【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月8日(2020.6.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の時間中に流体流内の少なくとも２つの流体成分の濃度を測定するためのシステムであって、
前記システムが：
流体入口ポートおよび流体出口ポートを備える内部部分を規定し、および流体入口ポートから流体出口ポートまでの流体流の流れを受け入れるように構成されるハウジングと；
ハウジング内に位置し、および第１の時間中にハウジング内部の基準温度値、基準光学値、または基準形態学値を測定するように構成された基準センサに接続される、基準センサ基板と；
少なくとも２つの能動センサであって、少なくとも２つの能動センサの各々がハウジング内に位置し、および少なくとも２つの流体成分の各々の存在または能動性によって引き起こされる、温度値の偏差、光学値の偏差、または形態学値の偏差を測定するように構成された少なくとも２つの能動センサと；
少なくとも２つの能動センサの各々および基準センサと通信するプロセッサと、を含み、
前記プロセッサが、
少なくとも２つの流体成分の各々の濃度を測定するために、これらの偏差の値を、記憶されたライブラリ中のあらかじめ決められた偏差の値と比較しおよび一致させること、
によって第１の時間中に少なくとも２つの流体成分の各々の濃度を測定するように構成される、システム。
【請求項２】
第１の時間中に流体流内の少なくとも２つの流体成分の濃度を測定するためのシステムであって、
前記システムが：
流体入口ポートおよび流体出口ポートを備える内部部分を規定し、ならびに流体入口ポートから流体出口ポートまでの流体流の流れを受け入れるように構成されるハウジングと；
ハウジング内に位置し、および第１の時間中にハウジング内部の絶対温度値を測定するように構成された基準温度センサに接続される、非触媒基準センサ基板と；
少なくとも２つの活性触媒であって、少なくとも２つの活性触媒の各々はハウジング内に位置し、流体流が少なくとも２つの活性触媒の各々の表面と接触する第１の時間中に少なくとも２つの流体成分を触媒するように構成され、少なくとも２つの流体成分の各々の触媒作用が、絶対温度値からの少なくとも２つの活性触媒の各々の表面における、温度値の偏差を結果としてもたらす、少なくとも２つの活性触媒と；
それぞれが少なくとも２つの活性触媒のそれぞれ１つに接続され、および少なくとも２つの活性触媒の対応するセンサの温度値の偏差を測定するように構成された少なくとも２つの温度センサと；
プロセッサと、を含み、
前記プロセッサが：
温度値の少なくとも２つの偏差の各々を、少なくとも２つの流体成分の各々の濃度を測定するために、ライブラリに記憶された温度値のあらかじめ決められた偏差の値と比較しおよび一致させること、
によって、第１の時間中に流体流内の少なくとも２つの流体成分の各々の濃度を測定するように構成される、システム。
【請求項３】
少なくとも２つの活性触媒の少なくとも１つが、遷移金属または遷移金属カルコゲンであることを特徴とする、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
少なくとも２つの活性触媒の少なくとも１つが、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、ルテニウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、またはこれらのうちの２以上の混合物から構成される群から選択されることを特徴とする、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
少なくとも２つの流体成分の少なくとも１つが、酸化窒素（ＮＯｘ）、一酸化炭素（ＣＯ）、未燃炭化水素（ＨＣ）、およびアンモニア（ＮＨ３）から構成される群から選択されることを特徴とする、請求項４記載のシステム。
【請求項６】
少なくとも２つの活性触媒の少なくとも１つが、非活性基板に取り付けられることを特徴とする、請求項２に記載のシステム。
【請求項７】
非活性基板が、タンタル（Ｔａ）、および窒化アルミニウム（ＡｌＮ）から構成される群から選択されることを特徴とする、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
非触媒基準センサ基板が、タングステン（Ｗ）から構成される群から選択されるコーティングを含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項９】
非活性基板が外側表面および内部表面を含むチューブ形状であり、少なくとも２つの活性触媒の少なくとも１つがチューブ形状の非活性基板の外部に取り付けられ、それぞれの温度センサがチューブ形状の非活性基板の内部表面に取り付けられることを特徴とする、請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
少なくとも２つの温度センサの少なくとも１つが、光ファイバー温度センサ、測温抵抗体、および熱電対から構成される群から選択されることを特徴とする、請求項２に記載のシステム。
【請求項１１】
少なくとも２つの温度センサの少なくとも１つが光ファイバー温度センサであり、前記光ファイバー温度センサが光ファイバーセンサインタロゲータに取り付けられていることを特徴とする、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
第１の時間中に、流体流内の少なくとも２つの流体成分の濃度を測定するための方法であって、
前記方法が：
ハウジングの内部部分を介し、流体流を提供するステップと；
非触媒基準センサ基板を用いて、第１の時間中にハウジング内部の絶対温度値を測定するステップと；
