【手続補正書】
【提出日】令和2年8月24日(2020.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高屈折率のフォトニックデバイスを製造する方法であって、
第１の基板を少なくとも１００℃に加熱すること、
前記第１の基板を少なくとも１００℃に加熱した後に、前記第１の基板の第１の表面上に重合性組成物を配置すること、
前記重合性組成物を第２の基板の第１の表面と接触させることであって、それにより、前記重合性組成物を前記第１の基板の第１の表面上に広げること、
ポリマー構造体を得るために、前記重合性組成物を硬化させることであって、前記ポリマー構造体が、前記第１の基板の第１の表面と接触する第１の表面と、前記ポリマー構造体の第１の表面と反対側で前記第２の基板の第１の表面と接触する第２の表面と、１０μｍ〜１ｃｍの範囲の前記ポリマー構造体の第１の表面と前記ポリマー構造体の第２の表面との間の選択残膜厚とを有すること、および
モノリシックフォトニックデバイスを得るために、前記ポリマー構造体を前記第１の基板および前記第２の基板から分離すること
を含み、
前記モノリシックフォトニックデバイスの屈折率が少なくとも１．６であり、
前記重合性組成物が前記第１の基板の第１の表面上に配置されるときに、前記第２の基板を前記第１の基板の温度よりも２５℃〜５０℃高い温度まで加熱することをさらに含む、
方法。
【請求項２】
前記第１の基板の第１の表面を剥離層でコーティングすることであって、その後に前記第１の基板の第１の表面上に前記重合性組成物を配置することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物を１００℃未満の温度に加熱することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリマー構造体の第１の表面と前記ポリマー構造体の第２の表面との間の前記選択残膜厚が、２５０μｍ〜５００μｍの範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記モノリシックフォトニックデバイスの透過率が、４００ｎｍと８００ｎｍとの間で８０％を超える、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
さらに、前記第２の基板の第１の表面を剥離層でコーティングすることであって、その後に前記重合性組成物を前記第２の基板の第１の表面と接触させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
さらに、前記第２の基板を少なくとも１００℃に加熱することであって、その後に前記重合性組成物を前記第２の基板の第１の表面と接触させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
さらに、前記重合性組成物を部分的に重合させることであって、その後に前記重合性組成物を前記第１の基板の第１の表面上に配置することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記重合性組成物が、
第１のモノマーであって、各々の前記第１のモノマーが、少なくとも２つのビニル部分、アリル部分、またはアクリラート部分を有する、第１のモノマー
第２のモノマーであって、各々の前記第２のモノマーが、少なくとも２つのチオール部分を有する、第２のモノマー
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記重合性組成物が、光開始剤、熱開始剤、またはその両方を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記重合性組成物が金属酸化物を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記金属酸化物が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛のうちの少なくとも１つを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記重合性組成物が、界面活性剤を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記モノリシックフォトニックデバイスが光学的に透明である、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記重合性組成物が、
２０重量％〜９０重量％の高粘度多官能成分；
５重量％〜４０重量％の低粘度の単官能成分または多官能成分；
０．２重量％〜５重量％の光開始剤；
０．２重量％〜２重量％の光安定剤；および
０．２重量％〜２重量％の酸化防止剤
を含み、
前記重合性組成物を硬化させることが、単一の官能基を介してポリマーを架橋することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記重合性組成物が、無機ナノ粒子または分子レベルのクラスターを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記重合性組成物が、
２０重量％〜８０重量％の第１の反応性部分を有する多官能成分；
２０重量％〜８０重量％の第２の反応性部分を有する多官能成分；
０．２重量％〜５重量％の光開始剤；
０．２重量％〜２重量％の光安定剤；および
０．２重量％〜２重量％の酸化防止剤
を含み、
