【事件の表示】
　特願２０１１−２６４８１８「熱安定化亜化学量論的誘電体」拒絶査定不服審判事件〔平成２４年　５月１７日出願公開、特開２０１２−　９３７７１、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２００５年２月２５日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００４年２月２５日、米国）を国際出願日とする特願２００７−５００９６８号の一部を平成１７年２月２５日に新たな特許出願としたものであって、平成２５年８月２２日付けで拒絶理由が通知され、平成２６年２月２５日付けで意見書が提出されるとともに手続補正がなされ、同年５月１日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月１１日付けで拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がなされ、当審において、平成２７年９月４日付けで拒絶の理由（以下「当審拒絶理由１」という。）が通知され、平成２８年３月８日付けで意見書が提出されるとともに手続補正がなされ、同年４月５日付けで拒絶の理由（以下「当審拒絶理由２」という。）が通知され、同年７月１１日に意見書が提出されるとともに誤訳訂正がなされたものである。
　
第２　本願発明
　本願の請求項１ないし３に係る発明は、平成２８年７月１１日付け誤訳訂正によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載の事項によりそれぞれ特定されるものと認められるところ、請求項１ないし３に係る発明（以下、本願の請求項１ないし３に係る発明をそれぞれ「本願発明１」ないし「本願発明３」といい、本願発明１ないし３を総称して「本願発明」という。）は、以下のとおりのものである。
　
　「【請求項１】
　亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え、前記亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さであり、ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成を有する光学スタックであって、該光学スタックは、焼き入れ前の光学スタックであり、前記光学スタックが、空気中、６７０℃で６分２０秒間加熱することにより焼き入れされた際に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受ける、光学スタック。
　　【請求項２】
　前記透過率の絶対変化が、０．５０％以下である請求項１に記載の光学スタック。
　　【請求項３】
　前記透過率の絶対変化が、０．２５％以下である請求項１に記載の光学スタック。」
　
 第３　原査定の理由について
１　原査定の理由の概要
（１）原査定
　原査定の理由は下記のとおりである。
　この出願については、平成２５年　８月２２日付け拒絶理由通知書に記載した理由１、２によって、拒絶をすべきものです。
　なお、意見書及び手続補正書の内容を検討しましたが、拒絶理由を覆すに足りる根拠が見いだせません。
備考
・理由１：第２９条第１項
・請求項１〜４
・理由２：第２９条第２項
・請求項１〜５
・引用文献
１．特開２０００−１４３２９７号公報
２．米国特許出願公開第２００３／０１４８１１５号明細書
　本願請求項１〜４に係る発明は、引用文献１、２に記載された発明と物として区別することができない。また、本願請求項１〜５に係る発明は、引用文献１、２に記載された発明から当業者であれば容易に導き出すことのできたものである。
　本願請求項１〜４に係る発明は、焼き入れ前後の透過率の変化によって特定しようとする物の発明であるところ、完成した焼き入れ後の光学スタックとしては、その焼き入れによる透過率変化の履歴が残っているわけではないため、完成後の光学スタックとしては引用文献１、２に記載された発明と区別することができない。
　また、引用文献１、２に係る発明では、焼き入れ中に１．００％以下の透過率絶対変化を受けるための条件（【表１１】によると膜厚が3ｎｍ以上と想定）を満たしているので、適宜焼き入れの強度を調整することで、１．００％以下の透過率絶対変化を得ることは容易になし得ることである。なお、焼き入れ強度を低くすることで透過率絶対変化を抑制することができることは技術常識であって、当業者であれば適宜調整し得るものに過ぎない。
　
（２）拒絶理由
　上記「平成２５年　８月２２日付け拒絶理由通知書に記載した理由１、２」は、下記のとおりである。
　
＜理由１＞
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　 記
＜理由１−１＞
・請求項１〜３
・引用文献
１．特開２０００−１４３２９７号公報
備考：
（請求項１〜３）
　引用文献１の【特許請求の範囲】、【００２６】、【００２７】等に、化学量論より低い量の酸素を有するＮｉＣｒＯｘ層であって、膜厚が０．１〜３．０ｎｍ（実施例では６ｎｍのものも開示されている）のものが開示されている。
　また、引用文献１の【００２３】に焼き入れを行うことが開示されている。
　したがって、本願請求項１〜３に係る発明と引用文献１に記載された発明とでは明確な差異が認められない。
＜理由１−２＞
・請求項１〜３
・引用文献
２．米国特許出願公開第２００３／０１４８１１５号明細書
備考：
（請求項１〜３）
　引用文献２のClaim、[0049]、[0050]に、NiCrOy（0y2）からなる層であって、膜厚が２〜８ｎｍである層を有する多層膜が開示されている。
　また、当該多層膜に対し焼き入れ（tempering）を行うことが記載されている。
　したがって、本願請求項１〜３に係る発明と引用文献２に記載された発明とでは、明確な差異が認められない。
　
＜理由２＞
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　 記
・請求項１〜３
・引用文献
１．特開２０００−１４３２９７号公報
２．米国特許出願公開第２００３／０１４８１１５号明細書
備考：
（請求項１〜３）
　上記＜理由１＞から、本願請求項１〜３に係る発明は、引用文献１、２に記載された発明と格別相違する点が無いので、本願請求項１〜３に係る発明は、引用文献１、２に記載された発明に基づいて、当業者であれば容易に発明できたものである。
　なお、透過率の変化量については、所望の特性を述べたに過ぎず、仮に引用文献１、２に記載された発明が当該機能特性を満たしていないとしても、当業者であれば適宜なし得ることである。
　
２　原査定の理由についての当審の判断
（１）引用文献１の記載事項
　原査定の理由に引用文献１として引用され、本願の優先権主張の日（以下「優先日」という。）前に頒布された刊行物である特開２０００−１４３２９７号公報には、次の事項が記載されている（下線は審決で付した。以下同じ。）。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】　下方および上方のブロック層から包囲された少なくとも１つの貴金属層を有する、湾曲したおよび／または硬化したガラス板用の熱を遮断する層系において、貴金属層中に厚さ０.１〜３.０ｎｍを有する、
不足する（化学量論より低い量の）酸素を有するＮｉＣｒＯ
ｘ
層
　・・・略・・・」
　
　イ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、下方および上方のブロック層から包囲された少なくとも１つの貴金属層を有する湾曲したおよび／または硬化したガラス板用の熱を遮断する層系に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の適用において平らなガラス板、すなわち平板ガラスに層系を被覆する。引き続き被覆した平板ガラスを短時間その軟化温度より低い温度に加熱し、衝撃的冷却により硬化する。加熱と急冷の間にガラス板を曲げる。
【０００３】層系の被覆の後にガラス板を曲げおよび／または硬化することにより熱を反射する層系は公知である。熱を反射するために、一般に１個以上の貴金属層、例えば銀がその良好な選択的反射能力によりすでに少ない層厚で使用される。
【０００４】更に光学的特性を改良するために、銀層の上方および下方に屈折率の高い誘電層を配置することが周知である。例えば金属酸化物層を銀に被覆し、被覆したガラス基板を曲げおよび／または硬化し、それと結合して加熱する際に、銀層の酸化および銀の金属酸化物層への拡散を生じる。酸化は、一方では金属酸化物層の反応性被覆の際に浸入した酸素が銀と反応することにより、他方では被覆したガラス板を加熱する際に金属酸化物層の酸素が活性化され、同様に銀と結合することにより引き起こされる。付加的に銀の拡散が増加し、これにより銀層の厚さが減少する。酸化および拡散により、被覆したガラス板の反射能力が低下する。」
　
　ウ　「【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、層パケットの光学的特性を顕著に変化せずにガラス基板の熱処理および曲げを可能にする、冒頭に記載の形式の層パケットを提供することである。特に熱処理後に曇り（拡散した散乱）が０.５より少ないべきである。」
　
　エ　「【００１４】
【実施例】
４個のカソード、金属のＳｉターゲットを有するツインマグカソード、Ｔｉターゲットを有するツインマグカソード、Ａｇターゲットを有するＤＣマグネトロン、およびＮｉＣｒターゲットを有するＤＣマグネトロンを有する真空装置中で、以下の層系
１.
