【手続補正書】
【提出日】令和1年12月19日(2019.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の工程ａ）、ｂ）及びｃ）：
ａ）組成物を基材上にコーティングし；
ここで、前記組成物が広帯域照射にさらされた領域において、２２２ｎｍ〜３０８ｎｍの間で放射するＵＶエキシマレーザーによる後の低温レーザーアブレーションに対しても感応性であるネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジストのための組成物であって、
該組成物が次のタイプａ１）及びｂ１）の成分：
ａ１）
ｉ）樹脂が水性塩基に溶解するように、フェノール部分、カルボン酸部分又は両方の種類の部分の組み合わせを含有する樹脂；
ｉｉ）少なくとも１種の架橋剤；及び
ｉｉｉ）広帯域照射に対して感応性のある少なくとも１種の光開始剤を含む、ネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジスト挙動を付与するための成分；
並びに、
ｂ１）２２０ｎｍ〜３１０ｎｍの範囲の紫外線を強く吸収する少なくとも１種の共役アリール添加剤を含む低温レーザーアブレーションエキシマレーザー増感剤成分系、
を含み、
ｂ）広帯域ＵＶ露光を用いてブランケット照射することによってコーティング全体を架橋し；及び
ｃ）２２２ｎｍ〜３０８ｎｍの間で放射するＵＶエキシマレーザーを用いて低温レーザーアブレーションすることにより前記架橋コーティングにパターンを形成すること
を含む方法。
【請求項２】
次の工程ａ）、ｂ）、ｃ）及びｄ）：
ａ）組成物を基材上にコーティングし；
ここで、前記組成物が広帯域照射にさらされた領域において、２２２ｎｍ〜３０８ｎｍの間で放射するＵＶエキシマレーザーによる後の低温レーザーアブレーションに対しても感応性であるネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジストのための組成物であって、
該組成物が次のタイプａ１）及びｂ１）の成分：
ａ１）
ｉ）樹脂が水性塩基に溶解するように、フェノール部分、カルボン酸部分又は両方の種類の部分の組み合わせを含有する樹脂；
ｉｉ）少なくとも１種の架橋剤；及び
ｉｉｉ）広帯域照射に対して感応性のある少なくとも１種の光開始剤を含む、ネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジスト挙動を付与するための成分；
並びに、
ｂ１）２２０ｎｍ〜３１０ｎｍの範囲の紫外線を強く吸収する少なくとも１種の共役アリール添加剤を含む低温レーザーアブレーションエキシマレーザー増感剤成分系、
を含み、
ｂ）マスクを介した広帯域ＵＶ露光を用いた照射によってコーティングの一部を架橋し；ｃ）水性塩基を用いてこのコーティングを現像し、このコーティングの未露光領域を除去し、それによって第１パターンを形成し；
ｄ）２２２ｎｍ〜３０８ｎｍの間で放射するＵＶエキシマレーザーを用いて前記第１パターンを低温レーザーアブレーションすることによって前記第１パターンに第２パターンを形成すること
を含む方法。
【請求項３】
ｂ１）における２２２ｎｍ〜３１０ｎｍの紫外線を強く吸収する前記共役アリール添加剤が、（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＶＩＩ）から成る群から選択される、請求項１または２に記載の方法：
【化１】
2019508752.tif 000001
【化２】
2019508752.tif 000002
【化３】
2019508752.tif 000003
【化４】
2019508752.tif 000004
【化５】
2019508752.tif 000005
【化６】
2019508752.tif 000006
【化７】
2019508752.tif 000007
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、独立して、それぞれ水素、アルキル基、アルキレンフルオロアルキル基、アルキレンアリール基及びアルキレンオキシアルキル基から成る群から選択され；Ｒ７は、アルキル基、アルキレンフルオロアルキル基、アルキレンアリール基及びアルキレンオキシアルキル基から成る群から選択され；各Ｒ８は、独立して、水素、アルキル基、アルキレンフルオロアルキル基、アルキレンアリール基、アルキレンオキシアルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキレン基及びアルコキシ基から成る群から選択され；Ｘ３は、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩよりなる群から選択され；それぞれのｎ、ｎａ、ｎｂ、ｍ、ｍａ及びｍｂは、独立して、それぞれ１〜４の整数から選択され；ｍｃは１〜９の整数から選択され、ｍｄは１〜１０の整数から選択される。
【請求項４】
ネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジスト挙動を付与するための前記成分が次の（ＶＩＩＩ）、（ＶＩＶ）及び（Ｘ）よりなる群から選択される、請求項１〜３のいずれかに記載の方法：
（ＶＩＩＩ）は、
ａ）環結合ヒドロキシ基を有するフェノールフィルム形成性高分子バインダー樹脂；
ｂ）フィルム形成性高分子バインダー樹脂の架橋を開始するのに十分な量の、放射線に曝されると酸を形成する光酸発生剤；
ｃ）前記光酸発生剤によって形成された酸に曝された際にカルボニウムイオンを形成する、エーテル化アミノプラスポリマー又はオリゴマーを含む第１架橋剤；
