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【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
磁性体コア粒子に樹脂被覆層を設けた磁性キャリアにおいて、
前記樹脂被覆層が、少なくとも下記（Ａ）〜（Ｃ）で示される構造を有するアミン化合物の群より選ばれるアミン化合物を含有する樹脂組成物よりなることを特徴とする磁性キャリア。
【化１】
2009139468.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
基体表面に樹脂被覆層を設けた現像剤担持体において、
前記樹脂被覆層が、少なくとも下記（Ａ）〜（Ｃ）で示される構造を有するアミン化合物の群より選ばれるアミン化合物を含有する樹脂組成物よりなることを特徴とする現像剤担持体。
【化３】
2009139468.tif 000002
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
即ち、本発明は、少なくとも下記（Ａ）〜（Ｃ）で示される構造を有するアミン化合物の群より選ばれるアミン化合物を含有する樹脂組成物よりなることを特徴とする磁性キャリアに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【化１】
2009139468.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明は、基体表面に樹脂被覆層を設けた現像剤担持体において、前記樹脂被覆層が、少なくとも下記（Ａ）〜（Ｃ）で示される構造を有するアミン化合物の群より選ばれるアミン化合物を含有する樹脂組成物よりなることを特徴とする現像剤担持体に関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【化３】
2009139468.tif 000004
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
【表１】
2009139468.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月2日(2010.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外光を利用して情報の表示を行う第１の表示状態と、機器内部の照明光源を利用して情報の表示を行う第２の表示状態を切り換え可能な液晶表示手段と、
前記液晶表示手段が前記第１の表示状態であるか前記第２の表示状態であるかを識別する識別アイコンを前記情報と共に、前記第１の表示状態と前記第２の表示状態とで前記液晶表示手段の同じ位置に表示する制御手段であって、前記液晶表示手段の前記第１の表示状態における表示色の確認又は調整が行われる場合は、前記液晶表示手段に対し前記第１の表示状態による表示と前記第２の表示状態による表示をそれぞれ一定時間交互に表示する制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記液晶表示手段は、
情報の表示を行う液晶表示部材と、
前記液晶表示部材の裏面側に配置され、光線を照射する照明手段と、
前記液晶表示部材と前記照明手段との間に配置され、前記液晶表示部材の表面から入射した外光による光線を反射する反射状態と、前記照明手段から照射された光線を透過して前記液晶表示部材に入射させる透過状態とに切り換え可能な反射制御部材と、を備えることを特徴とする請求項１記載の電子機器。
【請求項３】
前記識別アイコンを、前記第１の表示状態と前記第２の表示状態で異なる種類の記号と複数の色から構成し、前記識別アイコンを構成する複数の色は、赤、緑、青、白を含む色から選択されることを特徴とする請求項１記載の電子機器。
【請求項４】
撮影画像を前記液晶表示手段に表示する機能を有するカメラであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電子機器。
【請求項５】
撮影画像を前記液晶表示手段に表示する機能を有すると共に、被写体観察時と撮影時とにおいて同一の撮影レンズを介して入射した光線を可動ミラーにより光路変更を行う機能を有する一眼レフカメラであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電子機器。
【請求項６】
外光を利用して情報の表示を行う第１の表示状態と、照明を利用して情報の表示を行う第２の表示状態を切り換え可能な液晶表示手段の表示制御方法において、
前記液晶表示手段が前記第１の表示状態であるか前記第２の表示状態であるかを識別する識別アイコンを前記情報と共に、前記第１の表示状態と前記第２の表示状態とで前記液晶表示手段の同じ位置に表示する制御ステップであって、前記液晶表示手段の前記第１の表示状態における表示色の確認又は調整が行われる場合は、前記液晶表示手段に対し前記第１の表示状態による表示と前記第２の表示状態による表示をそれぞれ一定時間交互に表示する制御ステップ、を有することを特徴とする表示制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上述の目的を達成するために、本発明は、外光を利用して情報の表示を行う第１の表示状態と、機器内部の照明光源を利用して情報の表示を行う第２の表示状態を切り換え可能な液晶表示手段と、前記液晶表示手段が前記第１の表示状態であるか前記第２の表示状態であるかを識別する識別アイコンを前記情報と共に、前記第１の表示状態と前記第２の表示状態とで前記液晶表示手段の同じ位置に表示する制御手段であって、前記液晶表示手段の前記第１の表示状態における表示色の確認又は調整が行われる場合は、前記液晶表示手段に対し前記第１の表示状態による表示と前記第２の表示状態による表示をそれぞれ一定時間交互に表示する制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明によれば、液晶表示手段が第１の表示状態であるか第２の表示状態であるかを識別する識別アイコンを情報と共に、第１の表示状態と第２の表示状態とで液晶表示手段の同じ位置に表示する。更に、液晶表示手段の第１の表示状態における表示色の確認又は調整が行われる場合は、液晶表示手段に対し第１の表示状態による表示と第２の表示状態による表示をそれぞれ一定時間交互に表示する。これにより、液晶表示手段の現在の表示状態が第１の表示状態か第２の表示状態かを簡単に識別することが可能となり、更に、表示色の状態を確認することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
設定変更部材８の操作により上記のような設定を行っている場合は、液晶表示部５は図３に示すような撮影情報表示状態となっている。撮影情報表示状態は、シャッタ速度、絞り値、感度（ISO）、撮影モード（シャッタ優先、絞り優先、プログラム等）、測光方式、ホワイトバランス設定、撮影枚数等を表示する状態である。撮影情報表示状態では、表示情報は文字やアイコンを使った表示となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
