(57)【要約】  ＢＥＴ表面積２０〜３５ｍ２／ｇを有するフュームドシリカであって、ａ）個数平均粒子メジアン径が６０〜１５０ｎｍであり、かつ、それぞれ粒子の全個数に対して、ｂ）２００ｎｍ又はそれ以上の直径を有する粒子の割合が多くとも１０％であり、かつ、ｃ）６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合が多くとも２０％であることを特徴とする、前記フュームドシリカ。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）個数平均粒子メジアン径が６０〜１５０ｎｍであり、かつ、
それぞれ粒子の全個数に対して、
ｂ）２００ｍｍ又はそれ以上の直径を有する粒子の割合が、多くとも１０％であり、かつ、
ｃ）６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合が、多くとも２０％である、
２０〜３５ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有するフュームドシリカ粉末。
【請求項２】
粉末に対する非球状の凝集した粒子の割合が０．１〜１０質量％である、請求項１に記載のフュームドシリカ粉末。
【請求項３】
２００ｎｍ又はそれ以上の直径を有する粒子の割合が、粒子の全個数に対して０〜５％である、請求項１又は２に記載のフュームドシリカ粉末。
【請求項４】
６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合が、粒子の全個数に対して０〜１０％である、請求項１から３までのいずれか１項に記載のフュームドシリカ粉末。
【請求項５】
１０〜４０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有するシリカ粉末を製造する方法において、
ａ）少なくとも１種の液体シロキサンを噴霧することにより得られたエーロゾルを、水素含有燃焼ガス及び２５〜３５容量％の酸素含量を有する酸素含有ガスを燃焼させることによって得られる火炎中に、酸素含有ガスと一緒に導入し、その際、前記シロキサンは、一般式（Ｒ１）３ＳｉＯ［ＳｉＲ２Ｒ３Ｏ］ｍＳｉ（Ｒ１）３の線状シロキサン及び一般式［ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ］ｎの環状シロキサン（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はＭｅ又はＥｔであり、ｍは１〜２０であり、ｎは３〜７であり、その際、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｍ及びｎは互いに独立している）から成る群から選択され、かつ、
ｂ）火炎に導入する際に、
ｂ１）シロキサンの完全な酸化のために使用される酸素／要求される酸素のモル比は、１．１：２．５であり、
ｂ２）酸素／水素含有燃焼ガスのモル比は０．５：１であり、かつ、
ｂ３）シロキサン及び燃焼ガスの酸化のために使用される酸素／要求される酸素の比は０．８０：０．９９であり、
ｃ）さらに空気を火炎に沿って導入し、その際、この空気と火炎を生じさせるために使用された酸素に富む空気との量比は０．９：１．４０であり、
ｄ）その後に、水を冷却のために反応混合物に添加し、その際、水の量は０．１〜１．５ｋｇ／ｍ３（ＳＴＰ）のプロセスガスであり、かつ、
ｅ）固体を除去する、
ことを特徴とする、前記シリカ粉末を製造する方法。
【請求項６】
エーロゾルを火炎中に導入する噴霧圧は、１〜３ｂａｒ（ゲージ圧）である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
請求項１から４までのいずれか１項に記載のフュームドシリカ粉末と、１種又はそれ以上の表面変性剤とを反応させることによって得られる、ＢＥＴ表面積１０〜３０ｍ２／ｇを有する表面変性フュームドシリカ粉末。
【請求項８】
ゴム、シリコンゴム及びプラスチック中のフィラーとして、分散液製造のため、研磨表面のため、塗料及びコーティング中のレオロジー調整のため、触媒担持材料として及び粘着防止剤として及びトナー組成物の成分としての、請求項１から４まで及び７のいずれか１項に記載のフュームドシリカの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低い表面積を有するフュームドシリカ粉末及びその製造方法及びその使用に関する。
