Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月7日(2009.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
DLLにおける可変VCDL遅延の範囲も重要である。通常、可変VCDL遅延の範囲は、最小の遅延がDLL仕様が要求するよりやや高いクロック周波数に対応し、最大遅延がやや低いクロック周波数に対応するように計算される。可変VCDL遅延はマージンを保証するために計算される。広いクロック周波数範囲にわたって動作するよう設計されるDLLのためには、すなわち、クロック周期が定数値でなく、可能なすべての値が同じVCDLによって受け容れられる場合、VCDLは一層広い範囲の遅延を生成する必要がある。結果として、典型的には、特定の周波数をもつクロック信号のためのVCDL特性上にいくつかの可能なロック点がある。より高いクロック周波数については、VCDLはクロック周波数の倍数よりも長い遅延を生成できる。目標は、安定したロック条件および低い出力クロック・ジッタを保証できる点にロックすることである。たいていの場合、VCDLについての遅延範囲は、DLL特性上の可能なロック点の数が2よりは多いが約3ないし5は超えないように選ばれる。ロック点が多すぎると、それらのロック点は特性上で互いに密接して共存することになり、ノイズによって擾乱されればDLLはあるロック点から別のロック点にジャンプし始め、それにより一時的にロックを失うことがありうるのである。
【特許文献１】米国特許第４，３３８，５６９号明細書
【特許文献２】米国特許第４，５９０，６０２号明細書
【特許文献３】米国特許第４，６０４，５８２号明細書
【特許文献４】米国特許第４，６２３，８０５号明細書
【特許文献５】米国特許第４，７５４，１６４号明細書
【特許文献６】米国特許第４，７５５，７０４号明細書
【特許文献７】米国特許第５，１０９，３９４号明細書
【特許文献８】米国特許第５，２２３，７５５号明細書
【特許文献９】米国特許第５，２７２，７２９号明細書
【特許文献１０】米国特許第５，３１７，２０２号明細書
【特許文献１１】米国特許第５，４４０，５１４号明細書
【特許文献１２】米国特許第５，４４０，５１５号明細書
【特許文献１３】米国特許第５，５４４，２０３号明細書
【特許文献１４】米国特許第５，６０４，７７５号明細書
【特許文献１５】米国特許第５，６１４，８５５号明細書
【特許文献１６】米国特許第５，７９６，６７３号明細書
【特許文献１７】米国特許第６，０６７，２７２号明細書
【特許文献１８】米国特許第６，２０５，０８３号明細書
【特許文献１９】米国特許第６，３３７，５９０号Ｂ１明細書
【特許文献２０】米国特許第６，５０４，４０８号Ｂ１明細書
【特許文献２１】米国特許第６，５１８，８０７号明細書
【特許文献２２】米国特許第６，５４２，０４０号明細書
【特許文献２３】米国特許第６，６３３，２０１号明細書
【特許文献２４】米国特許第６，６７０，８３４号明細書
【特許文献２５】米国特許第６，８２８，８３５号明細書
【特許文献２６】米国特許第６，８６７，６２７号Ｂ１明細書
【特許文献２７】米国特許第６，９８９，７００号明細書
【特許文献２８】米国特許出願公開第２００２／００８９３６１号Ａ１明細書
【特許文献２９】米国特許出願公開第２００４／０２６４６２１号明細書
【特許文献３０】米国特許出願公開第２００５／００３５７９８号Ａ１明細書
【特許文献３１】米国特許出願公開第２００５／００９３５７９号明細書
【特許文献３２】米国特許第５，２３３，３１４号明細書
【特許文献３３】米国特許第５，３６２，９９０号明細書
【特許文献３４】米国特許第５，４７３，２８３号明細書
【特許文献３５】米国特許第５，９３３，０３７号明細書
【特許文献３６】米国特許第６，１２４，７５５号明細書
【特許文献３７】米国特許第６，１６０，４３２号明細書
【特許文献３８】米国特許第６，２２９，３６２号Ｂ１明細書
【特許文献３９】米国特許第６，２７８，３３２号Ｂ１明細書
【特許文献４０】米国特許第６，３１６，９８７号Ｂ１明細書
【特許文献４１】米国特許第６，５１２，４０４号Ｂ２明細書
【特許文献４２】米国特許第６，５３５，０５１号Ｂ２明細書
【特許文献４３】米国特許第６，６０３，３４０号Ｂ２明細書
【特許文献４４】米国特許第６，６１７，９３６号Ｂ２明細書
【特許文献４５】米国特許第６，６３６，０９８号Ｂ１明細書
【特許文献４６】米国特許第６，６４２，７５３号Ｂ２明細書
【特許文献４７】米国特許第６，６６４，８２９号Ｂ１明細書
【特許文献４８】米国特許第６，６６７，６４１号Ｂ１明細書
【特許文献４９】米国特許第６，７１０，６６５号Ｂ２明細書
【特許文献５０】米国特許第６，７４１，１１０号Ｂ２明細書
【特許文献５１】米国特許第６，７４４，２９２号Ｂ２明細書
【特許文献５２】米国特許第６，７７１，１１４号Ｂ２明細書
【特許文献５３】米国特許第６，８６１，９１６号Ｂ２明細書
【特許文献５４】米国特許第６，９２４，９９２号Ｂ２明細書
【特許文献５５】米国特許第６，９５４，５１１号Ｂ２明細書
【特許文献５６】米国特許第７，０９２，６８９号Ｂ１明細書
【特許文献５７】米国特許出願公開第２００２／００４１１９６号Ａ１明細書
【特許文献５８】米国特許出願公開第２００３／００７６１４２号Ａ１明細書
【特許文献５９】米国特許出願公開第２００４／００５７５４６号Ａ１明細書
【特許文献６０】欧州特許第０４８４０５９号Ａ２明細書
【特許文献６１】欧州特許第０７５５１２０号Ａ１明細書
【特許文献６２】欧州特許第１２９２０３３号Ａ１明細書
【特許文献６３】米国特許第６，３１４，０５２号Ｂ２明細書
【特許文献６４】米国特許第６，３１４，１５０号Ｂ１明細書
【特許文献６５】米国特許第６，３３０，２９６号Ｂ１明細書
【特許文献６６】米国特許第６，４４８，８２０号Ｂ１明細書
【特許文献６７】米国特許第６，５４９，０４１号Ｂ２明細書
【特許文献６８】米国特許第６，２３９，６３４号Ｂ１明細書
【特許文献６９】米国特許第６，０８８，２５５号明細書
【特許文献７０】米国特許第６，１６６，９９０号明細書
【特許文献７１】米国特許第６，１００，７３６号明細書
【特許文献７２】米国特許第６，５５６，６４３号明細書
【特許文献７３】米国特許第６，３４６，８３９号明細書
【特許文献７４】米国特許第６，６４２，７６２号明細書
【特許文献７５】米国特許第６，４３７，６１８号明細書
【特許文献７６】米国特許第５，９９４，９３４号明細書
【特許文献７７】米国特許第６，７３１，６６７号明細書
【特許文献７８】米国特許第６，４０７，５９７号明細書
【特許文献７９】米国特許出願公開第２００２／０００５７６３号明細書
【特許文献８０】米国特許出願公開第２００３／００９０２９６号Ａ１明細書
【特許文献８１】米国特許出願公開第２００７／０００７９４１号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月23日(2009.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号４のアミノ酸配列と少なくとも９８％同一のアミノ酸配列を含む、単離された可溶性コルチコトロピン放出因子受容体２型（ｓＣＲＦＲ２）であって、該ｓＣＲＦＲ２は、コルチコトロピン放出因子受容体２型（ＣＲＦＲ２）リガンドに結合する、ｓＣＲＦＲ２。
【請求項２】
アフィニティータグに結合されている、請求項１記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項３】
