【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性除去組成物であって、前記組成物は、水性媒質中に少なくとも１つのカオトロピック溶質及び少なくとも１つのアルカリ塩を含み、少なくとも１つのカオトロピック溶質が、尿素、グアニジウム塩；アニオン性安息香酸塩及び安息香酸塩誘導体；２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン；置換アニリン；１，２−、１，３−、及び１，４−フェニレンジアミン；１，３，５−トリアジン；置換１，３，５−トリアジン；１，２，４−トリアゾール；置換１，２，４−トリアゾール；２−メルカプトイミダゾール；２−メルカプトベンゾイミダゾール；硝酸テトラメチルアンモニウム；（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４）＋カチオンの塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、チオシアン化物、及び塩素酸塩（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、独立して水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びベンジルからなる群から選択されてもよい）；及び、それらの組み合わせとからなる群から選択されるカオトロピック種を含み、前記除去組成物は、フォトレジスト及び／又は底部反射防止膜（ＢＡＲＣ）材料をその上に有する超小型電子装置から、このような材料を除去するのに有用である、水性除去組成物。
【請求項２】
尿素を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記アニオン性安息香酸塩及び安息香酸塩誘導体が、２−、３−、及び４−アミノ安息香酸；２−、３−、及び４−ニトロ安息香酸；２−、３−、及び４−アニス酸；２−、３−、及び４−フルオロ−、クロロ−、ブロモ−、及びヨード安息香酸；及び、２−、３−、及び４−メチルチオ−安息香酸からなる群から選択される化学種を含み、
前記置換アニリンが、２−、３−、及び４−メチルチオ−アニリン；及び、２−、３−、及び４−アニシジンからなる群から選択される化学種を含み、
前記置換１，３，５−トリアジンが、メラミン；アセトグアナミン；２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン；２−クロロ−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン；２，４，６−トリメトキシ−１，３，５−トリアジン；２，４，６−トリメトキシ−１，３，５−トリアジン；２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン；２−アミノ−１，３，５−トリアジン；２−アミノ−４−エトキシ−６−（メチルアミノ）−１，３，５−トリアジン；及び、２−メトキシ−４−メチル−６−（メチルアミノ）−１，３，５−トリアジンからなる群から選択される化学種を含む、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記少なくとも１つのアルカリ塩が、（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４）ＯＨ、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は互いに同一又は異なってもよく、それぞれが独立して水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びベンジル基からなる群から選択される、を含む、請求項１−３いずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
フォトレジスト及び／又はＢＡＲＣ材料をさらに含む、請求項１−４いずれか1項に記載の組成物。
【請求項６】
直鎖Ｃ１〜Ｃ６アルコール、分枝Ｃ１〜Ｃ６アルコール、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、スルホラン−ｗ、スルホラン−Ａ、及びプロピレングリコールからなる群から選択される補助溶剤をさらに含む、請求項１−５いずれか1項に記載の組成物。
【請求項７】
調合物Ａ
１．５重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム
１．６重量％の２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン
２０．０重量％の尿素
７６．９重量％の脱イオン水、
調合物Ｂ
２．０重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム
１．０重量％の２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン
１．０重量％の４−アミノ安息香酸
９６．０重量％の脱イオン水、
調合物Ｃ
２．０重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム
２．４重量％の硝酸テトラメチルアンモニウム
９５．６重量％の脱イオン水、
調合物Ｄ
５．０重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム
９．０重量％の硝酸テトラメチルアンモニウム
１０．０重量％のブチルカルビトール
１０．０重量％のスルホラン−ｗ
６６．０重量％の脱イオン水、
調合物Ｅ
約１．０重量％〜約５．０重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム
約１．０重量％〜約２０．０重量％の２−、３−、又は４−ニトロ安息香酸テトラメチルアンモニウム塩
残部は脱イオン水、
調合物Ｆ
約１．０重量％〜約５．０重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム
約１．０重量％〜約２０．０重量％のオルト−、メタ−、又はパラ−フェニレンジアミン
残部は脱イオン水、
調合物Ｇ
８．２重量％の水酸化テトラブチルアンモニウム
