【事件の表示】
　特願２０１４−　３５９３０「タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサを作製するための積層体、および、タッチパネルセンサの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年　５月２９日出願公開、特開２０１４−　９９２１１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　
　本願は、平成２１年１２月１日（優先権主張平成２１年３月３１日）に出願された特願２００９−２７３７９８号の分割出願（特願２０１１−０７２９３１号）の分割出願（特願２０１３−２２３７１５号）の一部を平成２６年２月２６日に新たな特許出願としたものであって、平成２６年５月２０日付けで拒絶理由が通知され、同年７月９日付けで手続補正がなされたが、同年９月３０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１２月２６日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正がなされたものである。
　
第２．補正却下の決定
［結論］
　　平成２６年１２月２６日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．本願発明と補正後の発明
　平成２６年１２月２６日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、補正前の特許請求の範囲の請求項１に記載された
　
「【請求項１】
　積層体をパターニングすることによって得られるタッチパネルセンサであって、
　前記積層体は、
　透明な基材フィルムと、
　前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、透光性および導電性を有する第１透明導電層と、
　前記第１透明導電層上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１被覆導電層と、を備え、
　前記基材フィルムは、フィルム本体と、前記フィルム本体の一方の側の面上に設けられたインデックスマッチング膜と、を有し、
　前記インデックスマッチング膜は、高屈折率膜および低屈折率膜を含み、
　前記タッチパネルセンサは、
　前記基材フィルムと、
　前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、前記第１透明導電層をパターニングすることによって得られた第１透明導電体と、
　前記第１透明導電体の一部分上に設けられ、前記第１被覆導電層をパターニングすることによって得られた第１取出導電体と、を備え、
　前記基材フィルムは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアに隣接する非アクティブエリアと、を有し、
　前記第１透明導電体は、前記アクティブエリアおよび前記非アクティブエリアの両方において、所定のパターンを有し、
　前記第１取出導電体は、前記非アクティブエリアにおいて前記第１透明導電体上に設けられており、
　前記インデックスマッチング膜の前記高屈折率膜および前記低屈折率膜は、前記第１透明導電体が設けられている領域と、前記第１透明導電体が設けられていない領域と、の間における光の反射率の差を抑制するよう構成されていることを特徴とするタッチパネルセンサ。」
　
という発明（以下、「本願発明」という。）を
　
「【請求項１】
　積層体をパターニングすることによって得られる
静電容量方式の
　前記積層体は、
　透明な基材フィルムと、
　前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、透光性および導電性を有する第１透明導電層と、
　前記第１透明導電層上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１被覆導電層と、を備え、
　前記基材フィルムは、フィルム本体と、前記フィルム本体の一方の側の面上に設けられたインデックスマッチング膜と、を有し、
　前記インデックスマッチング膜は、高屈折率膜および低屈折率膜を含み、
　前記タッチパネルセンサは、
　前記基材フィルムと、
