(57)【要約】  流体処理システム中の放射線源アセンブリのための清浄装置が、開示されている。この清浄装置は、前記放射線源アセンブリの外部分から汚染物質を除去するように移動可能である、清浄用流体を収容するための少なくとも１つのチャンバ、並びに、前記少なくとも１つのチャンバに流体接続されている清浄スリーブ入口を有している清浄スリーブと、先端部が前記清浄スリーブ入口と流体接続され、且つ、基端部が前記流体処理システムで処理される流体の外に位置されるように構成されており、清浄用流体を前記清浄スリーブ入口に供給するための第１の導管部材と、を具備する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体処理システム中の放射線源アセンブリのための清浄装置であって、  
前記放射線源アセンブリの外部分から汚染物質を除去するように移動可能であり、清浄用流体を収容するための少なくとも１つのチャンバと、前記少なくとも１つのチャンバと流体接続されている清浄スリーブ入口とを有している清浄スリーブと、  
先端部が前記清浄スリーブ入口と流体接続され、且つ、基端部が前記流体処理システムで処理される流体の外に位置されるように構成されており、清浄用流体を前記清浄スリーブ入口に供給するための第１の導管部材とを具備する、清浄装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つのチャンバと流体接続されている清浄スリーブ出口から清浄用流体を供給するための第２の導管部材を更に具備する、請求項１に記載の清浄装置。
【請求項３】
前記第２の導管部材は、第２の導管部材の先端部が前記清浄スリーブ出口と流体接続され、且つ、第２の導管部材の基端部が前記流体処理システムで処理される流体の外に位置されるように構成されている、請求項２に記載の清浄装置。
【請求項４】
前記第２の導管部材の一部は、前記第１の導管部材と並べて配置されている、請求項２又は３に記載の清浄装置。
【請求項５】
前記第１の導管部材と前記第２の導管部材との組み合わせが、清浄用流体のためのリザーバを規定している、請求項４に記載の清浄装置。
【請求項６】
前記第１の導管部材と前記第２の導管部材との組み合わせが、清浄用流体のためのほぼ環状のリザーバを規定している、請求項４に記載の清浄装置。
【請求項７】
前記第１の導管部材と前記第２の導管部材とは、互いに取着されている、請求項２乃至６のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項８】
前記第１の導管部材と前記第２の導管部材とは、放射線源アセンブリに対して移動可能であり得る駆動部分を規定するように結合している、請求項２乃至６のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項９】
前記駆動部分は、駆動チューブの手動運転のためのハンドル部分を有する、請求項８に記載の清浄装置。
【請求項１０】
前記清浄スリーブは、引かれた位置と押し出された位置との間を移動可能である、請求項１乃至９のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項１１】
前記第１の導管部材の基端部は、清浄システムが前記引かれた位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体の外に位置される、請求項１０に記載の清浄装置。
【請求項１２】
前記第１の導管部材の基端部は、前記清浄システムが前記押し出された位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体中に浸される、請求項１０に記載の清浄装置。
【請求項１３】
前記第１の導管部材の基端部は、（ｉ）前記清浄システムが前記引かれた位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体の外に位置され、（ｉｉ）前記清浄システムが前記押し出された位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体中に浸される、請求項１０に記載の清浄装置。
【請求項１４】
前記清浄システムが前記引かれた位置にある時、前記第１の導管部材の基端部を受けるためのチューブ部分を更に具備する、請求項１３に記載の清浄装置。
【請求項１５】
前記チューブ部分は、前記第１の導管部材の基端部にアクセスするように取り外し可能なカバー部材を有する、請求項１４に記載の清浄装置。
【請求項１６】
前記清浄スリーブは、環状のリング部分を有する、請求項１乃至１５のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項１７】
複数の清浄スリーブを有する清浄キャリッジを具備する、請求項１乃至１６のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項１８】
前記清浄スリーブの各々は、放射線源アセンブリの外部分に係合されるように構成されている、請求項１７に記載の清浄装置。
【請求項１９】
前記複数の清浄スリーブは、前記第１の導管部材と流体接続されている清浄用流体充填ラインを規定するように、互いに流体接続されている、請求項１７又は１８に記載の清浄装置。
【請求項２０】
１対の清浄スリーブは、前記第１の導管部材と流体接続されている清浄用流体充填ラインを規定するように、互いに流体接続されている、請求項１７又は１８に記載の清浄装置。
【請求項２１】
前記複数の清浄スリーブは、前記第２の導管部材と流体接続されている清浄用流体戻りラインを規定するように、互いに流体接続されている、請求項１７乃至２０のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項２２】
