【手続補正書】
【提出日】令和2年3月12日(2020.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近位フィルム表面と遠位フィルム表面とを有し、
基準面において実質的に同一平面上である一又は複数のランド部と、
前記一又は複数のランド部によって互いに分けられて、前記基準面から外側に向けて遠位に弓なりに曲がる複数の膨隆部と、
前記遠位フィルム表面から外側に向けて伸長し、それぞれ頂点を有する複数の環状微小突起と、
を備え、
前記環状微小突起の一部分は、前記一又は複数のランド部のそれぞれと、前記膨隆部のそれぞれとから伸長する、
高分子フィルム。
【請求項２】
前記高分子フィルムの前記膨隆部から伸長する前記複数の環状微小突起のそれぞれは、その頂点に、前記環状微小突起を通した液体連通を可能とする開口を有する、請求項１に記載の高分子フィルム。
【請求項３】
前記環状微小突起は、０．９から１．１の範囲の軸比を持つ実質的に楕円形の断面を有する、請求項２に記載の高分子フィルム。
【請求項４】
前記複数の環状微小突起は、約４０から約７５の範囲であるメッシュ数を持つ二次元表面パターンに形成される、請求項１に記載の高分子フィルム。
【請求項５】
前記ランド部は前記膨隆部の所望の数、サイズ及び形状に基づく所定のパターンに形成される、請求項１に記載の高分子フィルム。
【請求項６】
前記ランド部は、近位に位置する前記吸収性基材と係合し及び付着し、積層体構造を形成するように構成された請求項１に記載の高分子フィルム。
【請求項７】
前記膨隆部と前記基材とは、前記ランド部が前記基材と係合し及び付着するとき、協働して前記ランド部に囲まれたエアポケットを画定する、請求項６に記載の高分子フィルム。
【請求項８】
前記高分子フィルムの前記膨隆部から伸長する前記複数の環状微小突起はそれぞれ、その頂点に、前記遠位フィルム表面の遠位側のエリアと、前記環状微小突起が伸長している前記膨隆部によって部分的に画定される前記エアポケットとの間において流体連通を可能にする開口を有する、請求項１に記載の高分子フィルム。
【請求項９】
前記高分子フィルムの前記膨隆部から伸長する前記環状微小突起は、約０．００３５インチから約０．０１８０インチの範囲の突起のふくらみを提供する、請求項１に記載の高分子フィルム。
【請求項１０】
前記高分子フィルムの前記膨隆部のそれぞれは、前記基準面から遠位に測定した高さ寸法が、前記突起のふくらみの１．５から５．０倍の範囲である、請求項９に記載の高分子フィルム。
【請求項１１】
吸収性コア層を有するフレキシブルな吸収性基材と、
近位フィルム表面と遠位フィルム表面と、を有する高分子フィルムとを備え、
前記高分子フィルムは、
基準面において実質的に同一平面上であり、前記高分子フィルムの前記近位フィルム表面が前記吸収性基材の遠位基材表面に付着している、一又は複数のランド部と、
前記一又は複数のランド部によって互いに分けられて、前記基準面から外側に向けて遠位に曲がり、前記近位フィルム表面と前記遠位基材表面との中間に介在するエアポケットを画定する複数の膨隆部と、
前記遠位フィルム表面から外側に伸長し、それぞれ頂点を有し、一部は、前記高分子フィルムの前記一又は複数のランド部のそれぞれ及び、前記高分子フィルムの前記膨隆部のそれぞれから伸長する複数の環状微小突起と、を備える、
積層体構造。
【請求項１２】
前記高分子フィルムの前記膨隆部から伸長する複数の環状微小突起はそれぞれ、その頂点に、前記遠位フィルム表面の遠位側のエリアと、前記環状微小突起が伸長する前記膨隆部と前記遠位基材表面との中間に介在する前記エアポケットと、の間の流体連通を可能にする開口を有する、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項１３】
前記環状微小突起は、０．９から１．１の範囲の軸比を持つ実質的に楕円の断面積を有する、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項１４】
前記複数の環状微小突起は、約４０から約７５の範囲であるメッシュ数を持つ二次元表面パターンに形成される、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項１５】
前記ランド部は、前記膨隆部の所望の数、サイズ及び形状に基づく所定のパターンに形成される、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項１６】
前記ランド部は、近位に位置する前記吸収性基材と係合し及び付着し、前記積層体構造を形成するように構成された、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項１７】
前記膨隆部と前記基材とは、前記ランド部が前記基材と係合し及び付着するとき、協働して前記ランド部に囲まれた前記エアポケットを画定する、請求項１６に記載の積層体構造。
【請求項１８】
前記高分子フィルムの前記膨隆部から伸長する前記環状微小突起は、約０．００３５インチから約０．０１８０インチの範囲の突起のふくらみを提供する、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項１９】
前記高分子フィルムの前記膨隆部のそれぞれは、前記基準面から遠位に測定した高さ寸法が、前記突起のふくらみの１．５から５．０倍の範囲である、請求項１８に記載の積層体構造。
【請求項２０】
更に、前記エアポケットの少なくとも一つに配置された不織布材を備える、請求項１１に記載の積層体構造。
【請求項２１】
