【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
この場合、本発明には一時的被覆手段の支持体セクションの小さな曲げ強度が特に寄与する。この小さな曲げ強度は一時的な被覆手段の機能を保証するために必要とされる接着力に加えて特定される。慣用の種類の支持体材料の場合には、０．３ｍＮｍ〜１．０ｍＮｍの範囲内の曲げ強度が一般的である。しかしながら、本発明者の実験が示すとおり、このような一時的被覆手段を除いた後には二次元要素と保護用窓とよりなる複合体に除く以前には観察されなかった濁りを生じさせるので、のこのような系は光学的なディスプレーシステムを保護するのには適していない。この濁りは、一時的被覆手段を剥離するときに支持体の自由な側で生じうる表面変形作用に起因する。さらに、一時的被覆手段を除く時に接合複合体への不均一な局所的な負荷のために、二次元要素と接着基体との間の接合を局所的な剥離をもたらす。これはこの剥離した領域において新たに押し付けた後にも光の増大した散乱及びそれ故の透過率の低下をもたらし得る。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
さらに、一時的被覆手段は支持体の第二の側面の所に１．０Ｎ／ｃｍより小さい、好ましくは０．５Ｎ／ｃｍより小さい、特に好ましくは０．１Ｎ／ｃｍより小さい接着力を有していてもよい。これによって支持体から一時的被覆手段を残留物なく剥離することが極めて簡単になる。これには、脆い二次元物体への３．５Ｎ／ｃｍより大きい、特に４．０Ｎ／ｃｍより大きい接着力の接着剤層が適合する。このようにして、脆い二次元物体のための特に有効な飛散防止が実現される。この場合に、前述の両方の特徴の組み合わせが特に有利であり、それによって支持体の一時的被覆手段の特別に優しい剥離が可能とされ、その結果脆い二次元物体に貼り付いた二次元要素が一次的被覆手段を除去するときに局所的に剥がれることがなく、それ故に特に透明な接合複合体が保証される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
支持体は１．５２より大きい屈折率ｎdを有しているべきである。屈折率ｎdは、本発明においては、Snellius の屈折の法則によって規定されたパラメータにを意味する。屈折率の値は入射光の波長及び測定温度に左右される。ここでは、他に指摘がない限り、屈折率ｎdは２０℃の測定温度で５５０ｍｍ（±１５０ｎｍ）の波長の光を用いて測定される値を意味する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
この場合、生成物の光学的性質に関しては、（メタ）アクリレート粘着剤が１．４３より大きい屈折率ｎd（２０℃）を有するのが有利である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
ブロックコポリマーをベースとする粘着剤の内、特に、１．５２より大きい屈折率ｎdを有しそしてブロックコポリマーの構造が以下の一般式の一つ又は以下の一般式によって記載されるような粘着剤が極めて有利である：
P(A)-P(B)-P(A)                (PI)
P(B)-P(A)-P(B)-P(A)-P(B)      (PII)
[P(A)-P(B)]nX                 (PIII)
[P(A)-P(B)]nX[P(A)]m          (PIV)
これらの式中、ｎ及びｍはプラスの整数であり、３≦ｎ≦１２及び３≦ｍ≦１２であり、Ｘは、ポリマーの種々の分岐を互いに結合させる多官能性分岐単位として役立つ化学構造を示す。さらにポリマーブロックＰ（Ａ）は、それぞれ少なくとも７５重量％のＡタイプのモノマーを含有する互いに無関係のホモポリマーブロック又はコポリマーブロックである。その際に、（コ）ポリマーブロックＰ（Ａ）は０℃〜＋１７５℃の範囲内の軟化温度及び１．５８より大きい屈折率ｎｄ（２０℃）を有するポリマーブロックである。従って、ポリマーブロックＰ（Ｂ）又はポリマーブロック群Ｐ（Ｂ）は、Ｂタイプのモノマーを含有するホモポリマー又はコポリマーであり、その際に（コ）ポリマーブロックＰ（Ｂ）は１０〜１３０℃の範囲内の軟化温度及び１．４３より大きい屈折率ｎｄ（２０℃）を有するポリマーブロックである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２９】
狭い分子量分布を持つポリ（メタ）アクリレート粘着剤を得るためには、制御されたラジカル重合も実施される。重合のために特に以下の一般式で表される制御剤が使用される：
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３１】
Ｒ$1 及び Ｒ$2 は互いに同じでも又は互いに無関係に選択できそしてＲ$3 は場合によってはＲ$1 及び Ｒ$2の両方の基と同じでも異なって選択してもよい。これらの残基は以下の群から選択される：
−直鎖状でも分岐していてもよいＣ1〜Ｃ18−アルキル残基、Ｃ3〜Ｃ18−アケニル残基及びＣ3〜Ｃ18−アルキニル残基； −Ｃ1〜Ｃ18−アルコキシ残基； 
−少なくとも１つのＯＨ基又はハロゲン原子又はシリルエーテルで置換されたＣ1〜Ｃ18−アルキル残基、Ｃ3〜Ｃ18−アルケニル残基及びＣ3〜Ｃ18−アルキニル残基；
