Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月23日(2020.4.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
用語「化学的に変性された」は、ヒドロキシル基またはアミノ基を有する単官能化合物と反応した酸性官能基（例えば、マレイン酸または（メタ）アクリル酸の単位）を有するポリマーを指す。ヒドロキシル基を有する好ましい単官能化合物には、エチレン及びプロピレングリコール並びにそれらのオリゴマー、ポリマー、及びＣ１−Ｃ４アルキル基で一端がキャップされたポリマーが挙げられ、好ましくはポリマー及びコポリマーはＭｎを２０，０００以下、好ましくは１０，０００以下有する。アミノ基を有する好ましい単官能化合物には、末端アミノ基を有するエチレン及びプロピレングリコールコポリマーであり、末端ヒドロキシル基がメチル基でキャップされたジェファーミンＭシリーズアミン挙げられる。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年5月15日(2020.5.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査ボリュームの代わりの電子密度マップを計算するための処理システムであって、
-複数の磁気共鳴イメージングデータを使用して第1の電子密度マップを計算し、
-第2の電子密度マップを計算し、前記第2の電子密度マップは前記第1の電子密度マップの簡略化バージョンであり、前記第2の電子密度マップは、前記第1の電子密度マップの輪郭に対応し、均一な値で満たされ、
-前記第1の電子密度マップと前記第2の電子密度マップとを用いて前記代わりの電子密度マップを計算する
ように構成される、処理システム。
【請求項２】
前記処理システムは、前記代わりの電子密度マップを得るために、一つ又はそれより多くのアーチファクト領域において、前記第1の電子密度マップを前記第2の電子密度マップによって置き換えるように構成される、請求項１に記載の処理システム。
【請求項３】
ユーザインターフェースシステムを有し、前記ユーザインターフェースシステムは、前記第1の電子密度マップを表示するように構成され、前記ユーザインターフェースシステムは、ユーザが前記第1の電子密度マップ上で前記一つ又はそれより多くのアーチファクト領域を識別し、画定するユーザデータを入力することを可能にするユーザ入力システムを有する、請求項１又は２に記載の処理システム。
【請求項４】
前記均一な値は等価水密度である、請求項１乃至３の何れか一項に記載の処理システム。
【請求項５】
線量分布を計算するための計画システムであって、
-請求項１乃至４の何れか一項に記載の処理システムであって、複数のイメージングデータ、第2の電子密度マップ、及び代わりの電子密度マップを使用して第1の電子密度マップを計算するように構成され、前記代わりの電子密度マップは前記第1及び第2の電子密度マップを使用して計算される、処理システムと、
-前記第1の電子密度マップを使用して第1の線量分布を計算し、前記代わりの電子密度マップを使用して第2の線量分布を再計算するように構成される放射線治療計画システムと
を有する、計画システム。
【請求項６】
検査ボリュームの代わりの電子密度マップを計算する方法であって、
-複数の磁気共鳴イメージングデータを用いて第1の電子密度マップを計算するステップと、
-第2の電子密度マップを計算するステップであって、前記第2の電子密度マップは前記第1の電子密度マップの簡略化バージョンであり、前記第2の電子密度マップは、前記第1の電子密度マップの輪郭に対応し、均一な値で満たされる、ステップと、
-前記第1の電子密度マップ及び前記第2の電子密度マップを用いて前記代わりの電子密度マップを計算するステップと
を有する、方法。
【請求項７】
一つ又はそれより多くの識別されるアーチファクト領域において、前記第1の電子密度マップを前記第2の電子密度マップで置き換えて、前記代わりの電子密度マップを得るステップを有する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第1の電子密度マップを表示するステップと、前記一つ又はそれより多くのアーチファクト領域を識別するユーザ入力データを得るステップと
を有する、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記第2の電子密度マップに、水等価密度値を割り当てるステップ
を有する、請求項６乃至８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
線量分布を計算する方法であって、
-第1の電子密度マップを計算するステップと、
-前記第1の電子密度マップを使用して第1の線量分布を計算するステップと、
-請求項６乃至９の何れか一項に記載の方法及び/又は請求項１乃至５の何れか一項に記載のシステムを用いて代わりの密度マップを計算するステップと、
-前記代わりの電子密度マップを使用して第2の線量分布を計算するステップと
を有する、方法。
【請求項１１】
プロセッサが請求項６乃至９の何れか一項に記載の方法のステップを実行することを可能にする命令を、コンピュータに実行させるために記憶される制御論理を有する、コンピュータプログラム。
【請求項１２】
コンピュータプログラムであって、
-複数の磁気共鳴イメージングデータを使用して第1の電子密度マップを計算し、
-前記第1の電子密度マップの簡略化バージョンであり、前記第1の電子密度マップの輪郭に対応し、均一な値で満たされる第2の電子密度マップを計算し、
-前記第1の電子密度マップと前記第2の電子密度マップとを用いて、前記代わりの電子密度マップを計算する
ように構成されるコンピュータ手段を有する、コンピュータプログラム。
【請求項１３】
プロセッサが請求項１０に記載の方法のステップを実行することを可能にする命令を、コンピュータに実行させるために記憶される制御論理を有する、コンピュータプログラム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
処理システム30は、アーチファクト領域であるとみなされる領域を識別して画定するように構成することができる。例えば、一つ又はそれより多くのアーチファクト領域90は、体内の皮質骨セグメントにおいてサイズ閾値によって検出されてもよい。処理システム30は、画像内の検出される組織タイプの間の関係を考慮に入れて、この関係をアーチファクトを示すための有効性指標として使用することができる。そのような関係の一例は、骨における皮質骨率であり得る。最小及び最大閾値を使用する方法は、一つ又はそれより多くのアーチファクト領域を境界付けするために使用されることができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年3月19日(2020.3.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
