【手続補正書】
【提出日】令和2年5月18日(2020.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ペンダント酸性基を有する重合体であって、
ｉ）式（Ｉａ）の重合体
【化１】
2019521374.tif 000001
ｉｉ）式（ＩＢ）の単量体に由来する式（Ｉｂ）の繰り返し単位を含む重合体
【化２】
2019521374.tif 000002
［式中、
【化３】
2019521374.tif 000003
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ４は、−（ＣＨ２）ｖ−ＣＯ２Ｒ４ａ、−（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−ＯＣ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ａｒ−ＯＨ、及び−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨからなる群より選択される（ここで、各ｖは、独立に０〜４の整数であり、Ｒ４ａは、水素であり、Ａｒは、置換又は非置換のフェニル又はナフチルであり、置換基が存在する場合はハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、フルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、及びフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシからなる群より選択される。）。］；及び
ｉｉｉ）式（ＩＣ）の単量体に由来する式（Ｉｃ）の１種以上の単量体繰り返し単位と、式（ＩＤ）の無水マレイン酸単量体に由来する式（Ｉｄ１）及び（Ｉｄ２）の無水マレイン酸型繰り返し単位とを含む重合体
【化４】
2019521374.tif 000004
（式中、
【化５】
2019521374.tif 000005
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
ｇは０であり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、同一であるか又は異なり、それぞれ独立に水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、及び直鎖もしくは分枝の置換又は非置換の（Ｃ３−Ｃ２５）ヒドロカルビル基からなる群より選択される。）
【化６】
2019521374.tif 000006
（式中、
【化７】
2019521374.tif 000007
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ９は、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、直鎖もしくは分枝の（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカビル、及び直鎖もしくは分枝のフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカルビル基からなる群より選択され、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、水素、メチル、及びエチルより選択される。）；
からなる群より選択される重合体、
ｂ）１つ以上のオレフィン性官能基を含む化合物であって、
ｉ）式（ＩＩａ）の化合物
【化８】
2019521374.tif 000008
［ここで、
各ｂは、独立に１〜６の整数であり、
Ｋは、ＣＨ２であり、
Ｘは、Ｏである］；
ｉｉ）式（ＩＩｂ）の化合物
【化９】
2019521374.tif 000009
［ここで、
Ｋは、ＣＨ２であり、
Ｘは、ＳｉＲ２Ｒ３、−（ＣＺ２）ｂ−（ここで、Ｚは水素である。）、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり（ここで、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立にメチル又はエチルである。）、
各ｂは、独立に１〜８の整数である。］；
ｉｉｉ）式（ＩＩｃ）の化合物
【化１０】
2019521374.tif 000010
（ここで、
ｂは、１〜６の整数であり、
Ｋは、ＣＨ２又はＣＨ２−ＣＨ２である。）； 
ｉｖ）
【化１１】
2019521374.tif 000011
からなる群より選択される式（ＩＩＩ）の化合物；及び
ｖ）
【化１２−１】
2019521374.tif 000012
【化１２−２】
2019521374.tif 000013
からなる群より選択される式（ＩＶ）の化合物；
からなる群より選択される化合物、及び
ｃ）光酸発生剤、
を含む、ネガ型光画像形成組成物。
【請求項２】
前記式（ＩＩａ）、（ＩＩｂ）又は（ＩＩｃ）の化合物は、
【化１３−１】
2019521374.tif 000014
【化１３−２】
2019521374.tif 000015
からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記式（ＩＩＩ）の化合物は、
【化１４】
2019521374.tif 000016
からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記式（ＩＶ）の化合物は、
【化１５】
2019521374.tif 000017
からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記重合体は、
ポリヒドロキシスチレン；
ノルボルネニル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロパン−２−オール、３−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２−イル）プロピオン酸及びトリオキサノナンノルボルネン由来の三元重合体；
ブタノールで開環されている、無水マレイン酸及びノルボルネン由来の共重合体；及び
