【事件の表示】
　特願２００８−５４３３１７「イオン源、システム及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　６月１４日国際公開、ＷＯ２００７／０６７３１７、平成２１年　４月３０日国内公表、特表２００９−５１７８４４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続きの経緯
　本願は、２００６年１１月１５日（パリ条約による優先権主張２００５年１２月２日　米国、２００６年３月２０日　米国、２００６年４月２８日　米国、２００６年５月９日　米国）を国際出願日とする出願であって、平成２３年８月１１日付けで拒絶理由が通知され、平成２４年２月１６日付けで意見書が提出されるとともに同日付けで手続補正がなされ、同年１１月１２日付けで最後の拒絶理由が通知され、平成２５年４月１５日付けで意見書が提出されるとともに同日付けで手続補正がなされ、平成２６年１月２７日付けで平成２５年４月１５日付けの手続補正の補正の却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされた。本件は、これに対して平成２６年６月４日に審判請求がなされると同時に手続補正がなされ、同年８月６日付けで前置報告がなされ、平成２７年１月１６日付けで上申書が提出されたものである。
第２　平成２６年６月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２６年６月４日付けの手続補正を却下する。
［理由］
１　平成２６年６月４日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、本件補正前の平成２４年２月１６日付け手続補正の特許請求の範囲の請求項２６である
「【請求項２６】
　気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させることと、
　前記イオンビームを試料と相互作用させて、該試料から粒子を出すことと、
　検出器によって検出された粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく検出器からのスペクトル及び／又は画像を作り出すことと、
　を含むことを特徴とする方法。」が、
「【請求項１】
　気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させることと、
　前記イオンビームを試料と相互作用させて、該試料から粒子を出すことと、
　検出器によって検出された粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく検出器からのスペクトル及び／又は画像を作り出すことと、
　を
含み、
　
前記粒子が、散乱イオンであり、
　前記散乱イオンを散乱する前記試料の表面での原子の質量は、前記散乱イオンのエネルギー及び軌道の角度を用いて決定される
ことを特徴とする方法。」
と補正された（下線は請求人が付与したものである。）。
２　本件補正の目的
　本件補正により、補正前の請求項２６に「粒子が、散乱イオンであり、前記散乱イオンを散乱する前記試料の表面での原子の質量は、前記散乱イオンのエネルギー及び軌道の角度を用いて決定される」が追加されたが、これは、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、単に「特許法」という。）第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
３　独立特許要件
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かを進歩性（特許法第２９条第２項）について以下に検討する。
（１）本願補正発明の認定
　本願補正発明は、上記１において、本件補正後の請求項１として記載したとおりのものと認める。
（２）刊行物、各刊行物の記載事項及び引用発明の認定
ア　本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開平６−３０８０５８号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の記載がある（下線は当審で付与した。）。
（ア）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はラザフォード後方散乱分光分析装置に係わり、例えば、ラザフォード後方散乱分光法による固体試料表面の組成の定量分析、または固体試料表面の不純物の定量分析における散乱イオンエネルギースペクトルの測量装置、および
散乱イオンエネルギースペクトルの測定方法
（イ）
「【００１６】
【作用】前記のように構成したラザフォード後方散乱分光分析装置の作用を図面を参照して説明する。図１は、本発明によるラザフォード後方散乱分光分析装置の一実施例を示す図である。
