Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月17日(2010.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
風力発電プラント（１）のタワーセクション（２）を輸送する方法であって、
事前組立サイトにおいて前記タワーセクション（２）を準備するステップと、
前記風力発電プラント（１）の少なくとも１つの電子サブシステム（３、４、５）を前記タワーセクション（２）上に事前に組立てて事前組立てタワーセクション（２）を形成するステップと、
前記事前組立てタワーセクション（２）を前記事前組立サイトから設置サイトに輸送するステップと、
を含む、
方法。
【請求項２】
前記事前組立てタワーセクション（２）を前記設置サイトにおいて直立させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記タワーセクション（２）を準備するステップが、前記タワーセクション（２）に対して支持構造体（６）を設けるステップを含む、請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の方法。
【請求項４】
前記事前組立サイトにおいて、前記タワーセクション（２）内に前記少なくとも１つの電子サブシステム（３、４、５）用のキャビネット（１３）を据付けるステップをさらに含む、請求項１から請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記電子サブシステム（３、４、５）が、前記風力発電プラント（１）の電力電子機器（７）を備え、該電力電子機器（７）は、電力整流器（８）、電力ＤＣ−ＡＣ変換器（９）又は中央制御装置（１０）のいずれかを含む、請求項１から請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
風力発電プラント（１）のタワーセクション（２）であって、
管状セクション（１１）と、
少なくとも１つの電子サブシステム（３、４、５）と、
支持構造体（６）と、を含み、
該タワーセクション（２）が事前組立てされかつ前記少なくとも１つの電子サブシステム（３、４、５）が前記支持構造体（６）によって前記管状セクション（１１）の内部に取付けられ、
該タワーセクション（２）が輸送可能である、
タワーセクション（２）。
【請求項７】
前記少なくとも１つの電子サブシステム（３、４、５）を収容するためのキャビネット（１３）をさらに含む、請求項６記載のタワーセクション（２）。
【請求項８】
前記少なくとも１つの電子サブシステム（３、４、５）が、前記風力発電プラント（１）の電力電子機器（７）を備え、該電力電子機器（７）は、電力整流器（８）、電力ＤＣ−ＡＣ変換器（９）、電力変圧器（１４）又は中央制御装置（１０）のいずれかを含む、請求項６又は請求項７のいずれか１項記載のタワーセクション（２）。
【請求項９】
前記管状セクション（１１）の長手方向長さ（Ｌ）が、２ｍよりも大きい、請求項６から請求項８のいずれか１項記載のタワーセクション（２）。
【請求項１０】
前記管状セクション（１１）の長手方向長さ（Ｌ）が、２０ｍよりも小さい、請求項６から請求項９のいずれか１項記載のタワーセクション（２）。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月15日(2011.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
制御部１６０は、例えば、図６に示すように、ＣＰＵ（Central Processing Unit）１６１と、ＲＡＭ（Random Access Memory）１６２と、記憶部１６３などを備えて構成される。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月21日(2011.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
共重合体ラテックスのゲル含有量の測定
室温（２３℃）雰囲気にて２４時間乾燥させ、共重合体ラテックスのフィルムを作成する。そのフィルムを約１ｇ秤量し、これを４００ｍｌのメチルエチルケトンに入れ４８時間膨張溶解させる。その後、これを３００メッシュの金網で濾過し、金網に捕捉されたメチルエチルケトン不溶部を乾燥後秤量し、この重量のはじめのフィルム重量に占める割合をゲル含有量として重量％で算出した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
共重合体ラテックスの結合酸量、非結合酸量の測定
５重量％に希釈した共重合体ラテックス１００ｇに０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を５０ｇ、四塩化炭素を３ｇ添加後、１時間攪拌した。その後、遠心分離装置にてラテックス粒子を遠心沈降させ上澄み層とラテックス粒子層を分離した。得られた二層をそれぞれ純水で希釈し、０．１Ｎの塩酸を過剰量添加した後、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液で逆滴定し、得られた電気伝導度曲線から粒子結合酸量（Ａ（ｍｅｑ／ｇ））、および粒子非結合酸量（Ｂ（ｍｅｑ／ｇ））をラテックス固形分１ｇあたりのミリ当量（ｍｅｑ）として求めた。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月27日(2011.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）コバルト化合物、
（Ｂ）ハロゲン含有有機アルミニウム化合物および
（Ｃ）水
からなる触媒を用いて、１，３−ブタジエンを重合して得られたポリブタジエンゴムを、重合後直ちに変性剤であるアミノ基とアルコキシ基とを含有する有機ケイ素化合物を用いて変性して得られ、
繰り返し単位の８０％以上がシス−１，４構造であり、
ムーニー粘度（ＭＬ1+4、１００℃）が２０〜８０であり、
ＧＰＣによる重量平均分子量（Ｍｗ）が４２９，０００〜１，０００，０００であり、
窒素含有量が１０〜５，０００ｐｐｍ
である変性ポリブタジエン１０〜８０重量％を含むゴム成分１００重量部に対して、
シリカ５〜１００重量部および
シリカ重量に対して０．５〜１０重量％のシランカップリング剤
を配合してなる変性ポリブタジエンゴム組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月14日(2011.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（Ａ）で表される化合物。
（Ｘ２−）４Ｙ  ・・・（Ａ）。
ただし、
Ｘ２は、下式（Ｘ２）で表される基であり、
Ｙは、下式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−  ・・・（Ｘ２）。
