Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月15日(2009.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パケット・データ通信システムであって、
第１プロトコルを用いて移動体ノードと通信するパケット・データ配給ノード（ＰＤＳＮ）と、
前記パケット・データ配給ノードに結合されており、第２プロトコルを用いるネットワーク・コアと、
前記ネットワーク・コアに結合されているホーム・エージェント（ＨＡ）であって、第２プロトコルを用いるネットワーク・コアを介して、第１プロトコルのパケット・データを交換するために、前記ＰＤＳＮと前記ＨＡとの間に、トンネルを確立する、ホーム・エージェントと、
前記ネットワーク・コアに結合されている第２ＰＤＳＮであって、前記移動体ノードが前記ＰＤＳＮから前記第２ＰＤＳＮに移動するときに、前記移動体ノードが同じアドレスを維持する、第２ＰＤＳＮと、
を備えている、パケット・データ通信システム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムにおいて、前記移動体ノードは、ＩＰｖ６およびＭＩＰｖ６のうち少なくとも１つを用いる、システム。
【請求項３】
請求項１記載のシステムにおいて、前記移動体ノードに一意のホーム・リンク・プレフィックスを割り当てる、システム。
【請求項４】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＰＤＳＮはホーム・アドレスを前記ホーム・エージェントから受信する、システム。
【請求項５】
請求項４記載のシステムにおいて、前記ＰＤＳＮは前記ホーム・アドレスからホーム・リンク・プレフィックスを抽出する、システム。
【請求項６】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＰＤＳＮはＩＰｖ６パケット・データ・ユニットを受信し、前記ＰＤＳＮは前記ＩＰｖ６パケットをＩＰｖ４パケットにカプセル化して、該ＩＰｖ４パケットを前記ホーム・エージェントに送る、システム。
【請求項７】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＰＤＳＮはプロキシ・モバイルＩＰ（ＰＭＩＰ）を用いて、前記ホーム・エージェントと双方向に通信する、システム。
【請求項８】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ホーム・エージェントは、ＩＰｖ６ホーム・アドレスおよび外部エージェントＩＰｖ４気付アドレスのために、ＭＩＰ登録バインディングを保持する、システム。
【請求項９】
パケット・データ通信方法であって、
アドレスを移動体ノードに割り当てるステップと、
第２プロトコルを用いるネットワーク・コアを介して第１プロトコルのパケット・データを交換するために、パケット・データ配給ノード（ＰＤＳＮ）からホーム・エージェントにトンネルを確立するステップと、
前記移動体ノードが第２ＰＤＳＮに移動し、前記ＰＤＳＮから前記第２ＰＤＳＮへのハンドオフが発生したときに、同じアドレスを前記移動体ノードに割り当てるステップと、
パケット・データを交換するために、前記第２パケット・データ配給ノードから前記ホーム・エージェントに前記トンネルを確立するステップと、
を備えている、パケット・データ通信方法。
【請求項１０】
請求項９記載の方法において、アドレスの割り当ては、ＩＰｖ６およびＭＩＰｖ６の一方を用いることを含む、方法。
【請求項１１】
請求項９記載の方法であって、更に、前記ホーム・エージェントから前記移動体ノードに一意のホーム・リンク・プレフィックスを割り当てるステップを備えている、方法。
【請求項１２】
請求項９記載の方法であって、更に、前記ホーム・エージェントからホーム・アドレスを割り当てるステップを備えている、方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法であって、更に、前記ホーム・アドレスからホーム・リンク・プレフィックスを抽出するステップを備えている、方法。
【請求項１４】
請求項９記載の方法であって、更に、
前記移動体ノードからＩＰｖ６パケット・データ・ユニットを受信するステップと、
前記ＩＰｖ６パケットをＩＰｖ４パケットにカプセル化するステップと、
前記ＩＰｖ４パケットを前記ホーム・エージェントに送るステップと、
を備えている、方法。
【請求項１５】
請求項９記載の方法において、前記トンネルの確立は、双方向プロキシ・モバイルＩＰ（ＰＭＩＰ）トンネルを用いることを伴う、方法。
【請求項１６】
請求項９記載の方法であって、更に、前記ホーム・エージェント上において、ＩＰｖ６ホーム・アドレスおよび外部エージェントＩＰｖ４気付アドレスのためにＭＩＰ登録バインディングを格納するステップを備えている、方法。
【請求項１７】
パケット・データ通信システムであって、
第１プロトコルを用いて移動体ノードと通信する手段と、
前記通信手段に結合されており、第２プロトコルを用いるネットワーク・コアと、
前記ネットワーク・コアに結合されているホーム・ルーティング提供手段であって、第２プロトコルを用いるネットワーク・コアを介して、第１プロトコルのパケット・データを交換するために、前記通信手段と前記ホーム・ルーティング提供手段との間に、トンネルを確立する、ホーム・ルーティング提供手段と、
前記ネットワーク・コアに結合されている第２通信手段であって、前記移動体ノードが前記通信手段から前記第２通信手段に移動するときに、前記移動体ノードが同じアドレスを維持する、第２手段と、
を備えている、パケット・データ通信システム。
【請求項１８】
請求項１７記載のシステムにおいて、前記移動体ノードは、ＩＰｖ６およびＭＩＰｖ６のうち少なくとも１つを用いる、システム。
【請求項１９】
請求項１７記載のシステムにおいて、前記通信手段は、プロキシ・モバイルＩＰ（ＰＭＩＰ）を用いて、前記ホーム・ルーティング提供手段と双方向に通信する、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）研磨パッド、研削剤、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、研磨成分、
（ｂ）０．１ｗｔ％以上のＳｉＯ２を提供するのに十分な量の、水溶性ケイ酸塩化合物、
（ｃ）基材の少なくとも一部を酸化する、酸化剤、および
（ｄ）水、
を含んでなり、ｐＨが８〜１２である、基材を研磨するための化学−機械研磨系。
【請求項２】
水溶性ケイ酸塩化合物が、ケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、およびメタケイ酸ナトリウムからなる群から選択される、請求項１に記載の研磨系。
【請求項３】
ケイ酸カリウムが、２．８〜３．９のＳｉＯ２：Ｋ２Ｏモル比を有する、請求項２に記載の研磨系。
【請求項４】
酸化剤が、過酸化水素、ヨウ素酸塩、過マンガン酸塩、過硫酸塩、ペルオキソモノ硫酸水素硫酸塩、モリブデン酸塩、硝酸（第二）鉄、硝酸塩、キノン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の研磨系。
【請求項５】
研磨系がさらに研削材を含み、ここで研削材が水中に懸濁する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の研磨系。
【請求項６】
研削材が、アルミナ、セリア、シリカ、ジルコニア、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項５に記載の研磨系。
【請求項７】
研磨系が研磨パッドおよび研削材を含み、ここで研削材は研磨パッドに固定される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の研磨系。
【請求項８】
