【手続補正書】
【提出日】平成20年12月25日(2008.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式１の化合物の悪臭中和剤としての使用：
【化１】
2008528451.tif 000001
式中、
ＸおよびＹは独立して以下からなる群から選択される残基であり、
−ＣＲ１Ｒ２Ｒ３、式中、
Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は独立してＨ、炭化水素残基、または炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなるリストから選択されるものを含むものであり；
−ＮＲ４Ｒ５、式中、
Ｒ４およびＲ５は独立してＨ、炭化水素残基；または
Ｒ４およびＲ５はこれらが結合している窒素と一緒に３、５もしくは６員環を形成し；またはＲ４およびＲ５は炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなるリストから選択されるものを含むものであり；  
そして
−ＯＲ６、式中、
Ｒ６は炭化水素残基；または  
Ｒ６は炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基もしくはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなるリストから選択されるものを含むものであり；
ＸまたはＹは式−ＣＲ１Ｒ２Ｒ３の残基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれらが結合している炭素原子と一緒に
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルであってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；
Ｃ６〜Ｃ１２シクロアルキルアルキル；
Ｃ６〜Ｃ１２シクロアルキルアルキルであってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；
Ｃ６〜Ｃ１０アリール；
Ｃ６〜Ｃ１０アリールであって、Ｃ１〜Ｃ１５アルキルおよびＣ１〜Ｃ１５アルコキシからなる群から選択される少なくとも１つの置換基によって置換されているもの；および
Ｃ５〜Ｃ１０ヘテロアリール；
からなる群から選択される残基を形成するものであり；
ＡはＨ；−ＣＯＯＲ７、式中、
Ｒ７は炭化水素残基；もしくは
Ｒ７は炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基もしくはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなる群から選択されるものを含むものであり；
−Ｃ（Ｏ）Ｒ８、式中、
Ｒ８は炭化水素残基；または
Ｒ８は炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなる群から選択されるものを含むものであり；  
または
−ＣＲ９Ｒ１０Ｒ１１、式中、
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は独立してＨ、炭化水素残基、または炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基もしくはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなる群から選択されるものを含むものであり；
ＢはＨ；−ＣＲ１２Ｒ１３Ｒ１４、式中、
Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は独立してＨ、または炭化水素残基；もしくは
Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は独立して炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基もしくはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなる群から選択されるものを含むものであり；
または
−ＯＣ（Ｏ）Ｒ１８、式中、
Ｒ１８はＨ、もしくは炭化水素残基；
点線は炭素−炭素結合と一緒に二重結合を表し；
または
Ｂは−ＮＲ１６Ｒ１７、式中、
Ｒ１６およびＲ１７は独立してＨ、または炭化水素残基；もしくは
Ｒ１６およびＲ１７は独立して炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基もしくはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなる群から選択されるものを含むものであり；または
−ＯＲ１５、式中、
Ｒ１５はＨ、もしくは炭化水素残基；または
Ｒ１５は炭化水素残基であって少なくとも１つのヘテロ原子としてヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成する酸素、窒素、ケイ素、塩素および臭素からなる群から選択されるものを含むものであり；  
点線は炭素−炭素結合と一緒に単結合または二重結合を表し、
ＡおよびＢは同時に水素ではない。
【請求項２】
Ｘが式−ＣＲ１Ｒ２Ｒ３の残基であり、式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３それらが結合している炭素原子と一緒に下記からなる群から選択される残基を形成する、請求項１に記載の式１の化合物の使用：
Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；  
Ｃ１〜Ｃ２０アルキルであってＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１種のヘテロ原子を含む；  