【化１】
2009197210.tif 000001
【請求項２】
下式（Ａ）で表される化合物を含む、潤滑剤。
（Ｘ２−）４Ｙ  ・・・（Ａ）。
ただし、
Ｘ２は、下式（Ｘ２）で表される基であり、
Ｙは、下式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−  ・・・（Ｘ２）。
【化２】
2009197210.tif 000002
【請求項３】
式（Ａ）で表される化合物、および、式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物を含む、請求項２に記載の潤滑剤。
【請求項４】
式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物が、下式（Ａ１６）で表される化合物である、請求項３に記載の潤滑剤。
（Ｘ１−）４Ｙ  ・・・（Ａ１６）。
ただし、
Ｘ１は、下式（Ｘ１）で表される基であり、
Ｙは、前記式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−  ・・・（Ｘ１）。
【請求項５】
化合物（Ａ）の量が、潤滑剤中に０．１〜１００質量％である、請求項２〜４のいずれか一項に記載の潤滑剤。
【請求項６】
請求項２〜５のいずれか一項に記載の潤滑剤を溶媒に溶解または分散させることを特徴する、溶媒組成物。
【請求項７】
前記溶媒が、ペルフルオロアミン類、ペルフルオロアルカン類、またはヒドロフルオロエーテル類である、請求項６に記載の溶媒組成物。
【請求項８】
前記溶媒組成物中の潤滑剤の濃度が、０．００１〜５０質量％である、請求項６または７に記載の溶媒組成物。
【請求項９】
請求項２〜５のいずれか一項に記載の潤滑剤を基板に塗布して潤滑剤層を形成させることを特徴とする、磁気ディスクの製造方法。
【請求項１０】
続いて、吸着処理を行う、請求項９に記載の磁気ディスクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】エーテル化合物、潤滑剤、溶媒組成物および磁気ディスクの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物は、下式（Ａ１６）で表される化合物であることが好ましい。
（Ｘ１−）４Ｙ  ・・・（Ａ１６）。
ただし、Ｘ１は、下式（Ｘ１）で表される基であり、Ｙは、前記式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−  ・・・（Ｘ１）。
化合物（Ａ）の量は、潤滑剤中に０．１〜１００質量％であることが好ましい。
本発明の溶媒組成物は、本発明の潤滑剤を溶媒に溶解または分散させることを特徴する。
前記溶媒は、ペルフルオロアミン類、ペルフルオロアルカン類、またはヒドロフルオロエーテル類であることが好ましい。
前記溶媒組成物中の潤滑剤の濃度は、０．００１〜５０質量％であることが好ましい。
本発明の磁気ディスクの製造方法は、本発明の潤滑剤を基板に塗布して潤滑剤層を形成させることを特徴とする。
本発明の磁気ディスクの製造方法においては、潤滑剤層の形成に続いて、吸着処理を行うことが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月19日(2011.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザ光源と、光ファイバと、前記半導体レーザ光源から出射した光を前記光ファイバの入射端面に集光させるレンズ系と、内側に形成された光通過穴の一方の端部に前記半導体レーザ光源を保持し、前記光通過穴の他方の端部に前記光ファイバを保持して、前記光通過穴の途中に前記レンズ系を保持した保持具を備え、
前記レンズ系を通って光ファイバに入射される光ファイバ入射光の周縁光線とその主光線がなす角度θよりも、
前記光ファイバ入射光の光ファイバ入射端面で反射する反射光のうちで前記光ファイバ入射光の主光線と最も近い周縁光線と光ファイバ入射光の主光線がなす角度βが大きくなるように、前記レンズ系及び光ファイバの配置角度が設定され、
かつ、前記光通過穴の他方の端部付近に前記光通過穴の内面とは別の受け面を設け、前記受け面および前記光通過穴の内面のうち少なくとも前記受け面付近は、前記半導体レーザ光源の発振波長を吸収する光吸収層で覆われており、前記反射光をその受け面で受けることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体レーザモジュールにおいて、前記光ファイバの入射端面で屈折した光の主光線が進行する方向とその光ファイバの光軸の方向が一致していることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体レーザモジュールにおいて、前記半導体レーザ光源の発振波長が４５０ｎｍ以下であることを特徴とする半導体レーザモジュール。
【請求項４】
請求項１に記載の半導体レーザモジュールにおいて、前記受け面が前記光通過穴の内面と直交する方向に設けられていることを特徴とする半導体レーザモジュール。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の半導体レーザモジュールにおいて、前記保持具が金属から構成され、前記光吸収層が黒クロムメッキから構成されていることを特徴とする半導体レーザモジュール。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の半導体レーザモジュールにおいて、前記受け面が保持具の端部付近に前記光通過穴と連通するように形成された遮光穴で構成され、その遮光穴の開口部が閉塞されていることを特徴とする半導体レーザモジュール。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の半導体レーザモジュールにおいて、前記受け面が保持具の端部付近に形成された遮光凹部の内面で構成されることを特徴とする半導体レーザモジュール。
【請求項８】
シングルモード光ファイバを用いた２つ以上の半導体レーザモジュールと、その半導体レーザモジュールの光ファイバの出射端を配列させて構成した光ファイバアレイ部と、その光ファイバアレイ部から出射した光を偏向走査する光偏向素子を備え、その光偏向素子により偏向された光を被走査面上で走査する光走査装置において、
前記半導体レーザモジュールが請求項１ないし７のいずれか１項に記載の半導体レーザモジュールであることを特徴とする光走査装置。
【請求項９】
感光体と、その感光体の表面を帯電する帯電装置と、帯電された感光体の表面に光を照射して静電潜像を形成する光走査装置と、前記静電潜像にトナー像を付着してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被記録媒体に転写する転写装置と、転写されたトナー像を被記録媒体上に定着する定着装置を備えた画像形成装置において、
