Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貯蔵袋であって、
第１と第２の柔軟な側壁と、
ここで、側壁は第１の側縁、これと平行な第２の側縁、閉じた底縁に沿って接合され、側壁の上縁が内部容積に通ずる開口部を形成するために接合されておらず、
前記開口部の近くの前記第１と第２の内側面のそれぞれに取り付けられた第１と第２の噛み合い式の封止ストリップと、
前記内部容積と連通する逆止め弁要素と、
前記第１の側壁に前記逆止め弁要素を封止接続する、前記第１の側壁から外側に突き出る分離器と、
を含み、
前記分離器は、折り畳み状態と拡張状態との間で調整可能であり、前記分離器は拡張状態で前記弁要素を前記側壁から外側に離す、
ことを特徴とする貯蔵バッグ。
【請求項２】
前記分離器は、前記側壁に接合された基部と前記弁要素に接合された頂上とを有する薄肉ドームとして形成される、ことを特徴とする請求項１に記載の貯蔵袋。
【請求項３】
前記分離器は、前記側壁に接合された第１の端と前記弁要素に接合された第２の端とを有するほぼ管状のスリーブとして形成される、ことを特徴とする請求項１に記載の貯蔵袋。
【請求項４】
前記分離器は、前記側壁に接合された第１の端と前記弁要素に接合された第２の端とを有する拡張収縮するベローとして形成される、請求項１に記載の貯蔵袋。
【請求項５】
貯蔵袋を排気する方法であって、
内部容積を画定するために互いに接合された一対の側壁、前記内部容積に通じる開口部、前記内部容積と連通する逆止め弁要素、および前記弁要素を前記内部容積に封止接続する、前記側面の一つから外に突き出した分離器を含む貯蔵袋であって、前記分離器が、折り畳み状態と拡張状態との間で調整可能であって、さらに拡張状態で前記弁要素を前記側壁から外側に離すところの貯蔵袋を提供する工程と、
前記開口部を閉じる工程と、
前記内部容積から前記分離器に空気を送る工程と、
前記分離器内で空気から流体を分離し、分離された流体を前記内部容積に戻す工程と、
前記分離器から前記弁要素を通して空気を排出する工程と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月7日(2009.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向の可撓性ストリップと、
前記長手方向のストリップ上に長手方向に位置決めされ、かつ中にコンポーネントを受けるために構成された複数のポケットであって、前記ポケットの各々が、前記長手方向のストリップの厚さより大きい、前記長手方向のストリップの上面からの深さを有する、複数のポケットと、を含むコンポーネントキャリヤテープであって、
隣接したポケットを分離する側壁が、前記長手方向のストリップの厚さの約５倍未満の距離だけ隔置され、前記隣接したポケットを分離する前記側壁が、前記ポケット深さから、前記ポケットが受けるように構成された前記コンポーネントの高さを引いたものより大きい高さを有する、コンポーネントキャリヤテープ。
【請求項２】
前進機構によるコンポーネントの送出および保管のための可撓性キャリヤテープであって、
上面、および前記上面と反対側の底面を有する長手方向の可撓性ストリップと、
前記ストリップに沿って隔置され、かつその上面を通って開く、コンポーネントを受けるための複数のポケットであって、隣接したポケットが、クロスバーによって互いに分離され、前記クロスバーが、隣接した凹部を、前記ストリップの厚さの約３倍未満の距離だけ分離し、前記クロスバーの上面が、前記ストリップの上面と実質的に同一平面にある、複数のポケットと、
前記ストリップの底面から延在する複数の突出部であって、前記突出部の各１つが、前記複数のポケットの１つに対応する、複数の突出部と、を含む可撓性キャリヤテープ。
【請求項３】
前側に、複数の長手方向に隔置されたコンポーネント受容ポケットを有するエンボス加工されたキャリヤテープを製造するための方法であって、
外側円周表面を有する回転可能な工具を提供する工程であって、前記外側円周表面が、複数の長手方向に隔置されたコンポーネント受容ポケットを形成するための一連の突出部を含む工程と、
前記工具の外側円周表面に対向した適合可能な外側円周表面を有するニップロールを提供する工程と、
ポリマーウェブを前記工具と前記ニップロールとの間のニップに導入する工程と、
前記ポリマーウェブを前記工具と前記ニップロールとの間でプレスして、前記ウェブを前記工具の円周表面上の前記突出部でエンボス加工する工程と、
前記工具から前記エンボス加工されたウェブを取外す工程と、を含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月7日(2009.1.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨面、第一厚み、第一圧縮性、及び約４０〜８０のショアＤ硬さを有し、且つ、厚み不均一性を有する研磨層と、
該研磨層に固定され、該第一厚み以下の第二厚みを有し、且つ該第一圧縮性より大きい第二圧縮性を有する裏打ち層と、
を備え、
該第一厚み、第一圧縮性、第二厚み、及び第二圧縮性は、１.５ｐｓｉ以下の加圧下で該研磨面が該研磨層の厚み不均一性よりゆがむようなものである、
研磨パッド。
【請求項２】
該第二厚みが、該第一厚みにほぼ等しい、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項３】
該裏打ち層の硬さが、約１〜１０のショアＡである、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項４】
該研磨層の厚みが約３０〜９０ミルである、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項５】
該研磨層と反対側で該裏打ち層に固定された導電性シートを更に備えている、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項６】
該裏打ち層と該研磨層との間に液体-不浸透性透明シートを更に備えている、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項７】
該裏打ち層の該第二厚みと該第二圧縮性の積は、１.５ｐｓｉ以下の加圧下で、２ミル以上である、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項８】
該裏打ち層が、ポリウレタン、ポリエーテル又はポリシリコーンの発泡体を含む、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項９】
研磨面を有する研磨層と、
該研磨層における固体光透過部分と、
該研磨層のうち該研磨面と反対側の面上に位置する裏打ち層であって、該光透過部分と整列したアパーチャを有する裏打ち層と、
該裏打ち層のうち該研磨層と反対側の面上に位置する光透過接着層であって、該裏打ち層の該アパーチャにかかっている接着層と、
を備えている研磨パッド。
【請求項１０】
該接着層が該裏打ち層に隣接する、請求項９記載の研磨パッド。
【請求項１１】
該接着層のうち該裏打ち層と反対側の面上に導電層を更に備え、該導電層が、該裏打ち層の該アパーチャと整列したアパーチャを有する、請求項９記載の研磨パッド。
【請求項１２】
研磨面を有する研磨層と、
該研磨層のうち該研磨面と反対側の面上に位置する裏打ち層と、
