Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光部を有する基板と、
前記受光部の上に配された複数の配線層及び複数の層間絶縁膜と、
前記複数の層間絶縁膜のうち最上の層間絶縁膜の上に配され、前記最上の層間絶縁膜の屈折率と異なる屈折率を有する第１の絶縁膜と、を有する固体撮像装置において、
前記受光部の少なくとも一部の上、且つ、前記受光部と前記複数の層間絶縁膜との間に、反射防止膜を有し、
前記最上の層間絶縁膜の上面と接し、前記第１の絶縁膜の下面と接して配され、前記最上の層間絶縁膜の屈折率と前記第１の絶縁膜の屈折率との間の屈折率を有する第２の絶縁膜を有する固体撮像装置。
【請求項２】
前記反射防止膜は、少なくとも窒化シリコン膜を含む請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記反射防止膜は、前記受光部と前記窒化シリコン膜との間に配された酸化シリコン膜を含む請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記反射防止膜は、少なくとも窒化シリコン膜と酸窒化シリコン膜とを含む請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記最上の層間絶縁膜は酸化シリコン膜であり、前記第１の絶縁膜は窒化シリコン膜であり、前記第２の絶縁膜は酸窒化シリコン膜である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記第１の絶縁膜の窒化シリコン膜は、プラズマＣＶＤ法によって形成されている請求項５に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記第１の絶縁膜の上に配されたカラーフィルター膜と、
前記第１の絶縁膜と前記カラーフィルター膜との間に配され、前記第１の絶縁膜の屈折率と前記カラーフィルター膜の屈折率との間の屈折率を有する第３の絶縁膜と、を有する請求項１乃至６の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記第３の絶縁膜は酸窒化シリコン膜である請求項７に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記複数の配線層のうち最上の配線層は、前記最上の層間絶縁膜の上に配されている請求項１乃至８のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記最上の配線層の端部はテーパ形状である請求項９に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記最上の層間絶縁膜は平坦化処理が施されている請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の絶縁膜の上に配されたマイクロレンズと、
前記第１の絶縁膜と前記マイクロレンズとの間に配され、前記第１の絶縁膜の屈折率と前記マイクロレンズの屈折率との間の屈折率を有する第３の絶縁膜と、を有する請求項１乃至６の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１３】
受光部を有する基板と、
前記受光部の上に配された複数の配線層及び複数の層間絶縁膜と、
前記複数の層間絶縁膜のうち最上の層間絶縁膜の上に配され、前記最上の層間絶縁膜の屈折率と異なる屈折率を有する第１の絶縁膜と、
を有する固体撮像装置において、
前記受光部の少なくとも一部の上、且つ、前記受光部と前記複数の層間絶縁膜との間に、反射防止膜を有し、
前記最上の層間絶縁膜と前記第１の絶縁膜との間に、前記反射防止膜とは別の反射防止膜を有する固体撮像装置。
【請求項１４】
受光部を有する基板と、
前記受光部の上に配された複数の配線層と、
前記受光部の上に配され、酸化シリコン膜からなる最上の層間絶縁膜を有する複数の層間絶縁膜と、
前記最上の層間絶縁膜の上に配された第１の窒化シリコン膜と、を有する固体撮像装置において、
前記受光部の少なくとも一部の上、且つ、前記受光部に接して配された酸化シリコン膜と、
前記受光部の少なくとも一部の上、且つ、前記酸化シリコン膜に接して配された第２の窒化シリコン膜と、を有し、
前記最上の層間絶縁膜の上面と接し、前記第１の窒化シリコン膜の下面と接して配された酸窒化シリコン膜を有する固体撮像装置。
【請求項１５】
更に、前記第１の窒化シリコン膜の上面と接して配された酸窒化シリコン膜を有する請求項１４に記載の固体撮像装置。
【請求項１６】
受光部を有する基板と、
複数の配線層と、前記複数の配線層のそれぞれの配線層を上下に挟むように配された複数の絶縁膜と、を含み、前記基板の上に設けられた積層体と、
前記複数の絶縁膜のうち最上の絶縁膜の上に配され、前記最上の絶縁膜の屈折率と異なる屈折率を有する第１の絶縁膜と、を有する固体撮像装置において、
前記受光部の少なくとも一部の上、且つ、前記受光部と前記積層体との間に配された反射防止膜と、
前記最上の絶縁膜の上面と接し、前記第１の絶縁膜の下面と接して配され、前記最上の絶縁膜の屈折率と前記第１の絶縁膜の屈折率との間の屈折率を有する第２の絶縁膜と、を有する固体撮像装置。
【請求項１７】
前記第１の絶縁膜の上に配されたカラーフィルター膜と、
前記第１の絶縁膜と前記カラーフィルター膜との間に配され、前記第１の絶縁膜の屈折率と前記カラーフィルター膜の屈折率との間の屈折率を有する第３の絶縁膜と、を有する請求項１６に記載の固体撮像装置。
【請求項１８】
前記最上の絶縁膜は酸化シリコン膜であり、前記第１の絶縁膜は窒化シリコン膜であり、前記反射防止膜は少なくとも窒化シリコン膜を含む請求項１６あるいは１７のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項１９】
更に、前記積層体の上に配された配線層を有する請求項１６乃至１８のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項２０】
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、該固体撮像装置からの出力信号を処理する信号処理回路とを有することを特徴とする撮像システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年11月17日(2010.11.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１６】
一列に並ぶ穴の各組の中で、ハトメ構造（１０）が前記カーテン生地とテープ材料とに固定され、そのような穴の周囲が前記各ハトメ構造（１０）の前面及び背面要素（１１、１２）の間に留められることを特徴とする請求項１５に記載の組立品。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月19日(2011.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流体噴射装置、制御装置、流体噴射装置の制御方法および手術装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体が流入する流体室と、前記流体室の容積を変更することに用いる圧電素子を備えた容積変更手段と、前記流体室に連通する入口流路および出口流路と、を有する脈動発生部と、
