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【手続補正書】
【提出日】平成23年7月28日(2011.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁放射を放出する活性層を含む少なくとも一つの半導体レーザチップ（７）と、
第１と第２の反射面（１４、１５）を有する少なくとも一つのコーナーリフレクタ（１）とを具備し、
前記第１と第２の反射面（１４、１５）は、前記半導体レーザチップ（７）中に形成され互いに対して９０度未満の角度で配置され、
活性層によって放出されたビームが、前記コーナーリフレクタ（１）の前記第１の反射面（１４）に入射ビーム（３）として入射し、前記第１の反射面（１４）から反射されて前記第２の反射面（１５）へ向かい、前記第２の反射面（１５）から発出ビーム（４）として反射され、前記入射ビーム（３）と前記発出ビーム（４）は互いに平行に進行しない、半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記入射ビーム（３）と前記発出ビーム（４）はビーム経路（２）を形成し、前記入射ビーム（３）と前記発出ビーム（４）は互いに交差する、請求項１に記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記入射ビーム（３）と前記発出ビーム（４）は、前記コーナーリフレクタ（１）の前記第１と第２の反射面（１４、１５）の交点と交わらないビーム経路（２）を形成する、請求項１または請求項２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項４】
前記コーナーリフレクタ（１）の前記第１の反射面（１４）と前記入射ビーム（３）は、互いに対して２０度より大きく４５度未満の角度である、請求項１または請求項２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項５】
前記半導体レーザチップはエッジエミッタとして構成される、請求項１または請求項２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項６】
前記半導体レーザチップ（７）中に、前記コーナーリフレクタ（１）の反対側に形成される別のコーナーリフレクタ（１）をさらに具備し、前記別のコーナーリフレクタ（１）は互いに対して９０度未満の角度で配置された二つ反射面（１４，１５）を有し、これらのコーナーリフレクタ（１）は、活性層によって放出された放射に対する共振器（１０）を共同で構成する、請求項１または請求項２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項７】
前記半導体レーザチップ（７）はポンプ放射源を構成し、活性層によって放出されたポンプ放射によって光学的にポンピングされる面発光垂直エミッタレーザ（８）がポンプ放射源（７）の上に配置される、請求項６に記載の半導体レーザ装置。
【請求項８】
前記垂直エミッタレーザ（８）は、少なくとも一つの垂直エミッタ層（１３）を有し、前記垂直エミッタ層（１３）は、垂直主放射方向に放射を放出し、ポンプ放射源の活性層から垂直主放射方向に一定距離だけ離れている、請求項７に記載の半導体レーザ装置。
【請求項９】
前記半導体レーザチップ（７）は基板（６）の上に配置され、共振器反射鏡（９）が前記垂直エミッタ層（１３）と前記基板（６）の間に配置され、前記垂直エミッタ層（１３）によって発生された放射は、前記基板（６）とは反対側の前記垂直エミッタレーザ（８）の面で出射される、請求項８に記載の半導体レーザ装置。
【請求項１０】
前記半導体レーザチップ（７）は基板（６）の上に配置され、共振器反射鏡（９）が前記基板（６）とは反対側の前記垂直エミッタ層（１３）の面に配置され、前記垂直エミッタ層（１３）によって発生された放射は、前記基板（６）内または前記基板（６）側で結合され出射される、請求項８に記載の半導体レーザ装置。
【請求項１１】
前記垂直エミッタ層（１３）には、前記共振器反射鏡（９）と共に前記垂直エミッタレーザ（８）用の共振器を構成する外部反射鏡が付与される、請求項９または請求項１０に記載の半導体レーザ装置。
【請求項１２】
複数のコーナーリフレクタ（１）が、垂直エミッタ層（１３）の周りに星型状に配置される、請求項７に記載の半導体レーザ装置。
【請求項１３】
活性層によって放出された放射が前記垂直エミッタ層（１３）の下で交差するように、各コーナーリフレクタ（１）は相対配置される、請求項１２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項１４】
各コーナーリフレクタ（１）は循環するビーム経路が内部に形成される共振器を構成するように、各コーナーリフレクタ１は相対配置される、請求項１２または請求項１３に記載の半導体レーザ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月26日(2011.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータ部と、前記モータ部の出力側に備えられた減速機部と、前記モータ部の反出力側に備えられたブレーキ部および回転位置検出部とから構成され、回転を伝達するシャフトが中空形状を形成し、前記シャフトの内面の中空部にスリットが設けられたことを特徴とする中空アクチュエータ。
【請求項２】
前記中空部に第１のスリットおよび第２のスリットが形成されたことを特徴とする請求項１記載の中空アクチュエータ。
【請求項３】
前記第１のスリットは、中空シャフトに備えられた羽根よりも負荷側に形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の中空アクチュエータ。
【請求項４】
前記第２のスリットは、ブレーキ部よりも反負荷側に形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の中空アクチュエータ。
【請求項５】
前記第２のスリットは、エンコーダフランジ端面に形成されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載の中空アクチュエータ。
【請求項６】
前記第２のスリットは、遮蔽板に形成されたスリットに対向するように前記エンコーダフランジ端面に形成されたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１つに記載の中空アクチュエータ。
【請求項７】
前記第２のスリットは、モータフレームの内周面に形成されたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１つに記載の中空アクチュエータ。
【請求項８】
