【手続補正書】
【提出日】令和2年8月11日(2020.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩基水溶液中で現像可能である、３６５ｎｍの放射線によって画像化可能な化学増幅ネガ作用型フォトレジスト組成物であって、固体構成成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）ならびに溶媒構成成分ｆ）；
ａ）環結合ヒドロキシル基を有する、塩基水溶液可溶性フェノール系膜形成用高分子バインダー樹脂；
ｂ）膜形成用バインダー樹脂の架橋を開始するのに十分な量の、３６５ｎｍの放射線への露光で酸を形成する光酸発生剤；
ｃ）放射線への露光によって発生したステップｂ）からの酸への曝露でカルボニウムイオンを形成し、エーテル化メラミンを含む、架橋剤；
ｄ）ＰＧＭＥＡで測定した場合、３６５ｎｍで、約１．７４×１０４〜約０．９４×１０４モル−１Ｌｃｍ−１を範囲とするモル減衰係数を有する染料；
ｅ）水中で約６．０〜約１２のｐＫａを有するアミンクエンチャーまたはこうしたアミンクエンチャーの混合物から本質的になるクエンチャー系であり、アミンクエンチャーは、１気圧で少なくとも１００℃の沸点を有し、少なくとも１個のＣ２〜Ｃ２５アルキル置換基、−（ＣＨ２）ｎＯＨ置換基または−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ’−Ｏ−Ｒ’置換基（式中、ｎおよびｎ’は独立して２〜４を範囲とする整数であり、Ｒ’はＣ１〜Ｃ４アルキルまたはＨである）を含むか、またはこれらの置換基の混合物を含む、クエンチャー系；
ｆ）フォトレジスト溶媒
を含む、フォトレジスト組成物。
【請求項２】
前記固体構成成分ｅ）は、さらに前記アミンクエンチャーまたはこうしたアミンクエンチャーの混合物が構造（１）を有するものであり、式中、Ｒ１およびＲ１ａは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、またはアリールから個々に選択することができ、さらに、Ｒ１およびＲ１ａの少なくとも１つは、Ｃ１０〜Ｃ２５アルキル置換基または−（ＣＨ２）ｎＯＨ置換基（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位は単結合または二重結合のいずれかによって接続されている、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化１】
2020518012.tif 000001
【請求項３】
前記固体構成成分ｄ）である前記染料が、塩基水溶液中で可溶性であり；さらに、前記固体構成成分ｅ）は、さらに前記アミンクエンチャーまたはこうしたアミンクエンチャーの混合物が構造（１）を有するものであり、式中、Ｒ１およびＲ１ａは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、またはアリールから個々に選択することができ、さらに、Ｒ１およびＲ１ａの少なくとも１つは、Ｃ１０〜Ｃ２５アルキル置換基または−（ＣＨ２）ｎＯＨ置換基（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位は単結合または二重結合のいずれかによって接続されている、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化２】
2020518012.tif 000002
【請求項４】
前記固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、膜形成用バインダー樹脂の架橋を開始するのに十分な量の、３６５ｎｍの放射線への露光で酸を形成するトリハロメチル誘導体（ハロ＝ＣｌまたはＢｒ）に基づく光酸発生剤であり、ここで、ハロ部分は塩素または臭素であり；さらに、前記固体構成成分ｅ）は、さらに前記アミンクエンチャーまたはこうしたアミンクエンチャーの混合物が構造（１）を有するものであり、式中、Ｒ１およびＲ１ａは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、またはアリールから個々に選択することができ、さらに、Ｒ１およびＲ１ａの少なくとも１つは、Ｃ１０〜Ｃ２５アルキル置換基または−（ＣＨ２）ｎＯＨ置換基（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位は単結合または二重結合のいずれかによって接続されているものである、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化３】
2020518012.tif 000003
【請求項５】
前記固体構成成分ｄ）である前記染料が塩基水溶液中で可溶性であり；さらに、前記固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、膜形成用バインダー樹脂の架橋を開始するのに十分な量の、３６５ｎｍの放射線への露光で酸を形成するトリハロメチル誘導体（ハロ＝ＣｌまたはＢｒ）に基づく光酸発生剤であり、ここで、ハロ部分は、塩素または臭素であり；さらに、前記固体構成成分ｅ）は、さらに前記アミンクエンチャーまたはこうしたアミンクエンチャーの混合物が構造（１）を有するものであり、式中、Ｒ１およびＲ１ａは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、またはアリールから個々に選択することができ、さらに、Ｒ１およびＲ１ａの少なくとも１つは、Ｃ１０〜Ｃ２５アルキル置換基または−（ＣＨ２）ｎＯＨ置換基（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位は単結合または二重結合のいずれかによって接続されているものである、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化４】
2020518012.tif 000004
【請求項６】
固体構成成分ｅ）である前記クエンチャー系が、構造（１７）を有する化合物または構造（１７）を有する化合物の混合物のみからなり、式中、ｎおよびｎ’は独立して２〜４を範囲とする整数であり、Ｒ’はＣ１〜Ｃ４アルキルまたはＨである、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化５】
