Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月11日(2009.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ実装方法であって、
ハッシュ関数への入力に従ってエクスパンダグラフを探索し、前記エクスパンダグラフは入力メッセージのそれぞれのサブセットを使用して探索されるステップであって、前記入力メッセージはセグメントに分割され、前記セグメントの少なくともサブセットについて、エクスパンダグラフの中の次のそれぞれの頂点への経路が、サブセットの特定のセグメントの態様に基づいて判定され、前記エクスパンダグラフは、特性ｐの有限フィールド上での超特異楕円曲線のグラフを備えるステップと、
最後に探索された頂点のラベルを判定するステップと、
ハッシュ関数の結果として前記ラベルを出力するステップであって、前記ハッシュ関数は衝突に対する耐性を有しているステップと
を備えたことを特徴とするコンピュータ実装方法。
【請求項２】
前記エクスパンダグラフはRamanujanグラフをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エクスパンダグラフはLubotzky-Phillips-Sarnakエクスパンダグラフをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記結果は暗号ハッシュであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ハッシュ関数の衝突を見つけることは計算量的に困難であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記入力メッセージは一定のエントロピー度を有していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記エクスパンダグラフはｎ個の頂点を含み、前記入力メッセージはエントロピー度を有し、前記方法は、
それぞれのラベルを前記グラフの頂点に割り当てるステップと、
前記エントロピー度を判定するステップと
をさらに備え、
前記探索するステップが、前記エントロピー度を使用して前記ｎ個の頂点を探索して、完全にランダムな頂点出力を特定するステップをさらに備え、
前記出力が前記ｎ個の頂点の最後に探索された頂点のそれぞれの割り当てられたラベルであり、前記最後の頂点のラベルはハッシュ関数の結果である
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記エントロピー度を判定するステップは、エクストラクタ関数を使用して前記入力メッセージに関連するランダム度を判定するステップをさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
メッセージをセグメントに分割するステップと、
ハッシュ関数への入力に従ってエクスパンダグラフを探索し、前記エクスパンダグラフが前記エクスパンダグラフの中のｎ個の頂点の次の頂点への経路を判定するために前記セグメントのそれぞれを使用して探索されるステップであって、前記エクスパンダグラフはLubotzky-Phillips-Sarnakエクスパンダグラフであるステップと、
最後に探索された頂点のラベルを判定するステップと、
前記ハッシュ関数の結果として前記ラベルを出力するステップと
について、プロセッサにより実行可能なコンピュータプログラムの命令を備えたコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１０】
前記エクスパンダグラフはRamanujanグラフであることを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１１】
前記結果は暗号ハッシュであることを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１２】
前記ハッシュ関数の衝突を見つけるステップは計算量的に困難であることを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１３】
前記メッセージは、前記メッセージから抽出されたエントロピー度に基づいて前記セグメントに分割されることを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１４】
前記エクスパンダグラフはｎ個の頂点を備え、前記メッセージはエントロピー度を有し、前記コンピュータ可読命令は、
前記グラフの頂点にそれぞれのラベルを割り当てるステップ、
前記エントロピー度を判定するステップと
についての構造をさらに備え、
探索するステップは、完全にランダムな頂点出力を特定するために前記エントロピー度を使用して前記ｎ個の頂点を探索するステップをさらに備え、
前記出力は前記ｎ個の頂点の最後に探索された頂点のそれぞれの割り当てられたラベルであり、前記最後の頂点のラベルはハッシュ関数の結果である
ことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１５】
前記エントロピー度を判定するためのコンピュータプログラムの命令は、エクストラクタ関数を使用して前記メッセージに関連するランダム度を判定するための命令をさらに備えることを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１６】
プロセッサに結合されたメモリであって、
エクスパンダグラフの中のｎ個の頂点のそれぞれの頂点にそれぞれのラベルを割り当てるステップと、
入力メッセージをセグメントに分割するステップと、
ハッシュ関数への入力として前記エクスパンダグラフを探索するステップであって、前記エクスパンダグラフが前記エクスパンダグラフの中のｎ個の頂点の次の頂点への経路を判定するために前記セグメントのそれぞれを使用して探索され、前記探索における次の頂点への経路の判定は、次のセグメントからビットを読み取ってどの辺が現在の頂点から通り抜けたかを判定することで実行され、前記エクスパンダグラフは、特性ｐの有限フィールド上での超特異楕円曲線のグラフ、Ramanujanグラフ、及びLubotzky-Phillips-Sarnakエクスパンダグラフからなるグループから選択されるステップと、
前記頂点の最後に探索された頂点のラベルを判定するステップと、
前記ハッシュ関数の結果として前記ラベルを出力するステップと
についての前記プロセッサにより実行可能なコンピュータプログラム命令を備えたメモリ
を備えることを特徴とするコンピューティングデバイス。
【請求項１７】
前記結果は暗号ハッシュであることを特徴とする請求項１６に記載のコンピューティングデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ処理システムを操作する方法であって、
総表示画面内にセットされた第１のスペースを永続的に占有する第１のウィンドウを生成するステップであって、前記第１のスペースは前記総表示画面の対応する長さ寸法よりも小さい第１の長さ寸法と第２の長さ寸法とを有し、残りの利用可能な表示画面スペースは不規則な形状である、ステップと、
前記残りの利用可能な表示画面スペースを占有するように、第２のウィンドウを構成するステップであって、前記第２のウィンドウは標準的な長方形のウィンドウ形状に比べて不規則な形状をとる、ステップと、
前記第２のウィンドウを構成するステップに先立って、ウィンドウ・フロー操作機能がウィンドウ生成システム内で活動化されているかどうかを判定するステップと、