モータ部と、前記モータ部の出力側に備えられた減速機部と、前記モータ部の反出力側に備えられたブレーキ部および回転位置検出部とから構成され、回転を伝達するシャフトが中空形状を形成し、前記モータ部は、中空シャフトに備えた永久磁石と、前記永久磁石と空隙を介して対向する電気子巻線から構成され、前記中空シャフトの外周面に羽根を備えたことを特徴とする中空アクチュエータ。
【請求項９】
前記中空シャフトは、外周面に前記永久磁石が備えられ、内周面に前記羽根とブレーキライニングを備えたことを特徴とする請求項８記載の中空アクチュエータ。
【請求項１０】
前記羽根は、複数のスリットから形成されたことを特徴とする請求項８または９に記載の中空アクチュエータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１に記載の発明は、モータ部と、前記モータ部の出力側に備えられた減速機部と、前記モータ部の反出力側に備えられたブレーキ部および回転位置検出部とから構成され、回転を伝達するシャフトが中空形状を形成し、前記シャフトの内面の中空部にスリットが設けられたものである。
また、請求項２に記載の発明は、前記中空部に第１のスリットおよび第２のスリットが形成されたものである。
また、請求項３に記載の発明は、前記第１のスリットが、中空シャフトに備えられた羽根よりも負荷側に形成されたものである。
また、請求項４に記載の発明は、前記第２のスリットが、ブレーキ部よりも反負荷側に形成されたものである。
また、請求項５に記載の発明は、前記第２のスリットが、エンコーダフランジ端面に形成されたものである。
また、請求項６に記載の発明は、前記第２のスリットが、遮蔽板に形成されたスリットに対向するように前記エンコーダフランジ端面に形成されたものである。
また、請求項７に記載の発明は、前記第２のスリットが、モータフレームの内周面に形成されたものである。
また、請求項８に記載の発明は、モータ部と、前記モータ部の出力側に備えられた減速機部と、前記モータ部の反出力側に備えられたブレーキ部および回転位置検出部とから構成され、回転を伝達するシャフトが中空形状を形成し、前記モータ部は、中空シャフトに備えた永久磁石と、前記永久磁石と空隙を介して対向する電気子巻線から構成され、前記中空シャフトの外周面に羽根を備えたものである。
また、請求項９に記載の発明は、前記中空シャフトが、外周面に前記永久磁石が備えられ、内周面に前記羽根とブレーキライニングを備えたものである。
また、請求項１０に記載の発明は、前記羽根が、複数のスリットから形成されたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明によると、中空アクチュエータの中空部にスリットを設け、中空シャフトと一体に回転する羽根を備えたことで、外気を中空アクチュエータ内部に取り込み、モータ部での発熱について空気を循環させることで、各アクチュエータ部材を冷却することができるので、ロボットに要求されていた通常連続稼動が可能となり、中空部を連通するケーブルの結果が生じることもなくなる。また、モータ内部の温度を低減することが可能であるので、発熱によるモータの断線などの問題も生じることなく、連続した駆動が可能である。
このような中空アクチュエータが得られることにより、さらなる効果としてブレーキ部で生じる摩耗粉が、羽根の回転による第１のスリットから第２のスリットへの送風作用により排出される効果も備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換素子を有する半導体基板と、
前記半導体基板の上に配された複数の配線層と、
前記複数の配線層の上に配された絶縁層と、
前記絶縁層の上に配された層内レンズと、を有する固体撮像装置において、
前記絶縁層と前記層内レンズとの間に第１の反射防止膜を有する固体撮像装置。
【請求項２】
更に、前記光電変換素子を有する半導体基板の上に第２の反射防止膜を有する請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記第２の反射防止膜は、前記半導体基板に接して配されたシリコン酸化膜と、前記シリコン酸化膜に接して配されたシリコン窒化膜と、を含む請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記層内レンズがシリコン窒化膜を含み、前記絶縁層がシリコン酸化膜であり、前記第１の反射防止層が酸窒化シリコン膜である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記酸窒化シリコン膜の屈折率は１．６〜１．８である請求項４に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記酸窒化シリコン膜の膜厚は０．０５μｍ〜１．０μｍである請求項４あるいは５のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記絶縁層がＣＭＰ法によって平坦化されている請求項１乃至６のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記層内レンズの上にカラーフィルタを有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記層内レンズの上にオンチップレンズを有する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記層内レンズの上面は凸型を有し、
前記層内レンズの上に配された平坦化膜と、前記平坦化膜の上に配されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタの上に配された平坦化層と、を有する請求項１乃至９のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記平坦化層の上に配されたオンチップレンズを有する請求項１０に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
光電変換素子を有する半導体基板と、
前記半導体基板の上の複数の配線層と、
前記複数の配線層の上に配された第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層の上に配された層内レンズと、を有する固体撮像装置において、
前記第１の絶縁層と前記層内レンズとの間に、前記第１の絶縁層の屈折率と前記層内レンズの屈折率の間の屈折率を有し、膜厚が０．０５μｍ〜１．０μｍの第２の絶縁層を有することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項１３】
更に、前記光電変換素子を有する半導体基板の上に反射防止膜を有する請求項１２に記載の固体撮像装置。
【請求項１４】
前記層内レンズの上面は凸型を有し、
前記層内レンズの上に配された平坦化膜と、前記平坦化膜の上に配されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタの上に配された平坦化層と、前記平坦化層の上に配されたオンチップレンズと、を有する請求項１２あるいは１３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１５】
