【事件の表示】
　特願２０１４−　９９３４１「露光装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年１０月　９日出願公開、特開２０１４−１９５０９９、請求項の数（４２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１１年１２月１３日（優先権主張　平成２２年１２月１４日）を国際出願日とする特願２０１２−５４８６５２号の一部を平成２６年５月１３日に新たな特許出願としたものであって、平成２７年２月１０日付けで拒絶理由が通知され、同年４月１４日付けで意見書が提出されるとともに同日付けで手続補正がなされたが、同年８月５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年１０月９日に該拒絶査定を不服として審判請求がなされたものである。 
第２　本願発明
　本願の請求項１〜４２に係る発明は、平成２７年４月１４日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜４２により特定されるものと認められるところ、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は以下のとおりである。
「【請求項１】 
　パターンが形成されたマスクに近接して配置される感光性の基板上に前記パターンを転写する露光装置であって、 
　エネルギビームで前記マスクを照明する照明光学装置と、 
　前記マスクのパターン領域の周囲に配置された複数のアクチュエータと、該複数のアクチュエータの前記基板に対向する側の面に固定され、前記マスクの前記パターン領域の周囲領域を上方から保持する変形自在のチャック部材と、を有し、前記マスクに対して、少なくとも所定平面に平行な面内の力を作用させるマスク保持装置と、 
　前記基板を保持して前記所定平面に沿って移動する基板保持装置と、を備える露光装置。」
第３　原査定の拒絶の理由の概要 
１　平成２７年２月１０日付けで通知した拒絶理由の概要 
　平成２７年２月１０日付けで通知した拒絶理由について、拒絶査定の理由である理由３の概要は、次のとおりである。
「　　　　　　　　　　　　　 【理由３】 
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照） 
・請求項１、４３ 
・引用文献１、２ 
・備考： 
　請求項１に係る発明は、引用文献１または２の記載から、当業者であれば容易に想到しうることである。 
・請求項２−４ 
・引用文献等１−３ 
・備考： 
　膜状部材からなるマスクチャックは、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献３を参照。）。 
・請求項５−６ 
・引用文献等１−４ 
・備考： 
　マスクステージを平面モータによって駆動することは、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献４を参照。）。 
　引用文献１または２に開示されたマスク基板に面内応力を付与する手段として平面モータによる駆動力を採用するかどうかは、必要な応力値や安定性などを考慮して、当業者が適宜選択しうる設計事項である。 
・請求項７−１４ 
・引用文献等１−５ 
・備考： 
　露光時にマスク基板やウエハの凹凸を計測して平坦面となるように湾曲した状態で露光を行うことは、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献５を参照。）。 
・請求項１５−２２ 
・引用文献等１−６ 
・備考： 
　基板表面情報計測装置として、基板の移動による気流の動圧による浮上体の位置情報を計測するものは、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献６を参照。）。 
　計測装置を複数段設けて精度を上げることは、計測装置の精度や信頼性に応じて、当業者が適宜選択しうる設計事項である。 
・請求項２３−２４ 
・引用文献等１−７ 
・備考： 
　マスクとウエハとのプリアライメントを行った後、露光時に微動させることで正確なアライメントを実施する露光方法は、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献７を参照。）。 
・請求項２５−３２ 
・引用文献等１−８ 
・備考： 
　露光フィールドの大きさを適宜切り替える露光方法は、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献８を参照。）。 
　引用文献１または２に開示された近接露光装置においても、露光フィールドの大きさを可変とすることは、当業者であれば容易に想到しうることである。 
