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【手続補正書】
【提出日】平成23年5月5日(2011.5.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶と、
前記第１の基板上の第１の配向膜が形成された第１の配向領域と、
前記第１の基板上の前記第１の配向領域を囲み、かつ第２の配向膜が形成された第２の配向領域と、
前記第１の基板上の前記第１の配向領域及び前記第２の配向領域を囲むシール材と、を有し、
前記第１の配向領域を表示部として用いる液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２の配向膜は、垂直配向膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は、前記第２の配向膜を上にして、一部重なっていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
第１の基板に第１の配向膜を形成し、
前記第１の配向膜の外周に第２の配向膜を形成し、
前記第２の配向膜の外周にシール材を形成し、
前記第１の配向膜上に液晶を滴下し、
前記第１の基板と第２の基板を貼り合わせ、
前記液晶と前記シール材が接する前に前記シール材を硬化し、
前記第１の配向膜が形成された領域を表示部として用いることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記第１の配向膜は、前記第２の配向膜を形成する前にラビング処理を行い、
前記第２の配向膜は、垂直配向膜であり、ラビング処理を行わないことを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項４または５において、
前記第２の基板に前記第１の配向膜と対向する第３の配向膜と、前記第２の配向膜と対向する第４の配向膜が形成されており、
前記第１の配向膜と前記第３の配向膜は同じ材料を用いて、同じ形成方法で形成され、
前記第２の配向膜と前記第４の配向膜は同じ材料を用いて、同じ形成方法で形成されていることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか一項において、
前記シール材の硬化は、紫外線照射による光硬化であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項４乃至７のいずれか一項において、
前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は一部重なっていることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月26日(2011.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを切り出して、第１の六角形の半導体基板及び第２の六角形の半導体基板を形成し、
矩形の基板上に前記第１の六角形の半導体基板及び前記第２の六角形の半導体基板を並べて貼り合わせ、
複数の半導体領域と、前記複数の半導体領域と電気的に接続する複数の画素電極とを形成して、前記複数の半導体領域のうち少なくとも一つの半導体領域及び前記一つの半導体領域と電気的に接続する画素電極を含む画素を複数配置した表示部を形成し、
前記第１の六角形の半導体基板及び前記第２の六角形の半導体基板の境界領域が、前記一つの半導体領域と、前記一つの半導体領域の隣の半導体領域との間に配置されるように、前記複数の半導体領域を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記表示部における画素の配置はデルタ配置である表示装置の作製方法。
【請求項３】
矩形の基板上に、第１の六角形の半導体基板及び第２の六角形の半導体基板が並べて配置され、複数の半導体領域が設けられており、
前記複数の半導体領域のうち少なくとも一つの半導体領域及び前記一つの半導体領域と電気的に接続する画素電極を含む画素を複数配置した表示部を有し、
前記第１の六角形の半導体基板及び前記第２の六角形の半導体基板の境界領域が、前記複数の半導体領域のうち一つの半導体領域と、前記一つの半導体領域の隣の半導体領域との間に配置されるように、前記複数の半導体領域を設けたことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
矩形の基板上に、第１の六角形の半導体基板及び第２の六角形の半導体基板が並べて配置され、複数の半導体領域が設けられており、
前記複数の半導体領域のうち少なくとも一つの半導体領域及び前記一つの半導体領域と電気的に接続する画素電極を含む画素を複数配置した表示部を有し、
複数の前記画素は、同一の信号線を有するｍ列の画素群（ｍは正の整数）に分類され、
前記画素群が有する画素は、それぞれの画素領域内において概同一の位置に半導体領域を有し、
前記信号線と平行な方向の画素ピッチをＹとすると、前記画素群が有する画素の画素領域内における前記半導体領域と、前記画素群と隣接する画素群が有する画素の画素領域内における前記半導体領域とは、前記信号線と平行な方向にＹ／２ずれており、
前記第１の六角形の半導体基板及び前記第２の六角形の半導体基板の境界領域が、前記複数の半導体領域のうち一つの半導体領域と、前記一つの半導体領域の隣の半導体領域との間に配置されるように、前記複数の半導体領域を設けたことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
複数の前記画素は、画素領域の短辺対長辺比がそれぞれ√３／２：１であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
矩形の基板上に、第１の六角形の半導体基板及び第２の六角形の半導体基板が並べて配置され、複数の半導体領域が設けられており、
前記複数の半導体領域のうち少なくとも一つの半導体領域及び前記一つの半導体領域と電気的に接続する画素電極を含む画素を複数配置した表示部を有し、
複数の前記画素は、同一の走査線を有するｎ行の画素群（ｎは正の整数）に分類され、
前記画素群が有する画素は、それぞれの画素領域内において概同一の位置に半導体領域を有し、
前記走査線と平行な方向の画素ピッチをＸとすると、前記画素群が有する画素の画素領域内における前記半導体領域と、前記画素群と隣接する画素群が有する画素の画素領域内における前記半導体領域とは、前記走査線と平行な方向にＸ／２ずれており、
前記第１の六角形の半導体基板及び前記第２の六角形の半導体基板の境界領域が、前記複数の半導体領域のうち一つの半導体領域と、前記一つの半導体領域の隣の半導体領域との間に配置されるように、前記複数の半導体領域を設けたことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６において、
複数の前記画素は、画素領域の短辺対長辺比がそれぞれ１：√３であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素と、ビデオ信号の電位によって値の異なる補正用初期電位を前記画素に与える駆動回路と、を有し、
