【事件の表示】
　特願２０１２−５４２６７２「微分位相コントラストイメージングシステム」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　６月１６日国際公開、ＷＯ２０１１／０７０５２１、平成２５年　４月２２日国内公表、特表２０１３−５１３４１８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成２２年１２月８日（パリ条約による優先権主張：平成２１年１２月１０日　ＥＰ）を国際出願日として出願された外国語特許出願であって、平成２６年７月１８日付けで拒絶の理由が通知され、同年１０月１７日に意見書及び手続補正書が提出されたが、平成２７年２月２６日付けで拒絶査定がなされ、その謄本は同年３月３日に請求人に送達された。
　これに対し、平成２７年６月２６日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、それと同時に手続補正書が提出されたものである。
第２　平成２７年６月２６日にされた手続補正についての補正の却下の決定
　［補正の却下の決定の結論］ 
　平成２７年６月２６日にされた手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。  　 
　［補正の却下の決定の理由］  
　１　本件補正の内容について
　（１）本件補正は、特許請求の範囲の請求項１の記載を次のとおりに補正する補正事項をその一部に含むものである。
　ア　本件補正前の特許請求の範囲の請求項１の記載
「【請求項１】
　X線放出装置とX線検出装置を有する、対象物の微分位相コントラストイメージングを行うためのX線イメージングシステムであって、
　前記X線放出装置は、少なくとも部分的にコヒーレントなX線放射線を供し、
　前記X線検出装置は、位相シフト回折格子、位相解析回折格子、及びX線画像検出装置を有し、
　前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線画像検出装置は、光軸に沿ってこの順序で配置され、
　被検査対象物は、該被検査対象物の関心領域が、前記X線放出装置から前記X線画像検出装置へ放出されるX線放射線に曝露可能となるように、前記X線放出装置と前記位相解析回折格子との間で受けられ、
　前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一には、前記光軸に関して互いに対向するように配置された少なくとも2つのアクチュエータが備えられ、かつ、
　前記少なくとも2つのアクチュエータが、位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一のステッピング運動を与え、かつ、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、及び前記位相解析回折格子の位置合わせのずれを検出して補償するため、システムを校正する校正運動を供する、
　X線イメージングシステム。」
　イ　本件補正後の特許請求の範囲の請求項１の記載
　「【請求項１】
　X線放出装置とX線検出装置を有する、対象物の微分位相コントラストイメージングを行うためのX線イメージングシステムであって、
　前記X線放出装置は、少なくとも部分的にコヒーレントなX線放射線を供し、
　前記X線検出装置は、位相シフト回折格子、位相解析回折格子、及びX線画像検出装置を有し、
　前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線画像検出装置は、光軸に沿ってこの順序で配置され、
　被検査対象物は、該被検査対象物の関心領域が、前記X線放出装置から前記X線画像検出装置へ放出されるX線放射線に曝露可能となるように、前記X線放出装置と前記位相解析回折格子との間で受けられ、
　前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一には、前記光軸に関して互いに対向するように配置された少なくとも2つのアクチュエータが備えられ、かつ、
　前記少なくとも2つのアクチュエータが、位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一のステッピング運動を与え、かつ、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、及び前記位相解析回折格子の位置合わせのずれを検出して補償するため、
同一方向に同一速度で運動することで並進運動を供し、かつ、互いに異なる方向に運動することで回転運動を供することで、
　X線イメージングシステム。」（下線は、本件補正による補正箇所を示す。）
　（２）本件補正の目的について
　上記請求項１についての補正事項は、本件補正前の請求項１において特定されている「２つのアクチュエータ」が「供する」「システムを校正する校正運動」について、「同一方向に同一速度で運動することで並進運動を供し、かつ、互いに異なる方向に運動することで回転運動を供する」ものであることを特定し、さらに限定するものであって、それにより、産業上の利用分野及び解決しようとする課題が変更されるものでもないから、当該補正事項による補正の目的は、特許法第１７条の２第５項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（同法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか否か）について以下に検討する。
　
　２　独立特許要件についての検討 
　（１）本件補正発明
　本件補正発明は、上記１（１）イにおいて摘示したとおりの発明特定事項により特定されるものである。
　（２）引用例
　ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張日前に頒布された刊行物である特表２００８−５４５９８１号公報（以下、「引用例１」という。）には、つぎの事項が記載されている。（下線は、当審により付加したもの。）
　（ア）「【０００１】
  本発明は、定量的位相コントラスト画像の取得と波面形状の測定のためのＸ線用、特に、硬Ｘ線用干渉計に関する。」
　（イ）「【００１４】
　本発明の有利な実施形態では、
ビームスプリッターは、位相格子、
位相のずれがπ又はπの奇数倍である線状格子又は二次元構造の格子
【００１５】
　更に、検出器の感度の変化は、検出器の直ぐ前に配置された、Ｘ線吸収コントラストの高い一次元又は二次元格子構造によって達成することができる。この
