【手続補正書】
【提出日】平成23年5月23日(2011.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイモルフ波面補正ミラーを製造する方法であって、
第１の表面および第２の表面を有するミラー（１０２）を与えるステップを含み、第１および第２の表面は選択された波長における選択された光の波面基準よりも良好な波面均一性を示し、
ポーリングされた環状圧電セラミックディスク（１０４）を形成するステップを含み、ディスク（１０４）は、第１の側面および第２の側面と、ディスク（１０４）の実質的に中央部分にあるアパーチャと、ディスク（１０４）の実質的に対向する側面にある１つ以上の電極対（１０６）と、ミラー（１０２）の外部側面寸法よりも大きい外部側面寸法とを含み、
周期的なバイポーラ電圧を電極対（１０６）に加えることによってディスク（１０４）に繰返し応力を加えるステップと、
ミラー／ディスク（１０２／１０４）の組合せの組立て後にミラー（１０２）の波面特性を維持するよう実質的にゼロ応力接合を達成するために、ミラー（１０２）の第２の表面を接着剤でディスク（１０４）の第１の側面に接合するステップと、
圧電的に引起されたひずみが接合されたミラー（１０２）を選択された量だけ変形することが可能となるような電圧を加えるよう適合されたディスク（１０４）上の実質的に対向する伝導性電極対（１０６）にワイヤを接続するステップと、
ディスク（１０４）を取付ベース（１１０）に接着するよう適合された複数のスタンドオフ（１１２）を用いて、取付ベース（１１０）にディスク（１０４）の第２の側面を取付けるステップとを含む、方法。
【請求項２】
取付ベース（１１０）は取付ベース（１１０）の実質的に中央部分にアパーチャを含み、取付ベース（１１０）のアパーチャはディスク（１０４）のアパーチャより大きい、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ディスク（１０４）に１つ以上のひずみセンサを取付けるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
特定された波長において波面表面特性における波の二乗平均平方根偏差の約１／４０未満を示すように第１の表面および第２の表面の両方のミラー（１０２）を磨くステップと、
ミラー（１０２）の少なくとも第１の特定された一部で第１の特定された波長において特定された反射率を達成するために第１の反射率コーティングでミラー（１０２）の第１の表面をコーティングするステップと、
ミラー（１０２）の少なくとも第２の特定された一部で第２の特定された波長において第２の特定された量より低く反射を減じるためにミラー（１０２）の第２の表面を第２の反射率コーティングでコーティングするステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
接合するステップは、
静的にディスク（１０４）をレベリングするステップと、
ディスク（１０４）の第１の側面およびミラー（１０２）の第２の表面を清潔にするステップと、
ミラー（１０２）とディスク（１０４）との間のインターフェースにエポキシを適用するステップと、
制御された温度下に静的に放置された状態でエポキシを硬化するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
第１の表面および第２の表面を有するミラー（１０２）と、
圧電セラミックディスク（１０４）およびディスク（１０４）の実質的に対向する側面に複数の伝導性電極（１０６）を含むアクチュエータとを含み、アクチュエータ（１０４）はミラー（１０２）の第２の表面に接合され、アクチュエータ（１０４）はディスクの実質的に中央部分にアパーチャを含み、さらに
ミラー（１０２）によって受取られるレーザビームの光学波面特性を測定し、かつ波面特性に対応する電子信号を与えるよう適合された波面センサを含む、レーザビーム補正システム。
【請求項７】
電子信号をアクチュエータ（１０４）命令に変換するよう適合されたコントロールフィルタ（１２５０）をさらに含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
レーザビームの光学波面を補正するためにアクチュエータ（１０４）の電極に加えられるよう命令を電圧に変換するよう適合された増幅器（１２６０）をさらに含み、
