Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2009507768.tif 000001
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素原子；又は炭素原子数１ないし３７のアルキル基を表わすが；
ここで、
−炭素原子数１ないし３７のアルキル基のＣＨ２単位の１ないし１０個は、互いに独立して、カルボニル基；酸素原子；硫黄原子；セレニウム原子；テルリウム原子；シス−又はトランス−ＣＨ＝ＣＨ−基；アセチレン性のＣ≡Ｃ−基；１，２−、１，３−又は１，４−置換フェニル基；２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−又は３，５−二置換ピリジン基；２，３−、２，４−、２，５−又は３，４−二置換チオフェン基；１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、１，７−、１，８−、２，３−、２，６−又は２，７−二置換１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、１，７−、１，８−、１，９−、１，１０−、２，３−、２，６−、２，７−、２，９−、２，１０−又は９，１０−二置換アントラセン基によって置換され得−；ここで、ＣＨ＝ＣＨ−基の１個又は２個のＣＨ−基、ナフタレン基及びアントラセン基は、窒素原子で置換され得；
−ＣＨ２−基の単独の水素原子の１２個までは、互いに独立して、フッ素原子；塩素原子
；臭素原子；又はヨウ素原子；シアノ基；１８個までの炭素原子を有する直鎖のアルキル基；シス−又はトランス−ＣＨ＝ＣＨ−基；アセチレン性のＣ≡Ｃ−基；１，２−、１，３−又は１，４−置換フェニル基；２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−又は３，５−二置換ピリジン基；２，３−、２，４−、２，５−又は３，４−二置換チオフェン基；１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、１，７−、１，８−、２，３−、２，６−又は２，７−二置換ナフタレン基；１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、１，７−、１，８−、１，９−、１，１０−、２，３−、２，６−、２，７−、２，９−、２，１０−又は９，１０−二置換アントラセン基によって、同一の炭素原子において置換され得−；ここで、アルキル鎖の６個までのＣＨ２−単位は、互いに独立して、カルボニル基；酸素原子；硫黄原子；セレニウム原子；テルリウム原子によって置換され得、かつアルキル基の−ＣＨ２−基の単独の水素原子の１２個までの各々はまた、互いに独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子又はシアノ基又は１８個までの炭素原子を有する直鎖のアルキル基によって同一のＣ−原子において置換され得、ここで、１ないし６個のＣＨ２−単位は、互いに独立して、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子、セレニウム原子、テルリウム原子、シス−又はトランス−ＣＨ＝ＣＨ−基によって置換され得、ここで、１個のＣＨ−単位はまた、窒素原子によって、アセチレン性のＣ≡Ｃ−基、１，２−、１，３−又は１，４−置換フェニル基、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−又は３，５−二置換ピリジン基、２，３−、２，４−、２，５−又は３，４−二置換チオフェン基；１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、１，７−、１，８−、２，３−、２，６−又は２，７−二置換ナフタレン基によって置換され得、ここで、１又は２個の炭素原子は、窒素原子によって、１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、１，７−、１，８−、１，９−、１，１０−、２，３−、２，６−、２，７−、２，９−、２，１０−又は９，１０−二置換アントラセン基によって置換され得、ここで、１又は２個の炭素原子は、窒素原子によって置換され得るか；又は、
置換基の代わりに、メチン−又は四級炭素原子の遊離原子価は、対になって結合してシクロヘキサン環等の環を形成し得るか；又は、
Ｒ１及びＲ２が炭素原子Ｃ１及びＣ２と一緒になって又はＲ３及びＲ４が炭素原子Ｃ３及びＣ４と一緒になって６−員基を形成する場合、アミノ基を表わし；
＝ＮＨ−が窒素原子Ｎ１（Ｒ６における）と一緒になって又は窒素原子Ｎ２（Ｒ７における）と一緒になって５−員基を形成する場合、Ｒ７及びＲ８は、互いに独立して、＝Ｏ；又は＝ＮＨ−を表わす。）で表わされるナフタレンアミジン。
【請求項２】
日焼け防止剤における請求項１に記載のナフタレンアミジンの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月18日(2009.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶性チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１を調製するための方法であって：
（Ａ）ゼオライトＴＳ−１を生成するのに十分な量の、少なくとも１種のシリカ活性源及び少なくとも１種の酸化チタン活性源、ＴＳ−１の結晶を形成することができる少なくとも１種の第四級アンモニウムカチオン及びゼオライトＴＳ−１を生成するのに十分な水を含む反応混合物を調製すること；及び
（Ｂ）前記反応混合物を、ゼオライトＴＳ−１の結晶を形成するのに十分な時間、結晶化条件下において及び追加された外部の液相が存在しない状態で加熱すること
を含む上記方法。
【請求項２】
前記反応混合物が、結晶化の間、約３以下の水／シリカのモル比を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記反応混合物が、結晶化の間、約０．７と約２の間の水／シリカのモル比を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記反応混合物が、以下のモル組成範囲：
ＳｉＯ２／ＴｉＯ２      ＝２５〜５００
ＯＨ−／ＳｉＯ２        ＝０．０４〜０．３０
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２        ＝０．５〜３
Ｑ／ＳｉＯ２            ＝０．０４〜０．３０
を有し、式中、Ｑは第四級アンモニウムカチオンである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記反応混合物が、以下のモル組成範囲：
ＳｉＯ２／ＴｉＯ２      ＝３０〜１５０
ＯＨ−／ＳｉＯ２        ＝０．０６〜０．１５
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２        ＝０．７〜２
Ｑ／ＳｉＯ２            ＝０．０６〜０．１５
を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
第四級アンモニウム化合物が、テトラアルキルアンモニウムカチオンである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