代替の実施形態において、波型の形状６０は、図２で示されるように、のこぎり歯型４２、波型４３、方形波型４４、ハトの尾型４５、切手の縁の形態４６、または上述の波型の形状６０それぞれの改変された形態であってもよい。波型の形状６０は、直線部分が間に存在していてもよいしまたは存在していなくてもよい伝導性トレース４０の曲線または屈折部の反復単位を含むとみなすことができる。伝導性トレース４０が曲がったりまたは屈折したりするあらゆるところの外側または凸型のエッジまたは角で、より高い温度点が生じることが発見された。それゆえに、表面３０上に伝導性トレース４０の適切な波型の形状６０を提供することによって、別個の加熱領域２０に近接して位置する複数のより高い温度点がもたらされる。この方式で、例えばラップトップのＵＳＢポートによって提供できるようなわずか５ボルトのｄｃ電圧を使用して、例えばわずか３ｍｍ×１０ｍｍの寸法を有する別個の加熱領域２０を、望ましい高い温度、例えば１００℃またはそれより高い温度に加熱するのに十分な熱を、伝導性トレース４０の波型の形状６０によって生成することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月29日(2020.6.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
床面上に立っている人体から電荷を散逸させるためのオーバーシューズであって、前記オーバーシューズが、
Ｉ．靴底と、
ＩＩ．前記靴底の端縁に取り付けられるオーバーシューズ本体であって、前記靴底が、前記オーバーシューズ本体側を向く内面と、前記オーバーシューズの外側になる外面とを有するように取り付けられる、オーバーシューズ本体と、
ＩＩＩ．前記靴底の前記端縁の少なくとも一部分を巻くように折り返され、第１の接着剤によって前記靴底に接着される少なくとも１つの導電性ストリップであって、前記各導電性ストリップの少なくとも一部分が前記靴底の前記内面で露出する、少なくとも１つの導電性ストリップと、
ＩＶ．前記オーバーシューズの外側で前記各導電性ストリップと前記靴底との間の継目を覆い、第２の接着剤によって前記継目に接着されるテープであって、前記各導電性ストリップの少なくとも一部分が、前記人体が上に立っている前記床面に露出するように設けられた、テープと
を含み、
前記人体が上に立っている前記床面に露出する前記部分は、前記人体の手と前記床面との間で測定される時に、＞１０4〜＜１０8Ｏｈｍの範囲の抵抗を生じるために十分な面積であり、
前記各導電性ストリップが単一部材により形成される、オーバーシューズ。
【請求項２】
Ｉ．靴底と、
ＩＩ．前記靴底の端縁に取り付けられるオーバーシューズ本体であって、前記靴底が、前記オーバーシューズ本体側を向く内面と、前記オーバーシューズの外側になる外面とを有するように取り付けられる、オーバーシューズ本体と、
ＩＩＩ．前記靴底の前記端縁の少なくとも一部分を巻くように折り返され、第１の接着剤によって前記靴底に接着される少なくとも１つの導電性ストリップであって、前記各導電性ストリップの少なくとも一部分が前記靴底の前記内面で露出する、少なくとも１つの導電性ストリップと、
ＩＶ．前記オーバーシューズの外側で前記各導電性ストリップと前記靴底との間の継目を覆い、第２の接着剤によって前記継目に接着されるテープであって、前記各導電性ストリップの少なくとも一部分が、人体が上に立っている床面側に露出するように設けられた、テープと、
を含み、
前記各導電性ストリップが単一部材により形成される、
オーバーシューズ。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月9日(2020.6.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明の一態様によると、衣類、任意選択でフットウェアのための多層構造体は、
電子機器を受入れる可撓性基板フィルムと、
プリント電子技術、任意選択でスクリーン印刷またはインクジェットを利用してフィルム上に提供される、いくつかの可撓性センサーパッドと、
多層構造体が受ける圧力の表示を得るためのいくつかのセンサーパッドを介して、静電容量の計測を制御するためにフィルム上にさらに提供される、少なくとも１つの電子回路、好ましくは集積回路と、
少なくとも１つの電子回路と、いくつかの静電容量センサーパッドとを電気的に接続するためにフィルム上にさらに印刷される、いくつかの導体トレースと、
少なくとも１つの電子回路を含む電気駆動構成要素に電力を供給するための電源要素と、
いくつかのセンサーパッド、いくつかの導体トレース、および少なくとも１つの電子回路を実質的に埋め込むフィルム上に成型される、少なくとも１つのプラスチック層と、を備える。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
本発明の他の一態様によると、衣類、任意選択でフットウェアのための多層構造体の製造方法は、
電子機器を受入れる可撓性基板フィルムを得ることと、
プリント電子技術、任意選択でスクリーン印刷またはインクジェットを利用して、フィルム上にいくつかの可撓性センサーパッドを印刷することと、
少なくともこのセンサーパッドを電子回路に電気的に接続するために、フィルム上にいくつかの導体トレースを印刷することと、
多層構造体が受ける圧力の表示を得るためのいくつかのセンサーパッドを介して、静電容量の計測を制御するフィルム上に、電子回路を、好ましくは集積回路を提供することと、
電子回路を含む電気駆動構成要素に電力を供給するための電源要素を提供することと、
いくつかのセンサーパッド、いくつかの導体トレース、および少なくとも１つの電子回路を実質的に埋め込む少なくとも１つのプラスチック層を、フィルム上に成型することと、を備える。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
間に絶縁材料を有する、いくつかの重複する階層上の感知層は、省略されてよい。なぜなら、構造体に面するユーザーの体（足裏の皮膚）のような外部要素が、可撓性基板上の少なくとも１つの埋め込まれたプリント導体パッド領域に加えて、１つのコンデンサ極板として利用され得るからである。構造体には、いくつかの追加の層が提供されてよい。その各々は、たとえば絶縁、可撓性／剛性、緩衝性などと関係する所望の特性を有する。構造体は、目標環境下（たとえば特定の内部寸法の靴などの使用場所）に適合するよう、必要な精度で成形されて、および／または切断されてよい。プリント電子技術の適用は、たとえば基板上のセンサーパッドおよび導体トレースの、柔軟で比較的簡単な位置付けを提供する。より複雑で、潜在的に能動的な構成要素が、同様に提供され得る。埋め込まれた電子機器は、衝撃、湿気、熱い／冷たいもしくは一般に極端な温度または温度変化、汚れなどの外部事象から保護され続ける。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
フィルム２０２の寸法および厚さは、実施形態によって変化し得る。たとえば、靴のソールもしくはインソール、または他の衣類に埋め込まれた場合、実質的に平坦であるフィルムの幅および長さは、約数１０または数１００ミリメートルの大きさであってよい。一般にフィルム２０２の形状は、たとえば靴の内部および／または足裏の形状のような、目的の位置の形状に従うように、または準拠するように構成され得る。厚さもまた、同じ実施形態の中でも変化し得る。厚さは、たとえば１０ミリメータまたは数１０ミリメータ、約１ミリメータまたは数ミリメータであり得る。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月13日(2020.4.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インジゴ・ナチュラリスから、又はタイワンコマツナギ、リュウキュウアイ(別名Strobilanthes cusia (Nees))、タデアイ(別名Polygonum tinctorium Aiton、P. tinctorium Lour.)及びタイセイ(別名Isatis indigotica Fort.)からなる群から選択される1種若しくは複数のインジゴ含有植物の葉及び/若しくは茎から、精製エキスを調製する方法であって、
