【事件の表示】
　特願２０１４−１５６８３１「インプリント装置、および物品の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年　１月　８日出願公開、特開２０１５−　　５７６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２３年２月７日に出願した特願２０１１−２３５１６号（以下、「親出願」という。）の一部を平成２６年７月３１日に新たな特許出願としたものであって、平成２６年９月２６日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月２８日付けで、意見書及び手続補正書が提出され、平成２７年１月１５日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年４月２０日付けで拒絶査定不服審判の請求がされるとともに、同時に手続補正がされたものである。
　
第２　平成２７年４月２０日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）について
１．本件補正
　本件補正は、本件補正により補正される前の特許請求の範囲について、下記（１）を、下記（２）と補正するものを含む。
（１）本件補正前の特許請求の範囲
「【請求項１】
　基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
　前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを供給する供給手段を有し、
　前記透過性ガスおよび前記凝縮性ガスを前記インプリント材と前記型との間に供給して前記押型を行う、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
　前記供給手段は、前記インプリント材の成分のガスとは異なる前記凝縮性ガスを供給する、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
　前記供給手段は、ハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルのうちの少なくとも一つを含む前記凝縮性ガスを供給する、
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
　前記供給手段は、供給ノズルを含み、前記基板上の前記インプリント材と前記型との間に前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとを前記供給ノズルから供給する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
　前記供給手段は、前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとを混合する混合部を含み、該混合部を介して前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとの混合ガスを供給する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
　前記混合ガスの成分比を調整する調整手段を有する、ことを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
　前記混合ガスの成分を検出する検出器を有し、
　前記調整手段は、前記検出器の出力に基づいて、前記混合ガスの成分比を調整する、
ことを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項８】
　前記透過性ガスおよび前記凝縮性ガスを回収する回収ノズルを有する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
　前記透過性ガスは、ヘリウムおよび水素のうち少なくとも一つを含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
　請求項１ないし請求項９のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
　前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１１】
　基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント工程と、前記インプリント工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、を含む物品の製造方法であって、
　前記インプリント工程は、前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを前記インプリント材と前記型との間に供給して前記押型を行う、
ことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１２】
　基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
　前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する凝縮性ガスとを前記インプリント材と前記型との間に供給して前記押型を行う、
ことを特徴とするインプリント方法。」
　 
（２）本件補正後の特許請求の範囲（下線は、補正箇所を示す。）
「【請求項１】
　基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
　前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する、
前記インプリント材の成分のガスとは異なる
混合する混合部を含み、該混合部からの前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとの混合ガスを
