【事件の表示】
　特願２０１０−２７０６７０「透明シート付タッチパネルセンサ」拒絶査定不服審判事件〔平成２４年　６月２１日出願公開、特開２０１２−１１８９３６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　
　本願は、平成２２年１２月３日の出願であって、平成２６年５月１３日付けで拒絶理由が通知され、同年７月１５日付けで手続補正がなされたが、平成２７年１月３０日付けで拒絶査定がされ、これに対して同年４月２８日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記平成２６年７月１５日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シートとからなる透明シート付タッチパネルセンサにおいて、
　前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備え、
　基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有し、
　前記第１アンダーコート層および前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっており、
　前記第１高屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体の光屈折率よりも大きくなっており、
　前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層の光屈折率は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内となっている
ことを特徴とする透明シート付タッチパネルセンサ。」
　
　
３．引用発明
　
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開２０１０−１５８６１号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の記載がある。　
　
ア．「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は
積層した透明導電性フィルムに関するものである
特に静電容量式タッチパネル等のパターニングされた電極フィルムとして用いた場合、透明導電性薄膜層を有する部分と除去された部分での光学特性の差が小さいため、視認性を向上できる透明導電性フィルムに関するものである
　
イ．「【背景技術】
【０００２】
　透明プラスチックフィルムからなる基材上に、透明でかつ抵抗が小さい薄膜を積層した透明導電性フィルムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス（ＥＬと略記される場合がある）ディスプレイなどのようなフラットパネルディスプレイや、抵抗膜式タッチパネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使用されている。
【０００３】
　近年、静電容量式のタッチパネルが携帯電話、携帯音楽端末などのモバイル機器に搭載されるケースが増えてきた。このような静電容量式のタッチパネルではパターニングされた導体上に誘電体層を積層した構成を有し、指などでタッチすることにより、人体の静電容量を介して接地される。この際、パターニング電極と接地点との間の抵抗値に変化が生じ、位置入力を認識する。しかしながら従来の透明導電性フィルムを用いた場合、透明導電性薄膜層を有する部分と除去された部分での光学特性の差が大きいため、パターニングが強調され、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に視認性が低下するという問題があった。
【０００４】
　透明導電性フィルムの透過率または色目を向上させるために、反射防止加工等で用いられている屈折率の異なる層を積層させ光の干渉を利用する方法が提案されている。すなわち、透明導電性薄膜層と基材フィルムの間に屈折率の異なる層を設けて光学干渉を利用する方法が提案されている（特許文献１〜３）。
【特許文献１】特開平１１−２８６０６６号公報
【特許文献２】特許第３６２６６２４号公報
【特許文献３】特開２００６−３４６８７８号公報  しかしながら、これらの特許文献１〜３記載の透明導電性フィルムは、透明導電性フィルムとしての視認性の改善はできるものの、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜が有る部分と無い部分とでの光学特性の差を小さくすることは考慮されておらず、パターニングした箇所が強調されてしまう。」（２頁４１行〜３頁１８行）　
　
ウ．「【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
