【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月3日(2020.6.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明に係る積層体は、従って、「終端層」（又は「保護膜」）として知られる最終の層、すなわち、金属ターゲットから金属状態で堆積され、かつ、意識的に導入された酸素又は窒素を含まない雰囲気中で堆積された層、を含む。この層は、放射、特には赤外線放射を生じる発生源を用いた処理の後に、積層体内において、本質的に化学量論的に、酸化される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
窒化ケイ素をベースとするこの誘電体層は、雰囲気由来の酸素が基材方向に透過することを防ぐ、バリア層である；金属性機能層が、このバリア層と基材の間に配置されるので、この誘電体層は、雰囲気由来の酸素が、金属性機能層の方向に透過することを防止する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
前終端層が存在することで、上述の処理を、酸素を含まない雰囲気中で実行することが可能となる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９５】
本発明は、上記において、例示として、記述される。当業者は、特許請求の範囲で定義される通りの本特許の範囲から逸脱することなく、本発明の異なる変形形態を作り出すことができる立場にあると理解される。
本開示に含まれる態様は、下記のとおりである。
＜態様１＞
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄膜の積層体（１４）によって、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）であって、前記被覆は、それぞれ、少なくとも一つの誘電体層（１２２，１６４）を含み、前記機能層（１４０）は、前記二つの反射防止被覆（１２０、１６０）の間に位置し、前記積層体は、一方では、前記表面（２９）から最も離れた積層体の層である終端層（１６８）を含み、この終端層は、少なくとも一つの金属Ｍ２を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ２を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記終端層（１６８）は、金属性の状態であり、かつ、前記積層体は、他方では、前記表面（２９）の方向で前記終端層（１６８）の直下に、前記終端層（１６８）と接触して、位置する積層体の層である、前終端層（１６７）を含み、前記前終端層（１６７）は、少なくとも一つの金属Ｍ１を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ１を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記前終端層（１６７）は、少なくとも部分的に酸化された状態であり、前記酸化／還元電位γ１は、前記酸化／還元電位γ２よりも大きく、前記酸化／還元電位は、標準水素電極によって計測される、ことを特徴とする、基材（３０）。
＜態様２＞
前記金属性の終端層（１６８）は、０．５ｎｍと５．０ｎｍの間、好ましくはさらには、１．０ｎｍと４．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
＜態様３＞
前記前終端層（１６７）は、５．０ｎｍと２０．０ｎｍとの間、好ましくはさらには、１０．０ｎｍと１５．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１又は２のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様４＞
前記金属性の終端層（１６８）は、チタニウム製であり、又は、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｉＺｎｊで作られており、ここで、スズの原子含有率は０．１≦ｉ≦０．５であり、かつｉ＋ｊ＝１であり、好ましくはさらには、０．１５≦ｉ≦０．４５であり、かつｉ＋ｊ＝１であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様５＞
前記前終端層（１６７）は、酸化スズ、又は、スズ及び好ましくは亜鉛を追加的に含む金属元素の混合物の酸化物、であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様６＞
前記前終端層（１６７）は、スズの原子含有率が０．３≦ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１であり、好ましくはさらには、０．５＜ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１である、亜鉛とスズの混合物ＳｎｘＺｎｙの酸化物であることを特徴とする、請求項５に記載の基材（３０）。
＜態様７＞
前記前終端層（１６７）は、前記基材から出発して、誘電体層上に位置し、この誘電体膜は、窒化ケイ素をベースとしており、物理的な厚さが、５．０と５０．０ｎｍの間であり、好ましくはさらには８．０と２０．０ｎｍの間であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様８＞
枠構造（９０）によって一緒に保持される、少なくとも二つの基材（１０，３０）を含む、複層グレージングであって、前記グレージングは、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間に仕切りを形成し、少なくとも一つのガス入りキャビティ（１５）が、前記二つの基材の間に位置し、基材の一つ（３０）は、請求項１〜７のいずれか一項に記載されたものである、複層グレージング。
＜態様９＞
