【手続補正書】
【提出日】令和2年7月2日(2020.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の組織を処置するシステムであって、
ＲＦエネルギー源と、
患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された複数の処置用電極を含む処置用アプリケータであって、前記複数の処置用電極は、異なる処置用ＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有しており、前記処置用ＲＦ信号は、パワー、デューティ比、パルス長さ、位相、およびＲＦ周波数のうちの一つ以上を表す、処置用アプリケータと、
少なくとも１つの戻り電極と、
前記複数の処置用電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構と、
前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極それぞれのインピーダンス測定するように構成された制御手段と、
を備え、前記制御手段は、さらに、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記処置用ＲＦ信号を、前記処置用アプリケータの下に位置する標的組織における加熱の一様性を維持するように、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のインピーダンスに基づいて調節するように構成されている、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、さらに、所望の処置が完了したときに当該制御手段が前記ＲＦ信号を停止させることができるように、前記パルス長さの間に患者の組織のインピーダンスを監視し、かつ、患者の組織のインピーダンスの変化についての情報を前記制御手段に提供するインピーダンス追跡手段を備える、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記組織表面が、皮膚の表面または粘膜組織の表面を含む、システム。
【請求項４】
請求項３に記載のシステムにおいて、前記少なくとも１つの戻り電極が、皮膚の表面に配置される、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なるパワーを有する、システム。
【請求項６】
請求項５に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のうちのインピーダンスがより低い電極への前記ＲＦ信号のパワーを減少させるように構成されている、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なるパルス幅、異なるデューティ比、異なるＲＦ周波数、および異なる位相のＲＦ信号のうちの少なくとも１つを有する、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極が、少なくとも２つのグループの個別にアドレス指定可能な処置用電極を含み、個別にアドレス指定可能な処置用電極の各グループにおける各処置用電極は、当該各処置用電極に同時に印加されるＲＦ信号が当該グループにおける他の処置用電極と同じであり、個別にアドレス指定可能な処置用電極の各グループは互いに、当該各グループで同時に印加されるＲＦ信号が相異なるように構成されている、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムにおいて、第１の前記処置用アプリケータが配置される前記組織表面とは離れた組織表面に接触して配置されるように構成された第２の処置用アプリケータが、前記少なくとも１つの戻り電極を含む、システム。
【請求項１０】
請求項９に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用アプリケータが、患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された第２の複数の処置用電極を含み、前記第２の複数の処置用電極は、異なるＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有しているか、または前記第２の処置用アプリケータが、当該第２の処置用アプリケータの前記複数の電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構を含む、システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、所与の時間に、前記第１および第２の処置用アプリケータのそれぞれにおいて、前記個別にアドレス指定可能な処置用電極を一つのみ通電するように構成されている、システム。
【請求項１２】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記第１の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれと、前記第２の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれとの間のインピーダンスを測定するように構成されている、システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記第１の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれと、前記第２の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれとの間のインピーダンスを、