水溶性ケイ酸塩化合物が、０．５ｗｔ％以上の量で存在する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の研磨系。
【請求項９】
（ｉ）（ａ）研磨パッド、研削剤、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、研磨成分、
（ｂ）０．１ｗｔ％以上のＳｉＯ２を提供するのに十分な量の、水溶性ケイ酸塩化合物；
（ｃ）基材の少なくとも一部を酸化する、酸化剤；および、
（ｄ）水、
を含む化学−機械研磨系と基材を接触させること、ならびに
（ｉｉ）基材の少なくとも一部を摩耗させて、基材を研磨すること、
を含んでなる、基材を化学的−機械的に研磨する方法であって、
ここで研磨系のｐＨが８〜１２である、方法。
【請求項１０】
水溶性ケイ酸塩化合物が、ケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、およびメタケイ酸ナトリウムからなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ケイ酸カリウムが、２．８〜３．９のＳｉＯ２：Ｋ２Ｏモル比を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
酸化剤が、過酸化水素、ヨウ素酸塩、過マンガン酸塩、過硫酸塩、ペルオキソモノ硫酸水素硫酸塩、モリブデン酸塩、硝酸（第二）鉄、硝酸塩、キノン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
研磨系がさらに研削材を含み、ここで研削材が水中に懸濁する、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
研削材が、アルミナ、セリア、シリカ、ジルコニア、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
研磨系が研磨パッドおよび研削材を含み、ここで研削材は研磨パッドに固定される、請求項９〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
水溶性ケイ酸塩化合物が、０．５ｗｔ％以上の量で存在する、請求項９〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
基材が金属層を含んでなる、請求項９〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
金属層がタンタルを含んでなる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
金属層がさらに銅を含んでなる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
基材が、誘電率が３．５以下の誘電層を含んでなる、請求項９〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
誘電層が有機的に修飾されたシリコンガラスである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
誘電層が炭素ドープした二酸化ケイ素である、請求項２０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月26日(2009.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスまたはガラスセラミック基板上に半導体を形成する方法であって、
複数のドナー半導体ウェハーのそれぞれの第１の表面をガラスまたはガラスセラミック基板と接触させる工程、
前記複数のドナー半導体ウェハーの第１の表面を、電解法を用いて前記ガラスまたはガラスセラミック基板に結合する工程、
前記ガラスまたはガラスセラミック基板から前記複数のドナー半導体ウェハーを分離し、該ガラスまたはガラスセラミック基板に結合したそれぞれの剥離層を残す工程、および
前記剥離層の露出表面上にさらに別の半導体層を成膜して、該剥離層の厚さを増す工程、
を有してなり、
前記さらに別の半導体層を成膜する工程により、前記ガラスまたはガラスセラミック基板に結合された実質的に均一な単結晶半導体層が得られることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記さらに別の半導体層を成膜する工程が：
前記剥離層上の少なくとも１μｍの半導体材料、
前記剥離層上の約１から５０μｍの半導体材料、および
前記剥離層上の約５０から１００μｍの半導体材料、
の内の１つを成膜する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
隣接する剥離層の間の少なくともいくつかの空隙を充填する工程、および
隣接する剥離層の間の少なくともいくつかの空隙を、前記さらに別の半導体層の少なくともある程度に、横方向のエピタキシーによりそのような空隙を少なくとも部分的に充填させることによって、充填する工程、
の内の少なくとも１つをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
イオン注入を行うことにより前記それぞれの剥離層を形成して、前記それぞれのドナー半導体ウェハーの第１の表面の下にそれぞれの弱化区域を形成する工程、
前記ガラスまたはガラスセラミック基板および前記半導体ウェハーの内の少なくとも一方を加熱する工程、
圧力を印加して、前記ガラスまたはガラスセラミック基板を前記ドナー半導体ウェハーと直接的または間接的に接触させる工程、および
前記ガラスまたはガラスセラミック基板および前記ドナー半導体ウェハーに亘り電圧を印加して、前記結合を誘発させる工程、
をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記複数のドナー半導体ウェハーの第１の第１の表面を前記ガラスまたはガラスセラミック基板に結合させる前に、該複数のドナー半導体ウェハーのそれぞれの第２の表面を導電性支持基板上に結合させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記ドナー半導体ウェハーのそれぞれ新たに露出された第１の表面を研磨する工程、
イオン注入を行うことによりそれぞれの剥離層を形成して、前記それぞれのドナー半導体ウェハーの前記新たに露出された第１の表面の下にそれぞれの弱化区域を形成する工程、
電解法を用いて、前記複数のドナー半導体ウェハーの第２の表面を別のガラスまたはガラスセラミック基板に結合させる工程、
前記もう一方のガラスまたはガラスセラミック基板から前記複数のドナー半導体ウェハーを分離して、該もう一方のガラスまたはガラスセラミック基板に結合したそれぞれの剥離層を残す工程、および
前記剥離層の露出表面上にさらに別の半導体層を成膜して、該剥離層の厚さを増加させる工程、
をさらに含むことを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
絶縁体上半導体（ＳＯＩ）装置であって、
ガラス材料およびガラスセラミック材料の少なくとも一方から形成された基板、
電解法により前記基板上に結合した複数の半導体剥離層、および
前記半導体剥離層上に成膜されたさらに別の半導体層、
を備え、
前記さらに別の半導体層が前記半導体剥離層の厚さを増加させることを特徴とする装置。
【請求項８】
前記さらに別の半導体層の厚さが、少なくとも１μｍ、約１から５０μｍ、約５０から１００μｍの内の１つであることを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記半導体剥離層が前記基板の実質的に全てに重なっていることを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項１０】
