【手続補正書】
【提出日】令和2年4月22日(2020.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定システムであって、
第１の吸着状態にある、ウェハ上に設置された１つ以上の計測ターゲットの1つ以上の幾何学的形状特徴部に第１の量の照明光を提供するように構成される照明光源を備え、
前記１つ以上の幾何学的形状特徴部が、限界寸法によって特徴づけられ、半導体製作プロセスによって成形され、
前記１つ以上の計測ターゲットの照明の間、気相の充填物質を含む気体流を前記１つ以上の計測ターゲットに提供するように構成される蒸気注入システムであって、前記充填物質の一部分が、液相の前記１つ以上の計測ターゲット上に吸着され、前記充填物質の前記一部分が、前記第１の吸着状態にある前記１つ以上の計測ターゲットの前記１つ以上の幾何学的形状特徴部の少なくとも一部分を充填する、蒸気注入システムと、
前記第１の量の照明光に応答して前記１つ以上の計測ターゲットから第１の量の集光された光を受け取り、前記第１の量の集光された光を示す測定信号の第１のセットを生成するように構成される検出器と、
を備えることを特徴とする測定システム。
【請求項２】
請求項１に記載の測定システムであって、さらに計算システムを備え、
前記計算システムが、
前記測定信号の第１のセットを受信し、
前記測定信号の第１のセットおよび測定モデルに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ以上の幾何学的形状特徴部の前記限界寸法の値を推定するように構成されることを特徴とする測定システム。
【請求項３】
請求項２に記載の測定システムであって、前記照明光源が、前記第１の吸着状態とは異なる第２の吸着状態にある、前記ウェハ上に設置された前記１つ以上の計測ターゲットに第２の量の照明光を提供するようにさらに構成され、前記検出器が、前記第２の量の照明光に応答して前記１つ以上の計測ターゲットから第２の量の集光された光を受け取り、前記第２の量の集光された光を示す測定信号の第２のセットを生成するようにさらに構成され、前記計算システムが、
前記測定信号の第２のセットを受信し、
前記測定信号の第１のセットおよび第２のセット、ならびにマルチターゲット測定モデルに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ以上の幾何学的形状特徴部の前記限界寸法の値を推定する、ようにさらに構成されることを特徴とする測定システム。
【請求項４】
請求項３に記載の測定システムであって、前記第１の量の照明光が、前記充填物質の第１の分圧で、前記１つ以上の計測ターゲットに提供され、前記第２の量の照明光が、前記充填物質の第２の分圧で前記１つ以上の計測ターゲットに提供されることを特徴とする測定システム。
【請求項５】
請求項４に記載の測定システムであって、前記充填物質の前記第２の分圧がおよそゼロであることを特徴とする測定システム。
【請求項６】
請求項３に記載の測定システムであって、前記充填物質が第１の充填物質である間に、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供され、前記充填物質が第２の充填物質である間に、前記第２の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供される、ことを特徴とする測定システム。
【請求項７】
請求項２に記載の測定システムであって、前記限界寸法の前記値の推定が、モデルベース回帰、モデルベースライブラリ検索、モデルベースライブラリ回帰、画像ベースの分析、および信号応答計測モデルのうちのいずれかを伴うことを特徴とする測定システム。
【請求項８】
請求項１に記載の測定システムであって、前記蒸気注入システムが、
第１の温度にある液体充填物質を含むバブラーであって、前記液体充填物質の一部分が、前記１つ以上の計測ターゲットに提供される前記気体流内へ蒸発し、前記１つ以上の計測ターゲットが、前記第１の温度より高い第２の温度にある、バブラーを備えることを特徴とする測定システム。
【請求項９】
請求項１に記載の測定システムであって、前記蒸気注入システムが、
液体充填物質に溶解された不揮発性溶質を含むバブラーであって、前記液体充填物質の一部分が前記１つ以上の計測ターゲットに提供される前記気体流内に蒸発する、バブラーを備えることを特徴とする測定システム。
【請求項１０】
請求項１に記載の測定システムであって、前記充填物質が、水、エタノール、およびトルエンのいずれかであることを特徴とする測定システム。
【請求項１１】
請求項１に記載の測定システムであって、前記充填物質が複数の異なる物質を含むことを特徴とする測定システム。
【請求項１２】
請求項１に記載の測定システムであって、吸着プロセスが安定状態に達したときに、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供されることを特徴とする測定システム。
【請求項１３】
請求項１に記載の測定システムであって、吸着プロセスが安定状態に達する前に、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供されることを特徴とする測定システム。
【請求項１４】
請求項１に記載の測定システムであって、前記第１の測定前記照明光源および前記検出器が、分光エリプソメータ、分光リフレクトメータ、ビームプロファイルリフレクトメータ、ビームプロファイルエリプソメータ、またはそれらの任意の組み合わせ、のいずれかであることを特徴とする測定システム。
【請求項１５】
請求項１に記載の測定システムであって、前記第１の量の照明光が、１２０ナノメートルから１９０ナノメートルの間の範囲にある波長を含むことを特徴とする測定システム。
【請求項１６】
方法であって、
第１の吸着状態にある、ウェハ上に設置された１つ以上の計測ターゲットの1つ以上の幾何学的形状特徴部に第１の量の照明光を提供するステップを含み、
前記１つ以上の幾何学的形状特徴部が、限界寸法によって特徴づけられ、半導体製作プロセスによって成形され、
前記１つ以上の計測ターゲットの照明の間、気相の充填物質を含む気体流を前記１つ以上の計測ターゲットに提供するステップであって、前記充填物質の一部分が、液相の前記１つ以上の計測ターゲット上に吸着され、前記充填物質の前記一部分が、前記第１の吸着状態にある前記１つ以上の計測ターゲットの前記１つ以上の幾何学的な構造的形状特徴部間の空間の少なくとも一部分を充填する、ステップと、