a)抽出工程：インジゴ・ナチュラリス又はその植物の葉及び/若しくは茎を、極性溶媒又は中程度の極性溶媒で抽出して、抽出混合物を得る工程、
b)濾過工程：抽出混合物を濾過して、濾液を得る工程、
c)濃縮工程：濾液を濃縮して、粗製エキスを得る工程、
d)洗浄工程：粗製エキスを、50℃以上の温度においてヘキサン又はヘプタンと混合して、洗浄混合物を得る工程、並びに
e)濾過工程：洗浄混合物を濾過して、任意選択による乾燥工程後に精製エキスを得る工程
を含む、方法。
【請求項２】
抽出工程a)で使用される溶媒が、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、エタノール、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、アセトン、2-ブタノン、アセトニトリル、酢酸イソプロピル、2-メチルテトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、水、メタノール、クロロホルム、テルペン及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
抽出工程a)で使用される溶媒が、好ましくはジメチルホルムアミド、酢酸エチル、エタノール、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、アセトン、2-ブタノン、アセトニトリル、酢酸イソプロピル、2-メチルテトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、メタノール、クロロホルム、テルペン及びそれらの組合せからなる群から選択される有機溶媒である、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項４】
洗浄工程d)で使用される溶媒が、水、5〜8個の炭素原子を有するアルカン、2〜6個の炭素原子を有するアルコール及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
洗浄工程d)及び濾過工程e)が、精製エキスを得るまで少なくとも1サイクル実施される、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
洗浄工程d)及び濾過工程e)が、2サイクルで実施される、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
抽出工程a)で使用される溶媒が、エタノール又は水性エタノールであり、洗浄工程d)で使用される溶媒が、ヘキサン、ヘプタン、水、エタノール及びそれらの組合せからなる群から選択され、好ましくは洗浄工程d)で使用される溶媒が、ヘキサンである、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
無極性溶媒及び第2の極性溶媒が、洗浄工程d)で使用され、好ましくはそれぞれヘキサン及びエタノールである、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
請求項1から8のいずれか一項に記載の方法によって得ることができる、精製エキス。
【請求項１０】
成分としてのインジルビンと、任意選択によりインジゴ、トリプタントリン及びチンダイノンのうちの1種又は複数とを含む、請求項9に記載の精製エキス。
【請求項１１】
成分としてのインジルビンを、精製エキスの少なくとも65%(w/w)の量、好ましくは精製エキスの65〜90%(w/w)の量で含む、請求項10に記載の精製エキス。
【請求項１２】
成分としてのインジゴを、好ましくは精製エキスの0.1〜15%(w/w)の量で更に含む、請求項10又は11のいずれか一項に記載の精製エキス。
【請求項１３】
成分としてのトリプタントリンを、好ましくは精製エキスの0.1〜5%(w/w)の量で更に含む、請求項10から12のいずれか一項に記載の精製エキス。
【請求項１４】
成分としてのチンダイノンを、好ましくは精製エキスの0.1〜5%(w/w)の量で更に含む、請求項10から13のいずれか一項に記載の精製エキス。
【請求項１５】
インジルビン、インジゴ、トリプタントリン及びチンダイノンのうちの2種以上の成分が、精製エキスの90%〜99%(w/w)の量で存在する、請求項10から14のいずれか一項に記載の精製エキス。
【請求項１６】
請求項10から15のいずれか一項に記載の精製エキス、及び薬学的に許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項１７】
ケラチノサイトの増殖若しくは分化を阻害するのに使用するための、請求項10から15のいずれか一項に記載の精製エキス。
【請求項１８】
乾癬の処置のための、請求項17に記載の精製エキス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
好ましい一実施形態では、精製エキスは、以下の工程：
a)インジゴ・ナチュラリスを、エタノールを用いて還流状態で2〜8時間かけて抽出する工程、
b)65℃以上の温度で混合物を濾過して、濾液を得る工程、
c)濾液を濃縮して、粗製エキスを得、溶媒及び溶媒中にまだ存在する最後に残った成分を完全に除去するために、前記粗製エキスを任意選択により濾過し(水の添加を伴う)、乾燥させる工程、
d)(i)粗製エキスを、ヘキサンで50℃以上の温度において15〜60分間洗浄する工程、
(ii)工程d)(i)で得られた混合物を室温で濾過して、生成物を得、それを任意選択によりエタノール及び水で洗浄する工程、
(iii)工程d)(ii)で得られた生成物を、還流状態においてエタノールで洗浄する工程、並びに
e)工程d)で得られた洗浄混合物を室温で濾過し、得られた生成物を80℃未満の温度で乾燥させて、エキスを得、それを任意選択により微粒子化する工程
を含む方法によって調製される。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月19日(2020.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＵＣ１のＣ末端細胞外ドメイン内の連続する５個以上のアミノ酸を含むポリペプチドを認識する、抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片。
【請求項２】
前記ＭＵＣ１のＣ末端細胞外ドメインは、配列番号１０のアミノ酸配列からなることを特徴とする、請求項１に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片。
【請求項３】
配列番号１の重鎖ＣＤＲ１；配列番号２の重鎖ＣＤＲ２；配列番号３の重鎖ＣＤＲ３；及び
配列番号４の軽鎖ＣＤＲ１；配列番号５の軽鎖ＣＤＲ２；配列番号６の軽鎖ＣＤＲ３を含むことを特徴とする、請求項１に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片。
【請求項４】
配列番号２２又は２４の重鎖可変領域、及び配列番号２３又は２５の軽鎖可変領域を含む、請求項３に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片。
【請求項５】
配列番号２２の重鎖可変領域及び配列番号２３の軽鎖可変領域；又は
配列番号２４の重鎖可変領域及び配列番号２５の軽鎖可変領域を含む、請求項４に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片。
【請求項６】
受託番号ＫＣＬＲＦ−ＢＰ−００３９５の抗ＭＵＣ１抗体の産生のためのハイブリドーマ。