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；  
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルであってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；  
Ｃ６〜Ｃ１２アルキルシクロアルキル；  
Ｃ６〜Ｃ１２アルキルシクロアルキルであってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；  
Ｃ６〜Ｃ１２シクロアルキルアルキル；  
Ｃ６〜Ｃ１２シクロアルキルアルキル  であってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；  
Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル；  
Ｃ２〜Ｃ１０アルケニルであってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；  
Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル；  
Ｃ２〜Ｃ１０アルキニルであってヒドロキシル基、カルボニル基、エーテル基またはエステル基を形成しているＯ、Ｎ、Ｓｉ、Ｃｌ、およびＢｒからなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むもの；  
Ｃ６〜Ｃ１０アリール；  
Ｃ６〜Ｃ１０アリールであってＣ１〜Ｃ１５アルキルおよびＣ１〜Ｃ１５アルコキシからなる群から選択される少なくとも１つの置換基によって置換されているもの；  
Ｃ５〜Ｃ１０ヘテロアリール；  
Ｃ７〜Ｃ１０アルキルアリール；および
Ｃ７〜Ｃ１０アルキルアリールであって少なくともＣ１〜Ｃ１５アルキル、Ｃ１〜Ｃ１５アルコキシ、アミノ、Ｃ１〜Ｃ１５アルキルアミノ、およびＣ２〜Ｃ３０  ジアルキルアミノからなる群から選択される少なくとも１つの置換基によって置換されているもの。
【請求項３】
式１の化合物が下記からなる群から選択される、請求項１に記載の使用：
２−（３，７−ジメチル−オクタ−２，６−ジエニリデン）−マロン酸ジエチルエステル；  
３−オクチリデン−ペンタン−２，４−ジオン；  
２−ピリジン−２−イルメチレン−マロン酸ジエチルエステル；  
２−オクチリデン−マロン酸ジメチルエステル；  
２−エトキシカルボニル−ブト−２−エン二酸ジエチルエステル；  
２−アセチル−ペント−２−エン酸エチルエステル；  
２−オクチリデン−マロン酸ジエチルエステル；  
２−デシリデン−マロン酸ジエチルエステル；  
２−アセチル−デク−２−エン酸エチルエステル；  
２−（２−ヒドロキシ−ベンジリデン）−１−フェニル−ブタン−１，３−ジオン；  
２−（２−ヒドロキシ−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；  
３−（２−ヒドロキシ−ベンジリデン）−ペンタン−２，４−ジオン；  
３−（２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンジリデン）−ペンタン−２，４−ジオン；
２−（２−ヒドロキシ−ベンジリデン）−３−オキソ−ブチル酸エチルエステル；  
２−エトキシカルボニル−オキシメチレン−マロン酸ジエチルエステル；
２−アセトキシメチレン−マロン酸ジエチルエステル；
２−ベンゾイル−デク−２−エン酸エチルエステル；  
２−アセチル−５，９−ジメチル−デカ−２，８−ジエン酸エチルエステル；
２−アセチル−デク−２−エン酸  ２−（２−メトキシ−エトキシ）−エチルエステル；
１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−メトキシ−フェニル）−２−オクチリデン−プロパン−１，３−ジオン；
２−オクチリデン−マロン酸ジベンジルエステル；
２−カルバモイル−デク−２−エン酸メチルエステル；
３−（３−エトキシ−４−ヒドロキシ−ベンジリデン）−ペンタン−２，４−ジオン；
２−アセチル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ４−エチルエステル  １−（２−メトキシ−エチル）  エステル；
３−アセチル−２−ヒドロキシ−４−オキソ−ペンタン酸エチルエステル；
２−アセチル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ジエチルエステル；
２−ベンゾイル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ジエチルエステル；
２−ブチリル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ジエチルエステル；
２−アセチル−３−ヒドロキシ−コハク酸  １−ｔｅｒｔ−ブチルエステル  ４−エチルエステル；
２−（２，２−ジメチル−プロピオニル）−３−ヒドロキシ−コハク酸  ４−エチルエステル  １−メチルエステル；
２−アセチル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ４−エチルエステル  １−（２−メトキシ−エチル）エステル；
２−ブチリル−ブト−２−エン二酸ジエチルエステル；
２−アセチル−ブト−２−エン二酸１−ベンジルエステル  ４−エチルエステル；
２−アセチル−ブト−２−エン二酸４−エチルエステル  １−（２−メトキシ−エチル）エステル；
３−カルバモイル−４−オキソ−ペント−２−エン酸エチルエステル；
２−（２，２−ジメチル−プロピオニル）−ブト−２−エン二酸４−エチルエステル  １−メチルエステル；
２−ペント−４−イノイル−ブト−２−エン二酸４−エチルエステル  １−メチルエステル；
