【事件の表示】
　特願２０１０−２７００８５「有機発光装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　８月２５日出願公開、特開２０１１−１６５６５４、請求項の数（９）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　本件出願は，平成２２年１２月３日（パリ条約による優先権主張　平成２２年２月９日，韓国）の特許出願であって，平成２６年７月２２日付けで拒絶理由が通知され，同年１０月２９日に意見書及び手続補正書が提出されたが，同年１２月４日に拒絶査定（以下，「原査定」という。）がされ，これに対し，平成２７年４月９日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がされ，その後，当審において平成２８年２月１８日付けで拒絶理由（以下，「当審拒絶理由１」という。）が通知され，同年７月５日に意見書及び手続補正書が提出され，当審において同年８月４日付けで拒絶理由（以下，「当審拒絶理由２」という。）が通知され，同年９月７日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。
第２　本願発明
　本願の請求項１〜９に係る発明は，平成２８年９月７日になされた手続補正（以下，「本件補正」という。）によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜９に記載された事項により特定されるものと認められるところ，本願の請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は以下のとおりである。
「　シリコン酸化物膜とシリコンリッチシリコン窒化物膜とを有するバリヤ層と，
　前記バリヤ層の両面に樹脂層が設けられることで構成される有機電界発光部の基板と，
　前記樹脂層の面のうち，前記バリヤ層が設けられる面の反対側の面に設けられる有機電界発光部と，を備え，
　前記シリコンリッチシリコン窒化物膜は，ＳｉＮｘ（ここで，ｘは，１．１〜１．３である）を含み，前記樹脂層に接触することを特徴とする有機発光装置。」　
第３　原査定の理由について
　１　原査定の理由の概要
　原査定の理由は，概略，平成２６年１０月２９日に提出された手続補正書に記載の請求項１〜９に係る発明は，その優先権主張の日（以下，「優先日」という。）前に日本国内又は外国において，頒布された下記の引用例１〜５に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて，その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
　
　　　　　　　　　　　　　　　記
引用例１：特表２００５−５１２２９９号公報
引用例２：特開２００９−３２４６４号公報
引用例３：特開２００９−１８５６９号公報
引用例４：特開２００４−２９２８７７号公報
引用例５：特開平４−２９８７２２号公報　
　　
　２　原査定の理由についての当審の判断
　(1)　引用例１の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１には，次の記載がある。
　ア　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，ディスプレイ装置に最適な密封構造，及び該装置の密封方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　ディスプレイ装置は，図示表示及び画像技術において周知である。そのような装置の例は，デジタル印刷での適用と同様に，有機発光装置（ＯＬＥＤ），ポリマー発光装置（ＰＬＥＤ），並びにＴＶ及び図示表示において実用されている液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）である。
【０００３】
　それらの装置のほとんどは，酸素及び湿気などに対して感受性であり，その結果，大気に触れると劣化する。特に光の存在下での酸素及び／又は湿気に対する接触は，使用されるポリマー物質の光の酸化による劣化を導くかもしれない。さらに，陰極／ポリマーインターフェースでの酸化は，ＯＬＥＤ又はＰＬＥＤのような装置での酸素及び／又は湿気の拡散で生じる第１の問題のうちの１つである。そのような反応は，装置の発光特性の性能を相当に削減するであろう。さらに，ディスプレイ装置で使用される他の物質はまた，空気と触れる場合に劣化し，例えば，酸化によって悪影響を受けるかもしれない。」
