Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月14日(2020.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ウエハーのエッジ研磨方法は、 回収されるスラリーの濁度が既に設定された値を超えると、前記回収されたスラリーを前記研磨ステージに再供給する段階をさらに含むことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
実施例に係るウエハーのエッジ研磨装置１０００は、チャンバー内に、ローディング部１１０、アライン部１２０、ノッチ加工部１３０、移送部１４０、エッジ加工部２００、バッファ部１６０、及びアンローディング部１７０が備えられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工程チャンバー；
前記工程チャンバーの下部領域に配置され、ウエハーが配置される研磨ステージ；
前記研磨ステージの縁に配置され、前記ウエハーを研磨する研磨ユニット；
前記工程チャンバーの上部領域に配置されるスラリー貯蔵部；
前記スラリー貯蔵部にスラリーを供給するスラリー供給部；
前記研磨ステージの上部領域に純水を供給する純水供給部；
前記スラリー貯蔵部から前記研磨ステージに前記スラリーを供給する第１配管；
前記第１配管内部の前記スラリーの濁度を検出する濁度検出ユニット；
前記研磨ステージから前記スラリー貯蔵部に前記スラリーを回収する第２配管；及び
前記検出された濁度に基づいて、前記スラリー供給部から前記スラリー貯蔵部に供給されるスラリーの量を調節する制御部を含むウエハーのエッジ研磨部。
【請求項２】
前記濁度検出ユニットは、前記第１配管の一側面に隣接して配置される発光部、前記第１配管の一側面と向かい合う他側面に隣接して配置される受光部、及び前記受光部で測定された濁度を前記制御部に伝達するフィードバック部を含む、請求項１に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項３】
前記発光部から放出されて前記受光部に進行する光の光軸は、前記第１配管の配置方向と交差する、請求項２に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項４】
前記第１配管は、前記発光部と前記受光部との間で透光性材料で構成される、請求項２に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項５】
前記第１配管は、前記スラリー貯蔵部と隣接した第１部分、前記研磨ステージと隣接した第３部分、及び前記第１部分と第３部分との間に配置された第２部分を含み、前記第２部分が透光性材料からなる、請求項４に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項６】
前記第２部分の両端は前記第１部分及び前記第３部分にそれぞれ挿入される、請求項５に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項７】
前記第２部分の両端は雄ネジの形状であり、前記第１部分及び前記第３部分において前記第２部分が挿入される領域は雌ネジの形状である、請求項６に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項８】
前記研磨ステージの下部領域に設けられ、前記スラリー及び純水を排出する排出部をさらに含む、請求項１に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項９】
前記スラリー貯蔵部の内部の温度及びｐＨをそれぞれ測定する温度測定部及びｐＨ測定部の少なくとも一つをさらに含む、請求項１に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項１０】
前記工程チャンバー内の湿度は３５％〜８５％である、請求項１又は２に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項１１】
前記工程チャンバー内の温度は、−２０℃〜＋５５℃である、請求項１又は２に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項１２】
前記フィードバック部は、前記検出された濁度に基づいて、前記制御部に前記スラリーの交換信号を２５０マイクロ秒以内に伝達する、請求項２に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項１３】
前記スラリーは、シリカ、ＫＯＨ、ＮａＯＨ及び分散剤を含有する、請求項１又は２に記載のウエハーのエッジ研磨部。
【請求項１４】
チャンバー；
前記チャンバーの内部に複数枚のウエハーをローディングするローディング部；
前記複数枚のウエハーのノッチを加工するノッチ加工部；
前記ノッチ加工された複数枚のウエハーを移送する移送部；
前記移送された複数枚のウエハーのエッジを加工するエッジ研磨部；及び
前記エッジ研磨された複数枚のウエハーをアンローディングするアンローディング部；を含み、
前記エッジ研磨部は、
工程チャンバー；
前記工程チャンバーの下部領域に配置され、ウエハーが配置される研磨ステージ；
前記研磨ステージの縁に配置され、前記ウエハーを研磨する研磨ユニット；
前記工程チャンバーの上部領域に配置されるスラリー貯蔵部；
前記スラリー貯蔵部にスラリーを供給するスラリー供給部；
前記研磨ステージの上部領域に純水を供給する純水供給部；
前記スラリー貯蔵部から前記研磨ステージに前記スラリーを供給する第１配管；
前記第１配管内部の前記スラリーの濁度を検出する濁度検出ユニット；
前記研磨ステージから前記スラリー貯蔵部に前記スラリーを回収する第２配管；及び
前記検出された濁度に基づいて、前記スラリー供給部から前記スラリー貯蔵部に供給されるスラリーの量を調節する制御部を含む、ウエハーのエッジ研磨装置。
【請求項１５】
前記濁度検出ユニットは、前記第１配管の一側面に隣接して配置される発光部、前記第１配管の一側面と向かい合う他側面に隣接して配置される受光部、及び前記受光部で測定された濁度を前記制御部に伝達するフィードバック部を含む、請求項１４に記載のウエハーのエッジ研磨装置。
【請求項１６】
前記第１配管は、前記スラリー貯蔵部と隣接した第１部分、前記研磨ステージと隣接した第３部分、及び前記第１部分と第３部分との間に配置された第２部分を含み、前記第２部分が透光性材料からなる、請求項１４に記載のウエハーのエッジ研磨装置。
【請求項１７】
前記第２部分の両端は前記第１部分及び前記第３部分にそれぞれ挿入され、前記第２部分の両端は雄ネジの形状であり、前記第１部分及び前記第３部分において前記第２部分が挿入される領域は雌ネジの形状である、請求項１６に記載のウエハーのエッジ研磨装置。
【請求項１８】
研磨ステージにスラリー及び純水を供給してウエハーのエッジを研磨する段階；