前記画素は、発光素子と、容量素子と、前記ビデオ信号の電位のサンプリングを行う第１のスイッチング素子と、駆動用トランジスタと、前記駆動用トランジスタのゲートとドレインとの導通又は非導通を制御する第２のスイッチング素子と、前記駆動用トランジスタのゲートに前記補正用初期電位が与えられるのを制御する第３のスイッチング素子と、前記駆動用トランジスタのドレインと前記発光素子との導通又は非導通を制御する第４のスイッチング素子と、を有し、
前記駆動用トランジスタは、前記ビデオ信号の電位から前記容量素子に保持された電圧を差し引いた電位に応じた電流を前記発光素子に供給することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
画素と、ビデオ信号の電位によって値の異なる補正用初期電位を前記画素に与える第１の駆動回路と、前記ビデオ信号の電位を前記画素に与える第２の駆動回路と、を有し、
前記画素は、発光素子と、容量素子と、前記ビデオ信号の電位のサンプリングを行う第１のスイッチング素子と、駆動用トランジスタと、前記駆動用トランジスタのゲートとドレインとの導通又は非導通を制御する第２のスイッチング素子と、前記駆動用トランジスタのゲートに前記補正用初期電位が与えられるのを制御する第３のスイッチング素子と、前記駆動用トランジスタのドレインと前記発光素子との導通又は非導通を制御する第４のスイッチング素子と、を有し、
前記駆動用トランジスタは、前記ビデオ信号の電位から前記容量素子に保持された電圧を差し引いた電位に応じた電流を前記発光素子に供給することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記容量素子には、前記補正用初期電位が与えられた後であり、且つ前記駆動用トランジスタのゲートとソースとの間の電圧が前記駆動用トランジスタの閾値電圧と等しくなる前であるときの前記駆動用トランジスタのゲートの電位に応じた電圧が保持されることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
発光素子と、トランジスタと、容量素子と、第１乃至第４のスイッチング素子と、を有し、
前記第１のスイッチング素子の一方の端子は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第１のスイッチング素子の他方の端子は、前記容量素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記第２のスイッチング素子の一方の端子は、前記トランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第２のスイッチング素子の他方の端子は、前記トランジスタのソース及びドレインの一方と電気的に接続され、
前記第３のスイッチング素子の一方の端子は、第２の配線と電気的に接続され、
前記第３のスイッチング素子の他方の端子は、前記トランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第４のスイッチング素子の一方の端子は、前記トランジスタのソース及びドレインの一方と電気的に接続され、
前記第４のスイッチング素子の他方の端子は、前記発光素子と電気的に接続され、
前記容量素子の他方の電極は、前記トランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第１の配線には、ビデオ信号が入力され、
前記第２の配線には、前記ビデオ信号によって値が異なる電位が入力されることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項において、
前記スイッチング素子は薄膜トランジスタであることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
発光素子と、トランジスタと、容量素子と、第１乃至第６のスイッチング素子と、を有し、
前記第１のスイッチング素子の一方の端子は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第１のスイッチング素子の他方の端子は、前記容量素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記第２のスイッチング素子の一方の端子は、前記トランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第２のスイッチング素子の他方の端子は、前記トランジスタのソース及びドレインの一方と電気的に接続され、
前記第３のスイッチング素子の一方の端子は、第２の配線と電気的に接続され、
前記第３のスイッチング素子の他方の端子は、前記トランジスタのソース及びドレインの他方と電気的に接続され、
前記第４のスイッチング素子の一方の端子は、前記トランジスタのソース及びドレインの他方と電気的に接続され、
前記第４のスイッチング素子の他方の端子は、前記発光素子と電気的に接続され、
前記第５のスイッチング素子の一方の端子は、第３の配線と電気的に接続され、
前記第５のスイッチング素子の他方の端子は、前記トランジスタのソース及びドレインの一方と電気的に接続され、
前記第６のスイッチング素子の一方の端子は、第４の配線と電気的に接続され、
前記第６のスイッチング素子の他方の端子は、前記容量素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記容量素子の他方の電極は、前記トランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第１の配線には、ビデオ信号が入力され、
前記第２の配線には、前記ビデオ信号によって値が異なる電位が入力されることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
駆動用トランジスタのゲートとドレインに補正用初期電位を与えた後、前記駆動用トランジスタのゲートとドレインを接続したまま浮遊状態とし、
前記駆動用トランジスタのゲートとソースとの間の電圧が前記駆動用トランジスタの閾値電圧と等しくなる前に、前記駆動用トランジスタのゲートの電位に応じた電圧を容量素子に保持し、
ビデオ信号の電位から前記容量素子に保持した電圧を差し引いた電位を前記駆動用トランジスタのゲートに与え、
前記駆動用トランジスタのゲートに与えた電位に応じた電流を、前記駆動用トランジスタから発光素子に供給し、
前記補正用初期電位の値は、前記ビデオ信号の電位によって異なることを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項８】
駆動用トランジスタのゲートとドレインに補正用初期電位を与えた後、前記駆動用トランジスタのゲートとドレインを接続したまま浮遊状態とし、
前記駆動用トランジスタのゲートとソースとの間の電圧が前記駆動用トランジスタの閾値電圧と等しくなる前に、前記駆動用トランジスタのゲートの電位に応じた電圧を容量素子に保持し、
ビデオ信号の電位から前記容量素子に保持した電圧を差し引いた電位を前記駆動用トランジスタのゲートに与え、
前記駆動用トランジスタのゲートに与えた電位に応じた電流を、前記駆動用トランジスタから発光素子に供給し、
