【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
電極、
シールド、及び
前記電極と前記シールドとの間の誘電体ギャップ
を含むプラズマ発生器と、
前記電極と前記シールドとの間に電極エネルギー密度を適用するために、前記プラズマ発生器に接続された電力源と、
ガスから酸性種及び／又は酸化種を含むプラズマを生成するために前記電極と前記シールドとの間で前記プラズマ発生器を通るガス流を提供するように構成された、水蒸気、酸素、及び窒素を含むガスの供給源と、を備え、
電極エネルギー密度が前記電極と前記シールドとの間を通過する前記ガスの０．０５ｅＶ／分子より大きい場合、前記シールドの表面における温度は、１５０℃未満に維持され、任意選択で、前記システムは、前記プラズマ発生器を通る酸性種及び／又は酸化種を含むガス流に流体接続されたチャンバを通して、物品を滅菌しながら搬送するための装置を更に備える、システム。
【請求項２】
汚染物品を滅菌する方法であって、
滅菌器を提供することであって、前記滅菌器は、
電極、
シールド、及び
前記電極と前記シールドとの間の誘電ギャップ
を含むプラズマ発生器と、
前記電極と前記シールドとの間に電極エネルギー密度を適用するために、前記プラズマ発生器に接続された電力源と、
ガスから酸性種及び／又は酸化種を含むプラズマを生成するために前記電極と前記シールドとの間で前記プラズマ発生器を通るガス流を提供するように構成された、水蒸気、酸素、及び窒素を含むガスの供給源と、を備える、滅菌器を提供することと、
前記ガスから前記酸性種及び／又は酸化種を含むプラズマを生成するために前記電極と前記シールドとの間で前記プラズマ発生器を通るガス流を提供することであって、電極エネルギー密度が前記電極と前記シールドとの間を通過する前記ガスの０．０５ｅＶ／分子より大きい場合、前記シールドの表面における温度は１５０℃未満に維持される、ガス流を提供することと、
物品の所望の程度の滅菌を達成するために、前記酸性種及び／又は酸化種を含む前記ガスを、前記プラズマ発生器から、滅菌される物品の少なくとも一部分を取り囲む囲み領域内に導くことと、
前記酸性種及び／又は酸化種を含む前記ガスに汚染物品を、前記汚染物品を滅菌するのに十分な時間暴露することであって、任意に、前記物品を滅菌するのに十分な時間は１時間未満である、暴露することと、を含む、方法。
【請求項３】
前記物品の所望の程度の滅菌を達成すると、前記ガスから前記酸性種及び／又は酸化種の少なくとも一部を除去することを更に含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ガスから前記酸性種及び／又は酸化種の少なくとも一部を除去することは、活性炭、塩基官能性を有する種、塩基性吸着剤を提供する種、還元種、及びモレキュラーシーブからなる群から選択される１種以上の物質を備える装置を用いて行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記除去することは、前記ガスを触媒還元装置を通して導くことによって行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記囲み領域は滅菌チャンバである、請求項２〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記滅菌される物品は医療装置であり、前記囲み領域は前記医療装置の中空領域である、請求項２〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記医療装置は内視鏡であり、前記中空領域は前記内視鏡の内腔であり、更に、前記プラズマ発生器からの前記酸性種及び／又は酸化種を含む前記ガスは、前記内視鏡の前記内腔を通される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
汚染物品を消毒する方法であって、
消毒システムを提供することであって、前記消毒システムは、
電極、
シールド、及び
電極とシールドとの間の誘電ギャップを有するプラズマ発生器と、
前記電極と前記シールドとの間に電極エネルギー密度を適用するために前記プラズマ発生器に接続された電力源と、
ガスから酸性種及び／又は酸化種を含むプラズマを生成するために前記電極と前記シールドとの間で前記プラズマ発生器を通るガス流を提供するように構成された、水蒸気、酸素、及び窒素を含むガスの供給源と、を備える、消毒システムを提供することと、
前記ガスから前記酸性種及び／又は酸化種を含むプラズマを生成するために前記電極と前記シールドとの間で前記プラズマ発生器を通るガス流を提供することと、
前記酸性種及び／又は酸化種を含む前記ガスを、前記プラズマ発生器から、前記汚染物品の少なくとも一部分を取り囲む囲み領域内に導くことであって、前記汚染物品は、複数の微生物又は複数の微生物胞子若しくは真菌胞子を含む少なくとも１つのバイオフィルムで汚染されている、取り囲む囲み領域内に導くことと、
前記汚染物品を前記酸性種及び／又は酸化種を含む前記ガスに暴露時間暴露することであって、前記暴露時間は、前記汚染物品に対する消毒済み前記汚染物品の少なくとも２−ｌｏｇ１０コロニー形成単位、任意選択で最大１１−ｌｏｇ１０コロニー形成単位の減少を達成することによって前記汚染物品を消毒するのに十分な時間である、暴露することと、を含む方法。
【請求項１０】
前記汚染物品は医療装置であり、前記囲み領域は前記医療装置の中空領域である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記医療装置は内視鏡であり、前記中空領域は前記内視鏡の内腔であり、更に、前記プラズマ発生器からの前記酸性種及び／又は酸化種を含む前記ガスは、前記内視鏡の前記内腔を通される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記バイオフィルムは、ゲオバチルス・ステアロサーモフィラス、バチルス・サブチリス、バチルス・アトロフェウス、バチルス・メガテリウム、バチルス・コアグランス、クロストリジウム・スポロゲネス、バチルス・プミルス、アスペルギルス・ブラシリエンシス、コウジカビ、クロコウジカビ、偽巣性コウジ菌、黄色コウジ菌、クロストリジウム・ディフィシル、マイクロバクテリウム・テラエ、結核菌、マイコバクテリウム・ボビス、大腸菌、黄色ブドウ球菌、緑膿菌、表皮ブドウ球菌、スタフィロコッカス・ルグドゥネンシス、スタフィロコッカス・サプロフィチカス、フェシウム菌、フェカリス菌、アクネ菌、肺炎桿菌、エンテロバクター・クロアカ、プロテウス・ミラビリス、サルモネラ菌、チフス菌、シゲラ・フレックスネリ、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された複数の微生物を含む、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記汚染物品は複数の微生物を含むバイオフィルムで汚染されており、更に、前記暴露時間は少なくとも５分であり、前記汚染物品に対する消毒済み前記物品のコロニー形成単位減少は、４−ｌｏｇ１０〜９−ｌｏｇ１０であり、任意選択で、前記暴露時間は最大で１時間である、請求項２〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記汚染物品は複数の微生物胞子又は真菌胞子を含むバイオフィルムで汚染されており、更に、前記暴露時間は少なくとも２分であり、前記汚染物品に対する消毒済み前記物品のコロニー形成単位減少は、６−ｌｏｇ１０〜１０−ｌｏｇ１０であり、任意選択で、前記暴露時間は最大で１時間である、請求項２〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
電極エネルギー密度が前記電極と前記シールドとの間を通過する前記ガスの０．０５ｅＶ／分子より大きい場合、前記シールドの表面における温度は、１５０℃未満に維持され、任意選択で、前記プラズマ発生器に入る前記ガスの相対湿度は少なくとも２１％である、請求項２〜１４のいずれか一項に記載の方法。