【手続補正書】
【提出日】令和2年9月14日(2020.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層ウェアラブル接眼レンズを構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
パターン化テンプレートの第１のサイズ範囲の浅い特徴を使用して基板の側面上に、第１の場所にそれぞれに前記第１のサイズ範囲の第１の特徴を備える機能性パターンをインプリントすることにより、第１の導波管をもたらすことであって、前記第１の導波管は、第１の波長範囲の光を投影し、かつ第１の深度平面に仮想画像を集束させるように構成されている、第１の回折格子を備え、前記第１の回折格子は、第１の内部結合格子を備え、第１の直交瞳拡大器領域および第１の射出瞳拡大器領域を形成する、ことと、
前記機能性パターンをインプリントする間に、前記機能性パターンを包囲する補助パターンをインプリントすることであって、前記補助パターンは、
前記第１のサイズ範囲の追加の第１の特徴であって、前記追加の第１の特徴は、反射防止特徴を備える、追加の第１の特徴と、
前記パターン化テンプレートの第２のサイズ範囲の深い特徴を使用する、前記基板の前記側面上に前記第１の場所から横方向に離間された第２の場所にそれぞれにおける前記第２のサイズ範囲の第２の特徴であって、前記第２のサイズ範囲は、前記第１のサイズ範囲より少なくともサイズが１桁大きく、前記第２の特徴は、前記第１の導波管と第２の導波管との間に前記第２のサイズ範囲の間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、第２の特徴と
を備える、ことと、
前記第１の特徴、前記追加の第１の特徴、および前記第２の特徴を切断することと、
前記第１の導波管と前記第２の導波管との間に前記間隙を画定するように前記第２の特徴に沿って前記第１の導波管を前記第２の導波管に取り付け、それによって前記多層ウェアラブル接眼レンズの少なくとも一部をもたらすことと
を含み、
前記第２の導波管は、第２の波長範囲の光を投影し、かつ第２の深度平面に前記仮想画像を集束させるように構成されている、第２の回折格子を備え、前記第２の回折格子は、第２の内部結合格子を備え、第２の直交瞳拡大器領域および第２の射出瞳拡大器領域を形成する、インプリントリソグラフィ方法。
【請求項２】
前記第２の特徴は、前記基板の前記側面上にスペーサを備える、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項３】
前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、請求項２に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項４】
前記基板の前記側面の内部領域内に前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、請求項２に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項５】
前記基板の前記側面は、前記基板の第１の側面であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の第２の側面上に前記第１のサイズ範囲の第３の特徴をインプリントすることをさらに含む、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項６】
前記第３の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記第２の側面上に回折格子または反射防止特徴を形成することを含む、請求項５に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項７】
前記第２のサイズ範囲は、前記第２の特徴の高さが約１μｍ〜約５０μｍと、前記第２の特徴の幅が約１μｍ〜約１００μｍとのうちの一方または両方のマイクロメートル範囲を備える、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項８】
前記第１のサイズ範囲は、前記第１の特徴の高さが最大約３００ｎｍまでのナノメートル範囲を備える、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項９】
前記第１の特徴の両側の横方向側面上に前記第２の特徴をインプリントすることをさらに含む、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１０】
先の金型から前記パターン化テンプレートを作成することをさらに含む、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１１】
前記先の金型において前記第２のサイズ範囲の前記深い特徴を形成することをさらに含む、請求項１０に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１２】
前記先の金型において前記第１のサイズ範囲の前記浅い特徴を形成することをさらに含む、請求項１０に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１３】
第１および第２の基板を互いに整列させることをさらに含む、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１４】
第１の基板の前記側面上にインプリントされた前記第２の特徴の上に接着性物質を分注することをさらに含む、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１５】
前記第１の基板の前記側面上にインプリントされた前記第２の特徴の上の前記接着性物質において、前記第１および第２の基板を互いに取り付け、前記第１の基板と、前記第２の基板によって画定された隣接する表面との間に前記間隙を形成することをさらに含む、請求項１４に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１６】
それぞれに、前記第１および第２の基板の第１および第２の周辺縁に沿ってシールを用いて前記第１および第２の基板を互いに取り付けることをさらに含む、請求項１５に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１７】
前記間隙は、低屈折率領域を提供する、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１８】
前記低屈折率領域は、１の屈折率を伴う空気を備えている、請求項１７に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１９】
前記第２の特徴の各々は、前記第１の特徴の各々から少なくとも約５μｍ〜約１００μｍで横方向に離間されている、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項２０】
