【手続補正書】
【提出日】平成23年3月3日(2011.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素に対応する複数の画素電極が形成された第１の基板と、
前記第１の電極と対向するように配置され、前記第１の電極と重なった領域により画素を形成する対向電極が形成された第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に介在するように設けられたシール材と、
前記第１および第２の基板と前記シール材とに囲まれた領域内に封止された液晶層とを備える液晶パネルであって、
前記シール材は、前記液晶パネルの表示領域を取り囲む枠状部と、前記枠状部の一辺に形成された注入口部と、前記注入口部の両側から前記枠状部の外へ向かって突出した突出部とを有し、
前記第１の基板および前記第２の基板のうちの一方の基板の他方の基板との対向面に、前記シール材の前記突出部に重なるように設けられた溝
をさらに備えることを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
前記溝は、前記一方の基板の前記他方の基板との対向面に形成された絶縁膜の、シール材に対応する部分を除去して形成された側壁と、前記一方の基板の前記対向面とにより形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記溝は、前記シール材の前記突出部に重なる位置に、シール材の枠状部の幅よりも狭い幅となるように形成され、前記シール材の前記突出部の幅がシール材の前記枠状部の幅より狭く形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記溝は、前記シール材の前記枠状部および前記突出部に重なる位置に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記第１の基板には、該第１の基板の前記対向面に、前記複数の画素電極に対応する複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタのゲート電極および前記第１の基板を覆うゲート絶縁膜とが設けられ、
前記溝は、前記ゲート絶縁膜の、前記シール材に対応する部分を除去して形成された側壁と、前記第１の基板の前記対向面とにより形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の液晶パネル。
【請求項６】
第１の基板と第２の基板とがシール材を介して貼り合わされ、前記第１および第２の基板と前記シール材とによって囲まれた領域に液晶が封止された液晶パネルの製造方法であって、
前記第１の基板に絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第１の基板の絶縁膜に、前記液晶パネルの複数の画素が配列される表示領域を取り囲む枠状部と、前記枠状部の一辺に形成される注入口部と、前記注入口部の両側から前記枠状部の外へ向かって突出する突出部とを有する前記シール材のうちの、前記突出部に重なる部分を除去して溝を形成する溝形成工程と、
前記第１の基板に形成された前記絶縁膜上に、第１の電極を形成する第１の電極形成工程と、
前記第２の基板上に、第２の電極を形成する第２の電極形成工程と、
前記第１の基板の前記第１の電極が形成された面と前記第２の基板の前記第２の電極が形成された面とのいずれか一方に、前記シール材の前記枠状部と前記注入口部と前記突出部とを形成するための材料を塗布する塗布工程と、
前記第１の基板の前記第１の電極が形成された面と前記第２の基板の前記第２の電極が形成された面とを対向させて配置し、前記第１の基板と前記第２の基板とを、前記材料を介して貼り合わせる工程と、
を備えることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項７】
前記塗布工程は、前記第１の基板の前記第１の電極が形成された面に、前記材料を塗布することを含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項８】
前記絶縁膜形成工程は、前記第１の基板に薄膜トランジスタのゲート電極と、該ゲート電極を覆ってゲート絶縁膜を形成することを含み、
前記溝形成工程は、前記シール材の前記突出部に重なる部分の前記ゲート絶縁膜を除去することを含むことを特徴とする請求項６または７に記載の液晶パネルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明の請求項１に記載の液晶パネルは、
複数の画素に対応する複数の画素電極が形成された第１の基板と、
前記第１の電極と対向するように配置され、前記第１の電極と重なった領域により画素を形成する対向電極が形成された第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に介在するように設けられたシール材と、
前記第１および第２の基板と前記シール材とに囲まれた領域内に封止された液晶層とを備える液晶パネルであって、
前記シール材は、前記液晶パネルの表示領域を取り囲む枠状部と、前記枠状部の一辺に形成された注入口部と、前記注入口部の両側から前記枠状部の外へ向かって突出した突出部とを有し、
前記第１の基板および前記第２の基板のうちの一方の基板の他方の基板との対向面に、前記シール材の前記突出部に重なるように設けられた溝
をさらに備えることを特徴とする。
好ましくは、前記溝は、前記一方の基板の前記他方の基板との対向面に形成された絶縁膜の、シール材に対応する部分を除去して形成された側壁と、前記一方の基板の前記対向面とにより形成されている。
好ましくは、前記溝は、前記シール材の前記突出部に重なる位置に、シール材の枠状部の幅よりも狭い幅となるように形成され、前記シール材の前記突出部の幅がシール材の前記枠状部の幅より狭く形成されている。
好ましくは、前記溝は、前記シール材の前記枠状部および前記突出部に重なる位置に形成されている。
好ましくは、前記第１の基板には、該第１の基板の前記対向面に、前記複数の画素電極に対応する複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタのゲート電極および前記第１の基板を覆うゲート絶縁膜とが設けられ、
前記溝は、前記ゲート絶縁膜の、前記シール材に対応する部分を除去して形成された側壁と、前記第１の基板の前記対向面とにより形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明の請求項６に記載の液晶パネルの製造方法は、
第１の基板と第２の基板とがシール材を介して貼り合わされ、前記第１および第２の基板と前記シール材とによって囲まれた領域に液晶が封止された液晶パネルの製造方法であって、
前記第１の基板に絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第１の基板の絶縁膜に、前記液晶パネルの複数の画素が配列される表示領域を取り囲む枠状部と、前記枠状部の一辺に形成される注入口部と、前記注入口部の両側から前記枠状部の外へ向かって突出する突出部とを有する前記シール材のうちの、前記突出部に重なる部分を除去して溝を形成する溝形成工程と、
前記第１の基板に形成された前記絶縁膜上に、第１の電極を形成する第１の電極形成工程と、
前記第２の基板上に、第２の電極を形成する第２の電極形成工程と、
前記第１の基板の前記第１の電極が形成された面と前記第２の基板の前記第２の電極が形成された面とのいずれか一方に、前記シール材の前記枠状部と前記注入口部と前記突出部とを形成するための材料を塗布する塗布工程と、
前記第１の基板の前記第１の電極が形成された面と前記第２の基板の前記第２の電極が形成された面とを対向させて配置し、前記第１の基板と前記第２の基板とを、前記材料を介して貼り合わせる工程と、
を備えることを特徴とする。
好ましくは、前記塗布工程は、前記第１の基板の前記第１の電極が形成された面に、前記材料を塗布することを含む。
好ましくは、前記絶縁膜形成工程は、前記第１の基板に薄膜トランジスタのゲート電極と、該ゲート電極を覆ってゲート絶縁膜を形成することを含み、
前記溝形成工程は、前記シール材の前記突出部に重なる部分の前記ゲート絶縁膜を除去することを含む。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】