(57)【要約】  本発明は、以下の層の積重体、すなわち、グレージング機能を有する第１の基材（Ｖ1）と、付属の電流源を有する第１の電子伝導性層（ＴＣＣ1）と、電気活性層（ＥＡ）と、付属の電流源を有する第２の電子伝導性層（ＴＣＣ2）と、グレージング機能を有する第２の基材（Ｖ2）の積重体を含むデバイスに関する。本発明によれば、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2の各々は、着色及び脱色に関して等電位面を有することを可能にする単位面積当たりの抵抗Ｒ□を有するように選択され、層の各々は、電子的に制御可能なデバイスの周縁部から中心へと漸減する可変抵抗Ｒ□を有し、Ｒ□は、電流源から最も離れたゾーンのグレージングの中央部において、電流源から最も離れたゾーンにおいてグレージングの基材の中央表面を横切る抵抗降下がデバイスの端子に印加される電圧の値の５％以下となるように、選択される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の多層積重体、すなわち、
・ガラス機能を有する第１の基材（Ｖ1）、
・付属の電流リードを有する第１の電子伝導性層（ＴＣＣ1）、
・次のもの、すなわち、
・還元されること及び／又は補償電荷としての役割を果たす電子及びカチオンを受容することが可能な少なくとも１種の電気活性有機化合物（ｅａ1+）、
・酸化されること及び／又は補償電荷としての役割を果たす電子及びカチオンを放出することが可能な少なくとも１種の電気活性有機化合物（ｅａ2）、及び
・前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）に、電流の作用下で色の対比を得るために必要な酸化反応及び還元反応を受けさせることが可能なイオン電荷、
を含むか又はそれらで構成され、前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）のうちの少なくとも１つは色の対比を得るためにエレクトロクロミック性である、電気活性システム（ＥＡ）、
・付属の電流リードを有する第２の電子伝導性層（ＴＣＣ2）、及び
・ガラス機能を有する第２の基材（Ｖ2）、
を含む、可変の光学／エネルギー特性を有する電気制御可能なデバイスであって、前記層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2の各々が、着色モード及び脱色モードにおいて等電位面を有することを可能にする単位面積当たりの抵抗Ｒ□を有するように選択され、前記層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2の各々が、前記電流リードから最も離れた１つ又は複数のゾーンにおいて、グレージングの基材の中央表面での抵抗降下が該デバイスの端子をまたいで印加される電圧の５％以下となるよう、前記電流リードから最も離れた１つ又は複数のゾーンにおいて、前記グレージングの中央部のＲ□を選択することにより該電気制御可能なデバイスの周縁部から内側に向かって漸減する可変抵抗Ｒ□を有していることを特徴とする、電気制御可能なデバイス。
【請求項２】
２つの対向する層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2が同一であることを特徴とする、請求項１に記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項３】
層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2が勾配に沿って漸減する可変抵抗Ｒ□を有することを特徴とする、請求項１及び２のいずれか１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項４】
層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2がゾーン内で漸減する可変抵抗Ｒ□を有することを特徴とする、請求項１及び２のいずれか１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項５】
可変抵抗Ｒ□の導電性層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2が、周縁部における２０Ω／□以上から前記層の中央部での５Ω／□以下へと変わる抵抗を有することを特徴とする、請求項１〜４の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項６】
層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2が、連続層の形又はグリッドもしくはマイクログリッドの形、あるいは連続層で覆われたグリッド又はマイクログリッドの形をとることを特徴とする、請求項１〜５の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項７】
可変抵抗Ｒ□を有する層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2が、前記層の導電率をゾーン内で漸減させるため又は低下させるための前記層の材料のプラズマ、火炎又はアブレーション処理によるか、ガラス基材上に導電性材料を被着させ、最初の被着は基材の表面全体に行い、次の被着は、その後周辺領域をマスキングして、その中央領域に行い、そして他のゾーンを形成する必要がある場合には、最初の被着以外の被着操作を、特に円形領域に、行うことができ、それによって前記層の各ゾーンが同心ゾーンとなって、その中心が基材の中心と一致するようにする連続被着操作を、とりわけ真空中で、行うことによるか、あるいは、同一であるか異なっているかにかかわらず、基材上に被着された導電性層の少なくとも一部分に形成される導電性及び／又は絶縁性の表面構造のアレイによって、得られることを特徴とする、請求項３及び５のいずれか１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項８】
電子伝導性層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2が、金属層、例えば銀、金、白金又は銅の層など、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層、例えばスズをドープした酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3：Ｓｎ又はＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3：Ｓｂ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＳｎＯ2：Ｆ）及びアルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）の層など、又はＴＣＯ／金属／ＴＣＯ型の多層であり、ここでのＴＣＯ及び金属は特に上に列挙したものから選択される多層、又はＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒ型の多層であり、ここでの金属はとりわけ上に列挙したものから選択される多層、であることを特徴とする、請求項１〜７の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項９】
