Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月6日(2009.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｖバンクフィルタを試験するための方法であって、
Ｖバンクフィルタの濾過媒体のバンク間に、複数のサンプルポートを有するプローブを挿入する工程、及び
前記プローブを前記フィルタの前記バンクの１つに沿って移動させる工程を含む、Ｖバンクフィルタを試験するための方法。
【請求項２】
前記移動させる工程は、走査の際に、前記プローブを１秒当たり１〜２インチ（１秒当たり２５．４〜５０．８ミリメートル）の速度で前記フィルタにわたって移動させる工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２つの対向する媒体バンクを同時にサンプリングする工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記フィルタを少なくとも約１２μｇ／ｌの濃度を有するエアロゾルで殺菌する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
複数の孔から前記プローブにサンプルを引き込むことをさらに含み、試験機器から最も遠い孔の開口部が該試験機器に最も近い孔の開口部よりも大きい、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記挿入する工程は、前記プローブから延びるガイドが前記フィルタと係合するまで前記プローブを前記フィルタに移動させる工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記プローブの第１の出口ポートを介して前記濾過媒体の前記バンクのうち第１のバンクから第１のサンプルを供給する工程、及び
前記サンプルを混合することなく、前記プローブの第２の出口ポートを介して前記濾過媒体の前記バンクのうち第２のバンクから第２のサンプルを供給する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月13日(2009.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染防止装置内に汚染防止要素を実装する多層マットであって、
ａ） 暴露された主表面、長さ、及び対向する横方向縁部により画定された幅を有する少なくとも１つの第１層であって、前記第１層の長さが前記第１層の前記幅より大きく、そして、前記第１層の少なくとも１つの横方向縁部が、 （i）前記汚染防止装置を通過する排ガスの影響により生じる機械的侵食力と、 （ii）前記汚染防止装置を通過する排ガスに伴う高温、との少なくとも１つへの暴露からの保護を必要としており、前記多層マットが汚染防止装置内に汚染防止要素を実装する際に、前記排ガスが前記第１層の少なくとも１つの横方向縁部に接触する、第１層と
ｂ） 長さ、及び前記第１層の前記幅より大きい、対向する横方向縁部により画定された幅を有する少なくとも１つの第２層であって、前記第２層の少なくとも１つの横方向縁部が、（i）ａ）の（i）と同様の排ガスの影響により生じる機械的侵食力と、 （ii）ａ）の（ii）と同様の排ガスに伴う高温、との少なくとも１つへの曝露に耐えるよう十分に弾力的で耐久力がある、第２層とを備え、
前記第１層及び前記第２層は、一方が他方の上部に積み重ねられており、前記多層マットが前記汚染防止装置内に実装される際、前記第２層の前記少なくとも１つの横方向縁部が、前記第１層の前記少なくとも１つの横方向縁部を、前記汚染防止装置を通過する排気ガスへの暴露から遮蔽するように、前記第１層の前記少なくとも１つの横方向縁部が前記第２層の前記対向する横方向縁部間に位置決めされている、多層マット。
【請求項２】
前記少なくとも１つの第１層及び前記少なくとも１つの第２層のそれぞれが、非膨張性層又は膨張性層を含む、請求項１に記載の多層マット。
【請求項３】
前記少なくとも１つの第１層が非膨張性層であって、前記少なくとも１つの第２層が膨張性層であり、又は、前記少なくとも１つの第１層が膨張性層であって、前記少なくとも１つの第２層が非膨張性層である、請求項１又は２に記載の多層マット。
【請求項４】
前記少なくとも１つの第１層及び前記少なくとも１つの第２層が、前記少なくとも１つの第１層の両横方向縁部が前記少なくとも１つの第２層の前記横方向縁部間内に位置決めされるように互いに関連して配置される、請求項１から３のいずれか一項に記載の多層マット。
【請求項５】
前記少なくとも１つの第１層の少なくとも１つの横方向縁部のそばに位置決めされる１つ以上の層のストリップを更に含み、各ストリップと前記第１層を組合せた幅が、合わさって前記第２層の前記幅に実質的に等しいかそれ未満である、請求項１から４のいずれか一項に記載の多層マット。
【請求項６】
汚染防止装置であって、
内壁を有するハウジングと、
前記ハウジング間に間隙を形成するように前記ハウジング内に配置される汚染防止要素と、
請求項１から５のいずれか一項に記載のような多層マット、とを備え、
前記マットが、前記汚染防止要素を前記ハウジング内に実装するよう前記間隙内に配置される、汚染防止装置。
【請求項７】
前記ハウジングの前記内壁の部分が凹部を画定し、前記マットが前記第１層を前記凹部内に受容するように位置決めされ、前記第１層の１つの横方向縁部が前記汚染防止装置を通過する排気ガスに暴露される、請求項６に記載の汚染防止装置。
【請求項８】
前記第２層が前記汚染防止要素に隣接して配置され、前記第１層が前記ハウジングの前記内壁に隣接して配置される、請求項６又は７に記載の汚染防止装置。
【請求項９】
前記装置が、触媒コンバータ又は排気系フィルタである、請求項６から８のいずれか一項に記載の汚染防止装置。
【請求項１０】
汚染防止装置であって、
排気ガスが前記汚染防止装置に流れ込みそして流れ出る入口及び出口、並びに内壁を有するハウジングと、
前記ハウジング間に間隙を形成するように前記ハウジング内に配置される汚染防止要素と、
前記汚染防止要素を前記ハウジング内に実装するように前記間隙内に配置される多層マットを備え、前記マットが、
対向する第１の横方向縁部により画定された第１の幅と、前記ハウジングの前記内壁又は前記汚染防止要素のいずれかに面する主要面を有する少なくとも１つの第１層であって、前記第１層の少なくとも１つの第１の横方向縁部が、 （i）前記少なくとも１つの第１の横方向縁部上で前記排ガスの影響により生じる機械的侵食力と、 （ii）前記排ガスに伴う高温、との少なくとも１つへの暴露からの保護を必要としている、第１層と
