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【手続補正書】
【提出日】平成23年9月30日(2011.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ処理方法、デバイスの製造方法および基板処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を汚染する金属を有する処理室内に設けられた載置台に基板を載置しないで、前記処理室に窒素ガスを含むガスを供給しつつプラズマ放電するステップと、
前記処理室内に設けられた前記載置台に基板を載置しないで、前記処理室に酸素ガスを含むガスを供給しつつプラズマ放電するステップと、
を備えたプラズマ処理方法。
【請求項２】
処理室に基板を搬入するステップと、
前記処理室内に設けられた載置台に基板を載置するステップと、
前記処理室内に反応ガスを供給するステップと、
放電手段が前記反応ガスを励起するステップと、
を有する基板処理工程と、
基板を汚染する金属を有する処理室内に設けられた載置台に基板を載置しないで、前記処理室に窒素ガスを含むガスを供給しつつ前記放電手段が当該ガスを励起するステップと、
当該処理室に設けられた前記載置台に基板を載置しないで、前記処理室に酸素ガスを含むガスを供給しつつ前記放電手段が当該ガスを励起するステップと、
を有する処理室処理工程と、
を有するデバイスの製造方法。
【請求項３】
基板を汚染する金属を有する処理室と、
前記処理室内に設けられ、前記基板を支持する載置台と、
前記処理室に反応ガスと酸素ガスと窒素ガスの少なくとも何れかを含むガスを前記処理室に供給する流量制御手段と、
前記処理室を排気する排気装置と、
前記処理室内に供給されたガスを励起する放電手段と、
前記基板保持手段と前記流量制御手段と前記排気装置と前記放電手段とを制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段が、
前記基板が前記処理室内に無い状態で前記処理室内に窒素を含むガスを供給しつつ当該ガスを励起するステップと、
前記基板が前記処理室内に無い状態で前記処理室内に酸素ガスを含むガスを供給しつつ当該ガスを励起するステップと、
を実行するよう前記流量制御手段と前記放電手段とを制御する基板処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月2日(2011.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下型と、
前記下型の上に配置されて、下面側に凹部が設けられ、前記凹部の底面周縁部に該凹部の開口部側に突出して部分的に底上げする突起部が設けられた上型と、
前記上型の下面側に設けられ、吸引吸着によって前記凹部の凹面に沿って密着する保護フィルムとを
含む樹脂封止装置と、
接続バンプを介して複数の配線基板が積層された積層配線基板とを用意する工程と、
前記下型と前記上型の凹部との間に前記積層配線基板を配置して挟んだ状態で、樹脂供給部から前記積層配線基板の間を含むキャビティに溶融した樹脂を流入させて樹脂封止する工程とを有することを特徴とする積層配線基板の樹脂封止方法。
【請求項２】
前記突起部の高さは、前記保護フィルムが前記上型の下面に吸引吸着される際に、前記上型の前記凹部の底面中央部と底面周縁部において、前記保護フィルムの下面が同一の高さになるように設定されることを特徴とする請求項１に記載の積層配線基板の樹脂封止方法。
【請求項３】
前記上型の凹部の底面周縁部に設けられた突起部は、リング状に繋がって形成されていることを特徴とする請求項１に記載の積層配線基板の樹脂封止方法。
【請求項４】
前記保護フィルムはテフロン（登録商標）からなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の積層配線基板の樹脂封止方法。
【請求項５】
前記積層配線基板の下側の配線基板の上に半導体チップが実装され、前記半導体チップと上側の前記配線基板との間に前記樹脂が充填されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の積層配線基板の樹脂封止方法。
【請求項６】
下型と、
前記下型の上に配置されて、下面側に凹部が設けられ、前記凹部の底面周縁部に該凹部の開口部側に突出して部分的に底上げする突起部が設けられた上型と、
前記上型の下面側に設けられ、吸引吸着によって前記凹部の凹面に沿って密着する保護フィルムとを有し、
接続バンプを介して複数の配線基板が積層された積層配線基板を、前記下型と前記上型の凹部との間に配置して挟んだ状態で、樹脂供給部から前記積層配線基板の間を含むキャビティに溶融した樹脂を流入させて樹脂封止することを特徴とする樹脂封止装置。
【請求項７】
前記突起部の高さは、前記保護フィルムが前記上型の下面に吸引吸着される際に、前記上型の前記凹部の底面中央部と底面周縁部において、前記保護フィルムの下面が同一の高さになるように設定されることを特徴とする請求項６に記載の樹脂封止装置。
【請求項８】
前記上型の凹部の底面周縁部に設けられた突起部は、リング状に繋がって形成されていることを特徴とする請求項６又は７に記載の樹脂封止装置。
【請求項９】
前記保護フィルムはテフロン（登録商標）からなることを特徴とする請求項６又は７に記載の樹脂封止装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
さらに、コア基板４０の両面側には、各接続パッドＰ１，Ｐ２上に開口部６２ａが設けられたソルダレジスト６２がそれぞれ形成されている。コア基板４０の両面側の各接続パッドＰ１，Ｐ２の表面には、下から順に、ニッケル層／金めっき層が形成されてコンタクト部（不図示）がそれぞれ設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
そして、第１配線基板３２の上面側の接続パッドＰ２と第２配線基板３４の下面側の接続パッドＰ１との間にはんだバンプ３６が配置され、はんだバンプ３６によって第１配線基板３２と第２配線基板３４とが相互接続されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
まず、本実施形態で使用される樹脂封止装置１について説明する。図６に示すように、本実施形態の樹脂封止装置１は、下型１２及び上型１４により基本構成されるモールド型１０を備える。モールド型１０はトランスファーモールド工法で使用される金型である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