【請求項７】
請求項１に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片に薬物が接合された抗体−薬物接合体。
【請求項８】
前記抗体又はその抗原結合断片はリンカーを介して薬物と結合することを特徴とする、請求項７に記載の抗体−薬物接合体。
【請求項９】
前記リンカーは、切断性リンカー又は非切断性リンカーであることを特徴とする、請求項８に記載の抗体−薬物接合体。
【請求項１０】
前記薬物は、化学療法剤、毒素、マイクロＲＮＡ（ｍｉＲＮＡ）、ｓｉＲＮＡ、ｓｈＲＮＡ又は放射性同位元素であることを特徴とする、請求項７に記載の抗体−薬物接合体。
【請求項１１】
請求項１に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片を含む二重特異性抗体（ｂｉｓｐｅｃｉｆｉｃ  ａｎｔｉｂｏｄｙ）。
【請求項１２】
前記二重特異性抗体は、抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片と、癌関連抗原又は免疫関門タンパク質抗原又は免疫エフェクター細胞特異的標的分子に対する結合能を有する抗体とからなることを特徴とする、請求項１１に記載の二重特異性抗体。
【請求項１３】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の抗体−薬物接合体、若しくは請求項１１又は１２に記載の二重特異性抗体を含む、癌の予防又は治療用医薬組成物。
【請求項１４】
前記癌は、ＭＵＣ１タンパク質が発現したことを特徴とする、請求項１３に記載の癌の予防又は治療用医薬組成物。
【請求項１５】
前記癌は、乳癌、膵癌、前立腺癌、肺癌、甲状腺癌、胃癌、卵巣癌、大腸癌、肝癌、 甲状腺癌、 腎臓癌、 卵巣癌、大腸癌、 肝臓癌、胆嚢癌 、腎臓癌、子宮頸癌、又は膀胱癌である、請求項１４に記載の癌の予防又は治療用医薬組成物。
【請求項１６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片を含む、癌の診断用組成物。
【請求項１７】
前記癌は、ＭＵＣ１タンパク質が発現したことを特徴とする、請求項１６に記載の癌の診断用組成物。
【請求項１８】
リポソーム内に（１）ＭＵＣ１のＣ末端部位、ＭＵＣ１のＳＥＡドメイン、又はＭＵＣ１のＣ末端細胞外ドメイン、及び（２）ＣｐＧ−ＤＮＡをカプセル化した複合体を含む、免疫原性組成物。
【請求項１９】
前記リポソームは、ジオレオイルホスファチジルエタノールアミン（ｄｉｏｌｅｏｙｌｐｈｏｓｐｈａｔｉｄｙｌｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ；ＤＯＰＥ）及びコレステリルヘミスクシナート（ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｙｌ  ｈｅｍｉｓｕｃｃｉｎａｔｅ；ＣＨＥＭＳ）が１：０．５〜１：２のモル比で混合された混合物であることを特徴とする、請求項１８に記載の免疫原性組成物。
【請求項２０】
前記ＣｐＧ−ＤＮＡは、１〜３個のＣｐＧモチーフを含む総１０〜２０個のヌクレオチドを含むオリゴデオキシヌクレオチドであることを特徴とする、請求項１８に記載の免疫原性組成物。
【請求項２１】
請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の免疫原性組成物をマウスに接種する段階を含む、抗ＭＵＣ１−ＳＥＡモノクローナル抗体の作製方法。
【請求項２２】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片をコードする核酸。
【請求項２３】
請求項２２に記載の核酸を含む組換え発現ベクター。
【請求項２４】
請求項２３に記載の組換え発現ベクターで形質転換された宿主細胞。
【請求項２５】
動物細胞、植物細胞、酵母、大腸菌及び昆虫細胞からなる群から選ばれることを特徴とする、請求項２４に記載の宿主細胞。
【請求項２６】
サル腎臓細胞（ＣＯＳ７細胞：ｍｏｎｋｅｙ  ｋｉｄｎｅｙ  ｃｅｌｌｓ）、ＮＳＯ細胞、ＳＰ２／０細胞、チャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ：Ｃｈｉｎｅｓｅ  ｈａｍｓｔｅｒ  ｏｖａｒｙ）細胞、Ｗ１３８、ベビーハムスター腎臓（ＢＨＫ：ｂａｂｙ  ｈａｍｓｔｅｒ  ｋｉｄｎｅｙ）細胞、ＭＤＣＫ、骨髄腫細胞株、ＨｕＴ７８細胞及びＨＥＫ２９３細胞、大腸菌、バチルス・サブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）、ストレプトマイセス属（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ  ｓｐ．）、シュードモナス属（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ｓｐ．）、プロテウス・ミラビリス（Ｐｒｏｔｅｕｓ  ｍｉｒａｂｉｌｉｓ）又はスタフィロコッカス属（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ｓｐ．）、アスペルギルス属（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｓｐ．）、ピチアパストリス（Ｐｉｃｈｉａｐａｓｔｏｒｉｓ）、サッカロマイセス・セレビシアエ（Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｃｅｒｅｖｉｓｉａｅ）、シゾサッカロミケス属（Ｓｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｓｐ．）及びノイロスポラ・クラサ（Ｎｅｕｒｏｓｐｏｒａ  ｃｒａｓｓａ）からなる群から選ばれることを特徴とする、請求項２５に記載の宿主細胞。
【請求項２７】
請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の宿主細胞を培養する段階を含む、抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片の作製方法。
【請求項２８】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片を含むキメラ抗原受容体（ＣＡＲ）。
【請求項２９】
前記抗ＭＵＣ１抗体又はその抗原結合断片がｓｃＦｖである、請求項２８に記載のキメラ抗原受容体（ＣＡＲ）。
【請求項３０】
請求項２８に記載のキメラ抗原受容体を含む免疫細胞。
【請求項３１】
前記免疫細胞が、Ｔ細胞又はＮＫ細胞である、請求項３０に記載の免疫細胞。
【請求項３２】
請求項３０に記載の免疫細胞を含む、癌の予防又は治療用医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月8日(2020.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
葉酸受容体陰性がんの治療剤(該治療剤により腫瘍関連マクロファージが阻害または枯渇される)の製造における、
式：
【化１】
2020515582.tif 000001
のコンジュゲート、またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項２】
宿主動物の腫瘍関連マクロファージを枯渇させる薬剤の製造における、式：
【化２】
2020515582.tif 000002
のコンジュゲート、またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項３】