前記光走査装置が請求項８に記載の光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
前記第１の目的を達成するため本発明の第１の手段は、半導体レーザ光源と、光ファイバと、前記半導体レーザ光源から出射した光を前記光ファイバの入射端面に集光させるレンズ系と、内側に形成された光通過穴の一方の端部に前記半導体レーザ光源を保持し、前記光通過穴の他方の端部に前記光ファイバを保持して、前記光通過穴の途中に前記レンズ系を保持した保持具を備え、
前記レンズ系を通って光ファイバに入射される光ファイバ入射光の周縁光線とその主光線がなす角度θよりも、
前記光ファイバ入射光の光ファイバ入射端面で反射する反射光のうちで前記光ファイバ入射光の主光線と最も近い周縁光線と光ファイバ入射光の主光線がなす角度βが大きくなるように、前記レンズ系及び光ファイバの配置角度が設定され、
かつ、前記光通過穴の他方の端部付近に前記光通過穴の内面とは別の受け面を設け、前記受け面および前記光通過穴の内面のうち少なくとも前記受け面付近は、前記半導体レーザ光源の発振波長を吸収する光吸収層で覆われており、前記反射光をその受け面で受けることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の第５の手段は前記第１ないし第４のいずれかの手段において、前記保持具が金属から構成され、前記光吸収層が黒クロムメッキから構成されていることを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の第６の手段は前記第１ないし第５のいずれかの手段において、前記受け面が保持具の端部付近に前記光通過穴と連通するように形成された遮光穴で構成され、その遮光穴の開口部が閉塞されていることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の第７の手段は前記第１ないし第６のいずれかの手段において、前記受け面が保持具の端部付近に形成された遮光凹部の内面で構成されることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
前記第２の目的を達成するため本発明の第８の手段は、シングルモード光ファイバを用いた２つ以上の半導体レーザモジュールと、その半導体レーザモジュールの光ファイバの出射端を配列させて構成した光ファイバアレイ部と、その光ファイバアレイ部から出射した光を偏向走査する光偏向素子を備え、その光偏向素子により偏向された光を被走査面上で走査する光走査装置において、
前記半導体レーザモジュールが第１ないし第７の手段の半導体レーザモジュールであることを特徴とするものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前記第３の目的を達成するため本発明の第９の手段は、感光体と、その感光体の表面を帯電する帯電装置と、帯電された感光体の表面に光を照射して静電潜像を形成する光走査装置と、前記静電潜像にトナー像を付着してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被記録媒体に転写する転写装置と、転写されたトナー像を被記録媒体上に定着する定着装置を備えた画像形成装置において、
前記光走査装置が前記第８の手段の光走査装置であることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月14日(2011.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に複数の着色層を有し、該着色層上に非感光性樹脂を硬化させてなる第１の層が形成され、さらにその上にパターン加工された感光性樹脂を硬化させてなる第２の層が積層された液晶表示装置用基板の製造方法であって、
少なくとも下記工程をこの順に含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
（１）着色層が形成された透明基板上に非感光性樹脂を塗布、セミキュアする工程
（２）該非感光性樹脂層上に感光性樹脂を塗布、減圧乾燥し、次いでセミキュアする工程
（３）該感光性樹脂層にフォトマスクを介して露光する工程
（４）現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングする工程
（５）非感光性樹脂層および感光性樹脂層を加熱、硬化させる工程
【請求項２】
感光性樹脂が、少なくともポリマ、光重合性モノマ、光重合開始剤を含有する樹脂組成物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項３】
感光性樹脂が、ナフトキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項４】
非感光性樹脂が、現像液に対し、不溶性、もしくは難溶性である請求項１〜３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項５】
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が垂直配向性液晶の配向制御用の突起物である請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項６】
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が固定スペーサである請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項７】
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が半透過型液晶表示装置における反射領域の液晶層厚みを調整するギャップ調整層である請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項８】
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が液晶表示装置の少なくとも額縁領域の一部に形成されていることを特徴とする請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項９】
パターン加工された感光性樹脂が黒色顔料、または青色顔料を含むことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を達成するために、本発明は下記の構成からなる。
１．透明基板上に複数の着色層を有し、該着色層上に非感光性樹脂を硬化させてなる第１の層が形成され、さらにその上にパターン加工された感光性樹脂を硬化させてなる第２の層が積層された液晶表示装置用基板の製造方法であって、  
少なくとも下記工程をこの順に含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。  
