Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月7日(2009.1.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイナス温度で押し出し可能な、再構成されるビスケットであって、
前もって凍結された硬い又は柔らかいタイプのベーキングされたビスケットの断片、及び
オーバーランを有するメレンゲの形態の前記ビスケットの断片のための分散結合剤を含み、この分散結合剤は、卵白、及び乳由来物と炭水化物との卵白代替物から選ばれたオーバーラン増進用タンパク質を含み、−３℃〜−８℃の範囲のマイナスの温度で凍結されており、
ビスケットの断片と分散結合剤との混合物が８０〜１５０％のオーバーランを有することを特徴とする、前記ビスケット。
【請求項２】
分散結合剤の組成物中の炭水化物が、スクロース、マルトデキストリン及びグルコースシロップからなる群から選ばれ、好ましくは混合物の形で用いられる、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
分散結合剤が、合計湿重量に対して、約２０〜３０重量％のスクロース、及び８〜１５重量％のグルコースシロップを含む、請求項２に記載のビスケット。
【請求項４】
分散結合剤が、アルファ−ラクトアルブミンに富んでいる乳漿タンパク質単離物又はカゼイン塩に基づく部分的に加水分解された乳タンパク質から選ばれたオーバーラン増進用タンパク質を含有する、請求項１に記載のビスケット。
【請求項５】
分散結合剤が、合計湿重量に対して、約１〜５重量％のオーバーラン増進用タンパク質を含む、請求項１又は４に記載のビスケット。
【請求項６】
結合剤がさらに、ゼラチン及びゼラチン代替物から選ばれたテクスチャー剤、増粘剤又はゲル化剤を含む、請求項１に記載のビスケット。
【請求項７】
ゼラチン代替物としてキサンタンガム、イオタ−カラゲナン及び澱粉の混合物が使用される、請求項６に記載のビスケット。
【請求項８】
テクスチャー剤が分散結合剤の合計湿重量に対して０．５〜２重量％の割合で用いられる、請求項６又は７に記載のビスケット。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のビスケットとこれに接触しているアイス菓子の塊とを含む、複合アイス菓子。
【請求項１０】
請求項９に記載の複合アイス菓子であって、
前記複合アイス菓子は、アイススティック又はアイスバーであるか、或いはカサータタイプの又はドーム型のアイス菓子のスライスであり、
前記ビスケットが前記複合アイス菓子のコア又はコーティングを構成する、複合アイス菓子。
【請求項１１】
ビスケットの及びアイス菓子を、交互に重ね合わせた層からなるケーキのような、請求項９に記載の複合アイス菓子。
【請求項１２】
ケーキが、その上部表面上に及び／又はその側面上に、アイス菓子の塊それ自体からなる装飾要素を有する、請求項１１に記載の複合アイス菓子。
【請求項１３】
請求項９に記載の複合アイス菓子であって、
前記複合アイス菓子は、コーティング及び／又は添加物を、上部表面上に及び／又は側面上に含み、
前記コーティングは脂肪組成物からなり、
前記脂肪組成物はチョコレート、カバー又は甘味組成物であって、
前記カバー又は甘味組成物は糖衣のためのものであり、着色及び香味づけされている、複合アイス菓子。
【請求項１４】
マイナス温度で押し出し可能な再構成されるビスケットを製造する方法であって、
テクスチャー剤及び炭水化物を水中で、連続的に又は一緒に混合し、溶解するまで加熱し、そして低温殺菌し、
この混合物にオーバーラン増進用タンパク質を加え、但し、オーバーラン増進用タンパク質が乳由来のものである場合は、この添加は低温殺菌の前に行なってもよく、このようにして分散結合剤を調製し、
この分散結合剤をフリーザー中で凍結し、或る程度のオーバーランを得、そして
凍結し、そして断片に切断した、硬い又は柔らかいビスケットの塊を、オーバーランを有する凍結された結合剤中に導入する、ことを特徴とする、マイナス温度で押し出し可能な再構成されたビスケットを製造する前記方法。
【請求項１５】
ビスケットの層又は帯をアイス菓子と同時に押し出して又は連続して押し出して、ビスケットとアイス菓子とを組み合わせ、次に組み合わされたロールを複数の部分に切断する、請求項９に記載の複合アイス菓子を製造する方法。
【請求項１６】
複数の部分に切断される前の押し出しと同時に、連続した組み合わせ帯状物上に装飾がなされる、又は切断された複数の部分上に装飾がなされる、請求項１５に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
ケーキの製造
先のビスケット、及び−５℃の出口温度でフリーザー中で凍結された、１００容積％のオーバーランを有し、下記の組成を有するアイスクリーム塊からアイスケーキを製造した。
【表２】
2005523033.tif 000001
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
ケーキの製造
先のビスケット、及び−５℃の出口温度でフリーザー中で凍結された、１００容積％のオーバーランを有し、下記の組成を有するアイスクリーム塊からアイスケーキを製造した。
【表４】
2005523033.tif 000002
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不透明石英ガラスの外層および内層からなるるつぼ側壁をもつ結晶引上げのための石英ガラスるつぼにおいて、
該外層は内部領域と外部領域をもち、該外部領域は、石英ガラスるつぼが結晶引上げにおける意図された使用の間に加熱されるとき、クリストバライトの形成により石英ガラスの結晶化を引き起こす結晶化プロモーターを備え、
前記結晶化プロモーターが、
−（シリコンに加えて）石英ガラス中で網状構造形成子として、または石英ガラス中で網状構造修飾子として作用する第一成分、ならびに
−石英ガラス中で切断点形成子として作用するアルカリ金属フリーの第二成分を含み、かつ、
前記外層（６）が、前記第一成分および第二成分をその中に含む０．２ｍｍ以上の層厚さをもつドーピング領域（８）から成ることを特徴とする結晶引上げのための石英ガラスるつぼ。
【請求項２】
網状構造形成子として作用する第一成分が四価物質を含有することを特徴とする請求項１記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項３】
四価物質がチタン（Ｔｉ４＋）、ジルコニウム（Ｚｒ４＋）、ハフニウム（Ｈｆ４＋）、ゲルマ（Ｇｅ４＋）および／またはスズ（Ｓｎ４＋）であることを特徴とする請求項２記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項４】
切断点形成子として作用する第二成分がアルカリ金属フリーの二価物質を含有することを特徴とする請求項１記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項５】
