Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月2日(2020.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
口腔ケア剤の歯間空間への供給のための薬剤であって、前記薬剤は、口腔に受容可能な放出基剤を有する粒子に含まれた１つ以上の口腔ケア剤を有し、前記粒子は、弾力的に変形可能であり、歯間空間にフィットするよう圧縮されることが可能であり、前記粒子は、最長の寸法が６ｍｍ以下であり、最短の寸法が１ｍｍ以上であり、少なくとも１つの寸法が１．５乃至３ｍｍの範囲内である、３つの直交する方向の寸法により定義される粒子サイズを持つ、薬剤。
【請求項２】
前記粒子は、複数の内部空隙を有する、請求項１に記載の薬剤。
【請求項３】
前記空隙は、分散された空気ポケットを有する、請求項２に記載の薬剤。
【請求項４】
前記放出基剤は、食用のヒドロゲルであり、特にキトサン、アルギン酸塩、カラゲナン、キサンタンガム、及びこれらの混合物から成る群から選択された材料からつくられる、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の薬剤。
【請求項５】
前記３つの寸法の全てが、１．５ｍｍ乃至２．５ｍｍの範囲内である、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の薬剤。
【請求項６】
前記粒子は、略球形の形状を持つ、請求項５に記載の薬剤。
【請求項７】
前記最長の寸法は、前記最短の寸法の１．５乃至３倍である、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の薬剤。
【請求項８】
前記粒子は、略幅広の球形の形状を持つ、請求項７に記載の薬剤。
【請求項９】
前記粒子は、粘膜接着性のものであり、好適にはゲル化キトサンを有する、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の薬剤。
【請求項１０】
前記１つ以上の口腔ケア剤は、歯垢防止剤、歯石防止剤、歯肉炎防止剤、虫歯防止剤、抗菌剤、歯周炎防止剤、鉱化剤、漂白剤、及びこれらの組み合わせから成る群から選択された、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の薬剤。
【請求項１１】
対象の歯の隣接歯間への少なくとも１つの口腔ケア剤を有する粒子の投与のためのシステムであって、前記システムは、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の薬剤及び圧力装置を有し、前記圧力装置は、前記薬剤に含まれる粒子を充填されるよう構成され、歯間空間への前記粒子の噴出を可能とするよう構成されたシステム。
【請求項１２】
前記圧力装置は、流体ジェット生成器であり、好適には口腔洗浄器である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
電動歯ブラシ、電気フロッシング装置、口腔洗浄器及びこれらの組み合わせから成る群から選択された、歯を洗浄するための歯用機器を更に有する、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１４】
対象の歯の隣接歯間へ口腔ケア剤を提供する方法であって、前記方法は、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の薬剤に含まれる粒子を提供するステップと、１つ以上の隣接歯間にフィットするよう前記粒子が十分に圧縮されることを可能とするよう前記粒子に圧力をかけるステップと、前記圧縮された粒子を供給するステップと、を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月15日(2019.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓ１：表示パネルの画像を取得するステップと、
Ｓ２：前記画像をマルチレベルのウェーブレット分解した後、一連の高周波サブバンド及び低周波サブバンドを得るステップと、
Ｓ３：各レベルの複数の方向の高周波サブバンドを係数平滑化処理し、各レベルの低周波サブバンドをコントラスト強化するステップと、
Ｓ４：処理後の高周波サブバンド及び処理後の低周波サブバンドをウェーブレット復元し、バックグラウンド抑制後の欠陥画像を得るステップと、を含み、
ステップＳ１の後、且つ、ステップＳ２の前に、ウェーブレット分解レベル数Ｊを得るステップを更に含み、
ここで、ウェーブレット分解レベル数
【数１】
2019536128.tif 000001
であり、ＴＷは画像の水平テクスチャ周期であり、ＴＨは垂直テクスチャ周期であり、ｃｅｉｌは、ある数以上の最小の整数であることを特徴とする表示パネルの自動光学検出におけるバックグラウンド抑制方法。
【請求項２】
前記画像は、純色画像であることを特徴とする請求項１に記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項３】
前記純色画像は、ピュアホワイトの画像であるか、ピュアグレーの画像であるか、ピュアレッドの画像であるか、ピュアグリーンの画像であるか、ピュアブルーの画像であることを特徴とする請求項２に記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項４】
ステップＳ２において、画像をＪレベルのウェーブレット分解後に、高周波数サブバンド及び低周波数サブバンドを計３＊Ｊ＋１個得て、
高周波数サブバンドは、水平サブバンドＨ、垂直サブバンドＶ及び対角サブバンドＤを含み、低周波数サブバンドは、近似サブバンドＡを含み、ここで、第ｊレベルのウェーブレットサブバンドは、以下のように示され、
【数２】
2019536128.tif 000002
φ及ψは、それぞれスケール関数及びウェーブレット関数であり、ｆはｊ−１レベルのウェーブレット近似サブバンドであり、近似サブバンドは、低周波サブバンドとも称し、
2019536128.tif 000003
は、それぞれ第ｊレベルのウェーブレット分解した近似サブバンド、水平サブバンド、垂直サブバンド及び対角サブバンドであり、ｊ＝1，２…，Ｊであることを特徴とする請求項１に記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項５】
ステップＳ３において、ガウスローパスフィルタリング方法を用いて前記高周波サブバンドを係数平滑化し、ここで、異なるレベル数の高周波サブバンドは、異なるガウスフィルタカーネルパラメータを採用し、前記ガウスフィルタカーネルパラメータは、
2019536128.tif 000004
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項６】
ガウスローパスフィルタリング後の画像
【数３】
2019536128.tif 000005
は、第ｊレベルのウェーブレットサブバンドが対応するガウスローパスフィルタであり、＊＊はフィルタ畳み込み操作であることを特徴とする請求項５に記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項７】
ステップＳ３において、ヒストグラム平坦化方法を用いて各レベルの低周波サブバンドをコントラスト強化処理することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項８】