（１）着色層が形成された透明基板上に非感光性樹脂を塗布、セミキュアする工程  
（２）該非感光性樹脂層上に感光性樹脂を塗布、減圧乾燥し、次いでセミキュアする工程  
（３）該感光性樹脂層にフォトマスクを介して露光する工程  
（４）現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングする工程  
（５）非感光性樹脂層および感光性樹脂層を加熱、硬化させる工程  
２．感光性樹脂が、少なくともポリマ、光重合性モノマ、光重合開始剤を含有する樹脂組成物であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
３.感光性樹脂が、ナフトキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
４.非感光性樹脂が、現像液に対し、不溶性、もしくは難溶性である（１）〜（３）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
５.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が垂直配向性液晶の配向制御用の突起物である（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
６.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が固定スペーサである（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
７.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が半透過型液晶表示装置における反射領域の液晶層厚みを調整するギャップ調整層である（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
８.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が液晶表示装置の少なくとも額縁領域の一部に形成されていることを特徴とする（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。  
９.パターン加工された感光性樹脂が黒色顔料、または青色顔料を含むことを特徴とする（８）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月11日(2011.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素と、前記画素にデータ電圧を伝達する薄膜トランジスタとが備えられたアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向して結合する対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に介在する液晶層と、を含み、
前記画素は、
電圧レベルが変化する共通電圧の供給を受けるメインストレージ電極と、
前記データ電圧がメイン画素電圧として印加され、前記メインストレージ電極とオーバーラップし、前記共通電圧の電圧レベル変化によって前記メイン画素電圧が変化するメイン画素電極と、
前記データ電圧がサブ画素電圧として印加され、前記メインストレージ電極とオーバーラップせず、前記共通電圧の電圧レベル変化によって前記サブ画素電圧が変化しないサブ画素電極と、を含み、
前記液晶層の液晶は、誘電率異方性（Δε）が、−３．８＜Δε＜−２．２であることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記液晶層の液晶は、誘電率異方性（Δε）が、−３．６＜Δε＜−２．７であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記液晶層の液晶は、弾性定数比率（Ｋ３３／Ｋ１１）が、１．１５４＜Ｋ３３／Ｋ１１＜１．５であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記液晶層の液晶は、弾性定数比率（Ｋ３３／Ｋ１１）が、１．１５５＜Ｋ３３／Ｋ１１＜１．３８５であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記液晶層の液晶は、弾性定数比率（Ｋ３３／Ｋ１１）が、１．１５４＜Ｋ３３／Ｋ１１＜１．５であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記液晶層の液晶は、弾性定数比率（Ｋ３３／Ｋ１１）が、１．１５５＜Ｋ３３／Ｋ１１＜１．３８５であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記メイン画素電極と前記サブ画素電極との面積比率は、１：１〜１：１．２であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
画素電極と、前記画素電極にデータ電圧を伝達する薄膜トランジスタとが備えられたアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向して結合する対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に介在する液晶層と、を含み、
前記画素電極は、
電圧レベルが変化する共通電圧の供給を受けるメインストレージ電極と、
前記データ電圧がメイン画素電圧として印加され、前記メインストレージ電極とオーバーラップし、前記共通電圧の電圧レベル変化によって前記メイン画素電圧が変化するメイン画素電極と、
前記データ電圧がサブ画素電圧として印加され、前記メインストレージ電極とオーバーラップせず、前記共通電圧の電圧レベル変化によって前記サブ画素電圧が変化しないサブ画素電極と、を含むことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】
前記液晶層の液晶は、弾性定数比率（Ｋ３３／Ｋ１１）が、１．１５４＜Ｋ３３／Ｋ１１＜１．５であることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
前記液晶層の液晶は、弾性定数比率（Ｋ３３／Ｋ１１）が、１．１５５＜Ｋ３３／Ｋ１１＜１．３８５であることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示パネル。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月31日(2011.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明によれば、画像白地部の汚れ、残像（ゴースト）、カスレ（ベタ追従性）等の発生を抑制し、クリーニング性も良好で、長期使用時においても上記問題が発生しにくく、画像安定性に優れたトナーを供給することができる。また、近年開発がなされてきた高速印刷方法による画像形成時においても、トナーの粒径分布が狭く、トナー粒径を小さくしても微粉が少ないため、トナー粉末の充填率、即ち嵩密度が向上する。これに伴い、トナー粒子同士の間隙に介在する空気含有率が低減することとなるため、この空気による断熱効果が減少するため、熱伝導が向上し、加熱による定着性が向上することとなると推測される。