前記第１の反応性部分および前記第２の反応性部分が異なり、前記重合性組成物を硬化させることが、少なくとも前記第１の反応性部分および前記第２の反応性部分を介した交差反応を介してポリマー架橋することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記重合性組成物が、２０ｎｍの最大粒子サイズを有する無機ナノ粒子を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記モノリシックフォトニックデバイスがレンズである、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本出願の他の特徴および利点は、以下の詳細な説明および図面から、ならびに特許請求の範囲から明らかになる。
本発明の実施形態において、例えば以下の項目が提供される。
（項目１）
高屈折率のフォトニックデバイスを製造する方法であって、
第１の基板の第１の表面上に重合性組成物を配置すること、
前記重合性組成物を第２の基板の第１の表面と接触させることであって、それにより、前記重合性組成物を前記第１の基板の第１の表面上に広げること、
ポリマー構造体を得るために、前記重合性組成物を硬化させることであって、前記ポリマー構造体が、第１の基板の第１の表面と接触する第１の表面と、前記ポリマー構造体の第１の表面と反対側で第２の基板の第１の表面と接触する第２の表面と、１０μｍ〜１ｃｍの範囲の前記ポリマー構造体の第１の表面と前記ポリマー構造体の第２の表面との間の選択残膜厚を有すること、および
モノリシックフォトニックデバイスを得るために、前記ポリマー構造体を前記第１の基板および前記第２の基板から分離すること
を含み、
前記モノリシックフォトニックデバイスの屈折率が少なくとも１．６である、方法。
（項目２）
前記第１の基板および前記第２の基板のうちの少なくとも１つがパターン形成されたモールドであり、前記パターン形成されたモールドの前記第１の表面が凸部および凹部を画定する、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記第１の基板の第１の表面を剥離層でコーティングすることであって、その後に前記第１の基板の第１の表面上に前記重合性組成物を配置することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物に紫外線を照射することを含む、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記重合性組成物を硬化させることが、５分未満の期間にわたって前記重合性組成物に紫外線を照射することを含む、項目４に記載の方法。
（項目６）
前記紫外線照射の強度が、前記重合性組成物を照射する期間を通して実質的に一定である、項目５に記載の方法。
（項目７）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物を１００℃未満の温度に加熱することを含む、項目４に記載の方法。
（項目８）
前記紫外線照射の強度が、５０ｍＷ／ｃｍ２を超える、項目４に記載の方法。
（項目９）
前記重合性組成物に紫外線を照射することが、１ｃｍ２〜１０００ｃｍ２の範囲の前記重合性組成物の表面積に照射することを含む、項目８に記載の方法。
（項目１０）
前記紫外線照射の強度が、前記重合性組成物の照射表面積にわたって実質的に一定である、項目９に記載の方法。
（項目１１）
さらに、前記モノリシックフォトニックデバイスにおいて所定の局所収縮を生じさせるために、前記重合性組成物の前記照射表面積にわたって前記紫外線照射の強度を変化させることを含む、項目４に記載の方法。
（項目１２）
前記紫外線照射の強度が、３０ｍＷ／ｃｍ２未満〜１１０ｍＷ／ｃｍ２を上回る範囲である、項目１１に記載の方法。
（項目１３）
前記紫外線照射が、ＵＶＡ、ＵＶＢ、およびＵＶＣのうちの少なくとも１つを含む、項目４に記載の方法。
（項目１４）
前記紫外線照射の波長が、約３１５ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲である、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
前記紫外線照射の波長が３６５ｎｍ±２０ｎｍである、項目１４に記載の方法。
（項目１６）
前記紫外線照射の波長が、３６５ｎｍ、３８０ｎｍ、および４０５ｎｍのうちの少なくとも１つを含む、項目１４に記載の方法。
（項目１７）
前記モノリシックフォトニックデバイスの屈折率が少なくとも１．６５である、項目１に記載の方法。
（項目１８）
前記モノリシックフォトニックデバイスの屈折率が少なくとも１．７である、項目１に記載の方法。
（項目１９）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物を５分間未満硬化させることを含む、項目１に記載の方法。
（項目２０）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物を１００℃未満の温度に加熱することを含む、項目１に記載の方法。
（項目２１）
前記ポリマー構造体の第１の表面と前記ポリマー構造体の第２の表面との間の前記選択残膜厚が、２５０μｍ〜５００μｍの範囲である、項目１に記載の方法。
（項目２２）
前記モノリシックフォトニックデバイスの透過率が、４００ｎｍと８００ｎｍとの間で８０％を超える、項目１に記載の方法。
（項目２３）
さらに、前記第１の基板を少なくとも１００℃に加熱することであって、その後に前記重合性組成物を前記第１の基板の第１の表面上に配置することを含む、項目１に記載の方法。
（項目２４）
さらに、前記第２の基板の第１の表面を剥離層でコーティングすることであって、その後に前記重合性組成物を前記第２の基板の第１の表面と接触させることを含む、項目１に記載の方法。
（項目２５）
さらに、前記第１の基板、前記第２の基板、またはその両方を少なくとも１００℃に加熱することであって、その後に前記重合性組成物を前記第２の基板の第１の表面と接触させることを含む、項目１に記載の方法。
（項目２６）
さらに、前記重合性組成物を部分的に重合させることであって、その後に前記重合性組成物を前記第１の基板の第１の表面上に配置することを含む、項目１に記載の方法。
