【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月15日(2009.6.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．非水素化スチレン／ジエンブロックコポリマーおよび水素化分布制御ブロックコポリマーを含むブロックコポリマー成分（前記水素化分布制御ブロックコポリマーは少なくとも１つのポリマーブロックＡおよび少なくとも１つのポリマーブロックＢを含み、
ｉ）水素化前には、各Ａブロックはモノアルケニルアレーンホモポリマーブロックであり、各Ｂブロックは少なくとも１種の共役ジエンと少なくとも１種のモノアルケニルアレーンとの分布制御コポリマーブロックであり、
ｉｉ）水素化の結果として、アレーン二重結合の０〜１０％が還元され、および共役ジエン二重結合の少なくとも９０％が還元され、
ｉｉｉ）各Ａブロックの数平均分子量は３，０００と６０，０００の間であり、各Ｂブロックの数平均分子量は２０，０００と３００，０００の間であり、
ｉｖ）各Ｂブロックは、共役ジエン単位を多く含有し、Ａブロックに隣接する末端領域およびモノアルケニルアレーン単位を多く含有し、Ａブロックに隣接しない１つまたは複数の領域を含み、共役ジエン単位を多く含有する上記末端領域は、Ｂブロックの両末端からＢブロックの１５〜２５％の領域を含み、
ｖ）水素化分布制御ブロックコポリマー中のモノアルケニルアレーンの総量は２０重量パーセントから８０重量パーセントであり、
ｖｉ）各Ｂブロックにおけるモノアルケニルアレーンの重量パーセントは１０パーセントと７５パーセントの間であり、
ｖｉｉ）Ｂブロックのモノアルケニルアレーンブロック率指数は４０％未満である。）
ｂ．１種または複数の光重合性エチレン系不飽和化合物、
ｃ．１種または複数の光重合開始剤、および場合により
ｄ．全光重合性組成物を基準にして０から４０重量％の１種または複数の助剤
を含む光重合性組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の光重合性組成物から誘導したフレキソ印刷版。
【請求項３】
請求項２のフレキソ印刷版から作製したフレキソ印刷レリーフ形状。
【請求項４】
ａ．５から７５重量パーセントの水素化分布制御ブロックコポリマー、および
ｂ．９５から２５重量パーセントの非水素化星型スチレンブタジエンブロックコポリマー
を含み、前記分布制御ブロックコポリマーは少なくとも１つのポリマーブロックＡおよび少なくとも１つのポリマーブロックＢを有し、
ｉ）水素化前には、各Ａブロックはモノアルケニルアレーンホモポリマーブロックであり、各Ｂブロックは少なくとも１つの共役ジエンおよび少なくとも１つのモノアルケニルアレーンの分布制御コポリマーブロックであり、
ｉｉ）水素化の結果として、アレーン二重結合の０〜１０％が還元され、および共役ジエン二重結合の少なくとも９０％が還元され、
ｉｉｉ）各Ａブロックの数平均分子量は３，０００と６０，０００の間であり、各Ｂブロックの数平均分子量は２０，０００と３００，０００の間であり、
ｉｖ）各Ｂブロックは、共役ジエン単位を多く含有し、Ａブロックに隣接する末端領域およびモノアルケニルアレーン単位を多く含有し、Ａブロックに隣接しない１つまたは複数の領域を含み、共役ジエン単位を多く含有する上記末端領域は、Ｂブロックの両末端からＢブロックの１５〜２５％の領域を含み、
ｖ）水素化分布制御ブロックコポリマー中のモノアルケニルアレーンの総量は２０重量パーセントから８０重量パーセントであり、
ｖｉ）各Ｂブロックにおけるモノアルケニルアレーンの重量パーセントは１０パーセントと７５パーセントの間であり、
ｖｉｉ）Ｂブロックのモノアルケニルアレーンブロック率指数は４０％未満であり、
および、非水素化星型ブロックコポリマーは（Ｃ−Ｄ）ｎＹ（Ｄ）ｍなる構造を有する（式中Ｃブロックはスチレンのホモポリマーブロックであり、Ｄブロックはブタジエンおよびイソプレンから選択した１種または複数の共役ジエンのポリマーブロックであり、Ｙは結合剤残基であり、ｎは２から３０の整数であり、ｍは１から１０の整数である。）、透明な組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