ガラス／ＴｉＯ
2
／ＮｉＣｒＯ
ｘ
／ＴｉＯ
2
／ＡｇＯ
ｘ
／ＮｉＣｒＯ
ｘ
／ＡｇＯ
ｘ
／ＮｉＣｒＯ
ｘ
／Ｓｉ
3
Ｎ
4
２. ガラス／ＴｉＯ2／ＮｉＣｒＯｘ／　　　　ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／Ｓｉ3Ｎ4
３. ガラス／ＴｉＯ2／ＮｉＣｒＯｘ／ＴｉＯ2／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／Ｓｉ3Ｎ4
４. ガラス／ＴｉＯ2／　　　　　　　　ＺｎＯ　／Ａｇ／　ＮｉＣｒＯｘ／Ｓｉ3Ｎ4
を製造した。
【００１５】ＴｉＯ2をＴｉターゲットを用いてＯ2およびＡｒの反応性雰囲気中でスパッタリングした。
【００１６】この工程をカソード特性の金属モードで実施した。
【００１７】Ｓｉ3Ｎ4をＳｉターゲットを用いてＮ2およびＡｒの反応性雰囲気中でスパッタリングした。
【００１８】ＮｉＣｒＯｘをＮｉＣｒターゲットを用いてＯ2およびＡｒの反応性雰囲気中でスパッタリングした。この工程をカソード特性の金属モードで実施した。カソードがきわめて密に移行領域で燃焼するように酸素の量を決定した。
【００１９】ＡｇターゲットをＯ2およびＡｒの反応性雰囲気中でスパッタリングした。Ａｒ層の抵抗が１０％より多く上昇しないように酸素の量を選択した。
【００２０】第２の層系において第２のＴｉＯ2層を省いた。これによりＴｉＯ2ブロック層の作用が示された。この層の課題は、熱処理後の系の光の散乱を抑えることである。
【００２１】他の比較としてＡｇ層を分配しない第３の層系を製造した。この場合にＡｇ層の厚さは第１の系のＡｇ層の合計に等しい。
【００２２】他の実験として標準的なＬｏｗ−ｅ−被覆である第４の層系をスパッタリングした。
【００２３】
この層系を、７００℃の温度に６分までさらした
【００２４】試験した層系で熱処理する前および後に以下の測定を行った。
【００２５】１.
光の透過率Ｔ
ｙ
（Ｔ
ｙ
＝目の感受性　約５５０ｎｍ を考慮した透過率）
２.反射での色座標（ガラス面）ａ*およびｂ*
３.表面抵抗
４.ウォッシュテスト（エリクセン試験）
５.曇り（拡散した散乱）
結果を表１および表ＩＩに記載する。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】前記表に示される層系１においては下方の層および上方の層は従来のＬｏｗ−ｅ−層の機能を有する。これらの層は、酸素または他の原子が銀層に拡散することを回避するために、きわめて密でなければならない。
【００２９】上方および下方のＮｉＣｒブロック層は層系の所望の温度安定性を配慮する。これらは有利にはカソード特性の金属モードで、酸化物モードへの移行領域にできるだけ近くでスパッタリングする。２つのＡｇ層の間のＮｉＣｒブロック層は熱処理後に耐ふきとり性を生じる。その耐久性は厚さおよび酸化の程度に依存する。ブロック層が厚いほど層パケットは機械的に反応しにくい。
【００３０】第２のＴｉＯ2層は、被覆した基板を熱処理後に曇りもしくは光の散乱を減少する。正確に測定した銀層中の酸素の割合は層パケットの温度安定性および機械的抵抗力を生じる。酸素割合の上限は銀層の安定性を決定し、３％未満であるべきである。」
　
　オ　引用文献１の【００２６】【表１】（上記エ）の記載からみて、
ＮｉＣｒＯ
ｘ
の厚さは、「系１」
が１１．５ｎｍ
である。また、
熱処理前後での光の透過率Ｔ
ｙ
の変化は
「系１」
２％
である
　カ　上記アないしウから、引用文献１には次の発明（段落番号を併記した。）が記載されているものと認められる。
「【００１４】４個のカソード、金属のＳｉターゲットを有するツインマグカソード、Ｔｉターゲットを有するツインマグカソード、Ａｇターゲットを有するＤＣマグネトロン、およびＮｉＣｒターゲットを有するＤＣマグネトロンを有する真空装置中で製造された、ガラス／ＴｉＯ2／ＮｉＣｒＯｘ／ＴｉＯ2／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／Ｓｉ3Ｎ4の層系であって、
【００２５】【００２６】【表１】【００２７】【表２】ＮｉＣｒＯｘの厚さが１１．５ｎｍ、７００℃の温度に６分までさらした熱処理前後での光の透過率Ｔｙの変化が２％である、
　層系。」（以下「引用発明１」という。）
　
（２）引用文献２の記載事項
　原査定の理由に引用文献２として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である米国特許出願公開第２００３／０１４８１１５号明細書には、次の事項が記載されている。
　ア　「 BACKGROUND OF THE INVENTION　
[0001]　1. Field of the Invention 
[0002]　The present invention relates to low emissivity coatings. More specifically, the present invention relates to multilayer coatings for controlling thermal radiation from substrates transparent to visible light. 
[0003]　2. Discussion of the Background 
[0004]　Solar control coatings on transparent panels or substrates are designed to permit the passage of visible light while blocking infrared (IR) radiation. High visible transmittance, low emissivity coatings on, e.g., architectural glass and automobile windows can lead to substantial savings in costs associated with environmental control, such as heating and cooling costs. 
[0005]　Generally speaking, coatings that provide for high visible transmittance and low emissivity are made up of a stack of films. The stack includes one or more thin metallic films, with high IR reflectance and low transmissivity, disposed between anti-reflective dielectric layers. The IR reflective metallic films may be virtually any reflective metal, such as silver, copper, or gold. Silver (Ag) is most frequently used for this application due to its relatively neutral color. The anti-reflective dielectric layers are generally metal oxides selected to minimize visible reflectance and enhance visible transmittance. 
[0006]　Conventional low emissivity coatings generally strive to maintain reflection relatively constant throughout the visible spectrum so that the coating has a neutral color; i.e., is essentially colorless. However, conventional low-emissivity coatings fail to provide the extremes of reflected color required for aesthetic and other reasons by certain applications. 
[0007]　To achieve the desired properties in a coated substrate, the composition and thickness of each of the layers of a multilayer coating must be chosen carefully. For example, the thickness of an IR reflective layer such as Ag must be chosen carefully. It is well known that the emissivity of a Ag film tends to decrease with decreasing Ag sheet resistance. Thus, to obtain a low emissivity Ag film, the sheet resistance of the Ag film should be as low as possible. Because film surfaces and pinholes in very thin Ag films contribute to sheet resistance, increasing Ag film thickness to separate film surfaces and eliminate pinholes can decrease sheet resistance. However, increasing Ag film thickness will also cause visible transmission to decrease. It would be desirable to be able to increase visible transmission by decreasing Ag film thickness without increasing sheet resistance and emissivity. 
