【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年8月11日(2020.8.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伝導構造において誘導される不所望の渦電流を低減する方法であって、該方法は、
伝導構造において渦電流の第二セットを誘導する前に、該伝導構造において渦電流の第一セットを誘導する工程であって、該渦電流の第一セットは、該伝導構造における該渦電流の第二セットの誘導の際に該渦電流の第二セットを実質的に打ち消すために、該渦電流の第二セットの分布と実質的に等しくかつ該渦電流の第二セットの分布と符号が反対の分布を有する、工程
を含み、
該伝導構造は、プラズマ閉じ込め容器の壁である、方法。
【請求項２】
伝導構造において渦電流を誘導する工程は、
コイルをランプアップし、全ての渦電流が該伝導構造において減衰するまで該コイルを該伝導構造の周りで一定の電流で保つ工程と、
該コイルへの電流を遮断して、該構造を通して磁束を維持する前記渦電流の第一セットが該伝導構造において励起することを可能にする工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
プラズマを前記伝導構造に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該伝導構造に磁束を注入し、該磁束は、該伝導構造における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該伝導構造において誘導する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
プラズマを前記伝導構造に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該伝導構造に磁束を注入し、該磁束は、該伝導構造における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該伝導構造において誘導する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
伝導構造において渦電流を誘導する工程は、
前記渦電流の第一セットを該伝導構造において生成するために、コイルをランプアップし、該伝導構造の周りで一定の電流で保つ工程と、
プラズマを該伝導構造に移動させる工程であって、移動する該プラズマは、該伝導構造に磁束を注入し、該磁束は、該伝導構造における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該伝導構造において誘導する、工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
プラズマ閉じ込め容器壁において誘導される不所望の渦電流を低減するシステムであって、該システムは、
壁および内部を有するプラズマ閉じ込め容器と、
該プラズマ閉じ込め容器の周りに位置づけられている複数のコイルと、
該複数のコイルに結合され、かつ、渦電流の第二セットが該プラズマ閉じ込め容器の該壁において誘導される前に、該プラズマ閉じ込め容器の該壁において渦電流の第一セットを誘導するように構成されている制御システムであって、該渦電流の第一セットは、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における該渦電流の第二セットの誘導の際に該渦電流の第二セットを実質的に打ち消すために、該渦電流の第二セットの分布と実質的に等しくかつ該渦電流の第二セットの分布と符号が反対の分布を有する、制御システムと
を備える、システム。
【請求項７】
前記制御システムは、前記複数のコイルをランプアップし、前記プラズマ閉じ込め容器の前記壁における全ての渦電流が減衰するまで該複数のコイルを一定の電流で保ち、そして該複数のコイルへの電流を遮断して、該プラズマ閉じ込め容器を通して磁束を維持する前記渦電流の第一セットが該プラズマ閉じ込め容器の該壁において励起することを可能にするようにさらに構成されている、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記プラズマ閉じ込め容器の端部に取り付けられた形成部をさらに備え、前記制御システムは、該形成部から該プラズマ閉じ込め容器の前記内部にプラズマを移動させるようにさらに構成され、移動する該プラズマは、該プラズマ閉じ込め容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該プラズマ閉じ込め容器の該壁において誘導する、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記制御システムは、前記プラズマ閉じ込め容器の前記壁において前記渦電流の第一セットを生成するために、前記複数のコイルをランプアップし、一定の電流で保つようにさらに構成されている、請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
前記プラズマ閉じ込め容器の端部に取り付けられた形成部をさらに備え、前記制御システムは、該形成部から該プラズマ閉じ込め容器の前記内部にプラズマを移動させるようにさらに構成され、移動する該プラズマは、該プラズマ閉じ込め容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該プラズマ閉じ込め容器の該壁において誘導する、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
プラズマ閉じ込め容器の壁において誘導される不所望の渦電流を低減する方法であって、該方法は、
該プラズマ閉じ込め容器の該壁において渦電流の第二セットを誘導する前に、該壁および内部を有する該プラズマ閉じ込め容器の該壁において渦電流の第一セットを誘導する工程であって、該渦電流の第一セットは、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における該渦電流の第二セットの誘導の際に該渦電流の第二セットを実質的に打ち消すために、該渦電流の第二セットの分布と実質的に等しくかつ該渦電流の第二セットの分布と符号が反対の分布を有する、工程
