【手続補正書】
【提出日】令和2年3月17日(2020.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シェービング又は化粧用の製品を加熱するために適用される誘導加熱デバイスであって、
非導電性誘導ハウジングを形成するハウジングと、
前記製品を保持するための非導電性製品容器であって、前記製品容器は、取り外し自在に前記誘導ハウジングに受けられる、非導電性製品容器と、
前記製品容器内に電磁場を生成するための前記誘導ハウジングに隣接した誘導コイルと、
前記製品容器内の導電性ターゲットメンバと、
前記ハウジング内に取り付けられ、前記誘導コイルに接続されている電磁場発生器とを備え、前記ターゲットメンバは、前記製品を加熱し及び又は溶融するために前記誘導コイルからの前記電磁場に反応して、予め定められた期間に関して加熱サイクルの間に加熱される、
誘導加熱デバイス。
【請求項２】
前記製品容器はさらに、上製品面と、シェービング又は化粧目的のためにユーザによって収集されるように、加熱された材料を前記ターゲットメンバを通じて流れさせる前記ターゲットメンバによって加熱される前記上製品面の真下の前記製品の層からなる熱の影響を受ける製品領域とを備える、請求項１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３】
上面を有する前記ハウジングをさらに備え、
前記誘導ハウジングは、側壁、底壁および前記上面に取り付けられた開口上部を備え、前記誘導ハウジング側壁は、前記開口上部から前記底壁へ一様な断面を有する内部面を形成し、前記製品容器は、側壁、底壁および閉じることができる開口上部を備え、前記製品容器側壁は、前記誘導ハウジングの前記内部面に補足的に構成されている一様な断面を有する外部面を形成し、前記製品容器は、取り外し自在に前記誘導ハウジングに挿入される、請求項２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４】
前記製品容器側壁は、前記閉じることができる開口上部から前記底壁へ一様な断面を有する内部面を形成し、前記導電性金属ターゲットメンバはさらに、前記製品容器の前記内部面に補足的に構成されている周囲面を備える、請求項３に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５】
前記誘導ハウジングは、第１の円筒形状カップを備え、前記製品容器は、第２の円筒形状カップを備える、請求項４に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６】
前記導電性金属ターゲットメンバは、前記第２の円筒形状カップの前記内部面の前記断面に補足的に構成されている断面を有する金属円盤を備え、前記金属円盤の前記断面は、前記第２の円筒形状カップの前記内部面の前記断面よりわずかに小さく、したがって前記製品が使用されるにつれて、前記金属円盤に前記製品容器内を自由に降下することを可能とする、請求項５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７】
前記第１の円筒形状カップ及び前記第２の円筒形状カップ並びにターゲットメンバは、整列を維持し、使用の間にそれらの間で回転するのを防ぐように構成される、請求項６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項８】
前記第１の円筒形状カップ及び前記第２の円筒形状カップは、平坦な側壁部分を有し、前記ターゲットメンバ周囲面は、前記整列を維持し、使用の間にそれらの間で回転するのを防ぐように、前記平坦な側壁部分と合わせられた平坦な部分を有する、請求項７に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項９】
交流電流源または直流電流源を前記電子回路へ供給するための手段をさらに備える、請求項２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１０】
前記電子回路は、高周波電磁場エネルギを前記導電性金属ターゲットメンバに生成するための手段を含み、前記電子回路はさらに、前記導電性金属ターゲットメンバ内に生成される熱を調節するために前記交流電流または前記直流電流を制御するための手段を含む、請求項９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１１】
前記手段は、マイクロプロセッサ、高周波インバータ回路、共振タンク回路および前記誘導コイルを備える、請求項１０に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１２】
ユーザに手動での加熱サイクルの開始および停止を可能とするため、加熱サイクルのエネルギレベル及び継続時間を調整するため、および前記エネルギレベル、温度または前記加熱サイクルの継続時間に基づいた有用な情報を表示するための前記マイクロプロセッサに接続されたオペレータインターフェースをさらに備える、請求項１１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１３】
前記電子回路の電流および温度を監視するための電流センサおよび温度センサをさらに備える、請求項１２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１４】
