【事件の表示】
　特願２０１２−５２５９７３「メトロロジ方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィプロセシングセル、およびメトロロジターゲットを備える基板」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　３月　３日国際公開、ＷＯ２０１１／０２３５１７、平成２５年　１月２４日国内公表、特表２０１３−５０２５９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
 　本願は、２０１０年８月５日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００９年８月２４日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成２５年９月１３日付けで拒絶の理由が通知され、同年１２月１７日付けで意見書が提出されるとともに手続補正がなされたが、平成２６年６月１７日付けで拒絶査定がなされた。
 　本件は、これを不服として、同年１０月９日に請求された拒絶査定不服審判であって、平成２７年１１月１１日の当審の電話応対による審尋に対し、同年１１月２４日に請求人からＦＡＸにより回答があったものである。
　
２　本願発明
　本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２５年１２月１７日付けの手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】
　基板上の複数のターゲットの特性を測定するメトロロジ装置であって、
　放射の照明ビームを放出する放射源と、放射の測定ビームを前記基板上の前記ターゲット上に誘導し、かつ前記ターゲットによって回折した放射を集光する対物レンズと、前記ターゲットのイメージを検出するセンサと、を備え、
　前記各ターゲットは、前記基板上の異なる層にパターン形成された格子を重ね合わせることによって形成され、
　前記放射源、前記対物レンズ及び前記センサは、前記照明ビームが前記ターゲットを同時に照明するように、かつ、前記センサによって検出された前記ターゲットの前記イメージが１つの1次回折ビームによって形成されるように配置され、前記装置は、
　前記センサによって検出された前記イメージ内の前記ターゲットのそれぞれの別個のイメージを特定するイメージプロセッサと、
　前記センサによって検出された単一のイメージから得られた前記各ターゲットの複数の別個のイメージの各々から決定された複数の強度値を比較することにより、特性の測定値を得るコントローラと、をさらに備える、メトロロジ装置。」
　
３　引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前である平成１６年３月１８日に頒布された特表２００４−５０８７１１号公報（以下「引用例」という。）には、次の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
ア　発明の詳細な説明の記載
「【０００１】
【発明の分野】
本発明は一般的には半導体製造プロセスで用いられる重ね合わせ測定技術に関している。より具体的には本発明は、半導体ウェーハスタックの異なるレイヤまたは同じレイヤ上の異なるパターン間のアラインメント誤差を測定するための重ね合わせマークに関している。」
「【００８２】
図９は、本発明の他の実施形態による重ね合わせマーク１３０の上から見た平面図である。例として重ね合わせマーク１３０は図２のマークと対応する。しかし図２のマークとは異なり、重ね合わせマーク１１０は重ね合わせを２つの異なる向きについて測定するように構成されることに注意されたい。よってマーク１３０は重ね合わせが測定されるのに必要な、それぞれの向きのための一つのマークの必要性をなくす。重ね合わせマーク１３０は、ウェーハのテストされるレイヤが完全にアライメントしているときに結果として生じる構成において示されている。重ね合わせマーク１３０は一般に、ウェーハの２つ以上の連続するレイヤ間の、またはウェーハの単一のレイヤ上に別個に生成された２つ以上のパターン間の相対的なズレを決定するのに提供される。議論を簡単にするために、重ね合わせマーク１３０は、基板の異なるレイヤ間の重ね合わせを測定する場合において説明される。しかしこの図の重ね合わせマークはまた、基板の単一のレイヤ上の２以上の個別に生成されたパターンを測定するのに用いられてもよいことに注意されたい。
【００８３】
重ね合わせマーク１３０は、２つの異なる向きにおける２つのウェーハレイヤ間のレジストレーション誤差を決定するための複数のワーキング・ゾーン１３２を含む
【００８４】
議論を進めるために、
ワーキング・ゾーン１３２は、第１ワーキング・グループ１３４および第２ワーキング・グループ１３６にグループ分けされる。第１ワーキング・グループ１３４は、第１方向における重ね合わせ情報を提供するように構成される４つのワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄを含む。例として、第１方向はＹ方向でありえる。４つのワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄのうち、２つのワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤは第１レイヤに設けられ、２つのワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣは第２レイヤに設けられる
