(57)【要約】  【課題】  少なくとも二個の漏洩低減ユニットを加工槽の出口側と入口側に設置することにより、液体の外漏れを減らすことができる。  【解決手段】  加工槽の入口側と出口側にそれぞれ組立口が設けられる。漏洩低減ユニット２はそれぞれ加工槽の入口側と出口側の組立口に設けられ、漏洩低減ユニットには少なくとも一個の槽路少なくとも二個の長開口と少なくとも一対の転がし棒が設けられ、槽路に転がし棒が収容され、二個の転がし棒の間には隙間が形成される。長開口と隙間は加工待ちの回路基板４が通過するのに用いられ、そして二個の転がし棒は回路基板を緊密に当接するのに用いられる。集水槽は加工槽の外部に設けられ、そして汲水ユニットが設けられることにより、漏洩低減ユニッ２から外へ漏洩する液体を回収するように構成されている。【選択図】    図１
0003134072.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
加工槽（１）および二個の漏洩低減ユニット（２）を含む回路基板加工槽の漏洩低減装置であって、加工槽（１）には入口側と出口側が設けられ、上記入口側と出口側にはそれぞれ組立口（１３）が設けられ、二個の漏洩低減ユニット（２）はそれぞれ加工槽（１）の上記入口側と出口側の組立口（１３）に設けられ、漏洩低減ユニット（２）には少なくとも一個の槽路（２０、２０’）、少なくとも二個の長開口（２２、２２’、２２”）と少なくとも一対の転がし棒（２３、２４）が設けられ、転がし棒（２３、２４）が槽路（２０、２０’）に収容され、二個の転がし棒（２３、２４）の間には隙間が形成され、長開口（２２、２２’、２２”）と上記隙間は加工待ちの回路基板（４）が通過するのに用いられ、そして二個の転がし棒（２３、２４）は回路基板（４）を緊密に当接するのに用いられることを特徴とする回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【請求項２】
加工槽（１）には他に案内レール（１４）が設けられ、案内レール（１４）には案内溝（１４１）が形成され、案内溝（１４１）は逆三角形の形状に形成されることにより、回路基板（４）が加工槽（１）の内部で移動するのを一定方向に案内することを特徴とする請求項１記載の回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【請求項３】
漏洩低減ユニット（２）は少なくとも一対の止め板（２１、２１’、２１”）により少なくとも一個の槽路（２０、２０’）と少なくとも二個の長開口（２２、２２’、２２”）を形成することを特徴とする請求項１記載の回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【請求項４】
漏洩低減ユニット（２）の少なくとも一対の転がし棒（２３、２４）には二個の外側転がし棒（２３、２３）が含まれ、二個の外側転がし棒（２３、２３）の少なくとも一部分は磁石からなり、そして二個の外側転がし棒（２３、２３）の間には異なる極性を有するように形成され、さらに漏洩低減ユニット（２）の少なくとも一個の槽路（２０、２０’）には一個の外側槽路（２０）が含まれることにより、外側転がし棒（２３、２３）が収容されることを特徴とする請求項１記載の回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【請求項５】
漏洩低減ユニット（２）の少なくとも一対の転がし棒（２３、２４）には二個の内側転がし棒（２４、２４）が含まれ、二個の内側転がし棒（２４、２４）の少なくとも一部分には対応するように縮径部（２４１）が形成され、そして二個の内側転がし棒（２４、２４）の間には異なる極性を有するように形成され、さらに漏洩低減ユニット（２）の少なくとも一個の槽路（２０、２０’）には一個の内側槽路（２０’）が含まれることにより、内側転がし棒（２４、２４）が収容されることを特徴とする請求項１記載の回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【請求項６】
他に集水槽（３）が設けられ、集水槽（３）は加工槽（１）の外部に設けられ、そして汲水ユニット（３１）が設けられることにより、漏洩低減ユニット（２）から外へ漏洩する液体を回収し、さらに漏洩低減ユニット（２）の外側槽路（２０）には他に排水口（２５）が設けられることにより、外へ溢出する液体を集水槽（３）まで案内することを特徴とする請求項４記載の回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【請求項７】