前記研磨ステージから前記スラリーを回収し、前記スラリーの濁度を検出する段階；及び
前記回収されるスラリーの濁度が既に設定された値以下であれば、前記回収されたスラリーに新規スラリーを混合して前記研磨ステージに再供給する段階を含む、ウエハーのエッジ研磨方法。
【請求項１９】
前記回収されるスラリーの濁度が既に設定された値を超えると、前記回収されたスラリーを前記研磨ステージに再供給する段階をさらに含む、請求項１８に記載のウエハーのエッジ研磨方法。
【請求項２０】
前記回収されたスラリーの容量が既に設定された値未満であれば、新規スラリーを供給する、請求項１８又は１９に記載のウエハーのエッジ研磨方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月14日(2020.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路であって、
サーマルシンク層と、
第１の動作温度要件を有する第１の組の回路に関連する第１の接地面と、
前記第１の接地面を前記サーマルシンク層に結合する第１の熱伝導性ビアと、
前記第１の動作温度要件よりも高い第２の動作温度要件を有する第２の組の回路に関連する第２の接地面と、
前記第２の接地面を前記サーマルシンク層に結合する第２の熱伝導性ビアとを備え、前記第１の熱伝導性ビアは、前記第２の組の回路よりも小さい勾配で熱を前記第１の組の回路から除去する、集積回路。
【請求項２】
前記サーマルシンク層、前記第１の熱伝導性ビア、および前記第２の熱伝導性ビアは、銅で形成される、請求項１に記載の回路。
【請求項３】
前記第１の接地面および前記第１の組の回路は、第１の導電性材料で形成され、前記第２の接地面および前記第２の組の回路は、前記第１の導電性材料とは異なる動作温度要件を有する第２の導電性材料で形成される、請求項１に記載の回路。
【請求項４】
前記第１の接地面はニオブから形成され、前記第２の接地面はアルミニウムから形成される、請求項３に記載の回路。
【請求項５】
前記第１の接地面および前記第１の組の回路は、基板の上にある第１の誘電体層内に存在し、前記第２の接地面および前記第２の組の回路は、前記基板の上および前記第１の誘電体層の上および下の一方にある第２の誘電体層内に存在する、請求項３に記載の回路。
【請求項６】
前記第１の接地面および前記第１の組の回路は、基板の上にある第１の誘電体層内に存在し、前記第２の接地面および前記第２の組の回路は、前記第１の誘電体層内において前記第１の接地面および前記第１の組の回路に隣接し、かつ物理的に分離して存在する、請求項３に記載の回路。
【請求項７】
前記第１の熱伝導性ビアは、基板を介して前記第１の接地面を前記サーマルシンク層に結合する複数の第１の熱伝導性ビアのうちの１つであり、前記第２の熱伝導性ビアは、前記基板を介して前記第２の接地面を前記サーマルシンク層に結合する複数の第２の熱伝導性ビアのうちの１つである、請求項１に記載の回路。
【請求項８】
前記複数の第１の熱伝導性ビアの各々は第１のサイズを有し、前記複数の第２の熱伝導性ビアの各々は同数の熱伝導性ビアの第２のサイズを有し、前記第１のサイズは、前記第２の組の回路よりもより多くの熱を前記第１の組の回路から除去するために、前記第２のサイズよりも大きいサイズである、請求項７に記載の回路。
【請求項９】
前記複数の第１の熱伝導性ビアの各々と前記複数の第２の熱伝導性ビアの各々は実質的に同じサイズであり、前記複数の第１の熱伝導性ビアの数は、前記第２の組の回路よりも小さい勾配で前記第１の組の回路から熱を除去するために、前記複数の第２の熱伝導性ビアの数よりも多い、請求項７に記載の回路。
【請求項１０】
前記第１の熱伝導性ビアは、前記第２の熱伝導性ビアよりも大きな体積の熱伝導性材料を有する、請求項１に記載の回路。
【請求項１１】
前記集積回路は、モノリシックマイクロ波集積回路（ＭＭＩＣ）である、請求項１に記載の回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上述したものは、本発明の事例である。当然ながら、本発明を説明する目的で、構成要素または方法の考えられるすべての組み合わせを説明することは不可能であるが、当業者は、本発明の多くのさらなる組み合わせおよび置換が可能であることを認識するであろう。従って、本発明は、添付の特許請求の範囲を含む、本出願の範囲内にあるすべてのそのような変更、修正、および変形を包含することを意図している。
以下に、上記実施形態から把握できる技術思想を付記として記載する。
［付記１］
モノリシックマイクロ波集積回路（ＭＭＩＣ）であって、
基板の下にあるサーマルシンク層と、
第１の動作温度要件を有する第１の組の超伝導回路に関連する第１の導電性接地面と、
前記第１の導電性接地面を前記基板を介して前記サーマルシンク層に結合する第１の組の熱伝導性ビアと、
前記第１の動作温度要件よりも高い第２の動作温度要件を有する第２の組の超伝導回路に関連する第２の導電性接地面と、
前記第２の導電性接地面を前記基板を介して前記サーマルシンク層に結合する第２の組の熱伝導性ビアとを備え、前記第１の組の熱伝導性ビアは、前記第２の組の超伝導回路よりもより多くの熱を前記第１の組の超伝導回路から除去するために、前記第２の組の熱伝導性ビアよりも大きな体積の熱伝導性材料を有する、モノリシックマイクロ波集積回路。
［付記２］
前記サーマルシンク層、前記第１の組の熱伝導性ビア、および前記第２の組の熱伝導性ビアは、銅で形成される、付記１に記載の回路。
［付記３］
前記第１の導電性接地面はニオブから形成され、前記第２の導電性接地面はアルミニウムから形成される、付記１に記載の回路。
［付記４］
前記第１の導電性接地面および前記第１の組の超伝導回路は、前記基板の上にある第１の誘電体層内に存在し、前記第２の導電性接地面および前記第２の組の超伝導回路は、前記基板の上および前記第１の誘電体層の上および下のいずれか一方にある第２の誘電体層内に存在する、付記１に記載の回路。
［付記５］
前記第１の導電性接地面および前記第１の組の超伝導回路は、前記基板の上にある第１の誘電体層内に存在し、前記第２の導電性接地面および前記第２の組の超伝導回路は、前記第１の誘電体層内において前記第１の導電性接地面および前記第１の組の超伝導回路と隣接し、かつ物理的に分離されている、付記１に記載の回路。
［付記６］
前記第１の組の熱伝導性ビアの各熱伝導性ビアは第１のサイズを有し、前記第２の組の熱伝導性ビアの各熱伝導性ビアは同数の熱伝導性ビアの第２のサイズを有し、前記第１のサイズは、前記第２の組の超伝導回路よりも小さい勾配で熱を前記第１の組の超伝導回路から除去するために、前記第２のサイズよりも大きいサイズである、付記１に記載の回路。
［付記７］
