Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月25日(2019.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血管腔の狭窄を検出して前記血管腔をセグメント化する撮像システムであって、
１つ以上のプロセッサであり、
画像データを受信し、
前記画像データから、前記血管腔を通る中心線を生成し、
前記画像データ及び前記中心線を近似することによって可視の管腔径を推定し、
中心線プロファイル分析を用いて、当該撮像システムの可視的な解像度よりも高い精細さで、前記画像データ内の前記血管腔の前記狭窄を検出し、前記中心線プロファイル分析は、所定の最小閾値よりも低い又は所定の最大閾値よりも高い強度プロファイルに基づいて、前記血管腔の前記狭窄を検出し、前記強度プロファイルは、前記中心線に沿った複数の断面内のボクセルをサンプリングすることによって取得され、
前記推定した可視の管腔径を、検出された前記血管腔の前記狭窄を用いて修正することによって、前記中心線に沿った前記複数の断面におけるサブ解像度の直径を計算する、
ように構成された１つ以上のプロセッサ、
を有する撮像システム。
【請求項２】
前記１つ以上のプロセッサは更に、前記画像データの前記血管腔を、前記血管腔を表す第１の部分と、背景を表す第２の部分とにセグメント化するように構成され、前記第１の部分内の各ボクセルに第１及び第２の値が割り当てられ、前記第１の値は、訓練されたモデルによって使用される最も近い中心線ボクセルの強度に基づいて、そのボクセルが前記第１の部分に含まれる可能性がどの程度であるかを指し示し、前記第２の値は、最も近い中心線ポイントからのそのボクセルの空間的距離及び前記サブ解像度の直径に基づいて、そのボクセルが前記第１の部分に含まれる可能性がどの程度であるかを指し示す、請求項１に記載の撮像システム。
【請求項３】
前記サブ解像度の直径は、前記血管腔の前記中心線に沿った各断面について前記強度プロファイルの半値全幅強度を用いて計算される直径に基づいて計算される、請求項１に記載の撮像システム。
【請求項４】
前記訓練されたモデルは、前記中心線に沿った前記複数の断面内の前記ボクセルの強度の特性をモデル化する、請求項２に記載の撮像システム。
【請求項５】
前記訓練されたモデルは、前記中心線に沿った前記複数の断面内の前記ボクセルの強度の最小閾値にフィッティングされた線形関数を含む、請求項４に記載の撮像システム。
【請求項６】
前記訓練されたモデルは、前記中心線に沿った前記複数の断面内の前記ボクセルの強度の最大閾値にフィッティングされた線形関数を含む、請求項４に記載の撮像システム。
【請求項７】
撮像システムが血管腔の狭窄を検出して前記血管腔をセグメント化する方法であって、
画像データを受信し、
前記画像データから、前記血管腔を通る中心線を生成し、
前記画像データ及び前記中心線を近似することによって可視の管腔径を推定し、
中心線プロファイル分析を用いて、前記撮像システムの可視的な解像度よりも高い精細さで、前記画像データ内の前記血管腔の前記狭窄を検出し、前記中心線プロファイル分析は、所定の最小閾値よりも低い又は所定の最大閾値よりも高い強度プロファイルに基づいて、前記血管腔の前記狭窄を検出し、前記強度プロファイルは、前記中心線に沿った複数の断面内のボクセルをサンプリングすることによって取得され、
前記推定した可視の管腔径を、検出された前記血管腔の前記狭窄を用いて修正することによって、前記中心線に沿った前記複数の断面におけるサブ解像度の直径を計算する、
ことを有する方法。
【請求項８】
当該方法は更に、前記画像データの前記血管腔を、前記血管腔を表す第１の部分と、背景を表す第２の部分とにセグメント化することを有し、前記第１の部分内の各ボクセルに第１及び第２の値が割り当てられ、前記第１の値は、訓練されたモデルによって使用される最も近い中心線ボクセルの強度に基づいて、そのボクセルが前記第１の部分に含まれる可能性がどの程度であるかを指し示し、前記第２の値は、最も近い中心線ポイントからのそのボクセルの空間的距離及び前記サブ解像度の直径に基づいて、そのボクセルが前記第１の部分に含まれる可能性がどの程度であるかを指し示す、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記サブ解像度の直径は、前記血管腔の前記中心線に沿った各断面について前記強度プロファイルの半値全幅強度を用いて計算される直径に基づいて計算される、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記訓練されたモデルは、前記中心線に沿った前記複数の断面内の前記ボクセルの強度の特性をモデル化する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記訓練されたモデルは、前記中心線に沿った前記複数の断面内の前記ボクセルの強度の最小閾値にフィッティングされた線形関数を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記訓練されたモデルは、前記中心線に沿った前記複数の断面内の前記ボクセルの強度の最大閾値にフィッティングされた線形関数を含む、請求項１０に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年12月25日(2019.12.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
細孔誘導材料は、一部の実施形態において、結晶性固体形態のγ−ピロンである。γ−ピロン類は、５個の炭素原子と１個の酸素原子と２つの２重結合とを有する環と、パラ位の炭素原子に結合した第２の酸素原子とを含む、複素環式化合物である。意外にも、少なくとも一部のγ−ピロン材料、例えばエチルマルトールが、ビトリファイド結合研磨物品の製造に関連してナフタレンの所望の性能特性を本質的に再現し、しかし環境には無害であることが見出された。例えばエチルマルトールは、特に毒性が高いという疑いもなければ、ナフタレンと同じ厳格な暴露限度が課されることもない。実際、エチルマルトールは食品添加物として、焼きたての味及び匂いを付与するため世界中で用いられている。メチルマルトールなどの他のγ−ピロン類もまた、本開示によって想定される。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年2月28日(2020.2.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のポリマー細長片から形成されるジオセルであって、隣接する細長片は、前記細長片の面と垂直な方向に伸張されるときに、複数のセル壁を有する複数のセルを形成するように、継目に沿ってともに結合され、各セル壁は、第１の継目から第２の継目まで延在し、各セル壁は、前記複数のポリマー細長片が伸長していないときの前記第１の継目と前記第２の継目との間の長さを画定し、各セル壁は、複数の穿孔から形成されたパターンを有する単一のセル壁部分を有し、