【００１７】図１において、１は試料に照射するイオンの軌道であり、２は分析試料である。また、３−１〜３−ｎは照射したイオンが試料によって散乱された場合の散乱イオンの軌道である。
【００１８】次いで、４−１〜４−ｎは散乱イオンを検出するための検出器である。本実施例において設置する検出器は、第１の検出器４−１から第番目の検出器４−ｎまでのｎ個であり、散乱角はそれぞれの検出器４−１から検出器４−ｎに対応してそれぞれθ−１からθ−ｎに設定する。
【００１９】散乱イオン検出器４−１〜４−ｎは、検出器同志が互いに触れ合わない程度の距離で、また、検出器同志が互いに散乱イオンを遮蔽しないような位置関係に設置する。検出器４−１〜４−ｎは有感面積が同じものを使用するとともに、試料２からの距離が等しくなるようにする。
【００２０】また、照射イオンの入射方向と、分析試料２と検出器４とを結ぶ線のなす角度（散乱角）が９０度よりも大きくなるように各検出器４−１〜４−ｎを設置することが望ましい。設置する検出器４の数は、分析の目的とする感度に応じて、増やせばよく、検出器４を設置する数を多くするほど分析感度は高くなる。
【００２１】第１の検出器４−１から最後の検出器４−ｎ（ｎは検出器の数）の散乱角は、それぞれθ−１からθ−ｎに設定する。なお、散乱角θ−１からθ−ｎは等間隔でも、不均一な間隔でもいずれでも任意でよいが、それぞれの値を正確に把握しておく必要がある。
【００２２】操作法は、先ず
分析試料２にエネルギーがＥ
０
のイオンを照射するとともに、イオンを照射しつつ、検出器４
−１
から検出器４
−ｎ
までのすべての検出器を同時に作動させる。そして、試料表面上に存在している質量がＭの元素によって散乱されたイオンをｎ個の検出器４で同時に検出する。
【００２３】このようにして各検出器４−１〜４−ｎから得られる信号電圧を増幅器５−１〜５−ｎでもって増幅する。そして、増幅された各検出器からの出力電圧を、Ａ／Ｄ変換器６−１〜６−ｎによりディジタル化する。
【００２４】各Ａ／Ｄ変換器６−１〜６−ｎによりディジタル化された検出器出力を、次に、多重波高分析器７−１〜７−ｎに与え、増幅されるとともにディジタル化された各検出器からの信号電圧と、イオン照射時におけるその頻度とを各検出器ごとに分析し、
散乱イオンのエネルギースペクトルを出力する。
【００２５】そして、
検出器４
−１
から検出器４
−ｎ
までの各検出器ごとの測定したエネルギースペクトルのずれを合成スペクトル生成器８で補正するとともに、加算して合成スペクトルを出力する
【００２６】各検出器ごとのエネルギースペクトルのずれの補正はつぎのように行う。すなわち、
イオンを分析試料２に照射した際に、試料表面で散乱されるイオンのエネルギーは、原理的に次の式で示されるエネルギーである。
　
Ｅｉ＝Ｋ（θｉ）Ｅ０　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（１式）
【００２７】ただし、Ｅｉは検出器４
−ｉ
で検出される散乱イオンのエネルギーであり、Ｋ（θｉ）は次の式によって決まる係数である。
  Ｋ（θｉ）＝｛（Ｍ
２
 −ｍ
２
 ｓｉｎ
２
θｉ）
１／２
 ＋ｍｃｏｓ θｉ｝
２
 
　　　　　　　　／（Ｍ＋ｍ）
２
　　　　　　　　　　　　・・・（２式）
θｉ：イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４
−ｉ
とを結ぶ線がなす角度
ｍ：照射イオンの質量
Ｍ：分析する元素の質量
Ｅ０ ：照射イオンのエネルギー
Ｅ０ 、ｍ、Ｍは全ての検出器に共通である。
【００２８】また、散乱イオンの強度は原理的につぎの式で示す強度である。
　Ｙｉ＝α×σ（θｉ）×Ｎ　　　　　　　　　　　　　　・・・（３式）
【００２９】ただし、Ｙｉは検出器４−ｉで検出される散乱イオンの強度であり、αは定数、Ｎは分析元素の濃度、σ（θｉ）は次の式によって決まる係数である。
  σ（θｉ）＝β×１／ｓｉｎ４θｉ×（γ＋ｃｏｓ θｉ）２ ／γ 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（４式）
【００３０】ただし、
　γ＝〔１−（（ｍ／Ｍ）ｓｉｎ θｉ）２ 〕１／２　　　　　　　　　　・・・（５式）
である。
【００３１】次に、分析方法を説明する。先ず、検出器４−１から検出器４−ｎまでの各検出器ごとに、Ｋ（θｉ）とσ（θｉ）とを前記の式により計算する。次に、多重波高分析器７によって出力した検出器４−２から検出器４−ｎまでの散乱イオンのエネルギースペクトル中のピークの位置と強度を検出器４−１から出力するエネルギースペクトルのピーク位置と強度にそろえるための補正を行う。
【００３２】すなわち、検出器４−ｉ（ｉは２からｎ）によって測定したスペクトル中のピークのエネルギーＥｉはつぎの式によりＥｉ’に換する。
　Ｅｉ’＝Ｅｉ×Ｋ（θ１）／Ｋ（θｉ）　　　　　　　　・・・（６式）