検光子用格子
【００１６】
　検出器の感度を変化させる周期ｐ2 は、その周期がビームスプリッター用格子の周期ｐ1 と入射波面の半径ｌに関して、
【００１７】
【数１】（省略）
【００１８】
　ここで、ｄはビームスプリッターと検光子間の距離、
の関係となるように選定することが最良である。有利には、スプリッターと検光子間の間隔は、
【００１９】
【数２】（省略）　
【００２０】
　ここで、ｎ＝１，３，５，．．．、
の式で与えられる奇数番目のトールボット分割距離に選定される。更に、ビームスプリッター用格子の位相のずれ及びビームスプリッターと検光子間の距離は、放射線源として使用されるＸ線発生器の放出線に対応する光子エネルギーに適合させることができる。
【００２１】
　
所望の周期のモアレ縞を観察することができるように、或いはモアレ縞を最小化又は纏めて抑制するために、検光子に対して光軸の周りのビームスプリッターの角度方向を変化させる機構を配備することができる。
【００２２】
　
横方向の空間解像度を増大するとともに、Ｘ線の位相のずれに関する情報をＸ線の吸収に関する情報から分離するために、放射線源を横方向に動かすか、放射線源、ビームスプリッター及び検光子の中の一つ以上の前に配置された開口を横方向に動かすか、或いはＸ線源に対して干渉計を傾斜させることによって、一次元又は二次元の位相シフトによる走査を実現することができる。
【００２３】
  速いデータ収集を保証するために、検出器は、二次元で位置を検出し、それによって、ビームスプリッターと検光子の横方向の大きさが検出器の動作範囲の大部分をカバーするように構成することができる。」
　（ウ）「【００３３】
  本発明のベースとなるものは、図１に図示されている通りの二格子式干渉計である。その干渉計は、構成要素として、
Ｘ線源ＸＳ
物体Ｏと、ビームスプリッター用位相格子Ｇ１と、検光子用振幅格子Ｇ２と、空間分解型Ｘ線検出器Ｄとを有する
【００３４】
  画像形成処理に関して、
周期ｐ1 のビームスプリッター用格子Ｇ１は、それが入射ビームを基本的に二つの一次回折次数に分割するように構成される。そのための条件は、格子の線が小さい吸収率を有し、格子の線を通過する放射線の位相をπの奇数倍シフトさせることと、位相をシフトさせる構造の幅が格子の周期の半分に近い、即ち、格子が０．５に近いデューティサイクルを有することとである。照射する硬Ｘ線の波長が、１０
-10
 〜１０
-11
 ｍのオーダーであり、従って、格子のピッチ（１０
-5
〜１０
-6
ｍ）よりも著しく小さいので、二つの回折ビーム間の角度は、それらがほぼ完全に重なり合う程小さい。ビームスプリッター用格子Ｇ１の下流の重なる領域では、回折ビームが干渉し、Ｇ１から下流に距離ｄの光軸Ａに対して垂直な面において、周期的な線状の縞模様を形成する。
【００３５】
【数４】　（省略）
【００３６】
に等しい。
【００３７】
  一般的なケースである、ｄ＜＜ｌの場合、干渉縞の周期は、Ｇ１の周期の約半分となる。これらの縞の周期も横方向の位置も、使用する放射線の波長に依存しない。
ビーム内の位相物体上での屈折により生じる変動などの入射波の波面の変動は、縞の局所的な変位を引き起こす。
吸収線、並びに縞と同じ周期ｐ
2
 及び方向を有する検光子用格子Ｇ２が、検出器の直ぐ前の検出面に配置されている
検出した強度信号は、物体Ｏによって生じた位相のずれに関する定量的な情報を含むこととなる。この位相情報を抽出するために、少なくとも三つの方法を適用することができる。
１）最も単純な方法
  
格子線及び干渉縞の方向及び周期が厳密に同じ（試料の無い場合を意味する）空の構成での干渉縞パターン内に検光子用格子Ｇ２を配置した場合、透過物体後における強度の透過率は、格子線に対して垂直な方向における縞と格子線の相対的な位置に依存する。
透過後の強度が、これらの極値の間となり、理想的には最大透過率と最小透過率の平均値に近くなるように、この位置を選定した場合、干渉縞の局所的な歪は、縞の歪に比例する局所的な透過率に変化を生じさせる。
記録した画像は、微分位相コントラスト画像である。必要であれば、格子線に対して垂直な方向に微分位相コントラスト画像を積分することによって、位相コントラスト画像を得ることができる。
ｉ）記録した画像が、場合によっては吸収によるコントラストと物体Ｏ内の境界での回折によるコントラストを含み、両方は、（微分）位相コントラスト分布と区別することが難しいことと、
ii）この方法は、全視野に渡って検光子用格子線に対して干渉縞を正確に揃える必要が有り、そのことは、特に、大きな視野に対して実現することが難しく、構成の機械的な不完全さ又は格子の製造誤差のために、干渉縞又は格子線の一方に歪が生じた場合には、不可能でさえある。
２）モアレ干渉法
  このモードでは、ビームスプリッター用格子Ｇ１と検光子用格子Ｇ２は、それらの線が互いに完全に平行となるように揃えられておらず、むしろ意図的に二つの格子が互いに光軸の周りに小さい回転角αを有する。その結果、図２に図示されている通りの一組のモアレ縞が生じる。入射する平面波（図２ａ）に関して、モアレ縞は、
【００３８】
【数５】（省略）
【００３９】
による間隔を有し、二つの格子の線に対して垂直である（図２ｂ）。依然として平面の傾斜波に関して、縞は光軸に対して平行な平面波に対して変位する（図２ｃ，ｄ）。収束又は発散する波（図２ｅ）に関して、モアレ縞は傾斜する（図２ｆ）。モアレ縞の最大値の局所的な位置又はモアレ縞の局所的な傾斜から、波面の位相プロファイルの微分は、比較的簡単に得ることができる。モアレ縞の横方向の変位Δｙと波面の位相φ間の関係は、
【００４０】
【数６】（省略）
【００４１】
となる。モアレ縞の位置Δｙを得るために、標準的な縞解析手法及びソフトウェアを使用することができる。図３は、実験データと予備的な解析の例を図示している。二つの格子の傾斜角αの選定は、空間的な解像度と感度間のトレードオフによって決定される。モアレ縞に対して垂直な方向における空間解像度は、モアレ縞の周期ｐm よりも大幅に良くすることはできない。αが増大すると、ｐm が低下するので（式２）、傾斜が大きくなることは、空間解像度が良くなることを意味する。しかし、式３は、傾斜が大きくなると、感度が低下すること、即ち、所与の位相勾配に関して、αが増大すると、モアレ縞の変位が小さくなることを示している。干渉計のモアレ操作の主な利点は、単一の画像から、望ましくない吸収コントラストの無い純粋な位相情報を得ることが可能なことである。主な欠点は、格子線に対して平行な（モアレ縞に対して垂直な）方向における解像度が、検出器の画素サイズよりも少なくとも一桁劣ることである。