ステップＳ４において、欠陥画像は、
【数４】
2019536128.tif 000006
であり、ｍ、ｎは、第ｊレベルのウェーブレットサブバンド画像の幅と高さであることを特徴とする請求項７に記載のバックグラウンド抑制方法。
【請求項９】
光源と、カメラグループと、該カメラグループと交互に行う画像取得／処理手段と、を含み、前記画像取得／処理手段は、請求項１〜４のいずれかに記載の方法を用いて、表示パネルから取得した画像データをバックグラウンド抑制処理することを特徴とする表示パネルの自動光学検出装置。
【請求項１０】
前記画像取得／処理手段は、
前記画像データをマルチレベルのウェーブレット分解後に、一連の高周波サブバンドと低周波サブバンドを得て、各レベルの複数の方向の高周波サブバンドを係数平滑化処理し、各レベルの低周波サブバンドをコントラスト強化処理するのに用いられるウェーブレット分解／処理モジュールと、
処理後の高周波サブバンドと処理後の低周波サブバンドをウェーブレット復元して、バックグラウンド抑制後の欠陥画像データを得るのに用いられるウェーブレット復元モジュールと、を含むことを特徴とする請求項９に記載の検出装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月15日(2020.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラフィックエンリッチメントを伴うテンプレートベースのカレンダイベントを提供する方法であって、
カレンダ上にイベントを作成するための要求を受け付けること、
選択のための１つ又は複数の視覚教材であって、イベントテンプレートを表す非テキストのグラフィックを含む、前記１つ又は複数の視覚教材を提示すること、
前記１つ又は複数の視覚教材からの視覚教材の選択を受け付けること、
前記イベントの１つ又は複数の特徴を推論するために、前記イベントを要求している利用者に関連する情報を前記視覚教材の選択に基づいて取得すること、
前記１つ又は複数の推論された特徴を有する提案イベントを提示すること、
前記提案イベントに対する確認及び修正の１つを受け付けること、及び
前記確認を受け付けた場合は前記提案イベントの１つを前記カレンダ上に提示し、前記修正を受け付けた場合は修正済みイベントを前記カレンダ上に提示すること
を含む、方法。
【請求項２】
前記提案イベント又は前記修正済みイベントをグラフィック及び画像の１つを用いて前記カレンダ上の背景として提示することであって、前記グラフィック及び前記画像の前記１つは前記提案イベント又は修正済みイベントに関連する、提示すること
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記１つ又は複数の視覚教材が選択のための１つ又は複数のイベントテンプレートを表し、アイコン又は絵文字を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記１つ又は複数の推論された特徴を有する前記提案イベントを提示することが、
タイトルフィールド、タイミングフィールド、場所フィールド、予定なし／予定あり状態フィールド、参加者フィールド、リマインド時間フィールド、説明フィールド、及び非公開／公開状態フィールドの１つ又は複数を予め埋めること
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記利用者の使用履歴、１人又は複数の他の利用者の使用履歴、ローカルイベントテンプレート源、及び外部イベントテンプレート源のうちの１つ又は複数から前記イベントの前記１つ又は複数の特徴を推論すること
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記外部イベントテンプレート源が、１つ又は複数のイベントテンプレートをプロモーションとして提供するサードパーティサービスを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ローカルイベントテンプレート源が組織の活動及び会議の組織データストアを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
グラフィックエンリッチメントを伴うテンプレートベースのカレンダイベントを提供するための計算装置であって、
前記計算装置と生産性サービスに関連する１つ又は複数のサーバとの間の通信を助けるように構成される通信インタフェースと、
命令を記憶するように構成されるメモリと、
前記メモリに結合される１個又は複数個のプロセッサと
を含み、前記１個又は複数個のプロセッサは前記メモリ内に記憶された前記命令と共にカレンダサービスのコンポーネントを実行するように構成され、前記カレンダサービスの前記コンポーネントは、
前記生産性サービスに関連してイベント及び会議のスケジューリングを助けるように構成されるカレンダアプリケーション、及び
カレンダ上にイベントを作成するための要求を受け付け、
選択のための１つ又は複数の視覚教材であって、イベントテンプレートを表す非テキストのグラフィックを含む、前記１つ又は複数の視覚教材を提示し、
前記１つ又は複数の視覚教材からの視覚教材の選択を受け付け、
前記イベントの１つ又は複数の特徴を推論するために、前記イベントを要求している利用者に関連する情報を前記視覚教材の選択に基づいて取得し、
前記１つ又は複数の推論された特徴を有する提案イベントを提示し、
前記提案イベントに対する確認及び修正の１つを受け付け、
前記確認を受け付けた場合は前記提案イベントの１つを前記カレンダ上に提示し、前記修正を受け付けた場合は修正済みイベントを前記カレンダ上に提示する
ように構成される視覚的イベントテンプレートモジュール
を含み、前記提案イベント又は前記修正済みイベントは前記提案イベント又は前記修正済みイベントに関連するグラフィック及び画像の１つを用いて前記カレンダ上の背景として提示される、
計算装置。
【請求項９】
前記視覚的イベントテンプレートモジュールが、
前記提案イベント又は前記修正済みイベント用の前記背景として前記カレンダ上で使用される前記グラフィック及び前記画像の前記１つを前記利用者が選択すること又は修正することを可能にする
ように更に構成される、請求項８に記載の計算装置。
【請求項１０】
グラフィックエンリッチメントを伴うテンプレートベースのカレンダイベントを提供するためのシステムであって、
生産性サービスを実行するように構成される第１のサーバと、
カレンダサービスを実行するように構成される第２のサーバと、
視覚的イベントテンプレートサービスを実行するように構成される第３のサーバと
を含み、前記視覚的イベントテンプレートサービスは、
前記カレンダサービスからのカレンダ上にイベントを作成するための要求を受け付けること、
前記カレンダサービスによって表示される選択のための１つ又は複数の視覚教材を提供することであって、前記１つ又は複数の視覚教材のそれぞれはイベントテンプレートを表す非テキストのグラフィックを含む、提供すること、
前記１つ又は複数の視覚教材からの視覚教材の選択を受け付けること、
前記イベントの１つ又は複数の特徴を推論するために、前記イベントを要求している利用者に関連する情報を前記視覚教材の選択に基づいて取得すること、
前記カレンダサービスによって表示される前記１つ又は複数の推論された特徴を有する提案イベントを提供すること、
