Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月23日(2010.11.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に半導体層を形成し、
前記半導体層に対してウェット酸化を行い前記半導体層の端部に第１の絶縁層を形成し、
前記半導体層上および前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上および前記第１の絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして前記半導体膜を選択的に除去して島状の半導体層を形成し、
前記レジストを残したまま、前記半導体層に対してウェット酸化を行い前記半導体層の端部に第１の絶縁層を形成し、
前記半導体層上および前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上および前記第１の絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして前記半導体膜を選択的に除去して島状の半導体層を形成し、
前記レジストを除去した後、前記半導体層に対してウェット酸化を行い前記半導体層の端部及び表面に第１の絶縁層を形成し、
前記半導体層上および前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上および前記第１の絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして前記半導体膜を選択的に除去して島状の半導体層を形成し、
前記レジストを除去した後、前記半導体層の表面を希フッ酸で洗浄し、
洗浄した前記半導体層に対してウェット酸化を行い前記半導体層の端部及び表面に第１の絶縁層を形成し、
前記半導体層上および前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上および前記第１の絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして前記半導体膜を選択的に除去して島状の半導体層を形成し、
前記レジストを除去した後、前記半導体層の表面を希フッ酸で洗浄し、
洗浄した前記半導体層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層で覆われていない前記半導体層に対してウェット酸化を行い前記半導体層の端部に第１の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上および前記第１の絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に第１のレジストを形成し、
前記第１のレジストをマスクとして前記半導体膜を選択的に除去して島状の半導体層を形成し、
前記第１のレジストの側面を後退させることにより、前記半導体層の表面を部分的に覆う第２のレジストを形成し、
前記第２のレジストをマスクとして前記半導体層に対してウェット酸化を行い前記半導体層の端部及び上面の一部に第１の絶縁層を形成し、
前記第２のレジストを除去した後、前記半導体層および前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上および前記第１の絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項４または請求項５において、
前記半導体層の表面を前記希フッ酸で洗浄することにより、前記絶縁表面が部分的に除去されて前記半導体層と前記絶縁表面が接する領域に窪みが形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第２の絶縁層は、前記第１の絶縁層より誘電率が大きいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記ゲート電極をマスクとして前記半導体層に選択的に不純物を添加して、不純物領域およびチャネル形成領域を形成し、
前記チャネル形成領域と前記第１の絶縁層とは接することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上に電荷蓄積層を選択的に形成し、
前記電荷蓄積層上に第３の絶縁層を形成し、
前記第３の絶縁層上に前記ゲート電極を形成し、
前記電荷蓄積層、前記第３の絶縁層および前記ゲート電極をマスクとして前記半導体層に選択的に不純物を添加して、不純物領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記第２の絶縁層を介して、前記半導体層上に電荷蓄積層を選択的に形成し、
前記第２の絶縁層上および前記電荷蓄積層上に第３の絶縁層を形成し、
前記電荷蓄積層および前記第３の絶縁層をマスクとして前記半導体層に選択的に低濃度に不純物を添加して、低濃度不純物領域を形成し、
前記第３の絶縁層上に前記低濃度不純物領域を覆うように前記ゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして前記半導体層に選択的に高濃度に不純物を添加して、高濃度不純物領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一において、
前記ウェット酸化は、オゾンを含む水溶液、過酸化水素を含む水溶液、硫酸を含む水溶液、ヨウ素酸を含む水溶液、または硝酸を含む水溶液を用いて行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記オゾンを含む水溶液、前記過酸化水素を含む水溶液、前記硫酸を含む水溶液、前記ヨウ素酸を含む水溶液、または前記硝酸を含む水溶液は、酢酸またはしゅう酸を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光を発する光源と、
前記照明光の光軸上に配置され、第１の濃度勾配を有する第１フィルタ部材と、
前記光軸上において前記第１フィルタ部材と重ねて配置され、第２の濃度勾配を有する第２フィルタ部材とを備え、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材の双方に前記照明光を透過させることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
請求項１に記載の照明装置において、
前記第１の濃度勾配および前記第２の濃度勾配は略等しく構成され、前記両フィルタ部材は双方の濃度勾配の向きを逆にして配設されることを特徴とする照明装置。
【請求項３】
請求項１に記載の照明装置において、