第１の前記複数の電極に処置用ＲＦ信号を印加する前に、これらの間に副処置閾値ＲＦ電流を発生させることによって、または、
前記処置用ＲＦ信号を停止させて処置を終了すべきときを判断するために、第１の前記複数の電極に処置用ＲＦ信号を印加させながら、
測定するように構成されている、システム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記戻り電極は、第１の前記処置用アプリケータが配置される前記組織表面とは離れた組織表面に接触して配置されるように構成された受動電極である、システム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシステムにおいて、さらに、
前記第１の処置用アプリケータが配置される前記組織表面および前記受動電極が配置される前記組織表面とは離れた組織表面に接触して配置されるように構成された第２の処置用アプリケータ、
を備え、当該第２の処置用アプリケータが、患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された第２の複数の処置用電極を含む、システム。
【請求項１６】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、低電力の副処置閾値ＲＦ信号で少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれを個別にポーリングするように構成されている、システム。
【請求項１７】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記処置用ＲＦ信号が、コラーゲンの産生を刺激することによって皮膚の弛みを軽減させるように構成されているか、または前記処置用ＲＦ信号が、セルライトの外観を軽減させるように構成されている、システム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のシステムにおいて、各電極は、１パルス当たりのエネルギーが約10 J/cm2〜約1000 J/cm2の範囲内であるＲＦパルスを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約500ミリ秒未満である、システム。
【請求項１９】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記処置用ＲＦ信号が、前記組織表面の下にある脂肪組織の脂肪分解を引き起こすように構成されている、システム。
【請求項２０】
請求項１９に記載のシステムにおいて、各電極は、約1 W/cm2〜約5 W/cm2の範囲内であるＲＦパワーを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約1秒超である、システム。
【請求項２１】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記冷却機構が、前記アプリケータにおいて前記電極と熱的に接触して配置された、熱電素子及び相変化材料の一方、または循環流体を含む、システム。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシステムにおいて、前記循環流体の流体経路の少なくとも一部が、前記電極の、前記組織表面に接触するように構成されていない側と熱的に接触するか、または前記循環流体の流体経路の少なくとも一部が、前記組織表面に対して、前記複数の処置用電極の隣合う電極間の位置で熱的に接触する、システム。
【請求項２３】
請求項１に記載のシステムにおいて、さらに、
前記電極アレイの周辺部の前記組織表面の温度を検出する少なくとも１つの温度検出手段、
を備え、前記制御手段が、さらに、
前記アプリケータの温度が最も高い一辺における電極に印加される前記処置用ＲＦ信号のパワーを減少させるように構成されているか、または、
前記アプリケータの温度が最も低い一辺とは反対の一辺である当該アプリケータの一辺における電極に印加される前記処置用ＲＦ信号のパワーを増加させるように構成されている、システム。
【請求項２４】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記ＲＦエネルギー源が、少なくとも２つの個別に制御可能なＲＦエネルギー源を含み、当該個別に制御可能なＲＦエネルギー源のそれぞれは同じ基本周波数で動作するように構成されている一方で、当該個別に制御可能なＲＦエネルギー源のそれぞれにより生成される前記ＲＦ信号は、位相及び振幅を異なるものとすることが可能であり、当該システムは、それぞれ前記少なくとも２つの個別に制御可能なＲＦエネルギー源のうちの一つに接続された少なくとも２つの処置用アプリケータを備え、当該少なくとも２つの処置用アプリケータ間では、当該少なくとも２つのアプリケータが対象の身体の２つ以上の別個の処置領域に配置されることが可能となるように電流が共有されることが可能であり、前記少なくとも２つのアプリケータのそれぞれは、前記別個の処置領域のそれぞれに適切な量のＲＦエネルギーを送達するように構成されている、システム。
【請求項２５】
患者の皮膚を処置するシステムであって、
ＲＦエネルギー源と、
患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された複数の処置用電極を含む処置用アプリケータであって、前記複数の処置用電極は、処置用ＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有している、処置用アプリケータと、
少なくとも１つの戻り電極と、
前記複数の電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構と、
