(57)【要約】  個別ミラー（１１２）を用いて、ファセットミラーを構成する。個別ミラー（１１２）のミラー本体（７９）は、剛性のキャリア体（８１）に対して傾斜継手（８２，８３）の少なくとも１つの傾斜軸（ｗ１，ｗ２）を中心に傾斜可能に構成される。傾斜継手（８２，８３）は、一体継手として構成される。一体継手は、傾斜軸（ｗ１，ｗ２）に対して垂直に継手厚さＳと、傾斜軸（ｗ１，ｗ２）に沿って継手長さＬとを有する。Ｌ／Ｓ＞５０である。その結果、個別ミラーから、再現可能且つ正確に調整可能であると同時に、個別ミラーにより反射される有効放射線の残留吸収により生じる熱の十分な熱除去をミラー本体による放熱によって確保する、ファセットミラーが構成される。【選択図】図１０
2012514863.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファセットミラー（１３，１４；４７；６４；６７；７０）を構成する個別ミラー（１３９）であって、
該個別ミラー（２１；９９；１１２；１２６；１３８）のミラー本体（７９）が、剛性のキャリア体（８１）に対して少なくとも１つの傾斜軸を中心に傾斜可能に構成される、個別ミラー（１３９）において、
前記少なくとも１つの傾斜軸を中心とした傾斜制御用のアクチュエータ（１１９）が、
第１の継手本体に可動に接続される移動電極（１２０）と、
第２の継手本体に剛接続される対向電極（１２２）と、
を有し、
誘電体層（１２３）が、前記移動電極（１２０）と前記対向電極（１２２）との間に配置され、
前記対向電極（１２２）は、前記誘電体層（１２３）を介して前記移動電極（１２０）の接触面部分（１２４）に直接当接し、前記アクチュエータ（１１９）の無力状態では、離間面部分（１２５）での前記対向電極（１２２）と前記移動電極（１２０）との間隔が連続的に拡大し、前記移動電極（１２０）が前記第１の継手本体に接続される接続領域（１２１，１２９）が、前記離間面部分（１２５）に位置付けられることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項２】
請求項１に記載の個別ミラーにおいて、移動電極（１２０）をそれぞれが有する３つ又は４つのアクチュエータ（１１９）を特徴とする、個別ミラー。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の個別ミラーにおいて、前記移動電極（１２０）は湾曲していることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、前記移動電極（１２０）は矩形の基面を有することを特徴とする、個別ミラー。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、前記移動電極（１２０）は螺旋状の基面を有することを特徴とする、個別ミラー。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、前記移動電極（１２０）と前記対向電極（１２２）との間隔は、前記離間面部分（１２５）において徐々に拡大することを特徴とする、個別ミラー。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、前記電極アクチュエータ（１１９）用の電圧入力デバイスが、前記少なくとも１つの移動電極（１２０）と前記少なくとも１つの対向電極（１２２）との間の前記電極アクチュエータ（１１９）の中立位置で、バイアス電圧を印加するよう構成されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項８】
ファセットミラー（１３，１４；４７；６４；６７；７０）を構成する個別ミラー（２１；９９；１１２；１２６；１３８）であって、
該個別ミラー（２１；９９；１１２；１２６；１３８）のミラー本体（７９）が、剛性のキャリア体（８１）に対して傾斜継手（８２，８３）の少なくとも１つの傾斜軸（ｗ１，ｗ２）を中心に傾斜可能に構成される、個別ミラー（２１；９９；１１２；１２６；１３８）において、
前記傾斜継手（８２，８３）は、一体継手として構成され、該一体継手は、
前記傾斜軸（ｗ１，ｗ２）に対して垂直に継手厚さＳと、
前記傾斜軸（ｗ１，ｗ２）に沿って継手長さＬと、
を有し、Ｌ／Ｓ＞５０であることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項９】
請求項８に記載の個別ミラーにおいて、前記ミラー本体（７９）は、前記キャリア体（８１）に対して、２つの傾斜継手（８２，８２）の互いに平行に配置されていない２つの傾斜軸（ｗ１，ｗ２）を中心に傾斜可能に構成されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１０】
請求項９に記載の個別ミラーにおいて、前記２つの傾斜継手のうち第１の傾斜継手（８３）は、前記ミラー本体（７９）と中間体（８４）との間に配置され、前記２つの傾斜継手のうち第２の傾斜継手（８２）は、前記中間体（８４）と前記キャリア体（８１）との間に配置されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記２つの傾斜継手（８２，８３）は、一体継手として構成され、該２つの一体継手は、
前記傾斜軸（ｗ１，ｗ２）それぞれに対して垂直に継手厚さＳを有し、
前記傾斜軸（ｗ１，ｗ２）それぞれに沿って継手長さＬを有し、
Ｌ／Ｓ＞５０であることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記少なくとも１つの傾斜継手（８２，８３）は、前記傾斜軸（ｗ１，ｗ２）に沿って複数の別個の一体継手部分（１１８）に分割されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１３】
請求項８〜１２のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
アクチュエータ（８９，９０；１１９；１３１）が、前記少なくとも１つの傾斜軸（ｗ１，ｗ２）を中心とした傾斜制御用に、
前記傾斜継手（８２，８３）の第１の継手本体（７９；８４）に剛接続される少なくとも１つの電極（７９；９１）と、
前記傾斜継手（８２，８３）の第２の継手本体（８４；８１）に剛接続される少なくとも１つの対向電極（９１；９６）と、
を有することを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１４】
請求項１３に記載の個別ミラーにおいて、関連する前記対向電極（９１；９６）からの前記電極（７９；９１）の無力状態での間隔が、１００μｍであることを特徴とする、請求項１３に記載の個別ミラー。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載の個別ミラーにおいて、さらなる電極（１３４，１３５）が、前記電極（１３２）と前記傾斜継手（８２，８３）の前記第２の継手本体（７９）に剛接続された前記対向電極（１３６）との間に配置されることにより、前記電極（１３４，１３５）は、前記第２の継手本体（７９）に剛接続された前記対向電極（１３６）と共に電極積層体（１３３）を形成し、隣接する前記電極（１３２，１３４〜１３６）はそれぞれ、互いに対して傾斜継手（１３７）を中心に傾斜可能に構成されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１６】
請求項８〜１５のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
アクチュエータ（１１９）が、前記少なくとも１つの傾斜軸（ｗ１）を中心とした傾斜制御用に、
前記傾斜継手（８２，８３）の第１の継手本体（１０６）に可動に接続される移動電極（１２０）と、
前記傾斜継手（８２，８３）の第２の継手本体（８８）に剛接続される対向電極（１２２）と、
を有し、
誘電体層（１２３）が、前記移動電極（１２０）と前記対向電極（１２２）との間に配置され、
