Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月10日(2020.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持構造物と、
前記支持構造物によって支持される第１のタービンシステムであって、前記第１のタービンシステムは質量中心を有し、前記第１のタービンシステムが回転中心のまわりを前記支持構造物に対して回転可能であるように、前記支持構造物に枢着される、第１のタービンシステムと
を有し、
前記第１のタービンシステムは、水流から発電するための第１の流水駆動可能なタービンを含み、前記第１のタービンは動作軸を有し、ローカルの水流が前記動作軸に合わせられるときに最適電力出力となるように設計され、
前記回転中心は、前記タービンの前記動作軸に平行方向で前記第１のタービンシステムの前記質量中心から離れて間隔を置かれる、
タービンアセンブリ。
【請求項２】
支持構造物と、
前記支持構造物によって支持される第１のタービンシステムであって、前記支持構造物に対して回転可能である第１のタービンシステムと
を有し、
前記第１のタービンシステムは、水流から発電するための第１の流水駆動可能なタービンを含み、前記第１のタービンは動作軸を有し、ローカルの水流が前記動作軸に合わせられるときに最適電力出力となるように設計され、
前記第１のタービンシステムは、ローカルの水流に応答して前記支持構造物に対して水平軸のまわりを回転するように取り付けられ、その結果それが前記第１のタービンの前記動作軸をローカルの水流の前記方向とのアライメントの方へ向かわせる、
タービンアセンブリ。
【請求項３】
前記第１のタービンシステムは質量中心を有し、前記第１のタービンシステムが回転中心のまわりを回転可能であるように、前記支持構造物に枢着され、
前記回転中心は、前記タービンの前記動作軸に平行方向で前記第１のタービンシステムの前記質量中心から離れて間隔を置かれる、
請求項２に記載のタービンアセンブリ。
【請求項４】
前記タービンアセンブリは潜水型である、請求項１〜３のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項５】
前記タービンアセンブリは水の本体の表面での動作のために構成される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のタービンアセンブリ。
【請求項６】
前記第１のタービンシステムは、前記第１のタービンシステムが直結している前記支持構造物の部分とは独立して回転可能である、請求項１〜５のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項７】
前記第１のタービンシステムは、水流から発電するための第２の流水駆動可能なタービンを含み、前記第２のタービンは動作軸を有し、ローカルの水流が前記動作軸に合わせられるときに最適電力出力となるように設計され、
前記第１および第２の前記動作軸は互いに平行である、
請求項１〜６のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項８】
前記第１のタービンシステムは、前記第１のタービンおよび前記第２のタービンを接続する梁を含む、請求項７に記載のタービンアセンブリ。
【請求項９】
前記第１のタービンは前記梁の１つの表面に載置され、前記第２のタービンは前記梁の第２の、対向する表面に載置される、請求項８に記載のアセンブリ。
【請求項１０】
前記梁は方向によって変化する抵抗係数を有する流体力学的弁を含み、そして前記タービンは、前記流体力学的弁の前記抵抗係数が最小である方向にそれらの動作軸が合わせられるように前記流体力学的弁に載置される、請求項８または９に記載のタービンアセンブリ。
【請求項１１】
各タービンは流体力学的抵抗を減らすための整流板を有する、請求項１〜１０のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項１２】
各タービンは、方向によって変化し、前記タービンの前記動作軸に合わせられる方向において最も低い抵抗係数を有する整流板を有する、請求項１〜１１のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項１３】
前記支持構造物はプラットフォームを含み、前記第１のタービンシステムは、前記第１のタービンシステムが前記プラットフォームの平面とほぼ平行して軸まわりに回転することができる支持体によって、前記プラットフォームから離れて間隔を置かれる、請求項１〜１２のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項１４】
前記第１のタービンシステムは前記プラットフォームより上で支持される、請求項１３に記載のタービンアセンブリ。
【請求項１５】
前記第１のタービンシステムは、前記タービン羽根が前記プラットフォームから離れて回転するように、ローカルの水流の変化に応答して回転するように配置される、請求項１３または１４に記載のアセンブリ。
【請求項１６】
前記第１のタービンシステムを回転させるためのアクチュエータをさらに含む、請求項１〜１５のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項１７】
前記第１のタービンシステムの回転に抵抗するための制動装置をさらに含む、請求項１〜１６のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項１８】
前記支持構造物によって支持される第２のタービンシステムをさらに含み、前記第２のタービンシステムは質量中心を有し、前記第２のタービンシステムが回転中心のまわりで前記支持構造物に対して回転可能であるように、前記支持構造物に枢着されており、
前記第２のタービンシステムは、前記第１のタービンシステムと同じ設計であり、同じ方法で前記支持構造物に接続している、
請求項１〜１７のいずれかに記載のタービンアセンブリ。
【請求項１９】
前記アセンブリは、水において確実に浮揚可能で、前記アセンブリが浮動平衡の状態において保たれるように水床に係留される、請求項１〜１８のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項２０】
前記アセンブリは、水中で可変的に浮揚可能である、請求項１〜１９のいずれかに記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（Ａ）  ４００から８，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内の質量平均モル質量（Ｍｗ）を有するポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、
（Ｂ）  ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）、アクリル酸−マレイン酸コポリマー、ポリアスパラギン酸（ＰＡＳＡ）、ポリグルタミン酸（ＰＧＡ）、ポリビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリ（スチレンスルホン酸）、ポリカルボキシレートエーテル（ＰＣＥ）、ＰＥＧ−亜リン酸、およびこれらポリマーのコポリマー、からなる群から選択されるアニオン性ポリマー、ならびに
（Ｃ）  水、
を含むまたはそれらからなり、
ｐＨが７．０から１０．５の範囲内である
洗浄組成物を化学機械研磨後（ＣＭＰ後）の洗浄組成物として使用する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