前記複数のセル壁のうちの１つのセル壁が、２３℃±３℃の周囲温度で９０分にわたって前記セル壁の前記長さに沿って印加される６．１ｋＮ／メートルの負荷に応答して変形するとき、前記セル壁の前記長さによって前記セル壁の全変形を除算することによって取得される前記セル壁の変形の割合が、最大でも３．５％であり、
前記ポリマー細長片は、１．０ミリメートル〜１．４ミリメートルの細長片壁厚を有し、
前記ポリマー細長片は、高密度ポリエチレンおよびポリアミドの混合物から作製されている、ジオセル。
【請求項２】
前記セル壁の変形の割合は、最大でも３．０％である、請求項１に記載のジオセル。
【請求項３】
前記セル壁の変形の割合は、最大でも２．５％である、請求項１に記載のジオセル。
【請求項４】
複数のポリマー細長片から形成されるジオセルであって、隣接する細長片は、前記細長片の面と垂直な方向に伸張されるときに、複数のセル壁を有する複数のセルを形成するように、継目に沿ってともに結合され、各セル壁は、第１の継目から第２の継目まで延在し、各セル壁は、前記複数のポリマー細長片が伸長していないときの前記第１の継目と前記第２の継目との間の長さを画定し、各セル壁は、複数の穿孔から形成されたパターンを有する単一のセル壁部分を有し、
前記複数のセル壁のうちの１つのセル壁が、少なくとも４４℃の１つ以上の加熱された温度で１６７分の１つ以上の期間にわたって前記セル壁の前記長さに沿って印加される６．１ｋＮ／メートルの負荷に応答して変形するとき、前記セル壁の変形は、各加熱された温度で測定され、前記セル壁の前記長さによって前記セル壁の全変形を除算することによって取得される前記セル壁の変形の割合が、最大でも３．０％であり、
前記ポリマー細長片は、１．０ミリメートル〜１．４ミリメートルの細長片壁厚を有し、
前記ポリマー細長片は、高密度ポリエチレンおよびポリアミドの混合物から作製されている、ジオセル。
【請求項５】
前記セル壁の変形の割合は、最大でも２．５％である、請求項４に記載のジオセル。
【請求項６】
前記セル壁は、セル高さに等しい幅を有し、
前記セル壁の変形を測定するために、前記セル壁が、上クランプと下クランプとの間で圧着され、前記上クランプは、静的であり、フレームに取り付けられ、前記下クランプは、自由であり、重量で荷重されることができ、前記クランプは、温度調整を可能にするチャンバ内に位置し、
前記６．１ｋＮ／メートルの負荷が、２３℃±３℃の周囲温度で９０分にわたって前記セル壁の前記長さに沿って前記下クランプに印加され、
前記チャンバが、４４℃まで加熱され、前記セル壁が均一な温度に達することを可能にするように１５分間待機し、
前記６．１ｋＮ／メートルの負荷が、４４℃で１６７分にわたって前記セル壁の前記長さに沿って前記下クランプに印加され、
前記セル壁の変形が、４４℃において測定され、
前記チャンバが、５１℃まで加熱され、前記セル壁が均一な温度に達することを可能にするように１５分間待機し、
前記６．１ｋＮ／メートルの負荷が、５１℃で１６７分にわたって前記セル壁の前記長さに沿って前記下クランプに印加され、
前記セル壁の変形が、５１℃において測定され、
前記チャンバが、５８℃まで加熱され、前記セル壁が均一な温度に達することを可能にするように１５分間待機し、
前記６．１ｋＮ／メートルの負荷が、５８℃で１６７分にわたって前記セル壁の前記長さに沿って前記下クランプに印加され、
前記セル壁の変形が、５８℃において測定され、
前記セル壁の全変形が、前記上クランプと下クランプとの間の元の距離で除算される、
請求項４に記載のジオセル。
【請求項７】
前記６．１ｋＮ／メートルの負荷は、前記チャンバが４４℃まで加熱されるとき、前記チャンバが５１℃まで加熱されるとき、および前記チャンバが５８℃まで加熱されるときに、前記下クランプから除去される、請求項６に記載のジオセル。
【請求項８】
前記６．１ｋＮ／メートルの負荷は、前記チャンバが４４℃まで加熱されるとき、前記チャンバが５１℃まで加熱されるとき、または前記チャンバが５８℃まで加熱されるときに、前記下クランプから除去されない、請求項６に記載のジオセル。
【請求項９】
前記セル壁の長さによって除算された前記セル壁の全変形は、５８℃における前記セル壁の前記変形を測定した後に取得される値である、請求項６に記載のジオセル。
【請求項１０】
前記セル壁の長さによって除算された前記セル壁の全変形は、デフクレクトメータを使用して測定され、
前記デフクレクトメータは、４４℃で１６７分にわたって６．１ｋＮ／メートルの前記負荷を印加する前に、ゼロにリセットされ、
前記デフクレクトメータは、５１℃で１６７分にわたって６．１ｋＮ／メートルの前記負荷を印加する前に、ゼロにリセットされ、
前記デフクレクトメータは、５８℃で１６７分にわたって６．１ｋＮ／メートルの前記負荷を印加する前に、ゼロにリセットされ、
全変形は、４４℃、５１℃、および５８℃における前記細長片の前記変形を合計することによって取得される、
請求項６に記載のジオセル。
【請求項１１】
前記ジオセルは、約５０ミリメートル〜約２００ミリメートルのジオセル高さを有する、請求項１に記載のジオセル。
【請求項１２】
前記ジオセルは、約２００ミリメートル〜約６００ミリメートルのジオセルサイズを有する、請求項１に記載のジオセル。
【請求項１３】
前記継目間の距離は、約２００ｍｍ〜約６００ｍｍである、請求項１に記載のジオセル。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
最右細長片は、本開示によるセル細長片であり、１．４ｍｍの厚さを有する。ジオセルは、ＨＤＰＥおよびポリアミドの低クリープ混合物で作製され、穿孔パターンは、局所塑性降伏を回避するように最適化される。変形は、はるかに少なく、穿孔は、不変であり、細長片は、塑性降伏を受けていない。結果として、本細長片は、基礎または路盤の長期使用のために推奨されることができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年12月4日(2019.12.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明のこの第１の側面の特に好ましい態様によれば、顆粒により被覆された食品は、０．１秒から１０秒の間、スチームに接触する。スチームを使用することにより、食品と水の均一で制御可能な接触が可能となる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
ジャガイモは洗浄され、皮を剥かれ、チップスに切断された。次いで、このチップスは、でんぷんでプレコートされ、次いで、顆粒（平均粒子径０．５ｍｍ、３０％デキストリン、小麦粉、及びでんぷんを含む）で被覆された。次に、顆粒で被覆されたチップスは、２．５秒間の間スチームと接触し、その後すぐに揚げ物油の中に３分間沈められた。得られたチップスは、−２０℃で保存された。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年12月20日(2019.12.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の、効果顔料を含有するコーティングにおいて、三次元の外観を有するパターンの生成のための方法であって、二次元のパターンを表し、基板表面のコートされていない部分領域と共に境界線を有する、領域成分を部分領域中に備える基板の表面が、剥片状の効果顔料を含有するコーティング組成物で、境界線が少なくとも部分的にオーバーラップするように、また、境界線と隣接するコートされていない近隣の部分領域もコートされるようにコートされ、かつ、このコーティング組成物が固体化され、該領域成分を備える該基板の該部分領域、および該領域成分を備えない該基板の部分領域が、互いに異なる表面張力σ１およびσ２を有し、剥片状の効果顔料を含有する該コーティング組成物が、表面張力σ１およびσ２より低い表面張力σ３を有し、かつ、領域成分が、固体化された第一のコーティング組成物から成る、前記方法。