前記第１の組の熱伝導性ビアの各熱伝導性ビアと前記第２の組の熱伝導性ビアの各熱伝導性ビアは、実質的に同じサイズであり、前記第１の組の熱伝導性ビアの数熱伝導性ビアの数は、前記第２の組の超伝導回路よりも小さい勾配で熱を前記第１の組の超伝導回路から除去するために、前記第２の組の熱伝導性ビアの熱伝導性ビアの数よりも多い、付記１に記載の回路。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月14日(2020.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転移性ＥＧＦＲ  Ｔ７９０Ｍ陽性非小細胞肺癌を有する患者の治療において、オシメルチニブまたはその薬学的に許容される塩と同時に、別々に、または連続して組み合わせて使用するための抗ヒトＶＥＧＦＲ−２（配列番号５）抗体であって、配列番号２のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域を有する重鎖および配列番号１のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域を有する軽鎖を含む、前記抗体。
【請求項２】
前記転移性ＥＧＦＲ  Ｔ７９０Ｍ陽性非小細胞肺癌が、中枢神経系に転移している、請求項２に記載の使用のための抗体。
【請求項３】
配列番号４のアミノ酸配列を有する重鎖および配列番号３のアミノ酸配列を有する軽鎖を含む、請求項１または２に記載の使用のための抗体。
【請求項４】
前記患者が、前記抗体を受ける前に、ゲフィチニブ、エルロチニブ、またはアファチニブによる治療を受けている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項５】
前記癌が、エクソン１９の欠失およびエクソン２１におけるＬ８５８Ｒ変異からなる群から選択される少なくとも１つのさらなるＥＧＦＲ活性化変異をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項６】
前記患者が、前記抗体を６ｍｇ／ｋｇ〜１０ｍｇ／ｋｇで投与される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項７】
前記患者が、前記抗体を８ｍｇ／ｋｇ〜１０ｍｇ／ｋｇで投与される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項８】
前記患者が、前記抗体を６ｍｇ／ｋｇで投与される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項９】
前記患者が、前記抗体を８ｍｇ／ｋｇで投与される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１０】
前記患者が、前記抗体を１０ｍｇ／ｋｇで投与される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１１】
前記患者が、オシメルチニブまたはその薬学的に許容される塩を８０ｍｇで投与される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１２】
前記患者が、オシメルチニブまたはその薬学的に許容される塩を４０ｍｇで投与される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【請求項１３】
前記患者が、オシメルチニブのメシル酸塩を投与される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の使用のための抗体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月14日(2020.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
実施例２
厚さ１．４ｍｍのＡＡ７０７５アルミニウム合金シートの試料を、５分間の均熱化時間、３５０℃／秒の焼入れ速度での完全な水焼入れ、予備エイジング工程、および自然エイジングを伴う４８０℃での溶体化を含む、同一の処理方法に従って調製した。自然エイジング時間と同様に、予備エイジング温度および時間を変化させた。予備エイジング時間は、１時間、４時間、または８時間のいずれかであった。予備エイジング温度は、７０℃または１００℃のいずれかであった。自然エイジング（ＮＡ）を、１週間、２週間、３週間、または４週間実行した。試料を、塗料焼付けサイクル（ＰＢ）への提供の有無で試験した。塗料焼付けサイクルに供される場合、試料を、２％の予備ひずみの有無で試験した。図３Ａ〜Ｃは、予備エイジング時間および温度の関数としての、試料を塗料焼付けサイクルに供したかどうかの関数としての、試料の降伏強度の変化を示す。降伏強度（ＭＰａ）を、ＩＳＯ  ６８９２−１：２０１６試験に従って測定した。図４Ａ〜Ｃは、予備エイジング時間および温度の関数としての、試料を塗料焼付けサイクルに供したかどうかの関数としての、試料の伸び強度の変化を示す。伸び強度（ＭＰａ）を、ＩＳＯ  ６８９２−１：２０１６試験に従って測定した。図５Ａ〜Ｃは、予備エイジング時間および温度の関数としての、試料を塗料焼付けサイクルに供したかどうかの関数としての、試料の均一な伸びの変化を示す。均一な伸び（％）を、ＩＳＯ  ６８９２−１：２０１６試験に従って測定した。図６Ａ〜Ｃは、予備エイジング時間および温度の関数としての、試料を塗料焼付けサイクルに供したかどうかの関数としての、試料の全伸びの変化を示す。全伸び（％）を、ＩＳＯ  ６８９２−１：２０１６試験に従って測定した。図７Ａ〜Ｄは、予備エイジング時間および温度の関数としての、試料を塗料焼付けサイクルに供したかどうかの関数としての、試料の臨界破壊ひずみの変化を示す。図７ＣおよびＤは、試料を塗料焼付けサイクルに供した場合の、予備ひずみの影響を示す。臨界破壊ひずみ（％）を、ＩＳＯ  ６８９２−１：２０１６試験に従って測定した。図８Ａ〜Ｄは、予備エイジング時間および温度の関数としての、試料を塗料焼付けサイクルに供したかどうかの関数としての、試料のひずみ硬化指数（ｎ値）を示す。図８ＣおよびＤは、試料を塗料焼付けサイクルに供した場合の、予備ひずみの影響を示す。臨界破壊ひずみ（％）を、ＩＳＯ  ６８９２−１：２０１６試験に従って測定した。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月13日(2020.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光領域を備える感光素子、及び
前記感光領域の周囲に形成されていると共に、前記感光素子に接触しており、且つ、傾斜内側面と前記感光領域より高い天井面を有する、モールドパッケージ部を備え、
前記モールドパッケージ部の天井面と前記感光素子の感光領域との間の高度差は０．７ｍｍ以下であり、前記傾斜内側面は前記天井面とは異なる面粗さを有する、ことを特徴とするイメージングアセンブリ。
【請求項２】
前記モールドパッケージ部の傾斜内側面の可視光に対する反射率は５％以下である、ことを特徴とする請求項１に記載のイメージングアセンブリ。
【請求項３】
前記モールドパッケージ部の傾斜内側面の面粗さプロファイル算術平均偏差は１μｍ以上である、ことを特徴する請求項１に記載のイメージングアセンブリ。