宿主動物の腫瘍関連マクロファージを阻害または枯渇させる薬剤の製造における、式：
【化３】
2020515582.tif 000003
のコンジュゲート、またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項４】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、および／または、組織もしくは腫瘍の一部を形成する、宿主動物のがんの治療剤の製造における、
式：
【化４】
2020515582.tif 000004
のコンジュゲート、またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項５】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向CD163(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項６】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向CD163(+)およびTGF-β(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項７】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向CD11b(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項８】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向CD163(+)およびCD11b(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項９】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向F480(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１０】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向F480(+)およびCD11b(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１１】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向性であり、CD163(+)、IL10(+)、Arg1(+)、TGF-β(+)、VEGF(+)、CD206(+)、CD11b(+)、およびF480(+)表現型からなる群から選択される1つ以上のマーカーを発現する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１２】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、および／または、組織もしくはがんの一部を形成し、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向性であり、CD163(+)、IL10(+)、Arg1(+)、TGF-β(+)、VEGF(+)、CD206(+)、CD11b(+)、およびF480(+)表現型からなる群から選択される1つ以上のマーカーを発現する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１３】
がんが、非小細胞肺がん、未分化甲状腺がん、膵管腺がん、頭頸部がん、表皮成長因子受容体陰性乳がん、中皮腫、成人古典的ホジキンリンパ腫、ブドウ膜黒色腫、膠芽腫、腎がん、平滑筋肉腫、および色素性絨毛結節性滑膜炎からなる群から選択される、請求項1〜12のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１４】
コンジュゲート、またはその薬学的に許容される塩が、宿主動物における腫瘍関連マクロファージを枯渇させる能力を有するか、または枯渇させる、請求項1〜13のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１５】
コンジュゲート、またはその薬学的に許容される塩が、宿主動物における腫瘍関連マクロファージの活性を阻害する能力を有するか、または阻害する、請求項1〜14のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１６】
薬剤が、非経口剤形である、請求項1〜15のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１７】
非経口剤形が、皮内、皮下、筋肉内、腹腔内、静脈内、くも膜下投与剤形からなる群から選択される、請求項16に記載の使用。
【請求項１８】
コンジュゲートが、約0.05 μmol/kg〜約6.0 μmol/宿主動物体重kgの量である、請求項1〜17のいずれか1つに記載の使用。
【請求項１９】
コンジュゲートが、約0.05 μmol/kg〜約4.0 μmol/宿主動物体重kgの量である、請求項1〜18のいずれか1つに記載の使用。
【請求項２０】
コンジュゲートが、約0.05 μmol/kg〜約2.0 μmol/宿主動物体重kgの量である、請求項1〜19のいずれか1つに記載の使用。
【請求項２１】
コンジュゲートが、約0.05 μmol/kg〜約1.0 μmol/宿主動物体重kgの量である、請求項1〜20のいずれか1つに記載の使用。
【請求項２２】
腫瘍関連マクロファージが、がんの中にあり、該腫瘍関連マクロファージが、腫瘍促進性M2偏向CD163(+)、IL10(+)、Arg1(+)、TGF-β(+)、VEGF(+)、CD206(+)、CD11b(+)、およびF480(+)表現型を有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月25日(2020.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次分留器（又はエチレンプラント）における付着や堆積物の形成を制御及び抑制して、モノマーの重合を制御及び抑制する付加組成物であって、以下の、
（ａ）  カテコール化合物を含むフェノール化合物と
（ｂ）  以下の、
（ｉ）トリ−イソプロパノールアミン（ＴＩＰＡ）、
（ｉｉ）トリ−イソプロパノールアミンのエチル酸化処理された誘導体（ＥＯ−ＴＩＰＡ）、
（ｉｉｉ）トリ−イソプロパノールアミンのプロピル酸化処理された誘導体（ＰＯ−ＴＩＰＡ）、及び
（ｉｖ）それらの混合物、
からなる群から選択されるアミンと、
の組み合わせからなり、ここで、前記モノマーは、スチレン、インデン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、及び高級環化合物若しくはモノマー、又はその誘導体を含み、
ここで、前記フェノール化合物及び前記アミンは、およそ９９．９９：０．０１からおよそ０．０１：９９．９９まで変化する重量パーセント比で含まれ、ここで前記付加組成物は、およそ６０℃〜およそ１８０℃の温度範囲で用いられる、付加組成物。
【請求項２】
前記カテコール化合物が第三級ブチルカテコール（ＴＢＣ）を含む、請求項１に記載の付加組成物。
【請求項３】
前記第三ブチルカテコール（ＴＢＣ）が、４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール；３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、及びそれらの混合物を含む群から選択される、請求項２に記載の付加組成物。
