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　特願２０１２−１００４１７「調整機能を最適化した投影露光装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２４年１１月　１日出願公開、特開２０１２−２１２８８４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成２１年９月１８日を国際出願日とする特願２０１１−５２８２９７号（パリ条約による優先権主張　２００８年（平成２０年）９月２５日、独国、２００８年（平成２０年）９月２５日、米国）の一部を平成２４年４月２５日に新たな特許出願としたものであって、平成２５年１０月１８日付けで拒絶理由が通知され、平成２６年４月２２日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年９月２６日付けで拒絶査定がされ、これに対し、平成２７年２月２日付けで拒絶査定不服審判の請求がされたものである。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２６年４月２２日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「光学素子と、
　前記光学素子を操作するように構成されたマニピュレータと、
　前記マニピュレータを制御するように構成された制御ユニットであって、
　　前記マニピュレータの移動を制御するように構成された第１のデバイス、
　　前記マニピュレータの移動範囲の境界情報を有するメモリ、および
　　少なくとも１つの誤差に基づくメリット関数を生成し、前記マニピュレータの移動範囲の前記境界情報に応じて前記メリット関数を最小化するように構成された第２のデバイスと、
を備え、
　前記境界情報は前記マニピュレータの最大可能な移動量であることを特徴とする、
マイクロリソグラフィ投影対物レンズ。」
　
３．引用例
（１）引用例の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された特開２００２−３３４８３５号公報（以下、「引用例」という。）には、「リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造されるデバイス」（発明の名称）について、次の事項が記載されている（下線は当審が付与した。以下、同じ。）。
　ア　「【０００３】
リソグラフィ投影装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。
　イ　「【０００５】単純にするため、
以降では投影システムを「レンズ」と呼ぶ
この用語は例えば屈折光学系、反射光学系、および反射屈折系など、様々なタイプの投影システムを含むよう広義に解釈される。
　ウ　「【０００６】
リソグラフィ投影装置で撮像を実行する場合、投影システムが非常に慎重に設計され、システムの製造および使用中の制御が非常に高精度で実施されているにもかかわらず、像はなお収差を生じることがある。例えば歪み（つまり像平面、つまりXY面で標的部分における像の不均一な変位）、横方向の像シフト（つまり像平面で標的部分における像の均一な変位）、像の回転、非対称の拡大、焦平面の変形（例えばフィールドの湾曲などによるＺ方向での不均一な像の変位）である
【０００７】
その結果、これらのエラーを補正するか、少なくとも最小にしようとする（投影システムおよび／または基板の調節などの）補償を提供することが望ましい。
　エ　「【００１０】限界寸法（「ＣＤ」）の制御に対する要求が増大すると、さらなる問題が発生する。限界寸法とは、デバイスの製造で許容された線の最小幅、または２本の線間の最小間隔である。特に、ＣＤの均一性の制御、いわゆる「ＣＤ均一性」が重要である。リソグラフィでは、線幅制御およびＣＤ均一性を向上させる努力の結果、最近では、露光および処理した後に獲得されるような機構に発生する特定のエラー・タイプが定義され、研究されている（以上の説明を参照）。例えば、このような像エラー・タイプは、標的部分におけるＣＤの非対称の分布、焦点ぼけに対するＣＤの非対称性（その結果、Bossung曲線が傾斜する）、複数のバーを含む機構内のＣＤの非対称性（通常は左右非対称と呼ばれる）、２本または５本のバーを含む機構内のＣＤの非対称性（通常は、それぞれＬ１−Ｌ２およびＬ１−Ｌ５として知られる）、２本の相互に直交する方向にほぼ沿って配向されるパターン間のＣＤの差（例えば「Ｈ−Ｖ」リソグラフィ・エラー）、および例えばバーに沿った機構内のＣＤの変動で、これは通常「Ｃ−Ｄ」として知られる。上述した収差と同様、これらのエラーは概ねフィールド上で非均一である。単純にするため、以下では、
例えば歪み、横方向の像シフト、像の回転、非対称の拡大、および焦平面の変形などを含むこれらのエラー・タイプのいずれも、「リソグラフィ・エラー」、つまりリソグラフィ装置の適切性の特徴・欠陥と呼ぶ
