【事件の表示】
　特願２０１１−５１９０３８「電子音響部品に誘電体層を形成する製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　１月２８日国際公開、ＷＯ２０１０／００９７１９、平成２３年１１月２４日国内公表、特表２０１１−５２８８７８、請求項の数（１５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１．手続の経緯　
　本願は、平成２１年（２００９年）７月２３日（パリ条約による優先権主張　２００８年７月２３日（ＤＥ）ドイツ連邦共和国）を国際出願日とする出願であって、手続の概要は以下のとおりである。
平成２３年　１月２１日　国内書面
平成２５年　６月１９日　拒絶理由通知
平成２５年１０月１８日　意見書、手続補正書
平成２６年　２月　４日　拒絶理由通知
平成２６年　６月　５日　意見書、手続補正書
平成２６年１０月１５日　拒絶査定
平成２７年　２月２０日　審判請求、手続補正書
平成２７年　４月２７日　前置報告
平成２８年　２月２４日　拒絶理由通知
平成２８年　５月３０日　意見書、手続補正書
平成２８年　６月　９日　拒絶理由通知
平成２８年　９月　５日　意見書、手続補正書
第２．特許請求の範囲の記載
　本願の特許請求の範囲の記載は、平成２８年９月５日付けの手続補正書の特許請求の範囲に記載された以下のとおりのものである。
「　【請求項１】
　対応する電極構造物を有する基板を備えた電子音響部品に誘電体層を形成する製造方法であって、
　上記誘電体層が、
　二酸化ケイ素の層を化学量論的なやり方で基板の電極構造物に近い側にプラズマ支援熱蒸着にて析出させ、上記二酸化ケイ素の化学量論的析出の領域の上に蒸着ガラス材料の部分層をプラズマ支援熱蒸着により析出させることによって形成される製造方法。
　　【請求項２】
　上記誘電体層が、リフトオフ処理、反応性プラズマエッチング、湿式化学エッチングからなる形成方法のグループから選ばれる少なくとも一つの形成方法によって形成される請求項１に記載の製造方法。
　　【請求項３】
　上記誘電体層が、誘電体層内部に不均一な材料圧縮度を有するように形成される請求項１または２に記載の製造方法。
　　【請求項４】
　上記誘電体層の、電極構造物に最も近い側で、最も近い側の材料圧縮度が形成され、この材料圧縮度は、誘電体層の、電極構造物から最も遠い側の材料圧縮度よりも高い請求項３に記載の製造方法。
　　【請求項５】
　上記電極構造物に近い側では、上記誘電体層が、上記誘電体層の、上記電極構造物から最も遠い側での、音波の、遠い側の伝搬速度とは異なる、音波の伝搬速度を有するように、形成される請求項１ないし４のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項６】
　上記電極構造物に最も近いほうの側では上記誘電体層が基底層を有するように形成され、電極構造物から最も遠いほうの側では誘電体層が保護カバー層を有するように形成される請求項１ないし５のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項７】
　上記誘電体層（３）が上記基底層（３０）と上記保護カバー層（３２）との間に中間層（３１）を有するように形成され、
　上記基板（１）での音波の伝搬速度をｖ１、
　上記基底層（３０）での音波の伝搬速度をｖ２、
　上記中間層（３１）での音波の伝搬速度をｖ３、
　上記保護カバー層（３２）での音波の伝搬速度をｖ４とするとき、
　ｖ２＜ｖ１、ｖ２＜ｖ３、ｖ４＜ｖ２である
　請求項６に記載の製造方法。
　　【請求項８】
　上記誘電体層は、０．５μｍないし５０μｍの厚みの層を有するように形成される請求項１ないし７のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項９】
　上記誘電体層は、３０ｎｍ／分ないし１０００ｎｍ／分の層析出速度で析出される請求項１ないし８のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項１０】
　少なくとも一つの蒸着材料が基板上に析出され、基板の温度は、１２０℃より低くする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項１１】
　蒸着材料の析出に用いられるプラズマの組成を変化させることによって、上記誘電体層が、物理的および／または化学的特性に関して互いに異なる層領域を有するように析出される請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項１２】
　上記誘電体層が、少なくとも一つの蒸着ガラス材料と二酸化ケイ素との同時蒸着を用いて形成される請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項１３】
　ワイヤボンディングと成形処理とが行われる請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項１４】
　上記誘電体層が、蒸着ガラス材料の少なくとも一つの部分層と、二酸化ケイ素のさらに少なくとも一つの部分層とが析出されるようにして設けられる多重層構造を有するように形成される請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の製造方法。
