【手続補正書】
【提出日】平成21年3月27日(2009.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
濃縮組成物の製造方法であって、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン２カルボン酸異性体、フタル酸、２，５−ジフェニルテレフタル酸、ｐ−トルイル酸、安息香酸、トリメリット酸、及びシクロヘキサン２カルボン酸異性体から成る群から選ばれる少なくとも１のカルボン酸を含むカルボン酸組成物を濃縮供給と接触させて、前記濃縮組成物を製造するステップを含み；ここで、前記濃縮供給物が、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ベンゼントリカルボン酸異性体、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸異性体、ヒドロキシメチル安息香酸異性体、ジカルボキシビフェニル異性体、トリカルボキシビフェニル異性体、ジカルボキシスチルベン異性体、トリカルボキシスチルベン異性体、ジカルボキシベンゾフェノン異性体、トリカルボキシベンゾフェノン異性体、ジカルボキシベンジル異性体、ホルム−アセト−ヒドロキシ安息香酸異性体、アセト−ヒドロキシメチル安息香酸異性体、α−ブロモ−トルイル酸異性体、ブロモ−安息香酸、ブロモ−酢酸、トルアルデヒド異性体、フタルアルデヒド異性体、置換フルオレン異性体、置換ジフェニルメタン異性体、置換ジフェニルエタン異性体、置換ナフタレン異性体、シクロヘキサンカルボン酸、シクロへキサン２カルボン酸異性体、その他の飽和芳香族異性体、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール異性体、ブタンジオール異性体、ポリオール、シクロへキサンジメタノール異性体、ネオペンチルグリコール、２，２’，４，４’−テトラメチル−シクロブタンジメタノール、イソフタル酸、フタル酸、ヒドロキシ安息香酸異性体、ヒドロキシメチル安息香酸異性体、２，５−ジフェニル−テレフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸異性体、ナフタレン２カルボン酸異性体、リン酸、亜リン酸、ホスフィット、トナー染料、顔料、着色料、再加熱剤、酸化鉄、窒化チタン、ＩＲ吸収染料、ＵＶ吸収染料、多分散改質剤、抗酸化剤、熱安定化剤、熱酸化安定化剤、カップリング又は鎖延長剤、末端キャッピング剤、テレケリック改質剤、金属配位スルホイソフタル酸、還元剤、バッファー、帯電防止剤、スリップ又は抗ブロック剤、核形成剤、２酸化チタン、増量剤／乳白剤、抗曇剤、光学増白剤、及びそれらの組合せから成る群から選ばれる少なくとも１の化合物を含み；そして前記化合物の内の少なくとも１が濃縮される、前記濃縮組成物の製造方法。
【請求項２】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも１０ｐｐｍｗ濃縮される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５ｗｔ％濃縮される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５０ｗｔ％濃縮される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記化合物の内の少なくとも３が濃縮される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
濃縮組成物の製造方法であって、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン２カルボン酸異性体、フタル酸、２，５−ジフェニルテレフタル酸、ｐ−トルイル酸、安息香酸、トリメリット酸、及びシクロヘキサン２カルボン酸異性体から成る群から選ばれる少なくとも１のカルボン酸を含むカルボン酸組成物を濃縮供給物と接触させて、前記濃縮組成物を製造するステップを含み；ここで、前記濃縮供給物が、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール異性体、ブタンジオール異性体、ポリオール、シクロへキサンジメタノール異性体、ネオペンチルグリコール、２，２’，４，４’−テトラメチル−シクロブタンジメタノール、イソフタル酸、フタル酸、ヒドロキシ安息香酸異性体、ヒドロキシメチル安息香酸異性体、２，５−ジフェニル−テレフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸異性体、ナフタレン２カルボン酸異性体、リン酸、亜リン酸、ホスフィット、染料、顔料、着色料、再加熱剤、酸化鉄、窒化チタン、ＩＲ吸収染料、ＵＶ吸収染料、多分散改質剤、抗酸化剤、熱安定化剤、熱酸化安定化剤、カップリング又は鎖延長剤、末端キャッピング剤、テレケリック改質剤、金属配位スルホイソフタル酸、還元剤、バッファー、帯電防止剤、スリップ又は抗ブロック剤、酸素又は２酸化炭素に改良されたバリアを導く化合物、核形成剤、２酸化チタン、増量剤／乳白剤、抗曇剤、光学増白剤、及びそれらの組合せから成る群から選ばれる少なくとも１の化合物を含み；そして前記化合物の内の少なくとも１が濃縮される、前記濃縮組成物の製造方法。