−炭素鎖中に少なくとも１つのＯ原子及び／又はＮＲ*−基を持つＣ2〜Ｃ18−ヘテロアルキル残基、但しＲ*は任意の残基、特に有機残基である；−それぞれ少なくとも１つのエステル基、アミン基、カルボナート基、シアノ基、イソシアノ基及び／又はエポキシ基及び／又は硫黄で置換されているＣ1〜Ｃ18−アルキル残基、Ｃ3〜Ｃ18−アルケニル残基及びＣ3〜Ｃ18−アルキニル残基；−Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル残基；
−Ｃ6〜Ｃ18−アリール残基及びＣ6〜Ｃ18−ベンジル残基； −水素
この場合、ＴＴＣ  １タイプの制御剤は、一般に、以下に追加的に説明されている前記の種類の化合物群を出所としている。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３４】
１〜１８の炭素原子を含有するアルキル残基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三ブチル、ペンチル、２−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、第三オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、トリデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタデシルがある。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１５０】
重合のための制御された調整剤として以下の種類の化合物も同様に使用することができる。
−  2,2,5,5-テトラメチル-1-ピロリジニルオキシル (PROXYL)、3-カルバモイル−PROXYL、2,2-ジメチル-4,5-シクロヘキシル−PROXYL、3-オキソ-PROXYL、3-ヒドロキシイミン-PROXYL、3-アミノメチル-PROXYL、3-メトキシ−PROXYL、3-第三ブチル−PROXYL、3,4−ジ−第三ブチル−PROXYL；−  2,2,6,6-テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ (TEMPO)、4-ベンゾイルオキシ−TEMPO、4-メトキシ−TEMPO、4−クロロ−EMPO、4−ヒドロキシ−TEMPO、4−オキソ−TEMPO、4−アミノ−TEMPO、2,2,6,6,−テトラエチル−１−ピペリジニルオキシル、2,2,6−トリメチル−６−エチル−１−ピペリジニルオキシル；−  N−第三ブチル−１−フェニル−２−メチルプロピルニトロキシド；
−  N−第三ブチル−１−（２−ナフチル）−２−メチルプロピルニトロキシド；
−  N−第三ブチル−１−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド；
−  N−第三ブチル−１−ジベンジルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド；
−  N−（１−フェニル−２−メチルプロピル）−１−ジエチルホスホノ−１−メチルエチルニトロキシド；−  ジ第三−ブチルニトロキシド； 
−  ジフェニルニトロキシド； −  第三−ブチル−第三−アミルニトロキシド
接着剤を代わりの方法で製造できる別の一連の重合法は従来技術から選択される：
例えば米国特許第４，５８１，４２９Ａ号明細書には，開始剤として一般式R'R''N-O-Yで表される化合物を使用する制御されたラジカル重合法を開示している。この場合、Ｙは不飽和モノマーを重合することができる遊離ラジカル種である。しかしながらこの反応は一般に転化率が少ない。小さい分子量でそして非常に少ない収率でしか進行しないアクリレートの重合が特に問題である。国際特許出願公開第９８／１３３９２Ａ１号明細書には、対称的置換パターンを有する開鎖アルコキシアミン化合物を開示している。ヨーロッパ特許出願公開第７３５，０５２Ａ１号明細書は狭い分子量分布を有する熱可塑性エラストマーの製造方法を開示している。国際特許出願公開第９６／２４６２０Ａ１号明細書には、例えばイミダゾーリジンをベースとする燐含有の窒素酸化物のような特別なラジカル化合物を使用する重合法を開示している。国際特許出願公開第９８／４４００８Ａ１号明細書には、モルホリン類、ピペラジノン類及びピペラジンジオン類をベースとする特別なニトロキシルが開示されている。ドイツ特許出願公開第１９９４９３５２Ａ１号明細書には、制御されたラジカル重合において調整剤としてヘテロ環式アルコキシアミンが開示されている。さらに、アルコキシアミン類及び対応する遊離窒素酸化物の対応するさらなる開発がポリアクリレートの製造効率を改善することができる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２０６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２０６】
二次元要素の透明性及び接着強度の試験は６個の異なる系で実施した。これら６個の異なる二次元要素システムを製造するために、３つの試験した接着剤（ポリマー１、２及び３）の一つを２つの支持体（支持体Ａ、及び支持体Ｂ）のそれぞれに塗布した。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２２５】
【表１】
2009108303.tif 000001
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２３０】
【表２】
2009108303.tif 000002