【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４８３７８０１号発明「Ｃｏ若しくはＣｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第４８３７８０１号の請求項１ないし４に係る発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
第１．手続の経緯
　
　本件特許第４８３７８０１号は、平成２２年１０月１３日（優先権主張：平成２１年１２月１１日、日本）を国際出願日とする特願２０１１−５１３５５８号の願書に添付した特許請求の範囲に記載された請求項１〜４に係る発明（以下、「本件発明１〜４」ともいう。）について、平成２３年１０月　７日に特許権の設定登録がされたものである。
　本件審判は、本件発明１〜４の特許（以下、「本件特許」ともいう。）の無効を請求するものであり、その手続の経緯は、次のとおりである。
　
平成２７年　３月１７日付けの審判請求書の提出
　　　同年　６月　８日付けの審判事件答弁書の提出
　　　同年　９月３０日付けの審理事項通知
　　　同年１１月２０日付けの口頭審理陳述要領書の提出（両当事者）
　　　同年１２月　７日実施の第１回口頭審理
平成２８年　３月　２日付けの審決の予告
　　　同年　５月　２日付けの意見書の提出（被請求人）
　　　　
第２．本件発明
　
　本件発明１〜４は、特許第４８３７８０１号公報の特許請求の範囲に請求項１〜４として記載された次の事項により特定されたものである。
　
【請求項１】
　Ｃｏを含有する金属マトリックス相と、ＳｉＯ２を含有し、粒子を形成して分散して存在する６〜１４ｍｏｌ％の酸化物の相（以下、「酸化物相」という。）から構成されるスパッタリングターゲットであって、前記金属マトリックス相及び酸化物相を構成する成分以外に、前記酸化物相内又はその表面に点在する０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満のＣｒ酸化物を含有し、酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下であることを特徴とするＣｏ若しくはＣｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット。
【請求項２】
　前記金属マトリックス相が、Ｃｏ金属単独であるか、Ｃｒ：６〜４０ｍｏｌ％であり、残部がＣｏからなるＣｏ基合金であるか、又はＣｒ：６〜４０ｍｏｌ％、Ｐｔ：８〜２０ｍｏｌ％であり、残部がＣｏからなるＣｏ基合金であることを特徴とする請求項１記載のＣｏ若しくはＣｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット。
【請求項３】
　比抵抗が３．５×１０１６Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２記載のＣｏ若しくはＣｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット。
【請求項４】
　相対密度を９８％以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のＣｏ若しくはＣｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット。
　
第３．当事者の主張
　
１．請求人　
　請求人は、甲第１〜６号証（以下、「甲１〜６」という。）を提出し、「本件発明１〜４の特許を無効とする。審判費用は被請求人の負担とする。」との審決を求め、口頭審理にて確認した次の無効理由を主張している。
　
無効理由１：本件発明１〜４は、甲１（「比較ターゲット２」）及び甲２に記載された発明に基づいて、その優先権の基礎とされた先の出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、同法第１２３条第１項第２号の規定に該当し、無効とすべきものである。
　
無効理由２：本件発明１〜４は、甲１（「本発明ターゲット９」）及び甲２に記載された発明に基づいて、その優先権の基礎とされた先の出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、同法第１２３条第１項第２号の規定に該当し、無効とすべきものである。
無効理由３：本件特許は、発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号の規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第１２３条第１項第４号の規定に該当し、無効とすべきものである。
無効理由４：本件特許は、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第１号の規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第１２３条第１項第４号の規定に該当し、無効とすべきものである。
無効理由５：本件特許は、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号の規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第１２３条第１項第４号の規定に該当し、無効とすべきものである。　
　ここで無効理由３〜５は、具体的には、請求項１のＣｒ酸化物の特定についての記載不備を根拠とする無効理由３−２、４−２、５−１、請求項１の酸化物相の平均面積の特定についての記載不備を根拠とする無効理由３−３、５−２、本件特許明細書の段落００２９の金属Ｃｒの自然酸化についての記載不備を根拠とする無効理由３−１、４−１、請求項３の比抵抗の特定についての記載不備を根拠とする無効理由３−４、４−３、請求項２の組成限定についての記載不備を根拠とする無効理由５−３である。 
２．被請求人
　被請求人は、乙第１〜１８号証（以下、「乙１〜１８」という。）を提出し「本件審判の請求は成り立たない。審判費用は、請求人の負担とする。」との審決を求めている。
第４．証拠方法
　甲１：特開２００７−３１８０８号公報
　甲２：国際公開第２００７／０８０７８１号
　甲３：特開２００１−２３６６４３号公報
　甲４：豊島製作所カタログ「SPUTTERING TARGETS MOCVD」2003.3
　甲５：理科年表平成17年「金属の固有抵抗と温度係数」
　　　（兵神装備株式会社編「エンジニアズブック第18版」173頁援用）
　甲６：社団法人日本化学会編「化学便覧基礎編改訂4版」
　　　　平成11年11月30日、丸善株式会社、II-493
　　　「表13・9　無機化合物の電気抵抗率」
　乙１：特開平１０−８８３３３号公報
　乙２：特開２００４−３３９５８６号公報
　乙３：特開２００７−３１８０８号公報（甲１に同じ）
　乙４：特許第４４２２５７４号公報
　乙５：特開２００９−２１５６１７号公報
　乙６：田中貴金属工業株式会社　山本　俊哉作成
　　　　「陳述書（４）（第３３６０号事件）」平成26年5月24日
