Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月12日(2020.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞中のリピートＤＮＡ配列の伸長を阻害するための医薬組成物であって、ナフチリジン−アザキノロン（ＮＡ）を含む、医薬組成物。
【請求項２】
前記医薬組成物がインビボで細胞と接触させられる、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記接触させる工程が複数回実施される、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
接触させる工程の前に、リピートＤＮＡ配列中のリピート数を決定する工程が実施される、請求項１から３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
接触させる工程の後に、リピートＤＮＡ配列中のリピート数を決定する工程が実施される、請求項１から４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
細胞が、リピートＤＮＡ配列中のリピート数に応じた量のＮＡと接触させられる、請求項１から５のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
ＮＡが修飾されたＮＡである、請求項１から６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
個体のゲノム中のリピートＤＮＡ配列中のリピート数を低減するための医薬組成物であって、ナフチリジン−アザキノロン（ＮＡ）を含む、医薬組成物。
【請求項９】
ＮＡが、罹患組織に直接投与される、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
ＮＡが全身に投与される、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記投与する工程が注射により行われる、請求項８、９または１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
ＮＡが複数回投与される、請求項８から１１のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
複数用量のＮＡが投与される、請求項８から１２のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
投与する工程が複数回繰り返される、請求項８から１３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
治療量のＮＡがリピート数に基づく、請求項８から１４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
治療量のＮＡが約０．０１μＭから約１Ｍである、請求項８から１５のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
リピートＤＮＡ配列を有する個体が識別される、請求項８から１６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
個体からの１以上の細胞中のリピート数が決定される、請求項８から１７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
個体からの１以上の細胞中のリピート数がモニタリングされる、請求項８から１８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
ＮＡがそのインビボ安定性を増進するように修飾される、請求項８から１９のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
ＮＡがリポソーム又は頭蓋内ポンプを通じて送達される、請求項８から２０のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
リピートＤＮＡ配列の伸長によって引き起こされる個体中の疾患を治療または予防するための医薬組成物であって、ナフチリジン−アザキノロン（ＮＡ）を含む、医薬組成物。
【請求項２３】
リピートＤＮＡ不安定性によって引き起こされる疾患を有する個体が識別される、請求項２２に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
リピートＤＮＡ配列の伸長によって引き起こされる疾患が、ハンチントン病（ＨＤ）、ハンチントン類縁疾患２型（ＨＤＬ２）、筋緊張性ジストロフィー（ＤＭ１）、脊髄小脳失調症１型（ＳＣＡ１）、ＳＣＡ２、ＳＣＡ３、ＳＣＡ６、ＳＣＡ７、ＳＣＡ８、ＳＣＡ１２、ＳＣＡ１７、球脊髄性筋萎縮症（ＳＢＭＡ）、歯状核赤核淡蒼球ルイ体萎縮症（ＤＲＰＬＡ）、フック角膜内皮ジストロフィー２（ＦＥＣＤ２）、統合失調症、双極性障害（ＫＣＮＮ３）、乳がんリスク因子ＡｌＢ１からなる群から選択される、請求項２２または２３に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
ＮＡがリピートＤＮＡ配列の伸長の前に投与される、請求項２２から２４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
投与する工程がリピートＤＮＡ配列の伸長の前に起こる、請求項２２から２４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
ＮＡが誕生前に（子宮内で）個体に投与される、請求項２２から２６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
ＮＡがリピートＤＮＡ配列の伸長に続いて個体に投与される、請求項２２から２４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースと、
前記ベースに取り付けられた近位端から、関節によって点在された一連のリンクを介して外科用器具に取り付け可能な遠位端まで延びるアームと、を含み、
該アームは、
短距離無線通信リンクを介して前記外科用器具からデータを受信するように構成された受信機と、
前記外科用器具が近くにあることを検出するように構成された近接センサと、
前記受信機と前記外科用器具の送信機との間に前記短距離無線通信リンクを確立することによって、前記外科用器具が近くにあることを検出する前記近接センサに応答するように構成されたコントローラ、
を含む、外科用ロボット。
【請求項２】
前記データが、前記器具の１つ又は複数のパラメータの値を示し、前記パラメータが、外科用器具の種類、外科用器具の識別情報、外科用器具の使用データ、及び制御データを含む請求項１に記載の外科用ロボット。
【請求項３】
さらにデータストアを含み、
前記外科用器具の識別情報を示すデータを受信し、
前記データストアに前記外科用器具の識別情報を格納し、
続いて、外科用器具の識別情報及び他のパラメータデータを示すパラメータ更新を受信して、
前記パラメータ更新の前記外科用器具の識別情報が前記データストア内の前記外科用器具の識別情報と一致する場合に、前記パラメータ更新の前記他のパラメータデータを格納するのみに構成されている請求項１又は２に記載の外科用ロボット。
【請求項４】
前記受信機が、アームトランシーバ内に含まれており、前記送信機が、器具トランシーバ内に含まれている請求項１〜３の何れか１項に記載の外科用ロボット。
【請求項５】
前記コントローラが、確立された前記短距離無線通信リンクに応答して、前記データ用の前記短距離無線通信リンクを介して前記アームトランシーバを制御して前記器具トランシーバを照会するように構成されている請求項４に記載の外科用ロボット。
【請求項６】
