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【手続補正書】
【提出日】平成23年2月24日(2011.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタを有する出力回路と、
順方向バイアスの電圧または逆方向バイアスの電圧を選択する閾値制御回路と、
選択された前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧を、前記トランジスタのゲートに与える電源制御回路と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
トランジスタを有する出力回路と、
順方向バイアスの電圧及び逆方向バイアスの電圧を順に選択する閾値制御回路と、
選択された前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧を、前記トランジスタのゲートに与える電源制御回路と、を有し、
前記トランジスタのゲートに前記逆方向バイアスの電圧が印加される時間は、前記トランジスタのゲートに前記順方向バイアスの電圧が印加される時間によって決まることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
トランジスタを有する出力回路と、
順方向バイアスの電圧及び逆方向バイアスの電圧を順に選択する閾値制御回路と、
選択された前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧を、前記トランジスタのゲートに与える電源制御回路と、を有し、
前記閾値制御回路は、前記トランジスタのゲートに前記順方向バイアスの電圧が与えられる第１の時間を計測する計測回路と、前記第１の時間を用いて前記トランジスタのゲートに前記逆方向バイアスの電圧が与えられる第２の時間を算出する演算回路と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
トランジスタを有する出力回路と、
順方向バイアスの電圧及び逆方向バイアスの電圧を順に選択する閾値制御回路と、
選択された前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧を、前記トランジスタのゲートに与える電源制御回路と、を有し、
前記閾値制御回路は、前記順方向バイアスの電圧が選択される第１の時間を計測する計測回路と、前記第１の時間を用いて前記逆方向バイアスの電圧が選択される第２の時間を算出する演算回路と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
トランジスタを有する出力回路と、
順方向バイアスの電圧及び逆方向バイアスの電圧を順に選択する閾値制御回路と、
選択された前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧を、前記トランジスタのゲートに与える電源制御回路と、を有し、
前記閾値制御回路は、前記トランジスタのゲートに前記順方向バイアスの電圧が与えられる第１の時間を計測する計測回路と、前記第１の時間を用いて前記トランジスタのゲートに前記逆方向バイアスの電圧が与えられる第２の時間を算出するためのデータが記憶されたメモリと、前記第１の時間及び前記データを用いて前記第２の時間を算出する演算回路と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
トランジスタを有する出力回路と、
順方向バイアスの電圧及び逆方向バイアスの電圧を順に選択する閾値制御回路と、
選択された前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧を、前記トランジスタのゲートに与える電源制御回路と、を有し、
前記閾値制御回路は、前記順方向バイアスの電圧が選択される第１の時間を計測する計測回路と、前記第１の時間を用いて前記逆方向バイアスの電圧が選択される第２の時間を算出するためのデータが記憶されたメモリと、前記第１の時間及び前記データを用いて前記第２の時間を算出する演算回路と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記メモリは、不揮発性メモリであることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項において、
前記トランジスタは、薄膜トランジスタであることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項において、
前記トランジスタは、酸化珪素よりも誘電率の高い絶縁膜を用いたゲート絶縁膜を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項において、
前記出力回路をそれぞれ有する第１の走査線駆動回路及び第２の走査線駆動回路を有し、
前記第１の走査線駆動回路が有する前記出力回路に前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧の一方が与えられる場合、前記第２の走査線駆動回路が有する前記出力回路に前記順方向バイアスの電圧または前記逆方向バイアスの電圧の他方が与えられることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項において、
前記出力回路を有する駆動回路から信号が入力される画素部を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月6日(2011.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の副画素からなる画素を複数配置した表示パネルを有する表示装置の表示方法であって、
垂直方向の座標をｉとするとともに、水平方向の座標をｊとし、位置（ｉ，ｊ）の画素Ｐ（ｉ，ｊ）を構成する表示色ａを有する副画素Ｓｐa（ｉ，ｊ）に対する画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の表示を行う際に、
前記画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の表示を前記副画素Ｓｐa（ｉ，ｊ）のみで行う第１の表示方法と、
前記画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の表示を前記画素Ｐ（ｉ，ｊ）の周囲に配置された近傍画素群Ｐ（ｉ’，ｊ’）に含まれる表示色ａを有する副画素の群からなる近傍副画素群Ｓｐa（ｉ’，ｊ’）により行う第２の表示方法と、を有し、
前記第１の表示方法と前記第２の表示方法の組み合わせの比率を環境又は用途に応じて変更することを特徴とする、表示装置の表示方法。
【請求項２】
前記環境が、前記画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の空間変化あるいは時間変化又は前記副画素の発光時間、劣化速度、温度、発光輝度あるいは表示時間であり、
前記用途が、固定パターンの表示、自然画の表示又は高解像表示であることを特徴とする、請求項１に記載の表示装置の表示方法。
【請求項３】
表示パネル内における前記第１の表示方法と前記第２の表示方法の組み合わせの比率が画像入力データＤa（ｉ，ｊ）毎に異なることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項４】