ｉ）  前記アニオン性ポリマー（Ｂ）が、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）またはアクリル酸−マレイン酸コポリマー、好ましくは１０，０００ｇ／ｍｏｌまでの質量平均モル質量（Ｍｗ）を有するアクリル酸−マレイン酸コポリマーであり、
および／または
ｉｉ）  前記ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）が、６００から４，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内、好ましくは６００から２，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内、より好ましくは６００から１，５００ｇ／ｍｏｌの範囲内の質量平均モル質量（Ｍｗ）を有する、
請求項１または２に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記組成物が、すぐに使用できる化学機械研磨後（ＣＭＰ後）の洗浄組成物であって、
（Ａ）  組成物の総質量に対して０．００１ｗｔ％から０．１５ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．００１から０．１２５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．００１から０．０９ｗｔ％の範囲内にある、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）の総量
および
（Ｂ）  組成物の総質量に対して０．００１ｗｔ％から０．１５ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．００１から０．１２５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．００１から０．０９ｗｔ％の範囲内にある、１種または複数種のアニオン性ポリマーの総量
を含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記組成物が、化学機械研磨後（ＣＭＰ後）の洗浄組成物濃縮液であって、
（Ａ）  組成物の総質量に対して０．１ｗｔ％から７．５ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．１から５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．１から３ｗｔ％の範囲内にある、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）の総量
および
（Ｂ）  組成物の総質量に対して０．１ｗｔ％から７．５ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．１から５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．１から３ｗｔ％の範囲内にある、１種または複数種のアニオン性ポリマーの総量
を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月20日(2019.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）  ポリアクリルアミド、ポリヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ＰＨＥ（Ｍ）Ａ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、式（Ｉ）
【化１】
2019502802.tif 000001
（式中、Ｒ１が、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、またはｓｅｃ−ブチルであり、Ｒ２が、水素またはメチルであり、ｎが、整数である）のポリマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、１種または複数種の非イオン性ポリマー、
（Ｂ）  質量平均分子量（Ｍｗ）が１０，０００ｇ／ｍｏｌまでのポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）またはアクリル酸−マレイン酸コポリマー、ならびに
（Ｃ）  水
を含むまたはそれらからなり、
ｐＨが７．０から１０．５の範囲内である
化学機械研磨後（ＣＭＰ後）の洗浄組成物。
【請求項２】
ｐＨが７．５から１０の範囲内、好ましくは７．５から９．５の範囲内、より好ましくは７．５から９．０の範囲内、より好ましくは８．０から９．５の範囲内、より好ましくは８．０から９．０の範囲内である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記非イオン性ポリマー（Ａ）がポリプロピレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、およびポリエチレングリコール（ＰＥＧ）からなる群から選択され、
より好ましくは前記非イオン性ポリマー（Ａ）がポリエチレングリコール（ＰＥＧ）であり、
最も好ましくは、前記非イオン性ポリマー（Ａ）が４００から８，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内、より好ましくは６００から４，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内、より好ましくは６００から２，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内、より好ましくは６００から１，５００ｇ／ｍｏｌの範囲内の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリエチレングリコール（ＰＥＧ）である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリマー（Ｂ）が、質量平均分子量（Ｍｗ）が１０，０００ｇ／ｍｏｌまでのアクリル酸−マレイン酸コポリマーである、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
（Ｄ）  １種または２種以上の腐食抑制剤
をさらに含み、
前記腐食抑制剤の総量が、組成物の総質量に対して好ましくは０．００１ｗｔ％から３ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．００１ｗｔ％から１．５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．００１ｗｔ％から０．５ｗｔ％の範囲内、最も好ましくは０．００１ｗｔ％から０．１ｗｔ％の範囲内である、請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
１種、２種またはすべての腐食抑制剤（Ｄ）が、アセチルシステイン、Ｎ−アシル−サルコシン、好ましくはＮ−オレオイルサルコシンまたはＮ−ドデカノイル−Ｎ−メチルグリシン、アルキルスルホン酸、アルキル−アリールスルホン酸、好ましくはドデシルベンゼンスルホン酸、イソフタル酸、アルキルホスフェート、ポリアスパラギン酸、イミダゾールおよびその誘導体（好ましくはイミダゾール）、２００から２，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリエチレンイミン、トリアゾールの誘導体、好ましくはベンゾトリアゾール誘導体、より好ましくはベンゾトリアゾールおよび２，２’−（（（５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）メチル）イミノ）ビスエタノール、ならびにエチレンジアミンの誘導体、好ましくはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミンからなる群から選択される、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