前記ウィンドウ・フロー操作機能が活動化されている場合には、前記構成するステップを動的に実行するステップと、
前記ウィンドウ・フロー操作機能が活動化されていない場合には、
前記第２のウィンドウを標準的な形状及び寸法で表示することと、
前記表示スペース内の前記残りの利用可能なスペースを占有するように前記第２のウィンドウを再構成することを可能とするための選択可能機能を提供することと、
前記ユーザが前記選択可能機能を選択した場合は、前記第２のウィンドウが前記残りの利用可能なスペースを占有するように自動的に再構成することであって、前記第２のウィンドウは前記不規則な形状のウィンドウに再構成される、ことと、
によって、前記第２のウィンドウを前記利用可能なスペースに流れ込ませるべきかどうかユーザが選択することを可能にするステップと
を含み、
前記選択可能機能は、フロー・ハンドルであり、前記フロー・ハンドルは、前記ウィンドウが再構成され得る少なくとも１つの方向に設けられ、
前記フロー・ハンドルのユーザ選択及びドラッグ操作を可能にするステップと、
前記ユーザが前記フロー・ハンドルを移動させる方向に応じて、前記フロー・ハンドルの場所に対応する前記ウィンドウの境界線を、それが前記利用可能スペースの内外に移動するように自動的に再構成するステップと
を更に含む方法。
【請求項２】
同様の方向の、前記表示画面に対応する長さ寸法よりも小さい第１の長さ寸法と第２の長さ寸法とを有する前記表示画面上の第１のスペースを永続的に占有する前記第１のウィンドウを、前記表示画面上に表示するステップと、
前記第２のウィンドウを前記表示画面内の第２の領域に表示するステップであって、前記第２の領域は前記表示画面上の前記利用可能な出力スペースの隣接部分に対応し、前記隣接部分の第１の部分は、前記第１のウィンドウに隣接して前記第１の長さ寸法だけ延び、前記隣接部分の第２の部分は、前記第２のウィンドウに隣接して前記第２の長さ寸法だけ延びる、ステップと
を更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記表示画面の右端に沿って配置されている前記第２のウィンドウの一端にだけ延びる垂直スクロール・バーを、前記第２のウィンドウ内に設けるステップと、
前記垂直スクロール・バーを利用してコンテンツの垂直スクロール操作を可能にするステップであって、前記垂直スクロール・バーが前記表示画面の垂直長さ寸法よりも短い場合は、垂直スクロール操作された前記コンテンツの一部分が前記表示画面の右端に近接していない方の前記第２のウィンドウ内の領域まで上昇する、ステップと、
を更に含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のウィンドウは、前記第２のウィンドウの後にオープンされ、
現時点で前記第２のウィンドウによって占有されている前記表示画面内の領域に前記第１のウィンドウが配置されたことに応じて、前記第２のウィンドウを動的に移動させるステップであって、それによって前記第１のウィンドウが配置されている前記領域の周辺に所在する残りのスペースが占有される、ステップ
を更に含む請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記構成するステップは、
前記第２のウィンドウを、Ｌ字型のスペースを占有するように構成するステップであって、前記Ｌ字の具体的な位置は、前記表示画面スペース内の前記第１のウィンドウの場所に依存する、ステップと、
前記第２のウィンドウを、前記第１のウィンドウと重複することなく前記利用可能なスペースを占有するように構成するステップと、
のうちの少なくとも１つを更に含む、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
コンピュータ・システムにロードされ、前記コンピュータ・システム上で実行されたときに、前記コンピュータ・システムに請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法に係るすべてのステップを実行させるコンピュータ・プログラム・コードを含むコンピュータ・プログラム。
【請求項７】
データ処理システムであって、
プロセッサと、
前記プロセッサと結合された記憶装置であって、それ自体が前記プロセッサによって実行されたときに、前記データ処理システムに請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法に係るすべてのステップを実行させるソフトウェア・コードが記憶された記憶装置と、
を備えるデータ処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月14日(2009.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能化粒子が、表面の酸素原子に共有結合している、式（１）：
【化１】
2009514001.tif 000001
〔式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素、粒子表面−Ｏ−または置換基であり、
ｎは、１、２、３、４、５、６、７または８であり、
Ｂは、直接結合または架橋員であり、そして
Ｄは、有機発色団の残基である〕
で示されるラジカルを含む、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３またはＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３の混合粒子である、電気泳動ディスプレーシステム用、好ましくは電気泳動ディスプレー用電気泳動表示粒子としての機能化粒子の使用。
【請求項２】
分散媒質と、請求項１記載の少なくとも１つの機能化粒子とを含む、電気泳動ディスプレーシステム用、好ましくは電気泳動ディスプレー用電気泳動分散体。
【請求項３】
電気泳動表示粒子として請求項１または２記載の機能化粒子を含む、電気泳動ディスプレー。
【請求項４】
１対の基板と、基板の間に配置された電気泳動分散体とを含み、ここで、基板のうちの少なくとも１方は、透明な物質を含み、基板は、その間に所定の間隔を有し、電気泳動分散体は、少なくとも液体分散媒質と、表面電荷を有する請求項１記載の電気泳動粒子とを含む、電気泳動ディスプレーシステム。
【請求項５】
表面の酸素原子に共有結合している、式（１′）：
【化６】
2009514001.tif 000002
〔式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素、粒子表面−Ｏ−または置換基であり、
ｎは、１、２、３、４、５、６、７または８であり、
Ｂは、直接結合または架橋員であり、さらに
ｉ）Ｄは、非荷電ホルマザン、ジオキサジン染料のラジカルであるが、但し、フタロシアニン染料は除外されるか、あるいは、
ii）Ｄは、非電荷モノアゾ、ジアゾ、ポリアゾ、アントラキノン、ホルマザン、ジオキサンまたは金属錯体染料のラジカルであるが、但し、フタロシアニンは除外され、機能化粒子が、さらに、表面の酸素原子に共有結合している、式（７）：
【化７】
2009514001.tif 000003
〔式中、
Ｒ１２およびＲ１３は、Ｒ1およびＲ２について請求項１において提示されている意味を有し、
