【手続補正書】
【提出日】令和2年9月11日(2020.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体回路、
試験下の少なくとも１つの品目のための試験ゾーンであって、使用時に前記流体回路内で流れる流体に前記少なくとも１つの品目を曝露するために前記流体回路に含まれる試験ゾーン、
それぞれの異なる位置において前記流体回路に含まれる複数の制御ゾーンであって、各制御ゾーンは、制御情報にしたがって前記流体の少なくとも１つのパラメータを制御するための少なくとも１つの制御装置を含む、制御ゾーン
を含む反応器と、
反応器の動作を制御するための制御システムであって、前記制御情報を前記制御ゾーンに提供するために前記制御ゾーンと通信する制御システムであって、
前記少なくとも１つのパラメータに対する少なくとも１つの試験値を指定する入力データを受信すること、
前記入力データおよび前記反応器の数理モデルを使用して、前記少なくとも１つの流体パラメータについて、前記流体の挙動を予測すること、
前記予測された流体挙動に基づいて前記制御情報を計算すること、および
前記制御ゾーンのうちの少なくとも１つの制御ゾーンに前記制御情報を通信すること
を実行するよう構成された、制御システムと
を含む、試験システム。
【請求項２】
前記少なくとも１つのパラメータは、前記流体の化学組成を示す流体組成パラメータ、前記流体の温度を示す温度パラメータ、および前記流体の流速を示す流速パラメータを含み、前記入力データおよび前記数理モデルを使用して、前記制御システムは、前記流体組成パラメータ、前記流体温度パラメータ、および前記流体流速パラメータのうちの２つ以上のパラメータに対する前記少なくとも１つの試験値の１つまたは複数の組み合わせから生じる前記流体の組成、温度、および流速のうちの任意の１つまたは複数に対する１つまたは複数の効果を計算するよう構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記制御システムは、さらなる制御情報を前記予測された流体挙動に基づいて計算するために、および、前記さらなる制御情報を前記制御ゾーンのうちの少なくとも１つの制御ゾーンに通信するために、前記制御情報および前記反応器の前記数理モデルを使用して、前記少なくとも１つの流体パラメータに関して、前記流体回路における１つまたは複数の位置における前記流体の挙動を予測するよう構成され、
好適には、前記制御システムは、前記１つまたは複数の位置に関連付けられた１つまたは複数の制御ゾーンに前記さらなる制御情報を送信するよう、および、１つまたは複数の他の位置に関連付けられた１つまたは複数の制御ゾーンに前記制御情報を送信するよう、構成されている、請求項１または請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記制御ゾーンのうちの少なくともいくつかの制御ゾーンは、前記それぞれの位置における前記流体の１つまたは複数の特性を測定するための少なくとも１つのセンサと、前記制御情報にしたがって前記流体の１つまたは複数の特性を制御するための少なくとも１つの制御装置と、を含み、前記制御システムは、前記制御情報を前記制御ゾーンに提供するよう、および、前記それぞれの少なくとも１つのセンサにより測定された前記流体特性のうちの１つまたは複数の流体特性に対するそれぞれの実際値を示すフィードバック情報を前記制御ゾーンから受信するよう構成され、前記制御システムは、前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンからの前記フィードバック情報に応答して、前記制御ゾーンのうちの少なくとも１つの制御ゾーンに対する少なくとも１つの新規設定値を計算し、前記制御ゾーンのうちの前記少なくとも１つの制御ゾーンに前記少なくとも１つの新規設定値を通信する、請求項１〜請求項３のうちのいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記制御システムは前記試験ゾーンにおいて所望の試験環境を作るために前記制御情報を計算するよう構成され、前記試験環境は前記少なくとも１つの流体パラメータにより定義される、請求項１〜請求項４のうちのいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記制御情報は１つまたは複数の設定値を含み、各設定値は、前記少なくとも１つの流体パラメータのうちのそれぞれ１つの流体パラメータに対する所望値を示し、
各制御ゾーンは、前記設定値を受信することに応答して、前記それぞれの設定値が達成されるよう前記流体の１つまたは複数のパラメータを操作するために、少なくとも１つのそれぞれの制御装置を作動させ、所望により、前記少なくとも１つのそれぞれの制御装置は、前記それぞれの制御ゾーンのそれぞれの位置における１つまたは複数の流体パラメータを操作するために作動される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記制御ゾーンのうちの少なくとも１つの制御ゾーンは流体注入器の形状の少なくとも１つの制御装置を有し、前記流体注入器は、好適には前記それぞれの制御ゾーンの前記それぞれの位置において、前記流体回路に流体を注入するよう動作可能であり、
