【手続補正書】
【提出日】令和2年10月12日(2020.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ろ過膜を調製する方法であって、
助溶媒と第１の有機溶媒との混合物中に統計コポリマーを溶解させることによりコポリマー溶液を提供する工程、
前記コポリマー溶液を多孔質支持層上にコーティングして支持層上にポリマー層を形成する工程、
前記支持層上のポリマー層を凝固させて薄膜複合膜を形成する凝固工程、及び
前記薄膜複合膜を水浴中に浸漬してろ過膜を得る浸漬工程、
を含み、
前記コポリマー溶液は、統計コポリマーを１〜９９ｗ／ｖ％、助溶媒を１〜９９ｖ／ｖ％、及び第１の有機溶媒を１〜９９ｖ／ｖ％で含み、
前記統計コポリマーは、双性イオン繰り返し単位及び疎水性繰り返し単位を含み、前記双性イオン繰り返し単位は統計コポリマーの１５〜７５質量％を構成し、前記疎水性繰り返し単位は統計コポリマーの２５〜８５質量％を構成し、かつ疎水性繰り返し単位は０℃以上のガラス転移温度を有するホモポリマーを形成することができ、さらに
前記助溶媒は水及び前記第１の有機溶媒の両方と混和性を有する、方法。
【請求項２】
前記助溶媒は、イオン液体、界面活性剤分子、又は第２の有機溶媒である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記助溶媒は１００℃又はそれより低い温度で液状である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記助溶媒は室温又はそれより低い温度で液状である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記助溶媒はイオン液体である、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記イオン液体は、アンモニウム、イミダゾリウム、ピペリジニウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、ホスホニウム、スルホニウム、グアニジニウム、ジエタノールアンモニウム、アルキルアンモニウム、アルキルイミダゾリウム、アルキルピペリジニウム、アルキルピリジニウム、アルキルピロリジニウム、アルキルホスホニウム、アルキルスルホニウム、アルキルグアニジニウム、及びアルキルジエタノールアンモニウムからなる群より選択される１つ又は複数のカチオンと、ニトラート、スルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、アルキルスルホナート、フルオロアルキルスルホナート、スルファート、メチルスルファート、アルキルスルファート、フルオロアルキルスルファート、ホスファート、メチルホスファート、アルキルホスファート、フルオロアルキルホスファート、ホスフィナート、メチルホスフィナート、アルキルホスフィナート、フルオロアルキルホスフィナート、ハロゲン、トリフルオロメタンスルホナート、ジヒドロゲンホスファート、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、アルキルイミド、アルキルアミド、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスファート、ホルマート、アセタート、トリフルオロアセタート、ジシアナミド、デカノアート、アルキルメチド、及びアルキルボラートからなる群より選択される１つ又は複数のアニオンとを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記イオン液体は、硝酸エチルアンモニウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムエチルスルファート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−ブチルピリジニウムブロミド、及び２−ヒドロキシエチル−ジメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナートからなる群より選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記助溶媒は、前記コポリマー溶液中の統計コポリマーの自己組織化を変更する、請求項２に記載の方法。
【請求項９】
前記助溶媒は界面活性剤分子である、請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記界面活性剤分子は、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、第四級アンモニウム、イミダゾリウム、ピペリジニウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、又はホスホニウムから形成されるカチオン基と、スルファート、スルホナート、ホスファート、カルボキシラート、ニトラート、及びスルホスクシナートからなる群より選択されるアニオン基とを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記界面活性剤分子は、直鎖アルキルベンゼンスルホナート、リグニンスルホナート、脂肪族アルコールエトキシレート、アルキルフェニルエトキシレート、リン脂質、ホスファチジルセリン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルコリン、及びスフィンゴミエリンからなる群より選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記助溶媒は、トリフロオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ジオキサン、クロロホルム、ジクロロメタン、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、２−ブタノール、２−ブタノン、メタノール、及びエタノールからなる群より選択される第２の有機溶媒である、請求項２に記載の方法。
【請求項１３】
