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【手続補正書】
【提出日】平成23年2月4日(2011.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
亀裂や腐食などの欠陥を生じた基材の被補修部にロウ付け補修材料を充填して拡散熱処理を実施することによりロウ付け補修材料を上記被補修部に一体に接合して被補修部を補修する際に使用するロウ付け補修材料において、このロウ付け補修材料は、上記基材と類似した組成を有する非溶融合金粉末と、上記拡散熱処理の温度において溶融する溶融合金粉末との混合物から成り、この溶融合金粉末は質量％で０．００１〜０．０５％のＣと，２〜５％のＳｉと，１０〜２５％のＣｒと，１５〜２５％のＣｏと，１〜５％のＢと，残部Ｎｉとから成りＡｌを含まないロウ付け補修合金であることを特徴とするロウ付け補修材料。
【請求項２】
請求項１記載のロウ付け補修材料において、前記溶融合金粉末が質量％で２．５〜４．５％のＳｉと，１２〜２０％のＣｒと，１７〜２３％のＣｏと，２〜４％のＢと，残部Ｎｉとから成り、上記成分の構成比［Ｓｉ＋１．５×（Ｃ＋Ｂ）］が６以上９以下であることを特徴とする請求項１記載のロウ付け補修材料。
【請求項３】
請求項１記載のロウ付け補修材料において、前記非溶融合金粉末は、質量％で１０〜２５％のＮｉと、１５〜４５％のＣｒと、６〜８％のＴａと、０．１％以下のＷと、０．０５％以下のＣと、残部Ｃｏとから成ることを特徴とするロウ付け補修材料。
【請求項４】
請求項３記載のロウ付け補修材料において、前記非溶融合金粉末は、質量％で０．００１〜０．０１％のＣと，１８〜２５％のＣｒとを含有することを特徴とするロウ付け補修材料。
【請求項５】
請求項１記載のロウ付け補修材料において、前記溶融合金粉末は、請求項３または請求項４記載の非溶融合金粉末に質量％で２〜５％のＳｉと，１〜５％のＢとを含有することを特徴とするロウ付け補修材料。
【請求項６】
ガスタービンを運転後、亀裂や腐食などの欠陥を生じたガスタービン部品の基材の検査、分解、表面の清浄化、溶体化熱処理、表面部および貫通亀裂の底部はつり、表面の酸化層除去処理、貫通亀裂に対するＴＩＧ垂れ落ち防止処理の前処理を行う工程と、
被補修部の周囲にロウ付け補修材料の流れ止め用囲いを形成する工程と、
上記基材と類似した組成を有する非溶融合金粉末と拡散熱処理の温度において溶融する溶融合金粉末との混合物から成る請求項１〜５のいずれかに記載したロウ付け補修材料を上記囲いの中に充填する工程と、
上記ガスタービン部品の基材の融点以下であり上記溶融合金粉末の融点以上の温度で拡散熱処理を複数回繰り返して行うことにより上記ロウ付け補修材料を被補修部に一体に接合すると共に加圧下で熱処理することにより緻密化を図るロウ付け補修工程と、
このロウ付け補修箇所の検査、部分的な不良箇所の追加補修、冷却孔の修復処理を含む仕上げ処理を行う工程と、
仕上げ処理を行った被補修部について溶体化処理および時効熱処理を実施する工程と、補修したガスタービン部品の再組立を行なう工程とから成ることを特徴とするロウ付け補修方法。
【請求項７】
請求項６記載のロウ付け補修方法において、前記ロウ付け補修材料の非溶融合金粉末の重量比を溶融合金粉末の０．８倍以上とする一方、上記非溶融合金粉末の粒径を上記溶融合金粉末の２倍以上とすることにより、上記ロウ付け補修材料の被補修部への充填度を高めると共に上記溶融合金粉末の非溶融粉末中および亀裂先端部への流動性を高めることを特徴とするロウ付け補修方法。
【請求項８】
請求項７記載のロウ付け補修方法において、前記ロウ付け補修材料の非溶融合金粉末の重量比を溶融合金粉末の１〜１．５倍とすることを特徴とするロウ付け補修方法。
【請求項９】
請求項６記載のロウ付け補修方法において、前記ロウ付け補修は熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）法により実施し、加熱温度は１０００℃以上１３００℃以下とする一方、加圧力は１０００気圧以上２０００気圧以下とし、上記ロウ付け補修後に溶体化処理および時効処理を実施することを特徴とするロウ付け補修方法。
【請求項１０】
請求項９記載のロウ付け補修方法において、前記熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）法における加熱温度を１１００℃以上１２６０℃以下とすることを特徴とするロウ付け補修方法。
【請求項１１】
請求項６記載のロウ付け補修方法において、前記被補修部には亀裂が形成されており、この亀裂に充填されたロウ付け補修材料の組成が、亀裂の表面側から先端側に向かうにしたがって前記溶融合金粉末の組成に近づくことを特徴とするロウ付け補修方法。
【請求項１２】
請求項６記載のロウ付け補修方法において、前記被補修部へのロウ付け補修材料の充填方法として、合金粉末が溶融および酸化されない温度８００℃以下の高速搬送ガス流を用いてロウ付け補修材料を搬送せしめ、ロウ付け補修材料の粒子速度が３００ｍ／秒以上となるように設定し、ロウ付け補修材料を被補修部に付着あるいは亀裂内に充填させることを特徴とするロウ付け補修方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は上記のような技術的知見に基づいて完成されたものである。すなわち、本発明に係るロウ付け補修材料は、亀裂や腐食などの欠陥を生じた基材の被補修部にロウ付け補修材料を充填して拡散熱処理を実施することによりロウ付け補修材料を上記被補修部に一体に接合して被補修部を補修する際に使用するロウ付け補修材料において、このロウ付け補修材料は、上記基材と類似した組成を有する非溶融合金粉末と、上記拡散熱処理の温度において溶融する溶融合金粉末との混合物から成り、この溶融合金粉末は質量％で２〜５％のＳｉと，１０〜２５％のＣｒと，１５〜２５％のＣｏと，１〜５％のＢと，残部Ｎｉとから成りＡｌを含まないロウ付け補修合金であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、上記ロウ付け補修材料において、前記溶融合金粉末が質量％で２．５〜４．５％のＳｉと，１２〜２０％のＣｒと，１７〜２３％のＣｏと，２〜４％のＢと，残部Ｎｉとから成り、上記成分の構成比［Ｓｉ＋１．５×（Ｃ＋Ｂ）］が６以上９以下であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
さらに、上記ロウ付け補修材料において、前記溶融合金粉末は、前記非溶融合金粉末にさらに質量％で２〜５％のＳｉと，１〜５％のＢとを含有することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月20日(2011.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流体噴射装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体室の容積を変更し、ノズル開口部から流体をパルス状に噴射する流体噴射装置であって、