を備え、該研磨層の外縁が該裏打ち層の外縁に覆いかぶさっている、研磨パッド。
【請求項１３】
該研磨層と該裏打ち層がほぼ円形であり、該裏打ち層の直径が該研磨層の直径未満である、請求項１２記載の研磨パッド。
【請求項１４】
該研磨層の該外縁が約１/４インチだけ該裏打ち層の該外縁に覆いかぶさっている、請求項１２記載の研磨パッド。
【請求項１５】
研磨パッド支持体と、
該研磨パッド支持体によって保持される研磨パッドであって、研磨面、第一厚み、第一圧縮性、約４０〜８０のショアＤ硬さ、及び厚み不均一性を備えた被覆層と、該被覆層に固定され、該第一厚み以下の第二厚みを有し且つ該第一圧縮性より大きい第二圧縮性を有する裏打ち層と、を有し、該第一厚み、第一圧縮性、第二厚み、及び第二圧縮性は、１.５ｐｓｉ以下の加圧下で該研磨面が該被覆層の該厚み不均一性よりゆがむようなものである、研磨パッドと、
該研磨パッドと接触して基板を保持するキャリアヘッドと、
処理液の供給部と、
該パッド支持体と該キャリアヘッドの少なくとも１つに接続して該研磨パッドと該基板との間に相対運動を引き起こすモータと、
を備えている基板処理装置。
【請求項１６】
化学機械的処理方法であって、
基板を研磨パッドの研磨層の研磨面と接触させるステップであって、該研磨層が、研磨面、第一厚みと、第一圧縮性と、約４０〜８０のショアＤ硬さと、厚み不均一性とを有し、且つ、該研磨層が、該第一厚み以下の第二厚みを有し且つ該第一圧縮性より大きい第二圧縮性を有する裏打ち層に固定されている、ステップと、
該研磨面に研磨液を供給するステップと、
該基板と該磨面との間に相対運動を生成させるステップと、
該基板に圧力を加えて、１.５ｐｓｉ以下の加圧で該磨パッドに向かって該基板を押圧するステップと、
を含み、
該第一厚み、第一圧縮性、第二厚み、及び第二圧縮性は、該加圧下で該研磨面が該研磨層の該厚み不均一性よりゆがむようなものである、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
簡単に言えば、１.５ｐｓｉ以下（おそらく１.０ｐｓｉ以下、０.８ｐｓｉ以下、又は０.５ｐｓｉ以下、又は０.３ｐｓｉ以下）の圧力の下で、裏打ち層は、カバー層の厚みの不均一性よりも大きな、圧縮性と厚みの積（Ｃ・Ｄ）を持ち得る。例えば、０.８ｐｓｉ以下（おそらく０.５ｐｓｉ以下）の圧力の下で、裏打ち層は、数ミル、例えば、２ミル以上（おそらく３ミル以上）の、圧縮性と厚みの積（Ｃ・Ｄ）を持ち得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
更に、光学ポート又はウインドウの領域から取り除く代わりに、接着剤層５０はほぼ透明であり得、光学ポートにかかり得る。例えば、図６Ａを参照すると、研磨パッド１８には被覆層内に一体形成されるか又は被覆層内のアパーチャにおいて接着剤で保持される固体の透明部分５６が含まれ得る。裏打ち層２０には、固体の透明部分５６と整列したアパーチャ５８が形成されている。透明部分が接着剤で固定されたと仮定すると、透明部分５６の縁はアパーチャ５８の周りの裏打ち層２０のリムの上に突き出で置かれ、接着剤２８の一部である接着剤５９によって裏打ち層２０に固定され得る。一方、透明部分５６が被覆層２２に一体形成される場合には、接着剤５９は必要とせず、アパーチャ５８は透明部分と同じ大きさか又は異なる大きさであり得る。そうでなければ、この実施態様には、図３Ａ、３Ｃ-３Ｅ、図４のいずれかに記載された特徴が含まれ得る。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月1日(2008.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を電気処理する方法において、
研磨表面の研磨領域を画成するように上記研磨表面に対して保持された基板を移動させるステップと、
上記基板に対して第１の電極をバイアスするステップと、
上記第１の電極をバイアスするのと同時に、上記研磨領域の少なくとも部分的に外側に配設された第２の電極を、上記第１の電極の上記バイアスとは反対の極性でもってバイアスするステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
上記第２の電極をバイアスするステップは、上記基板の外方に配設された研磨ヘッドの部分に正の電圧を印加する段階を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記第２の電極をバイアスするステップは、上記第２の電極に約２ボルトより小さい正のバイアスを印加する段階を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
上記第２の電極をバイアスするステップは、上記第２の電極に約０ボルトと約４ボルトとの間の正のバイアスを印加する段階を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
平方インチ当たり約２ポンド（約９０７．２ｇ）よりも小さい力で研磨パッドに対して上記基板を押し付けるステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
上記第２の電極の内方に配設された複数の電極のうちの少なくとも２つに、約０ＶＤＣと負の約７ＶＤＣとの間のバイアスを印加するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
上記複数の電極の各々に印加された上記バイアスを個々に制御するステップを更に備えた、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
基板を電気化学的に処理するための装置において、
基板を上において処理するように適応される表面を有する処理層と、
上記処理表面に対して基板を保持するための研磨ヘッドと、
上記処理層と上記研磨ヘッドとの間に相対的運動を与え、上記処理表面上の処理領域を少なくとも部分的に画成する上記研磨ヘッドと上記処理層との間の運動の範囲を与える少なくとも１つの駆動機構と、
上記処理層より下方に配設され、少なくとも第１の電極は、上記処理層の外方に配設され、少なくとも第２の電極及び第３の電極は、上記第１の電極の内方に配設され、少なくとも第４の電極は、上記第２の電極の内方に配設されていて、上記第２の電極及び第３の電極より大きい幅を有しているような複数の電極と、
を備える装置。
【請求項９】
上記処理層より下方に配設される上記複数の電極は、上記第２の電極の内方に配設され、上記第２の電極及び第３の電極より大きい幅を有する第５の電極を更に備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
各々が上記電極の各々に結合される複数の個々に制御可能な出力を有する電源を更に備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
電気的にバイアスされる保持リングを更に備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
上記処理層と上記電極との間に配設され、約２ショアーＡから約９０ショアーＡまでの硬さを有するサブパッドを更に備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１３】