前記提案イベントに対する確認及び修正の１つを受け付けること、及び
前記確認を受け付けた場合は前記提案イベントの１つを前記カレンダサービスによって表示される前記カレンダ上に提供し、前記修正を受け付けた場合は修正済みイベントを前記カレンダサービスによって表示される前記カレンダ上に提供すること、
を行うように構成され、前記提案イベント又は前記修正済みイベントは前記提案イベント又は前記修正済みイベントに関連するグラフィック及び画像の１つを用いて前記カレンダ上の背景として提供される、
システム。
【請求項１１】
１つ又は複数のイベントテンプレートを表す前記１つ又は複数の視覚教材がユニコード文字に基づき、それにより様々なプラットフォーム及び装置が前記１つ又は複数の視覚教材を一貫して解釈しレンダリングする、請求項１０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月20日(2020.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の主面と第２の主面との間にエッジ部を備える楕円板状導光体であって、前記第１の主面の少なくとも一部は、前記エッジ部から離れる方向に先細りになっている、楕円板状導光体と、
前記エッジ部に沿って配置される複数の固体照明要素と、
前記楕円板状導光体の前記第１の主面及び前記第２の主面の少なくとも一方にパターン状に配置される複数のアウトカップリング要素と
を含む、照明器具であって、
前記楕円板状導光体は、第１の径方向セグメントと第２の径方向セグメントとに分けられ、前記第１の径方向セグメントは、一定の厚さを有し、前記エッジ部を備え、前記第１の主面の前記少なくとも一部は、前記第２の径方向セグメントに属し、前記第１の径方向セグメントとの境界領域から前記楕円板状導光体のさらなるエッジ部に向かって先細りになっている、照明器具。
【請求項２】
前記固体照明要素を個別に制御するよう構成されるコントローラを含む、請求項１に記載の照明器具。
【請求項３】
前記コントローラを遠隔制御するための、前記コントローラに結合される無線通信モジュールを含む、請求項２に記載の照明器具。
【請求項４】
前記楕円板状導光体が円形板状導光体である、請求項１乃至３の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項５】
各径方向セグメントは、半円形セグメント又は対称的な半楕円形セグメントである、請求項１乃至４の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項６】
前記パターンは、前記第１の径方向セグメント上の第１のパターンと前記第２の径方向セグメント上の第２のパターンとを含み、前記第１のパターンは、前記第２のパターンと異なる、請求項１乃至５の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項７】
前記第１のパターンは、第１のガウス分布であり、前記第２のパターンは、前記第１のガウス分布の２倍の分布角を有する第２のガウス分布である、請求項６に記載の照明器具。
【請求項８】
前記複数のアウトカップリング要素は、前記第２の主面に設けられる、請求項１乃至７の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項９】
前記第２の主面は、前記アウトカップリング要素を形成するようテクスチャ加工されている、又は、前記アウトカップリング要素は、３Ｄ光学要素若しくは印刷された白色ドットを含む、請求項１乃至８の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項１０】
前記第２の主面は平坦である、請求項１乃至９の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項１１】
前記楕円板状導光体は、ポリカーボネート、ポリ（メチルメタクリレート）及びポリエチレンテレフタレートから選択されるポリマー材料を含む、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項１２】
前記複数の固体照明要素は、異なるスペクトル組成を有するそれぞれの光出力を生成するよう構成される固体要素を含む、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項１３】
前記第２の主面に光学的に結合される少なくとも１つの光学要素を備える、請求項１乃至１２の何れか一項に記載の照明器具。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの光学要素は、複数のレンズを含む、請求項１３に記載の照明器具。
【請求項１５】
当該照明器具は、屋外照明器具である、請求項１乃至１４の何れか一項に記載の照明器具。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月16日(2020.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光出力を有する物品において、
発光層と；
第一面、
第二面、および
少なくとも１つのエッジ面、
を有する底基板と；
前記底基板の第一面に隣接する、該底基板と前記発光層との間の多孔質の光熱処理済み光抽出層であって、該多孔質の光熱処理済み光抽出層は、１０ｎｍから１０００ｎｍの平均細孔直径を有し、無機酸化物の粒子から作られ、該粒子は、１０ｎｍから１μｍの平均直径を有する、多孔質の光熱処理済み光抽出層と；
を備え、
前記多孔質の光熱処理済み光抽出層により前記物品の光出力が１．７倍以上改善される、物品。
【請求項２】
前記多孔質の光熱処理済み光抽出層に隣接した、無機高分子から作られた平滑層をさらに備え、該無機高分子が、１．３から１．５の屈折率を有するシロキサンを含む、請求項１記載の物品。
【請求項３】
前記無機酸化物がＴｉＯ２を含む、請求項１または２記載の物品。
【請求項４】
前記光熱処理済み光抽出層が、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、またはその組合せを含む第２の無機酸化物を含む、請求項１または２記載の物品。
【請求項５】
前記発光層が、前記光熱処理済み光抽出層に隣接したＯＬＥＤ積層体を含み、存在する場合には前記平滑層が、ＰＳ  ＬＥ層と該ＯＬＥＤ積層体との間に位置している、請求項１または２記載の物品。
【請求項６】
前記底基板の第二面に対する少なくとも１つの改良をさらに含み、該改良により、前記物品の光出力が２０％以上さらに改善され、該改良が、ナノ粒子コーティング、膜、または前記底基板の第二面のエッチングを含む、請求項１または２記載の物品。
【請求項７】
光抽出が改善された物品を形成する方法において、
底基板を提供する工程；
前記底基板上に前駆体を配置する工程であって、該前駆体は、
無機酸化物を含み、１０ｎｍから１μｍの平均直径を有する第１の材料の粉末粒子と、
有機結合剤と含む、
工程；および
前記前駆体を光熱処理して、１０ｎｍから１０００ｎｍの平均細孔直径を有する多孔質の光熱処理済み光抽出層を形成する工程；
を有してなり、
前記光熱処理が、前記前駆体を、少なくとも３００から４００ｎｍの範囲内の放射線を放出する放射線源に暴露する工程を含み、前記多孔質の光熱処理済み光抽出層により、前記物品の光出力が１．７倍以上改善される、方法。