前記流体室に流体を供給する入口流路と、
前記ノズル開口部を有し前記流体室から流体を吐出する出口流路と、
前記流体室の容積を変更する容積可変手段と、
前記容積可変手段の駆動期間に前記入口流路を開放し、前記容積可変手段の停止期間に前記入口流路を閉塞する開閉手段と、
を備え、
前記開閉手段は、前記入口流路に連通する接続流路室と密閉された圧力空間とに分割する隔壁と、前記隔壁に前記入口流路に向かって突設される封止部と、前記隔壁を変位させる変位手段と、を具備し、前記隔壁の変位に伴い前記封止部により前記入口流路の開放及び閉塞を行うマイクロバルブであることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項２】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記隔壁が変位しないとき、前記入口流路が閉塞され、
前記隔壁が変位したとき、前記入口流路が開放されることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項３】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記隔壁が変位したとき、前記入口流路が閉塞され、
前記隔壁が変位しないとき、前記入口流路が開放されることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項４】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記隔壁が変位しない状態から前記隔壁を一方に変位させる状態にかけて前記入口流が
閉塞され、
前記隔壁を一方に変位させる状態から他方に変位させる状態にかけて前記入口流路が開放されることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の流体噴射装置において、
前記容積可変手段は、脈動波形と休止波形の組み合わせで構成される駆動波形により駆動され、
前記駆動波形の出力タイミングが、前記容積可変手段の起動から少なくとも前記流体室の内部に流体が流入する速度が最大になるまでの遅延時間を有して設定されていることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の流体噴射装置において、
前記容積可変手段の起動タイミングと、前記入口流路の開放タイミングが略一致していることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の流体噴射装置において、
前記接続流路室に流体を供給する流体供給路がさらに設けられると共に、前記入口流路と前記流体供給路との間の位置にあって前記圧力空間側に突起部が設けられ、
前記入口流路を閉塞しているとき、前記流体供給路から供給される流体の圧力によって前記隔壁の前記流体供給路の近傍が前記圧力空間の容積を縮小する方向に押圧され、前記突起部を支点、前記流体供給路の近傍を力点、前記封止部を作用点とするてこによって前記封止部を押圧することを特徴とする流体噴射装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の流体噴射装置において、
前記封止部が前記入口流路を閉塞しているとき、前記流体供給路からの流体供給圧力により前記隔壁が変位して前記圧力空間の容積が縮小され、前記圧力空間の内部圧力が前記流体室の内部圧力よりも上昇することにより、前記封止部が前記圧力空間と前記流体室との圧力差によって前記入口流路を押圧することを特徴とする流体噴射装置。
【請求項９】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記封止部の先端に円錐状の斜面部が設けられ、前記斜面部で前記入口流路を閉塞することを特徴とする流体噴射装置。
【請求項１０】
請求項７に記載の流体噴射装置において、
前記隔壁が、前記流体供給路を中心とする同心円の波型構造部を有することを特徴とする流体噴射装置。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の流体噴射装置において、
前記入口流路を開放してから前記流体室の内部に流体が流入する速度が最大になるときに前記脈動波形を出力することを特徴とする流体噴射装置。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の流体噴射装置において、前記流体室の容積が最小になったときから容積が復帰する間に前記入口流路を閉塞することを特徴とする流体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シーツやベッドカバー等の大面積の布類であるシート状物品を搬送する複数のコンベアからなるコンベア機構と、シート状物品を表側から検査する表側検査機構と、撮像部および照明部を有し、シート状物品を裏側から検査する裏側検査機構と、コンベア機構により搬送されるシート状物品を折り畳む折畳機構と、汚れ、破れを含む欠陥種別を判定する処理部と、折畳機構を内部に有する本体と、を備える折畳機であって、
裏側検査機構の撮像部を、本体からその大部分が突出した最も長いコンベアの最上流部近傍の下方に配置し、裏側検査機構の照明部を本体の内部に配置したことを特徴とする折畳機。
【請求項２】
前記撮像部は、シート状物品を幅方向にライン状に撮像する１台または２台のカメラにより構成されることを特徴とする請求項１に記載の折畳機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月20日(2011.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コットン繊維とパルプを少なくとも含む紙製ワイパーであって、
前記コットン繊維の配合率が、５質量％以上、５０質量％以下であり、
前記コットン繊維の繊維長は、５ｍｍ以上、１５ｍｍ以下であり、
湿式抄紙により製造されたことを特徴とする紙製ワイパー。
【請求項２】
当該紙製ワイパーの米坪が、１０ｇ／ｍ２以上、４０ｇ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の紙製ワイパー。
【請求項３】
当該紙製ワイパーの厚みが、１００〜６００μｍであることを特徴とする特徴とする請求項１又は２に記載の紙製ワイパー。
【請求項４】
当該紙製ワイパーは、クレープ加工がなされていることを特徴とする特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の紙製ワイパー。
【請求項５】
