【手続補正書】
【提出日】平成23年2月17日(2011.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の第１の観点に係る発光素子を有する少なくとも一つの画素を有する発光装置は、
基板と、
前記基板上に、第１の方向に延在して形成された複数の第１隔壁と、
前記基板上に、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在して形成され、前記複数の第１隔壁の前記第１の方向における端部同士を繋ぐ第２隔壁と、
前記基板と一対の前記第１隔壁と前記第２隔壁とによって形成される溝内に形成された前記発光素子の発光層と、
を備え、
前記第２隔壁の撥液度が、前記第１隔壁の前記第１の方向に沿った両端間の中央の領域の撥液度よりも低い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記第１隔壁及び前記第２隔壁は、各々の表面に、その単位面積あたりの量が多い程前記撥液度が高くなる撥液物質を有し、前記第２隔壁の表面に有する前記撥液物質の量が、前記第１隔壁の前記中央の領域の表面に有する前記撥液物質の量より少なくなっていてもよい。
前記撥液物質は、フッ素、又は、フッ素系化合物であってもよい。
１つの前記溝は、前記基板上に、隣接して形成された一対の前記第１の隔壁と、前記第２の隔壁と、によって仕切られて設けられていてもよい。
前記基板上に形成された、前記発光素子を駆動する複数の駆動素子と、該複数の駆動素子を覆う絶縁膜を有し、前記絶縁膜は前記各第１隔壁および前記第２隔壁に覆われて、前記溝内に露出されていないものであってもよい。
前記隔壁は、絶縁材料により形成されていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明の第３の観点に係る発光素子を有する少なくとも一つの画素を有する発光装置の製造方法は、
基板上に、複数の第１隔壁を、第１の方向に延在し、前記発光素子の発光層の形成領域を仕切る位置に形成し、少なくとも１つの第２隔壁を、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在し、前記複数の第１隔壁の前記第１の方向における端部同士を繋ぐ位置に形成する隔壁形成ステップと、
前記第２隔壁の撥液度を、前記第１隔壁の前記第１の方向に沿った両端間の中央の領域の撥液度よりも低くする撥液度調整ステップと、
を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記撥液度調整ステップは、前記各第１隔壁と前記第２隔壁の表面上に、その単位面積あたりの量が多い程前記撥液度が高くなる撥液物質を設け、前記第２隔壁の表面上の前記撥液物質の量を、前記各第１隔壁の前記中央の領域の表面上の前記撥液物質の量より少なくするものであってもよい。
前記撥液度調整ステップは、前記発光層の形成領域の上面と、前記各第１隔壁と、前記第２隔壁と、を親液化する第１親液化ステップと、前記第１隔壁と前記第２隔壁とを撥液化する第１撥液化ステップと、前記第２隔壁を親液化する第２親液化ステップと、を含むものであってもよい。
前記第１親液化ステップは、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに酸素プラズマを照射して、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを親液化する第１プラズマ照射ステップを含むものであってもよい。
前記第１撥液化ステップは、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とにのみＣＦ４プラズマを照射して、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを撥液化する第２プラズマ照射ステップを含み、前記第２親液化ステップは、前記第２隔壁にのみ酸素プラズマを照射して、前記第２隔壁を親液化する第３プラズマ照射ステップを含むものであってもよい。
前記第２プラズマ照射ステップは、プラズマジェットを局所的に放出するスポット型のプラズマ照射装置から前記酸素プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに沿って移動させて、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに前記酸素プラズマを照射するステップを含み、前記第３プラズマ照射ステップは、前記プラズマ照射装置から前記ＣＦ４プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記第２隔壁に沿って移動させて、前記第２隔壁に前記ＣＦ４プラズマを照射するものであってもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記撥液度調整ステップは、前記基板の上面と、前記各第１隔壁と、前記第２隔壁と、を親液化する第３親液化ステップと、前記第１隔壁のすくなくとも一部を撥液化する第２撥液化ステップとを含むものであってもよい。
前記第３親液化ステップは、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに酸素プラズマを照射して、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを親液化する第４プラズマ照射ステップを含むものであってもよい。
前記第２撥液化ステップは、前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域にのみＣＦ４プラズマを照射して、前記各第１隔壁の少なくとも前記中央を含む領域を撥液化する第５プラズマ照射ステップを含むものであってもよい。
