【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周囲の光子を有する６００℃を超える高温環境における使用のための熱光起電性パネル組立体であって、
有効エネルギー波長スペクトルを有する平坦な光起電性要素であって、前記平坦な光起電性要素は、前記平坦な光起電性要素の前記有効エネルギー波長スペクトル内の光子を電気に変換し、前記周囲の光子の第１の部分が、前記有効エネルギー波長スペクトル内にあり、前記周囲の光子の第２の部分が、前記有効エネルギー波長スペクトル内にない、平坦な光起電性要素と、
平坦な透過性のエミッタ要素を有するエミッタ組立体であって、前記平坦な透過性のエミッタ要素は、前記平坦な光起電性要素からギャップによって分離され、前記平坦な透過性のエミッタ要素は、前記有効エネルギー波長スペクトル内の前記周囲の光子の第１の部分が前記高温環境からそれを通って電気に変換するための前記平坦な光起電性要素まで通過することを可能にする遷移を有し、前記平坦な透過性のエミッタ要素は、前記有効エネルギー波長スペクトル内の放射された光子を電気に変換するための前記平坦な光起電性要素に放出する前記平坦な透過性のエミッタ要素を加熱するために、前記有効エネルギー波長スペクトル外の前記周囲の光子の第２の部分を吸収する、エミッタ組立体と
を備える熱光起電性パネル組立体。
【請求項２】
内部を画定する内面を有するハウジングと、
前記内部にあるヒートシンクと、
エミッタ組立体からギャップによって分離された要素組立体を含む前記ヒートシンクに結合された少なくとも１つのモジュールと
を備えるパネル組立体であって、
前記ハウジングがエネルギーを吸収することによって前記エミッタ組立体にエネルギーを放射し、前記エミッタ組立体がエネルギーを吸収し、前記ギャップを越えてエネルギーを放出して前記要素組立体によって電気に変換するように、前記少なくとも１つのモジュールと前記内面とがその間に空間を画定する、パネル組立体。
【請求項３】
前記ヒートシンクが前記ハウジング内に片持ち支持され、前記要素組立体が熱光起電性要素組立体である、請求項２に記載のパネル組立体。
【請求項４】
前記ヒートシンクは、前記ハウジングとの熱伝導を低減するために、少なくとも１つの断熱要素によって取り囲まれている、請求項２に記載のパネル組立体。
【請求項５】
前記エミッタ組立体は、前記ギャップを維持するための力を加える、請求項２に記載のパネル組立体。
【請求項６】
前記モジュールは、光起電性要素と、エミッタと、前記光起電性要素と前記ヒートシンクとの間のベース基板とを含み、
前記エミッタ組立体に隣接して配置され、前記ベース基板に結合された力印加層をさらに備える、請求項２に記載のパネル組立体。
【請求項７】
有効スペクトルの第１の光子を電気に変換するために前記有効スペクトルを有する光起電性要素と、
ギャップによって光起電性組立体から分離されたエミッタ組立体であって、前記有効スペクトル内の前記第１の光子がそこを通過することを可能にする、エミッタ組立体と
を備える熱光起電性組立体。
【請求項８】
前記エミッタ組立体は、前記ギャップの視覚的観察のために少なくとも部分的に透明であり、前記エミッタ組立体は、フッ化マグネシウム、石英、シリカ、サファイア、第１のコーティングを有する石英、第２のコーティングを有するシリカ、および第３のコーティングを有するサファイアで構成される群から選択される材料から作製される、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項９】
前記エミッタ組立体は断熱材料から作製される、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１０】
前記エミッタ組立体は、加熱されたときに前記有効スペクトル内の光子を放射する、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１１】
前記エミッタ組立体は、前記ギャップを維持するために前記エミッタ上に形成される複数のスペーサを含む、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１２】
前記エミッタ組立体は、各スペーサの周囲に熱分離トレンチを画定する、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１３】
吸収のために前記有効スペクトルの外側の第２の光子を前記エミッタに戻すように反射させるために、前記光起電性要素上に裏面反射体コーティングをさらに備える、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１４】
前記エミッタの側面に少なくとも１つの層をさらに備える、請求項７に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの層が、屈折率整合のためのものである、請求項１４に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１６】
ヒートシンクと、
前記ヒートシンク上に取り付けられた少なくとも１つの熱光起電性モジュールであって、
有効スペクトルの第１の光子を電気に変換するために前記有効スペクトルを備えた光起電性要素を有する光起電性組立体と、
ギャップによって前記光起電性組立体から分離されたエミッタ組立体であって、前記有効スペクトル内の前記第１の光子がそこを通過することを可能にする、エミッタ組立体と
を含む、熱光起電性モジュールと
を備える熱光起電性パネル組立体。
【請求項１７】
前記ヒートシンクは、前記少なくとも１つの熱光起電性モジュールに隣接する少なくとも１つの冷却ベイを画定し、前記少なくとも１つの冷却ベイは、入口マニホルドによって冷却流体源に結合され、各冷却ベイは入口を画定し、
スリーブであって、前記入口マニホルド内に挿入され、前記各冷却ベイを通る流れを前記ヒートシンク上の位置に従って変化させて冷却要件の局所的変動に対処するスリーブをさらに備える、
請求項１６に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１８】
前記熱光起電性モジュールの気密封止をさらに備える、請求項１６に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項１９】
前記気密封止は、前記熱光起電性モジュールの内部のみが真空下になるように真空を維持する、請求項１８に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２０】
前記気密封止は、前記エミッタ組立体と前記光起電性要素との間のギャップを維持する力を持続させる壁を含む、請求項１８に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２１】
有効スペクトルの第１の光子を電気に変換するために前記有効スペクトルを有する光起電性要素と、
ギャップによって光起電性組立体から分離されたエミッタ組立体であって、
第１の平坦な表面と、前記第１の表面に対向する第２の表面とを有し、前記第２の表面がギャップによって前記光起電性要素から分離されている基板と、
前記エミッタ組立体が前記第１の光子を前記光起電性要素に放射してそれによって吸収されるように、前記エミッタ組立体を加熱するために熱放射熱源から放出された第２の光子を吸収するために前記第２の表面上に堆積した光学的に不透明または高屈折率材料の薄層であって、前記第２の光子が前記有効スペクトルの外側にある、薄層と
を含む、エミッタ組立体と
を備える熱光起電性パネル組立体。
【請求項２２】
前記薄層が炭素である、請求項２１に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２３】
前記基板が、前記ギャップを設定するための複数のスペーサを形成する、請求項２１に
記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２４】
前記第２の光子は前記第１の光子とは異なり、前記エミッタ組立体は、前記有効スペクトルの前記第１の光子を通過させる、請求項２１に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２５】
前記基板は、シリカ、溶融シリカ、石英、および溶融石英から構成されるグループである、請求項２１に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２６】
前記光起電性要素に裏面反射層をさらに備える、請求項２１に記載の熱光起電性パネル組立体。
【請求項２７】
前記裏面反射層が金である、請求項２６に記載の熱光起電性パネル組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
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【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
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