(57)【要約】  マスクブランクスやマスクの製造工程中もしくは保管・搬送・輸送の際等に異物が基板表面に直接付着する等して不都合を起こす恐れを防止する。  マスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された側のマスクブランクス主表面上に、マスクパターンが形成される有効領域には接触せずに、非有効領域に接触して密閉空間を形成する蓋形状の防塵保護具を取り外し可能に固定する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された、パターン転写用マスク又はスタンパの素材たるマスクブランクスであって、  
上記マスクブランクスは、前記マスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された側のマスクブランクス主表面上にパターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸が形成される有効領域には接触せずに、非有効領域に接触して密閉空間を形成する蓋形状の防塵保護具が取り外し可能に固定されていること、を特徴とするマスクブランクス。
【請求項２】
請求項１に記載のマスクブランクスであって、
上記防塵保護具は、マスクブランクス表面に、
真空吸着、吸盤シート、または、常温で接着性を持ち、加熱すると接着性が低下あるいは喪失する熱可塑性接着剤の何れかを用いる固定されていることを特徴とするマスクブランクス。
【請求項３】
請求項２に記載のマスクブランクスであって、
上記熱可塑性接着剤は、常温より高い温度で且つレジスト膜形成後の熱処理温度よりも低い温度で、マスクブランクス表面から上記防塵保護具が剥離可能となる接着剤であることを特徴とするマスクブランクス。
【請求項４】
請求項１に記載のマスクブランクスであって、
上記防塵保護具は、マスクブランクス表面に対向する面が可視光又は検査光に対して透明であることを特徴とするマスクブランクス。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４に記載のマスクブランクスであって、
上記防塵保護具が当接する基板表面のレジスト膜が除去されていることを特徴とするマスクブランクス。
【請求項６】
基板表面に、転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された、パターン転写用マスク又はスタンパの素材たるマスクブランクスであって、
上記基板表面上に上記転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜を形成する薄膜形成工程と、
上記マスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された側のマスクブランクス主表面上に、パターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸が形成される有効領域には接触せずに、非有効領域に接触して密閉空間を形成する蓋形状の防塵保護具を装着する防塵具装着工程と、
を特徴とするマスクブランクス製造方法。
【請求項７】
パターン転写用マスクの素材たるマスクブランクスを使用して、基板表面上にパターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸を形成する転写パターン形成工程を有する転写プレートの製造方法において、
請求項１乃至５の何れかに記載のマスクブランクスを用い、このマスクブランクスの前記防塵保護具を取り外した後に、前記マスクパターン形成工程を行うこと、を有することを特徴とする転写プレートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン転写用マスクやスタンパの素材であるマスクブランクス及びその製造方法、並びに転写プレートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクブランクスは、フォトリソグラフィー法のパターン転写用マスクや、ナノインプリント法のスタンパの素材として用いられる。このマスクブランクスは、パターン転写用マスクの場合、例えば、基板表面に形成される各種のマスク機能薄膜の上にレジスト膜が形成され、あるいは、このレジスト膜の上または下に反射防止膜や導電性膜が形成されたり、さらには、これらの薄膜を周囲の環境（例えば化学汚染等）から保護するための保護膜等が形成されたりする。また、ナノインプリント法のスタンパの場合、例えば、基板表面に微細な凹凸を形成するためのマスク製造プロセスに使用される薄膜、即ちマスク層及び／又はレジスト膜が形成されたりする。【０００３】
上記マスクブランクスの具体例としては、最上層がレジスト膜であるレジスト付きマスクブランクスがある。このレジスト付きマスクブランクスは、基板表面に各種マスク機能薄膜等が形成された後、その上にレジスト膜が回転塗布方法などで塗布され、その後、加熱処理（続く冷却処理を含む）等の所定の処理が施されて形成される。【０００４】
上記基板表面に形成されるマスク機能薄膜としては、マスクの種類や用途等に応じて、遮光膜、位相シフト膜（位相シフトマスクの場合）、反射膜や吸収膜（Ｘ線マスクやＥＵＶマスクの場合）、反射防止膜等がある。これらの薄膜は、転写露光光を通過させたり、通過を阻止したり、あるいは反射させたりなど、転写露光光に何らかの作用をして所定の転写パターン像を転写対象物上に形成させるためのものである。【０００５】
上記レジスト付マスクブランクスは、合成石英等の基板の上に、遮光膜、反射防止膜をスパッタリング法等で順次形成し、その上にレジストを回転塗布法等で塗布して形成される。このようにして形成されたレジスト膜では、基板の周縁部（基板の主表面の四辺に沿った部分）に不要な盛り上がり部が生じ、また、その基板の側端面にも不要なレジストが形成されてしまう場合が多い。【０００６】
ところで、一般に、上記レジスト付マスクブランクスは、搬送や保管等の際に収納容器等に収納される。この収納容器としては、例えば特許文献１に記載のガラス基板収納容器のようなものが使用されている。特許文献１に記載の収納容器は、内箱とこの内箱を収納する外容器とからなる。内箱の内側壁には、基板の両側縁部を拘束・位置決めしながらスライド案内して保持する一対の対向する収納溝が一定間隔で配設されている。外箱はその内箱を収納固定する。【０００７】
しかし、上述したように、レジスト付マスクブランクスは、その周縁部に不要な盛り上がり部が生じ、またその基板の側端面にも不要なレジストが形成される。このため、そのレジスト付マスクブランクスを内箱に収納したり、そこから取り出したりする際に、その不要な盛り上がり部や不要なレジストが上記収納溝に接触して擦れることを避けられない。また、その収納溝に保持された状態でも、移送、輸送等により振動あるいは衝撃が加わったときに、その不要な盛り上がり部や不要なレジストが内箱の収納溝と擦れることを避けられない。【０００８】
