(57)【要約】  本発明は、（ａ）一酸化炭素及び塩素を供給する工程、（ｂ）一酸化炭素を塩素と反応させてホスゲンを生成させる工程、（ｃ）工程（ｂ）で生じたホスゲンを、モノ−及びポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを除く少なくとも１種の第１級アミンと、ホスゲン過剰量で反応させて、少なくとも１種のイソシアネート含有反応溶液及び塩化水素を生成させる工程、（ｄ）前記イソシアネート含有反応溶液から余剰のホスゲンを分離する工程、（ｅ）少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを供給する工程、及び（ｆ）工程（ｄ）で分離されたホスゲンの少なくとも一部を、前記少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンと反応させて、ポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を生成させる工程、を含む明色ポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）の製造方法に関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）一酸化炭素及び塩素を供給する工程、
（ｂ）一酸化炭素を塩素と反応させてホスゲンを生成させる工程、
（ｃ）工程（ｂ）で生じたホスゲンを、モノ−及びポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを除く少なくとも１種の第１級アミンと、ホスゲン過剰量で反応させて、少なくとも１種のイソシアネート含有反応溶液及び塩化水素を生成させる工程、
（ｄ）前記イソシアネート含有反応溶液から余剰のホスゲンを分離する工程、
（ｅ）少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを供給する工程、及び
（ｆ）工程（ｄ）で分離されたホスゲンの少なくとも一部を、前記少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンと反応させて、ポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を生成させる工程、
を含むポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）の製造方法。
【請求項２】
工程（ｃ）で反応させる少なくとも１種の第１級アミンが、１，３−プロピレンジアミン、１，４−ブチレンジアミン、１，５−ペンタメチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン及びこれらの対応する高級同族体、イソホロンジアミン（ＩＰＤＡ）、シクロヘキシレンジアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、１，５−ナフチレンジアミン、２，４−及び２，６−トルエンジアミンからなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｄ）における余剰のホスゲンの分離が、ホスゲンの液化、ホスゲンの凝縮、ホスゲンの精留、ホスゲンの蒸留、ホスゲンの溶媒による洗浄及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種の処理を含む請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
工程（ｃ）における反応を溶媒中で行う請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
工程（ｆ）における反応を溶媒中で行う請求項１〜４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
工程（ｃ）及び（ｆ）において同じ溶媒を使用する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記溶媒が、ｏ−ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、テトラリン、デカリン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン又はデカン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びジフェニルエーテル並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される請求項４〜６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
