Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月1日(2020.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
LCD変調器およびバックライトを有するディスプレイにおいて該LCD変調器を制御する方法であって、当該方法は：
前記LCD変調器の少なくとも一部の透過レベルを設定するためにLCD符号値を有する画像信号を受領する段階であって、受領されるLCD符号値は第一の応答曲線上での目標透過レベルに対応し、前記第一の応答曲線は、前記バックライトの少なくとも一部によって該バックライトの基準出力レベルで照明されたときの前記LCD変調器の前記少なくとも一部について、LCD符号値の関数として透過レベルを与えるものである、段階と；
前記バックライトの前記少なくとも一部の出力レベル値を取得する段階と；
受領されたLCD符号値および取得された出力レベル値の関数として、適応されたLCD符号値を決定する段階であって、前記適応されたLCD符号値は、第二の応答曲線上での前記目標透過レベルに対応し、前記第二の応答曲線は、前記バックライトの前記少なくとも一部によって前記取得された出力レベル値で照明されたときの前記LCD変調器の前記少なくとも一部について、LCD符号値の関数として透過レベルを与えるものであり、前記出力レベル値は前記基準出力レベルとは異なり、そのため前記第二の応答曲線は前記第一の応答曲線とは異なる、段階と；
前記適応されたLCD符号値を前記LCD変調器に通信し、前記適応されたLCD符号値に従って、前記LCD変調器の前記少なくとも一部の透過レベルを設定する段階とを含む、
方法。
【請求項２】
前記適応されたLCD符号値は、前記バックライトの前記少なくとも一部の前記取得された出力レベル値の単調減少関数として決定される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記適応されたLCD符号値は、前記バックライトの前記少なくとも一部の前記取得された出力レベル値の単調増加関数として決定される、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記バックライトの前記少なくとも一部の前記取得された出力レベル値は、前記バックライトの前記少なくとも一部の推定されたパワー・レベルを表わす、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記適応されたLCD符号値を決定することが、受領されたLCD符号値の多項式関数を評価して、受領されたLCD符号値に対する補正項を計算することを含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記適応されたLCD符号値を決定することが、一次元ルックアップテーブルから前記受領されたLCD符号値への補正項を取得することを含み、各ルックアップテーブルは、前記受領されたLCD符号値の関数としてそれぞれの補正項をリストする、請求項１記載の方法。
【請求項７】
非一時的なコンピュータ可読媒体に記憶された命令を有するコンピュータ・プログラム・プロダクトであって、前記命令は、コンピューティング装置またはシステムによって実行されたときに該コンピューティング装置またはシステムに：
LCD変調器の少なくとも一部の透過レベルを設定するためにLCD符号値を有する画像信号を受領する段階であって、受領されるLCD符号値は第一の応答曲線上での目標透過レベルに対応し、前記第一の応答曲線は、バックライトの少なくとも一部によって該バックライトの基準出力レベルで照明されたときの前記LCD変調器の前記少なくとも一部について、LCD符号値の関数として透過レベルを与えるものである、段階と；
前記バックライトの前記少なくとも一部の出力レベル値を取得する段階と；
受領されたLCD符号値および取得された出力レベル値の関数として、適応されたLCD符号値を決定する段階であって、前記適応されたLCD符号値は、第二の応答曲線上での前記目標透過レベルに対応し、前記第二の応答曲線は、前記バックライトの前記少なくとも一部によって前記取得された出力レベル値で照明されたときの前記LCD変調器の前記少なくとも一部について、LCD符号値の関数として透過レベルを与えるものであり、前記出力レベル値は前記基準出力レベルとは異なり、そのため前記第二の応答曲線は前記第一の応答曲線とは異なる、段階と；
前記適応されたLCD符号値を前記LCD変調器に通信し、前記適応されたLCD符号値に従って、前記LCD変調器の前記少なくとも一部の透過レベルを設定する段階とを実行させるものである、
コンピュータ・プログラム・プロダクト。
【請求項８】
LCD変調器およびバックライトを有するディスプレイのための制御ハードウェアであって、当該制御ハードウェアは：
前記LCD変調器の少なくとも一部の透過レベルを設定するためにLCD符号値を有する画像信号を受領する段階であって、受領されるLCD符号値は第一の応答曲線上での目標透過レベルに対応し、前記第一の応答曲線は、前記バックライトの少なくとも一部によって該バックライトの基準出力レベルで照明されたときの前記LCD変調器の前記少なくとも一部について、LCD符号値の関数として透過レベルを与えるものである、段階と；
前記バックライトの前記少なくとも一部の出力レベル値を取得する段階と；
受領されたLCD符号値および取得された出力レベル値の関数として、適応されたLCD符号値を決定する段階であって、前記適応されたLCD符号値は、第二の応答曲線上での前記目標透過レベルに対応し、前記第二の応答曲線は、前記バックライトの前記少なくとも一部によって前記取得された出力レベル値で照明されたときの前記LCD変調器の前記少なくとも一部について、LCD符号値の関数として透過レベルを与えるものであり、前記出力レベル値は前記基準出力レベルとは異なり、そのため前記第二の応答曲線は前記第一の応答曲線とは異なる、段階と；
前記適応されたLCD符号値を前記LCD変調器に通信し、前記適応されたLCD符号値に従って、前記LCD変調器の前記少なくとも一部の透過レベルを設定する段階とを実行するよう構成されている、
制御ハードウェア。
【請求項９】
前記適応されたLCD符号値は、前記バックライトの前記少なくとも一部の前記取得された出力レベル値の単調減少関数として決定される、請求項８記載の制御ハードウェア。
【請求項１０】
前記適応されたLCD符号値は、前記バックライトの前記少なくとも一部の前記取得された出力レベル値の単調増加関数として決定される、請求項８記載の制御ハードウェア。
【請求項１１】
前記バックライトの前記少なくとも一部の前記取得された出力レベル値は、前記バックライトの前記少なくとも一部の推定されたパワー・レベルを表わす、請求項８記載の制御ハードウェア。
【請求項１２】
前記適応されたLCD符号値を決定することが、受領されたLCD符号値の多項式関数を評価して、受領されたLCD符号値に対する補正項を計算することを含む、請求項８記載の制御ハードウェア。
【請求項１３】
前記適応されたLCD符号値を決定することが、一次元ルックアップテーブルから前記受領されたLCD符号値への補正項を取得することを含み、各ルックアップテーブルは、前記受領されたLCD符号値の関数としてそれぞれの補正項をリストする、請求項８記載の制御ハードウェア。