上記処理層と上記電極との間に配設され、約０．５ｐｓｉの圧力で少なくとも１パーセントの圧縮性を有するサブパッドを更に備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１４】
電源の端子に結合するように適応される保持リングを更に備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１５】
電源に結合された複数の個々にバイアス可能な導電性素子に前記基板を接触させるステップを更に備える、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月5日(2009.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料の層の製造方法であって、
堆積条件下で基体に、溶媒中に溶解した前記有機材料を含む溶液の層を供給する工程と、
前記溶液の層のアニーリング工程であって、前記溶液の層が完全に乾燥する前に前記アニーリングが実施され、前記アニーリングの継続時間が、前記溶液の層がアニーリングの間に完全に乾燥しないように制限され、前記アニーリングが前記溶液の層のリフローを生じさせるアニーリング工程と、
その後に前記溶液の層を乾燥させる工程であって、堆積条件下で乾燥するよりも遅く前記乾燥が実施されるように制御される乾燥工程と、
を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記堆積条件が堆積温度を含み、前記溶液の層のアニーリング工程が前記堆積温度より高くかつ前記溶媒の沸点より低い温度で実施されることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記アニーリング工程の継続時間が０．１秒〜６０秒の間であることを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記堆積条件が堆積温度を含み、前記溶液の層の乾燥工程を前記堆積温度で実施することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記溶液の層の乾燥工程を２０℃〜２５℃の間で実施することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
前記溶液の層の乾燥工程を飽和雰囲気で行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
溶液の層を供給する工程が、粘性が０．５Ｐａ．ｓより高い溶液を供給する工程と基体に溶液を被覆する工程とを含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
溶液の層を供給する工程が、前記溶媒に前記有機材料を溶解する工程と、前記溶液の粘性が０．５Ｐａ．ｓより高くなるまで待つ工程と、前記溶液を基体に塗布する工程とを含むことを特徴する請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】
溶液の層を供給する工程が、溶液の体積当たりの有機材料の重量の比率が０．５％〜１５％の間である溶液の層を供給する工程を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
前記基体に溶液の層を供給する工程がリニア法を用いて前記層を供給する工程を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記リニア法がドクターブレード法またはロールキャスト法または印刷法であることを特徴とする請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
基体に溶液の層を供給する工程と溶液の層のアニーリング工程との間に前記溶液の層を部分的に乾燥する工程を更に含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１３】
前記有機材料が共役高分子であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１４】
前記有機材料がレジオレギュラ材料であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１５】
前記有機材料がポリ（チオフェン）であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１６】
前記有機材料がフラーレンおよび／またはフラーレン誘導体を更に含むことを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１７】
前記有機材料が共役添加剤を更に含むことを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１８】
前記有機材料が非共役添加剤を更に含むことを特徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１９】
前記溶媒がテトラリンを含むことを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の製造方法。
【請求項２０】
前記溶媒が溶媒の混合物であることを特徴とする請求項１〜１９のいずれかに記載の製造方法。
【請求項２１】
基体を供給する工程であって第１の電極を備えた基体を供給する工程と、溶液の層を乾燥させる工程の後に前記有機材料の層の上部に第２の電極を供給する工程とを更に含むことを特徴とする請求項１〜２０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項２２】
太陽電池、発光ダイオード、光センサー、トランジスタ、レーザーまたは記憶素子の一部である有機層を製造するための請求項１〜２１のいずれかに記載の製造方法の使用。
【請求項２３】
請求項１〜２１のいずれかに記載の製造方法により得ることができる有機層を含む太陽電池、発光ダイオード、光センサー、トランジスタ、レーザーまたは記憶素子。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月28日(2009.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
登録ユーザを介して特定されたキャッシング規則に従って、パケットベースネットワークにおいて、ネットワークキャッシュへ登録ユーザデータソースからデータを受信するステップと、
前記パケットベースネットワーク上の、前記登録ユーザデータソースとサーバとの間の通信リンクを確立するステップと、
遠隔ユーザからの登録ユーザデータへのアクセスのデータ要求に応答して、前記サーバにおけるプロセッサを前記登録ユーザによって提供される認証情報と前記要求内の情報とに基づいて、前記要求を認証し、
認証される前記要求に応答して、前記キャッシング規則に従った前記キャッシュにおける前記要求データの利用可能性を確認し、
前記キャッシュにおいて利用可能であり、前記キャッシング規則に従っている前記要求データに応じて、前記キャッシュから遠隔パケット通信機器への前記要求データの転送を選択的に指示し、
前記キャッシュにおける前記要求データの利用可能性および前記キャッシング規則に応じて、前記確立された通信リンクを用いて、前記データソースから遠隔パケット通信機器への前記要求データの転送を、選択的に指示する、