当該紙製ワイパーは、一層または複数層からなることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の紙製ワイパー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
コットン繊維とパルプを少なくとも含む紙製ワイパーであって、
前記コットン繊維の配合率が、５質量％以上、５０質量％以下であり、
前記コットン繊維の繊維長は、５ｍｍ以上、１５ｍｍ以下であり、
湿式抄紙により製造されたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の紙製ワイパーにおいて、
当該紙製ワイパーの米坪が、１０ｇ／ｍ２以上、４０ｇ／ｍ２以下であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の紙製ワイパーにおいて、
当該紙製ワイパーの厚みが、１００〜６００μｍであることを特徴とする特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の紙製ワイパーにおいて、
当該紙製ワイパーは、クレープ加工がなされていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月15日(2010.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排水口の側方に位置するシンク外周面部分に凹み部を設けて収納部を形成するとともに、当該凹み部の前部に、前記排水口に連通する連通孔を有する排水口蓋を一体に備えた隠蔽部材を着脱自在に設けたことを特徴とするシステムキッチン。
【請求項２】
前記隠蔽部材は側面視略Ｌ形に設けられ、その立ち上がり部に着脱操作部が形成されていることを特徴とする請求項１記載のシステムキッチン。
【請求項３】
前記凹み部の底部は、段部を介してシンクの底部よりも上方に設定されていることを特徴とする請求項１又は２記載のシステムキッチン。
【請求項４】
前記隠蔽部材を装着したときに、当該隠蔽部材の前面とシンク外周面とが平坦に連なることを特徴とする請求項１、２又は３記載のシステムキッチン。
【請求項５】
前記排水口蓋の上面は、前記シンクの底部上面と平坦に連なることを特徴とする請求項１記載のシステムキッチン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
前記目的を達成するため、本発明は、排水口の側方に位置するシンク外周面部分に凹み部を設けて収納部を形成するとともに、当該凹み部の前部に、前記排水口に連通する連通孔を有する排水口蓋を一体に備えた隠蔽部材を着脱自在に設ける、という構成を採っている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月2日(2011.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤面上に発射された遊技球が特定の入球口に入球又は特定の通過口を通過するタイミングに基づいて抽出される乱数値に起因して遊技者に有利なゲーム内容とするか否かを決定する当否決定手段と前記当否決定手段による決定毎に所定時間変動表示し、該変動時間経過後に遊技者に有利なゲーム内容に移行するか否かを示す複数の図柄より構成される当否画像を静止表示する当否画像表示制御手段と、を含む遊技機であって、
前記当否決定手段を有する遊技制御基板と、
前記当否画像表示手段に表示される当否画像の表示制御を行う図柄制御基板と、
前記遊技制御基板に、
前記タイミングに起因して前記当否画像の変動開始から静止させるまでの前記変動時間を複数の変動時間の中から決定する変動時間決定手段と、
該決定された変動時間を送信する送信手段と、
前記図柄制御基板に、
前記静止表示させる当否画像を構成する図柄の一部に広告画像を表示する広告画像表示制御手段と、
該広告画像を含む当否画像を、前記受信した変動時間に従って変動表示し、前記変動時間経過後に静止表示する前記当否画像表示制御手段と、
を備えたことを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
前記広告画像を含む当否画像は、前記複数の図柄の一部であることを特徴とする請求項１に記載の弾球遊技機。
【請求項３】
遊技盤面上に発射された遊技球が特定の入球口に入球又は特定の通過口を通過するタイミングに基づいて抽出される乱数値に起因して遊技者に有利なゲーム内容とするか否かを決定する当否決定手段と前記当否決定手段による決定毎に所定時間変動表示し、該変動時間経過後に遊技者に有利なゲーム内容に移行するか否かを示す複数の図柄より構成される当否画像を静止表示する当否画像表示制御手段と、を含む遊技機であって、
前記当否決定手段を有する遊技制御基板と、
前記当否画像表示手段に表示される当否画像の表示制御を行う図柄制御基板と、
前記遊技制御基板に、
前記タイミングに起因して前記当否画像の変動開始から静止させるまでの前記変動時間を複数の変動時間の中から決定する変動時間決定手段と、
該決定された変動時間を送信する送信手段と、
前記図柄制御基板に、
前記静止表示させる当否画像を構成する図柄の一部に広告画像を表示する広告画像表示制御手段と、
を備え、前記受信した変動時間に従って変動表示した後、前記遊技者に有利なゲーム中、前記広告画像を含む当否画像の図柄を表示する、
ことを特徴とする弾球遊技機。
【請求項４】
前記当否画像を構成する複数の図柄の全部が前記広告画像を含むことを特徴とする請求項３に記載の弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
前記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、
遊技盤面上に発射された遊技球が特定の入球口に入球又は特定の通過口を通過するタイミングに基づいて抽出される乱数値に起因して遊技者に有利なゲーム内容とするか否かを決定する当否決定手段と前記当否決定手段による決定毎に所定時間変動表示し、該変動時間経過後に遊技者に有利なゲーム内容に移行するか否かを示す複数の図柄より構成される当否画像を静止表示する当否画像表示制御手段と、を含む遊技機であって、
前記当否決定手段を有する遊技制御基板と、
前記当否画像表示手段に表示される当否画像の表示制御を行う図柄制御基板と、
前記遊技制御基板に、
前記タイミングに起因して前記当否画像の変動開始から静止させるまでの前記変動時間を複数の変動時間の中から決定する変動時間決定手段と、
該決定された変動時間を送信する送信手段と、
前記図柄制御基板に、
前記静止表示させる当否画像を構成する図柄の一部に広告画像を表示する広告画像表示制御手段と、
該広告画像を含む当否画像を、前記受信した変動時間に従って変動表示し、前記変動時間経過後に静止表示する前記当否画像表示制御手段と、
を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