【請求項２】
第一のコーティング組成物が、顔料を含有しないことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第一のコーティング組成物が、染料、吸収顔料および／または効果顔料を含有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
黒い、暗い、または着色された基板が使用されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
基板の表面張力σ１より低く、かつ、剥片状の効果顔料を含有するコーティング組成物の表面張力σ３より大きい表面張力σ２aを有する第一のコーティング組成物の適用および固体化によって、領域成分が発生することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
第一のコーティング組成物の表面張力σ２aと、剥片状の効果顔料を含有するコーティング組成物の表面張力σ３との間の違いが、１〜１２mN／mの範囲であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
違いが３〜８mN／mの範囲であることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
基板が、剥片状の効果顔料を含有するコーティング組成物で全領域の上にコートされることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
基板が、剥片状の効果顔料を含有するコーティング組成物で領域部分の上をコートされることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
剥片状の効果顔料を含有するコーティング組成物が、フレキソ印刷処理またはグラビア印刷処理によって基板に適用されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
基板が、紙、段ボール、壁紙、ラミネート、ティッシュ材料、木、プラスチック体、プラスチックフィルム、金属体、金属箔、ガラス、またはこれらの物質の複数からの成分を含有する物質であり、および、該基板が任意にプレコートされていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
剥片状の効果顔料が、真珠箔顔料、干渉顔料、金属効果顔料、液晶顔料、剥片状の機能顔料、剥片状の構造顔料、またはこれらを含有する混合物の群から選択されることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
コーティングにおいて三次元の外観を有するパターンが、基板上の領域成分から生成され、剥片状の効果顔料を含有するコーティングでコートされる二次元のパターンの形態に対応する二次元の基本形態を有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法により生成された、三次元の外観をもつ目に見えるパターンを有する剥片状の効果顔料を含有する、基板上のコーティング。
【請求項１５】
三次元の外観を有するパターンが、肉眼で見えるパターンであり、かつ、少なくとも０．１mm２のサイズをもつ領域成分を有する、請求項１４に記載の剥片状の効果顔料を含有する、基板上のコーティング。
【請求項１６】
三次元の外観を有するパターンが、基板に対する種々の角度の、コーティング中の剥片状の効果顔料の方向によって生成される、請求項１４または１５に記載の剥片状の効果顔料を含有する、基板上のコーティング。
【請求項１７】
平らな外表面を有することを特徴とする、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の剥片状の効果顔料を含有する、基板上のコーティング。
【請求項１８】
装飾材料、包装材料、美術作品、またはセキュリティ製品における、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の剥片状の効果顔料を含む基板上のコーティングの使用。
【請求項１９】
請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の剥片状の効果顔料を含むコーティングを含む、装飾材料、包装材料、美術作品、またはセキュリティ製品。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
しかしながら、領域要素の適用のために基板に使用される液体または流動可能な第一のコーティング組成物は、各々の場合に、基板上のコーティング組成物の良好な分布、生成される領域成分のはっきりした境界設定およびその基板への良好な粘着力を達成するために、コートされてない基板の表面張力σ１（σ１総）未満である表面張力σ２aを有する。表面張力σ２aは表面張力σ３の決定と同様に決定され、これは以下に記載される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
少なくとも領域成分の二次元のパターンをもたらす基板の領域部分上の全領域を通して、剥片状の効果顔料を含むコーティング組成物で基板をコートすることは、行われることができる（方法の簡単さによっても好ましい）。しかしながら、剥片状の効果顔料を含むコーティング組成物によって該領域の部分の上で基板がコートされる場合、それは全体として有利でありまたは望まれもする。しかしながら、部分領域コーティングの場合、領域成分が備えられた基板の部分領域と、領域成分が備えられていない基板の部分領域との間に生成される境界線の少なくともいくつかが、剥片状の効果顔料を含むコーティング組成物でコートされること、正確には、境界線がオーバーラップするようにコートされ、よって、境界線と隣接する近隣の部分領域もまたコートされるようにすること、が確保されるべきである。この境界線のオーバーラップコーティングは、剥片状の効果顔料によって生成する三次元のパターンが、最終的なコーティングにおいて目に見えるようになるのを可能にするために必要である。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年10月7日(2020.10.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