【０００２】
さらに本発明は、それにより得られる表面変性されたシリカ粉末及びその製造方法及びその使用に関する。
【０００３】
フュームドシリカ（Fumed silicon dioxide）粉末は、その高い純度について優れている。粒子は一般に、内部表面積を有するものではなく、かつその表面上に反応基を有する。フュームドシリカは、フレーム加水分解、フレーム酸化により製造することができるか、あるいはこれらの反応の型が互いに一緒に進行する方法において製造することができる。この方法において、蒸発されたか又はガス状の加水分解可能なハロゲン化ケイ素を、水形成燃料及び酸素含有ガスを燃焼することによって形成された火炎と一緒に混合する。燃焼火炎は、ハロゲン化ケイ素の加水分解のための水及び加水分解反応のために十分な熱を提供する。加水分解に代わるフレーム酸化では、炭素含有出発材料を酸化する。
【０００４】
このようにして得られた粉末は、後続の工程において表面変性することができる。
【０００５】
問題は、低いＢＥＴ表面積を有するフュームドシリカ粉末の製造である。
【０００６】
EP-A-1361195は、３０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積及び１９５ｎｍのｄ５０粒子直径を有するフュームドシリカ粉末を開示しており、その際、（ｄ１０〜ｄ９０）／２ｄ５０比により表される粒子直径の分布は、３４．４である。
【０００７】
フュームドシリカ粉末は、シリカの蒸発した出発化合物、例えば四塩化ケイ素を火炎中で加水分解することによって得られる。これは、シリカの融点を上回る火炎温度に設定することにより達成される。
【０００８】
DE-A-10139320は、２５ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する球状のシリカ粒子の粉末を開示しており、この場合、これは、５０ｎｍ〜１μｍの粒度分布を有する。これは、ヘキサメチルジシロキサンを、燃焼ガス及び酸素の補助火炎中に噴霧することにより得られる。反応の実施における本質的特徴は、反応混合物中の高いシロキサン含量である。したがって、少量のみの燃焼ガス及び低い化学量論的過剰量のみの酸素を使用する。より高い割合は、高いＢＥＴ表面積を有する凝集されたシリカ粒子を招く。
【０００９】
EP-A-1361195及びDE-A-10139320中で開示されたシリカ粉末は、大きい平均粒子直径及び粒子直径の広い分布を示す。これは、粉末の可能な使用を制限する。EP-A-1361195は、粒子直径の狭い分布を示す。しかしながら、この対象物は、依然として従来技術に匹敵する小さいメジアン粒子直径及び狭い粒子直径の分布を有するフュームドシリカ粉末を提供する。
【００１０】
さらに、従来技術における粒度の広い分布は、不安定なプロセス処方を示す。したがって本発明の他の対象は、安定に操作することができる、低い表面積を有するフュームドシリカ粉末を製造するための方法を提供する。
【００１１】
本発明の他の対象は、表面変性されたフュームドシリカ粉末及びその製造方法を提供することである。
【００１２】
本発明は、２０〜３５ｍ２／ｇ、好ましくは２３〜２８ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有するフュームドシリカ粉末を提供することであり、その際、
ａ）個数平均粒子メジアン径は６０〜１５０ｎｍ、好ましくは８０〜１３０ｎｍであり、かつ、それぞれ粒子の全個数に対して、
ｂ）２００ｍｍ又はそれ以上の直径を有する粒子の割合が、多くとも１０％であり、かつ、
ｃ）６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合が、多くとも２０％である。
【００１３】
ＢＥＴ表面積は、ＤＩＮ６６１３１により測定される。個数平均粒子メジアン径、２００ｎｍの直径を有する粒子の割合及び６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合は、ＴＥＭ画像（TEM = TransmissionElectron Microscopy）からの粒子をカウントすることにより得られる。
【００１４】
本発明によるシリカ粒子はＸ−線アモルファスである。塩化物の割合は１００ｐｐｍを上回ることはなく、一般には５０ｐｐｍ未満である。