前記アームトランシーバは、前記器具トランシーバに外科用器具の使用データを示すデータを定期的に送って、器具データストア内に格納するように構成されており、外科用器具の使用データを示す前記データが、前記外科用器具の前記全作動時間、前記外科用器具の前記使用回数、及び前記外科用器具の前記残りの寿命のうちの少なくとも１つを示すデータを含む請求項４又は５に記載の外科用ロボット。
【請求項７】
前記近接センサが、前記外科用器具が前記アームから取り外されたことを検出するように構成され、前記コントローラが、前記アームトランシーバを制御して、外科用器具の使用データを示すデータを前記短距離無線通信リンクを介して前記器具トランシーバに送信することにより前記検出された取り外しに応答するように構成されている請求項４〜６の何れか１項に記載の外科用ロボット。
【請求項８】
前記コントローラが、前記外科用器具が前記アームから取り外されたことを示すコマンドを前記コントローラが受信しない場合には、外科用器具の使用データを示すデータを前記短距離無線通信リンクを介して前記器具トランシーバに送信するように前記アームトランシーバを制御することで、前記検出された取り外しに応答するのみに構成されている請求項７に記載の外科用ロボット。
【請求項９】
前記コントローラが、前記受信したデータが前記器具の寿命が切れたことを示している場合、前記外科用器具の操作を止めるように構成されている請求項１〜８の何れか１項に記載の外科用ロボット。
【請求項１０】
前記アームが、前記外科用器具の外科用器具インターフェースと機械的にインターフェースで接続するためのロボットアームインターフェースを含み、前記近接センサが、前記ロボットアームインターフェースに隣接して配置されている請求項１〜９の何れか１項に記載の外科用ロボット。
【請求項１１】
さらに外科用器具を含み、前記外科用器具は、
前記短距離無線通信リンクを介して前記受信機にデータを送信するように構成された送信機と、
前記近接センサによって検出可能に構成された検出可能なタグと、
を含んでいる請求項１〜１０の何れか１項に記載の外科用ロボット。
【請求項１２】
前記外科用器具が、前記アームトランシーバから受信した外科用器具の使用データを示すデータを格納するように構成されたデータストアをさらに含んでいる、請求項４に従属する時の請求項１１に記載の外科用ロボット。
【請求項１３】
前記外科用器具が、前記ロボットアームインターフェースと機械的にインターフェースで接続するための外科用器具インターフェースを含み、前記検出可能なタグが、前記外科用器具が前記アームに取り付けられている場合に、前記近接センサに近接する前記外科用器具インターフェースに隣接するように配置されている、請求項１０に従属する時の請求項１１又は１２に記載の外科用ロボット。
【請求項１４】
前記コントローラが、前記短距離無線通信のプロトコルに従って動作する近接送信機を検出する前記受信機と、前記外科用器具が前記アームに適切に取り付けられていないという警報を発することによって前記外科用器具が近くにあることを検出しない前記近接センサと、に応答するように構成されている請求項１〜１３の何れか１項に記載の外科用ロボット。
【請求項１５】
前記コントローラがさらに、前記短距離無線通信のプロトコルに従って動作する近接送信機を検出する前記受信機と、前記外科用器具の操作を止めることにより前記外科用器具が近くにあることを検出しない前記近接センサと、に応答するように構成されている請求項１４に記載の外科用ロボット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】外科用ロボット
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月10日(2020.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図３は、大腿骨１００の頭部１１８の中心１２０を越えて延びるように大腿骨ヘッドファインダー１９１８を位置付けするステップを示す。この位置合わせは、画像化法、例えば蛍光透視法を使用して検証されてもよい。大腿骨ヘッドファインダー１９１８は、大腿骨ヘッドファインダー９１８または２９１８と類似していてもよくまたは同一であってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
下方のバー１８７４は、凹部１００４の両側に、左右両側性の（bilateral）ソケット１０００、１００２を含む。下方のバー１８７４は、下方のバー８７４または２８７４と類似していてもよくまたは同一であってもよい。ブリッジ１８７８は、中央のブリッジ１００６、および２つの脚１００８、１０１０であって各脚はブリッジ１００６の一端から延びおよび自由端において終端する脚、を備える馬蹄形状のまたはＵ字形状の部品（part）である。自由端は、それぞれ、タブ１０１２、１０１４を有する。各タブは、その先端で分岐して、弾性スナップ機能を形成する。ブリッジ１００６は、背中合わせの（back to back）ポケット１０１８、１０２０間に延びる貫通スロット１０１６を含む。標的１８８２は、１つの端部においてボウル１０２４内で終端する細長い柄（stem）１０２２を備える概してスプーン形状のまたは柄杓形状の部品である。柄１０２２は、柄の長さに沿って延びるアンダーカットされたレール１０２６を含む。標的取り付けブロック１８８０は、長方形または正方形の貫通穴１０２８を備える概して長方形または正方形の本体を有する。アンダーカットされたチャネル１０３０は、標的取り付けブロック１８８０の１つの側部を横切りおよび穴１０２８を横切って延びる。標的取り付けブロック１８８０の反対の側部は、アンダーカットされたチャネル１０３０に対して横方向または垂直に延びる左右両側性の棚またはレッジ１０３２、１０３４を含む。蟻継ロック１８８１は、本体の１つの側部から延びるねじ山が付けられたシャフト１０３８を備える、概して長方形または正方形の本体１０３６を含む、細長い部品である。左右両側性の棚またはレッジ１０３８、１０４０は、シャフト１０３８の反対の側部上で、本体のこの側部を横切って延びる。シャフト１０３８の反対側において、アンダーカットされたチャネル１０４４は、本体１０３６を横切って、左右両側性のレッジ１０３８、１０４０に対して横方向にまたは垂直に延びる。つまみねじ１８８４は、拡大されたマッシュルーム「キャップ」の反対側に、ねじ山が付けられたソケット１０４８を備える、マッシュルーム形状の本体１０４６を含む。フットレシーバー１８７２は、フットレシーバー２８７２と類似していてもよくまたは同一であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
大腿骨のピンブロック１５１４は、骨対向表面１１５４および反対側の上表面１１５６を備える略三角形のプレートである。骨対向表面１１５４は、前方大腿骨の切除２１４に対して（against）位置付けられる。大腿骨のピンブロック１５１４は、遠位部分１５６６および近位部分１５６８を有する。大腿骨のピンブロック１５１４は、骨ピンを受け入れる幾つかの貫通穴１１６２、１１６４、１１６６を備えて例示され、２つの取り付け穴１１６８が同様に示される。２つの近位穴１１６２が示され、１２個の中央の穴１１６４が示され、および４つの遠位穴１１６６が示されるが、任意の数の穴が設けられていてもよい。左右の穴１１６２は、それらが骨対向表面１１５４に近づくにつれて一緒に合流してもよい。穴１１６４の左の群および右の群もまた、それらが骨対向表面１１５４に近づくにつれて一緒に合流してもよい。穴１１６６の左の群および右の群は、大腿骨のピンブロック１５１４が大腿骨１００に固定されたままである間に大腿骨の切除がカットされてもよいように、内側−外側方向に十分に広く間隔が空けられた個々の穴を含んでいてもよい。これらの広く間隔が空けられた穴１１６６は、広く間隔が空けられた穴１１６６を通り抜ける骨ピンが上顆（epicondyles）を貫通するように、取り付け穴１１６８の外側に位置していてもよい。大腿骨のピンブロック１５１４は、広く間隔が空けられた穴１１６６を支持するように、示されるように広げられてもよい。大腿骨のピンブロック１５１４は、盲穴１１７０および貫通穴１１７２を含む。前述の穴１１６２、１１６４、１１６６、１１６８、１１７０、１１７２の全ては、少なくとも、大腿骨のピンブロックの上表面１１５４を通って延びる。遠位部分１５６６は、その近位表面にディンプル１１７６を含む横断的なアンダーカットされたチャネル１１７４を含む。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月27日(2020.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左側および右側ＺＦＮを含むジンクフィンガーヌクレアーゼ（ＺＦＮ）であって、前記左側ＺＦＮは、配列番号２９に示されるアミノ酸配列を含み、前記右側ＺＦＮは、配列番号３１に示されるアミノ酸配列を含む、上記ジンクフィンガーヌクレアーゼ。