そして、ワークとして前述した積層配線基板３０が下型１２と上型１４の凹部１４ａ（保護フィルム２０）との間に挟まれて配置される。図６では図４の積層配線基板３０が簡略化されて描かれている。上型１４の凹部１４ａは積層配線基板３０の上側の第２配線基板３４の大きさに概ね対応しており、上型１４の凹部１４ａ内に第２配線基板３４が収容される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2010097991.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2010097991.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2010097991.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月8日(2011.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一方、画面が大きいディスプレイでは、全体像を見るには、ある程度ディスプレイから離れ、また詳細部分を見るには視力による分解能の制約があるため、ある程度ディスプレイに近づいて見ることが自然なユーザの動作となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
スケーリング回路２１は、インタフェース回路２０から入力される画像データの解像度を、光学系２５に設けられている液晶ライトバルブの解像度に対応するように変換する機能、及び光学系２５の機械的要因によって発生する台形歪みを電気的に補正する台形歪補正機能を有している。スケーリング回路２１は、上記のような解像度変換及び台形歪補正後の画像データを画質調整回路２２に出力する。なお、本実施形態では、使用する液晶ライトバルブの解像度をＸＧＡと想定しているため、スケーリング回路２１において解像度変換は行われない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
ズーム信号生成部（ズーム比設定手段）３３bは、図１０（b）に示すように、予め設定されている画面サイズパラメータＳＰとズーム比Ｚmとの対応関係を基に、画面サイズパラメータ生成部３３aから入力される画面サイズパラメータＳＰに対応するズーム比Ｚmを取得し、この取得したズーム比Ｚmに応じたズーム信号を生成して第２のプロジェクタ１９に出力する。このズーム信号は、第２のプロジェクタ１９の電動ズーム１５３を制御するためのもの（つまり第２のプロジェクタ１９の投射画面Ｗ２の大きさを制御するためのもの）であるので、図１０（b）に示すように、ズーム比Ｚmは、画面サイズパラメータの上限値ＳＰmaxと下限値ＳＰminと間で比例または単調増加するように設定されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
ここで、Ｘアドレス方向のデータ数１５３６をＸＧＡのデータ数１０２４に変換するためには、２／３の変換を行えば良い（Ｙ方向も同様である）。つまり、図１２（a）に示すように、各画素のデータを補間演算により、太枠Ｄ１に相当する領域のデータに変換すれば良い。具体的には、４つの隣接する画素の位置に応じた補間係数を設定し、この補間係数を各画素のデータに乗算して平均値を算出することにより、図１２（b）に示すように、ＸＧＡの各画素に対応する画像データｄ（０、０）〜ｄ（１０２３、７６７）が得られる。例えば、ＸＧＡのアドレス（Ｘ、Ｙ）＝（０、０）に対応する画像データｄ（０、０）は、下記（２）式によって算出することができる。
ｄ（０、０）＝｛ａ（２５６、１９２）・４＋ａ（２５７、１９２）・２＋ａ（２５６、１９３）・２＋ａ（２５７、１９３）｝／９ ・・・・・・（２）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
上記のように第１の画像バッファ１４に格納された画像データは、第１のプロジェクタ１８に出力され、これにより、第１のプロジェクタ１８によってＸＧＡ変換後の画像データに応じた画像がスクリーンＳＣ上に投射される。これは第１実施形態と同様である。一方、第２の画像バッファ１５に格納された画像データは、第２のプロジェクタ１９に出力され、これにより、第２のプロジェクタ１９によってＸＧＡ変換後の画像データに応じた画像がスクリーンＳＣ上に投射されるが、その投射画面Ｗ２の大きさ及び明るさは、パラメータ生成部３３で生成されるズーム信号及び画質制御信号によって制御される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
この場合、ステップＳ２１において、コンテンツパラメータ生成部５１によって、ベクトル値の総和に応じた観察距離信号が生成され、また、消点のブロック位置に応じた観察位置信号が生成されて、それぞれパラメータ生成部３３、表示位置パラメータ生成部４１に出力される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
この場合、ステップＳ２２において、コンテンツパラメータ生成部５１によって、該当ブロックの数に応じた観察距離信号が生成され、また、該当ブロックの位置に応じた観察位置信号が生成されて、それぞれパラメータ生成部３３、表示位置パラメータ生成部４１に出力される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
さらに、上記ステップＳ１２、Ｓ１４及びＳ１５において、「Ｎo」の場合には、総合判定部５０cによって一般的シーンと判断され（ステップＳ１７）、ステップＳ２３において、コンテンツパラメータ生成部５１によって、遠方に対応する観察距離信号が生成され、また、中央位置に対応する観察位置信号が生成されて、それぞれパラメータ生成部３３、表示位置パラメータ生成部４１に出力される。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月18日(2011.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カメラマウントを持つカメラ
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影レンズと係合しカメラ本体に該レンズを着脱自在に係止するためのカメラマウントを有するカメラであって、
前記カメラマウントは、前記撮影レンズの光軸の方向にカメラマウント金属部とカメラマウント合成樹脂部とが積層される形で一体的に形成され、
前記カメラマウントは、光軸の直上となる部分における前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さが、光軸の直下となる部分における前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さより厚くなるように形成されることを特徴とするカメラ。
【請求項２】
前記カメラマウントは、前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さが、最も厚い部分から最も薄い部分へと連続的に変化するように形成されることを特徴とする請求項１に記載のカメラ。
【請求項３】
前記カメラマウントは、前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さが、前記光軸を含む上下方向に伸びる垂直面に関して対称的に変化するように形成されることを特徴とする請求項１または２に記載のカメラ。
【請求項４】