光電変換素子を有する半導体基板と、
前記半導体基板の上に配された複数の配線層と、
前記複数の配線層の上に配されたシリコン酸化膜と、
前記複数の配線層の上に配された第１のシリコン窒化膜からなる層内レンズと、を有する固体撮像装置において、
前記シリコン酸化膜の上面に接して、前記層内レンズの下面に接して配されたシリコン酸窒化膜と、
前記半導体基板の表面に接して配されたシリコン酸化膜と、
前記シリコン酸化膜の上面に接して配された第２のシリコン窒化膜と、を有する請求項９に記載の固体撮像装置。
【請求項１６】
前記層内レンズの上面は凸型を有し、
前記層内レンズの上に配された平坦化膜と、前記平坦化膜の上に配されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタの上に配された平坦化層と、前記平坦化層の上に配されたオンチップレンズと、を有する請求項１５に記載の固体撮像装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の光電変換装置と、該光電変換装置からの信号
を処理する信号処理部とを有することを特徴とする撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月12日(2011.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る空気調和機の室内機は、
吸引口および吹出口、並びに前面に前面開口部を具備する室内機本体と、
前記吸引口から前記吹出口に至る風路を形成する送風手段と、
前記風路内に配置された熱交換手段と、
前記室内機本体の前面開口部を覆い且つ開放すると共に、開口部であるパネル窓が形成された前面意匠パネルと、
前記室内機本体の前面開口部に設置されたセンサーユニットと、
を有し、
前記センサーユニットが、赤外線センサーと、
該赤外線センサーを収納し、前記赤外線センサーの受信範囲に相当した開口部であるケース窓を具備する光不透過材または光難透過材によって形成されたセンサーケースと、
前記室内機本体に設置され、前記センサーケースを回動自在に保持すると共に、前記赤外線センサーが回動した際の受信範囲に相当した開口部であるホルダー窓を具備する光透過材によって形成されたケースホルダーと、
該ケースホルダーに設置され、前記センサーケースを回動するモーターと、
前記室内機本体に設置され、前記ケースホルダーの前面の略全域を覆うと共に、前記ケースホルダーのホルダー窓の周縁が侵入自在な開口部である前カバー窓を具備する光不透過材または光難透過材によって形成されたホルダー前カバーと、
前記ケースホルダーに向かって光を照射する発光手段と、
を有し、
前記前面意匠パネルが前記室内機本体の前面開口部を覆った際、前記パネル窓の内側に前記ホルダー窓の周縁が位置することによって、前記発光手段が照射した光の一部が、前記ケースホルダーに入射した後、前記ホルダー窓の周縁から出射されることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸引口および吹出口、並びに前面に前面開口部を具備する室内機本体と、
前記吸引口から前記吹出口に至る風路を形成する送風手段と、
前記風路内に配置された熱交換手段と、
前記室内機本体の前面開口部を覆い且つ開放すると共に、開口部であるパネル窓が形成された前面意匠パネルと、
前記室内機本体の前面開口部に設置されたセンサーユニットと、
を有し、
前記センサーユニットが、赤外線センサーと、
該赤外線センサーを収納し、前記赤外線センサーの受信範囲に相当した開口部であるケース窓を具備する光不透過材または光難透過材によって形成されたセンサーケースと、
前記室内機本体に設置され、前記センサーケースを回動自在に保持すると共に、前記赤外線センサーが回動した際の受信範囲に相当した開口部であるホルダー窓を具備する光透過材によって形成されたケースホルダーと、
該ケースホルダーに設置され、前記センサーケースを回動するモーターと、
前記室内機本体に設置され、前記ケースホルダーの前面の略全域を覆うと共に、前記ケースホルダーのホルダー窓の周縁が侵入自在な開口部である前カバー窓を具備する光不透過材または光難透過材によって形成されたホルダー前カバーと、
前記ケースホルダーに向かって光を照射する発光手段と、
を有し、
前記前面意匠パネルが前記室内機本体の前面開口部を覆った際、前記パネル窓の内側に前記ホルダー窓の周縁が位置することによって、前記発光手段が照射した光の一部が、前記ケースホルダーに入射した後、前記ホルダー窓の周縁から出射されることを特徴とする空気調和機の室内機。
【請求項２】
前記発光手段が三色ＬＥＤを具備し、運転モードに応じて発光する光の色を変化させることを特徴とする請求項１記載の空気調和機の室内機。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月1日(2011.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザーが遠隔制御装置により運転を制御する空気調和機において、
前記遠隔制御装置は、
開閉自在な扉と、
前記扉の開閉を検知する扉開閉検知スイッチと、
前記扉が開き、前記扉開閉検知スイッチが前記扉の開を検知したときに、前記空気調和機の運転状態の詳細を表示する詳細表示部と、
前記扉が閉じ、前記扉開閉検知スイッチが前記扉の閉を検知したときに、前記空気調和機の運転状態の一部を拡大して表示する拡大表示部とを備え、
前記詳細表示部と前記拡大表示部とを二重液晶パネルで構成したことを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記遠隔制御装置は、さらに、操作ボタンを備えるとともに、前記操作ボタンの近傍に、前記操作ボタンの表面から突出する長さが０ミリメートル以上である誤動作防止用突起を備えることを特徴とする請求項１の空気調和機。
【請求項３】
前記拡大表示部に、ユーザーが設定する前記空気調和機の設定温度を表示することを特徴とする請求項１又は２の空気調和機。
【請求項４】
前記拡大表示部に、ユーザーが設定する前記空気調和機の設定湿度を表示することを特徴とする請求項１から３のいずれかの空気調和機。
【請求項５】
前記拡大表示部に、ユーザーが設定する前記空気調和機の運転モードを表示することを特徴とする請求項１から４のいずれかの空気調和機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明に係る空気調和機は、ユーザーが遠隔制御装置により運転を制御する空気調和機であり、
遠隔制御装置は、
開閉自在な扉と、
扉の開閉を検知する扉開閉検知スイッチと、
扉が開き、扉開閉検知スイッチが扉の開を検知したときに、空気調和機の運転状態の詳細を表示する詳細表示部と、
扉が閉じ、扉開閉検知スイッチが扉の閉を検知したときに、空気調和機の運転状態の一部を拡大して表示する拡大表示部とを備え、