テトラアルキルアンモニウム化合物が、テトラプロピルアンモニウムカチオンである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
結晶性チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１を調製するための方法であって：
（Ａ）ゼオライトＴＳ−１を生成するのに十分な量の、少なくとも１種のシリカ活性源及び少なくとも１種の酸化チタン活性源及び前記混合物を成形するのに十分な水を含む、反応混合物を調製すること；
（Ｂ）前記反応混合物をある形状に成形すること；及び
（Ｃ）前記反応混合物を、ゼオライトＴＳ−１の結晶を形成するのに十分な時間、結晶化条件下において及び追加された外部の液相が存在しない状態で加熱すること
を含む上記方法。
【請求項９】
水の量が反応混合物を自立させるのに十分な量である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記反応混合物が、結晶化の間、約３以下の水／シリカのモル比を有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記反応混合物が、結晶化の間、約０．７と約２の間の水／シリカのモル比を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記反応混合物が、以下のモル組成範囲：
ＳｉＯ２／ＴｉＯ２        ＝２５〜５００
ＯＨ−／ＳｉＯ２          ＝０．０４〜０．３０
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２          ＝０．５〜３
Ｑ／ＳｉＯ２              ＝０．０４〜０．３０
を有し、式中、Ｑは第四級アンモニウムカチオンである、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記反応混合物が、以下のモル組成範囲：
ＳｉＯ２／ＴｉＯ２        ＝３０〜１５０
ＯＨ−／ＳｉＯ２          ＝０．０６〜０．１５
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２          ＝０．７〜２
Ｑ／ＳｉＯ２              ＝０．０６〜０．１５
を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第四級アンモニウム化合物が、テトラアルキルアンモニウムカチオンである、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
テトラアルキルアンモニウム化合物が、テトラプロピルアンモニウムカチオンである、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
ゼオライトＴＳ−１の結晶が、約１／６４インチと約１／２インチの間の断面直径を有する球形又は円筒形の粒子である、請求項８に記載の方法。
【請求項１７】
チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１の結晶を形成することができる反応混合物組成物であって、ゼオライトＴＳ−１を生成するのに十分な量の、少なくとも１種のシリカ活性源及び少なくとも１種の酸化チタン活性源、ＴＳ−１の結晶を形成することができる少なくとも１種の第四級アンモニウムカチオン及びＴＳ−１を生成するのに十分な水を含み、自立した、成形可能な集合体の形状である上記組成物。
【請求項１８】
本質的にすべてのチタノケイ酸塩ＴＳ−１及びＴＳ−１前駆体を含む、成形された、結合剤なしの触媒。
【請求項１９】
０．２μｍ未満の結晶子寸法を有する結晶性チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１。
【請求項２０】
結晶性チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１が触媒として有効な量で存在する状態で、炭化水素を酸化するのに有効な時間を掛けて及び有効な温度で、前記炭化水素を過酸化水素と接触させることを含む、炭化水素を酸化するための方法であって、前記触媒が、本質的にすべてのＴＳ−１及びＴＳ−１前駆体を含む、結合剤なしの、成形された粒子の形状である上記方法。
【請求項２１】
結晶性チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１が触媒として有効な量で存在する状態で、オレフィンをエポキシ化するのに有効な時間を掛けて及び有効な温度で、前記オレフィンを過酸化水素と接触させることを含む、オレフィンをエポキシ化するための方法であって、前記触媒が、本質的にすべてのＴＳ−１及びＴＳ−１前駆体を含む、結合剤なしの、成形された粒子の形状である上記方法。
【請求項２２】
結晶性チタノケイ酸塩ゼオライトＴＳ−１が触媒として有効な量で存在する状態で、シクロヘキサンを酸化するのに有効な時間を掛けて及び有効な温度で、前記シクロヘキサンを過酸化水素と接触させることを含む、シクロヘキサンを酸化するための方法であって、前記触媒が、本質的にすべてのＴＳ−１及びＴＳ−１前駆体を含む、結合剤なしの、成形された粒子の形状である上記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月1日(2009.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
翼を含む航空機であって、前記翼は、翼端と該翼端の領域内に取付けられた翼端装置とを含んでおり、前記翼端装置は、全体として下方に延び、１８０度を超える傾斜角で傾斜して飛行の間に揚力を発生するように配置された領域を有するとともに、基端及び先端を含んでおり、前記翼端装置の、前記基端の近傍の部分は、前記１８０度を超える傾斜角で傾斜した領域を含まないことを特徴とする航空機。
【請求項２】
前記翼は、正の上反角を有することを特徴とする請求項１に記載の航空機。
【請求項３】
前記１８０度を超える傾斜角で傾斜した領域は、２７０度未満の傾斜角で傾斜していることを特徴とする請求項１又は２に記載の航空機。
【請求項４】
前記翼端装置は、局所翼弦長の５０％の全ての点を通過して前記基端から前記先端まで延びる仮想線を含んでおり、前記翼端装置の、前記基端と前記仮想線の３０％との間の部分は、前記１８０度を超える傾斜角で傾斜した領域を含まないことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の記載の航空機。
【請求項５】
前記翼端装置は、局所翼弦長の５０％の全ての点を通過して前記基端から前記先端まで延びる仮想線を含んでおり、前記１８０度を超える傾斜角で傾斜した領域の少なくとも一部は、前記仮想線の５０％と前記先端との間に配置されることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の航空機。
【請求項６】
前記１８０度を超える傾斜角で傾斜した領域は、前記先端の近傍に配置されることを特徴とする請求項５に記載の航空機。
【請求項７】
前記翼端装置は、前記基端から前記航空機の翼幅の３％と１５％の間の距離だけ翼幅方向に延びることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の航空機。
【請求項８】
前記翼端装置は、前記基端から前記航空機の翼幅の３％と１５％の間の距離だけ垂直方向に延びることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の航空機。
