(57)【要約】光学的に純粋又は光学的に非常に富化された、式（１）［ここで、Ｒ０は、Ｃ１−Ｃ１２−アルキル（非置換であるか、又は１〜２個のＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）；シクロペンチル又はシクロヘキシル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）；あるいはベンジル、フェニル又はナフチル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ、Ｆ又はＣｌで置換されている）であるか、あるいは、Ｒ０は、−ＣＲ５Ｒ６ＯＨ又は−ＣＲ５Ｒ６ＯＳｉ（Ｃ１−Ｃ８−アルキル）３（ここで、Ｒ５及びＲ６は、Ｈ、非置換Ｃ１−Ｃ１２アルキル、置換Ｃ１−Ｃ１２アルキル、非置換Ｃ４−Ｃ８シクロアルキル、置換Ｃ４−Ｃ８シクロアルキル、非置換アリール、置換アリールからなる群より独立して選択されるか、又はＲ５及びＲ６は、非置換５〜６員脂肪族炭素環又は置換５〜６員脂肪族炭素環を形成することができる）であり、各々Ｒ１及びＲ’１は、独立して、水素であるか、又はＲ０の意味を有し、Ｒ１、Ｒ’１及びＲ０は、同じであるか異なっていることができ、Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｃ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基であり、そして各々両方のＲ４は、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、メチルフェニル、メチルベンジル又はベンジルであるか、あるいは両方のＲ４は一緒になって脂肪族Ｃ４−Ｃ６炭素環を形成する］のキラルな化合物。これらの配位子の金属錯体は、不斉付加反応、特に水素化のための、均一系触媒である。
2012513445.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的に純粋又は光学的に非常に富化された、式（１）：
【化３９】
2012513445.tif 000046
［式中、
Ｒ０は、Ｃ１−Ｃ１２−アルキル（非置換であるか、又は１〜２個のＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）；シクロペンチル又はシクロヘキシル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）；あるいはベンジル、フェニルもしくはナフチル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ、Ｆ又はＣｌで置換されている）であるか、
あるいは、Ｒ０は、−ＣＲ５Ｒ６ＯＨ又は−ＣＲ５Ｒ６ＯＳｉ（Ｃ１−Ｃ８−アルキル）３（ここで、Ｒ５及びＲ６は、Ｈ、非置換Ｃ１−Ｃ１２アルキル、置換Ｃ１−Ｃ１２アルキル、非置換Ｃ４−Ｃ８シクロアルキル、置換Ｃ４−Ｃ８シクロアルキル、非置換アリール、置換アリールからなる群より独立して選択されるか、又はＲ５及びＲ６は、非置換５〜６員脂肪族炭素環又は置換５〜６員脂肪族炭素環を形成することができる）であり、
各々Ｒ１及びＲ’１は、独立して、水素であるか、又はＲ０の意味を有し、Ｒ１、Ｒ’１及びＲ０は、同じであるか異なっていることができ、
Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｃ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基であり、
各々両方のＲ４は、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、メチルフェニル、メチルベンジル又はベンジルであるか、あるいは両方のＲ４は一緒になって脂肪族Ｃ４−Ｃ６炭素環を形成する］
で示されるキラルな化合物。
【請求項２】
Ｃ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基としてのＲ２及び／又はＲ３が、直鎖又は分枝鎖Ｃ１−Ｃ１８−アルキル；非置換あるいはＣ１−Ｃ６−アルキル−又はＣ１−Ｃ６−アルコキシで置換されたＣ５−Ｃ１２−シクロアルキルもしくはＣ５−Ｃ１２−シクロアルキル−ＣＨ２−；フェニル、ナフチル、フリル又はベンジル；あるいはフェニル、ナフチル、フリル又はベンジル（ハロゲン−、Ｃ１−Ｃ６−アルキル−、トリフルオロメチル−、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−、トリフルオロメトキシ−、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ、（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉもしくは第二級アミノ−で置換されている）からなる群より選択される、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ２及びＲ３が、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、非置換シクロペンチルもしくはシクロヘキシル、又はシクロペンチルもしくはシクロヘキシル（１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）、ベンジル及び特にフェニル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ、Ｆ及びＣｌで置換されている）の群より選択される、同一のＣ−結合炭化水素基である、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
−ＰＲ２Ｒ３が、以下の式：
【化４０】
2012513445.tif 000047
［式中、これらは、非置換であるか、あるいはＣ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−もしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−もしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−もしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシベンジルオキシ又はＣ１−Ｃ４−アルキリデンジオキシでモノ−又は多置換されている］の１つで示される環状ホスフィン基である、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
−ＰＲ２Ｒ３が、−Ｐ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７−Ｃ８−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２及び−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群より選択される非環状第二級ホスフィン基である、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
−ＰＲ２Ｒ３が、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｔ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ５Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）２Ｃ６Ｈ３］２及び−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２より選択される、請求項５記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ４が、メチル又はフェニルである、請求項１〜６のいずれか記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ０が、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル又はベンジルである、請求項１〜７のいずれか記載の化合物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか記載のキラルな化合物を調製するための方法であって、以下の工程：
（ａ）式（２）：
【化４１】
2012513445.tif 000048
［式中、Ｒ４は、請求項１で定義されたとおりである］で示される酸クロリドを、式（３）：
【化４２】
2012513445.tif 000049
［式中、Ｒ１、Ｒ’１及びＲ０は、請求項１で定義されたとおりである］で示されるキラルなアミノアルコールと反応させ、式（４）：
【化４３】
2012513445.tif 000050
で示されるキラルなアミドを形成する工程、
（ｂ）式（４）のキラルなアミドを、対応する式（５）：
【化４４】
2012513445.tif 000051
で示されるキラルなオキサゾリンアルキレンクロリドへと環化する工程、及び
（ｃ）式（５）のキラルなオキサゾリンアルキレンクロリドを、式Ｍ’−ＰＲ２Ｒ３［ここで、Ｍ’は、Ｋ、Ｎａ又はＬｉであり、Ｒ２及びＲ３は、請求項１で定義されたとおりである］の金属ホスフィドと反応させ、請求項１〜８のいずれか記載のキラルな化合物を得る工程、を含む方法。
【請求項１０】
工程（ｃ）が、式（５）のオキサゾリンアルキレンクロリドと式Ｍ’ＰＲ２Ｒ３の金属ホスフィドを不活性溶媒中５０〜８０℃の間の温度で反応させることを含む、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｃ）が、式ＨＰＲ２Ｒ３の第二級ジアリールホスフィンと等モル量のＫＨを混合し、次に式（５）のオキサゾリンアルキレンクロリドの溶液を加えることを含む、ワンポット反応である、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
元素の周期表の遷移族の遷移金属と、配位子としての請求項１〜８のいずれか記載の化合物との金属錯体。
【請求項１３】
付加が、触媒量の、少なくとも１つの請求項１２記載の金属錯体の存在下で実施されることを特徴とする、不斉触媒反応によってキラルな有機化合物を調製する方法。
【請求項１４】
付加が、触媒量の、少なくとも１つの請求項１２記載の金属錯体の存在下で実施されることを特徴とする、触媒の存在下、プロキラル有機化合物中の炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によって、キラルな有機化合物を調製するための方法。
【請求項１５】
プロキラル有機化合物中の炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によってキラルな有機化合物を調製するための均一系触媒としての、請求項１２記載の金属錯体の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、置換されているオキサゾリン環を有し、そのｓｐ２炭素原子がホスフィン基に置換エチレン架橋を介して結合している、新規なキラル二座配位子、それらの調製のための方法、これらの配位子の金属錯体；及び不斉合成、特に少なくとも１つの炭素／炭素又は炭素／ヘテロ原子二重結合を含むプロキラル有機化合物の水素化における触媒としての金属錯体の使用に関する。
【０００２】
近年、幾つかのキラルなオキサゾリン−ホスフィン配位子が報告されている。
【０００３】
Pfaltzら（Org. Lett. 6 (2004) 2023-2026）は、下記の構造：
【０００４】
【化１】
2012513445.tif 000003
［式中、Ｒは、ｔ−ブチル又はｉ−プロピルであり、Ｒ’は、フェニル又はｏ−トリルである］を有する、いわゆるSimplePhox配位子を記載している。これらの配位子を有するＩｒ（Ｉ）錯体は、多数のアルケンの不斉水素化において非常に成功していることがわかったが、産業上適切な規模へは決して発展していない。産業上の視点からは、これらの配位子は以下の欠点を有する：
・スケールアップが困難且つそれをするには高価である：
・それらは安定性が乏しいので、アルゴン雰囲気下でのカラムクロマトグラフィーでそれらの精製を実施することが必要である。
・それらは安定性が乏しいので、それらを長期間貯蔵することはできないか、貯蔵は非常に危険である。したがって通常、これらの配位子は、対応する、より安定なＩｒ−錯体に直接変換される。一般的に、１つの配位子は多数の異なる金属錯体を調製することに用いることができるので、貯蔵可能な配位子が非常に好ましい。安定で貯蔵可能な生成物を得るために、配位子が金属錯体へと変換されなければならないというのは、深刻な欠点である。これはモジュラリティ（modularity）の損失につながるからである。
【０００５】
S.R. Gilbertsonら（Chem. Commun. (1997) 975-976及びJ. Org. Chem., 63 (1998) 8424-8431）は、以下の一般構造：
【化２】
2012513445.tif 000004