詳細表示部と拡大表示部とを二重液晶パネルで構成したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月30日(2011.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気を吸引すると共に吸引した空気を吹き出す送風ファンと、
前記送風ファンの表面にコーティングされ、防汚性を有するコーティング組成物と、を備え、
前記コーティング組成物は、
水性媒体中に、防汚性を付与するための親水性の無機微粒子と疎水性の樹脂粒子とのいずれか一方または両方と、平均粒径が１０μｍ以下になるまで微粒化された防カビまたは抗菌作用を有する粒子と、が混入され、
前記送風ファンに塗布された前記水性媒体が乾燥することにより、前記送風ファンの表面にコーティングされるものであって、
前記防カビまたは抗菌作用を有する粒子が前記コーティング組成物の表面に分散されることを特徴とする送風装置。
【請求項２】
前記送風ファンは、遠心方向に遠心方向端部を、内周方向に内周部を有する複数枚のブレードを円周方向に備え、前記遠心方向端部に存在する前記防カビまたは抗菌作用を有する粒子の濃度を、前記内周部に存在する前記防カビまたは抗菌作用を有する粒子の濃度に比べて高めたことを特徴とする請求項１に記載の送風装置。
【請求項３】
前記送風ファンに塗布された前記水性媒体の乾燥は、前記送風ファンを回転させることによって行われることを特徴とする請求項２に記載の送風装置。
【請求項４】
前記コーティング組成物は、親水性の無機微粒子と疎水性の樹脂粒子の両方を備える親水疎水複合表面であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の送風装置。
【請求項５】
前記親水性の無機微粒子として、平均粒径が４〜３０ｎｍの範囲内にあるシリカ微粒子を、
前記疎水性の樹脂粒子として、平均粒径が、５０〜５００ｎｍの範囲内にあるフッ素樹脂粒子を、備え、
前記シリカ微粒子から成る膜中に前記フッ素樹脂粒子が前記シリカ微粒子から成る膜の表面から露出するように点在して成ることを特徴とする請求項４に記載の送風装置。
【請求項６】
平均粒径が２μｍ以下になるまで微粒化処理が施された、前記防カビまたは抗菌作用を有する粒子、もしくはラジカル材が混入していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の送風装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】送風装置
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月12日(2011.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浴室の天井に設置される本体部と、
前記浴室に面して配置され、空気が吹き出される吹出口と、
空気が排気される排気口と、
空気を吸い込んで吹き出す給気手段と、
前記吹出口と前記排気口との間で風路を切り替える風路切替ダンパと、
前記風路切替ダンパを駆動するダンパモータと、
前記吹出口から吹き出される空気を加熱する加熱手段とを備え、
前記本体部は、長手方向の一方の側に前記給気手段が配置され、長手方向の他方の側に前記吹出口が配置されると共に、長手方向の他方の側面に前記排気口が配置され、
前記吹出口は、前記本体部の短手方向に沿った辺の長さを、前記本体部の長手方向に沿った辺の長さより長くした形状で、前記本体部の短手方向に沿って配置され、
前記加熱手段は、棒状のヒータ部材に長手方向に沿って複数枚のフィンが取り付けられ、前記フィンが並ぶ方向を、前記本体部の短手方向に沿った前記吹出口の長手方向に沿った向きとして、少なくとも１本の前記ヒータ部材が前記吹出口に備えられる
ことを特徴とする浴室空調装置。
【請求項２】
前記本体部の下面にフロントパネルを備え、
前記フロントパネルは、前記吹出口の下面を開口して吹出口グリルが設けられ、
前記吹出口グリルは、前記吹出口の形状と合わせて、前記本体部の短手方向に沿った辺の長さを長くした長方形の開口で構成される
ことを特徴とする請求項１記載の浴室空調装置。
【請求項３】
前記給気手段は、回転軸の方向を鉛直方向とした多翼の羽根車と、風路を形成するファンケースを備え、前記羽根車の直径及び前記ファンケースの大きさを、前記本体部の短手方向の長さに合わせて設定した
ことを特徴とする請求項１または２記載の浴室空調装置。
【請求項４】
運転モードに応じて前記ダンパモータを駆動して前記風路切替ダンパの位置を制御し、前記吹出口と前記排気口との間で風路を切り替える制御手段を備えた
ことを特徴とする請求項１，２または３記載の浴室空調装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の浴室空調装置と、
少なくとも物干し部材か浴槽の何れかを備え、
前記浴室空調装置の前記吹出口が、前記物干し部材か前記浴槽の少なくとも何れかに直交する向きで配置される
ことを特徴とする浴室。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述した課題を解決するため、本発明の浴室空調装置は、浴室の天井に設置される本体部と、浴室に面して配置され、空気が吹き出される吹出口と、空気が排気される排気口と、空気を吸い込んで吹き出す給気手段と、吹出口と排気口との間で風路を切り替える風路切替ダンパと、風路切替ダンパを駆動するダンパモータと、吹出口から吹き出される空気を加熱する加熱手段とを備え、本体部は、長手方向の一方の側に給気手段が配置され、長手方向の他方の側に吹出口が配置されると共に、長手方向の他方の側面に排気口が配置され、吹出口は、本体部の短手方向に沿った辺の長さを、本体部の長手方向に沿った辺の長さより長くした形状で、本体部の短手方向に沿って配置され、加熱手段は、棒状のヒータ部材に長手方向に沿って複数枚のフィンが取り付けられ、フィンが並ぶ方向を、本体部の短手方向に沿った吹出口の長手方向に沿った向きとして、少なくとも１本のヒータ部材が吹出口に備えられることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の浴室空調装置では、給気手段で浴室等から空気が吸い込まれ、吸い込まれた空気は、風路切替ダンパにより切り替えられる風路によって、吹出口から浴室内へ吹き出される。または、排気口から排気される。あるいは、吸い込まれた空気の一部は吹出口から浴室内へ吹き出され、残部は排気口から排気される。浴室空調装置の吹出口は、本体部の短手方向に沿って配置されるので、浴室に取り付けられるランドリパイプ等の物干し部材に対して直交した向きとなり、物干し部材に掛けられた洗濯物等の被乾燥物に対して、幅方向の全体に風を当てる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の浴室空調装置によれば、吹出口は、本体部の短手方向に沿った辺の長さを、本体部の長手方向に沿った辺の長さより長くした形状で、本体部の短手方向に沿って配置され、吹出口の向きを浴槽の長手方向に通常配置されるランドリパイプ等の物干し部材に対して直交させたので、洗濯物等の被乾燥物に対して、幅方向の全体に風を当てることができる。これにより、被乾燥物がムラ無く乾燥し、乾燥時間を短縮することができる。また、吹出口と排気口との間で風路を切り替える風路切替ダンパを備えることで、本体部の短手方向に沿った辺の長さを、本体部の長手方向に沿った辺の長さより長くした形状で、本体部の短手方向に沿って配置される吹出口を備える構成で、浴室へ空気を吹き出す風路と排気の風路を切り替えることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月24日(2011.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屋外の空気を室内に給気する給気ファンと、