[0008]　Thin, transparent metal films of Ag are susceptible to corrosion (e.g., staining) when they are brought into contact, under moist or wet conditions, with various staining agents, such as atmosphere-carried chlorides, sulfides, sulfur dioxide and the like. To protect the Ag layers, various barrier layers can be deposited on the Ag. However, the protection provided by conventional barrier layers is frequently inadequate. 
[0009]　Coated glass is used in a number of applications where the coating is exposed to elevated temperatures. For example, coatings on glass windows in self-cleaning kitchen ovens are repeatedly raised to cooking temperatures of 120-230℃., with frequent excursions to, e.g., 480℃. during cleaning cycles. In addition, when coated glass is tempered or bent, the coating is heated along with the glass to temperatures on the order of 600℃. and above for periods of time up to several minutes. These thermal treatments can cause the optical properties of Ag coatings to deteriorate irreversibly. This deterioration can result from oxidation of the Ag by oxygen diffusing across layers above and below the Ag. The deterioration can also result from reaction of the Ag with alkaline ions, such as sodium (Na+), migrating from the glass. The diffusion of the oxygen or alkaline ions can be facilitated and amplified by the deterioration or structural modification of the dielectric layers above and below the Ag. Coatings must be able to withstand these elevated temperatures. However, multilayer coatings employing Ag as an infrared reflective film frequently cannot withstand such temperatures without some deterioration of the Ag film. 
[0010]　It would be desirable to provide low emissivity, multilayer coatings exhibiting any of a wide range of colors, along with improved chemical, thermal and mechanical stability. 」
　（日本語訳）
「[0001] 1.本発明の属する技術分野
[0002] 本発明は、低放射率コーティングに関するものである。より具体的には、本発明は、可視光に対して透明な基板からの熱放射を制御するための多層コーティングに関するものである。
[0003] 2.背景の考察
[0004] 透明パネルまたは基板の太陽光制御コーティングは、赤外線（IR）放射を遮断する可視光の通過を可能にするように設計されている。建築用ガラス、自動車の窓などに高可視透過率かつ低放射率のコーティングを施すと、加熱コストや冷却コストなどの環境制御に関連するコストを実質的に節約することができる。
[0005] 一般的に、高可視透過率かつ低放射率のコーティングは、フィルムのスタックで構成されている。スタックは、反射防止誘電体層の間に配置された高IR反射率かつ低透過率の金属薄膜1つ以上を含む。IR反射性金属膜は、銀、銅、または金など、実質的にいかなる反射性金属であってもよい。銀（Ag）は、比較的中間色であるために、最も頻繁にこの用途に使用される。反射防止誘電体層は、一般に可視反射率を最小化し、かつ可視透過率を向上させるために選択された金属酸化物である。
[0006] 従来の低放射率コーティングは、一般的に、コーティングが「中間」色、すなわち本質的に無色であるように、可視スペクトルを通して比較的安定した反射を維持しようと努める。しかしながら、従来の低放射率コーティングでは、特定の用途によって美的理由および他の理由に必要とされる反射色の両極端をもたらすことができない。
[0007] コーティングされた基板に所望の特性を与えるために、多層コーティングの各層の組成および厚さを慎重に選択しなければならない。例えば、AgなどのIR反射層の厚さは、慎重に選択する必要がある。Ag膜の放射率がAgのシート抵抗の低下に伴って下がる傾向があることは周知の事実である。したがって、低放射率のAg膜を得るためには、Ag膜のシート抵抗はできるだけ低くするべきである。非常に薄いAg膜の表面およびピンホールがシート抵抗を変化させるため、Ag膜を厚くして膜の表面を分離し、ピンホールを除去すると、シート抵抗を低下させることができる。しかし、Ag膜を厚くすることも可視透過性低下の原因となる。シート抵抗と放射率を増加させることなく、Ag膜を薄くすることによって可視透過率を増加させることができれば望ましいであろう。
[0008] Agの薄く透明な金属膜は、湿った、または濡れた状態の下で、雰囲気により担持される塩化物、硫化物、二酸化硫黄のような様々な汚染剤と接触すると、腐食しやすい（汚染等）。Ag層を保護するために、様々なバリア層をAg上に堆積させることができる。しかしながら、従来のバリア層によって提供される保護では、不十分なことが多い。
[0009] コーティングされたガラスは、コーティングが高温にさらされる場所では、多くの用途で使用されている。例えば、自浄式キッチンオーブンのガラス窓のコーティングは、洗浄サイクル中に頻繁に480℃等にまで急上昇しながら、120℃〜230℃の調理温度に繰り返し上昇する。さらに、コーティングされたガラスは、焼入れされたときまたは曲げられたときに、最長数分間にわたって、ガラスと一緒に約600℃またはそれ以上の温度に加熱される。これらの熱処理は、Agコーティングの光学的特性を不可逆的に劣化させることができる。この劣化は、Agの上下の層を横切って拡散する酸素によって、Agの酸化から生じ得る。またこの劣化は、ガラスから移行したナトリウム（Na+）などのアルカリイオンとAgとの反応から生じ得る。酸素またはアルカリイオンの拡散は、Agの上下の誘電体層の劣化または構造改質によって促進し、増幅することができる。コーティングは、これらの高温に耐えることができなければならない。しかし、赤外線反射膜としてAgを用いた多層コーティングは、Ag膜の一部を劣化させることなく、そのような温度にしばしば耐えることができない。
[0010] 化学的、熱的および機械的安定性を向上させると共に、広範囲に及ぶ色のいずれかを示す低放射率かつ多層のコーティングを施すことが望ましい。」
　
　イ　「SUMMARY OF THE INVENTION　
[0011]　The present invention provides 
multilayer coatings that can reduce the infrared emissivity of a substrate with minimal reduction in visible transmittance
[0012]　The multilayer coating includes, in numerical order outward from the substrate, a first layer including a layer containing titanium oxide, a layer containing silicon nitride, or a superlattice of one or more sublayer containing titanium oxide in combination with one or more sublayer containing silicon nitride; a second layer including Ag; a third layer including at least one layer selected from titanium oxide layers and silicon nitride layers; a fourth layer including Ag; and a fifth layer including silicon nitride. By varying the thicknesses of the layers of titanium oxide and silicon nitride the reflected color of the coating can be tuned within any one of the four color coordinate quadrants in the CIE L*a*b* color space. 」
　（日本語訳）
「[0011] 本発明は、
可視透過率の低下を最小限に抑えた基板の赤外線放射率を低減することが可能な多層コーティング
[0012] 多層コーティングは、基板から外側に向かって番号順に、窒化ケイ素を含む層、または窒化ケイ素を含む1つ以上の副層と組み合わせた酸化チタンを含む1つ以上の副層の超格子である、酸化チタンを含む第1層と、Agを含む第2層と、チタン酸化物層と窒化ケイ素層から選択される少なくとも1つの層を含む第3層と、Agを含む第4層、および窒化ケイ素を含む第5層から成る。CIE L*a*b*色空間内の四つの色座標象限のいずれかにおいて、酸化チタンと窒化ケイ素の層の厚さを変化させることによって、コーティングの反射色を「調整」することができる。」
　
　ウ　「[0026]　An embodiment of the low-emissivity coating of the present invention appears in Table 1:　
[0027]　The coating is deposited on a substrate, and includes, in numerical order 
outward from the substrate
a first layer including a layer containing titanium oxide, a layer containing silicon nitride, or a superlattice of one or more sublayer containing titanium oxide in combination with one or more sublayer containing silicon nitride; a second layer including Ag; a third layer including at least one layer selected from titanium oxide layers and silicon nitride layers; a fourth layer including Ag; and a fifth layer including silicon nitride
　・・・略・・・
[0043]　In still other embodiments of the present invention, 
layers　2　and　4　can include, in addition to a sublayer of Ag, a sublayer of zinc oxide and a sublayer of an oxidized metal
 TABLE 4 
　
[0044]　 
 TABLE 5 
 
[0045]　The sublayer of zinc oxide that can be in layers　2　and　4　is generally polycrystalline. The zinc oxide can be ZnO. The present inventors have discovered that, when deposited on amorphous titanium oxide, zinc oxide is particularly useful as a substrate for growing low sheet resistance, strongly adherent Ag layers. The amorphous titanium oxide, as discussed above, provides an extremely smooth surface on which to grow subsequent layers. The zinc oxide grows with the ｛0001｝ orientation, which orients the Ag to preferentially grow with a ｛111｝ orientation. The epitaxial lattice match between Ag ｛111 ｝ and ZnO ｛0001｝ leads to lower sheet resistance and improved adhesion of the Ag. The use of zinc oxide as a substrate for Ag instead of another material lowers the Ag sheet resistance by approximately 1Ω／□. The net result of using zinc oxide as a substrate for Ag is a decrease in emissivity without lowering the visible, photopic transmission. The zinc oxide provides a means for forming a high conductivity, strongly adherent Ag layer with a thickness as low as 8 nm. 