［式中、Ｒは、メチル、ベンジル、フェニル又はｉ−プロピルであり、Ｒ’は、水素、メチル又はフェニルである］を有するキラルなオキサゾリン−ホスフィン配位子を記載している。Ｒ’が水素ではない、これらの配位子の選択されたジアステレオマーは、Ｐｄ−触媒アリルアルキル化において、９０％以上のエナンチオ選択性（ｅｅ）を達成した。Ｒ’が水素である配位子のエナンチオ選択性は、低かった。この配位子の合成は、スケールアップには飽き飽きするものであり、また興味をひくものではない。すなわち、
・合成が長い（少なくとも５工程）。このことが、配位子が高価であることにつながる。
・Ｒ’が水素でない場合、ジアステレオマーを分離せねばならず、中間体の重要な部分が失われる。また、ジアステレオマーの効率的な分離は困難な場合があり、分取ＨＰＬＣのような高価な方法を必要とする。
・全ての合成は、ホスフィンスルフィドを用いて実施され、これは最終工程においてラネーニッケルで還元されなければならない。ラネーニッケルは、部分的にのみ特徴づけることができる複合固体であり、種々様々な特性を有し得る。その結果、反応を再現することが困難であり、生成物がＮｉで汚染されることがあるという、考慮すべき危険が常に存在する。
・配位子のモジュラリティは、ホスフィンが最初の工程で導入されるため、強く妨げられる。
【０００６】
現在まで、どの配位子を持つどの金属錯体が、どの基質に対するどの反応条件下で実用的に使用できる触媒活性及び立体選択性を生じるかを予測することは未だ可能ではない。したがって、モジュール（modular）であり産業上適切な、すなわち簡単且つ経済的な方法で調製することができ、安定且つ貯蔵可能であり、また金属錯体の配位子として適切であり、不斉触媒として良好な結果を与える、オキサゾリン及びホスフィン基を有するさらなる配位子に対して、強い要求がある。
【０００７】
モジュラリティ及び配位子の異なる誘導体を入手することの容易性は、極めて重大な要素である。最も興味深い配位子は、ホスフィン基を合成の終期において導入することができるものである。
【０００８】
キラルな配位子の産業上の適切性はコストの減少とともに上昇し、最も重要なコストの要素の１つは、それらの合成に要求される工程数である。最も興味深い配位子は、２、３の合成工程で高価な試薬を用いることなく調製することができるものである。
【０００９】
驚くべきことに、以下の一般式（１）：
【００１０】
【化３】
2012513445.tif 000005
［式中、
Ｒ０は、Ｃ１−Ｃ１２−アルキル（非置換であるか、又は１〜２個のＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）；シクロペンチル又はシクロヘキシル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）；又はベンジル、フェニル又はナフチル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ、Ｆ又はＣｌで置換されている）であるか、
あるいは、Ｒ０は、−ＣＲ５Ｒ６ＯＨ又は−ＣＲ５Ｒ６ＯＳｉ（Ｃ１−Ｃ８−アルキル）３（ここで、Ｒ５及びＲ６は、Ｈ、非置換Ｃ１−Ｃ１２アルキル、置換Ｃ１−Ｃ１２アルキル、非置換Ｃ４−Ｃ８シクロアルキル、置換Ｃ４−Ｃ８シクロアルキル、非置換アリール、置換アリールからなる群より独立して選択されるか、又はＲ５及びＲ６は、非置換５〜６員脂肪族炭素環又は置換５〜６員脂肪族炭素環を形成することができる）であり、
各々Ｒ１及びＲ’１は、独立して、水素であるか、又はＲ０の意味を有し、Ｒ１、Ｒ’１及びＲ０は、同じであるか異なっていることができ、
Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｃ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基であり、
各々両方のＲ４は、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、メチルフェニル、メチルベンジル又はベンジルであるか、あるいは両方のＲ４は一緒になって脂肪族Ｃ４−Ｃ６炭素環を形成する］の、光学的に純粋又は光学的に非常に富化された化合物が、
（ａ）不斉触媒反応、とりわけ水素化のための金属触媒の、優れた配位子であること、
（ｂ）安定且つ貯蔵可能なこと、
（ｃ）極めて経済的且つ単純な３工程合成で調製することができ、場合によっては高価なバージェス試薬（Ｎ−（トリエチルアンモニオスルホニル）カルバミン酸メチル）さえ用いずに調製できること、
（ｄ）ホスフィン基を最後の工程で導入することができる経路で調製することができ、したがって非常に経済的な方法でそれらの高いモジュラリティを利用することができること、及び、
（ｅ）驚くべきことに、置換基Ｒ４が、不斉触媒反応の成果、とりわけエナンチオ選択性の増加に非常にプラスの効果を有しうることが見出された。
【００１１】
本発明は、したがって第一に、光学的に純粋又は光学的に非常に富化されている、式（１）：
【００１２】
【化４】
2012513445.tif 000006
［式中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ’１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、上記定義のとおりである］で示される新規なキラル化合物を提供する。
【００１３】
本明細書中、用語「光学的に非常に富化されている」は、少なくとも９０％、好ましくは少なくとも９５％、より好ましくは少なくとも９９％のエナンチオマー選択性を有することを意味する。
【００１４】
Ｒ４は、好ましくはメチル又はフェニルである。
【００１５】
各々Ｒ１及びＲ’１は、独立して、好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−ブチル又はフェニルである。より好ましくは、各々Ｒ１及びＲ’１は、水素である。
【００１６】
Ｒ０は、好ましくはｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル又はベンジルである。より好ましくは、Ｒ０は、ｉ−プロピル又はｔ−ブチルである。
【００１７】
好ましくは、Ｒ５及び／又はＲ６は、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１又は１２個の炭素原子を含むアルキル基である。好ましくは、Ｒ５は、メチルであり、Ｒ６は、メチル又はエチルである。さらにより好ましくは、Ｒ５及び／又はＲ６は、１又は２個のＣ１−Ｃ４アルコキシ基によって置換されている、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１又は１２個の炭素原子を含むアルキル基である。
【００１８】
さらに好ましい実施態様において、Ｒ５及び／又はＲ６は、ベンジル基、フェニル基又はナフチル基であり、これらは好ましくは非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル基、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキル基又はＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ基、Ｆ又はＣｌで置換されている。
【００１９】
好ましくは、Ｒ５は、水素であり、さらにより好ましくは、Ｒ５及びＲ６は、水素である。
【００２０】
好ましくは、Ｒ０は、−ＣＲ５Ｒ６ＯＳｉ（Ｃ１−Ｃ８−アルキル）３であり、ここで、各々のＣ１−Ｃ８−アルキル基は、互いに独立して、１、２、３、４、５、６、７又は８個の炭素原子を含み、好ましくは、メチル又はエチル基である。
【００２１】
ホスフィン基−ＰＲ２Ｒ３において、各々のＲ２及びＲ３は、独立してＣ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基である。
【００２２】
好ましくは、Ｒ２及びＲ３は、同一のＣ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基である。
【００２３】
より好ましくは、Ｒ２及びＲ３は、同一のＣ−結合芳香族炭化水素又はヘテロ炭化水素基である。
【００２４】
Ｃ−結合炭化水素基及びヘテロ炭化水素基Ｒ２及びＲ３は、非置換でも置換されていてもよく、ならびに／あるいはＯ、Ｓ及びＮの群より選択されるヘテロ原子を含んでもよい。それらは、１〜３０個、好ましくは１〜１８個、より好ましくは１〜１２個の炭素原子を含んでもよい。Ｃ−結合炭化水素基又はヘテロ炭化水素基は、直鎖又は分枝鎖Ｃ１−Ｃ１８−アルキル；非置換あるいはＣ１−Ｃ６−アルキル−又はＣ１−Ｃ６−アルコキシ−で置換されているＣ５−Ｃ１２−シクロアルキルもしくはＣ５−Ｃ１２−シクロアルキル−ＣＨ２−；フェニル、ナフチル、フリル又はベンジル；あるいはフェニル、ナフチル、フリル又はベンジル（ハロゲン−、Ｃ１−Ｃ６−アルキル−、トリフルオロメチル−、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−、トリフルオロメトキシ−、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ、（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉもしくは第二級アミノ−で置換されている）の群より選択されてもよい。
【００２５】
好ましい実施態様において、各々Ｒ２及びＲ３は、独立して、１〜１８個の炭素原子を有し、非置換であるか、又はＣ１−Ｃ６−アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、トリフルオロメトキシ、（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）２アミノ、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ、（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉ及びハロゲンで置換されている、Ｃ−結合炭化水素基又はＯ−原子を含むヘテロ炭化水素基である。
【００２６】
好ましくは１〜６個の炭素原子を含むアルキルとしてのＲ２、Ｒ３の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチルならびにペンチル及びヘキシルの異性体である。場合によりアルキル−置換されているシクロアルキルとしてのＲ２、Ｒ３の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチル−及びエチルシクロヘキシル、ならびにジメチルシクロヘキシルである。アルキル−及びアルコキシ−置換フェニルならびにベンジルとしてのＲ２、Ｒ３の例は、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニル、トリス（トリフルオロメチル）フェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビス（トリフルオロメトキシ）フェニル、フルオロ−及びクロロフェニル、ならびに３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００２７】
好ましくはＲ２及びＲ３は、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、非置換シクロペンチルもしくはシクロヘキシル、又はシクロペンチルもしくはシクロヘキシル（１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）、ベンジル及び特にフェニル（非置換であるか、又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシ、Ｆ及びＣｌで置換されている）の群より選択される、同一のＣ−結合炭化水素基である。
【００２８】
好ましい実施態様において、Ｒ２及びＲ３は各々、直鎖又は分枝鎖Ｃ１−Ｃ６−アルキル、非置換シクロペンチルもしくはシクロヘキシル、又はシクロペンチルもしくはシクロヘキシル（１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されている）、フリル、非置換ベンジル又は１〜３個のＣ１−Ｃ４−アルキルもしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシで置換されているベンジル、及び特に、非置換フェニル又は１〜３個のＦ、Ｃｌ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１−Ｃ４−フルオロアルコキシで置換されているフェニルの群より選択されるＣ−結合基である。
【００２９】
より好ましくは、Ｒ２及びＲ３は各々、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル及び非置換フェニル又は１〜３個のＦ、Ｃｌ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ及び／又はＣ１−Ｃ４−フルオロアルキルで置換されているフェニルの群より選択される基である。
【００３０】
ホスフィン基−ＰＲ２Ｒ３は、例えば以下の式：
【００３１】
【化５】
2012513445.tif 000007