　乙７：東京大学　山口　周作成「見解書」平成26年2月13日
　乙８：堺化学工業株式会社「球状シリカ Sciqas Series」2016.4.5作成
　乙９：Nicholas F.Szabo and Prabir K.Dutta 
       Correlation of sensing behavior of mixed potential sensors
　　　　with chemical and electrochemical properties of electrodes 　
　　　　Solid State Ionics 171(2004)183-190
　乙10：Product Specification AlfaAesar 12285,April 14,2016
　乙11：高校生のための入門講座「メカニカルアロイングってなに？」
　　　　東北大学　工学部　材料科学総合学科　4/19/2016
　　　　http://www.material.tohoku.ac.jp/dept/lecture_02.html
　乙12：石原　知「微細組織制御による難加工性材料の高温変形能向上」
　　　　（大阪大学博士論文）http://hdl.handle.net/11094/861
　　　　Osaka University Knowledge Archive
　乙13：鈴木　達「金属−ヘプタン系のメカニカルアロイングにおける
　　　　反応過程とその成型体に関する研究」
　　　　（早稲田大学博士論文）1995.3
　乙14：「ＳＰＳプロセスの原理とメカニズム」4/19/2016
　　　　http://sps.fdc.co.jp/jp/whats/whats4.html
　乙15：特開２０１６−１７２１５号公報
　乙16：高野光司　外４名「オーステナイト系ステンレス鋼の酸化物
　　　　の分散を利用した結晶粒径調整」、鉄と鋼Vol.89(2003)No.5
　乙17：「不動態化現象」出所不明
　乙18：ＪＸ金属株式会社　高見　英生作成
　　　　「陳述書」平成28年4月28日
第５．書証の関連記載
　甲１（乙３）
摘示1-A（【０００２】）
「・・・これに適用可能な磁気記録膜の一つとしてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２グラニュラ磁気記録膜が提案されており、このＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２グラニュラ磁気記録膜はＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基焼結合金相とシリカ相の混合相を有する複合ターゲットを用いてマグネトロンスパッタ法により作製することができることが知られている（非特許文献１参照）。
　この複合ターゲットは、通常、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末およびＣｏ粉末の各要素粉末を混合した混合粉末、またはＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基合金粉末に、シリカ粉末を、シリカ：２〜１５質量％、Ｃｒ：３〜２０質量％、Ｐｔ：１５〜４５質量％を含有し、残部：Ｃｏからなる組成となるように配合し混合したのち、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスすることにより作製されるが、前記シリカ粉末として高温火炎加水分解法で製造されたシリカ粉末を使用し、複合ターゲットの素地中に分散するシリカ相を１０μｍ以下の極めて細かい組織とすることによってパーティクルの発生を少なくしている（特許文献１、特許文献２などを参照）。」
摘示1-B（【０００４】）
「そこで、本発明者は、一層パーティクル発生の少ないＣｏ基焼結合金からなるスパッタリングターゲットを得るべく研究を行なったところ、
（ａ）従来から知られているシリカ：２〜１５質量％、Ｃｒ：３〜２０質量％、Ｐｔ：１５〜４５質量％を含有し、残部：Ｃｏからなる組成を有するターゲットに酸化クロムを微量添加したスパッタリングターゲットは、スパッタリング中に発生するパーティクルの数が著しく減少する、
（ｂ）前記酸化クロムの含有量は０．０１〜０．５質量％の範囲内の極めて微量であることが好ましい、などの知見を得たのである。」
摘示1-C（【０００６】【０００７】）
 「この発明の磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットに含まれる酸化クロムの量を０．０１〜０．５質量％に限定した理由は、酸化クロムが０．０１質量％未満ではパーティクル発生を抑制する作用が十分でなく、一方、酸化クロムを０．５質量％を越えて含有すると酸化クロム自身が異常放電の起点となり、かえってパーティクルの発生が増大するので好ましくない理由によるものである。
　酸化クロムを含む磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットがスパッタリングに際してパーティクルの発生を抑制する理由は、粒界に析出した酸化クロムが、同じく粒界に分散しているシリカ粒子とＣｒ−Ｐｔ−Ｃｏ合金結晶粒との接着性を高め、スパッタリング中にシリカ粒子が剥離飛散するのを防止するためであると考えられるが明らかではない。」
摘示1-D（【００１０】）
「原料粉末として、平均粒径：１０μｍのＣｏ粉末、平均粒径：１５μｍのＣｒ粉末、平均粒径：１５μｍのＰｔ粉末、平均粒径：３μｍの結晶質ＳｉＯ２粉末および平均粒径：１μｍのＣｒ２Ｏ３粉末を用意した。
  この用意した原料粉末であるＣｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、ＳｉＯ２粉末およびＣｒ２Ｏ３粉末を、Ｃｒ２Ｏ３粉末の添加量を変えて表１に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末：１ｋｇをジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工することにより直径６インチ、厚さ：３ｍｍの寸法を有し表１に示される成分組成を有する本発明ターゲット１〜９、比較ターゲット１〜２および従来ターゲットを作製した。・・・」
摘示1-E（【表１】）
　甲２      
摘示2-A（【００２２】）
「（実施例１）
 焼結原料粉末として、粒径がそれぞれ5μm未満のCo微粉、Cr微粉、Pt微粉の磁性材料を使用し、これに対して、平均粒径1μmのSiO2粉を用いた。これを94（74Co-10Cr-16Pt）-6 SiO2（mol%）となるように秤量し、これらを湿式ボールミルで100時間混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、ホットプレス法により、1200°Cで1時間焼結し、94（74Co-10Cr-16Pt）-6 SiO2からなる強磁性体材料のターゲットを得た。
 このターゲットの相対密度は98％であり、高密度のターゲットが得られた。この結果を表１に示す。また、このターゲットの研磨面のSEM画像を図５に示す。図５に示すように、細紐状の微細なSiO2粒子が分散していた。
