される、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項１２】
リンパ球は、非リンパ性細胞を含むグループまたは集団から選択される、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
細胞集団はヒトの個体から由来する、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項１４】
抗体Max.１６H５のＦ（ａｂ´）２、Ｆａｂ´及びＦａｂから選択される抗体フラグメントおよび抗体Max.１６H５のＦ（ａｂ´）２、Ｆａｂ´及びＦａｂから選択される組換え抗体フラグメントからなる群から選択されるＣＤ４分子およびＣＤ４を有する細胞または粒子に特異性を有する標識リガンドを含む組成物。
【請求項１５】
ＣＤ４を有する細胞または粒子は、ヒトＣＤ４を有する細胞または粒子である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
診断薬としての請求項１４または１５に記載の組成物。
【請求項１７】
個体中の移動パターンおよび／または分布パターンを決定するための診断薬を製造するための、請求項１４から１６までのいずれか１項に記載の組成物の使用。
【請求項１８】
ヒト‐ＣＤ４を有する細胞が、臨床的に重要な疾患の程度と進行を決定するためのin vivo-診断薬を製造するための、抗体Max.１６H５のＦ（ａｂ´）２、Ｆａｂ´及びＦａｂから選択される抗体フラグメントおよび抗体Max.１６H５のＦ（ａｂ´）２、Ｆａｂ´及びＦａｂから選択される組換え抗体フラグメントから成る群から選択されるヒトＣＤ４分子に特異性を有する標識リガンドの使用。
【請求項１９】
疾患は、自己免疫疾患、腫瘍疾患、感染症および移植後の反発発症から成る群から選択される、請求項１８に記載の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
さらに天然のヒトＣＤ４のＣＤ４−リガンドは、ヒト免疫不全ウイルス（HIV）のgp120、化学走性サイトカインIL-16、免疫グロブリンである。gp120とMHC-IIの結合部位は、同一ではなく、近くで並んで、部分的にオーバーラップして存在する。HIV gpl20は、主にＣＤ４分子のＤ１ドメインに結合する［Clayton et al., 1989］。HIVによるＣＤ４＋細胞の感染は、細胞表面上のＣＤ４−発現の傷害を招く［Hoxie et al., 1986a］。これにより、APZのMHC-IIと相互作用する感染細胞の能力が低減し、疾患の進行を促進してしまう。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
従って、本発明は、上記先行技術の欠点を克服することに課題の根底を成している。特に、侵襲性診断法を回避してヒトの個体中でヒトＣＤ４発現細胞の移動パターンおよび／または分布パターンを決定できることが本発明の課題である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
図の説明
図１は、マウスとヒトヘルパーＴ−リンパ球の特異的染色のドット−ブロットを示す。ドット−ブロットは、次の二重染色を示している：Ａ．マウス細胞：マウスＣＤ３／マウスＣＤ４（ＧＫ １．５）；Ｂ．ヒトの細胞；ヒトＣＤ３／ヒトＣＤ４（最大１６Ｈ５）；Ｃ．マウス細胞：マウスＣＤ３／ヒトＣＤ４（最大１６Ｈ５）；Ｄ．ヒトの細胞：ヒトのＣＤ３／マウスＣＤ４（ＧＫ１．５）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持構造、及び治療物質：
【化１】
2005512959.tif 000001
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグを含む医療装置。
【請求項２】
前記支持構造が、冠状動脈ステント、末梢血管ステント、カテーテル、動静脈移植片、バイパス移植片及び血管系において使用される薬剤送達バルーンから成る群より選択される、請求項１に記載の医療装置。
【請求項３】
前記支持構造が、前記治療物質を含有する被覆物をさらに含む、請求項１に記載の医療装置。
【請求項４】
前記被覆物がポリマーである、請求項３に記載の医療装置。
【請求項５】
前記ポリマー被覆物が生体安定である、請求項４に記載の医療装置。
【請求項６】
前記ポリマー被覆物が生分解性である、請求項４に記載の医療装置。
【請求項７】
前記治療物質が、
【化２】
2005512959.tif 000002
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグである、請求項１に記載の医療装置。
【請求項８】