前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれが脂肪組織中の隔壁を、近傍の組織への熱の伝導を実質的に防ぎながら選択的に加熱するものとなるように、当該少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に処置用ＲＦ信号を順次的に供給する構成とされた制御手段と、
を備える、システム。
【請求項２６】
請求項２５に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれは、エネルギーが約10 J/cm2〜約500 J/cm2の範囲内であるＲＦパルスを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約100ミリ秒未満である、システム。
【請求項２７】
請求項２５に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、さらに、前記複数の電極に供給される前記ＲＦ信号を、第２の処置用ＲＦ信号が当該複数の電極に同時に供給されるように調節するものとされており、当該第２のＲＦ信号は、前記隔壁を選択的に加熱するための前記処置用ＲＦ信号よりも低いＲＦパワー及び長いパルス幅を有する、システム。
【請求項２８】
請求項２５に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用ＲＦ信号が、皮膚の弛みを軽減させること及び脂肪分解を引き起こすことの少なくとも一方を行うように構成されている、システム。
【請求項２９】
請求項２８に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用ＲＦ信号を受ける各電極は、約1 W/cm2〜約5 W/cm2の範囲内であるＲＦパワーを同時に送達し、前記ＲＦ信号のパルス幅が約1秒超である、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】非侵襲性で一様及び非一様のＲＦシステム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
本発明の教示内容の範囲を逸脱することなく、開示した実施形態に対して様々な変更を施すことが可能であると理解されたい。前述の図や例では特定の構成要素について言及したが、これはあくまでも例示に過ぎず、本発明を限定するものではない。当業者であれば、添付の特許請求の範囲に包含される教示内容の範疇を逸脱することなく、開示した実施形態の構成や細部に対して様々な変更を施すことが可能であることを理解するであろう。
なお、本発明は、態様として以下の内容を含む。
〔態様１〕
患者の組織を処置するシステムであって、
ＲＦエネルギー源と、
患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された複数の処置用電極を含む処置用アプリケータであって、前記複数の処置用電極は、異なる処置用ＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有しており、前記処置用ＲＦ信号は、パワー、デューティ比、パルス長さ、位相、およびＲＦ周波数のうちの一つ以上を表す、処置用アプリケータと、
少なくとも１つの戻り電極と、
前記複数の処置用電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構と、
前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極それぞれのインピーダンス測定するように構成された制御手段と、
を備え、前記制御手段は、さらに、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記処置用ＲＦ信号を、前記処置用アプリケータの下に位置する標的組織における加熱の一様性を維持するように、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のインピーダンスに基づいて調節するように構成されている、システム。
〔態様２〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記組織表面が、皮膚の表面を含む、システム。
〔態様３〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記組織表面が、粘膜組織の表面を含む、システム。
〔態様４〕
態様３に記載のシステムにおいて、前記少なくとも１つの戻り電極が、皮膚の表面に配置される、システム。
〔態様５〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なるパワーを有する、システム。
〔態様６〕
態様５に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のうちのインピーダンスがより低い電極への前記ＲＦ信号のパワーを減少させるように構成されている、システム。
〔態様７〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なるパルス幅を有する、システム。
〔態様８〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なるデューティ比を有する、システム。
〔態様９〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なるえＲＦ周波数を有する、システム。
〔態様１０〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に同時に印加される前記異なるＲＦ信号は、異なる位相のＲＦ信号を含む、シ
