Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月20日(2011.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項３の発明は、複数のセラミックグリーンシートを積層して積層体を形成する方法であって、請求項２に記載の測定装置によって複数の前記セラミックグリーンシートについてそれぞれの厚みを測定する測定工程と、前記測定工程によって得られた厚みの測定値の平均およびバラツキと、あらかじめ定められたランク分け基準とを照合することにより、前記複数の前記セラミックグリーンシートをそれぞれ、前記ランク分け基準において設定されている複数のランクのいずれかに分類するランク分け工程と、積層体を形成する積層体形成工程と、を備え、前記積層体形成工程においては、前記積層体のそれぞれの層を構成するセラミックグリーンシートに、前記複数のランクのうち使用することがあらかじめ許容されているランクに属する前記セラミックグリーンシートのみを用いることにより、前記積層体を構成する、ことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
デジタルゲージ２は、コンピュータ５と信号線ＣＬで接続されており、そのプローブ２ｐがコンピュータ５によって制御される駆動機構Ｍ２によって矢印ＡＲ２の方向に進退可能に設けられてなる。また、デジタルゲージ２のプローブ２ｐは、ステージ１の開口部４の位置において、測定ベース３の鉛直上方に設けられている。なお、プローブ２ｐは、測定ベース３と接触する状態を０点としてセットされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
このような条件のもとで積層体を構成した場合、図５に示すように、積層体全体としての厚みは１４８５．４μｍ〜１６３５．０μｍの間の値となる。上述のように、それぞれのグリーンシートＳの狙いの厚みは２５５．０μｍであるので、積層体全体としては、１５６０μｍが狙いの厚みとなる。すると、積層体の厚みが上記の範囲内にあるということは、積層体の厚みの誤差が狙いの厚みの−５．０％〜４．８％の範囲に収まっていることになる。これはすなわち、１つのグリーンシートＳあたりについての誤差が±１％を下回っていることを意味している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
複数のセラミックグリーンシートを積層して積層体を形成する方法であって、
請求項２に記載の測定装置によって複数の前記セラミックグリーンシートについてそれぞれの厚みを測定する測定工程と、
前記測定工程によって得られた厚みの測定値の平均およびバラツキと、あらかじめ定められたランク分け基準とを照合することにより、前記複数の前記セラミックグリーンシートをそれぞれ、前記ランク分け基準において設定されている複数のランクのいずれかに分類するランク分け工程と、
積層体を形成する積層体形成工程と、
を備え、
前記積層体形成工程においては、前記積層体のそれぞれの層を構成するセラミックグリーンシートに、前記複数のランクのうち使用することがあらかじめ許容されているランクに属する前記セラミックグリーンシートのみを用いることにより、前記積層体を構成する、
ことを特徴とする積層体の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月4日(2011.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】セルロースアシレートフイルムの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はセルロースアシレートフイルムの製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の課題を解決する手段は以下の通りである。
（１）フイルムの厚み方向においてセルロースアシレートの置換度が２．００〜３．００の範囲内で０．０５以上変動している透明なセルロースアシレートフイルムを少なくとも一方向に延伸処理することを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法。
（２）セルロースアシレートフイルムがさらにレターデーション上昇剤を含むことを特徴とする（１）に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
（３）セルロースアシレートフイルムの置換度が低い側に残留溶剤がある状態で延伸処理する（１）に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（４）製造されたセルロースアシレートフイルムが下記式（Ｉ）、（II）および（III)を満足する光学異方性を有することを特徴とする（１）に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法：
（Ｉ）０．４０＜｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０）｝／｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０）｝＜０．９５（II）１．０５＜｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（６５０）｝／｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０）｝＜１．９３（III)７０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０）は、波長４５０ｎｍで測定した面内のレターデーション値／波長４５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり；Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍで測定した面内のレターデーション値／波長５５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり；Ｒｅ／Ｒｔｈ（６５０）は、波長６５０ｎｍで測定した面内のレターデーション値／波長６５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり；そして、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値である］。
（５）二層以上の共流延によりセルロースアシレートフイルムを形成し、これにより一つの層に含まれるセルロースアシレートの置換度と別の層に含まれるセルロースアシレートの置換度との差を０．０５以上にすることを特徴とする（１）に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フイルムの厚み方向においてセルロースアシレートの置換度が２．００〜３．００の範囲内で０．０５以上変動している透明なセルロースアシレートフイルムを少なくとも一方向に延伸処理することを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法。