（Ｅ）  １種または２種以上の消泡剤
をさらに含み、
好ましくは前記消泡剤の総量が、洗浄組成物の総質量に対して０．０１ｗｔ％から０．５ｗｔ％の範囲内であり、前記消泡剤（Ｅ）が、好ましくはＮ−オクチルピロリドン、脂肪酸のモノグリセリド、脂肪酸のジグリセリド、トリ−ｎ−ブチルホスフェート、トリ−イソ−ブチルホスフェート、メタノールおよび２個から１２個の炭素原子を有する一級、二級または三級アルコール、好ましくはヘキサノールからなる群から選択される、請求項１から６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
（Ｆ）  塩基
をさらに含み、前記塩基（Ｆ）が好ましくは水酸化カリウムである、請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記洗浄組成物のすべての成分が液相中に存在し、好ましくは前記洗浄組成物のすべての成分が同一の液相中に存在する、請求項１から８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
ａ）  基板、好ましくは金属含有基板、より好ましくはコバルトまたはコバルト合金を含有するまたはそれらからなる基板から残留物および汚染物質を除去する、
および／または
ｂ）  半導体デバイスを洗浄する、好ましくはコバルトまたはコバルト合金を含む半導体デバイスを洗浄するための請求項１から９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
すぐに使用できる化学機械研磨後（ＣＭＰ後）の洗浄組成物であり、
（Ａ）  組成物の総質量に対して０．００１から０．１５ｗｔ％、好ましくは０．００１から０．０９ｗｔ％の範囲内にある、１種または複数種の非イオン性ポリマーの総量、
および
（Ｂ）  組成物の総質量に対して０．００１から０．１５ｗｔ％、好ましくは０．００１から０．０９ｗｔ％の範囲内にある、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）およびアクリル酸−マレイン酸コポリマーの総量
を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
化学機械研磨後（ＣＭＰ後）の洗浄組成物濃縮液であって、
（Ａ）  組成物の総質量に対して０．１ｗｔ％から７．５ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．１から５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．１から３ｗｔ％の範囲内にある、１種または複数種の非イオン性ポリマーの総量
および
（Ｂ）  組成物の総質量に対して０．１ｗｔ％から７．５ｗｔ％の範囲内、好ましくは０．１から５ｗｔ％の範囲内、より好ましくは０．１から３ｗｔ％の範囲内にある、ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）およびアクリル酸−マレイン酸コポリマーの総量
を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の組成物を使用する方法であって、
コバルトの化学機械研磨後の洗浄剤として、
および／または
コバルトを含む基板を好ましくは化学機械研磨後に洗浄するために、
および／または
コバルトまたはコバルト合金を含む半導体基板の表面から残留物および汚染物質を除去するために
使用する方法。
【請求項１４】
半導体基板の表面を請求項１から１２のいずれか一項に記載の組成物に少なくとも１回接触させることによって、前記半導体基板の表面から残留物および汚染物質を除去する工程を含み、前記表面が好ましくはコバルトまたはコバルト合金を含む表面である、半導体基板から半導体デバイスを製造する方法。
【請求項１５】
化学機械研磨（ＣＭＰ）工程をさらに含み、好ましくは前記化学機械研磨（ＣＭＰ）後に残留物および汚染物質を除去する工程が実行される、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
好ましくは、二酸化ケイ素粉末は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、四塩化ケイ素、ならびにトリクロロシラン、またはこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される化合物から、例えば四塩化ケイ素およびオクタメチルシクロテトラシロキサンから、特に好ましくはオクタメチルシクロテトラシロキサンから、調製することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３４６】
本発明によれば、炉は、通路により互いにつながれた第１のチャンバとさらなるチャンバとを少なくとも有し、第１のチャンバとさらなるチャンバは、異なる温度を有し、第１のチャンバの温度は、さらなるチャンバの温度より低い。さらなるチャンバでは、ガラス溶融物が、二酸化ケイ素造粒体から形成される。このチャンバは、以下において溶融チャンバと呼ばれる。ダクトを介して溶融チャンバにつながれているが、溶融チャンバの上流にあるチャンバは、予熱加熱部とも呼ばれる。１つの例は、少なくとも１つの出口が溶融チャンバの入口と直接接続されているチャンバである。上記の配置は、独立した炉内に作製されてもよく、この場合、溶融チャンバは、溶融炉である。しかしながら、さらなる説明では、「溶融炉」という用語は、「溶融チャンバ」という用語と同義であると解されてよい。ゆえに、溶融炉に関して述べられることは、溶融チャンバにも当てはまると解されてよく、その逆もまた同様である。「予熱加熱部」という用語は、両方の場合に同じものを意味する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０６４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０６４１】
Ｉ．石英ガラス体の後処理
実施例Ｈ１−１で得られ、すでに延伸された石英ガラス体（１０００ｋｇ、表面積＝１１０ｍ２、直径＝１．６５ｃｍ、全長２１２０ｍ）を、切れ目をつけ、たたくことにより、２００ｃｍの長さを有する小片に切り分ける。鋸引きにより端面を後加工して、平坦な端面を得た。得られた石英ガラス体のバッチ（Ｎ−１）を、ＨＦ浴（Ｖ＝２ｍ３）中に３０分間浸漬することにより清浄化し、次いで完全脱塩水で洗った（石英ガラス体（Ｉ−１’）を得た）。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
好ましくは、二酸化ケイ素粉末は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、四塩化ケイ素、およびトリクロロシラン、またはこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される化合物から、例えば四塩化ケイ素およびオクタメチルシクロテトラシロキサンから、特に好ましくはオクタメチルシクロテトラシロキサンから、調製することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０６４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０６４９】