また、「選択現像」を防ぐことができ、長期印刷においても安定して高解像度の画像を提供することが可能となる。また、転写特性にも優れており、機内汚染を防ぐことが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月9日(2011.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンゴム層を有する平版を、前処理工程部、現像工程部、後処理工程部および水洗工程部を有する自動現像機を用いて搬送ロールで搬送しながら、上記シリコーンゴム層をブラシロールで擦って現像する平版の現像方法において、ブラシロールを回転および／またはロール方向に往復させ、画像部におけるシリコーンゴム層を物理的に除去するとともに、前記ブラシロールの下流側に設けた搬送ロールに接したライダーロールにより、搬送ロールに随伴したシリコーンゴム層のカスを細かくすることを特徴とする平版の現像方法。
【請求項２】
前記ブラシロールの下流側に設けた搬送ロールの周速と、搬送ロールに接したライダーロールの周速を異なった値に設定することを特徴とする請求項１に記載の平版の現像方法。
【請求項３】
前記ブラシロールの下流側に設けた搬送ロールの周速と、搬送ロールに接したライダーロールの周速を、０．２≦搬送ロールの周速／ライダーロールの周速≦０．９５または０．２≦ライダーロールの周速／搬送ロールの周速≦０．９５に設定することを特徴とする請求項２に記載の平版の現像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
【表１】
2009098685.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月2日(2011.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、
該マスクブランクは、ドライエッチング処理により前記薄膜及び前記基板をエッチング加工するインプリント用モールドの製造方法に対応したものであり、
前記薄膜は、少なくとも上層と下層の積層膜よりなり、前記上層は、クロム（Ｃｒ）と窒素を含む材料で形成され、前記下層は、タンタル（Ｔａ）を主成分とする化合物、または、ハフニウム（Ｈｆ）とジルコニウム（Ｚｒ）の少なくとも一方の元素又はその化合物を含む材料で形成されていることを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記薄膜の上層の膜厚が、１．５ｎｍ〜３ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク。
【請求項３】
前記薄膜の下層の膜厚が、３ｎｍ〜１０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク。
【請求項４】
前記薄膜上に形成するレジスト膜の膜厚が、１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一に記載のマスクブランク。
【請求項５】
前記下層は、タンタルハフニウム（ＴａＨｆ）、タンタルジルコニウム（ＴａＺｒ）、またはタンタルハフニウムジルコニウム（ＴａＨｆＺｒ）のいずれかを主成分とする材料で形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一に記載のマスクブランク。
【請求項６】
前記薄膜は、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一に記載のマスクブランク。
【請求項７】
透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクの製造方法において、
前記マスクブランクは、前記薄膜及び前記基板をドライエッチングでエッチング加工するインプリント用モールドの製造方法に対応したものであり、
前記薄膜は、少なくとも上層と下層の積層膜からなり、
透光性基板上に、タンタル（Ｔａ）を主成分とする化合物、または、ハフニウム（Ｈｆ）とジルコニウム（Ｚｒ）の少なくとも一方の元素又はその化合物を含む材料で下層を形成する工程と、
前記下層の上に、クロム（Ｃｒ）と窒素を含む材料で上層を形成する工程と、
前記上層を酸化させる工程と
を備えることを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項８】
前記上層を酸化させる工程は、大気中放置、またはレジスト塗布工程におけるベーク処理であることを特徴とする請求項７に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項９】
前記上層を酸化させる工程後、膜厚が１００ｎｍ以下のレジスト膜を形成する工程をさらに備えることを特徴とする請求項７又は８に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１０】
前記薄膜の上層の膜厚は、１．５ｎｍ〜３ｎｍであることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１１】
前記薄膜の下層の膜厚は、３ｎｍ〜１０ｎｍであることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
前記下層は、タンタルハフニウム（ＴａＨｆ）、タンタルジルコニウム（ＴａＺｒ）、またはタンタルハフニウムジルコニウム（ＴａＨｆＺｒ）のいずれかを主成分とする材料で形成されることを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
請求項１乃至６のいずれかに記載のマスクブランクにおける前記薄膜の上層及び下層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工して前記薄膜のパターンを形成し、続いて該薄膜パターンをマスクとして前記基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工することを特徴とするインプリント用モールドの製造方法。
【請求項１４】
