Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月23日(2011.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から射出された光が入射されることにより、蛍光が射出される蛍光体カラーホイールと、
前記蛍光体カラーホイールから射出された光を画像信号に基づいて変調する光変調手段と、を備え、
前記蛍光体カラーホイールが、透光性を有する基板と、前記光源から射出された光を前記蛍光に変換して射出する蛍光体層と、前記光源から射出された光を透過するとともに、前記蛍光体層から射出された前記蛍光を反射する波長選択膜と、を備え、
前記基板と前記波長選択膜と前記蛍光体層とが、前記光源から見てこの順に配置され、
前記光源から射出された光が、前記基板と前記波長選択膜とを介して前記蛍光体層に照射されることを特徴とする投射型表示装置。
【請求項２】
前記光源は、複数の発光素子がアレイ状に配列された発光素子アレイを備えたことを特徴とする請求項１に記載の投射型表示装置。
【請求項３】
前記複数の発光素子の各々が、自身が射出した光を反射させる発光素子リフレクタを備え、
前記発光素子アレイの周囲に、前記発光素子アレイから射出された光を反射させるリフレクタを備えたことを特徴とする請求項２に記載の投射型表示装置。
【請求項４】
前記光源が、紫外光を射出することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
【請求項５】
前記光変調手段が、デジタルマイクロミラーデバイスであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の投射型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月11日(2011.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周回駆動される無端状のベルトと、当該ベルトを挟んで対向する、加圧部材と定着ローラとを備え、前記ベルトを介して前記加圧部材で前記定着ローラを押圧して定着ニップを形成し、前記定着ローラを加熱して当該定着ニップに記録シートを通紙し、当該記録シートにトナー像を熱定着する定着装置であって、
前記ベルトの、少なくとも通紙範囲を冷却する冷却手段と、
記録シートにトナー像を熱定着するのに先立って、前記冷却手段により前記ベルトの少なくとも通紙範囲を降温する降温制御手段と、
を備えることを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記降温制御手段は、印刷指示受付け後、記録シートにトナー像を熱定着するのに先立って、前記冷却手段を作動させ、ベルトの少なくとも通紙範囲を降温する
ことを特徴とする請求項１記載の定着装置。
【請求項３】
前記降温制御手段は、
前記ベルトの温度を検出する第１検出手段と、
前記第１検出手段による検出温度が設定目標温度まで降温したか否かを判定する第１判定手段と、
前記第１判定手段によって前記検出温度が設定目標温度まで降温したと判定されたときに画像形成動作を開始させる開始許可手段と、
を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の定着装置。
【請求項４】
前記定着装置は、
前記定着ローラの表面温度を検出する第２検出手段と、
前記第２検出手段による検出温度が目標温度に達したか否かを判定する第２判定手段と、
を備え、
前記降温制御手段は、前記第２判定手段によって前記定着ローラの表面温度が目標温度に達したと判定された後に前記冷却手段を作動させ、ベルトの少なくとも通紙範囲を降温する
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の定着装置。
【請求項５】
前記降温制御手段は、前記冷却手段を制御することによりベルトの温度を設定目標温度に維持する
ことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の定着装置。
【請求項６】
前記冷却手段は、
前記ベルトに内接し、前記ベルト幅よりも長尺のヒートパイプと、
前記ヒートパイプの、前記ベルト外へ突出した箇所に設けられた放熱フィンと、
前記放熱フィンへ送風する冷却ファンと
を有し、
前記降温制御手段は、前記冷却ファンを駆動して前記ベルトを降温する
ことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の定着装置。
【請求項７】
前記降温制御手段は、前記定着ニップへの記録シートの通紙による前記ベルトの温度低下分だけ、前記ベルトを降温する
ことを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の定着装置。
【請求項８】
前記降温制御手段は、熱定着時における記録シートの吸熱による前記ベルトの温度低下分だけ、前記ベルトを降温する
ことを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の定着装置。
【請求項９】
前記ベルトは、熱伝導性の金属材料で構成される
ことを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の定着装置。
【請求項１０】
前記加圧部材は、前記ベルトの周回経路内側に配され、前記定着ローラは、加熱ローラであり、前記ベルトの外周面に配される
ことを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載の定着装置。
【請求項１１】
前記温度低下幅は、記録シートの種類又はサイズ毎に設定される
ことを特徴とする請求項７又は８に記載の定着装置。
【請求項１２】
前記冷却手段は冷却ファンを有し、
前記降温制御手段は、
前記ベルトの温度を測定する測定手段と、
測定温度が設定目標温度まで降温したか否かを判定する判定手段と、
を有し、印刷指示を受け取ると、前記冷却ファンを作動させるとともに、前記判定手段によって測定温度が設定目標温度まで降温したと判定されたとき、前記冷却ファンを停止させ、画像形成動作を開始させる
ことを特徴とする請求項１に記載の定着装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れかに記載の定着装置
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る定着装置は、周回駆動される無端状のベルトと、当該ベルトを挟んで対向する、加圧部材と定着ローラとを備え、前記ベルトを介して前記加圧部材で前記定着ローラを押圧して定着ニップを形成し、前記定着ローラを加熱して当該定着ニップに記録シートを通紙し、当該記録シートにトナー像を熱定着する定着装置であって、前記ベルトの、少なくとも通紙範囲を冷却する冷却手段と、記録シートにトナー像を熱定着するのに先立って、前記冷却手段により前記ベルトの少なくとも通紙範囲を降温する降温制御手段と、を備える。
前記降温制御手段は、印刷指示受付け後、記録シートにトナー像を熱定着するのに先立って、前記冷却手段を作動させ、ベルトの少なくとも通紙範囲を降温することとすることができる。
又、前記降温制御手段は、前記ベルトの温度を検出する第１検出手段と、前記第１検出手段による検出温度が設定目標温度まで降温したか否かを判定する第１判定手段と、前記第１判定手段によって前記検出温度が設定目標温度まで降温したと判定されたときに画像形成動作を開始させる開始許可手段と、を備えることとすることができる。