その結果、不要な盛り上かり部や不要なレジストが、基板から剥離・脱落し、これが塵埃となってマスクブランクス自身あるいは各種処理装置に付着し、最終的にはマスクブランクスを素材とする製品であるマスク（レチクルを含む）の欠陥の原因、あるいは、マスクの製造歩留低下の原因となる恐れが生じてくる。【０００９】
上記問題の解決策として、基板の周縁部に形成される不要なレジスト膜を選択的に除去する方法が一般に採用されてきた。この方法では、レジスト塗布後に基板周縁部の不要なレジスト膜を選択的に除去する（例えば、特許文献２、特許文献３、特許文献４を参照）。【００１０】
【特許文献１】特開２００３−２６４２２５号広報
【特許文献２】特公昭５７−１３８６３号公報
【特許文献３】特開昭６３−１６０３３２号公報
【特許文献４】特開２００１−２５９５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記の方法等により基板周縁部の不要なレジスト膜を選択的に除去したマスクブランクスであっても、以下のような不具合のあることが分かってきた。  すなわち、例えば特許文献１などに記載の収納容器では、マスクブランクスが内箱等に部分的にでも直接接触することを避け得ず、また、マスクブランクスを収納容器に収容あるいは取り出す際の擦れ、保管または移送・輸送中の振動あるいは衝撃によるマクスブランクスと中箱との接触部位の擦れ、中箱と外箱との接触部分の擦れなど、非常に多くの個所で擦れの発生が考えられる。さらに、擦れによる発塵は、マクスブランクス側だけではなく、収納容器側でも生じる。とくに樹脂製の収納容器では、その容器が大きな発塵原因となる。【００１２】
これら全ての発塵原因（とくに樹脂製容器からの発塵）を抑えることは極めて困難である。このため、上記マスクブランクスの容器への収容、保管、あるいは、移送・輸送中にて、そのマスクブランクスの表面すなわちレジスト膜またはそのレジスト膜の上に形成された最上層表面への異物の付着、あるいはその付着の可能性がある異物の増加を効果的に防止することは、極めて困難であることがわかってきた。【００１３】
また、上述のレジスト付きマスクブランクスを使ってマスク製造を行う場合、レジスト塗布後からマスク製造工程における露光工程に至るまでの経過時間（あるいは経過日数）は様々である。この露光工程に至るまでの経過時間や日数のバラツキは、レジスト感度の変動バラツキに影響し、露光及び現像等のレジストプロセス（いわゆるパターニング）条件を固定した場合、上記経過時間等のバラツキがパターン寸法（ＣＤ）のバラツキとなって現れる。このため、マスクブランクスに形成するレジスト膜には、なるべく塗布後の感度変化の少ない、塗布後の安定性に優れたレジスト種、いわゆる塗布後安定性（ＰＣＤ：Post-Coating Delay）の良好なレジスト種が選定され使用される。【００１４】
昨今普及している化学増幅型レジストにおいては、塗布後安定性が良好なレジストとして、一般に、クエンチャー（ｑｕｅｎｃｈｅｒ）と呼ばれる添加剤（例えばアミン類）が意図的に多く加えられている。しかし、このクエンチャーは塗布後安定性を良好にする一方で、レジスト感度をある程度以上に上げられない等により、レジスト設計上、またはマスクブランクス用レジストを選定する上で制約が生じる。
しかし、露光生産性すなわちマスク生産性、被露光安定性の見地からは、レジスト感度は高い方が望ましい。電子線による露光の場合、その電子線露光により引き起こされるレジスト加熱によりレジストの感度が変動することがあるが、このような変動はできるだけ少ないことが望ましい。つまり、被露光安定性を備えていることが望ましい。【００１５】
また、更なるパターンの微細化あるいは狭ピッチ化が要求されている状況において、レジスト塗布後から露光工程に至るまでの経過時間や日数（すなわち塗布後の保管期間）により引き起こされるレジスト感度の劣化あるいは変動の量が問題となりつつある。【００１６】
つまり、従来は許容されてきた塗布後におけるレジスト感度の経時変化量では、さらに高レベルの微細化を達成するのに必要ととされている感度安定性に見合わなくなってきている。このため、レジスト膜の形成は、マスク製造工程における露光工程の直前に行うことが望ましい。しかしながら、基板表面に転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜が形成されたマスクブランクスを上述の収納容器に収納して、マスク製造工程に移送・輸送あるいは保管する場合、マスクブランクス（転写露光光に光学的に作用する薄膜）表面への異物あるいは化学的汚染物質等の付着により、マスク製造工程における露光工程の直前に塗布形成するレジスト膜の品質あるいは性能発現に影響して、マスクの欠陥（パターン寸法バラツキを含む）あるいはマスクの製造歩留まり低下を引き起こす。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、マスクブランクス製造（最上層の形成あるいは最終検査の後）からマスクなどの転写プレート製造工程の露光工程に至るまでの間の、マスクブランクスの保管、搬送あるいは輸送等の際に、異物が基板等に付着する等して不都合を引き起こす恐れを効果的に防止することを可能にしたマスクブランクス及びその製造方法、並びに転写プレートの製造方法を提供するものである。
その要旨とするところは、特許請求の範囲に記載したとおりの下記の内容である。【００１８】
すなわち、上述の課題を解決するための手段として、
第１の手段は、
基板表面に転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された、パターン転写用マスク又はスタンパの素材たるマスクブランクスであって、  
上記マスクブランクスは、前記マスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された側のマスクブランクス主表面上にパターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸が形成される有効領域には接触せずに、非有効領域に接触して密閉空間を形成する蓋形状の防塵保護具が取り外し可能に固定されていること、を特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、マスクブランクスを収納容器に出し入れすることによるマスクブランクスと収納容器の当接部での擦れ、及び、マスクブランクスを収納容器に収めて保管、移動あるいは輸送する際の振動または衝撃によるマスクブランクスと収納容器等との擦れ、及び、収納容器の各構成部材間での当接部位の擦れ、それらに起因して発生した塵埃がマスクブランクス自身に直接付着することが防止される。また、マスク製造工程の主要な第１工程である露光工程に先立って防塵保護具を取り外すことで、防塵保護具装着以降に防塵保護具の表面に付着した塵挨は除去され、マスクブランクスの表面欠陥（異物）の増加を防止して、マスクブランクス完成直後の品質をマスク製造工程に提供することができ、また、上記表面欠陥（異物）に起因するマスク欠陥の発生を防止して、マスク製造歩留まりを向上させる手段を提供することができる。また、防塵保護具にはレジスト膜に影響を与えない（例えば、アルカリ性あるいは酸性ガスの放出の少ない）構成材料を用いることで、防塵保護具を装着して有することによるレジスト膜の機能劣化がなくバターン形成してマスクを製作することが出来る。【００１９】