前記第１の波長範囲および前記第２の波長範囲のうちの少なくとも１つは、約５６０ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲内の波長を伴う赤色光、約４９０ｎｍ〜約５７０ｎｍの範囲内の波長を伴う緑色光、または約３９０ｎｍ〜約４７０ｎｍの範囲内の波長を伴う青色光に対応する、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項２１】
前記第１の深度平面および前記第２の深度平面は、同じである、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項２２】
前記第２の特徴は、前記基板の前記側面上に前記追加の第１の特徴から横方向に離間されている、請求項１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項２３】
前記第２の特徴は、前記追加の第１の特徴から約５μｍ〜約１００μｍに位置している、請求項２２に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の１つ以上の実施形態の詳細が、添付図面および下記の説明内に記載される。本発明の他の特徴、側面、および利点も、説明、図面、および請求項から明白となるであろう。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
パターン化テンプレートを用いて、基板の側面上に第１の規模のサイズの第１の特徴をインプリントすることと、その間に、
前記パターン化テンプレートを用いて、前記基板の前記側面上に第２の規模のサイズの第２の特徴をインプリントすることと
含み、
前記第２の特徴は、前記基板と隣接する表面との間に間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、インプリントリソグラフィ方法。
（項目２）
前記第１の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記側面上に回折格子および反射防止特徴の一方または両方を形成することを含む、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目３）
前記第２の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記側面上にスペーサを形成することを含む、項目２に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目４）
前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、項目３に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目５）
前記基板の前記側面の内部領域内に前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、項目３に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目６）
前記基板の前記側面は、前記基板の第１の側面であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の第２の側面上に前記第１の規模のサイズの第３の特徴をインプリントすることをさらに含む、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目７）
前記第３の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記第２の側面上に回折格子または反射防止特徴を形成することを含む、項目６に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目８）
前記第２の規模のサイズは、前記第１の規模のサイズより大きい、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目９）
前記第１の規模のサイズは、ナノスケールであり、前記第２の規模のサイズは、マイクロスケールである、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１０）
前記第１の特徴の両側上に前記第２の特徴をインプリントすることをさらに含む、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１１）
先の金型から前記パターン化テンプレートを作成することをさらに含む、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１２）
前記先の金型において前記第２の規模のサイズの深い特徴を形成することをさらに含む、項目１１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１３）
前記先の金型において前記第１の規模のサイズの浅い特徴を形成することをさらに含む、項目１１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１４）
前記基板は、第１の基板であり、前記隣接する表面は、第２の基板によって画定されている、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１５）
前記第１および第２の基板を互いに整列させることをさらに含む、項目１４に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１６）
前記第１の基板の前記側面上にインプリントされた前記第２の特徴の上に接着性物質を分注することをさらに含む、項目１４に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１７）
前記第１の基板の前記側面上にインプリントされた前記第２の特徴の上の前記接着性物質において、前記第１および第２の基板を互いに取り付け、前記第１の基板と、前記第２の基板によって画定された前記隣接する表面との間に前記間隙を形成することをさらに含む、項目１６に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１８）
前記間隙は、低屈折率領域を提供する、項目１に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目１９）
前記低屈折率領域は、１の屈折率を伴う空気を備えている、項目１８に記載のインプリントリソグラフィ方法。
（項目２０）
光学層であって、前記光学層は、
基板と、
パターン化テンプレートを用いて前記基板の側面上にインプリントされたパターンと
を備え、
前記パターンは、第１の規模のサイズの第１の特徴と、第２の規模のサイズの第２の特徴とを備え、
前記第２の特徴は、前記基板と隣接する表面との間に間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、光学層。