ノルボルネニル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロパン−２−オール及びビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメタノール由来の共重合体；
からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記式（ＩＩａ）、（ＩＩｂ）、又は（ＩＶ）の化合物は、
５，５’−（オキシビス（メチレン））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
５，５’−（オキシビス（エタン−２，１−ジイル））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメトキシ）メタン；
４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルアセテート；及び
５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン；
からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記光酸発生剤は、
【化１６−１】
2019521374.tif 000018
【化１６−２】
2019521374.tif 000019
及び、
これらの任意の組合せにおける混合物；
からなる群より選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記光酸発生剤は、
トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
（４−エチルフェニル）（４−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；及び
ジ−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニド；
からなる群より選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
ａ）ペンダント酸性基を有する重合体であって、
ｉ）式（Ｉａ）の重合体
【化１７】
2019521374.tif 000020
ｉｉ）式（ＩＢ）の単量体に由来する式（Ｉｂ）の繰り返し単位を含む重合体
【化１８】
2019521374.tif 000021
［式中、
【化１９】
2019521374.tif 000022
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ４は、−（ＣＨ２）ｖ−ＣＯ２Ｒ４ａ、−（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−ＯＣ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ａｒ−ＯＨ、及び−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨからなる群より選択される（ここで、各ｖは、独立に０〜４の整数であり、Ｒ４ａは、水素であり、Ａｒは、置換又は非置換のフェニル又はナフチルであり、置換基が存在する場合はハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、フルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、及びフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシからなる群より選択される。）。］；及び
ｉｉｉ）式（ＩＣ）の単量体に由来する式（Ｉｃ）の１種以上の単量体繰り返し単位と、式（ＩＤ）の無水マレイン酸単量体に由来する式（Ｉｄ１）及び（Ｉｄ２）の無水マレイン酸型繰り返し単位とを含む重合体
【化２０】
2019521374.tif 000023
（式中、
【化２１】
2019521374.tif 000024
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
ｇは、０であり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、同一であるか又は異なり、それぞれ独立に、水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化されたメチル、エチル、及び直鎖又は分枝の置換又は非置換の（Ｃ３−Ｃ２５）ヒドロカルビル基からなる群より選択される。）
【化２２】
2019521374.tif 000025
（式中、
【化２３】
2019521374.tif 000026
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ９は、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、直鎖又は分枝（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカルビル、及び直鎖又は分枝のフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカルビル基からなる群より選択され、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、水素、メチル、及びエチルより選択される。）；
からなる群より選択される重合体、
ｂ）５，５’−（オキシビス（メチレン））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
５，５’−（オキシビス（エタン−２，１−ジイル））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメトキシ）メタン；
４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルアセテート；及び
５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン；
からなる群より選択される化合物、及び
ｃ）トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