【請求項２】
セルロースアシレートフイルムがさらにレターデーション上昇剤を含むことを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
【請求項３】
セルロースアシレートフイルムの置換度が低い側に残留溶剤がある状態で延伸処理する請求項１に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
【請求項４】
製造されたセルロースアシレートフイルムが下記式（Ｉ）、（II）および（III)を満足する光学異方性を有することを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法：
（Ｉ）０．４０＜｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０）｝／｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０）｝＜０．９５
（II）１．０５＜｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（６５０）｝／｛Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０）｝＜１．９３
（III)７０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０）は、波長４５０ｎｍで測定した面内のレターデーション値／波長４５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり；Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍで測定した面内のレターデーション値／波長５５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり；Ｒｅ／Ｒｔｈ（６５０）は、波長６５０ｎｍで測定した面内のレターデーション値／波長６５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり；そして、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍで測定した厚み方向のレターデーション値である］。
【請求項５】
二層以上の共流延によりセルロースアシレートフイルムを形成し、これにより一つの層に含まれるセルロースアシレートの置換度と別の層に含まれるセルロースアシレートの置換度との差を０．０５以上にすることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月17日(2011.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１絶縁基板と、第２絶縁基板と、両基板間に設けられた液晶とを備え、
前記第１絶縁基板上において、行列状に配置された複数の走査電極および複数の信号電極と、前記走査電極と前記信号電極との交点近傍に配置された複数の画素電極と、各走査電極と各信号電極と各画素電極に接続された各スイッチング素子と、前記第１絶縁基板上に配置された複数の第１共通電極と、各画素電極と各第１共通電極の間に接続された各補助コンデンサと、を備えた有効表示領域と、
前記第１絶縁基板上において、各第１共通電極に接続された第２共通電極と、前記信号電極と前記第２共通電極との間に位置して一端が開放して設けられた列電極と、を備えて前記有効表示領域の外に位置する非表示領域と、
を有する液晶表示装置であって、
前記列電極の他端が、保護ダイオードを介して、前記第２共通電極から引回して配線された共通線に接続されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記列電極の他端と前記共通線との間に複数の保護ダイオードが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置は、第１絶縁基板と、第２絶縁基板と、両基板間に設けられた液晶とを備え、前記第１絶縁基板上において、行列状に配置された複数の走査電極および複数の信号電極と、前記走査電極と前記信号電極との交点近傍に配置された複数の画素電極と、各走査電極と各信号電極と各画素電極に接続された各スイッチング素子と、前記第１絶縁基板上に配置された複数の第１共通電極と、各画素電極と各第１共通電極の間に接続された各補助コンデンサと、を備えた有効表示領域と、前記第１絶縁基板上において、各第１共通電極に接続された第２共通電極と、前記信号電極と前記第２共通電極との間に位置して一端が開放して設けられた列電極と、を備えて前記有効表示領域の外に位置する非表示領域と、を有する液晶表示装置であって、前記列電極の他端が、保護ダイオードを介して、前記第２共通電極から引回して配線された共通線に接続されていることを特徴とする。
また、本発明の液晶表示装置は、前記列電極の他端と前記共通線との間に複数の保護ダイオードが設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の様に、各走査電極と第２共通電極の交点において、第１絶縁層および第２絶縁層を積層することにより、上記交点近傍でのコンデンサ容量は、従来に比べ、極めて小さくなる。その結果として、上記交点部分における電力ロス（電力消費量）は極めて小さくなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記の様に、各走査電極と列電極の交点において、第１絶縁層および第２絶縁層を積層することにより、上記交点近傍でのコンデンサ容量は、従来に比べ、極めて小さくなる。その結果として、上記交点部分における電力ロス（電力消費量）は極めて小さくなる。また、請求項２の構成により、静電破壊を防止できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記の様に、各第１共通電極と列電極の交点において、第１絶縁層および第２絶縁層を積層することにより、上記交点近傍でのコンデンサ容量は、従来に比べ、極めて小さくなる。その結果として、上記交点部分における電力ロス（電力消費量）は極めて小さくなる。また、請求項３の構成により、静電破壊を防止できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記の様に、各第１共通電極に接続され、共通電圧が供給され、閉回路とされた第２共通電極を設ける事により、各第１共通電極の各部分における電圧降下が小さくなる。その結果、各第１共通電極に接続された各補助コンデンサの印加電圧が略一定となり、クロストークやフリッカの発生を防止できる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記の様に、各交点部分における第１絶縁層および第２絶縁層の具体的構成は、スイッチング素子の構成と同一になる。故に、スイッチング素子と各交点部分は、同一の製造プロセスにて成膜されるので、製造コストが安い。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月10日(2011.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも２本の列を形成するように配列された複数のレンズを有し、