前記第５プラズマ照射ステップは、プラズマジェットを局所的に放出するスポット型のプラズマ照射装置から前記ＣＦ４プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域に沿って移動させて、前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域に前記ＣＦ４プラズマを照射するものであってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
まず、ガラス基板等からなる透明な基材１１０を用意する。次に、この基材１１０上に、スパッタ法又は真空蒸着法等により例えば、Ｍｏ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜、Ｃｒ／Ａｌ積層膜、ＡｌＴｉ合金膜、ＡｌＮｄＴｉ合金膜、又は、ＭｏＮｂ合金膜等からなる導電膜を形成する。そして、形成した導電膜を所定形状にパターニングする。これによって、配線１２１、及び、トランジスタ１２２のゲート電極１２２ｇ等が、基材１１１上に形成される。なお、ここでのトランジスタ１２２は、例えば、発光層を駆動するための発光駆動トランジスタである。また、ここでの配線１２１は、例えば、発光させる発光素子を選択するための選択トランジスタのドレイン電極と、発光装置を駆動するデータドライバと、を電気的に接続するデータラインである。続いて、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等により配線１２１及びゲート電極１２２ｇ上に絶縁膜１２３を形成する。  
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
発光層３００がインターレイヤ３５０を備える場合、上記の中心層３１０を形成する前に、第３のインクを開口部２０１内（溝）に塗布し、塗布した第３のインクを乾燥させることによって、インターレイヤ３５０を形成する。このインターレイヤ３５０は、正孔注入層３３０と中心層３１０との間に形成される。インターレイヤ３５０は、正孔注入層３３０からの電子をブロックして発光層３００内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層３００の発光効率を高める。インターレイヤ３５０は正孔注入層３３０からの電子をブロックして発光層３００内において電子と正孔とを再結合させやすくする適宜の有機高分子系の材料で構成される。つまり、第３のインクは、前記の有機高分子系の材料が、水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、又は、キシレン等の有機溶媒の溶媒に、溶解又は分散した液体である。第３のインクを塗布する方法は、吐出ノズルを用いてインクを吐出し続けるノズルプリンティング、又は、インクジェットによるインクジェットプリンティング等で実現される。第３のインクは、溝の底面全面を覆うように塗布される（図７の液面３０１と同様）。なお、インターレイヤ３５０を形成後に、前記ステップＳ１０３と同様の処理を行ってもよい。これによって、中心層３１０を形成するときの第１のインクの押し戻しをより防止又は軽減できる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
上記実施形態においては、発光装置１は、発光層３００が出射する光を基材１１０側から外部に出射する所謂ボトムエミッション型の発光装置であるとして説明した。しかし、発光装置１は、例えば、発光層３００が出射する光を基材１１０の反対側から外部に出射するトップエミッション型の発光装置であってもよい。また、上記実施形態におけるインクの塗布方法（印刷方法）は、上記ノズルプリンティング等に限らず、例えば、活版印刷、フレキソ印刷等の凸版印刷法、オフセット印刷等の平板印刷、グラビア印刷等の凹版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等であってもよい。また、本実施形態における発光装置１は、表示装置に使用することができる構成を採用している。しかし、発光装置１は、例えば、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置として使用できる構成を採用してもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を有する少なくとも一つの画素を有する発光装置であって、
基板と、
前記基板上に、第１の方向に延在して形成された複数の第１隔壁と、
前記基板上に、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在して形成され、前記複数の第１隔壁の前記第１の方向における端部同士を繋ぐ第２隔壁と、
前記基板と一対の前記第１隔壁と前記第２隔壁とによって形成される溝内に形成された前記発光素子の発光層と、
を備え、
前記第２隔壁の撥液度が、前記第１隔壁の前記第１の方向に沿った両端間の中央の領域の撥液度よりも低いことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１隔壁及び前記第２隔壁は、各々の表面に、その単位面積あたりの量が多い程前記撥液度が高くなる撥液物質を有し、
前記第２隔壁の表面に有する前記撥液物質の量は、前記第１隔壁の前記中央の領域の表面に有する前記撥液物質の量より少ないことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記撥液物質は、フッ素、又は、フッ素系化合物であることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
１つの前記溝は、前記基板上に、隣接して形成された一対の前記第１の隔壁と、前記第２の隔壁と、によって仕切られて設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の発光装置。
【請求項５】
前記基板上に形成された、前記発光素子を駆動する複数の駆動素子と、該複数の駆動素子を覆う絶縁膜を有し、
