【手続補正書】
【提出日】令和2年6月19日(2020.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ装置であって、前記レーザ装置は、
複数の発光帯を有する利得媒質と、
第１の共振器鏡および第２の共振器鏡と
を備え、
各共振器鏡は、反射面を有し、前記共振器鏡は、前記利得媒質の周囲に配置され、不安定レーザ共振器を形成し、前記不安定レーザ共振器は、光学軸を有し、
前記第２の共振器鏡は、スペクトル選択要素を含み、前記スペクトル選択要素は、前記第２の共振器鏡の前記反射面の３０％を下回る部分を占め、前記スペクトル選択要素は、前記光学軸上に位置し、前記スペクトル選択要素は、所望される発光帯に対する約４％を下回る反射損失と、他の発光帯に対する１０％を上回る反射損失とを有し、
前記第１の共振器鏡および前記スペクトル選択要素は、前記不安定レーザ共振器の前記光学軸上に安定レーザ共振器を形成し、前記安定レーザ共振器は、主として前記所望される発光帯におけるレーザ照射を生成し、前記安定共振器によって生成されたレーザ照射は、前記不安定レーザ共振器の中に漏出し、それによって、前記不安定レーザ共振器にシードし、
前記利得媒質を励起することは、前記所望される発光帯において、前記他の発光帯におけるより高い電力を有するレーザ照射を前記不安定レーザ共振器から生成する、
レーザ装置。
【請求項２】
前記利得媒質は、二酸化炭素を含むガス混合物である、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項３】
前記利得媒質は、一酸化炭素を含むガス混合物である、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項４】
前記他の発光帯に対する前記反射損失は、約２０％を上回る、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項５】
前記スペクトル選択要素は、前記第２の共振器鏡の前記反射面の１５％を下回る部分を占める、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項６】
前記スペクトル選択要素は、前記第２の共振器鏡の前記反射面の５％を下回る部分を占める、請求項５に記載のレーザ装置。
【請求項７】
前記スペクトル選択要素は、前記第２の共振器鏡の前記反射面の他の部分から突出しているか、または前記第２の共振器鏡の前記反射面の他の部分から奥まった所に置かれている、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項８】
前記所望される発光帯は、スペクトル選択要素が突出する距離、または奥まった所に置かれる距離を設定することによって選択される、請求項７に記載のレーザ装置。
【請求項９】
前記所望される発光帯は、中心波長を有し、前記スペクトル選択要素が突出する距離、または奥まった所に置かれる距離は、前記中心波長の半整数にほぼ等しい、請求項８に記載のレーザ装置。
【請求項１０】
スペクトル選択要素が、前記光学軸に沿って平行移動させられ、前記スペクトル選択要素が突出する距離、または奥まった所に置かれる距離を変更し、それによって、前記発光帯間で前記レーザ照射を調整する、請求項８に記載のレーザ装置。
【請求項１１】
前記スペクトル選択要素は、前記第２の共振器鏡の中に挿入されている、請求項７に記載のレーザ装置。
【請求項１２】
前記スペクトル選択要素は、その製作中に前記第２の共振器鏡の中に機械加工される、請求項７に記載のレーザ装置。
【請求項１３】
別のスペクトル選択要素が、前記第１の共振器鏡の中に存在する、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１４】
前記スペクトル選択要素は、平坦な反射面を有する、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１５】
前記スペクトル選択要素は、湾曲した反射面を有する、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１６】
前記スペクトル選択要素は、スペクトル選択コーティングを有するスペクトル選択鏡である、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１７】
前記スペクトル選択要素は、前記第２の共振器鏡の３０％未満の部分上で成長させられるスペクトル選択コーティングである、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１８】
前記スペクトル選択要素は、複数の階段状表面を有する構造である、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項１９】
前記階段状表面は、前記光学軸と同心である、請求項１８に記載のレーザ装置。
【請求項２０】
前記階段状表面は、形状において長方形である、請求項１８に記載のレーザ装置。
【請求項２１】
前記所望される発光帯は、中心波長を有し、前記階段状表面の各々は、前記反射面の他の部分からある距離突出するか、または前記反射面の他の部分から奥まった所に置かれ、前記距離は、前記中心波長の半整数にほぼ等しい、請求項１８に記載のレーザ装置。