１対の清浄スリーブは、前記第２の導管部材と流体接続されている清浄用流体戻りラインを規定するように、互いに流体接続されている、請求項１７乃至２０のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項２３】
前記清浄キャリッジは、前記第１の導管部材に対してほぼ環状の関係で位置されている複数の清浄スリーブを有する、請求項１７乃至２２のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項２４】
前記清浄スリーブの各々は、前記放射線源アセンブリの外部分とのシール係合のためのシールを有し、このシールは、前記スリーブが移動されると、前記放射線源アセンブリの外部分から望ましくない物質の少なくとも一部を除去する、請求項１乃至２３のいずれか１記載の清浄装置。
【請求項２５】
前記清浄スリーブの各々は、前記放射線源アセンブリの外部分とのシール係合のための１対のシールを有し、前記１対のシールは、（ｉ）前記スリーブが移動された時に前記放射線源アセンブリの外部分から望ましくない物質の少なくとも一部を除去し、（ｉｉ）チャンバからの清浄用流体の漏れをほぼ減じるか、防止する、請求項１乃至２３のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項２６】
第１の位置と第２の位置との間で前記清浄スリーブを移動させるための、（自動もしくは半自動の）動力手段を更に具備する、請求項１乃至２５のいずれか１に記載の清浄装置。
【請求項２７】
流体処理システムで使用されるための放射線源モジュールであって、このモジュールは、  
第１の支持部材を有するフレームと、  
前記第１の支持部材から延びており、放射線源を有している少なくとも１つの放射線源アセンブリと、  
清浄スリーブが前記少なくとも１つの放射線源アセンブリの少なくとも１つの外部分に接触している請求項１乃至２５のいずれか１に記載の清浄装置とを具備する、放射線源モジュール。
【請求項２８】
前記放射線源モジュールを前記流体処理システム中に配置するための手段を更に具備する、請求項２７に記載の放射線源モジュール。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、前記第１の支持部材にシール係合される、請求項２７又は２８に記載の放射線源モジュール。
【請求項３０】
前記フレームは、前記第１の支持部材とは反対側にありこの第１の支持部材から横方向に離間されている第２の支持部材を更に有し、前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材との間に配置される、請求項２７乃至２９のいずれか１に記載の放射線源モジュール。
【請求項３１】
前記フレームは、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材とを互いに接続している第３の支持部材を更に有する、請求項３０に記載の放射線源モジュール。
【請求項３２】
前記フレームは、放射線源を制御するためのパワー供給部を更に有する、請求項２９乃至３１のいずれか１に記載の放射線源モジュール。
【請求項３３】
前記放射線源アセンブリは、前記放射線源を囲んでいる保護スリーブを有する、請求項２７乃至３２のいずれか１に記載の放射線源モジュール。
【請求項３４】
前記保護スリーブは、クオーツスリーブを有する、請求項３３に記載の放射線源モジュール。
【請求項３５】
前記保護スリーブは、前記第１の支持部材中の開口部とシール係合されている開口端部と、前記第２の支持部材によって支持されている閉鎖端部とを有する、請求項３３又は３４に記載の放射線源モジュール。
【請求項３６】
前記開口端部は、前記放射線源との流体接続を防ぐように、シールされる、請求項３５に記載の放射線源モジュール。
【請求項３７】
流体の流れと請求項２７乃至３６のいずれか１に記載の少なくとも１つの放射線源モジュールとを受けるための流体処理領域を有する流体処理システムであって、前記少なくとも１つの放射線源モジュールは、１つの放射線源アセンブリが前記流体処理領域中に配置されるように構成されている、流体処理システム。
【請求項３８】
前記流体処理領域は、流体の流れを受けるための開口チャンネル中に設けられている、請求項３３に記載の流体処理システム。
【請求項３９】
前記流体処理領域は、流体の流れを受けるための閉鎖チャンネル中に設けられている、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４０】
前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向を横切るように位置されている長軸を有する、請求項３７乃至３９のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４１】
前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に対してほぼ平行になるように位置されている長軸を有する、請求項３７乃至３９のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４２】
前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に対して直交するように位置されている長軸を有する、請求項３７乃至３９のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４３】
前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり、前記流体処理領域にほぼ垂直に位置される、請求項３７乃至３９のいずれか１に記載の流体処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願についての説明