2020518012.tif 000005
【請求項７】
固体構成成分ｅ）である前記クエンチャー系が、構造（２１）を有する化合物または構造（２１）を有する化合物の混合物のみからなり、式中、Ｒ９およびＲ１０は、Ｈ、またはＣ−２−Ｃ２５アルキルから独立して選択され、さらに、Ｒ９またはＲ１０の少なくとも１つはＣ−２−Ｃ２５アルキルである、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化６】
2020518012.tif 000006
【請求項８】
前記固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、膜形成用バインダー樹脂の架橋を開始するのに十分な量の、３６５ｎｍの放射線への露光で酸を形成するトリハロメチル誘導体（ハロ＝ＣｌまたはＢｒ）に基づく光酸発生剤であり、ここで、ハロ部分は塩素または臭素であり；さらに、前記固体構成成分ｅ）は、さらに前記アミンクエンチャーまたはこうしたアミンクエンチャーの混合物が構造（１）を有するものであるものであり、式中、Ｒ１およびＲ１ａは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ５アルキル、またはアリールから個々に選択することができ、さらに、Ｒ１およびＲ１ａの少なくとも１つは、Ｃ１０〜Ｃ２５アルキル置換基または−（ＣＨ２）ｎＯＨ置換基（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに３位および２位は単結合または二重結合のいずれかによって接続されている、請求項６または７に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項９】
前記固体構成成分ｄ）である前記染料が、塩基水溶液中で可溶性である、請求項６または７に記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１０】
固体構成成分ａ）である前記バインダー樹脂が、塩基可溶性ノボラックである、請求項１〜９のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１１】
固体構成成分ａ）である前記バインダー樹脂が、構造（２）の反復単位を含み、式中、ｑは、ポリマー鎖における反復単位の数である、請求項１〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化７】
2020518012.tif 000007
【請求項１２】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、有機スルホン酸の置換または非置換トリアリールスルホニウム塩、有機スルホン酸の置換または非置換１，３−ジオキソ−１Ｈ−ベンゾ［ｄｅ］イソキノリン−２（３Ｈ）−イルエステルからなる群から選択され、ここで、トリアリールスルホニウム部分またはその酸アニオンにおいて、共役アリールを有する少なくとも１つのアリール部分を含有し、ここで、共役アリール部分は、アリールオキシ、アルキルオキシ、ニトロ、アリール、アルケニルからなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有するフェニル環から選択されるか、またはそれに代えて、共役アリール部分は、２つ〜４つの環を含有する置換または非置換縮合芳香族環部分である、請求項１、２、３または６〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１３】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、１個〜３個のトリハロメチル置換基を含有する、アレーンまたは置換アレーンのトリハロメチル誘導体である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１４】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、スルホンスペーサー（−ＳＯ２−）を介して前記アレーンまたは置換アレーン部分に付着した１個〜３個のトリハロメチル置換基を含有する、アレーンまたは置換アレーンのトリハロメチル誘導体である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１５】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、１つ〜３つのトリハロメチル部分を含有する、ヘテロアレーンまたは置換ヘテロアレーンのトリハロメチル誘導体である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１６】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、スルホンスペーサー（−ＳＯ２−）を介して前記ヘテロアレーンまたは置換ヘテロアレーンに付着した１個〜３個のトリハロメチル置換基を含有する、ヘテロアレーンまたは置換ヘテロアレーンのトリハロメチル誘導体である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項１７】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、構造（３）を有するトリハロメチル誘導体であり、式中、Ｒ２は置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアリール基、あるいは２つ〜４つの環を含有する置換または非置換の縮合芳香族環部分であり、Ｙは酸素または窒素であり、ＸはＣｌまたはＢｒである、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化８】
2020518012.tif 000008