識別アイコン１３ａを構成する１３ａＲ、１３ａＧ、１３ａＢ、１３ａＷは、それぞれ赤、緑、青、白に色付けされたテストパターンである（図面では灰色の濃淡及び白色無地で示す）。本実施の形態ではテストパターンの色を４種類としているが、効果的に色合わせができるようになっていればテストパターンの色の種類は任意である。また、本実施の形態ではテストパターンの色を赤、緑、青、白としているが、色の組み合わせは任意である。即ち、識別アイコン１３ａ、１３ｂの各々のテストパターンを構成する複数の色は、赤、緑、青、白を含む各種の色の群から任意に選択することも可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
識別アイコン１３はテストパターンの色付けがなされているので、使用者がテストパターンを見れば液晶表示部５に現在表示されている色が正しい色であるかどうかを簡単に認識することができる。液晶表示部５の表示色に問題がある場合は識別アイコン１３の色もおかしく、撮影画像の色に問題がない場合は識別アイコン１３の色は正しい色となっているということである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月6日(2010.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電トランスと、前記圧電トランスを駆動するための駆動周波数を生成する駆動周波数生成手段と、を有する電源装置を用いて電子写真方式の画像形成を実行する画像形成装置であって、当該電源装置が、
出力すべき電圧を設定する出力電圧設定手段と、
前記電源装置の出力電圧を検出する電圧検出手段と、
前記出力電圧設定手段により設定された設定電圧と前記電圧検出手段により検出された前記出力電圧とに基づき前記駆動周波数生成手段を制御する制御手段と、
前記電源装置の出力電流を検出する電流検出手段と、
前記電流検出手段により検出された出力電流が過電流であることを示す基準値を超えた場合に、予め定められた時間、前記制御手段の出力を切り替えて、前記駆動周波数生成手段の動作を制御する間欠保護動作手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記間欠保護動作手段は、前記出力電流が前記基準値を超えた場合に、前記設定電圧を制御し、
前記制御手段は、前記間欠保護動作手段により制御された前記設定電圧と、前記出力電圧との入力に従い当該制御手段の出力を切り替え、前記予め定められた時間、前記駆動周波数生成手段の動作を停止させることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記予め定められた時間の経過の後に、前記設定電圧と、前記出力電圧との入力に従い当該制御手段の出力を切り替え、前記駆動周波数生成手段の動作を回復させることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記間欠保護動作手段は、前記電流検出手段により検出された電流が前記基準値を超えた場合に、前記出力電圧を制御し、
前記制御手段は、前記間欠保護動作手段により制御された前記出力電圧と、前記設定電圧との入力に従い当該制御手段の出力を切り替え、前記予め定められた時間、前記駆動周波数生成手段の動作を停止させることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記予め定められた時間の経過の後に、前記設定電圧と、前記出力電圧との入力に従い当該制御手段の出力を切り替え、前記駆動周波数生成手段の動作を回復させることを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記間欠保護動作手段は、前記出力電流が前記基準値を超えた場合に、前記予め定められた時間、前記制御手段の出力を制御して前記駆動周波数生成手段の動作の動作を停止させることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記間欠保護動作手段は、前記予め定められた時間の経過の後、前記制御手段の出力を制御して前記駆動周波数生成手段の動作の動作を回復させることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
圧電トランスと、前記圧電トランスを駆動するための駆動周波数を生成する駆動周波数生成手段と、を有する電源装置を用いて電子写真方式の画像形成を実行する画像形成装置であって、当該電源装置が、
出力すべき電流を設定する出力電流設定手段と、
前記電源装置の出力電流を検出する出力電流検出手段と、
前記出力電流設定手段により設定された設定電流に基づく電圧と、前記出力電流検出手段で検出された出力電流と、に基づき前記駆動周波数生成手段を制御する制御手段と、
前記電源装置の出力電圧を検出する電圧検出手段と、
前記出力電流検出手段により検出された前記出力電流が過電流であることを示す第１の基準値を超えた場合に、予め定められた時間、前記制御手段の出力を切り替えて、前記駆動周波数生成手段の動作を制御する間欠保護動作手段と、
前記電圧検出手段により検出された前記出力電圧が過電圧の状態を示す第２の基準値を超えた場合に、前記制御手段の出力を切り替えて、前記駆動周波数生成手段の動作を制御する過電圧検知手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
前記過電圧検知手段は、前記出力電圧が前記第２の基準値を超えた場合に前記設定電流に基づく電圧を制御し、
前記制御手段は、前記過電圧検知手段により制御された前記電圧と、前記出力電流検出手段の検出結果として出力される電圧と、の入力に従い当該制御手段の出力を切り替え、前記予め定められた時間、前記駆動周波数生成手段の動作を停止させることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記予め定められた時間の経過の後に、前記設定電流に基づく電圧と、前記出力電流検出手段の検出結果として出力される電圧と、の入力に従い当該制御手段の出力を切り替え、前記駆動周波数生成手段の動作を回復させることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記間欠保護動作手段は、前記出力電流が前記第１の基準値を超えた場合に、前記予め定められた時間、前記制御手段の出力を制御して前記駆動周波数生成手段の動作の動作を停止させることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記間欠保護動作手段は、前記予め定められた時間の経過の後、前記制御手段の出力を制御して前記駆動周波数生成手段の動作の動作を回復させることを特徴とする請求項１１に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る画像形成装置は、圧電トランスと、前記圧電トランスを駆動するための駆動周波数を生成する駆動周波数生成手段と、を有する電源装置を用いて電子写真方式の画像形成を実行する画像形成装置であって、当該電源装置が、
出力すべき電圧を設定する出力電圧設定手段と、
前記電源装置の出力電圧を検出する電圧検出手段と、
前記出力電圧設定手段により設定された設定電圧と前記電圧検出手段により検出された前記出力電圧とに基づき前記駆動周波数生成手段を制御する制御手段と、
前記電源装置の出力電流を検出する電流検出手段と、
前記電流検出手段により検出された出力電流が過電流であることを示す基準値を超えた場合に、予め定められた時間、前記制御手段の出力を切り替えて、前記駆動周波数生成手段の動作を制御する間欠保護動作手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月1日(2010.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに重なり合うように配置されて絞り開口を形成する複数の絞り羽根と、前記絞り羽根を駆動するステッピングモータと、前記絞り羽根に当接して案内するカム部材とを有し、前記ステッピングモータにより前記複数の絞り羽根を前記カム部材に沿って作動させて前記絞り開口の開度を調節する光量調節装置であって、