[0046]　Another interesting finding associated with the use of a sublayer of zinc oxide is that the transmitted a* value increases by about one color point (e.g., from a*=-3.0 to a*=-2.0) and the photopic transmission increases about +1.5% per zinc oxide layer added up to a maximum enhancement of up to +3%. These effects vary as the thickness of the zinc oxide changes. 
[0047]　In embodiments, the zinc oxide can include nitrogen and can be represented by the formula ZnOxNy . The nitrogen containing zinc oxide can be formed by sputtering a Zn target in a sputtering gas including 33 to 84%, preferably 43 to 80%, O2 ; 1 to 25%, preferably 3 to 14%, N2 ; and a remainder of argon. A coater manufactured by Leybold Systems GmbH with model number Typ A 2540 Z 5 H/20-29 is suitable for sputter depositing the nitrogen containing zinc oxide, using gas flows of 200 to 600 sccm, preferably 300 to 450 sccm O2 ; 10 to 100 sccm, preferably 25 to 50 sccm N2 ; and 100 to 300 sccm Ar. The addition of nitrogen to the zinc oxide improves the thermal stability of the layered coatings of the present invention. 
[0048]　The sublayer of zinc oxide can have a thickness in the range of about 1 to 20 nm, preferably about 6-7 nm. If the zinc oxide is too thick, the sheet restant of the Ag will begin to increase. By limiting zinc oxide underlayer thickness to 20 nm and less, the zinc oxide allows for the deposition of pinhole-free, low sheet resistance Ag films at lower thicknesses than are possible with other substrates, while minimizing the undesirable characteristic of thick zinc oxide. Because thin zinc oxide enables thinner Ag films to be used, which enhances visible transmission, use of thin zinc oxide leads to enhancements in the visible transmission of low emissivity coatings. 
[0049]　The sublayer of oxidized metal in layers 2 and 4 protects the Ag sublayer from corroding by acting as a diffusion barrier against oxygen, water and other reactive atmospheric gases. In addition, the sublayer of oxidized metal improves adhesion between layers in the multilayer coating. 
Preferably, the sublayer of oxidized metal is an oxidized metal such as oxidized Ti, oxidized W, oxidized Nb, and oxidized Ni−Cr alloy
oxidized Ni-Cr alloy (e.g., NiCrO
y
 , where 0y2) provides particularly good heat treatability characteristics to a multilayer coating, enhancing the thermal and mechanical durability of a coating during heat treatments above 700℃., such as those necessary for bending and tempering a glass substrate
Preferably the oxidized metal is a suboxide near the metal insulator transition
Such a suboxide will generally have an oxygen content less than the stoichiometric amount of oxygen in the fully oxidized metal
　（日本語訳）
「[0026] 本発明の低放射率コーティングの実施例を表１に示す。
　　　　　　　　表１　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　層　　　材料　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　５　　　窒化ケイ素
　　　　４　　　Ａｇ
　　　　３　　　酸化チタン；
　　　　　　　　窒化ケイ素；または
　　　　　　　　酸化チタンの超格子
　　　　　　　　及び窒化ケイ素
　　　　２　　　Ａｇ
　　　　１　　　酸化チタン及び／又は窒化ケイ素層
　　　　０　　　基板　　　　　　　　　　　　　　　
[0027] このコーティングは基板上に堆積し、
基板から外側に向かって
窒化ケイ素を含む層、または窒化ケイ素を含む1つ以上の副層と組み合わせた酸化チタンを含む1つ以上の副層の超格子である、酸化チタンを含む第1層と、Agを含む第2層と、チタン酸化物層と窒化ケイ素層から選択される少なくとも1つの層を含む第3層と、Agを含む第4層と、窒化ケイ素を含む第5層から成る
　・・・略・・・
[0043] 本発明のさらに他の実施態様では、
第2層および第4層は、Agの副層に加えて、酸化亜鉛の副層および酸化金属の副層を含むことができる
　　　　　　　　表４　　　　　　　　　　
　　　　副層　　材料　　　　　　　　　　
　　　　４ｃ　　酸化金属
　　　　４ｂ　　Ａｇ
　　　　４ａ　　酸化亜鉛
　　　　３　　　酸化チタン；
　　　　　　　　窒化ケイ素；又は
　　　　　　　　酸化チタンの超格子
　　　　　　　　及び窒化ケイ素
[0044]
　　　　　　　　表５　　　　　　　　　　
　　　　副層　　材料　　　　　　　　　　
　　　　２ｃ　　酸化金属
　　　　２ｂ　　Ａｇ
　　　　２ａ　　酸化亜鉛
　　　　１　　　酸化チタン及び／又は
　　　　　　　　窒化ケイ素層
[0045] 層2および層4中に含まれ得る酸化亜鉛の副層は、一般的に多結晶である。酸化亜鉛は、ZnOであることができる。本発明者らは、酸化亜鉛は、非晶質酸化チタン上に堆積されると、低シート抵抗と強力な接着性を有するAg層を成長させるための基板として特に有用であることを発見した。前述したように、非晶質酸化チタンは、その上で後続の層を成長させる極めて滑らかな表面を備える。酸化亜鉛は、{0001}配向で成長し。優先的に{111}配向で成長したAgを配向させる。Ag{111}とZnO {0001}との間のエピタキシャル格子整合は、Agのシート抵抗を低下させ、接着性を向上させる。別の材料の代わりに酸化亜鉛をAg用基板として使用すると、Agのシート抵抗が約1Ω/□低下する。Ag用基板として酸化亜鉛を使用すると、最終的には、可視、明所透過率が低下することなく、放射率が低下する。酸化亜鉛は、高い電気伝導性と強力な接着性を有するわずか8nm厚さのAg層を形成するための手段を与える。
[0046] 酸化亜鉛の副層の使用に関連したもう一つの興味深い発見は、透過a*値が約1色点（例：a*=−3.0 から a*=−2.0）増加していることと、明所透過率が1つの酸化亜鉛層あたり約1.5％、最大3％まで増加していることである。前記結果は、酸化亜鉛の厚さの変化に伴って変化する。