層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2が各々、対応する層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2に適用された導電性ストリップによって形成された電流リードに接続され、前記導電性ストリップは金属、合金又は導電性複合材料であることができ、それらはその導電性層で覆われた基材上に又は２つのスペーサー基材を隔てているスペーサー上に直接、例えば真空被着技術又は金属ペーストを用いるスクリーン印刷技術を用いて、被着されるか、あるいはその導電性層で覆われた基材に又は２つの基材を隔てているスペーサー上にはんだ付けされるか、あるいは導電性接着剤を使用して接着され、基材に適用される導電性ストリップは連続的であることができ又は一緒に接続される不連続領域を有することができ、そしてそれは各基材の全体又は一部の上に適用することができることを特徴とする、請求項１〜８の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１０】
電流リードが、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2に適用され前記導電性層（ＴＣＣ1及びＴＣＣ2）の周囲全体に又は実質的に周囲全体に配置された連続の導電性ストリップからなることを特徴とする、請求項９に記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１１】
ガラス機能を有する基材が、ガラス及び透明ポリマー、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフトエート（ＰＥＮ）及びシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）など、から選択されることを特徴とする、請求項１〜１０の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１２】
ガラス機能を有する基材、特に、プラスチック基材と、層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2との間に、単層又は多層積重体が位置していて、この層又は積重体は、無機層、有機層及び有機無機ハイブリッド層から独立に選択され、特にＴＣＣ1又はＴＣＣ2の基材への密着性を向上させるため又はガス不透過性及び水分不透過性などの追加の機能を与えるために、対応する層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2を被着させる前に基材上に被着されていることを特徴とする、請求項１〜１１の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１３】
電気活性システム（ＥＡ）が、電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）及びイオン電荷が挿入された自己支持型ポリマーマトリックスを含んでいて、前記ポリマーマトリックスは、その内部に前記イオン電荷を溶解するが前記自己支持型ポリマーマトリックスを溶解しない液体（Ｌ）を含有し、前記マトリックスは、前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）に前記酸化反応及び還元反応を受けさせるために、前記イオン電荷の浸透経路を提供するように選択されており、前記イオン電荷は、前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）のうちの少なくとも１つ及び／又はそれらとそれぞれ対応する還元された種及び酸化された種（ｅａ1及びｅａ2+）によって担持され、前記液体（Ｌ）に溶解された少なくとも１種のイオン性塩及び／又は少なくとも１種の酸によって担持され、及び／又は前記自己支持型ポリマーマトリックスによって担持され、そして前記液体（Ｌ）は、溶媒又は溶媒混合物によって及び／又は少なくとも１種のイオン性液体もしくは溶融塩によって室温で形成され、この場合前記イオン性液体又は溶融塩は前記電気活性システムのイオン電荷の一部又は全てに相当するイオン電荷を担持する液体（Ｌ）を構成していることを特徴とする、請求項１〜１２の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１４】
電気活性システムが、電気活性有機化合物（ｅａ1及びｅａ2）を含有する溶液又はゲルを含むことを特徴とする、請求項１〜１２の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１５】
電気活性有機化合物（ｅａ1）が、ビピリジニウム又はビオロゲン、例えば１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラートなど、ピラジニウム、ピリミジニウム、キノキサリニウム、ピリリウム、ピリジニウム、テトラゾリウム、ベルダジル、キノン、キノジメタン、トリシアノビニルベンゼン、テトラシアノエチレン、ポリスルフィド及びジスルフィド、そしてまた上に述べた電気活性化合物の全ての電気活性ポリマー誘導体から選択され、そして電気活性有機化合物（ｅａ2）が、メタロセン、例えばコバルトセン及びフェロセンなど、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルフェニレンジアミン（ＴＭＰＤ）、フェノチアジン、例えばフェノチアジンなど、及びジヒドロフェナジン、例えば５，１０−ジヒドロ−５，１０−ジメチルフェナジンなど、還元メチル−フェノチアゾン（ＭＰＴ）、ベルントゼンのメチレンバイオレット（ＭＶ）、ベルダジル及び上述の電気活性化合物の全ての電気活性ポリマー誘導体から選択されることを特徴とする、請求項１〜１４の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１６】
・前記イオン性塩が、リチウムパークロレート、トリフルオロメタンスルホネート又はトリフレート塩、トリフルオロメタンスルホニルイミド塩及びアンモニウム塩から選択され、
・前記酸が、硫酸（Ｈ2ＳＯ4）、トリフル酸（ＣＦ3ＳＯ3Ｈ）、リン酸（Ｈ3ＰＯ4）及びポリリン酸（Ｈn+2ＰnＯ3n+1）から選択され、
・前記溶媒が、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（１−メチル−２−ピロリジノン）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコール、アルコール、ケトン、ニトリル及び水から選択され、
