【事件の表示】
　特願２００９−５０９８７２「トナー組成物及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年１１月２２日国際公開、ＷＯ２００７／１３３６６９、平成２１年１０月２２日国内公表、特表２００９−５３７０３１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２００７年（平成１９年）５月１１日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００６年（平成１８年）５月１２日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成２４年８月３１日付けで拒絶理由が通知され、平成２５年３月４日に意見書及び手続補正書が提出され、同年３月２９日付けで拒絶理由が通知され、同年１０月２日に意見書及び手続補正書が提出され、同年１０月２４日付けで拒絶理由が通知され、平成２６年１月９日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年２月４日付けで拒絶査定され、これを不服として、同年６月１８日に審判請求がされると同時に手続補正書が提出されたものである。
第２　平成２６年６月１８日に提出された手続補正書による補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２６年６月１８日に提出された手続補正書による補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、平成２６年１月９日に提出された手続補正書によって補正された本件補正前（以下「本件補正前」という。）の特許請求の範囲についてするものであって、そのうち請求項１についての補正は、以下のとおりである。
（１）本件補正前の請求項１
「　（ａ）トナー粒子、及び
　（ｂ）（ｉ）疎水性処理剤で表面処理された複合金属酸化物粒子であって、第１の金属酸化物からなるコア（ここで、コアは実質的に球形であり、凝集しておらず、そして表面を有する）と、（ii）水中で形成されたものであって、第２の金属酸化物からなるコーティングとを含む複合金属酸化物粒子
の混合物を含むトナー組成物であって、
　コーティングは、コアの表面に接着しており、コーティングは、連続的又は非連続的であり、そして第２の金属酸化物は、第１の金属酸化物と同一であるかもしくは異なっており、前記第１及び第２の金属酸化物は、シリカ、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化スズ、及び酸化セリウムよりなる群から独立に選択され、
　但し、コーティングが連続的である場合に、第２の金属酸化物は第１の金属酸化物と同じではなく、そして
　前記複合金属酸化物粒子は１．５未満のσｇを有する、トナー組成物。」
（２）本件補正により補正された請求項１（下線は補正箇所を示す。）
「　（ａ）トナー粒子、及び
　（ｂ）（ｉ）疎水性処理剤で表面処理された複合金属酸化物粒子であって、第１の金属酸化物からなるコア（ここで、コアは実質的に球形であり、凝集しておらず、そして表面を有する）と、（ii）水中で形成されたものであって、第２の金属酸化物からなるコーティングとを含む複合金属酸化物粒子
の混合物を含むトナー組成物であって、
　コーティングは、コアの表面に接着しており、コーティングは、連続的又は非連続的であり、そして第２の金属酸化物は、第１の金属酸化物と同一であるかもしくは異なっており、前記第１及び第２の金属酸化物は、シリカ、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化スズ、及び酸化セリウムよりなる群から独立に選択され、
　但し、コーティングが連続的である場合に、第２の金属酸化物は第１の金属酸化物と同じではなく、そして
　前記複合金属酸化物粒子は
、単離された複合金属酸化物粒子であり、３０ｎｍ又はそれ以上の平均粒子径を有し、そして
２　補正の目的の適否及び新規事項の有無
　上記請求項１に対する補正は、特許法１８４条の１２第２項の規定により本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面とされる国際出願日における国際特許出願の明細書若しくは図面（図面中の説明に限る）の翻訳文、国際出願日における国際特許出願の請求の範囲の翻訳文又は国際出願日における国際特許出願の図面（図面の中の説明を除く）（以下「翻訳文等」という。）の【００３９】の記載を根拠にして、本件補正前の「複合金属酸化物粒子」を「単離された」ものに限定し、かつ、翻訳文等の【００１９】及び【００２６】の記載を根拠にして、本件補正前の本件補正前の「複合金属酸化物粒子」を、「３０ｎｍ又はそれ以上の平均粒子径を有」するものに限定するものである。
