【手続補正書】
【提出日】平成23年7月13日(2011.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式ＸＩＩＩで表わされる環状化合物：
【化１】
2010083902.tif 000001
式中、
ｍおよびｎは相互に独立し、同一または相違しており、０または１であり、ただしその合計（ｍ＋ｎ）＝１または２であり、
Ｙは式ＸＩＶ〜ＸＶＩＩ：
【化２】
2010083902.tif 000002
（式中、Ｘ＝単結合、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または
【化３】
2010083902.tif 000003
である）；
【化４】
2010083902.tif 000004
（各式中、
Ｌは相互に独立し、同一または相違しており、Ｒ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＯＨ、ＯＲ、ＳＨ、ＳＲ、ＣＮ、ＮＯ2、ＮＯ、ＣＨＯ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ、ＣＯＮＨ2、ＣＯＮＨＲ、ＣＯＮＲ2、ＣＦ3、ＮＨ2、ＮＨＲまたはＮＲ2であり、ここでＲは炭素原子１〜１２個を有するアルキル、アルケニルまたはアシル基、もしくは６個の炭素原子を有するアリール基であり、この基は所望により、炭素原子１〜１２個を有するアルキル基により置換されていてもよく、および
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは相互に独立し、同一または相違しており、０、１または２であり、ただしその合計（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ）＝１〜８であり、
１個または２個以上の（存在する）Ｌは、炭素原子１〜１２個を有するアルキルであり、
芳香族環系中に存在する１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていてもよく、
Ｒ1およびＲ2は相互に独立し、同一または相違しており、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたはＮＣＳであり、もしくは炭素原子１〜１２個を有し、直鎖状または分枝鎖状であり、任意にカイラルであるアルキル基またはアルコキシ基または炭素原子２〜８個を有するアルケニル基またはアルキニル基であり、これらの基中に存在する１個のＣＨ2基はまた、ヘテロ原子が相互に直接に結合しないものとして、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられていてもよく、および／または１個または２個以上のＨはハロゲンにより置き換えられていてもよく、および
Ｒ1またはＲ2において、ｍ＝０またはｎ＝０である場合、Ｒ1またはＲ2中に存在する１個のＣＨ2基は下記基の一つによって置き換えられていてもよく：
ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン（この基中に存在する１個のＣＨ2基または隣接していない２個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−および／または−Ｓ−により置き換えられていてもよい）、
ｂ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペリジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルからなる群からの基、または
ｃ）１，４−シクロヘキセニレン、
ただし、基ａ）、ｂ）およびｃ）はまた、ＣＮおよび／またはハロゲンにより置換されていてもよい）。
【請求項２】
２個または３個以上の（存在する）Ｌが、炭素原子１〜１２個を有するアルキルであることを特徴とする、請求項１に記載の環状化合物。
【請求項３】
１個または２個以上の（存在する）Ｌが、Ｆであることを特徴とする、請求項１または２に記載の環状化合物。
【請求項４】
一般式ＸＶＩＩＩで表わされることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の環状化合物：
【化５】
2010083902.tif 000005
（式中、ｍ＝ｎ＝１である）。
【請求項５】
Ｒ1およびＲ2が相互に独立し、同一または相違しており、基Ｃ1−Ｃ7−アルキルから選択されることを特徴とする、請求項４に記載の環状化合物。
【請求項６】
一般式Ｉ〜ＩＶ：
【化６】
2010083902.tif 000006
各式中、
ｍおよびｎは相互に独立し、同一または相違しており、０または１であり、ただしその合計（ｍ＋ｎ）は１または２であり；
Ｘは単結合、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−または
【化７】
2010083902.tif 000007
であり；
Ｌは相互に独立し、同一または相違しており、Ｒ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＯＨ、ＯＲ、ＳＨ、ＳＲ、ＣＮ、ＮＯ2、ＮＯ、ＣＨＯ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ、ＣＯＮＨ2、ＣＯＮＨＲ、ＣＯＮＲ2、ＣＦ3、ＮＨ2、ＮＨＲまたはＮＲ2であり、ここでＲは炭素原子１〜１２個を有するアルキル、アルケニルまたはアシル基、もしくは６個の炭素原子を有するアリール基であり、この基は所望により、炭素原子１〜１２個を有するアルキル基により置換されていてもよく、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは相互に独立し、同一または相違しており、０、１または２であり、ただしその合計（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ）＝１〜８であり；
１個または２個以上の（存在する）Ｌが炭素原子１〜１２個を有するアルキルであり、
式Ｉ〜ＩＶで表わされる芳香族環系中に存在する１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていてもよく；
