【事件の表示】
　特願２０１３−　４１００１「光学フィルムの中間製品、光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　９月１８日出願公開、特開２０１４−１７００６１、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　本願は、平成２５年３月１日の出願であって、平成２７年１月２６日付けで拒絶理由が通知され、同年２月２５日に手続補正がなされ、同年３月３１日付けで拒絶理由が通知され、同年４月２４日に手続補正がなされたが、同年６月２５日付けで、同年４月２４日になされた手続補正が却下されるとともに拒絶査定（以下「原査定」という）がなされ、これに対し、同年７月２７日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がなされ、その後、当審において平成２８年５月２５日付けで拒絶理由（以下「当審拒絶理由」という）が通知され、同年６月２４日に手続補正がなされたものである。
　
第２　本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成２８年６月２４日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるものと認められるところ、本願の請求項１に係る発明は、次のとおりである。
「ロールより透明基材を引き出して搬送しながら、配向層作製工程において、前記透明基材に配向層を作製し、続く位相差層作製工程において、前記配向層の上に位相差層を作製する光学フィルムの製造方法において、
　前記配向層が光配向層であり、
　前記位相差層作製工程は、
　前記配向層に比して、前記位相差層を幅狭に作製し、
　前記配向層作製工程は、
　前記透明基材の幅をＷ２、前記配向層の幅をＷ３とし、前記配向層作製工程における搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔＷ３としたとき、
　Ｗ３＋ΔＷ３＜Ｗ２により前記配向層を作製し、
　前記位相差層作製工程は、
　前記位相差層の幅をＷ４とし、前記位相差層作製工程における搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔＷ４としたとき、
　Ｗ４＋ΔＷ４＜Ｗ３により前記位相差層を作製する
　光学フィルムの製造方法。」（以下、請求項１に係る発明を「本願発明」ともいう。）
　
第３　原査定の理由について
１．原査定の理由の概要
　原査定の理由は、概略、次のとおりである。
　
理由１．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　
理由２．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　
・請求項１〜５
・引用文献１：特開２０１３−１１８００号公報
・備考
　引用文献１には、透明基材（図４の支持体フィルム１３参照。）上に配向層、位相差層（図４のパターン光学異方性層１２参照。）が順次積層され、ロールに巻き取られた光学フィルムの中間製品（【００１４】参照。）であって、前記配向層が、光配向層（【００４２】参照。）である光学フィルムの中間製品が記載されている。
　また、引用文献１には、「一方、図３に示すパターン位相差フィルムの端部には、光学異方性層１２が形成されていない支持体フィルム１３（又はその上に配向膜等の塗布膜が形成されている場合には当該膜）が露出した領域があり、当該領域であって、光学異方性層１２の外側の距離ｄ2の位置に、線状のマーク１７Ａが存在する非表示画素領域１７を有する。」（【００３４】、図３、４参照。）と記載されており、上記記載から、配向膜に比して、光学異方性層が幅狭に作成されていると認められる。
　さらに、引用文献１（【要約】参照。）には、透過光に与える位相差が異なる第１及び第２の領域が順次交互に設けられた位相差層が記載されている。
　よって、請求項１〜５に係る発明は、引用文献１に記載された発明と同一であるか、又は、引用文献１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
２．原査定の理由についての当審の判断
（１）引用文献１の記載事項
　ア　引用文献１には、次の（ア）ないし（カ）の事項が記載されている。
　（ア）「【００１５】
　
本発明のパターン位相差フィルムは、画像表示装置の表示画素部に貼合される表示画素領域を有するパターン位相差フィルムであって
前記表示画素領域が、面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域が、ストライプ状に且つピッチｄ