前記半導体剥離層が前記基板の一部のみに重なっていることを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項１１】
前記半導体剥離層の少なくともいくつかが互いにから横方向にずれており、それらの間に１つ以上の空隙を画成し、
さらに別のエピタキシャル半導体層が、前記半導体剥離層上に成膜され、隣接する前記半導体剥離層の間の前記空隙の少なくともいくつかを少なくとも部分的に充填する、
ことを特徴とする請求項７記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月22日(2009.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シアン化されていないナフタレン核、及び当該化合物中の各イミド窒素に直接的に結合された、それぞれ環炭素4〜10個の第1及び第2の脂環式系を有するN,N'-ジシクロアルキル置換型ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を含む有機半導体材料から成る薄膜を、薄膜トランジスタ内に含む物品であって、
該脂環式系及び該ナフタレン核のそれぞれの上に独立して、任意選択的に1つ又は2つ以上の置換基が在り、
該化合物中の各脂環式系上の任意の置換基は、少なくとも1つの電子供与有機置換基を含む。
【請求項２】
該有機半導体材料薄膜が、下記構造：
【化１】
2009516930.tif 000001
（上記式中、上記構造内の該2つのシクロヘキシル環のうちの第1の環上の、R1、R2、R3、R4、及びR5、そして該2つのシクロヘキシル環のうちの第2の環上の、R6、R7、R8、R9、及びR10はそれぞれ独立して、H又は有機置換基であり、任意選択的に環系上のいずれか2つの隣接するR基が結合して架橋された脂環式系の一部として置換型又は無置換型の4〜7員環を形成することができることを許し、該化合物中の脂環式系上の任意の置換基は、少なくとも1つの電子供与有機基を含み；そしてYは、電子求引性ではなく、且つ該有機半導体材料の有効な半導体特性に不都合な影響を及ぼさない置換基であり、そしてmは0〜4である）
によって表されるN,N'-ジシクロアルキル置換型1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を含む請求項1に記載の物品。
【請求項３】
薄膜半導体デバイスの製作方法であって、必ずしも下記順序通りではなく、
(a)  シアン化されていないナフタレン核、及び当該化合物中の各イミド窒素に直接的に結合された、それぞれ環炭素4〜10個の第1及び第2の脂環式系を有するN,N'-ジシクロアルキル置換型ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を含む有機半導体材料から成る薄膜を基板上に堆積させる工程、
該脂環式系及び該ナフタレン核のそれぞれの上に独立して、任意選択的に1つ又は2つ以上の置換基が在り、存在する場合は、該任意選択の置換基は、nチャネル有機半導体材料から成る薄膜を、該有機半導体材料が0.01 cm2/Vsを上回る電界効果電子移動度を示すように、少なくとも1つの電子供与有機置換基を含む；
(b)  離隔されたソース電極とドレイン電極とを形成する工程、
該ソース電極とドレイン電極とは、nチャネル半導体膜によって分離され、そして該nチャネル半導体膜と電気的に接続される；及び
(c)  該有機半導体材料から離隔されたゲート電極を形成する工程
を含んで成る薄膜半導体デバイスの製作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月11日(2009.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
単位体積あたりのセラミックス含有量が異なる一連の誘電体レンズ製造用発泡成形体の製造方法であって、
各々同一の重量％セラミックス含有量を持つ、セラミックス含有樹脂粒子群を用意する工程、
該樹脂粒子をＰ群に分け、それぞれの群のセラミックス含有樹脂粒子を異なる発泡倍率で発泡させて、見かけ密度が異なるＰ群の発泡粒子を得る工程、
Ｐ群の発泡粒子の内のＱ群（１≦Ｑ≦Ｐ）の発泡粒子を選択し、Ｑ群の発泡粒子を見かけ密度調整処理して、見かけ密度が異なるＲ群（Ｒ≧１）の発泡粒子を得、これにより見かけ密度の異なる合計（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）群の、未処理及び処理した、見かけ密度の標準偏差が０．１ｇ／ｃｍ３以下及び重量の標準偏差が０．５ｍｇ以下である発泡粒子を得る工程、
（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）種類の発泡粒子群をそれぞれ異なる寸法のモールド腔を持つ異なる金型を用いて成形して、単位体積あたりのセラミックス重量が異なる（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）種類の成形体を得る工程、からなる製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、
半球形状の外表面を持つ半球形状の中芯層と、
各々同心半球形状の内表面と外表面を持つ複数の半球形状ドーム層とから構成される半球形状の誘電体レンズであって、
中芯層及び各ドーム層の外表面は異なる外径を持ち、各ドーム層の内表面は異なる内径を持ち、
中芯層と各ドーム層は順次互いに同心的に嵌合一体化されて半球形状とされ、
中芯層はセラミックスを含有する熱可塑性樹脂発泡粒子成形体からなり、
各ドーム層は０〜８０重量％のセラミックスを含有する熱可塑性樹脂発泡粒子成形体からなり、
中芯層及び各ドーム層の単位体積あたりのセラミックス含有量は、中芯層から最外層のドーム層に向かって小さくなっており、
中芯層及びドーム層の各々において、その見かけ密度の標準偏差は０．０７ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする誘電体レンズが提供される。
本発明はまた、
球形状の外表面を持つ球形状の芯と、
各々同心球形状の内表面と外表面を持つ複数の中空球形状殻とから構成される球形状の誘電体レンズであって、
芯及び各殻の外表面は異なる外径を持ち、各殻の内表面は異なる内径を持ち、
芯と各殻は順次互いに同心的に嵌合一体化されて球形状とされ、
芯はセラミックスを含有する熱可塑性樹脂発泡粒子成形体からなり、
各殻は０〜８０重量％のセラミックスを含有する熱可塑性樹脂発泡粒子成形体からなり、
芯及び各殻の単位体積あたりのセラミックス含有量は、芯から最外殻に向かって小さくなっており、
芯及び殻の各々において、その見かけ密度の標準偏差は０．０７ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする誘電体レンズを提供するものである。
本発明は、更に、
単位体積あたりのセラミックス含有量が異なる一連の誘電体レンズ製造用発泡成形体の製造方法であって、
各々同一の重量％セラミックス含有量を持つ、セラミックス含有樹脂粒子群を用意する工程、
該樹脂粒子をＰ群に分け、それぞれの群のセラミックス含有樹脂粒子を異なる発泡倍率で発泡させて、見かけ密度が異なるＰ群の発泡粒子を得る工程、
Ｐ群の発泡粒子の内のＱ群（１≦Ｑ≦Ｐ）の発泡粒子を選択し、Ｑ群の発泡粒子を見かけ密度調整処理して、見かけ密度が異なるＲ群（Ｒ≧１）の発泡粒子を得、これにより見かけ密度の異なる合計（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）群の、未処理及び処理した、見かけ密度の標準偏差が０．１ｇ／ｃｍ３以下及び重量の標準偏差が０．５ｍｇである発泡粒子を得る工程、