前記ステッピングモータへの通電を遮断した時にロータに作用するコギングトルクを超えるように、前記絞り羽根同士が摺接する部位における前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させる摩擦力付与手段を設けたことを特徴とする光量調節装置。
【請求項２】
前記摩擦力付与手段は、前記絞り羽根同士が摺接する部位に、他の部分と比較して摩擦係数の高い部分を形成することにより前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させることを特徴とする請求項１に記載の光量調節装置。
【請求項３】
前記摩擦力付与手段は、前記絞り羽根同士が摺接する部位の押圧力を変化させることにより前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させることを特徴とする請求項１に記載の光量調節装置。
【請求項４】
互いに重なり合うように配置されて絞り開口を形成する複数の絞り羽根と、前記絞り羽根を駆動するステッピングモータと、前記絞り羽根に当接して案内するカム部材とを有し、前記ステッピングモータにより前記複数の絞り羽根を前記カム部材に沿って作動させて前記絞り開口の開度を調節する光量調節装置であって、
前記ステッピングモータへの通電を遮断した時にロータに作用するコギングトルクを超えるように、前記カム部材と前記絞り羽根とが係合する部位における前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させる摩擦力付与手段を設けたことを特徴とする光量調節装置。
【請求項５】
前記カム部材と前記絞り羽根とは、前記カム部材に形成された穴部と前記絞り羽根に形成された軸部とが係合し、
前記摩擦力付与手段は、前記カム部材の穴部の寸法を開放側から小絞り側へ徐々に小さくすることにより前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させることを特徴とする請求項４に記載の光量調節装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光量調節装置を有する絞り装置と、
複数のレンズを有する光学系と、
前記絞り装置と前記光学系とを制御する制御部と、を有するレンズ装置。
【請求項７】
請求項６に記載のレンズ装置と、
前記レンズ装置が着脱自在なカメラ装置と、を備えることを特徴とするカメラシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の光量調節装置は、互いに重なり合うように配置されて絞り開口を形成する複数の絞り羽根と、前記絞り羽根を駆動するステッピングモータと、前記絞り羽根に当接して案内するカム部材とを有し、前記ステッピングモータにより前記複数の絞り羽根を前記カム部材に沿って作動させて前記絞り開口の開度を調節する光量調節装置であって、前記ステッピングモータへの通電を遮断した時にロータに作用するコギングトルクを超えるように、前記絞り羽根同士が摺接する部位における前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させる摩擦力付与手段を設けた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の光量調節装置は、互いに重なり合うように配置されて絞り開口を形成する複数の絞り羽根と、前記絞り羽根を駆動するステッピングモータと、前記絞り羽根に当接して案内するカム部材とを有し、前記ステッピングモータにより前記複数の絞り羽根を前記カム部材に沿って作動させて前記絞り開口の開度を調節する光量調節装置であって、前記ステッピングモータへの通電を遮断した時にロータに作用するコギングトルクを超えるように、前記カム部材と前記絞り羽根とが係合する部位における前記絞り開口の開放側から中間絞り付近までの摺動摩擦力を増加させる摩擦力付与手段を設けた。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示用液晶分子層と、この層を挟んで対向して配置された基板とを有する液晶表示素子において、前記基板の少なくとも一方に前記表示用液晶分子層に接するように設けられ、前記表示用液晶分子層における表示用液晶分子の配向方向を、前記基板の基板面に対し略垂直に制御する垂直配向膜において、
液晶性骨格を有し、異種物質との界面においてディレクタ（配向ベクトル）を界面に  垂直に向けて配向する性質と、重合する性質とを有する重合性液晶分子からなる層から  形成され、
前記の重合性液晶分子からなる層が液晶状態にあり、且つ、前記ディレクタが前記基  板面の法線方向からわずかに傾いた方向に配向した状態で、前記重合性液晶分子の少な  くとも一部が重合し、前記の重合性液晶分子からなる層が、未反応の重合性液晶分子と  重合性液晶分子重合体との複合体からなる層に変化して硬化することによって形成され  、
前記複合体中の前記ディレクタの配向方向が、前記基板面の法線方向からわずかに傾  いた方向に固定されている
ことを特徴とする、垂直配向膜。
【請求項２】
前記の重合性液晶分子からなる層は、前記ディレクタが前記基板面に対し垂直に配向した液晶状態を一旦とった後に、前記した前記ディレクタが前記基板面の法線方向からわずかに傾いた方向に配向した状態に変化した層である、請求項１に記載した垂直配向膜。
【請求項３】
前記重合性液晶分子が、重合性官能基として、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルエーテル基、及びエポキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１つの官能基を有する、請求項１に記載した垂直配向膜。
【請求項４】
各画素中において、前記の複合体からなる層が、前記ディレクタの傾斜方向が異なる複数の領域にパターニングして形成されている、請求項１に記載した垂直配向膜。
【請求項５】
前記表示用液晶分子を、前記基板面の法線方向に関して、前記ディレクタが配向している方向とは反対の方向に傾斜させて配向させる、請求項１に記載した垂直配向膜。
【請求項６】
表示用液晶分子層と、この層を挟んで対向して配置された基板とを有する液晶表示素子において、前記基板の少なくとも一方に前記表示用液晶分子層に接するように設けられ、前記表示用液晶分子層における表示用液晶分子の配向方向を前記基板の基板面に対し略垂直に制御する垂直配向膜の形成方法において、
液晶性骨格を有し、異種物質との界面においてディレクタ（配向ベクトル）を界面に  垂直に向けて配向する性質と、重合する性質とを有する重合性液晶分子からなる層を前  記基板に形成する工程と、
前記の重合性液晶分子からなる層を液晶状態に保ちつつ、前記ディレクタを前記基板  面の法線方向からわずかに傾いた方向に配向させる工程と、
前記ディレクタが配向した上記の状態で前記重合性液晶分子の少なくとも一部を重合  させ、前記の重合性液晶分子からなる層を、未反応の重合性液晶分子と重合性液晶分子  重合体との複合体からなる層に変化させて硬化させる工程と
を有し、
