【手続補正書】
【提出日】令和2年8月11日(2020.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流を供給するシステムのための流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスであって、
ガス源からガス流を受け入れるための主要入口と、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を、当該デバイスから流れるように供給するための主要出口と、
前記ガス流の圧力が圧力閾値を超えて増加すると、前記入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を排出するように適合されている圧力開放弁と、
前記主要出口から患者への前記ガス流の流量及び圧力の少なくとも一方に基づき前記圧力閾値を動的に調節するためのセンシング機構と、
を含む、デバイス。
【請求項２】
ガス流を供給するシステムのための流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスであって、
ガス源からガス流を受け入れるための主要入口と、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を、当該デバイスから流れるように供給するための主要出口と、
前記ガス流の圧力が圧力閾値を超えて増加すると、前記入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を排出するように適合されている圧力開放弁と、
前記主要出口の流量及び圧力の少なくとも一方に基づき前記圧力閾値を動的に調節するためのセンシング機構と、
を含む、デバイス。
【請求項３】
ガス流を供給するシステムのための流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスであって、
ガス源からガス流を受け入れるための主要入口と、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を、当該デバイスから流れるように供給するための主要出口と、
前記ガス流の圧力が圧力閾値を超えて増加すると、前記入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を排出するように適合されている圧力開放弁と、
前記主要入口から前記主要出口への前記ガス流の流量及び圧力の少なくとも一方に基づき前記圧力閾値を動的に調節するためのセンシング機構と、
を含む、デバイス。
【請求項４】
ガス流を供給するシステムのための流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスであって、
ガス源からガス流を受け入れるための主要入口と、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を、当該デバイスから流れるように供給するための主要出口と、
前記ガス流の圧力が圧力閾値を超えて増加すると、前記入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を排出するように適合されている圧力開放弁と、
流量抑制部又は制限部の下流の流量及び圧力の少なくとも一方に基づき前記圧力閾値を動的に調節するためのセンシング機構と、
を含む、デバイス。
【請求項５】
前記センシング機構は、流量抑制部又は制限部を含む、
請求項１〜４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記圧力開放弁は、
前記主要入口と流体連通する弁入口と、
排出出口と、
前記弁入口と前記排出出口との間の弁座と、
付勢されて前記弁座を密閉し、圧力閾値を超えて増加する前記弁入口の入口圧によって前記弁座から変位し、前記ガス流の少なくとも一部分を前記弁入口から前記排出出口に排出する弁部材と、
を含み、
前記センシング機構は、
前記主要出口を通る前記ガス流の流量を示す差圧を検知するためのセンシング部材と、
前記主要出口を通る前記ガス流の前記流量に応じて、前記センシング部材と前記弁部材との間に作用し、前記センシング部材によって加えられる力を前記弁部材に伝達し、前記弁座に対する前記弁部材の付勢を調節する機械的リンクと、
を含む、
請求項１から５のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記センシング機構は、前記センシング部材によって検知された前記差圧を発生させ、前記主要出口を通る前記ガスの前記流量に応じて前記センシング部材を変位するための流量制限部又は抑制部を含む、請求項６に記載のデバイス。
【請求項８】
前記センシング機構は、
前記弁入口の下流の流量抑制部又は制限部と、
センシングチャンバであって、前記センシングチャンバ内に位置する前記センシング部材は前記センシングチャンバを第１のチャンバと第２のチャンバとに分割しており、前記第１のチャンバは前記流量抑制部又は制限部の上流の前記ガス流と流体連通し、前記第２のチャンバは前記流量抑制部の、又は前記流量制限部の下流の前記ガス流と流体連通し、前記流量抑制部又は制限部及び前記主要出口を通る前記ガス流により生じる差圧は前記センシング部材によって検知される、センシングチャンバと、
を含む、請求項６に記載のデバイス。
【請求項９】
前記機械的リンクは前記弁部材及び前記センシング部材に結合されており、前記主要出口を通る前記フローガスの流量に応じて前記弁部材を前記弁座に対し付勢する、
請求項６〜８のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記機械的リンクは前記弁部材若しくは前記センシング部材又は前記弁部材及び前記センシング部材から分離されており、
前記弁部材は、前記主要出口を通るガス流がないことにより前記弁座に対して付勢され、前記機械的リンクにより前記弁部材及び前記センシング部材を支持し、
前記主要出口を通る前記ガス流が増加するにつれて、前記センシング部材内の前記差圧は増加し、前記主要出口を通る前記ガス流の前記流量が閾値を超えて増加すると、前記機械的リンクによって前記弁部材に加えられる力が減少し、前記機械的リンクが前記弁部材又は前記センシング部材又は前記弁部材及び前記センシング部材の両方との接触を失うまで前記弁座に対する前記弁部材の付勢を低減する、
