【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
延伸領域を有する層を含んでなる容器壁であって、
該層は、テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルエステル由来の少なくとも85%のポリエステル酸単位を有する結晶性ポリエステル中に分散した、アミノカプロン酸自身の反応物またはA-D〔ここでAは、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、レゾルシノールジカルボン酸、またはナフタレンジカルボン酸、またはそれらの混合物を含んでなるジカルボン酸の残基であり、およびDは、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、または1,4-シクロヘキサンジメチルアミン、またはそれらの混合物を含んでなるジアミンの残基である〕の反応生成物からなる群から選択される少なくとも１つの反応生成物を含んでなるポリアミドと、官能化および非官能化リチウムスルホネートからなる群から選択される界面張力低下剤とを含んでなる、
壁。
【請求項２】
界面張力低下剤がリチウムスルホイソフタレートである、請求項１に記載の壁。
【請求項３】
ポリアミドがMXD6ナイロンである、請求項１に記載の壁。
【請求項４】
分散粒子の平均直径が75 nm未満である、請求項１に記載の壁。
【請求項５】
分散粒子の平均直径が60 nm未満である、請求項１に記載の壁。
【請求項６】
分散粒子の平均直径が50 nm未満である、請求項１に記載の壁。
【請求項７】
テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルエステル由来の少なくとも85%のポリエステル酸単位を有する結晶性ポリエステル中に分散した、アミノカプロン酸自身の反応物またはA-D〔ここでAは、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、レゾルシノールジカルボン酸、またはナフタレンジカルボン酸、またはそれらの混合物を含んでなるジカルボン酸の残基であり、およびDは、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、または1,4-シクロヘキサンジメチルアミン、またはそれらの混合物を含んでなるジアミンの残基である〕の反応生成物からなる群から選択される少なくとも１つの反応生成物を含んでなるポリアミドと、官能化および非官能化リチウムスルホネートからなる群から選択される界面張力低下剤とを含んでなる樹脂組成物であって、
該組成物から製造される未延伸物品中の測定される分散粒子の平均直径が、150 nm未満であり、および該組成物がコバルト化合物を含有しない、組成物。
【請求項８】
リチウムスルホネートが、リチウムスルホイソフタレートおよびリチウムスルホ安息香酸からなる群から選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて少なくとも0.1モル%で存在する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
ポリアミドが部分的に芳香族である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて少なくとも0.1モル%のレベルで存在する、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
部分芳香族ポリアミドがMXD6ナイロンである、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１３】
リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて少なくとも0.1モル%で存在する、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項７〜１３のいずれかに記載の組成物を含んでなる、容器壁層。
【請求項１５】
延伸領域を有する層を含んでなる容器壁であって、
該層は、テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルエステル由来の少なくとも85%のポリエステル酸単位を有する結晶性ポリエステル中に分散した、アミノカプロン酸自身の反応物またはA-D〔ここでAは、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、レゾルシノールジカルボン酸、またはナフタレンジカルボン酸、またはそれらの混合物を含んでなるジカルボン酸の残基であり、およびDは、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、または1,4-シクロヘキサンジメチルアミン、またはそれらの混合物を含んでなるジアミンの残基である〕の反応生成物からなる群から選択される少なくとも１つの反応生成物を含んでなるポリアミドと、界面張力低下剤とを含んでなり、
同一方向における結晶性ポリエステルの延伸率で割ったポリアミドドメインの延伸率が、75%未満である、壁。
【請求項１６】
ポリアミドがナイロン6である、請求項１に記載の壁。
【請求項１７】
界面張力低下剤が、リチウムスルホイソフタレートおよびリチウムスルホベンゾエートからなる群から選択される、請求項１５に記載の壁。
【請求項１８】
ポリアミドが、MXD6およびナイロン6からなる群から選択される、請求項１５に記載の壁。
【請求項１９】
界面張力低下剤がリチウムスルホイソフタレートである、請求項１８に記載の壁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
ポリアミドドメインの寸法および分布を、Lucia Mソフトウェア(Laboratory Imagingから入手可能、およびニコン(日本)により提供されるSEM機械を有するパッケージとして入手することができる)を使用して、自動または手動様式で測定する。典型的に、250を超えるドメインを、10個の異なる画像にわたって測定する。より良好な分散であるほど、画像当たりに分析されるドメイン数は増加する。次いで、ドメインに関する統計分析を行い、各々の試料について、図４におけるようなドメインの平均、中央値および分布、および単位面積当たりの所定のサイズ間隔でのドメインの度数を決定する。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
［１］  延伸領域を有する層を含んでなる容器壁であって、
該層は、テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルエステル由来の少なくとも85%のポリエステル酸単位を有する結晶性ポリエステル中に分散した、アミノカプロン酸自身の反応物またはA-D〔ここでAは、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、レゾルシノールジカルボン酸、またはナフタレンジカルボン酸、またはそれらの混合物を含んでなるジカルボン酸の残基であり、およびDは、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、または1,4-シクロヘキサンジメチルアミン、またはそれらの混合物を含んでなるジアミンの残基である〕の反応生成物からなる群から選択される少なくとも１つの反応生成物を含んでなるポリアミドと、官能化および非官能化リチウムスルホネートからなる群から選択される界面張力低下剤とを含んでなる、
壁。
［２］  界面張力低下剤がリチウムスルホイソフタレートである、［１］に記載の壁。
［３］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在する、［２］に記載の壁。
［４］  ポリアミドがMXD6ナイロンである、［１］に記載の壁。
