【手続補正書】
【提出日】平成21年3月27日(2009.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形製品の製造方法であって、以下の工程：
（Ａ）以下の：
（ｉ）（ａ）総二酸残基に基づき約７０〜約１００モルパーセントのテレフタル酸残基と；０〜約３０モルパーセントの、最大２０個の炭素原子を有する少なくとも１つの修飾芳香族ジカルボン酸残基と；０〜約１０モルパーセントの、最大１６個の炭素原子を有する少なくとも１つの修飾脂肪族ジカルボン酸残基とを含む二酸残基と；
（ｂ）総ジオール残基に基づき約１〜約９９モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と；約１〜約９９モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含むジオール残基とを、含む少なくとも１つのポリエステルを含む第１成分と；
（ii）少なくとも２つのポリアミドのアミド基転移均一配合物を含む第２成分と
を溶融混合し、ここで、該第１成分（i）と該第２成分（ｉｉ）は非混和性配合物を形成し、該第２成分（ii）と該第１成分（ｉ）は屈折率の差［ＲＩ（第２成分）−ＲＩ（第１成分）］が約０.００６〜約−０.０００６であり、該成形製品は透過パーセントが少なくとも７５％で曇り価が１０％又はそれ以下である；
（Ｂ）成形物品を作成し；
（Ｃ）前記混合された第１成分（ｉ）と第２成分（ｉｉ）を含むスクラップポリマー組成物を回収し；
（Ｄ）前記スクラップポリマー組成物を粉砕して、ポリマーリグラインドを作成し；
（Ｅ）場合により、前記スクラップポリマー組成物を乾燥させ；そして
（Ｆ）前記ポリマーリグラインドを、工程（Ａ）の第１成分（ｉ）と第２成分（ｉｉ）と混合する、
を含み前記製造方法。
【請求項２】
前記アミド基転移均一配合物は、該少なくとも２つのポリアミドを約２９０℃〜約３４０℃の温度で接触させることにより形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記配合成分の総重量に基づき、前記配合第１成分（ｉ）と第２成分（ｉｉ）は、約５〜約９９重量パーセントの第１成分（ｉ）、及び約９５〜約１重量パーセントの第２成分（ｉｉ）を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記配合成分の総重量に基づき、前記配合第１成分（ｉ）と第２成分（ｉｉ）は、約５０〜約９９重量パーセントの第１成分（ｉ）、及び約５０〜約１重量パーセントの第２成分（ｉｉ）を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記配合第１成分（ｉ）と第２成分（ｉｉ）は、約７０〜約９９重量パーセントの第１成分（ｉ）、及び約３０〜約１重量パーセントの第２成分（ｉｉ）を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
該第２成分（ii）と該第１成分（ｉ）は、屈折率の差［ＲＩ（第２成分）−ＲＩ（第１成分）］が約０.００５〜約−０.０００６である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
該修飾芳香族ジカルボン酸は、４,４'−ビフェニルジカルボン酸、イソフタル酸、１,４−ナフタレンジカルボン酸、１,５−ナフタレンジカルボン酸、２,６−ナフタレンジカルボン酸、２,７−ナフタレンジカルボン酸、４,４'−オキシ安息香酸、及びトランス−４,４'−スチルベンジカルボン酸から選択され；該修飾脂肪族ジカルボン酸は、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、及びドデカン二酸から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
該ジオール残基は、総ジオール残基に基づき約２５モルパーセント又はそれ以下の、エチレングリコール、１,２−プロパンジオール、１,３−プロパンジオール、１,４−ブタンジオール、１,５−ペンタンジオール、１,６−ヘキサンジオール、ｐ−キシレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールから選択される少なくとも１つの修飾ジオールの残基をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
該ポリエステルは、総二酸又はジオール残基に基づき約０.０１〜１モルパーセントの、トリメリット酸、無水トリメリット酸、及びピロメリト酸二無水物、グリセロール、ソルビトール、１,２,６−ヘキサントリオール、ペンタエリトリトール、酒石酸、クエン酸、トリメチロールエタン、及びトリメシン酸から選択される少なくとも１つの分岐物質の残基をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
該ジオール残基は、約５〜約６０モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と約４０〜約９５モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
該ジオール残基は、約１５〜約４０モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と約６０〜約８５モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
該ジオール残基は、約２０〜約３０モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と約７０〜約８０モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
該二酸残基は、約１００モルパーセントのテレフタル酸を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
該ジオール残基は、約５〜約６０モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と約４０〜約９５モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
該ジオール残基は、約１５〜約４０モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と約６０〜約８５モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
該ジオール残基は、約２０〜約３０モルパーセントの２,２,４,４−テトラメチル−１,３−シクロブタンジオール残基と約７０〜約８０モルパーセントの１,４−シクロヘキサンジメタノール残基とを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第２成分は、ｍ−キシレンジアミン、ｐ−キシレンジアミン、又はこれらの組合せ；及びテレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、カプロラクタム、ブチロラクタム、１１−アミノ−ウンデカン二酸、及び１,６−ヘキサメチレンジアミンンから選択される少なくとも１つのモノマーの残基を含有するコポリアミドを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
該コポリアミドは、総ジアミン残基含量の１００モル％に基づき、約１５〜約１００モルパーセントのｍ−キシレンジアミン残基、及び総二酸残基含量の１００モル％に基づき、約１５〜約８５モルパーセントのアジピン酸残基、及び約８５〜約１５モルパーセントの、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、及び１,４−シクロヘキサンジカルボン酸から選択される１つ又はそれ以上の脂肪族又は脂環式ジカルボン酸の残基を含有する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
該第２成分（ｉｉ）は、芳香族残基を含む第１ポリアミドと、脂肪族残基を含む第２ポリアミドとを含む均一配合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記均一配合物は、ｍ−キシレンジアミンとアジピン酸の残基を含む第１ポリアミドを含み、該第２ポリアミドは、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、カプロラクタム、ブチロラクタム、１１−アミノウンデカン二酸、及びヘキサメチレンジアミンから選択される少なくとも１つの脂肪族又は脂環式モノマーの残基を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
該第２ポリアミドは、ナイロン４；ナイロン６；ナイロン９；ナイロン１１；ナイロン１２；ナイロン６,６；ナイロン５,１０；ナイロン６,１２；ナイロン６,１１；ナイロン１０,１２；及びこれらの組合せから選択される少なくとも１つのポリアミドを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
該第２ポリアミドは、ナイロン６、ナイロン６,６、又はこれらの組合せを含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
該成形物品は、押出し、カレンダー加工、熱成形、吹込み成形、押出し吹込成形、射出成形、圧縮成形、鋳造、ドラフティング、幅出し、又は吹込みにより形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
シート、フィルム、予備成形物、チューブ又はビンである、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
該成形製品は２〜７層を有する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記層の内の１以上が、前記層の総重量に基づき、５０〜１００重量パーセントの該リグラインドを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記ポリエステルは、０.５〜０.７５dL/gのインヘレント粘度を有する、請求項１、１１、１２、１５又は１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
該インヘレント粘度は、０.６〜０.７２dL/gである、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
該ポリエステルは約１１０℃〜約１５０℃のガラス転移温度を有する、請求項１、１１、１２、１５又は１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
該ガラス転移温度は１２０℃〜約１３５℃である、請求項２９に記載の方法。