（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）種類の発泡粒子を異なる寸法のモールド腔を持つ異なる金型を用いて成形して、単位体積あたりのセラミックス重量が異なる（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）種類の成形体を得る工程、からなる製造方法を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
単位体積あたりのセラミックス含量の差が異なる一連の発泡粒子成形体は次の方法により好ましく製造される。先ず、各々同一の重量％セラミックス含有量を持つ、セラミックス含有樹脂粒子を用意する。該樹脂粒子をＰ群に分け、それぞれの群のセラミックス含有樹脂粒子を異なる発泡倍率で発泡させて、見かけ密度が異なるＰ群の発泡粒子を得る。次に、Ｐ群の発泡粒子の内のＱ群（１≦Ｑ≦Ｐ）の発泡粒子を選択し、Ｑ群の発泡粒子を見かけ密度調整処理して、見かけ密度が異なるＲ群（Ｒ≧１）の発泡粒子を得る。これにより見かけ密度の異なる合計（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）群の、未処理及び処理した、見かけ密度の標準偏差が０．１ｇ／ｃｍ３以下及び重量の標準偏差が０．５ｍｇ以下である発泡粒子を得る。（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）種類の発泡粒子群をそれぞれ異なる寸法のモールド腔を持つ異なる金型を用いて成形して、単位体積あたりのセラミックス重量が異なる（Ｐ−Ｑ＋Ｒ）種類の成形体を得る。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月2日(2009.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面、コアおよび底面を含む平面部と、補足的な端部と、各端に沿ったパネルロック用アセンブリとを有してなり、パネルロック用アセンブリは、端からコア内に延在するロック装置、コネクタ、およびロック装置に隣接するアンカーエレメントを有し、アンカーエレメントは底面まで延在すると共に上面と同一平面または上面より低い最上部を有し、アンカーエレメントは第１のコネクタ受容部と第１のコネクタ受容部から離間した第２のコネクタ受容部とを規定し、各コネクタ受容部が少なくとも２つのオリフィスを規定し、アンカーエレメントをロック装置に取付けるためにコネクタがロック装置とアンカーエレメントに係合する、ことを特徴とする携帯型床パネル。
【請求項２】
アンカーエレメントが、平面部内に挿入された際に、アンカーエレメントの内部に空隙を規定する、請求項１記載の床パネル。
【請求項３】
パネルが、突出した端部材を有してなり、この端部材がロック装置を受容するオリフィスを規定する、請求項１記載の床パネル。
【請求項４】
パネルの上面が天然の木目の外観を有し、およびパネルの上面の木目がロック装置を位置合わせするための目印位置を規定する、請求項１記載の床パネル。
【請求項５】
アンカーエレメントが、底面の一部の上に延在する部分を備えたフランジを含んでいる、請求項１記載の床パネル。
【請求項６】
平面部が、アンカーエレメントを受容するための、底面とコアを通して形成されたスロットを規定する、請求項１記載の床パネル。
【請求項７】
パネルが、突出した端部材を有してなり、この端部材がロック装置を受容するためのオリフィスを規定する、請求項６記載の床パネル。
【請求項８】
平面部が、その側部に形成された、ロック装置を受容する凹部を規定する、請求項６記載の床パネル。
【請求項９】
パネルが、突出した端部材を有してなり、この端部材が、平面部の側部に形成されたオリフィスと位置合わせされ且つロック装置を受容するオリフィスを規定する、請求項８記載の床パネル。
【請求項１０】
アンカーエレメントがナイロンからなる、請求項１記載の床パネル。
【請求項１１】
上面、コアおよび底面を含む平面部と、補足的な端部と、各端に沿ったパネルロック用アセンブリとを有してなり、パネルロック用アセンブリは、端からコア内に延在するロック装置、コネクタ、およびロック装置に隣接し且つパネルの凹部内に嵌込まれると共に一体的な交差する垂直リブと水平リブを有してなるアンカーエレメントを有し、アンカーエレメントは底面まで延在すると共に上面と同一平面または上面より低い最上部を有し、アンカーエレメントはコネクタ受容部を有し、アンカーエレメントをロック装置に取付けるためにコネクタがロック装置とアンカーエレメントに係合する、ことを特徴とする携帯型床システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
舗装道路表面を提供する工程と、
前記舗装道路表面に舗装道路路面マーカーを適用する工程とを含む舗装道路表面にマーキングする方法であって、前記舗装道路路面マーカーがバインダ内に少なくとも部分的に埋め込まれる透明なミクロスフェアを備え、前記ミクロスフェアの少なくとも一部が、
少なくとも２．１０の屈折率を有し、
並びに少なくとも４０重量％のＴｉＯ２
および少なくとも１０重量％のＬａ２Ｏ３を含む、方法。
【請求項２】
前記一部の前記ミクロスフェアが、少なくとも２．３０の屈折率を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記一部の前記ミクロスフェアが、ガラス−セラミック構造を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記一部の前記ミクロスフェアが、少なくとも２５重量％のＬａ２Ｏ３を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記一部の前記ミクロスフェアが、５重量％〜１５重量％のＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＴｈＯ２又はこれらの混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記一部の前記ミクロスフェアが、
４５重量％〜７０重量％のＴｉＯ２と、
２０重量％〜５５重量％のＬａ２Ｏ３と、
５重量％〜２５重量％のＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＴｈＯ２又はこれらの混合物とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記一部の前記ミクロスフェアが、少なくとも９０重量％のＴｉＯ２、Ｌａ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２又はＴｈＯ２からなる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記一部の前記ミクロスフェアが、
６０重量％〜６５重量％のＴｉＯ２と、
２５重量％〜３５重量％のＬａ２Ｏ３と、
５重量％〜１５重量％のＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＴｈＯ２又はこれらの混合物とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ミクロスフェアが、再帰反射素子に埋め込まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記舗装道路路面マーカーが、接着剤および所望により裏材を更に含むテープであり、前記接着剤が、前記舗装道路表面と接触する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
４５重量％〜７０重量％のＴｉＯ２と、
２０重量％〜４５重量％のランタニド系列元素の酸化物類から選択される１つ以上の金属酸化物と、
５重量％〜２５重量％のＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＴｈＯ２又はこれらの混合物とを含む組成物を有し、少なくとも２．１０の屈折率を有する固体ガラス材料。