一端が前記出口流路に連通し、他端が流体噴射口に連通する接続流路を有する流路管と、
前記入口流路に流体を供給する流体供給手段と、
前記圧電素子に駆動信号を印加し、前記容積変更手段による前記流体室の容積の変更を制御する制御手段と、
前記圧電素子の電荷を供与されたときの伸縮度に基づいて、前記圧電素子の駆動信号を補正する駆動信号補正手段と、
を備えることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項２】
前記駆動信号補正手段は、個体差を有する前記圧電素子と基準とする圧電素子との電荷を供与されたときの伸縮度の差に応じて、前記圧電素子の駆動信号を補正することを特徴とする請求項１記載の流体噴射装置。
【請求項３】
前記駆動信号補正手段は、前記圧電素子が有する温度特性を基に、基準とする温度下における出力に合わせて前記圧電素子の駆動信号を補正することを特徴とする請求項１または２記載の流体噴射装置。
【請求項４】
前記駆動信号補正手段は、
前記圧電素子の温度を検出する温度検出手段と、
前記圧電素子の個体差を補正するための補正データおよび前記圧電素子の温度特性に基づく補正データを記憶する波形補正メモリと、
前記圧電素子へ印加される基準となる駆動信号を記憶している基準駆動信号メモリと、
前記圧電素子の温度と、前記圧電素子の個体差を補正するための補正データおよび前記圧電素子の温度特性に基づく補正データと、前記基準となる駆動信号とに基づいて、前記圧電素子の個体差および温度特性に応じて前記基準となる駆動信号を補正した駆動信号を生成する制御回路とを備え、
前記波形補正メモリは前記脈動発生部に実装され、前記基準駆動信号メモリは前記制御部に実装されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の流体噴射装置。
【請求項５】
圧電素子を用いて流体を噴射する流体噴射ユニットと、前記流体噴射ユニットに流体を供給する流体供給装置と、前記流体噴射ユニットにおける流体の噴射を制御する制御装置とを備える流体噴射装置の制御装置であって、
前記圧電素子へ印加される基準となる駆動信号を記憶している基準駆動信号メモリと、
外部から取得した、前記圧電素子の温度と、前記圧電素子の個体差を補正するための補
正データおよび前記圧電素子の温度特性に基づく補正データと、前記基準駆動信号メモリに記憶された前記基準となる駆動信号とに基づいて、前記圧電素子の個体差および温度特性に応じて前記基準となる駆動信号を補正した駆動信号を生成する制御回路と、
を備えることを特徴とする制御装置。
【請求項６】
流体が流入する流体室と、前記流体室の容積を変更する圧電素子を備えた容積変更手段と、前記流体室に連通する入口流路および出口流路と、を有する脈動発生部と、
一端が前記出口流路に連通し、他端が流体噴射口に連通する接続流路を有する流路管と、
前記入口流路に流体を供給する流体供給手段と、
前記圧電素子に駆動信号を印加し、前記容積変更手段による前記流体室の容積の変更を制御する制御手段と、を備える流体噴射装置の制御方法であって、
前記圧電素子の電荷を供与されたときの伸縮度に基づいて、前記圧電素子の駆動信号を補正する駆動信号補正ステップを含むことを特徴とする流体噴射装置の制御方法。
【請求項７】
請求項１から４のいずれか１項に記載の流体噴射装置を用いた手術装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月13日(2011.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化ホウ素小板の焼結球状集塊を含む球状窒化ホウ素粉末。
【請求項２】
窒化ホウ素小板の焼結球状集塊が、１０ミクロン〜５００ミクロンの平均集塊直径を有する、請求項１に記載の球状窒化ホウ素粉末。
【請求項３】
窒化ホウ素小板の焼結球状集塊のより多量の部分が、３０ミクロン〜１５０ミクロンの平均集塊直径を有する、請求項２に記載の球状窒化ホウ素粉末。
【請求項４】
球状窒化ホウ素粉末が、０．４ｇ／ｃｃ〜０．７ｇ／ｃｃのタップ密度を有する、請求項１に記載の球状窒化ホウ素粉末。
【請求項５】
窒化ホウ素小板の球状集塊を含む球状窒化ホウ素粉末。
【請求項６】
窒化ホウ素小板の球状集塊が、１０ミクロン〜５００ミクロンの平均集塊直径を有する、請求項５に記載の球状窒化ホウ素粉末。
【請求項７】
窒化ホウ素小板の球状集塊のより多量の部分が、３０ミクロン〜１５０ミクロンの平均集塊直径を有する、請求項６に記載の球状窒化ホウ素粉末。
【請求項８】
球状窒化ホウ素粉末が、０．４ｇ／ｃｃ〜０．７ｇ／ｃｃのタップ密度を有する、請求項５に記載の球状窒化ホウ素粉末。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）と、
酸化硼素（Ｂ2 Ｏ3 ）と、
酸化珪素（ＳｉＯ2 ）と、
酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）と、
酸化亜鉛（ＺｎＯ）と
を含み、以下の条件式（１）および条件式（２）を満足する
ことを特徴とする光学ガラス。
Ｘ＋Ｙ≧７５  ……（１）
２．５＜Ｘ／Ｙ＜１３  ……（２）
（但し、Ｘは酸化ビスマスの含有率（重量％）であり、Ｙは酸化硼素の含有率（重量％）である。）
【請求項２】
前記酸化ビスマスの含有率は６０重量％以上９０重量％以下であり、
前記酸化硼素の含有率は５重量％以上３０重量％以下であり、
前記酸化珪素の含有率は０より大きく５重量％以下であり、
前記酸化アルミニウムの含有率は０．５重量％以上５重量％以下であり、
前記酸化亜鉛の含有率は０．５重量％以上３重量％以下である
ことを特徴とする請求項１記載の光学ガラス。
【請求項３】
さらに、酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化ランタン（Ｌａ2 Ｏ3 ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）、および酸化アンチモン（Ｓｂ2 Ｏ3 ）のうちの少なくとも１種を含む
ことを特徴とする請求項１または請求項２記載の光学ガラス。
【請求項４】
前記酸化バリウムの含有率は０重量％以上１５重量％以下であり、
前記酸化ランタンの含有率は０重量％以上７重量％以下であり、
前記酸化チタンの含有率は０重量％以上５重量％以下であり、
前記酸化ニオブの含有率は０重量％以上５重量％以下であり、
前記酸化アンチモンの含有率は０．０３重量％以上２重量％以下である
