Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月13日(2007.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図３の微分モジュール４６は、コンピュータ５５によって計算され、ダウンロードされるパラメータを利用し、デジタル高度化流量信号４８を生成するためにマイクロコントローラ４４によって行われるプロセスを表現する。微分モジュール４６内のブロック図は、連続時間表示であり、ラプラス変換は、１次微分操作６０、２次微分操作６６および時定数τ2を有するフィルタ操作７２を表現する。しかし、システムは、デジタルで実現される。線形化デジタルセンサ信号４２は、１次微分操作６０および第１の利得段６２に入力され、線形化デジタルセンサ信号４２の重み付けられた１次導関数６４を出力する。続いて、線形化デジタルセンサ信号４２の１次導関数は、２次微分操作６６および利得段６８に入力され、線形化デジタルセンサ信号４２の重み付けられた２次導関数７０を生成する。この重み付けられた２次導関数７０は、ローパスフィルタ操作７２に入力され、線形化デジタルセンサ信号４２のフィルタリングされ（ｆｉｌｔｅｒｅｄ）、重み付けられた２次導関数７４を生成する。重み付けられた１次導関数６４は、加算器７８に送られ、線形化デジタルセンサ信号４２は、フィードフォワードループ（ｆｅｅｄ  ｆｏｒｗａｒｄ  ｌｏｏｐ）７６を通して加算器７８に送られる。加算器７８において、線形化デジタルセンサ信号４２のフィルタリングされ、重み付けられた２次導関数７４は、線形化デジタルセンサ信号４２の重み付けられた１次導関数６４および線形化デジタルセンサ信号４２と組み合わせられ、デジタル高度化流量信号４８を構成する。デジタル高度化流量信号４８は、センサ２６から得られる感知された流量信号３４よりも、マスフローコントローラ２２の実際のフロー２４をさらに厳密に表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
【数１０】
2003504749.tif 000001
ここで、利得１＝τ1＋τ2および利得２＝τ1＊τ2は共に表現され得る。τ1およびτ2に寄与し得る時間遅延は、センサ２６とソレノイドにより活性化される弁５８の弁座との間の空気遅延であり、ある限られた程度で、ヒステリシス、摩擦、およびソレノイドにより活性化される弁５８の弁座を閉じたままにする線圧力依存予荷重力（ｌｉｎｅ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ  ｐｒｅｌｏａｄ  ｆｏｒｃｅｓ）を処理する場合の、ソレノイドにより活性化される弁５８である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003504749.tif 000002
【図２】
2003504749.tif 000003
【図３】
2003504749.tif 000004
【図４】
2003504749.tif 000005
【図５】
2003504749.tif 000006
【図６】
2003504749.tif 000007
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月16日(2009.6.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
ビンをあけた後に、試料は検査され、中心からの試料の粘着剤の浸出帯域がｍｍで測定された（３回の測定）。
ＰＩＢ：グレードＬＭ−ＭＨとしてＥｘｘｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．から商標Ｖｉｓｔａｎｅｘで入手しうるポリイソブチレン
ブチルゴム：Ｂａｙｅｒ  ＡＧからのＰｏｌｙｓａｒ  ｂｕｔｙｌ  １０１−３
Ｋｒａｔｏｎ  Ｄ１１０７  ＣＵ：Ｓｈｅｌｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓからの分子量２１２，０００〜２６０，０００（ＧＰＣ）を有するスチレン−イソプレン−スチレンコポリマー
Ａｒｋｏｎ  Ｐ９０：荒川林産化学工業（株）からの石油化学由来の飽和脂環式炭化水素樹脂。分子量は６３０ｇ／モルである。
Ａｒｋｏｎ  Ｐ１１５：荒川林産化学工業（株）からの石油化学由来の飽和脂環式炭化水素樹脂。分子量は７７０ｇ／モルである。
Ｒｅｇａｌｉｔｅ  Ｒ９１：Ｈｅｒｃｕｌｅｓからの石油化学由来の飽和炭化水素樹脂。分子量は７００ｇ／モルである。
ＤＯＡ油：ＢＰ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ等のいくつかの供給者から商業的に入手しうるアジピン酸ジオクチル
Ｎａｔｒｏｓｏｌ  ２５０ＨＸ  Ｐｈａｒｍ：Ｈｅｒｃｕｌｅｓ  Ｉｎｃ．の一部門であるＡｑｕａｌｏｎより入手。それは水溶性のヒドロキシエチルセルロース（エチレンオキシドでエーテル化されたセルロース）であり、９５％が２５０μｍ未満である小粒子
ＣＭＣ：Ａｑｕａｌｏｎ／Ｈｅｒｃｕｌｅｓから商標Ｂｌａｎｏｓｅ  ９Ｈ４ＸＦで入手しうるカルボキシメチルセルロースＮａ塩
ペクチン：Ｈｅｒｃｕｌｅｓ  Ｃｏｐｅｎｈａｇｅｎ  Ａ／ＳからのＧＥＮＵ  ＰＥＫＴＩＮ  ＰＯＭＯＳＩＮ  ＬＭ  １２  ＣＧ−Ｚ／２００
じゃがいもでんぷん：Ｄａｎｓｋ  ＳｕｐｅｒｍａｒｋｅｄのためにＣｅｒｅｓｔａｒにより製造されたじゃがいもでんぷん、ＤＶＮ１００６：４，
ＣｅｒｅｓｔａｒからのＣ  Ｇｅｌ３０００２，もしくは
ＫＭＣから入手しうる♯４．
Ｈｅｒｍａｎ−ＬｉｎｄｅｎからのＺミキサー型ＬＫＢ０２５が使用された。
実験の部
比較例Ａ
下の表１に示される組成を有する粘着剤を含む、ＷＯ８９／０５６１９に開示される種類のスイスロール粘着剤系が調製された。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
バリア粘着剤はＺミキサー中で９５℃、１５分間混合することによりＰＩＢ６８．１８％およびブチルゴム３１．８２％を含む予備混合物から調製された。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