工程（ｃ）及び／又は（ｆ）における反応を大気圧を超える圧力下又は大気圧下で行う請求項１〜７の何れか１項に記載の方法。
【請求項９】
工程（ｃ）におけるホスゲンの過剰量が化学量論量の少なくとも１００％である請求項１〜８の何れか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はジフェニルメタンジイソシアネート及びポリイソシアネート類（ＭＤＩ）の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
イソシアネート及びイソシアネート混合物は対応するアミンのホスゲン化により既知の方法で製造される。ポリウレタンフォームには、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート類（ＭＤＩ）の２官能性又は多官能性芳香族イソシアネートが使用される。この製造方法によっては、ホスゲン化及びこれに続く後処理（ＨＣｌ、ホスゲン、溶媒及びＭＤＩモノマーの除去）の後、黒く色の付いた生成物が得られるのが通常であり、その後これにより黄色がかったポリウレタンフォームやその他同様に変色したポリウレタン材料となる。このような変色は全体の視覚的印象を損ない、得られるフォームに縞のような僅かな不均質性を引き起こすので望ましくない。そのため、明色のイソシアネート又は着色成分が低減された量で含むイソシアネートが原料として好ましい。
【０００３】
また、臭素及びヨウ素が存在すると副生成物の形成が原因で収率が低下する。副生成物を除去することにより分離処理に必要となる費用が増大する。また、価値ある生成物が副生成物を除去する過程で損失する。
【０００４】
特許文献１（ＷＯ０１／００５６９）では、たとえ含まれていたとしても着色成分を少量しか含まないイソシアネートの製造方法が開示されており、これにより、更なる事前処理及び後処理工程をせずに、無色の又は僅かにしか着色していないポリウレタンを製造するのに好適な明色イソシアネートが得られる。この方法では、５０ｐｐｍ未満の臭素若しくは臭素含有化合物又はヨウ素若しくはヨウ素含有化合物を含むホスゲンがイソシアネートの製造に使用される。
【０００５】
塩素は岩塩、海塩又は採掘した塩化カリウムから工業的に製造されるのが通常である。この場合、塩素は通常、岩塩溶液の電気分解によって副生成物としてナトリウム又は水酸化ナトリウムと共に生成する。塩化カリウムは同様にカリウム又は水酸化カリウムを伴う塩素の製造に使用される。電気分解において使用される塩は通常、臭素、ヨウ素及びアンモニア化合物を３０〜３０００ｐｐｍの量で含み、これらは電気分解中に臭素、ヨウ素及びＮＣｌ３を生成させる。
【０００６】
上記所望とされる方法の欠点は、ホスゲンの合成に使用される塩素中の臭素及びヨウ素の含量を、イソシアネートの製造に使用されるべき得られるホスゲンが、臭素、ヨウ素、臭素含有又はヨウ素含有化合物の含有量が必要とされる低い程度にまで減少させるために必要な高費用の精製である。
【０００７】
特許文献２（ＥＰ−Ａ０８７６３３５）には、ホスゲン及びアミンからイソシアネートを製造する方法であって、イソシアネートの製造で得られる塩化水素を電解で酸化して塩素を生成する製造方法が開示されている。得られる塩素はホスゲンの合成に再利用される。しかしながら、塩化水素の電気分解は電気コストの増大に繋がる。また、この方法では水素が副生成物として生成し、安全性の問題が生じ得る。上記文献では、電解により生成する水素は、対応するニトロ化合物からのアミンの製造に使用される。しかしながら、仮にイソシアネートの製造が、対応するニトロ化合物からのアミンの製造に戻し統合（back-integrated）されない場合にはこの利点はなくなる。いかなる場合においても、塩化水素の電気分解で生成する水素はニトロ化合物の還元には不十分である。更なる欠点は、微量の有機化合物、例えばイソシアネートの製造で生じる溶媒残留物が、影響を受けやすい塩化水素の電気分解を阻害するので、使用する塩化水素は非常に純粋なものでなければならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＷＯ０１／００５６９