ことを特徴とする請求項３記載の光学ガラス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の光学ガラスでは、さらに、ＢａＯ、Ｌａ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5  、およびＳｂ2 Ｏ3 のうちの少なくとも１種を含むようにするとよい。その場合、ＢａＯの含有率は０重量％以上１５重量％以下であり、Ｌａ2 Ｏ3 の含有率は０重量％以上７重量％以下であり、ＴｉＯ2 の含有率は０重量％以上５重量％以下であり、Ｎｂ2 Ｏ5 の含有率は０重量％以上５重量％以下であり、Ｓｂ2 Ｏ3 の含有率は０．０３重量％以上２重量％以下であるとよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
この光学ガラスは、任意成分として、さらに酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化ランタン（Ｌａ2 Ｏ3 ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）、および酸化アンチモン（Ｓｂ2 Ｏ3 ）のうちの少なくとも１種を含むようにしてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
Ｎｂ2 Ｏ5 は、ＴｉＯ2 と同様、この光学ガラスにおける屈折率を高める機能を発揮する。Ｎｂ2 Ｏ5 の含有率を全体の５％以下とすることで、良好な溶解性が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図１は、本発明の実施例としての光学ガラスを構成する各成分およびその含有率（重量％）を示したものである（実施例１〜１１）。実施例１〜１１では、いずれも、Ｂｉ2 Ｏ3 の含有率が６０％以上９０％以下であり、Ｂ2 Ｏ3 の含有率が５％以上３０％以下であり、ＳｉＯ2 の含有率が０より大きく５％以下であり、Ａｌ2 Ｏ3 の含有率が０．５％以上５％以下である。ここで、Ｂｉ2 Ｏ3 およびＢ2 Ｏ3 の含有率は、いずれも、上記した条件式（１）および条件式（２）の要件を満たしている。さらに、実施例１〜１１の光学ガラスは、０．５％以上３％以下の含有率のＺｎＯと、０％以上１５％以下の含有率のＢａＯと、０．０３％以上２％以下の含有率のＳｂ2 Ｏ3 とをそれぞれ含んでいる。また、実施例７〜１０には、Ｌａ2 Ｏ3 が０より大きく７％以下の含有率で含まれており、実施例８には３．０％のＴｉＯ2 が含まれており、実施例３には３．０％のＮｂ2 Ｏ5 が含まれている。なお、図１に示した本実施例における各構成要素の含有率は、Ｓｂ2 Ｏ3 を除く全ての構成要素の合計重量を１００％として算出した数値で表したものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2010059012.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2010059012.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月6日(2011.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含有する日焼け止め化粧料において、
（１）セバシン酸ジイソプロピル、トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、コハク酸ジエチルヘキシル、２−エチルヘキサン酸セチル、炭素数１２〜１５のアルキルベンゾエート、イソノナン酸イソノニルの一種又は二種以上からなるエステル油を配合し、
（２）酸化亜鉛及び／又は酸化チタンの粉末を配合せず、
（３）さらに油中水型又は水中油型の乳化組成物に調製すること
を特徴とする日焼け止め化粧料。
【請求項２】
前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルに対する前記エステル油の質量比が２以上であることを特徴とする請求項１記載の日焼け止め化粧料。
【請求項３】
前記酸化亜鉛及び／又は酸化チタンの粉末が平均粒子径１０ｎｍ〜１００ｎｍの超微粒子粉末であることを特徴とする請求項１又は２記載の日焼け止め化粧料。
【請求項４】
さらに（４）オクチルメトキシシンナメート及び／又はオクトクリレンを配合することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項記載の日焼け止め化粧料。
【請求項５】
前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの配合量が、日焼け止め化粧料全量に対して１〜５質量％であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項記載の日焼け止め化粧料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
すなわち、本発明は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含有する日焼け止め化粧料において、
（１）セバシン酸ジイソプロピル、トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、コハク酸ジエチルヘキシル、２−エチルヘキサン酸セチル、炭素数１２〜１５のアルキルベンゾエート、イソノナン酸イソノニルの一種又は二種以上からなるエステル油を配合し、
（２）酸化亜鉛及び／又は酸化チタンを配合せず、
（３）さらに油中水型又は水中油型の乳化組成物に調製すること
を特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
「ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル」
本発明に用いるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤である。本発明においては、市販品（ユビナールＡ  plus：ＢＡＳＦ製）を好ましく利用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月19日(2011.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流体噴射装置および手術メス
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体室の容積をダイアフラムにより変更してノズルから流体をパルス状に噴射する流体噴射装置であって、
前記流体室と、前記流体室に流体を供給する入口流路と、前記流体室から流体を吐出する出口流路と、前記出口流路に連通するノズルと、を有するノズルユニットと、
前記ダイアフラムを変位させる圧電素子を有する圧電素子ユニットと、を備え、
前記ノズルユニットと前記圧電素子ユニットとが、着脱可能に装着されていることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項２】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記圧電素子の伸縮方向の一方の端面に固着され前記ダイアフラムに密接する補助部材と、他方の端面に固着されると共に前記ノズルユニットの筐体に固定する蓋部材と、を有していることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の流体噴射装置において、