[0047] 実施態様では、酸化亜鉛は、窒素を含むことができ、かつ式ＺｎＯｘＮｙで表すことができる。酸化亜鉛を含有する窒素は、33〜84％、好ましくは43〜80％のＯ２と、1〜25％、好ましくは3〜14％のＮ２、およびアルゴンの残りを含むスパッタガス中のZnターゲットをスパッタリングすることによって、形成することができる。モデル番号Typ A 2540 Z 5 H/20-29のLeybold Systems GmbH社製コータは、200〜600sccm、好ましくは300〜450sccmのO2、10〜100sccm、好ましくは25〜50sccmのＮ２、そして100〜300sccmのArを含むガス流を用いて、酸化亜鉛を含有する窒素をスパッタ堆積するのに適している。 酸化亜鉛に窒素を添加すると、本発明の積層コーティングの熱的安定性が向上する。
[0048] 酸化亜鉛の副層は、約1〜20nm、好ましくは約6〜7nmの厚さを有することができる。酸化亜鉛が厚すぎると、Agのシート抵抗が増加し始める。酸化亜鉛は、酸化亜鉛下層の厚さを20nm以下に制限することにより、厚い酸化亜鉛の望ましくない特徴を最小化しながら、他の基板によって可能であるよりも薄い厚さで、ピンホールのない低シート抵抗のAg膜の堆積を可能にする。薄い酸化亜鉛は可視透過率を向上させ、より薄いAg膜の使用を可能にするので、薄い酸化亜鉛の使用は、低放射率コーティングの可視透過率の向上につながる。
[0049] 層2および層4中の酸化金属の副層は、酸素、水、および他の反応性雰囲気ガスに対する拡散障壁として作用することにより、Agの副層を腐食から保護する。また、酸化金属の副層は、多層コーティング中の層間の接着性を向上させる。
酸化金属の副層は、酸化Ti、酸化W、酸化Nb、および酸化Ni-Cr合金などの酸化金属であることが好ましい
酸化されたNi-Cr合金（例：0y2であるＮｉＣｒＯ
ｙ
）は、多層コーティングに対する熱処理性に特に優れ、例えばガラス基板の曲げおよび焼入れに必要な700℃を超える熱処理中のコーティング熱的及び機械的耐久性を向上させる
酸化金属は、金属絶縁体転移付近の亜酸化物であることが好ましい。そのような亜酸化物は、一般的に、完全に酸化された金属中の酸素の化学量論量未満の酸素量を含有する
酸化金属の副層は、2〜8nm、より好ましくは4〜6nm、最も好ましくは5nmの厚さを有することができる
　エ　上記アないしウから、引用文献２には次の発明（段落番号を併記した。）が記載されているものと認められる。
「[0011]　可視透過率の低下を最小限に抑えた基板の赤外線放射率を低減することが可能な多層コーティングであって、
[0027]　窒化ケイ素を含む層、または窒化ケイ素を含む1つ以上の副層と組み合わせた酸化チタンを含む1つ以上の副層の超格子である、酸化チタンを含む第1層と、Agを含む第2層と、チタン酸化物層と窒化ケイ素層から選択される少なくとも1つの層を含む第3層と、Agを含む第4層と、窒化ケイ素を含む第5層から成り、
[0043]　第2層および第4層は、Agの副層に加えて、酸化亜鉛の副層および酸化金属の副層を含み、
[0049]　酸化金属の副層は、酸化Ni-Cr合金であり、
　酸化されたNi-Cr合金（例：0y2であるＮｉＣｒＯｙ）は、多層コーティングに対する熱処理性に特に優れ、例えばガラス基板の曲げおよび焼入れに必要な700℃を超える熱処理中のコーティング熱的及び機械的耐久性を向上させ、酸化金属は、金属絶縁体転移付近の亜酸化物であり、そのような亜酸化物は、一般的に、完全に酸化された金属中の酸素の化学量論量未満の酸素量を含有するものであり、
　酸化金属の副層は、5nmの厚さを有する、
　多層コーティング。」（以下「引用発明２」という。）
　
（３）引用発明１に基づく本願発明１の新規性・進歩性
　ア　本願発明１と引用発明１との対比
　（ア）引用文献１の【０００９】には「本発明の課題は、層パケットの光学的特性を顕著に変化せずにガラス基板の熱処理および曲げを可能にする、・・・」と記載されているところ、引用発明１の「層系」は、本願発明１の「光学スタック」に相当することは明らかである。
　（イ）引用発明１の「層系」（本願発明１の「光学スタック」に相当）は、ガラス／ＴｉＯ2／ＮｉＣｒＯｘ／ＴｉＯ2／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／Ｓｉ3Ｎ4であり、「ＮｉＣｒＯｘ」層は、引用文献１の【請求項１】（上記２（１）ア）に記載されているように、不足する（化学量論より低い量の）酸素を有するものであるから、引用発明１の「ＮｉＣｒＯｘ」は、本願発明１の「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層」に相当する。
　（ウ）引用発明１の「ＮｉＣｒＯｘ」（本願発明１の「亜化学量論層」）は、その厚さが１１．５ｎｍであるから、本願発明１の「４．３〜１２ｎｍの厚さである」との構成を満たすものである。
　（エ）上記（ア）ないし（ウ）からみて、本願発明１と引用発明１とは、
　「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え、前記亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さである光学スタック。」である点（以下「一致点」という。）で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点１：
　本願発明１は、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成を有する」のに対し、
　引用発明１は、ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成を有さない点。
　相違点２：
　本願発明１では、「光学スタックが、焼き入れ前の光学スタックであり、空気中、６７０℃で６分２０秒間加熱することにより焼き入れされた際に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受ける」のに対し、
　引用発明１では、光学スタックが、焼き入れ前の光学スタックであり、空気中、６７０℃で６分２０秒間加熱することにより焼き入れされた際に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受けるかどうかが明らかでない点。
　
　イ　判断
　（ア）上記相違点１について検討すると、引用発明１の層系の層構成は、ガラス／ＴｉＯ2／ＮｉＣｒＯｘ／ＴｉＯ2／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／ＡｇＯｘ／ＮｉＣｒＯｘ／Ｓｉ3Ｎ4であり、引用文献１にも、層系の一部に、「化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy」の層及び「亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy」の層を有することの記載も示唆もなく、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」を有することについての記載も示唆もない。そして、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」を有する光学スタックが周知であるともいえない。
　してみると、引用発明１において、上記相違点１に係る本願発明１の構成となすことは当業者が容易に想到し得たものとはいえない。
　（イ）したがって、引用文献１には、上記相違点１に係る本願発明１の構成が開示されてなく、しかも、当該構成が想到容易であるともいえないから、上記相違点２について検討するまでもなく、本願発明１は、引用文献１に記載された発明ではなく、また、当業者が引用文献１に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものでもない。 
　
（４）引用発明２に基づく本願発明１の新規性・進歩性
　ア　本願発明１と引用発明２との対比
　（ア）引用発明２の「可視透過率の低下を最小限に抑えた基板の赤外線放射率を低減することが可能な多層コーティング」が、本願発明１の「光学スタック」に相当することは明らかである。
　（イ）引用発明２の「多層コーティング」（本願発明１の「光学スタック」に相当）は、「窒化ケイ素を含む層、または窒化ケイ素を含む1つ以上の副層と組み合わせた酸化チタンを含む1つ以上の副層の超格子である、酸化チタンを含む第1層と、Agを含む第2層と、チタン酸化物層と窒化ケイ素層から選択される少なくとも1つの層を含む第3層と、Agを含む第4層と、窒化ケイ素を含む第5層から成り、第2層および第4層は、Agの副層に加えて、酸化亜鉛の副層および酸化金属の副層を含み、酸化金属の副層は、例えば酸化されたNi-Cr合金（例：0y2であるＮｉＣｒＯｙ）」であるから、引用発明２は、本願発明１の「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え」という構成を備える。
　（ウ）引用発明２の酸化金属の副層は、「酸化されたNi-Cr合金（例：0y2であるＮｉＣｒＯｙ）」であり、その厚さが５ｎｍであるから、引用発明２は、本願発明１の「亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さである」との構成を満たすものである。
　（エ）上記（ア）ないし（ウ）からみて、本願発明１と引用発明２とは、
上記（３）ア（エ）で示した一致点で一致し、相違点１及び相違点２とそれぞれ同様な相違点３及び４で相違する。
