Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月18日(2011.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体上の同一領域に対して、複数回記録走査を行うことにより画像を形成するための画像処理装置であって、
入力された画像データを前記記録走査ごとの画像データに変換する変換手段と、
前記変換された記録走査ごとの画像データにおける処理対象画素の画素値と、予め設定された閾値との大小比較処理を行うか否かを、それぞれの前記記録走査で使用するマスクパターンデータを用いて判断する判断手段と、
前記変換手段により変換された前記記録走査ごとの画像データに対して誤差拡散処理を行うことにより、前記記録走査ごとの２値画像データを生成する生成手段と
を有し、
前記生成手段は、
前記判断手段が前記大小比較処理を行うと判断した場合には、前記大小比較処理を実行し、該大小比較処理の結果に応じて、前記２値画像データにおける前記処理対象画素の画素値を決定し、
前記判断手段が前記大小比較処理を行わないと判断した場合には、前記大小比較処理を実行せず、予め設定された値を、前記２値画像データにおける前記処理対象画素の画素値とする
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記判断手段は、
前記マスクパターンデータ中の前記処理対象画素に対応するデータが１を示す場合には、前記大小比較処理を行うと判断し、
前記マスクパターンデータ中の前記処理対象画素に対応するデータが０を示す場合には、前記大小比較処理は行わないと判断する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記記録走査それぞれに対応するマスクパターンデータは、互いに補完関係を有することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
記録媒体上の同一領域に対して、複数回記録走査を行うことにより画像を形成するための画像処理装置が行う画像処理方法であって、
前記画像処理装置の変換手段が、入力された画像データを前記記録走査ごとの画像データに変換する変換工程と、
前記画像処理装置の判断手段が、前記変換された記録走査ごとの画像データにおける処理対象画素の画素値と、予め設定された閾値との大小比較処理を行うか否かを、それぞれの前記記録走査で使用するマスクパターンデータを用いて判断する判断工程と、
前記画像処理装置の生成手段が、前記変換工程で変換された前記記録走査ごとの画像データに対して誤差拡散処理を行うことにより、前記記録走査ごとの２値画像データを生成する生成工程と
を有し、
前記生成工程では、
前記判断工程で前記大小比較処理を行うと判断した場合には、前記大小比較処理を実行し、該大小比較処理の結果に応じて、前記２値画像データにおける前記処理対象画素の画素値を決定し、
前記判断工程で前記大小比較処理を行わないと判断した場合には、前記大小比較処理を実行せず、予め設定された値を、前記２値画像データにおける前記処理対象画素の画素値とする
ことを特徴とする画像処理方法。
【請求項５】
コンピュータを、請求項１乃至３の何れか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の画像処理装置は以下の構成を備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
即ち、記録媒体上の同一領域に対して、複数回記録走査を行うことにより画像を形成するための画像処理装置であって、
入力された画像データを前記記録走査ごとの画像データに変換する変換手段と、
前記変換された記録走査ごとの画像データにおける処理対象画素の画素値と、予め設定された閾値との大小比較処理を行うか否かを、それぞれの前記記録走査で使用するマスクパターンデータを用いて判断する判断手段と、
前記変換手段により変換された前記記録走査ごとの画像データに対して誤差拡散処理を行うことにより、前記記録走査ごとの２値画像データを生成する生成手段と
を有し、
前記生成手段は、
前記判断手段が前記大小比較処理を行うと判断した場合には、前記大小比較処理を実行し、該大小比較処理の結果に応じて、前記２値画像データにおける前記処理対象画素の画素値を決定し、
前記判断手段が前記大小比較処理を行わないと判断した場合には、前記大小比較処理を実行せず、予め設定された値を、前記２値画像データにおける前記処理対象画素の画素値とする
ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像の記録を行う記録装置と第１のＵＳＢポートを介して接続可能な情報処理装置であって、
前記第１のＵＳＢポートを介して接続されている記録装置がサスペンド状態に移行可能であるか判定する第１の判定手段と、
前記記録装置に実行させるためのジョブが存在しているか判定する第２の判定手段と、
前記第１の判定手段により前記記録装置がサスペンド状態に移行可能と判定され、前記第２の判定手段により前記記録装置に実行させるためのジョブが存在していないと判定された場合、前記第１のＵＳＢポートをサスペンド状態に移行させる制御手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記情報処理装置は、前記記録装置以外の装置を接続するための第２のＵＳＢポートを有し、前記制御手段は、前記第１の判定手段により前記記録装置がサスペンド状態に移行可能と判定され、前記第２の判定手段により前記記録装置に実行させるためのジョブが存在していないと判定された場合、前記第２のＵＳＢポートはサスペンド状態に移行させないことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記第１の判定手段は、前記記録装置に対して発行したステータス要求コマンドに対する前記記録装置に対する応答に基づき前記記録装置がサスペンド状態に移行可能であるか判定することを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記第１のＵＳＢポートがサスペンド状態である場合に、前記第２の判定手段により前記記録装置に実行させるためのジョブが存在していると判定された場合、前記第１のＵＳＢポートのサスペンド状態を解除することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記第１のＵＳＢポートのサスペンド状態を解除するまでの時間を設定する設定手段を有し、前記制御手段は、前記第１のＵＳＢポートがサスペンド状態に移行してから前記設定手段で設定された時間が経過した場合に、前記第１のＵＳＢポートのサスペンド状態を解除することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記設定手段は、前記記録装置から送られてくる時間情報に従って前記時間を設定することを特徴とする請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