前記対向電極（１２２）は、前記誘電体層（１２３）を介して前記移動電極（１２０）の接触面部分（１２４）に直接当接し、前記アクチュエータ（１１９）の無力状態では、離間面部分（１２５）での前記対向電極（１２２）と前記移動電極（１２０）との間隔が連続的に拡大し、前記移動電極（１２０）が前記傾斜継手（８２，８３）の前記第１の継手本体（１０６）に接続される接続領域（１２１，１２９）が、前記離間面部分（１２５）に位置付けられることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記ミラー本体（７９）は、少なくとも１ｍｍ×１ｍｍのサイズの反射面（８０）を有することを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記少なくとも１つの傾斜軸（ｗ１，ｗ２）は、前記反射面（８０）の平面内に又は該反射面（８０）と平行に延びることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記少なくとも１つの傾斜継手（８３）は、前記ミラー本体（７９）の反射面（８０）の側部に配置されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項２０】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記少なくとも１つの傾斜継手（８２，８３）は、前記反射面（８０）の中央下方に配置されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の個別ミラーにおいて、
前記キャリア体（８１，８４）上に互いに離間して配置される少なくとも２つの電極（１０８，１０９；１１０，１１１；１１４〜１１７）を有するアクチュエータを特徴とする、個別ミラー。
【請求項２２】
請求項２１に記載の個別ミラーにおいて、前記キャリア体（８１）上に互いに離間して配置される４つの電極（１１４〜１１７）を有するアクチュエータを特徴とする、個別ミラー。
【請求項２３】
請求項２２に記載の個別ミラーにおいて、前記４つの電極（１１４〜１１７）は象限ごとに配置されることを特徴とする、個別ミラー。
【請求項２４】
ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光システム（１）における光学コンポーネントとして用いるファセットミラー（１３，１４；４７；６４；６７，７０）であって、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の個別ミラー（２１，６９）を有する、ファセットミラー。
【請求項２５】
請求項２４に記載のファセットミラーにおいて、
前記個別ミラー（２１；６９）は、照明放射線（１０）を前記投影露光システム（１）の物体視野（５）へ誘導する個別ミラー照明チャネル（ＡＫ）を提供し、
前記個別ミラー（２１；６９）は、前記物体視野（５）内の前記個別ミラー照明チャネル（ＡＫ）が前記物体視野（５）よりも小さな物体視野部分（７３；７６）を照明するように、ミラー面を有し、
前記個別ミラー（２１；６９）は、アクチュエータ（２４）により傾斜させることができることを特徴とする、ファセットミラー。
【請求項２６】
請求項２４又は２５に記載の少なくとも１つのファセットミラーを備えるマイクロリソグラフィ用の投影露光システム（１）の照明光学系（４）。
【請求項２７】
請求項２６に記載の照明光学系において、請求項２４又は２５に記載の２つのファセットミラー（１３，１４）を特徴とする、照明光学系。
【請求項２８】
投影露光システムであって、請求項２６又は２７に記載の照明光学系（４）と、照明結像光（１０）を生成する放射線源（３）と、該投影露光システムの物体視野（５）を像視野（８）に結像させる投影光学系（７）と、を備える、投影露光システム。
【請求項２９】
請求項２８に記載の投影露光システムにおいて、前記放射線源（３）は、ＥＵＶ放射線源として構成されることを特徴とする、投影露光システム。
【請求項３０】
微細構造又はナノ構造コンポーネントを製造する方法であって、
感光材料層が少なくとも部分的に施されるウェーハを準備するステップと、
結像させる構造を有するレチクルを準備するステップと、
請求項２８又は２９に記載の投影露光システム（１）を準備するステップと、
前記投影露光システム（１）の投影光学系（７）を用いて前記層の一領域に前記レチクルの少なくとも一部を投影するステップと、
を含む、方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の方法により製造される微細構造コンポーネント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の投影露光システムで光束誘導（bundle-guiding）光学コンポーネントとして用いるファセットミラーを構成する個別ミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
この種のファセットミラーは、個別ミラーから構成されるものであり、特許文献１及び特許文献２から既知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第６，４３８，１９９号明細書
【特許文献２】米国特許第６，６５８，０８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、本発明によるファセットミラーを構成する個別ミラーであって、その反射面を傾斜させる小型機構で十分に高い調整力を確保する、個別ミラーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、請求項１に開示した特徴を有する個別ミラーにより本発明に従って達成される。
【０００６】
本発明によるアクチュエータを有する個別ミラーは、小型機構によりｍＮ範囲の調整力をもたらすことを可能にし、この範囲の調整力は、一体継手の典型的な微小構成で個別ミラーの必要な傾斜をもたらすのに十分であることが認められた。これに対応するアクチュエータは、ジッピングアクチュエータ（zipping actuators）（ムービングウェッジアクチュエータ（moving wedge actuators）又はローリングクロージャアクチュエータ（rolling closure actuators））としても知られており、例えば、J. Li他著の技術論文、「Deep-Reactive Ion-Etched Compliant Starting Zone Electrostatic Zipping Actuators（ＤＲＩＥ処理コンブライアント始動領域静電ジッピングアクチュエータ）」、Journal of Micromechanical Systems, VOL. 14, No.6, 2005、及びM. A. Rosa他著の技術論文、「A novel external electrode configuration for the elastostatic actuation of MEMS based devices（ＭＥＭＳベースデバイスの静的作動のための新規外部電極構成）」、J. Micromech. Microeng., 14, 2004に記載されている。
【０００７】
請求項２に記載の複数の移動電極は、十分に多数の運動自由度を確保するのに有利であることが分かっている。反射面の縁部形態は、移動電極の数に適合させることができる。３つの移動電極を用いる場合、個別ミラーの反射面は、例えば三角形とすることができる。ファセットミラーの反射面全体に同一縁部の個別ミラーを隙間なく敷き詰めることができるような、個別ミラーの縁部形態が好ましい。
【０００８】
請求項３に記載の移動電極の構成は、移動電極と対向電極との間に電圧を印加したときに接触面部分を連続的に拡大しつつ、離間面部分（spacing face portion）における移動電極と対向電極との間隔を縮小することを可能にするため、高い電界強度とそれに対応して大きな調整力とがそこで得られる。
【０００９】
請求項４及び５に記載の移動電極の基面設計は、小型調整機構を提供するのに特に適していることが分かっている。請求項５に記載の螺旋状設計は、この場合特に小型である。
【００１０】
離間面部分における請求項６に記載の徐々に拡大する電極間隔は、電極間に印加する電圧を増加させてそれぞれ自立的に力を発生させることを可能にする。