ステム。
〔態様１１〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極が、少なくとも２つのグループの個別にアドレス指定可能な処置用電極を含み、個別にアドレス指定可能な処置用電極の各グループにおける各処置用電極は、当該各処置用電極に同時に印加されるＲＦ信号が当該グループにおける他の処置用電極と同じであり、個別にアドレス指定可能な処置用電極の各グループは互いに、当該各グループで同時に印加されるＲＦ信号が相異なるように構成されている、システム。
〔態様１２〕
態様１に記載のシステムにおいて、第１の前記処置用アプリケータが配置される前記組織表面とは離れた組織表面に接触して配置されるように構成された第２の処置用アプリケータが、前記少なくとも１つの戻り電極を含む、システム。
〔態様１３〕
態様１２に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用アプリケータが、患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された第２の複数の処置用電極を含み、前記第２の複数の処置用電極は、異なるＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有している、システム。
〔態様１４〕
態様１３に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、所与の時間に、前記第１および第２の処置用アプリケータのそれぞれにおいて、前記個別にアドレス指定可能な処置用電極を一つのみ通電するように構成されている、システム。
〔態様１５〕
態様１３に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記第１の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれと、前記第２の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれとの間のインピーダンスを測定するように構成されている、システム。
〔態様１６〕
態様１５に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記第１の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれと、前記第２の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれとの間のインピーダンスを、第１の前記複数の電極に処置用ＲＦ信号を印加する前に、これらの間に副処置閾値ＲＦ電流を発生させることによって測定するように構成されている、システム。
〔態様１７〕
態様１５に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記処置用ＲＦ信号を停止させて処置を終了すべきときを判断するために、第１の前記複数の電極に処置用ＲＦ信号を印加させながら、前記第１の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれと、前記第２の処置用アプリケータにおける前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれとの間のインピーダンスを測定するように構成されている、システム。
〔態様１８〕
態様１２に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用アプリケータが、当該第２の処置用アプリケータの前記複数の電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構を含む、システム。
〔態様１９〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記戻り電極は、第１の前記処置用アプリケータが配置される前記組織表面とは離れた組織表面に接触して配置されるように構成された受動電極である、システム。
〔態様２０〕
態様１９に記載のシステムにおいて、前記受動電極がドレインパッドを含む、システム。
〔態様２１〕
態様１９に記載のシステムにおいて、さらに、
前記第１の処置用アプリケータが配置される前記組織表面および前記受動電極が配置される前記組織表面とは離れた組織表面に接触して配置されるように構成された第２の処置用アプリケータ、
を備え、当該第２の処置用アプリケータが、患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された第２の複数の処置用電極を含む、システム。
〔態様２２〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、低電力の副処置閾値ＲＦ信号で少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれを個別にポーリングするように構成されている、システム。
〔態様２３〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記処置用ＲＦ信号が、コラーゲンの産生を刺激することによって皮膚の弛みを軽減させるように構成されている、システム。
〔態様２４〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記処置用ＲＦ信号が、セルライトの外観を軽減させるように構成されている、システム。
〔態様２５〕
