(57)【要約】  有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低下させ、さらに、固体層がこの上に形成する電極の積層により受けるダメージを低減する効果を向上させる有機ＥＬ素子を提供する。  少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、前記陰極が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有することを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、
前記陰極が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有することを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項２】
少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、
前記陰極が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項３】
少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、
前記陰極が複数層により構成されており、そのうちの少なくとも一層は、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項４】
前記マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されている層が、前記固体層に接する位置に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項５】
前記マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金が、マグネシウムと銀との混合物からなる合金であることを特徴とする請求項１乃至請求項４に記載の有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、自己発光性であるために視認性が高く、また完全固体素子であるために耐衝撃性に優れるとともに取扱いが容易である。このため、グラフィックディスプレイの画素やテレビ画像表示装置の画素、あるいは面光源等としての研究開発および実用化が進められている。このような有機ＥＬ素子は、基板上に陽極、有機固体層、陰極を順次積層することにより形成されることが多く、有機固体層上に積層される陰極としては、マグネシウム合金、さらにはマグネシウム銀合金が使用されており、合金中に存在する全金属原子を基として、５０パーセント以上のマグネシウムを含む合金が使用されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開平２−１５５９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の陰極を用いると、有機固体層に陰極を積層する場合に、有機固体層がダメージを受けることが問題となっていた。【０００４】
また、有機ＥＬ素子は、有機固体層、特に発光層の厚さを薄くすることにより例えば４．５Ｖという低電圧での駆動が可能で応答も速いといった利点等を有しているが、今日ではさらに低電圧で駆動可能な有機ＥＬ素子の開発が望まれている。【０００５】
本願は、このような事情においてなされたものであり、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低下させることができ、さらに、有機固体層がこの上に形成する電極の積層により受けるダメージを低減する効果を向上させる陰極を備える有機ＥＬ素子を提供することを課題の一例とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための、請求項１に記載の発明は、少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、前記陰極が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有することを特徴とする。【０００７】
上記課題を解決するための、請求項２に記載の発明は、少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、前記陰極が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されていることを特徴とする。【０００８】