蛍光マーカーに結合されている、請求項１記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項４】
免疫グロブリンドメインに結合されている、請求項１記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項５】
前記免疫グロブリンドメインが免疫グロブリンＦｃドメインを含む、請求項４記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項６】
リーダー配列を含む、請求項１記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項７】
重合体にコンジュゲートされる、請求項１記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項８】
前記重合体がポリエチレングリコール（ＰＥＧ）である、請求項７記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項９】
製薬上許容しうる担体に含まれる、請求項１に記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１０】
配列番号４のアミノ酸配列を含む、請求項１に記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１１】
アフィニティータグに結合されている、請求項１０記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１２】
蛍光マーカーに結合されている、請求項１０記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１３】
免疫グロブリンドメインに結合されている、請求項１０記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１４】
前記免疫グロブリンドメインが免疫グロブリンＦｃドメインを含む、請求項１３記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１５】
リーダー配列を含む、請求項１０記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１６】
重合体にコンジュゲートされる、請求項１０記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１７】
前記重合体がポリエチレングリコール（ＰＥＧ）である、請求項１６記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１８】
製薬上許容しうる担体に含まれる、請求項１０に記載のｓＣＲＦＲ２。
【請求項１９】
コルチコトロピン放出因子受容体２型（ＣＲＦＲ２）の活性を低減するための組成物であって、有効用量の請求項１に記載のｓＣＲＦＲ２を含み、該組成物の投与により細胞表面ＣＲＦＲへのＣＲＦＲリガンドの結合が低減される、組成物。
【請求項２０】
前記リガンドが、コルチコトロピン放出因子（ＣＲＦ）、ウロコルチン１、ウロコルチン２、ウロコルチン３又はストレスコピンである、請求項１９記載の組成物。
【請求項２１】
コルチコトロピン放出因子受容体２型（ＣＲＦＲ２）の活性を低減するための組成物であって、有効用量の請求項１０に記載のｓＣＲＦＲ２を含み、該組成物の投与により細胞表面ＣＲＦＲへのＣＲＦＲリガンドの結合が低減される、組成物。
【請求項２２】
前記リガンドが、コルチコトロピン放出因子（ＣＲＦ）、ウロコルチン１、ウロコルチン２、ウロコルチン３又はストレスコピンである、請求項２１記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月23日(2009.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯電話機、及び
前記携帯電話機に接続された一次電源と、
前記一次電源から供給される電圧を昇圧するべく前記一次電源に接続された変圧器と、
前記変圧器から供給される変動電流を整流するべく前記変圧器に接続されたダイオードと、
電荷を保存するべく前記ダイオードに接続されたコンデンサと、
記憶されたプログラムに従って出力を供給するマイクロコントローラと、
前記変圧器を通じて電力を引き出すべく前記マイクロコントローラに結合された電子スイッチと、
を備えたフラッシュコンバータ回路、
を有する携帯型電子装置。
【請求項２】
前記ダイオードの出力を前記マイクロコントローラに結合しているフィードバックループを更に有しており、前記記憶されたプログラムは、前記フィードバックループ上の信号の変化に応答して、前記マイクロコントローラから供給される前記出力を変化させる請求項１記載の携帯型電子装置。
【請求項３】
前記ダイオードの出力を前記マイクロコントローラに結合しているフィードバックループを更に有しており、前記記憶されたプログラムは、受信した信号に従って、前記マイクロコントローラから供給される前記出力を動的に変化させて前記フラッシュコンバータ回路の性能特性を最適化させるべく機能する請求項１記載の携帯型電子装置。
【請求項４】
前記フラッシュコンバータ回路の充電速度は、前記フラッシュコンバータ回路の性能特性である請求項３記載の携帯型電子装置。
【請求項５】
前記フラッシュコンバータ回路内における突入電流の発生は、前記フラッシュコンバータ回路の性能特性である請求項３記載の携帯型電子装置。
【請求項６】
前記マイクロコントローラは、デジタルパルス列を生成して前記電子スイッチに印加する請求項１記載の携帯型電子装置。
【請求項７】
前記マイクロコントローラは、可変であり且つ非周期的であるパルス幅を具備したデジタルパルス列を生成する請求項６記載の携帯型電子装置。
【請求項８】
前記マイクロコントローラは、可変であり且つ非周期的であるデューティサイクルを具備したデジタルパルス列を生成する請求項６記載の携帯型電子装置。
【請求項９】
カメラモジュールを更に有しており、前記マイクロコントローラは、前記フラッシュコンバータ回路と前記カメラモジュールを同期化させる請求項８記載の携帯型電子装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
別の実施例においては、携帯型電子装置は、携帯電話機、及び、携帯電話機に接続された一次電源と、一次電源から供給される電圧を昇圧するべく一次電源に接続された変圧器と、変圧器から供給される変動電流を整流するべく変圧器に接続されたダイオードと、電荷を保存するべくダイオードに接続されたコンデンサと、記憶されたプログラムに従って出力を供給するマイクロコントローラと、変圧器を通じて電力を引き出すべくマイクロコントローラに結合された電子スイッチと、を備えたフラッシュコンバータ回路を有している。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月29日(2009.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）１０〜３５μｍ厚さのベースコート層をＥＤＣプライマーが付いた基材に塗布する工程、
２）クリアコート層を該ベースコート層上へ塗布する工程、
３）該ベースコートおよびクリアコート層を一緒に硬化させる工程
の一連の工程を含む、多層塗膜の製造方法であって、