　したがって、上記補正は、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項を限定するものであって、本件補正の前後で請求項１に係る発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題は同一であると認められるから、特許法１７条の２第５項２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。また、上記補正は、翻訳文等に記載された事項の範囲内においてした補正であって、特許法１７条の２第３項に規定する要件を満たしている。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に適合するか）について、以下検討する。
３　独立特許要件の検討
（１）引用例の記載事項
　ア　原査定の拒絶の理由で「引用文献３」として引用され、本願の優先権主張の日より前（以下「優先日前」という。）に頒布された刊行物である、特開２００２−１４８８４８号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（下線は当審で付した。以下同様。）
　（ア）「【請求項１】　
樹脂、着色剤、及び外部添加剤を含有する静電荷像現像用トナーにおいて、前記外部添加剤の少なくとも１つがシリカ内包酸化チタン粒子である
静電荷像現像用トナー
　（イ）「【請求項３】　
前記シリカ内包酸化チタン粒子が疎水化剤で表面処理され、
　（ウ）「【請求項５】　
前記シリカ内包酸化チタン粒子の一次平均粒径が１１〜１２０ｎｍ、
　（エ）「【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、使用環境の温湿度の影響を受けず、長期に亘って使用しても画像濃度の低下やカブリの発生等の画像欠陥を生じない静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、現像方法、画像形成方法、画像形成装置を提供することにある。」
　（オ）「【００３５】以下、本発明に用いられるシリカ内包酸化チタン粒子について記載する。本発明の
シリカ内包酸化チタン粒子はシリカ粒子の表面を酸化チタン粒子又は酸化チタン膜で被覆したシリカ内包酸化チタン粒子である。
【００３６】シリカ粒子の表面を酸化チタン粒子又は酸化チタン膜で被覆することにより、通常のシリカ粒子に比し、体積固有抵抗や水分含有量の環境依存性が小さく、これをトナーの外添剤として適用したときには良好な画像形成を可能にするトナーを作製することが出来る。
【００３７】ここで
酸化チタンの被覆状態はシリカ粒子の表面を全面均一に被覆することが好ましいが、部分的な被覆状態でも効果がある。
【００３８】本発明のシリカ内包酸化チタン粒子の酸化チタンの被覆量はシリカ粒子１００質量部に対し、酸化チタン５〜４０質量部が好ましい。特に好ましい範囲は１０〜３０質量部である。酸化チタンの被覆量が５質量部未満では、低温低湿で連続使用した場合、帯電量上昇、濃度低下の問題がある。４０質量部より多いと、高温高湿での放置帯電量低下、階調性の変動が大きく、細線が太る、細かい文字が潰れるなどの問題がある。
【００３９】
本発明のシリカ内包酸化チタン粒子の一次平均粒径は１１〜１２０ｎｍが好ましい。
【００４０】なお、シリカ内包酸化チタン粒子の一次平均粒径は、透過型電子顕微鏡により観察して、画像解析により測定されるフェレ径の平均値をいう。
【００４１】本発明の酸化チタンで被覆されたシリカ粒子の製造方法について記載する。即ち、
シリカ内包酸化チタン粒子は湿式法で作製できる。
　（カ）「【００４４】本発明のシリカ内包酸化チタン粒子は疎水化し、湿度による帯電特性の変動を抑制するためにシランカップリング剤等の疎水化剤で表面処理することが好ましい。以下に好ましい疎水化の条件について記載する。
【００４５】本発明のシリカ内包酸化チタン粒子は該微粒子をＥＳＣＡで測定したとき、チタン原子の濃度が０．０２〜５ａｔｍ％となるように疎水化処理剤で表面処理を行うことが好ましい。０．０２ａｔｍ％未満では、低温低湿で連続使用した場合、帯電量上昇、濃度低下の問題がある。５ａｔｍ％より大きいと、高温高湿での放置帯電量低下、階調性の変動が大きく、細線が太る、細かい文字が潰れるなどの問題がある。ここで、チタン原子の濃度は、ＥＳＣＡの測定法により、炭素、酸素、ケイ素、チタン原子を測定し、この４原子の中で、チタン原子の相対的な占有率から求める。
【００４６】疎水化処理の方法としては、前述の酸化チタンで被覆されたシリカ粒子を後述する疎水化剤で処理する方法を挙げることができる。疎水化度としては、後述するメタノールウェッタビリティで測定した場合の測定値としては４０〜８０が好ましい。
【００４７】本発明のシリカ内包酸化チタン粒子の表面を疎水化する疎水化剤としては、例えば各種チタンカップリング剤、シランカップリング剤等のいわゆるカップリング剤やシリコーンオイル等が好ましく、又、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩等の疎水化剤も好ましい。中でもシランカップリング剤を用いた表面処理が最も好ましい。
【００４８】以下、これら粒子の疎水化処理を行うための疎水化剤及びその処理方法について説明する。
【００４９】上記