アルカリ金属フリーの二価物質がバリウム（Ｂａ２＋）および／またはストロンチウム（Ｓｒ２＋）であることを特徴とする請求項４記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項６】
第一および第二成分が最大１０−５というシリコン中の分布係数を持つことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項７】
第一成分および第二成分が各々ドーピング領域において０．００３モル％〜０．０２モル％の範囲にある濃度で含まれることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項８】
第一成分および第二成分が前記成分を含む酸化物の形でドーピング領域（８）に含まれることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項９】
該酸化物が、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）またはジルコン酸バリウム（ＢａＺｒＯ３）またはそれらの混合物のような三元酸化物から成ることを特徴とする請求項８記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１０】
ドーピング領域（８）が、０．５ｍｍ以上の層の厚さを持つことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１１】
該層の厚さが最大１０ｍｍであることを特徴とする請求項１０記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１２】
石英ガラスるつぼが、回転軸（１）の周りに本質的に円筒形の側壁（４）を持ち、ドーピング領域（８）が側壁（４）の中にドーピング帯状域（ｄｏｐｉｎｇ  ｓｔｒｉｐ）として作られることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１３】
不透明石英ガラスの外層および内層からなるるつぼ基底体を形成することによる、請求項１〜１２のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼを製造する方法において、
少なくとも内部領域を囲む外部領域にある前記外層の一部は、結晶引上げにおける意図された使用期間中の石英ガラスるつぼの加熱の際、クリストバライトの形成とともに石英ガラスの結晶化を引き起こす結晶化プロモーターを備えており、
ＳｉＯ２粒子を溶融鋳型に導入して、そこでＳｉＯ２粒子のるつぼ形層に成形するということにおいて、ドーピング領域（８）を有する外層（６）が形成され、前記ドーピング領域は０．２ｍｍ以上の層厚さを有し、
前記結晶化プロモーターとして、
−（シリコンに加えて）石英ガラス中で網状構造形成子として、または石英ガラス中で網状構造修飾子として作用する第一成分、ならびに
−石英ガラス中で切断点形成子として作用するアルカリ金属フリーの第二成分
を使用し、
前記両成分が外層（６）のドーピング領域（８）に導入されることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項記載の石英ガラスるつぼを製造する方法。
【請求項１４】
前記両成分を、ドーピング領域（８）の形成の前にＳｉＯ２粒子に添加し、ついでＳｉＯ２粒子の層を外層（６）の形成とともに焼結させることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
四価物質を網状構造形成の第一成分として使用することを特徴とする請求項１３または１４記載の方法。
【請求項１６】
四価物質がチタン（Ｔｉ４＋）、ジルコニウム（Ｚｒ４＋）、ハフニウム（Ｈｆ４＋）、ゲルマ（Ｇｅ４＋）および／またはスズ（Ｓｎ４＋）であることを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
切断点形成子として作用する第二成分がアルカリ金属フリーの二価物質を含むことを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
二価物質がバリウム（Ｂａ２＋）および／またはストロンチウム（Ｓｒ２＋）であることを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
第一成分および第二成分を、各々、０．００３モル％〜０．０２モル％の範囲にある濃度でドーピング領域に導入することを特徴とする請求項１３〜１８のいずれか１項記載の方法。
【請求項２０】
第一成分および第二成分が、前記成分を含む酸化物の形で外層（６）のドーピング領域（８）に含有されていることを特徴とする請求項１３〜１９のいずれか１項記載の方法。
【請求項２１】
酸化物が、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）またはジルコン酸バリウム（ＢａＺｒＯ３）またはそれらの混合物のような三元酸化物から成ることを特徴とする請求項２０記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
ロールギャップは例えば約０．５ないし約２ｍｍ、例えば、約０．７ないし１．３ｍｍが可能である。
ローラーから出るようなローラー圧縮混合物は「凝縮物」、「フレーク」または「リボン」と呼ばれる。
好ましくは、リボン密度は約１．０ないし１．５ｇ／ｃｃ（ｇ／ｍｌ）である。
乾燥造粒法によって形成される顆粒は錠剤またはカプセルにて使用されるのに適した粒径に製粉されるのが好ましい。好ましくは、例えば、ローラー圧縮に関して、ローラー（ロール）から出る凝縮物（フレーク、リボン）は、例えば、粉砕製粉器を使用して錠剤またはカプセルにて使用されるのに適した粒径に製粉される。例えば、顆粒は０．１１０インチ（２．８０ｍｍ）、０．０９７インチ（約２．４６ｍｍ）、０．０９３インチ（２．３６ｍｍ）、１．７０ｍｍ、０．０６５インチ（１．６５ｍｍ）、０．０６３インチ（１．６０ｍｍ）、０．０５５インチ（１．４０ｍｍ）、０．０３２インチ（０．８１ｍｍ）、５００μｍ、または２５０μｍの孔径を有するシーブまたはスクリーンを通るように製粉されることが可能である。顆粒は製粉する間または製粉した後にこのようなシーブまたはスクリーンを通ることが可能である。好ましくは、シーブは０．１１０インチ（２．８０ｍｍ）ないし０．０３２インチ（０．８１ｍｍ）の孔径、より好ましくは０．０９７インチ（約２．４６ｍｍ）ないし０．０５５インチ（１．４０ｍｍ）の孔径または０．０９７インチ（約２．４６ｍｍ）ないし０．０６３インチ（１．６０ｍｍ）孔径を有する；これは顆粒を組み込んだ錠剤には最良である。
使用において、製粉器、例えば粉砕製粉器は、例えば１０００ないし１００００ｒｐｍまたは３０００ないし８０００ｒｐｍ、例えば、５０００ｒｐｍで回転可能である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月19日(2009.6.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透かし埋め込み装置を用いて、時間依存性の情報信号にペイロードを含む透かしパターンを埋め込む方法において、
