【手続補正書】
【提出日】令和2年9月10日(2020.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明被加工物をレーザ加工するための方法であって、前記方法は：
前記透明被加工物内に輪郭線を形成するステップであって、前記輪郭線は、前記透明被加工物内の欠陥を含む、ステップ
を含み、前記輪郭線を形成する前記ステップは：
ビーム経路に沿ってｚ方向に配向され、ビーム源によって出力されたパルスレーザビームを、前記ビーム経路から径方向にオフセットして位置決めされた非球面光学素子を通して前記透明被加工物内へと向けることにより、前記パルスレーザビームの、前記透明被加工物内へと向けられた部分が、前記透明被加工物内で誘起吸収を生成するステップであって、前記誘起吸収は、前記透明被加工物内に欠陥を生成し、また前記パルスレーザビームの、前記透明被加工物内へと向けられた前記部分は：
波長λ；
前記ビームの強度が最大ビーム強度の１／ｅ２まで低下する、前記ビーム経路からのいずれかの方向の最短径方向距離として定義される有効スポットサイズＷｏ，ｅｆｆ；並びに
断面ｘ方向の最小レイリー範囲ＺＲｘ，ｍｉｎ及び断面ｙ方向の最小レイリー範囲ＺＲｙ，ｍｉｎを含む、非軸対称ビーム断面
を含む、ステップ
を含み、
ＺＲｘ，ｍｉｎ及びＺＲｙ，ｍｉｎのうちの小さい方は、
2019532004.tif 000001
より大きく、ここでＦＤは１０以上の値を有する無次元発散係数である、方法。
【請求項２】
前記透明被加工物及び前記パルスレーザビームを、前記輪郭線に沿って互いに対して並進移動させることにより、前記透明被加工物内に前記輪郭線に沿った複数の前記欠陥をレーザ形成するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記非球面光学素子は、屈折アキシコン、反射アキシコン、ワキシコン、ネガティブアキシコン、空間光変調器、回折光学系、又は立方体状の光学素子を備える、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記無次元発散係数ＦＤは、約５０〜約１５００の値を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記パルスレーザビームの、前記透明被加工物内へと向けられる前記部分の前記非軸対称ビーム断面は、スポットサイズパラメータｗ０，ｍａｘを有する長軸と、スポットサイズパラメータｗ０，ｍｉｎを有する短軸とを備え、
ｗ０，ｍａｘはｗ０，ｍｉｎより長く、ｗ０，ｍｉｎに対するｗ０，ｍａｘのアスペクト比は１．３より大きい、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
透明被加工物をレーザ加工するための方法であって、前記方法は：
前記透明被加工物内に輪郭線を形成するステップであって、前記輪郭線は、前記透明被加工物内の欠陥を含む、ステップ
を含み、前記輪郭線を形成する前記ステップは：
ビーム経路に沿ってｚ方向に配向され、ビーム源によって出力されたパルスレーザビームを、非球面光学素子を通して、かつ光学遮断素子を越えて（ここで前記非球面光学素子及び前記光学遮断素子はそれぞれ、前記ビーム源と前記透明被加工物との間に位置決めされる）、前記透明被加工物内へと向けることにより、前記パルスレーザビームの、前記透明被加工物内へと向けられた部分が、前記透明被加工物内で誘起吸収を生成するステップであって、前記誘起吸収は、前記透明被加工物内に欠陥を生成し、また前記パルスレーザビームの、前記透明被加工物内へと向けられた前記部分は：
波長λ；
前記ビームの強度が最大ビーム強度の１／ｅ２まで低下する、前記ビーム経路からのいずれかの方向の最短径方向距離として定義される有効スポットサイズＷｏ，ｅｆｆ；並びに
断面ｘ方向の最小レイリー範囲ＺＲｘ，ｍｉｎ及び断面ｙ方向の最小レイリー範囲ＺＲｙ，ｍｉｎを含む非軸対称断面
を含む、ステップ
を含み、
ＺＲｘ，ｍｉｎ及びＺＲｙ，ｍｉｎのうちの小さい方は、
2019532004.tif 000002
より大きく、ここでＦＤは１０以上の値を有する無次元発散係数である、方法。
【請求項７】