該ベースコート層が第１層におよび第２層に塗布され、該第１層が未変性の水性ベースコートを着色された混合剤構成材料と混合することによって製造された変性された水性ベースコートを含み、そして該第２層が未変性の水性ベースコートを含み、
該混合剤構成材料が１つ以上のバインダーＡを含有し、０．０５：１〜１：１の顔料内容物対樹脂固形分内容物の重量比を有し、そして０．１〜１部のバインダーＡ：未変性の水性ベースコートの１部の樹脂固形分の重量比で未変性の水性ベースコートへ混合され、
該混合剤構成材料の顔料内容物がＵＶ透過率を効果的に下げる少なくとも１つの顔料を含み、そして顔料内容物が、２８０〜３８０ｎｍの波長範囲で０．１％未満の、および３８０〜４００ｎｍの波長範囲で０．５％未満のＵＶ透過率に従ってのみＵＶ光が変性された水性ベースコートおよび未変性の水性ベースコートから形成されたベースコート層を透過することができるようなものである方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法に従って塗装された基材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
評価：
ｍｍ2単位での損傷の円形面積および１％硫酸銅溶液への１０分の暴露によって引き起こされる損傷面積での錆の程度についての記述；錆の程度０＝最良の値、錆の程度５＝最も不満足な値。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  １）１０〜３５μｍ厚さのベースコート層をＥＤＣプライマーが付いた基材に塗布する工程、
２）クリアコート層を該ベースコート層上へ塗布する工程、
３）該ベースコートおよびクリアコート層を一緒に硬化させる工程
の一連の工程を含む、多層塗膜の製造方法であって、
該ベースコート層が第１層におよび第２層に塗布され、該第１層が未変性の水性ベースコートを着色された混合剤構成材料と混合することによって製造された変性された水性ベースコートを含み、そして該第２層が未変性の水性ベースコートを含み、
該混合剤構成材料が１つ以上のバインダーＡを含有し、０．０５：１〜１：１の顔料内容物対樹脂固形分内容物の重量比を有し、そして０．１〜１部のバインダーＡ：未変性の水性ベースコートの１部の樹脂固形分の重量比で未変性の水性ベースコートへ混合され、
該混合剤構成材料の顔料内容物がＵＶ透過率を効果的に下げる少なくとも１つの顔料を含み、そして顔料内容物が、２８０〜３８０ｎｍの波長範囲で０．１％未満の、および３８０〜４００ｎｍの波長範囲で０．５％未満のＵＶ透過率に従ってのみＵＶ光が変性された水性ベースコートおよび未変性の水性ベースコートから形成されたベースコート層を透過することができるようなものである方法。
2.  前記少なくとも１つのバインダーＡがポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、（メタ）アクリルコポリマー樹脂およびこれらのクラスの樹脂から誘導されたハイブリッド樹脂からなる群から選択される、上記１に記載の方法。
3.  前記混合剤構成材料の顔料内容物対樹脂固形分内容物の重量比が０．１：１〜０．８：１である、上記１または２に記載の方法。
4.  前記未変性の水性ベースコートのバインダーＡ対樹脂固形分の重量比が０．１：１〜０．５：１である、上記１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5.  前記基材が自動車車体および車体部品からなる群から選択された基材を含む、上記１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6.  前記変性された水性ベースコートが５〜２５μｍのフィルム厚さに、そして前記未変性の水性ベースコートが３〜２０μｍのフィルム厚さに塗布される、上記１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7.  前記混合剤構成材料が２０〜１００重量％の固形分内容物を含み、そして固形分内容物が樹脂固形分内容物、顔料内容物を形成する顔料、場合により、充填剤および場合により、非揮発性添加剤からなる、上記１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8.  ＵＶ透過率を効果的に下げる少なくとも１つの顔料がカーボンブラック、二酸化チタン、酸化鉄顔料、アルミニウムフレーク顔料およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、上記１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9.  前記混合剤構成材料の顔料内容物が、
０〜１００重量％のカーボンブラック、
０〜１００重量％の二酸化チタン、
０〜１００重量％の１つ以上のアルミニウムフレーク顔料、
０〜１００重量％の１つ以上の酸化鉄顔料および
０〜９０重量％の１つ以上の他の顔料
からなり、
ここで、重量百分率が合計１００重量％になる、上記１〜７のいずれか一項に記載の方法。
10.  前記混合剤構成材料の顔料内容物が、
０〜１００重量％のカーボンブラック、
０〜１００重量％の二酸化チタンおよび
０〜１００重量％の１つ以上のアルミニウムフレーク顔料
からなり、
ここで、重量百分率が合計１００重量％になる、上記１〜７のいずれか一項に記載の方法。
11.  前記混合剤構成材料の顔料内容物が、
０．１〜１０重量％のカーボンブラックおよび
９０〜９９．９重量％の二酸化チタン
からなり、ここで、重量百分率が合計１００重量％になる、上記１〜７のいずれか一項に記載の方法。
12.  上記１〜１１のいずれか一項に記載の方法に従って塗装された基材。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月6日(2009.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器と、
（ｉ）液体噴霧装置と（ｉｉ）該液体噴霧装置に接続可能なアダプタとのいずれかに接続できる１つ以上の蓋要素を有する蓋体であって、該１つ以上の蓋要素を上面に配置した蓋体と、
前記容器に内嵌できる圧壊可能ライナとを備え、
前記容器、前記蓋体および前記圧壊可能ライナが、少なくとも約６９．０キロパスカル（ｋＰａ）（１０ポンド／平方インチ（ｐｓｉ））の容器圧力に耐え得る加圧可能アセンブリを形成すること、
を特徴とする液体供給アセンブリ。
【請求項２】
前記圧壊可能ライナが、前記容器の内部に嵌め込まれるように前記容器に一体的に取り付けられる圧壊可能ライナ要素を備える、請求項１に記載の液体供給アセンブリ。
【請求項３】
前記容器が、
少なくとも１つの容器側壁と、
容器底壁と、
第１組の機械的特徴部であって、前記蓋体と任意のシュラウド要素と任意のカラーとのいずれかが有する第２組の機械的特徴部に係合可能な第１組の機械的特徴部と、
前記容器底壁に近接して前記少なくとも１つの容器側壁に有る空気吸入口と、
を備える、請求項１または２に記載の液体供給アセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脊椎安定化のためのシステムであって、
椎骨に係合可能な骨固定具を含んでおり、前記骨固定具が、骨係合部分と、前記骨固定具に沿って軸方向に延びる管腔とを含んでおり、前記システムがさらに、
前記椎骨に係合可能な案内部材であって、前記案内部材が、前記固定具の前記管腔を受け入れる大きさの細長い本体を含んでおり、前記固定具が前記椎骨と係合するために前記案内部材に沿って移動可能である、案内部材と、