態様２４に記載のシステムにおいて、各電極は、１パルス当たりのエネルギーが約10 J/cm2〜約1000 J/cm2の範囲内であるＲＦパルスを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約500ミリ秒未満である、システム。
〔態様２６〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記処置用ＲＦ信号が、前記組織表面の下にある脂肪組織の脂肪分解を引き起こすように構成されている、システム。
〔態様２７〕
態様２６に記載のシステムにおいて、各電極は、約1 W/cm2〜約5 W/cm2の範囲内であるＲＦパワーを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約1秒超である、システム。
〔態様２８〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記冷却機構が循環流体を含む、システム。
〔態様２９〕
態様２８に記載のシステムにおいて、前記循環流体の温度が、前記組織表面の下に位置した標的組織領域が約10分間〜約30分間の範囲内の処置時間の間、約42℃〜約47℃の範囲内の温度に維持されるように、温度調節手段により制御される、システム。
〔態様３０〕
態様２８に記載のシステムにおいて、前記循環流体が水である、システム。
〔態様３１〕
態様２８に記載のシステムにおいて、前記循環流体の流体経路の少なくとも一部が、前記電極の、前記組織表面に接触するように構成されていない側と熱的に接触する、システム。
〔態様３２〕
態様２８に記載のシステムにおいて、前記循環流体の流体経路の少なくとも一部が、前記組織表面に対して、前記複数の処置用電極の隣合う電極間の位置で熱的に接触する、システム。
〔態様３３〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記冷却機構が、前記アプリケータにおいて前記
電極と熱的に接触して配置された、熱電素子及び相変化材料の一方を含む、システム。
〔態様３４〕
態様１に記載のシステムにおいて、さらに、
前記電極アレイの周辺部の前記組織表面の温度を検出する少なくとも１つの温度検出手段、
を備え、前記制御手段が、さらに、前記アプリケータの温度が最も高い一辺における電極に印加される前記処置用ＲＦ信号のパワーを減少させるように構成されている、システム。
〔態様３５〕
態様１に記載のシステムにおいて、さらに、
前記電極アレイの周辺部の前記組織表面の温度を検出する少なくとも１つの温度検出手段、
を備え、前記制御手段が、さらに、前記アプリケータの温度が最も低い一辺とは反対の一辺である当該アプリケータの一辺における電極に印加される前記処置用ＲＦ信号のパワーを増加させるように構成されている、システム。
〔態様３６〕
態様１に記載のシステムにおいて、前記ＲＦエネルギー源が、少なくとも２つの個別に制御可能なＲＦエネルギー源を含み、当該個別に制御可能なＲＦエネルギー源のそれぞれは同じ基本周波数で動作するように構成されている一方で、当該個別に制御可能なＲＦエネルギー源のそれぞれにより生成される前記ＲＦ信号は、位相及び振幅を異なるものとすることが可能であり、当該システムは、それぞれ前記少なくとも２つの個別に制御可能なＲＦエネルギー源のうちの一つに接続された少なくとも２つの処置用アプリケータを備え、当該少なくとも２つの処置用アプリケータ間では、当該少なくとも２つのアプリケータが対象の身体の２つ以上の別個の処置領域に配置されることが可能となるように電流が共有されることが可能であり、前記少なくとも２つのアプリケータのそれぞれは、前記別個の処置領域のそれぞれに適切な量のＲＦエネルギーを送達するように構成されている、システム。
〔態様３７〕
患者の皮膚を処置するシステムであって、
ＲＦエネルギー源と、
患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された処置用電極を含む処置用アプリケータと、
少なくとも１つの戻り電極と、
前記電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構と、
前記処置用電極にＲＦ信号を供給するように構成された制御手段であって、当該ＲＦ信号は、脂肪組織中の隔壁を、近傍の組織への熱の伝導を実質的に防ぎながら選択的に加熱するパルス長さを有する、制御手段と、
所望の処置が完了したときに当該制御手段が前記ＲＦ信号を停止させることができるように、前記パルス長さの間に患者の組織のインピーダンスを監視し、かつ、患者の組織のインピーダンスの変化についての情報を前記制御手段に提供するインピーダンス追跡手段と、
を備える、システム。
〔態様３８〕
態様３７に記載のシステムにおいて、前記処置用電極は、１パルス当たりのエネルギーが約10 J/cm2〜約500 J/cm2の範囲内であるＲＦパルスを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約500ミリ秒未満である、システム。
〔態様３９〕
態様３７に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、さらに、前記複数の電極に供給される前記ＲＦ信号を、第２の処置用ＲＦ信号が当該複数の電極に同時に供給されるように調節するものとされており、当該第２のＲＦ信号は、前記隔壁を選択的に加熱するた
めの前記処置用ＲＦ信号よりも低いＲＦパワー及び長いパルス幅を有する、システム。
〔態様４０〕
態様３７に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用ＲＦ信号が、皮膚の弛みを軽減させること及び脂肪分解を引き起こすことの少なくとも一方を行うように構成されている、システム。
〔態様４１〕