当初、希少なプロリン特異的プロテアーゼグループのうちで、DP IVは、唯一膜結合性酵素で、ポリペプチド鎖のアミノ末端でその端から2番目残基のプロリンに特異性があると考えられていた。しかしながら、DP IVと構造的に相同性はないが、同様の酵素活性をもつ、他の分子が同定された。今までに同定されたDP IV様酵素は、例えば、Sedo、及びMalik（Sedo、及びMalikの論文、2001, Biochim Biophys Acta, 36506, 1-10）、及びAbbott、及びGorrell（Abbott, C.A.、及びGorrell, M.Dの著書、エクトペプチダーゼ（Langne、及びAnsorge編集、Kluwer Academic／Plenum Publishers, New York中、171-195ページ））による総説に記載されている線維芽細胞活性化タンパク質α（fibroblast activation protein α）、ジペプチジルペプチダーゼIV β、ジペプチジルアミノペプチダーゼ様タンパク質、N-アセチル化α結合型酸性ジペプチダーゼ、休止細胞プロリンジペプチダーゼ（quiescent cell proline dipeptidase）、ジペプチジルペプチダーゼII、アトラクチン、及びジペプチジルペプチダーゼIV 関連タンパク質（DPP 8）、DPL1（DPX、DP6）、DPL2、及びDPP 9 がある。最近、ジペプチジルペプチダーゼ10（DPP 10）のクローニング、及び特性が報告された（Qi, S.Y.らの論文、Biochemical Journal Immediate Publicationにおいて、2003年3月28日に原稿番号BJ20021914として発表）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月9日(2009.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室温での水溶性が約1g/l〜約100g/lの範囲を有するストロンチウムマロネートの、骨粗鬆症、大理石骨症、骨減少症とパジェット病、悪性病変の高カルシウム血症、歯周疾患、上皮小体機能亢進症、骨形成異常症、骨化性筋炎、ベクテリエフ疾患、悪性高カルシウム血症、骨転移疾患によって生じた溶骨性病変、骨転移疾患による骨痛、性ステロイドホルモン欠乏症による骨欠損、ステロイドホルモン処置による骨異常、癌治療による骨異常、骨軟化症、ベーチェット病、骨化過剰症、転移性骨疾患、固定誘因の骨減少症または骨粗鬆症、グルココルチコイド誘因の骨減少症または骨粗鬆症、骨粗鬆症偽膠腫症候群、突発性若年骨粗鬆症から選択される哺乳動物における軟骨および／または骨代謝の異常となる軟骨および／または骨疾患および／または症状の治療および／または予防用；外傷性と非外傷性骨折後の骨折治癒の改善用、エネルギーレベルの維持または増大用、筋肉組織の構築または増強用、および体重増加用の医薬組成物の製造のための使用。
【請求項２】
医薬組成物が、経口または非経口投与用に設計されている請求項１に記載の使用。
【請求項３】
医薬組成物が経口投与用に設計されており、ストロンチウムのピーク濃度が、経口投与後の少なくとも2.5時間で達せられる請求項１又は２に記載の使用。
【請求項４】
医薬組成物が、経口投与用の錠剤、カプセル剤、サシエット、散剤、ペレット剤、顆粒剤、粒状剤、混合物、シロップ剤、液剤、懸濁剤、乳剤などの形である請求項２に記載の使用。
【請求項５】
医薬組成物が、静脈内、筋肉内、関節内、皮下注射用の液剤、懸濁剤または乳剤の形である請求項２に記載の使用。
【請求項６】
歯または口腔粘膜への適用を意図した練り歯みがきまたは口腔洗浄剤の形である請求項２に記載の使用。
【請求項７】
イオン性ストロンチウムの一日投与量が、少なくとも約0.01g、または少なくとも0.025g、少なくとも0.050g、少なくとも0.075g、少なくとも0.1g、少なくとも0.2g、少なくとも0.3g、少なくとも0.4gまたは少なくとも0.5gあるいは0.01g〜2g、または0.1g〜2g、0.3g〜2gあるいは0.3g〜1gである請求項２に記載の使用。
【請求項８】
哺乳動物が、ヒトの女性および男性の成人、若者ならびに子供から選択される請求項１に記載の使用。
【請求項９】
哺乳動物が、ネコ、イヌ、牛および羊から選択される家畜である請求項１に記載の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月23日(2009.2.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
本発明のさらに別の実施例の義足６４を、図２８〜３２に示す。この義足６４は、前後の裏面体重負担部６６と６７、および、両体重負担部のあいだにある非体重負担域であるアーチ形状の中間部６８を有する、縦方向に伸びる弾性足部キール６５を備える。垂直負荷や垂直衝撃力を吸収したり対抗したりできるよう、義足の能力を向上させるために、前記中間部は、義足の使用時に垂直方向の負荷を吸収するため圧縮し、負荷に対抗するため拡張するうずまき状のバネ６９で構成されている。うずまき状のバネ６９の弾性負荷力は、上記の実施例で説明したように、拡張の際に発生する中間部のアーチ形構造の弾性負荷に加算される。そして、義足への垂直負荷を低減させると同時に、アーチ形状の中間部および中間部の圧縮バネ６９に蓄積されたエネルギーが開放されるのである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
足部キール６５は、足踵から足先が地面に接触すると同時に、圧縮により垂直負荷の吸収を開始する複合半径構造を備える。前記の後側裏面体重負担部６６を構成する上方向の凹曲面形状の足後部つまり足踵支点が、足踵の接地と同時に、圧縮動作を開始する、つまり、後側裏面体重負担部６６の曲率半径が短くなる。そして中間部６８の長さを拡張させるが、弾性足部キールの半径により圧縮以上に伸びへの抵抗が大きくなるので、その拡張が停止する。足を歩行の中間域へ移動させるにつれ、垂直方向の力が増加して、アーチ形状の中間部６８の長さが拡張されると、その中間部の後端のバネ６９が圧縮されてエネルギーを蓄積する。さらに、足踵が地面から上がる段階に移り、垂直方向の負荷力が低下すると、足部キールのバネ６９とアーチ形状中間部６８により、足の動的応答性を高めるよう蓄積されたエネルギーが開放される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
義足用の縦方向伸長足部キールであって、
後側裏面体重負担域を有する足後部と、
前側裏面体重負担域を有する足前部と、
上方向アーチ形状中間部を備え、
前記上方向アーチ形状中間部が、足前部と一体に形成され、かつ足前部と足後部の間に伸び、
前記上方向アーチ形状中間部の後端から、うずまき状のバネを形成できるよう、下方かつ前方に巻き込まれ、前記上方向アーチ形状中間部およびうずまき状のバネが、一体的に一巻きのうずまきを形成し、
前記うずまき状のバネが、義足の足部キールを使用する際に垂直負荷を圧縮して吸収し、当該バネが復元することにより当該垂直負荷をもとに戻すことを特徴とする義足用の縦方向伸長足部キール。
【請求項２】
前記足部キールの足後部が、前記うずまき状のバネにより前記上方向アーチ形状中間部に接続されている請求項１記載の足部キール。
【請求項３】
さらに、前記足部キールを、装着者の足切断部に接続された支持構造体に接続するため、前記上方向アーチ形状中間部の後側の表面上に取り付けられた接続具を備える請求項１記載の足部キール。
【請求項４】
前記足部キールの足前部および足後部が、上方に凹曲面状に形成されている請求項１記載の足部キール。
