【手続補正書】
【提出日】平成23年8月31日(2011.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロプレート（２）のためのマイクロプレートキャリア（１）であって、
マイクロプレートは複数のウェル（３）を有し、該ウェルは、サンプルを吸着した、あるいは吸着していない磁性粒子（５）が懸濁した液体を含み、
マイクロプレートキャリアは、磁場を形成する複数の永久磁石（６）を有し、これらの永久磁石は、磁気軸を有し、マイクロプレート（２）のウェル（３）のフロア（１４）および／または壁部（７）上に磁性粒子（５）を集め、保持するように構成され、
マイクロプレート（２）がマイクロプレートキャリア（１）上に配置されたとき、
・各ウェル（３）の直径方向に対向するように２つの永久磁石が配置され、
・各ウェル（３）が永久磁石の上側表面より上方に配置され、
・各永久磁石（６）がウェル（３）に向かう同一の極性を有し、
・各永久磁石（６）は、マイクロプレートキャリア（１）上に配置されるマイクロプレート（２）のウェル（３）の列軸（９）または行軸（１９）に沿って配向され、永久磁石（６）の磁気軸が隣接するウェル（３）の間を通ることを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項２】
請求項１に記載のマイクロプレートキャリア（１）であって、
前記２つの永久磁石（６）が実質的に円筒形状を有し、Ｎ極（１３）またはＳ極が、円筒形状の永久磁石の上側の円形表面にあるように配置されることを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項３】
請求項１に記載のマイクロプレートキャリア（１）であって、
前記２つの永久磁石（６）は、これらを結ぶ軸（９，１９）を横断する方向におけるマイクロプレート（２）のウェル（３）のほぼ直径全体にわたって延びる実質的な粒子フリー空間（８）をウェル（３）内に形成することを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項４】
請求項３に記載のマイクロプレートキャリア（１）であって、
実質的な粒子フリー空間（８）は、マイクロプレート洗浄デバイス（１２）のカニューラ（１１）またはピペットデバイス（１６）のピペット先端部（１５）がウェル（３）の内部に降下して、実質的な量の磁性粒子（５）をウェル（３）からカニューラ（１１）またはピペット先端部（１５）を介して吸引することなく、液体をウェル（３）から吸引することを可能にすることを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項５】
請求項１に記載のマイクロプレートキャリア（１）であって、
９６ウェルマイクロプレート（２）のウェル（３）の直径方向に９行に配列された１０８個の永久磁石（６）を有することを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項６】
請求項１に記載のマイクロプレートキャリア（１）であって、
９６ウェルマイクロプレート（２）のウェル（３）の直径方向に１３列に配列された１０４個の永久磁石（６）を有することを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項７】
請求項１に記載のマイクロプレートキャリア（１）であって、
平坦なフロア、円形状のフロア、およびＶ字状のフロアを含む群から選択されたフロア（１４）を有するウェル（３）を備えたマイクロプレートを受容するように構成されたことを特徴とするマイクロプレートキャリア。
【請求項８】
マイクロプレートキャリア（１）を用いてマイクロプレート（２）を処理する方法であって、
マイクロプレートは複数のウェル（３）を有し、該ウェルは、サンプルを吸着した、あるいは吸着していない磁性粒子（５）が懸濁した液体を含み、
マイクロプレートキャリアは、磁場を形成する複数の永久磁石（６）を有し、これらの永久磁石は、磁気軸を有し、マイクロプレート（２）のウェル（３）のフロア（１４）および／または壁部（７）上に磁性粒子（５）を集め、保持するように構成され、
前記処理方法は、
・各ウェル（３）の直径方向に対向するように２つの永久磁石が配置され、
・各ウェル（３）が永久磁石の上側表面より上方に配置され、
・各永久磁石（６）がウェル（３）に向かう同一の極性を有し、
・各永久磁石（６）は、マイクロプレートキャリア（１）上に配置されるマイクロプレート（２）のウェル（３）の列軸（９）または行軸（１９）に沿って配向され、永久磁石（６）の磁気軸が隣接するウェル（３）の間を通るように、
マイクロプレート（２）をマイクロプレートキャリア（１）上に配置することを特徴とする方法
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
マイクロプレート（２）の各ウェル（３）に対する前記２つの永久磁石（６）を用いて、これらの永久磁石を結ぶ軸（９，１９）を横断する方向において、ウェル（３）のほぼ直径全体にわたって延びる実質的な粒子フリー空間（８）が形成されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、
サンプルを吸着した、あるいは吸着していない磁性粒子（５）を洗浄するために、
マイクロプレート洗浄デバイス（１２）の少なくとも１つのカニューラ（１１）を実質的な粒子フリー空間（８）の内部に降下させるとともに、マイクロプレート（２）のウェル（３）のフロア（１４）および／または壁部（７）上に集められ、保持された実質的な量の磁性粒子（５）をカニューラ（１１）より吸引することなく、大部分の液体を吸引することを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法であって、
マイクロプレート洗浄デバイス（１２）の少なくとも１つのカニューラ（１１）を用いて、液体（４）がマイクロプレート（２）のウェル（３）内に注入され、
注入された液体（４）の乱流により、マイクロプレート（２）のウェル（３）のフロア（１４）および／または壁部（７）上に保持された磁性粒子（５）が再懸濁することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の方法であって、
磁性粒子（５）に吸着したサンプルを溶出するために、ピペットデバイス（１６）の少なくとも１つのピペット先端部（１５）をウェル（３）内の実質的な粒子フリー空間（８）に降下させるとともに、マイクロプレート（２）のウェル（３）のフロア（１４）および／または壁部（７）上に集められ、保持された実質的な量の磁性粒子（５）をピペット先端部（１５）より吸引することなく、大部分の液体を吸引することを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、
ピペットデバイス（１６）の少なくとも１つのピペット先端部（１５）を用いて、溶離剤（４’）をマイクロプレート（２）の各ウェル（３）内に注入し、注入された液体による乱流により、マイクロプレート（２）のウェル（３）のフロア（１４）および／または壁部（７）上に保持されていた磁性粒子（５）を再懸濁させ、サンプルを磁性粒子から分離することを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１０に記載の方法であって、
円形状フロアまたはＶ字状ウェルの中央部（１７）、もしくは平坦ウェルの周縁部（１８）に、少なくとも１つのカニューラ（１１）を降下させることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１２に記載の方法であって、
円形状フロアまたはＶ字状ウェルの中央部（１７）、もしくは平坦ウェルの周縁部（１８）に、少なくとも１つのピペット先端部（１５）を降下させることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１１に記載の方法であって、
マイクロプレート（２）が撹拌デバイス（２４）上に搬送され、再懸濁が撹拌デバイスを用いて支援されることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１３に記載の方法であって、
マイクロプレート（２）が撹拌デバイス（２４）上に搬送され、再懸濁が撹拌デバイスを用いて支援されることを特徴とする方法。