本出願は、２００９年７月２３日付で提出された仮特許出願S.N.61／213,866の35U.S.C.§119(e)に基づく効果を主張しており、これの内容が、参照することにより本書に含まれる。
【０００２】
本発明の一態様では、本発明は、流体処理システムに関わる。本発明の他の態様では、本発明は、洗浄装置に関わる。本発明の更なる他の態様では、本発明は、洗浄システムを収容している放射線源モジュールに関わる。本発明の他の態様では、本発明は、汚染物質を放射線源アセンブリの外面から除去する方法に関わる。本発明の他の態様は、本明細書の批評において本分野の当業者に明らかであろう。
【背景技術】
【０００３】
流体処理システムは、本分野で一般に知られている。
【０００４】
例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３（すべてMaarschalkerweerdの名義であり、以下ではMaarschalkerweerd＃１特許と称される）のすべては、紫外線（ＵＶ）を使用し且つ重力により送られる流体処理システムを開示している。
【０００５】
このようなシステムは、複数のＵＶランプを有するＵＶランプフレームのアレイを有している。前記複数のＵＶランプの各々は、クロスピースに取着されている１対の脚部の間に延びており且つこれら１対の脚部によって支持されている複数のスリーブ内に、取り付けられている。（前記ＵＶランプを収容しており）このように支持されている前記スリーブは、処理される流体中に浸っており、この流体は、必要に応じて放射線が照射される。この流体に照射される放射線の量は、前記ランプへの流体の近さと、前記ランプの出力ワット数と、前記ランプを通過する流体の流量とによって決定される。代表的に、少なくとも１つのＵＶセンサが、前記ランプのＵＶ出力量をチェックするように適用され得、流体レベルが、一般的に、処理装置の下流で、レベルゲート（level gates）等によって、ある程度に制御される。
【０００６】
近年では、いわゆる「流れを横切る（“transverse−to−flow”）」流体処理システムに関心が寄せられている。このようなシステムでは、放射線源が、この放射線源の長軸が放射線源を通過する流体の流れの方向に対して横切る関係（例えば、前記放射線源に対して直交した垂直の方向）になるように、処理される流体中に配置される。例えば、特許文献４と、特許文献５と、特許文献６と、特許文献７と、２００８年１２月１６日付けで提出された特許文献８とのいずれか１を参照されたい。
【０００７】
処理される流体の質によっては、前記ＵＶランプを定期的に囲んでいるスリーブが、異質の物質によって汚染され、ＵＶ線の放射を流体に伝達する能力が抑制される。既知の装置に関しては、このような汚染の発生は、過去の作業データによって、もしくはＵＶセンサから得られる測定値によって、決定され得る。汚染が一定の程度に達すると、前記スリーブは、汚染物質を除去してシステムの性能を最適化するために、清浄されなければならない。
【０００８】
前記ＵＶランプモジュールが、（例えばMaarschalkerweerd＃１特許で記載、図示されているような）開かれたチャンネルシステムに適用されるか、前述のような流れを横切るシステムに適用されるかに関わらず、少なくとも１つのモジュールは、前記システムが動作し続けている間に取り外され得、取り外されたフレームは、汚染物質を除去するために空気攪拌され得る適切な清浄液（例えば弱酸）の溶液中に浸され得る。この方法は、多くの当業者によって、非効率的であり、骨が折れ、不便であると見なされた。
【０００９】
多くの場合、この方法がひとたび導入されると、従来の流体処理システムに関わる最大の維持費のうちの１つが、放射線源の周りのスリーブを清浄するための費用であることが多い。
【００１０】
特許文献９、特許文献１０、特許文献１１（すべてMaarschalkerweerdの名義であり、以下ではMaarschalkerweerd＃２特許と称される）のすべてが、紫外線を使用する流体処理システムでの使用に特に有効な、改良された清浄システムを開示している。一般に、清浄システムは、清浄スリーブを有しており、清浄スリーブの各々は、放射線源（例えばＵＶランプ）を含む放射線源アセンブリの外部分の一部に係合する。前記清浄スリーブは、前記放射線源アセンブリの表面に沿って移動可能である。前記清浄スリーブは、前記放射線源アセンブリの外面に接触したチャンバを有している。このチャンバには、前記放射線源アセンブリの外面から望ましくない物質を除去するために適切な清浄用流体が、供給される。
【００１１】
Maarschalkerweerd＃２特許に開示されている清浄システムは、特に、前記流体処理システムの動作の間にモジュールを取り外すことを必要としないで前記放射線源アセンブリの清浄を容易にしたことにおいて、本分野で重要な効果を示した。しかしながら、前記清浄スリーブのチャンバ中の清浄用流体を交換、もしくは補充することが必要になると、前記清浄スリーブが係合されているモジュールもしくは放射線源アセンブリを取り外して、前記清浄スリーブのチャンバに清浄用流体を手動で充填することが必要となる。
【００１２】
従って、清浄スリーブが係合されているモジュールもしくは放射線源アセンブリを取り外すことを必要としないで、清浄用流体を交換、もしくは補充をすることができる清浄システムを有することが、望ましくなり得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】米国特許４，４８２，８０９
【特許文献２】米国特許４，８７２，９８０
【特許文献３】米国特許５，００６，２４４
【特許文献４】ＷＯ２００４／０００７３５[Traubenberg et al.]