　すなわち、本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑み、透明導電性薄膜層を有する部分と除去された部分の光学特性の差を小さくすることによって、液晶ディスプレイ等に使用した際に視認性が良好で、かつパターニングが強調されない透明導電性積層フィルムを提供することにある。」（３頁２０〜２５行）
　
エ．「【０００８】
　
本発明の透明導電性積層フィルムは、透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層した構成を有する
　さらに、
上記透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層をパターニングした透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層側に、誘電体層を積層した
　以下、各層別に詳細に説明する。」（４頁１３〜１９行）
　
オ．「【０００９】
（透明プラスチックフィルムからなる基材）
　本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材とは、有機高分子をフィルム状に溶融押出し又は溶液押出しをしてフィルム状に成形し、必要に応じ、長手方向及び／又は幅方向に延伸、熱固定、熱弛緩処理を施したフィルムである。有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。
【００１０】
　これらの有機高分子のなかで、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレートなどが好適である。また、これらの有機高分子は他の有機重合体の単量体を少量共重合してもよいし、他の有機高分子をブレンドしてもよい。
【００１１】
　本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材の厚みは、１０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは７０〜２６０μｍである。プラスチックフィルムの厚みが１０μｍ未満では機械的強度が不足し、透明導電性薄膜のパターン形成工程でのハンドリングが難しくなるため好ましくない。一方、厚みが３００μｍを越えると、タッチパネルの厚みが厚くなりすぎるため、モバイル機器などには適さない。」（４頁２０行〜４３行）
　
カ．「【００１２】
　本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材は、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活性化処理を施してもよい。
【００１３】
　また、
本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材には、高屈折率層との密着性向上、耐薬品性の付与、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止を目的として、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設けてもよい
【００１４】
　前記の
硬化型樹脂は
シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる
【００１５】
　このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステルなどから合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。必要に応じて、これらの多官能性の樹脂に単官能性の単量体、例えば、ビニルピロリドン、メチルメタクリレート、スチレンなどを加えて共重合させることができる。
【００１６】
　また、高屈折率層と硬化物層との付着力を向上するために、硬化物層を更に表面処理することが有効である。具体的な方法としては、グロー放電又はコロナ放電を照射する放電処理法を用いて、カルボニル基、カルボキシル基、水酸基を増加させる方法、酸又はアルカリで処理する化学薬品処理法を用いて、アミノ基、水酸基、カルボニル基などの極性基を増加させる方法、などが挙げられる。
【００１７】
　紫外線硬化型樹脂は、通常、光重合開始剤を添加して使用される。光重合開始剤としては、紫外線を吸収してラジカルを発生する公知の化合物を特に限定なく使用することができ、このような光重合開始剤としては、例えば、各種ベンゾイン類、フェニルケトン類、ベンゾフェノン類などを挙げることができる。光重合開始剤の添加量は、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜５質量部とすることが好ましい。
【００１８】
　塗布液中の樹脂成分の濃度は、コーティング法に応じた粘度などを考慮して適切に選択することができる。例えば、塗布液中に紫外線硬化型樹脂、光重合開始剤の合計量が占める割合は、通常は２０〜８０質量％である。また、この塗布液には、必要に応じて、その他の公知の添加剤、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などのレベリング剤などを添加してもよい。