各画素における画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の空間変化が増加するに従って、対応する副画素Ｓｐa（ｉ，ｊ）における前記第２の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項５】
各画素における画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の時間変化が減少するに従って、対応する副画素Ｓｐa（ｉ，ｊ）における前記第２の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項６】
画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の発光時間が増加するに従って、前記第２の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項７】
各画素を構成する副画素が２以上であり、
前記各副画素は、その劣化速度が増加するに従って、前記第２の表示方法の比率を増加させるとともに、
その劣化速度が減少するに従って、前記第１の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項８】
少なくとも１つの副画素における前記第１の表示方法と前記第２の表示方法の組み合わせの比率に関して、温度の上昇に伴い前記第２の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項９】
少なくとも１つの副画素における前記第１の表示方法と前記第２の表示方法の組み合わせの比率に関して、最大発光輝度の増加に伴い前記第２の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項１０】
少なくとも１つの副画素における前記第１の表示方法と前記第２の表示方法の組み合わせの比率に関して、表示時間の増加に伴い前記第２の表示方法の比率を増加させることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【請求項１１】
少なくとも１つの副画素における前記第１の表示方法と前記第２の表示方法の組み合わせの比率が１：２であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置の表示方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の表示方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の表示装置は、上述した目的を達成するため、以下の特徴点を有している。すなわち、本発明の表示装置は、１つ以上の副画素からなる画素を複数配置した表示パネルを有する表示装置において、垂直方向の座標をｉ、水平方向の座標をｊとする。そして、位置（ｉ，ｊ）の画素Ｐ（ｉ，ｊ）を構成する表示色ａを有する副画素Ｓｐa（ｉ，ｊ）に対する画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の表示を行う。この際の表示方法として、２つの表示方法がある。第１の表示方法は、画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の表示を副画素Ｓｐa（ｉ，ｊ）のみで行うものである。第２の表示方法は、画像入力データＤa（ｉ，ｊ）の表示を画素Ｐ（ｉ，ｊ）の周囲に配置された近傍画素群Ｐ（ｉ’，ｊ’）に含まれる表示色ａを有する副画素の群からなる近傍副画素群Ｓｐa（ｉ’，ｊ’）により行うものである。そして本発明の表示装置では、第１の表示方法と第２の表示方法とを組み合わせて表示制御を行うとともに、その組み合わせの比率を環境又は用途に応じて変更することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月26日(2011.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
該基板上に、画素領域の周囲に、開口部又は切り欠き部を有する額縁遮光膜と、
前記開口部又は切り欠き部の内側に形成されたアライメントマークと、
前記基板側から前記開口部又は切り欠き部を覆うように形成された遮光膜と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記遮光膜は、前記アライメントマークを構成する材料よりも低い反射率を有する材料を含んで構成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記画素領域において互いに交差するデータ線及び走査線を更に備え、
前記遮光膜は、前記データ線又は前記走査線と同一層に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記開口部は、前記基板の隅に開けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記アライメントマークは、前記基板上において、前記遮光膜より上層側に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［適用例１］本適用例の電気光学装置は、基板と、該基板上に、画素領域の周囲に、開口部又は切り欠き部を有する額縁遮光膜と、前記開口部又は切り欠き部の内側に形成されたアライメントマークと、前記基板側から前記開口部又は切り欠き部を覆うように形成された遮光膜とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月21日(2011.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の表示領域に設けられた電極膜と、
少なくとも前記表示領域に、前記電極膜を覆うように形成され、ラビングによって配向処理が施される配向膜と、
前記表示領域の外側の周辺領域において、少なくともラビング方向に対して交差し、前記表示領域に沿って設けられた帯状の凸部とを具備し、
前記基板上における前記帯状の凸部の高さは、前記電極膜の表面の高さよりも高いことを特徴とする液晶装置用基板。
【請求項２】
前記基板上における前記帯状の凸部の突出量は、前記電極膜の表面に対して、少なくとも前記表示領域を覆う前記配向膜の膜厚よりも大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置用基板。
【請求項３】
前記基板は、マザー基板であって、複数の前記表示領域がマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置用基板。
【請求項４】
前記帯状の凸部は、前記マザー基板の外縁付近まで延在して設けられていることを特徴とする請求項３に記載の液晶装置用基板。
【請求項５】
前記帯状の凸部は、前記表示領域に沿って複数条設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置用基板。
【請求項６】
前記帯状の凸部は、前記電極膜と同じ材料からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶装置用基板。
【請求項７】