前記透かし埋め込み装置が、多数のロバスト性の署名を決定するステップであって、各署名は、前記情報信号におけるロバスト性の特徴の集合であり、前記ロバスト性の特徴が、前記情報信号の所定の時間間隔で決定される、ステップと、
前記透かし埋め込み装置が、前記多数のロバスト性の署名のうちの少なくとも１つと所定のメッセージとに基づき、前記ペイロードを生成するステップと、
前記透かし埋め込み装置が、前記ペイロードに基づかれる前記透かしパターンを前記情報信号に埋め込むステップとを有する、埋め込む方法。
【請求項２】
前記ペイロードは、前記メッセージの署名依存性の可逆関数により生成される、請求項１に記載の埋め込む方法。
【請求項３】
前記ペイロードは、前記メッセージと前記署名の少なくとも１つの関数とを連結することによって生成される、請求項１又は２に記載の埋め込む方法。
【請求項４】
前記ペイロードは、前記多数のロバスト性の署名の少なくとも１つのランダムな署名に基づかれる、請求項１乃至３のいずれかに記載の埋め込む方法。
【請求項５】
前記ペイロードは、前記多数のロバスト性の署名の少なくともｎ番目の署名に基づかれる、請求項１乃至３のいずれかに記載の埋め込む方法。
【請求項６】
前記ペイロードは、前記多数のロバスト性の署名の少なくとも最もロバスト性の署名に基づかれる、請求項１乃至３のいずれかに記載の埋め込む方法。
【請求項７】
前記ペイロードは、前記多数のロバスト性の署名から選択される署名に基づかれ、前記署名は、キー・フレームを用いて選択される、請求項１乃至３のいずれかに記載の埋め込む方法。
【請求項８】
透かし検出装置を用いて、透かしパターンが埋め込まれた時間依存性の情報信号におけるメッセージを検出する方法において、
透かし検出装置が、前記情報信号における前記透かしパターンを検出し、ペイロードを検出するステップと、
透かし検出装置が、多数のロバスト性の署名を決定するステップであって、各署名は、前記情報信号におけるロバスト性の特徴の集合であり、前記ロバスト性の特徴が、前記情報信号の所定の時間間隔で決定される、ステップと、
透かし検出装置が、前記多数のロバスト性の署名のうちの少なくとも１つを用いて、前記ペイロードから前記メッセージをデコードするステップとを有する、メッセージ検出方法。
【請求項９】
前記メッセージは、前記ペイロードの署名依存性の可逆関数を用いて前記ペイロードからデコードされる、請求項８に記載のメッセージ検出方法。
【請求項１０】
前記ペイロードは、前記メッセージと前記署名の少なくとも１つの関数とを連結することによって生成され、前記ペイロードをデコードするステップが、該ペイロードの関連する部分を選択するステップを備える、請求項８又は９に記載のメッセージ検出方法。
【請求項１１】
前記ペイロードから前記メッセージをデコードするステップは、前記ペイロードの残りの部分が前記署名の少なくとも１つの関数であることをチェックするステップを備える、請求項１０に記載のメッセージ検出方法。
【請求項１２】
前記ペイロードから前記メッセージをデコードするステップは、前記多数のロバスト性の署名のｎ番目の署名を用いて行われる、請求項８乃至１０のいずれかに記載のメッセージ検出方法。
【請求項１３】
前記ペイロードから前記メッセージをデコードするステップは、前記多数のロバスト性の署名の中の最もロバスト性の署名を用いて行われる、請求項８乃至１０のいずれかに記載のメッセージ検出方法。
【請求項１４】
前記ペイロードから前記メッセージをデコードするステップは、前記多数のロバスト性の署名の中の全ての前記署名を連続的に用いることにより行われる、請求項８乃至１０のいずれかに記載のメッセージ検出方法。
【請求項１５】
時間依存性の情報信号にペイロードを含む透かしパターンを埋め込む装置であって、
多数のロバスト性の署名を決定する手段であって、各署名が、前記情報信号におけるロバスト性の特徴の集合であり、前記ロバスト性の特徴は、前記情報信号の所定の時間間隔で決定される、手段と、
前記多数のロバスト性の署名のうちの少なくとも１つと所定のメッセージとに基づき、前記ペイロードを生成する手段と、
前記ペイロードに基づかれる前記透かしパターンを前記情報信号に埋め込む手段とを有する、装置。
【請求項１６】
透かしパターンが埋め込まれた時間依存性の情報信号におけるメッセージを検出する装置であって、
前記情報信号における前記透かしパターンを検出し、ペイロードを検出する手段と、
多数のロバスト性の署名を決定する手段であって、各署名が、前記情報信号におけるロバスト性の特徴の集合であり、前記ロバスト性の特徴は、前記情報信号の所定の時間間隔で決定される、手段と、
前記多数のロバスト性の署名のうちの少なくとも１つを用いて、前記ペイロードから前記メッセージをデコードする手段とを有する、装置。
【請求項１７】
情報信号を記録及び／又は再生するデバイスであって、前記情報信号に埋め込まれた透かしパターンに基づき、前記情報信号の記録及び／又は再生を無効にする手段と、請求項１６に記載の透かしパターンを検出する装置とを有する、デバイス。
【請求項１８】
時間依存性の情報信号にペイロードを含む透かしパターンを埋め込む装置を有する、情報信号を送信するデバイスであって、
多数のロバスト性の署名を決定する手段であって、各署名が、前記情報信号におけるロバスト性の特徴の集合であり、前記ロバスト性の特徴は、前記情報信号の所定の時間間隔で決定される、手段と、
前記多数のロバスト性の署名のうちの少なくとも１つと所定のメッセージとに基づき、前記ペイロードを生成する手段と、
前記ペイロードに基づかれる前記透かしパターンを前記情報信号に埋め込む手段とを有する、デバイス。
【請求項１９】
ペイロードを含む透かしパターンが埋め込まれた情報信号が記憶されており、前記ペイロードが、当該情報信号における多数のロバスト性の署名の少なくとも１つと所定のメッセージとに基づかれる、記憶媒体。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月5日(2009.6.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定子コアおよび巻線から成る固定子を備えたモータ本体と、該固定子に対して取り付けられている回転子とを含む平坦なエレベータモータにおける固定子固定装置であって、前記固定子は前記モータ本体に取り付けられている実質的に樋状の取付部の中に取り付けられていて、該取付部と前記固定子との間のスペースは鋳造可能な熱伝導性充填材料で充填されていて、該熱伝導性充填材料は熱を前記固定子から前記取付部に伝導する役割を果たす固定子固定装置において、
前記充填材料は鋳造可能な材料であり、前記固定子は前記鋳造可能な充填材料によって前記取付部に取り付けられ、
前記充填された充填材料は前記固定子と前記モータ本体の間に絶縁ギャップを形成していることを特徴とする固定子固定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の固定装置において、前記鋳造可能な充填材料は樹脂であることを特徴とする固定装置。
