【手続補正書】
【提出日】令和2年9月2日(2020.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームを発生するよう構成された電子ビーム発生器と；
該電子ビームを焦点スポットに集束させるよう構成された複数の磁場をもたらす複数の磁石と；
標的領域内の第一深度に位置する第一位置から該標的領域内の第二深度に位置する第二位置まで該焦点スポットを動かすため、該複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう構成された制御システムと
を具備する、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置。
【請求項２】
標的領域が対象の上皮表面より下にあり；かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から0〜50センチメートルの深度にある、
請求項1記載の装置。
【請求項３】
電子ビームが50〜250メガ電子ボルト（MeV）のエネルギーを有する、請求項1記載の装置。
【請求項４】
焦点スポットが前記第一位置から前記第二位置まで動かされる時、ビームのエネルギーが変調されない、請求項3記載の装置。
【請求項５】
前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、請求項1記載の装置。
【請求項６】
前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも2つの共線的な四重極磁石を含む、請求項5記載の装置。
【請求項７】
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み；かつ
前記制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
請求項5記載の装置。
【請求項８】
前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、請求項1記載の装置。
【請求項９】
前記複数の磁石が電磁石を含み；
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、電磁石を通る電流を含み；かつ
前記制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
請求項1記載の装置。
【請求項１０】
電磁石が、鉄支配型（iron-dominated）またはコイル支配型（coil-dominated）の超伝導電磁石である、請求項9記載の装置。
【請求項１１】
前記複数の磁場が、電子ビームを50〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項1記載の装置。
【請求項１２】
前記複数の磁場が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項1記載の装置。
【請求項１３】
前記制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、請求項1記載の装置。
【請求項１４】
前記制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、請求項13記載の装置。
【請求項１５】
焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、請求項1記載の装置。
【請求項１６】
電子ビームを発生させる段階；
複数の磁石によってもたらされる複数の磁場を通じて該電子ビームを方向付けする段階；
該複数の磁場で該電子ビームを焦点スポットに集束させる段階；および
標的領域内の第一深度に位置する第一位置から該標的領域内の第二深度に位置する第二位置まで該焦点スポットを動かすため、該複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更する段階
を含む、放射線治療用の電子ビームを制御する方法。
【請求項１７】
50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを備えた電子ビームを発生するよう構成された電子ビーム発生器と；
該電子ビームを焦点スポットに集束させるよう構成された複数の磁石と；
第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで該焦点スポットを動かすよう構成された制御システムであって、該焦点スポットが該第一位置から該第二位置まで動かされる時、該電子ビームのパワーが一貫したレベルに維持される、該制御システムと
を具備する、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置。
【請求項１８】
焦点スポットを前記第一位置から前記第二位置まで動かすため、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう制御システムが構成される、請求項17記載の装置。
【請求項１９】
制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、請求項18記載の装置。
【請求項２０】
50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを有する電子ビームを発生させる段階；
複数の磁石で該電子ビームを焦点スポットに集束させる段階；および
該電子ビームのパワーを一貫したレベルに維持しながら、第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで該焦点スポットを動かす段階
を含む、放射線治療用の電子ビームを制御する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
[本発明1001]
電子ビームを発生するよう構成された電子ビーム発生器と；
該電子ビームを焦点スポットに集束させるよう構成された複数の磁場をもたらす複数の磁石と；
標的領域内の第一深度に位置する第一位置から該標的領域内の第二深度に位置する第二位置まで該焦点スポットを動かすため、該複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう構成された制御システムと
を具備する、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置。
[本発明1002]
標的領域が対象の上皮表面より下にあり；かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から0〜50センチメートルの深度にある、
本発明1001の装置。
[本発明1003]
電子ビームが50〜250メガ電子ボルト（MeV）のエネルギーを有する、本発明1001の装置。
[本発明1004]
焦点スポットが前記第一位置から前記第二位置まで動かされる時、ビームのエネルギーが変調されない、本発明1003の装置。
[本発明1005]
前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、本発明1001の装置。
[本発明1006]
前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも2つの共線的な四重極磁石を含む、本発明1005の装置。
[本発明1007]
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み；かつ
前記制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
本発明1005の装置。
[本発明1008]
前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、本発明1001の装置。
[本発明1009]
前記複数の磁石が電磁石を含み；
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、電磁石を通る電流を含み；かつ
前記制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
本発明1001の装置。
[本発明1010]
電磁石が、鉄支配型（iron-dominated）またはコイル支配型（coil-dominated）の超伝導電磁石である、本発明1009の装置。
[本発明1011]
前記複数の磁場が、電子ビームを50〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1001の装置。
[本発明1012]
前記複数の磁場が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1001の装置。
[本発明1013]
前記制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、本発明1001の装置。
[本発明1014]
前記制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、本発明1013の装置。
[本発明1015]
焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、本発明1001の装置。
[本発明1016]
電子ビームを発生させる段階；
複数の磁石によってもたらされる複数の磁場を通じて該電子ビームを方向付けする段階；
該複数の磁場で該電子ビームを焦点スポットに集束させる段階；および
標的領域内の第一深度に位置する第一位置から該標的領域内の第二深度に位置する第二位置まで該焦点スポットを動かすため、該複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更する段階
を含む、放射線治療用の電子ビームを制御する方法。
[本発明1017]
標的領域が対象の上皮表面より下にあり；かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から0〜50センチメートルの深度にある、