今やモノアルケニルアレーン末端ブロックとモノアルケニルおよび共役ジエンのブロック中の制御された分布とに基づく新規なアニオン性のブロックコポリマーが発見され、「新規なブロックコポリマーおよびその製造方法」の名称の同時係属で本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願第６０／３５５２１０号に記載されている。そのようなポリマーの製造方法は上記の特許出願に詳細に記述されている。特許権者は、相安定性で透明な組成物が、ＳＩＳコポリマーおよびＳＢＳコポリマーの両者を含む不飽和スチレン／ジエンブロックコポリマーとこれらの新規ポリマーとのブレンドを使用して製造できることを見出した。この発見により、配合者はオゾンによる脆化に対する耐性の改良に加えて非水素化ブロックコポリマーに見られる優れた性能を有するフレキソ印刷版を開発できるようになった。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
したがって、本発明は光重合性組成物に関するものであり、この組成物は、
（ａ）非水素化スチレンジエンブロックコポリマーおよび水素化分布制御ブロックコポリマーを含むブロックコポリマー成分（前記水素化分布制御ブロックコポリマーは少なくとも１つのポリマーブロックＡおよび少なくとも１つのポリマーブロックＢを含み、
ｉ）水素化前には、各Ａブロックはモノアルケニルアレーンホモポリマーブロックであり、各Ｂブロックは少なくとも１種の共役ジエンと少なくとも１種のモノアルケニルアレーンとの分布制御コポリマーブロックであり、
ｉｉ）水素化の結果として、アレーン二重結合の約０〜１０％が還元されており、共役ジエンの二重結合の少なくとも約９０％が還元されており、
ｉｉｉ）各Ａブロックは約３，０００と約６０，０００の間の数平均分子量を有し、各Ｂブロックは約２０，０００と約３００，０００の間の数平均分子量を有し、
ｉｖ）各Ｂブロックは、共役ジエン単位を多く含有し、Ａブロックに隣接する末端領域およびモノアルケニルアレーン単位を多く含有し、Ａブロックに隣接しない１つまたは複数の領域を含み、
ｖ）水素化ブロックコポリマー中のモノアルケニルアレーンの総量は約２０重量パーセントから約８０重量パーセントであり、
ｖｉ）各Ｂブロック中のモノアルケニルアレーンの重量パーセントは約１０パーセントと約７５パーセントの間にある。）、
（ｂ）１種または複数の重合性エチレン系不飽和低分子量化合物、
（ｃ）１種または複数の重合開始剤、および場合により
（ｄ）全光重合性組成物を基準にして０から４０重量％の１種または複数の助剤
を含む。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明の要となる化合物は、モノアルケニルアレーン末端ブロックとモノアルケニルアレーンおよび共役ジエンの独特の中間ブロックとを含む新規な分布制御ブロックコポリマーである。驚いたことに、（１）モノマー添加の独特の制御と（２）溶媒成分としてのジエチルエーテルまたは他の改質剤（「分布剤」と称することにする）の使用とを組み合わせると、２種のモノマーが或る独特の分布をする結果になり（本出願においては、「分布制御」重合すなわち「分布制御」構造を生ずる重合という。）、またポリマーブロック中において幾つかのモノアルケニルアレーンを多く含有する領域と幾つかの共役ジエンを多く含有する領域とが存在する結果になる。本出願の目的のために、「分布制御」は次の属性をもつ分子構造を指すと定義する。すなわち、（１）モノアルケニルアレーンホモポリマー（「Ａ」）ブロックに隣接した共役ジエン単位を多く（すなわち平均量を超えて）含有する末端領域、（２）Ａブロックに隣接しないモノアルケニルアレーン単位を多く（すなわち平均量を超えて）含有する１つまたは複数の領域、および（３）比較的ブロック率の低い全体的構造である。本出願の目的のために、「を多く含有する」とは平均量を超える、好ましくは平均量の５％を超えることと定義する。ブロック率が比較的低いことは、示差走査熱量測定（「ＤＳＣ」）熱的方法を用いてまたは機械的方法で解析したときに、ただ１つのガラス転移温度（Ｔｇ）がどちらかのモノマー単独のＴｇの間の中間に単一で存在することによるか、またはプロトン核磁気共鳴（「Ｈ−１  ＮＭＲ」）法によるかのいずれかによって示すことができる。