【００１１】
請求項７に記載の電圧入力は、中立位置でも、キャリア体（carrier body）に対するミラー本体の正確に規定した位置決めを行わせることを可能にする。中立位置は、このとき、少なくとも１つの一体継手の無力状態により既定されない。
【００１２】
本発明のさらなる目的は、ファセットミラーを構成する個別ミラーであって、再現可能且つ正確に調整可能であると同時に、特に個別ミラーにより反射される有効放射線の残留吸収により生じる熱の十分な熱除去をミラー本体による放熱によって確保する、個別ミラーを提供することである。
【００１３】
この目的は、請求項８に開示されている特徴を有する個別ミラーにより本発明に従って達成される。
【００１４】
本発明による継手長さと継手厚さとのサイズ比は、特に小さな労力（outlay）で調整変位を達成するための所与の低剛性で、一体継手によりミラー本体からキャリア体への十分な放熱が確保されることを確実にする。継手厚さとは対照的に継手長さが大きいことにより、この場合、一体継手で十分に大きな伝熱断面が確保される。継手長さに対して継手厚さが小さいことにより、ミラー本体の所与の角度偏向が、小さな個別ミラー調整労力で可能である。これは、ミラー本体を傾斜させるアクチュエータシステムを用いることを可能にし、ミラー本体は、小さな力に対応するため、例えば非常に小型の設計とすることができる。特に、ミラー本体の傾斜に用いることができるアクチュエータは、従来のマイクロミラーアレイの構成で用いるものである。この種のマイクロミラー機構は、「ＭＥＭＳ」（微小電気機械システム）というキーワードで、例えば欧州特許第１２８９２７３号明細書から当業者には既知である。長さ／厚さ比が極めてはるかに小さなマイクロミラー（Yeow他著、Sensors and actuators A 117 (2005), 331-340を参照）の既知のねじりサスペンションと比較して、本発明による一体継手を用いた場合の熱伝達は大幅に改善される。これは特に、ミラー本体による著しい残留吸収があるため放熱させなければならない場合に有利であり、これは例えば、ＥＵＶ放射線を個別ミラーにより反射される有効放射線として用いる場合である。さらに、ミラー本体とキャリア体との間の熱伝達は、例えば、キャリア体においてマイクロチャネルを用いることによりさらに改善することができ、マイクロチャネルは、特に層状貫流冷却液での能動冷却を可能にする。
【００１５】
請求項９に記載の２つの傾斜継手は、ミラー本体に衝突する有効放射線の偏向角の可変調整を可能にする。
【００１６】
請求項１０に記載の関連する個別ミラー本体の機能分離は、その構造的に単純な設計を可能にする。
【００１７】
請求項１１に記載の２つの一体継手を有する構成は、２つの一体継手による良好な熱伝達を可能にする。特に、ミラー本体から中間体を介してキャリア体への良好な熱伝達が可能である。
【００１８】
請求項１２に記載の別個の一体継手部分は、一体継手の曲げ剛性の低減につながる。
【００１９】
特に、請求項１３に記載の容量電極アクチュエータは、小型に且つ微細加工技術を用いて製造することができる。所与の熱伝達において、本発明による継手長さと継手厚さとの比によりそのように小さな曲げ剛性を有する一体継手を実現することができ、それにより、この種の電極アクチュエータが生成できる例えばｍＮ範囲の典型的な力が、必要な傾斜角をもたらすのに十分であるようになる。
【００２０】
請求項１４に記載の電極間隔は、一方では高い電界強度の生成につながり、他方では一般的に必要な小さな傾斜角をもたらすのに十分である。
【００２１】
請求項１５に記載の電極積層体を有するアクチュエータは、隣接する電極間の所与の絶対電圧差で全体的に高い調整力を生成することを可能にする。
【００２２】
請求項１６に記載の個別ミラーのアクチュエータの利点は、請求項１に記載のアクチュエータに関連してすでに上述した利点に対応する。このアクチュエータは、請求項２〜７に関連してすでに上述したように開発することができる。
【００２３】
請求項１７に記載の反射面は、本発明によるファセットミラーの構成に適していることが分かっている。随意に、ミラー面は、より小さく、例えばミラー面全体で数十分の一ミリメートルの範囲の寸法を有することもできる。１ｍｍ２等のより大きなミラー面も可能である。反射面は、矩形、六角形、又は三角形の縁部形態を有することができる。他の多角形縁部の造形、例えば五角形も可能である。
【００２４】
請求項１８に記載の傾斜軸経路は、有効放射線の正確な調整を可能にする。傾斜軸がミラー面の平面内に位置付けられる場合、個別ミラーの傾斜は、発生する有効放射線のずれを招くこともなく、ごくわずかなずれを招くことさえもない。
【００２５】
請求項９に記載の傾斜継手の側部配置は、全体の奥行きに対して小型の構造を可能にする。
【００２６】
請求項２０に記載の傾斜継手機構は、ミラー本体の反射面の平面上の空所を回避する。隣接する個別ミラーの反射面は、その場合、密集して事実上隙間なく配置することができる。
【００２７】
請求項２１及び２２に記載の互いに離間して配置した電極は、いくつかの自由度でのキャリア体に対するミラー本体の調整を可能にする。
【００２８】
請求項２３に記載の電極の配置は、個別ミラーの電極アクチュエータシステムが例えば個別ミラーによる入射有効放射線の偏向に向けた目標の直線的変化を指定するための、起動動作を単純化する。
【００２９】
請求項２４に記載のファセットミラーの利点は、本発明による個別ミラーに関連してすでに上述した利点に対応する。ファセットミラーは、本発明による個別ミラーを１つだけ有していてもよい。ファセットミラーは、本発明による個別ミラーを複数有していてもよい。ファセットミラーは、本発明による個別ミラーを５０個よりも多く、１００個よりも多く、２００個よりも多く、５００個よりも多く、又は１０００個よりも多く有していてもよい。
【００３０】
請求項２５に記載のファセットミラーを用いる場合、投影露光システムでファセットミラーを用いるときに、露光させる物体視野の様々な照明ジオメトリの調整の変動性が増す。
【００３１】
互いに独立して傾斜させることができる多数の個別ミラーにファセットミラーを細分して、個別ミラー群へのファセットミラーの細分の指定を可変的に行うことが可能である。これを用いて、様々な縁部を有する分類を作ることで、例えば、照明する物体視野の形状に確実に適合させることができる。個別ミラーの個別起動性により、物体視野の多数の異なる照明が可能であり、それによる遮光損失がないことが確実になる。特に、ファセットミラーを内部で用いることができる照明光学系を、放射線源の光学パラメータに、例えば、ビーム発散又はビーム断面にわたる強度分布に適合させることが可能である。ファセットミラーは、複数の個別ミラー群自体がそれぞれ全物体視野を照明するよう構成することができる。１０個よりも多く、５０個よりも多く、又は１００個よりも多くのこの種の個別ミラーを、本発明によるファセットミラーに設けることができる。個別ミラー照明チャネルは、ファセットミラーにより誘導される照明放射線の光束のビーム経路のうち、ファセットミラーの個別ミラーの１つのみにより誘導される部分である。本発明によれば、少なくとも２つのこの種の個別ミラー照明チャネルが、物体視野全体を照明するのに必要である。米国特許第６，４３８，１９９号明細書及び米国特許第６，６５８，０８４号明細書によるファセットミラーでは、個別ミラー照明チャネルはそれぞれ、物体視野に対応するサイズの物体視野部分を照明する。
【００３２】
請求項２６に記載の照明光学系の利点は、本発明によるファセットミラーに関連してすでに上述した利点に対応する。
【００３３】
本発明に従って個別ミラーに細分した視野ファセットミラーと、本発明に従って個別ミラーに細分した瞳ファセットミラーとの両方を、好ましくは照明光学系内で用いることができる。その場合、特定の照明角度分布、換言すれば照明設定を、視野ファセットミラー及び瞳ファセットミラーにおける個別ミラー群を適宜分類することにより、事実上光の損失なく実現することができる。本発明によれば、例えば米国特許出願公開第２００６／０１３２７４７号明細書に記載のような鏡面反射板も、個別ミラーに細分することができる。物体視野における強度及び照明角度分布の両方が鏡面反射板で調整されるため、個別ミラーへの細分による追加の可変性が、ここでは特に顕在化する。