３）位相シフト法
  上記のアプローチの欠点を回避する第三の方法は、試料での吸収、照射の不均一性又は格子の不完全性などの信号への別の寄与分から位相情報を分離することであり、可視光による干渉法で使用されている位相シフトのアプローチを本構成に適合させたものである。図４に図解している通り
、格子の一つの周期に渡り格子線に対して垂直な横方向に沿って、格子の中の一つを走査して、この走査の点毎に一つの画像を撮影する
る（図４ｅ）。各画像における強度変動の位相φ（ｘ，ｙ）（図４ｆ）は、次式の通り、波面の位相プロファイルΦ（ｘ，ｙ）に関連している。
【００４２】
【数７】（省略）」
　（エ）「【００５０】
  Ｘ線干渉計での状況は、従来の干渉計とは、コントラスト曲線の形状が正弦曲線でないことが相違する（例えば、格子のプロファイルが箱状であり、照射が完全に干渉性である理想的なケースでは、三角形となる）。この問題に対処するためには、少なくとも二つの方法が有る。
１．変動周期毎に多くの点で位相シフトによる走査を実施する。画素毎の位相シフトによる走査信号を解析するために、そのフーリエ変換を計算することができる。フーリエ変換の一次成分の位相は、（幅πの半開区間に展開された）変動の位相φを表す。この種の解析に関する位相シフトによる走査における点の最小数は、無視できない強度の最も高次のフーリエ成分の数＋２とすべきである。
２．試料の無い状態での校正測定において、
位相シフトによる走査を非常に細かいステップで行うことによって、（画素毎に）コントラスト曲線を測定する。試料の画像処理では、走査毎に数点で位相シフトによる走査を実施し、例えば、適合手順において、校正したコントラスト曲線を使用することによって、位相φを決定することができる。
　（オ）「【００８１】
  前述した放射線源の配列は、様々な手法により実現することができる。
１）一つは、アノード面上に電子の線状焦点の配列を作り出すことである。
２）一つは、区画に分割された構造の、或いは異なる材料の領域から構成されたアノード
面を使用することである。
３）時間的に均等に線の配列を形成するために、アノード面に渡って走査する単一の線状又は点状の焦点を作り出すこともできる。そのような形態の単一の点を同じ場所に維持する形態と比べた利点は、放熱が改善されるために、アノードを損傷すること無く、より大きなエネルギーを印加可能なことである。別の利点は、電子ビームの偏向によって、放射線源の配列周期を調整して、ｌ／ｄの様々な値に対して式７を適合させることができることである。更に、アノードに渡って放射線源の配列を移動させて、位相シフトを実現するために、ビームの偏向を使用することができる。
４）最も簡単な手法は、仮想的な線状放射線源の配列を作り出すために、
大きなＸ線源の前にスリットの配列、即ち、振幅格子を置くことである。
【００８２】
  
単一の放射線源による二格子式干渉計に関連した前の段落に記載した考察は、配列された一つの放射線源による構成に関しても有効である。この場合、放射線源を動かすことによって位相シフトによる走査を実現する手段を拡張しなければならず、位相シフトに関して動かさなければならないのは、放射線源の配列全体である。放射線源の配列を作り出すために、スリットの配列を使用する場合、そのスリット配列の開口部を放射線源と一緒に動かすか、或いは放射線源を空間的に固定した状態にして開口部だけを動かすことができる。
　（カ）　図１１
　イ　引用例１に記載された発明
　（ア）上記ア（ア）には、引用例１に記載の発明が「位相コントラスト画像の取得」のための「硬Ｘ線用干渉計」に関するものであることが、同（イ）には、「位相格子」である「スプリッター」と、「検出器の直ぐ前に配置された」「検光子用格子」であって、当該各格子の周期、及び、格子間距離を所定の関係に選定したものにより構成する干渉計構造を用いることについて記載されている。
　（イ）上記ア（イ）の段落【００２１】には、ビームスプリッターを検光子用（格子）に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構を配備することが記載されており、それにより、所望のモアレ縞を観察し、モアレ縞を最小化又は抑制することができることについて記載されている。
　（ウ）上記ア（イ）の段落【００２２】には、 「検光子」の前に配置された「ビームスプリッタ」を横方向に動かすか、或いはＸ線源に対して干渉計を傾斜させることにより、位相シフトによる走査を実現できることが記載されている。
　（エ）上記ア（ウ）には、「Ｘ線源ＸＳ」、「フィルタＦ」、「物体Ｏ」、「ビームスプリッター用位相格子Ｇ１」、「検光子用振幅格子Ｇ２」及び「空間分解型Ｘ線検出器Ｄ」をこの並びで有する二格子式干渉計について記載されており、当該二格子式干渉計により検出した強度信号が、物体Ｏによって生じた位相のずれに関する定量的な情報を含むこととなること、そして、この位相情報を抽出するための三つの方法が開示されている。
　（オ）さらに、上記ア（ウ）には、この位相情報を抽出するための三つの方法のうち、「位相シフト法」が「格子の一つの周期に渡り格子線に対して垂直な横方向に沿って、格子の中の一つを走査して、この走査の点毎に一つの画像を撮影する」ものであることが記載されている。
　（カ）上記ア（エ）には、試料のない状態での校正測定を「位相シフトによる走査を非常に細かいステップで行う」ことについて記載されている。
  （キ）上記ア（オ）には、振幅格子を備えるＸ線源を用いる二格子式干渉計について記載されており、この干渉計について、単一の放射線源による二格子式干渉計に関連した考察が有効であることが記載されている。
　（ク）上記ア（ア）ないし（オ）の記載及び同（カ）の図１１並びに上記（ア）ないし（キ）で認定した事項を総合すると、引用例１には、つぎの発明が記載されているものと認められる。
　「Ｘ線源ＸＳ、振幅格子、フィルタＦ、ビームスプリッター用位相格子Ｇ１、検光子用振幅格子Ｇ２及び空間分解型Ｘ線検出器Ｄをこの並びで有する位相コントラスト画像を得るための二格子式干渉計であって、物体Ｏは、フィルタＦとビームスプリッター用位相格子Ｇ１の間に置かれるものであり、ビームスプリッター用位相格子を検光子用振幅格子に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構、及び、横方向に動かすか、或いはＸ線源に対して干渉計を傾斜させることにより位相シフト走査を実現できる機構を備えるものであって、ビームスプリッター用位相格子を検光子用振幅格子に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構により所望のモアレ縞を最小化又は抑制するものであり、試料のない状態での校正測定が位相シフトによる走査を非常に細かいステップで行うものであり、位相シフト法で格子の一つの周期に渡り格子線に対して垂直な横方向に沿って、ビームスプリッター用位相格子を走査して、この走査の点毎に一つの画像を撮影するものである二格子式干渉計」の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている。
 