【００１９】
　本発明において、調製された塗布液は透明プラスチックフィルムからなる基材上にコーティングされる。コーティング法には特に限定されなく、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法などの従来から知られている方法を使用することができる。
【００２０】
　また、
硬化物層の厚みは０．１〜１５μｍの範囲である
　
キ．「（高屈折率層）
　
本発明で用いることのできる高屈折率層の屈折率は１．７０〜２．５０の範囲であり
【００２３】
　
高屈折率層の膜厚は、４〜２０ｎｍであり
【００２４】
　本発明における高屈折率層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができるが、膜厚のバラツキを低減するという観点からスパッタリング法が好ましい。
　スパッタリング法では一般的に金属ターゲットから反応性ガスを導入して金属酸化物を作製する反応性スパッタリング法と酸化物ターゲットから金属酸化物をする方法がある。反応性スパッタリング法においては反応性ガスの流量によって成膜速度が急激に変化する遷移領域が存在する。このため膜厚のバラツキを抑制するには酸化物ターゲットを用いることが好ましい。」（６頁１０〜３５行）
　
ク．「（低屈折率層）
　
本発明で用いる低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．６０であり
 　屈折率層の具体的素材としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などの透明金属酸化物及びＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３等の複合金属酸化物が挙げられる。
【００２５】
　
低屈折率層の膜厚は、２０〜５０ｎｍであり
【００２６】
　本発明における低屈折率層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができるが、膜厚のバラツキを低減するという観点からスパッタリング法が好ましい。一般的にスパッタリングで形成する場合は反応性ＤＣ又はＡＣスパッタリング法が用いられる。成膜速度を向上するためにＤＣ又はＡＣ電源の電圧値を一定に保つように反応性ガス流量を制御するインピーダンス制御又は特定元素のプラズマ中での発光強度を一定に保つように反応性ガス流量を制御するプラズマエミッション法が用いられる。」（６頁３６行〜７頁１３行）
　
ケ．「【００２７】
（透明導電性薄膜層）
　
本発明における透明導電性薄膜としては
インジウム−スズ複合酸化物が好適である
　本発明において透明導電性薄膜層を積層して、透明導電性積層フィルムの表面抵抗値を好ましくは５０〜２０００Ω／□、更に好ましくは１００〜１５００Ω／□とすることによって、透明導電性積層フィルムとしてタッチパネルなどに使用できる。表面抵抗値が５０Ω／□未満であったり、２０００Ω／□を超える場合、タッチパネルの位置認識精度が悪くなり、好ましくない。
【００２８】
　
透明導電性薄膜の膜厚は、４〜３０ｎｍの範囲が好ましく
【００２９】
　透明導電性薄膜層は非晶質であることが好ましい。結晶質な透明導電性薄膜層を用いた場合、塩酸などで透明導電性薄膜をパターニングする際に溶けにくいため、加工に時間がかかる、微細なパターニングがきれいにできない等の問題が生じる。
【００３０】
　非晶質な透明導電性薄膜層を得るために、ドーパント量を調整することが好ましい。例えば、透明導電性薄膜層としてインジウム−スズ複合酸化物を用いる場合、酸化スズの含有率は１０〜６０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜５０質量％である。酸化スズ含有率が１０質量％未満の場合、成膜中に結晶化を抑制することが困難となる。一方、酸化スズの含有率が６０質量％を超える場合、ターゲットの密度を向上させることが困難となり、生産中に放電異常が発生しやすくなり生産性の観点から好ましくない。
【００３１】
　また生産性の観点から透明導電性薄膜は高屈折率層と同じ組成であることが好ましい。組成が異なる場合、高屈折率用、透明導電性薄膜用のそれぞれのターゲットおよびカソードが必要となり、設備的にも大掛かりな装置となってしまう。
【００３２】
　透明導電性薄膜の層構造は、単層構造でもよいし、２層以上の積層構造でもよい。２層以上の積層構造を有する透明導電性薄膜の場合、各層を構成する前記の金属酸化物は同一でもよいし、異なっていてもよい。
【００３３】
　本発明における透明導電性薄膜の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができる。
　例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。」（７頁１４行〜８頁８行）
　
コ．「【００３４】
（屈折率が１．４０〜１．７０の誘電体層（保護層））
　
