【手続補正書】
【提出日】平成23年6月10日(2011.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する場合の露光パラメータの値を決定する方法であって、
前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、
前記露光パラメータの値を設定するステップと、
該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、
前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、
前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて、前記複数種類のパターンの像のうちの前記ずれの最大値が、最小となる場合の露光パラメータの値を決定する決定ステップと、
を含むことを特徴とする決定方法。
【請求項２】
マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する場合の露光パラメータの値を決定する方法であって、
前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、
前記露光パラメータの値を設定するステップと、
該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、
前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、
前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて前記露光パラメータの値を決定する決定ステップと、
を含み、
前記ずれの許容値は、前記複数のパターンのそれぞれで異なることを特徴とする決定方法。
【請求項３】
前記マスクの複数種類のパターンの像として、前記基板に塗布される感光剤に形成されるレジスト像を用いることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の決定方法。
【請求項４】
前記露光パラメータは、前記マスクの照明条件、前記投影光学系の開口数、及び、前記投影光学系の収差の少なくとも１つであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の決定方法。
【請求項５】
前記ずれが許容値内となる前記露光量および前記デフォーカス量の範囲が最大である露光パラメータの値を決定することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の決定方法。
【請求項６】
マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する露光方法であって、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の決定方法を用いて決定された露光パラメータの値を用いて露光条件を設定し、前記設定された露光条件で基板を露光する露光方法。
【請求項７】
マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を転写して前記基板を基板に露光する場合の露光パラメータの値をコンピュータに決定させるためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、
前記露光パラメータの値を設定するステップと、
該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、
前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、
前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて、前記複数種類のパターンの像のうちの前記ずれの最大値が、最小となる場合の露光パラメータの値を決定する決定ステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項８】
マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する場合の露光パラメータの値をコンピュータに決定させるためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、
前記露光パラメータの値を設定するステップと、
該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、
前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、
前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて前記露光パラメータの値を決定する決定ステップと、
を実行させ、
前記ずれの許容値は、前記複数のパターンのそれぞれで異なることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第１の側面は、マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する場合の露光パラメータの値を決定する方法であって、前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、前記露光パラメータの値を設定するステップと、該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて、前記複数種類のパターンの像のうちの前記ずれの最大値が、最小となる場合の露光パラメータの値を決定する決定ステップと、を含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第２の側面は、マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する場合の露光パラメータの値を決定する方法であって、前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、前記露光パラメータの値を設定するステップと、該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて前記露光パラメータの値を決定する決定ステップと、を含み、前記ずれの許容値は、前記複数のパターンのそれぞれで異なることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第３の側面は、マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を転写して前記基板を基板に露光する場合の露光パラメータの値をコンピュータに決定させるためのプログラムであって、前記コンピュータに、前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、前記露光パラメータの値を設定するステップと、該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて、前記複数種類のパターンの像のうちの前記ずれの最大値が、最小となる場合の露光パラメータの値を決定する決定ステップと、を実行させることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の第４の側面は、マスクを照明し、投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板に転写して前記基板を露光する場合の露光パラメータの値をコンピュータに決定させるためのプログラムであって、前記コンピュータに、前記マスクのパターンとして複数種類のパターンを設定するステップと、前記露光パラメータの値を設定するステップと、該設定された露光パラメータの値を用いて、複数の露光量及び複数のデフォーカス量の組み合わせのそれぞれに関して前記投影光学系の像面側に形成される前記複数種類のパターンの像を計算し、該計算された像の輪郭と前記像の目標輪郭とのずれを計算する計算ステップと、前記露光パラメータの値を変更して、変更後の前記露光パラメータの値を用いて前記計算ステップを繰り返す繰返しステップと、前記計算ステップおよび前記繰返しステップにおける計算結果を用いて前記露光パラメータの値を決定する決定ステップと、を実行させ、前記ずれの許容値は、前記複数のパターンのそれぞれで異なることを特徴とする。