前記方法は、前記透明被加工物及び前記パルスレーザビームを、前記輪郭線に沿って互いに対して並進移動させることにより、前記透明被加工物内に前記輪郭線に沿った複数の前記欠陥をレーザ形成するステップを更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記無次元発散係数ＦＤは、約５０〜約１５００の値を有する、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
透明被加工物をレーザ加工するための方法は、前記透明被加工物内に輪郭線を形成するステップであって、前記輪郭線は、前記透明被加工物内の欠陥を含む、ステップを含み、
前記輪郭線を形成する前記ステップは：
ビーム経路に沿ってｚ方向に配向され、ビーム源によって出力されたパルスレーザビームを、非球面光学素子を通るように向けるステップ；
前記ビーム源と前記透明被加工物との間に位置決めされたデコヒーレント化用光学素子を用いて、前記パルスレーザビームの第１のビーム部分を前記パルスレーザビームの第２のビーム部分からデコヒーレント化させるステップ；並びに
前記パルスレーザビームの前記第１のビーム部分及び前記第２のビーム部分を前記透明被加工物内へと向けることにより、前記パルスレーザビームの、前記透明被加工物内へと向けられた前記第１のビーム部分及び前記第２のビーム部分が、前記透明被加工物内で誘起吸収を生成するステップであって、前記誘起吸収は、前記透明被加工物内に欠陥を生成し、また前記透明被加工物内へと向けられた前記第１のビーム部分及び前記第２のビーム部分の組み合わせは：
波長λ；
前記ビームの強度が最大ビーム強度の１／ｅ２まで低下する、前記ビーム経路からのいずれかの方向の最短径方向距離として定義される有効スポットサイズＷｏ，ｅｆｆ；並びに
断面ｘ方向の最小レイリー範囲ＺＲｘ，ｍｉｎ及び断面ｙ方向の最小レイリー範囲ＺＲｙ，ｍｉｎを含む非軸対称断面
を含み、ここでＺＲｘ，ｍｉｎ及びＺＲｙ，ｍｉｎのうちの小さい方は、
2019532004.tif 000003
より大きく、ここでＦＤは１０以上の値を有する無次元発散係数である、ステップ
を含む、方法。
【請求項１０】
前記透明被加工物及び前記パルスレーザビームを、前記輪郭線に沿って互いに対して並進移動させることにより、前記透明被加工物内に前記輪郭線に沿った複数の前記欠陥をレーザ形成するステップを更に含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記無次元発散係数ＦＤは、約１０〜約２０００の値を有する、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記デコヒーレント化用光学素子は光遅延プレートを備え、
前記第１のビーム部分を前記第２のビーム部分からデコヒーレント化する前記ステップは、前記パルスレーザビームの前記第１のビーム部分を、前記光遅延プレートを通るように向けることにより、前記第２のビーム部分に対する前記第１のビーム部分の光位相差を誘発するステップを含む、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１のビーム部分を前記第２のビーム部分からデコヒーレント化する前記ステップは：
前記パルスレーザビームの前記第１のビーム部分が前記透明被加工物において第１の偏光を備えるように、前記パルスレーザビームの前記第１のビーム部分を偏光させるステップ；及び
前記パルスレーザビームの前記第２のビーム部分が前記透明被加工物において第２の偏光を備えるように、前記パルスレーザビームの前記第２のビーム部分を偏光させるステップであって、前記第１の偏光は前記第２の偏光に対して垂直である、ステップ
を含む、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
７．上記無次元発散係数ＦＤは約１０〜約２０００の値を備え、好ましくは上記無次元発散係数ＦＤは約５０〜約１５００の値を備え、より好ましくは上記無次元発散係数ＦＤは約１００〜約１０００の値を備える、項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
８．上記欠陥は、中央欠陥領域と、上記透明被加工物内に向けられた上記パルスレーザビームの上記非軸対称ビーム断面の上記長軸に沿って上記中央欠陥領域から外向きに延在する少なくとも１つの径方向アームとを含む、項１〜７のいずれか１項に記載の方法。