【事件の表示】
　特願２０１０−２８８４５２「液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年１０月　６日出願公開、特開２０１１−１９７６４３、請求項の数（２３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　
　本願は、平成２２年１２月２４日（パリ条約による優先権主張２０１０年３月２２日、韓国）の出願であって、平成２６年５月２７日付け及び同年９月２２日付けで手続補正書が提出され、同年１１月４日付けで前記同年９月２２日付けの手続補正は却下されると同時に拒絶の査定がなされ、これに対し、平成２７年１月２３日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされると同時に手続補正がなされ、その後、当審において、平成２７年１０月１３日付けで拒絶の理由（以下、「最初の当審拒理」という。）を通知したところ、これに対し、平成２８年１月７日付けで意見書及び手続補正書が提出され、さらに、当審において、同年１月２８日付けで拒絶の理由（以下、「２回目当審拒理」という。）を通知したところ、これに対し、同年４月２８日付けで意見書及び手続補正書が提出されたものである。　
　
　
第２　本願発明　
　本願の請求項１乃至２３に係る発明は、上記平成２８年４月２８日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１乃至２３に記載された事項により特定される、次のとおりのものと認める（以下請求項１乃至２３に係る発明を、それぞれ、「本願発明１」乃至「本願発明２３」といい、これらを総称して「本願発明」という。）。　
「【請求項１】　
　画素電極が備えられるとともに前記画素電極を覆う導電体の第１配向膜が全面に備えられた第１基板、共通電極が全面に備えられた第２基板、前記第１、２基板に介された液晶層、及び前記第１、２基板の間に介されることにより前記第１、２基板の間隔を維持するセルスペーサを備えた複数のセル領域と、　
　前記複数のセル領域の間に位置し、そのセル領域から延びた前記第１基板と第２基板、及び前記第１基板と第２基板との間で、前記第１、２基板のいずれか一方に接し前記セルスペーサより長さの短い、少なくとも一つの周辺スペーサを備えた切断領域と、を備え、　
　前記セルスペーサと前記周辺スペーサとは、絶縁剤から形成された、液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項２】　
　前記液晶層は、紫外線反応性物質またはその結合体を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項３】　
　前記紫外線反応性物質は、反応性メソゲンであることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項４】　
　前記周辺スペーサは、前記第１基板及び前記第２基板のうち少なくとも一つに接することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項５】　
　前記第２基板の前記第１基板と対向する面には、前記セル領域と前記切断領域とにわたって前記共通電極を覆う導電性の第２配向膜を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項６】　
　前記第１基板は、前記画素電極に備えられた陥没パターンを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項７】　
　前記液晶層は、液晶分子及び反応性メソゲンポリマーを含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項８】　
　前記共通電極には、液晶ドメイン形成のためのパターンがないことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項９】　
　前記セル領域にセルスペーサを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。　
　【請求項１０】　
　画素電極を含むとともに前記画素電極を覆う導電体の第１配向膜を全面に有する第１基板を製造する工程と、　
　前記画素電極と対向する共通電極を全面に有する第２基板を製造する工程と、　
　前記第１基板と前記第２基板との間に、シーラントで密封された複数のセル領域を設け、その内部に液晶層を形成する工程と、　
　前記複数のセル領域に、前記第１、２基板との間に介された前記第１、２基板の間隔を維持するセルスペーサを形成するとともに、前記複数のセル領域間の、前記セル領域を切り出す際に切断されるための切断領域に、前記第１基板と第２基板との間で、前記第１、２基板のいずれか一方に接し前記セルスペーサより長さの短い、少なくとも一つの周辺スペーサを形成する工程と、を含み、　
　前記セルスペーサと前記周辺スペーサとは、絶縁剤から形成される、液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１１】　