Ｒ１１は、それぞれ非置換であるかまたはアミノ、メルカプト、フェニル若しくはヒドロキシルにより置換されており、非中断であるかまたは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ１４）−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ１４）−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ１４）−若しくはフェニレンにより中断されている、Ｃ１〜Ｃ２５アルキルまたはＣ２〜Ｃ２４アルケニル；Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキル；Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルケニル；またはそれぞれ架橋員を介して結合してもよい重合性基若しくはポリマーであり、そして
Ｒ１４は、水素、または非置換若しくは置換Ｃ１〜Ｃ１２アルキルである〕
で示されるラジカルを含む〕
で示されるラジカルを含む、機能化ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３またはＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３の混合粒子。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサに、
特定のデータセットの所有権を第１のプロセスに関連付けることと、
前記特定のデータセットを前記第１のプロセスから第２のプロセスに送信することと、
前記特定のデータセットの前記所有権を前記第１のプロセスから前記第２のプロセスに転送することであって、前記第１のプロセスは、前記所有権を転送した後、前記特定のデータセットに対するアクセスをもはや有さない、転送することと
を実行させるプロセッサ実行可能な命令を記録したことを特徴とするプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項２】
前記データセットは、メッセージを含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項３】
前記データセットは、１つまたは複数のプロセス間通信のエンドポイントを含むことを特徴とする請求項１に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項４】
前記所有権の転送は、前記第１のプロセスと前記第２のプロセスとを接続する１つまたは複数のプロセス間通信コンジットを通して起こることを特徴とする請求項１に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項５】
前記特定のデータセットを送信すること、および前記所有権を転送することはともに、メモリ割り当てを必要とせずに行われることを特徴とする請求項１に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項６】
前記特定のデータセットは、割り当てられたメモリ内のアドレス可能な位置に格納され、前記割り当てられたメモリは、各位置に前記第１のプロセスまたは前記第２のプロセスのいずれかはアクセス可能であるが、前記第１のプロセスおよび前記第２のプロセスの両方同時にはアクセスすることはできない、複数のアドレス可能な位置を有することを特徴とする請求項１に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項７】
プロセッサに、
コンピュータオペレーティングシステム環境において、１つまたは複数の分離ソフトウェアプロセスの実行を提供することであって、各プロセス間通信チャネルが２つ以上のエンドポイントから構成されている１つまたは複数のプロセス間通信チャネルを通して所有権の転送が起こる、提供することと、
前記１つまたは複数のプロセス間通信チャネルのうちの１つのプロセス間通信チャネルを介して、特定のデータセットを第１の分離ソフトウェアプロセスから第２の分離ソフトウェアプロセスに送信することと、
前記第１の分離ソフトウェアプロセスが所有する前記特定のデータセットの所有権を、前記第１の分離ソフトウェアプロセスから前記第２の分離ソフトウェアプロセスに転送することと
を実行させるプロセッサ実行可能な命令を記録したことを特徴とするプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項８】
前記第１の分離ソフトウェアプロセスは、前記所有権を転送した後は、前記特定のデータセットに対するアクセスを有さないことを特徴とする請求項７に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項９】
前記特定のデータセットは、バッファ内のアドレス可能な位置に格納され、前記バッファは、複数のアドレス可能な位置を有し、該複数のアドレス可能な位置の各位置に、前記第１の分離ソフトウェアプロセスまたは前記第２の分離ソフトウェアプロセスのいずれかはアクセス可能であるが、前記第１の分離ソフトウェアプロセスおよび前記第２の分離ソフトウェアプロセスの両方が同時にはアクセスすることができないことを特徴とする請求項７に記載のプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１０】
プロセッサに、
コンピュータオペレーティングシステム環境において、２つまたはそれ以上の分離ソフトウェアプロセスを取得することであって、取得した前記２つまたはそれ以上の分離ソフトウェアプロセスは、前記コンピュータオペレーティングシステム環境において実行可能となるようにフォーマットされる、取得することと、
共有交換ヒープには、複数の分離ソフトウェアプロセスによる同時アクセスが可能なメモリブロックがないことを確認することであって、該アクセスは、前記２つまたはそれ以上の分離ソフトウェアプロセスが実行している間に起こり、１つまたは複数のメモリブロックを有する前記共有交換ヒープと、該１つまたは複数のメモリブロックのうちの１つまたは複数とは、前記２つまたはそれ以上の分離ソフトウェアプロセスが実行されると、該２つまたはそれ以上の分離ソフトウェアプロセスからの同時アクセスが可能である、確認することと
を実行させるプロセッサ実行可能な命令を記録したことを特徴とするプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーを含有する可視光透過性サブストレートと、
前記サブストレート上に配置されている赤外光反射性コレステリック液晶層を備え、前記サブストレートと前記赤外光反射性コレステリック液晶層の合計ヘイズ値が３％未満である、赤外光反射性物品。
【請求項２】
ポリマーを含有する可視光透過性サブストレートと、
前記サブストレート上に配置されている赤外光反射性コレステリック液晶層と、
前記可視光透過性サブストレート又は前記赤外光反射性コレステリック液晶層の上に配置されている感圧性接着剤層と、
前記感圧性接着剤層の上に配置されているガラスサブストレートを備える、赤外光源から発せられる赤外光を遮る光制御物品。
【請求項３】
第１の赤外波長範囲の光を反射させる第１のコレステリック液晶層と、
前記第１の赤外波長範囲の光を反射させる第２のコレステリック液晶層と、
前記第１のコレステリック液晶層と前記第２のコレステリック液晶層の間に配置されているリターダフィルムを備えており、前記リターダフィルムが、前記第１の赤外波長範囲の光の少なくとも一部を移相させて、前記光が第２のコレステリック液晶層によって反射されるようにする、赤外光反射性物品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月5日(2009.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
輻射線吸収化合物、並びに、順に：
アルカリ性現像剤を使用して除去することができる高分子材料を含む内層、および