【請求項１４】
LCD変調器と、バックライトと、請求項８記載の制御ハードウェアとを有するディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オスミウム、ゲルマニウム、およびテルルのうちの少なくとも１つの一次充填物と、
スズ、アンチモン、インジウム、タンタル、および金のうちの少なくとも１つを含む二次充填物と、
を含む、
ことを特徴とする無水銀高圧金属ハロゲン化物紫外線ガス放電ランプ。
【請求項２】
前記一次ランプ充填物は、テルルであり、
前記二次ランプ充填物は、アンチモンである、
請求項１記載のガス放電ランプ。
【請求項３】
前記金属ハロゲン化物のハロゲンは、
ヨウ素、
を含む、
請求項１または２記載のガス放電ランプ。
【請求項４】
前記一次ランプ充填物は、ＴｅＩ２であり、
前記二次ランプ充填物は、ＳｂＩ３である、
請求項３記載のガス放電ランプ。
【請求項５】
ヨウ素対テルルの比率は、非化学量論的であり、好ましくは、ヨウ素の含有量が減じられる、
請求項３または４記載のガス放電ランプ。
【請求項６】
ヨウ素対テルルの前記比率は、２：１以下、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．０未満である、
請求項５記載のガス放電ランプ。
【請求項７】
前記ランプの出力は、
２００ｎｍ−３００ｎｍの範囲の波長の電磁放射線、
を含む、
請求項１乃至６のいずれかに記載のガス放電ランプ。
【請求項８】
前記一次ランプ充填物は、
水銀と同様の物理特性、例えば、蒸気圧など、
を有する、
請求項１乃至７のいずれかに記載のガス放電ランプ。
【請求項９】
前記一次ランプ充填物は、
２００ｎｍ−２３０ｎｍより低いスペクトル線（すなわち、より高い光子エネルギー）、
を有する、
請求項８記載のガス放電ランプ。
【請求項１０】
前記一次ランプ充填物は、
２５３．７ｎｍより低い支配的スペクトル線、
を有する、
請求項８記載のガス放電ランプ。
【請求項１１】
前記二次ランプ充填物は、
ランプの始動時温度および稼働時温度の両方において、ランプ特性に影響を及ぼさない程度の十分に好適に高い蒸気温度、
を有する、
請求項１乃至１０のいずれかに記載のガス放電ランプ。
【請求項１２】
前記二次ランプ充填物は、
励起において優先的に選択される、波長２００ｎｍ−２３０ｎｍおよび／または２６０ｎｍ−２８０ｎｍのスペクトル線、
を有する、
請求項１１記載のガス放電ランプ。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかに記載のガス放電ランプにおける一次充填物および二次充填物を用いてガス放電ランプを充填する方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月22日(2020.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプラント体（１０）と上部構造体との間の、補綴義歯（１）の一部としての、被嵌要素（５）を備えた上部構造体支持体（２０）であって、
中空のインプラントポスト（２３，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０）と、中空のインプラントピン（５０）と、これらの間に位置するインプラントフランジ（３１）と、を備え、
−前記インプラントポスト（２３，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０）の空洞域（６７）と前記インプラントピン（５０）の空洞域（６２）とは、相互に移行していて、前記空洞域（６７）の中心線（６９）と前記空洞域（６２）の中心線（６３）とは、互いに交差しており、
−前記インプラントポスト（２３，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０）上に、前記被嵌要素（５）が、インターフェイス（１４１，１４５）を形成する組付け接合部（１４０）を介して回動不能に配置可能であり、
−前記被嵌要素（５）は、人工歯冠（１２０）、または接着体（１００）と歯冠（１２０）とから成る複合体、または別のキャップ状要素であり、
−前記インプラントフランジ（３１）の少なくとも複数の領域が、支持カバー面（３７）を有し、
−前記被嵌要素（５）は、少なくとも部分的に形状結合式にかつ／または摩擦力結合式に前記上部構造体支持体（２０）のインターフェイス幾何学形状部（１４２）に組付け可能であるインターフェイス幾何学形状部（１４６）を有し、
−個々の前記インターフェイス幾何学形状部（１４２，１４６）は、回り止めを保証する１つまたは複数の幾何学形状領域（４１，１０８，１０９，１９２，１９３）を除いて、外側の包絡面（２８，１５６，１６６，１７５，１７６，１８５，１８６，１９５）および／または内側の包絡面を有しており、
個々の前記インプラントポスト（２３，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０）および／または個々の前記被嵌要素（５）は、ベース面（１５７，１６７，１８７，１８８，１９７）をそれぞれ有しており、該ベース面は、同一の構成部材のインターフェイス幾何学形状部（１４２，１４６）と共に、平均厚さが０．０５ｍｍより大きな隙間室（６）を取り囲んでおり、
前記隙間室（６）には、前記インプラントポスト（２３，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０）および／または前記被嵌要素（５）から、突部、ウェブ、ピン、突起または節状突出部の形態をした複数の隆起部が突出している、
上部構造体支持体（２０）。
【請求項２】
前記インターフェイス幾何学形状部（１４２，１４６）の前記外側の包絡面（２８，１５６，１６６，１７５，１７６，１８５，１８６，１９５）および／または前記内側の包絡面は、前記支持カバー面（３７）に垂直に交差するまたは該支持カバー面（３７）の回転軸線（７９）と一致する中心線（１４４，１４８）をそれぞれ有することを特徴とする、請求項１記載の上部構造体支持体。
【請求項３】
前記インターフェイス幾何学形状部（１４２，１４６）は、円筒側面、円錐台側面、または複数の同種のもしくは異種の側面から構成されていることを特徴とする、請求項１記載の上部構造体支持体。
【請求項４】
前記インターフェイス幾何学形状部（１４２，１４６）の個々の外側面の前記中心線（１４４，１４８）または該外側面の組み合わせの前記中心線（１４４，１４８）は、相互に重なり合っていることを特徴とする、請求項３記載の上部構造体支持体。
【請求項５】
前記支持カバー面（３７）は、平面（３８）または円錐台側面（７５，７６）であることを特徴とする、請求項１記載の上部構造体支持体。
【請求項６】
前記円錐台側面形状の支持カバー面（７５，７６）の場合、理論上の頂点は、前記インプラントポスト（２３，１５０，１６０，１７０，１８０，１９０）または前記インプラントピン（５０）寄りであることを特徴とする、請求項５記載の上部構造体支持体。
【請求項７】
前記円錐台側面形状の支持カバー面（７５，７６）の頂角は、１８０°〜１６５°であることを特徴とする、請求項５記載の上部構造体支持体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月17日(2020.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスであって、