　この場合の、非磁性材であるSiO2粒子内の任意の点から界面に向けて垂線を下ろした場合の、界面までの距離は1μm以下の範囲内にあった。すなわち、非磁性材料粒子内の任意の点を中心に形成した半径1μmの全ての仮想円よりも小さいか、又は該仮想円と強磁性材と非磁性材の界面との間で、少なくとも２点以上の接点又は交点を有する形状及び寸法を備えるという本願発明の条件を満たしていた。」
摘示2-B（【００２７】）
「（実施例３）
　焼結原料粉末として、粒径がそれぞれ5μm未満のCo微粉、Cr微粉、Pt微粉の磁性材料を使用し、これに対して、平均粒径1μmの市販のCr2O3粉を用いた。これを94（74Co-10Cr-16Pt）-8 Cr2O3（mol%）となるように秤量し、これらをボールミルで100時間混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、ホットプレス法により、1200°Cで1時間焼結し、94（74Co-10Cr-16Pt）-8 Cr2O3（mol%）からなる強磁性体材料のターゲットを得た。
　このターゲットの相対密度は98％であり、高密度のターゲットが得られた。この結果を表１に示す。また、このターゲットの研磨面のSEM画像を図７に示す。図７に示すように、紐状の微細なCr2O3粒子が分散していた。
　この場合の、非磁性材であるCr2O3粒子の任意の点から界面に向けて垂線を下ろした場合の、界面まで長さは、2μm以下の範囲内にあった。すなわち、非磁性材料粒子内の任意の点を中心に形成した半径2μmの全ての仮想円よりも小さいか、又は該仮想円と強磁性材と非磁性材の界面との間で、少なくとも２点以上の接点又は交点を有する形状及び寸法を備えるという本願発明の条件を満たしていた。」
摘示2-C（図５）　　　　　　　　　摘示2-D（図７）
　甲３
摘示3-A（【００１１】【００１２】）
「具体的には本発明における磁気記録媒体製造用スパッタリングターゲットは、非磁性基体上に少なくとも非磁性下地層、磁性層、および保護層を順次積層してなる磁気記録媒体の前述の磁性層を成膜する時に使用され、該スパッタリングターゲットは、金属と酸化物との混合体からなり、該スパッタリングターゲット中の酸化物の粒径が１０μｍ以下である。好ましくはこのスパッタリングターゲット中の酸化物の粒径は５μｍ以下である。
ここで、前述のスパッタリングターゲットは、少なくともＣｏおよびＰｔを含む合金と、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、およびＣｒよりなる群から選択された少なくとも１つの酸化物とからなる混合体であることが好ましい。」
　甲４
摘示4-A
　甲５
摘示5-A
　甲６
摘示6-A
　乙５
摘示5-a（【請求項７】）
「コバルト、クロム、および白金からなるマトリックス相と、少なくとも酸化クロムを含む２種以上の金属酸化物からなる酸化物相とを含有し、該酸化物相が平均粒径３μｍ以下の粒子を形成してなり、かつ、
  該酸化物相が、酸化クロムと、Ｓｉからなる金属酸化物とを含み、
  スパッタリングターゲット材１００ｍｏｌ％中、酸化クロムの含有量が１．２〜１２．０ｍｏｌ％、Ｓｉからなる金属酸化物の含有量が１．５〜１１．９ｍｏｌ％であることを特徴とするスパッタリングターゲット材。」
摘示5-b（【００１５】【００１６】）
「本発明のスパッタリングターゲット材を得るには、まずコバルト、クロムおよび白金を含む金属と、少なくとも酸化クロムを含む２種以上の金属酸化物とからなる粉末を用いる。該粉末は、以下の方法により、粉末（Ａ）から得られる粉末（Ｂ）を用いる。
　粉末（Ａ）は、ＣｏとＣｒとの合金と金属酸化物とをメカニカルアロイングすることにより得る。まずＣｏとＣｒとの合金をアトマイズする。この場合に原料として用いる合金は、Ｃｒ濃度が、通常５〜９５原子％、好ましくは１０〜７０原子％である。この合金をアトマイズすることにより、粉末を得る。」
摘示5-c（【００２３】）
「上記粉末（Ａ）の粉砕率は、通常３０〜９５％、好ましくは５０〜９５％、より好ましくは８０〜９０％である。粉砕率が上記範囲であると、粉末（Ａ）を充分に微細化してターゲット内における酸化物相からなる粒子をより微細化し、該粒子をコバルト、クロムおよび白金からなる金属相内に均質に分散させることができるとともに、粉砕率の上昇に伴い増加する傾向にあるジルコニウムまたは炭素などの不純物の混入を適度に抑制することができる。」
　乙６
摘示6-a（２頁２〜６行）
「上記の点を明らかにするため、セミコンライト社サンプル１再製品について、再度EPMA分析を行いました。その結果、甲４の図５と全く同じ結果を得ました。また同じ条件で、非磁性材の大きな粒子を分析したところ、SiとOが良く一致し、SiO2であることが確かめられましたので、以下の通り陳述しいます。」
　乙７
摘示7-a（３頁「2-1-1　結論」）
「Co-Cr-Ptを成分とするアトマイズ合金粉とSiO2粉末とを混合して焼結することにより、Co-Cr-Pt-SiO2系ターゲットを製造する場合、Co-Cr-PtのCrはCo-Cr-Ptを成分とするアトマイズ合金粉の外側（表面）で酸化する。したがって、焼結過程において、Co-Cr-Ptを成分とするアトマイズ合金粉の外側に生成されたCr2O3がSiO2と接触し、SiO2の成長を妨げる作用を奏する。」
　乙８
摘示8-a
　乙９
摘示9-a（１８４頁左欄２２〜２３行）
「Cr2O3   powder(99% metals basis) was obtained from Alfa Aeser.」
（訳）Cr2O3粉末（99％金属ベース）は、Alfa Aesarから入手した。
摘示9-b（１８５頁左欄１２〜２３行）
「Flesh Cr2O3 powder did not have a uniform size distribution. Small particles of ＜200 nm as well as larger structures were observed,as shown in Fig.3.」
（訳）未使用のCr2O3粉末は、均一の大きさの分を有していなかった。図３に示すように、200ｎｍ未満の小さな粒子が大きな構造と同様に観察された。」
摘示9-c（１８５頁図３）
　乙１０
摘示10-a
「Product Number:    12285
  CAS number:        1308-38-9
  MDL number:        MFCD00010949
  Molecular formula: Ｃｒ２Ｏ３   」
　乙１１
摘示11-a
「・・・メカニカルアロイングはその一つで、不活性雰囲気中でのボールミル(図1)時におけるボールの衝突エネルギーを利用して、図２のように粉末同士の折りたたみと圧延を繰り返し起こさせることにより、微細に混合してゆく方法です。・・・」
　乙１２
摘示12-a（１０頁下から７〜３行）
「メカニカルアロイング（機械的合金化）とは，純金属や合金の粉末に機械的エネルギーをくわえることにより，目的の合金を得る方法である。原料粉末とボールを密閉した容器に入れ，撹拌または振動を連続して加えると，粉末に塑性変形，粉砕，凝着が繰り返され，組織と組成が均質化した合金粉末が得られる。粉末表面の酸化膜も粉砕されて微細に分散する。」