【請求項９】
前記翼端装置は、複数の個別の要素を含み、少なくとも１つの要素が、前記１８０度を超える傾斜角で傾斜した領域に配置されることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の航空機。
【請求項１０】
前記翼端装置の前縁は後退型であることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の航空機。
【請求項１１】
前記翼及び／又は前記翼端装置は、その使用の間に、前記航空機が静止しているときと比較して翼幅が増大するように変形することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の航空機。
【請求項１２】
翼端装置を含む翼であって、前記翼及び前記翼端装置は、請求項１から１１のいずれか１項に記載の航空機の翼に従って構成されていることを特徴する翼。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の航空機の翼端装置に従って構成されていることを特徴とする翼端装置。
【請求項１４】
翼端装置を含む部品キットであって、航空機を、請求項１から１１のいずれか１項に記載の航空機に改造するために適していることを特徴とする部品キット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バンド間搬送装置であり、
移動元コンベヤの一部がバンド間搬送装置の第１搬送区域内を移動中に基板キャリアを第１速度で進む移動元コンベヤから取り外すように適合された第１アセンブリと、
移動先コンベヤの一部がバンド間搬送装置の第２搬送区域内を移動中に第２速度で進む移動先コンベヤ上へと基板キャリアをローディングするように適合された第２アセンブリを備えた装置。
【請求項２】
第１アセンブリ及び第２アセンブリが単一の同じアセンブリである請求項１記載の装置。
【請求項３】
移動元コンベヤ及び移動先コンベヤが単一で同じコンベヤの異なる部位である請求項１記載の装置。
【請求項４】
基板キャリアが小ロットサイズ用キャリアである請求項１記載の装置。
【請求項５】
移動元コンベヤからの基板キャリアが第１クレードルによって移動元コンベヤ上に支持され、
移動先コンベヤにローディングされた基板キャリアが第２クレードルによって移動先コンベヤ上に支持され、
第１クレードルがシステム制御装置内で実行するスケジューラによって第２クレードルと対となっている請求項１記載の装置。
【請求項６】
基板キャリアを輸送するためのシステムであり、
第１速度で進む第１コンベヤと、
第２速度で進む第２コンベヤと、
第１及び第２コンベヤに隣接して配置されたバンド間搬送装置を備え、
バンド間搬送装置が第１コンベヤの一部がバンド間搬送装置の第１搬送区域内を移動中に基板キャリアを第１コンベヤから取り外すように適合された第１アセンブリと、
第２コンベヤの一部がバンド搬送装置の第２搬送区域内を移動中に第２コンベヤ上へと基板キャリアをローディングするように適合された第２アセンブリを含むシステム。
【請求項７】
第１アセンブリ及び第２アセンブリが単一で同じアセンブリである請求項６記載のシステム。
【請求項８】
第１コンベヤ及び第２コンベヤが単一で同じコンベヤの異なる部位である請求項６記載のシステム。
【請求項９】
基板キャリアが小ロットサイズ用キャリアである請求項６記載のシステム。
【請求項１０】
バンド間搬送装置に連結されたシステム制御装置を更に備え、
第１コンベヤからの基板キャリアが第１クレードルによって第１コンベヤ上に支持され、
第２コンベヤにローディングされた基板キャリアが第２クレードルによって第２コンベヤ上に支持され、
第１クレードルがシステム制御装置内で実行するスケジューラによって第２クレードルと対となっている請求項６記載のシステム。
【請求項１１】
基板キャリアをバンド間搬送装置を用いて輸送するための方法であり、
移動元コンベヤの一部がバンド間搬送装置の第１搬送区域内を移動中に基板キャリアを第１速度で進む移動元コンベヤから取り外し、
移動先コンベヤの一部がバンド間搬送装置の第２搬送区域内を移動中に第２速度で進む移動先コンベヤ上へと基板キャリアをローディングすることを含む方法。
【請求項１２】
基板キャリアの取り外しと基板キャリアのローディングを単一で同じアセンブリで実行する請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
移動元コンベヤと移動先コンベヤが単一で同じコンベヤの異なる部位である請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
基板キャリアが小ロットサイズ用キャリアである請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
移動元コンベヤからの基板キャリアが第１クレードルによって移動元コンベヤ上に支持され、
移動先コンベヤにローディングされた基板キャリアが第２クレードルによって移動先コンベヤ上に支持され、
第１クレードルがシステム制御装置内で実行するスケジューラによって第２クレードルと対となっている請求項１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月15日(2009.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の非ホジキンリンパ腫（Hodgkin's lymphoma）を処置するための組成物であって、
融合分子（fusion molecule）を含んでなるとともに、
融合分子が：
（１）（ｉ）配列番号１と少なくとも９０％同一である、ＢｌｙＳに結合するＴＡＣＩ細胞外ドメイン又はその断片と、（ii）ヒト免疫グロブリン定常ドメインとを含んでなる融合分子；
（２）（ｉ）配列番号１を有するＴＡＣＩ細胞外ドメイン、又はＢｌｙＳに結合するその断片と、（ii）ヒト免疫グロブリン定常ドメインとを含んでなる融合分子；
（３）（ｉ）配列番号１のアミノ酸３０〜１１０と、（ii）ヒト免疫グロブリン定常ドメインとを含んでなる融合分子；及び
（４）（ｉ）配列番号１のアミノ酸３０〜１１０と、（ii）ヒト免疫グロブリン定常ドメインとからなる融合分子；
からなる群より選択される、組成物。
【請求項２】
当該ヒト免疫グロブリン定常ドメインが、配列番号２に記載の配列を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
当該組成物が、患者の体重１ｋｇ当たり０．０１ｍｇから、患者の体重１ｋｇ当たり１０ｍｇまでの量で投与される、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
当該量の当該組成物が４週の期間内に５回投与される、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
当該量の当該組成物が４週の期間内に５回投与された後、更に当該量の当該組成物が毎週投与される、請求項３記載の組成物。
【請求項６】
当該量の当該組成物が毎週１回、２から３０週に亘って投与される、請求項３記載の組成物。
【請求項７】
薬剤とともに投与される、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
当該薬剤が、ビスフォスフォネート、エリスロポエチン、顆粒球増殖因子、顆粒球コロニー刺激因子、疼痛管理薬、メルファラン、ビンクリスチン、ドキソルビシン、サリドマイド及びヌクレオシド類似体からなる群より選択される、請求項７記載の組成物。