呼吸回路であって、
ガス源からの吸気ガス流を受け取るように構成された吸気管であって、吸気入口と、吸気出口と、吸気中心ボアを取り囲む壁とを含み、前記吸気中心ボアは、平滑である、吸気管と、
患者からの呼気ガス流を受け取るように構成された呼気管であって、呼気入口と、呼気出口と、呼気中心ボアを取り囲む壁とを含み、前記呼気中心ボアは、波形であり、前記壁は、水蒸気に対して透過性であり、且つそれを通って流れる液体及び呼気ガスのバルク流に対して実質的に不透過性である、呼気管と
を含む呼吸回路
を含むデバイス。
【請求項２】
前記呼気管の前記壁は、水蒸気に対して透過性であり、且つ液体の水及び呼気ガスのバルク流に対して実質的に不透過性である発泡ポリマーを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記吸気管は、前記吸気中心ボア内に加熱素子を取り囲む、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記吸気管は、前記吸気管の前記壁に取り付けられた加熱素子を含む、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項５】
前記吸気管は、前記吸気管の前記内壁に埋め込まれた加熱素子を含む、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項６】
前記呼気管は、前記呼気中心ボア内に加熱素子を含む、請求項１〜５の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記呼気管は、前記呼気管の前記壁に取り付けられた加熱素子を含む、請求項１〜５の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項８】
前記呼気管は、前記呼気管の前記壁内に埋め込まれた加熱素子を含む、請求項１〜５の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項９】
前記吸気管は、長さ方向の断面において、複数のバブルであって、前記呼気中心ボアの前記壁の少なくとも一部を形成する平坦な面をそれぞれ有する、複数のバブルを含む、請求項１〜８の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記吸気管は、少なくとも１つの吸気加熱素子を含み、前記少なくとも１つの吸気加熱素子は、前記複数のバブルのうちのバブルと前記吸気中心ボアとの間にある、請求項９に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記呼気管は、前記呼気管の前記壁の周囲に円周方向に配置され、且つ前記呼気入口と前記呼気出口との間で概して長さ方向に整列された複数の補強リブを含む、請求項１〜１０の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記吸気管は、らせん状に巻かれて、前記吸気中心ボアを少なくとも部分的に形成する中空本体と、前記吸気中心ボアを取り囲む中空壁と、を含む第一の長尺状部材を有する、請求項１〜１１の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記吸気管は、
らせん状に巻かれ、且つ前記第一の長尺状部材の隣接する巻き間に結合される第二の長尺状部材を有し、前記第二の長尺状部材は、前記吸気中心ボアの少なくとも一部を形成する、請求項１２に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記発泡ポリマーは、全体に分散されたセルボイドを有する中実の熱可塑性エラストマー材料を有する、請求項２、又は請求項２を引用する請求項３〜１３の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記呼吸回路は、患者への吸気ガス流を加湿するように構成された加湿器を含み、前記加湿器は、
液体の体積を貯蔵するように構成され、且つ前記吸気ガス流と流体連通するように構成された加湿チャンバと、
前記吸気ガス流が蒸気によって加湿されるように、前記加湿チャンバ内の前記液体の体積を加熱して前記蒸気を生成するように構成されたヒータと
を含む、請求項１〜１４の何れか一項に記載のデバイス。
【請求項１６】
呼吸器であって、
患者への吸気ガス流を加湿するように構成された加湿器と、
前記加湿器からの前記吸気ガス流を受け取るように構成された吸気管であって、吸気入口と、吸気出口と、吸気中心ボアを取り囲む壁とを含み、前記吸気中心ボアは、平滑である、吸気管と、
前記患者からの呼気ガス流を受け取るように構成された呼気管であって、呼気入口と、呼気出口と、呼気中心ボアを取り囲む壁とを含み、前記呼気中心ボアは、波形であり、前記呼気管の前記内壁は、水蒸気に対して透過性であり、且つそれを通って流れる液体及び呼気ガスのバルク流に対して実質的に不透過性である、呼気管と
を含む呼吸器。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月8日(2020.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送達装置のための締付装置であって、前記送達装置の少なくとも１つの可撓性管送達要素（１６、１８）を挟み込むための少なくとも１つの挟み込みユニット（１４）を備えており、媒体を送達するために、少なくとも前記可撓性管送達要素（１６、１８）が前記挟み込みユニット（１４）内に配置された状態で、前記送達装置の駆動ユニット（２０）を用いて駆動力を前記可撓性管送達要素（１６、１８）に加えることができる、締付装置において、
前記挟み込みユニット（１４）は、前記可撓性管送達要素（１６、１８）の送達方向（２２、２４）に対して横断する方向に延びる断面において、前記可撓性管送達要素（１６、１８）が全体として湾曲するような方法で、前記可撓性管送達要素（１６、１８）を締め付けるように構成されており、
前記挟み込みユニット（１４）は少なくとも１つの締付要素（２８、３０）を含み、前記少なくとも１つの締付要素（２８、３０）は、前記駆動ユニット（２０）の駆動要素（２６）とは異なり、かつ、前記可撓性管送達要素（１６、１８）のために当接面を形成する凸状当接要素（３２）を有しており、
前記挟み込みユニット（１４）は少なくとも前記締付要素（２８、３０）を含み、前記締付要素（２８、３０）は少なくとも１つの傾斜した締付面（４８、５０）を有しており、
前記締付要素（２８、３０）は少なくとも１つの接着要素（７０、７２）を含み、前記少なくとも１つの接着要素（７０、７２）は前記締付要素（２８、３０）の締付面（４８、５０）に配置されることを特徴とする、締付装置。
【請求項２】
前記挟み込みユニット（１４）は少なくとも前記締付要素（２８、３０）を含み、前記締付要素（２８、３０）は、前記駆動ユニット（２０）の駆動要素（２６）と異なるように構成され、かつ、前記凸状当接要素（３２）を含み、前記凸状当接要素（３２）は前記可撓性管送達要素（１６、１８）のために前記当接面を形成し、前記凸状当接要素（３２）は凹状陥没部（３４）を少なくとも一部の領域内に含むことを特徴とする、請求項１に記載の締付装置。