　前記インプリント材と前記型との間に
前記混合ガスを
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
　前記供給手段は、ハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルのうちの少なくとも一つを含む前記凝縮性ガスを供給する、
ことを特徴とする請求項
１に
【請求項３】
　前記供給手段は、供給ノズルを含み、前記基板上の前記インプリント材と前記型との間に
、前記混合部からの前記混合ガスを
１または２に
【請求項４】
　前記混合ガスの成分比を調整する調整手段を有する、ことを特徴とする請求項
１ないし請求項３のうちいずれか１項
【請求項５】
　前記混合ガスの成分を検出する検出器を有し、
　前記調整手段は、前記検出器の出力に基づいて、前記混合ガスの成分比を調整する、
ことを特徴とする請求項
４
【請求項６】
　前記透過性ガスおよび前記凝縮性ガスを回収する回収ノズルを有する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項
５
【請求項７】
　前記透過性ガスは、ヘリウムおよび水素のうち少なくとも一つを含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項
６
【請求項８】
　請求項１ないし請求項
７
　前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項９】
　基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント工程と、前記インプリント工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、を含む物品の製造方法であって、
　前記インプリント工程は、前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する、
前記インプリント材の成分のガスとは異なる
混合して得られる前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとの混合ガスを
ことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１０】
　基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
　前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する、前記インプリント材の成分のガスとは異なる凝縮性ガスとを
混合して得られる前記透過性ガスと前記凝縮性ガスとの混合ガスを
ことを特徴とするインプリント方法。」
　
２．補正の目的要件　
　本件補正後の請求項（新請求項）１は、本件補正前の請求項（旧請求項）１を引用する請求項２を、さらに引用する形式で記載されていた請求項５を、当該引用部分を具体的に記載することにより引用形式でない独立の請求項としたものと認められる。
　そうすると、新請求項１は、旧請求項１及び２を削除して、旧請求項５を新請求項１にしたものであるから、旧請求項１の補正という観点から見れば、同請求項の削除を目的とした補正であって、新請求項１に係る補正は、特許法第１７条の２第５項第１号の請求項の削除を目的としたものに該当する。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、本件補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものと認める。
　
２．引用例について
（１）引用例１〜３の記載について
　ア　引用例１
　原査定の拒絶理由に引用され、親出願の出願前に頒布された刊行物である特開２００６−３５２１２１号公報（以下、「引用例１」という。）には、「インプリント・リソグラフィ」（発明の名称）について、次の記載がある（下線は当審が付与した。以下、同じ。）。
（引１ア）【０００１】
　本発明はインプリント・リソグラフィに関する。
（引１イ）「【００４０】
　
図４は、インプリント・テンプレート４０及び基板テーブル４１を備えたインプリント・リソグラフィ装置を略図で示したものである。基板４２は、基板テーブル４１の上に保持されており、インプリント可能な材料４３の層を備えている。
パターン４４は、インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面を覆っている。
【００４１】
　インプリント・テンプレート４０の側面は、リソグラフィ装置の壁４６に押し付けられている。インプリント・テンプレート４０と壁４６の間にシール４７が提供されている。シール４７は、インプリント・テンプレート４０と壁４６の間をガスが通過するのを防止している。
【００４２】
　インプリント・テンプレートは、パターン４４をインプリント可能な材料４３にインプリントすることができるよう、ｚ方向に移動させることができる。
【００４３】
　壁４６の各々は、基板テーブル４１を受け入れるように寸法決めされた段差４８を備えている。段差４８の上にはシール４９が提供されており、基板テーブル４１が所定の位置に位置すると該基板テーブルを押し付けることによって壁４６と基板テーブルの間をガスが通過するのを防止している。別法又は追加として、基板テーブル４１の上にシール４９を提供することも可能である。
【００４４】
　
インプリント・テンプレート４０、基板テーブル４１及びシール４７、４９と相俟った壁４６の効果は、周囲から密閉された密閉空間５０を形成する
【００４５】
　
第１の一方向弁５１が壁４６の各々に提供されており、密閉空間５０にガスを引き渡すように配置されている。以下、この弁を入力弁５１と呼ぶ。また、第２の一方向弁５２が同じく壁４６の各々に提供されており、密閉空間５０からガスを引き出すように配置されている。
入力弁５１
は、ガス発生チャンバ
に接続することができる
【００４６】