【請求項４】
前記モールドパッケージ部の天井面の面粗さプロファイル算術平均偏差は、傾斜内側面の面粗さプロファイル郭算術平均偏差より大きい、ことを特徴とする請求項１に記載のイメージングアセンブリ。
【請求項５】
前記傾斜内側面の前記感光領域に対する傾斜角度は２０度〜７０度である、ことを特徴とする請求項１に記載のイメージングアセンブリ。
【請求項６】
前記モールドパッケージ部の寸法は以下の不等式、
５ｄ（１／ｓｉｎα−１／ｔａｎα）≦（ｂ１＋２ｂ２）を満足しており、
式中、ｄは、前記モールドパッケージ部の天井面と前記感光素子の感光領域との間の高度差を示し、αは、前記傾斜内側面の前記感光領域に対する傾斜角度を示し、ｂ１は、前記感光領域において、対向する前記傾斜内側面の間の距離を示し、ｂ２は、前記傾斜内側面の前記感光領域の平面における正投影の長さを示す、ことを特徴とする請求項１に記載のイメージングアセンブリ。
【請求項７】
前記モールドパッケージ部の寸法は以下の不等式、
ｄ１（１／ｓｉｎα１−１／ｔａｎα１）＋ｄ２（１／ｓｉｎα２−１／ｔａｎα２）≦０．４（ｂ１＋ｂ２＋ｂ３）を満足しており、
式中、ｄ１及びｄ２は、前記モールドパッケージ部の天井面と前記感光素子の感光領域との間の高度差を示し、α１及びα２は、前記傾斜内側面の前記感光領域に対する傾斜角度を示し、ｂ１は、前記感光領域において、対向する前記傾斜内側面の間の距離を示し、ｂ２及びｂ３は、前記傾斜内側面の前記感光領域の平面における正投影の長さを示す、ことを特徴とする請求項１に記載のイメージングアセンブリ。
【請求項８】
イメージングアセンブリを製造する回路基板に感光素子を実装することと、
フレキシブル膜をモールド金型の下部に付着させ、なお、前記フレキシブル膜は前記モールド金型に背向する粗い表面を備え、前記モールド金型の下部は圧力ヘッドと前記圧力ヘッドの周囲に位置するモジュール部を備え、前記圧力ヘッドのエッジ部は内側向き傾斜面を備えることと、
前記フレキシブル膜が付着されているモールド金型を前記感光素子の上に設置すると共に、前記モジュール部の前記感光素子に直面する底面と前記感光素子の天井面との間の高度差を０．７ｍｍ以下にすることと、
前記感光素子の周囲、及び、前記モジュール部の前記感光素子に直面する底面と、前記感光素子の天井面との間には、前記圧力ヘッドのエッジ部の内側向き傾斜面を取囲んでモールドパッケージ部をモールド成型することによって、前記モールドパッケージ部の前記内側向き傾斜面に隣接して形成した傾斜内側面には、前記内側向き傾斜面に付着されたフレキシブル膜の粗い表面と対応する粗い表面を有するようにすることを含む、ことを特徴とするイメージングアセンブリを製造する方法。
【請求項９】
前記モジュール部に付着されているフレキシブル膜の粗い表面の面粗さプロファイル算術平均偏差は、前記内側向き傾斜面に付着されているフレキシブル膜の粗い表面の面粗さプロファイル算術平均偏差より大きい、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記フレキシブル膜が付着されているモールド金型を前記感光素子の上に設置することは、前記フレキシブル膜が付着されている前記圧力ヘッドを前記感光素子の感光領域へ直接に突き当てることを含む、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
フレキシブル膜をモールド金型の下部に付着させた後、得られた前記フレキシブル膜の引張係数Ｋは１．４以下であり、
Ｋ＝１＋２ｄ（１／ｓｉｎα−１／ｔａｎα）／（ｂ１＋２ｂ２）、
式中、ｄは、前記モジュール部の前記感光素子に直面する底面と前記感光素子の天井面との間の高度差を示し、αは、前記内側向き傾斜面の前記感光素子の天井面に対する傾斜角度を示し、ｂ１は前記圧力ヘッドの内側向き傾斜面の間の距離を示し、ｂ２は、前記内側向き傾斜面の前記感光素子の天井面における正投影の長さを示す、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
フレキシブル膜をモールド金型の下部に付着させた後、得られた前記フレキシブル膜の引張係数Ｋは１．４以下であり、
Ｋ＝１＋（ｄ１（１／ｓｉｎα１−１／ｔａｎα１）＋ｄ２（１／ｓｉｎα２−１／ｔａｎα２））／（ｂ１＋ｂ２＋ｂ３）、
式中、ｄ１及びｄ２は、前記モジュール部の前記感光素子に直面する底面と前記感光素子の天井面との間の高度差を示し、α１及びα２は、前記内側向き傾斜面の前記感光素子の天井面に対する傾斜角度を示し、ｂ１は前記圧力ヘッドの内側向き傾斜面の間の距離を示し、ｂ２及びｂ３は、前記内側向き傾斜面の前記感光素子の天井面における正投影の長さを示す、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記フレキシブル膜は前記モールド金型に向ける粘着防止面を備える、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記フレキシブル膜は、ＥＴＦＥ、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＦＥＰ及びＰＳからなる群から選ばれる１種類または多種類の材料で製造されている、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記感光素子と前記傾斜内側面との間に位置する緩衝構造を更に備え、
前記モールドパッケージ部の天井面と前記緩衝構造の上部との間の高度差は０．７ｍｍ以下で、前記モールドパッケージ部の傾斜内側面は天井面とは異なる面粗さを有する、ことを特徴とする請求項１に記載するイメージングアセンブリ。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月13日(2020.4.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
Ｖ．ヘマトキシリン組成物の使用方法
例示的な実施態様において、生物学的試料を全自動染色システムを用いて染色するための方法は、全自動染色システムを使用して生物学的試料を本明細書に記載されるヘマトキシリン組成物に接触させることを含む。一実施態様において、方法は、試料を対比染色剤に接触させることを更に含む。別の実施態様において、対比染色剤はエオシンＹ、オレンジＧ、ライトグリーンＳＦイエローイッシュ、ビスマルクブラウン、及びファストグリーンＦＣＦからなる群より選択される。別の実施態様において、試料をヘマトキシリン組成物に接触させることを含む方法は、進行的なヘマトキシリン染色プロトコールを含む。別の実施態様において、試料をヘマトキシリン組成物に接触させることは、退行的なヘマトキシリン染色プロトコールを含む。更に別の実施態様において、生物学的試料は支持体上で支持される。一実施態様において、支持体は顕微鏡スライドを含む。別の実施態様において、生物学的試料は、組織切片又は細胞学試料を含む。一実施態様において、方法はヘマトキシリン及びエオシン（Ｈ＆Ｅ）染色法を含む。別の実施態様において、方法はパパニコロウ（ＰＡＰ）染色法を含む。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒、ヘマトキシリン、少なくともヘマトキシリンの一部をヘマテインに転換させるのに十分な量の化学酸化剤、クロリド（Ｃｌ−）及びサルフェート（ＳＯ４２−）を含む媒染剤を含むヘマトキシリン染色組成物であって、クロリド／サルフェートのモル比が１．５／１から１／１．５である、ヘマトキシリン染色組成物。
