【手続補正書】
【提出日】令和2年9月3日(2020.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクレスパターンライター（１）を備えるマスクレスリソグラフィー露光システム（３０１Ａ−３０１Ｄ）を使用し、電子デバイスを作成する方法であって、
前記方法は、
ベクトルベースの入力設計ファイルを事前に処理して、共通チップ設計データを備えるビットマップフォーマットのパターンデータを生成することと、
前記マスクレスパターンライターに前記パターンデータをストリーム配信する前に、前記パターンデータの中に非共通チップ設計データ又は非共通チップ設計データに関係する情報を導入することと
を含み、
前記共通チップ設計データは、前記パターンデータの制御下で前記マスクレスパターンライターを使用しウェハ（２４）上に作成される電子デバイス（１００）の共通設計レイアウト部分（１０１）を定義し、前記共通設計レイアウト部分は、前記ウェハ上に作成される他の電子デバイスと同一であり、
前記非共通チップ設計データは、前記パターンデータの制御下で前記マスクレスパターンライターを使用し前記ウェハ上に作成される前記電子デバイス（１００）の非共通設計レイアウト部分（１０２）を定義し、前記非共通設計レイアウト部分は、前記ウェハ上に作成される他の電子デバイスとは異なり、
前記方法は、一意的データジェネレータ（３３０）において前記非共通チップ設計データ（４３０）を生成することをさらに含み、前記マスクレスリソグラフィー露光システムは、前記一意的データジェネレータを備える、
方法。
【請求項２】
前記ウェハの前記共通設計レイアウト部分及び前記非共通設計レイアウト部分が、前記パターンデータの制御下で電子ビーム露光を使用し、前記マスクレスパターンライターによって露光される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非共通チップ設計データ（４３０）が、一意的データジェネレータ（３３０）から受信される秘密データ（４４０）に基づいて生成される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記一意的データジェネレータ（３３０）が、暗号化されたフォーマットで外部プロバイダ（３４０）から前記秘密データ（４４０）を受信する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記マスクレスリソグラフィー露光システムが、前記非共通チップ設計データ又は前記非共通チップ設計データに関係する情報を、暗号化されたコードの形で、暗号化された方法で実行システムのプロセスジョブジェネレータに入力するための入力ジェネレータを備え、前記マスクレスパターンライターの機械制御部分が、前記暗号化されたコードを、難読化された方法で前記パターンデータと混合することによって変換する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記非共通チップ設計データが、２つ以上の層の間のビア接続を記述する設計データを含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記非共通チップ設計データが、電気回路要素のアクティブ領域を記述する設計データを含む、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記非共通チップ設計データの処理が、安全な操作環境において実行される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
マスクレスパターンライター（１）を備えるマスクレスリソグラフィー露光システムであって、
前記マスクレスリソグラフィー露光システムは、パターンデータに従ってターゲットの表面にパターンを露光するように構成され、
前記パターンデータは、ベクトルベースの入力設計ファイルを事前に処理することによって入手されるビットマップフォーマットであり、共通チップ設計データを備え、、
前記マスクレスリソグラフィー露光システムは、前記マスクレスパターンライターに前記パターンデータをストリーム配信する前に、前記パターンデータの中に非共通チップ設計データを挿入するように構成され、
前記共通チップ設計データは、前記パターンデータの制御下で前記マスクレスパターンライターを使用しウェハ（２４）上に作成される電子デバイス（１００）の共通設計レイアウト部分（１０１）を定義し、前記共通設計レイアウト部分は、前記ウェハ上に作成される他の電子デバイスと同一であり、
前記非共通チップ設計データは、前記パターンデータの制御下で前記マスクレスパターンライターを使用し前記ウェハ上に作成される前記電子デバイス（１００）の非共通設計レイアウト部分（１０２）を定義し、前記非共通設計レイアウト部分は、前記ウェハ上に作成される他の電子デバイスとは異なり、
前記マスクレスリソグラフィーシステムは、前記非共通チップ設計データ（４３０）を生成するように構成された一意的データジェネレータ（３３０）をさらに備える、
マスクレスリソグラフィー露光システム。
【請求項１０】
前記共通チップ設計データを備える前記パターンデータを生成するために使用される前記ベクトルベースの入力設計ファイルを事前に処理するように構成されたパターンデータ処理システム（３１８）、及び前記共通チップ設計データを備える前記パターンデータを受信し、前記パターンデータの中に前記非共通チップ設計データを挿入するように構成されるパターンストリーマ（３１９）を備える、請求項９に記載のマスクレスリソグラフィー露光システム。
【請求項１１】
リソグラフィーサブシステム（３１６）に前記共通チップ設計データを備える前記パターンデータをストリーム配信するように構成されたパターンストリーマ（３１９）を備え、前記リソグラフィーサブシステム（３１６）が前記パターンデータの中に前記非共通チップ設計データを挿入するように構成される、請求項９又は１０に記載のマスクレスリソグラフィー露光システム。
【請求項１２】
前記一意的データジェネレータ（３３０）が、前記秘密データ（４４０）を生成するように構成される、請求項９乃至１１のいずれか一項に記載のマスクレスリソグラフィー露光システム。
【請求項１３】
マスクレスパターンライターを備えるマスクレスリソグラフィー露光システムを使用し、作成される電子デバイス（１００）であって、
前記マスクレスリソグラフィー露光システムがパターンデータに従ってターゲットの表面にパターンを露光するように構成され、
前記パターンデータがベクトルベースの入力設計ファイルを事前に処理することによって入手されるビットマップフォーマットであり、共通チップ設計データを備え、
前記マスクレスリソグラフィー露光システムが、前記マスクレスパターンライターに前記パターンデータをストリーム配信する前に、前記パターンデータの中に非共通チップ設計データを挿入するように構成され、
前記共通チップ設計データが、前記パターンデータの制御下で前記マスクレスパターンライターを使用しウェハ（２４）上に作成される電子デバイス（１００）の共通設計レイアウト部分（１０１）を定義し、前記共通設計レイアウト部分が、前記ウェハ上に作成される他の電子デバイスと同一であり、
前記非共通チップ設計データが、前記パターンデータの制御下で前記マスクレスパターンライターを使用し前記ウェハ上に作成される前記電子デバイス（１００）の非共通設計レイアウト部分（１０２）を定義し、前記非共通設計レイアウト部分が、前記ウェハ上に作成される他の電子デバイスとは異なり、
前記非共通設計レイアウト部分が、前記非共通設計レイアウト部分の作成中に前記マスクレスリソグラフィー露光システムの一意的データジェネレータ（３３０）を使用し、生成される、
電子デバイス。
【請求項１４】
前記電子デバイスが、任意の他の作成された半導体チップとは異なる真に一意的半導体チップである、請求項１３に従って作成される電子デバイス。
【請求項１５】
前記共通設計レイアウト部分及び前記非共通設計レイアウト部分が電子回路を形成するために相互接続される、請求項１３又は１４のいずれか一項に記載の電子デバイス。