第２ワーキング・グループ１３６は、第１方向と垂直な第２方向における重ね合わせ情報を提供するように構成される４つのワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈを含む。例として、第２方向はＸ方向でありえる。４つのワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈのうち、２つのワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨは第１レイヤに設けられ、２つのワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧは第２レイヤに設けられる
【００８５】
理解されるように、グループ１３４および１３６のそれぞれは「Ｘ字」構成のマークを表す（オフセットはあるが）。例えばワーキング・グループ１３４は、同じ第１レイヤ上にあり、互いに対角線上に対向する位置にあるワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤと、同じ第２レイヤ上にあり、互いに対角線上に対向する位置にあるワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣを含む。さらにワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤは、ワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣに対して角度がつけられている。さらに、ワーキング・ゾーン１３２Ａは空間的にワーキング・ゾーン１３２Ｄからオフセットが設けられており、ワーキング・ゾーン１３２Ｂは空間的にワーキング・ゾーン１３２Ｄからオフセットが設けられている。
【００８６】
さらにワーキング・ゾーン１３６は、同じ第１レイヤ上にあり、互いに対角線上に対向する位置にあるワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨと、同じ第２レイヤ上にあり、互いに対角線上に対向する位置にあるワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧを含む。さらにワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨは、ワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧに対して角度がつけられている。さらに、ワーキング・ゾーン１３２Ｅは空間的にワーキング・ゾーン１３２Ｈからオフセットが設けられており、ワーキング・ゾーン１３２Ｆは空間的にワーキング・ゾーン１３２Ｇからオフセットが設けられている。本質的に、この特定のマークは、互いに対角線上にある２つの「Ｘ字」構成のマーク群、つまりワーキング・グループ１９４およびワーキング・グループ１９６を作る。
【００８７】
さらに詳述するなら、あるレイヤ上のワーキング・ゾーンは、一般に他のレイヤ上のワーキング・ゾーンに対して並置される。例えば第１ワーキング・グループにおいて、ワーキング・ゾーン１３２Ａはワーキング・ゾーン１３２Ｂに対して並置され、ワーキング・ゾーン１３２Ｃはワーキング・ゾーン１３２Ｄに対して並置される。同様に、第２ワーキング・グループにおいて、ワーキング・ゾーン１３２Ｅはワーキング・ゾーン１３２Ｈに対して並置され、ワーキング・ゾーン１３２Ｆはワーキング・ゾーン１３２Ｇに対して並置される。２つの並置されたペアのうち、第２レイヤ上のワーキング・ゾーンは典型的には第１レイヤ上のワーキング・ゾーンよりもＦＯＶの中心により近く位置する。例えば、
ワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣおよびワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧはそれぞれ、それらの並置されたワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤおよびワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨよりもＦＯＶ１４４の中心１４２により近く位置する
【００８８】
理解されるように、この特定のマークにおいて、ワーキング・ゾーンの構成は回転対称（マークの中心を軸に±９０、１８０、２７０、３６０度）である。これは典型的には、計測ツールの視野にわたる半径方向および軸方向のバラツキ、例えば、不均一光学収差およびツールに起因するズレ（ＴＩＳ）を起こす照明によって引き起こされる半径方向および軸方向のバラツキの影響を低減するためになされる。半径方向のバラツキとは一般に、マークの中心からマークの外周領域へと広がるバラツキをいう。軸方向のバラツキとは一般に、マークの軸に沿った向きにおいて発生するバラツキをいい、例えばＸ方向においてはマークの左から右の部分へであり、Ｙ方向においてはマークの下から上の部分へである。