　使用中、インプリント可能な材料４３の層を備えた基板４２が基板テーブル４１の上に置かれる。次に基板テーブル４１が図４に示す位置へ移動してシール４９を押し付け、それにより密閉空間５０が形成される。
【００４７】
　次に、単量体ガス又は
不活性ガスと単量体ガスの混合物を含有したガスが密閉空間５０に充填される
入力弁５１を介して
不活性ガスと単量体ガスの混合物を受動的に導入することによって実施することができる
ガスの単量体は、インプリント可能な材料４３の一部を形成している単量体と同じ
【００４８】
　
パターン４４がインプリント可能な材料４３を押し付けるまでインプリント・テンプレート４０が下に向かって（つまり負のｚ方向に）移動する。
インプリント可能な材料にパターンがインプリントされるよう、インプリント可能な材料４３がパターン４４の凹所に流れ込む
（引１ウ）「【００５４】
　
ガス気泡は、インプリント・テンプレートの周囲から移動することができないよう、インプリント・テンプレート４０の真下で捕捉することができる
従来技術によるリソグラフィ・システムの場合、このガスは、インプリント可能な材料４３中のパターンを損傷する原因になることがある点で問題になる場合がある。
本発明による実施例では、ガスの一部に単量体ガスが含まれているため、単量体が流体形態に凝縮される。
インプリントされるパターンに影響が及ぶことになる損傷が抑制されるか、或いは除去される。
（引１エ）「【００６４】
　
密閉空間５０内におけるガスの含有量は、一方向弁５１及び５２を使用して調整することができる。たとえば、特定の成分をより多くガスに添加すると、ガスの一部が除去され、その結果、ガスの圧力は実質的に同じ圧力に維持されるが、ガスの含有量が変化することになる
（引１オ）図４
（引１カ）図５
　
　イ　引用例２
　原査定の拒絶理由に引用され、親出願の出願前に頒布された刊行物である国際公開第２０１０／０６３５０４号（以下、「引用例２」という。）には、「IMPRINT LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD（インプリントリソグラフィ装置及び方法）」（発明の名称）（英文の括弧内の日本語は当審の仮訳。以下、同じ。）について、次の記載がある。
（引２ア）「[0002]The present invention relates to an imprint lithography apparatus and a method for manufacture of devices, such as electronic devices and integrated circuits or other applications, such as the manufacture of integrated optical systems, guidance and detection patterns for magnetic domain memories, flat-panel displays, liquid-crystal displays (LCDs), thin film magnetic heads, etc.（
本発明は、
インプリントリソグラフィ装置及び方法に関する
（引２イ）「[0007]Imprint lithography involves the patterning of an imprintable medium on a surface of a substrate to be patterned. The patterning may involve contacting a patterned surface of an imprint template with a layer of imprintable medium such that the imprintable medium flows into recesses in the patterned surface and is pushed aside by protrusions on the patterned surface. The recesses define pattern features of the patterned surface of the imprint template. Typically, the imprintable medium is flowable as the patterned surface and the imprintable medium contact each other. Following patterning of the imprintable medium, the imprintable medium is suitably brought into a non- flowable (or frozen state) and the patterned surface of the imprint template and the patterned imprintable medium are separated. The substrate and patterned imprintable medium are then typically processed further in order to pattern the substrate. The imprintable medium is typically formed from imprintable medium droplets on the surface of a substrate to be patterned.（
インプリントリソグラフィは、パターン形成する基板の表面上のインプリント可能な媒体のパターン形成工程を含む。パターン形成工程は、インプリントテンプレートのパターンを有する表面を、インプリント可能な媒体の層に押しつけ、パターンを有する表面の凹部にインプリント可能な媒体が流入し、パターンを有する表面の突起によってインプリント可能な媒体が脇へ押し退けられる工程を含む。