対向する第２の横方向縁部により画定された第２の幅を有する少なくとも１つの第２層であって、前記第２の幅が前記第１の幅より大きく、前記第２層の少なくとも１つの第２の横方向縁部が、前記少なくとも１つの第２の横方向縁部上で前記排ガスの影響により生じる機械的侵食力と、 （ii）前記排ガスに伴う高温、との少なくとも１つへの曝露に耐えるよう十分に弾力的で耐久力がある、第２層とを備え、
前記第１層及び前記第２層は、一方が他方の上部に積み重ねられて、前記ハウジング内に配置されており、前記少なくとも１つの第２の横方向縁部に接触する前記汚染防止装置を排ガスが通過し、前記少なくとも１つの第２の横方向縁部が、前記少なくとも１つの第１の横方向縁部を、前記汚染防止装置を通過する前記排気ガスへの暴露から保護するように、前記少なくとも１つの第１の横方向縁部が前記第２層の前記対向する横方向縁部間に位置決めされている、汚染防止装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月27日(2009.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔装置に給電するための回路であって、
所定動作周波数で動作するインバータと、
前記遠隔装置に電力を供給するための、コンデンサとインダクターとを含むタンク回路と、
前記タンク回路に供給される電圧の位相を、前記タンク回路のコンデンサとインダクターとの間の電圧の位相と比較し、第１の位相比較を生成する位相比較器と、
前記第１の位相比較に応じて前記インバータを停止させる停止手段と、を備える給電回路。
【請求項２】
前記インバータは、第１のスイッチをさらに備える請求項１に記載の給電回路。
【請求項３】
前記インバータは、前記第１のスイッチに結合する駆動回路をさらに備える請求項２に記載の給電回路。
【請求項４】
前記インバータは、前記所定動作周波数で前記第１のスイッチを動作させるための発振器をさらに備える請求項３に記載の給電回路。
【請求項５】
前記遠隔装置からの予期される位相関係を受信するための受信器をさらに備え、
そして、前記停止手段は、前記第１の位相比較および前記遠隔装置のための前記予期される位相関係に対応して、前記インバータを停止させる請求項１に記載の給電回路。
【請求項６】
前記停止手段は、前記位相比較器が、前記インダクターに供給された電圧の位相と、前記タンク回路に供給された電圧の位相とが、所定量まで位相ずれしていることを示すときに、前記位相比較器からの出力に基づいて前記インバータを停止させる請求項１に記載の給電回路。
【請求項７】
第２のスイッチを備える請求項６に記載の給電回路。
【請求項８】
前記第１のスイッチ及び前記第２のスイッチが、直列で配置される前記請求項７に記載の給電回路。
【請求項９】
前記停止手段をマイクロプロセッサで行い、前記遠隔装置からの識別コードを受信する受信機をさらに備える給電回路において、
前記マイクロプロセッサは、前記識別コードを処理し、前記遠隔装置のために予期される位相関係をメモリから検索するためのメモリを有し、
前記マイクロプロセッサは、第２の位相比較を生成するために、前記予期される位相関係を前記位相比較器の前記第１の位相比較と比較し、そして前記第１の位相比較および前記第２の位相比較に応じて前記インバータを停止させる請求項１に記載の給電回路。
【請求項１０】
前記停止手段がアナログ回路である請求項８に記載の給電回路。
【請求項１１】
前記停止手段がデジタル回路である請求項８に記載の給電回路。
【請求項１２】
回路を動作させる方法は、
コンデンサとインダクターとを含むタンク回路に給電するために、インバータを第１の周波数で動作させるステップと、
前記インバータの第１の動作位相を決定するステップと、
前記タンク回路のコンデンサとインダクターとの間の電圧の第１の動作位相を決定するステップと、
第１の比較を生成するために、前記インバータの第１の動作位相を、前記タンク回路のコンデンサとインダクターとの間の電圧の第１の動作位相と比較するステップと、
前記第１の比較に対応して、インバータを停止させるステップを備える回路動作方法。
【請求項１３】
前記インバータは、発振器を含み、前記インバータを停止させるステップは、前記発振器を停止させることを含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記インバータを停止させるステップは、前記第１の比較をメモリ内に格納された値と比較することにより、前記インバータを停止させることを含む請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記停止に対応して、一定期間待機するステップと、
第２の周波数で、前記インバータを動作させるステップと、
前記インバータの第２の動作位相を決定するステップと、
前記タンク回路のコンデンサとインダクターとの間の電圧の第２の動作位相を決定するステップと、
第２の比較を生成するために、前記インバータの第２の動作位相を、前記タンク回路のコンデンサとインダクターとの間の電圧の第２の動作位相と比較するステップと、
前記第２の比較に対応して、前記インバータを停止させるステップをさらに備える請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の周波数が、前記第２の周波数と同一である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の周波数が、前記第２の周波数とは異なる請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月1日(2009.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記オブジェクトは人間であり、前記関心領域は結腸の内部を含み、
前記第１のパラメタ値は前記結腸に含まれる残留物質を示し、
前記表面は第１の視点からレンダリングされ、及び
前記方法は前記残留物質を示す第１のパラメタ値を持ち、前記レンダリングされた表面の背後に置かれる、前記ボリュームデータにおける位置を特定するステップを含む
方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
コンピュータにより実施される場合、
結腸の内部を示す表面をレンダリングするために、人間の内部の解剖学的部位を示すボリュームデータを使用するステップ、
残留排泄物を含んでいると疑われる前記レンダリングされた表面の領域を特定するステップ、及び
前記レンダリングされた表面の画像上に前記特定された領域を強調表示するステップ
を有する方法を前記コンピュータに実行させる命令を含んでいるコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月13日(2009.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ手術のために患者の眼を位置合わせするシステムであって、