【特許文献２】ＥＰ−Ａ０８７６３３５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、ジフェニルメタン類の明色ポリイソシアネート（ＭＤＩ）を製造する方法であって、得られるポリイソシアネートの色を明るくするための更なる事前処理又は後処理工程を行わずに機能し、且つ使用される原料を精製する必要性が最小限とされた方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的は、明色ポリフェニレン−ポリメチレン−ポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を製造する方法であって、
（ａ）一酸化炭素及び塩素を供給する工程、
（ｂ）一酸化炭素を塩素と反応させてホスゲンを生成させる工程、
（ｃ）工程（ｂ）で生じたホスゲンを、モノ−及びポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを除く少なくとも１種の第１級アミンと、ホスゲン過剰量で反応させて、少なくとも１種のイソシアネート含有反応溶液及び塩化水素を生成させる工程、
（ｄ）前記イソシアネート含有反応溶液から余剰のホスゲンを分離する工程、
（ｅ）少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを供給する工程、及び
（ｆ）工程（ｄ）で分離されたホスゲンの少なくとも一部を、前記少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンと反応させて、ポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を生成させる工程、
を含むポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）の製造方法により達成される。
【発明の効果】
【００１１】
ＰＭＤＩの合成において最初のイソシアネートの合成における余剰のホスゲンの少なくとも一部を反応させることに重要な利点があることを本発明者らは見出した。本発明の方法によれば、無色又は僅にしか着色していないポリウレタンやその前駆体等のウレタン化合物を製造するために使用することのできるＰＭＤＩイソシアネートとなる。ＰＭＤＩの合成において先の段階のイソシアネート合成から分離された余剰のホスゲンを使用することにより、明色のＰＭＤＩイソシアネートを得ることができることは今まで認識されていなかったので、本発明により得られる結果は特に驚くべきものである。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の方法の実施例を図式的に説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
イソシアネートの製造に使用されるホスゲンは通常、一定含有量の分子の若しくは結合した臭素若しくはヨウ素又はこれらの混合物を有している。ホスゲン中に臭素若しくはヨウ素又はこれらの混合物が含まれることはホスゲンの製造に使用される塩素に由来するものであり、その理由は、塩素は通常、一定割合の臭素若しくはヨウ素又はその両方を含んでいるからである。塩素中に臭素若しくはヨウ素又はその両方が含まれることは通常塩素の製造に使用される塩中に付随して含まれることに由来するものである。塩素中に存在する臭素又はＢｒＣｌにより、ホスゲンの合成においてジブロモホスゲン又はブロモクロロホスゲンが形成する。これらの化合物は、ホスゲンと類似して、アミンと反応してイソシアネート及び臭化水素を形成すると言われている（米国特許番号２７３３２５４）。類似する反応がヨウ素についても想定され得る。
【００１４】
本発明の方法の工程（ｄ）で分離されたホスゲンは、５０ｐｐｍ未満、特に１０ｐｐｍ未満の非常に低い含有量の臭素若しくはヨウ素又はこれらの混合物を有している。
【００１５】
工程（ａ）において、ある量の一酸化炭素及び塩素を供給する。この最初の量の塩素は、一定含有量のフリーの及び結合した臭素及びヨウ素を有し得る。臭素及びヨウ素は塩素中に、Ｂｒ２又はＩ２として分子の（フリーの）形態で、又は例えばＢｒＣｌ及びＩＣｌとして結合形態でも存在し得る。臭素及びヨウ素を含有する適当な塩素の製造方法は当業者に知られている。本発明においては、原理的には、臭素及びヨウ素の含有量が約２０００ｐｐｍ未満であるいかなる塩素も使用することができる。そのため、例えば、電気分解法又は塩化水素の酸化（例えばディーコン法）により製造された塩素を使用することができる。