画像の記録を行う記録装置と第１のＵＳＢポートを介して接続可能な情報処理装置の制御方法であって、
前記第１のＵＳＢポートを介して接続されている記録装置がサスペンド状態に移行可能であるか判定する第１の判定工程と、
前記記録装置に実行させるためのジョブが存在しているか判定する第２の判定工程と、
前記第１の判定工程において前記記録装置がサスペンド状態に移行可能と判定され、前記第２の判定工程において前記記録装置に実行させるためのジョブが存在していないと判定された場合、前記第１のＵＳＢポートをサスペンド状態に移行させる工程と、
を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置及び情報処理装置の制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像の記録を行う記録装置と接続可能な情報処理装置及び該情報処理装置の制御方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、記録装置がジョブを実行する必要のない状態である場合に、記録装置を接続するためのＵＳＢポートをサスペンド状態に移行させることによって、情報処理装置の省電力化を図る情報処理装置、情報処理装置の制御方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の情報処理装置は、画像の記録を行う記録装置と第１のＵＳＢポートを介して接続可能な情報処理装置であって、前記第１のＵＳＢポートを介して接続されている記録装置がサスペンド状態に移行可能であるか判定する第１の判定手段と、前記記録装置に実行させるためのジョブが存在しているか判定する第２の判定手段と、前記第１の判定手段により前記記録装置がサスペンド状態に移行可能と判定され、前記第２の判定手段により前記記録装置に実行させるためのジョブが存在していないと判定された場合、前記第１のＵＳＢポートをサスペンド状態に移行させる制御手段とを有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、記録装置がジョブを実行する必要のない状態である場合に、記録装置を接続するためのＵＳＢポートをサスペンド状態に移行させるので、情報処理装置の省電力化を図ることができるという効果を奏する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月16日(2010.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作機械（１）に設けられたワーク載置部（３）に支承されたプレート状のワーク（４）を、切削加工および／または成形加工により加工するための方法であって、昇降軸線（１５）に沿ってツールポンチ（９）とツールダイス（１１）とを運動させることによってワーク（４）を加工する形式の方法において、ワーク（４）を、載置平面（５）を上方に向かって越えて突出した成形加工部（２２）において加工するために、ツールポンチ（９）とツールダイス（１１）とを、ワーク載置部（３）における載置平面（５）の上方の加工位置（Ｂ）にまで運動させることを特徴とする、ワークを切削加工および／または成形加工により加工するための方法。
【請求項２】
先行したステップにおいて、ワーク載置部（３）に載置されたワーク（４）に成形加工によって成形加工部（２２）を形成する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ワーク載置部（３）に沿ってワーク（４）を運動させるために、ツールポンチ（９）とツールダイス（１１）とを、ツールダイス（１１）が上方に向かって載置平面（５）を越えて突出しておらずかつツールポンチ（９）が下方へ向かって載置平面（５）を越えて突出していない休止位置（Ｒ）へ移動させる、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
ツールダイス（１１）がツールダイス収容部（１０）内に支承されており、ツールポンチ（９）がツールポンチ収容部（８）内に支承されており、ワーク（４）を加工するためにツールダイス収容部（１０）とツールポンチ収容部（８）とを、互いに別個に独立して昇降軸線（１５）に沿って互いに向かって運動させる、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
ツールポンチ（９）および／またはツールダイス（１１）による加工位置（Ｂ）への到達を検出する、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか１項記載の方法の全てのステップを実施するために適合されているコード手段を有するコンピュータプログラム製品。
【請求項７】
プレート状のワーク（４）を、切削加工および／または成形加工により加工するための工作機械（１）であって、ワーク（４）を支承するためのワーク載置部（３）と、ツールポンチ（９）と、ツールダイス（１１）とが設けられており、該ツールポンチ（９）と該ツールダイス（１１）とが、ワーク（４）を加工するために当該工作機械（１）の昇降軸線（１５）に沿って互いに向かって運動可能である形式のものにおいて、制御ユニット（２１）が設けられており、該制御ユニット（２１）が、ワーク（４）の、ワーク載置部（３）における載置平面（５）を上方に向かって越えて突出した成形加工部（２２）を加工するために、ツールポンチ（９）とツールダイス（１１）とを昇降軸線（１５）に沿って載置平面（５）の上方の加工位置（Ｂ）にまで運動させるために形成されていることを特徴とする、ワークを切削加工および／または成形加工により加工するための工作機械。
【請求項８】
さらに、ツールポンチ（９）を支承するためのツールポンチ収容部（８）と、ツールダイス（１１）を支承するためのツールダイス収容部（１０）と、ツール駆動装置（１３，１４）とが設けられており、該ツール駆動装置（１３，１４）によってツールポンチ収容部（８）とツールダイス収容部（１０）とが、昇降軸線（１５）に沿って運動可能である、請求項７記載の工作機械。
【請求項９】
ツールダイス（１１）が、ピラミッド状または円錐台形状に形成されている、請求項７または８記載の工作機械。
【請求項１０】
さらに、ツールポンチ（９）および／またはツールダイス（１１）による加工位置（Ｂ）への到達を検出するためのセンサユニット（２６）が設けられている、請求項７から９までのいずれか１項記載の工作機械。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月24日(2010.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱手段を有し、内釜が着脱自在に収容される本体と、