・前記イオン性液体が、イミダゾリウム塩、例えば１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（ｅｍｉｍ−ＢＦ4）、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート（ｅｍｉｍ−ＣＦ3ＳＯ3）、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（ｅｍｉｍ−Ｎ（ＣＦ3ＳＯ2）2又はｅｍｉｍ−ＴＳＦＩ）及び１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（ｂｍｉｍ−Ｎ（ＣＦ3ＳＯ2）2又はｂｍｉｍ−ＴＳＦＩ）など、から選択される、
ことを特徴とする、請求項１３に記載の電気制御可能なデバイス。
【請求項１７】
独立して作動可能である自動車の屋根、又は自動車用の側面窓もしくは後部窓、もしくはバックミラー、自動車用又は航空機用又は船舶用の風防ガラス又は風防ガラスの一部、自動車の屋根、航空機の窓、図形及び／又は文字情報表示用パネル、屋内又は屋外の建築用グレージング、天窓、ショップカウンター又は陳列ケース、絵画タイプの対象物の保護用グレージング、コンピューターの防眩スクリーン、ガラス調度、建物内の２つの部屋を仕切る壁、を形成するように構成されることを特徴とする、請求項１〜１６の１つに記載の電気制御可能なデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、以下の多層積重体、すなわち、
・ガラス機能を有する第１の基材（Ｖ1）、
・付属の電流リードを有する第１の電子伝導性層（ＴＣＣ1）、
・次のもの、すなわち、
・還元されること及び／又は補償電荷としての役割を果たす電子及びカチオンを受容することが可能な少なくとも１種の電気活性有機化合物（ｅａ1+）、
・酸化されること及び／又は補償電荷としての役割を果たす電子及びカチオンを放出することが可能な少なくとも１種の電気活性有機化合物（ｅａ2）、及び
・前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）に、電流の作用下で色の対比を得るために必要な酸化反応及び還元反応を受けさせることが可能なイオン電荷、
を含むか又はそれらで構成され、前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）のうちの少なくとも１つは色の対比を得るためにエレクトロクロミック性である、電気活性システム（ＥＡ）、
・付属の電流リードを有する第２の電子伝導性層（ＴＣＣ2）、及び
・ガラス機能を有する第２の基材（Ｖ2）、
の多層積重体を含む、可変の光学／エネルギー特性を有する電気制御可能なデバイスに関する。
【０００２】
電子伝導性層は、「透明導電性被覆物（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）」の略語である「ＴＣＣ」で表され、その一例は、透明導電性酸化物すなわちＴＣＯである。
【０００３】
電気活性媒質（ＥＡ）は、溶液中の媒質又はゲル化した媒質である。それはまた、２００８年６月２５日に出願された国際出願ＰＣＴ／ＦＲ２００８／０５１１６０又は欧州特許出願公開第１７８６８８３号明細書に記載されたように、自己支持型ポリマーマトリックス中に含まれていてもよい。
【０００４】
２種の電気活性物質がエレクトロクロミック性物質である場合には、これらは同一であってもよいし異なっていてもよい。前記電気活性物質のうちの一方がエレクトロクロミック性であり、もう一方がエレクトロクロミック性でない場合には、後者は対電極としての役割を果たし前記システムの着色及び脱色プロセスには関与しない。
【背景技術】
【０００５】
前記化合物（ｅａ1+）がエレクトロクロミック性である（例えば、１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラートである）とし、前記化合物（ｅａ2）がエレクトロクロミック性である（例えば、５，１０−ジヒドロ−５，１０−ジメチルフェナジン）か又は非エレクトロクロミック性である（例えば、フェロセンである）とすると、電流の作用下で起こる酸化還元反応は次のとおりである。
ｅａ1+＋ｅ-  ≡  ｅａ1（着色される）
及び
ｅａ2    ≡  ｅａ2+＋ｅ-
（エレクトロクロミック性であれば着色されるがエレクトロクロミック性でなければ無色）
である。
【０００６】
このような既知のデバイスでは、第１の先行技術によると、下記で詳細に説明する図１〜図３で解説するように、各電流リードは、対応する電子伝導性層の周辺部に沿って適用された薄い導電性ストリップからなり、この２つのストリップは電気制御可能なデバイスの２つの対向する周辺部に沿って配置される。
【０００７】
この場合、例えば、バックミラーなどの小型グレージングでは、脱色状態から脱色状態への移行は均一に起こり得る。
【０００８】
これに対し、建築用グレージングなどのより大型のグレージングでは、脱色状態から着色状態への移行は、前記２つの電流リードの一方のみ又は両方で始まりその後グレージングの残部を通して広がる着色を示すものであるカーテン効果を伴って起こる。これは、添付図面の図７に模式的に示されている。
【０００９】
更に、このような大型グレージングでは、着色段階中に、また着色状態が最大となった時でも、グレージングの吸収は、１つ又は２つの電流リードのところで、これらの電流リードから離れているところよりも大きい。
【００１０】
本出願人の会社名義で２００８年１２月５日に出願された、"Dispositif electrocommandable presentant un acheminement ameliore des charges electriques en milieu electro-actif （電気活性媒質中の電荷の流れを改良した電気制御可能なデバイス）"という発明の名称のフランス国特許出願第０８／５８２８９号明細書によって説明されている第２の先行技術によると、電流リードとして使用される導電性ストリップは導電性層の周囲全体に適用され、それらはエレクトロクロミックデバイスを着色状態に長期間維持する場合の色分離を避けるために向かい合うか又は実質的に向かい合う。図４及び図５は、この第２の先行技術文献によるグレージングを例示している。
【００１１】
先の場合と同様に、脱色状態から着色状態への移行は、小型グレージングでは均一に起こり得る。
【００１２】
これに対し、大型のグレージングでは、脱色状態から着色状態への移行には電流リードで着色が始まるハロー効果がつきまとう。添付図面の図９において例示しているのがこれである。
【００１３】
ここでもまた、このような大型グレージングでは、着色段階中に、また着色状態が最大となった時でも、グレージングの吸収はグレージングの中心部よりも、グレージングの周縁部で、すなわち電流リードが存在する場所において大きくなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】国際出願ＰＣＴ／ＦＲ２００８／０５１１６０明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第１７８６８８３号明細書
【特許文献３】フランス国特許出願第０８／５８２８９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