【請求項９】
当該組成物が皮下、経口又は静脈内投与される、請求項１記載の組成物。
【請求項１０】
前記患者がヒトである、請求項１記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月3日(2009.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予備含浸した部品（１０、１１）を製造し、前記部品（１０、１１）は互いに整列した繊維（１２）を包含し、前記繊維は第１の樹脂で含浸されており、
予備含浸した部品の第１の樹脂のみを該樹脂内部に繊維がその位置に固定されるに十分硬い段階にまでにする第１の部分重合工程に付し、第１の樹脂を５％から７０％に亘る重合率で部分的に重合し、
予備重合した部品（１０、１１）及び乾燥繊維状予備成形品（８）を支持体（１）の周りに置き、予備成形品は繊維状要素（６、１３）を包含し、前記繊維状要素（６、１３）は乾燥繊維(７)を包含し、
第２の樹脂を繊維状予備成形品内に射出し、かつ
第２の重合工程において、第２の樹脂を重合しかつ第１の樹脂の重合を同時に終了させる工程を包含することを特徴とするＲＴＭ（樹脂トランスファー成形）複合体部品の製造方法。
【請求項２】
予備含浸した部品（１０、１１）は互いに重ねた繊維の片（２９、３０）によって形成し、予備含浸部品の繊維は、各片について、互いに実質的に平行であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
予備含浸及び予備重合した部品（１０、１１）は予備成形品（８）の繊維状要素（６、１３）の間に位置することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
第１の樹脂及び第２の樹脂は互いに適合する分子構造を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
第１の樹脂及び第２の樹脂は実質的に同一の化学組成を有することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
第２の樹脂を射出するために、
支持体（１）、予備成形品（８）及び部品(１０、１１）を型（１６）内に置き、及び
第２の樹脂を型(１６)内に射出して前記第２の樹脂を予備成形品（８）の乾燥繊維（７）に含浸させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
予備含浸及び予備重合した部品（１０、１１）を製造するために、
予備含浸した片（２９、３０）の積重ねを予備重合工程の前に成形し、前記片（２９、３０）は実質的に整列しかつ互いに平行な繊維を包含し、前記繊維（１２）は第１の樹脂により共に結合されており、及び
このように成形された前記片の第１の樹脂を部分的に重合することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
第１の樹脂の部分重合は真空下又は圧力下で行うことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
片（２９、３０）を予備含浸した部品の製造に専用の特定ツール（３1）上で成形することを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
片（２９、３０）を支持体(１)上で成形することを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１１】
切断及び／又は機械加工作業は成形しかつ予備重合した片（２９、３０）に行うことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
スリーブ形状の繊維状要素（６、１３）を用い、前記繊維状要素（６、１３）は組合された繊維（７）を包含することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
約４５度で組合された繊維（７）を用いることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
予備含浸及び予備重合した部品（１０、１１）の繊維が、得られる最終部品（２３）に適用されるべき圧縮力の方向に平行に位置することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の方法を実行することにより製造することを特徴とする特定の圧縮軸を有する複合体材料の連結ロッドであって、
ＲＴＭ法で成形した後に樹脂を含浸させた組合せ繊維（７）を包含する繊維状要素の少なくとも２つの層（６、１３）、及び
樹脂で予備含浸した繊維を用いて複合体材料で製造されかつ繊維状要素の層（６、１３）の間に位置する部品（１０、１１）であって、該部品（１０、１１）は実質的に互いに平行な繊維（１２）を包含し、これらの繊維(１２）は連結ロッドの特定の圧縮軸にしたがって実質的に配位していることを包含する連結ロッド。
【請求項１６】
繊維状要素（６、１３）の層がその上に位置する延長した管状支持体（１）を更に包含することを特徴とする請求項１６に記載の連結ロッド。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月2日(2009.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
流体分離器において凝縮及び分離を改善する方法であって、
-  初期にガス状の少なくともいくつかの成分が過飽和となり凝縮するように、流体混合物を流路のスロート領域において加速させることにより膨張させ冷却し；
-  少なくともいくつかの凝縮した成分をスロート領域の下流の場所にて流路中の流体混合物から除去し；更に
-  流路を流れる流体混合物を放射源によって照射することにより少なくともいくつかの過飽和成分の凝縮を改善し；また
-  流体混合物をスロート領域において加速させることでほぼ断熱的に冷却する、
ことを特徴とする前記方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
-  少なくともいくつかの初期にガス状の流体成分が凝縮するように、流れる流体混合物を加速することで膨張させて断熱的に冷却するためのスロート領域を備えた流路と；
-  スロート領域の下流の流路に配置された分離領域であって、少なくともいくつかの凝縮された成分がスロート領域の下流の場所にて流路中の流体混合物から除去される前記分離領域と；
-  流路を流れる流体混合物の少なくとも１種の成分の凝縮を改善するための放射源と；
を備える流体分離器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月10日(2009.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
半導体表面上で酸化物を成長させること、
半導体ウェーハからフォトレジストを除去すること、
半導体ウェーハから不純物を除去すること、
石油の回収のために使用される噴射蒸気から不純物を除去すること、
環境内に放出する前に、排出された蒸気から不純物を取り除くこと、
大気に通気を案内する前に、排出された蒸気から前記不純物を取り除くこと、
シリコン薄膜構造をアニーリングすること、および、
薬剤使用のためにきれいな蒸気を生成することもしくは薬剤使用のため超純水を生成すること、