前記第２の濃度勾配は前記第１の濃度勾配の一部と略等しく構成され、前記両フィルタ部材は双方の濃度勾配の向きを逆にして配設されることを特徴とする照明装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、１色または互いに異なる複数色の濃度勾配を有していることを特徴とする照明装置。
【請求項５】
請求項４に記載の照明装置において、
前記各フィルタ部材は、前記照明光の色温度を下げるための色の濃度勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれアンバーの濃度勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項７】
請求項４または５に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれブルーの濃度勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項８】
請求項４または５に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれアンバーおよびブルーの濃度勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項９】
請求項４または５に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれグリーンおよびマゼンタの濃度勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれ無色領域を有することを特徴とする照明装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材が、互いに異なる複数色の濃度勾配をそれぞれ有する場合には、前記無色領域は前記異なる濃度勾配の間に配置されることを特徴とする照明装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材とは別に設けられ、かつ前記照明光の光軸上において前記両フィルタ部材と重ねて配置されており、所定濃度を有する第３フィルタ部材をさらに備え、
前記第１フィルタ部材、前記第２フィルタ部材および前記第３フィルタ部材のそれぞれに前記照明光を透過させることを特徴とする照明装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の照明装置において、
前記第３フィルタ部材は、グリーンの所定濃度領域を有することを特徴とする照明装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の照明装置において、
前記第３フィルタ部材は、前記グリーンの所定濃度領域および無色領域を有することを特徴とする照明装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材と前記第２フィルタ部材との重畳状態を変化させる重畳可変手段をさらに備えることを特徴とする照明装置。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれが光源を囲んだ円筒形状であって、かつ互いに重ねて配設されることを特徴とする照明装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、前記円筒形状の円周方向に沿って前記濃度勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の照明装置において、
前記第１フィルタ部材および前記第２フィルタ部材は、それぞれが前記円筒形状の円周方向に回転移動することを特徴とする照明装置。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記濃度勾配は、濃淡の変化による勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項２０】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記濃度勾配は、濃度の有無の面積比の変化による勾配を有することを特徴とする照明装置。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の照明装置において、
前記各フィルタ部材と前記光源との間に配設され、前記照明光の射出領域を所定範囲に制限する制限部材をさらに備えることを特徴とする照明装置。
【請求項２２】
測光手段と、
請求項１〜請求項２１のいずれか一項に記載の照明装置と、
前記測光手段による測光結果に基づいて、前記照明装置による照明光の色温度を変化させるための情報を前記照明装置へ伝える通信手段とを備えることを特徴とするカメラ。
【請求項２３】
請求項１〜請求項２１のいずれか一項に記載の照明装置と、
測光手段、および前記測光手段による測光結果に基づいて、前記照明装置による照明光の色温度を変化させるための情報を前記照明装置へ伝える通信手段を備えるカメラと、から構成されることを特徴とするカメラシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明による照明装置は、照明光を発する光源と、照明光の光軸上に配置され、第１の濃度勾配を有する第１フィルタ部材と、光軸上において第１フィルタ部材と重ねて配置され、第２の濃度勾配を有する第２フィルタ部材とを備え、第１フィルタ部材および第２フィルタ部材の双方に照明光を透過させることを特徴とする。
本発明によるカメラは、測光手段と、請求項１〜請求項２１のいずれか一項に記載の照明装置と、測光手段による測光結果に基づいて、照明装置による照明光の色温度を変化させるための情報を照明装置へ伝える通信手段とを備えることを特徴とする。
本発明によるカメラシステムは、請求項１〜請求項２１のいずれか一項に記載の照明装置と、測光手段、および測光手段による測光結果に基づいて、照明装置による照明光の色温度を変化させるための情報を照明装置へ伝える通信手段を備えるカメラと、から構成されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月25日(2010.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定波長の光が入射される光入射面と、該光の入射に応答して光電子を放出する光電子出射面を有する光電陰極であって、
第１主面と該第１主面に対向する第２主面を有する支持基板と、
第１主面と該第１主面に対向する第２主面を有するとともにアルカリ金属を含む光電子放出層であって、当該光電子放出層の第１主面が前記支持基板の第２主面に対面するよう前記支持基板の第２主面上に設けられた光電子放出層と、そして、
前記支持基板の第２主面と前記光電子放出層の第１主面に直接接触した状態で前記支持基板と前記光電子放出層との間に設けられた下地層であって、ベリリウム元素を含む下地層とを備えた光電陰極。