　乙１３
摘示13-a（１頁３〜６行）
「メカニカルアロイング（Mechanical Alloying：ＭＡ）はボールミル中で金属粉末を撹拌して合金化する方法で、1970年にBenjaminにより耐熱強度に優れた超合金を作成する方法として開発された。Ｎｉ，Ｃｒなどの原料粉末と少量のＹ２Ｏ３粉末を高エネルギーボールミルにより混合し、粉末の粉砕と圧接を繰り返して合金化を行なう。」
摘示13-b（５頁）
「通常、ＭＡによる合金化の進行過程は３段階に分けて説明される。第１段階では原料粉末粒子は冷間圧接により扁平化あるいは片状化されて二次凝集する。その複合体粒子中にはまだ出発原料が残り、二次粒子ごとに組成の偏りができている。酸化物などの硬度の高い分散物が存在する場合は一次粒子の界面に沿って分布する。第２段階では、複合体粒子はKneading効果が進み層状構造をもつようになりラメラ組織が発達する。ミリングが進むにつれてこのラメラ組織の層間隔は狭くなり、分散物がある場合にはKneading効果により粒内に微細に取り込まれる。第３段階ではラメラ組織はランダム化し、ついには光学顕微鏡や走査型電子顕微鏡では識別できない程度まで微細に均一化する。組成も各々の粒子全体にわたって挿入時の混合組成で均一になる。粉砕と凝着が釣り合い粒径は一定に近づく。このミリング進行過程の３段階を模式的に表したのがFig.1-4である。」
摘示13-c（６頁、図1-4）
　乙１４
摘示14-a（右欄９〜１４行）
「ネック形成のメカニズムは、粒子表面に局所的に気化と溶融現象が起こり、粒子間接触部にネック（頸部）というくびれた部分ができ溶着状態となります。隣接粒子間でできたネックは次第に発達し、塑性変形を起こしながら拡散部分を拡張させて最終的に密度９９％以上の高密度焼結体を合成するのです。」
摘示14-b（写真）
　乙１５
摘示15-a（【０００７】【０００８】）
「また、アーキングを低減し、安定した放電が得られ、高密度でパーティクル発生の少ない非磁性材粒子分散型磁性材スパッタリングターゲットを得るために、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｃｏ粉末、ＳｉＯ２粉末及びＣｒ２Ｏ３粉末を混合して真空雰囲気中１１５０℃でホットプレスして、ＣｒＰｔＣｏ合金相に２．０μｍ２以下の平均面積を有するＳｉＯ２酸化物相を分散させ、ＳｉＯ２酸化物相内又はその表面に０．３ｍｏｌ％以上１．０ｍｏｌ％未満のＣｒ２Ｏ３を含有するターゲットを得る方法が提案されている（特許文献３）。特許文献３には、Ｃｒ２Ｏ３粉末を添加しない場合には、ＳｉＯ２酸化物相の各粒子が大きく成長してパーティクルの発生を抑制できないことが記載されている。
・・・
【特許文献３】特許４８３７８０１号公報」
摘示15-b（【００１８】【００１９】）
「酸化物相は、金属相を磁気的に分離する機能を有する。酸化物相は、ＣｒＴｉ２Ｏ５及びＳｉＯ２を含むものであれば、他の酸化物をさらに含んでいてもよい。・・・ＣｒＴｉ２Ｏ５が存在しない場合には、ＳｉＯ２の凝集を抑制できず、ＣｒＴｉ２Ｏ５が１０ｍｏｌ％を越えて存在すると、スパッタリングターゲットの相対密度が低くなり、また磁性特性が変化してスパッタリングによって所望の磁性膜を形成することが困難となる。
　本発明において、酸化物相がＣｒＴｉ２Ｏ５及びＳｉＯ２を含むため、ＣｒＴｉ２Ｏ５が介在することでＳｉＯ２が凝集することを抑制することができる。したがって、ＳｉＯ２は石英でもアモルファスでもクリストバライトであってもよいが、自己粉砕しやすいクリストバライトである場合に本発明の効果がより発揮される。クリストバライトは金属との濡れ性が悪く、金属相と酸化物相が隣接していても密着強度が極端に低い。一方、ＣｒＴｉ２Ｏ５は金属との濡れ性がよく、金属相との密着強度が高い。」
　乙１６
摘示16-a（１２０頁左欄６〜１６行）
「そして，結晶粒を微細化するには主に基地中に分散させた炭化物や窒化物粒子の粒界ピン止め効果によって粒界の移動を抑制することが有効とされてきた。・・・その代替として、溶体化温度域でも熱力学的に安定で，かつ材質に悪影響を与えないような微量な酸化物による結晶粒径の調整が期待されている。」
　乙１７
摘示17-a（９〜１２行）
「酸化剤例えば硝酸などによるステンレス鋼（12％以上のＣｒを含有する）の不動態化現象は、酸化剤の作用（電子を吸い取る）で、目に見えない透明な厚み１〜３ｎｍの水和オキシ水酸化クロム（他の元素の濃縮はない）が合金表面に形成される現象である。」
　乙１８
摘示18-a（図３）
摘示18-b（４頁１〜７行）
「４　考察
　粒度分布の測定結果によれば、メジアン径（D50）は、1.52μｍであった。
　しかしながら、そのメジアン径（D50）として算出された1.52μｍは、SEM観察したところ、数百ナノ程度の一次粒子から構成される二次粒子の径であることは明らかである。
　一次粒子が数百ナノ程度であるため、一般的に販売されている平均粒径がμｍ単位のCr2O3粉末は、二次粒子の状態であるといえる。」
第６．無効理由５について
　進歩性要件に係る無効理由１，２の検討に先立ち、まず本件発明１〜４の明確性要件に係る無効理由５について検討し、続いて、実施可能要件及びサポート要件に係る無効理由３，４を検討する。
１．無効理由５−１（審判請求書「４．（３）」の「オ（ア）」）
　請求項１に記載された本件発明１〜４共通の発明特定事項である「酸化物相内又はその表面に点在する０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満のＣｒ酸化物」について、請求人は、本件特許明細書に記載された実施例等において、Ｃｒ酸化物の存在形態が確認されていないから明確でないと主張している。
　しかしながら、実施例等による裏付けの有無は、後述するサポート要件や実施可能要件の問題であって、前記発明特定事項が、Ｃｒ酸化物の存在形態とその量を特定していることは明確であるから、該主張は採用できない。
２．無効理由５−２（同「オ（イ）」）
　請求項１に記載された本件発明１〜４共通の発明特定事項である「ＳｉＯ２を含有し、粒子を形成して分散して存在する・・・酸化物の相（以下、「酸化物相」という。）・・・酸化物相を構成する成分以外に、前記酸化物相内又はその表面に点在する・・・Ｃｒ酸化物を含有し、酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下である」について、請求人は、Ｃｒ酸化物が酸化物相に含まれるか否かが明確でないと主張している。
　しかしながら、前記発明特定事項には、Ｃｒ酸化物が「酸化物相を構成する成分以外」のものであると記載されているのだから、酸化物相に含まれないことは明確であり、該主張は採用できない。
３．無効理由５−３（同「オ（ウ）」）
　請求項２に記載された「前記金属マトリックス相が、・・・Ｃｒ：６〜４０ｍｏｌ％であり、残部がＣｏからなるＣｏ基合金であるか、又はＣｒ：６〜４０ｍｏｌ％、Ｐｔ：８〜２０ｍｏｌ％であり、残部がＣｏからなるＣｏ基合金である」との発明特定事項について、請求人は、組成が金属マトリックス相を１００ｍｏｌ％とするものかターゲット全体を１００ｍｏｌ％とするのか不明であると主張している。
