Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳動物の脳におけるタンパク質凝集を減少させることを含む治療方法における使用のための脂肪酸の酸化を高める物質であって、前記物質は前記哺乳動物に所定期間ケトン症またはケトン体生成の状態を引き起こしてタンパク質凝集を減少させる、前記物質。
【請求項２】
Ｌ−カルニチン、およびそれらの誘導体、カフェイン、マオウのアルカロイド、非ステロイド性抗炎症薬（ＮＳＡＩＤ）、スタチン系薬剤、ならびに、フィブラートからなる群より選択される、請求項１に記載の物質。
【請求項３】
哺乳動物の脳におけるタンパク質凝集を減少させる方法における使用のためのケトン体生成による食餌療法であって、該ケトン体生成による食餌療法は、哺乳動物にケトン症またはケトン体生成の状態を所定期間引き起こしてタンパク質凝集を減少させることを含む、上記食餌療法。
【請求項４】
前記ケトン症またはケトン体生成の状態は、血清中のケトン体を一般的な絶食時の値より高いレベルで維持することを含む、請求項１に記載の物質または請求項３に記載のケトン体生成による食餌療法。
【請求項５】
請求項１に記載の物質または請求項３に記載のケトン体生成による食餌療法であって、前記治療方法は血清ケトン濃度を、１時間またはそれより長い期間、０．２ｍＭ、０．３ｍＭ、０．４ｍＭを超えるか、またはそれより高く維持することを含む、前記物質または前記食餌療法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の物質またはケトン体生成による食餌療法であって、該療法がさらに身体トレーニング療法を含む、上記物質または食餌療法。
【請求項７】
前記身体トレーニング療法が、２０分間より長い期間、ＶＯ２ｍａｘまたは最大心拍数のいずれかが５０％を超える活動量であることを含む、請求項６に記載の物質またはケトン体生成による食餌療法。
【請求項８】
前記タンパク質凝集体が、アミロイドβペプチド、ポリグルタミンを含むハンチンチンタンパク質、ポリグルタミンを含むアンドロゲン受容体、ポリグルタミンを含むアトロフィン−１、ポリグルタミンを含むアタキシン、α−シヌクレイン、プリオンタンパク質、タウおよびスーパーオキシドジスムターゼ１（ＳＯＤ１）からなる群より選択される、請求項１〜７のいずれかに記載の物質またはケトン体生成による食餌療法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の物質またはケトン体生成による食餌療法であって、前記治療方法は、ハンチントン病、パーキンソン病、プリオン病、タウ病変、および筋萎縮側索硬化症からなる群より選択される疾患の治療を含む、前記物質または食餌療法。
【請求項１０】
前記タンパク質凝集を減少させることを含む治療方法が、凝集体形成を阻害するか、または、神経保護作用を有する第二の化合物を投与することをさらに含む、請求項１〜９のいずれかに記載の物質またはケトン体生成による食餌療法。
【請求項１１】
前記第二の化合物が、コンゴレッド、シスタミン、システアミン、ミノサイクリン、エイコサペンタエン酸エチル、および、リルゾールからなる群より選択される、請求項１０に記載の物質またはケトン体生成による食餌療法。
【請求項１２】
ケトン体生成による治療の有効性を、細胞におけるタンパク質凝集の減少または予防に関して測定するための試験管内分析法であって、
ａ）インビトロで、ケトン体生成による治療によって細胞を処理すること；および、
ｂ）このような処理によって、該細胞におけるタンパク質凝集が予防されるか、または減少するかどうかを決定すること、
を含む、上記分析。
【請求項１３】
前記タンパク質凝集の減少が、少なくとも２５重量％である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記インビトロでの治療が、ケトン体が生成されない条件下でタンパク質凝集を示す培養細胞のケトン体生成による治療を含む、請求項１２または１３に記載の分析法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体の動脈瘤における血管内の、エラスチンを含む結合組織を安定化するための組成物であって、結合組織へ投与され、複数のフェノール基を有し且つエラスチンと相互作用して結合組織を安定化するフェノール化合物を含み、そしてｐＨが約４〜約９である、前記組成物。
【請求項２】
生体の動脈瘤における血管の、エラスチンを含む結合組織を安定化するための組成物であって、結合組織へ投与され、エラスチンと相互作用して結合組織を安定化する化合物及びグルタルアルデヒドを含み、そしてｐＨが約４〜約９である、前記組成物。
【請求項３】
結合組織への投与が、血管周囲パッチ又は血管内パッチ、移植血管片、ステントなどによる、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
化合物が疎水性領域及び水素結合可能な複数の官能基を有する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
徐放性薬物送達ビヒクル、ヒドロゲル、血管周囲薬物送達ビヒクル、血管内薬物送達ビヒクル、ステント、及びそれらの組み合わせからなる群より選択される薬物送達ビヒクルを更に含む、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項６】
化合物が、タンニン酸若しくはその誘導体、フラボノイド若しくはフラボノイド誘導体、フラボリグナン若しくはフラボリグナン誘導体、フェノール性リゾーム若しくはフェノール性リゾーム誘導体、フラバン−３−オール若しくはフラバン−３−オール誘導体、タンニン若しくはタンニン誘導体、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体、プロシアニジン若しくはプロシアニジン誘導体、アントシアニン、ケルセチン、（＋）−カテキン、（−）−エピカテキン、ペンタガロイルグルコース、ｎｏｂｏｔａｎｉｎ、エピガロカテキンガレート、ガロタンニン、オリーブ油抽出物若しくはオリーブ油抽出物の誘導体、カカオ豆抽出物若しくはカカオ豆抽出物の誘導体、ツバキ抽出物若しくはツバキ抽出物の誘導体、カンゾウ抽出物若しくはカンゾウ抽出物の誘導体、ムチサンゴ抽出物若しくはムチサンゴ抽出物の誘導体、アロエベラ抽出物若しくはアロエベラ抽出物の誘導体、カモミール抽出物若しくはカモミール抽出物の誘導体、それらの組み合わせ、又は医薬的に許容可能なそれらの塩である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項７】
結合組織の構造を安定化する組成物であって、約０．０００１ｗ／ｖ％〜約１０ｗ／ｖ％の化合物及び非経口的に許容可能な担体を含み、
化合物は、複数のフェノール基を有するフェノール化合物であり且つ疎水性コア及び疎水性コアに連結する少なくとも１つのフェノール性ヒドロキシル基を含み、
該組成物のｐＨは約４〜約９であり、実質的に未結合の没食子酸がない、前記組成物。
【請求項８】
徐放性薬物送達ビヒクル、埋め込み型装置、血管周囲薬物送達ビヒクル、血管内薬物送達ビヒクル、ステント、ヒドロゲル、及びそれらの組み合わせから成る群より選択される、薬物送達ビヒクルに入れる、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
