【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年1月18日(2011.1.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルを保持するテストエレメント（１）の分析領域（２）が、テストエレメント容器（１３）中の分析ユニット（１０）に対する分析位置中に位置決めされているかどうかをモニタリングする、テストエレメント容器（１３）および分析ユニット（１０）を持っている分析システム（９）のテストエレメント（１）上でのサンプル分析方法であって、
少なくとも１つの光源（１１、１７）からの光で前記分析領域（２）を照射する工程と、前記分析領域（２）で散乱されたまたは反射された光を検出器（１２）により検出し、検出信号を得る工程と、
前記テストエレメント（１）と前記検出器（１２）のあいだに配置された透光性領域（１４）を、光透明領域（１４）および光不透明領域（１６）を持つ区切りエレメント（１５）によって区切りを行い、前記テストエレメント（１）がテストエレメント容器（１３）中のＺ方向で不正な位置に配置された場合、テストエレメント（１）の分析領域（２２）において散乱されまたは反射された光が、前記光不透明領域（１６）上で原則的に衝突しかつ前記検出器（１２）に到達しないように、前記区切りエレメント（１５）が前記光源および前記検出器に対して位置決めされる工程と、
前記検出信号を、評価ユニットにより評価する工程と、
少なくとも１つの所定の制限値であって、当該制限値に達しない場合は、Ｚ方向が不正な位置であると同定される制限値と、前記検出信号とを比較する工程と、
を有していることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記制限値は、テストエレメント（１）の前記分析領域（２）において散乱されまたは広く反射される光の相対的反射率に対応して、あらかじめ定められることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記テストエレメント容器（１３）中での分析位置に位置決めされたテストエレメント（１）上のサンプル分析は、
少なくとも１つの光源（１１、１７、１８）からの光で前記分析領域（２）を照射する工程と、
前記分析領域（２）で散乱されたまたは反射された光を、検出信号を得るための検出器（１２）により検出する工程と、
分析結果を得るために、前記検出信号を、評価ユニットにより評価する工程とからなることを特徴とする請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
サンプル分析が、
ａ）テストエレメント（１）の分析領域（２）が、前記テストエレメント容器（１３）中での分析位置に位置決めされているかどうかをモニタリングする工程と、
ｂ）前記分析領域（２）中での光度測定により検出可能な変化を得るために、サンプルを前記分析領域（２）に接触させる工程と、
ｃ）前記分析領域（２）の第１ゾーン（４）を照射するために、前記分析ユニット（１０）の第１分析光源（１８）の作動を行いまた前記分析領域（２）により散乱されるまたは反射される光を、第１分析信号を得るために検出する工程と、
ｄ）第１ゾーン（４）に対して相殺するように配置される前記分析領域（２）の第２ゾーン（５）を照射するために、前記分析ユニット（１０）の第２分析光源（１８）を作動させまた前記分析領域（２）により散乱されるまたは反射される光を、第２分析信号を得るために検出する工程と、
ｅ）比較結果を得るための評価ユニットにより、第１分析信号および第２分析信号を比較し、また第１分析信号または第２分析信号の評価によりサンプル中に含まれる検体濃度を求めるために、評価結果に基づいて、第１分析信号または第２分析信号を選択する工程を含むことを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
ｉ）前記テストエレメント（１）のサンプル適用位置（８）にサンプルを適用する工程と、
ｉｉ）前記分析領域（２）の第１部分領域（６）を照射するために、少なくとも１つの分析光源（１８）を作動させまた検出信号を得るための検出器（１２）により、前記分析領域（２）により散乱されるまたは反射される光を検出する工程と、
ｉｉｉ）前記分析領域（２）の第２部分領域（７）を照射するために、モニタリング光源（１７）の作動を行いまた前記分析領域（２）により散乱されるまたは反射される光を、第２検出信号を得るための検出器（１２）により検出する工程と、
ｉｖ）第２検出信号から第１検出信号を引くことにより求められる差の値が、所定の第１の差の値を越えている場合に、サンプルの投与が不充分であると同定するために、評価ユニットにより、前記第２検出信号から第１検出信号を引くことにより求められる差の値と、前記所定の第１の差の値とを比較する工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ｉ）前記テストエレメント（１）のサンプル適用位置（８）にサンプルを適用する工程と、
