【手続補正書】
【提出日】令和2年6月4日(2020.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア膜（１１）及び前記キャリア膜から分離可能な転写プライ（１５）を備える転写膜（１）であって、
前記転写膜は、コンポーネント（５）、特に３次元コンポーネント（５）に前記転写プライ（１５）を転写するために提供され、
前記キャリア膜（１１）と前記転写プライ（１５）との間に深絞りメンブレン（１３）が配設されていることを特徴とする、転写膜（１）。
【請求項２】
前記深絞りメンブレン（１３）は、１０μｍ〜２００μｍの範囲、好ましくは２０μｍ〜１００μｍの範囲、さらに好ましくは２５μｍ〜７５μｍの範囲の層厚を有するワニス層として形成されており、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、ポリウレタンから形成されており、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、透明、半透明又は不透明に形成されており、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、装飾又はモチーフを有し、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、表面全体に形成されておらず、
特に、前記深絞りメンブレン（１３）は、前記転写膜（１）のエッジ領域に形成されておらず、及び／又は、
前記エッジ領域において、前記深絞りメンブレン（１３）は、当該深絞りメンブレン（１３）を剥離するためのハンドリング性を有することを特徴とする、請求項１に記載の転写膜（１）。
【請求項３】
前記深絞りメンブレン（１３）は、１３０℃〜１６０℃の範囲の深絞り温度において、２００％、好ましくは５００％〜１５００％を超える伸縮性を有して形成され、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、印刷層として形成されており、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、複数の層から形成されており、及び／又は、
前記深絞りメンブレン（１３）は、均一な層として形成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の転写膜（１）。
【請求項４】
前記転写プライ（１５）は、転写層（１５１〜１５３）から形成された多層体として形成されており、及び／又は、
前記転写プライ（１５）は、前記深絞りメンブレン（１３）と対向する第１転写層（１５１）、第２転写層（１５２）及び第３転写層（１５３）を有し、
特に、前記第１転写層（１５１）は、保護層として形成されており、
好ましくは、前記保護層は、２μｍ〜５０μｍの範囲、好ましくは２μｍ〜３０μｍの範囲の層厚で、ＰＭＭＡ系のワニスから形成された保護ワニスとして形成されており、及び／又は、
前記保護層は、２μｍ〜５０μｍの範囲、好ましくは５μｍ〜３０μｍの範囲の層厚で、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）系のワニス又はＰＶＤＦ（ポリビニリデンフルオライド）及びＰＭＭＡの混合物系のワニスから形成された保護ワニスとして形成されていることを特徴とする、請求項１〜３の何れかに記載の転写膜（１）。
【請求項５】
前記第２転写層（１５２）は、単一又は多層の装飾層として形成されており、
特に、前記第２転写層（１５２）は、着色層として形成されており、
好ましくは、前記着色層は、１μｍ〜１０μｍの範囲の層厚を有するＰＭＭＡ系のワニスから形成されていることを特徴とする、請求項４に記載の転写膜（１）。
【請求項６】
前記第３転写層（１５３）は、ベースコート層として形成されており、
特に、前記ベースコート層は、１μｍ〜５μｍの範囲の層厚を有するように形成されていることを特徴とする、請求項４又は５に記載の転写膜（１）。
【請求項７】
前記キャリア膜（１１）と前記深絞りメンブレン（１３）との間に第１分離層（１２）が配設され、
前記深絞りメンブレン（１３）と前記転写プライ（１５）との間に第２分離層（１４）が配設されており、
特に、前記第１分離層（１２）及び／又は前記第２分離層（１４）は、ワックスからなり、かつ／又は、モンタン酸エステル又はポリエチレンから形成されており、かつ／又は、１μｍ未満、特に０．１μｍ未満の層厚を有することを特徴とする、請求項１〜６の何れかに記載の転写膜（１）。
【請求項８】
前記キャリア膜（１１）と前記深絞りメンブレン（１３）との間に配設された前記第１分離層（１２）による、前記キャリア膜（１１）の、前記深絞りメンブレン（１３）からの分離力が、前記深絞りメンブレン（１３）と前記転写プライ（１５）との間に配設された前記第２分離層（１４）による、前記深絞りメンブレン（１３）の、前記転写プライ（１５）からの分離力よりも５倍〜１０倍小さく、
特に、前記第１分離層（１２）はポリエチレンワックスから形成され、前記第２分離層（１４）はモンタン酸エステルから形成されていることを特徴とする、請求項７に記載の転写膜（１）。
【請求項９】
前記深絞りメンブレン（１３）と前記転写プライ（１５）との間に配設された前記第２分離層によって、前記深絞りメンブレン（１３）の分離力が、２つの隣接した前記転写層（１５１〜１５３）間の密着力よりも３０％〜７０％小さいことを特徴とする、請求項７又は８に記載の転写膜（１）。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れかに記載の転写膜（１）の使用方法であって、ＩＭＤ法及び／又はインサート成形法及び／又はＴＯＭにおける転写膜（１）の使用方法。