前記定着装置は、前記定着ローラの表面温度を検出する第２検出手段と、前記第２検出手段による検出温度が目標温度に達したか否かを判定する第２判定手段と、を備え、前記降温制御手段は、前記第２判定手段によって前記定着ローラの表面温度が目標温度に達したと判定された後に前記冷却手段を作動させ、ベルトの少なくとも通紙範囲を降温することとすることができる。
又、前記降温制御手段は、前記冷却手段を制御することによりベルトの温度を設定目標温度に維持することとすることができる。
又、前記冷却手段は冷却ファンを有し、前記降温制御手段は、前記ベルトの温度を測定する測定手段と、測定温度が設定目標温度まで降温したか否かを判定する判定手段と、を有し、印刷指示を受け取ると、前記冷却ファンを作動させるとともに、前記判定手段によって測定温度が設定目標温度まで降温したと判定されたとき、前記冷却ファンを停止させ、画像形成動作を開始させることとすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用によりアルカリ現像液であるポジ型現像液に対する溶解度が増大し、有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、前記ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、前記ネガ型現像液に対する溶解度が減少するレジスト膜を形成する樹脂組成物を、基板上に塗布することで、レジスト膜を形成し、
前記レジスト膜をＥＵＶ光により露光し、
露光後のレジスト膜を、前記有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像することを含むパターン形成方法。
【請求項２】
前記樹脂が、ヒドロキシスチレン系繰り返し単位及び酸分解基を有する繰り返し単位を有する樹脂である、請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
前記樹脂における酸分解基を有する繰り返し単位が、酸脱離性基で保護されたヒドロキシスチレン系繰り返し単位、又は酸分解性（メタ）アクリル酸３級アルキルエステル系繰り返し単位である、請求項２に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、酸脱離性基で保護されたヒドロキシスチレン系繰り返し単位である、請求項３に記載のパターン形成方法。
【請求項５】
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、１−アルコキシエトキシスチレン由来の繰り返し単位である、請求項４に記載のパターン形成方法。
【請求項６】
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、酸分解性（メタ）アクリル酸３級アルキルエステル系繰り返し単位である、請求項３に記載のパターン形成方法。
【請求項７】
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位である、請求項６に記載のパターン形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、下記の構成であり、これにより本発明の上記目的が達成される。
＜１＞
酸の作用によりアルカリ現像液であるポジ型現像液に対する溶解度が増大し、有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、前記ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、前記ネガ型現像液に対する溶解度が減少するレジスト膜を形成する樹脂組成物を、基板上に塗布することで、レジスト膜を形成し、
前記レジスト膜をＥＵＶ光により露光し、
露光後のレジスト膜を、前記有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像することを含むパターン形成方法。
＜２＞
前記樹脂が、ヒドロキシスチレン系繰り返し単位及び酸分解基を有する繰り返し単位を有する樹脂である、上記＜１＞に記載のパターン形成方法。
＜３＞
前記樹脂における酸分解基を有する繰り返し単位が、酸脱離性基で保護されたヒドロキシスチレン系繰り返し単位、又は酸分解性（メタ）アクリル酸３級アルキルエステル系繰り返し単位である、上記＜２＞に記載のパターン形成方法。
＜４＞
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、酸脱離性基で保護されたヒドロキシスチレン系繰り返し単位である、上記＜３＞に記載のパターン形成方法。
＜５＞
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、１−アルコキシエトキシスチレン由来の繰り返し単位である、上記＜４＞に記載のパターン形成方法。
＜６＞
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、酸分解性（メタ）アクリル酸３級アルキルエステル系繰り返し単位である、上記＜３＞に記載のパターン形成方法。
＜７＞
前記酸分解基を有する繰り返し単位が、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位である、上記＜６＞に記載のパターン形成方法。
尚、本発明は、上記＜１＞〜＜７＞に係る発明であるが、以下、その他についても参考のため記載した。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月26日(2011.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板を露光する露光装置において、
光学素子と、
前記光学素子の上面と前記基板との間の少なくとも一部に前記液体を供給する液体供給装置と、
前記光学素子の周囲に配置され、前記光学素子の上面から漏洩する前記液体をトラップする液体トラップ部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記光学素子の上面と前記基板との間の少なくとも一部に供給された前記液体を回収する回収部を有する液体回収装置を備え、
前記液体トラップ部は、前記光学素子に関して前記回収部の外側に設けられることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記回収部は、多孔質部材を有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記回収部は、下方に前記液体を吸引することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記液体トラップ部は、前記液体回収装置で回収しきれなかった前記液体を回収することを特徴とする請求項２から請求項４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記光学素子の周りに配置される液浸領域形成部材を有し、
前記回収部は、前記液浸領域形成部材に設けられることを特徴とする請求項２から請求項５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記回収部は、前記液浸領域形成部材の上面に設けられることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記光学素子の周りに配置される液浸領域形成部材を有し、