【請求項３】
前記可撓性管送達要素（１６、１８）の送達方向（２２、２４）に対して横断する方向に延びる断面において、前記凸状当接要素（３２）の凹状陥没部（３４）は、前記凸状当接要素（３２）の３つの円弧状部（３６、３８、４０）によって範囲を定められ、前記３つの円弧状部（３６、３８、４０）は前記凸状当接要素（３２）の一部の領域内に配置され、互いに直接繋がることを特徴とする、請求項２に記載の締付装置。
【請求項４】
前記挟み込みユニット（１４）は、少なくとも前記締付要素（２８、３０）および少なくとも１つのさらなる締付要素（４２、４４）を含み、前記少なくとも１つのさらなる締付要素（４２、４４）は、前記締付要素（２８、３０）と一緒に作用し、かつ、少なくとも１つの凹状陥没部（４６）の範囲を定め、前記締付要素（２８、３０）の少なくとも凸状当接要素（３２）は、前記締付要素（２８、３０）および前記さらなる締付要素（４２、４４）が互いに連結された状態で、前記少なくとも１つの凹状陥没部（４６）内で少なくとも一部を係合することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の締付装置。
【請求項５】
前記挟み込みユニット（１４）は、少なくとも前記締付要素（２８、３０）および少なくとも１つのさらなる締付要素（４２、４４）を含み、前記少なくとも１つのさらなる締付要素（４２、４４）は前記締付要素（２８、３０）と一緒に作用し、前記締付要素（２８、３０）および前記さらなる締付要素（４２、４４）は、それぞれが少なくとも１つの傾斜した締付面（４８、５０、５２、５４）を含み、前記傾斜した締付面（４８、５０、５２、５４）は互いに対応するように構成されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の締付装置。
【請求項６】
前記さらなる締付要素（４２、４４）の少なくとも前記傾斜した締付面（５２、５４）は、少なくとも１つの凹状陥没部（４６）を含み、前記可撓性管送達要素（１６、１８）は少なくとも１つが締め付けられた状態で前記少なくとも１つの凹状陥没部（４６）の中に少なくとも一部を突起することを特徴とする、請求項５に記載の締付装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の少なくとも１つの締付装置を備える送達装置であって、少なくとも１つの可撓性管送達要素（１６、１８）を備え、かつ、前記可撓性管送達要素（１６、１８）に作用する駆動力を発生するために少なくとも１つの駆動ユニット（２０）を備える、送達装置。
【請求項８】
前記挟み込みユニット（１４）は、少なくとも前記締付要素（２８、３０）および少なくとも１つのさらなる締付要素（４２、４４）を含み、前記少なくとも１つのさらなる締付要素（４２、４４）は前記締付要素（２８、３０）と一緒に作用し、かつ、少なくとも１つの凹状陥没部（４６）の範囲を定め、前記駆動ユニット（２０）の少なくとも前記駆動要素（２６）は前記少なくとも１つの凹状陥没部（４６）の中に少なくとも一部を係合することを特徴とする、請求項７に記載の送達装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】送達装置のための締付装置および締付装置を備える送達装置
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月22日(2020.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプラント体（１０）と上部構造体との間の、補綴義歯（１）の一部としての上部構造体支持体（２０）であって、
中空のインプラントポスト（２３）と、中空のインプラントピン（５０）と、これらの間に位置するインプラントフランジ（３１）と、を備え、
−前記インプラントポスト（２３）の空洞域（６７）と前記インプラントピン（５０）の空洞域（６２）とは、前記上部構造体支持体（２０）と前記インプラント体（１０）とを結合するねじ（９０）を貫通案内しかつ収容するように相互に移行しており、
−前記空洞域（６７，６２）は、それぞれ中心線（６９，６３）を有し、該中心線（６９，６３）は、互いに中央の空洞域（６４）において交差しており、
−前記インプラントピン（５０）の前記空洞域（６２）には、前記インプラントフランジ（３１）に向かって拡開するねじ頭部着座面（６５）が続いており、
−前記空洞域（６７）と前記ねじ頭部着座面（６５）との間に前記中央の空洞域（６４）が位置しており、前記中央の空洞域（６４）は、湾曲した内空部であり、該内空部において、前記空洞域（６７）と前記ねじ頭部着座面（６５）は、角を成すことなく接線方向に相互に移行した状態で接続しており、
−少なくとも前記インプラントフランジ（３１）の領域は、前記インプラントポスト（２３）の方向に向けられた支持カバー面（３７）を形成しており、該支持カバー面（３７）の外縁（３３）は、インプラントポスト側の前記空洞域（６７）の前記中心線（６９）が垂直に交差する基準平面（３８）を形成しており、
−両方の前記中心線（６９，６３）は、前記基準平面（３８）の下方で交差しているまたは交わっている、
上部構造体支持体（２０）。
【請求項２】
前記支持カバー面（３７）は、前記基準平面（３８）内に位置しているか、または円錐台の円錐台側面（７５，７６）であり、該円錐台の頂角（７８）が１８０°〜１６５°であり、前記円錐台の大きい方の端面（７７）が前記基準平面（３８）を成していることを特徴とする、請求項１記載の上部構造体支持体。
【請求項３】
前記ねじ頭部着座面（６５）は、円錐状、球面状または楕円体状に湾曲しているか、または別の形で、前記ねじ頭部着座面（６５）の回転軸線を横切る、該ねじ頭部着座面（６５）の横断面が、変化していることを特徴とする、請求項２記載の上部構造体支持体。
【請求項４】
前記ねじ頭部着座面（６５）は、前記基準平面（３８）の下方に配置されていることを特徴とする、請求項３記載の上部構造体支持体。
【請求項５】
前記基準平面（３８）と前記中心線（６９）との交点は、前記ねじ（９０）が接触する接触面（７３）の領域の上縁（７４）に沿った開口面と前記中心線（６３）との交点から、前記下側の空洞域（６２）の平均直径の少なくとも１７パーセントである距離だけ離れて位置していることを特徴とする、請求項３記載の上部構造体支持体。
【請求項６】
前記中心線（５９）、（６９）により形成される前記上部構造体支持体（２０）の縦断面の各片側の領域内に、インプラント円錐部（５３）の平均直径の２５パーセントよりも大きい直径を有する測定円（９）は収まらないことを特徴とする、請求項１記載の上部構造体支持体。
【請求項７】
前記上部構造体支持体（２０）のそれぞれ異なる空洞域（６７，６５，６４，６２）は、角を成すことなく接線方向に相互に移行した状態で接続していることを特徴とする、請求項６記載の上部構造体支持体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象の消化管（ＧＩＴ）における粘膜疾患の粘膜評価システムであって、前記システムは、
命令を実行するように構成された少なくとも１つのハードウェアプロセッサと、