ブロック３０５において、基地局は、時間間隔に対し、免許不要周波数帯においてチャネルを取得する。基地局のある実施形態は、免許不要周波数帯においてチャネルを取得するためのＣＣＡプロセスを実施する。例えば、基地局は、チャネルを検知してチャネルがクリアであるかどうか判定し、そしてチャネルがクリアなら、ここで述べるように信号エネルギー送信を開始して（ブロック３１０）チャネルを予約する。ブロック３１５において、基地局は、その時間間隔中に免許不要周波数帯の取得チャネルでのアップリンク送信のために１以上のユーザ機器をスケジューリングする。基地局のスケジューリングは、メッセージ３０１及び３０２の受信に応じて発生し、メッセージ３０１及び３０２に含まれる情報に基づいて実行され得る。基地局は、その時間間隔の異なる部分中に、取得チャネルが異なるユーザ機器に割り当てられるように、１以上のユーザ機器を時分割多重に基づいてスケジューリングする。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図３】
2018509066.tif 000001
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局において、免許周波数帯で、複数のユーザ機器から免許不要周波数帯におけるリソースについてのリクエストを受信するステップ、
少なくとも１つのチャネルで受信された信号の強度が第１の閾値を下回るのに応じて前記少なくとも１つのチャネルがクリアであることを検知するステップ、
前記基地局において、所定の時間間隔に対し、免許不要周波数帯における前記少なくとも１つのチャネルを取得するステップであって、前記少なくとも１つのチャネルを取得するステップは前記少なくとも１つのチャネルがクリアであることを検知するステップに応じて前記少なくとも１つのチャネルを取得するステップを備える、ステップ、及び
前記基地局において、前記所定の時間間隔中に前記少なくとも１つのチャネルでアップリンク送信のために複数のユーザ機器をスケジューリングするステップであって、前記複数のユーザ機器をスケジューリングするステップは前記リクエストを受信するステップに応じて前記複数のユーザ機器をスケジューリングするステップを備え、前記スケジューリングは、取得したチャネルが前記時間間隔の異なる部分中に、異なるユーザ機器に割り当てられるように時分割多重に基づいて実行され、前記ユーザ機器による前記アップリンク送信に入手可能なデータの量を用いて実行される、ステップ
を備える、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つのチャネルを取得するステップは、前記所定の時間間隔の第１の部分中に前記基地局からランダム信号又はプリアンブルによって生成されるエネルギーを示す信号を送信するステップを備え、
前記複数のユーザ機器をスケジューリングするステップは、前記第１の部分に続く、前記所定の時間間隔の少なくとも１つの第２の部分中に前記少なくとも１つのユーザ機器をスケジューリングするステップを備え、
前記少なくとも１つのユーザ機器をスケジューリングするステップは、送信のために前記少なくとも１つのユーザ機器に割り当てられた前記所定の時間間隔の前記少なくとも１つの第２の部分におけるリソースを示す少なくとも１つのメッセージを免許周波数帯において送信するステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
所定の時間間隔に対し、免許不要周波数帯における少なくとも１つのチャネルを取得する送受信機、及び
前記所定の時間間隔中に前記少なくとも１つのチャネルでのアップリンク送信のために少なくとも１つのユーザ機器をスケジューリングするプロセッサを備え、
前記プロセッサは、取得したチャネルが前記時間間隔の異なる部分中に、異なるユーザ機器に割り当てられるように時分割多重に基づいて前記少なくとも１つのユーザ機器をスケジュールし、前記ユーザ機器による前記アップリンク送信に入手可能なデータの量を用いて前記少なくとも１つのユーザ機器をスケジュールし、
前記送受信機は、免許周波数帯で、前記少なくとも１つのユーザ機器から免許不要周波数帯におけるリソースについての少なくとも１つのリクエストをさらに受信し、
前記送受信機は、前記少なくとも１つのリクエストを受信するのに応じて前記少なくとも１つのユーザ機器をスケジュールするものであり、
前記送受信機は、前記少なくとも１つのチャネルで受信された信号強度が第１の閾値を下回ることに応じて前記少なくとも１つのチャネルがクリアであることをさらに検出し、
前記送受信機は、前記少なくとも１つのチャネルがクリアであることを検出するのに応じて前記少なくとも１つのチャネルを取得する、基地局。
【請求項４】
前記送受信機は、前記所定の時間間隔の第１の部分中に前記基地局からエネルギーを送信し、
前記プロセッサは、前記第１の部分に続く、前記所定の時間間隔の少なくとも１つの第２の部分中に前記少なくとも１つのユーザ機器をスケジューリングし、
前記送受信機は、前記所定の時間間隔の少なくとも１つの第２の部分において、送信のために前記少なくとも１つのユーザ機器に割り当てられたリソースを示す少なくとも１つのメッセージを免許周波数帯において送信する、
請求項３に記載の基地局。
【請求項５】
前記ユーザ機器が前記免許周波数帯上で前記リソースについての前記リクエストを送信し、前記スケジューリングに従ってアップリンク送信を実行するように構成される、請求項３または４に記載の基地局およびユーザ機器を含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月12日(2020.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複合流体から成分を分離するシステムであって、該システムは、
遠心分離機と、
前記遠心分離機に配置される複数の分離ユニットと、
プロセッサ実行可能命令を記憶するメモリと、
を備え、
前記複数の分離ユニットの各分離ユニットは、
第１の押出手段を有する第１のチャンバと、
前記第１のチャンバよりも回転軸の近くに位置付けられ、第２の押出手段を有する第２のチャンバと、
第３のチャンバと、
前記第１のチャンバからの流れを制御する第１のバルブと、
前記第２のチャンバからの流れを制御する第２のバルブと、
を備え、
前記プロセッサ実行可能命令が実行されると、前記プロセッサ実行可能命令は、
前記遠心分離機を第１の速度で回転させて、前記複合流体の少なくとも第１の成分と第２の成分と第３の成分とを分離することと、
前記第１の押出手段を用いて、前記第１の成分の一部と前記第２の成分とを前記第１のチャンバから前記第２のチャンバへ移送することと、
前記遠心分離機を第２の速度で回転させることと、
前記第１の成分の第２の部分を前記第２のチャンバから移送することと、
前記第１の押出手段を用いて、前記第１の成分の第３の部分を前記第１のチャンバから移送することと、
を有する方法、
を実行する、
複合流体から成分を分離するシステム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムにおいて、前記第１の成分の前記第２の部分を前記第２のチャンバから移送することは、前記第２の押出手段を用いて、行われる
システム。
【請求項３】