　イ　「【０００５】
　低温技術で装置をカプセル化することによる密封構造を備える発光装置がある（例えば，特許文献１）。この密封構造は，アルミニウムなどの非反応性物質と，最外層などの無機の耐火性物質の薄膜とを有する。この構造は，装置の物質が酸素及び／又は湿気と反応することを防ぐ。しかしながら，この密封構造は，一般的に金属フィルムである非反応性物質に関して問題を有する。金属フィルムは，装置の電極と金属フィルムとの間で電子の短絡の危険性を高めるコンダクタである。さらに，密封構造の金属フィルムは，電極物質の構成に関する別の問題を課す。時々，密封構造で覆われるべきネガティブスロープをさらに有する，ある種類の構成を有することが必要である。しかしながら，金属はそのようなスロープに対して通常は沈着せず，したがって，部分的に閉じた表面を残す。代わって，これは，酸素及び／又は湿気が装置に入り込むことを可能にするかもしれない。
【特許文献１】国際公開第００／０８８９９号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　したがって，本発明の目的は，上述した従来技術の問題を克服するカプセル化を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
　上述及び他の目的は，第一誘電物質の第一層と第二誘電物質の第二層とを有することを特徴とする密封構造によって達成される。この構造において，短絡は発生しない。さらに，不必要な金属蓋は生産費を削減する。さらに，誘電物質の少なくとも２層を使用することによって，ピンホールを有しない密封構造が得られ，さらに均一な構成はディスプレイ装置の全表面におけるネガティブスロープを有する。
・・・（中略）・・・
【０００９】
　本発明の好ましい実施態様と一致して，第一及び第三の誘電物質は同一であり，好ましくは窒化ケイ素である。第二誘電物質は，酸化ケイ素，オキシ窒化ケイ素，酸化フッ化ケイ素，酸化チタン，酸化タンタル，酸化ジルコニウム，酸化ハフニウム，酸化アルミニウム，あるいは前述の列記したものの混合物から選択される。」
　ウ　「【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
　
本発明はＯＬＥＤ
などのディスプレイ装置に適する密封構造に関する
【００１８】
　図１は，本発明による密封構造を有するＰＬＥＤディスプレイ装置を示す。装置１は，陽極２と，陰極３と，陽極２と陰極３との間に置かれた発光層４とを有する発光ユニットの層状構造である。
【図１】
・・・（中略）・・・
【００２０】
　
酸素及び／又は湿気に対する拡散防止として機能する密封構造
【００２１】
　本発明のこの実施態様において，
密封構造６は，好ましくは透明物質である誘電物質の３層７，８，９を有する
【００２２】
　
層７は，好ましくは，装置１のほとんどのエリアを閉じ，わずか少数のピンホールを開けたままの窒化ケイ素を有する
酸化物を有する層８を沈着する
層９は層８上に沈着し，窒化ケイ素を有する
【００２３】
　広範囲の酸化物は，
酸化層８
酸化ケイ素が好ましい
　エ　「【００２６】
　図２は本発明の別の実施態様を示す。この実施態様において，
ディスプレイ装置１は柔軟なプラスチック基板５と，上記のような誘電物質の少なくとも一つの密封構造６とを有する。酸素及び／又は湿気が柔軟な基板５を通過するかもしれないので，本発明による密封構造６は，基板５と発光ユニット１との間に置かれる
【図２】
」
　オ　前記ア〜エから，引用例１には，「別の実施形態」として，以下の発明が記載されているものと認められる（特に，前記エを参照されたい。以下，「引用発明」という。）。なお，段落番号は，引用発明の認定に活用した引用例１の記載箇所を示すために併記したものである。
「【００２６】プラスチック基板と，発光ユニットの間に置かれた密封構造を有し，
【００２１】密封構造は，誘電物質の３層７，８，９からなり，
【００２２】層７は窒化ケイ素を有し，層７上に酸化物を有する層８が沈着され，層８上に窒化ケイ素を有する層９が沈着され，
【００２３】前記層８は，酸化ケイ素である，
【００１７】ＯＬＥＤ。」