【請求項８】
前記光熱処理済み光抽出層を、無機高分子から作られた第２の層で被覆する工程、および該無機高分子に隣接して有機発光ダイオードを配置する工程をさらに含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記光抽出層に隣接して発光層を配置する工程をさらに含む、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記放射線源が、１／３ピーク値で測定して１μｓから１００ｍｓのパルス幅を有するパルス放射線源を含む、請求項７記載の方法。
【請求項１１】
前記パルスが、該パルスの初期部分を含む第１段階、および該パルスのその後の部分を含む第２段階の、少なくとも２つの異なる段階を含み、各段階が、パルスエネルギーおよびパルス持続時間を含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記第１段階が、１００〜５０００Ｊ／パルスのエネルギー／パルスおよび０．１ｍｓから１０ｍｓの持続時間を有し、前記第２段階が、１００〜５０００Ｊ／パルスのエネルギー／パルスおよび０．１ｍｓから１０ｍｓの持続時間を有する、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記光熱処理の全体時間が２０秒から１０分である、請求項７から１２いずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記光熱処理中の最高温度が１５０℃以下である、請求項７から１２いずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
光抽出が改善された物品を形成する方法において、
底基板を提供する工程；
前記底基板上に２層前駆体を配置する工程であって、該２層前駆体は、
前記底基板に隣接した第１の層であって、
１０ｎｍから１μｍの平均直径を有する無機酸化物と、
有機結合剤と、
を含む第１の層、および
前記第１の層に隣接した第２の層であって、
無機高分子平滑層、
を含む第２の層を含み、
前記第１の層と前記第２の層は実質的に混ざっていない、工程；および
前記２層前駆体に作用して、１０ｎｍから１０００ｎｍの平均細孔直径を有する光抽出層を形成する工程であって、該２層前駆体の少なくとも１つの層を光熱処理する工程を含む工程；
を有してなり、
前記光熱処理が、前記前駆体を、少なくとも３００から４００ｎｍの範囲内の放射線を放出する放射線源に暴露する工程を含み、
多孔質の光熱処理済み光抽出層により、前記物品の光出力が１．７倍以上改善される、方法。
【請求項１６】
前記第２の層に隣接して発光層を配置する工程をさらに含み、該第２の層に隣接して発光層を配置する工程が、有機発光ダイオードを平坦化層上に製造する工程を含む、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記放射線源が、１／３ピーク値で測定して１μｓから１００ｍｓのパルス幅を有するパルス放射線源を含む、請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
前記パルスが、該パルスの初期部分を含む第１段階、および該パルスのその後の部分を含む第２段階の、少なくとも２つの異なる段階を含み、各段階が、パルスエネルギーおよびパルス持続時間を含む、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記第１段階が、１００〜５０００Ｊ／パルスのエネルギー／パルスおよび０．１ｍｓから１０ｍｓの持続時間を有し、前記第２段階が、１００〜５０００Ｊ／パルスのエネルギー／パルスおよび０．１ｍｓから１０ｍｓの持続時間を有する、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記底基板が連続した可撓性シートからなり、前記方法がロール・ツー・ロール過程を含む、請求項７から１２および１５から１９いずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月27日(2019.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
量子ドット；および
散乱粒子；を含み、
前記散乱粒子は、平均粒径が１００ｎｍ〜５００ｎｍである第１金属酸化物；および平均粒径が３０ｎｍ〜５００ｎｍである第２金属酸化物；を含み、
前記第１金属酸化物は、ＴｉＯ２であり、
前記第２金属酸化物は、ＺｎＯである自発光感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記第１金属酸化物と前記第２金属酸化物の平均粒径の比は、０．１〜０．５である、請求項１に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記第１金属酸化物と前記第２金属酸化物の平均粒径の差異は、６０ｎｍ以上である、請求項２に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記散乱粒子は、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｍｏ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、ＴａおよびＩｎから選ばれる１種以上の金属の酸化物をさらに含む、請求項１に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記さらに含まれる金属酸化物は、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＢａＴｉＯ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ３Ｏ５、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、ＺｎＯ−Ａｌ、Ｎｂ２Ｏ３、ＳｎＯおよびＭｇＯから選ばれる１種以上である、請求項４に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記散乱粒子の固形分の全体１００重量部に対して前記第１金属酸化物５０〜９０重量部および前記第２金属酸化物１０重量部以上５０重量部未満で含まれる、請求項１に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記散乱粒子は、前記自発光感光性樹脂組成物の固形分の全体１００重量部に対して０．１〜５０重量部で含まれる、請求項１に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項８】
光重合性化合物、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤および溶剤よりなる群から選ばれる１以上をさらに含む、請求項１に記載の自発光感光性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の自発光感光性樹脂組成物の硬化物を含むカラーフィルター。
【請求項１０】
前記カラーフィルターは、赤色パターン層、緑色パターン層および青色パターン層よりなる群から選ばれる１以上を含む、請求項９に記載のカラーフィルター。
【請求項１１】