前記垂直配向膜として、前記ディレクタの配向方向が前記基板面の法線方向からわず  かに傾いた方向に固定されている前記の複合体からなる層を形成する
ことを特徴とする、垂直配向膜の形成方法。
【請求項７】
前記ディレクタを配向させる工程の前に、前記の重合性液晶分子からなる層において、前記ディレクタが前記基板面に対し垂直に配向した液晶状態を前記重合性液晶分子にとらせる処理を行う、請求項６に記載した垂直配向膜の形成方法。
【請求項８】
前記の重合性液晶分子からなる層を形成する工程の後、且つ、前記ディレクタを配向させる工程の前に、前記の重合性液晶分子からなる層の温度を上昇させ、一旦前記重合性液晶分子を等方相状態にし、この後、前記の重合性液晶分子からなる層の温度を徐々に低下させ、前記ディレクタが前記基板面に対し垂直に配向した液晶状態を前記重合性液晶分子にとらせる工程を行う、請求項７に記載した垂直配向膜の形成方法。
【請求項９】
紫外線、赤外線又は電子線の照射、及び／又は、加熱によって、前記重合性液晶分子を重合させる、請求項６に記載した垂直配向膜の形成方法。
【請求項１０】
前記重合性液晶分子として、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルエーテル基、及びエポキシ基からなる群から選ばれた少なくとも１つの官能基を重合性官能基として有する分子を用いる、請求項９に記載した垂直配向膜の形成方法。
【請求項１１】
前記の液晶状態に保たれた重合性液晶分子からなる層に磁場を印加することによって、前記ディレクタを前記基板の法線方向からわずかに傾いた方向に配向させる、請求項６に記載した垂直配向膜の形成方法。
【請求項１２】
フォトマスクを用いた紫外線、赤外線又は電子線の照射によって、各画素中の一部の領域の重合性液晶分子を重合させる工程を、磁場の印加方向を変えながら画素中の複数の領域ごとに行い、各画素中に、前記の複合体からなる層を、前記ディレクタの傾斜方向が異なる複数の領域にパターニングして形成する、請求項６に記載した垂直配向膜の形成方法。
【請求項１３】
液晶表示素子の、表示用液晶分子層に接して配置される基板において、
請求項１〜５のいずれか１項に記載した垂直配向膜が、前記表示用液晶分子層に接す  る面側に設けられている
ことを特徴とする、垂直配向基板。
【請求項１４】
液晶表示素子の、表示用液晶分子層に接して配置される基板の製造方法において、
請求項６〜１２のいずれか１項に記載した垂直配向膜の形成方法によって、前記表示  用液晶分子層に接する面側に垂直配向膜を形成する工程を含む
ことを特徴とする、垂直配向基板の製造方法。
【請求項１５】
表示用液晶分子層と、この層を挟んで対向して配置された基板とを有する液晶表示素子において、
請求項１〜５のいずれか１項に記載した垂直配向膜が、前記基板の少なくとも一方に  、前記表示用液晶分子層に接するように設けられ、
電界が印加されていないときの表示用液晶分子の配向方向が、前記基板面の法線方向  からわずかに傾いた方向に制御されている
ことを特徴とする、液晶表示素子。
【請求項１６】
前記基板の両方に垂直配向膜が設けられ、これら２つの垂直配向膜において、対向位置にあるそれぞれの膜中の前記ディレクタの配向方向が互いに平行である、請求項１５に記載した液晶表示素子。
【請求項１７】
電界が印加されていないときの前記表示用液晶分子の前記配向方向が、前記基板面の法線方向に関して、前記垂直配向膜において前記ディレクタが配向している方向とは反対の方向である、請求項１５に記載した液晶表示素子。
【請求項１８】
電界が印加されていないときの前記垂直配向膜及び前記表示用液晶分子によって生じる光学異方性を打ち消す光学補償層が設けられている、請求項１５に記載した液晶表示素子。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月10日(2010.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マガディアイトおよびケニヤアイトから選択される少なくとも１種の結晶ラメラ固体の調製方法であって、工程（i）において、少なくとも１種のシリカ源、式ＨＯ−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨ（２≦ｎ≦５）の少なくとも１種の有機構造化剤、少なくとも１種のアルカリおよび／またはアルカリ土類金属Ｍおよび水を混合することを実施すること、次いで、工程（ii）において、少なくとも前記結晶ラメラ固体が形成されるまで前記混合物の水熱処理を実施することからなる、方法。
【請求項２】
前記有機構造化剤は、エチレングリコール、ブタン−１，４−ジオールおよびペンタン−１，５−ジオールから選択される、請求項１に記載の調製方法。
【請求項３】
前記有機構造化剤は、エチレングリコールである、請求項２に記載の調製方法。
【請求項４】
前記アルカリおよび／またはアルカリ土類金属Ｍは、リチウム、カリウム、ナトリウムおよびカルシウムおよびこれらの金属の少なくとも２種の混合物から選択される、請求項１〜３のいずれか１つに記載の調製方法。
【請求項５】
前記アルカリおよび／またはアルカリ土類金属Ｍは、ナトリウムである、請求項４に記載の調製方法。
【請求項６】
前記工程（i）において組み込まれる前記シリカ源は、コロイドシリカである、請求項１〜５のいずれか１つに記載の調製方法。
【請求項７】
前記工程（i）の過程で形成される前記混合物は、四面体配位を含みかつケイ素とは異なる少なくとも１種の元素Ｘの少なくとも１種の源を含む、請求項１〜６のいずれか１つに記載の調製方法。
【請求項８】
前記元素Ｘは、アルミニウムである、請求項７に記載の調製方法。
【請求項９】
前記工程（i）において得られる反応混合物は、式：
ＳｉＯ２：ｗＸＯａ：ｘＭ＋ＯＨ−：ｙＨ２Ｏ：ｚＲ
（式中、ｗは０〜０．５であり、ｘは０．００１〜１であり、ｙは１０〜１００であり、ｚは０．０５〜１５であり、ａは１〜３であり、Ｘは、四面体配位のケイ素とは異なる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、リチウム、カリウム、ナトリウムおよびカルシウムおよびこれらの金属の少なくとも２種の混合物から選択される少なくとも１種のカチオンであり、Ｒは、式ＨＯ−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨ（２≦ｎ≦５）の有機構造化剤であり、ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ、ＸＯａ、Ｍ＋ＯＨ−、Ｈ２ＯおよびＲのモル数を示す）
により酸化物のモルに関して表される化学組成のものである、請求項１〜８のいずれか１つに記載の調製方法。
【請求項１０】
前記工程（ii）は、前記反応混合物を、自発反応圧力下の水熱条件に１００〜２００℃の結晶化温度に付すことによって行われる、請求項１〜９のいずれか１つに記載の調製方法。
【請求項１１】
前記工程（ii）の継続期間は、１０〜４８時間の間で変動する、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の調製方法。
【請求項１２】
前記結晶化工程（ii）に由来する前記産物は、
（iii）結晶化混合物から少なくとも前記結晶ラメラ固体を分離する工程；
（iv）少なくとも前記結晶ラメラ固体を洗浄する工程、および
（v）少なくとも前記結晶固体を乾燥させる工程