【請求項１２】
４５重量％〜７０重量％のＴｉＯ２と、
２０重量％〜４５重量％のランタニド系列元素の酸化物類から選択される１つ以上の金属酸化物と、
５重量％〜２５重量％のＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＴｈＯ２又はこれらの混合物とを含む組成物を有し、少なくとも２．１０の屈折率を有するガラス−セラミック材料。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
削岩用穿孔装置（２）に用いるスラックオフ装置（２４）であって、削岩用穿孔装置（２）が、ネジ継手によってドリルストリング（１０）を連結するようにされた削岩機（４）を備え、前記ドリルストリング（１０）が、ネジ継手によって互いに連結するようにされた任意の数の穿孔ロッド（１２、１４、１６）を備え、また前記削岩用穿孔装置（２）が、ドリルストリング（１０）を順方向に回転させたり逆方向に回転させたりする駆動装置を備えているスラックオフ装置において、
ドリルストリング（１０）を締付けるように構成した締付け装置（２５）と、
ドリルストリング（１０）の逆方向回転中に前記ネジ継手の任意の第１のネジ継手（３２）を、ドリルストリング（１０）の長手方向に向かって主として７５°〜１０５°の角度で打撃するように構成した別個の打撃装置（３３）と
を有し、
ネジ緩め回転方向において、ドリルストリング（１０）において押圧トルクが得られ、第１のネジ継手（３２）を緩めるように構成したこと
を特徴とするスラックオフ装置。
【請求項２】
締付け装置（２５）が、ドリルストリング（１０）に向かって主として半径方向に締付けることを特徴とする請求項１に記載のスラックオフ装置。
【請求項３】
打撃装置（３３）の打撃運動及び締付け装置（２５）の半径方向締付け方向が主に互いに垂直であることを特徴とする請求項１に記載のスラックオフ装置。
【請求項４】
締付け装置（２５）が、二つの相対したサイドコレットジョー（２６、２７）を備え、各コレットジョー（２６、２７）が締付け領域を備えていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のスラックオフ装置。
【請求項５】
締付け領域の外形がＶ字形又はＵ字形であることを特徴とする請求項４に記載のスラックオフ装置。
【請求項６】
締付け装置（２５）が、空気圧又は油圧で制御されることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載のスラックオフ装置。
【請求項７】
打撃装置（３３）がハンマー（３５）で構成されることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のスラックオフ装置。
【請求項８】
打撃装置（３３）が、空気圧又は油圧で制御されることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のスラックオフ装置。
【請求項９】
打撃装置（３３）が、ドリルストリング（１０）の長手方向に向かって主に８５°〜９５°の角度で打撃することを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載のスラックオフ装置。
【請求項１０】
打撃装置（３３）が、ドリルストリング（１０）の長手方向に向かって主に９０°の角度で打撃することを特徴とする請求項９に記載のスラックオフ装置。
【請求項１１】
打撃装置（３３）が、一打撃当たり２０〜２００ジュールの打撃エネルギーで打撃することを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載のスラックオフ装置。
【請求項１２】
ネジ継手によってドリルストリング（１０）を連結するようにされた削岩機（４）を有し、前記ドリルストリング（１０）が、ネジ継手によって互いに連結するようにされた任意の数の穿孔ロッド（１２、１４、１６）を備え、またドリルストリング（１０）を順方向に回転させたり逆方向に回転させたりする駆動装置を有する削岩用穿孔装置（２）において、
請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載のスラックオフ装置を有すること
を特徴とする削岩用穿孔装置。
【請求項１３】
少なくとも一つの送りビーム（８）と、送りビーム（８）に設けられた少なくとも一つの削岩機支持部材（２２）とを有し、送りビーム（８）に沿って削岩機（４）が可動であり、また削岩機支持部材（２２）に締付け装置（２５）が設けられていることを特徴とする請求項１２に記載の削岩用穿孔装置。
【請求項１４】
打撃装置（３３）が削岩機支持部材（２２）に設けられていることを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の削岩用穿孔装置。
【請求項１５】
締付け装置（２５）が、ネジ継手の一つに近接してドリルストリング（１０）を締付けるように構成されていることを特徴とする請求項１２〜請求項１４のいずれか一項に記載の削岩用穿孔装置。
【請求項１６】
締付け装置（２５）によってドリルストリング（１０）を締付け、
スラッキングすべき第１のネジ継手（３２）の領域でドリルストリング（１０）に打撃装置（３３）で打撃し、
ドリルストリング（１０）をトレッドスラッキング回転方向に動かすこと
を特徴とする請求項１２〜請求項１５のいずれか一項に記載の削岩用穿孔装置（２）による削岩時におけるネジ継手のスラッキング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月5日(2009.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
肺癌のラジオグラフィー検査を受けるための候補者として患者を同定するためのデバイスであって、該デバイスは、少なくとも一つのアフィニティー分子を含むパネルを備え、ここで該パネルは患者に由来する流体サンプルと接触させることができる状態にあり、該流体サンプルは、肺癌マーカーを含み得、かつ該アフィニティー分子は該マーカーに対してアフィニティーを有し、該デバイスは、該サンプル中に該マーカーが存在した場合に、ラジオグラフィー検査を受けるための候補者として患者を同定する、上記デバイス。
【請求項２】
前記流体サンプルが無症候性患者由来である請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記アフィニティー分子または前記マーカーが自己抗体である請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記患者が肺癌をラジオグラフィーにより検出できない高リスク患者である請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記患者にて診断デバイスを使用する日より最長５年間にラジオグラフィーによる検出はできない請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
肺癌がＮＳＣＬＣである請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
初期の肺癌のリスクのあるヒトにおいて初期の肺癌をラジオグラフィーにより検出するための組成物であって、該組成物が、ラジオグラフィーにより同定可能となる最長５年前に潜在性および／または前悪性肺癌を検出できるアフィニティー分子からなるパネル；ならびに
肺癌のリスクがあるヒトに由来する流体サンプルを含み、潜在性および／または前悪性肺癌が該組成物にて検出される場合、肺癌腫瘍の存在および位置が手術または他の治療形式のために同定されるまで、該ヒトを定期的なラジオグラフィー検査に付す、上記組成物。
【請求項８】
前記流体が血液である請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
