(57)【要約】  本発明は、圧力調節手段が備わった加圧気体供給用のコンプレッサ（１）と、処理される室内に微小滴形態の汚染除去製品を噴霧する手段（５）と、を備えた汚染除去装置に関する。本装置は、コンプレッサ（１）が、バッファ槽を備えずに、所望の作動圧力で噴霧手段（５）に直接供給し、圧力調節手段（１１）が、コンプレッサ（１）の出口（Ｓ）と噴霧手段（５）の入口（Ｅ）との間で制御された流速漏洩を含む、ことを特徴とする。
2012516743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力調節手段を介在させて加圧気体を供給するコンプレッサ（１）と、処理される室内に微小滴形態の汚染除去製品をミスト散布するのに好適な手段（５）と、を備えたタイプの汚染除去装置であって、前記コンプレッサ（１）が、バッファリザーバの介在なしで、使用される所望の圧力（Ｐｕ）をミスト散布用の前記手段に直接供給し、前記圧力調節手段（１１）が、前記コンプレッサ（１）の出口（Ｓ）と前記ミスト散布手段（５）の入口（Ｅ）との間で制御された流速漏洩により構成される、ことを特徴とする汚染除去装置。
【請求項２】
前記ミスト散布手段（５）の前記入口における前記圧力が前記所望の使用圧力（Ｐｕ）を越えた直後に作動状態となる、前記流速漏洩の制御用の手段（１１）を備えることを特徴とする、請求項１に記載の汚染除去装置。
【請求項３】
前記所望の使用圧力（Ｐｕ）が、３×１０５Ｐａのオーダーであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の汚染除去装置。
【請求項４】
前記コンプレッサ（１）が、連続作動型のものであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の汚染除去装置。
【請求項５】
前記コンプレッサ（１）が、オイルフリー潤滑型のものであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の汚染除去装置。
【請求項６】
前記圧力調節手段が、本体（１７）から形成された機械的調節弁（１１）から構成され、前記本体（１７）には入口ライン（１９）及び出口ライン（１３）が設けられて空気を解放し、そのために連結部が、推奨圧力（Ｐ）付近の圧縮値に調整されたばね（２５）により、シート（２３）上に非接触状態で適用された弁リード（２１）により制御されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の汚染除去装置。
【請求項７】
前記圧力調節手段が、前記コンプレッサ（１）の出口（Ｓ）を前記ミスト散布手段（５）の前記入口（Ｅ）に接続する主ライン（３）上の枝に配置された圧力測定手段（４０）を含み、前記圧力測定手段（４０）は、前記主ライン（３）上の枝内に装着された弁（４４）の制御に好適な電子分析及び制御手段（４２）に接続されて、前記主ライン（３）内の前記圧力が前記推奨圧力（Ｐ）を越えた際に、前記弁（４４）の開放を始動させることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の汚染除去装置。
【請求項８】
前記電子手段が、マイクロコントローラ（４２）から構成されることを特徴とする、請求項７に記載の汚染除去装置。
【請求項９】
圧力調節手段が、漏洩を生成するよう適合され、前記漏洩の流速が、前記推奨圧力（Ｐ）と前記コンプレッサ出口圧力（１）との間の圧力差が大きくなるにつれ、より速くなることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の汚染除去装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理される室内へ処理製品の微小滴を生成及び噴射して、「ドライミスト」と称されるタイプのミストを室内に形成するのに好適なタイプの、ミスト散布による汚染除去装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
汚染の原因であり、室内の空気中に浮遊する細菌因子は、その室内に収容された様々な表面及び物体上に堆積する傾向があることが知られている。また、逆に、室（例えば、手術室、クリーンルーム又は様々なケア室等）内の物体及び壁上で発達した細菌因子は、大気中に浮遊し始める傾向を有することが更に知られている。したがって、これらの室は、一方の壁及び物体と、他方の大気との間の連続した交換状態にあることが見出されている。
【０００３】
室の容積内に殺菌製品を噴霧することによって、全体的な汚染除去、即ち室内の大気と様々な壁及び物体との両方の汚染除去を確実にすることが提案されている。噴霧によるこの種の殺菌は、いくつかの欠点を有することが観察されている。