に少なくとも付される、請求項１〜１１のいずれか１つに記載の調製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記工程（ii）は、前記反応混合物を、自発反応圧力下の水熱条件に１００〜２００℃の結晶化温度に付すことによって行われることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンのブロー成形型内で形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構であって、
複数のブローヘッド（２４）を含む腕部（１０）と、
前記ブローヘッド（２４）に作動的に関連された、対応する数の縦形の冷却管（２０）と、
前記縦形の冷却管（２０）を、第１の上位置と第２の下位置との間で移動させるモータ（３０）と、
加圧された空気の源と、
前記加圧された空気の源を前記縦形の冷却管（２０）に接続する導管手段（７０、７４、７６、７８、８０、８２）と、
前記冷却管（２０）に送られる前記空気の圧力を定める、前記導管手段（７０、７４、７６、７８、８０、８２）内の圧力調整器手段（ＥＰＶ／１１２）と、
前記縦形の冷却管（２０）を前記上位置から前記下位置へと移動させるために前記モータ（３０）を操作し、また、前記縦形の冷却管（２０）が、前記上位置から前記下位置（１２２）へと移動されるとき、前記縦形の冷却管へ供給される前記空気の前記圧力を、第１の高い圧力から第２の低い圧力へと低下させるように前記圧力調整器（ＥＰＶ／１１２）を一緒に操作する制御部（１１４）と、
を備える、冷却用流体を送る機構。
【請求項２】
請求項１に記載の、ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンのブロー成形型内で形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構であって、
前記制御部（１１４）は、前記圧力調整器（ＥＰＶ／１１２）を、前記第１の高い圧力から前記第２の低い圧力への圧力の低下が線形であるように操作する、冷却用流体を送る機構。
【請求項３】
請求項１に記載の、ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンのブロー成形型内で形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構であって、
前記モータ（３０）は、前記第１の上位置と前記第２の下位置との間で、前記腕部から独立して、前記縦形の冷却管（２０）を移動させるように構成されている、機構。
【請求項４】
請求項３に記載の、ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンのブロー成形型内で形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構であって、
前記縦形の冷却管（２０）の前記第２の下位置は、前記びんの中に前記縦形の冷却管（２０）を位置づける、機構。
【請求項５】
ブロー成形型内の高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構を操作する方法であって、複数のブローヘッド（２４）を含む腕部（１０）と、前記ブローヘッド（２４）に作動的に関連された複数の縦形の冷却管（２０）と、前記縦形の冷却管（２０）を、上下方向に移動させるモータ（３０）と、加圧された空気の源であって、前記加圧された空気を前記冷却管（２０）に供給するように構成されている、空気の源と、前記冷却管（２０）に送られる前記加圧された空気の圧力を定めるように構成されている圧力調整器手段（ＥＰＶ／１１２）と、を備えている機構を操作する方法において、
第１の上位置にある前記冷却管（２０）へ第１の圧力で空気を供給するステップと、
前記縦形の冷却管（２０）を前記第１の上位置から第２の下位置（１２０）へ移動させるために前記モータ（３０）を操作するステップと、
前記縦形の冷却管が前記第１の上位置から前記第２の下位置（１２２）へと移動されるとき、前記冷却管（２０）へ供給される前記空気の前記圧力を、第１の高い圧力から第２の低い圧力へと低下させるように前記圧力調整器手段（ＥＰＶ／１１２）を操作するステップと、
を含む方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、
前記空気の圧力の低下が線形である、方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法において、
前記モータ（３０）は、前記冷却管（２０）を、前記複数のブローヘッドを含む前記腕部から独立して移動させるように構成されている、方法。
【請求項８】
請求項５に記載の方法において、
前記圧力調整器手段は、電気制御された比例弁（ＥＰＶ／１１２）である、方法。
【請求項９】
請求項５に記載の方法において、
前記複数の冷却管（２０）が前記第２の下位置に向けて配置され且つ前記冷却管（２０）へ供給される前記空気の圧力が低下されたときに、前記ブロー成形型の頂部へ向けて前記複数のブローヘッド（２４）を移動させるステップを更に含む、方法。
【請求項１０】
前記冷却管へ供給される空気の圧力の低下は、前記冷却管（２０）が下方に向って移動されるときの前記冷却管（２０）の位置と相関している、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月30日(2010.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンで形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構であって、
縦溝を有する、直立した柱と、
前記柱内のリードスクリューと、
前記リードスクリューを回転させるように前記柱に取り付けられたモータと、
前記リードスクリューと作動的に関連されたナットと、
前記柱に固定された下案内腕部と、
底壁を有するプレナム室を有する、上冷却管組立体と、
前記プレナム室の前記底壁に取り付けられた少なくとも１つの縦形の冷却管と、
前記下案内腕部の上側の、前記直立した柱上を鉛直方向に滑動する滑動式囲いであって、前記縦溝を通って延びるキー部を含み、該キー部は前記滑動式囲いに連結されたカラーと前記ナットとを相互接続し、前記滑動式囲いに解放可能に連結された前記上冷却管組立体が、前記下案内腕部から独立して第１の上位置から第２の下位置へと鉛直方向に移動可能である、滑動式囲いと、
を備え、
前記下案内腕部が、前記少なくとも１つの冷却管のそれぞれを滑動するように受ける管案内部を含む縦貫通穴を含む、冷却用流体を送る機構。
【請求項２】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンで形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る請求項１に記載の機構であって、
前記下案内腕部が、前記縦貫通穴のそれぞれの底部にブローヘッドをさらに備え、前記冷却管が、前記ブローヘッドの吹き込み管である、冷却用流体を送る機構。
【請求項３】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンで形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る請求項２に記載の機構であって、
３つの冷却管および３つブローヘッドが設けられている、冷却用流体を送る機構。
【請求項４】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンで形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る請求項１に記載の機構であって、