前記電極膜は、前記表示領域と前記帯状の凸部とを覆うように設けられていることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置用基板。
【請求項８】
基板上にラビングによって配向処理が施される表示領域を有する液晶装置用基板の製造方法であって、
前記表示領域の外側の周辺領域に、少なくともラビング方向に対して交差すると共に、前記表示領域に沿って帯状の凸部を形成する凸部形成工程と、
少なくとも前記表示領域に電極膜を形成する電極膜形成工程とを具備し、
前記凸部形成工程は、前記表示領域における前記電極膜の表面の高さよりも高くなるように前記帯状の凸部を形成することを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記凸部形成工程は、前記基板上における前記帯状の凸部の突出量が、前記電極膜の表面に対して、少なくとも前記表示領域を覆う配向膜の膜厚よりも大きくなるように前記帯状の凸部を形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶装置基板の製造方法。
【請求項１０】
前記基板は、マザー基板であって、複数の前記表示領域がマトリクス状に配置されており、
前記凸部形成工程は、前記帯状の凸部を前記マザー基板の外縁付近まで延在して形成することを特徴とする請求項８または９に記載の液晶装置用基板の製造方法。
【請求項１１】
前記凸部形成工程は、前記帯状の凸部を前記表示領域に沿って複数条形成することを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の液晶装置用基板の製造方法。
【請求項１２】
前記凸部形成工程は、前記電極膜と同じ材料を用いて前記帯状の凸部を形成し、
前記電極膜形成工程は、前記帯状の凸部を覆うように前記電極膜を形成することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の液晶装置用基板の製造方法。
【請求項１３】
少なくとも前記表示領域を覆うように絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程を備え、
前記凸部形成工程は、前記絶縁膜形成工程の後に前記絶縁膜と同じ材料を用いて前記帯状の凸部を形成し、
前記電極膜形成工程は、前記凸部形成工程の後に前記絶縁膜上に前記電極膜を形成することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の液晶装置用基板の製造方法。
【請求項１４】
対向配置された第１及び第２の基板の間に電気光学物質を介在させて構成される電気光学装置であって、
前記第１及び第２の基板の一方が請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置用基板を用いて構成されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電気光学装置を具備したことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［適用例１］本適用例の液晶装置用基板は、基板上の表示領域に設けられた電極膜と、少なくとも前記表示領域に、前記電極膜を覆うように形成され、ラビングによって配向処理が施される配向膜と、前記表示領域の外側の周辺領域において、少なくともラビング方向に対して交差し、前記表示領域に沿って設けられた帯状の凸部とを具備し、前記基板上における前記帯状の凸部の高さは、前記電極膜の表面の高さよりも高いことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［適用例８］本適用例の液晶装置用基板の製造方法は、基板上にラビングによって配向処理が施される表示領域を有する液晶装置用基板の製造方法であって、前記表示領域の外側の周辺領域に、少なくともラビング方向に対して交差すると共に、前記表示領域に沿って帯状の凸部を形成する凸部形成工程と、少なくとも前記表示領域に電極膜を形成する電極膜形成工程とを具備し、前記凸部形成工程は、前記表示領域における前記電極膜の表面の高さよりも高くなるように前記帯状の凸部を形成することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月28日(2011.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）直線状に配列された複数の発光点を備えた発光点アレイと、
（ｂ）該発光点アレイの像を拡大して露光像を形成する投影部材とを有するとともに、
（ｃ）該投影部材を構成する複数のレンズにおける少なくとも一つの面は、発光点の配列方向と、発光点の配列方向に対して直交する方向とで異なる面形状を有し、
（ｄ）前記投影部材が取り込む光線において、発光点の配列方向に対して直交する方向の開口角は、発光点の配列方向の開口角より小さくされることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記複数のレンズにおける少なくとも一つの面の面形状はアナモルフィック非球面にされる請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記複数のレンズにおける少なくとも一つの面の面形状はトロイダル面にされる請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記発光点アレイは、前記発光点の配列方向に対して直交する方向に複数配設され、発光点マトリクスを形成する請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
露光装置が搭載された画像形成装置において、
（ａ）前記露光装置は、直線状に配列された複数の発光点を備えた発光点アレイ、及び該発光点アレイの像を拡大して露光像を形成する投影部材を有するとともに、
（ｂ）該投影部材を構成する複数のレンズにおける少なくとも一つの面は、発光点の配列方向と、発光点の配列方向に対して直交する方向とで異なる面形状を有し、
（ｃ）前記投影部材が取り込む光線において、発光点の配列方向に対して直交する方向の開口角は、発光点の配列方向の開口角より小さくされることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月17日(2011.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気共鳴装置の少なくとも１つの付属部品を検出し、かつ画像化測定法により付属部品の位置または向きを検出するステップ、
検出された付属部品をデータバンクのデータと比較するステップ、
検出された付属部品に、データバンクに含まれ減弱値を有する減弱マップを割り付け、かつ減弱マップを付属部品の検出された位置または向きにマッチングさせるステップ
を有する患者の陽電子放出断層撮影データのための減弱値を求める方法。
【請求項２】
画像化測定法が磁気共鳴法である請求項１記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの付属部品が受信コイルであり、受信コイルの検出が受信コイルによる磁気共鳴画像の測定に含まれ、受信コイルの投影輪郭の解析が行なわれ、投影輪郭の解析から受信コイルの位置および向きが得られる請求項２記載の方法。
【請求項４】
付属部品の検出が付属部品の画像の撮影を含み、付属部品の位置および向きが付属部品の基準画像との相関解析によって求められる請求項１乃至３の１つに記載の方法。