　ウ　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張日前に頒布された刊行物である米国特許第５８１２６２９号明細書（以下、「引用例２」という。）には、つぎの事項が記載されている。（下線は、当審により付加したもの。）
　（ア）「III.10.1 Alignment system components
　The components of the Invention that are used for its alignment are shown on FIG. 1. Laser LS produces narrow bandwidth light with wavelength λL. Laser LS is a temperature stabilized single-mode diode laser, including an associated collimating lens and beam circularizing optics that gives it a parallel diffraction-limited output beam. Its wavelength λL is adjustable over a narrow range via adjustment of its temperature and/or injection current. Reflections are prevented from reentering the laser by Faraday optical isolator FOI and by spatial filter SF. Spatial filter SF is comprised of two lenses with a Newtonian focus and a pinhole positioned at this focus. Light from laser LS, after passing through FOI and SF has optic axis LCL. It then passes through adjustable-focus telescope AFT, comprised of two lenses. The focal lengths of its lenses are chosen so that the laser beam exiting the telescope has a typical diameter of about 3 mm-1 cm. Telescope AFT is aligned to laser optic axis LCL. Its focus is adjusted in a manner that does not perturb axis LCL, but allows the laser beam to be brought to a focus at various distances from it including infinity. 」（５４欄５４行〜５５欄８行）
（当審仮訳「III.10.１　位置合わせシステム要素
　位置合わせのために用いられる本願発明の構成は、図１に示されている。レーザLSは、波長λＬの狭帯域光を生成する。レーザLSは、コリメートレンズと平行回折限界出力ビームを与える光サーキュレータを含む温度安定化シングルモードダイオードレーザである。
　波長λＬは、その温度および/または注入電流の調整を介して、狭い範囲にわたって調整可能である。反射は、ファラデー光アイソレータFOI及び空間フィルタSFによって、レーザーの再入力から妨げられる。空間フィルタSFは、ニュートン焦点とこの焦点に位置するピンホールと2枚のレンズで構成されている。レーザーLSからの光は、FOIとSFを通過した後は、光軸LCLを持っている。その後、2つのレンズで構成されたフォーカス調整可能なテレスコープAFTを通過する。テレスコープを出るレーザビームは約3mm-1 cmで典型的な直径を有するように、そのレンズの焦点距離が選択される。テレスコープAFTは、レーザ光軸LCLに位置合わせされる。それらの焦点は、レーザビームが無限遠を含む、それからの様々な距離においてもたらされるように、光軸LCLを乱さないような方法で調節された。」）
　（イ）「X-ray axis CL passes through the center of focal spot S and through the center of detector D. X-ray transmitting mirror XTM is very thin, partially reflecting of light, and negligibly absorbing of x-rays (e.g. a microscope cover-slide). It negligibly laterally displaces transmitted light. Positionally-adjustable mirrors M1 and XTM reflect the laser beam so that the reflection of laser optic axis LCL and x-ray axis C.sub.L coincide. Said coincidence is obtained by using removable pinholes PH1 and PH2 as fiducials. These pinholes are made from a high-Z material that transmits neither light nor the x-rays. They are positioned during alignment within the apparatus on kinematic mountings, so that following their removal they may be repositioned at exactly the same position. Their lateral positions are set using x-y translation micropositioning means, included as part of each of their mountings. The holes are only a few μm in diameter, and comparable in size to that of a diffraction-limited beam-waist formed by focusing the laser beam on them.」（５５欄１４行〜３２行）
