(57)【要約】本発明はガラス基板（６）の表面（８）を通常の空気圧で被覆するための被覆方法に関し、その方法では、少なくとも１種の液体出発物質が小滴（１２）に噴霧され、形成された小滴（１２）が被覆される表面（８）に向かって導かれる。形成された小滴（１２）は、被覆プロセスにガラス基板（６）で小滴（１２）を気化するのに必要な熱エネルギーをもたらすことによって、小滴（１２）が被覆される表面に接触する前に、被覆される表面の実質的に近傍で気化される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の液体出発物質を噴霧して小滴を形成し、出発物質が基体表面で反応するように、該形成された小滴を被覆されるべき表面に向かうようにする、ガラス基板の表面を通常の空気圧で被覆するための被覆方法であって、ガラス基板により小滴を気化するために必要な熱エネルギーを被覆プロセスにもたらすことによって、出発物質が基板表面で反応する前に、該形成された小滴を被覆されるべき表面の実質的に近傍で気化させることを特徴とする、被覆方法。
【請求項２】
ガラス基板で小滴を気化するのに必要な熱エネルギーを被覆プロセスにもたらすことによって、小滴が被覆される表面に接触する前に、形成された小滴を被覆されるべき表面の実質的に近傍で気化させることを特徴とする、請求項１に記載の被覆方法。
【請求項３】
被覆プロセスを行う前又は被覆プロセスを行った後に、ガラス基板又は少なくとも被覆されるべき表面を加熱することを特徴とする、請求項１又は２に記載の被覆方法。
【請求項４】
ガラス基板製造プロセス又はガラス基板製造プロセスの工程からガラス基板を被覆プロセスも直接供給すること、そして、このときガラス基板が、被覆されるべき表面の実質的に近傍で小滴を気化するのに必要な熱エネルギーを有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項５】
１種以上の気化された出発物質を用いて被覆されるべき表面に被覆をもたらすことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項６】
１種以上の気化された出発物質がガラス基板の被覆される表面と反応するときに、被覆されるべき表面に被覆がもたらされることを特徴とする、請求項５に記載の被覆方法。
【請求項７】
２種以上の出発物質が一緒に反応するときに、被覆されるべき表面に被覆がもたらされることを特徴とする、請求項５又は６に記載の被覆方法。
【請求項８】
少なくとも１種の気化された出発物質の反応の結果として生じた１種以上の反応生成物が被覆されるべき表面と反応するときに、被覆されるべき表面に被覆がもたらされることを特徴とする、請求項５〜７のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項９】
１種以上の気化された出発物質が反応して粒子になり、該粒子が被覆されるべき表面に向けられることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項１０】
形成される小滴の平均直径が１０μｍ未満であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項１１】
形成される小滴の平均直径が約３μｍであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項１２】
形成される小滴のサイズ分布が１〜１０μｍであることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項１３】
ガラス基板が並板ガラス又は他のガラス製品であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項１４】
並板ガラス製造ライン（フロートライン）上の並板ガラスを被覆するための被覆プロセス、及び／又は並板ガラス固化ライン上の並板ガラスを被覆するための被覆プロセス、及び／又は光電池用ガラス基板製造ライン上のガラス基板を被覆するための被覆プロセスを用いることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の被覆方法。