レーザビームを発生するためのレーザ・ユニットと、
前記レーザ・ユニットに取り付けられるアラインメント装置と、
その中に前記アラインメント装置を受け入れるためのレセプタクルから形成される患者インターフェースと、
オリフィスを画定するクランプであって、前記クランプが前記患者インターフェースを前記オリフィス内に受け入れる第１の形状構成と前記クランプが前記患者インターフェースを前記クランプに固定保持するように前記患者インターフェース上に前記オリフィスを閉じる第２の形状構成との間で移動可能であるクランプと、
前記インターフェースが前記クランプによって保持されかつ前記アラインメント装置がレーザ手術のために前記患者インターフェースの前記レセプタクルに受け入れられるとき前記オリフィスを取り囲み、前記患者インターフェースを前記患者の眼に接して保持する前記クランプに取り付けられる吸引リングとを備える、システム。
【請求項２】
レーザ手術の間、前記レーザ・ユニットから所定の距離のところで湾曲したコンタクトレンズを前記患者の眼に接して位置合わせできるように、前記患者インターフェースに取り付けられる湾曲したコンタクトレンズをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
その上に前記レーザ手術が行われるべき標的部位を取り囲むように前記吸引リングを正しい位置で前記眼に接して保持するためにそれと共に吸引力を発生する前記吸引リングに連結される吸引手段をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記アラインメント装置が吸引チャンネルから形成され、前記システムが、前記患者インターフェースを前記アラインメント装置に接して保持するために吸引力を発生する前記吸引チャンネルと流体連通して連結される吸引手段をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）細胞に候補薬剤をインビトロで添加するステップであって、候補薬剤が有機化合物を含むステップ及び
ｂ）標的タンパク質のメタル化の状態を決定するステップ、
を含む前記標的タンパク質のメタル化における変化をインビトロでスクリーニングする方法。
【請求項２】
メタル化の状態が、タンパク質の生理活性アッセイにより決定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
タンパク質を精製し、そのタンパク質に関連する金属イオンの存在の有無を決定して、メタル化状態を決定することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
標的タンパク質が細胞表現型に関係し、メタル化の状態が前記細胞表現型を評価することにより決定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
細胞表現型が、蛍光活性化細胞分離法（ＦＡＣＳ）を用いて評価されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
候補薬剤のライブラリーを複数の細胞に添加することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
候補薬剤が標識化されていることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ａ）候補薬剤のライブラリーと標的経路タンパク質とを接触させるステップであって、候補薬剤が有機化合物を含むステップ、及び
ｂ）前記タンパク質の活性に対する前記薬剤の影響を決定するステップ、
を含む標的メタル化経路タンパク質のモジュレーションをインビトロでスクリーニングする方法。
【請求項９】
金属タンパク質への金属結合が減少するように、メタル化経路タンパク質と阻害剤とをインビトロで接触させることを含む、標的金属タンパク質のメタル化に関連するメタル化経路タンパク質を阻害する方法。
【請求項１０】
メタル化経路タンパク質が、メタロシャペロンタンパク質であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
メタル化経路タンパク質が、金属トランスポータータンパク質であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
メタル化経路タンパク質が、金属制御タンパク質であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
メタル化経路タンパク質の阻害剤を含む医薬組成物。
【請求項１４】
メタル化経路タンパク質が、メタロシャペロンタンパク質であることを特徴とする、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
メタル化経路タンパク質が、金属トランスポータータンパク質であることを特徴とする、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
メタル化経路タンパク質が、金属制御タンパク質であることを特徴とする、請求項１３に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月22日(2009.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の段階を含む、試験対象における1つまたは複数の結腸直腸病変を試験する方法：
（a）試験対象から単離されたおよび／または試験対象に由来する試料における少なくとも2つのバイオマーカーのそれぞれの1つまたは複数の産物レベルを表すデータを提供する段階であって、バイオマーカーが、BCNP1、CD163、CDA、MS4A1、BANK1、およびMGC20553からなる群より選択される遺伝子である、段階；ならびに
（b）（i）1つまたは複数の病変を有する参照集団の各対象におけるバイオマーカーのそれぞれの1つまたは複数の産物のレベルを表すデータセット、および
（ii）1つまたは複数の病変を有しない参照集団の各対象におけるバイオマーカーのそれぞれの1つまたは複数の産物レベルを表すデータセット
に基づく公式を該データに適用し、それによって試験対象が1つまたは複数の結腸直腸病変を有する確率の指標を提供する段階。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性成分として以下の組み合わせを混合してまたは別個に封入して含む、栄養補助食品：
a)  プロピオニルL-カルニチンまたはその薬理学的に許容される塩；
b)  コエンザイムQ10；