前記滑動式囲いが、鉛直方向に延びる外部取付け面を有し、
前記冷却管組立体が、
前記滑動式囲いの前記鉛直方向に延びる外部取付け面に沿って、鉛直方向に滑動可能に移動できる円筒形の取付けスリーブ部分と、
前記円筒形の取付けスリーブ部分を、前記鉛直方向に延びる外部取付け面に沿って、鉛直方向の選択された位置において前記滑動式囲いに固定する固定手段と、
一方の端部で前記円筒形の取付けスリーブ部分に解放可能に連結され、他方の端部で前記プレナム室を支持する腕部分と、
を備える、冷却用流体を送る機構。
【請求項５】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンで形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る請求項４に記載の機構であって、
前記ナットが穴を含み、前記キー部が、
前記柱の前記縦溝内で滑動するキー部分と、
前記ナットの穴の中へ挿入するピン部分とを含む、冷却用流体を送る機構。
【請求項６】
ガラスびんがＩ．Ｓ．マシンで形成された後に、高温のガラスびんの内部に冷却用流体を送る機構であって、
直立した柱と、
少なくとも一つの開口部を含む、前記柱に接続された案内腕部と、
冷却管組立体であって、該冷却管組立体から延びる少なくとも一つの冷却管を有する、冷却管組立体と、
を備え、前記少なくとも一つの開口部は前記少なくとも一つの冷却管を受けるように構成されており、前記機構は更に、
前記案内腕部に取り付けられ、前記案内腕部を上側の第１位置と下側の第２位置との間で動かすように構成されている第１のモータと、
前記冷却管組立体に取り付けられ、前記案内腕部が前記下側の第２位置にある間に前記冷却管組立体をブロー成形位置から冷却位置まで移動させるように構成されている第２のモータと、
を備える、機構。
【請求項７】
請求項６に記載の機構であって、
前記冷却管組立体は滑動式囲いに接続されており、該滑動式囲いは、該滑動式囲いが前記第２のモータによって選択的に軸方向に移動できるようにする前記直立した柱と相互作用するように構成されている、機構。
【請求項８】
請求項６に記載の機構であって、
前記案内腕部は更に、前記少なくとも一つの開口部の最下部に設けられたブローヘッドを含み、
前記少なくとも一つの冷却管は、前記冷却管組立体が前記ブロー成形位置にあるときに、前記ブローヘッドの吹き込み管として機能する、機構。
【請求項９】
請求項６に記載の機構であって、
前記案内腕部は前記上側の第１位置と前記下側の第２位置との間で移動されるときに前記柱の周りで枢動できるように構成されている、機構。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月9日(2010.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
過剰な鉄が身体の臓器に毒であるため、何らかの鉄含有薬剤または化合物からの生理学的条件下での鉄の遊離が、特にＵＳ６,１７４,４４２に記載のホスフェート吸着剤の場合、安全性の問題である。好ましくは鉄の毎日の遊離が２０mg  鉄／日より低いべきである。高すぎる鉄の遊離は、特にヘモクロマトーシスを有する患者の場合、問題である。ヘモクロマトーシスは、腸からの鉄の吸収が、体飽和レベルに達していてさえ制御されない、鉄代謝の非常に一般的な遺伝的障害である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月10日(2010.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＯタイプ構造の少なくとも１つの改質ゼオライトと、少なくとも１つのバインダと、周期律表ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属とからなる少なくとも１つの触媒の存在下で実行される、分子あたり８個の炭素原子を含む少なくとも１つの芳香族化合物からなる供給原料を異性化する方法であって、
前記触媒は、少なくとも以下の連続する工程、
ａ）少なくとも１個のシリコン原子を含む少なくとも１つの分子化合物の存在下でＥＵＯタイプ構造のゼオライトを処理する工程であって、前記ゼオライト中の最大気孔の大きさよりも大きい直径を有する前記化合物を、前記ゼオライトの外表面上に気相で析出させる工程、
ｂ）少なくとも１つの熱処理工程、
ｃ）バインダを用いて前記ゼオライトを成形する工程、
ｄ）前記改質かつ成形されたゼオライトをベースとする支持体上に、周期律表ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属を導入する少なくとも１つの工程、
からなる方法を用いて作製される、方法。
【請求項２】
前記触媒中に含まれる前記ＶＩＩＩ族金属は白金である請求項１に記載の異性化方法。
【請求項３】
前記触媒は、ＩＩＩＡ、ＩＶＡ、およびＶＩＩＢ族の元素からなるグループから選択される少なくとも１つの追加金属を含む請求項１または２に記載の異性化方法。
【請求項４】
前記追加金属は、インジウム、すず、およびレニウムから選択される請求項３に記載の異性化方法。
【請求項５】
前記触媒は、押出し品の形状である請求項１〜４のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項６】
前記工程ａ）において改質を行う前に、ＥＵＯタイプ構造の前記ゼオライトは、原子比率Ｓｉ／Ａｌが２：１〜１００：１の範囲になるように、少なくともシリコンおよびアルミニウムを含む請求項１〜５のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項７】
ＥＵＯタイプ構造の前記ゼオライトは、ＥＵ−１ゼオライトである請求項１〜６のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項８】
前記工程ａ）において用いる、少なくとも１個のシリコン原子を含む前記分子化合物は、Ｓｉ−Ｒ４およびＳｉ２−Ｒ６の式を有する化合物から選択され、ここでＲは、水素、アルキル、アリール、またはアシル基、アルコキシ基（Ｏ−Ｒ’）、水酸基（−ＯＨ）、あるいはハロゲンのいずれかであり、Ｒは同一または異なるものである請求項１〜７のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項９】
前記工程ａ）において用いる前記分子化合物は、一般式Ｓｉ−（ＯＲ’）４の式を有し、ここでＲ’は、アルキル、アリール、またはアシル基である請求項１〜８のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項１０】
前記工程ａ）は、固定床型反応器において実行される請求項１〜９のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項１１】
前記工程ｂ）の熱処理は、２００℃〜７００℃の範囲の温度で実行される請求項１〜１０のいずれかに記載の異性化方法。
【請求項１２】
３００℃〜５００℃の範囲の温度、０．３〜１．５ＭＰａの範囲の水素分圧、０．４５〜１．９ＭＰａの範囲の全圧、および時間あたりの触媒キログラムあたりに導入される供給原料キログラムで表わされる、０．２５〜３０ｈ−１の範囲の空間速度、という操作条件で実行される請求項１〜１１のいずれかに記載の異性化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記触媒は、少なくとも以下の連続する工程、