【特許文献５】ＷＯ２００８／０５５３４４[Ma et al.]
【特許文献６】ＷＯ２００８／０１９４９０[Traubenberg et al.]
【特許文献７】米国特許７，４０８，１７４[From et al.]
【特許文献８】米国仮特許出願Ｓ．Ｎ．６１／１９３，６８６[Penhale et al.]
【特許文献９】米国特許５，４１８，３７０
【特許文献１０】米国特許５，５３９，２１０
【特許文献１１】米国特許ＲＥ３６，８９６
【特許文献１２】米国特許６，３４２，１８８
【特許文献１３】米国特許６，６４６，２６９
【特許文献１４】米国特許６，６５９，４３１
【発明の概要】
【００１４】
本発明の課題は、従来技術の前述の欠点の少なくとも１つを未然に防ぐか緩和することである。
【００１５】
本発明の更なる課題は、流体処理システム中の放射線源アセンブリのための新しい清浄装置を提供することである。
【００１６】
本発明の更なる課題は、新しい流体処理システムを提供することである。
【００１７】
従って、本発明の一態様では、本発明は、流体処理システム中の放射線源のための清浄装置を提供しており、この清浄システムは、  
放射線源アセンブリの外部分から汚染物質を除去するように移動可能であり、清浄用流体を収容するための少なくとも１つのチャンバと、前記少なくとも１つのチャンバと流体接続されている清浄スリーブ入口とを有している清浄スリーブと、  
先端部が前記清浄スリーブ入口と流体接続され、且つ、基端部が前記流体処理システムで処理される流体の外に位置されるように構成されており、清浄用流体を前記清浄スリーブ入口に供給するための第１の導管部材とを、有している。
【００１８】
また、本発明は、放射線源モジュールと、前記清浄装置を組み込んでいる流体処理システムとに関わる。
【００１９】
かくして、他の態様では、本発明は、流体処理システムで使用されるための放射線源モジュールを提供しており、このモジュールは、  
第１の支持部材を有するフレームと、  
前記第１の支持部材から延びており、放射線源を有している少なくとも１つの放射線源アセンブリと、  
清浄スリーブが前記少なくとも１つの放射線源アセンブリの少なくとも１つの外部分に接触している本発明の清浄システムとを、有している。
【００２０】
かくして、更なる他の態様では、本発明は、流体の流れを受けるための流体処理領域と、上記に規定されている少なくとも１つの放射線源モジュールとを有しており、前記少なくとも１つの放射線源モジュールは、１つの放射線源アセンブリが前記流体処理領域中に配置されるように構成されている。
【００２１】
かくして、本発明者は、紫外線放出ランプのような放射線源を含む放射線源アセンブリから汚染物質を除去するために特に有効な、新しい清浄装置を考案した。代表的に、このような放射線源アセンブリは、水処理システム（例えば、行政の廃水処理、行政の飲用水処理、産業廃棄水の処理など）のような流体処理システムで使用される。本清浄装置は、前記放射線源アセンブリもしくはこれを有しているモジュールを動作中の流体処理システムから取り外すことを必要とせず、清浄用流体の交換もしくは補充を可能にするので、特に有効である。かくして、清浄用流体を補充もしくは交換するために前記放射線源アセンブリもしくはこれを有しているモジュールを取り外す従来の方法に関わる追加の費用と作業とが、避けられ得る。本清浄装置は、前記流体処理システムで処理される流体のところから始まる基端部を有するように構成されている、清浄用流体を清浄スリーブに供給するための導管部材を有することを特徴としている。言い換えると、前記導管部材のディメンションは、一方では、この導管部材が１つの前記清浄スリーブ（もしくは複数の清浄スリーブ）に接続されるように、他方では、前記放射線源アセンブリもしくはこれを有しているモジュールが前記流体処理システムで動作している間にアクセス可能であるように、選択される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本清浄装置の第１の実施形態を組み込んでいる放射線源モジュールの拡大上面図を示している。
【図２】図２は、図１に示されている清浄装置の一部の拡大斜視図を示している。
【図３】図３は、図１に示されている放射線源モジュールの、部分的に切断された側面図を示している。
【図４】図４は、図２に示されている清浄装置の一部の拡大斜視図を示している。
【図５】図５は、前記清浄装置が引かれた位置にある、図１に示されている放射線源モジュールの斜視図を示している。
【図６】図６は、前記清浄装置が押し出された位置にある、図１に示されている放射線モジュールの上部の拡大斜視図を示している。