【請求項１５】
被覆装置が、ガラス基板（６）の被覆に用いられる少なくとも１種の液体出発物質を気化させて小滴（１２）を生成させ且つ出発物質が基板表面で反応するように小滴（１２）をガラス基板（６）の被覆されるべき表面（８）に向かわせるための少なくとも１つの噴霧器を備えている蒸着室（２）を含む、被覆をガラス基板（６）の表面に通常の空気圧で付与するための被覆装置であって、該被覆装置は、小滴（１２）がガラス基板（６）の被覆される表面（８）で反応する前に、ガラス基板（６）の被覆されるべき表面に向けられた小滴（１２）を気化するように配置されていることを特徴とする、被覆装置。
【請求項１６】
被覆装置が、ガラス基板（６）の被覆されるべき表面（８）に小滴（１２）が接触する前に、ガラス基板（６）の被覆されるべき表面（８）の実質的に近傍で該表面（８）に向けられた小滴（１２）を気化するように配置されていることを特徴とする、請求項１５に記載の被覆装置。
【請求項１７】
被覆装置が、小滴（１２）をガラス基板（６）又はガラス基板（６）の表面層から気化するのに必要な熱エネルギーを吸収するように配置されていることを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の被覆装置。
【請求項１８】
ガラス基板（６）又はガラス基板（６）の表面層を加熱するための少なくとも１つの加熱手段（１４）を含むことを特徴とする、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項１９】
加熱手段（１４）が、小滴（１２）を気化させてガラス基板（６）又はガラス基板（６）の表面層に運ぶのに必要な熱エネルギーの量を十分に供給するように配置されていることを特徴とする、請求項１８に記載の被覆装置。
【請求項２０】
加熱手段（１４）は、ガラス基板（６）が蒸着室（２）へ供給される前、及び／又はガラス基板（６）が蒸着室（２）から取り出される後、及び／又はガラス基板（６）が蒸着室（２）内にあるときに、ガラス基板（６）又はガラス基板（６）の表面層を加熱するように配置されていることを特徴とする、請求項１８又は１９に記載の被覆装置。
【請求項２１】
加熱手段（１４）が、ガラス基板（６）又はガラス基板（６）の被覆されるべき表面（８）の少なくとも表面層を加熱するための１つ以上の火炎、炉、抵抗発熱体又は加熱ガス流を含むことを特徴とする、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２２】
蒸着室（２）が、周囲大気から実質的に隔離された状態でガラス基板（６）の被覆が実施されるように設けられていることを特徴とする、請求項１５〜２１のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２３】
被覆装置が、蒸着室（２）を連続的に通過するガラス基板（６）を被覆するために稼動するように配置されることを特徴とする、請求項１５〜２２のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２４】
被覆装置がバッチ法として稼動するように配置されることを特徴とする、請求項１５〜２３のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２５】
噴霧器（１０）が、３μｍ未満の平均直径を有する小滴（１２）を形成するように配置されることを特徴とする、請求項１５〜２４のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２６】
噴霧器（１０）が、１μｍ未満の平均直径を有する小滴（１２）を形成するように配置されることを特徴とする、請求項１５〜２５のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２７】
噴霧器（１０）が、１〜１０μｍのサイズ分布を有する小滴（１２）を形成するように配置されることを特徴とする、請求項１５〜２６のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２８】