該増幅器（１２６０）は、コントロールフィルタ（１２５０）からアナログおよび／またはデジタル命令を受取ってアクチュエータ（１０４）にアナログ電圧を出力するよう適合された、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
アクチュエータ（１０４）およびミラー（１０２）の第２の面に面するベースマウント（１１０）をさらに含み、取付ベース（１１０）はミラー（１０２）およびアクチュエータ（１０４）を支持する、請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
ミラー（１０２）およびアクチュエータ（１０４）はバイモルフ補正ミラーアセンブリ（１００）を含み、アセンブリは熱により引起されたレーザビームの波面誤りを補正するよう適合される、請求項６に記載のシステム。
【請求項１１】
第１の表面は第１の反射率コーティングでコーティングされ、第２の表面は１つ以上の選択された波長において第２の反射率コーティングでコーティングされる請求項６に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
上述の実施例は本開示を例示するが制限はしない。多数の修正および変形が本開示の原理に従って可能であることがさらに理解されるべきである。従って、本開示の範囲は以下の請求項によってのみ規定される。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
第１の表面および第２の表面を有するミラー（１０２）と、
圧電セラミックディスク（１０４）およびディスク（１０４）の実質的に対向する側面に複数の伝導性電極（１０６）を含むアクチュエータとを含み、アクチュエータ（１０４）はミラー（１０２）の第２の表面に接合され、アクチュエータ（１０４）はディスクの実質的に中央部分にアパーチャを含み、さらに
ミラー（１０２）によって受取られるレーザビームの光学波面特性を測定し、かつ波面特性に対応する電子信号を与えるよう適合された波面センサを含む、レーザビーム補正システム。
（態様２）
電子信号をアクチュエータ（１０４）命令に変換するよう適合されたコントロールフィルタ（１２５０）をさらに含む、態様１に記載のシステム。
（態様３）
レーザビームの光学波面を補正するためにアクチュエータ（１０４）の電極に加えられるよう命令を電圧に変換するよう適合された増幅器（１２６０）をさらに含む、態様２に記載のシステム。
（態様４）
増幅器（１２６０）は、コントロールフィルタ（１２５０）からアナログおよび／またはデジタル命令を受取ってアクチュエータ（１０４）にアナログ電圧を出力するよう適合された、態様３に記載のシステム。
（態様５）
アクチュエータ（１０４）、コントロールフィルタ（１２５０）および増幅器（１２６０）は、０Ｈｚから約１０００Ｈｚの発動反応帯域幅を有する、態様３に記載のシステム。
（態様６）
アクチュエータ（１０４）は、焦点および高次光学収差を制御するよう適合された複数のセグメントを含み、各セグメントはアクチュエータ（１０４）の実質的に対向する側面に１対の電極（１０６）を含む、態様１に記載のシステム。
（態様７）
アクチュエータ（１０４）およびミラー（１０２）の第２の面に面するベースマウント（１１０）をさらに含み、取付ベース（１１０）はミラー（１０２）およびアクチュエータ（１０４）を支持する、態様１に記載のシステム。
（態様８）
ベースマウント（１１０）は、ミラー（１０２）およびアクチュエータ（１０４）を支持するよう適合されたモータ駆動のチップチルトステージを含み、
ミラー（１０２）の第１の表面から反射されたビームの位置合わせを測定し、かつ、ミラー（１０２）の測定された指示方向の誤差に対応する電子信号を与えるよう適合された、指示センサ（１２４０）と、
指示方向誤差に対応する電子信号を受取り、ミラー（１０２）の配向を補正するためにチップチルトステージへのアクチュエータ命令を発生するよう適合された補正フィルタとを含む、態様７に記載のシステム。
（態様９）
位置合わせビームはレーザキャビティに導入された診断ビームによって与えられる、態様８に記載のシステム。
（態様１０）
指示センサ（１２４０）は光学波面センサによって実現される、態様８に記載のシステム。
（態様１１）
レーザビームの一部を指示センサ（１２４０）に導くよう適合されたビームスプリッタ
をさらに含む、態様８に記載のシステム。