表示部を収容する基板室を有し、前記本体にヒンジ結合されて前記内釜の上部開口を開閉自在に閉塞する蓋体と、
調理中に前記内釜内の被加熱物から発生する蒸気を冷却して復水する水タンクとを備え、
前記水タンクは、前記蓋体のエリア内に収まるように配置され、
前記基板室は、一部が前記水タンクのエリアにかかるように配置されてなることを特徴とする炊飯器。
【請求項２】
前記基板室は、その占有面積の少なくとも１／３以上が前記水タンクのエリアにかかるように設定されてなることを特徴とする請求項１記載の炊飯器。
【請求項３】
前記水タンクを、前記本体の蓋体ヒンジ部を除く部位に配置したことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の炊飯器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る炊飯器は、加熱手段を有し、内釜が着脱自在に収容される本体と、表示部を収容する基板室を有し、本体にヒンジ結合されて内釜の上部開口を開閉自在に閉塞する蓋体と、調理中に内釜内の被加熱物から発生する蒸気を冷却して復水する水タンクとを備え、水タンクは、蓋体のエリア内に収まるように配置され、基板室は、一部が水タンクのエリアにかかるように配置されてなるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月19日(2011.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記股部は、前側股部と後側股部とそれらの間の中間部を有し、
前記第１弾性手段は、前記両脚開口縁の上方側として、前側股部および/または後側股部の両脚開口縁に沿って設けられ、中間部には設けられない請求項１に記載の使い捨てパンツ型おむつ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
使い捨てパンツ型おむつが第２弾性手段を有さず、第１弾性手段が両脚開口縁の上方側にのみ設けられている場合、第１弾性手段が設けられる脚開口縁は、これらの弾性部材の脚開口縁方向の伸縮力により、脚開口縁はたるみにくい。しかし、第１弾性手段は、脚開口縁をおむつ幅方向内側に引っ張る方向に伸縮力が働かないため、第１弾性手段が存在しない中間部では脚開口縁がたるんでしまう。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月18日(2011.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤の遊技領域に向けて遊技球を発射させる球発射部材と、該球発射部材の発射力の強弱を調節する発射力調節装置と、を有する弾球遊技機において、
前記発射力調節装置は、
機前の下方から遊技者側に向けてほぼ水平に突設した操作基台と、
該操作基台の上面に位置し、定点を中心としたほぼ扇形の軌跡を描く状態で首振り回動可能な操作部と、
該操作部の前記首振り回動によって前記球発射部材の発射力を強弱させ得る調節手段と、を備え、
前記操作部は、前記操作基台の上面に対向する底部と、その底部上にあって遊技者が手を載せ置くための手載せ部と、を有し、
前記操作基台は、振動を発生可能な振動発生手段を有することを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
前記操作基台は、前記定点近傍に突出し、遊技者が手首を置くための受け部を備え、
前記振動発生手段は、前記受け部を振動可能であることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
遊技の進行を制御する遊技制御手段と、
該遊技制御手段による遊技の進行状況に応じて遊技の演出を制御する演出制御手段と、を備え、
前記演出制御手段は、前記振動発生手段を駆動制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記した目的を達成するために、請求項１に係る発明においては、遊技盤の遊技領域に向けて遊技球を発射させる球発射部材と、該球発射部材の発射力の強弱を調節する発射力調節装置と、を有する弾球遊技機において、
前記発射力調節装置は、
機前の下方から遊技者側に向けてほぼ水平に突設した操作基台と、
該操作基台の上面に位置し、定点を中心としたほぼ扇形の軌跡を描く状態で首振り回動可能な操作部と、
該操作部の前記首振り回動によって前記球発射部材の発射力を強弱させ得る調節手段と、を備え、
前記操作部は、前記操作基台の上面に対向する底部と、その底部上にあって遊技者が手を載せ置くための手載せ部と、を有し、
前記操作基台は、振動を発生可能な振動発生手段を有することを特徴とする。
請求項１記載の遊技機では、首振り回動の中心たる定点近くに手首を置くことにより、遊技者の手首から先の手の動きと、操作部の動きをほぼ一致させることができるため、操作部を操作する姿勢が自然で疲れにくい。また、操作基台が振動を発生可能な振動発生手段を有するため、例えば振動発生手段を振動させることによって操作部を振動させること等により遊技者に大当りを予告したり、所定の状態を通知したりすることが可能であり、この予告や通知によって遊技興趣を向上できる。
請求項２に係る発明においては、前記操作基台は、前記定点近傍に突出し、遊技者が手首を置くための受け部を備え、
前記振動発生手段は、前記受け部を振動可能であることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
請求項２記載の遊技機では、首回り回動の中心たる定点近傍に突出する受け部に手首を置いた状態で操作部を操作することができるため、操作部を操作する姿勢が自然で疲れにくい。受け部を設けてそこに手首を置くように仕向けるため、受け部に手首を置いている状態で遊技を行っている場合には遊技者に確実に振動を伝えることができる。また、操作部を振動させることなく、受け部を振動させるため、操作部の誤操作を防止できる。
請求項３に係る発明においては、遊技の進行を制御する遊技制御手段と、
該遊技制御手段による遊技の進行状況に応じて遊技の演出を制御する演出制御手段と、を備え、
前記演出制御手段は、前記振動発生手段を駆動制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
請求項３記載の遊技機では、遊技の演出を制御する演出制御手段が振動発生手段を駆動制御するため、遊技制御手段の処理負担を軽減できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも遊技の進行に関する所定の演出画像を表示可能な演出表示装置と、
所定の判定条件が成立したことに基づいて抽選を行う抽選手段と、