【請求項２】
媒染剤がＡｌ２（ＳＯ４）３、Ａｌ２（ＳＯ４）３・１６Ｈ２Ｏ、ＡｌＭ（ＳＯ４）２・１２（Ｈ２Ｏ）、Ａｌ２（ＳＯ４）３・６Ｈ２Ｏ、Ａｌ２（ＳＯ４）３・１８Ｈ２Ｏ、［Ａｌ（Ｈ２Ｏ）６］２（ＳＯ４）３・５Ｈ２Ｏ、ＡｌＣｌ３又はＡｌＣｌ３・６Ｈ２Ｏを含み、Ｍが一価の陽イオンである、請求項１に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項３】
クロリド／サルフェートのモル比が約１／１である、請求項１又は２に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項４】
ヘマトキシリンが０．０１Ｍから０．０５Ｍの間のモル濃度を有するか、又は０．０２Ｍから０．０４Ｍの間のモル濃度を有するか、又はヘマトキシリンが約０．０３Ｍのモル濃度を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項５】
化学酸化剤がヨウ素酸ナトリウムであり、ヨウ素酸ナトリウムが０．００１Ｍから０．０１Ｍの間のモル濃度を有するか、又は０．００３Ｍから０．００８Ｍの間のモル濃度を有するか、又はヨウ素酸ナトリウムが約０．００５Ｍのモル濃度を有する、請求項１から４のいずれか一項に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項６】
アルミニウムを含み、アルミニウムが０．１Ｍのモル濃度を有するか、又はアルミニウムが０．１Ｍより大きいモル濃度を有する、請求項１から５のいずれか一項に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項７】
４／１から１／１、又は３／１から１．５／１のアルミニウム／ヘマトキシリンのモル比を有するか、又は約２／１のアルミニウム／ヘマトキシリンのモル比を有する、請求項６に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項８】
クロリドが０．０１Ｍから０．１Ｍ、又は０．０２Ｍから０．０８Ｍのモル濃度を有するか、又はクロリドが約０．０４Ｍのモル濃度を有する、請求項１から７のいずれか一項に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項９】
多糖類、クリプタンド、クリプトファン、キャビタンド、クラウンエーテル、デンドリマー、ナノチューブ、カリックスアレーン、バリノマイシン、ナイジェリシン、及び抗酸化剤からなる群から選択されるいずれか一つを実質的に欠いている、請求項１から８のいずれか一項に記載のヘマトキシリン染色組成物。
【請求項１０】
全自動染色システムを用いて生物学的試料を染色するための方法であって、請求項１から９のいずれか一項に記載のヘマトキシリン組成物を全自動染色システムを用いて生物学的試料に接触させることを含む、方法。
【請求項１１】
試料を対比染色剤に接触させることを更に含み、対比染色剤がエオシンＹ、オレンジＧ、ライトグリーンＳＦイエローイッシュ、ビスマルクブラウン、及びファストグリーンＦＣＦからなる群より選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
試料をヘマトキシリン組成物と接触させることが、進行性ヘマトキシリン染色プロトコールを含むか、又は試料をヘマトキシリン組成物と接触させることが、退色性ヘマトキシリン染色プロトコールを含む、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
生物学的試料が支持体上で支持され、支持体が顕微鏡スライドを含む、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
生物学的試料が組織切片又は細胞学試料を含む、請求項１０から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
ヘマトキシリン及びエオシン（Ｈ＆Ｅ）染色法を含むか、又はパパニコロウ（ＰＡＰ）染色法を含む、請求項１０から１４のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月1日(2020.4.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性成分の放出を制御することを特徴とする成形セルロース物品の製造方法であって、前記方法が：
ａ）セルロース完成紙料を形成するセルロース用の水性直接溶媒中にパルプを分散し、
ｂ）前記方法の別工程において、場合により有機修飾され、又はカリウム、カルシウム、若しくはアルミニウムイオンを用いたイオン交換により事前活性化されたナノスケールの層状ケイ酸塩を、セルロース用の水性直接溶媒を用いて均質化して、剪断によって完全に又は部分的に剥離し、かつ、前記セルロース完成紙料に添加して、そしてそれらと混合し、
ｃ）前記方法の更なる別工程において、活性成分及び活性成分を包含する親油性マトリックス材料、又は活性物質包含油中水型エマルジョンの組成物を、有機又は無機増粘剤によって固定して、ゲル状のペーストに変換し、同様にこのペーストをセルロース完成紙料に添加し、かつ、撹拌下で１３０℃以下の温度でそれと共に混合し、
ｄ）前記セルロースが完全に溶解するまで、前記混合物から水を除去し、及び
ｅ）得られた紡糸溶液を成形し、溶液紡糸プロセスによって成形物品に後処理し、場合により紡糸を終了し、そして乾燥する、
段階を含み、
前記セルロース用の直接溶媒が、水性Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド溶液、水包含イオン性液体、さらに有機溶媒を包含しても良い水包含イオン性液体、又はジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）と塩化リチウムとの溶液である、
セルロース物品の製造方法。
【請求項２】