上記課題を解決するための、請求項３に記載の発明は、少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、前記陰極が複数層により構成されており、そのうちの少なくとも一層は、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されていることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本願の有機ＥＬ素子の第１実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本願の有機ＥＬ素子の第２実施形態を示す概略断面図である。
【図３】本願の有機ＥＬ素子の第３実施形態を示す概略断面図である。
【図４】本願の有機ＥＬ素子の第４実施形態を示す概略断面図である。
【図５】本願の有機ＥＬ素子の第５実施形態を示す概略断面図である。
【図６】本願の有機ＥＬ素子の第６実施形態を示す概略断面図である。
【図７】本願の有機ＥＬ素子の第７実施形態を示す概略断面図である。
【図８】本願の有機ＥＬ素子の第８実施形態を示す概略断面図である。
【図９】本願の有機ＥＬ素子の第９実施形態を示す概略断面図である。
【図１０】本願の有機ＥＬ素子の第１０実施形態を示す概略断面図である。
【図１１】本願の有機ＥＬ素子の第１１実施形態を示す概略断面図である。
【図１２】本願の有機ＥＬ素子の第１２実施形態を示す概略断面図である。
【図１３】本願の有機ＥＬ素子の第１３実施形態を示す概略断面図である。
【図１４】本願の有機ＥＬ素子の第１４実施形態を示す概略断面図である。
【図１５】本願の有機ＥＬ素子の第１５実施形態を示す概略断面図である。
【図１６】本願の有機ＥＬ素子の第１６実施形態を示す概略断面図である。
【図１７】本願による有機ＥＬ素子の電圧電流特性を示した図である。
【図１８】本願による有機ＥＬ素子の電圧電流特性を示した図である。
【００１０】
なお、図中の主な符号の意味は以下の通りである。
１・・・陰極、ａ・・・マグネシウム含有合金、ｂ、ｃ、ｄ・・・導電層、２・・・固体層、３・・・陽極、４・・・基板、１１・・・陰極、１２・・・電子注入層、１３・・・発光層、１４・・・正孔輸送層、１５・・・正孔注入層、１６・・・透明陽極、１７・・・透明基板、２１・・・陰極、２６・・・陽極、２７・・・基板、３１・・・陰極、Ｂ・・・光取り出し方向、Ｏｒ・・・固体層。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本願の有機ＥＬ素子について図１を用いて説明する。【００１２】
図１は、本願の有機ＥＬ素子の第１実施形態を示す概略断面図である。【００１３】
有機ＥＬ素子は、少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造を有しており、具体的には、図１に示すように、基板４の上に、陽極３、固体層２、陰極１をこの順で積層した構造（固体層２を、陰極１と陽極３とで挟み込んだ構造）となっている。そして、このような有機ＥＬ素子にあって、本願の有機ＥＬ素子は、これを構成する陰極１が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有することに特徴を有している。【００１４】
ここで、「陰極１が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有する」とは、例えば、陰極１が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されているものをいう。以下、これについて具体的に説明する。【００１５】
本願の有機ＥＬ素子は、これを構成する陰極１が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金ａにより形成されていることに特徴を有している。【００１６】
ここで、「マグネシウム（Ｍｇ）を５０パーセント未満の割合で包含する」とは、マグネシウム原子の数がマグネシウム含有合金層中に存在する全金属原子の数の５０パーセント未満とするということである。【００１７】
このように、陰極１が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金ａにより形成されていることにより、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低下させることができる（これについては後述する）。【００１８】
陰極１を構成するマグネシウム含有合金ａは、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金からなるが、この合金を形成するためのマグネシウム以外の金属は、特に限定されるものではなく、例えば、銀（Ａｇ）のような単体であってもよく、さらにはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）のような合金であってもよい。また、合金を形成するためのマグネシウム以外の金属は一種類である必要はなく、ＡｇとＩＴＯの双方を用いてもよい。【００１９】