前記電流センサまたは前記温度センサに反応して前記電子回路の過電流または過熱温度を示すための視覚的および／または聴覚的警報手段をさらに備える、請求項１３に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１５】
前記電子回路を間接的に制御するために、前記マイクロプロセッサへ情報を送信し、およびマイクロプロセッサから情報を受信するためのＲＦモジュールをさらに備える、請求項１１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１６】
前記ＲＦモジュールによって受信された情報を伝達するためのスピーカをさらに備え、そのような情報は、加熱サイクルの開始若しくは停止、若しくは加熱サイクルの間の加熱の調整されたエネルギレベルおよび継続期間、または温度および電流検出レベルに関する、請求項１５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１７】
前記金属円盤は、金属スクリーンを備える、請求項６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１８】
前記金属円盤は、貫通して広がる少なくとも一つの孔、貫通して広がる少なくとも一つの細長い隙間、または貫通して広がる少なくとも一つの孔および少なくとも一つの細長い隙間の組み合わせを備える、請求項６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項１９】
前記金属円盤は、前記少なくとも一つの孔の周りを囲みかつ前記上面の平面に垂直に伸びる、少なくとも一つの要素を備える、請求項１８に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２０】
前記少なくとも一つの要素は、円筒形状である、請求項１９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２１】
前記金属熱伝導性円盤は、前記少なくとも一つの孔に隣接して前記上面に配置されかつ前記上面の平面に垂直に伸びる、少なくとも一つの要素を備える、請求項１８に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２２】
前記少なくとも一つの要素は、リブを備える、請求項２１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２３】
前記金属円盤は、ステンレススチール又はアルミニウムを構成されている、請求項６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２４】
前記金属円盤は、０．００５インチから０．１５０インチ（０．０１２７ｃｍから０．３８１ｃｍ）の間に分布する厚みを有する、請求項６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２５】
前記金属円盤は、０．００８インチから０．０２０インチ（０．０２０ｃｍから０．０５０ｃｍ）の間に分布する厚みを含む、請求項２４に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２６】
前記金属円盤の上面は、平坦である、又は平坦でない、請求項６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２７】
前記金属円盤の前記上面は、皿形状、カップ形状または波形形状である、請求項２６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２８】
前記製品容器は、サイクル時間、ターゲットメンバの共振周波数、製品の種類、および前記製品の要求によって材料を加熱するために必要とされるその他のパラメータのような、前記製品容器内の前記製品と関連があるデータを前記マイクロプロセッサへ伝達するためのＲＦＩＤタグを備える、請求項１１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項２９】
前記電子回路は、前記ＲＦＩＤタグから前記マイクロプロセッサへデータを通信するためのＲＦＩＤ読み取り機を含む、請求項２８に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３０】
前記ＲＦＩＤ読み取り機は、前記ＲＦＩＤタグに極めて接近して配置される、請求項２９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３１】
前記ＲＦＩＤ読み取り機によって受信した情報を伝達するためのスピーカをさらに備え、そのような情報は、サイクル時間、ターゲットメンバの共振周波数、製品の種類、および前記製品の要求によって材料を加熱するために必要とされるその他のパラメータのような、前記製品容器内の前記製品と関連があるものである、請求項２９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３２】
前記第２の円筒形状のカップは、２インチから４インチ（５．０８ｃｍから１０．１６ｃｍ）の間の直径、および前記直径の０．５倍から２倍の間の高さを有する、請求項５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３３】