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄層の積層体（１４）で、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）、を得るための、以下の工程を順に含む、方法：
‐請求項１〜７のいずれか一項に記載の、少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀、又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する、薄膜の積層体（１４）を、前記基材（３０）の一つの面（２９）に堆積すること、
‐放射、特には赤外放射を生成する発生源を用いて、前記薄層の積層体（１４）を処理すること、ここで、前記終端層（１６８）は、前記処理の後に、少なくとも部分的に、酸化されている。
＜態様１０＞
前記処理は、酸素を含まない大気中で実行されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄膜の積層体（１４）によって、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）であって、前記被覆は、それぞれ、少なくとも一つの誘電体層（１２２，１６４）を含み、前記機能層（１４０）は、前記二つの反射防止被覆（１２０、１６０）の間に位置し、前記積層体は、一方では、前記表面（２９）から最も離れた積層体の層である終端層（１６８）を含み、この終端層は、少なくとも一つの金属Ｍ２を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ２を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記終端層（１６８）は、金属性の状態であり、かつ、前記積層体は、他方では、前記表面（２９）の方向で前記終端層（１６８）の直下に、前記終端層（１６８）と接触して、位置する積層体の層である、前終端層（１６７）を含み、前記前終端層（１６７）は、少なくとも一つの金属Ｍ１を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ１を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記前終端層（１６７）は、少なくとも部分的に酸化された状態であり、
前記酸化／還元電位γ１は、前記酸化／還元電位γ２よりも大きく、前記酸化／還元電位は、標準水素電極によって計測されること、及び、
前記金属性の終端層（１６８）が、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｉＺｎｊで作られており、ここで、スズの原子含有率は０．１≦ｉ≦０．５であり、かつｉ＋ｊ＝１であり、好ましくはさらには、０．１５≦ｉ≦０．４５であり、かつｉ＋ｊ＝１であること
を特徴とする、
基材（３０）。
【請求項２】
前記金属性の終端層（１６８）は、０．５ｎｍと５．０ｎｍの間、好ましくはさらには、１．０ｎｍと４．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
【請求項３】
前記前終端層（１６７）は、５．０ｎｍと２０．０ｎｍとの間、好ましくはさらには、１０．０ｎｍと１５．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１又は２のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項４】
前記前終端層（１６７）は、酸化スズ、又は、スズ及び好ましくは亜鉛を追加的に含む金属元素の混合物の酸化物、であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項５】
前記前終端層（１６７）は、スズの原子含有率が０．３≦ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１であり、好ましくはさらには、０．５＜ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１である、亜鉛とスズの混合物ＳｎｘＺｎｙの酸化物であることを特徴とする、請求項４に記載の基材（３０）。
【請求項６】
前記前終端層（１６７）は、前記基材から出発して、誘電体層上に位置し、この誘電体膜は、窒化ケイ素をベースとしており、物理的な厚さが、５．０と５０．０ｎｍの間であり、好ましくはさらには８．０と２０．０ｎｍの間であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項７】
枠構造（９０）によって一緒に保持される、少なくとも二つの基材（１０，３０）を含む、複層グレージングであって、前記グレージングは、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間に仕切りを形成し、少なくとも一つのガス入りキャビティ（１５）が、前記二つの基材の間に位置し、基材の一つ（３０）は、請求項１〜６のいずれか一項に記載されたものである、複層グレージング。
【請求項８】
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄層の積層体（１４）で、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）、を得るための、以下の工程を順に含む、方法：
‐請求項１〜６のいずれか一項に記載の、少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀、又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する、薄膜の積層体（１４）を、前記基材（３０）の一つの面（２９）に堆積すること、
‐放射、特には赤外放射を生成する発生源を用いて、前記薄層の積層体（１４）を処理すること、ここで、前記終端層（１６８）は、前記処理の後に、少なくとも部分的に、酸化されている。
【請求項９】
前記処理は、酸素を含まない雰囲気中で実行されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。