【請求項５】
さらに、カーフシャンクの下端を前記足部キールに接続するため、前記上方向アーチ形状中間部の後側の表面上に取り付けられた接続具を備える請求項１記載の足部キール。
【請求項６】
前記アーチ形状中間部上の接続具の縦方向位置が、調整可能である請求項５記載の足部キール。
【請求項７】
前記中間部と足前部の表面が、上方向の凹曲面形状に形成されており、前記凹曲面形状が、前記足部キールの前平面に平行に伸びる縦軸をもつ請求項１記載の足部キール。
【請求項８】
前記足前部の前端が、歩行の際の後半段階で足踵が上がり足先が離れる場合に、実際の足先が表面側へ反るのをシミュレートできるよう、上方向の凹曲面形状に形成されている請求項１記載の足部キール。
【請求項９】
前記足後部の後端が、衝撃吸収のため圧縮作用して、足踵が接地するとき地面からの反発力に対抗できるよう、上方向のアーチ曲面形状に形成されている請求項１記載の足部キール。
【請求項１０】
前記足後部の前端が、歩行の際に義足の後側体重負担域の双平面移動能力を向上するための複数の延長ストラットを形成できるよう、前記足部キールの足後部の表面と裏面の間を貫通する連接開孔、および、その連接開孔から足部キールの後端まで伸びる延長スロットを備える請求項１記載の足部キール。
【請求項１１】
義足であって、後側裏面体重負担域を有する足後部、前側裏面体重負担域を有する足前部および、上方向アーチ形状中間部を備え、
前記上方向アーチ形状中間部が、足前部と一体に形成され、かつ足前部と足後部の間に伸び、
前記上方向アーチ形状中間部の後端から、うずまき状のバネを形成できるよう、下方かつ前方に巻き込まれ、前記上方向アーチ形状中間部およびうずまき状のバネが、一体的に一巻きのうずまきを形成し、
前記うずまき状のバネが、義足の使用する際に垂直負荷を圧縮して吸収し、当該バネが復元することにより当該垂直負荷をもとに戻すことを特徴とする義足。
【請求項１２】
さらに、義足の足根関節域を形成できるよう、前記足部キールに接続された下方向および前方向に凸曲面形状に形成された下端部を設けた弾性立設カーフシャンクを備え、前記カーフシャンクが、装着者の切断部位上の支持構造体に接続するため、前記足根関節域の上方に足肢の下部義肢部を形成できるよう上方向へ伸長する請求項１１記載の義足。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年12月9日(2008.12.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
処理すべき合成樹脂材料用の収容容器（１）を備え、この収容容器の内部には、複数個の工具（２１）が備えられ、これら工具は、支持円板（９）に設けられ、これら工具は、シャフト(４)の軸線（８）、特に縦方向軸線を中心とする回転運動のために、収容容器の内部に挿入されたシャフト(４)により、駆動され、合成樹脂材料を収容容器（１）から取り出す、少なくとも１個のスクリュ（１７）を備え、スクリュハウジング（１６）は、流れに関して、収容容器（１）の取出口（１５）に接続される供給口（２７）を備え、この取出口（１５）は、支持円板（９）及びこれに支持される工具（２１）よりも低い位置に設けられ、この取出口（１５）に合成樹脂材料を運び込む、複数個の追加の可動工具（１２）が、収容容器（１）内で支持円板（９）の下に設けられる、合成樹脂材料、特に熱可塑性合成樹脂材料の製造用の装置において、支持円板（９）は、少なくとも１個の穴（３６）を備え、この穴は、支持円板（９）の回転中において、前記軸線（８）に近接し、工具（２１）の後縁（３７）に近接して位置し、支持円板（９）の上方の空間（２６）を支持円板の下方の空間（１０）に接続することを特徴とする装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
この目的は、支持円板が、少なくとも１個の穴を備え、この穴は、支持円板の回転中において、前記軸線に近接し、工具の後縁に近接して位置し、支持円板の上方の空間を支持円板の下方の空間に接続する、本発明により達成される。穴により、支持円板の下方の空間にある、又は少なくともそこで生じた揮発性物質は、支持円板と通って支持円板の上方にある空間内へ上昇移動し、揮発性物質は、支持円板の上方にある空間内では、害を及ぼさず、必要に応じて、支持円板の上方にある空間から排出させる。この場合、実験により、軸線近傍に穴を設ける方が、軸線から離して穴を設けるよりも効率的であることが分かった。軸線から離して穴を設けることは、ヨーロッパ公開特許公報第６２５３７３号Ａ２又はドイツ公開特許公報第２８４４１６４号Ａから公知であるが、これらに開示されている穴は、粉砕された材料が、支持円板の上方の空間から支持円板の下方の空間へ移動するために用いられている。これとは反対に、本発明のよる穴は、支持円板の回転中において、工具の後縁に近接して位置付けられることにより、回転する工具により作り出される吸引効果を利用して、支持円板の下方の空間から、上述した揮発性物質を運び出す。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
こうした穴は、横断面が円形の穴で構成してよい。穴３６を複数個設ける場合、少なくともいくつかは、収容容器１の軸線８の近傍、すなわち、工具２１のすぐ背後に設けて、これらの穴３６が、支持円板９の回転方向（矢印２３）において、工具２１の破断刃の後縁３７の近傍に位置するようにする。穴３６の軸線は、垂直でもよいが、軸線３８が斜めであるである（図６）、つまり、支持円板９の上面３９の平面及び収容容器の軸線８に対して傾斜していることが好ましい。穴の壁４０の傾斜角（図６における角度α）は、３０度と６０度の間が好ましく、より好ましくは、約４５度である。穴の壁の傾斜角は、支持円板９の回転方向（矢印２３）において、穴３６の入口端４１が、出口端４２によりも前方に位置するように選択する。こうすると、先に述べた吸引効果が助長され、被処理材料が、支持円板の上方にある空間２６から穴３６を通じて支持円板の下方にある自由空間１０に直接落下するのが防止されるようになる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
シリンダ圧信号に妨害があるときでもここに示した方法を使用できるようにするために、本発明の拡張として、シリンダ圧力値をまず複数のサイクルにわたって記憶し、個々の角度マークについて測定された値の平均を求めることも可能である。これにより、さらには信号上のゼロ平均確率誤差を補償することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
引張り手段における張力を表示するための装置であって、
−ストラップバンド（２）と引張り手段（７）による連結部である剛性のウェブ（３）の周囲に設置され、かつストラップバンド（２）の形成されたループにより形状一体に取囲まれており、
−張力がかかった時に、復帰可能なバネ（１）の形状変形を許容し、