２０．０重量％のスルホランＡ
３０．０重量％のメチルカルビトール
１７．０重量％のプロピレングリコール
２．０重量％の２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン
２２．８重量％の脱イオン水、
調合物Ｈ
６．０重量％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
１０．０重量％のスルホランＡ
１０．０重量％のメチルカルビトール
２０．０重量％のプロピレングリコール
２．０重量％の２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン
５２重量％の脱イオン水、及び
調合物Ｉ
２．９重量％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．０２５重量％の水酸化カリウム
２２．０重量％のスルホランＡ
２７．０重量％のメチルカルビトール
１７．９重量％のプロピレングリコール
１．５重量％の尿素
０．０８％の２−メルカプトベンゾイミダゾール
２８．５９５重量％の脱イオン水
からなる群から選択され、全ての百分率が、調合物の総重量を基準とした重量に基づく、
、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
フォトレジスト及び／又はＢＡＲＣ材料をその上に有する基板から前記材料を除去する方法であって、基板から前記材料を少なくとも部分的に除去するのに十分な時間、基板と水性除去組成物とを接触させる工程を含み、前記水性除去組成物が水性媒質中に少なくとも１つのカオトロピック溶質及び少なくとも１つのアルカリ塩を含み、前記少なくとも１つのカオトロピック溶質が、尿素、グアニジウム塩；アニオン性安息香酸塩及び安息香酸塩誘導体；２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン；置換アニリン；１，２−、１，３−、及び１，４−フェニレンジアミン；１，３，５−トリアジン；置換１，３，５−トリアジン；１，２，４−トリアゾール；置換１，２，４−トリアゾール；２−メルカプトイミダゾール；２−メルカプトベンゾイミダゾール；硝酸テトラメチルアンモニウム；（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４）＋カチオンの塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、チオシアン化物及び塩素酸塩（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は独立して水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びベンジルからなる群から選択されてもよい）；及び、それらの組み合わせとからなる群から選択されるカオトロピック種とを含む、方法。
【請求項９】
前記基板が超小型電子装置構造体を含み、前記材料がプラズマエッチングによって硬化されるフォトレジスト、イオン注入によって硬化されるフォトレジスト、及びＢＡＲＣからなる群から選択される層を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記接触させる工程が、約１分〜約６０分の時間、約４０℃〜約８０℃の範囲の温度、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記水性除去組成物が尿素を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも１つのアルカリ塩が、（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４）ＯＨ、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は互いに同一又は異なってもよく、それぞれが独立して水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、及びベンジル基からなる群から選択される、を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記水性除去組成物との接触に続いて、前記基板を脱イオン水ですすぐ工程をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の水性除去組成物を使用して、フォトレジスト及び／又はＢＡＲＣ層をその上に有する超小型電子装置から前記材料を除去する工程を含む、超小型電子装置を製造する方法。
【請求項１５】
水性除去組成物を形成するための試薬を１つ以上の容器内に含むキットであって、前記除去組成物が、水性媒質中に少なくとも１つのカオトロピック溶質及び少なくとも１つのアルカリ塩を含み、前記少なくとも１つのカオトロピック溶質が、尿素、グアニジウム塩；アニオン性安息香酸塩及び安息香酸塩誘導体；２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン；置換アニリン；１，２−、１，３−、及び１，４−フェニレンジアミン；１，３，５−トリアジン；置換１，３，５−トリアジン；１，２，４−トリアゾール；置換１，２，４−トリアゾール；２−メルカプトイミダゾール；２−メルカプトベンゾイミダゾール；硝酸テトラメチルアンモニウム；（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４）＋カチオンの塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、チオシアン化物、及び塩素酸塩（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は独立して水素、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、及びベンジルからなる群から選択されてもよい）；及び、それらの組み合わせとからなる群から選択されるカオトロピック種を含み、フォトレジスト材料及び／又はＢＡＲＣ材料をその上に有する基板から前記材料を除去するのに適した水性除去組成物を形成するように構成されたキット。