【請求項２】
前記下地層の厚みは、該下地層の厚みに対する前記光電子放出層の厚みの比が０．１以上かつ１００以下の範囲に収まるよう設定されていることを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項３】
前記光電子放出層は、アンチモンとアルカリ金属との化合物からなることを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項４】
前記アルカリ金属は、セシウム、カリウム及びナトリウムの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項５】
前記支持基板は、入射される前記所定波長の光を透過する材料からなり、そして、
当該光電陰極は、前記支持基板の第１主面が前記光入射面として機能する一方、前記光電子放出層の第２主面が前記光電子出射面として機能する透過型光電陰極を含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項６】
請求項５記載の光電陰極と、
前記光電陰極から放出された電子を収集する陽極と、そして、
前記光電陰極及び前記陽極を収納する容器を備えた電子管。
【請求項７】
前記支持基板は、入射される前記所定波長の光を遮断する材料からなり、そして、
当該光電陰極は、前記光電子放出層の第２主面が前記光入射面として機能するとともに前記光電子出射面としても機能する反射型光電陰極を含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項８】
請求項７記載の光電陰極と、
前記光電陰極から放出された電子を収集する陽極と、そして、
前記光電陰極及び前記陽極を収納する容器を備えた電子管。
【請求項９】
前記下地層は、酸化ベリリウムと酸化マグネシウムの混晶を含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項１０】
前記下地層は、酸化ベリリウムと酸化マンガンの混晶を含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項１１】
前記下地層は、酸化ベリリウムと酸化イットリウムの混晶を含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項１２】
前記下地層は、酸化ベリリウムと酸化ハフニウムの混晶を含むことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項１３】
前記下地層は、酸化ベリリウムを含む層と、該酸化ベリリウムを含む層と前記支持基板との間に位置に酸化ハフニウム膜を備えたことを特徴とする請求項１記載の光電陰極。
【請求項１４】
請求項５又は７記載の光電陰極と、
前記光電陰極から放出された光電子をカスケード増倍するための電子増倍部と、
前記電子増倍部から放出された二次電子を収集する陽極と、そして、
前記光電陰極、前記電子増倍部及び前記陽極を収納する容器を備えた光電子電子管。
【請求項１５】
前記電子放出層は、Ｋ２ＣｓＳｂからなることを特徴とする請求項１、３又は４記載の光電陰極。
【請求項１６】
前記電子放出層は、Ｎａ２ＫＳｂからなることを特徴とする請求項１、３又は４記載の光電陰極。
【請求項１７】
前記電子放出層は、Ｃｓ（Ｎａ２Ｋ）Ｓｂからなることを特徴とする請求項１、３又は４記載の光電陰極。
【請求項１８】
前記電子放出層は、Ｃｓ２ＴｅＳｂからなることを特徴とする請求項１、３又は４記載の光電陰極。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられた少なくとも一対の電極と、前記一対の電極の間に設けられた蛍光体層と、前記一対の基板の一方の基板の外側に設けられた反射防止層を有し、
前記一方の基板は透光性を有し、
前記反射防止層は間隔を有して隣接する複数の凸部が設けられ、
複数の前記凸部は被膜で覆われており、
前記被膜の屈折率は前記凸部の屈折率より高いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．０５以上０．６５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が１００ｎｍ以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．６５以上１．１５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が５０ｎｍ以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記凸部は円錐形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記凸部は底面が多角形であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸いドーム状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、柱状構造体上に錐状構造体が積層された形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
一対の基板と、前記一対の基板の一方の基板に設けられた電子放出素子と、前記一対の基板の他方の基板に設けられた電極と、前記電極に接する蛍光体層と、前記他方の基板の外側に設けられた反射防止層を有し、
前記他方の基板は透光性を有し、
前記反射防止層は間隔を有して隣接する複数の凸部を有し、
複数の前記凸部は被膜で覆われており、
前記被膜の屈折率は前記凸部の屈折率より高いことを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．０５以上０．６５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が１００ｎｍ以下であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１０】
請求項８において、
前記凸部の屈折率と前記被膜の屈折率の差は０．６５以上１．１５以下であり、前記凸部の頂部と前記被膜の頂部との高さの差が５０ｎｍ以下であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか一項において、
前記凸部は円錐形状であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１２】
請求項８乃至１０のいずれか一項において、
前記凸部は底面が多角形であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１３】