前記補正用初期電位は、高い階調を表示するほど、前記容量素子に保持した電圧の絶対値を小さくするような値であることを特徴とする表示装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月21日(2010.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対の毎日使い捨ての多焦点コンタクトレンズ又は１対のシリコーンヒドロゲル多焦点コンタクトレンズである１対の多焦点コンタクトレンズであって、前記対の各前記レンズは、光軸を有し、前記各レンズは、
前記多焦点コンタクトレンズの前記光軸を含み、前記多焦点コンタクトレンズの遠用光学屈折力の実質的に全てを提供する中央領と、
前記中央領の周りに位置すると共に前記中央領から前記多焦点コンタクトレンズのレンズエッジに向かって半径方向外方に延びる環状領とを有し、前記環状領は、中間用光学屈折力及び近用光学屈折力を提供し、
前記１対の多焦点コンタクトレンズは、第１のコンタクトレンズと第２にコンタクトレンズからなり、第２のコンタクトレンズは第１のコンタクトレンズと同一の設計であることを特徴とする１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項２】
各前記レンズの前記中央領は、球面を有し、各前記レンズの前記環状領は、非球面を有する、請求項１記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項３】
前記対の各前記レンズは、中間用光学屈折力及び近用光学屈折率を提供するたった１つの環状領を有する、請求項１又は２に記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項４】
前記対の各前記レンズは、流し込み成形コンタクトレンズである、請求項１〜３のうちいずれか一に記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項５】
前記対の各前記レンズは、ヒドロキシエチルメタクリレート、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、架橋剤及び開始剤を含む重合性配合物の重合反応生成物から成る、請求項１記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項６】
前記対の各前記レンズは、シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズである、請求項１記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項７】
前記対の各前記レンズは、＋４．００ジオプタ〜−６．００ジオプタの球面屈折力を有する、請求項１〜６のうちいずれか一に記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項８】
前記対の各前記レンズの前記環状領は、約８．５ｍｍの直径を有する、請求項１〜７のうちいずれか一に記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項９】
前記対の各前記レンズの前記中央領は、約１．７ｍｍ〜約３．０ｍｍの直径を有する、請求項８記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項１０】
前記対の各前記レンズの前記中央領は、約２．３ｍｍの直径を有する、請求項９記載の１対の多焦点コンタクトレンズ。
【請求項１１】
加入度数が＋１．２５ジオプタより大きくない視力矯正を必要とする人の視力を矯正するための１対の毎日使い捨て多焦点コンタクトレンズ又は１対のシリコーンヒドロゲル多焦点コンタクトレンズの用途であって、
前記１対の多焦点コンタクトレンズの各前記レンズは、前記多焦点コンタクトレンズの前記光軸を含み、前記多焦点コンタクトレンズの遠用光学屈折力の実質的に全てを提供する中央領と、前記中央領の周りに位置すると共に前記中央領から前記多焦点コンタクトレンズのレンズエッジに向かって半径方向外方に延びる環状領とを有し、前記環状領は、中間用光学屈折力及び近用光学屈折力を提供し、
１対の多焦点コンタクトレンズが、第１のコンタクトレンズと第２にコンタクトレンズからなり、第２のコンタクトレンズは第１のコンタクトレンズと同一の設計であることを特徴とする用途。
【請求項１２】
各前記レンズの前記中央領は、球面を有し、各前記レンズの前記環状領は、非球面を有する、請求項１１記載の用途。
【請求項１３】
前記対の各前記レンズは、中間用光学屈折力及び近用光学屈折率を提供するたった１つの環状領を有する、請求項１１又は１２記載の用途。
【請求項１４】
加入度数が＋１．２５ジオプタより大きくない視力矯正を必要とする人の視力を矯正するためのコンタクトレンズの製造方法であって、
１対の毎日使い捨て多焦点コンタクトレンズ又は１対のシリコーンヒドロゲル多焦点コンタクトレンズである１対の多焦点コンタクトレンズを形成するステップを有し、前記１対の多焦点コンタクトレンズの各前記レンズは、前記多焦点コンタクトレンズの前記光軸を含み、前記多焦点コンタクトレンズの遠用光学屈折力の実質的に全てを提供する中央領と、前記中央領の周りに位置すると共に前記中央領から前記多焦点コンタクトレンズのレンズエッジに向かって半径方向外方に延びる環状領とを有し、前記環状領は、中間用光学屈折力及び近用光学屈折力を提供し、
前記多焦点コンタクトレンズは、第１のコンタクトレンズと第２にコンタクトレンズからなり、第２のコンタクトレンズは第１のコンタクトレンズと実質上同一の設計であることを特徴とする１対の多焦点コンタクトレンズする、方法。
【請求項１５】
各前記レンズの前記中央領は、球面を有し、各前記レンズの前記環状領は、非球面を有する、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記対の各前記レンズは、中間用光学屈折力及び近用光学屈折率を提供するたった１つの環状領を有する、請求項１４又は１５記載の方法。
【請求項１７】
前記形成ステップは、前記対の各前記レンズを流し込み成形するステップから成る、請求項１４〜１６のうちいずれか一に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月16日(2011.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面上に、前記透明基材と異なる屈折率を有する１層以上の中間樹脂層を介して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物から成り、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有する第１の層が設けられており、全ての隣り合った層間の屈折率差が０．０１以上、０．１１以下であり、且つ、前記透明基材の屈折率をｎｓ、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率をｎ１とするとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする反射防止物品。
０．０３≦｜ｎｓ−ｎ１｜≦０．１７…（１）
【請求項２】
前記中間樹脂層が１層である請求項１記載の反射防止物品。
【請求項３】