集水槽（３）には他に少なくとも二個の乱流棒（３２）が設けられ、二個の乱流棒（３２）は加工槽（１）の内部に設置され、乱流棒（３２）の表面上には複数個の穴（３２１）が設けられることを特徴とする請求項６記載の回路基板加工槽の漏洩低減装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、回路基板加工槽の漏洩低減装置に関するもので、特に二個の漏洩低減ユニットをそれぞれ加工槽の出、入り口に設け、そして加工槽の外部に集水槽を設けることにより、液体の外漏れを防止すると共に、液体を回収することができる回路基板加工槽の漏洩低減装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の回路基板加工槽の漏洩低減装置としては、一個の加工槽、二個の極板、一対の外転がし軸および複数組の対になる内転がし軸が含まれる。上記加工槽の内部には電解液が収容され、さらに上記加工槽の二個の側板には対応するように二個の槽口が設けられる。上記二個の極板はそれぞれ電源装置のプラス極まで連接され、上記二個の極板は互いに平行し、そしてそれぞれ対称するように上記加工槽の内部に設置される。上記外転がし軸はそれぞれ上記電源装置のマイナス極まで連接され、上記外転がし軸は上記加工槽の外部に形成され、そして上記二個の外転がし軸の間には隙間が形成される。上記複数組の対になる内転がし軸は上記加工槽の内部に設けられ、そして上記二個の内転がし軸の間には隙間が形成される。
【０００３】
さらに詳しく言えば、上記加工槽の槽口、上記外転がし軸の隙間と上記内転がし軸の隙間などの位置は互いに対応するように形成される。回路基板がメッキを行う時、上記外転がし軸と上記内転がし軸は同期に回動することができるため、上記回路基板は上記外転がし軸、上記槽口と上記内転がし軸との間の隙間の内部において水平に移動して輸送することができ、さらに上記極板と上記外転がし板の磁極化により上記加工槽の内部の電解液のプラスイオンは電離作用で上記回路基板の両側の表面に付着するようにとしたものがある（例えば、特許文献１を参照）。
【特許文献１】中華民国公告番号第４１８８５３号
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような従来の回路基板加工槽の漏洩低減装置においては、上記回路基板が輸送の過程において上記加工槽の二個の側板の槽口から輸入／輸出する時、上記槽口は適当な装置または部材を提供することができないことにより、上記電解液が外部まで漏洩してしまうため、上記電解液を絶えずに補充しなければならないという問題点が生じ、さらにメッキ加工の効率が低くなり、メッキのコストが増えるという問題点があった。このように、上記のような従来の回路基板加工槽の漏洩低減装置をさらに改良しなければならない。
【０００５】
本考案はこのような問題点に鑑みて考案したものであって、その目的とするところは、加工槽の出口側と入口側にはそれぞれ組立口が設けられ、そして上記各組立口にはそれぞれ漏洩低減ユニットが設置され、上記漏洩低減ユニットには少なくとも一個の槽路、少なくとも二個の長開口と少なくとも二個の転がし棒が設けられ、上記槽路に上記二個の転がし棒が収容され、回路基板が上記長開口と上記二個の転がし棒の隙間から上記加工槽に輸入／輸出される時、上記二個の転がし棒は水圧または磁力により上記回路基板を挟持することにより、上記回路基板は垂直にして上記加工槽に輸入／輸出することができるため、液体の外漏れの量を有効に減らすことができる。その他に、集水槽を利用して上記外漏れの液体を回収することにより、回路基板の加工の効率を確実に高めることができる回路基板加工槽の漏洩低減装置を提供しようとするものである。
【０００６】
本考案の第一の目的は、少なくとも二個の漏洩低減ユニットを加工槽の出口側と入口側に設置することにより、液体の外漏れを減らすことができる回路基板加工槽の漏洩低減装置を提供しようとするものである。
【０００７】
本考案の第二の目的は、少なくとも二個の漏洩低減ユニットを加工槽の出口側と入口側に設置し、さらに加工槽の外部に集水槽を設置することにより、外漏れの液体を回収することができる回路基板加工槽の漏洩低減装置を提供しようとするものである。
【０００８】