それゆえ、本出願人の会社は、エレクトロクロミックグレージングの着色プロセス中のカーテン効果又はハロー効果をなくすため、そして着色状態でも脱色状態でも、また着色段階中及び脱色段階中に、グレージングの大きさに関係なく、エレクトロクロミックグレージングの表面全体の均一な吸収を確保するための効果的な手段を探求してきた。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
これらの目的は、本発明により、エレクトロクロミックグレージングの電極における抵抗降下を制限するために特別に製作された導電性層を使用することによって達成された。本発明の効果は、カーテン効果の消滅を例示する図７及び図８、ならびにハロー効果の消滅を例示する図９及び図１０を考察することにより理解することができる。
【００１７】
よって、本発明の対象は、本書の記載を始めてすぐに定義した多層積重体を含む、可変の光学／エネルギー特性を有する電気的に制御可能なデバイスであって、前記層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2の各々が、着色モード及び脱色モードにおいて等電位面を有することを可能にする単位面積当たりの抵抗Ｒ□を有するように選択され、前記層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2の各々が、前記電流リードから最も離れた１つ又は複数のゾーンにおいて、グレージングの基材の中央表面での抵抗降下が該デバイスの端子をまたいで印加される電圧の５％以下となるよう、前記電流リードから最も離れた１つ又は複数のゾーンにおいて、前記グレージングの中央部のＲ□を選択することによって該電気制御可能なデバイスの周縁部から内側に向かって漸減する可変抵抗Ｒ□を有していることを特徴とする、電気制御可能なデバイスである。
【００１８】
これにより均一な電流分布を得ることが可能になり、抵抗率がより低いＴＣＣの部分は電子ウェルとしての役割を果たす。得られる効果としてハロー現象が回避される。
【００１９】
これは、導電性層のうちの１つにおいてＰ点における表面電圧ＶPが次の式により定義されるためである。
Ｖp＝Ｖapplied−ｉＲ
［式中、Ｖappliedは導電性層に印加される電圧であり、
ｉは電流であり
Ｒは、次の式により定義される前記層の抵抗であり、
Ｒ＝ρＬ／Ａ＝ρＬ／（Ｗｔ）＝Ｒ□Ｌ／Ｗ
（この式中、ρは試験片の抵抗率であり、
Ｌはその長さであり、
Ａはその断面積であって、ここではＡ＝Ｗｔであり、
Ｗはその幅であり、
ｔはその厚さであり、
Ｒ□は単位面積当たりの抵抗であって、ここではＲ□＝ρ／ｔである）
項ｉＲは抵抗降下である］
【００２０】
好ましくは、２つの対向する層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2は同一である。
【００２１】
層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2は、勾配に沿って徐々に漸減する可変抵抗Ｒ□を有し得る。
【００２２】
グリッド又はマイクログリッドは、アルミニウムなどの金属製でよい。
【００２３】
層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2は、ゾーン内で漸減する可変抵抗Ｒ□を有し得る。
【００２４】
有利には、可変抵抗Ｒ□の導電性層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2は、周縁部における２０Ω／□以上から前記層の中央部での５Ω／□以下へと変わる抵抗を有する。
【００２５】
層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2は、連続層の形又はグリッドもしくはマイクログリッドの形、あるいは連続層で覆われたグリッド又はマイクログリッドの形をとり得る。
【００２６】
可変抵抗Ｒ□を有する層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2は、
・前記層の導電率をゾーン内で漸減させるため又は低下させるための前記層の材料のプラズマ、火炎又はアブレーション処理によるか、
・ガラス基材上に導電性材料を被着させ、最初の被着は基材の表面全体に行い、次の被着は、その後周辺領域をマスキングして、その中央領域に行い、そして他のゾーンを形成する必要がある場合には、最初の被着以外の被着操作を、特に円形領域に、行うことができ、それによって前記層の各ゾーンが同心ゾーンとなって、その中心が基材の中心と一致するようにする連続被着操作を、とりわけ真空中で、行うことによるか、あるいは、
・同一であるか異なっているかにかかわらず、基材上に被着された導電性層の少なくとも一部分に形成される導電性及び／又は絶縁性の表面構造のアレイによって、
得ることができる。
【００２７】
フランス国特許出願公開第２８７５６６９号明細書には、このような導電性及び／又は絶縁性表面構造のアレイが記載されている。
【００２８】
例えば、上記の出願に示されているように、導電性層（ＴＣＣ1、ＴＣＣ2）において絶縁性又は弱導電性表面構造のアレイを作ることができ、また、導電性層（ＴＣＣ1、ＴＣＣ2）に形成された穴に導電性層のものより導電性が高い材料を充填することによるか、表面構造のアレイを形成し、所望の特性を得るのに十分である局所的過剰厚さを有する導電性層（ＴＣＣ1、ＴＣＣ2）を作製することによるか、あるいは、被着を例えば事前にマスクで覆っておいた層へのスパッタリングで行う、導電性が高い第２の層（ＴＣＣ1、ＴＣＣ2）の部分を作製することによって、導電性表面構造を持つアレイを形成することができる。導電性の表面構造は、とりわけ、銀のドットである。
【００２９】
電子伝導性層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2は、とりわけ、金属層、例えば銀、金、白金又は銅の層などであり、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層、例えばスズをドープした酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3：Ｓｎ又はＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3：Ｓｂ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＳｎＯ2：Ｆ）及びアルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）の層などであり、又はＴＣＯ／金属／ＴＣＯ型の多層であり、ここでのＴＣＯ及び金属は特に上に列挙したものから選択され、あるいはＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒ型の多層であり、ここでの金属はとりわけ上に列挙したものから選択される。
【００３０】