第２の手段は、
前記第１の手段にかかるマスクブランクスであって、
上記防塵保護具は、マスクブランクス表面に、
真空吸着、吸盤シート、または、常温で接着性を持ち、加熱すると接着性が低下あるいは喪失する熱可塑性接着剤の何れかを用いる固定されていることを特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、防塵保護具をマスクブランクスに確実に装着固定でき、また、防塵保護具の取り外しもマスクブランクスに損傷を与えることなく安全容易にできる。また、接着剤等を使用する必要がないので、防塵保護具を取り外した後に接着剤等の残滓が残る心配がなく、新たな塵埃の発生源を生じない。また、接着剤等を使用する必要がないので、レジスト膜の性能劣化を引き起こす化学物質（ガス）の接着剤からの放出の可能性を排除できる。【００２０】
また、第２の手段は、
前記第１の手段にかかるマスクブランクスであって、
上記防塵保護具はマスクブランクス表面に当接する底部に吸盤シートを設け、マスクブランクス表面に固定されていることを特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、上記の手段である真空吸着法に必要とする設備は不要である。特に、防塵保護具に継ぎ手あるいはストップバルブ等を取り付ける必要がなく、極めて簡便に防塵保護具の装着および取り外しが可能となる。また、当該手段によれば、接着剤を必要としないため、レジスト膜の性能劣化を引き起こす化学物質の放出の可能性を排除できる。また、当該手段である吸盤シートを構成する樹脂材料には、レジスト膜の性能劣化を引き起こす化学物質を含まないものを予め選定すれば良い。【００２１】
また、第２の手段は、
前記第１の手段にかかるマスクブランクスであって、
上記防塵保護具は、マスクブランクス表面に、常温で接着性を持ち、加熱すると接着性が低下或いは喪失する熱可塑性接着剤により固定されていることを特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、上記の手段である真空吸着法に必要とする設備は不要である。特に、防塵保護具に継ぎ手あるいはストップバルブ等を取り付ける必要がなく、極めて簡便に防塵保護具の装着および取り外しが可能となる。また、上記の吸盤シートを利用した手段に対比しては、防塵保護具の取り外しに際し、防塵保護具を引っ張って吸盤シートの吸盤を剥ぎ取るための機械的な力をほとんど必要としないことから、極めて安全容易に防塵保護具の取り外しが可能となる。
とりわけ、マスク製造工程で広く一般に使用されているホットプレート型加熱処理装置を用いた加熱処理が可能であり、当該接着剤の機能（加熱により接着性の低下）により、マスクブランクスに装着固定されていた防塵保護具は取り外しが可能である。【００２２】
第３の手段は、
前記第２の手段にかかるマスクブランクスであって、
上記熱可塑性接着剤は、常温より高い温度で且つレジスト膜形成後の熱処理温度よりも低い温度で、マスクブランクス表面から上記防塵保護具が剥離可能となる接着剤であることを特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、第２の手段である真空吸着法に必要とする設備は不要であり、また、第３の手段に対比しては、防塵保護具の取り外しに際し、防塵保護具を引っ張って吸盤シートの吸盤を剥ぎ取るための機械的な力をほとんど必要とせず、極めて容易に防塵保護具の取り外しが可能となる。
さらに、この解決手段によれば、加熱するとその接着性が低下する熱可塑性接着剤に、その接着性が低下する温度として、マスクブランクスに形成されたレジスト膜の塗布後の熱処理温度（プリベーク温度）あるいは露光後の熱処理温度（ＰＥＢ温度）の何れか低い方よりも低い温度をもつ接着剤を使用することから、防塵保護具の取り外しのための加熱処理がレジスト膜に対して影響すること（感度変化、膜厚減少等）を最小限に抑えることが可能である。【００２３】
第４の手段は、
前記第１の手段にかかるマスクブランクスであって、
上記防塵保護具は、マスクブランクス表面に対向する面が可視光又は検査光に対して透明であることを特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、防塵保護具とマスクブランクスが形成する密閉空間内（すなわちマスクブランクス表面）を目視観察することが可能であり、また、検査装置によっては、当該防塵保護具を装着したままレーザー表面異物検査装置でマスクブランクス表面の異物数を計数可能である。これにより、防塵保護具を装着した後あるいは取り外し前のマスクブランクス表面状態の検査が可能となる。【００２４】
第５の手段は、
前記第１乃至第４の手段の何れかにかかるマスクブランクスであって、
上記防塵保護具が当接する基板表面のレジスト膜が除去されていることを特徴とするマスクブランクスである。
この解決手段によれば、防塵保護具が当接するマスクブランクスの当接部にはレジスト膜等の剥離飛散し易い膜が予め除去されていることから、防塵保護具の装着あるいは取り外しの際の防塵保護具とマスクブランクスとの接触あるいは擦れによる発塵が排除できる。また、予め不要なレジスト膜等をマスクブランクス基板周縁部及び防塵保護具が当接するマスクブランクスの当接部から除去しておくことで、マスクブランクスと収納容器との接触あるいは擦れ等による塵埃の発生そのものが抑えられ、防塵保護具の装着あるいは取り外しの際に発生した塵埃がマスクブランクス表面に直接付着してしまう、そのようなマスクブランクス表面の汚染の可能性が低減できる。【００２５】
第６の手段は、
基板表面に、転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された、パターン転写用マスク又はスタンパの素材たるマスクブランクスを製造するマスクブランクス製造方法において、
上記基板表面上に、上記転写露光光に光学的に作用するマスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜を形成する薄膜形成工程と、
上記マスク機能薄膜及び／又はマスク製造プロセスに使用される薄膜が形成された側のマスクブランクス主表面上に、パターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸が形成される有効領域には接触せずに、非有効領域に接触して密閉空間を形成する蓋形状の防塵保護具を装着する防塵具装着工程と、
を有することを特徴とするマスクブランクス製造方法である。