【請求項５】
付属部品の検出が付属部品の画像の撮影を含み、付属部品の位置および向きが付属部品の画像のセグメンテーションによって求められる請求項１記載の方法。
【請求項６】
付属部品の検出が、付属部品を一義的に識別する少なくとも３つのマーキングの検出によって行なわれ、付属部品の位置および向きが少なくとも３つのマーキングの空間位置の解析によって求められる請求項１記載の方法。
【請求項７】
マーキングがバーコードとして実施されている請求項６記載の方法。
【請求項８】
マーキングがＲＦＩＤタグとして実施されている請求項６記載の方法。
【請求項９】
検出された付属部品が、画像化用検査装置の付属部品であって画像化用検査装置に対して相対的に位置固定されない付属部品であり、割り付けられた減弱値が第１の減弱値であり、更に、
画像化用検査装置に対して相対的に位置固定された付属部品にデータバンクからの第２の減弱値を割り付けるステップ、
患者の減弱値マップに第１の減弱値および第２の減弱値を付け加えるステップ
を含む請求項１乃至８の１つに記載の方法。
【請求項１０】
位置固定された付属部品が患者用寝台である請求項９記載の方法。
【請求項１１】
更に、
画像化用検査装置の画像化検査法により患者のデータセットを取得するステップ、
データセットのデータから第３の減弱値を算出するステップ、
患者の減弱値マップに第３の減弱値を付け加えるステップ
を含む請求項９又は１０記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部からの力が作用する作用部と、
該作用部の力を電気信号に変換するセンシング部と、
前記作用部を弾性支持する弾性体を備え、内部に前記センシング部を収めた外枠と、
を有する磁気式力センサにおいて、
前記センシング部には、前記作用部と連結された磁束発生源と、該磁束発生源が変位することによる磁束の変化量を検出する前記外枠に固定された磁電変換素子を有しており、前記磁束発生源の外周部には、前記磁束発生源の磁化方向軸を包囲して磁性体が配置されていることを特徴とする磁気式力センサ。
【請求項２】
前記磁性体は、センシング部を包囲して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気式力センサ。
【請求項３】
前記磁束発生源の磁化方向に対して、磁性体の外側端面は、磁束発生源の外側端面から突出して前記センシング部の外周部に配置していることを特徴とする請求項１に記載の磁気式力センサ。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項記載の磁気式力センサを手首部分に有するロボットアーム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気式力センサ及び磁気式力センサを有するロボットアーム
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月17日(2010.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
プラズモン型の検出素子201の場合、上記の波長と最大感度入射角の関係を略満たす様にプラズモン型の検出素子アレイ105に電磁波101を入射させる回折格子104を設計する。ここでは構成を簡単にするために、分光機能と集光機能を併せ持ついわゆる凹面回折格子を用いているが、本質的には異なる種類の回折格子でもよい。ここで、図10を参照して回折格子104と検出素子アレイ105の角度関係の一例を説明する。電磁波101が回折格子104に垂直に入射する場合を考え、回折格子104の溝のピッチを1200μｍとし、回折格子104と検出素子アレイ105の角度関係を平行から16度回転させる。すると、波長200μｍから333μｍまでの電磁波に対して、一次回折光入射角とプラズモン型の検出素子201の共鳴角を略一致させることができる。図10には、波長200μｍに対応する一次回折光202と波長300μｍに対応する一次回折光203を示している。図4は、この様に略一致させられた検出素子アレイへの一次回折光入射角と検出素子共鳴角の波長依存性の一例を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月7日(2011.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テラヘルツ波を用いてイメージングするための方法であって、
テラヘルツ波を発生させる工程と、
前記発生させる工程にて発生し、且つ検査対象を透過あるいは反射したテラヘルツ波を用いて得る、前記検査対象の第１のフーリエ変換像を取得する工程と、
前記第１のフーリエ変換像の空間周波数フィルタとして用いる第２のフーリエ変換像を取得する工程と、
前記第１のフーリエ変換像と前記第２のフーリエ変換像とを演算する工程と、を含むことを特徴とするイメージング方法。
【請求項２】
前記第２のフーリエ変換像は、前記テラヘルツ波の中心波長と異なる中心波長を持つ電磁波を用いることで取得されることを特徴とする請求項１に記載のイメージング方法。
【請求項３】
前記第２のフーリエ変換像を取得する工程は、
可視光により検査対象の実像を取得する工程と、
前記実像を２値化した像を取得する工程と、
前記２値化した像を電気的な演算処理によりフーリエ変換する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のイメージング方法。
【請求項４】
前記第２のフーリエ変換像を取得する工程は、
前記第１のフーリエ変換像を取得するために発生させた第１のテラヘルツ波とは中心周波数が異なる第２のテラヘルツ波を発生させる工程と、
検査対象を透過あるいは反射した前記第２のテラヘルツ波のフーリエ変換像を光学的に取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のイメージング方法。
【請求項５】
前記第２のフーリエ変換像を取得する工程は、
予め保存している性別、年齢、国籍ごとの平均的人物の体形から、検査対象に対応する体形を読み出す工程と、
前記検査対象に対応する体形をフーリエ変換する工程と、を含むことを特徴とする請求項１に記載のイメージング方法。
【請求項６】
前記第１のフーリエ変換像と前記第２のフーリエ変換像とを演算する工程は、
前記第１のフーリエ変換像から前記第２のフーリエ変換像を光学的に除去あるいは電気的な演算処理により減算することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のイメージング方法。
【請求項７】
前記第１のフーリエ変換像と前記第２のフーリエ変換像とを演算する工程により取得される像の逆フーリエ変換像を取得する工程を含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のイメージング方法。
【請求項８】
３０ＧＨｚから３０ＴＨｚの周波数成分を含むコリメートされたコヒーレントな電磁波を検査対象に照射する機構と、光学的手段を用いて前記検査対象からの透過電磁波もしくは反射電磁波のフーリエ変換像を得る機構と、前記フーリエ変換像に空間周波数フィルタリングを施す機構を有することを特徴とするイメージング装置。
【請求項９】
空間周波数フィルタリングされた前記フーリエ変換像を逆フーリエ変換する機構を有することを特徴とする請求項８に記載のイメージング装置。
【請求項１０】