前記有機修飾層状ケイ酸塩が、１４個以上の炭素原子、好ましくは１４〜２０個の炭素原子の長鎖の分岐していないアルキル、及び／又はアルケニル部分を少なくとも一つ有するアンモニウム陽イオンよって修飾された合成層状ケイ酸塩であり、前記アルキル又はアルケニル部分が、特別には一以上のヒドロキシ又はカルボキシ基で置換しても良いことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記成形セルロース物品、好ましくは機能性セルロース繊維中の一以上の有機修飾層状ケイ酸塩の割合が、セルロースの全重量に基づいて、０．５〜２０ｗｔ％、好ましくは５〜１５ｗｔ％であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記活性成分が、固体又は液体の親油性活性物質であり、月見草油、セイヨウオトギリ草油、ホホバ油、アボガド油、ビタミンＡ、レチノール、ビタミンＤ、若しくはビタミンＥなどの脂溶性ビタミン及びプロビタミン、Ｗ／Ｏエマルジョン、又は無極性若しくは水性の植物抽出物などの活性化粧成分であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記活性成分用の前記親油性マトリックス材料が、８個超の炭素原子、好ましくは８〜２２個の炭素原子を有する炭化水素、（Ｃ８〜Ｃ２２）脂肪族アルコール、（Ｃ８〜Ｃ２２）脂肪酸、及び／又は前記脂肪酸部位において８〜２２個の炭素原子を有する脂肪酸エステルであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記無機増粘剤が、ヒュームドシリカ、金属酸化セラミック、及び／又は金属のナノ粒子であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記有機増粘剤が、脂肪族−芳香族ブロックコポリマーであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
活性成分及び親油性材料の前記組成物を、セルロースのキログラム当たり、０．１〜２００ｇの濃度で使用することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記油中水型エマルジョンが、油性相中に分散された親水性相、好ましくはそれぞれ８個超の炭素原子を有する無極性炭化水素、脂肪族アルコール、脂肪酸、及び脂肪酸エステル、及び天然又は合成乳化剤と混合された活性化粧成分の水性調製物又は植物成分の水性抽出物を含み、水性構成成分の濃度が、液相のキログラム当たり、０．１〜２００ｇであることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記層状ケイ酸塩の剥離の程度、前記層状ケイ酸塩中における前記化学構造及び前記陽イオンの濃度、前記有機修飾層状ケイ酸塩の事前膨張中、及び／又は前記活性成分のペースト及び前記活性成分用の親油性材料の生産中の温度、その中で使用される分散剤の粘度、その中の水の含有量、前記親油性マトリックス材料の性質、並びに、前記有機修飾層状ケイ酸塩の混合／剪断の強度及び持続時間によって、前記活性成分の放出を制御することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記無機ナノ粒子を、前記活性成分及び前記活性成分用の親油性材料の混合物の全重量に基づいて、０．１〜１０ｗｔ％の割合で使用することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記紡糸液の剪断流動化指数ｎが、０．０〜−１．２の範囲内、好ましくは−０．１〜−１．０の範囲内であることを特徴とする、請求項１〜１１にいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月30日(2020.4.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンタクトチップとコンタクトヘッド（３０Ａ、３０Ｂ）との間に長手方向に従って本質的に延在する本体と、
少なくとも１つの内側層またはコア（３２）と第１の内側コーティング層（３３）との重ね合わせを含む少なくとも１つの多層構造（３１）と、
前記多層構造（３１）を完全に被覆し、前記コア（３２）を実現している材料よりも硬度が高い材料で作られ、前記コア（３２）及び前記第１の内側コーティング層（３３）を含むエッジ部分（３４Ａ、３４Ｂ）をも被覆する外側コーティング層（３５）とを含む、
電子デバイスをテストするための装置のテストヘッド用のコンタクトプローブ（３０）。
【請求項２】
前記第１の内側コーティング層（３３）は、前記コア（３２）の第１の側（３２Ａ）に配置された第１の部分（３３Ａ）と、その反対にある第２の側（３２Ｂ）に配置された第２の部分（３３Ｂ）とを含む、請求項１に記載のコンタクトプローブ。
【請求項３】
前記コア（３２）は第１の導電性材料で作られ、前記第１の内側コーティング層（３３）は前記第１の導電性材料よりも導電率および熱伝導率の値が高い第２の導電性材料で作られている、請求項１または請求項２に記載のコンタクトプローブ。
【請求項４】
前記コア（３２）は非導電性材料で作られ、前記第１の内側コーティング層（３３）は導電率および熱伝導率が高い第２の導電性材料で作られている、請求項１または請求項２に記載のコンタクトプローブ。
【請求項５】
前記多層構造（３１）は前記第１の内側コーティング層（３３）を被覆する第２の内側コーティング層（３６）をさらに含む、請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載のコンタクトプローブ。
【請求項６】
前記コア（３２）と前記第１の内側コーティング層（３３）との間に配設され、前記コア（３２）と前記第１の内側コーティング層（３３）との接着を容易とする材料で作られている接着膜（３７）を、前記多層構造（３１）がさらに含む、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載のコンタクトプローブ。
【請求項７】
前記多層構造（３１）を完全に囲み、前記多層構造（３１）と前記外側コーティング層（３５）の間に挿入される保護層（３８）をさらに含む、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のコンタクトプローブ。
【請求項８】
前記多層構造（３１）は、前記コア（３２）から始まる任意の数で一方が他方の上に交互に配置された、複数の第１の内側コーティング層（３３ｉ）および第２の内側コーティング層（３６ｉ）を含む、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のコンタクトプローブ。
【請求項９】
前記コア（３２）と第１の内側コーティング層（３３）との間、及び第２の内側コーティング層（３６）とさらなる第１の内側コーティング層（３３）との間に配置された、１つまたは複数の接着膜（３７ｉ）を、前記多層構造（３１）がさらに含む、請求項７に記載のコンタクトプローブ。
【請求項１０】
前記第２の内側コーティング層（３６）は前記第２の導電性材料で作られている、請求項５に記載のコンタクトプローブ。
【請求項１１】
前記外側コーティング層（３５）は、ロジウム、白金、イリジウム及びそれらの合金、パラジウムコバルト合金、パラジウムニッケル合金、並びにニッケルリン合金、好ましくはロジウムから選択される第３の導電性材料で作られている、請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載のコンタクトプローブ。