−張力が読取り可能である、目盛り（１０）を形成しており、および
−可動な弾性部材と可動な剛性部材の組合せ体から成る様式の装置において、
引張り手段の張力により、バネ（１）が成形部材５によって規定されたその終端位置（８）まで変形するように、バネ（１）が成形部材（５）と形状一体に組合わされており、および
バネが、その閉じた位置にある成形部材（５）に当接しているので、第二の上方の張力範囲内において、張力が、バネをそれ以上変形させず、
従って過剰張力が発生せず、従ってバネ（１）のバネ定数と一定の表示範囲が変化することはないことを特徴とする装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２】
バネ（１）と成形部材（５）の組合わせ体が、装置であることを特徴とする請求項１記載の装置。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項３】
成形部材（５）が二つの脚部（５ａ，５ｂ）を備え、かつ両脚部が閉鎖する終端位置（８）に達するまで、押圧に依存して形状変形可能であり、バネ（１）の運動が加わり、両脚部（５ａ，５ｂ）の位置が可変であることによって、その都度の予張力が、測定表示部（１０）を用いて読取り可能であるように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
成形部材（５．１）が押圧に左右されず形状安定に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項５】
バネ（１）と成形部材（５）が、バネ鋼とプラスチックで製造されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の装置。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
バネ（１）と成形部材（５）の間のしっかりした固定を生じさせるために、バネ（１）が成形部材（５）の周囲にジャケットを形成するか、あるいは成形部材（５）がバネ（１）を取囲んでいることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の装置。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項８】
成形部材（５．２，５．３）が可動部材（９）を備え、この可動部材がバネ（１．１，１．２）の運動により、表示範囲（６）の数字が拡大するようにボルト（３）の方向に摺動することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の装置。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念による張力を表示するための装置に関する。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
この解決策の場合、張力が大きいとバネ形状は幾何学的に変化し、この増大した力はもはや目によって認識可能ではなく、ただ付加的な表示強化によってのみ測定できることは短所である。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
この様式の公知の測定装置と負荷表示器は全て、固定用バンドあるいは吊り上げバンドのストラップの内側にある。さらに同じ様式の、かつ同じ技術的手段のための負荷表示器は、外側から取付けることができ、かつ同時にストラップの外側に押圧することができる。この場合、張力がゼロだと、ストラップの内側面は互いに重なり合い、増大する張力によりさらに押し付け合い、従って機能性は逆になる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
公知の負荷表示器は、負荷の範囲全体を測定するという目的を有しており、かつそれにより小さな力と大きな力を、バネ力を介して吸収するという能力を引き受ける。既存の器具においては、大きな力は、重い材料を使用することによってか、あるいはバネ部材をわずかに運動させることによってカバーされる。予張力の場合に生じるようなわずかな力だけを測定できるように、それに応じて、まだ尚大きな張力に耐える弱いバネが必要である。経験から、過負荷時の弱いバネは変形をし続け、従って値を変形を始めたときから誤って表示することがわかる。それゆえ課題の解決は張力に限られ、それを超えた力は無視する。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
図１は形状が不安定な成形部材（５）を取囲み、かつ張力がゼロの場合にストラップ（２）の内側側面を離して広げるバネ（１）を示す。バネ（１）と成形部材（５）はユニットを形成し、従って両部材は同じ運動を行う。ボルト（３）を介して張力要素（７）により張力をかける際、ストラップ（２）の内側側面は、バネ（１）と成形部材（５）の組合わせ体に押圧作用を行い、かつ成形部材（５）の脚部（５ａ）及び（５ｂ）を互いに近づけあうように動かす。終端状態（８）の許容しうる予張力が達せられた場合、成形部材（５）の脚部（５ａ）及び（５ｂ）は、互いに接して形状一体になっており、従ってバネ（１）と成形部材（５）はそれ以上動けなくなる。達せられた予張力は、測定表示部（１０）を介してのみ良好に読み取れる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
図３に負荷表示部を示すが、この表示部にあって、バネ（１．１）の両脚端部は、成形部材（５．２）に密着するバネに対して水平方向に負荷をかける際に、ボルト（３）の方向にインジケータ（９）を動かす。この場合、バネ力はその都度の最大予張力まで調節可能である。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
図４は負荷表示部を示すが、この表示部にあって、バネ（１．２）の両脚端部は、弾性的な成形片（５．３）を押圧し、かつインジケータ（９）を先細りしている間隙を通してボルト（３）の方向に動かす。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年7月27日(2009.7.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの発光ダイ・パッケージであって、
１つの取り付けパッドにおいて１つの発光ダイオード・アセンブリに接続される複数のトレースを有する１つの基板と、
前記基板に結合され、前記取り付けパッドを略囲む１つの反射板と、
前記取り付けパッドを略被うレンズと、
前記発光ダイオード・アセンブリをカプセル化するエンカプセレーション材料とを備え、
前記レンズは、前記エンカプセレーション材料上に置かれ、前記エンカプセレーション材料が膨張又は収縮することにより、前記反射板に対して自由に動けることを特徴とする、発光ダイ・パッケージ。
【請求項２】