ガラス基板（６）が並板ガラス又は他のガラス製品であることを特徴とする、請求項１５〜２７のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項２９】
装置が、並板ガラスの製造ライン（フロートライン）、及び／又は並板ガラスの固化ライン、及び／又は光電池用ガラス基板の製造ラインと接続された状態で配置されることを特徴とする、請求項１５〜２８のいずれか一項に記載の被覆装置。
【請求項３０】
出発物質が基板表面で反応するように、被覆される表面（８）の実質的に近傍で小滴（１２）を気化するのに必要な被覆プロセスへの熱エネルギーの量を供給するための被覆プロセスにおける熱ガラス基板の使用であって、小滴（１２）は少なくとも１種の液体出発物質から形成され、さらにガラス基板（６）の被覆される表面に向けられる、上記の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板を被覆する被覆方法、特に請求項１の記載によるガラス基板の表面を通常の空気圧で被覆するための被覆方法に関する。本発明はさらに、ガラス基板を被覆するための被覆装置、特に請求項１４の記載によるガラス基板の表面に通常の空気圧で被覆を付与するための被覆装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体出発物質の噴霧により小滴を生成させ、生成した小滴を被覆されるべきガラス表面に向かわせることによってガラスを被覆するという目的で液体出発物質を使用することは一般に知られている。つまり、従来法では、小滴を被覆されるべき基板の表面に液体小滴として送り、それによって、まず表面上に送られた小滴を熱分解するか、あるいは小滴の気化可能な物質を気化して被覆が基板の表面に形成させることによって、被覆を基板の表面に形成していた。
【０００３】
上述した従来の被覆方法の問題点は、被覆の成長速度が遅いことであり、この原因は、ガラス表面に送られた液体小滴がガラスの表面に液体皮膜を形成する点にある。液体皮膜の熱分解及び気化は遅い。成長速度が遅い場合、多くの用途（例えば移動並板ガラス上での被覆形成など）において上記被覆方法の利用が制限される。さらに、形成された被覆の均一性は、従来の被覆方法では調節困難である。
【０００４】
フォード・モーター社の１９８８年４月５日付け発行の米国特許第４，７３５，８６１号明細書には、ガラス基板上での灰色の被覆の形成が記載されている。熱及び酸素の存在下で揮発することで金属と酸素との反応によりガラス表面に対して付着性の多金属酸化物被覆を生成させることが可能な溶媒に、溶解金属化合物の溶液を配合することによって、被覆が形成される。溶液はガラス表面に噴霧される。金属が酸化されて生じた金属酸化物の一部はガラス基板の表面に付着して該表面上に皮膜を形成する。被覆形成は従って、金属酸化物粒子の付着に基づくものであって、表面反応によるものではない。
【０００５】
被覆をガラス基板に付与する他の従来法は、ＣＶＤ（化学蒸着）のような公知の蒸着法を用いることである。これらの一般的な蒸着法では、被覆されるべきガラス基板の表面は出発物質の気化にさらされる。この出発物質は、ガラスの表面と反応するか、又は互いに反応することにより、ガラス表面上に被覆を形成する。
【０００６】
これらの一般的な従来技術の蒸着法に伴う問題は、出発物質が被覆される基板の表面から離れて気化され、気化された出発物質が基板上に担体ガスとともに運ばれることである。気化された出発物質の長距離の移動は、気化された出発物質が移動中に望ましくない粒子を生成する原因となる。望ましくない生成粒子は基板の表面の被覆を終わらせ、それによって生成する被覆の品質を低下させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第４，７３５，８６１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解消するような被覆法及び被覆装置を提供することである。本発明の目的は、請求項１の特徴となる部分による被覆方法で達成される。本発明の目的はさらに、請求項１４の特徴となる部分による被覆装置で達成される。
【０００９】
