【手続補正書】
【提出日】平成21年10月13日(2009.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック繊維を含み、反対側の横エッジによって画定される幅を有する、少なくとも１つの非膨張性層、及び
膨張性材料を含み、反対側の横エッジによって画定される幅を有する、少なくとも１つの膨張性層、
前記膨張性層の幅が前記非膨張性層の幅より小さく、前記膨張性層は露出した主要表面を有している、汚染防止装置内の汚染防止エレメントを実装する多層マット。
【請求項２】
前記少なくとも１つの非膨張層が、前記少なくとも１つの膨張性層の両横エッジが前記少なくとも１つの非膨張性層の横エッジの内側に位置づけられるように、互いに関連して配置される、請求項１に記載の多層マット。
【請求項３】
前記少なくとも１つの非膨張性層及び前記少なくとも１つの膨張性層が、前記少なくとも１つの膨張性層の横エッジの１つが少なくとも１つの非膨張層の横エッジの線に沿っており、前記少なくとも１つの膨張性層のもう一方の横エッジのみが、少なくとも１つの非膨張性層の横エッジの内側に位置するように、互いに関連して配置される、請求項１に記載の多層マット。
【請求項４】
セラミック繊維を含む１つ以上の層の少なくとも一つの非膨張性ストリップを更に含み、前記非膨張性ストリップが少なくとも１つの前記膨張性層の１つの横エッジに並んで位置づけられ、前記ストリップの幅が少なくとも１つの前記膨張性層の幅より狭い、請求項１〜３のいずれか１項に記載の多層マット。
【請求項５】
前記少なくとも一つの非膨張性ストリップが二つの非膨張性ストリップであり、各非膨張性ストリップがセラミック繊維を含む１つ以上の層であり、１つの非膨張性ストリップが少なくとも１つの前記膨張性層の各横エッジに並んで位置づけられ、各前記ストリップの幅が少なくとも１つの前記膨張性層の幅より狭い、請求項４に記載の多層マット。
【請求項６】
各前記非膨張性ストリップ及び少なくとも１つの膨張性層が実質的に同一平面上にある、請求項４または５に記載の多層マット。
【請求項７】
内壁を有するハウジング、
それらの間に間隙を形成するように前記ハウジングに配置された汚染防止要素、及び
請求項１〜３のいずれか１項に記載の多層マットを含み、
前記汚染防止要素が、前記ハウジングに実装されるように前記マットが前記間隙に配置されている、汚染防止装置。
【請求項８】
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが少なくとも前記膨張性層の１部分が前記凹部内に受容されるように位置づけられ、前記膨張性層の各横エッジがどれも前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露されない、請求項７に記載の汚染防止装置。
【請求項９】
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが前記膨張性層が前記凹部内に受け入れられるように位置づけられ、前記膨張性層の１つの横エッジが前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露される、請求項７に記載の汚染防止装置。
【請求項１０】
内壁を有するハウジング、
それらの間に間隙を形成するように前記ハウジングに配置される汚染防止要素、及び
請求項４〜６のいずれか１項に記載の多層マットを含み、
前記マットが前記汚染防止要素を前記ハウジングに実装するように前記間隙に配置される、汚染防止装置。
【請求項１１】
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが前記膨張性層が前記凹部内に受け入れられ前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露されないように位置づけられ、１つの前記膨張性ストリップが前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露される、請求項１０に記載の汚染防止装置。
【請求項１２】
前記排気システムが、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の汚染防止装置からなる、内燃機関のための排気システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
前述の事項は、現在予見されない本発明の実質的でない修正がそれでもなお本発明の均等物を表しうるにもかかわらず、権能付与的記載が入手できる本発明者らによって予見された実施形態の観点から本発明を記載している。
以下に、本願発明に関連する発明の実施の形態を列挙する。
実施形態１
セラミック繊維を含み、反対側の横エッジによって画定される幅を有する、少なくとも１つの非膨張性層、及び
膨張性材料を含み、反対側の横エッジによって画定される幅を有する、少なくとも１つの膨張性層、
前記膨張性層の幅が前記非膨張性層の幅より小さく、前記膨張性層は露出した主要表面を有している、汚染防止装置内の汚染防止エレメントを実装する多層マット。
実施形態２
前記少なくとも１つの非膨張性層、及び少なくとも１つの膨張性層が互いに接合している、実施形態１に記載の多層マット。
実施形態３
前記少なくとも１つの非膨張性層が少なくとも２つの非膨張性である、前記少なくとも１つの膨張性層が少なくとも２つの膨張性層である、又は前記少なくとも１つの非膨張性層が少なくとも２つの非膨張性層であるとともに、前記少なくとも１つの膨張性層が少なくとも２つの膨張性層である、実施形態１又は２に記載の多層マット。
実施形態４
前記少なくとも２つの非膨張性層各々の組成が異なっている、実施形態３に記載の多層マット。
実施形態５
前記少なくとも２つの非膨張性層各々の幅が異なり、前記少なくとも２つの膨張性層各々の幅が異なり、並びに各膨張性層の幅が各非膨張性層の幅より小さい、実施形態３に記載の多層マット。
実施形態６
前記少なくとも１つの非膨張層が、前記少なくとも１つの膨張性層の両横エッジが前記少なくとも１つの非膨張性層の横エッジの内側に位置づけられるように、互いに関連して配置される、実施形態１〜５のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態７