エポキシ当量130〜1000を提供するのに十分なペンダントエポキシ基を有するポリマーバインダーを含み、そして前記ペンダントエポキシ基のための硬化剤を含まない、画像形成用輻射線による露光前にアルカリ性現像剤を使用して除去することができないインク受容性外層
を有する基板を含んで成るポジ型画像形成性要素。
【請求項２】
前記外層ポリマーバインダーが、エポキシ当量140〜750を提供するのに十分なペンダントエポキシ基を有する、請求項1に記載の要素。
【請求項３】
前記外層ポリマーバインダーが、1種又は2種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導されたアクリル樹脂であり、該モノマーうちの少なくとも1種が、ペンダントエポキシ基を含む、請求項1又は2に記載の要素。
【請求項４】
ペンダントエポキシ基を有する前記外層高分子バインダーが、下記構造(I)によって表される請求項1〜3のいずれか一項に記載の要素：
【化１】
2009514018.tif 000001
（上記式中、R1は、水素、炭素原子数1〜6のアルキル基、又はハロ基であり、R2は、エポキシ部分を含有する基であり、Lは直接的な結合、又は連結基であり、Bは、ペンダントエポキシ基を有さない1種又は2種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された反復単位を表し、xは20〜100重量％であり、そしてyは0〜80重量％である）。
【請求項５】
R1が、水素、メチル、又はクロロであり、Lが、-C(O)O-アルキレン、-C(O)O-アルキレン-フェニレン、又は-C(O)O-フェニレンであり、アルキレンの炭素原子数が1〜4であり、xが40〜95重量％であり、yが5〜60重量％であり、そしてR2が、グリシジル、又は3,4-エポキシシクロヘキシル基である、請求項4に記載の要素。
【請求項６】
xが、40〜95重量％であり、そしてペンダントエポキシ基を含む反復単位が、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタクリレート、及び3,4-エポキシシクロヘキシルアクリレートのうちの1種又は2種以上から誘導される、請求項4又は5に記載の要素。
【請求項７】
A)  請求項1〜6のいずれか一項に記載のポジ型画像形成性要素を熱的に画像形成し、
これにより、画像形成された領域と非画像形成領域とを有する画像形成された要素を形成し、そして
B)  前記画像形成された領域だけを除去するために、前記画像形成された要素をアルカリ性現像剤と接触させ、そして
C)  任意選択的に、前記画像形成され、そして現像された要素をベーキングする
ことを含んで成り、
工程Aで得られた画像形成された要素が、前記外層の前記ポリマーバインダー中のペンダントエポキシ基が実質的に無反応であることを特徴とする、
画像形成方法。
【請求項８】
前記現像剤が、チオ硫酸塩、又は少なくとも1つのN-水素原子と、ヒドロキシ又は酸性基又はポリエチレンオキシド鎖で置換されたアルキル基とを有するアミノ化合物を含む、請求項7に記載の方法。
【請求項９】
請求項7又は8に記載の方法から得られた画像。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月24日(2009.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工物上にパターンを生成するとき、ムラ効果を減らすための方法であって、
少なくとも一つの光書込みユニットに加工物表面の全域を走査させて画素格子を創成する工程を含み、前記画素格子は、パターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこで少なくとも一つ光書込みユニットの走査の軸方向およびパターンの特徴軸は、前記画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないようになっている方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法に於いて、前記走査工程が少なくとも二つの等距離走査ラインを創成する方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法に於いて、前記走査工程を少なくとも二つの方向で行う方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの空間変調器を有する方法。
【請求項５】
請求項３に記載の方法に於いて、前記最小の一つの空間光変調器の軸の少なくとも一つが前記パターンの特徴軸に関して斜めである方法。
【請求項６】
請求項３に記載の方法に於いて、前記走査工程を二つの方向で行い、並びに前記パターンの特徴軸、前記空間光変調器の軸、および上記走査の方向が非平行である方法。
【請求項７】
加工物上にパターンを発生するための書込み装置であって、
画素格子を創成するために加工物表面の全域を走査するように構成した少なくとも一つの光書込みユニットを含む書込みヘッドを含み、前記画素格子は、パターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこで前記画素格子の軸およびパターンの特徴軸は、画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントせず、前記画素格子の単一画素列にプリントしないようになっている装置。
【請求項８】
請求項７に記載の装置に於いて、前記書込みヘッドが走査中少なくとも二つの等距離走査ラインを創成するように構成してある装置。
【請求項９】
請求項７に記載の装置に於いて、前記書込みヘッドが前記加工物を少なくとも二方向に走査するように構成してある装置。
【請求項１０】
請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの画素行を有する装置。
【請求項１１】
請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの空間光変調器を有する装置。
【請求項１２】
請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの空間光変調器が一次元的である装置。
【請求項１３】
請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つのＳＬＭを有し且つ前記加工物を少なくとも二方向に走査するように構成してあり、並びにこの走査方向、このＳＬＭの軸および前記パターンの特徴軸が非平行である装置。
【請求項１４】
ロータスキャナシステムを使って加工物上にパターンを発生するとき、ムラ効果を減らすための方法であって、
各々電磁放射線を出す複数の光書込みユニットを有するロータスキャナを回転する工程、および
前記複数の書込みユニットの少なくとも一つの光書込みユニットに加工物表面の全域を走査させて、画素格子を創成する工程を含み、該画素格子は、このパターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこで前記画素格子の軸およびパターンの特徴軸を、画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないように、互いに対して回転する方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの画素列を有し、および前記列が前記パターンの特徴に対して斜めである方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載の方法に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して半径方向に出す方法。
