(57)【要約】  本発明は、化学式１のアデホビルジピボキシルの改善された製造方法に関し、本発明による製造方法は、反応溶媒としてジメチルスルホキシドを使用することを特徴とし、当該ジメチルスルホキシドとトリエチルアミンの溶媒下で化学式２のアデホビルをクロロメチルピバレートと３０℃〜５０℃で反応させて、化学式１のアデホビルジピボキシルを製造する工程を含む。2012502984.tif 0000132012502984.tif 000014
2012502984.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式２のアデホビルをジメチルスルホキシドとトリエチルアミン溶媒下でクロロメチルピバレートと反応させることを特徴とする化学式１のアデホビルジピボキシルの製造方法。
【化１】
2012502984.tif 000010
【化２】
2012502984.tif 000011
【請求項２】
製造された化学式１のアデホビルジピボキシルが化学式３の不純物を１５％未満で含むことを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【化３】
2012502984.tif 000012
【請求項３】
反応温度が３０℃〜５０℃で行われることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
反応時間が３〜７時間であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
製造された化学式１のアデホビルジピボキシルの精製工程をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
精製工程が、製造された化学式１のアデホビルジピボキシルを水または水を含む混合溶媒に溶解させるステップと、アデホビルジピボキシル溶液を逆相カラムを通じて精製するステップと、精製されたアデホビルジピボキシル溶液に塩基を添加し、有機溶媒で抽出するステップとを含むことを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
水を含む混合溶媒は、水が、炭素数１〜４のアルコール、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン及びジオキサンよりなる群から１つ以上選択された溶媒に２０重量％以上で溶解されている溶媒であることを特徴とする請求項６に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗ウイルス剤として有用なアデホビルジピボキシルの改善された製造方法に関し、アデホビルジピボキシルは、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンであって、米国特許第５，６６３，１５９号などに開示された物質である。本発明は、化学式２の９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（「アデホビル」）を出発物質として使用し、化学式１の９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ｝−メトキシ］ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニン（「アデホビルジピボキシル」）を製造する、改善された製造方法に関する。
【０００２】
【化１】
2012502984.tif 000003
【０００３】
【化２】
2012502984.tif 000004
【背景技術】
【０００４】
アデホビルジピボキシルは、抗ウイルス治療剤として有用な薬物であり、ヌクレオチド逆転写酵素阻害剤であって、特にＢ型肝炎ウイルスとＨＩＶにインビボでの優れた治療効果を示し、ヘプセラ（Ｈｅｐｓｅｒａ）という商品名で販売されている物質である。
【０００５】
アデホビルジピボキシルの製造に対する先行技術として米国特許第５，６６３，１５９号には、２２℃の温度でジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）とＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−４−モルホリン−カルボキサミジンの存在下で、化学式２のアデホビルをクロロメチルピバレートと反応させることによって、化学式１のアデホビルジピボキシルを３２％収率で合成する、下記反応式１の合成方法が開示されている。
【０００６】
【化３】
2012502984.tif 000005
【０００７】
しかし、上記方法は、反応時に副産物の生成が多いため、アデホビルジピボキシルの収率が低いという問題点がある。
【０００８】
これに対する改善された製造方法として大韓民国特許第０７０００８７号には、化学式２のアデホビルを出発物質として使用し、１−メチル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ）とトリエチルアミン（ＴＥＡ）の存在下でクロロメチルピバレートと反応させることによって、化学式１のアデホビルジピボキシルを合成する、下記反応式２の合成方法が開示されている。
【０００９】
【化４】
2012502984.tif 000006
【００１０】
上記方法では、合成時に反応収率が約５５％程度に改善されたが、反応温度を６０℃以上に加温しなければならないという点から、関連化合物（不純物）の発生量が多く、反応に使用した１−メチル−２−ピロリジノンと反応中に生じた化学式３の副産物が約１５％以上生成され、アデホビルジピボキシルの精製が難しくなる。
【００１１】
【化５】
2012502984.tif 000007