前記治療物質が、
【化３】
2005512959.tif 000003
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグである、請求項１に記載の医療装置。
【請求項９】
支持構造、及び治療物質：
【化４】
2005512959.tif 000004
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグを含む医療装置。
【請求項１０】
前記支持構造が、冠状動脈ステント、末梢血管ステント、カテーテル、動静脈移植片、バイパス移植片及び血管系において使用される薬剤送達バルーンから成る群より選択される、請求項９に記載の医療装置。
【請求項１１】
前記支持構造が、前記治療物質を含有する被覆物をさらに含む、請求項９に記載の医療装置。
【請求項１２】
前記被覆物がポリマーである、請求項１１に記載の医療装置。
【請求項１３】
前記ポリマー被覆物が生体安定である、請求項１２に記載の医療装置。
【請求項１４】
前記ポリマー被覆物が生分解性である、請求項１２に記載の医療装置。
【請求項１５】
支持構造、及び治療物質：
【化５】
2005512959.tif 000005
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグを含む医療装置。
【請求項１６】
前記支持構造が、冠状動脈ステント、末梢血管ステント、カテーテル、動静脈移植片、バイパス移植片及び血管系において使用される薬剤送達バルーンから成る群より選択される、請求項１５に記載の医療装置。
【請求項１７】
前記支持構造が、前記治療物質を含有する被覆物をさらに含む、請求項１５に記載の医療装置。
【請求項１８】
前記被覆物がポリマーである、請求項１７に記載の医療装置。
【請求項１９】
前記ポリマー被覆物が生体安定である、請求項１８に記載の医療装置。
【請求項２０】
前記ポリマー被覆物が生分解性である、請求項１８に記載の医療装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【化６】
2005512959.tif 000006
によって表わされる化合物又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグを開示する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【化７】
2005512959.tif 000007
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグを含むが、これらに限定されず、上記化合物は、
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【化８】
2005512959.tif 000008
又は医薬適合性のその塩又はプロドラッグ；
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【化９】
2005512959.tif 000009
の化合物である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【化１０】
2005512959.tif 000010
の化合物である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１２】
前記ラミネートの前記第１の生地が紡糸繊維から形成され、かつ前記第２の生地がメルトブローよる生地である請求項１１に記載の衛生製品。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
好ましくは、シートは、疎水性ポリマー材料がその表面に備わる繊維から形成される生地からなる。生地は織布であり得る。好ましくは、生地は不織布である。適切な不織布は、例えば、（ａ）メルトブロー、（ｂ）紡績（ｓｐｉｎｎｉｎｇ）、（ｃ）湿式または乾式積層（ｌａｙｉｎｇ）、（ｄ）水流交絡（ｈｙｄｒｏｅｎｔａｎｇｌｉｎｇ）及び（ｅ）ニードル・パンチ（ｎｅｅｄｌｅ  ｐｕｎｃｈｉｎｇ）を含む方法により製造できる。繊維は、一体性を有し、かつ満足のゆく性能に必要とされ得る機械的性質を備えるために、紡績及び湿式または乾式積層により製造される生地の繊維を互いに接合することが可能である。紡糸繊維から作られる生地の場合には、該繊維は、特に生地の限定された部分に、熱と圧力を加えることにより互いに接合できる。湿式または乾式積層により作られる生地の場合には、低融点ポリマーを、例えば、独立した繊維として、又は２成分繊維として、主ポリマーと合わせて生地に組み込むことができる。２成分繊維は生地（織布または不織布）の他の繊維と一緒にされるか、又は、該生地は２成分繊維のみから形成され得る。例えば、ポリプロピレンが繊維の主なポリマー成分である生地では、ポリエチレンがこの目的で導入できる。例えば、ポリマー成分が、並行（ｓｉｄｅ  ｂｙ  ｓｉｄｅ）あるいは共軸配列で押し出される２成分繊維は、単一成分繊維より大きな横断面を有することが多く、このことは、いくつかの用途では欠点となり得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