前記コポリマー溶液は、統計コポリマーを１〜５０ｗ／ｖ％、助溶媒を１〜８０ｖ／ｖ％、及び第１の有機溶媒を２０〜９９ｖ／ｖ％で含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記コポリマー溶液は、統計コポリマーを３〜３０ｗ／ｖ％、助溶媒を５〜４９ｖ／ｖ％、及び第１の有機溶媒を５１〜９５ｖ／ｖ％で含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記双性イオン繰り返し単位は統計コポリマーの２０〜７０質量％を構成し、前記疎水性繰り返し単位は統計コポリマーの３０〜８０質量％を構成し、かつ疎水性繰り返し単位は室温以上のガラス転移温度を有するホモポリマーを形成することができる、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記双性イオン繰り返し単位は統計コポリマーの３０〜５０質量％を構成し、前記疎水性繰り返し単位は統計コポリマーの５０〜７０質量％を構成する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記双性イオン繰り返し単位は、各々独立して、スルホベタイン、カルボキシベタインホスホリルコリン、又はピリジニウムアルキルスルホナートを含み、かつ前記疎水性繰り返し単位は、各々独立して、スチレン、フッ素化スチレン、メチルメタクリラート、アクリルニトリル、又はトリフルオロエチルメタクリラートから形成される、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記双性イオン繰り返し単位は、各々独立して、スルホベタインアクリラート、スルホベタインアクリルアミド、ホスホリルコリンアクリラート、ホスホリルコリンアクリルアミド、ホスホリルコリンメタクリラート、カルボキシベタインアクリラート、カルボキシベタインメタクリラート、カルボキシベタインアクリルアミド、３−（２−ビニルピリジニウム−１−イル）プロパン−１−スルホナート、３−（２−ビニルピリジニウム−１−イル）ブタン−１−スルホナート、３−（４−ビニルピリジニウム−１−イル）プロパン−１−スルホナート、又はスルホベタインメタクリラートから形成され、かつ前記疎水性繰り返し単位は、各々独立して、メチルメタクリラート、アクリルニトリル、又はトリフルオロエチルメタクリラートから形成される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記統計コポリマーは、ポリ（（トリフルオロエチルメタクリラート）−ｒ−（スルホベタインメタクリラート））、ポリ（（メチルメタクリラート）−ｒ−（スルホベタインメタクリラート））、ポリ（（トリフルオロエチルメタクリラート）−ｒ−（３−（２−ビニルピリジニウム−１−イル）プロパン−１−スルホナート））、ポリ（（トリフルオロエチルメタクリラート）−ｒ−（ホスホリルコリンメタクリラート）、又はポリ（（トリフルオロエチルメタクリラート）−ｒ−（３−（２−ビニルピリジニウム−１−イル）ブタン−１−スルホナート））である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１の有機溶媒は、トリフロオロエタノール、ジメチルスルホキシド、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサフルオロイソプロパノール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、ジオキサン、トルエン、クロロホルム、ベンゼン、四塩化炭素、クロロベンゼン、１，１，２−トリクロロエタン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、キシレン、テトラヒドロフラン、メタノール、及びエタノールからなる群より選択される、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記双性イオン繰り返し単位は統計コポリマーの３０〜５０質量％を構成し、前記疎水性繰り返し単位は統計コポリマーの５０〜７０質量％を構成し、前記統計コポリマーはポリ（（トリフルオロエチルメタクリラート）−ｒ−（スルホベタインメタクリラート））であり、前記助溶媒は硝酸エチルアンモニウムであり、かつ前記第１の有機溶媒はトリフロオロエタノールである、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記凝固工程は、６０分又はそれより少ない時間、ポリマー層を空気乾燥することにより、或いは多孔質支持層と一緒にポリマー層を非溶媒浴中に６０分又はそれより少ない時間浸漬することにより行われる、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記凝固工程は、６０分又はそれより少ない時間、ポリマー層を空気乾燥することにより行われる、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記凝固工程は、多孔質支持層と一緒にポリマー層を非溶媒浴中に６０分又はそれより少ない時間浸漬することにより行われる、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記非溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、水、又はそれらの組合せである、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記多孔質支持層は、ポリマー層の有効孔径よりも大きい有効孔径を有し、かつポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリフェニレンスフフィドスルホン、ポリアクリルニトリル、セルロースエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアリルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアミド、ポリイミド、又はそれらの組合せにより形成される、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記多孔質支持層はフラットシート膜又は中空糸膜である、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記浸漬工程の後、得られたろ過膜を５０℃以上の温度で水浴中においてアニール処理するアニーリング工程をさらに含む、請求項１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
請求項１〜２８のいずれか一項に記載の方法により調製されたろ過膜であって、０．５〜５ｎｍの有効孔径、及び１０Ｌｍ−２ｈ−１ｂａｒ−１以上の水透過係数を有する、ろ過膜
【請求項３０】
液体をろ過するプロセスであって、
支持層及びポリマー選択層を有する請求項２９に記載のろ過膜を提供する工程；
液体を、最初にポリマー選択層を通し、その後支持層を通して、前記ろ過膜を通過させる工程；及び
前記ろ過膜を透過する液体を回収する工程；
を含む、プロセス。