該抽選手段により遊技者に利益を付与すると判定したときに遊技者に利益を付与する利益付与状態に制御する利益付与状態制御手段と、
前記演出表示装置にて前記抽選手段による抽選結果に基づく演出画像を表示制御する遊技演出制御手段と、
前記抽選手段による抽選結果に基づく演出画像に同期して、装飾的に発光可能な発光装飾体を用いた発光演出を所定の明度で制御する発光演出制御手段と、
外部からの電波ノイズが所定の水準である旨を自ら検知する外部ノイズ検知手段と、
該外部ノイズ検知手段によって前記電波ノイズが前記所定の水準であると検知した場合には、前記発光演出制御手段を用いて前記発光装飾体の明度が相対的に低減した前記電波ノイズに対する警戒時の演出を実行する電波ノイズ警戒時演出手段と、を備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出表示装置には、前記演出画像として所定の図柄情報が変動表示可能であり、
前記利益付与状態制御手段により前記利益付与状態に制御するときに前記演出表示装置にて前記図柄情報の変動表示を行って特定の図柄情報を停止表示することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
乱数を取得する乱数取得手段を備え、
前記抽選手段は、前記乱数取得手段により取得された乱数を用いて前記抽選を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも遊技の進行に関する所定の演出画像を表示可能な演出表示装置と、
所定の判定条件が成立したことに基づいて抽選を行う抽選手段と、
該抽選手段により遊技者に利益を付与すると判定したときに遊技者に利益を付与する利益付与状態に制御する利益付与状態制御手段と、
外部からの電波ノイズが所定の水準である旨を自ら検知する外部ノイズ検知手段と、
該外部ノイズ検知手段によって前記電波ノイズが前記所定の水準であると検知した場合には、前記演出表示装置にて遊技者の注意を喚起するべく警戒情報を提供する警戒情報提供手段と、を備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出表示装置には、前記演出画像として所定の図柄情報が変動表示可能であり、
前記利益付与状態制御手段により前記利益付与状態に制御するときに前記演出表示装置にて前記図柄情報の変動表示を行って特定の図柄情報を停止表示することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
乱数を取得する乱数取得手段を備え、
前記抽選手段は、前記乱数取得手段により取得された乱数を用いて前記抽選を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも遊技の進行に関する所定の演出画像を表示可能な演出表示装置と、
所定の判定条件が成立したことに基づいて抽選を行う抽選手段と、
該抽選手段により遊技者に利益を付与する判定がなされたときに遊技者に利益を付与する利益付与状態に制御する利益付与状態制御手段と、
前記演出表示装置にて前記抽選手段による抽選結果に基づく演出画像を表示制御する遊技演出制御手段と、
前記抽選手段による抽選結果に基づく演出画像が表示制御されない時間が所定時間経過したか否かを判定する経過時間判定手段と、
該経過時間判定手段により前記所定時間が経過した判定がなされたときに前記演出表示装置にて客待ちのデモ画像を表示制御するデモ演出制御手段と、
外部からの電波ノイズが所定の水準である旨を自ら検知する外部ノイズ検知手段と、
前記遊技演出制御手段の実行時に、前記外部ノイズ検知手段によって前記電波ノイズが前記所定の水準であると検知した場合には、前記遊技演出制御手段を用いて前記電波ノイズに対する警戒演出を実行する遊技演出時警戒演出手段と、
前記デモ演出制御手段の実行時に、前記外部ノイズ検知手段によって前記電波ノイズが前記所定の水準であると検知した場合には、前記デモ演出制御手段を用いて前記警戒演出に類似した演出を実行するデモ演出時警戒演出手段と、を備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出表示装置には、前記演出画像として所定の図柄情報が変動表示可能であり、
前記利益付与状態制御手段により前記利益付与状態に制御するときに前記演出表示装置にて前記図柄情報の変動表示を行って特定の図柄情報を停止表示することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
乱数を取得する乱数取得手段を備え、
前記抽選手段は、前記乱数取得手段により取得された乱数を用いて前記抽選を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月20日(2011.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも遊技の進行に関する所定の演出画像を表示可能な演出表示装置と、
所定の判定条件が成立したことに基づいて抽選を行う抽選手段と、
該抽選手段による抽選結果に基づき、その後の遊技状態を通常遊技状態よりも遊技者に有利となる有利遊技状態に制御する有利遊技状態制御手段と、
前記演出表示装置にて前記抽選手段による抽選結果に基づく演出画像を表示制御する演出表示制御手段と、
少なくとも前記遊技状態に基づき、可動装飾体を用いた可動演出を制御する可動演出制御手段と、
外部からの電波ノイズが所定の水準である旨を自ら検知する外部ノイズ検知手段と、
前記有利遊技状態発生手段によって前記有利遊技状態に制御した場合には、前記演出表示制御手段及び前記可動演出制御手段を用いて前記通常遊技状態とは異なる有利遊技状態時の演出を実行する有利遊技状態時演出手段と、
前記外部ノイズ検知手段によって前記電波ノイズが前記所定の水準であると検知した場合には、前記演出表示制御手段及び前記可動演出制御手段を用いて前記有利遊技状態時の演出に類した前記電波ノイズに対する警戒時の演出を実行する電波ノイズ警戒時演出手段と、を備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出表示装置には、前記演出画像として所定の図柄情報が変動表示可能であり、
前記有利遊技状態制御手段により前記有利遊技状態に制御するときに前記演出表示装置にて前記図柄情報の変動表示を行って特定の図柄情報を停止表示することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
乱数を取得する乱数取得手段を備え、
前記抽選手段は、前記乱数取得手段により取得された乱数を用いて前記抽選を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月7日(2011.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色インクとともに用いられ、記録媒体に付与される液体組成物であって、水と、水溶性溶剤と、ブロックコポリマーを含有し、着色剤を含有しない液体組成物において、
