【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年8月31日(2020.8.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源（３）とのインターフェースと、合焦光学系（１１）と、を備える、レーザ加工機のための加工ヘッドであって、作用レーザビーム（６）の少なくとも単一の偏向のための偏向組立体（９，１０）が、前記インターフェースと前記合焦光学系（１１）との間に配置され、前記作用レーザビーム（６）の発散をパワーに応じて変更する受動光学要素の形態で設計され、
前記偏向組立体（９，１０）が、本質的に一定の曲率を有する偏向鏡（９）からなり、
前記偏向組立体（９，１０）の前記偏向鏡（９）が、前記作用レーザビーム（６）に面する基板の前側に複数の誘電体層が付着される前記基板によって形成され、前記誘電体層のシステムは、２００から９００ｎｍの範囲内の波長の光、および、１３００ｎｍを上回る波長の光を透過させる伝送特性を有し、
誘電体層のシステムは、角度に応じて反射率が変化し、誘電体層のシステムは、作用レーザビーム（６）の入射角（Ａ）が２０°と７０°の間の角度範囲にあり、発散角Δが２°と２０°の間にある場合に、前記作用レーザビーム（６）を最大反射するように最適化されており、
前記レーザ光源（３）と前記偏向組立体（９，１０）との間には、レンズが配されない、
ことを特徴とする加工ヘッド（１）。
【請求項２】
請求項１に記載の加工ヘッドであって、平面偏向鏡（９）によって特徴づけられる加工ヘッド。
【請求項３】
請求項１に記載の加工ヘッドであって、前記偏向鏡（９）が、応力のないマウンティング（１０）内に保持されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、Δが、３°から７°の間にある、ことを特徴とする加工ヘッド。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、前記偏向組立体（９，１０）の前記基板が、くさび形で実現されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、応力補償平衡化コーティングが、前記基板の後側に付着され、前記平衡化コーティングは、前記基板の前側のコーティングと同じ特性を有するコーティング、前記前側のものと同一のコーティング、反射防止特性を有するコーティング、および純ガラスコーティングを含む群の少なくとも１つのコーティングであることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、硫化亜鉛レンズまたはサファイヤレンズのための前記基板が、好ましくは、シリカガラスからなり、シリカガラスレンズの前記基板が、好ましくはサファイヤからなることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、前記基板を通して伝送された、または前記基板内に反射されたビームを監視するためのデバイスが、提供されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項９】
請求項１から４のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、保護窓、および／または適用可能な場合、調整可能なダイアフラム（８）が、前記偏向組立体（９，１０）の上流のビーム路（７）内に配置されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、前記偏向組立体（９，１０）が、プロセス光を通すことを特徴とする加工ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０に記載の加工ヘッドであって、プロセス光監視装置（１２）が、前記合焦光学系（１１）の反対に位置する前記偏向組立体（９，１０）側に配置されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項１２】
請求項１１に記載の加工ヘッドであって、
別の光学システムが、前記偏向組立体（９，１０）の前記偏向鏡と前記プロセス光監視装置（１２）との間で使用されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、ビーム成形光学要素が、前記合焦光学系（１１）の下流または上流で使用されることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の加工ヘッドであって、前記合焦光学系（１１）が、１つだけの撮像レンズを備えることを特徴とする加工ヘッド。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか１項に記載の加工ヘッド（１）によって特徴づけられるレーザ加工機。
【請求項１６】
請求項１５に記載のレーザ加工機であって、前記レーザ光源（３）が、光導波路（２）を用いることによって前記加工ヘッド（１）に連結されることを特徴とするレーザ加工機。
【請求項１７】
請求項１５または１６に記載のレーザ加工機であって、前記加工ヘッド（１）が、ファイバ結合された、またはファイバベースのレーザ光源（３）に連結されることを特徴とするレーザ加工機。
【請求項１８】
請求項１５から１７のいずれか１項に記載のレーザ加工機であって、前記レーザ光源（３）が、近赤外範囲内で作動し、５００Ｗを超える平均出力パワーを有することを特徴とするレーザ加工機。
【請求項１９】
請求項１５から１８のいずれか１項に記載のレーザ加工機であって、これが、レーザ切断機として実現され、前記加工ヘッド（１）が、レーザ切断ヘッドとして実現されることを特徴とするレーザ加工機。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
したがって、このような平行ビームは、発散または収束をわずかしか有さない。現代の加工ヘッドでは、鏡偏向は、通常、ビームが上記で説明した形で平行になるまで実現されない。わずかな角度偏差は、対応する偏向光学系の誘電体コーティングの比較的簡単な設計を可能にする。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