前記構成を有する請求項１に記載の弾球遊技機は、当否を示す当否画像が広告画像を含むので一体感、調和感を生じ、遊技者に広告を訴える効果が向上し、前記課題を好適に解決できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項２に記載の発明は、前記広告画像を含む当否画像は、前記複数の図柄の一部であることを特徴とする請求項１に記載の弾球遊技機である。請求項２に記載の発明は、請求項１と同様の効果を有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項３に記載の発明は、
遊技盤面上に発射された遊技球が特定の入球口に入球又は特定の通過口を通過するタイミングに基づいて抽出される乱数値に起因して遊技者に有利なゲーム内容とするか否かを決定する当否決定手段と前記当否決定手段による決定毎に所定時間変動表示し、該変動時間経過後に遊技者に有利なゲーム内容に移行するか否かを示す複数の図柄より構成される当否画像を静止表示する当否画像表示制御手段と、を含む遊技機であって、
前記当否決定手段を有する遊技制御基板と、
前記当否画像表示手段に表示される当否画像の表示制御を行う図柄制御基板と、
前記遊技制御基板に、
前記タイミングに起因して前記当否画像の変動開始から静止させるまでの前記変動時間を複数の変動時間の中から決定する変動時間決定手段と、
該決定された変動時間を送信する送信手段と、
前記図柄制御基板に、
前記静止表示させる当否画像を構成する図柄の一部に広告画像を表示する広告画像表示制御手段と、
を備え、前記受信した変動時間に従って変動表示した後、前記遊技者に有利なゲーム中、前記広告画像を含む当否画像の図柄を表示する、
ことを特徴とする弾球遊技機である。従って、請求項１と同様の課題を達成でき、広告効果が高まる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項４に記載の発明は、前記当否画像を構成する複数の図柄の全部が前記広告画像を含むことを特徴とする請求項３に記載の弾球遊技機である。従って、請求項３と同様の効果を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周方向に周回すると共に、該周方向に複数種の絵柄が付された複数の周回体と、
前記各周回体の周回を開始させるべく操作される始動操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて役の抽選を行う抽選手段と、
前記各周回体の周回を個別に停止させるべく操作される複数の停止操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて前記各周回体の周回を開始させるとともに、前記停止操作手段の操作に基づいて対応する周回体の周回を停止させるように、前記各周回体を駆動制御する駆動制御手段と、
前記役の抽選に当選し、当選している役と対応する当選絵柄が有効位置に所定の組合せを形成して停止した場合、入賞成立として特典を付与する特典付与手段と
を備え、複数の役に当選している機会が生じ得る遊技機において、
第１移行条件が成立した場合、遊技状態を第１遊技状態に移行させる第１遊技状態移行手段と、
第２移行条件が成立した場合、遊技状態を第２遊技状態に移行させる第２遊技状態移行手段と、
第１役と第２役に当選している場合、遊技状態が前記第１遊技状態であるか前記第２遊技状態であるかによって異なる当選絵柄を前記有効位置に停止させると決定する停止絵柄決定手段と
を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記停止絵柄決定手段は、遊技状態が前記第１遊技状態である場合、前記第１役と対応する第１絵柄が前記第２役と対応する第２絵柄より優先して前記有効位置に停止するように、遊技状態が前記第２遊技状態である場合、前記第２絵柄が前記第１絵柄より優先して前記有効位置に停止するように、前記有効位置に停止させる当選絵柄を決定することを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記第２遊技状態下で特定回数の遊技が行われた場合に前記第２遊技状態を終了させる第２遊技状態終了手段と、前記特定回数の遊技にわたって所定の演出を行った後に前記第１役に当選しているか否かを示唆する特定連続補助演出を実行可能な補助演出実行手段と、前記特定連続補助演出を実行するか否かを決定する演出決定手段とを備え、前記演出決定手段は、遊技状態が前記第２遊技状態に移行した場合に前記特定連続補助演出を実行すると決定することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記各周回体を周方向にそれぞれ区画した複数の区画領域と、各区画領域に付された絵柄との対応関係を記憶する対応関係記憶手段と、前記停止操作手段が操作されて停止指令が発生した場合に、対応する周回体の各区画領域のうち、予め定めた規定位置に到達している到達区画領域を把握する到達区画領域把握手段と、前記停止指令が発生した場合、前記到達区画領域把握手段の把握結果に基づいて、対応する周回体の各区画領域のうち、前記規定位置に停止させる停止区画領域を決定する停止区画領域決定手段と、前記停止区画領域が決定されていない周回体を停止させる場合に用いる停止情報を、前記停止区画領域決定手段の決定結果に基づいて導出する停止情報導出手段と、前記停止情報を記憶する停止情報記憶手段とを備え、前記駆動制御手段は、前記停止区画領域決定手段の決定した停止区画領域が前記規定位置に停止するよう対応する周回体を停止駆動制御し、前記停止情報導出手段は、前記停止区画領域決定手段の決定結果に基づいて、前記停止指令が発生してから次の停止指令が発生するまでに、前記停止区画領域が決定されていない少なくとも一の周回体について全区画領域の停止情報を区画領域毎に導出し、前記停止区画領域決定手段は、前記停止情報導出手段が前記停止情報を導出した後に停止指令が発生した場合、前記到達区画領域把握手段の把握結果に基づいて、予め定めた規定期間に前記規定位置に到達させることが可能な到達可能区画領域を把握する到達可能区画領域把握手段と、前記停止情報記憶手段に記憶された前記到達区画領域及び前記到達可能区画領域の全停止情報を比較判定する比較判定手段と、前記比較判定手段の判定結果に基づいて、前記停止区画領域を導出する停止区画領域導出手段とを備えることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月8日(2011.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学補償シートおよび液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、光学補償シートおよび液晶表示装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