衛生製品のトップシートは、第１の生地（前記のような）と、第２の不織布と、選択的な更なる層とから形成されるラミネートからなり、該ラミネートは３つ、４つ、５つまたはそれ以上の生地からなる。生地の少なくとも１つが、または、好ましくは該生地の各々が、既に記載された特徴を備え得る。好ましい構成では、ラミネートの第１の生地は、紡糸繊維からなり、第２の生地はメルトブローによる生地からなり得る。好ましくは、第２の生地の繊維の平均太さは約８μｍ以下である。トップシートが第１及び第２の生地からなる場合、第２の生地の繊維重量のラミネート全体の繊維重量に対する比が、少なくとも約０．１であることが好ましいであろう。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
トップシートが３つ以上の生地層からなる場合、外側層が紡糸繊維（例えば、スパンボンド繊維）からなり、それらの間の層、あるいはそれらの間の少なくとも１つの層がメルトブローによる繊維であることが好ましい。例えば、トップシートが４つの不織布層からなる場合、生地は、スパンボンド：メルトブロー：メルトブロー：スパンボンドの順に配列され得る。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０１】
日本のニッポン高度紙工業株式会社（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋｏｄｏｓｈｉ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）により供給されるポリプロピレン紡糸繊維不織布を選択した。この生地は４６ｇ・ｍ−２の基本重量と１００μｍの公称厚さを備えていた。平均繊維径は１１．３μｍであった。生地の繊維の表面積は３９００ｃｍ２・ｇ−１であった。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年7月2日(2009.7.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本発明の一実施形態によると、マイクロキャリアに結合された接着細胞の培養物が、コンフルエンスまで増殖され、そしてそのコンフルエントなバイオマスの細胞密度およびマイクロキャリア濃度が増加する前に、ウイルス感染される。容積当り高い細胞密度が該培養物の濃縮前または濃縮後に感染させられるどちらの場合でも、培地の容積を再び増加させることなく、ウイルス増殖および生産プロセスの間バイオマス中の細胞密度およびマイクロキャリア濃度がコンスタントに保たれる。ウイルスに感染していないかまたはウイルスに感染しているかのいずれかである細胞培養物バイオマス中の細胞密度およびマイクロキャリア濃度を増加させるために使用される方法は、細胞培養物を濃縮するために当該分野で公知の任意の方法であり得る。これは、例えば、沈降、遠心分離、濾過、作業容積の減少を許容するふるいに似た灌流装置での濃縮のような方法により、または２つ以上のバイオリアクターシステムをプールすることによって行われる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
本発明の目的の１つは、嚥下障害患者の嚥下動作を容易にするための適合化食品組成物を調製する方法であって、その方法が
ａ）食品材料を変換して変換食品材料とし、またこの変換食品材料のレオロジープロフィールの調節が可能な結着化合物および／またはゲル化化合物および／または増粘化合物を少なくとも１種類混合することを可能にし、
ｂ）適合化食品組成物を得るためにこの変換された食品材料のレオロジープロフィールを調節することを目的として結合化合物および／またはゲル化化合物および／または増粘化合物を少なくとも１種類添加し、かつ
ｃ）工程ｂ）の適合化食品組成物に対しその該当する変換前の食品に等しい形態の配膳時レオロジープロフィールおよび物理的特性をもたらす工程を含み、 
このレオロジープロフィールあるいは維持しているレオロジープロフィールが硬度、凝集性、弾力性、接着性、糊状性、咀嚼性および濃密度として定義されるレオロジーパラメータの組み合わせからなる方法を提供することである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