【０００４】
第１に、形成される小滴のサイズが比較的大きく（空気３〜５ｍＬ／分の流速で８０〜２００μｍのオーダー）、それにより小滴は、その噴霧位置の近辺の表面上に重力のみで沈着されるが、これは勿論、噴霧噴射器から遠方の表面が未処理のままとなる点で満足できるものではない。
【０００５】
第２に、小滴の大きいサイズにより、小滴が一緒になって室内の壁及び物体の表面上に湿った膜、更には液体のたまりを形成する傾向がある。
【０００６】
本出願人の名称による特許ＦＲ  ２  ８５９  ６５０には、２μｍ〜２０μｍのオーダーの寸法を有し、それにより室の全容積内に浮遊して見出され、かつ連続的な膜を形成する程凝集することなく、室内に収容される壁及び物品上に沈着する性質を有する微小滴を得ることを可能にする噴射装置を利用することにより、噴霧小滴の細分を改良することが提案されており、かように生成されたミストは、「ドライミスト」と称されている。
【０００７】
本発明の特に興味深い変形によれば、噴射装置は、噴射器出口の下流に配置された超音波「共振器」を備え、それにより噴射器を退出する流れが分裂に付されて、滴のある種の「回折」が形成され、これは滴を尚より小さくする効果を有し、滴の分布の均質性を更に高めることを可能にする。
【０００８】
特許出願ＦＲ  ０９．０００１３４において、本出願人はまた、室内に噴霧された小滴の更なる微小な細分を確実にすることが可能な噴射器も提案している。
【０００９】
このタイプの噴霧を実行するのに好適な汚染除去装置は、典型的には、コンプレッサ、特に油潤滑型コンプレッサから形成されるが、このコンプレッサはバッファリザーバを供給し、このバッファリザーバから圧力調節手段の介在により噴射装置が供給される。このタイプの装置は、顕著な欠点を有する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
第１に、バッファリザーバ内の加圧空気の保管は、プロセス中に空気が付される様々な温度及び圧力の変動により、凝縮物を生成する効果を有する。したがって、このタイプの装置のユーザーは、保管リザーバから凝縮物を規則的に除去し、それらを処分することを強いられる。同一の理由により、リザーバ出口における空気は、それ自体が規則的に空にされるべきパージ手段を備えるフィルターを通過する必要がある。
【００１１】
更に、加圧気体を受容することが意図されるリザーバは、ユーザーにそれらを周期的に検査するよう強いる安全基準を課されており、このことは勿論、ユーザー強制と、装置作動中の不便さとを生じることが知られている。更に、適用規格は、国際レベルで国によって非常に異なる場合があり、それによりこれらの装置を輸出する製造業者は、国によって異なる保管リザーバを設計するため、管理の複雑さが増大し、またこれらの装置に関するコストも上昇する。
【００１２】
更に、これらのバッファリザーバが存在するだけで、これらの汚染除去装置上に、その製造コストをまた上昇させる特定のコストとともに有意な容積及び重量が付与される。
【００１３】
最後に、調節手段の下流のバッファリザーバの出口において所定の圧力、特に３×１０５Ｐａのオーダーの圧力を有することを可能にするために、圧力下でリザーバ部分に供給される圧力部分は、その圧力の２〜３倍、即ち７×１０５Ｐａ〜１０×１０５Ｐａを含むが、これはエネルギー消費と反復される機械的応力との両方の源であり、保管リザーバ及びその付属物の疲労に繋がることが知られている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の目的は、前述した欠点を有さない新しいタイプの汚染除去装置を提案することにある。
【００１５】
それ故、本発明の目的は、圧力調節手段を介在させて加圧気体を供給するコンプレッサと、処理される室内に微小滴形態の汚染除去製品をミスト散布するのに好適な手段と、を備えたタイプの汚染除去装置であって、コンプレッサが、バッファリザーバの介在なしで、使用される所望の圧力をミスト散布用の手段に直接供給し、圧力調節手段が、コンプレッサの出口とミスト散布手段の入口との間で制御された流速漏洩により構成される、ことを特徴とする汚染除去装置である。
【００１６】
本発明による装置は、流速漏洩制御用の手段を含み、前記手段は、ミスト散布手段の入口における圧力が所望の使用圧力を超えた直後に作動状態となり、コンプレッサは連続作動型のものであることが好ましいであろう。
【００１７】
加えて、環境汚染を最小限にするために、コンプレッサは、オイルフリー潤滑型であろう。
【００１８】