前記カメラマウントは、前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さが最も厚くなる部分が、前記光軸よりも上方に位置する前記カメラマウント合成樹脂部の爪部に対応する部分に位置するように形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のカメラ。
【請求項５】
前記カメラマウントは、前記光軸の直上となる部分における前記カメラマウント合成樹脂の光軸の方向の厚さが、前記光軸の直下となる部分における前記カメラマウント合成樹脂の光軸の方向の厚さより薄くなるように形成され、
前記カメラマウントは全体的に均一な光軸の方向の厚さを持つように形成されることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のカメラ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、レンズ取り付けマウントを持つレンズ交換式カメラに関する。さらに詳しくは、金属部と合成樹脂部が積層される形で一体的に構成され且つ強度的に補強されたカメラマウントを持つカメラに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記課題に鑑み、撮影レンズと係合しカメラ本体に該レンズを着脱自在に係止するためのカメラマウントを有する本発明のカメラは次の特徴を有する。前記カメラマウントは、前記撮影レンズの光軸の方向にカメラマウント金属部とカメラマウント合成樹脂部とが積層される形で一体的に形成される。そして、前記カメラマウントは、光軸の直上となる部分における前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さが、光軸の直下となる部分における前記カメラマウント金属部の光軸の方向の厚さより厚くなるように形成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月13日(2011.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光変調器および波長可変レーザーモジュール
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、レーザ光を強度変調する光変調器および波長可変レーザーモジュールに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月9日(2011.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
【化１】
2010097696.tif 000001
（但し、化１において、Ｑは酸素原子、メチレン基または単結合、Ａは、分岐していても良い置換もしくは無置換の炭素数１〜５のアルキレン基、カルボニル基、スルフィニル基、分岐していても良い置換もしくは無置換の炭素数１〜５のパーフルオロアルキレン基、分岐していても良い炭素数２〜６の置換もしくは無置換のフルオロアルキレン基、エーテル結合を含み分岐していても良い置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキレン基、エーテル結合を含み分岐していても良い置換もしくは無置換の炭素数１〜６のパーフルオロアルキレン基又はエーテル結合を含み分岐していても良い炭素数２〜６の置換もしくは無置換のフルオロアルキレン基を示す。Ｂは分岐していても良い置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のフルオロアルキレン基、または酸素原子を示す。）
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月16日(2011.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表データが含まれる一又は複数の電子文書ファイル中から抽出したデータに基づいて新たなデータベースを生成するデータベース生成装置において、
一又は複数の前記電子文書ファイルを取得する電子文書ファイル取得手段と、
取得した一又は複数の前記電子文書ファイルに含まれる罫線に関する罫線情報をそれぞれ抽出する罫線情報抽出手段と、
抽出した複数の罫線情報に基づいて前記電子文書ファイルの内容を解析する解析手段と、
解析結果に基づいて、生成するデータベースのデータベース項目及びデータ抽出規則を特定するデータ抽出規則特定手段と、
特定したデータベース項目及びデータ抽出規則にて、一又は複数の前記電子文書ファイルから前記データベース項目及び対応するデータを抽出するデータ抽出手段と、
抽出されたデータベース項目及び対応するデータを一覧表示する表示手段と、
表示されたデータベース項目及び対応するデータが適正である旨を示す確定情報の入力を受け付ける確定情報受付手段と
を備えることを特徴とするデータベース生成装置。
【請求項２】
前記データ抽出規則特定手段は、
一又は複数の前記電子文書ファイルの指定を受け付けるファイル指定受付手段と、
指定を受け付けた一又は複数の電子文書ファイルの表データの範囲指定を受け付ける範囲指定受付手段と、
受け付けた範囲指定に従って、前記データベース項目及び前記データ抽出規則を特定する特定手段と
を備えることを特徴とする請求項１記載のデータベース生成装置。
【請求項３】
異なる電子文書ファイルから抽出した表データの位置の相違に関する情報、及び／又は異なる電子文書ファイルから抽出したデータベース項目の相違に関する情報を少なくとも含む表データの相違に関するゆらぎ情報を抽出するゆらぎ情報抽出手段と、
前記データベース項目、前記データ抽出規則及び抽出されたゆらぎ情報に基づいて、前記データ抽出規則の変更部分が存在するか否かを判断する判断手段と、
該判断手段で変更部分が存在すると判断した場合、同一の前記データベース項目に対しては同一の、異なるデータベース項目に対しては異なるタグ情報を付与するタグ情報付与手段と
を備え、
前記データ抽出手段は、前記データ抽出規則の変更部分を反映して前記データベース項目及び対応するデータを抽出するようにしてあり、
前記表示手段は、前記データベース項目に付与されているタグ情報に従って前記データベース項目を配列して、前記データベース項目及び対応するデータを一覧表示するようにしてあることを特徴とする請求項１又は２記載のデータベース生成装置。
【請求項４】
前記解析手段は、
罫線により区切られた区画が複数列又は複数行にわたって同一であるか否かを判断する手段を備え、
該手段で同一であると判断した場合、前記データ抽出手段は、複数列又は複数行にわたって同一である最初の行又は列での区画に相当するデータベース項目にてデータを抽出するようにしてあることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のデータベース生成装置。
【請求項５】
表データが含まれる一又は複数の電子文書ファイル中から抽出したデータに基づいて新たなデータベースを生成するデータベース生成装置で実行することが可能なデータベース生成方法において、
一又は複数の前記電子文書ファイルを取得し、