からなる群から選択される少なくとも１つのプロセスにおいて使用される浄化蒸気を調整することのための請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆金属基板（６０）の製造に用いる装置（１）であって、被覆位置（１００）の溶接手段（３）と、前記溶接手段（３）により前記被覆位置（１００）で金属被覆される基板（６０）を支持する手段（２）と、前記被覆位置（１００）に設けられるとともに、前記溶接手段（３）による被覆の間又は被覆後に前記基板（６０）の表面を横切るよう配列されたフライス装置（４２）とを備え、前記溶接手段（３）が、円筒形の金属基板（６０）の全幅を金属被覆する為に、かつ、前記基板（６０）の軸の周りでの回転に備え前記支持手段（２）の上に載置された前記基板（６０）の軸方向に前記溶接手段（３）を左右に往復運動させる為に、円筒形の金属基板（６０）の全幅を横切るよう配列されている、装置（１）。
【請求項２】
前記溶接手段（３）がアーク溶接ガン（３１）である、請求項１に記載の装置（１）。
【請求項３】
前記支持手段（２）が、主軸台（２１）と心押台（２２）とを備えた旋盤型の支持体（２）である、請求項１又は２に記載の装置（１）。
【請求項４】
前記機械加工手段（４）が、基板（６０）を金属で被覆する際に前記溶接手段（３）に追随するよう配列された、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５】
前記溶接手段（３）と金属機械加工手段（４）とが一斉に又は互いに独立して動作するようプログラムされた、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６】
前記溶接手段（３）及び前記機械加工手段（４）のうちの少なくとも一方の作業を制御する為に、金属基板（６０）の表面の被覆の前及び後及び機械加工の後のうちの少なくとも１つにおいて、金属基板（６０）の表面をモニタリングするよう配列された手段（５）を備えた、請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項７】
前記モニタリング手段（５）が、前記溶接手段（３）及び前記機械加工手段（４）のうちの少なくとも１つと一斉に又は独立して基板（６０）の全幅を横切るよう配列されたレーザモニタリング手段（５）を含む、請求項６に記載の装置（１）。
【請求項８】
前記モニタリング手段（５）が、前記溶接手段（３）及び前記機械加工手段（４）のうちの少なくとも１つの作業を制御するよう配列された、請求項６又は７に記載の装置（１）。
【請求項９】
硬化肉盛された金属被覆基板（６０）を製造するための方法であって、前記方法が、溶接することにより金属基板（６０）の表面を金属（６１）で被覆する工
程と、前記基板（６０）の前記被覆された前記面（６１）を前記溶接作業の位置（１００）で機械加工する工程とを備え、フライス装置が前記溶接手段（３）による被覆の間又は被覆後に前記基板（６０）の表面を横切ることによって被覆基板の前記表面を機械加工する工程を行い、及び、前記溶接手段（３）が、円筒形の金属基板（６０）の全幅を金属被覆する為に、かつ、前記基板（６０）の軸の周りでの回転に備え前記支持手段（２）の上に載置された前記基板（６０）の軸方向に前記溶接手段（３）を左右に往復運動させる為に、円筒形の金属基板（６０）の全幅を横切る、方法。
【請求項１０】
溶接がアーク溶接ガン（３１）を用いて行われる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記フライス装置（４２）は前記溶接手段による被覆の間又は被覆後に連続的に前記基板の表面を横切る、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記被覆基板（６０）の前記表面（６１）がモニタリングされている、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記モニタリングがレーザ装置（５）を用いて行われる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記被覆作業と前記機械加工作業とが一斉に又は互いに独立して行われるよう配列されている。請求項９〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法において、前記表面モニタリング作業が前記被覆作業及び前記機械加工作業のうちの少なくとも１つと独立して又は一斉に行われる、方法。
【請求項１６】
前記表面モニタリング作業が前記被覆作業及び機械加工作業のうちの少なくとも１つを制御する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記基板が円筒形の基板又はシートメタル基板（６０）である、請求項９〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
経腔的な操作を実行する装置であって、
切除用具と、
上記切除用具によって形成されたルーメン壁の開口を介する装置の移動を監視するように設けられたルーメン壁係合機構及び追跡機構を有する基準及び位置の表示器とを備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
上記切除用具は、上記基準及び位置の表示器に係合することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
更に、ガイド・ルーメンを備え、
上記装置の追跡機構は、上記ガイド・ルーメンを通り、又、上記切除用具によって形成されたルーメン壁の開口を通る装置の移動を検出するように設けられたことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
上記ガイド・ルーメンは硬化可能なガイド・チューブを備えることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
更に、ルーメン壁消毒機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
更に、装置追跡情報を受け付けるように追跡機構と通信する装置追跡モニターを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
経腔的な操作を実行するための装置であって、
切除用具と、
経腔的な装置と、
切除用具によって形成されたルーメン壁の開口を通る装置の移動を検出するように設けられた、ガイド・ルーメンと、ルーメン壁係合機構と、装置追跡機構とを有する基準及び位置の表示器とを備えることを特徴とする装置。
【請求項８】
上記ガイド・ルーメンは、シースと、上記シースに穴を開けるように設けられたシース・ピアシング機構を有する経腔的な装置を有することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
上記ガイド・ルーメンは、上記装置が上記ガイド・ルーメンを介して前進するにつれて展開するように設けられたロールド・シースを備えることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
更に、装置の関節を制御するために、上記装置追跡機構と通信する装置制御部を備えることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】経腔的及び他の操作を行うための装置
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月19日(2009.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体を液体に溶解させる装置において：