・請求項３３−３７ 
・引用文献等１−９ 
・備考： 
　近接露光において、ショットとショットの間のステップ移動時に、ウエハとマスクとの間隔を広げることは、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献９を参照。）。 
・請求項３８−４２ 
・引用文献等１−１０ 
・備考： 
　マスク異物検査装置やマスクの帯電除去装置を備えた露光装置は、当業者にとって周知の技術的事項である（必要であれば文献１０を参照。）。 
　　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧 
１．特開平１０−３１２９５７号公報 
（特に、第５頁左欄４２行目−右欄５行目を参照。） 
２．特開２０００−２６０６９０号公報 
（特に、【０００５】段落を参照。） 
３．特開２００７−００５７８９号公報 
４．特開平１１−２１４３０２号公報 
（特に、【００８３】段落を参照。） 
５．特開昭５７−２０４５４７号公報 
６．特開２００７−２４２７０７号公報 
７．特開２０１０−２６６５６１号公報 
８．特開平０５−１９０４１５号公報 
９．特開２０１０−２５０２３９号公報 
（特に、【０００６】段落を参照。） 
１０．国際公開第２００２／０４１３７５号」 
２　平成２７年１０月９日付けでした拒絶査定の概要 
　平成２７年１０月９日付けでした拒絶査定の概要は、次のとおりである。
「この出願については、平成２７年　２月１０日付け拒絶理由通知書に記載した理由３によって、拒絶をすべきものです。 
　なお、意見書及び手続補正書の内容を検討しましたが、拒絶理由を覆すに足りる根拠が見いだせません。 
備考 
●理由３（特許法第２９条第２項）について 
・請求項１ 
・引用文献等１−３ 
　平成２７年４月１４日付け手続補正書における補正後の請求項１は、補正前の請求項１に対して請求項２の発明特定事項が追加されたものである。 
　また、上記手続補正書と同日付けで提出された意見書において、出願人は、補正前の請求項２の発明特定事項である「マスクのパターン領域の周囲に配置された複数のアクチュエータと、該複数のアクチュエータの前記基板に対向する側の面に固定され、前記マスクの前記パターン領域の周囲領域を上方から保持する変形自在のチャック部材」は、引用文献１−１０のいずれにも開示されておらず当業者であれば容易に想到しうることではないと主張している。 
　引用文献１には、原版４に外力を加えるための３個の倍率補正部材３３ａ（アクチュエータに相当。）が原版チャックベース３０（チャック部材に相当。）の裏面に設けられた構成、すなわち、複数のアクチュエータの基板に対向する側の面に固定されたチャック部材も開示されている（[００２３]段落および図４を参照）。 
　引用文献１には、原版４のチャック部材が変形自在であることは開示がされていないが、原版４のチャック部材を倍率補正部材３３ａによる原版４の変形に追従して確実に原版をチャックできるように変形自在とすること、例えば文献３に例示されるような周知の膜状チャック部材を採用することは、当業者であれば容易に想到しうることである。 
　したがって、補正後の請求項１に係る発明は、引用文献１の記載および当業者の周知技術から、当業者であれば容易に想到しうることである。 
　また、引用文献２には、マスクの倍率補正を行うための倍率補正機構３の基板に対向する側の面に、マスクのチャック部材を固定することは、記載も示唆もされていない。 
　しかしながら、マスクの倍率補正を行うための倍率補正機構３の基板に対向する側の面に、マスクのチャック部材を固定することは、上記したように引用文献１に開示されている。 
　したがって、補正後の請求項１に係る発明は、引用文献１及び２の記載および当業者の周知技術から、当業者であれば容易に想到しうることである。
　また、上記手続補正書による補正後の請求項２−４２は、補正前の請求項３−４３と同一である。 
　そして、上記各請求項に係る発明についての上記理由３は解消していない。
　すなわち、請求項２−３に係る発明は引用文献等１−３から、請求項４−５に係る発明は引用文献等１−４から、請求項６−１３に係る発明は引用文献等１−５から、請求項１４−２１に係る発明は引用文献等１−６から、請求項２２−２３に係る発明は引用文献等１−７から、請求項２４−３１に係る発明は引用文献等１−８から、請求項３２−３６に係る発明は引用文献等１−９から、請求項３７−４１に係る発明は引用文献等１−１０から、請求項４２に係る発明は引用文献等１−３から、それぞれ、当業者であれば容易に想到しうることである。 
　　　　　　　　　　　　 ＜引用文献等一覧＞ 
１．特開平１０−３１２９５７号公報 
（特に、第５頁左欄４２行目−右欄５行目を参照。） 