【請求項２２】
前記スペクトル選択要素は、前記反射面の他の部分から突出しているか、または前記反射面の他の部分から奥まった所に置かれている細長い表面の形態である、請求項１に記載のレーザ装置。
【請求項２３】
前記細長い表面は、前記不安定レーザ共振器の平面内で向けられている、請求項２２に記載のレーザ装置。
【請求項２４】
前記細長い表面は、形状において長方形である、請求項２２に記載のレーザ装置。
【請求項２５】
前記不安定レーザ共振器は、負分岐不安定共振器である、請求項１に記載のレーザ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ある側面では、本発明によるレーザ装置は、複数の発光帯を有する利得媒質を備えている。第１および第２の共振器鏡が、提供される。各共振器鏡は、反射面を有する。共振器鏡は、利得媒質の周囲に配置され、光学軸を有する不安定レーザ共振器を形成する。共振器鏡のうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの共振器鏡の反射面の３０％を下回る部分を占めるスペクトル選択要素を含む。スペクトル選択要素は、光学軸上に位置する。スペクトル選択要素は、所望される発光帯に対して約４％を下回る反射損失と、他の発光帯に対する１０％を上回る反射損失とを有する。利得媒質を励起することは、所望される発光帯において、他の発光帯におけるより高い電力を有するレーザ照射を不安定レーザ共振器から生成する。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
レーザ装置であって、前記レーザ装置は、
複数の発光帯を有する利得媒質と、
第１および第２の共振器鏡と
を備え、
各共振器鏡は、反射面を有し、前記共振器鏡は、前記利得媒質の周囲に配置され、不安定レーザ共振器を形成し、前記不安定レーザ共振器は、光学軸を有し、
前記共振器鏡のうちの少なくとも１つは、スペクトル選択要素を含み、前記スペクトル選択要素は、前記少なくとも１つの共振器鏡の反射面の３０％を下回る部分を占め、前記スペクトル選択要素は、前記光学軸上に位置し、前記スペクトル選択要素は、所望される発光帯に対する約４％を下回る反射損失と、他の発光帯に対する１０％を上回る反射損失とを有し、
前記利得媒質を励起することは、前記所望される発光帯において、前記他の発光帯におけるより高い電力を有するレーザ照射を前記不安定レーザ共振器から生成する、
レーザ装置。
（項目２）
前記利得媒質は、二酸化炭素を含むガス混合物である、項目１に記載のレーザ。
（項目３）
前記利得媒質は、一酸化炭素を含むガス混合物である、項目１に記載のレーザ。
（項目４）
前記他の発光帯に対する前記反射損失は、約２０％を上回る、項目１〜３のいずれかに記載のレーザ。
（項目５）
前記スペクトル選択要素は、前記少なくとも１つの共振器鏡の前記反射面の約１５％を下回る部分を占める、項目１〜４のいずれかに記載のレーザ。
（項目６）
前記スペクトル選択要素は、前記少なくとも１つの共振器鏡の前記反射面の５％を下回る部分を占める、項目５に記載のレーザ。
（項目７）
前記スペクトル選択要素は、前記反射面の他の部分から突出しているか、またはそれから奥まった所に置かれている、項目１〜６のいずれかに記載のレーザ。
（項目８）
前記所望される発光帯は、スペクトル選択要素が突出する距離、または奥まった所に置かれる距離を設定することによって選択される、項目７に記載のレーザ。
（項目９）
前記所望される発光帯は、中心波長を有し、前記スペクトル選択要素が突出する距離、または奥まった所に置かれる距離は、前記中心波長の半整数にほぼ等しい、項目８に記載のレーザ。
（項目１０）
スペクトル選択要素が、前記光学軸に沿って平行移動させられ、前記スペクトル選択要素が突出する距離、または奥まった所に置かれる距離を変更し、それによって、前記発光帯間で前記レーザ照射を調整する、項目８に記載のレーザ。
（項目１１）
前記スペクトル選択要素は、前記少なくとも１つの共振器鏡の中に挿入されている、項目７〜１０のいずれかに記載のレーザ。
（項目１２）
前記スペクトル選択要素は、その製作中に前記少なくとも１つの共振器鏡の中に機械加工される、項目７〜１０のいずれかに記載のレーザ。
（項目１３）
スペクトル選択要素は、前記第１および第２の共振器鏡の各々に含まれる、項目１〜１２のいずれかに記載のレーザ。
（項目１４）
前記第１の鏡と前記第２の鏡におけるスペクトル選択要素とは、安定レーザ共振器を形成し、前記安定レーザ共振器は、主として前記所望される発光帯におけるレーザ照射を生成し、前記安定共振器によって生成されたレーザ照射は、前記不安定レーザ共振器の中に漏出し、それによって、前記不安定レーザ共振器にシードする、項目１〜１３のいずれかに記載のレーザ。
（項目１５）
前記第１の鏡におけるスペクトル選択要素と前記第２の鏡におけるスペクトル選択要素とは、安定レーザ共振器を形成し、前記安定レーザ共振器は、主として前記所望される発光帯におけるレーザ照射を生成し、前記安定共振器によって生成されたレーザ照射は、前記不安定レーザ共振器の中に漏出し、それによって、前記不安定レーザ共振器にシードする、項目１〜１４のいずれかに記載のレーザ。
（項目１６）