前記基板上に取り付けけられ、前記基板のトレースに接続された１つの発光ダイオード（ＬＥＤ）を更に備える、請求項１に記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項３】
前記ＬＥＤが光学的に透明なポリマ内にカプセル化された、請求項２に記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項４】
前記基板が高熱伝導率を有する電気絶縁材料を備える、請求項１から３のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項５】
前記基板が熱伝導材料を備える、請求項１から４のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項６】
前記基板に結合された１つの外部ヒート・シンクを更に備える、請求項１から５のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項７】
前記基板が前記外部ヒート・シンクとの結合のために複数の金属でメッキされた１つの底側面を有する、請求項６に記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項８】
１つ以上のトレースが前記取り付けパッドから前記基板の１つの面へ伸びる、請求項１から７のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項９】
前記基板が、前記反射板に機械的に係合する１つ以上の側面に沿って複数のフランジを備える、請求項１から８のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１０】
前記反射板が前記取り付けパッドを略囲む、請求項１から９のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１１】
前記反射板が１つの反射面を画定する、請求項１から１０のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１２】
前記反射板が高熱伝導率を有する材料を備える、請求項１から１１のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１３】
前記反射板が熱伝達を増すために前記基板と機械的に係合する１つ以上の脚を備える、請求項１から１２のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１４】
前記パッケージからの熱が放散されるようにするために前記反射板が１つの外部ヒート・シンクに接続される、請求項１から５または８から１３のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１５】
前記反射板が熱放散のための複数の冷却フィンを備える、請求項１から１４のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１６】
前記レンズが複数の光学的化学物質を受容するように適合した１つのくぼみを備える、請求項１から１５のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１７】
前記レンズが複数のルミネッセンス変換蛍光体を備える、請求項１から１６のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１８】
前記レンズが拡散剤を備える、請求項１から１７のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【請求項１９】
前記レンズが１つの発光体を備える、請求項１から１８のいずれかに記載の発光ダイ・パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月15日(2009.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器を容器移送システムと処理ツールの間で移送するための装置であって、
第１の端部及び第２の端部を有し、前記第１の端部と前記第２の端部の間を実質的に垂直方向に移動するように構成された駆動機構を実質的に包囲するハウジングと、
第１の幅を有する基部と、前記基部の第２の幅よりも小さい第２の幅を有する遠位端部とを有し、前記駆動機構に連結されたアーム支持体と、
前記アーム支持体の遠位端部に回転可能に連結された近位端部と、遠位端部とを有するアームと、
前記アームの遠位端部と回転可能に連結された把持器と、を有する装置。
【請求項２】
前記アームの近位端部は、前記アーム支持体の遠位端部と前記ハウジングの間に配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記アーム支持体の基部は、前記駆動機構と連結される、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記駆動機構は、リードネジを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記把持器は、容器を前記容器の上部ハンドルのところで保持する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記容器移送システムは、前記処理ツールの前に配置され且つｘ方向を定める、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
更に、前記ハウジングを実質的に前記ｘ方向に沿って移動させるためのｘ方向駆動アセンブリを有する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記ｘ方向駆動アセンブリは、前記ハウジングを前記容器移送システムと前記処理ツールの間でｘ方向に移動させる、請求項７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月21日(2009.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イメージセンサであって、
（ａ）それぞれ感光部位を有する複数のピクセルを備え、前記複数のピクセルは、個々の感光部位間のＸ軸方向およびＹ軸方向の少なくともいずれか一方の距離が一定ではないような前記感光部位の非対称配置を含み、
（ｂ）前記感光部位の上に非対称に配置された複数の非対称形状のマイクロレンズをさらに備え、各マイクロレンズの光学軸はそれぞれの感光部位の中央に整合しており、
入射光は、光をほぼ均一に捕捉するために、前記各マイクロレンズの非対称表面によってそれぞれの感光部位上に所定の方向で導かれることを特徴とするイメージセンサ。
【請求項２】
請求項１に記載のイメージセンサであって、
前記マイクロレンズの非対称形状は、周辺端部に沿ってほぼ弧状の部分を有すると共に、残りの端部に沿って相互にほぼ垂直に配置された２つのほぼ直線の部分を有することを特徴とするイメージセンサ。