前記透明基材の屈折率ｎｓが１．５７以上である請求項１または２記載の反射防止物品。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止物品が、インサート成形またはインモールド成形により表面に設けられた成形品。
【請求項５】
請求項１〜３記載の反射防止物品を備えた自動車用部品。
【請求項６】
請求項４記載の成形品を備えた自動車用部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討の結果、透明基材上に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物から成り、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有する第１の層が設けられた構成を有する反射防止物品において、透明基材の屈折率が１．５７以上と高い場合など、透明基材の屈折率と、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物との屈折率の差が０．０３以上ある場合に、前記透明基材と前記第１の層との間に１層以上の中間樹脂層を介在させるとともに、隣り合った層間の屈折率差を特定の範囲とすることにより、透明性を損なわずに、反射率が充分に低い反射防止物品が得られることを見出した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明の反射防止物品は、透明基材の少なくとも一方の面上に、前記透明基材と異なる屈折率を有する１層以上の中間樹脂層（以下、中間層という場合がある。）を介して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物から成り、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有する第１の層が設けられており、全ての隣り合った層間の屈折率差が０．０１以上、０．１１以下であり、且つ、前記透明基材の屈折率をｎｓ、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率をｎ１とするとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする。
０．０３≦｜ｎｓ−ｎ１｜≦０．１７…（１）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
１…第１の層、
２…中間樹脂層、
３…透明基材、
４…アルミニウム、
５、７、７ａ…酸化皮膜、
６…細孔、
６ａ…細孔の底部に形成された細孔、
８…直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔、
９…陽極酸化ポーラスアルミナ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月11日(2011.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１ＴＡＣ層と、
前記第１ＴＡＣ層上に備えられた第２ＴＡＣ層と、
前記第１及び第２ＴＡＣ層の間に備えられたＰＶＡ層と、
前記第２ＴＡＣ層の内部に混合されたビードと、
を備えることを特徴とする拡散ユニット。
【請求項２】
前記ビードは、サブ画素の幅より小さいことを特徴とする請求項１に記載の拡散ユニット。
【請求項３】
バックライトユニットと、
前記バックライトユニットから照射された光のうち、所定の偏光の光を透過させる第１偏光板と、
前記第１偏光板を通過した光を利用して画像を形成する液晶層と、
前記液晶層を透過した光のうち、所定波長の光を透過させるカラーフィルタと、
前記カラーフィルタの上部に設けられたものであって、第２偏光板とビードとを有する拡散ユニットと、
を備えることを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項４】
前記ビードがバインダーに一部露出されるように混合されて、前記第２偏光板にコーティングされたことを特徴とする請求項３に記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
前記ビードが、バインダーの内部にビードが含まれる形態に混合されて、前記偏光板にコーティングされたことを特徴とする請求項３に記載のディスプレイ装置。
【請求項６】
前記第２偏光板は、第１及び第２ＴＡＣ層と、前記第１及び第２ＴＡＣ層の間に設けられたＰＶＡ層とを備え、前記ビードが前記第２ＴＡＣ層の内部に混合されたことを特徴とする請求項３に記載のディスプレイ装置。
【請求項７】
前記ビードは、サブ画素の幅より小さいことを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ装置。
【請求項８】
前記バックライトユニットは、光源と導光板とを備え、前記導光板から出射した光の輝度半値幅角度が±１５°範囲内にあることを特徴とする請求項３に記載のディスプレイ装置。
【請求項９】
前記導光板は、下面に前記光源から照射した光の光軸に対して平行方向に配列された第１プリズムと、上面に前記第１プリズムと直交する方向に配列された第２プリズムとを備えることを特徴とする請求項８に記載のディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記導光板は、下面に前記光源から照射された光の光軸に対して垂直方向に配列された第１プリズムと、上面に前記第１プリズムと直交する方向に配列された第２プリズムとを備えることを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月8日(2010.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線偏光光を被検基板の周期性パターンに照射する照明手段と、
前記直線偏光の振動面と前記周期性パターンの繰り返し方向とが所定の角度をなすように、前記照明手段と前記被検基板の位置関係を調整する調整手段と、
前記被検基板からの偏光光が撮像素子に向かう経路中に、挿脱可能に設けられた位相子と、
前記直線偏光の振動方向に対して、透過軸が所定の角度をなすように設けられた検光子と、
前記検光子を透過した光を用いて前記被検基板の画像を形成する画像形成手段と、
前記画像を処理して前記画像の所定のパラメータを求め、前記画像の所定のパラメータを前記位相子及び前記検光子の設定条件と関連付けて記憶手段に記憶する画像処理手段と、
前記位相子及び前記検光子の前記設定条件を変化させて取得した複数の前記画像の所定のパラメータのうち、前記周期性パターンの形状変化に対する前記画像の所定のパラメータの変化が最大となる前記画像の所定のパラメータを特定し、特定した前記画像の所定のパラメータと前記周期性パターンが正常な場合における前記画像の所定のパラメータとを比較することにより、前記周期性パターンの欠陥判定を行う欠陥判定手段とを備える基板表面検査装置。
【請求項２】
前記位相子の位置を検出する位相子位置検出器、及び前記検光子の回転位置を検出する回転位置検出器をさらに備える請求項１に記載の基板表面検査装置。
【請求項３】
前記検光子は、ワイヤーグリッド型偏光子またはフォトニック結晶型偏光子である請求項１または２に記載の基板表面検査装置。
【請求項４】