（２−（４−メトキシナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル）ジメチルスルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムトリス（（トリフルオロメチル）スルホニル）メタニド；
（４−エチルフェニル）（４−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；及び
ジ−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニド；
からなる群より選択される光酸発生剤、
を含む、ネガ型光画像形成組成物。
【請求項１０】
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、メチル−１，３−ブチレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコール−３−モノメチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、及び、これらの任意の組合せにおける混合物、からなる群より選択される１種以上の溶媒をさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
フェノール樹脂、レベリング剤、抗酸化剤、難燃剤、可塑剤、シランカップリング剤、及び硬化促進剤、からなる群より選択される１つ以上の化合物をさらに含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
積層された半導体素子を含み、前記積層は請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物からなる、半導体デバイス。
【請求項１３】
再配線層構造、チップスタック構造、相補型金属酸化膜半導体イメージセンサーダム構造のうちの１つ以上を含み、前記構造は請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物を含む、半導体デバイス。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物を含む、膜。
【請求項１５】
再配線層構造、チップスタック構造、相補型金属酸化膜半導体イメージセンサーダム構造のうちの１つ以上を含むマイクロ電子デバイス又は光電子デバイスであって、前記構造は請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物を含む、電子デバイス。
【請求項１６】
マイクロ電子デバイス又は光電子デバイスを製造するための膜を形成する方法であって、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物を適切な基板に塗布して膜を形成することと、
マスクを用いて適切な光線で露光することにより前記膜をパターニングすることと、
露光後に前記膜を現像して光パターンを形成することと、
適切な温度に加熱することにより前記膜を硬化させることと
を含む、膜の形成方法。
【請求項１７】
前記現像が溶剤現像剤により行われ、該現像剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記基板が、前記硬化の前に、まず１３０℃〜１６０℃の温度で２０分〜６０分間ハードベークされる、請求項１６または１７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
以上、特定の例によって本発明を説明したが、本発明はこれらにより限定されるものと解釈すべきではない。むしろ、本発明は、ここに開示された一般領域を包含するものであり、その趣旨及び範囲から逸脱することなく種々の変更形態及び実施形態を行うことが可能である。
この明細書により開示される事項には、以下のものが含まれる。
〔１〕  ａ）式（Ｉ）のペンダント酸性基を有する重合体
【化３６−１】
2019521374.tif 000027
（ここで、Ａは、単量体繰り返し単位であり、Ｙは、ペンダント酸性基であって、フェノール性水酸基、カルボン酸基、及びスルホン酸基より選択される基である。）、
ｂ）式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物、及び式（ＩＶ）の化合物からなる群より選択される１つ以上の化合物
Ｍ−Ｂ−（Ｘ）ｚ−Ｂ１−Ｍ１      （ＩＩ）
Ｈ４−ａ−Ｃ（Ｂ−Ｍ）ａ          （ＩＩＩ）
Ｄ−Ｍ                          （ＩＶ）
［式中、
ｚは、１〜５の整数であり、
ａは、１〜３の整数であり、
Ｍ及びＭ１は、同一であるか又は異なり、それぞれ独立に、置換又は非置換の（Ｃ２−Ｃ８）アルケニル、（Ｃ３−Ｃ８）シクロアルケニル、（Ｃ７−Ｃ１２）ビシクロアルケニル、及び（Ｃ７−Ｃ１２）トリシクロアルケニルからなる群より選択され（ここで、前記置換基は、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル、（Ｃ３−Ｃ８）シクロアルケニル、（Ｃ７−Ｃ１２）ビシクロアルケニル、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ（Ｃ３−Ｃ６）アルケニル、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ（Ｃ３−Ｃ８）シクロアルケニル、及び（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ（Ｃ７−Ｃ１２）ビシクロアルケニルより選択される。）、
Ｂ及びＢ１は、同一であるか又は異なり、それぞれ独立に、結合であるか、又は（ＣＺ２）ｂ、（ＣＺ２Ｏ）ｂ、（ＣＺ２Ｓ）ｂ、（ＣＨ２）ｂ−（ＣＨ＝ＣＨ）ｃ−（ＣＨ２）ｂ、（ＣＨ２）ｂ−Ｏ−（ＣＨ２）ｂ、（ＣＨ２）ｂ−Ｃ６Ｑ１０−（ＣＨ２）ｂ、及び（ＣＨ２）ｂ−Ｃ６Ｑ４−（ＣＨ２）ｂからなる群より選択される２価基であり（ここで、各ｂは、独立に０〜１２の整数であり、ｃは、１〜６の整数であり、Ｚは、独立にＨ又はＦであり、Ｃ６Ｑ１０は、Ｑで置換された２価のシクロへキシレンであり、Ｃ６Ｑ４は、Ｑで置換された２価のフェニレンである。ここで、Ｑは、独立にＨ、Ｆ、ＣＨ３、ＣＦ３、及びＯＣＨ３から選択される。）、