【請求項１８】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、構造（４）を有するオキサゾールまたは置換オキサゾンのトリハロメチル誘導体であり、式中、Ｒ３は置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアリール基であり、ＸはＣｌまたはＢｒである、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化９】
2020518012.tif 000009
【請求項１９】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、１つまたは２つのトリハロメチル部分を含有する、置換トリアジンのトリハロメチル誘導体である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２０】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、構造（５）を有するトリハロメチル誘導体であり、式中、ＸはＢｒまたはＣｌであり、Ｒ４は非置換もしくは置換のアルケニル、非置換アリールもしくは置換アリール部分、または２つ〜４つの環を含有する置換もしくは非置換の縮合芳香族環部分である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１０】
2020518012.tif 000010
【請求項２１】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、構造（７）を有するトリハロメチル誘導体であり、式中、ｏは１または２であり、ＸはＣｌまたはＢｒであり、さらに、Ｒ５は、水素またはＣ１〜Ｃ２アルキルによって置換されている１つまたは２つのオレフィン結合を含有するＣ４またはＣ５環式脂肪族エーテル部分である、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１１】
2020518012.tif 000011
【請求項２２】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、構造（８）を有するトリハロメチル誘導体であり、式中、ｏは１または２であり、ＸはＣｌまたはＢｒであり、Ｒ６は水素またはＣ１〜Ｃ３アルキルである、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１２】
2020518012.tif 000012
【請求項２３】
固体構成成分ｂ）である前記光酸発生剤が、構造（９）を有するトリハロメチルであり、式中、ＸはＣｌまたはＢｒであり、さらに、Ｒ６は水素またはＣ１〜Ｃ３アルキルである、請求項４〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１３】
2020518012.tif 000013
【請求項２４】
固体構成成分ｃ）である前記架橋剤が、構造（１１）を有するもの、（１１）によって形成されるオリゴマー、またはこれらの混合物から選択されるエーテル化メラミンを含み；式中、Ｒ７はＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｈであるか、または構造（１１ａ）の部分を表し、式中、
【化１４】
2020518012.tif 000014
は、構造（１１）に対する部分（１１ａ）の付着点を表し、式中、Ｒ７ａはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｈであるか、または別の構造（１１ａ）部分を表す、請求項１〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１５】
2020518012.tif 000015
【請求項２５】
固体構成成分ｄ）である前記染料が、構造（１３）を有する塩基水溶液可溶性染料であり、式中、ｍ１およびｍ２は独立して１〜３である、請求項１〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１６】
2020518012.tif 000016
【請求項２６】
固体構成成分ｄ）である前記染料が、構造（１４）を有する塩基水溶液可溶性染料である、請求項１〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１７】
2020518012.tif 000017
【請求項２７】
構造（１）を有する固体構成成分ｅ）である前記クエンチャーは、Ｒ１がＣ１５〜Ｃ２０アルキル部分であり、Ｒ１ａが−（ＣＨ２）ｎＯＨ（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位が単結合によって接続されている、請求項２〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項２８】
固体構成成分ｅ）である前記クエンチャー系が構造（１５）の化合物のみからなる、請求項１に記載のフォトレジスト組成物。
【化１８】
2020518012.tif 000018
【請求項２９】
固体構成成分ｅ）である前記クエンチャー系が、構造（１）の１種の化合物を有するものであり、式中、Ｒ１はＣ１５〜Ｃ２０アルキル部分であり、Ｒ１ａはＣ１〜Ｃ５アルキルであり、さらに、３位および２位は単結合によって接続されている、請求項２〜４のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３０】
構造（１）を有する固体構成成分ｅ）である前記クエンチャーは、Ｒ１がＣ１〜Ｃ５アルキル部分またはＨであり、Ｒ１ａが−（ＣＨ２）ｎＯＨ（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位が二重結合によって接続されているものである、請求項２〜４のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３１】
