【手続補正書】
【提出日】令和2年3月19日(2020.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１本又は複数本の電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源と、
基板をしっかり保持するよう構成されており第１アライメントフィーチャを有するサンプルステージと、
一組の電子光学素子を有する電子光学カラムであり、当該一組の電子光学素子が電子光学レンズとその電子光学レンズの下部に実装されたアライメントプレートとを含み、当該電子光学レンズが第２アライメントフィーチャを有し、当該アライメントプレートが第３アライメントフィーチャを有する電子光学カラムと、
検出器アセンブリと、
上記電子光学カラムの上記１個又は複数個の素子及び上記サンプルステージのうち少なくとも１個に可通信結合された、メモリに記憶されたプログラム命令の組を実行する１または複数のプロセッサを含むコントローラであり、前記１または複数のプロセッサは、当該電子光学カラムの当該１個又は複数個の素子及び当該サンプルステージのうち少なくとも１個を調整することで上記１本又は複数本の電子ビームを上記第１アライメントフィーチャ、上記第２アライメントフィーチャ及び上記第３アライメントフィーチャのうち少なくとも１個に対し整列させるよう構成されているコントローラと、
を備える走査型電子顕微鏡システム。
【請求項２】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記検出器アセンブリが二次電子検出器及び後方散乱電子検出器のうち少なくとも一方を備える走査型電子顕微鏡システム。
【請求項３】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記電子光学カラムが一組の電子光学素子を有する走査型電子顕微鏡システム。
【請求項４】
請求項３に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記電子光学素子が、
コンデンサレンズ、１個又は複数個の走査素子、アパーチャ及び対物レンズのうち少なくとも１個を含む走査型電子顕微鏡システム。
【請求項５】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記電子光学レンズが、
対物系及びコンデンサのうち少なくとも一方を含む走査型電子顕微鏡システム。
【請求項６】
請求項５に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記対物系が最終対物系を構成している走査型電子顕微鏡システム。
【請求項７】
請求項５に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記第２アライメントフィーチャが上記対物系のアパーチャ付近に配置されている走査型電子顕微鏡システム。
【請求項８】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記第１アライメントフィーチャが一組のアライメントマークであり上記サンプルステージ上に所在している走査型電子顕微鏡システム。
【請求項９】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記アライメントプレートが、
グリッド、格子、ディスク及びリングのうち少なくとも１個を構成している走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１０】
請求項９に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記第３アライメントフィーチャが一組のアライメントマークであり上記アライメントプレート上に所在している走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１１】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記サンプルステージが、
リニアサンプルステージ及び回動サンプルステージのうち少なくとも一方を備える走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１２】
請求項１に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、更に、
干渉計システムを備える走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記干渉計システムが、ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向のうち少なくとも一方向におけるサンプルステージ及び電子光学カラムの相対位置変化を計測するよう構成されている走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１４】
請求項１２に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記電子光学カラムが上記干渉計システムと同期化される走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１５】
１本又は複数本の電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源と、
基板をしっかり保持するよう構成されたサンプルステージであり、位置を調整することでその基板上に上記電子ビームを合焦させるよう構成されているサンプルステージと、
参照ターゲットと、
一組の電子光学素子を有する電子光学カラムであり、当該一組の電子光学素子が電子光学レンズを含み、上記参照ターゲット及び上記基板上に同時に合焦するよう当該一組の電子光学素子を構成可能な電子光学カラムと、
検出器アセンブリと、
上記電子光学カラムの上記１個又は複数個の素子及び上記サンプルステージのうち少なくとも１個に可通信結合された、メモリに記憶されたプログラム命令の組を実行する１または複数のプロセッサを含むコントローラであり、前記１または複数のプロセッサは、当該電子光学カラムの当該１個又は複数個の素子及び当該サンプルステージのうち少なくとも１個を調整することで上記１本又は複数本の電子ビームを上記参照ターゲット及び上記基板のうち少なくとも一方に整列させるよう、或いは当該参照ターゲット及び基板上に同時に合焦させるよう構成されているコントローラと、
を備える走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１６】
請求項１５に記載の走査型電子顕微鏡システムであって、上記参照ターゲット及び上記基板上に上記電子光学素子を同時に合焦させることで、いずれかの焦点面における像ドリフト及びいずれかの焦点面における像ジッタの証拠となる最終像を生成する走査型電子顕微鏡システム。
【請求項１７】
電子ビームドリフト補償方法であって、
サンプルステージ上に基板をしっかり保持させるステップと、
電子光学カラム及びサンプルステージを整列させるステップと、
上記電子光学カラムをステージ干渉計システムに同期させるステップと、
１本又は複数本の電子ビームを１個又は複数個のアライメントフィーチャに対し整列させるステップと、
を有し、前記少なくとも１個のアライメントフィーチャは、対物レンズに配置される、方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、１本又は複数本の電子ビームを１個又は複数個のアライメントフィーチャに対し整列させるステップは、
１本又は複数本の電子ビームを前記サンプルステージ上に配置されたアライメントマークの組に対し整列させる、方法。
【請求項１９】
請求項１７に記載の方法であって、１本又は複数本の電子ビームを１個又は複数個のアライメントフィーチャに対し整列させるステップは、
１本又は複数本の電子ビームをアライメントプレート上に配置されたアライメントマークの組に対し整列させる、方法。
【請求項２０】
請求項１７に記載の方法であって、更に、
上記基板について１回又は複数回の計測を実行するステップと、
１本又は複数本の電子ビームを前記サンプルプレート上に配置されたアライメントマークの組、対物レンズ近傍に配置されたアライメントマークの組及びアライメントプレート上に配置されたアライメントマークの組のうち少なくとも１個に対し整列させるステップと、
を有する方法。
【請求項２１】
電子ビームドリフト補償方法であって、
サンプルステージ上に基板をしっかり保持させるステップと、
電子光学カラム、サンプルステージ及び参照ターゲットを整列させるステップと、
上記電子光学カラムをステージ干渉計システムに同期させるステップと、
電子ビームを上記基板及び上記参照ターゲット上に同時に合焦させるステップと、
を有する方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法であって、更に、
上記基板について１回又は複数回の計測を実行するステップと、
１本又は複数本の電子ビームを上記基板及び参照ターゲットのうち少なくとも一方に対し整列させるステップと、
を有する方法。