Ｘは、結合であるか、又はＯ、Ｓ、ＮＲ１、ＳｉＲ２Ｒ３、−（ＣＺ２）ｂ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ６Ｑ４−Ｃ（Ｏ）−Ｃ６Ｑ４−、−ＯＣ（Ｏ）−Ｃ６Ｑ４−Ｃ（Ｏ）Ｏ−からなる群より選択される基であり（ここで、Ｚ及びｂは、前記の定義と同じであり、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立に、Ｈ、メチル、エチル、又は直鎖もしくは分枝の（Ｃ３−Ｃ１２）アルキル基であり、すなわち、Ｏ、ＮＲ１及び／又はＳ原子は、互いに直接連結されていない。）、
Ｄは、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチル又はエチル、直鎖もしくは分枝の（Ｃ３−Ｃ２５）ヒドロカルビル、直鎖もしくは分枝のフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ３−Ｃ２５）ヒドロカルビル基、及び置換又は非置換の（Ｃ６−Ｃ１８）環式又は多環式ヒドロカルビル基からなる群より選択される。］、及び
ｃ）光酸発生剤、
を含む、ネガ型光画像形成組成物。
〔２〕  式（Ｉ）の前記重合体は、
ａ）式（Ｉａ）の繰り返し単位を含む重合体
【化３６−２】
2019521374.tif 000028
ｂ）式（ＩＢ）の単量体に由来する式（Ｉｂ）の繰り返し単位を含む重合体
【化３６−３】
2019521374.tif 000029
［式中、
【化３６−４】
2019521374.tif 000030
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ４は、−（ＣＨ２）ｖ−ＣＯ２Ｒ４ａ、−（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−ＯＣ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ａｒ−ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−ＮＨＣ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｏ−Ａｒ−ＯＨ、及び−ＣＨ−（Ａｒ−ＯＨ）２より選択される（ここで、各ｖは、独立に０〜４の整数であり、Ｒ４ａは、水素、又は（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、Ａｒは、置換又は非置換のフェニル又はナフチルであり、置換基が存在する場合、ハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、フルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、及びフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシより選択される。）。］；及び
ｃ）式（ＩＣ）の単量体に由来する式（Ｉｃ）の１種以上の単量体繰り返し単位と、式（ＩＤ）の無水マレイン酸単量体に由来する式（Ｉｄ１）及び（Ｉｄ２）の無水マレイン酸型繰り返し単位とを含む重合体
【化３６−５】
2019521374.tif 000031
（式中、
【化３６−６】
2019521374.tif 000032
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
ｇは、０〜２の整数であり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、同一であるか又は異なり、それぞれ独立に水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、直鎖もしくは分枝の置換又は非置換の（Ｃ３−Ｃ２５）ヒドロカルビル基、置換又は非置換の（Ｃ１−Ｃ２５）ヘテロヒドロカルビル基、置換又は非置換の（Ｃ３−Ｃ２５）環式ヒドロカルビル基、置換又は非置換の（Ｃ６−Ｃ２５）多環式ヒドロカルビル基、置換又は非置換の（Ｃ３−Ｃ２５）環式ヘテロヒドロカルビル基、及び置換又は非置換の（Ｃ６−Ｃ２５）多環式ヘテロヒドロカルビル基からなる群より選択される。）
【化３６−７】
2019521374.tif 000033
（式中、
【化３６−８】
2019521374.tif 000034
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ９は、水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、直鎖もしくは分枝の（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカビル、直鎖もしくは分枝のフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカルビル基、及び置換又は非置換の（Ｃ６−Ｃ１８）環式又は多環式ヒドロカルビル基からなる群より選択され、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、及び直鎖もしくは分枝の（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカビルより選択される。）；
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔３〕  式（ＩＩ）の前記化合物は、
ａ）式（ＩＩａ）の化合物
【化３６−９】
2019521374.tif 000035
［ここで、
Ｋは、ＣＨ２、ＣＨ２−ＣＨ２、Ｏ、及びＳより選択され、
Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ１、ＳｉＲ２Ｒ３、−（ＣＺ２）ｂ−（ここで、Ｚ及びｂは、前記の定義と同じである。）、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、上記〔１〕の定義と同じである。）、
ｂは、１〜６の整数である。］；
ｂ）式（ＩＩｂ）の化合物
【化３６−１０】
2019521374.tif 000036
［ここで、
Ｋは、ＣＨ２、ＣＨ２−ＣＨ２、Ｏ、及びＳより選択され、