長手軸に沿って延びる細長い筒状の本体を含む脊椎ロッドであって、前記本体が、当該本体を貫いて軸を通って延びる通路を含んでおり、前記脊椎ロッドが、前記案内部材を前記通路内で受け入れて、前記案内部材の周りに位置決め可能であり、前記案内部材および前記固定具が前記椎骨に係合したときに、前記脊椎ロッドが前記案内部材に沿って前記固定具に向かって移動可能である、脊椎ロッドと、を含むシステム。
【請求項２】
前記骨固定具が、近位の受入部分と遠位の骨係合部分とを備える骨ねじである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記骨係合部分がねじ付き軸部である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記受入部分がＵ字形の鞍状部である、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記脊椎ロッドが前記鞍状部内に位置決め可能である、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記案内部材が案内ワイヤである、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記脊椎ロッドがテーパ端を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記本体が前記長手軸を横切る円形断面を含む、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記通路が細長く、前記脊椎ロッドの前記本体のほぼ全長に沿って延びる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記通路が、前記本体の前記長手軸に沿っており、離隔される少なくとも２つの通路を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記通路が、前記長手軸に沿って延びる細長い側部を備えるレーストラック形状部を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
低侵襲外科手術システムであって、
患者の体内に位置決め可能な細長い円筒状の脊椎ロッドであって、当該脊椎ロッドが、長手軸に沿って延び、前記脊椎ロッドを貫く少なくとも１つの軸を通る通路を含む、脊椎ロッドと、
それぞれが遠位の骨係合部分と近位の頭部分とを含む、少なくとも２つの骨固定具であって、当該骨固定具のそれぞれが、当該骨固定具を貫いて軸方向に延びる管腔を含む、骨固定具と、
患者の体内の骨構造に係合可能な少なくとも２つの案内部材であって、前記少なくとも２つの案内部材が、当該案内部材の上に前記骨固定具それぞれ１つを挿通させて前記骨構造への前記骨固定具の係合を案内するような大きさであり、前記骨固定具が前記骨構造に係合したときに、前記案内部材のそれぞれが、さらに、前記脊椎ロッドの前記少なくとも１つの通路内で受け入れられて、前記脊椎ロッドを前記少なくとも２つの骨固定具と係合するために、前記少なくとも２つの骨固定具に向かって案内する、案内部材と、を含むシステム。
【請求項１３】
前記骨固定具のそれぞれが、近位の受入部分と遠位の骨係合部分とを備えた骨ねじである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記骨係合部分がねじ山付き軸部である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記受入部分がＵ字形の鞍状部である、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記脊椎ロッドが、前記鞍状部内に位置決め可能であり、前記脊椎ロッドを前記鞍状部に固定するために、前記鞍状部に係合可能な係合部材をさらに含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記係合部材が、前記案内部材のそれぞれ１つを受け入れる管腔を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記案内部材が案内ワイヤである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記脊椎ロッドが、前記長手軸を横切る円形断面を有する本体を含む、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの通路が細長く、前記脊椎ロッドの長さのかなりの部分に沿って延びる、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの通路が、前記脊椎ロッドの前記長手軸に沿って離隔された少なくとも２つの通路を含む、請求項１２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
流量分配器(16)は複数の孔を有する隔壁であることを特徴とする請求項１に記載の光反応器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
管中に、又は複数の管の間に、電場を生成するための複数の電極が設けてあり、それにより光化学電荷分離が増進されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光反応器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
別の実施形態は、電極によってキャピラリの間に電場を掛けることに関する。ここでは、一定の又は比較的ゆっくりとした交番磁界を使用して、半導体材料での光化学電荷分離を支援する（増進させる、増感させる）ことができる。好ましくは、電場は、キャピラリの内部又は外部に位置するカウンタ電極と組み合わせて、キャピラリの中に電極を導入することによって、あるいは透明な電極材料によりキャピラリ（管）を製造することによって、あるいは透明電極材料をキャピラリ（管）の外側（外面）及び／又は好ましくは内側（内面）にコーティングとして塗布することによって生成できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
図２で分かるように、管束１０は、順に重ねられた複数のキャピラリチューブ（管）１１の複数の層から構成されている。本事例では、キャピラリチューブ１１は円形断面を有し、連続する層で交互に連続して配列される。管は、例えば正方形又は六角形の断面等の任意の他の断面形状を有してよい。好ましくは、管は互いに密接に配列され、互いに接してよい。また、例えば、管束１０は、入口チャンバ１２及び出口チャンバ２０と共に、より大きな太陽光処理プラントを構成するモジュールをなす自立構造を形成すべく組み合わされていてよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月16日(2009.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）遠心分離が生じる容器と、（ｂ）容器内で回転する磁気マトリックスとを含んでなる磁気粒子を含有する固液混合物の遠心分離用装置。
【請求項２】
（ｃ）磁気マトリックスの占める容器の領域に磁場を提供する手段をさらに含んでなる請求項１に記載の装置。
【請求項３】
磁場を提供する手段がソレノイドを含んでなる請求項２に記載の装置。
【請求項４】
容器が遠心分離機である請求項１に記載の装置。