【００８９】
ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｈのそれぞれは、複数の粗くセグメント化された線群１４０によって構成される周期的構造１３８を含む
【００９０】
議論を簡単にするために、周期的構造１３８は、第１ワーキング・グループ１３４と関連する第１周期的構造１３８Ａと、第２ワーキング・グループと関連する第２周期的構造１３８Ｂとに分類されえる。示されるように、第１周期的構造１３８Ａはすべて同じ向きに方向づけられている。つまり粗くセグメント化された線群１４０は平行で互いに水平に位置する。第２周期的構造１３８Ｂもすべて同じ向きに方向づけられている（第１周期的構造とは異なるが）。つまり粗くセグメント化された線群１４０は平行で互いに垂直に位置する。よって第１ワーキング・グループ１３４内の周期的構造１３８Ａは、第２ワーキング・グループ１３６内の周期的構造１３８Ｂに対して直交する。
【００９１】
ある実施形態においては、並置される周期的構造の粗くセグメント化された線群は互いにアラインされている。つまりもし異なるレイヤを無視するなら、連続的なグレーティングをなすように見える。例えばワーキング・ゾーン１３２Ａの粗くセグメント化された線は、ワーキング・ゾーン１３２Ｂの粗くセグメント化された線とアラインされ、ワーキング・ゾーン１３２Ｃの粗くセグメント化された線は、ワーキング・ゾーン１３２Ｄの粗くセグメント化された線とアラインされる。さらにワーキング・ゾーン１３２Ｅの粗くセグメント化された線は、ワーキング・ゾーン１３２Ｆの粗くセグメント化された線とアラインされ、ワーキング・ゾーン１３２Ｇの粗くセグメント化された線は、ワーキング・ゾーン１３２Ｈの粗くセグメント化された線とアラインされる。」
「【０１２６】
図１９は、
上述のいずれかのマークにおける重ね合わせを画像化を介して測定するのに用いられる重ね合わせ
計測ツール３２０
マーク内の全ての点が同時に測定されえる
ウェーハ３２４上に配置された
重ね合わせターゲット３２２
【０１２７】
示された実施形態において、光学アセンブリ３２６は、
光３３２を
放射するように構成される光源３３０
光３３２は、対物レンズ３４４に入射し、これは光３３２をウェーハ３２４上に収束させる
【０１２８】
光３３２は、ウェーハ３２４で反射し、それから対物レンズ３４４で集光される
対物レンズ３４４で集光された反射した光３３２は、
重ね合わせターゲット３２２の画像を含む
光３２２が対物レンズ３４４を離れると、
光３３２はそれからチューブレンズ３５０によって集光され、チューブレンズは光３３２をカメラ３５２上に収束させ、カメラはウェーハ３２４の画像を、より具体的にはターゲット３２２の画像を記録する
【０１２９】
システム３２０はさらに、ウェーハ３２４からの画像をグラブするためにコンピュータ３２８およびカメラ３５２とともに動作するフレームグラバ３５４を含む。フレームグラバ３５４は別個の要素として示されているが、フレームグラバ３５４はコンピュータ３２８および／またはカメラ３５２の一部であってもよいことに注意されたい。フレームグラバ３５４は典型的に２つの機能を持つ。すなわちターゲット捕捉および画像グラブである。
ターゲット捕捉のあいだ、フレームグラバ３５４およびコンピュータ３２８はウェーハステージ３５６と協調して、ターゲットをフォーカスが合った状態にし、ターゲットを視野（ＦＯＶ）の中心になるべく近く位置させる。たいていの場合、フレームグラバは複数の画像（例えば重ね合わせを測定するために用いられる画像ではなく）をグラブし、ステージは、ターゲットが正しくＸ、ＹおよびＺ方向に位置するまでウェーハをこれらのグラブ間で動かす。理解されるように、ＸおよびＹ方向は一般に視野（ＦＯＶ）に対応し、一方、Ｚ方向は一般にフォーカスに対応する。いったんフレームグラバがターゲットの正しい位置を決定すると、これらの２つの機能の第２が現実化する（例えば画像をグラブ）。画像グラブの間、フレームグラバ３５４は最終のグラブまたはグラブ群を行い、正しく位置するターゲット画像、すなわち重ね合わせを決定するのに用いられる画像を格納する。
【０１３０】
画像をグラビングしたあと、情報はグラビングされた画像から抽出されてレジストレーション誤差を決定しなければならない。抽出された情報はディジタル情報または波形である。半導体ウェーハのさまざまなレイヤ間のレジストレーション誤差を決定するために、さまざまなアルゴリズムが用いられえる。例えば、周波数領域ベースのアプローチ、空間領域ベースのアプローチ、フーリエ変換アルゴリズム、ゼロクロス検出、相関および相互相関アルゴリズムなどが用いられえる。
【０１３１】
ここで説明されたマーク（例えば周期的構造を含むマーク）を介して重ね合わせを決定するのに提案されるアルゴリズムは一般にいくつかのグループに分類される。例えば一つのグループは位相回復ベースの分析である。周波数領域ベースのアプローチとしてしばしば参照される位相回復ベースの分析は典型的には、周期的構造の線に沿った画素の総和をとることによってワーキング・ゾーンのそれぞれを折り畳むことによって１次元の信号を作り出すことを含む。利用できる位相回復アルゴリズムの例は、Ｂａｒｅｋｅｔに付与された米国特許第６，０２３，３３８号、２０００年６月２２日に出願された米国特許出願第０９／６０３，１２０号（弁護士事件番号ＫＬＡ１Ｐ０２６）、および２０００年９月１日に出願された米国特許出願第０９／６５４，３１８号（弁護士事件番号ＫＬＡ１Ｐ０２９）に記載され、これらの全体がここで参照によって援用される。