【００１５】
粒子は、主に単離された球状の独立粒子、及び互いに結合する３個までの粒子から成る凝集した非球状の粒子である。本発明によるシリカの粒子の少なくともいくつかは、凝集した非球状の粒子である。一般に、粉末に対する非球状の凝集した粒子の割合は０．５〜１０質量％である。非球状粒子は、対象物が、最大の共通の表面積を形成するために支持体の用途である場合には、その用途における利点を提供することができる。
【００１６】
本発明の特別な実施態様において、２００ｎｍ又はそれ以上の直径を有する粒子の割合は、粒子の全個数に対して０〜５％である。
【００１７】
本発明の特別な実施態様において、６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合は、粒子の全個数に対して０〜１０％である。
【００１８】
有利な実施態様は、
ａ）ＢＥＴ表面積が２３〜２８ｍ２／ｇであり、
ｂ）個数平均粒子メジアン径が１００±２０ｎｍであり、かつ、それぞれ全粒子数に対して、
ｃ）２００ｎｍ又はそれ以上の直径を有する粒子の割合が０〜５％であり、
ｄ）６０ｎｍまでの直径を有する粒子の割合が多くとも０〜１０％であり、
かつ、
ｅ）非球状の凝集された粒子の割合が、粉末に対して０．５〜１０質量％である
ものであってもよい。
【００１９】
さらに本発明は、１０〜４０ｍ２／ｇ、好ましくは２０〜３５ｍ２／ｇ、より好ましくは２３〜２８ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する、シリカ粉末を製造するための方法を提供し、この場合、この方法は、
ａ）少なくとも１種の液体シロキサンを噴霧することにより得られたエーロゾルを、水素含有燃焼ガス及び酸素含有ガス、好ましくは酸素に富む空気（２５〜３５容量％の酸素含量を有するもの）を燃焼させることによって得られる火炎中に、酸素含有ガスと一緒に導入し、その際、前記シロキサンは、一般式（Ｒ１）３ＳｉＯ［ＳｉＲ２Ｒ３Ｏ］ｍＳｉ（Ｒ１）３の線状シロキサン及び一般式［ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ］ｎの環状シロキサン（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はＭｅ又はＥｔであり、ｍは１〜２０であり、ｎは３〜７であり、その際、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｍ及びｎは互いに独立している）から成る群から選択され、かつ、
ｂ）火炎に導入する際に、
ｂ１）シロキサンの完全な酸化のために使用される酸素／要求される酸素のモル比は、１．１：２．５、好ましくは１．５：２であり、
ｂ２）酸素／水素含有燃焼ガスのモル比は０．５：１、好ましくは０．７：０．９であり、かつ、
ｂ３）シロキサン及び燃焼ガスの酸化のために使用される酸素／要求される酸素の割合は０．８０：０．９９、好ましくは０．８５：０．９５であり、
ｃ）さらに空気を火炎に沿って導入し、その際、この空気と火炎を生じさせるために使用される酸素に富む空気との量比は０．９：１．４０、好ましくは０．９５：１．２であり、
ｄ）その後に、水を冷却のために反応混合物に添加し、その際、水の量は０．１〜１．５ｋｇ／ｍ３（ＳＴＰ）、好ましくは０．６〜１ｋｇ／ｍ３（ＳＴＰ）のプロセスガスであり、かつ、
ｅ）固体を除去する。
【００２０】
本発明による本質的な特徴の一つは、ｂ３）の特徴に示すように、シロキサン及び燃焼ガスの酸化のために使用される酸素／要求される酸素の割合が０．８０：０．９９、すなわち化学量論量であり、その一方でｂ１）及びｂ２）で特定された条件を満たす。
【００２１】
さらに本質的な特徴は、粒子の望ましくない制御不能な凝集を防止するための、プロセス流の水での急速冷却である。
【００２２】
好ましくは使用されるシロキサンはヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）及びデカメチルシクロペンタシロキサン（Ｄ５）及びこれらの混合物である。より好ましくは、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）を使用することができる。
【００２３】