前記第１の量の照明光に応答して前記１つ以上の計測ターゲットから第１の量の集光された光を受け取るステップと、
前記第１の量の集光された光を示す測定信号の第１のセットを通信するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、
前記測定信号の第１のセットを受信するステップと、
前記測定信号の第１のセットおよび測定モデルに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ以上の幾何学的形状特徴部の前記限界寸法の値を推定するステップと、をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１６に記載の方法であって、
前記第１の吸着状態とは異なる第２の吸着状態にある、前記ウェハ上に設置された前記１つ以上の計測ターゲットに第２の量の照明光を提供するステップと、
前記第２の量の照明光に応答して前記１つ以上の計測ターゲットから第２の量の集光された光を受け取るステップと、
前記第２の量の集光された光を示す、測定信号の第２のセットを生成するステップと、
前記測定信号の第１のセットおよび第２のセット、ならびにマルチターゲット測定モデルに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ以上の幾何学的形状特徴部の前記限界寸法の値を推定するステップと、をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに、前記充填物質の第１の分圧で提供され、前記第２の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに、前記充填物質の第２の分圧で提供されることを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１８に記載の方法であって、前記充填物質が第１の充填物質である間に、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供され、前記充填物質が第２の充填物質である間に、前記第２の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供されることを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項１６に記載の方法であって、前記気体流を提供するステップが、
第１の温度にある前記液体充填物質の槽を通じてパージガスを気泡化するステップであって、前記液体充填物質の前記槽の一部分が、前記１つ以上の計測ターゲットに提供される前記気体流内へ蒸発し、前記１つ以上の計測ターゲットが、前記第１の温度より高い第２の温度にある、ステップを伴うことを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項１６に記載の方法であって、前記気体流を提供するステップが、
前記液体充填物質に溶解された不揮発性溶質を含む槽を通じてパージガスを気泡化するステップであって、前記液体充填物質の一部分が、前記１つ以上の計測ターゲットに提供される前記気体流内に蒸発する、ステップを伴うことを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項１６に記載の方法であって、前記充填物質が、水、エタノール、およびトルエンのいずれかであることを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項１６に記載の方法であって、前記充填物質が複数の異なる物質を含むことを特徴とする方法。
【請求項２５】
請求項１６に記載の方法であって、吸着プロセスが安定状態に達したときに、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供されることを特徴とする方法。
【請求項２６】
請求項１６に記載の方法であって、吸着プロセスが安定状態に達する前に、前記第１の量の照明光が前記１つ以上の計測ターゲットに提供されることを特徴とする方法。
【請求項２７】
請求項１６に記載の方法であって、
所望の最大特徴部サイズ未満の前記１つ以上の幾何学的形状特徴部も充填されるように、前記蒸発充填物質の飽和度を調整するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の方法であって、前記飽和度を調整するステップが、前記１つ以上の計測ターゲットと前記充填物質の液槽との間の温度差を制御するステップを伴うことを特徴とする方法。
【請求項２９】
気相の充填物質を含む第１の気体流を光学測定システムによる測定下にある１つ以上の計測ターゲットに提供するステップであって、前記充填物質の一部分が、液相の前記１つ以上の計測ターゲット上に吸着され、前記充填物質の前記一部分が、第１の吸着状態にある前記１つ以上の計測ターゲットの１つ以上の幾何学的な構造的形状特徴部間の空間の少なくとも一部分を充填する、ステップと、を含み、
前記１つ以上の幾何学的形状特徴部が、限界寸法によって特徴づけられ、半導体製作プロセスによって成形され、
第２の吸着状態において、前記光学測定システムによる測定下にある前記１つ以上の計測ターゲットに第２の気体流を提供するステップと、
前記第１の吸着状態において前記光学測定システムによって前記１つ以上の計測ターゲットから検出された光学測定信号の第１のセット、前記第２の吸着状態において前記光学測定システムによって前記１つ以上の計測ターゲットから検出された光学測定信号の第２のセット、およびマルチターゲット測定モデルに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ以上の計測ターゲットの前記限界寸法値を推定するステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項３０】
請求項２９に記載の方法であって、前記第１の気体流を提供するステップが、気相の前記充填物質を第１の分圧で前記１つ以上の計測ターゲットに提供するステップを伴い、前記第２の気体流を提供するステップが、気相の前記充填物質を第２の分圧で前記１つ以上の計測ターゲットに提供するステップを伴うことを特徴とする方法。
【請求項３１】
請求項２９に記載の方法であって、前記第２の気体流を提供するステップが、気相の第２の充填物質を前記１つ以上の計測ターゲットに提供するステップを伴い、前記第２の充填物質が前記充填物質とは異なることを特徴とする方法。