中に格納された命令を有する記憶装置であって、前記命令は前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサに、
前記対象のＧＩＴの少なくとも一部の画像ストリームを受信させ、
前記画像ストリームを複数のセグメントに分解させ、各セグメントは前記対象のＧＩＴの前記少なくとも一部の領域に対応し、
前記セグメントの各々に対する値の組を取得させ、前記値の組は、前記粘膜疾患における前記セグメントの前記病理学的関与と、前記セグメントにおける前記粘膜疾患の粘膜徴候の重篤度とを示し、
各セグメントに対する前記値の組に基づいて、前記対象のＧＩＴの前記少なくとも一部の全体における前記粘膜疾患の前記粘膜徴候の前記位置及び重篤度を示す表示を生成させる、記憶装置と、
前記生成された表示を表示するように構成されたディスプレイと、を備える、システム。
【請求項２】
前記命令は、前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサにさらに、
表示された前記画像ストリームに前記セグメント又はＧＩＴ領域を表示しながら、前記画像ストリームをユーザに表示させ、
前記セグメントの各々に対する前記値の組の１つ又は複数の値を入力するようにユーザに指示させ、
前記ＧＩＴ領域は実質的に等しい長さである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記セグメントの各々に対する前記１つ又は複数の値を入力するように前記ユーザに指示する前記ステップは、各セグメントの表示中又は表示の直後で、かつ次のセグメントの表示の前に実行される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記ＧＩＴの前記少なくとも一部が小腸及び結腸を含み、前記画像ストリームは、前記小腸及び前記結腸の３つの領域に対応して長さが実質的に等しい４つのセグメントに分解される、請求項１から３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記画像ストリームを取り込むように構成されたカプセル内視鏡をさらに含み、前記画像ストリームの前記少なくとも一部が、前記対象のＧＩＴを通る前記カプセル内視鏡の進行のコンピュータ化された評価を介して複数のセグメントに分解される、請求項１から４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記表示は、そのＧＩＴ領域の各々を描画する前記ＧＩＴの前記少なくとも一部の解剖学的グラフ表示と、前記ＧＩＴ領域の各々に対して得られた前記値の組の１つ又は複数の値とを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記命令は、前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサにさらに、前記各セグメントにおいて前記粘膜疾患の粘膜徴候をさらに識別させる、請求項１から６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記命令は、前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサにさらに、識別された前記粘膜徴候の重篤度を判定させる、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記値の組は、
前記セグメントにおいて前記粘膜徴候の最も高い重篤度を示す値と、
前記セグメントにおいて前記粘膜徴候の一般的な重篤度を示す値と、
前記セグメントにおいて前記粘膜徴候の範囲を示す値と、
を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記値の組は、前記ＧＩＴの関心のある１つ又は複数の部分の前記病理学的関与をさらに示す、請求項１から９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記命令は、前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサにさらに、前記各セグメントに対する前記値の組の１つ又は複数の値を計算させる、請求項１から１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
対象の消化管（ＧＩＴ）における粘膜疾患の監視システムであって、前記システムは、
命令を実行するように構成された少なくとも１つのハードウェアプロセッサと、
中に格納された命令を有する記憶装置であって、前記命令は前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサに、
前記対象のＧＩＴの少なくとも一部において、前記粘膜疾患の粘膜徴候の位置及び重篤度を示す複数の表示を取得させ、前記複数の表示の各表示は、請求項１の前記システムによって生成され、前記複数の表示の各表示は、一意の日付を有する処置の間に前記対象のＧＩＴにおいて取り込まれた画像ストリームに基づき、
前記対象のＧＩＴ前記少なくとも一部の前記複数の表示を隣接する方法で表示させ、
各表示にその対応する一意の日付をタグ付けさせ、
これにより、ユーザは時系列で前記粘膜疾患の状態を監視することができる、記憶装置と、を備える、システム。
【請求項１３】
各表示は、そのＧＩＴ領域の各々を描画する前記ＧＩＴの前記少なくとも一部の解剖学的グラフ表示と、前記ＧＩＴ領域の各々に対して前記取得された値の組の１つ又は複数の値とを含み、前記解剖学的グラフ表示は、それらの対応する一意の日付に従ってタイムラインに沿って表示される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記命令は、前記ハードウェアプロセッサによって実行されると、前記ハードウェアプロセッサにさらに、
治療開始データ及び治療停止データを含む前記対象についての医学治療履歴データを受信させ、
前記医学治療履歴データの少なくとも一部を前記タイムラインに沿って表示させ、
前記医学治療履歴データは、前記対象に処方された薬剤を含む、請求項１３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血管において使用するためのアテレクトミーカテーテルであって、
細長いカテーテル本体（６０１）と、
環状のカッターと、
細長いカテーテル本体におけるＳ字形状の湾曲部（６３３）と、を備え、
湾曲部は、長手方向の近位スパイン（６６０ｂ）及び長手方向の遠位スパイン（６６０ａ）によってともに接続された複数の環状のスパイン（６６１ａ，６６１ｂ，６６１ｃ）を有するフレームを含み、長手方向の近位スパインは、長手方向の遠位スパインからほぼ１８０度離れて位置する、
アテレクトミーカテーテル。
【請求項２】
複数の環状のスパイン（６６１ａ，６６１ｂ，６６１ｃ）は、第１環状スパイン（６６１ｃ）、第２環状スパイン（６６１ｂ）、及び第３環状スパイン（６６１ａ）を含み、長手方向の近位スパイン（６６０ｂ）は、第１環状スパインと第２環状スパインとを接続し、長手方向の遠位スパイン（６６０ａ）は、第２環状スパインと第３環状スパインとを接続する、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項３】