該水溶性溶剤が下記分類（１）より選ばれる少なくとも１種の水溶性溶剤であり、該水溶性溶剤の含有量（Ａ）が２質量％以上８質量％以下であり、
該ブロックコポリマーが下記分類（２）−（ａ）又は（２）−（ｂ）より選ばれる、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の共重合体であり、該ブロックコポリマーの含有量（Ｂ）が２質量％以上４質量％以下であり、かつ
該水溶性溶剤の含有量（Ａ）と該ブロックコポリマーの含有量（Ｂ）の割合（Ａ／Ｂ）が１以上２以下であることを特徴とする液体組成物。
分類（１）：水溶性溶剤
１，２−ヘキサンジオール、１，２−ペンタンジオール、及びグリコールエーテル
分類（２）−（ａ）：ＡＢブロックコポリマー
Ａセグメント：スチレンホモポリマー又はベンジルメタクリレートホモポリマー
Ｂセグメント：メタクリル酸ホモポリマー又はアクリル酸ホモポリマー
分類（２）−（ｂ）：ＡＢＣブロックコポリマー
Ａセグメント：スチレンホモポリマー又はベンジルメタクリレートホモポリマー
Ｂセグメント：ブチルメタクリレートホモポリマー又はブチルアクリレートホモポリマー
Ｃセグメント：メタクリル酸ホモポリマー又はアクリル酸ホモポリマー
【請求項２】
前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテルである請求項１に記載の液体組成物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液体組成物と着色インクとを有し、該液体組成物と着色インクのイオン性がアニオン性であることを特徴とするインクセット。
【請求項４】
請求項３に記載のインクセットを用いて光沢性を有する記録媒体に画像を記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的は、以下の本発明によって達成される。すなわち、本発明は、着色インクとともに用いられ、記録媒体に付与される液体組成物であって、水と、水溶性溶剤と、ブロックコポリマーを含有し、着色剤を含有しない液体組成物において、該水溶性溶剤が下記分類（１）より選ばれる少なくとも１種の水溶性溶剤であり、該水溶性溶剤の含有量（Ａ）が２質量％以上８質量％以下であり、該ブロックコポリマーが下記分類（２）−（ａ）又は（２）−（ｂ）より選ばれる、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の共重合体であり、該ブロックコポリマーの含有量（Ｂ）が２質量％以上４質量％以下であり、かつ該水溶性溶剤の含有量（Ａ）と該ブロックコポリマーの含有量（Ｂ）の割合（Ａ／Ｂ）が１以上２以下であることを特徴とする液体組成物。
分類（１）：水溶性溶剤
１，２−ヘキサンジオール、１，２−ペンタンジオール、及びグリコールエーテル
分類（２）−（ａ）：ＡＢブロックコポリマー
Ａセグメント：スチレンホモポリマー又はベンジルメタクリレートホモポリマー
Ｂセグメント：メタクリル酸ホモポリマー又はアクリル酸ホモポリマー
分類（２）−（ｂ）：ＡＢＣブロックコポリマー
Ａセグメント：スチレンホモポリマー又はベンジルメタクリレートホモポリマー
Ｂセグメント：ブチルメタクリレートホモポリマー又はブチルアクリレートホモポリマー
Ｃセグメント：メタクリル酸ホモポリマー又はアクリル酸ホモポリマー
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月14日(2011.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体上に対して、複数の記録素子を備えた記録ヘッドを走査することによって画像を形成するための画像処理装置であって、
入力された画像データに応じて、前記記録ヘッドの走査ごとに、前記記録素子ごとの記録量を設定する設定手段と、
前記設定手段で設定された記録量のデータに対して、Ｎ値化処理（Ｎは２以上の整数）を施して形成対象となる前記画像の画像データを生成するＮ値化手段と
を有し、
前記設定手段は、第一の色成分が当該第一の色成分とは異なる第二の色成分より先に打たれる第一の走査条件のもとに記録された再現色と、前記第一の色成分が前記第二の色成分の後に打たれる第二の走査条件のもとに記録された再現色とが、等しくなるように前記第一の色成分に対応する記録量および前記第二の色成分に対応する記録量を設定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記設定手段は、前記第一の走査条件のもとに記録された再現色と、前記第二の走査条件のもとに記録された再現色とをそれぞれ測定した結果に基づいて、前記第一の色成分に対応する記録量および前記第二の色成分に対応する記録量を設定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第一の走査条件と前記第二の走査条件とは、前記記録ヘッドの走査を行う方向が異なることを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
記録媒体上に対して、複数の記録素子を備えた記録ヘッドを走査することによって画像を形成するための画像処理装置による画像処理方法であって、
入力された画像データに応じて、前記記録ヘッドの走査ごとに、前記記録素子ごとの記録量を設定する設定ステップと、
前記設定ステップで設定された記録量のデータに対して、Ｎ値化処理（Ｎは２以上の整数）を施して形成対象となる前記画像の画像データを生成するＮ値化ステップと
を有し、
前記設定ステップでは、第一の色成分が当該第一の色成分とは異なる第二の色成分より先に打たれる第一の走査条件のもとに記録された再現色と、前記第一の色成分が前記第二の色成分の後に打たれる第二の走査条件のもとに記録された再現色とが、等しくなるように前記第一の色成分に対応する記録量および前記第二の色成分に対応する記録量を設定することを特徴とする画像処理方法。
【請求項５】