　(2) 引用例２の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例２には，次の記載がある。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　少なくとも基板，１対の電極および有機エレクトロルミネッセンス層を有し；
　当該基板が液晶ポリマーフィルムよりなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
　基板の少なくとも片面にガスバリア層を有する請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。」
　イ　「【００３８】
　ガスバリア層は基板の片面または両面に形成することができる。
ガスバリア層を片面に設ける場合，通常は後述する電極層と反対側にガスバリア層を形成する
　(3) 引用例３の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例３には，次の記載がある。
　ア　「【０００１】
  本発明は，ガスバリア性に優れたフィルムおよびこれを用いた有機デバイスに関するものであり，特に各種の有機デバイスの基板や被覆フィルムに好適な積層型のガスバリアフィルムに関する。さらには，前記ガスバリアフィルムを用いた，耐久性およびフレキシブル性に優れた有機デバイス，特に有機ＥＬ素子に関するものである。」
　イ　「【００２１】
　本発明において，ガスバリア性と高透明性とを両立させるには前記無機層として，珪素酸化物や珪素窒化物または珪素酸化窒化物を用いるのが好ましい。前記無機層として珪素酸化物であるＳｉＯｘを用いる場合，良好なガスバリア性と高い光線透過率とを両立させるためには１．６＜ｘ＜１．９であることが望ましい。前記
無機層として珪素窒化物であるＳｉＮｙを用いる場合は，１．２＜ｙ＜１．３であることが好ましい
　(4) 引用例４の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例４には，次の記載がある。
　ア　「【０００１】
【発明の属する技術分野】
　本発明は，半導体デバイスや有機ＥＬデバイス等の封止膜やバリアフィルムに用いられる窒化シリコン膜及びその製造方法に関するものであり，低温で高速成膜され優れたバリア性を有する新規な窒化シリコン膜及びその製造方法に関する。さらには，かかる窒化シリコン膜を水蒸気や酸素に対するバリア膜として用いたガスバリアフィルムに関する。」
　イ　「【００１６】
　通常，シリコンリッチの窒化シリコン膜は屈折率２以上であり，光透過性と相反し，両立し得ない。例えばより低い温度で堆積し，全体的に密度を下げて疎な膜とすれば，屈折率を下げることができるが，粉状になりやすく，バリア性が低下するという欠点ある。
本発明では，膜組成を適正なものとし，具体的には組成をＳｉＮｘと表したときに１．０５≦ｘ≦１．３３とし，窒化シリコン膜中に積極的にＮＨ基を導入することで屈折率を１．８〜１．９６に調整し，シリコンリッチの膜においても着色せず透明な膜とし，なおかつ高いバリア性をも確保している
　(5) 引用例５の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例５には，次の記載がある。
　ア　「【０００１】
【技術分野】本発明は，薄膜積層デバイスに関し，詳しくは，ＯＡ機器用やＴＶ用などのフラットパネルディスプレイなどに好適に使用しうる
スイッチング素子に関する
【０００２】
【従来技術】ＯＡ機器端末機や液晶ＴＶには大面積液晶パネルの使用の要望が強く，そのため，アクティブマトリクス方式では各画素ごとにスイッチをもうけ，電圧を保持するように工夫されている（特開昭６１−２６０２１９，特開昭６２−６２３３３号）。また近年，液晶パネルの軽量化，低コスト化が盛んに行われており，スイッチイング素子の基板にプラスチックを用いることが検討されている（特開平１−４７７６９号）。しかし，
プラスチック上に，薄膜積層スイッチング素子を形成するとプラスチック基板の変形やカールを生じ，膜はがれ等の問題があった
【０００３】
【目的】本発明は前記従来の課題を解決し，
軽量，低コスト，膜はがれ，基板カール等の無い薄膜積層デバイスを提供することを目的としている