　前記周辺スペーサは、前記切断領域において前記第１基板と前記第２基板とのセルギャップを維持して、前記画素電極及び前記共通電極の電気的ショートを防止することを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１２】　
　前記液晶層は、前記画素電極と前記共通電極との間に電圧差が発生した状態で、紫外線処理されることを特徴とする請求項１０または１１に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１３】　
　前記液晶層は、紫外線反応性物質またはその結合体を含むことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１４】　
　前記紫外線反応性物質は、反応性メソゲンであることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１５】　
　前記周辺スペーサは、前記第１基板及び前記第２基板のうち少なくとも一つに接することを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１６】　
　前記第１基板と前記第２基板との相互対向する面に、前記セル領域と前記切断領域とにわたって第２配向膜を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１７】　
　前記第１基板は、液晶ドメインを形成するための陥没パターンを含むことを特徴とする請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１８】　
　前記液晶層を形成する工程は、液晶分子と反応性メソゲンモノマーとを含む液晶組成物を前記セル領域に介在させる工程と、前記液晶組成物を紫外線露光させる露光工程とを含むことを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項１９】　
　前記露光工程時、前記メソゲンモノマーはメソゲンポリマーに重合され、前記液晶分子は、前記陥没パターンによって液晶ドメインを形成して配列されることを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項２０】　
　前記露光工程は、前記画素電極と前記共通電極とに電圧を印加した状態で露光させる電界露光工程と、電圧を印加していない状態で露光させる無電界露光工程とを含むことを特徴とする請求項１８または１９に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項２１】　
　前記共通電極には、液晶ドメインを形成するためのパターンがないことを特徴とする請求項１０〜２０のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項２２】　
　前記セル領域にセルスペーサを形成することを特徴とする請求項１０〜２１のいずれか一項に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。　
　【請求項２３】　
　前記セルスペーサと前記周辺スペーサとを同時に形成することを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法。」　
　
　
第３　原査定の理由について　
１．原査定の理由の概要　
＜理由１＞
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。　
　
・請求項１、２、６、１２、１４〜１６、２０、２７、２８、３０　
・引用文献１
　
＜理由２＞　
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　
・請求項１〜３０　
・引用文献１〜８　
備考：　
　請求項１、２、６、１２、１４〜１６、２０、２７、２８、３０に係る発明は、引用文献１に記載された発明から容易に想到し得るものである。また、引用文献１及び引用文献２に記載された発明から容易に想到し得るものである。　
　請求項３〜５、１０、１７〜１９、２３、２５に係る発明について、反応性メソゲンについては引用文献３（特に【００３４】）に記載されているように周知な材料であり、紫外線照射工程については引用文献４（全文全図）、引用文献５（全文全図）、引用文献６（特に【０１０５】−【０１０７】）等に記載されているように周知の工程である。　
　請求項７、２１に係る発明について、引用文献７（特に【００３２】−【００３５】）の記載を参照して容易に想到し得るものである。　
　請求項８、９、１１、２２、２４、２６に係る発明について、引用文献８（特に【００２７】−【００２８】）の記載を参照して容易に想到し得るものである。　
　
引用文献等一覧　
１．特開２００８−１５３８３号公報　
２．特開２００２−３１８０６号公報　
３．特開２０１０−５５０８２号公報　
４．特開２００９−１９２７１５号公報　