ように操作するステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記データソースが前記データ転送を実施するために利用できないことに応答して前記キャッシュから遠隔パケット通信機器へデータを転送するために、前記サーバにおける前記プロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記データが前記キャッシュにおいて利用できないことに応答して前記データソースから遠隔パケット通信機器に前記要求データを転送するために、前記サーバにおけるプロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記キャッシュにおいて、前記登録ユーザデータソースにおける選択されたデータファイル内のデータを格納するために、前記サーバのプロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
所定の間隔で、もしくは、前記登録ユーザデータソースにおける前記選択されたデータファイルにおける変更に応答して、前記キャッシュにおいて格納された前記データを更新するために、前記サーバのプロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記データの失効日を示すデータを送信し、前記失効日に前記キャッシュ内のデータを自動的に除去するために、前記サーバにおけるプロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記キャッシュ内のデータの状態を検出し、前記状態に応答して、前記検出状態によって期限切れであると示された前記キャッシュ内のデータを選択的に差し替えるために、前記サーバにおける前記プロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
登録ユーザデータソースから前記ネットワークキャッシュに転送されるデータのレコードを格納し、ここで該レコードは該データの日付を示すものであり、前記キャッシング規則にしたがって、格納された前記レコードをチェックし、
該チェックに応答して、期限切れである前記キャッシュ内のデータを差し替えるために前記登録ユーザデータソースからデータの転送を選択的に指示するために、前記サーバにおける前記プロセッサを動作させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記サーバにおける前記プロセッサを、前記データを転送するために、前記登録ユーザデータソースと通信し、制御するように操作するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
登録ユーザのパケット通信機器からのデータを共用するためにユーザを登録するデータを電子的に格納し、
ネットワークベースのキャッシュにおいて共用データを格納するためにキャッシュエンジン機能を用いて前記パケット通信機器をプログラムし、
前記登録ユーザから、前記ネットワークベースのキャッシュにおいて共用データを格納するためのキャッシングポリシデータを受信し、
前記キャッシングポリシデータと、前記登録ユーザのための前記ネットワークベースのキャッシュにおいて格納される共用データの現在の状況に基づいて、
前記パケット通信網を介して、前記ネットワークベースの少なくとも一つのキャッシュおよび前記登録ユーザのパケット通信機器から共用データの転送を指示することにより共用データを求める遠隔要求に応答する前記パケット通信網を介して前記ネットワークベースのキャッシュにデータを送信するように前記キャッシュエンジンを実装することにより、パケット通信ネットワークにおける転送のためにデータのキャッシングを制御するためのコンピュータ実行可能命令でプログラムされたコンピュータプロセッサを含むネットワークベースサーバを備える装置。
【請求項１１】
前記サーバは、前記パケット通信ネットワークを介して該サーバと前記登録ユーザのパケット通信機器との間の通信リンクを確立するための通信回路を含み、
前記プロセッサは、プログラムおよび受信のキャッシングステップを制御するために、確立されたリンクを使用する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記コンピュータプロセッサが、データを共用する相手の遠隔ユーザを特定する共用データを受信して共用されるべきデータを特定することによって、キャッシングポリシデータを受信し、
受信された前記共用データ内で特定された前記遠隔ユーザからの遠隔要求に応答することによって、および、受信された共用データ内で特定された共用データの転送を指示することによって、共用データの遠隔要求に応答する 、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記コンピュータプロセッサが、データを共用する相手の遠隔ユーザを特定する共用データを受信して共用されるべきデータを特定することによって、キャッシングポリシデータを受信し、
特定された遠隔ユーザと共用すべきデータを識別する通知データを生成し、
該通知データを前記特定された遠隔ユーザに送信することによって、受信された共用データに反応して、前記通知データを含む遠隔要求に応答することによって、ここで、該要求は受信された前記共用データにおいて特定された遠隔ユーザから受信されるものであり、および、共用データにおいて特定された共用データの転送を指示することによって、共用データの遠隔要求に応答する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
前記コンピュータプロセッサは、パケットベースネットワークを介して通信データの前記キャッシュエンジンを制御するため、前記パケット通信ネットワークを介して、該キャッシュエンジンに前記サーバから制御信号を通信することによってデータを送信するために該キャッシュエンジンを実装する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
プロセッサによって実行されると、請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の方法を実装することとなるソフトウェアによって構成される、パケットベースサーバによって使用されるコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月6日(2009.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス流体を処理するために使用される工業プロセスの構成部品の状態を診断する方法であって、
プロセス流体の実測プロセス変数を取得することと、
前記実測プロセス変数に関する情報をプロセス制御ループで通信することと、
前記実測プロセス変数の値に関係したプロセス変数情報を測定することと、
前記測定されたプロセス変数情報と、前記実測プロセス変数が前記値を有する時間の長さに関係する時間情報とに基づいて、前記プロセス変数がある範囲の大きさの値をもつ時間の累積長さを示すヒストグラム情報を計算することと、
前記計算されたヒストグラム情報に基づいて前記工業プロセスの構成部品の状態を診断することと
を含む方法。
【請求項２】