【請求項３】
デジタルカメラであって、
イメージセンサを有し、前記イメージセンサは、
（ａ）それぞれ感光部位を有する複数のピクセルを備え、前記複数のピクセルは、個々の感光部位間のＸ軸方向およびＹ軸方向の少なくともいずれか一方の距離が一定ではないような前記感光部位の非対称配置を含み、
（ｂ）前記感光部位の上に非対称に配置された複数の非対称形状のマイクロレンズをさらに備え、各マイクロレンズの光学軸はそれぞれの感光部位の中央に整合しており、入射光は、光をほぼ均一に捕捉するために、前記各マイクロレンズの非対称表面によってそれぞれの感光部位上に所定の方向で導かれることを特徴とするデジタルカメラ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月14日(2009.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）アレイ状に配置された複数の光検出器；及び
（ｂ）２つ以上の光検出器によって機能的に共有され、前記２つ以上の光検出器上の電荷に選択的に作用して信号を生成する複数のトランジスタ；
を有し、光検出器上の任意の点とトランジスタ上の任意の点との間の距離が、別の光検出器上の同様の任意の点と対応するトランジスタ上の同様の任意の点との間の距離と実質的に同一になるように、各光検出器はそれらの間に実質的に均一なピッチを有し、且つ前記複数のトランジスタは前記複数の光検出器を囲む領域内で実質的に均一なピッチで配置されている、
画像センサ。
【請求項２】
各光検出器の、機能的に共有される複数のトランジスタへの距離が実質的に同一である、請求項１に記載の画像センサ。
【請求項３】
各トランジスタに印加される電位が実質的に同一である、請求項１に記載の画像センサ。
【請求項４】
各トランジスタに印加される電位が実質的に同一である、請求項２に記載の画像センサ。
【請求項５】
（ａ）アレイ状に配置された複数の光検出器；及び
（ｂ）２つ以上の光検出器によって機能的に共有され、前記２つ以上の光検出器上の電荷に選択的に作用して信号を生成する複数のトランジスタ；
を有し、光検出器上の任意の点とトランジスタ上の任意の点との間の距離が、別の光検出器上の同様の任意の点と対応するトランジスタ上の同様の任意の点との間の距離と実質的に同一になるように、各光検出器はそれらの間に実質的に均一なピッチを有し、且つ前記複数のトランジスタは前記複数の光検出器を囲む領域内で実質的に均一なピッチで配置されている、
画像センサ。
を有するデジタルカメラ。
【請求項６】
各光検出器の、機能的に共有される複数のトランジスタへの距離が実質的に同一である、請求項５に記載のデジタルカメラ。
【請求項７】
各トランジスタに印加される電位が実質的に同一である、請求項５に記載のデジタルカメラ。
【請求項８】
各トランジスタに印加される電位が実質的に同一である、請求項６に記載のデジタルカメラ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光装置と組み合わせて便利なシリコンを有する反射性の光学障壁の製造のためのプロセスであって、シリコン材料の結晶（１１１）面に沿ったエッチングのレートが（１１０）及び（１００）面に沿ったエッチングのレートよりも遅い態様における前記シリコン材料の異方性ウェットエッチングを有する、プロセス。
【請求項２】
シリコン基板上にシリコン二酸化物及び／又はシリコン窒化物の層を作成するステップと、リソグラフィによって前記光学障壁をパターニングするステップと、前記シリコン二酸化物及び／又はシリコン窒化物層をエッチングするステップと、前記シリコン基板を異方性ウェットエッチングするステップと、前記シリコン二酸化物及び／又はシリコン窒化物層を更に除去するステップと、箔上に前記シリコンウエハを取り付けるステップと、必要である場合に、前記光学障壁が前記シリコンウエハを有さないようになるまで、後ろ側を研削するステップとを有する請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記シリコン材料が、貫通開口又は閉じられた底部を有するキャビティが形成される程度まで、ウェットエッチングされる、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記シリコンウエハを前記反射性の光学障壁の所望の高さに等しい所与の厚さまで研削するステップと、前記のようなウエハの前側及び後ろ側にシリコン窒化物の１つ又は複数の層を堆積させるステップと、前記光学障壁をリソグラフィによってパターニングするステップと、前記ウエハの、前記光学障壁がリソグラフィによってパターニングされる側における前記シリコン窒化物層をエッチングするステップと、前記シリコン基板を異方性ウェットエッチングするステップと、前記ウエハ上に残存している前記シリコン窒化物をエッチングするステップと、箔上に前記シリコンウエハを取り付けるステップと、前記ウエハを切断するステップとを有する請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記光学障壁が、銀及び／又はアルミニウムである反射面によってコーティングされている、請求項１乃至４の何れか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記光学障壁が、第２表面上に前記光学障壁を取り付けるためのガイド補助を更に備えている、請求項１乃至５の何れか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
発光装置と組み合わせて便利である請求項１乃至６の何れか一項に記載のプロセスによって得られる反射性の光学障壁。
【請求項８】
１００μｍ以上かつ５００μｍ以下である側壁の高さ、８０μｍ以上かつ１００μｍ以下である発光装置の高さ、及び／又は８０μｍ以上かつ３００μｍ以下である中央反射壁の高さを有する、請求項１乃至７の何れか一項に記載のプロセスによって得られる反射性の光学障壁。
【請求項９】
電気素子、流体導管、気体導管及び／又は光学導波管を含む群から選択された受動素子を更に有する、請求項７又は８に記載の反射性の光学障壁。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月1日(2009.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ・ナビゲーション及び選択システムであって、
ユーザを識別する識別装置と、
前記識別されたユーザと関係する様々なデータの間をナビゲートするナビゲーション装置と、
前記データの中の１つを選択する選択装置と、
コンピュータ・システムが低電力スリープステート又はオフステートにあるときに、前記ナビゲーション装置の操作に従い前記様々なデータを一度にひとつずつ表示する補助ディスプレイと、
前記ユーザに対して表示されるデータの選択に基づいて及び該選択後に前記コンピュータ・システムを電力アップするための電源要素と、