５．特開２００９−５３５４４号公報　
６．特開２００９−１６３２６１号公報　
７．特開２０１０−３８９８３号公報　
８．特開平１１−３３７９０３号公報　
　
＜理由３＞　
　　この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。　
　
　出願当初請求項１３，２９に係る発明には「セルスペーサは、周辺スペーサと同じ形状を有し」と記載されているが、それぞれが従属している請求項１，１５に係る発明には、「セルスペーサより長さの短い周辺スペーサ」と記載されているので、セルスペーサと周辺スペーサの形状は異なる。　
　
２．原査定の理由の判断　
（１）刊行物の記載事項　
ア．刊行物１　
　本願の優先日前の平成２０年１月２４日に頒布された特開２００８−１５３８３号公報には、以下の記載がある。　
（ア）「【発明が解決しようとする課題】　
【０００６】　
　ところで、
液晶表示装置の液晶セルは、一対の基板に複数の液晶セルを配置して切り出す多面取り方式で製造している。
【０００７】　
　しかしながら、この対向基板におけるガラス破材はアレイ基板上の駆動用ＬＳＩが実装される実装領域にも位置しており、ガラス破材を取り除く際にアレイ基板上の実装領域の配線を、このガラス破材によって傷付けてしまうという問題点がある。　
【０００８】　
　即ち、図６及び図７に示すように、多面取り方式において、液晶セル１００のアレイ基板１０１には、Ｌ型の実装領域１０２が設けられている。一方、図７（ａ）に示すように対向基板１０４においてはこの実装領域１０２に対応する部分は不要領域１０６であるため、ガラス破材として取り除く必要がある。この取り除く際に図７（ｂ）に示すように不要領域１０６がアレイ基板１００の実装領域１０２に接触し、実装領域１０２上の配線１０８を傷付けてしまうという問題点がある。　
【０００９】　
　そこで、本発明は上記問題点に鑑み、アレイ基板上の実装領域を対向基板のガラス破材によって傷付けない液晶表示装置を提供する。　
…　
【発明の効果】　
【００１１】　
　本発明によれば、複数のダミー用スペーサによって、アレイ基板の実装領域を傷付けることがない。」　
（イ）「【００１３】　
（第１の実施形態）　
　以下、本発明の第１の実施形態の液晶表示装置の液晶セル１０について図１〜図３に基づいて説明する。　
【００１４】　
（１）液晶表示装置１０の構成　
　液晶セル１０の構成について説明する。　
【００１５】　
　
液晶セル１０はアレイ基板１２と対向基板１４とより構成されている。
【００１６】　
　図３に示すように、ＴＦＴ２０は、例えば逆スタガー型であり、ガラス基板２２の主面側のＴＦＴ２０にはゲート電極２４が、配線部には走査線１８がそれぞれ配設され、これらの上には絶縁膜２６が積層されている。この絶縁膜２６の上でゲート電極２４の上方にはアモルファスシリコンよりなる半導体膜２８が形成され、この半導体膜２８及び絶縁膜２６に跨がるようにソース電極３０及びドレイン電極３２が半導体膜２８の中央部に所定の距離を隔てて対向するように配されている。ドレイン電極３２には信号線１６が連結されて形成され、ソース電極３０には
画素電極３４
配向膜３８
【００１７】　
　また、
アレイ基板１２のＬ字型の実装領域６２には、駆動用ＬＳＩと接続するための配線６４が複数本形成されている。
【００１８】　
　対向基板１４は、ガラス基板４０上に画素位置に合わせて形成された赤、緑、青のカラーフィルター４２，４４，４６が形成されている。このカラーフィルター４２，４４，４６の間にはマトリックス状にブラックマトリックス５０が形成されている。また、このブラックマトリックス５０上には、カラーフィルター層４２，４４，４６と同じ材料によって形成されたセルギャップ維持用スペーサ柱５２及びダミー用スペーサ柱５４が形成されている。これらスペーサ柱５２，５４については後から詳しく説明する。そして、
透明電極４７
【００１９】　
　アレイ基板１２と対向基板１４とが、光変調層である液晶層５６を挟んで配置されている。この液晶層５６は、一対の基板１２，１４の間に額縁状に形成されたシール部材５８によって封止されている。　
【００２０】　
（２）スペーサ柱５２，５４の構造　
　次に、図１及び図２に基づいてセルギャップ維持用スペーサ柱５２とダミー用スペーサ柱５４について説明する。　
【００２１】　
　上記で説明したように両スペーサ柱５２，５４はカラーフィルター層４２，４４，４６と同じ材料で形成されている。そして、
セルギャップ維持用スペーサ柱５２は、シール部材５８の内側であって、表示画素が形成されている有効表示領域６０に均一にマトリックス状に配置されている。
【００２２】　
　一方、ダミー用スペーサ柱５４は、多面取り方式によって分割した場合にシール部材５８の位置より外周であって、かつ、この多面取り方式によって切断したカラーフィルター層より内側に形成されている。このダミー用スペーサ柱５４は、等間隔にマトリックス状に配置され、その太さはセルギャップ維持用スペーサ柱５２より太く、約２５０μｍ２である。」　
（ウ）「【００２８】　
（変更例）　