前記圧電素子に駆動信号を入力する接続リードが接続され、前記接続リードと前記圧電素子との接続部を含む前記圧電素子の表面を覆う樹脂層が設けられていることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の流体噴射装置において、
前記補助部材が、前記ダイアフラム及び前記圧電素子よりもヤング率が小さい材料で形成されていることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項５】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記ダイアフラムが、前記圧電素子を付勢する弾性要素を備えていることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項６】
請求項１または請求項２に記載の流体噴射装置において、
前記補助部材と前記ダイアフラムとを密接した状態で、内部に前記圧電素子が配設される筐体の端面と前記蓋部材との接合部に隙間を設け、前記隙間が接合部材で充填されていることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項７】
請求項１に記載の流体噴射装置において、
前記ノズルユニットが前記ダイアフラムを含み、
前記圧電素子ユニットが、前記圧電素子を格納する筐体と、前記筐体の前記ダイアフラム方向の開口部を封止し前記圧電素子の一方の端面が固着される薄板部材と、前記筐体の前記ダイアフラムとは反対方向の開口部を封止し前記圧電素子の他方の端面に固着される蓋部材と、を有し、
前記圧電素子ユニットと前記ノズルユニットとを装着するとき、前記ダイアフラムと前記薄板部材とが密接されることを特徴とする流体噴射装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか1項に記載の流体噴射装置を用いた手術メス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月11日(2011.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
そして、イオン電流検出回路ＩＯＮの出力電圧Ｖｏは、ＥＣＵのＡ／Ｄコンバータ（不図示）に供給され、デジタルデータとしてＥＣＵのメモリに記憶される。なお、図２（ｄ）の切出しウインドＷＩＮは、点火コイルＣＬの磁路の残留磁気による残留磁気ノイズが収まった後を始期とし、燃焼反応が収束する時期が終期とされ、運転条件を考慮して決定される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
点火プラグＰＧの放電によって燃焼室の混合気が着火されると、その後、急速に燃焼反応が進行するが、イオン電流ｉは、電流検出抵抗Ｒ２→電流制限抵抗Ｒ１→コンデンサＣ１→二次コイルＬ２→点火プラグＰＧの経路で流れる。したがって、イオン電流検出回路ＩＯＮの出力電圧Ｖｏは、Ｖｏ＝Ｒ２＊ｉとなり、イオン電流iに比例した値となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ＥＣＵは、各点火サイクルにおいて、ＯＰアンプＡＭＰの出力信号Ｖｏを受け、ＡＤ変換してメモリに記憶する（ＳＴ１）。特に限定されるものではないが、この実施例では、サンプリング周波数を、コロナノイズの周波数域の２倍以上である３０ｋＨｚとしている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月9日(2010.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この取付部１５には、前記一方のフランジ１４ａから互いに対向するように支持片１６，１７が一体に立設されており、これら支持片１６，１７間の間隙は、コイル用端子１０の被取付部１０ａの厚みよりわずかに大きく形成されている。一方の支持片１７には、コイル用端子１０の係合片１０ｅが係合する係合孔１７ａが設けられている。１８，１８はコイル用端子１０のコイル接続部１０ｃが載置される載置部であって、この載置部１８，１８間に対応してコイル巻回部１４のフランジ１４ａには、励磁コイル１１の巻き始め端部または巻き終わり端部が挿通される挿通孔１４ｃが設けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
このような構成において、コイル用端子１０の被取付部１０ａを図５（Ｂ）に示すように、矢印Ａ方向に向かって取付部１５の支持片１６，１７の間に挿入し、支持片１７の係合孔１７ａに係合片１０ｅを係合させることにより、図４に示すようにコイル用端子１０がコイルボビン１２の一対の取付部１５，１５に取り付けられる。このように取付部１５に取り付けられたコイル用端子１０のコイル接続部１０ｃは、図５（Ａ）および図６に示すように、載置部１８，１８上に載置され、励磁コイル１１の巻き始め端部と巻き終わり端部とがコイル巻回部１４の挿通孔１４ｃを挿通され、載置部１８，１８間を通され、コイル接続部１０ｃの接続孔１０ｆに挿入されてはんだ付け１９によって電気的に接続される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
フィールドコア３内には、図７（Ｂ）に示すように取付凹部３ａと反対側の端面に開口３ｄを有するリング状に形成されたボビン収納溝３ｅが設けられており、この収納溝３ｅの互いに１８０°位相がずれた部位には、フィールドコア３の取付凹部３ａが設けられた端面側に開口された一対の端子収納孔３ｆが設けられている。このフィールドコア３に形成した取付凹部３ａの外径Ｒ１はボビン収納溝３ｅの内径Ｒ２よりも小さく形成されている。したがって、図１に示すようにコイルボビン１２をフィールドコア３の開口３ｄから収納溝３ｅに収納することにより、取付部１５に取り付けられたコイル用端子１０が矢印Ｂ方向へ突設するように端子収納孔３ｆに収納される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
このような構成において、第１のブラシ２０の第３の折曲部３２ｃをブラシホルダー２２の裏面側から貫通孔４３Ａ内を貫通させ、第２の折曲部３２ｂを凹部４４Ａに嵌合させることにより、第１の貫通孔３０ａが第１の小突起４６Ａに嵌合し、第２の貫通孔３２ｄが第２の小突起４５Ａに嵌合する。この状態で、第１および第２の小突起４６Ａ，４５Ａをかしめることにより、第３の折曲部３２ｃが支持壁４２Ａに対接した状態で、第１のブラシ２０がブラシホルダー２２に取り付けられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