本発明において屈折率が１．４０〜１．７０の誘電体層とは、表示体の部材として透明導電性積層フィルムを使用する際に透明導電性薄膜を保護するために積層する保護層としての目的と、指などでタッチした際の静電容量変化を大きくし、位置入力精度を向上させる目的を併せ持つ層である
　屈折率が１．４０〜１．７０の誘電体層としては、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などの透明金属酸化物及びＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３等の複合金属酸化物、アクリル、シリコーン、ポリエステル系の樹脂からなる有機物等が用いられる。」（８頁９〜１７行）
　
サ．「【００５３】
　また、雰囲気の酸素分圧をスパッタプロセスモニター（ＬＥＹＢＯＬＤ  ＩＮＦＩＣＯＮ社製、ＸＰＲ２）にて常時観測しながら、インジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化度が一定になるように酸素ガスの流量計及びＤＣ電源にフィートバックした。以上のようにして、
厚さ１５ｎｍ、屈折率１．９６のインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜
　
シ．「【産業上の利用可能性】
【００６１】
　
本発明の透明導電性積層フィルムは、透明導電性薄膜層のパターニング部と非パターニング部の光学特性の差が小さく、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際、視認性に優れるため、静電容量式のタッチパネル用の電極フィルムとして特に好適である
　
　
　上記引用例１の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると、次のことがいえる。
　
ａ．上記ア．、及び上記シ．の記載によれば、引用例１には、透明導電性積層フィルムを備えるタッチパネルが記載されているといえる。
　
ｂ．上記エ．の記載よれば、透明導電性積層フィルムは、透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層し、透明導電性薄膜層をパターニングした透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層側に、誘電体層を積層したものであり、さらに、上記カ．の段落【００１３】には、透明プラスチックフィルムからなる基材には、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設けてもよい、ことが記載されており、また、図１においては、透明プラスチックフィルムからなる基材上に、硬化物層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電性薄膜層、誘電体層が、順次積層された透明導電性積層フィルムが記載されているものと認められる。
　してみれば、引用例１には、透明導電性積層フィルムは、透明プラスチックフィルム上に、順次、硬化物層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電性薄膜層、誘電体層が積層されている、ことが記載されているといえる。
　
ｃ．上記カ．の段落【００１３】には、硬化物層は、高屈折率層との密着性向上、耐薬品性の付与、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止を目的とし設けられること、さらに、段落【００１４】には、、硬化物層は、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂など硬化型樹脂で構成され、また、段落【００２０】には、硬化物層の厚みは０．１〜１５μｍの範囲であることが記載されている。　
　してみれば、引用例１には、硬化物層は、高屈折率層との密着性向上、耐薬品性の付与、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止を目的とし設けられるものであり、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂など硬化型樹脂で構成され、厚みは０．１〜１５μｍである、ことが記載されているといえる。
　
ｄ．上記キ．の記載によれば、高屈折率層は、屈折率が１．７０〜２．５０の範囲であり、厚みは、４〜２０ｎｍである、ことが記載されているといえる。
　
ｅ．上記ク．の記載によれば、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．６０の範囲であり、厚みは、２０〜５０ｎｍである、ことが記載されているといえる。
　
ｆ．上記ケ．には、透明導電性薄膜層が、透明導電性薄膜としてはインジウム−スズ複合酸化物からなり、厚みは、４〜３０ｎｍの範囲であること、さらに、上記サの記載よれば、インジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜層の屈折率が１．９６であることが記載されている。