本考案の第三の目的は、二個の外側転がし棒を漏洩低減ユニットの外側槽路の内部に収容させ、そして二個の外側転がし棒は吸引し合う磁性を有するため、液体の外漏れを減らすことができると共に、回路基板の移動の安定性を高めることができる回路基板加工槽の漏洩低減装置を提供しようとするものである。
【０００９】
本考案の第四の目的は、二個の内側転がし棒を漏洩低減ユニットの内側槽路の内部に収容させ、そして二個の内側転がし棒は縮径部を有し、水圧を利用して互いに当接させることにより、液体の外漏れを減らすことができると共に、回路基板の移動の安定性を高めることができる回路基板加工槽の漏洩低減装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本考案による回路基板加工槽の漏洩低減装置は、下記のようになるものである。すなわち、
加工槽および二個の漏洩低減が含まれる。加工槽には入口側と出口側が設けられる。入口側と出口側にはそれぞれ組立口が設けられる。二個の漏洩低減ユニットはそれぞれ加工槽の入口側と出口側の組立口に設けられ、漏洩低減ユニットには少なくとも一個の槽路、少なくとも二個の長開口と少なくとも一対の転がし棒が設けられ、槽路に転がし棒が収容され、二個の転がし棒の間には隙間が形成され、長開口と上記隙間は加工待ちの回路基板が通過するのに用いられ、そして二個の転がし棒は回路基板を緊密に当接するのに用いられる。
【００１１】
本考案による回路基板加工槽の漏洩低減装置は、加工槽に他に案内レールが設けられ、案内レールには案内溝が形成され、案内溝は逆さの三角形に形成されることにより、回路基板が加工槽の内部で移動するのを一定方向で案内することもできる。また、漏洩低減ユニットは少なくとも一対の止め板により少なくとも一個の槽路と少なくとも二個の長開口を形成することもできる。また、漏洩低減ユニットの少なくとも一対の転がし棒には二個の外側転がし棒が含まれ、二個の外側転がし棒の少なくとも一部分は磁石からなり、そして二個の外側転がし棒の間には異なる極性を有するように形成され、さらに漏洩低減ユニットの少なくとも一個の槽路には一個の外側槽路が含まれることにより、外側転がし棒が収容されることもできる。また、漏洩低減ユニットの少なくとも一対の転がし棒には二個の内側転がし棒が含まれ、二個の内側転がし棒の少なくとも一部分には対応するように縮径部が形成され、そして二個の内側転がし棒の間には異なる極性を有するように形成され、さらに漏洩低減ユニットの少なくとも一個の槽路には一個の内側槽路が含まれることにより、内側転がし棒が収容されることもできる。また、他に集水槽が設けられ、集水槽は加工槽の外部に設けられ、そして汲水ユニットが設けられることにより、漏洩低減ユニットから外へ漏洩する液体を回収し、さらに漏洩低減ユニットの外側槽路には他に排水口が設けられることにより、外へ溢出する液体を集水槽まで案内することもできる。また、集水槽には他に少なくとも二個の乱流棒が設けられ、二個の乱流棒は加工槽の内部に設置され、乱流棒の表面上には複数個の穴が設けられることもできる。また、
【考案の効果】
【００１２】
本考案の回路基板加工槽の漏洩低減装置によれば、少なくとも二個の漏洩低減ユニットを加工槽の出口側と入口側に設置することにより、液体の外漏れを減らすことができるという利点がある。
【００１３】
本考案の回路基板加工槽の漏洩低減装置によれば、少なくとも二個の漏洩低減ユニットを加工槽の出口側と入口側に設置し、さらに加工槽の外部に集水槽を設置することにより、外漏れの液体を回収することができるという利点がある。
【００１４】
本考案の回路基板加工槽の漏洩低減装置によれば、二個の外側転がし棒を漏洩低減ユニットの外側槽路の内部に収容させ、そして二個の外側転がし棒は吸引し合う磁性を有するため、液体の外漏れを減らすことができると共に、回路基板の移動の安定性を高めることができるという利点がある。
【００１５】
本考案の回路基板加工槽の漏洩低減装置によれば、二個の内側転がし棒を漏洩低減ユニットの内側槽路の内部に収容させ、そして二個の内側転がし棒は縮径部を有し、水圧を利用して互いに当接させることにより、液体の外漏れを減らすことができると共に、回路基板の移動の安定性を高めることができるという利点がある。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１６】
本考案の実施の形態について、以下、図面を参照して説明する。
【００１７】