【請求項５】
回転磁気マトリックスが遠心力の唯一の源である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
回転磁場マトリックスが、磁気ワイヤの配列で構成される少なくとも１つの要素を含んでなる請求項１に記載の装置。
【請求項７】
回転磁場マトリックスが、それぞれが磁気ワイヤの配列で構成される複数の要素を含んでなる請求項１に記載の装置。
【請求項８】
容器が軸と内壁とを含み、回転磁気マトリックスが容器の軸から容器の内壁まで延在している請求項１に記載の装置。
【請求項９】
（ｄ）固液混合物を容器に連続的に供給する供給入口と、（ｅ）分離された磁気粒子が容器から放出される製品出口と、（ｆ）回転磁気マトリックスを通過した固液混合物の残渣が容器から放出される廃棄物出口とをさらに含んでなる請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
軸を有し、容器が異なる直径の２つの同心右循環シリンダで構成され、直径の小さなシリンダの壁が内側円柱領域を囲み、前記２つのシリンダの各壁が円柱シェル領域を囲み、回転磁気マトリックスの各要素が容器の軸から、前記直径の小さなシリンダの壁の開口部を通って、前記円柱シェル領域へ延在している請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月16日(2009.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）固液混合物に圧力を加える手段と、（ｂ）固液混合物に均一磁場、傾斜磁場または両方を、ケークろ過が生じる装置の領域の一部または全てに印加する手段とを含んでなる、磁気粒子を含有する固液混合物のケークろ過固液分離用装置。
【請求項２】
固液混合物に、ケークろ過が生じる装置の領域の全てにおいて、均一磁場、傾斜磁場または両方が印加される請求項１に記載の装置。
【請求項３】
固液混合物に、均一磁場、傾斜磁場または両方を印加する手段がソレノイドを含んでなる請求項１に記載の装置。
【請求項４】
固液混合物に圧力を加える手段が、機械的圧力、ガス圧力、静水圧、流体力学上の圧力および重力圧よりなる群のうち１つもしくはそれ以上の要素から選択される請求項１に記載の装置。
【請求項５】
均一磁場が、固液混合物にかかる圧力の方向に垂直、平行または逆平行である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
磁気粒子を含有する固液混合物のクロスフローろ過固液分離用装置であって、ろ過が生じる装置の領域がろ過材料に囲まれており、ろ過が生じる装置の領域に傾斜磁場を提供する手段を含んでなる装置。
【請求項７】
傾斜磁場が、ろ過が生じる装置の領域の中心へ向かうように、そしてろ過材料から離れるように磁気粒子を引き付ける力を与える請求項６に記載の装置。
【請求項８】
ろ過が生じる装置の領域に傾斜磁場を提供する手段が、磁場に配置されると傾斜磁場を与える材料を含んでなる請求項６に記載の装置。
【請求項９】
ろ過が生じる装置の領域は、軸を有する管として形成され、１つもしくはそれ以上の鋼線または棒が、前記管の軸近傍に管の長さに沿って配置されている請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
磁場を提供する手段をさらに含んでなる請求項６に記載の装置。
【請求項１１】
磁気粒子を含有する固液混合物のキャンドルろ過固液分離用装置であって、ろ過が生じる装置の領域がろ過材料で構成された複数の管を含んでなり、ろ過が生じる装置の領域に傾斜磁場を提供する手段を含んでなる装置。
【請求項１２】
傾斜磁場が、各管の中心へ向かうように、そしてろ過材料から離れるように磁気粒子を引き付ける力を与える請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
ろ過が生じる装置の領域に傾斜磁場を提供する手段が、磁場に配置されると傾斜磁場を与える材料を含んでなる請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
磁場に配置されると傾斜磁場を与える材料が、１つもしくはそれ以上の管に配置された１つもしくはそれ以上の鋼線または棒である請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
磁場を提供する手段をさらに含んでなる請求項１１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月24日(2008.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つ以上の所定のガスを目標の環境に供給するガス供給デバイスであって、該デバイスは、
リザーバと、
該リザーバからガスを通すガス拡散部分と、
該リザーバ内に含まれている一つ以上の所定のガスであって、周囲の濃度以外の濃度の一つ以上の所定のガスと
を備えており、
該デバイスは、ガスを生成せず、該一つ以上の所定のガスと共に使用することに先立ってパッケージされる、デバイス。
【請求項２】
予め設定された体積の、前記一つ以上の所定のガスが、前記リザーバ内に含まれている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記一つ以上の所定のガスは、おおよそ大気圧において前記リザーバ内に含まれている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記ガス供給デバイスは、使用に先立って、おおよそ大気圧においてパッケージされる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
一つ以上の所定のガスを目標の環境に供給する、ガス供給システムであって、該システムは、
デバイスであって、
リザーバと、
該リザーバからガスを通すガス拡散部分と、
該リザーバ内に含まれる、大気よりも大きい濃度の一つ以上の所定のガスと
を備えており、ガスを生成しないデバイスと、
使用に先立って該ガス供給システムを閉じ込めるための、実質的にガスが透過することができない包囲パッケージであって、圧力放出ポートを含むパッケージと
を備えている、システム。
【請求項６】
前記圧力放出ポートは、一方向バルブまたは二方向バルブのいずれかを備えている、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
一つ以上の所定のガスを目標の環境に供給する予めパッケージされたガスが注入された材料であって、該材料は、ガスが注入されたゲルおよびガスが注入されたフォームのうちの一つまたは両方を含む、材料。
【請求項８】
前記ゲルおよび／またはフォームゲルは、ヒドロゲル、アクリル樹脂、ポリエチレングリコール、ポリアクリルアミド、グルコサミノグリカン（ｇｌｕｃｏｓａｍｉｎｏｇｌｙｃａｎ）、ポリエチレンオキシドならびに前述のものの誘導体および組み合わせから成る群から選択される、請求項７に記載の材料。
【請求項９】
ガス供給デバイスをパッケージする方法であって、該方法は、
一つ以上の所定のガスを目標の環境に供給するガス供給デバイスを提供することであって、該デバイスは、リザーバと、該リザーバからガスを通すガス拡散部分と、該リザーバ内に含まれる一つ以上の所定のガスであって、大気よりも大きい濃度の一つ以上の所定のガスとを備え、該デバイスはガスを生成しない、ことと、