【請求項１７】
請求項１４に記載の方法に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して軸方向に出す方法。
【請求項１８】
請求項１４に記載の方法に於いて、前記加工物を走査する工程が、
画素格子を創成するために前記加工物を第１方向に走査する工程を含み、前記画素格子を第１方向と前記画素格子の軸との少なくとも一つに対してある角度を成して創成し、該角度は０°、４５°または９０°とは異なる方法。
【請求項１９】
請求項１４に記載の方法に於いて、前記加工物を走査する工程が、
上記加工物で第１方向に走査して前記加工物上に螺旋パターンを創成する工程を含む方法。
【請求項２０】
請求項１４に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を、前記ロータスキャナの回転面と前記ロータスキャナの走査方向との少なくとも一つと平行な方向に出す装置。
【請求項２１】
請求項１４に記載の装置に於いて、前記加工物上に発生したパターンが複数の等距離走査ラインを含む装置。
【請求項２２】
加工物上にパターンを発生するための書込み装置であって、
各々電磁放射線を出す複数の光書込みユニットを含むロータスキャナを含み、このロータスキャナは、この複数の光書込みユニットの少なくとも一つにこの加工物表面の全域を走査させて、画素格子を創成するように構成してあり、この画素格子は、このパターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこでこの少なくとも一つの光書込みユニットの軸およびこのパターンの特徴軸を、この画素格子の単一画素をこの加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないように、互いに対して回転する装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して半径方向に出す装置。
【請求項２４】
請求項２２に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して軸方向に出す装置。
【請求項２５】
請求項２２に記載の装置に於いて、前記ロータスキャナが走査中に前記加工物上に螺旋パターンを創成する装置。
【請求項２６】
請求項２２に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を、前記ロータスキャナの回転面と前記ロータスキャナの走査方向との少なくとも一つと平行な方向に出す装置。
【請求項２７】
請求項２２に記載の装置に於いて、前記加工物上に発生したパターンが複数の等距離走査ラインを含む装置。
【請求項２８】
加工物にパターン付けするときムラ効果を減らすための方法であって、
少なくとも一つの光書込みユニットに加工物表面の全域を走査させて画素格子を創成する工程にして、前記画素格子は、パターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこでこの少なくとも一つの光書込みヘッドの軸およびこのパターンの特徴軸を、前記画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないように、互いに対して回転する工程、
前記加工物および複数の光書込みユニットを互いに対して動かし、この相対運動が直線運動と該直線運動に垂直な方向の円運動との組合わせである工程を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月19日(2009.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インナー領域（ｉｎｎｅｒ  ａｒｅａ）、データ領域及びアウター領域（ｏｕｔｅｒ  ａｒｅａ）をそれぞれ含む複数層記録媒体であって、
少なくとも前記インナー領域に割り当てられた第１テスト領域及び制御情報領域を有する第１層であって、前記制御情報領域はウオッブル形態にエンボシングされている、第１層と、
前記インナー領域に割り当てられた少なくとも第２テスト領域及び管理領域を有する第２層と、
を備え、
前記第１層のテスト領域は、入射ビームに対して前記第１層に隣接する第２層に割り当てられた管理領域と物理的に同じ位置に配置されておらず、前記制御情報領域は、入射ビームに対して前記第２層の前記第２テスト領域と部分的又は全体的に同じ位置に物理的に配置されていること
を特徴とする記録媒体。
【請求項２】
前記第１及び第２テスト領域は、各層に対して最適パワー制御（ＯＰＣ）領域であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項３】
前記第１層に割り当てられた第１テスト領域は、入射ビームに対して前記第２層の第２テスト領域と物理的に同じ位置に配置されないことを特徴とする請求項２に記載の記録媒体。
【請求項４】
前記管理領域は、１回のみ書込み可能な録媒体記録層の臨時ディスク管理領域（ＴＤＭＡ）であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項５】
各層に割り当てられた全てのＴＤＭＡは、入射ビームに対して物理的に同じ位置に配置されることを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項６】
前記第２層にデータを記録するための前記データ領域は、入射ビームに対して、前記第１層の前記第１テスト領域と物理的に同じ位置に配置されないことを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項７】
前記第２層の予備領域は、入射ビームに対して前記第１層の前記第１テスト領域と物理的に同じ位置に配置されることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項８】
前記第２層のバッファゾーンは、入射ビームに対して前記第１層の前記第２テスト領域と物理的に部分的又は全体的に同じ位置に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の記録媒体。
【請求項９】
前記記録媒体は、１回のみ書込み可能なＢＤ−Ｒ（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体。
【請求項１０】
複数層記録媒体にデータを記録する方法であって、
ａ）第１層の第１テスト領域又は第２層の第２テスト領域で記録パワーをテストし、最適記録パワーを決定する段階と、
ｂ）前記決定された最適記録パワーでデータを記録し、データ記録による制御情報を、前記第１層及び／又は前記第１層に隣接した第２層に割り当てられた管理領域に記録する段階と
を備え、
前記第１層の前記第１テスト領域は、入射ビームに対して前記第２層の管理領域と物理的に同じ位置に配置されておらず、前記第１層にウオッブル形態でエンボシングされている制御情報領域は、入射ビームに対して前記第２層の前記第２テスト領域と部分的又は全体的に同じ位置に物理的に配置されていることを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記第１及び第２テスト領域は、テストデータを記録し、前記最適記録パワーを決定するための最適パワー制御（ＯＰＣ）領域であり、
前記テストする段階は、前記第１又は第２テスト領域の前記テストデータを記録することを含むこと