図１、２、３を参照すると、本考案の実施例の回路基板加工槽の漏洩低減装置には加工槽１、二個の漏洩低減ユニット２および集水槽３が含まれ、そして回路基板４を加工処理するのに用いられる。回路基板４は好ましくは選択的に軟性回路基板からなり、そして垂直に立つとの方式で移動して加工槽１に進入して加工を行うように形成される。さらに、加工を行った後、加工槽の外部まで移動するように形成される。
【００１８】
図１、２、３を参照すると、本考案の実施例の加工槽１は選択的に任意な形状の容器からなることができ、加工槽１には入口側と出口側が設けられる。加工槽１は好ましくは選択的に長槽状の容器からなり、加工槽１には二個の第一側板１１、二個の第二側板１２、二個の組立口１３と一個の案内レール１４が設けられる。加工槽１は電解液、洗浄液または清水などの加工用液体を収容するのに用いられる。第一側板１１と第二側板１２は互いに隣接して加工槽１を組成する。第二側板１２は選択的にガラスまたはアクリルなどの光投射材質の側板からなるため、加工槽１の内部におけるメッキまたは洗浄などの加工処理の情況を観察することができる。組立口１３は縦方向で第一側板１１の上部に設けられ、さらに組立口１３の巾は実質上として漏洩低減ユニット２のサイズと同じであるため、漏洩低減ユニット２を組み立てるのに役立つことができる。案内レール１４は加工槽１の内部に設置され、そして好ましくは加工槽１の内底部に固設され、さらに案内レール１４には案内溝１４１が形成され、案内溝１４１は外から内へ向かって縮径して逆さの三角形に形成され、案内溝１４１の両端の開口（図示せず）は実質上として第一側板１１の組立口１３の底端に対応するように形成されることにより、回路基板４が加工槽１の内部を通過する時、案内レール１４の案内により一定方向の輸送を行うことができる。
【００１９】
再び図１、２、３を参照すると、本考案の実施例の漏洩低減ユニット２は縦方向で第一側板１１の組立口１３の上部に固設され、そして漏洩低減ユニット２の一部分は第一側板１１の外側に突出するように設けられ、さらに漏洩低減ユニット２のもう一方の一部分は第一側板１１の内側に突出するように設けられる。漏洩低減ユニット２には一個の外側槽路２０、一個の内側槽路２０’、少なくとも二対の止め板２１、２１’、２１”、少なくとも二個の長開口２２、２２’、２２”、二個の外側転がし棒２３、二個の内側転がし棒２４と一個の排水口２５が設けられる。外側槽路２０は漏洩低減ユニット２の止め板２１と止め板２１’との間に形成され、そして止め板２１と止め板２１’は略Ｕ字形に形成され、外側槽路２０の上端面には選択的に開放状の凹欠部（標示せず）または封止状に形成され、さらに外側槽路２０の下端面には他に一対の承載部（標示せず）が設けられることにより、二個の外側転がし棒２３を支持することができると共に、二個の外側転がし棒２３は上記承載部の内部において相対的に回動するように形成される。さらに、内側槽路２０’は止め板２１’と止め板２１”の間に形成され、そして止め板２１’と止め板２１”も略Ｕ字形に形成され、内側槽路２０’の上端面には選択的に開放状の凹欠部（標示せず）または封止状に形成され、さらに内側槽路２０’の下端面には他に一対の承載部（標示せず）が設けられることにより、二個の内側転がし棒２４を支持することができると共に、二個の内側転がし棒２４は上記承載部の内部において相対的に回動するように形成される。その他に、長開口２２は縦方向で二個の止め板２１の間に形成され、長開口２２’は縦方向で二個の止め板２１’の間に形成され、長開口２２”は縦方向で二個の止め板２１”の間に形成される。長開口２２、長開口２２’と長開口２２”は外から内へ向かって順序よく設置され、そして互いに位置合わせの関係を有するように形成され、さらにその長さと巾のサイズは好ましくは実質上として同じになるように形成される。
【００２０】
再び図１、２、３を参照すると、本考案の実施例の二個の外側転がし棒２３は対になって外側槽路２０の内部に収容され、そして二個の外側槽路２０の断面積は外側槽路２０の断面積より少し小さくなるように形成され、さらに二個の外側転がし棒２３の間には吸引し合える磁性を有するように形成される。例えば、二個の外側転がし棒２３の少なくとも一部分は選択的に磁石からなり、そして両者は異なる磁性を有するように形成される。または、二個の外側転がし棒２３の内の一個は選択的に磁石からなり、そしてもう一個は選択的に導磁性の材質（例えば鉄または鉄合金など）からなる。このように、二個の外側転がし棒２３を互いに吸引し合わせることにより、二個の外側転がし棒２３は外側槽路２０の内部において安定して対応するように転がして緊密に当接するように形成される。その他に、上述した吸引し合うによる当接の方式も二個の内側転がし棒２４に応用することにより、二個の内側転がし棒２４は互いに吸引し合うように形成される。