前記液体トラップ部は、前記光学素子に関して前記液浸領域形成部材の外側に設けられることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記液体供給装置は、前記光学素子の上面及び前記液浸領域形成部材の上面と、前記基板との間を前記液体で満たすことを特徴とする請求項６から請求項８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記液体供給装置は、液体供給部を有し、
前記液体供給部は、前記液浸領域形成部材に設けられることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記液体供給部は、前記液浸領域形成部材の上面に設けられることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記液体供給部は、上方に向けて前記液体を供給することを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記液体トラップ部は、前記光学素子に関して前記液体供給部の外側に設けられることを特徴とする請求項１０から請求項１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記液浸領域形成部材は、前記光学素子が挿入される開口を有することを特徴とする請求項６から請求項１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記光学素子の上面は、平面であり、
前記液浸領域形成部材の上面と、前記光学素子の上面とは、同一面内に配置されることを特徴とする請求項６から請求項１４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記液体トラップ部は、前記液体を回収する溝部を有し、
前記溝部は、前記光学素子を囲むように環状に形成されることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記基板にパターンの像を形成するために、前記パターンが形成されたマスクと、前記基板とを走査方向に沿って移動させる移動装置を有し、
前記液体トラップ部は、前記液体を回収する溝部を有し、
前記溝部は、前記走査方向に関して前記光学素子を挟むように設けられることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記溝部は、多孔質部材を有する請求項１６又は請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
パターンの像を前記基板上に投影する投影光学系を有し、
前記光学素子は、前記投影光学系が有する複数の光学素子のうち、最も前記基板側に配置されることを特徴とする請求項１から請求項１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
請求項１から請求項１９のいずれか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２１】
液体を介して基板を露光する露光方法において、
光学素子の上方で前記基板を保持し、
前記光学素子の上面と前記基板との間の少なくとも一部を前記液体で満たし、
前記光学素子の上面から漏洩する液体をトラップしながら、前記基板を露光することを特徴とする露光方法。
【請求項２２】
前記光学素子の上面と前記基板との間の少なくとも一部を満たす前記液体を液体回収装置で回収することを特徴とする請求項２１に記載の露光方法。
【請求項２３】
前記光学素子に関し、前記液体回収装置が備える回収部の外側で、前記光学素子の上面から漏洩する前記液体をトラップすることを特徴とする請求項２２に記載の露光方法。
【請求項２４】
前記光学素子の上面及び前記光学素子の周りに配置された液浸領域形成部材の上面と、前記基板との間を前記液体で満たした状態で、前記基板を露光することを特徴とする請求項２３に記載の露光方法。
【請求項２５】
前記光学素子に関し、前記液浸領域形成部材の外側で、前記光学素子の上面から漏洩する前記液体をトラップすることを特徴とする請求項２４に記載の露光方法。
【請求項２６】
前記光学素子の上面及び前記液浸領域形成部材の上面と、前記基板との間を満たす前記液体は、前記液体回収装置の回収部で回収されることを特徴とする請求項２４から請求項２５のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２７】
前記回収部は、前記液浸領域形成部材の上面に設けられることを特徴とする請求項２６に記載の露光方法。
【請求項２８】
前記光学素子の上面と前記基板との間の少なくとも一部を満たす前記液体は、下方に吸引されることを特徴とする請求項２２から請求項２７のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２９】
前記漏洩する前記液体は、前記液体回収装置で回収しきれなかった液体であることを特徴とする請求項２２から請求項２８のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項３０】
前記光学素子の上面と前記基板との間の少なくとも一部を前記液体で満たすために、前記液体は、上方に向かって供給されることを特徴とする請求項２１から請求項２９のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項３１】
前記液体は、前記液浸領域形成部材の上面の供給部を介して上方に向かって供給されることを特徴とする請求項２４から請求項２７のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項３２】
前記液体は、前記液浸領域形成部材に設けられた供給口を介して上方に向かって供給されると共に、前記液浸領域形成部材に設けられた回収口を介して下方に向かって吸引されることを特徴とする請求項２４から請求項２７のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項３３】
請求項２１から請求項３２のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月11日(2011.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の高周波信号入出力端子と、
前記第１および第２の高周波信号入出力端子とグランド間に並列に接続された少なくとも１つの移相ユニットと、
を備え、前記各移相ユニットが、
前記第１および第２の高周波信号入出力端子の間に接続された第１のインダクタ、
前記第１のインダクタに並列接続された第１のスイッチング素子と第２のスイッチング素子の直列回路、
前記第１のスイッチング素子と第２のスイッチング素子との接続点とグランドとの間に接続された第２のインダクタと第３のインダクタの直列回路、
前記第３のインダクタに並列接続された第３のスイッチング素子、
を含む、
ことを特徴とする移相器。
【請求項２】
前記各移相器ユニットが、
前記第１の高周波信号入出力端子側と、前記第１のインダクタと第１のスイッチング素子との接続点との間に接続された第４のスイッチング素子と、