【図７】図７は、引かれた位置にある本清浄装置の第２の実施形態を組み込んでいる放射線源モジュールの上部の拡大斜視図を示している。
【図８】図８は、押し出された位置にある、図７に示されている放射線源モジュールの斜視図を示している。
【図９】図９は、図７及び図８に使用されている清浄装置で有効な遠隔充填アセンブリ部材の代わりの実施形態の拡大断面図を示している。
【図１０】図１０は、図９に示されている遠隔充填アセンブリ部材の変形例の図を示している。
【図１１】図１１は、図７に示されている放射線源モジュールの、部分的に切断された側面図を示している。
【図１２】図１２は、本清浄装置の第３の実施形態を組み込んでいる放射線源モジュールの斜視図を示している。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施形態は、添付の図面を参照して説明される。同じ参照符号が、同じ部分を示す。
【００２４】
本発明の一態様では、本発明は、清浄装置に関わる。清浄システムの好ましい実施形態は、以下の特徴のいずれか１つ、もしくはいずれか２つか２つ以上の組み合わせを有し得る。
【００２５】
・ 清浄装置は、少なくとも１つのチャンバと流体接続されている清浄スリーブ出口から清浄用流体を供給するための第２の導管部材を有し得る。
【００２６】
・ 前記第２の導管部材は、前記第２の導管部材の先端部が前記清浄スリーブ出口と流体接続され、且つ、前記第２の導管部材の基端部が流体処理システムで処理される流体の外に位置され得るように、構成され得る。
【００２７】
・ 前記第２の導管部材の少なくとも一部は、第１の導管部材と並べて配置され得る。
【００２８】
・ 前記第１の導管部材と前記第２の導管部材との組み合わせが、清浄用流体のためのリザーバを規定し得る。
【００２９】
・ 前記第１の導管部材と前記第２の導管部材との組み合わせが、清浄用流体のためのほぼ環状のリザーバを規定し得る。
【００３０】
・ 前記第１の導管部材と前記第２の導管部材とは、互いに取着され得る。
【００３１】
・ 前記第１の導管部材と前記第２の導管部材とは、放射線源アセンブリに対して移動可能であり得る駆動部分を規定するように結合し得る。
【００３２】
・ 前記駆動部分は、駆動チューブの手動運転のためのハンドル部分を有し得る。
【００３３】
・ 前記清浄スリーブは、引かれた位置と押し出された位置との間を移動可能であり得る。
【００３４】
・ 前記第１の導管部材の基端部は、清浄システムが前記引かれた位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体の外に位置され得る。
【００３５】
・ 前記第１の導管部材の基端部は、前記清浄システムが前記押し出された位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体中に浸され得る。
【００３６】
・ 前記第１の導管部材の基端部は、（ｉ）前記清浄システムが前記引かれた位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体の外に位置され得、（ｉｉ）前記清浄システムが前記押し出された位置にある時、前記流体処理システムで処理される流体中に浸され得る。
【００３７】
・ 前記清浄装置は、前記清浄システムが前記引かれた位置にある時、前記第１の導管部材の基端部を受けるためのチューブ部分を更に有し得る。
【００３８】
・ 前記チューブ部分は、前記第１の導管部材の基端部にアクセスするように取り外し可能なカバー部材を有し得る。
【００３９】
・ 前記清浄スリーブは、環状のリング部分を有し得る。
【００４０】
・ 前記清浄装置は、複数の清浄スリーブを有する清浄キャリッジを有し得る。
【００４１】
・ 前記清浄スリーブの各々は、放射線源アセンブリの外部分に係合されるように構成され得る。
【００４２】
・ 前記複数の清浄スリーブは、前記第１の導管部材と流体接続されている清浄用流体充填ラインを規定するように、互いに流体接続され得る。
【００４３】
・ １対の清浄スリーブは、前記第１の導管部材と流体接続されている清浄用流体充填ラインを規定するように、互いに流体接続され得る。
【００４４】
・ 前記複数の清浄スリーブは、前記第２の導管部材と流体接続されている清浄用流体戻りラインを規定するように、互いに流体接続され得る。
【００４５】
・ １対の清浄スリーブは、前記第２の導管部材と流体接続されている清浄用流体戻りラインを規定するように、互いに流体接続され得る。
【００４６】