【００２１】
再び図１、２、３を参照すると、本考案の実施例の二個の内側転がし棒２４も対になって内側槽路２０’の内部に収容され、そして二個の内側転がし棒２４の断面積は内側槽路２０’の断面積より少し小さくなるように形成され、さらに二個の内側転がし棒２４の一部分には対応して縮径するように縮径部２４１が形成される。このように、二個の内側転がし棒２４は内側槽路２０’の内部において安定して対応するように転がすことができ、そして外へ溢出する水圧を利用して二個の内側転がし棒２４は内側槽路２０’の内部において安定して対応するように転がして緊密に当接するように形成される。その他に、排水口２５は内側槽路２０’の下端面に設けられることにより、加工槽１の内部の少量の外漏れ液体を排出することができる。
【００２２】
再び図１、２、３を参照すると、本考案の実施例の集水槽３は対応するように排水口２５の下方に設置されることにより、加工槽１の外漏れの液体を貯蔵することができる。集水槽３には一個の汲水ユニット３１、少なくとも二個の乱流棒３２と一個の連接パイプ３３が設けられる。汲水ユニット３１は好ましくは汲水ポンプからなる。少なくとも二個の乱流棒３２は加工槽１の内底部に立設され、そして少なくとも二個の乱流棒３２はそれぞれ対称するように案内レール１４の両側に設置され、さらに乱流棒３２は好ましくは中空の管からなると共に、乱流棒３２の表面上には複数個の穴３２１が設けられる。連接パイプ３３の一端は汲水ユニット３１の輸出端まで連接され、そして他端は乱流棒３２まで連接されることにより、汲水ユニット３１は連接パイプ３３を経由して液体を乱流棒３２まで輸送することができる。
【００２３】
図３を参照すると、本考案の実施例において回路基板４（例えば軟性回路基板）をメッキまたは洗浄などの加工処理を行う時、回路基板４は好ましくは垂直に立つとの方式で加工槽１の外部から順序に従って漏洩低減ユニット２の長開口２２、二個の外側転がし棒２３の隙間、長開口２２’、二個の内側転がし棒２４の隙間と長開口２２”を経て、加工槽１の内部に進入することができる。加工槽１の内部において加工を行った後、回路基板４は再び反対方向の順序に従って加工槽１から外部まで輸出される。その後、再び選択的に適量な加工液体を注入し、例えば電解液、洗浄液または清水を注入してメッキおよび／または洗浄の加工を行うことができる。また、回路基板４が加工槽１に進入された時、加工槽１の導入レール１４の案内溝１４１は逆さの三角形に形成されることにより、回路基板４が加工槽１の内部で安定して移動するのを一定方向で案内することができる。
【００２４】
再び図３を参照すると、本考案の実施例において漏洩低減ユニット２の長開口２２、２２’と２２”の開口の巾は回路基板４の肉厚より少し大きいだけであるため、液体の外漏れの程度を減らすことができるるが、一部分の液体の外漏れを避けることができない。そして、液体の外漏れの程度を有効に制御するためには、漏洩低減ユニット２の外側槽路２０において外側転がし棒２３を設置し、外側転がし棒２３により回路基板４を挟持し、さらに磁性による相互の吸引力を利用することができる。その他に、漏洩低減ユニット２の内側槽路２０’に内側転がし棒２４を設置し、縮径部２４１に形成される隙間を利用して小部分の液体を外へ溢出させ、外へ溢出させる水圧を生じさせて二個の内側転がし棒２４が緊密に互いに当接するのを吸引することにより、内側転がし棒２４が回路基板４を緊密に挟持するのを確保することができるため、回路基板４は任意に揺れることなく、特に回路基板４は選択的に軟性回路基板からなる場合、一定方向での輸送の安定性を大幅に高めることができる。この時、二個の外側転がし棒２３（および二個の内側転がし棒２４）は同期に向き合って転がす（すなわち一個の転がし棒は時計回りで転がし、そしてもう一個の転がし棒は時計逆周りで転がす）ように形成されるため、回路基板４を一定方向で転がして輸入／輸出することができる。このように、回路基板４が加工槽１に輸入／輸出される時の液体の漏れ防止をさらに増やすことができ、さらに液体の外への滲出量を有効に制御することができる。