取得した一又は複数の前記電子文書ファイルに含まれる罫線に関する罫線情報をそれぞれ抽出し、
抽出した複数の罫線情報に基づいて前記電子文書ファイルの内容を解析し、
解析結果に基づいて、生成するデータベースのデータベース項目及びデータ抽出規則を特定し、
特定したデータベース項目及びデータ抽出規則にて、一又は複数の前記電子文書ファイルから前記データベース項目及び対応するデータを抽出し、
抽出されたデータベース項目及び対応するデータを一覧表示し、
表示されたデータベース項目及び対応するデータが適正である旨を示す確定情報の入力を受け付けることを特徴とするデータベース生成方法。
【請求項６】
一又は複数の前記電子文書ファイルの指定を受け付け、
指定を受け付けた一又は複数の電子文書ファイルの表データの範囲指定を受け付け、
受け付けた範囲指定に従って、前記データベース項目及び前記データ抽出規則を特定することを特徴とする請求項５記載のデータベース生成方法。
【請求項７】
異なる電子文書ファイルから抽出した表データの位置の相違に関する情報、及び／又は異なる電子文書ファイルから抽出したデータベース項目の相違に関する情報を少なくとも含む表データの相違に関するゆらぎ情報を抽出し、
前記データベース項目、前記データ抽出規則及び抽出されたゆらぎ情報に基づいて、前記データ抽出規則の変更部分が存在するか否かを判断し、
変更部分が存在すると判断した場合、同一の前記データベース項目に対しては同一の、異なるデータベース項目に対しては異なるタグ情報を付与し、
前記データ抽出規則の変更部分を反映して前記データベース項目及び対応するデータを抽出し、
前記データベース項目に付与されているタグ情報に従って前記データベース項目を配列して、前記データベース項目及び対応するデータを一覧表示することを特徴とする請求項５又は６記載のデータベース生成方法。
【請求項８】
罫線により区切られた区画が複数列又は複数行にわたって同一であるか否かを判断し、
同一であると判断した場合、複数列又は複数行にわたって同一である最初の行又は列での区画に相当するデータベース項目にてデータを抽出することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載のデータベース生成方法。
【請求項９】
表データが含まれる一又は複数の電子文書ファイル中から抽出したデータに基づいて新たなデータベースを生成するデータベース生成装置で実行することが可能なコンピュータプログラムにおいて、
前記データベース生成装置を、
一又は複数の前記電子文書ファイルを取得する電子文書ファイル取得手段、
取得した一又は複数の前記電子文書ファイルに含まれる罫線に関する罫線情報をそれぞれ抽出する罫線情報抽出手段、
抽出した複数の罫線情報に基づいて前記電子文書ファイルの内容を解析する解析手段、
解析結果に基づいて、生成するデータベースのデータベース項目及びデータ抽出規則を特定するデータ抽出規則特定手段、
特定したデータベース項目及びデータ抽出規則にて、一又は複数の前記電子文書ファイルから前記データベース項目及び対応するデータを抽出するデータ抽出手段、
抽出されたデータベース項目及び対応するデータを一覧表示する表示手段、及び
表示されたデータベース項目及び対応するデータが適正である旨を示す確定情報の入力を受け付ける確定情報受付手段
として機能させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月11日(2011.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気機器であって、
外部装置とインタフェースを介して接続される入力端子と、
前記外部装置と前記入力端子とが接続される場合、前記インタフェースに含まれる電源ラインのレベルがハイレベルになるようにする制御手段と、
前記制御手段によって、前記電源ラインのレベルがハイレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記インタフェースに含まれるＨＰＤラインのレベルがハイレベルである場合、前記外部装置と前記電気機器とが誤接続されていることを示す所定の情報を出力する出力手段とを有することを特徴とする電気機器。
【請求項２】
前記制御手段によって、前記電源ラインのレベルがハイレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記ＨＰＤラインのレベルがハイレベルでない場合、前記所定の情報は、出力されないことを特徴とする請求項１に記載の電気機器。
【請求項３】
前記インタフェースは、ＨＤＭＩのインタフェースであることを特徴とする請求項１または２に記載の電気機器。
【請求項４】
前記電気機器は、テレビジョン受信装置であり、前記外部装置は、リピータ装置及び録画装置のいずれか一つであることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電気機器。
【請求項５】
前記制御手段によって、前記電源ラインのレベルがハイレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記ＨＰＤラインのレベルがハイレベルでない場合、前記制御手段は、前記外部装置の電源をオンにすることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電気機器。
【請求項６】
電気機器であって、
外部装置とインタフェースを介して接続される出力端子と、
前記外部装置と前記出力端子とが接続される場合、前記インタフェースに含まれる電源ラインのレベルがローレベルになるようにする制御手段と、
前記制御手段によって前記電源ラインのレベルがローレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記電源ラインのレベルがハイレベルである場合、前記外部装置と前記電気機器とが誤接続されていることを示す所定の情報を出力する出力手段とを有することを特徴とする電気機器。
【請求項７】
前記制御手段によって前記電源ラインのレベルがローレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記電源ラインのレベルがハイレベルでない場合、前記所定の情報は、出力されないことを特徴とする請求項６に記載の電気機器。
【請求項８】
前記インタフェースは、ＨＤＭＩのインタフェースであることを特徴とする請求項６または７に記載の電気機器。
【請求項９】
前記電気機器は、録画装置であり、前記外部装置は、テレビジョン受信装置及びリピータ装置のいずれか一つであることを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記載の電気機器。
【請求項１０】
請求項１から５のいずれか１項に記載の電気機器としてコンピュータを機能させるためのコンピュータプログラム。
【請求項１１】
