Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年7月21日(2020.7.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
或いは、このようなレーザーによって照射されるべき面を選択することにより、受容点を見ることを中断し、もしくは受容点への視線を外させることができる。緑色スペクトル領域内で働くレーザーが有利である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
付加レーザーはアクティブレーザーと少なくとも同じ面のターゲットを照射すると有利である。しかしながらヴィネット（Vignette）（軍事的には、小さなシステム（Kleinlage）、使用計画）に応じて、付加レーザーによって照射される対象物／ターゲットの面は、アクティブレーザーによって照射される面よりも著しく大きくてもよく、これにより受容点へ向けられたその人（たち）の視線を外させることができる。アクティブレーザーの作用領域内の少なくとも一人はこのような照射に気づく。直感的に、このような照射は危険なものであると格付けされる。少なくとも一人は付加レーザーのレーザービームが可視性であることに基づいて人間の反射作用、いわゆる瞬目反射に従うことになり、且つ／又は付加レーザー（ダズリングレーザー）の照射方向から、もしくは照射された対象物／ターゲットからの反射から目視方向を逸らすことになる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブレーザー（１）を備えたレーザーシステムであって、
前記アクティブレーザーが、少なくとも１つのビームガイド（１．１，３）と、前記アクティブレーザー（１）を対象物／ターゲット（１０）の周りで使用するときの作用領域（１４）と、を有するレーザーシステムにおいて、
少なくとも１つの付加レーザー（２）を備えた保護装置（１００）が設けられており、前記付加レーザーが可視スペクトル領域内で働き、前記アクティブレーザー（１）の前記作用領域（１４）内に少なくとも一人の人間（１２）が前記アクティブレーザー（１）の使用前に検出されたときに、前記付加レーザー（２）がスイッチオンされるようになっていることを特徴とするレーザーシステム。
【請求項２】
前記アクティブレーザー（１）と前記付加レーザー（２）とが互いに離れて取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載のレーザーシステム。
【請求項３】
前記アクティブレーザー（１）と前記付加レーザー（２）とが互いに軸線平行に整列させられていることを特徴とする請求項１に記載のレーザーシステム。
【請求項４】
前記アクティブレーザー（１）と前記付加レーザー（２）とが共通のビームガイド（３）にアクセスすることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のレーザーシステム。
【請求項５】
前記アクティブレーザー（１）がファイバーレーザーであることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のレーザーシステム。
【請求項６】
前記付加レーザー（１）がダズリングレーザーであることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のレーザーシステム。
【請求項７】
前記ダズリングレーザーが緑色スペクトル領域内で働くことを特徴とする請求項６に記載のレーザーシステム。
【請求項８】
前記安全装置（１００）が照明レーザーとしても機能することができることを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載のレーザーシステム。
【請求項９】
アクティブレーザー（１）を備えたレーザーシステムのレーザー照射に対する保護方法であって、
前記アクティブレーザーが少なくとも１つのビームガイド（１．１，３）と、前記アクティブレーザー（１）を対象物／ターゲット（１０）の周りで使用するときの作用領域（１４）とを有する保護方法において、
次のステップ、すなわち、
前記対象物／ターゲット（１０）の周りの前記作用領域（１４）を割り出すステップと、
少なくとも前記作用領域（１４）を人間（１２）に関して監視するステップと、
少なくとも一人の人間（１２）を検出した後、付加レーザー（２）によって可視光線を送出するステップと、
前記アクティブレーザー（１）を前記対象物／ターゲット（１０）に向かって作動させるステップと、有することを特徴とする保護方法。
【請求項１０】
前記アクティブレーザー（１）の作動が前記付加レーザー（２）のスイッチオンに対して時間をずらされて行われることを特徴とする請求項９に記載の保護方法。
【請求項１１】
前記付加レーザー（２）が、前記アクティブレーザー（１）と少なくとも同じ面の対象物／ターゲット（１０）を照射し、前記付加レーザー（２）によって照射される対象物／ターゲット（１０）の面が、前記アクティブレーザー（１）によって照射される面よりも大きくてもよいことを特徴とする請求項９又は１０に記載の保護方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月3日(2020.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
毛髪の色の均一性を決定する方法であって、
毛髪が描かれ且つパラメータのうちの１つが色相であるパラメータセットによって定義される色空間内でパラメータ化されたデジタル画像を提供する工程、
前記デジタル画像内の少なくとも１つの毛髪分析領域を決定および／または定義する工程、
前記少なくとも１つの毛髪分析領域内の色相分布を決定する工程、および
前記決定された色相分布に基づいて少なくとも１つの色均一性値を決定する工程を含む方法。
【請求項２】
前記デジタル画像を提供する工程が、元の色空間内でパラメータ化された元のデジタル画像の前記色空間への変換を含んでもよく、前記元の色空間が、前記色空間とは異なる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記色空間が、色相−彩度−明度色空間である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記色相が、色相環上の色角度によって定義される、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記決定された色相分布に基づいて少なくとも１つの色均一性値を決定する工程が、円周分散を決定することを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの毛髪分析領域を決定および／または定義する工程が、ユーザによって前記少なくとも１つの毛髪分析領域を定義することを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記ユーザによって少なくとも１つの毛髪分析領域を定義する工程が、前記毛髪分析領域の位置および／または形状および／またはサイズを定義することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの毛髪分析領域を決定および／または定義する工程が、
前記毛髪が表示される毛髪表示領域を決定すること、および