疎水化処理を行う為の疎水化剤としては、例えば
ノルマルブチルトリメトキシシラン
オクチルトリメトキシシラン
デシルトリメトキシシラン
【００５０】また、脂肪酸及びその金属塩としては、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ドデシル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ペンタデシル酸、ステアリン酸、ヘプタデシル酸、アラキン酸、モンタン酸、オレイン酸、リノール酸、アラキドン酸などの長鎖脂肪酸があげられ、その金属塩としては亜鉛、鉄、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、ナトリウム、リチウムなどの金属との塩があげられる。
【００５１】シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルなどを挙げることができる。
【００５２】これら化合物は、素材となる酸化チタン粒子、シリカ粒子、或いは酸化チタンで被覆されたシリカ粒子に対して質量で５〜４０％添加、好ましくは１０〜３５％添加し、被覆することが良い。これらの材料を組み合わせて使用することもできる。又、アンモニウム塩を官能基として有するポリシロキサンで表面処理することもできる。」
　（キ）「【００６８】次に、本発明に用いられる上記外添剤以外のトナー構成について記載する。
本発明のトナーは少なくとも樹脂及び着色剤を含有する着色粒子に外部添加剤を混合して作製される。
　（ク）「【０３２６】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、文中「部」とは「質量部」を表す。
【０３２７】
シリカ内包酸化チタン粒子１の作製
１６０ｇ／Ｌの炭酸ナトリウム溶液中にシリカゾルを加え、続いて、脱鉄処理を行ったメタチタン酸を熱濃硫酸により溶解した硫酸チタニル溶液を、炭酸ナトリウム溶液中に液温が２５℃を越えないようにゆっくりと滴下し、ｐＨが１０になった時、硫酸チタニルの滴下を止め沈殿を生成させた。
【０３２８】
この沈殿を硫酸根がなくなるまで充分濾過洗浄した後、塩酸を添加し、酸化チタン濃度３０ｇ／Ｌ、塩酸濃度１５ｇ／Ｌに調整した。この液を加温し８５℃で３０分熟成し、シリカを内包したチタニアゾルを作製した。その後、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウムにてｐＨ５．５まで中和し濾過水洗を行った後、３００℃で脱水焼成してシリカ内包酸化チタン粒子を得た。
【０３２９】
得られたシリカ内包酸化チタン粒子を水スラリーとし、湿式粉砕した後、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸を添加しｐＨを２．０に調整し、ｎ−ブチルトリメトキシシランを酸化チタンに対し２５質量％（酸化チタン１００質量部に対し、ｎ−ブチルトリメトキシシラン２５質量部）添加した。３０分間撹拌保持後、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ６．５まで中和し、濾過、水洗、１５０℃で乾燥後、気流粉砕機にて微粉砕を行い、疎水性シリカ内包酸化チタン粒子を得た。これを「シリカ内包酸化チタン粒子１」とする。
【０３３０】
「シリカ内包酸化チタン粒子１」は、シリカに対する酸化チタンの構成比が１７質量％（シリカ１００質量部に対し酸化チタン１７質量部と言う意味）、ＥＳＣＡによるチタン原子の濃度が０．２８ａｔｍ％、珪素原子の濃度が４７．１４ａｔｍ％、炭素原子の濃度が１８．００ａｔｍ％、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の体積固有抵抗が５．４×１０
１１
Ωｃｍ、同じく高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の水分量が０．５７質量％、一次粒子径が２０ｎｍ、ＢＥＴ値が１３４．９ｍ
２
／ｇ、疎水化度が６１．５％であった。
【０３３１】
シリカ内包酸化チタン粒子２の作製
シリカ内包酸化チタン粒子１の作製において、シリカゾルの粒径、硫酸チタニルの滴下量を変えて、またｎ−ブチルトリメトキシシランの代わりにオクチルトリメトキシシランで表面処理し、本発明の疎水性シリカ内包酸化チタン粒子を得た。これを「シリカ内包酸化チタン粒子２」とする。
【０３３２】
「シリカ内包酸化チタン粒子２」はシリカに対する酸化チタンの構成比が６．２質量％、ＥＳＣＡによるチタン原子の濃度が０．０６ａｔｍ％、珪素原子の濃度が５２．１４ａｔｍ％、炭素原子の濃度が２１．１２ａｔｍ％、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の体積固有抵抗が９．８×１０
１２
Ωｃｍ、同じく高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の水分量が０．３２質量％、一次粒子径が１５ｎｍ、ＢＥＴ値が１９４．３ｍ
２
／ｇ、疎水化度が７６．５％であった。