（ｂ）互いに隣接するレンズ同士の光軸間の距離をＰＮとし、各レンズにおける光軸から外周部までの距離の最大値をＲＬとしたときに、
ＰＮ＜２ＲＬ
であり、
（ｃ）互いに隣接するレンズ同士の曲面の光軸方向の高さが、互いに隣接するレンズ同士の境界線上で一致することを特徴とするレンズアレイ。
【請求項２】
前記レンズは、前記光軸に垂直な平面と、前記光軸に平行であって互いに隣接するレンズ同士の曲面の頂点を結ぶ直線の垂直２等分線を含む平面とによって切断される曲面を備える請求項１に記載のレンズアレイ。
【請求項３】
前記レンズが配列された複数のレンズ集合部材と、複数の絞りが配列された遮光部材とを有し、
前記レンズ集合部材は、それぞれが備えるレンズの各々の光軸が互いに一致するように配設され、
前記遮光部材は、前記レンズの各々の光軸が各絞りを通過するように配設される請求項１又は２に記載のレンズアレイ。
【請求項４】
前記レンズは倒立縮小像を形成し、前記レンズ集合部材は正立等倍像を形成する請求項３に記載のレンズアレイ。
【請求項５】
前記レンズの曲面が回転対称面である請求項１〜４のいずれか１項に記載のレンズアレイ。
【請求項６】
前記複数のレンズが一体に形成されている請求項１〜５のいずれか１項に記載のレンズアレイ。
【請求項７】
前記レンズが樹脂成形によって形成されている請求項１〜６のいずれか１項に記載のレンズアレイ。
【請求項８】
（ａ）少なくとも２本の列を形成するように配列された複数のレンズを有し、
（ｂ）互いに隣接するレンズ同士の光軸間の距離をＰＮとし、各レンズにおける光軸から外周部までの距離の最大値をＲＬとしたときに、
ＰＮ＜２ＲＬ
であり、
（ｃ）互いに隣接するレンズ同士の曲面の光軸方向の高さが、互いに隣接するレンズ同士の境界線上で一致するレンズアレイを有することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
（ａ）少なくとも２本の列を形成するように配列された複数のレンズを有し、
（ｂ）互いに隣接するレンズ同士の光軸間の距離をＰＮとし、各レンズにおける光軸から外周部までの距離の最大値をＲＬとしたときに、
ＰＮ＜２ＲＬ
であり、
（ｃ）互いに隣接するレンズ同士の曲面の光軸方向の高さが、互いに隣接するレンズ同士の境界線上で一致するレンズアレイを有する露光装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
（ａ）少なくとも２本の列を形成するように配列された複数のレンズを有し、
（ｂ）互いに隣接するレンズ同士の光軸間の距離をＰＮとし、各レンズにおける光軸から外周部までの距離の最大値をＲＬとしたときに、
ＰＮ＜２ＲＬ
であり、
（ｃ）互いに隣接するレンズ同士の曲面の光軸方向の高さが、互いに隣接するレンズ同士の境界線上で一致するレンズアレイを有することを特徴とする読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月24日(2010.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有光重合性モノマー、（Ｃ）多環式芳香族炭化水素、（Ｄ）光重合開始剤、および（Ｅ）水素供与体を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分として、ビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含む感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）成分および前記（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し、それぞれ、前記（Ａ）成分の配合量が４０〜８０重量部、前記（Ｂ）成分の配合量が２０〜６０重量部、前記（Ｃ）成分の配合量が０．０１〜１０重量部、前記（Ｄ）成分の配合量が０．０１〜１０重量部、前記（Ｅ）成分の配合量が０．００１〜１０重量部である請求項１記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ｃ）成分として、ｉ線（λ＝３６５ｎｍ）に対するモル吸光係数（ε３６５）が１００以上の多環式芳香族炭化水素を含む請求項１または２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記（Ｃ）成分として、アントラセン、ピレン、ナフタレン、フェナントレン、クリセン、フルオランテン、ベンゾ［ａ］ピレン、ベンゾ［ｅ］ピレン、ペリレン、およびそれらの誘導体からなる群から選ばれた１種以上の化合物を含む請求項１〜３のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｄ）成分として、ヘキサアリールビスイミダゾールまたはその誘導体を含む請求項１〜４のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物からなるレジスト層が支持体上に形成されてなる感光性エレメント。
【請求項７】
以下の工程を含むレジストパターンの製造法：
ｉ）請求項１〜５のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を基板上に積層する工程；
ｉｉ）画像状に活性光線を照射して、露光部の前記レジスト層を光硬化させる工程；
ｉｉｉ）未露光部の前記レジスト層を現像により選択的に除去してレジストパターンを形成する工程。
【請求項８】
前記工程ｉ）が、請求項１〜５のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物からなるレジスト層が支持体上に形成されてなる感光性エレメントを、基板上に、前記レジスト層が前記基板表面に密着するように積層することにより行われる請求項７記載のレジストパターンの製造法。
【請求項９】
以下の工程を含むプリント配線板の製造法：
ｉ）請求項１〜５のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を、表面に被加工層を有する基板の前記被加工層上に積層する工程；
ｉｉ）画像状に活性光線を照射して、露光部の前記レジスト層を光硬化させる工程；
ｉｉｉ）未露光部の前記レジスト層を現像により選択的に除去してレジストパターンを形成する工程；
ｉｖ）前記レジストパターンをマスクとして、前記基板の被加工層をエッチングし、または、前記基板の被加工層を選択的にめっきする工程。
【請求項１０】