【請求項７】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも１０ｐｐｍｗ濃縮される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５ｗｔ％濃縮される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５０ｗｔ％濃縮される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記化合物の内の少なくとも３が濃縮される、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
濃縮組成物の製造方法であって、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン２カルボン酸異性体、フタル酸、２，５−ジフェニルテレフタル酸、ｐ−トルイル酸、安息香酸、トリメリット酸、及びシクロヘキサン２カルボン酸異性体から成る群から選ばれる少なくとも１のカルボン酸を含むカルボン酸組成物を濃縮供給物と接触させて、前記濃縮組成物を製造するステップを含み；ここで、前記濃縮供給物が、リン酸、亜リン酸、ホスフィット、染料、特にトナー染料、顔料、着色料、再加熱剤、酸化鉄、窒化チタン、ＩＲ吸収染料、ＵＶ吸収染料、多分散改質剤、抗酸化剤、熱安定化剤、熱酸化安定化剤、カップリング又は鎖延長剤、末端キャッピング剤、テレケリック改質剤、金属配位スルホイソフタル酸、還元剤、バッファー、帯電防止剤、スリップ又は抗ブロック剤、酸素又は２酸化炭素に改良されたバリアを導く化合物、核形成剤、２酸化チタン、増量剤／乳白剤、抗曇剤、光学増白剤、及びそれらの組合せから成る群から選ばれる少なくとも１の化合物を含み；そして少なくとも１の化合物が濃縮される、前記濃縮組成物の製造方法。
【請求項１２】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも１０ｐｐｍｗ濃縮される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５ｗｔ％濃縮される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５０ｗｔ％濃縮される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記化合物の内の少なくとも３が濃縮される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
濃縮組成物の製造方法であって、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン２カルボン酸異性体、フタル酸、２，５−ジフェニルテレフタル酸、ｐ−トルイル酸、安息香酸、トリメリット酸、及びシクロヘキサン２カルボン酸異性体から成る群から選ばれる少なくとも１のカルボン酸を含むカルボン酸組成物を濃縮供給物と接触させて、前記濃縮組成物を製造するステップを含み；ここで、前記濃縮供給物が、置換フルオレン異性体、置換ジフェニルメタン異性体、置換ジフェニルエタン異性体、置換ナフタレン異性体、シクロヘキサンカルボン酸、シクロへキサン２カルボン酸異性体、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール異性体、ブタンジオール異性体、ポリオール、シクロへキサンジメタノール異性体、ネオペンチルグリコール、２，２’，４，４’−テトラメチル−シクロブタンジメタノール、イソフタル酸、フタル酸、ヒドロキシ安息香酸異性体、ヒドロキシメチル安息香酸異性体、２，５−ジフェニル−テレフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸異性体、ナフタレン２カルボン酸異性体、及び２カルボン酸から成る群から選ばれる少なくとも１の化合物を含み；そして少なくとも１の化合物が濃縮される、前記濃縮組成物の製造方法。
【請求項１７】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも１０ｐｐｍｗ濃縮される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５ｗｔ％濃縮される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記化合物の内の少なくとも１が少なくとも５０ｗｔ％濃縮される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記化合物の内の少なくとも３が濃縮される、請求項１６に記載の方法。