（態様１２）
１つ以上のひずみゲージをさらに含む、態様１に記載のシステム。
（態様１３）
ミラー（１０２）およびアクチュエータ（１０４）はバイモルフ補正ミラーアセンブリ（１００）を含み、アセンブリは熱により引起されたレーザビームの波面誤りを補正するよう適合される、態様１に記載のシステム。
（態様１４）
第１の表面は第１の反射率コーティングでコーティングされ、第２の表面は１つ以上の選択された波長において第２の反射率コーティングでコーティングされる、態様１に記載のシステム。
（態様１５）
第１の反射率コーティングの反射率は約４％から約１００％である、態様１４に記載のシステム。
（態様１６）
第２の反射率コーティングの反射率は約４％未満である、態様１４に記載のシステム。
（態様１７）
レーザビームの一部を波面センサに導くよう適合されたビームスプリッタをさらに含む、態様１に記載のシステム。
（態様１８）
バイモルフ波面補正ミラーを製造する方法であって、
第１の表面および第２の表面を有するミラー（１０２）を与えるステップを含み、第１および第２の表面は選択された波長における選択された光の波面基準よりも良好な波面均一性を示し、
ポーリングされた環状圧電セラミックディスク（１０４）を形成するステップを含み、ディスク（１０４）は、第１の側面および第２の側面と、ディスク（１０４）の実質的に中央部分にあるアパーチャと、ディスク（１０４）の実質的に対向する側面にある１つ以上の電極対（１０６）と、ミラー（１０２）の外部側面寸法よりも大きい外部側面寸法とを含み、
周期的なバイポーラ電圧を電極対（１０６）に加えることによってディスク（１０４）に繰返し応力を加えるステップと、
ミラー／ディスク（１０２／１０４）の組合せの組立て後にミラー（１０２）の波面特性を維持するよう実質的にゼロ応力接合を達成するために、ミラー（１０２）の第２の表面を接着剤でディスク（１０４）の第１の側面に接合するステップと、
圧電的に引起されたひずみが接合されたミラー（１０２）を選択された量だけ変形することが可能となるような電圧を加えるよう適合されたディスク（１０４）上の実質的に対向する伝導性電極対（１０６）にワイヤを接続するステップと、
ディスク（１０４）を取付ベース（１１０）に接着するよう適合された複数のスタンドオフ（１１２）を用いて、取付ベース（１１０）にディスク（１０４）の第２の側面を取付けるステップとを含む、方法。
（態様１９）
取付ベース（１１０）は取付ベース（１１０）の実質的に中央部分にアパーチャを含み、取付ベース（１１０）のアパーチャはディスク（１０４）のアパーチャより大きい、態様１８に記載の方法。
（態様２０）
ディスク（１０４）に１つ以上のひずみセンサを取付けるステップをさらに含む、態様１８に記載の方法。
（態様２１）
特定された波長において波面表面特性における波の二乗平均平方根偏差の約１／４０未
満を示すように第１の表面および第２の表面の両方のミラー（１０２）を磨くステップと、
ミラー（１０２）の少なくとも第１の特定された一部で第１の特定された波長において特定された反射率を達成するために第１の反射率コーティングでミラー（１０２）の第１の表面をコーティングするステップと、
ミラー（１０２）の少なくとも第２の特定された一部で第２の特定された波長において第２の特定された量より低く反射を減じるためにミラー（１０２）の第２の表面を第２の反射率コーティングでコーティングするステップを含む、態様１８に記載の方法。
（態様２２）
第１の反射率コーティングの反射率は約４％から約１００％である、態様２１に記載の方法。
（態様２３）
第２の反射率コーティングの反射率は約４％未満である、態様２１に記載の方法。
（態様２４）
接合するステップは、
静的にディスク（１０４）をレベリングするステップと、
ディスク（１０４）の第１の側面およびミラー（１０２）の第２の表面を清潔にするステップと、
ミラー（１０２）とディスク（１０４）との間のインターフェースにエポキシを適用するステップと、
制御された温度下に静的に放置された状態でエポキシを硬化するステップとを含む、態様１８に記載の方法。
（態様２５）
エポキシの粘性は約７２５センチポアズから約１０００センチポアズである、態様２４に記載の方法。
（態様２６）
エポキシ層の厚さは約１０ナノメータから約０．１ミリメートルである、態様２４に記載の方法。
（態様２７）
硬化が２４時間より長く行われる、態様２４に記載の方法。