層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2は各々、対応する層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2に適用された導電性ストリップによって形成された電流リードに接続することができ、導電性ストリップは、金属、合金又は導電性複合材料であることができ、そしてそれはその導電性層で覆われた基材上に又は２つのスペーサー基材を隔てているスペーサー上に直接、例えば真空被着技術又は金属ペーストを使用するスクリーン印刷技術を用いて、被着されるか、あるいはその導電性層で覆われた基材に又は２つの基材を隔てているスペーサー上にはんだ付けされるか、あるいは導電性接着剤を使用して接着され、基材に適用される導電性ストリップは、連続的であることができ又は一緒に接続された不連続領域を有することができ、そしてそれは各基材の全体又は一部の上に適用することができる。
【００３１】
電流リードは、特に、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2に適用され前記導電性層（ＴＣＣ1及びＴＣＣ2）の周囲全体に又は実質的に周囲全体に配置された連続の導電性ストリップからなる。
【００３２】
ガラス機能を有する基材は、ガラス及び透明ポリマー、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフトエート（ＰＥＮ）及びシクロスポリンコポリマー（ＣＯＣ）など、から選択することができる。
【００３３】
更に、ガラス機能を有する基材、特にプラスチック基材と、層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2との間に、単層又は多層積重体が位置してもよく、この層又は積重体は、無機層、有機層及び有機無機ハイブリッド層から独立に選択され、特にＴＣＣ1又はＴＣＣ2の基材への密着性を向上させるため又はガス不透過性及び水分不透過性などの追加機能を与えるために、対応する層ＴＣＣ1又はＴＣＣ2を被着させる前に基材上に被着される。このような中間層の例としては、特に水分及び酸素のバリヤとしての役割を果たす、Ｓｉ3Ｎ4又はＳｉＯ2の層を挙げることができる。
【００３４】
第１の実施形態によれば、電気活性システム（ＥＡ）は、電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）とイオン電荷が挿入された自己支持型ポリマーマトリックスを含むことができ、前記ポリマーマトリックスは、前記イオン電荷を溶解するが前記自己支持型ポリマーマトリックスを溶解しない液体（Ｌ）をその内部に含有し、前記マトリックスは、前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）に前記酸化反応及び還元反応を受けさせるために、前記イオン電荷の浸透経路を提供するように選択され、前記イオン電荷は、前記電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）のうちの少なくとも１つ及び／又はそれらとそれぞれ対応する還元された種及び酸化された種（ｅａ1及びｅａ2+）によって、及び／又は前記液体（Ｌ）に溶解した少なくとも１種のイオン性塩及び／又は少なくとも１種の酸によって、及び／又は前記自己支持型ポリマーマトリックスによって担持され、前記液体（Ｌ）は、溶媒又は溶媒混合物によって及び／又は少なくとも１種のイオン性液体もしくは溶融塩によって室温で形成され、前記イオン性液体もしくは溶融塩は、前記電気活性システムのイオン電荷の一部又は全てに相当するイオン電荷を担持する液体（Ｌ）を構成している。
【００３５】
第２の実施形態によれば、電気活性システムは、電気活性有機化合物（ｅａ1+及びｅａ2）を含有する溶液又はゲルを含むことができる。
【００３６】
電気活性有機化合物（ｅａ1+）は、ビピリジニウム又はビオロゲン、例えば１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラートなど、ピラジニウム、ピリミジニウム、キノキサリニウム、ピリリウム、ピリジニウム、テトラゾリウム、ベルダジル、キノン、キノジメタン、トリシアノビニルベンゼン、テトラシアノエチレン、ポリスルフィド及びジスルフィド、ならびに上に述べた電気活性化合物の全ての電気活性ポリマー誘導体から選択することができ、電気活性有機化合物（ｅａ2）は、メタロセン、例えばコバルトセン及びフェロセンなど、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルフェニレンジアミン（ＴＭＰＤ）、フェノチアジン、例えばフェノチアジンなど、及びジヒドロフェナジン、例えば５，１０−ジヒドロ−５，１０−ジメチルフェナジンなど、還元メチルフェノチアゾン（ＭＰＴ）、ベルントゼンのメチレンバイオレット（ＭＶ）、ベルダジル及び上述の電気活性化合物の全ての電気活性ポリマー誘導体から選択される。
【００３７】
イオン性塩は、リチウムパークロレート、トリフルオロメタンスルホネート又はトリフレート塩、トリフルオロメタンスルホニルイミド塩及びアンモニウム塩から選択することができ、酸は、硫酸（Ｈ2ＳＯ4）、トリフル酸（ＣＦ3ＳＯ3Ｈ）、リン酸（Ｈ3ＰＯ4）及びポリリン酸（Ｈn+2ＰnＯ3n+1）から選択され、溶媒は、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（１−メチル−２−ピロリジノン）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコール、アルコール、ケトン、ニトリル及び水から選択することができ、イオン性液体は、イミダゾリウム塩、例えば１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（ｅｍｉｍ−ＢＦ4）、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート（ｅｍｉｍ−ＣＦ3ＳＯ3）、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（ｅｍｉｍ−Ｎ（ＣＦ3ＳＯ2）2又はｅｍｉｍ−ＴＳＦＩ）及び１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（ｂｍｉｍ−Ｎ（ＣＦ3ＳＯ2）2又はｂｍｉｍ−ＴＳＦＩ）などから選択することができる。
【００３８】
自己支持型ポリマーマトリックスは、前記液体が中心まで浸透した少なくとも１つのポリマー層で形成することができる。
【００３９】
少なくとも１つの層を構成するポリマーは、非孔質のフィルムの形をとるが前記液体で膨潤することが可能であるホモポリマー又はコポリマーであるか、又は多孔質フィルムの形をとるホモポリマー又はコポリマーであることができ、前記多孔質フィルムは、イオン電荷を含有する液体で場合により膨潤することが可能であり、膨潤後の前記フィルムの多孔性は、イオン電荷が液体含浸フィルムの厚さを通って浸透することを可能にするように選択される。
【００４０】
少なくとも１つの層を構成するポリマー材料はまた、
・イオン電荷を含有しないホモポリマーもしくはコポリマー、この場合、前記電荷は少なくとも１種の前述の電気活性有機化合物によって及び／又は溶液中の少なくとも１種のイオン性塩もしくは酸によって及び／又は少なくとも１種のイオン性液体もしくは溶融塩によって担持され、
・イオン電荷を含有するホモポリマーもしくはコポリマー、この場合、浸透速度を増加させるための追加の電荷を、少なくとも１種の前述の電気活性有機化合物によって及び／又は溶液中の少なくとも１種のイオン性塩もしくは酸によって及び／又は少なくとも１種のイオン性液体もしくは溶融塩によって担持してもよく、及び、