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、副産物の生成が少なく、反応収率に優れていて、且つ反応条件が向上した、化学式１のアデホビルジピボキシルの新規な製造方法を提供することにある。本発明により、反応溶媒としてジメチルスルホキシドを使用することによって、上記目的を達成した、化学式１のアデホビルジピボキシルの改善された製造方法を開発するに至った。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、化学式２の９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（「アデホビル」）を出発物質として使用し、化学式１の９−［２−［［ビス｛ピバロイルオキシ｝−メトキシ］ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニン（「アデホビルジピボキシル」）を合成する改善された製造方法を提供する。
【００１４】
本発明による製造方法は、反応溶媒として１−メチル−３−ピロリジノンの代わりに、ジメチルスルホキシドを使用することを特徴とし、当該ジメチルスルホキシドとトリエチルアミンの溶媒下で化学式２のアデホビルをクロロメチルピバレートと３０℃〜５０℃で３〜７時間反応させて、化学式１のアデホビルジピボキシルを製造する工程を含む。
【００１５】
また、本発明による製造方法によって製造されたアデホビルジピボキシルは、化学式３の副産物を１５％未満含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明による製造方法は、化学式３の副産物が最終生成物内に１５％未満で含まれる為、収率が高く且つ品質に優れたアデホビルジピボキシルを提供する。また、本発明による製造方法は、従来の製造方法（ＮＭＰ使用）に比べて低い反応温度でも反応がより速く進行し、関連化合物の生成量が減少する。
さらに、反応溶媒であるジメチルスルホキシドの除去が容易であり、緩和された反応温度で反応が進行するので、改善された反応条件を提供するという追加的利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例１で得られた合成物のＨＰＬＣ分析結果である。
【図２】実施例２で得られた合成物のＨＰＬＣ分析結果である。
【図３】実施例３で得られた合成物のＨＰＬＣ分析結果である。
【図４】実施例４で得られた合成物のＨＰＬＣ分析結果である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の製造方法について詳しく説明する。
【００１９】
本発明の化学式２のアデホビルを出発物質として化学式１のアデホビルジピボキシルを合成する反応式は、下記反応式３で示す。
【００２０】
【化６】
2012502984.tif 000008
【００２１】
上記化学式２のアデホビルをジメチルスルホキシドとトリエチルアミンの混合液に添加した後、クロロメチルピバレートを滴加する。その後、反応温度を３０℃〜５０℃に維持しながら３〜７時間撹拌し、化学式１のアデホビルジピボキシルを得る。
【００２２】
本発明の方法は、製造された化学式１のアデホビルジピボキシルに含まれた副産物の不純物を除去するために、次の精製工程をさらに含むことができる。
【００２３】
当該精製工程は、製造された化学式１のアデホビルジピボキシルを水または水を含む混合溶媒に溶解させるステップと、アデホビルジピボキシル溶液を逆相カラムを通じて精製するステップと、精製されたアデホビルジピボキシル溶液に塩基を添加し、有機溶媒で抽出するステップとを含む。
【００２４】
詳細には、上記精製工程は、合成を通じて生じた副産物を含む不純な状態のアデホビルジピボキシルを含有する有機溶媒層に水または水を含む混合溶媒を添加し、その後、酸を添加し、アデホビルジピボキシルを水層で抽出する。本発明において使用される水を含む混合溶媒は、少なくとも水が２０重量％以上溶解されている有機溶媒をいい、好適な有機溶媒の例として、炭素数１〜４のアルコール、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを含むが、これらに限定されない。
【００２５】
有機溶媒中の副産物を含むアデホビルジピボキシルは酸と反応し、その塩または複合体状態となり、水または水を含む混合溶媒に溶解されることができる。本発明においてアデホビルジピボキシル塩または複合体は、アデホビルジピボキシルと無機酸または有機酸を混合して形成される化合物を意味する。
【００２６】
本発明において使用される酸として、有機酸、無機酸がいずれも使用可能であり、アデホビルジピボキシル塩または複合体の形成を考慮して塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸などの使用が好ましい。
【００２７】
また、抽出した水溶液のｐＨは、０．１〜５．０であり、好ましくは、１．０〜３．０である。
【００２８】
分離した水溶液を逆相カラムに通過させ、通過した液を回収する。その後、必要に応じて、ｐＨ０．１〜５．０、好ましくは、１．０〜３．５の水溶液（移動相）をさらに逆相カラムに通過させて回収することができる。
【００２９】
ここで使用される逆相カラムの充填物質（停止相）としては、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルまたはＨＰ２Ｏなどのような水に溶解しない高分子物質が挙げられ、好ましくは、炭素数１８のオクタデシルである。
【００３０】
回収した水溶液に有機溶媒を添加し、次に、塩基物質を添加して水溶液のｐＨを２．５〜１０に調整する。その後、有機溶媒を分離する。
【００３１】
ここで使用される有機溶媒としては、ジクロロメタン、イソプロピルアセテート、トルエン、エチルアセテートなどが挙げられ、好ましくは、ジクロロメタン、イソプロピルアセテートである。
【００３２】
また、使用される塩基物質は、無機塩基、有機塩基がいずれも使用可能であり、関連化合物の生成などを考慮すれば、塩基物質が添加された水溶液の好ましいｐＨは、２．５〜６．５である。
【００３３】
その後、回収した有機溶媒を除去し、精製された高純度の無定形アデホビルジピボキシル固体を得る。
【００３４】
ここで、有機溶媒を蒸発させる方法としては減圧濃縮方法が挙げられ、濃縮時の内部温度は、３０℃〜９０℃が好ましい。
【００３５】
また、有機溶媒の除去方法として、減圧濃縮方法以外に、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサンまたはｎ−ヘプタンまたはシクロヘキサンなどのような炭素数が５〜１２の炭化水素に、濃縮された化学式１で示されるアデホビルジピボキシルが溶解されている有機溶液を滴加し、無定形固体を形成し、これを濾過し、有機溶媒を除去する方法がある。