前記少なくとも１つの非膨張性層及び前記少なくとも１つの膨張性層が、前記少なくとも１つの膨張性層の横エッジの１つが少なくとも１つの非膨張層の横エッジの線に沿っており、前記少なくとも１つの膨張性層のもう一方の横エッジのみが、少なくとも１つの非膨張性層の横エッジの内側に位置するように、互いに関連して配置される、実施形態１〜５のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態８
前記非膨張性層が約０．５ｍｍ〜約２０ｍｍの範囲にある厚さ及び約０．０５ｇ／ｃｃ〜約０．４ｇ／ｃｃの範囲にある嵩密度を有し、前記膨張性層が約０．５ｍｍ〜約１５ｍｍの範囲にある厚さ及び約０．４ｇ／ｃｃ〜約０．７５ｇ／ｃｃの範囲にある嵩密度を有する、実施形態１〜７のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態９
セラミック繊維を含む１つ以上の層の非膨張性ストリップを更に含み、前記ストリップが少なくとも１つの前記膨張性層の１つの横エッジに並んで位置づけられ、前記ストリップの幅が少なくとも１つの前記膨張性層の幅より狭い、実施形態１〜７のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態１０
前記非膨張性ストリップ及び前記膨張性層の合わせた幅が前記非膨張性層の幅にほぼ等しい、実施形態９に記載の多層マット。
実施形態１１
少なくとも１つの前記膨張性層の各横エッジに並んで配置される１つの前記非膨張性ストリップをもつセラミック繊維を含む１つ以上の層のもう１つの非膨張性ストリップをさらに含み、各前記ストリップの幅が少なくとも１つの前記膨張性層の幅より狭い、実施形態９に記載の多層マット。
実施形態１２
前記非膨張性ストリップと前記膨張性層の両方の合わせた幅が前記非膨張性層の幅にほぼ等しい、実施形態１１に記載の多層マット。
実施形態１３
各前記非膨張性ストリップ及び少なくとも１つの膨張性層が実質的に同一平面上にある、実施形態９〜１２のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態１４
前記各非膨張性ストリップが少なくとも１つの前記膨張性層の長さとほぼ等しい長さを有する、実施形態９〜１３のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態１５
前記各非膨張性ストリップが前記非膨張性層よりも弾力的である、実施形態９〜１４のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態１６
前記非膨張性層が任意の前記非膨張性ストリップよりも弾力的である、実施形態９〜１４のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態１７
各前記非膨張性ストリップが、約０．５ｍｍ〜約２０ｍｍの範囲の厚さ及び約０．０５ｇ／ｃｃ〜約０．４ｇ／ｃｃの範囲の嵩密度を有し、前記非膨張性層が約０．５ｍｍ〜約２０ｍｍの範囲の厚さ及び約０．０５ｇ／ｃｃ〜約０．４ｇ／ｃｃの範囲の嵩密度を有し、前記膨張性層が約０．５ｍｍ〜約１５ｍｍの範囲の厚さ及び約０．４ｇ／ｃｃ〜約０．７５ｇ／ｃｃの範囲の嵩密度を有する、実施形態９〜１５のいずれか１項に記載の多層マット。
実施形態１８
内壁を有するハウジング、
それらの間に間隙を形成するように前記ハウジングに配置された汚染防止要素、及び
実施形態１〜８のいずれか１項に記載の多層マットを含み、
前記汚染防止要素が、前記ハウジングに実装されるように前記マットが前記間隙に配置されている、汚染防止装置。
実施形態１９
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが少なくとも前記膨張性層のみの１部分が前記凹部内に受容されるように位置づけられる、実施形態１８に記載の汚染防止装置。
実施形態２０
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが少なくとも前記膨張性層の１部分が前記凹部内に受容されるように位置づけられ、前記膨張性層の各横エッジがどれも前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露されない、実施形態１８に記載の汚染防止装置。
実施形態２１
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが前記膨張性層が前記凹部内に受け入れられるように位置づけられ、前記膨張性層の１つの横エッジが前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露される、実施形態１８に記載の汚染防止装置。
実施形態２２
内壁を有するハウジング、
それらの間に間隙を形成するように前記ハウジングに配置される汚染防止要素、及び
実施形態９〜１７のいずれか１項に記載の多層マットを含み、
前記マットが前記汚染防止要素を前記ハウジングに実装するように前記間隙に配置される、汚染防止装置。
実施形態２３
前記ハウジングの内壁の１部分が凹部を規定し、前記マットが前記膨張性層が前記凹部内に受け入れられ前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露されないように位置づけられ、１つの前記膨張性ストリップが前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスに暴露される、実施形態２２に記載の汚染防止装置。
実施形態２４
前記非膨張性層が前記汚染防止要素に隣接して位置づけられる、実施形態１８〜２３のいずれか１項に記載の汚染防止装置。
実施形態２５
前記非膨張性層が前記汚染防止要素と接触している、実施形態２４に記載の汚染防止装置。
実施形態２６
前記膨張性層が前記ハウジングの内壁に隣接して位置づけられている、実施形態１８〜２５のいずれか１項に記載の汚染防止装置。
実施形態２７
前記膨張性層の少なくとも１つの横エッジが、前記汚染防止装置を通り抜ける排気ガスへの暴露から実質的に封をされている、実施形態１８〜２６のいずれか１項に記載の汚染防止装置。
実施形態２８
前記装置が触媒コンバータ又は排気システムフィルターである、実施形態１８〜２７のいずれか１項に記載の汚染防止装置。
実施形態２９
前記排気システムが、実施形態１８〜２８のいずれか１項に記載の汚染防止装置からなる、内燃機関のための排気システム。