前記フーリエ変換像を得る機構に複数のレンズ又はミラーで構成された光学系を用い、前記光学系を構成する光学面のうち検査対象に最も近い面から検査対象までの距離が、前記光学系を構成する光学面のうち検出器に最も近い面から検出器までの距離より長いことを特徴とする請求項８に記載のイメージング装置。
【請求項１１】
前記フーリエ変換像を得る機構が、検査対象の実像を結像させるためのレンズ又はミラー、及び前記実像のフーリエ変換像を形成させるためのレンズ又はミラーを有することを特徴とする請求項８に記載のイメージング装置。
【請求項１２】
前記フーリエ変換像を得る機構に、焦点距離可変機構を有するか、あるいは前記検査対象と前記フーリエ変換像を得る機構との相対的距離を変化させる機構を有するか、あるいはその両方の機構を有する光学系を用いることを特徴とする請求項８に記載のイメージング装置。
【請求項１３】
前記検出器が前記フーリエ変換像に対する前記空間周波数フィルタリングを兼ねることを特徴とする請求項８に記載のイメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月7日(2011.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波に関する情報を取得するための装置であって、
テラヘルツ波を発生させるための発生部と、
前記発生部が発生させたテラヘルツ波がサンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波を検出するための検出部と、
前記検出部が検出するタイミングを変化させるための遅延部と、
サンプルに関する情報を記憶する記憶部と、
前記記憶部が記憶しているサンプルに関する情報に基づいて前記遅延部を調整する遅延時間調整部と、
前記遅延部を用いて得る、前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形を取得するための波形取得部と、を有し、
前記遅延時間調整部は、前記記憶部が記憶しているサンプルに関する情報に基づいて設定される前記時間波形に関する領域で、前記検出部が前記テラヘルツ波を検出するように、前記遅延部を調整し、
前記波形取得部は、前記領域における前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形を取得することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記透過あるいは反射したテラヘルツ波は、第１のパルスと第２のパルスとを含み、
前記遅延時間調整部は、前記記憶部が記憶している前記第１及び第２のパルスに関する情報に基づいて、前記遅延部を非連続的に調整し、
前記波形取得部は、前記第１のパルスと前記第２のパルスとの間に時間間隔を与えて前記時間波形を取得することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記記憶部が予め記憶しているサンプルに関する情報は、予め前記波形取得部が取得したサンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形であることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記波形取得部は、前記検出部が検出したテラヘルツ波を、前記遅延部が変化させる前記タイミングに基づいてサンプリングすることにより、前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形を取得することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記遅延部は、前記テラヘルツ波を発生させるタイミングあるいは検出するタイミングの少なくとも一方を変化させることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記領域における前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形から、サンプルに関する情報を取得することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記領域における前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形と、前記記憶部が予め記憶している情報とを比較し、サンプルの状態を導出することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
サンプルを測定した回数を計数し、前記測定した前記検出部が検出したテラヘルツ波を積算し、前記積算した値と前記回数とを用いて前記テラヘルツ波の平均的な強度を求めることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
パルスレーザを発生するためのファイバレーザを有し、
前記発生部が、前記パルスレーザを照射することによりテラヘルツ波を発生するための光伝導素子で、
前記検出部が、前記パルスレーザを照射することによりテラヘルツ波を検出するための光伝導素子であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
サンプルを透過或いは反射したテラヘルツ波に関する情報を取得するための方法であって、
テラヘルツ波を発生し、
前記テラヘルツ波がサンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波を検出し、
前記検出するタイミングを変化させることにより、前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形を取得し、
予め取得したサンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形に基づいて設定される前記時間波形に関する領域で、前記透過あるいは反射したテラヘルツ波を検出するように、前記タイミングを変化し、
前記領域における前記透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形を取得することを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記領域で検出したテラヘルツ波が有するパルスと、予め取得したサンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形が有するパルスとを比較し、サンプルの状態を導出することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記反射したテラヘルツ波が、コーティング膜で被膜されたサンプルの屈折率界面で反射したパルスであることを特徴とする請求項１０あるいは１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月17日(2011.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却液体により光学素子を冷却する液冷装置を備えたプロジェクタであって、
前記液冷装置は、
内部に冷却液体を流通可能に構成され、冷却液体と熱伝達可能に前記光学素子を保持する光学素子保持部と、
冷却液体を吸入および圧送する液体圧送部と、
前記光学素子保持部および前記液体圧送部を接続し、前記冷却液体の流路を形成する複数の液体循環部材と、