・ 前記清浄キャリッジは、前記第１の導管部材に対してほぼ環状の関係で位置されている複数の清浄スリーブを有し得る。
【００４７】
・ 前記清浄スリーブの各々は、前記放射線源アセンブリの外部分とのシール係合のためのシールを有し得、このシールは、前記スリーブが移動されると、前記放射線源アセンブリの外部分から望ましくない物質の少なくとも一部を除去する。
【００４８】
・ 前記清浄スリーブの各々は、前記放射線源アセンブリの外部分とのシール係合のための１対のシールを有し得、前記１対のシールは、（ｉ）前記スリーブが移動された時に前記放射線源アセンブリの外部分から望ましくない物質の少なくとも一部を除去し、（ｉｉ）チャンバからの清浄用流体の漏れをほぼ減じるか、防止する。
【００４９】
・ 前記清浄装置は、第１の位置と第２の位置との間で前記清浄スリーブを移動させるための、（自動もしくは半自動の）動力手段を更に有し得る。
【００５０】
前記清浄装置は、以下の特徴のいずれか１つ、もしくはいずれか２つか２つ以上の組み合わせを有し得る放射線源モジュール中に、組み込まれ得る。
【００５１】
・ 前記放射線源モジュールは、この放射線源モジュールを流体処理システム中に配置するための手段を更に有し得る。
【００５２】
・ 少なくとも１つの放射線源アセンブリが、第１の支持部材にシール係合され得る。
【００５３】
・ フレームが、前記第１の支持部材とは反対側にありこの第１の支持部材から横方向に離間されている第２の支持部材を更に有し得、前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材との間に位置される。
【００５４】
・ 前記フレームは、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材とを互いに接続している第３の支持部材を更に有し得る。
【００５５】
・ 前記フレームは、放射線源を制御するためのパワー供給部を更に有し得る。
【００５６】
・ 前記放射線源アセンブリは、前記放射線源を囲んでいる保護スリーブを有し得る。
【００５７】
・ 前記保護スリーブは、クオーツスリーブを有し得る。
【００５８】
・ 前記保護スリーブは、前記第１の支持部材中の開口部とシール係合されている開口端部と、前記第２の支持部材によって支持されている閉鎖端部とを有し得る。
【００５９】
・ 前記開口端部は、前記放射線源との流体接続を防ぐように、シールされ得る。
【００６０】
前記放射線源モジュールは、以下の特徴のいずれか１つ、もしくはいずれか２つか２つ以上の組み合わせを有し得る流体処理システム中に組み込まれ得る。
【００６１】
・ 流体処理領域は、流体の流れを受けるための開口チャンネル中に設けられ得る。
【００６２】
・ 前記流体処理領域は、流体の流れを受けるための閉鎖チャンネル中に設けられ得る。
【００６３】
・ 前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり得、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向を横切るように位置されている長軸を有し得る。
【００６４】
・ 前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり得、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に対してほぼ平行になるように位置されている長軸を有し得る。
【００６５】
・ 前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり得、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に対して直交するように位置されている長軸を有し得る。
【００６６】
・ 前記少なくとも１つの放射線源アセンブリは、細長い形状であり得、前記流体処理領域にほぼ垂直に位置され得る。
【００６７】
かくして、図１乃至図６を参照すると、放射線源モジュール１００が示されている。
【００６８】
放射線源モジュール１００は、２００８年１２月１６日付けで提出された同時係属の米国仮特許出願Ｓ．Ｎ．６１／１９３，６８６[Penhale et al.]に開示されている放射線源モジュールとほぼ同じである。かくして、放射線源モジュール１００は、前述のPenhale et al.仮特許出願に記載されているように好ましくは構成されている一連の放射線源カートリッジ１１０を有している。放射線源モジュール１００は、１対の対向したレール１１５、１２０を有している取り付けプレート１１２を有している。好ましくは、前記放射線源カートリッジ１１０は、前述のPenhale et al.仮特許出願の段落００３５、００３６に概して記載されているように、前記取り付けプレート１１２に取着されている。