前記工程ｉ）が、請求項１〜５のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物からなるレジスト層が支持体上に形成されてなる感光性エレメントを、表面に被加工層を有する基板上に、前記レジスト層が前記基板の被加工層の表面に密着するように積層することにより行われる請求項９記載のプリント配線板の製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月8日(2010.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容易に離型できる熱可塑的に加工できるポリウレタンエラストマーであって、約８０までのショアＡ硬度、１０MPaを超える引張強さ及び低い低温硬化度を有し、
Ａ）８００〜５０００の数平均分子量を有し、
(1)(a)エーテル基を有さず、
(b)ポリエステルポリオール中のエステル基１個につき平均して少なくとも０．４０
個の側鎖炭素原子を有する、少なくとも１種の２価アルコールと
(2)最大で１２個の炭素原子を有するジカルボン酸１種又はそれ以上との
反応生成物である、少なくとも１種の分岐ヒドロキシ末端ポリエステルポリオールと；
Ｂ）少なくとも１種のジイソシアネート；及び
Ｃ）６０〜４００の分子量を有する、少なくとも１種のジオール連鎖延長剤；との、
可塑剤の不存在下、０．９：１〜１．１：１のＮＣＯ：ＯＨモル比で、Ａ）、Ｂ）及びＣ）を反応させて得た、反応生成物であるポリウレタンエラストマー。
【請求項２】
４５〜７５のショアＡ硬度を有する、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項３】
ＮＣＯ：ＯＨモル比は約１：１である、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項４】
２価アルコール中に、ポリエステルポリオール中のエステル基１個につき平均して少なくとも０．５個の側鎖炭素原子が存在する、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項５】
２価アルコール中に、ポリエステルポリオール中のエステル基１個につき平均して少なくとも１個の側鎖炭素原子が存在する、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項６】
ジイソシアネートは、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、4,4'-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項７】
ジオール連鎖延長剤は、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,4-ジ-(β-ヒドロキシエチル)-ヒドロキノン、1,4-ジ-(β-ヒドロキシエチル)-ビスフェノールＡ及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項８】
ポリエステルポリオールは、ネオペンチルグリコールとアジピン酸との反応生成物である、請求項１に記載のエラストマー。
【請求項９】
請求項１に記載のポリウレタンエラストマーの製造方法であって、
Ａ）８００〜５０００の数平均分子量を有し、
(1)(a)エーテル基を有さず、
(b)ポリエステルポリオール中のエステル基１個につき平均して少なくとも０．４０
個の側鎖炭素原子を有する、少なくとも１種の２価アルコールと
(2)最大で１２個の炭素原子を有するジカルボン酸１種又はそれ以上との
反応生成物である、少なくとも１種の分岐ヒドロキシ末端ポリエステルポリオールと；
Ｂ）少なくとも１種のジイソシアネート；及び
Ｃ）６０〜４００の分子量を有する、少なくとも１種のジオール連鎖延長剤；とを、
可塑剤の不存在下、０．９：１〜１．１：１のＮＣＯ：ＯＨモル比で、反応させることを含む製造方法。
【請求項１０】
ジイソシアネートは、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、4,4'-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ジオール連鎖延長剤は、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,4-ジ-(β-ヒドロキシエチル)-ヒドロキノン、1,4-ジ-(β-ヒドロキシエチル)-ビスフェノールA及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
単段階で行う、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月11日(2010.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
この際、電子供与体は、マグネシウム化合物１モルに対して、０．０１〜５モル、好ましくは０．１〜１モルの量で用いられる。本発明では、上記懸濁液を濾過などによって固液分離し、固体部（固体状チタン触媒成分）を採取した後、さらに該固体部と液状状態のチタン化合物とを接触させてもよい。また得られた固体状チタン触媒成分［Ｉ］は、炭化水素溶媒で洗浄することが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月11日(2011.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラファイト系炭素とダイヤモンドとからなる粒子を含有する繊維であって、前記粒子の比重が2.63〜3.38 g/cm3であることを特徴とする繊維。
【請求項２】
請求項１に記載の繊維において、前記グラファイト系炭素とダイヤモンドとからなる粒子が、前記ダイヤモンドの表面を前記グラファイト系炭素が覆ったコア／シェル構造を有していることを特徴とする繊維。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の繊維において、前記粒子のメジアン径が30〜250 nmであることを特徴とする繊維。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の繊維において、前記繊維１ kgあたり、前記グラファイト系炭素とダイヤモンドとからなる粒子を0.1 mg〜100 g含有することを特徴とする繊維。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の繊維において、前記グラファイト系炭素とダイヤモンドとからなる粒子を付着させてなることを特徴とする繊維。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の繊維において、前記グラファイト系炭素とダイヤモンドとからなる粒子を練り込んでなることを特徴とする繊維。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の繊維を含有してなる寝具。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月31日(2011.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜を形成する成膜装置であって、
供給源から供給される材料によって部材に膜が形成されるように前記部材を保持する保持機構と、