本発明1016の方法。
[本発明1018]
電子ビームが、50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを有する、本発明1016の方法。
[本発明1019]
焦点スポットが前記第一位置から前記第二位置まで動かされる時、ビームのパワーが変調されない、本発明1018の方法。
[本発明1020]
前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、本発明1016の方法。
[本発明1021]
前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも3つの共線的な四重極磁石を含む、本発明1020の方法。
[本発明1022]
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み；かつ
制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
本発明1020の方法。
[本発明1023]
前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、本発明1016の方法。
[本発明1024]
前記複数の磁石が電磁石を含み；
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、該電磁石を通る電流を含み；かつ
制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
本発明1016の方法。
[本発明1025]
前記複数の磁場が、電子ビームを100〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1016の方法。
[本発明1026]
前記複数の磁場が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1016の方法。
[本発明1027]
制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、本発明1016の方法。
[本発明1028]
制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、本発明1027の方法。
[本発明1029]
焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、本発明1016の方法。
[本発明1030]
50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを備えた電子ビームを発生するよう構成された電子ビーム発生器と；
該電子ビームを焦点スポットに集束させるよう構成された複数の磁石と；
第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで該焦点スポットを動かすよう構成された制御システムであって、該焦点スポットが該第一位置から該第二位置まで動かされる時、該電子ビームのパワーが一貫したレベルに維持される、該制御システムと
を具備する、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置。
[本発明1031]
第一位置および第二位置が標的領域内に位置する、本発明1030の装置。
[本発明1032]
標的領域が対象の上皮表面より下にあり；かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から10〜20センチメートルの深度にある、
本発明1031の装置。
[本発明1033]
焦点スポットを前記第一位置から前記第二位置まで動かすため、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう制御システムが構成される、本発明1030の装置。
[本発明1034]
制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、本発明1033の装置。
[本発明1035]
制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、本発明1035の装置。
[本発明1036]
前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、本発明1033の装置。
[本発明1037]
前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも3つの共線的な四重極磁石を含む、本発明1036の装置。
[本発明1038]
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み；かつ
前記制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
本発明1036の装置。
[本発明1039]
前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、本発明1030の装置。
[本発明1040]
前記複数の磁石が電磁石を含み；
焦点スポットを前記第一位置から前記第二位置まで動かすため、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう前記制御システムが構成され；
前記複数の磁石の該1つまたは複数のパラメータが、該電磁石を通る電流を含み；かつ
該制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
本発明1030の装置。
[本発明1041]
前記複数の磁石が、電子ビームを100〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1030の装置。
[本発明1042]
前記複数の磁石が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1030の装置。
[本発明1043]
焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、本発明1030の装置。
[本発明1044]
50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを有する電子ビームを発生させる段階；
複数の磁石で該電子ビームを焦点スポットに集束させる段階；および
該電子ビームのパワーを一貫したレベルに維持しながら、第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで該焦点スポットを動かす段階
を含む、放射線治療用の電子ビームを制御する方法。
[本発明1045]
第一位置および第二位置が標的領域内に位置する、本発明1044の方法。
[本発明1046]
標的領域が対象の上皮表面より下にあり；かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から10〜20センチメートルの深度にある、
本発明1045の方法。
[本発明1047]
第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで焦点スポットを動かす段階が、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更することを含む、本発明1044の方法。
[本発明1048]
制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、本発明1047の方法。
[本発明1049]
制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、本発明1048の方法。
[本発明1050]
前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、本発明1047の方法。
[本発明1051]
前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも3つの共線的な四重極磁石を含む、本発明1050の方法。
[本発明1052]
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み；かつ
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更することが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更することを含む、
本発明1050の方法。
[本発明1053]
前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、本発明1044の方法。
[本発明1054]
前記複数の磁石が電磁石を含み；かつ
第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで焦点スポットを動かす段階が、該電磁石を通る電流を変更することを含む
本発明1044の方法。
[本発明1055]
前記複数の磁石が、電子ビームを100〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1044の方法。
[本発明1056]
前記複数の磁石が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、本発明1044の方法。
[本発明1057]
焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、本発明1044の方法。
本発明の他の目的、特徴、および利点は、以下の詳細な説明から明らかになるであろう。ただし、この詳細な説明から、本発明の精神および範囲内における様々な変更および改変が当業者に明らかになると考えられ、したがって、以下の詳細な説明および具体的実施例は、本発明の具体的態様を示すものであるが、実例としてのみ提示されていることが理解されるべきである。