請求項８乃至請求項１２のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、前記先端部が丸いドーム状であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【請求項１４】
請求項８乃至請求項１３のいずれか一項において、
前記凸部の形状は、柱状構造体上に錐状構造体が積層された形状であることを特徴とする電界放出型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月25日(2011.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォルモテロールフマル酸塩二水和物、ブデソニド、HFA 227、ポリビニルピロリドン(ＰＶＰ)、およびポリエチレングリコール(ＰＥＧ)を含み、ここで、該ＰＶＰが０.００１％(w/w)の量で存在し、該フォルモテロールフマル酸塩二水和物が０.０９mg/mlの濃度で存在し；そしてブデソニドが１mg/mlから８mg/mlの濃度で存在する、医薬組成物。
【請求項２】
ＰＶＰがPVP K25である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
ＰＥＧがPEG 1000である、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
ＰＥＧが０.３％(w/w)の量で存在する、請求項１から３の何れか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
フォルモテロールが単一のＲ,Ｒ−エナンチオマーの形態である、請求項１から４の何れか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
第２活性成分がブデソニドの２２Ｒ−エピマーである、請求項１から５の何れか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
呼吸器疾患の処置もしくは予防に使用するための、請求項１から６の何れか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
喘息、鼻炎、またはＣＯＰＤの処置もしくは予防に使用するための、請求項１から６の何れか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月8日(2011.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
IL-2受容体に特異的に結合する抗体または抗体断片を含む、多発性硬化症の被験者を治療するための薬学的組成物。
【請求項２】
被験者が、βインターフェロンによるこれまでの治療に反応しなかった被験者である、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項３】
被験者が、インターフェロン-β1a、インターフェロン-β1b、またはその双方によるこれまでの治療に反応しなかった被験者である、請求項２に記載の薬学的組成物。
【請求項４】
抗体が、IL-2受容体に特異的に結合するキメラモノクローナル抗体、ヒト化モノクローナル抗体またはヒトモノクローナル抗体である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項５】
抗体が、ヒト化モノクローナル抗体である、請求項４に記載の薬学的組成物。
【請求項６】
抗体が、ヒトモノクローナル抗体である、請求項４に記載の薬学的組成物。
【請求項７】
抗体または抗体断片が、p55に特異的に結合する、請求項１乃至６のいずれか一項記載の薬学的組成物。
【請求項８】
抗体が、ダクリズマブである、請求項７記載の薬学的組成物。
【請求項９】
抗体または抗体断片が約1〜約3 mg/kgの用量で投与されるように製剤化されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１０】
抗体または抗体断片が約1〜約2 mg/kgの用量の投与されるように製剤化されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１１】
２週間に1回または1ヶ月に１回投与されるように用いられる、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１２】
被験者の治療によって、核磁気共鳴画像によって評価した対比増強病変数が減少することを特徴とする、請求項1乃至１１のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１３】
被験者が、再発-寛解性の多発性硬化症を有する、請求項1乃至１２のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１４】
被験者が、進行性多発性硬化症を有する、請求項1乃至１２のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１５】
皮下投与のための、請求項1乃至１４のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１６】
抗体または抗体断片が50〜400 mgの単位投与剤型で投与されるように製剤化されている、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１７】
抗体または抗体断片が150〜200 mgの単位投与剤型で投与されるように製剤化されている、請求項１６に記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月29日(2010.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下に示されているようなＸ線粉末回折パターンピーク位置を有するものとして特徴づけられる、形態Ｂモンテルカストナトリウム。
【表１】
2010132668.tif 000001
【請求項２】
請求項１に記載のモンテルカストナトリウム形態Ｂの治療的有効量と、医薬適合性のキャリヤとを含んでいる医薬組成物。
【請求項３】
喘息またはアレルギー性鼻炎の治療のための請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
ウイルス性気管支梢炎にともなう呼吸器症状の治療のための請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項５】
慢性蕁麻疹の治療のための請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項６】
結膜炎の治療のための請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項７】