ブロック率の効率は、Ｂブロックの重合中にポリスチリルリチウム末端基の検出に適した波長範囲でＵＶ可視吸収を測定することからも推定できる。この値の鋭い実質的な増大は、ポリスチリルリチウム鎖末端の実質的増加を示す。この工程において、共役ジエン濃度が分布制御重合を維持するための臨界濃度以下に低下するときにのみ、ポリスチリルリチウム鎖末端の実質的増加が起こるであろう。この状態で存在するすべてのスチレンモノマーはブロック方式で付加するであろう。用語「スチレンブロック率」は、プロトンＮＭＲを使用して当業者により測定されるが、ポリマー鎖上において２つの最も近接したＳを有するＳ単位のポリマーにおける比率であると定義される。スチレンブロック率はＨ１−ＮＭＲを使用して次の２つの実験量を測定して定量する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明の好ましい実施形態において、主題の分布制御コポリマーブロックには２つの別個の型の領域、すなわち、ブロック末端にある共役ジエンを多く含有する領域およびブロックの中程または中央付近にあるモノアルケニルアレーンを多く含有する領域がある。望まれるのは、モノアルケニルアレーン単位の比率がブロックの中程すなわち中央付近で最高になるまで徐々に増加して、それからポリマーブロックの重合が完成するまで徐々に減少するモノアルケニルアレーン／共役ジエン分布制御コポリマーブロックである。この構造は先行技術において論じられている逓減またはランダム構造とは別個のかつ相違するものである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明の新規な分布制御コポリマーを製造するための出発原料には、最初のモノマーが含まれる。アルケニルアレーンはスチレン、アルファ−メチルスチレン、パラ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、およびパラブチルスチレンまたはこれらの混合物から選択できる。これらの中でスチレンが最も好ましく、スチレンは多くの製造業者から商業的に入手可能でかつ比較的安価である。本発明において使用するための共役ジエンは、１，３−ブタジエンならびにイソプレン、ピペリレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、および１−フェニル−１，３−ブタジエンなどの置換ブタジエンまたはそれらの混合物である。これらの中で、１，３−ブタジエンが最も好ましい。本発明および請求項において使用する「ブタジエン」は「１，３−ブタジエン」を特定して指す。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
上で論じたように、分布制御ポリマーブロックは、Ａブロックに隣接するジエンを多く含有する領域、および典型的にはＢブロックの中央に近いアレーンを多く含有する、Ａブロックに隣接しない領域を有している。典型的には、Ａブロックに隣接する領域はブロックの最初の１５から２５％を含み、およびジエンを多く含有する領域を含み、残る部分はアレーンを多く含有する領域と考えられる。「ジエンを多く含有する」という用語の意味は、その領域のジエンのアレーンに対する比がアレーンを多く含有する領域よりも測定できる程に高いということである。このことを別の方法で表現すれば、モノアルケニルアレーン単位の比率がポリマー鎖に沿って徐々に増大してブロックの中程すなわち中央付近で最大になり（ＡＢＡ構造を述べているとして）、次いでポリマーブロックの重合が完成するまで徐々に減少するということである。分布制御ブロックＢのモノアルケニルアレーンの重量パーセントは約１０パーセントと約７５の間である。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