反射の角度依存の問題を回避するために、最初に、平行化対物レンズまたは少なくとも１つのレンズを用いることによって、部分的ビームが平行板の適切なコーティングを用いることによって偏向される前にビームを平行化することも考えられる。これに関連して、たとえば、独国特許第２０２００４００７５１１号は、特別な反射防止コーティングを説明しており、このコーティングは、残留反射率が小さい角度範囲にわたってできるだけ小さく変動し、両方の偏光方向の反射率が、それと同時にできるだけ等しくなるようにして実現されなければならないと説明している。この目的のために、いくつかの薄い誘電体層が基板上に付着される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
偏光のさまざまな状態における反射相違を低減するために、適切なコーティングを備えた部分的に反射する偏向鏡の境界表面を提供することが従来技術から知られている。たとえば、これらの境界表面には、特別な反射防止コーティングが設けられ、このコーティングは、残留反射率が小さい角度範囲にわたってできるだけ小さく変動し、両方の偏光方向の反射率が、それと同時にできるだけ等しくなるようにして実現されなければならない。いくつかの薄い誘電体層が、この目的のために基板上に付着される必要がある。これは、たとえば独国特許第２０２００４００７５１１号において提案されている方法である。この公報に開示された偏向鏡のコーティングのための層システムは、６つの個々の層からなり、この層の厚さは、厳しく観察される必要がある。生産関連の公差がこの場合発生し、したがって、特に経年、湿度などによって薄い層の変化をもたらし得ることが悪い意味で知られている長期的状態下でも反射の所望の一貫性を確保することは非常に難しいことが、当業者にはまったく明白である。別の問題は、このコーティングが、板の両側に付着される必要があり、板の前側および後側によって反射された放射の部分が、互いに干渉する可能性があり、それによって測定された強度の変動をもたらし得るという点において見い出され得る。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
そのような解決策のために、偏向組立体の偏向鏡が、作用レーザビームに面する基板の前側に複数の誘電体層が付着される基板によって形成される場合、特に有利である。この場合、誘電体層システムは、作用レーザビームの入射角度周りで２°から２０°の間の角度範囲内で最大反射するように最適化され、この場合作用レーザビームの任意の部分の入射角度は、１°から８９°の間にある。好ましい角度範囲は、３°から７°の間である。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
作用レーザビームの監視を可能にするために、本発明の別の実施形態は、偏向組立体がプロセス光を通過させることを特徴とする。これは、特に、好ましくは２００から９００ｎｍの間の範囲内の十分な伝送特性を有する誘電体層システムを使用することによって達成される。１３００ｎｍを上回る伝送特性もまた、特に有利である。このようにして、加工ヘッドのコンパクトな設計が達成され得る。それによって、簡単かつ効果的なカメラベースのプロセス監視／制御もまた、特に単一レンズシステムが使用される場合に実現され得る。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
偏向組立体９，１０の最も重要な要素は、好ましくは応力のないマウンティング１０内に保持される本質的に平面の偏向鏡９である。これは、支持表面または類似の構造上の複数点締結装置または接着連結を用いることによって実現され得る。偏向組立体９，１０の偏向鏡９は、好ましくは、作用レーザビーム６に面する基板の前側に複数の誘電体層が付着される、基板によって形成される。この誘電体層システムは、作用レーザビーム６の入射角度周りで２°から２０°の間、好ましくは３°から７°の間の角度範囲内で最大反射するように最適化される。この場合、作用レーザビーム６のいかなる領域も、通常、１°から８９°の間の入射角度を有する。角度範囲は、好ましくは、２０°から７０°の間にある。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
実際の偏向は、偏向鏡９がその前側に施された誘電体層システム上で起こる。層システムは、幅広い角度範囲を含むために複数の誘電体層からなる。作用レーザビーム６の中央軸が入射角度ＡＯＩ＝４５°を有する場合、誘電体層は、発散作用レーザビーム６の最も外側の領域も偏向させるために、ＡＯＩ＝４５°±２°から±２０°の角度範囲を含むことができなければならない。層システムは、レーザ光の角度範囲全体にわたって最大反射するように最適化される。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
全体的に複雑な層システムは、変形をもたらす偏向鏡９の基板内に応力を引き起こし得る。高いパワー範囲では、追加の熱効果が、光学構成要素上に作用する。特にレーザによって照明された誘電体層システムは、温度上昇し、偏向鏡９の基板のわずかな変形を引き起こし得、それにより、熱レンズが作り出される。基板の装着が均一な変形を可能にする場合、それぞれの撮像レンズまたは撮像レンズの通常発生する熱レンズの補償または部分的補償が、それによって達成され得る。熱効果に加えて、散乱光効果もまた、有利には、基板のマウンティングに考慮される。これは、偏向鏡９の基板が、好ましくはできるだけ応力のない形で、また基板も拡張または変形することができるように装着される理由である。これは、好ましくは、支持表面上の前述の複数点締結装置または偏向鏡９の適切な接着連結を用いることによって達成される。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
作用レーザビーム６の伝播方向の反対側に延びる方向に、プロセスゾーンからのプロセス光は、撮像光学系１１によって偏向組立体９，１０上に投影されて戻され、これは、この方向に可能な限り良好に伝送されたレーザ光と対照をなす。この目的のために、誘電体層システムは、２００から９００ｎｍの間の範囲、好ましくはさらに１３００ｎｍを上回る十分な伝送特性によって規定される。この場合、発散プロセス光の伝送は、通常、プロセス光の伝播方向と称される偏向組立体９，１０の下流に配置されたカメラ装置１２上に投影される。この結果、光学的誤差（コマ誤差および球面収差）が生じ、この光学的誤差は、好ましくは、偏向鏡９の基板、したがってコーティングを含む偏向鏡全体９のわずかにくさび形状の設計によって低減され得る。この場合、くさび角度は、０°から５°の間、好ましくは０°から３°の間にある。