また、結着化合物および／またはゲル化化合物および／または増粘化合物は、蛋白質、カラギーナン、デンプン、ガム質、ゼラチン、および／またはその他のおよび／または結着剤および／またはゲル化剤および／または増粘剤よりなる群より選択されることもある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月26日(2009.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の縁を研磨するように適応される装置において、
研磨膜の少なくとも第１の長さに張力をかけるように適応されるフレームと、
上記第１の長さの一部分に沿って上記研磨膜に対して上記基板を回転させるように適応される基板回転駆動装置であって、上記研磨膜が、
上記基板に張力を付与し、
少なくとも外縁及び第１斜面を含む上記基板の縁に輪郭合わせし、
上記基板が回転されるときに上記外縁及び第１斜面を研磨する、
ように適応される基板回転駆動装置と、
を備えた装置。
【請求項２】
上記フレームは、上記研磨膜のための供給スプールと巻き取りスプールを含み、更に、上記フレームは、上記基板に接触する上記研磨膜の部分を交換できるように適応される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
上記研磨膜は、上記供給スプールと上記巻き取りスプールとの間で長手方向に延び、更に、上記基板回転駆動装置は、上記研磨膜の上記長手方向に上記基板の上記縁を移動する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
上記研磨膜及び上記フレームは、交換可能なカセットに収容される、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
上記フレームは、上記研磨膜を上記基板の外縁、第１斜面及び第２斜面に接触させるために、上記基板の上記外縁に接する軸の周りで上記研磨膜を角度的に並進移動するよう適応される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
上記フレームは、更に、上記基板に対し、上記基板の上記縁の周りで上記研磨膜を周囲方向に回転させるように適応される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
流体供給チャンネルを更に備え、該流体供給チャンネルは、上記基板の上記縁へ流体を送出するように適応される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
上記流体供給チャンネルは、更に、上記研磨膜を経て上記基板の上記縁に流体を送出するように適応される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
上記流体供給チャンネルは、上記基板の上記縁に音波エネルギーを送出するように適応される、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
基板の縁を研磨するように適応される装置において、
各研磨膜の少なくとも第１の長さに沿って複数の研磨膜に張力をかけるよう適応される少なくとも１つのフレームと、
少なくとも１つの上記研磨膜の第１の長さの一部分に対して基板を回転させて、上記基板に接触する研磨膜が、基板に圧力を付与し、上記基板の縁に輪郭合わせし、更に、上記基板が回転されるときに上記縁を研磨するように適応された基板回転駆動装置と、
を備えた装置。
【請求項１１】
少なくとも１つのフレームは、複数のヘッドを備え、各ヘッドは、少なくとも１つの研磨膜を支持するように適応され、更に、上記ヘッドは、支持された研磨膜を上記基板の縁に接触させるよう適応される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
各研磨膜及び各ヘッドは交換可能なカセットに収容される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
基板の縁を洗浄する方法において、
フレームで研磨膜において張力をかけるステップと、
上記研磨膜を基板の縁に対して接触させるステップと、
外縁及び少なくとも１つの斜面を含む上記基板の上記縁に上記研磨膜を適合させるステップと、
上記研磨膜を上記基板と接触したまま上記基板を回転させるステップと、
を備えた方法。
【請求項１４】
研磨側及び第２の側部を有する研磨膜を用いて、基板の縁を研磨するよう適応される装置において、
上記研磨膜の上記第２の側部に隣接して配置されるように適応される膨張可能なパッドと、
上記研磨膜及び膨張可能な上記パッドを支持するように適応されるフレームと、
上記研磨膜の上記研磨側に対して上記基板を回転させるよう適応される基板回転駆動装置と、