態様４０に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用ＲＦ信号を受ける各電極は、約1 W/cm2〜約5 W/cm2の範囲内であるＲＦパワーを同時に送達し、前記ＲＦ信号のパルス幅が約1秒超である、システム。
〔態様４２〕
患者の皮膚を処置するシステムであって、
ＲＦエネルギー源と、
患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された複数の処置用電極を含む処置用アプリケータであって、前記複数の処置用電極は、処置用ＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有している、処置用アプリケータと、
少なくとも１つの戻り電極と、
前記複数の電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構と、
前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれが脂肪組織中の隔壁を、近傍の組織への熱の伝導を実質的に防ぎながら選択的に加熱するものとなるように、当該少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極に処置用ＲＦ信号を順次的に供給する構成とされた制御手段と、
を備える、システム。
〔態様４３〕
態様４２に記載のシステムにおいて、前記少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極のそれぞれは、エネルギーが約10 J/cm2〜約500 J/cm2の範囲内であるＲＦパルスを送達するように構成されており、前記ＲＦ信号のパルス幅が約100ミリ秒未満である、システム。
〔態様４４〕
態様４２に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、さらに、前記複数の電極に供給される前記ＲＦ信号を、第２の処置用ＲＦ信号が当該複数の電極に同時に供給されるように調節するものとされており、当該第２のＲＦ信号は、前記隔壁を選択的に加熱するための前記処置用ＲＦ信号よりも低いＲＦパワー及び長いパルス幅を有する、システム。
〔態様４５〕
態様４２に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用ＲＦ信号が、皮膚の弛みを軽減させること及び脂肪分解を引き起こすことの少なくとも一方を行うように構成されている、システム。
〔態様４６〕
態様４５に記載のシステムにおいて、前記第２の処置用ＲＦ信号を受ける各電極は、約1 W/cm2〜約5 W/cm2の範囲内であるＲＦパワーを同時に送達し、前記ＲＦ信号のパルス幅が約1秒超である、システム。
〔態様４７〕
女性の泌尿生殖器状態を処置する装置であって、
膣壁表面の少なくとも一部に熱を適用するように構成された遠位端部を有する、膣挿入に適合したプローブと、
前記プローブと接触して、または、前記プローブに近接して、組織を加熱するように前記プローブの前記遠位端部においてアレイ状に配置された、複数の高周波（ＲＦ）エネルギー放射治療用電極と、
前記膣壁表面と前記標的組織の両方または一方の温度を監視するように前記プローブに
さらに組み込まれた少なくとも１つの温度センサと、
を備える、装置。
〔態様４８〕
態様４７に記載の装置において、前記温度センサが、加熱された組織により発せられる黒体放射を検出するように構成された赤外線（ＩＲ）センサである、装置。
〔態様４９〕
態様４７に記載の装置において、前記温度センサが、前記電極の一つ以上がインピーダンス測定電極として動作することによって実現される、装置。
〔態様５０〕
態様４７に記載の装置において、前記電極は、熱を特定のパターンで送達するように前記アレイの構成要素の一部が通電されることを可能にするようにプログラム自在である、装置。
〔態様５１〕
態様４７に記載の装置において、前記プローブが、さらに、前記膣壁表面の過熱を防ぐように、少なくとも１つの冷却回路を含む、装置。
〔態様５２〕
態様４７に記載の装置において、さらに、
前記治療用電極からのＲＦ電流の戻り経路を提供するように、少なくとも１つの戻り電極、
を備える、装置。
〔態様５３〕
態様５２に記載の装置において、前記戻り電極が、患者の皮膚に接触するのに適合したパドルである、装置。
〔態様５４〕
態様５２に記載の装置において、前記戻り電極が、尿道カテーテルに設けられている、装置。
〔態様５５〕
態様４７に記載の装置において、戻り電極が、前記アレイにおける一つ以上の電極が接地電極として機能することによって実現される、装置。
〔態様５６〕
態様４７に記載の装置において、さらに、
患者に挿入された前記プローブを定位置に保持する固定装置、
を備える、装置。
〔態様５７〕
態様５６に記載の装置において、前記固定装置が、係止スリーブまたはバルーンを含む、装置。
〔態様５８〕
腹圧性尿失禁（ＳＵＩ）を処置する方法であって、
患者の膀胱頸部又は尿道の近傍の標的領域における組織を整形するように制御された量の熱を、膣壁表面に送達する過程、
を備える、方法。
〔態様５９〕
態様５８に記載の方法において、加熱が、前記膣壁表面に接触する少なくとも１つの高周波（ＲＦ）エネルギー放射治療用電極を通電してＲＦ電流を前記標的領域に送ることによって行われる、方法。
〔態様６０〕
態様５９に記載の方法において、前記治療用電極が、プローブにより保持された電極アレイを含み、当該方法が、さらに、
少なくとも１つの治療用電極が膣壁表面の少なくとも一部に接触するように前記プローブを患者に挿入する過程、
を備える、方法。
〔態様６１〕
態様５８に記載の方法において、さらに、
前記標的領域における組織の一様な加熱を確実にするように、前記アレイにおける個々の電極により送達されるパワーを変化させる過程、
を備える、方法。
〔態様６２〕