初期肺癌および肺癌腫瘍がＮＳＣＬＣである請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記アフィニティー分子がペプチドである請求項７に記載の組成物。
【請求項１１】
前記パネルが少なくとも２個のアフィニティー分子を含む請求項７に記載の組成物。
【請求項１２】
前記パネルが少なくとも３個のアフィニティー分子を含む請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
（ａ）前記アフィニティー分子の少なくとも半分が前記サンプル中に肺癌マーカーを検出している；または
（ｂ）（ｉ）該サンプル中の該マーカーの各々の存在に相関する正規化値を得、（ｉｉ）該正規化値を総計して和を求め、（ｉｉｉ）該和を前記マーカーの肺癌の最大予測値である基準値と比較したとき、該和が基準値の少なくとも３０％であるならば、肺癌が該被験者に存在しており、また該被験者がラジオグラフィースクリーニングの候補である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
患者由来の流体サンプルにおける肺癌のin vitro アッセイであって、
少なくとも２つのメンバーを備えるパネルを用意すること、ここで該パネルの各メンバーが肺癌患者において発現しているマーカーに対してアフィニティーを有する分子であり；
該サンプルと該パネルを接触させて、該パネル上のメンバーがアフィニティーを有する該サンプル中のマーカーと接触した該パネル上のいずれかのメンバーのシグナルを生じさせること；および
結果を分析すること、
を含み、パネルの肺癌についての予測が、個々のメンバーのいずれの予測も上回り、また該パネルがラジオグラフィー手段により肺癌を同定することが可能となる前に肺癌の存在を検出できるものである、上記アッセイ。
【請求項１５】
前記パネルの各メンバーが、ラジオグラフィー手段により肺癌を同定することが可能となる最長５年前に、肺癌に存在する前記マーカーに対してアフィニティーを有する、請求項１４に記載のアッセイ。
【請求項１６】
前記パネルが少なくとも３つのメンバーを含む請求項１４に記載のアッセイ。
【請求項１７】
前記サンプルが血液である請求項１４に記載のアッセイ。
【請求項１８】
肺癌がＮＳＣＬＣである請求項１４に記載のアッセイ。
【請求項１９】
（ａ）前記メンバーの少なくとも半分がシグナルを生じている；または
（ｂ）（ｉ）前記サンプル中の検出されたマーカーの各々の存在に相関する正規化値を得、（ｉｉ）前記正規化値を総計して和を求め、
（ｉｉｉ）該和を前記メンバーの肺癌の最大予測値である基準値と比較したとき、該和が基準値の少なくとも３０％であるならば、肺癌が患者由来のサンプル中に存在している、請求項１６に記載のアッセイ。
【請求項２０】
非良性肺癌腫瘍を有するヒトに由来する流体サンプルをin vitroにて同定する方法であって、ここで該ヒトはラジオグラフィーまたはＣＡＴスクリーニングによって肺癌を有する者として同定されており、該方法は、該肺癌腫瘍が非良性であるのかを、
ｉ）良性腫瘍と癌性腫瘍とを区別できる自己抗体マーカーからなるパネルを用意すること；および
ｉｉ）該自己抗体パネルを用いて該サンプルを検査すること、
を含む試験によって調べることを含む、上記方法。
【請求項２１】
前記流体サンプルが血液である請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
肺腫瘍がＮＳＣＬＣ腫瘍である請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
固相上に少なくとも２つの肺癌メンバーを含むパネルを備える肺癌を検出するための診断デバイスであって、該メンバーは患者由来の流体中の肺癌を、該患者の肺癌をラジオグラフィーにより検出する最長５年前に、同定することができる、上記診断用デバイス。
【請求項２４】
パネルが少なくとも３つの肺癌のメンバーを含む、請求項２３に記載の診断用デバイス。
【請求項２５】
肺癌がＮＳＣＬＣである請求項２３に記載の診断用デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リーンバーン内燃機関の排ガス流中で、Ａｇ／Ａｌ２Ｏ３炭化水素選択的接触還元（ＨＣ−ＳＣＲ）触媒上でのコーキングを低減させる方法であって、
前記排ガス流が炭化水素およびＮＯｘを含んでなり、
前記排ガス流温度が３００℃以下である場合に、前記排ガス流の前記炭化水素とモルＮＯｘ比(ＨＣ：ＮＯｘ)を２．０以下に制御し、
前記排ガス流温度が３００℃〜４２５℃である場合に、前記排ガス流の前記炭化水素とモルＮＯｘ比(ＨＣ：ＮＯｘ)を２．０〜４．５に制御し、
前記排ガス流温度が４２５℃以上である場合に、前記排ガス流の前記炭化水素とモルＮＯｘ比(ＨＣ：ＮＯｘ)を４．５以上に制御することを含んでなる、方法。
【請求項２】
前記炭化水素が、０〜１０％の芳香族化学種を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記排ガス流温度が３００℃以下である場合に、前記ＨＣ：ＮＯｘ比を０．５〜２．０に制御し、
前記排ガス流温度が４２５℃以上である場合に、前記ＨＣ：ＮＯｘ比を４．５〜７．０に制御する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記炭化水素が、１０〜４０％の芳香族化学種を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記排ガス流温度が３００℃以下である場合に、前記ＨＣ：ＮＯｘ比を１．０〜２．０に制御し、
前記排ガス流温度が４２５℃以上である場合に、前記ＨＣ：ＮＯｘ比を４．５〜５．０に制御する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記排ガス流中に存在するＮＯｘの量を監視し、前記存在するＮＯｘの量に応答して、前記排ガス流中に存在する炭化水素の量を変える工程を含んでなる、請求項１〜５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記排ガス流中に存在するＮＯｘの量をエンジン性能に基づいて予想し、前記存在するＮＯｘの量に応答して、前記排ガス流中に存在する炭化水素の量を変える工程を含んでなる、請求項１〜５の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記排ガス流中に存在する炭化水素の量を監視し、前記存在する炭化水素の量に応答して、前記排ガス流中に存在するＮＯｘの量を変える工程を含んでなる、請求項１〜７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記排ガス流中に存在する炭化水素の量をエンジン性能に基づいて予想し、前記存在する炭化水素の量に応答して、前記排ガス流中に存在するＮＯｘの量を変える工程を含んでなる、請求項１〜７の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記炭化水素を、前記ＨＣ−ＳＣＲ触媒の上流にある前記エンジン排ガス流中に注入する、請求項１〜９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
エンジン燃料を、前記エンジンの燃焼シリンダー中で、または前記排ガス流中で分解することにより、前記炭化水素化学種を製造する、請求項１〜１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記排ガス流が水素も含んでなる、請求項１〜１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記水素が、１０００ｐｐｍ未満、所望により６００ｐｐｍ以下で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