室内の空気を屋外へ排気する排気ファンと、
前記給気ファンで吸い込んだ屋外の空気と前記排気ファンで吸い込んだ室内の空気の間で熱交換を行う熱交換素子とを備え、
部屋の壁面に取り付けられる熱交換型換気装置において、
室内吸込口と室内吹出口を有するフロントパネルが正面側に取り付けられる本体部を備え、
前記室内吹出口と前記室内吸込口を、前記フロントパネルの上面側に設けた
ことを特徴とする熱交換型換気装置。
【請求項２】
前記室内吹出口と前記室内吸込口は、横方向に並んで形成される
ことを特徴とする請求項１記載の熱交換型換気装置。
【請求項３】
前記室内吹出口と前記室内吸込口はスリット状で、横方向に並んで形成される
ことを特徴とする請求項１記載の熱交換型換気装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、部屋の壁面に取り付けられる熱交換型換気装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
部屋の壁に設置される従来の熱交換型換気装置は、室内側の吹出口と吸込口が装置の正面側に設けられているので、外観性が悪いという問題がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、外観性を向上させた熱交換型換気装置を提供することを目的とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上述した課題を解決するため、請求項１に係る発明の熱交換型換気装置は、屋外の空気を室内に給気する給気ファンと、室内の空気を屋外へ排気する排気ファンと、給気ファンで吸い込んだ屋外の空気と排気ファンで吸い込んだ室内の空気の間で熱交換を行う熱交換素子とを備え、部屋の壁面に取り付けられる熱交換型換気装置において、室内吸込口と室内吹出口を有するフロントパネルが正面側に取り付けられる本体部を備え、室内吹出口と室内吸込口を、フロントパネルの上面側に設けたことを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項２に係る発明の熱交換型換気装置は、請求項１に記載された発明の熱交換型換気装置において、室内吹出口と室内吸込口は、横方向に並んで形成されることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項３に係る発明の熱交換型換気装置は、請求項１に記載された発明の熱交換型換気装置において、室内吹出口と室内吸込口はスリット状で、横方向に並んで形成されることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の熱交換型換気装置によれば、室内吹出口と室内吸込口を、フロントパネルの上面側に設けたので、フロントパネルの正面側に空気の吸い込み及び吹き出しのための開口部を設ける必要がなく、外観性を向上させることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月8日(2011.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被保温体と、
前記被保温体を覆う保温材と、
を有する既設の保温構造を補修する方法であって、
前記被保温体と、
前記保温材と、
前記保温材を覆う断熱性、水蒸気透過性及び非透水性を備えた補修材と、
前記補修材を覆い下方側部分に排水穴が形成された金属製の外装材と、
を有する新たな保温構造を構築する
ことを特徴とする保温構造の補修方法。
【請求項２】
前記外装材は、前記補修材と別体に形成され、前記補修材で前記保温材を覆った後に、前記補修材を覆うように施工されている
ことを特徴とする請求項１に記載された保温材の補修方法。
【請求項３】
前記既設の保温構造は、
内部に流体が流通する配管である前記被保温体と、
前記配管の外周を覆う前記保温材と、
を有する既設の配管保温構造であって、
前記新たな保温構造は、
前記配管と、
前記保温材と、
前記保温材の外周を覆う前記補修材と、
前記補修材の外周を覆う前記外装材と、
を有する新たな配管保温構造である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載された保温構造の補修方法。
【請求項４】
前記新たな配管保温構造は、
前記配管と、
前記保温材と、
前記保温材の外周を覆う第一外装材と、
前記第一外装材の外周を覆う前記補修材と、
前記補修材の外周を覆う第二外装材である前記外装材と、
を有し、
その下方側部分に、前記第一外装材、前記補修材及び前記第二外装材を貫通する排水穴が形成されている
ことを特徴とする請求項３に記載された保温構造の補修方法。
【請求項５】
前記既設の配管保温構造は、前記保温材の外周を覆う金属製の既設外装材をさらに有し、
前記新たな配管保温構造において、前記第一外装材は、前記既設外装材である
ことを特徴とする請求項４に記載された保温構造の補修方法。
【請求項６】
前記第一外装材の外周を前記補修材で覆うとともに前記補修材の外周を前記第二外装材で覆うことによって、前記第一外装材、前記補修材及び前記第二外装材を積層し、
次いで、積層された前記第一外装材、前記補修材及び前記第二外装材を貫通する前記排水穴を形成する
ことを特徴とする請求項４又は５に記載された保温構造の補修方法。
【請求項７】
前記既設の配管保温構造は、前記保温材の外周を覆う金属製の既設外装材をさらに有し、
前記既設の配管保温構造から前記既設外装材を除去し、次いで前記保温材の外周を前記補修材で覆うとともに、前記補修材の外周を前記外装材で覆うことによって、前記新たな配管保温構造を構築する
ことを特徴とする請求項３に記載された保温構造の補修方法。
【請求項８】
前記補修材は、エアロゲルが充填された繊維体である
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載された保温構造の補修方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載された補修方法により構築された