Ｊ．「使用済みの酸」（使用後のＨＦ浴）
実施例Ｉにおける浸漬浴内の液体（Ｖ＝２ｍ３）を、石英ガラス体（Ｎ−１‘）の処理直後に、さらなる処理なしに試験する。上記の処理のために用いる液体は、処理前および処理後に、表２０に示す特性により特徴付けられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2019502644.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
好ましくは、二酸化ケイ素粉末は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、四塩化ケイ素、ならびにトリクロロシラン、またはこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される化合物から、例えば四塩化ケイ素およびオクタメチルシクロテトラシロキサンから、特に好ましくはオクタメチルシクロテトラシロキサンから、調製することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３６０】
好ましくは、炉は、通路により互いにつながれた第１のチャンバとさらなるチャンバとを少なくとも有し、第１のチャンバとさらなるチャンバは、異なる温度を有し、第１のチャンバの温度は、さらなるチャンバの温度より低い。更なるチャンバの１つでは、ガラス溶融物が、二酸化ケイ素造粒体から形成される。このチャンバは、以下において溶融チャンバと呼ばれる。ダクトを介して溶融チャンバにつながれているが、溶融チャンバの上流にあるチャンバは、予熱加熱部とも呼ばれる。１つの例は、少なくとも１つの出口が溶融チャンバの入口と直接接続されているチャンバである。上記の配置は、独立した炉内に作製されてもよく、この場合、溶融チャンバは、溶融炉である。しかしながら、さらなる説明では、「溶融炉」という用語は、「溶融チャンバ」という用語と同一であると解されてよい。ゆえに、溶融炉に関して述べられることは、溶融チャンバにも当てはまると解されてよく、その逆もまた同様である。「予熱加熱部」という用語は、両方の場合に同じものを意味する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月10日(2019.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式Ｉａおよび／または式Ｉｂによって表される化合物。
【化１】
2019502699.tif 000001
［式中、
Ａは、長さが少なくとも炭素原子数４のアルキルであり、
Ｂは、ヒドロキシおよびアルコキシから選択され、
Ｄ、ＥおよびＧは、各々独立に、水素、ヒドロキシ、アルコキシおよびアルキルから選択され、ただし、（ｉ）Ｄ、ＥおよびＧのうち１つ以下が、前記アルキルであり、（ｉｉ）Ｄ、ＥおよびＧのうち２つ以下が、前記アルコキシであり、（ｉｉｉ）Ｄ、ＥおよびＧのうち２つが前記アルコキシであるとき、Ｄ、ＥおよびＧのいずれもが前記アルキルではなく、
Ｒ１は、水素およびアルキルから選択され、
Ｒ２〜Ｒ５の各々は独立に、水素、ヒドロキシ、ハロ、アルコキシ、チオアルコキシ、チオール、チオアルコキシおよびアミンから選択される。］
【請求項２】
Ｂがアルコキシである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｅがアルコキシである、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｄがアルコキシである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
Ｇがアルコキシまたは水素である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｄがアルキルである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
Ｇが水素である、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｄ、ＥおよびＧのうち１つがアルキルであり、前記アルキルが、長さが少なくとも炭素原子数４である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項９】
Ｅがヒドロキシである、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項１０】
ＤおよびＧのいずれか１つがアルコキシである、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
ＤおよびＧのいずれか１つがアルキルであり、前記アルキルの長さが少なくとも炭素原子数４である、請求項９または１０に記載の化合物。
【請求項１２】
ＤおよびＧのいずれか１つがアルコキシであり、且つＤおよびＧのいずれか１つがアルキルである、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１３】
下記式群から選ばれる式で表される、請求項１に記載の化合物。
【化２】
2019502699.tif 000002
【請求項１４】
患者の癌治療用である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１５】
患者におけるケモカインの生物活性の調節用および／またはケモカインの生物活性の調節によって治療可能な病態の治療用である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１６】
キナーゼの阻害用および／またはキナーゼ活性と関連する疾患もしくは障害の治療用である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１７】
炎症の治療用または非癌性過剰増殖性疾患の治療用である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１８】
細胞死の誘導用、細胞に対するアポトーシス誘導用、および／または癌細胞のＧ２Ｍ期での癌細胞成長の停止の誘導用である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月8日(2020.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密封された包装容器を製造するために包装材料をヒートシールするためのシール装置（１００）であって、
電磁石（１１２）を含む第１のジョー（１１０）と、
磁気要素（１２２）を含む第２のジョー（１２０）であって、前記包装材料を受け入れるように適合された間隙を形成するために前記第１のジョー（１１０）に対向して配置され、前記第１のジョー（１１０）および前記第２のジョー（１２０）は、前記電磁石（１１２）の作動時に互いに引き寄せられて前記間隙を閉鎖し、かつ前記第１のジョー（１１０）と前記第２のジョー（１２０）との間で前記包装材料を締め付ける、第２のジョー（１２０）とを含み、
前記第２のジョーは、ハウジング（２２４）と、前記磁気要素に接続されたシャフト（２２６）とを含み、前記シャフトは、前記ハウジングに対してバネで留められている、
シール装置（１００）。
【請求項２】
前記第２のジョー（１２０）の前記磁気要素（１２２）は、磁気ディスクによって構成される、請求項１に記載のシール装置（１００）。
【請求項３】
前記第１のジョー（１１０）は、前記第２のジョー（１２０）に対して移動可能である、請求項１または２に記載のシール装置（１００）。
【請求項４】
