(57)【要約】      （修正有）【課題】家庭等で手軽にラジウム岩盤浴が可能な足岩盤浴装置を提供する。【解決手段】本考案の足岩盤浴装置１は、表面を露呈させたラジウム含有鉱石からなる岩盤層２と、岩盤層２の下方に配されたヒーター部と、ヒーター部の下方に配された断熱材層と、岩盤層２、ヒーター部および断熱材層を囲繞した檜材５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄと、ヒーター部と電気的に接続されコード６を介して外部に導出されたプラグ７とを有している。岩盤層２の表面に足を載置しヒーター部にて加熱すると岩盤層２が暖まりラジウム岩盤浴が可能となる。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
表面を露呈させたラジウム含有鉱石からなる岩盤層と、該岩盤層の下方に配されたヒーター部とを有していることを特徴とする足岩盤浴装置。
【請求項２】
前記ヒーター部の下方には断熱材層が設けられ、前記岩盤層、前記ヒーター部および前記断熱材層は檜材にて囲繞されている請求項１に記載の足岩盤浴装置。
【請求項３】
前記ヒーター部は、略一面に渡って発熱体が電気的に回路配置され当該一面全体が発熱するカーボンシートにて形成されている請求項１または２に記載の足岩盤浴装置。
【請求項４】
前記岩盤層の露呈した表面は、ナノメートルサイズの銀イオンを含有したコーティング剤にて抗菌処理されている請求項１ないし３のいずれかに記載の足岩盤浴装置。
【請求項５】
前記檜材は、前記岩盤層の表面と略面一に形成された足挿入部を構成すると共に、前記岩盤層の上方を被覆する被覆部を構成している請求項１ないし４のいずれかに記載の足岩盤浴装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、ラジウムを含有した岩盤を用いて家庭等で手軽にラジウム岩盤浴が可能な足岩盤浴装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、天然鉱石を加熱し遠赤外線放射等による温熱効果を利用した岩盤浴が、血行促進および新陳代謝を高める等の理由から注目されている。
このような岩盤浴を家庭等でより手軽に行えるものとしては、例えば、特開２００６−３４７４６号公報の岩盤浴用床などが提案されており、また、上端が開口した桶状体内に岩盤を配し加熱可能とした足岩盤浴装置（足の助：登録商標）なとも市販されている。
【０００３】
他方、ラジウム含有鉱石からは微量の放射線と微量のラドンが発生し、人体に対してバランスの取れた有益な刺激（ホルミシス効果）を与えることが指摘されている。
しかし、ラジウム含有鉱石を利用した岩盤浴装置はなく、玉川温泉を代表とするラジウム温泉施設等へ出向かなければならなかった。
【特許文献１】特開２００６−３４７４６号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、本考案の課題は、家庭等で手軽にラジウム岩盤浴が可能な足岩盤浴装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するものは、表面を露呈させたラジウム含有鉱石からなる岩盤層と、該岩盤層の下方に配されたヒーター部とを有していることを特徴とする足岩盤浴装置である。
【０００６】
前記ヒーター部の下方には断熱材層が設けられ、前記岩盤層、前記ヒーター部および前記断熱材層は檜材にて囲繞されていることが好ましい。前記ヒーター部は、略一面に渡って発熱体が電気的に回路配置され当該一面全体が発熱するカーボンシートにて形成されていることが好ましい。前記岩盤層の露呈した表面は、ナノメートルサイズの銀イオンを含有したコーティング剤にて抗菌処理されていることが好ましい。前記檜材は、前記岩盤層の表面と略面一に形成された足挿入部を構成すると共に、前記岩盤層の上方を被覆する被覆部を構成していることが好ましい。
【考案の効果】
【０００７】
請求項１または請求項２に記載した考案によれば、家庭等で手軽にラジウム岩盤浴が可能となる。
請求項３に記載した考案によれば、上記請求項１または２の効果に加え、岩盤層をムラなくより均等に加熱可能な足岩盤浴装置となる。
請求項４に記載した考案によれば、上記請求項１ないし３の効果に加え、岩盤層の表面等にカビや雑菌などが繁殖しない衛生的な足岩盤浴装置となる。
請求項５に記載した考案によれば、上記請求項１ないし４の効果に加え、岩盤層の表面に足を載置し易く、かつ岩盤層の上方に籠もり熱を保持してより温熱効果の高い足岩盤浴装置を構成できる。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００８】
本考案では、家庭等で手軽にラジウム岩盤浴が可能な足岩盤浴装置を実現した。
【０００９】
図１は本考案の足岩盤浴装置の一実施例の斜視図であり、図２は図１に示した足岩盤浴装置の縦断面図であり、図３は図１に示した足岩盤浴装置のヒーター部の平面概略図である。
【００１０】
この実施例の足岩盤浴装置１は、図１または図２に示すように、表面２ａを露呈させたラジウム含有鉱石からなる岩盤層２と、岩盤層２の下方に配されたヒーター部３と、ヒーター部３の下方に配された断熱材層４と、岩盤層２、ヒーター部３および断熱材層４を囲繞した檜材５と、ヒーター部３と電気的に接続されコード６を介して外部に導出されたプラグ７とを有している。以下、各構成について順次詳述する。
【００１１】