使用に先立って、該ガス供給デバイスを閉じ込めるために該ガス供給デバイスをパッケージの中に配置することであって、該パッケージは、密封されたときには実質的にガスが透過することができない性能を有し、該パッケージは、自己密封材料を含む、ことと、
該パッケージの密封の直前に、または、該パッケージの密封と実質的に同時に、該パッケージを該一つ以上の所定のガスを用いて加圧することと、
該パッケージの密封の後に所定の期間が経過した後に、該パッケージに穴を開けることと、
該パッケージの外側に加圧することによって、余分な一つ以上の所定のガスを放出することと
を包含する、方法。
【請求項１０】
前記パッケージの外側の圧力が除去された後に、該自己密封材料が、前記穴を密封する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記余分な一つ以上の所定のガスは、バルブを介して放出される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記バルブは、一方向バルブのメカニズムを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記一方向バルブは、前記パッケージにおける圧力が所定のレベルに到達すると、前記余分な一つ以上の所定のガスを放出する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記余分な一つ以上の所定のガスを放出するために前記パッケージの外側に加えられた前記圧力を除去することの寸前に、前記方法は、該パッケージを再び密封することをさらに包含する、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記パッケージを再び密封することは、熱的な密封を含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
少なくとも一つのコンタクトレンズを保持し、随意的にコンタクトレンズ溶液をも保持する、コンテナと、
リザーバ内に含まれる、大気よりも大きい濃度の一つ以上の所定のガスと
を備えている、コンタクトレンズケース。
【請求項１７】
コンタクトレンズを保持するコンテナと、
該コンテナに酸素の流れを供給するインレットと、
該インレットに酸素の流れを供給する能力を有する酸素の貯蔵部と、
該コンテナから余分な圧力を放出する一方向のバルブで調整されるアウトレットと
を備えている、コンタクトレンズ酸素付加システム。
【請求項１８】
コンタクトレンズに酸素を付加する方法であって、該方法は、
少なくとも一つのコンタクトレンズコンテナを供給することによって、少なくとも一つのコンタクトレンズを密封された状態において保持することと、
該少なくとも一つのコンタクトレンズコンテナ内に少なくとも一つのコンタクトレンズを配置することと、
該少なくとも一つのコンタクトレンズコンテナの内部に、大気よりも高い濃度において酸素を提供することと
を包含する、方法。
【請求項１９】
酸素を供給することは、前記コンテナ内に酸素の流れを確立することを包含する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記コンテナは、酸素の流れが確立されたときに、前記圧力が所定のレベルに到達すると、該コンテナ内から余分な圧力が放出されるようにする一方向バルブを含む、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月5日(2009.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の細長い医療装置の近位端を第２の細長い医療装置に対して或る角度に向けるためのワイヤガイドホルダにおいて、
前記第１の細長い医療装置を受け入れるように作られた通路を有する本体部と、
前記通路に作動可能に接続された摩擦要素と、を備えている、ワイヤガイドホルダ。
【請求項２】
前記摩擦要素は、少なくとも部分的には前記通路内へと伸長している１つ又はそれ以上のポリマーＯリングを備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項３】
前記摩擦要素は、少なくとも部分的には前記通路内へと伸長している１つ又はそれ以上のパッドを備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項４】
前記１つ又はそれ以上のパッドは、前記通路を画定する表面に取り付けられている、請求項３に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項５】
前記摩擦要素は、前記通路を画定する表面に施されるコーティングを備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項６】
前記摩擦要素は、前記通路を画定する表面に設置される１つ又はそれ以上の突起部を備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項７】
前記摩擦要素は非直線状の通路を備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項８】
前記第２の細長い医療装置のアクセスポートに取り付けられており、前記第１の細長い医療装置の遠位部は、前記第２の細長い医療装置の前記アクセスポートを通して配置され、前記第１の細長い医療装置の近位部は、前記通路を通して配置され、前記近位部は、前記遠位部に対して概ね或る角度に向けられている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項９】
前記第１の細長い医療装置の遠位部が前記第２の医療装置に対して長手方向に動かないように固定するための固定部を更に備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１０】
前記第２の細長い医療装置のアクセスポートに取り付けられており、前記第１の細長い医療装置の前記遠位部は、前記第２の細長い医療装置の前記アクセスポートを通して配置され、前記第１の細長い医療装置の中間部は前記固定部に固定され、前記第１の細長い医療装置の近位部は前記通路を通して配置され、前記近位部は前記遠位部に対して或る角度に概ね向けられている、請求項９に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１１】
前記固定部は、前記本体部から外向きに伸長する複数の突起部を備えており、前記複数の突起部は、前記第１の細長い医療装置の中間部を縫うように通して、前記第１の細長い医療装置の遠位部が前記第２の医療装置に対して長手方向に動かないように固定することができるように作られている、請求項９に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１２】
前記固定部は、前記本体部の中へと内向きに伸長する複数の溝を備えており、前記複数の溝は、前記第１の細長い医療装置の中間部を縫うように通して、前記第１の細長い医療装置の遠位部が前記第２の医療装置に対して長手方向に動かないように固定することができるように作られている、請求項９に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１３】
前記通路は、前記第１の細長い医療装置の近位部を、前記本体と前記第２の細長い医療装置の一方に対して４５°より大きい角度に偏向させるように作られている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１４】
