【手続補正書】
【提出日】令和2年3月25日(2020.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマエッチングチャンバであって、
真空受容器（１）と、前記真空受容器内に、
−中心軸（Ｂ）を有するエッチング室（３）であって、前記エッチング室（３）の内部空間（ＩＥ）を囲う周囲壁（５）を備え、前記プラズマエッチングチャンバ（１）の前記エッチング装置（６）を備える、エッチング室（３）と、
−金属周囲壁（１５）を有し、前記周囲壁（１５）にフィードスルー開口（２１）を有するポンプ室（１３）と、
−前記中心軸（Ｂ）を横切って前記エッチング室（３）を前記ポンプ室（１３）から分離する金属隔壁（２３）と、
−前記中心軸（Ｂ）に巻き付き、前記エッチング室（３）の前記内部空間（ＩＥ）と前記ポンプ室（１３）の内部空間（ＩＰ）との間にポンプ流通を確立する前記金属隔壁（２３）内にある、又は、前記中心軸（Ｂ）に巻き付き、前記エッチング室（３）の前記内部空間（ＩＥ）と前記ポンプ室（１３）の内部空間（ＩＰ）との間にポンプ流通を確立する前記金属隔壁（２３）に沿った少なくとも１つのポンピングスリット（３５）と、
−前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）のポンピングポート（１７）と、
−前記エッチング室（３）の前記内部空間（ＩＥ）に晒されたワークピースを支持するように構成され、電気的に絶縁された方式（４１）で前記真空受容器（１）に載置されている、前記中心軸（Ｂ）に対して中心付けられたワークピース支持体（３９）であって、前記ワークピース支持体（３９）が、エッチング位置で上方に、及び、前記エッチング位置から離れる下方に、共に前記中心軸（Ｂ）に沿って駆動可能に移動可能である、ワークピース支持体（３９）と、
−前記フィードスルー開口（１７）を介して前記ワークピース支持体（３９）まで延びる金属製管状構造体（１９）であって、前記金属製管状構造体（１９）が、前記ワークピース支持体（３９）に機械的に結合される第１の部分（１９ａ）と、前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）に機械的に結合される第２の部分（１９ｂ）とを備え、前記第１の部分（１９ａ）及び前記第２の部分（１９ｂ）が、前記中心軸（Ｂ）の方向において互いに対して移動可能であり（Ｆ）、前記第２の部分（１９ｂ）が、前記金属周囲壁（１５）まで前記フィードスルー開口（２１）の端部に沿って導電的に接合され（２２）、前記管状構造体の第１の部分が前記第２の部分に電気的に接触し、又は、前記第１の部分が、前記エッチングチャンバのシステム接地コネクタに直接電気的に接続されている、金属製管状構造体（１９）と、
−前記金属製管状構造体（１９）を通って前記金属製管状構造体（１９）に沿った、前記ワークピース支持体（３９）に接続されたＲｆ供給ライン（４１）と、
−前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）の外側にある前記金属製管状構造体（１９）の前記第２の部分（１９ｂ）の端部にある、又は、前記金属隔壁（２３）の反対側の前記金属周囲壁（１５）にある、前記プラズマエッチングチャンバ（１）用の前記システム接地コネクタ（４５）と、
−少なくとも前記ワークピース支持体が前記エッチング位置にあるときに、前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）を横切って前記金属隔壁（２３）を介して前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）から前記金属製管状部材（１９）の前記第１の部分（１９ａ）までの電気接点を確立する多数の分布した金属コネクタ（４９）と、
を備える、プラズマエッチングチャンバ。
【請求項２】
前記金属コネクタが板状コネクタを含む、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項３】
前記金属コネクタが、それぞれの管軸（Ｃ）を有する管状部材（６９）を備え、特に、前記管状部材が中空である場合、前記管軸（Ｃ）が、前記ポンピングポート（１７）でのポンピングの作用により、前記エッチング室（３）から前記ポンプ室（１３）に流れる気体の気体流方向（ＧＦ１）と平行な方向の支配的な構成要素で配置される、請求項１又は２に記載のチャンバ。
【請求項４】
前記金属コネクタが、剛性及び弾性のうちの１つである、請求項１から３の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項５】