副鼻腔炎の治療のための請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項８】
モンテルカストナトリウム：アセトニトリルヘミソルベート。
【請求項９】
グリシンのカルボニル共鳴を１７６．０８に設定することによって参照された場合、２７（良好な分離（ｗｅｌｌ  ｒｅｓｏｌｖｅｄ））、および５５（良好な分離）のｐｐｍの１３Ｃ固体状態ＣＰＭＡＳ  ＮＭＲ化学シフトを有することを特徴とする、請求項８に記載のモンテルカストナトリウム：アセトニトリルヘミソルベート。
【請求項１０】
下に示されているようなＸ線粉末回折ピークを有することを特徴とする、請求項８に記載のモンテルカストナトリウム：アセトニトリルヘミソルベート。
【表２】
2010132668.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月9日(2011.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２官能性開始剤、ルイス酸及び溶媒の存在下に、オキシスチレン系単量体とビニルエーテル系単量体を共存させ、オキシスチレン系単量体の反応速度定数ｋＯＳとビニルエーテル系単量体の反応速度定数ｋＶＥとの反応速度定数比がｋＶＥ／ｋＯＳ≧１６５０となる条件下でリビングカチオン重合させて、ポリビニルエーテル系重合体をセンターブロックとするＡＢＡ型トリブロック共重合体を得ることを特徴とするビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【請求項２】
オキシスチレン系単量体が、次の一般式（１）
【化１】
2010132717.tif 000001
（式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルコキシアルキル基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニルアルキル基、または炭素数２〜６のアルキルシリル基のいずれかを表す）
で表されるオキシスチレン系単量体であることを特徴とする、請求項１記載のビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【請求項３】
ビニルエーテル系単量体が、次の一般式（２）
【化２】
2010132717.tif 000002
［式中、Ｒ３は炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖アルキル基、アルキル基の全部若しくは一部の水素がフッ素に置換された炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基であるフルオロアルキル基、炭素数２〜６のアルコキシアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、または
−（ＣＨ２）ｍ−Ｘ
（ここで、ｍは０、１、２または３であり、Ｘは未置換のフェニル基、或いは、フェニル基の一つまたはそれ以上の水素が、炭素数１〜４の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、アルキル基の全部若しくは一部の水素がフッ素に置換された炭素数１〜４の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基であるフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、またはハロゲン原子によって置換されたフェニル基である）で表されるアリール基またはアリールアルキル基を表す］
で表されるビニルエーテル系単量体であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【請求項４】
２官能性開始剤が、次の一般式（３）
【化３】
2010132717.tif 000003
（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ５は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す）
で表される構造を有することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載のビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【請求項５】
ルイス酸が、有機金属ハロゲン化物と金属ハロゲン化物の混合系であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載のビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【請求項６】
ビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．３以下であることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれかに記載のビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【請求項７】
２官能性開始剤、ルイス酸及び溶媒の存在下に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンとエチルビニルエーテルを共存させ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンの反応速度定数ｋＴＢＯＳとエチルビニルエーテルの反応速度定数ｋＥＶＥとの反応速度定数比がｋＥＶＥ／ｋＴＢＯＳ≧１６５０となる条件下でリビングカチオン重合させて、ポリエチルビニルエーテルをセンターブロックとするＡＢＡ型トリブロック共重合体を得ることを特徴とするビニルエーテル系ＡＢＡ型トリブロック共重合体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月17日(2011.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
比較のため、従来から偽造防止等のセキュリティ用途などで用いられている赤外発光蛍光体として、Ｎａ５（Ｙｂ０．９５Ｎｄ０．０５）（ＭｏＯ４）４蛍光体を比較例１とした。
蛍光体の発光特性の測定は、赤外線の波長領域まで測定できるように拡張した分光蛍光光度計（型式：ＲＦ−５０００  島津製作所製）を用いた。励起光は赤外線の波長領域である８２５ｎｍの光を選択し、発光スペクトルは８６０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長範囲で測定した。また励起スペクトルは、上記発光スペクトルの主発光ピーク波長における発光に基づき、それぞれ測定した。