ｉｉ）前記分析領域（２）の第１部分領域（６）を照射するために、少なくとも１つの分析光源（１８）を作動させまた検出信号を得るための検出器（１２）により、前記分析領域（２）により散乱されるまたは反射される光を検出する工程と、
ｉｉｉ）前記分析領域（２）の第２部分領域（７）を照射するために、モニタリング光源（１７）の作動を行いまた前記分析領域（２）により散乱されるまたは反射される光を、第２検出信号を得るための検出器（１２）により検出する工程と、
ｖ）第２検出信号から第１検出信号を引くことにより求められる差の値が、所定の第２の差の値に達しない場合に、前記テストエレメント容器（１３）中のＺ方向の前記分析領域（２）が不正な位置であると同定するために、評価ユニットにより、第２検出信号から第１検出信号を引くことにより求められる差の値と、所定の第１の差の値とを比較し、
前記区切りエレメント（１５）は、Ｚ方向で不正な位置に配置される分析領域（２２）において散乱されまたは反射されたモニタリング光源（１７）からの光が、前記区切りエレメント（１５）の前記光不透明領域（１６）上で原則的に衝突しかつＺ方向で不正な位置に配置される分析領域（２２）において散乱されまたは反射された分析光源（１８）からの光が、前記透光領域（１４）上で原則的に衝突するように、位置決めされることを特徴とする比較工程とを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記分析領域（２）の部分領域（７）を照射するために、光源（１７）を作動させまた前記分析領域（２）中のサンプルの存在を同定するために、前記部分領域（７）により散乱されまたは反射される光の変化を、検出器（１２）によって検出することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
分析ユニット（１０）と、サンプルを保持する分析領域（２）を有するテストエレメントとを備えた分析システムであって、
前記分析ユニットが、前記テストエレメントの分析領域が分析ユニットに対する分析位置中に位置決めするためのテストエレメント容器を備え、
前記分析システムがさらに、光を用いて前記分析領域（２）を照射するための少なくとも１つの光源（１１、１７）と、検出信号を得るために前記分析領域（２）で散乱されたまたは反射された光を検出するための検出器（１２）を備える、テストエレメント（１）の分析領域（２）が、テストエレメント容器（１３）中の分析ユニット（１０）に対する分析位置中に置かれているかどうかをモニタリングするための、モニタリングユニット（１６）、
光透明領域（１４）および光不透明領域（１６）を有しており、前記テストエレメント容器（１３）中に配置されたテストエレメント（１）と前記検出器（１２）のあいだに配置され、前記テストエレメント容器（１３）中のＺ方向で不正な位置に配置されるテストエレメント（１）の分析領域（２２）において散乱されまたは反射された光が、前記光不透明領域（１６）上で原則的に衝突しかつ前記検出器（１２）に到達しないように、前記光源（１１、１７）および前記検出器（１２）に対して位置づけられる区切りエレメント（１５）、および、
少なくとも１つの所定の制限値であって、当該制限値に達しない場合は、Ｚ方向の分析領域が不正な位置であると同定する制限値と、前期検出信号とを比較する比較ユニットを含んでいることを特徴とする分析システム。
【請求項９】
前記テストエレメント容器（１３）中でテストエレメント（１）の分析領域（２）の第１部分領域（６）を照射するための分析光源（１８）と、テストエレメント（１）の分析領域（２）の第２部分領域（７）を照射するためのモニタリング光源（１７）と、それぞれ第１検出信号および第２検出信号を得るために、分析光源（１８）とモニタリング光源（１７）から、分析領域（２）により散乱されまたは反射される光を検出するための少なくとも１つの検出器（１２）を含み、
前記区切りエレメント（１５）は、Ｚ方向で不正な位置に配置される分析領域（２２）において散乱されまたは反射されたモニタリング光源（１７）からの光が、区切りエレメント（１５）の前記光不透明領域（１６）上で原則的に衝突しかつＺ方向で不正な位置に配置される分析領域（２２）において散乱されまたは反射された分析光源（１８）からの光が、区切りエレメント（１５）の透光領域（１４）上で原則的に衝突するように、位置決めされ、前記評価ユニットは、第２検出信号から第１検出信号を引くことにより求められる差の値が、所定の差の値を達成しない場合には、前記テストエレメント容器（１３）中のＺ方向で、分析領域（２２）が不正な位置であると同定するために、前記第２検出信号から第１検出信号を引くことにより求められる差の値と、前記所定の第１の差の値とを比較する比較ユニットを含んでいることを特徴とする請求項８記載の分析システム。