岩盤層２は、図１に示すように、表面が露呈するように足岩盤浴装置１の上部付近に配されており、この岩盤層２の表面に足を載置して岩盤浴可能に構成されている。岩盤層２の表面と後述する檜材５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの上面は略面一に形成されているため、壁や段差がなく、足の不自由な人やお年寄りでも、岩盤層２の表面に容易に足を載置できるよう構成されている。
【００１２】
なお、この実施例の岩盤層２を形成するラジウム含有鉱石は、ラジウムを多く含んだ鉱泉が数多く存在する岐阜県中津川市北部産の花崗岩が使用されている。この花崗岩は放射性鉱石であり、常時、アルファー線・ベータ線・ガンマー線を放出しており、その放射線量は約０．５〜０．７μＳｖ／ｈｒである。
【００１３】
ヒーター部３は岩盤層２を加熱するためのものであり、図２に示すように、岩盤層２の下方に配されている。このように、本発明の足岩盤浴装置１は、岩盤層２を加熱することにより岩盤層２から遠赤外線を放射させ温熱効果を発揮させると共に、上述した岩盤層２の放射能により人体に対してバランスの取れた有益な刺激（ホルミシス効果）を与えることでより健康増進を図ることができる装置である。
【００１４】
具体的には、この実施例のヒーター部３は、岩盤層２が平面視略正方形であることに対応して、図３に示すように、平面視略同寸同形の正方形に形成されている。このヒーター部３は、略一面に渡って発熱体が電気的に回路配置され当該一面全体が発熱するカーボンシートにて形成されており、岩盤層の表面全域をムラなくより均等に加熱するように構成されている。また、このヒーター部３はカーボンシートで形成されているため、電磁波を発生させずそれ自体からも遠赤外線を放射する。
【００１５】
断熱材層４は、ヒーター部３の下方への熱を遮断するためのものであり、図２に示すように、ヒーター部３の下方に配されている。より具体的には、この実施例の断熱材層４はウレタンフォームにて形成されており、ヒーター部３が平面視略正方形であることに対応して、平面視略同寸同形の正方形で岩盤層２と略同一の肉厚に形成されている。
【００１６】
檜材５は、足岩盤浴装置１のハウジングを構成するものであり、図１または図３に示すように、岩盤層２、ヒーター部３および断熱材層４の四方側面をそれぞれ囲繞する檜材５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと、底面を囲繞する檜材５ｅとから構成されている。また、檜材５ｂと５ｄの中央下部付近には、指を差し込んで把持可能とする把持用凹部がそれぞれ形成されている。なお、檜材は抗菌作用を有すると共にフィトンチッドを発散し芳香作用を有するためハウジング構成材として好適であり、この実施例では、岐阜県東濃地方産の東濃檜が使用されている。
【００１７】
岩盤層２の表面には抗菌処理がなされており、図２に示すように、抗菌コート層８が形成されている。これは、岩盤層２の表面には足が載置されるため、発汗等によりカビの発生や細菌が繁殖し易いからである。なお、この実施例では、抗菌処理として、ナノ銀イオンを含有したガラスコートが施されており、このガラスコートは檜材５にも施されている。このナノメートルサイズの銀イオンを含有したコーティング剤を使用することにより、岩盤の微細な表面凹部内に銀イオンが多数入り込んだ状態でコーティングされるため、銀イオンが滅菌作用を奏すると共に、岩盤の表面をふき取っても抗菌コート層８が剥離することがなく長期に渡って抗菌作用を発揮することができる。特に岩盤浴では岩盤表面の衛生保持が懸案となっており、このナノメートルサイズの銀イオンを含有したコーティング剤が極めて有用である。
【００１８】
そして、この足岩盤浴装置１を使用する場合は、ヒーター部３と電気的に接続されコード６を介して外部に導出されたプラグ７を電源に差し込む。２０分程度で岩盤層２が暖まるため、岩盤層２の表面に両足を載置するのみで家庭等で手軽にラジウム岩盤浴を行うことができる。
【００１９】
つぎに、図４に示した本考案の足岩盤浴装置の他の実施例について説明する。
この実施例の足岩盤浴装置１０と前述した足岩盤浴装置１との相違は、檜材の形状のみであり他は同様である。同一構成部分については同一符号を付し説明を省略する。
【００２０】
この実施例の足岩盤浴装置１０の檜材は、岩盤層２の表面と略面一に形成された足挿入部１１を構成すると共に、岩盤層２の上方を被覆する被覆部１２を構成している。
具体的には、一側壁を形成する檜材１３の上面１１が岩盤層２の表面と略面一に形成されて足挿入部１１が構成されている。この足挿入部１１には壁や段差がなく岩盤層２の表面に容易に足を載置できる。また、側壁１４ａ，１４ｂ，１５と、それらの上面に取り付けられた天板１６により、岩盤層２の上方を被覆する被覆部１２が構成されているため、岩盤層の上方に、籠もり熱を保持可能な空間が形成され、より温熱効果の高い足岩盤浴装置となっている。なお、側壁１４ａ，１４ｂにそれぞれ設けられた１７ａ，１７ｂは、足岩盤浴装置１０を把持するための把持用長孔である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本考案の足岩盤浴装置の一実施例の斜視図である。
【図２】図１に示した足岩盤浴装置の縦断面図である。
【図３】図１に示した足岩盤浴装置のヒーター部の平面概略図である。
【図４】本考案の足岩盤浴装置の他の実施例の斜視図である。
【符号の説明】
【００２２】
１  足岩盤浴装置
２  岩盤層
３  ヒーター部
４  断熱材層
５  檜材
６  コード
７  プラグ
８  抗菌コート層
９  把持用凹部
【図１】
0003136829.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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