化合物が、タンニン若しくはタンニン誘導体、フラボノイド若しくはフラボノイド誘導体、フラボリグナン若しくはフラボリグナン誘導体、フェノール性リゾーム若しくはフェノール性リゾーム誘導体、フラバン−３−オール若しくはフラバン−３−オール誘導体、エラグ酸若しくはエラグ酸誘導体、プロシアニジン若しくはプロシアニジン誘導体、アントシアニン、ケルセチン、（＋）−カテキン、（−）−エピカテキン、タンニン酸、ペンタガロイルグルコース、ｎｏｂｏｔａｎｉｎ、エピガロカテキンガレート、ガロタンニン、オリーブ油抽出物若しくはオリーブ油抽出物の誘導体、カカオ豆抽出物若しくはカカオ豆抽出物の誘導体、ツバキ抽出物若しくはツバキ抽出物の誘導体、カンゾウ抽出物若しくはカンゾウ抽出物の誘導体、ムチサンゴ抽出物若しくはムチサンゴ抽出物の誘導体、アロエベラ抽出物若しくはアロエベラ抽出物の誘導体、カモミール抽出物若しくはカモミール抽出物の誘導体、それらの組み合わせ、又は医薬的に許容可能なそれらの塩である、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
化合物がペンタガロイルグルコースである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１１】
グルタルアルデヒドを更に含む、請求項７に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月27日(2009.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の壁を有する、自動二輪車（１）の荷物収納容器（１−３）であって、すなわち
−荷物収納容器（１−３）を自動二輪車（１）に固定したときに該自動二輪車（１）側に指向する内壁と、
−該内壁から間隔を持って配置されている外壁（５）と、
−荷物収納容器を自動二輪車（１）に固定したときに該自動二輪車の前部領域側に指向する前壁（８）と、
−荷物収納容器（１−３）を自動二輪車（１）に固定したときに該自動二輪車の後部領域側に指向する後壁（９）と、
−それぞれ前記内壁と前記外壁（５）との間に延在している２個の側壁（６）と、
を有する前記荷物収納容器において、
前記外壁（５）と前記後壁（９）との間の移行領域（１０）に、前記外壁（５）を掠める走行風を所定の方向へ誘導する空気誘導要素（１１）が配置されていることを特徴とする荷物収納容器。
【請求項２】
走行風を前記後壁（９）のほうへ誘導するように空気誘導要素（１１）が構成され、配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の荷物収納容器。
【請求項３】
前記外壁（５）と前記後壁（９）との間の前記移行領域（１０）が凸状に湾曲していることを特徴とする、請求項１または２に記載の荷物収納容器。
【請求項４】
空気誘導要素（１１）が、荷物収納容器（１−３）の、前記移行領域（１０）を形成している前記壁部分（５−９）から、間隔を持って配置されていることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項５】
空気誘導要素（１１）が層板状の横断面を有していることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項６】
空気誘導要素（１１）が層板状または翼状に湾曲した凹状の内面を有し、該凹状の内面が荷物収納容器（１−３）の前記移行領域（１０）側に指向していることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項７】
前記２個の側壁（６）のうち一方の側壁と前記外壁（５）との間の移行領域に、該外壁（５）から間隔を持って配置される第１の保持要素（１２）が設けられ、前記２個の側壁（６）のうち他方の側壁と前記外壁（５）との間の移行領域に、該外壁（５）から間隔を持って配置される第２の保持要素（１３）が設けられ、空気誘導要素（１１）の端部（１４，１５）が両保持要素（１２−１３）に固定されていることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項８】
荷物収納容器がトップケース（２）であることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項９】
荷物収納容器がサイドケース（３，４）であり、荷物収納容器の側壁がサイドケースの上壁または下壁を形成していることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項１０】
前記外壁（５）が前記内壁に対し前記後壁（９）のほうへ傾斜していることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか一つに記載の荷物収納容器。
【請求項１１】
前記外壁（５）が前記内壁に対し７゜と１５゜の間の角度で前記後壁（９）のほうへ傾斜していることを特徴とする、請求項１０に記載の荷物収納容器。
【請求項１２】
複数個の壁を有する、自動二輪車（１）の荷物収納容器（１−３）であって、すなわち
−荷物収納容器（１−３）を自動二輪車（１）に固定したときに該自動二輪車（１）側に指向する内壁と、
−該内壁から間隔を持って配置されている外壁（５）と、
−荷物収納容器を自動二輪車（１）に固定したときに該自動二輪車の前部領域側に指向する前壁（８）と、
−荷物収納容器（１−３）を自動二輪車（１）に固定したときに該自動二輪車の後部領域側に指向する後壁（９）と、
−それぞれ前記内壁と前記外壁（５）との間に延在している２個の側壁（６）と、
を有する前記荷物収納容器において、
前記２個の側壁（６）のうちの一方の側壁と前記外壁（５）との間の移行領域に、該外壁（５）から間隔を持って配置される第１の空気誘導要素（１２）が設けられ、前記２個の側壁（６）のうちの他方の側壁と前記外壁（５）との間の移行領域に、該外壁（５）から間隔を持って配置される第２の空気誘導要素（１３）が設けられていること、
前記外壁（５）が前記内壁に対し前記後壁（９）のほうへ傾斜していること、
を特徴とする荷物収納容器。
【請求項１３】
請求項１から１２までのいずれか一つに記載の荷物収納容器（１−３）を備えた自動二輪車。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月2日(2009.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管の内側から外側へ向かって下記の層（１）〜（４）を下記の順序で有する多層管：
（１）フルオロポリマーの層Ｃ1、
（２）少なくとも一種の不飽和モノマーを、必要な場合にはフルオロポリマーと混合した状態で、放射線の照射によってグラフトしたフルオロポリマーの層Ｃ2、
（３）放射線の照射によってグラフトした上記のフルオロポリマーの層Ｃ2に直接結合した接着結合層Ｃ3、
（４）上記任意層Ｃ3または上記層Ｃ2に直接結合した、官能化ポリオレフィンと混合されていてもよいポリオレフィンの層Ｃ4。
【請求項２】
ポリオレフィンの層Ｃ4の次に（５）番目の層としてバリヤー層Ｃ5をさらに有する請求項１に記載の多層管。
【請求項３】
バリヤー層Ｃ5の次に（６）番目の層としてポリオレフィンの層Ｃ6をさらに有する請求項１または２に記載の多層管。
【請求項４】