【００３４】
請求項２７に記載の照明光学系は、例えば、個別ミラーから構成される視野ファセットミラーの利点と個別ミラーから構成される瞳ファセットミラーの利点とを組み合わせることができる。多種多様な照明設定の調整が、事実上光の損失なく可能である。瞳ファセットミラーは、上流に位置する視野ファセットミラーよりも多数の個別ミラーを有し得る。視野ファセットミラーが上流に位置していると、ファセットを調整のためにアクチュエータにより適宜変位させる、特に傾斜させることができれば、瞳ファセットミラーの様々な照明形態、したがって照明光学系の様々な照明設定を実現することができる。
【００３５】
請求項２８に記載の投影露光システムの利点は、すでに上述した利点に対応する。
【００３６】
請求項２９に記載の投影露光システムは、高い構造分解能を可能にする。
【００３７】
請求項３０に記載の製造方法及び請求項３１に記載の微細構造コンポーネントの利点は、請求項１〜２９に関連してすでに上述した利点に対応する。サブミクロン範囲までの高い集積密度の微細構造コンポーネントを実現することができる。
【００３８】
本発明の実施形態を、図面を用いてより詳細に後述する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】ＥＵＶ投影リソグラフィ用の投影露光システムの子午線断面を概略的に示す。
【図２】図１に示す投影露光システムで用いる個別ミラーから構成される視野ファセットミラーの平面図を示す。
【図３】図２に示す視野ファセットミラーを構成する個別ミラーの平面図を示す。
【図４】図３の観察方向ＩＶからの個別ミラーの図を示し、個別ミラーの反射面を非傾斜中立位置で示す。
【図５】図４からの細部拡大図を示す。
【図６】図３の観察方向ＶＩからの個別ミラーの図を示す。
【図７】図４と同様の図で、アクチュエータにより傾斜させた傾斜位置の個別ミラーを示す。
【図８】図４と同様の図で、個別ミラーのさらなる構成を示す。
【図９】図６と同様の図で、図８による個別ミラーを示す。
【図１０】図２に示すファセットミラーを構成するための個別ミラーのさらなる構成の分解図を示す。
【図１１】アクチュエータにより起動することができる２つの傾斜軸の一方を中心にミラープレートをキャリア基板に対して傾斜させた傾斜位置で、図１０に示す個別ミラーの構成の斜視図を示す。
【図１２】図１１と同様の図で、図１０及び図１１に示す個別ミラーを示し、２つの傾斜軸を中心に面をキャリア基板に対して傾斜させて示す。
【図１３】図３〜図１２に示す構成の１つでの個別ミラーの、一体継手として構成される傾斜継手の細部を示す。
【図１４】図３と同様の図で、図２に示すファセットミラーを構成する個別ミラーのさらなる構成を示す。
【図１５】図３〜図１４に示す個別ミラーのミラー本体の傾斜制御用の静電容量ムービングウェッジアクチュエータの構成を、アクチュエータの２つの電極間に電圧を印加しない状態で概略的に示す。
【図１６】電極間に電圧を印加した状態の、図１５に示すアクチュエータを示す。
【図１７】図８と同様の図で、図２に示すファセットミラーを構成する個別ミラーのさらなる構成を、図１５及び図１６に示すアクチュエータを用いて中立位置で示す。
【図１８】図１７に示す個別ミラーを、２つの傾斜軸のうち第１の傾斜軸を中心とした第１の傾斜位置で示す。
【図１９】図１７に示す個別ミラーを、図１８とは逆方向の第２の傾斜位置で、図１８に示す図と同じ傾斜軸を中心に傾斜させて示す。
【図２０】図１７に示す個別ミラーの構成での傾斜アクチュエータの電極配置の変形形態を示す。
【図２１】図２０に示す電極配置を有する図１０と同様の個別ミラーの分解図を示す。
【図２２】図２０に示す電極配置を有する個別ミラーの側面図を示す。
【図２３】図２０に示す電極配置を有する個別ミラーの斜視図を示す。
【図２４】図１７に示す個別ミラーの構成での傾斜アクチュエータの電極配置の変形形態を示す。
【図２５】図２４に示す電極配置を有する個別ミラーの図１０と同様の分解図を示す。
【図２６】図２４に示す電極配置を有する個別ミラーの側面図を示す。
【図２７】図２４に示す電極配置を有する個別ミラーの斜視図を示す。
【図２８】図１８と同様の図で、電極積層体を有する傾斜アクチュエータのさらなる構成を有する、図２に示すファセットミラーを構成する個別ミラーのさらなる構成を概略的に示す。
【図２９】図１７と同様の図で、図２８に対応する傾斜アクチュエータの構成を有する、図２に示すファセットミラーを構成する個別ミラーのさらなる構成を示す。
【図３０】図２９に示す個別ミラーの図１８と同様の図を示す。
【図３１】アクチュエータにより傾斜させることができる個別ミラーのさらなる構成の斜視図を示す。
【図３２】図３１に示す個別ミラーの平面図を示す。
【図３３】図３１に示す個別ミラーの側面図を示す。
【図３４】図３１に示す個別ミラーの分解図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
図１は、マイクロリソグラフィ用の投影露光システム１を子午線断面で概略的に示す。投影露光システム１の照明システム２は、放射線源３のほかに、物体平面６の物体視野５を露光させる照明光学系４を有する。図示されていないが物体視野５内に配置されるレチクルを、ここで露光させ、同じく図示されていないレチクルホルダにより保持させる。投影光学系７を用いて、像平面９の像視野８に物体視野５を結像させる。レチクル上の構造は、ウェーハの感光層上に結像させ、ウェーハは像平面９の像視野８の領域に配置されるが、図示されておらず、同じく図示されていないウェーハホルダにより保持される。
【００４１】
放射線源３は、５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲の有効放射線を放出するＥＵＶ放射線源である。これは、プラズマ源、例えば、ＧＤＰＰ源（ガス放電生成プラズマ）又はＬＰＰ源（レーザ生成プラズマ）とすることができる。シンクロトロンベースの放射線源を、放射線源３に用いることもできる。この種の放射線源に関する情報は、当業者が例えば米国特許第６，８５９，５１５号明細書から得ることができる。放射線源３により放出されるＥＵＶ放射線１０は、コレクタ１１により集束させる。対応するコレクタは、欧州特許第１２２５４８１号明細書から既知である。コレクタ１１の後、ＥＵＶ放射線１０は、中間焦点平面１２を通って伝播した後で視野ファセットミラー１３に衝突する。視野ファセットミラー１３は、物体平面６と光学的に共役な照明光学系４の平面内に配置される。
【００４２】
ＥＵＶ放射線１０は、以下では照明光又は結像光とも称する。
【００４３】
視野ファセットミラー１３の後、ＥＵＶ放射線１０は、瞳ファセットミラー１４により反射される。瞳ファセットミラー１４は、投影光学系７の瞳平面と光学的に共役である、照明光学系４の瞳平面内に配置される。瞳ファセットミラー１４と、ビーム経路の順に示すミラー１６，１７，及び１８を備える伝送光学系１５の形態の結像光学アセンブリとを用いて、視野ファセットミラー１３の視野個別ファセット１９を物体視野５に結像させるが、視野個別ファセット１９は、より詳細に後述し、部分視野又は個別ミラー群とも称する。伝送光学系１５の最後のミラー１８は、斜入射ミラーである。
【００４４】
図２は、視野ファセットミラー１３の構造の細部の非常に概略的な図を示す。視野ファセットミラー１３の反射面２０全体は、行列状に分割されてラスタ状の個別ミラー２１になる。個別ミラー２１の個々の反射面は平面である。個別ミラー行２２は、互いに直接隣接して配置された複数の個別ミラー２１を有する。数十個〜数百個の個別ミラー２１を１つの個別ミラーの列２２に設けることができる。図２に示す例では、個別ミラー２１は正方形である。可能な限り隙間なく反射面２０を占めることを可能にする個別ミラーの他の形態を用いてもよい。この種の代替的な個別ミラー形態は、タイル張りの数学的理論から既知である。これに関して、「Mathematisches Mosaik（数学的モザイク）」、ケルン（１９７７年）におけるIstvan Reimann著「Parkette, geometrisch betrachtet（タイル張りの幾何学的考察）」、及びJan Gulberg著「Mathematics-From the birth of numbers（数学−数の誕生から）」、ニューヨーク／ロンドン（１９９７年）を参照されたい。