前記第２の高周波信号入出力端子側と、前記第１のインダクタと第２のスイッチング素子との接続点との間に接続された第５のスイッチング素子と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の移相器。
【請求項３】
前記第１から第５のスイッチング素子のうち少なくとも１つに並列に抵抗が接続されたことを特徴とする請求項１または２に記載の移相器。
【請求項４】
前記第１から第５のスイッチング素子のうち少なくとも１つに並列にキャパシタが接続されたことを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載の移相器。
【請求項５】
前記第１および第２の高周波信号入出力端子の間に複数の移相ユニットを接続し多ビット移相器を構成したことを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の移相器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月24日(2011.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のデータ生成拠点それぞれにあるデータ生成装置から，データ活用拠点にあるデータ活用装置に，ネットワークを介してデータを収集するデータ収集システムであって，
少なくとも，前記ネットワークの各データ生成拠点側に存在して，前記データ生成装置で生成されたデータをデータ活用拠点側に転送する複数の送信側伝送制御装置と，前記データ活用拠点側に存在し，転送されてくるデータをデータ活用に供するために集約し転送する受信側伝送制御装置とを備え，
前記送信側伝送制御装置は，
前記受信側伝送制御装置から伝送許容データ量の通知を受信して，通知された前記伝送許容データ量を保持し，前記伝送許容データ量の範囲内の伝送データ量となるように前記データ生成装置から伝送されるデータ量を調整し，
前記受信側伝送制御装置は，
前記複数の送信側伝送制御装置のそれぞれの前記伝送許容データ量を保持し，前記伝送許容データ量の変更要求が発生した際に，前記データ活用拠点内のデータ処理負荷の範囲内で，前記送信側伝送制御装置毎の前記伝送許容データ量を再割当てし，再割当てした前記伝送許容データ量を対応する前記送信側伝送制御装置へ通知する，
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項２】
請求項１に記載のデータ収集システムであって、
前記伝送許容データ量の前記変更要求は、前記データ活用拠点内に存在する任意の装置からの、複数の前記送信側伝送制御装置の少なくとも一つの前記伝送許容データ量の変更要求である、
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項３】
請求項１に記載のデータ収集システムであって、
前記伝送許容データ量の前記変更要求は、
前記データ生成拠点内に存在する任意の装置からの前記伝送データ量の変更要求を受信して，前記送信側伝送制御装置が前記受信側伝送制御装置に送信する前記伝送許容データ量の変更要求である、
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項４】
請求項１に記載のデータ収集システムであって、
前記伝送許容データ量の前記変更要求は、
前記データ活用拠点内に存在する任意の装置からの、複数の前記送信側伝送制御装置の少なくとも一つの前記伝送許容データ量の変更要求、あるいは、前記データ生成拠点内に存在する任意の装置からの前記伝送データ量の変更要求を受信して，前記送信側伝送制御装置が前記受信側伝送制御装置に送信する前記伝送許容データ量の変更要求である、
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項５】
請求項１に記載のデータ収集システムであって，
前記送信側伝送制御装置は，保持した前記伝送許容データ量の範囲内の伝送データ量になるように前記データ生成装置から転送されるデータの一部を転送し，一部を破棄するよう制御する，
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項６】
請求項１に記載のデータ収集システムであって，
前記データ生成装置は画像を撮影するカメラ装置であり，
前記送信側伝送制御装置は，保持した前記伝送許容データ量の範囲内の伝送データ量になるように前記カメラ装置から転送されてくる画像データの一部を転送し，一部を破棄するよう制御する，
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項７】
請求項１に記載のデータ収集システムであって，
前記データ生成装置は画像を撮影するカメラ装置であり，
前記送信側伝送制御装置は，保持した前記伝送許容データ量の範囲内の伝送データ量になるように前記カメラ装置から転送されてくる画像データの解像度を変換する，
ことを特徴とするデータ収集システム。
【請求項８】
複数のデータ生成拠点のデータ生成装置から対応する複数の送信側伝送制御装置を介してデータを受信するデータ活用拠点における受信側伝送制御装置であって、
処理部と記憶部とを有し、
前記記憶部は、複数の前記送信側伝送制御装置のそれぞれに設定した伝送許容データ量を保持し，
前記処理部は、前記伝送許容データ量の変更要求が発生した際に，前記データ活用拠点内のデータ処理負荷の範囲内で，前記送信側伝送制御装置毎の前記伝送許容データ量を再割当てし，再割当てした前記伝送許容データ量を対応する前記送信側伝送制御装置へ通知するよう制御する，
ことを特徴とする受信側伝送制御装置。
【請求項９】
請求項８に記載の受信側伝送制御装置であって、
前記伝送許容データ量の前記変更要求は、前記データ活用拠点内に存在する任意の装置からの、複数の前記送信側伝送制御装置の少なくとも一つの前記伝送許容データ量の変更要求である、
ことを特徴とする受信側伝送制御装置。
【請求項１０】
データ生成拠点にある複数のデータ生成装置で生成されたデータをデータ活用拠点にあるデータ活用装置に転送する送信側伝送制御装置であって、
処理部と記憶部とを有し、
前記記憶部は、前記活用拠点側から通知された当該送信側伝送制御装置の伝送許容データ量を保持し、
前記処理部は、保持した前記伝送許容データ量の範囲内の伝送データ量となるよう、前記データ生成装置から伝送されるデータ量を調整し，且つ、前記データ生成装置から前記伝送データ量の変更要求があった場合、前記活用拠点側に前記伝送許容データ量の変更要求を送信する、