リーンバーンエンジン用の排気機構であって、
前記機構がＡｇ／Ａｌ２Ｏ３ＨＣ−ＳＣＲ触媒と、及び
使用中に、前記排ガス流温度が３００℃以下である場合に、前記排ガス流のＨＣ：ＮＯｘ比を２．０以下に制御し、
前記排ガス流温度が３００℃〜４２５℃である場合に、前記排ガス流のＨＣ：ＮＯｘ比を２．０〜４．５に制御し、
前記排ガス流温度が４２５℃以上である場合に、前記排ガス流のＨＣ：ＮＯｘ比を４．５以上に制御するための手段を備えてなる、排気機構。
【請求項１５】
使用中に、前記炭化水素の供給を制御するための手段を備えてなる、請求項１４に記載の排気機構。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月6日(2009.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜電極アセンブリにガスケットを成形するシステムであって、
閉鎖可能な型ブロックによって少なくとも部分的に画定されるキャビティと、
前記キャビティ内にガスケット材を射出するための少なくとも１つの射出ゲートと、
前記膜電極アセンブリを前記キャビティに隣接させて保持するためのマウントと、
前記マウント上に保持されている前記膜電極アセンブリに圧力を加えるために、前記閉鎖可能な型ブロックに対して独立して移動可能な型インサートと、
を備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月27日(2009.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医用画像システムであって、
画像トランスデューサアッセンブリと、コンピュータコンソールと、を備えており、
画像トランスデューサアッセンブリは、１つ以上のエネルギーパルスを放射し、且つ、１つ以上のエコー信号を受け取るように、構成されており、
コンピュータコンソールは、画像トランスデューサアッセンブリに連結されており、また、１つ以上のエコー信号を受け取り、異常に対応した１つ以上の信号を検出し、異常に対応した１つ以上の信号の検出に応じて警告を発動するように、構成されている、ことを特徴とする、医用画像システム。
【請求項２】
異常が、脆弱プラークである、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項３】
警告が、可聴警告及び可視警告の内の少なくとも１つである、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項４】
コンソールが、複数の異常を検出し、且つ、複数の異常の各々に対して特有の警告を設定するように、構成されている、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項５】
コンソールが、複数の異常を検出し、且つ、複数の異常の内の少なくとも２つに対して特有の警告を設定するように、構成されている、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項６】
画像トランスデューサアッセンブリが、軸を有しており、且つ、その軸の回りを回転するように構成されており、
画像トランスデューサアッセンブリが、その軸の回りを回転しながら、エネルギーパルスを放出し、且つ、１つ以上のエコー信号を受け取る、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項７】
画像トランスデューサアッセンブリが、超音波トランスデューサアッセンブリである、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項８】
画像トランスデューサアッセンブリが、光コヒーレンス・トモグラフィーデバイスである、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項９】
コンピュータコンソールが、プロセッサと、表示画面と、グラフィックハードウェアと、を含んでいる、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項１０】
画像トランスデューサアッセンブリに連結された、自動プルバックシステムを、更に備えている、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項１１】
コンピュータコンソールが、複数の医用画像のフレームを生成するように構成されており、且つ、異常が検出されるフレームに使用者がブックマークするのを可能にするように構成されている、請求項１に記載の医用画像システム。
【請求項１２】
撮像カテーテルシステムを作動させる方法であって、
撮像カテーテルを通して、血管系の１つ以上の画像信号を生成する工程と、
異常に対してリアルタイムで、１つ以上の画像信号を解析する工程と、
異常が検出されるとすぐに、警告を発動する工程と、
を備えている、ことを特徴とする、方法。
【請求項１３】
異常が、脆弱プラークである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
警告が、可聴警告及び可視警告の内の少なくとも１つである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
複数の異常に対して、リアルタイムで、１つ以上の画像信号を解析することと、
それぞれが複数の異常の内の１つに対応している、複数の特有の警告を、設定することと、
を更に備えている、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
撮像カテーテルが自動的にプルバックする際に、画像信号が、生成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
複数の医用画像のフレームを生成することと、
異常が検出されるフレームに使用者がブックマークするのを可能にすることと、
を更に備えている、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
医用画像システムであって、画像トランスデューサアッセンブリと、コンピュータコンソールと、を備えており、
画像トランスデューサアッセンブリは、１つ以上のエネルギーパルスを放射し、且つ、１つ以上のエコー信号を受け取るように、構成されており、
コンピュータコンソールは、プロセッサと、プロセッサによって実行される１組の指示を備えたコンピュータ可読媒体と、を有している、画像トランスデューサアッセンブリに、連結されており、
上記指示は、
１つ以上のエコー信号を受け取ることと、
異常に対応した１つ以上の信号を検出することと、
異常に特有の警告を設定することと、
異常に対応した１つ以上の信号の検出に応じて、特有の警告を発動することと、を含んでいる、ことを特徴とする、医用画像システム。
【請求項１９】
異常が、脆弱プラークである、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２０】
警告が、可聴警告及び可視警告の内の少なくとも１つである、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２１】
１組の指示が、複数の異常を検出することと、複数の異常のそれぞれに対して特有の警告を設定することと、を更に含んでいる、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２２】
１組の指示が、複数の異常を検出することと、複数の異常の内の少なくとも２つに対して特有の警告を設定することと、を更に含んでいる、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２３】
画像トランスデューサアッセンブリが、軸を有しており、且つ、その軸の回りを回転するように、構成されており、