また、マグネシウムの含有率は５０パーセント未満であれば、特に限定されることはない。マグネシウム含有合金中のマグネシウムの含有率を低くすることによって、より有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低減させることができるが、マグネシウムが少なすぎても有用な効果が得られないため、マグネシウムの最低含有率は、０．７３％以上とすることが好ましい。具体的には、マグネシウムの含有合金中のマグネシウムの割合は、１．４５％以上４０パーセント以下が望ましく、１．４５％以上２０パーセント以下が特に望ましい。【００２０】
図２は、本願の有機ＥＬ素子の第２実施形態を示す概略断面図である。【００２１】
図１は、陰極１が単層構造である場合を示したものであるが、本願はこれに限定されることはなく、図２に示すように、陰極１が複数層構造であってもよい。なお、図２における陰極１以外の構成（基板４、陽極３、固体層２の構成）は、図１と同様である。【００２２】
図２に示すように、陰極１を複数層構造とした場合にあっては、当該陰極１を構成する層のうち少なくとも一層が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金ａにより形成されていればよい。つまり、図２に示すように、陰極１は、複数層により形成されており、そのうちの少なくとも１層は、マグネシウム含有合金ａにより形成されており、他の層は、導電層ｂ、ｃ、ｄにより構成されていればよい。【００２３】
このように、陰極１が、複数層により構成されており、そのうちの少なくとも一層が、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金aにより形成されていることによって、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低下させることができるとともに、マグネシウム含有合金ａにより形成されている層の上に導電層ｂ又はｄを積層する場合には、固体層２が受けるダメージを低減することができる（これについては後述する）。【００２４】
なお、陰極１を構成する導電層ｂ、ｃ、ｄとしては、従来電極として用いられている材料を適宜選択して用いればよく、特に限定するものではない。例えば、ＩＴＯや、ＩＺＯや、ＳｎＯ2（酸化スズ）系透明導電膜（フッ素やアンチモンをドーピングしたもの等）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）系透明導電膜（アルミニウムやガリウムをドーピングしたもの等）等を好適に用いることができる。【００２５】
また、陰極１の厚みは、用途に応じて適宜選択可能であり、例えば、５nm〜５００nm程度とすればよい。【００２６】
図１、２に示したように、マグネシウムの含有率５０パーセント未満のマグネシウム含有合金ａからなる陰極１を用いると、先ず第１に、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低下させることができるという格別な効果を得ることができる。また、第２に、電極を複数層により構成する場合、つまり固体層２の上にマグネシウム含有合金ａにより形成されている層を積層し、さらにその上にスパッタリング等によりＩＴＯ層ｂ、ｃ、ｄを積層する場合に、固体層２がプラズマにより損傷することを防ぎ、固体層２が陰極の積層により受けるダメージを低減する効果が得られる。当該効果を鑑みると、陰極１が積層構造により構成されている場合には、マグネシウム含有合金ａにより形成されている層は、陰極として機能すると共に、陰極形成の際のダメージから固体層２を保護するためのいわゆるバッファ層としても機能していると考えられる。【００２７】
ここで、図２に示すように、陰極１のマグネシウム含有合金ａにより形成されている層は、導電層ｂ、ｃ、ｄに挟まれた構造に限定されることはなく、図３、図４に示すように、マグネシウム含有合金ａにより形成される層は、陰極１のどの位置に設置されていてもよい。具体的には、図３に示すように、マグネシウム含有合金ａにより形成されている層が陰極１の最外層に積層されていてもよく、図４に示すように、マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金ａにより形成されている層が、少なくとも前記固体層に接する位置（図３における符号ａ参照）、つまり、陰極１の最内層に形成されていてもよい。【００２８】
しかしながら、前記第２の効果（固体層２が陰極の積層により受けるダメージを低減する効果）を鑑みると、図２や、図４のように、マグネシウム含有合金の上に導電層を積層した場合には、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を下げることができるとともに、固体層が受けるダメージを低減させる効果も有することができるので、マグネシウム含有合金により形成されている層が最外層より内側に設置されていることが望ましい。【００２９】