【００４５】
視野ファセットミラー１３は、例えば、ドイツ特許第１０  ２００６  ０３６  ０６４号明細書に記載のように構成することができる。
【００４６】
視野ファセットミラー１３の構成に応じて、個別ミラー列２３も複数の個別ミラー２１を含む。個別ミラー列２３ごとに、例えば数十個の個別ミラー２１が設けられる。
【００４７】
位置関係の説明を容易にするために、直交ｘｙｚ座標系を、視野ファセットミラー１３のローカル座標系として図２に示す。ファセットミラー又はその細部を平面図で示す後続の図でも、対応するローカルｘｙｚ座標系が見られる。図２では、ｘ軸は、右方向に水平に延び、個別ミラー行２２と平行である。ｙ軸は、図２では上向きに延び、個別ミラー列２３と平行である。ｚ軸は、図２の図平面に対して垂直であり、この平面から出る方向に延びる。
【００４８】
投影露光中、レチクルホルダとウェーハホルダは、ｙ方向に互いに対して同期させて走査される。以下で説明するように、走査方向とｙ方向との間に小さな角度を付けることも可能である。
【００４９】
ｘ方向に、視野ファセットミラー１３の反射面２０はｘ０の範囲を有する。ｙ方向に、視野ファセットミラー１３の反射面２０はｙ０の範囲を有する。
【００５０】
視野ファセットミラー１３の構成に応じて、個別ミラー２１は、例えば６００μｍ×６００μｍ〜例えば２ｍｍ×２ｍｍ程度のｘ／ｙ範囲を有する。視野ファセットミラー１３全体は、構成に応じて例えば３００ｍｍ×３００ｍｍ又は６００ｍｍ×６００ｍｍであるｘ０／ｙ０範囲を有する。視野個別ファセット１９は、２５ｍｍ×４ｍｍ又は１０４ｍｍ×８ｍｍの典型的なｘ／ｙ範囲を有する。各視野個別ファセット１９のサイズと、これらの視野個別ファセット１９を構成する個別ミラー２１のサイズとの比に応じて、視野個別ファセット１９のそれぞれが、対応する数の個別ミラー２１を有する。
【００５１】
個別ミラー２１のそれぞれは、衝突する照明光１０を個別に偏向させるためにアクチュエータ２４に接続され、アクチュエータ２４は、反射面２０の左下隅に配置された２つの個別ミラー２１を用いて図２に破線で示し、個別ファセット行２２の細部を用いて図３により詳細に示す。アクチュエータ２４は、個別ミラー２１のそれぞれのうち個別ミラー２１の反射側とは反対側に配置される。アクチュエータ２４は、例えば、圧電アクチュエータとして構成することができる。この種のアクチュエータの構成は、マイクロミラーアレイの構造から既知である。
【００５２】
個別ミラー行２２のアクチュエータ２４はそれぞれ、信号線により行信号バス２６に接続される。１つの個別ミラー行２２は、行信号バス２６の１つにそれぞれ割り当てられる。個別ミラー行２２の行信号バス２６はさらに、主信号バス２７に接続される。主信号バス２７は、視野ファセットミラー１３の制御デバイス２８に信号接続される。制御デバイス２８は、特に、個別ミラー２１を行列方向に、換言すれば行ごと又は列ごとに（row-wise, in other words line-wise or column-wise）継手起動するよう構成される。
【００５３】
個別ミラー２１のそれぞれは、互いに対して垂直な２つの傾斜軸を中心に個々に傾斜させることができ、これらの傾斜軸のうちの第１の傾斜軸はｘ軸と平行に延び、２つの傾斜軸のうちの第２の傾斜軸はｙ軸と平行に延びる。２つの傾斜軸は、各個別ミラー２１の個々の反射面に位置付けられる。
【００５４】
個別ミラー２１は、例えば、側部に取り付けられたばね継手を用いて個別ミラーを可動に装着して静電作動させることができるマイクロミラーアレイ（ＭＭＡアレイ）の様式で実現することができる。この種のマイクロミラー機構は、「ＭＥＭＳ」（微小電気機械システム）というキーワードで、例えば欧州特許第１２８９２７３号明細書から当業者には既知である。
【００５５】
上述の実施形態では、個別ミラー２１は、投影露光システム１の物体視野５においてＥＵＶ放射線１０、換言すれば照明放射線を重ね合わせるための照明チャネルを提供する。個別ミラー２１は、これらの個別ミラー照射チャネルが物体視野５において物体視野５よりも小さな物体部分を照明するような範囲のミラー面を有する。
【００５６】
個別ミラー２１は、モリブデン及びシリコンの個別層を含む多層コーティングを有することができるため、個別ミラー２１の反射率は、用いられるＥＵＶ波長に対して最適化される。
【００５７】
個別ミラー、例えば、図２に示す視野ファセットミラー１３を構成する個別ミラー２１の１つの実施形態を、図３〜図７を用いてより詳細に後述する。図１及び図２を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【００５８】
図３〜図７に示す個別ミラー２１は、ミラープレートとして構成されるミラー本体７９を有する。ミラー本体７９はシリコンから成る。ミラー本体７９は、ＥＵＶ放射線１０を反射するための矩形の反射面８０を有し、図３〜図７による実施形態ではほぼ正方形の反射面８０を有する。反射面８０は、ＥＵＶ放射線１０に対する個別ミラー２１の反射率を最適化するための多層反射コーティングを有し得る。
【００５９】
個別ミラー２１のミラー本体７９は、シリコンから成る剛性キャリア体８１に対して２つの傾斜軸を中心に傾斜させることができる。これら２つの傾斜軸を、図３〜図７ではｗ１及びｗ２とする。これら２つの傾斜軸ｗ１，ｗ２のそれぞれは、一体継手としてそれぞれ構成される傾斜継手８２，８３に属する。２つの傾斜軸ｗ１，ｗ２は、互いに対して垂直である。この場合、傾斜軸ｗ１はｘ軸と平行に延び、傾斜軸ｗ２はｙ軸と平行に延びる。ミラー本体７０及びキャリア体８１は、ＦｉＯ２又はＦｉ３Ｎ４で構成することもできる。傾斜軸ｗ２は、この場合、ミラー本体７９の延長平面内に延びる。ミラー本体７９の実際の反射面８０のほかに、図３０で傾斜軸ｗ２の上に示す小さな傾斜不可能な空所８３ａが残っている。２つの傾斜軸ｗ１，ｗ２はいずれも、反射面８０の平面と平行に延びる。代替的に、傾斜継手８２，８３を、２つの傾斜軸ｗ１，ｗ２の少なくとも一方が反射面８０の平面内に延びるように配置することも可能である。
【００６０】
個別ミラー２１を構成するのに適したＥＵＶ適合及び高真空適合材料のさらなる材料例は、ＣＶＤ（化学気相蒸着）ダイヤモンド、ＳｉＣ（炭化珪素）、ＳｉＯ２（酸化シリコン）、Ａｌ２Ｏ３、銅、ニッケル、アルミニウム合金、及びモリブデンである。
【００６１】
図５は、傾斜軸ｗ１に属する傾斜継手８２の拡大図を示す。傾斜継手８３は、これに対応した構成である。
【００６２】
傾斜継手８２は、傾斜軸ｗ１に対して垂直に、換言すれば図５のｚ方向に、継手厚さＳを有する。傾斜軸ｗ１に沿って、換言すれば図５のｘ方向に、傾斜継手８２は継手長さＬを有する（図６を参照）。継手長さＬのサイズは、ミラー本体７９の横方向範囲と同等である。
【００６３】
図３〜図７に示す個別ミラー２１の継手長さＬは、約１ｍｍである。継手厚さＳは、誇張的に図示されているが、１μｍである。したがって、図３０〜図３４に示す個別ミラー２１では、比率Ｌ／Ｓは約１０００である。
【００６４】
一体傾斜継手８２の継手厚さＳにつながりＶ字形ノッチとして図５に例として示す材料テーパを、例えば異方性ＡＯＨ（原文ママ）エッチングにより作ることができる。代替的に、傾斜継手８２の材料アーム全体を、例えばエッチングプロセスにより、継手厚さＳ位対応するサイズにすることが可能である。
【００６５】
ミラー本体７９は、傾斜継手８２の寸法に対応する寸法、特に、継手厚さＳ及び継手長さＬを有する傾斜継手８３を用いて中間キャリア体８４に一体接続される。中間キャリア体８４もシリコンから成る。中間キャリア体８４は、図６の断面ではＬ字形であり、傾斜継手８３に直接隣接して配置される継手部分８５と、ミラー本体７９の下に、換言すればミラー本体７９の反射面８０とは反対側に配置されるプレート部分８６とを有する。傾斜継手８３の幅とも称する間隔Ｂ（図６を参照）が、ミラー本体７９と中間キャリア体８４の継手部分８５との間の傾斜継手８３の領域に存在する。