【請求項２】
請求項１に記載のジンクフィンガーヌクレアーゼを１つ以上コードするポリヌクレオチド。
【請求項３】
前記ポリヌクレオチドがｍＲＮＡである、請求項２に記載のポリヌクレオチド。
【請求項４】
配列番号２８または配列番号３０を含む、請求項３に記載のポリヌクレオチド。
【請求項５】
請求項１に記載のジンクフィンガーヌクレアーゼまたは請求項２〜４のいずれかに記載のポリヌクレオチドを含む細胞。
【請求項６】
前記細胞が幹細胞または前駆体細胞である、請求項５に記載の細胞。
【請求項７】
前記細胞がヒト細胞である、請求項６に記載の細胞。
【請求項８】
前記細胞のゲノムが前記ジンクフィンガーヌクレアーゼによって改変されている、請求項５〜７のいずれかに記載の細胞。
【請求項９】
前記ゲノム改変が、挿入、欠失、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載の細胞。
【請求項１０】
前記ゲノム改変がＢＣＬ１１Ａエンハンサー配列の＋５８領域内に存在する、請求項８または９に記載の細胞。
【請求項１１】
請求項５〜１０のいずれかに記載の細胞から産生された細胞または細胞株。
【請求項１２】
請求項５〜１１のいずれかに記載の細胞または細胞株の子孫である、部分的または完全に分化した細胞。
【請求項１３】
前記細胞が、前記ゲノム改変を有しない細胞と比較して増大したガンマグロビン及び／またはベータグロビンの発現を呈する、請求項５〜１２のいずれかに記載の細胞。
【請求項１４】
請求項１に記載のジンクフィンガーヌクレアーゼ、請求項２〜４のいずれかに記載のポリヌクレオチド、または請求項５〜１３のいずれかに記載の細胞を含む、医薬組成物。
【請求項１５】
細胞の内在性ＢＣＬ１１Ａエンハンサー配列を改変する方法であって、前記内在性ＢＣＬ１１Ａエンハンサー配列が改変されるように、請求項１に記載のジンクフィンガーヌクレアーゼまたは請求項２〜４のいずれかに記載のポリヌクレオチドを前記細胞に投与することを含む、前記方法。
【請求項１６】
外来性配列が前記内在性ＢＣＬ１１Ａエンハンサー配列に挿入されるように、前記外来性配列を前記細胞に導入することをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記改変が欠失を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
対象のグロビン産生を増大させる方法であって、
請求項５〜１３のいずれかに記載の細胞を前記対象に投与することを含む、
前記方法。
【請求項１９】
前記対象がヒトであり、前記細胞がヒト幹細胞またはヒト前駆体細胞である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記細胞が前記患者に注入され、前記細胞が前記対象において生着し、分化し、成熟する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記対象が異常ヘモグロビン症を有する、請求項１８〜２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
前記異常ヘモグロビン症がベータサラセミアまたは鎌状赤血球症である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
内在性ＢＣＬ１１Ａエンハンサー配列内にゲノム改変を含む遺伝子改変細胞を産生する方法であって、
ａ）請求項２〜４のいずれかに記載のポリヌクレオチドに細胞を接触させるステップと、
ｂ）前記ポリヌクレオチドからの融合タンパク質の発現を促す条件に前記細胞を供するステップと、
ｃ）前記遺伝子改変細胞を産生するのに十分に発現した前記融合タンパク質で前記内在性ＢＣＬ１１Ａエンハンサー配列を改変するステップと
を含む、前記方法。
【請求項２４】
少なくとも１つのサイトカインで前記細胞を刺激することをさらに含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
請求項１に記載のジンクフィンガーヌクレアーゼ、請求項２〜４のいずれかに記載のポリヌクレオチド、及び／または請求項５〜１３のいずれかに記載の細胞を含む、キット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月4日(2020.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁石クライオスタットと、
前記磁石クライオスタットの内部に配置され、電流が流れるとき静磁場（Ｂ０）を発生する超伝導磁石コイルと、
前記磁石クライオスタットの内部に配置され、前記超伝導磁石コイルによって発生される前記静磁場の時間的変動を低減するために前記超伝導磁石コイルに結合された超伝導Ｂ０補償回路と、
前記磁石クライオスタットの内部に配置され、前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流を測定するように接続された電流センサと、
前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流の測定値を受け取るために前記電流センサに動作可能に接続され、前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流に基づいて能動静磁場補償を行う能動Ｂ０補償コンポーネントと
を含む、超伝導磁石。
【請求項２】
前記能動Ｂ０補償コンポーネントは、前記超伝導磁石を含む磁気共鳴イメージングデバイスにより取得された磁気共鳴イメージングデータの周波数を調節することによって、前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流に基づいて能動静磁場補償を行う、請求項１に記載の超伝導磁石。
【請求項３】
前記能動Ｂ０補償コンポーネントは、前記超伝導磁石を含む磁気共鳴イメージングデバイスの磁気共鳴周波数を調節することによって、前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる前記電流に基づいて能動静磁場補償を行う、請求項１に記載の超伝導磁石。
【請求項４】
前記能動Ｂ０補償コンポーネントは、補償磁場を発生することによって、前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流に基づいて能動静磁場補償を行う、請求項１に記載の超伝導磁石。
【請求項５】
前記電流センサが、
超伝導センサコイルを通過して前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流に応じて、センサコイル磁場を発生するための、前記超伝導Ｂ０補償回路に電気的に接続された超伝導センサコイルと、
前記センサコイル磁場を測定する磁場センサと
を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の超伝導磁石。
【請求項６】
前記磁場センサがホール効果センサを含む、請求項５に記載の超伝導磁石。