請求項９に記載のカラーフィルターを含む画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明の一実施形態において、前記第１金属酸化物と前記第２金属酸化物の平均粒径の比は、０．１〜０．５であってもよい。具体的に、散乱粒子として平均粒径が１００〜５００ｎｍ、好ましく１５０〜４００ｎｍである第１金属酸化物を使用することが好ましく、この際、前記第２金属酸化物の平均粒径は、前記第１金属酸化物の平均粒径の０．１〜０．５倍であるものを使用することが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明のさらに他の実施形態において、前記散乱粒子は、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｍｏ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、ＴａおよびＩｎから選ばれる１種以上の金属の酸化物をさらに含むことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
本発明のさらに他の実施形態において、前記散乱粒子の固形分の全体１００重量部に対して前記第１金属酸化物５０〜９０重量部および前記第２金属酸化物１０重量部以上５０重量部未満で含まれ得る。前記第１金属酸化物と前記第２金属酸化物が前記範囲を満たす場合、光維持率の改善効果に優れ、輝度の減少を抑制することができるので好ましい。前記第１金属酸化物が前記範囲未満の場合、光維持率の改善効果が不十分になり得、前記範囲を超過する場合、散乱効果が減少するのに伴って輝度が減少し得るので、前記範囲内で適切に使用することが好ましい。前記第２金属酸化物の含量が前記範囲未満の場合、光散乱が難しくて、輝度改善効果が不十分になり得、前記範囲を超過すると、光維持率の改善を妨害する恐れがあるので、前記範囲内で適切に使用することが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
前記光重合性化合物は、前記自発光感光性樹脂組成物の固形分の全体１００重量部に対して５〜７０重量部、好ましくは７〜６５重量部で含まれ得る。前記光重合性化合物が前記範囲内で含まれる場合、画素（ｐｉｘｅｌ）部の強度や平滑性が良好になるので好ましい。前記光重合性化合物が前記範囲未満で含まれる場合、光による光硬化度が低下して、画素パターンの形成が多少困難になり得、前記範囲を超過する場合、パターンの剥離問題が発生し得る。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月30日(2020.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近視を予防または治療するためのシステムであって、以下：
波長または周波数、デューティサイクル、およびパルス列の持続時間を含むエネルギーパラメータを備えたパルスエネルギー源であって、前記パルスエネルギー源のパラメータが、治療または予防の効果を達成するために眼組織温度を１１℃まで上昇させるように選択され、ここで、選択されたパルスエネルギー源のパラメータが、前記眼組織に永久的な損傷を与えないように、かつ眼組織における熱ショックタンパク質の活性化を刺激するように、数分間にわたる眼組織の平均温度上昇を所定レベル以下に維持する、パルスエネルギー源を包含し、
前記パルスエネルギー源のパラメータが、５３０ｎｍ〜１３００ｎｍの間の波長、１０％未満のデューティサイクル、および０．１秒〜０．６秒の間のパルス列持続時間を有するパルス光ビームを含む、システム。
【請求項２】
眼が近視であるか、または近視のリスクがあるかの判定を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記パルスエネルギー源のエネルギーパラメータが、少なくともパルスエネルギー源の適用中に眼組織温度が６℃〜１１℃の間で上昇するように選択される、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記パルスエネルギー源のエネルギーパラメータが、眼組織の平均温度上昇が数分間にわたって約１℃以下に維持されるように選択される、請求項１から３のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項５】
前記パルスエネルギー源のエネルギーパラメータが、眼組織の平均温度が６分間にわたって１℃以下に維持されるように選択される、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記パルスエネルギー源が、熱組織損傷を回避するために少なくとも所定の距離だけ分離される複数の眼組織領域に適用可能となるように形成される、請求項１から５のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項７】
前記パルスエネルギー源が第１の眼組織領域に適用可能となるように形成され、単一の治療セッション内の所定の期間の後、前記パルスエネルギー源が前記第１の眼組織領域に再適用され、前記第１の眼組織領域へのパルスエネルギーの適用の間隔の間、前記パルスエネルギー源が第２の眼組織領域に適用される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
パルス光ビームが、８８０ｎｍ〜１０００ｎｍの間の波長および２．５％〜５％の間のデューティサイクルを有する、請求項１から７のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項９】
パルス光ビームが０．５ワット〜７４ワットの間の出力を有する、請求項１から８のいずれか１つに記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月3日(2020.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置されている第１および第２高分子フィルム基板と前記高分子フィルム基板の間に存在し、液晶ホストおよび二色性染料ゲストを含む能動液晶層を有する能動液晶フィルム層を含み、
前記能動液晶層は、垂直配向状態とツイスト配向状態の間をスイッチングすることができ、
前記高分子フィルム基板は、それぞれ５５０ｎｍ波長の光に対する面内位相差が４，０００ｎｍ以上であり、
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれは延伸高分子フィルム基板であり、
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれの第１方向はＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向であり、前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれの第２方向はＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向であり、
前記第１高分子フィルム基板の第１方向と前記第２高分子フィルム基板の第１方向がなす角度が０度〜１０度の範囲内となるように配置されている、光変調デバイス。
【請求項２】
ツイスト配向状態は水平ツイスト配向状態である、請求項１に記載の光変調デバイス。
【請求項３】