前記金属コネクタが、前記少なくとも１つのポンピングスリットの一方の側に機械的に取り付けられ、好ましくは前記少なくとも１つのポンピングスリットの他方の側の金属製弾性部材と協働する、請求項１から４の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項６】
前記エッチング室（３）の前記内部空間が、前記中心軸（Ｂ）の方向で判断される円形又は多角形の断面を有し、それによって好ましくは円形又は長方形又は正方形の断面である、請求項１から５の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項７】
前記中心軸（Ｂ）の周りに巻き付き、前記エッチング室（３）の前記周囲壁（５）の内面の少なくとも支配的な表面領域をマスクする金属スクリーン（８０）を前記エッチング室（３）が備え、前記スクリーン（８０）が、底部縁及び上部縁を備え、前記底部縁が、前記上部縁より前記隔壁（２３）に近く、前記底部縁が、多数の金属スクリーンコネクタ（８５）を介して前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）に電気的に接続され、多数の金属スクリーンコネクタ（８５）の各々が、前記スクリーン（８０）、又は、前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）、又は、前記金属隔壁の何れかに機械的で電気的に接続され（８７）、前記スクリーン（８０）が、前記エッチングチャンバ（１）のメンテナンス交換部である、請求項１から６の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項８】
前記金属スクリーンコネクタ（８５）の少なくとも大部分が、前記底部縁に沿って均一に分布している、請求項７に記載のチャンバ。
【請求項９】
前記ポンピングスリット（３５）を通って前記エッチング室（３）の前記内部空間（ＩＥ）から前記ポンプ室（１３）の前記内部空間（ＩＰ）までの気体流の前記方向に垂直な前記ポンピングスリット（３５）の最小開口面積Ａ０に関して、前記ワークピース支持体（３９）のエッチング位置において、及び、前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）を横切る前記金属コネクタ（４９、６９）の全てによって妨害される表面領域ＡＳに関して、０．００＜ＡＳ／Ａ０≦０．１５が成立する、請求項１から８の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項１０】
前記金属コネクタ（４９、６９）の少なくとも大部分が、前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）に沿って均一に分布している、請求項１から９の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項１１】
前記金属製管状構造体（１９）が、前記第１の部分（１９ａ）と前記第２の部分（１９ｂ）とを連結する蛇腹（２５）を備える、請求項１から１０の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項１２】
前記金属製管状構造体の前記第１及び第２の部分が、金属製管状部材であり、前記第１の部分が、前記第２の部分内で摺動可能である、請求項１から１１の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項１３】
前記Ｒｆ供給ライン（４１）及び前記システム接地コネクタ（４５）に接続されたワークピース支持バイアスＲｆ源（４７）を備える、請求項１から１２の何れか一項に記載のプラズマエッチングチャンバを有するエッチングシステム。
【請求項１４】
−中心軸を有するエッチング室と金属壁を有するポンプ室とを含むエッチングチャンバを提供する段階であって、前記中心軸の周りに巻き付いたポンピングスリットを有する横断金属隔壁によって分離されたエッチングチャンバを提供する段階と、
−前記横断金属隔壁の反対側の前記金属壁の別個の領域に電気システム接地電位を印加する段階と、
−前記ポンプ室（１３）をポンピングすること（４３）によって前記エッチング室（１３）内に真空を確立し維持する段階と、
−プラズマエッチングされるワークピースをワークピース支持体（３９）に付け、前記ワークピース支持体（３９）を前記中心軸（Ｂ）に沿って前記ワークピースと共に前記エッチング室（３）に移動させる段階（Ｆ）と、