【請求項７】
前記超伝導センサコイルが、前記電流センサのところで前記静磁場を横切る向きの前記センサコイル磁場を発生するように配向されていて、
前記磁場センサが、前記センサコイル磁場を感知し、前記センサコイル磁場を横切る向きの前記静磁場を感知しないように配向されている、請求項５又は６に記載の超伝導磁石。
【請求項８】
前記電流センサが、前記超伝導センサコイルと前記磁場センサとを取り囲む磁気シールドをさらに含む、請求項５から７のいずれか一項に記載の超伝導磁石。
【請求項９】
前記超伝導Ｂ０補償回路が、電気接続によって前記超伝導磁石コイルに結合される、請求項１から８のいずれか一項に記載の超伝導磁石。
【請求項１０】
前記超伝導Ｂ０補償回路が、補償回路コイルを含み、前記補償回路コイルと前記超伝導磁石コイルとの間の誘導結合によって前記超伝導磁石コイルに結合される、請求項１から８のいずれか一項に記載の超伝導磁石。
【請求項１１】
前記超伝導磁石コイルが、主コイルとシールドコイルとを含み、
前記超伝導Ｂ０補償回路が、前記補償回路コイルと、（１）前記主コイル及び（２）前記シールドコイルの一方との間の誘導結合によって前記超伝導磁石コイルに結合される、請求項１０に記載の超伝導磁石。
【請求項１２】
超伝導磁石を動作させる方法であって、前記方法が、
磁石クライオスタットを使用して、超伝導磁石コイルと、前記超伝導磁石コイルに結合された超伝導Ｂ０補償回路とを冷却するステップと、
前記超伝導磁石コイルに電気的にエネルギーを与えて静磁場（Ｂ０）を発生するステップと、
前記超伝導Ｂ０補償回路を使用して前記静磁場の時間的変動を低減するステップと、
前記磁石クライオスタットの内部に配置された電流センサを使用して、前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる電流を測定するステップと、
前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる、測定された電流に基づいて能動静磁場補償を実行するステップと
を有する、方法。
【請求項１３】
能動静磁場補償を実行する前記ステップが、
前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる前記測定された電流に基づいて、前記静磁場に配置された対象者から取得された磁気共鳴イメージングデータの周波数を調節するステップを有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
実行する前記ステップが、
前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる前記測定された電流に基づいて、前記静磁場に配置された対象者から磁気共鳴イメージングデータを取得する磁気共鳴イメージングデバイスの磁気共鳴周波数を調節するステップを有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
実行する前記ステップが、
前記超伝導Ｂ０補償回路に流れる前記測定された電流に基づいて補償磁場を発生するステップを有する、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開始点と脈管系内の対象目標地点との間の脈管経路を辿るときに使用する少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプを決定するための画像処理システムであって、前記脈管経路は、前記開始点、接合部、及び前記対象目標地点の間にそれぞれ延びるセグメントを含み、前記画像処理システムが、
前記開始点から前記対象目標地点までの前記脈管系の脈管造影図撮像データに基づいて、前記脈管経路を決定することと、
少なくとも前記接合部における前記脈管経路の少なくとも１つの幾何学値を決定することであって、前記脈管系は分岐をもち、前記脈管造影図撮像データを使用して、前記脈管経路は前記脈管系の前記分岐のうちの１つを通る、前記幾何学値を決定することと、
データベースに記憶されたある範囲の利用可能な長尺脈管内デバイスタイプから、前記少なくとも１つの幾何学値に適した少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプを決定することと、
決定された前記少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプの指示を出力することと、
を行う少なくとも１つのプロセッサを備え、
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記脈管経路に沿って使用される長尺脈管内デバイスタイプのシーケンスを決定することであって、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの各々が前記セグメントのうちの１つのセグメントに指定される、前記長尺脈管内デバイスタイプの前記シーケンスを決定することと、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの前記シーケンスの指示を出力することとを行う、
画像処理システム。
【請求項２】
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記脈管経路に沿って、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの使用位置を決定する、
請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項３】
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記使用位置における決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの図像的指示を、前記脈管造影図撮像データに対応した表示のための少なくとも１つの画像内に重ねることにより、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの前記指示を出力する、
請求項２に記載の画像処理システム。
【請求項４】
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記脈管造影図撮像データに対応した少なくとも１つの画像内において、縮尺通りにその場で示される前記図像的指示として、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプのモデルを使用する、
請求項３に記載の画像処理システム。
【請求項５】
決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの各々の異なる図像的指示が、前記少なくとも１つの画像内に重ねられる、
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項６】
前記少なくとも１つのプロセッサが、一連のカテーテルタイプの指示を出力する、
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項７】
前記少なくとも１つの幾何学値が、前記接合部における前記脈管経路の曲率半径及び／又は角度である、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項８】
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記少なくとも１つの幾何学値と、前記データベースに記憶された前記利用可能な長尺脈管内デバイスタイプの対応する幾何学値との比較に基づいて、前記接合部における前記脈管系の前記分岐を辿るための前記少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプを決定する、
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項９】