第１および第２高分子フィルム基板は、それぞれ一面に電極層が形成された電極フィルム基板であり、各前記電極層が対向するように第１および第２高分子フィルム基板が配置されている、請求項１または２に記載の光変調デバイス。
【請求項４】
第１および第２高分子フィルム基板は、ポリエステルフィルム基板である、請求項１から３のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項５】
第１および第２高分子フィルム基板のそれぞれの第１方向での伸び率が２０％以上である、請求項１から４のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項６】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれにおいて、第１方向における伸び率Ｅ１と前記第１方向と垂直をなす第２方向における伸び率Ｅ２との比率Ｅ１／Ｅ２が３以上である、請求項１から５のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項７】
第１および第２高分子フィルム基板のそれぞれは、第１および第２方向の両方と４０度〜５０度の範囲内の角度をなす第３方向での伸び率（Ｅ３）が前記第１方向での伸び率（Ｅ１）に比べて大きく、前記第３方向での伸び率（Ｅ３）と前記第２方向での伸び率（Ｅ２）の比率（Ｅ３／Ｅ２）が５以上である、請求項１から６のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項８】
第１および第２高分子フィルム基板は、それぞれ第２方向での熱膨張係数（ＣＴＥ２）と第１方向での熱膨張係数（ＣＴＥ１）の比率（ＣＴＥ２／ＣＴＥ１）が１．５以上である、請求項１から７のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項９】
第２方向での熱膨張係数（ＣＴＥ２）が５０〜１００ｐｐｍ／℃の範囲内である、請求項８に記載の光変調デバイス。
【請求項１０】
第１および第２高分子フィルム基板は、それぞれ第２方向での弾性率（ＹＭ２）と第１方向での弾性率（ＹＭ１）の比率（ＹＭ１／ＹＭ２）が１．５以上である、請求項１から９のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項１１】
第１方向での弾性率（ＹＭ１）が２〜１０ＧＰａの範囲内である、請求項１０に記載の光変調デバイス。
【請求項１２】
第１および第２高分子フィルム基板は、それぞれ第２方向での最大応力（ＭＳ２）と第１方向での最大応力（ＭＳ１）の比率（ＭＳ１／ＭＳ２）が１．５以上である、請求項１から１１のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項１３】
第１方向での最大応力（ＭＳ１）が１５０〜２５０ＭＰａの範囲内である、請求項１２に記載の光変調デバイス。
【請求項１４】
ツイスト配向状態のねじれ角度が０度超過、３６０度以下である、請求項１から１３のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項１５】
左目用レンズと右目用レンズ；および前記左目用レンズと右目用レンズを支持するフレームを含むアイウェアであって、
前記左目用レンズおよび右目用レンズはそれぞれ請求項１から１４のいずれか一項に記載の光変調デバイスを含む、アイウェア。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月2日(2020.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置されている第１高分子フィルム基板および第２高分子フィルム基板と、前記第１高分子フィルム基板と前記第２高分子フィルム基板の間に存在し、液晶ホストおよび二色性染料ゲストを含む能動液晶層を有する能動液晶フィルム層とを含み、
前記能動液晶層は、水平配向状態と垂直配向状態とをスイッチングすることができ、
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板は、それぞれ、５５０ｎｍ波長の光に対する面内位相差が４，０００ｎｍ以上であり、
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれは、延伸高分子フィルムであり、
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれの第１方向は、ＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向であり、前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれの第２方向は、ＭＤ（ｍａｃｈｉｎｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向であり、
前記第１高分子フィルム基板の第１方向と前記第２高分子フィルム基板の第１方向とのなす角度が０度〜１０度の範囲内となるように配置されている光変調デバイス。
【請求項２】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板は、それぞれ、一面に電極層が形成された電極フィルム基板であり、前記各電極層が対向するように前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板が配置されている、請求項１に記載の光変調デバイス。
【請求項３】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板は、ポリエステルフィルム基板である、請求項１または２に記載の光変調デバイス。
【請求項４】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれの第１方向における伸び率が２０％以上である、請求項１から３のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項５】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれの第１方向における伸び率（Ｅ１）と前記第１方向と垂直をなす第２方向における伸び率（Ｅ２）との比率（Ｅ１／Ｅ２）が３以上である、請求項１から４のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項６】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板のそれぞれは、第１方向および第２方向の両方と４０度〜５０度の範囲内の角度をなす第３方向における伸び率（Ｅ３）が、前記第１方向における伸び率（Ｅ１）に比べて大きく、前記第３方向における伸び率（Ｅ３）と前記第２方向における伸び率（Ｅ２）との比率（Ｅ３／Ｅ２）が５以上である、請求項１から５のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項７】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板は、それぞれ、第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥ２）と第１方向における熱膨張係数（ＣＴＥ１）との比率（ＣＴＥ２／ＣＴＥ１）が１．５以上である、請求項１から６のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項８】
