【手続補正書】
【提出日】令和2年3月3日(2020.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的に粒子ビームを送達する方法であって、前記粒子ビームが複数の制御点において出力器から送達され、ほぼ連続的な粒子ビームを複数の制御点を中心に送達することを含む方法。
【請求項２】
制御点の初期セットを特定することと、
最適化されたビームの第１の群の各々のビームが、第１の制御点で出力され、１つ以上のモニタユニット（ＭＵ）に関連付けられた１つ以上のエネルギー層に向けられるように構成されていることを特徴とする、前記最適化されたビームの第１の群を提供することと、
閾値ＭＵより低いＭＵに関連した前記最適化されたビームの第１の群の中でエネルギー層を低減することと、
最適化されたビームの第２の群の最適化されたビームの各々が、前記第１の制御点で出力され、低減したエネルギー層の数を有するように構成されていることを特徴とする、前記最適化されたビームの第２の群を提供することと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記初期制御点の数を増加することと、
前記複数の制御点の間で前記ビームが移動する間に前記初期制御点に関連するエネルギー層の総数と同数か、又はそれ未満であるエネルギー層の総数を維持することと、
をさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記制御点の数を増加することが、各制御点を少なくとも２つの隣接する制御点に分割することを含み、第１及び第２の隣接する制御点の各々が、前記制御点のエネルギー層と同数であるエネルギー層の総数を有する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記初期制御点の数を増加することが、各制御点を第１の隣接制御点及び第２の隣接制御点、又は３つ以上の隣接制御点に分割することを含み、前記第１の隣接制御点及び第２の隣接制御点が、前記制御点のエネルギー層の数より小さいか、又は大きいエネルギー層の総数を有する、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記初期制御点の数を増加することが、１つ以上の隣接制御点を各初期制御点に追加することを含み、前記隣接制御点が前記エネルギー層の総数、又は前記初期制御点のＭＵの分数を有する、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の制御点のうち少なくとも２つを調節しながら前記最適化されたビームの第１の群の少なくとも１つのエネルギー層を切替えることをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも２つの制御点において、１つ以上のビームをエネルギー層へ送達することと、
前記複数の制御点のうち少なくとも２つを調節しながら前記最適化されたビームの第１の群の少なくとも１つのエネルギー層を切替えることと、
をさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも２つの制御点において、１つ以上のビームをエネルギー層へ送達することと、
エネルギー層を切替え、少なくとも１つの前記エネルギー層の１つ以上に関連付けられたスポットへの前記送達を調整することと、
をさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
予め選択された制御点サンプリング頻度を特定すること、及び前記予め選択された制御点サンプリング頻度に基づき前記制御点を導き出すことをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記制御点及び前記制御点サンプリング頻度のうち１つ又は両方に基づいてエネルギー層を予め定義することと、
前記エネルギー層を分類することと、
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
エネルギー層の範囲を有する制御点ゾーンを画定することと、
前記制御点ゾーンに制御点を割り当てることと、
前記制御点ゾーン及び前記制御点に基づき計画品質を最適化することと、
をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記制御点の中で前記粒子ビームの送達を最適化することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ビームが少なくとも２つの隣接制御点の中の１つ以上のエネルギー層に向けられており、最適化のステップが、（ｉ）前記少なくとも２つの隣接制御点のうち一方のエネルギーレベルと前記少なくとも２つの隣接制御点のうち他方の前記エネルギーレベルとの間の差が、エネルギーレベルの差の閾値より低いとき、又は、（ｉｉ）前記少なくとも２つの隣接制御点のうち一方のモニタユニットと前記少なくとも２つの隣接制御点のうち他方の前記モニタユニットとの間の差が、モニタユニット差の閾値より低いとき、のうち１つ又は両方であるときに、前記少なくとも２つの隣接制御点を組み合わせることを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
（ｉ）ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する標的の周りの１つ以上のスポットを除去するためのスポット低減機構、（ｉｉ）ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有するターゲットの周りの１つ以上のエネルギー層を除去するためのエネルギー層低減、（ｉｉｉ）制御点再サンプリング、（ｉｖ）前記制御点の中でのエネルギー層再分配、（ｖ）スポット送達シーケンスの再分配又は再構成、若しくはそれらの組合せ、のうち少なくとも１つを利用することによって前記送達を最適化することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