Ｒ1およびＲ2は相互に独立し、同一または相違しており、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたはＮＣＳであり、もしくは炭素原子１〜１２個を有し、直鎖状または分枝鎖状であり、任意にカイラルであるアルキル基またはアルコキシ基、もしくは炭素原子２〜８個を有するアルケニル基またはアルキニル基であり、これらの基中に存在する１個のＣＨ2基はまた、ヘテロ原子が相互に直接に結合しないものとして、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯＯ−により置き換えられていてもよく、および／または１個または２個以上のＨはハロゲンにより置き換えられていてもよく；および
Ｒ1において、ｍ＝０である場合、またはＲ2において、ｎ＝０である場合、Ｒ1またはＲ2中に存在する１個のＣＨ2基は下記基の一つによって置き換えられていてもよく：
ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン（この基中に存在する１個のＣＨ2基または隣接していない２個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−および／または−Ｓ−により置き換えられていてもよい）、
ｂ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペリジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルからなる群からの基、または
ｃ）１，４−シクロヘキセニレン、
および基ａ）、ｂ）およびｃ）はまた、ＣＮおよび／またはハロゲンにより置換されていてもよい；
で表わされる化合物の製造方法であって、
式Ｖ〜ＶＩＩＩ：
【化８】
2010083902.tif 000008
（各式中、
ＺはＩ、Ｃｌ、ＢｒまたはＯＴｆであり、
ＭはＳｉ、ＧｅまたはＳｎであり、および
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は相互に独立し、同一または相違しており、Ｈ、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはＣ1−Ｃ12−アルコキシである）
で表わされる化合物から出発し、マトリックス様配置の反応容器において組合せ合成法によって、下記反応工程：
Ａ）一般式Ｘ：
【化９】
2010083902.tif 000009
（式中、Ｒ6およびＲ7は相互に独立し、同一または相違しており、Ｈ、Ｃ1−Ｃ12−アルキル、Ｃ2−Ｃ12−アルケニルまたはアリールであり、またＲ6およびＲ7はまた、環状様相で架橋されていてもよい）
で表わされるボロン酸またはボロン酸エステルとのスズキ（Suzuki）カプリング；
Ｂ）引き続くハロ−脱金属化；および
Ｃ）一般式ＸＩ：
【化１０】
2010083902.tif 000010
（上記一般式Ｖ〜ＶＩＩＩおよびＸおよびＸＩ中に存在する１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていてもよい）
で表わされるボロン酸またはボロン酸エステルとのスズキカプリング； 
を行うことを包含する、上記製造方法。
【請求項７】
工程Ａ）に先立つ工程において、式Ｖにおいて、Ｘ＝単結合である化合物を、式ＸＩＩ：
【化１１】
2010083902.tif 000011
で表わされるボロン酸またはボロン酸エステルから、少なくとも部分的にフッ素化されているｐ−ブロモヨウドベンゼンとのスズキカプリングによって製造し、この反応は組合せ合成として、マトリックス様配置の反応容器で行い、引き続いて、例えばブチルリチウムおよびヨウド化剤を用いることによって、臭素を置換するヨウ素化工程を行うことを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
中間体および／または最終生成物を再結晶により精製し、この精製を全反応容器に対して平行に行い、次いでこれらの結晶を固体相抽出用カートリッジにより単離することを特徴とする、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
一般式Ｖ〜ＶＩＩＩを有する群において、少なくとも１個の基Ｒ3、Ｒ4およびＲ5が一般式ＩＸ：
−（ＣＨ2）p−（ＣＦ2）q−ＣＦ3            ＩＸ
（式中、ｐは２〜４の範囲の数値を表わし、ｑは≧２の数値を表わし、またその合計（ｐ＋ｑ）は２〜１１の範囲の数値を表わす）
で表わされるフッ素含有アルキル基であることを特徴とする、請求項６〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
一般式Ｖ〜ＶＩＩＩを有する群において、Ｚ＝１であることを特徴とする、請求項６〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
スズキカプリングにおいて、基体が水酸化物、炭酸塩およびフッ素化物からなる群から選択され、使用される触媒がパラジウム含有化合物であり、および使用される溶媒が極性溶媒であることを特徴とする、請求項６〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
スズキカプリングにおいて、使用される基体が水酸化バリウムであり、使用される触媒がパラジウムアセテートであり、および使用される溶媒がイソプロパノールであることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
使用される基体がフッ化セシウムであり、使用される触媒がパラジウムアセテートであり、および使用される溶媒がジオキサンであることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
スズキカプリングを１０〜１２０℃の温度で行い、および反応を０．１〜３０時間にわたり持続することを特徴とする、請求項６〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
スズキカプリングを５０〜１００℃の温度で行い、および反応を１８〜２４時間にわたり持続することを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
ヨウド−脱シリル化を、シアン化メチル中で塩化ヨウ素の添加によって行うことを特徴とする、請求項６〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
ヨウド−脱シリル化を、１０〜７５℃の温度で行い、および反応を０．１〜２０時間にわたり持続することを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ヨウド−脱シリル化を、２０〜３０℃の温度で行い、および反応を０．５〜２時間にわたり継続することを特徴とする、請求項１７に記載の方法。