（項目２７）
前記重合性組成物を前記第２の基板と接触させることが、前記第１の基板と前記第２の基板との間に鋭角を形成すること、および前記第１の基板および前記第２の基板が平行になるまで、前記鋭角の値を減少させることを含む、項目１に記載の方法。
（項目２８）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物を１００℃と３５０℃との間の温度に加熱することを含む、項目１に記載の方法。
（項目２９）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物に紫外線を照射することを含む、項目１に記載の方法。
（項目３０）
前記重合性組成物を硬化させることが、前記重合性組成物に紫外線を照射すること、および前記重合性組成物を１００℃と３５０℃との間の温度に加熱することを含む、項目１に記載の方法。
（項目３１）
前記重合性組成物が、
第１のモノマーであって、各々の前記第１のモノマーが、少なくとも２つのビニル部分、アリル部分、またはアクリラート部分を有する、第１のモノマー
第２のモノマーであって、各々の前記第２のモノマーが、少なくとも２つのチオール部分を有する、第２のモノマー
を含む、項目１に記載の方法。
（項目３２）
前記重合性組成物が、光開始剤、熱開始剤、またはその両方を含む、項目３１に記載の方法。
（項目３３）
前記重合性組成物が金属酸化物を含む、項目３１に記載の方法。
（項目３４）
前記金属酸化物が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛のうちの少なくとも１つを含む、項目３３に記載の方法。
（項目３５）
前記第１の基板および前記第２の基板が、３００μｍ〜１０ｍｍの範囲の厚さを有するディスクである、項目１に記載の方法。
（項目３６）
前記第１の基板および前記第２の基板の全厚変動が、１００ｎｍ〜２０μｍの範囲である、項目１に記載の方法。
（項目３７）
前記モノリシックフォトニックデバイスが光学的に透明である、項目１に記載の方法。
（項目３８）
前記モノリシックフォトニックデバイスの第１の表面、前記モノリシックフォトニックデバイスの第２の表面、またはその両方が、凸部および凹部を画定するパターン形成された表面を有し、各々の凸部および凹部の寸法が１０ｎｍ未満、１００ｎｍ未満、１μｍ未満、１０μｍ未満、１００μｍ未満、または１ｍｍ未満である、項目１に記載の方法。
（項目３９）
前記重合性組成物が、
２０重量％〜９０重量％の高粘度多官能成分；
５重量％〜４０重量％の低粘度の単官能成分または多官能成分；
０．２重量％〜５重量％の光開始剤；
０．２重量％〜２重量％の光安定剤；および
０．２重量％〜２重量％の酸化防止剤
を含み、
前記重合性組成物を硬化させることが、単一の官能基を介してポリマーを架橋することを含む、項目１に記載の方法。
（項目４０）
前記重合性組成物が界面活性剤を含む、項目３９に記載の方法。
（項目４１）
前記重合性組成物が、無機ナノ粒子または分子レベルのクラスターを含む、項目３９に記載の方法。
（項目４２）
前記重合性組成物が、
２０重量％〜８０重量％の第１の反応性部分を有する多官能成分；
２０重量％〜８０重量％の第２の反応性部分を有する多官能成分；
０．２重量％〜５重量％の光開始剤；
０．２重量％〜２重量％の光安定剤；および
０．２重量％〜２重量％の酸化防止剤
を含み、
前記第１の反応性部分および前記第２の反応性部分が異なり、前記重合性組成物を硬化させることが、少なくとも前記第１の反応性部分および前記第２の反応性部分を介した交差反応を介してポリマー架橋することを含む、項目１に記載の方法。
（項目４３）
前記重合性組成物が界面活性剤を含む、項目４２に記載の方法。
（項目４４）
前記重合性組成物が、２０ｎｍの最大粒子サイズを有する無機ナノ粒子を含む、項目４２に記載の方法。
（項目４５）
前記モノリシックフォトニックデバイスがレンズである、項目１に記載の方法。
（項目４６）
フォトニックデバイスであって、
硬化ポリマー材料を含み、凸部および凹部を画定する少なくとも１つのパターン形成された表面を有するモノリシック構造体を含み、
ここで、前記モノリシック構造体の屈折率が少なくとも１．６であり、前記モノリシック構造体の最小厚さが１０μｍ〜１ｃｍの範囲である、フォトニックデバイス。
（項目４７）
前記フォトニックデバイスの第１の表面および前記第１の表面の反対側の前記フォトニックデバイスの第２の表面のうちの少なくとも１つが、凸部および凹部を画定するパターン形成された表面であり、各々の凸部および凹部の寸法が、１０ｎｍ未満、１００ｎｍ未満、１μｍ未満、１０μｍ未満、１００μｍ未満、または１ｍｍ未満である、項目４６に記載のフォトニックデバイス。
（項目４８）
前記硬化ポリマー材料が、チオール−エン系ポリマーを含む、項目４６に記載のフォトニックデバイス。
（項目４９）
前記硬化ポリマー材料が金属酸化物を含む、項目４８に記載のフォトニックデバイス。
（項目５０）
前記硬化ポリマー材料が、０．１重量％〜３０重量％の前記金属酸化物を含む、項目４９に記載のフォトニックデバイス。
（項目５１）
前記金属酸化物が、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、またはそれらの組み合わせを含む、項目５０に記載のフォトニックデバイス。
（項目５２）
前記モノリシックフォトニックデバイスの屈折率が１．６〜１．９の範囲である、項目４６に記載のフォトニックデバイス。
（項目５３）
前記フォトニックデバイスの視野（アスペクト比４：３）が５０°までである、項目４６に記載のフォトニックデバイス。
（項目５４）
前記フォトニックデバイスが光学的に透明である、項目４６に記載のフォトニックデバイス。
（項目５５）
前記フォトニックデバイスがレンズである、項目４６に記載のフォトニックデバイス。