【００６６】
中間キャリア体８４のプレート部分８６は、傾斜継手８２を介してキャリア体８１の継手部分８７に一体接続される。継手部分８７は、キャリア体８１のプレート部分８８に固定される。キャリア体８１のプレート部分８８は、中間キャリア体８４のプレート部分８６の下方に配置される。図４及び図６に示す中立位置では、ミラー本体７９、中間キャリア体８４のプレート部分８６、及びキャリア体８１のプレート部分８８は互いに平行に延びる。
【００６７】
２つの傾斜軸ｘ１，ｘ２を中心としたミラー本体７９の傾斜制御のために、２つの電極アクチュエータ８９，９０が用いられる（図７を参照）。電極アクチュエータ８９は、この場合は傾斜継手８２に割り当てられるため、ｗ１アクチュエータ９０とも称する。電極アクチュエータ９０は、この場合は傾斜継手８３に割り当てられるため、ｗ２アクチュエータとも称する。ｗ２アクチュエータは、第１の電極として、導電性のミラー本体７９自体を有する。ｗ２アクチュエータ９０の対向電極９１は、中間キャリア体８４のプレート部分８６に施された導電性コーティングとして構成され、このコーティングはミラー本体７９に面する。個別ミラー２１の中立位置では、対向電極９１は、ミラー本体７９から約１００μｍの間隔を有する。
【００６８】
ｗ２アクチュエータ９０の２つの電極９０，９１は、信号線９２により起動可能電圧源９３に接続される。電圧源９３は、制御線９４によりアクチュエータ制御デバイス９５に接続される。
【００６９】
対向電極９１は、同時にｗ１アクチュエータ８９の電極として用いられる。ｗ１アクチュエータ８９の対向電極９６は、キャリア体８１のプレート部分８８上の導電性コーティングとして構成される。ｗ１アクチュエータ８９の対向電極９６は、キャリア体８１のプレート部分８８のうち中間キャリア体８４のプレート部分８６に面する側に配置される。中立位置、換言すれば無力状態では、中間キャリア体８４のプレート部分８６からのｗ１アクチュエータ８９の対向電極９６の間隔は１００μｍである。
【００７０】
電極９１，９６は、信号線９２によりさらなる電圧源９７に電気的に接続される。電圧源９７は、さらなる制御線９８によりアクチュエータ制御デバイス９５に接続される。
【００７１】
直流電圧Ｖ１及びＶ２（図７を参照）を印加することにより、一方では中間キャリア体８４のプレート部分８６を、キャリア体８１のプレート部分８８に対して傾斜軸ｗ１を中心に制御式に傾斜させることができ、他方ではミラー本体７９を、中間キャリア体８４のプレート部分８６に対して傾斜軸ｗ２を中心に制御式に傾斜させることができ、これらはそれぞれ所定の傾斜角で行われる。各傾斜軸ｗ１，ｗ２を中心とした傾斜角の大きさは、ここでは特に、傾斜継手８２，８３の寸法、電極９０，９１，９６の面積、これらの電極同士の間隔、及び当然ながら印加電圧Ｖ１、Ｖ２の大きさに応じて変わる。２つの傾斜軸ｗ１，ｗ２を中心とした傾斜角の無段階特定が、印加電圧Ｖ１，Ｖ２を用いて可能である。
【００７２】
図７は、電圧Ｖ１，Ｖ２を印加することにより、一方では中間キャリア体８４のプレート部分８６を、キャリア体８１のプレート部分８８に対してこれに向けて傾斜軸ｗ１を中心に傾斜させ、他方ではミラー本体７９を、中間キャリア体８４のプレート部分８６に対してこれに向けて傾斜軸ｗ２を中心に傾斜させた傾斜位置を示す。図７に示すように、入射ＥＵＶ放射線１０は、それに対応して定められるようにミラー本体７９の反射面８０により偏向される。
【００７３】
図８及び図９を用いて、個別ミラー９９のさらなる実施形態を後述するが、これは、上述のファセットミラーを構成する図３〜図７に示す個別ミラー２１の代わりに用いることができる。図１及び図２を参照して、特に図３〜図７を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【００７４】
図８及び図９に示す構成では、個別ミラー９９の有効反射面８０は、ミラー本体７９の表面全体を空所なく覆う。プレート形の反射面キャリア１００が、ｙ方向に沿って縁部に延びる接続ストリップ１０１によりミラー本体７９の継手部分１０２に剛接続される。継手部分１０２もプレート形であり、個別ミラー９９の反射面８０の面積のほぼ半分を占める。継手部分１０２は、反射面キャリア１００と平行に、反射面８０の裏に延びる。ミラー本体７９の継手部分１０２は、ｗ２傾斜継手８３により、個別ミラー９９の中間キャリア体１０４のｗ２継手部分１０３に接続される。中間キャリア体１０４は、その機能に関して、図３〜図７に示す個別ミラー２１の中間キャリア体８４に相当する。
【００７５】
個別ミラー９９の傾斜継手８３は、反射面８０の全幅に沿って、換言すれば図３〜図７に示す構成による継手長さＬに沿っても延びる。これは、個別ミラー９９の傾斜継手８２についても同様である。
【００７６】
ｗ２継手部分１０３は、中間キャリア体１０４の同じくプレート形のｗ１継手部分１０６に接続ストリップ１０５により剛接続される。継手部分１０６もまた、個別ミラー９９の反射面８０の面積のほぼ半分を占める。継手部分１０６の矩形形状は、この場合、継手部分１０２の矩形形状に対して９０°回転した向きである。ｗ１継手部分１０６は、傾斜継手８２によりキャリア体８１の継手部分１０７に一体接続される。
【００７７】
一方では継手部分１０２，１０３、他方では継手部分１０６，１０７はそれぞれ、傾斜継手８３，８２の継手長さＬの全長にわたって延びる。
【００７８】
ミラー本体７９と、さらに、互いに電気的に絶縁され且つ継手部分１０３により互いに分離されている２つのコーティングとして中間キャリア体１０４のプレート部分８８上に配置される２つの対向電極１０８，１０９とは、さらに、電極として傾斜継手８３のｗ２アクチュエータに属する。２つの対向電極１０８，１０９はそれぞれ、中間キャリア体１０４のプレート部分８８のほぼ半分を覆う。
【００７９】
電極７９，１０８間に傾斜電圧を印加することにより、反射面を、図９の傾斜軸ｗ２を中心に反時計方向に回転させることができる。電極７９，１０９間に傾斜電圧を印加することにより、図９のミラー本体７９を時計方向に傾斜させることができる。
【００８０】
ｗ１アクチュエータに関しては、対向電極１１０，１１１が電極１０８，１０９の対向電極として用いられる。対向電極１１０，１１１は、電極１０８，１０９と同等に、キャリア体８１のプレート部分８８上にあり継手部分１０７により互いに分離されるため電気的に絶縁されているコーティングとして施される。電極１０８，１０９と電極１１０との間に傾斜電圧を印加することにより、中間キャリア体１０４の傾斜制御が、図８において傾斜軸ｗ１を中心に反時計方向に行われる。電極１０８又は１０９と対向電極１１１との間に傾斜電圧を印加することにより、中間キャリア体１０４の傾斜が、図８において傾斜軸ｗ１を中心に時計方向に行われる。
【００８１】
このように、図８及び図９に示す中立位置から始まる個別ミラー９９の反射面８０の電圧制御による傾斜が、２つの傾斜軸ｗ１，ｗ２を中心としてそれぞれ２つの傾斜方向で可能である。
【００８２】
個別ミラー１１２のさらなる構成を、図１０〜図１２を用いて後述する。図１及び図２を参照して、特に図３〜図９を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【００８３】
反射面キャリア１００は、個別ミラー１１２において、同時に継手部分１０２でもある接続ストリップ１０１に接続される。
【００８４】
反射面キャリア１００のうち反射面８０の反対側には、スペーサ１１２ａが配置され、これは、傾斜角を大きくしたときに、反射面キャリア１００がその下に位置付けられたコンポーネントに直接接触しないことを確実にする。スペーサ１１２ａは、ディープ反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）により反射面キャリア１００の固体材料から加工される。継手部分１０２は、第１のｗ２傾斜継手８３によりｗ２継手部分１０３に接続され、ｗ２継手部分１０３は、同時に個別ミラー１１２の第１のＬ字形中間キャリア体でもある。ｗ２継手部分１０３は、第１のｗ１傾斜継手８２により第１の継手部分１０７に接続され、第１の継手部分１０７は、キャリア体８１のプレート部分に剛接続される。ｗ２継手部分１０３のＬ字形の一方の脚は、同時にｗ１継手部分１０６でもある。