　しかしながら、Ｃｒのみを含む場合も、Ｃｒ及びＰｔを含む場合も、「残部がＣｏからなるＣｏ基合金である」と記載されているのだから、金属マトリックス相を１００ｍｏｌ％とすることは明確であり、該主張は採用できない。
４．まとめ
　以上のとおりであるから、無効理由５には理由がない。
第７．無効理由３，４について
１．無効理由３−１，４−１（同「ウ（ア）」及び「エ（ア）」）
（１）発明の詳細な説明（以下、「本件明細書」ともいう。）の【００２９】には、
「・・・Ｃｒ酸化物の添加は、例えばＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−ＳｉＯ２等の、各要素粉末、あるいは合金粉末を構成する混合粉末にＣｒ２Ｏ３を均一に混合することにより得ることができる。また、粉砕・混合工程などで、Ｃｒ粉、Ｃｏ−Ｃｒ粉やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ粉を適度に自然酸化させることで、結果として、金属として存在していたＣｒの一部をＣｒ酸化物とすることによってもＣｒ酸化物の添加は可能である。」
と記載されており、これは、本発明のスパッタリングターゲットの製造工程におけるＣｒ酸化物の添加方法について、Ｃｒ２Ｏ３を混合する方法とＣｒ粉等を混合中に酸化する方法があることを示したものと認められる。
（２）これについて、請求人は、Ｃｒ粉等を混合中に酸化する方法を用いた場合の実施例がないから、本件明細書は、当業者が本件発明を実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものではないと主張し、また、当該実施例において効果が確認されていないから、本件発明は、本件明細書に記載された発明の範囲を超えたものであると主張している。
　そこで検討するに、本件発明は、物の発明であるから、その実施のためには、本件明細書において、その物を製造する方法についての具体的な記載が必要とされるが、だからといって、開示した製造方法の全てについて実施例が必要になるわけではない。そして、本件明細書には、Ｃｒ酸化物の添加方法について、Ｃｒ２Ｏ３を混合する方法を用いた場合の実施例（「実施例１，２」）は記載されている。
　してみると、本件発明が、実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものであるか否か、また、本件明細書に記載された発明の範囲を超えたものであるか否かは、この実施例の記載との関係によって判断することができる（無効理由３−２，３−３，４−２にて検討する。）。
　したがって、上記主張はいずれも採用できない。
２．無効理由３−２，４−２（同「ウ（イ）」及び「エ（イ）」）
（１）請求人は、無効理由５−１で検討した発明特定事項である「酸化物相内又はその表面に点在する０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満のＣｒ酸化物」について、本件明細書は、当業者が実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものでなく、そもそも、本件明細書に記載されたものではない旨主張している。
（２）そこで、まず発明の課題について検討するに、本件明細書の【０００６】には、
「・・・Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔなどの金属とＳｉＯ２などの酸化物を含有する磁性材ターゲットの場合、ＳｉＯ２などの酸化物に導電性がないので、ターゲット表面に露出する酸化物相の各粒子の面積が大きいと、スパッタリング時にパーティクル発生が増加するという問題があり、それを解決するために、酸化物相の各粒子の面積を出来るだけ小さくする必要があった。」
と記載され、同【００１１】には、
「一般に、上記のようなマグネトロンスパッタ装置で非磁性材粒子分散型磁性材スパッタリングターゲットをスパッタしようとすると、酸化物粒子を基点にアーキングを起こし、放電が安定しないという大きな問題が生じやすくなる。この問題を解決するには、ＳｉＯ２を均一に分散させることが有効である。本発明は、アーキングを低減し、マグネトロンスパッタ装置で安定した放電が得られ、かつ、高密度でスパッタ時に発生するパーティクルの少ない非磁性材粒子分散型磁性材スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。」
と記載されている。
　してみると、本発明の課題は、スパッタリングターゲットにおけるアーキングやパーティクルの発生防止であり、具体的には、パーティクルの発生防止のために酸化物相（ＳｉＯ２）の面積を小さくし、アーキングの発生防止のために酸化物相（ＳｉＯ２）を均一に分散させることであると認められる。
（３）これに対し、上記発明特定事項について、同【００２４】〜【００２６】には、
「本願発明は、これを解決するものである。すなわち、その解決手段として、焼結時に、ＳｉＯ２を含有する酸化物の表面、あるいは酸化物粒子の間隙に、同じ温度においては拡散速度がはるかに遅い高融点酸化物の微粒子を介在させることにより、ＳｉＯ２を含有する酸化物同士の凝集を抑えることを提案するものである。・・・以上を実現する手段として、Ｃｒ酸化物の高融点酸化物を０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満添加する。・・・上記Ｃｒ酸化物の添加量が０．３ｍｏｌ％未満であると、ＳｉＯ２の粒子が凝集し、ＳｉＯ２の平均粒子面積２．０μｍ２以下を達成することができない。その結果パーティクルの発生が低減できない。他方、Ｃｒ酸化物の添加量が１．０ｍｏｌ％以上であると、磁性特性が変化し、所定の特性を有する磁性膜を作成することが困難となる。」
と記載されており、ここで焼結時の「酸化物粒子の間隙」は焼結後に「酸化物相内」になるものと解される。
　してみると、これらの記載から、上記発明特定事項のうちＣｒ酸化物が「酸化物相内又はその表面に点在する」ことについては、酸化物同士の凝集を抑えることによって、酸化物相の面積は小さくなり、また、酸化物相が均一に分散すると解されるから、上記課題を解決する手段と認めることができる。しかしながら、Ｃｒ酸化物が「０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満」であることについては、スパッタリングターゲットを製造する際のＣｒ酸化物の添加量として説明されており、これが直ちに「酸化物相内又はその表面に点在する」量を意味するとは認められない。
　そこで、Ｃｒ酸化物の添加量と「酸化物相内又はその表面に点在する」量との関係について検討する。
（４）Ｃｒ酸化物の添加について、本件明細書の【００２９】には、
「・・・Ｃｒ酸化物の添加は、例えばＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−ＳｉＯ２等の、各要素粉末、あるいは合金粉末を構成する混合粉末にＣｒ２Ｏ３を均一に混合することにより得ることができる。また、粉砕・混合工程などで、Ｃｒ粉、Ｃｏ−Ｃｒ粉やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ粉を適度に自然酸化させることで、結果として、金属として存在していたＣｒの一部をＣｒ酸化物とすることによってもＣｒ酸化物の添加は可能である。」
