【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年1月30日(2020.1.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
形成したコーティングの空隙率は、コーティング及び膜を通るイオンの拡散を可能にするのに十分である必要がある。図２において、本発明の方法によりコーティングされた後の本発明の実施態様のように機能するリチウムバッテリーのセパレーター膜の例示的な構造図が示されている。典型的には、バッテリー応用で用いられるセパレーター膜２２はポリマー系であり、上記で述べられた微多孔質２３構造を有する。ポリマー膜の細孔２３のサイズは変化することができる。無機材料で形成されたコーティング２１も、多孔質構造である。リチウムバッテリーのセパレーター膜において、微多孔質ポリマー膜の空隙率は、典型的には３０〜５０体積パーセントであり、目的は、無機コーティングの空隙率が少なくとも３０体積パーセントであることである。無機材料の多孔性が基本的に貫通性であることは必須であり、このことは電解質ができる限り良好に膜を濡らすことを可能にする。多孔質材料は、レーザーアブレーションにより材料をはぎ取ること、及び典型的には１０〜１００ｎｍのナノ粒子又はこれらにより形成された粒子群が、はぎ取られた材料として確立される状況を作り出すことにより得られる。これらの粒子及び粒子群がポリマー膜の表面に蓄積した際、それらは多孔質コーティングを形成する。または、レーザーアブレーションにより実施された材料のはぎ取りは、融解した粒子又はターゲット材料からはがれた粒子を介して全体的にまたは部分的に起こり、それは、ポリマー膜の表面に無機材料のコーティングを形成する。先のメカニズムはより微細な粒子分布を製造し、その結果、細孔分布もより微細になる。実際には、コーティングは両方のメカニズムにより生成することが多く、それは、レーザーアブレーションの結果として生成したプラズマにより追加的に補完される。材料の異なる分離メカニズムを制御することにより、無機コーティングの構造及び空隙率を調節することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｌｉバッテリー中で用いられる多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）を多孔質コーティング（２１）によりコーティングする方法であって、方法が、以下の
‐短い継続時間のレーザーパルス（１２）がターゲット（１３）に適用される工程と、
‐無機材料（１４）がレーザーアブレーションによりターゲット（１３）からはぎ取られる工程と、
‐はぎ取られた無機材料（１４）がポリマー膜の表面（１５，２２，４２）の少なくとも１つの表面又は一部に向けられる工程と、
‐はぎ取られた無機材料（１４）が前記ポリマー膜の表面に付着して、少なくとも部分的に粒子で構成される多孔質コーティング（２１）が、ポリマー膜の表面（１５，２２，４２）の少なくとも１つの表面又は一部上で製造される工程と、
を含み、
‐多孔質コーティング（２１）は多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）の微細孔の閉鎖を生じることなく製造され、
‐付着した無機材料（１４）の多孔性は、電解質が多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）を濡らすことを可能にするように基本的に貫通性であり、
‐製造された多孔質コーティング（２１）の多孔性は、製造された多孔質コーティング（２１）及び多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）を通るイオンの拡散を可能にするように構成されている、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
ポリマー膜（１５，２２，４２）の表面に適用される多孔質コーティング（２１）が薄膜であり、その厚さが少なくとも５０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ポリマー膜（１５，２２，４２）の表面に適用される多孔質コーティング（２１）が薄膜であり、その厚さが最大で４０００ｎｍであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記コーティング中で用いられる無機材料が酸化物、窒化物又はホウ化物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ターゲット（１３）からほどけた無機材料（１４）及びターゲット（１３）からポリマー膜（１５，２２，４２）へ移動する無機材料（１４）が、ターゲット（１３）に適用されたレーザーパルス（１２）により達成され、個々のレーザーパルスの瞬間的な継続時間が０．５〜１０００ｐｓであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
レーザーパルス（１２）を１００ｋＨｚ〜１００ＭＨｚの繰り返し周波数で発生させることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
ポリマー膜（１５，２２，４２）の材料が、ポリエチレン又はポリプロピレンであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
ポリマー膜（１５，２２，４２）の空隙率が、２０〜７０体積パーセントであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
無機多孔質コーティング（２１）の空隙率が、２０〜７０体積パーセントであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
無機多孔質コーティング（２１）の空隙率が、３０〜５５体積パーセントであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記コーティング方法において、ポリマー膜（１５，２２，４２）が第一のロール（４１ａ）から第二のロール（４１ｂ）へ移動し、ターゲット（１３）からはぎ取られる無機材料フラックス（１４）が、レーザーパルス（１２）によりポリマー膜の表面（１５，２２，４２）の少なくとも１つの表面又は一部に同時に導かれることにより、無機材料を含むコーティングが形成されることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
レーザーパルス（１２）が回転ミラー（３１）に導かれて扇形のレーザービーム分布が形成され、レーザーパルスの本質的に線状のフロント（３３）を形成するのに用いられるテレセントリックレンズ（３２）に向けられ、ターゲット（１３）に更に向けられて前記無機材料をはぎ取ることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記レーザーアブレーション及びコーティングが、減圧チャンバー、減圧又はバックグラウンドガス中で、１０−８〜１０００ｍｂａｒの制御された圧力において生じることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
無機材料（１４）が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素であるか、または幾つかの異なる酸化物、ホウ化物、又は窒化物から構成されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
多孔質コーティング（２１）が、少なくとも２種の異なるターゲット材料（１３）を用いることにより調製された、少なくとも２つの材料層からなることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
コーティングプロセスにおいて、コーティングの厚さが最大で１００ｎｍであるように、緻密な無機コーティングが多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）上に最初に調製され、その後、更なるコーティングの空隙率が３０％より大きいように、調製されたコーティング又は多孔質ポリマー膜の反対側に更なるコーティングが実施されることを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
コーティングプロセスにおいて、コーティングの厚さが最大で１００ｎｍであるように、３０％未満の空隙率を有する無機コーティングが多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）上に最初に調製され、その後、更なるコーティングの空隙率が３０％より大きいように、調製されたコーティング又は多孔質ポリマー膜の反対側に更なるコーティングが実施されることを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
‐多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）と、
‐多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）の少なくとも１つの表面又は表面の一部の上の、少なくとも部分的に粒子で構成された無機材料（１４）の多孔質コーティング（２１）であって、該多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）の表面への無機材料（１４）の付着がレーザーアブレーションによりなされるように構成された、多孔質コーティング（２１）と、
を含む、Ｌｉバッテリーのセパレーター膜（２１，２２，４３）であって、さらに、
‐多孔質コーティング（２１）は多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）の微細孔の閉鎖を生じることなく製造され、
‐付着した無機材料（１４）の多孔性は、電解質が多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）を濡らすことを可能にするように基本的に貫通性であり、
‐製造された多孔質コーティング（２１）の多孔性は、製造された多孔質コーティング（２１）及び多孔質ポリマー膜（１５，２２，４２）を通るイオンの拡散を可能にするように構成されている、
ことを特徴とする、Ｌｉバッテリーのセパレーター膜（２１，２２，４３）。