【００８５】
個別ミラー１１２は、継手部分１０２，１０３，１０６，１０７と、それに対応して傾斜継手８２，８３とを有する合計２つのＬ字形アセンブリを有し、傾斜継手８２，８３はそれぞれ、このＬ字形の脚に収容される。これら２つのＬ字形アセンブリはそれぞれ、同一構成の継手接続コンポーネントを有する。各Ｌ字形構造形状の、互いに離接するＬ脚により形成されるコーナ領域で、これら２つのアセンブリは、２つのｗ１傾斜継手８２及び２つのｗ２傾斜継手８３がそれぞれ互いに面一になる全体で十字形の構造になるように（説明はまだだが図２１に示す、これに関して構造的に同一の構成も比較されたい）、互いに嵌まり合う。
【００８６】
スペーサ１１２ａは、２つのｗ２傾斜継手８３の接続ストリップ１０１にそれぞれ接続される。反射面８０の平面と平行であり且つその長手方向範囲を横切る２つの接続ストリップ１０１は、２つのＬ字形アセンブリが交差構造であることから互いに対してオフセット配置されているため、スペーサ１１２も、同じ方向に互いに対してオフセット配置されるスペーサ部分を有する。
【００８７】
ミラー本体７９自体は、一方では傾斜軸ｗ１を中心とした反射面８０の傾斜制御用のｗ１アクチュエータの電極として、他方では傾斜軸ｗ２を中心とした反射面８０の傾斜制御用のｗ２アクチュエータの電極として、それぞれ用いられる。個別ミラー１１２は、４つの対向電極１１４，１１５，１１６，１１７を有し、これらはそれぞれ、キャリア体８１のプレート部分８８の１象限を覆い、プレート部分８８上で互いに絶縁される導電性コーティングとして構成される。４つの対向電極１１４〜１１７のどれとミラー本体７９との間に傾斜電圧Ｖを印加するかに応じて、それに対応した反射面８０の傾斜がキャリア体８１に対して生じる。これを図１１に例として示す。図中では、電圧Ｖをミラー本体７９と２つの対向電極１１４，１１７との間に印加する。これに対応して、傾斜継手８２の傾斜軸ｗ１を中心としたミラー本体７９の傾斜が生じる。
【００８８】
図１２は、さらなる傾斜例で、電圧Ｖをミラー本体７９と対向電極１１２と間にのみ印加する状況を示す。傾斜は、一方では傾斜継手８２の傾斜軸ｗ１を中心に、他方では傾斜継手８３の傾斜軸ｗ２を中心に生じる。
【００８９】
図５の代替の図で、図１３は、傾斜継手８２のさらなる構成での寸法比を示す。この場合も、継手厚さＳは約１μｍであり、継手幅Ｂは約２０μｍであり、図１３の図平面に対して垂直に延びる継手長さＬは約１ｍｍである。
【００９０】
図１４は、継手長さＬに沿って一体継手セグメント１１８に分割されている傾斜継手８２又は８３の変形形態を示す。図１４に示す実施形態の継手長さＬは、約２５個のこの種の一体継手セグメント１１８に細分される。隣接する一体継手セグメント１１８は、非常に小さなものではあるが互いに間隔が空いている。一体継手セグメント１１８への傾斜継手８２又は８３の細分は、ディープ反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）により行うことができる。
【００９１】
一体継手セグメント又は部分１１８への細分の代わりに、又はこれに加えて、マイクロチャネルをミラー本体７９及び／又はキャリア体８１に設けることもできる。これらのマイクロチャネルは、特に層状貫流冷却液での個別ミラーの能動冷却を可能にし得る。
【００９２】
図１５及び図１６は、反射面８０、例えば個別ミラー２１の、少なくとも一方の傾斜軸ｗ１，ｗ２を中心とした傾斜制御用のアクチュエータ１１９のさらなる構成を示す。図３〜図１４を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【００９３】
アクチュエータ１１９は、移動電極１２０を有し、図１５及び図１６では、その自由端１２１は、アクチュエータ１１９に割り当てられた傾斜継手の図１５及び図１６には図示しない継手本体に、可動接続されるよう構成される。移動電極１２０は、平坦であり、図１５及び図１６には断面で示す。移動電極１２０は、図１５及び図１６の断面では湾曲している。
【００９４】
キャリア体８１のプレート部分８８には、アクチュエータ１１９の対向電極１２２が剛接続される。対向電極１２２は、例えば、キャリア体８１のプレート部分８８上のコーティングとして構成される。移動電極１２０と対向電極１２２との間には、誘電体１２３の形態の層が配置される。誘電体は、例えば、対向電極１２２上の平坦なコーティングとして構成することができる。
【００９５】
接触面部分１２４では、対向電極１２２は誘電体１２３に直接当接する。移動電極１２０の離間面部分１２５は、対向電極１２２及び誘電体１２３から離間している。移動電極１２０の自由端１２１は、離間面部分１２５の一部である。
【００９６】
図１５及び図１６は、移動電極１２０の２つの位置を示す。図１５は、２つの電極１２０，１２２間に電圧を印加しない中立位置を示す。移動電極１２０の自由端１２１は、プレート部分８８から最大限まで上昇している。図１６は、例えば８０Ｖの傾斜電圧を電極１２０，１２２間に印加した位置を示す。
【００９７】
図１６に示すこの傾斜位置では、移動電極１２０は、接触面部分１２４に隣接する領域にわたって誘電体１２３にさらに当接するため、キャリア体８１のプレート部分８８からの自由端１２１の間隔は、それに対応して小さくなる。
【００９８】
図１５及び図１６に示すこの種のアクチュエータ１１９は、マイクロムービングウェッジドライブ（ジッパアクチュエータ、ジッピングアクチュエータ）とも称する。
【００９９】
図１７〜図１９は、個別ミラー１２６における図１５及び図１６に示す２つのアクチュエータ１１９の使用を示し、個別ミラー１２６は、傾斜継手８２，８３の配置に関して、図８及び図９に示す個別ミラー９９に従って構成される。
【０１００】
Ｗ１継手部分１０６は、個別ミラー１２６において、継手部分１０７上に成形されて傾斜軸Ｗ１を中心とするロッカとして構成される。縁部において、Ｗ１継手部分１０６の２つの揺動アーム１２７、１２８は、接触面部分１２４に関して互いに背中合わせに配置された２つのアクチュエータ１１９の自由端１２１に接続される。
【０１０１】
図１７は、Ｗ１継手部分１０６がキャリア体８１のプレート部分８８に対して傾斜していない、２つのアクチュエータ１１９の中立位置を示す。図１７に示すこの中立位置は、電極１２０，１２１の全てを無電圧に切り替えた個別ミラー１２６の第１の変形形態で達成することができる。
【０１０２】
図示しないが、アクチュエータ１１９のための代替的な電圧起動デバイスは、Ｗ１継手部分１０６、換言すれば揺動アーム１２７、１２８の中立位置で（図１７を参照）、０Ｖ以外のバイアス電圧を移動電極１２０と関連の対向電極１２２との間に印加するよう構成される。この種の電気的なバイアス電圧を用いて、傾斜軸Ｗ１を中心とした揺動アーム１２７，１２８の機械的なバイアス電圧が生成される。このように、ミラー本体７９をキャリア体８１と正確に平行な向きにする中立位置は、規定の方法で調整することができる。
【０１０３】
図１８は、図１８の左側に示すアクチュエータ１１９の電極１２０，１２２に傾斜電圧を印加する状況を示す。したがって、ミラー本体７９は、傾斜軸Ｗ１を中心に反時計方向に傾斜する。
【０１０４】
図１９は、図１９の右側に示すアクチュエータ１１９に傾斜電圧を印加した状況を示す。したがって、ミラー本体７９は、図１９で傾斜軸Ｗ１を中心に時計方向に傾斜する。
【０１０５】
一方では図２０〜図２３、他方では図２４〜図２７は、移動電極１２０の２つの異なる構成及び配置の変形形態を示す。図１〜図１９を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【０１０６】
図２０〜図２７に示す配置の移動電極１２０に対する対向電極は、図１０〜図１２に示す構成に従った象限電極（quadrant electrodes）１１４〜１１７として設計される。
【０１０７】