従って本発明は、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして少なくとも一方向の弾性率が４０００乃至１００００ＭＰａの範囲にあるシクロオレフィンポリマーフイルム（以下、ポリマーフイルムまたはフイルムと略す場合がある）からなることを特徴とする光学補償シートにある。
（Ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）  Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり、そして、ｄは、フイルムの厚さである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［ポリマーフイルム］
本発明に用いるポリマーフイルムとしては、光透過率が８０％以上であるポリマーフイルムを用いることが好ましい。ポリマーフイルムとしては、外力により複屈折が発現しにくいものが好ましい。ポリマーフイルムの例としては、商品名アートン（ＪＳＲ（株）製）および商品名ゼオネックス（日本ゼオン（株）製）などのノルボルネン系ポリマーが挙げられる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
なお、実施例１、３、４、６、８〜１０は参考例である。
［実施例１］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして少なくとも一方向の弾性率が４０００乃至１００００ＭＰａの範囲にあるシクロオレフィンポリマーフイルムからなることを特徴とする光学補償シート:
（Ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）  Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項２】
上記シクロオレフィンポリマーがノルボルネンポリマーである請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
延伸方向の弾性率が４０００乃至１００００ＭＰａの範囲にある延伸シクロオレフィンポリマーフイルムからなる請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項４】
延伸方向の延伸倍率が２０乃至７０％である請求項３に記載の光学補償シート。
【請求項５】
延伸方向の延伸倍率が４５乃至７０％である請求項４に記載の光学補償シート。
【請求項６】
上記シクロオレフィンポリマーフイルムおよび上記光学補償シートのいずれも、上記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、上記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして少なくとも一方向の弾性率が４０００乃至１００００ＭＰａの範囲にある請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項７】
上記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至５０ｎｍの範囲にある請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項８】
上記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至２４０ｎｍの範囲にある請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項９】
ＴＮ液晶表示装置用である請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項１０】
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１方の偏光板が、偏光膜の少なくとも一方の面に光学補償シートが貼り合わされており、該偏光板の光学補償シートが液晶セル側になるように配置され、該光学補償シートがシクロオレフィンポリマーフイルムからなり、シクロオレフィンポリマーフイルムおよび光学補償シートのいずれも、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして少なくとも一方向の弾性率が４０００乃至１００００ＭＰａの範囲にあることを特徴とする液晶表示装置:
（Ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）  Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項１１】
上記偏光膜の透過軸とそれに貼り合わされている上記光学補償シートの遅相軸とが、実質的に平行になるように配置されている請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
液晶セルが、ＴＮモードの液晶セルである請求項１０に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月9日(2011.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像剤を収容すると共に、第１の開口部を介して前記現像剤を供給する収容部と、
前記第１の開口部の周囲に前記収容部の外部に向けた凸形状挟持部と、
前記第１の開口部と対応する位置に形成された第２の開口部と、
前記第２の開口部の周囲に配設されたシール部材とを備えること
を特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記凸形状挟持部は、前記第２の開口部の形状に対応し、且つ、前記シール部材に対応して備えられること
を特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
現像剤を収容すると共に、第１の開口部を介して前記現像剤を供給する第１の収容器と、
前記第１の開口部に対応する形状で形成された第２の開口部と前記第２の開口部の周囲を囲むように配設されたシール部材とを有する第２の収容器と、を備え、
前記第１の収容器は、前記第２の収容器に対向する面に少なくとも１つ以上の凸形状挟持部を備えること
を特徴とする現像装置。
【請求項４】
前記凸形状挟持部は、前記第２の開口部の形状に対応し、且つ、前記シール部材に対応して備えられること
を特徴とする請求項３記載の現像装置。
【請求項５】
現像剤を収容すると共に、第１の開口部を介して前記現像剤を供給する第１の収容器と、
前記第１の開口部に対応する形状で形成された第２の開口部と前記第２の開口部の周囲を囲むように配設されたシール部材とを有する第２の収容器と、を備え、
前記第１の収容器は、前記第２の収容器に対向する面に少なくとも１つ以上の第１の挟持部を備えると共に、前記第２の収容器は、前記第１の収容器に対向する面に少なくとも１つ以上の第２の挟持部を備えること