　前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、前記第１透明導電層をパターニングすることによって得られた第１透明導電体と、
　前記第１透明導電体の一部分上に設けられ、前記第１被覆導電層をパターニングすることによって得られた第１取出導電体と、を備え、
　前記基材フィルムは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアに隣接する非アクティブエリアと、を有し、
　前記第１透明導電体は、前記アクティブエリアおよび前記非アクティブエリアの両方において、所定のパターンを有し、
　前記第１取出導電体は、前記非アクティブエリアにおいて前記第１透明導電体上に設けられており、
　前記インデックスマッチング膜の前記高屈折率膜および前記低屈折率膜は、前記第１透明導電体が設けられている領域と、前記第１透明導電体が設けられていない領域と、の間における光の反射率の差を抑制するよう構成されていることを特徴とするタッチパネルセンサ。」
　
という発明（以下、「補正後の発明」という。）に補正する補正事項を含むものである。（下線は補正事項を示している。）
　
２．補正の適否
（１）補正の目的要件
　本件補正のうち上記補正事項は、本願発明の特許請求の範囲の請求項１に記載された「タッチパネルセンサ」を、「
静電容量方式の
　そして、本件補正は、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものと認められ、特許法第１７条の２第３項（新規事項）の規定に適合している。
　また、特許法１７条の２第４項（シフト補正）の規定に違反するものでもない。
　
（２）独立特許要件
　
　そこで、上記補正後の発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるのかどうかについて以下検討する。
　　
ア．補正後の発明
　
　上記「１．本願発明と補正後の発明」の項で、「補正後の発明」として認定したとおりのものである。
　
イ．引用発明
（ア）引用例１
　原査定の拒絶の理由において引用された、特開平４−１６０６２４号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　　
ａ．「【特許請求の範囲】
（１）透明電極（１１）を設けた透明でフレキシブルな２組のフィルム基板（１０）を前記透明電極（１１）を対面させて配置したタッチ入力シート（１）を表示パネル（２）上に積層配置してなるタッチ入力表示装置において、
　前記フィルム基板（１０）の端部に構成される前記透明電極（１１）の引き出し端子列（１１２）の各端子上に金属膜（１２）を形成したことを特徴とするタッチ入力表示装置。」（１頁左下欄５〜１３行）
ｂ．「〔産業上の利用分野〕
　本発明は透明なタッチ入力シートを用いたタッチ入力表示装置の改良に関する。
　最近、ワープロやパソコンがますます普及するとともに、その小形・軽量化が強く求められており、簡易で信頼性の高い装置内接続技術などの開発が求められている。」（２頁左上欄８〜１４行）
　
ｃ．「〔従来の技術〕
　入カパネルや表示パネルには各種のものが使用されているが、たとえば、第５図は従来のタッチ入力表示装置の例を示す斜視図である。
　
　・・・（中略）・・・
　
　一般に、入力装置としてはキーボードが最も多く用いられているが、最近はタッチ入力装置も好んで使用されるようになってきた。
　図中、１はタッチ入力シートて指タッチあるいはペンタッチの何れかで入力できるようになっている。タッチ入力シート１は、たとえば、ＩＴＯ膜（Ｉｎ２０３−Ｓｎ０２）からなる抵抗膜を形成した厚さ１２５μｍの２枚のフィルム基板１０．たとえば、ポリエステルフィルムを両抵抗膜が対面するようにドットスペーサを挟んで重ねたもので、抵抗膜の抵抗値は、たとえば、３００Ω／□程度である。
　なお、一方のフィルム基板１０上の抵抗膜の相対する、たとえば、Ｘ方向の２辺にＸ列電極端子か形成され、他方のフィルム基板１０上の抵抗膜の相対する、たとえば、Ｙ方向の２辺にはＹ列電極端子が形成されており、接続ケーブル１５により制御回路基板３’の配線端子部３０’に接続されている。３１は駆動制御回路用のＩＣなどの電子部品である。
　いま、図示してない指先あるいは入力ペンてタッチ入力シートｌの表面にタッチすると、両抵抗膜が接触し、たとえば、接触抵抗が数１００Ω程度の導通状態となり、そのタッチ部の座標が制御回路基板３’の制御回路で検出され、必要に応じて図示した一点鎖線で囲まれた入力表示部上に表示される。なお、接触点の座標の検出、表示の動作の詳細は本発明に直接関係しないので省略する。