発光強度は、発光スペクトルから主発光ピークに着目し、ベースラインからの発光ピークの高さを発光強度とした。
表２に、８２５ｎｍの赤外線照射したときの比較例１、および試料１−（１）ないし試料１−（７）の蛍光体の発光特性を示す。
また、試料１−（４）については８２５ｎｍの光により励起して得た発光スペクトルを図１に、発光波長が９８５ｎｍの時の励起スペクトルを図２に示し、比較例１の８２５ｎｍの光により励起して得た発光スペクトルを図５に、発光波長が９８０ｎｍの時の励起スペクトルを図６に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【表２】
2010132750.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
表２に示すように、（Ｌｕ，Ｙｂ，Ｎｄ）２Ｏ２Ｓ蛍光体であって、Ｙｂのモル比ｘを０．０３に固定したとき、試料１−（２）ないし試料１−（６）すなわちＮｄのモル比ｙが０．００５以上０．０４５以下の蛍光体は比較例１に比べて発光強度が向上しており、より好ましいことがわかる。
ここで、Ｎｄのモル比ｙが０．００５未満の試料１−（１）は、共付活剤のＮｄ濃度が少なすぎるため発光強度が低下し、またｙが０．０４５を超える試料１−（７）は、Ｎｄに吸収されたエネルギーがＹｂに効果的にエネルギー伝達されずに発光強度が低下すると推測される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
表３に示すように、（Ｌｕ，Ｙｂ，Ｎｄ）２Ｏ２Ｓ蛍光体であって、Ｙｂのモル比ｘおよびＮｄのモル比ｙを様々に変化させた場合、発光強度が比較例１よりほぼ向上していることがわかる。
表２および表３に示した結果に基づき、より好ましい範囲として例えば９００以上の発光強度をもつＹｂとＮｄのモル比ｘ、ｙの範囲を検討した結果、次の式を全て満たす条件となった。
ｘは、０．０１≦ｘ≦０．０７。
ｙは、０．００３≦ｙ≦０．０６。
（ｙ／ｘ）は、１／６≦（ｙ／ｘ）≦５／３。
これら、３つの式を満たす範囲において、すべて９００以上の発光強度を有しており、より好ましい赤外発光蛍光体となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月17日(2011.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リール設置台と、複数個のリール測定端子とを有する金属線条体巻装用のリール測定装置であって、
前記設置台のテーブル面は、リール回転軸を囲む円盤状台座を有し、
前記円盤状台座は超硬質製、かつ、複数個に分割されており、
前記リール回転軸の軸心の先端部はテーパー状に形成されており、
前記軸心は上部と下部とに分かれており、上部と下部との間にはバネが存在し、前記軸心の上部が垂直方向に移動可能である、
ことを特徴とする金属線条体巻装用のリール測定装置。
【請求項２】
リールの孔部に上方から嵌め込んで固定するための固定部材であって、先端部がテーパー状に形成された固定部材を有する請求項１に記載の金属線条体巻装用のリール測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の金属線条体巻装用のリール測定装置は、リールの孔部に上方から嵌め込んで固定するための固定部材であって、先端部がテーパー状（リール側が狭く、反対側が広いテーパー状）に形成された固定部材を有することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月25日(2011.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス繊維ロービングを用い、プルトルージョン法から得られる、ガラス繊維と熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物を射出成形して得られる射出成形品であって、該樹脂組成物が熱可塑性樹脂３０〜９０重量部とガラス繊維ガラス繊維７０〜１０重量部を含み、ガラス繊維含有量（Ｗ（重量部））と、せん断速度１０００ｓｅｃ−１で測定した成形温度での該熱可塑性樹脂組成物の溶融粘度（η）が数式１を満足し、成形品中の重量平均ガラス繊維長が１．８〜５．０ｍｍである事を特徴とする射出成形品。
η（Ｐａ・ｓ）≧２．５Ｗ×（重量部）＋２５  （数式１）
【請求項２】
ガラス繊維の断面の長径と短径の比が１〜１．５であることを特徴とする請求項１記載の射出成形品。
【請求項３】
熱可塑性樹脂がポリアミド樹脂、ポリアミド６６、半芳香族ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロプレンのいずれか１種を含んでいることを特徴とする請求項１または２記載の射出成形品
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、ガラス繊維強化熱可塑性樹脂組成物において、ガラス繊維含有量（Ｗ(重量部））と、剪断速度１０００ｓｅｃ−１で測定した成形温度での樹脂組成物の溶融粘度（η）が特定の関係を満たすことで優れた物性を有する樹脂組成物が得られ、また、その樹脂組成物を用いて得られる射出成形品が優れた物性を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
［１］ガラス繊維ロービングを用い、プルトルージョン法から得られる、ガラス繊維と熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物を射出成形して得られる射出成形品であって、該樹脂組成物が熱可塑性樹脂３０〜９０重量部とガラス繊維７０〜１０重量部を含み、ガラス繊維含有量（Ｗ（重量部））と、剪断速度１０００ｓｅｃ−１で測定した成形温度での該熱可塑性樹脂組成物の溶融粘度（η）が数式１を満足し、成形品中の重量平均ガラス繊維長が１．８〜５．０ｍｍであることを特徴とする射出成形品。
η（Ｐａ・ｓ）≧２．５×Ｗ（重量部）＋２５      （数式１）
［２］  ガラス繊維の断面の長径と短径の比が１〜１．５であることを特徴とする［１］記載の射出成形品。
［３］  熱可塑性樹脂がポリアミド樹脂、ポリアミド６６、半芳香族ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンのいずれか１種を含んでいることを特徴とする［１］または［２］記載の射出成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月26日(2011.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】Ｓｎメッキ剥離装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅基材の表面にＳｎメッキ層が形成されたワークからＳｎメッキ層を剥離するＳｎメッキ剥離装置であって、