前記毛髪表示領域の少なくとも一部を前記少なくとも１つの毛髪分析領域として定義することを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの毛髪分析領域が、前記毛髪表示領域の全体を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの毛髪分析領域が、複数の毛髪表示領域を含む、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の毛髪分析領域が、それらの中心点位置において互いに異なる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
さらに、前記毛髪分析領域の前記中心点位置に対する前記決定された色均一性値の関係を作成する工程を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
さらに、前記決定された結果を表示する工程も含む、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記決定された結果の表示が、前記デジタル画像の表示を含み、前記デジタル画像の前記毛髪表示領域において、前記毛髪が前記色相によって表示され、前記毛髪表示領域の全体が均一な彩度および均一な明度によって表示される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
毛髪の色の均一性を決定する装置であって、
データ処理装置、および
表示装置を含み、
前記装置が、好ましくはアプリによって、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法を実行するように設計されている、装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
本方法のさらなる有利な実施形態は、装置の説明から明らかになり、またその逆も成り立つ。
本明細書の当初の開示は、少なくとも下記の態様を包含する。
〔１〕毛髪の色の均一性を決定する方法および装置であって、
毛髪が描かれ且つパラメータのうちの１つが色相であるパラメータセットによって定義される色空間内でパラメータ化されたデジタル画像を提供する工程、
前記デジタル画像内の少なくとも１つの毛髪分析領域を決定および／または定義する工程、
前記少なくとも１つの毛髪分析領域内の色相分布を決定する工程、および
前記決定された色相分布に基づいて少なくとも１つの色均一性値を決定する工程を含む方法および装置。
〔２〕前記デジタル画像を提供する工程が、元の色空間内でパラメータ化された元のデジタル画像の前記色空間への変換を含んでもよく、前記元の色空間が、前記色空間とは異なる、前記〔１〕に記載の方法。
〔３〕前記色空間が、色相−彩度−明度色空間である、前記〔１〕または〔２〕に記載の方法。
〔４〕前記色相が、色相環上の色角度によって定義される、前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の方法。
〔５〕前記決定された色相分布に基づいて少なくとも１つの色均一性値を決定する工程が、円周分散を決定することを含む、前記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の方法。
〔６〕前記少なくとも１つの毛髪分析領域を決定および／または定義する工程が、ユーザによって前記少なくとも１つの毛髪分析領域を定義することを含む、前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の方法。
〔７〕前記ユーザによって少なくとも１つの毛髪分析領域を定義する工程が、前記毛髪分析領域の位置および／または形状および／またはサイズを定義することを含む、前記〔６〕に記載の方法。
〔８〕前記少なくとも１つの毛髪分析領域を決定および／または定義する工程が、
前記毛髪が表示される毛髪表示領域を決定すること、および
前記毛髪表示領域の少なくとも一部を前記少なくとも１つの毛髪分析領域として定義することを含む、前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の方法。
〔９〕前記少なくとも１つの毛髪分析領域が、前記毛髪表示領域の全体を含む、前記〔８〕に記載の方法。
〔１０〕前記少なくとも１つの毛髪分析領域が、複数の毛髪表示領域を含む、前記〔１〕〜〔９〕のいずれかに記載の方法。
〔１１〕前記複数の毛髪分析領域が、それらの中心点位置において互いに異なる、前記〔１０〕に記載の方法。
〔１２〕さらに、前記毛髪分析領域の前記中心点位置に対する前記決定された色均一性値の関係を作成する工程を含む、前記〔１１〕に記載の方法。
〔１３〕さらに、前記決定された結果を表示する工程も含む、前記〔１〕〜〔１２〕のいずれかに記載の方法。
〔１４〕前記決定された結果の表示が、前記デジタル画像の表示を含み、前記デジタル画像の前記毛髪表示領域において、前記毛髪が前記色相によって表示され、前記毛髪表示領域の全体が均一な彩度および均一な明度によって表示される、前記〔１３〕に記載の方法。
〔１５〕毛髪の色の均一性を決定する装置であって、
データ処理装置、および
表示装置を含み、
前記装置が、好ましくはアプリによって、前記〔１〕〜〔１４〕のいずれかに記載の方法を実行するように設計されている、装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月4日(2019.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子、可撓性基材、支持構造及び駆動チップを含み、前記表示素子は前記可撓性基材上に位置し、前記可撓性基材は前記支持構造上に位置し、その中、
前記支持構造の中に凹溝が設けられていて、前記凹溝は前記駆動チップを収容するために用いられることを特徴とする可撓性表示パネル。
【請求項２】
前記支持構造の厚さは前記駆動チップの厚さ以上であることを特徴とする、請求項１に記載の可撓性表示パネル。
【請求項３】
前記凹溝の形状と位置は前記駆動チップの形状と位置にマッチすることを特徴とする、請求項２に記載の可撓性表示パネル。
【請求項４】
前記支持構造は支持膜を含むことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の可撓性表示パネル。
【請求項５】
前記支持構造は支持膜と緩衝部材とを含み、前記支持膜は前記緩衝部材上に位置し、前記可撓性基材は前記支持膜上に位置することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の可撓性表示パネル。
【請求項６】
前記支持構造は支持膜と放熱部材とを含み、前記支持膜は前記放熱部材上に位置し、前記可撓性基材は前記支持膜上に位置することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の可撓性表示パネル。
【請求項７】
前記支持構造は支持膜、緩衝部材及び放熱部材を含み、前記支持膜は前記緩衝部材上に位置し、前記緩衝部材は前記放熱部材上に位置し、前記可撓性基材は前記支持膜上に位置することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の可撓性表示パネル。
【請求項８】
さらに第一薄膜、第二薄膜及び接続部材を含み、その中、
前記第一薄膜は前記表示素子上に位置し、前記接続部材は前記第一薄膜上に位置し、前記第二薄膜は前記接続部材上に位置することを特徴とする、請求項１に記載の可撓性表示パネル。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月15日(2020.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を保存し、および情報にアクセスするための方法であって、該方法は：