　また、同様のＩＴＯ膜を用い指あるいは導電性の材料からなるペンでタッチして、人体容量Ｃと人体抵抗Ｒで決まる電流変化から、入力面のタッチ位置を判定する、いわゆる、容量結合方式によるタッチ入力シートも広く使用されている。」（２頁左上欄１５行〜右下欄１２行）
　
ｄ．「〔発明が解決しようとする課題〕
　しかし、上記従来のタッチ入力表示装置においては、タッチ入力シートｌのフィルム基板１０の引き出し端子列は透明電極１１、たとえば、ＩＴＯ膜（Ｉｎ２０３−ＳｎＯ２）からなるので、接続導電剤１４、たとえば、異方性導電フィルムを介しての接続ケーブル１５の配線端子列との接続による接続抵抗は大きくなり、とくに、最近の高密度配線を要する装置においては、時に、数ＭΩのレベルに達することかあって駆動用のＩＣ３１が高価になるばかりでなく、透明な引き出し端子列は見えにくいので、接続ケーブル端子列との位置合わせが困難になって組立て歩留りが低下するなどの問題があり、その解決が必要であった。」（３頁左上欄１４行〜右上欄８行）
　
ｅ．「〔作用〕
　本発明によれば、タッチ入力シート１のフィルム基板１０の引き出し端子列１１２は、透明電極１１の上に金属膜１２が被覆して形成されているので、接続ケーブル１５の配線端子列との接続による接続抵抗は極めて小さくなり駆動用のＩＣ３１は安価なものが使用でき。しかも、接続作業時にタッチ入力シート１の引き出し端子列１１２（１１２ａ）がよく見えるので、高密度配線端子列であっても接続作業は容易てあり、金属膜１２の介在により接続強度が上かり信頼性も向上するのである。」（３頁左下欄９〜１９行）
　
ｆ．「〔実施例〕
　第１図は本発明の実施例を示す図である。
　図中、１１２ａは引き出し端子列で、フィルム基板１０に形成された透明電極１１の引き出し端子部の上に金属膜１２、たとえば、厚さ３００ｎｍのＣｒ、Ｃｕ、ＡｌあるいはＡｕを端部から１０ｍｍ程度の長さに被着して構成している。
　なお、前記の諸図面で説明したものと同等の部分については同一符号を付し、かつ、同等部分についての説明は省略する。
　このように構成したタッチ入力シート１と、ここには図示してない制御回路基板とを、同じく、図示してない接続ケーブルにより導電接続剤、たとえば、異方性導電フィルムを用いて接続したところ、接続する端子列がよく見えるので接続作業が容易で接続抵抗が非常に小さくなり、しかも、接続強度と信頼性も向上した。
　第２図は本発明の他の実施例を示す図で、本実施例では引き出し端子列１１２（１１２ｂ）の部分を延長して、図示してない制御回路基板の配線端子部への接続ケーブルとして使用するもので、従来のように別個の接続ケーブルを必要としないので部品点数を削減できるだけでなく、一方の接続部分を無くしているので装置全体の信頼性も向上する。」（３頁右下欄１行〜４頁左上欄４行）
　
ｇ．「第４図は本発明実施例の形成工程の例を示す図で、透明電極１１の上に金属膜１２を形成する具体的な方法の例を主な工程順に図示説明したものである。
　工程（１）：フィルム基板１０、たとえば、厚さ１２５μｍのポリエステルフィルムの上に、透明電極１１として、たとえば、厚さ１００ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタ法で形成したあと、金属膜１２として、たとえば、厚さ３００ｎｍのＣｒ膜を連続してスパッタ法で形成する。
　工程（２）：上記処理基板の上にホトレジスト膜１６を塗布乾燥する。
　工程（３）：上記処理基板に露光マスクを用いて巾３００μｍ、ギャップ３０μｍのレジストパターン１６’が残るように露光・エッチング処理を行う。
　工程（４）：上記処理基板を、たとえば、硝酸第２セリウムアンモニウム水溶液で処理してＣｒ膜をエッチング除去したあと、塩化第２鉄と塩酸の混合水溶液で処理してＩＴＯ膜をエッチング除去する。
　工程（５）：上記処理基板を適当な溶剤で処理してレジストパターン１６’を溶解除去する。
　工程（６）：上記処理基板の端部から、たとえば、１０ｍｍ程度の巾でレジスト膜１７を塗布して乾燥する。レジスト膜１７の形成はスプレイコートでもよいし、全面に塗布したあと通常の露光・エッチング技術を用いて行ってもよい。
　工程（７）：上記処理基板を、同じく、硝酸第２セリウムアンモニウム水溶液で処理してＣｒ膜をエッチング除去する。