を特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記管理領域は、１回のみ書込み可能な記録層の臨時ディスク管理領域（ＴＤＭＡ）であり、
前記記録する段階は、臨時制御情報を前記ＴＤＭＡ記録すること
を特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
記録媒体にデータを記録する装置であって、
前記記録媒体にデータを記録するように構成されたピックアップ部と、
前記記録媒体に含まれた第１層の第１テスト領域又は第２層の第２テスト領域で記録パワーをテストするように前記ピックアップ部を制御し、前記テストに基づいて最適記録パワーを決定し、前記決定された最適記録パワーでデータを記録するように前記ピックアップ部を制御し、前記第１層又は前記第１層に隣接する第２層に割り当てられた管理領域に前記データ記録に従って制御情報を記録するように前記ピックアップ部を制御するように構成された制御部と
を備え、
前記第１層の第１テスト領域は、入射ビームに対して第２層の管理領域と物理的に同じ位置に配置されておらず、前記第１層にウオッブル形態でエンボシングされている制御情報領域は、入射ビームに対して前記第２層の前記第２テスト領域と部分的又は全体的に同じ位置に物理的に配置されていることを特徴とする装置。
【請求項１４】
前記第１及び第２テスト領域は、テストデータを記録し、前記最適記録パワーを決定するための最適パワー制御（ＯＰＣ）領域であり、
前記制御部は、前記ピックアップ部を制御し、前記テストデータを記録することにより前記最適記録パワーを決定するように構成されていること
を特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記管理領域は、１回のみ書込み可能な記録層の臨時ディスク管理領域（ＴＤＭＡ）であり、
前記制御部は、前記ピックアップ部を制御し、臨時制御情報を前記ＴＤＭＡに記録するように構成されていること
を特徴とする、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
各層に割り当てられた各ＴＤＭＡは、前記入射ビームに対して物理的に同じ位置に配置され、
前記制御部は、前記ピックアップ部を制御し、前記第２層の前記ＴＤＭＡを越えて前記第１層の前記ＴＤＭＡにデータを記録するように構成されていること
を特徴とする、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記制御部は、前記ピックアップ部を制御し、前記入射ビームに対して前記第２テスト領域を越えて前記制御データ領域に含まれる制御データを読み取るように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記制御部は、前記ピックアップ部を制御し、前記第２層の予備領域を越えて前記第１層で前記記録パワーをテストするように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月23日(2009.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両識別タグであって、
第１の情報が格納された高周波識別（「ＲＦＩＤ」）タグを含む第１の部分と、
第２の情報を含む第２の部分と、を含み、
前記車両識別タグが有効な車両識別タグであるとユーザーが判定することを可能にするように、前記ＲＦＩＤタグに格納された第１の情報は、前記第２の部分の第２の情報と相関する、車両識別タグ。
【請求項２】
有効な車両識別タグを検証する方法であって、
第１の情報が格納された高周波識別（「ＲＦＩＤ」）タグを含む第１の部分と、第２の情報を含む第２の部分と、を含む車両識別タグを提供する工程と、
前記ＲＦＩＤタグに格納された第１の情報を得るために、前記ＲＦＩＤタグに問合せする工程と、
前記第２の部分の第２の情報を読み取る工程と、
前記ＲＦＩＤタグに格納された第１の情報が、前記第２の部分の第２の情報と相関することを検証する工程と、を含む検証方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月8日(2009.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極電解液アセンブリであって、当該電極電解液アセンブリの有する複数の側面のうち一の側面に第１の触媒電極を有し、当該複数の側面のうち当該一の側面と対向する位置の側面に第２の触媒電極を有する第１の電極電解液アセンブリと、
大気温度において前記第１の触媒電極に燃料を供給可能なように前記第１の触媒電極に接続された第１の導管と、
電極電解液アセンブリであって、当該電極電解液アセンブリの有する複数の側面のうち一の側面に第３の触媒電極を有し、当該複数の側面のうち当該一の側面と対向する位置の側面に第４の触媒電極を有する第２の電極電解液アセンブリと、
伝導性のメッシュであって、当該メッシュを貫通する複数の開口部を有し、当該複数の開口部を介して前記第２の触媒電極と前記第３の触媒電極とが通じるように、前記第２の触媒電極と前記第３の触媒電極との間に密封するように取り付けられたメッシュと、
前記第４の触媒電極に酸化剤を供給可能なように前記第４の触媒電極に接続された第２の導管と、
前記第１の触媒電極と前記第２の触媒電極に接続され前記第１の電極電解液アセンブリに対し電位を与える手段と、
前記第３の触媒電極と前記第４の触媒電極に接続され前記第２の電極電解液アセンブリから出力されるエネルギーを消費する電気的負荷回路と
を備える燃料電池システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月12日(2009.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合したアニオン性官能基を含むポリマーを含むポリマー電解質膜を含む燃料電池膜電極組立体であって、前記ポリマー電解質膜がセリウムカチオンを更に含み、存在するセリウムカチオンの量が、前記ポリマーの中に存在するアニオン性官能基のモル量に基づいて、０．００１〜０．５電荷当量である、燃料電池膜電極組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月19日(2009.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルブ要素を具備する燃料サプライと、
燃料電池と動作上関連する装置であって、上記燃料サプライを収容して上記燃料サプライ内に貯蔵された燃料が上記バルブ要素を通じて上記燃料電池へ搬送されるようになされたものと、
燃料サプライに結合されたバルブカバーであって、キャップおよびサポートを具備し、上記キャップおよびサポートは、上記バルブカバーが、上記バルブ要素へのアクセスが制約されていない開位置と上記バルブ要素へのアクセスが制約されている閉位置との間を移動可能であるように、相互に相対的に移動可能であるものとを有する燃料電池システム。
【請求項２】
上記キャップは上記バルブカバーが上記閉位置にあるように通常時にバイアスされている請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項３】
開口が上記キャップに形成され、上記開口が上記バルブ要素に整合させられ、かつ上記バルブカバーが、さらに、当該バルブカバーが上記閉位置にあるときに上記開口を少なくとも部分的に隠すシャッターを有する請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項４】