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記脈管経路に沿った各接合部における、及び少なくとも１つの接合部間セグメント内における、前記脈管経路内の幾何学値を決定する、
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項１０】
前記幾何学値が、前記少なくとも１つの接合部間セグメントの直径及び／又は断面積と、前記接合部における経路の曲率半径及び／又は角度とを含む、
請求項９に記載の画像処理システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのプロセッサが、前記脈管経路が分岐する接合部間セグメントを含む前記脈管経路の画像を脈管造影図内に生成し、前記出力が、少なくとも前記セグメントの前記画像内における決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの視覚的に区別可能な指示を含む、
請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の前記画像処理システム、及び
前記脈管造影図撮像データを生成するための撮像デバイスと、
前記データベースと、
処置で使用するための決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの長尺脈管内デバイスと、
のうちの少なくとも１つ、を備える、システム。
【請求項１３】
開始点と脈管系内の対象目標地点との間の脈管経路を辿るときに使用する少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプを決定するためのコンピュータにより実施される方法であって、前記脈管経路は、前記開始点、接合部、及び前記対象目標地点の間にそれぞれ延びるセグメントを含み、前記方法が、
前記開始点から前記対象目標地点までの前記脈管系の脈管造影図撮像データに基づいて、前記脈管経路を決定するステップと、
少なくとも前記接合部における前記脈管経路の少なくとも１つの幾何学値を決定するステップであって、前記脈管系は分岐をもち、前記脈管造影図撮像データを使用して、前記脈管経路は前記脈管系の前記分岐のうちの１つを通る、前記幾何学値を決定するステップと、
データベースに記憶されたある範囲の利用可能な長尺脈管内デバイスタイプから、前記少なくとも１つの幾何学値に適した少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプを決定するステップと、
決定された前記少なくとも１つの長尺脈管内デバイスタイプの指示を出力するステップと、
を有し、前記方法が、
前記脈管経路に沿って使用される長尺脈管内デバイスタイプのシーケンスを決定するステップであって、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの各々が前記セグメントのうちの１つのセグメントに指定される、前記長尺脈管内デバイスタイプの前記シーケンスを決定するステップと、決定された前記長尺脈管内デバイスタイプの前記シーケンスの指示を出力するステップとを有する、コンピュータにより実施される方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１つのプロセッサにより実行されたとき、請求項１３に記載の方法のステップを実施する、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の画像処理システムを制御するためのコンピュータプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のコンピュータプログラムを記憶した、コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月7日(2020.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理済み食品におけるアクリルアミドの量を低減するための方法であって、
遊離アスパラギンおよび還元糖を含む食品を提供することと、
糠組成物を洗浄することとを含み、前記糠組成物は、前記糠組成物の約１０重量％〜約４０重量％のアラビノキシラン複合物を含み、前記方法はさらに、
前記食品に前記糠組成物を添加することと、
アクリルアミドを含む前記調理済み食品を形成するように、前記食品を熱処理することとを含み、前記調理済み食品における前記アクリルアミドの量は、前記糠組成物を含まないように作製された同様の調理済み食品におけるアクリルアミドの量よりも少なくとも約２０％低減され、
前記添加することは、前記調理済み食品における最終濃度のアクリルアミドを生成するのに十分な量の約０．１０重量％〜約５重量％の前記糠組成物を前記食品に添加することを含む、方法。
【請求項２】
前記熱処理ステップの前に、前記糠組成物と前記食品または食品中間体とを混合するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記糠組成物は、小麦、ライ麦、大麦、トウモロコシ、亜麻、またはそれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記アラビノキシラン複合物は、桂皮酸、フェルラ酸、ジフェルラ酸、コーヒー酸、メトキシフェノール、およびそれらの混合物から選択される酸をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記熱処理ステップは、約１２０°Ｆ〜約６００°Ｆの温度で約０．５〜約３０分間行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記遊離アスパラギンは、前記食品１ｇあたり約０．５ｍｇ〜約６０．０ｍｇの量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記還元糖は、乾燥重量比で、前記食品１ｇあたり約０．５ｍｇ〜約５０．０ｍｇの量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記調理済み食品は、前記調理済み食品の約４０重量％未満の水分を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記調理済み食品は、クラッカー、パンおよびチップスからなる群から選択され、前記調理済み食品は、Ｌ−ａ−ｂカラースケールを備えたハンター色度計を用いて決定された、約０〜約６のＬ色および約０．５〜約５のＡ色を有する、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月7日(2020.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１又は配列番号２に対して少なくとも７０％の配列同一性を有する核酸配列を  含むキメラポックスウイルスであって、前記核酸配列が、
（ｉ）ウシポックスウイルスＢｒｉｇｈｔｏｎ株、アライグマポックスウイルスＨｅｒｍａｎ株、ウサギポックスウイルスＵｔｒｅｃｈｔ株、ワクシニアウイルスＷＲ株、ワクシニアウイルスＩＨＤ株、ワクシニアウイルスＥｌｓｔｒｅｅ株、ワクシニアウイルスＣＬ株、ワクシニアウイルスＬｅｄｅｒｌｅ−Ｃｈｏｒｉｏａｌｌａｎｔｏｉｃ株、ワクシニアウイルスＡＳ株、オルフウイルスＮＺ２株及び偽ウシポックスウイルスＴＪＳ株からなる群から選択される少なくとも２つのポックスウイルス株由来の核酸断片、
（ｉｉ）１つ又は複数の抗がん核酸配列、又は
（ｉｉｉ）検出可能部分をコードする核酸配列
を含む、キメラポックスウイルス。
【請求項２】
核酸配列が、