(a)(i)液体を収容し、前記液体上部に調節された気体による上部空間を提供する圧力容器と、
(ii)液体の前記圧力容器内への注入を可能にする少なくとも一個の液体噴射ノズルと、
(iii)前記液体の前記圧力容器外への流出を可能にする一個の出口と、
を有する、溶解タンクと、
(b)前記液体を、前記少なくとも一個の液体噴射ノズルと連通する前記溶解タンクに、注入する、手段と、
(c)前記溶解タンクと連通する気体源と、
(d)前記溶解タンクの外側に備えられ、前記出口と連通する、放出装置であって、前記溶解タンクからの前記液体が該放出装置外の液体中に放出される、少なくとも一つの開口部を備える、放出装置と、
を備える、装置。
【請求項２】
前記気体が、空気、酸素、オゾン、水素、窒素、亜酸化窒素、及び二酸化炭素からなる群から選択される、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記液体を前記溶解タンクに注入する手段が、
(i)高圧圧力液体ポンプ、又は(ii)住宅又は工業的設定の配線源、又は(iii)高圧気体の圧力により、その内部の前記液体を該気体で置換し、前記液体をその出口より前記溶解タンク内に強制注入する能力を有する、複数の固定容量容器、又は(iv）静的な液体柱の頭圧、
である、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記放出装置外の圧力が、前記放出装置内の圧力より低く、従って、前記放出装置内での溶解した気体の飽和濃度が、前記放出装置外の領域の飽和濃度より大きくなる、請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記液体に溶解した気体の量が、前記溶解タンクの内部圧力、又は、噴射された前記液体と前記上部空間内の気体との接触時間、又は、熱的手段、により制御される、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも一つの噴射ノズルが、液体の液滴サイズをコントロールできるよう調節可能である、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記放出装置が、前記液体を、溶解した気体での処理を必要とする目標の液体に、放出する、請求項１記載の装置。
【請求項８】
溶解タンク内の加圧された前記気体の前記上部空間が、溶解した気体を含む液体を前記放出装置から押し出す、請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記放出装置が液体の同伴手段を備えており、それにより、前記溶解した気体を含む液体が、前記放出装置を出て、より低い大気圧下にある液体と混合する、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記放出装置の、前記少なくとも一つの開口部と同伴手段との、数、サイズ、配置は、溶解した気体を含む液体が、より低圧の大気圧下にある液体と混合し、且つ、気体が実質的に該液体に溶解した状態で留まるように、予め設定されている、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
前記放出装置の、少なくとも一つの開口部と同伴手段との、数、サイズ、配置は、より低圧である大気圧下にある液体と混合し、且つ、少なくとも溶解した前記気体の一部が該液体から気泡の形で放出されるように、予め設定されている、請求項１記載の装置。
【請求項１２】
前記気泡のサイズが、所定のサイズ範囲に制御可能である、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記放出装置の、前記少なくとも一つの開口部の、数、サイズ、配置は、前記放出装置から流出する液体の流速が、溶解タンクに流入する液体の速度と均衡し、それにより、制御された圧力と、前記液体の溶解タンク内部での容積と上部空間の気体容積との比率とを、定常的な流れの状態下で維持できるように、予め設定されている、請求項１記載の装置。
【請求項１４】
前記装置の操作を制御するための、開ループ又は閉ループの制御システムを有する、請求項１記載の装置。
【請求項１５】
気体を液体に溶解させる方法において：
(a)加圧により封入型の容器を気体で充填するプロセスと、
(b)液体を、前記気体が該液体に溶解可能な条件下で、前記気体を含む容器内に噴射する、プロセスと、
(c)前記溶解した気体を含む液体を、前記容器から、少なくとも一つの開口部を備え、且つ、目標の液体中に浸漬された、放出装置内へ導くプロセスと、
(d)前記溶解した気体を含む液体を、前記目標の液体中に、液体同士の混合を可能とする条件下で、放出するプロセスと、
を備えた、方法。
【請求項１６】
前記気体が、空気、酸素、オゾン、水素、窒素、亜酸化窒素、及び二酸化炭素からなる群から選択される、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
溶解タンクの圧力下で、前記気体が、前記液体に、飽和濃度又は飽和濃度近くで溶解する、請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
継続的モード又はパルス的モードで行われる、請求項１５記載の方法。
【請求項１９】
前記気体が、ほぼ大気圧下で前記容器に入り、前記液体を前記容器から放出する前に、より高い所望の圧力が達成されるまで、閉鎖システムでの液体の噴射を通じて、前記気体が加圧される、請求項１５記載の方法。
【請求項２０】
前記タンクの加圧に使われたエネルギーが、前記溶解した気体を含む液体を、強制的に目標の液体中に排出し、二つの液体を混合することに使われる、請求項１５記載の方法。
【請求項２１】
前記液体の混合速度が、溶解した気体の大部分が溶液中に残存するように、制御される、請求項１５記載の方法。
【請求項２２】
前記液体の混合速度が、少なくとも溶解した気体の一部が溶液から気泡の形で放出されるように、制御される、請求項１５記載の方法。
【請求項２３】
前記気泡のサイズが、所定のサイズ範囲に、制御される、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
高圧ポンプから前記容器に入る前記液体が、前記溶解タンク内に設置された液体の水準を示すセンサーからのフィードバックで、制御される、請求項１５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月7日(2009.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板１０２と、
前記第１の基板上の複数の第１の隆起要素１０６とを含み、前記第１の隆起要素が前記第１の基板上の第１のチャネル領域１１８によって互いに離隔され、前記第１の隆起要素それぞれが第１の遠位端１３２を有し、そして、前記第１の遠位端が第１のアレイ２００を形成しており、さらに、
前記第１の隆起要素上の疎水性分子１５２と、
親水性反応生成物を発生させる、前記第１の隆起要素上の第１反応性分子とを含むデバイス。
【請求項２】
第２の基板１０４と、
前記第２の基板上の複数の第２の隆起要素１１２とを含み、前記第２の隆起要素が前記第２の基板上の第２のチャネル領域１２２によって互いに離隔され、前記第２の隆起要素それぞれが第２の遠位端１４４を有し、前記第２の遠位端が第２のアレイ３００を形成し、そして、前記第１および第２のアレイが、それらの間に液体を閉じ込めることができるように互いに位置決めされており、さらに、
