【手続補正書】
【提出日】令和1年12月26日(2019.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケルめっき炭素繊維膜（３）であって、
表面に金属コロイド粒子（３２）が付着している炭素繊維基布（３１）と、
前記炭素繊維基布（３１）の露出面、および、前記金属コロイド粒子（３２）の前記炭素繊維基布（３１）から離れた表面に設けられるニッケル金属層（３３）と、
を含むことを特徴とするニッケルめっき炭素繊維膜。
【請求項２】
前記金属コロイド粒子（３２）はＰｂコロイド粒子又はＡｇコロイド粒子である、ことを特徴とする請求項１に記載のニッケルめっき炭素繊維膜。
【請求項３】
少なくとも１つのシールドユニットを備えるシールド構造であって、前記シールドユニットは、請求項１または２に記載のニッケルめっき炭素繊維膜（３）を含むことを特徴とするシールド構造。
【請求項４】
前記シールドユニットは、
一方の側面に前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）が設けられている少なくとも１つの炭素繊維布（１）をさらに含み、
好ましくは１つ又は複数の前記炭素繊維布（１）の厚みが０．１３〜１．０ｍｍである、
ことを特徴とする請求項３に記載のシールド構造。
【請求項５】
前記シールドユニットは、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）と前記炭素繊維布（１）との間に設けられる金網（２）、をさらに含み、
好ましくは前記金網（２）が銅網であり、更に好ましくは前記金網（２）の厚みが０．００５〜０．０１５ｍｍである、
ことを特徴とする請求項４に記載のシールド構造。
【請求項６】
前記シールドユニットは、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）の前記金網（２）から離れた表面に設けられるパーマロイ層（４）をさらに含み、
好ましくは前記パーマロイ層（４）の厚みが０．０５〜０．２０ｍｍであり、更に好ましくは前記シールドユニットは、合計厚みが０．７〜１．２ｍｍである重畳して設けられた複数の前記ニッケルめっき炭素繊維膜（３）を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載のシールド構造。
【請求項７】
重畳して設けられた複数の前記シールドユニットを含み、
任意の隣り合う２つの前記シールドユニット間、および、それぞれの前記シールドユニットにおける任意の隣り合う２つの構造層間に設けられる粘着剤層をさらに含み、
好ましくは前記粘着剤層の原料は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、更に好ましくは前記硬化剤がメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、前記促進剤が三フッ化ホウ素エチルアミンである、
ことを特徴とする請求項３に記載のシールド構造。
【請求項８】
ニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法であって、
炭素繊維基布を提供するステップＳ１と、
前記炭素繊維基布に金属コロイド粒子を設けるステップＳ３と、
前記炭素繊維基布の露出面、および、前記金属コロイド粒子の前記炭素繊維基布から離れた表面にニッケル金属層を設けるステップＳ４と、
を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項９】
前記ステップＳ１と前記ステップＳ３との間に、
前記炭素繊維基布の表面の有機物を除去するように前記炭素繊維基布の表面を処理するステップＳ２、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記ステップＳ２は、
アセトンを使用して前記炭素繊維基布を浸漬することと、
フッ化水素酸と強酸との混合溶液を使用して前記アセトンに浸漬された後の前記炭素繊維基布を浸漬することと、
水を使用して浸漬後の前記炭素繊維基布を洗浄することと、を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記強酸は硫酸、塩酸又は硝酸であり、好ましくは前記フッ化水素酸と前記強酸とのモル比が１：３〜１：１であり、更に好ましくは前記混合溶液の体積濃度が５〜１５％であり、より更に好ましくは前記ステップＳ２において前記混合溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬する時間が５〜３０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記ステップＳ３は、
還元性金属塩の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬するステップＳ３１と、