［これらは、非置換であるか、あるいはＣ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−もしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−もしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−もしくはＣ１−Ｃ４−アルコキシベンジルオキシ又はＣ１−Ｃ４−アルキリデンジオキシによってモノ−又は多置換されている］の１つである、環状ホスフィン基であってもよい。
【００３２】
本発明の好ましい実施態様において、式−ＰＲ２Ｒ３のホスフィン基は、−Ｐ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５−Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７−Ｃ８−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２及び−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群より選択される非環状第二級ホスフィン基、又は下記：
【００３３】
【化６】
2012513445.tif 000008
［これらは、非置換であるか、あるいはＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ又はＣ１−Ｃ４−アルキリデンジオキシによってモノ−又は多置換されている］の群より選択される環状ホスフィンである。
【００３４】
非環状第二級ホスフィン基の幾つかの具体的な例は、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（Ｃ２Ｈ５）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｔ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ５Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）２Ｃ６Ｈ３］２及び−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２である。
【００３５】
第二に、本発明は、光学的に純粋又は光学的に非常に富化された式（１）の化合物を調製するための方法であって、以下の工程を含む方法を提供する：
（ａ）式（２）：
【００３６】
【化７】
2012513445.tif 000009
［式中、Ｒ４は上記で定義されたとおりである］で示される酸クロリドを、式（３）：
【００３７】
【化８】
2012513445.tif 000010
［式中、Ｒ１、Ｒ’１及びＲ０は上記で定義されたとおりである］で示されるキラルなアミノアルコールと反応させ、式（４）：
【００３８】
【化９】
2012513445.tif 000011
で示されるキラルなアミドを形成する工程、
（ｂ）式（４）のキラルなアミドを、対応する式（５）：
【００３９】
【化１０】
2012513445.tif 000012
で示されるキラルなオキサゾリンアルキレンクロリドへと環化する工程、及び
（ｃ）式（５）のキラルなオキサゾリンアルキレンクロリドを式Ｍ’−ＰＲ２Ｒ３［ここで、Ｍ’は、Ｋ、Ｎａ又はＬｉであり、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義されたとおりである］の金属ホスフィドと反応させ、光学的に純粋又は光学的に非常に富化された、式（１）のキラルな化合物を得る工程。
【００４０】
工程（ａ）は、酸クロリド類とアミノアルコール類との反応について当技術分野において周知の方法にしたがって実施される。
【００４１】
通常、１モル当量の式（２）の酸クロリドを、１モル当量の式（３）のアミノアルコールと、塩基、とりわけ第三級アミン、例えばトリエチルアミン、ジ−イソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン及びピリジン、特にトリエチルアミンの存在下、有機溶媒中で反応させる。
【００４２】
有機溶媒は、プロトン性でも非プロトン性であってもよい。好ましくは非プロトン性である。適切な非プロトン性溶媒の例は、塩化メチレン、ならびにジエチルエーテル、ＴＢＭＥ及びＴＨＦのようなエーテルである。
【００４３】
反応は通常、０〜１００℃の間、好ましくは１０〜５０℃の間の温度で行われる。
【００４４】
工程（ｂ）において、工程（ａ）の実施後に得られる式（４）のアミドは、公知の試薬及び方法を用いて、対応する式（５）のオキサゾリンへと環化される（例えばThomas G. Gant et al. 1994 Tetrahedron, 50, 8, 2297-2360及びBjoern T. Hahn et al., 2008, 85, 267-277を参照されたい）。
【００４５】
適切な方法は、例えばバージェス試薬を用いることである。式（４）のアミド及びモル過剰量のバージェス試薬は、非プロトン性溶媒、好適にはＴＨＦのような沸点が５０〜１００℃、特に６０〜８０℃の間である溶媒中で、還流される。
【００４６】
他の適切な方法は、式（４）のアミド及びメタンスルホニルクロリドを、塩基、とりわけ第三級アミン、例えばトリエチルアミン、ジ−イソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン及びピリジン、特にトリエチルアミンのような塩基の存在下、非プロトン性溶媒中で、反応させることを含む。
【００４７】
工程（ｃ）において、式（５）のオキサゾリンアルキレンクロリド中のクロリド官能基を、金属ホスフィドＭ’−ＰＲ２Ｒ３と反応させ、式（１）の最終化合物を得る。この反応において、クロリドはホスフィン基ＰＲ２Ｒ３に対して交換される。
【００４８】
ネオペンチル−型のハライド、及び特にネオペンチル−型のクロリドは、求核置換反応において非常に反応性に乏しいことが一般に知られている（例えばJ. Clayden et al. Organic Chemistry ISBN 0198503466 (2001), pages 978-979を参照されたい）。金属ホスフィドと、ネオペンチル−型のクロリド官能基と一緒にオキサゾリン官能基を有する分子との反応についての報告は、これまで存在しない。驚くべきことに、本反応は、高温においてさえ、正常に且つネオペンチル−型官能基において高い選択性をもって進行することが見出された。
【００４９】
Ｍ’−ＰＲ２Ｒ３型の金属ホスフィドの調製は、一般に公知である：幾つかは市販されており、例えば、ＫＰＰｈ２及びＬｉＰＰｈ２である；金属ホスフィドは、不活性溶媒中、第二級ホスフィンＨＰＲ２Ｒ３と、ＫＨ、フェニルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチル−リチウムもしくはｔ−ブチルリチウムのようなアルキルもしくはアリールリチウム、又はｔ−ＢｕＯＫのような強塩基との反応により、調製することができる。あるいは、金属ホスフィドはまた、第三級アリールホスフィン又はモノクロロホスフィンと、元素状リチウム、ナトリウム又はカリウム及びこれらのアルカリ金属の合金との反応によって得ることができる。条件は、文献に記載されている。
【００５０】
工程（ｃ）は、式（５）のオキサゾリンアルキレンクロリドと式Ｍ’ＰＲ２Ｒ３の金属ホスフィドを、不活性溶媒中、５０〜８０℃の間の温度で反応させることを含んでもよい。
【００５１】
工程（ｃ）を実施するための好ましい方法は、第二級ジアリールホスフィンと等モル量のＫＨとを混合し、次にオキサゾリンアルキレンクロリドの溶液を加えることを含む：この反応に好ましい溶媒は、ＴＨＦ、ジオキサン、ＴＢＭＥ、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテルである；式（５）のオキサゾリンアルキリデンクロリドの添加は、好ましくは０〜３０℃の間の温度で実施される。反応は次に、通常２５〜１００℃、好ましくは４０〜７０℃の温度で、１〜４８時間、好ましくは３〜１０時間の間行われる。
【００５２】
金属錯体
本発明の式（Ｉ）の化合物は、遷移金属の群より選択される金属錯体の配位子であり、これらは不斉合成、例えばプロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化のための傑出した触媒又は触媒前駆体である。プロキラル不飽和有機化合物が用いられるとき、有機化合物の合成において非常に高い過剰率の光学異性体を誘導することができ、高い化学転化率を達成することができる。加えて、そのような配位子はまた、その他の不斉付加又は環化反応に用いられる。
【００５３】
本発明はさらに、元素の周期表の遷移族の遷移金属と配位子としての式（Ｉ）の化合物との金属錯体を提供し、配位子の金属に対する当量比は、好ましくは約２．２：１〜０．９：１、より好ましくは１．１：１〜０．９：１である。特に好ましくは、当量比はおよそ１．１：１〜１：１である。
【００５４】
遷移金属の中では、特に好ましいのは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒの群より選択される金属である。非常に特に好ましい金属は、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ及びＰｔである。有機合成の例は、プロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化のみならず、アミンカップリング、エナンチオ選択的開環及びヒドロシリル化である。
【００５５】
特に好ましい金属は、イリジウム、ルテニウム及びロジウムである。
【００５６】
金属原子の酸化数及び配位数に従って、金属錯体はさらに配位子及び／又はアニオンを含んでもよい。それらはまた、カチオン性金属錯体であってもよい。そのような類似の金属錯体及びそれらの調製は、文献に何度も記載されている。
【００５７】
金属錯体は、例えば一般式（Ｖ）及び（VI）：
【化１１】
2012513445.tif 000013
［式中、Ａ１は、式（Ｉ）の化合物であり、
Ｌは、同一又は異なる、単座のアニオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、又は２つのＬは、同一又は異なる、二座のアニオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子のときは、ｎは、２、３又は４であり、あるいはＬが二座配位子のときは、ｎは、１又は２であり；
ｚは、１、２又は３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ及びＲｕの群より選択される金属であり；当該金属は０、１、２、３又は４の酸化状態を有し；
Ｅ−は、酸素酸又は錯酸のアニオンであり；そして
アニオン性配位子は金属の１、２、３又は４の酸化状態の電荷とつり合う］に対応し得る。
【００５８】
式（Ｉ）の化合物について、上記の好ましいもの及び実施態様があてはまる。
【００５９】
単座の非イオン性配位子は、例えば、オレフィン類（例えばエチレン、プロピレン）、アリル類（アリル、２−メタリル）、溶媒和性溶媒（ニトリル、直鎖状又は環状エーテル、場合によりＮ−アルキル化されているアミド類及びラクタム類、アミン類、ホスフィン類、アルコール類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類）、一酸化窒素及び一酸化炭素の群より選択されてもよい。
【００６０】
単座のアニオン性配位子は、例えばハライド（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハライド（シアニド、シアナート、イソシアナート）及びカルボン酸、スルホン酸及びホスホン酸のアニオン（カルボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）の群より選択されてもよい。
【００６１】
二座の非イオン性配位子は、例えば直鎖状及び環状ジオレフィン類（例えばヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル類（マロニトリル）、場合によりＮ−アルキル化されたジカルボキサミド類、ジアミン類、ジホスフィン類、ジオール類、アセトニルアセトナート、ジカルボン酸ジエステル類及びジスルホン酸ジエステル類の群より選択されてもよい。
【００６２】
二座のアニオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸類、ジスルホン酸類及びジホスホン酸類のアニオン（例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸及びメチレンジホスホン酸由来のもの）の群より選択されてもよい。
【００６３】
好ましい金属錯体はまた、Ｅ−が、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−の群より選択される酸素酸のアニオン、及びテトラアリールボレート、例えばＢ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−及びＢ（４−メチルフェニル）４−、ならびにＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−又はＳｂＦ６−の群より選択される錯酸のアニオンを表すものである。他の好適なアニオンＥ−は、−Ｃｌ−、−Ｂｒ−、−Ｉ−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−及び（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−である。