同様に、第２のブラシ２１の第３の折曲部３６ｃをブラシホルダー２２の裏面側から貫通孔４３Ｂ内を貫通させ、第２の折曲部３６ｂを凹部４４Ｂに嵌合させることにより、第１の貫通孔３４ａが第１の小突起４６Ｂに嵌合し、第２の貫通孔３６ｄが第２の小突起４５Ｂに嵌合する。この状態で、第１および第２の小突起４６Ｂ，４５Ｂをかしめることにより、第３の折曲部３６ｃが支持壁４２Ｂに対接した状態で、第２のブラシ２１がブラシホルダー２２に取り付けられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
このように、第１および第２のブラシ２０，２１の延設部３２，３６の第２の折曲部３２ｂ，３６ｂに設けた第２の貫通孔３２ｄ，３６ｄに嵌合させた第２の小突起４５Ａ，４５Ｂを塑性変形することにより、第１および第２のブラシ２０，２１をブラシホルダー２２に取り付けたものである。このため、第１および第２のブラシ２０，２１の接点部３１ｂ，３５ｂが第１および第２のスリップリング２３，２４に摺接するときに第１および第２のブラシ２０，２１に荷重が加わっても、第１および第２のブラシ２０，２１が遊動することがないから、接点部３１ｂ，３５ｂと第１および第２のスリップリング２３，２４との間における接触抵抗を低減させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2010059984.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2010059984.tif 000002
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2010059984.tif 000003
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2010059984.tif 000004
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2010059984.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月16日(2010.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
第２クラッチＣ２と第１ブレーキＢ１とを係合させると、第２プラネタリギヤ６のサンギヤＳｒの回転速度と第１プラネタリギヤ５のリングギヤＲｆの回転速度とが共に「１」になると共に、第１プラネタリギヤ５のサンギヤＳｆの回転速度が「０」になり、第１プラネタリギヤ５の速度線は図２に「２ｎｄ」で示す線になる。そして、第１プラネタリギヤ５のキャリアＣｆの回転速度はｉ／（ｉ＋１）になり、出力軸３がｉ／｛（ｉ＋１）ｐ｝の速度で回転して、２速段が確立される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図１（ｂ）は、上述した各変速段とクラッチＣ１，Ｃ２，Ｃ３、ブレーキＢ１，Ｂ２の係合状態との関係を纏めて表示した図であり、「○」は係合を表している。また、図１（ｂ）は、第１プラネタリギヤ５のギヤ比ｉを２．５５、第２プラネタリギヤ６のギヤ比ｊを２．５５、第１ギヤ列Ｇ１のギヤ比ｐを１．４２、第２ギヤ列Ｇ２のギヤ比ｑを１．００とした場合における各変速段のギヤレシオ（入力軸２の回転速度／出力軸３の回転速度）も示している。これによれば、公比（各変速段間のギヤレシオの比）が適切になると共に、レシオレンジ（１速レシオ／６速レシオ）も適切になる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また、第１実施形態では、入力軸２の周りに、一端側から順に、第１クラッチＣ１と、第１ブレーキＢ１と、第１ギヤ列Ｇ１と、第１プラネタリギヤ５と、第２ギヤ列Ｇ２と、第２プラネタリギヤ６及び第２ブレーキＢ２と、第３クラッチＣ３と、第２クラッチＣ２とを配置したが、これに限定されない。例えば、図３に示す第２実施形態の如く、第１ブレーキＢ１と第２ギヤ列Ｇ２の間に、第１プラネタリギヤ５と第１ギヤ列Ｇ１とを順に配置してもよい。また、図４に示す第３実施形態の如く、第１ブレーキＢ１と第２ブレーキＢ２との間に、第１ギヤ列Ｇ１と、第２ギヤ列Ｇ２と、第１プラネタリギヤ５とを配置してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2010059993.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月31日(2011.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物と、
（Ｂ）（Ａ）成分とは構造が異なる重合性化合物と、
（Ｃ）光開始剤と、
を、含有し、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計含有量が、インク組成物の全質量に対し７０質量％以上であるインク組成物。
【化１】
2010059244.tif 000001
一般式（Ｉ）中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは２価の有機基を表す。ｍは１または２の整数を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。
【請求項２】
前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計含有量が、インク組成物の全質量に対し７０質量％以上９０質量％以下である請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）成分の含有量が、インク組成物の全質量に対し１質量％〜５０質量％の範囲である請求項１又は請求項２に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）におけるＸが、下記一般式（３）又は一般式（４）で表される２価の有機基ならびにこれらを複数組み合わせて構成される基である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のインク組成物。
【化２】
2010059244.tif 000002
一般式（３）中、Ａ１は直鎖状または分岐鎖を有する炭素原子数２〜４のアルキレン基を表す。
一般式（４）中、Ａ２は直鎖状または分岐鎖を有する炭素数２〜８のアルキレン基を表す。
【請求項５】
前記（Ａ）成分として、下記（Ａ−３）、（Ａ−４）、（Ａ−５）、および（Ａ−９）から選ばれる少なくとも１種の重合性化合物を含有する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のインク組成物。
【化４】
2010059244.tif 000003
【請求項６】
前記（Ｂ）成分として、Ｎ−ビニルカプロラクタム、イソボルニルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、およびトリデシルアクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の重合性化合物を含有する請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のインク組成物。