【０３３３】
シリカ内包酸化チタン粒子３の作製
シリカ内包酸化チタン粒子１の作製において、シリカゾルの粒径、硫酸チタニルの滴下量を変えて、またｎ−ブチルトリメトキシシランの代わりにデシルトリメトキシシランで表面処理し、本発明の疎水性シリカ内包酸化チタン粒子を得た。これを「シリカ内包酸化チタン粒子３」とする。
【０３３４】
「シリカ内包酸化チタン粒子３」は、シリカに対する酸化チタンの構成比が３６．９質量％、ＥＳＣＡによるチタン原子の濃度が４．１５ａｔｍ％、珪素原子の濃度が４５．２１ａｔｍ％、炭素原子の濃度が１６．２１ａｔｍ％、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の体積固有抵抗が１．４８×１０
１１
Ωｃｍ、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の水分量が１．２６質量％、一次粒子径が９５ｎｍ、ＢＥＴ値が４２．１ｍ
２
／ｇ、疎水化度が４５．１％であった。」
　（ケ）「【０３５５】
トナー１〜９、及び比較用トナー１、２の作製
以上のようにして得られた着色粒子１〜７の各々１００質量部に、表２にしめすシリカ内包酸化チタン粒子１〜３を１．０質量部とステアリン酸亜鉛０．１質量部となる割合で添加し、ヘンシェルミキサーにより混合し、本発明のトナー１〜９を作製した。
　（コ）上記（ア）〜（ケ）から、引用例１には、次の発明が記載されているものと認められる。
「少なくとも樹脂及び着色剤を含有する着色粒子と、外部添加剤を含有する静電荷像現像用トナーであって、
　前記外部添加剤の少なくとも１つが、シリカ粒子の表面を酸化チタン粒子又は酸化チタン膜で被覆したシリカ内包酸化チタン粒子であって、酸化チタンの被覆状態はシリカ粒子の表面を全面均一に被覆することが好ましいが、部分的な被覆状態でもよいものであり、
　前記シリカ内包酸化チタン粒子が疎水化剤で表面処理されており、
　前記疎水化剤は、例えばノルマルブチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等であり、
　前記シリカ内包酸化チタン粒子の一次平均粒径が１１〜１２０ｎｍであり、
　前記シリカ内包酸化チタン粒子は湿式法で作製したものであり、
　具体的には、下記ａ〜ｃの記載のように、シリカ内包酸化チタン粒子１〜３を作製し、
　その後着色粒子の１００質量部に、作製したシリカ内包酸化チタン粒子１〜３を１．０質量部とステアリン酸亜鉛を０．１質量部となる割合で添加し、ヘンシェルミキサーにより混合して作製した、
　静電荷像現像用トナー。
　シリカ内包酸化チタン粒子の作製手順は以下のとおり。
　ａ　シリカ内包酸化チタン粒子１の作製
　（ａ）１６０ｇ／Ｌの炭酸ナトリウム溶液中にシリカゾルを加え、続いて、脱鉄処理を行ったメタチタン酸を熱濃硫酸により溶解した硫酸チタニル溶液を、炭酸ナトリウム溶液中に液温が２５℃を越えないようにゆっくりと滴下し、ｐＨが１０になった時、硫酸チタニルの滴下を止め沈殿を生成させた。
　（ｂ）この沈殿を硫酸根がなくなるまで充分濾過洗浄した後、塩酸を添加し、酸化チタン濃度３０ｇ／Ｌ、塩酸濃度１５ｇ／Ｌに調整した。この液を加温し８５℃で３０分熟成し、シリカを内包したチタニアゾルを作製した。その後、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウムにてｐＨ５．５まで中和し濾過水洗を行った後、３００℃で脱水焼成してシリカ内包酸化チタン粒子を得た。
　（ｃ）得られたシリカ内包酸化チタン粒子を水スラリーとし、湿式粉砕した後、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸を添加しｐＨを２．０に調整し、ｎ−ブチルトリメトキシシランを酸化チタンに対し２５質量％（酸化チタン１００質量部に対し、ｎ−ブチルトリメトキシシラン２５質量部）添加した。３０分間撹拌保持後、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ６．５まで中和し、濾過、水洗、１５０℃で乾燥後、気流粉砕機にて微粉砕を行い、疎水性シリカ内包酸化チタン粒子を得た。これを「シリカ内包酸化チタン粒子１」とする。
　（ｄ）「シリカ内包酸化チタン粒子１」は、シリカに対する酸化チタンの構成比が１７質量％（シリカ１００質量部に対し酸化チタン１７質量部と言う意味）、ＥＳＣＡによるチタン原子の濃度が０．２８ａｔｍ％、珪素原子の濃度が４７．１４ａｔｍ％、炭素原子の濃度が１８．００ａｔｍ％、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の体積固有抵抗が５．４×１０１１Ωｃｍ、同じく高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の水分量が０．５７質量％、一次粒子径が２０ｎｍ、ＢＥＴ値が１３４．９ｍ２／ｇ、疎水化度が６１．５％であった。
　ｂ　シリカ内包酸化チタン粒子２の作製