【００６４】
水素化に特に好適な、特に好ましい金属錯体は、式（VII）及び（VIII）：
【化１２】
2012513445.tif 000014
［式中、
Ａ１は、式（Ｉ）の化合物であり；
Ｍｅ２は、ロジウム又はイリジウムであり；
Ｙは、２つのオレフィン又は１つのジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり；そして
Ｅ１−は、酸素酸又は錯酸のアニオンである］に対応する。
【００６５】
式（Ｉ）の化合物について、上記記載の好ましいもの及び態様があてはまる。
【００６６】
Ｙがオレフィンとして定義されるとき、それはＣ２−Ｃ１２−、好ましくはＣ２−Ｃ６−、そしてより好ましくはＣ２−Ｃ４−オレフィン類であってもよい。例は、プロペン、ブタ−１−エン及び特にエチレンである。ジエンは、５〜１２個、そして好ましくは５〜８個の炭素原子を含んでもよく、ジエン類は、鎖状、環状又は多環式ジエン類であってもよい。ジエンの２つのオレフィン基は、好ましくは１つ又は２つのＣＨ２基によって連結している。例は、１，３−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−又は１，５−ヘプタジエン、１，４−又は１，５−シクロヘプタジエン、１，４−又は１，５−オクタジエン、１，４−又は１，５−シクロオクタジエン及びノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは２つのエチレン又は１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンを表す。
【００６７】
式（VIII）において、Ｚは、好ましくはＣｌ又はＢｒである。Ｅ１−の例は、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−又はＳｂＦ６−である。
【００６８】
本発明の金属錯体は、文献で公知である方法によって調製される（US-A-5,371,256、US-A-5,446,844、US-A-5,583,241及びE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I〜III, Springer Verlag, Berlin, 1999ならびにそれらの引用する文献もまた参照されたい）。
【００６９】
金属錯体の使用
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化可能な均一系触媒又は触媒前駆体であり、例えば不斉水素化、ヒドロホウ素化又はヒドロシリル化のような、プロキラル不飽和有機化合物への不斉付加反応のような不斉触媒反応に使用することができる；E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I〜III, Springer Verlag, Berlin, 1999、及びB. Cornils et al., in Applied Homogeneous Catalysis with Organometallic Compounds, Volume 1, Second Edition, Wiley VCH-Verlag (2002)を参照されたい。さらなる適用は、例えば、不斉アリルアルキル化、パラジウム錯体を用いての、脱離基、例えばハライド又はスルホナートを含む芳香族化合物又はヘテロ芳香族化合物の、第一級又は第二級アミン類とのアミノ化、あるいは好ましくはオキサ二環アルカンのＲｈ−触媒エナンチオ選択的開環反応である（M. Lautens et al. in Acc. Chem. Res. Volume 36 (203), pages 48-58）。
【００７０】
金属錯体は、例えば、炭素／炭素又は炭素／ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）に用いることができる。可溶性均一系金属錯体を用いたそのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138 (1996) に記載されている。水素化のための好ましい不飽和化合物は、Ｃ＝Ｃ（プロキラルアルケン類）、Ｃ＝Ｎ（プロキラルケチミン類）、Ｃ＝Ｎ−Ｎ（プロキラルケトヒドラゾン類）、Ｃ＝Ｎ−Ｏ（プロキラルケトオキシム類）及び／又はＣ＝Ｏ（プロキラルケトン類）基を含む。本発明にしたがって、水素化について好ましいのは、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムの金属錯体を用いることである。
【００７１】
本発明はさらに、プロキラル有機化合物中の炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によってキラルな有機化合物を調製するための、均一系触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【００７２】
本発明のさらなる態様は、付加が、触媒量の少なくとも１つの本発明の金属錯体の存在下で実施されることを特徴とする、触媒の存在下で、プロキラル有機化合物中の炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によってキラルな有機化合物を調製するための方法である。
【００７３】
好ましい、水素化されるプロキラル不飽和化合物は、鎖状又は環状有機化合物中に、１つ以上の同一もしくは異なるＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏ基を含んでもよく、ここでＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏ基は、環系の一部でも、又は環外の基であってもよい。プロキラル不飽和化合物は、アルケン類、シクロアルケン類、ヘテロシクロアルケン類、及び鎖状又は環状ケトン類、α，β−ジケトン類、α−又はβ−ケトカルボン酸類及びそのα，β−ケトアセタール類もしくはケタール類、エステル類及びアミド類、ケチミン類、ケトオキシム類及びケトヒドラゾン類（kethydrazones）であってもよい。アルケン類、シクロアルケン類、ヘテロシクロアルケン類はまた、エナミドを含む。
【００７４】
本発明による方法は、低温又は上昇した温度で、例えば−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、そしてより好ましくは１０〜８０℃の温度で実施することができる。光学収率は、一般的に低温のほうが高温よりも良好である。
【００７５】
本発明による方法は、標準圧又は高圧下で実施することができる。圧力は、例えば、１０５〜２×１０７Pa（パスカル）であってもよい。水素化は、標準圧又は高圧下で実施することができる。
【００７６】
触媒は、好ましくは水素化される化合物に対して０．００００１〜１０mol％、より好ましくは０．００００１〜５mol％、そして特に好ましくは０，００００１〜２mol％の量で使用される。
【００７７】
配位子及び触媒の調製、及び水素化は不活性溶媒なしで又はその存在下で実施され、それは１種の溶媒でも溶媒混合物でもよい。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロ炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジ−及びテトラクロロエタン）、ニトリル類（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル）、ケトン類（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステル類及びラクトン類（酢酸エチル又は酢酸メチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換ラクタム類（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド類（ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド）、非環状尿素類（ジメチルイミダゾリン）、ならびにスルホキシド及びスルホン類（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）及び場合によりフッ素化されたアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、１，１，１−トリフルオロエタノール）及び水である。適切な溶媒はまた、低分子量のカルボン酸、例えば酢酸である。
【００７８】
反応は、助触媒、例えば第四級アンモニウムハライド（テトラブチルアンモニウムクロリド、ブロミド又はヨージド）又はプロトン酸、例えばＨＣｌのような鉱酸又はトリフルオロ酢酸のような強有機酸、あるいはそのようなハライド及び酸の混合物の存在下で実施することができる（例えばUS-A-5,371,256、US-A-5,446,844及びUS-A-5,583,241ならびにEP-A-0 691 949を参照されたい）。フッ素化されたアルコール類、例えば１，１，１−トリフルオロエタノールの存在はまた、触媒反応を促進することができる。塩基、例えば第三級アミン又はホスフィン、アルカリ金属水酸化物、第二級アミド、アルコキシド、炭酸塩及び重炭酸塩の添加もまた、有利でありうる。助触媒の選択は、主に金属錯体中の金属及び基質によって導かれてもよい。プロキラルなアリールケチミンの水素化において、イリジウム錯体をテトラ−Ｃ１−Ｃ４−アルキルアンモニウムヨージド及び鉱酸、好ましくはＨＩと組み合わせて用いることが、有用であることが見出された。
【００７９】
触媒として用いられる金属錯体は、別々に調製した単離化合物として加えることができ、あるいは反応前にインサイチュで形成し、次に水素化される基質と混合することができる。単離した金属錯体を使用する反応の場合はさらに配位子を加えるか、又はインサイチュでの調製の場合は過剰量の配位子を使用することが有利であり得る。超過分は例えば、調製に用いられる金属化合物に対して１〜６mol及び好ましくは１〜２molであってもよい。
【００８０】
本発明の方法は、一般的に、触媒を最初に仕込み、次に基質、場合により反応補助剤及び加えられる化合物を添加し、次に反応を開始することにより実施する。加えられるガス状化合物、例えば水素は、好ましくは注入される。前記方法は、様々なタイプの反応器中で連続的に又はバッチ式で実施することができる。
【００８１】
本発明にしたがって調製することができるキラルな有機化合物は活性な物質、あるいは、特に、芳香剤及び着臭剤、医薬品及び農薬の生産の分野におけるそのような物質を調製するための中間体である。
【００８２】
以下の実施例により本発明を説明する。全ての反応は、空気を排除したアルゴン下、脱気した溶媒を使用して実施した。収率は最適化されていない。
【００８３】
３−クロロピバロイルクロリドは、市販されている。３−クロロ−２，２−ジフェニル−プロピオン酸は、J. Amer. Chem. Soc. 72 (1950) 3004にしたがって調製した。
【００８４】
Ａ）中間体の調製
１）式（４）のアミドの調製
【００８５】
実施例Ａ１：アミドＡ１の調製
【００８６】
【化１３】
2012513445.tif 000015
Ｌ−バリノール（１．００ｇ、９．６８mmol、１．００当量）及びトリエチルアミン（４．６０mL、３２．４mmol、３．３０当量）をジエチルエーテル６０mLに溶解した。この混合物に、ジエチルエーテル１０mL中の３−クロロピバロイルクロリド（１．５０ｇ、９．６８mmol、１．００当量）の溶液を０℃で滴下し、ＮＥｔ３・ＨＣｌを沈殿させた。酸クロリドの添加の後、溶液を７５分間室温で撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３溶液（５０mL）を加えて、相を分離した。水相をジエチルエーテル５０mLで３回抽出した。合わせた有機相をブライン（５０mL）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮して、褐色の油状物を得た。減圧下で蒸留し、化合物Ａ１を無色の固体として得た。固体をＣＨ２Ｃｌ２（５mL）に溶解し、氷冷ペンタン１５０mLに滴下した。濾過により無色の沈殿物を回収した。乾燥後、アミドＡ１  １．６５ｇ（７．４４mmol、７７％）を得た。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 5.95 (s, 1H, NH), 3.75-3.63 (m, 4H, CH2Cl, CH, CH2OH), 2.54 (s, 1H, OH), 1.97-1.85 (m, 1H, CH(CH3)2), 1.31 (s, 6H, C(CH3)2), 0.97 (d, J = 6.8 Hz, 3H, CH(CH3)2), 0.94 (d, J = 6.8 Hz, 3H, CH(CH3)2).
[α]D20: -33.5 (c = 1.0, CHCl3).
