【手続補正書】
【提出日】平成23年9月22日(2011.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒中における分子の溶液の平均分子特性を決定する方法であって、前記平均分子特性は、重み平均モル質量Ｍ、平均二乗半径＜ｒg2＞、第２のビリアル係数Ａ2、および第３のビリアル係数Ａ3であり、
Ａ．前記溶媒の貯槽を与えるステップと、
Ｂ．前記溶液の貯槽を与えるステップと、
Ｃ．前記溶媒による、希釈手段を用いて前記貯槽から前記溶液の一連のｎ個の希釈液Ｄm（ｍ＝１〜ｎ）を準備するステップと、
Ｄ．サンプリング手段を与えるステップとを含み、この手段によって前記希釈液Ｄm（ｍ＝１〜ｎ）が連続して注入され、連続的に下記を通って流れるようにされ、
ａ．前記希釈液Ｄm（ｍ＝１〜ｎ）の各増分注入体積Δｖiにおける複数のｑ個の角度θk（ｋ＝１〜ｑ）において散乱した光を集める光散乱検出手段；
ｂ．前記希釈液Ｄm（ｍ＝１〜ｎ）の各増分注入体積Δｖiにおける対応する分子濃度ｃmi（ｍ＝１〜ｎ）を測定する濃度検出手段；さらに
Ｅ．各流れの体積増分間隔Δｖiにおける測定された散乱光強度および対応する濃度ｃmiから、関連付けられた過剰レイリー比Ｒ*（θk,ｃmi）を生成するステップと、
Ｆ．各前記希釈ｍの溶出全体にわたる前記集められた分子濃度値ｃmiから、各前記希釈液Ｄmに対応する下記のｎ個の濃度の合計を計算するステップとを含み、
【数１】
2009210575.tif 000001
ここでｍ＝１からｎであり、さらに
Ｇ．前記生成された過剰レイリー比Ｒ*（θk,ｃmi）から、前記ｎ個の希釈液に対応する、３×ｑ×n個の過剰レイリー比の合計；
【数２】
2009210575.tif 000002
および
【数３】
2009210575.tif 000003
を計算するステップと、
Ｈ．前記濃度の合計および前記過剰レイリー比の合計とフィッティングのパラメータとしての分子の前記溶液の前記平均分子特性を表す変数とを関連付ける適切な方程式に、前記集められた濃度値および前記生成された過剰レイリー比の値をフィッティングすることにより、前記３×ｑ×ｎ個の過剰レイリー比の合計から分子の前記溶液の前記平均分子特性を抽出するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記適切な方程式は、下記の方程式であり、
【数４】
2009210575.tif 000004
ここで
【数５】
2009210575.tif 000005
【数６】
2009210575.tif 000006
、ｎ0は溶媒の屈折率であり、λ0は前記光散乱検出手段の入射真空波長であり、重み平均モル質量Ｍ、平均二乗半径＜ｒg2＞、第２のビリアル係数Ａ2、および第３のビリアル係数Ａ3は前記フィッティングの前記パラメータである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記適切な方程式は、下記の方程式であり、
【数７】
2009210575.tif 000007
ここで
【数８】
2009210575.tif 000008
、ｎ0は溶媒の屈折率であり、λ0は前記光散乱検出手段の入射真空波長であり、重み平均モル質量Ｍ、平均二乗半径＜ｒg2＞、第２のビリアル係数Ａ2、およびＰ2は前記フィッテイングの前記パラメータである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記適切な方程式は、下記の方程式であり、
【数９】
2009210575.tif 000009
ここで
【数１０】
2009210575.tif 000010
、ｎ0は溶媒の屈折率であり、λ0は前記光散乱検出手段の入射真空波長であり、重み平均モル質量Ｍ、平均二乗半径＜ｒg2＞、および第２のビリアル係数Ａ2は前記フィッテイングの前記パラメータである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記適切な方程式は、下記の方程式であり、
【数１１】
2009210575.tif 000011
重み平均モル質量Ｍ、第２のビリアル係数Ａ2、および第３のビリアル係数Ａ3は前記フィッテイングの前記パラメータである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記適切な方程式は、下記の方程式であり、
【数１２】
2009210575.tif 000012