前記ヒストグラム情報を計算することが、さらに、前記実測プロセス変数が前記値を有する時間の長さに関係する情報に基づいてされる前計算する請求項１の方法。
【請求項３】
前記工業プロセスの構成部品の状態を診断することが、さらに、摩耗スケーリングファクタに基づいてなされる請求項１の方法。
【請求項４】
前記摩耗スケーリングファクタが前記プロセス変数値の関数である請求項１の方法。
【請求項５】
前記計算されたヒストグラム情報に基づいて警報を出す請求項１の方法。
【請求項６】
前記計算されたヒストグラム情報が離散領域を含む請求項１の方法。
【請求項７】
前記計算されたヒストグラム情報が連続的である請求項１の方法。
【請求項８】
前記実測プロセス変数が流速であり、前記診断状態が摩耗を示す請求項１の方法。
【請求項９】
前記計算されたヒストグラム情報の表示を含む請求項１の方法。
【請求項１０】
構成部品が交換されたときに、前記計算されたヒストグラム情報をリセットすることを含む請求項１の方法。
【請求項１１】
請求項１の方法を実行するように構成され、前記プロセス制御ループに接続されたフィールド装置。
【請求項１２】
工業プロセス制御又はモニタリングシステム内で使用されるプロセス装置であって、
プロセス制御ループに接続するように構成されたＩ／Ｏ回路と、
前記工業プロセスのプロセス流体のプロセス変数の値を取得するように構成されたプロセス変数入力と、
前記プロセス変数に基づいて、前記プロセス変数がある範囲の大きさの値をもつ時間の累積長さを示すヒストグラム情報を計算し、かつ、
前記計算されたヒストグラム情報に基づいて前記工業プロセスの構成部品の状態を診断するように構成されたデジタル制御装置と
を含む装置。
【請求項１３】
さらに、前記ヒストグラム情報が、前記実測プロセス変数がある値を有する時間の長さに関係する情報に基づくものである請求項１２の装置。
【請求項１４】
さらに、前記工業プロセスの構成部品の状態診断が摩耗スケーリングファクタに基づくものである請求項１２の装置。
【請求項１５】
前記摩耗スケーリングファクタが前記プロセス変数値の関数である請求項１２の装置。
【請求項１６】
前記デジタル制御装置が前記計算されたヒストグラム情報に基づいて警報を出す請求項１２の装置。
【請求項１７】
前記計算されたヒストグラム情報が離散領域を含む請求項１２の装置。
【請求項１８】
前記計算されたヒストグラム情報が連続的である請求項１２の装置。
【請求項１９】
前記プロセス変数が流速であり、前記診断状態が摩耗を示す請求項１２の装置。
【請求項２０】
前記計算されたヒストグラム情報を表示するための表示装置を含む請求項１２の装置。
【請求項２１】
構成部品が交換されたときに、前記計算されたヒストグラム情報がリセットされる請求項１２の装置。
【請求項２２】
前記プロセス変数が、圧力、温度、ｐＨ、密度、レベル、濁度及び構成部品の集中度からなるプロセス変数のグループから選択される請求項１２の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月23日(2009.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器の缶端部において、
缶端部の外周を画定するカールと、
前記カールから下方向に延びるチャック壁と、
長手軸線を中心とし、製品側部、外側部、リベット、及び変位可能な開封パネルを有する中央パネルであって、前記開封パネルが少なくとも実質的に脆性スコアおよび非脆性ヒンジ部によって画定される、中央パネルと、
前記チャック壁を前記中央パネルに接合する手段と、
前記リベットによって前記中央パネルに固定された取り外し不能なタブとを具備し、
前記取り外し不能なタブが、前記開封パネルの一部上に延びるノーズ端部と、前記ノーズ端部とは反対側のリフト端部と、前記ノーズ端部とリフト端部との間の中央ウェブとを有し、該中央ウェブが、ヒンジ領域と、前記リベットを囲むリベット・アイランドとを有し、該リベット・アイランドが前記中央パネルの第１の露出領域を提供するように第１の空隙領域によって少なくとも部分的に囲まれ、前記取り外し不能なタブが、前記中央パネルの第２の露出領域を提供するように前記リフト端部と前記第１の空隙領域との間に第２の空隙領域を更に有し、前記中央ウェブの幅狭のストリップが前記第１の空隙領域と第２の空隙領域とを分離し、前記幅狭のストリップの一部が下方向に延びて前記中央パネルの外側部に接近し、前記中央パネルの外側部からの前記タブのリフト端部の高さが、０．１２７ｃｍ（０．０５０インチ）よりも大きく且つ当該缶端部の外周を画定する前記カールよりも下に維持される、容器の缶端部。
【請求項２】
前記第２の空隙領域は前記中央ウェブの下方向に突出するカールによって画定される外周部を有し、前記第１の空隙領域を前記第２の空隙領域から分離する前記中央ウェブの幅狭のストリップに沿った、前記下方向に突出するカールの一部は、前記中央パネルの外側部に接近し、前記中央パネルの外側部からの前記リフト端部の高さが、０．１２７ｃｍ（０．０５０インチ）よりも大きく且つ当該缶端部の外周を画定する前記カールよりも下に維持される、請求項１に記載の缶端部。
【請求項３】
前記下方向に突出するカールの一部が、前記カールの残りの部分より大きい曲率半径を有する、請求項２に記載の缶端部。
【請求項４】
前記下方向に突出するカールの一部が、前記中央パネルの外側部と係合することができる、請求項２に記載の缶端部。
【請求項５】
前記下方向に突出するカールの一部が、前記中央パネルの外側部と係合する、請求項２に記載の缶端部。
【請求項６】
前記リフト端部の高さが、０．１２７ｃｍ（０．０５０インチ）から０．２５４ｃｍ（０．１００インチ）であり、当該缶端部の外周を画定する前記カールよりも下である、請求項１に記載の缶端部。
【請求項７】
前記リフト端部の高さが、０．１５２４ｃｍ（０．０６０インチ）よりも大きく、当該缶端部の外周を画定する前記カールよりも下である、請求項１に記載の缶端部。
【請求項８】
前記リフト端部の高さが、０．１７７８ｃｍ（０．０７０インチ）よりも大きく、当該缶端部の外周を画定する前記カールよりも下である、請求項１に記載の缶端部。
【請求項９】
前記中央パネルが４．８２ｃｍ（１．９０インチ）より小さい直径を有する、請求項１に記載の缶端部。
【請求項１０】
飲料収容容器において、
容器本体と、
自身を前記容器本体に取り付けて前記容器内に飲料を密封する二重巻締部を有する缶端部であって、製品側部、外側部、リベット、変位可能な開封パネルとを有する中央パネルを備え、開封パネルが少なくとも実質的に脆性スコアおよび非脆性ヒンジ部により画定され、取り外し不能なタブがリベットによって中央パネルに固定される、缶端部と、
前記缶端部に外向きの力を生成する内部圧力であって、前記缶端部の中央パネルが該外向きの力に応答してドーム状の輪郭を有する、内部圧力とを具備し、
前記取り外し不能なタブが、前記開封パネルの一部上に延びるノーズ端部と、該ノーズ端部とは反対側のリフト端部と、前記ノーズ端部とリフト端部との間の中央ウェブとを具備し、該中央ウェブが、ヒンジ領域と前記リベットを囲むリベット・アイランドとを有し、該リベット・アイランドが前記中央パネルの第１の露出領域を提供するように少なくとも部分的に第１の空隙領域によって囲まれ、前記取り外し不能なタブが前記中央パネルの第２の露出領域を提供するように前記リフト端部と前記第１の空隙領域との間に第２の空隙領域を更に有し、前記中央ウェブの幅狭のストリップが前記第１の空隙領域と第２の空隙領域とを分離し、該幅狭のストリップの一部が下方向に延びて前記中央パネルの外側に接近し、前記中央パネルの外側部からの前記タブのリフト端部の高さが、０．１２７ｃｍ（０．０５０インチ）より大きく且つ前記二重巻締部よりも下に維持される、飲料収容容器。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なるコンポーネントを含み不均一な内部構造を有するソーセージ、ハム等の食料製品をスライスする方法であって、