1
で交互に配置されているパターンを有し
前記表示画素領域から外側の距離ｄ
2
の位置に、前記第１及び第２位相差領域の長手方向に沿った光学的に識別可能な線状のマークが少なくとも存在する非表示画素領域を有し
　
　（イ）「【００１８】
　本発明では、
第１及び第２位相差領域がストライプ状に交互に配置されているパターンを有する表示画素領域の外側に、第１及び第２位相差領域の長手方向に沿って線状のマークが存在する非表示画素領域を形成
【００１９】
　具体的には、
本発明のパターン位相差フィルムは、ピッチｄ
1
のパターンを有する表示画素領域から外側の距離ｄ
2
の位置に線状のマークが存在する非表示画素領域を有
【００２０】
　なお、本発明において、線状のマークは、少なくとも光学的に識別可能であればよく、目視にて黒等の線として認識されるものの他、偏光顕微鏡によって観察することによって、黒等の線として認識されるものも含む。レーザーによるレーザー痕や、カッター刃などによって形成される切込みなどのほか、光学特性が互いに異なる（面内遅相軸の方向及び／又は位相差の大きさ）位相差領域の境界線であってもよい。
【００２１】
　ｄ1及びｄ2の差は、判別できる程度の差であればよい。大小関係については、ｄ2＞ｄ1であるほうが、アライメント操作において有利である。例えば、ｄ2が大きければ、フィルムの上下の判断を目視（偏光メガネ等は必要に応じて使用）にて行う等にも利用することができる。また、上記した通り、非表示画素領域に、表示画素領域と同一であるが、ピッチが異なる（好ましくピッチがより大きい）パターンを形成し、当該パターンのピッチｄ3を、ピッチｄ1よりも大きくすれば、当該領域の位相差の測定が容易であり、商品管理及び／又は商品評価に利用するのに有利である。ｄ1は一般的には、１００〜１０００μｍであるので、線状のマークの位置は、は本発明の場合それとの区別可能なように、
表示画素領域からの距離ｄ
2
は、２００〜２０００μｍであるのが好ましく、又それ以上であってもよい
表示画素領域の端部からの距離ｄ
2
は、数ｍｍ〜１０ｍｍ程度であるのが好ましい
　
　（ウ）「【００３４】
　
図４に断面模式図で示す通り、図３に示すパターン位相差フィルムは、
パターン光学異方性層１２と、少なくとも、これを支持するポリマーフィルムからなる支持体フィルム１３とを有する
パターン光学異方性層１２は、第１位相差領域１４及び第２位相差領域１５が、ストライプ状に且つピッチｄ
1
で交互に配置されている表示画素領域１６を構成する
図３に示すパターン位相差フィルムの端部には、光学異方性層１２が形成されていない支持体フィルム１３（又はその上に配向膜等の塗布膜が形成されている場合には当該膜）が露出した領域があり、当該領域であって、光学異方性層１２の外側の距離ｄ
2
の位置に、線状のマーク１７Ａが存在する非表示画素領域１７を有する
　
　（エ）「【００４２】
　また、
第１及び第２の位相差領域の各パターンの面内遅相軸は、パターン配向膜等を利用することで、互いに異なる方向、例えば互いに直交する方向、に調整することができ
パターン配向膜としては、マスク露光によりパターニング配向膜を形成可能な光配向膜
利用することができ
　
　（オ）「【００４６】
　
本発明の製造方法では、例えば、ロール形態に巻き上げられた長尺状のフィルムを、送り出し、搬送しながら、その表面に連続的に表示画素領域を形成しつつ、表示画素領域の外側に、線状のマークを有する非表示画素領域を形成し、アライメント用、商品管理用、又は商品検査用等のマーク付きの長尺状のパターン位相差フィルムを連続的に製造
【００４７】
　
本発明の製造方法では、液晶組成物を利用して表示画素領域を形成するのが好ましく、液晶を主成分とする同一の硬化性液晶組成物を利用して、第１及び第２位相差領域を形成するのが好ましく
　
　（カ）図３及び図４は、それぞれ次のとおりのものである。
【図３】
　
【図４】
　
イ　そうすると、引用文献１には、
「パターン位相差フィルムの製造方法であって、
　当該パターン位相差フィルムは、画像表示装置の表示画素部に貼合される表示画素領域を有するパターン位相差フィルムであり、
　前記パターン位相差フィルムの製造方法は、ロール形態に巻き上げられた長尺状のフィルムを、送り出し、搬送しながら、その表面に連続的に表示画素領域を形成しつつ、表示画素領域の外側に、線状のマークを有する非表示画素領域を形成し、アライメント用、商品管理用、又は商品検査用等のマーク付きの長尺状のパターン位相差フィルムを連続的に製造するものであり、