【請求項７】
前記一般式（Ｉ）におけるＸが、下記一般式（４）で表される２価の有機基または一般式（４）で表される２価の有機基を複数組み合わせて構成される基である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のインク組成物。
【化３】
2010059244.tif 000004
一般式（４）中、Ａ２は直鎖状または分岐鎖を有する炭素数２〜８のアルキレン基を表す。
【請求項８】
（Ｄ）着色剤をさらに含有する請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のインク組成物。
【請求項９】
インクジェット記録用である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のインク組成物。
【請求項１０】
（ｉ−１）被記録媒体上に、請求項９に記載のインクジェット記録用インク組成物を吐出する工程、及び、
（ｉ−２）吐出されたインクジェット記録用インク組成物に活性放射線を照射して、該インク組成物を硬化する工程、
を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、本発明の硬化性を有するインク組成物は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物と、（Ｂ）（Ａ）成分とは構造が異なる重合性化合物と、（Ｃ）光開始剤と、を含有し、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計含有量が、インク組成物の全質量に対し７０質量％以上であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
＜（Ａ）一般式（Ｉ）で表される重合性化合物＞
本発明の放射線硬化性インク組成物は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物（以下、適宜「特定重合性化合物」と称する。）を含有し、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計含有量は、インク組成物の全質量に対し７０質量％以上、好ましくは、７０質量％以上９０質量％以下である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月25日(2011.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、(ii)成分のオルガノポリシロキサンにおいて、式中のＲ2は脂肪族不飽和結合を有さない一価炭化水素基であり、前記と同様の直鎖アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基が例示され、好ましくは、直鎖状アルキル基であり、特に好ましくは、メチル基である。また、式中のＲ4は酸素原子又は二価炭化水素基である。Ｒ4の二価炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基；エチレンオキシエチレン基、エチレンオキシプロピレン基等のアルキレンオキシアルキレン基が挙げられる。特に、Ｒ4は酸素原子であることが好ましい。また、式中のＲ3は前記と同様の基である。また、式中のｐは１００〜５００の整数であり、好ましくは１０５〜５００の整数であり、さらに好ましくは１１０〜５００の整数であり、特に好ましくは１１０〜２００の整数である。これは、式中のｐが上記範囲の下限未満であると、(Ｂ)成分と(Ｃ)成分を多量に含有させることができなくなり、一方、上記範囲の上限を超えると、(Ｂ)成分と(Ｃ)成分の表面に拘束される分子体積が増えすぎて、(Ｂ)成分と(Ｃ)成分を多量に含有させることができなくなるからである。特に、本組成物中の(Ｂ)成分と(Ｃ)成分の含有量を８０容積％以上のような極めて高い含有量にすると、(Ｂ)成分あるいは(Ｃ)成分の粒子間距離が平均的に短くなるために、この傾向は顕著である。また、式中のｄは１〜３の整数であり、好ましくは３である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月6日(2011.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車体表面のパール光沢仕上げ方法であって、
（ａ）車体表面に車色を提供するため前記車体表面に少なくとも１つのベース層を付与する工程と、
（ｂ）前記ベース層上の補修修復を必要とする欠陥領域を特定する工程と、
（ｃ）前記欠陥領域に補修ベース層パッチを塗布する工程と、
（ｄ）前記ベース層を仕上げずに中間ベース層とするため、前記ベース層パッチを５００グリット以下の粗度にヤスリがけする工程と、
（ｅ）前記中間ベース層上に補修パール光沢層を塗布する工程と、から成り、
前記補修パール光沢層は、少なくとも１つのパール光沢成分と、前記中間ベース層における裸眼で視認可能な物理的変形を隠蔽するのに十分な濃度で前記補修パール光沢層中に存在し、かつ、前記パール光沢成分のパール光沢効果を抑制する量の少なくとも１つの他の補修成分と、を含み、
前記パール光沢層は、０．１〜１５重量％のTiO2と、１０〜９９重量％の雲母と、０．１〜２０重量％の金属アルミニウムと、０．０〜５重量％の着色顔料を成分とする、ことを特徴とするパール光沢仕上げ方法。
【請求項２】
前記補修パール光沢層は、水ベースのキャリヤを含む請求項１に記載のパール光沢仕上げ方法。
【請求項３】
所定の色の仕上げ塗装面の形成方法であって、
（ａ）水ベースのキャリアを含むとともに、前記仕上げ塗装面の色を少なくとも部分的に決定する色特性を有する少なくとも１つのベース層を形成する工程と、
（ｂ）水ベースキャリアを含むとともに、前記仕上げ塗装面にパール光沢効果を与える少なくとも１つのパール光沢成分及び前記少なくとも１つのベース層上に存在する物理的欠損を隠蔽する少なくとも１つの物理的欠損隠蔽成分を含むパール光沢層を、前記少なくとも１つのベース層上に形成する工程と、から成り、
前記パール光沢層は、０．１〜１５重量％のTiO2と、１０〜９９重量％の雲母と、０．１〜２０重量％の金属アルミニウムと、０．０〜５重量％の着色顔料を成分とする、ことを特徴とする仕上げ塗装面形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月18日(2011.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