前記少なくとも１つの制御装置は、前記流体注入器による前記流体の注入を制御するための質量流量制御器（ＭＦＣ）を好適に含む、請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
ポンプ圧送手段が前記流体回路に組み込まれ、前記ポンプ圧送手段は、前記流体を前記流体回路の周りで循環させるよう動作可能であり、
前記制御システムは、前記ポンプ圧送手段のそれぞれの動作特性（例えば作動速度）に対する所望値を示す少なくとも１つの設定値を指定する制御情報を前記ポンプ圧送手段に提供するよう構成され、前記ポンプ圧送手段は前記制御情報に応答して、前記少なくとも１つの設定値にしたがって動作するかまたは動作しようとし、
前記制御システムは前記ポンプ圧送手段の前記動作に関するフィードバック情報を受信可能に構成され、前記フィードバック情報に応答して、前記ポンプ圧送手段に対する、および／または前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンに対する、１つまたは複数の新規設定値を計算し、前記１つまたは複数の新規設定値を、それぞれ前記ポンプ圧送手段にまたは前記制御ゾーンに通信し、
前記フィードバック情報は前記ポンプ圧送手段から、および／または前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンから、受信される、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
加熱手段は、好適には少なくとも１つの炉を含むとともに、前記流体回路に組み込まれ、前記加熱手段は前記流体回路における前記流体を加熱するよう動作可能であり、
前記制御システムは、前記加熱手段のそれぞれの動作特性（例えば作動温度）に対する所望値を示す少なくとも１つの設定値を指定する制御情報を前記加熱手段に提供するよう構成され、前記加熱手段は前記制御情報に応答して、前記少なくとも１つの設定値にしたがって動作するかまたは動作しようとし、
前記制御システムは、前記加熱手段の前記動作に関するフィードバック情報を受信可能に構成され、前記フィードバック情報に応答して、前記加熱手段に対する、および／または前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンに対する、１つまたは複数の新規設定値を計算し、前記１つまたは複数の新規設定値を、それぞれ前記加熱手段にまたは前記制御ゾーンに通信し、
前記フィードバック情報は前記加熱手段から、および／または前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンから、受信可能である、請求項１〜８のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記制御システムは、前記流体回路における前記流体の前記化学組成および／または混合組成を操作することを、前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンに実行させるため制御情報を提供するよう構成され、
前記制御ゾーンのうちの少なくとも１つの制御ゾーンは、好適には前記それぞれの制御ゾーンの前記それぞれの位置において前記流体回路に１つまたは複数の流体を注入することにより、前記流体回路における前記流体の前記化学組成および／または前記混合組成を操作するよう動作可能であり、
好適には、前記制御ゾーンのうちの少なくとも１つの制御ゾーンは、前記流体回路に１つまたは複数の化学反応物質を注入することにより、前記流体回路における前記流体の前記化学組成を操作するよう動作可能である、請求項７に記載のシステム。
【請求項１１】
各制御ゾーンは、以下のシステムパラメータ、すなわち流体流速、流体流均衡、前記流体回路への供給流体の送達、流体組成、流体温度、流体流および混合物の分布のうちの任意の１つまたは複数を監視および／または制御するよう動作可能であり、
前記制御システムは、（ｉ）前記ポンプ圧送手段の前記動作を制御すること、（ｉｉ）複数の流体槽から、および／または、前記流体回路の複数の部分から、および／または複数の流体回路から、流体流を組み合わせること、および／または、（ｉｉｉ）１つまたは複数のバルブを制御すること、のうちの任意の１つまたは複数により流体流速を制御するように構成可能であり、
前記制御システムは、（ｉ）前記加熱手段の前記動作を制御すること、（ｉｉ）発熱反応または吸熱反応を促進するために前記流体組成物を制御すること、のうちの任意の１つまたは複数により流体温度を制御するように構成可能である、請求項１〜請求項１０のうちのいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記制御システムは、１つまたは複数の位置において、前記１つまたは複数の位置における、および／または、前記流体回路における１つまたは複数の他の位置における、前記流体回路内の前記流体の１つまたは複数の検出された特性に応じて、前記流体回路に１つまたは複数の選択された流体を注入することを、前記制御ゾーンのうちの１つまたは複数の制御ゾーンに実行させるよう構成され、
