(57)【要約】【課題】底面給水方式の高設栽培装置の技術分野に属し、更に云うと、望ましい時間の間隔で植物の根に対する水切り処理ができる底面給水式高設栽培装置を提供する。【解決手段】高設架台上に水槽が設置され、複数のポット支持用穴を開けたポット保持板が前記水槽の上縁部へ載置されており、培土と植物を装備した植栽ポットが水槽底面と該ポット底面との間に空気層が生じる高さに浮いた状態に前記ポット保持板に支持されること、前記水槽の一側に給水手段が設けられ、他側に排水手段が設けられており、両手段の調整により植物の吸水時間以外は水槽底部を排水して空気層を発生させる。【選択図】図４
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
高設架台上に水槽が設置され、複数のポット支持用穴を開けたポット保持板が前記水槽の上縁部へ載置されており、培土と植物を装備した植栽ポットが水槽底面と該ポット底面との間に空気層が生じる高さに浮いた状態に前記ポット保持板に支持されること、前記水槽の一側に給水手段が設けられ、他側に排水手段が設けられており、両手段の調整により植物の吸水時間以外は水槽底部を排水して空気層を発生させることを特徴とする、底面給水式高設栽培装置。
【請求項２】
水槽の排水手段として底部に水抜き穴が形成されており、該水抜き穴の穴径は給水手段による水槽への給水量に対し、植物による一定の吸水時間を確保する大きさに形成されていることを特徴とする、請求項１に記載した底面給水式高設栽培装置。
【請求項３】
水槽底面の脇部に中央側へ流水勾配を有する段差部が形成され、中央部に水溜層が設けられており、ポット支持用穴に支持された植栽ポットの底面は前記段差部より上方に位置する構成であることを特徴とする、請求項１又は２に記載した底面給水式高設栽培装置。
【請求項４】
ポット保持板は発泡スチロールで成形されていることを特徴とする、請求項１に記載した底面給水高設栽培装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この考案は、底面給水方式の高設栽培装置の技術分野に属し、更に云うと、望ましい時間の間隔で植物の根に対する水切り処理ができる底面給水式高設栽培装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、作業者が腰をかがめずに栽培作業ができる高設栽培装置が好適に実施されている。
下記の特許文献１には、植物専用トレイを棚パイプの上段に載せて取り替え容易な高設栽培装置が開示されている。前記トレイは、その上面に二列の凹部が設けられ、その底部に排水用の孔を形成したポット部を備えた構成である。
【０００３】
上記の先行技術は、非常に簡易な構造で採苗、育苗を実施できる高設栽培装置と認められる。しかし、上記高設栽培装置の給水手段は、明細書に積極的に記載されていないが、凹部の底部に排水用の孔があることから考えて、植物の上から散水しているものと推認できる。植物を栽培する際、植物の上から給水する方法は、一つの株が炭疽病等の病気になると、給水時の水の跳ね返りにより菌が広がり病気が蔓延するという問題がある。病気にかかった植物が存在する場合には、病害部分のトレイだけを取り出して交換すると記載されているが、一つのトレイの中には少なくとも１０個のポット部に植物が植えられており、その全てを取り替える必要があるから、作業性が悪いし、完全に病気の蔓延を防止できるとは言い難い。
【０００４】
また、特許文献２には貯水槽の上に植栽ポットの支持体が設置され、下部にある貯水槽の水を吸水体により上方の植栽ポットへ吸水させる底面給水式植物栽培装置が開示され、植栽ポットで植物の生育を容易にすると説明されている。
しかし、この特許文献２の底面給水式栽培装置では、前記給水体により常時水が植物の根部へ供給されるため、根腐れを起こしてしまうという問題がある。
そこで、特許文献３には、植物植栽部の上層に植物を植え付ける培地を設け、下層に液溜を設け、上層と下層の間の中間層に空気層を有する構成とし、更に前記培地と空気層の間には少なくとも部分的に通気性があり、培地と該液溜の双方に接する態様の吸水体が設置される構造として、根腐れの問題を前記空気層で防止する技術が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２５４７４４号公報
【特許文献２】特開平７−２２２５３５号公報