ことを特徴とする送信側伝送制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月17日(2011.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るインバーター制御装置は、インバーターからモーターに流れる電流をカレントトランスを介して計測する電流計測部と、モーターの運転に応じて運転周波数を設定する運転周波数設定部と、運転周波数設定部により設定された運転周波数に応じた電流と電流計測部により計測された電流とを比較し、その結果に基づいてインバーターの駆動信号の波形を生成するインバーター制御部と、運転周波数設定部により設定された運転周波数に基づいてモーターに流す最大許容電流を決定する最大電流決定部とを備え、運転周波数設定部は、電流計測部からの電流が最大電流決定部により決定された最大許容電流に達したかどうかを判定し、電流計測部からの電流が最大許容電流に達したときに先に設定した運転周波数より低い運転周波数を設定し、インバーター制御部は、運転周波数設定部により設定された低い運転周波数に基づいてインバーターの駆動信号の波形を生成し、モーターに流れる電流を最大許容電流より低くなるようにした。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、モーターの運転に基づいて設定された運転周波数に応じてモーターに流す最大許容電流を決定し、カレントトランスを介して計測されたモーターへの電流がその最大許容電流に達したかどうかを判定し、計測された電流が最大許容電流に達したときに先に設定した運転周波数より低い運転周波数を設定し、この低い運転周波数に基づいてインバーターの駆動信号の波形を生成し、モーターに流れる電流を最大許容電流より低くなるようにしたので、カレントトランスの短所である低周波数での電流検出ができないということがなくなり、このため、カレントトランスの電流検出によるフィードバック制御が不能となることがなくなりモーターの連続運転を可能にするという効果がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インバーターからモーターに流れる電流をカレントトランスを介して計測する電流計測部と、
モーターの運転に応じて運転周波数を設定する運転周波数設定部と、
前記運転周波数設定部により設定された運転周波数に応じた電流と前記電流計測部により計測された電流とを比較し、その結果に基づいてインバーターの駆動信号の波形を生成するインバーター制御部と、
前記運転周波数設定部により設定された運転周波数に基づいてモーターに流す最大許容電流を決定する最大電流決定部とを備え、
前記運転周波数設定部は、前記電流計測部からの電流が前記最大電流決定部により決定された最大許容電流に達したかどうかを判定し、前記電流計測部からの電流が最大許容電流に達したときに先に設定した運転周波数より低い運転周波数を設定し、
前記インバーター制御部は、前記運転周波数設定部により設定された低い運転周波数に基づいてインバーターの駆動信号の波形を生成し、モーターに流れる電流を前記最大許容電流より低くなるようにしたことを特徴とするインバーター制御装置。
【請求項２】
前記最大電流決定部は、前記運転周波数設定部により運転周波数が低く設定されたときに、先に決定した最大許容電流より低い最大許容電流を決定することを特徴とする請求項１記載のインバーター制御装置。
【請求項３】
前記運転周波数設定部により運転周波数が低く設定された際に、モーターの制御を制限している旨を表示する制御状態表示部を備えていることを特徴とする請求項１又は２記載のインバーター制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月4日(2011.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環化核酸を作成する方法であって、
標的核酸フラグメントを得るために標的核酸をフラグメント化し；
必要に応じて、該標的核酸フラグメントを変性し、一本鎖標的核酸フラグメントとし；
該標的核酸フラグメントに、
（ａ）該標的核酸フラグメントの両末端に各々相補的で、同じ鎖側に存在する２つの一本鎖配列部分；及び、
（ｂ）上記２つの一本鎖末端配列の間に、二本鎖となった標的に相補的でない部分（ここで、該二本鎖となった部分は制限オリゴヌクレオチド配列を含む）；
を有する環化アダプターをハイブリダイズし；
ＤＮＡライゲースを用いて、該標的核酸フラグメントを環化する；
ことを含む方法。
【請求項２】
制限オリゴヌクレオチド配列が、１つの共通の制限オリゴヌクレオチド配列である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
更に、環化標的核酸フラグメントを増幅することを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
更に、異なる環化アダプターを用いて多くの異なる標的核酸フラグメントを環化し、次いで、標的核酸フラグメントを、同じ共通の制限ヌクレオチドと酵素を用いて、複数の異なる標的核酸フラグメントが平行して増幅されるように、増幅することを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
増幅が、ローリングサークル増幅である、請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
標的核酸を、一つもしくはそれ以上の制限酵素またはＦＬＡＰエンドヌクレアーゼでフラグメント化する、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
環化核酸がｃＤＮＡまたはゲノムＤＮＡを含む、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
標的核酸フラグメントを増幅する方法であって、
（i）標的核酸フラグメントを得るために標的核酸をフラグメント化し；
（ii）必要に応じて、該標的核酸フラグメントを変性し、一本鎖標的核酸フラグメントとし；
（iii）該一本鎖標的核酸フラグメントを、
（ａ）該標的核酸フラグメントの両末端に各々相補的で、同じ鎖側に存在する２つの一本鎖配列部分；及び
（ｂ）上記２つの一本鎖末端配列の間に、二本鎖となった標的に相補的でない部分（ここで、該二本鎖となった部分は制限オリゴヌクレオチド配列を含む）；
を有する環化アダプターにハイブリダイズし；
（iv）ＤＮＡライゲースを用いて、該標的核酸フラグメントを環化し；
（v）環化した標的核酸フラグメントを増幅する；
ことを含む上記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月8日(2011.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動局が、交換局に対して、特定接続先との間の通信を確立するために交換局に向けて送信する特定通信用のＮＡＳコネクションを確立するためのＮＡＳコネクション設定要求信号を送信する工程と、
前記交換局が、前記ＮＡＳコネクション設定要求信号に応じて、前記移動局に対して、規制時間を含み前記ＮＡＳコネクションの確立を拒絶する拒絶信号を送信する工程と、
前記移動局が、前記拒絶信号を受信してから、前記規制時間が満了するまでの期間中、前記ＮＡＳコネクション設定要求信号の送信を規制する工程とを有することを特徴とする移動通信方法。
【請求項２】
移動局であって、
交換局に対して、特定接続先との間の通信を確立するために前記移動局が交換局に向けて送信する特定通信用のＮＡＳコネクションを確立するためのＮＡＳコネクション設定要求信号を送信するように構成されているＮＡＳコネクション制御部と、
前記ＮＡＳコネクション設定要求信号に対する拒絶信号を受信してから該拒絶信号に含まれている規制時間が経過するまで、前記ＮＡＳコネクション設定要求信号の送信を規制するように構成されている規制処理部とを具備することを特徴とする移動局。
【請求項３】
交換局であって、
特定接続先との間の通信を確立するために移動局が前記交換局に向けて送信する特定通信用のＮＡＳコネクションを確立するためのＮＡＳコネクション設定要求信号を受信するように構成されているＮＡＳコネクション設定要求信号受信部と、