構造（１）を有する固体構成成分ｅ）である前記クエンチャーは、Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキル部分またはＨであり、Ｒ１ａが−（ＣＨ２）ｎＯＨ（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位が二重結合によって接続されているものである、請求項２〜４のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３２】
構造（１）を有する固体構成成分ｅ）である前記クエンチャーは、Ｒ１がＨであり、Ｒ１ａが−（ＣＨ２）ｎＯＨ（式中、ｎは２〜４を範囲とする整数である）であり、さらに、３位および２位が二重結合によって接続されているものである、請求項２〜４のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３３】
固体構成成分ｅ）である前記クエンチャー系が構造（１６）の化合物からなる、
請求項２〜４のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【化１９】
2020518012.tif 000019
【請求項３４】
固体構成成分ｅ）である前記クエンチャー系が、構造（１）の１種の化合物を有するものであり、式中、Ｒ１は、Ｃ１５〜Ｃ２０アルキル部分であり、Ｒ１ａはＣ１〜Ｃ５アルキルであり、さらに、３位および２位は二重結合によって接続されている、請求項２〜４のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３５】
総固体構成成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）の組成について、固体構成成分ａ）が約６０質量％〜約９０質量％であり；固体構成成分ｂ）が約０．５質量％〜約８．０質量％であり；固体構成成分ｃ）が約８．０質量％〜約３０質量％であり；構成成分ｄ）が約０．４質量％〜約８．０質量％であり；固体構成成分ｅ）が約０．５質量％〜約４．０質量％であり、ここで、全ての固体構成成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）の総和質量％が１００質量％を超えない、請求項１〜７のいずれか一つに記載のフォトレジスト組成物。
【請求項３６】
ａ１）請求項１〜７のいずれか一つからのフォトレジスト組成物を、適当な基板の表面上にコーティングすることで、フォトレジストコーティングを形成すること；
ｂ１）ステップｂ）からの前記フォトレジストコーティング基板を、実質的に全てのフォトレジスト溶媒がフォトレジスト組成物から除去されるまで加熱処理することで、フォトレジスト膜を形成すること；
ｃ１）ステップｃ）からの前記フォトレジスト膜を、画像化用ｉ線放射線に画像露光して、露光および非露光領域を含有する照射済みフォトレジスト膜を形成すること；
ｄ１）露光ステップｃ）の後で前記照射レジスト膜を焼成すること；
ｅ１）ステップｄ１）からの前記照射済みフォトレジスト膜の非露光エリアを現像剤で除去することで、レジスト基板相間でアンダーカットされてフォトレジストオーバーハングを形成するアンダーカットフォトレジストパターンで被覆された基板を形成すること
を含む、フォトレジスト組成物を画像化するための方法。
【請求項３７】
ａ２）ＥＢＰＶＤ、ＣＶＤ堆積またはスパッタリングによる金属堆積を使用し、請求項３６のステップｅ１）からのアンダーカットフォトレジストパターンで被覆された前記基板上に、金属の層を堆積することであり、ここで、アンダーカットフォトレジストパターンで被覆された前記基板上の金属堆積は、前記基板相間で前記フォトレジストオーバーハングによって保護されていない前記パターン化フォトレジストにおける露出基板にのみ金属を堆積させるが、さらに、金属堆積は、残っているフォトレジストによって被覆されていない基板上の他所で起こることで、選択的金属堆積、およびフォトレジストパターンのみの最上部に金属のコーティングを有するアンダーカットフォトレジストパターン（表面金属化レジストパターン）の両方を有する基板を形成する、前記金属の層を堆積すること；
ｂ２）ステップａ２）の後、前記金属化フォトレジストパターンを剥離することで基板をもたらすことであり、ここで、金属化は、アンダーカットパターン化フォトレジストのオーバーハングによって保護されていない前記パターン化フォトレジストにおける露出基板にのみ起こっている、前記基板をもたらすこと
を含む、基板上のパターン化フォトレジストの金属化のためのリフトオフプロセス。
【請求項３８】
塩基水溶液中で現像可能である、３６５ｎｍの放射線によって画像化可能な化学増幅ネガ作用型フォトレジスト組成物であって、固体構成成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）ならびに溶媒構成成分ｆ）；
ａ）環結合ヒドロキシル基を有する、塩基水溶液可溶性フェノール系膜形成用高分子バインダー樹脂であり、前記バインダー樹脂は、構造（２）を有する反復単位を含み、式中、ｑは、ポリマー鎖における反復単位の数である、前記バインダー樹脂；
【化２０】
2020518012.tif 000020
ｂ）膜形成用バインダー樹脂の架橋を開始するのに十分な量の、３６５ｎｍの放射線への露光で酸を形成する光酸発生剤であり、構造（１０）を有する、前記光酸発生剤；
【化２１】
2020518012.tif 000021
ｃ）放射線への露光によって発生した成分ｂ）からの酸への曝露でカルボニウムイオンを形成し、エーテル化メラミンを含む、架橋剤であり、前記架橋剤は、構造（１２）を有するもの、（１２）によって形成されるオリゴマー、またはこれらの混合物から選択されるエーテル化メラミンを含み、式中、Ｒ８は、メチル、Ｈであるか、または構造（１２ａ）の部分を表し、式中、
【化２２】
2020518012.tif 000022
は、構造（１２）に対する構造（１２ａ）の付着点を表し、式中、Ｒ８ａは、メチル、Ｈであるか、または別の構造（１２ａ）の部分を表す、前記架橋剤；
【化２３】
2020518012.tif 000023
ｄ）構造（１４）を有する染料；
【化２４】
2020518012.tif 000024
ｅ）構造（１５）を有するアミンクエンチャーから本質的になるクエンチャー系；
【化２５】
2020518012.tif 000025
ｆ）ＰＧＭＥＡ
を含む、フォトレジスト組成物。