前記絶縁膜は前記各第１隔壁および前記第２隔壁に覆われて、前記溝内に露出されていないことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の発光装置。
【請求項６】
前記隔壁は、絶縁材料により形成されている請求項１乃至５のいずれかに記載の発光装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の発光装置を表示部に使用した表示装置。
【請求項８】
発光素子を有する少なくとも一つの画素を有する発光装置の製造方法であって、
基板上に、複数の第１隔壁を、第１の方向に延在し、前記発光素子の発光層の形成領域を仕切る位置に形成し、少なくとも１つの第２隔壁を、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在し、前記複数の第１隔壁の前記第１の方向における端部同士を繋ぐ位置に形成する隔壁形成ステップと、
前記第２隔壁の撥液度を、前記第１隔壁の前記第１の方向に沿った両端間の中央の領域の撥液度よりも低くする撥液度調整ステップと、
を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記撥液度調整ステップは、前記各第１隔壁と前記第２隔壁の表面上に、その単位面積あたりの量が多い程前記撥液度が高くなる撥液物質を設け、前記第２隔壁の表面上の前記撥液物質の量を、前記各第１隔壁の前記中央の領域の表面上の前記撥液物質の量より少なくすることを特徴とする請求項８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記撥液度調整ステップは、
前記発光層の形成領域の上面と、前記各第１隔壁と、前記第２隔壁と、を親液化する第１親液化ステップと、
前記第１隔壁と前記第２隔壁とを撥液化する第１撥液化ステップと、
前記第２隔壁を親液化する第２親液化ステップと、
を含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１親液化ステップは、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに酸素プラズマを照射して、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを親液化する第１プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１撥液化ステップは、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とにのみＣＦ４プラズマを照射して、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを撥液化する第２プラズマ照射ステップを含み、
前記第２親液化ステップは、前記第２隔壁にのみ酸素プラズマを照射して、前記第２隔壁を親液化する第３プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第２プラズマ照射ステップは、プラズマジェットを局所的に放出するスポット型のプラズマ照射装置から前記酸素プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに沿って移動させて、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに前記酸素プラズマを照射するステップを含み、
前記第３プラズマ照射ステップは、前記プラズマ照射装置から前記ＣＦ４プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記第２隔壁に沿って移動させて、前記第２隔壁に前記ＣＦ４プラズマを照射することを特徴とする請求項１２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１４】
前記撥液度調整ステップは、
前記基板の上面と、前記各第１隔壁と、前記第２隔壁と、を親液化する第３親液化ステップと、
前記第１隔壁のすくなくとも一部を撥液化する第２撥液化ステップと、
を含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第３親液化ステップは、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに酸素プラズマを照射して、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを親液化する第４プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１４に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第２撥液化ステップは、前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域にのみＣＦ４プラズマを照射して、前記各第１隔壁の少なくとも前記中央を含む領域を撥液化する第５プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１４に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第５プラズマ照射ステップは、プラズマジェットを局所的に放出するスポット型のプラズマ照射装置から前記ＣＦ４プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域に沿って移動させて、前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域に前記ＣＦ４プラズマを照射することを特徴とする請求項１６に記載の発光装置の製造方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2011034814.tif 000001