【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月2日(2020.6.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの周波数を備える光波（１０７）を生成するレーザデバイス（１００）であって、このようなレーザデバイス（１００）は、
第１のミラー（１０３）により画定される１つの第１の端と出射領域により画定される第２の端との間に位置する利得領域（１０４）を備える第１の要素（１１１）と、
前記第１の要素（１１１）とは別体である第２のミラー（１０６）であって、前記利得領域（１０４）、および前記出射領域と前記第２のミラー（１０６）との間のギャップ（１０５）を含む光学キャビティを前記第１のミラー（１０３）とともに形成するように構成される、第２のミラー（１０６）と、
前記光波（１０７）を生成するように前記利得領域（１０４）を励起する手段（１２０）とを備える、レーザデバイス（１００）において、
前記レーザデバイス（１００）は、
前記光波（１０７）の少なくとも２つの横モードを選択するように構成される前記光波（１０７）の光強度を成形する手段であって、前記光強度を成形する前記手段は、少なくとも１つのマスクを備え、各マスクは、不均一な吸光度を持つ表面を用いてパターニングされ、前記表面は、少なくとも１つの吸収エリアおよび／または少なくとも１つの透過エリアを含む、手段と、
前記光波（１０７）の縦および／または横位相プロファイルを成形し、かつ前記光波（１０７）の少なくとも２つの横モードを調節するように構成される手段であって、前記位相プロファイルを成形する前記手段は、前記利得領域（１０４）の少なくとも１つの一端において位置し、かつ前記光波（１０７）の横位相および／または横強度を成形するためにパターニングされている少なくとも１つのフォトニック結晶および／または回折格子を備える、手段と
をさらに備えることを特徴とするレーザデバイス（１００）。
【請求項２】
各マスクは、ナノメートル厚の層である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記吸収エリアは、前記透過エリアの前記吸光度よりも少なくとも２倍大きい吸光度を提供する、請求項１または２に記載のデバイス。
【請求項４】
各マスクは、前記光学キャビティの内部で前記光波（１０７）の波腹値に位置する、請求項１から３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項５】
前記光波の位相プロファイルを成形するための前記手段は、前記光波（１０７）の前記少なくとも２つの横モード間の周波数差を調節するためにその横断面に沿って不均一な光波長を提供する分光フィルタを備える、請求項１から４のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記分光フィルタは、２次元マイクロエッチング網状物を備え、この２次元マイクロエッチング網状物の、直径および２次元の繰り返しパターンのような特徴的寸法は、前記少なくとも２つの横モード間の周波数差値を一定にすることを可能にする、前記光学キャビティ内で共振している各横モードの前記分光フィルタの前記光波長と、前記光学キャビティ内で共振している各横モードの位相シフトとの予め決められた横プロファイルを生成するために調節される、請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
前記分光フィルタは、さらに、制御可能な結晶液体画素マトリクスのような、前記分光フィルタの前記光波長の前記横プロファイルを動的制御するための手段を備える、請求項６に記載のデバイス。
【請求項８】
前記利得領域（１０４）を励起する前記手段（１２０）は、
ポンプレーザビーム（１１０）を発するポンプレーザ（１０８）と、
前記ポンプレーザビーム（１１０）の強度を空間的に成形するように構成される手段と、
前記ポンプレーザビーム（１１０）の強度を空間的に成形し、かつ前記光波（１０７）の前記少なくとも２つの選択された横モードに対応する前記第１の要素（１１１）の前記出射領域にポンプビーム強度パターンを投影するように構成される手段と
を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記第２のミラー（１０６）は、凹面鏡または位相共役ミラーである、請求項１から８のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記光学キャビティの長さを変更するように前記第２のミラー（１０６）を動かす調整手段をさらに備える請求項１から９のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記光波（１０７）の前記少なくとも２つのモードの周波数差を調整する手段をさらに備える請求項１から１０のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記デバイスのために、周波数差を調整する手段は、前記第１の要素（１１１）の横方向に向かって熱勾配を確立するよう構成される熱調整手段である、請求項１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
熱調整する前記手段は、下記の構成要素：
前記第１の要素（１１１）に横に取り付けられ、熱を伝導するか、散逸させるように構成される少なくとも１つの局所発熱要素、ならびに／または、
前記第１の要素（１１１）の前記出射領域および／もしくは空間的にフィルタリングする前記手段を加熱するためにポンプレーザ（１０８）パワーを変調する手段、ならびに／または、
前記光波（１０７）の伝播方向に対する前記横方向と交差する前記熱勾配を拡大かつ／もしくは最適化した、成形されたポンプレーザビーム（１１０）
のうちの１つを備える、請求項１２に記載のデバイス。
【請求項１４】
少なくとも２つの周波数を備える光波（１０７）を生成する方法であって、
利得領域（１０４）の内側で光波（１０７）を生成する工程と、
励起する手段（１２０）を用いて前記光波（１０７）を励起する工程と、
位相プロファイルを成形する手段が前記利得領域（１０４）の少なくとも１つの一端において位置されておりかつ前記光波（１０７）の横位相および／または横強度を成形するためにパターニングされている少なくとも１つのフォトニック結晶および／または回折格子を備えることによって、少なくとも２つの横モード光波（１０７）を選択するために前記光波（１０７）の光強度および／またはプロファイルを成形する工程と
のうちの少なくとも１つを備える方法。
【請求項１５】
前記光波（１０７）の前記少なくとも２つの横モードを選択する前記工程は、前記光波（１０７）の強度を空間的にフィルタリングすることに含まれる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記少なくとも２つの光波（１０７）周波数をシフトするために光学キャビティの長さを適合させる工程をさらに備える請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも２つのモード間の周波数差を調整する前記工程をさらに備える請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記選択された少なくとも２つのモードは、導波路に入射させられる、フォトミキシング技術を用いるＴＨｚ生成のための請求項１〜１３のいずれか１項に記載のレーザデバイス（１００）の利用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
好ましい実施形態では、光強度を成形する手段は、少なくとも１つのマスクを備えてもよく、各マスクは、不均一な吸光度を持つ表面を用いてパターニングされ、前記表面は、少なくとも１つの吸収エリアおよび／または少なくとも１つの透過エリアを含み、光波の位相プロファイルを成形する手段は、光波の少なくとも２つの横モードを調節するように構成され、少なくとも２つの横モードを選択するために、利得領域の少なくとも一端において位置し、かつ光波の横位相および／または横強度を成形するためにパターニングされている少なくとも１つのフォトニック結晶および／または回折格子を備える。