【０１３２】
利用できるさらに他の位相回復アルゴリズムは、２０００年１０月２６日に出願された米国特許出願第０９／６９７，０２５号に記載され、これもここで参照によって援用される。これらで開示されている位相回復アルゴリズムは信号を基本信号周波数の高調波のセットに分解する。異なる高調波の振幅および位相の定量的比較によって、信号の対称性およびスペクトル成分に関する重要な情報が提供される。特に同一信号のうちの第１および第２またはさらに高い高調波間の位相差（それらの振幅で校正される）によって、信号の非対称性の度合いが測定できる。そのような非対称性は、プロセスに起因する構造的特徴（ウェーハに起因するズレ）とともに計測ツールにおける光学的ミスアライメントおよび照明の非対称性（ツールに起因するズレ）が大きく貢献する。同じプロセスレイヤ上の視野の異なる部分から捕捉された信号についての第１および第２高調波の位相の間のこのミスレジストレーションによって、計測ツールの光学収差についての独立した情報が提供される。最後に、既知の向きにおける測定からのこれらのミスレジストレーションを、ウェーハを１８０度回転させたあとのそれと比較することによって、非対称性による、ツールに起因するズレとウェーハに起因するズレとを分離することが可能になる。
【０１３３】
利用できるさらに他の位相回復アルゴリズムは、ウェーブレット分析である。ウェーブレット分析は、上の節で説明したこととある程度、類似するが、ダイナミックウィンドウが１次元信号にわたって移動し、位相推定がより局所的に行われる。これはチャープ化された周期的構造の場合に用いられるときに特に興味深い。
【０１３４】
他のグループは強度相関ベースの方法に関する。このアプローチにおいては、それぞれのプロセスレイヤについての対称の中心が、同一のプロセスレイヤからの、ある信号と、マークの反対部分からの反転された信号との相互共分散を計算することによって、別々に見いだされる。この技術は今日、ボックスインボックスのターゲットについて用いられている技術と似ている。
【０１３５】
上記技術は例として挙げられたものであり、これらはテストされ、よいパフォーマンスを示してきた。重ね合わせ計算のための他の代替アルゴリズム方法には、自己および相互相関技術のさまざまな変化形、誤差相関技術、絶対差分の最小化のような誤差最小化技術、差分平方最小化、ゼロクロス検出を含むスレッショルドベースの技術、およびピーク検出が含まれる。また２つの１次元パターン間の最適化マッチングを求めるために用いられえる動的プログラミングアルゴリズムも存在する。上述のように分析アルゴリズムおよびアプローチは、前述のさまざまな重ね合わせマークの全てについて利用されえる。
【０１３６】
重要なことは、上述の概略図およびその説明は限定事項ではなく、重ね合わせ画像システムは多くの他の形態で実施されてもよいことである。例えば、重ね合わせ測定ツールは、
ウェーハの表面上に形成された重ね合わせマーク
重ね合わせ測定ツールは、
ダークフィールド画像化顕微鏡法
を適用してもよい
【０１３７】
図２０Ａは、本発明の実施形態によって重ね合わせを計算する方法３６０を図示する簡略化されたフロー図である。議論を簡単にするために、この方法は図９に示されるマークを用いて説明される。このマークはフロー図の隣の図２０Ｂに示される。方法３６０はステップ３６２で始まり、ここで
キャプチャされた画像からワーキング・ゾーンが選択される。例として、Ｘ方向重ね合わせを計算するために、ワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈが選択され、Ｙ方向重ね合わせを計算するために、ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄが選択される
ワーキング・ゾーンを選択してから、プロセスフローはステップ３６４に進み、ここで選択されたワーキング・ゾーンのそれぞれについて情報を持った信号が生成される
信号を生成したあと、
重ね合わせが信号群を比較することによって決定される
【０１３８】
ある実施形態においては、これは共分散ベースの重ね合わせアルゴリズムを用いて達成され、これは同じプロセスレイヤに属するパターン間の相互相関の計算に基づく。その結果、２つのレイヤの対称の中心が求められ、それらのミスレジストレーションが実質的に重ね合わせである。このアルゴリズムのフロー図は図２１に示される。
【０１３９】
他の実施形態においては、これはフーリエ分解重ね合わせアルゴリズムを用いて達成され、これはグレーティング構造の周期的特徴を利用している。このアルゴリズムは、ターゲットパターンから得られた信号を一連のフーリエ高調波に分解する。グレーティングパターンの正規化ピッチに校正された異なるプロセスレイヤからの同じオーダーの高調波間の位相比較は、重ね合わせ計算の基礎としてはたらく。したがってこのアルゴリズムは、いくつかの独立した重ね合わせ結果−すなわちそれぞれのフーリエオーダーについて一つの結果を提供する。このアルゴリズムのフロー図は図２２に示される。
【０１４０】