【請求項３】
請求項１に記載の固定装置であって、円盤状の本体と回転子とを有するエレベータモータにおける固定装置において、前記樋状の取付部は取付要素を用いて前記モータ本体の外側の縁に固定されていて、前記回転子に対して、前記固定子は前記モータ本体の反対側に取り付けられていることを特徴とする固定装置。
【請求項４】
請求項１に記載の固定装置において、前記取付部はアルミニウム製であることを特徴とする固定装置。
【請求項５】
請求項１に記載の固定装置において、前記取付部には冷却フィンが設置されていることを特徴とする固定装置。
【請求項６】
請求項１に記載の固定装置において、電動モータは円盤状のエレベータモータであることを特徴とする固定装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
本発明によれば固定子固定装置を経済的で簡単かつ確実に取り付けることが可能となる。さらに、効率的な冷却と必然的に強力な力の密度も同様に達成される。本発明の方式では、絶縁ギャップは従来技術による方式より小さくし、これによって、エレベータモータを軸方向に従来のモータより短く作ることが可能になる。この点は、エレベータモータをエレベータシャフトの中に配置するように設計する場合は特に重要である。さらに、充填材の使用は固定子の巻線が汚れることを防ぐ。したがって、モータ保護の等級を比較的簡単に上げることができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
図は平坦で円盤状のエレベータモータ２を示す。そのエレベータモータ２はギアレス式のエレベータ機械装置で使われていて、そのエレベータ機械装置は案内レール１の近くに位置している。エレベータモータ２はモータ本体３に形成されたディスク４と、ディスクに固定された固定子５とを含む。固定子は巻線コア51と巻線52とから成る。本体３上の軸受６には円形の回転子ディスク７とトラクションシーブ８とが取り付けられている。ディスク４の内側には凹部41があり、その凹部41は回転子のために形成されたものである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月4日(2009.2.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の第１出力レートを持つバッファに対する情報の出力レートを変更する方法であり、前記バッファが、処理データソースから出力データを受信し、前記出力データが、前記バッファに記憶されるように追加される方法であって、前記方法が、
前記処理データソースが、前記バッファへの出力データの追加を停止するとともに、入力データを捨てるステップと、
前記バッファが空になるまで前記バッファの記憶された前記出力データを前記第１出力レートで出力するステップと、
前記バッファの内容の出力を止めるステップと、
前記バッファが実質的に空である場合に、前記処理データソースが前記バッファに出力データを追加することを再開し、かつ、前記バッファが前記出力データを記憶することを再開するステップと、
前記バッファの前記出力レートとして第２の一定の出力レートを設定するステップと、
バッファリングされた前記データの量が、前記第２の一定の出力レート及び所要のバッファ時間の積に実質的に等しい場合に、前記バッファの記憶された内容の出力を前記第２の出力レートで開始するステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記処理データソースが、前記バッファに対する前記所要のバッファ時間と、前記第２の一定の出力レートとを指定する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記バッファが空である場合に、前記出力データの前記再開するステップが開始される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記処理データソースが、入力データを受信及び処理し、前記出力データを出力するように構成されたソフトウェアアプリケーションである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記バッファがハードウェアバッファである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記入力データが、ＭＰＥＧ２準拠のエレメンタリストリームであり、前記処理データソースが、前記ＭＰＥＧ２ストリームをトランスポートストリームに多重化するように構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
バッファに対する情報の出力レートを変更する装置であり、前記バッファが、一定の第１出力レートと、処理データソースから出力データを受信する手段と、前記出力データを前記バッファに追加及び記憶する手段とを有する装置であって、
前記処理データソースは、前記バッファへの出力データの追加を停止するとともに入力データを捨てる手段を備えることを特徴とし、かつ、
前記装置が、
前記処理データソースからの出力データの受信を停止する／止める手段と、
前記バッファが空になるまで前記バッファの記憶された内容を前記第１出力レートで出力する手段と、
前記バッファの前記内容の出力を止める手段と、
前記バッファが実質的に空である場合に、前記処理データソースからの出力データの受信及び追加／記憶を再開する手段と、
前記バッファの出力レートとして第２の一定の出力レートを設定する手段と、
バッファリングされた前記データの量が、前記第２の一定の出力レート及び所要のバッファ時間の積に等しい場合に、前記バッファの前記記憶された内容の出力を前記第２の出力レートで開始する手段と、
を有することを特徴とする装置。
【請求項８】
前記装置が、前記バッファに対する前記所要のバッファ時間と、前記第２の一定の出力レートとを指定する手段を有する、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記装置は、前記バッファが空である場合に前記出力データを再開するように構成される、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記処理データソースが、入力データを受信及び処理する手段と、前記出力データを出力する手段とを有するソフトウェアアプリケーションである、請求項７に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
図１は、バッファデータ出力バス（４）を持つバッファ（３）と組み合わせて、入力データソース（１）を持つ処理データソース（２ａ）を示す。バッファ（３）とバッファデータ出力バス（４）との間のデータストリームレートは、前記データソース（２ａ）と入力データソース（１）との間の前記ストリームレートのみが対応する性能により制限される一定の出力レート（Ｒ１，Ｒ２）に調整される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】配列表