（引２ウ）「[0008] A patterning distortion in a patterned imprintable medium may arise due to a gas pocket trapped between a patterning surface of the imprint template, and/or the substrate and/or the flowable, imprintable medium. For example, a gas pocket trapped between an imprint template and an imprintable, flowable medium, such as a resist, on a substrate, may lead to an irregularity once the imprintable medium has set and so sufficient time for gas to diffuse/dissolve into or escape from the imprintable medium, substrate or imprint template must conventionally be allowed before the imprintable medium is set. This may lead to the time for gas dissolution/diffusion or escape being a rate-determining step in an imprint cycle. An embodiment of the invention relates to a method and apparatus to speed gas escape or dissolution/diffusion.（インプリントテンプレートのパターニング表面及び／又は基板及び／又は流動可能なインプリント可能媒体の間に貯留された
ガスポケットのために、
パターニング変形が発生することがある。
インプリントテンプレートと基板上のレジストなどのインプリント可能な流動可能媒体との間に貯留されたガスポケットが不均一性を引き起こすことがある。
[0009] A highly diffusive gas, such as helium, may be used as an atmosphere in which imprinting takes place. Any trapped gas pocket may then be dissolved or diffused　more rapidly into the imprintable medium, the substrate or the imprint template. However, a problem arising from this approach is that diffusion and/or dissolution of gas is a relatively slow process, even when a gas such as helium is used. This may lead to the need to hold the imprint template and the imprintable medium together for several seconds, tens of seconds or even minutes in order to reduce gas pocket distortions to the patterning. This, in turn, may lead to reduction in throughput for an imprint lithography process, as the diffusion time may be the rate-determining step preventing early separation of imprint template and patterned imprintable medium. This means that the time for compression molding of the imprintable medium, such as resist droplets, becomes a rate-determining step in an imprint cycle. Hence there is a need, for example, for a method and apparatus to overcome such problems or other problem in the art.（
ヘリウムなどの高透過性ガスをインプリント実行の雰囲気として使用できる
任意の貯留されたガスポケットは、インプリント可能媒体、基板又はインプリントテンプレート内に、より迅速に溶解させられ又は透過させられ得る。
（引２エ）「[0013] The gas used as an atmosphere is typically helium in order to provide good diffusion rates, but another suitable gas may be used. The gas may be a mixture of gases and may include a vapor in addition to gas. For instance, vapor from imprintable medium may be part or all of the gas.（
雰囲気として使用されるガスは、優れた透過率を提供するために通常はヘリウムであるが、別の好適なガスを使用してもよい。ガスは、複数種類のガスの混合物であってもよく、ガスに加えて蒸気を含んでいてもよい。
　
　ウ　引用例３