第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥ２）が５０〜１００ｐｐｍ／℃の範囲内である、請求項７に記載の光変調デバイス。
【請求項９】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板は、それぞれ、第２方向における弾性率（ＹＭ２）と第１方向における弾性率（ＹＭ１）との比率（ＹＭ１／ＹＭ２）が１．５以上である、請求項１から８のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項１０】
第１方向における弾性率（ＹＭ１）が２〜１０ＧＰａの範囲内である、請求項９に記載の光変調デバイス。
【請求項１１】
前記第１高分子フィルム基板および前記第２高分子フィルム基板は、それぞれ、第２方向における最大応力（ＭＳ２）と第１方向における最大応力（ＭＳ１）との比率（ＭＳ１／ＭＳ２）が１．５以上である、請求項１から１０のいずれか一項に記載の光変調デバイス。
【請求項１２】
第１方向における最大応力（ＭＳ１）が１５０〜２５０ＭＰａの範囲内である、請求項１１に記載の光変調デバイス。
【請求項１３】
左眼用レンズと右眼用レンズと、前記左眼用レンズと前記右眼用レンズを支持するフレームとを含むアイウェアであって、
前記左眼用レンズおよび前記右眼用レンズは、それぞれ、請求項１から１２のいずれか一項に記載の光変調デバイスを含むアイウェア。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月30日(2019.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の免疫原性変異ペプチドを選択するための方法であって、
（ａ）複数の変異配列を得ること、
（ｂ）疾患関連変異に由来する少なくとも１つのエピトープを同定すること、
（ｃ）前記少なくとも１つのエピトープの免疫原性に関連する複数の因子を取り込むこと、ここで前記複数の因子は、ペプチドレベルスコアを計算するために用いることができる第１の因子と、試料レベルスコアを計算するために用いることができる第２の因子とを含み、試料レベルスコアを計算するための前記第２の因子は前記疾患関連変異のクローナリティを含む、
（ｄ）前記複数の因子を重み付けること、
（ｅ）前記複数の因子の重みに基づいて前記少なくとも１つのエピトープに免疫原性スコアを割り当てること、
（ｆ）前記少なくとも１つのエピトープをランク付けすること、及び
（ｇ）前記工程（ｆ）におけるランク付け結果に基づいて少なくとも１つの免疫原性変異ペプチドを選択すること、
を含み、
前記免疫原性変異ペプチドが、Ｔ細胞応答を引き起こし得る少なくとも１つのエピトープを含む、方法。
【請求項２】
１００個以下のエピトープが選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
５０個以下のエピトープが選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
３０個以下のエピトープが選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
１０個以下のエピトープが選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記複数の因子が、ＭＨＣクラスＩ及びＭＨＣクラスＩＩによる前記少なくとも１つのエピトープの提示を対象に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ＭＨＣクラスＩを有する前記選択された少なくとも１つのエピトープの結合親和性が、１５００ｎＭ未満のＩＣ５０値である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記複数の因子がＭＨＣクラスＩ結合安定性を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記複数の因子が、タンパク質存在量、遺伝子発現、又はそれらの組み合わせを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数の因子が、細胞傷害性Ｔ細胞において免疫応答を引き起こす前記少なくとも１つのエピトープの能力を対象に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の因子が、ヘルパーＴ細胞における免疫応答を引き起こす前記少なくとも１つのエピトープの能力を対象に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の因子が、自己ペプチドに対する前記少なくとも１つのエピトープの類似性を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数の因子が、既知の抗原に対する前記少なくとも１つのエピトープの相同性を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記変異の変異頻度が少なくとも１０％である、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記変異の変異頻度が少なくとも３０％である、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記複数の因子が、コピー数を含むか、腫瘍純度を含むか、又はコピー数と腫瘍純度との両方を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記複数の因子の内の１つがヘテロ接合性の消失の状態である、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記複数の因子の内の１つがアレル本数である、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記免疫原性スコアが、ＭＨＣクラスＩ及びＭＨＣクラスＩＩによる前記少なくとも１つのエピトープの提示と、ヘルパーＴ細胞及び細胞傷害性Ｔ細胞の両方において免疫応答を引き起こす前記少なくとも１つのエピトープの能力と、前記疾患関連変異のクローナリティと、を含む複数の因子が統合されてなる、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
少なくとも１種の免疫原性変異ペプチドを選択するためのシステムであって、
コンピュータにより実行可能な手段である
（ａ）複数の変異配列を得ること、
（ｂ）疾患関連変異に由来する少なくとも１つのエピトープを同定すること、
（ｃ）前記少なくとも１つのエピトープの免疫原性に関連する複数の因子を取り込むこと、ここで前記複数の因子は、ペプチドレベルスコアを計算するために用いることができる第１の因子と、試料レベルスコアを計算するために用いることができる第２の因子とを含み、試料レベルスコアを計算するための前記第２の因子は前記疾患関連変異のクローナリティを含む、
（ｄ）前記複数の因子を重み付けること、
（ｅ）前記複数の因子の重みに基づいて前記少なくとも１つのエピトープに免疫原性スコアを割り当てること、