【請求項１２】
前記保護層（３８）は、ロジウム、金、白金、パラジウム及びそれらの合金、パラジウムコバルト合金、好ましくはパラジウムから選択される金属または金属合金で作られている、請求項７〜請求項１１のいずれかに記載のコンタクトプローブ。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１２のいずれか一項に従って作られた複数のコンタクトプローブ（３０）を含む、電子デバイスをテストするための装置用のテストヘッド。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年8月19日(2020.8.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
ろう付け炉において、耐食層は、温度上昇の際に最初に乾燥される。ろう付けサイクル中に行われるこの乾燥工程は、前駆体耐食コーティングを形成するために、耐食層から有機又は水性の溶媒が蒸発することを可能とする。好ましくは、乾燥工程は、所定の乾燥時間の間、３５０〜５００℃で行われる実質的に等温の乾燥温度で母材２を維持することからなる。乾燥時間は、処理されるべき母材２のサイズ及び質量に基づいて調整される。それは、例えば、２５ｃｍ×３０ｃｍ×２００ｃｍを測定する部品に相当する数百キログラムの重量である母材２については、２〜６時間に含まれる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部での腐食性流体の循環に適した、熱交換器（１）のためのろう付けされた金属製の母材（２）を製造するための方法であって、前記母材（２）が、構成部材（４、５、６）の積層体を含み、前記構成部材（４、５、６）の複数が、前記腐食性流体を運ぶためのチャネル（８）を画定し、
以下の連続する工程：
ａ）前記母材（２）の前記構成部材（４、５、６）を提供する工程と、
ｂ）前記構成部材の間を機械的に接続するように意図された前記構成部材の領域（９）上に、ろう付け材料（３）の層を堆積する工程と、
ｃ）前記チャネル（８）を、耐食層で被覆する工程と、
ｄ）前記構成部材を積層して、前記母材（２）を形成する工程と、
ｅ）積層した前記母材（２）をろう付け炉中に設置する工程と、
ｆ）前記母材（２）に熱サイクルを受けさせ、単一作業で、前記母材（２）をろう付けし、流体経路（１０）を耐食コーティング（７）で被覆する工程と
を含み、前記熱サイクルは、前駆体耐食コーティングを形成するために前記耐食層から有機又は水性の溶媒が蒸発することを可能とする乾燥工程を含み、前記乾燥工程は、所定の乾燥時間の間、３５０〜５００℃の温度で実施され、前記熱サイクルは、前記耐食コーティング（７）がろう付け温度付近で合成され、この温度は９５０〜１２００℃である、更なる工程を含む、方法。
【請求項２】
前記ろう付け材料（３）の層及び前記耐食層が同一の製品で作られる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ろう付け材料（３）の層及び前記耐食層が、溶融温度の差が５０℃以下である２つの異なる製品で作られる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記耐食層が、液体溶媒と、湿潤剤と、金属合金粉末とを含む懸濁液である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
構成部材（４、５、６）の積層体を含む、熱交換器（１）のための金属製の母材（２）であり、
前記構成部材（４、５、６）が、ろう付け材料（３）の層によって互いに対して保持され、それによって、前記母材を機械的に一体化し、
内部に流体循環経路（１０）を含み、各流体循環経路（１０）が、径方向に流体を完全に収容するように設けられた内壁（１１）を有する母材（２）であって、
各内壁（１１）が、耐食コーティング（７）で完全に被覆されたことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法により得られた、母材（２）。
【請求項６】
前記流体循環経路（１０）の全ての各内壁（１１）が、前記耐食コーティング（７）で完全に被覆された、請求項５に記載の母材（２）。
【請求項７】
前記耐食コーティング（７）が、前記ろう付け材料（３）と同一の材料で作られた、請求項５又は６に記載の母材（２）。
【請求項８】
前記ろう付け材料（３）が第１合金で作られ、前記耐食コーティング（７）が、前記第１合金と異なり、前記第１合金の溶融温度と５０℃を超えて異ならない溶融温度を有する第２合金で作られた、請求項５又は６に記載の母材（２）。
【請求項９】
前記第２合金が、前記第１合金と同一の群の合金に属する、請求項８に記載の母材（２）。
【請求項１０】
前記構成部材（４、５、６）の積層体が、エッチングプレート若しくはコルゲーション（４）、セパレータシート（５）及び柵部（６）の積層体、又は２つのタイプの積層体の組み合わせである、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１１】
前記金属合金粉末が、ニッケル及びクロムをベースとした合金粉末である、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記構成部材（４、５、６）の積層体が、エッチングプレート若しくはコルゲーション（４）、セパレータシート（５）及び柵部（６）の積層体、又は２つのタイプの積層体の組み合わせである、請求項５に記載の金属製の母材。
【請求項１３】
前記耐食コーティング（７）が、ニッケル及びクロムをベースとした合金である、請求項７に記載の母材（２）。
【請求項１４】
前記耐食コーティング（７）が、ニッケル、クロム、ホウ素及びケイ素（ＮｉＣｒＢＳｉ）の合金である、請求項１３に記載の母材（２）。
【請求項１５】
前記第２合金が、ニッケル及びクロムをベースとした合金の群に属する、請求項９に記載の母材（２）。
【請求項１６】
前記第２合金が、ニッケル、クロム及びケイ素（ＮｉＣｒＳｉ）の合金、又はニッケル、クロム、ケイ素及びリン（ＮｉＣｒＳｉＰ）の合金である、請求項１５に記載の母材（２）。
【請求項１７】
ｃ）前記チャネル（８）と、前記柵部（６）とを、耐食層で被覆する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2018501224.tif 000001
［ａ）式中、炭素原子１、２、３、４、５、６、７、８の少なくとも１つにおいて、式（ＩＩ）：
【化２】
2018501224.tif 000002
（式（ＩＩ）において
Ｒ１が、水素または（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル基であり、