前記食料製品を切断して、得られるスライス群が重ねられて積み上げられた部分をコンベア・システムによってスライシング領域から搬出し、
前記スライス群の各々の切断面を光電子ユニットにより検知して前記切断面を表す信号を得、
前記切断面を表す信号の評価を前記製品の前記内部構造に関して行い、所定許容範囲内にある同一内部構造を有する製品スライス群を特定の等級の部分として集め、
前記異なるコンポーネントに対して重み係数を提供することを特徴とする方法。
【請求項２】
表面に関する前記異なるコンポーネントの各部分を、前記製品の内部構造に関して検知して評価することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
肉部分、すなわち、赤身部分及び脂肪部分を、前記異なるコンポーネントとして検知することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
色分布を、前記製品内部構造に関して検出することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項５】
異なる許容限度を、前記異なるコンポーネントについて予め設定することを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】
前記重み係数を、前記各々のスライスの厚さに基づいて提供することを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
前記特定等級に関する部分を、部分毎に電子的にマークすることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
前記コンベア手段は、切断ステーションに設けられた部分形成領域に関連し、前記特定等級に属する製品スライス群、またはこれら製品スライス群から形成されて区分された部分が、製品生産領域とパーキング位置との間を順に移動せしめられ、各々の部分の処理終了後に搬送され得ることを特徴とする請求項１から７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項９】
少なくとも一つの特定等級の部分を、製品から形成し、前記予め設定された許容限度範囲外の前記製品スライスを、選別し送り出すことを特徴とする請求項１から８のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１０】
前記製品スライスの各々の表面が最小限の大きさに達しない時には、そのことを更なる分類基準としても使用することを特徴とする請求項９記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
それぞれのスライス厚も重み係数について考慮され得る。何となれば、一定重量部分の達成に関し、多くのスライス手順において、スライス厚が当該部分内で変化せしめられる故である。
個々に形成された部分が特定等級に関連する場合、不規則な順序において任意に連続して形成されるこれらの等級付けされた部分は、電子的にマークされ得る。そうすることにより、対応するマーキングまたは特徴付けは、各々の部分のパッケージングにおいて単純な方法にてなされ得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
それぞれの製品スライスの表面が最小限の大きさに達しない時、これは、形成されたスライスの更なる分類基準としても使用され得る。
コンベアシステムは、当該切断ステーションに設けられた当該部分形成領域に関連するのが好ましく、これによって特定等級に属する製品スライス群またはこれらの製品スライスから群から形成される区分された部分が、製品形成領域と個々のパーキング位置との間を順に移動して、各々の部分が完成した後に運び出される。かかる移動動作のための十分な時間を得るために断続的な切断をなすことが出来ると共に、高速スライス処理も可能である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年11月6日(2008.11.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】金属材料からなる基板、並びにこの基板の上に配置され、前記基板に析出された電気的絶縁材料からなる少なくとも１つの中間層と、この中間層の上に析出され、高い臨界温度を持つ超伝導材料からなる少なくとも１つの超伝導体層とを含む導電路を少なくとも備え、この導電路（Ｌ、Ｌ'）の超伝導体層（１３、２３、３３）と基板（１１）との間にこの導電路に付属し、電流の通流方向に延び、これにより超伝導体層を基板と電気的に並列に接続する少なくとも１つの導電性の導電路接続部が形成されていることを特徴とする１つの所定の方向に電流を通すための超伝導体。
【請求項２】少なくとも１つの接続部として、側面方向に超伝導体層（１３）から基板の縁部領域（１１ａ、１１ｂ）にまで延びるストライプ状の金属層（１５ａ、１５ｂ）が設けられていることを特徴とする請求項１記載の超伝導体。
【請求項３】少なくとも１つの接続部として、中間層（２２、３２）に側面で重なり、基板（１１）の対応する縁部領域（１１ａ、１１ｂ）に接している超伝導体層（２３）の縁部片（２３ａ、２３ｂ）が設けられていることを特徴とする請求項１記載の超伝導体。
【請求項４】中間層（３２）が側面部に切り欠き（３５）を備え、ここで超伝導体層（３３）が基板（１１）に接していることを特徴とする請求項３記載の超伝導体。
【請求項５】Ｃｕ、Ａｌ又はＡｇ或いはこれらの合金或いは鋼材、特にＮｉＭｏからなる鋼材からなる基板（１１）を備えていることを特徴とする請求項１ないし４の１つに記載の超伝導体。
【請求項６】超伝導材料の結晶寸法に適合したテクスチャを持つ少なくとも１つの中間層（１２、２２、３２）を備えていることを特徴とする請求項１ないし５の１つに記載の超伝導体。
【請求項７】２軸方向に配向性のある、イットリウムで安定化されたＺｒＯ  2又はＣｅＯ2からなる少なくとも１つの中間層（１２、２２、３２）を備え  ていることを特徴とする請求項６記載の超伝導体。
【請求項８】１つの共通基板（１１）に複数の個別導電路（Ｌ、Ｌ'）を備えていることを特徴とする請求項１ないし７の１つに記載の超伝導体。
【請求項９】少なくとも１つの接続部領域において超伝導体層（１３、２３、３３）と基板（１１）との間に少なくとも１つの接続部を形成するために、中間層の析出が回避されるか、中間層が超伝導体層の析出の前に除去されることを特徴とする請求項１ないし８の１つに記載の超伝導体の製造方法。
【請求項１０】超伝導体層（１３、２３、３３）と基板（１１）との間に少なくとも１つの接続部を形成するために、接続部領域にわたって延びる少なくとも１つのストライプ状の金属層（１５ａ、１５ｂ）が析出されることを特徴とする請求項１ないし８の１つに記載の超伝導体の製造方法。