c)  リボフラビン；および
d)  パントテン酸。
【請求項２】
成分(a)が、L-カルニチン、アセチル-L-カルニチン、バレリル-L-カルニチン、イソバレリル-L-カルニチンおよびブチリル-L-カルニチンからなる群から選択されるカルニチンまたはそれらの薬理学的に許容される塩またはそれらの混合物をさらに含む、請求項１に記載の栄養補助食品。
【請求項３】
薬理学的に許容される塩が、以下からなる群から選択される、請求項１に記載の栄養補助食品：塩化物；臭化物；ヨウ化物；アスパラギン酸塩、酸アスパラギン酸塩；クエン酸塩、酸クエン酸塩；リン酸塩、酸リン酸塩；フマル酸塩、酸フマル酸塩；グリセロリン酸塩；グルコースリン酸塩；乳酸塩；マレイン酸塩、酸マレイン酸塩；粘液酸塩；オロト酸塩；シュウ酸塩、酸シュウ酸塩；硫酸塩、酸硫酸塩；酒石酸塩；トリクロロ酢酸塩；トリフルオロ酢酸塩およびメタンスルホン酸塩。
【請求項４】
少なくとも１つの以下の成分をさらに含む、請求項１に記載の栄養補助食品：
f)  バリン、ロイシン、イソロイシンからなる群から選択されるアミノ酸またはそれらの混合物；
g)  クレアチンおよびクレアチンリン酸からなる群から選択されるクレアチンまたはそれらの混合物。
【請求項５】
(a)：(b)：(c)：(d)の重量比が、10：0.04：0.08：0.4から1：4：4：20の範囲である、請求項１に記載の栄養補助食品。
【請求項６】
(a)：(b)：(c)：(d)の重量比が、10：2：2：2から1：1：1：5の範囲である、請求項５に記載の栄養補助食品。
【請求項７】
錠剤、トローチ剤、丸剤、カプセルまたは顆粒の形態である、請求項１に記載の栄養補助食品。
【請求項８】
以下を含む単位投与形態である、請求項７に記載の栄養補助食品：
【表１】
2009512430.tif 000001
【請求項９】
長期の激しい身体活動を維持する骨格筋の能力を増強するための、各活性成分が共に混合されてまたは別個に投与される、請求項１〜８のいずれかに記載の栄養補助食品。
【請求項１０】
エネルギーを供給し、骨格筋を増強するための、各活性成分が共に混合されてまたは別個に投与される、請求項１〜８のいずれかに記載の栄養補助食品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2009512425.tif 000001
式中、残基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ＸおよびＹは、以下のように選択される：
Ｒ１は、Ｈ、γ−Ｇｌｕ、α−Ｇｌｕ、β−Ａｓｐ、α−Ａｓｐ、β−Ａｌａ、α−Ａｌａ、α−Ｖａｌ、α−Ｌｅｕ、α−Ｉｌｅ、α−Ｍｅｔ、α−Ｐｒｏ、α−Ｐｈｅ、α−Ｔｒｐ、α−Ｓｅｒ、α−Ｔｈｒ、α−Ａｓｎ、α−Ｇｌｎ、α−Ｔｙｒ、α−Ｃｙｓ、α−Ｌｙｓ、α−Ａｒｇ、α−Ｈｉｓ、α−Ａｓｐ、α−Ｇｌｕ、γアミノ酪酸（ＧＡＢＡ）からなる群から選択されるペプチド結合を介して結合するアミノ酸、および４−ヒドロキシプロリン、ε−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルリジン、３−メチルヒスチジン、５−ヒドロキシリジン、Ｏ−ホスホセリン、γ−カルボキシグルタミン酸塩、ε−Ｎ−アセチルリジン、ω−Ｎ−メチルアルギニン、Ｎ−アセチルセリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアラニン、Ｎ−ホルミルメチオニンを含む稀なアミノ酸の群から選択される残基であり；
Ｒ２は、ＯＨ、−Ｏ−ＣＨ３、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３、−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２、−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）、および−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２を含む直鎖状または分枝状のＣ１〜Ｃ５アルコキシ残基、およびＧｌｙ、β−Ａｌａ、α−Ａｌａ、α−Ｖａｌ、α−Ｌｅｕ、α−Ｉｌｅ、α−Ｍｅｔ、α−Ｐｒｏ、α−Ｐｈｅ、α−Ｔｒｐ、α−Ｓｅｒ、α−Ｔｈｒ、α−Ａｓｎ、α−Ｇｌｎ、α−Ｔｙｒ、α−Ｃｙｓ、α−Ｌｙｓ、α−Ａｒｇ、α−Ｈｉｓ、α−Ａｓｐ、α−Ｇｌｕ、γアミノ酪酸（ＧＡＢＡ）からなる群から選択されるペプチド結合を介して結合するアミノ酸、および４−ヒドロキシプロリン、ε−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルリジン、３−メチルヒスチジン、５−ヒドロキシリジン、Ｏ−ホスホセリン、γ−カルボキシグルタミン酸塩、ε−Ｎ−アセチルリジン、ω−Ｎ−メチルアルギニン、Ｎ−アセチルセリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアラニン、Ｎ−ホルミルメチオニンを含む稀なアミノ酸からなる群から選択される残基であり；
Ｒ３は、−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２−から選択される残基であり；
Ｘは、−Ｓ−または−Ｏ−から選択される残基であり；および
Ｙは、
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−、−Ｃ（ＣＯＯＨ）２−、−Ｃ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）２−、−Ｃ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）（ＣＯＯＨ）−、−Ｃ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）（ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−、−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−、−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、
−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＯＯＨ）２−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）２−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）（ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）（ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ２ＣＯＯＨ）−、