ａ）少なくとも１つのデジタル配列の形態の情報の少なくとも１項目を、少なくとも１つの核酸配列に変換する工程；
ｂ）面を含む構造を提供する工程；
ｃ）共同して少なくとも１つの核酸配列をコードする、あらかじめ決定された配列を有する複数のポリヌクレオチドを合成する工程であって、各ポリヌクレオチドは面から伸長する、工程；
ｄ）複数のポリヌクレオチドを保存する工程；および
ｅ）受信ユニットに複数のポリヌクレオチドを選択的に転写する工程であって、選択的に転写する工程は静電力の適用を含み、および複数のポリヌクレオチドは共同して少なくとも１つの核酸配列の単一の核酸配列をコードする、工程、
を含む、方法。
【請求項２】
受信ユニットに複数のポリヌクレオチドを選択的に転写する工程は、伝導性部材と、構造と伝導性部材の間に適用されたボルテージポテンシャルをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
受信ユニットに複数のポリヌクレオチドを選択的に転写する工程は、圧力解放または圧力ノズルをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
共同して少なくとも１つの核酸配列をコードする、あらかじめ決定された配列を有する複数のポリヌクレオチドを合成する工程は、圧力ノズルを使用する工程をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
共同して少なくとも１つの核酸配列をコードする、あらかじめ決定された配列を有する複数のポリヌクレオチドを合成する工程は、圧力ノズルを通じてポリヌクレオチドを充満させる工程をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
共同して少なくとも１つの核酸配列をコードする、あらかじめ決定された配列を有する複数のポリヌクレオチドを合成する工程は、圧力ノズルを通じてヌクレオチドを沈着させる工程をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
複数のポリヌクレオチドを配列する工程；および
少なくとも１つのデジタル配列をアセンブルする工程、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
アセンブルした少なくとも１つのデジタル配列は、最初の少なくとも１つのデジタル配列と比較して１００％の精度である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
情報を収集するための方法であって、該方法は：
ａ）面を含む構造を提供する工程であって、該構造は：
少なくとも１つの核酸配列を共同してコードする、あらかじめ決定された配列を有する第１の複数のポリヌクレオチド；および少なくとも１つの核酸配列を共同してコードする、あらかじめ決定された配列を有する第２の複数のポリヌクレオチドを含み、ここで、第１の複数のポリヌクレオチドと第２の複数のポリヌクレオチドの両方が面から伸長し、同じ少なくとも１つの核酸配列を共にコードする、工程；
ｂ）第１の複数のポリヌクレオチドを含む前記構造の領域を選択的に分離し、および面から第１の複数のポリヌクレオチドを除去する工程であって、面から第１の複数のポリヌクレオチドを除去する工程が静電力の適用を含む、工程；および、
ｃ）情報の１項目をコードする少なくとも１つのデジタル配列を形成するために、少なくとも１つの核酸配列を配列し、かつ解読する工程、
を含む、方法。
【請求項１０】
第１の複数のポリヌクレオチドを含む構造の領域は、チャネルまたはウェルのクラスタを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
構造は固い構造である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
構造は柔らかい構造である、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
第１の複数のポリヌクレオチドを欠いている構造の残りの部分のみを含む構造の領域は、元通りになるよう一緒にスプライシングされる、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
面から第１の複数のポリヌクレオチドを除去する工程は、伝導性部材と、構造と伝導性部材の間に適用されたボルテージポテンシャルを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
面から第１の複数のポリヌクレオチドを除去する工程は、圧力解放または圧力ノズルをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
第１の複数のヌクレオチドの各ポリヌクレオチドは、最大で５００塩基の長さを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
第１の複数のヌクレオチドの各ポリヌクレオチドは、最大で２００塩基の長さを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１８】
第２の複数のヌクレオチドの各ポリヌクレオチドは、最大で５００塩基の長さを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１９】
第２の複数のヌクレオチドの各ポリヌクレオチドは、最大で２００塩基の長さを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項２０】
情報の項目の量は少なくとも１ギガバイトである、請求項９に記載の方法。
【請求項２１】
情報の項目の量は少なくとも１テラバイトである、請求項９に記載の方法。
【請求項２２】
情報の項目の量は少なくとも１ペタバイトである、請求項９に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年11月10日(2020.11.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２種以上のアクリル酸モノマーが重合されたアクリル系粘着樹脂共重合体から発生する水分含量を３５５〜３６５℃の最終温度範囲で測定し、下記の数式１に代入することを含むアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法：
［数式１］
【数１】
2020504824.tif 000001
前記数式１において、
ＡＡは、アクリル酸を示し、
ＷＨ２Ｏは、測定された水分量（μｇ）であり、
分子部分の"２"は、アクリル酸２ｍｏｌ当たり１ｍｏｌのＨ２Ｏが発生するという意味であり、
ＭＷＡＡは、アクリル酸モノマーの分子量（７２．０６ｇ／ｍｏｌ）であり、
分母の"１０００"は、重量単位の補正のために使われたものであり、
ＭＷＨ２Ｏは、水の分子量（１８．０２ｇ／ｍｏｌ）であり、
ＷＳは、試料量（ｍｇ）である。
【請求項２】
前記２種以上のアクリル酸モノマーが、アクリル酸（ＡＡ）、エチルヘキシルアクリレート（ＥＨＡ）、ブチルアクリレート（ＢＡ）、メチルアクリレート（ＭＡ）、エチルアクリレート（ＥＡ）、エチルヘキシルメタクリレート（ＥＨＭＡ）、ブチルメタクリレート（ＢＭＡ）、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）及びエチルメタクリレート（ＥＭＡ）からなる群からアクリル酸を含んで選択される２種以上である請求項１に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【請求項３】