　本発明は上記各実施形態に限らず、その主旨を逸脱しない限り種々に変更することができる。　
【００２９】　
　上記実施形態では
セルギャップ維持用スペーサ柱５２とダミー用スペーサ柱５４とを
樹脂等によって別途形成してもよい
（エ）【図２】（ａ）及び（ｂ）より、アレイ基板１２と対向基板１４との間であって、切り出して取り除かれる不要領域６６には、対向基板１４に接し、セルギャップ維持用スペーサ柱５２より長さが短い、ダミー用スペーサ柱５４が看取できる。　
（オ）上記記載事項（ア）及び（イ）並びに、【図１】及び【図３】より、画素電極３４及び画素電極３４を一部覆う配向膜３８が備えられたアレイ基板１２、透明電極４７が全面に備えられた対向基板１４、前記アレイ基板１２と前記対向基板１４との間に介された液晶層５６、及び前記アレイ基板１２、前記対向基板１４の間に介されることにより前記アレイ基板１２、前記対向基板１４の間隔を維持するセルギャップ維持用スペーサ柱５２を備えた、多面取り方式で複数の液晶セル１０が切り出される一対の基板が看取できる。　
　そうすると、上記（ア）乃至（オ）の記載事項から、刊行物１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
　
「画素電極３４及び画素電極３４を一部覆う配向膜３８が備えられたアレイ基板１２、透明電極４７が全面に備えられた対向基板１４、前記アレイ基板１２と前記対向基板１４との間に介された液晶層５６、及び前記アレイ基板１２、前記対向基板１４の間に介されることにより前記アレイ基板１２、前記対向基板１４の間隔を維持するセルギャップ維持用スペーサ柱５２を備えた、多面取り方式で複数の液晶セル１０が切り出される一対の基板であって、　
　アレイ基板１２と対向基板１４との間であって、切り出して取り除かれる不要領域６６には、対向基板１４に接し、有効表示領域６０に配置されたセルギャップ維持用スペーサ柱５２より長さが短い、ダミー用スペーサ柱５４と、アレイ基板１２のＬ字型の実装領域６２に駆動用ＬＳＩと接続するための配線６４と、を備え、　
セルギャップ維持用スペーサ柱５２とダミー用スペーサ柱５４とを樹脂等によって形成した一対の基板。」　
　
イ．刊行物２　
　本願の優先日前の平成１４年１月３１日に頒布された特開２００２−３１８０６号公報には、以下の記載がある。　
（ア）「【００１２】　
【発明の実施の形態】［第１実施形態］以下、図１〜図４を参照して、この発明の液晶表示素子の製造方法の第１実施形態について説明する。なお、図９〜図１４に示された従来例と同一部分には同一符号を付して説明する。この液晶表示素子の製造方法は、表示領域４に対応する箇所の一対のガラス基板１、２間に、
表示領域４内の液晶層を均一な厚さに保つための
【００１３】すなわち、柱状スペーサ９は、
図１および図２に示すように、上下一対のガラス基板１、２
【００１４】このような液晶表示素子を製造する場合には、図１１に示す従来例と同様、
液晶表示素子に対応する素子形成領域１０が複数配列される２枚の大きなガラス板１１を用意し、予め、一方のガラス板１１の各素子形成領域１０にそれぞれ画素電極６、接続端子７、および各素子形成領域１０内の表示領域４の周囲をそれぞれ囲むシール材５などを形成し、他方のガラス板１１の各素子形成領域１０にそれぞれ電極層８および柱状スペーサ９を形成する。このときには、図２に示すよに、表示領域４の周囲に位置するシール材５の内側および外側と、前記各素子形成領域１０の間にもそれぞれ柱状スペーサ９を所定密度で一度に形成する。そして、これら２枚のガラス板１１を加圧して貼り合わせる。
【００１５】このときには、表示領域４の周囲に位置するシール材５の内側および外側に柱状スペーサ９が所定密度で形成されているので、一対のガラス板１１を加圧して貼り合わせるときに、表示領域４の内外における不均一なスペーサ密度によるガラス板１１の変形を防ぐことができる。このため、一対のガラス板１１つまり製品となる一対のガラス基板１、２を均一な間隔で貼り合わせることができ、これにより表示領域４内における液晶層厚の精度を向上させることができる。この後、
スクライブ・ブレーク法により２枚のガラス板１１を各素子形成領域１０ごとに切断し、個々の液晶表示素子に分割する。
（イ）上記（ア）並びに【図１】及び【図２】より、各素子形成領域１０の間は、切断領域といえるから、液晶表示装置を製造する際に用意される上下一対のガラス基板１、２は、素子形成領域１０が複数配列される２枚の大きなガラス板１１の一方のガラス板１１の各素子形成領域１０にそれぞれ画素電極６、接続端子７、および各素子形成領域１０内の表示領域４の周囲をそれぞれ囲むシール材５などが形成され、他方のガラス板１１の各素子形成領域１０にそれぞれ電極層８および表示領域４内の液晶層を均一な厚さに保つための柱状スペーサ９が形成され、表示領域４の周囲に位置するシール材５の内側および外側と、前記各素子形成領域１０の間である切断領域にもそれぞれ柱状スペーサ９が所定密度で一度に形成され、これら２枚のガラス板１１を加圧して貼り合わせてなる上下一対のガラス基板１、２が看取できる。　