前記位相子は、１／４波長板である請求項１から3のいずれか１項に記載の基板表面検査装置。
【請求項５】
照明手段から直線偏光光を被検基板上の周期性パターンに照射するステップと、
前記直線偏光の振動面と前記周期性パターンの繰り返し方向とが所定の角度をなすように、前記照明手段と前記被検基板の位置関係を調整手段により調整するステップと、 
前記被検基板からの偏光光が撮像素子に向かう経路中に、挿脱可能に設けられた位相子の設定条件を決定するステップと、
前記直線偏光の振動方向に対して、透過軸が所定の角度をなすように設けられた検光子の設定条件を決定するステップと、
前記検光子を透過した光を用いて前記被検基板の画像を形成するステップと、
前記画像を処理して前記画像の所定のパラメータを求め、前記画像の所定のパラメータを前記位相子及び前記検光子の設定条件と関連付けて記憶手段に記憶するステップと、
前記位相子及び前記検光子の前記設定条件を変化させて取得した複数の前記画像の所定のパラメータのうち、前記周期性パターンの形状変化に対する前記画像の所定のパラメータの変化が最大となる前記画像の所定のパラメータを特定し、特定した前記画像の所定のパラメータと前記周期性パターンが正常な場合における前記画像の所定のパラメータとを比較することにより、前記周期性パターンの欠陥判定を行うステップとを備える基板表面検査方法。
【請求項６】
前記所定のパラメータが、前記被検基板の検査対象領域の反射光量の平均値である請求項５に記載の検査方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明による基板表面検査装置は、直線偏光光を被検基板の周期性パターンに照射する照明手段と、前記直線偏光の振動面と前記周期性パターンの繰り返し方向とが所定の角度をなすように、前記照明手段と前記被検基板の位置関係を調整する調整手段と、を備える。本発明による基板表面検査装置は、前記被検基板からの偏光光が撮像素子に向かう経路中に、挿脱可能に設けられた位相子と、前記直線偏光の振動方向に対して、透過軸が所定の角度をなすように設けられた検光子と、をさらに備える。本発明による基板表面検査装置は、前記検光子を透過した光を用いて前記被検基板の画像を形成する画像形成手段と、前記画像を処理して前記画像の所定のパラメータを求め、前記画像の所定のパラメータを前記位相子及び前記検光子の設定条件と関連付けて記憶手段に記憶する画像処理手段をさらに備える。本発明による基板表面検査装置は、前記位相子及び前記検光子の前記設定条件を変化させて取得した複数の前記画像の所定のパラメータのうち、前記周期性パターンの形状変化に対する前記画像の所定のパラメータの変化が最大となる前記画像の所定のパラメータを特定し、特定した前記画像の所定のパラメータと前記周期性パターンが正常な場合における前記画像の所定のパラメータとを比較することにより、前記周期性パターンの欠陥判定を行う欠陥判定手段をさらに備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明による基板表面検査方法は、照明手段から直線偏光光を被検基板上の周期性パターンに照射するステップと、前記直線偏光の振動面と前記周期性パターンの繰り返し方向とが所定の角度をなすように、前記照明手段と前記被検基板の位置関係を調整手段により調整するステップと、前記被検基板からの偏光光が撮像素子に向かう経路中に、挿脱可能に設けられた位相子の設定条件を決定するステップと、前記直線偏光の振動方向に対して、透過軸が所定の角度をなすように設けられた検光子の設定条件を決定するステップと、を備える。本発明による基板表面検査方法は、前記検光子を透過した光を用いて前記被検基板の画像を形成するステップと、前記画像を処理して前記画像の所定のパラメータを求め、前記画像の所定のパラメータを前記位相子及び前記検光子の設定条件と関連付けて記憶手段に記憶するステップと、前記位相子及び前記検光子の前記設定条件を変化させて取得した複数の前記画像の所定のパラメータのうち、前記周期性パターンの形状変化に対する前記画像の所定のパラメータの変化が最大となる前記画像の所定のパラメータを特定し、特定した前記画像の所定のパラメータと前記周期性パターンが正常な場合における前記画像の所定のパラメータとを比較することにより、前記周期性パターンの欠陥判定を行うステップとをさらに備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、基板表面検査装置の、基板検査の感度がもっとも高くなるように、位相子及び検光子の設定条件を設定し、その条件において基板表面の検査を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月6日(2011.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の部品グループ（１）と第二の部品グループ（２）を有するロータリーエンコーダであって、
これらの部品グループ（１，２）が、軸（Ａ）の周りを互いに相対的に回転することが可能な形に配置されており、
第一の部品グループ（１）が、
トリガーセンサー（１．１）と、
軸（Ａ）に関して、円周方向に対してずらして配置された複数の磁場センサー（１．３，１．４）と、
を備えており、
第二の部品グループ（２）が、
第一の磁石（２．１，２．４）と、
第二の磁石（２．２，２．５）と、
第三の磁石（２．３，２．６）と、
を備えており、
更に、これらの部品グループ（１，２）は、両方の部品グループ（１，２）が少なくとも１回全回転する形で相対的に回転した場合に、磁場センサー（１．３，１．４）が第一の磁石（２．１，２．４）と第三の磁石（２．３，２．６）の磁場を検出することが可能なように構成されており、
第二の磁石（２．２，２．５）と第三の磁石（２．３，２．６）が、トリガーセンサー（１．１）からトリガー信号を発生させることが可能である一方、第一の磁石（２．１，２．４）が、トリガーセンサー（１．１）からのトリガー信号の発生を抑制している、
ロータリーエンコーダ。
【請求項２】
トリガーセンサー（１．１）は、パルスワイヤとリセット磁石（１．２）を備えており、リセット磁石（１．２）は、そのリセット磁石がパルスワイヤの縦方向の延びと平行な方向成分を有するように構成されており、
部品グループ（１，２）は、第二の磁石（２．２，２．５）と第三の磁石（２．３，２．６）がトリガー信号としてパルスワイヤから電圧パルスを発生させることが可能である一方、第一の磁石（２．１，２．４）がパルスワイヤからの電圧パルスの発生を抑制するように構成されている、
請求項１に記載のロータリーエンコーダ。
【請求項３】
リセット磁石（１．２）と第一の磁石（２．１，２．４）は、それらの極性の向きが平行となるような方向を向いている請求項１又は２に記載のロータリーエンコーダ。
【請求項４】
第二の磁石（２．２，２．５）と第三の磁石（２．３，２．６）の極性の向きが、軸（Ａ）と平行な方向成分を持つ方向を向いている一方、第一の磁石（２．１，２．４）の極性の向きが、軸（Ａ）と逆並列な方向成分を持つ方向を向いている請求項１から３までのいずれか一つに記載のロータリーエンコーダ。
【請求項５】
ロータリーエンコーダが、電子回路（１．５）と不揮発性メモリ素子（１．６）を備えており、
メモリ素子（１．６）内には、
四つの遷移状態（Ｆ１，Ｆ２，Ｚ１，Ｚ２）と、