ｄ）前記光酸発生剤によって形成された酸に曝された際にカルボニウムイオンを形成する、ジヒドロキシアルキル−（テトラ）−フェノールを含む第２架橋剤、ここで、該第１架橋剤及び該第２架橋剤の合計量は有効架橋量である；及び
ｅ）フォトレジスト溶媒、
を含み、
（ＶＩＶ）は、
ａ−１）少なくとも１種のアルカリ可溶性ポリマー、ここで該アルカリ可溶性ポリマーは構造（ＩＶ）の少なくとも１つの単位を含む：
【化８】
2019508752.tif 000008
（式中、各Ｒ’はヒドロキシル、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、塩素及び臭素から成る群から独立して選択され、ｍ’は１〜４の整数から選択される。）；
ｂ−１）構造４の少なくとも１種のモノマー：
【化９】
2019508752.tif 000009
（式中、Ｗは多価連結基であり、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａは、独立して、水素、ヒドロキシ、（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキル及び塩素から成る群から選択され、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ酸素であり；ｎ’は１以上の整数である。）；
ｃ−１）少なくとも１種の光開始剤；及び
ｄ−１）フォトレジスト溶媒、
を含み、該構造４のモノマーは酸開裂性基をさらに含み、該アルカリ可溶性ポリマーは少なくとも一つの酸開裂性基をさらに有し；
（Ｘ）は、
ａ−２）次式の構造を含む少なくとも１種のポリマー：
【化１０】
2019508752.tif 000010
（式中、Ｒ１ｂ〜Ｒ５ｂは独立してそれぞれＨ、Ｆ及びＣＨ３から成る群から選択され、Ｒ６ｂは置換アリール、非置換アリール、置換ヘテロアリール及び非置換ヘテロアリール基よりなる群から選択され、Ｒ７ｂは置換又は非置換ベンジル基であり、Ｒ８ｂは直鎖又は分岐Ｃ２〜Ｃ１０ヒドロキシアルキル基及びＣ２〜Ｃ１０ヒドロキシアルキルアクリレートよりなる群から選択され、Ｒ９ｂは酸開裂性基であり、ｖ＝１０〜４０モル％、ｗ＝０〜３５モル％、ｘ＝０〜６０モル％、ｙ＝１０〜６０モル％、ｚ＝０〜４５モル％である。）、
ｂ−２）化学線によって活性化される１種以上のフリーラジカル開始剤、
ｃ−２）フリーラジカル架橋することができる１種以上の架橋性アクリル化モノマーであって、アクリレート官能価が１よりも大きいもの、及び
ｄ−２）フォトレジスト溶媒、
を含む。
【請求項５】
ｂ１）における前記共役アリール添加剤が（Ｉ）及び（ＩＩ）よりなる群から選択される、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
ネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジスト挙動を付与するための前記成分ａ１）が（ＶＩＶ）である、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
ネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジスト挙動を付与するための前記成分ａ１）が（Ｘ）である、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
ネガ型水性塩基現像性広帯域ＵＶレジスト挙動を付与するための前記成分ａ１）が（ＶＩＩＩ）である、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
ｂ１）における前記共役アリール添加剤が２２０ｎｍ〜３１０ｎｍの波長において１０〜１０００ｍ２／ｍｏｌの間のモル吸光係数を有し、好ましくは、前記共役アリール添加剤が２４８ｎｍで１０〜１０００ｍ２／ｍｏｌのモル吸光係数を有するか、または、前記共役アリール添加剤が３０８ｎｍで１０〜１０００ｍ２／モルのモル吸光係数を有する、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
ｂ１）における前記共役アリール添加剤が（Ｉ）であり、さらにＲ２及びＲ１が独立して水素及びアルキル基から成る群から選択される、請求項３〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
ｂ１）における前記共役アリール添加剤が（ＩＩ）であり、Ｒ３がアルキル基であり、ＸがＣｌである、請求項３〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
ｂ１）における前記共役アリール添加剤が（Ｖ）であり、少なくとも一つのＲ８がアルコキシ基、ヒドロキシアルキレン及びヒドロキシ基から成る群から独立に選択される、請求項３〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
ｂ１）における前記共役アリール添加剤が（ＶＩ）であり、少なくとも一つのＲ８がアルコキシ基、ヒドロキシアルキレン及びヒドロキシ基から成る群から独立に選択される、請求項３〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記広帯域ＵＶ露光が３５０〜４５０ｎｍの間である、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記エキシマレーザーが２４８ｎｍまたは３０８ｎｍで放射する、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。