前記２種以上のアクリル酸モノマーが、アクリル酸（ＡＡ）、エチルヘキシルアクリレート（ＥＨＡ）及びブチルアクリレート（ＢＡ）からなる群からアクリル酸を含んで選択される２種以上である請求項２に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【請求項４】
前記アクリル系粘着樹脂共重合体が、当該アクリル酸モノマー、溶媒及び熱ラジカル開始剤を重合してフィルム状に製作された請求項１から３のいずれか一項に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【請求項５】
前記溶媒が、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）及び沸点が６０〜７８℃である溶媒である請求項４に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【請求項６】
前記熱ラジカル開始剤が、アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）及びジアゾ基を含む熱ラジカル開始剤である請求項４に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【請求項７】
前記重合が、溶媒の沸点で行われる請求項１から６のいずれか一項に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【請求項８】
前記重合が、６０〜７８℃で行われる請求項７に記載のアクリル系粘着樹脂共重合体中のアクリル酸含量の分析方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
一実施態様において、前記アクリル系粘着樹脂共重合体は、当該モノマー、溶媒及びＴＲＩ（熱ラジカル開始剤）を重合してフィルム状に製作される。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月9日(2020.4.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
第2のステップであって、空間薄膜構造に対して数値検証を行う。
第1のステップの1.5）で得られた最適化された治具形式に基づいて、薄膜のランダムな欠陥を導入することにより、非線形後座屈分析を行い、最適化された空間薄膜構造に対して効果検証を行う。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
第2のステップで、空間薄膜構造に対して数値検証を行う。
第1のステップの1.5）で得られた最適化された治具形式に基づいて、薄膜のランダムな欠陥を導入することにより、非線形後座屈分析を行い、最適化された空間薄膜構造に対して効果検証を行う。その結果、最適化された「弓形」治具（図2（b）に示すように、薄膜面外の変位は0に近く、局所的なしわ現象はなく、図中の両側の色が濃いものは治具であり、薄い灰色の領域が薄膜を示す）と「凸形」治具（図4（b）に示すように、薄膜面外の変位は0に近く、局所的なしわ現象はなく、図中の四隅の黒色領域は治具を示し、薄い灰色の領域は薄膜を示す）により、2種の構造の薄膜の最小主応力をそれぞれ高めるのに有利で、薄膜を裁断せず、運転コストを増加させずに局部的なしわ現象を回避し、高精度な表面の要求を満足することがわかる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
しわを抑制する空間薄膜構造治具形状を最適化する設計方法であって、以下のステップ、すなわち：治具部材に対して形状を最適化する第1のステップであって、
1.1）構造の寸法要求と実際のロード状況に基づいて設計領域を決定し、有限要素セルメッシュを分割し、治具付き薄膜構造の有限要素モデルを作成し、前記の薄膜構造有限要素モデルで、剛性治具部材は弾性率が大きい材料でシミュレーションを行い、薄膜と治具の連結線上でいくつかの設計点を選択し、Bスプライン関数で補間して治具と薄膜との境界を生成させ；
1.2）剛性治具に変位荷重を加え、非線形有限要素分析方法を用いて前記薄膜構造有限要素モデルを分析し；
1.3）薄膜領域内の最小主応力の最大化を最終的な設計目標として、治具のエッジラインを設計し、形状最適化モデルを構築し；
（a）目標については、薄膜領域の最小主応力を最大化すること、すなわち
2020504859.tif 000001
ここで、eは有限要素ユニット番号、S2は最小主応力、Ωｍは薄膜領域であり；
（b）拘束については、薄膜面積の使用量を拘束下限として決定し、前記の面積の使用量は初期薄膜面積の95%以上であり；
（c）設計変数について、治具エッジライン上の設計点の座標であり；
1.4）ステップ1.3）で作成した形状最適化モデルに基づいて、極小極大最適化目標を凝集変換し；
1.5）ステップ1.3）と1.4）で作成した形状最適化の問題に基づいて、グローバル最適化アルゴリズムを用いて解を求め、治具形状最適化の問題のグローバル最適解を得るステップと、
空間薄膜構造に対して数値検証を行う第2のステップであって、
第1のステップの1.5）で得られた最適化された治具形式に基づいて、薄膜のランダムな欠陥を導入することにより、非線形後座屈分析を行い、最適化された空間薄膜構造に対して効果検証を行うステップと、を有することを特徴とする設計方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月17日(2020.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
決済を実行するための方法であって、
入口デバイスによってユーザ端末に、ユーザの口座識別子に対する要求を送信するステップであって、前記ユーザの前記口座識別子は、i)前記口座識別子に対応する口座と、ii)前記口座識別子に関連付けられた前記ユーザの第3の生体特徴とを管理するサードパーティサーバによって前記ユーザに割り当てられる、ステップと、
前記ユーザの前記口座識別子に対する前記要求を送信したことに応答して、前記入口デバイスによって前記ユーザ端末から、前記ユーザの前記口座識別子を受信するステップと、
前記入口デバイスによって、前記ユーザの第1の生体特徴を取得するステップ(S102)と、
前記入口デバイスによって、前記第1の生体特徴が有効であるかどうかを判定するステップであって、
前記入口デバイスによって前記サードパーティサーバを使用して、前記口座識別子に関連付けられた第3の生体特徴を探索するステップと、
前記第1の生体特徴が前記第3の生体特徴に一致する場合、前記第1の生体特徴が有効であると判定するステップと
を含む、ステップと、
前記第1の生体特徴が前記第3の生体特徴に一致すると判定したことに応答して、前記入口デバイスによって、前記第1の生体特徴と前記口座識別子との間の対応を確立するステップと、
前記第1の生体特徴と前記口座識別子と前記対応とを記憶デバイスに記憶するステップ(S104)と、
決済デバイスによって、前記ユーザの第2の生体特徴を収集するステップ(S106)と、
前記決済デバイスによって、前記記憶デバイスにおいて記憶され、かつ前記第2の生体特徴に一致する前記第1の生体特徴に対応する前記口座識別子を決定するステップ(S108)と、
前記決済デバイスによって、前記決定された口座識別子を使用することによって前記決済を実行するステップ(S110)と