２．特開２０００−２６０６９０号公報 
（特に、【０００５】段落を参照。） 
３．特開２００７−００５７８９号公報（周知技術を示す文献） 
４．特開平１１−２１４３０２号公報（周知技術を示す文献） 
（特に、【００８３】段落を参照。） 
５．特開昭５７−２０４５４７号公報（周知技術を示す文献） 
６．特開２００７−２４２７０７号公報（周知技術を示す文献） 
７．特開２０１０−２６６５６１号公報（周知技術を示す文献） 
８．特開平０５−１９０４１５号公報（周知技術を示す文献） 
９．特開２０１０−２５０２３９号公報（周知技術を示す文献） 
（特に、【０００６】段落を参照。） 
１０．国際公開第２００２／０４１３７５号（周知技術を示す文献）」 
第４　当審の判断 
１　引用文献、引用発明 
（１）原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−３１２９５７号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている（下線は当審で付与した。）。 
ア　「【０００１】 
【発明の属する技術分野】本発明は、
露光装置
イ　「【００１７】パターンが形成されている
マスク等の原版４は原版チャック６に固定され、また、ウエハ等の基板５は基板チャック７に吸着保持され、基板チャック７はＸ方向およびＹ方向に移動可能な基板ステージ８に取り付けられており、発光光源から放射されるＸ線、紫外光あるいは可視光などの露光光２は、照明系３を経て原版４を照射し、原版４に形成されているパターンを基板５上に露光転写する。
ウ　「【００２３】次に、倍率補正機構１０の具体的な構成の一例を図４の（ａ）および（ｂ）を用いて説明する。原版チャックベース３０の裏面には、Ｘ方向に相対向して一対の倍率補正部材３３ａと３３ｃが配設され、Ｙ方向に相対向して一対の倍率補正部材３３ｂと３３ｄが配設されている。これらの倍率補正部材３３ａ〜３３ｄはすべて同じ機構を有しており、Ｘ方向に配設された倍率補正部材３３ａについて説明する。
倍率補正部材３３ａは、原版チャックベース３０の一面に位置付けられた原版フレーム２１と原版チャックベース３０にそれぞれ設けられて重ね合わされた貫通孔３５ａと貫通孔３７ａに挿入される補正ピン３６ａと、この補正ピン３６ａをＸ方向に進退させるべくロッドを介して駆動するエアシリンダ３４ａからなり、エアシリンダ３４ａは原版チャックベース３０の裏面に装着され、その圧力は倍率補正制御部１１および補正手段１３の補正テーブルの指令値に応じて制御される。
倍率補正部材３３ａのエアシリンダ３４ａの圧力を制御することにより、補正ピン３６ａを介して、原版４にＸ方向に独立に圧縮力あるいは引張り力を加えることができる。
原版４にＸ方向およびＹ方向にそれぞれ独立して圧縮力あるいは引張り力を加えて、原版４の倍率を、基板の倍率に合うように、変化させることができる。
エ　図１ 
オ　図４ 
　上記ア〜オより、引用文献１には、 
「マスク等の原版４は原版チャック６に固定され、また、ウエハ等の基板５は基板チャック７に吸着保持され、基板チャック７はＸ方向およびＹ方向に移動可能な基板ステージ８に取り付けられており、発光光源から放射されるＸ線、紫外光あるいは可視光などの露光光２は、照明系３を経て原版４を照射し、原版４に形成されているパターンを基板５上に露光転写する露光装置であって、 
　倍率補正部材３３ａは、原版チャックベース３０の一面に位置付けられた原版フレーム２１と原版チャックベース３０にそれぞれ設けられて重ね合わされた貫通孔３５ａと貫通孔３７ａに挿入される補正ピン３６ａと、この補正ピン３６ａをＸ方向に進退させるべくロッドを介して駆動するエアシリンダ３４ａからなり、エアシリンダ３４ａは原版チャックベース３０の裏面に装着され、その圧力は倍率補正制御部１１および補正手段１３の補正テーブルの指令値に応じて制御され、倍率補正部材３３ａのエアシリンダ３４ａの圧力を制御することにより、補正ピン３６ａを介して、原版４にＸ方向に独立に圧縮力あるいは引張り力を加えて、原版４の倍率を、基板の倍率に合うように、変化させることができる、露光装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。 
（２）原査定の拒絶の理由に引用された特開２０００−２６０６９０号公報（以下「引用文献２」という。）には、以下の事項が記載されている（下線は当審で付与した。）。 
「【０００５】そこで、Ｘ線露光装置における、倍率補正方法としてはマスク基板に面内応力や面外応力を作用させ、マスク基板を積極的に変形させメンブレン上のパターン倍率を制御する方法が提案されている。例えば、面内応力をマスク基板に作用させる従来例としては、特公平４−６６０９５に示すように、