【００６９】
また、清浄装置１０が、前記取り付けプレート１１２に取着されている。この清浄装置１０は、駆動チューブ１２を有している。ハンドル１４が、この駆動チューブ１２の基端部に取着されている。一連の清浄スリーブ１８を有する清浄キャリッジ１６が、前記駆動チューブ１２の先端部に位置されている。前記清浄スリーブ１８の各々は、前記放射線源カートリッジ１１０中に収容されている放射線源アセンブリの外部分に係合されている（前記放射線源アセンブリは、明瞭にするために図２から省かれているが、例えば図４に示されている）。
【００７０】
清浄用流体供給入口２０と清浄用流体戻り出口２２とが、前記駆動チューブ１２の基端部に位置されている。清浄用流体供給出口２４と清浄用流体戻り入口２６とが、前記駆動チューブ１２の先端部に位置されている。特に図４を参照すると判るように、駆動チューブ１２は、清浄用流体を収容するためのリザーバ（例えば環状のリザーバ）を形成している。前記清浄用流体供給出口２４は、（明瞭にするために図示されていない）適切な導管もしくはチューブによって、１つの清浄スリーブ１８に接続されている。この清浄スリーブは、最後の清浄スリーブが前記清浄用流体戻り入口２６に接続されるようにして全ての清浄スリーブが同様に直列接続されるまで、同じ方法で他の清浄スリーブに接続されている。この方法で、前記全ての清浄スリーブ１８は、前記清浄用流体供給出口２４と前記清浄用流体戻り入口２６とに、互いに連続して接続されていると考えられ得る。当然、前記清浄スリーブ１８を前記清浄用流体供給出口２４と前記清浄用流体戻り入口２６とに接続する他の構成（例えば、並列接続）は、当業者の理解の範囲内である。
【００７１】
前記清浄装置１０中の清浄用流体を交換もしくは補充することが求められると、（明瞭にするために図示されていない）ポンプと清浄用流体の供給部とが、前記駆動チューブ１２の基端部に位置されている前記清浄用流体供給入口２０に接続される。（明瞭にするために図示されていない）出口チューブが、前記清浄用流体戻り出口２２に接続される。前記ポンプが駆動されると、清浄用流体は、前記清浄用流体供給入口２０から前記駆動チューブ１２の内部に流れる。そして、清浄用流体は、前記清浄用流体供給出口２４から前記清浄スリーブ１８の各々に流れる。
【００７２】
各清浄スリーブ１８間の連続した接続によって、全ての清浄スリーブに清浄用流体が供給され、そして、前記駆動チューブ１２の先端部に位置されている前記清浄用流体戻り入口２６に供給される。そして、この清浄用流体は、前記駆動チューブ１２を通って上方に流れ、前記駆動チューブ１２の基端部に位置されている前記清浄用流体戻り出口２２を介して、前記清浄装置１０から流れ出る。前記清浄用流体戻り出口２２から放出した流体は、適切なオーバーフローもしくは同様のリザーバ中に集められ得る。流体がこの方法で放出すると、清浄スリーブ１８は、新しい清浄用流体が十分に補充されていると見なされ得る。また、この方法は、ライン中に入り得、流し出される必要がある古い清浄用流体、及び／もしくは不純物、及び／もしくは水の戻りを可能にする。
【００７３】
図１乃至図６に示されている実施形態の特定の効果は、前記駆動チューブ１２が、これのサイズに応じて、清浄用流体の交換もしくは補充の間に比較的長い時間を与えるように、前記清浄システムのためのリザーバとしても機能することである。このリザーバ中に収容された清浄用流体は、加圧された状態もしくは加圧されていない状態で、保持され得る。特に図５及び図６を参照すると、清浄用流体は、前記清浄装置１０が引かれた位置（図５）、押し出された位置（図６）、もしくはこれらの位置の間のいずれかの位置にある時に、交換もしくは補充され得ることが、当業者に明らかであろう。
【００７４】
図７乃至図１１を参照すると、放射線源モジュール２００が示されている。この放射線源モジュール２００は、多くの点で、前記放射線源モジュール１００に類似している。違いは、放射線源モジュール１００の清浄装置１０の駆動チューブ１２が、遠隔充填アセンブリ部材５０に変えられていることである。この遠隔充填アセンブリ部材５０は、清浄装置１０の清浄キャリッジ１６に取着されている。
【００７５】