　イ　「【０００５】プラスチック基板へのＳｉＮｘ薄膜の形成はその上に作製する薄膜積層デバイスの剥がれなどの問題を解決するために重要である。プラスチック基板だけでは，上部に堆積する薄膜の内部応力に応じたカールが発生し，ハンドリングなどに問題を生じる。これを回避する為プラスチック基板に適切な諸条件で製膜されたバッファ層を形成することが必要である。本発明の薄膜積層デバイスを作製するためには，まずポリエチレンテルフタレート（ＰＥＴ），ポリアリレート，ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ），ポリカーボネート，ポリエチレン，ポリメチルメタクリレート，ポリイミドなどのプラスチック基板の少なくとも片面にＳｉＮｘ（ｘは０．５〜１．２）をスパッタ法，蒸着法，プラズマＣＶＤ法等により形成する。この物質からなる薄膜，即ちＳｉＮｘ（ｘは０．５〜１．２）の薄膜は，本発明者等の研究の結果プラスチック基板との密着性に優れ，かつ透浸度の低い物質であることが分かった。この物質は酸化物系に比ベて透浸度が低く，かつ製膜条件（ＣＶＤ使用時のｒｆパワー）を変えることによりエッチングレートが小さく緻密性に富んでいる膜が作れる。また，ＳｉＮｘ内部応力のｒｆパワー依存性を示す図４で解るように，ｒｆパワー値を２５０から３００Ｗ間で振ることにより応力値を伸びの方向（図５の上向の矢印）から収縮の方向（図５の下向の矢印）に任意な値で設定できるという利点がある。このような利点を充分活用するには，図９に示すように製膜条件を変えて膜組成を変化させることにより，カールを抑える方向に作用する応力分布をもたせることがのぞましい。この膜は，蒸着，スパタリング，ＣＶＤ等の方法で形成される。前述のように
ＳｉＮｘにおけるｘが０．５〜１．２の範囲の領域ではＳｉＮｘ層の密度が高く，したがってち密性に富み高いパッシベーション効果が期待できる。さらに，内部応力を任意にふれることによるＳｉＮｘ層の上部に設けられるデバイス層の作製条件の変更等によるデバイス層内部応力の変化に対応できる。
　(6) 対比
　ア　引用発明の「プラスチック基板」は，本願発明の「樹脂層」に相当する。また，引用発明は「ＯＬＥＤ」，すなわち有機発光ダイオードであるから，引用発明の「発光層ユニット」は，本願発明の「有機電界発光部」に相当する。
　イ　引用発明の「層８」は「酸化ケイ素」であるから，本願発明の「シリコン酸化物膜」に相当する。さらに，引用発明の「層７」及び「層９」はいずれも「窒化ケイ素を有」するのであるから，本願発明の「シリコンリッチシリコン窒化物膜」と，「シリコン窒化物膜」である点で一致している。そして，引用発明の「層７」，「層８」及び「層９」からなる「密封構造」は，「酸素及び／又は湿気に対する拡散防止として機能」するのであるから（段落【００３０】を参照されたい），本願発明の「バリヤ層」とは，「シリコン酸化物膜とシリコン窒化物膜とを有するバリヤ層」である点で一致している。
　ウ　引用発明は，「プラスチック基板と，発光ユニットの間に置かれた密封構造を有」する，すなわち，「プラスチック基板」，「密封構造」及び「発光ユニット」がこの順で配置されているのであるから，引用発明の「プラスチック基板」及び「密封構造」は，合わせて本願発明の「有機電界発光部の基板」に対応するものと認められる。してみれば，引用発明と本願発明とは，「バリヤ層」の少なくとも一方の面に「樹脂層が設けられることで構成される有機電界発光部の基板」を備える点で一致している。
　エ　前記ア〜ウから，本願発明と引用発明とは，
「　シリコン酸化物膜とシリコン窒化物膜とを有するバリヤ層と，
　前記バリヤ層の少なくとも一方の面に樹脂層が設けられることで構成される有機電界発光部の基板と，有機電界発光部と，を備える，
有機発光装置。」
　である点で一致し，次の点で相違する。
相違点１：本願発明は，有機電界発光部が「樹脂層の面のうち，前記バリヤ層が設けられる面の反対側の面に設けられる」のに対し，引用発明は，発光ユニットが「密封構造」に設けられ，「樹脂層の面のうち，前記バリヤ層が設けられる面の反対側の面に設けられる」ものではない点。また，本願発明は，有機電界発光部の基板が「前記バリヤ層の両面に前記樹脂層が設けられることで構成」されるのに対し，引用発明は，バリア層のうち発光ユニットが設けられていない面にのみ樹脂層が形成されている点。
相違点２：シリコン窒化物膜は，本願発明では，「シリコンリッチ窒化膜」であって，ＳｉＮｘ（ここで，ｘは，１．１〜１．３である）を含むのに対し，引用発明は，ＳｉとＮの組成比，すなわち「ＳｉＮｘ」の「ｘ」が明らかとされていない点。