（当審仮訳　「Ｘ線光軸ＣＬは、焦点スポットＳの中心を通って検出器Ｄの中心を通る。Ｘ線透過ミラーＸＴＭは、非常に薄く、部分的に光を反射し、（例えば、顕微鏡カバースライドのように）Ｘ線を無視できる程度に吸収する。それは無視できるほど横方向に透過光を変位する。Ｘ線の光軸ＣＬとレーザ光学系の反射光軸ＬＣＬが一致するように、位置調整可能なミラーＭ１とＸＴＭは、レーザビームを反射する。上記の一致は、取り外し可能なピンホールPH1とPH2を使用することによって得られる。これらのピンホールは、光もＸ線も透過しない高Ｚ材料から作られている。これらは、それらの除去後に正確に同じ位置に再配置することができるように、それらは、位置合わせの際に、装置のキネマティックマウントに配置されている。それらの横方向位置はX-Y並進微細位置決め手段を使用して設定され、それらのマウントの各々の一部として含まれる。その孔は、直径がたった数μｍであり、そして、サイズにおいて、それらにレーザビームを集束させることによって形成される回折限界ビームウエストに匹敵する。」）
　（ウ）「
Laser LS, along with its associated beam forming (AFT, SF, FOI, etc.) and beam steering components (M1, XTM, etc.), gratings G1 and G2 and detector D, together form an in-situ optical interferometer that is used to obtain accurate alignment of the apparatus.
When the apparatus is in correct alignment, pattern O is then also period and phase matched to detector D, similarly to the desired phase matching between period P and detector D.
（当審仮訳「
レーザLS、その関連するビームフォーミング（AFT、SF、FOI、等）と、ビームステアリング要素（M1、XTM、等）格子G1、G2と検出器Dは、装置の正確な位置合わせを得るために用いられる光干渉計を、その場で一緒に形成する。
装置は、位置合わせが正しいとき、パターンＯもその時、周期Pと検出器Dとの間の望ましい位相マッチングと同様に周期と位相が検出器Ｄで一致する。
　（エ）「When alignment is incorrect, pattern 0 forms a moire pattern [see Patorski,1993] with the periodic pixel layout of detector D. Color monitor TV displays via computer CP the optical image detected by the b-labeled pixels as one color (e.g. red) and that by the d-labeled pixels as a second color (e.g green). The moire pattern is then displayed as a 2D-periodic color variation on monitor TV. Its fringe period is the spatial frequency difference between that of pattern O and of the b-labeled pixels' sparse array, so that the moire's displayed appearance is a very sensitive indicator of any misalignment of pattern O and of any corresponding lack of phase matching. Computer CP further provides zoom and pan options to allow observation of fine details of said moire image. Alignment is then guided by the varying appearance of the displayed moire, in response to manipulations of the relative alignment of gratings G1, G2, G3 and detector D.」（５５欄６４行〜５６欄１３行）
（当審仮訳「アライメントが正しくない時は、パターンＯは、検出器Ｄの周期画素レイアウトとモアレパターンを形成する［Patorski,1993参照]。カラーモニターTVは、コンピュータCPを介して　第１の色（例えば赤）としてｂ標識画素により、そして、第２の色（例えば緑）としてｄ標識画素により検出した光学像を表示する。モアレパターンは、その後、モニタTV上の2D周期カラーバリエーションとして表示される。モアレの表示された外観は、パターンＯの任意の位置ずれ及び位相マッチングの任意の欠如についての非常に敏感な指標であるように、その縞の周期は、そのパターンＯとｂ標識画素の疎なアレイとの空間周波数の差となる。コンピュータCPは、上記モアレ画像の細部の観察を可能にするために「ズーム」と「パン」オプションを提供する。位置合わせは、その時、格子G1、G2、G3及び検出器Dの相対的な位置合わせの操作に応答して、表示されたモアレの変化によって導出される。」）
　（オ）「
Precision position-defining mountings are used for positioning gratings G1 and G2 and detector D. 