前記ＮＡＳコネクション設定要求信号に応じて、前記移動局に対して、該移動局における前記拒絶信号を受信してから前記ＮＡＳコネクション設定要求信号の送信を規制する期間を示す規制時間を含み前記ＮＡＳコネクションの確立を拒絶する拒絶信号を送信するように構成されている規制情報送信部とを具備することを特徴とする交換局。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月20日(2010.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像ブロックを有するピクチャのビデオデータを生成するために符号化する方法であって、前記ビデオデータは、前記複数の画像ブロックのうちの画像ブロックの符号化データを含み、少なくとも１つの参照ピクチャ・インデックスを含み、
前記画像ブロック、及び前記画像ブロックを符号化するための単一の参照ピクチャ・インデックスにアクセスする工程であって、受信された単一の参照ピクチャ・インデックスは特定の参照ピクチャに対応する工程と、
前記単一の参照ピクチャ・インデックスに対応し、重み付け係数の組から求められ
る重み付け係数を使用して、前記単一の参照ピクチャ・インデックスに対応する前記特定
の参照ピクチャを使用して、前記画像ブロックを符号化する工程とを含み、
前記単一の参照ピクチャ・インデックスは、前記特定の参照ピクチャ及び前記重み
付け係数を定めることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、符号化する工程は、
動き補償ブロックを識別するよう、前記特定の参照ピクチャからのブロックの動き補償を行う工程と、
重み付け動き補償ブロックを形成するよう、前記重み付け係数を使用して前記動き補償ブロックを重み付ける工程と、
オフセットを求める工程と、
調節された重み付け動き補償ブロックを形成するよう、前記オフセットを使用して前記重み付け動き補償ブロックを調節する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法であって、符号化する工程は、
前記画像ブロック及び前記調節された重み付け動き補償ブロックを減算する工程を更に含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月22日(2011.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図３を参照すると、残留誤差は次のように定義される。
Ｒ＝Ｆ−Ｃ
これは帰還モデル１５の出力信号と実際の帰還経路２２を介し入力トランスデューサに漏れて戻る信号との差分を表す。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月22日(2011.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
従って、聴覚装置を備えた聴覚システムが提供され、その聴覚装置は、その聴覚装置と無線ネットワーク内の他の装置との間の無線データ通信のための受信器と、データパッケージ A1, A2, … , AN および C をデータ受信するためにその受信器を制御するように構成されている通信制御装置とを有している。その受信器はさらに、エラー検出を実行し、データパッケージA1, A2, … , ANのうちの１つ、すなわちAEにエラーが検出された場合には、AE = R (A1, A2, … , C, … , AN)に従ってデータを復旧するように構成されており、ここで、A1, A2, … , C, … , ANは、関数 R の引数リストの中で、欠陥のあるデータパッケージ AE が、データパッケージ C に置き換えられたことを示している。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランダムアクセス手順において、ランダムアクセスプリアンブルの使用状況が所定条件を満たす場合に、バックオフ値を通知するバックオフ・インディケータを送信するように構成されているバックオフ・インディケータ送信部を具備し、
前記バックオフ値は、移動局におけるランダムアクセスプリアンブルの送信タイミングに係る値であり、
前記バックオフ・インディケータ送信部は、連続する第１所定数の測定期間の全てにおいて前記移動局から受信したランダムアクセスプリアンブルの総数が第１閾値を超えていた場合に、通知するバックオフ値を増加させるように構成されており、
前記バックオフ・インディケータ送信部は、連続する第２所定数の測定期間の全てにおいて前記移動局から受信したランダムアクセスプリアンブルの総数が第２閾値以下であった場合に、通知するバックオフ値を減少させるように構成されていることを特徴とする無線基地局。
【請求項２】
前記ランダムアクセスプリアンブルの使用状況として、測定期間内で前記移動局から受信した該ランダムアクセスプリアンブルの総数、該ランダムアクセスプリアンブルを送信する物理ランダムアクセスチャネルにおける受信電力、該物理ランダムアクセスチャネルにおける干渉電力、或いは、該物理ランダムアクセスチャネルにおけるＳＩＮＲ又はＥｓ/Ｎ０の少なくとも１つが用いられることを特徴とする請求項１に記載の無線基地局。
【請求項３】
前記バックオフ・インディケータ送信部は、通知するバックオフ値が０となる場合には、前記バックオフ・インディケータを送信しないように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の無線基地局。
【請求項４】
無線基地局が、ランダムアクセス手順において、ランダムアクセスプリアンブルの使用状況が所定条件を満たす場合に、バックオフ値を通知するバックオフ・インディケータを送信する工程Ａと、
前記移動局が、前記バックオフ値に基づいて、ランダムアクセスプリアンブルの送信タイミングを調整する工程Ｂとを有し、
前記工程Ａにおいて、前記無線基地局は、連続する第１所定数の測定期間の全てにおいて前記移動局から受信したランダムアクセスプリアンブルの総数が第１閾値を超えていた場合に、通知するバックオフ値を増加させ、
前記工程Ａにおいて、前記無線基地局は、連続する第２所定数の測定期間の全てにおいて前記移動局から受信したランダムアクセスプリアンブルの総数が第２閾値以下であった場合に、通知するバックオフ値を減少させることを特徴とする移動通信方法。
【請求項５】
前記ランダムアクセスプリアンブルの使用状況として、測定期間内で前記移動局から受信した該ランダムアクセスプリアンブルの総数、該ランダムアクセスプリアンブルを送信する物理ランダムアクセスチャネルにおける受信電力、該物理ランダムアクセスチャネルにおける干渉電力、或いは、該物理ランダムアクセスチャネルにおけるＳＩＮＲ又はＥｓ/Ｎ０の少なくとも１つが用いられることを特徴とする請求項４に記載の移動通信方法。
【請求項６】
前記工程Ａにおいて、前記無線基地局は、通知するバックオフ値が０となる場合には、前記バックオフ・インディケータを送信しないことを特徴とする請求項４に記載の移動通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月21日(2011.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
終端光学素子と液体とを介してデバイスを露光する液浸露光システムであって、
前記終端光学素子の直下の空間を囲むように位置付けられ、前記終端光学素子から離れるように移動する液体を捕獲するコンテインメント部材を備え、
前記コンテインメント部材は、排出インレット及び流体アウトレットを含み、
前記排出インレットは、前記流体アウトレットよりも前記終端光学素子から遠い液浸露光システム。
【請求項２】