上記バルブカバーは、さらに、上記キャップを上記サポートに結合させて上記キャップをバイアスして上記バルブカバーを閉位置に置くバネを有する請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項５】
上記シャッターは上記バルブカバーに回転可能に取り付けられる請求項３記載の燃料電池システム。
【請求項６】
上記キャップは、下方に伸びて上記サポートにより収容されるように構成され上記キャップを上記サポートに保持する少なくとも１つの脚部を有する請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項７】
上記脚部は上記サポートに形成された軌道に乗るように構成されたリムを有する請求項６記載の燃料電池システム。
【請求項８】
燃料吸収材料をさらに有する請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項９】
燃料を含有するハウジングと、
上記燃料と流体連通されたバルブ要素と、
上記バルブ要素へのアクセスを制御する可動シャッターとを有する燃料電池サプライ。
【請求項１０】
上記バルブカバーはサポートおよびキャップを有する請求項９記載の燃料電池サプライ。
【請求項１１】
上記キャップは上記サポートに対して回転可能である請求項１０記載の燃料電池サプライ。
【請求項１２】
上記バルブカバーは上記ハウジングに対してスライド可能である請求項９記載の燃料電池サプライ。
【請求項１３】
上記バルブカバーは、上記バルブ要素へのアクセスが制約されない開位置にバイアスされる請求項９記載の燃料電池サプライ。
【請求項１４】
上記バルブカバーは、上記バルブ要素へのアクセスが制約される閉位置にバイアスされる請求項９記載の燃料電池サプライ。
【請求項１５】
上記シャッターは、上記バルブ要素へのアクセスを制約するために移動可能な少なくとも１つのバネアームを有する請求項９記載の燃料電池サプライ。
【請求項１６】
上記バネアームを包囲して上記バネアームを上記バルブ要素に対して隠し位置に保持するロック要素をさらに有し、上記バネアームが非隠し位置において中立位置である請求項１５記載の燃料電池サプライ。
【請求項１７】
上記シャッターは上記バルブカバーに対して回転可能である請求項９記載の燃料電池サプライ。
【請求項１８】
上記シャッターは上記バルブ要素に対して上記隠し位置に保持される請求項１７記載の燃料電池サプライ。
【請求項１９】
上記バルブカバーは上記サポートに対して二方向に移動可能である請求項１記載の燃料電池システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月27日(2009.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高フッ素化ポリマー電解質及びその中に分散した少なくとも１種の酸化セリウム化合物を含むポリマー電解質膜を含む燃料電池膜電極組立体であって、前記ポリマー電解質膜の厚さにわたる前記高フッ素化ポリマー電解質の分布が均一であり、及びその際前記ポリマー電解質膜の厚さにわたる前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物の分布が均一である、燃料電池膜電極組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  高フッ素化ポリマー電解質及びその中に分散した少なくとも１種の酸化セリウム化合物を含むポリマー電解質膜を含む燃料電池膜電極組立体。
２．  前記ポリマー電解質膜の厚さにわたる前記高フッ素化ポリマー電解質の分布が均一であり、及びその際前記ポリマー電解質膜の厚さにわたる前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物の分布が均一である、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
３．  前記高フッ素化ポリマー電解質が、パーフルオロ化されている、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
４．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総重量に対して０．０１〜５重量％の量で存在する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
５．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総重量に対して０．１〜１重量％の量で存在する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
６．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総重量に対して０．２〜０．３重量％の量で存在する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
７．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総体積に対して１体積％未満の量で存在する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
８．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、ＣｅＯ２である、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
９．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、Ｃｅ２Ｏ３である、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
１０．  前記ポリマー電解質が、１０００以下の当量を有する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
１１．  前記ポリマー電解質が、９００以下の当量を有する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
１２．  前記ポリマー電解質が、８００以下の当量を有する、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
１３．  前記ポリマー電解質が、式：−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＳＯ３Ｈに従うペンダント基を含む、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
１４．  前記ポリマー電解質が、式：−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＳＯ３Ｈに従うペンダント基を含む、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
１５．  ａ）酸官能基を含む高フッ素化ポリマー電解質を提供する工程と、ｂ）その中に少なくとも１種の酸化セリウム化合物を、前記ポリマー電解質膜の総重量の０．０１〜５％を提供するような量で分散する工程と、ｃ）その後、前記ポリマー電解質を含むポリマー電解質膜を形成する工程と、を含む、燃料電池ポリマー電解質膜を製造する方法。
１６．  前記ポリマー電解質膜の厚さにわたる前記高フッ素化ポリマー電解質の分布が均一であり、及びその際前記ポリマー電解質膜の厚さにわたる各酸化セリウム化合物の分布が均一である、態様１５に記載の方法。