・イオン電荷を含有しない少なくとも１種のホモポリマーもしくはコポリマーとイオン電荷を含有する少なくとも１種のホモポリマー又はコポリマーとの混合物、この場合、浸透速度を増加させるための追加の電荷を、少なくとも１種の前述の電気活性有機化合物によって及び／又は溶液中の少なくとも１種のイオン性塩もしくは酸によって及び／又は少なくとも１種のイオン性液体もしくは溶融塩によって担持してもよい、
から選択してもよい。
【００４１】
ポリマーマトリックスは、電気活性システムに所望の浸透速度又はそれを上回る浸透速度が得られることを確実にすることが本質的に可能なフィルムを与えることがそれ自体で可能な、イオン電荷を含有するホモポリマー又はコポリマーと、所望の浸透速度が得られることを必ずしも確実にしないが機械的強度を与えることが本質的に可能なフィルムを与えることがそれ自体で可能な、イオン電荷を含有しても含有していなくてもよい、ホモポリマー又はコポリマーとを基礎材料とするフィルムで形成することができ、これらの２つのホモポリマー又はコポリマーの各々の含有量は、結果として得られる自己支持型有機活性媒質の所望の浸透速度及び機械的強度の両方が得られることを確実にするように調整される。
【００４２】
イオン電荷を含有しないポリマーマトリックスのポリマーは、以下のもの、すなわち、エチレン、酢酸ビニル及び場合によって少なくとも１種の他のコモノマーのコポリマー、例えばエチレン−酢酸ビニル（ＥＶＡ）コポリマーなど、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、エピクロロヒドリンコポリマー、及びポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、から選択することができ、また、イオン電荷を含有するポリマーマトリックスのポリマー、あるいは高分子電解質は、所望のイオン電荷のイオンによりＳＯ3Ｈ基のＨ+イオンの交換を受けたスルホン化ポリマーから選択することができ、このイオン交換は、イオン電荷を含有する液体での高分子電解質の膨潤の前及び／又はこれと同時に行われ、スルホン化ポリマーは、スルホン化テトラフルオロエチレンコポリマー、スルホン化ポリスチレン（ＰＳＳ）、スルホン化ポリスチレンコポリマー、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸）（ＰＡＭＰＳ）、スルホン化ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）及びスルホン化ポリイミドから特に選択される。
【００４３】
本発明の電気制御可能なデバイスはまた、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2のそれぞれに、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2に適用された導電性ストリップからなる電流リードを備えることもできる。導電性ストリップは、金属、合金又は導電性複合材料でよく、それらは導電性層で覆われた基材上に直接又はスペーサー上に、例えば真空被着技術又は金属ペーストを使用するスクリーン印刷技術を用いて、被着されるか、あるいは導電性層で覆われた基材に、又はスペーサー上に、はんだ付けされるか、あるいは導電性接着剤を使用して接着される。各基材の導電性ストリップは、連続であっても、不連続であって一緒に接続されていてもよく、また各基材の全体に適用されても又は一部に適用されてもよい。本発明の好ましい実施形態によれば、電流リードは、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2に適用され前記導電性層（ＴＣＣ1及びＴＣＣ2）の周囲全体に沿って又は実質的に周囲全体に沿って配置された連続の導電性ストリップから形成される。
【００４４】
本発明の電気制御可能なデバイスは、とりわけ、独立して作動可能である自動車の屋根、又は自動車用の側面窓もしくは後部窓、あるいはバックミラーや、自動車用又は航空機用又は船舶用の風防ガラス又は風防ガラスの一部や、自動車の屋根、航空機の窓、図形及び／又は文字情報表示パネル、屋内又は屋外の建築用グレージング、天窓、ショップカウンター又は陳列ケース、絵画タイプの対象物の保護用グレージング、コンピューターの防眩スクリーン、ガラス調度品、建物内の２つの部屋の仕切り壁、を形成するように構成される。
【００４５】
本発明の対象をより詳しく説明するために、その２つの特定の実施形態を、添付の図面を参照して以下でより詳細に解説する。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】第１の先行技術文献によるグレージングの片面の模式図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩにおける模式断面図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩにおける模式断面図である。
【図４】引用した第２の先行技術文献に相当する前述のフランス国特許出願第０８／５８２８９号明細書によるグレージングの１つの実施形態の模式断面図である。
【図５】引用した第２の先行技術文献に相当する前述のフランス国特許出願第０８／５８２８９号明細書によるグレージングのもう１つの実施形態の模式断面図である。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩにおける断面図である。
【図７】比較のために、上に引用した第１の先行技術文献による着色の発現を、明暗の矩形により表象的に描いて例示する模式図である。
【図８】比較のために、本発明による着色の発現を、明暗の矩形により表象的に描いて例示する模式図である。
【図９】比較のために、上に引用した第２の先行技術文献による着色の発現を例示する模式図である。
【図１０】比較のために、本発明による着色の発現を例示する模式図である。
【図１１】例２及び例４により使用された、ＩＴＯ層を備えたガラスの模式正面図であり、Ｒ□の値によって異なるこの層の３つの異なる領域を示している図である。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
図１〜図３は、それらの図のグレージングが、向かい合って配置された２枚のガラス板Ｖ1、Ｖ2を含んでなり、一方のものがバックミラーのフレーム内にグレージングを取り付けるという目的を達成するために下方にずれていることを示している。これらのガラス板Ｖ1、Ｖ2の各々の内側面は、特にＴＣＯ（透明導電性酸化物）により形成された、電子伝導性層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2でそれぞれ被覆されている。このように被覆されたガラス板Ｖ1、Ｖ2の２つの対向領域の間には、溶液又はゲル化形態の電気活性媒質ＥＡが充填された「貯留部」ゾーンが存在し、この貯留部は、その周縁部全体を電気絶縁封止シールＪによりシールされている。
【００４８】
