【手続補正書】
【提出日】令和2年4月30日(2020.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カテーテルであって、前記カテーテルは、
近位端部分および遠位端部分を有するカテーテルシャフトと、
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に結合されているアブレーション電極であって、前記アブレーション電極は、外力がないときに実質的に球状の部分と仮定する拡張可能部分を備え、前記アブレーション電極は、内側部分および前記内側部分と反対の外側部分を有する、アブレーション電極と、
前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている１つまたは複数の画像センサと
を備え、
前記１つまたは複数の画像センサは、前記拡張可能部分によって少なくとも部分的に画定される体積内に配置され、前記１つまたは複数の画像センサは、前記アブレーション電極の前記内側部分に向けられている、カテーテル。
【請求項２】
前記アブレーション電極の前記拡張可能部分は、前記拡張可能部分が圧縮状態から非圧縮状態に拡張するとき、前記１つまたは複数の画像センサのうちの１つの画像センサから離れる方向に移動可能である、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項３】
前記１つまたは複数の画像センサは、少なくとも３つの画像センサを含む、請求項１および２のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項４】
前記１つまたは複数の画像センサのうちの１つの画像センサは、前記アブレーション電極によって包み込まれている、請求項１−３のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項５】
前記アブレーション電極は、前記画像センサからの撮像エネルギーに対して少なくとも部分的に透明であり、それによって、前記アブレーション電極は、前記画像センサから前記アブレーション電極に向けられる前記撮像エネルギーの半分未満を反射する、請求項４に記載のカテーテル。
【請求項６】
前記アブレーション電極は、前記アブレーション電極の前記内側部分の総表面積より大きい開放面積を画定する、請求項４および５のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項７】
前記少なくとも１つの画像センサは、遠位方向に向けられている、請求項１−６のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項８】
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に対して固定されている場所センサをさらに備えている、請求項１−７のいずれか１項に記載のカテーテル。
【請求項９】
前記場所センサは、磁気センサを含む、請求項８に記載のカテーテル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
他の側面、特徴、および利点は、説明および図面、ならびに請求項から明白となるであろう。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
カテーテルであって、前記カテーテルは、
近位端部分および遠位端部分を有するカテーテルシャフトと、
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に結合されているアブレーション電極であって、前記アブレーション電極は、内側部分および前記内側部分と反対の外側部分を有する、アブレーション電極と、
前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている少なくとも１つの画像センサと
を備え、
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも部分的に前記アブレーション電極によって画定される体積内に配置され、前記少なくとも１つの画像センサは、前記アブレーション電極の前記内側部分に向けられている、カテーテル。
（項目２）
前記アブレーション電極は、変形可能部分を含み、前記変形可能部分は、前記変形可能部分が圧縮状態から非圧縮状態に拡張するとき、前記少なくとも１つの画像センサから離れる方向に移動可能である、項目１に記載のカテーテル。
（項目３）
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも３つの画像センサを含む、項目１および２のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目４）
前記少なくとも１つの画像センサは、前記アブレーション電極によって包み込まれている、項目１−３のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目５）
前記アブレーション電極は、前記少なくとも１つの画像センサからの撮像エネルギーに対して少なくとも部分的に透明であり、それによって、前記アブレーション電極は、前記少なくとも１つの画像センサから前記アブレーション電極に向けられる前記撮像エネルギーの半分未満を反射する、項目４に記載のカテーテル。
（項目６）
前記アブレーション電極は、前記アブレーション電極の前記内側部分の総表面積より大きい開放面積を画定する、項目４および５のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目７）
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に結合されている潅注要素をさらに備えている、項目１−６のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目８）
前記少なくとも１つの画像センサは、前記潅注要素に沿って配置されている、項目７に記載のカテーテル。
（項目９）