Ｘが、カルボキサミド（−Ｃ（Ｏ）Ｎ−）またはカルボン酸エステル（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）またはスルホンアミド（−ＳＯ２Ｎ−）基であり、
Ｙは、２〜１０個の炭素原子を有する飽和の直鎖状のもしくは飽和の分岐状の置換されていてもよい部分、２〜１０個の炭素原子を有する不飽和の直鎖状のもしくは不飽和の分岐状の置換されていてもよい部分、５個までの（−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）−もしくは（−Ｃ（ＣＨ３）Ｈ−ＣＨ２−Ｏ−）−基を有するポリエーテル、または、１〜５個の窒素原子を有するポリアミンであり、および
Ｚは、酸素または硫黄である）
の部分Ｒａｒｃｙｌで置換されている］
の化合物であって、
ｂ）式（Ｉ）の前記化合物は、さらなる炭素原子１、２、３、４、５、６、７、８の１つ以上において、式（ＩＩＩ）の部分：
【化３】
2018501224.tif 000003
［式（ＩＩＩ）において、
式（ＩＩＩ）の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールもしくはヘテロアリール基、または置換されていてもよいアルキルチオ基、またはいずれかの置換されたカルバモイル基（さらに式（Ｉ）の部分に架橋連結されてもよい）、またはトリフルオロメチル基、またはトリフルオロメトキシ基、または式（ＩＶ）：
【化４】
2018501224.tif 000004
（式（ＩＶ）において、
Ｒ１’は、水素または（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル基であり、
Ｘ’は、カルボキサミド（−Ｃ（Ｏ）Ｎ−）、またはカルボン酸エステル（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）、またはスルホンアミド（−ＳＯ２Ｎ−）基であり、
Ｙ’は、２〜１０個の炭素原子を有する飽和の直鎖状のもしくは飽和の分岐状の置換されていてもよい部分、２〜１０個の炭素原子を有する不飽和の直鎖状のもしくは不飽和の分岐状の置換されていてもよい部分、または１〜５個の（−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）−もしくは（Ｃ（ＣＨ３）Ｈ−ＣＨ２−Ｏ−）基を有するポリエーテル、または１〜５個の窒素原子を有するポリアミンであり、
Ｚは、酸素または硫黄である）
の部分Ｒａｒｃｙｌ’で置換されている］
で置換されており、
ｃ）式（Ｉ）の前記化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールもしくはヘテロアリール基、または置換されていてもよいアルキルチオ基、またはトリフルオロメチル基、またはトリフルオロメトキシ基で置換されている、化合物。
【請求項２】
式（Ｉ）の５位の炭素原子において、前記式（ＩＩＩ）の部分で置換されている、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記式（ＩＩＩ）の部分が、８’位の炭素原子を介して５位の炭素原子に結合することを特徴とする、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
式（Ｉ）の６位の炭素原子において、前記式（ＩＩ）の部分Ｒで置換されていることを特徴とする、請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
前記式（ＩＩＩ）の部分が、７’位の炭素原子において、前記式（ＩＶ）の部分ＲＡｃｒｙｌ’で置換されていることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｘが部分ＲＡｃｒｙｌにおいてカルボキサミドであり、および／または、Ｘが部分ＲＡｃｒｙｌ’においてカルボキサミドであることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ１が部分ＲＡｃｒｙｌにおいて水素またはＣＨ３部分であり、および／または、Ｒ１’が部分ＲＡｃｒｙｌ’において水素またはＣＨ３部分であることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
Ｙが部分ＲＡｃｒｙｌにおいて−ＣＨ２−ＣＨ２部分であり、および／または、Ｙ’が部分ＲＡｃｒｙｌ’において−ＣＨ２−ＣＨ２部分であることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項９】
Ｚおよび／またはＺ’が酸素であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１０】
マトリックスポリマー、書込モノマーおよび光開始剤を含むフォトポリマー配合物であって、
前記書込モノマーが請求項１から９のいずれか一項に記載の化合物を含む、フォトポリマー配合物。
【請求項１１】
マトリックスポリマー、書込モノマーおよび光開始剤を含むホログラフィック媒体であって、
前記書込モノマーが請求項１から９のいずれか一項に記載の化合物を含む、ホログラフィック媒体。
【請求項１２】
前記マトリックスポリマーが、架橋マトリックスポリマーであることを特徴とする、請求項１１に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１３】
前記マトリックスポリマーが、三次元架橋マトリックスポリマーである、請求項１２に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１４】
前記マトリックスポリマーが、三次元架橋ポリウレタンである、請求項１２に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１５】
添加剤として少なくともフルオロウレタンを含むことを特徴とする、請求項１１から１４のいずれか一項に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１６】
フィルムであることを特徴とする、請求項１１から１５のいずれか一項に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１７】
０．５μｍ〜２００μｍのフィルム厚さを有するフィルムであることを特徴とする、請求項１６に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１８】
０．８μｍ〜５０μｍのフィルム厚さを有するフィルムであることを特徴とする、請求項１６に記載のホログラフィック媒体。
【請求項１９】
１μｍ〜２５μｍのフィルム厚さを有するフィルムであることを特徴とする、請求項１６に記載のホログラフィック媒体。
【請求項２０】
少なくとも１つの露光されたホログラムを含むことを特徴とする、請求項１１から１９のいずれか一項に記載のホログラフィック媒体。
【請求項２１】
請求項１１から２０のいずれか一項に記載のホログラフィック媒体を含むディスプレイ。