　前記表示画素領域は、面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なる第１及び第２位相差領域が、ストライプ状に且つピッチｄ1で交互に配置されているパターンを有し、
　前記表示画素領域は、液晶組成物を利用して形成し、液晶を主成分とする同一の硬化性液晶組成物を利用して、前記第１及び第２位相差領域を形成し、
　前記第１及び第２位相差領域の各パターンの面内遅相軸は、パターン配向膜等を利用することで、互いに異なる方向、例えば互いに直交する方向、に調整することができ、
　前記パターン配向膜として、マスク露光によりパターニング配向膜を形成可能な光配向膜を利用することができ、
　前記非表示画素領域において、前記表示画素領域から外側の距離ｄ2の位置に、前記第１及び第２位相差領域の長手方向に沿った光学的に識別可能な線状のマークが少なくとも存在し、
　前記パターン位相差フィルムは、パターン光学異方性層と、少なくとも、これを支持するポリマーフィルムからなる支持体フィルムとを有し、
　前記パターン光学異方性層は、第１位相差領域及び第２位相差領域が、ストライプ状に且つピッチｄ1で交互に配置されている表示画素領域を構成し、
　前記パターン位相差フィルムの端部には、パターン光学異方性層が形成されていない支持体フィルム又はその上に配向膜等の塗布膜が形成されている場合には当該膜が露出した領域があり、当該領域であって、パターン光学異方性層の外側の距離ｄ2の位置に、線状のマークが存在する非表示画素領域を有し、
　前記表示画素領域の端部からの距離ｄ2は、２００〜２０００μｍ、又はそれ以上であってもよく、数ｍｍ〜１０ｍｍ程度であるのが好ましい、
　パターン位相差フィルムの製造方法。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
（２）対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比する。
　ア　一致点及び相違点
　（ア）引用発明の「パターン配向膜」、「パターン光学異方性層」、「光配向膜」及び「パターン位相差フィルム」は、それぞれ、本願発明の「配向層」、「位相差層」、「光配向層」及び「光学フィルム」に相当する。
　（イ）引用発明の「パターン位相差フィルム」は、画像表示装置の表示画素部に貼合され、表示画素領域を有するものであるから、引用発明の「長尺状のフィルム」及び「支持体フィルム」が透明であることは明らかである。また、本願発明の「透明基材」は、ロールより引き出して搬送されるものであるから、長尺のフィルム状のものであることが明らかである。そうすると、引用発明の「長尺状のフィルム」及び「支持体フィルム」は、本願発明の「透明基材」に相当する。
　（ウ）引用発明の「パターン位相差フィルム」（本願発明の「光学フィルム」に相当。）の製造方法では、例えば、ロール形態に巻き上げられた「長尺状のフィルム」（本願発明の「透明基材」に相当。）を、送り出し、搬送しながら、その表面に連続的に表示画素領域を形成しつつ、表示画素領域の外側に、線状のマークを有する非表示画素領域を形成し、アライメント用、商品管理用、又は商品検査用等のマーク付きの長尺状のパターン位相差フィルムを連続的に製造するものである。
　また、引用発明の表示画素領域に含まれる第１及び第２位相差領域の各パターンの面内遅相軸は、パターン配向膜等を利用することで、互いに異なる方向、例えば互いに直交する方向、に調整することができるものであり、パターン配向膜を利用する場合、支持体フィルムの上に配向膜の塗布膜が形成されるから、引用発明の製造方法において、「パターン配向膜」（本願発明の「配向層」に相当。）を利用する場合、当該「パターン配向膜」（「配向層」）が「支持体フィルム」（本願発明の「透明基材」に相当。）の上に塗布膜として形成されることは当業者に明らかであり、そうすると、引用発明の製造方法には、「パターン光学異方性層」（本願発明の「位相差層」に相当。）を作製する工程の前に、「パターン配向膜」（配向層）を塗布形成するためのパターン配向膜（配向層）作製工程が存在することも当業者に明らかである。
　したがって、本願発明の「光学フィルムの製造方法」と引用発明の「パターン位相差フィルムの製造方法」とは、「ロールより透明基材を引き出して搬送しながら、配向層作製工程において、前記透明基材に配向層を作製し、続く位相差層作製工程において、前記配向層の上に位相差層を作製する」点において一致する。
　（エ）引用発明では、「パターン配向膜」（配向層）として、マスク露光によりパターニング配向膜を形成可能な「光配向膜」（本願発明の「光配向層」に相当。）を利用することができるから、本願発明の「配向層」と引用発明の「パターン配向膜」とは、「光配向層であ」る点において一致する。