前記スペクトル選択要素は、平坦な反射面を有する、項目１〜１５のいずれかに記載のレーザ。
（項目１７）
前記スペクトル選択要素は、湾曲した反射面を有する、項目１〜１５のいずれかに記載のレーザ。
（項目１８）
前記スペクトル選択要素は、スペクトル選択コーティングを有するスペクトル選択鏡である、項目１〜１７のいずれかに記載のレーザ。
（項目１９）
前記スペクトル選択コーティングは、前記少なくとも１つの共振器鏡の３０％未満の部分上で成長させられるスペクトル選択コーティングである、項目１８に記載のレーザ。
（項目２０）
前記スペクトル選択要素は、複数の階段状表面を有する構造である、項目１〜１９のいずれかに記載のレーザ。
（項目２１）
前記階段状表面は、前記光学軸と同心である、項目２０に記載のレーザ。
（項目２２）
前記階段状表面は、形状において長方形である、項目２０に記載のレーザ。
（項目２３）
前記所望される発光帯は、中心波長を有し、前記階段状表面の各々は、前記反射面の他の部分からある距離突出するか、またはそれから奥まった所に置かれ、前記距離は、前記中心波長の半整数にほぼ等しい、項目２０〜２２のいずれかに記載のレーザ。
（項目２４）
前記スペクトル選択要素は、前記反射面の他の部分から突出しているか、またはそれから奥まった所に置かれている細長い表面の形態である、項目１〜２３のいずれかに記載のレーザ。
（項目２５）
前記細長い表面は、前記不安定レーザ共振器の平面内で向けられている、項目２４に記載のレーザ。
（項目２６）
前記細長い表面は、形状において長方形である、項目２４または項目２５に記載のレーザ。
（項目２７）
前記スペクトル選択要素は、前記反射面の他の部分から突出しているか、またはそれから奥まった所に置かれている複数の平行な細長い表面の形態である、項目１〜２６のいずれかに記載のレーザ。
（項目２８）
前記細長い表面は、前記不安定共振器の平面内で向けられている、項目２７に記載のレーザ。
（項目２９）
前記不安定レーザ共振器は、負分岐不安定共振器である、項目１〜２８のいずれかに記載のレーザ。
（項目３０）
レーザ装置であって、前記レーザ装置は、
複数の発光帯を有する利得媒質と、
第１および第２の共振器鏡と
を備え、
各共振器鏡は、反射面を有し、前記共振器鏡は、前記利得媒質の周囲に配置され、不安定レーザ共振器を形成し、前記不安定レーザ共振器は、光学軸を有し、
前記共振器鏡のうちの少なくとも１つは、前記反射面の他の部分から突出しているか、またはそれから奥まった所に置かれているスペクトル選択要素を含み、前記スペクトル選択要素は、前記少なくとも１つの共振器鏡の反射面の１５％を下回る部分を占め、前記スペクトル選択要素は、前記光学軸上に位置し、前記スペクトル選択要素は、前記所望される発光帯に対して、他の発光帯に対する反射損失を下回る前記反射損失を有し、
前記利得媒質を励起することは、前記所望される発光帯において、前記他の発光帯におけるより高い電力を有するレーザ照射を前記不安定レーザ共振器から生成する、レーザ装置。
（項目３１）
前記利得媒質は、二酸化炭素を含むガス混合物である、項目３０に記載のレーザ。
（項目３２）
前記発光帯は、約９．３μｍ、９．６μｍ、１０．２μｍ、および１０．６μｍの中心波長を有する、項目３１に記載のレーザ。
（項目３３）
前記スペクトル選択要素は、前記所望される発光帯に対する４％を下回る反射損失と、前記他の発光帯に対する１０％を上回る反射損失とを有する、項目３０〜３２のいずれかに記載のレーザ。
（項目３４）
前記スペクトル選択要素は、複数の階段状表面を有する構造である、項目３０〜３３のいずれかに記載のレーザ。
（項目３５）
レーザ装置であって、前記レーザ装置は、
複数の発光帯を有する利得媒質と、
第１および第２の共振器鏡と
を備え、
各共振器鏡は、反射面を有し、前記共振器鏡は、前記利得媒質の周囲に配置され、不安定レーザ共振器を形成し、前記不安定レーザ共振器は、光学軸を有し、
前記共振器鏡のうちの少なくとも１つは、スペクトル選択要素を含み、前記スペクトル選択要素は、前記共振器の光学軸に沿って平行移動可能であり、
前記スペクトル選択要素の表面は、スペクトル選択コーティングを提供され、前記スペクトル選択要素の前記コーティングされた表面は、前記少なくとも１つの共振器鏡の反射面の１５％を下回る部分を占め、
前記スペクトル選択コーティングと、前記コーティングされた表面と前記反射面との間の距離とは、前記所望される発光帯に対して、他の発光帯に対する反射損失を下回る前記反射損失を生成するように選択され、
前記利得媒質を励起することは、前記所望される発光帯において、前記他の発光帯におけるより高い電力を有するレーザ照射を前記不安定レーザ共振器から生成する、レーザ装置。
（項目３６）
前記利得媒質は、二酸化炭素を含むガス混合物である、項目３５に記載のレーザ。
（項目３７）
前記発光帯は、約９．３μｍ、９．６μｍ、１０．２μｍ、および１０．６μｍの中心波長を有する、項目３６に記載のレーザ。
（項目３８）
前記スペクトル選択要素は、前記所望される発光帯に対する４％を下回る反射損失と、前記他の発光帯に対する１０％を上回る反射損失とを有する、項目３５〜３７のいずれかに記載のレーザ。
（項目３９）
前記反射損失は、前記他の発光帯に対して２０％を上回る、項目３８に記載のレーザ。