コンピュータに読み込み込ませ実行させることで、前記コンピュータを請求項１乃至３の何れか１項に記載の画像処理装置として機能させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法及びコンピュータプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、記録媒体上に対して、複数の記録素子を備えた記録ヘッドを走査することによって画像を形成するための画像処理装置及び当該画像処理装置による画像処理方法、並びに、コンピュータを前記画像処理装置として機能させるコンピュータプログラムに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の画像処理装置は、記録媒体上に対して、複数の記録素子を備えた記録ヘッドを走査することによって画像を形成するための画像処理装置であって、入力された画像データに応じて、前記記録ヘッドの走査ごとに、前記記録素子ごとの記録量を設定する設定手段と、前記設定手段で設定された記録量のデータに対して、Ｎ値化処理（Ｎは２以上の整数）を施して形成対象となる前記画像の画像データを生成するＮ値化手段とを有し、前記設定手段は、第一の色成分が当該第一の色成分とは異なる第二の色成分より先に打たれる第一の走査条件のもとに記録された再現色と、前記第一の色成分が前記第二の色成分の後に打たれる第二の走査条件のもとに記録された再現色とが、等しくなるように前記第一の色成分に対応する記録量および前記第二の色成分に対応する記録量を設定する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の画像処理方法は、記録媒体上に対して、複数の記録素子を備えた記録ヘッドを走査することによって画像を形成するための画像処理装置による画像処理方法であって、入力された画像データに応じて、前記記録ヘッドの走査ごとに、前記記録素子ごとの記録量を設定する設定ステップと、前記設定ステップで設定された記録量のデータに対して、Ｎ値化処理（Ｎは２以上の整数）を施して形成対象となる前記画像の画像データを生成するＮ値化ステップとを有し、前記設定ステップでは、第一の色成分が当該第一の色成分とは異なる第二の色成分より先に打たれる第一の走査条件のもとに記録された再現色と、前記第一の色成分が前記第二の色成分の後に打たれる第二の走査条件のもとに記録された再現色とが、等しくなるように前記第一の色成分に対応する記録量および前記第二の色成分に対応する記録量を設定する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明のコンピュータプログラムは、コンピュータに読み込み込ませ実行させることで、前記コンピュータを前記画像処理装置として機能させる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月27日(2011.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可食性リンタンパクと、金属の炭酸塩及び／又は重炭酸塩とを含有し、摂食後胃内で膨潤し、満腹感を創出することを特徴とする食品組成物。
【請求項２】
前記可食性リンタンパクは、カゼイン類であることを特徴とする、請求項１に記載の食品組成物。
【請求項３】
前記可食性リンタンパクの含有量は、食品組成物全質量に対して、３〜８０質量％であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の食品組成物。
【請求項４】
前記金属の炭酸塩及び／又は重炭酸塩は、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム及びこれらを起源とする天然物から選択される、１種または２種以上であることを特徴とする、請求項１〜３何れか１項に記載の食品組成物。
【請求項５】
前記金属の炭酸塩及び／又は重炭酸塩の含有量は、食品組成物全質量に対して、０．１〜１０質量％であることを特徴とする、請求項１〜４何れか１項に記載の食品組成物。
【請求項６】
更に増粘剤を含有することを特徴とする、請求項１〜５何れか１項に記載の食品組成物。
【請求項７】
前記食品組成物はダイエット用であることを特徴とする、請求項１〜６何れか１項に記載の食品組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この様な状況に鑑みて、本発明者らは食の楽しみを損なうことなく、エネルギー摂取に繋がらない、満腹感を創出する食品組成物を求めて、鋭意研究努力を重ねた結果、可食性リンタンパクと、金属の炭酸塩及び／又は重炭酸塩とを、含有することを特徴とする食品組成物がその様な特性を有することを見出し、発明を完成させるに至った。即ち、本発明
は以下に示すとおりである。
＜１＞可食性リンタンパクと、金属の炭酸塩及び／又は重炭酸塩とを含有し、摂食後胃内で膨潤し、満腹感を創出することを特徴とする食品組成物。
＜２＞前記可食性リンタンパクは、カゼイン類であることを特徴とする、＜１＞に記載の食品組成物。
＜３＞前記可食性リンタンパクの含有量は、食品組成物全質量に対して、３〜８０質量％であることを特徴とする、＜１＞又は＜２＞に記載の食品組成物。
＜４＞前記金属の炭酸塩及び／又は重炭酸塩は、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム及びこれらを起源とする天然物から選択される、１種または２種以上であることを特徴とする、＜１＞〜＜３＞何れかに記載の食品組成物。
＜５＞前記金属の炭酸塩及び重炭酸塩の含有量は、食品組成物全質量に対して、０．１〜１０質量％であることを特徴とする、＜１＞〜＜４＞何れかに記載の食品組成物。
＜６＞更に増粘剤を含有することを特徴とする、＜１＞〜＜５＞何れかに記載の食品組成物。
＜７＞前記食品組成物はダイエット用であることを特徴とする、＜１＞〜＜６＞何れかに記載の食品組成物
食品組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタを有するキャパシタレスメモリであって、
前記トランジスタは、
ソース領域と、
ドレイン領域と、
前記ソース領域と前記ドレイン領域の間に設けられた活性層領域と、
前記活性層領域に絶縁膜を介して隣接したゲート電極とを有し、
前記ソース領域は、前記活性層領域の半導体及び前記ドレイン領域の半導体より大きいバンドギャップを有する半導体からなり、前記ソース領域と前記活性層領域との間にヘテロ接合が形成されていることを特徴とするキャパシタレスメモリ。
【請求項２】
前記活性層領域の膜厚は１００ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項３】
前記活性層領域と前記ドレイン領域は同じバンドギャップを有する半導体からなることを特徴とする請求項１または２に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項４】
前記ドレイン領域は、前記活性層領域の半導体よりも大きいバンドギャップを有する半導体からなることを特徴とする請求項１または２に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項５】
前記活性層領域の半導体がゲルマニウムからなり、前記ソース領域の半導体がシリコンゲルマニウムからなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項６】