請求項１記載のシステムにおいて、前記第１の成分の前記第２の部分を前記第２のチャンバから移送することは、求心加速度を利用して、行われる
システム。
【請求項４】
請求項１記載のシステムにおいて、前記第１の成分の前記第２の部分を前記第２のチャンバから移送することは、前記第１の成分の前記第２の部分を、前記第２のチャンバから前記第３のチャンバへ移送して行われる、
システム。
【請求項５】
請求項１記載のシステムにおいて、前記第１の成分の前記第２の部分を前記第２のチャンバから移送することは、前記第１の成分の前記第２の部分を、前記第２のチャンバから前記第１のチャンバへ戻すように移送して行われる、
システム。
【請求項６】
請求項１記載のシステムにおいて、前記第１の成分の前記第３の部分を前記第１のチャンバから移送することは、前記第１の成分の前記第３の部分を、前記第１のチャンバから前記第３のチャンバへ移送して行われる、
システム。
【請求項７】
請求項１記載のシステムにおいて、前記第３のチャンバは、前記第２のチャンバよりも、前記回転軸に近い、
システム。
【請求項８】
請求項１記載のシステムにおいて、前記複合流体は、全血である、
システム。
【請求項９】
請求項８記載のシステムにおいて、前記第１の成分は血漿であり、前記第２の成分は血小板である、
システム。
【請求項１０】
請求項９記載のシステムにおいて、前記第２の速度は、前記第１の速度よりも速い、
システム。
【請求項１１】
複合流体から成分を分離する方法であって、該方法は、
第１の成分と第２の成分と第３の成分とを含むある量の複合流体を第１の求心加速度にさらすステップと、
前記ある量の複合流体を２つの部分に分離するステップと、
第１のチャンバの前記第１の成分の一部と前記第２の成分とからなる第１の部分を、前記第１のチャンバに設けられた第１の押出手段の作用下に、前記第１のチャンバから第２のチャンバへ移送するステップと、
移送された前記第１の部分を第２の求心加速度にさらして前記第１の成分と前記第２の成分とに分離するステップと、
前記第２のチャンバの前記第１の成分を、前記第２のチャンバに設けられた第２の押出手段の作用下に、前記第２のチャンバから前記第１のチャンバに戻すステップと、
前記第１のチャンバに戻された前記第１の成分と前記第１の成分の別の一部とを前記第１のチャンバから移送するステップと、
を有する、
複合流体から成分を分離する方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の方法において、前記第１のチャンバに戻された前記第１の成分と前記第１の成分の前記別の一部とを前記第１のチャンバから移送する前記ステップは、前記第１のチャンバから、前記第１のチャンバに戻された前記第１の成分と前記第１の成分の前記別の一部とを、第３のチャンバへ移送するステップをさらに含む、
方法。
【請求項１３】
請求項１１記載の方法において、前記第２の求心加速度は、前記第１の求心加速度よりも大きい、
方法。
【請求項１４】
請求項１１記載の方法において、前記複合流体は、全血である、
方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月12日(2020.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクセスノード・ゲートウェイ（ＡＮ−ＧＷ）の非可用期間および／またはＡＮ−ＧＷの復旧後にメッセージのフラッディングを抑制するためのシステムであって、前記システムは、
少なくとも１つのプロセッサおよびメモリを含むネットワークノードを備え、
前記ネットワークノードは、ＡＮ−ＧＷの非可用性の指標を受信するためのインターフェースを含み、前記システムはさらに、
前記少なくとも１つのプロセッサによって実行されるＡＮ−ＧＷステータスメンテナを備え、前記ＡＮ−ＧＷステータスメンテナは、前記メモリにおいて、前記ＡＮ−ＧＷの可用性または非可用性を示すノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを保持し、前記ＡＮ−ＧＷの非可用性の前記指標を受信したことに応答して前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを非可用に設定し、前記システムはさらに、
前記少なくとも１つのプロセッサによって実行されるＡＮ−ＧＷステータスチェッカを備え、前記ＡＮ−ＧＷステータスチェッカは、前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを使用して前記ＡＮ−ＧＷのステータスをチェックし、前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータから決定される前記ＡＮ−ＧＷの前記ステータスに基づき、前記ＡＮ−ＧＷを伴う複数のセッションに対してメッセージングを抑制する、システム。
【請求項２】
アクセスノード・ゲートウェイ（ＡＮ−ＧＷ）の非可用期間および／またはＡＮ−ＧＷの復旧後にメッセージのフラッディングを抑制するための方法であって、前記方法は、
少なくとも１つのプロセッサおよびメモリを含むネットワークノードにおいて、
ＡＮ−ＧＷの非可用性の指標を受信することと、
前記メモリにおいて、前記ＡＮ−ＧＷの可用性または非可用性を示すノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを保持し、前記ＡＮ−ＧＷの非可用性の前記指標を受信したことに応答して前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを非可用に設定することと、
前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを使用して前記ＡＮ−ＧＷのステータスをチェックし、前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータから決定される前記ＡＮ−ＧＷの前記ステータスに基づき、前記ＡＮ−ＧＷを伴う複数のセッションに対してメッセージングを抑制することとを備える、方法。
【請求項３】