図２１は、本発明のある実施形態によって共分散を用いて重ね合わせを計算する方法３７０を図示するフロー図である。例として、方法３７０は図２０Ａのステップ３６６に概ね対応する。方法３７０はステップ３７２で始まり、ここでは信号の相互相関が計算される。これは典型的には対向するワーキング・ゾーンについて行われる。図９のマークについて、信号の相互相関は、ワーキング・ゾーンのペア１３２Ａ対反転された１３２Ｄ、１３２Ｂ対反転された１３２Ｃ、１３２Ｅ対反転された１３２Ｈ、および１３２Ｆ対反転された１３２Ｇについて計算される。信号の相互相関が計算されたあとで、プロセスフローはステップ３７４に進み、ここで相互相関の最大（サブピクセル）の位置が求められる。これは典型的にはレイヤの両方について、すなわちクロスハッチングで表されるレイヤ１、およびクロスハッチングなしで表されるレイヤ２についてなされる。相互相関最大の位置が求められたあと、プロセスフローはステップ３７６に進み、ここで相互相関の最大位置の間の差分を計算することによって重ね合わせが決定される。例えば、ワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨ（レイヤ１）−ワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧ（レイヤ２）の相互相関最大の間の差分は、Ｘ方向のミスレジストレーションを決定する。さらに、ワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤ（レイヤ１）−ワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣ（レイヤ２）の相互相関最大の間の差分は、Ｙ方向のミスレジストレーションを決定する。
【０１４１】
図２２は、本発明のある実施形態によってフーリエ分解を用いて重ね合わせを計算する方法３８０を図示するフロー図である。例として、方法３８０は図２０Ａのステップ３６６に概ね対応する。方法３８０はステップ３８２で始まり、ここで信号はフーリエ級数にあてはめられ、それらの位相が抽出される。あてはめられ、抽出されたあと、プロセスフローはステップ３８４に進み、ここで並置されたワーキング・ゾーン間の位相差が求められる。例えばＹ方向においては、位相差はワーキング・ゾーン１３２Ａおよび１３２Ｂの間として求められ、同様にワーキング・ゾーン１３２Ｃおよび１３２Ｄの間として求められる。さらにＸ方向においては、位相差はワーキング・ゾーン１３２Ｅおよび１３２Ｆの間として求められ、同様にワーキング・ゾーン１３２Ｇおよび１３２Ｈの間として求められる。位相差が求められたあと、プロセスフローはステップ３８６に進み、ここで与えられた向きについての前のステップの位相差間の差分を計算することによって重ね合わせが決定される。例えばワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＦの位相差と、ワーキング・ゾーン１３２ＧおよびＨの位相差との間の差分の平均はＸ方向におけるミスレジストレーションを決定する。さらにワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＢの位相差と、ワーキング・ゾーン１３２ＣおよびＤの位相差との間の差分の平均はＹ方向におけるミスレジストレーションを決定する。レイヤの位置に対応するデータを得るために、位相差はピッチによって乗算され、２πによって除算される。」
イ　図面の記載
「【図９】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図１９】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図２０Ａ】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図２０Ｂ】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
ウ　引用例の記載事項の考察
ａ　引用例の【０１２６】の「図１９は、上述のいずれかのマークにおける重ね合わせを画像化を介して測定するのに用いられる重ね合わせ測定システムまたは計測ツール３２０の簡略化された概略図である。」との記載、及び、「すなわちマーク内の全ての点が同時に測定されえる。」との記載のそれぞれ「上述のいずれかのマーク」、及び、「マーク」には、図９に示された重ね合わせマーク１３０が含まれることは明らかである。
ｂ　引用例の【０１２６】の「図１９は、上述のいずれかのマークにおける重ね合わせを画像化を介して測定するのに用いられる重ね合わせ測定システムまたは計測ツール３２０の簡略化された概略図である。」との記載、同じく「コンピュータは一般に、キャプチャされた画像から重ね合わせターゲットの要素の相対的ズレを計算するように構成される。」との記載、同じく「ウェーハ３２４上に配置された一つ以上の重ね合わせターゲット３２２」との記載、【０１３６】の「ウェーハの表面上に形成された重ね合わせマーク」との記載、図９、図１９等の記載から見て、引用例に記載された「ターゲット」は「マーク」を含むものであると認められる。
エ　引用例記載の発明