Each grating is laterally and rotationally finely positioned by piezoelectric translators.
（当審仮訳　「
精密位置決定取付手段は、格子G1、G2と検出器Dの位置決めのために使用される。
それぞれの格子は、複数のピエゾトランスレータによって、横方向と回転方向に正確に位置決めされる
　（カ）図１
　エ　上記ウ（ア）ないし（カ）によれば、引用例２には、「格子Ｇ１とＧ２及び検出器Ｄの位置決めのために使用される精密位置決定取付手段であって、当該取付け手段は、複数のピエゾトランスレータによって格子が横方向及び回転方向に正確に位置決めすることができる精密位置決定取付手段」の技術が開示されているものと認められる。　
　（３）対比
　本件補正発明と引用発明１とを対比する。
　ア　「X線放出装置」と「X線検出装置」についての対比
　（ア）引用発明１の「Ｘ線源ＸＳ、振幅格子、フィルタＦ」は、本件補正発明の「少なくとも部分的にコヒーレントなX線放射線を供」する「Ｘ線放出装置」に相当するものである。
　（イ）引用発明１の「ビームスプリッター用位相格子Ｇ１」、「検光子用振幅格子Ｇ２」及び「空間分解型Ｘ線検出器Ｄ」は、それぞれ、本件補正発明の「位相シフト回折格子」、「位相解析回折格子」及び「X線画像検出装置」に相当するものであり、引用発明１の「ビームスプリッター用位相格子Ｇ１」、「検光子用振幅格子Ｇ２」及び「空間分解型Ｘ線検出器Ｄ」は、「位相コントラスト画像を得る」ためのものであって「Ｘ線画像検出装置」といい得るものであることは技術的に明らかであるから、本件補正発明の「Ｘ線検出装置」に相当するものである。
　（ウ）引用発明１の「物体Ｏ」は、「位相コントラスト画像を得る」対象であって、かつ「フィルタＦとビームスプリッター用位相格子Ｇ１の間に置かれるもの」である点で、本件補正発明の「対象物」に相当するものであり、また、本件補正発明１の「前記X線放出装置から前記X線画像検出装置へ放出されるX線放射線に曝露可能となるように、前記X線放出装置と前記位相解析回折格子との間で受けられ」るものであることも技術的に明らかである。
　（エ）上記（ア）ないし（ウ）の対比をまとめると、
　本件補正発明の「X線放出装置とX線検出装置を有する、対象物の微分位相コントラストイメージングを行うためのX線イメージングシステムであって、前記X線放出装置は、少なくとも部分的にコヒーレントなX線放射線を供し、前記X線検出装置は、位相シフト回折格子、位相解析回折格子、及びX線画像検出装置を有し、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線画像検出装置は、光軸に沿ってこの順序で配置され、被検査対象物は、該被検査対象物の関心領域が、前記X線放出装置から前記X線画像検出装置へ放出されるX線放射線に曝露可能となるように、前記X線放出装置と前記位相解析回折格子との間で受けられ」るものであることと、
　引用発明１の「Ｘ線源ＸＳ、振幅格子、フィルタＦ、ビームスプリッター用位相格子Ｇ１、検光子用振幅格子Ｇ２及び空間分解型Ｘ線検出器Ｄをこの並びで有する位相コントラスト画像を得るための二格子式干渉計であって、物体Ｏは、フィルタＦとビームスプリッター用位相格子Ｇ１の間に置かれるもの」は、
　共に、「X線放出装置とX線検出装置を有する、対象物の微分位相コントラストイメージングを行うためのX線イメージングシステムであって、前記X線放出装置は、少なくとも部分的にコヒーレントなX線放射線を供し、前記X線検出装置は、位相シフト回折格子、位相解析回折格子、及びX線画像検出装置を有し、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線画像検出装置は、光軸に沿ってこの順序で配置され、被検査対象物は、前記X線放出装置から前記X線画像検出装置へ放出されるX線放射線に曝露可能となるように、前記X線放出装置と前記位相解析回折格子との間で受けられ」るものである限りで共通するものといえる。
  イ　「アクチュエータ」についての対比
　（ア）引用発明１が備えるところの「ビームスプリッター位相格子を検光子用振幅格子に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構、及び、横方向に動かすか、或いはＸ線源に対して干渉計を傾斜させることにより位相シフト走査を実現できる機構」と本件補正発明の「前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一には、前記光軸に関して互いに対向するように配置された少なくとも2つのアクチュエータが備えられ」ることとは、「前記位相シフト回折格子にアクチュエータが備えられ」る限りで共通する。
　（イ）引用発明１の「ビームスプリッター位相格子を検光子用振幅格子に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構」は、「所望のモアレ縞を最小化又は抑制するものであ」るところ、位相シフト法を用いて「位相コントラスト画像」を得る際には、対象物がない状態でモアレ縞ができるだけ発生しないようにしなければならないことは技術常識であることからすれば、ここでの「所望のモアレ縞を最小化又は抑制する」ことは、校正動作といい得るものである。
　そして、引用発明１の「試料のない状態での校正測定を位相シフトによる走査を非常に細かいステップで行うものであ」って、この走査が「ビームスプリッター位相格子を検光子用振幅格子に対して」「横方向に動かす」「ことにより位相シフト走査を実現できる機構」により行われることは明らかである。