　(7)　判断
　事案に鑑み，前記相違点１について判断する。
　ア　前記(2)イで示したように，引用例２には，「ガスバリア層は基板の片面または両面に形成することができる。
ガスバリア層を片面に設ける場合，通常は後述する電極層と反対側にガスバリア層を形成する
　しかし，引用例１の段落【００２６】には，「ディスプレイ装置１は柔軟なプラスチック基板５と，上記のような誘電物質の少なくとも一つの密封構造６とを有する。
酸素及び／又は湿気が柔軟な基板５を通過するかもしれないので，本発明による密封構造６は，基板５と発光ユニット１との間に置かれる
　してみれば，相違点１に係る構成を具備する本願発明は，引用発明及び引用例２に記載された事項に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
　イ　前記アのとおり，相違点２について検討するまでもなく，相違点１に係る構成を具備する本願発明は，引用発明及び引用例２〜５に記載された事項に基づいて，当業者が容易に発明することができたとはいえない。　
　(8)　小括
　したがって，本願発明は，当業者が引用発明及び引用例２〜５に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　本願の請求項２〜９に係る発明は，本願発明をさらに限定したものであるので，本願発明と同様に，当業者が引用発明及び引用例２〜５に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　よって，原査定の理由によっては，本願を拒絶することはできない。
第４　当審拒絶理由について
　１　当審拒絶理由の概要
　(1) 特許法３６条６項２号（明確性要件）
　当審拒絶理由１は，概略，平成２８年７月５日付けの手続補正（以下，「手続補正１」という。）前の請求項１は，「有機発光装置」という物の発明であったところ，「シリコンリッチシリコン窒化膜は・・・水素ガス以外の原料を用いて製造されること」との記載があり，当該記載は，製造に関して技術的な特徴や条件が付された記載がある場合に該当するため，当該請求項にはその物の製造方法が記載されているといえ，当該記載により，請求項１に係る発明は明確でないものとなっている，というものである。
　(2) 特許法１７条の２第３項（新規事項の追加）
　当審拒絶理由１は，概略，平成２７年４月９日付けの手続補正により，請求項１には，「前記バリヤ層及び樹脂層は，前記有機電界発光部の基板を構成し」との事項が加えられたところ，当該事項は，本件出願の出願当初明細書の発明の詳細な説明に記載も示唆もされていない，というものである。
　(3) 特許法３６条６項１号（サポート要件）
　当審拒絶理由１は，概略，手続補正１前の請求項１には，「前記バリヤ層及び樹脂層は，前記有機電界発光部の基板を構成」することが記載されているところ，このような記載は発明の詳細な説明に記載されていないことから，請求項及び発明の詳細な説明に記載された用語が不統一となっており，その結果，両者の対応関係が不明瞭となっている，というものである。
　さらに，当審拒絶理由２は，概略，本件補正前の請求項１には，「前記有機電界発光部の基板は，前記基板のみで構成されるか，前記バリヤ層の両面に前記樹脂層が設けられることで構成され」と記載されているが，「有機電界発光部の基板」を「バリア層のみで構成」することについては，発明の詳細な説明においてサポートされているものと認められない，というものである。
　２　当審拒絶理由についての判断
　(1) 本件補正により補正された請求項１には，製造方法の記載は存在しない。よって，明確性要件に係る当審拒絶理由１は解消した。
　(2) 本件補正により，請求項１における有機電界発光部の基板は，本件出願の出願当初明細書の発明の詳細な説明に記載したものとなった。よって，新規事項の追加に係る当審拒絶理由１は解消した。同時に，サポート要件に係る当審拒絶理由１及び２も解消した。
　(3)　小括
　前記(1)及び(2)で検討したように，もはや，当審で通知した拒絶理由によって本願を拒絶することはできない。
第５　むすび
　以上のとおり，原査定の理由によっては，本願を拒絶することはできない。
　また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。