前記ネットワークノードは、ポリシーおよび課金実施機能（ＰＣＥＦ）を備え、前記ＡＮ−ＧＷを伴う複数のセッションに対してメッセージングを抑制することは、前記ＡＮ−ＧＷを伴う前記セッションに対してポリシーおよび課金ルール機能（ＰＣＲＦ）に向かうメッセージングを抑制することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ＰＣＥＦが、前記ＡＮ−ＧＷの復旧の指標を受信し、前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを前記ＡＮ−ＧＷの可用性を示すように再設定し、前記ＰＣＲＦに前記ＡＮ−ＧＷの前記復旧を通知し、前記ＡＮ−ＧＷの復旧の前記ＰＣＲＦへの正常な通信の確証を前記ＰＣＲＦから受信した後に、前記ＡＮ−ＧＷを伴う少なくともいくつかのセッションに対して前記ＡＮ−ＧＷの前記復旧の通知の送信を抑制することを備える、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ネットワークノードは、Ｄｉａｍｅｔｅｒルーティングエージェント（ＤＲＡ）を備え、前記ＡＮ−ＧＷを伴う複数のセッションに対してメッセージングを抑制することは、前記ＡＮ−ＧＷを伴う前記セッションに対してポリシーおよび課金実施機能（ＰＣＥＦ）とポリシーおよび課金ルール機能（ＰＣＲＦ）との間のメッセージングを抑制することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記ＤＲＡが、前記ＡＮ−ＧＷの復旧の指標を受信し、前記ＰＣＲＦに前記ＡＮ−ＧＷの前記復旧を通知することを備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ネットワークノードは、ポリシーおよび課金ルール機能（ＰＣＲＦ）を備え、前記ＡＮ−ＧＷを伴う複数のセッションに対してメッセージングを抑制することは、前記ＡＮ−ＧＷを伴う前記セッションに対してポリシーおよび課金実施機能（ＰＣＥＦ）に向かうメッセージングを抑制することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記ＰＣＲＦが、前記ＡＮ−ＧＷの復旧の指標を受信し、前記ＰＣＲＦによって取り扱われる前記ＡＮ−ＧＷを伴うすべてのセッションに対して前記ノードレベルのＡＮ−ＧＷステータスインジケータを示された前記ＡＮ−ＧＷの可用性に再設定し、前記ＰＣＲＦによって取り扱われる前記ＡＮ−ＧＷを伴う前記セッションに対して前記メッセージングの抑制を中止することを備える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ＡＮ−ＧＷの非可用性の指標を受信することは、前記指標をセッション内のメッセージングを介して前記指標を受信することを含む、請求項２〜請求項８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ＡＮ−ＧＷの非可用性の指標を受信することは、Ｄｉａｍｅｔｅｒネットワーク管理メッセージを介して前記指標を受信することを含む、請求項２〜請求項８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記Ｄｉａｍｅｔｅｒネットワーク管理メッセージは、エコーリクエストメッセージを備える、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
プロセッサに請求項２〜１１のいずれか１項に記載の方法を実行させるためのコンピュータ可読プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月18日(2020.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
困難な音響条件のための音声明瞭度向上システムであって、
人の外耳道（２１８）に挿入する少なくとも１つの耳栓（２０１）を備え、
前記少なくとも１つの耳栓は、外耳道に面した部分（４０１）と、周囲に面した部分（４０２）と、を備えて設けられ、
前記少なくとも１つの耳栓は、
前記周囲に面した部分（４０２）を前記外耳道に面した部分（４０１）に結合する通気孔（２１４）を含む音響減衰経路（２１４；２１４，２１３）と、
前記周囲に面した部分（４０２）のマイクロフォン（２０２）、可変利得（２０４）、および前記外耳道に面した部分（４０１）のラウドスピーカ（２０９）を含む電気音響経路（２０２，２０４，２０９；２０２，２０３，２０４，２０８，２０９，２１０，２１１，２１２）と、を含み、
前記音響減衰経路（２１４；２１４，２１３）は、前記周囲に面した部分（４０２）から前記外耳道に面した部分（４０１）までの伝達関数がローパス・カットオフ周波数を有するローパス特性を有するように構成され、前記ローパス特性は、前記ローパス・カットオフ周波数より低い周波数に対して公称減衰量（Ｇ０）だけ減衰する、前記音声明瞭度向上システムにおいて、
前記公称減衰量（Ｇ０）は、５００Ｈｚで２ｄＢ〜１０ｄＢの範囲内であり、例えば、５００Ｈｚで２ｄＢ〜８ｄＢの範囲内、５００Ｈｚで２ｄＢ〜６ｄＢの範囲内、５００Ｈｚで２ｄＢ〜５ｄＢの範囲内、５００Ｈｚで３ｄＢ〜５ｄＢ、または５００Ｈｚで３ｄＢ〜４ｄＢの範囲であり、
前記ローパス・カットオフ周波数は、６００Ｈｚ〜１２００Ｈｚの範囲、例えば、７００Ｈｚ〜１０００Ｈｚの範囲、７５０Ｈｚ〜９００Ｈｚの範囲、または８００Ｈｚであり、前記ローパス・カットオフ周波数は、３ｄＢのコーナー周波数であることを特徴とする音声明瞭度向上システム。
【請求項２】
前記通気孔（２１４）は、該通気孔（２１４）の少なくとも１つの端部に、例えば、該通気孔（２１４）の両方の端部に通気孔用制動布（２１３）を含む、請求項１に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項３】
前記ローパス特性は、５０Ｈｚから前記ローパス・カットオフ周波数まで実質的に平坦である、請求項１または２に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項４】
前記電気音響経路（２０２，２０４，２０９；２０２，２０３，２０４，２０８，２０９，２１０，２１１，２１２）は、ハイパス・カットオフ周波数を有するハイパス特性を有する前記周囲に面した部分（４０２）から前記外耳道に面した部分（４０１）までの伝達関数で構成され、
前記電気音響経路（２０２，２０４，２０９；２０２，２０３，２０４，２０８，２０９，２１０，２１１，２１２）は、前記ハイパス・カットオフ周波数よりも高い周波数に対してハイパス利得（１０２，１０３，１０４）を適用するように構成される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項５】
前記ローパス・カットオフ周波数および前記ハイパス・カットオフ周波数によって、前記音響減衰経路（２１４；２１４，２１３）と前記電気音響経路（２０２，２０４，２０９；２０２，２０３，２０４，２０８，２０９，２１０，２１１，２１２）との間のクロスオーバー周波数が設定される、請求項４に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項６】
前記ハイパス利得は、３ｋＨｚで−３０ｄＢ〜＋２０ｄＢの範囲内、例えば３ｋＨｚで−２５ｄＢ〜＋１５ｄＢの範囲内、または３ｋＨｚで−２０ｄＢ〜＋１０ｄＢであり、且つ
前記ハイパス・カットオフ周波数は、６００Ｈｚ〜１２００Ｈｚの範囲、例えば、７００Ｈｚ〜１０００Ｈｚの範囲、７５０Ｈｚ〜９００Ｈｚの範囲、または８００Ｈｚであり、ローパス・カットオフ周波数は、３ｄＢのコーナー周波数である、請求項４または５に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項７】
前記ハイパス特性は、前記カットオフ周波数から少なくとも５ｋＨｚ、例えば７ｋＨｚまで実質的に平坦である、請求項４〜６のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項８】
前記耳栓（２０１）は、前記可変利得（２０４）を制御するように構成された利得コントローラ（２０６）を含み、