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【配列表】
2005523716000001.app
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インテグラーゼが媒介する部位特異的リステリアゲノム組込みを可能にする組み換え組込みベクターであって、リステリオファージゲノムのファージ結合部位（attPP’）であってリステリアゲノムの細菌結合部位（attBB’）における組込みを提供する部位、及び、クローニングサイトを含むプラスミドであるベクター。
【請求項２】
バクテリオファージインテグラーゼ遺伝子を含む、請求項1記載の組込みベクター。
【請求項３】
リステリアゲノムの細菌結合部位（attBB’）が、comK組込み部位およびtRNAArg組込み部位からなる群より選択される部位である、請求項1または2記載の組込みベクター。
【請求項４】
クローニングサイトがマルチクローニングサイトである、請求項1から3のいずれかに記載の組込みベクター。
【請求項５】
異種コード配列をさらに含む、請求項4記載の組込みベクター。
【請求項６】
異種コード配列がポリペプチドをコードする、請求項5記載の組込みベクター。
【請求項７】
ポリペプチドが抗原である、請求項6記載の組込みベクター。
【請求項８】
配列番号：24に記載の塩基配列からなる、請求項1記載の組込みベクター。
【請求項９】
配列番号：28に記載の塩基配列からなる、請求項1記載の組込みベクター。
【請求項１０】
リステリアを形質転換する方法であって、
組込みベクターがリステリアのゲノムに組込まれるのに十分な条件下においてリステリアに請求項1記載の組込みベクターを接触させる段階
を含む方法。
【請求項１１】
請求項1記載のベクターで形質転換したリステリア。
【請求項１２】
リステリア細胞が異種抗原を発現する、請求項11記載のリステリア細胞株を含むワクチン。
【請求項１３】
リステリア細胞が弱毒化されている、請求項12記載のワクチン。
【請求項１４】
請求項11記載のリステリア細胞の組換え培養物。
【請求項１５】
リステリア細胞が弱毒化されている、請求項14記載の組換え培養物。
【請求項１６】
請求項1記載のベクターと、
マルチクローニングサイトでベクターを切断する少なくとも1つのヌクレアーゼと
を含む、請求項5記載のベクターを作製する際に使用するためのキット。
【請求項１７】
宿主細胞をさらに含む、請求項16記載のキット。
【請求項１８】
請求項1記載のベクターと、
マルチクローニングサイトでベクターを切断する少なくとも1つのヌクレアーゼと、
リステリア細胞と
を含む、請求項11記載の細胞を作製する際に使用するためのキット。
【請求項１９】
請求項1記載のベクターと、
マルチクローニングサイトでベクターを切断する少なくとも1つのヌクレアーゼと、
異種抗原のコード配列と、
リステリア細胞と
を含む、請求項12記載のワクチンを作製するためのシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年3月18日(2009.3.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アガロース水溶液のエアロゾルを形成し、該エアロゾルの液滴を空気中で冷却してそのゲル化を開始させ、該液滴をゲル化したビーズとして液体中又は表面で回収することを含む１種以上の多糖ビーズの製造方法であって、当該方法が、上記アガロース水溶液に親水性蒸気圧降下剤を添加することを含んでおり、蒸気圧降下剤の添加量が５０％以下であり、蒸気圧降下剤がＭｗ２００Ｄ未満の分子を含んでいて、７０℃での蒸気圧が３１０ｍｂａｒ未満であるものとして規定され、グリコール類、グリセロール類、ポリオール類、アミド類、エーテル類、カルボン酸、エステル類、アルコール類、有機スルフィド類、有機スルホキシド類、スルホン類、アルコール誘導体、グリコールエーテル類、エーテル誘導体、アミノアルコール類及びケトン類からなる群から選択されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記蒸気圧降下剤がＭｗ１５０Ｄ未満の分子を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記蒸気圧降下剤が、２５℃の濃度１０重量％の水溶液中での表面張力が５０ｍＮ／ｍを上回るものとして規定される、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記蒸気圧降下剤が有機物である、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記蒸気圧降下剤がグリコール類及びグリセロール類からなる群から選択される、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記蒸気圧降下剤がプロピレングリコールである、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記エアロゾルが回転ディスク法で生成される、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の方法。。
【請求項８】
前記アガロース液滴が蒸気で飽和した雰囲気中で冷却される、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
前記アガロース溶液が化学的架橋剤を含む、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
例３
本発明に従って調製したアガロースビーズ（６％）
アガロース溶液の調製：
９９ｇのアガロースと濃度３０％となるプロピレングリコールを１００℃の水１５００ｇに溶解した。溶液の温度を数度下げてから、再度沸騰させた。溶液をオートクレーブに移し、１気圧の常圧で２×１５分間放置した。しかる後、調製時の蒸散を補うために水を加えた。次いで温度を５８度に下げたが、これが製造温度であった。氷酢酸３ｍｌを７５℃で添加し、溶液を攪拌しながら４５分間放置して加水分解させた、水５０ｍｌに溶解した２６ｇのＫＨＰＯ4（０．２モル）を７０℃で添加して加水分解を止めた。この７０℃が製造温度であった。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
例４（比較例）
蒸気圧低下剤なしで調製したアガロースビーズ（６％）
アガロース溶液の調製については、プロピレングリコールを添加しなかった点を除いて実施例３の手順に従った。ビーズは実施例１に記載の通り製造した。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
この横壁２は前壁１の二面角形状に合わせ、その透明パネル１０は台形となっている。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
