【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ａ）群から選択される少なくとも1種の溶剤と、下記（ｂ）群〜（ｄ）群から選択される少なくとも1種の溶剤とを含む混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
（ａ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテル
（ｂ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート
（ｃ）群：直鎖状ケトン、分岐鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、アルキレンカーボネート
（ｄ）群：乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル
【化１００】
2010230697.tif 000001
一般式（Ｉ）において
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。
Ｒ2はアルキル基を表す。
Ｒ3は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、シアノ基または水酸基を表す。Ｒ3は複数ある場合は互いに同じでも異なっていてもよい。
ｎは０または正の整数を表す。
Ｚは炭素数３〜８の環状アルキル基を表す。
【請求項２】
一般式（Ｉ）におけるＺの環状アルキル基が５員環であることを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項３】
さらに疎水性樹脂（ＨＲ）を含有し、液浸露光用であることを特徴とする請求項１または２に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分の樹脂が、更に、ラクトン構造を有する繰り返し単位を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項５】
ラクトン構造が、下記一般式（Ａ２）で表されることを特徴とする請求項４に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１０１】
2010230697.tif 000002
一般式（Ａ２）中、
Ｒ1〜Ｒ6は、各々独立に、樹脂主鎖との連結基、水素原子、又は置換基を表す。但し、Ｒ1〜Ｒ6の内の少なくとも一つは、シアノ基又はシアノ基を有する置換基を表し、またＲ1〜Ｒ6の内の少なくとも一つは樹脂主鎖との連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ6の内の少なくとも２つは、互いに結合して環構造を形成してもよい。
【請求項６】
ラクトン構造が、下記一般式（Ａ６）で表されることを特徴とする請求項４に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１０２】
2010230697.tif 000003
一般式（Ａ６）中、
Ｒ18は、樹脂主鎖との連結基、水素原子、又は置換基を表す。
Ｌ1は、ラクトン環の２位の炭素原子と、ラクトン環の酸素原子とを連結してラクトン環構造を形成する連結基を表す。Ｌ1に樹脂主鎖との連結基が置換していてもよい。
Ｒ18及びＬ1は、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ18またはＬ1の少なくとも一つは樹脂主鎖との連結基を表す。
【請求項７】
（Ａ）成分の樹脂が、更に、以下の一般式（２−１）で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１０３】
2010230697.tif 000004
式（２−１）中、
Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。
Ｒ4、Ｒ5は各々独立してアルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ10は極性基を含む置換基を表す。
ｎは０〜１５の整数を表す。
【請求項８】
式（２−１）におけるＲ10が、−Ｃ（Ｒ4’）（Ｒ5’）−ＯＨで表される部分構造を表すことを特徴とする請求項７に記載のポジ型レジスト組成物。Ｒ4’、Ｒ5’は各々独立してアルキル基又はシクロアルキル基を表す。
【請求項９】
さらにレジスト組成物が
（Ｄ）界面活性剤、
（Ｅ）塩基性化合物
を含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物により形成されたレジスト膜。
【請求項１１】
請求項１０に記載のレジスト膜を、露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法が、液浸露光であることを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明者等は、鋭意検討した結果、特定の繰り返し単位を有する樹脂と、特定の溶剤を混合してを用いることにより、本発明の目的が達成されることを見出し本発明に至った。
すなわち、上記目的は下記構成によって達成される。
＜１＞  （Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ａ）群から選択される少なくとも1種の溶剤と、下記（ｂ）群〜（ｄ）群から選択される少なくとも1種の溶剤とを含む混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
（ａ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテル
（ｂ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート
（ｃ）群：直鎖状ケトン、分岐鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、アルキレンカーボネート
（ｄ）群：乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル
【化１０４】
2010230697.tif 000005
一般式（Ｉ）において
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。
Ｒ2はアルキル基を表す。
Ｒ3は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、シアノ基または水酸基を表す。Ｒ3は複数ある場合は互いに同じでも異なっていてもよい。
ｎは０または正の整数を表す。
Ｚは炭素数３〜８の環状アルキル基を表す。
＜２＞  一般式（Ｉ）におけるＺの環状アルキル基が５員環であることを特徴とする上記＜１＞に記載のポジ型レジスト組成物。
＜３＞  さらに疎水性樹脂（ＨＲ）を含有し、液浸露光用であることを特徴とする上記＜１＞または＜２＞に記載のポジ型レジスト組成物。
＜４＞  （Ａ）成分の樹脂が、更に、ラクトン構造を有する繰り返し単位を有することを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
＜５＞  ラクトン構造が、下記一般式（Ａ２）で表されることを特徴とする上記＜４＞に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１０５】
2010230697.tif 000006
一般式（Ａ２）中、
Ｒ1〜Ｒ6は、各々独立に、樹脂主鎖との連結基、水素原子、又は置換基を表す。但し、Ｒ1〜Ｒ6の内の少なくとも一つは、シアノ基又はシアノ基を有する置換基を表し、またＲ1〜Ｒ6の内の少なくとも一つは樹脂主鎖との連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ6の内の少なくとも２つは、互いに結合して環構造を形成してもよい。
＜６＞  ラクトン構造が、下記一般式（Ａ６）で表されることを特徴とする上記＜４＞に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１０６】
2010230697.tif 000007
一般式（Ａ６）中、
Ｒ18は、樹脂主鎖との連結基、水素原子、又は置換基を表す。
Ｌ1は、ラクトン環の２位の炭素原子と、ラクトン環の酸素原子とを連結してラクトン環構造を形成する連結基を表す。Ｌ1に樹脂主鎖との連結基が置換していてもよい。
Ｒ18及びＬ1は、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ18またはＬ1の少なくとも一つは樹脂主鎖との連結基を表す。
＜７＞  （Ａ）成分の樹脂が、更に、以下の一般式（２−１）で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする上記＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１０７】
2010230697.tif 000008
式（２−１）中、
Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。
Ｒ4、Ｒ5は各々独立してアルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ10は極性基を含む置換基を表す。
ｎは０〜１５の整数を表す。
＜８＞  式（２−１）におけるＲ10が、−Ｃ（Ｒ4’）（Ｒ5’）−ＯＨで表される部分構造を表すことを特徴とする上記＜７＞に記載のポジ型レジスト組成物。Ｒ4’、Ｒ5’は各々独立してアルキル基又はシクロアルキル基を表す。
＜９＞  さらにレジスト組成物が
（Ｄ）界面活性剤、
（Ｅ）塩基性化合物
を含有することを特徴とする上記＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
＜１０＞  上記＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物により形成されたレジスト膜。
＜１１＞  上記＜１０＞に記載のレジスト膜を、露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
＜１２＞  上記＜１１＞に記載の露光方法が、液浸露光であることを特徴とするパターン形成方法。
本発明は、上記＜１＞〜＜１２＞に記載の発明であるが、以下、他の事項も含めて記載している。