請求項７乃至１２のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法で製造されたマスクブランクを準備し、前記薄膜の上層及び下層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工して前記薄膜のパターンを形成し、続いて該薄膜パターンをマスクとして前記基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工することを特徴とするインプリント用モールドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びインプリント用モールドの製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月22日(2010.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペーストを基板に塗布するペースト塗布装置であって、
前記ペーストを充填するシリンジと、
前記シリンジに取り付けられたノズルと、
圧縮気体供給源からの気体を増圧する増圧部とを有し、
前記増圧部によって増圧された気体を前記シリンジ内に送り込んで前記ノズルからペーストを吐出することを特徴とするペースト塗布装置。
【請求項２】
前記増圧部は、
前記圧縮気体供給源から前記シリンジへの気体の流路に設けられる増圧弁と、
前記流路における前記増圧弁の後段に設けられ、気体を蓄積するタンクとを有することを特徴とする請求項１に記載のペースト塗布装置。
【請求項３】
前記圧縮気体供給源は、工場に設置された圧縮気体供給用の配管設備であり、その配管設備から供給される気体圧力は、ペースト塗布時に必要とされる圧力より低いものであることを特徴とする請求項１または２に記載のペースト塗布装置。
【請求項４】
前記流路における前記増圧部の後段に設けられ、前記増圧部からの気体の気圧を調整する調整部を有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のペースト塗布装置。
【請求項５】
前記ノズルと前記基板との相対速度に応じて、前記調整部を制御する制御部を有することを特徴とする請求項４に記載のペースト塗布装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、圧縮気体供給源から供給される気体の気圧に関わらず、基板上に適切な量のペーストを塗布することが可能なペースト塗布装置を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、圧縮気体供給源から供給される気体よりも大きい気圧の気体をシリンジ内に送り込むことができ、基板上に適切な量のペーストを塗布することが可能となる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
レーザセンサ１１３−１は、ガラス基板５０までの距離を測定するものであり、この測定値からノズル１４２の吐出口１４３とガラス基板５０の表面との間の距離を検出可能とする。同様に、レーザセンサ１１３−２は、ガラス基板５０までの距離を測定するものであり、この測定値からノズル１４２の吐出口１４３とガラス基板５０の表面との間の距離を検出可能とする。検出値が予め定められた所定範囲内でない場合には、塗布されるペーストの断面積が所望の断面積でなくなる可能性が高い。このため、図３に示すボールネジ１２１の正転及び逆転によって、塗布ノズル部１１２−１及び１１２−２が図２（ｂ）のＺ方向に移動することによって、ノズル１４２の先端とガラス基板５０との間の距離が所定範囲内となるように制御される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
電空レギュレータ１５８から送り出される圧縮気体は、電磁弁１６０を介して、塗布ノズル部１１２−１におけるシリンジ１４０に取り込まれ、当該シリンジ１４０内の気圧が所定値まで上昇する。上述したように、制御部１６４の制御によって、シリンジ１４０内の気圧は塗布速度に応じた気圧となる。例えば、塗布速度が１００［ｍｍ／ｓ］の場合、シリンジ１４０内の気圧が０．４［ＭＰａ］、塗布速度が２倍の２００［ｍｍ／ｓ］になると、シリンジ１４０内の気圧は２倍の０．８［ＭＰａ］という具合である。シリンジ１４０内の気圧の上昇によって、当該シリンジ１４０内のペーストは、ノズル１４２に押し出され、当該ノズル１４２の吐出口１４３から吐出されて、ガラス基板５０に塗布される。なお、このペーストの塗布を行っている間も増圧弁１５４を開放（作動）させたままとしてもよい。すなわち、増圧弁１５４を常に作動させたままとし、タンク１５６内を増圧弁１５４によって増圧可能な圧力に維持する。また、圧力検出器を用いてタンク１５６内の圧力を監視し、検出圧力が所望の圧力以上に維持されるように、制御部１６４が検出圧力に応じて増圧弁１５４の開放、閉鎖を切り換え制御するようにしてもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明に係るペースト塗布装置は、圧縮気体供給源からの気体の気圧に関わらず、基板上に適切な量のペーストを塗布することが可能であり、ペースト塗布装置として有用である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月10日(2011.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体用のナビゲーションシステムであって、
前記移動体の動作に関するセンサデータの第１のセットを提供するように構成される慣性測定装置と、
前記移動体の位置に関するデータの第２のセットを提供するように構成される位置決めユニットと、
前記第１のデータセット及び前記第２のデータセットを受信するように構成される処理装置であって、受信された前記第１のデータセットを動的に較正するように構成され、カルマンフィルタを備え、第１の動的に較正された前記第１のデータセット、前記第２のデータセット、及び前記カルマンフィルタを使用してジャイロコンパスの整合を生成するようにさらに構成される、処理装置と、
を備え、
前記慣性測定装置は、ＭＥＭＳベースの加速度計及びジャイロスコープを備え、前記位置決めユニットはＧＰＳ装置を備える、ナビゲーションシステム。
【請求項２】
前記処理装置は、前記センサデータの第１のセットをリアルタイムで平均化するように構成され、動的に較正された前記センサデータの第１のセットに基づいて機首方位を推定するように構成され、推定された該機首方位を使用して前記ジャイロコンパスの整合を生成するようにさらに構成され、推定された前記機首方位の少なくとも一部を使用して変換行列を初期化するように構成され、初期化された該変換行列を使用して前記カルマンフィルタを初期化するようにさらに構成され、リアルタイムで平均化された前記センサデータの第１のセットを使用してセンサ誤差を推定するように構成され、既知の重力加速度値及び地球自転速度値を用いて、推定された前記誤差を補正して、動的に較正された前記センサデータの第１のセットを生成するようにさらに構成される、請求項１に記載のナビゲーションシステム。