２−アセチル−３−メトキシ−コハク酸  ジエチルエステル；
３−ベンゾイル−２−エトキシ−４−オキソ−ペンタン酸エチルエステル；
２−ブチリル−３−エトキシ−コハク酸  ジエチルエステル；
２−ベンゾイル−３−エトキシ−コハク酸  ジエチルエステル；
２−アセチル−３−［２−（２−エトキシ−エトキシ）−エトキシ］−コハク酸  ジエチルエステル；
３−アセチル−２−エトキシ−４−オキソ−ペンタン酸エチルエステル；
２−プロピリデン−１−（ピリジン−４−イル）ブタン−１，３−ジオン；  
２−エチリデン−１−（１Ｈ−イミダゾール−５−イル）ブタン−１，３−ジオン；
３−（２−ヒドロキシ−５−ニトロベンジリデン）ペンタン−２，４−ジオン；
３−（２−ヒドロキシ−５−アセチルベンジリデン）ペンタン−２，４−ジオン；
エチル−２−ヒドロキシ−４−（１Ｈ−イミダゾール−４−イル）−３−アセチル−４−オキソブタノアート；
４−エチル１−（２−（トリメチルシリル）エチル）−２−アセチルマレアート；
エチル−４−シクロヘキシル−４−オキソ−３−アセチル−ブト−２−エノアート；
エチル３−（（トリメチルシリル）メチルカルバモイル）−４−オキソペント−２−エノアート；
エチル−４−（４−メチルシクロヘキシル）−４−オキソ−３−アセチル−ブト−２−エノアート；
１−（２−（ジメチルアミノ）エチル）  ４−エチル２−アセチルマレアート；
ベンジル３−アセチル−４−オキソペント−２−エノアート；および
４−アセチル−９−メチルデカ−３，８−ジエン−２，５−ジオン。
【請求項４】
悪臭中和剤として請求項１〜３のいずれかに記載の式１の化合物を含む消費者製品。
【請求項５】
悪臭中和効果を基質に与える方法であって、該基質を請求項４に記載の消費者製品に接触させることを含む前記方法。
【請求項６】
下記を含む、消費者製品を空間に分散せしめる方法：
(a) 消費者製品に式１の化合物を導入すること；および
(b) 有効量の前記消費者製品を空間に分散せしめること。
【請求項７】
下記からなる群から選択される化合物：３−アセチル−２−ヒドロキシ−４−オキソ−ペンタン酸エチルエステル；２−アセチル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ジエチルエステル；２−ベンゾイル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ジエチルエステル；２−アセチル−３−ヒドロキシ−コハク酸  ４−エチルエステル  １−（２−メトキシ−エチル）  エステル；３−ベンゾイル−２−エトキシ−４−オキソ−ペンタン酸エチルエステル；２−ブチリル−３−エトキシ−コハク酸  ジエチルエステル；２−ベンゾイル−３−エトキシ−コハク酸  ジエチルエステル；２−ベンゾイル−デク−２−エン酸エチルエステル；２−アセチル−５，９−ジメチル−デカ−２，８−ジエン酸エチルエステル；２−アセチル−デク−２−エン酸  ２−（２−メトキシ−エトキシ）−エチルエステル；１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−メトキシ−フェニル）−２−オクチリデン−プロパン−１，３−ジオン；２−オクチリデン−マロン酸ジベンジルエステル；２−カルバモイル−デク−２−エン酸メチルエステル；２−ブチリル−ブト−２−エン二酸ジエチルエステル；２−アセチル−ブト−２−エン二酸１−ベンジルエステル  ４−エチルエステル；２−アセチル−ブト−２−エン二酸４−エチルエステル  １−（２−メトキシ−エチル）  エステル；３−カルバモイル−４−オキソ−ペント−２−エン酸エチルエステル；２−（２，２−ジメチル−プロピオニル）−ブト−２−エン二酸４−エチルエステル  １−メチルエステル；２−ペント−４−イノイル−ブト−２−エン二酸４−エチルエステル  １−メチルエステル；４−エチル１−（２−（トリメチルシリル）エチル）−２−アセチルマレアート；エチル−４−シクロヘキシル−４−オキソ−３−アセチル−ブト−２−エノアート；エチル３−（（トリメチルシリル）メチルカルバモイル）−４−オキソペント−２−エノアート；エチル−４−（４−メチルシクロヘキシル）−４−オキソ−３−アセチル−ブト−２−エノアート；および１−（２−（ジメチルアミノ）エチル）  ４−エチル２−アセチルマレアート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
特定の態様において、式1bの化合物は以下 からなる群から選択される：2-ベンゾイル-デク-2-エン酸エチルエステル； 2-アセチル-5,9-ジメチル-デカ-2,8-ジエン酸エチルエステル； 2-アセチル-デク-2-エン酸 2-(2-メトキシ-エトキシ)-エチルエステル； 1-(4-tert-ブチル-フェニル)-3-(4-メトキシ-フェニル)-2-オクチリデン-プロパン-1,3-ジオン； 2-オクチリデン-マロン酸ジベンジルエステル； 2-カルバモイル-デク-2-エン酸メチルエステル； 2-ブチリル-ブト-2-エン二酸ジエチルエステル； 2-アセチル-ブト-2-エン二酸1-ベンジルエステル 4-エチルエステル； 2-アセチル-ブト-2-エン二酸4-エチルエステル 1-(2-メトキシ-エチル) エステル； 3-カルバモイル-4-オキソ-ペント-2-エン酸エチルエステル； 2-(2,2-ジメチル-プロピオニル)-ブト-2-エン二酸4-エチルエステル 1-メチルエステル； 2-ペント-4-イノイル-ブト-2-エン二酸4-エチルエステル 1-メチルエステル； 4-エチル1-(2-(トリメチルシリル)エチル)-2-アセチルマレアート； エチル-4-シクロヘキシル-4-オキソ-3-アセチル-ブト-2-エノアート； エチル3-((トリメチルシリル)メチルカルバモイル)-4-オキソペント-2-エノアート； エチル-4-(4-メチルシクロヘキシル)-4-オキソ-3-アセチル-ブト-2-エノアート； および
1-(2-(ジメチルアミノ)エチル) 4-エチル2-アセチルマレアート。