(57)【要約】  本発明は、芳香族ニトロ化合物を触媒的に水素化して芳香族アミンを製造する方法であって、ＳｉＯ2を含む支持体に担持された銅触媒を用い、該ＳｉＯ2が湿式研磨とそれに続く噴霧乾燥により製造されていることを特徴とする方法に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ニトロ化合物を触媒的に水素化して芳香族アミンを製造する方法であって、
ＳｉＯ2を含む支持体に担持された銅触媒を用い、該ＳｉＯ2が湿式研磨とそれに続く噴霧乾燥により製造されていることを特徴とする方法。
【請求項２】
上記銅触媒が銅を１５〜４０重量％の量で含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記銅触媒が、さらにカリウム、ナトリウム、バリウム、クロム、モリブデン、パラジウム、亜鉛、タングステン、ニッケルまたはコバルトから選ばれる少なくとも一種の金属を含む請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
上記芳香族アミンがアニリンである請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
上記銅触媒の表面積が１５０〜３８０ｍ2／ｇである請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
上記銅触媒が流動床触媒として用いられる請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
上記湿式研磨で、直径が１〜３５μｍのＳｉＯ2粒子が製造される請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
上記湿式研磨で、固体含量が１０〜１５％のスラリーが用いられる請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
上記の湿式研磨中または湿式研磨後に、アルカリ金属水酸化物の水溶液、特にＮａＯＨの水溶液が加えられる請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
上記湿式研磨と続く噴霧乾燥で製造されるＳｉＯ2の表面積が４００〜６２０ｍ2／ｇである請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
銅と、必要なら少なくとも一種の他の金属が、加工後のＳｉＯ2を含む支持体に塗布される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
上記の塗布が、上記支持体に、銅と必要なら少なくとも一種の他の金属を含む溶液を含浸させて行われる請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＳｉＯ2支持体上に担持された銅触媒を用いて芳香族アミン、特にアニリンを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ニトロ化合物を水素化してアニリン等の芳香族アミンを製造する方法は、古くから知られている。ＷＯ２００８／０３４７７０は、流動床反応器中で芳香族アミンを製造する方法に関する。この方法では、ニトロ化合物と水素を含むガス状反応混合物が、底から上向きに、流動床を形成する不均一粒子状の触媒を通過して流れる。流動床中には、特定の幾何構造をもつ、触媒含有構造物が与えられている。用いる触媒は、元素周期律表（ＰＴＥ）の１族及び／又は５〜８族の重金属を含む、特に銅やパラジウム、モリブデン、タングステン、ニッケルまたはコバルトの一種以上の元素を含む担持触媒あるいは非坦持触媒である。しかしながら、必要に応じて存在する支持体に関しては、他の情報は与えられていない。
【０００３】
ＣＮ−Ａ１６５７１６２は、ニトロベンゼンの水素化によりアニリンを製造するための流動床触媒に関する。この触媒は、支持体としてのＳｉＯ2と、銅とクロムとモリブデンと、さらにはニッケル、亜鉛、バリウム、バナジウム、ビスマス、鉛またはパラジウムから選ばれる他の金属を含んでいる。上記の金属は、ある特定の重量比率で酸化物の形で触媒中に存在している。上記の金属は、ＳｉＯ2の製造の過程ですでに塩水溶液の形で本プロセスに加えられている。しかし、これらの金属は加工後の支持体には塗布されない。