　工程（８）：上記処理基板を適当な溶剤で処理してレジスト膜１７を溶解除去すれば、本発明のタッチ入力装置用のタッチ入力シートｌの引き出し端子列１１２（１１２ａ）が形成される。
　なお、上記引き出し端子列１１２を延長して接続ケーブルを兼ねるように構成した場合も同様にして作製することができる。また、上記実施例では金属膜１２としてＣｒ膜を用いたが、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、ＴｉやＡｕ／Ｔｉ、Ａｕ／Ｍｏ、Ａｌ／Ｃｕなどの複合膜を用いてもよいことは言うまでもない。
　以上述べた実施例は幾つかの例を示したものであり、本発明の趣旨に添うものである限り、使用する素材や構成、製造プロセスなどは適宜好ましいもの、あるいはその組み合わせを用いてもよいことは勿論である。」（４頁右上欄３〜右下欄６行）　　
　　
　上記引用例１の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると、
　                     
（ａ）上記ｂ．によれば、引用利１には、タッチ入力シートが記載され、また、上記ｆ．には、「なお、前記の諸図面で説明したものと同等の部分については同一符号を付し、かつ、同等部分についての説明は省略する。」と記載され、そして、上記ｃ．には、タッチ入力シートは、指タッチあるいはペンタッチの何れかで入力できるようになっていることが記載されている。
　したがって、引用例１には、指タッチあるいはペンタッチの何れかで入力できるようになっているタッチ入力シートが記載されているといえる。
　
（ｂ）上記ａ．の記載によれば、タッチ入力シートは、透明電極（１１）を設けた透明でフレキシブルな２組のフィルム基板（１０）を前記透明電極（１１）を対面させて配置したものである。
　
（ｃ）上記ａ．、ｅ．、ｆ．、及び第１図の記載によれば、タッチ入力シート１の透明なフィルム基板１０の引き出し端子列１１２は、透明電極１１の一部の上に金属膜１２が被覆して形成されている。
　
（ｄ）上記ｇ．、及び第４図の記載によれば、フィルム基板１０上に、透明電極１１として、厚さ１００ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタ法で形成し、金属膜１２として、厚さ３００ｎｍのＣｒ膜を連続してスパッタ法で形成した処理基板を、露光マスクを用いて引き出し端子列に対応したレジストパターンを形成しエッチング処理して、フィルム基板１０に上記引き出し端子列１１２を形成している。
　したがって、引用例１には、上記引き出し端子列は、フィルム基板上に、透明電極となるＩＴＯ膜と、該ＩＴＯ膜上に金属膜となるＣｒ膜を配置した処理基板を、露光マスクによって端子列のパターンとなるように形成したことが記載されているといえる。
　
（ｅ）第１図の記載によれば、フィルム基板１０には「入力表示部」という領域が一点鎖線で区切られており、この領域がタッチ入力される領域と認められる。　　
　また、第１図の記載によれば、引き出し端子列１１２は該「入力表示部」以外の領域に形成されている。
　したがって、引用例１には、フィルム基板にはタッチ入力される領域である入力表示部があり、引き出し端子列は該入力表示部以外の領域に形成されていることが記載されているといえる。
　
　したがって、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が開示されていると認められる。
　
　「指タッチあるいはペンタッチの何れかで入力できるようになっているタッチ入力シートであって、
　上記タッチ入力シートは、透明電極を設けた透明でフレキシブルな２組のフィルム基板を前記透明電極を対面させて配置したものであり、
　上記タッチ入力シートの透明な前記フィルム基板の引き出し端子列は、前記透明電極の一部の上に金属膜が被覆して形成されており、
　上記引き出し端子列は、フィルム基板上に、前記透明電極となるＩＴＯ膜と、該ＩＴＯ膜上に前記金属膜となるＣｒ膜を配置した処理基板を、露光マスクによって端子列のパターンとなるように形成したものであり、
　上記フィルム基板にはタッチ入力される領域である入力表示部があり、
　上記引き出し端子列は前記入力表示部以外の領域に形成されている、
　タッチ入力シート。」
　
（イ）引用例２