　してみれば、引用例１には、透明導電性薄膜層は、透明導電性薄膜がインジウム−スズ複合酸化物からなり、厚みは、４〜３０ｎｍの範囲であり、屈折率が１．９６である、ことが記載されているといえる。
　
ｇ．上記コ．には、屈折率が１．４０〜１．７０の誘電体層とは、表示体の部材として透明導電性積層フィルムを使用する際に透明導電性薄膜を保護するために積層する保護層としての目的と、指などでタッチした際の静電容量変化を大きくし、位置入力精度を向上させる目的を併せ持つ層である、と記載されている。
　してみれば、引用例１には、誘電体層は、透明導電性薄膜を保護する目的と、指などでタッチした際の静電容量変化を大きくし、位置入力精度を向上させる目的を併せ持つ層であり、屈折率が１．４０〜１．７０である、ことが記載されているといえる。
  　
ｈ．上記シ．には、透明導電性積層フィルムは、透明導電性薄膜層のパターニング部と非パターニング部の光学特性の差が小さく、表示体の前面に配置した際、視認性に優れるている、ことが記載されている。
　
　　
　上記引用例１の記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、結局、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が開示されていると認められる。
　
「透明導電性積層フィルムを備えるタッチパネルであって、
　該透明導電性積層フィルムは、透明プラスチックフィルム上に、順次、硬化物層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電性薄膜層、誘電体層が積層されて、
　前記硬化物層は、前記高屈折率層との密着性向上、耐薬品性の付与、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止を目的とし設けられるものであり、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂など硬化型樹脂で構成され、厚みは０．１〜１５μｍであり、
　前記高屈折率層は、屈折率が１．７０〜２．５０の範囲であり、厚みは、４〜２０ｎｍであり、　
　前記低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．６０の範囲であり、厚みは、２０〜５０ｎｍであり、
　前記透明導電性薄膜層は、透明導電性薄膜がインジウム−スズ複合酸化物からなり、厚みは、４〜３０ｎｍの範囲であり、屈折率が１．９６であり、
　前記誘電体層は、前記透明導電性薄膜を保護する目的と、指などでタッチした際の静電容量変化を大きくし、位置入力精度を向上させる目的を併せ持つ層であり、屈折率が１．４０〜１．７０であり、
　前記透明導電性積層フィルムは、前記透明導電性薄膜層のパターニング部と非パターニング部の光学特性の差が小さく、表示体の前面に配置した際、視認性に優れている、
　タッチパネル。」
　
　
（２）引用例２
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である国際公開第２００６／１２６６０４号（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　
ア．「技術分野
[０００１]　
本発明は、透明面状体及び透明タッチスイッチに関する
　
イ．「[０００３]　この
透明タッチスイッチは、液晶表示装置やＣＲＴなどの表面に装着して用いられるが、透明面状体に形成された透明導電膜のパターン形状が目立ってしまい、視認性の低下を招いていた
　
ウ．「（第２実施形態）
　次に、本発明の第２実態形態について添付図面を参照して説明する。尚、各図面は、構成の理解を容易にするため、模式的に表すと共に、実寸比ではなく部分的に拡大又は縮小されている。
[００７６]　
図９は、本発明に係る透明タッチスイッチの第２実施形態を示す概略断面図である。この透明タッチスイッチ１０１は、静電容量式のタッチスイッチであり、透明基板１１にアンダーコート層１３を介して透明導電膜１２が形成された第１の透明面状体１
[００７７]　
透明基板１１，２１は、基材層１１１，２１１の表裏面にハードコート層１１２，１１２；２１２，２１２を備えて構成されている
[００７８]　
ハードコート層１１２，２１２は、耐久性及びアンダーコート層１３，２３の密着性を高めるために、基材層１１１，２１１の表裏面に設ける
[００７９]　
アンダーコート層１３，２３は、それぞれ低屈折率層１３ａ，２３ａと、低屈折率層１３ａ，２３ａよりも光屈折率が高い高屈折率層１３ｂ，２３ｂとの積層体から構成されており
　
エ．「[００８７]　また、本発明者らのシミュレーション結果によれば、粘着層１５の屈折率を適宜変更することにより、透明タッチスイッチ１０１の視認性を更に向上させることができる。この
シミュレーションについて以下に説明する