　オ　「【００１５】全てのリソグラフィ・エラーを最小にすることが好ましいが、使用可能な補償器が十分にないので、これは通常は不可能である。したがって、
計量したリソグラフィ・エラーの合計に関して、撮像プロセスの量を適切に記述するメリット関数を定義すると有用である。
補償値を使用して、撮像およびその結果としてのリソグラフィ・プロセスを最適化するなど、メリット関数を最適化する（つまり値を最小にする）ことができる。
【００１６】
リソグラフィ・エラーの制御の鍵は、これらのリソグラフィ・エラーを補償するか、少なくともこれに影響を与える能力である。このような制御を可能にする手段を全て、以下では補償手段と呼ぶ。
リソグラフィ投影装置とともに使用するのに適切な補償手段は、例えばパターン形成手段を保持するホルダの微細な位置決め（Ｘ、ＹおよびＺ方向の並進、およびＸ、ＹおよびＺ軸を中心とする回転）を可能にする手段、基板テーブルの同様の微細な位置決めを可能にする手段、光学エレメントを移動させるか変形させる（特にＸ、ＹおよびＺ並進／回転を使用して投影システムの光学エレメントを微細に位置決めする）手段、および例えば標的部分に衝突する放射線のエネルギーを変化させる手段である。
【００１７】
最適化の計算は、使用可能な補償値の変化をベースにする。計算は、メリット関数の最適化を含む。メリット関数は、（リソグラフィ・エラーを補償値に関連付ける）数式として仕様可能であるので、「重みつき最小二乗最適化」などの標準的な最小化ルーチンを使用して、メリット関数が最小値を有する補償値のセットを見出す
　カ　「【００２０】
本発明のさらなる態様によると、リソグラフィ投影装置で、
−投影放射ビームを提供する放射線システムと、
−パターン形成手段を支持する支持構造とを備え、パターン形成手段が、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをし、さらに、
−基板を保持する基板テーブルと、
−パターン化したビームを基板の標的部分に投影する投影システムとを備え、さらに、放射線感応性層に投影された像の異常を引き起こすリソグラフィ・エラーを計量して合計するメリット関数を最適化するために、パターン形成手段を保持するために、ホルダ、基板テーブル、放射線システム、パターン形成手段および投影システムのうち少なくとも１つに適用可能な補償手段を備えることと、少なくとも１つのリソグラフィ・エラーと、パターン形成手段、投影システム、基板上の放射線感応性層および投影ビームのうち少なくとも１つの特性との間の関係を定量化する複数の係数に基づき、前記補償手段によって適用される少なくとも１つの補償値を計算するプロセッサを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置が提供される。
　
（２）引用発明の認定
　ア　（１）ウの【０００６】には、「リソグラフィ投影装置で撮像を実行する場合、投影システムが非常に慎重に設計され、システムの製造および使用中の制御が非常に高精度で実施されているにもかかわらず、像はなお収差を生じることがあ」ること、及び、「収差」とは、「歪み（つまり像平面、つまりXY面で標的部分における像の不均一な変位）、横方向の像シフト（つまり像平面で標的部分における像の均一な変位）、像の回転、非対称の拡大、焦平面の変形（例えばフィールドの湾曲などによるＺ方向での不均一な像の変位）」等であることが記載されている。
　
　イ　（１）イの【０００５】から、「投影システム」は、「レンズ」を含み、「レンズ」とも呼ばれることがわかる。
　
　ウ　（１）エの【００１０】には、「歪み、横方向の像シフト、像の回転、非対称の拡大、および焦平面の変形などを含む」「エラー・タイプ」を、「リソグラフィ・エラー」と呼ぶことが記載されている。
　
　エ　（１）オの【００１５】には、リソグラフィ・プロセスの最適化に際して、「リソグラフィ・エラーの合計に関して、撮像プロセスの量を適切に記述するメリット関数を定義」し、「メリット関数」の「値を最小にする」ことが記載されている。
　
　オ　（１）オの【００１７】には、「メリット関数」は、「（リソグラフィ・エラーを補償値に関連付ける）数式」であって、「重みつき最小二乗最適化」などの「標準的な最小化ルーチンを使用して、メリット関数が最小値を有する補償値」「を見出す」ことが記載されている。
　
　カ　（１）オの【００１６】には、「リソグラフィ・エラーを補償する」「手段」を「補償手段」と呼び、該「補償手段」は、「Ｘ、ＹおよびＺ並進／回転を使用して」「投影システムの光学エレメントを微細に位置決めする手段」を含むことが記載されている。
　そして、「光学エレメント」を「Ｘ、ＹおよびＺ並進／回転」させているのであるから、該「補償手段」は、「光学エレメント」を「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」させる「手段」を有していることは明らかである。