【請求項４】
モノマーの重合を制御及び抑制する方法であって、請求項１〜３のいずれか一項に記載の付加組成物でモノマーストリームを処理する工程を含む、方法。
【請求項５】
モノマーの重合を制御及び抑制するために、請求項１〜３のいずれか一項に記載の付加組成物を使用する方法であって、前記請求項１〜３のいずれか一項に記載の付加組成物を用いる工程を含む、方法。
【請求項６】
一次分留器（又はエチレンプラント）におけるモノマーの重合を制御及び抑制する方法であって、請求項１〜３のいずれか一項に記載の付加組成物でモノマーストリームを処理する工程を含む、方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の付加組成物を使用することを含む、一次分留器（又はエチレンプラント）におけるモノマーの重合を制御及び抑制して、前記一次分留器を作動させる方法。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の付加組成物でモノマーストリームを処理する工程を含む、一次分留器（又はエチレンプラント）におけるモノマーの重合を制御及び抑制して、前記一次分留器における付着及びポリマーの堆積物を低減させる方法。
【請求項９】
一次分留器（又はエチレンプラント）におけるモノマーの重合を制御及び抑制して、前記一次分留器（又はエチレンプラント）における付着及びポリマーの堆積物を低減することで、前記一次分留器、又はエチレンプラントのランレングスを延長する方法であって、請求項１〜３のいずれか１項に記載の付加組成物でモノマーストリームを処理する工程を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月30日(2020.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
点火プラグワイヤー（７０）であって：
点火コイル（７４）への接続のために構成された第１の端部および点火プラグ（１０、７８）への接続のために構成された第２の端部を有する、細長い導体（７１）を含み、
ここで、前記細長い導体（７１）は前記点火コイル（７４）から前記点火プラグ（１０、７８）へと点火電圧を送達するように構成され、
前記点火プラグワイヤー（７０）は、第１の端部と第２の端部との間で細長い導体（７１）に則して配置されたプログラム可能なコンデンサーモジュール（７２）を含み、前記プログラム可能なコンデンサーモジュール（７２）は前記点火電圧をプラズマ電圧に変換するように構成されることを特徴とする、点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項２】
点火電圧は１５，０００ボルトから２０，０００ボルトの範囲である、請求項１に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項３】
プラズマ電圧は５００，０００ボルトより高い、請求項１または２に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項４】
前記プログラム可能なコンデンサーモジュール（７２）は、前記細長い導体（７１）に則するコンデンサー（８４）に接続されたメモリーチップ（８６）を含む、請求項１−３のいずれか１項に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項５】
前記メモリーチップ（８６）は、前記コンデンサー（８４）を制御し、並びに前記コンデンサー（８４）がどのように前記点火電圧を前記プラズマ電圧に変換するのかを制御するためのプログラムを記憶するように構成される、請求項４に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項６】
前記プログラム可能なコンデンサーモジュール（７２）は交流から直流に前記点火電圧を変換するように構成される、請求項１−５のいずれか１項に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項７】
前記直流はプラス方向を有しており、時計回りを有するプラズマ場を発生する、請求項６に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項８】
前記直流はマイナス方向を有しており、反時計回りを有するプラズマ場を発生する、請求項６に記載の点火プラグワイヤー（７０）。
【請求項９】
プラズマ点火プラグ（１０）であって、
一般に円筒状の陰極（１８）内で同心状に配置された陽極（１２）；
陽極（１２）と陰極（１８）との間に配置された絶縁体（１４）を含み、
前記プラズマ点火プラグ（１０）は、絶縁体（１４）内かつ電気的に陽極に則して配置される電圧変換モジュール（９０）を含み、前記電圧変換モジュール（９０）は前記点火電圧をプラズマ電圧に変換するように構成されることを特徴とする、プラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１０】
前記電圧変換モジュールは半導体回路（９０）を含む、請求項９に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１１】
前記半導体回路（９０）は酸化金属半導体電界効果トランジスターを含む、請求項１０に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１２】
前記半導体回路（９０）は、半導体回路（９０）を制御し、及び半導体回路（９０）が前記点火電圧を前記プラズマ電圧にどのように変換するのかを制御するためのプログラムを記憶するように構成されたメモリーチップ（８６）を更に含む、請求項１０または１１に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１３】
前記点火電圧は１５，０００ボルトから２０，０００ボルトの範囲であり、前記プラズマ電圧は５００，０００ボルトより高い、請求項９−１２のいずれか１項に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１４】
前記電圧変換モジュール（９０）はコンデンサー（１０４）を含む、請求項９−１３のいずれか１項に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１５】
前記電圧変換モジュール（９０）は陽極（１２）の代わりに合成半導体材料（１０６）を含む、請求項９−１４のいずれか１項に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【請求項１６】
前記合成半導体材料（１０６）は金属酸化物材料を含む、請求項１５に記載のプラズマ点火プラグ（１０）。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月8日(2020.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザーパルスを放出するためのアイセーフレーザー源、
前記レーザーパルスに応じて検出された、反射された光子用のガイガーモード検出器、
前記アイセーフレーザー源と前記ガイガーモード検出器との間の光学素子、及び、
前記アイセーフレーザー源を制御するコントローラを有し、前記コントローラは、ライダー装置の所望の範囲精度を用いて計算される、前記レーザーパルスのパルス幅をセットし、かつ、セットされた前記パルス幅で所定の平均電力を達成するようにピーク電力とパルス繰り返しレートを制御する、
ライダー装置。
【請求項２】