前記遠隔充填アセンブリ部材５０は、図１乃至図６に示されている清浄用流体供給入口／出口及び清浄用流体戻り入口／出口の同じ構成を有している。かくして、図９を参照すると、この遠隔充填アセンブリ部材５０は、チューブ状の部分４０を有しており、このチューブ状の部分４０中に清浄用流体充填ライン４２と清浄用流体戻りライン４４とが収容されていることが判る。この清浄用流体充填ライン４２は、清浄用流体供給入口２０と清浄用流体供給出口２４とに接続されている。前記清浄用流体戻りライン４４は、清浄用流体戻り出口２２と清浄用流体戻り入口２６とに接続されている。キャップ４６が、前記遠隔充填アセンブリ部材５０の先端部に取着されている。前記清浄用流体供給出口２４と前記清浄用流体戻り入口２６とは、図１乃至図６を参照して前述されているように、一連の清浄スリーブ１８に接続されている。
【００７６】
図１０は、遠隔充填アセンブリ部材５０の変形例を示しており、この図では、清浄用流体充填ライン４２と清浄用流体戻りライン４４との一方が、省かれている。好ましくは、清浄用流体充填ライン４２が省かれており、従って、チューブ状の部分４０が、（図１乃至図６を参照して前述されている構成と同様に、）清浄用流体のためのリザーバとなる。
【００７７】
取り外し可能なキャップ１３０を有するパーキングチューブ部材１２５が、取り付けプレート１１２に取着されている。この取り外し可能なキャップ１３０は、前記パーキングチューブ部材１２５の先端部に位置されている。
【００７８】
放射線源モジュール２００の清浄用流体を交換もしくは充填することが求められると、清浄装置１０は、引かれた位置に移動される（図７及び図１１を参照されたい）。次に、前記キャップ１３０が前記パーキングチューブ部材１２５から取り外され、前記キャップ４６が前記遠隔充填アセンブリ部材５０から取り外され、これによって、前記清浄用流体供給入口２０と前記清浄用流体戻り出口２２とが、露出される。この点において、図１乃至図６を参照して前述された方法が、清浄用流体を清浄装置１０で交換もしくは補充するために利用される。完了すると、前記清浄用流体供給入口２０と前記清浄用流体戻り出口２２とへの接続が終了し、前記キャップ４６と前記キャップ１３０とが、元の位置に戻される。そして、前記清浄装置１０は、前記放射線源モジュール２００の放射線源アセンブリから汚染物質を除去するために使用され得る。
【００７９】
図１２を参照すると、Maarschalkerweerd＃１特許と、特許文献１２、特許文献１３、特許文献１４とに示されている放射線源モジュールにほぼ類似した放射線源モジュール３００が、示されている。図示されている実施形態では、図７乃至図１１を参照して説明された遠隔充填アセンブリ部材５０に類似した遠隔充填アセンブリ３５０が、清浄キャリッジ３１０に取り付けられている。清浄キャリッジ３１０が前記放射線源モジュール３００中の放射線源アセンブリの外部分に沿って往復移動するのに従って、前記遠隔充填アセンブリ３５０は、前記清浄キャリッジ３１０上で往復移動する。
【００８０】
図示されている実施形態では、最底部の清浄スリーブ３１２が清浄用流体の供給部に接続され、残りの清浄スリーブに上向き方向で連続して接続されるように、前記遠隔充填アセンブリ３５０と前記清浄キャリッジ３１０との間の連続した接続が為される。この構成では、連続して接続されている最後の清浄スリーブは、最上部にあり、前記遠隔充填アセンブリ３５０で清浄用流体戻りラインに接続され得る。底部から上部を充填するこの方法は、前記清浄スリーブに清浄用流体を完全に充填することを確実にするために、これら清浄スリーブ中の空気を除くことを可能にする。前記放射線源モジュール３００で清浄用流体を交換もしくは補充するための残りの接続及び操作に関する詳細は、図１乃至図１１を参照して前述されている通りである。
【００８１】
本発明は、例証となる実施形態及び実施例を参照して説明されているが、本明細書は、制限的な意味で解釈されることを意図されない。かくして、例証となる実施形態の種々の変形例、及び本発明の他の実施形態が、本明細書の参照によって、当業者に明らかであろう。例えば、図１乃至図１２に示されている特定の実施形態は、手動で、もしくは自動で、もしくは半自動で動作するように構成され得る。従って、添付の請求項は、このような変形例もしくは実施形態のいずれも対象とし得る。
【００８２】
本書で言及される全ての公知文献、特許、特許出願は、参照によって全体が本明細書に含まれ、公知文献、特許、特許出願の各々が参照によって全体が本明細書に含まれることが特別に個々に示されているのと同じである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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