透明基板１１，２１は、ＰＥＴフィルムからなる基材層（厚み：１８８μｍ、屈折率：１．６５）の表裏面にハードコート層（各厚み：５μｍ、屈折率：１．５２）が形成されたものとし、アンダーコート層１３，２３は、高屈折率層がシリコン錫酸化物膜（厚み：２５ｎｍ、屈折率：１．７）、低屈折率層が酸化珪素膜（厚み：３０ｎｍ、屈折率：１．４３）とした。また、透明導電膜１２，２２は、ＩＴＯ膜（厚み：３０ｎｍ、屈折率：１．９５）とした
[００８８]　 透明導電膜１２，２２のパターン形状の目立ちにくさは、透明導電膜１２，２２が形成されている部分と形成されていない部分との反射率差と相関性を有しており、可視領域全体（波長：約４００〜８００ｎｍ）における反射率差の絶対値が小さいほど、パターン形状が目立ちにくく、視認性を良好にすることができる。図１０に示すように、反射率差の絶対値は、いずれも粘着層１５の屈折率が高くなるほど小さくなっており、視認性の観点からは粘着層１５の屈折率を大きくするほど良いことがわかる。」（１６頁２６行〜１７頁２０行）
　
　上記引用例２の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると、次のことがいえる。
　
ａ．上記ウ．の[００７６]の記載によれば、透明タッチスイッチ１０１は、静電容量式のタッチスイッチであり、透明基板１１にアンダーコート層１３を介して透明導電膜１２が形成されている。
　そして、段落[００７７]には、透明基板１１には、表面にハードコート層を備えており、さらに、段落[００７８]によれば、ハードコート層は、
耐
　さらに、段落[００７９]には、アンダーコート層１３，は、それぞれ低屈折率層１３ａ，と、低屈折率層１３ａよりも光屈折率が高い高屈折率層１３ｂとの積層体から構成されていることが記載されている。
　してみれば、引用例２には、透明なフィルムに、密着をたかめるためのハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電膜が順次積層される透明タッチスイッチ、が記載されているといえる。
　　
ｂ．上記エ．の段落[００８７]の記載には、ハードコート層の屈折率を１．５２、高屈折率層の屈折率を１．７、低屈折率層の屈折率を１．４３、透明導電膜１２の屈折率を１．９５としたものが記載されている。
　してみれば、引用例２には、ハードコート層の屈折率および低屈折率の光屈折率は、透明導電膜および高屈折率の光屈折率よりも大きくした透明タッチスイッチ、が記載されているといえる。
　
　上記引用例２の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると、引用例２には、次の技術（以下、「引用例２記載の技術」という。）が開示されていると認められる。
　
「透明なフィルムに、密着をたかめるためのハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電膜が順次積層される透明タッチスイッチにおいて、ハードコート層の屈折率および低屈折率の光屈折率は、透明導電膜および高屈折率の光屈折率よりも大きくした、透明タッチスイッチ。」
　
　
（３）引用例３
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特表２００７−５０８６３９号公報（以下、「引用例３」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　
 ア．「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は
タッチセンシング要素として透明導体のパターンを使用するオンディスプレイ（ｏｎ−ｄｉｓｐｌａｙ）タッチスクリーンに関する
　
イ．「【課題を解決するための手段】
【０００３】
　一つの態様において、
本発明は、基板、その基板を実質的に覆うコーティング、そのコーティングの上に配置された透明導体パターン（そのパターンには、コーティングで覆われない領域が残っている）、および透明導体パターンと透明導体パターンによって覆われていないコーティングの領域との両方を覆いそして接触している充填材料を含む、タッチスクリーン
充填材料の上に第二の基板を配置することも可能である
　
ウ．「【００１２】
　基板、その基板の上のコーティング、そのコーティングの上の透明導体パターン、および
透明導体パターンの上に配置され、パターンの部分の間のギャップを充填する充填材料、を含む本発明の構成においては
充填材料の屈折率：約１．４〜１．８
　
エ．「【００１６】
　基板の表面１１２または充填材料の表面１４２を、そのタッチ表面とすることができる。
別な方法として、場合によっては使用者と基板１１０または充填材料１４２との間に１層または複数の追加の層を配して、タッチ表面とすることも可能である。たとえば、除去可能で張り替え可能なオーバーレイ層を設けて、タッチ表面に傷が付いたりその他損傷があったりした場合には、そのタッチスクリーンのタッチ表面を「更新（ｒｅｆｒｅｓｈ）」することも可能である
別な例としては、特に基板１１０がプラスチック基板であるような場合には、基板１１０の表面１１２の上にハードコートを配して、タッチ表面とすることもできる