【００８７】
実施例Ａ２：アミドＡ２の調製
【００８８】
【化１４】
2012513445.tif 000016
Ｌ−tert−ロイシノール（３．００ｇ、２５．６mmol、１．００当量）及びトリエチルアミン（８．５５ｇ、８４．５mmol、３．３０当量）をジエチルエーテル１５０mLに溶解した。この混合物に、ジエチルエーテル１５mL中の３−クロロピバロイルクロリド（３．９７ｇ、２５．６mmol、１．００当量）の溶液を０℃で滴下し、ＮＥｔ３・ＨＣｌを沈殿させた。酸クロリドの添加の後、溶液を２日間室温で撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３溶液（５０mL）を加えて、相を分離した。水相をジエチルエーテルで抽出した。合わせた有機相をブライン（５０mL）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮して、無色の固体アミドＡ２を得た（５．１３ｇ、２１．８mmol、８５％）が、これは、さらなる精製を必要としなかった。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 5.95 (d, J = 5.8 Hz, 1H, NH), 3.82-3.88 (m, 2H), 3.64 (s, 2H, CH2Cl), 3.55-3.61 (m, 1H), 2.38 (dd, J = 5.0 Hz, J = 6.1 Hz, 1H, OH), 1.33 (s, 6H, C(CH3)2), 0.97 (s, 9H, C(CH3)3).
[α]D20: -11.7 (c = 0.99, CHCl3).
【００８９】
実施例Ａ３：アミドＡ３の調製
【００９０】
【化１５】
2012513445.tif 000017
Ｌ−フェニルアラニノール（２．４４ｇ、１６．１mmol、１．００当量）をジエチルエーテル９０mLに懸濁させた。ジクロロメタン２０mLに溶解したトリエチルアミン（７．６０mL、５４．０mmol、３．３０当量）を一度に加えた。この混合物に、ジエチルエーテル１０mL中の３−クロロピバロイル（２．５０ｇ、１６．１mmol、１．００当量）の溶液を０℃で滴下し、ＮＥｔ３・ＨＣｌを沈殿させた。酸クロリドの添加の後、溶液を７５分間室温で撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３溶液（５０mL）を加えて、相を分離した。水相をジエチルエーテル５０mLで３回抽出した。合わせた有機相をブライン（５０mL）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮して、褐色の油状物を得た。減圧下で蒸留して、アミドＡ３化合物を黄色の油状物として得て（４．３１ｇ、１６．０mmol、９９％）、それを冷蔵庫中で固体化した。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.33-7.21 (m, 5H, HAr), 5.96 (m, 1H, NH), 4.22-4.15 (m, 1H, CH), 3.70-3.51 (m, 4H, CH2Cl, CH2OH), 2.96-2.83 (m, 2H, C6H5CH2), 2.69 (s, 1H, OH), 1.22 (s, 3H, CH3), 1.17 (s, 3H, CH3).
[α]D20: -12.8 (c = 0.99, CHCl3).
【００９１】
実施例Ａ４：アミドＡ４の調製
【００９２】
【化１６】
2012513445.tif 000018
３つ口丸底フラスコ中で、３−クロロ−２，２−ジフェニル−プロピオン酸（５．１３ｇ、１９．７mmol）及び塩化チオニル（１５mL）を４時間加熱還流した。過剰の塩化チオニルを蒸留により除去し、乾燥ベンゼン１０mLを加え、留去した。酸クロリドを、更に精製しないでアミドの合成に用いた。
Ｌ−tert−ロイシノール（２．３２ｇ、１９．８mmol）を塩化メチレン７５mLに溶解し、トリエチルアミン２．７６mL（１９．８mmol）を加えた。酸クロリドを塩化メチレン２５mLに溶解し、アミノアルコール及びトリエチルアミンの溶液に０℃で撹拌しながら滴下した。反応混合物を室温に温まるにまかせて（３０分間）、次に２時間加熱還流した。反応混合物を室温に放冷し、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。生成物を沸騰酢酸エチル５０mLに溶解し、不溶性のＮＥｔ３．ＨＣｌを濾過により除去した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、黄色味を帯びた油状物（６．８２ｇ）を得た。粗生成物を酢酸エチル２０mL及びペンタン１００mLに溶解した。結晶化を−７８℃に冷却することで開始し、所望の生成物Ａ４を無色の固体として得た（５．８０ｇ、収率８２％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.30-7.46 (m, 10H, HAr), 5.84 (d, 1H, J = 7.9 Hz, NH), 4.48 (d, 1H, J = 11.6 Hz, CH2Cl), 4.41 (d, 1H, J = 11.6 Hz, CH2Cl),3.84 (m, 2H, NCH, CH2OH), 3.43 (dd, 1H, J = 8.2 Hz, J = 11.3 Hz, CH2OH), 2.34 (br.s, 1H, OH), 0.75 (s, 9H, C(CH3)3).
[α]D20 -7.3 (c 0.54, CHCl3).
【００９３】
実施例Ａ９：アミドＡ９の調製
【００９４】
【化１７】
2012513445.tif 000019
メチルトレオニン塩酸塩５ｇを塩化メチレン５０mlに溶解した。トリエチルアミン１２，５ml（３当量）を０℃で加え、次に３−クロロピバロイルクロリド３，８mlを滴下した。反応混合物を室温で一晩撹拌し、次に飽和ＮａＨＣＯ３溶液１０mlに注いだ。混合物をジエチルエーテルで抽出し、合わせたジエチルエーテル相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮した。減圧下での蒸留により、アミドＡ９化合物を無色の油状物として得た（７．１３ｇ、９９％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 6.51 (d, 1H, J=8.3 Hz, NH), 4.61 (d, 1H, J=8.6 Hz, N-CH), 4.38 (m, 1H, CH-O), 3.77 (s, 3H, COOCH3), 3.71 (d, 1H, J=10.6 Hz, CH2Cl), 3.57 (d, 1H, J=10.6 Hz, CH2Cl), 1.37 (s, 3H, CH3), 1.33 (s, 3H, CH3), 1.23 (d, 3H, J=6,6 Hz, CH3).
[α]20D -7.0 (c 1.01, CHCl3)
【００９５】
２）式（５）のオキサゾリンの調製
【００９６】
実施例Ａ５：オキサゾリンＡ５の調製
【００９７】
【化１８】
2012513445.tif 000020
アミドＡ１（５１０mg、２．３０mmol、１．００当量）及びバージェス試薬（Ｎ−（トリエチルアンモニオスルホニル）カルバミン酸メチル、７１４mg、２．９９mmol、１．３０当量）をＴＨＦ２５mLに溶解した。混合物を４時間加熱還流した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、粗生成物をジエチルエーテルで抽出した。ロータリーエバポレーターでのジエチルエーテルの除去後、粗生成物を減圧下での蒸留により精製した。オキサゾリンＡ５を、無色の油状物として得た（４４０mg、２．１６mmol、９４％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 4.23-4.15 (m, 1H, NCH), 4.01-3.92 (m, 2H, OCH2), 3.61 (s, 2H, CH2Cl), 1.79 (qd, J = 6.8 Hz, J = 12.1 Hz, 1H, CH(CH3)2), 1.30 (s, 6H, C(CH3)2), 0.92 (d, J = 6.8 Hz, 3H, CH(CH3)2), 0.86 (d, J = 6.8 Hz, 3H, CH(CH3)2).
[α]D20: -77.4 (c = 1.16, CHCl3).
【００９８】
実施例Ａ６：オキサゾリンＡ６の調製
【００９９】
【化１９】
2012513445.tif 000021
アミドＡ２（４．６２ｇ、１９．６mmol、１．００当量）及びバージェス試薬（６．０７mg、２５．５mmol、１．３０当量）を、ＴＨＦ  ２００mLに溶解した。混合物を４時間加熱還流した。溶媒を、ロータリーエバポレーターで除去した。粗生成物にジエチルエーテルを加え、反応混合物の可溶性成分を溶解した。生成物を含むジエチルエーテルをデカントし、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。減圧下で蒸留して、無色の油状物を得て、それを、ペンタン／エーテル（１０／１）で溶離するシリカの栓で濾過した。オキサゾリンＡ６を、無色の油状物として得た（４．１８ｇ、１９．２mmol、９８％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 4.14 (dd, J = 8.6 Hz, J = 10.1 Hz, 1H, NCH), 4.08 (dd, J = 7.2 Hz, J = 8.6 Hz, 1H, OCH2), 3.83 (dd, J = 7.2 Hz, J = 10.1 Hz, 1H, OCH2), 3.62 (s, 2H, CH2Cl), 1.30 (s, 6H, C(CH3)2), 0.88 (s, 9H, C(CH3)3);
[α]D20: -80.5 (c = 1.17, CHCl3).
【０１００】
あるいは、オキサゾリンＡ６は、バージェス試薬なしで調製することができる：
乾燥ジクロロメタン２mL及びトリエチルアミン０．２mL中の、アミドＡ２  ９８．３mg（０．４２mmol、１．００当量）の溶液に、メタンスルホニルクロリド０．０５mLを４℃で加えた。反応混合物を２時間還流し、次に室温に冷ました。飽和重炭酸ナトリウム２mLを激しく撹拌しながら加えた。層を分離し、水相をジクロロメタンで抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（５mL）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。シリカゲル（２ｇ）を加え、溶媒を減圧下で留去した。シリカゲル上での濾過による精製（移動相＝ペンタン／酢酸エチル、１０：１）によって、オキサゾリンＡ６を無色の油状物として得たが、それは、バージェス試薬を用いて調製したオキサゾリンと同一の特性を有していた。
【０１０１】
実施例Ａ７：オキサゾリンＡ７の調製
【０１０２】
【化２０】
2012513445.tif 000022
アミドＡ３（１．０１ｇ、３．７６mmol、１．００当量）及びバージェス試薬（１．２１ｇ、５．０５mmol、１．３０当量）をＴＨＦ  ４０mLに溶解した。混合物を４時間加熱還流した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、粗生成物をＣＨ２Ｃｌ２  ２０mLに溶解した。水及びブラインで抽出した後、有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させた。ロータリーエバポレーターでの溶媒の除去後、粗生成物を減圧下での蒸留により精製した。オキサゾリンＡ７化合物を、無色の油状物として得た（６７９mg、２．７０mmol、収率７２％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.27-7.31 (m, 2H, HAr), 7.19-7.24 (m, 3H, HAr), 4.39 (dddd, 1H, J = 4.8 Hz, J = 6.8 Hz, J = 8.7 Hz J = 8.9 Hz, NCH), 4.16 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, J = 8.9 Hz, OCH2), 4.00 (dd, 1H, J = 6.8 Hz, J = 8.4 Hz, OCH2), 3.59 (s, 2H, ClCH2), 3.09 (dd, 1H, J = 4.7 Hz, J = 13.7 Hz, CH2C6H5), 2.65 (dd, 1H, J = 8.6 Hz, J = 13.7 Hz, CH2C6H5), 1.28 (s, 3H, C(CH3)2), 1.27 (s, 3H, C(CH3)2).