　上記ア及びイの記載事項並びに上記ウの考察によると、引用例には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「ウェーハ３２４の表面上に形成された重ね合わせマーク１３０における重ね合わせを画像化を介して測定するのに用いられ、重ね合わせマーク１３０内の全ての点が同時に測定され、ダークフィールド画像化顕微鏡法を適用した、重ね合わせ測定ツール３２０であって、
光３３２を放射するように構成される光源３３０を備え、
ウェーハ３２４の表面上に形成された重ね合わせマーク１３０は、２つの異なる向きにおける２つのウェーハレイヤ間のレジストレーション誤差を決定するための複数のワーキング・ゾーン１３２を含み、
ワーキング・ゾーン１３２は、第１ワーキング・グループ１３４および第２ワーキング・グループ１３６にグループ分けされ、
第１ワーキング・グループ１３４は、Ｙ方向における重ね合わせ情報を提供するように構成される４つのワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄを含み、４つのワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄのうち、２つのワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤは第１レイヤに設けられ、２つのワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣは第２レイヤに設けられ、
第２ワーキング・グループ１３６は、Ｘ方向における重ね合わせ情報を提供するように構成される４つのワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈを含み、４つのワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈのうち、２つのワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨは第１レイヤに設けられ、２つのワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧは第２レイヤに設けられ、
ワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣおよびワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧはそれぞれ、それらの並置されたワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤおよびワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨよりもＦＯＶ１４４の中心１４２により近く位置し、
ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｈのそれぞれは、複数の粗くセグメント化された線群１４０によって構成される周期的構造１３８を含み、
光源３３０が放射した光３３２は、対物レンズ３４４に入射し、光３３２をウェーハ３２４上に収束させ、光３３２はウェーハ３２４で反射し、それから対物レンズ３４４で集光され、対物レンズ３４４で集光された反射した光３３２は、重ね合わせターゲット３２２の画像を含み、光３３２が対物レンズ３４４を離れると、光３３２はチューブレンズ３５０によって集光され、チューブレンズは光３３２をカメラ３５２上に収束させ、カメラ３５２はウェーハ３２４上に配置されたターゲット３２２の画像を記録し、
キャプチャされた画像からワーキング・ゾーン１３２が選択され、Ｘ方向重ね合わせを計算するために、ワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈが選択され、Ｙ方向重ね合わせを計算するために、ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄが選択され、
ワーキング・ゾーン１３２を選択してから、選択されたワーキング・ゾーン１３２のそれぞれについて情報を持った信号が生成され、
信号を生成したあと、重ね合わせが信号群を比較することによって決定される、
重ね合わせ測定ツール３２０。」
　
４　対比
　以下、本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「ウェーハ３２４」、「ワーキング・ゾーン１３２」、「光３３２」、「光源３３０」、「対物レンズ３４４」、「カメラ３５２」、「２つのウェーハレイヤ」、「重ね合わせ」並びに「重ね合わせ測定ツール３２０」は、本願発明の「基板」、「ターゲット」、「照明ビーム」及び「測定ビーム」、「放射源」、「対物レンズ」、「センサ」、「異なる層」、「特性の測定値」並びに「メトロロジ装置」にそれぞれ相当する。
（２）引用発明の「重ね合わせマーク１３０」は、「複数のワーキング・ゾーン１３２を含」むものであるから、引用発明の「ウェーハ３２４の表面上に形成された重ね合わせマーク１３０における重ね合わせを画像化を介して測定するのに用いられ」る「重ね合わせ測定ツール３２０」は、本願発明の「基板上の複数のターゲットの特性を測定するメトロロジ装置」に相当する。
（３）引用発明の「光３３２を放射するように構成される光源３３０を備え」る構成は、本願発明の「放射の照明ビームを放出する放射源」「を備え」る構成に相当する。