重み平均モル質量Ｍおよび第２のビリアル係数Ａ2は前記フィッテイングの前記パラメータである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記フィッテイングは、コンピュータ手段によって行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記フィッティングは、線形最小二乗フィッティングである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記フィッティングは、レーベンバーグ−マルカート非線形最小二乗フィッティングである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記濃度検出手段は、示差屈折率、すなわちｄＲＩ検出器を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記濃度検出手段は、紫外線、すなわちＵＶ吸収検出器を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記希釈手段は、自動サンプル採取装置を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記自動サンプル採取装置は、異なる体積の溶液を固定された濃度で、溶媒で満たされた固定された体積のサンプルループに注入することにより、前記サンプルループ中で混合することによって希釈を生成するように操作される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記自動サンプル採取装置は、異なる濃度で準備されたサンプルの瓶由来の溶液から構成される一定分量を注入するように操作される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記希釈手段は、複式ポンプシステムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記サンプリング手段は、前記溶媒を与える前記複式ポンプシステムのポンプを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記希釈液Ｄmは、前記光散乱検出手段および前記濃度検出手段に到達する前に、保持体積の中に蓄えられる、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記希釈液Ｄmは、スタティックミキサによって混合される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記サンプリング手段は、ポンプをさらに含み、前記ポンプは、溶媒がまず、前記希釈液Ｄmが前記光散乱検出手段および前記濃度検出手段よりも上流で挿入されているサンプルループを通って流れるようにする、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記複式ポンプシステムの一方のポンプが前記溶液を与え、前記複式ポンプシステムの他方のポンプが前記溶媒を与えることによって、前記２つのポンプは、所望の前記希釈液を与えるように決定された流量比で操作される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
脱塩カラムを流路中に前記濃度検出手段および前記光散乱検出手段の前に設置するステップをさらに含み、前記脱塩カラムは、サンプルを前記溶媒に対して透析する手段を与える、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
溶媒中における分子の溶液のクロスビリアル係数Ａ2ABを決定する方法であって、前記溶液は、既知のモル質量ＭA、ＭB、既知の第２の自己ビリアル係数Ａ2AおよびＡ2B、ならびに既知の平均二乗半径＜ｒg2＞Aおよび＜ｒg2＞Bの２つの別個の巨大分子種ＡおよびＢを含み、
Ａ．前記巨大分子種Ａの溶液の貯槽を与えるステップと、
Ｂ．前記巨大分子種Ｂの溶液の貯槽を与えるステップと、
Ｃ．前記溶媒の貯槽を与えるステップと、
Ｄ．前記溶媒でサンプル混合手段を用いて前記貯槽から前記巨大分子種の組成の異なる一連のｎ個のサンプルＳm（ｍ＝１〜ｎ）を準備するステップとを含み、前記サンプルは、さまざまな濃度および／または濃度比にわたり、さらに
Ｅ．サンプリング手段を与えるステップを含み、この手段によって前記サンプルＳm（ｍ＝１〜ｎ）が連続して注入され、連続的に下記を通って流れるようにされ、
ａ．前記サンプルＳm（ｍ＝１〜ｎ）の各増分注入体積Δｖiにおける複数のｑ個の角度θk（ｋ＝１〜ｑ）において散乱した光を集める光散乱検出手段；
ｂ．前記サンプルＳm（ｍ＝１〜ｎ）の各増分注入体積Δｖiにおける対応する分子濃度ｃmi（ｍ＝１〜ｎ）を測定する濃度検出手段；さらに
Ｆ．各流れの体積増分間隔Δｖiにおける測定された散乱光強度および対応する濃度ｃmiから、関連付けられた過剰レイリー比Ｒ*（θk,ｃmi）を生成するステップと、
Ｇ．各一定分量Ｓmの溶出全体にわたる前記集められた濃度データ値ｃmiから、前記サンプルＳmに対応する下記のｎ個の濃度の合計を計算するステップとを含み、
【数１３】
2009210575.tif 000013
ここでｍ＝１からｎであり、ｆnは一定分量Ｓm中に存在するＡおよびＢ既知の既知の濃度比であり、さらに