Ｘは、ＳｉＲ２Ｒ３、−（ＣＺ２）ｂ−（ここで、Ｚは水素である。）、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり（ここで、Ｒ２及びＲ３は、上記〔１〕の定義と同じである。）
ｂは、１〜６の整数である。］；
ｃ）式（ＩＩｃ）の化合物
【化３６−１１】
2019521374.tif 000037
（ここで、
ｂは、１〜６の整数であり、
Ｋは、ＣＨ２、ＣＨ２−ＣＨ２、Ｏ、及びＳより選択される。）；及び
ｄ）式（ＩＩｄ）の化合物
【化３６−１２】
2019521374.tif 000038
（ここで、ｂは、１〜６の整数である。）；
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔４〕 式（ＩＩ）の前記化合物は、
【化３６−１３】
2019521374.tif 000039
【化３６−１４】
2019521374.tif 000040
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔５〕  式（ＩＩＩ）の前記化合物は、
【化３６−１５】
2019521374.tif 000041
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔６〕  式（ＩＶ）の前記化合物は、
【化３６−１６】
2019521374.tif 000042
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔７〕  前記光酸発生剤は、
【化３６−１７】
2019521374.tif 000043
【化３６−１８】
2019521374.tif 000044
及びこれらの任意の組合せにおける混合物からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔８〕  前記重合体は、
ポリヒドロキシスチレン；
ノルボルネニル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロパン−２−オール（ＨＦＡＮＢ）、３−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−２−イル）プロピオン酸（ＮＢＥｔＣＯＯＨ）、及びトリオキサノナンノルボルネン（ＮＢＴＯＮ）由来の三元重合体；
ブタノールで開環されている、無水マレイン酸及びノルボルネン由来の共重合体；及び
ノルボルネニル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロパン−２−オール（ＨＦＡＮＢ）、及びビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメタノール（ＮＢＭｅＯＨ）由来の共重合体；
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔９〕  式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、又は（ＩＶ）の前記化合物は、
５，５’−（オキシビス（メチレン））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
５，５’−（オキシビス（エタン−２，１−ジイル））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメトキシ）メタン；
４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルアセテート；及び
５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔１０〕  前記光酸発生剤は、
トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
（２−（４−メトキシナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル）ジメチルスルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムトリス（（トリフルオロメチル）スルホニル）メタニド；
（４−エチルフェニル）（４−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；及び
ジ−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニド；
からなる群より選択される、上記〔１〕に記載の組成物。
〔１１〕  ａ）ペンダント酸性基を有する重合体であり、
ｉ）式（Ｉａ）の重合体
【化３６−１９】
2019521374.tif 000045
ｉｉ）式（ＩＢ）の単量体に由来する、式（Ｉｂ）の繰り返し単位を含む重合体
【化３６−２０】
2019521374.tif 000046
［式中、
【化３６−２１】
2019521374.tif 000047
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ４は、−（ＣＨ２）ｖ−ＣＯ２Ｒ４ａ、−（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−ＯＣ（Ｏ）−Ａｒ−ＯＨ、−（ＣＨ２）ｖ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ａｒ−ＯＨ、及び−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｖ−Ａｒ−ＯＨより選択される（ここで、各ｖは、独立に０〜４の整数であり、Ｒ４ａは、水素、又は（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、Ａｒは、置換又は非置換のフェニル又はナフチルであり、置換基が存在する場合、ハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、フルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、及びフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシより選択される。）。］；及び