噴霧に使用される酸素含有ガスは空気、酸素又は酸素に富む空気であってもよい。一般には空気を使用する。
【００２４】
噴霧中に形成された液滴は１００μｍを上回るべきではなく、より好ましくは５０μｍを下回る。シロキサン構造にしたがって、好ましい液滴のサイズは、粘度の変更によって達成することができる。
【００２５】
エーロゾルを火炎中に導入する噴霧圧は、好ましくは１〜３ｂａｒ（ゲージ圧）である。
【００２６】
本発明による水素含有燃焼ガスは、好ましくは水素、メタン、エタン、プロパン及びこれらの混合物である。より好ましくは、水素を使用することができる。
【００２７】
「プロセスガス」とは、ガス状の未変換原料と、酸素、窒素、水蒸気及び二酸化炭素を含むガス状生成物との合計であると理解される。
【００２８】
さらに本発明は、フュームドシリカと１種又はそれ以上の表面変性剤との反応によって得ることが可能な、ＢＥＴ表面積１０〜３０ｍ２／ｇを有する表面変性フュームドシリカ粉末を提供する。炭素含量は、それぞれの粉末に対して０．１〜５質量％、好ましくは０．３〜２質量％の範囲であってもよい。
【００２９】
使用された表面変性剤は、例えば別個又は混合物としてのシランであってもよい。例は以下のものを含む：
オルガノシラン（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣｎＨ２ｎ＋１）及び（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣｍＨ２ｍ−１）［式中、Ｒはアルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｎ＝１〜２０、ｍ＝２〜２０である］
オルガノシラン（Ｒ１）ｘ（ＲＯ）ｙＳｉ（ＣｎＨ２ｎ＋１）及び（Ｒ１）ｘ（ＲＯ）ｙＳｉ（ＣｍＨ２ｍ−１）［式中、Ｒはアルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ブチルであり、Ｒ１はアルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、シクロアルキルであり、ｎ＝１〜２０、ｍ＝２〜２０であり、ｘ＋ｙ＝３であり、ｘ＝１、２であり、ｙ＝１、２である］
ハロオルガノシランＸ３Ｓｉ（ＣｎＨ２ｎ＋１）及びＸ３Ｓｉ（ＣｍＨ２ｍ−１）［式中、Ｘ＝Ｃｌ、Ｂｒであり、ｎ＝１〜２０であり、ｍ＝１〜２０である］
ハロオルガノシランＸ２（Ｒ）Ｓｉ（ＣｎＨ２ｎ＋１）及びＸ２（Ｒ）Ｓｉ（ＣｍＨ２ｍ−１）［式中、Ｘ＝Ｃｌ、Ｂｒであり、Ｒ＝アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、シクロアルキルであり、ｎ＝１〜２０、ｍ＝２〜２０である］
ハロオルガノシランＸ（Ｒ）２Ｓｉ（ＣｎＨ２ｎ＋１）及びＸ（Ｒ）２Ｓｉ（ＣｍＨ２ｍ−１）［式中、ＸはＣｌ、Ｂｒであり、Ｒはアルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、シクロアルキル、ｎ＝１〜２０、ｍ＝２〜２０である］
オルガノシラン（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）ｍ−Ｒ１
［式中、Ｒはアルキル、例えばメチル、エチル、プロピルであり、ｍ＝０．１〜２０であり、Ｒ１はメチル、アリール、例えば−Ｃ６Ｈ５、置換フェニル基、Ｃ４Ｆ６、ＯＣＦ２−ＣＨＦ−ＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｓｘ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ）３である］
オルガノシラン（Ｒ２）ｘ（ＲＯ）ｙＳｉ（ＣＨ２）ｍ−Ｒ１［式中、Ｒ１はメチル、アリール、例えばＣ６Ｈ５、置換フェニル基、Ｃ４Ｆ９、ＯＣＦ２−ＣＨＦ−ＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｓｘ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ）３、ＳＨ、ＮＲ３Ｒ４Ｒ５（その際、Ｒ３はアルキル、アリールであり、Ｒ４はＨ、アルキル、アリールであり、Ｒ５はＨ、アルキル、アリール、ベンジル、Ｃ２Ｈ４ＮＲ６Ｒ７であり、その際、Ｒ６はＨ、アルキルであり、かつＲ７はＨ、アルキルである）、Ｒ２はアルキルであり、ｘ＋ｙは３であり、ｘは１、２であり、ｙは１、２であり、ｍは０．１〜２０である］