　
　そうすると、上記（ア）及び（イ）の記載事項から、刊行物２には、次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。
　
「液晶表示装置を製造する際に用意される上下一対のガラス基板１、２は、素子形成領域１０が複数配列される２枚の大きなガラス板１１の一方のガラス板１１の各素子形成領域１０にそれぞれ画素電極６、接続端子７、および各素子形成領域１０内の表示領域４の周囲をそれぞれ囲むシール材５などが形成され、他方のガラス板１１の各素子形成領域１０にそれぞれ電極層８および表示領域４内の液晶層を均一な厚さに保つための柱状スペーサ９が形成され、表示領域４の周囲に位置するシール材５の内側および外側と、前記各素子形成領域１０の間である切断領域にもそれぞれ柱状スペーサ９が所定密度で一度に形成され、これら２枚のガラス板１１を加圧して貼り合わせてなる上下一対のガラス基板１、２。」　
　
（３）対比　
　そこで、本願発明１と引用発明１とを対比すると、　
ア．後者の「画素電極３４」、「配向膜３８」、「アレイ基板１２」、「透明電極４７が全面に備えられた対向基板１４」、「アレイ基板１２と対向基板１４との間に介された液晶層５６」、「アレイ基板１２、対向基板１４の間に介されることによりアレイ基板１２、対向基板１４の間隔を維持するセルギャップ維持用スペーサ柱５２」及び「対向基板１４に接し、有効表示領域６０に配置されたセルギャップ維持用スペーサ柱５２より長さが短い、ダミー用スペーサ柱５４」は、それぞれ、前者の「画素電極」、「導電体の第１配向膜」、「第１基板」、「共通電極が全面に備えられた第２基板」、「第１、２基板に介された液晶層」、「第１、２基板の間に介されることにより第１、２基板の間隔を維持するセルスペーサ」及び「第１基板と第２基板との間で、第１、２基板のいずれか一方に接しセルスペーサより長さの短い、少なくとも一つの周辺スペーサ」に相当する。　
イ．後者の配向膜３８は、その作用・機能からして、導電体であることは明らかである。　
ウ．後者は、多面取り方式で切り出される複数の液晶セル１０を備えたものであるから、複数のセル領域を備えるといえる。　
エ．後者のダミー用スペーサ柱５４が備えられた「不要領域６６」は、アレイ基板１２と対向基板１４との間であって、多面取り方式で切り出して取り除かれるものであるから、前記複数のセル領域の間に位置した切断領域といえる。　
オ．後者の「液晶セル１０」は、多面取り方式で複数に切り出されると液晶表示装置となるものであるから、後者の「一対の基板」は、液晶表示装置を備えるといえる。　
カ．後者の「一対の基板」は、多面取り方式で複数の液晶セル１０が切り出されるものであるから、マザー基板といえる。　
　
　したがって、両者は、　
「画素電極が備えられるとともに前記画素電極を覆う導電体の第１配向膜が備えられた第１基板、共通電極が全面に備えられた第２基板、前記第１、２基板に介された液晶層、及び前記第１、２基板の間に介されることにより前記第１、２基板の間隔を維持するセルスペーサを備えた複数のセル領域と、
　前記複数のセル領域の間に位置し、そのセル領域から延びた前記第１基板と第２基板、及び前記第１基板と第２基板との間で、前記第１、２基板のいずれか一方に接し前記セルスペーサより長さの短い、少なくとも一つの周辺スペーサを備えた切断領域と、を備え、　
　液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板。」　
の点で一致し、以下の点で相違する。　
　
［相違点１］　
　本願発明１では、画素電極を覆う導電体の第１配向膜が「全面」に備えられているのに対し、引用発明１では、その点が明らかでない点。　
　
［相違点２］　
　本願発明１では、セルスペーサと周辺スペーサとは、「絶縁剤から形成されている」のに対し、引用発明１では、その点が明らかでない点。　
　
（４）判断　
ア．＜理由１＞について　
　そうすると、引用発明１は、上記相違点１及び２に係る本願発明１の発明特定事項を具備していない。　
　したがって、本願発明１が、引用発明１であるとすることはできない。　
　また、本願発明１０は、本願発明１の「マザー基板」を「マザー基板の製造方法」とカテゴリーを変えたものであって、実質的に本願発明１と相違しない。　
　よって、本願発明１０が、引用発明１であるとすることはできない。　
　また、本願発明４及び９は、本願発明１の発明特定事項に加えてさらなる発明特定事項を追加して限定を付したものであり、本願発明１１、１５、２２及び２３は、本願発明１０の発明特定事項に加えてさらなる発明特定事項を追加して限定を付したものであるから、本願発明４、９、１１、１５、２２及び２３も引用発明１であるとすることはできない。　
　
イ．＜理由２＞について　
　上記相違点１及び２について以下検討する。　