本発明の好ましい態様は独立の請求の範囲で定義される。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、出発物質を付着室へ液体小滴として供給し、そして小滴を被覆されるガラス基板の表面に向かわせるという着想に基づく。ガラス基板は、ガラス基板の熱エネルギーが、小滴が被覆されるガラス基板の表面に接触する前に、小滴を被覆されるガラス基板の表面の実質的に近傍で気化することができるような温度で被覆プロセスにもたらされる。本発明の１つの態様では、ガラス基板が被覆されるガラス基板の表面の実質的に近傍で小滴を気化することができるように、小滴が被覆されるべきガラス基板の表面に向けられる前に、ガラス基板又はガラス基板の少なくとも表面層を加熱手段で加熱する。あるいは、ガラス基板又はガラス基板の少なくとも表面層は、被覆プロセスの後、すなわち、ガラス基板が小滴気化のための熱エネルギーを移動させた後に、加熱してもよい。ガラス基板の加熱は、被覆によるガラス基板の望ましくない冷却が避けられるように、小滴の気化のためにガラス基板から逃げる熱エネルギーを補うのに用いられる。ガラス基板の加熱はまた、ガラス基板の温度を、ガラス基板が小滴の気化に必要な温度を伝達できるレベルにまで引き上げるためにも用いられる。
【００１１】
気化出発物質は基板表面で反応して望ましい被覆又は皮膜を基板上に生成する。出発物質は基板表面近傍で気化するので、基板表面での出発物質の蒸気圧は高く、従って、高い被覆成長速度を可能にする。
【００１２】
本発明の被覆法及び被覆装置の利点は、従来の被覆法に伴う問題が解消されるように従来の被覆法の利点を合わせ持つことにある。本発明の被覆プロセス及び被覆装置は、出発物質が気化するとき表面反応が起こるため、出発物質がガラス基板の表面に液体小滴として供給される従来法と比較して高い被覆成長速度をもたらす。さらに、液体小滴の気化が被覆される基板の表面の実質的に近傍で生じるので、気化出発物質は基板の表面まで長い距離を移動しないため、望ましくない粒子形成が避けられる。出発物質を小滴として蒸着室へ供給することは、気相中の出発物質を蒸着室へ供給するよりシンプルな装置を必要とする。これは、被覆プロセスが製造ライン及び加工ラインのような様々な用途に容易に適用されることを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明による被覆装置の１つの態様を模式的に示した図である。
【図２】本発明による被覆装置の別の態様を模式的に示した図である。
【図３】被覆法における被覆装置の様々なデザインの効果を示す。
【図４】被覆法における被覆装置の様々なデザインの効果を示す。
【図５】被覆法における被覆装置の様々なデザインの効果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明による被覆法は通常の空気圧で行うのが好ましい。ここで、通常の空気圧とは、大気空気圧又は大気空気圧に実質的に相当する圧を意味する。被覆法では、１種以上の液体出発物質が１つ以上の噴霧器で小滴に噴霧される。１種以上の液体出発物質が噴霧器へ導かれ、さらに同一の又は異なる出発物質が隣接噴霧器へ導かれ得る。出発物質は生成される被覆に従って選択され得る。噴霧された小滴は、好ましくは蒸着室中の、被覆されるべきガラス基板の表面に向けられる。噴霧器は、例えば、気体流が液体出発物質の噴霧のために用いられる例えば２つの液体噴霧器でもよい。噴霧器は、被覆されるガラス基板の表面に向かう速度を小滴に与えるのが好ましい。あるいは、異なる種類の噴霧器が小さい小滴をもたらすのに用いられてもよい。
【００１５】
ガラス基板は被覆プロセスでは高温状態にされるか、あるいはガラス基板の少なくとも表面又は表面層は高温状態にある。被覆されるべきガラス基板の表面に向けられる液体小滴は、被覆されるべき表面の実質的に近傍で気化される。小滴の気化に必要な熱エネルギーは、熱い又は加熱されたガラス基板から伝達される。従って、小滴を気化するのに別の手段は必要なく、ガラス基板から放出される熱エネルギーが、小滴が被覆される表面に接触する前に、被覆される表面の実質的に近傍で小滴を気化する。つまり、小滴の気化に必要な熱エネルギーは基板によって被覆法に供給される。ガラス基板はずっと加熱されていてもよい。あるいは又はさらに、ガラス基板の表面もしくは表面層が加熱されてもよい。