【００１６】
本発明の実施の形態によれば、塩素は塩素イオンを含む溶液の電気分解によって製造される。一般に、これは岩塩水溶液、塩化カリウム水溶液又は水性塩化水素（塩酸）である。そのため、塩素の合成は、それ自体が少量の臭素又はヨウ素含有量を有する適切な出発材料（例えば、低臭素及び低ヨウ素塩、低臭素及び低ヨウ素塩酸）を用いて行うことができる。このような、臭素及びヨウ素の総含有量が＜４００ｐｐｍである低臭素及び低ヨウ素塩は、例えばドイツのハイルブロンで採掘される。
【００１７】
特に低い臭素含有量を有する塩素の製造は、ＵＳ−Ａ３６６０２６１に記載のように、電気分解に使用される塩の酸化処理により行うこともできる。
【００１８】
本発明の好ましい実施の形態によれば、本発明の方法の工程（ａ）において供給される塩素は１０００ｐｐｍ未満、好ましくは５００ｐｐｍ未満の臭素及びヨウ素を含んでいる。
【００１９】
工程（ｂ）では塩素を一酸化炭素と反応させてホスゲンを形成する。ホスゲンの製造方法は、例えば、Ullmanns Enzyklopadie der industriellen Chemie 第３版、１３巻、Ｐ４９４〜５００に記載されている。従って、ホスゲンは活性炭に一酸化炭素及び塩素を流通させることにより得ることができる。本発明のある特別な好ましい実施の形態では、工程（ｂ）で一酸化炭素を塩素と反応させてホスゲンを形成することは、固定床反応器において、触媒として活性炭を使用して、僅かにモル過剰量のＣＯ（化学量論的に約０．５〜１５ｍｏｌ％）を用いて、２０〜６００℃の温度において、約１〜２０バールの圧力において行う。圧力下での稼働により反応容器のサイズを小さくすることができる。
【００２０】
工程（ｃ）では、工程（ｂ）で生じた余剰のホスゲンを、モノ及びポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを除く少なくとも１種の第１級アミンと反応させて、対応するイソシアネート及び塩化水素を形成する。この反応はアミンのホスゲン化とも称される。工程（ｃ）で使用されるアミンは、少なくとも１個の１級アミノ基、好ましくは２個の１級アミノ基、及び場合により３個以上の１級アミノ基を有し、モノ及びポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンとは異なるものである。
【００２１】
工程（ｃ）のイソシアネートの製造は、１種のアミン又は２種以上のアミンの混合物を過剰量の（化学量論量を超える量を意味する。）ホスゲンと反応させることにより、当業者に知られている手法で行う。原理的には、１個以上の１級アミノ基を有する１種の第１級アミン又は２種以上の第１級アミンの混合物をホスゲンと反応させて、１個以上のイソシアネート基を有する１種以上のイソシアネートを形成する全ての方法を採用することができる。
【００２２】
本発明の好ましい実施の形態では、工程（ｃ）における１種のアミン又は複数のアミンのホスゲン化は１種の溶媒又は溶媒混合物中で行う。溶媒としては、イソシアネートの製造に好適な全ての溶媒を使用することができる。これらは好ましくは、不活性の芳香族、脂肪族又は脂環式炭化水素又はそのハロゲン化誘導体である。このような溶媒の例は、モノクロロベンゼンやジクロロベンゼン等の芳香族化合物、例えばｏ−ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、テトラリンやデカリン等のナフタレン誘導体、約５〜約１２個の炭素原子を有するアルカン、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン又はデカン、シクロヘキサン等のシクロアルカン、実際上不活性であるエステル及びエーテル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジフェニルエーテルである。
【００２３】
工程（ｃ）で使用される好適なアミンは原理的には、適切な手法でホスゲンと反応してイソシアネートを形成することができる全ての第１級アミンであるが、モノ及びポリフェニレン−ポリメチレンアミンは除外される。工程（ｃ）で反応させるこのアミンは、ホスゲンと反応してイソシアネートを得ることができる直鎖状若しくは分岐状の飽和若しくは不飽和の脂肪族、脂環式又は芳香族の第１級モノアミンであってよい。
【００２４】