管の内側から外側へ向かって層Ｃ1と、層Ｃ2と、この層Ｃ2に直接結合した層Ｃ3と、この層Ｃ3に直接結合した層Ｃ4と、層Ｃ5と、層Ｃ6とをこの順序で有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項５】
上記の各層が各接触領域で互いに接着している請求項１〜４のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項６】
層Ｃ1および／または層Ｃ2のフルオロポリマーが、鎖中に重合を開始できるビニル基と、このビニル基に直接結合した少なくとも一つのフッ素原子、フルオロアルキル基またはフルオロアルコキシ基とを有する化合物の中から選択される少なくとも一種のモノマーを有するポリマーである請求項１〜５のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項７】
層Ｃ1および／または層Ｃ2のフルオロポリマーがＶＤＦのホモポリマーまたは少なくとも５０重量％のＶＤＦを含むそのコポリマーまたはＥＦＥＰである請求項１〜６のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項８】
不飽和モノマーをグラフトしたフルオロポリマーがＶＤＦのホモポリマーまたは少なくとも５０重量％のＶＤＦを含むそのコポリマーまたはＥＦＥＰである請求項１〜６のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項９】
フルオロポリマーにグラフトした不飽和モノマーが１つの二重結合Ｃ＝Ｃと、少なくとも１つの極性官能基とを有し、この極性官能基はカルボン酸官能基、カルボン酸の塩、無水カルボン酸、エポキシド、カルボン酸のエステル、シリル、アルコキシシラン、カルボン酸アミド、ヒドロキシまたはイソシアネートにすることができる請求項１〜８のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項１０】
フルオロポリマーにグラフトした不飽和モノマーが４〜１０個の炭素原子を有する不飽和カルボン酸およびその誘導体、好ましくはその無水物である請求項１〜９のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項１１】
グラフトする不飽和モノマーがメタクリル酸、アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ウンデシレン酸、アリル琥珀酸、シクロヘキシ−４−エン−１，２−ジカルボン酸、４−メチルシクロヘキシ−４−エン−１，２−ジカルボン酸、ビシクロ［２，２，１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボン酸、ｘ−メチルビシクロ［２，２，１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボン酸、ウンデシレン酸亜鉛、カルシウムまたはナトリウム、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、ジクロロ無水マレイン酸、ジフルオロ無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水クロトン酸、グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、トリメトキシシランビニル、トリエトキシシランビニル、トリアセトキシシランビニル、繃−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランのようなシランビニルである請求項１〜９のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項１２】
接着結合剤が、ポリオレフィンと混合されていてもよい官能化ポリオレフィンである請求項１〜１１のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項１３】
層Ｃ3が層Ｃ2と直接接触している場合で、官能化ポリオレフィンがフルオロポリマーにグラフトされた官能基と反応可能な官能基を有する請求項１２に記載の多層管。
【請求項１４】
層Ｃ4が層Ｃ2と直接接触している場合で、官能化ポリオレフィンがフルオロポリマーにグラフトされた官能基と反応可能な官能基を有する請求項１〜１２のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項１５】
層Ｃ4および／または層Ｃ6のポリオレフィンがエチレンおよび／またはプロピレンの単位を主成分とするポリマーである請求項１〜１４のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項１６】
ポリオレフィンがエチレンのホモポリマーまたはコポリマーまたはプロピレンのホモポリマーまたはコポリマーである請求項１５に記載の多層管。
【請求項１７】
ポリオレフィンがＸＰＥである請求項１６に記載の多層管。
【請求項１８】
管の内側から外側へ向かって下記の層（１）〜（６）を下記の順序で有する多層管：
（１）ＰＶＤＦのホモポリマーまたはコポリマーの層Ｃ1、
（２）放射線の照射によって無水マレイン酸をグラフトしたフＰＶＤＦのホモポリマーまたはコポリマーの層Ｃ2、
（３）接着結合層Ｃ3、
（４）ポリエチレン層Ｃ4、好ましくはＸＰＥ型のポリエチレンの層、
（５）バリヤ層Ｃ5、
（６）ポリエチレン層Ｃ6、好ましくはＸＰＥ型のポリエチレン層。
【請求項１９】
接着結合層がＣ5とＣ4の間および／またはＣ5とＣ6との間に配置されている請求項１８に記載の多層管。
【請求項２０】
各層が各接触領域で互いに接着している請求項１８または１９に記載の多層管。
【請求項２１】
接着結合剤が無水マレイン酸と反応可能な官能基を有する官能化ポリオレフィンであり、この官能化ポリオレフィンにはポリオレフィンと混合されていてもよい請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の多層管。
【請求項２２】
官能化ポリオレフィンがエポキシドまたはヒドロキシ官能基を有する請求項２１に記載の多層管。
【請求項２３】
官能化ポリオレフィンが、チレンと、不飽和エポキシド、例えばグリシジルメタクリレートとのコポリマーであり、のコポリマーが要に応じてさらにアルキルアクリレートを含むことができる請求項２１または２２に記載の多層管。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の多層管の、水、特に熱水、化学製品またはガスの輸送での使用。
【請求項２５】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の多層管の、床暖房装置(plancher radiant)または熱水のラジエータへの運搬での使用。
【請求項２６】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の多層管の輻射暖房装置(systemes de chauffage par rayonnement)での使用。
【請求項２７】
上記のガスが炭化水素ガス、窒素、ヘリウム、水素、酸素、腐食性ガスまたはポリエチレンまたはポリプロピレンを劣化させるガスまたは冷媒である請求項２４に記載の使用。
【請求項２８】
下記の（１）と（２）の工程を有する、少なくとも一つのＣ型ＸＰＥの層を有する請求項１〜２３のいずれか一項に記載の多層管の製造方法：