を含む、方法。
【請求項２】
前記サードパーティサーバが、サードパーティ支払いプラットフォームを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記入口デバイスに含まれる入口回転ドア内の人体センサによって、ユーザが前記入口回転ドアに近いことを検出するステップと、
前記ユーザが前記入口回転ドアに近いことを検出したことに応答して、ユーザの前記口座識別子に対する前記要求を送信し、かつ前記ユーザの前記口座識別子を受信するステップと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記第1の生体特徴と前記口座識別子との間の前記対応の確立に基づいて、入口が開かれるように制御するステップ
をさらに含む、請求項3に記載の方法。
【請求項５】
前記第1の生体特徴が第1の顔の特徴を備える、請求項1または4に記載の方法。
【請求項６】
前記入口デバイスによって、前記ユーザの前記第1の生体特徴を取得するステップが、
前記入口デバイスによって、カメラを使用することによって前記ユーザの前記第1の生体特徴を収集するステップ
を含む、請求項5に記載の方法。
【請求項７】
前記第1の生体特徴が有効であるかどうかを判定するステップが、
前記第1の生体特徴が前記第3の生体特徴に一致しない場合、前記第1の生体特徴が無効であると判定するステップ
をさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
あらかじめ記憶された第1の生体特徴と、あらかじめ記憶された口座識別子と、前記第1の生体特徴と前記口座識別子との間のあらかじめ記憶された対応とに基づいて、前記第2の生体特徴に一致する前記第1の生体特徴に対応する前記口座識別子を決定するステップ
をさらに含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記決定された口座識別子を使用することによって決済を実行するステップが、
前記ユーザによって運ばれた製品を識別するステップと、
前記決定された口座識別子に対応する口座を使用することによって、前記ユーザによって運ばれた前記製品の決済を実行するステップと
を含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記製品が無線周波数識別タグを備え、前記決済デバイスが無線周波数識別リーダを備える、請求項9に記載の方法。
【請求項１１】
前記ユーザによって運ばれた製品を識別するステップが、
前記無線周波数識別リーダを使用することによって、決済エリアにおいて無線周波数識別タグ中の製品情報を読み取るステップであって、前記製品情報が製品価格を備え、前記決済エリアにおける前記無線周波数識別タグが、前記決済エリアにおいて前記ユーザによって運ばれた前記製品に取り付けられた前記RFIDタグである、ステップ
を含む、請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
前記決定された口座識別子に対応する口座を使用することによって、前記ユーザによって運ばれた前記製品の決済を実行するステップが、
前記読み取られた製品情報中に含まれた前記製品価格に基づいて、前記ユーザによって運ばれた前記製品に対応する決済金額を計算するステップと、
前記決定された口座識別子に対応する前記口座を使用することによって、前記決済金額に基づいて決済を実行するステップと
を含む、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
決済を実行するためのシステムであって、
入口デバイスであって、
ユーザ端末に、ユーザの口座識別子に対する要求を送信することであって、前記ユーザの前記口座識別子は、i)前記口座識別子に対応する口座と、ii)前記口座識別子に関連付けられた前記ユーザの第3の生体特徴とを管理するサードパーティサーバによって前記ユーザに割り当てられる、送信することと、
前記ユーザ端末から前記ユーザの前記口座識別子を受信することと、
ユーザの第1の生体特徴と口座識別子とを取得することと、
前記第1の生体特徴が有効であるかどうかを判定することであって、前記入口デバイスによって前記サードパーティサーバを使用して、前記口座識別子に関連付けられた第3の生体特徴を探索することと、前記第1の生体特徴が前記第3の生体特徴に一致する場合、前記第1の生体特徴が有効であると判定することとを含む、判定することと、
前記第1の生体特徴と前記口座識別子との間の対応を確立し、かつ前記第1の生体特徴と前記口座識別子と前記対応とを記憶デバイスに送信することと
を行うように構成される、入口デバイスと、
前記第1の生体特徴と、前記口座識別子と、前記対応とを受信および記憶するように構成される、前記記憶デバイスと、
前記ユーザの第2の生体特徴を収集し、前記記憶デバイス中に記憶された前記第1の生体特徴と前記口座識別子と前記対応とに基づいて前記第2の生体特徴に一致する前記第1の生体特徴に対応する前記口座識別子を決定し、かつ前記決定された口座識別子を使用することによって決済を実行するように構成される、決済デバイスと
を備える、システム。
【請求項１４】
前記決済デバイスが、請求項9から12のいずれか一項に記載の方法を実行するようにさらに構成される、請求項13に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月21日(2020.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノ粒子又はナノ粒子凝集物が電場に曝された場合に、被験者における、脳活動の増強に使用するための、又は病的ストレスの予防若しくは処置において使用するための、ナノ粒子又はナノ粒子凝集物であって、
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料は、伝導体材料、半導体材料、２００以上の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料、及び１００以下の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料から選択される、ナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項２】
前記電場は、経頭蓋電気刺激又は経頭蓋磁気刺激を通して適用される、請求項１記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項３】
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料が、０．２を超える標準還元電位Ｅ°を有する金属、及びその構造内に連続したｓｐ２混成炭素中心を有する有機材料から選択される、伝導体材料である、請求項１又は２記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項４】
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料が、金属ナノ粒子及び有機ナノ粒子から選択され、
前記金属ナノ粒子の金属が、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、又はその混合物であり、
前記有機ナノ粒子が、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリカルバゾール、及び／又はポリピレンからなる、請求項３記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項５】