−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＯＯＨ）２−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）２−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）（ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）（ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＨ）２）−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ２ＣＯＯＨ）−ＣＨ２−からなる群から選択される残基である、
で表される少なくとも１つの化合物またはその塩の、フレーバーまたは塩味増強剤としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月26日(2009.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘導通路を規定する誘導管であって、手術器具は該誘導通路を通って体内部位に配備され得る、誘導管と、
操縦アセンブリであって、該操縦アセンブリは、遠位端部位を曲げるための偏向させる力を加えるために該誘導管の該遠位端部位に結合された偏向エレメントと、アクチュエータと、該アクチュエータの動作に応答して該偏向させる力を加えるために該偏向エレメントに該アクチュエータを結合するリンケージシステムとを備え、該リンケージシステムは、ラックと該ラックに結合されたギアトレインとを含み、該リンケージシステムは、該偏向させる力を該偏向エレメントに加えるために、該アクチュエータの回転を該ラックの直線の動きに、そして該ギアトレインの回転に転換するように動作可能である、操縦アセンブリと
を備えている、誘導デバイス。
【請求項２】
前記誘導管に結合されたハンドルをさらに含み、前記リンケージシステムはハンドル内に担持される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
請求項１に記載の誘導デバイスと、
１つ以上のファスナーを組織に適用する手術器具と
を備えている、システム。
【請求項４】
誘導通路を規定する誘導管であって、手術器具は該誘導通路を通って体内部位に配備され得る、誘導管と、
操縦アセンブリであって、該操縦アセンブリは、遠位端部位を曲げるための偏向させる力を加えるために該誘導管の該遠位端部位に結合された偏向エレメントと、アクチュエータと、該アクチュエータの動作に応答して該偏向させる力を加えるために該偏向エレメントに該アクチュエータを結合するリンケージシステムとを備え、該リンケージシステムは、スライダと該スライダに結合された旋回レバーアームとを含み、該リンケージシステムは、該偏向させる力を該偏向エレメントに加えるために、該アクチュエータの回転を該スライダの直線の動きに、そして該レバーアームの旋回の動きに転換するように動作可能である、操縦アセンブリと
を備えている、誘導デバイス。
【請求項５】
前記誘導管に結合されたハンドルをさらに含み、前記リンケージシステムはハンドル内に担持される、請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
請求項４に記載の誘導デバイスと、
１つ以上のファスナーを組織に適用する手術器具と
を備えている、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月6日(2009.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析補助手段において、
ｉ）ランセットを含んでおり、該ランセットは、
ランセット針を含んでおり、該ランセット針は先端部と、
前記ランセット針を少なくとも前記先端部の領域で全面的に取り囲む防護キャップとを備えており、
前記ランセット針は前記防護キャップに対して相対的に変位可能であり、前記ランセットは、前記ランセットが引き戻されたときに前記防護キャップを一緒に引き戻すように前記防護キャップと協働作用し、
ｉｉ）試薬系を含む室を備えたテスト部材を含んでおり、前記室は前記防護キャップで閉止された開口部を有している分析補助手段。
【請求項２】
前記防護キャップは前記針先端部を滅菌状態に取り囲むことを特徴とする請求項１記載の分析補助手段。
【請求項３】
前記分析補助手段は試料液移送をするための手段を有し、当該試料液移送をするための前記手段は毛管間隙、毛管通路、吸引能力のある材料からなる芯材、または吸引能力のある材料からなるウェブであることを特徴とする請求項１または２記載の分析補助手段。
【請求項４】
前記補助手段は、前記ランセットおよび前記補助手段に対して相対的に変位可能なシール材によって密閉された第２の開口部を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の分析補助手段。
【請求項５】
前記防護キャップは前記両方の開口部を密閉することを特徴とする請求項４記載の分析補助手段。
【請求項６】
分析補助手段を製造する方法において、
ランセット針の先端部が防護キャップの中にあるランセットを準備するステップと、
前記ランセットが引き戻されるときに前記防護キャップを一緒に引き戻す捕捉装置を前記ランセットに準備するステップと、
試薬系と室の開口部とを含む、室を備えたテスト部材を準備するステップと、
前記ランセットを滅菌するステップと、
前記ランセットを前記室へ挿入し、前記防護キャップが前記室の前記開口部を閉止するようにするステップとを有している方法。
【請求項７】
分析補助手段を備える分析システムにおいて、
ランセットを含んでおり、該ランセットは、
ランセット針を含んでおり、該ランセット針は先端部と、
前記ランセット針を少なくとも前記先端部の領域で全面的に取り囲む防護キャップとを備えており、
前記ランセットが引き戻されるときに前記防護キャップを一緒に引き戻す、ランセットにある捕捉装置または表面構造と、
試薬変化が起きたときに生じる信号を検知する検出ユニットと、
前記信号に基づいて分析物の濃度を判定する評価装置とを含んでいる分析システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月8日(2009.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