前記流路中に配設され、内部に冷却液体が流通する複数の微細流路を有する受熱ジャケットとを備え、
当該プロジェクタは、
吸熱面および放熱面を有する複数の熱電変換素子を備え、
前記複数の熱電変換素子は、
前記吸熱面が前記受熱ジャケットに熱伝達可能に接続する第１の熱電変換素子と、
前記吸熱面が前記液体圧送部に熱伝達可能に接続する第２の熱電変換素子と、を備える
ことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項２】
冷却液体により光学素子を冷却する第１の液冷装置を備えたプロジェクタであって、
前記第１の液冷装置は、
内部に冷却液体を流通可能に構成され、冷却液体と熱伝達可能に前記光学素子を保持する光学素子保持部と、
冷却液体を吸入および圧送する第１の液体圧送部と、
前記光学素子保持部および前記第１の液体圧送部を接続し、冷却液体の第１の流路を形成する複数の第１の液体循環部材と、
前記第１の流路中に配設され、内部に冷却液体が流通する複数の微細流路を有する受熱ジャケットとを備え、
当該プロジェクタは、
第２の液体圧送部、ラジエータ、および複数の第２の液体循環部材を有し、前記第２の液体圧送部、ラジエータ、および前記複数の第２の液体循環部材により冷却液体の第２の流路が形成された第２の液冷装置と、
吸熱面および放熱面を有し、前記吸熱面が前記受熱ジャケットに熱伝達可能に接続するとともに前記放熱面が前記第２の液体圧送部に熱伝達可能に接続する熱電変換素子とを備える
ことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプロジェクタにおいて、
前記光学素子は、赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ画像情報に応じて変調する赤色光変調素子、緑色光変調素子、および青色光変調素子で構成され、
前記光学素子保持部は、前記赤色光変調素子、前記緑色光変調素子、および前記青色光変調素子に対応して赤色光変調素子保持部、緑色光変調素子保持部、および青色光変調素子保持部で構成され、
前記液体循環部材は、前記流路において、前記赤色光変調素子保持部、前記緑色光変調素子保持部、および前記青色光変調素子保持部を直列に接続する
ことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
前記光学素子に冷却空気を送風する冷却ファンを有する空冷装置を備える
ことを特徴とするプロジェクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のプロジェクタは、冷却液体により光学素子を冷却する液冷装置を備えたプロジェクタであって、前記液冷装置は、内部に冷却液体を流通可能に構成され、冷却液体と熱伝達可能に前記光学素子を保持する光学素子保持部と、冷却液体を吸入および圧送する液体圧送部と、前記光学素子保持部および前記液体圧送部を接続し、前記冷却液体の流路を形成する複数の液体循環部材と、前記流路中に配設され、内部に冷却液体が流通する複数の微細流路を有する受熱ジャケットとを備え、当該プロジェクタは、吸熱面および放熱面を有する複数の熱電変換素子を備え、前記複数の熱電変換素子は、前記吸熱面が前記受熱ジャケットに熱伝達可能に接続する第１の熱電変換素子と、前記吸熱面が前記液体圧送部に熱伝達可能に接続する第２の熱電変換素子と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明では、第１の熱電変換素子は、内部に複数の微細流路を有し冷却液体と接触する表面積の大きい、いわゆるマイクロチャンネル等の受熱ジャケットに吸熱面が熱伝達可能に接続する。このことにより、受熱ジャケットを介して冷却液体の熱を第１の熱電変換素子の吸熱面からより効果的に吸熱でき、冷却液体の温度をより効果的に低減させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに、本発明では、第２の熱電変換素子の吸熱面が液体圧送部に熱伝達可能に接続するので、液体圧送部を介して第２の熱電変換素子の吸熱面から吸熱された冷却液体は、液体圧送部内部において、攪拌されることとなる。このため、液体圧送部内部の冷却液体の温度を均一に低減させ、循環する冷却液体の温度を均一化できる。
本発明のプロジェクタは、冷却液体により光学素子を冷却する第１の液冷装置を備えたプロジェクタであって、前記第１の液冷装置は、内部に冷却液体を流通可能に構成され、冷却液体と熱伝達可能に前記光学素子を保持する光学素子保持部と、冷却液体を吸入および圧送する第１の液体圧送部と、前記光学素子保持部および前記第１の液体圧送部を接続し、冷却液体の第１の流路を形成する複数の第１の液体循環部材と、前記第１の流路中に配設され、内部に冷却液体が流通する複数の微細流路を有する受熱ジャケットとを備え、当該プロジェクタは、第２の液体圧送部、ラジエータ、および複数の第２の液体循環部材を有し、前記第２の液体圧送部、ラジエータ、および前記複数の第２の液体循環部材により冷却液体の第２の流路が形成された第２の液冷装置と、吸熱面および放熱面を有し、前記吸熱面が前記受熱ジャケットに熱伝達可能に接続するとともに前記放熱面が前記第２の液体圧送部に熱伝達可能に接続する熱電変換素子とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月10日(2011.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレンズが一体に形成されたレンズ集合部材を有し、
前記レンズは、光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、第１の面と第２の面で構成され、前記レンズの配列方向における前記第１の面と前記第２の面の位置が一致し、前記第１の面の素材と前記第２の面の素材の膨張率又は収縮率が異なることを特徴とするレンズアレイ。
【請求項２】
前記レンズ集合部材は、複数であってそれぞれが備える複数の前記レンズの各々の光軸が互いに一致するように配設され、
複数の絞りが配列された遮光部材を更に有し、
前記遮光部材は、複数の前記レンズの各々の光軸が各前記絞りを通過するように配設されて物体の正立等倍像を形成することを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイ。
【請求項３】
前記第１の面の形状を転写する第１の曲面と、
前記第２の面の形状を転写する第２の曲面とを有する型であって、
複数の前記第１の曲面及び複数の前記第２の曲面は、それぞれの曲面に対して垂直な方向に略直線に配列され、前記第１の曲面の配列間隔と前記第２の曲面の配列間隔とが異なる前記型を用いて形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のレンズアレイ。
【請求項４】
前記型は、固定側と可動側に分離し、前記レンズ集合部材の製造工程において、前記レンズ集合部材は、前記可動側から離型した後に前記固定側から離型し前記第１の曲面は前記可動側に形成され前記第２の曲面は前記固定側に形成され、前記第２の曲面の配列間隔より前記第１の曲面の配列間隔が大きい型により形成されたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のレンズアレイ。
【請求項５】
前記レンズ集合部材は、射出成型により形成されたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のレンズアレイ。