環状カッターが通り延在する切断窓をさらに備え、切断窓は、血管へカッターを押し付けるようにＳ字形状の湾曲部（６３３）の遠位で外周に位置する、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項４】
Ｓ字形状の湾曲部（６３３）は、アテレクトミーカテーテルのシャフトを引っ張るあるいは押すことによって動かされるように構成されている、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項５】
フレーム上に、あるいはその下に位置した少なくとも１つのラミネート層をさらに備える、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項６】
ラミネート層は、重合体で作製されている、請求項５に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項７】
フレームは、金属で作製されている、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項８】
長手方向の遠位スパイン（６６１ａ）は、カッターの露出部分に隣接して位置する、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項９】
長手方向の遠位スパイン（６６１ａ）は、細長いカテーテル本体（６０１）におけるカッターの露出部分と同じ側にある、請求項８に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項１０】
長手方向の近位スパイン（６６１ｃ）は、第１角度を形成しており、長手方向の遠位スパインは、第２角度を形成しており、第１及び第２の角度は、反対方向に広がり、第１角度は、１４０度と１６０度との間にあり、第２角度は、１４０度と１６０度との間にある、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項１１】
複数のスパイン（６６１ａ，６６１ｂ，６６１ｃ）のうち最も遠位のスパイン（６６１ａ）は、傾斜した遠位のエッジを含んでいる、請求項１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【請求項１２】
カッターを露出するために細長い本体（６０１）から離れて旋回するように構成されたノーズコーン（６０５）をさらに備え、上記傾斜は、ノーズコーンが旋回するための空間を提供するように構成されている、請求項１１に記載のアテレクトミーカテーテル。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月7日(2020.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［用語の定義］
本明細書中で使用する場合、以下の用語は以下に記載のように定義される。
「表面偏析種（本明細書中では「ＳＳＳ」とも示す）」
表面偏析（低表面エネルギー）成分およびイオン成分を組み込む化学種。上記イオン成分は、界面活性イオンおよび移動性添加剤対イオンを含む。基材上に設けられた場合、ＳＳＳの界面活性イオン成分は、電極位置／逆荷電した材料のイオン交換へ基材を活性化させる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月25日(2020.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】加熱された切除ゾーンを生成し組織に適用するためのダブルバルーン構造を有するカテーテル
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月20日(2020.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流を加湿するための呼吸補助システムであって、
加湿チャンバ内に保持された一定量の水を加熱するように構成されたヒータと、
フローセンサと、
前記加湿チャンバの出口の近位のガスの温度を検出ように構成された温度センサと、
前記ヒータ、前記フローセンサ、及び前記温度センサと電子通信するコントローラと、
を含み、
前記コントローラは、少なくとも１つの動作状態を、前記ヒータの温度、前記加湿チャンバの前記出口の温度、又は治療モード及び流量のうちの少なくとも１つに基づき決定するように構成されており、
前記コントローラは、少なくとも１つの水切れ検知方法を、決定された前記動作状態に基づき選択するように更に構成されている、
呼吸補助システム。
【請求項２】
一定量の水を保持するように適合された加湿チャンバを備え、前記加湿チャンバは、ガスを通過させるための入口と出口とを含み、
前記フローセンサは、前記加湿チャンバに配置されている、請求項１に記載の呼吸補助システム。
【請求項３】
前記動作状態は、流量閾値に対する前記流量に依存する、請求項１又は２に記載の呼吸補助システム。
【請求項４】
前記フローセンサは、前記流量を検知し、前記加湿チャンバの前記入口又は前記出口のいずれに配置されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の呼吸補助システム。
【請求項５】
人が治療モードの所定の一覧から前記治療モードを選択することを可能にするように構成されているユーザインタフェースを更に含み、
前記所定の一覧は、侵襲モード、非侵襲モード、及びハイフロー非密閉モードを含み、
前記ハイフロー非密閉モードは、非密閉インターフェイスを通る高流量を含む、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の呼吸補助システム。
【請求項６】
前記治療モードは、複数の設定値を含む、請求項５に記載の呼吸補助システム。
【請求項７】
前記非侵襲モードは、摂氏３１度、摂氏２９度、及び摂氏２７度の設定値を含み、前記ハイフロー非密閉モードは、摂氏３７度、摂氏３５度、及び摂氏３３度の設定値を含み、前記侵襲モードは、摂氏３７度の設定値を含む、請求項６に記載の呼吸補助システム。
【請求項８】
前記少なくとも１つの動作状態は、
所定の温度閾値を下回る前記ヒータの前記温度及び／又は所定の温度閾値を下回る前記加湿チャンバの前記出口の前記温度に関連する始動動作状態、
流量なし状態に関連する第１の動作状態、
高設定値及び中高量又は高流量を有する治療モードに関連する第２の動作状態、
高設定値及び中流量又は低流量を有する治療モードに関連する第３の動作状態、又は
低設定値を有する治療モードに関連する第４の動作状態を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の呼吸補助システム。
【請求項９】
前記高設定値は摂氏３１度を超える温度を有し、前記低設定値は摂氏２５度〜摂氏３１度の温度を有するか；、及び／又は、前記ヒータの前記所定の温度閾値は摂氏３０度以上及び／又は摂氏４０度であるか；及び／又は、
前記加湿チャンバの前記出口の前記所定の温度閾値は摂氏３０度以上及び／又は摂氏３７度であるか；、及び／又は、
前記流量なし状態は、０ｌ／ｍｉｎ〜３．５ｌ／ｍｉｎの流量を有し、前記低流量は、３ｌ／ｍｉｎ〜７ｌ／ｍｉｎの流量を有し、前記中流量は、５ｌ／ｍｉｎ〜１５ｌ／ｍｉｎの流量を有し、前記中高流量は、１３ｌ／ｍｉｎ〜３５ｌ／ｍｉｎの流量を有し、高流量は、３０ｌ／ｍｉｎよりも大きい流量を有する、請求項８に記載の呼吸補助システム。