【００１６】
小滴が気化されると、表面反応及び他の反応が気相で生じる。従って、被覆は１種以上の気化された出発物質でガラス基板の表面に施される。１種以上の気化された出発物質が被覆されるガラス基板の表面と直接反応するとき、ガラス基板の表面が被覆されるため、被覆が形成される。あるいは、被覆は、２種以上の気化出発物質が互いに反応し、それによって、形成された反応生成物が被覆されるガラス基板の表面と反応するとき、被覆されるガラス基板の表面に形成される。１種以上の気化出発物質が、それらが被覆される基板の表面と接触する前に、反応して粒子になってもよい。粒子はさらに、粒子による被覆の少なくとも一部を提供するために、被覆されるガラス基板の表面に向けられる。蒸着室に供給される出発物質の他に、被覆形成の役を果たす１種以上の気体を蒸着層へ供給してもよい。この種の気体は、例えば酸素又は酸化物被覆形成の役を果たすいくらかの他の酸素含有気体でもよい。
【００１７】
小滴が被覆されるガラス基板の表面に接触する前に、被覆されるべきガラス基板の表面の実質的に近傍で小滴を気化するには、気化条件を気化に適したものにしなければならない。小滴の気化は主に小滴のサイズ、温度及び高温における滞留時間に影響される。従って、噴霧器は平均直径が１０μｍ未満、好ましくは約３μｍの小滴を生成するように配置される。あるいは又はさらに、形成される小滴のサイズ分布は８０％を越える小滴が１〜１０μｍに入るサイズ分布である。言い換えると、小滴は小さい方が、比表面積がより大きいため、より容易に気化する。それによって、これらの小さめの小滴を用いるのが有利である。被覆プロセスの前に加熱することによってガラス基板を望ましい温度にしてもよい。高温における小滴の滞留時間は、被覆されるべきガラス基板の表面に向けられる小滴の速度を調整することによって変更してもよい。従って、小滴の気化は少なくとも上記のパラメーターによって決まり、それによって上記パラメーターの絶対値は常に各態様及び適用に特有のものである。
【００１８】
ガラス基板は、並板ガラス又は他のどのようなガラス製品でもよい。ガラス基板はガラス基板の製造プロセス又は製造プロセスの加工工程から直接被覆プロセスに送られてもよく、このとき、ガラス基板は、被覆されるガラス基板の表面に実質的に近い小滴を気化するのに必要な熱エネルギーを有する。あるいは、被覆プロセスはガラス基板の製造プロセス又は加工プロセスにおいて適用してもよい。従って、本発明の被覆プロセスは、並板ガラス製造ライン（フロートライン）上の並板ガラスを被覆するため、及び／又は並板ガラス固化ライン上の並板ガラスを被覆するため、及び／又は光電池用ガラス基板製造ライン上のガラス基板を被覆するために用いることができる。上記の適用において、ガラス基板の温度は、好ましくは６５０℃未満、好ましくはガラス固化温度未満である。ガラス基板の下側の温度は、実質的にガラス固化温度未満を保つので、本発明はまた上部表面又は上部表面層がガラス固化温度を越えて加熱されることを可能にする。
【００１９】
図１を参照する。図１はガラス基板６を被覆するための本発明による被覆装置の１つの態様を模式的に示す。この態様の被覆装置は、例えば移動ガラス基板６の表面を被覆するために用いられる。被覆装置は蒸着室２を含み、ここで、被覆が周囲大気から実質的に隔離されて行われる。蒸着室２は例えば気体カーテン（図示されていない）で周囲大気から隔離されてもよい。図１によると、蒸着室２は、被覆装置の壁、気体カーテン及びガラス基板６の上部表面８で形成される。
【００２０】
蒸着室２と接続して、１種以上の液体出発物質を小滴１２に噴霧するための少なくとも１つの噴霧器１０が備えられている。噴霧器１０は２つの液体噴霧器であるのが好ましく、そこでは、噴霧気体が液体を小滴１２に噴霧するために用いられる。あるいは、噴霧器１０は小滴を生成する他の種類の噴霧器でもよい。噴霧器１０は１０μｍより小さい、好ましくは約３μｍの平均直径を有する小滴１２を生成するように配置されるのが有利である。さらに、噴霧器１０は１〜１０μｍのサイズ分布を有する小滴を生成するように配置される。生成された小滴１２は、噴霧器１０又はキャリヤー気体で被覆されるべきガラス基板６の表面８に向けられる。