履物の中で中敷きとして使用され、足の足底部に合わせて解剖学的に成形された足矯正具であって、前記足矯正具は、銅含有素材のみから作られている足矯正具。
【請求項２】
踵を受け止めるよう成形された部分を含む、請求項１に記載の足矯正具。
【請求項３】
カップ状の踵部分を含む、請求項２に記載の足矯正具。
【請求項４】
土踏まずを受け止めるように成形された部分を含む、請求項１から３のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項５】
土踏まずに向かって上方に延在するアーチ部分を含む、請求項４に記載の足矯正具。
【請求項６】
前記足矯正具は４分の３の長さの矯正具である、請求項１から５のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項７】
前記足矯正具は足の踵から延在して足の中足骨頭の前で切れる、請求項１から６のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項８】
前記足矯正具の縁は面取りされている、請求項１から７のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項９】
前記足矯正具の縁は、弾性を増すように前記足矯正具の裏面に対して上向きである、請求項１から８のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項１０】
前記足矯正具は均一の厚さである、請求項１から９のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項１１】
前記足矯正具は厚さ０．５ｍｍから１．５ｍｍの素材から作られる、請求項１から１０のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項１２】
厚さが１．０ｍｍから１．２ｍｍである、請求項１１に記載の足矯正具。
【請求項１３】
厚さが１．０ｍｍまたは１．２ｍｍである、請求項１２に記載の足矯正具。
【請求項１４】
前記足矯正具は、前記所望の解剖学的形状を得るために、銅含有素材からなるブランクの打ち抜き工程とプレス工程とから作られる、請求項１から１３のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項１５】
前記銅含有素材からなるブランクは圧延されたものである、請求項１４に記載の足矯正具。
【請求項１６】
前記銅含有素材からなるブランクは機械プレスを通されたものである、請求項１４に記載の足矯正具。
【請求項１７】
履物の中での前記足矯正具の動きを減少させるように裏面に接着パッドを含む、請求項１から１６のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項１８】
前記銅含有素材は、銅合金であり、かつ／または、銅を３０％〜約１００％、好ましくは５０％または８０％から約１００％、最も好ましくは９９．９％含有する、請求項１から１７のいずれか一つに記載の足矯正具。
【請求項１９】
請求項１から１８のいずれか一つに記載の足矯正具の製造方法であって、打ち抜きすることによって銅含有素材からなるブランクを設けるステップと、前記製造されたブランクを前記所望の解剖学的形状をなすようにプレスするステップとを含む方法。
【請求項２０】
前記銅含有素材のプレスは圧延または機械プレスを用いてなされる、請求項１９に記載の足矯正具製造方法。
【請求項２１】
前記足矯正具の縁は面取りされる、請求項１９または２０のいずれか一つに記載の足矯正具製造方法。
【請求項２２】
前記足矯正具は滑らかな縁を備えるように研磨される、請求項１９または２０のいずれか一つに記載の足矯正具製造方法。
【請求項２３】
添付の図面と明細書とを参照して本明細書に実質的に記載される足矯正具の製造方法。
【請求項２４】
請求項１９から２３のいずれか一つに記載の足矯正具の製造方法によって製造された足矯正具。
【請求項２５】
履物の中敷きとして提供される、請求項１から１８および請求項２４のいずれか一つに記載の足矯正具の製造方法によって製造された足矯正具。
【請求項２６】
前記履物の踵の領域または背部に配置された、請求項２５に記載の足矯正具。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月28日(2009.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の特性：
（ａ）４より低い分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ；
（ｂ）２５０℃の温度、１０００  １／秒〜４００００  １／秒の範囲の剪断速度で測定して、次の関係式：
ｈ≦９×ｅ（−０．００００６×ｓｒ）＋２
（式中、ｈは溶融粘度（Ｐａｓ）を表し、ｓｒは剪断速度（１／秒）である）
を満足する溶融粘度；
（ｃ）１３Ｃ−ＮＭＲによって測定して９０％より高く、好ましくは９２％より高く、より好ましくは９５％より高く、最も好ましくは９６％より高いアイソタクチックペンタド（ｍｍｍｍ）；
（ｄ）好ましくは２．６重量％より低い、ＦＤＡ規則にしたがうヘキサン抽出分；
（ｅ）２重量％より低いキシレン可溶分；
を有し、但し、プロピレンポリマーはビスブレーキされていない、プロピレンポリマーを含むポリプロピレン樹脂。
【請求項２】
立体障害フェノールとホスファイト又はホスホナイトとの１：１混合物０．０３重量％〜１重量％を含む、請求項１に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項３】
ＦＤＡ規則に従うヘキサン抽出分が１．８重量％より低い、請求項１または２に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項４】
マスターバッチ衛生布帛及び濾過具を製造するための、請求項１〜３のいずれかに記載のポリプロピレン樹脂の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイソシアネートを、尿素および水の存在下、ポリエーテルポリオール中でアミンまたはアルカノールアミンと反応させる、ポリイソシアネート重付加ポリオールの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法によって調製されたポリイソシアネート重付加ポリオール。
【請求項３】
軟質ポリウレタンフォームを製造するための請求項２に記載のポリイソシアネート重付加ポリオールの使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ポリイソシアネート重付加ポリオール（ＰＩＰＡポリオール）の製造方法、および軟質ポリウレタン（ＰＵＲ）フォームを製造するための該ポリオールの使用に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月25日(2009.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の特性：