［５］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［４］に記載の壁。
［６］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［４］に記載の壁。
［７］  分散粒子の平均直径が100 nm未満である、［１］に記載の壁。
［８］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［７］に記載の壁。
［９］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［７］に記載の壁。
［１０］  分散粒子の平均直径が75 nm未満である、［１］に記載の壁。
［１１］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［１０］に記載の壁。
［１２］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［１０］に記載の壁。
［１３］  分散粒子の平均直径が60 nm未満である、［１］に記載の壁。
［１４］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［１３］に記載の壁。
［１５］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［１３］に記載の壁。
［１６］  分散粒子の平均直径が50 nm未満である、［１］に記載の壁。
［１７］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［１６］に記載の壁。
［１８］  界面張力低下剤が、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在するリチウムスルホイソフタレートである、［１６］に記載の壁。
［１９］  テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルエステル由来の少なくとも85%のポリエステル酸単位を有する結晶性ポリエステル中に分散した、アミノカプロン酸自身の反応物またはA-D〔ここでAは、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、レゾルシノールジカルボン酸、またはナフタレンジカルボン酸、またはそれらの混合物を含んでなるジカルボン酸の残基であり、およびDは、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、または1,4-シクロヘキサンジメチルアミン、またはそれらの混合物を含んでなるジアミンの残基である〕の反応生成物からなる群から選択される少なくとも１つの反応生成物を含んでなるポリアミドと、官能化および非官能化リチウムスルホネートからなる群から選択される界面張力低下剤とを含んでなる樹脂組成物であって、
該組成物から製造される未延伸物品中の測定される分散粒子の平均直径が、150 nm未満であり、および該組成物がコバルト化合物を含有しない、組成物。
［２０］  リチウムスルホネートが、リチウムスルホイソフタレートおよびリチウムスルホ安息香酸からなる群から選択される、［１９］に記載の組成物。
［２１］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて少なくとも0.1モル%で存在する、［２０］に記載の組成物。
［２２］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在する、［２０］に記載の組成物。
［２３］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在する、［２０］に記載の組成物。
［２４］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜0.7モル%の範囲内のレベルで存在する、［２０］に記載の組成物。
［２５］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.18〜0.6モル%の範囲内のレベルで存在する、［２０］に記載の組成物。
［２６］  ポリアミドが部分的に芳香族である、［２０］に記載の組成物。
［２７］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて少なくとも0.1モル%のレベルで存在する、［２６］に記載の組成物。
［２８］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在する、［２６］に記載の組成物。
［２９］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在する、［２６］に記載の組成物。
［３０］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜0.7モル%の範囲内のレベルで存在する、［２６］に記載の組成物。
［３１］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.18〜0.6モル%の範囲内のレベルで存在する、［２６］に記載の組成物。
［３２］  部分芳香族ポリアミドがMXD6ナイロンである、［２６］に記載の組成物。
［３３］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて少なくとも0.1モル%で存在する、［３２］に記載の組成物。
［３４］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜2.0モル%の範囲内のレベルで存在する、［３２］に記載の組成物。
［３５］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜1.1モル%の範囲内のレベルで存在する、［３２］に記載の組成物。
［３６］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.1〜0.7モル%の範囲内のレベルで存在する、［３２］に記載の組成物。
［３７］  リチウムスルホイソフタレートが、ポリエステル中の酸単位のモルに基づいて0.18〜0.6モル%の範囲内のレベルで存在する、［３２］に記載の組成物。
［３８］  ［１９］〜［３７］のいずれかに記載の組成物を含んでなる、容器壁層。
［３９］  延伸領域を有する層を含んでなる容器壁であって、
該層は、テレフタル酸またはテレフタル酸ジメチルエステル由来の少なくとも85%のポリエステル酸単位を有する結晶性ポリエステル中に分散した、アミノカプロン酸自身の反応物またはA-D〔ここでAは、アジピン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、レゾルシノールジカルボン酸、またはナフタレンジカルボン酸、またはそれらの混合物を含んでなるジカルボン酸の残基であり、およびDは、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、または1,4-シクロヘキサンジメチルアミン、またはそれらの混合物を含んでなるジアミンの残基である〕の反応生成物からなる群から選択される少なくとも１つの反応生成物を含んでなるポリアミドと、界面張力低下剤とを含んでなり、
同一方向における結晶性ポリエステルの延伸率で割ったポリアミドドメインの延伸率が、75%未満である、壁。
［４０］  ポリアミドがナイロン6である、［１］に記載の壁。
［４１］  界面張力低下剤が、リチウムスルホイソフタレートおよびリチウムスルホベンゾエートからなる群から選択される、［３９］に記載の壁。
［４２］  ポリアミドが、MXD6およびナイロン6からなる群から選択される、［３９］に記載の壁。
［４３］  界面張力低下剤がリチウムスルホイソフタレートである、［４２］に記載の壁。