前記終端光学素子の直下の空間から前記液体の一部が離れるように移動するとき、前記排出インレットは、前記液体の一部を捕獲する請求項１に記載の液浸露光システム。
【請求項３】
前記排出インレットが減圧される請求項２に記載の液浸露光システム。
【請求項４】
前記流体アウトレットから供給される気体により気体ベアリングが生成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸露光システム。
【請求項５】
前記流体アウトレットは、外部の供給源に接続される請求項４に記載の液浸露光システム。
【請求項６】
前記気体ベアリングは、前記供給源から前記流体アウトレットからの加圧気体によって生成される静的気体ベアリングである請求項５に記載の液浸露光システム。
【請求項７】
前記加圧気体は、前記コンテインメント部材内に流体を閉じ込める請求項６に記載の液浸露光システム。
【請求項８】
前記液体は、水を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の液浸露光システム。
【請求項９】
終端光学素子と液体とを介してデバイスを露光する液浸露光システムであって、
前記終端光学素子の直下の空間を囲むように位置付けられ、前記終端光学素子から離れるように移動する液体を捕獲するコンテインメント部材を備え、
前記コンテインメント部材は、複数の排出インレット及び流体アウトレットを含み、
前記流体アウトレットは、複数の前記排出インレットの間に位置付けられる液浸露光システム。
【請求項１０】
複数の前記排出インレットのそれぞれが減圧される請求項９に記載の液浸露光システム。
【請求項１１】
複数の前記排出インレットは、前記終端光学素子の直下の空間に近い内側排出インレットと、前記終端光学素子から遠い外側排出インレットとを含む請求項９又は１０に記載の液浸露光システム。
【請求項１２】
前記終端光学素子の直下の空間から前記液体の一部が離れるように移動するとき、前記内側排出インレットは、前記液体の一部を捕獲する請求項１１に記載の液浸露光システム。
【請求項１３】
前記外側排出インレットは、前記内側排出インレットで取り除かれなかった液体を取り除く請求項１２に記載の液浸露光システム。
【請求項１４】
前記コンテインメント部材は、前記コンテインメント部材の底面に形成されたランドを含む請求項９〜１３のいずれか一項に記載の液浸露光システム。
【請求項１５】
前記ランドの下を流れる前記液体は、摩擦なしに前記デバイス上での前記コンテインメント部材の浮動を許容する流体ベアリングを生成する請求項１４に記載の液浸露光システム。
【請求項１６】
前記流体アウトレットから供給される気体により気体ベアリングが生成される請求項９〜１５のいずれか一項に記載の液浸露光システム。
【請求項１７】
前記流体アウトレットは、外部の供給源に接続される請求項１６に記載の液浸露光システム。
【請求項１８】
前記気体ベアリングは、前記供給源から前記流体アウトレットからの加圧気体によって生成される静的気体ベアリングである請求項１７に記載の液浸露光システム。
【請求項１９】
前記加圧気体は、前記コンテインメント部材内に流体を閉じ込める請求項１８に記載の液浸露光システム。
【請求項２０】
前記液体は、水を含む請求項９〜１９のいずれか一項に記載の液浸露光システム。
【請求項２１】
終端光学素子と液体とを介してウエハを露光する液浸露光方法であって、
前記終端光学素子の直下の空間を囲むように位置付けられたコンテインメント部材の流体アウトレットから気体を供給することと、
前記流体アウトレットよりも前記終端光学素子から遠い、前記コンテインメント部材の外側排出インレットを減圧することと、を含む液浸露光方法。
【請求項２２】
前記コンテインメント部材の内側排出インレットを減圧することをさらに含み、
前記流体アウトレットは、前記外側排出インレットと前記内側排出インレットとの間で前記気体を供給する請求項２１に記載の液浸露光方法。
【請求項２３】
前記流体アウトレットから供給される気体により、前記コンテインメント部材と前記ウエハとの間に気体ベアリングが生成される請求項２１又は２２記載に液浸露光方法。
【請求項２４】
前記液体は、水を含む請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の液浸露光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月26日(2011.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周辺の取付部位および中央の封着部位を有するステムベースと、このステムベースの封着部位にガラスで封着した貫通するリードとを具備し、前記リードと前記ステムベースを絶縁する気密端子において、前記ステムベースは耐熱ステンレス鋼を用いたことを特徴とする気密端子。
【請求項２】
前記ステムベースはＳＵＳ３１０ステンレス材またはＳＵＳ３０９ステンレス材のいずれかを用い、前記リードはＦｅ−５０％Ｎｉ合金材を用いたことを特徴とする請求項１に記載の気密端子。
【請求項３】
封着に用いる前記ガラスはソーダバリウムガラス材を用いたことを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載の気密端子。
【請求項４】
周辺の取付部位と中央の封着部位を有するステムベースと、このステムベースの封着部位にガラスを介して貫通封着したＦｅＮｉ合金材のリードとを具備する気密端子の製造方法において、ＳＵＳ３１０ステンレス材またはＳＵＳ３０９ステンレス材のいずれかから選択した耐熱ステンレス鋼を成形加工により取付部位と封着部位を設けてステムベースを用意する工程、このステムベースの封着部位にガラスタブレットおよびリードを組立治具に配置し組立てる工程、次いで、この組立治具を加熱炉に通して前記ガラスタブレットを加熱溶融させる封着工程を含むことを特徴とする気密端子の製造方法。
【請求項５】
前記ガラスタブレットがソーダバリウムガラス材であり、前記封着工程は９６０℃以上の窒素雰囲気炉で加熱処理することを特徴とする請求項４に記載の気密端子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月21日(2011.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のコイルと、
上記第１のコイルが発する磁束を打ち消す方向に磁束を発する第２のコイルと、
上記第１のコイル及び上記第２のコイルの間に移動することによって、上記第１のコイル及び上記第２のコイルが発する磁束を遮る可動コアと、
上記第１のコイル、上記第２のコイル及び上記可動コアを内包する閉磁路構造の磁性コアと、を備える
可変インダクタ。
【請求項２】
上記磁性コアは、上記第１のコイルを備える第１の磁性コアと、上記第２のコイルを備える第２の磁性コアを組み合わせて形成され、
上記第１の磁性コアは、上記第１のコイルが巻回される第１の中芯部を備え、
上記第２の磁性コアは、上記第２のコイルが巻回される第２の中芯部を備える
請求項１記載の可変インダクタ。
【請求項３】
上記磁性コアは、上記第１のコイルを備える第１の磁性コアと、上記第２のコイルを備える第２の磁性コアを組み合わせて形成される
請求項１記載の可変インダクタ。
【請求項４】
上記磁性コアには、上記可動コアの移動方向に溝が形成され、
上記可動コアは、平板状に形成され、上記溝に沿って移動可能とされる
請求項２又は３記載の可変インダクタ。
【請求項５】