ｉｉｉ）式（ＩＣ）の単量体に由来する、式（Ｉｃ）の１種以上の単量体繰り返し単位と、式（ＩＤ）の無水マレイン酸単量体に由来する、式（Ｉｄ１）及び（Ｉｄ２）の無水マレイン酸型の繰り返し単位とを含む重合体
【化３６−２２】
2019521374.tif 000048
（式中、
【化３６−２３】
2019521374.tif 000049
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
ｇは、０であり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、同一であるか又は異なり、それぞれ独立に、水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化されたメチル、エチル、及び直鎖又は分枝の置換又は非置換の（Ｃ３−Ｃ２５）ヒドロカルビル基からなる群より選択される。）
【化３６−２４】
2019521374.tif 000050
（式中、
【化３６−２５】
2019521374.tif 000051
は、他の繰り返し単位と結合する位置を示し、
Ｒ９は、水素、メチル、エチル、フルオロ化又はパーフルオロ化メチルあるいはエチル、直鎖又は分枝（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカルビル、及び直鎖又は分枝のフルオロ化又はパーフルオロ化（Ｃ３−Ｃ９）ヒドロカルビル基からなる群より選択され、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、水素、メチル、及びエチルより選択される。）；
からなる群より選択される重合体、
ｂ）５，５’−（オキシビス（メチレン））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
５，５’−（オキシビス（エタン−２，１−ジイル））ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン）；
ビス（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イルメトキシ）メタン；
４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルアセテート；及び
５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン；
からなる群より選択される化合物、及び
ｃ）トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
（２−（４−メトキシナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル）ジメチルスルホニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；
トリス（４−（（４−アセチルフェニル）チオ）フェニル）スルホニウムトリス（（トリフルオロメチル）スルホニル）メタニド；
（４−エチルフェニル）（４−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート；及び
ジ−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニド；
からなる群より選択される光酸発生剤、
を含む、ネガ型光画像形成組成物。
〔１２〕  １種以上の溶媒をさらに含む、上記〔１〕に記載の組成物。
〔１３〕  Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルアミルケトン（ＭＡＫ）、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、メチル−１，３−ブチレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコール−３−モノメチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、及びこれらの任意の組合せにおける混合物からなる群より選択される１種以上の溶媒をさらに含む、上記〔１〕に記載の組成物。
〔１４〕  フェノール樹脂、レベリング剤、抗酸化剤、難燃剤、可塑剤、シランカップリング剤、及び硬化促進剤からなる群より選択される１つ以上の化合物をさらに含む、上記〔１〕に記載の組成物。
〔１５〕  積層された半導体素子を含み、前記積層は上記〔１〕に記載の組成物からなる、半導体デバイス。
〔１６〕  再配線層（ＲＤＬ）構造を含む半導体デバイスであって、前記ＲＤＬ構造は上記〔１〕に記載の組成物をさらに含む、半導体デバイス。
〔１７〕  チップスタック構造を含み、前記チップスタック構造は、上記〔１〕に記載の組成物をさらに含む、半導体デバイス。
〔１８〕  相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）イメージセンサーダム構造を含み、前記構造は上記〔１〕に記載の組成物をさらに含む、半導体デバイス。
〔１９〕  上記〔１〕に記載の組成物を含む、膜。
〔２０〕  再配線層（ＲＤＬ）構造、チップスタック構造、又はＣＭＯＳイメージセンサーダム構造のうちの１つ以上を含むマイクロ電子デバイス又は光電子デバイスであって、前記構造は上記〔１〕に記載の組成物をさらに含む、電子デバイス。
〔２１〕  マイクロ電子デバイス又は光電子デバイスを製造するための膜を形成する方法であって、
上記〔１〕に記載の組成物を適切な基板に塗布して膜を形成することと、
マスクを用いて適切な光線で露光することにより前記膜をパターニングすることと、
露光後に前記膜を現像して光パターンを形成することと、
適切な温度に加熱することにより前記膜を硬化させることと
を含む、膜の形成方法。
〔２２〕  前記塗布がスピンコートにより行われる、上記〔２１〕に記載の方法。
〔２３〕  前記現像が溶剤現像剤により行われる、上記〔２１〕に記載の方法。
〔２４〕  前記現像剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）である、上記〔２３〕に記載の方法。
〔２５〕  前記基板が、前記硬化の前に、まず１３０℃〜１６０℃の温度で２０分〜６０分間ハードベークされる、上記〔２１〕に記載の方法。