前記保持機構によって保持された前記部材と前記供給源との間に前記部材から離隔して配置されて、前記部材に形成される膜の膜厚分布を制御する制御板とを備え、
前記制御板は、少なくとも前記部材に対する膜の形成時は、前記保持機構によって保持された前記部材との相対位置が固定される、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記制御板は、前記部材に形成される膜の膜厚分布を制御するように配置された複数の開口を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記供給源に対する前記保持機構および前記制御板の相対位置を変更する駆動機構を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記駆動機構は、前記保持機構を前記制御板とともに回転させる回転機構を含むことを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記制御板は、前記制御板の構造、および、前記部材と前記制御板との相対位置の少なくとも１つによって前記部材に形成される膜の膜厚分布を制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記供給源は、固体材料を蒸発させて前記部材に供給するように構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記供給源は、ターゲットから材料を放出させるように構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項８】
原版を照明する照明光学系と、該原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを有し、該原版および該基板を走査方向に沿って走査しながら該基板を露光する走査露光装置であって、
前記照明光学系を構成する複数の光学部品および前記投影光学系を構成する複数の光学部品、の少なくとも１つの光学部品は、膜厚が所定厚さよりも厚いドット部が配列された膜厚分布を有し、前記ドット部の配列方向が前記走査方向に対して傾いている、
ことを特徴とする走査露光装置。
【請求項９】
デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項８に記載の走査露光装置によって基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】成膜装置、走査露光装置、デバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、成膜装置、走査露光装置およびデバイス製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月18日(2011.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、試料３、４では基材と酸化ガドリニウム溶射膜の間で剥離が発生した。したがって、酸化ガドリニウムゾルゲル膜を形成することにより、ハロゲン系腐食ガスおよびハロゲン系ガスプラズマを遮断し、基材からのパーティクル発生に対し軽減効果が得られることが分かった。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月25日(2011.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送手段により搬送路に沿って搬送された基板に対して、接続された複数のチャンバにより、前記基板の両面に薄膜を形成するための処理を施す薄膜形成装置であって、
前記複数のチャンバを構成する第１スパッタチャンバは、
前記搬送路の第１の側に設けられ、前記基板の第１の面に対して、スパッタ成膜処理を施す第１スパッタ成膜手段と、
前記搬送路の第１の側とは反対側の第２の側に設けられ、前記基板の第１の面とは反対側の第２の面を加熱する第１加熱手段と、を有し、
前記複数のチャンバを構成する第２スパッタチャンバは、
前記搬送路の第１の側に設けられ、前記第１スパッタチャンバにより前記スパッタ成膜処理が施された前記基板の第１の面を加熱する第２加熱手段と、
前記搬送路の第２の側に設けられ、前記第１スパッタチャンバにより加熱された前記基板の第２の面に対して、スパッタ成膜処理を施す第２スパッタ成膜手段と、
を有することを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載の薄膜形成装置を用いて基板を予め定められた温度に加熱する加熱工程と、
請求項１に記載の薄膜形成装置を用いて、前記加熱工程で加熱された前記基板に成膜する成膜工程と、
を有することを特徴とする磁気記録媒体を製造する製造方法。
【請求項３】
搬送路に沿って、搬送された基板の両面に薄膜を形成するための処理を施す薄膜形成装置であって、
前記搬送路の第１の側に設けられ、前記基板の第１の面を加熱する第１加熱手段と、
前記搬送路の第１の側とは反対側の第２の側に設けられ、前記基板の第１の面とは反対側の第２の面に成膜処理を施す第１成膜手段と、
前記搬送路の第２の側に設けられ、前記基板の第２の面を加熱する第２加熱手段と、
前記搬送路の第１の側に設けられ、前記基板の第１の面に成膜処理を施す第２成膜手段と、を有し、
前記第１成膜手段は、前記第１加熱手段が前記基板の第１の面を加熱している間に、前記基板の第２の面に成膜処理を施し、
前記第１成膜手段による成膜処理の後、前記第２成膜手段は、前記第２加熱手段が前記基板の第２の面を加熱している間に、前記基板の第１の面に成膜処理を施すことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項４】
前記第１加熱手段と前記第１成膜手段は、第１チャンバに設けられ、
前記第２加熱手段と前記第２成膜手段は、第２チャンバに設けられていることを特徴とする請求項３に記載の薄膜形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の目的を達成する本発明にかかる薄膜形成装置は、搬送手段により搬送路に沿って搬送された基板に対して、接続された複数のチャンバにより、前記基板の両面に薄膜を形成するための処理を施す薄膜形成装置であって、
前記複数のチャンバを構成する第１スパッタチャンバは、
前記搬送路の第１の側に設けられ、前記基板の第１の面に対して、スパッタ成膜処理を施す第１スパッタ成膜手段と、
前記搬送路の第１の側とは反対側の第２の側に設けられ、前記基板の第１の面とは反対側の第２の面を加熱する第１加熱手段と、を有し、
前記複数のチャンバを構成する第２スパッタチャンバは、
前記搬送路の第１の側に設けられ、前記第１スパッタチャンバにより前記スパッタ成膜処理が施された前記基板の第１の面を加熱する第２加熱手段と、
前記搬送路の第２の側に設けられ、前記第１スパッタチャンバにより加熱された前記基板の第２の面に対して、スパッタ成膜処理を施す第２スパッタ成膜手段と、