ことを特徴とする保温構造。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月22日(2011.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光干渉断層法を用いて被検査物を撮像するための撮像装置であって、
前記被検査物に照射する測定光に対応する参照光を検出する検出手段と、
前記参照光の光量に基づいて前記測定光の光量を変更する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段が、前記参照光の光量が所定の範囲内の場合に前記測定光の光量を増やすことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記検出手段が、前記測定光を照射した前記被検査物からの戻り光と前記参照光とによる合成光を検出し、
前記制御手段が、前記合成光の光量が所定の範囲外の場合に前記測定光の光量を減らすことを特徴とする請求項１あるいは２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記検出手段が、前記参照光を分割して得た光量検知光を検出する光量検知光検出手段を有し、
前記制御手段が、前記光量検知光の光量に基づいて前記測定光の光量を変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御手段が、前記光量検知光の光量が所定の範囲外の場合に前記測定光の光量を減らすことを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記制御手段が、前記測定光の透過率を変更する透過率変更手段を有し、
前記参照光の光量に基づいて前記透過率変更手段を制御することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御手段が、前記測定光の光路を遮蔽する遮蔽手段を有し、
前記参照光の光量に基づいて前記遮蔽手段を制御することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記制御手段が、前記参照光の光量に基づいて前記測定光の光路を前記被検査物に照射する光路から変更することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記測定光を分割して得た検査光を入射させる波長選択反射手段を有し、
前記検出手段が、前記被検査物からの戻り光と、前記波長選択反射手段からの検査戻り光と、前記参照光との合成光を検出することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
光干渉断層法を用いて被検査物を撮像するための撮像装置であって、
前記被検査物に照射する測定光を分割して得た検査光を入射させる波長選択反射手段と、
前記被検査物からの戻り光と、前記波長選択反射手段からの検査戻り光と、前記測定光に対応する参照光との合成光を検出する検出手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１１】
前記測定光を分割して前記検査光を得るための測定光分割手段を有し、
前記測定光分割手段から前記波長選択反射手段までの光路が、ファイバーで構成され、
前記波長選択反射手段が、複数のファイバーブラッググレーティングで構成されることを特徴とする請求項９あるいは１０に記載の撮像装置。
【請求項１２】
光干渉断層法を用いて被検査物を撮像するための撮像方法であって、
前記被検査物に照射する測定光に対応する参照光を検出する工程と、
前記参照光の光量に基づいて前記測定光の光量を変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項１３】
前記変更する工程では、前記参照光の光量が所定の範囲内の場合に前記測定光の光量を増やすことを特徴とする請求項１２に記載の撮像方法。
【請求項１４】
前記測定光を照射した前記被検査物からの戻り光と前記参照光とによる合成光を検出する工程と、
前記合成光の光量に基づいて前記測定光の光量を減らす工程と、
を含むことを特徴とする請求項１２あるいは１３に記載の撮像方法。
【請求項１５】
前記検出する工程では、前記参照光を分割して得た光量検知光を検出し、
前記変更する工程では、前記光量検知光の光量に基づいて前記測定光の光量を変更することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の撮像方法。
【請求項１６】
前記変更する工程では、前記光量検知光の光量が所定の範囲外の場合に前記測定光の光量を減らすことを特徴とする請求項１５に記載の撮像方法。
【請求項１７】
請求項１２乃至１６のいずれか１項に記載の撮像方法の各工程をコンピューターに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１８】
光干渉断層法を用いて被検査物を撮像するための撮像装置であって、
測定光を照射した前記被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とによる合成光を検出する検出手段と、
前記合成光の光量に基づいて前記被検査物に照射する測定光の光量を変更する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１９】
前記制御手段が、前記合成光の光量が所定の範囲外の場合に前記被検査物に照射する測定光の光量を減らすことを特徴とする請求項１８に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月5日(2011.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．４°〜５°のオフ角で傾斜させた４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層を形成したＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法であって、
ガスエッチングによって表面を清浄化した前記基板上に、炭化珪素のエピタキシャル成長に必要とされる量の炭素と珪素の原子数比Ｃ/Ｓｉが０．７〜１．２となるように珪素含有ガス及び炭素含有ガスを供給して、１６００℃より高くかつ１８００℃以下の温度で炭化珪素膜をエピタキシャル成長させることを有し、
前記炭化珪素膜のエピタキシャル成長は、
（１）オフ角が０．４°〜２°の４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板を用いる場合は、炭化珪素膜をエピタキシャル成長させる成長温度を１６００〜１６４０℃とするときは、成長速度を１〜３μｍ／ｈとして行い、成長温度を１６４０〜１７００℃とするときは、成長速度を３〜４μｍ／ｈとして行い、成長温度を１７００〜１８００℃とするときは、成長速度を４〜１０μｍ／ｈとして行い、