ハロオルガノシランＸ３Ｓｉ（ＣＨ２）ｍ−Ｒ［式中、ＸはＣｌ、Ｂｒであり、Ｒはメチル、アリール、例えばＣ６Ｈ５、置換フェニル基、Ｃ４Ｆ６、ＯＣＦ２−ＣＨＦ−ＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、Ｏ−ＣＦ２−ＣＨＦ２、Ｓｘ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ１）３（式中、Ｒ１はメチル、エチル、プロピル、ブチルであり、かつｘは１又は２である）、ＳＨであり、ｍは０．１〜２０である］
ハロオルガノシランＲ１Ｘ２Ｓｉ（ＣＨ２）ｍＲ２［式中、ＸはＣｌ、Ｂｒであり、Ｒ１はアルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、Ｒ２はメチル、アリール、例えばＣ６Ｈ５、置換フェニル基、Ｃ４Ｆ６、ＯＣＦ２−ＣＨＦ−ＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、Ｏ−ＣＦ２−ＣＨＦ２、−ＯＯＣ（ＣＨ３）Ｃ＝ＣＨ２、−Ｓｘ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ３）３（式中、Ｒ３はメチル、エチル、プロピル、ブチルであり、かつｘは１又は２である）であり、ｍは０．１〜２０である］
ハロオルガノシランＲ１２ＸＳｉ（ＣＨ２）ｍＲ２［式中、ＸはＣｌ、Ｂｒであり、Ｒ１はアルキル、例えばメチル、エチル、プロピルであり、Ｒ２はメチル、アリール、例えばＣ６Ｈ５、置換フェニル基、Ｃ４Ｆ９、ＯＣＦ２−ＣＨＦ−ＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、Ｏ−ＣＦ２−ＣＨＦ２、−Ｓｘ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＲ３）３（その際、Ｒ３はメチル、エチル、プロピル、ブチルであり、かつｘは１又は２である）、ＳＨであり、ｍは０．１〜２０である］
シラザンＲ２Ｒ１２ＳｉＮＨＳｉＲ１２Ｒ２［式中、Ｒ１、Ｒ２はアルキル、ビニル、アリールである］
環状ポリシロキサンＤ３、Ｄ４、Ｄ５及びその同位体［式中、Ｄ３、Ｄ４及びＤ５は、３、４又は５単位の−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２型を有する環状ポリシロキサンを意味し、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン＝Ｄ４である］
Ｙ−Ｏ−［（Ｒ１Ｒ２ＳｉＯ）ｍ−（Ｒ３Ｒ４ＳｉＯ）ｎ］ｕ−Ｙ型のポリシロキサン又はシリコーンオイル［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立してアルキル、例えばＣｎＨ２ｎ＋１、ｎ＝１〜２０であり、アリール、例えばフェニル基及び置換フェニル基、（ＣＨ２）ｎ−ＮＨ２、Ｈであり、
ＹはＣＨ３、Ｈ、ＣｎＨ２ｎ＋１（式中、ｎ＝２〜２０である）、Ｓｉ（ＣＨ３）３、Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｈ、Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＨ、Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＣＨ３）、Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣｎＨ２ｎ＋１）（式中、ｎ＝２〜２０である）であり、
ｍ＝０，１、２、３，・・・・∞、好ましくは０、１、２、３・・・１０００００であり、
ｎ＝０，１、２、３，・・・・∞、好ましくは０、１、２、３・・・１０００００であり、
ｕ＝０，１、２、３，・・・・∞、好ましくは０、１、２、３・・・１０００００である］
【００３０】
特に言及すべきであるのはトリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、トリメチルアルコキシシラン、ジメチルアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、デシルトリメトキシシラン又はポリジメチルシロキサンである。
【００３１】