　　【請求項１５】
　上記蒸着ガラス材料がホウケイ酸ガラスである請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の製造方法。」　
第３．当審の平成２８年６月９日付け拒絶理由の概要
（この「第３．」において、「請求項」とあるのは、平成２８年５月３０日付け手続補正書の特許請求の範囲に記載されたものをいう。）
　平成２８年６月９日付けで通知した当審の拒絶理由の概要は、請求項１及びそれを引用する他の請求項と、請求項１６とは、単一の一般的発明概念を形成するように連関している技術的関係にないので、本願は、特許法第３７条に規定する要件を満たしていないというものである。
　上記「第２．」に示したように、平成２８年９月５日付けの手続補正に
よって、請求項１６は削除されたので、当審の平成２８年６月９日付け拒絶理由は解消した。
第４．当審の平成２８年２月２４日付け拒絶理由について
１．当審の平成２８年２月２４日付け拒絶理由の概要
（この「１．」において、「請求項」とあるのは、平成２７年２月２０日付け手続補正書の特許請求の範囲に記載されたものをいう。）
理由１．本件出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。 
  
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照） 
 　 
　請求項１、３、５、７、１５、１７、１８、２０、２５に対して 
　引用文献１ 
 　 
理由２．本件出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
  
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照） 
 　 
　請求項１−２６に対して 
　引用文献１−３ 
　　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧 
 　 
１．特開平２−３６６０８号公報 
２．国際公開第０２／０８２６４５号 
３．特開２００６−２７９６０９号公報 
  
理由３．この出願は、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 
２．理由３について
　上記「第２．」に示したように、本願の特許請求の範囲の記載は明確であるから、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしている。
３．理由１及び２について
（１）引用発明
　上記引用文献１には、図面とともに以下の記載がなされている。
「〔課題を解決するための手段〕 
　本発明の実施例を示す第１図または第３図によれば、 
　リチウムタンタレート単結晶のＸ軸廻りにＺ軸方向へ３６度回転させたＹ板から切り出した基板３上に駆動電極４と反射電極５とを形成し、その上にプラズマＣＶＤにより屈折率が１．４６±０．０１の二酸化シリコン膜６を積層した弾性表面波素子１１において、 
　二酸化シリコン膜６の上に、電子ビーム蒸着法によって酸化シリコン膜１２を積層することを特徴とした弾性表面波素子１１の周波数調整方法。」 
（第２ページ右下欄第３−１４行） 
　上記のように、結晶の基板上に電極を形成する等して弾性表面波素子とするので、引用文献１には、以下の製造方法の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。 
 　 
　結晶の基板上に電極を形成し、 
　その電極の上にプラズマＣＶＤにより二酸化シリコン膜を積層し、 
　その二酸化シリコン膜の上に、電子ビーム蒸着法によって酸化シリコン膜を積層することを特徴とした弾性表面波素子の製造方法。 
  
（２）対比 
　本願の請求項１−１５に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１−１５に記載された事項により特定されるとおりのものであり、その記載は前記「第２．」のとおりである。
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）と引用発明とを対比する。
　引用発明の「弾性表面波素子」は電子音響部品といえ、その電極の上に積層した二酸化シリコン膜、及びその二酸化シリコン膜の上に積層した酸化シリコン膜は、誘電体層といえる。 
　引用発明において、「結晶の基板上に電極を形成し、その電極の上にプラズマＣＶＤにより二酸化シリコン膜を積層し」とすることは、本願発明で
「二酸化ケイ素の層を化学量論的なやり方で基板の電極構造物に近い側にプラズマ支援熱蒸着にて析出させ」とすることと、少なくとも、二酸化ケイ素の層を基板の電極構造物に近い側に析出させることで共通する。
　引用発明において、「その二酸化シリコン膜の上に、電子ビーム蒸着法によって酸化シリコン膜を積層すること」は、本願発明で「上記二酸化ケイ素の化学量論的析出の領域の上に蒸着ガラス材料の部分層をプラズマ支援熱蒸着により析出させること」とすることと、少なくとも、二酸化ケイ素の領域の上に蒸着ガラス材料の部分層を析出させることで共通する。
　本願発明と引用発明とを対比すると、以下の点で一致し、また相違する。
一致点
　対応する電極構造物を有する基板を備えた電子音響部品に誘電体層を形成する製造方法であって、