を備えていることを特徴とするコンピュータ・ナビゲーション及び選択システム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ナビゲーション装置と選択装置とは１つのコンポーネントの内部に含まれていることを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項２記載のシステムにおいて、前記コンポーネントはスクロール・ホイールを含むことを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項１記載のシステムにおいて、前記識別装置はバイオメトリック・センサを含むことを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項１記載のシステムにおいて、前記識別装置は指紋リーダを含むことを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項１記載のシステムにおいて、オペレーティング・システムを選択するセレクタを更に含むことを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項１記載のシステムにおいて、前記識別装置と前記ナビゲーション装置と前記選択装置と前記補助ディスプレイとはスタンドアロン装置の内部に配置されていることを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項１記載のシステムにおいて、前記識別装置と前記ナビゲーション装置と前記選択装置と前記補助ディスプレイとは計算機の内部に配置されていることを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項８記載のシステムにおいて、前記計算機はタブレット・パーソナル・コンピュータ、ラップトップ・パーソナル・コンピュータ又はハンドヘルド・コンピュータであることを特徴とするシステム。
【請求項１０】
コンピュータ・ナビゲーション及び選択システムであって、
メイン・ディスプレイを有する計算システムと、
補助ディスプレイを有する識別及び選択装置であって、様々なデータに関連するユーザを識別し、前記識別されたユーザに関連するデータの１つを選択し、コンピュータ・システムが低電力スリープステート又はオフステートにあるときに前記識別されたユーザに関連する前記様々なデータを表示し、前記ユーザに表示されるデータの選択に基づいて及び該選択後に前記コンピュータ・システムを電力アップするように動作する装置と、
を備えていることを特徴とするコンピュータ・ナビゲーション及び選択システム。
【請求項１１】
請求項１０記載のシステムにおいて、前記識別及び選択装置は、
前記ユーザを識別する識別装置と、
前記識別されたユーザと関係する様々なデータの間をナビゲートするナビゲーション装置と、
前記データの中の１つを選択する選択装置と、
を備えており、前記補助ディスプレイは、前記ナビゲーション装置の操作に従い前記様々なデータを一度にひとつずつ表示することを特徴とするシステム。
【請求項１２】
請求項１０記載のシステムにおいて、前記計算システムは、パーソナル・コンピュータ、タブレット・パーソナル・コンピュータ、ラップトップ・パーソナル・コンピュータ又はハンドヘルド・コンピュータであることを特徴とするシステム。
【請求項１３】
請求項１０記載のシステムにおいて、前記識別及び選択装置は前記計算システムと一体的であることを特徴とするシステム。
【請求項１４】
請求項１０記載のシステムにおいて、前記識別及び選択装置は前記計算システムとは別個であり、前記計算システムと有線又は無線により通信することを特徴とするシステム。
【請求項１５】
請求項１０記載のシステムにおいて、前記補助ディスプレイはメイン・ディスプレイの中に配置されていることを特徴とするシステム。
【請求項１６】
コンピュータ・ナビゲーション及び選択方法であって、
識別及び選択装置においてユーザを識別するステップと、
前記識別されたユーザに関係する情報を表示するステップと、
ナビゲーション信号を受け取ると、前記識別されたユーザと関係する追加的な情報を表示するステップと、
前記情報と前記追加的情報との一方の選択を受け取るステップと、
前記選択に応じて、前記情報と前記追加的情報との一方の選択に基づいて及び該選択後にコンピュータ・システムを電力アップすることを含む動作を実行するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の方法において、前記ユーザを認証するステップを更に含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１６記載の方法において、前記選択は電力ダウン・モードを含むことを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１６記載の方法において、前記選択はオペレーティング・システムを含み、この方法は、
計算機において前記オペレーティング・システムを付勢するステップと、
前記選択されたオペレーティング・システムに関する選択可能な情報を表示するステップと、
を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１６記載の方法において、前記選択はアプリケーションを含み、この方法は、前記アプリケーションに関するファイルを表示するステップを更に含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月20日(2009.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜と相互作用させるビームを集束させる装置であって、該ビームは短軸及び長軸を規定し、これらの軸は相互に直交し、
前記装置は、
前記膜から距離ｄ1の位置に配置された短軸フィールドストップと、
前記フィールドストップにレーザビームを集束させる第１の光学器械と、
前記ストップと前記膜との間に配置され、前記ビームを前記短軸において集束させて前記膜と相互作用させる第２の光学器械であって、前記ビームは前記長軸において平行化されない前記第２の光学器械と、