前記コントローラは、AnsiZ136およびIEC60825規格の少なくとも１つに記述された目の安全基準に適合する平均電力を達成するように前記アイセーフレーザー源を制御することを特徴とする、
請求項１に記載のライダー装置。
【請求項３】
レーザーの前記ピーク電力は以下の式を用いて算出され、
Ｐpeak＝Ｐavg／（Ｔpw×ＰＲＲ）
Ｐavgはレーザーパルスの平均電力、Ｔpwはパルス幅、かつ、ＰＲＲは繰り返しレートである、請求項１又は２に記載のライダー装置。
【請求項４】
前記所望のレーザーパルス幅は、以下の式を使用して算出され、
ｔ＝（Δｄ＊２）／ｃ
Δｄは所望の範囲精度、ｃは光速、かつ、ｔは前記レーザーの前記パルス幅である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のライダー装置。
【請求項５】
前記ガイガーモード検出器は、単一光子センサである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項６】
前記ガイガーモード検出器は、単一光子アバランシェフォトダイオード（ＳＰＡＤ）センサの集合アレイから形成される、
請求項１〜５のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項７】
前記コントローラは、前記所望の範囲精度を設定するようにプログラム可能である、請求項１〜６のいずれかに記載のライダー装置。
【請求項８】
前記光学素子は受光レンズを含む、
請求項１〜７のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項９】
前記光学素子は送信レンズを含む、 請求項８に記載のライダー装置。
【請求項１０】
前記光学素子は、単一のレンズが送信および受光に利用されるようにビームスプリッタを有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項１１】
前記ビームスプリッタは、前記単一のレンズと前記ガイガーモード検出器との間に配置された偏光ミラーを有する、請求項１０に記載のライダー装置。
【請求項１２】
前記ガイガーモード検出器と前記光学素子との間に配置された開口絞りを有する、 請求項１〜１１のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項１３】
前記開口絞りは、前記光学素子の焦点に位置する、
請求項１２のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項１４】
前記開口絞りは、ＳｉＰＭ検出器のアクティブエリアのサイズに基づく所望の画角に一致する寸法を有する、請求項１３に記載のライダー装置。
【請求項１５】
前記画角は１度未満である、請求項１４に記載のライダー装置。
【請求項１６】
前記開口絞りは、前記光学素子によって収集された光をＳｉＰＭ検出器の全アクティブエリアにわたって拡散させる、
請求項１２〜１５のいずれか一項に記載のライダー装置。
【請求項１７】
所定の焦点距離ｆに対して、前記焦点に配置されて長さＬである前記ＳｉＰＭ検出器の前記画角θｘ,ｙは、
θｘ,ｙ＝２×atan((Ｌｘ,ｙ／２)／ｆ)
で与えられ、ｆは受光レンズの焦点距離、Ｌｘ、Ｌｙはセンサの水平および垂直距離で、かつ、θｘ,ｙはセンサ画角である、
請求項１４に記載のライダー装置。
【請求項１８】
前記開口絞りは、以下の式、
Ｐｘ,ｙ＝２×ｆ×tan（θｘ,ｙ／２）
に従って前記所望の画角に一致する寸法を有し、ｆは受光レンズの焦点距離、θｘ,ｙはセンサ画角で、かつ、Ｐｘ,ｙは開口絞りサイズである、
請求項１４に記載のライダー装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月26日(2020.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架橋分岐鎖ポリエチレンイミン（ＢＰＥＩ）コーティングを形成する方法であって、
第１のＢＰＥＩ層を形成することと、
第１のグリオキサール層を前記第１のＢＰＥＩ層の表面上に形成することと、
前記第１のグリオキサール層および前記第１のＢＰＥＩ層を硬化することと
を含む、方法。
【請求項２】
硬化する前に、前記第１のグリオキサール層の表面上に複数の交互のＢＰＥＩ層およびグリオキサール層を形成することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のＢＰＥＩ層を、疎水性部分、超親水性部分、負荷電部分、またはこれらの組み合わせにより改質することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のＢＰＥＩ層を形成することが、前記第１のＢＰＥＩ層をＮＨ２−ＰＥＧ４．６ｋ−ＮＨ２またはｍＰＥＧ２ｋ−ＮＨ２で官能化することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のＢＰＥＩ層を形成することが、前記第１のＢＰＥＩ層をＮＨ２−ＰＥＧ４ｋ−ＮＨ２および負荷電グルタミン酸で官能化することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のＢＰＥＩ層を形成することが、前記第１のＢＰＥＩ層をＮＨ２−ＰＥＧ４ｋ−ＮＨ２および負荷電アスパラギン酸で官能化することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のＢＰＥＩ層を形成することが、前記第１のＢＰＥＩ層をＮＨ２−ＰＥＧ４ｋ−ＮＨ２および負荷電カルボキシレートアクリレートで官能化することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１のＢＰＥＩ層を形成することが、前記第１のＢＰＥＩ層を疎水性フッ素化部分で官能化することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のＢＰＥＩ層を接触致死殺菌部分により改質することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記接触致死殺菌部分が第四級アンモニウム塩を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１のＢＰＥＩ層をカチオン性ポリマー部分により改質することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のＢＰＥＩ層のアミンを四級化することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
植込み型医療デバイスと、
前記植込み型医療デバイスの表面に形成されたグリオキサール架橋分岐鎖ポリエチレンイミン（ＢＰＥＩ）コーティングと
を含み、
前記第１のＢＰＥＩ層のアミンが超疎水性部分または負荷電部分と共有結合している、装置。
【請求項１４】
基材と、
前記基材の表面に形成されたグリオキサール架橋分岐鎖ポリエチレンイミン（ＢＰＥＩ）コーティングと
を含み、
前記グリオキサール架橋ＢＰＥＩコーティングのアミンが疎水性部分または負荷電部分と共有結合している、装置。
【請求項１５】
負荷電ポリマーコーティングを形成する方法であって、
ポリマーを用意することと、
前記ポリマーを、負のゼータ電位を含む生体適合性部分で官能化することと
を含む、方法。
【請求項１６】
前記ポリマーが、ヒドロキシアパタイトまたはポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記生体適合性部分が、カルボキシル陰性基またはポリスチレンスルホン酸基である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