【請求項１０】
前記コントローラは、
前記第１の動作状態にあるとき、前記水切れ検知方法を無効にすること、
前記第２の動作状態にあるとき、前記コントローラは受動水切れ検知方法を選択すること、
前記第３の動作状態又は前記第４の動作状態にあるとき、受動水切れ検知方法を選択すること、
前記第３の動作状態又は前記第４の動作状態にあるとき、受動水切れ検知方法が水切れ状態に戻った場合に、能動水切れ検知方法を選択すること、および
前記第４の動作状態にあるとき、時間ベースの能動水切れ検知方法を選択すること、の一つ以上を実行する、請求項８又は９に記載の呼吸補助システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの水切れ検知方法は、受動水切れ検知方法、能動水切れ検知方法、及び受動水切れ検知方法と能動水切れ検知方法との組み合わせを含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の呼吸補助システム。
【請求項１２】
前記受動水切れ検知方法は、
推定水位を算出することと、
前記推定水位を閾値と比較することと、
前記推定水位が前記閾値未満である場合に水切れ状態を決定することと、
を含む、請求項１１に記載の呼吸補助システム。
【請求項１３】
前記推定水位は、前記ヒータに供給される電力の量を、前記ヒータの温度から前記加湿ガスの温度を引いた差で除した比率を含む、請求項１２に記載の呼吸補助システム。
【請求項１４】
前記ヒータに供給される前記電力は、ヒータプレートのパワーセンサによって決定され、前記ヒータプレートのパワーセンサは、好ましくはＰＭＩＣを含む、請求項１３に記載の呼吸補助システム。
【請求項１５】
前記能動水切れ検知方法は、
前記ヒータの温度をベースラインに対して制御することと、
目標が達成されるまである量の電力を前記ヒータに供給することと、
最高温度に達するまで前記ヒータ温度を監視することと、
前記ヒータ最高温度を閾値と比較することと、
前記ヒータ最高温度が前記閾値を超える場合に肯定試験結果を決定することと、
を含む、請求項１１に記載の呼吸補助システム。
【請求項１６】
前記受動水切れ検知方法と前記能動水切れ検知方法との組み合わせは、
前記受動水切れ検知方法によって水切れ状態を決定することと、
前記受動水切れ検知方法で肯定的な結果がもたらされた場合、前記能動水切れ検知方法によって水切れ状態を確認することと、
を含む、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の呼吸補助システム。
【請求項１７】
前記治療モードは、前記コントローラが受け取ったモード値に関連するか、及び／又は、前記治療モードは、ユーザによって選択される、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の呼吸補助システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月19日(2020.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟神経電極であって、エラストマー層（２０）上に配置された少なくとも１つの平面状の金属層（３０）を含み、高張力ポリマー層（４０）が、前記少なくとも１つの金属層（３０）上に直接配置され、前記高張力ポリマー層（４０）が、前記電極の最外層であり、溶接領域（６０）の全ての露出された金属がエラストマー（１４０）でシールされていることを特徴とする、柔軟神経電極。
【請求項２】
前記エラストマー層（２０）、前記少なくとも１つの平面状の金属層（３０）、および前記高張力ポリマー層（４０）は、積層体として配置されている、請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記高張力ポリマー層（４０）は、前記少なくとも１つの金属層（３０）への少なくとも１つの窓（９０）を有する、請求項１または２に記載の電極。
【請求項４】
前記エラストマー層（２０）は、前記少なくとも１つの金属層（３０）への少なくとも１つの窓（５０）を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の電極。
【請求項５】
前記少なくとも１つの金属層（３０）は、前記エラストマー層（２０）に埋め込まれている、請求項１から３のいずれか一項に記載の電極。
【請求項６】
前記少なくとも１つの金属層（３０）は、蛇行するような導電路を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の電極。
【請求項７】
前記高張力ポリマー層（４０）は、レーザービームを使用して構成されている、請求項１から６のいずれか一項に記載の電極。
【請求項８】
前記エラストマー層（２０）は、医療グレードのシリコーンゴムを含み、前記金属層は、ステンレス鋼、白金、白金イリジウム、または金のうちの１つを含み、前記高張力ポリマー層、特にパリレン層（４０）は、パリレンを含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の電極。
【請求項９】
前記高張力ポリマー層（４０）がパリレン層である、請求項１から８のいずれか一項に記載の電極。
【請求項１０】
前記パリレン層（４０）が、前記少なくとも一つの金属層（３０）上に蒸着されている、請求項９に記載の電極。
【請求項１１】
神経電極アレイであって、請求項１から１０のいずれか一項に定めるような生物組織と電気接続するためのいくつかの電極を含み、前記電極は、共通に少なくとも１つの層を有する、神経電極アレイ。
【請求項１２】
特に請求項１から１０のいずれか一項に定めるような、柔軟神経電極を製造する方法であって、
エラストマー層（２０）を放出担体（１０）上に付けるステップと、
レーザービームを用いて前記エラストマー層（２０）を構成するステップと、
少なくとも１つの金属層（３０）を前記エラストマー層（２０）上に積層させるステップと、
レーザービームを用いて前記少なくとも１つの金属層（３０）を構成するステップと、
余分な金属を除去するステップと、
エラストマー層（７０）を前記少なくとも１つの金属層（３０）上に付け、それによって溶接領域（６０）へのエッジを画定するステップと、
前記溶接領域（６０）においてマスキングテープ（８０）を貼るステップと、
高張力ポリマー層（４０）を、前記少なくとも１つの金属層（３０）上、前記エラストマー層（２０）上、および前記マスキングテープ（８０）上に直接置くステップと、
レーザービームを使用して、開口部（１１０）を構成し、前記マスキングテープ（８０）を切り離すステップと、
前記マスキングテープ（８０）を除去し、それによって前記溶接領域（６０）を露出するステップと、
前記機械的担体（１０）から前記電極を除去するステップと、
ワイヤ（１３０）を前記電極に溶接するステップと、
前記溶接領域（６０）をエラストマー（１４０）でシールするステップと