（４）引用発明の「ターゲット３２２」は「ウェーハ３２４上に配置され」ており、引用発明の「光３３２をウェーハ３２４上に収束させ」る構成は、本願発明の「放射の測定ビームを前記基板上の前記ターゲット上に誘導」する構成に相当することは明らかであるから、引用発明の「光源３３０が放射した光３３２は、対物レンズ３４４に入射し、光３３２をウェーハ３２４上に収束させ、光３３２はウェーハ３２４で反射し、それから対物レンズ３４４で集光され」る構成と、本願発明の「放射の測定ビームを前記基板上の前記ターゲット上に誘導し、かつ前記ターゲットによって回折した放射を集光する対物レンズ」「を備え」る構成とは、「放射の測定ビームを前記基板上の前記ターゲット上に誘導し、かつ前記ターゲットからの放射を集光する対物レンズ」「を備え」る構成で一致する。
（５）引用発明の「カメラ３５２はウェーハ３２４上に配置されたターゲット３２２の画像を記録」する構成は、本願発明の「ターゲットのイメージを検出するセンサ」「を備え」る構成に相当する。
（６）引用発明の「ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｈのそれぞれは、複数の粗くセグメント化された線群１４０によって構成される周期的構造１３８を含」むものであるから、本願発明の「パターン形成された格子」に相当する構成を有するものである。
　そうすると、引用発明の「ウェーハ３２４の表面上に形成された重ね合わせマーク１３０は、２つの異なる向きにおける２つのウェーハレイヤ間のレジストレーション誤差を決定するための複数のワーキング・ゾーン１３２を含み、ワーキング・ゾーン１３２は、第１ワーキング・グループ１３４および第２ワーキング・グループ１３６にグループ分けされ、第１ワーキング・グループ１３４は、Ｙ方向における重ね合わせ情報を提供するように構成される４つのワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄを含み、４つのワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄのうち、２つのワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤは第１レイヤに設けられ、２つのワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣは第２レイヤに設けられ、第２ワーキング・グループ１３６は、Ｘ方向における重ね合わせ情報を提供するように構成される４つのワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈを含み、４つのワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈのうち、２つのワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨは第１レイヤに設けられ、２つのワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧは第２レイヤに設けられ、」「ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｈのそれぞれは、複数の粗くセグメント化された線群１４０によって構成される周期的構造１３８を含」む構成は、本願発明の「各ターゲットは、前記基板上の異なる層にパターン形成された格子を重ね合わせることによって形成され」る構成に相当する。
（７）引用発明は、「重ね合わせマーク１３０内の全ての点が同時に測定され、」「ワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣおよびワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧはそれぞれ、それらの並置されたワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤおよびワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨよりもＦＯＶ１４４の中心１４２により近く位置」するものであるから、本願発明の「照明ビームが前記ターゲットを同時に照明する」ことに相当する構成を有するものといえる。
　そうすると、引用発明は、「重ね合わせマーク１３０内の全ての点が同時に測定され、」「ワーキング・ゾーン１３２ＢおよびＣおよびワーキング・ゾーン１３２ＦおよびＧはそれぞれ、それらの並置されたワーキング・ゾーン１３２ＡおよびＤおよびワーキング・ゾーン１３２ＥおよびＨよりもＦＯＶ１４４の中心１４２により近く位置」し、「光源３３０が放射した光３３２は、対物レンズ３４４に入射し、光３３２をウェーハ３２４上に収束させ、光３３２はウェーハ３２４で反射し、それから対物レンズ３４４で集光され、対物レンズ３４４で集光された反射した光３３２は、重ね合わせターゲット３２２の画像を含み、光３３２が対物レンズ３４４を離れると、光３３２はチューブレンズ３５０によって集光され、チューブレンズは光３３２をカメラ３５２上に収束させ、カメラ３５２はウェーハ３２４上に配置されたターゲット３２２の画像を記録」する構成を有するものであるから、本願発明の「放射源、前記対物レンズ及び前記センサは、前記照明ビームが前記ターゲットを同時に照明するように、かつ、前記センサによって検出された前記ターゲットの前記イメージが」「形成されるように配置され」たことに相当する構成を有する。