図１と図２に見るように、本発明のスクリーンではライニングパネル１３は小さいバーもしくは出張り３０を有し、パネル８の外面にも有しており、これらはこれらのパネルの殺菌された部分に取り付けられている。パネル７の内面は２つのハンドルグリップ３１を付けている。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月24日(2008.12.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
サンプリングプローブ２５０は、図１のシステム１１５などの適切な溶媒送達および切換えシステムから、試薬、洗浄溶媒および溶離溶媒などの流体を流すための外側の管２６２を備えた同軸プローブとして示されている。プローブ２５０は、被分析物をエレクトロスプレーイオン源（図示しない）に送達するための内側の管２６４を含む。プローブ２００と同様に、２本以上の管を使用することができ、管は事実上、いずれの形状であってもよい。エレクトロスプレーイオン源（図示しない）は、好ましくは、被分析物の同定のために質量分析計（図示しない）とインターフェースで連結されている。１つのスポットからの読取り（例えば、個々の相互作用）の後、サンプリングプローブ２００または２５０が、コンピュータ制御（例えば図１の１３５および１５５）の下でアレイ表面から分離されて次のスポットにステッピング動作し、その工程を反復してもよい。液絡部は、適切な走査速度で、表面に保持されながらプローブ２００とともに軌道を進むようにしてもよい。これは、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）プレートの読取りを促進する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１】
2005523456.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下方を向いた出口を有する自己洗浄分配ノズルと、
前記自己洗浄分配ノズルに流体を供給する導管が形成された本体と、
捕集部材とを備え、
前記捕集部材は、前記捕集部材が前記本体とともに、前記自己洗浄分配ノズルの前記出口を内部に収容する洗浄室を形成し、前記自己洗浄分配ノズルの前記出口を出た流体を捕集することで前記自己洗浄分配ノズルを洗浄する洗浄位置と、前記自己洗浄分配ノズルの前記出口が前記捕集部材の外側に位置する分配位置との間を、前記本体に対して相対的に移動することができるようになっており、
前記導管は水平線に対して傾いており、前記導管及び前記自己洗浄分配ノズルの前記出口からの流体の排出を促進させるようになっており、
前記捕集部材の下側の壁には、前記洗浄室内の流体を排出するための排出開口部が形成されており、
前記捕集部材が前記洗浄位置にある状態において前記自己洗浄分配ノズルの前記出口と対向する前記洗浄室の壁は、前記排出開口部に向かって下向きに傾いている流体分配装置。
【請求項２】
前記捕集部材は、前記自己洗浄分配ノズル及び前記本体を収容可能なスリーブであり、
前記本体及び前記自己洗浄分配ノズルは、前記捕集部材の中で、前記捕集部材の軸方向に沿って案内されつつスライドする、請求項１に記載の流体分配装置。
【請求項３】
前記捕集部材が前記洗浄位置にある状態において、前記捕集部材の内壁と前記本体の外面とから前記洗浄室が画成され、これによって前記自己洗浄分配ノズルの内面と外面の両方を洗浄することができる、請求項１又は２に記載の流体分配装置。
【請求項４】
前記自己洗浄分配ノズルには外側に向けて突出するつばが形成されており、
前記つばは、前記捕集部材が前記洗浄位置にあるのか又は前記分配位置にあるのかに関わらず前記捕集部材の外側に位置している、請求項１〜３のいずれか一項に記載の流体分配装置。
【請求項５】
前記捕集部材と前記つばとの間に第１の密封ガスケットが配置されている、請求項４に記載の流体分配装置。
【請求項６】
前記捕集部材は、先細りの円筒形状をなす前部と、前記前部の後段に接続された、円筒形状をなす後部とを有し、
前記本体は、円筒形状の中央部と、前記中央部の直径よりも直径が小さく、前記自己洗浄分配ノズルが取り付けられる端部とを有し、
前記端部の一部は、前記前部の中に少なくとも部分的に延びている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の流体分配装置。
【請求項７】
前記捕集部材の前記後部の内壁と前記本体の前記中央部の外面との間に第２の密封ガスケットが配置されている、請求項６に記載の流体分配装置。
【請求項８】
前記捕集部材は、ベース・プレートに固定された固定ブラケットの中に取り付けられている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の流体分配装置。
【請求項９】
前記本体は、前記ベース・プレートに固定された作動手段に接続されており、
前記作動手段は、前記捕集部材が前記分配位置又は洗浄位置に位置するように、前記捕集部材を移動させる、請求項８に記載の流体分配装置。
【請求項１０】
前記自己洗浄分配ノズル内の前記出口の内面は、外側に向かうにつれて径が大きくなる円錐面を呈しており、前記自己洗浄分配ノズルの前記出口内には、側面が円錐面を呈する部材が配置されており、前記導管の前記傾斜は、前記部材の軸に対して実質的に鉛直となっている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の流体分配装置。
【請求項１１】
下方を向いた出口を有する前記自己洗浄分配ノズルと、前記自己洗浄分配ノズルに流体を供給する導管が形成された本体と、捕集部材とを備え、前記捕集部材は、前記捕集部材が前記本体とともに、前記自己洗浄ノズルの前記出口を内部に収容する洗浄室を形成し、前記自己洗浄分配ノズルの前記出口を出た流体を捕集することで前記自己洗浄分配ノズルを洗浄する洗浄位置と前記自己洗浄分配ノズルの前記出口が前記捕集部材の外側に位置する分配位置との間を、前記本体に対して相対的に移動することができるようになっており、前記導管は水平線に対して傾いており、前記導管及び前記自己洗浄分配ノズルの前記出口からの流体の排出を促進させるようになっており、前記捕集部材の下側の壁には、前記洗浄室内の流体を排出するための排出開口部が形成されており、前記捕集部材が前記洗浄位置にある状態において前記自己洗浄分配ノズルの前記出口と対向する前記洗浄室の壁は、前記排出開口部に向かって下向きに傾いている流体分配装置の自己洗浄分配ノズルを洗浄し又はすすぐための方法であって、
前記捕集部材を前記洗浄位置に移動させる洗浄位置移動ステップと、
前記洗浄位置移動ステップの後、前記導管、前記自己洗浄分配ノズル及び前記洗浄室の中に洗浄流体又はすすぎ流体を流す流し込みステップと、
前記流し込みステップにおいて前記自己洗浄分配ノズルから出た前記洗浄流体又はすすぎ流体を前記洗浄室の中に捕集する捕集ステップと、
前記捕集ステップの後、前記捕集部材を前記分配位置に戻す分配位置移動ステップと
を含む方法。
【請求項１２】