を含む、方法。
【請求項１２】
前記プラズマ閉じ込め容器の前記壁において渦電流を誘導する工程は、
該プラズマ閉じ込め容器の該壁の周りに位置づけられている複数のコイルをランプアップし、全ての渦電流が前記プラズマ閉じ込め容器の該壁において減衰するまで該複数のコイルを一定の電流で保つ工程と、
該複数のコイルへの電流を遮断して、該プラズマ閉じ込め容器の該壁を通して磁束を維持する前記渦電流の第一セットが該プラズマ閉じ込め容器の該壁において励起することを可能にする工程と
を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
プラズマを前記プラズマ閉じ込め容器に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該プラズマ閉じ込め容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該プラズマ閉じ込め容器の該壁において誘導する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
プラズマを前記プラズマ閉じ込め容器に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該プラズマ閉じ込め容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該プラズマ閉じ込め容器の該壁において誘導する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記プラズマは、前記プラズマ閉じ込め容器の対向端部に取り付けられた反対の形成部から移動させられる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
ＦＲＣプラズマは、前記反対の形成部において形成され、前記プラズマ閉じ込め容器に移動させられる、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記プラズマ閉じ込め容器の前記壁において渦電流を誘導する工程は、
該プラズマ閉じ込め容器の該壁において前記渦電流の第一セットを生成するために、該プラズマ閉じ込め容器の該壁の周りに位置づけられている複数のコイルをランプアップし、一定の電流で保つ工程と、
該プラズマ閉じ込め容器にプラズマを移動させる工程であって、移動する該プラズマは、該プラズマ閉じ込め容器の該壁に磁束を注入し、該磁束は、該プラズマ閉じ込め容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該プラズマ閉じ込め容器の該壁において誘導する、工程と
を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記プラズマは、前記プラズマ閉じ込め容器の対向端部に取り付けられた反対の形成部から移動させられる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ＦＲＣプラズマは、前記反対の形成部において形成され、前記プラズマ閉じ込め容器に移動させられる、請求項１８に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本明細書において提供される実施形態は、有益な渦電流を影響を受けないまま残しながら、不所望の渦電流（壁電流）（例えば、ＦＲＣプラズマの移動による渦電流誘導など移動によって誘導される渦電流）の振幅の低減を容易にするシステムおよび方法を対象とする。不所望の渦電流の振幅の低減は、プラズマ移動の前に、例えばアクティブコイルを使用して同じ構造における反対の電流を誘導することによって達成される。伝導構造からプラズマを分離する表面上の全磁場の接線成分および法線成分の両方が測定される場合、磁場は、プラズマによって生成される成分および外部電流によって生成される成分に分解されることができる（例えば、平衡コイル磁場）。外部コイルから既知の磁場を削除することによって、渦電流による磁場は、残る。対応する渦電流分布は、この磁場の時間発展から再構築されることができる。渦電流分布は既知であり、アクティブコイルは、プラズマがチャンバに移動する前に、反対符号を有する類似の分布を誘導するために使用される。必要なコイル電流を計算することは、アクティブコイルの幾何形状および受動的構造のみの知識を必要とする。プラズマが閉じ込めチャンバに移動するとき、二つの渦電流分布は、重畳し、打ち消す。より正確には、渦電流分布は、再生成され、より完全には、打ち消しである。
本明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
伝導構造において誘導される不所望の渦電流を低減する方法であって、該方法は、
該伝導構造において渦電流の第二セットを誘導する前に、伝導において渦電流の第一セットを誘導する工程であって、該渦電流の第一セットは、該伝導構造における該渦電流の第二セットの誘導の際に該渦電流の第二セットを実質的に打ち消すために、該渦電流の第二セットの分布と実質的に等しくかつ該渦電流の第二セットの分布と符号が反対の分布を有する、工程
を含む、方法。
（項目２）
前記伝導構造は、プラズマ閉じ込め容器の壁である、項目１に記載の方法。
（項目３）
伝導構造において渦電流を誘導する工程は、
コイルをランプアップし、全ての渦電流が該伝導構造において減衰するまで該コイルを該伝導構造の周りで一定の電流で保つ工程と、
該コイルへの電流を遮断して、該構造を通して磁束を維持する前記渦電流の第一セットが該伝導構造において励起することを可能にする工程と
を含む、項目１に記載の方法。
（項目４）
プラズマを前記伝導構造に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該伝導構造に磁束を注入し、該磁束は、容器の壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、項目１に記載の方法。