（１）上記の各層を共押出しして多層管を作り、
（２）成形された多層管に放射線を照射して一層または複数のポリエチレン層を架橋させる。
【請求項２９】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の少なくとも一つの多層管を含む輻射暖房装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月30日(2009.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（ａ）５０μｍ〜５ｍｍの範囲の平均直径（質量平均）を有する連続気泡アミノ樹脂フォーム断片を、
（ｂ）少なくとも１種のエチレン性不飽和モノ−又はジカルボン酸の共重合体から選択される少なくとも１種のフィルム形成性ポリマーと混合し、
付形工程に付し、その後、
乾燥する、ことを特徴とする製品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向軸線を定めているシャフト及びただ１個の駆動用先端部を備えたドライバーであって、
前記先端部は交互になっているフルートとクレストとを有し、
フルートの各々は横断方向断面において湾曲し、
クレストの各々は第１の側面及び反対側の第２の側面を有し、
第１の側面及び第２の側面の各々は横断方向断面において実質的に真っすぐであり、
これにより、フルートはローブ状の凹所を有するファスナーを駆動することができ、そしてクレストは真っすぐな壁の六角形凹所を有する別のファスナーを駆動することができるドライバー。
【請求項２】
フルートの各々が第１の側の部分及び第２の側の部分を備え、フルートの第１の部分が、時計方向の回転中、ローブ凹所を有するファスナーを駆動でき、そしてフルートの第２の部分が、反時計方向の回転中、ローブ凹所を有するファスナーを駆動できる請求項１のドライバー。
【請求項３】
クレストの第１の側面が、時計方向の回転中、六角凹所を有するファスナーを駆動でき、そしてクレストの第２の側面が、反時計方向の回転中、六角凹所を有するファスナーを駆動できる請求項２のドライバー。
【請求項４】
第１のクレストの第１の側面は第１の側の遷移部において第１のフルートの第１の側の部分になり、第１のフルートの第１の側の部分は間にフルートの底部を定めるように第１のフルートの第２の側の部分になり、そして第１のフルートの第２の側の部分は第２の側の遷移部において第２のクレストの第２の側面になる請求項３のドライバー。
【請求項５】
クレストの第１の側面及びクレストの第２の側面が平面である請求項１のドライバー。
【請求項６】
クレストの第１の側面及びクレストの第２の側面が平面でない請求項１のドライバー。
【請求項７】
クレストの第１の側面及びクレストの第２の側面が、横断方向断面において真っすぐである請求項６のドライバー。
【請求項８】
クレストの第１の側面及びクレストの第２の側面が、長手方向断面において円弧状である請求項７のドライバー。
【請求項９】
クレストの第１の側面及びクレストの第２の側面の各々が、横断方向断面の一点で出会う請求項８のドライバー。
【請求項１０】
連結部分がクレストの第１の側面及びクレストの第２の側面の間に配置され、該連結部分が横断方向断面において平らである請求項９のドライバー。
【請求項１１】
連結部分がクレストの第１の側面及びクレストの第２の側面の間に配置され、該連結部分が横断方向断面において湾曲している請求項１０のドライバー。
【請求項１２】
先端部にテーパーが付けられていない請求項１のドライバー。
【請求項１３】
先端部は、先端部の幅が末端部の近くで減少するように先端部にテーパが付けられた請求項１のドライバー。
【請求項１４】
先端部は、先端部の幅が末端部の近くで増加するように先端部に逆テーパが付けられた請求項１のドライバー。
【請求項１５】
フルートが中低である請求項１のドライバー。
【請求項１６】
長手方向軸線を定めるシャフト及びただ１個の駆動用先端部を備えたソケット頭ドライバーであって、
前記先端部は交互になっているフルートとクレストとを有し、
フルートの各々は横断方向断面において湾曲し、
クレストの各々は第１の側面及び反対側の第２の側面を有し、
第１の側面及び第２の側面の各々は横断方向断面において実質的に真っすぐであり、
クレストの第１の側面及びクレストの第２の側面は約１２０゜の夾角を形成しており、
これによって、フルートは六角頭を有するファスナーを駆動できて、フルート及びクレストの少なくも一方が、ローブ状の頭部を有する別のファスナーを駆動できるソケット頭ドライバー。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切削部材（２ＡおよびＢ）の半径方向の位置についての微調整機構を備えるとともに前記切削部材（２ＡおよびＢ）を取り付けるためのチップ受け座を有する、長軸（８）に沿って延びる工具本体（１４）を備えた切削部材（２ＡおよびＢ）のための工具ホルダであって、前記チップ受け座は前記切断部材（２ＡおよびＢ）が張設される載置面（１８）を含むとともに切削面（１１）に向って開き、前記切削面（１１）に対して向かい合うように裏側の当接壁を有する、そのような工具ホルダにおいて、
前記当接壁は、拡張スリット（２６）の刻設によって、一方の取付側（２４）でのみ残りの工具本体（１４）と連結された弾性的に保持されるウェブ（２２）として構成され、
前記拡張スリット（２６）には前記切削部材（２ＡおよびＢ）の半径方向位置を微調整するための調整ねじ（２８）をねじ込み可能であることを特徴とする工具ホルダ。
【請求項２】
前記拡張スリット（２６）は長手方向脚部（３２Ａ）および横方向脚部（３２ＢおよびＣ）を有することを特徴とする、請求項１に記載の工具ホルダ。
【請求項３】
前記長手方向脚部（３２Ａ）は前記当接壁と平行に延びていることを特徴とする、請求項２に記載の工具ホルダ。
【請求項４】
前記拡張スリット（２６）は前記載置面（１８）にある角穴（３１）から始まって前記当接壁に対して斜めに延び、それによって断面で見て円錐状のウェブ（２２）が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の工具ホルダ。
【請求項５】
前記チップ受け座はチップ受け座幅（ｂ１）を有し、前記拡張スリット（２６）はほぼ前記チップ受け座幅（ｂ１）にわたってのみ延びていることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の工具ホルダ。
【請求項６】
前記ウェブ（２２）は約１．５ｍｍから２．５ｍｍの範囲内の壁厚（ｄ）を有することを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の工具ホルダ。
【請求項７】
前記載置面は、前記切削部材（２ＡおよびＢ）に挿通される、前記切削部材（２ＡおよびＢ）のためのクランプねじ（１２）をねじ込むために設けられたねじ穴（３０８）を備えていることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の工具ホルダ。
【請求項８】
前記ウェブ（２２）の取付側（２４）は前記載置面（１８）に沿って延びていることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の工具ホルダ。
【請求項９】