【特許文献３】特開２００５−４０００９号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の特許文献３の技術は、底面給水式として吸水時の水の飛び散りによる病気の蔓延を防止し、また、培地（上層）と液溜（下層）の間に、空気層（中間層）を設けて底面給水式植物栽培装置の問題点であった根腐れの問題を解決すると記載されている点を注目できる。しかし、下層の液溜に溜まっている水は外気温で容易に温まってしまう。よって、温まった水を吸水体により植物に供給させてしまうことになり、根腐れの問題を誘発する要因となってしまう。また、空気層は吸水自体を停止させる構造ではなく、やはり常時、吸収体に水を吸収させる構成であるため、特に、根の水切りを十分に行う必要のある繊細なイチゴの子苗等の栽培には適さないものである。
【０００７】
本考案の目的は、植物の根に対する水切り処理を、望ましい時間の間隔で簡便に、確実に実行でき、根腐れの問題と炭疽病等の病気の蔓延を防止することができる、底面給水式の高設栽培装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記した背景技術の課題を解決するための手段として、請求項１に記載した考案に係る底面給水式高設栽培装置は、
高設架台２上に水槽３が設置され、複数のポット支持用穴４０を開けたポット保持板４が前記水槽３の上縁部へ載置されており、培土と植物Ｒを装備した植栽ポット５が水槽３の底面と該植栽ポット５の底面との間に空気層６が生じる高さに浮いた状態に前記ポット保持板４に支持されること、前記水槽３の一側に給水手段７が設けられ、他側に排水手段が設けられており、両手段の調整により植物の吸水時間以外は水槽底部を排水して空気層６を発生させることを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載した考案は、請求項１に記載し底面給水式高設栽培装置において、
水槽３の排水手段として底部に水抜き穴３０が形成されており、該水抜き穴３０の穴径は給水手段７による水槽３への給水量に対し、植物による一定の吸水時間を確保する大きさに形成されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項３記載の考案は、請求項１又は２に記載した底面給水式高設栽培装置において、
水槽３の底面の脇部に中央側へ流水勾配を有する段差部３１が形成され、中央部に水溜層３２が設けられており、植栽ポット５の底面は前記段差部３１より上方に位置することを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の考案は、請求項１に記載した底面給水高設栽培装置において、
ポット保持板４は発泡スチロールで成形されていることを特徴とする。
【考案の効果】
【００１２】
請求項１に記載した考案に係る底面給水式高設栽培装置は、水槽３の上縁部へポット保持板４を載置し、そのポット支持用穴４０へ植栽ポット５を挿入し、水槽底面と該植栽ポット５の底面との間に空気層６が生じる高さに浮いた状態にポット保持板４に支持させるので、水槽３の一側の給水手段７で給水を行い、他側の排水手段（３０）で排水を行う操作の適切により、植物Ｒの吸水時間以外は確実に水槽３の底部を排水して空気層６を発生させることができる。よって、植物Ｒの根は十分に水切り処理を行え、根腐れを確実に防止できる。また、植栽ポット５を用いるので、培土の充填作業や苗付けの作業を向上させられ、且つ培土を最小限の量に抑えられるので経済的である。のみならず、炭疽病が発生しても、ポット保持板４に配備された植物を全て交換する必要はなく、病気が発生した植物の植栽ポット５のみを取り出し交換すれば良いので、非常に作業性がよい。ポット保持板４が水槽３の上面を塞ぐので、水槽３内の水温の上昇を抑制でき、根腐れの要因を低減できる。
【００１３】
請求項２に記載した考案によれば、水槽３の排水手段である水抜き穴３０は、給水手段７による水槽３への給水量に対し、植物Ｒの一定の吸水時間を確保する大きさの穴径に形成するので、植物にとって必要十分な吸水時間を確保でき、その後には水槽３底部の排水を確実に行い、空気層６を発生させて植物Ｒの根に対する水切り処理を実行できる。従って、特に水切りを必要とするイチゴの親株から成長するランナーの発芽部分を、植栽ポット５に採苗し育苗する栽培法に好適に実施できる。
【００１４】