円筒状の本体、材料容器、前記ターゲットメンバを収容する材料熱交換キャビティ、ダイヤフラムおよび逆止弁をさらに備えるポンプでの組み上げ機構、並びに第１の直径を有する雄型キャップ、第２の直径を有する雌型受け取りキャップ、注入開口、少なくとも一つのキャビティ、少なくとも一つの隔壁、導管および排出開口をさらに備える誘導キャビティを備える、前記製品容器をさらに備える、請求項２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３４】
前記導電性金属ターゲットメンバは、前記誘導キャビティの断面に補足的に構成されている断面を有する金属円盤を備え、前記金属円盤の前記断面は、前記誘導キャビティの前記断面よりわずかに小さく、したがって前記製品が使用されるにつれて、前記金属円盤に前記誘導キャビティ内を自由に移動することを可能とする、請求項３３に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３５】
前記金属円盤は、蝶々の形をしている、請求項３４に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３６】
前記金属円盤は、中の詰まった円盤である、請求項３４に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３７】
前記金属円盤は、環状のリングである、請求項３４に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３８】
円筒状の本体、材料容器、前記ターゲットメンバを収容する材料熱交換キャビティ、作動される伴板をさらに備えるポンプでの組み上げ機構、並びに第１の直径を有する雄型キャップ、第２の直径を有する雌型受け取りキャップ、注入開口、少なくとも一つのキャビティ、少なくとも一つの隔壁、導管および排出開口をさらに備える誘導キャビティを備える、前記製品容器をさらに備える、
請求項２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項３９】
前記導電性金属ターゲットメンバは、前記誘導キャビティの断面に補足的に構成されている断面を有する金属円盤を備え、前記金属円盤の前記断面は、前記誘導キャビティの前記断面よりわずかに小さく、したがって前記製品が使用されるにつれて、前記金属円盤に前記誘導キャビティ内を自由に移動することを可能とする、請求項３８に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４０】
前記金属円盤は、蝶々の形をしている、請求項３９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４１】
前記金属円盤は、中の詰まった円盤である、請求項４０に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４２】
前記金属円盤は、環状のリングである、請求項３９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４３】
加熱したとき、製品の２ミリメートルの高さは、加熱または溶融される、請求項２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４４】
前記導電性金属ターゲットメンバは、面をわたって温度依存の抵抗デバイスと接続されている細長い隙間を構成されている、請求項２に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４５】
シェービング又は化粧用の製品を加熱するために適用される誘導加熱デバイスであって、
非導電性誘導ハウジングを形成するハウジングと、
シェービング又は化粧用の製品を保持するための非導電性製品容器であって、前記製品容器は、前記非導電性製品容器が取り外し自在に前記誘導容器内に受けられるとともに、円筒状の本体、材料容器、ターゲットメンバを収容する材料熱交換キャビティ、ダイヤフラムおよび逆止弁をさらに備えるポンプでの組み上げ機構、並びに第１の直径を有する雄型キャップ、第２の直径を有する雌型受け取りキャップ、注入開口、少なくとも一つのキャビティ、少なくとも一つの隔壁、導管および排出開口をさらに備える誘導キャビティを備え、シェービング又は化粧用の製品は、材料熱交換器を備える前記製品容器内に収容される、非導電性製品容器と、
前記製品容器内に電磁場を生成するための前記誘導ハウジングに隣接した誘導コイルと、
前記製品容器内の導電性金属ターゲットメンバと、
前記ハウジング内に取り付けられ、前記誘導コイルに接続されている電磁場発生器とを備え、前記ターゲットメンバは、前記製品を加熱し及び又は溶融するために前記誘導コイルからの前記電磁場に反応して、予め定められた期間に関して加熱サイクルの間に加熱される、
誘導加熱デバイス。
【請求項４６】
前記導電性金属ターゲットメンバは、前記誘導キャビティの断面に補足的に構成されている断面を有する金属円盤を備え、前記金属円盤の前記断面は、前記誘導キャビティの前記断面よりわずかに小さく、したがって前記製品が使用されるにつれて、前記金属円盤に前記誘導キャビティ内を自由に移動することを可能とする、請求項４５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４７】
前記金属円盤は、蝶々の形をしている、請求項４６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４８】
前記金属円盤は、中の詰まった円盤である、請求項４６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項４９】