本発明の一実施形態において、圧力調節手段は本体から形成された機械的調節弁から構成されてもよく、前記本体には入口ライン及び出口ラインが設けられて空気を解放し、そのために連結部が、推奨圧力付近の圧縮値に調整されたばねにより、シート上に非接触状態で適用された弁リードにより制御される。
【００１９】
圧力調節手段はまた電子型であってもよく、コンプレッサをミスト散布手段に接続する主ライン上の枝に配置された圧力測定手段を含み、前記圧力測定手段は、電子分析及び制御手段、特に適切なプログラムにより駆動されるマイクロコントローラに接続されるであろう。このマイクロコントローラは、主ライン上の枝に装着された弁の制御、特に電子制御を提供して、内部の圧力が推奨圧力を超えた際に、弁を開放するよう指令するであろう。
【００２０】
好ましくは、圧力調節手段は、推奨圧力とコンプレッサ出口圧力との間の圧力差がより大きくなった際に、より速い流速の漏洩を生成するよう適合される。
【００２１】
本発明による汚染除去装置では、コンプレッサからの出口圧力は、公称値３×１０５Ｐａと等しくてもよい。このより低い圧力は、装置に顕著な利点、特に相当なエネルギー節約と、コンプレッサ寿命の最適化とを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
非限定的な例として、以下に本発明の実施形態を添付の図面を参照して説明する。
【図１】先行技術による汚染除去装置の概略図。
【図２】本発明による汚染除去装置の概略図。
【図３】本発明による汚染除去装置内で実施される機械的な圧力調節弁の一例の概略断面図。
【図４】本発明による汚染除去装置内で圧力調節漏洩を形成するのに好適な装置の変形物の概略図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１は、噴射器５’の手段により、微小滴形態の汚染除去製品を、処理される室の容積内にミスト散布で噴霧することが意図される、先行技術に一致するタイプの汚染除去装置を示す。
【００２４】
この装置は、非連続作動型の、即ち断続的に作動するよう設計されたコンプレッサ１’を備える。このコンプレッサは、プレッソスタット型（pressostat-type）の制御装置６を介在させてライン３’を介してバッファリザーバ４を供給するが、前記制御装置６は、リザーバ４に空気を充填し、圧力が最大レベル、例えば１０×１０５Ｐａに到達したら充填を停止し、圧力が最小閾値、例えば７×１０５Ｐａ未満に低下したらコンプレッサ１’を再開させる。リザーバ４内の空気が付される圧力及び温度の変動は、凝縮物の形成に繋がるが、前記凝縮物は、リザーバ４上に設けられたドレイン栓手段８により排除されることが理解される。
【００２５】
その出口に濾過手段１０が設けられるが、この濾過手段もまたパージ１２を含んで濃縮物を収集することを可能にする。
【００２６】
図２は、本発明による汚染除去装置を概略的に示す。この装置は、連続作動に好適なタイプのコンプレッサ１を備え、装置の出口Ｓはライン３により噴射器５に接続され、噴射器５は、保管カートリッジ９内に収容された処理液の、ベンチュリ効果による吸引手段７を含む。本発明によれば、コンプレッサ１の出口のミスト散布用の圧力調節手段は、枝１５上の機械的調節弁１１から構成され、枝１５はライン３上に栓結合され、弁出口１３は大気と接続されている。
【００２７】
機械的調節弁１１の実施例を、図３に概略形態で示す。機械的調節弁１１は、空気入口ライン１９用に中空にされた本体１７と、大気と接続されている出口１３とから構成されるが、前記空気入口ライン１９は、弁リードシート２３上に閉鎖状態で配置された弁リード２１により圧縮ばね２５の作用下で停止される。この目的のために、ばね２５は、その一方の端部において弁リード２１上に据わり、他方の端部において鐘形状を有する調整ナット２９の底部上に据わるが、調整ナット２９は、本体１７上のねじ３１上にねじ留めされる。
【００２８】
ナット２９を多少回転させることにより、ばね２５が多少圧縮されて、弁リード２１がより大きい又は小さい力で弁リードシート２３上に押されることが理解される。
【００２９】
機械的調節弁１１の入口１９はパイプ３によりコンプレッサ１の出口Ｓに接続され、また噴射器５の入口Ｅにも接続されている。ばね２５の硬さは、ナット手段２９によるその圧縮の調整後、吸気圧が、噴射器入口の圧力に所望される使用のための圧力値Ｐｕ、即ち推奨圧力を超えたら、ばね２５の押付力に対抗する入射空気の圧力により弁リード２１が押し戻されるよう選択されるが、圧力値は、詳細には、本発明の実現形態の本実施例では３×１０５Ｐａである。次いで、許容された空気は外部に向かって出口１３により退出し、これにより漏洩が形成されるが、この漏洩は圧力がその公称値Ｐに低下するまで継続し、次いで弁リード２１がシート２３との接触状態に戻る。