前記ウェブ（２２）の前記取付側（２４）は前記チップ受け座の側方の当接壁（２０Ａ）に沿って延びていることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の工具ホルダ。
【請求項１０】
前記拡張スリット（２６）は、前記チップ受け座の当接壁（２０ＡおよびＢおよび１８）のうちの１つによって定義されるチップ受け座レベル（ｎ）を超えて延びる拡張スリット深さ（ｔ）まで延びていることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の
工具ホルダ。
【請求項１１】
前記拡張スリット（２６）は最大で約１ｍｍから２．５ｍｍだけ前記チップ受け座レベル（ｎ）を超えて延びていることを特徴とする、請求項１０に記載の工具ホルダ。
【請求項１２】
前記拡張スリット（２６）と平行に向き、前記チップ受け座のほうを向いている前記ウェブ（２２）の側に刻設された別の拡張スリット（３４）が設けられていることを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載の工具ホルダ。
【請求項１３】
前記別の拡張スリット（３４）は前記拡張スリット深さ（ｔ）を超えて延びていることを特徴とする、請求項１２および請求項１０または１１に記載の工具ホルダ。
【請求項１４】
前記別の拡張スリット（３４）は前記拡張スリットに対して斜めに延び、それによってこれらの間に鋭角の傾斜角（α）が形成されていることを特徴とする、請求項１２または１３に記載の工具ホルダ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月19日(2009.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の層が赤外領域において光学的に密である層であり、かつ第二の層がポリマーを基材として含む、多層製品。
【請求項２】
該第一の層がカップリング層（Ｈ）、機能層（Ｆ）および任意に保護層（Ｓ）で構成されており、層の順序が基材に続く層から開始して前記順序に対応する、請求項１に記載の多層製品。
【請求項３】
第二の層のポリマーを第一の層（Ｓ１）で被覆するのに、ＰＶＤ（物理蒸着）、ＥＣＤ（電着塗装）、ＣＶＤ（化学蒸着）法またはゾル−ゲル法を使用することを特徴とする、請求項１または２に記載の多層製品の製造方法。
【請求項４】
難燃性を改良するポリマー成形品用コーティングとしての赤外領域において光学的に密である金属層の使用。
【請求項５】
成形品を製造するための請求項１または２に記載の多層製品の使用。
【請求項６】
請求項１または２に記載の多層製品を含有する成形品。
【請求項７】
成形品を赤外領域において光学的に密である金属の層でフィルム厚３ｎｍ〜１００００ｎｍにおいて被覆することを特徴とする、ポリマーから作られる成形品の耐燃性改良方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月6日(2009.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像トーン解像度を有する画素を備える画像を、ノズルトーン解像度を有するプリントノズルの配列を備えるプリンターでプリントするための画像処理方法において、
（ａ）ノズルの前記配列のトーン応答を修正するためにプリンタープロフアイル（８５０）を決定する過程と、
（ｂ）修正された画素（１１１２）を得るために、前記画像の該画素（１１１１）に前記プリンタープロフアイルを適用する過程と、を具備しており、前記修正された画素（１１１２）は前記ノズルトーン解像度より高い修正トーン解像度を有しており、該方法は又、
（ｃ）ノズルによりプリントされる修正された画素（１５００）を、該同じノズルによりプリントされる前に変型された画素（１５０２）の部分を加算することにより、そして前記前に変型された画素（１５０２）を前記ノズル解像度に量子化することにより得られる、量子化された画素（１５０３）の部分を引き算することにより、変型された画素（１５０１）を得るよう変型する過程と、
（ｄ）次の修正された画素用に過程（ｃ）から（ｄ）を繰り返す過程と、
を具備することを特徴とする該方法。
【請求項２】
前記前に変型された画素に乱数を加算する過程を具備することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
ラスター画像の対応する該修正された画素が第２値に等しいならば、前記量子化された画素の値に優先して、第１の予めセットされた値に依る過程を具備することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記プリンターを使って前記量子化された画素をプリントする過程、を具備することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１つに記載の方法。
【請求項５】
ドットマトリックスプリンター用制御器であって、前記プリンターがノズルトーン解像度で動作するノズルの配列を有している制御器において、
ラスター画像の画素を記憶する手段を具備しており、前記画素は画像トーン解像度で表されており、
ノズルの前記配列の該トーン応答を修正するためにプリンタープロフアイルを記憶する手段と、
前記ノズルトーン解像度より高い修正トーン解像度で表され、ノズル修正された画素を得るために、前記プリンタープロフアイルを使って前記ラスター画像の該画素をトーン修正する手段と、
ノズルによりプリントされる修正された画素を、該同じノズルによりプリントされる前に変型された画素の部分を加算することにより、そして前記前に変型された画素を前記ノズル解像度に量子化することにより得られた量子化された画素の部分を引き算することにより、変型する手段と、
量子化された画素を得るために、前記前に変型された画素を量子化する手段と、
を具備しており、前記量子化された画素が前記ノズルトーン解像度で表されることを特徴とするドットマトリックスプリンター用制御器。
【請求項６】
変型し、量子化する前記手段がフィールドプログラマブルアレイ上に実現されることを特徴とする請求項５記載のドットマトリクイスプリンター用制御器。
【請求項７】
請求項５乃至６の何れか１つに記載の制御器を具備することを特徴とするプリンター。
【請求項８】
請求項１乃至４の何れか１つに記載の方法を行うようにセットアップされたコンピュータコードを具備することを特徴とするコンピュータ読み出し可能な媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
デルタ−シグマ変調部（ｄｅｌｔａ−ｓｉｇｍａ  ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）のスキームに効果的に対応する図１５のスキームは、該誤差拡散アルゴリズムの種々の解釈を提供する。変型された画素値Ｐ’［ｉ］１５０２の次の変型された画素値Ｐ’［ｉ＋１］１５０１への加算は第１次の積分器（ｆｉｒｓｔ  ｏｒｄｅｒ  ｉｎｔｅｇｒａｔｏｒ）１５４０として作用する。入力信号Ｐ［ｉ］１５００から該出力信号Ｈ［ｉ］１５０３を引き算し、その結果を積分することにより、該出力シーケンスのＨ［ｉ］１５０３の平均値が入力シーケンスＰ［ｉ＋１］１５００の平均値に従うと言うフィードバックチェーン（ｆｅｅｄｂａｃｋ  ｃｈａｉｎ）が実現される。該フィードバックチェーンは又該乱数Ｎ［ｉ］の加算の効果を有効に抑制する。該フィードバックループが積分（ローパス）フイルターの様に作用する積分器１５４０を含むので、ランダム信号Ｎ［ｉ］の低周波成分は該フィードバックループにより比較的多く抑制され、該ランダム信号Ｎ［ｉ］のスペクトルは変えられる。従って、該積分器１５４０は時にはノイズ成形フイルター（ｎｏｉｓｅ−ｓｈａｐｉｎｇ  ｆｉｌｔｅｒ）と呼ばれる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気−液体接触トレイ（200）において、