　引用発明２の「画素電極６」、「一方のガラス基板１１」、「電極層８」、「他方のガラス基板１１」、「液晶層」、「均一な厚さに保つための柱状スペーサ９」、「表示領域４」、「表示領域４の周囲に位置するシール材５の内側および外側と、前記各素子形成領域１０の間の柱状スペーサ９」及び「切断領域」は、それぞれ、本願発明１の「画素電極」、「第１基板」、「共通電極」、「第２基板」、「液晶層」、「第１、２基板の間隔を維持するセルスペーサ」、「セル領域」、「複数のセル領域の間に位置するセルスペーサ」及び「切断領域」に相当する。　
　しかし、引用発明２は、相違点１及び２に係る本願発明１の発明特定事項を備えていない。　
　そして、上記相違点１及び２に係る本願発明１の発明特定事項が、当業者にとって設計事項とする根拠もない。　
　しかも、本願発明１は、上記相違点１及び２に係る本願発明１の発明特定事項を具備することにより、本願明細書に記載の「電極にパターンを形成せずに液晶ドメインを形成できると同時に、切断領域でのショートの発生危険も抑制できるように改善された液晶表示装置及びその製造方法を提供することである」（段落【０００６】）という作用効果を奏するものである。　
　
　また、原審で提示された引用文献３乃至８のいずれを見ても、上記相違点１及び２に係る本願発明１の発明特定事項は記載されていない。　
　したがって、本願発明１は、引用発明１及び２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。　
　
ウ．＜理由３＞について　
　本願発明は、上記「第２」のとおりであって、出願当初請求項１３，２９は、削除されたため、明確となった。　
　
第４　当審拒絶理由について　
１．最初の当審拒理の概要　
（１）この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。　
　請求項１〜１２は、「液晶表示装置」という物の発明であるが、その物の製造方法が記載されている。　
　
（２）この出願の下記の請求項に係る発明は、その優先日前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
・請求項　１〜２６　
・引用文献等　１〜１０　
備考：（特に、請求項１及び１３（独立請求項）に対して）　
　引用文献２〜４に記載されているように、基板間隔を一定に保つセルスペーサをカラーフィルタの材料と同じ絶縁材料で形成することは、本願優先日時点で、周知の技術事項といえる。　
　
引用文献等一覧　
１．特開２００８−１５３８３号公報　
２．特開平１１−１０９３７２号公報　
３．特開２００６−１１３２０４号公報　
４．特開２００８−２３３２４２号公報　
５．特開２００９−１９２７１５号公報　
６．特開２００９−５３５４４号公報　
７．特開２００９−１６３２６１号公報　
８．特開２０１０−５５０８２号公報　
９．特開２０１０−３８９８３号公報　
１０．特開平１１−３３７９０３号公報　
　
２．２回目当審拒理の概要　
（１）この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。　
（１）請求項１〜１０は「液晶表示装置」に係る発明であるが、「少なくとも一つの周辺スペーサを備えた周辺領域」を備えるものであるから、「液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板」に係る発明ではないか。　
　同様に、請求項１１〜２４は「液晶表示装置の製造方法」に係る発明であるが、「液晶表示装置と切断領域を備えたマザー基板の製造方法」に係る発明ではないか。　
（２）請求項１を引用する請求項２は、「セルスペーサより長さの短い、少なくとも一つの周辺スペーサ」を備えるものであるから、「前記第１基板と前記第２基板とのセルギャップを維持して」との特定は矛盾する特定である。　
（３）請求項４、８、１５、１９、２０の「メゾゲン」は、一般に用いられる「メソゲン」の誤記ではないか。　
３．最初の当審拒理の判断について　
（１）特許法第３６条第６項第２号について　
　平成２８年４月２８日に提出された手続補正書において、上記第２のとおり、請求項１乃至９の記載は補正されたことにより、請求項１乃至９に係る発明は明確となった。　
　したがって、当該拒絶理由は解消された。
　
（２）特許法第２９条第２項について　
ア．刊行物の記載事項
（ア）本願の優先日前の平成１１年４月２３日に頒布された特開平１１−１０９３７２号公報には、以下の記載がある。　
「【請求項３】　請求項１または２記載の液晶表示素子用基板の製造方法であって、　
前記スペ−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイルタと同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形成されることを特徴とする液晶表示素子用基板の製造方法。」　
「【００４３】次に、ゲート絶縁膜１２上に例えばａ−Ｓi からなる半導体層２９を形成する。　次に、半導体層２９上にｎ+ −ａ−Ｓi からなるコンタクト層３０を形成する。　次に、これらの上に信号線３１とソース電極３２を形成する。信号線３１とソース電極３２は、例えば膜厚０．３μｍでＩＴＯからなる。　