−同軸Ｒｆ給電線（４１、１９）構造体を介して前記別個の領域で前記システム接地電位（Ｇ）に対して電気的なＲｆ電位（４７）で前記ワークピースを動作させる段階であって、それにより、前記ワークピース支持体の反対側の前記同軸給電線（４１、１９）構造体のシールド（１９）の端部を前記別個の領域の前記システム接地電位（Ｇ）に接続する段階と、
−前記ワークピースが前記エッチング室に移動されるのに伴って、前記同軸ＲＦ給電線構造体（４１、１９）の前記シールドに沿って前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）を導電的に架橋することによって、前記金属壁（１５）から前記別個の領域（４５）までの電気バイパスを確立する段階と、
−前記エッチング室内の前記Ｒｆバイアスされたワークピースをプラズマエッチングする段階と、
を含む、ワークピースの表面をプラズマエッチングする方法又はプラズマエッチングされたワークピースを製造する方法。
【請求項１５】
前記ワークピースのポリマー含有表面をプラズマエッチングするための、又は、エッチングされたポリマー含有表面を有するワークピースを製造するための、又は、又は、ポリマー含有表面被覆が除去されたワークピースを製造するための、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
請求項１から１３の何れか一項に記載のプラズマエッチングチャンバ又はシステムを使用して操作される、請求項１４又は１５に記載の方法。
【請求項１７】
プラズマＰＶＤ処理チャンバであって、
−真空受容器（１）と、前記真空受容器内に、
−中心軸（Ｂ）を有する処理室（３）であって、前記処理室（３）の内部空間（ＩＥ）を囲う周囲壁（５）を備え、前記プラズマ処理チャンバ（１）の前記プラズマ処理装置（６）を備える、処理室（３）と、
−金属周囲壁（１５）を有し、前記周囲壁（１５）にフィードスルー開口（２１）を有するポンプ室（１３）と、
−前記中心軸（Ｂ）を横切って前記処理室（３）を前記ポンプ室（１３）から分離する金属隔壁（２３）と、
−前記中心軸（Ｂ）に巻き付き、前記処理室（３）の前記内部空間（ＩＥ）と前記ポンプ室（１３）の内部空間（ＩＰ）との間にポンプ流通を確立する前記金属隔壁（２３）内にある、又は、前記中心軸（Ｂ）に巻き付き、前記処理室（３）の前記内部空間（ＩＥ）と前記ポンプ室（１３）の内部空間（ＩＰ）との間にポンプ流通を確立する前記金属隔壁（２３）に沿った少なくとも１つのポンピングスリット（３５）と、
−前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）内のポンピングポート（１７）と、
−前記エッチング室（３）の前記内部空間（ＩＥ）に晒されたワークピースを支持するように構成され、電気的に絶縁された方式（４１）で前記真空受容器（１）に載置されている、前記中心軸（Ｂ）に対して中心付けられたワークピース支持体（３９）であって、前記ワークピース支持体（３９）が、エッチング位置で上方に、及び、前記エッチング位置から離れる下方に、共に前記中心軸（Ｂ）に沿って駆動可能に移動可能である、ワークピース支持体（３９）と、
−前記フィードスルー開口（１７）を介して前記ワークピース支持体（３９）まで延びる金属製管状構造体（１９）であって、前記金属製管状構造体（１９）が、前記ワークピース支持体（３９）に機械的に結合される第１の部分（１９ａ）と、前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）に機械的に結合される第２の部分（１９ｂ）とを備え、前記第１の部分（１９ａ）及び前記第２の部分（１９ｂ）が、前記中心軸（Ｂ）の方向において互いに対して移動可能であり（Ｆ）、前記第２の部分（１９ｂ）が、前記金属周囲壁（１５）まで前記フィードスルー開口（２１）の端部に沿って導電的に接合され（２２）、前記管状構造体の第１の部分が前記第２の部分に電気的に接触し、又は、前記第１の部分が、前記エッチングチャンバのシステム接地コネクタに直接電気的に接続されている、金属製管状構造体（１９）と、
−前記金属製管状構造体（１９）を通って前記金属製管状構造体（１９）に沿った、前記ワークピース支持体（３９）に接続されたＲｆ供給ライン（４１）と、
−前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）の外側にある前記金属製管状構造体（１９）の前記第２の部分（１９ｂ）の端部にある、又は、前記金属隔壁（２３）の反対側の前記金属周囲壁（１５）にある、前記プラズマエッチングチャンバ（１）用の前記システム接地コネクタ（４５）と、