Ｈ．前記生成された過剰レイリー比Ｒ*（θk,ｃmi）から、前記ｎ個のサンプルに対応する、２×ｑ×n個の過剰レイリー比の合計；
【数１４】
2009210575.tif 000014
および
【数１５】
2009210575.tif 000015
を計算するステップと、
I．前記濃度の合計および前記過剰レイリー比の合計とフィッティングのパラメータとしての前記クロスビリアル係数とを関連付ける適切な方程式に、前記集められた濃度値および前記生成された過剰レイリー比の値をフィッティングすることにより、前記サンプルの前記クロスビリアル係数Ａ2ABを抽出するステップとを含む、方法。
【請求項２３】
前記適切な方程式は、下記の方程式であり、
【数１６】
2009210575.tif 000016
ここで
【数１７】
2009210575.tif 000017
、ｎ0は溶媒の屈折率であり、λ0は前記光散乱検出手段の入射真空波長であり、ＮAはアボガドロ数であり、
【数１８】
2009210575.tif 000018
さらに
【数１９】
2009210575.tif 000019
はそれぞれＡおよびＢの屈折増分である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記フィッテイングは、コンピュータ手段によって行なわれる、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記フィッティングは、線形最小二乗フィッティングである、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記フィッティングは、レーベンバーグ−マルカート非線形最小二乗フィッティングである、請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
前記濃度検出手段は、示差屈折率、すなわちｄＲＩ検出器を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
前記濃度検出手段は、紫外線、すなわちＵＶ吸収検出器を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２９】
前記２つの別個の巨大分子種ＡおよびＢの平均溶液特性、すなわちモル質量ＭA、ＭB、第２の自己ビリアル係数Ａ2AおよびＡ2B、ならびに平均二乗半径＜ｒg2＞Aおよび＜ｒg2＞Bは、請求項１に記載の方法によって決定されている、請求項２２に記載の方法。
【請求項３０】
前記サンプリング手段は、自動サンプル採取装置を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３１】
前記自動サンプル採取装置は、異なる濃度および／または濃度比で準備されたサンプルの瓶由来の溶液から構成される一定分量を注入するように操作される、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記サンプル混合手段は、トリプルポンプシステムを含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３３】
前記サンプリング手段は、前記溶媒を与える前記トリプルポンプシステムのポンプを含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記サンプルは、前記光散乱検出手段および前記濃度検出手段に到達する前に、保持体積の中に蓄えられる、請求項２２に記載の方法。
【請求項３５】
前記サンプル混合手段は、スタティックミキサを含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３６】
前記サンプリング手段は、ポンプを含み、前記ポンプは、溶媒が、前記サンプルＳmが前記光散乱検出手段および前記濃度検出手段よりも上流で挿入されているサンプルループを通って流れるようにする、請求項２２に記載の方法。
【請求項３７】
前記トリプルポンプシステムの２つのポンプが前記別個の巨大分子種の各々の前記溶液を与え、第３のポンプが前記溶媒を与えることによって、前記３つのポンプは、所望の前記濃度および濃度比を与えるように設計された流量比で操作される、請求項３３に記載の方法。
【請求項３８】
脱塩カラムを流路中に前記光散乱手段および前記濃度検出検出手段よりも上流に設置するステップをさらに含み、前記脱塩カラムは、前記溶液を前記溶媒に対して透析する手段を与える、請求項２２に記載の方法。
【請求項３９】
前記２つの前記巨大分子種間の前記濃度比は、前記２つの前記巨大分子種の両方を含むように作られたすべての前記サンプルにわたって固定されている、請求項２２に記載の方法。
【請求項４０】
前記２つの前記巨大分子種間の前記濃度比は、前記２つの前記巨大分子種の両方を含むように作られたすべての前記サンプルにわたって変動する、請求項２２に記載の方法。