一つの計数状態と、
を保存することが可能であり、トリガー信号が遅れて発生する場合には、メモリ素子（１．６）から遷移状態（Ｆ１，Ｆ２，Ｚ１，Ｚ２）を読み出すことが可能であり、それにより、電子回路（１．５）を用いて、
部品グループ（１，２）の互いに相対的な回転方向（ｃｗ，ｃｃｗ）を決定することが可能であるとともに、
電子回路（１．５）によって、計数パルス（Ｐ）を発生させることが可能であり、
回転方向（ｃｗ，ｃｃｗ）と計数パルス（Ｐ）の発生にもとづき、計数状態の変化をメモリ素子（１．６）内に保存することが可能である、
請求項１から４までのいずれか一つに記載のロータリーエンコーダ。
【請求項６】
第一の部品グループ（１）と第二の部品グループ（２）を有するロータリーエンコーダの動作方法であって、
これらの部品グループ（１，２）が、軸（Ａ）の周りを互いに相対的に回転することが可能な形に配置されており、
第一の部品グループ（１）が、
トリガーセンサー（１．１）と、
軸（Ａ）に関して、円周方向にずらして配置された複数の磁場センサー（１．３，１．４）と、
を備えており、
第二の部品グループ（２）が、
第一の磁石（２．１，２．４）と、
第二の磁石（２．２，２．５）と、
第三の磁石（２．３，２．６）と、
を備えており、
これらの部品グループ（１，２）が少なくとも１回全回転する形で相対的に回転した場合に、
磁場センサー（１．３，１．４）が、第一の磁石（２．１，２．４）と第三の磁石（２．３，２．６）の磁場を検出し、
第二の磁石（２．２，２．５）と第三の磁石（２．３，２．６）が、トリガーセンサー（１．１）からトリガー信号を発生させる一方、第一の磁石（２．１，２．４）が、トリガーセンサー（１．１）からのトリガー信号の発生を抑制している、
ロータリーエンコーダの動作方法。
【請求項７】
不揮発性メモリ素子（１．６）内に、
四つの遷移状態（Ｆ１，Ｆ２，Ｚ１，Ｚ２）と、
一つの計数状態と、
を保存し、
トリガー信号が遅れて発生する場合には、メモリ素子（１．６）から遷移状態（Ｆ１，Ｆ２，Ｚ１，Ｚ２）を読み出し、
それらの遷移状態にもとづき、電子回路（１．５）を用いて、部品グループ（１，２）の互いに相対的な回転方向（ｃｗ，ｃｃｗ）を決定して、
電子回路（１．５）内で計数パルス（Ｐ）を発生させ、それによって、
回転方向（ｃｗ，ｃｃｗ）と計数パルス（Ｐ）にもとづき、計数状態の変化をメモリ素子（１．６）内に保存する、
請求項６に記載のロータリーエンコーダの動作方法。
【請求項８】
両方の部品グループ（１，２）が、始点と終点が重なり合うこと無く１回全回転する形で相対的に回転した場合に、二つ又は四つの計数パルス（Ｐ）を発生させる請求項６又は７に記載のロータリーエンコーダの動作方法。
【請求項９】
トリガーセンサー（１．１）は、パルスワイヤとリセット磁石（１．２）を有し、リセット磁石（１．２）は、そのリセット磁石がパルスワイヤの縦方向の延びと平行な方向成分を有する方向を向くように構成されており、第二の磁石（２．２，２．５）と第三の磁石（２．３，２．６）が、パルスワイヤから電圧パルスを発生させる一方、第一の磁石（２．１，２．４）が、パルスワイヤからの電圧パルスの発生を抑制している請求項６から８までのいずれか一つに記載のロータリーエンコーダの動作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月4日(2011.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に配置された多孔質材からなるモノリスロッドと、前記モノリスロッドを囲むように配置された充填材層と、前記充填材層の外側に配置された円筒形状の支持体と、を有する液体クロマトグラフ装置用の分離カラムにおいて、
前記モノリスロッドの端部にフィルタを有し、
前記充填材層は、前記モノリスロッドと前記支持体の間の管状の空間に、粒子径が、１〜２μｍである粒子又はビーズを充填することにより形成されており、前記モノリスロッドの外径は１．２〜２．８ｍｍであることを特徴とする分離カラム。
【請求項２】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記モノリスロッドと前記充填材層は同一材料から形成されていることを特徴とする分離カラム。
【請求項３】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記モノリスロッドと前記充填材層は、シリカ、ガラス、及び、石英の少なくとも１つからなる材料によって形成されていることを特徴とする分離カラム。
【請求項４】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記充填材層は、シリカ、オクタデシル基を化学結合したシリカ、ステンレス、テフロン（登録商標）、ダイフロン（登録商標）、ジルコニア、セラミック、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、べスペル（登録商標）、サファイア、ルビー、ダイアモンド、アルミナ、ガラス、石英、チタン、又は、ＵＨＭＷ（ウルトラハイモルキュラーウエイト）ポリエチレンによって形成される粒子又はビーズによって形成されていることを特徴とする分離カラム。
【請求項５】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記充填材層は、球状の粒子又は破砕型ビーズによって形成されていることを特徴とする分離カラム。
【請求項６】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記モノリスロッドの長さは３０ｍｍ〜２００ｍｍであることを特徴とする分離カラム。
【請求項７】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記充填材層の半径方向の厚さは、０．０１〜０．５ｍｍであることを特徴とする分離カラム。
【請求項８】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記分離カラムに供給する液体の圧力を５〜６０ＭＰａとするとき、前記分離カラムを通過する液体の流量は０.５〜２.０ｍＬ／ｍｉｎとなることを特徴とする分離カラム。
【請求項９】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記分離カラムに供給する液体の圧力を５〜６０ＭＰａとするとき、前記モノリスロッドを通過する液体の流量は、前記充填材層を流れる液体の流量の１００〜１０００倍であることを特徴とする分離カラム。
【請求項１０】
請求項１記載の分離カラムにおいて、前記モノリスロッドの透過率Ｋは４×１０−１４ｍ２、前記充填材層の透過率Ｋは１．８×１０−１５ｍ２〜７×１０−１５ｍ２であることを特徴とする分離カラム。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項記載の分離カラムを備えた液体クロマトグラフ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳動物における新形成細胞の細胞消滅死の誘導に用いられる薬物の製造におけるメチロール移動剤の使用であって、
前記細胞消滅死は、前記新形成細胞をアポトーシスを誘導する量の前記薬物に接触させることにより誘導され、