　（オ）引用発明では、「支持体フィルム」の上に「配向膜」（配向層）等の塗布膜が形成されている場合において、「パターン位相差フィルム」（光学フィルム）の端部には、「パターン光学異方性層」（位相差層）が形成されていない当該「配向膜」（配向層）が露出した領域があるのだから、「パターン光学異方性層」（位相差層）が「配向膜」（配向層）よりも狭幅であることは当業者に明らかであり、したがって、本願発明の「位相差層作製工程」と引用発明の「位相差層作製工程」とは、「配向層に比して、位相差層を幅狭に作製」する点において一致する。
　（カ）引用発明では、「配向膜」（配向層）に比して「パターン光学異方性層」（位相差層）を幅狭に作製するのだから、前記「配向膜」（配向層）の幅をＷ３とし、前記「パターン光学異方性層」（位相差層）の幅をＷ４としたときに、Ｗ４＜Ｗ３の関係が成立する。そうすると、本願発明の「位相差層作製工程」と引用発明の「パターン光学異方性層を作製する工程」とは、「前記配向層の幅をＷ３とし、前記位相差層の幅をＷ４としたとき、Ｗ４＜Ｗ３により前記位相差層を作製する」点において一致する。
　（キ）引用発明では、パターン光学異方性層（平面図における表示画素領域）の外側の距離ｄ2の位置に、線状のマークが存在する非表示画素領域を有し、前記表示画素領域の端部からの距離ｄ2は、２００〜２０００μｍ、又はそれ以上であってもよく、数ｍｍ〜１０ｍｍ程度であるのが好ましいのであり、前記非表示画素領域が表示画素領域の両側に存在すること、及び、各非表示画素領域の幅が前記距離ｄ2よりも若干大きい（これは図３及び図４から明らかである。）ことに鑑みれば、前記非表示画素領域の幅は、好ましい場合において、最大で１０×２＝２０ｍｍよりも若干大きい程度であることが理解できる。
　
　（ク）そうすると、本願発明と引用発明とは、
「ロールより透明基材を引き出して搬送しながら、配向層作製工程において、前記透明基材に配向層を作製し、続く位相差層作製工程において、前記配向層の上に位相差層を作製する光学フィルムの製造方法において、
　前記配向層が光配向層であり、
　前記位相差層作製工程は、
　前記配向層に比して、前記位相差層を幅狭に作製し、
　前記位相差層作製工程は、
　前記配向層の幅をＷ３とし、前記位相差層の幅をＷ４としたとき、
　Ｗ４＜Ｗ３により前記位相差層を作製する
　光学フィルムの製造方法。」である点で一致する。
　他方、本願発明１と引用発明は、次の点において相違する。
　
相違点１：
　前記「配向層作製工程」が、
　本願発明では、「前記透明基材の幅をＷ２、前記配向層の幅をＷ３とし、前記配向層作製工程における搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔＷ３としたとき、
　Ｗ３＋ΔＷ３＜Ｗ２により前記配向層を作製」するものであるのに対し、　引用発明では、支持体フィルムの幅（Ｗ２）と配向膜の幅（Ｗ３）の関係も、搬送過程で発生する支持体フィルムの幅方向の蛇行量の最大値（ΔＷ３）も考慮されていない点。
　
相違点２：
　前記「位相差層作製工程」が、
　本願発明では、「前記配向層の幅をＷ３とし」、「前記位相差層の幅をＷ４とし、前記位相差層作製工程における搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔＷ４としたとき、Ｗ４＋ΔＷ４＜Ｗ３により前記位相差層を作製する」ものであるのに対し、
　引用発明では、搬送過程で発生する支持体フィルムの幅方向の蛇行量の最大値（ΔＷ４）が考慮されておらず、「Ｗ４＜Ｗ３」であればよいものである点。
　
　イ　相違点１についての判断
　（ア）引用発明では、パターン位相差フィルム（光学フィルム）の端部において、配向膜（配向層）等の塗布膜が形成されていない場合には、パターン光学異方性層（位相差層）が形成されていない支持体フィルム（透明基材）が露出した領域があり、また、支持体フィルム（透明基材）の上に配向膜（配向層）等の塗布膜が形成されている場合には、パターン光学異方性層（位相差層）が形成されていない配向膜（配向層）が露出した領域があるものである。したがって、前記支持体フィルム（透明基材）の幅をＷ２、前記配向膜（配向層）の幅をＷ３、前記パターン光学異方性層（位相差層）の幅をＷ４としたとき、前者の場合にＷ４＜Ｗ２の関係が成立し、後者の場合にＷ４＜Ｗ３の関係が成立することが当業者に明らかであるものの、Ｗ２とＷ３の関係や、引用発明の「配向層作製工程」において搬送過程で発生する支持体フィルムの幅方向の蛇行が問題である旨のいずれの技術事項についても、それらに関する記載又は示唆は引用文献１に見当たらない。