[α]D20: -29.7 (c = 1.00, CHCl3).
【０１０３】
実施例Ａ８：オキサゾリンＡ８の調製
【０１０４】
【化２１】
2012513445.tif 000023
３つ口丸底フラスコ中、アミドＡ４（４．００ｇ、１１．１mmol）を、乾燥塩化メチレン５５mLに溶解し、トリエチルアミン３．７２mL（２６．６mmol）を加えた。溶液を０℃に冷却し、塩化メシル１．０mLを滴下した。溶液を室温に温まるにまかせ、次に４時間加熱還流した。溶液を室温に放冷し、ＮａＨＣＯ３溶液２０mLを撹拌しながら５分間加えた。相を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２で２回洗浄した。合わせた有機相をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、酢酸エチル５mL、次いでペンタン１００mLを加えた。溶液を−７８℃に冷却し、濾過した。無色の濾液を濃縮し、所望の生成物３．１４ｇ（９．１８mmol、収率８３％）を、無色の油状物として得た。
13C{1H}-NMR (100.6 MHz, CDCl3, 300 K):δ = 167.2 (OC=N), 140.4 (CAr), 140.2 (CAr), 129.2 (HCAr), 129.1 (HCAr), 127.8 (HCAr), 127.8 (HCAr), 75.6 (NCH), 68.7 (OCH2), 55.7 (C(C6H5)2), 50.8 (ClCH2), 33.9 (C(CH3)3), 25.9 (C(CH3)3);
[α]D20 -58.6 (c 1.27, CHCl3).
【０１０５】
実施例Ａ１０：オキサゾリンＡ１０の調製
【０１０６】
【化２２】
2012513445.tif 000024
アミドＡ９  １，１２１ｇ（１当量）及びバージェス試薬１，３８０ｇ（１，３当量）をＴＨＦ  ４０mlに溶解し、４時間還流した。次にＴＨＦを減圧下で除去した。残留物をジエチルエーテルで処理し、全ての固体を濾別した。濾液を濃縮し、残留した黄色味を帯びた油状物（１，２０３ｇ）を減圧下で蒸留し、生成物Ａ１０  ９２４mg（８９％）を無色の液体として得た。
1H-NMR (500.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 4.88 (m, 1H, OCH), 4.76 (d, 1H, J=10.0 Hz, N-CH), 3.73 (s, 3H, COOCH3), 3.63 (m, 2H, CH2Cl), 1.33 (s, 6H, 2×CH3), 1.26 (d, 3H, J=6.5 Hz, CH(CH3)).
【０１０７】
実施例Ａ１１：オキサゾリンＡ１１の調製
【０１０８】
【化２３】
2012513445.tif 000025
オキサゾリンＡ１０  ２．０ｇを、ＴＨＦ  ３０mlに溶解し、ＴＨＦ中の３M ＭｅＭｇＣｌの溶液５．７ml（２当量）を−７８℃で加えた。反応混合物を冷却浴に残し、一晩かけて、室温に温まるにまかせた。次に飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液でクエンチし、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を回収し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で留去した。１Ｈ−ＮＭＲによれば、得られた残留物（１．８８２ｇ）は実質的に純粋であった。必要であれば、さらに減圧下での蒸留により精製し、透明な液体でオキサゾリンＡ１１  １．６ｇ（８０％）を得ることができる。
1H-NMR (500.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 4.75 (m, 1H, OCH), 3.89 (d, 1H, J=9.0 Hz, N-CH), 3.63 (d, 2H, J=2.5 Hz CH2Cl), 1.46 (d, 3H, J=7.0 Hz, CH(CH3), 1.34 (s, 3H, CH3), 1.31 (s, 3H, CH3), 1.30 (s, 3H, CH3), 1.27 (s, 3H, CH3)).
【０１０９】
実施例Ａ１２：オキサゾリンＡ１２の調製
【０１１０】
【化２４】
2012513445.tif 000026
オキサゾリンアルコールＡ１１  ７０mg（１当量）を、乾燥塩化メチレン３mlに溶解した。−７８℃に冷却した後、２，６−ルチジン１７３，４μl（５当量、１６０mg、ｄ＝０，９２５）、次いでトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリル１３５，４μl（２当量、１５８mg、ｄ＝１，１６９）を加え、反応混合物を−７８℃で２時間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３をゆっくりと加え、混合物を室温に温めた。有機相を回収し、水及びブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。シリカ上での残留物のクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン  １：９）により、生成物Ａ１２  ６２mg（５９％）を無色の油状物として得た。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 4.69 (m, 1H, OCH), 3.79 (d, J=9.3 Hz, 1H, NCH), 3.62 (m, 2H, CH2), 1.52 (d, J=6.8 Hz, 3H, CH(CH3)), 1.36 (s, 3H, CH3), 1.29 (s, 3H, CH3), 1.28 (s, 3H, CH3), 1.24 (s, 3H, CH3), 0.94 (q, J=8.1 Hz, 9H, CH3), 0.59 (q, J=8.0 Hz, 6H, CH2).
【０１１１】
Ｂ）配位子の調製
【０１１２】
実施例Ｂ１：配位子Ｂ１の調製
【０１１３】
【化２５】
2012513445.tif 000027
オキサゾリンＡ５（３９２mg、１．９２mmol、１．０５当量）に、ＴＨＦ中のＫＰＰｈ２の０．５M 溶液３．６５mL（１．００当量、１．８３mmol）を加えた。撹拌しながら、赤色溶液を１４時間加熱還流し、無色の懸濁液を得た。溶媒を真空下で除去し、ＴＢＭＥ（ｔ−ブチルメチルエーテル）２５mL及び飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液１５mLを加えた。相を分離し、水相を水２mLで希釈し、ＴＢＭＥで抽出した。合わせた有機相をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤＝ペンタン／酢酸エチル、５／１）の後、配位子Ｂ１を無色の油状物として得た（５９５mg、１．６８mmol、収率９２％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.43-7.48 (m, 4H, HAr), 7.28-7.34 (m, 6H, HAr), 3.68-3.78 (m, 3H, OCH2, NCH), 2.44 (dq, 2H, J = 3.5 Hz, J = 14.3 Hz, PCH2), 1.64-1.74 (m, 1H, HC(CH3)2), 1.34 (s, 3H, C(CH3)2), 1.30 (s, 3H, C(CH3)2), 0.89 (d, 3H, J = 6.8 Hz, HC(CH3)2), 0.80 (d, 3H, J = 6.8 Hz, HC(CH3)2).
31P{1H}-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -26.2.
[α]20D: -27.5 (c = 1.01, CHCl3).
【０１１４】
実施例Ｂ２：配位子Ｂ２の調製
【０１１５】
【化２６】
2012513445.tif 000028
オキサゾリンＡ６（７９５mg、３．６５mmol）に、ＴＨＦ中のＫＰＰｈ２の０．５M 溶液７．５mL（１．０３当量、３．７５mmol）を加えた。撹拌しながら、赤色溶液を７時間加熱還流した。次に、淡赤色溶液に飽和ＮＨ４Ｃｌ−溶液１０mLを加えた。この混合物をＴＢＭＥで抽出し、合わせた有機相をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤＝ペンタン／酢酸エチル、５／１）により、所望の純粋な生成物を無色の固体として得た（８０７mg、２．２０mmol、収率６０％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.44-7.48 (m, 4H, HAr), 7.28-7.34 (m, 6H, HAr), 3.92 (dd, 1H, J = 6.6 Hz, J = 8.0 Hz, NCH), 3.73 (dd, 1H, J = 8.0 Hz, J = 10.0 Hz, OCH2), 3.66 (dd, 1H, J = 6.6 Hz, J = 10.0 Hz, OCH2), 2.50 (dd, 1H, J = 3.9 Hz, J = 14.3 Hz, PCH2), 2.42 (dd, 1H, J = 3.5 Hz, J = 14.3 Hz, PCH2), 1.34 (s, 3H, C(CH3)2), 1.29 (s, 3H, C(CH3)2), 0.85 (s, 9H, C(CH3)3).
31P{1H}-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -25.9.
[α]20D: -33.7 (c = 1.02, CHCl3).
【０１１６】
実施例Ｂ３：配位子Ｂ３の調製
【０１１７】
【化２７】
2012513445.tif 000029
不活性ガス下、反応槽に、（ｏ−トリル）２ＰＨ  ２２１mg（１．０３mmol）、次いでＫＨ  ８１．０mg（２．０２mmol）を加えた。次に、オキサゾリンＡ６（２４０mg、１．１０mmol）及びＴＨＦ  ２mLを加えた。撹拌しながら、赤橙色の溶液を４時間加熱還流した。Ｃ６Ｄ６中での３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルは、完全な転化を示した。ＴＢＭＥ  ４mL及び飽和ＮＨ４Ｃｌ−溶液４mLを加えた。相を分離し、水相を水２mLで希釈した。水相を次にＴＢＭＥで抽出し、合わせた有機相をブライン（１０mL）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。有機相にシリカゲル（３ｇ）を加え、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤＝ペンタン／酢酸エチル  ５０／１→２５／１）の後、所望の生成物を無色の油状物として得た（３５２mg、０．８９mmol、８６％）。
1H-NMR (500.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.33-7.35 (m, 1H, HAr), 7.24-7.26 (m, 1H, HAr), 7.11-7.21 (m, 6H, HAr), 3.87-3.92 (dd, 1H, J = 12.1 Hz, J = 13.6 Hz, AB spin system, OCH2), 3.60-3.65 (m, 2H, NCH, OCH2), 2.53 (s, 3H, CArCH3), 2.41 (s, 3H, CArCH3), 2.39 (dd, 1H, J = 2.4 Hz, J = 14.8 Hz, PCH2), 2.34 (dd, 1H, J = 1.6 Hz, J = 14.5 Hz, PCH2), 1.40 (s, 3H, C(CH3)2), 1.33 (s, 3H, C(CH3)2), 0.85 (s, 9H, C(CH3)3); 31P-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -54.0;
[α]20D: -28.0 (c = 0.61, CHCl3).