　原査定の拒絶の理由において引用された、特許第４０５５０１９号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　　
ａ．「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、透明面状体及び透明タッチスイッチに関する。」（３頁４０〜４２行）
　
ｂ．「【背景技術】
【０００２】
　入力位置を検出するための透明タッチスイッチの構成は、従来から種々検討されているが、一例として静電容量式の透明タッチスイッチが知られている。例えば、特許文献１に開示された透明タッチスイッチは、それぞれ所定のパターン形状を有する透明導電膜を備えた一対の透明面状体の間に誘電体層が介在されて構成されており、指などが操作面に触れると、人体を介して接地されることによる静電容量の変化を利用して、タッチ位置を検出することができる。
【０００３】
　この透明タッチスイッチは、液晶表示装置やＣＲＴなどの表面に装着して用いられるが、透明面状体に形成された透明導電膜のパターン形状が目立ってしまい、視認性の低下を招いていた。」（３頁４３行〜４頁４行）
　
ｃ．「【００７６】
　図９は、本発明に係る透明タッチスイッチの第２実施形態を示す概略断面図である。この透明タッチスイッチ１０１は、静電容量式のタッチスイッチであり、透明基板１１にアンダーコート層１３を介して透明導電膜１２が形成された第１の透明面状体１と、透明基板２１にアンダーコート層２３を介して透明導電膜２２が形成された第２の透明面状体２とを備えている。第１の透明面状体１と第２の透明面状体２とは、それぞれの透明導電膜１２，２２が対向するようにして、粘着層１５を介して貼着されている。
【００７７】
　透明基板１１，２１は、基材層１１１，２１１の表裏面にハードコート層１１２，１１２；２１２，２１２を備えて構成されている。基材層１１１，２１１は、透明性が高い材料からなることが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアクリル（ＰＡＣ）、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂、シロキサン架橋型アクリルシリコン樹脂などの可撓性フィルムやこれら２種以上の積層体、或いは、ガラス板などを挙げることができる。基材層１１１，２１１の厚みは、２０〜５００μｍ程度が好ましく、ハードコート層１１２，２１２の厚みは、３〜５μｍ程度が好ましい。基材層１１１，２１１は、剛性を付与するために支持体を貼着してもよい。
【００７８】
　ハードコート層１１２，２１２は、耐久性及びアンダーコート層１３，２３の密着性を高めるために、基材層１１１，２１１の表裏面に設けることが好ましいが、いずれか一方であってもよく、更には、ハードコート層１１２，２１２を全く設けずに透明基板１１，２１を構成することも可能である。
【００７９】
　アンダーコート層１３，２３は、それぞれ低屈折率層１３ａ，２３ａと、低屈折率層１３ａ，２３ａよりも光屈折率が高い高屈折率層１３ｂ，２３ｂとの積層体から構成されており、低屈折率層１３ａ，２３ａ側に透明導電膜１２，２２が形成されるように配置され、透明性を向上させている。
【００８０】
　アンダーコート層１３，２３の積層体を構成する各層の材料としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化錫などを例示することができ、好ましい組み合わせとして、酸化錫−酸化ハフニウム系、酸化珪素−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化錫−酸化チタン系などを挙げることができる。視認性向上の観点から特に好ましいのは、低屈折率層１３ａ，２３ａが酸化珪素（ＳｉＯｎ、ｎ＝1.7〜2.0）からなり、高屈折率層１３ｂ，２３ｂがシリコン錫酸化物（silicon-tin oxide）からなる組み合わせである。アンダーコート層１３，２３は、スパッタリング法、抵抗蒸着法、電子ビーム蒸着法などにより形成することができる。
【００８１】
　後述する本発明者らのシミュレーション結果によれば、高屈折率層１３ｂ，２３ｂの厚みは、低屈折率層１３ａ，２３ａの厚みよりも小さいことが好ましく、これによって、アンダーコート層１３，２３の表面に形成した透明導電膜１２，２２のパターン形状を目立ちにくくして、視認性を高めることができる。高屈折率層１３ｂ，２３ｂの厚みは、１０〜２５ｎｍであることが好ましく、この場合において、低屈折率層１３ａ，２３ａの厚みは、２５〜４５ｎｍであることが好ましい。