　
　イ　判断
　（ア）上記相違点３について検討すると、引用発明２の「多層コーティング」の層構成は、窒化ケイ素を含む層、または窒化ケイ素を含む1つ以上の副層と組み合わせた酸化チタンを含む1つ以上の副層の超格子である、酸化チタンを含む第1層と、Agを含む第2層と、チタン酸化物層と窒化ケイ素層から選択される少なくとも1つの層を含む第3層と、Agを含む第4層と、窒化ケイ素を含む第5層を含み、第2層および第4層は、Agの副層に加えて、酸化亜鉛の副層および酸化金属の副層を含み、酸化金属の副層は、例えば酸化されたNi-Cr合金（例：0y2であるＮｉＣｒＯｙ）であり、引用文献２にも、層構成の一部に、「化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy」の層及び「亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy」の層を有することの記載も示唆もなく、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」を有することについての記載も示唆もない。そして、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」を有する光学スタックが周知であるともいえない。
　してみると、引用発明２において、上記相違点３に係る本願発明１の構成となすことは当業者が容易に想到し得たものとはいえない。
　（イ）したがって、引用文献２には、上記相違点３に係る本願発明１の構成が開示されてなく、しかも、当該構成が想到容易であるともいえないから、上記相違点４について検討するまでもなく、本願発明１は、引用文献２に記載された発明ではなく、また、当業者が引用文献１に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものでもない。 
　
（５）引用発明１及び引用発明２に基づく本願発明１の進歩性
　上記（４）で示したとおり、上記相違点１又は相違点３に係る本願発明１の構成は、引用文献１又は引用文献２に開示されていないだけでなく、また、周知であるともいえないから、引用発明２の構成を引用発明１に適用し、または、引用発明１の構成を引用発明２に適用したとしても、本願発明１は当業者が容易に想到し得たものではない。
　
（６）本願発明２及び３について
　本願発明１が、引用文献１に記載された発明又は引用文献２に記載された発明ではなく、また、当業者が引用文献１に記載された発明及び引用文献２に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものでもないのであるから、本願発明１の発明特定事項をすべて含み、さらに他の発明特定事項を付加した本願発明２及び３も同様に、引用文献１に記載された発明又は引用文献２に記載された発明ではなく、また、当業者が引用文献１に記載された発明及び引用文献２の記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるともいえない。
　
第４　当審拒絶理由について
１　当審拒絶理由の概要
（１）当審拒絶理由１の概要
「１　本件出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていない。 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　記 
（１）請求項１には「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え、前記亜化学量論層が、２〜２０ｎｍの厚さである光学スタックであって、該光学スタックを焼き入れすることを含む方法により製造され、前記光学スタックが、前記焼き入れ中に、１．００％以下の透過率の絶対変化を受け、前記光学スタック中にＳｉＡｌＯｘＮｙ層が存在する、光学スタック。」と記載されている。
　
（２）請求項１に係る発明は「光学スタック」という物の発明であるが、「該光学スタックを焼き入れすることを含む方法により製造され、・・・前記焼き入れ中に、１．００％以下の透過率の絶対変化を受け、」との記載は、製造に関して技術的な特徴や条件が付された記載がある場合に該当するため、当該請求項にはその物の製造方法が記載されているといえる。 
　ここで、物の発明に係る特許請求の範囲にその物を製造方法が記載されている場合において、当該特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号にいう「発明が明確であること」という要件に適合するといえるのは、出願時において当該物をその構造又は特性により直接特定することが不可能であるか、又はおよそ実際的でないという事情（以下「不可能・非実際的事情」という）が存在するときに限られると解するのが相当である（最高裁第二小法廷平成２７年６月５日　平成２４年（受）第１２０４号、平成２４年（受）第２６５８号）。 
　しかしながら、本願明細書等には不可能・非実際的事情について何ら記載がなく、当業者にとって不可能・非実際的事情が明らかであるとも言えない。 
　
（３）発明の詳細な説明には、以下の記載がある。 
　・・・略・・・
　
（４）上記（３）からみて、光学スタックは、【００７５】に記載されている特定の層構成を前提として、【００７９】の【表１１】のように、ＮｉＣｒＯxの厚さが８．７ｎｍのときにデルタＴＹが０．５、すなわち、ＮｉＣｒＯxの厚さが８．７ｎｍのときのみで「焼き入れ中に、１．００％以下の透過率の絶対変化」を満たすものである。 
　
（５）請求項１の「光学スタック」は、「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層」及び「ＳｉＡｌＯｘＮｙ層」を有すること以外は、その他の層や積層順序の特定がないため、層構成については任意のものを含み、そのような任意の層構成において、「亜化学量論層が、２〜２０ｎｍの厚さ」であり、「焼き入れ中に、１．００％以下の透過率の絶対変化を受け」るというものをも含む。しかしながら、優先日当時の技術常識に照らしても、発明の詳細な説明に開示された光学スタックに関する内容（上記（４）参照。）のみから、請求項１の「光学スタック」にまで拡張ないし一般化できるとはいえない。請求項５についても同様である。 
　
（６）光学スタックにおいて、焼き入れ前後で透過率が下がらずに向上すること、具体的には、【００７９】【表１１】の「ＮｉＣｒＯｘ厚」が「２．２」〜「４．３」の場合のように、焼き入れ後に透過率が向上することは、光学性能を考慮すれば、むしろ好ましいことが優先日当時の技術常識である。ところが、請求項１の「焼き入れ中に、１．００％以下の透過率の絶対変化を受け」は、焼き入れ後に透過率が向上する場合でも、透過率が１．００％より大きくなった場合は範囲外とするものであり、なぜ焼き入れ中に、透過率が１．００％より大きくなった場合を範囲外とするのか、その技術的意味を理解することができない。 
　
 　よって、請求項１ないし５に係る発明は明確でなく、また、発明の詳細な説明に記載したものではない。 
　
２　この出願は、発明の詳細な説明の記載が下記の点で、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　記 
 （１）発明の詳細な説明には、「【００１８】・・・「化学量論的」窒化シリコンは、ここでは、Ｓｉ3Ｎy（ここで、３．８≦ｙ≦４．２）をいう。・・・ 
 　【００１９】　ここで用いる用語「亜化学量論的」とは、１またはそれ以上の元素の酸化物、窒化物もしくは酸窒化物であって、酸素および／または窒素の他の元素に対する原子比が、該１またはそれ以上の元素の酸化物、窒化物もしくは酸窒化物化合物の９５％未満で、少なくとも３０％であるところのものをいう。例えば、・・・。「化学量論的」窒化シリコンは、ここでは、Ｓｉ3Ｎy（ここで、１．２≦ｙ＜３．８）をいう。」と記載されているが、「３．８≦ｙ≦４．２」と「１．２≦ｙ＜３．８」のＳｉ3Ｎyの双方を「化学量論的」窒化シリコンとしており、不明な記載である。 
 （後者は「亜化学量論的」窒化シリコンではないか。） 
 　 
 （２）【００４３】には「ＮｉＣｒＯx層が薄すぎると、他のスタック層の透過率変化に対抗できない。ＮｉＣｒＯxが厚すぎると、他のスタック層の透過率増加に打ち勝ち、その光学スタックは、焼き入れの際に、全体的により透明でなくなり、暗くなる。ＮｉＣｒＯxの厚さは、明るくなりゼロの焼き入れ透過率変化を生じる他の層の傾向を正確にバランスさせるように設計することができる。」と記載されているが、当該記載では、ＮｉＣｒＯx層の厚さと他のスタック層の透過率変化とが如何に関係し、光学スタックの透過率にどう影響しているのかが不明である。特に「ＮｉＣｒＯx層が薄すぎると、他のスタック層の透過率変化に対抗できない」とは、具体的には、他のスタックの透過率の減少を相殺する程度に、「ＮｉＣｒＯx層」の透過率が向上するという意味なのか、それとも他の意味があるのか不明であり、「ＮｉＣｒＯxが厚すぎると、他のスタック層の透過率増加に打ち勝ち」についても同様に、具体的には、如何なる現象を意味しているのかが不明である。 
　
　よって、この出願の発明の詳細な説明は、請求項１ないし５に係る発明について、経済産業省令で定めるところにより記載されたものではない。 
 　 
３　本件出願の請求項１ないし５に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　記 