【００４４】そして、これらの覆うように絶縁膜３３を形成する。絶縁膜３３は、感光性樹脂をフォトリソグラフィでパターンニング（例えば後述のスルーホールの形成）して形成される。この絶縁膜３３は、各画素において赤・青・緑のいずれか一色のカラーフィルタを構成する。　
【００４５】次に、この絶縁膜３３上に画素電極３４を形成する。画素電極３４は、例えば膜厚０．１μｍのＩＴＯからなる。　
【００４６】そして、ソース電極３２と画素電極３４とをスルーホール３５で接続する。　
【００４７】上記の絶縁膜３３は、例えば赤色の顔料を分散させた感光性レジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布し、９０℃　１０分の乾燥機、赤色の着色層を形成する部分のみに紫外線が照射されるようなフォトマスクを介し露光量が２００mJ／cm2 となるように露光を行う。次に、水酸化カリウム１重量％水溶液で２０秒間現像を行い、２００℃　６０分焼成することにより赤色の着色層を形成する。　
【００４８】同様に、緑、青の着色層を繰り返し形成することにより各着色層の膜厚が１．５μｍであるカラーフィルタとしての絶縁膜３３が得られる。ここで、緑の着色材料には、ＣＧ−２０００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株) 製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製）を用いることができる。　
【００４９】次に、テーパ角度が８５°より小さくなるようにスペーサ３を形成する。スペーサ３は、例えば感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０℃　１０分間、乾燥した後、スペーサ３と表示エリア外周部に幅３mmの遮光領域が形成されるようにフォトマスクを介して紫外線を、３００mJ／cm2 の露光量で照射した後、ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液で現像し、２００℃　６０分焼成することによりスペーサ３と表示エリア外周部に遮光領域を同時に形成する。スペーサ３のカラ−フィルタとしての絶縁膜３３表面からの高さは例えば４．９μｍとなるように形成する。」　
　
（イ）本願の優先日前の平成１８年４月２７日に頒布された特開２００６−１１３２０４号公報には、以下の記載がある。　
「【請求項４】　
　柱状スペーサを介して貼り合わせた第１基板と第２基板との間に液晶層を保持した液晶表示装置の製造方法であって、　
　第１基板を用意する工程は、　
　第１色用の画素部及びスペーサ部に第１カラーフィルタ層を配置する工程と、　
　第２色用の画素部及び前記スペーサ部に配置された前記第１カラーフィルタ層上に第２カラーフィルタ層を配置する工程と、を備え、　
　これらの工程で前記スペーサ部に前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層からなる柱状スペーサを同時に形成し、　
　前記第１カラーフィルタ層を配置する工程及び前記第２カラーフィルタ層を配置する工程の少なくとも一方の工程は、前記画素部における膜厚よりも前記スペーサ部における膜厚が厚いカラーフィルタ層を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」　
「「【００２０】　
　柱状スペーサ１０４は、例えばアレイ基板２００における少なくとも有効表示部１０２内のスペーサ部ＳＰに配置されている。この柱状スペーサ１０４は、例えば絶縁膜２１８と同様の樹脂を用いて形成されている。この柱状スペーサ１０４及び絶縁層２１８は、同一材料によって同一工程にて形成することが可能である。これにより、柱状スペーサ１０４及び絶縁層２１８をそれぞれ別個に形成した場合よりも製造工程数を削減することができる。」
「【００３７】　
　すなわち、露光量によってカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の膜厚を制御することにより、所望の高さを有する柱状スペーサ１０４をカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）と同一材料で同時に形成することが可能となり、安価で、表示性能に優れた液晶表示装置を提供することができる。」　
「【００４６】　
　同様にして、図７Ｂに示すように、青色の有機顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト（ＣＢ−２０００；富士フィルムオーリン（株）製）を用いて、画素部ＰＸにおける膜厚Ｔ１（＝１．２μｍ）及びスペーサ部ＳＰにおける膜厚Ｔ２（＝２．０μｍ）を有し、しかも、コンタクトホールＣＨを有した青色カラーフィルタ層ＣＦＢが形成される。また、これらカラーフィルタ層ＣＦ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を形成すると同時に、赤色カラーフィルタ層ＣＦＲ、緑色カラーフィルタ層ＣＦＧ、及び、青色カラーフィルタ層ＣＦＢを順に積層した４．８μｍ（２．０μｍ×３−１．２μｍ）の高さＨを有する柱状スペーサ１０４が形成される。」　