【請求項３】
ジャイロコンパスの整合用の方法であって、
複数のセンサからセンサデータを受信すること、
前記センサデータの少なくとも一部を動的に較正すること、
動的に較正された前記センサデータに基づいてジャイロコンパスの整合情報を生成すること、及び
生成された前記ジャイロコンパスの整合情報に基づいてナビゲーション出力を表示すること、
を含み、
前記ジャイロコンパスの整合情報を生成することは、動的に較正された前記センサデータに基づいて機首方位を推定することを含み、推定された該機首方位の少なくとも一部を使用して変換行列を初期化することをさらに含み、前記動的に較正することは、リアルタイムの平均化を使用して前記センサデータを処理することであって、ノイズが低減された平均化されたセンサデータを生成する、処理することを含み、平均化された該センサデータを使用してセンサ誤差を推定すること、並びに、既知の重力加速度値及び地球自転速度値を用いて、推定された前記センサ誤差を補正することをさらに含み、前記機首方位を推定することは、ジャイロスコープの成分データを較正すること、既知の地球自転速度値に基づいて標準成分を計算すること、並びに、較正された前記ジャイロスコープの成分データ、前記標準成分、及び動的に較正された前記センサデータを使用して推定された機首方位を生成することを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月18日(2011.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
図８は、本発明に係る直流電源装置の第２実施形態を備えた系統連系インバータシステムの一例を説明するための図である。同図（ａ）は系統連系インバータシステムＡ２全体の基本構成を示すブロック図であり、同図（ｂ）は系統連系インバータシステムＡ２に備えられた直流電源装置Ｂ２のＰＷＭ信号生成回路の基本構成を示すブロック図である。なお、同図において、上記第１実施形態と同一または類似の要素には、同一の符号を付している。系統連系インバータシステムＡ２は、ＰＷＭ信号生成回路５０において、入力電流信号を平均化処理する平均化処理手段５９ａ，５９ｂ，５９ｃが設けられている点で、系統連系インバータシステムＡ１と異なる。平均化処理手段５９ａ，５９ｂ，５９ｃは、入力された信号の平均化を行なう手段であり、例えば、ローパスフィルタ、ＦＩＲフィルタや、移動平均を算出する手段が用いられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図９は、本発明に係る直流電源装置の第３実施形態を備えた系統連系インバータシステムの一例を説明するための図である。同図（ａ）は系統連系インバータシステムＡ３全体の基本構成を示すブロック図であり、同図（ｂ）は系統連系インバータシステムＡ３に備えられた直流電源装置Ｂ３のＰＷＭ信号生成回路の基本構成を示すブロック図である。なお、同図において、上記第１実施形態と同一または類似の要素には、同一の符号を付している。系統連系インバータシステムＡ３は、互いに並列接続されたコンバータ２０ａ，２０ｂ，２０ｃの入力側接続点Ｐと直流電源１０との間に電流検出回路９０が設けられている点と、当該電流検出回路９０により出力された電流信号が平均値算出手段５４’に入力される点で、系統連系インバータシステムＡ１と異なる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
なお、上述した実施形態では、直流電源装置が系統連系インバータシステムに用いられる場合について説明したが、これに限られない。本発明に係る直流電源装置は、他のシステムにも用いることができ、正確なバランス制御を行なうことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
Ａ１〜Ａ３  系統連系インバータシステム
Ｂ１〜Ｂ３  直流電源装置
１０  直流電源
２０ａ，２０ｂ，２０ｃ  昇圧ＤＣ/ＤＣコンバータ回路
３０  インバータ回路
４０  商用電力系統
５０  ＰＷＭ信号生成回路
５１  基準電圧手段
５２  指令値信号生成手段
５４，５４’  平均値算出手段
５５ａ，５５ｂ，５５ｃ  補正値信号生成手段
５７ａ，５７ｂ，５７ｃ  補正手段
５８ａ，５８ｂ，５８ｃ  ＰＷＭ信号生成手段
５９ａ，５９ｂ，５９ｃ  平均化処理手段
６０ａ，６０ｂ，６０ｃ  電流検出回路
７０  出力電圧検出回路
８０  平滑コンデンサ
９０  電流検出回路
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月22日(2011.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
表１は各電流ベクトルＩ（ｒｓ），Ｉ（ｒｔ），Ｉ（ｓｔ），Ｉ（ｓｒ），Ｉ（ｔｒ），Ｉ（ｔｓ）に対応する電流形コンバータ１０の導通パターンを示している。例えば図２，３を参照して、電流モード２（位相角３０度から９０度の領域）では、ハイアーム側スイッチ素子Ｓｒｐ及びローアーム側スイッチ素子Ｓｔｎのみが導通する導通パターン（表１における電流ベクトルＩ（ｒｔ））と、ハイアーム側スイッチ素子Ｓｓｐ及びローアーム側スイッチ素子Ｓｔｎのみが導通する導通パターン（表１における電流ベクトルＩ（ｓｔ））とが、繰り返し切り替えられて選択される。なお、直流電源線Ｌ１に印加される電位ＶＬ１と相電圧Ｖｒ，Ｖｓ，Ｖｔについては後に詳述する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
よって、直流電源線Ｌ１，Ｌ２の間の直流電圧Ｖｄｃは入力線ＡＣＬｓ，ＡＣＬｔの線間電圧Ｖｓｔと一致する。従って、このときに直流電圧Ｖｄｃを線間電圧Ｖｓｔとして検出する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
また、スイッチ素子Ｓｒｐ，Ｓｔｎが導通している場合、つまり電流形コンバータ１０が電流ベクトルＩ（ｒｔ）を出力する導通パターンを採用している場合、同様にして考慮すると、直流電圧Ｖｄｃは入力線ＡＣＬｒ，ＡＣＬｔの線間電圧Ｖｒｔと一致する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
表１には、各電流ベクトルＩ（ｒｓ），Ｉ（ｒｔ），Ｉ（ｓｔ），Ｉ（ｓｒ），Ｉ（ｔｒ），Ｉ（ｔｓ）を出力する導通パターンの各々において、直流電圧Ｖｄｃと一致する線間電圧をも示している。なお、例えば線間電圧Ｖｒｓ，Ｖｓｒはいずれも入力線ＡＣＬｒ，ＡＣＬｓの間の線間電圧を表しており、線間電圧Ｖｒｓは入力線ＡＣＬｒが高電位側となることを、線間電圧Ｖｓｒは入力線ＡＣＬｓが高電位側となることを示している。線間電圧Ｖｓｔ，Ｖｓｒ，Ｖｔｒ，Ｖｔｓについても同様である。そして、表１に示されるように、導通パターンと線間電圧との関係に基づいて、直流電圧Ｖｄｃを、入力線の線間電圧として検出する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