（ｉ）ウシポックスウイルスＢｒｉｇｈｔｏｎ株、アライグマポックスウイルスＨｅｒｍａｎ株、ウサギポックスウイルスＵｔｒｅｃｈｔ株、ワクシニアウイルスＷＲ株、ワクシニアウイルスＩＨＤ株、ワクシニアウイルスＥｌｓｔｒｅｅ株、ワクシニアウイルスＣＬ株、ワクシニアウイルスＬｅｄｅｒｌｅ−Ｃｈｏｒｉｏａｌｌａｎｔｏｉｃ株、ワクシニアウイルスＡＳ株、オルフウイルスＮＺ２株及び偽ウシポックスウイルスＴＪＳ株からなる群から選択される少なくとも２つのポックスウイルス株由来の核酸断片、並びに
（ｉｉ）１つ又は複数の抗がん核酸配列
を含む、請求項１に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項３】
１つ又は複数の抗がん核酸配列が、キメラポックスウイルスの非必須遺伝子の一部を形成する、請求項１又は２に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項４】
非必須遺伝子が、チミジンキナーゼ遺伝子である、請求項３に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項５】
１つ又は複数の抗がん核酸配列が、ＰＤ−Ｌ１阻害剤又はヨウ化ナトリウム共輸送体を独立にコードする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項６】
１つ又は複数の抗がん核酸配列が、プロモーターに各々作動可能に連結されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項７】
１つ又は複数の抗がん核酸配列が、ｍｉＲＮＡ結合配列を独立にコードする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項８】
１つ又は複数の抗がん核酸配列が、第１の抗がん核酸配列及び第２の抗がん核酸配列である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項９】
核酸配列が、少なくとも９５％の配列同一性を有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１０】
核酸配列が、少なくとも９８％の配列同一性を有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１１】
核酸断片が、ウシポックスウイルスＢｒｉｇｈｔｏｎ株、アライグマポックスウイルスＨｅｒｍａｎ株、ウサギポックスウイルスＵｔｒｅｃｈｔ株、ワクシニアウイルスＷＲ株、ワクシニアウイルスＩＨＤ株、ワクシニアウイルスＥｌｓｔｒｅｅ株、ワクシニアウイルスＣＬ株、ワクシニアウイルスＬｅｄｅｒｌｅ−Ｃｈｏｒｉｏａｌｌａｎｔｏｉｃ株及びワクシニアウイルスＡＳ株由来である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１２】
核酸断片が、オルフウイルスＮＺ２株及び偽ウシポックスウイルスＴＪＳ株由来である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１３】
請求項１に記載のキメラポックスウイルスの形成方法であって、
（ｉ）ウシポックスウイルスＢｒｉｇｈｔｏｎ株、アライグマポックスウイルスＨｅｒｍａｎ株、ウサギポックスウイルスＵｔｒｅｃｈｔ株、ワクシニアウイルスＷＲ株、ワクシニアウイルスＩＨＤ株、ワクシニアウイルスＥｌｓｔｒｅｅ株、ワクシニアウイルスＣＬ株、ワクシニアウイルスＬｅｄｅｒｌｅ−Ｃｈｏｒｉｏａｌｌａｎｔｏｉｃ株、ワクシニアウイルスＡＳ株、オルフウイルスＮＺ２株及び偽ウシポックスウイルスＴＪＳ株からなる群から選択される少なくとも２つのポックスウイルス株によりインビトロで細胞を感染させること、並びに
（ｉｉ）前記少なくとも２つのポックスウイルス株を複製させ、それによりキメラポックスウイルスを形成させること
を含む方法。
【請求項１４】
細胞が、ウシポックスウイルスＢｒｉｇｈｔｏｎ株、アライグマポックスウイルスＨｅｒｍａｎ株、ウサギポックスウイルスＵｔｒｅｃｈｔ株、ワクシニアウイルスＷＲ株、ワクシニアウイルスＩＨＤ株、ワクシニアウイルスＥｌｓｔｒｅｅ株、ワクシニアウイルスＣＬ株、ワクシニアウイルスＬｅｄｅｒｌｅ−Ｃｈｏｒｉｏａｌｌａｎｔｏｉｃ株及びワクシニアウイルスＡＳ株により感染される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
細胞が、オルフウイルスＮＺ２株及び偽ウシポックスウイルスＴＪＳ株により感染される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１６】
腫瘍溶解性ウイルスである、請求項１〜１２及び１５のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１７】
ポックスウイルスが、ｍｉＲＮＡ結合配列を含む、請求項１〜１２、１５及び１６のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス。
【請求項１８】
請求項１〜１２及び１５〜１７のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルスをコードする単離された核酸。
【請求項１９】
治療有効量の請求項１〜１２及び１５〜１７のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルス又は請求項１８に記載の単離された核酸を含む医薬組成物。
【請求項２０】
がんの治療を必要とする被験者のがんを治療するための医薬組成物であって、治療有効量の請求項１〜１２及び１５〜１７のいずれか一項に記載のキメラポックスウイルスを含む、医薬組成物。
【請求項２１】
第１のキメラポックスウイルス及び第２のキメラポックスウイルスを含む、請求項２０に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月9日(2020.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理チャンバー、
複数の基板を支持するように前記処理チャンバー内に設けられて回転軸を中心に回転する基板支持部、
前記処理チャンバーの上部を覆うチャンバーリード、
前記基板支持部に向かってプラズマを生成するプラズマ生成部、
前記回転軸に対する前記基板の前方側または前記基板の後方側の中の少なくとも一方において、前記プラズマ生成部が生成するプラズマを遮蔽するプラズマ遮蔽部、および
前記チャンバーリードに設けられた接地本体、を含み、
前記プラズマ遮蔽部が、前記接地本体及び前記プラズマ生成部の間に位置することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記プラズマ生成部が、プラズマ電源が印加される第１電極、および接地のための第２電極を含むことを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第２電極及び前記プラズマ遮蔽部が、異なる材質で形成されることを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第２電極が、導体で形成され、
前記プラズマ遮蔽部は、不導体または絶縁体で形成されることを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第２電極が、導体で形成され、
前記プラズマ遮蔽部は、セラミックで形成されることを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記プラズマ遮蔽部が、前記基板の前方側に位置するように前記基板支持部の回転軸と前記第１電極の間に位置する第１遮蔽部材、及び前記第１遮蔽部材を前記第２電極に結合させる第１結合部材を含み、
前記第１結合部材と前記第１遮蔽部材は、互いに同じ材質で形成されることを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記プラズマ遮蔽部が、前記基板の前方側に位置するように前記基板支持部の回転軸と前記第１電極の間に位置する第１遮蔽部材を含み、