を特徴とする現像装置。
【請求項６】
前記第１の挟持部と前記第２の挟持部との形状は、凸形形状であること
を特徴とする請求項５記載の現像装置。
【請求項７】
前記第１の挟持部と前記第２の挟持部との形状は、凸形形状と凹形形状との組合せであること
を特徴とする請求項５記載の現像装置。
【請求項８】
前記第１の挟持部と前記第２の挟持部との挟持部間の距離は、前記シール部材の無負荷時の厚さよりも短いこと
を特徴とする請求項５乃至７の何れかに記載の現像装置。
【請求項９】
前記シール部材は、前記第１の収容器、又は前記第２の収容器の何れかの収容器に対向する面に接着部を備えること
を特徴とする請求項５乃至８の何れかに記載の現像装置。
【請求項１０】
前記シール部材は、前記第１の収容器の押圧による圧縮可能なウレタンスポンジからなること
を特徴とする請求項５乃至９の何れかに記載の現像装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れかに記載の現像装置を備えること
を特徴とする画像形成装置。
【請求項１２】
現像剤を収容すると共に、開口部を介して前記現像剤を供給する収容部と、
前記開口部の周囲に前記収容部の外部に向けた凸形状部とを備えること
を特徴とする現像剤収容器。
【請求項１３】
現像剤を収容すると共に、開口部を介して前記現像剤を供給する収容部と、
前記開口部の周囲に前記収容部の外部に向けた凸形状部とを備える現像剤収容器を有すること
を特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月21日(2010.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】携帯入力端末の入力方式
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルファベット使用の字母入力鍵盤を持つ携帯入力端末の入力鍵盤において、和文と英文の入力を、ともに鍵盤の切り替えという形式的に共通した方式によって行うように設定した携帯入力端末の入力方式。
【請求項２】
請求項１における携帯入力端末の入力方式において、その和文の入力の場合に、すべての和文表記を、形式上子音プラス母音の形に整理して、同一の現実の鍵盤に、子音入力あるいは子音入力に関連する入力を受け持つ鍵からなる子音鍵盤と母音入力あるいは母音入力に関連する入力を受け持つ鍵からなる母音鍵盤とを設定して、この子音入力あるいは子音入力に関連する入力を受け持つ鍵からなる子音鍵盤に属する鍵を押し下げると、子音入力あるいは子音入力に関連する入力が行われると同時に、鍵盤が、母音入力あるいは母音入力に関連する入力を受け持つ鍵からなる母音鍵盤に切り替わり、同様に、この母音入力あるいは母音入力に関連する入力を受け持つ鍵からなる母音鍵盤に属する鍵を押し下げると、母音入力あるいは母音入力に関連する入力が行われると同時に、鍵盤が、子音入力あるいは子音入力に関連する入力を受け持つ鍵からなる子音鍵盤に切り替わるように設定した携帯入力端末の入力方式。
【請求項３】
請求項１、２における携帯入力端末の入力方式において、その和文入力の場合の子音鍵盤と母音鍵盤の字母の配置を、基本的に五十音の配列の規則に従って構成した携帯入力端末の入力方式。
【請求項４】
請求項１における携帯入力端末の入力方式において、その英文の入力の場合に、単語つづりの上で相補性をもつ複数の子音を同一の鍵に設定して、この鍵の一度の押し下げで、同時にこれらの複数の子音の入力が行われるように設定した携帯入力端末の入力方式。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月2日(2011.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つ以上の記録層を有する光情報記録媒体に対して情報の記録及び再生を行う光情報記録再生装置であって、
光情報記録媒体にレーザ光を照射し、前記光情報記録媒体からの戻り光を受光し、電気信号に変換する光ピックアップと、
前記光ピックアップから出力される信号に基づき前記光情報記録媒体の欠陥の有無を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段が生成する欠陥情報に従い、情報を記録すべき記録領域及び前記記録領域での記録方式を決定する記録制御手段と、を備え、
前記光情報記録媒体の記録層のうちの一つの記録層において検出された欠陥を元に生成された欠陥情報を、当該記録層以外の記録層における記録処理において用いることを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光情報記録再生装置であって、
前記記録制御手段は、前記欠陥情報を前記光情報記録媒体に記録されている情報から読み出すことを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光情報記録再生装置であって、
前記領域の半径方向の幅は、前記各層間における接合誤差以上であることを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光情報記録再生装置であって、
前記記録制御手段は、前記欠陥の領域に対する情報の記録に失敗した場合のリトライ動作を欠陥の検出されていない領域に対し変更するよう制御することを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項５】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光情報記録再生装置であって、
前記記録制御手段は、前記欠陥の領域を前記光情報記録媒体の半径毎に欠陥情報を管理しており、
前記記録制御手段は前記欠陥の領域および該欠陥領域に隣接する領域に対する情報の記録に失敗した場合のリトライ動作を欠陥の検出されていない領域に対し変更するよう制御する事を特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の光情報記録再生装置であって、
前記リトライ動作の変更とは、リトライ回数を減らす、またはリトライを行わないことである光情報記録再生装置。
【請求項７】
請求項４または５に記載の光情報記録再生装置であって、
前記リトライ動作の変更とは、記録速度及び記録方式の変更であることである光情報記録再生装置。
【請求項８】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光情報記録再生装置であって、
前記記録制御手段は、前記欠陥領域に記録を行なう場合には、記録動作を変更するよう制御することを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項９】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光情報記録再生装置であって、