　（ａ）シリカ内包酸化チタン粒子１の作製において、シリカゾルの粒径、硫酸チタニルの滴下量を変えて、またｎ−ブチルトリメトキシシランの代わりにオクチルトリメトキシシランで表面処理し、本発明の疎水性シリカ内包酸化チタン粒子を得た。これを「シリカ内包酸化チタン粒子２」とする。
　（ｂ）「シリカ内包酸化チタン粒子２」はシリカに対する酸化チタンの構成比が６．２質量％、ＥＳＣＡによるチタン原子の濃度が０．０６ａｔｍ％、珪素原子の濃度が５２．１４ａｔｍ％、炭素原子の濃度が２１．１２ａｔｍ％、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の体積固有抵抗が９．８×１０１２Ωｃｍ、同じく高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の水分量が０．３２質量％、一次粒子径が１５ｎｍ、ＢＥＴ値が１９４．３ｍ２／ｇ、疎水化度が７６．５％であった。
　ｃ　シリカ内包酸化チタン粒子３の作製
　（ａ）シリカ内包酸化チタン粒子１の作製において、シリカゾルの粒径、硫酸チタニルの滴下量を変えて、またｎ−ブチルトリメトキシシランの代わりにデシルトリメトキシシランで表面処理し、本発明の疎水性シリカ内包酸化チタン粒子を得た。これを「シリカ内包酸化チタン粒子３」とする。
　（ｂ）「シリカ内包酸化チタン粒子３」は、シリカに対する酸化チタンの構成比が３６．９質量％、ＥＳＣＡによるチタン原子の濃度が４．１５ａｔｍ％、珪素原子の濃度が４５．２１ａｔｍ％、炭素原子の濃度が１６．２１ａｔｍ％、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の体積固有抵抗が１．４８×１０１１Ωｃｍ、高温高湿下（３０℃８０％ＲＨ）の水分量が１．２６質量％、一次粒子径が９５ｎｍ、ＢＥＴ値が４２．１ｍ２／ｇ、疎水化度が４５．１％であった。」
　（以下「引用発明１」という。）
　イ　原査定の拒絶の理由で「引用文献６」として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００１−６６８２０号公報（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
　（ア）「【請求項１】　
少なくとも、結着樹脂、着色剤及び離型剤を含有する着色粒子と外添剤とを有する静電潜像現像用トナーにおいて、該外添剤が
体積平均粒径が８０〜３００ｎｍである単分散球形シリカを含むこと
　（イ）「【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来における問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、トナー流動性、帯電性、現像性、転写性、定着性を同時に、かつ長期に渡り満足でき、特に潜像担持体摩耗を促進させるブレードクリーニング工程を有さず、現像と同時に転写残トナーを回収する、あるいは静電ブラシを用いて潜像担持体上の残留トナーを回収する不具合を改善した静電潜像現像用トナー、その製造方法、それを用いた静電潜像現像用現像剤を提供することを目的とする。また、本発明は、高画質要求に対応する現像、転写、定着が可能な画像形成方法を提供することを目的とする。」
　（ウ）「【００２５】（単分散球形シリカ）本発明に用いられる単分散球形シリカは、真比重が１．３〜１．９であり、体積平均粒径が８０〜３００ｎｍであることを特徴とする。真比重を１．９以下に制御することにより、着色粒子からの剥がれを抑制することができる。また、真比重を１．３以上に制御することにより、凝集分散を抑制することができる。好ましくは、本発明における単分散球形シリカの真比重は、１．４〜１．８である。
【００２６】前記単分散球形シリカの体積平均粒径が８０ｎｍ未満であると、非静電的付着力低減に有効に働かなくなり易い。特に、現像機内のストレスにより、着色粒子に埋没しやすくなり、現像、転写向上効果が著しく低減しやすい。一方、３００ｎｍを超えると、着色粒子から離脱しやすくなり、非静電的付着力低減に有効に働かないと同時に接触部材に移行しやすくなり、帯電阻害、画質欠陥等の二次障害を引き起こしやすくなる。好ましくは、本発明における単分散球形シリカの体積平均粒径は、１００〜２００ｎｍである。
【００２７】前記
単分散球形シリカは、単分散かつ球形であるため、着色粒子表面に均一に分散し、安定したスペーサー効果を得ることができる。本発明における単分散の定義としては、凝集体を含め平均粒径に対する標準偏差で議論することができ、標準偏差として体積平均粒径Ｄ
５０
×０．２２以下であることが好ましい。
【００２８】
一般的なフュームドシリカは
粒径的にも最大５０ｎｍが製造上から限界である。
凝集体として粒径を上げることはできるが、均一分散、安定したスペーサー効果が得られない。
【００２９】本発明における真比重１．３〜１．９、
体積平均粒径８０〜３００ｎｍの単分散球形シリカは、湿式法であるゾルゲル法により得ることができる。
　（エ）上記（ア）〜（ウ）から、引用例２には、次の発明が記載されているものと認められる。
　「少なくとも、結着樹脂、着色剤及び離型剤を含有する着色粒子と外添剤とを有する静電潜像現像用トナーであって、