 引用例１．特開２０００−２２９３７７号公報
 引用例２．特開２０００−１４３２９７号公報
 引用例３．米国特許出願公開第２００３／０１４８１１５号明細書
 引用例４．特開２００２−４７０３３号公報
 引用例５．特開平８−２３８７１０号公報
　
 （備考）理由３及び４に対して 
 （１）引用例１には、 
 「ガラス基体／ＡｌＳｉｘＮｙ（部分的に酸化されている）／ＺｎＡｌＯｘ／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された下部バリア層）／Ａｇ層／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された上部バリア層）／ＺｎＡｌＯｘ（中央部反射防止層）／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された下部バリア層）／Ａｇ層／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された上部バリア層）／ＺｎＡｌＯｘ／ＡｌＳｉｘＮｙ（部分的に酸化されている）の膜構成（【００４９】）からなる、熱処理された（【００４８】）ガラス積層体（【００４７】）。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。 
 　 
（２）請求項５に係る発明（以下、「本願発明」という。）と引用発明とを対比する。 
　ア　引用発明の「ＡｌＳｉｘＮｙ（部分的に酸化されている）」は、酸化されているＳｉＡｌＮ層といえるから、本願発明の「ＳｉＡｌＯｘＮｙ層」に相当する。 
　イ　その他の本願発明の構成に相当する構成を引用発明が備えていること、及び、上記アからみて、本願発明と引用発明とは、次の点で一応相違し、その余の点で一致する。 
　 
　・相違点１ 
　本願発明では、亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備えるのに対し、 
　引用発明では、亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備えていない点。 
　
　・相違点２ 
　焼き入れ中において光学スタックの透過率の絶対変化が、 
　本願発明では、１．００％以下であるのに対し、 
　引用発明では、明らかでない点。
 　 
（３）上記相違点１について検討する。 
　ア　化学量論量未満の酸素を含有するＮｉＣｒＯｘ層を有するガラス板を備える積層体は本願の優先日前に周知（以下、「周知技術１」という。例．引用例２（【請求項１】参照。）、引用例３（［００４９］参照。）である。） 
　イ　引用例１には、バリア層として、Ｔｉ，Ｚｎ、Ｔａ、Ａｌ−Ｚｎ、Ｔｉ−Ｚｎ、ＳＵＳ、Ｚｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｔｉ、Ｃｒなどの金属、該金属の一部が未酸化の酸化物、該金属の窒化物などが挙げられ、該バリア層の厚さは、１〜５ｎｍの範囲が好ましいこと（【００３２】）が記載されている。 
　ウ　上記ア及びイからみて、引用発明において、バリア層を亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘ層となし、その厚さを２〜２０ｎｍの範囲となすこと、すなわち、上記相違点１に係る本願発明の構成となすことは当業者が周知技術１に基づいて適宜なし得たことである。 
　
（４）上記相違点２について検討する。 
　ア　引用例１における実施例１では、熱処理前後でガラス積層体の透過率の絶対変化が１１％（【００４８】【表２】）であるが、バリア層としてＺｎＡｌＯｘを用いた場合であり、一部が未酸化の「Ｎｉ−Ｃｒ」合金を用い、所定の厚さとした場合に、透過率の絶対変化が１％以下である蓋然性が高く、上記相違点２は実質的な相違点ではない。 
　イ　仮に上記相違点２が実質的な相違点であるとしても、光学スタックを有する熱線遮断ガラスの特性として、熱処理前後の透過率の変化が小さいことが好ましいことは本願の優先日前に周知（以下、「周知技術２」という。例．引用例４（【００２０】参照。）、引用例５（【００４９】、【００６９】、【００７３】、【００７８】、【００８２】参照。））であり、引用発明において、当該相違点２に係る本願発明の構成となすことは当業者が周知技術２に基づいて適宜なし得たことである。
　
（５）請求項１ないし４に係る発明についても同様に引用例１に記載された発明、周知技術１及び周知技術２に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。」
　
（２）当審拒絶理由２の概要
「本件出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定する要件を満たしていない。 
 　 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　記 
１　請求項１には「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え、前記亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さである光学スタックであって、前記光学スタック中にＳｉＡｌＯｘＮｙ層が存在し、該光学スタックは、焼き入れされた光学スタックであり、前記光学スタックが、前記焼き入れ中に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受けた、光学スタック。」と記載されている。 
 　 
２　上記１のとおり、請求項１に係る発明は「光学スタック」という物の発明であるが、「該光学スタックは、焼き入れされた光学スタックであり、前記光学スタックが、前記焼き入れ中に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受けた」との記載では、「光学スタック」は、「焼き入れ」後のものであって、「焼き入れ」中に「１．３％以下の透過率の絶対変化を受けた」ものであると解されるが、焼き入れ後の「光学スタック」の透過率が、どの程度変化を受けたものであるかを特定しても、如何なる光学スタックがその発明の要旨に含まれるか否かを特定できない。すなわち、焼き入れされた後の光学スタックの構造又は特性を解析しても、どの程度の焼き入れが行われ、透過率の絶対変化がどの程度であったかを特定することは困難と思われる。 
　したがって、請求項１の「透過率の絶対変化」は、焼き入れによって完成された請求項１の「光学スタック」の「物」としての特性を表しているとはいえず不明りょうである。 
　
３（１）発明の詳細な説明には、以下の記載がある。 
　・・・略・・・
　
（２）上記（１）からみて、光学スタックは、【００７５】に記載されている「ガラス／３．５ｎｍ化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ／１７ｎｍ亜化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ／６ｎｍＺｎＯ／１３．４ｎｍＡｇ／ＮｉＣｒＯｘ／３８ｎｍ化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ」という特定の層構成を前提として、【００７９】の【表１１】のように、ＮｉＣｒＯｘの厚さが４．３ｎｍのときにデルタＴＹが１．３％の透過率の絶対変化を満たすものである。 
 　 
（３）上記１のとおり、請求項１の「光学スタック」は、「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層」及び「ＳｉＡｌＯｘＮｙ層」を有すること以外は、その他の層や積層順序の特定がないため、層構成については任意のものを含み、そのような任意の層構成において、「亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さ」であり、「焼き入れ中に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受けた」というものをも含む。しかしながら、本願優先日当時の技術常識に照らしても、発明の詳細な説明に開示された光学スタックに関する内容（上記（１）参照。）のみから、請求項１の「光学スタック」にまで拡張ないし一般化できるとはいえない。請求項５についても同様である。 
 　 
４　請求項４には「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ／亜化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ。／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯｘ／化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ」と記載されているが、「亜化学量論的ＳｉＡｌＯｘＮｙ。」の記載が誤記と認められる。 
 　 
５　上記２で示した事項は、請求項５についても同様であり、「光学スタックの製造方法」により製造される「光学スタック」が、焼き入れ前の「光学スタック」であるのか、焼き入れ後の「光学スタック」であるのか不明であり、請求項５の記載に基づくと、前者の場合（焼き入れ前）、製造方法として何を特定することになるのか不明であり、後者の場合（焼き入れ後）、製造方法として、焼き入れした点のみにしか特徴点が見出せず、何を特定しようとしているのか不明である。 
