【手続補正書】
【提出日】令和2年7月27日(2020.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の堆積領域の複数の堆積部位に第１の材料を堆積させるためのシステムであって、前記複数の堆積部位が、第１の配置で配置され、前記基板が、前記堆積領域を含む第１の主面及び第２の主面を含み、
前記システムが、
前記第１の材料の第１の複数の気化原子を供給するための供給源であって、その第１の複数の気化原子の各々が、前記基板によって画定される第１の平面に対して垂直である第１の方向に対する伝搬角度によって特徴付けられる伝搬方向に沿って伝搬し、前記第１の複数の気化原子の伝播角度の範囲が、第１の角度範囲に及ぶ、供給源と、
前記第１の配置で配置された複数の貫通孔を含むシャドーマスクであって、前記貫通孔を含む第３の主面及び第４の主面を含むシャドーマスクと、
前記基板を保持するための第１のチャックであって、前記第１の主面に第１の引力を選択的に与えるように寸法決めされて配置されている第１のチャックと、
前記シャドーマスクを保持するための第２のチャックであって、前記材料が前記第２のチャックを介して前記貫通孔まで通過することを可能にする第１の開口部を囲むフレームを備え、前記シャドーマスクが前記第２のチャック内に保持されると、前記フレームが、前記第１の開口部を囲み、前記第３の主面と接触する装着面を含み、前記装着面が、前記第４の主面に横方向の張力を生じさせることによって前記シャドーマスクの重力によって生じる垂れ下がりを軽減するように構成される、第２のチャックと、
複数のチャネルを含み、前記供給源と前記シャドーマスクとの間にあるコリメータであって、その複数のチャネルの各々が、前記第１の角度範囲より小さい第２の角度範囲内の伝播角度を有する気化原子のみを通過させるように寸法決めされて配置されている、コリメータと、
前記シャドーマスクと前記基板とを位置合わせするために、前記第１のチャックと前記第２のチャックとの相対位置を制御するための位置決めシステムと、
を備えるシステム。
【請求項２】
前記フレームが円形である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記複数の堆積部位と前記複数の貫通孔とが共同で許容角度範囲を画定し、前記第２の角度範囲が、前記許容角度範囲以下である、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記複数のチャネルの各々が、８：１以上の縦横アスペクト比によって特徴づけられる、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記位置決めシステムが、前記基板と前記コリメータとの間に相対運動を与えるように動作可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記第１のチャック、第２のチャック及び位置決めシステムが共同で、前記基板とシャドーマスクとの間の間隔が０ミクロンより大きく約１０ミクロン以下であるように前記基板とシャドーマスクとの位置合わせを可能にする、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記装着面が、前記第１の開口部に近接する第１の縁部と前記第１の開口部の遠位側にある第２の縁部との間に延び、前記装着面と前記第１の縁部とが第１の平面内の一点で交わり、前記装着面と前記第２の縁部とが第２の平面内の一点で交わり、前記シャドーマスクと基板とが位置合わせされたとき、前記第１の平面が、前記第２の平面よりも基板に近い、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記第２のチャックが、前記第１の開口部内に支持格子をさらに含み、前記支持格子が、前記シャドーマスクの重力によって生じる垂れ下がりを軽減するように寸法決めされて配置されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記シャドーマスクが、
（ｉ）第１の厚さ、中央開口部及び前記第３の主面を有する操作基板、及び、
（ｉｉ）前記中央開口部上に懸架される膜であって、前記第４の主面を含む膜、
を備え、
前記装着面が、第１の平面を画定し、
各々が前記第１の厚さに等しい距離だけ前記第１の平面から分離される第２の平面に位置する第１の表面を有する複数の支持リブを前記支持格子が含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
基板の第１の配置で配置された複数の堆積部位に第１の材料を堆積させるための方法であって、前記基板が、第１の横方向の長さを有する第１の主面及び第２の主面を含み、前記第２の主面が、前記第１の領域を含み、
前記方法が、
複数の貫通孔を含むシャドーマスクを提供する段階であって、前記シャドーマスクが、前記複数の貫通孔を含む第３の主面及び第４の主面を有する段階と、
前記第１の主面に選択的に第１の引力を与える第１のチャックに前記基板を保持する段階と、
前記第３の主面に選択的に第２の引力を与える第２のチャックに前記シャドーマスクを保持する段階であって、前記第２のチャックが、前記第２のチャックを介して前記複数の貫通孔まで前記材料の気化原子の移動を可能にする第１の開口部を有するフレームを含み、前記シャドーマスクが前記第２のチャック内に保持されると、前記フレームが、前記第１の開口部を囲み、前記第３の主面と接触する装着面を有し、前記装着面が、前記第４の主面に横方向の張力を生じさせることによって前記シャドーマスクの重力によって生じる垂れ下がりを軽減するように構成される、段階と、
前記第２の主面と前記第４の主面とが１０ミクロン以下の距離だけ離れるように、前記基板と前記シャドーマスクとを位置決めする段階と、
供給源と前記シャドーマスクとの間に位置するコリメータで第１の複数の気化原子を受け取る段階であって、前記第１の複数の気化原子が、第１の範囲の伝播角度によって特徴付けられる、段階と、
前記コリメータを介して前記シャドーマスクまで第２の複数の気化原子を選択的に通過させる段階であって、前記第１の複数の気化原子が、前記第２の複数の気化原子を含み、前記第２の複数の気化原子が、前記第１の範囲の伝搬角度より狭い第２の範囲の伝搬角度によって特徴付けられる、段階と、
前記第２の複数の気化原子の少なくとも一部が、前記第２のチャック及び前記複数の貫通孔を通過して前記基板上に堆積することを可能にする段階と、
を含む、方法。
【請求項１１】
前記コリメータを複数のチャネルを含むように提供する段階をさらに含み、その複数のチャネルの各々が、前記第２の範囲の伝播角度を決定する縦横アスペクト比を有し、前記縦横アスペクト比が、許容可能な角度範囲に基づくものであり、前記許容可能な角度範囲が、前記基板と前記シャドーマスクとによって画定される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２の主面と前記第４の主面とが０ミクロンより大きく１０ミクロン以下の距離だけ離れるように、前記基板とシャドーマスクとが位置合わせされる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記装着面が、前記第１の開口部に近接する第１の縁部と前記第１の開口部の遠位側にある第２の縁部との間に延び、前記装着面と前記第１の縁部とが第１の平面内の一点で交わり、前記装着面と前記第２の縁部とが第２の平面内の一点で交わり、前記シャドーマスクと基板とが位置合わせされたとき、前記第１の平面が、前記第２の平面よりも基板に近くなるように、前記第２のチャックを提供する段階をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記貫通孔を含む前記シャドーマスクの領域に前記シャドーマスクを機械的に支持することによって、前記重力によって生じる垂れ下がりが軽減される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
（ｉ）第１の厚さ、中央開口部及び前記第３の主面を有する操作基板、及び、
（ｉｉ）前記中央開口部上に懸架される膜であって、前記第４の主面を含む膜、
を含むように前記シャドーマスクを提供する段階と、
前記装着面が第１の平面を画定するように前記第２のチェックを提供する段階と、
各々が前記第１の厚さに等しい距離だけ前記第１の平面から分離される第２の平面に位置する第１の表面を有する複数の支持リブを前記支持格子が含むように、前記支持格子を提供する段階であって、前記支持リブが、前記貫通孔を含む前記シャドーマスクの領域に前記シャドーマスクを機械的に支持する、段階と、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。