マスクチャックのクランプ機構に機械的手段（電歪素子を利用）を設け、マスク支持フレームに変形を与える。結果として支持フレーム上のマスク基板が伸縮させられるものである。
（３）原査定の拒絶の理由に引用された特開２００７−５７８９号公報（以下「引用文献３」という。）には、以下の事項が記載されている（下線は当審で付与した。）。 
ア　「【００２６】 
　図２は、本発明の一実施例によるマスク・テーブルの平面図を示したものである。マスク・テーブルＭＴは、マスクＭＡが配置される領域に相対低圧力を生成し、それによりマスクＭＡをマスク・テーブルＭＴに吸着する真空クランプＶＣを備えている。真空クランプＶＣは真空領域ＶＡを備えており、実質的にその上側の部分に比較的低い圧力が提供されている。真空クランプＶＣは、さらに、真空領域ＶＡの境界を画定している吸着カップＳＣを備えている。図に示す実施例には２つの真空クランプＶＣが示されている。クランプＶＣは、マスクＭＡが配置される位置Ｌの端部に配置されている。真空クランプＶＣは、位置Ｌの長さに沿って走査方向Ｙに延在している。これらの真空クランプＶＣの位置は、投影ビームが通過する領域の中まで真空クランプＶＣが延在しないような位置である。真空クランプＶＣは、マスクＭＡの透過領域の中まで延在することができないため、マスクＭＡを所定の位置で保持するためにマスクＭＡに印加することができる真空力の量が制限されるように真空クランプのサイズが限定されている。
これらの真空クランプＶＣは、板ばね２によってマスク・テーブルＭＴの上に取り付けられている。マスク・テーブルＭＴは、マスク・チャックＭＣを備えている。真空クランプＶＣは、詳細には板ばね２によってマスク・チャックＭＣの上に取り付けられている。板ばね２は、真空クランプＶＣの長さに沿って走査方向に延在している。
イ　図３ 
２　対比 
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、 
「パターンが形成されたマスクに近接して配置される感光性の基板上に前記パターンを転写する露光装置であって、 
　エネルギビームで前記マスクを照明する照明光学装置と、 
　前記マスクのパターン領域の周囲に配置された複数のアクチュエータを有し、前記マスクに対して、少なくとも所定平面に平行な面内の力を作用させるマスク保持装置と、 
　前記基板を保持して前記所定平面に沿って移動する基板保持装置と、を備える露光装置。」の点で一致している。 
　他方、本願発明と引用発明は、以下の相違点で相違している。 
「マスク保持装置」が、本願発明では、「該複数のアクチュエータの前記基板に対向する側の面に固定され、前記マスクの前記パターン領域の周囲領域を上方から保持する変形自在のチャック部材」「を有」するのに対して、引用発明では、そのようなチャック部材を有しない点。 
３　判断 
　上記相違点について検討する。 
　引用発明は、「倍率補正制御部１１および補正手段１３の補正テーブルの指令値に応じて制御され、倍率補正部材３３ａのエアシリンダ３４ａの圧力を制御することにより、補正ピン３６ａを介して、原版４にＸ方向に独立に圧縮力あるいは引張り力を加えて、原版４の倍率を、基板の倍率に合うように、変化させることができる」ものである。これに対して、倍率補正制御部１１と原版４との間に変形自在な部材を配置すると、倍率補正部材３３ａのエアシリンダ３４ａの圧力が原版４に伝わり難くなり、原版４の倍率を、基板の倍率に合うように、変化させることができなくなる。すなわち、倍率補正制御部１１と原版４との間に変形自在のチャック部材を有するようにすることに、阻害要因がある。 
　したがって、引用文献３に記載された板ばねのような変形自在のチャック部材が周知技術であっても、引用発明に周知技術を適用して上記相違点にかかる構成とすることは、当業者といえも、容易に想到し得たこととすることはできない。 
　また、引用文献２にも変形自在のチャックについての記載はない。 
　よって、本願発明は、当業者が引用発明及び引用文献２、３に記載された事項に基いて容易に発明をすることができたとはいえない。 
　本願の請求項２〜４２に係る発明は、本願発明をさらに限定したものであるので、本願発明と同様に、当業者が引用発明及び引用文献２、３に記載された事項に基いて容易に発明をすることができたとはいえない。 
第５　むすび 
　以上のとおり、本願の請求項１〜４２に係る発明は、いずれも、当業者が引用発明及び引用文献２、３に記載された事項に基いて容易に発明をすることができたものではないから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。 
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 
　よって、結論のとおり審決する。