フラットパネルディスプレイのＣｕ又はＣｕ合金配線形成工程で用いられるフォトレジスト剥離剤組成物であって、ウラシル及び６−メチルウラシルからなる群から選択される少なくとも１種の複素環式化合物を０．０５〜１０重量%、一級又は二級のアルカノールアミンを５〜４５重量%、並びに、極性有機溶剤及び／又は水を５０〜９４．９５重量%含有することを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明は、ＦＰＤのＣｕ又はＣｕ合金配線形成工程で用いられるフォトレジスト剥離剤組成物であって、ウラシル及び６−メチルウラシルからなる群から選択される少なくとも１種の複素環式化合物を０．０５〜１０重量%、一級又は二級のアルカノールアミンを５〜４５重量%、並びに、極性有機溶剤及び／又は水を５０〜９４．９５重量%含有することを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月24日(2011.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環境下で作用物質を感知するための装置であって、
前記装置は、共振周波数を有し、フォトニック結晶ファイバー（１０）を備えた共振器（４２）を含み、
前記フォトニック結晶ファイバー（１０）は、
実質的に単一光モードの光を誘導するように構成された固体領域であって、前記実質的に単一光モードがエバネセントテイル（１７）を有する、固体領域と；
第１の周期的空孔構造を備え、前記固体領域の外側を取り囲んだ、第１のクラッディング（１４）と；
前記第１のクラッディング（１４）をコーティングしたポリマー（１６）とを有し、前記ポリマー（１６）が、少なくとも部分的に多孔性であり、埋め込まれた表示物質を有し、前記第１のクラッディング（１４）および前記ポリマー（１６）は、前記第１のクラッディング（１４）および前記ポリマー（１６）内に、前記エバネセントテイル（１７）の一部分が及ぶように、一緒になって構成されており；
ここで、前記共振器（４２）は、共振周波数に中心がある共振形を生成するように構成されており、前記共振形の所定の変化が前記作用物質に対する前記埋め込まれた表示物質の反応を示す、前記装置。
【請求項２】
環境下で作用物質を感知するための装置であって、
前記装置は、入力光をもたらす調整可能な光源（１８）と、
共振周波数を有し、フォトニック結晶ファイバー（１０）を備えたコイル（２８）を含む共振器（４２）とを備え、
前記フォトニック結晶ファイバー（１０）は、
実質的に単一光モードの光を誘導するように構成されている固体領域であって、前記実質的に単一光モードがエバネセントテイル（１７）を有する、固体領域と；
前記固体領域を取り囲み、フォトニック結晶構造を含有する第１のクラッディング（１４）と；
前記第１のクラッディング（１４）をコーティングしたポリマー（１６）とを有し、前記ポリマー（１６）が、少なくとも部分的に多孔性であり、埋め込まれた表示物質を有し、前記第１のクラッディング（１４）および前記第１のポリマー（１６）は、前記第１のクラッディング（１４）および前記ポリマー（１６）内に、前記エバネセントテイル（１７）の一部分が及ぶように、一緒になって構成されており；
ここで、前記共振器（４２）は、調整可能な光源（１８）が前記共振周波数の周りの領域を通じて調整されるとき、前記共振周波数に中心がある共振形を生成し、前記共振形の少なくとも１つおよび自由スペクトル領域における所定の変化が、前記作用物質に対する前記埋め込まれた表示物質の反応を示す、前記装置。
【請求項３】
環境下で、作用物質を感知するための方法であって、
フォトニック結晶ファイバー（１０）のコイル（２８）を通じて単一光モードの光波を伝播する工程（ここで、前記フォトニック結晶ファイバーの（１０）コイル（２８）が、固体領域と、前記固体領域を取り囲んだクラッディング（１４）と、前記クラッディング（１４）をコーティングしたポリマー（１６）とを含み、前記ポリマー（１６）がその中に組み込まれた表示物質を有している）；
前記光波が前記フォトニック結晶ファイバー（１０）のコイル（２８）を伝播している前記単一光モードから共振形を生成する工程；および
前記共振形の所定の変化を検出する工程（ここで、前記所定の変化が前記作用物質に対する前記表示物質の反応を示す）；
を含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年3月29日(2011.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸に沿って物体側から順に並んだ複数のレンズ群を備えたズームレンズにおいて、前記ズームレンズを構成するレンズ成分の屈折率平均値をｎｄａｖとし、前記複数のレンズ群のうち最も物体側に並ぶ第１レンズ群を構成するレンズ成分の屈折率平均値をｎｄＧ１ａｖとしたとき、次式
ｎｄａｖ≧１．８０
の条件を満足するとともに、次式
ｎｄＧ１ａｖ≧１．８５
の条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
次式
ｎｄａｖ≧１．８２
の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第１レンズ群が負の屈折力を有することを特徴とする請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記複数のレンズ群が、光軸に沿って物体側から順に並んだ、前記第１レンズ群と、正の屈折力を有する第２レンズ群とから構成されることを特徴とする請求項３に記載のズームレンズ。
【請求項５】
最も広角端の全長をＴＬｗとし、最も望遠端の全長をＴＬｔとし、最も望遠端の全系の焦点距離をｆｔとしたとき、次式
１．０＜（ＴＬｗ／ｆｔ＋ＴＬｔ／ｆｔ）／２＜２．０
の条件を満足することを特徴とする請求項３または４に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記第１レンズ群が正の屈折力を有することを特徴とする請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記複数のレンズ群が、光軸に沿って物体側から順に並んだ、前記第１レンズ群と、負の屈折力を有する第２レンズ群と、正の屈折力を有する第３レンズ群と、正の屈折力を有する第４レンズ群と、負の屈折力を有する第５レンズ群とから構成されることを特徴とする請求項６に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第１レンズ群は、光路を折り曲げる光学素子を有して構成されることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記光学素子はプリズムであり、前記第１レンズ群を構成する光学部材の屈折率平均値が１．８５以上であることを特徴とする請求項８に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第１レンズ群が複数のレンズ成分を有して構成されることを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１１】
前記複数のレンズ群のうち、前記第１レンズ群の像面側に並ぶ第２レンズ群が複数のレンズ成分を有して構成されることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１２】
