(57)【要約】【課題】基板の側面からの発塵がない超音波洗浄装置を提供する。【解決手段】本考案の超音波洗浄装置１は、容器２と、超音波発生装置３と、保持装置４とを有し、基板１０を保持装置４に保持させ、容器１０に予め配置された洗浄液６に鉛直姿勢で基板１０全体を浸漬させる。基板１０の下側側面５ａ、５ｂと、容器２の底面の間には第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂが配置されており、容器２の底面に配置された超音波発生装置３によって、洗浄液６中に容器２の底面から洗浄液６の表面に向けて超音波が放出され、超音波の一部は基板１０の表面のダストに当たり、ダストを剥離させる。超音波の他の一部は、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂに当たり、基板１０の下側側面５ａ、５ｂには直接照射されず、基板１０の下側側面５ａ、５ｂからダストは発生しない。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
容器と、超音波発生装置と、保持装置とを有し、
基板を前記保持装置に保持させ、前記容器に配置された液体に浸漬し、
前記超音波発生装置によって、前記容器底面から前記液体の表面に向けて進行する超音波を発生させ、前記基板の洗浄を行なう超音波洗浄装置であって、
前記保持装置が前記基板を前記液体内で鉛直に保持した状態では、前記基板の下方を向く下側側面と前記容器の底面との間の位置に、前記下側側面に面する遮蔽板が設けられた超音波洗浄装置。
【請求項２】
前記遮蔽板は前記下側側面と平行に面するように配置された請求項１記載の超音波洗浄装置。
【請求項３】
前記基板は矩形であり、頂点が最下端に位置するように斜めに配置され、
前記下側側面は、前記基板の下方を向く二側面で構成され、前記遮蔽板は、前記二側面とそれぞれ平行に面するように配置された請求項１記載の超音波洗浄装置。
【請求項４】
前記超音波発生装置は、周波数８００ｋＨｚ以上の超音波を発生するように構成された請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の超音波洗浄装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、マスク、マスクブランクス、レティクル等を洗浄する超音波洗浄装置の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、マスク、マスクブランクス、レティクル等を洗浄する方法には、超音波洗浄法が用いられており、例えば図３に示すような超音波洗浄装置１００が用いられている。
この超音波洗浄装置１００は、スタンド１０２に保持具１０８が吊り下げられており、保持具１０８下端に、基板１１０が鉛直に保持された状態で、水槽１０１内の洗浄液１１１に浸漬されている。
【０００３】
基板１１０は矩形であり、保持具１０８との接触面積が小さくなるように、基板１１０の四頂点のうちの二頂点が位置する付近が保持され、他の二頂点のうちの一方が鉛直上方、他方が鉛直下方を向くように、基板１１０は斜めに保持されており、容器１０１底面に配置された超音波発生装置１１２を動作させて超音波を放出すると、超音波は水槽１０２の底面側から洗浄液１１１の表面に向かって進行する。
【０００４】
超音波洗浄装置１００に用いられる超音波の周波数には、２８ｋＨｚ〜４８ｋＨｚのｋＨｚ帯と、８００ｋＨｚ以上のＭＨｚ帯の二種類がある。
洗浄液１１１中にｋＨｚ帯の超音波が放出された場合は、基板１１０からの反射波との干渉によって泡が発生し、発生した泡が破裂する時に生じるエネルギーによって、基板１１０の表面に付着している微粒子や異物等のダストを剥離させることができる。
【０００５】
ＭＨｚ帯の超音波が放出された場合は、超音波の振動周波数が高いため、放出された超音波は洗浄液１１１の内部を直進し、基板１１０に付着しているダストに衝突すると、ダストに大きなエネルギーが与えられ、ダストは基板１１０の表面から剥離する。
しかし、基板１１０の側面１０５が超音波発生装置１１２に向けられているため、いずれの周波数帯の超音波でも、基板１１０の表面だけではなく、基板１１０の側面１０５にも当たってしまう。
【０００６】
図４の符号１１３ａ、１１３ｂはｋＨｚ帯の超音波を示しており、図５の符号１１４ａ、１１４ｂはＭＨｚ帯の超音波を示しており、それらの一部の超音波１１３ｂ、１１４ｂが基板１１０の側面１０５に衝突し、他の大部分の超音波１１３ａ、１１４ａが、基板１１０とは衝突しないで通過している。
【０００７】
いずれの場合も基板１１０表面からダストを除去することができるが、基板１１０の側面１０５は表面よりも加工が粗く、側面１０５に超音波が当たると、その一部が剥離され、大量のダストが発生する。発生したダストは洗浄液１１１中で拡散するため、一旦洗浄された基板１１０の表面に再付着し、基板１１０を汚染する等の問題がある。
従来技術の超音波洗浄装置は、例えば下記文献に記載されている。
【特許文献１】特開２００２−２２２７８７号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００８】
基板の側面からの発塵がない超音波洗浄装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本考案は、容器と、超音波発生装置と、保持装置とを有し、基板を前記保持装置に保持させ、前記容器に配置された液体に浸漬し、前記超音波発生装置によって、前記容器底面から前記液体の表面に向けて進行する超音波を発生させ、前記基板の洗浄を行なう超音波洗浄装置であって、前記保持装置が前記基板を前記液体内で鉛直に保持した状態では、前記基板の下方を向く下側側面と前記容器の底面との間の位置に、前記下側側面に面する遮蔽板が設けられた超音波洗浄装置である。