前記第１遮蔽部材は、前記第１電極に接触するように前記第２電極に結合されることを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記プラズマ遮蔽部が、前記基板の前方側に位置するように前記基板支持部の回転軸と前記第１電極の間に位置する第１遮蔽部材、及び前記基板の外側に位置するように前記第１遮蔽部材から離隔された位置に位置する第２遮蔽部材を含み、
前記第１電極は、前記第１遮蔽部材と前記第２遮蔽部材の間に位置し、
前記第２電極は、前記第１遮蔽部材と前記第２遮蔽部材の間に位置することを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記プラズマ遮蔽部が、前記第２遮蔽部材を前記第２電極に結合させる第２結合部材を含み、
前記第２結合部材と前記第２遮蔽部材は、互いに同じ材質で形成されることを特徴とする、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記チャンバーリードに設けられて前記基板支持部に向かってソースガスを噴射するソースガス噴射部、前記チャンバーリードに設けられて前記基板支持部に向かって反応ガスを噴射する反応ガス噴射部、前記基板支持部の回転方向に沿って前記ソースガス噴射部から離隔した位置で前記チャンバーリードに設けられる第１パージガス噴射部、及び前記基板支持部の回転方向に沿って前記反応ガス噴射部から離隔した位置で前記チャンバーリードに設けられる第２パージガス噴射部を含み、
前記反応ガス噴射部が、前記基板支持部の回転方向に沿って前記第１パージガス噴射部から離隔した位置で前記チャンバーリードに設けられ、
前記ソースガス噴射部は、前記基板支持部の回転方向に沿って前記第２パージガス噴射部から離隔した位置で前記チャンバーリードに設けられることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記第１パージガス噴射部と前記第２パージガス噴射部との間には、前記反応ガス噴射部が複数個設けられ、前記反応ガス噴射部は、前記基板支持部の回転方向に沿って互いに離隔した位置で前記チャンバーリードに設けられることを特徴とする、請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
基板支持部に支持された基板に対して処理工程を実行するために、プラズマを生成するプラズマ生成部と、
前記プラズマ生成部が結合する接地本体、および
前記プラズマ生成部が生成するプラズマを遮蔽するプラズマ遮蔽部を含み、
前記プラズマ生成部はプラズマ生成のための第１電極、及び前記第１電極との間に処理ガスを噴射するためのガス噴射空間が形成されるように前記第１電極から離隔した位置で前記接地本体に結合する第２電極を含み、
前記プラズマ遮蔽部は、前記回転軸に対する前記基板の前方側または前記基板の後方側の中の少なくとも一方において、前記プラズマ生成部が生成するプラズマを遮蔽し、
前記プラズマ遮蔽部が、前記接地本体及び前記プラズマ生成部の間に位置することを特徴とする基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１３】
前記第２電極が、導体で形成され、
前記プラズマ遮蔽部は、不導体または絶縁体で形成されることを特徴とする、請求項１２に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１４】
前記第２電極が、導体で形成され、
前記プラズマ遮蔽部は、セラミックで形成されることを特徴とする、請求項１２に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１５】
前記プラズマ遮蔽部が、前記基板の前方側に位置するように前記基板支持部の回転軸と前記第１電極の間に位置する第１遮蔽部材、及び前記第１遮蔽部材を前記第２電極に結合させる第１結合部材を含み、
前記第１結合部材と前記第１遮蔽部材は、互いに同じ材質で形成されることを特徴とする、請求項１２に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１６】
前記プラズマ遮蔽部が、前記第１電極に接触するように前記第２電極に結合されることを特徴とする、請求項１２に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１７】
前記プラズマ遮蔽部が、前記基板の前方側に位置するように前記基板支持部の回転軸と前記第１電極との間に位置する第１遮蔽部材、及び前記基板の外側に位置するように前記第１遮蔽部材から離隔した位置に位置する第２遮蔽部材を含み、
前記第１電極は、前記第１遮蔽部材と前記第２遮蔽部材の間に位置し、
前記第２電極は、前記第１遮蔽部材と前記第２遮蔽部材の間に位置して、
前記第２遮蔽部材は、前記第２電極と異なる材質で形成されることを特徴とする、請求項１２に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１８】
前記第２遮蔽部材が、不導体または絶縁体で形成され、前記第１遮蔽部材と同じ材質で形成されることを特徴とする、請求項１７に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【請求項１９】
前記プラズマ遮蔽部が、前記第２遮蔽部材を前記第２電極に結合させる第２結合部材を含み、
前記第２結合部材と前記第２遮蔽部材は、互いに同じ材質で形成されることを特徴とする、請求項１７に記載の基板処理装置用ガス噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月10日(2020.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の繰り返し単位Ｕ１および第２の繰り返し単位Ｕ２を含んでなるポリマー
（ここで、第１の繰り返し単位Ｕ１は式（Ｉ）によって表され、かつ第２の繰り返し単位Ｕ２は式（ＩＩ）によって表され
【化１】
2019524931.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は、出現毎に互いに独立に、水素、オルガニルおよびオルガノヘテリル基からなる群から選択され、かつａは１〜６０の整数である）、
ここで、前記ポリマーが、式（Ｉ）で表される少なくとも１つのさらなる繰り返し単位Ｕ１を含んでなる（ここで、前記少なくとも１つのさらなる繰り返し単位Ｕ１は、前記第１の繰り返し単位Ｕ１とは異なる）；および
表面修飾されたナノ粒子（ここで、表面修飾されたナノ粒子は二酸化ジルコニウムを含まない）
を含んでなる、配合物。
【請求項２】
表面修飾されたナノ粒子が、Ｍ２Ｏ、Ｍ３２Ｏ３、Ｍ４ａＯ２、Ｍ２Ｍ４ｂＯ３、Ｍ２Ｓ、Ｍ２ＳＯ３、Ｍ２ＳＯ４、Ｍ２２ＳｉＯ４、Ｍ３Ｎ、Ｍ４ｂＣ、Ｍ４ｂＳｉＯ４、およびダイヤモンド（ここで、Ｍ２は二価の金属元素であり、Ｍ３は三価の金属元素であり、Ｍ４ａはＺｒを除く四価の金属元素であり、かつＭ４ｂは四価の金属元素である）から選択される１以上の無機ナノ粒子を含む、表面修飾されたナノ粒子である、請求項１に記載の配合物。
【請求項３】
Ｍ２が、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｓｎ、およびＰｂからなるリストから選択される二価の金属元素であり；
Ｍ３が、Ｓｃ、Ｙ、Ｌｕ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｂ、Ａｌ、およびＧａからなるリストから選択される、三価の金属元素であり；
Ｍ４ａが、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、およびＳｎからなるリストから選択される、Ｚｒを除く四価の金属元素であり；かつ
Ｍ４ｂが、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、およびＳｎからなるリストから選択される、四価の金属元素である、請求項２に記載の配合物。