植込み型医療デバイスと、
前記植込み型医療デバイスの表面に形成された負荷電コーティングと
を含む、装置。
【請求項１９】
前記植込み型医療デバイスに包埋された電源を更に含み、
前記負荷電コーティングが前記電源により維持されている、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記電源が、局所ｐＨの変化または体温の上昇によって作動して、前記負荷電コーティングを維持する、請求項１９に記載の装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年11月13日(2020.11.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電気放電を捕えて経路に流すことができる電気装置であって、
電子部品を搭載し、かつ接地接続を有するプリント基板と、
電気装置を作動させるために接触されるように構成された作動面を有するロッカと、
前記作動面に隣接して配置されるフレームを有する静電気放電素子と、を具備し、
前記静電気放電素子は、前記フレームに対してほぼ垂直に、かつ互いに対してほぼ平行を保ちながら延びる一対の脚部であって、それぞれの脚部が前記フレームに結合した近位端と前記プリント基板上の一対の接地接続点の１つに近接するように配置された遠位端とを有する、前記一対の脚部を有し、
前記一対の脚部の各々は、前記脚部に結合する近位端を含む一対のアームをさらに有し、前記一対のアームは、前記脚部からほぼ垂直に、かつ互いにほぼ並行して、前記作動面の長さ方向に沿って延び、
前記静電気放電素子は、前記プリント基板とエアーギャップだけ離され、かつそれらの間の相対的な枢軸運動が可能であり、
前記プリント基板上の前記接地接続点は、前記接地接続に電気的に接続され、
物体が前記作動面に接触することにより発生した静電放電は前記一対の脚部の少なくとも一本を通って、かつ前記エアーギャップを渡って、前記プリント基板上の前記接地接続点の少なくとも１つに落とされるように構成された、電気装置。
【請求項２】
前記アームの近位端は、前記アームの遠位端より広い幅を有する、請求項１に記載の電気装置。
【請求項３】
前記アームは、上側エッジと下部エッジとを有し、前記上側エッジは前記下部エッジに平行でない、請求項２に記載の電気装置。
【請求項４】
前記一対の脚部のための各接地接続点は、前記プリント基板上の異なる位置に設けられている、請求項１に記載の電気装置。
【請求項５】
前記第１の脚部から延びる前記一対のアームの下側エッジは、前記第2の脚部から延びる一対のアームの下側エッジと共通な面を構成しない、請求項１に記載の電気装置。
【請求項６】
ベース部をさらに有し、前記プリント基板は、前記ベース部内に保持される、請求項1に記載の電気装置。
【請求項７】
前記ベース部は、プラスチック材を含む、請求項６に記載の電気装置。
【請求項８】
前記ベース部は、少なくとも一つの側壁および少なくとも一つの取付突起を含む、請求項６に記載の電気装置。
【請求項９】
前記電気装置は、前記作動面と前記プリント基板との間に配置された、駆動機構を含むロッカスイッチを備え、
前記作動面は第1部分および第2部分を備え、前記第1部分を押圧することにより前記駆動機構の第１の部分を前記プリント基板の方へ回動させ、前記第2部分を押圧することにより前記駆動機構の第２の部分を前記プリント基板の方へ回動させる、請求項６に記載の電気装置。
【請求項１０】
前記静電気放電素子は、前記駆動機構に固定されている、請求項９に記載の電気装置。
【請求項１１】
前記作動面は、前記ベース部に機械的に結合したカバー部材に存在し、前記駆動機構および前記静電気放電素子は、前記カバー部材と前記ベース部との間に挟まれている、請求項９に記載の電気装置。
【請求項１２】
前記静電気放電素子は、金属材料を含む、請求項1に記載の電気装置。
【請求項１３】
静電気放電を捕えて導くことができる電子ロッカスイッチであって、
電子部品が搭載され、かつ接地接続を有するプリント基板と、
前記プリント基板を保持するベース部と、
ロッカ作動面を含み、前記電子ロッカスイッチを作動させるために接触するように構成されるカバー部材と、
前記作動面と前記プリント基板との間に配置された駆動機構と、
前記作動面に隣接するように設けられたフレームを含む静電気放電素子とを具備し、
前記作動面は第1部分および第2部分を含み、第1部分を押圧すると前記駆動機構の第１の部分を前記プリント基板の方へ押し込み、第2部分を押圧すると前記駆動機構の第２の部分を前記プリント基板の方へ押し込み、
前記静電気放電素子は、前記フレームに対してほぼ垂直に、かつ互いに対してほぼ平行に延びる一対の脚部であって、それぞれの脚部が前記フレームに結合した近位端と、前記プリント基板上の一対の接地接続点の１つに近接して配置される遠位端とを含む、前記一対の脚部を有し、
前記一対の脚部の各々は、前記脚部に結合する近位端を含む一対のアームをさらに有し、前記一対のアームは、前記脚部からほぼ垂直に、かつ互いにほぼ並行して、前記作動面の長さ方向に沿って延び、
前記静電気放電素子は、前記プリント基板からエアーギャップだけ離れ、それらの間で相対的な枢軸運動が可能であり、
前記プリント基板上の前記接地接続点は、前記接地接続に電気的に接続され、
物体が前記カバー部材に接触することにより発生した静電放電は前記一対の脚部の少なくとも１つを通って、前記エアーギャップを飛んで前記プリント基板上の前記接地接続点の少なくとも１つに落ちるように構成された、電子ロッカスイッチ。
【請求項１４】
前記一対の脚部の各々から延びる一対のアームが、前記カバー部材の長さ方向に沿って延長している、請求項13に記載の電子ロッカスイッチ。
【請求項１５】
前記アームの近位端は、前記アーム遠位端より幅が広い、請求項14に記載の電子ロッカスイッチ。
【請求項１６】
前記一対のアームの各々は、上側エッジおよび下側エッジを有し、前記上側エッジは前記下側エッジと平行でない、請求項15に記載の電子ロッカスイッチ。
【請求項１７】
前記接地接続点は、それぞれ前記プリント基板上の異なる部位に設けられている、請求項13に記載の電子ロッカスイッチ。
【請求項１８】
前記静電気放電素子は、金属材料を含む、請求項13に記載の電子ロッカスイッチ。
【請求項１９】
前記ベース部は、少なくとも１つの側壁および少なくとも１つの取付突起を含む、請求項13に記載の電気装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８０】
第１および第２の脚126、126’は、フレーム122から下方に向かって、プリント基板110の方へ延びている。第１および第２の脚126、126’の各々の下端は、プリント基板上にそれぞれ配置された接地接続点114、114’に隣り合った状態で終了する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８２】
図示のように、第１および第２の脚126、126’の下端は、実際の接地接続点114、114’に物理的な接触をしないで、終端される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１】
2020515013.tif 000001
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図２】
2020515013.tif 000002
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図４】
2020515013.tif 000003