酸化性金属塩の希酸溶液を使用して前記ステップＳ３１で処理された後の前記炭素繊維基布を活性化処理して、前記金属コロイド粒子を生成し、好ましくは前記酸化性金属塩がＰｄＣｌ２又はＡｇＮＯ３であり、更に好ましくは前記還元性金属塩がＳｎＣｌ２であるステップＳ３２と、を含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記ステップＳ３１における希酸溶液は第１の塩酸溶液であり、かつ前記第１の塩酸溶液において、前記ＳｎＣｌ２の重量濃度が４〜８％であり、好ましくは前記ステップＳ３１の浸漬温度が２５〜４０℃であり、浸漬時間が２０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、前記ステップＳ３２における希酸溶液は第２の塩酸溶液であり、かつ前記第２の塩酸溶液において、前記ＰｄＣｌ２の重量濃度が０．０２〜０．０４％であり、好ましくは前記ＰｄＣｌ２の希酸溶液の温度が２５〜４０℃であり、前記活性化処理の時間が１０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
ＳｎＣｌ２の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を浸漬した後、前記ステップＳ３１は、
水を使用して前記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含み、
前記酸化性金属塩はＰｄＣｌ２であり、ＰｄＣｌ２の希酸溶液を使用して前記炭素繊維基布を活性化処理した後、前記ステップＳ３２は、
水を使用して前記炭素繊維基布を洗浄することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記ステップＳ４は、
めっき液を使用して、化学ニッケルめっき法により前記ニッケル金属層を設けることを含み、
好ましくは前記めっき液はニッケル塩４０〜６０部、還元剤４０〜６０部、錯化剤８０〜１２０部、緩衝剤４０〜６０部、及び界面活性剤０．１５〜０．２５部を含み、更に好ましくは前記めっき液のｐＨ値が１０〜１１である、
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記ニッケル塩は硫酸ニッケルを含み、前記還元剤は次亜リン酸ナトリウムを含み、前記錯化剤はクエン酸ナトリウムを含み、前記緩衝剤は塩化アンモニウムを含み、前記界面活性剤はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含み、好ましくは前記めっき液の温度が４０〜６０℃であり、更に好ましくは前記化学ニッケルめっき法の実施時間が２０〜５０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
少なくとも１つのシールドユニットの製造過程を含むシールド構造の作製方法であって、前記製造過程は、請求項８乃至１７のうちのいずれか一項に記載のニッケルめっき炭素繊維膜の製造方法を含むことを特徴とする作製方法。
【請求項１９】
前記製造過程は、
炭素繊維布を提供することと、
前記炭素繊維布に金網と前記ニッケルめっき炭素繊維膜を順次重畳して設けることと、をさらに含み、
好ましくは前記製造過程は、
前記ニッケルめっき炭素繊維膜の前記金網から離れた表面にパーマロイ層を設けてプレシールドユニットを形成すること、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１８に記載の作製方法。
【請求項２０】
前記プレシールドユニットを熱間プレス成形するか、或いは、複数の重畳された前記プレシールドユニットを熱間プレス成形して、前記シールド構造を形成すること、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１９に記載の作製方法。
【請求項２１】
前記熱間プレス成形の過程は、
事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成することと、
前記事前熱間プレス構造を圧着することと、
圧着され後の前記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含み、
好ましくは前記粘着剤は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、好ましくは前記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、前記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンであり、
更に好ましくは前記圧着の圧力が０．４〜０．８ＭＰａであり、
より更に好ましくは前記硬化が熱硬化であり、かつ前記熱硬化の温度が１２０〜１５０℃であり、前記熱硬化の時間が１〜３ｈである、
ことを特徴とする請求項２０に記載の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
さらに、上記熱間プレス成形の過程は、事前に熱間プレス成形を行う隣り合う構造層間に粘着剤を設け、事前熱間プレス構造を形成することと、上記事前熱間プレス構造を圧着することと、圧着された後の上記事前熱間プレス構造における粘着剤を硬化させることと、を含み、好ましくは上記粘着剤は、エポキシ樹脂８０〜１２０部、硬化剤６０〜８０部、促進剤０．５〜２．５部を含み、好ましくは上記硬化剤はメチルテトラヒドロ無水フタル酸であり、上記促進剤は三フッ化ホウ素エチルアミンであり、更に好ましくは上記圧着の圧力が０．４〜０．８ＭＰａであり、より更に好ましくは上記硬化が熱硬化であり、かつ上記熱硬化の温度が１２０〜１５０℃であり、上記熱硬化の時間が１〜３ｈである。