画像トランスデューサアッセンブリが、その軸の回りを回転しながら、エネルギーパルスを放出し、且つ、１つ以上のエコー信号を受け取る、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２４】
画像トランスデューサアッセンブリが、超音波トランスデューサアッセンブリである、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２５】
画像トランスデューサアッセンブリが、光コヒーレンス・トモグラフィーデバイスである、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２６】
コンピュータコンソールが、プロセッサと、表示画面と、グラフィックハードウェアと、を含んでいる、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２７】
画像トランスデューサアッセンブリに連結された、自動プルバックシステムを、更に備えている、請求項１８に記載の医用画像システム。
【請求項２８】
コンピュータコンソールが、複数の医用画像のフレームを生成するように構成されており、且つ、異常が検出されるフレームに使用者がブックマークするのを可能にするように構成されている、請求項１８に記載の医用画像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月23日(2009.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の血流から血液を輸送するように構成されたアクセスラインと、
該アクセスラインを通して、該血液を送出するように構成された第１のポンプと、
該アクセスラインを通って進行する該血液中に、抗凝固溶液を導入するための第２のポンプと、
該アクセスラインを通って進行する該血液を濾過するためのフィルタと、
該血液中に補充液を導入するための第３のポンプと、
該血液中にカルシウムとマグネシウムとの溶液を導入するための第４のポンプと、
血液を該患者の血流に返送するように構成された戻りラインと、
該第１のポンプ、第２のポンプ、第３のポンプ、および第４のポンプの流量を制御するための処理装置と
を備え、
該第４のポンプは、該戻りラインに連結される、血液濾過システム。
【請求項２】
前記第３のポンプは、前記アクセスラインに連結される、請求項１の血液濾過システム。
【請求項３】
前記第３のポンプは、前記戻りラインに連結される、請求項１の血液濾過システム。
【請求項４】
前記戻りラインを通って進行する前記血液中に、前記補充液を導入するための第５のポンプをさらに備え、前記第３のポンプは、前記第１のポンプと前記フィルタとの間の前記アクセスラインに連結される、請求項１の血液濾過システム。
【請求項５】
前記血液中に導入される前記補充液を前記患者の体温と実質的に等しい温度に加熱するためのヒータをさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項６】
前記アクセスラインにおける血圧を監視するための、該アクセスラインに連結された圧力モニタをさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項７】
前記戻りラインにおける血圧を監視するための、該戻りラインに連結された圧力モニタをさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項８】
前記フィルタに連結され、該フィルタから濾液を輸送するように構成された濾液ラインと、
濾液加圧を制御するために、該濾液ラインに連結された圧力モニタと
をさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項９】
前記フィルタに連結され、該フィルタから濾液を輸送するように構成された濾液ラインと、
該フィルタを通した血液細胞の漏出を制御するために、該濾液ラインに連結された漏血検知チャンバと
をさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項１０】
前記フィルタに連結され、該フィルタから濾液を輸送するように構成された濾液ラインと、
該濾液ラインを通って進行する該濾液を収集するためのリザーバと、
該リザーバに収集された該濾液を計量するための測定スケールと
をさらに備え、
前記処理装置は、該スケールで測定した重量から、前記血液中に導入される補充液の量を計算し、該処理装置は、前記第３のポンプと第４のポンプとの流量を制御して、該計算された量の補充液を該血液中に導入する、請求項１の血液濾過システム。
【請求項１１】
前記補充液が導入された前記血液から気泡を検知するための、空気検知器をさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項１２】
前記血液が前記患者の血流に戻される前に、該血液から気泡を除去するためのエアトラップをさらに備える、請求項１の血液濾過システム。
【請求項１３】
前記戻りラインを通って進行する前記血液から気泡を除去するためのエアトラップをさらに備え、前記第３のポンプは、該戻りラインのエアトラップよりも後に連結される、請求項３の血液濾過システム。
【請求項１４】
前記戻りラインを通って進行する前記血液から気泡を除去するためのエアトラップをさらに備え、前記第３のポンプは、該戻りラインのエアトラップよりも前に連結される、
請求項３の血液濾過システム。
【請求項１５】
患者の血流から血液を輸送するように構成されたアクセスラインと、
該アクセスラインを通して、該血液を送出するように構成された第１のポンプと、
該アクセスラインを通って進行する該血液中に、抗凝固溶液を導入するための第２のポンプと、
該アクセスラインを通って進行する該血液を濾過するためのフィルタと、
該血液中に補充液を導入するための第３のポンプと、
該血液中にカルシウムとマグネシウムとの溶液を導入するための第４のポンプと、
血液を該患者の血流に返送するように構成された戻りラインと、
該第１のポンプ、第２のポンプ、第３のポンプ、および第４のポンプの流量を制御するための処理装置と
を備え、
該第３のポンプおよび第４のポンプは、該戻りラインに連結される、血液濾過システム。
【請求項１６】
前記アクセスラインを通って進行する前記血液中に、前記補充液を導入するための第５のポンプをさらに備え、該第５のポンプは、前記第１のポンプと前記フィルタとの間の該アクセスラインに連結される、請求項１５の血液濾過システム。
【請求項１７】
前記フィルタに連結され、該フィルタから濾液を輸送するように構成された濾液ラインと、
濾液加圧を制御するために、該濾液ラインに連結された圧力モニタと
をさらに備える、請求項１５の血液濾過システム。
【請求項１８】
前記フィルタに連結され、該フィルタから濾液を輸送するように構成された濾液ラインと、
該フィルタを通した血液細胞の漏出を制御するために、該濾液ラインに連結された漏血検知チャンバと
をさらに備える、請求項１５の血液濾過システム。
【請求項１９】
前記フィルタに連結され、該フィルタから濾液を輸送するように構成された濾液ラインと、
該濾液ラインを通って進行する該濾液を収集するためのリザーバと、
該濾液を該フィルタから該リザーバに送出するための第６のポンプと、
該リザーバに収集された該濾液を計量するための測定スケールと
をさらに備え、
前記処理装置は、該スケールで測定した重量から、前記血液中に導入される補充液の量を計算し、該処理装置は、前記第３のポンプ、前記第４のポンプ、および該第６のポンプの流量を制御して、該計算された量の補充液を該血液中に導入する、請求項１５の血液濾過システム。
【請求項２０】
前記補充液が導入された前記血液から気泡を検知するための空気検知器と、
前記患者の血流に戻される前に、該血液から気泡を除去するためのエアトラップと
をさらに備える、請求項１５の血液濾過システム。