請求項６から９のいずれか１項に記載の電気機器としてコンピュータを機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気機器およびコンピュータプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、インタフェースの端子を有する電気機器およびコンピュータプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明はこのような従来技術の課題に鑑みなされたものである。本発明は、電気機器と外部装置との誤接続を検出し、ユーザに報知することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明に係る電気機器は、電気機器であって、外部装置とインタフェースを介して接続される入力端子と、前記外部装置と前記入力端子とが接続される場合、前記インタフェースに含まれる電源ラインのレベルがハイレベルになるようにする制御手段と、前記制御手段によって、前記電源ラインのレベルがハイレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記インタフェースに含まれるＨＰＤラインのレベルがハイレベルである場合、前記外部装置と前記電気機器とが誤接続されていることを示す所定の情報を出力する出力手段とを有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明に係る電気機器は、電気機器であって、外部装置とインタフェースを介して接続される出力端子と、前記外部装置と前記出力端子とが接続される場合で、前記インタフェースに含まれる電源ラインのレベルがローレベルになるようにする制御手段と、前記制御手段によって、前記電源ラインのレベルがローレベルになるようにされている場合であって、かつ、前記電源ラインのレベルがハイレベルである場合、前記外部装置と前記電気機器とが誤接続されていることを示す所定の情報を出力する出力手段とを有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明によれば、電気機器と外部装置との誤接続を検出し、ユーザに報知することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
別の実施形態では、メリネックス（Ｍｅｌｉｎｅｘ（登録商標））が支持体材料として使用される。これはデュポン／帝人社（ＤｕＰｏｎｔ／Ｔｅｉｊｉｎ）製の２軸延伸ポリエステル（ポリエチレンテレフタル酸塩）フィルムである。このフィルムは、本発明による方法での使用に特に適すると思われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（図４）
図４は、画像形成媒体１の構造を示す図である。同図は、この種の媒体の断面図の一部を示す。副層３０１から３０５が積層された画像形成層３００は、支持体１００に塗布される。副層３０１は、スパッタリング処理により支持体に塗布することのできる５０ｎｍ厚のチタニウム層である。１００ｎｍ厚の接着層が、スプレーコート処理によりこの金属層に塗布される。図示される例では、この接着層は、市販のポリエステルであるＤｙｎａｐｏｌ（登録商標）を含む。この層は、空気であらゆる不純物を吹き飛ばすことによって清掃される。生成層３０３は、接着層に塗布され、自由荷電キャリヤーを放出しつつ光を吸収できる色素を含む。この種の色素は、従来技術、例えば米国特許第４５８７１８９号明細書から十分に既知である。この例では、生成層は５００ｎｍの厚さを有する。この生成層の塗布後、トランスポート層３０４が塗布される。この種の層とその塗布は、従来技術、例えば上述の米国特許第４５８７１８９号明細書の例ＩＩＩに記載される従来技術から十分に既知である。その処理のさらなる詳細も、同特許明細書に記載されている。最後に、この例では１５０ｎｍ厚の非晶質カーボン層である保護層３０５が塗布される。この層は、図１に示される処理で使用されるとき、画像形成媒体の機械的損耗を低減する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の端部の間で延伸する半晶質の支持体材料のストリップからエンドレス画像形成媒体を製造する方法であって、
・両端部を１つにまとめる段階と、
・１つにまとめられた部分を一緒に溶接し、エンドレス支持体を形成する段階と、
・溶接した部分が後結晶化する段階と、
・画像形成層を支持体上に形成する段階と、
を順に備えており、溶接部分が後結晶化する段階の後、画像形成層を形成する段階の前に、少なくとも支持体における後結晶化した溶接部分が伸張されかつ支持体材料のガラス転移点近傍の、ガラス転移の出発点を超える温度まで加熱されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
ガラス転移点を超えて加熱した後、画像形成層を形成する前に、支持体材料が支持体材料のガラス転移点を下回る温度まで冷却されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
支持体全体が伸張されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
支持体が、ストリップの長さＬを２πで割った値よりもわずかに大きい半径を有するドラム上で伸張されることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記支持体を押し被せたドラムをオーブン内に配置することによって、支持体がガラス転移点温度を超える温度まで加熱されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
画像形成層が、溶液で塗布した後、溶剤を蒸発させて形成した誘電体層を含んでいることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
画像形成層が、エンドレス支持体の表面に付着させた金属層を含んでいることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ポリエステルが支持体材料として使用されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
メリネックス（Ｍｅｌｉｎｅｘ）が支持体として使用されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月1日(2011.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
下塗り塗料としては、例えば特許文献１には、ジペンタエリスリトールの多官能アクリレートと、イソシアヌレート型ポリイソシアネートとを含有して成るＦＲＰ金属蒸着用紫外線硬化型下塗り液状組成物が開示されている。
また、特許文献２には、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物２０〜８０重量部と、油変性アルキド樹脂８０〜２０重量部と、増感剤２〜１５重量部を含有してなるＦＲＰ用金属蒸着用紫外線硬化型下塗り液状組成物が開示されている。