を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月19日(2011.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】手術装置および手術装置の駆動方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体室と、前記流体室の容積を変更するダイアフラムと、前記ダイアフラムを駆動する圧電素子と、を有し、流体をノズルから脈動吐出する脈動発生部と、
前記流体室に流体を所定の圧力で供給する圧力発生部と、前記圧電素子に駆動波形を入力する駆動波形生成部と、前記圧力発生部の負荷を検出する負荷検出部と、を有する制御装置と、を備え、
前記負荷検出部が前記圧力発生部の負荷の異常を検出した場合に、前記脈動発生部の流体吐出圧力振幅または前記圧力発生部の流体供給圧力を高めるとともに、前記圧電素子に入力される前記駆動波形の周波数が、前記流体室から前記ノズルの間を伝播する圧力波の共振周波数と略一致していることを特徴とする手術装置。
【請求項２】
請求項１に記載の流体噴射システムにおいて、
前記脈動発生部の休止期間では、前記駆動波形が、流体を前記ノズルの先端に達する位置まで移動するように前記圧電素子を充電する中間電位と、前記圧電素子が放電される電位との組み合わせで構成されていることを特徴とする手術装置。
【請求項３】
流体室と、前記流体室の容積を変更する容積変更手段と、を有し流体をノズルから脈動吐出する脈動発生部と、前記流体室に流体を所定の圧力で供給する圧力発生部と、前記圧電素子に脈動波形を入力する駆動波形生成部と、前記圧力発生部の負荷を検出する負荷検出部と、を有する制御装置と、を備える手術装置の駆動方法であって、
前記脈動発生部に流体を所定の圧力で供給する圧力発生部の負荷を負荷検出部により検出する工程と、
前記圧力発生部の負荷が規定値以上になった場合に、警報を出力する工程と、前記脈動発生部及び前記圧力発生部の駆動を停止する工程と、前記脈動発生部の流体吐出圧力または前記圧力発生部の流体供給圧力を高くするクリーニング工程と、を含むことを特徴とする手術装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
加硫剤としては、用いられるクロロプレンゴムの種類に応じて酸化亜鉛、酸化マグネシウム、四酸化三鉛、一酸化鉛(リサージ)、イオウ、含イオウ化合物、有機過酸化物などが用いられる。含イオウ化合物、好ましくは有機含イオウ化合物としては、チオウレア系加硫剤、メルカプトトリアジン系加硫剤、ジメチルジチオカルバミン酸セレンなどが挙げられる。有機過酸化物としては、ジクミルパーオキサイド、ジ-第3ブチルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(第3ブチルパーオキシ)ヘキサン、ベンゾイルパーオキサイド、クミルパーオキサイド、1,3-ジ(第3ブチルパーオキシ)イソプロピルベンゼン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン-3、m-トリルパーオキサイド、ジプロピオニルパーオキサイドなどが挙げられる。これらの加硫剤は、ゴム100重量部当り約1〜20重量部、好ましくは約2〜15重量部の割合で用いられる。また、加硫促進剤としては、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジベンゾチアジルジスルフィド、トリメチルチオウレア、ニッケルジブチルジチオカーバメートなどが用いられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
以上の各成分を用いてのゴム組成物の調製は、加硫剤および加硫促進剤を除く各成分を加熱混練機、例えば一軸押出機、二軸押出機、ロール、バンバリーミキサ、ブラベンダ、ニーダ、高剪断型ミキサなどを用いて混練りし、さらに加硫剤および加硫促進剤などを添加し、加熱溶融混練することにより、容易に行うことができる。混練に際しては、ポリマーと可塑剤とを予め混練しておいたものに、さらに充填剤やその他の配合剤を混ぜ合わせることもできる。このような手順で混練を行うことにより、可塑剤添加による滑りや汚れで混練物にせん断エネルギーを与え難くなり、ひいては混練に時間がかかるといった事態を回避することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
ゴム加硫物と支持体とを一体化させる接着剤としては、好ましくは熱可塑性樹脂系接着剤、熱硬化性樹脂系接着剤、エラストマー系接着剤が用いられる。熱可塑性樹脂系接着剤としては、酢酸ビニル系、塩化ビニル系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルアセタール系、アクリル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などが、熱硬化性樹脂系接着剤としては、ユリア系、メラミン系、フェノール系、レゾルシノール系、エポキシ系、ポリウレタン系、ポリエステル系などが、またエラストマー系接着剤としては、クロロプレンゴム系、ニトリルゴム系、ブチルゴム系、ポリサルファイド系、シリコーンゴム系などが挙げられ、これらを主剤とした接着剤を用いることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
実施例１
クロロプレンゴム(電気化学製品DCR31；非イオウ変性タイプ)           95重量部
塩素化ポリエチレンゴム(東ソー製品CN5020；Cl含量40％)               5  〃
FEFカーボンブラック(東海カーボン製品シーストSO)                   35  〃
ステアリン酸(花王製品ルーナックS-30)                               1  〃
ポリエーテルエステル系可塑剤(ADEKA製品RS-700;分子量約550)         20  〃
アミン系老化防止剤；N-フェニル-N'-(1,3-ジメチルブチル)             3  〃
-p-フェニレンジアミン(大内新興化学製品Nocrac 6C)
アミン系老化防止剤；4,4'-ビス(α,α-ジメチルベンジル)              3  〃
ジフェニルアミン(同社製品Nocrac CD)
酸化亜鉛(正同化学製品亜鉛華3号)                                    5  〃
酸化マグネシウム(協和化学製品キョーワマグ♯150)                    4  〃
2-メルカプトイミダゾリン(バイエル社製品バルカチットNPV/C)          1  〃
テトラメチルチウラムジサルファイド(大内新興化学製品ノクセラーTT)   1  〃
以上の各成分の内、加硫剤および加硫促進剤以外の各成分を3Lニーダで混練した後、オープンロールで加硫剤および加硫促進剤を加えてゴムシートとし、180℃、10MPa、5分間の条件でプレス加硫(一次加硫)して、150×150×2mmのスラブシートを成形した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
比較例８