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料が、３．０ｅＶ未満のバンドギャップＥｇを有する半導体材料である、請求項１又は２記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項６】
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料がメンデレーエフ周期表の第ＩＶＡ族の元素、又はメンデレーエフ周期表の第ＩＩＩ族及び第Ｖ族の元素の混合組成物、又はメンデレーエフ周期表の第ＩＩ族及び第ＶＩ族の元素の混合組成物からなる、請求項５記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項７】
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料が、メンデレーエフ周期表の第ＩＶＡ族の元素からなり、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＰから選択された電荷担体がドーピングされている、請求項６記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項８】
前記材料が、３．０ｅＶ以上のバンドギャップＥｇを有する絶縁体材料であり、比誘電率εｉｊｋが、２０℃〜３０℃で、１０２Ｈｚから赤外振動数までの間で測定される、請求項１又は２記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項９】
前記材料が、３．０ｅＶ以上のバンドギャップＥｇを有する絶縁体材料であり、比誘電率εｉｊｋが２００以上であり、前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料が、ＢａＴｉＯ３、ＫＴａＮｂＯ３、ＫＴａＯ３、ＳｒＴｉＯ３、及びＢａＳｒＴｉＯ３から選択された混合金属酸化物である誘電体材料である、請求項８記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項１０】
前記材料が３．０ｅＶ以上のバンドギャップＥｇを有する絶縁体材料であり、比誘電率εｉｊｋが１００以下であり、ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料が、金属酸化物、混合金属酸化物、メンデレーエフ周期表の周期第３、第５、若しくは第６、又はランタニドに由来する金属元素、及び炭素材料から選択される誘電体材料である、請求項８記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項１１】
前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物が、身体能力の増強に使用するための、又は被験者の学習、記憶、知覚、注意力、及び／若しくは決断力の増強に使用するためのものである、請求項１〜１０のいずれか一項記載の使用のためのナノ粒子又はナノ粒子凝集物。
【請求項１２】
電場に曝された被験者における脳活動の増強に使用するための、又は病的ストレスの予防若しくは処置に使用するための組成物であって、前記組成物は、ナノ粒子及び／又はナノ粒子凝集物及び薬学的に許容される支持体を含み、前記ナノ粒子又はナノ粒子凝集物の材料は、伝導体材料、半導体材料、２００以上の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料、及び１００以下の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料から選択される、組成物。
【請求項１３】
前記組成物は、少なくとも２つの別個のナノ粒子及び／又はナノ粒子凝集物を含み、各々のナノ粒子又はナノ粒子凝集物は、伝導体材料、半導体材料、２００以上の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料、及び１００以下の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体の材料から選択される別個の材料からなる、請求項１２に記載の使用のための組成物。
【請求項１４】
少なくとも２つの別個のナノ粒子及び／又はナノ粒子凝集物を含むキットであって、各々のナノ粒子又はナノ粒子凝集物は、伝導体材料、半導体材料、２００以上の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料、及び１００以下の誘電率εｉｊｋを有する絶縁体材料から選択される別個の材料からなる、キット。
【請求項１５】
被験者における脳活動を増強に使用するための、又は病的ストレスの予防若しくは処置に使用するための請求項１４記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月23日(2020.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それを必要とする対象において色素脱失障害を予防、処置、又は軽減するための使用のためのマトリックスメタロプロテイナーゼ−９（ＭＭＰ９）のインヒビター。
【請求項２】
インヒビターが、メラニン形成細胞を表皮の基底膜に安定化させる、請求項１記載の使用のためのインヒビター。
【請求項３】
インヒビターが、抗体、アプタマー、スピーゲルマー、阻害性核酸配列、２−［［（４−フェノキシフェニル）スルホニル］メチル］−チイラン、２−（Ｎ−ベンジル−４−メトキシフェニルスルホンアミド）−５−（（ジエチルアミノ）メチル）−Ｎ−ヒドロキシ−３−メチルベンズアミド、及びＮ−｛２−［（２−メトキシフェニル）アミノ］−４’−メチル−４，５’−ビ−１，３−チアゾール−２’−イル｝アセトアミドより選択される、請求項１又は２記載の使用のためのインヒビター。
【請求項４】
インヒビターが、配列番号２、３、もしくは４の配列を含むか又はそれらからなる重鎖可変領域、及び／又は配列番号５の配列を含むか又はそれらからなる軽鎖を含む抗ＭＭＰ９抗体、ＧＳ−５７４５（アンデカリキシマブ）及びＣＡＬＹ−００１からなる群より選択される、請求項３記載の使用のためのインヒビター。
【請求項５】
色素脱失障害が、炎症性皮膚疾患に付随する、請求項１〜４のいずれか一項記載の使用のためのインヒビター。
【請求項６】
炎症性皮膚疾患が、白斑、乾癬、アトピー性皮膚炎、強皮症、ハイポメラノース及び白毛症より選択される、請求項５記載の使用のためのインヒビター。
【請求項７】
色素脱失障害又は炎症性皮膚疾患が、白斑である、請求項１〜６のいずれか一項記載の使用のためのインヒビター。
【請求項８】
組成物が、それを必要とする対象において色素脱失障害を予防、処置、又は軽減するため、特にそれ必要とする対象において色素脱失を予防、処置、又は軽減するため、或いは色素脱失した皮膚を再着色するための使用のための、ＭＭＰ９のインヒビターを含む医薬組成物。
【請求項９】
組成物が、単独で、又は光線療法との、もしくはヤヌスキナーゼ（ＪＡＫ）インヒビター及びカルシニューリンインヒビターより選択される薬物との組み合わせにおいて使用される、請求項８記載の医薬組成物。
【請求項１０】