この解決手段により、マスクブランクスを収納容器に出し入れする際の両者の擦れによる発塵、及び、マスクブランクスを収納容器に収めて保管、移動あるいは輸送する際の振動または衝撃によるマスクブランクスと収納容器あるいは収納容器の各構成部材間の擦れによる発塵、それらによるマスクブランクス（すなわち、マスクブランクスに形成さえた各種薄膜の最上層表面）への異物汚染（異物の増加）は大きく低減される。すなわち、マスクブランクス製造直後の品質（異物欠陥品質）をマスク製造工程に供給可能とするマスクブランクス製造方法が提供される。【００２６】
第７の手段は、
パターン転写用マスクの素材たるマスクブランクスに、パターン転写用のマスクパターンを形成するマスクパターン形成工程を有するマスクの製造方法において、
上記手段１乃至５の何れかに記載のマスクブランクスを用い、このマスクブランクスの前記防塵保護具を取り外した後に、前記マスクパターン形成を行うこと、
を特徴とするマスクの製造方法である。
この解決手段により、マスクブランクスを収納容器に出し入れする際の両者の擦れによる発塵、及び、マスクブランクスを収納容器に収めて保管、移動あるいは輸送する際の振動または衝撃によるマスクブランクスと収納容器あるいは収納容器の各構成部材間の擦れによる発塵、それらによるマスクブランクス（すなわち、マスクブランクスに形成さえた各種薄膜の最上層表面）への異物汚染（異物の増加）は大きく低減される。すなわち、マスクブランクス製造直後の品質（異物欠陥品質）を維持確保できるマスク製造工程が提供される。また、マスクブランクス製造後のマスクブランクス（すなわち、マスクブランクスに形成さえた各種薄膜の最上層表面）への異物汚染（異物の増加）に起因するマスク欠
陥の発生を防止し、マスク製造歩留まりの低下を防止するマスク製造方法が提供される。【００２７】
ここで、本発明におけるマスクブランクスとは、広義の意味で用いられるものであって、転写露光光を遮光する機能を有する遮光膜が形成されたもの、転写露光光に対し位相差変化をもたらす機能を有する位相シフト膜が形成されたもの、転写露光光に対する遮光機能と位相差変化をもたらす機能を兼ね備えた光半透過膜のハーフトーン位相シフト膜が形成されたもの、転写露光光を反射する機能を有する反射膜が形成されたもの、転写露光光を吸収して反射を抑える機能を有する吸収膜が形成されたもの、等々、あるいは、それらの積層膜が形成されたものであって、透過型及び反射型マスクの機能を構成するために必要となる全ての機能膜あるいはそれらの積層膜を含むものが形成されたもの、あるいは、それらにレジストを塗布したもの、また更にはレジスト膜の上または下に反射防止膜、導電性膜が単独あるいは積層して形成されたもの、レジスト膜の上あるいはレジスト膜を含む積層膜の上に耐環境性保護膜を形成したものを含む。また、これらの膜が形成されていなくとも良い。
さらには、本発明におけるマスクブランクスは、クロムレスマスクや、ナノインプリント技術で使われるスタンパなどに使用される原板を含む。この原板は、基板上に基板表面に微細な凹凸を形成するためのマスク製造プロセスに使用される薄膜、即ちマスク層及び／又はレジスト膜が形成されたものである。なお、マスク層は、単層膜でも複数層形成された積層膜であっても良い。また、マスク層の材料は、マスク層の下にある基板等に対して所定以上のエッチング選択比を有する材料であることが好ましい。
【００２８】
また、マスクブランクスは、ＬＳＩ（半導体回路）用マスクブランクス、各種PD（パネルディスプレイ）用マスクブランクス等、全てのマスクの素材が含まれる。基板の材料は特に限定されない。合成石英ガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、ソーダライムガラスが一般に透明基板として使用される。また、反射型マスク用の基板材料は超低膨張ガラスあるいは超低膨張セラミックが使用される。【００２９】
基板表面に形成される薄膜には、マスクの種類に応じて、遮光膜、位相シフト膜（位相シフトマスクの場合）、反射膜や吸収膜（Ｘ線マスクやＥＵＶマスクの場合〉もしくは反射防止膜等が含まれる。これらの薄膜は、転写露光光を通過させたり通過を阻止したりするなど、転写露光光に対して何らかの作用をして所定の転写パターン像を転写対象物上に形成させるためのものである。また、マスク製造プロセスに使用される薄膜、例えば、レジスト膜等も含まれる。【００３０】
レジストは、ネガ型、ポジ型どちらでも構わない。また、レジスト種も特に限定されない。光（紫外線、遠紫外線等）露光描画用、電子線露光描画用等々、何でも良い。レジストの形成方法も特に限定されない。回転塗布法、Ｃａｐｉｌｌａｒｙ塗布法、Ｓｃａｎ塗布法等々、何でも良い。【００３１】
また、本発明において、防塵保護具は、マスクブランクス主表面上にマスクパターンが形成される有効領域には接触せず、非有効領域に接触して密閉空間を形成するもの、すなわち有効領域のレジスト膜その他の薄膜等に直接接することなく損傷を与えない蓋形状であれば、その形状を規定するものではなく、何でも良い。
また、本発明において密閉空間は、移送・輸送あるいは保管される環境と完全に遮断するものに限られず、異物や、科学的汚染物質等がマスクブランクス主表面に付着しない程度に閉さされた空間であれば良い。【００３２】
また、防塵保護具は、例えば、マスクブランクス使用の直前に、すなわちマスク製造工程の第１の主要な工程であるレジスト露光工程に先立ち、取り外される。また、マスク製造工程のレジスト露光工程の直前にレジストを塗布する、あるいはさらに反射防止膜及び又は帯電防止膜等のマスク製造プロセスに使用される薄膜を形成する、これらの場合においては、レジスト塗布（あるいは他の薄膜の形成に）先立ち、防塵保護具を取り外す。【００３３】
従って、その作用は、マスクブランクス製造工程での最上層形成の直後から、マスクブランクスが収納容器に収められ、移送・輸送あるいは保管されて、その後マスクブランクスが収納容器から取り出されて、使用される直前まで維持される。また、当該防塵保護具の材質組成は、マスクブランクスあるいは転写露光光に光学的に作用するマスク機能膜やマスク製造プロセスに使用されるレジスト膜等の機能あるいは品質、及び、マスク製造工程に、何らの影響も与えないものが予め選定される。
【発明の効果】
【００３４】
マスクブランクスや転写プレート（マスクやスタンパ）の製造プロセスもしくは、マスクブランクスの保管・搬送の際等に異物がマスクブランクス主表面のパターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸が形成される有効領域に直接付着する等して不都合をおこす恐れを効果的に防止することを可能にする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
図１と図２は本発明の実施の形態にかかるマスクブランクスの製造方法、マスクの製造方法の説明図である。以下、図１（Ａ〜Ｅ）と図２（Ｆ〜Ｊ）を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。【００３６】
（第１の実施の形態）