前記薬物はＦａｓリガンドと共投与される、メチロール移動剤の使用。
【請求項２】
前記薬物は少なくとも２つの投与サイクル中に投与され、
各投与サイクルは、（ｉ）１日の全用量が前記メチロール移動剤として２ｇから６０ｇとなるように、前記薬物が毎日投与される１〜８日間の投与期、および、（ｉｉ）前記メチロール移動剤が投与されない１〜１４日間の非投与期を含む、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記メチロール移動剤は、タウロリジン、タウルルタム、タウロリジンおよびタウルルタムの混合物、タウロリジン誘導体、タウルルタム誘導体、メチロール含有タウリナミド誘導体、または、メチロール含有尿素誘導体である、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
前記メチロール移動剤は、タウロリジン、タウルルタム、タウロリジンおよびタウルルタムの混合物、または、タウロリジンまたはタウルルタムの新形成活性の少なくとも１０％をそれぞれ有するスルホンアミド化合物である、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
前記メチロール移動剤は、タウロリジン、タウルルタム、または、それらの混合物である、請求項３に記載の使用。
【請求項６】
前記メチロール移動剤はタウロリジンであり、各投与期の間、１日の全用量がタウロリジンとして２ｇから６０ｇとなるように、前記薬物が投与される、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
前記メチロール移動剤はタウルルタムであり、各投与期の間、１日の全用量がタウルルタムとして４ｇから６０ｇとなるように、前記薬物が投与される、請求項５に記載の使用。
【請求項８】
前記薬物は、さらに抗腫瘍薬と共投与される、請求項１〜７のいずれかに記載の使用。
【請求項９】
前記薬物は前記メチロール移動剤の溶液を含み、前記溶液はさらにタウリンを含む、請求項１〜８のいずれかに記載の使用。
【請求項１０】
前記薬物は、肝臓癌の治療または予防に使用するためのものである、請求項１〜９のいずれかに記載の使用。
【請求項１１】
前記薬物は、転移性肝臓癌の治療において、門脈を介して投与される、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記薬物は、各投与期の間、前記メチロール移動剤の毎日の投与が２４時間注入されるような連続的注入により投与される、請求項１〜１１のいずれかに記載の使用。
【請求項１３】
前記薬物は、各投与期の間、前記メチロール移動剤の毎日の投与が一連の部分用量として注入され、各々の部分用量注入の後に何も注入されない休止期が続くような注入により投与される、請求項１〜１１のいずれかに記載の使用。
【請求項１４】
前記部分用量は、メチロール移動剤の一日の全用量が２４時間で投与されるように注入される、請求項１３に記載の使用。
【請求項１５】
前記部分用量の各々は、２時間で注入され、その後に４時間の休止期が続く、請求項１４に記載の使用。
【請求項１６】
前記部分用量は、メチロール移動剤の一日の全用量が２４時間より短い時間で投与されるように注入される、請求項１３に記載の使用。
【請求項１７】
前記部分用量の各々は、１時間で注入され、その後に１時間の休止期が続く、請求項１６に記載の使用。
【請求項１８】
前記薬物は２つの投与サイクルで投与される、請求項１〜１７のいずれかに記載の使用。
【請求項１９】
各投与サイクルは、（ｉ）２％タウロリジン溶液の２５０ｍｌ投与部分の４つが７日間の各々での連続的注入として投与される７日間の投与期と、（ｉｉ）７日間の非投与期とを含む、請求項１８に記載の使用。
【請求項２０】
前記薬物は４つの投与サイクルで投与される、請求項１〜１７のいずれかに記載の使用。
【請求項２１】
各投与サイクルは、７日間の投与期を含み、その各々の日において２％タウロリジン溶液の２５０ｍｌ投与部分の４つが、各投与部分が１〜２時間で注入され、その後に１時間の非投与期が続くように投与される、請求項２０に記載の使用。
【請求項２２】
前記薬物は、患者の体重に対して０．０１〜１０００ｍｇ／ｋｇの前記Ｆａｓリガンドと共投与される、請求項１〜２１のいずれかに記載の使用。
【請求項２３】
哺乳動物における多形性神経膠芽腫グレードＶＩの治療のための薬物の製造におけるタウロリジン、タウルルタムまたはそれらの混合物の使用であって、
前記薬物は、１日２０ｇのタウロリジンの７日間の注入期と２日間の静止期とからなる多サイクルの投与であって、その後に任意の追加注入期が続く投与のための薬学的投与単位である、タウロリジン、タウルルタムまたはそれらの混合物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月24日(2010.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
Ｘ線回折測定の結果、いずれのサンプルも報告されているＢａＳｉ6Ｎ8Ｏと同じ回折線パターンが得られ、ＢａＳｉ6Ｎ8Ｏと同じ結晶構造を有することが確かめられた。実施例１８の結果を図１２に示す。
励起発光スペクトルの測定結果を表３に示す。いずれも４８０ｎｍ付近に発光ピークを持ち、発光色は青緑色であった。実施例１８の励起発光スペクトルを図１３に示す。さらに実施例１８について電子線マイクロアナライザを用いて組成分析を行った結果を表４に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月26日(2010.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基油と増稠剤を必須成分とする潤滑用グリースであって、
固体潤滑剤である二硫化モリブデンおよびグラファイトと、石灰石を含有させたことを特徴とする潤滑用グリース。
【請求項２】
前記基油の含有率を７０〜８６重量％とし、前記増稠剤の含有率を６〜７重量％とし、前記二硫化モリブデンの含有率を１〜５重量％とし、前記グラファイトの含有率を１〜５重量％とし、前記石灰石の含有率を１〜５重量％とした請求項１に記載の潤滑用グリース。
【請求項３】
前記増稠剤をリチウム石鹸とした請求項１又は２に記載の潤滑用グリース。
【請求項４】
前記増稠剤をウレア系とした請求項１又は２に記載の潤滑用グリース。
【請求項５】
前記基油に、硫黄系添加剤を含有させた請求項１〜４のいずれか一項に記載の潤滑用グリース
【請求項６】
前記基油に、ＺｎＤＴＰと、ＭｏＤＴＰと、ＭｏＤＴＣのうち少なくとも一つを含有させた請求項１〜５のいずれか一項に記載の潤滑用グリース。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の潤滑用グリースが封入された等速自在継手。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】潤滑用グリースおよびこれを備えた等速自在継手