前記潅注要素は、前記少なくとも１つの画像センサのそれぞれの視野に向けられた潅注孔を画定する、項目７および８のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目１０）
前記潅注要素によって画定される前記潅注孔は、前記潅注要素と前記アブレーション電極の前記内側部分との間の前記少なくとも１つの画像センサの前記それぞれの視野に向けられている、項目９に記載のカテーテル。
（項目１１）
前記少なくとも１つの画像センサは、カメラを含む、項目１−１０のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目１２）
前記カメラは、前記アブレーション電極の前記内側部分に向けられた光源を含む、項目１１に記載のカテーテル。
（項目１３）
前記カメラは、前記アブレーション電極の遠位半分を含む少なくとも１つの視野を有する、項目１１および１２のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目１４）
前記アブレーション電極は、実質的に球状の部分を含み、前記カメラは、前記実質的に球状の部分の赤道を含む少なくとも１つの視野を有する、項目１１−１３のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目１５）
前記少なくとも１つの画像センサは、前記少なくとも１つの画像センサの焦点距離より短い距離だけ前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている、項目１１−１４のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目１６）
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも１つの超音波変換器を含む、項目１−１５のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目１７）
前記アブレーション電極は、複数の支柱を含み、前記複数の支柱は、複数の開放セルを集合的に画定する、項目１６に記載のカテーテル。
（項目１８）
前記少なくとも１つの超音波変換器は、前記支柱のうちの少なくともいくつかのそれぞれの横断寸法の少なくとも２倍広いビーム幅を有する、項目１７に記載のカテーテル。
（項目１９）
前記少なくとも１つの超音波変換器は、放射対称である、項目１６−１８のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目２０）
前記少なくとも１つの画像センサは、超音波変換器アレイを含む、項目１６−１８のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目２１）
前記少なくとも１つの画像センサは、前記少なくとも１つの画像センサの焦点距離より長い距離だけ前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている、項目１６−２０のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目２２）
前記少なくとも１つの画像センサは、遠位方向に向けられている、項目１−２１のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目２３）
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に対して固定されている場所センサをさらに備えている、項目１−２２のいずれか１項に記載のカテーテル。
（項目２４）
前記場所センサは、磁気センサを含む、項目２３に記載のカテーテル。
（項目２５）
カテーテルアブレーションシステムであって、前記カテーテルアブレーションシステムは、
カテーテルであって、前記カテーテルは、
近位端部分および遠位端部分を有するカテーテルシャフトと、
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に結合されているアブレーション電極であって、前記アブレーション電極は、内側部分および前記内側部分と反対の外側部分を有する、アブレーション電極と、
前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている少なくとも１つの画像センサと
を含み、
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも部分的に前記アブレーション電極によって画定される体積内に配置され、前記少なくとも１つの画像センサは、前記アブレーション電極の前記内側部分に向けられている、カテーテルと、
前記カテーテルと電気通信するカテーテルインターフェースユニットと
を備え、
前記カテーテルインターフェースユニットは、１つ以上のプロセッサ、およびコンピュータ実行可能命令を記憶している非一過性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を含み、
前記命令は、
少なくとも１つの画像を前記少なくとも１つの画像センサから受信することと、
少なくとも部分的に前記少なくとも１つの画像に基づいて、解剖学的構造のグラフィカル表現を生成することと、
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現をグラフィカルユーザインターフェースに送信さすることと
を前記１つ以上のプロセッサに行わせる、カテーテルアブレーションシステム。