【０００４】
断熱条件下で固定触媒を用いてニトロ芳香族を水素化しアニリンなどの芳香族アミンを製造する方法がＥＰ−Ａ１８８２６８１に記載されている。好適な触媒は、原則としてニトロ化合物の気相水素化に使用可能なすべての触媒である。これらの触媒の金属成分は、合金の形であるいは複合酸化物の形で存在可能であり、必要ならこの触媒を不活性支持体材料を用いて製造することができる。有用な支持体材料としては、例えば、酸化アルミニウム（α異形体とγ異形体）、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ラテライト、水ガラスまたはグラファイトがあげられる。用いられる金属は、好ましくはＰｄ、Ｔｅ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｐｂ、またはＢｉである。ＢＥＴ表面積が１０ｍ2／ｇより小さなα−酸化アルミニウムの使用が好ましい。
【０００５】
ＥＰ−Ａ１９３５８７１とＤＥ−Ａ１０２００６００７６１９は、主に触媒存在下におけるニトロベンゼンの水素化で製造されるアニリンの精製に関する。この精製は、特定の蒸留プロセスまたはアルカリ金属水酸化物の水溶液での抽出で行うことができる。好適な触媒は、例えば周期律表の遷移８族の金属を含む触媒で、必要なら炭素またはマグネシウムやアルミニウム及び／又はケイ素の酸化物などの支持体材料に塗布されたものである。好適な触媒は、例えばラネーコバルト触媒またはラネーニッケル触媒である。固定された不均一担持触媒、例えば酸化アルミニウム支持体または炭素支持体に担持されたＰｄなどもまた好適である。
【０００６】
ＣＮ−Ａ１６３４８６０は、アニリンの合成中に流動床反応器中に取り付けられる流動床反応器ガス分配器に関する。このガス分配器はいろいろな噴出方向をもち、メインガス導入管は交差した分岐導管の中心に連結されており、ガス分配用の環状の導管が１〜１０個の円に分割されて上記の分岐状導管に連結されている。この流動床反応器中では、平均粒度が４５〜３００μｍの支持体担持金属触媒が使用され、触媒の静的充填高は反応器直径の２倍〜１０倍である。この触媒は銅を主活性成分として含み、ＳｉＯ2またはＡｌ2Ｏ3が支持体として使用されている。
【０００７】
例えば二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）から触媒用の支持体材料を製造する方法は、古くから知られている（ゾルゲル法）。具体的な担持触媒の製造方法がＤＥ−Ａ１０２００４００６１０４に開示されている。この方法では、まずヒドロゲルが製造され、これを粉砕して微細な粒子状のヒドロゲルとし、これよりこの微細粒子状ヒドロゲルを含むスラリーが製造される。次いでこのスラリーを噴霧乾燥して触媒支持体を得る。少なくとも一種の遷移金属及び／又は少なくとも一種の遷移金属化合物が、この触媒支持体に塗布される。原則として、銅やニッケル、白金、パラジウム、ニッケル、鉄、クロムまたはチタンを含むすべての遷移金属が好適である。これらの触媒は、オレフィンの重合及び／又は共重合に使用されている。これらのオレフィンから繊維やフィルム及び／又は成型物を製造することができる。しかしながら、水素化法によるアニリン製造でのこの触媒の利用は、ＤＥ−Ａ１０２００４００６１０４には記載されていない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、新規の経済的に実施可能な芳香族アミンの製造方法、特にアニリンの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本目的は、芳香族ニトロ化合物を触媒的に水素化して芳香族アミンを製造する方法であって、ＳｉＯ2を含む支持体に担持された銅触媒を用い、該ＳｉＯ2が湿式研磨とそれに続く噴霧乾燥により製造されていることを特徴とする方法で達成される。
【００１０】