前記第２のジョー（１２０）は、前記第１のジョー（１１０）に対して移動可能である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシール装置（１００）。
【請求項５】
前記第１のジョー（１１０）または前記第２のジョー（１２０）は、前記包装材料と相互作用するコイル導体を有するインダクタ装置（１２４）を含む、請求項１〜４のいずれか一項にシール装置（１００）。
【請求項６】
前記電磁石（１１２）は、誘導性電力伝送を介してエネルギーが提供される、請求項１〜５のいずれか一項に記載のシール装置（１００）。
【請求項７】
前記インダクタ装置（１２４）は、誘導性電力伝送を介してエネルギーが提供される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のシール装置（１００）。
【請求項８】
前記磁気要素（１２２）は、前記第２のジョー（１２０）に球状に懸吊される、請求項１〜７のいずれか一項に記載のシール装置（１００）。
【請求項９】
前記第１のジョー（１１０）または前記第２のジョー（１２０）は、ヒンジ接続（１２８）を用いて回転可能に移動可能である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のシール装置（１００）。
【請求項１０】
前記第１のジョー（３１０）は、第１の電磁石（３１２）と第２の電磁石（３１６）とを含み、前記第２のジョー（３２０）は、第１の磁気要素（３２２）と第２の磁気要素（３３０）とを含み、前記第１の電磁石（３１２）は、前記第１の磁気要素（３２２）に対向して整列され、前記第２の電磁石（３１６）は、前記第２の磁気要素（３３０）に対向して整列される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のシール装置（３００）。
【請求項１１】
前記第１のジョー（４１０）は、第１の電磁石（４１２）と第１の磁気要素（４１６）とを含み、前記第２のジョー（４２０）は、第２の電磁石（４３０）と第２の磁気要素（４２２）とを含み、前記第１の電磁石（４１２）は、前記第２の磁気要素（４２２）に対向して整列され、前記第２の電磁石（４３０）は、前記第１の磁気要素（４１６）に対向して整列される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシール装置（４００）。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のシール装置（１００、３００、４００）を含む、包装容器に食品を充填するための充填機。
【請求項１３】
シール装置（１００）により、密封された包装容器を製造するために包装材料をヒートシールするための方法であって、前記シール装置（１００）は、電磁石（１１２）を含む第１のジョー（１１０）と、磁気要素（１２２）を含む第２のジョー（１２０）であって、前記包装材料を受け入れるように適合された間隙を形成するために前記第１のジョー（１１０）に対向して配置された第２のジョー（１２０）と、インダクタ装置（１２４）とを含み、前記第２のジョーは、ハウジング（２２４）と、前記磁気要素に接続されたシャフト（２２６）とを含み、前記シャフトは、前記ハウジングに対してバネで留められ、前記方法は、
前記第１のジョー（１１０）と前記第２のジョー（１２０）とが互いに引き寄せられて前記間隙を閉鎖し、かつ前記包装材料を締め付けるように、前記第１のジョー（１１０）の前記電磁石（１１２）を作動させるステップと、
前記インダクタ装置（１２４）を作動させて前記包装材料をシールするステップと、
前記インダクタ装置（１２４）を非導通状態にするステップと、
前記電磁石（１１２）を非導通状態にして、前記第１のジョー（１１０）と前記第２のジョー（１２０）とを互いから引き離すステップと
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2019502609.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月22日(2020.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面（２０）から上向きに突出する一つ以上の毛（１８）の房（１６）を担持するように適合された前記上面（２０）を有する基材（１４）を備える、房付きの曲面（１２）のための型板（１０）であって、前記基材（１４）は、前記上面（２０）が実質的に平坦となる展開された状態と前記上面が湾曲する窄められた状態との間で変形可能であるように成形されており、
前記基材（１４）が、径方向に延在する複数の突出部（２２）を備え、前記突出部（２２）のうちの少なくとも幾つかが、一つ以上の前記毛（１８）の房（１６）を担持するように適合され、前記基材（１４）が、前記各突出部（２２）の自由端が、前記基材（１４）が前記展開された状態にあるときには隣接する各自由端から隔離され、前記窄められた状態にあるときには隣接する各自由端に当接するように成形される、型板（１０）。
【請求項２】
前記基材（１４）が、前記窄められた状態に変形されたときに半球状の上面を画定するような形状及び寸法とされる、請求項１に記載の型板（１０）。
【請求項３】
前記基材（１４）が複数の開口（２４）を備え、毛（１８）の房（１６）が、前記上面（２０）から前記開口（２４）のそれぞれを通って突出する、請求項１または２に記載の型板（１０）。
【請求項４】
前記開口（２４）が、前記基材（１４）が前記窄められた状態にあるときに前記毛（１８）の房（１６）が同心状の輪として配列されるように、配置される、請求項３に記載の型板（１０）。
【請求項５】
前記基材（１４）が、前記展開された状態にあるときには実質的に星形である、請求項１から４のいずれか一項に記載の型板（１０）。
【請求項６】
各突出部（２２）が、前記自由端に向かって外向きに先細りになる、請求項１から５のいずれか一項に記載の型板（１０）。
【請求項７】
前記基材（１４）の下面（２６）に設けられた裏当てを備え、前記裏当ては、前記基材（１４）が前記窄められた状態にあるときに前記基材（１４）が担持される支持体（２８）を画定するように適合される、請求項１から６のいずれか一項に記載の型板（１０）。
【請求項８】
前記裏当てが、前記基材（１４）が前記窄められた状態にあるときに半球状の支持体（２８）を画定するように適合される、請求項７に記載の型板（１０）。
【請求項９】
前記裏当てが、前記展開された状態から前記窄められた状態への前記基材（１４）の変形を可能にするためにセグメント化される、請求項７又は８に記載の型板（１０）。
【請求項１０】
房付きの曲面を形成する方法であって、そこから一つ以上の毛（１８）の房（１６）が突出する上面を有する、請求項１から９のいずれか一項に記載された基材（１０）を備えた型板（１０）を用意するステップと、前記上面が実質的に平坦となる展開された状態から前記上面が湾曲する窄められた状態に前記基材（１４）を変形させるステップと、を含む方法。
【請求項１１】
前記基材（１４）を前記窄められた状態に変形させて半球状の上面を画定するステップを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
支持体（２８）を覆うように前記基材（１４）を変形させるステップを含む、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