（ｉ）ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する標的の周りの１つ以上のスポットを除去するためのスポット低減機構、（ｉｉ）ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有するターゲットの周りの１つ以上のエネルギー層を除去するためのエネルギー層低減、（ｉｉｉ）制御点再サンプリング、（ｉｖ）前記制御点の間でのエネルギー層再分配、（ｖ）スポット送達シーケンスの再分配又は再構成、若しくはそれらの組合せ、のうち少なくとも１つを再度利用することによって前記送達をさらに最適化することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
スポット低減機構を利用して、ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する前記標的の周りの１つ以上のスポットを除去することによって前記送達を最適化することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
エネルギー層低減を利用して、ＭＵ閾値の、又はＭＵ閾値未満のＭＵを有する前記標的の周りの１つ以上のエネルギー層を除去することによって前記送達を最適化することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
制御点再サンプリングを利用することによって前記送達を最適化することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
制御点再サンプリングをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
前記制御点の間でエネルギー層の再分配することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２２】
スポット送達シーケンスの再分配又は再構成、若しくはそれらの組み合せをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
前記ＭＵ閾値が（ｉ）計画内のスポットＭＵ、（ｉｉ）エネルギー層、（ｉｉｉ）衝撃角、及び（ｉｖ）それらの組合せのうち１つ、又はいくつか、又はすべての最下部、すなわち１０％として定義される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２４】
前記スポット低減機構が、前記最適化のステップの間に、前記低いＭＵスポット、又はラインを連続的に、同時的に、又はランダムに除去し、エネルギー層のフィルタリング後、又は前記エネルギー層フィルタリングとの一体化の後に、すなわち１０％のスポットのフィルタを定義できるようにする、請求項１５に記載の方法。
【請求項２５】
前記送達方法が複数の予め生成された計画の中からユーザによって選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記複数の予め生成された計画が、異なる計画パラメータ、計画品質、及び送達効率への変動に少なくとも部分的に基づき生成されている、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記複数の予め生成された計画が、前記各計画の目標値、各個別の目的関数、又は異なる機械（例えば、固定ガントリ、フルガントリ、シンクロトロン又はサイクロトロンマシン）の送達時間、又はパラメータ（エネルギー層番号、スポット番号又はＭＵ）に少なくとも部分的に基づき生成されている、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記陽子ビームを送達するステップが、磁石を用いて前記陽子ビームの中心位置を調整して、たわみ及びアイソシフトの一方又は両方を補正するサブステップを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２９】
前記補正ステップが、ルックアップテーブルを使用して（ｉ）適切な電磁コイル電流、（ｉｉ）イオン化チャンバの信号位置、（ｉｉｉ）ガントリ角度、及び（ｉｖ）これらの組合せの１つ以上を特定する、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記制御点がガントリを介して調整されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
前記制御点が前記患者位置の調整を介して調整されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３２】
前記患者位置が治療台又は椅子によって調整されている、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記制御点が、（ｉ）ガントリ、（ｉｉ）治療台、（ｉｉｉ）前記の組合せの調整のうち少なくとも１つによって調整されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３４】
前記ほぼ連続的な粒子ビームを送達しながら画像を同時に取得することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３５】
前記粒子ビームが、前記患者及び前記送達手段に対するいずれのケースも（ｉ）非共平面の方法、及び（ｉｉ）非アイソセンタの方法のうち１つ以上の方法で送達される、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
第１の制御点１，１２４を分割した後、第１及び第２の新たな制御点１２４のそれぞれは、Ｎが偶数である場合、下の式に基づいて計算されるビームエネルギーを有する。
2019507658.tif 000001
2019507658.tif 000002
第１及び第２の新たな制御点１２４に対するビームエネルギーは、Ｎが奇数の場合、下の式に基づいて計算され得る。
2019507658.tif 000003
2019507658.tif 000004
ここで、Ｎはエネルギー層の総数である。