　（ウ）引用発明１の「位相シフト法で格子の一つの周期に渡り格子線に対して垂直な横方向に沿って、ビームスプリッター用位相格子を走査して、この走査の点毎に一つの画像を撮影する」ことは、本件補正発明１の「位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一のステッピング運動を与え」ることに「位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子のステッピング運動を与え」るものである点で相当する。
　（エ）上記（ア）ないし（ウ）の対比を総合すれば、
　引用発明１の「ビームスプリッター用位相格子を検光子用振幅格子に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構、及び、横方向に動かすか、或いはＸ線源に対して干渉計を傾斜させることにより位相シフト走査を実現できる機構を備えるものであって、ビームスプリッター用位相格子を検光子用振幅格子に対して光軸の周りに角度方向を変化させる機構により所望のモアレ縞を最小化又は抑制するものであり、試料のない状態での校正測定が位相シフトによる走査を非常に細かいステップで行う」ものであることと、
　本件補正発明の「前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一には、前記光軸に関して互いに対向するように配置された少なくとも2つのアクチュエータが備えられ、かつ、前記少なくとも2つのアクチュエータが、位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線放出装置のうちの少なくとも一のステッピング運動を与え、かつ、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、及び前記位相解析回折格子の位置合わせのずれを検出して補償するため、同一方向に同一速度で運動することで並進運動を供し、かつ、互いに異なる方向に運動することで回転運動を供することで、システムを校正する校正運動を供する」こととは、
　共に、「前記位相シフト回折格子にアクチュエータが備えられ、かつ、アクチュエータが、位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子のステッピング運動を与え、かつ、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、及び前記位相解析回折格子の位置合わせのずれを検出して補償するため、同一方向に同一速度で並進運動を供し、かつ、回転運動を供するシステムを校正する校正運動を供する」ものである限りで共通するものといえる。
　ウ　上記ア及びイでの検討を踏まえると、本件補正発明と引用発明１とは、つぎの点で一致し、つぎの相違点で相違するものである。
＜一致点＞
　Ｘ線放出装置とＸ線検出装置を有する、対象物の微分位相コントラストイメージングを行うためのＸ線イメージングシステムであって、前記Ｘ線放出装置は、少なくとも部分的にコヒーレントなＸ線放射線を供し、前記Ｘ線検出装置は、位相シフト回折格子、位相解析回折格子、及びＸ線画像検出装置を有し、前記Ｘ線放出装置、前記位相シフト回折格子、前記位相解析回折格子、及び前記X線画像検出装置は、光軸に沿ってこの順序で配置され、被検査対象物は、前記Ｘ線放出装置から前記Ｘ線画像検出装置へ放出されるＸ線放射線に曝露可能となるように、前記Ｘ線放出装置と前記位相解析回折格子との間で受けられ、
　前記位相シフト回折格子にアクチュエータが備えられ、かつ、アクチュエータが、位相ステッピング画像を取得するため、前記位相シフト回折格子のステッピング運動を与え、かつ、前記X線放出装置、前記位相シフト回折格子、及び前記位相解析回折格子の位置合わせのずれを検出して補償するため、同一方向に同一速度で並進運動を供し、かつ、回転運動を供するシステムを校正する校正運動を供するＸ線イメージングシステム」である点
＜相違点１＞
　本件補正発明の「被検査対象物」は、その「関心領域」が「前記X線放出装置から前記X線画像検出装置へ放出されるX線放射線に曝露可能となるよう」にされているのに対して、引用発明１の「物体Ｏ」は関心領域が設定されるものであるか否かが不明である点
＜相違点２＞
　アクチュエータに関し、本件補正発明の「位相シフト回折格子」には、光軸に関して対向するように配置された少なくとも２つのアクチュエータが備えられ」、「少なくとも２つのアクチュエータ」が、同一方向に同一速度で運動することで並進運動を供し、かつ、互いに異なる方向に運動することで回転運動を供する」ものであるのに対して、引用発明１の「ビームスプリッター用位相格子」が備える「機構」がそのようなものであるか否かが不明である点
　（４）検討
　ア  相違点１について検討する。
　Ｘ線イメージング装置を用いて画像取得を行う場合において、検出対象物に関心領域を設定することは通常行われていることにすぎず、また、検査対象物に関心領域を設定した場合には、その関心領域が放射線暴露可能となるように検査対象を配置することは当然のことであるから、引用発明１において、「物体Ｏ」の画像を取得するにあたり、関心領域を設定し、当該関心領域に放射線が暴露可能となるようにすることは、当業者が必要に応じて適宜なし得る程度のことにすぎない。
　イ　相違点２について検討する。
　（ア）上記（１）エにおいて認定したとおり、引用例２には、「格子Ｇ１とＧ２及び検出器Ｄの位置決めのために使用される精密位置決定取付手段であって、当該取付け手段は、複数のピエゾトランスレータによって格子が横方向及び回転方向に正確に位置決めすることができる精密位置決定取付手段」が記載されているものと認められることからすれば、本願優先権主張日前、光学格子を位置調整するために複数のピエゾ素子からなるアクチュエータを用いて横方向及び回転方向に正確に位置決めするようにすることは、既に公知の技術思想であったものということができる。
