【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
液晶層と、
前記基板と前記液晶層の間に配される液晶配向層と、
前記液晶配向層と前記液晶層の間に配されるバリア層からなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記反射型ディスプレイのバックプレーンが、シリコン基板と、
少なくとも１つの集積回路層と、
複数のピクセルミラーからなることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記透明基板上に形成された透明電極層を更に備えることを特徴とする請求項４記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項６】
前記バリア層が、前記液晶配向層に直接的に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項７】
前記液晶層が、前記バリア層に直接的に接触することを特徴とする請求項６記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記液晶ディスプレイ装置が、垂直方向に配向されたネマティック液晶ディスプレイ装置であることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記液晶配向層が、薄膜層であることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記液晶配向層が、酸化被膜層を備えることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記酸化被膜層が、SiO又はSiO2のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１０記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記バリア層が、前記液晶配向層よりも、不純物の吸収或いは吸着のうち少なくとも一方に対して高い抵抗性を備えることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記バリア層が、前記液晶配向層の異方特性を前記液晶層に伝達することを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記バリア層が単分子層であることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記バリア層が、シラン又はシラザンのうち一方から形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記バリア層が、オクチルエトキシシラン又はヘキサメチルジシラザンのうち一方から形成されることを特徴とする請求項１５記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記バリア層が、シランで形成されることを特徴とする請求項１５記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記第１の基板が配される側とは反対側の前記液晶層の面上に配される第２の基板と、
該第２の基板と前記液晶層の間に配される第２の液晶配向層と、
前記第２の液晶配向層と前記液晶層の間に配される第２のバリア層を更に備えることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであり、
前記第２の基板が透明基板であることを特徴とする請求項１８記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項２０】
前記液晶層の周縁部周りに配されるガスケットを備え、
該ガスケットが、前記バリア層と前記第２のバリア層のうち少なくとも一方に隣接することを特徴とする請求項１８記載の液層ディスプレイ装置。
【請求項２１】
基板を用意する段階と、
該基板上に液晶配向層を形成する段階と、
該液晶配向層上にバリア層を形成する段階と、
該バリア層上に液晶層を形成する段階からなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２２】
前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであることを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２３】
前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２４】
前記液晶配向層上に前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層上に直接的に前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２５】
前記バリア層上に前記液晶層を形成する段階が、前記バリア層に直接的に接触する液晶層を供給する段階を含むことを特徴とする請求項２４記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２６】
前記液晶層を形成する段階が、ネマティック液晶層を形成する段階を含み、
前記液晶配向層を形成する段階が、垂直に配向した液晶ディスプレイ装置に使用するのに好適な配向層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２７】
前記液晶配向層を形成する段階が、薄膜状の配向層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２８】
前記液晶配向層を形成する段階が、酸化被膜を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２９】
前記酸化被膜層が、SiO又はSiO2のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項２８記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３０】
前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層よりも、不純物の吸収或いは吸着のうち少なくとも一方に対して高い抵抗性を備える層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３１】
前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層の異方特性を前記液晶層に伝達する層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３２】
前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層上に単分子層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３３】
前記バリア層を形成する段階が、シラン又はシラザンのうち少なくとも一方を用いて前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３４】
前記バリア層を形成する段階が、オクチルトリエトキシシラン又はヘキサメチルジシラザンのうち少なくとも一方を用いる段階を備えることを特徴とする請求項３３記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３５】
前記バリア層を形成する段階が、シランを用いて前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項３３記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３６】
第２の基板を用意する段階と、
該第２の基板上に第２の液晶配向層を形成する段階と、
前記液晶配向層上に第２のバリア層を形成する段階と、
前記第２のバリア層を備える第２の基板を、搭載する段階を備え、
前記第２のバリア層が、前記液晶層を備えるバリア層に対向し、
前記液晶層が、前記第２のバリア層と前記バリア層の間に配されることを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３７】
前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであり、
前記第２の基板が透明基板であることを特徴とする請求項３６記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３８】
前記基板と前記第２の基板の間に、液晶保持用ガスケットを配する段階を更に備え、
前記ガスケットの一部が、前記バリア層に隣接し、前記ガスケットの他の部分が前記第２のバリア層に隣接することを特徴とする請求項３６記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項３９】
前記バリア層を形成する前に、前記配向層に対するプラズマ洗浄工程を実行する段階をさらに備えることを特徴とする請求項２１記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項４０】
基板と、
液晶層と、
前記基板と前記液晶層の間に配される液晶配向層と、
前記液晶配向層が、汚染物質を吸収すること及び吸着することのうち少なくとも一方を防ぐ手段を備えることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。
【請求項４１】
前記バリア層及び前記第２のバリア層の化学構成が化学成分を含み、
前記化学成分が前記バリア層及び前記第２のバリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項２０に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４２】
前記バリア層及び前記第２のバリア層の化学構成が−NH２成分を含み、
前記−NH２成分が前記ガスケット及び前記バリア層との間と、前記ガスケット及び前記第２のバリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項４１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４３】
前記バリア層の化学構成が化学成分を含み、
前記化学成分が前記バリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４４】
前記バリア層の化学構成が−NH２成分を含み、
前記−NH２成分が前記バリア層に隣接するガスケット及び前記バリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項４３に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４５】
前記バリア層を形成する前記段階が化学成分を含む化合物を有する前記バリア層を形成する段階を含み、
前記第２のバリア層を形成する前記段階が前記化学成分を含む前記化合物を有する前記第２のバリア層を形成する段階を含み、
前記化学成分が前記バリア層及び前記第２のバリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項３８に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。
【請求項４６】
前記化合物が−NH２成分を含み、
前記−NH２成分が前記ガスケット及び前記バリア層との間と、前記ガスケット及び前記第２のバリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項４５に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。
【請求項４７】
前記バリア層を形成する前記段階が化学成分を含む化合物を有する前記バリア層を形成する段階を含み、
前記化学成分が前記バリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項２１に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。
【請求項４８】
前記バリア層に隣接するガスケットを形成する段階をさらに備え、
前記化合物が−NH２成分を含み、
前記−NH２成分が前記ガスケット及び前記バリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項４７に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。
【請求項４９】
前記バリア層が蒸着層であることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項５０】
前記バリア層を形成する前記段階が蒸着工程によって前記液晶配向層の上に前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項５１】
第２基板と、
前記第２基板と前記液晶層との間の第２液晶配向層と、
前記第２の液晶配向層と前記液晶層との間の第２バリア層をさらに備え、
前記バリア層及び前記第２バリア層が同じ材料から形成され、
前記液晶層が前記基板と前記第２基板との間に配されることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項５２】
前記第２バリア層が前記バリア層と同じ材料から形成されることを特徴とする請求項３６に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。
【請求項５３】
前記基板として前記液晶層の反対側に配された第２基板と、
前記第２基板と前記液晶層との間の第２液晶配向層と、
汚染物質を吸収すること及び吸着することのうちの少なくとも一方から前記第２の液晶配向層を保護するための手段を備え、
前記第２の液晶配向層を保護する手段が前記液晶配向層を保護するための前記手段と同じであることを特徴とする請求項４０に記載の液晶ディスプレイ装置。