【０１１８】
実施例Ｂ４：配位子Ｂ４の調製
【０１１９】
【化２８】
2012513445.tif 000030
不活性ガス下、反応槽に、Ｘｙｌ２ＰＨ  ２５０mg（１．０３mmol）、次いでＫＨ  ８１．０mg（２．０２mmol）を加えた。次に、オキサゾリンＡ６（２４０mg、１．１０mmol）及びＴＨＦ  ２mLを加えた。撹拌しながら、橙色の溶液を６時間加熱還流した。溶媒を真空下で除去し、ＴＢＭＥ  １０mL、次いで飽和ＮＨ４Ｃｌ−溶液５mLを加えた。相を分離し、水相を水２mLで希釈した。水相を次にＴＢＭＥで抽出し、合わせた有機相をブライン（１０mL）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。有機相にシリカゲル（３ｇ）を加え、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤＝ペンタン／酢酸エチル、５／１）の後、所望の生成物を無色の油状物として得た（３６０mg、０．８５mmol、収率８３％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.09 (s, 2H, HAr), 7.07 (s, 2H, HAr), 6.91 (s, 2H, HAr), 3.93 (dd, 1H, J = 6.8 Hz, J = 8.2 Hz, NCH), 3.75 (dd, 1H, J = 8.2 Hz, J = 10.0 Hz, OCH2), 3.67 (dd, 1H, J = 6.8 Hz, J = 10.0 Hz, OCH2), 2.42 (ddd, 2H, J = 3.7 Hz, J = 14.3 Hz, J = 33.6 Hz, PCH2), 2.28 (s, 12H, CH3CAr), 1.33 (s, 3H, C(CH3)2), 1.29 (s, 3H, C(CH3)2), 0.86 (s, 9H, C(CH3)3);
31P{1H}-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -26.5;
[α]20D: -29.0 (c = 0.95, CHCl3).
【０１２０】
実施例Ｂ５：配位子Ｂ５の調製
【０１２１】
【化２９】
2012513445.tif 000031
ＴＨＦ  １mL中の、ジ−tert−ブチルホスフィン（１０１．７mg、０．７０mmol）の溶液に、−７８℃で、１．１当量のｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６M、約０．４４mL）を加えた。次に冷却浴を除去し、混合物を室温で１時間撹拌した。リチオ化されたホスフィンの溶液を−７８℃に冷却し、カニューレを介して、ＴＨＦ  １mL中のオキサゾリンＡ６（３４０mg、１．５６mmol、２．２３当量）の溶液に滴下した。混合物を還流し、反応の進行を３１Ｐ−ＮＭＲで観察した。５時間後、溶媒を減圧下で留去した。未精製の生成物Ｂ５を、さらに精製することなく使用した。
31P-NMR (162.0 MHz, C6D6, 300 K): δ = 13.2 ppm.
【０１２２】
実施例Ｂ６：配位子Ｂ６の調製
【０１２３】
【化３０】
2012513445.tif 000032
不活性ガス下、反応槽に、オキサゾリンＡ７（１８４mg、０．７３mmol）、次いでＴＨＦ中のＫＰＰｈ２の０．５M 溶液１．４mL（０．９６当量、０．７０mmol）を加えた。撹拌しながら、赤色溶液を１４時間加熱還流した。次に、淡黄色の溶液に飽和ＮＨ４Ｃｌ−溶液５mLを加えた。この混合物をＴＢＭＥで抽出し、合わせた有機相をブライン（１０mL）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、溶離剤＝ペンタン／酢酸エチル、５／１〜４／１）の後、生成物を無色の油状物として得た（８０７mg、２．２０mmol、収率６０％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.43-7.47 (m, 4H, HAr), 7.12-7.33 (m, 11H, HAr), 4.15 (ddt, 1H, J = 4.5 Hz, J = 7.6 Hz, J = 8.9 Hz), 3.69 (dd, 2H, J = 3.3 Hz, J = 8.2 Hz), 3.03 (dd, 1H, J = 4.5 Hz, J = 13.7 Hz,), 2.47 (dd, 1H, J = 8.8 Hz, J = 13.7 Hz), 2.41 (dd, 2H, J = 3.3 Hz, J = 5.4 Hz), 1.35 (s, 3H, C(CH3)2), 1.28 (s, 3H, C(CH3)2).
31P{1H}-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -26.7.
[α]20D: -16.5 (c = 0.92, CHCl3).
【０１２４】
実施例Ｂ７：配位子Ｂ７の調製
【０１２５】
【化３１】
2012513445.tif 000033
オキサゾリンＡ８（４２７mg、１．２５mmol）に、ＴＨＦ中の０．５M ＫＰＰｈ２溶液２．７４mLを加え、乾燥ＴＨＦ  １．５mLをすすぎに用いた。混合物を２２時間還流した。溶液を０℃に冷却し、数滴の水を、溶液が無色になるまで加えた。次に飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液１０mL、次いでＴＢＭＥ  ２０mLを加えた。相を分離し、水相をＴＢＭＥで抽出した。合わせた有機相をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させた。シリカゲルを加え、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。シリカゲルを用いた濾過（溶離剤＝最初にペンタン、次にペンタン／酢酸エチル  ２０／１）により化合物を精製した。所望の生成物を、無色の固体として得た（２８０mg、４６％）。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300 K): δ = 7.27-7.36 (m, 6H, HAr), 7.14-7.22 (m, 14H, HAr), 4.16 (dd, 1H, J = 8.9 Hz, J = 10.0 Hz, OCH2), 4.08 (dd, 1H, J = 8.1 Hz, J = 8.9 Hz, NCH), 3.95 (dd, 1H, J = 8.1 Hz, J = 10.0 Hz, OCH2), 3.49 (dd, 1H, J = 4.3 Hz, J = 13.8 Hz, PCH2), 3.35 (dd, 1H, J = 4.8 Hz, J = 13.8 Hz, PCH2), 0.92 (s, 9H, C(CH3)3);
31P-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -24.2;
[α]D20 -31.5 (c 0.61, CHCl3).
【０１２６】
実施例Ｂ８：配位子Ｂ８の調製
【０１２７】
【化３２】
2012513445.tif 000034
配位子を、オキサゾリンＡ８  ３７６mg（１．１０mmol）、ｏＴｏｌ２ＰＨ  ２１４mg（１．００mmol）及びＫＨ  ８０．０mgから出発して、配位子Ｂ４について記載されているものと類似の方法で合成した。配位子を白色の固体として得た。
31P-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -49.3 ppm.
【０１２８】
実施例Ｂ９：配位子Ｂ９の調製
【０１２９】
【化３３】
2012513445.tif 000035
配位子を、オキサゾリンＡ８  ３７６mg（１．１０mmol）、Ｘｙｌ２ＰＨ  ２４２mg（１．００mmol）及びＫＨ  ２２４mgから出発して、配位子Ｂ４について記載されているものと類似の方法で合成した。配位子を白色の固体として得た。
31P-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300 K): δ = -24.3 ppm.
【０１３０】
実施例Ｂ１０：配位子Ｂ１０の調製
【０１３１】
【化３４】
2012513445.tif 000036
オキサゾリンアルコールＡ１１  １０７mgを、ＴＨＦ  ５mlに溶解した。０℃で、１，６M ｎ−ＢｕＬｉ  ０，２９ml（１当量）、次いでＴＨＦ中のＫＰＰｈ２０．５M溶液０，９２ml（１当量）を加えた。反応混合物を室温に温まるにまかせ、次に一晩（１５時間）還流した。溶媒を減圧下で蒸発させ、得られた残留物を、ＴＢＭＥ  ２０ml及び飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液６mlで抽出した。有機相を回収し、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。シリカ上のクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン  １：２）により、配位子Ｂ１０  １２０mg（６８％）を透明な油状物として得て、それを冷蔵庫中で固体化した。
1H-NMR (500.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 7.50 (m, 2H, ArH), 7.41 (m, 2H, ArH), 7.31 (m, 6H, ArH), 4.52 (m, 1H, OCH), 3.74 (d, 1H, J=9.1 Hz, N-CH), 2.72 (s, 1H, OH), 2.55 (dd, 1H, J=14.3, 4.9 Hz, CH2Cl), 2.37 (dd, 1H, J=14.4, 3.3 Hz, CH2Cl), 1.49 (d, 3H, J=6.6 Hz, CH(CH3), 1.32 (s, 3H, CH3), 1.29 (s, 3H, CH3), 1.27 (s, 3H, CH3), 1.24 (s, 3H, CH3)).
31P{1H}-NMR (202.5 MHz, CDCl3, 300K): δ = -21.3.
【０１３２】
実施例Ｂ１１：配位子Ｂ１１の調製
【０１３３】
【化３５】
2012513445.tif 000037
配位子Ｂ１０  ５０mg（１当量）を、塩化メチレン３mlに溶解し、２，６−ルチジン７６μl（５当量、７０mg）を２０℃で滴下した。次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル６７μl（２当量、５８mg、ｄ＝０，８５９）を加え、反応混合物を１時間撹拌した。溶媒を減圧下で留去した。残留物をジエチルエーテルで処理し、全ての固体を濾別した。濾液を濃縮し、残留物をシリカ上のカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン／Ｅｔ３Ｎ（１：１０：０，５）により精製して、生成物Ｂ１１  ４０mg（６７％）を、無色の油状物として得た。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 7.47 (m, 4H, ArH), 7.31 (m, 6H, ArH), 4.28 (m, 1H, OCH), 3.63 (d, J=9.1 Hz, 1H, NCH), 2.46 (ddd, J=51.0, 14.3, 3.7 Hz, 2H, CH2), 1.47 (d, J=6.8 Hz, 3H, CH(CH3)), 1.34 (s, 3 H), 1.32 (s, 3 H), 1.29 (s, 3 H), 1.23 (s, 3 H), 0.11 (s, 9 H).