本発明の方法は、芳香族アミンが、特にアニリンが高収率及び／又は高化学純度で得られるという長所をもっている。また、本発明の方法はプロセス技術の点で非常に簡単に実施できる。もう一つの長所は、噴霧乾燥の前に実施される湿式研磨により機械的に非常に安定な触媒支持体が得られることである。本発明の方法で用いられる触媒は、高い耐磨耗性に特徴がある。高耐磨耗性のため触媒寿命が長くなる。このためこの触媒は、芳香族アミンを得るための芳香族ニトロ化合物の水素化に長期間使用可能であり、芳香族アミンへの変換率及び／又は選択性が長期間一定であるか、低下してもその量は小さい。
【００１１】
湿式研磨中にあるいは湿式研磨後にアルカリ金属水酸化物の水溶液を添加すると、特に耐摩耗性の高い触媒が得られる。得られる支持体材料は、アルカリ金属水酸化物水溶液を加えず湿式研磨後に乾燥及び／又は焼成工程で処理された支持体材料（粒子）より亀裂が少ない。
【００１２】
以下、本発明の芳香族アミンの製造方法を詳細に説明する。
【００１３】
本発明において、芳香族アミンは、原則として、少なくとも一個の芳香族環、例えばベンゼンまたはナフタレン、特にベンゼンをもち、その芳香族環が少なくとも一個の置換または未置換アミノ官能基（アミノ基）で置換されている化合物である。この芳香族環は、少なくとも一個の無置換アミノ基（−ＮＨ2）で置換されていることが好ましい。この芳香族環は、必要なら少なくとも一個の他の置換基を、例えばメチル、エチル、プロピルなどのアルキル基、またはより長鎖のアルキル置換基を有していてもよい。本発明の方法でアニリンを製造することが特に好ましい。アニリンは、さらに一個または二個のアルキル基で置換されていてもよく、特にメチル基で置換されていてもよい。しかし、無置換アニリンの製造が特に好ましい。
【００１４】
本発明の方法で用いられる反応原料は、その（芳香族アミンに相当する）芳香族ニトロ化合物である。即ち、本発明の方法においては、反応原料中に存在するニトロ基（−ＮＯ2）が相当するアミノ基（置換基／−ＮＨ2）に置換される。従って、本発明の方法において、相当する少なくとも一個のニトロ置換基を含む芳香族化合物が使用できる。これらの芳香族ニトロ化合物は、必要なら少なくとも一個の他の置換基を有していてもよい。従って、好ましい反応原料は、ニトロベンゼン、ニトロトルエン、またはジニトロトルエンである。本発明の方法ではニトロベンゼンを使用することが特に好ましい。
【００１５】
本発明において、接触水素化とは、水素触媒存在下での芳香族ニトロ化合物の相当する芳香族アミンへの反応を意味する。この接触水素化は、当業界の熟練者には既知の方法で行うことができる。例えばこの圧力は１〜５０ｂａｒであり、好ましくは２〜２０ｂａｒ、より好ましくは２〜１０ｂａｒである。水素化温度は、例えば１５０〜４００℃であり、好ましくは２００〜３００℃、より好ましくは２７０〜３００℃である。
【００１６】
本発明の方法で用いられる触媒は、（触媒活性な）金属成分として銅を含む（銅触媒）。この触媒は、さらに二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）を含む支持体に担持されている。この銅触媒支持体中に存在するＳｉＯ2は、湿式研磨と続く噴霧乾燥により製造されたものである。言い換えれば、これは、銅触媒支持体の製造において湿式研磨工程が実施されることを意味する。湿式研磨工程の後に噴霧乾燥工程が続く。
【００１７】
本発明の方法で用いられる触媒は、銅を、いずれの所望の濃度で含んでいてもよい（以下の濃度はＣｕＯとして計算されたものである）。この触媒は、好ましくは銅を、１５〜４０重量％の量で、特に２５〜３５重量％の量で含んでいる。銅や他の金属の重量％は、触媒の総重量に、即ち支持体材料を含む触媒重量に対するものである。存在する銅といずれか他の金属は、いかなる酸化状態であってもよく、例えば０酸化状態（金属性の銅）であっても及び／又は酸化銅の形の＋Ｉ及び／又は＋ＩＩ酸化状態であってもよい。同じことが、いずれか他に存在する金属にもあてはまる。
【００１８】