前記不織布材は、約８ｇｓｍから約２２ｇｓｍの範囲の目付けを有する、請求項２０に記載の積層体構造。
【請求項２２】
近位表面と遠位表面とを有する高分子フィルムを提供すること、
前記高分子フィルムに、前記高分子フィルムの初期基準面から遠位に伸長する複数の環状微小突起を形成すること、及び
前記高分子フィルムを、実質的に前記初期基準面と同一平面上である一又は複数のランド部と、前記初期基準面から外側に向けて遠位に弓なりに曲がり、前記一又は複数のランド部によって互いに分けられている複数の膨隆部と、に形成すること、
を含む、起伏形成高分子フィルム構造の製造方法。
【請求項２３】
前記複数の環状微小突起のそれぞれは、その頂点に開口が形成されている、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記環状微小突起は、０．９から１．１の範囲の軸比を持つ実質的に楕円形の断面を有する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記環状微小突起は、約４０から約７５の範囲であるメッシュ数を持つ二次元表面パターンに形成される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記ランド部は前記膨隆部の所望の数、サイズ及び形状に基づく所定のパターンに形成される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
前記複数の環状微小突起の形成動作は、ハイドロフォーム法を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
前記複数の環状微小突起の形成動作は、真空フォーム法を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２９】
前記真空フォーム法は、前記高分子フィルムを形成するための負圧を作用させる前に、前記高分子フィルムを柔らかくするために前記高分子フィルムを過熱することを含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記複数の環状微小突起の形成動作は、ニードルパンチング法を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３１】
前記複数の環状微小突起の形成動作は、
前記高分子フィルムを、微小開口部のパターンを有する成形スクリーンに配置することと、
前記スクリーンの微小開口を通して前記高分子フィルムを引っ張り前記環状微小突起を形成するために、前記高分子フィルムに亘る差圧を作用させることと、を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３２】
前記差圧は、前記環状微小突起の頂点に穿孔を形成するのに十分である、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記高分子フィルムを、前記一又は複数のランド部と前記複数の膨隆部とに形成する動作は、ハイドロフォーム法を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３４】
前記高分子フィルムを、前記一又は複数のランド部と前記複数の膨隆部とに形成する動作は、真空フォーム法を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３５】
前記高分子フィルムを、前記一又は複数のランド部と前記複数の膨隆部とに形成する動作は、エンボス加工を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３６】
前記エンボス加工は、前記高分子フィルムをニップに通すことを含む、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記ニップは、隆起線同士の間にキャビティを画定する隆起線のパターンを有するスチール製ローラーと、ゴム製ローラーとを含む、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
前記ゴム製ローラーは、ショアＡ硬度約３０からショアＡ硬度約５５の範囲の硬度を有する、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記ゴム製ローラーは、ショアＡ硬度約４０の硬度を有する、請求項３７に記載の方法。
【請求項４０】
前記ゴム製ローラーは、前記スチール製ローラーのキャビティと位置決めされた隆起エリアを持たせるために、レーザー彫刻されている、請求項３７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ランド幅１９は、典型的には一定である。いくつかの実施形態ではランド幅は変化しても良い。雌面１１において、開口幅１８ａとランド幅１９とを足し合わせると突起１３の中心間間隔に等しい距離となる。並んだ突起の場合は、この距離は一インチ当たりに徐されて当分野で「メッシュ数」と呼ばれる値となる。換言すると、一インチの距離に並んだ突起（及び開口部又は微小開口部）の数である。当分野で一般的に「微小開口部」領域を生じさせると考えられるメッシュ数は、約４０から約１２０の範囲である。複数の環状微小突起は、約４０から約７５の範囲であるメッシュ数を持つ二次元表面パターンに形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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