層ＴＣＣ1、ＴＣＣ2のそれぞれの電流リードは、各々がＬ形金属ストリップによって形成されたシム１、２によってそれぞれ作製され、その分岐した一方は、被覆されたガラスＶ1、Ｖ2の端部にあてがわれ、分岐したもう一方は、「貯留部」部分を越えて延在する層ＴＣＣ1、ＴＣＣ2の部分にあてがわれる。シム１、２はそれぞれ、バックミラーの上縁に沿って及び下縁に沿って取り付けられる。
【００４９】
以下の説明では、化合物ｅａ1+として１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラート（エレクトロクロミック性）が選択され、化合物ｅａ2として５，１０−ジヒドロ−５，１０−ジメチルフェナジン（エレクトロクロミック性）又はフェロセン（非エレクトロクロミック性すなわちシステムの着色プロセスには関与しない対電極）が選択される。
【００５０】
理想的なシステムでは、デバイスに電圧が印加されていない場合、ｅａ1+及びｅａ2種を含有する活性媒質は無色であり、電圧が印加されると、ｅａ1+種がｅａ1種へと還元され、これらは電源装置の負極に接続された、すなわちグレージングのカソードに接続された導電性層の表面付近に均一に分布し、同様に、ｅａ2種はｅａ2+種へと酸化され、これらは電源装置の正極に接続された、すなわちグレージングのアノードに接続された導電性層の表面付近に均一に分布し、その時にパネルには、ｅａ1及びｅａ2+種の均一混合に対応する均一な色が現われる。
【００５１】
しかしながら、実際には、電流が印加された時とこの電流を止めた時に、種の対（ｅａ1、ｅａ1+）と（ｅａ2、ｅａ2+）との間、とりわけｅａ1種とｅａ2+種との間で、相の偏析現象が起こることになる。この現象は、一度脱色プロセスが始まると又は電源装置の極性が逆転した後に得られる着色中に、経時的に減少するが、しかしながらこの現象は非常に長期間なお依然として残存することがあり、あるいは電気制御可能なデバイスの状態を変える新しい指令が適用されるときになお残存していることがあって、そのためこの場合には、着色状態であるか脱色状態であるかにかかわらず、所望の均一な色は決して得られない。
【００５２】
この偏析現象は、ｅａ1+種のカソードの高電流密度ゾーンに向かうｅａ1種への選択的還元が原因であり、そして逆に言えば、ｅａ2種のアノードの高電流密度ゾーンに向かうｅａ2+種への選択的酸化が原因であり、これらの２つの高電流密度ゾーンはシムのそれらである。既知の電気制御可能なデバイスの断面図を上部に模式的に示し、電圧を印加したパネルの正面図を模式的に下部に示している添付図面の図７は、この現象を例示しており、電気制御可能なデバイスに電圧が印加されたときにｅａ1及びｅａ2+が蓄積して、その結果、主にカソードに向かうｅａ1種のために、色が出現するゾーン（正面図の右側）を示していて、この色は徐々に弱まり、主にアノードに向かうｅａ2+種のために新しい色（正面図の左側）になる。
【００５３】
更に、この偏析現象は、電気制御可能なデバイスのパネルの大きさが大きくなるほど強くなり、そして現在のところ、この現象のために、電気制御可能な建築用グレージングなどの大型の電気制御可能なデバイスは商業的に活用されていない。
【００５４】
図４〜図６を参照すると、これらはフランス国特許出願第０８／５８２８９号明細書によるグレージングを示していて、このグレージングは２枚の対向するガラス板Ｖ1、Ｖ2を含んでなり、これらのガラス板は各々、層ＴＣＣ1及びＴＣＣ2でそれぞれ覆われ、ポリエステルの芯を有する両面接着スペーサーフレーム３によって隔てられて、外部封止シールＪによってシールされている。フレーム３と２枚の被覆ガラス板が、媒質ＥＡを収容するための内部スペースを画定している。
【００５５】
導電性電流リードストリップが被覆ガラス板の各々に適用され、このストリップは、図１〜図３に示した先行技術の場合と同様に１つの周辺部に沿って長さ１を有するが、３つの連続する長さ１ａ、１ｂ及び１ｃと２ａ、２ｂ及び２ｃだけそれぞれで延長されていて、それらの各々は残る３つの周辺部のうちの１つの付近にある。
【００５６】
前述の細いストリップは、角で毎回９０°折り曲げられる。それらは、スペーサーフレーム３に関して、図４に示した実施形態では向かい合わせて配置されているが、図５に示した実施形態では互いに少しずらされている。
【００５７】
グレージングユニットの組立て及び媒質ＥＡの封入は、通常のように行われ、電流リードストリップは、対応する被覆ガラス板の周囲に事前にはんだ付け又は接着されている。
【実施例】
【００５８】
以下の例により本発明を説明するが、それらは本発明の範囲を限定するものではない。それらの例では、以下の省略形を使用している。
・ＰＶＤＦ：  ポリフッ化ビニリデン
・ＩＴＯ：    スズをドープした酸化インジウムＩｎ2Ｏ3：Ｓｎ
・ＰＥＴ：    ポリエチレンテレフタレート
【００５９】
以下の例で使用するガラス「Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）」は、電気伝導性ＳｎＯ2：Ｆ層で被覆されたガラス（Ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ社よりこの名称で販売されているガラス）である。
【００６０】
以下の例で使用するガラス「ＶＧ４０」は、Ｓａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ  Ｓｅｋｕｒｉｔ社によるＶｅｎｕｓ  Ｔｈｅｒｍｏｃｏｎｔｒｏｌ（登録商標）のうちの、光透過率ＴLが５４％の着色ガラスである。
【００６１】
ＰＶＤＦフィルムを作製するために、Ａｒｋｅｍａ社により「Ｋｙｎａｒｆｌｅｘ（登録商標）２８２１」という名称で製造されているポリフッ化ビニリデン粉末を使用した。
【００６２】
表において、
・ＴL（脱色）は、ゼロ電圧を３分間印加した後の脱色された試験片の光透過率を示していて、この透過率は、可視スペクトル、すなわち３８０ｎｍ〜７８０ｎｍでの平均値であって、Ｍｉｎｏｌｔａ  ３７００Ｄ分光計で測定したものであり、
・ＴL（着色）は、１．５Ｖの電圧を３分間印加した後の着色された試験片の光透過率を示していて、この透過率は、可視スペクトル、すなわち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍでの平均値であって、Ｍｉｎｏｌｔａ  ３７００Ｄ分光計で測定したものであり、
・脱色時間は、ＴL（着色）からＴL（着色）へ切り替えるのに必要な時間＋９０％×（ＴL（脱色）−ＴL（着色））であり、
・着色時間は、ＴL（脱色）からＴL（脱色）へ切り替えるのに必要な時間−９０％×（ＴL（脱色）−ＴL（着色））である。
【００６３】
〔例１（比較例）〕エレクトロクロミックセルの作製
Ｒ□＝２０．５Ω／□のＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレート、
電気活性システム：ＰＶＤＦ＋フェロセン＋１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラート＋リチウムトリフレート＋プロピレンカーボネート、
Ｒ□＝２０．５Ω／□のＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレート、