好ましくは、前記可変利得（２０４）を制御することは、前記マイクロフォン（２０２）からの信号に基づき、例えば、前記マイクロフォン（２０２）からの信号のレベルに基づく、請求項１〜７のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項９】
前記電気音響経路の伝達関数および前記音響減衰経路の伝達関数のうちの少なくとも１つは、開放耳共鳴の補償利得を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項１０】
前記利得コントローラ（２０６）は、デジタル方式で具体化され、
アナログ−デジタル変換器（２０５）は、前記マイクロフォン（２０２）と前記利得コントローラ（２０６）との間に設けられている、請求項８または請求項８に従属する請求項９に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項１１】
前記可変利得（２０４）は、前記利得コントローラ（２０６）に接続されたデジタル制御入力を有する、請求項８若しくは請求項１０、又は請求項８に従属する請求項９に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項１２】
前記マイクロフォン（２０２）は、ハイパーカーディオのマイクロフォンなどの指向性マイクロフォンである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項１３】
前記可変利得（２０４）は、アナログ方式である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項１４】
大きな音を減衰させるピーク制限手段、例えばピーク制限システムを備え、
前記ピーク制限手段、例えば、前記ピーク制限システムは、
前記音響減衰経路（２１４；２１４，２１３）および前記電気音響経路（２０２，２０４，２０９；２０２，２０３，２０４，２０８，２０９，２１０，２１１，２１２）のうちの少なくとも一方に配置され、好ましくは、３ｋＨｚの周波数付近で最大の減衰を有するように構成されているピーク制限器を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの耳栓は、人の各外耳道に１つずつ、２つの耳栓を含み、前記２つの耳栓は、それらの間の設定を調整するように構成されている、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の音声明瞭度向上システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月4日(2020.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支柱（３２）と、
前記支柱に接続されたトルクチューブまたはねじり梁（３４）と、
前記トルクチューブまたはねじり梁に取り付けられた取り付け機構（３５）と、
前記トルクチューブまたはねじり梁と接続される駆動システム（１６）と、
前記トルクチューブまたはねじり梁と接続されるばね平衡アセンブリ（１０，１０ａ，１１０，２１０，３１０，４１０，５１０）と、を備える太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項２】
前記ばね平衡アセンブリ（３１０，４１０，５１０）は、
軸受ハウジング（３６２，４７６，５７６）と、
前記軸受ハウジング内に配置されたブッシング（４７０，５７０）であって、前記ブッシングは、前記トルクチューブまたはねじり梁（３４）上に滑り可能に取り付けられるように構成される、ブッシング（４７０，５７０）と、
柔軟な材料で作られた１以上の圧縮コード（４７８，５７８）であって、前記圧縮コードは、前記ブッシングと軸受ハウジングの間に配置される、圧縮コード（４７８，５７８）と、を備え、
前記圧縮コードは、前記太陽光発電追跡装置アセンブリの回転動作の間、振動の減衰を提供する、請求項１に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項３】
前記ブッシング（４７０）は、四葉の実質的に円の外側断面を有する、請求項２に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項４】
前記ブッシング（５７０）は、三葉の実質的に三角形の外側断面を有する、請求項２に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項５】
前記軸受ハウジング（３６２，４７６，５７６）の断面は、実質的に正方形、実質的に六角形及び実質的に三葉の円形の１つである、請求項２に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項６】
前記ばね平衡アセンブリ（１１０，２１０，３１０，４１０，５１０）は、
少なくとも一部がエラストマ材料で作られる、軸受ハウジング（３６２，４７６，５７６）と、
少なくとも一部がエラストマ材料で作られる、ブッシング（４７０，５７０）であって、前記ブッシングは、軸受ハウジング内に配置され、トルクチューブまたはねじり梁上に滑り可能に取り付けられるように構成されている、ブッシングと、
を備える、請求項１に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項７】
前記ばね平衡アセンブリ（１１０，２１０）は、さらに少なくとも１つのコイルばね（１７０）と、ストッパ（１６４）と、を備える請求項６に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ。
【請求項８】
前記ブッシング（４７０，５７０）は、１以上の空気空間を画定する、請求項６に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項９】
前記ばね平衡アセンブリ（１０，１０ａ）は、
少なくとも１つの上部ブラケット（６２）及び少なくとも１つの下部ブラケット（６４）と、
第１の端部及び第２の端部を有する少なくとも１つのばね（７０）であって、前記ばねの第１の端部は、前記上部ブラケットに取り付けられ、前記ばねの第２の端部は、前記下部ブラケットに取り付けられるばねと、
第１の端部及び第２の端部を有するダンパ（６６）であって、前記ダンパの第１の端部は、前記上部ブラケットに取り付けられ、前記ダンパの第２の端部は、前記下部ブラケットに取り付けられ、前記ダンパは、前記ばねと実質的に平行に設置されるダンパと、
前記トルクチューブまたはねじり梁が前記ばね平衡アセンブリを前記トルクチューブまたはねじり梁に接続するために、ブラケットに挿入されるように前記上部ブラケットに取り付けられるブラケット（６８）と、を備える請求項１に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【請求項１０】
前記ばね平衡アセンブリ（３１０，４１０，５１０）は、
１以上の葉部を有する軸受ハウジング（３６２，４７６，５７６）と、
１以上の空間が、ブッシングと前記葉部の間で画定されるように、前記軸受ハウジング内に配置されたブッシング（４７０，５７０）と、