また、特許文献３には、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸等で油変性された、酸価が２０〜８０ｍｇＫＯＨ／ｇである酸変性アルキド樹脂、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、および光重合開始剤を含有してなる紫外線硬化型樹脂組成物が開示されている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月17日(2010.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2011021016.tif 000001
〔式中、Ｘはアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ハロアルキル基又はハロアルコキシ基を表し、
Ｙは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基又はハロアルコキシ基を表し、
（但し、基Ｘ及びＹの一つだけは、ハロアルキル基又はハロアルコキシ基を表していてもよい）、
ＡはＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｇは水素原子（ａ）を表すか又は下記の基
【化２】
2011021016.tif 000002
の一つを表し、上記の基において、
Ｍは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｒ１は、それぞれの場合において、場合によりハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、Ｃ１〜Ｃ８アルキルチオ−Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はポリ−Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ８アルキル基を表すか、あるいは場合によりハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基（場合によりその１個のメチレン基又は直接隣り合っていない２個のメチレン基は、酸素原子及び／又は硫黄原子で置換されていてもよい）を表すか、
場合によりハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基で置換されていてもよいフェニル基を表すか、あるいはチエニル基を表し、
Ｒ２は、それぞれの場合において、場合によりハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ−Ｃ２〜Ｃ８アルキル基又はポリ−Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ８アルキル基を表すか、
場合によりハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を表すか、あるいは
それぞれの場合において、場合によりハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基もしくはベンジル基を表す〕で示される化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月1日(2011.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の吸気ポートに接続される吸気通路と、前記吸気通路に合流するＥＧＲ通路と、前記吸気通路に取り付けられた特定ガスの濃度を検出するガスセンサと、前記ガスセンサの出力信号に基づいて前記内燃機関を制御する制御手段と、を備えた内燃機関の吸気システムであって、
前記吸気通路のうち、前記ＥＧＲ通路との合流部より下流側には、該合流部よりも内径の大きい拡径部を形成し、
前記ガスセンサは、前記拡径部の上流端より下流側の前記吸気通路に取り付けられた内燃機関の吸気システム。
【請求項２】
前記拡径部の上流端と、前記合流部の上流端と下流端との中間位置との距離は、５１０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の内燃機関の吸気システム。
【請求項３】
前記拡径部の開口面積をＳ１、前記合流部の開口面積Ｓ２、前記合流部の前記中間位置と前記ガスセンサの取り付け位置との距離Ｌ１としたときに、Ｓ１／Ｓ２が２倍未満の場合にはＬ１≧−４３９（Ｓ１／Ｓ２）２＋８７１（Ｓ１／Ｓ２）＋１５１、Ｓ１／Ｓ２が２倍以上の場合にはＬ１≧１００ｍｍ以上であることを特徴する請求項２記載の内燃機関の吸気システム。
【請求項４】
前記拡径部の開口面積をＳ１、前記合流部の開口面積Ｓ２、前記合流部の前記中間位置と前記ガスセンサの取り付け位置との距離Ｌ１としたときに、Ｓ１／Ｓ２が３倍未満の場合にはＬ１≧−８６（Ｓ１／Ｓ２）２＋１１５（Ｓ１／Ｓ２）＋５２５、Ｓ１／Ｓ２が３倍以上の場合にはＬ１≧１００ｍｍ以上であることを特徴する請求項２又は３記載の内燃機関の吸気システム。
【請求項５】
前記合流部より下流側の前記吸気通路に、該合流部より屈曲する屈曲部を形成し、
前記ガスセンサは、前記屈曲部より下流側の前記吸気通路内に配置されている請求項１〜４のいずれかに記載の内燃機関の吸気システム。
【請求項６】
内燃機関の吸気ポートに接続される吸気通路と、前記吸気通路に合流するＥＧＲ通路と、前記吸気通路に取り付けられた特定ガスの濃度を検出するガスセンサと、前記ガスセンサの出力信号に基づいて前記内燃機関を制御する制御手段と、を備えた内燃機関の吸気システムであって、
前記ＥＧＲ通路との合流部より下流側の前記吸気通路に、該合流部よりも内径が縮径せずに屈曲する屈曲部を形成し、
前記ガスセンサは、前記屈曲部より下流側の前記吸気通路に取り付けられた内燃機関の吸気システム。
【請求項７】
前記屈曲部の上流端と、前記合流部の上流端と下流端との中間位置との距離は、５１０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項６記載の内燃機関の吸気システム。
【請求項８】
前記屈曲部の屈曲角度をＲ１、前記合流部の前記中間位置と前記ガスセンサの取り付け位置との距離Ｌ２としたときに、Ｒ１が９０度未満の場合にはＬ２≧−０．０７５（Ｒ１）２＋１．８Ｒ１＋５４５、Ｒ１が９０度以上の場合にはＬ２≧１００ｍｍ以上であることを特徴する請求項７記載の内燃機関の吸気システム。
【請求項９】
前記屈曲部の屈曲角度をＲ１、前記合流部の前記中間位置と前記ガスセンサの取り付け位置との距離Ｌ２としたときに、Ｒ１が９０度未満の場合にはＬ２≧−０．０２７（Ｒ１）２−１．４Ｒ１＋５６０、Ｒ１が９０度以上の場合にはＬ２≧２００ｍｍ以上であることを特徴する請求項７又は８記載の内燃機関の吸気システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の内燃機関の吸気システムは、内燃機関の吸気ポートに接続される吸気通路と、前記吸気通路に合流するＥＧＲ通路と、前記吸気経路に取り付けられた特定ガスの濃度を検出するガスセンサと、前記ガスセンサの出力信号に基づいて前記内燃機関を制御する制御手段と、を備えた内燃機関の吸気システムであって、前記ＥＧＲ通路との合流部より下流側の前記吸気通路に、該合流部よりも内径の大きい拡径部を形成し、前記ガスセンサは、前記拡径部の上流端より下流側の前記吸気通路に取り付けられている。