まず、従来法に従ってマスクブランクスを製造する。適宜に研磨を施した１５２．４ｍｍ×１５２．４ｍｍで厚さが６．３５ｍｍの合成石英ガラスからなる基板１（図１（Ａ））の上に、図１（Ｂ）に示すように、クロムを主成分とする厚さ４５ｎｍの遮光膜２をスパッタリング法により形成し、続けて、遮光膜２の上に、酸化クロムを主成分とする厚さ２５ｎｍの反射防止膜３をスパッタリング法で形成した。【００３７】
次に、図１（Ｃ）に示すように、反射防止膜３の上に、加熱乾燥処理後の膜厚が４００ｎｍとなるようにレジスト４（ポジ型化学増幅型電子線描画露光用レジストＦＥＰ１７１：フジフイルムアーチ社製）を回転塗布した。次に、図１（Ｄ）に示すように、基板１の周縁部に形成された不要なレジスト膜を除去した。【００３８】
この場合、不要なレジストの除去は、公知の不要膜除去装置（例えば、特許文献５に記載の装置）を用い、溶剤として有機溶剤を用いて基板周縁部の不要なレジスト膜を（基板端より約３ｍｍの除去幅で）溶解除去することで行った。また、不要なレジスト膜を溶解除去した後に、１５０℃に設定したホットプレート（プロキシミティーギャップ＝０．２ｍｍ）を用いて１０分間、レジスト塗布後の加熱乾燥処理を行ってレジスト付きマスクブランクス１０１を作製した。【００３９】
その後、レーザー走査型異物検査装置（日立電子エンジニアリング社製、ＧＭ−１０００）でマスクブランクス主表面の異物欠陥数を測定した。この測定は、マスクブランクスの有効領域１４２ｍｍ角（基板中央）の表面の異物数（大きさ０．２５μｍ以上）を計数するものである。【００４０】
次に、図１（Ｅ）に示すように、防塵保護具５を装着した。【００４１】
ここで、防塵保護具５の形状は、具体的には図３に示されるように、レジスト付きマスクブランクス１０１の主表面を覆う蓋形状であり、基板中心部から周縁にかけての大部分は略水平な平坦部（正方形状の天板）を有し、この平坦部の全ての端部（前記正方形板の四辺）で略垂直に下方に折れ曲げられて側壁部が形成されている。【００４２】
防塵保護具５は、レジスト付きマスクブランクス１０１の主表面に搭載されたときに、防塵保護具の側壁部の底部に溝を形成して固定された気密性を保つためのオーリングやガスケット等のシール材１１を介してレジスト付きマスクブランクス１０１の主表面の非有効領域（基板中央１４２ｍｍ角より外側の領域）に接し、また、側壁部の底部を除く部位はマスクブランクスの有効領域（基板中央１４２ｍｍ角の領域）に直接接することなく、密閉空間を形成する構造となっている。【００４３】
また、防塵保護具５の平坦部（天板）の中心には継ぎ手１２を介してチューブ１３が接続されており、その先（防塵保護具の平坦部（天井板）に接続されたチューブ１３の反対の端）には、常時閉型ストップバルブ１４（この例ではエアオペレート式）が配置され、さらにストップバルブ１４から別のチューブ１３を介して真空ポンプ１５（ダイアフラム式ドライポンプ等）に接続されている。ここで防塵保護具５は、具体的には、ＰＥＥＫ（ポリ・エーテル・エーテル・ケトン）材からなる外形１５０ｍｍ角、高さ２ｍｍ、天井部の肉厚１ｍｍ、側壁部の肉厚２ｍｍの、図３に記載の蓋形状の防塵保護具である。【００４４】
また、防塵保護具５の装着固定は、以下のように行った。
既述のようにレーザー走査型異物検査装置で主表面の異物欠陥数を計数測定した後、レジスト付きマスクブランクス１０１を、固定治具（例えば真空チャック）に主表面を上にして固定し、次いで、上記の防塵保護具５の中心とレジスト付きマスクブランクス１０１の中心とを合わせて、防塵保護具５をレジスト付きマスクブランクス１０１の主表面に載せた。この場合、防塵保護具５とマスクブランクス１０１との接触部位は、既述の通りに不要なレジスト膜を予め除去した（酸化クロム膜が露出した）部位と防塵保護具の側壁部の底部に配置されたオーリング等のシール材１１である。【００４５】
次に、上記常時閉型ストップバルブ１４を開いた（作動させた）状態で上記真空ポンプ１５を作動させ、所定の減圧圧力に達したところで常時閉型ストップバルブ１４を閉じて（動作を止めて）、該ストップバルブ１４より先のチューブ１３及び真空ポンプ１５を外した。上記の作業によって形成された密閉された減圧空間により、防塵保護具５はマスクブランクス１０１に真空吸着されて保持されて、本発明の防塵保護具付きフォトマスクブランク１０２は完成された。【００４６】
この段階で、得られた防塵保護具付きマスクブランクス１０２（図１（Ｅ））を収納容器に納めた。収納容器は外箱と中箱からなり、中箱には収納溝が形成されている（例えば特許文献１参照）。この中箱を外箱内に所定の保持状態で収容した。この外箱の蓋をしてビニールテープで固定し、樹脂製の袋に入れて熱シールして外部からの異物の侵入を防ぐ措置を施した後、発砲スチロ一ルからなる緩衝材とダンボールからなる輸送用梱包箱で構成される輸送用の梱包を行い、マスクプランクスの輸送を想定して、振動試験処理を行った。この振動試験は、加速評価試験として、「ＭＩＬ  ＳＴＤ−８１０Ｄ  ５１４・３の一般車両環境での処理（ただし、加速度２倍としてＸＹＺの３方向で処理）」に従った振動試験処理である。【００４７】
次に、マスクブランクスの保管を想定して、上記の振動試験処理の後、マスクブランクス入り収納容器を上述の輸送用梱包から取り出し、上記の樹脂製の袋に入れて熱シールされたままの状態で３０日間、温度及び湿度管理されたクリーンルーム中に放置した（以上、図２（Ｆ）の示される形態でのマスクブランクス輸送及び保管）。【００４８】
次に、上記保管後の防塵保護具付きマスクブランクス１０２を収納容器から取り出し、防塵保護具５を取り外した。具体的には、前記の防塵保護具５の天板に接続されて減圧密閉空間を形成するために減圧処理後に閉じられた常時閉型ストップバルブ１４を開放して（作動させて）上記密閉空間を常圧に戻すことで、防塵保護具５は固定された状態から開放されて、取り外し可能となった。ここで実際には、上記の密閉減圧空間を常圧に戻すために常時閉型ストップバルブ１４の開放によって供給された空気は、フィルターを経由した別のチューブ１３より該ストップバルブ１４（すなわち、上記密閉空間）に供給した。【００４９】
防塵保護具付きマスクブランクス１０２から防塵保護具５を取り外した後（図１（Ｇ））、再び前記レーザー走査型異物検査装置でマスクプランクス表面の異物数を測定し、振動試験処理前後の異物の増加（差異）を求めた。
その結果は、異物の増加数が０．２個であって、極めて少なく、レーザー走査型異物検査装置の測定再現性能に等しい値であった。この場合、異物の増加数は、収納容器に納められた５枚のマスクブランクスの異物増加の平均値を用いた。
なお、比較として、防塵保護具５を装着しなかったほかは同様の条件で振動試験処理前後の異物の増加（差異〉を求めた結果では、異物の増加数が６８個であった。ちなみに、防塵保護膜を設けないのと同時に、マスクブランクス周縁部の不要なレジスト膜の除去を予め行わなかった場合には、同様の異物の増加数は２８４個であった。【００５０】