図２０〜図２３に示すアクチュエータ１１９には、キャリア体８１のプレート部分８８の上でプレート部分８８の象限の１つにそれぞれ放射状に配置した４つの移動電極１２０がある。図２０〜図２３に示す移動電極１２０の自由端１２１は、キャリア体８１の正方形のプレート部分８８の四隅に近接してそれぞれ配置される。これらの自由端１２１は、接触部分１２９を担持し、接触部分１２９により移動電極１２０が中間キャリア体又はミラー本体７９に可動接続される。接触部分１２９は、例えば、Ｗ１継手部分１０６、換言すれば継手本体に対する移動電極１２０の接続領域である。自由端１２１の反対側で、図４７〜図５０に示す構成の移動電極１２０のそれぞれは、接触面部分１２４の領域でプレート部分８８に剛接続される端を有する。
【０１０８】
図２４〜図２７に示す移動電極１２０の構成及び配置例では、移動電極のそれぞれが螺旋面状体（spiral face body）として存在する。図２４〜図２７に示す移動電極１２０のうちプレート部分８８に固定される固定端１３０と、自由端１２１における接触部分１２９との間で、移動電極１２０のそれぞれが螺旋状に約３回巻かれる。
【０１０９】
図２０〜図２３に示す配置によれば、４つの移動電極１２０は、図２４〜図２７に示す配置でも配置され、４つの移動電極１２０のそれぞれ１つがプレート部分８８の４つの象限の１つに配置される。
【０１１０】
各移動電極１２０の固定端１３０は、図２４〜図２７に示す配置では、プレート部分８８の各象限の隅に近接して位置付けられる。接触部分１２９は、図２４〜図２７に示す配置では、プレート部分８８の各象限の中心領域に位置付けられる。
【０１１１】
アクチュエータ１１９は、静電ドライブの代わりに電磁ドライブも有することができる。この場合、対向電極１２２及び誘電体１２３の代わりに、電磁抵抗アクチュエータが設けられる。移動電極１２０の代わりに、薄い強磁性金属プレートが設けられる。
【０１１２】
傾斜軸を中心としたミラー本体７９の傾斜制御用のアクチュエータ１３１のさらなる構成を、図２８〜図３０を用いて後述する。図１〜図２７を参照して、特に図３〜図２７を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【０１１３】
図２８〜図３０に示すアクチュエータ１３１では、キャリア体８１のプレート部分８８上にある導電性コーティング１３２が、アクチュエータ１３１の電極の１つとしてさらに用いられる。対向電極１３４，１３５，１３６の積層体１３３が、この電極１３２の上方に配置される。隣接する対向電極は、それぞれ図２８に概略的に示す一体継手１３７を中心に互いに対して傾斜させることができる。一体継手１３７のそれぞれは、ミラー本体７９の反射面の継手幅に沿って上述の傾斜継手８２，８３に従って延びる。対向電極１３４〜１３６はすでに、それぞれ図２８に破線で示すように、プレート部分８８上の電極１３２の平面に対して傾斜した無力中立位置にある。図２８は、隣接する電極１３２と１３４〜１３６との間に傾斜電圧を追加で印加した状況を実線で示す。これにより、隣接する電極１３２及び１３４〜１３６は、中立傾斜位置から始めて、一体継手１３７を中心とした偏向により互いに向かってさらに傾斜する。したがって、図２８の最上部に示す対向電極１３６には、その下に配置された電極対の互いに対する相対傾斜の和に対応する傾斜角が生じる。ミラー本体７９はさらに、図２８の最上部に示す対向電極１３６に接続することができ、続いてそれに対応してアクチュエータにより傾斜させる。最上部の対向電極１３６の総傾斜角αは、対向電極１３４，１３５，及び１３６の個々の傾斜角α１，α２，α３の和として得られる。
【０１１４】
図１７〜図１９の個別ミラー１２６の様式での個別ミラー１３８のアクチュエータ１３１の応用を、図２９及び図３０を用いて説明する。対向電極積層体１３３を有するアクチュエータ１３１は、この場合、キャリア体８１のプレート部分８８と中間キャリア体１０４のｗ１継手部分１０６の揺動アーム１２７，１２８との間に配置される。図２８に示す構成とは対照的に、図２９及び図３０に示す構成のアクチュエータ１３１では、一体継手１５７は、傾斜軸ｗ１に隣接して配置される。
【０１１５】
図２９は、中立位置を示す。図３０は、図３０の左側に示すアクチュエータ１３１の電極１３２及び１３４，１３５，１３６に傾斜電圧を印加した位置を示す。その結果、図３０のｗ１継手部分１０６が傾斜軸ｗ１を中心に反時計方向に傾斜する。
【０１１６】
傾斜継手の他の変形形態では、継手長さＬと継手厚さＳとを別の寸法比にすることもできる。Ｌ／Ｓは、５０よりも大きく、１００よりも大きく、２５０よりも大きく、又は５００よりも大きくすることができる。１０００よりも大きなＬ／Ｓの比も可能である。
【０１１７】
ミラー本体７９の傾斜制御用のアクチュエータ１１９の様式でのアクチュエータを有する個別ミラー１３９のさらなる構成を、図３１〜図３４を用いて後述する。図１〜図３０を参照して、特に図３〜図３０を参照してすでに上述したものに対応するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述はしない。
【０１１８】
個別ミラー１３９のミラー本体７９及び同じく反射面８０の形状は、正三角形である。３辺のうちの１つの辺長は、約１ｍｍである。各アクチュエータ１１９は、それぞれこの三角形の３辺のうちの１つと平行に配置される。
【０１１９】
アクチュエータ１１９のそれぞれは、移動電極１２０を有し、移動電極１２０は、接触部分１２９によりミラー本体７９に接続され、接触面部分１２４によりキャリア体８１に接続される。３つのアクチュエータ１１９の作動は、図１５〜図２７に示すアクチュエータ１１９の説明に関連して上述したものに従って互いに独立して行うことができる。このように、３つの独立した傾斜自由度によるキャリア体８１に対する反射面８０の傾斜が可能である。
【０１２０】
３つのアクチュエータ１１９の配置は、接触部分１２９が、個別ミラー１３９の平面図で反時計方向に隣接するアクチュエータ１１９の接触面部分１２４の上方にそれぞれ配置されるようになっている。
【０１２１】
個別ミラー１３９は、傾斜継手８２，８３のような継手を有さない。
【０１２２】
ミラー本体７９を傾斜させるための上述のアクチュエータは、傾斜軸ｗ１，ｗ２を中心とした各傾斜角を測定するための統合センサシステムを有することができる。このセンサシステムは、特に、調整した傾斜角を監視するために用いることができる。
【０１２３】
この種のセンサシステムは、例えば、容量性測定ブリッジにより、特にウィーンブリッジの形態で形成することができる。結果として、ミラー本体７９の反射面と基準体との間のキャパシタンスを、これら２つの本体間の距離に応じて、換言すればミラー本体７９の反射面の傾斜角位置に応じて求めることが可能である。この場合、ミラー本体７９の上述のアクチュエータシステムで用いられる直流電圧に、上述の電極間に印加される交流電圧成分を重畳することができる。求めたキャパシタンスのインピーダンス変化を、続いて集積測定ブリッジにより測定することができる。この目的で、既知の可変容量又は既知の可変抵抗をブリッジ回路内で用いるゼロバランス調整が行われる。測定ブリッジ自体は、集積回路に埋め込むことができ、集積回路は、キャリア体８１の直下に、又はキャリア体８１内にさえ位置付けられる。これにより、信号線距離が短いことに起因した寄生キャパシタンスが確実に最小化される。センサシステムの信号増幅及びアナログ／デジタル変換とアクチュエータ起動とは、集積ＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）でも行うことができる。
【０１２４】
投影露光システム１を用いて、物体視野５内のレチクルの少なくとも一部を像視野８内のウェーハ上の感光層の一領域上に結像させて、微細構造又はナノ構造コンポーネント、特に半導体コンポーネント、例えばマイクロチップをリソグラフィにより製造する。スキャナ又はステッパとしての投影露光システム１の構成に応じて、レチクル及びウェーハは、時間同期方式でｙ方向に、スキャナ動作で連続的に、又はステッパ動作で段階的に変位させる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４−５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【国際調査報告】
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