また、本考案は、前記遮蔽板は前記下側側面と平行に面するように配置された超音波洗浄装置である。
また、本考案は、前記基板は矩形であり、頂点が最下端に位置するように斜めに配置され、前記下側側面は、前記基板の下方を向く二側面で構成され、前記遮蔽板は、前記二側面とそれぞれ平行に面するように配置された超音波洗浄装置である。
また、本考案は、前記超音波発生装置は、周波数８００ｋＨｚ以上の超音波を発生するように構成された超音波洗浄装置である。
【考案の効果】
【００１０】
本考案によれば、基板の側面からの発塵が起こらない。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１１】
本考案の超音波洗浄装置１は、図１に示すように、容器２と、超音波発生装置３と、保持装置４を有している。
容器２の外部には、スタンド５が立てられており、スタンド５からは、腕部２０が水平に伸ばされている。
保持装置４は、第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂと、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂと、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂを有している。
【００１２】
第一の支持部材１１ａと第一の押さえ部材１２ａは、第一のロッド１９ａに固定されており、第二の支持部材１１ｂと第二の押さえ部材１２ｂは、第二のロッド１９ｂに固定されている。
第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂの固定された位置は、第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂの端部であり、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂの固定された位置は、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂよりも、第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂの中央に近い位置である。
第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂの反対側の端部は、腕部２０に対して着脱可能に構成されている。
【００１３】
図１は、第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂが腕部２０に鉛直に取り付けられた状態を示している。
同図符号１０は、洗浄対象の四角形の基板である。
【００１４】
第一の支持部材１１ａと第二の支持部材１１ｂ、及び、第一の押さえ部材１２ａと第二の押さえ部材１２ｂは、互いに向き合う位置に配置されており、基板１０の四頂点のうち、互いに反対側に位置する二頂点の一方が第一の支持部材１１ａと第一の押さえ部材１２ａの間に挿入され、他方が第二の支持部材１１ｂと第二の押さえ部材１２ｂの間に挿入されており、第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂが腕部２０から鉛直に吊り下げられた状態では、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂは第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂの下端に位置し、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂは、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂよりも上方に位置するから、基板１０は第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂの上に乗っており、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂよりも上方の位置では、基板１０の表面は第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂに接触し、鉛直姿勢から倒れないように、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂによって、押さえられている。
【００１５】
ここでは、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂと、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂのうち、基板１０と接触する部分には、基板１０の厚みよりも幅広の溝が形成されており、基板１０のうち、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂの間に挿入された部分は、それらの溝に嵌め込まれ、鉛直姿勢が維持されている。
容器２には、予め洗浄液６が配置されており、鉛直姿勢で全体が洗浄液６に浸漬されている。
【００１６】
この状態では、基板１０のうち、第一、第二の支持部材１１ａ、１１ｂと、第一、第二の押さえ部材１２ａ、１２ｂに挿入された二頂点は横方向を向けられており、他の二頂点のうち、一頂点が下方を向き、それと反対側に位置する一頂点が上方を向いており、従って、基板１０の四側面のうち、二側面が上側を向き、他の二側面が下方を向く下側側面５ａ、５ｂとなっている。
【００１７】