半球状の支持体（２８）を覆うように前記基材（１４）を変形させるステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記支持体を前記基材（１４）の下面（２６）と一体に形成するステップを含む、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１から９のいずれか一項に記載の型板（１０）を備えた房付きのブラシヘッド。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月22日(2020.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
湾曲した外面を有する房状物体を作製する成形システムであって、前記成形システムが、レセプタクル及び前記レセプタクルの開端に外接する環状フランジと、前記フランジ内に実質上径方向に形成され、前記レセプタクルの側壁内へ延びる少なくとも一つのスロットとを有する成形型を備えている、成形システム。
【請求項２】
前記レセプタクルは半球形である、請求項1に記載の成形システム。
【請求項３】
前記フランジの周りに分散された前記スロットの配列を備えている、請求項1又は2に記載の成形システム。
【請求項４】
前記レセプタクル内に開口の配列を備えている、請求項1に記載の成形システム。
【請求項５】
前記開口は、房がそこから様々な方向に突出する成形物体を提供するように配置されている、請求項4に記載の成形システム。
【請求項６】
前記開口は、前記レセプタクルの周りに円周方向に列をなして配置されている、請求項4又は5に記載の成形システム。
【請求項７】
前記開口は、少なくとも二つの円周方向に延びる平行な列に配置され、第1の列が前記フランジに近位であり、第2の列が前記フランジに遠位である、請求項4から6のいずれか一項に記載の成形システム。
【請求項８】
前記スロットの少なくともいくつかは、前記開口の一つ以上と一致するように配置及び寸法設定されている、請求項4から7のいずれか一項に記載の成形システム。
【請求項９】
前記スロットの少なくともいくつかは、前記第1の列内の開口及び前記第2の列内の開口と一致するように配置及び寸法設定されている、請求項7に記載の成形システム。
【請求項１０】
前記フランジは、前記レセプタクルの縁から径方向外方に延びている、請求項1から9のいずれか一項に記載の成形システム。
【請求項１１】
前記成形システムは、房を前記成形型に対して定位置に保持するために、前記成形型と解放可能に係合可能な一つ以上の保持部材を備えている、請求項1から10のいずれか一項に記載の成形システム。
【請求項１２】
前記保持部材の少なくとも一つは、開口の列の一つ以上に関連している、請求項11に記載の成形システム。
【請求項１３】
開口の列の一つ以上に関連する一対の対向する保持部材を備えている、請求項11又は12に記載の成形システム。
【請求項１４】
各保持部材は、それぞれのスロットの径方向内端に対して房を保持するように適合されている、請求項11から13のいずれか一項に記載の成形システム。
【請求項１５】
各保持部材は、前記レセプタクルに相補形に嵌合するような形状及び寸法の当接端を備えている、請求項14に記載の成形システム。
【請求項１６】
各保持部材は、前記スロット及び/又は開口を介して房を前記レセプタクル内へ挿入することを可能にする解除位置と、前記レセプタクルから外方に突出する所望の位置及び/又は方向で房を保持する係合位置との間で変位可能になるように適合されている、請求項11から15のいずれか一項に記載の成形システム。
【請求項１７】
湾曲した外面を有する房状物体を成形する方法であって、前記方法が、
一つ以上の房を成形型のレセプタクル内へ、各房が前記レセプタクルから外方に突出するように挿入するステップと、保持のために各房の少なくとも一部分が埋め込まれた成形物体を前記レセプタクル内に形成するステップと、前記房状物体を前記成形型から取り外すステップと、複数の房状物体を連続的に成形するステップとを含み、前記房が、一つの成形から次の成形へ連続して供給され、房状物体を前記成形型から取り外す前記ステップが、前記次の成形のために房のさらなる部分を前記レセプタクル内へ引き込む方法において、
前記成形型は、前記レセプタクルの開端に外接し、前記フランジ内に形成されて前記レセプタクル内へ延びる一つ以上のスロットを有するフランジを備え、前記方法が、前記房状物体が前記レセプタクルから取り外されるときに房が各スロットを通過するのを可能にすることを含む、方法。
【請求項１８】
前記房のうち前記レセプタクル内に位置する部分を溶解して、前記成形物体を少なくとも部分的に形成するステップを含む、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
前記成形物体を少なくとも部分的に形成するために前記レセプタクル内へポリマーを射出するステップを含む、請求項17又は18に記載の方法。
【請求項２０】
前記成形物体が形成される間に前記房の少なくともいくつかを事前定義された位置に保持するステップを含む、請求項17から19のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月13日(2019.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の口腔内で歯科修復物を形成するためのカスタム器具であって、
前記患者の少なくとも１本の歯牙とのカスタマイズされた嵌め合いを提供する第１のモールドボディであって、前記歯牙の少なくとも第１表面と対応する部分と、前記歯牙の隣接歯間表面と対応する隣接歯間部分と、を含み、
前記患者の前記歯牙と組み合わせることで、前記歯牙の欠損歯牙構造の一部分を覆い囲むモールドキャビティを形成するように構成されている、
第１のモールドボディを備える、
カスタム器具。
【請求項２】
前記隣接歯間部は、前記修復物を受け入れる前記歯牙と、隣接する歯牙との間の歯間腔全体にわたって延びている、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項３】
前記患者の前記少なくとも１本の歯牙とのカスタマイズされた嵌め合いを提供する第２のモールドボディであって、前記歯牙の第２表面と対応する部分を含み、
前記第１のモールドボディ及び前記患者の前記歯牙を組み合わせることで、前記歯牙の欠損歯牙構造の前記一部分を覆い囲む前記モールドキャビティを形成するように構成されている、
第２のモールドボディを更に備える、
請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項４】
ポート及びプラグを更に含み、前記プラグは、前記歯牙の表面に対応する先端面を含み、歯科修復材料は、前記ポートを通じて前記モールドキャビティに注入されてもよい、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項５】
前記モールドキャビティは、修復前に、前記歯牙の外部表面に対応する内部表面を形成する、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項６】
前記第２のモールドボディの一部分は、前記第１のモールドボディの一部分と重なっており、前記第１のモールドボディ及び前記第２のモールドボディはそれぞれ、前記欠損歯牙構造の第１部分を覆い囲む、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項７】
第１の部分的歯科修復物を形成するための、前記モールドキャビティ内の歯科修復材料と、
第２の部分的歯科修復物を形成するための、前記モールドキャビティ内の更なる歯科修復材料と、
を更に含み、
前記第１の部分的歯科修復物と前記第２の部分的歯科修復物との間のモールド線は、前記修復物を受け入れる前記少なくとも１本の歯牙と隣接する歯牙との間の歯間腔の外部にある、
請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項８】