【請求項６】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、第１の面と第２の面で構成され、配列方向における前記第１の面と前記第２の面の位置が一致し、前記第１の面の素材と前記第２の面の素材の膨張率又は収縮率が異なるレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、第１の面と第２の面で構成され、配列方向における前記第１の面と前記第２の面の位置が一致し、前記第１の面の素材と前記第２の面の素材の膨張率又は収縮率が異なるレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とするＬＥＤヘッド。
【請求項８】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、第１の面と第２の面で構成され、配列方向における前記第１の面と前記第２の面の位置が一致し、前記第１の面の素材と前記第２の面の素材の膨張率又は収縮率が異なるレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、第１の面と第２の面で構成され、配列方向における前記第１の面と前記第２の面の位置が一致し、前記第１の面の素材と前記第２の面の素材の膨張率又は収縮率が異なるレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とする読取装置。
【請求項１０】
第１の面の形状を転写する第１の曲面と、
第２の面の形状を転写する第２の曲面とを有する型であって、
複数の前記第１の曲面及び複数の前記第２の曲面は、それぞれの曲面に対して垂直な方向に略直線に配列され、前記第１の曲面の配列間隔と前記第２の曲面の配列間隔とが異なる前記型を用いたことを特徴とするレンズアレイの製造方法。
【請求項１１】
前記型は、複数のレンズが一体に形成されたレンズ集合部材を成型する型であって、前記型は、固定側と可動側に分離し、前記レンズ集合部材の製造工程において、前記レンズ集合部材は前記可動側から離型した後に前記固定側から離型し、前記第１の曲面は前記可動側に形成され前記第２の曲面は前記固定側に形成され、前記第１の曲面の配列間隔が前記第２の曲面の配列間隔より大きいことを特徴とする請求項１０に記載のレンズアレイの製造方法。
【請求項１２】
複数のレンズが一体に形成されたレンズ集合部材を有し、
前記レンズは光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、前記レンズの配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口の形状が転写されている前記レンズ集合部材を有することを特徴とするレンズアレイ。
【請求項１３】
前記レンズ集合部材は、複数であってそれぞれが備える複数の前記レンズの各々の光軸が互いに一致するように配設され、
複数の絞りが配列された遮光部材を更に有し、
前記遮光部材は、複数の前記レンズの各々の光軸が各前記絞りを通過するように配設され、物体の正立等倍像を形成することを特徴とする請求項１２に記載のレンズアレイ。
【請求項１４】
前記レンズの形状を転写する曲面を備えた型であって、
複数の前記曲面が、それぞれの前記曲面に対して垂直な方向に略直線に配列され、前記曲面の配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口が配置されている前記型を用いて成型されたことを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載のレンズアレイ。
【請求項１５】
前記レンズ集合部材は、射出成型により形成されたことを特徴とする請求項１２乃至請求項１４のいずれか１項に記載のレンズアレイ。
【請求項１６】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口の形状が転写されているレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口の形状が転写されているレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とするＬＥＤヘッド。
【請求項１８】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口の形状が転写されているレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１９】
光軸に対して垂直な方向に略直線に配列され、配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口の形状が転写されているレンズが一体に複数形成されたレンズ集合部材を備えたレンズアレイを有することを特徴とする読取装置。
【請求項２０】
複数の曲面が、それぞれの曲面に対して垂直な方向に略直線に配列され、前記曲面の配列方向における両端部のいずれか一端部に、素材の注入口が配置されている型を用いたことを特徴とするレンズアレイの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月17日(2011.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に、フォトセンサ部及びＭＥＭＳ部を有する画素を複数有し、
前記フォトセンサ部は、前記一対の基板のうちの一方の基板に被検出物が接触したことを検知する機能を有し、
前記ＭＥＭＳ部は、前記フォトセンサ部の検知結果に基づいた信号が入力されると、前記一対の基板と垂直な方向に機械的変位を生じる機能を有することを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
請求項１において、
前記画素は、液晶素子と、前記液晶素子を制御する機能を有するトランジスタを有することを特徴とするタッチパネル。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記ＭＥＭＳ部は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に設けられた中空領域と、を有し、
前記第１の電極と前記第２の電極の間の電位の変化に応じて前記中空領域の一部が移動することによって、前記機械的変位が生じることを特徴とするタッチパネル。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記ＭＥＭＳ部は、コイルと、磁石と、前記コイルと磁石の間に設けられた液晶層と、を有し、
前記コイルと前記磁石の間の磁力の変化に応じて前記磁石が移動することによって、前記機械的変位が生じることを特徴とするタッチパネル。
【請求項５】
請求項１において、
前記画素は、発光素子と、前記発光素子を制御する機能を有するトランジスタを有することを特徴とするタッチパネル。
【請求項６】
請求項１又は請求項５において、
前記ＭＥＭＳ部は、電極と、絶縁膜と、前記電極と前記絶縁膜の間に設けられた中空領域と、を有し、
前記電極の発熱により前記中空領域が膨張することによって、前記機械的変位が生じることを特徴とするタッチパネル。
【請求項７】
一対の基板間に、フォトセンサ部及びＭＥＭＳ部を有する画素を複数有し、
前記フォトセンサ部は、フォトダイオードと、前記フォトダイオードを制御する機能を有する第１のトランジスタを有し、