ＢＥＴ表面積１０〜３０ｍ２／ｇを有する表面変性フュームドシリカ粉末は、本発明によるフュームドシリカと表面変性剤とを一緒に噴霧し、その後にこの混合物について単段階又は多段階の熱処理をおこなうことにより得ることができる。熱処理は、２０〜４００℃の温度で０．１〜６時間に亘って実施することができる。代替的に、本発明によるフュームドシリカ粉末は、蒸気の形の表面変性剤で処理することができ、かつこの混合物は、その後に５０〜８００℃の温度で０．１〜６時間に亘って熱処理することができる。
【００３２】
さらに本発明は、ゴム、シリコンゴム及びプラスチック中のフィラーとして、分散液製造のため、研磨表面のため、塗料及びコーティング中のレオロジー調整のため、触媒担持材料として及び粘着防止剤として、特にＰＥＴフィルムのために、及びトナー組成物の成分としての、フュームドシリカの使用を提供する。
【００３３】
例
例１：１０ｋｇ／ｈ（０．０３３７ｋｍｏｌ／ｈ）のオクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）を１２ｍ３（ＳＴＰ）／ｈの空気と一緒に噴霧することにより得られたエーロゾルを、１．２ｂａｒ（ゲージ圧）で、６０ｍ３（ＳＴＰ）／ｈの酸素に富む空気（Ｏ２含量は３２％容量）及び２７ｍ３（ＳＴＰ）／ｈ（１．２０５ｋｍｏｌ／ｈ）の水素の混合物を燃焼することによって形成された火炎中に導入する。噴霧空気及び火炎を形成するために導入された酸素からの酸素構成要素は、２１．７２ｍ３（ＳＴＰ）／ｈ（０．９６９ｋｍｏｌ／ｈ）である。さらに、火炎を取り囲む６０ｍ３（ＳＴＰ）／ｈの空気流を導入し、かつプロセス混合物を引き続いて０．４ｋｇ／ｍ３（ＳＴＰ）のプロセスガスで冷却する。
【００３４】
フィルターに堆積した生成物は、ＢＥＴ表面積２５ｍ２／ｇ及び粒子メジアン径８４ｎｍ、２００ｎｍを上回る粒子直径を有する粒子２％及び６０ｎｍ未満の粒子直径を有する粒子９％を有している。非球状の凝集粒子の割合は約４％である。
【００３５】
シロキサンの完全な酸化に使用されるＯ２／要求されるＯ２のモル比Ｖは１．７９６である。Ｏ２／Ｈ２のモル比としてのＸは、０．８０４である。シロキサン及び燃焼ガスの酸化に使用されるＯ２／要求されるＯ２の比としてのＹは、０．９４６である。火炎を生じさせるために使用される空気／酸素に富む空気の量比としてのＺは１である。
【００３６】
例２〜６は同様にして実施する。使用された原料及びその量については、表に示す。さらに表は、得られた粉末の特性を示す。
【００３７】
例２において、高い割合の酸素を、例１との比較において使用する。
【００３８】
例３において、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を、Ｄ４に代えて使用する。
【００３９】
例４において、高い割合のＨＭＤＳＯ及び低い割合の酸素を、例３との比較において使用する。
【００４０】
例５及び６は比較例である。例５において、Ｘは０．６２１である。例６において、Ｖは２．６９８である。
【００４１】
例１〜４において、本発明による粉末が得られる。例５及び６において、少なくとも１種のパラメータが本発明の範囲外である粉末が得られた。
【００４２】
例７：ヘキサメチルジシラザンを用いての例１からの粉末の表面変性
ミキサー中で、例１からのシリカ粉末１００質量部を強力に混合しながら、最初に１質量部の水及びその後に７．５質量部のヘキサメチルジシラザンと一緒に噴霧する。噴霧が終了するやいなや、混合をさらに１５分行い、その後に２００℃の熱処理を３０分に亘っておこなった。
【００４３】
表面変性シリカ粉末は、ＢＥＴ表面積１９ｍ２／ｇ及び炭素含量０．２９質量％を有していた。
【００４４】
例８：ポリジメチルシロキサンを用いての例２からの粉末の表面変性
ミキサー中で、例１からのシリカ粉末１００質量部を強力に混合しながら、５質量部のポリジメチルシロキサンと一緒に噴霧した。噴霧が終了するやいなや、混合をさらに１５分行い、その後に３００℃の熱処理を２０分に亘っておこなった。
【００４５】
表面変性シリカ粉末は、ＢＥＴ表面積１５ｍ２／ｇ及び炭素含量１．４０質量％を有していた。
【００４６】
【表１】
2012512795.tif 000002
【００４７】
【表２】
2012512795.tif 000003
【国際調査報告】
2012512795.tif 000004
2012512795.tif 000005