31P{1H}-NMR (162.0 MHz, CDCl3, 300K): δ = -22.3.
【０１３４】
実施例Ｂ１２：配位子Ｂ１２の調製
【０１３５】
【化３６】
2012513445.tif 000038
オキサゾリンクロリドＡ１２  ６２mgをＴＨＦ  ３mlに溶解し、ＴＨＦ中の０，５M ＫＰＰｈ２溶液０，３６ml（１当量）を０℃で滴下した。反応混合物を次に室温に至るに任せ、一晩還流した。溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物をＴＢＭＥ  ２０mL及び飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液６ml中で抽出した。有機相を回収し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮した。シリカ上のカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン  １：２０）による残留物の精製により、ほぼ純粋な生成物Ｂ１２を無色の油状物として得た。
あるいは、Ｂ１２はまた、配位子Ｂ１０から出発して、唯一トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルの代わりにトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリルを用いること以外は実施例Ｂ１１に記載されているものと同様の方法及び条件を用いて、調製することができる。シリカ上のカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン／Ｅｔ３Ｎ（１：１０：０，５））により、純粋な生成物Ｂ１２  ４７mg（７３％）を、無色の油状物として得た。
1H-NMR (400.1 MHz, CDCl3, 300K): δ = 7.46 (q, J=7.4 Hz, 4H, ArH), 7.30 (m, 6H, ArH), 4.32 (m, 1H, OCH), 3.63 (m, 1H, NCN), 2.46 (ddd, J=60.7, 14.3, 3.8 Hz, 2H, CH2), 1.46 (d, J=6.9 Hz, 3H, CH3), 1.34 (s, 3H, CH3), 1.31 (s, 3H, CH3), 1.28 (s, 3H, CH3), 1.23 (s, 3H, CH3), 0.95 (t, J=7.9 Hz, 9H), 0.60 (t, J=8.2 Hz, 6H).
31P{1H}-NMR (202.5 MHz, CDCl3, 300K): δ = -22.3.
【０１３６】
Ｃ）金属錯体の合成
【０１３７】
実施例Ｃ１：イリジウム錯体Ｃ１の調製
【０１３８】
【化３７】
2012513445.tif 000039
方法ａ）：オキサゾリンＡ５から出発する、配位子Ｂ１の単離無しのイリジウム錯体Ｃ１の調製：
ＴＨＦ２mL中のオキサゾリンＡ５  ２１１mg（１．０３mmol、１．００当量）の溶液に、ＴＨＦ中の０．５MＫＰＰｈ２溶液２．０mL（１．００mmol、０．９７当量）を０℃で滴下した。赤色溶液を５時間加熱還流した。溶媒を真空下で除去し、残留物にトルエン（５mL）及びメタノール０．３mLを加えた。溶液をシリカの栓に通し、次いでトルエン５×２mLによって濾過した。溶媒を真空下で除去し、粗配位子Ｂ１  ３８６mg（１．０９mmol、１０６％）を錯体化のために十分な純度（３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルから判断）で得た。
【０１３９】
ＣＨ２Ｃｌ２  ５mL中の、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］２  ２０８mg（３１０μmol、０．５３当量）の溶液に、粗配位子Ｂ１  ２０７mg（５８６μmol、１．０当量）を加えた。溶液を３０分間加熱還流し、溶液を室温に冷ました後、ＮａＢＡｒＦ  ６７５mg（７６２μmol、１．３０当量）を固体で加えた。３０分後、水２０mLを加え、相を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２で洗浄した。合わせた有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、シリカゲル３ｇを加え、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。固定化した錯体をシリカゲルカラムの頂部に置き、ＴＢＭＥ  ３００mL（廃棄）、次いでＣＨ２Ｃｌ２  ２００mL（回収）で溶離した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、生成物を真空下（１×１０−１mbar）で乾燥させた。所望のＩｒ−錯体を、橙色の結晶質固体（６４４mg、４２５μmol）として収率７２％で得た。
1H-NMR (500.1 MHz, CD2Cl2, 300 K): δ = 7.87 (dd, 2H, J = 7.6 Hz, J = 11.2 Hz, HCAr), 7.73 (s, 8H, HCArF-o), 7.62-7.51 (m, 3H, HCAr), 7.57 (s, 4H, HCArF-p), 7.48-7.38 (m, 3H, HCAr), 7.13-7.08 (m, 2H, HCAr), 5.00-4.90 (br s, 1H, COD-CH), 4.89-4.76 (m, 1H, COD-CH), 4.44-4.39 (m, 1H, OCH2), 4.35 (dd, 1H, J = 14.6 Hz, J = 5.1 Hz, OCH2), 4.09-3.99 (m, 1H, NCH), 3.51 (br.s, 1H, COD-CH), 2.65-2.47 (m, 5H, COD-CH, COD-CH2, PCH2), 2.44-2.33 (m, 2H, COD-CH2), 2.18 (s, 3H, C(CH3)2), 2.17-2.10 (m, 1H, COD-CH2), 2.06-1.97 (m, 1H, CH(CH3)2), 1.95-1.86 (m, 1H, COD-CH2), 1.74-1.60 (m, 1H, COD-CH2), 1.49 (d, 3H, J = 2.7 Hz, C(CH3)2), 1.48-1.42 (m, 1H, COD-CH2), 0.84 (d, 3H, J = 7.1 Hz, CH(CH3)2), 0.06 (d, 3H, J = 6.7Hz, CH(CH3)2).
31P{1H}-NMR (162 MHz, CD2Cl2, 300 K): δ= 7.3.
[α]D20: -11 (c = 0.21, CHCl3).
【０１４０】
方法ｂ）：単離した配位子Ｂ１を用いたイリジウム錯体Ｃ１の調製
粗配位子Ｂ１の代わりに単離した配位子Ｂ１を用いる点が異なるが、上記記載のものと同様な方法を、金属錯体を調製するために用いた。単離された金属錯体は、方法ａ）で調製した金属錯体Ｃ１と同一であった。
【０１４１】
方法ｃ）：単離した配位子Ｂ１及び［Ｉｒ（ｃｏｄ）２］ＢＡｒＦを用いたイリジウム錯体Ｃ１の調製
ＣＤ２Ｃｌ２  ０．５ml中の［Ｉｒ（ｃｏｄ）２］ＢＡｒＦ１３．３mgの溶液に、配位子Ｂ１  ４mgを加え、溶液を２５℃で１０分間撹拌した。この溶液の３１Ｐ−ＮＭＲは、方法ａ）によって調製した錯体Ｃ１と同一であった。
【０１４２】
方法ａ）及びｂ）によって調製した単離金属錯体ならびに方法ｃ）によって調製した金属錯体溶液を用いて、触媒反応を実施することができる。
【０１４３】
以下のＩｒ−錯体を、錯体Ｃ１について記載したものと同様の方法により調製した。全ての錯体を、結晶質固体として得た：
【０１４４】
【表１】
2012513445.tif 000040
【０１４５】
Ｄ）適用例：
【０１４６】
（ａ）イリジウム錯体を用いた不斉水素化
一般的な不斉水素化の手順：
アルゴン下、はめ込みガラス（glass insert）及び磁気撹拌子を有する高圧鋼製オートクレーブに、単離した触媒（０．００２mmol）、又は配位子及び［Ｉｒ（ｃｏｄ）２］ＢＡｒＦからＣＨ２Ｃｌ２中インサイチュで調製した触媒溶液（０．００２mmol）を導入した。触媒に、ＣＨ２Ｃｌ２中の０．２mmolの基質溶液を加えた。ＣＨ２Ｃｌ２の量は、最終基質濃度が０．２Mとなるように選択された。アルゴン雰囲気を水素に交換し、水素圧を下記の表に示された圧力に設定した。水素化を撹拌子のスイッチを入れることで開始した。２時間後水素を放出し、溶液を窒素気流下で濃縮し、ヘキサン5mlで希釈し、直接、転化率（ＧＣ、アキラルカラム、Restek Rtx-1701、３０ｍ）及びｅｅ（ＧＣ又はＨＰＬＣ）について分析した。あるいは、溶液をシリカの小さい栓（ｈ×ｄ：２mm×１mm）を通して、濾液を直接、転化率（ＧＣ）及びｅｅ（ＧＣ又はＨＰＬＣ）について分析した。
【０１４７】
【表２】
2012513445.tif 000041
【０１４８】
水素化の結果：
（基質／触媒のモル比＝１００；水素圧＝５０bar；
【０１４９】
【表３】
2012513445.tif 000042
2012513445.tif 000043
【０１５０】
（ｂ）パラジウム錯体を用いた不斉アリルアルキル化：
【０１５１】
【化３８】
2012513445.tif 000044
［Ｐｄ（アリル）Ｃｌ］２（０．５当量）及び配位子（１当量）を混合し、ＣＨ２Ｃｌ２  ０．２mLに溶解し３０分間撹拌した。基質（１００mg、１０当量）を加え、混合物を０℃に冷却した。マロン酸ジメチル（３０当量）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド（ＢＳＡ）（３０当量）及びＮＢｕ４Ｆ（１０当量）をＣＨ２Ｃｌ２  １mLに溶解し、加えた。２時間後、反応を飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液でクエンチし、抽出した。溶媒を除去した。シリカ上での精製（１０ｇ、溶離剤：ペンタン：酢酸エチル：ＮＥｔ３＝１８：１：１）後、生成物の鏡像体過剰率について分析した（ＨＰＬＣ、ＡＤＨ）。
【０１５２】
【表４】
2012513445.tif 000045
【０１５３】
上記の表中の結果は、触媒反応のエナンチオ選択性に関して、従来技術の配位子における水素と比較した、Ｒ４基の予想外のプラスの効果を示している。
【国際調査報告】
2012513445.tif 000052
2012513445.tif 000053