【００８２】
　透明導電膜１２，２２の材料としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、
カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物を例示することができ、これら２種以上を複合して形成してもよい。透明導電膜１２，２２の形成方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを例示することができる。
【００８３】
　透明導電膜１２，２２は、上述の第１実施形態と同様に図２及び図３に示すように、平行に延びる複数の帯状導電部１２ａ，２２ａの集合体としてそれぞれ形成されており、各透明導電膜１２，２２の帯状導電部１２ａ，２２ａは、互いに直交するように配置されている。透明導電膜１２，２２は、導電性インクなどからなる引き廻し回路（図示せず）を介して外部の駆動回路（図示せず）に接続される。透明導電膜１２，２２のパターン形状は、本実施形態のものに限定されず、指などの接触ポイントを検出可能である限り、任意の形状とすることが可能である。例えば、図４及び図５に示すように、透明導電膜１２，２２を、複数の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが直線状に連結された構成とし、各透明導電膜１２，２２における菱形状導電部１２ｂ，２２ｂの連結方向が互いに直交し、且つ、平面視において上下の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが重なり合わないように配置してもよい。
【００８４】
　透明導電膜１２，２２のパターニングは、透明基板１１，２１にアンダーコート層１３，２３を介してそれぞれ形成された透明導電膜１２，２２の表面に、所望のパターン形状を有するマスク部を形成して露出部分を酸液などでエッチング除去した後、アルカリ液などによりマスク部を溶解させて、行うことができる。このように透明導電膜１２，２２のパターニングをエッチングにより行う方法は、不要な透明導電膜１２，２２は除去できる一方、アンダーコート層１３，２３は全て残存させることができる。但し、パターニングの方法はこれに限定されるものではなく、他の公知の方法で行ってもよい。
【００８５】
　透明導電膜１２，２２の厚みは、通常１０〜５０ｎｍ程度である。透明導電膜１２，２２のパターン形状を目立ちにくくして視認性を向上させる観点からは、透明導電膜１２，２２の厚みはできる限り小さいことが好ましいが、薄くなりすぎると膜の良好な結晶性や必要な耐久性・耐候性を得ることが困難になることから、好ましくは１０〜２５ｎｍ程度である。
【００８６】
　第１の透明面状体１と第２の透明面状体２との貼着は、空気層が介在しないように、粘着層１５を全体に介在させて行うことが好ましい。粘着層１５は、エポキシ系やアクリル系など、一般的な透明接着剤を用いることができ、ノルボルネン系樹脂の透明性フィルムからなる芯材を含むものであってもよい。粘着層１５の厚みは、通常２５〜７５μｍであり、屈折率は、１．４〜１．６である。」（１２頁３行〜１３頁３７行）
　　
ｄ．「【０１０２】
　（試験１）
　まず、透明導電膜の最適な厚みを検討するため、透明基板にアンダーコート層を介さずに直接透明導電膜を形成した構成において、透明導電膜が形成された部分と、透明導電膜が形成されていない部分との反射率（％）の差を、シミュレーションにより求めた。
【０１０３】
　透明基板は、ＰＥＴフィルムからなる基材層（厚み：１８８μｍ、屈折率：１．６５）の表裏面にハードコート層（各厚み：５μｍ、屈折率：１．５２）が形成されたものとし、透明導電膜は、ＩＴＯ膜（屈折率：１．９５）とした。また、透明基板における透明導電膜側には、アクリル系樹脂からなる粘着層（厚み：２５μｍ、屈折率：１．５２）を形成した。反射率の算出は、サイバネットシステム（株）製薄膜設計ソフトウェア（OPTAS−FILM）を用いて行った（ただし、ＰＥＴ層等での吸収は無いものと仮定して計算している）。この構成において、透明導電膜の厚みをパラメータとして算出した反射率（％）の差を図１４に示す。
【０１０４】