（ｆ）前記少なくとも１つのエピトープをランク付けすること、及び
（ｇ）前記工程（ｆ）におけるランク付け結果に基づいて少なくとも１つの免疫原性変異ペプチドを選択すること
を記憶するハードウェアメモリを含み、
前記免疫原性変異ペプチドが、Ｔ細胞応答を引き起こし得る少なくとも１つのエピトープを含む、システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月31日(2020.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信に用いられる電子装置であって、
無認可バンドがアイドルであるかどうかを検出し、
前記無認可バンドがアイドルであることが検出された場合、使用する前記無認可バンドの伝送リソースを確定するように配置される処理回路を含む電子装置。
【請求項２】
前記処理回路は、ネットワーク制御端末によって送信される第１のブロードキャスト信号を感知し、前記第１のブロードキャスト信号に基づいて前記伝送リソースを確定するように配置される、請求項１に記載の電子装置。
【請求項３】
前記処理回路は、ネットワーク制御端末によって予め設定されるリソース割り当て規則に基づいて前記伝送リソースを確定するように配置される、請求項１に記載の電子装置。
【請求項４】
前記処理回路は、予め取得されたエネルギーリソースマッピングテーブルを参照して、前記第１のブロードキャスト信号のエネルギーに基づいて前記伝送リソースを確定するように配置されており、前記ネットワーク制御端末から前記エネルギーリソースマッピングテーブルを受信するように配置される送受信回路をさらに含む請求項２に記載の電子装置。
【請求項５】
前記送受信回路は、ネットワークノードが前記無認可バンドにランダムアクセスする時、又は、前記無認可バンドにランダムアクセスした後、前記ネットワーク制御端末から前記エネルギーリソースマッピングテーブルを受信する、ように配置される請求項４に記載の電子装置。
【請求項６】
前記送受信回路は、前記エネルギーリソースマッピングテーブルを無線リソース制御シグナリング又はブロードキャストによって受信するように配置される請求項４に記載の電子装置。
【請求項７】
前記送受信回路はさらに、前記無認可バンドにおいて前記無認可バンドの伝送フィードバック情報を受信し、伝送が失敗した場合に、前記伝送フィードバック情報はさらに、再伝送リソース指示が含まれるように配置され、
前記処理回路は、前記伝送フィードバック情報に基づいて再伝送を行うことを確定する時に、前記再伝送リソース指示に基づいて、前記再伝送に使用される伝送リソースを確定するように配置される、請求項４に記載の電子装置。
【請求項８】
前記再伝送リソース指示は、チャネル保持信号を含み、前記処理回路は、前記チャネル保持信号のエネルギー値に基づいて、前記再伝送に使用される伝送リソースを確定する請求項７に記載の電子装置。
【請求項９】
前記送受信回路はさらに、認可バンドにおいて、前記無認可バンドの伝送フィードバック情報を受信するように配置され、前記処理回路はさらに、前記伝送フィードバック情報に基づいて再伝送を行うことを確定する時に、前記無認可バンドがアイドルであるかどうかを検出し、前記無認可バンドがアイドルである場合に、前記ネットワーク制御端末によって送信される第１のブロードキャスト信号を感知して、前記第１のブロードキャスト信号に基づいて、前記再伝送に使用される伝送リソースを確定するように配置され、その中、前記伝送フィードバック情報はさらに、更新されたエネルギーリソースマッピングテーブルを含む請求項４に記載の電子装置。
【請求項１０】
前記処理回路はさらに、再伝送を行う時に、再伝送の回数に基づいて前記再伝送に使用される伝送リソースを確定するように配置される請求項３に記載の電子装置。
【請求項１１】
無線通信に用いられる電子装置であって、
ネットワークノードの分布に基づいてエネルギーリソースマッピングテーブルを生成し、前記エネルギーリソースマッピングテーブルは、ネットワークノードによって受信された第１のブロードキャスト信号のエネルギーと、使用する無認可バンドの伝送リソースとの対応関係を表し、
前記エネルギーリソースマッピングテーブルに基づいて、特定のエネルギーを有する前記第１のブロードキャスト信号を生成する、
ように配置される処理回路を含む電子装置。
【請求項１２】
前記処理回路は、前記ネットワークノードの分布が変化した時に、前記エネルギーリソースマッピングテーブルを更新するように配置されており、或いは、
前記エネルギーリソースマッピングテーブルを前記ネットワークノードに送信し、前記第１のブロードキャスト信号をブロードキャストするように配置される送受信回路をさらに含む請求項１１に記載の電子装置。
【請求項１３】
前記送受信回路は、前記第１のブロードキャスト信号をディレクテッドブロードキャストする、ように配置されており、或いは、
前記送受信回路は、前記第１のブロードキャスト信号を周期的又は継続的に送信するように配置されており、或いは、
前記送受信回路は、前記ネットワークノードが前記無認可バンドにアクセスする時、又は、前記ネットワークノードが前記無認可バンドにアクセスした後、前記エネルギーリソースマッピングテーブルを送信するように配置される、請求項１２に記載の電子装置。  
【請求項１４】
前記処理回路はさらに、前記無認可バンドにおける前記ネットワークノードの伝送の結果に基づいてフィードバックを生成して、無認可バンドがアイドルであるかどうかを検出するように配置され、前記送受信回路は、前記無認可バンドがアイドルであることが検出された場合、前記無認可バンドにおいて前記フィードバックを送信し、前記伝送が失敗した場合に、前記フィードバックは、再伝送リソース指示がさらに含まれるように配置される、請求項１２に記載の電子装置。  
【請求項１５】
前記再伝送リソース指示はチャネル保持信号を含み、前記チャネル保持信号のエネルギー値は、前記ネットワークノードが再伝送に使用する伝送リソースを確定するために使用される、請求項１４に記載の電子装置。
【請求項１６】
前記処理回路はさらに、前記無認可バンドにおける前記ネットワークノードの伝送の結果に基づいてフィードバックを生成するように配置され、前記送受信回路は、認可バンドにおいて前記フィードバックを送信し、前記伝送が失敗した場合、前記フィードバックはさらに、更新されたエネルギーリソースマッピングテーブルが含まれるように配置される、請求項１２に記載の電子装置。
【請求項１７】
前記処理回路は、複数のサブキャリアが存在する場合に、サブキャリアのそれぞれに対して前記エネルギーリソースマッピングテーブルを生成するように配置される、請求項１１に記載の電子装置。
【請求項１８】
無線通信に用いられる方法であって、
無認可バンドがアイドルであるかどうかを検出することと、
前記無認可バンドがアイドルであることが検出された場合に、使用する前記無認可バンドの伝送リソースを確定することと、を含む方法。
【請求項１９】
無線通信に用いられる方法であって、
ネットワークノードの分布に基づいて、エネルギーリソースマッピングテーブルを生成し、前記エネルギーリソースマッピングテーブルは、ネットワークノードによって受信された第１のブロードキャスト信号のエネルギーと、使用する無認可バンドの伝送リソースとの対応関係を表すことと、
前記エネルギーリソースマッピングテーブルに基づいて、特定のエネルギーを有する前記第１のブロードキャスト信号を生成することと、を含む方法。