−少なくとも前記ワークピース支持体が前記エッチング位置にあるときに、前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）を横切って前記金属隔壁（２３）を介して前記ポンプ室（１３）の前記金属周囲壁（１５）から前記金属製管状部材（１９）の前記第１の部分（１９ａ）までの電気接点を確立する多数の分布した金属コネクタ（４９）と、
−前記中心軸（Ｂ）の周りに巻き付き、前記処理室（３）の前記周囲壁（５）の内面の支配的な少なくとも表面領域をマスクする前記処理室（３）内の金属スクリーン（８０）であって、前記スクリーン（８０）が、底部縁及び上部縁を備え、前記底部縁が、多数の金属スクリーンコネクタ（８５）を介して前記システム接地コネクタに取り外し可能に電気的に接続され、前記金属スクリーン（８０）が、メンテナンス交換部である、金属スクリーン（８０）と、
を備える、プラズマＰＶＤ処理チャンバ。
【請求項１８】
前記金属コネクタが板状のコネクタを含む、請求項１７に記載のチャンバ。
【請求項１９】
前記金属コネクタが、それぞれの管軸（Ｃ）を有する管状部材（６９）を備え、特に、前記管状部材が中空である場合、前記管軸（Ｃ）が、前記ポンピングポート（１７）でのポンピングの作用により、前記エッチング室（３）から前記ポンプ室（１３）に流れる気体の気体流方向（ＧＦ１）と平行な方向の支配的な構成要素で配置される、請求項１７又は１８に記載のチャンバ。
【請求項２０】
前記金属コネクタが、剛性及び弾性のうちの１つである、請求項１７から１９の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２１】
前記金属コネクタが、前記少なくとも１つのポンピングスリットの一方の側に機械的に取り付けられ、好ましくは前記少なくとも１つのポンピングスリットの他方の側の金属製弾性部材と協働する、請求項１７から２０の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２２】
前記処理室（３）の前記内部空間が、前記中心軸（Ｂ）の方向で判断される円形又は多角形の断面を有し、それによって好ましくは円形又は長方形又は正方形の断面である、請求項１７から２１の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２３】
前記金属スクリーンコネクタ（８５）の少なくとも大部分が、前記底部縁に沿って均一に分布している、請求項１７から２２の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２４】
前記ポンピングスリット（３５）を通って前記処理室（３）の前記内部空間（ＩＥ）から前記ポンプ室（１３）の前記内部空間（ＩＰ）までの気体流の前記方向に垂直な前記ポンピングスリット（３５）の最小開口面積Ａ０に関して、前記ワークピース支持体（３９）のエッチング位置において、及び、前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）を横切る前記金属コネクタ（４９、６９）の全てによって妨害される表面領域ＡＳに関して、０．００＜ＡＳ／Ａ０≦０．１５が成立する、請求項１７から２２の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２５】
前記金属コネクタ（４９、６９）の少なくとも大部分が、前記少なくとも１つのポンピングスリット（３５）に沿って均一に分布している、請求項１７から２４の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２６】
前記金属製管状構造体（１９）が、前記第１の部分（１９ａ）と前記第２の部分（１９ｂ）とを連結する蛇腹（２５）を備える、請求項１７から２５の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２７】
前記金属スクリーンコネクタが弾性を有する、請求項１７から２６の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項２８】
エッチングチャンバ又はコーティングチャンバである、請求項１７又は２７に記載のチャンバ。
【請求項２９】
前記金属スクリーンコネクタが管状で中空である、請求項１７から２８の何れか一項に記載のチャンバ。
【請求項３０】
前記Ｒｆ供給ライン（４１）及び前記システム接地コネクタ（４５）に接続されたワークピース支持体バイアスＲｆ源（４７）を備える、請求項１７から２９の何れか一項に記載のチャンバを有するプラズマ処理システム。
【請求項３１】
前記金属製管状構造体の前記第１及び第２の部分が、金属製管状部材であり、前記第１の部分が、前記第２の部分内で摺動可能である、請求項１７から２９の何れか一項に記載のチャンバ。