　原査定の拒絶理由に引用され、親出願の出願前に頒布された刊行物である特開２００４−１０３８１７号公報（以下、「引用例３」という。）には、「インプリント方法補及び装置」（発明の名称）について、次の記載がある。
（引３ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、所定のパターンを形成したモールドを基材表面に塗布されたレジスト層あるいは供給されたレジストに対して押圧するインプリントにおいて、モールドとレジスト間に取り込まれた雰囲気形成気体による転写欠陥を低減するために、インプリント時の温度及び圧力において凝縮性のある気体雰囲気中で行うようにした
（引３イ）「【００２０】
【発明の実施の形態】
図１には本発明の実施例の全体概要図を示しており、作業室１には定盤２上に基材移動ステージ３が水平面内に移動自在に配置され、基材移動ステージ３上には表面にレジスト層５を備えたシリコン基板６を保持している。このシリコン基板６は、レジスト層５に対して転写を行うモールド７の凹凸パターン８を複数インプリントすることができる大きさとなっている。
【００２１】
一方、作業室１内にはモールド７を上下動させ、モールド下面の凹凸パターン８をその下方に位置するレジスト層５に押しつけるためのモールド駆動ステージ９を固定しており、前記のように基材移動ステージ３によってシリコン基板６が移動して所定位置で停止したとき、モールド駆動ステージ９のモールド押圧機構１０が作動し、モールド７下面の凹凸パターン８をレジスト層５に対して押しつけることができるようになっている。
【００２２】
作業室１には排気装置１１を備え、排出側開閉バルブ１２を解放し、後述する供給側開閉バルブ１３を閉鎖して、ポンプを駆動することにより作業室１内の大気を抜き、その後この作業室１には外部の凝縮性ガス供給装置１５から供給側開閉バルブ１３を介して所定成分の
凝縮性ガスを供給可能としている
ここでいう「凝縮性ガス」とは、後述するように、インプリント作業時にモールドの凹部にレジスト層が侵入して凹部の内部に閉じこめられた気体を圧縮するとき、その圧力によって凝縮することができる気体のことをいう
【００２３】
上記凝縮性ガスとしては種々のものを選択することができ、例えば室温（２３℃）での蒸気圧が０．１０５６ＭＰａのトリクロロフルオロメタンを用いることができ
　
（２）引用例に記載された事項
　ア　引用例１
（ア）（引１イ）の【００４０】の「パターン４４は、インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面を覆っている」という記載から、インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面に、パターン４４が存在することがわかる。
　そして、（引１イ）の【００４８】の「パターン４４がインプリント可能な材料４３を押し付けるまでインプリント・テンプレート４０が下に向かって（つまり負のｚ方向に）移動する」という記載から、インプリント・テンプレート４０が下に向かって移動して、インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面のパターン４４が、インプリント可能な材料４３を押し付けることがわかる。
（イ）（引１イ）の【００４７】の「不活性ガスとインプリント可能な材料４３の一部を形成している単量体と同じ単量体ガスの混合物を含有したガスが密閉空間５０に充填され」、「入力弁５１を介して密閉空間５０に引き込むことによって単量体ガス又は不活性ガスと単量体ガスの混合物を受動的に導入することによって実施することができる」るという記載から、「入力弁５１を介して」「不活性ガスと単量体ガスの混合物」が「密閉空間５０」に「導入」されるのであるから、「入力弁５１」の手前で、「不活性ガス」及び「単量体ガス」等の「密閉空間５０」に充填される全てのガスを混合する混合手段を備えていることは明らかである。
　
（ウ）そうすると、引用例１には、
「インプリント・テンプレート４０、基板テーブル４１、シール４７、４９及び壁４６によって密閉空間５０を形成するインプリント・リソグラフィ装置において、
　第１の一方向弁である入力弁５１が壁４６の各々に提供されて、密閉空間５０にガスを引き渡すように配置され、
　第２の一方向弁である出力弁５２が同じく壁４６の各々に提供されて、密閉空間５０からガスを引き出すように配置され、
　入力弁５１及び出力弁５２は、ガス発生チャンバ及び圧力チャンバに接続され、
　不活性ガス及びインプリント可能な材料４３の一部を形成している単量体と同じ、流体形態に凝縮される単量体ガスである凝縮性ガスの混合物、すなわち、密閉空間５０に充填されるガスの全てを混合して混合物を得る混合手段と、
　該混合物は入力弁１によって密閉空間５０に充填され、
　インプリント可能な材料４３の層を備えた基板４２は、基板テーブル４１の上に保持されていて、
　インプリント・テンプレート４０が下に向かって移動して、インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面のパターン４４が、インプリント可能な材料４３の層を押し付けて、インプリント可能な材料４３中にパターンを形成す、インプリント可能な材料４３の層の損傷を抑制するインプリント・リソグラフィ装置。」（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　イ　引用例２
　引用例２には、インプリントテンプレートのパターンを有する表面を、インプリント可能な媒体の層に押しつけ、パターンを有する表面の凹部にインプリント可能な媒体が流入し、パターンを有する表面の突起によってインプリント可能な媒体が脇へ押し退けられる工程を含むインプリントリソグラフィにおいて、ガスポケットによるインプリント可能な媒体の変形を発生させないようにするために、ヘリウムなどの高透過性ガスをインプリント実行の雰囲気として使用することで、インプリントテンプレートと基板上のレジストなどのインプリント可能な流動可能媒体との間に貯留されたガスポケットを、インプリント可能媒体、基板又はインプリントテンプレート内に、より迅速に溶解させるか、又は透過させること、及び、ガスは、複数種類のガスの混合物や蒸気を含んでもよいことが開示されている。