　（イ）板状の部材を位置合わせのために微調整する手段を複数のピエゾ素子により構成し、複数のピエゾ素子の動作方向を同じ方向として平行移動を提供し、異なる方向とすることで回転動作を提供するように構成するものは、例えば、特開平１１−２０４４２５号公報（以下、「周知例１」という。）の図２の「１９ａ，１９ｂ，及び１９ｃ」並びに、「【００１９】レチクルステージ５とスキャンステージ６とは３つのピエゾ１９ａ〜１９ｃを介して連結されている。レチクルステージ５の隣り合う２辺の一方の辺の中央部に第１ピエゾ１９ａ、他方の辺の両端部近傍に第２ピエゾ１９ｂ及び第３ピエゾ１９ｃが配置されている。これらのピエゾ１９ａ〜１９ｃヘの電圧を制御することによってレチクルステージ５を、ｘ方向及びｙ方向に微小量Δｘ、Δｙだけ平行移動させることができ、さらには図２の紙面に直交する回転軸（ｚ軸）を中心として微小角度θだけ回転させることができる。これによって、レチクル３の位置を微調整することができる。」との記載や、特開２００５−７７９５６号公報（以下「周知例２」という。）の図３及び「【００２５】 図３は、平行平板の四隅にピエゾ素子を実装したものである。ただし平行平板とピエゾ素子は固着していないので、それぞれ隣り合う２組づつのピエゾ素子を動作させることで、平行平板は４方向へ傾けることができる。図５は、本発明に使用する光学系を模式的に描いた図である。光変調素子で変調された光は、偏向素子（図２に示した平行平板とピエゾ素子）で偏向され、投写レンズからスクリーンへ投写される。 図４に、平行平板による偏向の様子を示した模式図である。各ピエゾ素子を動作させることで、平行平板を傾けることができ、図４に示すように、傾いた方向により、偏向が可能となる。図６に、偏向素子により偏向された各場所に表示される画像の表示順序を示す。」などに記載されているように、周知の技術である。
　（ウ）してみると、引用発明１において、「ビームスプリッター用位相格子」が備える「機構」を、複数のピエゾ素子からなるものとすることは、引用例２に記載の技術に基づいて当業者であれば容易に想到し得ることといえ、その際に、複数のピエゾ素子の配置態様を周知の技術に基づいて、ビームスプリッター用位相格子に複数のピエゾ素子を備えるようにし、複数のピエゾ素子の動作方向を同じ方向として平行移動を提供し、異なる方向とすることで回転動作を提供するように構成することは当業者が適宜なし得る程度のことというべきである。
　（エ）また、引用発明１の「回転」が光軸を中心とする回転であることからすれば、上記周知例１の「ピエゾ１９ａ及び１９ｂ」のように配置する場合には、「ビームスプリッター用位相格子」一辺において光軸に対して対象となる位置に対向して配置する必要があることは容易に理解し得ることであるし、周知例２のように「板状部材」の４隅に配置しても良いことは当業者にとって明らかなことである。
　（オ）以上のことを総合すれば、上記相違点２は、引用例２に記載の技術並びに周知例１及び２に記載されているような周知技術に基づいて当業者が容易に想到し得るものであるといえる。
　（５）本件補正発明の効果について
　本件補正発明の効果は、引用発明１及び引用例２に記載の技術並びに周知例１及び２に記載の周知技術から当業者が予測し得る程度のものであって格別なものではない。
　（６）小活
　以上のとおりであるから、本件補正発明は、引用発明１及び引用例２に記載の技術並びに周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件補正発明は、特許出願の際、独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において読み替えて準用する同法第１２６条第７項の規定に違反する。
　
　３　補正の却下の決定のむすび  
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。  
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
第３　本願発明について  
　１　本願発明  
 　本件補正は、上記第２のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし１２に係る発明は、平成２６年１０月１７日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１２に記載された事項により特定されるものであって、そのうち請求項１に係る発明は、上記第２の１（１）アにおいて説示したとおりのものである。（以下、請求項１に係る発明を「本願発明」という。） 　  
 
　２　引用例及びその記載事項  
　原査定で引用された引用例１及び引用例２に記載の事項並びに引用発明１及び引用例２に記載の技術は、上記第２の２（２）において説示し、認定したとおりである。
　３　本願発明と引用発明１との対比・判断  
　上記第２の２で検討した本件補正発明は、本願発明１の「２つのアクチュエータ」が「供する」「システムを校正する校正運動」について、「同一方向に同一速度で運動することで並進運動を供し、かつ、互いに異なる方向に運動することで回転運動を供する」ものであることを特定し、さらに限定するものであるから、本願発明１は、本件補正発明を包含するものである。
　してみると、本願発明１は、本件補正発明と同様、上記第２の２において検討した本件補正発明が独立特許要件を具備しないとする理由と同様の理由により、引用発明１及び引用例２に記載の技術並びに周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　４　むすび  
　上記で検討したように、本願発明は、本願優先権主張日前に頒布された引用発明１に記載された発明及び引用例２に記載の技術並びに周知技術事実に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない 。
　したがって、他の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。　よって、上記結論のとおり審決する。