次に、図２（Ｈ）に示すように、レジスト膜４にバターン露光を施し、露光後ベーク処理し、次いで現像処理することで、レジストバターン４ａを形成した。ここで、レジスト膜４の露光、露光後ベーク、現像処理は、以下のようにして行った。すなわち、電子線露光装置によりレジスト膜４（上記ＦＥＰ１７１）を露光し（加速電圧２０ｋＶ、露光量３．５μＣ／ｃｍ2）、露光後、加熱処理（ＰＥＢ：Ｐｏｓｔ−Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ処理、１５０℃、１０分処理）し、現像処理（スプレー法、２．３８％・ＴＭＡＨ現像液、６０秒処理）して、レジストパターン４ａを形成した。【００５１】
こうして形成されたレジストパターン４ａ（設計値４００ｎｍのライン・アンド・スぺ−ス・パターン）のスペース部の寸法を測長ＳＥＭで計測した結果は４１４ｎｍであった。これに対して、比較例として、防塵保護具を用いずに作製したマスクプランクスにおいて、レジスト膜に対し、上記と同一な条件でパターニング加工して出来上がった設計値４００ｎｍのライン・アンド・スぺ−ス・パターンのスペース部の寸法は４１１ｎｍであった。両者のライン・アンド・スぺ−ス・パターンのスペース部での寸法の差異（３ｎｍ）は、使用した計測手段を含むパターニングプロセスの安定性に起因する誤差の範囲以下であり、従って、防塵保護具の採用によるレジスト膜の性能への影響はなかったと判断される。【００５２】
次いで、マスク機能膜（反射防止膜３および遮光膜２）にエッチング処理を施し（図２（Ｉ））、最後に、レジストパターン４ａを剥離除去することで、マスク（レチクル）１０３（図２（Ｊ））は完成した。マスク検査装置で、マスクパターンを検査したところ、防塵保護具を設けたマスクブランクスを使って作成したマスクにはパターン欠陥はなかったが、防塵保護具を設けなかったマスクマスクブランクスを使って作成したマスクには、パターン欠陥が発生し、特に、マスクブランクス周縁部の不要なレジスト膜の除去を行わなかったものについては、多く発見された。【００５３】
ここで、上記実施例では、防塵保護具の装着固定手段として、防塵保護具の側壁底部の溝に埋め込まれたシール材とストップバルブによって形成させる密閉空間をそれにつながった真空ポンプで減圧させて減圧密閉空間を形成する真空吸着法を用いたが、この構成手段に限るものではない。例えば、以下のような実施形態が有効である。【００５４】
（第２の実施の形態）
減圧密閉空間を利用した真空吸着法を用いて防塵保護具をマスクブランクスに装着固定する別の手段として、具体的には図４に示すような、防塵保護具の側壁底部の溝に埋め込まれた気密性を保つためのオーリングやガスケット等のシール材１１と天板等に設けられた常時閉型ストップバルブ１４によって形成される空間を用い、常時閉型ストップバルブを開放した（作動させた）後、上記の防塵保護具付きマスクブランクスを真空気密室１６に入れて、それにつながった真空ポンプ１５を動作させて減圧させ、次いで常時閉型ストップバルブ１４を閉じる（作動を止める）ことで、減圧密閉空間を形成する方法でも良い。【００５５】
（第３の実施の形態）
さらに、減圧密閉空間を利用した真空吸着法を用いて防塵保護具をマスクブランクスに装着固定する別の手段として、具体的には図５に示すような、防塵保護具の側壁底部の溝に埋め込まれた気密性を保つためのオーリングやガスケット等のシール材１１と、防塵保護具の例えば側壁部に形成した開口部に別の気密性を保つためのオーリングやガスケット等のシール材１１ａを介して固定板１７により固定された加熱による封止（熱シール）が可能な熱封止用樹脂袋１８を備え付けて作製した防塵保護具を用いる方法がある。【００５６】
まず、上記熱封止用樹脂袋１８の端（シール材１１ａで押さえられている側とは反対の端）を開放としたまま、該防塵保護具を載せたマスクブランクスを真空気密室１６に入れて、それにつながった真空ポンプ１５で真空気密室内を減圧させる。その後、上記熱封止用樹脂袋の端部（図中、熱封止部１８ａ）を加熱封止し、最後に真空気密室１６を常圧に戻すことで形成される減圧密閉空間を利用する方法でも良い。
当該方法によれば、防塵保護具の装着固定は、広く一般に（食品等の真空梱包に）使用されている真空梱包装置を用いることができる。また、ストップバルブ等を防塵保護具に備えたままマスクブランクスを輸送あるいは保管する必要がない。また、マスクブランクス使用時の防塵保護具の取り外し（すなわち密閉減圧空間を常圧に戻す手段として）は、既述の熱封止用樹脂袋を切り破るだけで良く、極めて簡便である。【００５７】
（第４の実施の形態）
減圧密閉空間を利用した真空吸着法を用いて防塵保護具をマスクブランクスに装着固定する別の手段として、具体的には図６に示すような、防塵保護具の側壁底部の溝に埋め込まれた気密性を保つためのオーリングやガスケット等のシール材１１と天板に設けられた吸盤機構１９による減圧密閉空間の形成によっても良い。
当該方法によれば、真空ポンプ、ストップバルブ等の設備を必要とせず、簡便に防塵保護具の装着および取り外しが可能となる。また、吸盤機構１９の配置位置は、防塵保護具の固定のためのオーリングとの減圧密閉空間が形成できる位置であれば、どこでも良い。【００５８】
吸盤機構１９は、吸盤に吸盤の上下動作機構と固定機構と外枠を備えたものであって、防塵保護具を載置するあるいは取り外す際には吸盤を下げておき、防塵保護具を装着固定する際には吸盤を上げて密閉空間内を減圧する機構を持つものであって、上記密閉空間を減圧して防塵保護具を確実に固定するに必要な容積（吸盤の上下動による容積変化量）があれば、何でも良い。また、吸盤素材等の吸盤機構の構成材は、レジスト膜の性能に影響を与えない材料を選定使用することが好ましい。
上述の第１の実施の形態と同様に、振動試験処理前後の異物の増加（差異）を調べたが、異物の増加数は第１の実施の形態と変わりがなかった。又、このマスクブランクスを使って作成したマスクのパターン欠陥を検査したがなかった。【００５９】
（第５の実施の形態）
密閉空間を減圧して防塵保護具をマスクブランクスに装着固定する別の手段としては、本発明の第３の手段（請求項３）として記載のように、マスクブランクスと防塵保護具５の固定に吸盤シート２０を用いる手段を取っても良い。具体的には図７に示すように、防塵保護具５の側壁部の底に樹脂等からなる吸盤シート２０を予め吸着させ、次に、これをマスクブランクスの非有効領域（基板中央１４２ｍｍ角より外側の領域）に吸着させれば良い。【００６０】
吸盤シート２０の吸盤パターン（空洞室の形状）は、メッシュ形状、ディンプル形状、ハニカム形状等々、何でも良いが、防塵保護具がマスクブランクスに吸盤シート２０によって装着されたときに、防塵保護具とマスクブランクスとで形成される空間が密閉されるように（外部からの異物の進入を抑止するために）、吸盤シートの空洞部が上記密閉空間の内外で貫通しない吸盤パターンとすることが好ましい。また、防塵保護具の側壁部の底に、必要に応じた装着固定強度が得られる高密度で形成するのが好ましい。また、吸盤シート２０は、両面が吸盤シートであっても、片面（マスクブランクスに接する側）が吸盤シートであって、片側（防塵保護具に吸盤シートが固定させる側）が何らかの接着剤で構成されていても良い。