前記活性層領域の半導体が、シリコン、ゲルマニウム及びシリコンゲルマニウムからなる群から選択された半導体からなり、前記ソース領域の半導体が、硫化亜鉛、酸化亜鉛、窒化ガリウム、リン化ガリウム、砒化ガリウム、アルミニウムアンチモン、リン化インジウム、テルル化カドミウム、テルル化亜鉛、セレン化亜鉛、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、炭化珪素、リン化アルミニウム、及び砒化アルミニウムからなる群から選択された半導体からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項７】
前記ソース領域の半導体が、硫化亜鉛、リン化ガリウム、砒化ガリウム、リン化インジウム、リン化アルミニウム、及び砒化アルミニウムからなる群から選択された半導体からなることを特徴とする請求項６に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項８】
前記活性層領域の半導体が単結晶シリコンまたはポリシリコンからなり、前記ソース領域の半導体がアモルファスシリコンまたは微結晶シリコンからなることを特徴とする請求項１または２に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項９】
前記絶縁膜は、比誘電率が８以上である絶縁材料からなることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載のキャパシタレスメモリ。
【請求項１０】
前記トランジスタを複数個含み、
前記トランジスタのゲート電極に接続された複数のワード線と、
前記トランジスタのソース領域に接続された複数のコモン線と、
前記トランジスタのドレイン領域に接続された複数のビット線とを有し、
前記コモン線と前記ビット線は概ね平行に延在し、かつ前記ワード線と概ね直交しており、
前記ワード線の延在方向に前記複数のコモン線の１つを間に挟んで隣接する前記トランジスタはソース領域が近接するように配置されており、これら隣接する前記トランジスタのソース領域は間に位置する前記コモン線に接続されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載のキャパシタレスメモリ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月14日(2011.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換装置の作製方法、及び光電変換装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が載置された処理室内に反応性気体を導入し、
前記基板と略平行に対向配置された導波管に設けられたスリットを介して前記処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して前記基板上にセミアモルファス半導体層を有する光電変換層を形成することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記反応性気体は、ヘリウムと半導体材料ガスとを含み、前記処理室内に設けられた一のノズルから前記ヘリウムを流し、他の一のノズルから前記半導体材料ガスを流して前記セミアモルファス半導体層を形成することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記反応性気体は、水素、希ガス、又は水素及び希ガスと、半導体材料ガスとを含み、前記処理室内に設けられた一のノズルから前記水素、前記希ガス、又は前記水素及び希ガスを流し、他の一のノズルから前記半導体材料ガスを流して前記セミアモルファス半導体層を形成することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記処理室内の成膜圧力が、１×１０−１Ｐａ乃至１×１０５Ｐａであることを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記プラズマは電子密度が１×１０１１ｃｍ−３以上１×１０１３ｃｍ−３以下であり、電子温度が０．２ｅＶ以上２．０ｅＶ以下であることを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記導波管に設けられたスリットは、誘電体で塞がれ、
前記マイクロ波は前記誘電体を通して導入されることを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記導波管は、前記基板の一に対して複数本配設され、
前記複数本の導波管から供給されるマイクロ波により前記プラズマを生成することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項８】
基板が載置される第１の処理室内に第１の反応性気体を導入し、前記基板と略平行に対向配置された第１の導波管に設けられたスリットを介して前記第１の処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して前記基板上に第１のセミアモルファス半導体層を形成する段階と、
前記基板を大気に晒すことなく前記第１の処理室から搬出し、第２の処理室へ移動させ、該基板が載置される前記第２の処理室内に第２の反応性気体を導入し、前記基板と略平行に対向配置された第２の導波管に設けられたスリットを介して前記第２の処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して前記第１のセミアモルファス半導体層上に第２のセミアモルファス半導体層を形成する段階と、
前記基板を大気に晒すことなく前記第２の処理室から搬出し、第３の処理室へ移動させ、該基板が載置される前記第３の処理室内に第３の反応性気体を導入し、前記基板と略平行に対向配置された第３の導波管に設けられたスリットを介して前記第３の処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して前記第２のセミアモルファス半導体層上に第３のセミアモルファス半導体層を形成する段階とを有することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
【請求項９】
基板上に複数のユニットセルを有し、
前記複数のユニットセルは、それぞれ透光性電極と、光電変換層と、裏面電極を有し、
前記透光性電極は、前記複数のユニットセルのうち隣接するユニットセルの裏面電極と電気的に接続された光電変換装置であって、
前記光電変換層は、処理室に前記基板を載置し、前記処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して作製されたセミアモルファス半導体層を有することを特徴とする光電変換装置。
【請求項１０】
請求項９において
前記透光性電極と、前記裏面電極との電気的な接続は、前記透光性電極及び前記光電変換層に開口された開口部を介して行われることを特徴とする光電変換装置。