前記記録制御手段は、前記欠陥の領域を前記光情報記録媒体の半径毎に欠陥情報を管理しており、
前記欠陥領域または該欠陥領域に隣接する領域に情報の記録を行なう場合には、記録動作を変更するよう制御する事を特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の光情報記録再生装置であって、
前記記録制御手段は、記録速度を低下させる、または、リードアフターライト方式で記録を行なうことにより、前記記録動作の変更を行うことを特徴とする光情報記録再生装置。
【請求項１１】
２つ以上の記録層を有する光情報記録媒体に対して情報の再生を行う光情報再生装置であって、
光情報記録媒体にレーザ光を照射し、前記光情報記録媒体からの戻り光を受光し、電気信号に変換する光ピックアップと、
前記光ピックアップから出力される信号に基づき前記光情報記録媒体の欠陥の有無を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段が生成する欠陥情報に従い、情報を再生すべき領域及び前記領域での再生方式を決定する再生制御手段と、を備え、
前記光情報記録媒体の記録層のうちの一つの記録層において検出された欠陥を元に生成された欠陥情報を、当該記録層以外の記録層における再生処理において用いることを特徴とする光情報再生装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光情報再生装置であって、
前記再生制御手段は、前記欠陥の領域を示す情報を前記光情報記録媒体から読み出すよう制御することを特徴とする光情報再生装置。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の光情報再生装置であって、
前記領域の半径方向の幅は、前記各層間における接合誤差以上であることを特徴とする光情報再生装置。
【請求項１４】
請求項１１から１３のいずれか１項に記載の光情報再生装置であって、
前記再生制御手段は、前記欠陥の領域および該欠陥領域に隣接する領域では、フォーカスサーボ引き込みを行わないことを特徴とする光情報再生装置。
【請求項１５】
２つ以上の記録層を有する光情報記録媒体であって、
各層の記録領域にはアドレスが割り当てられ、
各層の記録領域は、所定の範囲のアドレス毎に分割された複数の領域を有し、
１つの層にて欠陥が検出された場合に、欠陥が検出されたアドレスに対応づけられている領域が欠陥領域として登録され、
前記領域の半径方向の幅は、前記各層間における接合誤差以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光情報記録媒体であって、
前記複数の領域のうち、どの領域で欠陥が検出されたかを示す欠陥領域情報を記録する領域を有することを特徴とする光情報記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月17日(2011.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
こうしてラッピング加工が施されたディスク材Ｄ２に対して荒研磨加工を施した。荒研磨加工を、愛媛フジボー社製発泡ウレタン研磨用パッドが研磨布として用いられた、上記研磨装置１０と同様の構成のスピードファム社製の両面９Ｂ研磨機研磨装置を用いて行った。研磨液３２として三井金属社製のミレーク（登録商標）（平均粒径：約１．５μｍ）を１０ｗｔ％濃度（純水希釈）で分散させた研磨液を用い、９．８ｋＰａの加工圧力下で荒研磨加工を行った。ここでは、荒研磨加工後のディスク材Ｄ３に対して、第１バルブ３４を閉じると共に第２バルブ３８を開いて、水３６のみを供給して、ディスク材Ｄ３の洗浄を行った。
なお、荒研磨加工は、このような加工条件下で行われ、荒研磨加工後のディスク材Ｄ３の表面の仕上げ面粗さはＲａ０．６ｎｍであった。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月8日(2011.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
切欠け部４６の形状は、常に巻き解く力が作用している端末３２Ａ、３２Ｂの外周面が切欠け面に接触した状態で、端末３２Ａ、３２Ｂが安定して同じ位置に固定できる形状であれば特に限定されない。例えば、図６（Ａ）に示す端子４０Ｃのように、切欠け部４６ＡがＵ字形状を有していてもよいし、図６（Ｂ）に示す端子４０Ｄのように、切欠け部４６Ｂが、切欠き方向の先端部分でＶ字形状となっているものでもよいし、図６（Ｃ）に示す端子４０Ｅのように、切欠け部４６Ｃが方形を有していてもよい。なお、端末３２Ａ、３２Ｂの断面形状と同一形状又は相似形状の部分を有するという点では、Ｕ字形状の切欠け部４６Ａが好適である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
１，２，３，４，５，６  インダクタ
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｆ  ドラム型コア（第一のコア）
１０Ｄ、１０Ｅ  Ｔ字型コア（第一のコア）
１２Ａ、１２Ｂ  上鍔部
１４Ａ、１４Ｂ  下鍔部
１６  巻軸部
１８、１８Ａ、１８Ｂ  凹部
２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、２０Ｆ  リング型コア（第二のコア）
２０Ｄ、２０Ｅ  ポット型コア（第二のコア）
２２  中空部
２４、２４Ａ、２４Ｂ  平面
２６  隅面
２６Ａ  第一の面
２６Ｂ  第二の面
２８、２８Ａ、２８Ｂ、２８Ｃ、２８Ｄ、２８Ｅ、２８Ｆ  凹部
２８Ｘ  底面
２８Ｙ  側壁面
３０  巻線
３２、３２Ａ、３２Ｂ  端末
４０、４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ、４０Ｅ、４０Ｆ、４０Ｇ、４０Ｈ  端子
４２  実装部
４４  巻線接続部
４４Ａ  末端側
４６、４６Ａ、４６Ｂ、４６Ｃ、４６Ｄ  切欠け部
４８Ａ、４８Ｂ  開口部端
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2010205783.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月18日(2011.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
素子形成面となる第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する半導体基板と、
前記半導体基板を貫通する貫通ビアと、
前記貫通ビアの側壁と前記半導体基板との間に形成された絶縁性のビア被覆膜と、
前記半導体基板の前記第２面上に形成された絶縁性の保護膜と、