上述の第１の実施の形態と同様に、振動試験処理前後の異物の増加（差異）を調べたが、異物の増加数は第１の実施の形態と変わりがなかった。又、このマスクブランクスを使って作成したマスクのパターン欠陥を検査したがなかった。【００６１】
（第６の実施の形態）
防塵保護具をマスクブランクス基板に装着固定するさらに別の手段としては、本発明の第４の手段（請求項４）として記載のように、常温では接着性を持ち、加熱すると接着性が低下あるいは喪失する熱可塑性接着剤２１を用いることができる。具体的には図８に示すように、防塵保護具５の側壁部の底に上記の接着剤２１を塗布し、該接着剤２１により防塵保護具５をマスクブランクス１０１に固着させる。【００６２】
一例として、日東電工社製「熱はくりシート・リバアルファ」を粘着シートとして用いた例を以下に示す。
常温では接着性を持ち、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤を基材（ポリエステル）の片側に塗布した上記の両面接着テープを、もう片方の台座接着用粘着剤側を防塵保護膜の側壁部の底にして貼り、次いで、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤側をマスクブランクスの非有効領域（基板中央１４２ｍｍ角より外側の領域）に接着させる。【００６３】
マスク製造工程において、マスクブランクスを使用するに先立っては、マスク製造工程で広く一般に使用されているホットプレート型加熱処理装置を用い、上記の防塵保護具付きマスクブランクスを所定の加熱温度で処理する（例えば１５０℃で７．５分）。当該接着剤の機能（加熱により接着性が低下する）により、マスクブランクスに装着固定されていた防塵保護具は取り外しが可能となる。【００６４】
実施例では、特定の常温では接着性を持ち、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤を基材の片側に塗布した上記市販の両面接着テープを使用したが、レジスト付マスクブランクスの場合、レジスト膜の性能に影響を与えない接着剤及びその接着剤を用いた両面テープの基材を選定することが好ましい。
上述の第１の実施の形態と同様に、振動試験処理前後の異物の増加（差異）を調べたが、異物の増加数は第１の実施の形態と変わりがなかった。又、このマスクブランクスを使って作成したマスクのパターン欠陥を検査したがなかった。【００６５】
（第７の実施の形態）
上記の防塵保護具をマスクブランクス基板に装着固定する別の手段としては、本発明の第５の手段（請求項５）として記載のような手段が好ましい。すなわち、常温では接着性を持ち、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤２１を用いる場合、その別の構成として、使用する熱可塑性接着剤が、その接着性が低下或いは喪失する温度が、常温より高い温度で且つレジスト塗布後のベーク処理あるいは露光後のベーク処理の何れか低い方の温度より低い熱可塑性接着剤２２を用いることが特に好ましい。【００６６】
上記接着剤２２を用いた場合、その作用機構は、図８に示したものと全く同様であるが、接着性を低下させて防塵保護具５を取り外すための加熱処理温度が、レジスト塗布後のベーク処理あるいは露光後のベーク処理の何れか低い方の温度より低いことで、特にレジスト付きマスクブランス１０２に防塵保護具５を装着固定する場合には、防塵保護具５の取り外しのための加熱処理のレジスト膜への影響（例えば、感度変化、パターン形状変化、膜厚減少等）を最小限に抑えることが出来る。【００６７】
一例として、日東電工社製「熱はくりシート・リバアルファ（剥離時の加熱温度が９０℃のもの）」を粘着シートとして用いた例を以下に示す。上記の、常温では接着性を持ち、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤を基材（ポリエステル）の片側に塗布した両面接着テープを、もう片方の台座接着用粘着剤側を防塵保護膜の側壁部の底にして貼り、次いで、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤側をレジスト付きマスクブランクス（レジストは、電子線露光描画用ポジ型化学増幅型レジストである、ＦＥＰ１７１（富士フィルムアーチ社製））の非有効領域に接着させる。【００６８】
マスク製造工程において、マスクブランクスを使用するに先立っては、マスク製造工程で広く一般に使用されているホットプレート型加熱処理装置を用い、上記の防塵保護具付きマスクブランクスを所定の加熱温度で処理する（この例では、９０℃で７．５分）。当該接着剤の機能（加熱により接着性が低下する）により、マスクブランクスに装着固定されていた防塵保護具は取り外しが可能となる。【００６９】
上記のレジストＦＥＰ１７１は、塗布後のベーク処理温度、露光後のベーク処理温度とも１３０〜１５０℃で処理された場合に最大の性能を発現する。また、追加の加熱処理がなされても、上記温度範囲以下の加熱温度であれば、その性能に何らの影響を受けないことが確認されている。【００７０】
上記の例では、特定の常温では接着性を持ち、加熱すると接着性が低下する熱可塑性接着剤を基材の片側に塗布した上記市販の両面接着テープを使用したが、レジスト膜の性能に影響を与えない接着剤及びその接着剤を用いた両面テープの基材を選定することが好ましい。
上述の第１の実施の形態と同様に、振動試験処理前後の異物の増加（差異）を調べたが、異物の増加数は第１の実施の形態と変わりがなかった。又、このマスクブランクスを使って作成したマスクのパターン欠陥を検査したがなかった。【００７１】
（第８の実施の形態）
また、蓋形状をなす防塵保護具の別の形態として、本発明の第４の手段（請求項４）として記載の具体例として、図９に示すように、アルミ等の金属からなるフレーム２３の片側にニトロセルルース等の透明膜２２を貼ったペリクルを用いることができる。【００７２】
この解決手段によれば、防塵保護具とマスクブランクスが形成する密閉空間内（すなわちマスクブランクス表面）を、透明膜を経て目視観察することが可能であり、また、検査装置によっては、当該防塵保護具を装着したまま（ニトロセルロース等の透明膜を経て）、レーザー表面異物検査装置でマスクブランクス表面の異物数を計数可能である。これにより、防塵保護具を装着した後あるいは取り外し前のマスクブランクス表面状態の検査が可能となる。【００７３】
また、ペリクルは接着剤を介してマスクブランクスに装着されるのが一般的であるが、この解決手段では、ペリクル装着用接着剤に代えて、防塵保護具をマスクブランクスに装着する手段として、前記第２や第３の手段の何れかを用いれば良い。【００７４】
上述の第１の実施の形態と同様に、振動試験処理前後の異物の増加（差異）を調べたが、異物の増加数は第１の実施の形態と変わりがなかった。又、このマスクブランクスを使って作成したマスクのパターン欠陥を検査したがなかった。【００７５】