を備え、
上記研磨膜は、上記基板の縁と膨張可能な上記パッドとの間に配置されて、上記研磨膜が上記基板の縁に接触した状態で膨張可能な上記パッド及び上記研磨膜が上記基板の縁に輪郭合わせするようにした装置。
【請求項１５】
基板の縁を洗浄する方法において、
研磨膜を支持するステップと、
上記研磨膜を基板の縁に対して接触させるステップと、
外縁及び少なくとも１つの斜面を含む上記基板の上記縁に上記研磨膜を適合させるステップと、
上記研磨膜を上記基板に接触したままで上記基板を回転させるステップと、
を備えた方法。
【請求項１６】
研磨材側及び後ろ側を有する研磨膜を有する研磨膜を用いて、基板の縁を研磨するように適応される装置において、
上記研磨膜の後ろ側に隣接して配置されるように適応される輪郭合わせされたパッドと、
上記研磨膜及び上記輪郭合わせされたパッドを支持するように適応されるフレームと、
上記研磨膜の上記研磨側に対して基板を回転させるように適応される基板回転駆動装置と、
を備え、
上記研磨膜は、上記基板の縁と上記輪郭合わせされたパッドとの間に配置され、上記研磨膜が上記基板の縁に接触した状態で上記輪郭合わせされたパッド及び上記研磨膜が上記基板の縁に輪郭合わせするようにした装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月18日(2009.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気密性のハウジング（４１；５１）と、電解質溶液中に浸漬された電極（５２，５２’，．．．）と、当該電極に接続された電気接点（５４；５４’）と、有害物質を収着するための１種又は２種以上のゲッター材料の粒子（１１）を含むポリマー材料の内層（１２；２２；３３）及び前記電解質に不浸透性であるポリマー材料の少なくとも１つの外部保護層（１３；２３，２３’；３４）から構成される複層ポリマーシートの形状の有害物質を収着するための手段（１０；２０；３２；４３；５３）とを含む電解キャパシタ（４０；５０）であって、
全ての前記ポリマー材料が、前記有害物質に対する透過性を有し、
前記有害物質が水素を含む場合には、前記ゲッター材料が、不揮発性ゲッター合金、不飽和有機化合物、シルバーデポジットを有するゼオライト、カーボンナノチューブ、酸化パラジウム又は酸化コバルト（ＩＩ，ＩＩＩ）から選択され；
前記有害物質がＨ２Ｏを含む場合には、前記ゲッター材料が、酸化アルカリ土類金属、酸化ホウ素及びゼオライトの中の１種又は２種以上の化合物を含み；
前記有害物質がＣＯを含む場合には、前記ゲッター材料が、次の化合物：
酸化コバルト（ＩＩ，ＩＩＩ）、酸化銅（ＩＩ）及び過マンガン酸カリウム
の１種又は２種以上を含む、
ことを特徴とする電解キャパシタ（４０；５０）。
【請求項２】
前記外部保護層が、前記内層の端部（２４；３５）と最大限離れて前記内層を完全に覆うことを特徴とする、請求項１に記載の電解キャパシタ。
【請求項３】
前記保護層と、１種又は２種以上のゲッター材料の粒子を含むポリマー材料の内層とが、ポリオレフィン及びポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）から選択された材料で製造された、請求項１又は２に記載の電解キャパシタ。
【請求項４】
前記不揮発性ゲッター合金が、ジルコニウム−バナジウム−鉄合金及びジルコニウム−コバルト−希土類合金から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の電解キャパシタ。
【請求項５】
水素化触媒をさらに含む、請求項４に記載の電解キャパシタ。
【請求項６】
前記ゲッター材料が、Ｈ２Ｏを除去するためのゲッター材料と共に用いられている、請求項４に記載の電解キャパシタ。
【請求項７】
前記ゲッター材料が、ＣＯ２を除去するためのゲッター材料と共に用いられている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の電解キャパシタ。
【請求項８】
前記少なくとも１つの保護ポリマー層の厚さが、１〜５０μｍを構成する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の電解キャパシタ。
【請求項９】
前記ゲッター材料を含むポリマー材料の前記内層が、５〜２００μｍを構成する厚さを有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の電解キャパシタ。
【請求項１０】
前記複層ポリマーシートが、前記気密性のハウジングの内壁の１つ又は２つ以上に沿って置かれている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の電解キャパシタ。