ここにおいて使用する「熱可塑性ブロックコポリマー」は、少なくともスチレンなどのモノアルケニルアレーンの第１ブロックとジエンおよびモノアルケニルアレーンの分布制御コポリマーの第２ブロックとを有するブロックコポリマーと定義する。この熱可塑性ブロックコポリマーを調製する方法は、ブロック重合のために一般に知られた方法のいずれかによる。本発明は実施形態として熱可塑性コポリマー組成物を含み、その熱可塑性コポリマー組成物はジ−ブロック、トリ−ブロックコポリマーまたはマルチ−ブロック組成物のいずれでもよい。ジ−ブロックコポリマー組成物の場合には、１ブロックはアルケニルアレーン系ホモポリマーブロックで、ジエンとアルケニルアレーンとの分布制御コポリマーの第２ブロックが前記ブロックと共に重合される。トリ−ブロック組成物の場合には、末端ブロックとしてガラス質のアルケニルアレーン系ホモポリマーおよび中間ブロックとしてジエンとアルケニルアレーンとの分布制御コポリマーが含まれる。トリ−ブロックコポリマー組成物を調製する場合、本出願においては分布制御ジエン／アルケニルコポリマーを「Ｂ」と称し、アルケニルアレーン系ホモポリマーを「Ａ」と称することができる。Ａ−Ｂ−Ａのトリ−ブロック組成物は逐次重合またはカップリングのいずれかによって製造できる。逐次の溶液重合技法においては、モノアルケニルアレーンを最初に導入して比較的硬い芳香族ブロックを形成し、続いて中間ブロックを形成するために分布制御ジエン／アルケニルアレーン混合物を導入し、それから続いてモノアルケニルアレーンを導入して末端ブロックを形成する。線状のＡ−Ｂ−Ａ配置に加えて、ブロックを星型（分岐）ポリマー（Ａ−Ｂ）ｎＸを形成する構造にすること、または両方の型の構造を混合物中で組み合わせることが可能である。強度を与えるためには、若干のＡ−Ｂジ−ブロックポリマーが存在することはできるが、少なくとも約３０重量パーセントのブロックコポリマーがＡ−Ｂ−Ａまたは星型（さもなければ分子当り２以上の末端樹脂状ブロックをもつように分岐したもの）であることが好ましい。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
各種のブロックの分子量を制御することも重要である。ＡＢジブロックにとって、所望のブロック分子量はモノアルケニルアレーンＡブロックについて３，０００から約６０，０００、および分布制御共役ジエン／モノアルケニルアレーンＢブロックについて３０，０００から約３００，０００である。好ましい範囲はＡブロックについて５，０００から４５，０００およびＢブロックについて５０，０００から約２５０，０００である。逐次ＡＢＡまたはカップルした（ＡＢ）２Ｘブロックコポリマーであり得るトリブロックについて、Ａブロックは３，０００から約６０，０００、好ましくは５，０００から約４５，０００であるべきで、一方逐次ブロックのＢブロックは約３０，０００から約３００，０００、またカップルしたポリマーのＢブロック（２つ）は前記数値の半分である。トリブロックコポリマーの合計平均分子量は約４０，０００から約４００，０００、また星型コポリマーについては約６０，０００から約６００，０００であるべきである。これらの分子量は光散乱測定によって最も正確に測定され、分子量は数平均分子量として表わされる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明のもう１つの重要な態様は、分布制御コポリマーブロックにおける微細構造すなわち共役ジエンのビニル含量を制御することである。「ビニル含量」という用語は、１，２−付加（ブタジエンの場合であって、イソプレンの場合ならば３，４−付加になる）により重合した共役ジエンを指す。純粋な「ビニル」基は１，３−ブタジエンの１，２−付加重合の場合にのみ形成されるが、イソプレンの３，４−付加重合（および他の共役ジエンの同様な付加）のブロックコポリマーの最終的な性質への効果は同様であろう。用語「ビニル」はポリマー鎖の側鎖ビニル基の存在を指す。共役ジエンとしてのブタジエンの使用を引き合いに出すと、Ｈ１−ＮＭＲ分析により定量して、コポリマーブロック中に入ったブタジエン単位の約２０から約８０ｍｏｌパーセントが１，２ビニル配置を有すること、好ましくは入ったブタジエン単位の約３０から約７０ｍｏｌパーセントが１，２ビニル配置を有することが望ましい。これは分布剤の相対量を変更することによって効果的に制御できる。分布剤は２通りの目的に役立つことが理解される。すなわち、分布剤は、モノアルケニルアレーンと共役ジエンの分布制御を作り出し、また共役ジエンの微細構造を制御する。分布剤のリチウムに対する適当な比が、米国特許第Ｒｅ２７１４５号に開示され、教示されており、この開示を参照により本明細書に組み込む。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