第一、第二のロッド１９ａ、１９ｂの下端には、取付棒によって、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂが取り付けられている。
第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂは細長の板であり、基板１０の下側側面５ａ、５ｂと容器２の底面の間に配置されており、それぞれ下側側面５ａ、５ｂと面するように、下側側面５ａ、５ｂとそれぞれ平行にされている。
【００１８】
容器２の底面下には超音波発生装置３が配置されており、超音波発生装置３を動作させると、容器２の底面から洗浄液６内部に超音波が放出され、超音波が洗浄液６内部を洗浄液６の液面方向に向けて進行すると、超音波の一部は基板１０の表面のダストに当たり、ダストを剥離させる。
超音波の他の一部は、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂに当たる。
【００１９】
この超音波発生装置３は、周波数８００ｋＨｚ以上、１ＭＨｚ以下のＭＨｚ帯の周波数の超音波を放出しており、ＭＨｚ帯なので放出された超音波は直進し、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの影の部分になる、基板１０の下側側面５ａ、５ｂには、超音波は直接照射されない。
【００２０】
図２は、基板１０と超音波６０の進行方向の関係を説明するための図面であり、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂに当たった超音波６０が跳ね返される。
第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂは、基板１０の幅と同じか、それよりも僅かに幅広に形成されている。また、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの下端は互いに接触されており、基板１０の二個の下側側面５ａ、５ｂは、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの影になり、超音波６０は直接照射されないようになっている。従って、基板１０の下側側面５ａ、５ｂからダストは発生しない。
【００２１】
第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの材料には、樹脂（例えばテフロン等）、金属（例えばＳＵＳ等）などが用いられており、超音波６０に対して耐久性を有し、超音波６０が照射されても第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂからもダストが発生することはない。
【００２２】
なお、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの材料は、テフロンや金属に限定されるものではなく、超音波６０に対して耐性を有し、超音波６０が直接当たった時に発塵しない材料であれば用いることができる。
【００２３】
第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂは分離可能に構成されており、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの先端同士を密着させて、基板１０の二側面上に超音波６０の影の部分が配置されるようにしたが、一枚の遮蔽板を折り曲げて基板の下方を向く二側面と平行にしても良い。
【００２４】
なお、上記実施例では、洗浄後に基板１０を容器２から取り出した際に水切れを良くするために、基板１０の一頂点を下方に向け、反対側の頂点を上方に向けたが、基板１０を鉛直にする際に、基板１０の四側面を水平又は鉛直のいずれかにし、一側面を下方に向けて洗浄液６に浸漬し、容器２の底面から放射される超音波によって超音波洗浄をしてもよい。
【００２５】
この場合、下方を向いた一側面と平行に遮蔽板を配置すればいよい。
また、円形の基板を鉛直にして洗浄液６に浸漬し、容器２の底面から放射される超音波６０によって超音波洗浄をする場合、基板の側面のうち、少なくとも下側半分の部分を覆うような基板と同心の半円状の遮蔽板を設けてもよい。
【００２６】
なお、本考案では、第一、第二の遮蔽板１５ａ、１５ｂの幅は基板１０の厚さと同程度にしたが、基板１０の厚さよりも狭い場合は、超音波の遮蔽効果を低下させるが、逆に、基板１０の厚さよりも広い場合、基板１０の表面への超音波の照射量が減少し、洗浄効果が低下するので、基板１０の厚さと同程度であることが望ましい。
上記実施例では、容器２内に洗浄液６を配置したが、この洗浄液６は、純水、薬品が溶解された水、有機溶剤等の液体を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本考案の超音波洗浄装置を説明するための容器内部の側面図
【図２】基板と超音波の進行方向の関係を説明するための容器内部の側面図
【図３】従来の超音波洗浄装置を説明するための容器内部の側面図
【図４】基板とｋＨｚ帯の超音波の進行方向の関係を説明するための容器内部の側面図
【図５】基板とＭＨｚ帯の超音波の進行方向の関係を説明するための容器内部の側面図
【符号の説明】
【００２８】
１…超音波洗浄装置  ２…容器  ３…超音波発生装置  ４…保持装置  ５ａ、５ｂ…下側側面  ６…洗浄液  １０…基板  １５ａ、１５ｂ…第一、第二の遮蔽板  ６０…超音波
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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