【００２５】
図１、４、５を参照すると、本考案の実施例において上記液体が加工槽１の内部から溢出した後、上記液体は漏洩低減ユニット２の外側槽路２０の下底部の排水口２５を経由して集水槽３まで流出することができ、それから汲水ユニット３１を利用して乱流棒３２まで輸送することにより、上記液体を回収しリサイクルして使用することができると同時に、上記液体は汲水ユニット３１に加えられる水圧により乱流棒３２の穴３２１から噴出することができるため、加工槽１の液体に乱流が生じ、さらに上記液体が撹拌されることにより、メッキまたは洗浄の加工効果を増やすことができる。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
上述の如く、従来の回路基板加工槽の漏洩低減装置によれば、外側転がし棒と内側転がし棒を利用して同期に回路基板の水平移動を連動して加工槽の内部を通過した時、上記回路基板の移動により相対的に加工槽の液体を槽口から大量に滲出させるため、加工の効率が低下してしまうという問題点があったが、本考案の回路基板加工槽の漏洩低減装置によれば、加工槽１の第一側板１１にそれぞれ漏洩低減ユニット２を設け、回路基板４（特に軟性回路基板）を垂直に立つとの方式で移動して加工槽１を通過した時、漏洩低減ユニット２により加工槽１の液体の外への滲出量を減らすことができる。その他に、漏洩低減ユニット２に二個の外側転がし棒２３および／または二個の内側転がし棒２４を設置することにより、回路基板４に緊密に当接することができると共に、同期の転がしを行うことにより、一定方向で回路基板４を連動して移動することができるため、液体の外漏れの量を確実に減らすことができる。また、集水槽３により加工槽１の少量の外漏れの液体を受け、そして汲水ユニット３１を利用して回収を行い、さらに乱流棒３２を利用して加工槽１の液体を均一に撹拌することにより、回路基板４の加工の効率を確実に増やすことができる。
【００２７】
本考案は、その精神及び必須の特徴事項から逸脱することなく他のやり方で実施することができる。従って、本明細書に記載した好ましい実施例は例示的なものであり、限定的なものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本考案の実施例の回路基板加工槽の漏洩低減装置による局部的な組み立てられた状態の斜視図である。
【図２】本考案の実施例の回路基板加工槽の漏洩低減装置による漏洩低減ユニットと加工槽の局部的な分解斜視図である。
【図３】本考案の実施例の回路基板加工槽の漏洩低減装置が回路基板において加工を行う時の平面図である。
【図４】本考案の実施例の回路基板加工槽の漏洩低減装置の内側転がし棒が圧力を受けて移動する時の平面図である。
【図５】図４の５−５線に沿った内側転がし棒が圧力を受けて移動する時の断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１    加工槽                        １１    第一側板
１２    第二側板                      １３    組立口
１４    案内レール                  １４１    案内溝
２    漏洩低減ユニット              ２０    外側槽路
２０’  内側槽路                      ２１    止め板
２１’  止め板                        ２１”  止め板
２２    長開口                        ２２’  長開口
２２”  長開口                        ２３    外側転がし棒
２４    内側転がし棒                ２４１    縮径部
２５    排水口                          ３    集水槽
３１    汲水ユニット                  ３２    乱流棒
３２１    穴                            ３３    連接パイプ
４    回路基板
【図１】
0003134072.tif 000003
【図２】
0003134072.tif 000004
【図３】
0003134072.tif 000005
【図４】
0003134072.tif 000006
【図５】
0003134072.tif 000007