ここで、図２〜図４において、マグネシウム含有合金ａにより形成されている層が１層、導電層が３層によって積層される構造を示しているが、この構造に限定されることはない。具体的には、陰極が複数層構造である場合、少なくとも１層は、マグシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されていればよいため、マグネシウム含有合金により形成されている層が複数層存在してもよく、さらに、導電層が２層であっても、また、３層以上であってもよい。【００３０】
本願の有機ＥＬ素子を構成する固体層２（図１〜図４参照）についても、特に限定されることはなく、発光層のみからなる１層構造のものでもよく、後述するように、電子注入層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層を積層してなる複数層構造で構成されていてもよい。固体層２の具体的構成については、後述する。【００３１】
また、本願の有機ＥＬ素子を構成する陽極３（図１〜図４参照）は、機能としては正孔を固体層内に注入する役割をもっている。したがって、正孔を注入しやすいエネルギーレベルを持つ層を用いればよく、従来から用いられているものであれば特に限定されるものではない。具体的には、ＩＴＯなどを好適に用いることができる。【００３２】
また、基板４（図１〜図４参照）についても特に限定されることはなく、後に後述するように、トップエミッション構造やボトムエミッション構造のように、当該有機ＥＬ素子が用いられる状況や、求められる性能によって、任意に選択すればよい。透明性が必要な場合には、例えば、プラスチック基板やガラス基板を用いることができる。【００３３】
以下に、本願の有機ＥＬ素子の実施形態を図面を用いて説明する。【００３４】
第５実施形態〜第１０実施形態は、固体層上に陰極が設けられた構造を有している。【００３５】
まず、第５実施形態、第６実施形態は、固体層上にマグネシウム含有合金のみから形成された陰極が設けられた構造を有している。マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金から形成されている陰極を有することによって、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低減させるという効果を奏することができる。【００３６】
図５に示す第５実施形態にかかる有機ＥＬ素子は、透明基板１７上に透明陽極１６、固体層Ｏｒ（正孔注入層１５と、正孔輸送層１４と、発光層１３と、電子注入層１２）、陰極１１の順で積層することにより形成されている。ここで、電子注入層１２は、有機物によって作製されることに限定されず、無機物によって作製されていてもよい。【００３７】
ここで、固体層Ｏｒを構成する正孔注入層１５とは、陽極１６と発光層１３との間に設けられ、陽極からの正孔の注入を促進させるための層であり、有機ＥＬ素子の駆動電圧を低電化する、正孔注入を安定化し素子を長寿命化する、陽極の突起などを被覆し素子欠陥を減少させる、などの効果を発揮する。正孔注入層１５の材質については、そのイオン化エネルギーが陽極の仕事関数と発光層のイオン化エネルギーの間になるように適宜選択すればよい。【００３８】
また、正孔輸送層１４とは、前記正孔注入層１５と発光層１３の間に設けられ、正孔の輸送を促進させるための層であり、正孔輸送層１４は、正孔を発光層１３まで輸送する働きを持つ。正孔輸送層１４の材質については、そのイオン化エネルギーが正孔注入層１５と発光層１３の間になるように適宜選択すればよい。【００３９】
また、発光層１３とは、電子や正孔を輸送し、更に電子と正孔の再結合する場を与える層のことである。発光層１３はその機能上、電子も正孔も注入されるので同時注入に対する耐性が素子の長寿命化のために用いられる。よって、発光層１３の材質については、上記の性質を満たすものになるように適宜選択すればよい。【００４０】
さらに、電子注入層１２とは、陰極１１と発光層１３との間に設けられ、陰極１１からの電子の注入を促進する機能を有する。有機ＥＬ素子の駆動電圧を低電圧化する、電子注入を安定化し素子を長寿命化する、陰極１１の密着を強化し発光面の均一性を向上させ素子欠陥を減少させるなどの効果を発揮する。電子注入層１２の電子親和力については、陰極の仕事関数と発光層の電子親和力の間になるように適宜選択すればよい。【００４１】
第５実施形態にかかる有機ＥＬ素子においては、陽極は正孔を正孔注入層１５に注入し、一方陰極は電子を電子注入層１２に注入する。注入された正孔と電子は、各々反対荷電電極に向かって移動する。この結果、両電極間に電圧を印加することにより、陽極から注入される正孔と陰極から注入される電子が、発光層中で再結合することにより発光が起こる。【００４２】