実施例１において、ポリエーテルエステル系可塑剤の代りに、同量のジイソデシルアジペート(新日本理化製品DIDA、分子量426)が用いられた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
塩素化ポリエチレンゴムとして塩素含有量5〜50重量％の非結晶性塩素化ポリエチレンが用いられた請求項１記載のゴム組成物。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
塩素化ポリエチレンゴムとして塩素含有量5〜50重量％の非結晶性塩素化ポリエチレンが用いられた請求項３記載のゴム組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年4月12日(2011.4.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の構造：
【化１】
2010106278.tif 000001
（式中、ｎは、約１〜約１０である）を有する物質の組成物。
【請求項２】
約６％〜約４０％の直線性、約２．０未満の多分散性、および、約１０，０００未満の分子量を有することを特徴とする、誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）を含む物質の組成物。
【請求項３】
電子回路をパターニングするための、請求項１に記載の物質の組成物がベースの基本のフォトレジスト組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の物質の組成物がベースのエポキシ樹脂のための硬化剤。
【請求項５】
請求項１に記載の物質の組成物を包含するワニス。
【請求項６】
請求項１に記載の物質の組成物を包含するプリント用インク。
【請求項７】
請求項１に記載の物質の組成物を包含するゴムのための粘着性付与剤。
【請求項８】
請求項１に記載の物質の組成物を包含する原油セパレーター。
【請求項９】
請求項１に記載の物質の組成物を包含する、リジッドまたはフレキシブルプリント回路基板のためのソルダーマスクまたは感光性カバーレイ。
【請求項１０】
請求項１に記載の物質の組成物中のヒドロキシ基との反応によってさらに誘導体化されたエポキシ材料。
【請求項１１】
エポキシまたはブロックトイソシアネートを含み、さらに請求項１に記載の物質の組成物も包含するペイント塗料。
【請求項１２】
請求項１に記載の物質の組成物が包含されていることによって、粘度調節剤として作用する、高粘度のポリマー。
【請求項１３】
請求項１に記載の物質の組成物が包含されていることによって、抗酸化剤として作用する、高分子材料。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
発明の背景
発明の分野
本発明は、新規の誘導体化されたポリ（４−ヒドロキシスチレン）（ＤＰＨＳ）、および、４−ヒドロキシメチル−カルビノール（ＨＰＭＣ）から間接的に、ノボラック型の構造を有するＤＰＨＳを製造する方法に関し、これらは、フォトレジスト組成物のような電子工学の化学の市場において有用性を有する。ミクロ電子工学の化学の市場でのＤＰＨＳの使用に加えて、このようなＤＰＨＳは、標準的なノボラック用途、例えばワニス、アニリンのプリント用インク、エポキシ樹脂のための原材料（例えば硬化剤）、コピー用紙、ゴムのための粘着性付与剤、原油セパレーター、リジッドおよびフレキシブルプリント回路基板のためのソルダーマスクおよび感光性カバーレイ、さらに、誘導体化されたエポキシ樹脂、および、ＤＰＨＳのヒドロキシ基と反応したポリイソシアネート、例えばそれらを含むペイント塗料で用いることができる。ＤＰＨＳはまた、キャスティング後に架橋する能力を有し、それにより抗酸化保護を提供する、高粘度のポリマーのための粘度調節剤として用いてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月9日(2011.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１に記載のディスクロータにおいて、前記接合ピンの軸部中間には、ハット部側を小径部とする段部が形成されていて、この段部は、前記摺動部と前記ワッシャ間に介装されて前記摺動部を前記接合ピンの頭部に向けてロータ軸方向に付勢する板ばねの一部を介して、前記ワッシャの内周部に係合していることを特徴とするディスクロータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記した本発明の実施に際して、前記接合ピンの軸部中間には、ハット部側を小径部とする段部が形成されていて、この段部は、前記摺動部と前記ワッシャ間に介装されて前記摺動部を前記接合ピンの頭部に向けてロータ軸方向に付勢する板ばねの一部を介して、前記ワッシャの内周部に係合していること（請求項２に係る発明）も可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
各結合装置２０は、図３にて拡大して示したように、ワッシャ２１と接合ピン２２と板ばね２３の三部材によって構成されている。ワッシャ２１は、ステンレス鋼（ハット部１２の金属素材に比して硬い金属素材）によって環状に形成されていて、図２および図３に示したように、摺動部１１の内周部分とハット部１２の外周部分間に環状の板ばね２３（皿ばね）とともに介装されており、一側面全体（図３の左側面全体）にてハット部１２に接合している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
頭部２２ａは、摺動部１１における内向フランジ部１１ｂの一側（図３の右側）に係合している。軸部２２ｂは、摺動部１１の貫通孔１１ｂ１と板ばね２３とワッシャ２１とハット部１２の貫通孔１２ｂ１を貫通していて、ハット部１２に対して摺動部１１をロータ軸方向に所定量（板ばね２３が弾性変形可能な量）移動可能としており、その中間には、ハット部側を小径部２２ｂ１としかつ摺動部側を大径部２２ｂ２とする段部２２ｂ３が形成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、このディスクロータＡでは、接合ピン２２においてハット部１２に対して摺動部１１をロータ軸方向に所定量（板ばね２３が弾性変形可能な量）移動可能としている軸部２２ｂの中間に、ハット部側を小径部２２ｂ１としかつ摺動部側を大径部２２ｂ２とする段部２２ｂ３が形成されていて、この段部２２ｂ３は、摺動部１１とワッシャ２１間に介装されて摺動部１１を接合ピン２２の頭部２２ａに向けてロータ軸方向に付勢する板ばね２３の一部を介して、ワッシャ２１の内周部に係合している。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月14日(2011.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機極性溶媒中で、アルカリ金属硫化物およびアルカリ金属水硫化物から選ばれる少なくとも１種の硫黄源とジハロゲン化芳香族化合物とを反応させてポリアリーレンスルフィドを製造する際に、重合系内に水を除く重合助剤が前記硫黄源１モル当たり０．０１〜０．３モル存在し、重合反応終了後に水を前記硫黄源１モル当たり０．５モル以上添加することで溶融粘度が４０Ｐａ・ｓ以下であるポリアリーレンスルフィド樹脂を得ることを特徴とするポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の製造方法で得られたポリアリーレンスルフィド樹脂を１２０℃〜２７０℃で熱処理するポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