柔軟な材料で作られた１以上の圧縮コード（４７８，５７８）であって、前記圧縮コードは、前記ブッシングと前記葉部の間の前記空間に配置される、圧縮コードと、を備える請求項１に記載の太陽光発電追跡装置アセンブリ（１２）。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月1日(2020.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に親水性ナノコーティングを堆積させる方法であって、該コーティングは、プラズマチャンバー中での連続波の低圧及び低電力のプラズマ重合法により、
CH2=CR4-CH2-O-R5
（式中、R4は、H又はアルキル、例えば-CH3であり、かつR5は、置換アルキル基又は置換アルケニル基であり、かつR5は、1個若しくは複数個の親水性官能基又はヒドロキシル基及び／若しくはカルボニル基を含む）によるモノマーを使用して堆積され、該プラズマ重合法の間に印加される電力は、前記プラズマチャンバーの1リットルの容量当たりに0.02ワットから2.50ワットの間の本質的に一定の値であり、
ここで、前記プラズマ重合法は、フリーラジカル開始剤を使用せずに行われる、方法。
【請求項２】
低圧プラズマ重合法に先行して低圧プラズマ前処理法が行われ、その際、該低圧プラズマ前処理法は、不活性ガス及び／又は反応性ガスを使用して行われる、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
低圧プラズマ重合法に先行して低圧プラズマ重合工程が行われ、その際、中間ナノコーティングが堆積される、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項４】
前記中間ナノコーティングは、低圧プラズマ前処理法の前に堆積される、請求項3に記載の方法。
【請求項５】
前記中間ナノコーティングは、低圧プラズマ前処理法の後に堆積される、請求項3に記載の方法。
【請求項６】
前記中間ナノコーティングの層は、
Y1-X-Y2
（式中、Xは、O又はNHであり、Y1は、-Si(Y3)(Y4)Y5であり、かつY2は、Si(Y3’)(Y4’)Y5’であり、ここでY3、Y4、Y5、Y3’、Y4’、及びY5’は、それぞれ独立してH、又は炭素数最大10の炭素原子のアルキル基であり、Y3、Y4、及びY5の多くとも1個は、水素であり、Y3’、Y4’、及びY5’の多くとも1個は、水素であり、かつ炭素原子の総数は、20以下である）によるモノマーを使用して堆積される、請求項3〜5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
プラズマ重合法において使用される前記1種以上のモノマーは、ガス状態で前記プラズマチャンバー中に導入される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記プラズマチャンバー及び／又は該プラズマチャンバー中に前記モノマーをガス状態で導入するための供給導管は、前記1種以上のモノマーの凝縮を避けるために温度制御される、請求項7に記載の方法。
【請求項９】
前記基材は、医療用消耗品、生化学用消耗品、電気化学的基材、膜、又は織物である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法により得られる、基材上の親水性コーティングの使用であって、
凝固を低減させるための、
酸媒体に対する耐性を高めるための、
表面張力の増加のための又は流体の輸送の改善のための、及び／又は水性流体の吸収を改善するための又は吸い上げを促進するための、
使用。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月13日(2020.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の官能基を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、
第２の官能基を有するアクリルポリマー、及び
シリカナノ粒子
を含み、前記第１及び第２の官能基は水素結合を形成することができる、ハードコート組成物。
【請求項２】
前記アクリルポリマーが、３０，０００〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の重量平均分子量を有する、請求項１に記載のハードコート組成物。
【請求項３】
前記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、５００〜３，０００ｇ／モルの範囲の分子量を有する、請求項１に記載のハードコート組成物。
【請求項４】
前記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの前記第１の官能基がウレタン基を含み、前記アクリルポリマーの前記第２の官能基が酸基、ヒドロキシル基、又はこれらの組み合わせである、請求項１に記載のハードコート。
【請求項５】
前記アクリルポリマーが、約１．５〜２０重量％固形分の範囲の量で存在する、請求項１に記載のハードコート。
【請求項６】
前記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、２０〜６０重量％固形分の範囲の量で存在する、請求項１に記載のハードコート。
【請求項７】
前記アクリルポリマーが硬化コーティング組成物から溶媒抽出され得るように、前記アクリルポリマーが、硬化中に前記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと共有結合していない、請求項１に記載のハードコート。
【請求項８】
前記シリカナノ粒子が、少なくとも３５又は７０重量％固形分の量で存在する、請求項１に記載のハードコート。
【請求項９】
前記シリカナノ粒子の表面が、エチレン性不飽和基を含むオルガノシラン表面処理化合物を含む、請求項１に記載のハードコート組成物。
【請求項１０】
前記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、ポリイソシアネート、ヒドロキシル官能性アクリレート化合物、及び任意のポリオールの反応生成物である、請求項１に記載のハードコート。
【請求項１１】
前記ヒドロキシル官能性アクリレート化合物が、１個のヒドロキシル基及び１〜３個のアクリレート基を含む、請求項１０に記載のハードコート。
【請求項１２】
フッ素含有添加剤、シリコーン含有添加剤、又はこれらの混合物から選択される添加剤を更に含む、請求項１に記載のハードコート。
【請求項１３】
硬化ハードコートの１３ミクロンフィルムが、下記：
摩耗試験後に５以下のヘイズ；
少なくとも２Ｈの鉛筆硬度；
５ｍｍ以下のマンドレル曲げ；
から選択される特性の１つ以上を有する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のハードコート。
【請求項１４】
基材の表面上に配置された請求項１〜１３のいずれか一項に記載の硬化ハードコートを含む物品。
【請求項１５】
前記基材が、光透過性ポリマーフィルムである、請求項１４に記載の物品。