【請求項１１】
基板上にｎ個のユニットセルＵｎを有し、
前記ｎ個のユニットセルＵｎは、それぞれ透光性電極Ｔｎと、光電変換層Ｋｎと、裏面電極Ｅｎを有し、
前記透光性電極Ｔｎは、前記ｎ個のユニットセルＵｎのうち隣接するユニットセルＵｎ−１の裏面電極Ｅｎ−１と電気的に接続された光電変換装置であって、
前記光電変換層Ｋｎは、処理室に前記基板を載置し、前記処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して作製されたセミアモルファス半導体層を有することを特徴とする光電変換装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月2日(2011.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に、島状の半導体層を形成し、
第１の変質処理を行い、前記島状の半導体層の表面に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜を除去し、
前記第１の絶縁膜が除去された前記島状の半導体層に第２の変質処理を行い、該島状の半導体層の表面に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に導電層を形成し、
前記第１の変質処理と前記第２の変質処理により、前記島状の半導体層の上端部に丸みをもたせることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面を有する基板上に、島状の半導体層を形成し、
第１の変質処理を行い、前記島状の半導体層の表面に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜を除去するとともに、前記島状の半導体層の下端部を露出し、
前記第１の絶縁膜が除去され、下端部が露出した前記島状の半導体層に第２の変質処理を行い、該島状の半導体層の表面に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に導電層を形成し、
前記第１の変質処理と前記第２の変質処理により、前記島状の半導体層の上端部及び下端部に丸みをもたせることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１の変質処理は、プラズマ処理により行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２の変質処理は、プラズマ処理により行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第２の変質処理が行われた前記島状の半導体層は、１０ｎｍ乃至３０ｎｍの膜厚であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第２の絶縁膜は、１ｎｍ乃至１０ｎｍの膜厚であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
絶縁表面を有する基板上に、島状の半導体層を形成し、
第１の変質処理を行い、前記島状の半導体層の表面に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜を除去し、
前記第１の絶縁膜が除去された前記島状の半導体層に第２の変質処理を行い、該島状の半導体層の表面に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜を除去し、
前記第２の絶縁膜が除去された前記島状の半導体層に第３の変質処理を行い、該島状の半導体層の表面に第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜上に導電層を形成し、
前記第１の変質処理、前記第２の変質処理及び前記第３の変質処理により、前記島状の半導体層の上端部に丸みをもたせることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記第３の変質処理は、プラズマ処理により行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項７又は請求項８のいずれか一において、
前記第３の変質処理が行われた前記島状の半導体層は、１０ｎｍ乃至３０ｎｍの膜厚であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項７乃至請求項９のいずれか一において、
前記第３の絶縁膜は、１ｎｍ乃至１０ｎｍの膜厚であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記島状の半導体層は、単結晶半導体でなることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
絶縁表面を有する基板と、
前記基板上に設けられた島状の半導体層と、
前記島状の半導体層を覆うように形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜を介して前記島状の半導体層上に設けられた導電層とを有し、
前記島状の半導体層の断面は、上端部が丸みをもつことを特徴とする半導体装置。
【請求項１３】
絶縁表面を有する基板と、
前記基板上に設けられた島状の半導体層と、
前記島状の半導体層を覆うように形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜を介して前記島状の半導体層上に設けられた導電層とを有し、
前記島状の半導体層の断面は、上端部及び下端部が丸みをもつことを特徴とする半導体装置。
【請求項１４】
請求項１２又は請求項１３において、
前記島状の半導体層は、１０ｎｍ乃至３０ｎｍの膜厚であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１５】
請求項１２乃至請求項１４のいずれか一において、
前記絶縁膜は、１ｎｍ乃至１０ｎｍの膜厚であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１６】
請求項１２乃至請求項１５のいずれか一において、
前記島状の半導体層の膜厚をｔ（ｔ＞０）、前記島状の半導体層の断面の端部の曲率半径をｒ（ｒ＞０）とすると、ｔとｒの関係が（ｔ／２）≦ｒ≦２ｔの条件式を満たすことを特徴とする半導体装置。
【請求項１７】
請求項１２乃至請求項１６のいずれか一において、
前記島状の半導体層の膜厚をｔ（ｔ＞０）、前記島状の半導体層の断面の端部の曲率半径をｒ（ｒ＞０）とすると、ｔとｒの関係が（ｔ／４）≦ｒ≦ｔの条件式を満たすことを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2009021565.tif 000001