を含む、方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの金属層（３０）を成形すること、前記余分な金属を除去すること、第３のエラストマーを部分的に除去すること、および／または外側輪郭を切り取ることは、レーザー加工によって達成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記高張力ポリマー層（４０）上に情報を印刷する追加のステップが実行される、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記高張力ポリマー層（４０）を穿孔する追加のステップが実行される、請求項１２から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記ポリマー層（４０）がパリレン層である、請求項１２から１５のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光子カウント検出器を含むＸ線画像形成装置により獲得された光子カウント投影データを受信するための入力インターフェースと、
校正データを保持する校正データメモリであって、前記校正データが、前記光子カウント検出器の異なるエネルギー閾値に対する光子カウントデータ対経路長曲線を符号化し、前記光子カウントデータ対経路長曲線のうちの少なくとも１つが、非単射である、校正データメモリと、
前記校正データにおいて符号化された少なくとも２つの光子カウントデータ対経路長曲線に基づいて、前記光子カウント投影データ内のエントリーを、関係する経路長に変換する経路長変換器であって、経路長変換は、少なくとも２つの前記光子カウントデータ対経路長曲線のうちの１つに基づいて、前記関係する経路長に対する少なくとも２つの推定を演算することと、少なくとも１つの他の閾値に対する光子カウント投影データ及び少なくとも１つの他の前記光子カウントデータ対経路長曲線に基づいて、前記関係する経路長として前記２つの推定のうちの１つを選択することとを有する、経路長変換器と、
を備える、画像信号処理システム。
【請求項２】
前記校正データが、校正手順において以前に検出されたものであるか、又は、前記校正データのセットが、信号モデルから導出されたものである、請求項１に記載の画像信号処理システム。
【請求項３】
画像の画像要素を、変換された前記経路長に少なくとも基づいて再構成する画像再構成器を備える、
請求項１又は２に記載の画像信号処理システム。
【請求項４】
前記経路長変換器は、前記光子カウント投影データの前記エントリーを、前記光子カウントデータ対経路長曲線のうちの少なくとも２つに従った光子カウントデータに対してフィッティングするように動作する、請求項１又は２に記載の画像信号処理システム。
【請求項５】
前記経路長変換器は、オブジェクト関数を最適化することにより、前記関係する経路長に変換し、前記オブジェクト関数は、前記光子カウント投影データと前記光子カウントデータ対経路長曲線に従った光子カウントデータとの間の偏差に依存する、請求項１から４のいずれか一項に記載の画像信号処理システム。
【請求項６】
前記オブジェクト関数は、最小二乗和を含む、請求項５に記載の画像信号処理システム。
【請求項７】
前記オブジェクト関数は、前記光子カウントデータに対する確率密度関数に基づいた尤度関数を含む、請求項５に記載の画像信号処理システム。
【請求項８】
前記オブジェクト関数は、前記光子カウント検出器のノイズ挙動のために、又は異なる光子カウント検出器のためにモデル化されたノイズモデル化コンポーネントを組み入れている、請求項５から７のいずれか一項に記載の画像信号処理システム。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の画像信号処理システムを含む、Ｘ線画像形成装置。
【請求項１０】
光子カウント検出器とＸ線源とを備えるＸ線画像形成装置であって、前記Ｘ線源は、光子フラックスレートの逆数が前記光子カウント検出器の不感時間の逆数に概ね等しいか、又は前記光子カウント検出器の不感時間の逆数を上回るような当該光子フラックスレートで画像形成中に動作可能である、Ｘ線画像形成装置。
【請求項１１】
光子カウント検出器を含むＸ線画像形成装置により獲得された光子カウント投影データを受信するステップと、
校正データに基づいて、前記光子カウント投影データ内のエントリーを、関係する経路長に変換するステップであって、前記校正データが、前記光子カウント検出器の異なるエネルギー閾値に対する光子カウントデータ対経路長曲線を符号化し、前記光子カウントデータ対経路長曲線のうちの少なくとも１つが非単射であり、前記変換が、前記校正データにおいて符号化された少なくとも２つの光子カウントデータ対経路長曲線に基づく、変換するステップであって、経路長変換は、少なくとも２つの前記光子カウントデータ対経路長曲線のうちの１つに基づいて、前記関係する経路長に対する少なくとも２つの推定を演算することと、少なくとも１つの他の閾値に対する光子カウント投影データ及び少なくとも１つの他の前記光子カウントデータ対経路長曲線に基づいて、前記関係する経路長として前記２つの推定のうちの１つを選択することとを有する、変換するステップと
を有する、信号処理方法。
【請求項１２】
少なくとも変換された前記経路長に基づいて、画像の画像要素を再構成するステップを有する、請求項１１に記載の信号処理方法。
【請求項１３】
処理ユニットにより実行されたときに、請求項１１又は１２に記載の方法のステップを実施する、コンピュータプログラム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコンピュータプログラムを記憶した、コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月10日(2020.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
また、この例では、制御モジュール１２は、コンバータとＡＣネットワークとの間の接続点における電力を調整するためのレギュレータ２０を含むことが分かる。コンバータとＡＣネットワークとの間の接続点における電力を調整するこのレギュレータ２０は、有効ＡＣ電力設定点Ｐ*ac及び無効ＡＣ電力設定点Ｑ*acを入力として受信し、ＡＣ電流設定点ｉ*gd及びｉ*gqを送出する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
非限定的な方法では、制御モジュール１２は、ＡＣ電源ネットワーク１２０のＡＣ電流ｉgを調整するレギュレータ２２を含み、レギュレータ２２は、入力として、コンバータとＡＣネットワークとの間の接続点における電力を調整するために、レギュレータ２０によって供給されるＡＣ電流設定点ｉ*gd及びｉ*gqを受信する。ＡＣ電流ｉgを調整するこのレギュレータ２２は、ＭＭＣ１０に対して等価ＡＣ内部電圧設定点ｖ*vを出力として供給する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
さらに非限定的に、制御モジュール１２は、差動電流ｉdiffを調整し、コンバータ１０とＤＣ電源ネットワーク１１０との間の接続点における電力を調整するためにレギュレータ２４によって供給される差動電流ｉdiffに関連する差動電流設定点ｉ*diffを入力として受信するためのレギュレータ２６を含む。差動電流ｉdiffを調整するためのレギュレータ２６は、出力としてＭＭＣ１０に差動電圧設定点ｖ*diffを供給する。