　前記外添剤が、体積平均粒径が８０〜３００ｎｍである単分散球形シリカを含むものであり、
　単分散球形シリカは、単分散かつ球形であるため、着色粒子表面に均一に分散し、安定したスペーサー効果を得ることができ、
　単分散の定義としては、凝集体を含め平均粒径に対する標準偏差で議論することができ、標準偏差として体積平均粒径Ｄ５０×０．２２以下であることが好ましいものである、
　静電潜像現像様トナー。」　（以下、「引用発明２」という。）
　
　（オ）また、引用例２には、次の技術事項が記載されているものと認められる。
　「体積平均粒径８０〜３００ｎｍの単分散球形シリカは、湿式法であるゾルゲル法により得ることができるが、一般的なフュームドシリカは、粒径的にも最大５０ｎｍが製造上から限界であり、凝集体として粒径を上げることはできるが、均一分散、安定したスペーサー効果が得られないこと」
（２）周知技術を示す文献および周知技術
　ア　本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００３−２１５８３７号公報（以下「引用例３」という。）には、次の事項が記載されている。
　（ア）「【請求項１】　結合剤、着色剤および処理剤で表面処理されたゾルゲル金属酸化物粒子を含むトナー組成物。」
　（イ）「【０００９】ゾルゲルシリカは、従来の「ヒュームド」金属酸化物を用いては可能でなかった電子写真現像剤に追加の利点を付与することが発見された。ゾルゲルシリカは、テトラエトキシシランの制御された加水分解および縮合によって合成されたシリカである。ゾルゲルプロセスは、典型的には、沈殿した二酸化珪素製品の構造を制御するためにホモポリマー溶質が添加されたアルコール溶媒中で行われる。ゾルゲルプロセスにおいて用いられるアルコール溶媒の例には、メタノール、エタノールおよびブタノールが挙げられる。
【００１０】外部添加剤としてゾルゲルシリカで処理されたトナーの転写効率は、「ヒュームド」シリカで処理されたトナーより優れていることが実証された。
ゾルゲル金属酸化物の優秀性は、ゾルゲルプロセスによって生じた球状シリカ粒子によることが考えられる。この性能の相違が存在する理由に関する一つの理論は、粒子間の鎖の絡み合いが「ヒュームド」シリカ粒子の分岐構造のゆえに「ヒュームド」シリカ粒子に関して明らかであることである。しかし、球状ゾルゲルシリカ粒子は絡み合わない。
　イ　本願の優先日出願前に頒布された刊行物である、特開２００５−２４１９５１号公報（以下「引用例４」という。）には、次の事項が記載されている。
　（ア）「【請求項１】　静電荷による静電潜像を形成する像担持体と、像担持体に露光して潜像を形成する潜像形成手段と、像担持体表面の潜像にトナーを供給し可視像化する現像手段と、像担持体と接触しつつ表面移動する中間転写体を介して記録材上に転写させる転写手段と、転写後に像担持体表面に残留した転写残トナーを像担持体から回収するクリーニングブレードを有するクリーニング手段とを備える画像形成装置において、
　前記画像形成装置は、少なくとも９０〜３００ｎｍの無機酸化物を０．４wt％以上トナーに含有させ、
　トナーの初期の無機酸化物含有量に対して、像担持体から中間転写体に転写された後のトナーの無機酸化物含有量が７５〜９５％の範囲で転写させる
　ことを特徴とする画像形成装置。
・・・（略）・・・
【請求項３】
請求項１又は２に記載の画像形成装置において、
　前記トナーは、含有する無機酸化物が球形形状を有するシリカである
　ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３に記載の画像形成装置において、
　前記シリカは、ゾルゲル法によるシリカである
　ことを特徴とする画像形成装置。」
　（イ）「【００２１】
　本発明の９０〜３００ｎｍの無機酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マンガン、酸化亜鉛、酸化ストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、酸価バリウム、酸価セシウムなど、または他の無機酸化物が上げられる。またチタン酸ストロンチウムやチタン酸バリウムのような酸化物間化合物も使用できる。
　更に、このような酸化物の中でも酸化ケイ素が好ましい。酸化ケイ素の場合、色が白色でありカラートナーに使用でき、安全性が高い。
製法としては、２種類の製造方法が確立されており、不定形および球形を容易に作ることができる。不定形の場合には、四塩化ケイ素を気相中で燃焼する燃焼型シリカ、球形の場合では水相中で酸化ケイ素を析出させるゾルゲル法による酸化ケイ素の製造方法がある。
　無機酸化物は、トナー母体と感光体１や中間転写ベルト６ａとの間に入り、スペーサーとして働く。無機酸化物を球形にすることで、接触面積を減少させることができ、トナーの転写を良好にすることが出来る。」
　ウ　前記（１）イ（オ）に記載した引用例２の技術事項並びに上記引用例３及び引用例４の記載事項から、本願の優先日前に、