この銅触媒は、この他金属として、周期表の主族Ｉと主族ＩＩ、遷移族ＶＩ、遷移族Ｉから選ばれる少なくとも一種の金属（純元素または化合物、例えば酸化物として）を含む。必要なら、アニリン製造プロセスで使用される当業界の熟練者には既知の他金属が、例えばパラジウムやニッケル、コバルトまたは白金が、銅触媒中に存在していてもよい。この銅触媒は、好ましくはさらに、カリウム（Ｋ）とナトリウム（Ｎａ）、バリウム（Ｂａ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、亜鉛（Ｚｎ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）またはコバルト（Ｃｏ）から選ばれる少なくとも一種の金属を含む。この銅触媒は、より好ましくはさらに、カリウムとバリウムまたは亜鉛から選ばれる少なくとも一種の金属を含む。これらの他金属は、銅触媒中にいかなる濃度で存在していてもよいが、他金属成分の総重量がこの触媒中に存在する銅の重量より少ないことが好ましい。銅触媒中に存在する他金属の総量は、１〜１０重量％が好ましく、特に１〜５重量％が好ましい。
【００１９】
銅触媒を製造する方法は、原則として当業界の熟練者には公知である。まず、銅と必要に応じて加えられる金属を、加工後の支持体に塗布してもよい。即ち、銅と必要に応じて用いられる少なくとも一種の他金属が加工後の支持体に塗布する前に、支持体をまず製造する。本発明において、「加工後の支持体」は、個々の触媒粒子がすでに（ほぼ）完全に形成されていることを意味する。したがって、加工後の支持体は、湿式研磨工程と続く噴霧乾燥工程の後にできるものである。銅及び／又は他の金属は、上記の加工後支持体粒子の乾燥工程及び／又は焼成工程の後で塗布される。
【００２０】
これに代えて、銅及び／又は他の金属を、支持体の製造の初期に、触媒製造プロセスに導入することもできる。本発明の方法の銅触媒は、好ましくはＳｉＯ2を含む加工後の支持体に、銅と必要なら少なくとも一種の他の金属を塗布して製造される。銅などの金属を加工後の支持体に塗布する方法は、当業界の熟練者には公知である。塗布は、好ましくはこの支持体に銅と必要なら少なくとも一種の他の金属を含む溶液を含浸することで行われる。銅と他の金属は、例えば炭酸塩溶液の形で、特にアンモニア性炭酸塩溶液の形で、あるいは硝酸塩溶液の形で添加できる。この添加は各金属成分ごとに添加してもよいし、一工程で添加してもよい。
【００２１】
銅触媒の表面積は、１５０〜３８０ｍ2／ｇであることが好ましい。また、この銅触媒を流動床触媒（流動床反応器中）として使用することも好ましい。
【００２２】
本発明の方法の銅触媒は支持体を含み、この支持体は湿式研磨と続く噴霧乾燥で製造されるＳｉＯ2を含んでいる。特定の大きさの粒子を製造するための湿式研磨法（湿式研磨）は、原則として当業界の熟練者に公知である。本発明において、湿式研磨は、すでに形成されている二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）を特定の大きさ／直径の粒子に微粉砕することを意味するものとする。粉砕は、適当なミル中で、例えばピンミルまたはターボミル、特に攪拌ボールミル中で行われる。まず二酸化ケイ素を液体中で微粉砕させる。液体中に存在する二酸化ケイ素を、スラリーと呼ぶこともある。このスラリーの固体含量が１０〜１５重量％で、ｐＨが５〜１０であることが好ましい。ＳｉＯ2懸濁液が好ましく、特にＳｉＯ2水懸濁液が好ましい。
【００２３】
湿式研磨の間にスラリー中に存在するＳｉＯ2は、当業界の熟練者には既知の方法で製造される。このＳｉＯ2は、ゾルゲル法で製造されることが好ましい（シリカゲルの製造）。例えば、Ｎａ2ＳｉＯ3などのケイ酸ナトリウムを硫酸と反応させてＳｉＯ2とする。この反応生成物を、アンモニア水溶液で、あるいは水に溶解した二酸化炭素で洗浄できる。得られる材料は粗粉であり、通常さらに微粉砕に、特に研磨にかける。本発明において、これは、湿式研磨の形で行われる。
【００２４】
この湿式研磨で得られるＳｉＯ2粒子は、いずれか所望の大きさをもつ。この湿式研磨で、（平均）径が１〜３５μｍ、特に２〜３０μｍであるＳｉＯ2粒子を製造することが好ましい。この湿式研磨と続く噴霧乾燥で得られるＳｉＯ2の表面積は４００〜６２０ｍ2／ｇであることが好ましい。
【００２５】