（項目２６）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を生成することを前記１つ以上のプロセッサに行わせる前記コンピュータ実行可能命令は、前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を通って延びる平面に沿ってスライスすることをさらに含む、項目２５に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目２７）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現は、少なくとも部分的に複数の画像に基づき、前記複数の画像内の前記画像の少なくともいくつかは、前記解剖学的構造内の前記アブレーション電極の異なる場所に対応する、項目２５および２６のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目２８）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を生成することを前記１つ以上のプロセッサに行わせる前記コンピュータ実行可能命令は、前記解剖学的構造内の前記アブレーション電極の場所に少なくとも部分的にさらに基づく、項目２５−２７のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目２９）
前記解剖学的構造内の前記アブレーション電極の前記場所は、前記解剖学的構造の少なくとも一部内に存在する電場に少なくとも部分的に基づく、項目２８に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３０）
前記解剖学的構造内の前記アブレーション電極の前記場所は、前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に対して固定された磁気センサからの信号に少なくとも部分的に基づく、項目２５−２９のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３１）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を生成することを前記１つ以上のプロセッサに行わせる前記コンピュータ実行可能命令は、前記解剖学的構造の形状、前記アブレーション電極の形状、またはそれらの組み合わせを検出することを前記１つ以上のプロセッサに行わせるためのコンピュータ実行可能命令を含む、項目２５−３０のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３２）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を生成することを前記１つ以上のプロセッサに行わせる前記コンピュータ実行可能命令は、少なくとも部分的に前記少なくとも１つの画像に基づいて、解剖学的境界を検出することを前記１つ以上のプロセッサに行わせるためのコンピュータ実行可能命令を含む、項目２５−３１のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３３）
前記解剖学的境界は、血液−組織境界である、項目３２に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３４）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を生成することを前記１つ以上のプロセッサに行わせる前記コンピュータ実行可能命令は、少なくとも部分的に前記少なくとも１つの画像に基づいて、前記解剖学的構造の厚さを決定することと、前記厚さの視覚的印を前記グラフィカルユーザインターフェース上に表示することとを前記１つ以上のプロセッサに行わせるためのコンピュータ実行可能命令を含む、項目２５−３３のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３５）
前記解剖学的構造は、心腔であり、前記厚さは、心内膜組織と心外膜組織との間の距離である、項目３４に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３６）
前記解剖学的構造の前記グラフィカル表現を生成することを前記１つ以上のプロセッサに行わせる前記コンピュータ実行可能命令は、少なくとも部分的に前記少なくとも１つの画像に基づいて、前記解剖学的構造内の組織の色の変化を検出することと、前記グラフィカルユーザインターフェースに前記解剖学的構造内の組織の色の前記変化の指示を送信することとを前記１つ以上のプロセッサに行わせるためのコンピュータ実行可能命令を含む、項目２５−３５のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３７）
前記解剖学的構造内の組織の色の前記変化は、病変進行度を示す、項目３６に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目３８）
カテーテルアブレーションシステムであって、前記カテーテルアブレーションシステムは、
カテーテルであって、前記カテーテルは、
近位端部分および遠位端部分を有するカテーテルシャフトと、
前記カテーテルシャフトの前記遠位端部分に結合されているアブレーション電極であって、前記アブレーション電極は、内側部分および前記内側部分と反対の外側部分を有する、アブレーション電極と、
前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている少なくとも１つの画像センサと
を含み、
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも部分的に前記アブレーション電極によって画定される体積内に配置され、前記少なくとも１つの画像センサは、前記アブレーション電極の前記内側部分に向けられている、カテーテルと、
前記カテーテルと電気通信するカテーテルインターフェースユニットと
を備え、
前記カテーテルインターフェースユニットは、１つ以上のプロセッサ、およびコンピュータ実行可能命令を記憶している非一過性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を含み、
前記命令は、
少なくとも１つの画像を前記少なくとも１つの画像センサから受信することと、
少なくとも部分的に前記少なくとも１つの画像に基づいて、解剖学的構造の組織の厚さを決定することと
を前記１つ以上のプロセッサに行わせる、カテーテルアブレーションシステム。
（項目３９）
前記解剖学的構造の組織の厚さを決定することを前記１つ以上のプロセッサに行わせるための前記コンピュータ実行可能命令は、前記画像センサの３次元局所化にさらに基づく、項目３８に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目４０）