前記金属円盤は、環状のリングである、請求項４５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５０】
作動される伴板をさらに備えるポンプでの組み上げ機構を前記製品容器内にさらに備える、請求項４６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５１】
前記導電性金属ターゲットメンバは、前記誘導キャビティの断面に補足的に構成されている断面および上面を有する金属円盤を備え、前記金属円盤の前記断面は、前記誘導キャビティの前記断面よりわずかに小さく、したがって前記製品が使用されるにつれて、前記金属円盤に前記誘導キャビティ内を自由に移動することを可能とする、請求項５０に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５２】
前記金属円盤は、蝶々の形をしている、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５３】
前記金属円盤は、中の詰まった円盤である、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５４】
前記金属円盤は、環状のリングである、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５５】
加熱したとき、製品の２ミリメートルの高さは、加熱または溶融される、請求項４６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５６】
前記導電性金属ターゲットメンバは、面をわたって温度依存の抵抗デバイスと接続されている細長い隙間を構成されている、請求項４６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５７】
交流電流源または直流電流源を前記電子回路へ供給するための手段をさらに備える、請求項４６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５８】
前記電子回路は、高周波電磁場エネルギを前記導電性金属ターゲットメンバに生成するための手段を含み、前記電子回路はさらに、前記導電性金属ターゲットメンバ内に生成される熱を調節するために前記交流電流または前記直流電流を制御するための手段を含む、請求項５７に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項５９】
前記手段は、マイクロプロセッサ、高周波インバータ回路、共振タンク回路および前記誘導コイルを備える、請求項５８に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６０】
ユーザに手動での加熱サイクルの開始および停止を可能とするため、加熱サイクルのエネルギレベル及び継続時間を調整するため、および前記エネルギレベル、温度または前記加熱サイクルの継続時間に基づいた有用な情報を表示するための前記マイクロプロセッサに接続されたオペレータインターフェースをさらに備える、請求項５９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６１】
前記電子回路の電流および温度を監視するための電流センサおよび温度センサをさらに備える、請求項６０に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６２】
前記電流センサまたは前記温度センサに反応して前記電子回路の過電流または過熱温度を示すための視覚的および／または聴覚的警報手段をさらに備える、請求項６１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６３】
前記電子回路を間接的に制御するために、前記マイクロプロセッサへ情報を送信し、およびマイクロプロセッサから情報を受信するためのＲＦモジュールをさらに備える、請求項５９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６４】
前記ＲＦモジュールによって受信された情報を伝達するためのスピーカをさらに備え、そのような情報は、加熱サイクルの開始若しくは停止、若しくは加熱サイクルの間の加熱の調整されたエネルギレベルおよび継続期間、または温度および電流検出レベルに関する、請求項６３に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６５】
前記金属円盤は、貫通して広がる少なくとも一つの孔、貫通して広がる少なくとも一つの細長い隙間、または貫通して広がる少なくとも一つの孔および少なくとも一つの細長い隙間の組み合わせを備える、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６６】
前記金属円盤は、前記少なくとも一つの孔の周りを囲みかつ前記上面の平面に垂直に伸びる、少なくとも一つの要素を備える、請求項６５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６７】
前記少なくとも一つの要素は、円筒形状である、請求項６６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６８】
前記金属熱伝導性円盤は、前記少なくとも一つの孔に隣接して前記上面に配置されかつ前記上面の平面に垂直に伸びる、少なくとも一つの要素を備える、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項６９】