【００２１】
被覆装置はガラス基板６又はガラス基板６の表面８もしくは表面層を望ましい温度に加熱するための加熱手段１４を含み得る。加熱手段１４は、被覆されるガラス基板６又はガラス基板６の表面８の少なくとも表面層を加熱するための１つ以上の火炎、炉、抵抗発熱体又は加熱ガス流を含む。１つの好ましい態様は、強制対流で加熱するためのガラス基板６表面に向けた熱ガス流である。加熱手段１４は、被覆されるガラス基板６又はガラス基板６の表面８の表面層が、小滴１２が小滴１２の気化のために被覆される基板６の表面８に向けられる前、それらが被覆されるべき表面８と接触する前に、加熱されるように配置される。
【００２２】
図１によると、ガラス基板６は、図の左から右へ矢印Ｌの方向に被覆装置の下を移動するように配置される。加熱手段１４は図１によると、ガラス基板６又はガラス基板６の表面８が、ガラス基板６が蒸着室２へ入る前に加熱されるように、蒸着室２より前のガラス基板６の移動方向に配置される。あるいは、加熱手段１４は蒸着室２の内部に配置されてもよい。好ましくは、小滴がガラス基板６の表面８に向けられる時点の前に、ガラス基板６又はガラス基板６の表面８は望ましい温度に加熱される。さらに別の態様では、加熱手段１４は、表面８の被覆後、従って、小滴１２が気化した後に、それらがガラス基板６又はガラス基板６の表面８を加熱するように配置され得る。加熱手段はまた、基板６の被覆の前後にそれらがガラス基板６を加熱することができるように配置されてもよい。基板６を被覆装置に供給する前に、基板６が十分な温度を有するならば、ガラス基板６の加熱は被覆前に行う必要はない。小滴の気化に必要な熱エネルギーのガラス基板６からの伝達は、被覆されるガラス基板６の表面８を冷却させる。ガラス基板の加熱手段１４での加熱の目的は、従って、被覆前又は被覆後におけるガラス基板６の表面８の冷却を補うことである。つまり、加熱手段１４は、小滴１２の気化に必要な量と実質的に同量の熱エネルギーをガラス基板に与えるように配置されるのが好ましい。加熱手段は蒸着室２の前、蒸着室２の後又は蒸着室２の中に必要に応じて配置し得る。
【００２３】
ガラス基板６の熱エネルギーは、小滴１２が表面８と接触する前に、被覆されるガラス基板６の表面８の実質的に近傍で小滴１２を気化して気化出発物質１６にする。気化出発物質１６は、被覆されるべき表面８とさらに反応して、表面８に被覆を与える。従って、ガラス基板６が移動して蒸着室２を通過すると、被覆は連続的に形成され得る。気化された出発物質１６は蒸着室２から、蒸着室２へ吸引力をもたらす排気装置１８によって除かれる。従って、気化出発物質１６は図１の左から右へ矢印Ｋの方向に蒸着室２を通り抜ける。この態様によると、排気装置１８はガラス基板８の移動方向において噴霧器１０の下流に配置される。従って、この態様では、ガラス基板６の移動方向Ｌと蒸着室２における気化出発物質１６の流れ方向Ｋとが実質的に等しく、すなわち、ガラス基板６及び気化出発物質１６は同一の方向に移動することを示している。
【００２４】
図２は、本発明による被覆装置の別の態様を示す。この態様では、気化出発物質１６及びガラス基板６は蒸着室２において反対方向に移動するように配置される。その場合にはまた、噴霧器１０及び排気装置の位置は基板６の移動方向Ｌに対して変えなければならない。従って、蒸着室２に吸引力をもたらす排気装置１８は基板６の移動方向Ｌの噴霧器１０の上流に配置される。小滴１２は蒸着室２の噴霧器１０（噴霧器１０の実質的に下方）のところで、ガラス基板６に向かって蒸着室に進入する。ガラス基板６の熱エネルギーは小滴１２をガラス基板６の表面８の実質的に近傍で気化する。図２から分るように、排気装置１８は蒸着室２に吸引力をもたらして、気化出発物質１６を、ガラス基板６の移動方向Ｌと反対の方向Ｋに移動させる。気化出発物質１６の移動はガラス基板６の表面８に蒸気層をもたらす。蒸気層は噴霧器１０から排気装置１８まで方向Ｋに移動する。図１では、蒸気層はガラス基板６と同じ方向に移動し、図２では、ガラス基板６に対して反対方向に移動する。
【００２５】