【請求項１１】超伝導材料の析出方法として、酸素の供給の下での超伝導材料の個々の成分の同時熱蒸着、或いはレーザーアブレーション、或いはスパッタ或いは化学蒸着、特に超伝導材料の金属有機物成分の化学蒸着、或いはシルクスクリーン印刷が行われることを特徴とする請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】中間層材料の析出のためにイオンビーム蒸着（ＩＢＡＤ）、スパッタ或いはレーザーアブレーションが行われることを特徴とする請求項９ないし１１の１つに記載の方法。
【請求項１３】請求項１ないし８の１つに記載の方法で製造した少なくとも１つの超伝導体（１０、２０、３０）を備えることを特徴とする電流制限装置。
【請求項１４】請求項１から８の１つに記載の方法で製造したそれぞれ１つの超伝導体を備えた複数のモジュール状電流制限素子（５０ｉ）の電気的接続構成を備えることを特徴とする請求項１３記載の電流制限装置。
【請求項１５】各電流制限素子（５０ｉ）が超伝導体を持つ帯導体を２条に巻回した巻回体（５２）を備える請求項１４記載の電流制限装置。
【請求項１６】  帯導体の巻回体（５２）が隣接する帯導体層の間に冷却媒体の通流を容易にする絶縁帯（５３）を備えることを特徴とする請求項１５記載の電流制限装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
ＨＴＳ材料の高い電流臨界密度ＪCのために必要な、ＨＴＳ材料の配向性のある成長、特にエピタキシー成長を可能とするために、少なくとも１つの中間層はこのような成長を保証する材料からなるのがよい。それ故、ＨＴＳ材料の結晶寸法に適合したテクスチャを持つ中間層が適している。いずれの場合にも中間層の材料は電気的に絶縁性でなければならない。２軸方向に配向性のある、イットリウムで安定化された酸化ジルコニウム（ＹＳＺと略称）が有利である。その他に、他の公知のバッファ層材料、例えば、ＣｅＯ2、ＹＳＺ＋ＣｅＯ2（二重層として）、Ｐｒ6Ｏ11、ＭｇＯ、ＹＳＺ＋錫をドープしたＩｎ2Ｏ3（二重層として）、ＳｒＴｉＯ3或いはＬａ1-xＣａxＭｎＯ3も適している。これらの材料の１つ或いは複数がそれ自体公知の方法で基板の表面に析出される。このために、いわゆるＩＢＡＤ法（イオンビーム蒸着法）が有利に使用される。勿論、他の方法もまた、例えばスパッタ或いは所定の角度の下でのレーザーアブレーションが適している。中間層の材料の析出は、その場合、多くは基板の温度を上げて行われる。このようにして得られた、配向性のある中間層の層厚は、一般に、０．１から２μｍの間にある。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年10月15日(2009.10.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
実施例１
ピリジン及びピコリン生成物を生成するために、シリカ-アルミナ-クレーマトリックス中の噴霧乾燥された40%のHZSM-5ゼオライトを触媒として用いて塩基合成反応を行った。典型的な実施において、5乃至10mlの20/40メッシュ触媒を石英反応器に入れ、N2パージ下で440乃至454℃（825乃至850°F）に加熱した。供給原料は、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド、アンモニア及び水素を下記のモル比で構成していた。アセトアルデヒド=1.4、ホルムアルデヒド＝1.0、アンモニア＝3.6、水素＝1.6。その供給原料を580時間−１GHSV(NH3)において触媒に通過させ、その流出液を、内標準としてキノリンを用いてガスクロマトグラフィー(GC)により分析した。生成物中の水含量をカールフィッシャー滴定により測定した。この反応の種々の生成物の収率を表１に示す。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
2001527069.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カウンター軸を有する形式の多段変速機（１０２）用の補力ギアシフタ（１１８）であって、
１つのピストン（２）を内設したシフトシリンダ（１）と、
ピストンを（２）移動させるためにシフトシリンダ（１）に供給される流体を制御する複数の弁（４、５、６、７）と、
ピストン（２）に直接結合され、トルク伝達を形成するために各段で変速機の部品を連結するシフト部材（２Ａ）と、
シフトシリンダ（１）に結合されるとともにピストン（２）を支持する１つのピストン棒（９）とを備え、
ピストン棒（９）は、当該ピストン棒（９）の軸線方向にシフトシリンダ（１）およびピストン（２）を貫通して延び、かつ、ピストン（２）が当該ピストン棒（９）上を軸線方向の両方向に移動可能となるようにピストン（２）を支持していることを特徴とするギアシフタ。
【請求項２】
複数個の段のために複数個のギヤシフタ（１１８、１２０、１２２）が設けられ、各段に１個のギヤシフタ（１１８）が配属されていることを特徴とする、請求項１に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項３】
複数個のギヤシフタ（１１８、１２０、１２２）が１列に配列されていることを特徴とする、請求項２に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項４】
複数個のギヤシフタ（１１８、１２０、１２２)のピストン(２）が共通のピストン棒（９）に配設されていることを特徴とする、請求項２または３に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項５】
変速機（１０２）と連結し得る別個の部品（１１６）に複数個のギヤシフタが設けられていることを特徴とする、請求項２から４のうちのいずれか一項に記載のギャシフタ（１１８）。    
【請求項６】
部品（１１６)の機能を変速機（１０２)から独立に調整しかつ試験することができることを特徴とする、請求項５に記載のギヤシフタ(１１８)。
【請求項７】
弁（４、５、６、７）が、パルス電流により動作する二二方弁であることを特徴とする、請求項１に記載のギヤシフタ（１１８）。    
【請求項８】
弁（４、５、６、７）に弁の定格電圧の数倍に相当する電圧が働くことを特徴とする、請求項７に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項９】
トルク伝達結合を形成するときは、結合の切断の場合より高い周波数が弁（４、５、６、７）に作用することを特徴とする、請求項７または８に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項１０】
シフトシリンダ（１）に対するピストン（２）の現在位置を検出する位置測定装置（３）が設けられていることを特徴とする、請求項１に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項１１】
位置測定装置（３）がシフトシリンダ（１）の内部に配設されていることを特徴とする、請求項１０に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項１２】
位置測定装置（３）がシフトシリンダ（１）の外部に設けられていることを特徴とする、請求項１０に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項１３】