ａ）少なくとも１個のシリコン原子を含む少なくとも１つの分子化合物の存在下でＥＵＯタイプ構造のゼオライトを処理する工程であって、前記ゼオライト中の最大気孔の大きさよりも大きい直径を有する前記化合物を、前記ゼオライトの外表面上に気相で析出させる(deposit)工程、
ｂ）少なくとも１つの熱処理工程、
ｃ）バインダを用いて前記ゼオライトを成形する工程、
ｄ）前記改質かつ成形されたゼオライトをベースとする支持体上に、周期律表ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属を導入する少なくとも１つの工程、
からなる方法を用いて作製される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記触媒は、少なくとも以下の連続する工程、
ａ）少なくとも１個のシリコン原子を含む少なくとも１つの分子化合物の存在下でＥＵＯタイプ構造のゼオライトを処理する工程であって、前記ゼオライト中の最大気孔の大きさよりも大きい直径を有する前記化合物を、前記ゼオライトの外表面上に気相で析出させる(deposit)工程、
ｂ）少なくとも１つの熱処理工程、
ｃ）バインダを用いて前記ゼオライトを成形する工程、
ｄ）前記改質かつ成形されたゼオライトをベースとする支持体上に、周期律表ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属を導入する少なくとも１つの工程、
からなる方法を用いて作製される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
ＶＩＩＩ族金属、好適には白金族の貴金属、および随意的に追加金属を、上記に引用した有機金属化合物の１つの水性または有機溶液を用いて、含浸により好適に導入する。引用可能で使用可能な有機溶媒には、例えば分子あたり６〜１２個の炭素原子を含むパラフィン系、ナフテン系、あるいは芳香族炭化水素、例えば分子あたり１〜１２個の炭素原子を含むハロゲン化有機化合物が含まれる。引用可能な例には、ｎ−へプタン、メチルシクロヘキサン、トルエン、およびクロロフォルムがある。溶媒の混合物を用いることも可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年4月14日(2011.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
独立気泡を有し、かつ（Ａ）天然ゴム及びジエン系合成ゴムの中から選ばれる少なくとも一種のゴム成分と、その１００質量部に対し、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）
Ｍ・ｘＳｉＯ2・ｙＨ2Ｏ                ………（I）
〔式中のＭは、Ａｌ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃａから選ばれる少なくとも一つの金属酸化物又は金属水酸化物であり、ｘ，ｙは共に０〜１０の整数である。〕
で表される平均粒径が５０μｍ以下である無機化合物粉体を５〜６０質量部、（Ｃ）下記一般式（II）
ＨＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ａ−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＨ・・・（II）
［式中、Ａは−Ｒ1Ｏ−、−（Ｒ2Ｏ）s−、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−又は−（Ｒ3ＯＯＣ−Ｒ4−ＣＯＯ−）tＲ3Ｏ−で示される基であり、Ｒ1は炭素数２〜３６の二価の炭化水素基、Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレン基、ｓは平均付加モル数で１〜６０の数、Ｒ3は炭素数２〜１８の二価の炭化水素基又は−（Ｒ5Ｏ）uＲ5−（ただし、Ｒ5は炭素数２〜４のアルキレン基、ｕは平均付加モル数で１〜３０の数を示す。）、Ｒ4は炭素数２〜１８の二価の炭化水素基、ｔは平均値で１〜３０の数である。］
で表される化合物０．３〜７質量部含むと共に、（Ｄ）補強性充填剤を含むことを特徴とするタイヤ用ゴム組成物。
【請求項２】
（Ｂ）前記一般式（Ｉ）で表される無機化合物粉体が下記一般式（III）で表される無機化合物粉体である請求項１記載のタイヤ用ゴム組成物。
Ａｌ2Ｏ3・ｍＳｉＯ2・ｎＨ2Ｏ          ………（III）
〔式中のｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜４の整数である。〕
【請求項３】
前記（Ｂ）成分の粒度分布が、少なくとも２μｍ〜３０μｍの粒径成分を６５％占める水酸化アルミニウム[Ａｌ（０Ｈ）3]を主成分とする粉体である請求項１又は２記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項４】
（Ｃ）成分の一般式（II）で表される化合物が、ポリエチレングリコールジマレエート又はジフマレートである請求項１〜３のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項５】
前記（Ｄ）補強性充填剤がカーボンブラック及び／又はシリカからなる請求項１〜４のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項６】
前記（Ａ）ゴム成分１００質量部に対して、カーボンブラックを５〜９５質量部及びシリカを５〜９５質量部含む請求項５に記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項７】
前記（Ｂ）成分の無機化合物粉体と（Ｄ）補強性充填剤シリカの合計量に対して、シランカップリング剤を４〜１５質量％の割合で含む請求項1〜６のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項８】
前記（Ａ）ゴム成分１００質量部に対して、さらに（Ｅ）微粒子含有有機繊維を０．０２〜２０質量部含む請求項１〜７のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項９】
前記（Ａ）ゴム成分１００質量部に対して、さらに（Ｆ）微粒子非含有有機繊維を含む請求項１〜８のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１０】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維及び前記（Ｆ）微粒子非含有有機繊維の合計量として前記（Ａ）ゴム成分の１００質量部に対して、１〜２０質量部含む請求項９に記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１１】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維と（Ｆ）微粒子非含有有機繊維の割合［（Ｅ）微粒子含有有機繊維／（Ｆ）微粒子非含有有機繊維］が、質量比で９８／２〜２／９８である請求項９又は１０に記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１２】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維が、該有機繊維を構成する素材１００質量部に対して、該微粒子を５〜９０質量部含有する請求項１〜１１のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１３】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維が、微粒子としてモース硬度が２以上であり、粒径分布の頻度数の８０質量%以上が１０〜５０μｍであり、平均粒子径が１０〜３０μｍであるものを含む請求項１〜１２のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１４】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維及び（Ｆ）微粒子非含有有機繊維に使用される繊維が、径０．