前記流し込みステップにおいて、前記洗浄流体又はすすぎ流体をポンプ手段によって前記導管に流す、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記捕集ステップの後、前記洗浄流体又はすすぎ流体を閉じた回路の中で循環させる循環ステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記洗浄流体又はすすぎ流体が、苛性ソーダ溶液、任意選択で界面活性剤又はタンパク質を分解する物質を含む食器洗い機用低発泡溶液、塩素を含む溶液、及びフェノールを含む溶液、からなるグループから選択された、請求項１１〜１３までのいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
図２を参照すると、ノズル２は全体に円筒形の本体８を含む。本体８は、中央部８ａ並びに中央部８ａよりも直径が小さい２つの端部８ｂ及び８ｃを含む。本体８は、本体８の中心を長手方向に延びる貫通導管１０を備えている。導管１０は、ノズル・ヘッド１２が接続される第１の端部、及び導管（図示せず）によって流体供給管路（図示せず）に接続するための第２の端部を含む。この実施例では、本体８の部分８ｂの自由端にノズル・ヘッド１２がねじ込まれており、部分８ｃの自由端にコネクタ１４が固定されている。ノズル・ヘッド１２は、導管１０に接続された第１の部分９ａ、及び側面が斜めの円柱１３がねじ込まれた外部へ開いた第２の部分９ｂ、を有する直角に曲がった通路９を含む。側面が斜めの円柱１３は、通路９の部分９ｂとともに環状の流体又は飲料開口部１８の境界を決定し、開口部１８の形状が流体ジェットの形状を決定する。図２に示した実施例では、流体ジェットが点線で示された円すいＣの形状を有する。したがってコネクタ１４が流体又は飲料入口１６を画成し、流体又は飲料開口部１８が流体又は飲料出口を画成する。ノズル・ヘッド１２を本体８にねじ込むこと、及び側面が斜めの円柱１３をノズル・ヘッド１２にねじ込むことは、これらの要素の交換を容易にし、装置１を有利にフレキシブルにすることに留意されたい。具体的には、異なるサイズの飲料出口１８又は異なる形状のジェットを必要とする飲料に装置１を迅速且つ容易に適合させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークを介して情報を検索する方法であって、
電話の呼び出し者が前記電話に関して電話接続をするために、少なくとも１つの電話番号を含むダイアルシーケンスを前記電話に入力することによって発信された電話の呼び出しを受信するステップと、
前記ダイヤルシーケンス内の前記電話番号と一緒に受信されたメタ情報を検出することで、前記電話の呼び出しがウエブ情報の要求を含むか否かを判定するステップと、
前記電話の呼び出しと一緒に送られた、任意のメタ情報をともなう前記電話番号を前記ウエブ頁の要求であると判定することで、前記要求されるウエブ情報を判定するステップと、
前記ウエブ情報が返されることになる、前記呼び出し者の返信応答用のデバイスのネットワークアドレスを判定するステップであって、前記ネットワークアドレスは、前記電話によって生成されたネットワークプロトコルのフォーマット化された要求を受信することによって前記電話に関連付けられたものでも、前記電話によって生成されたネットワークプロトコルのフォーマット化された返信アドレスを受信することによって前記電話に関連付けられたものでもない、前記ネットワークアドレスを判定するステップと、
前記要求されるウエブ情報のネットワークプロトコル要求を生成するステップと、
前記ネットワークプロトコル要求を前記情報を検索できるネットワークサーバーに送るステップとを含み、
前記ネットワークプロトコル要求を送るステップは、前記ネットワークサーバが前記返信応答のデバイスに返信すべき検索した情報を前記ネットワークアドレス宛てに転送できるように、前記ネットワークアドレスを前記ネットワークサーバに送ることを含む、
方法。
【請求項２】
前記返信応答用のデバイスの前記ネットワークアドレスを判定するステップは、前記ダイヤルシーケンスに付加された前記ネットワークアドレスを受信することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ダイヤルシーケンスに付加された前記ネットワークアドレスを受信することは、前記電話接続かなされた後に前記ネットワークアドレスの少なくとも一部を受信することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記呼び出し者の電話の電話番号を前記電話の呼び出し中に受信するステップを含み、前記返信応答用のデバイスの前記ネットワークアドレスを判定するステップは、前記呼び出し者の前記電話番号の受信に応答して、前記返信応答用のデバイスのネットワークアドレスをルックアップすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記呼び出し者の前記返信応答用のデバイスは前記電話と物理的に離れており、前記返信応答用のデバイスの前記ネットワークアドレスを判定するステップは、前記呼び出し者の前記返信応答用のデバイスの前記ネットワークアドレスを前記ネットワークサーバへ送信することによって、前記ネットワークサーバが前記検索した情報を前記電話とは物理的に独立したデバイスへ転送できるように、前記電話と物理的に離れ、且つ前記電話及び前記呼び出し者の前記返信応答用のデバイスに接続されたアドレス生成装置から前記ネットワークアドレスを受信するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
受信した前記電話の呼び出しが固定電話から発信されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記呼び出し者の前記返信応答用のデバイスがデスクトップコンピュータである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
電話システムであって、
呼び出し者の電話から電話の呼び出しを受信して、該電話の呼び出しがウエブ情報の要求であるかどうかを判定する自動メッセージ応答システムであって、前記受信した電話の呼び出しについてのダイヤルシーケンス内に電話番号と一緒に受信したメタ情報を検出することに応答して、前記電話の呼び出しがウエブ情報の要求であると決定し、前記電話の呼び出しと一緒に送られた、任意のメタ情報をともなう前記電話番号を前記ウエブ頁の要求であると判定する前記自動メッセージ応答システムと、
前記要求に関連するウエブ情報を判定し、前記呼び出し者に対して前記ウェブ情報を返信するその前記呼び出し者の返信応答デバイスのＩＰアドレスを判定し、及び要求される前記ウエブ情報のＨＴＴＰ要求を生成するウエブ機器であって、前記ネットワークアドレスは、前記電話によって生成されたネットワークプロトコルのフォーマット化された要求を受信することによって前記電話に関連付けられたものでも、前記電話によって生成されたネットワークプロトコルのフォーマット化された返信アドレスを受信することによって前記電話に関連付けられたものでもない、前記ウエブ機器と、