銅触媒の支持体は、触媒活性金属成分を除く支持体に対して９５重量％を超える量の、特に９８重量を超える量のＳｉＯ2を含むことが好ましい。この支持体は、添加物及び／又はバインダーを含まないか、実質的に含まないことが好ましい。しかしながら必要なら、支持体中にＳｉＯ2と共に他の添加物、バインダーまたは他の物質が存在していてもよい。これらの他成分は、湿式研磨工程の前に、例えばゾルゲル工程中で、あるいは湿式研磨工程中あるいはその後で添加することができる。必要なら、この銅触媒を、ＳｉＯ2に加えて酸化アルミニウムなどの当業界の熟練者には既知の他の支持体材料を含む支持体混合物上で使用することもできる。
【００２６】
必要なら、湿式研磨工程で得られるＳｉＯ2を直接銅触媒用支持体として用いることもできる。通常はこの湿式研磨工程に続いて、他の噴霧乾燥工程や、必要なら焼成工程が実施される。研磨工程で、特に湿式研磨工程で得られるＳｉＯ2の乾燥及び／又は焼成は、当業界の熟練者には公知である。この乾燥工程では、スラリーに由来する液体を噴霧により除去することが好ましい。この乾燥工程に続けて焼成工程を行うことが好ましい。焼成工程は、１５０〜３００℃の温度で行うことが好ましく、特に２５０〜２８０℃の温度で行うことが好ましい。焼成時間は、通常１〜５時間である。
【００２７】
本発明のある好ましい実施様態においては、湿式研磨中または湿式研磨後にアルカリ金属水酸化物の水溶液がＳｉＯ2に加えられる。水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液を、例えば２５％溶液として加えることが好ましい。湿式研磨後に、即ち所望の大きさのＳｉＯ2粒子を含む、好ましくは直径が１〜３５μｍのＳｉＯ2粒子を含むスラリーに添加することが好ましい。特に、この工程は、乾燥工程の、特にスラリー液体の噴霧による乾燥工程の少し前に行われる。
【００２８】
本発明の他の実施様態においては、湿式研磨で得られる、異なる（平均）径のＳｉＯ2粒子を含む少なくとも２種の画分が相互に混合される。この混合操作の後に、例えばアルカリ金属水酸化物の水溶液の添加工程及び／又は乾燥焼成工程が続いてもよい。
【００２９】
本発明のある実施様態においては、上記の銅触媒を流動床反応器で使用することができる。その場合、流動床を水平方向に複数のセルに分割し、また垂直方向に複数のセルに分割する内部構造が、流動床反応器内部に与えられる。このような流動床反応器が、例えばＷＯ２００８／０３４７７０に記載されている。この場合、相当するニトロ化合物と水素を含むガス状反応混合物が、その底から流動床反応器中の銅触媒内を上向きに通過させられる。各セルのセル壁面はガスを透過させ、垂直方向に反応器容量１リットル当り１〜１００リットル／ｈの範囲の銅触媒の交換速度が確保できるような開口部を有している。
【００３０】
流動床反応器中に設けられたセルのセル壁面の開口部は、垂直方向の銅触媒の交換速度が反応器容量１リットル当り１０〜５０リットル／ｈの範囲となり、横方向のそれが０であるか、反応器容量１リットル当り１０〜５０リットル／ｈの範囲でなるように設けられていることが好ましい。また、流動床反応器中で垂直方向に相互に平行に設けられた、曲がったガス透過性の金属シート、エキスパンドメタル層または織物層により流路を横切るように充填され、垂線に対してゼロでない傾斜角をもつ屈折部を形成する曲がったエッジをもち、続く金属シート、エキスパンドメタル層または織物層の屈曲部が同じ傾斜角であるが向きが反対である内部構造を設け、このため曲がったエッジ間での狭窄により、形成されるセルが縦方向に区切られているようにすることが好ましい。この圧力表面の垂線に対する傾斜角は、１０〜８０°の範囲であり、特に３０〜６０°の範囲である。
【００３１】
他の実施様態においては、この触媒が、例えばＤＥ−Ａ４８２０あるいはＤＥ−Ａ３３３９４に記載されている流動床反応器で用いられる。
【００３２】
本発明の他の実施様態においては、本方法がガス分配器が設けられた流動床反応器中で実施される。このようなガス分配器は当業界の熟練者には公知である。これらは、例えばＣＮ−Ａ１６３４８６０に記載されている。
【００３３】