０１〜０．１ｍｍ、及び長さ０．５〜２０mmである請求項１〜１３のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１５】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維の微粒子が、粒度分布のピーク値での頻度数が２０質量%以上のものである請求項１〜１４のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１６】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維の微粒子が、アスペクト比１．１以上で、かつ角部が存在している請求項１〜１５のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１７】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維の微粒子が、無機微粒子及び有機微粒子から選択される請求項１〜１８のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１８】
前記（Ｅ）微粒子含有有機繊維及び（Ｆ）微粒子非含有有機繊維を構成する素材がポリエチレン及び／又はポリプロピレンからなる結晶性高分子であり、かつ融点が１９０℃以下である請求項１〜１７のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物。
【請求項１９】
請求項１〜１８いずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物をトレッド部の路面と実質的に接する面に用いたことを特徴とする空気入りタイヤ。
【請求項２０】
前記実質的に路面と接する部分のトレッドゴム層の発泡率が３〜５０％である請求項１９に記載の空気入りタイヤ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タイヤ用ゴム組成物及びそれを用いた空気入りタイヤ
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月21日(2011.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するように構成された平坦な支持面を有するアルミニウム本体、及び該本体の支持面に形成された少なくとも１つの溝であって、該溝の少なくとも１つの壁には段が形成されている溝と、
上記溝内に配置された第１の可鍛性ヒートシンクと、
上記溝内に配置され、且つ上記第１のヒートシンクと接触する加熱素子と、
上記溝内に配置され、且つ上記加熱素子及び上記第１のヒートシンクと接触する第２の可鍛性ヒートシンクと、
上記溝内に配置されたキャップ部材であって、下面が少なくとも１つの段と接触し且つ上面が上記平坦な支持面と同一平面上にあるキャップ部材と、
を備えた基板支持体。
【請求項２】
上記キャップ部材の下面が上記第２の可鍛性ヒートシンクと接触する、請求項１に記載の基板支持体。
【請求項３】
上記キャップ部材が複数の材料層で構成される、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項４】
上記キャップ部材が３つの材料層で構成される、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項５】
上記本体がアノード処理される、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項６】
上記支持面の平面の面積が約０．３５平方メートル以上である、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項７】
上記支持面の平面の面積が約２．７平方メートル以上である、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項８】
上記本体がそれを貫通して形成された複数の穴を有する、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項９】
上記キャップ部材が連続的溶接部により上記本体に取り付けられる、請求項２に記載の基板支持体。
【請求項１０】
基板を支持するように構成された平坦な支持面を有するアルミニウム本体と、該本体の支持面に形成された少なくとも１つの溝であって、該溝の少なくとも１つの壁には段が形成されている溝と、
上記溝内に配置された第１の可鍛性ヒートシンクと、
誘電体材料内に収容されシースによって取り巻かれた導電性素子を備えた加熱素子であって、上記溝内に配置され、且つ上記第１のヒートシンクと接触する加熱素子と、
上記溝内に配置され、且つ上記加熱素子及び上記第１のヒートシンクと接触する第２の可鍛性ヒートシンクと、
上記溝内に配置されたキャップ部材であって、下面が少なくとも１つの段と接触し且つ上面が上記平坦な支持面と同一平面上にあるキャップ部材と、
を備えた基板支持体。
【請求項１１】
上記キャップ部材が複数の材料層で構成される、請求項１０に記載の基板支持体。
【請求項１２】
上記キャップ部材が連続的溶接部により上記本体に取り付けられる、請求項１１に記載の基板支持体。
【請求項１３】
上記本体がそれを貫通して形成された複数の穴を有する、請求項１２に記載の基板支持体。
【請求項１４】
上記支持面の平面の面積が約０．３５平方メートル以上である、請求項１３に記載の基板支持体。
【請求項１５】
上記支持面の平面の面積が約２．７平方メートル以上である、請求項１３に記載の基板支持体。
【請求項１６】
基板を支持するように構成された平坦な支持面を有するアルミニウム本体であって、該支持面の平面の面積が約０．３５平方メートル以上である本体と、
上記本体の支持面に形成された少なくとも１つの溝であって、段が形成された壁を有する溝と、
上記溝内に配置された第１の可鍛性ヒートシンクと、
上記溝内に配置され、且つ上記第１のヒートシンクと接触する加熱素子と、
上記溝内に配置され、且つ上記第１のヒートシンク及び上記加熱素子と接触する第２の可鍛性ヒートシンクと、
上記溝内に配置されたキャップ部材であって、下面が少なくとも１つの段と接触し且つ上面が上記平坦な支持面と同一平面上にあり、且つ複数の材料層で構成されるキャップ部材と、
を備えた基板支持体。
【請求項１７】
上記キャップ部材が連続的溶接部により上記本体に取り付けられる、請求項１６に記載の基板支持体。
【請求項１８】
上記本体がそれを貫通して形成された複数の穴を有する、請求項１７に記載の基板支持体。
【請求項１９】
上記支持面が、少なくとも約１５００ｍｍ×約１８００ｍｍのサイズの基板を支持する大きさである、請求項１８に記載の基板支持体。