１７．  態様１５に記載の方法を含み、及び：ｄ）前記ポリマー電解質膜を含む膜電極組立体を形成する工程を更に含む、燃料電池膜電極組立体を製造する方法。
１８．  前記高フッ素化ポリマー電解質が、パーフルオロ化されている、態様１５に記載の方法。
１９．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総重量の０．１〜１％を提供する、態様１５に記載の方法。
２０．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総重量の０．２〜０．３％を提供する、態様１５に記載の方法。
２１．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、前記ポリマー電解質膜の総体積に対して１体積％未満の量で存在する、態様１５に記載の方法。
２２．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、ＣｅＯ２である、態様１５に記載の方法。
２３．  前記少なくとも１種の酸化セリウム化合物が、Ｃｅ２Ｏ３である、態様１５に記載の方法。
２４．  前記ポリマー電解質が、１０００以下の当量を有する、態様１５に記載の方法。
２５．  前記ポリマー電解質が、９００以下の当量を有する、態様１５に記載の方法。
２６．  前記ポリマー電解質が、８００以下の当量を有する、態様１５に記載の方法。
２７．  前記ポリマー電解質が、式：−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＳＯ３Ｈに従うペンダント基を含む、態様１５に記載の方法。
２８．  前記ポリマー電解質が、式：−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＳＯ３Ｈに従うペンダント基を含む、態様１５に記載の方法。
２９．  多孔質支持体を更に含む、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
３０．  多孔質支持体を含まない、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
３１．  前記ポリマーが架橋されている、態様１に記載の燃料電池膜電極組立体。
本発明の様々な修正及び変更は、本発明の範囲及び原理から逸脱することなく当業者には明白であり、また、本発明は、上記で説明した例示的な実施形態に不当に限定して理解すべきではない。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月2日(2009.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体エネルギデバイスの製造方法であって、
ａ．懸濁液と、電子が豊富な導電性の主たるドナー材料とを含む電子が豊富なドナー基質ペーストの層を、第１の導電性の基層に接触させるステップと、
ｂ．前記導電性の基層面上の前記基質ペーストを、前記電子が豊富なドナー基質ペーストが安定するよう乾燥させるステップと、
ｃ．前記乾燥させたドナー材料基質の上に、２つの基質の界面に静電電位を形成する目的で、懸濁液と、前記ステップａの電子ドナー層から電子を受け取ることができる正孔が豊富なアクセプタ材料とを含むアクセプタ基質ペーストの層を設けるステップと、
ｄ．前記ステップｃのドナー基質ペーストに第２の導電性の基層を適用するステップと、
ｅ．この基本セルを、前記第２の導電性の基層が安定した状態で，前記ステップｃのドナー基質ペーストに接着するよう乾燥させるステップと、
ｆ．イオン流体を、電荷担体機構として前記セル内に吸収させるステップとを具えることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１の方法において、接合剤が前記基質ペーストの少なくとも１に加えられることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１の方法において、イオン物質が前記基質ペーストの少なくとも１に加えられることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１の方法がさらに、前記イオン溶剤の吸収後に、前記セルを非導電性の密閉剤で封止し、これにより基本セルを完全な状態に保ち、イオン流体が蒸発したり、こぼれたりするのを防ぐことを特徴とする方法。
【請求項５】
固体エネルギデバイスであって、少なくとも１のセルを具え、前記セルが、正孔が豊富なアクセプタ材料と接触する電子が豊富なドナー材料の層を具え、両方の層が回路と電気的に接続しており、前記一方のセルから他方のセルへと電子の流れを促進させる前記ドナーとアクセプタ材料の中および間のイオン流体を具え、これにより前記ドナーとアクセプタ材料の界面を横切る電位を有するセルが生成されることを特徴とするデバイス。
【請求項６】
請求項５の固体デバイスにおいて、前記ドナー材料が、導電性であり電子が豊富と考えられるｎ型材料でなるグループから選択されることを特徴とするデバイス。
【請求項７】
請求項５の固体デバイスにおいて、前記アクセプタ材料が、正孔が豊富と考えられるｐ型の材料でなるグループから選択されることを特徴とするデバイス。
【請求項８】
請求項５の固体エネルギデバイスにおいて、前記電子が豊富なドナー材料が、アルミニウム、銅、鉄、鋼鉄、ステンレス鋼、カーボン、真鍮、タングステン、クロム、銀、金、およびプラチナからなるグループから選択されることを特徴とするデバイス。
【請求項９】
請求項５の固体エネルギデバイスにおいて、前記正孔の豊富なアクセプタ材料が、炭化物、ケイ酸塩、および酸化物からなるグループから選択されることを特徴とするデバイス。
【請求項１０】
請求項５の固体エネルギデバイスにおいて、前記イオン流体が、水、グリコール、塩、およびそれらの組み合わせからなるグループから選択されることを特徴とするデバイス。
【請求項１１】
抵抗負荷を通して電流を流す方法であって、
ａ．開回路に接続される少なくとも１のセルを具える固体エネルギデバイスであって、前記セルが、正孔が豊富なアクセプタ材料と接触する電子が豊富なドナー材料の層を具え、両方の層が前記開回路と電気的に接続しており、前記一方のセルから他方のセルへと電子の流れを促進させる前記ドナーとアクセプタ材料の中および間のイオン流体を具え、これにより前記ドナーとアクセプタ材料の界面を横切る電位を有するセルが生成される固体エネルギデバイスを提供するステップと、
ｂ．前記回路が閉じて電流が前記抵抗負荷を通って流れるよう前記開回路を横切って抵抗負荷を接続するステップとを具えることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１１の方法において、前記抵抗負荷は、一定の電圧と電流を維持するレートで電子と正孔の再結合が発生可能であり、これにより前記セルを、出力が安定した状態の能力に維持および制御される発電機として機能させることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１１の方法において、前記抵抗負荷は、一定の電圧と電流を維持するレートで電子と正孔の再結合が発生可能な負荷より大きいことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１１の方法がさらに、前記基本セルの出力を上げるために、前記装置にエネルギを供給するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４の方法において、前記エネルギが、熱エネルギ、電磁エネルギ、およびそれらの組合せからなるグループから選択されることを特徴とする方法。