請求項３に記載した考案によれば、水槽３の脇部に中央側へ水勾配を有する段差部３１を形成して中央部に水溜層３２を設け、植栽ポット５の底面は前記段差部３１より上方に位置する構成としたので、植栽ポット５の底面位置を段差部３１上に一様に揃えられ、水槽３内の水が段差部３１の高さ以下まで排水されると、段差部３１の水は速やかに排除され、植栽ポット５の底面は水切りされたことを一目瞭然に視認できる。また、植栽ポット５の底面は、段差部３１の上面すれすれに設置されると、同植栽ポット５を挿し入れ支持させる際に横に傾いても、植栽ポット５の底面が段差部３１の上面に当たって横転することを防止できる。
また、段差部３１に流水勾配を形成したので、植栽ポット５の底面から垂れる水は段差部３１の上面に残ることなく水切りを確実に達成でき、ひいては全ての植栽ポット５の水切り処理を完璧に行うことができる。
【００１５】
請求項４に記載した考案によれば、ポット保持板４が断熱性を有する発泡スチロールで成形されているので、日光等の外気温の影響を少なくして、水槽３内の水温の上昇を抑制する効果が大きく、根腐れの要因を低減させることができる。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１６】
高設架台２の上に水槽３が設置され、複数のポット支持用穴４０を開けた断熱性を有するポット保持板４が前記水槽３の上縁部へ載置されており、培土と植物を装備した植栽ポット５が水槽３の底面と該ポット５の底面との間に空気層６が生じる高さに浮いた状態に前記ポット保持板４に支持されること、前記水槽３の一側に給水手段７が設けられ、他側に排水手段が設けられており、両手段の調整により植物Ｒの吸水時間以外は常に空気層６が発生される。
【実施例１】
【００１７】
請求項１〜４に記載した考案に係る底面給水式高設栽培装置１を、図１〜４に基づいて説明する。
この底面給水式高設栽培装置１は、図１と図４に示すように、棚パイプ２０と柱パイプ２１とを、腰をかがめずに栽培作業ができる高さに組み上げて構成した高設架台２の棚パイプ２０の上に、水槽３が長手方向及び幅方向にほぼ水平に設置されている。前記水槽３は、樋形状に長く形成されており、図４に示すように、上流側の端部に給水手段としての給水栓７が用意され、下流側端部の底部に排水手段として水抜き穴３０及び排水ホース３０ａが設けられている。図示例では水抜き穴３０を水槽３の底面に設けたが、この限りではなく、図示することは省略したが水槽３の下方側面に設け、樋を前記水抜き穴３０の直下位置に設置して実施することも好適に実施される。
前記水抜き穴３０は、水槽３の上流側に設けられた給水栓７の給水量に対し、その穴径を、植物の一定の吸水時間を確保する大きさ（排水量）に形成されている（請求項２記載の考案）。
【００１８】
それを具体的に説明すると、給水栓７の給水量は、前記水抜き穴３０から排水される水量の数倍に設定し、水槽３内に装備された植栽ポット５の底部が底面から約２０ｍｍの高さまで浸かる程度まで給水する。その後、前記給水栓７を閉じて給水を停止する。一方、水抜き穴３０からの排水は継続させ、前記植栽ポット５が水に浸かっているべき時間を３０分程度に設定する。従って、水抜き穴３０の穴径は、水槽の長さ２０ｍの場合で６ｍｍ程度、２０ｍ〜３５ｍの場合は、８ｍｍ程度に設計される。上述した給水方式は、特にイチゴの苗の育成において１日に２回を基準に行うのが効果的である。
因みに、上記の水抜き穴３０の穴径は一つの水槽３に対して一つ形成した場合の数値であり、水流等を考慮して複数設ける場合には比例して小さくなる。
また、給水方法は上記の限りではなく、水槽３内に水位計等を設置して、給水手段（７）は植栽ポット５の底部が２０ｍｍ浸かる程度まで自動的に給水するものとし、他方、排水手段（３０）は前記水位に達してから開栓し、排水を行う自動制御方式も好適に実施される。
【００１９】
次に、水槽３の横断面形状について説明する、図２に示したように、脇部に上面が中央側に向かって下る流水勾配の段差部３１が形成され、中央部に深い水溜層３２が設けられ、植栽ポット５の底面は前記段差部３１より上方に位置する構成とされている（請求項３記載の考案）。
前記段差部３１の流水勾配により、植栽ポット５の底面から垂れる水は段差部３１の上面に残らないから、速やかに水切りを確実に達成できる。ひいては全ての植栽ポット５の水切り処理を一様に完全に行うことができる利点がある。
【００２０】
また、前記水槽３の上縁部にフランジ３３が形成され、同フランジ３３の上に、複数のポット支持用穴４０を設けたポット保持板４が、隣接する二つの同水槽３の幅寸に形成され、その二つの水槽３、３の上面を塞ぐように設置される。