【請求項１１】
転写膜（１）、特に、請求項１〜９の何れかに記載の転写膜（１）の製造方法であって、
前記転写膜（１）は、キャリア膜（１１）と、前記キャリア膜から分離可能な転写プライ（１５）と、前記キャリア膜（１１）と前記転写プライ（１５）との間に配設された深絞りメンブレン（１３）と、を有し、
前記深絞りメンブレン（１３）は、キャスト法、又はスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷若しくはインクジェット印刷により製造又は適用されることを特徴とする、方法。
【請求項１２】
前記深絞りメンブレン（１３）は、複数の連続したパス又は複数の層から製造され、
特に、前記深絞りメンブレン（１３）を形成するため、適用される層は、当該適用される層に追加の層が適用されて前記深絞りメンブレン（１３）を形成する前に、少なくとも部分的にタッチドライ、特に上乾きの状態にされ、かつ／又は、追加の層が前記適用される層に適用されて前記深絞りメンブレン（１３）を形成する前に、完全に乾燥されるか乾燥されることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記深絞りメンブレン（１３）を形成するために、既に適用した層の少なくとも表面をエッチングするように次層が適用され、好ましくは均一な層を形成することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜９の何れかに記載の転写膜（１）、特に請求項１〜９の何れかに記載の転写膜（１）の転写プライ（１５）を有する転写膜（１）でコンポーネント（５）をコーティングする方法。
【請求項１５】
前記方法は、前記転写膜（１）を射出成形金型内に挿入し、前記転写膜（１）をプラスチックと背面射出成形（ｂａｃｋ−ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  ｍｏｌｄｉｎｇ）する工程を含むＩＭＤ法として形成され、
前記転写膜（１）の前記キャリア膜（１１）は、前記背面射出成形の後に剥離され、
前記深絞りメンブレン（１３）は、前記キャリア膜（１１）とともに剥離されるか、又は後の時点において、特に前記コンポーネントを使用する直前に剥離されるか、若しくは前記コンポーネントを使用する時点まで剥離されず、及び／又は、
前記方法は、基板（２）を積層し、積層した基板（２）を深絞りし、かつ深絞りした基板（２）を熱可塑性プラスチックと背面射出成形する工程を含むインサート成形法として形成され、
前記転写膜（１）の前記キャリア膜（１１）は、前記基板（２）を積層した後に前記基板（２）から剥離され、
前記深絞りメンブレン（１３）は、前記背面射出成形の後に、背面射出成形された基板（２）から剥離され、及び／又は、
前記方法は、前記基板（２）を積層し、前記基板（２）の裏面にＴＯＭベースコート（１６）をコーティングし、積層されかつベースコートされた前記基板（２）を３次元コンポーネント（５）に適用する工程を含むＴＯＭとして形成され、
前記転写膜（１）の前記キャリア膜（１１）は、前記基板（２）のコーティングの前又は後に剥離され、
前記深絞りメンブレン（１３）は、前記積層されかつベースコートされた前記基板（２）が前記コンポーネント（５）に適用された後に、前記転写プライ（１５）から剥離され、及び／又は、
前記方法は、前記転写膜（１）を３次元コンポーネント（５）に適用する工程を含むＴＯＭとして形成され、
前記キャリア膜（１１）は、前記転写膜（１）を前記コンポーネント（５）に適用する前に前記深絞りメンブレン（１３）から剥離され、
前記深絞りメンブレン（１３）は、前記転写膜（１）を前記コンポーネント（５）に適用した後に前記転写プライ（１５）から剥離されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
キャリア膜と、当該キャリア膜から剥離可能な転写プライとを備えた転写膜が開示される。転写膜は、転写プライをコンポーネント、特に３次元コンポーネントに転写するために提供され、深絞りメンブレンがキャリア膜と転写プライとの間に配設される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
背面射出成形の後、キャリア膜は転写膜（転写プライ）から剥離される。深絞りメンブレンも、転写膜（転写プライ）とともに剥離され得る。しかしながら、深絞りメンブレンは、少なくとも最初は、転写プライ上に残存させておくことが有利である。したがって、深絞りメンブレンは、転写プライに対する保護層として特に作用する。ここで、転写プライに対する保護層は省くことができる。深絞りメンブレンは、コーティングされたコンポーネントの使用直前又は使用時に剥離されることも考えられる。これによって、他の物と一緒にすると、そのコンポーネントは、使用前にダメージを受けてしまう。ここでは、転写プライが保護層を有し、コンポーネントが使用される際に、外部の影響から転写プライを保護することが有利である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
真空成形の後、深絞りメンブレンは保護層から剥離され得る。したがって、成形されたコンポーネントに破れは生じず、保護層の表面は光沢を保持したままで透明である。コンポーネントに適用した全てのワニスは２つの実施例で同一とすることができるが、本発明にしたがった方法においてのみ、光学的に傷のないコンポーネントが生成された。