ことが記載されており、【００３１】【００３２】には、
「（実施例１）
　実施例１では、原料粉末として、平均粒径１μｍのＣｏ粉末、平均粒径２μｍのＣｒ粉、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径を０．６μｍのＣｒ２Ｏ３粉末を用意した。
　これらの粉末をターゲットの組成が１２．００Ｃｒ−７．５８ＳｉＯ２−０．７５Ｃｒ２Ｏ３−残部Ｃｏ（ｍｏｌ％）となるように、Ｃｏ粉末７９．７３ｗｔ％、Ｃｒ粉末1０．６０ｗｔ％、ＳｉＯ２粉末７．７３ｗｔ％、Ｃｒ２Ｏ３粉末１．９４ｗｔ％、の重量比率でそれぞれ秤量した。
　次に、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１５０°Ｃ、保持時間９０分、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で切削加工して直径が１８０ｍｍ、厚さが７ｍｍの円盤状のターゲットを得た。」
こと、さらに【００３８】【００３９】には、
「（実施例２）
　実施例２では、原料粉末として、平均粒径１μｍのＣｏ粉末、平均粒径２μｍのＣｒ粉末、平均粒径２μｍのＰｔ粉末、平均粒径２μｍのＲｕ粉末、平均粒径２μｍのＴａ２Ｏ５粉末、平均粒径１μｍのＳｉＯ２粉末、平均粒径を０．６μｍのＣｒ２Ｏ３粉末を用意した。
　次に、これらの粉末をターゲットの組成が１６Ｃｒ−１８Ｐｔ−４Ｒｕ-１Ｔａ２Ｏ５-６ＳｉＯ２−０．７５Ｃｒ２Ｏ３残部Ｃｏ（ｍｏｌ％）となるように、それぞれ秤量した。
　次に、Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｒｕ粉末、ＳｉＯ２粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、２０時間回転させて混合した。
　この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度１１５０°Ｃ、保持時間２時間、加圧力３０ＭＰａの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が１８０．０ｍｍ、厚さが７．０ｍｍの円盤状のターゲットへ加工した。」
ことが記載されている。
　これらの記載から、本発明のスパッタリングターゲットは、Ｃｒ酸化物粒子（Ｃｒ２Ｏ３粉末）を、金属粒子（Ｃｏ粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末及びＲｕ粉末）や酸化物相粒子（ＳｉＯ２粉末及びＴａ２Ｏ５粉末）と一緒に混合して製造されるものと認められる。 
　してみると、技術常識に照らし、このような製造方法では、各粒子の体積比や個数比からみて、Ｃｒ酸化物粒子の大多数が、焼結時に、酸化物相粒子と同様に、金属粒子の表面や間隙に介在するものとなり、焼結後に、酸化物相同様、金属マトリックス相中に分散することになる（下記※配合表及び模式図Ａ参照）から、焼結時に、酸化物相粒子の表面や間隙に粒子として介在し、焼結後に、酸化物相内又はその表面に点在するＣｒ酸化物が存在するとしても、その量は添加量の一部にすぎないと解される。
　
※配合表（当審作成）
（式量や密度は理論値、重量比と粉末粒径は実施例１のもの。）
※模式図Ａ（当審作成）
（５）したがって、「酸化物相内又はその表面に点在する０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満のＣｒ酸化物」なる発明特定事項は、そもそも本件明細書に記載されたものではなく、当然に、本件明細書に実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものでもない。
（６）これについて、被請求人は、口頭審理陳述要領書の「６−２−５」及び「６−２−６」において、本件明細書に記載された混合方法では、Ｃｒ酸化物粒子も酸化物粒子も大きな粒径を有する金属粒子の粒界を伝わって入り込み、焼結後に、金属又は合金マトリックス相の結晶粒界に互いに接するように存在すると主張し、乙３（甲１）及び乙５を提出している。
　そこで検討するに、甲１には、本件明細書記載の実施例同様、ＳｉＯ２粉末およびＣｒ２Ｏ３粉末をＣｏ粉末等と一緒にボールミルで混合して製造したスパッタリングターゲット（摘示1-D）について、粒界に析出した酸化クロムが、同じく粒界に分散するシリカ粒子と合金結晶粒との接着性を高めること（摘示1-C）が記載されているが、これは、酸化クロムがシリカ粒子と同様に粒界に分散して析出することから、シリカ粒子と合金結晶粒との接着性に関与する可能性を示唆したものにすぎず、酸化クロムの全てがシリカ粒子に接して析出することを記載したものではない。
　また、乙５には、酸化物相としてＳｉからなる金属酸化物と共に酸化クロムを含むスパッタリングダーゲット材（摘示5-a）において、本件明細書記載の実施例とは異なり、メカニカルアロイングによって金属酸化物を均質分散させた金属粉末を用いること（摘示5-b，5-c）が記載されているにすぎず、酸化クロムとＳｉからなる金属酸化物が接していることが記載されているわけではない。
　したがって、上記主張は採用できない。
（７）さらに、被請求人は、意見書の「６−３」〜「６−６」において、ＳｉＯ２粉末は一次粒子であるがＣｒ２Ｏ３粉末は二次粒子であるから、メカニカルアロイングによりＣｒ２Ｏ３粉末は粉砕されて、ＳｉＯ２粉末と共に粒子状に分散し、焼結工程におけるネックの形成に伴い、両酸化物粒子が接するように金属粒界の隙間に取り残された状態で焼き固められ、Ｃｒ２Ｏ３粒子がＳｉＯ２粒子の粒成長を抑えるピン止め効果を奏する旨主張し、乙８〜１８を提出している。
　そこで検討するに、乙８には粒径の揃った球状シリカ（摘示8-a）が記載されているが、乙１５には自己粉砕するシリカ粒子（摘示15-b）も記載されている。また、乙１８に記載されているように、市販のＣｒ２Ｏ３粉末が数百ｎｍ程度の一次粒子から構成されている（摘示18-a,b）ならば、本件明細書記載の実施例で使用した平均粒径０．６μｍ（＝６００ｎｍ）のＣｒ２Ｏ３粉末は一次粒子であるかもしれない。よって、メカニカルアロイングした場合に、Ｃｒ２Ｏ３粉末のみが主に粉砕されるとはいえない。
　さらに、そもそも本件明細書記載の実施例は、ボールミルを用いて原料粉末を混合し、混合粉にしているのであって、乙１３に記載されているような高エネルギーボールミルを用いて原料粉末をメカニカルアロイングし、合金粉にしている（摘示13-a）ものとは認められない。しかも、仮にメカニカルアロイングしていたら、酸化物は合金粉の粒内に取り込まれてしまう（摘示13-b,c）から、焼結工程で金属粒界に取り残されることはない（下記※模式図Ｂ参照）。