【００３０】
このように、本装置は、噴射器５内に許容された空気の圧力を調節することを可能にし、また保管リザーバを利用しないでそれを行うが、保管リザーバは、そのコスト以外にも更に嵩及び重量の問題が、以前取り上げた先行技術の汚染除去装置の様々な困難及び混乱の元である。
【００３１】
勿論、本発明によれば、調節に必要な制御漏洩は、任意の他の手段、特に電子手段を利用することにより形成することもできる。
【００３２】
したがって、図４に示されるように、コンプレッサ１の出口Ｓを噴射器５の入口Ｅに接続するライン３上の枝に圧力センサ４０を配置してもよく、センサは例えばマイクロコントローラ４２等の電子制御手段に接続され、マイクロコントローラ４２は電子弁４４により連結（interface）され、電子弁４４の開放は、全てか無かではなく、マイクロコントローラ４２により送信される制御シグナルの関数として漸進的に調整可能であろう。
【００３３】
これらの条件下で、マイクロコントローラ４２は、ライン３内に存在する実際の圧力値を推奨圧力値Ｐと連続的に比較するようプログラミングされるであろう。ライン３内の圧力がこの設定圧力値を超えた直後、マイクロコントローラ４２が弁４４を開放するよう命令し、この開放は、圧力差の大きさが増大した際により大きくなるであろう。
【００３４】
〔実施の態様〕
（１）  圧力調節手段を介在させて加圧気体を供給するコンプレッサ（１）と、処理される室内に微小滴形態の汚染除去製品をミスト散布するのに好適な手段（５）と、を備えたタイプの汚染除去装置であって、前記コンプレッサ（１）が、バッファリザーバの介在なしで、使用される所望の圧力（Ｐｕ）をミスト散布用の前記手段に直接供給し、前記圧力調節手段（１１）が、前記コンプレッサ（１）の出口（Ｓ）と前記ミスト散布手段（５）の入口（Ｅ）との間で制御された流速漏洩により構成される、ことを特徴とする汚染除去装置。
（２）  前記ミスト散布手段（５）の前記入口における前記圧力が前記所望の使用圧力（Ｐｕ）を越えた直後に作動状態となる、前記流速漏洩の制御用の手段（１１）を備えることを特徴とする、実施態様１に記載の汚染除去装置。
（３）  前記所望の使用圧力（Ｐｕ）が、３×１０５Ｐａのオーダーであることを特徴とする、実施態様１又は２に記載の汚染除去装置。
（４）  前記コンプレッサ（１）が、連続作動型のものであることを特徴とする、実施態様１〜３のいずれかに記載の汚染除去装置。
（５）  前記コンプレッサ（１）が、オイルフリー潤滑型のものであることを特徴とする、実施態様１〜４のいずれかに記載の汚染除去装置。
（６）  前記圧力調節手段が、本体（１７）から形成された機械的調節弁（１１）から構成され、前記本体（１７）には入口ライン（１９）及び出口ライン（１３）が設けられて空気を解放し、そのために連結部が、推奨圧力（Ｐ）付近の圧縮値に調整されたばね（２５）により、シート（２３）上に非接触状態で適用された弁リード（２１）により制御されることを特徴とする、実施態様１〜５のいずれかに記載の汚染除去装置。
（７）  前記圧力調節手段が、前記コンプレッサ（１）の出口（Ｓ）を前記ミスト散布手段（５）の前記入口（Ｅ）に接続する主ライン（３）上の枝に配置された圧力測定手段（４０）を含み、前記圧力測定手段（４０）は、前記主ライン（３）上の枝内に装着された弁（４４）の制御に好適な電子分析及び制御手段（４２）に接続されて、前記主ライン（３）内の前記圧力が前記推奨圧力（Ｐ）を越えた際に、前記弁（４４）の開放を始動させることを特徴とする、実施態様１〜５のいずれかに記載の汚染除去装置。
（８）  前記電子手段が、マイクロコントローラ（４２）から構成されることを特徴とする、実施態様７に記載の汚染除去装置。
（９）  圧力調節手段が、漏洩を生成するよう適合され、前記漏洩の流速が、前記推奨圧力（Ｐ）と前記コンプレッサ出口圧力（１）との間の圧力差が大きくなるにつれ、より速くなることを特徴とする、実施態様１〜８のいずれかに記載の汚染除去装置。
【図１】
2012516743.tif 000003
【図２】
2012516743.tif 000004
【図３】
2012516743.tif 000005
【図４】
2012516743.tif 000006
【国際調査報告】
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2012516743.tif 000008
2012516743.tif 000009
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