前記通路は、前記第１の細長い医療装置の近位部を、前記本体と前記第２の細長い医療装置の一方に対して９０°より大きい角度に偏向させるように作られている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１５】
前記第１の細長い医療装置はワイヤガイドを備えており、前記第２の細長い医療装置は内視鏡を備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１６】
前記通路は、少なくとも部分的には前記本体の内部を通って伸長している管腔を備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１７】
前記通路は、前記本体の外表面に配置されるチャネル又はクリップの一方を備えている、請求項１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項１８】
第１の細長い医療装置を第２の医療装置に対して固定するためのワイヤガイドホルダにおいて、
前記第１の細長い医療装置の近位部を前記第２の医療装置に対して偏向させるように作られた通路を有する本体と、
前記第１の細長い医療装置の遠位部の前記第２の細長い医療装置に対する長手方向の動きを制限するように作られた固定要素と、を備えている、ワイヤガイドホルダ。
【請求項１９】
前記本体は背骨部を備えており、前記通路は前記背骨部を通って伸長している、請求項１８に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２０】
前記固定要素は、前記背骨部から外向きに伸長する複数の突起部を備えており、前記複数の突起部は、前記第１の細長い医療装置の中間部を縫うように通して、前記第１の細長い医療装置の前記遠位部が前記第２の医療装置に対して長手方向に動かないように固定することができるように作られている、請求項１９に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２１】
前記通路は、前記第１の細長い医療装置の前記近位部がそこを通して配置されると、前記近位部の動きを抑制する手段を備えている、請求項１８に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２２】
前記第１の細長い医療装置の前記近位部の前記動きを抑制するための前記手段は、少なくとも部分的には前記通路の中へと伸長する１つ又はそれ以上のエラストマーデバイスを備えている、請求項２１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２３】
前記第１の細長い医療装置の前記近位部の前記動きを抑制するための前記手段は、非直線状の通路を備えている、請求項２１に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２４】
第２の細長い医療装置に取り付けるように作られた取り付け部を更に備えている、請求項１８に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２５】
前記第１の細長い医療装置はワイヤガイドを備えており、前記第２の細長い医療装置は内視鏡を備えている、請求項１８に記載のワイヤガイドホルダ。
【請求項２６】
前記通路は、前記本体の外表面に配置されるクリップ又はチャネルの一方を備えている、請求項１８に記載のワイヤガイドホルダ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月2日(2009.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
【図１】図１はディスペンサ容器から引き出されている本発明の１好適実施例による医療用包帯製品の斜視図である。
【図２】図２は切り取られた本発明の医療用包帯の切り欠き斜視図である。
【図３】図３は図２の３−３線に沿った断面の形状を図示する。
【図４】図４は本発明の１実施例による医療用包帯基材の斜視図である。
【図５】図５は医療用材料内の湿気硬化性樹脂の湿潤活性化処理を図示する。
【図６】図６は基材の空隙部内に水を供給することによる湿気硬化性樹脂の湿潤活性化処理を図示する。
【図７】図７は適用前に医療用包帯から余分な水を絞り出す様子を図示する。
【図８】図８は適用前に水を絞った医療用包帯の再平坦化処理を図示する。
【図９】図９は怪我を負った足上に配置され、カバーラップ体で固定されている医療用包帯の斜視図である。
【図１０】図１０は怪我を負った足上に配置され、カバーラップ体で固定されている医療用包帯の斜視図である。
【図１１】図１１はその使用時まで医療用包帯を内部に保存するディスペンサ容器の別例の斜視図である。
【図１２】図１２は図１１のディスペンサ容器の断面図である。
【図１３】図１３はディスペンサ容器が収容されたディスペンサカートンの斜視図である。
【図１４】図１４は使用時まで湿気不浸透性包装体に保存されたプレカット医療用包帯の斜視図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2008529720.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月20日(2008.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
たとえば、この開示は、検出手順および分類手順の完了後、ＰＳＥからの電源電圧に応答してＰＤにより情報を提示することを開示している。しかしながら、ＰＤの情報は、ＰＳＥがＰＤに電源電圧を印加する前に提示されてもよい。特に、ＰＤは、ＩＥＥＥ８０２．３ａｆ規格によって規定されたその検出および／または分類シグネチャを、これらのシグネチャが有効なままであるように修正することにより、情報を提示してもよい。たとえばＰＤは、クラス電流をそれぞれのクラス用の有効範囲内に保つように、分類間隔中に提示されるクラス電流の時間および／または振幅変調を行なってもよい。たとえば、ＩＥＥＥ８０２．３ａｆに準拠するクラス３のＰＤは、クラステストの持続時間の間、電流を２６ｍＡ〜３０ｍＡに保たなければならない。したがって、ＰＤは、追加情報を認識可能なＰＳＥにこの情報を提示するために、たとえば２７ｍＡ〜２９ｍＡの間で電流を迅速に切換えてもよい。この場合、ＰＤは、ＩＥＥＥ８０２．３ａｆに準拠するクラス３の有効なＰＤのままである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層の上に配置されて、絶縁層の上方の第１半導体層と、第１半導体層の上方に設けられた第２半導体層と、前記第２半導体層の上方に設けられている耐酸化層とを有する予備トランジスタ積層構造を、積層側壁構造を有するパターニング済み予備トランジスタ積層構造として形成する工程と、
側壁絶縁体を、前記積層側壁構造の第１半導体層側壁部分及び第２半導体層側壁部分の上に形成する工程であって、前記第１半導体層部分の側壁絶縁体は第２半導体層部分の側壁絶縁体の膜厚よりも厚い膜厚を有する、側壁絶縁体を形成する工程と、
第２半導体層部分上の側壁絶縁体を除去する結果、第２半導体層の該当する側壁部分を露出させる、第２半導体層部分上の側壁絶縁体を除去する工程と、
ｉｎ−ｓｉｔｕドープエピタキシャルソース／ドレイン領域を形成する結果、単結晶半導体材料を第２半導体層の露出側壁部分からエピタキシャル成長させる、ｉｎ−ｓｉｔｕドープエピタキシャルソース／ドレイン領域を形成する工程と、