また、第５実施形態は、基板側からのみ光を取り出す、いわゆる「ボトムエミッション構造」の有機ＥＬ素子であり、したがって、基板１７と、基板１７上に作製する陽極１６ともに透明（もしくは半透明）のものが使用される。【００４３】
本願の有機ＥＬ素子にあっては、図６に示すように、電子注入層を積層しなくてもよい（第６実施形態）。【００４４】
このような「ボトムエミッション構造」の他に、第７実施形態等に示す「透明構造」、第９実施形態等に示す「トップエミッション構造」とすることも可能である。【００４５】
具体的に説明すると、図７に示す第７実施形態は、基板側、基板と逆側の両面から光を取り出すいわゆる「透明構造」の有機ＥＬ素子である。【００４６】
図７に示す第７実施形態にかかる有機ＥＬ素子の陰極２１は、マグネシウム含有合金のみ又は、マグネシウム含有合金、透明導電層の積層型のうち、いずれによって形成される構造とすることができる。ここで、マグネシウム含有合金に透明導電層を積層したものを陰極とした場合には、マグネシウム含有合金が電子注入層１２と接するものとする。【００４７】
また、基板側、基板と逆側の両面から光を取り出すため、基板１７と、基板１７上に作製する陽極１６ともに透明のものが使用される。基板と逆側には、本願の特徴である陰極２１が設けられているが、当該陰極を薄く形成することによって、いずれの構造によっても、光を取り出すことができる。【００４８】
さらに、本願の有機ＥＬ素子にあっては、図８に示すように、電子注入層を積層しなくてもよい（第８実施形態）。【００４９】
図９に示す第９実施形態にかかる有機ＥＬ素子は、基板と逆側からのみ光を取り出すいわゆる「トップエミッション構造」の有機ＥＬ素子である。【００５０】
この場合であっても、前記第７実施形態と同様に、陰極を薄く形成すればよい。一方、当該「トップエミッション構造」の有機ＥＬ素子では、基板から光を取り出す必要はないので、陽極２６と基板２７の組み合わせは、不透明陽極／基板、透明陽極／不透明材質基板、透明陽極／不透明層付き基板のいずれで構成されていてもよい。【００５１】
なお、「トップエミッション構造」であっても図１０に示すように、電子注入層を積層しなくてもよい（第１０実施形態）。【００５２】
以下に説明する、第１１実施形態〜第１６実施形態は、上述してきた有機ＥＬ素子と異なり、基板上に陰極が設けられた構造を有している。このように本願の有機ＥＬ素子は、基板上に陰極が設けられた構造（逆積み構造）とすることもでき、この場合であっても、有機ＥＬ素子の素子駆動時の電圧を低下させるという効果を奏することができる。【００５３】
図１１〜図１６は、本願の有機ＥＬ素子の第１１実施形態〜第１６実施形態を示している。【００５４】
これらの有機ＥＬ素子は、基板２７上に陰極３１又は、陰極２１、固体層Ｏｒ（電子注入層１２、発光層１３と、正孔輸送層１４と、正孔注入層１５）、透明陽極１６又は、不透明陽極２６の順で積層することにより形成されている。【００５５】
第１１実施形態および第１２実施形態は、「トップエミッション構造」の有機ＥＬ素子であり、第１２実施形態は第１１実施形態から電子注入層を除いたものとなっている。【００５６】
また、第１３実施形態および第１４実施形態は、「透明構造」の有機ＥＬ素子であり、第１４実施形態は第１３実施形態から電子注入層を除いたものとなっている。【００５７】
さらに、第１５実施形態および第１６実施形態は、「ボトムエミッション構造」の有機ＥＬ素子であり、第１６実施形態は第１５実施形態から電子注入層を除いたものとなっている。
【実施例】
【００５８】
次に、本願の特徴である「マグネシウムを５０パーセント未満の割合で含有するマグネシウム含有合金により形成されている陰極」の素子駆動時の電圧の低下について、以下の実施例にて説明する。【００５９】
（実施例１）
マグネシウム（Ｍｇ）と銀（Ａｇ）とからなるマグネシウム含有合金を作製した。【００６０】
具体的には、マグネシウム含有合金中のＭｇとＡｇの比率を変化させ、ＭｇとＡｇの比率がそれぞれ、試料１；Ｍｇ：Ａｇ＝７３．６：１０、試料２；Ｍｇ：Ａｇ＝７．４：１０、試料３；Ｍｇ：Ａｇ＝０．７：１０となるように試料１〜３を作製した。ここで、試料１は、本願の特徴を有するマグネシウム含有合金により形成された陰極ではないが、本願の特徴を有するマグネシウム含有合金を用いた試料２、試料３との実験結果を比較するために用いたものである。【００６１】
これらのマグネシウム含有合金を用いて、電圧電流特性を調べた結果を図１７に示す。【００６２】
図１７からも明らかなように、各試料の電圧電流特性を比較すると、マグネシウム含有率が少なくなるにつれて、素子駆動時の電圧も低下しており、この結果から、マグネシウム含有合金中のマグネシウムの含有率を低くすることによって、より素子駆動時の電圧を低下させることができることがわかる。【００６３】
（実施例２）
ＭｇとＡｇからなるマグネシウム含有合金を作製し、その上にＩＴＯ層を積層した。【００６４】