　また、「光学エレメントを微細に位置決めする手段」は、「光学エレメント」の「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」によって「微細に位置決め」しているのであるから、上述の「光学エレメントをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段」の「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」を「微細に位置決め」「制御」を行っていること、及び、該「位置決め」「制御」には、「制御手段」が用いられていることは明らかであって、該「光学エレメントを微細に位置決め制御する手段」は、「光学エレメントをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段のＸ、Ｙ及びＺ並進／回転を微細に位置決め制御する制御手段」ということができる。
　さらに、「リソグラフィ・エラーを補償する」「手段」は、「光学エレメント」の「微細」な「位置決め制御」によって行われていることから、該手段は、「光学エレメントをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段のＸ、Ｙ及びＺ並進／回転を制御して」「リソグラフィ・エラーを補償する補償手段」であるといえる。
　なお、「光学エレメント」とは、「投影システム」が「レンズ」を含むものであるから、「レンズ」を指すことは明らかである。
　
　キ　（１）カの【００２０】には、「リソグラフィ投影装置」の「パターン化したビームを基板の標的部分に投影する投影システム」は、「放射線感応性層に投影された像の異常を」補償する「補償手段」と、該「補償手段」に適用される「補償値」を「計算するプロセッサ」とを備えることがわかる。
　
　ク　引用例の記載及び上記ア〜キを総合勘案すると、
　引用例には、
「集積回路の製造に使用するリソグラフィ投影装置のパターン化したビームを基板の標的部分に投影する投影システムであって、
　レンズと、
　該レンズをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段と、
　該レンズをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段のＸ、Ｙ及びＺ並進／回転を制御して、放射線感応性層に投影された像の異常である、歪み、横方向の像シフト、像の回転、非対称の拡大、および焦平面の変形などを含むリソグラフィ・エラーを補償する補償手段とを備え、
　該補償手段は、
　　該レンズをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段のＸ、Ｙ及びＺ並進／回転を微細に位置決め制御する制御手段と
　　計量したリソグラフィ・エラーの合計に関して、撮像プロセスの量を適切に記述するメリット関数を定義し、重みつき最小二乗最適化などの標準的な最小化ルーチンを使用して、該補償手段に適用される、メリット関数が最小値を有する補償値のセットを見出すプロセッサと、
　を備える投影システム。」（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
４．対比・判断
（１）対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　ア　引用発明の「集積回路の製造に使用するリソグラフィ投影装置のパターン化したビームを基板の標的部分に投影するレンズを有する投影システム」は、「リソグラフィ投影装置」が「集積回路の製造に使用」されることから、リソグラフィの対象は微細なものであって、「マイクロリソグラフィ」の「投影システム」ということができる。
　
　イ　引用発明の「レンズ」及び「該レンズをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段」は、本願発明の「光学素子」及び「前記光学素子を操作するように構成されたマニピュレータ」に、それぞれ相当する。
　
　ウ　引用発明の「投影システム」に用いられた「レンズ」は、「該レンズのＸ、Ｙ及びＺ並進／回転によって、放射線感応性層に投影された像の異常」を「補償する」のであるから、該「レンズ」は、「放射線感応性層」「像」の「投影」に用いられる対物レンズを含むことは明らかである。
　一方、引用例では、「投影システム」は「レンズ」とも呼ばれることを考慮すれば、引用発明の「集積回路の製造に使用するリソグラフィ投影装置のパターン化したビームを基板の標的部分に投影する」「投影システム」は、本願発明の「マイクロリソグラフィ投影対物レンズ」に相当するといえる。
　