上記実施の形態では、基板周縁部の不要なレジスト膜を選択的に除去した後に防塵保護具を装着固定したが、基板周縁部の不要なレジスト膜は除去しなくとも良い。ただし、上記防塵保護具を装着固定する前には、基板周緑部の不要なレジスト膜を除去しておくことが好ましい。防塵保護具の装着によりレジスト膜（マスクブランクス）表面は塵埃の直接的な付着から保護されるが、予め不要なレジスト膜を基板周縁部あるいは防塵保護具との当接部から除去しておくことで塵埃の発生そのものが抑えられ、例えば防塵保護具の装着あるいは取り外しの際に、これら塵埃によるマスクブランクス表面の汚染（異物増加）を抑止できる。このことは、レジスト膜のみを形成したマスクプランクスに防塵保護具を装着する場合に限らす、更に反射防止膜、導電性膜、耐環境保護膜等々を積層した場合であっても適用される。【００７６】
また、上記実施の形態では、レジスト膜の成膜後に防塵保護具を装着したが、レジスト膜を塗布形成しないでマスクブランクスを保管あるいは移送・輸送する場合は、例えば、遮光膜あるいは吸収膜等、最上層の成膜形成後に防塵保護具を装着すれば良い。【００７７】
また、上記実施の形態では、防塵保護具の効果を検証するために、レジストを塗布した後に、次いで、レーザー走査型異物検査装置でマスクブランクス（レジスト膜）表面の異物数を測定し、その後に防塵保護具を装着したが、レジスト塗布直後に防塵保護具を装着して良い。これによって、レジスト塗布後の異物検査工程でのマスクプランクス（すなわちレジスト膜）表面への塵埃の直接的な付着を防止できる。【００７８】
また、上記実施の形態では、輸送を想定した振動試験処理を経て、防塵保護具の取り外しの後に、露光処理に先立ってレーザー走査型異物検査装置でマスクブランクス（レジスト膜）表面の異物数を計数測定したが、この工程は必ずしも必要としない。【００７９】
以上の通り、従来広く一般に用いられている技術である「レジスト塗布後に基板周縁部の不要なレジスト膜を選択的に除去する方法」で作製したマスクブランクスでは、振動によるマスクブランクスと収納容器との擦れによるレジスト膜の剥離・脱離はないのであるから、基板周縁部の不要なレジスト膜を除去しなかったマスクブランクスに対比すると、振動試験処理前後の異物増加は明らかに抑えられている。しかしながら、基板周縁部の不要なレジスト膜を除去しても、振動試験処理前後の異物増加はゼロにはなっていない。【００８０】
これは、振動試験処理（移送・輸送を想定した加速評価）により、マスクブランクスと収納容器、収納容器の構成部材どうしの接触部位（例えば、中箱と外箱の内側との接触部位）の擦れによって塵埃が発生して基板主表面を汚染したものと考えられる。これら塵埃は、収納容器の構成部材どうしの擦れにより発生したもの、あるいは、レジスト膜形成前にマスクブランクスに形成された各種の膜が剥離・脱落したものと考えられ、これらがマスクプランクス表面（レジスト膜上）に付着したものと考えられる。それらの汚染異物が、最終的にはマスクプランクスを素材とする製品であるマスク（レチクルを含む）の欠陥の原因あるいはマスクの製造歩留低下の原因となることは明らかである。【００８１】
従って、上記の実施の形態に示すように、本発明の防塵保護具を装着して有するマスクブランクス、及び、本発明のマスクブランクス製造方法、並びに、マスク製造方法により、マスクブランクスを収納容器に出し入れする際の両者の擦れによる発塵、及び、マスクブランクスを収納容器に収めて保管、移動あるいは輸送する際の振動または衝撃によるマスクブランクスと収納容器あるいは収納容器の各構成部材間の擦れによる発塵、これらによるマスクブランクス（すなわちレジスト膜（あるいはマスクブランクス最上層）表面の異物汚染（異物の増加）は大きく低減される。【００８２】
本発明のマスクブランクス、マスクブランクスの製造方法、並びに、転写プレート（マスクやスタンパ）の製造方法により、レジスト塗布直後の表面欠陥（異物）品質を維持したまま、マスクブランクスを転写プレート製造工程に供給することが可能となり、マスクブランクスを収納容器に出し入れする際、及び、マスクブランクスを収納容器に収めて、保管、移動あるいは輸送することによる振動または衝撃に起因するマスクブランクス（すなわちレジスト膜）表面の異物汚染（異物の増加〉は抑えられて、転写プレート（マスクやスタンパ）欠陥の増加及び転写プレート（マスクやスタンパ）製造歩留の低下は抑えられる。【００８３】
【特許文献５】特開２００１−２５９５０２号公報
【産業上の利用可能性】
【００８４】
以上詳述したように、本発明によれば、マスクブランクスや転写プレート（マスクやスタンパ）の製造プロセスもしくは、マスクブランクスの保管・搬送の際等に異物がマスクブランクス主表面のパターン転写用のマスクパターン又は、パターン転写用の凹凸が形成される有効領域に直接付着する等して不都合をおこす恐れを効果的に防止することを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明の実施形態にかかるマスクブランクスの製造方法、マスクの製造方法の説明図（Ａ〜Ｅ）である。
【図２】本発明の実施形態にかかるマスクブランクスの製造方法、マスクの製造方法の説明図（Ｆ〜Ｊ）である。
【図３】本発明に係るマスクブランクスの第１の実施形態を模式化して示す断面図である。
【図４】本発明に係るマスクブランクスの第２の実施形態を模式化して示す断面図である。
【図５】本発明に係るマスクブランクスの第３の実施形態を模式化して示す断面図である。
【図６】本発明に係るマスクブランクスの第４の実施形態を模式化して示す断面図である。
【図７】本発明に係るマスクブランクスの第５の実施形態を模式化して示す断面図である。
【図８】本発明に係るマスクブランクスの第６の実施形態を模式化して示す断面図である。
【図９】本発明に係るマスクブランクスの第８の実施形態を模式化して示す断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１  基板
２  遮光膜
３  反射防止膜
４  レジスト膜
４ａ  レジストパターン
５  防塵保護具
１１  シール材（防塵保護具の側壁底部）
１１ａ  シール材（熱封止用樹脂製袋の固定用）
１２  継ぎ手
１３  チューブ
１４  常時閉型ストップバルブ
１５  真空ポンプ
１６  真空気密室
１７  熱封止袋の固定板
１８  熱封止用樹脂袋
１８ａ  熱封止部
１９  吸盤機構
２０  熱可塑性接着剤（常温で接着性を有し、加熱により接着性が低下或いは喪失する接着剤）
２１  熱可塑性接着剤（上記と同様で、かつ、接着性が低下する加熱処理温度が常温より高い温度で且つレジストの加熱温度の低い方よりも低いものである）
２２  透明膜
２３  アルミ製フレーム
２４  接着剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
2006006318.tif 000011
2006006318.tif 000012
2006006318.tif 000013