図６に示した構成による各Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートの周縁部全体にわたって当該Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートにはんだ付けされた電流リードストリップ。
【００６４】
自己支持型ＰＶＤＦフィルムを、６．５ｇのＰＶＤＦ粉末と１３．０ｇのジブチルフタレート、０．５ｇのナノ多孔質シリカ及び２５ｇのアセトンとを混合することにより作製した。配合物を２時間攪拌し、ガラスプレート上に流延した。溶媒の蒸発後、水流下でガラスプレートからＰＶＤＦフィルムを外した。こうして得られたフィルムは厚さが約２００μｍであった。
【００６５】
電気活性溶液を、０．１７ｇのフェロセン、０．３７ｇの１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラート及び０．２８ｇのリチウムトリフレートを３０ｍｌのプロピレンカーボネート中で混合することにより調製した。この溶液を１時間攪拌した。
【００６６】
およそ２００ミクロン厚のＰＶＤＦフィルムを、ジエチルエーテル中に５分間浸漬し（ジブチルフタレートを溶解させるため）、次いで電気活性溶液中に５分間浸漬してから、Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレート上に被着させた。別のＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートを電解質含浸フィルム上に被着させ、ＰＥＴフレームを電気活性媒質の周囲のスペーサーとして使用し、そしてクリップを使用してガラスとフィルムとの良好な接触を確保した。
【００６７】
このようにして作製したエレクトロクロミックデバイスは、２２×２３ｃｍ2の面積の活性表面を有していた。その性能特性を下記の表１に示す。
【００６８】
【表１】
2012519308.tif 000002
【００６９】
〔例２（本発明による）〕エレクトロクロミックセルの作製
図１１に示したように、２０、１０及び５Ω／□の異なるＲ□の領域を有するＩＴＯ層を備えたガラスプレート、
例１の電気活性システム、
図１１に示したように、２０、１０及び５Ω／□の異なるＲ□の領域を有するＩＴＯ層を備えたガラスプレート、
図６に示した構成による各Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートの周縁部全体にわたってＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートにはんだ付けされた電流リードストリップ。
【００７０】
マグネトロンスパッタリングにより同じ基材に３回のＩＴＯの被着を行うことによって、可変表面抵抗のＩＴＯ導電性層を作製した。
【００７１】
１回目の被着の際には、ＩＴＯを基材の表面全体に被着させ、１８０ｎｍの被着厚さでＲ□を約２０Ω／□にした。
【００７２】
２回目の被着の際には、ＰＥＴマスクを使用して、直径１５ｃｍの中央の円を除いて基材を保護した。この２回目の被着中に被着した厚さは９０ｎｍであり、基材中心部で約１０Ω／□のＲ□を得ることができた。
【００７３】
３回目の被着の際には、ＰＥＴマスクを使用して、直径６ｃｍの中央の円を除いて基材を保護した。この３回目の被着中に被着した厚さは２４０ｎｍであり、基材の中心部で約５Ω／□のＲ□を得ることができた。
【００７４】
２２×２３ｃｍ2の面積の活性表面を有するエレクトロクロミックデバイスを、例１で説明したとおりに作製した。その性能特性を下記の表２に示す。
【００７５】
【表２】
2012519308.tif 000003
【００７６】
〔例３（比較例）〕エレクトロクロミックセルの作製
Ｒ□＝２０．５Ω／□のＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレート、
電気活性システム：ＰＶＤＦ＋５，１０−ジヒドロ−５，１０−ジメチルフェナジン＋１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラート＋リチウムトリフレート＋プロピレンカーボネート、
Ｒ□＝２０．５Ω／□のＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレート、
図６に示した構成による各Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートの周縁部全体にわたって当該Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートにはんだ付けされた電流リードストリップ。
【００７７】
電気活性溶液を、０．２５ｇの５，１０−ジヒドロ−５，１０−ジメチルフェナジン、０．５０ｇの１，１’−ジエチル−４，４’−ビピリジニウムジペルクロラート及び０．４７ｇのリチウムトリフレートを２０ｍｌのプロピレンカーボネート中で混合することにより調製した。その溶液を１時間攪拌した。
【００７８】
例１で説明したとおりに、２２×２３ｃｍ2の面積の活性表面を有するエレクトロクロミックデバイスを作製した。その性能特性を下記の表３に示す。
【００７９】
【表３】
2012519308.tif 000004
【００８０】
〔例４（本発明による）〕エレクトロクロミックセルの作製
例２の、２０、１０及び５Ω／□の間の異なるＲ□を有するＩＴＯ層を備えたガラスプレート、
例２の電気活性システム、
例２の、２０、１０及び５Ω／□の間の異なるＲ□を有するＩＴＯ層を備えたガラスプレート、
被覆ガラスプレートの周辺全体にはんだ付けされたシム、
図４及び図５による各Ｋ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートの周縁部全体にわたってＫ−ｇｌａｓｓ（登録商標）プレートにはんだ付けされた電流リードストリップ。
【００８１】
２２×２３ｃｍ2の面積の活性表面を有するエレクトロクロミックデバイスを、例１で説明したとおりに作製した。その性能特性を下記の表４に示す。
【００８２】
【表４】
2012519308.tif 000005
【図１】
2012519308.tif 000006
【図２】
2012519308.tif 000007
【図３】
2012519308.tif 000008
【図４】
2012519308.tif 000009
【図５】
2012519308.tif 000010
【図６】
2012519308.tif 000011
【図７】
2012519308.tif 000012
【図８】
2012519308.tif 000013
【図９】
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【図１０】
2012519308.tif 000015
【図１１】
2012519308.tif 000016
【国際調査報告】
2012519308.tif 000017
2012519308.tif 000018
2012519308.tif 000019
2012519308.tif 000020
2012519308.tif 000021
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