上記第１のコイルの巻線軸及び上記第２のコイルの巻線軸が互いに一致する箇所に、上記第１及び第２のコイルが配置され、
上記可動コアは、上記第１及び第２のコイルの巻線軸方向に対して垂直方向に移動する
請求項４記載の可変インダクタ。
【請求項６】
さらに、上記可動コアの上記第１及び第２のコイルに対する位置を調整する調整部を備える
請求項１〜５のいずれか１項に記載の可変インダクタ。
【請求項７】
上記磁性コアに配置される上記調整部には、第１のねじ溝が形成され、
上記可動コアの上記第１のねじ溝が接する面には、上記第１のねじ溝に合わせた第２のねじ溝が形成される
請求項６記載の可変インダクタ。
【請求項８】
上記第１のコイルと上記第２のコイルが直列に接続される
請求項１〜７のいずれか１項に記載の可変インダクタ。
【請求項９】
上記第１のコイルと上記第２のコイルが並列に接続される
請求項１〜７のいずれか１項に記載の可変インダクタ。
【請求項１０】
上記第１及び第２のコイルは、上記巻線軸又は端面面積のうち、少なくともいずれかが異なる
請求項８又は９記載の可変インダクタ。
【請求項１１】
上記第１及び第２のコイルは、同じ材料、同じターン数、及び同じ巻線方法で形成される
請求項８又は９記載の可変インダクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月16日(2011.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
例えば、ハードマスクＨＭの材料としてＡｌ２Ｏ３を用いた場合、研磨液のｐＨが中性付近だと、Ａｌ２Ｏ３のゼータ電位の等電位点に近づくため、研磨時のダストＤＳがハードマスクＨＭに再付着する恐れがある。このため、研磨粒子として一般的なシリカ粒子を用いる場合は、ｐＨを８〜１２程度のアルカリ性に制御すればよい。ｐＨが８未満だと、シリカ粒子のゼータ電位の等電位点に近づくため、研磨面でのスクラッチ発生や粒子の分散の不安定化が懸念され、ｐＨが１２を超えると、シリカ粒子の溶解が生じる恐れがある。なお、研磨粒子としてゼータ電位の等電位点が中性付近のアルミナ粒子やセリア粒子を用いた場合は、ｐＨが酸性、アルカリ性のいずれかであればよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図１１は、本発明の一実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置の製造方法に使用される研磨装置の概略構成を示す斜視図である。
図１１において、研磨装置には、ウェハＷを当接させた状態で回転するターンテーブル２０１、ターンテーブル２０１上に研磨液ＳＲを供給するノズル２０３、回転しつつウェハＷをターンテーブル２０１上に押し付けるキャリア２０４が設けられ、ターンテーブル２０１の表面には研磨布２０２が貼られている。なお、研磨液ＳＲは、酸性やアルカリ性にｐＨが制御されていることが好ましい。あるいは、研磨液ＳＲは、界面活性剤を含むようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月24日(2011.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
まず、窒化物半導体発光装置を構成する積層構造体４０を有機金属気相成長（ＭＯＣＶＤ）法によりｎ型基板１０の主面上に形成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2010135516.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月28日(2011.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウム電池のための、シリコンを含む電極であって：当該電極は、空間的に隔てられた、基板に置かれた、サブミクロンのシリコンを含む複数の構造を有し、前記構造が置かれた前記基板の表面の割合が０．５を超えず、かつ、前記構造及び基板は、充電／放電プロセスにおいてリチウムによるリチウム化／脱リチウム化を可能とする、電極。
【請求項２】
前記複数の構造が、規則的なアレー、不規則的なアレー、または散乱分布である、請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記基板は、シリコンを含む、請求項１または２に記載の電極。
【請求項４】
前記基板は、ｎ型シリコンを含む、請求項１ないし３のうちいずれか１項記載の電極。
【請求項５】
前記構造の直径が０．１〜１．０ミクロンである、請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項６】
前記構造の高さが１−１０ミクロンである、請求項１ないし５のうちいずれか１項記載の電極。
【請求項７】
前記構造の直径が０．３ミクロンで、高さが６ミクロンである、請求項１ないし６のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項８】
充電／放電により生じる体積変化による状態に耐えるよう構成された、請求項１ないし７のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項９】
充電／放電のプロセスの間において、構造的一体性を維持するよう構成された、請求項１ないし８のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項１０】
リチウムとの合金化に関連する繰り返しの体積膨張に耐えるよう構成された、請求項１ないし９のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項１１】
前記構造は、前記基板の領域の略４ＦＨ／ｄ倍の表面領域を持ち、ここで、Ｆは表面のフラクショナル被覆率、Ｈは前記構造の高さ、ｄは前記構造の直径である、請求項１ないし１０のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項１２】
ウエハ貼り合せシリコンオンインシュレータ基板上に作られた、請求項１ないし１１のうちいずれか１項に記載の電極。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のうちいずれか１項に記載の電極を有するリチウム電池であって、かつ、カソードおよび／または電解質を更に有する、リチウム電池。
【請求項１４】
請求項１３記載のリチウム電池を有するデバイス。
【請求項１５】
リチウム電池のための、シリコンを含む電極を製造する方法であって：当該方法は、空間的に隔てられた、基板に置かれた、サブミクロンのシリコンを含む複数の構造を形成するために前記基板をエッチングするステップを有し、前記構造が置かれた前記基板の表面の割合が０．５を超えず、かつ、前記構造及び基板は、充電／放電プロセスにおいてリチウムによるリチウム化／脱リチウム化を可能とする、方法。
【請求項１６】
請求項１ないし１２のうちいずれか１項に記載の、リチウム電池のための、シリコンを含む電極を形成する方法であって：
（ａ）水溶性固体のフィルムを親水性シリコン基板上に堆積させるステップと、
（ｂ）前記フィルムを、前記フィルムが前記基板上で分離した半球状の島のアレーに再
組織化されるように、溶媒蒸気に曝すステップと、
（ｃ）レジストとして働く水溶性固体の島によって、露出したシリコンがエッチング除去されて前記島に対応する構造を残すように、前記シリコン基板を反応性イオンエッチングするステップと、
を有する方法。