有用なアミンの例は、１，３−プロピレンジアミン、１，４−ブチレンジアミン、１，５−ペンタメチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン及びこれらの群における対応する高級同族体、イソホロンジアミン（ＩＰＤＡ）、シクロヘキシレンジアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、１，５−ナフチレンジアミン、２，４−若しくは２，６−トルエンジアミン又はこれらの混合物である。
【００２５】
ホスゲンと上記アミンとの反応（ｃ）は、連続的に又は１段階以上でのバッチ式で行うことができる。反応は通常約４０〜２００℃の温度で行う。
【００２６】
工程（ｄ）では、ＨＣｌ及び余剰のホスゲンを、工程（ｃ）で得られたイソシアネート含有反応溶液から分離する。
【００２７】
工程（ｃ）におけるホスゲンの過剰量は使用するアミンに依存する。通常、ホスゲンの過剰量は、化学量論量の少なくとも１００％、好ましくは化学量論量の少なくとも１５００％であるべきである。余剰のホスゲンは、ホスゲンの液化又は凝縮、溶媒（例えばモノクロロベンゼンやオルトクロロベンゼン等）を用いるホスゲンの蒸留又は精留及び／又は洗浄から選択される少なくとも１種の処理によりイソシアネート含有反応溶液から分離することができる。凝縮又は蒸留によりホスゲンを分離することが好ましい。余剰ホスゲンは５０〜１８０℃の温度で除去することができる。
【００２８】
本発明によれば、工程（ｄ）において分離される余剰のホスゲンを更なるホスゲン化反応に戻し／供給し、そして、工程（ｄ）で分離されたホスゲンの少なくとも一部を、反応工程（ｆ）において少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンと反応させて、対応するポリフェニレンポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を形成する。このため、少なくとも１種のポリフェニレン−ポリメチレンポリアミンを工程（ｅ）で供給する。
【００２９】
工程（ｄ）で分離されたホスゲンは、イソシアネートの合成である工程（ｃ）を既に経ているので、このホスゲンはあらゆる場合において、工程（ｂ）において生成するホスゲンよりも極めて低い含有量の臭素及びヨウ素を有するであろう。
【００３０】
本発明の方法の工程（ｄ）で分離される余剰のホスゲンは、残留臭素及びヨウ素を実質的に含まないホスゲンであり、通常１００ｐｐｍ未満である。そのため、本方法の工程（ｃ）で得られるイソシアネートは比較的高含有量の臭素及びヨウ素で「不純」とされているが、その一方で、後の工程（ｆ）で製造されるイソシアネート、すなわちポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）は、極めて低含有の臭素及びヨウ素を含むホスゲンとしか接触していないものである。したがって、本発明は、工程（ｆ）で得られるＰＭＤＩ−ポリイソシアネートの色を明るくするための更なる事前処理又は後処理工程を行わずに明色ポリフェニレン−ポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を製造する効果的な方法を提供する。
【００３１】
工程（ｅ）では、少なくとも１種の第１級ジフェニルメタンジアミン（ＭＤＡ）又はそのオリゴマー若しくはポリマー誘導体、即ち、ジフェニルメタンジアミン類のアミンを供給する。ジフェニルメタンジアミン、そのオリゴマー又はポリマーは、例えば、アニリンとホルムアルデヒドとの縮合により得られる。このようなオリゴアミン若しくはポリアミン又はこれらの混合物はまた、本発明の好ましい実施の形態において工程（ｅ）において供給される。
【００３２】
低臭素及び低ヨウ素ホスゲンと上記ジフェニルメタンジアミン（ＭＤＡ）との反応（ｆ）は、連続的に又は１段階以上でのバッチ式で行うことができる。単段階反応を行う場合、これは、約４０〜２００℃、例えば約７０〜１８０℃の温度で行うことが好ましい。
【００３３】
本発明の更なる実施の形態では、大気圧を超える圧力、通常は多くても１００バール又はそれ未満、好ましくは１バール〜約５０バール、特に好ましくは２バール〜２５バールが工程（ｆ）の際に適用され得る。本発明の更なる実施の形態では約１バール（周囲環境圧）で行う。更なる実施の形態では周囲環境よりも低い圧力を採用する。
【００３４】
次の工程（ｇ）において、形成されたポリフェニレンポリメチレンポリイソシアネート（ＰＭＤＩ）を反応混合物から分離し、必要により精製する。