（２）オフ角が２°〜５°の４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板を用いる場合は、炭化珪素膜をエピタキシャル成長させる成長温度を１６００〜１６４０℃とするときは、成長速度を２〜４μｍ／ｈとして行い、成長温度を１６４０〜１７００℃とするときは、成長速度を４〜１０μｍ／ｈとして行い、成長温度を１７００〜１８００℃とするときは、成長速度を１０〜２０μｍ／ｈとして行う、ことを特徴とするＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項２】
室温において主面が凸状に加工され、０．４°〜５°のオフ角を有する４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板を準備する工程と、
ガスエッチングによって表面を清浄化した前記基板上に、炭化珪素のエピタキシャル成長に必要とされる量の炭素と珪素の原子数比Ｃ/Ｓｉが０．７〜１．２となるように珪素含有ガス及び炭素含有ガスを供給して、１６００℃より高くかつ１８００℃以下の温度で炭化珪素膜をエピタキシャル成長させる工程と、
を備えたことを特徴とするＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項３】
前記炭化珪素膜をエピタキシャル成長させる工程は、
（１）オフ角が０．４°〜２°の４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板を用いる場合は、炭化珪素膜をエピタキシャル成長させる成長温度を１６００〜１６４０℃とするときは、成長速度を１〜３μｍ／ｈとして行い、成長温度を１６４０〜１７００℃とするときは、成長速度を３〜４μｍ／ｈとして行い、成長温度を１７００〜１８００℃とするときは、成長速度を４〜１０μｍ／ｈとして行い、
（２）オフ角が２°〜５°の４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板を用いる場合は、炭化珪素膜をエピタキシャル成長させる成長温度を１６００〜１６４０℃とするときは、成長速度を２〜４μｍ／ｈとして行い、成長温度を１６４０〜１７００℃とするときは、成長速度を４〜１０μｍ／ｈとして行い、成長温度を１７００〜１８００℃とするときは、成長速度を１０〜２０μｍ／ｈとして行う、ことを特徴とする請求項２に記載のＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項４】
前記凸の曲率半径が１０ｍ以上１０００ｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項２又は３のいずれかに記載のＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項５】
前記珪素含有ガス及び前記炭素含有ガスの供給を同時に行うことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項６】
前記ガスエッチングによって表面を清浄化する前に、前記４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板の表面の格子乱れ層が３ｎｍ以下となるまで研磨する工程を備えたことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項７】
前記ガスエッチングを、水素雰囲気下で１４００〜１８００℃の温度で行うことを特徴とする１から４のいずれか一項に記載のＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項８】
前記ガスエッチングにおいて、前記水素雰囲気に、珪素含有ガス及び／又は炭素含有ガスを添加して行うことを特徴とする請求項７に記載のＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法。
【請求項９】
０．４°〜５°のオフ角で傾斜させた４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層を形成したＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャル層の表面の三角形状の欠陥密度が１個／ｃｍ２以下であることを特徴とするＳｉＣエピタキシャルウェハ。
【請求項１０】
０．４°〜５°のオフ角で傾斜させた４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層を形成したＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャル層中の積層欠陥の密度が１個／ｃｍ２以下であることを特徴とするＳｉＣエピタキシャルウェハ。
【請求項１１】
前記ＳｉＣエピタキシャル層の面方向の膜厚分布が２％以下であり、かつ、面方向のキャリア濃度分布が１０％以下であると共に、室温において前記ＳｉＣエピタキシャルウェハの主面が凸状に反り、該凸の曲率半径が１０ｍ以上１０００ｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項９又は１０のいずれかに記載のＳｉＣエピタキシャルウェハ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月1日(2011.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
下記の構造を有するプロテアーゼ阻害剤。
【化５】
2011121989.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
図１０〜２３で例示されている化合物の化学式を下記に示す。
シクロヘキシルアラニン−ｂｏｒｏＰｒｏ（図１０）
【化２６】
2011121989.tif 000002
１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−ｂｏｒｏプロリン（図１１）
【化２７】
2011121989.tif 000003
１，２，３，４−テトラヒドロ−β−カルボリン−ｂｏｒｏプロリン（図１２）
【化２８】
2011121989.tif 000004
エチルグリシン−２−ｂｏｒｏチアゾリジン（図１３）
【化２９】
2011121989.tif 000005
エチルグリシン−ｂｏｒｏヒドロキシプロリン（図１４）
【化３０】
2011121989.tif 000006
ジアミノグリシン−ｂｏｒｏプロリン（図１５）
【化３１】
2011121989.tif 000007
エチルグリシン−Ｎ（メチル）ｂｏｒｏアラニン（図１６）
【化３２】
2011121989.tif 000008
エチルグリシン−ｂｏｒｏピペリジン（図１７）
【化３３】
2011121989.tif 000009