本発明の方法で製造される芳香族アミンを、接触水素化の後で、さらに一回以上の精製工程にかけてもよい。この精製は、例えば蒸留で行うことができる。反応中に存在する水は、反応混合物中の芳香族アミンから蒸留で除くことができ、その場合、この有機アミンの水分率を単一の蒸留工程で、有機アミンと水の混合物に対して２０重量％未満に下げることができる。水素化で放出される反応熱を上記の蒸留の加熱に用いることもできる。蒸留塔は、絶対塔頂圧力が１ｂａｒ未満で行うことが好ましい。また、生成するいずれの低沸分も蒸留で除くことができる。
【００３４】
必要なら、水素化で得られる芳香族アミン（粗製アミン）を、アルカリ金属水酸化物の水溶液で抽出して、水相と有機相を相互に分離することもできる。この場合、用いるアルカリ金属水酸化物溶液の濃度と抽出の温度は、水相と有機相の分離の際に水相が下相となるように調整される。この抽出は、３０〜５０℃の温度で行うことが好ましい。
【００３５】
以下の実施例を基に、本発明をさらに説明する。
【実施例】
【００３６】
実施例１：支持体の製造
水ガラスと硫酸から、液滴状に噴霧してシリカヒドロゾルを得る。ゲル成形時間は１〜１５秒間である。ヒドロゾル液滴は球状の形状をもち、水中で捕獲する。その後洗浄する。このようにして得られるヒドロゲル球は、１４〜２０重量％のＳｉＯ2を含む。このヒドロゲル球を、攪拌ボールミル中で水と共に粉砕して、固体含量が１３重量％のスラリーを得る。次いでこのスラリーを２５％のＮａＯＨと混合し、噴霧乾燥させる。最後に、このようにして得られる粉末を２６０〜２８０℃で４時間焼成する。このようにして得られる粒子は、微細球状で次のような特徴をもつ：  
・嵩密度：４７０ｋｇ／ｍ3 
・粒度：１０〜３００μｍ  
・ＢＥＴ表面積：４８０ｍ2／ｇ  
【００３７】
実施例２：銅触媒の製造
６０ｇの実施例１の支持体を、まずオイルバス温度が１２０℃のロータリーエバボレータに投入する。この支持体に、１７９．０２ｇのアンモニア性炭酸銅溶液と、１．７４ｇの硝酸カリウムと１．４ｇの硝酸亜鉛の混合物を少量ずつ添加する。得られる触媒を乾燥し、次いで２００〜５５０℃で１３５分間焼成する（触媒１）。
【００３８】
触媒１の分析データを下の表２に示す：
【００３９】
【表１】
2012526741.tif 000002
【００４０】
摩耗率は、ジェット磨耗装置で測定する。
この磨耗試験は、ガス／固体流動床中で流動化した材料（例えば触媒）に加わる機械的なストレスを模倣したものであり、その耐久性を示す摩耗率と微粉含量を与える。
【００４１】
摩耗装置は、ガスと固体が漏れないようにガラス管の連結されたノズルベース（ノズルΦ＝０．５ｍｍ）からなる。上部では、このガラス管は、同様にガスと固体が漏れないような形で、コーン状に広がるスチール管に連結している。この系を、４ｂａｒの圧縮空気ネットワークに接続する。減圧弁が、この系の上流で圧力を２ｂａｒ絶対に低下させる。
【００４２】
６０．０ｇの触媒をこの系に導入する。この試験での圧縮空気の流量は３５０ｌ／ｈである。この系自体は、常圧（１ｂａｒ、２０℃）で行う。ノズルの高ガス速度のため、粒子／粒子の衝突と粒子／壁面の衝突が起こり、粒子が磨耗、微粉砕される。排出される固体は、曲がったパイプを経てろ紙（孔径：１０〜１５μｍ）のスリーブ中に導かれ、きれいなガス流が試験室排気系に排出される。
【００４３】
１時間後に集められた固体（粒子＜２０μｍ）を評量し（微粉含量と定義する）、また５時間後に秤量する（摩耗率と定義する）。
【００４４】
実施例３：アニリンの製造
触媒１の性能を、５ｌの反応器［Ｔ＝２９０℃、ｐ＝６ｂａｒ絶対、水素：２ｍ3（ＳＴＰ）／ｈ−Ｈ2、Ｎ2：８ｍ3（ＳＴＰ）／ｈ、触媒時間空間速度＝０．９１ｋｇMNB／ｋｇcat×ｈ］中での連続運転で試験する。前もって加熱したニトロベンゼンを、二物質ノズルを用いて反応器中にポンプ供給し、ノズル開口部から少量の水素流を用いて噴霧させる。触媒１では、合計で１０５００時間にわたるサイクル試験で、１００％の変換率と、＞９９．５％の選択性が達成された。サイクルの後、触媒はまた活性を示したが反応を停止した。
【国際調査報告】
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