【手続補正書】
【提出日】令和2年4月28日(2020.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
本発明のある特定の実施形態について説明してきたが、他の実施形態が存在してもよい。本明細書は詳細な説明を含むが、本発明の範囲は以下の特許請求の範囲によって示される。上述の特定の特徴及び行為は、本発明の例証的な態様及び実施形態として開示される。本明細書の記述を読んだ後、種々の他の態様、実施形態、修正、及びその同等物は、本発明の趣旨または請求される主題の範囲から逸脱することなく当業者に連想されてもよい。以下、本発明の実施形態の例を項目［１］〜［４２］に列記する。
［１］
カルサイト石表面を洗浄するための方法であって、前記方法は、
（ａ）水で組成物を希釈することによって使用溶液を調製することであって、前記組成物が、
３〜２０質量％のジカルボン酸、
３〜２５質量％の界面活性剤、及び
０〜２０質量％の溶媒、を含む、調製することと、
（ｂ）前記使用溶液をカルサイト石表面に適用することと、
（ｃ）前記表面を洗い流し、拭き取り、または擦り洗いすることと、を含む、方法。
［２］
前記使用溶液が、前記カルサイト石表面を損傷しない、項目１に記載の方法。
［３］
前記組成物の前記使用溶液が、８〜１２．５のｐＨを有する、項目１または２に記載の方法。
［４］
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、項目１〜３のいずれか一項に記載の方法。
［５］
前記ジカルボン酸が、２〜８の炭素鎖長を有する酸を含む、項目１〜４のいずれか一項に記載の方法。
［６］
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、項目１〜５のいずれか一項に記載の方法。
［７］
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、項目１〜６のいずれか一項に記載の方法。
［８］
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
［９］
前記溶媒が、１つ又は複数のグリコールエーテルを含む、項目１〜８のいずれか一項に記載の方法。
［１０］
前記溶媒が、グリコールエーテルから選択される、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
［１１］
前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルエーテルを含む、項目９に記載の方法。
［１２］
前記溶媒が、１つ又は複数の共溶媒を含む、項目１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
［１３］
前記１つ又は複数の共溶媒が、グリコールを含む、項目１２に記載の方法。
［１４］
前記グリコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、及びヘキシレングリコールを含む、項目１３に記載の方法。
［１５］
前記組成物が、約１：２〜約１：１００の組成物の水に対する希釈比で、水で希釈される、項目１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
［１６］
カルサイト石表面を洗浄するための方法であって、
（ａ）使用溶液組成物を前記カルサイト石表面に適用することであって、前記使用溶液が、
０．１〜５質量％のジカルボン酸、
０．１〜５質量％の界面活性剤、
０〜５質量％の溶媒、を含む、適用することと、
（ｂ）前記表面を洗い流し、拭き取り、または擦り洗いすることと、を含む、方法。
［１７］
前記使用溶液が、前記カルサイト石表面を損傷しない、項目１６に記載の方法。
［１８］
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、項目１６または１７に記載の方法。
［１９］
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、項目１６〜１８のいずれか一項に記載の方法。
［２０］
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、項目１６〜１９のいずれか一項に記載の方法。
［２１］
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、項目１６〜２０のいずれか一項に記載の方法。
［２２］
前記溶媒が、１つ又は複数のグリコールエーテルを含む、項目１６〜２１のいずれか一項に記載の方法。
［２３］
前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルエーテルを含む、項目２２に記載の方法。
［２４］
前記溶媒が、１つ又は複数の共溶媒を含む、項目１６〜２３のいずれか一項に記載の方法。
［２５］
前記１つ又は複数の共溶媒が、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、またはそれらの組み合わせを含む、項目２４に記載の方法。
［２６］
３〜２０質量％のジカルボン酸、
３〜２５質量％の界面活性剤、
０〜２０質量％溶媒、及び
水、を含む、組成物であって、
前記組成物は、９〜１２．５のｐＨを有し、カルサイト石表面での使用に安全である、組成物。
［２７］
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、項目２６に記載の組成物。
［２８］
前記ジカルボン酸が、２〜８の炭素鎖長を有する酸を含む、項目２６または２７に記載の組成物。
［２９］
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、項目２６〜２８のいずれか一項に記載の組成物。
［３０］
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、項目２６〜２９のいずれか一項に記載の組成物。
［３１］
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、項目２６〜３０のいずれか一項に記載の組成物。
［３２］
抗菌剤をさらに含む、項目２６〜３１のいずれか一項に記載の組成物。
［３３］
前記組成物が、発泡体または発泡性組成物である、項目２６〜３２のいずれか一項に記載の組成物。
［３４］
０．１〜５質量％のジカルボン酸、
０．１〜５質量％の界面活性剤、
０〜５質量％の溶媒、及び
水、を含む、組成物であって、
前記組成物は、９〜１２．５のｐＨを有する即使用可能溶液であり、カルサイト石表面の使用に安全である、組成物。
［３５］
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、項目３４に記載の組成物。
［３６］
前記ジカルボン酸が、２〜８の炭素鎖長を有する酸を含む、項目３４または３５に記載の組成物。
［３７］
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、項目３４〜３６のいずれか一項に記載の組成物。
［３８］
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、項目３４〜３７のいずれか一項に記載の組成物。