【００３３】また、検出器ｉによって測定したスペクトル中のピークの強度はＹｉは、次の式によりＹｉ’へ変換する。
　Ｙｉ’＝Ｙｉ×σ（θ１）／σ（θｉ）　　　　　　　　・・・（７式）
そして、
変換したスペクトルをすべて加算して合成し、図１中の９で示す出力装置に出力する
【００３４】検出システム（検出器、増幅器、アナログディジタル変換器、多重波高分析器からなる系）の不感時間は、１個の検出器が単位時間あたりに計測する散乱イオンの個数に比例して増大するから、前記の作用によって、本発明の検出システムの不感時間は、検出器の散乱イオンの検出面積が本発明で用いる検出器のｎ倍であるような１個の検出器を用いた従来技術の検出システムの不感時間の１／ｎ以下になる。すなわち、本発明による検出システムでは、従来技術と同等の不感時間で、ｎ倍の計数率を得ることが可能となる。
【００３５】
【実施例】以下、本発明のラザフォード後方散乱分光分析装置の一実施例を図面を参照して説明する。なお、本実施例においては、シリコン単結晶基板上にヒ素を１×１０１４ａｔｏｍｓ／ｃｍ２ の濃度で付着させて分析試料２とした。
【００３６】図２は、従来のラザフォード後方散乱分光分析装置と本発明によるラザフォード分光分析装置とにより測定を行って得られた散乱イオンのエネルギースペクトルを比較したものであり、従来の装置で得られたスペクトルは符号１０と符号１１で示してある。
【００３７】前述したように、従来の装置では検出器は１個のみであり、散乱角１６０°の位置に設置した。また、
照射したイオンは、エネルギーが２０００ｋｅＶ のヘリウムであり
【００３８】一方、本発明による装置で得たスペクトルは、１２と１３で示してある。本発明によるラザフォード後方散乱分光分析装置の実施例では、検出器は１０個用いた。なお、照射するヘリウムのエネルギーと照射量は従来の装置による測定と同一にしている。
【００３９】１２は基板のシリコンによって散乱されたヘリウムのピークで、１３はヒ素によって散乱されたヘリウムのピークであり、１００倍に拡大して表示してある。図２から明らかなように、従来の装置では微弱なピークとしてしか検出されなかったヒ素のピークが、本発明の装置では、従来装置の１０倍以上の強度で検出できた。」
（ウ）図１
（エ）図２
（オ）上記（イ）の【００３７】の「従来の装置では検出器は１個のみであり、散乱角１６０°の位置に設置した。また、照射したイオンは、エネルギーが２０００ｋｅＶ のヘリウムである」こと及び【００３８】の「照射するヘリウムのエネルギーと照射量は従来の装置による測定と同一にしている」との記載により、「本発明によるラザフォード後方散乱分光分析装置の実施例」で照射するヘリウムのエネルギーは２０００ｋｅＶであると認められる。
（カ）ラザフォード後方散乱分光分析装置では、まず【００２６】の（１式）及び（２式）から、「Ｍ：分析する元素の質量」を決定することが、当業者の技術常識であることから、引用文献１の「ラザフォード後方散乱分光分析装置」においても、【００２６】の（１式）及び（２式）により、「Ｍ：分析する元素の質量」を決定していることは明らかである。
イ　上記アより、引用文献１には次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
「分析試料２にエネルギーがＥ０のイオンを照射するとともに、イオンを照射しつつ、検出器４−１から検出器４−ｎまでのすべての検出器を同時に作動させ、試料表面上に存在している質量がＭの元素によって散乱されたイオンをｎ個の検出器４で同時に検出し、
　散乱イオンのエネルギースペクトルを出力する方法であって、
　ここで、照射したイオンは、エネルギーが２０００ｋｅＶのヘリウムであり、
　イオンを分析試料２に照射した際に、試料表面で散乱されるイオンのエネルギーは、次の式で示されるエネルギーであり、
Ｅｉ＝Ｋ（θｉ）Ｅ０・・・（１式）
ただし、Ｅｉは検出器４−ｉで検出される散乱イオンのエネルギーであり、Ｋ（θｉ）は次の式によって決まる係数である、
Ｋ（θｉ）＝｛（Ｍ２ −ｍ２ ｓｉｎ２θｉ）１／２ ＋ｍｃｏｓ θｉ｝２ 
                 ／（Ｍ＋ｍ）２　・・・（２式）
θｉ：イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４−ｉとを結ぶ線がなす角度
ｍ：照射イオンの質量
Ｍ：分析する元素の質量
Ｅ０ ：照射イオンのエネルギー
Ｅ０ 、ｍ、Ｍは全ての検出器に共通であるものであって、
　分析する元素の質量Ｍを前記（１式）及び（２式）により決定し、
　前記検出器４−１から検出器４−ｎまでの各検出器ごとの測定したエネルギースペクトルのずれを合成スペクトル生成器８で補正するとともに、加算して前記合成スペクトルを出力する方法。」
（３）対比・判断
ア　本願補正発明と引用発明１を対比する。
（ア）引用発明１の「分析試料２」及び「検出器４−１〜検出器４−ｎ」は、本願補正発明の「試料」及び「検出器」に、それぞれ相当する。