前記歯科修復物は、前記少なくとも１本の歯牙に歯科べニア修復物を提供する、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項９】
前記モールドは、前記患者の前記口腔の３次元スキャンデータに基づき形成される、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項１０】
患者の口腔内で歯牙の歯科修復物を形成するためのカスタム器具を入手する方法であって、
患者の口腔の３次元スキャンデータを入手することと、
遠隔製造施設に前記３次元スキャンデータの少なくとも一部を送信することと、
前記患者の前記口腔の前記３次元スキャンデータに基づき前記歯牙の前記歯科修復物を形成するためのカスタム器具を前記遠隔製造施設から受け取ることと、
を含み、
前記カスタム器具は、前記患者の少なくとも１本の歯牙とのカスタマイズされた嵌め合いを提供する第１のモールドボディを含み、前記第１のモールドボディは、前記歯牙の隣接歯間表面と対応する隣接歯間部を含む、
方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月13日(2019.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の口腔内で歯科修復物を形成するためのカスタム器具であって、
前記患者の少なくとも１本の歯牙とのカスタマイズされた嵌め合いを提供するワンピース状モールドボディであって、前記歯牙の咬合面と対応する咬合面を形成している咬合側部分と、前記歯牙の近心隣接面と対応する近心隣接面を形成している近心隣接部分と、前記歯牙の遠心隣接面と対応する遠心隣接面を形成している遠心隣接部分と、を含む、ワンピース状モールドボディを備え、
前記モールドボディは、前記患者の前記歯牙と組み合わせることで、前記歯牙の欠損歯牙構造を覆い囲むモールドキャビティを形成するように構成されており、
前記咬合側部分、前記近心隣接部分、及び前記遠心隣接部分は、前記患者の前記口腔の３次元スキャンデータに基づく、
カスタム器具。
【請求項２】
前記咬合側部分、近心隣接部分、及び前記遠心隣接部分はすべて、修復物を受け入れる歯牙の周りに嵌合するようにカスタマイズされている、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項３】
前記歯牙の舌側面と係合して当該カスタム器具を前記歯牙にスナップ留めすることを可能にするラップ部を更に含む、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項４】
ポート及びプラグを更に含み、前記プラグは、前記歯牙の表面に対応する先端面を含む、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項５】
前記近心隣接面を含む第１の隣接歯間部と、前記遠心隣接部分を含む第２の隣接歯間部と、を更に含み、
前記第１の隣接歯間部は、第１の隣接する歯牙の遠心隣接面に対応する遠心隣接面を含み、前記第２の隣接歯間部は、第２の隣接する歯牙の前記近心隣接面に対応する近心隣接面を含み、
前記第１の隣接歯間部は第１の歯肉面を含み、前記第２の隣接歯間部は第２の歯肉面を含み、
前記歯牙の修復のために、前記歯牙から前記歯肉を後退させる、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項６】
前記ワンピース状モールドボディは前記患者の２つの隣接する歯牙のカスタマイズされた嵌め合いを提供し、前記２つの隣接する歯牙は、前記歯牙及び隣接する歯牙を含み、前記ワンピース状モールドボディは、前記隣接する歯牙の第２の咬合面と対応する第２の咬合面を形成している第２の咬合側部分と、前記隣接する歯牙の第２の近心隣接面と対応する第２の近心隣接面を形成している第２の近心隣接部分と、前記隣接する歯牙の第２の遠心隣接面と対応する第２の遠心隣接面を形成している第２の遠心隣接部分と、を含み、
前記モールドボディは、前記患者の前記２つの隣接する歯牙と組み合わせることで、前記２つの隣接する歯牙のそれぞれの欠損歯牙構造を覆い囲む別個のモールドキャビティを形成するように構成されている、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項７】
前記患者の口腔内で前記修復物を受け入れる歯牙、及び、前記モールドキャビティ内に配置された歯科修復材料を更に含む、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項８】
前記咬合側部分、前記近心隣接部分、及び前記遠心隣接部分は、３Ｄ印刷によって製造されている、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項９】
前記咬合側部分、前記近心隣接部分、及び前記遠心隣接部分は共に、前記歯牙の外部表面に対応する内部表面を修復前に形成する、請求項１に記載のカスタム器具。
【請求項１０】
患者の口腔内で歯科修復物を形成するためのカスタム器具であって、
前記患者の少なくとも１本の歯牙とのカスタマイズされた嵌め合いを提供するワンピース状モールドボディであって、前記歯牙の前記切縁面と対応する切縁側部分と、前記歯牙の近心隣接面と対応する近心隣接面を形成している近心隣接部分と、前記歯牙の遠心隣接面と対応する遠心隣接面を形成している遠心隣接部分と、を含む、ワンピース状モールドボディを備え、
前記モールドボディは、前記患者の前記歯牙と組み合わせることで、前記歯牙の欠損歯牙構造を覆い囲むモールドキャビティを形成するように構成されており、
前記切縁側部分、前記近心隣接部分、及び前記遠心隣接部分は、前記患者の前記口腔の３次元スキャンデータに基づく、
カスタム器具。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月25日(2019.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯科処置を補助する装置であって、
使用時、口腔内の歯肉に隣接して１本または複数本の歯の歯冠に固定されるように適合された、一対の対向するクランプ破断部を備えるクランプと、
前記クランプに結合されかつ開放底部分を備える本体であって、前記クランプが前記１本または複数本の歯の前記歯冠に固定されると、前記開放底部分が前記１本または複数本の歯の真上に位置し、前記本体が前記口腔内に完全に受け入れられる、本体と、
前記本体内に配置されかつ前記開放底部を通して延在可能な歯科作業デバイスであって、３つの平面において前記１本または複数本の歯に対して移動するように適合された歯科作業デバイスと、
前記１本または複数本の歯に対して好適な位置まで移動し、適所に位置すると、前記１本または複数本の歯に対してまたはその周囲で作業を行うように前記歯科作業デバイスを制御するように、前記歯科作業デバイスを制御するコントローラと、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、前記歯科作業デバイスによって行われる前記作業が、少なくとも１つの事前プログラムされた処置を含むことを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置において、前記クランプが、前記破断部から延在する１つまたは複数のクランプ弓状部を備え、前記本体が前記弓状部に結合されることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項２に記載の装置において、前記本体が、前記作業部位の画像を撮影するように動作可能な１つまたは複数のカメラを備え、前記コントローラが、
ａ．前記作業を行うために前記歯科作業デバイスを配置する位置、