　
　ウ　引用例３
　引用例３には、所定のパターンを形成したモールドを基材表面に塗布されたレジスト層あるいは供給されたレジストに対して押圧するインプリントにおいて、モールドとレジスト間に取り込まれた雰囲気形成気体による転写欠陥を低減するために、インプリント時の温度及び圧力において、インプリント作業時にモールドの凹部にレジスト層が侵入して凹部の内部に閉じこめられた気体を圧縮するとき、その圧力によって凝縮することができる気体凝縮性のある凝縮性ガスを供給するインプリント装置が開示され、凝縮性ガスとしては種々のものを選択することができ、例えば室温（２３℃）での蒸気圧が０．１０５６ＭＰａのトリクロロフルオロメタンを用いることができることが開示されていると認められる。
　また、「トリクロロフルオロメタン」は、いわゆるフロンガスであって、常温で沸騰する溶媒であるから、インプリント装置に用いられるレジスト層等の成分ではないことは明らかであり、しかも、「レジスト層」等に対して、不活性であることも明らかである。
　
３．対比
　本件補正発明と引用発明とを対比する。
　ア　引用発明の「インプリント・リソグラフィ装置」、「基板４２」、「インプリント可能な材料４３」、「最も下側の表面」に「パターン４４」を有する「インプリント・テンプレート４０」、「インプリント可能な材料４３中」に形成された「パターン」、「インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面のパターン４４が、インプリント可能な材料４３の層を押し付ける」こと及び「入力弁５１」は、本願発明の「インプリント装置」、「基板」、「インプリント材」、「型」、「パターン」、「押型」及び「供給手段」にそれぞれ相当する。
　
　イ　引用発明の「不活性ガス及びインプリント可能な材料４３の一部を形成している単量体と同じ、流体形態に凝縮される単量体ガスである凝縮性ガス」と、本願発明の「前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと、前記押型による圧力上昇により液化する、前記インプリント材の成分のガスとは異なる凝縮性ガス」とは、「ガス」である点で共通し、便宜的に「第１ガス」と呼ぶことができる。
　
　ウ　引用発明の「密閉空間５０に充填されるガスの全てを混合して混合物を得る混合手段」は、本願発明の「混合部」と、「第１ガス」を混合する点で共通する。
　
　エ　引用発明の「混合物は入力弁１によって密閉空間５０に充填され」「インプリント・テンプレート４０が下に向かって移動して、インプリント・テンプレート４０の最も下側の表面のパターン４４が、インプリント可能な材料４３の層を押し付けて、インプリント可能な材料４３中にパターンを形成する」ことは、本願発明の「前記インプリント材と前記型との間に前記混合ガスを供給して前記押型を行う」ことに相当する。
　
　オ　そうすると、本件補正発明と引用発明とは、
「基板上のインプリント材に型での押型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
　第１ガスと、第１ガスを混合する混合部を含み、混合ガスを供給する供給手段を有し、
　前記インプリント材と前記型との間に前記混合ガスを供給して前記押型を行うインプリント装置。」である点で一致し、次の相違点で相違する。
　
（相違点）
　「第１ガス」が、本願発明では、「前記型、前記インプリント材および前記基板のうちの少なくとも一つを透過する透過性ガスと前記押型による圧力上昇により液化する、前記インプリント材の成分のガスとは異なる凝縮性ガス」とからなるのに対し、引用発明では、「不活性ガス及びインプリント可能な材料４３の一部を形成している単量体と同じ、流体形態に凝縮される単量体ガスである凝縮性ガス」である点
　
４．判断
　相違点について検討する。
　インプリント・リソグラフィ装置に用いられるガスとして、「インプリント可能な材料」の損傷を抑制する、すなわち変形を防ぐために、「インプリント可能な材料４３」を透過するヘリウムを用いることは、引用例２にも開示されるように周知である。
　なお、「ヘリウム」は、不活性ガスであることは明らかである。
　
　また、インプリント・リソグラフィ装置に用いられるガスとして、「インプリント可能な材料」の損傷を抑制するために、すなわち転写欠陥を低減するために、「トリクロロフルオロメタン」等の「インプリント可能な材料」とは異なる、「インプリント・テンプレート」による圧力上昇により液化する不活性の凝縮性ガスを用いることは、引用例３にも開示されるように周知である。
　
　そうすると、引用発明の「不活性ガス」は、単一種類に限定されるものではなく、引用発明は、「インプリント可能な材料４３の層の損傷を抑制する」ものであって、同様な目的のために、引用発明の「不活性ガス」として、周知の「インプリント可能な材料４３」を透過するヘリウムのような透過性ガスを採用することは、当業者にとって容易である。
　
　また、引用例１や引用例２に記載されるように、インプリント可能な材料に使用される凝縮性ガスを混合することが周知であるとともに、引用例３に記載されるように、「トリクロロフルオロメタン」等のインプリント可能な材料とは異なる凝縮性ガスを使用することも周知であるから、引用発明の「第１ガス」に、周知の「トリクロロフルオロメタン」等の「インプリント可能な材料」とは異なる、不活性の凝縮性ガスを合わせて採用することは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　したがって、上記相違点に係る本願発明の発明特定事項は、当業者が容易に想到し得たことである。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２、３に開示されたような周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。　
　よって結論のとおり審決する。