前記ズームレンズを構成する全てのレンズ成分の数をＧＲｎとしたとき、次式
４＜ＧＲｎ＜１６
の条件を満足することを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１３】
前記第１レンズ群は、非球面のレンズ成分を有して構成されることを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１４】
最も広角端の全長をＴＬｗとし、最も望遠端の全長をＴＬｔとし、最も広角端の全系の焦点距離をｆｗとし、最も望遠端の全系の焦点距離をｆｔとしたとき、次式
２．５＜（ＴＬｗ／ｆｗ＋ＴＬｔ／ｆｔ）／２＜６．０
の条件を満足することを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１５】
最も広角端の全長をＴＬｗとし、最も望遠端の全長をＴＬｔとし、最も広角端の全系の焦点距離をｆｗとしたとき、次式
３．０＜（ＴＬｗ／ｆｗ＋ＴＬｔ／ｆｗ）／２＜１０．０
の条件を満足することを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１６】
物体の像を所定の面上に結像させるズームレンズを備えた光学機器において、
前記ズームレンズが請求項１から１５のいずれか一項に記載のズームレンズであることを特徴とする光学機器。
【請求項１７】
光軸に沿って物体側から順に並んだ複数のレンズ群を備えたズームレンズを用いて、前記物体の像を所定の面上に結像させる結像方法であって、
前記ズームレンズを構成するレンズ成分の屈折率平均値をｎｄａｖとし、前記複数のレンズ群のうち最も物体側に並ぶ第１レンズ群を構成するレンズ成分の屈折率平均値をｎｄＧ１ａｖとしたとき、次式
ｎｄａｖ≧１．８０
の条件を満足するとともに、次式
ｎｄＧ１ａｖ≧１．８５
の条件を満足することを特徴とする結像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
このような目的達成のため、本発明に係るズームレンズは、光軸に沿って物体側から順に並んだ複数のレンズ群を備えたズームレンズにおいて、前記ズームレンズを構成するレンズ成分の屈折率平均値をｎｄａｖとし、前記複数のレンズ群のうち最も物体側に並ぶ第１レンズ群を構成するレンズ成分の屈折率平均値をｎｄＧ１ａｖとしたとき、次式
ｎｄａｖ≧１．８０
の条件を満足するとともに、次式
ｎｄＧ１ａｖ≧１．８５
の条件を満足することを特徴とする。
なお、上述において、次式
ｎｄａｖ≧１．８２
の条件を満足するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系の一対の領域を透過した光束による像に基づいて、前記光学系の焦点調節状態を表すフォーカス情報を検出する第１の焦点検出手段と、
前記光学系による像のコントラスト情報により前記光学系の焦点評価値を検出する第２の焦点検出手段と、
前記第１の焦点検出手段によるフォーカス情報に基づいて前記光学系の焦点調節レンズを駆動した後に、前記第２の焦点検出手段による前記焦点評価値の検出を行いつつ前記焦点調節レンズを駆動する第１の焦点調節を行い、前記第１の焦点調節により前記光学系を合焦状態に焦点調節できなかった場合に、その時点での前記光学系の焦点調節状態で前記第１の焦点検出手段により新たな前記フォーカス情報を検出し、該新たなフォーカス情報に基づいて前記焦点調節レンズを駆動する第２の焦点調節を行う制御手段とを備えたことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項２】
請求項１に記載の焦点調節装置において、
前記制御手段は、前記第１の焦点調節において前記焦点評価値を検出する際の前記焦点調節レンズの第１の駆動量と前記新たなフォーカス情報に基づく第２の駆動量との差が所定量より小さいか否かに応じて、前記第２の焦点調節の後に前記第２の焦点検出手段により検出される焦点評価値に基づく焦点調節を制御することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項３】
請求項２に記載の焦点調節装置において、
前記制御手段は、前記第１の駆動量と前記第２の駆動量との差が所定量より小さい場合には、前記第２の焦点調節が終了した時点の焦点調節状態を維持することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項４】
請求項２に記載の焦点調節装置において、
前記第１の焦点調節は前記焦点調節レンズの所定駆動量毎に前記焦点評価値を検出するものであり、前記制御手段は、前記第１の駆動量と前記第２の駆動量との差が所定量より小さい場合には、前記所定駆動量を変更し、変更後の駆動量毎に得られる前記焦点評価値に基づいて前記焦点調節レンズを焦点調節することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれか一項に記載の焦点調節装置において、
前記制御手段は、前記第１の駆動量と前記第２の駆動量との差が所定量より大きい場合には、前記第２の焦点検出手段の検出結果に基づいて前記焦点調節レンズを焦点調節することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項６】
請求項４に記載の焦点調節装置において、
前記制御手段は、前記所定駆動量をより小さな駆動量に変更することを特徴とする焦点調節装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の焦点調節装置と、
前記光学系により結像される像を撮像する撮像手段とを備えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項１の発明による焦点調節装置は、光学系の一対の領域を透過した光束による像に基づいて、前記光学系の焦点調節状態を表すフォーカス情報を検出する第１の焦点検出手段と、前記光学系による像のコントラスト情報により前記光学系の焦点評価値を検出する第２の焦点検出手段と、前記第１の焦点検出手段によるフォーカス情報に基づいて前記光学系の焦点調節レンズを駆動した後に、前記第２の焦点検出手段による前記焦点評価値の検出を行いつつ前記焦点調節レンズを駆動する第１の焦点調節を行い、前記第１の焦点調節により前記光学系を合焦状態に焦点調節できなかった場合に、その時点での前記光学系の焦点調節状態で前記第１の焦点検出手段により新たな前記フォーカス情報を検出し、該新たなフォーカス情報に基づいて前記焦点調節レンズを駆動する第２の焦点調節を行う制御手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
そのような場合には、ステップＳ１０９からステップＳ１１０、ステップＳ１１１と進み、ステップＳ１１１においてハイブリッドＡＦの再起動処理を実行する。ステップＳ１１０では、ステップＳ１０５で記憶されたレンズ位置とコントラストＡＦ終了時（すなわち、サーチ終了時）のレンズ位置とから、コントラストＡＦにおけるレンズ駆動量Ｘを算出する。なお、算出されたレンズ駆動量Ｘは記憶部に記憶される。