「トナーの外添剤として用いるシリカ粒子について、ゾルゲル法で製造されたシリカ粒子は、球形であり、フュームドシリカ（ヒュームドシリカ、燃焼型シリカも同義である。）に比べ凝集が少ないこと」が、周知（以下、「周知技術」という。）である。
（３）対比
　ア　本願補正発明と、引用発明１とを対比する。
　（ア）引用発明１の、「着色粒子」及び「静電荷現像用トナー」は、本願補正発明の「トナー粒子」及び「トナー組成物」に相当する。
　（イ）引用発明１の「シリカ粒子」及び「『酸化チタン粒子又は酸化チタン膜』の『被覆』」は、本願補正発明の「第１の金属酸化物からなるコア」及び「第２の金属酸化物からなるコーティング」に相当する。
　チタニアは酸化チタンであるから、引用発明１の「シリカ」及び「酸化チタン」は、本願補正発明の「シリカ、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化スズ、及び酸化セリウムよりなる群から独立に選択」された金属酸化物に相当する。
　したがって、引用発明１の「シリカ粒子の表面を酸化チタン粒子又は酸化チタン膜で被覆したシリカ内包酸化チタン粒子であって、酸化チタンの被覆状態はシリカ粒子の表面を全面均一に被覆することが好ましいが、部分的な被覆状態でもよいものであり、前記シリカ内包酸化チタン粒子が疎水化剤で表面処理されており、」は、本願補正発明の「『疎水性処理剤で表面処理された複合金属酸化物粒子であって、第１の金属酸化物からなるコア（ここで、コアは表面を有する）と、（ii）第２の金属酸化物からなるコーティングとを含む複合金属酸化物粒子』及び『コーティングは、コアの表面に接着しており、コーティングは、連続的又は非連続的であり、そして第２の金属酸化物は、第１の金属酸化物と同一であるかもしくは異なっており、前記第１及び第２の金属酸化物は、シリカ、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化スズ、及び酸化セリウムよりなる群から独立に選択され、但し、コーティングが連続的である場合に、第２の金属酸化物は第１の金属酸化物と同じではなく』」に相当する。
　（ウ）引用発明１において、シリカ内包酸化チタン粒子は、湿式法で作製されているから、その被覆は「水中で形成されたもの」である。
　（エ）引用発明１は、シリカ内包酸化チタン粒子の一次平均粒径が１１〜１２０ｎｍであり、具体的には、シリカ内包酸化チタン粒子３において、その一次粒子径が９５ｎｍであるから、「シリカ内包酸化チタン粒子」は、「３０ｎｍまたはそれ以上」の平均粒子径を有している。
　（オ）引用発明１のシリカ内包酸化チタン粒子は、その作成において、疎水化剤、具体的にはｎ−ブチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン又はデシルトリメトキシシランで表面処理した後、濾過、水洗、乾燥しているから、「単離された」粒子である。
　（カ）したがって、本願補正発明と引用発明１とは、
「　（ａ）トナー粒子、及び
　（ｂ）（ｉ）疎水性処理剤で表面処理された複合金属酸化物粒子であって、第１の金属酸化物からなるコア（ここで、コアは表面を有する）と、（ii）水中で形成されたものであって、第２の金属酸化物からなるコーティングとを含む複合金属酸化物粒子の混合物を含むトナー組成物であって、
　コーティングは、コアの表面に接着しており、コーティングは、連続的又は非連続的であり、そして第２の金属酸化物は、第１の金属酸化物と同一であるかもしくは異なっており、前記第１及び第２の金属酸化物は、シリカ、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化スズ、及び酸化セリウムよりなる群から独立に選択され、
　但し、コーティングが連続的である場合に、第２の金属酸化物は第１の金属酸化物と同じではなく、そして
　前記複合金属酸化物粒子は、単離された複合金属酸化物粒子であり、３０ｎｍ又はそれ以上の平均粒子径を有する、トナー組成物。」
である点で一致し、次の点で相違している。
相違点１：前記「コア」が、
　本願補正発明では、実質的に球形であり、凝集していないのに対し、
　引用発明１では、その形状及び凝集の有無が特定されていない点。
相違点２：前記「複合金属酸化物粒子」が、
　本願補正発明では、「１．５未満のσｇを有する」（σｇは幾何標準偏差）のに対し、
　引用発明１では、複合金属酸化物粒子のσｇが特定されていない点。
（４）検討
　上記相違点について検討する。
　ア　相違点１について
　（ア）シリカは乾式法または湿式法で合成されるものであるところ、湿式法であるゾルゲル法により球形のシリカ粒子を得る事ができ、また、該シリカ粒子が、乾式法で合成されたシリカ粒子であるフュームドシリカ（ヒュームドシリカ、燃焼型シリカ）に比べて、凝集が少ないことは、上記（２）ウに示したように、周知技術である。
　（イ）引用発明１では、シリカ内包酸化チタン粒子の核となるシリカ粒子として、具体的にはシリカゾルを用いており、上記周知技術を考慮すると、該シリカゾル中のシリカ粒子が球形であり、凝集していない蓋然性が高い。