（ａ）５モル％以下のエチレン又は式：ＣＨ２＝ＣＨＡ（ここで、ＡはＣ２〜Ｃ２０アルキル基である）のα−オレフィン誘導単位を含み、粉末について測定して９０〜３０００ｇ／１０分の間のメルトフローレート（ＭＦＲ）（ＩＳＯ  １１３３）（２３０℃／２．１６ｋｇ）を有するプロピレンコポリマー；
（ｂ）４より低い分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ；
（ｃ）２．６重量％未満のＦＤＡ規則によるヘキサン抽出分；
（ｄ）２．２重量％未満のキシレン可溶分；
（ｅ）１３Ｃ−ＮＭＲによって測定して９０％よりも高いアイソタクチックペンタド（ｍｍｍｍ）；及び
（ｆ）粉末について測定して１３５℃〜１５２℃の間のＤＳＣによって測定した融点を有するプロピレンコポリマー；
を有し、但しプロピレンコポリマーはビスブレーキされていない、プロピレンコポリマーを含むポリプロピレン樹脂。
【請求項２】
更に、以下の特性：
（ｇ）ＡＳＴＭ  Ｄ１００３（１ｍｍプラーク）にしたがって測定して５％〜３０％の間の曇り度；及び
（ｈ）ＩＳＯ  １７８にしたがって測定して１２００Ｎ／ｍ２〜２５００Ｎ／ｍ２の間の４８時間後の曲げ弾性率；
を有する、請求項１に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項３】
２３０℃において９０〜５００ｇ／１０分の間のＭＦＲ値、２５０℃において１００  １／秒の剪断速度に関して、溶融粘度が１００Ｐａｓ〜１１Ｐａｓの間である、請求項１又は２に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項４】
２３０℃において５００ｇ／１０分より高いＭＦＲ値、２５０℃において１５００  １／秒の剪断速度に関して、粘度が１１Ｐａｓ〜１Ｐａｓの間である、請求項１又は２に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項５】
０．１〜１重量％の成核剤を含む、請求項１〜４のいずれかに記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のプロピレン樹脂を用いることによって得られる成形物品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の特性：
（ａ）１２０ｇ／１０分〜４００ｇ／１０分の間のメルトフローレート（ＭＦＲ）（ＩＳＯ  １１３３）（２３０℃／２．１６ｋｇ）；
（ｂ）４より低い分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ；
（ｃ）ＡＳＴＭ  Ｄ１００３（１ｍｍプラーク）にしたがって測定して５％〜３０％の間の曇り度；及び
（ｄ）ＩＳＯ  １７８にしたがって測定して１７５０Ｎ／ｍ２〜２３００Ｎ／ｍ２の間の４８時間後の曲げ弾性率；
を有する、プロピレンポリマーを含むポリプロピレン樹脂。
【請求項２】
０．１〜１重量％の成核剤を含む、請求項１に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項３】
７％〜２０％の間の曇り度を有し、２．６重量％未満のヘキサン抽出分を有する、請求項１または２に記載のポリプロピレン樹脂。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のポリプロピレン樹脂を用いることによって得られる成形物品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
（１）Ｄ1−（Ｚ1）ｒ−Ｙ1−Ｓ−Ａ
（式中、
Ａは水素原子；式（１ｂ）＊−Ｓ−Ｙ2−（Ｚ2）ｒ−Ｄ2で表される基；又は式（１ｃ）
＊−Ｓ−Ｙ3で表される基を表し、
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して、非置換の又は置換された、直鎖又は分枝鎖の、中断されたまたは中断されていない、炭素原子数１乃至１０のアルキレン基；炭素原子数５乃至１０のシクロアルキレン基；炭素原子数５乃至１０のアリーレン基；又は−炭素原子数５乃至１０のアリーレン基−（炭素原子数１乃至１０のアルキレン基）を表し；
Ｙ3は非置換の又は置換された、直鎖または分枝鎖の、中断されたまたは中断されていな
い、炭素原子数１乃至１０のアルキル基；炭素原子数５乃至１０のシクロアルキル基；炭素原子数５乃至１０のアリール基；又は−炭素原子数５乃至１０のアリール基−（炭素原子数１乃至１０のアルキル基）を表し；
Ｚ1及びＺ2は夫々互いに独立して、
【化１】
2009512742.tif 000001
又は、式
【化２】
2009512742.tif 000002
で表される置換された又は非置換の芳香族またはヘテロ芳香族化合物のカチオン性バイラジカルを表し；ここで、
アスタリスク＊はＤ1及び／又はＤ2への結合を表し；
アスタリスク＊＊はＹ1及び／又はＹ2への結合を表し；
Ｗ1はＮ又はＣＲ5で表される基を表し；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は夫々互いに独立して、水素原子；炭素原子数１乃至１４の
アルキル基；炭素原子数２乃至１４のアルケニル基；炭素原子数５乃至１０のアリール基；炭素原子数５乃至１０のアリール基−（炭素原子数１乃至１０のアルキル基）；または−炭素原子数１乃至１０のアルキル基（炭素原子数５乃至１０のアリール基）を表し；
Ｄ1及びＤ2は夫々互いに独立して、水素原子；又は式
【化３】
2009512742.tif 000003
（式中、
Ｂ1及びＢ2は、夫々互いに独立して、炭素原子数６乃至１０のアリール基；又は、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、単素原子数１乃至１２のアルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、スルホン酸基、カルボキシレート基、又は−ＮＲ6Ｒ7基又は−ＯＲ6基で置換され得る５−７員ヘテロ環化合物を表し、
Ｂ3は炭素原子数６乃至１０のアリーレン基；又は、炭素原子数１乃至１２のアルキル基
、単素原子数１乃至１２のアルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、スルホン酸基、カルボキシレート基、又は−ＮＲ6Ｒ7基又は−ＯＲ6基で置換され得る５−７
員へテロ環化合物の二価の基を表し；
