【手続補正書】
【提出日】令和2年5月20日(2020.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．以下の特性すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも１つを満足するよう十分な親水性を示す前記シリコーン系剥離層表面を含む中間転写部材（ＩＴＭ）を提供することと、
ｂ．以下：
ｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１．５重量％の第四級アンモニウム塩、
ｉｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマー、および、
ｉｉｉ．水を含むキャリア液体であって、前記水は、前記水性処理調合物の少なくとも６５重量％を占める、キャリア液体、
を含む水性処理調合物を提供することであって、前記水性処理調合物は以下の特性：
ｉ．摂氏２５度において２０〜４０ダイン／ｃｍの範囲内の静的表面張力、
ｉｉ．少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度動粘性係数、および、
ｉｉｉ．重量で最大８：１の摂氏６０°蒸発負荷、
を有する、水性処理調合物を提供することと、
ｃ．前記水性処理調合物を前記ＩＴＭの前記シリコーン系剥離層表面に塗布して、最大０．８μｍの厚さを有する湿潤処理層を前記シリコーン系剥離層表面上に形成することと、
ｄ．前記湿潤処理層に乾燥処理を施して、前記湿潤処理層から、前記シリコーン系剥離層表面上に乾燥処理薄膜を形成することと、
ｅ．水性インクの液滴を前記乾燥処理薄膜上に堆積して、前記シリコーン系剥離層表面の前記剥離層表面上にインク画像を形成することと、
ｆ．前記インク画像を乾燥させて前記シリコーン系剥離層表面上に残留インク画像を残すことと、
ｇ．前記ＩＴＭと前記印刷基板との間の加圧接触により、前記残留インク画像を前記印刷基板上に転送することと
を含む、印刷方法。
【請求項２】
前記提供される水性処理調合物の摂氏６０度蒸発負荷は、最大で６：１、最大で５：１、最大で４：１、最大で３．５：１、または最大で３：１、および所望により、少なくとも２：１、少なくとも２．２：１、または少なくとも２．５：１である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記提供される水性処理調合物内における前記第四級アンモニウム塩の濃度は１．５〜１５％の範囲内、前記水溶性ポリマーの濃度は２．５〜１０％または２．５〜８％の範囲内、摂氏６０度蒸発負荷は２．５：１〜４：１の範囲内であり、前記粘度は少なくとも１２ｃＰであり、所望により少なくとも１４ｃＰまたは少なくとも１６ｃＰである、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記提供される水性処理調合物は、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、少なくとも９％、または少なくとも１０％、および所望により、６〜４０％、６〜３０％、６〜２０％、７〜３０％、７〜２０％、７〜１５％、８〜２５％、８〜２０％、８〜１５％、または８〜１３％の範囲内の総界面活性剤濃度を有する、請求項１〜請求項３のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記シリコーン系剥離層表面は、以下の特性、すなわち、前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であることのうちの少なくとも１つを満足するにあたり十分な親水性を示す、請求項１〜請求項４のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記シリコーン系剥離層表面は、以下の特性、すなわち、前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であることのうちの少なくとも１つを満足するにあたり十分な親水性を示す、請求項１〜請求項５のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記提供されるＩＴＭは、支持層、および前記シリコーン系剥離層表面を有する剥離層と、（ｉ）前記シリコーン系剥離層表面に対向し、（ｉｉ）前記支持層に取り付けられ、かつ、前記剥離層は付加硬化型シリコーン物質で形成される、第２表面と、を含む、請求項１〜請求項６のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記提供されるＩＴＭのシリコーンベース剥離層表面の表面疎水性は前記剥離層内の前記硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さく、前記表面疎水性は前記インク受容表面上における蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、前記バルク疎水性は、露出エリアを形成するために前記剥離層内の前記硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に堆積された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる、請求項１〜請求項７のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記水性処理調合物は、前記湿潤処理層の厚さが最大０．