前記制御システムは、前記制御システムにより計算され、かつ、注入されるべき前記流体または各流体の量と、注入されるべき前記流体または各流体の注入タイミングと、を指定する、それぞれの送達プロファイルにしたがって、前記１つまたは複数の選択された流体を注入するよう、好適に構成され、
好適には、注入されるべき前記１つまたは複数の流体は、および好適に前記選択された送達プロファイルも、前記注入位置または各注入位置において、および／または、前記流体回路内の１つまたは複数の他の位置において、所望の化学反応を生じさせるために、前記制御システムにより選択され、および／または、前記流体回路内の１つまたは複数の他の位置において、前記流体混合組成物に所望の変化を生じさせるために、前記制御システムにより選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記流体回路は流体流出口を含み、前記反応器は、前記流体流出口を開放または閉止するよう動作可能である排出制御装置を有する排出制御ゾーンを含み、
前記制御システムは、前記流体回路からの流体の排出を制御するために前記制御情報を用いて前記排出制御装置を動作させるよう構成され、
所望により、前記制御システムは、前記流体回路内の前記流体の再循環の量を調整するために、前記排出制御装置を動作させるよう構成され、
所望により、前記制御システムは、計算された量の前記流体を前記流体回路から除去するために、前記排出制御装置を動作させるよう構成され、
前記制御システムは、前記流体回路内の前記流体の流体組成パラメータ、流体温度パラメータ、または流体流速パラメータのうちの任意の１つまたは複数に対する決定された値に基づいて前記量を計算するよう構成可能であり、
前記制御システムは、好適には前記試験ゾーンの出口において、前記流体回路内の特定位置についての、前記流体組成パラメータ、前記流体温度パラメータ、もしくは前記流体流速パラメータの各々を決定するよう構成可能であり、
前記制御システムは、好適には前記流体回路内の前記流体に対する基礎状態を確立するために、前記流体回路内の前記流体の組成、温度、または流速のうちの任意の１つまたは複数を調整するために、前記流体回路からの流体の排出を制御するよう構成可能である、請求項１〜請求項１２のうちのいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１４】
前記流体は、少なくとも１つのバルク流体を含む基礎流体を含み、前記システムは、前記制御システムの制御下で前記流体回路に前記少なくとも１つのバルク流体を導入するための少なくとも１つの流体流入装置により前記少なくとも１つのバルク流体の供給源に接続され、
前記少なくとも１つのバルク流体は空気を含むことが可能であり、
前記基礎流体は体積でおよそ１０％〜１００％の範囲の空気を含むことが可能であり、
前記基礎流体は体積でおよそ２５％〜１００％の範囲の空気を含むことが好適であり、
好適には、前記制御システムは、前記流体回路内の前記流体を希釈するために前記少なくとも１つのバルク気体を前記流体回路に導入することを制御することにより、好適には前記流体回路内の前記流体に対する基礎状態を確立するために、前記流体回路内の前記流体の組成、温度、または流速のうちの任意の１つまたは複数を調整するよう構成され、
好適には、前記制御システムは、前記流体回路内の前記流体の流体組成パラメータ、流体温度パラメータ、または流体流速パラメータのうちの任意の１つまたは複数に対する決定された値に基づいて前記流体回路に導入するべき前記少なくとも１つのバルク流体の量を計算するよう構成されている、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記流体回路は前記流体回路内の前記流体を加熱するよう動作可能である加熱手段を含み、前記流体回路は、前記加熱手段の周りに流体を迂回させるためのバイパス回路部分と、前記バイパス回路部分ならびに前記加熱手段を通って流れる前記流体回路内の前記流体のそれぞれの割合を制御するよう動作可能である少なくとも１つのバルブと、を含み、前記制御システムは、前記流体回路内の前記流体の温度を制御するために、前記少なくとも１つのバルブの動作を制御するよう構成され、
好適には、前記制御システムは、好適には前記流体に対する基礎状態を確立するために、流体温度の決定された値に応じて、前記それぞれの割合を計算するよう構成され、
または／および、前記流体回路は、前記試験ゾーンの周りに流体を迂回させるためのバイパス回路部分と、前記試験ゾーンバイパス回路部分および前記試験ゾーンを通って流れる前記流体回路内の前記流体の前記それぞれの割合を制御するよう動作可能である少なくとも１つのバルブと、を含み、前記制御システムは、前記試験ゾーン内の前記流体の前記流速を制御するために、前記少なくとも１つのバルブの前記動作を制御するよう構成され、
好適には、前記制御システムは、好適には前記流体に対する基礎状態を確立するために、流体流速の決定された値に応じて、前記それぞれの割合を計算するよう構成されている、請求項１３または請求項１４に記載のシステム。