　また、乙１４に記載されているようなネックの形成（摘示14-a,b）は、各酸化物粒子のまわりで同時に生じるはずだから、分散した酸化物粒子が、これにより互いに接する方向へのみ移動することは考えられないし、乙１６に記載されているのは、分散した酸化物粒子が、金属結晶粒界をピン止めして金属結晶粒の粒成長を抑制する（摘示16-a）ことであって、他の酸化物の粒成長を抑制することではない。
　なお、本件特許公報を引用している（摘示15-a）乙１５には、ＣｒＴｉ２Ｏ５が介在することでＳｉＯ２が凝集することを抑制する（摘示15-b）ことが記載されているが、ＣｒＴｉ２Ｏ５粒子がＳｉＯ２粒子の表面に接しているとは記載されていない。金属相中のＳｉＯ２粒子の凝集が拡散によるのであれば、拡散経路である金属粒界にＣｒＴｉ２Ｏ５粒子が存在すれば、接していなくても効果を奏するものと解される。
　すなわち、上記主張は、本件明細書の記載に基づくものではないし、乙号証の記載によって裏付けられているものでもない。
　したがって、上記主張は採用できない。
※模式図Ｂ（当審作成）
３．無効理由３−３（同「ウ（エ）」）
（１）請求人は、無効理由５−２で検討した発明特定事項である「ＳｉＯ２を含有し、粒子を形成して分散して存在する・・・酸化物の相（以下、「酸化物相」という。）・・・酸化物相を構成する成分以外に、前記酸化物相内又はその表面に点在する・・・Ｃｒ酸化物を含有し、酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下である」について、本件明細書は、当業者が実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものでない旨主張している。
（２）そこで、酸化物相の各粒子の平均面積の測定方法について検討するに、本件明細書の【００２９】には、
「ＳｉＯ２粒子の１つあたりの平均面積は、顕微鏡観察画像を画像処理することで求めることができる。・・・」
と記載され、同【００３３】には、
「・・・実施例１のターゲットの研磨面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したときの組織画像を図１に示す。この図１の組織画像に示すように、上記実施例１において極めて特徴的なのは、マトリックス合金相の中に、ＳｉＯ２粒子が微細に分散していることである。図１において、細かく分散しているのがＳｉＯ２粒子である。また、酸化物相の各粒子の平均面積は１．６μｍ２であった。・・・」
ことが記載されている。
　しかしながら、上記「第７．２．（４）」にて検討したところによれば、実施例１にて焼結後に確認される分散粒子には、ＳｉＯ２粒子のほかにＣｒ２Ｏ３粒子が無視できない数で存在し、ここで、ＳｉＯ２粒子とＣｒ２Ｏ３粒子をそれぞれ単独で分散させた甲２記載の実施例（摘示2-A，2-B）の組織画像（摘示2-C，2-D）によれば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の組織画像では、ＳｉＯ２粒子とＣｒ２Ｏ３粒子の区別はできないものと認められる。
　してみると、本件明細書に記載された実施例１，２では、酸化物相粒子（ＳｉＯ２粒子及びＴａ２Ｏ５粒子）の面積を、酸化物相に含まれないＣｒ２Ｏ３粒子の面積と区別して測定していないことになるから、算出された平均面積が２．０μｍ２以下であっても、それは酸化物相の各粒子（ＳｉＯ２粒子及びＴａ２Ｏ５粒子）の平均面積が２．０μｍ２以下になったことを意味するのではなく、ＳｉＯ２粒子より微細なＣｒ２Ｏ３粒子の面積が算入された結果であると解される。
（３）したがって、「ＳｉＯ２を含有し、粒子を形成して分散して存在する・・・酸化物の相（以下、「酸化物相」という。）・・・酸化物相を構成する成分以外に、前記酸化物相内又はその表面に点在する・・・Ｃｒ酸化物を含有し、酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下である」なる発明特定事項について、本件明細書は、当業者が実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものではない
　
（４）これについて、被請求人は、口頭審理陳述要領書の「６−２−７」において、Ｃｒ酸化物は、基本的にＳｉＯ２の酸化物相の中又はその表面に存在し、単独で存在することはないから、Ｃｒ酸化物も含む粒子の平均面積が２．０μｍ２以下になっているのであれば、Ｃｒ酸化物を除いた酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下であることは明らかであると主張し、乙６，乙７を提出している。
　そこで検討するに、口頭審理陳述要領書の「６−２−２」には、乙６，乙７において分析されたもの（摘示6-A，7-A）は、本件明細書記載の実施例のように、Ｃｒ酸化物をＣｒ２Ｏ３粉末によって形成したものではなく、Ｃｒ合金粉の酸化によりＣｒ酸化物が形成されたものであることが記載されている。
　してみると、Ｃｒ２Ｏ３粉末から形成されるＣｒ酸化物が粒子状であるのに対し、Ｃｒ合金粉の表面酸化により形成されるＣｒ酸化物は皮膜状のものとなるから、焼結後の存在形態は同等ではなく（下記※模式図Ｃと、上記※模式図Ａ参照）、これらの記載をもって、本件明細書記載の実施例におけるＣｒ酸化物と酸化物相粒子との存在形態が明らかになったとはいえない。
　したがって、上記主張は採用できない。
　なお、被請求人は、意見書の「６−５」において、乙６，乙７にて分析されたものも、メカニカルアロイングによって本件発明と同様の組織となる旨主張しているが、「第７．２．（７）」にて検討したとおり、本件発明が、メカニカルアロイングにより製造されたものであるとは認められないし、一方、乙６，乙７に、メカニカルアロイングをしたことについて記載はないのだから、当該主張も採用できない。
※模式図Ｃ（当審作成）
４．無効理由３−４、４−３（同「ウ（エ）」及び「エ（ウ）」）
（１）請求項３には、本件発明３の発明特定事項として、スパッタリングターゲットの「比抵抗が３．５×１０１６Ω・ｃｍ以下である」ことが記載されている。
（２）これについて、請求人は、本件明細書に記載された実施例において、製造されたターゲットの比抵抗を測定していないから、本件明細書は、当業者が本件発明３を実施可能な程度に明確かつ十分に記載されたものではないと主張し、また、本件発明３は、本件明細書に記載された発明ではないと主張している。
　そこで検討するに、甲５、甲６等の記載によれば、本件発明３のスパッタリングターゲットにおいて、金属マトリックス相を構成する合金元素のＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ及び当該マトリックス中に分散するＳｉＯ２、Ｃｒ酸化物（Ｃｒ２Ｏ３）の比抵抗（＝体積固有抵抗）が、いずれも３．５×１０１６Ω・ｃｍ以下であること（摘示5-A，6-A）は、本件特許の出願時において技術常識であったと認められる。
　してみると、本件発明３のスパッタリングターゲットの比抵抗が３．５×１０１６Ω・ｃｍ以下であることは、実施例において測定がなされていなくとも、当業者には自明なことである。
　したがって、上記主張はいずれも採用できない。
５．まとめ
　以上のとおりであるから、無効理由３−２，３−３，４−２には理由がある。
第８．無効理由１，２について
１．引用発明の認定