１つまたは複数の分布制御ジエン／アルケニルアレーンコポリマーブロックおよび１つまたは複数のモノアルケニルアレーンブロックを含む、本発明の熱可塑性エラストマー性ジ−ブロックおよびトリ−ブロックポリマーの重要な特徴は、それらが少なくとも２つのＴｇを有することであり、低温側Ｔｇは各構成モノマーの各Ｔｇの中間にある分布制御コポリマーブロックの複合Ｔｇである。このようなＴｇは、好ましくは少なくとも約−６０度Ｃ、さらに好ましくは約−４０度Ｃから約＋３０度Ｃ、最も好ましくは約−４０度Ｃから約＋１０度Ｃである。第２のＴｇは、モノアルケニルアレーン「ガラス質」ブロックのＴｇであり、約８０度Ｃを超えることが好ましく、約＋８０度Ｃから約＋１１０度Ｃであることがさらに好ましい。ブロックのミクロ相分離を示す２つのＴｇの存在は、広範囲の応用におけるこの材料の特筆すべき弾性および強度、ならびに加工の容易さおよび望ましい溶融流動特性に寄与している。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
分布制御ブロックコポリマーは選択的に水素化される。水素化は当業者に知られている数種の水素化または選択的水素化方法のいずれかによって実施できる。例を拳げれば、このような水素化は、例えば米国特許第３４９４９４２号、第３６３４５４９号、第３６７００５４号、第３７００６３３号、および第Ｒｅ２７１４５号が教えるような方法を使用して行われてきた。水素化は、共役ジエンの二重結合の少なくとも約９０％が還元されており、およびアレーンのゼロと１０パーセントの間の二重結合が還元されたような条件下で実施することができる。好ましい範囲は共役ジエン二重結合の少なくとも約９５％の還元、およびさらに好ましいのは共役ジエン二重結合の約９８％が還元されることである。別の方法として、芳香族不飽和も上で述べた１０パーセントのレベルを超えて還元するようにポリマーを水素化することが可能である。この場合、共役ジエンおよびアレーンの両者の二重結合が約９０％以上還元されてもよい。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
ブロックコポリマー成分の大部分を形成している非水素化スチレンジエンブロックコポリマーは、米国特許第６５３１２６３号、米国特許第３２８１３８３号および米国特許第３２３９４７８号に開示されているような通常のスチレンイソプレンおよびスチレンブタジエンブロックコポリマーであり、ＫＲＡＴＯＮ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ（登録商標）Ｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓという商品名で入手可能である。これらはＣＤＣ、（Ｃ−Ｄ）ｎ、（Ｃ−Ｄ）ｎＣ、（Ｃ−Ｄ）ｎＹ（Ｄ）ｍまたは（Ｃ−Ｄ）ｎＹ（式中、ｎは２から約３０の整数であり、ｍは１から約１０、好ましくは１から約５の整数であり、Ｙは結合剤残基であり、Ｃはスチレンホモポリマーブロックであり、およびＤはブタジエンおよびイソプレンから選択した１種または複数の共役ジエンのポリマーブロックである。）などの構造を有する線状および星型ポリマーを含む。前記非水素化ブロックコポリマーは約４０，０００から約２５０，０００の合計分子量および約１０重量パーセントから約４０重量パーセントのスチレン含量を有する。このポリマーのジエン部分は約１０ｍｏｌパーセントから約５５ｍｏｌパーセントのビニル含量を有するものが典型的である。これらのポリマーは、ここに参照により組み込む米国特許第３２３９４７８号および米国特許第３２８１３８３号で開示された通常の方法により製造される。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
好ましい非水素化ブロックコポリマーは、ＳＩＳ、ＳＢＳ、ＳＢ星型ポリマー、ＳＩ星型ポリマー、および（ＳＢ）２Ｙ（Ｂ）１．５などの非対称ポリマーを含む。水素化分布制御ブロックコポリマーの非水素化ブロックコポリマーに対する比は約５：９５から約７５：２５、好ましくは約５：９５から約４０：６０、より好ましくは約１０：９０から約２５：７５である。