a)  複数の蒸気−液体接触デッキ（206）と、
b)  それぞれ第１の細長い側壁（210a）と、それに対向する細長い、そして近接接触デッキとの垂直方向の距離が第１の細長い側壁との距離より短い第２の側壁（210ｂ）を有し、さらにそれぞれ第１の細長い壁面と交差する底板（212）を有している複数の降流管（202）と、そして
c)  各降流管から次のトレイに流動する液体の垂直方向の流路を画定する、傾斜降流管バッフル（220）とを有し、
前記傾斜降流管バッフルが第２の側壁（210b）から延びて、底板（212）と交差し、少なくとも第１の細長い側壁によって形成される垂直平面に延びていることを特徴とする蒸気−液体接触トレイ。
【請求項２】
さらに、複数の降流管（202）のうちの少なくとも２つの間に延び、そして接触デッキ(206)の少なくとも１つと交差する中央バッフル（208）を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項３】
さらに、トレイの外周に近接しており、それぞれ側方降流管堰（128）と液体分散部（326）を含む液体受け入れ部（324）を有している２つの側方降流管（304）を含んでおり、前記受け入れ部が液体の流れを前記分散部の方に向け、そして前記分散部が基本的には近接接触デッキから直接流入してくる液体から護られていることを特徴とする請求項２に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項４】
前記中央バッフルが後退翼付きで（108'）、不均等に分割された側方降流管と協働し側方降流管堰（128'）の長さと、前記受け入れ部上方のスペースを増大させることを特徴とする請求項３に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項５】
さらに、降流管の直前に配置され、液体がその降流管に入る前にその流入口上を必ず流れるようにする流入堰（216）を含んでいることを特徴とする請求項１−４のいずれか１項に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項６】
さらに、各傾斜降流管バッフル（220）の底端部に配置された貫通防止堰（222）を含んでおり、前記貫通防止堰は穴が開けられており、前記傾斜降流管バッフルに対してほぼ垂直の方向を向いていることを特徴とする請求項１−４のいずれか１項に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項７】
さらに、降流管のそれぞれの流入口に近接したバブル・プロモータ（342）を含んでいる請求項１−４のいずれか１項に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項８】
前記中央バッフルが、さらに前記降流管からは離れて配置された等化器（350）を含んでいることを特徴とする請求項２−４のいずれか１項に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項９】
傾斜降流管バッフル（220）のそれぞれが、液体の流れを第１の方向に変える第１の部分と、液体の流れを前記第１の向きとは反対の方向に導く第２の部分を含んでいることを特徴とする請求項１−４のいずれか１項に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【請求項１０】
前記降流管のそれぞれが、さらに、前記傾斜降流管バッフルの前記第１と第２の部分間の流体連通をより容易にする液体均衡ボックス（234）を含んでいることを特徴とする請求項９に記載の蒸気−液体接触トレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月25日(2009.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
濾過される水を集めるための第１の貯槽（８）と、
その濾過された水を集めるための第２の貯槽（１２）であって、この貯槽（１２）は、前記第1の貯槽（８）から落下することにより供給されるものと、
前記第１の貯槽（８）から第２の貯槽内に延びる導管（１０）と、
その導管（１０）内に取外し可能に受けられるカートリッジタイプの濾過部材（１１）と、
前記導管（１０）と第２の貯槽（１２）との間に位置する濾過された水のための流出孔（２２ａ、３１）とを有してなり、
前記導管（１０）は、前記第１の貯槽（８）からの遠端であって、その取外しを促進するために、前記カートリッジに対するアクセスのための少なくとも１つの開口（１５）を有し、前記カートリッジに対するアクセスのための開口（５）の領域内の導管（１０）に取外し可能に嵌めることができる、少なくとも部分的な閉止蓋を有し、さらにそれが第１の貯槽から流出孔（２２ａ、３１）を介して前記第２の貯槽（１２）に流れる水の流量を調節するために、導管（１０）と協働している流量調節器を有することを特徴とする、水および液体一般を濾過するための濾過装置（１）。
【請求項２】
前記流量調節器は、それが、第２の貯槽（１２）の水位高さの変化の影響によって前記カートリッジから流出している水の逆圧力における変化を最小にするようなものである請求項１記載の濾過装置。
【請求項３】
前記流量調節器は、前記流出孔（２２ａ、３１）が、前記第２の貯槽（１２）の水位高さに本質的に依存しないカートリッジからの出口で逆圧力を決定するように、前記カートリッジからの水の流出に関して第１の貯槽（８）に近いように、前記カートリッジから流出され、かつ、流出孔に向って指向されている水のための上向きの進行の限界を定めるための手段を有する請求項１または２記載の濾過装置。
【請求項４】
前記限界を定める手段は、前記進行が、前記導管とカートリッジとの間にその導管の内部で規定されるように、導管（１０）に関連して位置される請求項１〜３のうちのいずれか１項記載の濾過装置。
【請求項５】
前記限界を定める手段は、前記進行が、前記導管とこの導管（１０）に嵌められるビーカー状の構造（２０）との間にその導管の外部で規定されるように、導管に関連して位置される請求項１〜３のうちのいずれか１項記載の濾過装置。
【請求項６】
前記ビーカー状の構造（２０）は、前記導管（１０）から取外すことができ、かつ、その導管（１０）の閉止蓋を構成する請求項５記載の濾過装置。
【請求項７】
前記ビーカー状の構造（２０）は、前記導管（１０）の軸方向における調整可能な方法で位置決めされる請求項５または６記載の濾過装置。
【請求項８】
前記ビーカー状の構造（２０）は、前記導管（１０）に阻止部をもって嵌められる請求項５、６または７記載の濾過装置。
【請求項９】
前記ビーカー状の構造（２０）は、前記導管（１０）にねじでとめられる請求項７記載の濾過装置。
【請求項１０】
前記ビーカー状の構造（２０）は、前記導管（１０）にスナップ係合で取付けられる請求項５または６記載の濾過装置。
【請求項１１】