（イ）引用発明１の「エネルギーが２０００ｋｅＶ のヘリウムであ」る「照射したイオン」は、本願補正発明の「イオンビーム」に相当する。また、引用発明１において、「イオンビームを発生させること」は自明のことである。
（ウ）引用発明１の「散乱イオン」は、本願補正発明の「粒子」及び「散乱イオン」に相当する。
（エ）引用発明１の「試料表面上に存在している質量がＭの元素によって散乱されたイオン照射したイオンが試料によって散乱され」ることは、本願補正発明の「イオンビームを試料と相互作用させて、該試料から粒子を出すこと」に相当する。
（オ）引用発明１の「散乱イオンのエネルギーＥｉ」は、本願補正発明の「粒子のエネルギー」及び「散乱イオンのエネルギー」に相当する。
（カ）引用発明１の「イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４−ｉとを結ぶ線がなす角度θｉ」は、本願補正発明の「粒子の」「軌道の角度」及び「散乱イオンの」「軌道の角度」に相当する。
（キ）引用発明１において、「Ｅｉは検出器４−ｉで検出される散乱イオンのエネルギーであり、」「θｉ：イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４−ｉとを結ぶ線がなす角度」であるから、「検出器４−１から検出器４−ｎまでのすべての検出器を同時に作動させ、試料表面上に存在している質量がＭの元素によって散乱されたイオンをｎ個の検出器４で同時に検出」することは、本願補正発明の「粒子のエネルギー及び軌道の角度」が「検出器によって検出された」ことに相当する。
　すると、引用発明１の「イオンを照射しつつ、検出器４−１から検出器４−ｎまでのすべての検出器を同時に作動させ、試料表面上に存在している質量がＭの元素によって散乱されたイオンをｎ個の検出器４で同時に検出し、」「前記検出器４−１から検出器４−ｎまでの各検出器ごとの測定したエネルギースペクトルのずれを合成スペクトル生成器８で補正するとともに、加算して前記合成スペクトルを出力する」ことは、本願補正発明の「検出器によって検出された粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく検出器からのスペクトル及び／又は画像を作り出すこと」に相当する。
（ク）引用発明１の「（１式）」及び「（２式）」に「散乱イオンのエネルギーＥｉ」及び「イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４−ｉとを結ぶ線がなす角度θｉ」が用いられていることから、引用発明１の「分析する元素の質量Ｍ」が「散乱イオンのエネルギーＥｉ」及び「イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４−ｉとを結ぶ線がなす角度θｉ」を用いて決定されることは明らかである。
　すると、引用発明１の「イオンを分析試料２に照射した際に、試料表面で散乱されるイオンのエネルギーは、原理的に次の式で示されるエネルギーであり、
Ｅｉ＝Ｋ（θｉ）Ｅ０・・・（１式）
ただし、Ｅｉは検出器４−ｉで検出される散乱イオンのエネルギーであり、Ｋ（θｉ）は次の式によって決まる係数である、
Ｋ（θｉ）＝｛（Ｍ２ −ｍ２ ｓｉｎ２θｉ）１／２ ＋ｍｃｏｓ θｉ｝２ 
                 ／（Ｍ＋ｍ）２　・・・（２式）
θｉ：イオンが分析試料２に入射する方向と、イオンが分析試料２に入射する位置と検出器４−ｉとを結ぶ線がなす角度
ｍ：照射イオンの質量
Ｍ：分析する元素の質量
Ｅ０ ：照射イオンのエネルギー
Ｅ０ 、ｍ、Ｍは全ての検出器に共通であるものであって、
　分析する元素の質量Ｍを前記（１式）及び（２式）により決定」することは、本願補正発明の「前記散乱イオンを散乱する前記試料の表面での原子の質量は、前記散乱イオンのエネルギー及び軌道の角度を用いて決定される」ことに相当する。
イ　上記アより、本願補正発明と引用発明１は、
「イオンビームを発生させることと、
　イオンビームを試料と相互作用させて、該試料から粒子を出すことと、
　検出器によって検出された粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく検出器からのスペクトル及び／又は画像を作り出すことと、
　を含み、
　前記粒子が、散乱イオンであり、
　前記散乱イオンを散乱する前記試料の表面での原子の質量は、前記散乱イオンのエネルギー及び軌道の角度を用いて決定される
方法。」
の点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。
＜相違点１＞
　本願補正発明では、「気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させる」のに対し、引用発明１では、「エネルギーが２０００ｋｅＶ のヘリウムであ」る「照射したイオン」を、どのように発生させるかが明らかでない点。
ウ　相違点１の判断