このようにすると、拡径部の上流端より下流側では、吸気通路を流れる吸気（新気）とＥＧＲ通路を通って合流部から吸気通路に流れる排気ガスとが充分に混合されるので、この位置にガスセンサを取り付けると、混合気中の特定ガス濃度を精度よく検知し、内燃機関の性能を向上させることができる。
なお、拡径部の上流端よりも下流側の吸気通路にガスセンサを取り付ければよく、拡径部にとりつけても良いし、拡径部よりも下流側で、且つ拡径部よりも内径が径小に形成された部位に取り付けられていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
次に、本発明の特徴部分である、合流部４００ｃより下流側の吸気通路４００の形状について、図２〜図４を参照して説明する。既に述べたように、単にまっすぐな吸気通路４００の途中にＥＧＲ通路６００を合流させただけでは、合流部４００ｃより下流側で新気と排気ガスが充分に混合されない。
そこで、図２に示すように、合流部４００ｃより下流側の吸気通路４００に、合流部４００ｃよりも内径の大きい拡径部４２０を形成したところ、拡径部４２０の上流端４２０ａ（合流部４００ｃとの接続部分）の近傍であっても、新気と排気ガスが充分に混合されることが判明した。これは、合流部４００ｃより下流側で吸気通路４００の断面積が増大（本実施例では、ほぼ３倍）し、スワール（渦）が生じたためと考えられる。従って、ガスセンサ１を拡径部４２０の上流端４２０ａより下流側で吸気通路４００に取り付ければ、新気と排気ガスが充分に混合された混合気中の特定ガス濃度を精度よく測定することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図９より、屈曲角度が０°を超えれば（つまり、屈曲部４３０が形成されれば）、Ｆ領域、Ｅｘ領域の両方の混合距離が短くなることがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月16日(2011.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンプケーシングの左右にそれぞれ横向の吸引口を配して該吸引口相互間及び片吸込形又は両吸込形の羽根車の吸込口に至る共通流路を該ケーシング内に形成し、該ケーシングの軸端側を開放するケーシングカバーを配して羽根車の脱・着及び軸封シールの取替を可能に構成した、主として横軸姿勢で使用する渦巻ポンプ。
【請求項２】
請求項１の渦巻ポンプの左右の吸引口に吸引弁（Ｖ１）及び（Ｖ２）と、吐出側にＴ分岐ピースを介して注水弁（Ｖ３）及び排水弁（Ｖ４）を、該ポンプ周りの鉛直面に、ポンプ軸端側を操作・保守正面として集中配置し、弁（Ｖ２）及び（Ｖ３）を注排水管に、弁（Ｖ１）を舷外取水管に、弁（Ｖ４）を舷外排水管にそれぞれ接続し、弁組（Ｖ１）、（Ｖ２）又は弁組（Ｖ３）、（Ｖ４）を開いて自流注排水し、弁組（Ｖ１）、（Ｖ３）又は弁組（Ｖ２）、（Ｖ４）を開いてポンプ注排水するよう構成したバラスト系のポンプユニット。
【請求項３】
請求項１の渦巻ポンプ２台をエダクタを挟んで並列配置し、両ポンプの対向側の各吸引口に吸引弁（Ｖ２）を、両ポンプの吐出側に配した多分岐管の対向側の各管端に吐出弁（Ｖ３）をそれぞれ配して工字形に結び、該工字縦管を注排水管として船尾タンク及び請求項２のバラスト系のポンプユニットの注排水管に、両ポンプの外向側の各吸引口にＴ分岐ピースを介して取水弁（Ｖ１）と逆止弁（Ｖ８）をそれぞれ配して舷外取水管と直接ビルジ管に、該工字縦管に逆止弁（Ｖ９）、（Ｖ１０）及び（Ｖ１３）を配して間接ビルジ管、船倉ビルジ管及びエダクタ吸引口に、該多分岐管の各上向管端に逆止弁（Ｖ４）、（Ｖ１１）及び（Ｖ１２）をそれぞれ配して舷外排水管、消防給水管及びエダクタ駆動水口にそれぞれ接続し、ポンプ軸端側を操作・保守正面として両ポンプ周りの共通鉛直面とその付近に該諸弁を集中配置して構成したビルジ系のポンプユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［ポンプ構成]  上述の背景技術及び課題に鑑み、ポンプケーシングの左右にそれぞれ横向の吸引口を配して該吸引口相互間及び片吸込形又は両吸込形の羽根車の吸込口に至る共通流路を該ケーシング内に形成し、該ケーシングの軸端側を開放するケーシングカバーを配して羽根車の脱・着および軸封シール取替を可能とする、主として横軸姿勢で使用する渦巻ポンプを構成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
［バラスト系ポンプユニット構成］  ポンプケーシングの左右に配した吸引口に吸引弁（V１）及び（Ｖ２）を、吐出側に配したＴ分岐ピースを介して注水弁（Ｖ３）及び排水弁（Ｖ４）をそれぞれ配し、吸引口及び吐出口を含む鉛直面（以下、特記の他、ポンプ周りの鉛直面と呼ぶ）にポンプ軸端側を操作・保守正面として該諸弁を集中配置し、弁（Ｖ２）及び（Ｖ３）を注排水管に、弁（Ｖ１）を舷外取水管に、弁（Ｖ４）を舷外排水管にそれぞれ接続し、弁組（Ｖ１）、（Ｖ２）又は弁組（Ｖ３）、（Ｖ４）を開いて自流注排水し、弁組（Ｖ１）、（Ｖ３）又は弁組（Ｖ２）、（Ｖ４）を開いてポンプ注排水するようバラスト系ポンプユニットを構成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
［ビルジ系ポンプユニット構成］  ポンプ２台をエダクタを挟んで並列配置し、両ポンプの対向側の各吸引口に吸引弁（Ｖ２）を、吐出側に配した多分岐管の対向側の各管端に吐出弁（Ｖ３）をそれぞれ配して工字形に結び、該工字縦管を注排水管として船尾タンク（Aft-peak Tank）及び船首タンク（Forepeak Tank）を含むバラスト系の注排水管に上述の弁（Ｖ７）を介して接続し、両ポンプの外向側の吸引口にＴ分岐ピースを介して取水弁（V１）と逆止弁（V８）を配して舷外取水管と直接ビルジ管にそれぞれ接続し、該多分岐管の各上向管端に逆止弁（Ｖ４）、（V１１）及び（Ｖ１２）を配して、舷外取水管、消防給水管及びエダクタ駆動水口にそれぞれ接続し、消防高圧水の供給及びバラスト系の小流量注排水に供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
上記の逆止弁（Ｖ８）は、機関室前部左右のビルジ溜めからポンプで直接吸引の系統を成し、上記の工字縦管に逆止弁（V９）、（V１０）及び（Ｖ１３）を配して該ビルジ溜めを含む機関室各部の間接ビルジ管、船倉ビルジ管及びエダクタ吸引口に接続し、両ポンプの自吸補助（Priming）及び各々ビルジ吸引並びにバラスト系の残水吸上げ（Stripping）及びポンプ自吸補助（Priming）を、本船の空荷においても喫水線下の二重底上設置の両ポンプの押込み吸引で駆動可能のエダクタに集約する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上述の諸弁は、両ポンプ周りの共通鉛直面及びその付近に、ポンプ軸端側を操作・保守正面として集中配置し、ビルジ系のポンプユニットを構成する。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月5日(2011.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウムシリサイドからなる熱電変換層の両側に、金属材料からなる一対の電極層が形成された熱電変換素子において、