比較器２４は、キャリアＣ２と、値ｄｒｔ＋ｄｓｔ・ｄ０，値ｄｒｔ＋ｄｓｔ（ｄ０＋ｄ４）の各々とを比較して、期間Ｔｓで電圧ベクトルＶ０，Ｖ４，Ｖ６，Ｖ４，Ｖ０を出力するためのスイッチ信号を論理和部２５へと出力する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
一方、期間Ｔｒにおける導通パターンを出力する場合は、キャリアＣ２が最小値を採る時点（時点ｔ２’）と、キャリアＣ２が値ｄｒｔ（１−ｄ０−ｄ４／２）を採る時点（時点ｔ４’）をサンプリングタイミングとして出力する。なお、値ｄｒｔ（１−ｄ０−ｄ４／２）は、値ｄｒｔ（１−ｄ０）と、値ｄｒｔ（１−ｄ０−ｄ４）との中央の値である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2009213252.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2009213252.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2009213252.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月18日(2011.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電池を有する車両を充電するための電力を供給する接続部と、前記接続部に供給すべき電力を入力する電力入力部と、前記接続部から車両に供給される電力を計測する計測部と、前記計測部の計測結果に基づく電力料金決済のための通信部とを有することを特徴とする車両用の充電ユニット。
【請求項２】
前記電力入力部と前記接続部を接続する電力線を有し、前記通信部は、電力線通信のために通信情報を前記電力線に分波合成する分波合成部を有することを特徴とする請求項１記載の車両用の充電ユニット。
【請求項３】
前記通信部は、通信情報を送信するための無線送受信部を有することを特徴とする請求項１記載の車両用の充電ユニット。
【請求項４】
車両の車輪止めに設けられることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の車両用の充電ユニット。
【請求項５】
前記接続部を使用しないときにこれを保護するための保護部と前記保護部が機能せずに放置されていることを判断する制御部とを有することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の車両用の充電ユニット。
【請求項６】
電池を有する車両を充電するための電力を供給する接続部と、前記接続部に供給すべき電力を入力する電力入力部を有し、車両の車輪止めに設けられることを特徴とする車両用の充電ユニット。
【請求項７】
車輪止めの右車輪側と左車輪側に前記接続部をそれぞれ設けたことを特徴とする請求項６記載の車両用の充電ユニット。
【請求項８】
右車輪側と左車輪側の接続部から同時に電力が供給されることがないよう前記給電開閉部を制御する制御部を有することを特徴とする請求項６記載の車両用の充電ユニット。
【請求項９】
電池を有する車両を充電するための電力を供給する接続部と、前記接続部に供給すべき電力を入力する電力入力部と、前記接続部が異常状態で放置されていることを判断する制御部とを有することを特徴とする車両用の充電ユニット。
【請求項１０】
前記接続部を使用しないときにこれを保護するための保護部を有し、前記制御部は、前記保護部が作用していないこと判断することを特徴とする請求項９記載の車両用の充電ユニット。
【請求項１１】
電気制御部は、前記保護部が作用しない状態となってから所定時間内に前記接続部が使用されていないことを判断することを特徴とする請求項９または１０記載の車両用の充電ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月28日(2011.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性多糖類であるアルギン酸ナトリウム，コンニャクマンナン，寒天，カラギナン，ローカストビーンガム，タラガム，タマリンドガム，ペクチンのいずれか１以上を、植物タンパク質に対し１０ｗｔ％〜９０ｗｔ％配合し、さらに全体に対し２０ｗｔ％〜８０ｗｔ％の水を添加し、圧力０．５ＭＰａ〜３．０ＭＰａの範囲で加圧熱処理されて成り、２０℃の常温での吸水能力が１３重量倍以上であることを特徴とするタンパク質素材。
【請求項２】
請求項１記載のタンパク質素材を含む畜肉または魚肉補助剤。
【請求項３】
請求項２記載の畜肉または魚肉補助剤を含んだ畜肉または魚肉加工品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係るタンパク質素材は、水溶性多糖類であるアルギン酸ナトリウム，コンニャクマンナン，寒天，カラギナン，ローカストビーンガム，タラガム，タマリンドガム，ペクチンのいずれか１以上を、植物タンパク質に対し１０ｗｔ％〜９０ｗｔ％配合し、さらに全体に対し２０ｗｔ％〜８０ｗｔ％の水を添加し、圧力０．５ＭＰａ〜３．０ＭＰａの範囲で加圧熱処理されて成り、２０℃の常温での吸水能力が１３重量倍以上であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記水溶性多糖類にコンニャクマンナンとカラギナンとを併用して用いたことを特徴とする。
また、前記植物タンパク質および水溶性多糖類に分散剤を配合して加圧熱処理されたことを特徴とする。
分散剤が単糖、二糖、オリゴ糖、デキストリンなどの糖類であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また上記タンパク質素材の製造方法は、水溶性多糖類であるアルギン酸ナトリウム，コンニャクマンナン，寒天，カラギナン，ローカストビーンガム，タラガム，タマリンドガム，ペクチンのいずれか１以上を、植物タンパク質に対し１０ｗｔ％〜９０ｗｔ％配合し、さらに全体に対し２０ｗｔ％〜８０ｗｔ％の水を添加し、圧力０．５ＭＰａ〜３．０ＭＰａの下で加圧熱処理することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
以下に実施例を示す。
〔実施例１〜９〕
表１の多糖類にて畜肉または魚肉補助剤の作製を行った。具体的には表１の多糖類３０部、植物タンパクとして大豆タンパク（フジプロ：不二製油社製）６０部、分散剤としてデキストリン（＃２  松谷化学工業社製）１０部を加えて混合し、二軸エクストルーダー（日本製鋼所社製  ＴＥＸ−３２Ｆ）を用いて連続的に倍量の水と共に供給して加熱加圧処理を行った。処理条件は温度１６０℃、加圧圧力２ＭＰａ、スクリュー回転数４６０ｒｐｍとした。処理後乾燥し粉砕機にて粉末化した。