【手続補正書】
【提出日】平成20年12月5日(2008.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒およびホスファゼン超塩基の存在下に、ＰＯＳＳシラノールをシランカップリング剤と反応させることを含むＰＯＳＳモノマーの製造方法。
【請求項２】
複数種のＰＯＳＳシラノールの混合物を反応させる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
複数種のホスファゼン超塩基の混合物を用いる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
複数種の溶媒の混合物を用いる請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ホスファゼン超塩基を不均質触媒または共試薬（coreagent）として用いる連続シレート化法を用いる請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ＰＯＳＳモノマーが、［（ＲＳｉＯ1.5）7（ＨＯＳｉＯ1.5）1］Σ8、［（ＲＳｉＯ1.5）6（ＲＨＯＳｉＯ1）2］Σ8、および［（ＲＳｉＯ1.5）4（ＲＨＯＳｉＯ1）3］Σ7（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものである）からなる群の中から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記シランカップリング剤が、Ｒ3ＳｉＸ、Ｒ2ＳｉＸ2、およびＲＳｉＸ3（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものであり、Ｘは、ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、アルコキシド（ＯＲ）、アセテート（ＯＣＯＲ）、酸（ＯＣＯＨ）、エステル（ＯＣＯＲ）、ペルオキシド（ＯＯＲ）、アミン（ＮＲ2）、イソシアネート（ＮＣＯ）、およびＲからなる群の中から選ばれる）からなる群の中から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ホスファゼンが、Ｐ１タイプ、Ｐ２タイプ、Ｐ３タイプ、およびＰ４タイプからなる群の中から選ばれる請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ホスファゼン超塩基を不均質触媒または共試薬として用いる連続シレート化法を用いる請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記シランカップリング剤が、Ｒ3ＳｉＸ、Ｒ2ＳｉＸ2、およびＲＳｉＸ3（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものであり、Ｘは、ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、アルコキシド（ＯＲ）、アセテート（ＯＣＯＲ）、酸（ＯＣＯＨ）、エステル（ＯＣＯＲ）、ペルオキシド（ＯＯＲ）、アミン（ＮＲ2）、イソシアネート（ＮＣＯ）、およびＲからなる群の中から選ばれる）からなる群の中から選ばれる請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記ＰＯＳＳモノマーが、［（ＲＳｉＯ1.5）7（ＨＯＳｉＯ1.5）1］Σ8、［（ＲＳｉＯ1.5）6（ＲＨＯＳｉＯ1）2］Σ8、および［（ＲＳｉＯ1.5）4（ＲＨＯＳｉＯ1）3］Σ7（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよい）からなる群の中から選ばれる請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記ＰＯＳＳモノマーが、［（ＲＳｉＯ1.5）7（ＨＯＳｉＯ1.5）1］Σ8、［（ＲＳｉＯ1.5）6（ＲＨＯＳｉＯ1）2］Σ8、および［（ＲＳｉＯ1.5）4（ＲＨＯＳｉＯ1）3］Σ7（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものである）からなる群の中から選ばれる請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記シランカップリング剤が、Ｒ3ＳｉＸ、Ｒ2ＳｉＸ2、およびＲＳｉＸ3（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものであり、Ｘは、ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、アルコキシド（ＯＲ）、アセテート（ＯＣＯＲ）、酸（ＯＣＯＨ）、エステル（ＯＣＯＲ）、ペルオキシド（ＯＯＲ）、アミン（ＮＲ2）、イソシアネート（ＮＣＯ）、およびＲからなる群の中から選ばれる）からなる群の中から選ばれる請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＰＯＳＳモノマーが、［（ＲＳｉＯ1.5）7（ＨＯＳｉＯ1.5）1］Σ8、［（ＲＳｉＯ1.5）6（ＲＨＯＳｉＯ1）2］Σ8、および［（ＲＳｉＯ1.5）4（ＲＨＯＳｉＯ1）3］Σ7（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものである）からなる群の中から選ばれる請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記ＰＯＳＳモノマーが、［（ＲＳｉＯ1.5）7（ＨＯＳｉＯ1.5）1］Σ8、［（ＲＳｉＯ1.5）6（ＲＨＯＳｉＯ1）2］Σ8、および［（ＲＳｉＯ1.5）4（ＲＨＯＳｉＯ1）3］Σ7（ここで、Ｒは、水素、シロキシ、環式もしくは線状脂肪族基および芳香族基からなる群の中から選ばれる置換基であり、これら置換基はアルコール、エステル、アミン、ケトン、オレフィン、エーテルおよびハライドからなる群の中から選ばれる反応性官能基を含有していてもよく、またはフッ素化基を含有していてもよく、各Ｒは同じであるか、異なるものである）からなる群の中から選ばれる請求項１３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
フォトレジストに有用なポリマー配合物は、高度工学的システムであり、それにより、特性の操作のために従来知られている技術のほぼすべてを利用している。加えて、フォトレジストポリマーは、その画像化およびエッチング機能を最適に果たすため、および電子回路の信頼性を確保するために、高度の純度を必要とする。最近の技術（ＷＯ２００４／０４０３７１）は、フィラータイプの補強をしかし可溶性化学物質の形態で提供するＰＯＳＳとして知られるナノ構造化化学物質を含めることによるフォトレジストの修飾に主眼を置いている。フォトレジストの最適な性能は、高純度ＰＯＳＳ分子の使用を通じてのみ得ることができる。