前記解剖学的構造の組織の厚さを決定することを前記１つ以上のプロセッサに行わせるための前記コンピュータ実行可能命令は、前記画像センサの１つ以上の前の位置からの情報にさらに基づく、項目３９に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目４１）
前記画像センサの前記１つ以上の前の位置からの情報は、前記画像センサの前記それぞれの１つ以上の前の位置に関連付けられた１つ以上の画像を含む、項目４０に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目４２）
前記画像センサの前記１つ以上の前の位置からの情報は、前記画像センサの前記それぞれの１つ以上の前の位置に関連付けられた１つ以上の３次元場所を含む、項目４０および４１のいずれか１項に記載のカテーテルアブレーションシステム。
（項目４３）
方法であって、前記方法は、
アブレーション電極を圧縮状態から非圧縮状態に拡張させることであって、前記アブレーション電極の内側部分は、前記非圧縮状態において、少なくとも１つの画像センサを包み込んでいる、ことと、
前記アブレーション電極の外側部分を解剖学的構造内の治療部位に位置付けることであって、前記アブレーション電極の前記外側部分は、前記アブレーション電極の前記内側部分と反対にある、ことと、
前記治療部位の少なくとも１つの画像を前記少なくとも１つの画像センサから入手することと、
前記治療部位の少なくとも１つの画像に少なくとも部分的に基づいて、前記治療部位におけるアブレーション電極にＲＦエネルギーを送達することと
を含む、方法。
（項目４４）
前記アブレーション電極を前記圧縮状態から前記非圧縮状態に拡張させることは、前記アブレーション電極を前記少なくとも１つの画像センサから離れる方向に移動させることを含む、項目４３に記載の方法。
（項目４５）
血液は、前記アブレーション電極が前記非圧縮状態にある状態で、前記少なくとも１つの画像センサと前記アブレーション電極の前記内側部分との間で移動可能である、項目４３および４４のいずれか１項に記載の方法。
（項目４６）
少なくとも部分的に前記少なくとも１つの画像に基づいて、前記治療部位における組織厚を決定することをさらに含む、項目４３−４８のいずれか１項に記載の方法。
（項目４７）
ＲＦエネルギーを前記アブレーション電極に送達することは、前記治療部位における前記組織厚に基づく、項目４６に記載の方法。
（項目４８）
前記治療部位の前記少なくとも１つの画像に基づいて、解剖学的境界を検出することをさらに含む、項目４３−４７のいずれか１項に記載の方法。
（項目４９）
前記アブレーション電極の前記外側部分を前記治療部位に位置付けることは、少なくとも部分的に前記検出された解剖学的境界に基づく、項目４８に記載の方法。
（項目５０）
前記治療部位の前記少なくとも１つの画像を入手することは、前記治療部位の複数の画像を前記解剖学的構造内の前記アブレーション電極のそれぞれの異なる場所から入手することを含む、項目４３−４９のいずれか１項に記載の方法。
（項目５１）
各それぞれの画像に関連付けられた場所を決定し、前記治療部位の前記複数の画像および各それぞれの画像に関連付けられた前記場所に基づいて、解剖学的境界のグラフィカル表現を形成することをさらに含む、項目５０に記載の方法。
（項目５２）
前記解剖学的境界の前記グラフィカル表現は、心臓の心内膜組織の表現を含む、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
前記解剖学的境界の前記グラフィカル表現は、組織厚の表現を含む、項目５１および５２のいずれか１項に記載の方法。
（項目５４）
各それぞれの画像に関連付けられた前記場所を決定することは、前記解剖学的構造の少なくとも一部内に存在する電場に基づく、項目５１−５３のいずれか１項に記載の方法。
（項目５５）
前記電場は、少なくとも部分的に前記解剖学的構造の外部の１つ以上の電極によって生成される、項目５４に記載の方法。
（項目５６）
前記電場は、前記解剖学的構造内の前記アブレーション電極によって支持されている１つ以上の電極によって少なくとも部分的に生成される、項目５４および５５のいずれか１項に記載の方法。
（項目５７）
各それぞれの画像に関連付けられた前記場所を決定することは、信号を前記アブレーション電極に関連付けられた場所センサから受信することを含む、項目５１−５６のいずれか１項に記載の方法。
（項目５８）
前記場所センサは、磁気センサを含む、項目５７に記載の方法。
（項目５９）
前記場所センサは、前記アブレーション電極に結合されたカテーテルシャフトの遠位端部分に対して固定されている、項目５７および５８のいずれか１項に記載の方法。
（項目６０）
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも１つのカメラを含み、前記治療部位の画像を前記少なくとも１つの画像センサから入手することは、潅注流体を前記少なくとも１つのカメラのそれぞれの視野に送達することを含む、項目４３−５９のいずれか１項に記載の方法。
（項目６１）
前記少なくとも１つの画像センサは、前記少なくとも１つの画像センサの焦点距離より短い距離だけ前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている、項目６０に記載の方法。
（項目６２）
前記潅注流体は、前記少なくとも１つのカメラと前記アブレーション電極の前記内側部分との間に送達される、項目６０に記載の方法。
（項目６３）
前記少なくとも１つの画像センサは、少なくとも１つの超音波変換器を含む、項目４３−６２のいずれか１項に記載の方法。
（項目６４）
前記少なくとも１つの画像センサは、前記少なくとも１つの画像センサの焦点距離より長い距離だけ前記アブレーション電極の前記内側部分から間隔を置かれている、項目６３に記載の方法。
（項目６５）
ＲＦエネルギーを前記アブレーション電極に送達することは、前記少なくとも１つの画像センサによって検出される微小気泡の検出に基づく、項目４３−６４のいずれか１項に記載の方法。