　
　よって、請求項１ないし５に係る発明は明確でなく、また、発明の詳細な説明に記載したものではない。」
　
２　当審拒絶理由についての当審の判断
（１）当審拒絶理由１について
　ア　拒絶の理由「１」について
　平成２８年３月８日付け手続補正及び平成２８年７月１１日付け誤訳訂正によって、請求項１にその物の製造方法が記載されているとはいえなくなるとともに、「該光学スタックは、焼き入れされた光学スタックであり、前記光学スタックが、前記焼き入れ中に、
１．３％以下の
４．３〜１２ｎｍ
　イ　拒絶の理由「２」について
　明細書の段落［００１９］の「化学量論的」との誤記を「亜化学量論的」と補正するとともに、平成２８年３月８日付け意見書による釈明で、委任省令違反も解消したので、当審拒絶理由１の理由「２」は解消した。
　ウ　拒絶の理由「３」について
　（ア）引用例１の記載事項
　　当審拒絶理由１の理由「３」に引用例１として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０００−２２９３７７号公報には、次の事項が記載されている。
　　ａ　「【００４７】Ａｇは、Ａｇターゲットを用い、アルゴン雰囲気中で直流マグネトロンスパッタリング法で形成した。ガラス基体は、２ｍｍ厚のクリアガラスを用いた。
本実施例のガラス積層体は、自動車用合わせ風防ガラスやディスプレイに用いられる
【００４８】
【表２】
熱処理によって全てのバリア層が実質的に完全に酸化され、熱処理後には表３に示すような膜構成となっていることが好ましい。
【００４９】
【表３】
」
　　ｂ　上記ａからみて、引用例１には次の発明（段落番号を併記した。）が記載されている。
　「【００４９】【表３】ガラス基体２ｍｍ／ＡｌＳｉｘＮｙ（部分的に酸化されている）４ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ２６ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された下部バリア層）１ｎｍ−１．６ｎｍ／Ａｇ層１０ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された上部バリア層）１．４ｎｍ−２ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ（中央部反射防止層）７７ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された下部バリア層）０．７ｎｍ−１．２ｎｍ／Ａｇ層１０ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ（酸化された上部バリア層）２ｎｍ−２．８ｎｍ／ＺｎＡｌＯｘ１８．５ｎｍ／ＡｌＳｉｘＮｙ（部分的に酸化されている）７．５ｎｍの膜構成からなり、
【００４８】【表２】熱処理前の被膜付き単板ガラスを測定した際の光透過率ＴＬが６５％で、６５０℃で１０分間熱処理され、続いて曲げ加工、強化加工、および、厚さ０．７６ｍｍのポリビニルブチラール膜を介して２ｍｍ厚のクリアガラス板と合わせ加工されたものを測定した光透過率ＴＬが７６％である、
【００４７】自動車用合わせ風防ガラスやディスプレイに用いられるガラス積層体。」（以下「引用発明３」という。）
　
　（イ）本願発明１と引用発明３との対比
　　ａ　引用発明３の「ＡｌＳｉｘＮｙ（部分的に酸化されている）」及び「Ａｇ層」は、それぞれ本願発明１の「亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy」及び「Ａｇ」に相当する。
　　ｂ　引用発明３の「ガラス積層体」は、自動車用合わせ風防ガラスやディスプレイに用いられるから、引用例１の「光学スタック」に相当する。
　　ｃ　上記ａ及びｂからみて、本願発明１と引用発明３とは、
　「亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy及びＡｇを有する光学スタック。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
　・相違点５：
　本願発明１では、亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え、前記亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さであり、ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成を有するのに対し、 
　引用発明３では、亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備えているかどうか明らかでなく、ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成を備えていない点。 
　
　・相違点６：
　本願発明１では、空気中、６７０℃で６分２０秒間加熱することにより焼き入れされた際に、１．３％以下の透過率の絶対変化を受けるのに対し、 
　引用発明３では、熱処理前の被膜付き単板ガラスを測定した際の光透過率ＴＬが６５％で、６５０℃で１０分間熱処理され、続いて曲げ加工、強化加工、および、厚さ０．７６ｍｍのポリビニルブチラール膜を介して２ｍｍ厚のクリアガラス板と合わせ加工されたものを測定した光透過率ＴＬが７６％である点。
　
　（ウ）上記相違点５について検討する。 
　　ａ　化学量論量未満の酸素を含有するＮｉＣｒＯｘ層を有するガラス板を備える積層体は本願の優先日前に周知（以下、「周知技術」という。例．当審拒絶理由１の理由「３」に引用された引用例２（上記引用文献１。【請求項１】参照。）、同引用例３（上記引用文献２。［００４９］参照。）である。） 
　　ｂ　上記ａからみて、引用発明３において、バリア層を亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘ層となすことが当業者が周知技術に基づいて適宜なし得たことであるとしても、引用例１には、積層体が「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」を有することについての記載も示唆もない。引用例２ないし５についても同様である。そして、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」を有する光学スタックが周知であるともいえない。
　してみると、引用発明３において、上記相違点５に係る本願発明１の構成となすことは当業者が容易に想到し得たものとはいえない。
　　ｃ　したがって、引用例１ないし５には、上記相違点５に係る本願発明１の構成が開示されてなく、しかも、当該構成が想到容易であるともいえないから、上記相違点６について検討するまでもなく、本願発明１は、当業者が引用例１ないし５に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものでもない。
　　ｄ　本願発明１は、「ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮyの層構成」により、本願の明細書に「【００５１】・・・表３は、亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy層を含む光学スタックの性質は亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy層を安定化化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy層で直接クラッドすることにより安定化できることを示している。」と記載されているような効果を奏するものであり、当該効果は、引用例１ないし５に記載された発明の奏する効果から当業者が予測することができたものではない。
　　ｅ　本願発明１が、当業者が引用例１ないし５に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものでもないのであるから、本願発明１の発明特定事項をすべて含み、さらに他の発明特定事項を付加した本願発明２及び３も同様に、当業者が引用文献１ないし５の記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるともいえない。
　
　（エ）よって、当審拒絶理由１の理由「３」は解消した。
　
（２）当審拒絶理由２について
　平成２８年７月１１日付け誤訳訂正によって、請求項１における光学スタックの層構成が「亜化学量論的ＮｉＣｒＯｘの均質な亜化学量論層を備え、前記亜化学量論層が、４．３〜１２ｎｍの厚さであり、ガラス／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／亜化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy／ＺｎＯ／Ａｇ／ＮｉＣｒＯx／化学量論的ＳｉＡｌＯxＮy」と特定されたことにより、請求項１に係る発明は明確であり、発明の詳細な説明に記載したものとなったので、当審拒絶理由２は解消した。
　　
第５　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。 
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 
　よって、結論のとおり審決する。