前記ビーカー状の構造（２０）は、前記基部（２１）に関して調整可能な方法で延びることができる外表面（２２）を有する請求項５または６に記載の濾過装置。
【請求項１２】
前記流量調節器は、前記孔（３１）を調節して閉止するための手段を有する請求項１から４のいずれか１項記載の濾過装置。
【請求項１３】
前記閉止手段は、前記孔（３１）の断面を調節するための手段を有する請求項１２記載の濾過装置。
【請求項１４】
前記調節手段は、前記孔（３１）内に取外し可能に挿入することができるストッパ（３３、３３´）に嵌るように調整された孔を有するタイプである請求項１３に記載の濾過装置。
【請求項１５】
前記閉止手段は、調節可能な断面を有し、かつ、前記孔（３１）内に挿入されるシャッタ（３５）を有する請求項１２記載の濾過装置。
【請求項１６】
前記閉止手段は、少なくとも１つの補助孔（４０）と、この孔（４０）を遮断するための手段（４１）とを有する請求項１３記載の濾過装置。
【請求項１７】
前記補助孔（４０）を遮断するための手段は、水位タイプであって、かつ、第２の貯槽（１２）の水位高さが増加するにつれて前記孔（４０）を解放することができる請求項１６記載の濾過装置。
【請求項１８】
前記遮断する手段は、フロートタイプ（４４）である請求項１７記載の濾過装置。
【請求項１９】
前記導管（１０）が取外し可能に挿入されるストッパ（５０、５０´、５０´´）を有し、これらのストッパ（５０、５０´、５０´´）は、底壁（５２）を有するとともに、さらに前記流出穴（５１）がこの底壁に形成される請求項１記載の濾過装置。
【請求項２０】
前記ストッパ（５０、５０´、５０´´）は、前記底壁（５２）から前記導管（１０）に関して反対方向に突出する筒形部（５５、５５´）を有し、前記流出穴（５１）がその筒形部に形成される請求項１９記載の濾過装置。
【請求項２１】
前記筒形部（５５、５５´）は、前記底壁を通して延びるように軸方向に続く内部通路（５６）を有する請求項２０記載の濾過装置。
【請求項２２】
前記ストッパ（５０、５０´、５０´´）は、前記穴（５１）を有するとともに、前記内部通路５６を閉塞する閉止壁を有する請求項２０記載の濾過装置。
【請求項２３】
前記ストッパ（５０、５０´、５０´´）は、前記底壁から導管（１０）に向かって突出する筒形部（５５、５５´）を有し、前記流出穴がこの筒形部（５５、５５´）に形成される請求項１９記載の濾過装置。
【請求項２４】
前記穴（５１）は、前記底壁（５２）に形成される請求項１９記載の濾過装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【図１】この発明の第１の実施例による濾過装置の縦断面であり、この装置は、水差しに合体されている。
【図２】図１の水差しの部分的に分解された図である。
【図３】図１の水差しの詳細部分の斜視平面図である。
【図４】図３の詳細部分の断面図である。
【図５】図３の詳細部分の縦断面図である。図５ａおよび図５ｂは、それぞれ図１の水差しの構造的変形の倍尺に描かれた図である。
【図６】この発明の他の実施例による濾過装置の部分的に分解した縦断面図であり、この装置は水差しに合体されている。
【図７】図６の水差しの詳細部分の倍尺に描かれた側面図である。
【図８】図６の水差しの詳細部分の倍尺に描かれた正面図である。
【図９】そこに示された詳細部分の異なる構造の図７に近似している図である。
【図１０】そこに示された詳細部分の異なる構造の図８に近似している図である。
【図１１】図７の詳細の他の変形の倍尺に描かれた斜視図である。
【図１２】この発明による装置の異なる構造の倍尺に描かれた概略図である。
【図１３】この発明による装置の他の異なる構造の倍尺に描かれた概略部分断面図である。
【図１４】図１３の装置の詳細部分を示し、それぞれ図１４ａは側面図、図１４ｂは底面図である。
【図１５】この発明の装置の他の構成の変形の、倍尺に描かれた概略部分断面図である。
【図１６】この発明の装置の他の構成の変形の、倍尺に描かれた概略部分断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記研削部材（９）はばね部材（２７）によって引き込まれた休止位置で保持されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の工具（１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記受け部と前記押圧プレート（５）の間に圧縮ばね部材（２７）が配置されていることを特徴とする、請求項６から８のいずれか一項に記載の工具（１）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月8日(2009.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の外側に設けられているドーピングされた半導体層；
前記ドーピングされた半導体層の外側に設けられ、かつ該ドーピングされた半導体層と接している絶縁層；及び
ある距離をおいて前記絶縁層の上に設けられている導体膜；
を有する半導体素子であって、
前記距離は、前記導体膜と前記絶縁層との間の空気ギャップを画定し、
前記ドーピングされた半導体層は前記基板と前記絶縁層との間に設けられ、
前記絶縁膜層は前記ドーピングされた半導体層と前記前記導体膜との間に設けられ、
前記導体膜は、適切な電圧が前記導体膜と前記ドーピングされた半導体層との間に印加されるときに、前記絶縁層と接するように動作し、
前記ドーピングされた半導体層と前記絶縁層は、組み合わせられることで、前記絶縁層によって与えられる余分な電荷を消散させる経路を供するように機能する、
半導体素子。
【請求項２】
前記ドーピングされた半導体層が、該ドーピングされた半導体層の材料の固溶限界に相当するドーピング濃度を有する、請求項1に記載の半導体素子。
【請求項３】
前記ドーピングされた半導体層が単結晶材料を有し、かつ
前記単結晶材料が、インジウムガリウムヒ素、インジウム燐、ガリウムヒ素、シリコン、GaN、SiC、及びゲルマニウムからなる群から選択される、
請求項1に記載の半導体素子。
【請求項４】
前記絶縁層が、実質的にドーピングされていない半導体材料を有する、請求項1に記載の半導体素子。
【請求項５】
前記絶縁層用の材料のブレークダウン電圧が、前記導体膜と前記ドーピングされた半導体層との間に印加される前記適切な電圧よりも大きい、請求項1に記載の半導体素子。
【請求項６】
前記絶縁層が半導体材料を有し、かつ
前記半導体材料が、インジウムアルミニウムヒ素、アルミニウムガリウムヒ素、アモルファスシリコン、多結晶シリコン、及び単結晶シリコンからなる群から選択される、
請求項1に記載の半導体素子。
【請求項７】
前記導体膜が、該導体膜に印加される電圧に依存して、前記絶縁層に対する前記導体膜の位置を変化させる能力を有する、請求項1に記載の半導体素子。
【請求項８】
前記ドーピングされた半導体層の外側であってそれに接するように設けられた1以上のオーミックコンタクトをさらに有する、請求項1に記載の半導体素子。
【請求項９】
基板の外側に設けられているドーピングされた半導体層；
前記ドーピングされた半導体層の外側に設けられている絶縁層；及び
ある距離をおいて前記絶縁層の上に設けられている導体膜；
を有する半導体素子であって、
前記ドーピングされた半導体層は、単結晶材料を有し、
前記ドーピングされた半導体層は、前記単結晶材料の固溶限界に相当するドーピング濃度を有し、