Ｒ6及びＲ7は夫々互いに独立して水素原子；又はヒドロキシ基又は炭素原子数６乃至１０のアリール基で置換され得る炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；又は、
Ｒ6及びＲ7は結合窒素原子と一緒になって５乃至７員ヘテロ環を形成し；
又は、
Ｒ6及びＲ7は結合窒素原子と一緒になって式
【化４】
2009512742.tif 000004
（式中、
アスタリスク（＊）は夫々Ｚ1又はＺ2に結合し、
アスタリスク（＊＊）は結合窒素原子に結合する。）
で表されるピペリジン環を形成する）で表される基から選択される有機染料の残基を表し；
式中、Ｄ1及びＤ2の一方は水素原子を表さず、
Ａｎはアニオンを表し；
ｐは０乃至５の数を表し；
ｒは０又は１を表し；そして
ｓは１乃至５の数を表す。）
で表される化合物。
【請求項２】
請求項１で定義された式（１）で表される少なくとも一種の化合物で繊維を処理することを含む、ケラチン含有繊維の染色方法。
【請求項３】
少なくとも一種の請求項１で定義された式（１）で表される化合物を含む組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月7日(2009.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
水蒸気・電気併給設備；
炭化水素含有地層の第一部分に配置され、該水蒸気・電気併給設備からの水蒸気を該第一部分に供給するように構成された少なくとも１つの注入坑井；
該地層の第一部分に配置され、第一の炭化水素を製造するように構成された少なくとも１つの製造坑井；
該地層の第一部分及び／又は該地層の第二部分に、該水蒸気・電気併給設備とは離れて配置され、該水蒸気・電気併給設備からの電気により出力するように構成された少なくとも１つの電気ヒーター；
該地層の第一部分及び／又は該地層の第二部分に配置され、第二の炭化水素を製造するように構成された少なくとも１つの製造坑井；
を備えると共に、該水蒸気・電気併給設備は、該第一炭化水素及び／又は該第二炭化水素を用いて発電するように構成された、炭化水素含有地層の処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記設備が、炭化水素を使用して電気を生成するように構成されると共に、前記少なくとも１つの電気ヒーターが、注入坑井以外の坑井中に存在する請求項１に記載のシステム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
炭化水素含有地層の第一部分に水蒸気発生器から水蒸気を供給する工程、
該地層の第一部分から第一の炭化水素を製造する工程、
該地層の第一部分及び／又は該地層の第二部分に、該水蒸気発生器とは離れている１つ以上のヒーターから熱を供給する工程、
該供給熱をヒーターから地層の第一部分及び／又は地層の第二部分に伝達する工程、
該地層の第二部分から第二の炭化水素を製造する工程、及び
該第一炭化水素及び／又は該第二炭化水素を、地層の第一部分には水蒸気を供給すると共に、ヒーターには電気を供給する水蒸気・電気併給設備に使用する工程、
を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のシステムを用いて炭化水素含有地層を処理する方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記１つ以上のヒーターが注入坑井以外の坑井中に存在すると共に、第一炭化水素及び／又は該第二炭化水素を使用して電気を発生する工程を更に含む請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月5日(2009.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直方向に延設する２つの部材と、垂直方向に配向された減衰要素とを備える丈高な構造物であって、前記減衰要素が、前記２つの部材間の相対垂直運動を減衰するように配置され、前記垂直方向に延設する部材の高さが前記減衰要素の上方に延びる構造物。
【請求項２】
前記構造物が前記部材の１つから延設する水平要素を備え、前記減衰要素が、前記水平要素と他の前記垂直部材との間の相対運動を減衰するように配置されている、請求項１に記載の構造物。
【請求項３】
前記水平要素は、前記要素の延設方向に直角な水平方向の幅が相対的に薄い、請求項２に記載の構造物。
【請求項４】
前記構造物が高層建築物であり、前記水平要素の高さが前記建築物の１階分を超えて延設する、請求項３に記載の構造物。
【請求項５】
前記水平要素が、階床面積を分割する壁の一部を形成する、請求項２〜４のいずれかに記載の構造物。
【請求項６】
前記垂直部材の周りに同じ高さに配置された複数の減衰要素を備える、請求項１〜５のいずれかに記載の構造物。
【請求項７】
複数組の減衰要素を備え、前記それぞれの組が前記構造物の異なる高さにある、請求項１〜６のいずれかに記載の構造物。
【請求項８】
減衰要素は、構造物の中間高さ部分に配置されることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の構造物。
【請求項９】
丈高な構造物に減衰を付与する方法であって、前記構造物は垂直方向に延設する２つの部材を有し、前記方法は、垂直方向に作用し前記２つの部材間の相対運動を減衰する減衰要素を設けるステップを含み、前記垂直方向に延設する部材の高さが前記減衰要素の上方に延びる方法。
【請求項１０】
前記垂直方向に延設する部材の１つから延設する水平要素を設けるステップを含み、前記減衰要素が前記水平要素と他の前記垂直部材との間の相対運動を減衰する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記水平要素は、前記要素の延設方向に直角な水平方向の幅が相対的に薄い、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記構造物が高層建築物であり、前記水平要素の高さが前記建築物の１階分を超えて延設する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記水平要素が、階床面積を分割する壁の一部を形成する、請求項１０〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
複数組の減衰要素を前記構造物の様々な高さに設けるステップを含む、請求項９〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
構造物の中間高さ部分に減衰要素を配置することを含む、請求項９〜１４のいずれかに記載の方法。