　なお、上記ア（キ）で述べたように、引用文献１には、引用発明の非表示画素領域の幅が、好ましい場合において、最大で１０×２＝２０ｍｍよりも若干大きい程度であることが実質的に記載されていると認められるものの、当該非表示画素領域は、必ずしも支持体フィルムが露出した領域に限らず、支持体フィルムの上に配向膜が形成されている場合には、配向膜が露出した領域が前記非表示画素領域であっても差し支えないものと考えられるから、結局、これがＷ２とＷ３の関係についての記載であるとはいえない。
　（イ）上記（ア）からみて、当業者がＷ３を決定するに当たってＷ３＜Ｗ２とするとともに前記蛇行量の最大値ΔＷ３を考慮しようとする動機づけは何処にも見出せないから、引用発明の「配向層作製工程」において、Ｗ３＋ΔＷ３＜Ｗ２により配向層を作製するようになすことを当業者が着想することが容易であるとはいえない。
　そして、本願発明は、「配向層作製工程」において、搬送過程で発生する透明基材の幅方向の蛇行量の最大値ΔＷ３を考慮し、Ｗ３＋ΔＷ３＜Ｗ２により配向層を作製するようにしたことにより、前記透明基材が蛇行する場合であっても、塗工される光配向材料が当該透明基材から幅方向にはみ出さないように作製できるという効果を奏するものである。
　（ウ）上記（ア）及び（イ）からみて、引用発明の配向層作製工程において、Ｗ３＋ΔＷ３＜Ｗ２により配向層を作製するようになすことを、当業者が容易に想到し得るとはいえない。
　
　ウ　小括
　したがって、相違点２について検討するまでもなく、本願発明は、当業者が引用発明に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　
（３）まとめ
　したがって、本願発明は、当業者が引用発明に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　よって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　
第４　当審拒絶理由について
１．当審拒絶理由の概要
　当審拒絶理由は、概略、次のとおりである。
　
　請求項１ないし４に係る発明は、「光学フィルムの中間製品」、当該中間製品により作製された「光学フィルム」及び当該光学フィルムを画像表示パネルの表面側に配置した「画像表示装置」の発明であり、いずれも「物」の発明であるところ、請求項２ないし４が従属する請求項１には、「前記配向層を作製する際の搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔＷ３」とし、「前記位相差層を作製する際の搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔＷ４」としたとき、「前記配向層の幅Ｗ３が、Ｗ３＋ΔＷ３＜Ｗ２であり、前記位相差層の幅Ｗ４が、Ｗ４＋ΔＷ４＜Ｗ３である」という発明特定事項が存在し、「物」の発明が製造時のパラメータを用いて特定されているから、請求項１に係る発明は明確でない。
　請求項１の記載を直接又は間接的に引用して記載された請求項２ないし４に係る発明についても同様である。
　よって、請求項１ないし４に係る発明は、いずれも明確でないから、この出願は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　なお、本願の請求項５に係る発明については、現時点では、拒絶の理由を発見していない。
　
２．当審拒絶理由についての当審の判断
（１）平成２８年６月２４日になされた手続補正
　平成２８年６月２４日になされた手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲を対象とし、本件補正前の請求項１ないし５のうち、請求項１ないし４を削除するものである。
　
（２）当審拒絶理由についての判断
　上記（１）の補正により、本件補正前の請求項１ないし４が削除され、本件補正前の請求項５が新たな請求項１となった。
　すなわち、特許請求の範囲には、当該請求項に係る発明が製造時のパラメータを用いて「物」を特定しようとしているから明確でないとした本件補正前の請求項１ないし４は、もはや含まれず、拒絶の理由を発見していない「製造方法」の発明に係る本件補正前の請求項５のみが残り、新たな請求項１となって含まれることとなった。
　
（３）小括
　したがって、本願の請求項１に係る発明が明確でないとはいえなくなった。
　そうすると、もはや、当審で通知した拒絶理由によって本願を拒絶することはできない。
　
第５　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。