（項目５）
プラズマを前記伝導構造に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該伝導構造に磁束を注入し、該磁束は、容器の壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、項目３に記載の方法。
（項目６）
伝導構造において渦電流を誘導する工程は、
前記渦電流の第一セットを該伝導構造において生成するために、コイルをランプアップし、該伝導構造の周りで一定の電流で保つ工程と、
プラズマを該伝導構造に移動させる工程であって、移動する該プラズマは、該伝導構造に磁束を注入し、該磁束は、該伝導構造における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該伝導構造において誘導する、工程と
を含む、項目１に記載の方法。
（項目７）
容器壁において誘導される不所望の渦電流を低減するシステムであって、該システムは、
壁および内部を有する容器と、
該容器の周りに位置づけられている複数のコイルと、
該複数のコイルに結合され、かつ、渦電流の第二セットが該容器の該壁において誘導される前に、該容器の該壁において渦電流の第一セットを誘導するように構成されている制御システムであって、該渦電流の第一セットは、チャンバの該壁における該渦電流の第二セットの誘導の際に該渦電流の第二セットを実質的に打ち消すために、該渦電流の第二セットの分布と実質的に等しくかつ該渦電流の第二セットの分布と符号が反対の分布を有する、制御システムと
を備える、システム。
（項目８）
前記制御システムは、前記複数のコイルをランプアップし、前記容器の前記壁における全ての渦電流が減衰するまで該複数のコイルを一定の電流で保ち、そして該複数のコイルへの電流を遮断して、該容器を通して磁束を維持する前記渦電流の第一セットが該容器の該壁において励起することを可能にするようにさらに構成されている、項目７に記載のシステム。
（項目９）
前記容器の端部に取り付けられた形成部をさらに備え、前記制御システムは、該形成部から該容器の前記内部にプラズマを移動させるようにさらに構成され、移動する該プラズマは、該容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、項目８に記載のシステム。
（項目１０）
前記制御システムは、伝導構造において前記渦電流の第一セットを生成するために、前記複数のコイルをランプアップし、一定の電流で保つようにさらに構成されている、項目７に記載のシステム。
（項目１１）
前記容器の端部に取り付けられた形成部をさらに備え、前記制御システムは、該形成部から該容器の前記内部にプラズマを移動させるようにさらに構成され、移動する該プラズマは、該容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、項目１０に記載のシステム。
（項目１２）
伝導構造において誘導される不所望の渦電流を低減する方法であって、該方法は、
容器の壁において渦電流の第二セットを誘導する前に、該壁および内部を有する該容器の該壁において渦電流の第一セットを誘導する工程であって、該渦電流の第一セットは、該伝導構造における該渦電流の第二セットの誘導の際に該渦電流の第二セットを実質的に打ち消すために、該渦電流の第二セットの分布と実質的に等しくかつ該渦電流の第二セットの分布と符号が反対の分布を有する、工程
を含む、方法。
（項目１３）
前記容器の前記壁において渦電流を誘導する工程は、
該容器の該壁の周りに位置づけられている複数のコイルをランプアップし、全ての渦電流が前記伝導構造において減衰するまで該複数のコイルを一定の電流で保つ工程と、
該複数のコイルへの電流を遮断して、該容器の該壁を通して磁束を維持する前記渦電流の第一セットが該容器の該壁において励起することを可能にする工程と
を含む、項目１２に記載の方法。
（項目１４）
プラズマを前記容器に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、項目１２に記載の方法。
（項目１５）
プラズマを前記容器に移動させる工程をさらに含み、移動する該プラズマは、該容器の前記壁に磁束を注入し、該磁束は、該容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、項目１３に記載の方法。
（項目１６）
前記プラズマは、前記容器の対向端部に取り付けられた反対の形成部から移動させられる、項目１３に記載の方法。
（項目１７）
ＦＲＣプラズマは、前記反対の形成部において形成され、前記容器に移動させられる、項目１６に記載の方法。
（項目１８）
前記容器の前記壁において渦電流を誘導する工程は、
該容器の該壁において前記渦電流の第一セット生成するために、該容器の該壁の周りに位置づけられている複数のコイルをランプアップし、一定の電流で保つ工程と、
該容器にプラズマを移動させる工程であって、移動する該プラズマは、該容器の該壁に磁束を注入し、該磁束は、該容器の該壁における渦電流の振幅を低減してゼロに戻す前記渦電流の第二セットを該容器の該壁において誘導する、工程と
を含む、項目１２に記載の方法。
（項目１９）
前記プラズマは、前記容器の対向端部に取り付けられた反対の形成部から移動させられる、項目１８に記載の方法。
（項目２０）
ＦＲＣプラズマは、前記反対の形成部において形成され、前記容器に移動させられる、項目１９に記載の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
本明細書において提供される実施形態は、有益な渦電流を影響を受けないまま残しながら、不所望の渦電流（例えば、移動するＦＲＣプラズマによって誘導される渦電流など移動によって誘導される渦電流）の振幅の低減を容易にするシステムを対象とする。移動するＦＲＣプラズマによって誘導される渦電流は、以前の電場構成に左右されず、または以前の電流の存在に左右されない。従って、プラズマ移動によって誘導される電流が不所望である場合、その不所望の電流は、プラズマが移動する前に等しくかつ反対の電流パターンをつくりだすことによって除去されることができる。