　気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させることは、周知技術（例えば、特開昭６１−１７１０４８号公報の特に特許請求の範囲、第３頁右上欄、第１、２図、特開平２−２３０６４１号公報の特に第３頁右上欄、第２図（ａ）参照。）であり、また、気体電界イオン源をイオンビームを偏向して被分析体表面をスイープする分析装置に用いることも知られている（特開昭６１−１７１０４８号公報の特に特許請求の範囲、第４頁左下欄参照。）ことから、引用発明１の「エネルギーが２０００ｋｅＶ のヘリウムであ」る「照射したイオン」を発生させる手段として、上記周知技術を採用して「気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させる」ようにすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
エ　効果について
　そして、本願補正発明が奏する作用効果も、引用発明１及び周知技術から当業者が予測できる域を超えるものではない。
オ　結論
　よって、本願補正発明は、引用発明１及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）独立特許要件についての小括
　以上検討のとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものである。
４　本件補正についての結び
  以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
第３　本願発明について
１　本願発明
　上記のとおり、本件補正は却下されたので、本願の特許請求の範囲の各請求項に係る発明は、平成２４年２月１６日付けで補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし５２に記載された事項によって特定されるものと認められるところ、その請求項２６に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記「第２」「１」において、本件補正前の特許請求の範囲の請求項２６として示したとおりのものである。
２　刊行物、各刊行物の記載事項及び引用発明の認定
（１）原査定の拒絶の理由に用いられた、本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開平８−２２００３０号公報（以下「引用文献２」という。）には、以下の記載がある（下線は当審で付与した。）。
ア「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料表面近傍層に存在する水素原子をはじめとする軽元素原子の存在分布を求める
表面分析方法
イ「【００１２】
【実施例】図１は、本発明に係る表面分析方法および分析装置の一実施例を説明する図である。
【００１３】ここで、
試料表面近傍層に水素原子を含んだ試料１に、数１００ｋｅＶに加速しエネルギーの揃ったイオンビーム２を照射する。試料１の表面近傍層において、照射イオンは水素原子を反跳し、反跳された水素原子の一部はイオンとなり、表面で散乱された入射イオンとともに３の方向にさまざまなエネルギーを持って向かう。６は静電型エネルギー分析器であり、３の粒子のうち一定のエネルギーを持つイオンのみを通過させる。７は極薄膜フィルタであり、静電型エネルギー分析器６によってエネルギー分析された水素イオンと散乱イオンの内、水素イオンのみを選択的に透過させる。８は粒子検出器であり、極薄膜フィルタ７を通過した水素イオンの数をカウントする。粒子検出器８に位置感応型の粒子検出器を用いることにより、反跳水素イオンの角度分布を求める
ウ「【００１５】図３は、
３００ｋｅＶのヘリウムイオンをプローブとした場合の、反跳水素イオンの反跳角と反跳水素イオンのエネルギーとの関係を示す
オ　図１
カ　図３
（２）上記（１）より、引用文献２には次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
「試料表面近傍層に水素原子を含んだ試料１に、イオンビーム２を照射し、
　前記試料１の表面近傍層において、照射イオンは水素原子を反跳し、反跳された水素原子の一部はイオンとなり、表面で散乱された入射イオンとともに静電型エネルギー分析器６の方向にさまざまなエネルギーを持って向かい、静電型エネルギー分析器６により散乱イオン３及び反跳イオンの粒子のうち一定のエネルギーを持つイオンのみを通過させ、極薄膜フィルタ７により、前記静電型エネルギー分析器６によってエネルギー分析された水素イオンと散乱イオンの内、水素イオンのみを選択的に透過させ、粒子検出器８により、前記極薄膜フィルタ７を通過した水素イオンの数をカウントし、前記粒子検出器８に位置感応型の粒子検出器を用いることにより、反跳水素イオンの角度分布を求め、
  ３００ｋｅＶのヘリウムイオンをプローブとした場合の、反跳水素イオンの反跳角と反跳水素イオンのエネルギーとの関係を示す図を作成する、