周面に貫通孔が形成され、水平軸線方向一端側に投入口が設けられるとともに、他端側に排出口が設けられ、内周面に、前記水平軸線に沿って一定角度に捩れる複数条のガイド部が設けられた回転ドラムと、
陰極が付設されて酸化性溶液が収容される電解槽と、
前記回転ドラムを水平軸線回りに回転させる駆動機構とを備え、
前記回転ドラムは、後方側が端部に向かうに従い縮径するテーパ状に形成された概略筒状をなしているとともに、前方側に位置する円筒部と、後方側に位置する円錐部とから構成され、前記円筒部の前方側の一端面に前記投入口が設けられ、前記円錐部の端部に前記排出口が設けられ、前記ガイド部は、前記円筒部の内周面に形成された一次ガイド部と、前記円錐部の内周面に形成された二次ガイド部とから構成され、
前記回転ドラムの一部を前記電解槽に浸漬し、前記回転ドラムを陽極として電解しながら該回転ドラム内のワークを回転攪拌することを特徴とするＳｎメッキ剥離装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記課題を解決するため、この発明は以下の手段を提案している。
即ち、本発明に係るＳｎメッキ剥離装置は、銅基材の表面にＳｎメッキ層が形成されたワークからＳｎメッキ層を剥離するＳｎメッキ剥離装置であって、周面に貫通孔が形成され、水平軸線方向一端側に投入口が設けられるとともに、他端側に排出口が設けられ、内周面に、前記水平軸線に沿って一定角度に捩れる複数条のガイド部が設けられた回転ドラムと、陰極が付設されて酸化性溶液が収容される電解槽と、前記回転ドラムを水平軸線回りに回転させる駆動機構とを備え、前記回転ドラムは、後方側が端部に向かうに従い縮径するテーパ状に形成された概略筒状をなしているとともに、前方側に位置する円筒部と、後方側に位置する円錐部とから構成され、前記円筒部の前方側の一端面に前記投入口が設けられ、前記円錐部の端部に前記排出口が設けられ、前記ガイド部は、前記円筒部の内周面に形成された一次ガイド部と、前記円錐部の内周面に形成された二次ガイド部とから構成され、前記回転ドラムの一部を前記電解槽に浸漬し、前記回転ドラムを陽極として電解しながら該回転ドラム内のワークを回転攪拌することを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、このＳｎメッキ剥離装置によれば、ワークは貫通孔を介して回転ドラム内に浸入した酸化性溶液に浸漬されており、また、回転ドラムが陽極として通電されると該回転ドラムの内部のワークも陽極となる。これにより、電解液としての酸化性溶液によって陽極としてのワークと電解槽内の陰極とが隔てられた電気化学的構造が成立する。回転ドラムが回転する際であっても酸化性溶液は貫通孔を介して内外を絶えず移動することが可能なため上記の電気化学的構造が崩れることはなく、回転攪拌によってワーク同士が重なりあった部分を引き剥がすとともに該ワークを互いに擦り合わせながら、陽極電解を行うことができ、Ｓｎメッキ層の剥離の促進を図ることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この場合、ワークを投入口から回転ドラム内に投入し、回転ドラムを正回転させると、ワークはガイド部によって一端側に導かれ、これにより行き場を失ったワークは一端側の端面に押し上げられるようにして回転して攪拌される。また、回転ドラムを逆回転させると、ワークは他端側に導かれて排出口に至り、処理を終えたワークを容易に回転ドラム内から排出することが可能となる。従って、ワークを回転ドラムに投入してから排出するまでの一連の作業を自動化することができるとともに、攪拌効果を上昇させてより効果的にワークからＳｎメッキ層を除去することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月27日(2010.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクセット及び記録物
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と、０．４重量％未満のカーボンブラックと、樹脂成分のエマルジョンとを含む第１のブラックインク組成物であって、当該エマルジョンのインク組成物中においての固形分含有量が当該カーボンブラックの含有量の２０倍量以上である第１のブラックインク組成物と、
水と、０．４重量％〜１．５重量％のカーボンブラックと、樹脂成分のエマルジョンとを含み、当該エマルジョンのインク組成物中においての固形分含有量が当該カーボンブラック含有量の２倍量以上である、第２のブラックインク組成物と、を有する、インクセット。
【請求項２】
前記第１のブラックインク組成物のカーボンブラックの含有量が、０．０１重量％以上である請求項１に記載のインクセット。
【請求項３】
前記第１のブラックインク組成物および前記第２のブラックインク組成物が含んでなる前記エマルジョンが、ポリアルキレン型エマルジョン及び／又はエチレン性不飽和カルボン酸単量体及びこれと共重合可能なその他の単量体を、アルコール性水酸基含有水溶性高分子化合物又は共重合性界面活性剤の存在下で重合して得られる酸価が４０以下の共重合体を、無機塩基によってｐＨを調整したｐＨ調整樹脂を樹脂成分とするエマルジョンである、請求項１又は２に記載のインクセット。
【請求項４】
前記第２のブラックインク組成物が、カーボンブラック含有量０．４〜１重量％のブラックインク組成物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクセット。
【請求項５】
前記第２のブラックインク組成物が、カーボンブラック含有量１〜１．５重量％のブラックインク組成物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクセット。
【請求項６】
インクジェット法により、請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクセットを用いて記録された、記録物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月10日(2011.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブレーキペダルの操作量に基づいてブレーキ制御を行う作動油の液圧を発生する油圧制御機構と、
前記油圧制御機構のハウジングと、
ブレーキ操作に基づいて、モータを制御するモータ制御ユニットと、を有し、
前記油圧制御機構は、
前記モータの回転軸に沿う方向に移動するピストンと、
前記ピストンの移動に基づき動作油の油圧を発生するマスタシリンダと、
前記モータの回転トルクに基づいて前記ピストンを前記モータの回転軸に沿う方向に移動させる移動機構と、を有し、