　
（ウ）本願の優先日前の平成２０年１０月２日に頒布された特開２００８−２３３２４２号公報には、以下の記載がある。　
「【請求項３】　
　前記対向基板には、前記アレイ基板との間に前記所定の間隙を保つためのスペーサが形成されており、　
　前記ダミーパターンは、前記スペーサと同じ材料を用いて形成されている、請求項１記載の液晶表示装置。　
【請求項４】　
　前記対向基板には、複数色の色フィルタが形成されており、前記ダミーパターン及び前記スペーサは、複数色の前記色フィルタの少なくとも一つの色の色フィルタと同じ材料を用いて形成されている、請求項３記載の液晶表示装置。　
【請求項５】　
　前記対向基板には、絶縁膜が形成されており、前記ダミーパターン、及び前記スペーサは、前記絶縁膜と同じ材料を用いて形成されている、請求項３記載の液晶表示装置。」　
「【００４４】　
　このダミーパターン１２は、スペーサ１７と同じ材料で形成されている。そして、ダミーパターン１２及びスペーサ１７は、色フィルタ１５のうち赤色の色フィルタと同じ材料で形成されている。」　
「【００５７】　
　そして、赤色フィルタ形成工程Ｓ５で赤色フィルタを形成する際、同時に、赤色の色フィルタ１５と同じ材料を用いてスペーサ１７及びダミーパターン１２を形成する（ダミーパターン形成工程Ｓ６）。図４に、同一工程３８として示すように、赤色フィルタ形成工程Ｓ５とダミーパターン形成工程Ｓ６とは同じ一つの工程である。すなわち、ダミーパターン形成工程Ｓ６を赤色フィルタ形成工程Ｓ５と同一の工程とすることにより、ダミーパターン１２を形成するために、新たな工程を設ける必要がない。従って、ダミーパタン１２を形成しても工程数は増加しないので、製造コストも増加しない。」
「【００８８】　
　さらに、第１の実施の形態では、ダミーパターン１２を対向基板３に形成する場合について説明したが、これに限らず、ダミーパターン１２をアレイ基板２に形成しても構わない。なお、この場合には、ダミーパターン１２をアレイ基板２の層間絶縁膜１３や、層間絶縁膜１４などと同じ材料を用い、アレイ基板２の層間絶縁膜１３や、層間絶縁膜１４を形成する工程でダミーパターン１２を形成すれば、工程数増加による製造コストの増大を抑えることが出来る。」　
　
　以上、（ア）乃至（ウ）より、「セル領域において、絶縁材料で形成した基板間隔を一定に保つセルスペーサ」は周知の技術事項であるといえる。（以下「周知技術」という。）　
　
イ．対比・判断　
　上記「第３　２．　（３）」のとおり、本願発明１と引用発明１との相違点は、以下のとおりである。　
［相違点１］　
　本願発明１では、画素電極を覆う導電体の第１配向膜が全面に備えられているのに対し、引用発明１では、その点が明らかでない点。　
　
［相違点２］　
　本願発明１では、セルスペーサと周辺スペーサとは、絶縁剤から形成されているのに対し、引用発明１では、その点が明らかでない点。　
　
　上記相違点２について検討する。
　上記「ア．」のとおり、「セル領域において、絶縁材料で形成した基板間隔を一定に保つセルスペーサ」は周知技術であるが、周辺スペーサを絶縁材料で形成することまでを周知技術とすること、すなわち、上記相違点２に係る本願発明１の発明特定事項を周知技術とすることはできない。　
　そして、上記相違点２に係る本願発明１の発明特定事項が、当業者にとって設計事項とする根拠もない。　
　しかも、本願発明１は、上記相違点２に係る本願発明１の発明特定事項を具備することにより、本願明細書に記載の「電極にパターンを形成せずに液晶ドメインを形成できると同時に、切断領域でのショートの発生危険も抑制できるように改善された液晶表示装置及びその製造方法を提供することである」（段落【０００６】）という作用効果を奏するものである。　
　
　また、当審で提示した引用文献５乃至１０のいずれを見ても、上記相違点２に係る本願発明１の発明特定事項は記載されていない。　
　したがって、相違点２に係る本願発明１の発明特定事項は、引用発明１及び上記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。　
ウ．小括
　よって、上記相違点１について検討するまでもなく、本願発明１は、引用発明１及び上記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。　
　
４．２回目当審拒理の判断について　
　平成２８年４月２８日に提出された手続補正書において、上記第２のとおり、請求項１乃至２３の記載は補正されたことにより、請求項１乃至２３に係る発明は明確となった。
　したがって、当該拒絶理由は解消された。
　
　したがって、当審拒絶理由は解消した。　
　
　
第５　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。　
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。　
　
　よって、結論のとおり審決する。