前記熱電変換層と前記電極層との間に、前記マグネシウムシリサイド及び前記金属材料との混合体からなるバッファ層が形成されていることを特徴とする熱電変換素子。
【請求項２】
前記バッファ層のマグネシウムシリサイドと金属材料との混合比が、マグネシウムシリサイド／金属材料＝３０／７０〜９０／１０であることを特徴とする請求項１に記載の熱電変換素子。
【請求項３】
前記金属材料がニッケル系材料であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の熱電変換素子。
【請求項４】
前記請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の熱電変換素子を備えたことを特徴とする熱電変換モジュール。
【請求項５】
空間部を有するカーボンダイの上方から、電極層を構成する金属材料、電極層を構成する金属材料とマグネシウムシリサイドとの混合体、マグネシウムシリサイド、電極層を構成する金属材料とマグネシウムシリサイドとの混合体、及び電極層を構成する金属材料をこの順で、前記カーボンダイの空間部に投入、堆積させた後、前記空間部の上方からカーボンパンチを入れて堆積された材料を挟み込んだ後に、前記堆積された材料を焼結処理することを特徴とする熱電変換素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月10日(2010.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔を有する絶縁膜と、
前記貫通孔の内壁面に付着するように設けられた有底筒状の領域を有した薄膜と、
前記薄膜の一面に接すように設けられた補強膜と、
前記補強膜との間に接着層が介在するように設けられた基板と、
を備えていることを特徴とする薄膜素子。
【請求項２】
前記薄膜は、薄膜トランジスタにおけるソース電極とドレイン電極の何れか一方に接続された画素電極であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜素子。
【請求項３】
前記薄膜は、前記絶縁膜の一部が該薄膜から露出するように設けられ、
前記補強膜は、前記薄膜から露出する領域における前記絶縁膜の一部の領域に対しても接すように設けられていることを特徴とする請求項２に記載の薄膜素子。
【請求項４】
前記絶縁膜は、第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層の上層側に成膜された第２の絶縁層と、を有し、
前記薄膜トランジスタは、ゲート電極が前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層との間の層として設けられているとともに、前記第２の絶縁層がゲート絶縁膜とされていることを特徴とする請求項２または３に記載の薄膜素子。
【請求項５】
前記補強膜は、前記有底筒状の領域に対応する領域おいて該筒の内部側に位置するように設けられていることを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の薄膜素子。
【請求項６】
前記薄膜は、前記有底筒状の領域において該筒の底部が前記貫通孔から前記絶縁膜の厚み方向に突出していることを特徴とする請求項１から５の何れかに記載の薄膜素子。
【請求項７】
仮基板上に分離層を成膜する工程と、
前記分離層上に絶縁膜を成膜する工程と、
前記絶縁膜に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔の内壁面に付着することで前記貫通孔に対応する領域が有底筒状になるように薄膜を成膜する工程と、
前記薄膜における有底筒状の領域及び前記絶縁膜における前記薄膜から露出する領域を覆うように補強膜を設ける工程と、
前記補強膜上に接着層を介して基板を接着する工程と、
前記仮基板および前記分離層を除去する工程と、
を有することを特徴とする薄膜素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１に記載の発明に係る薄膜素子は、貫通孔を有する絶縁膜と、前記貫通孔の内壁面に付着するように設けられた有底筒状の領域を有した薄膜と、前記薄膜の一面に接すように設けられた補強膜と、前記補強膜との間に接着層が介在するように設けられた基板と、を備えていることを特徴とするものである。
請求項２に記載の発明に係る薄膜素子は、請求項１に記載の発明において、前記薄膜は、薄膜トランジスタにおけるソース電極とドレイン電極の何れか一方に接続された画素電極であることを特徴とするものである。
請求項３に記載の発明に係る薄膜素子は、請求項２に記載の発明において、前記薄膜は、前記絶縁膜の一部が該薄膜から露出するように設けられ、前記補強膜は、前記薄膜から露出する領域における前記絶縁膜の一部の領域に対しても接すように設けられていることを特徴とするものである。
請求項４に記載の発明に係る薄膜素子は、請求項２または３に記載の発明において、前記絶縁膜は、第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層の上層側に成膜された第２の絶縁層と、を有し、前記薄膜トランジスタは、ゲート電極が前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層との間の層として設けられているとともに、前記第２の絶縁層がゲート絶縁膜とされていることを特徴とするものである。
請求項５に記載の発明に係る薄膜素子は、請求項１から４の何れかに記載の発明において、前記補強膜は、前記有底筒状の領域に対応する領域おいて該筒の内部側に位置するように設けられていることを特徴とするものである。
請求項６に記載の発明に係る薄膜素子は、請求項１から５の何れかに記載の発明において、前記薄膜は、前記有底筒状の領域において該筒の底部が前記貫通孔から前記絶縁膜の厚み方向に突出していることを特徴とするものである。
請求項７に記載の発明に係る薄膜素子の製造方法は、仮基板上に分離層を成膜する工程と、前記分離層上に絶縁膜を成膜する工程と、前記絶縁膜に貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔の内壁面に付着することで前記貫通孔に対応する領域が有底筒状になるように薄膜を成膜する工程と、前記薄膜における有底筒状の領域及び前記絶縁膜における前記薄膜から露出する領域を覆うように補強膜を設ける工程と、前記補強膜上に接着層を介して基板を接着する工程と、前記仮基板および前記分離層を除去する工程と、を有することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この発明によれば、貫通孔内に設けられた有底筒状の薄膜の底部周辺部が破損しにくいようにすることができる。