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、部品が高面圧で接触する条件下でも、グリース本来の潤滑性を十分に発揮することができる極めて耐荷重性に優れた潤滑用グリースおよびこれを備えた等速自在継手を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の潤滑用グリースは、増稠剤で増稠させた基油に固体潤滑剤であるモリブデンおよびグラファイトと、石灰石を含有させるため、グリースの耐荷重性を大幅に向上させることができる。このため、本発明のグリースは、部品が高面圧で接触する条件下においても、グリース本来の潤滑性を十分に発揮して部品の接触面を潤滑させることができるため、部品の接触時に発生する異音や部品の接触面の摩耗を防止することができる。なお、上記の本発明にかかる潤滑用グリースは、例えば、等速自在継手に封入することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月3日(2011.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
薄板で構成される管状体平板に対して、表裏金属平板に挟まれ且つ周囲四辺の枠組みと内部補強材乃至内部補強材同士の間隙部の一部乃至全域に金属体，紙質体，木質体，ゴム体，各種発泡体を充填し、表裏両面の金属平板の変形を相互に拘束することで管状体平板の形状を保ち、捩り剛性を高く維持して降伏後のせん断変形の成長にも安定した力学性状となるようにする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図１０は、主に既存建物の耐震補強用の組立て式間柱型せん断パネルで、単位パネル１を上下二面で構成する間柱の説明図である。（ａ）図は900mmx900mmの単位パネルで、75mmx12mmの周辺枠３と５本の30mmx12mmの補強材４で構成され且つ表裏金属平板２は厚さ0.8mmである。（ｂ）図は900mmx900mmの単位パネル二枚で構成する2,250mmx900mmの間柱型せん断パネルで、外部補強材６のアングル2Ｌs-75x75x6を外面から挟み自立させ且つパネル同士及び上下の加力部位とは150mmx6mmの平板で止めている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図１１は、上記実施例についての数値解析結果で、□印の曲線は周辺部枠材と内部補強材がSS400鋼材の場合、●印は内部補強材のみ6063-T6アルミニウム合金材とするものであり、全てをアルミニウム合金材とする場合は○印である。管状体平板の剛性は表裏金属平板の配置に関係するために枠材や補強材の材質に関わらずせん断降伏後の耐力維持に支障はなく軽量化のため軽金属材料も選択の一つと考えられるが、点線で示す平板の面外曲げ変形の成長からみて金属材料の剛性については考慮する必要がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図１２は、2,500mmx1,000mmの間柱型のせん断耐震パネルで、表裏両面の金属平板２は厚さ6mmで降伏点応力度σy=21kN/cm2の低降伏点鋼LY225である。管状体平板を構成する周辺部枠材３は75mmx50mmの矩形断面部材とし、４本の内部補強材４は50mmx50mmの断面で板厚3.2mmの角管部材と充実断面部材としている。（ｂ）図は、大きな軸力を受けることを前提に並行する枠組み外部から75mmx12mmの帯状矩形平板６で挟み込んだ組立図であり、表裏金属平板を除く間柱構成部材は全てSS400の軟鋼である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図１３は前記例題の解析結果で、○印は軸力Ｐ=0，●印はの外側補強材がある軸力Ｐ=2,000kNで内部補強材を角管部材とする結果、□印は軸力Ｐ=2,000kNで内部補強材を充実断面部材とする結果である。図中点線で縦方向枠材中央の面外変形の成長を示しているが、管状体平板は全体厚さを上げて剛性を高く出来るために従来の格子状リブ補強と同様に面外変形を低く抑えられ、表裏両面の平板で決まるせん断降伏荷重を確保し且つその後の大変形領域に於いても耐力を落とすことなく安定した力学性状となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図１４は、解析で取り上げた金属材料の機械的性質を示す引張試験結果であり、板厚差で区別した二種の鋼材は軟鋼SS400で降伏点応力度はσy=30kN/cm2，低降伏点鋼LY225の降伏点応力度はσy=21kN/cm2、両者のヤング係数はＥ=20,500kN/cm2として図中実線で示している。アルミニウム合金材6063-T6の降伏点応力度はσy=21kN/cm2でヤング係数はＥ=7,200kN/cm2として点線で示している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【図１】本管状体平板の周辺枠組みと内部補強材の構成図である。
【図２】管状体平板に周辺部から加わる捩り偶力の作用図である。（実施例１）
【図３】管状体平板の捩り剛性について解析結果の説明図である。
【図４】額縁状枠組みと降伏後顕著となる斜張力の釣合い図である。（実施例２）
【図５】周辺枠組みと内部補強材の相互効果に関する解析結果の説明図である。
【図６】構造的直交異方性体となる内部補強材の構成図である。（実施例３）
【図７】直交異方性となる内部補強材に関する解析結果の説明図である。
【図８】管状体平板の張力場的応力流れを示した概念図である。（実施例４）
【図９】管状体平板の面外曲げ変形に関する解析結果の説明図である。
【図１０】組立て方式の間柱型せん断耐震パネルの説明図である。（実施例５）
【図１１】薄板で構成される管状体平板に関する解析結果の説明図である。
【図１２】間柱型管状体平板と曲げせん断加力の説明図である。（実施例６）
【図１３】表裏金属平板が低降伏点鋼である本構造の解析結果の説明図である。
【図１４】本明細書中の数値解析で扱った金属素材の応力−歪み関係図である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2009138480.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2009138480.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2009138480.tif 000003
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2009138480.tif 000004
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2009138480.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
これは、比例電磁弁２１の出力圧が、パイロット油路２３ｂを通じて切換弁２３にパイロット圧力として作用しているが、パイロット圧力の所定値（図４のＰｃ）を下回ると、切換弁２３のバネのバネ力が、パイロット圧力に打ち勝って切換弁２３を図２に示す開通位置に切り換える。それによって、作動油が制御ピストン室２２ｐに供給されると、設定バネ２２ｔのバネ力が増大し、弁体２２ｕ及び２２ｓが図の左側へ移動させて、入口ポート２２ｂを全開するとともに、ドレンポート２２ｖを閉じ、制御圧は、図４のＰｓからクラッチ完全嵌入圧力まで急上昇する。