また別な例としては、基板１１０または充填材料１４０に、望ましい耐久性あるいはその他の性質を有するガラスまたはその他の材料のシートを積層するかまたはその他の方法で接着させることも可能である
　
オ．「【００２４】
 
 図２は、図１に示したものと同様ではあるが、第二の基板をさらに含むタッチスクリーン構成２００を示す
透明導体パターン２３０を覆い、パターン２３０によって覆われていない領域にあるコーティング２２０と接触する充填材料２４０、およびその充填材料２４０の上に配置された第二の基板２５０である
充填材料２４０それ自体を接着材料として、基板２５０を構成２００に接着させるのに使用することも可能である
基板２５０はガラスおよびプラスチックを含めた各種適切な材料であればよく、それらは剛性であっても、可撓性であってもよい
　
  上記引用例３の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると、引用例３には、次の技術（以下、「引用例３記載の技術」という。）が開示されていると認められる。
「透明導電体がパターニングされるタッチセンサにおいて、保護のために該透明導電体上に、接着剤であり屈折率が１．７である充填剤で可撓性のプラスチック基板を接着させること。」
　
　
４．対　比
　
　本願発明と引用発明１とを対比する。
　
ａ．引用発明１の「タッチパネル」は、「タッチパネルセンサ」ともいい得るものであり、また、引用発明１の「透明導電性積層フィルム」の「誘電体層」は、透明導電性薄膜を保護する目的のために、「透明導電性積層フィルム」の最も外側の層として形成されるものであるから、引用発明１の「タッチパネル」と、本願発明の「透明シート付タッチパネルセンサ」は、「タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に保護層が設けられる保護層付タッチパネルセンサ」の点で共通する。
　
ｂ．引用発明１の「透明プラスチックフィルム」は、本願発明の「透明なフィルム本体」に相当する。
　そして、引用発明においては「透明プラスチックフィルム上」に、「順次」、「硬化物層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電性薄膜層」が積層されていることから、引用発明の「硬化物層」、「高屈折率層」、「低屈折率層」が、それぞれ、本願発明の「第１アンダーコート層」、「第１高屈折率層」、「第１低屈折率層」に相当し、また、引用発明の「透明導電性積層フィルム」の一部である、「透明プラスチックフィルム」上に、順次、「硬化物層、高屈折率層、低屈折率層」が積層された部分を「基材フィルム」と称することは任意である。
　さらに、引用発明１の「透明導電性積層フィルム」は、「透明導電性薄膜層のパターニング部と非パターニング部の光学特性の差」が小さいものであるから、引用発明１の「透明導電性薄膜」はパターニングされているものと認められ、また、「透明導電性薄膜」は、「透明プラスチックフィルム」上に、順次、「硬化物層、高屈折率層、低屈折率層」が積層されたフィルムの上に積層されていると認められることから、引用発明１の「透明導電性薄膜」は、本願発明の「基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体」に相当する。
　
ｃ．引用発明１の「低屈折率層」の「屈折率」は「１．３０〜１．６０」であり、「透明導電性薄膜」、及び「高屈折率層」の「屈折率」は、各々「１．９６」、及び「１．７０〜２．５０」であるから、「低屈折率層」の「屈折率」は、「透明導電性薄膜」、及び「高屈折率層」の「屈折率」より小さいと認められ、引用発明１と、本願発明は、「前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっている」という構成を有する点で共通する。
　
　そうすると、本願発明と引用発明１とは次の点で一致ないし相違するものと認められる。
　
（一致点）
　
「タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサの一側に保護層が設けられる保護層付タッチパネルセンサにおいて、
　前記タッチパネルセンサは、基材フィルムと、基材フィルムの一側の面上にパターニングされた第１透明導電体と、を備え、
　基材フィルムは、透明なフィルム本体と、フィルム本体の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１アンダーコート層と、第１アンダーコート層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１高屈折率層と、第１高屈折率層の前記第１透明導電体側の面上に設けられた第１低屈折率層と、を有し、
　前記第１低屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなっている、
　保護層付タッチパネルセンサ。」
　
　