　表面分析方法。」
（３）対比・判断
ア　対比
（ア）引用発明２の「イオンビーム２」、「試料１」及び「水素イオン」は、本願発明の「イオンビーム」、「試料」及び「粒子」に、それぞれ相当する。
（イ）引用発明２において、「イオンビーム２」が発生していることは自明のことである。
　また、引用発明２の「試料１の表面近傍層において、照射イオンは水素原子を反跳し、表面で散乱された入射イオンとともに静電型エネルギー分析器６の方向にさまざまなエネルギーを持って向か」うことは、本願発明の「イオンビームを試料と相互作用させて、該試料から粒子を出すこと」に相当する。
（ウ）引用発明２の「粒子検出器８」において「カウント」された「水素イオンの数」は、「静電型エネルギー分析器６によって」「一定のエネルギーを持つイオンのみを通過させ」、「極薄膜フィルタ」により「水素イオンのみを選択的に透過させ」た「水素イオン」の数であり、また、引用発明２の「反跳水素イオンの角度分布」は「粒子検出器８に位置感応型の粒子検出器を用いることにより、」「求め」られたものであるから、引用発明２の「反跳水素イオンの反跳角と反跳水素イオンのエネルギーとの関係」は、「静電型エネルギー分析器６によって」「通過させ」て「粒子検出器８」によって検出された「反跳水素イオンのエネルギー」及び「反跳水素イオンの角度」に基づくものといえる。
（エ）引用発明２の「反跳水素イオンの反跳角と反跳水素イオンのエネルギーの関係を示す図」は、本願発明の「粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく」「スペクトル及び又は画像」に相当する。
（オ）上記（ウ）ないし（エ）より、引用発明２の「静電型エネルギー分析器６により、反跳されたイオン及び散乱されたイオン３の粒子のうち一定のエネルギーを持つイオンのみを通過させ、極薄膜フィルタ７により、前記静電型エネルギー分析器６によってエネルギー分析された水素イオンと散乱イオンの内、水素イオンのみを選択的に透過させ、粒子検出器８により、前記極薄膜フィルタ７を通過した水素イオンの数をカウントし、前記粒子検出器８に位置感応型の粒子検出器を用いることにより、反跳水素イオンの角度分布を求め、
  ３００ｋｅＶのヘリウムイオンをプローブとした場合の、反跳水素イオンの反跳角と反跳水素イオンのエネルギーとの関係を示す図を作成する、
　表面分析方法」は、本願発明の「検出器によって検出された粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく検出器からのスペクトル及び／又は画像を作り出すことと、を含む」「方法」に相当する。
イ　上記アより、本願発明と引用発明２は、
「イオンビームを発生させることと、
　イオンビームを試料と相互作用させて、該試料から粒子を出すことと、
　検出器によって検出された粒子のエネルギー及び軌道の角度に基づく検出器からのスペクトル及び／又は画像を作り出すことと、
　を含む、方法」
の点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。
＜相違点２＞
　本願発明では、「気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させる」のに対し、引用発明２では、「３００ｋｅＶのヘリウムイオン」である「イオンビーム２」であることにとどまり、「イオンビーム２」を、どのように発生させるかが明らかでない点。
ウ　相違点２の判断
　気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させることは、周知技術（例えば、特開昭６１−１７１０４８号公報の特に特許請求の範囲、第３頁右上欄、第１、２図、特開平２−２３０６４１号公報の特に第３頁右上欄、第２図（ａ）参照。）であり、また、気体電界イオン源をイオンビームを偏向して被分析体表面をスイープする分析装置に用いることも知られている（特開昭６１−１７１０４８号公報の特に特許請求の範囲、第４頁左下欄参照。）ことから、引用発明２の「３００ｋｅＶのヘリウムイオン」である「イオンビーム２」を発生させる手段として、上記周知技術を採用して「気体を気体電界イオン源と相互作用させることによって、イオンビームを発生させる」ようにすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
エ　効果について
　そして、本願発明が奏する作用効果も、引用発明２及び周知技術から当業者が予測できる域を超えるものではない。
オ　結論
　よって、本願発明は、引用発明２及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
第４　結び
　以上のとおり、本願発明は、引用発明２及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　よって、結論のとおり審決する。