前記少なくとも一つの要素は、リブを備える、請求項６８に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７０】
前記金属円盤は、ステンレススチール又はアルミニウムを構成されている、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７１】
前記金属円盤は、０．００５インチから０．１５０インチ（０．０１２７ｃｍから０．３８１ｃｍ）の間に分布する厚みを有する、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７２】
前記金属円盤は、０．００８インチから０．０２０インチ（０．０２０ｃｍから０．０５０ｃｍ）の間に分布する厚みを含む、請求項７１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７３】
前記金属円盤の上面は、平坦である、又は平坦でない、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７４】
前記金属円盤の前記上面は、皿形状、カップ形状または波形形状である、請求項５１に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７５】
前記製品容器は、サイクル時間、ターゲットメンバの共振周波数、製品の種類、および前記製品の要求によって材料を加熱するために必要とされるその他のパラメータのような、前記製品容器内の前記製品と関連があるデータを前記マイクロプロセッサへ伝達するためのＲＦＩＤタグを備える、請求項５９に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７６】
前記電子回路は、前記ＲＦＩＤタグから前記マイクロプロセッサへデータを通信するためのＲＦＩＤ読み取り機を含む、請求項７５に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７７】
前記ＲＦＩＤ読み取り機は、前記ＲＦＩＤタグに極めて接近して配置される、請求項７６に記載の誘導加熱デバイス。
【請求項７８】
前記ＲＦＩＤ読み取り機によって受信した情報を伝達するためのスピーカをさらに備え、そのような情報は、サイクル時間、ターゲットメンバの共振周波数、製品の種類、および前記製品の要求によって材料を加熱するために必要とされるその他のパラメータのような、前記製品容器内の前記製品と関連があるものである、請求項７６に記載の誘導加熱デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
図１２Ａでのみ図示されているが、図１２から図１９に図示されている全てのターゲットワークピースは、０．００５インチから０．１５０インチ（０．０１２７ｃｍから０．３８１ｃｍ）の間に、最も好ましくは０．００８インチから０．０２０インチ（０．０２０ｃｍから０．０５０ｃｍ）の間に、分布する材料の厚み（ｈ）、および２インチから４インチ（５．０８ｃｍから１０．１６ｃｍ）の間に分布する幅（Ｗ）を有する。図１２から図１９にて図示されている様々なターゲットワークピース構造は、周囲面（５１）の外径、又は円筒状のコイルの壁に平行である、ターゲットワークピースのターゲットワークピース面を変更し又は妨げることによって異なる加熱特性を提供する。目的および加熱要求に応じて、いくつかのターゲットワークピースは、製品のさらなる接触を提供するためにより全体的な表面エリアを有し、したがって製品をより速く加熱する。製品の粘度と連動してそれぞれのターゲットワークピースの上面（５２）のトポロジを変化させることは、ターゲットワークピースが製品を通って降下する速度にかなり影響を及ぼし得る。加えて、上面のトポロジを変化させることは、通気のための機会を提供する。攪拌または通気を必要とする目的のためにターゲットワークピースの上面のトポロジは、さらなる差異を有する。開口部の大きさと数はまた、シェービングソープのような、泡を必要とする目的のための製品の攪拌を提供するときに好都合である。本発明は、次のような種類の鉄合金、カーボン、又はステンレスのツールのいずれかによって構成される一つ以上のターゲットワークピースを同時に利用してもよく、またはフェライト粒状構造、マルテンサイト粒状構造、及び／又はオーステナイト粒状組織のものであってもよい。加えて、好ましくは、ターゲットワークピースは、アルミニウムタイプで指示されたＳＡＥのいずれかのものであってもよい。アルミニウムは、一般的には家庭用の誘導暖房機／炊事用具と馴染みがなく、家庭用誘導調理／暖房システムで使われるその他の材料と比較すると、耐食性、非常に低い熱容量および高い熱伝導性を提供する。アルミニウムの低い熱容量は、ターゲットワークピースの温度を素早く上昇させ、また、サイクルが終了した場合、素早く冷やす。これにより、製品は、より多くの熱を保持する鉄の等級の一つよりも素早く元の状態に復帰できる。高い熱容量を有する材料からなるターゲットワークピースは、伝導性材料に保持された過剰な熱によって、使用後も、製品容器の底部に向かって下降する。アルミニウムターゲットワークピースの高い熱伝導性は、渦電流によって生成された熱を製品にできる限り素早く伝達するのに好都合である。高い熱伝導性および低い熱容量の結果として、電磁場からのエネルギはすぐに、熱という形で、ターゲットワークピースには極小の滞在時間で、製品へと伝達される。