態様５８に記載の方法において、前記電極が、膣前壁の少なくとも一部に接触する、方法。
〔態様６３〕
態様５８に記載の方法において、さらに、
患者の膣壁表面と尿道との間の組織を加熱するようにＲＦエネルギーを送達する過程、
を備える、方法。
〔態様６４〕
態様５８に記載の方法において、さらに、
膣内壁表面を超えて、約2〜9 cm、好ましくは約5〜8cmの処置深さにまで延びる標的領域における組織を加熱するようにＲＦエネルギーを送達する過程、
を備える、方法。
〔態様６５〕
態様５８に記載の方法において、さらに、
標的領域における組織をある時間の間、好ましくは30分間未満の間又は10分間未満の間、場合によっては5分間未満の間加熱するようにＲＦエネルギーを送達する過程、
を備える、方法。
〔態様６６〕
態様５８に記載の方法において、前記標的組織が、約40〜45℃または約41〜43℃に加熱される、方法。
〔態様６７〕
態様５８に記載の方法において、さらに、
熱画像又はインピーダンス測定によって前記ＲＦ電極の加熱作用をマッピングする過程、
を備える、方法。
〔態様６８〕
態様５８に記載の方法において、さらに、
前記標的領域における前記組織の加熱前、加熱後又は加熱中に、前記膣壁表面を冷却する過程、
を備える、方法。
〔態様６９〕
患者の組織を処置するシステムであって、
ＲＦエネルギー源と、
患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された処置用電極を含む処置用アプリケータと、
少なくとも１つの戻り電極と、
ＲＦ信号を前記処置用電極に供給するように構成された制御手段と、
を備え、前記ＲＦ信号のパルス長さ及び前記処置用電極の寸法は、前記組織の当該処置用電極と接触する前記表面を除去するのに十分な電流密度を適用するように設定される、システム。
〔態様７０〕
態様６９に記載のシステムにおいて、さらに、
前記電極と接触する前記組織表面を冷却する冷却機構、
を備える、システム。
〔態様７１〕
態様６９に記載のシステムにおいて、前記パルス長さが、約100ミリ秒未満である、システム。
〔態様７２〕
態様６９に記載のシステムにおいて、前記パルス長さが、約5ミリ秒〜約35ミリ秒の範囲内である、システム。
〔態様７３〕
態様６９に記載のシステムにおいて、前記電極の寸法が、約0.1 mm〜約10 mm、または約0.1 mm〜約5 mmの範囲内である、システム。
〔態様７４〕
態様６９に記載のシステムにおいて、さらに、
前記処置用電極の近傍の第２の処置用電極、
を備え、前記制御手段が、前記ＲＦ信号を前記第２の処置用電極に供給するように構成されており、当該ＲＦ信号のパルス長さ及び前記第２の処置用電極の寸法は、前記組織の当該処置用電極と接触する前記表面を除去するのに十分な電流密度を適用するように設定される、システム。
〔態様７５〕
態様７４に記載のシステムにおいて、前記処置用電極と前記第２の電極との間のピッチが、約0.1 mm〜約10 mm、または約0.5 mm〜約5 mmの範囲内である、システム。
〔態様７６〕
態様７４に記載のシステムにおいて、前記処置用電極が、前記制御手段によって前記第２の処置用電極と同時にアドレス指定される、システム。
〔態様７７〕
態様６９に記載のシステムにおいて、前記処置用電極が、少なくとも２つの電極からなるクラスタを有しており、当該クラスタ内の前記電極のそれぞれの寸法が、約0.1 mm〜約10 mm、または約0.1 mm〜約5 mmの範囲内である、システム。
〔態様７８〕
態様７７に記載のシステムにおいて、前記クラスタ内の前記少なくとも２つの電極のそれぞれの寸法が、前記組織の当該クラスタの各処置用電極と接触する前記表面を除去するのに十分な電流密度を適用するように設定される、システム。
〔態様７９〕
態様７７に記載のシステムにおいて、さらに、
少なくとも２つの電極からなる第２のクラスタ、
を備え、前記制御手段が、前記ＲＦ信号を前記第２のクラスタに供給するように構成されており、当該ＲＦ信号のパルス長さ及び前記第２のクラスタ内の前記少なくとも２つの電極のそれぞれの寸法は、前記組織の前記第２のクラスタの各処置用電極と接触する前記表面を除去するのに十分な電流密度を適用するように設定される、システム。
〔態様８０〕
態様７７に記載のシステムにおいて、前記制御手段が、前記クラスタと前記第２のクラスタとを別々にアドレス指定する、システム。
〔態様８１〕
患者の組織を処置するシステムであって、
組織表面に配置されるようにそれぞれ構成された少なくとも２つの処置用アプリケータと、
少なくとも２つの個別に制御可能なＲＦエネルギー源と、
を備え、前記個別に制御可能なＲＦエネルギー源のそれぞれは同じ基本周波数で動作する一方で、当該少なくとも２つのＲＦエネルギー源のそれぞれの位相及び振幅については、相対的に制御可能であり、前記少なくとも２つの処置用アプリケータのそれぞれが、個別に制御可能なＲＦエネルギー源を各自有しており、当該各自のＲＦエネルギー源は、前記少なくとも２つの処置用アプリケータ間で、当該少なくとも２つのアプリケータが対象
の身体の２つ以上の別個の処置領域に配置されることが可能となるように電流が共有されるのを可能にし、前記少なくとも２つのアプリケータのそれぞれは、当該別個の処置領域のそれぞれに適切な量のＲＦエネルギーを送達することが可能である、システム。
〔態様８２〕
態様８１に記載のシステムにおいて、さらに、
戻り電極、
を備える、システム。
〔態様８３〕
態様８１に記載のシステムにおいて、前記処置用アプリケータのそれぞれが、患者の組織の表面である組織表面に接触して配置されるように、かつ、前記組織表面にＲＦエネルギーを送達するように構成された複数の処置用電極を含み、当該複数の処置用電極は、ＲＦ信号が印加されることが可能である少なくとも２つの個別にアドレス指定可能な処置用電極を有している、システム。