前記保護膜と前記貫通ビアの側壁との間に形成された絶縁膜とを備え、
前記ビア被覆膜と前記保護膜と前記絶縁膜とはそれぞれ互いに異なる絶縁膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記絶縁膜は、前記保護膜と実質的に同じ平面上に存在していることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の半導体装置において、
前記ビア被覆膜の前記第２面側の端は、前記半導体基板の前記第２面と実質的に同じ平面内に位置しており、
前記ビア被覆膜の前記第２面側の端を覆うように、前記絶縁膜が形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置において、
前記ビア被覆膜の前記第１面側の端は、前記半導体基板の前記第１面と実質的に同じ平面内に位置していることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記保護膜は窒化シリコンからなることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記絶縁膜は、前記ビア被覆膜よりもエッチングされにくい材料からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記絶縁膜は、窒化シリコン膜、炭化シリコン膜又はシリコン酸化膜からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
素子形成面となる第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する半導体基板の前記第２面上に絶縁性の保護膜を形成する工程（ａ）と、
前記保護膜及び前記半導体基板を貫通するようにビアホールを形成する工程（ｂ）と、
前記ビアホール内に絶縁性のビア被覆材料を埋め込む工程（ｃ）と、
前記保護膜中に位置する部分の前記ビアホール内に埋め込まれている前記ビア被覆材料を除去する工程（ｄ）と、
前記ビアホール内に残存する前記ビア被覆材料の上に絶縁膜を形成する工程（ｅ）と、
前記保護膜中に位置する部分の前記ビアホールの内壁を覆う部分の前記絶縁膜を残して前記絶縁膜を除去する工程（ｆ）と、
前記保護膜中に位置する部分の前記ビアホールの内壁上に残存する前記絶縁膜をマスクとして、前記ビアホールの内壁を覆う部分の前記ビア被覆材料をビア被覆膜として残して前記ビア被覆材料を除去する工程（ｇ）と、
前記ビア被覆膜が残存する前記ビアホール内に導電膜を埋め込むことにより、前記半導体基板を貫通する貫通ビアを形成する工程（ｈ）とを備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程（ｄ）において、前記ビア被覆材料の前記第２面側の端が、前記半導体基板の前記第２面と実質的に同じ平面内に位置するまで、前記ビア被覆材料を除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程（ｅ）において、前記絶縁膜をＣＶＤ法により形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記絶縁膜は、窒化シリコン膜、炭化シリコン膜又はシリコン酸化膜からなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記絶縁膜は前記ビア被覆材料よりもエッチングされにくい材料からなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
素子形成面となる第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する半導体基板と、
前記半導体基板を貫通する貫通ビアと、
前記貫通ビアの側壁と前記半導体基板との間に形成された絶縁性のビア被覆膜と、
前記半導体基板の前記第２面上に形成された絶縁性の保護膜とを備え、
前記ビア被覆膜の前記第２面側の端は、前記保護膜の表面と実質的に同じ平面内に位置していることを特徴とする半導体装置。
【請求項１４】
素子形成面となる第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する半導体基板と、
前記半導体基板を貫通する貫通ビアと、
前記貫通ビアの側壁と前記半導体基板との間に形成された絶縁性のビア被覆膜と、
前記半導体基板の前記第２面上に形成された絶縁性の保護膜とを備え、
前記ビア被覆膜は前記保護膜上にまで形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項１５】
請求項１〜７、１３、１４のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記ビア被覆膜は絶縁性ポリマーからなることを特徴とする半導体装置。
【請求項１６】
素子形成面となる第１面及び前記第１面とは反対側の第２面を有する半導体基板の前記第２面上に絶縁性の保護膜を形成する工程（ａ）と、
前記保護膜及び前記半導体基板を貫通するようにビアホールを形成する工程（ｂ）と、
前記ビアホール内に絶縁性のビア被覆材料を埋め込む工程（ｃ）と、
前記ビアホールの内壁を覆う部分の前記ビア被覆材料をビア被覆膜として残して前記ビア被覆材料を除去する工程（ｄ）と、
前記ビア被覆膜が残存する前記ビアホール内に導電膜を埋め込むことにより、前記半導体基板を貫通する貫通ビアを形成する工程（ｅ）とを備え、
前記工程（ｄ）において、前記保護膜中に位置する部分の前記ビアホールの内壁上にも前記ビア被覆材料を前記ビア被覆膜として残存させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程（ｃ）において、前記ビア被覆材料を前記保護膜上にまで形成し、
前記工程（ｄ）において、前記保護膜上にも前記ビア被覆材料を前記ビア被覆膜として残存させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項８〜１２、１６、１７のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記ビア被覆材料は絶縁性ポリマーからなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項８〜１２、１６〜１８のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記保護膜は窒化シリコンからなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項８〜１２、１６〜１９のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記ビア被覆膜は絶縁性ポリマーからなることを特徴とする半導体装置の製造方法。