【手続補正書】
【提出日】平成23年1月13日(2011.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のマイクロリソグラフィー投影系、第２のマイクロリソグラフィー投影系、及び、単一の光源を備える、マイクロリソグラフィー投影露光装置であって、
前記第１のマイクロリソグラフィー投影系は、
第１のパターンを照明するようになった、第１の照明系、及び
前記第１のパターンを第１の基板上に結像させる、第１の投影対物系
を備え、
前記第２のマイクロリソグラフィー投影系は、前記第１のマイクロリソグラフィー投影系から空間的に分離され、
第２のパターンを照明するようになった、第２の照明系、及び
前記第２のパターンを第２の基板上に結像させる、第２の投影対物系
を備え、
前記単一の光源は、前記第１のマイクロリソグラフィー投影系及び前記第２のマイクロリソグラフィー投影系の両方に割り振られている
前記マイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項２】
前記単一の光源の下流において光路内に、調節可能な光偏向器をさらに備え、前記調節可能な光偏向器は、前記単一の光源からの光を、前記第１の投影系への第１の部分路に沿って、または前記第２の投影系への第２の部分路に沿って偏向させうる、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項３】
前記調節可能な光偏向器は、回転可能かつ／または変位可能な鏡を備え、あるいは、前記調節可能な光偏向器は、回転可能かつ／または変位可能な偏向プリズムを備える、請求項２に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項４】
前記単一の光源の下流において光路内に、光学装置をさらに備え、前記光学装置は、前記単一の光源からの光の第１の部分を、前記第１の投影系への第１の部分路へ案内するようになり、また前記光学装置は同時に、前記単一の光源からの光の第２の部分を、前記第２の投影系への第２の部分路へ案内するようになった、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項５】
前記光学装置はビームスプリッターを備える、請求項４に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項６】
前記単一の光源は、２６０ｎｍよりも短い波長の光を供給するようになった、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項７】
前記第２の基板は前記第１の基板と同じである、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項８】
前記第２のパターンは前記第１のパターンとは異なる、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項９】
前記第１のパターンは振幅マスクであり、前記第２のパターンは位相マスクである、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１０】
前記第１のマイクロリソグラフィー投影系及び前記第２のマイクロリソグラフィー投影系は、位置決め装置をそれぞれ備え、前記位置決め装置は、前記第１の基板に対する前記第２の基板の位置を、基板上に投影される最小の構造寸法以下の位置誤差で設定しうるように、計測支援を用いて基板の位置決めをするようになった、請求項１に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
【請求項１１】
感光層で被覆された基板の多重露光方法であって、
光源及び第１のマイクロリソグラフィー投影系を使用して、第１組の第１の露光パラメータにしたがって前記基板の第１の露光を行なう段階と；
光源及び第２のマイクロリソグラフィー投影系を使用して、第２組の第２の露光パラメータにしたがって前記基板の第２の露光を行なう段階であって、前記第２のマイクロリソグラフィー投影系は、前記第１のマイクロリソグラフィー投影系から空間的に分離されている、前記段階と
を備える方法。
【請求項１２】
前記光源からの光を、前記第１のマイクロリソグラフィー投影系への第１の部分路に沿って偏向させて、前記第１の露光を行なう段階、及び／または、前記光源からの光を、前記第２のマイクロリソグラフィー投影系への第２の部分路に沿って偏向させて、前記第２の露光を行なう段階
をさらに備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の露光は、第１のマスクを使用して行なわれ、前記第２の露光は、第２のマスクを使用して行なわれ、前記第２のマスクは前記第１のマスクとは異なる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のパターンは振幅マスクであり、前記第２のパターンは位相マスクである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
基板上に投影される最小の構造寸法以下の位置誤差で、前記第１の投影系における基板に対する前記第２の投影系における基板の位置を設定する段階をさらに備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１のマイクロリソグラフィー投影系及び前記第２のマイクロリソグラフィー投影系は、照明放射を提供する照明系をそれぞれ備え、
前記第１のマイクロリソグラフィー投影系における少なくとも１つの露光パラメータの値は、前記第２のマイクロリソグラフィー投影系における少なくとも１つの露光パラメータの値とは異なり、また
前記少なくとも１つの露光パラメータは、照明放射のコヒーレンス度σ、照明放射の環状性、照明放射の極性、及びマスクの少なくとも１つの構造方向に対する照明放射の配向からなる群から選ばれる
請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
第１の照明系であって、該第１の照明系を通過する第１の光路内に配列された第１のパターンを照明するようになった、前記第１の照明系、
前記第１の照明系から空間的に分離されている第２の照明系であって、前記第１のパターンから空間的に分離され、前記第２の照明系を通過する第２の光路内に配列された第２のパターンを照明するようになった、前記第２の照明系、及び
光学素子であって、該光学素子が前記第１の光路及び前記第２の光路の両方における放射に影響するように、前記第１の光路及び前記第２の光路に置かれた、前記光学素子
を備える装置であって、
前記装置はマイクロリソグラフィー投影露光装置である、前記装置。
【請求項１８】
前記光学素子は反射光学素子を備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記光学素子は反射プリズムを備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記光学素子は、前記第１の照明系及び前記第２の照明系の上流に、前記装置の光源と前記第１の照明系及び前記第２の照明系の各々との間に置かれる、請求項１７に記載の装置。
【請求項２１】
前記第１のパターン及び前記第２のパターンの少なくとも１つを基板上に結像させるようになった投影対物系をさらに備え、前記基板を前記第１のパターンの像及び前記第２のパターンの像の両方で多重露光するようになった、請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
前記第１の光路内の前記第１のパターンの下流で前記第１のパターンと前記基板との間に置かれた、少なくとも１つの第１の光学要素、及び
前記第１の光学要素から空間的に分離され、前記第２の光路内の前記第２のパターンの下流で前記第２のパターンと前記基板との間に置かれた、少なくとも１つの第２の光学要素
をさらに備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２３】
前記装置の光源と前記装置の投影対物系との間に反射プリズムをさらに備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２４】
前記装置の光源と前記装置の投影対物系との間に配置されたビームスプリッターをさらに備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２５】
前記第２のパターンは前記第１のパターンとは異なる、請求項１７に記載の装置。
【請求項２６】
前記第１の照明系は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の照明放射を提供するようになり、前記第２の照明系は、第２組の露光パラメータにしたがって第２の照明放射を提供するようになり、前記第１組の露光パラメータと前記第２組の露光パラメータとの間で、少なくとも１つの露光パラメータが異なる、請求項１７に記載の装置。
【請求項２７】
前記異なる少なくとも１つの露光パラメータは、照明放射のコヒーレンス度σ、照明放射の環状性、照明放射の極性、及びマスクの少なくとも１つの構造方向に対する照明放射の配向からなる群から選ばれる、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記第１の光路内の前記第１のパターンの下流に配置された、第１の投影対物系、及び  前記第１の投影対物系から空間的に分離され、前記第２の光路内の前記第２のパターンの下流に配置された、第２の投影対物系
をさらに備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２９】
前記第１の照明系及び前記第２の照明系の両方に割り振られている単一の光源をさらに備える、請求項１７に記載の装置。