前記第２の隆起要素上の疎水性分子１５０と、
親水性反応生成物を発生させる、前記第２の隆起要素上の第２反応性分子とを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記第１のアレイの第１の部分内の第１の遠位端を有する第１の隆起要素上に配置された複数の第１の第１反応性分子と、
前記第１のアレイの第２の部分内の第１の遠位端を有する第１の隆起要素上に配置された、第１の第１反応性分子とは異なる構造を有する複数の第２の第１反応性分子とを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
第１反応性分子が第１のチャネル領域内の球体１１９上に配置される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
第１の球体１１９上に配置された第１の第１反応性分子と、
第２の球体１２１上に配置された、前記第１の第１反応性分子とは異なる構造を有する第２の第１反応性分子とを含む、請求項４に記載のデバイス。
【請求項６】
前記球体が第３のアレイ１０００を形成し、前記第１の球体が前記第３のアレイ内に第１の場所を有し、そして、前記第２の球体が前記第３のアレイ内に第２の場所を有する、請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
デバイスを提供するステップを含み、前記デバイスが、
第１の基板と、
前記第１の基板上の複数の第１の隆起要素とを有し、前記第１の隆起要素が前記第１の基板上で第１のチャネル領域によって互いに離隔され、前記第１の隆起要素それぞれが第１の遠位端を有し、そして、第１の遠位端が第１のアレイを形成しており、前記デバイスがさらに、
前記第１の隆起要素上の疎水性分子と、
親水性反応生成物を発生させる、前記第１の隆起要素上の第１反応性分子とを有しており、さらに、
親水性液体を前記第１の隆起要素と接触させるステップと、
第１の隆起要素上の第１反応性分子と前記親水性液体との間で疎水性変化反応が起こるかどうかを判定するステップとを含む方法。
【請求項８】
第２の基板と、
前記第２の基板上の複数の第２の隆起要素とをさらに有し、前記第２の隆起要素が前記第２の基板上で第２のチャネル領域によって互いに離隔され、前記第２の隆起要素それぞれが第２の遠位端を有し、前記第２の遠位端が第２のアレイを形成し、そして、前記第１および第２のアレイが、それらの間に液体を閉じ込めることができるように互いに位置決めされており、さらに、
前記第２の隆起要素上の疎水性分子と、
親水性反応生成物を発生させる、前記第２の隆起要素上の第２反応性分子と、
をさらに有するデバイスを提供するステップと、
第２の隆起要素上の第２反応性分子と前記親水性液体との間で疎水性変化反応が起こるかどうかを判定するステップとを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のアレイの第１の部分内の第１の遠位端を含む第１の隆起要素上に配置された複数の第１の第１反応性分子と、
前記第１のアレイの第２の部分内の第１の遠位端を含む第１の隆起要素上に配置された、第１の第１反応性分子とは異なる構造を有する複数の第２の第１反応性分子とをさらに有するデバイスを提供するステップと、
前記液体と第１の隆起要素上の第１反応性分子との間で疎水性変化反応が起こるかどうかを判定するステップと、
前記液体と第１の隆起要素上の第２反応性分子との間で疎水性変化反応が起こるかどうかを判定するステップとを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
第１の球体上の第１の第１反応性分子と、
第２の球体上の、前記第１の第１反応性分子とは異なる構造を有する第２の第１反応性分子とをさらに有するデバイスを提供するステップと、
前記液体と第１の球体上の第１の第１反応性分子との間で反応が起こるかどうかを判定するステップと、
前記液体と第２の球体上の第２の第１反応性分子との間で反応が起こるかどうかを判定するステップとを含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月3日(2009.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製品仕上げ設備におけるアプリケータに塗料を提供するのに好適な塗料循環システムにおいて、
システム内に塗料を循環させるためのポンプと、
上流側の塗料の圧力変動を実質的に解消するための背圧調整器と、
システム内を循環する塗料が所要の流量に維持される流量モードと、ポンプおよびＢＰＲ間における塗料圧が維持される圧力モードとのいずれかで動作するようにポンプおよびＢＰＲを制御する制御手段とを具備する塗料循環システム。
【請求項２】
塗料塗装ブースと併用される塗料循環システムにおいて、
システム内を循環するように塗料を送り込むための可変速ポンプと、
活動状態においては自体に流入する塗料の圧力変動に応答して上流の塗料圧を維持し、非活動状態において塗料を自由に通過させる背圧調整器と、
流量モードおよび圧力モードのいずれかで動作するようにシステムを制御するコントローラと、
流量モードにおいて、背圧調整器を非活動状態にし、ポンプを定速度で動作させることによって最低圧で所要流量の塗料をシステム内に循環させるようにコントローラを構成したことと、
圧力モードにおいて、背圧調整器を活動状態にし、ポンプ速度を制御することによって塗装ブースにおける塗料圧を維持するようにコントローラを構成したことと、
コントローラがリクエスト信号に応答して流量モードと圧力モードとの間でシステムを切り替える作用をも行なう前記塗料循環システム。
【請求項３】
システム内に塗料を送り込むポンプと、自体の上流における塗料の圧力変動を実質的に解消する背圧調整器（ＢＰＲ）と、ポンプおよびＢＰＲを制御する制御手段とを含む塗料循環システムを運転して製品仕上げ設備におけるアプリケータに塗料を提供する方法において、
ポンプおよびＢＰＲを、システム内を循環する塗料の所要の流量が維持される流量モードと、ポンプとＢＰＲとの間における塗料の圧力が維持される圧力モードとの間で切り替える動作を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月27日(2009.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着剤を用いることなく容器に設けられた発光ラベルであって、
熱収縮性材料によって形成された光を透過する基板と、
前記基板の内側表面に印刷された標示と、
前記印刷された標示の上において前記基板に設けられる透明又は半透明インクを混合した色つき蓄光・発光材料の層と、を包含するラベル。
【請求項２】
前記基板がＰＶＣである、請求項１に記載のラベル。
【請求項３】
前記標示が文字と図柄とを含む、請求項１に記載のラベル。
【請求項４】
前記標示が半透明または不透明なインクで印刷される、請求項３に記載のラベル。
【請求項５】
前記標示が文字と図柄とを包含する、請求項２に記載のラベル。
【請求項６】
さらに、透明又は半透明インクを混合した色つき蓄光・発光材料の層の上に設けられた光学的増白剤の層を包含する、請求項５に記載のラベル。
【請求項７】
前記蓄光材料が、発光および蛍光材料と該材料の混合物と混合された半透明または透明のインクとで構成されるグループから選択される、請求項６に記載のラベル。
【請求項８】
前記蓄光材料が着色料である、請求項７に記載のラベル。
【請求項９】
発光ラベルを製造するプロセスであって、