エチルグリシン−Ｎ（メチル）ｂｏｒｏグリシン（図１８）
【化３４】
2011121989.tif 000010
ｔ−ブチルグリシン−ｂｏｒｏアラニン（図１９）
【化３５】
2011121989.tif 000011
ｔ−ブチルグリシン−ｂｏｒｏプロリン（図２０）
【化３６】
2011121989.tif 000012
イソプロピルグリシン−ｂｏｒｏプロリン（図２１）
【化３７】
2011121989.tif 000013
エチルグリシン−ｂｏｒｏプロリン（図２２）
【化３８】
2011121989.tif 000014
（ａｌｌｏ）イソロイシン−ｂｏｒｏプロリン（図２３）
【化３９】
2011121989.tif 000015
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１９】
2011121989.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月12日(2011.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子走査による２Ｄ走査および電動走査または電子走査による３Ｄ走査が可能な超音波探触子と、
前記超音波探触子を駆動して被検体内を超音波ビームで２Ｄ走査および３Ｄ走査する送受信手段と、
前記３Ｄ走査を行って得た３Ｄデータを記憶する記憶手段と、
前記記憶している３Ｄデータとドプラ計測のための２Ｄ走査面とドプラカーソルとを所定の投影方向で投影した３Ｄ画像を表示装置に表示する表示手段と、
操作者の指示を受け付けて該指示に応じて前記投影方向および前記ドプラカーソルの位置を変更する指示対応変更手段と、
確定されたドプラ計測のための２Ｄ走査面のデータとドプラカーソルとを用いてドプラ計測するドプラ計測手段とを具備したことを特徴とする超音波診断装置。
【請求項２】
請求項１に記載の超音波診断装置において、
前記ドプラカーソルの最初の位置は、予め設定された位置又はデータから抽出した血管の位置であることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の超音波診断装置において、
前記表示手段は、前記３Ｄデータにおける前記ドプラ計測のための２Ｄ走査面位置及び前記投影方向を前記表示装置に表示することを特徴とする超音波診断装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の超音波診断装置において、
前記ドプラ計測のための２Ｄ走査面の位置は、リアルタイムに２Ｄ走査を行っている走査面の位置であることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項５】
請求項４に記載の超音波診断装置において、
前記３Ｄデータと前記リアルタイムに２Ｄ走査して得たリアルタイム２Ｄデータとの相関により前記２Ｄ走査面の位置を補正する位置補正手段を具備したことを特徴とする超音波診断装置。
【請求項６】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の超音波診断装置において、
前記ドプラ計測のための２Ｄ走査面の位置は、操作者が指定した２Ｄ走査面の位置であることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項７】
請求項６に記載の超音波診断装置において、
前記３Ｄデータは、リアルタイムに３Ｄ走査を行って得たリアルタイム３Ｄデータであることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項８】
請求項７に記載の超音波診断装置において、
前記２Ｄ走査面で得た２Ｄデータと前記リアルタイム３Ｄデータとの相関により前記２Ｄ走査面の位置を補正する位置補正手段を具備したことを特徴とする超音波診断装置。
【請求項９】
電子走査による２Ｄ走査および電動走査または電子走査による３Ｄ走査が可能な超音波探触子と、
前記超音波探触子を駆動して被検体内を超音波ビームで２Ｄ走査および３Ｄ走査する送受信手段と、
前記３Ｄ走査を行って得た３Ｄデータを記憶する記憶手段と、
前記記憶している３Ｄデータとドプラ観測点での血管の方向を表す角度カーソルとを所定の投影方向で投影した３Ｄ画像を表示装置に表示する表示手段と、
操作者の指示を受け付けて該指示に応じて前記投影方向および前記角度カーソルの方向を変更する指示対応変更手段と、
前記ドプラ観測点でドプラ計測するドプラ計測手段と、
前記ドプラ計測での超音波ビームの方向と前記確定した角度カーソルの方向の成す角度により前記ドプラ計測の結果を補正する補正手段とを具備したことを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の超音波診断装置において、
前記角度カーソルの最初の方向は、予め設定された方向又は３Ｄデータから抽出した血管の方向であることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載の超音波診断装置において、
前記表示手段は、前記３Ｄデータにおける前記ドプラ計測のための２Ｄ走査面位置及び前記投影方向を前記表示装置に表示することを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１２】
請求項９から請求項１１のいずれかに記載の超音波診断装置において、
前記表示手段は、ドプラ計測のための２Ｄ走査面とドプラカーソルをも表示することを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の超音波診断装置において、
前記ドプラ計測のための２Ｄ走査面の位置は、リアルタイムに２Ｄ走査を行っている走査面の位置であることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の超音波診断装置において、
前記３Ｄデータと前記リアルタイムに２Ｄ走査して得たリアルタイム２Ｄデータとの相関により前記２Ｄ走査面の位置を補正する位置補正手段を具備したことを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１５】
請求項９から請求項１４のいずれかに記載の超音波診断装置において、
前記ドプラ計測のための２Ｄ走査面の位置は、操作者が指定した２Ｄ走査面の位置であることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の超音波診断装置において、
前記３Ｄデータは、リアルタイムに３Ｄ走査を行って得たリアルタイム３Ｄデータであることを特徴とする超音波診断装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の超音波診断装置において、
前記２Ｄ走査面で得た２Ｄデータと前記リアルタイム３Ｄデータとの相関により前記２Ｄ走査面の位置を補正する位置補正手段を具備したことを特徴とする超音波診断装置。