【００３５】
本発明の方法の工程（ｆ）におけるＰＭＤＩイソシアネートの製造は、工程（ｅ）において供給された少なくとも１種のアミンと（化学量論量を超える）量のホスゲンとを反応させることにより、当業者に知られている方法で行う。原理的には、１種の第１級アミン又は２種以上の第１級アミンの混合物をホスゲンと反応させて、ＰＭＤＩ群の１種以上のイソシアネートを形成する全ての方法を採用することができる。
【００３６】
本発明の好ましい実施の形態では、工程（ｆ）におけるホスゲンとアミンとの反応は１種の溶媒又は溶媒混合物中で行う。溶媒としては、イソシアネートの製造に好適な上記全ての溶媒を使用することができる。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明の方法を実施例により図面を参照してより詳細に説明する。
【００３８】
図１では本発明の方法の実施例を図式的に説明している。
【００３９】
図１において、塩素流１及び一酸化炭素流３をホスゲン合成ステージ５に供給し、ここで反応させてホスゲンを生成させる（一酸化炭素は過剰量で使用することが好ましい）。得られるホスゲン流６は使用された塩素中に存在する分の臭素及びヨウ素も含んでいる。これらは分子形態と化学的に結合した形態（ブロモホスゲンとして）の両方で存在し得る。この流れ６、溶媒及びポリフェニレン−ポリメチレン−ポリアミンを除くアミンを含む流れ７、並びに適宜ホスゲン再循環流１０ａをホスゲン化ステージ９に供給し、ここで、アミンとホスゲンとの反応が行われ、イソシアネート及び塩化水素が生成する。ホスゲン化ステージ９は、例えば、撹拌容器、撹拌容器のカスケード、反応塔又は上流混合装置を有する管型反応器、あるいはこれら装置の組み合わせとして構成することができる。ホスゲン化は、冷ホスゲン化（cold phosgenation）とこれに次ぐ熱ホスゲン化（hot phosgenation）の２段階で行うことができる。これにより、溶媒、イソシアネート及び副生成物（例えば尿素、オリゴマー）を含む生成物流１１が得られる（溶媒は次の分離段階において、好ましくは蒸留により分離される）。ホスゲン化反応で形成した塩化水素及び余剰のホスゲンは、溶媒残留物、低沸点副生成物、一酸化炭素、二酸化炭素及び不活性ガス（例えば窒素、アルゴン）を更に含み得るガス流１２としてホスゲン化ステージ９から出る。ホスゲン及び溶媒残留物は、分離ステージ１５において、好ましくは蒸留によってこのガス流１２から分離され、そして、ホスゲン化ステージ９に供給される流れ１０ａと次のホスゲン化ステージ１９に供給される流れ１０ｂとに分けられる再循環流１３として再循環する。塩化水素流１７は、微量の溶媒、ホスゲン又は不活性物を依然として含み得る分離ステージ１５から出る。実質的にホスゲンからなり且つ臭素又はヨウ素の含有量が５０ｐｐｍ未満、特に１０ｐｐｍ未満と極めて低い再循環流１３の少なくとも一部１０ｂと、溶媒及びポリフェニレン−ポリメチレン−ポリアミン類の少なくとも１種のアミンを含む流れ２１が、ホスゲン化ステージ１９に供給され、ここでポリフェニレン−ポリメチレン−ポリアミンとホスゲンとの反応による明色ポリフェニレン−ポリメチレン−ポリイソシアネート及び塩化水素の形成が行われる。ホスゲン化ステージ１９は、例えば、撹拌容器、撹拌容器のカスケード、反応塔又は上流混合装置を有する管型反応器、あるいはこれら装置の組み合わせとして構成することができる。ホスゲン化は、冷ホスゲン化とこれに次ぐ熱ホスゲン化の２段階で行うことができる。これにより、溶媒、ＰＭＤＩイソシアネート及び副生成物（例えば尿素、オリゴマー）を含む液体生成物流２３が得られる（この溶媒は次の分離段階において、好ましくは蒸留により分離される）。ホスゲン化反応において形成した塩化水素及び余剰のホスゲンは、溶媒残留物、低沸点副生成物、一酸化炭素、二酸化炭素及び不活性ガス（例えば窒素、アルゴン）を更に含み得るガス流２９としてホスゲン化ステージ１９を出る。ホスゲン及び溶媒残留物は、分離ステージ２５において、好ましくは蒸留によってこれから分離され、そして、再循環流１３ａとしてホスゲン化ステージ９及び／又は１９に再循環する。塩化水素流３１は更に微量の溶媒、ホスゲン及び不活性物を依然として含み得る分離ステージ２５から出る。
【図１】
2012532909.tif 000003
【国際調査報告】
2012532909.tif 000004
2012532909.tif 000005