前記ＭＥＭＳ部は、ＭＥＭＳ素子と、前記ＭＥＭＳ素子を制御する機能を有する第２のトランジスタを有し、
前記フォトセンサ部は、前記一対の基板のうちの一方の基板に被検出物が接触したことを検知する機能を有し、
前記ＭＥＭＳ部は、前記フォトセンサ部の検知結果に基づいた信号が入力されると、前記一対の基板と垂直な方向に機械的変位を生じる機能を有することを特徴とするタッチパネル。
【請求項８】
一対の基板間に、フォトセンサ部及びＭＥＭＳ部を有する画素を複数有し、
前記フォトセンサ部は、フォトダイオードと、第１のトランジスタと、第２のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタのゲートは前記フォトダイオードと電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース及びドレインの一方は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース及びドレインの他方は、前記第２のトランジスタのソース及びドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース及びドレインの他方は、第２の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、第３の配線と電気的に接続され、
前記フォトセンサ部は、前記一対の基板のうちの一方の基板に被検出物が接触したことを検知する機能を有し、
前記ＭＥＭＳ部は、前記フォトセンサ部の検知結果に基づいた信号が入力されると、前記一対の基板と垂直な方向に機械的変位を生じる機能を有することを特徴とするタッチパネル。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記ＭＥＭＳ部と前記一対の基板のうちの一方との間にスペーサを有することを特徴とするタッチパネル。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の前記タッチパネルを有することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
商品の発注を行うための携帯端末と、サーバと、が通信ネットワークを介して接続された店舗システムであって、
前記サーバは、商品の商品識別情報と、当該商品の発注数の基準値及び当該商品の発注担当者に伝達すべき音声情報とを対応付けて記憶する記憶手段を備え、
前記携帯端末は、
音声出力手段と、
表示手段と、
発注対象の商品の商品識別情報を入力するための入力手段と、
前記入力手段により商品識別情報が入力された際に当該商品識別情報に対応する音声情報を前記サーバから取得して前記音声出力手段に出力させるとともに、当該商品識別情報に対応する発注数の基準値を前記サーバから取得して前記表示手段に表示させる制御手段と、
を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
商品の発注を行うための携帯端末と、サーバと、が通信ネットワークを介して接続された店舗システムであって、
前記サーバは、商品の商品識別情報と、当該商品の発注数の基準値及び当該商品の発注担当者に伝達すべき音声情報とを対応付けて記憶する記憶手段を備え、
前記携帯端末は、
音声出力手段と、
表示手段と、
発注対象の商品の商品識別情報を入力するための入力手段と、
前記入力手段により商品識別情報が入力された際に当該商品識別情報に対応する音声情報を前記サーバから取得して前記音声出力手段に出力させるとともに、当該商品識別情報に対応する発注数の基準値を前記サーバから取得して前記表示手段に表示させる制御手段と、
を備える店舗システム。
【請求項２】
前記発注数の基準値は、発注数の最小値及び最大値である請求項１に記載の店舗システム。
【請求項３】
前記制御手段は、前記入力手段から入力された発注数が前記発注数の最小値から最大値までの範囲内ではない場合に、前記表示手段に前記発注数の最小値から最大値までの範囲を表示させる請求項２に記載の店舗システム。
【請求項４】
前記発注数の基準値は、発注数の初期値である請求項１に記載の店舗システム。
【請求項５】
前記入力手段は、前記表示手段に表示される発注画面の発注数入力領域に発注数を入力し、
前記制御手段は、前記発注画面の発注数入力領域に前記発注数の初期値を表示させる請求項４に記載の店舗システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月2日(2011.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光ディスクの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明の実施の形態は、情報の高密度記録を可能とした光ディスクを製造する光ディスクの製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
例えば次世代光ディスク等において有効な光透過層の厚さ及び光透過層の屈折率の範囲を規定し、高密度記録に適した光ディスクを製造することができる極めて良好な光ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
実施の形態によれば、光ディスクの製造方法は、基板上に形成された情報記録層を、光透過性を有するカバー層で覆った光ディスクを製造する方法を対象としている。そして、カバー層の屈折率ｎに関する関数ｆ（ｎ）と、カバー層における収差の許容値に基づいて設定される定数ｔ１及びｔ２とを用いて、カバー層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１≦ｔ≦ｆ（ｎ）＋ｔ２の範囲に設定されるようにしたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された情報記録層を、光透過性を有するカバー層で覆ってなる光ディスクを製造する方法であって、
前記カバー層の屈折率ｎに関する関数ｆ（ｎ）と、前記カバー層における収差の許容値に基づいて設定される定数ｔ１及びｔ２とを用いて、前記カバー層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１≦ｔ≦ｆ（ｎ）＋ｔ２の範囲に設定された光ディスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月13日(2011.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、架橋性を有する材料を含有する下塗り層と、無機顔料を主成分とし、該架橋性を有する材料と反応する水溶性高分子材料を含有するインク受理層を順次設けてなるインクジェット記録媒体の製造方法であり、該下塗り層を高速回転するローターの遠心力により塗工することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項２】
該水溶性高分子材料はポリビニルアルコールである請求項１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項３】
該架橋性を有する材料は、ホウ酸および／またはホウ酸塩である請求項１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法により製造されてなるインクジェット記録媒体。