ｂ．前記事前プログラムされた処置の適切な選択、
のうちの少なくとも１つを判断するために使用されるように、結果としての画像データを処理し、
ｃ．前記装置によって行われる動作をリアルタイムでモニタリングし、
ｄ．直接の画像、透照診および／または蛍光により前記歯の構造の異常を診断する
するように構成されていることを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１に記載の装置において、前記歯科作業デバイスが前記口腔を照明する１つまたは複数の光源を備えることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項５に記載の装置において、前記１つまたは複数の光源が、前記１本または複数本の歯に対して透照診を行うように適合された透照診光源であることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の装置において、前記コントローラが、前記歯科作業デバイスに前記作業を行うように命令するようにプログラムされた処理ユニットを含むことを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項１に記載の装置において、前記装置に対して内容物を供給するかまたは排出する導管をさらに備え、前記内容物が、液体、気体または固体のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１に記載の装置において、前記歯科作業デバイスが、機械的バー、鉗子、歯根てこ、メス、ミラー、レーザ、カメラ、エキスカベータ、歯科用研磨器、歯科用充填器、スケーラ、局部麻酔媒体、キュレットまたは他の歯科用器具のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置において、前記少なくとも３つの平面における前記歯科作業デバイスの移動が、前記歯科デバイスが本体内に配置されたレールの１つまたは複数の組に沿って移動することによってもたらされることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の装置において、前記レールの１つまたは複数の組のうちの少なくとも１つが、アクチュエータの制御下で移動するように適合されていることを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の装置において、前記アクチュエータが、前記本体内に、前記コントローラの制御下で空気、水、蒸気または電気により作動させることができる回転モータを備えることを特徴とする装置。
【請求項１３】
コンピュータプロセッサによって実行されると、請求項１に記載のコントローラを制御して前記歯科作業デバイスを動作させるように動作可能であるコンピュータプログラムコードを格納することを特徴とするコンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月11日(2019.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カテーテル処置システムのための撮像システムのＸ線フレームレートを制御するための方法であって、
第１のフレームレートを示す第１の制御信号を生成するステップと、
前記第１の制御信号を撮像システムに提供するステップと、
前記第１のフレームレートで第１の画像のセットを取得するステップと、
前記カテーテル処置システムによって行われるカテーテル処置の少なくとも１つのパラメータを決定するステップと、
前記カテーテル処置の前記少なくとも１つのパラメータに基づいて第２の制御信号を生成するステップであって、前記第２の制御信号は第２のフレームレートを示すステップと、
前記第１のフレームレートを前記第２のフレームレートに調節するために前記第２の制御信号を前記撮像システムに提供するステップと、
前記第２のフレームレートで第２の画像のセットを取得するステップと、
前記第２の画像のセットをディスプレイに表示するステップと
を含み、
前記カテーテル処置の前記少なくとも１つのパラメータは、第２の経皮デバイスに対する第１の経皮デバイスの位置である、方法。
【請求項２】
前記第２のフレームレートは、前記第１のフレームレートよりも低い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のフレームレートは、前記第１のフレームレートよりも高い、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのパラメータは、前記第１の画像のセットにおける少なくとも１つの画像の拡大レベルをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのパラメータは、脈管系の形状に対する経皮デバイスの位置をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つのパラメータは、脈管系の領域の動きをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１つの経皮デバイス及び前記少なくとも１つの経皮デバイスに結合される少なくとも１つの駆動機構を備えるベッドサイドシステムと、
撮像システムと、
前記ベッドサイドシステム及び前記撮像システムに結合されるワークステーションと
を備えるカテーテル処置システムであって、
前記ワークステーションは、
ユーザインターフェース、
少なくとも１つのディスプレイ、
前記ベッドサイドシステム、前記ユーザインターフェース、前記少なくとも１つのディスプレイ及び前記撮像システムに結合されるコントローラ
を備え、
前記コントローラは、
第１のフレームレートを示す第１の制御信号を生成すること、
前記第１の制御信号を前記撮像システムに提供すること、
前記カテーテル処置システムによって行われるカテーテル処置の少なくとも１つのパラメータを決定すること、
前記カテーテル処置の前記少なくとも１つのパラメータに基づいて第２の制御信号を生成することであって、前記第２の制御信号は第２のフレームレートを示すこと、及び
前記第１のフレームレートを前記第２のフレームレートに調節するために前記第２の制御信号を前記撮像システムに提供すること
を行うようにプログラムされ、
前記撮像システムは、前記第１のフレームレートで第１の画像のセットを取得し且つ前記第２のフレームレートで第２の画像のセットを取得するように構成され、
前記ベッドサイドシステムは、第１の経皮デバイス及び第２の経皮デバイスを含み、前記カテーテル処置の前記少なくとも１つのパラメータは、前記第２の経皮デバイスに対する前記第１の経皮デバイスの位置である、カテーテル処置システム。
【請求項８】
前記撮像システムは、蛍光透視法システムである、請求項７に記載のカテーテル処置システム。
【請求項９】
前記第２のフレームレートは、前記第１のフレームレートよりも低い、請求項７に記載のカテーテル処置システム。
【請求項１０】
前記第２のフレームレートは、前記第１のフレームレートよりも高い、請求項７に記載のカテーテル処置システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのパラメータは、前記第１の画像のセットにおける少なくとも１つの画像の拡大レベルをさらに含む、請求項７に記載のカテーテル処置システム。
【請求項１２】
前記少なくとも１つのパラメータは、脈管系の形状に対する経皮デバイスの位置をさらに含む、請求項７に記載のカテーテル処置システム。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのパラメータは、脈管系の領域の動きをさらに含む、請求項７に記載のカテーテル処置システム。