前記膜からの画像平面上の反射光を分析する検出システムであって、該画像平面は前記膜から反射ビーム経路に沿って距離ｄ2の位置に配置され、ｄ2はｄ1と実質的に等しく、該検出システムは前記反射光を分析して前記ビームが前記膜で前記短軸において集束しているか否かを決定する、前記検出システムと、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記検出システムが、前記反射ビーム経路に沿って前記膜と前記画像平面との間に配置されたミラーを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記検出システムがカメラ及びレンズを更に含み、該レンズは前記画像平面からの像を該カメラに対して投影及び拡大するように配置されていることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記検出システムは、前記ビームが前記膜の長軸に沿った第１の位置で前記短軸において集束しているか否かを決定する第１の検出システムであり、前記装置が、前記ビームが前記膜の長軸に沿った第２の位置で前記短軸において集束しているか否かを決定する第２の検出システムを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記検出システムの各々が、ミラー、拡大レンズ及びカメラをそれぞれ含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記膜がアモルファスシリコン材料を含み、前記ビームが集束されて前記膜を溶融させるパルスレーザであることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
膜と成形光学器械によって光源から成形されたラインビームとの相互作用中に、前記膜でエネルギ密度を予め選択した範囲に維持するためのシステムであって、
前記膜は、不完全非平面表面を有し、
前記システムは、
前記膜と前記集束レンズとの間の距離を測定するための自動焦点センサと、
前記測定を利用して光源パラメータを調整して、前記膜で前記エネルギ密度を前記予め選択した範囲に維持するコントローラと、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項８】
前記光源はパルスレーザ源であり、前記光源パラメータはパルスエネルギであることを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記レーザ源はガス放電レーザ源であり、前記パルスエネルギは、レーザ源の放電電圧を変えることによって調節されることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記コントローラは、可変減衰器を調節して、前記膜で前記エネルギ密度を前記予め決められた範囲に維持することを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項１１】
前記光源は光源スペクトルを発生し、前記コントローラは、前記光源スペクトルを変えて前記膜で前記エネルギ密度を前記予め決められた範囲に維持することを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項１２】
ビーム経路に沿ったある位置でパルスレーザビームのビーム発散を予め決められた範囲に維持するためのシステムであって、
前記システムは、
調節可能なビーム拡大器と、
発散を測定し、かつそれを示す信号を生成するための手段と、
前記信号に応答して前記ビーム拡大器を調節し、かつ前記パルスレーザビームの発散を前記予め決められた範囲に維持するコントローラと、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項１３】
前記手段は、前記位置を通過する光の波面を測定して前記信号を生成することを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記手段は、ＤＳＰベースのプロセッサと、高速ＣＭＯＳ線形フォトダイオードとを含むことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記ビーム拡大器は、少なくとも２つの、間隔を開けて離れた光学素子を含み、かつ前記間隔を変えることによって調節されることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記ビーム拡大器は、第１のビーム拡大器光学素子を第２のビーム拡大器光学素子に対して移動させる線形電動駆動装置を含むことを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】
前記ビーム拡大器は、２つの直交する方向における独立したビーム拡大制御を可能にすることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月21日(2009.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
以下からなる、荷電粒子のパターンを基板に塗工する方法：
導電層、誘電層およびマスク開口部を有するマスクを基板に、基板と誘電層の間のマスク部に導電層が位置するように塗工し、マスク開口部が形作るマスクされていない表面を有するマスクされた基板を生じること；
荷電粒子を含む溶液中にマスクされた基板を浸漬すること、ならびに、
マスクの導電層と対向電極との間に電位を生じさせ、それによりマスク開口部中の導電層上の露出した表面に荷電粒子を動電学的に引き付け、マスク開口部中に荷電粒子を析出させること。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
以下からなる、荷電粒子のパターンを非導電性の基板に塗工する方法：
導電層、誘電層およびマスク開口部を有するマスクを非導電性の基板に、基板と誘電層の間のマスク部に導電層が位置するように塗工し、マスク開口部が形作るマスクされていない表面を有するマスクされた非導電性の基板を生じること；
荷電粒子を含む溶液中にマスクされた非導電性の基板を浸漬すること、ならびに、
マスクの導電層と対向電極との間に電位を生じさせ、それによりマスク開口部中の導電層上の露出した表面に荷電粒子を動電学的に引き付け、マスク開口部中に荷電粒子を析出させること。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
以下からなる、荷電粒子のパターンを基板に塗工する方法：
請求項１０乃至１８のいずれかのマスクを基板に、基板と誘電層の間のマスク部に導電層が位置するように塗工し、マスクされた基板を生じること；
荷電粒子を含む溶液中にマスクされた基板を浸漬すること、ならびに
マスクの導電層と対向電極との間に電位を生じさせ、それによりマスク開口部を通じて前記マスク開口部中に露出した基板の領域上に粒子を動電学的に析出させること。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
発明の要約
従って簡潔には、１つの態様において本発明は、導電層、誘電層およびマスク開口部を有するマスクを基板に塗工して、マスク開口部が形作るマスクされていない表面を有するマスクされた基板を生じること；荷電粒子を含む溶液中にマスクされた基板を浸漬することおよびマスクの導電層と対向電極との間に電位を生じさせ、それによりマスク開口部中の導電層上の露出した表面に荷電粒子を動電学的に引き付け、マスク開口部中に荷電粒子を析出させることからなる、荷電粒子のパターンを基板に塗工する方法を指向する。