前記モータ制御ユニットが前記ハウジングの外周に固定され、
前記モータ制御ユニットは前記ピストンの移動軸に沿って長い形状のケースを有し、
前記モータ制御ユニットの前記ケースの前記マスタシリンダ側と前記油圧制御機構の外周との間に空間が形成されているブレーキ制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載のブレーキ制御装置であって、
前記モータ制御ユニットの前記ケースには、その前記油圧制御機構側に開口が形成され、
前記油圧制御機構のハウジングには、その前記モータ制御ユニット側に開口が形成され、
前記モータ制御ユニットは、前記モータ制御ユニットの前記ケースに形成された開口と前記ハウジングに形成された開口とが対向するように、前記ハウジングに固定されているブレーキ制御装置。
【請求項３】
請求項１に記載のブレーキ制御装置であって、
前記モータ制御ユニットにフィンを有するブレーキ制御装置。
【請求項４】
請求項３に記載のブレーキ制御装置であって、
前記モータ制御ユニットのケースは金属製であり、空間を介して前記油圧制御機構に対向する前記ケースの外側面にフィンが形成されているブレーキ制御装置。
【請求項５】
請求項２に記載のブレーキ制御装置であって、
前記油圧制御機構のハウジングは、前記モータを収納しており、
前記モータは固定子と回転子とを有し、前記固定子は前記ハウジングの内側に固定され、
前記モータ制御ユニットのケースに形成された開口および前記ハウジングに形成された開口を介して前記モータ制御ユニットから前記モータの固定子に電力が供給されるブレーキ制御装置。
【請求項６】
請求項５に記載のブレーキ制御装置であって、
前記ハウジング内に前記モータの回転子の磁極の位置を検出する検出器が収納され、
前記検出器から検出結果が、前記モータ制御ユニットのケースに形成された開口および前記ハウジングに形成された開口を介して前記モータ制御ユニットに送られるブレーキ制御装置。
【請求項７】
請求項５に記載のブレーキ制御装置であって、
前記モータの前記回転子は、磁極を形成するための永久磁石を有する第１の部分と前記第１の部分より半径の小さい第２の部分とを有し、
前記第１の部分と前記第２の部分とが、モータの回転軸方向配置されて前記回転子を形成している、ブレーキ制御措置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ブレーキ制御装置は、ブレーキペダルの操作量に基づいてブレーキ制御を行う作動油の液圧を発生する油圧制御機構と、油圧制御機構のハウジングと、ブレーキ操作に基づいて、モータを制御するモータ制御ユニットと、を有し、油圧制御機構は、モータの回転軸に沿う方向に移動するピストンと、ピストンの移動に基づき動作油の油圧を発生するマスタシリンダと、モータの回転トルクに基づいてピストンをモータの回転軸に沿う方向に移動させる移動機構と、を有し、モータ制御ユニットがハウジングの外周に固定され、モータ制御ユニットはピストンの移動軸に沿って長い形状のケースを有し、モータ制御ユニットのケースのマスタシリンダ側と油圧制御機構の外周との間に空間が形成されている構成を成している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月10日(2011.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブレーキペダルの操作量に基づいてブレーキ制御を行う作動油の液圧を発生する油圧制御機構と、
前記油圧制御機構のハウジングと、
モータを制御するモータ制御ユニットと、を有し、
前記油圧制御機構は、
ブレーキ操作に基づいて移動するピストンと、
前記ピストンに基づき動作油の油圧を発生するマスタシリンダと、
前記モータの内側に設けられ、前記モータの回転トルクに基づいて前記ピストンを前記モータの軸方向に移動させる移動機構と、を有し、
前記ハウジングは、車両の固定する固定部を有し、
前記モータ制御ユニットは、コンデンサ及びリレーが設けられた電源基板を有し、
前記モータの軸と前記移動機構の移動軸とは同一であり、
前記ハウジングと前記モータ制御ユニットは固定され、
前記コンデンサ、又は前記リレーは、前記電源基板に沿って横になって配置されたブレーキ制御装置。
【請求項２】
請求項１記載のブレーキ制御装置であって、
前記コンデンサ、又は前記リレーの外周面が前記電源基板により保持されて配置されたブレーキ制御装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載のブレーキ制御装置であって、
前記モータ制御ユニットは、前記電源基板に直流電流を流すバスバーを有し、前記バスバーは前記コンデンサに接続されたブレーキ制御装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載のブレーキ制御装置であって、
前記モータ制御ユニットは、前記電源基板に直流電流を流すバスバーを有し、前記バスバーは前記リレーに接続されたブレーキ制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ブレーキ制御装置は、ブレーキペダルの操作量に基づいてブレーキ制御を行う作動油の液圧を発生する油圧制御機構と、油圧制御機構のハウジングと、モータを制御するモータ制御ユニットと、を有し、油圧制御機構は、ブレーキ操作に基づいて移動するピストンと、ピストンに基づき動作油の油圧を発生するマスタシリンダと、モータの内側に設けられ、モータの回転トルクに基づいてピストンをモータの軸方向に移動させる移動機構と、を有し、ハウジングは、車両の固定する固定部を有し、モータ制御ユニットは、コンデンサ及びリレーが設けられた電源基板を有し、モータの軸と移動機構の移動軸とは同一であり、ハウジングとモータ制御ユニットは固定され、コンデンサ、又はリレーは、電源基板に沿って横になって配置された構成を有している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月9日(2010.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
船舶用の可変ピッチプロペラ（ＣＰＰ）においては、機関の負荷を回転数に応じた設定値に保持するためにプロペラの翼角を自動負荷制御装置（ＡＬＣ）により自動的に制御するようにしている。通常の自動負荷制御装置においては、プロペラの翼角を操縦ハンドルの操作に基づいて翼角設定器により目標値付近に設定しておき、プロペラ軸に加わる負荷の変動に起因した機関の設定回転数と実回転数との偏差に応じて翼角を補正するようにしている。このように、負荷変動によって機関の実回転数が変化したときに翼角を補正するようにしたのでは、実回転数に対する翼角目標値が固定的であるので、船舶の積載量や海象によって変わる航海条件に対しては翼角を応答性良く変化させることができない。