【請求項４】
ナノ粒子の表面が、アルキル−アルコキシシラン、アルケニル−アルコキシシラン、またはアリール−アルコキシシランから選択される表面修飾剤によって修飾されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の配合物。
【請求項５】
Ｒ１およびＲ２が、出現毎に互いに独立であり、水素、または１〜２０の炭素原子を有するアルキル、またはフェニルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の配合物。
【請求項６】
Ｒ３およびＲ４が、出現毎に互いに独立であり、水素、または１〜４０の炭素原子を有するアルキル、またはフェニルである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の配合物。
【請求項７】
Ｒ５が、出現毎に互いに独立であり、水素、または１〜２０の炭素原子を有するアルキル、またはフェニルである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の配合物。
【請求項８】
前記配合物が、エーテル、環状エーテル、ケトン、エステル、混合エーテル／エステル溶媒、炭化水素、芳香族溶媒からなる群から選択される１以上の溶媒を含んでなり、溶媒中の１以上の水素原子が所望により塩素またはフッ素原子によって置換されていてもよい、請求項１〜７のいずれか一項に記載の配合物。
【請求項９】
第１の繰り返し単位Ｕ１および第２の繰り返し単位Ｕ２を含むポリマーが、表面修飾されたナノ粒子（ここで、表面修飾されたナノ粒子は二酸化ジルコニウムを含まない）の分散体と混合される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の配合物の調製方法。
【請求項１０】
（ａ）請求項１〜８のいずれか一項に記載の配合物を提供すること；および
（ｂ）７０〜３００℃の温度で、１〜２４時間の間、前記配合物をキュアすること
によって得られる、ＬＥＤのための封止材料。
【請求項１１】
請求項１０に記載の封止材料を含んでなるＬＥＤ。
【請求項１２】
封止材料が、コンバーター層に含まれる、請求項１１に記載のＬＥＤ。
【請求項１３】
封止材料が、蛍光体および／または量子材料から選択される１以上のコンバーターを含んでなる、コンバーター層に含まれる、請求項１１に記載のＬＥＤ。
【請求項１４】
工程：
（ａ）請求項１〜９のいずれか一項に記載の配合物をＬＥＤ前駆体に適用すること；および
（ｂ）７０〜３００℃の温度で、１〜２４時間の間、配合物をキュアすること
を含んでなる、ＬＥＤの製造方法。
【請求項１５】
工程（ａ）でＬＥＤ前駆体に適用された配合物が、蛍光体および／または量子材料から選択される１以上のコンバーターを含んでなる、コンバーター層の部分を形成する、請求項１４に記載のＬＥＤの製造方法。
【請求項１６】
配合物が、工程（ａ）で、ディスペンシング、スクリーン印刷、ステンシル印刷、スプレーコーティング、スロットコーティング、スピンコーティング、またはインクジェット印刷によって適用される、請求項１４または１５に記載のＬＥＤの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月31日(2020.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約２５０℃〜約３２６℃の融点、０．５〜５０グラム／１０分のメルトフローインデックス（３７２℃及び５ｋｇ荷重でのＭＦＩ）を有し、かつ少なくとも８９重量％のテトラフルオロエチレンから誘導された単位、及び約０．５〜約６重量％の少なくとも１つのペルフルオロアルキルアリルエーテル（ＰＡＡＥ）コモノマーから誘導された単位、及び０〜４重量％の１つ以上の共重合性である任意選択のコモノマーから誘導された単位、を有するテトラフルオロエチレンコポリマー（前記ポリマーの総重量は１００重量％になる。）であって、前記少なくとも１つのＰＡＡＥは、一般式：
ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ２−Ｏ−Ｒｆ  （Ｉ）
［式中、Ｒｆは、１〜１０個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基である。］に対応する、テトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項２】
式（Ｉ）中のＲｆが、ペルフルオロメチル（ＣＦ３）、ペルフルオロエチル（Ｃ２Ｆ５）、ペルフルオロプロピル（Ｃ３Ｆ７）及びペルフルオロブチル（Ｃ４Ｆ９）からなる群から選択され、好ましくはＣ２Ｆ５、Ｃ３Ｆ７又はＣ４Ｆ９であるペルフルオロアルキル単位に対応する、請求項１に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項３】
Ｒｆが直鎖状であり、Ｃ３Ｆ７又はＣ４Ｆ９から選択される、請求項１又は２に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項４】
２８６℃〜３２６℃の融点を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項５】
２５０℃〜２９０℃の融点及び３１〜５０グラム／１０分のメルトフローインデックス（３７２℃及び５ｋｇ荷重でのＭＦＩ）を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項６】
（ｉ）前記式（Ｉ）中の残基Ｒｆがペルフルオロメチルである場合、０．５〜４．０重量％の前記少なくとも１つのＰＡＡＥコモノマーから誘導された単位、又は
（ｉｉ）前記式（Ｉ）中の残基Ｒｆがペルフルオロエチルである場合、０．５〜５．０重量％の前記少なくとも１つのＰＡＡＥコモノマーから誘導された単位、又は
（ｉｉｉ）前記式（Ｉ）中の残基Ｒｆがペルフルオロプロピル若しくはペルフルオロブチルである場合、０．５〜６．０重量％の前記少なくとも１つのＰＡＡＥコモノマーから誘導された単位、又は
（ｉｖ）前記式（Ｉ）中の残基Ｒｆが５〜１０個の炭素原子を含む場合、１．０〜６．０重量％の前記少なくとも１つのＰＡＡＥコモノマーから誘導された単位、
を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項７】
ペルフルオロアルキルビニルエーテル（ＰＡＶＥ）コモノマーから誘導された単位を有しない、請求項１〜６のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項８】
９４〜９９重量％のテトラフルオロエチレンから誘導された単位、及び、１〜５重量％の前記少なくとも１つのＰＡＡＥから誘導された単位、及び、最大６重量％、好ましくは最大４．４重量％の、ヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）から選択される１つ以上の共重合性である任意選択のコモノマーから誘導された単位、を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマー。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマーを含む、水性分散体。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のテトラフルオロエチレンコポリマーを含む、物品。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月29日(2020.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融混合プラスチック廃棄物を加熱して、
約３５０℃〜４２５℃の第１温度で熱分解ガスを、及び
７２２℃〜１４００℃の第２温度で熱分解スラリー又は熱分解チャーを
製造するように構成された熱分解反応容器を有するプラント。