５μｍ、または最大０．４μｍとなるよう、前記シリコーン系剥離層表面に塗布される、請求項１〜請求項８のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記湿潤処理層の形成、または前記湿潤処理層を薄くすることは、前記ＩＴＭに対して垂直な速度勾配が確立され、速前記度勾配の大きさが少なくとも１０６／秒または少なくとも２×１０６／秒となるよう、前記水性処理調合物を強制的に流すことを含む、請求項１〜請求項９のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記処理溶液の乾燥は、ビーディングが防止され、かつ、最大２００ｎｍ、または最大１５０ｎｍ、または最大１２０ｎｍ、または最大１００ｎｍ、または最大８０ｎｍ、または最大７０ｎｍ、または最大６０ｎｍ、または最大５０ｎｍ、または最大４０ｎｍ、または最大３０ｎｍの厚さを有する親水性および凝集性を有する連続的なポリマー処理薄膜が残されるよう、十分迅速に行われる、請求項１〜請求項１０のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記水性インク液滴が堆積される前記乾燥処理薄膜の厚さは最大２００ｎｍ、または最大１２０ｎｍ、または最大１００ｎｍ、または最大８０ｎｍである、請求項１〜請求項１１のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記水性インク液滴が堆積される前記乾燥処理薄膜の厚さは少なくとも１５ｎｍ、または少なくとも２０ｎｍ、または少なくとも３０ｎｍである、請求項１〜請求項１２のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記乾燥処理薄膜は、前記ＩＴＭの前記剥離表面の長方形全体にわたり連続的であり、前記長方形は少なくとも１０ｃｍの幅および少なくとも１０メートルの長さを有する、請求項１〜請求項１３のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記残留インク画像は、前記乾燥処理薄膜の非印刷エリアとともに前記印刷基板上に転送される、請求項１〜請求項１４のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記乾燥処理薄膜の厚さは最大１２０ｎｍである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記乾燥処理薄膜は、前記残留インク画像の転送の間、印刷エリアおよび非印刷エリアの両方において前記乾燥処理薄膜が完全に前記ＩＴＭから分離して、前記乾燥インク画像とともに前記印刷基板に転送されるよう、十分な凝集性を有する、請求項１〜請求項１６のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
ａ．以下の特性すなわち、（ｉ）シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、および、（ｉｉ）前記シリコーン系剥離層表面上に堆積された蒸留水滴の１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、のうちの少なくとも１つを満足するよう十分な親水性を示す前記シリコーン系剥離層表面を含む中間転写部材（ＩＴＭ）と、
ｂ．以下：
ｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１．５重量％の第四級アンモニウム塩、
ｉｉ．摂氏２５度において少なくとも５％の水溶解度を有する少なくとも１重量％の少なくとも１つの水溶性ポリマー、および、
ｉｉｉ．水を含むキャリア液体であって、前記水は、前記水性処理調合物の少なくとも６５重量％を占める、キャリア液体、
を含む水性処理調合物を提供することであって、前記水性処理調合物は以下の特性：
ｉ．摂氏２５度において２０〜４０ダイン／ｃｍの範囲内の静的表面張力、
ｉｉ．少なくとも１０ｃＰである摂氏２５度動粘性係数、および、
ｉｉｉ．重量で最大８：１の摂氏６０°蒸発負荷、
を有する、水性処理調合物と、
ｃ．前記水性処理調合物を前記ＩＴＭの前記シリコーン系剥離層表面に塗布して、最大０．８μｍの厚さを有する湿潤処理層を前記シリコーン系剥離層表面上に形成するための処理ステーションと、
ｄ．前記湿潤処理層に乾燥処理を施して、前記湿潤処理層から、前記シリコーン系剥離層表面上に乾燥処理薄膜を形成するための手段と、
ｅ．水性インクの液滴を前記乾燥処理薄膜上に堆積して、前記シリコーン系剥離層表面の前記剥離層表面上にインク画像を形成するための画像形成ステーションと、
ｆ．前記インク画像を乾燥させて前記シリコーン系剥離層表面上に残留インク画像を残すための乾燥ステーションと、
ｇ．前記ＩＴＭと前記印刷基板との間の加圧接触により、前記残留インク画像を前記印刷基板上に転送するための印圧ステーションと、
を含む、印刷システム。