シフトシリンダ（１）の縁端部へのピストン（２）の衝接を緩衝するストップが設けられていることを特徴とする、請求項１から１２のうちのいずれか一項に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項１４】
ストップがシフトシリンダ（１）の内部に設けられていることを特徴とする、請求項１３に記載のギヤシフタ（１１８）。
【請求項１５】
ストップがシフトシリンダ（１）の外部に配設されていることを特徴とする、請求項１３に記載のギヤシフタ（１１８）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、弁と、流体により運動させられるピストンを内設したシフトシリンダと、トルク伝達を形成するために各段で変速機の部品を連結するシフト部材とを有する、カウンター軸を有する形式の多段変速機のための補力ギヤシフタに関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
コンパクトなユニットに構成することにより、好ましくはシフトフォーク又はシフトロッカからなるシフト部材とシフトシリンダ及びシフトピストンとの間の結合部材を廃止することができる。前述のようにこのような結合部材はおおむね鋼製のシフトロッドであり、変速機の全重量に大いに関与する。シフトを起動する命令とシフト部材の運動の間の応答時間は、運動させられる重いシフトロッドの廃止により著しく短縮される。こうして有利な実施態様では起動する弁としてパルス操作式（パルス電流により動作する形式のものを意味する）二二方弁を使用することができる。それによって歯車をトルク伝達結合に接続するときに、シフト力とシフト時間を適合させることが可能である。適合とは、とりわけトルク伝達結合に接続するときに切断のときより高い周波数が弁に作用することである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月21日(2009.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両用のブレーキ不能化装置であって、
前記車両の方向を示す信号を受信するための電子制御ユニットと、
前記車両の前記方向に応じて前記車両の操舵軸と関連したブレーキを作動不能にするための、前記電子制御ユニットと通信する制御デバイスと、を備えること、
を特徴とするブレーキ作動不能化装置。
【請求項２】
前記電子制御ユニットは、前記車両の速度を示す信号を受信し、
前記制御デバイスは、前記車両の前記速度及び方向に応じて前記ブレーキを作動不能にするために前記電子制御ユニットと通信する、
請求項１記載のブレーキ作動不能化装置。
【請求項３】
前記制御デバイスは、ブレーキ要求圧に応じて前記ブレーキを作動不能にする、
請求項１記載のブレーキ作動不能化装置。
【請求項４】
前記電子制御ユニットは、トランスミッションの方向を示す前記車両の車輪からの電気信号を受信する、
請求項１記載のレーキ作動不能化装置。
【請求項５】
前記制御デバイスは、圧力信号を前記方向に応じて前記操舵軸の前記ブレーキのそれぞれのブレーキチャンバに通すことのできるスイッチを含む、
請求項１記載のブレーキ作動不能化装置。
【請求項６】
前記スイッチは、ソレノイドである、
請求項５記載のブレーキ作動不能化装置。
【請求項７】
前記スイッチは、前記スイッチの制御ポートが作動されていないときに、加圧空気を加圧空気源から前記ブレーキチャンバに通すことができ、
前記スイッチの前記制御ポートが作動されるとき、前記関連したブレーキを作動不能にするために前記スイッチにより前記ブレーキチャンバ内の加圧空気を排気させる、
請求項５記載のブレーキ作動不能装置。
【請求項８】
前記制御デバイスは、（i）方向に応じた前記電子制御ユニットから制御信号を、及び（ii）ブレーキの要求を示す信号を受信する圧力スイッチを含み、
前記圧力スイッチは、前記ブレーキの要求が予め決定されたレベル未満であるときに前記スイッチが前記ブレーキチャンバ内の圧力を大気と等しくさせるため、及び前記ブレーキの要求が前記予め決定された以上であるときに前記スイッチが前記圧力信号を前記ブレーキチャンバに通させるために、前記制御信号を前記電子制御ユニットから前記スイッチに伝える、
請求項５記載のブレーキ作動不能化装置。
【請求項９】
前記制御デバイスは、ブレーキの要求を示す信号を受信する圧力スイッチを含み、
前記圧力スイッチは、ユーザのブレーキ要求が予め決定されたレベル未満であるときに第１の信号を前記電子制御ユニットに伝え、ユーザのブレーキ要求が予め決定されたレベルよりも大きいときに第２の信号を前記電子制御ユニットに伝え、
前記電子制御ユニットは、前記第２の信号が前記電子制御ユニットに伝えられるとき、加圧空気を前記ブレーキチャンバに通すようにスイッチを設定するための制御信号を前記スイッチに伝える、
請求項５記載のブレーキ作動不能化装置。
【請求項１０】
大型車両用のブレーキ制御システムであって、
前記車両の方向を決定する電子制御ユニットと、
前記車両の前記方向に応じて操舵軸と関連したブレーキを作動不能にするための手段と、を備えること、
を特徴とするブレーキ制御システム。
【請求項１１】
前記電子制御ユニットは、また、前記車両の速度を決定し、
前記作動不能にするための手段は、前記車両の速度に応じて前記ブレーキを作動不能にする、
請求項１０記載のブレーキ制御システム。
【請求項１２】
前記作動不能にするための手段は、ブレーキ要求圧に応じて前記ブレーキを作動不能にする、
請求項１０記載のブレーキ制御システム。
【請求項１３】
前記作動不能にするための手段は、前記電子制御ユニットと通信するスイッチを備え、  前記スイッチは、（i）加圧空気を操舵軸と関連したそれぞれのブレーキのブレーキチャンバに供給すること、及び(ii）前記ブレーキを作動不能にするために前記ブレーキチャンバを大気と等しくすることの一方に設定される、
請求項１０記載のブレーキ制御システム。
【請求項１４】
前記スイッチは、（i）前記車両の速度が第１の予め決定された速度よりも大きい、又は（ii）前記車両の方向が逆でないの少なくとも一方のときに加圧空気を前記ブレーキチャンバに供給するように設定され、
前記スイッチは、前記車両の速度が前記第１の予め決定された速度未満であり、且つ前記車両の方向が逆であるときに、前記加圧空気を前記ブレーキチャンバから排気するように設定される、
請求項１３記載のブレーキ制御システム。
【請求項１５】
前記スイッチは、（i）前記車両の速度が前記第１の予め決定された速度よりも大きい第２の予め決定された速度よりも大きく、且つ（ii）前記車両の方向が逆でない両者のときに前記加圧空気を前記ブレーキチャンバに供給する、
請求項１４記載のブレーキ制御システム。
【請求項１６】
前記第１の予め決定された速度が時速約８キロメートルであり、
前記第２の予め決定された速度が時速約１６キロメートルである、
請求項１５記載のブレーキ制御システム。
【請求項１７】
前記ブレーキ要求圧に応じて前記ブレーキを作動不能にするための手段は、前記ブレーキ要求圧を受ける圧力スイッチを含み、
前記圧力スイッチは、前記ブレーキ要求圧が予め決定されたレベル以上であるときに作動不能にするための前記手段にオーバライド信号を伝える、
請求項１０記載のブレーキ制御システム。