方法が、ＭＭＰ９発現又は機能を阻害する、ＭＭＰ９及びヤヌスキナーゼ（ＪＡＫ）の両方の発現又は機能、特にＪＡＫ１、ＪＡＫ２、ＪＡＫ３、ＴＹＫ２及びそれらの任意の組み合わせより選択されるＪＡＫの発現又は機能を阻害してメラニン産生及び／又はメラニン細胞機能を誘導する、Ｅ−カドヘリンを切断する、可溶性Ｅ−カドヘリン発現を増加させる、Ｅ−カドヘリンの細胞質内再分布を増加させる、膜結合Ｅ−カドヘリンを再局在化させる、並びに／或いはメラニン細胞を表皮の基底膜に安定化させるテスト分子の能力を評価する工程を含み、前記能力は、テスト分子が、それを必要とする対象において、色素脱失障害を予防、処置、又は軽減するために適切な医薬活性分子であることを示す、それを必要とする対象において色素脱失障害を予防、処置、又は軽減するために適切なインビトロ又はエクスビボの医薬活性分子をスクリーニングするための方法。
【請求項１１】
方法が、ｔ０で対象から採取した第１の生物学的サンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現を、ｔ１で前記対象から採取した第２の生物学的サンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現と比較する工程を含み、ｔ１はｔ０よりも後であり、ｔ１で採取したサンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現の増加は、前記対象における色素脱失障害の進行の指標であり、ｔ１で採取されたサンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現の減少は、前記対象における色素脱失障害の後退の指標である、対象において色素脱失障害を処置するためのＭＭＰ９のインヒビターを含む処置の有効性を評価するための方法。
【請求項１２】
その任意の処置の前に色素脱失障害を有すると同定された対象からの第１の生物学的サンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現を、色素脱失障害を処置するための薬物又は組成物に曝露された同じ対象の第２の生物学的サンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現と比較することを含み、第２の生物学的サンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現における減少は、色素脱失障害を処置又は減弱するための薬物又は組成物の有効性の指標であり、第２の生物学的サンプル中の可溶性Ｅ−カドヘリンの発現における増加又は発現の調節の非存在は、色素脱失障害を処置又は減弱するための薬物又は組成物の無効性の指標である、ＭＭＰ９のインヒビターを含む処置に曝露された対象における色素脱失障害の経過をインビトロ又はインビボでモニターするための方法。
【請求項１３】
対象がヒトである、請求項１〜７のいずれか一項記載の使用のためのインヒビター、請求項８もしくは９のいずれかに記載の使用のための医薬組成物、請求項１０記載のスクリーニングのための方法、或いはＭＭＰ９のインヒビターを含む処置の効率を評価するため、又は請求項１１もしくは１２に記載の対象における色素脱失障害の経過をインビトロ又はエクスビボでモニターするための方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月25日(2020.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
それにもかかわらず、ランタニド含有層の堆積は難しく、新たな材料およびプロセスがますます必要とされている。例えば、原子層堆積（ＡＬＤ）は、マイクロエレクトロニクスの製造にとって重要な薄膜成長技術として確認されており、不活性ガスパージによって分離された、交互に適用される前駆体の一連の飽和表面反応に依存している。ＡＬＤの表面制御された性質は、正確な厚さ制御により高い共形性（ｃｏｎｆｏｒｍａｌｉｔｙ）および均一性を有する薄膜の成長を可能にする。希土類材料のための新たなＡＬＤプロセスを開発する必要性は明らかである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
好ましい実施形態の説明
ランタニド含有膜形成組成物が開示される。ランタニド含有膜形成組成物は、一般式、
Ｌ−Ｌｎ−Ｃ５Ｈ４−［（ＥＲ２）ｍ−（ＥＲ２）ｎ−Ｌ’）］−、
Ｌ−Ｌｎ−（Ａ含有芳香族基）−［（ＥＲ２）ｍ−（ＥＲ２）ｎ−Ｌ’）］−
（式中、Ｌｎは、芳香族基にη５結合モードで結合された、Ｌａ、Ｙ、Ｓｃ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなるランタニド元素から選択され；Ａ含有芳香族基は、１つまたは２つのＡを含有し、ここで、２つのＡは、オルト位またはメタ位にあり；Ａは、独立して、Ｎ、Ｓｉ、Ｂ、ＰまたはＯであり；各Ｅは、独立して、Ｃ、Ｓｉ、ＢまたはＰであり；ｍおよびｎは、独立して、０、１または２であり；ｍ＋ｎ＞１であり；各Ｒは、独立して、ＨまたはＣ１−Ｃ４ヒドロカルビル基であり；隣接するＲは、結合されて、ヒドロカルビル環を形成してもよく；各Ｌは、独立して、ＮＲ’２、ＯＲ’、Ｃｐ、アミジナート、β−ジケトネート、またはケト−イミンからなる群から選択される−１アニオン性リガンドであり、ここで、Ｒ’は、ＨまたはＣ１−Ｃ４炭化水素基であり；隣接するＲ’は、結合されて、ヒドロカルビル環を形成してもよく；各Ｌ’は、独立して、ＮＲ’’またはＯであり、ここで、Ｒ’’は、ＨまたはＣ１−Ｃ４炭化水素基であり；隣接するＲ’’は、結合されて、ヒドロカルビル
環を形成し得る）で表されるランタニド前駆体を含む。当業者は、Ａ含有芳香族基が、Ｎ、Ｓｉ、Ｂ、ＰまたはＯを含有する複素環式基であり、対称または非対称構造を有し得ることを認識するであろう。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
所望のランタニド含有膜が、例えばおよび限定はされないが、ケイ化ランタン、ケイ窒化ランタン、ケイ酸ランタン、ケイ炭窒化（ｓｉｌｉｃｏ−ｃａｒｂｏ−ｎｉｔｒｉｄｅ）ランタンなど、ケイ素も含有する場合、反応剤種としては、限定はされないが、ＳｉＨ４、Ｓｉ２Ｈ６、Ｓｉ３Ｈ８、ＴｒｉＤＭＡＳ、ＢＤＭＡＳ、ＢＤＥＡＳ、ＴＤＥＡＳ、ＴＤＭＡＳ、ＴＥＭＡＳ、（ＳｉＨ３）３Ｎ、（ＳｉＨ３）２Ｏ、トリシリルアミン、ジシロキサン、トリシリルアミン、ジシラン、トリシラン、アルコキシシランＳｉＨｘ（ＯＲ１）４−ｘ、シラノールＳｉ（ＯＨ）ｘ（ＯＲ１）４−ｘ（好ましくは、Ｓｉ（ＯＨ）（ＯＲ１）３；より好ましくは、Ｓｉ（ＯＨ）（ＯｔＢｕ）３；アミノシランＳｉＨｘ（ＮＲ１Ｒ２）４−ｘ（ここで、ｘは、１、２、３、または４であり；Ｒ１およびＲ２は、独立して、Ｈまたは直鎖状、分枝鎖状もしくは環状Ｃ１−Ｃ６炭素鎖であり；好ましくは、ＴｒｉＤＭＡＳ、ＢＴＢＡＳ、および／またはＢＤＥＡＳ）、およびそれらの任意の組合せから選択されるケイ素源が挙げられる。あるいは、目的とする膜は、ゲルマニウム（Ｇｅ）を含有してもよく、その場合、上記のＳｉ含有反応剤種は、Ｇｅ含有反応剤種で置き換えられ得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
上述されるプロセスから得られるランタニド含有膜またはランタニド含有層は、Ｌａ２Ｏ３、（ＬａＬｎ）Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３−Ｌｎ２Ｏ３、ＬａＳｉｘＯｙ、ＬａＧｅｘＯｙ、（Ａｌ、Ｇａ、Ｍｎ）ＬｎＯ３、ＨｆＬａＯｘまたはＺｒＬａＯｘ、ＬａＳｒＣｏＯ４、ＬａＳｒＭｎＯ４を含んでもよく、ここで、Ｌｎは、異なるランタニドであり、ｘは、１〜５（両端値を含む）である。好ましくは、ランタニド含有膜は、ＨｆＬａＯｘまたはＺｒＬａＯｘを含み得る。当業者は、適切なランタニド前駆体および反応剤種の賢明な選択によって、所望の膜組成が得られることを認識するであろう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