【請求項３】
重合系内に存在する水を除く重合助剤が前記硫黄源１モル当たり０．０１〜０．０５モルであり、溶融粘度１０Ｐａ・ｓ以下であるポリアリーレンスルフィド樹脂を得ることを特徴とする請求項１または２に記載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
【請求項４】
重合助剤が有機カルボン酸塩、アルカリ金属塩化物、有機スルホン酸塩、硫酸アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属リン酸塩およびアルカリ土類金属リン酸塩から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
【請求項５】
水を添加した後、ポリアリーレンスルフィド樹脂を含む内容液をフラッシュさせてポリアリーレンスルフィド樹脂を回収することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、以下のような手法にてポリアリーレンスルフィド樹脂を製造することで、上記課題が解決できる。すなわち、本発明は、以下のとおりである。
（１）有機極性溶媒中で、アルカリ金属硫化物およびアルカリ金属水硫化物から選ばれる少なくとも１種の硫黄源とジハロゲン化芳香族化合物とを反応させてポリアリーレンスルフィドを製造する際に、重合系内に水を除く重合助剤が前記硫黄源１モル当たり０．０１〜０．３モル存在し、重合反応終了後に水を前記硫黄源１モル当たり０．５モル以上添加することで溶融粘度が４０Ｐａ・ｓ以下であるポリアリーレンスルフィド樹脂を得ることを特徴とするポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
（２）（１）に記載の製造方法で得られたポリアリーレンスルフィド樹脂を１２０℃〜２７０℃で熱処理するポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
（３）重合系内に存在する水を除く重合助剤が前記硫黄源１モル当たり０．０１〜０．０５モルであり、溶融粘度１０Ｐａ・ｓ以下であるポリアリーレンスルフィド樹脂を得ることを特徴とする（１）または（２）に記載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
（４）重合助剤が有機カルボン酸塩、アルカリ金属塩化物、有機スルホン酸塩、硫酸アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属リン酸塩およびアルカリ土類金属リン酸塩から選ばれる少なくとも１種である（１）〜（３）のいずれかに記載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
（５）水を添加した後、ポリアリーレンスルフィド樹脂を含む内容液をフラッシュさせてポリアリーレンスルフィド樹脂を回収することを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載のポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
[実施例１]
攪拌機付きの１リットルオートクレーブに、４７％水硫化ナトリウム１．００モル、４８％水酸化ナトリウム１．０３モル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１．６５モル、酢酸ナトリウム０．０５モル、及びイオン交換水５．５５モルを仕込み、常圧で窒素を通じながら２２５℃まで２時間かけて徐々に加熱し、水１１．７０モルおよびＮＭＰ０．０２モルを留出したのち、反応容器を１６０℃に冷却した。また、硫化水素の飛散量は０．０１モルであった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
（１）実施例１、２と比較例１を比較すると、酢酸ナトリウムの添加が無いと発生ガス量が多いことが分かり、酢酸ナトリウムと水添加を併用することにより発生ガス量が少なく、目的の粘度が得られることが分かった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
（２）実施例３，４と比較例２を比較すると、水の添加が無いと発生ガス量が多いことが分かり、酢酸ナトリウムと水添加を併用することにより発生ガス量が少なく、目的の粘度が得られることが分かった。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月23日(2011.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
プロピレン系重合体（Ａ）のエチレン単位含有量が２０％を超える比較例１の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低く、耐水性も低かった。
プロピレン系重合体（Ａ）のエチレン単位含有量が１１％未満の比較例２の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低く、耐水性も低かった。
プロピレン系重合体（Ａ）の結晶化度が１６％を超える比較例３の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低かった。
プロピレン系重合体（Ａ）の結晶化度が８％未満の比較例４の水性分散体では、皮膜の耐水性が低かった。
プロピレン系重合体（Ａ）の質量平均分子量が１５万未満の比較例５の水性分散体では、皮膜の耐水性が低かった。
プロピレン系重合体（Ａ）の結晶化度が２５万を超える比較例６の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低かった。
プロピレン系重合体（Ａ）が非メタロセン系触媒を用いて得た重合体である比較例７の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低く、耐水性も低かった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
酸変性オレフィン系重合体（Ｂ）の添加量が５質量部未満の比較例１６では、水性分散体が得られなかった。
酸変性オレフィン系重合体（Ｂ）の添加量が２５質量部を超える比較例１７の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低く、耐水性も低かった。
界面活性剤（Ｃ）の添加量が１質量部未満の比較例１８では、水性分散体が得られなかった。
界面活性剤（Ｃ）の添加量が１０質量部を超える比較例１９の水性分散体では、プラスチック成形体に対する密着性が低く、耐水性も低かった。