（相違点１）「保護層」が、本願発明では、「タッチパネルセンサの一側に接着層を介して接着された透明シート」であるのに対して、引用発明１では、「誘電体層」であって「接着層を介して接着された透明シート」ではない点。
　
（相違点２）本願発明では、「前記第１アンダーコート層」も「前記第１透明導電体および前記第１高屈折率層の光屈折率よりも小さくなって」いるのに対して、引用発明１では、「硬化物層」(本願の 「前記第１アンダーコート層」に相当。）の屈折率は特定されておらず、「透明導電性薄膜」(本願の 「前記前記第１透明導電体」に相当。）および「高屈折率層」（本願の「 第１高屈折率層」に相当。）より小さくなっているとは限らない点
（相違点３）本願発明では、「前記第１高屈折率層の光屈折率は、前記第１透明導電体の光屈折率よりも大きくなって」いるのに対して、引用発明１では、「高屈折率層」の「光屈折率」は、「透明導電性薄膜」の「光屈折率」より大きいとは特定されていない点。
　
（相違点４）本願発明では、「前記タッチパネルセンサと前記透明シートとの間に介在された前記接着層の光屈折率は、その光屈折率が１．４〜１．８の範囲内」であるのに対して、引用発明１では、そのような「接着層」を有するとはされていない点。
　
　
５．検討
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　（相違点１）、及び（相違点４）について
　透明導電体がパターニングされるタッチセンサにおいて、保護のために該透明導電体上に、接着剤であり屈折率が１．７である充填剤で可撓性のプラスチックの基板を接着させる、ことは上記引用例３記載の技術として公知である。
　一方、引用発明１の保護のための「誘電体層」として、どのようなものを選択するかは、当業者が設計時に適宜選択なし得た事項であり、また、引用発明１の保護のための「誘電体層」を、「接着層」及び「透明シート」として構成できないものでもない。
　してみれば、引用発明１における「誘電体層」に引用例３記載の技術を適用して、接着層を介して透明シートを接着し、該接着層の屈折率を１．７とするようにすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　そして、そのようにすることは、引用発明１において、相違点１、及び相違点４に係る本願発明の構成を採用することにほかならない。
　
　（相違点２）について
　透明なフィルムに、密着をたかめるためのハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電膜が順次積層される透明タッチスイッチにおいて、ハードコート層の屈折率および低屈折率の光屈折率は、透明導電膜および高屈折率の光屈折率よりも大きくした、透明タッチスイッチは、上記引用例２記載の技術として公知である。
　一方、引用発明１において「硬化物層」の「光屈折率」を具体的にどのようにするかは、当業者が、「硬化物層」の目的を鑑みて適宜選択し得たことであり、また、引用発明１の「硬化物層」の「光屈折率」を、「透明導電性薄膜」、及び「高屈折率層」の「光屈折率」よりも小さくできないものでもない。
　してみれば、引用発明１における、密着を高めるための層である「硬化物層」に、引用例２記載の技術を適用して、「透明導電性薄膜」、及び「高屈折率層」の「光屈折率」よりも小さくすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　そして、そのようにすることは、引用発明１において、相違点２に係る本願発明の構成を採用することにほかならない。
　（相違点３）について
　引用発明１の「高屈折率層」の「光屈折率」の範囲は、当業者が、引用発明１の課題が解決される範囲で適宜選択可能な事項である。
　また、引用発明１では、「高屈折率層」の「光屈折率」は１．７０〜２．５０、「透明導電性薄膜」の「光屈折率」は１．９６であり、「高屈折率層」の「光屈折率」が「透明導電性薄膜」の「光屈折率」より大きくなる範囲も含まれていることから、引用発明１においては、「高屈折率層」の「光屈折率」を、「透明導電性薄膜」の光屈折率より大きくできるものである。
　さらに、「高屈折率層」の「光屈折率」を、「透明導電性薄膜」の「光屈折率」より大きくすることは、当該技術分野における常套手段（例えば、拒絶査定で引用した、特開２００７−２９９５３４号公報（特に、段落【００２５】等参照）、特開平１１−０５３１１４号公報（特に、段落【００１９】等参照）等参照。）でもある。
　してみれば、引用発明１において、「高屈折率層」の「光屈折率」を、「透明導電性薄膜」の「光屈折率」より大きくすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　　
　また、本願発明の効果も、引用発明１から容易に想到される構成から当業者が予想できる範囲のものである。
　　
６．むすび
　
　以上のとおりであって、本願発明は、上記引用発明１、及び引用例２、引用例３記載の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　
　よって、結論のとおり審決する。