パターニング済み予備トランジスタ積層構造の耐酸化層を除去することによって第２半導体層の第１ゲート位置部分を露出させる工程と、
絶縁ライナーを露出ｉｎ−ｓｉｔｕドープエピタキシャルソース／ドレイン領域、及び第２半導体層の露出第１ゲート位置部分の上に形成する工程と、
絶縁ライナーの内、第２半導体層の露出第１ゲート位置部分の上の部分を除去する工程と、
パターニング済み予備トランジスタ積層構造、及びｉｎ−ｓｉｔｕドープエピタキシャルソース／ドレイン領域をパターニングして、トランジスタの該当する幅寸法に従ったトランジスタ領域を形成し、及び第１半導体層をトランジスタ領域の反対側の両端で露出させる工程と、
第１半導体層を除去して開口を形成する工程であって、開口によって第２半導体層の第２ゲート位置部分が露出する、第１半導体層を除去して開口を形成する工程と、
ゲート誘電体を、前記ゲート誘電体が少なくとも第２半導体層の第１及び第２ゲート位置部分の上に設けられるように、第２半導体層の上に形成する工程と、
ゲート電極を、少なくとも第２半導体層の第１及び第２ゲート位置部分を覆うゲート誘電体の上に形成する工程とを備える、ダブルゲートトランジスタを形成するための方法。
【請求項２】
第１半導体層はＳｉＧｅからなり、第２半導体層はＳｉからなり、耐酸化層は少なくともＳｉ３Ｎ４を含有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１半導体層は第２半導体層よりも５０：１よりも高い割合でエッチングされるエッチング選択性を有する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
第１半導体層は第２半導体層の酸化速度よりも速い酸化速度で酸化される、請求項１記載の方法。
【請求項５】
第１半導体層の酸化速度は第２半導体層の酸化速度の少なくとも４倍大きい、請求項４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１通信サービスを顧客に提供するステップと、
第２の異なる通信サービスを前記第２通信サービスの通常価格よりも安い価格で前記顧客に提供するステップと、
から構成され、
前記通常価格よりも安い価格での前記第２通信サービスの提供は、前記顧客が前記第１通信サービスの予め設定された量を使用した場合にのみ受けることができることを特徴とする通信サービスをプロモートする方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月18日(2009.2.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
バリエータによるトルク伝達を可能にするために、ローラとディスクとの境界には圧力が存在しなくてはなない。「フルトロイダル」型のバリエータにおいては、この圧力は典型的には、バリエータディスクの１つにローラに向けてディスクを付勢する「端部荷重」を加えるように作用する油圧アクチュエータによって供給される。端部荷重の大きさはバリエータの効率と性能とに重要な影響を及ぼす。作動中に端部荷重を変化させることは知られている。この点に関する１つの重要なパラメータは、牽引係数である。法線力を、ローラとディスク間の境界でその境界に垂直な方向に沿って、ディスクの１つに対してローラにより（及び勿論、ローラに対してディスクにより）加えられる力であると定義すると、牽引係数μは、単純にリアクション・フォース（ＲＦ）と法線力（ＮＦ）との比である。
μ＝ＲＦ／ＮＦ
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2004526836.tif 000001
〔式中、
Ａは、式（８）：
【化３３】
2004526836.tif 000002
｛式中、Ｒ7は水素またはハロゲンであり、
Ｒ8はハロゲン、シアノ、−ＣＦ3、−ＣＯＯＲ11〔ここで、Ｒ11は、アルキル基が酸素で中断されていてもよいＣ1〜Ｃ4アルキルである〕あるいはベンジルまたは−ＳＯ2Ｒ12（ここで、Ｒ12は−ＮＲ13Ｒ14またはフェニルであり、そしてＲ13は水素またはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ14はＣ1〜Ｃ4アルキルまたはベンジルである）である、
Ｒ9は、水素またはハロゲンであり、そして
Ｒ10は、水素または基−ＳＯ2−Ｏ−Ｃ6Ｈ5である｝
の基であり、
Ｒ1は、水素、非置換またはヒドロキシ−もしくはフェニル−置換Ｃ1〜Ｃ6アルキル（それは、アルキル鎖について、Ｃ3より上で、１個以上の酸素原子により中断されていてもよい）であるか、あるいはＲ2の意味を有し、
Ｒ2は、式（２）、（３）、（４）、（５）、（６）または（７）：
【化２】
2004526836.tif 000003
（式中、Ｂは、フェニレン、ナフタレン、チエニル及びフリルからなる群より選択されるブリッジ部分であり、Ｒ4はアルキルまたはアリールであり、Ｒ5およびＲ6は各々他と独立に、アルキル、アリールまたはヘテロアリールであり、そしてＡは式（１）と同義であり、あるいは
Ｒ1とＲ2は、−ＮＲ1Ｒ2中の窒素原子と一緒になって、ヘテロ環を形成し、Ｙはシアノ、−ＣＯＮＨ2または−ＣＨ2ＳＯ3Ｈであり、そしてｎは２〜６の整数である）で示される基である〕
で示されるピリドンアゾ染料。
【請求項２】
式（１０）、（１１）、（１２）または（１３）：
【化４】
2004526836.tif 000004
で示される、請求項１記載のピリドンアゾ染料。
【請求項３】
式（５０）：
【化５】
2004526836.tif 000005
で示される化合物を、慣用の手法に従ってジアゾ化し、次いで、式（５１）：
【化６】
2004526836.tif 000006
（Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｙおよびｎは式（１）と同義である）
で示されるカップリング成分にカップリングする、請求項１記載の式（１）のピリドンアゾ染料の製造方法。
【請求項４】
１種以上の式（１）のピリドンアゾ染料を着色プラスティックまたはカラーポリマー粒子の材料に混和することを含む、着色プラスチックまたはカラーポリマー粒子の製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の式（１）のピリドンアゾ染料およびＵＶ吸収剤の組み合わせを用いることを含む、着色プラスチックまたはカラーポリマー粒子の製造方法。
【請求項６】
着色プラスチックまたはカラーポリマー粒子の製造における、請求項１記載のピリドンアゾ染料の使用。
【請求項７】
請求項４または請求項５のいずれかに記載の、プラスチックまたはカラーポリマー粒子。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
｛式中、Ｒ7は水素またはハロゲンであり、
Ｒ8は水素、ハロゲン、シアノ、−ＣＦ3、−ＣＯＯＲ11〔ここで、Ｒ11は、アルキル基が酸素で中断されていてもよいＣ1〜Ｃ4アルキルである〕、あるいはベンジルまたは−ＳＯ2Ｒ12（ここで、Ｒ12は−ＮＲ13Ｒ14またはフェニルであり、そしてＲ13は水素またはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ14はＣ1〜Ｃ4アルキルまたはベンジルである）である、
Ｒ9は、水素またはハロゲンであり、そして
Ｒ10は、水素または基−ＳＯ2−Ｏ−Ｃ6Ｈ5である｝
で示される基である。