所望の膜厚を得たら、膜は、さらなる処理、例えば、熱アニール、ファーネスアニール、高速熱アニール、紫外線または電子線硬化、および／またはプラズマガス照射に供され得る。当業者は、これらのさらなる処理工程を行うのに用いられるシステムおよび方法を認識する。例えば、ランタン含有膜は、不活性雰囲気、Ｈ含有雰囲気、Ｎ含有雰囲気、Ｏ含有雰囲気下、またはそれらの組合せで、約０．１秒〜約７２００秒の範囲の時間にわたって、約２００℃〜約１０００℃の範囲の温度に曝され得る。最も好ましくは、温度は、アルゴンの不活性雰囲気下で１８００秒間にわたって３５０℃である。得られた膜は、より少ない不純物を含有し得るため、改善された密度を有し、リーク電流の改善が得られる
。アニール工程は、堆積プロセスが行われる同じ反応器中で行われ得る。あるいは、基板は、反応器から取り出されてもよく、アニール／フラッシュアニールプロセスが、別の装置中で行われる。上記の後処理方法のいずれも（特に、熱アニールであるが）、ランタニド含有膜の炭素および窒素汚染を減少させるのに有効であることが分かった。これは、ひいては、膜のリーク電流および界面トラップ密度（Ｄｉｔ）を改善する傾向がある。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月13日(2020.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応流体中に第三級アミンを連続的に導入し、アミンオキシドを搬出しながら、細長い中空体を有する反応器中で第三級アミンを酸化することによってアミンオキシドを製造する方法であって、
ｉ）０．５ｍ２／ｍ３以上の表面対体積比が、少なくとも前記第三級アミンが５０％（ｍｏｌ％）の程度まで酸化される前記中空体の長さにわたって、前記中空体中に提供され；
ｉｉ）前記中空体中に１ｌ／ｍ２ｈ〜４０ｌ／ｍ２ｈの比表面負荷が与えられ；および／または
ｉｉｉ）前記中空体中に１，０００ｌ／ｍ３ｈ〜３０，０００ｌ／ｍ３ｈの比体積負荷が与えられ、
ここで、該反応流体は該中空体中に層流で導かれる、
方法。
【請求項２】
前記第三級アミンが、酸化剤としての過酸化水素に対して、好ましくは１：０．９〜１：１．３、好ましくは１：１〜１：１．１のモル比で使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アミンオキシドがＮ−メチルモルホリンＮ−オキシドであり、前記第三級アミンがＮ−メチルモルホリンであることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記中空体中の前記反応流体の流速が、０．４分〜１４分、好ましくは０．６分〜８分の前記第三級アミンの滞留時間に設定されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記反応流体の流速が０．１ｍ／分〜２００ｍ／分、好ましくは１０ｍ／分〜１６０ｍ／分、最も好ましくは１０ｍ／分〜１２０ｍ／分であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記中空体中の前記反応流体温度が２０℃〜７０℃、好ましくは４０℃〜６５℃、最も好ましくは５５℃〜６５℃であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記中空体内の圧力が１ｂａｒ〜２００ｂａｒ、好ましくは５ｂａｒ〜１００ｂａｒ、最も好ましくは５０ｂａｒ〜１００ｂａｒであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記反応器の中空体、好ましくは管の内径が０．２５ｍｍ〜１０ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍ〜６ｍｍ、特に好ましくは０．８ｍｍ〜４ｍｍであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記反応器の中空体、好ましくは管の長さが０．５ｍ〜２０ｍ、好ましくは１ｍ〜１０ｍ、特に２ｍ〜５ｍであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記反応器の中空体、好ましくは管の内壁が、好ましくはＦｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｂ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｔｉまたはこれらの混合物から選択される１つ以上の金属を含有することを特徴とし、ここで中空体、好ましくは管の内壁が特に好ましくはオーステナイト鋼で構成される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第三級アミンが、４０％〜１００％、好ましくは５０％〜９９．５％、特に６０〜９９％、特に好ましくは７０％〜９９％（全て体積％単位）の濃度で前記中空体に供給されることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
酸化剤、好ましくは過酸化水素が、５％〜８０％、好ましくは１０％〜７０％、特に２０％〜６０％、特に好ましくは３０％〜５５％（全て重量％単位）の濃度で前記中空体に供給されることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記反応流体が、下記式：
【数１】
2020504174.tif 000001
［式中、Ｂｏはボーデンシュタイン数であり、ｕは前記反応流体の流速であり、Ｌは前記中空体、好ましくは管の長さであり、Ｄａｘは前記反応流体の軸方向分散流である］
に従って、１０を超える、好ましくは２０〜２００のボーデンシュタイン数で前記中空体を通して運ばれることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
ＣＯ２が、前記第三級アミンに対して好ましくは０．５重量％〜２０重量％の量で前記中空体に供給されることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
金属錯化剤、好ましくはホスフェートを、好ましくは０．０１％〜３％、好ましくは０．０３％〜２％、特に好ましくは０．０５％〜１．５％（全て重量％）の量で前記反応流体に添加することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記第三級アミンの酸化が酸化剤を用いて行われ、過剰の酸化剤が分解または除去されることを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記アミンオキシドを、セルロースの溶解のための濃度にし、任意にさらにセルロースをその中に溶解させ、任意にさらに前記溶解したセルロースを連続成形体に成形し、前記成形体のセルロースが沈殿されることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記反応流体が、２３００以下のレイノルズ数、好ましくは１０００以下のレイノルズ数、特に好ましくは１〜１００のレイノルズ数で前記中空体を通る流れに導かれることを特徴とする、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。