蓄光・発光材料を半透明または透明のインクと混合して発光インクを生成することと、
熱収縮性基板に標示を印刷することと、
前記発光インクの層を前記標示の上に塗布することと、
を包含するプロセス。
【請求項１０】
前記蓄光・発光材料が、５００メッシュを通る２５ミクロン以下のサイズの結晶である、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記発光インクの前記層が逆凸版輪転スクリーンプロセスを用いて塗布される、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記逆凸版輪転スクリーンプロセスが１２５／２０スクリーンにより実施される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記蓄光・発光材料が、発光および蛍光材料と該材料の混合物とで構成されるグループから選択される、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記蓄光・発光材料が等しい割合の前記インクと徐々に混合される、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
さらに、前記発光インクの層または容器に塗布される白色光学的増白剤の層を包含する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
請求項１０に記載のプロセスであって、
実質的にすべてが２５ミクロン以下のサイズとなるように前記蓄光・発光材料を処理することを包含し、
（ａ）２５ミクロンより大きなサイズを有する結晶を分離することと、
（ｂ）前記分離結晶を磨砕または粉砕することと、
（ｃ）２５ミクロンを超えるサイズを有する粉砕結晶を分離することと、
（ｄ）結果的に得られた２５ミクロンを超えるサイズを有するものを再磨砕または粉砕することと、
（ｅ）実質的にすべての材料が５００メッシュを通る２５ミクロン以下のサイズとなるまで段階（ｂ）および（ｃ）を反復することと、
を包含するプロセス。
【請求項１７】
前記段階（ｂ）が超音波フィルタを用いて実施される、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記インクがＵＶ硬化型である、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記発光インクの層が、前記白色光学的増白剤の層が塗布される前に、ＵＶ光線に露出されて冷却されることにより硬化される、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記粉砕がセラミック粉砕機により行われる、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２１】
接着剤を用いることなく容器に設けられた発光ラベルであって、
熱収縮性材料によって形成され、光を透過する基板と、
前記基板の内側表面に印刷された標示と、
前記印刷された標示の上において前記基板に設けられる透明又は半透明インクを混合した色つき蓄光・発光材料の層と、
該色つき蓄光・発光材料の層の上に設けられた白色光学的増白剤の層と、
を包含するラベル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る容器用ラベル又は容器用の発光・蛍光ラベルは、接着剤を用いることなく容器に設けられた発光ラベルであって、熱収縮性材料によって形成された光を透過する基板と、前記基板の内側表面に印刷された標示と、前記印刷された標示の上において前記基板に設けられる透明又は半透明インクを混合した色つき蓄光・発光材料の層と、を包含するラベルである。また、他の好適な発明である容器用ラベルは、透明または半透明材料の熱収縮性基板と、半透明または不透明インクで基板に印刷される標示と、印刷された材料の上で基板に設けられる蓄光・発光材料の層と、蓄光・発光材料の層に設けられる白色光学的増白剤の層とを含む。代替方法として、光学的増白剤が飲料容器に塗布されることも可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
逆凸版輪転スクリーンプロセスで使用される発光／蛍光インクは、透明ＵＶ硬化インクと混合される発光／蛍光結晶着色料を包含する。発光／蛍光インクは、５０％の着色料と５０％の高粘度透明インクとを徐々に混合することにより製造されることが好ましい。これは好ましい比を表しているが、２０％〜５０％の量の着色料と８０％〜５０％のインクとを使用することも可能である。ＰＶＣ基板への逆凸版スクリーン印刷中には、スクリーンが利用される。スクリーンの細かさは１２５／２０スクリーンから１２５／３０スクリーンの範囲である。逆凸版輪転スクリーンプロセスは図２に図示されており、このプロセスでは、大きな印字または図柄が最初に基板に印刷されてからＵＶ硬化され、ドラムプレスを通して冷却され、中和される。次に、大きな印字を印刷するのに利用されたものと同じまたは同様のインクを利用して、細かい印字または図柄が基板に印刷される。次に一つ以上の工程において、担体またはインクと混合された発光／蛍光結晶着色料が、１２５／２０スクリーンを用いて基板に塗布される。白色光学的増白剤の最終ティントコーティングを含むインク乗せのいずれかまたすべての工程では、基板上のインクを硬化および中和させるＵＶランプ・冷却ドラムプロセスが利用される。用途によっては、このティントコーティングが必要とされなくてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月1日(2009.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁放射事象を検出する装置であって、
電磁放射を受信する受信機と、
前記受信された電磁放射の帯域幅よりも狭い周波数帯域幅を有する電子回路であって、所定の立ち上がり時間を有する前記受信された電磁放射に応じて、徐々に減衰する出力信号を発生し、所定の立ち上がり時間を有する電磁放射事象が識別される狭帯域幅能動電子回路と、
を備える装置。
【請求項２】
静電放電事象を識別する装置であって、
入力信号を受信する受信機と、
前記入力信号が静電放電事象信号であるか否かを決定するために、前記受信された入力信号を所定の信号と比較する識別子ユニットと、
前記入力信号が静電放電事象信号として識別される場合は識別信号を出力する出力回路と、
を備える静電放電事象を識別する装置。
【請求項３】
距離から放射信号を測定する装置であって、
入力信号を受信する受信機と、
前記入力信号までの距離を決定する信号距離測定ユニットと、
前記入力信号及び前記入力信号までの距離に基づいて、前記入力信号の強度を決定する信号強度決定ユニットと、
を備える装置。
【請求項４】
静電気放電事象放射検出装置であって、
入力信号を受信する受信機と、
前記入力信号までの距離を決定する信号距離測定ユニットと、
前記入力信号の強度を決定する信号強度測定ユニットと、
前記入力信号を生じさせた電圧であって、前記入力信号までの距離、前記入力信号の強度、及び前記入力信号の放電モデルに基づいて決定される電圧を決定するプロセッサと、
を備える検出装置。
【請求項５】
放電タイプを決定する装置であって、
入力放電を受信する受信機と、
前記入力放電及びクロック信号に基づいて、一連のパルスを発生するパルス発生回路と、
特定の入力放電に対して発生した前記一連のパルスを、特定の放電タイプに関連した所定数のパルスと比較し、前記放電タイプを決定する比較回路と、
を備える装置。