（８）引用発明は、「キャプチャされた画像からワーキング・ゾーン１３２が選択され、Ｘ方向重ね合わせを計算するために、ワーキング・ゾーン１３２Ｅ〜Ｈが選択され、Ｙ方向重ね合わせを計算するために、ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｄが選択され」るものであるから、本願発明の「センサによって検出された前記イメージ内の前記ターゲットのそれぞれの別個のイメージを特定するイメージプロセッサ」に相当するものを有する。
（９）引用発明の「キャプチャされた画像」は、本願発明の「単一のイメージ」に相当する。
　また、平成２７年１１月２４日にＦＡＸにより送付された、
「現請求項１における「(単一のイメージから得られた前記各ターゲットの)複数の別個のイメージ」とは、本願明細書(００４９)段落に「１度の露光で複数のターゲットイメージを得ることによって、スループットが増加する」と記載されているように、「１度の露光」で得られた「複数のターゲットイメージ」を意味するとのことです。例えば、本願明細書(００４４)段落及び図５に記載された「(１次回折ビームのうちの１つから得た)格子３２〜３５のイメージ」や、本願明細書(００４８)段落及び図１０に記載された「格子の別個のイメージ９２〜９５」がそれに対応するようです。」
という回答に照らせば、引用発明の「選択されたワーキング・ゾーン１３２のそれぞれについて情報を持った信号」は、本願発明の「各ターゲットの複数の別個のイメージの各々から決定された」「強度値」に相当する。
　そうすると、引用発明の「ワーキング・ゾーン１３２を選択してから、選択されたワーキング・ゾーン１３２のそれぞれについて情報を持った信号が生成され、信号を生成したあと、重ね合わせが信号群を比較することによって決定される」構成は、本願発明の「センサによって検出された単一のイメージから得られた前記各ターゲットの複数の別個のイメージの各々から決定された複数の強度値を比較することにより、特性の測定値を得るコントローラ」「をさらに備える」構成に相当する。
　上記（１）及び（９）から、本願発明と引用発明は、
「基板上の複数のターゲットの特性を測定するメトロロジ装置であって、
　放射の照明ビームを放出する放射源と、放射の測定ビームを前記基板上の前記ターゲット上に誘導し、かつ前記ターゲットからの放射を集光する対物レンズと、前記ターゲットのイメージを検出するセンサと、を備え、
　前記各ターゲットは、前記基板上の異なる層にパターン形成された格子を重ね合わせることによって形成され、
　前記放射源、前記対物レンズ及び前記センサは、前記照明ビームが前記ターゲットを同時に照明するように、かつ、前記センサによって検出された前記ターゲットの前記イメージが形成されるように配置され、前記装置は、
　前記センサによって検出された前記イメージ内の前記ターゲットのそれぞれの別個のイメージを特定するイメージプロセッサと、
　前記センサによって検出された単一のイメージから得られた前記各ターゲットの複数の別個のイメージの各々から決定された複数の強度値を比較することにより、特性の測定値を得るコントローラと、をさらに備える、メトロロジ装置。」で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点）
「前記ターゲットからの放射」が、本願発明では、「前記ターゲットによって回折した」ものであり、かつ、「センサによって検出された前記ターゲットの前記イメージが１つの１次回折ビームによって形成される」のに対し、引用発明では、「ウェーハ３２４で反射した」ものであって、回折したものか否かが不明であり、かつ、「カメラ３５２」により「記録」される「ウェーハ３２４上に配置されたターゲット３２２の画像」は、「ウェーハ３２４で」「反射した光３３２」によるものである点。
　　
５　当審の判断
　以下、上記相違点について検討する。
　暗視野観察法において、１つの１次回折ビームを用いてイメージを観察することは周知技術であり、引用発明は、「ダークフィールド画像化顕微鏡法を適用した、重ね合わせ測定ツール３２０」において、「光３３２をカメラ３５２上に収束させ、カメラ３５２はウェーハ３２４上に配置されたターゲット３２２の画像を記録」するものであり、また、「ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｈのそれぞれは、複数の粗くセグメント化された線群１４０によって構成される周期的構造１３８を含」むものであるから、引用発明において、「カメラ３５２上に収束させ」る「光３３２」として、「ワーキング・ゾーン１３２Ａ〜Ｈ」によって回折した１つの１次回折ビームを用いることにより、上記相違点に係る本願発明の発明特定事項を得ることに、格別の困難性も阻害要因もない。
　
　上記相違点については以上のとおりであり、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測できる範囲内のものと認められる。
　よって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。