上の記述及び図２から分るように、蒸気層及びガラス基板６が反対方向に移動する態様は、小滴１２の気化に必要な熱エネルギーが、気化出発物質１６とすでに接触したガラス基板６の部分表面８から吸収されるという利点を有する。従って、小滴１２を気化するための熱エネルギーは、すでに被覆されている基板６の部分から吸収される。これは、基板６及び基板の表面８からの熱エネルギーの吸収が、表面８の被覆、及び表面８上の気化出発物質１６の蒸着に影響を与えないという利点を有する。
【００２６】
図１及び図２の装置は、蒸着室２を通り抜けるガラス基板６の被覆のために連続的に運転されるように配置されるが、本発明による装置はまたパッチ法として運転されるように配置してもよい。バッチ法では、被覆されるガラス基板６はまず蒸着室２の内部へ供給され、次に、ガラス基板６又は被覆されるべき表面８の少なくとも表面層が望ましい温度まで加熱手段１４で加熱される。被覆は加熱後、少なくとも１種の出発物質を１つ以上の噴霧器１０で噴霧すること、及び形成された小滴１２をガラス基板６の被覆されるべき表面８に向かわせることによって開始される。加熱ガラス基板の熱エネルギーは被覆されるべき表面８の実質的に近傍で小滴を気化する。装置はさらに、表面全体を被覆するために、気化出発物質１６が蒸着室２から被覆されるべき表面８に沿って吸引されるように配置され得る。その代わりに又はそれに加えて、噴霧器は、被覆される表面上を１回以上、好ましくは被覆されるべき表面８に並行に掃引できるような移動が可能となるように配置し得る。
【００２７】
本発明の上記装置によると、少なくとも１種の液体出発物質を小滴１２噴霧すること、及び小滴１２をガラス基板６の被覆されるべき表面８に向かうようにすることによって、通常の空気圧でガラス基板に被覆を付与することが可能となる。加熱手段１４は、小滴１２の気化による基板６の冷却を補うために、被覆されるべき表面８の少なくとも表面層を加熱するのに用いられる。装置は並板ガラス又は他のガラス製品を被覆するように配置し得る。装置はさらに、ガラス基板の製造装置又は加工装置と接続して配置しても、あるいは別のプロセスとして配置してもよい。本発明の１つの態様では、装置は、並板ガラスの製造ライン（フロートライン）、及び／又は並板ガラスの固化ライン、及び／又は光電池用ガラス基板の製造ラインと接続して配置される。
【００２８】
図３〜５は、小滴１２の挙動における様々な蒸着室２の設計の影響を示す。図２〜４の全てにおいて、図Ａはコンピューターによる流体動力学（ＣＦＤ）モデルを示し、全ての小滴１２は１μｍの小滴直径での単分散であり、図Ｂは１０μｍ小滴の単分散である。小滴１２は噴霧器１０によって生成される。それらの軌道は図に描かれている。ガラス基板６も示す。図２〜４からは、小滴１２のガラス基板６上での実際の気化及び蒸着が大いに蒸着室２の設計で決まることが分かる。しかしながら、発明者等は、直径１μｍ未満の小滴１２は蒸着室２の壁上で容易に拡散し、１０μｍより大きな直径を有する小滴１２はガラス基板６に容易に衝突するという一般的なガイドラインを認めた。従って、１〜１０μｍの小滴１２は、良好な小滴気化、ごくわずかの蒸着室２の汚れ、及びガラス基板６への良好な蒸気流を保証する点で好ましい。小滴の平均直径は約３μｍであるのが好ましい。
【００２９】
本発明の上記の記述によると、熱ガラス基板は、少なくとも１種の液体出発物質から形成され且つ被覆されるべきガラス基板表面の実質的に近傍で該表面に向けられる小滴の気化に必要な被覆プロセスへの熱エネルギー量を供給するために用いられる。
【００３０】
技術が進歩につれて、本発明の概念が様々な方法で実行できることは、本技術分野における当業者にとって自明のことであろう。本発明及びその態様は上記の実施例に限定されず、請求項の範囲内で変更し得る。
【符号の説明】
【００３１】
２  蒸着室
６  ガラス基板
８  ガラス基板の表面
１０  噴霧器
１２  小滴
１４  加熱手段
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【国際調査報告】
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