　エ　引用発明の「該レンズをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段のＸ、Ｙ及びＺ並進／回転を制御して、放射線感応性層に投影された像の異常である、歪み、横方向の像シフト、像の回転、非対称の拡大、および焦平面の変形などを含むリソグラフィ・エラーを補償する補償手段」は、本願発明の「前記マニピュレータを制御するように構成された制御ユニット」に相当する。
　
　オ　引用発明の「該レンズをＸ、Ｙ及びＺ並進／回転させる手段のＸ、Ｙ及びＺ並進／回転を微細に位置決め制御する制御手段」において、「Ｘ、Ｙ及びＺ並進」は、本願発明の「移動」に相当し、該制御手段は、本願発明の「前記マニピュレータの移動を制御するように構成された第１のデバイス」に相当する。
　
　カ　引用発明の「リソグラフィ・エラー」、「リソグラフィ・エラーの合計に関して、撮像プロセスの量を適切に記述するメリット関数」、「定義」及び「メリット関数が最小値を有する補償値を計算する」ことは、本願発明の「誤差」、「少なくとも１つの誤差に基づくメリット関数」、「生成」及び「メリット関数を最小化する」ことにそれぞれ相当するから、「計量したリソグラフィ・エラーの合計に関して、撮像プロセスの量を適切に記述するメリット関数を定義し、重みつき最小二乗最適化などの標準的な最小化ルーチンを使用して、メリット関数が最小値を有する補償値のセットを見出すプロセッサ」は、本願発明の「少なくとも１つの誤差に基づくメリット関数を生成し」、「前記メリット関数を最小化するように構成された第２のデバイス」に相当する。
　
　キ　そうすると、本願発明と引用発明とは、
「光学素子と、
　前記光学素子を操作するように構成されたマニピュレータと、
　前記マニピュレータを制御するように構成された制御ユニットであって、
　　前記マニピュレータの移動を制御するように構成された第１のデバイス、
　　少なくとも１つの誤差に基づくメリット関数を生成し、前記メリット関数を最小化するように構成された第２のデバイスと、
を備えたマイクロリソグラフィ投影対物レンズ。」である点で一致し、次の点で相違が認められる。
　
（相違点）
　本願発明は、「マニピュレータの移動範囲の境界情報を有するメモリ」を有し、「第２のデバイス」の「メリット関数の最小化」が、「前記マニピュレータの移動範囲の前記境界情報に応じて」行われ、「前記境界情報は前記マニピュレータの最大可能な移動量である」のに対し、引用発明は、「レンズ」を「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」させる最大可能な範囲については規定がなく、該最大可能な範囲についての情報を有するメモリを設けるかどうか、及び、「重みつき最小二乗最適化などの標準的な最小化ルーチンを使用して、メリット関数が最小値を有する補償値」の「計算」が、「レンズ」の「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」する最大可能な範囲の情報に基づくかどうかは不明な点。
（２）判断　
　ここで、相違点について検討する。
　引用発明は、「レンズ」を「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転させる」のであるから、その「並進／回転させる」範囲には、システムとして許容される最大範囲が存在することは自明である。
　そして、「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転を微細に位置決め制御する制御手段」に用いられる「補償値」は、「レンズ」の「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」が、システムとして許容される最大範囲を超えないように、設定されなければならないことも自明である。
　そうすると、引用発明の「メリット関数が最小値を有する補償値を計算する」ことを、「レンズ」の「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」が取り得る最大範囲を考慮して行わなければならないことは、システムの設計において、当業者の技術常識というべきである。
　したがって、「プロセッサ」が、プログラムといった計算手順や計算式、計算に用いられる値、計算された結果等を記憶するメモリを備えることは周知であるところ、「レンズ」の「Ｘ、Ｙ及びＺ並進／回転」する範囲について、システムとして許容される最大値の情報を有するメモリを有し、「補償手段に適用される、メリット関数が最小値を有する補償値を計算する」際に、該システムとして許容される最大値の情報に応じて、「メリット関数が最小値を有する補償値」を求めることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項について検討するまでもなく拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。