前記要求されたウエブ情報を検索し、検索した情報を前記返信応答デバイスの前記ＩＰアドレスに送信することによって前記ＨＴＴＰ要求の受信に応答する、前記ウエブ機器に接続されたウエブサーバと
を含む電話システム。
【請求項９】
前記自動メッセージ応答システムが、ＩＰアドレスを受信することにより、前記ダイヤルシーケンスに付加された、前記返信応答用のデバイスの前記ネットワークアドレスを判定する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ダイヤルシーケンスに付加された前記ネットワークアドレスを受信することは、前記電話接続がなされた後に前記ネットワークアドレスの少なくとも一部を受信することを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記自動メッセージ応答システムの電話番号が複数のウエブページに関連し、さらに前記規定のシーケンスの少なくとも一部が複数のウエブページのうちの１つを、要求されるウエブ情報として識別する、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記システムが、少なくとも１つの電話番号と、対応する情報であって、前記呼び出し者の返信応答デバイスの前記ＩＰアドレスを表す前記情報とを有するルックアップテーブル（ＬＵＴ）を含み、前記ウエブ機器は、前記呼び出し者の電話番号の受信に応答して、前記返信応答デバイスのネットワークアドレスをルックアップする、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記自動メッセージ応答システムが、前記電話の呼び出しに規定のシーケンスがない場合、前記電話の呼び出しを音声通話として処理するよう構成される、請求項８に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月3日(2009.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板を提供する工程と、
前記半導体基板から、第１の表面と第１の側壁および第２の側壁とを有するメサ構造を形成する工程と、
ゲート表面と、第１の側部および第２の側部とを有するゲート構造を、前記メサ構造に形成し、前記ゲート構造の第１の部分と第２の部分とが前記第１の側部と前記第２の側部とを覆い、さらに、前記ゲート構造の第１の部分と第２の部分とが前記第１の側壁と前記第２の側壁とにそれぞれ配置されるようにする工程と、
前記半導体基板の、前記ゲート構造の前記第１の側部と前記第２の側部とに隣接する部分にドープを行う工程とを有する半導体デバイスの製造方法。
【請求項２】
前記ゲート構造を形成する前記工程は、
前記メサ構造に絶縁材料の第１の層を形成する工程を有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ゲート構造を形成する前記工程は、
前記絶縁材料の第１の層に絶縁材料の第２の層を形成する工程を有する請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記絶縁材料の第１の層を形成する工程は、
前記第１の側壁および前記第２の側壁に前記絶縁材料の第１の層の一部を形成し、前記絶縁材料の第１の層の一部が前記ゲート構造の前記第１の部分として機能 し、前記絶縁材料の第１の層の別の部分が前記ゲート構造の前記第２の部分として機能するようにする工程を有する請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の側壁および前記第２の側壁に前記絶縁材料の第１の層の一部を形成する工程は、前記第１の側壁と前記第２の側壁とを酸化する工程を有する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ゲート構造の前記第１の側部と前記第２の側部とに隣接する前記半導体基板に半導体材料の層を形成する工程を更に有する請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記半導体材料の層を形成する工程は、前記半導体材料の層を選択的に成長させる工程を有する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
上面と、第１の側壁および第２の側壁とを有する半導体−オン−インシュレータのメサ分離構造を提供する工程を有し、
前記上面と前記第１の側壁および前記第２の側壁とにゲート絶縁材料を形成する工程を有し、
前記ゲート誘電材料にゲートを形成する工程を有し、前記ゲートと前記ゲート誘電材料とは、共に、上面とゲート側壁とを有するゲート構造を形成するものであり、
前記メサ分離構造の前記上面の、前記第１の側壁と前記第２の側壁とに隣接する部分に半導体材料を形成する工程を有し、前記半導体材料が前記ゲート側壁の一部を覆うようにされており、
前記半導体材料からシリサイドを形成する工程と、
前記ゲートからシリサイドを形成する工程とを有し、前記ゲートから形成された前記シリサイドは前記半導体デバイスに歪みを付与する、集積回路での使用に適した歪み半導体デバイスの製造方法。
【請求項９】
絶縁材料の層を覆って配置された半導体材料の第１の層を有する半導体基板を提供する工程を有し、前記半導体基板は、上面および絶縁側壁を有するものであり、
ゲート表面と、対向する第１のゲート側壁および第２のゲート側壁と、対向する第３のゲート側壁および第４のゲート側壁と、を有するゲート構造を前記半導体基板に形成する工程とを有し、前記ゲート構造を形成する工程は、
前記絶縁側壁の一部に絶縁材料の第２の層を形成する工程と、
前記絶縁材料の第２の層の一部に半導体材料の第２の層形成する工程と、を含み、前記絶縁材料の第２の層と前記半導体材料の第２の層とは前記対向する第３のゲート側壁および第４の側壁を覆うものであって、および、
前記ゲート表面と、前記半導体材料の第２の層とからシリサイドを形成する工程とを有し、前記シリサイドは前記半導体基板の前記半導体材料に歪みを付与する、半導体デバイスに歪みを付与するための方法。
【請求項１０】
対向する前記第３のゲート側壁および前記第４のゲート側壁に隣接する前記半導体材料の第１の層の一部に前記絶縁材料の第２の層を形成する工程を更に有する請求項９記載の方法。
【請求項１１】
と、前記半導体材料の第２の層を形成する前に前記ゲート構造を保護する工程を更に有する請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記半導体材料の第２の層にドープを行う工程を更に含む請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記半導体材料の第２の層からシリサイドを形成する工程を更に含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記半導体材料の前記第２の層から形成された前記シリサイドを保護してから、前記ゲート表面から前記シリサイドを形成する工程を更に有する、請求項１３に記載の方法。