流体流が第１の活性触媒の表面と接触する第１の時間中に、第１の活性触媒を用いて、流体流内の少なくとも２つの流体成分の少なくとも第１の流体成分を触媒するステップであって、その触媒作用が、第１の活性触媒の表面における、絶対温度値からの温度値の第１の偏差を結果としてもたらす、ステップと；
流体流が第２の活性触媒の表面と接触する第１の時間中に、第２の活性触媒を用いて、流体流内の少なくとも２つの流体成分の少なくとも第２の流体成分を触媒するステップであって、その触媒作用が、第２の活性触媒の表面における、絶対温度値からの温度値の第２の偏差を結果としてもたらす、ステップと；
プロセッサを用いて、
第１の流体成分および第２の流体成分の濃度を測定するために、温度値の第１の偏差および温度値の第２の偏差を、最初の校正の間に集められてライブラリに記憶された温度値のあらかじめ決められた偏差の値と比較しおよび一致させること、
によって、第１の時間中に流体流内の第１の流体成分および第２の流体成分の濃度を測定するステップとを含む、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
一般的に、１つの態様では、システムは、第１の時間に流体流中の少なくとも１つの流体成分の濃度を測定するために提供され、該システムは：流体入口ポートおよび流体出口ポートを備える内部部分を規定し、流体入口ポートから流体出口ポートまでの流体流の流れを受け入れるように構成されるハウジングと；ハウジング内に位置し、および第１の時間中にハウジング内部の基準温度値、基準光学値、または基準形態学値を測定するように構成された基準センサに接続される、基準センサ基板と；ハウジング内に位置し、およびハウジング内で流体流内の第１の流体成分の存在または能動性によって引き起こされる、温度値の第１の偏差、光学値の第１の偏差、または形態学値の第１の偏差を測定するように構成された第１の能動センサと；第１の能動センサおよび基準センサと通信するプロセッサと、を含み、該プロセッサは、温度値の第１の偏差、光学値の第１の偏差、または形態学値の第１の偏差を、第１の流体成分に関する複数のあらかじめ決められた偏差温度、光学値、または形態学値の記憶されたライブラリと比較すること、および温度値、光学値または形態学値の第１の偏差を、同等のあらかじめ決められた偏差温度、光学値または形態学値と一致させること、によって、第１の時間中に流体流内の第１の流体成分の濃度を測定するように構成される。対応する方法は、本システムを提供する工程、基準温度値、基準光学値または基準形態学値を測定する工程；流体成分の各々の存在または能動性によって引き起こされたそれぞれの偏差値を測定する工程、およびそれぞれの偏差値に基づいて各流体成分の濃度を測定する工程を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
一般的に、別の態様では、システムは、第１の時間中に流体流内の少なくとも１つの流体成分の濃度を測定するために提供され、該システムは、流体入口ポートおよび流体出口ポートを備える内部部分を規定し、および流体入口ポートから流体出口ポートまでの流体流の流れを受け入れるように構成されるハウジングと；ハウジング内に位置し、第１の時間中にハウジング内部の絶対温度値を測定するように構成された基準温度センサに接続される、非触媒基準センサ基板と；ハウジング内に位置し、および第１の活性触媒の表面と接触する第１の時間中に、流体流が流体流内の触媒可能な第１の流体成分を触媒するように構成された第１の活性触媒であって、触媒可能な第１の流体成分の触媒作用が、絶対温度値からの第１の活性触媒の表面における温度値の第１の偏差を結果としてもたらす、第１の活性触媒と；第１の活性触媒に接続され、および温度値の第１の偏差を測定するように構成された第１の温度センサと；第１の温度センサおよび基準温度センサと通信するプロセッサと、を含み、該プロセッサが、温度値の第１の偏差を、第１の活性触媒により触媒されている第１の流体成分に関する複数のあらかじめ決められた偏差温度値の記憶されたライブラリと比較すること、および温度値の第１の偏差を、同等のあらかじめ決められた偏差温度値に一致させること、によって、第１の時間中に流体流内の第１の流体成分の濃度を測定するように構成される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
別の態様において、一般的に、方法は、第１の時間中に流体流内の少なくとも１つの流体成分の濃度を測定するために提供され、該方法は、システムを提供するステップであって、該システムが、流体入口ポートおよび流体出口ポートを備えた内部部分を規定するハウジングと；ハウジング内に位置し、および基準温度センサに接続された非触媒基準センサ基板と；ハウジング内に位置する第１の活性触媒センサと；第１の活性触媒に接続された第１の温度センサと；第１の温度センサと通信するプロセッサと；を含む、ステップと；ハウジングの内部部分を介し、流体入口ポートから流体出口ポートまで流体流を提供するステップと；非触媒基準センサ基板を用いて、第１の時間中にハウジング内部の絶対温度値を測定するステップと；第１の活性触媒を用いて、流体流が第１の活性触媒の表面と接触する第１の時間中に、流体流内の触媒可能な第１の流体成分を触媒するステップであって、触媒可能な第１の流体成分の触媒作用が、第１の活性触媒の表面で絶対温度値から温度値の第１の偏差を結果としてもたらす、ステップと；第１の温度センサを用いて、温度値の第１の偏差を測定するステップと；プロセッサを用いて、温度値の第１の偏差を、第１の活性触媒により触媒されている第１の流体成分に関する複数のあらかじめ決められた偏差温度値の記憶されたライブラリと比較すること、および温度値の第１の偏差を、同等のあらかじめ決められた偏差温度値に一致させること、によって、第１の時間中に流体流内の第１の流体成分の濃度を、測定するステップと、を含む。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図５】
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