【００３６】
本発明によって精製されるアデホビルジピボキシルの純度は、９５％以上、好ましくは、９９％以上である。
【００３７】
以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３８】
実施例１：化学式１のアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの製造方法
反応器に１００ｇの９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（「アデホビル」）と４００ｇのジメチルスルホキシドを投入した。その後、１４０ｇのトリエチルアミンと２５０ｇのクロロメチルピバレートを連続して投入し、反応温度を４０℃に昇温して５時間撹拌した。
混合物を１０℃〜２０℃に冷却した後、ジクロロメタン５００ｍＬと精製水１０００ｍＬを投入し、５分間撹拌した後、有機層を分離した。
得られた合成物をＨＰＬＣで分析した。ＨＰＬＣ分析に使用されたカラムは、Ａｌｌｔｅｃｈ  Ｍｉｘｅｄ  Ｍｏｄｅ  ＥｘｃｈａｎｇｅＴＭ  Ｃ８（７ｕ、１００Å）であり、流速は、１．２ｍＬ／分、検出器は、紫外線吸収光度計（測定波長：２６０ｎｍ）、カラム温度を室温にして分析した。移動相Ａは、リン酸緩衝液（ｐＨ６．０）：アセトニトリルを７０：３０の割合で混合して使用し、移動相Ｂは、リン酸緩衝液（ｐＨ６．０）：アセトニトリルを５０：５０の割合で混合して使用した。希釈液は、リン酸緩衝液（ｐＨ３．０）：アセトニトリルを２０：３０の割合で混合して使用した。
移動相Ａと移動相Ｂのカラム分析時において、流入量の変化は、下記の通りである。
【表１】
2012502984.tif 000009
上記のような条件のＨＰＬＣで得られた実施例１の合成物の分析結果を図１に示した（化学式１のアデホビルジピボキシルのＲｅｔＴｉｍｅ（分）：１０．１４２、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２７、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：１．４５５６ｌｅ４、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：８１０．５３、Ａｒｅａ（％）：６１．５５、化学式３の副産物のＲｅｔＴｉｍｅ（分）：９．２３６、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２３、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：２９２７．６６、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：１８４．９６、Ａｒｅａ（％）１２．３８）。
【００３９】
実施例２：化学式１のアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニン製造方法
反応器に１００ｇの９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（アデホビル）と４００ｇのジメチルスルホキシドを投入した。その後、１４０ｇのトリエチルアミンと２５０ｇのクロロメチルピバレートを連続して投入し、反応温度を４３℃に昇温して４時間撹拌した。
混合物を１０℃〜２０℃に冷却した後、ジクロロメタン５００ｍＬと精製水１０００ｍＬを投入し、５分間撹拌した後、有機層を分離した。
得られた合成物をＨＰＬＣで分析した。当該ＨＰＬＣ分析条件は、上記実施例１と同様である。実施例２で得た合成物のＨＰＬＣ分析結果を図２に示した（化学式１のアデホビルジピボキシルのＲｅｔＴｉｍｅ（分）：９．９４４、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２３、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：８２４８．９２、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：５４９．３１、Ａｒｅａ（％）：７５．６８、化学式３の副産物のＲｅｔＴｉｍｅ（分）：９．２２８、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２２、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：１２０８．１４、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：８５．３０、Ａｒｅａ（％）１１．０８）。
【００４０】
実施例３：化学式１のアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニン製造方法
反応器に１００ｇの９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（アデホビル）と４００ｇのジメチルスルホキシドを投入した。その後、１４０ｇのトリエチルアミンと２５０ｇのクロロメチルピバレートを連続して投入し、反応温度を３８℃に昇温して６時間撹拌した。
混合物を１０℃〜２０℃に冷却した後、ジクロロメタン５００ｍＬと精製水１０００ｍＬを投入し、５分間撹拌した後、有機層を分離した。
得られた合成物をＨＰＬＣで分析した。当該ＨＰＬＣ分析条件は、上記実施例１と同様である。実施例３で得た合成物のＨＰＬＣ分析結果を図３に示した（化学式１のアデホビルジピボキシルのＲｅｔＴｉｍｅ（分）：１１．５１８、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２２、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：９９９５．０２、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：６８２．７２、Ａｒｅａ（％）：７３．８３、化学式３の副産物のＲｅｔＴｉｍｅ（分）：１０．４６６、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２４、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：１７３５．５４、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：１２２．５３、Ａｒｅａ（％）１２．８２）。