請求項６〜８のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記圧力開放弁は、
前記排出出口を含む出口チャンバを含み、
前記弁部材は、前記圧力閾値を超えて増加する前記弁入口の前記入口圧によって前記弁座から変位し、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の少なくとも一部分を前記弁入口から前記出口チャンバを通って前記排出出口に排出するように適合されており、前記排出出口を通る前記ガス流は、前記入口圧とともに、前記出口チャンバの出口圧を前記弁部材に作用させ、前記弁部材を前記弁座から変位する、
請求項６〜１０のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記弁部材は膜を含む及び／又は前記センシング部材は膜を含む、請求項６〜１１のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記弁部材及び／又は前記センシング部材は、前記膜を張力がかけられた状態に支持するフレームを含む、請求項１２に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記弁部材の外周部は、前記出口チャンバを周囲又は変位チャンバから密閉するためのシールを提供する、及び／又は前記センシング部材の外周部は、前記第１のセンシングチャンバを前記第２のセンシングチャンバから密閉するためのシールを提供する、請求項１２又は１３に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記機械的リンクはロッド又はシャフトであり、当該デバイスは、前記弁部材と前記センシング部材との間の前記機械的リンクを支持するリンクガイドを含み、前記主要入口は前記リンクと前記リンクガイドとの間の環状空間を介して前記センシングチャンバと流体連通する、請求項６〜１４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１６】
前記機械的リンクは、一端に、前記弁部材を前記弁座に対して支持するためのフランジを含む、請求項６〜１５のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記フランジは、前記弁座の直径よりも大きな直径を有するので、前記弁部材が前記弁座に着座すると、前記弁部材は前記フランジと前記弁座との間で前記弁座に対して支持される、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
前記センシング部材の移動量又は変形量を制限して、流量から独立した前記圧力閾値の圧力上限を設定するように構成されている、請求項６〜１７のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１９】
前記センシング部材の移動量又は変形量を制限するための機械的限界を含む、請求項１８に記載のデバイス。
【請求項２０】
前記圧力開放弁及び前記センシング機構を収容するためのハウジングを更に含む、請求項６〜１９のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２１】
本体を含み、前記本体は、前記主要入口及び前記主要出口と、少なくとも、前記デバイスの出口チャンバと、前記センシングチャンバの前記第１のチャンバと、を含み、前記ハウジングは前記本体を実質的に収容している、請求項２０に記載のデバイス。
【請求項２２】
前記ハウジングは前記本体の周囲に空間又は空洞を与え、当該デバイスの変位チャンバ及び／又は前記出口チャンバは前記空洞又は空間と流体連通する、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２３】
前記ハウジングは、前記ハウジング空間からのハウジング出口を含む、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記ハウジングは、前記出口チャンバからの排出出口と連通するハウジング排出出口を含み、前記ハウジング排出出口は前記主要入口又は前記主要出口と同軸である、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２５】
前記ハウジングは前記変位チャンバと流体連通する出口を含み、前記アパーチャは前記主要入口又は前記主要出口と同軸である、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２６】
前記弁部材はプランジャ又はダイヤフラムである、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の圧力調整若しくは圧力開放デバイス又は流量補償圧力調整若しくは圧力開放デバイスを含む呼吸ガスシステム。
【請求項２８】
当該システムは、前記流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスと、圧力ガス源と、密閉患者インターフェースとを含むバイレベル圧力システムであり、前記流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスは、
吸気圧が前記圧力源の圧力設定によって決定されるように、吸気中、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の実質的に全てが前記主要出口に流れ、
呼気圧が前記デバイスの排出圧によって決定されるように、呼気中、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の一部分が前記排出出口から排出されるように構成されている、請求項２７に記載の呼吸システム。
【請求項２９】
フロー源と、鼻カニューレなどの非密閉患者インターフェースとを含む高流量呼吸ガスシステムである、請求項２７に記載の呼吸ガスシステム。
【請求項３０】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスを含む吹送システムであって、前記流量補償圧力調整又は圧力開放デバイスは、前記圧力開放弁が、前記主要入口によって受け入れられた前記ガス流の一部分を前記排出出口から連続的に排出するように構成されており、当該システムは、使用中、前記患者から連続的に排出する、
吹送システム。