このポット保持板４は、水槽３と同様に長い長方形状のトレイであり、前記ポット支持用穴４０が長手方向に４列の並びで互い違い配置に設けられている（図３参照）。前記ポット保持板４はこの限りではなく、水槽３一つに対応するべく、その幅寸を狭くし、ポット保持用穴４０が２列の並びで互い違いに形成することも実施される。
ポット支持用穴４０は、これに挿入して支持される円錐形状の植栽ポット５が、上述した水槽３の段差部３１より上方に、同植栽ポット５の底面を位置させる程度の穴径とされている。また、前記植栽ポット５が段差部３１の上方に来るように、前記ポット支持用穴４０は前記ポット保持板４に設けられている。従って、ポット保持板４が、植栽ポット５の重量で撓んだりしても、段差部３１に当たりその底面の位置がそれ以上に変化しないから、水切り処理を確実に行うことができる。ポット保持板４は、断熱性に優れた発泡スチロールで形成されていることが好ましい（請求項４記載の考案）。
【００２１】
上記のように構成されたポット保持板４のポット支持用穴４０に、培土と植物Ｒを装備した植栽ポット５が挿し入れられ支持される。植栽ポット５は、図示の通り円錐台形状とされ、上面に設けた幅広の開口部５１から前記培土が充填され、植物Ｒが植えられている。
この植栽ポット５は、上述したように、水槽３の底面ないし段差部３１の上面と植栽ポット５の底面との間に空気層６が発生するに足りる高さに浮いた状態で挿し入れられ、ポット保持板４から植栽ポット５の上部が突き出るようになっている。これは、植栽ポット５をつかみ易く、取り出し易くすることに寄与する。
【００２２】
したがって、上記段差部３１により植栽ポット５の底面位置が一様に揃えられ、水槽３の水が段差部３１の高さ以下まで排水されると、段差部３１の水は速やかに排除され、植栽ポットの底面は水切りされたことを一目瞭然に視認できる。また、前記植栽ポット５は段差部３１の上面すれすれに配置されるので、同植栽ポット５の挿し入れ時に横に傾いても、同植栽ポット５の底面が段差部３１の上面と当たって横転することを防止できる。
【００２３】
本考案は、上述したように植栽ポット５を使用しているので、培土の充填と植物Ｒの植え付け作業が非常に簡便になるほか、培土も一定量で足りるので経済的である。また、炭疽病が発生しても、全ての植栽ポットを取り替える必要はなく、病気が発生した植物の植栽ポット５のみを取り出して交換すれば良いから非常に作業性がよい。
【００２４】
上記のように構成した底面給水式高設栽培装置１は、水槽３の一側に設けた吸水手段（）７）により、水槽３へ水を一定の水位まで給水し、他側に設けた排水手段（水抜き穴３０）から常時排水させる簡便な水やり方式で、植物の吸水時間を必要十分に確保できると共に、吸水時間以外は空気層６を発生させて植物Ｒの根に対する水切り処理を確実に実行できる。
【００２５】
以上に本考案の実施例を説明したが、本考案はこうした実施例に何ら限定されるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施し得る。特に図１に示したように、水切り処理を必要とするイチゴの親株（左側）から成長するランナーの発芽部分を、植栽ポットに採苗し育苗することに好適に実施できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本考案に係る底面給水式高設栽培装置の概略を示す側面図である。
【図２】図１の拡大側面図である。
【図３】ポット保持板の一例を示した平面図である。
【図４】本考案に係る底面給水式高設栽培装置の概略を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００２７】
１              底面給水式高設栽培装置
２              高設架台
３              水槽
３０            水抜き穴
４              ポット保持板
５              植栽ポット
６              水溜層
７              給水手段
Ｒ              植物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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