　上記誘電体層が、
　二酸化ケイ素の層を基板の電極構造物に近い側に析出させ、上記二酸化ケイ素の領域の上に蒸着ガラス材料の部分層を析出させることによって形成される製造方法。
相違点１
　二酸化ケイ素の層を基板の電極構造物に近い側に析出させることが、本願発明は、化学量論的なやり方でプラズマ支援熱蒸着にて析出させるのに対して、引用発明では、プラズマＣＶＤによる点。
相違点２
　二酸化ケイ素の領域の上に蒸着ガラス材料の部分層をプラズマ支援熱蒸着により析出させることが、本願発明は、プラズマ支援熱蒸着により析出させるのに対して、引用発明では、電子ビーム蒸着法による点。
（３）当審の判断
　上記相違点１について判断する。
　対応する電極構造物を有する基板を備えた電子音響部品の誘電体層において、二酸化ケイ素の層を化学量論的なやり方で基板の電極構造物に近い側にプラズマ支援熱蒸着にて析出させることによって形成することは、上記引用文献２及び３においても、記載も示唆もされていない。
　また、対応する電極構造物を有する基板を備えた電子音響部品の誘電体層において、二酸化ケイ素の層をプラズマＣＶＤにて析出させることに代え
て、化学量論的なやり方でプラズマ支援熱蒸着にて析出させることが、当業者が容易にできることともいえない。
　したがって、他の相違点について検討するまでもなく、本願発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　請求項１を引用する他の請求項に係る発明についても同様である。
（４）むすび（当審の平成２８年２月２４日付け拒絶理由について）
　上記のように、本願の特許請求の範囲の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしており、本願の請求項１−１５に係る発明は、引用文献１に記載された発明と同一の発明ではなく、引用文献１−３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもないから、平成２８年２月２４日付け拒絶理由によって、本願を拒絶することはできない。
第５．原査定の理由
　原査定の理由となった平成２６年２月４日付け拒絶理由の概要は、以下のとおりである。
（「第４．」に記載した引用文献と区別するため、以下の記載では、引用文献の番号の後に「ａ」を付加する。下記の拒絶理由の概要において、「請求項」とあるのは、平成２５年１０月１８日付け手続補正書の特許請求の範囲に記載されたものをいう。）
Ａ．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
Ｂ．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
・請求項　１−３、８、１０、１３、１６、１８、２２、２４、２５、２７
・理由　Ａ、Ｂ
・引用文献　７ａ
・請求項　１１、１２
・理由　Ｂ
・引用文献　７ａ
・請求項　４
・理由　Ｂ
・引用文献　７ａ−９ａ
・請求項　５−７、１９−２１
・理由　Ｂ
・引用文献　３ａ、４ａ、７ａ−９ａ
・請求項　９、２３
・理由　Ｂ
・引用文献　１ａ、３ａ、４ａ、７ａ−９ａ
・請求項　１４
・理由　Ｂ
・引用文献　１ａ、３ａ−９ａ
・請求項　１５、２６
・理由　Ｂ
・引用文献　１ａ−９ａ
・請求項　１７、２８
・理由　Ｂ
・引用文献　１ａ−１１ａ
　　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
１ａ．国際公開第２００２／０８２６４５号
２ａ．特開平９−４６１５６号公報
３ａ．特開平１０−５６３５０号公報
４ａ．特開２００６−２７９６０９号公報
５ａ．特開２００１−１４６４９号公報
６ａ．特開２００６−３３８９８３号公報
７ａ．特開平８−２２５３９８号公報
８ａ．特開平５−８３０６３号公報
９ａ．特開２００５−１３０３４１号公報
１０ａ．特開平８−２０１５９１号公報
１１ａ．特開２００８−１５３０３８号公報
　上記引用文献のいずれにも、対応する電極構造物を有する基板を備えた電子音響部品の誘電体層において、二酸化ケイ素の層を化学量論的なやり方で基板の電極構造物に近い側にプラズマ支援熱蒸着にて析出させることによって形成することは、記載も示唆もされていない。
　また、前置報告で引用された下記の文献についても、上記事項は、記載も示唆もされていない。
１２ａ．特開平２−３６６０８号公報
１３ａ．特表２００６−５１３６４９号公報
１４ａ．特表２００８−５１４０６２号公報
　したがって、本願の請求項１−１５に係る発明は、上記引用文献に記載された発明と同一の発明ではなく、上記引用文献に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもないから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
第６．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１−１５に係る発明は、引用文献に記載された発明と同一の発明ではなく、また、引用文献に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできないから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。