　少なくとも、引用発明１のコアのシリカゾルとして、周知技術を採用し、シリカゾル中のシリカ粒子が実質的に球形であり、凝集していないものを用いることは、当業者が容易になし得たことである。
　（ウ）よって、相違点１は、実質的な相違点ではないか、少なくとも周知技術に基づいて、当業者が容易に想到し得たことである。
　イ　相違点２について
　（ア）引用発明１及び引用発明２は、いずれも長期にわたって安定な静電荷像現像用トナーを得ることをその課題としていおり（引用例１【０００８】、引用例２【００１５】）、その課題は共通している。したがって、引用発明１において、引用発明２を採用し、その外添剤を単分散かつ球形のものとすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　（イ）そして、粒径分布が「単分散」であるとは、粒径の幾何標準偏差が１．２以下程度であることを指すことが、技術常識であるから（例えば、特開２００１−１３１７３５号公報の【０１０２】の記載、特開２００３−２２５１０号公報の【００１７】の記載、特開２００５−５２６７６９号公報の【００５２】の記載、参照。）、引用発明２において標準偏差として体積平均粒径Ｄ５０×０．２２以下であることが好ましいとされた「単分散」のものの粒径の幾何標準偏差は、おおむね１．２以下であると推認できる。よって、前記（ア）で述べた、引用発明２を適用して外添剤を「単分散」とした引用発明１は、相違点２に係る構成であるσｇ（幾何標準偏差）＜１．５を満たすものであると認められる。
　また、仮に引用発明２の、標準偏差として体積平均粒径Ｄ５０×０．２２以下であることが好ましいとされた「単分散」のものの粒径の幾何標準偏差が必ずしも１．２以下になるとは限らないとした場合においても、そもそも引用発明１に引用発明２を適用する際に、どの程度単分散性の高い外添剤とするのかは、当業者が適宜決定できる設計事項にすぎず、かつ「幾何標準偏差が１．５より小さい」という条件は、従来「単分散」とされていないものをも許容する緩い条件でしかないから（前記技術常識を参照）、引用発明１において、外添剤の粒径の幾何標準偏差を１．５より小さいものとすることは、引用発明２に基づいて、当業者が容易に想到し得たことである。
　（ウ）よって、相違点２は、引用発明１および引用発明２に基づいて、当業者が容易に想到し得たことである。
　ウ　そして、本願補正発明の奏する効果は、引用発明１、引用発明２及び周知技術から、当業者が予測し得た範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。なお、本願の翻訳文等に具体的に記載された本願補正発明の奏する効果は、ＴｉＯ２で被覆したコロイドシリカの摩擦帯電測定のみであり、コアの形状や複合金属酸化物粒子のσｇの数値に対する効果を具体的に記載するものでない。
　エ　まとめ
　上記ア〜ウから、本願補正発明は、引用発明１、引用発明２及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
４　補正の却下の決定についてのむすび
　よって、本件補正は、特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するので、同法１５９条１項において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。
第３　本願発明について
１　本願発明
　上記「第２　補正の却下の決定」のとおり、本件補正は却下されたので、本願の請求項１〜２７に係る発明は、平成２６年１月９日に提出された手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜２７によって特定されるものであるところ、そのうち、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２の［理由］１（１）に本件補正前の請求項１として記載したとおりのものである。
２　引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由で引用された引用文献３及び引用文献６の記載事項、及び周知技術は、上記第２の［理由］３（１）及び（２）に記載したとおりである。
３　対比・判断
　本願補正発明は、上記第２［理由］２のとおり、「複合金属酸化物粒子」について発明特定事項を限定したものである。
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに限定を付加したものに相当する本願補正発明が、上記第２［理由］３のとおり、引用発明１、引用発明２及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明１、引用発明２及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法２９条２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、本願は、他の請求項について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。