［３９］
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、項目３４〜３８のいずれか一項に記載の組成物。
［４０］
抗菌剤をさらに含む、項目３４〜３９のいずれか一項に記載の組成物。
［４１］
前記組成物が、発泡体または発泡性組成物である、項目３４〜４０のいずれか一項に記載の組成物。
［４２］
項目２５〜４１に記載の組成物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルサイト石表面を洗浄するための方法であって、前記方法は、
（ａ）水で組成物を希釈することによって使用溶液を調製することであって、前記組成物が、
３〜２０質量％のジカルボン酸、
３〜２５質量％の界面活性剤、
０〜２０質量％の溶媒、及び
グリコール共溶媒を含む、調製することと、
（ｂ）前記使用溶液をカルサイト石表面に適用することと、
（ｃ）前記表面を洗い流し、拭き取り、または擦り洗いすることと、を含む、方法。
【請求項２】
前記使用溶液が、前記カルサイト石表面を損傷しない、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記組成物の前記使用溶液が、８〜１２．５のｐＨを有する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記ジカルボン酸が、２〜８の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記溶媒が、１つ又は複数のグリコールエーテルを含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶媒が、グリコールエーテルから選択される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルエーテルを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記グリコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、及びヘキシレングリコールを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記組成物が、約１：２〜約１：１００の組成物の水に対する希釈比で、水で希釈される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
カルサイト石表面を洗浄するための方法であって、
（ａ）使用溶液組成物を前記カルサイト石表面に適用することであって、前記使用溶液が、
０．１〜５質量％のジカルボン酸、
０．１〜５質量％の界面活性剤、
０〜５質量％の溶媒、及び
グリコール共溶媒を含む、適用することと、
（ｂ）前記表面を洗い流し、拭き取り、または擦り洗いすることと、を含む、方法。
【請求項１５】
前記使用溶液が、前記カルサイト石表面を損傷しない、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、請求項１４又は１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記溶媒が、１つ又は複数のグリコールエーテルを含む、請求項１４〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルエーテルを含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記１つ又は複数の共溶媒が、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、またはそれらの組み合わせを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２３】
３〜２０質量％のジカルボン酸、
３〜２５質量％の界面活性剤、
０〜２０質量％溶媒、
グリコール共溶媒、及び
水、を含む、組成物であって、
前記組成物は、９〜１２．５のｐＨを有し、カルサイト石表面での使用に安全である、組成物。
【請求項２４】
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
前記ジカルボン酸が、２〜８の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項２３又は２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項２３〜２５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２７】
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項２３〜２６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２８】
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、請求項２３〜２７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２９】
抗菌剤をさらに含む、請求項２３〜２８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３０】
前記組成物が、発泡体または発泡性組成物である、請求項２３〜２９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３１】
０．１〜５質量％のジカルボン酸、
０．１〜５質量％の界面活性剤、
０〜５質量％の溶媒、
グリコール共溶媒、及び
水、を含む、組成物であって、
前記組成物は、９〜１２．５のｐＨを有する即使用可能溶液であり、カルサイト石表面の使用に安全である、組成物。
【請求項３２】
前記組成物の前記使用溶液が、９．５〜１１のｐＨを有する、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
前記ジカルボン酸が、２〜８の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項３１又は３２に記載の組成物。
【請求項３４】
前記ジカルボン酸が、３〜６の炭素鎖長を有する酸を含む、請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３５】
前記ジカルボン酸が、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３６】
前記組成物が、他の官能基を有するジカルボン酸を含まない、請求項３１〜３５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３７】
抗菌剤をさらに含む、請求項３１〜３６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３８】
前記組成物が、発泡体または発泡性組成物である、請求項３１〜３７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項３９】
請求項２３〜３８に記載の組成物の使用。