　甲１には、従来から知られているシリカ：２〜１５質量％、Ｃｒ：３〜２０質量％、Ｐｔ：１５〜４５質量％を含有し、残部：Ｃｏからなる組成を有するターゲット（摘示1-B）、すなわち、ＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基焼結合金相と素地中に分散する１０μｍ以下の極めて細かい組織をもったシリカ相の混合相を有する複合ターゲット（摘示1-A）に、酸化クロムを微量添加して製造されたスパッタリングターゲット（摘示1-B,1-D）の実施形態である「比較ターゲット２」及び「本発明ターゲット９」（摘示1-E）として、次の発明がそれぞれ記載されていると認められる。
「Ｃｏ基焼結合金相と素地中に分散する５．８質量％のシリカ相の混合相を有する複合ターゲットであって、前記混合相を構成する成分以外に、０．９０質量％の酸化クロムを含有し、前記シリカ相が１０μｍ以下の極めて細かい組織であるスパッタリングターゲット。」（以下、「引用発明１」という。）
「Ｃｏ基焼結合金相と素地中に分散する６．１質量％のシリカ相の混合相を有する複合ターゲットであって、前記混合相を構成する成分以外に、０．４９質量％の酸化クロムを含有し、前記シリカ相が１０μｍ以下の極めて細かい組織であるスパッタリングターゲット。」（以下、「引用発明２」という。）
２．無効理由１（同「ア（ア）〜（エ）」）
（１）発明の対比
　本件発明１と引用発明１とを対比する。
　引用発明１の「Ｃｏ基焼結合金相」「素地中に分散するシリカ相」「酸化クロム」は、それぞれ本件発明１の「Ｃｏを含有する金属マトリックス相」「ＳｉＯ２を含有し、粒子を形成して分散して存在する酸化物の相」「Ｃｒ酸化物」に相当するから、本件発明１のうち、
「Ｃｏを含有する金属マトリックス相と、ＳｉＯ２を含有し、粒子を形成して分散して存在する酸化物の相（以下、「酸化物相」という。）から構成されるスパッタリングターゲットであって、前記金属マトリックス相及び酸化物相を構成する成分以外に、Ｃｒ酸化物を含有する、Ｃｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット。」の点は、引用発明１と一致し、次の点で両者は相違する。
相違点１：本件発明１の酸化物相が、６〜１４ｍｏｌ％であるのに対し、引用発明１のシリカ相は、５．８質量％である点。
相違点２：本件発明１のＣｒ酸化物が、酸化物相内又はその表面に点在する０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満のものであるのに対し、引用発明１の酸化クロムは、０．９０質量％のものである点。
相違点３：本件発明１の酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下であるのに対し、引用発明１のシリカ相が１０μｍ以下の極めて細かい組織である点。
（２）相違点の判断
相違点１について
　引用発明１のシリカ相５．８質量％は、各成分の式量を基にモル換算すると７．６９ｍｏｌ％となるから、相違点１は実質的な差異ではない。
相違点２について
　引用発明１の酸化クロム０．９０質量％は、モル換算すると０．４７ｍｏｌ％となるから、この酸化クロムが、シリカ相内又はその表面に点在しているか否かについて検討する。
　甲１には、引用発明１が、ＳｉＯ２粉末およびＣｒ２Ｏ３粉末をＣｏ粉末等と同時にボールミルで混合して製造されること（摘示1-D）と共に、粒界に析出した酸化クロムが、同じく粒界に分散するシリカ粒子と合金結晶粒との接着性を高めること（摘示1-C）が記載されている。
　しかしながら、上記「第７．２．（６）」にて検討したように、これらの記載は、酸化クロムがシリカ粒子と同様に粒界に分散して析出することから、シリカ粒子と合金結晶粒との接着性に関与する可能性を示唆したものにすぎず、酸化クロムの全てがシリカ粒子に接して析出することを記載したものではないから、０．４７ｍｏｌ％の酸化クロムを含む引用発明１において、０．３ｍｏｌ％以上の酸化クロムがシリカ相内又はその表面に点在していることを、これらの記載から確認することはできない。
　そして、引用発明１において、０．３ｍｏｌ％以上の酸化クロムをシリカ相内又はその表面に点在させることについて、甲２〜４に記載や示唆はない（摘示2-A〜2-D，3-A，4-A）。
　してみると、相違点３について検討するまでもなく、引用発明１において相違点２を解消することが、当業者にとって容易になし得たことではない。
　
３．無効理由２（同「イ（ア）〜（エ）」）
（１）発明の対比
　本件発明１と引用発明２とを対比すると、一致点においては、引用発明１と同様であり、次の点で両者は相違する。
相違点１：本件発明１の酸化物相が、６〜１４ｍｏｌ％であるのに対し、引用発明２のシリカ相は、６．１質量％である点。
相違点２：本件発明１のＣｒ酸化物が、酸化物相内又はその表面に点在する０．３ｍｏｌ％以上、１．０ｍｏｌ％未満のものであるのに対し、引用発明２の酸化クロムは、０．４９質量％のものである点。
相違点３：本件発明１の酸化物相の各粒子の平均面積が２．０μｍ２以下であるのに対し、引用発明２のシリカ相が１０μｍ以下の極めて細かい組織である点。
（２）相違点の判断
相違点１について
　引用発明２のシリカ相６．１質量％は、モル換算すると８．１０ｍｏｌ％となるから、相違点１は実質的な差異ではない。
相違点２について
　引用発明２の酸化クロム０．４９質量％は、モル換算すると０．２６ｍｏｌ％となるから、量において本件発明１と相違する。
　そして、甲１には、酸化クロムを０．５質量％を越えて含有させることが好ましくない（摘示1-C）と記載されているから、引用発明２において、酸化クロムの含有量を０．３ｍｏｌ％以上とすることには阻害要因があり、甲２〜４にこれを覆すに足る記載はない。
　してみると、相違点３について検討するまでもなく、引用発明２において相違点２を解消することが、当業者にとって容易になし得たことではない。
４．まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明１は、甲１及び甲２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。本件発明１の発明特定事項を全て含む本件発明２〜４も同様である。
　したがって、無効理由１，２には理由がない。
第９．むすび
　
　以上のとおり、本件発明１〜４の特許は、発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号の規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、また、特許請求の範囲の記載が、同条第６項第１号の規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものでもあるから、同法第１２３条第１項第４号の規定に該当し、無効とすべきものである。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、被請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。