具体的には、マグネシウム含有合金中のＭｇとＡｇの比率を変化させ、ＭｇとＡｇの比率がそれぞれ、試料４；Ｍｇ：Ａｇ＝７３．６：１０、試料５；Ｍｇ：Ａｇ＝７．４：１０、試料６；Ｍｇ：Ａｇ＝０．７：１０となるようにし、その上にそれぞれＩＴＯ層を積層した試料４〜６を作製した。ここで、試料４は、本願の特徴を有するマグネシウム含有合金により形成された陰極ではないが、本願の特徴を有するマグネシウム含有合金を用いた試料５、試料６との実験結果を比較するために用いたものである。【００６５】
これらのマグネシウム含有合金を用いて、電圧電流特性を調べた結果を図１８に示す。【００６６】
図１８からも明らかなように、各試料の電圧電流特性を比較すると、前記実施例１と同様に、マグネシウム含有率が少なくなるにつれて、素子駆動時の電圧も低下しており、この結果からも、マグネシウム含有合金中のマグネシウムの含有率を低くすることによって、より素子駆動時の電圧を低減させることができることがわかる。【００６７】
さらに、実施例１と実施例２を比較してみると、両者ともに、マグネシウム含有合金中のマグネシウムの含有率を低くすることによって、より素子駆動時の電圧を低減させることができた。【００６８】
また、例えば、図１７に示す試料３、試料２、試料１を示すグラフの電流密度５０ｍＡ／ｃｍ２の際の駆動電圧の値はそれぞれ、７．３、７．５、７．７Ｖであるが、図１８に示す試料６、試料５、試料４を示すグラフの電流密度５０ｍＡ／ｃｍ２の際の駆動電圧の値はそれぞれ、７．８、８．２、８．５Ｖである。【００６９】
これより、図１７に示す試料３、試料２、試料１の駆動電圧の差よりも、図１８に示す試料６、試料５、試料４の駆動電圧の差の方がより大きいことがわかる。【００７０】
よって、マグネシウム含有合金上にＩＴＯ層を積層する形態の陰極を用いる場合、Ｍｇの比率が少なくなるにつれて、ＩＴＯ積層時に固体層２が受けるダメージを防ぐ割合が高くなっていることがわかる。【００７１】
よってこれらの結果から、ＭｇとＡｇからなるマグネシウム含有合金を作製し、その上にＩＴＯ層を積層した陰極を固体層２に積層する際のダメージを防ぐ効果が高く、さらに素子駆動電圧を低減することができることがわかった。【００７２】
なお、素子駆動電圧をどの範囲で用いるかは用途によっても異なり、十分な輝度を得られるところであればよいので、設計事項によって任意に用いることができる。【００７３】
以上説明したように、本願で示した比率のマグネシウム含有合金を陰極とした有機ＥＬ素子では、素子駆動時の電圧を低下させることができ、さらに、固体層がこの上に形成する電極の積層により受けるダメージを低減する効果を向上させることができる。【００７４】
また、実施形態に示すように、基板側からのみ光を取り出す「ボトムエミッション型有機ＥＬディスプレイ」、基板と逆側からのみ光を取り出す「トップエミッション型有機ＥＬディスプレイ」、基板側と、基板と逆側の両方から光を取り出す「透明有機ＥＬディスプレイ」に応用可能である。【００７５】
なお、本願の有機ＥＬ素子は、上記実施の形態に限定されるものではない。特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本願の有機ＥＬ素子の技術的範囲に包含される。
【図１】
2006008942.tif 000002
【図２】
2006008942.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】請求の範囲
【請求項１】（削除）
【請求項２】  少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、
前記陰極が、マグネシウムを１．４５パーセント以上２０パーセント以下の割合で含有する、マグネシウムと銀との混合物からなる合金により形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項３】  少なくとも有機発光層を含む固体層を陰極と陽極で挟み込んだ構造をもつ有機ＥＬ素子において、
前記陰極が複数層により構成されており、そのうちの少なくとも一層は、マグネシウムを１．４５パーセント以上２０パーセント以下の割合で含有する、マグネシウムと銀との混合物からなる合金により形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項４】  前記マグネシウムを１．４５パーセント以上２０パーセント以下の割合で含有する、マグネシウムと銀との混合物からなる合金により形成されている層が、前記固体層に接する一に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ素子。
【国際調査報告】
2006008942.tif 000020
2006008942.tif 000021
2006008942.tif 000022
2006008942.tif 000023