【手続補正書】
【提出日】平成23年2月23日(2011.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を載置する第１テーブルと、
前記第１テーブルとは独立に移動可能で、基準マークを有する第２テーブルと、
前記投影光学系と前記第１テーブルとの間に前記液体が維持される第１状態において前記第１、第２テーブルを接近させるように相対移動するとともに、前記第１状態から、前記投影光学系と前記第２テーブルとの間に前記液体が維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液体を維持しつつ前記接近させた第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、
前記投影光学系の直下に配置される前記第２テーブルの基準マークを用いて計測を行う計測システムと、を備え、
前記遷移によって、前記第２テーブルは前記投影光学系の直下に配置されて前記計測システムによる計測が行われるとともに、前記第１テーブルは前記投影光学系の直下から基板交換位置に移動されて前記露光された基板が交換される。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
前記基準マークは、表面が前記第２テーブルの表面と実質的に同一面となる基準部材に設けられる。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記第１テーブルは、前記基板の載置領域、及びその周囲領域を有し、表面が前記周囲領域の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項４】
請求項３に記載の露光装置において、
前記第１テーブルは、前記周囲領域の一部に計測部材が設けられる。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の露光装置において、
前記第１テーブルは、前記載置領域に載置される基板の表面を含めて表面がほぼ面一となるように設定される。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記遷移のために、前記投影光学系と前記第１テーブルの周囲領域との間に前記液体が維持される。
【請求項７】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と対向して配置される前記第１テーブルの移動によって、前記投影光学系との間で前記液体を維持する前記周囲領域と前記基板との一方が他方に変更される。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルの位置情報を計測する計測装置をさらに備え、
前記計測装置は、前記露光において前記第１テーブルの位置情報を計測するエンコーダを含む。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置において、
前記エンコーダは、前記第１テーブルの裏面に設けられるスケールを使ってその位置情報を計測する。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において近接または接触した状態で移動される。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記投影光学系の直下に前記液体が維持されるように近接した状態で移動される。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記液体の流出が防止されるように近接した状態で移動される。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において所定方向に関して近接または接触しつつその所定方向に移動される。
【請求項１４】
請求項１３に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記所定方向に関してその位置関係が維持されつつ同時に移動される。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と直交する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なり、前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において、前記走査露光時に前記基板が走査される所定方向に移動される。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルは、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なり、かつ前記基板の交換が行われる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系をさらに備え、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、前記マーク検出は液体を介することなく行われる。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルとは独立して移動可能な第３テーブルをさらに備える。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の直下で前記基板より小さい局所領域内に前記液体を保持する液浸システムをさらに備え、
前記基板は、前記露光において前記局所領域内に保持される液体に対して相対移動される。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられ、前記液体の流路を内部に有する液浸部材を含み、
前記基板は、前記露光において前記液浸部材の下面に近接して配置される。
【請求項２３】
デバイス製造方法であって、
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光物体を露光することと、
前記露光された感光物体を現像することと、を含む。
【請求項２４】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系と前記液体とを介して、第１テーブルに載置される基板を露光することと、
前記投影光学系と前記第１テーブルとの間に前記液体が維持される第１状態において、前記第１テーブルと、前記第１テーブルとは独立に移動可能かつ基準マークを有する第２テーブルとを接近させるように相対移動することと、
前記第１状態から、前記投影光学系と前記第２テーブルとの間に前記液体が維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液体を維持しつつ、前記接近させた第１、第２テーブルを移動することと、
前記遷移によって前記投影光学系の直下に配置された前記第２テーブルの基準マークを用いて計測を行うことと、
前記第１テーブルを前記投影光学系の直下から基板交換位置に移動して前記露光された基板を交換することと、を含む。
【請求項２５】
請求項２４に記載の露光方法において、
前記基準マークは、表面が前記第２テーブルの表面と実質的に同一面となる基準部材に設けられる。
【請求項２６】
請求項２４又は２５に記載の露光方法において、
前記第１テーブルは、前記基板の載置領域、及びその周囲領域を有し、表面が前記周囲領域の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項２７】
請求項２６に記載の露光方法において、
前記第１テーブルは、前記周囲領域の一部に計測部材が設けられ、前記投影光学系と前記第１テーブルとの間に前記液浸領域が維持された状態で前記計測部材を用いる計測が行われる。
【請求項２８】
請求項２６又は２７に記載の露光方法において、
前記第１テーブルは、前記載置領域に載置される基板の表面を含めて表面がほぼ面一となるように設定される。
【請求項２９】
請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記遷移のために、前記投影光学系と前記第１テーブルの周囲領域との間に前記液体が維持される。
【請求項３０】
請求項２６〜２９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と対向して配置される前記第１テーブルの移動によって、前記投影光学系との間で前記液体を維持する前記周囲領域と前記基板との一方が他方に変更される。
【請求項３１】
請求項２４〜３０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記露光において、前記第１テーブルを、エンコーダによってその位置情報を計測しつつ移動する。
【請求項３２】
請求項３１に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる計測では、前記第１テーブルの裏面に設けられるスケールが用いられる。
【請求項３３】
請求項２４〜３２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において近接または接触した状態で移動される。
【請求項３４】
請求項２４〜３３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記投影光学系の直下に前記液体が維持されるように近接した状態で移動される。
【請求項３５】
請求項２４〜３４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記液体の流出が防止されるように近接した状態で移動される。
【請求項３６】
請求項２４〜３５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において所定方向に関して近接または接触しつつその所定方向に移動される。
【請求項３７】
請求項３６に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記所定方向に関してその位置関係が維持されつつ同時に移動される。
【請求項３８】
請求項３６又は３７に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と直交する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項３９】
請求項２４〜３８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって、前記基板のマークが検出され、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項４０】
請求項２４〜３９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において、前記走査露光時に前記基板が走査される所定方向に移動される。
【請求項４１】
請求項２４〜４０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１テーブルは、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なり、かつ前記基板の交換が行われる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２テーブルは、前記遷移において前記所定方向に移動される。
【請求項４２】
請求項２４〜４１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、前記液体を介することなくマークの検出が行われる。
【請求項４３】
請求項２４〜４２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルとは独立して移動可能な第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行する。
【請求項４４】
請求項２４〜４３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液体は、前記投影光学系の直下で前記基板より小さい局所領域内に保持され、
前記基板は、前記露光において前記局所領域内に保持される液体に対して相対移動される。
【請求項４５】
請求項４４に記載の露光方法において、
前記基板は、前記露光において、前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられる液浸部材の下面に近接して配置される。
【請求項４６】
デバイス製造方法であって、
請求項２４〜４５のいずれか一項に記載の露光方法を用いて感光物体を露光することと、
前記露光された感光物体を現像することと、を含む。