前記絶縁層は、半導体材料を有し、
前記距離は、前記導体膜と前記絶縁層との間の空気ギャップを画定し、
前記ドーピングされた半導体層は前記基板と前記絶縁層との間に設けられ、
前記絶縁膜層は前記ドーピングされた半導体層と前記前記導体膜との間に設けられ、
前記導体膜は、適切な電圧が前記導体膜と前記ドーピングされた半導体層との間に印加されるときに、前記絶縁層と接するように動作し、
前記導体膜、前記ドーピングされた半導体層と、前記絶縁層は、組み合わせられることで、ショットキーバリヤダイオードを形成する、
半導体素子。
【請求項１０】
前記ドーピングされた半導体層と前記絶縁層は、組み合わせられることで、前記絶縁層によって受け取られる余分な電荷を消散させる経路を供するように動作する、請求項9に記載の半導体素子。
【請求項１１】
前記絶縁層が、実質的にドーピングされていない半導体材料を有する、請求項9に記載の半導体素子。
【請求項１２】
前記絶縁層用の材料のブレークダウン電圧が、前記導体膜と前記ドーピングされた半導体層との間に印加される前記適切な電圧よりも大きい、請求項9に記載の半導体素子。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月12日(2009.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平版印刷用基材と；
前記基材上に配置された、
a)ラジカル重合性成分；
b)画像形成用輻射線に暴露された場合に重合反応を開始するのに十分なラジカルを生成することができる開始剤系；及び
c)疎水性主鎖を有し、かつ、
i)前記疎水性主鎖に直接結合されたペンダントシアノ基を有する構成単位と、
ii)親水性ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含むペンダント基を有する構成単位、
の両方を含む高分子バインダー；
を含む画像形成可能な層と
を含む画像形成可能な要素であって、当該画像形成可能な要素がさらにテトラアリールホウ酸塩を含む、画像形成可能な要素。
【請求項２】
前記テトラアリールホウ酸塩が、前記画像形成可能な層中に存在する、請求項1に記載の画像形成可能な要素。
【請求項３】
前記画像形成可能な要素が、前記画像形成可能な層と前記基材との間に中間層を含み、前記テトラアリールホウ酸塩が前記中間層中に存在する、請求項1に記載の画像形成可能な要素。
【請求項４】
前記テトラアリールホウ酸塩がテトラフェニルホウ酸塩である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の画像形成可能な要素。
【請求項５】
前記ポリ(アルキレンオキシド)セグメントがポリ(エチレンオキシド)セグメントである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の画像形成可能な要素。
【請求項６】
前記高分子バインダーがさらに、前記疎水性主鎖に直接結合されたペンダント非置換又は置換フェニル基を有する構成単位を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の画像形成可能な要素。
【請求項７】
前記高分子バインダーが、離散粒子の形態で前記画像形成可能な層中に存在する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の画像形成可能な要素。
【請求項８】
印刷版の製造方法であって、
請求項1〜7のいずれか1項に記載の画像形成可能な要素を用意する工程；
前記要素を、画像形成用輻射線に像様暴露する工程；
前記要素を平版印刷機に取り付ける工程；
前記要素をインク及び/又は浸し水に接触させることにより前記要素を現像して印刷版を得る工程、
を含む、印刷版の製造方法。
【請求項９】
前記画像形成用輻射線が、800 nm〜1200 nmの範囲内の赤外線である、請求項8に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
成形温度に加熱したシート状金属エレメント（Ｅ）を成形具（１）内で最終成形コンポーネント（Ｂ）に成形して、種々の金属特性を有する隣接ゾーン（Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３）を含む金属コンポーネント（Ｂ）を製造する方法であって、前記成形具（１）が、成形工程中に前記シート状金属エレメント（Ｅ）と接触する部分（５，７，１６）の少なくとも１つの温度を調整する温度調整手段を有する前記方法において、それらの温度に関して調節される前記成形具（１）の前記部分（５，７，１６）が、前記部分にあたる前記シート状金属エレメント（Ｅ）のそれぞれの領域（Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３）と接触する時間を考慮して、成形速度を制御することを特徴とする、前記方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
冷却手段（１３，１６）を、温度調整手段として、前記成形具（１）の少なくとも１つの部分（５）又は（６）と関連させ、そしてヒーター（１４）を、温度調整手段として、前記成形具の少なくとも１つの他の部分と関連させることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
成形速度に応じて調節される押さえつけ力を、成形中に、シート状金属エレメントの端縁領域に付与することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この要望を満たすために、本発明は、成形温度に加熱したシート状金属エレメントを成形具内で最終成形コンポーネントに成形して、種々の金属特性を有する隣接部分を含む金属コンポーネントを製造する方法であって、その成形具が、成形工程中にシート状金属エレメントと接触する部分の少なくとも１つの温度を調整する温度調整手段を有する前記方法において、それらの温度に関して調節される成形具の前記部分が、前記部分にあたるシート状金属エレメントのそれぞれの領域と接触する時間を考慮して、成形速度を制御することを特徴とする前記方法を提案する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
成形速度に応じて（Ａｂｈａｅｎｇｉｇｋｅｉｔ）調整される押さえつけ力を、成形中にシート状金属エレメントの端縁領域に付与することで、完成シート状金属コンポーネント内の特定の材料特性を有する特定ゾーンの意図的な成形を付加的に補助することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
コンポーネントＢを製造するために、シート状金属エレメントＥは、炉内でオーステナイト化温度へ最初に加熱される（本明細書では図示せず）。次に、シート状金属エレメントＥは成形具１に置かれ、その結果、その端縁は雌型２の上側にあたる。その後の成形中に、シート状金属エレメントＥをその端縁領域内で押さえつける手段（図示せず）は、必要により、成形具１内で実施されるシート状金属エレメントＥのさらなる変形のために、その後取り付けられる。この場合には、凹部３へのシート状金属エレメント４の材料の最適化連続流れを可能にするために、押さえつける手段により及ぼされる押さえつけ力を、それぞれの成形速度に応じて調整することができる。