【００４１】
実施例４：化学式１のアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニン製造方法
反応器に１００ｇの９−［２−（ホスホノメトキシ）エチル］アデニン（アデホビル）と４００ｇのジメチルスルホキシドを投入した。その後、１５０ｇのトリエチルアミンと３００ｇのクロロメチルピバレートを連続して投入し、反応温度を４０℃に昇温して５時間撹拌した。
混合物を１０℃〜２０℃に冷却した後、ジクロロメタン５００ｍＬと精製水１０００ｍＬを投入し、５分間撹拌した後有機層を分離した。
得られた合成物をＨＰＬＣで分析した。当該ＨＰＬＣ分析条件は、上記実施例１と同様である。実施例４で得た合成物のＨＰＬＣ分析結果を図４に示した（化学式１のアデホビルジピボキシルのＲｅｔＴｉｍｅ（分）：１０．９４７、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．２０、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：２．４０４８２ｅ４、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：１８４５．６９、Ａｒｅａ（％）：８２．０４、化学式３の副産物のＲｅｔＴｉｍｅ（分）：１０．１０６、Ｗｉｄｔｈ（分）：０．１８、Ａｒｅａ（ｍＡＵ＊ｓ）：２７１０．８９、Ｈｅｉｇｈｔ（ｍＡＵ）：２３２．６６、Ａｒｅａ（％）９．２５）。
【００４２】
実施例５：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例１で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。１Ｎ塩酸水溶液を添加して精製水のｐＨを１．８に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０×１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ  ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムをメタノールとｐＨ２．０塩酸水溶液を使用して順次に洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液をジクロロメタン５００ｍＬと混合した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを５．５〜５．６に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮した。生成された固体にｎ−ヘキサン５００ｍＬを添加し、撹拌、濾過し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収得量：４３ｇ（２３．９％）、純度：９９．８％）
【００４３】
実施例６：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例２で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を添加し、精製水のｐＨを２．２に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０×１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ  ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムは、メタノールとｐＨ２．３塩酸水溶液を使用して順次に洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液をジクロロメタン５００ｍＬと混合した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．２〜３．３に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４５ｇ（２５．１％）、純度：９９．７％）
【００４４】
実施例７：化学式１で示されるアデホビルジピボキシル、９−［２−［［ビス｛（ピバロイルオキシ）−メトキシ｝ホスフィニル］メトキシ］エチル］アデニンの精製方法
実施例３で得た有機層に精製水３０００ｍＬを投入した。メタンスルホン酸を添加し、精製水のｐＨを２．２に調整した後、２０〜２５℃で１０分間撹拌した。撹拌を停止した後、水層を分離した。分離した水層をＣ１８逆相カラム（大きさ：４０×１５ｃｍ、充填物質：ＫＰ−Ｃ１８−ＨＳＴＭ  ３５〜７０ｕｍ、９０Å  Ｃ１８−ｂｏｎｄｅｄ  ｓｉｌｉｃａ、製造元：Ｂｉｏｔａｇｅ）に通過させた。
Ｃ１８逆相カラムを通過させた水溶液を回収し、Ｃ１８逆相カラムはメタノールとｐＨ２．３塩酸水溶液を使用して順次に洗浄した。
回収した水溶液をＣ１８逆相カラムにさらに通過させて回収し、回収した水溶液をジクロロメタン５００ｍＬと混合した。反応物を撹拌しながら５％重炭酸ナトリウム水溶液を滴加し、回収した水溶液のｐＨを３．１〜３．２に調節した。
撹拌を停止した後、ジクロロメタンを分離し、硫酸ナトリウムを使用して脱水、濾過した。
濾過したジクロロメタンを減圧濃縮し、化学式１で示される無定形の高純度アデホビルジピボキシルを得た。（収率：４５ｇ（２５．１％）、純度：９９．７％）
【図１】
2012502984.tif 000015
【図２】
2012502984.tif 000016
【図３】
2012502984.tif 000017
【図４】
2012502984.tif 000018
【国際調査報告】
2012502984.tif 000019
2012502984.tif 000020
2012502984.tif 000021
2012502984.tif 000022