　透明導電膜のパターン形状の目立ちにくさは、透明導電膜が形成された部分と形成されていない部分との反射率差と相関性を有しており、可視領域全体（波長：約４００〜８００ｎｍ）における反射率差の絶対値及び変化率が小さいほど、パターン形状が目立ちにくく、視認性を良好にすることができる。図１４に示すように、反射率差の絶対値及び変化率は、いずれも透明導電膜の厚みが薄くなるほど小さくなっており、視認性の観点からは透明導電膜の厚みを小さくするほど良いことがわかる。但し、透明導電膜の結晶性や耐久性・耐候性を高めるためには、ある程度の厚みが必要になることから、透明導電膜の厚みは、１０〜２５ｎｍが好ましく、約１５ｎｍとするのが最適である。
【０１０５】
　（試験２）
　次に、透明基板と透明導電膜との間にアンダーコート層が形成された構成（図９参照）において、アンダーコート層を構成する低屈折率層及び高屈折率層の最適厚みを検討した。透明基板の厚み・屈折率及び透明導電膜の屈折率は、試験１と同様とし、透明導電膜の厚みは、試験１の結果から１５ｎｍとした。また、透明導電膜の表面側には粘着層を形成し、この粘着層の厚み及び屈折率も、試験１と同様とした。アンダーコート層は、屈折率が１．４３の酸化珪素からなる低屈折率層と、屈折率が１．７のシリコン錫酸化物からなる高屈折率層との積層体とした。
【０１０６】
　この構成において、まず、低屈折率層の厚みを３０ｎｍに設定し、高屈折率層の厚みをパラメータとして、透明導電膜が形成されていない部分との反射率の差を、シミュレーションにより求めた。この結果を図１５に示す。
【０１０７】
　図１５に示すように、高屈折率層の厚みが０の場合（即ち、高屈折率層が存在しない場合）には、可視領域の低波長側（約４００〜５００ｎｍ）において反射率差の絶対値及び変化率が大きくなっており、良好な視認性が得られていない。これに対し、高屈折率層の厚みが１０〜２０ｎｍの場合には、可視領域の全体において反射率差の絶対値及び変化率
がいずれも小さく、良好な視認性が得られている。高屈折率層の厚みが、低屈折率層の厚みである３０ｎｍよりも大きくなると、反射率差の絶対値及び変化率は再び増加する傾向にあり、視認性が悪化する傾向にある。
【０１０８】
　次に、高屈折率層の厚みを１５ｎｍに設定し、低屈折率層の厚みをパラメータとして、透明導電膜が形成されていない部分との反射率の差を、シミュレーションにより求めた。この結果を図１６に示す。
【０１０９】
　図１６に示すように、低高屈折率層の厚みが０の場合（即ち、低屈折率層が存在しない場合）には、可視領域の低波長側（約４００〜５００ｎｍ）において反射率差の絶対値及び変化率が大きくなっており、良好な視認性が得られていない。これに対し、低屈折率層の厚みが大きくなるにつれて、反射率差の絶対値及び変化率は小さくなる傾向にあり、低屈折率層の厚みが、高屈折率層の厚みである１５ｎｍよりも大きくなると、反射率差の絶対値及び変化率はいずれも十分小さくなり、良好な視認性が得られている。低屈折率層の厚みが、５０ｎｍになると、反射率差の絶対値は小さい一方で、可視領域の低波長側における反射率差の変化率が大きくなり、視認性が徐々に悪化する傾向にある。
【０１１０】
　このようなシミュレーション結果から、アンダーコート層における高屈折率層の厚みは、低屈折率層の厚みよりも小さいことが好ましいことがわかった。より具体的には、高屈折率層の厚みは、１０〜２５ｎｍであることが好ましく、この場合において、低屈折率層の厚みは、２５〜４５ｎｍであることが好ましい。
【０１１１】
　このシミュレーション結果に基づき、高屈折率層の厚みを１５ｎｍ、低屈折率層の厚みを３５ｎｍとして実際に透明面状体を試作したところ、導電層のパターン形状を視認することができず良好な視認性が得られており、上記シミュレーション結果の有効性を確認した。
【０１１２】
　（試験３）
　試験２で求めたアンダーコート層における低屈折率層及び高屈折率層の好ましい厚みは、アンダーコート層以外の他の層の厚みなどが変化しても、ほぼ同様の傾向にある。例えば、試験２において透明導電膜の厚みが大きくなると、低屈折率層及び高屈折率層の好ましい厚みの数値範囲はほとんど変化しないが、好ましい条件から外れた場合の視認性の悪化がより顕著となる。一例として、試験２の構成（低屈折率層の厚み：３０ｎｍ）において、透明導電膜の厚みを１５ｎｍから２０ｎｍに変えた場合に、高屈折率層の厚みをパラメータとした反射率差を図１７に示す。
【０１１３】
　また、透明基板において基材層の表裏面に形成したハードコート層の一方又は双方を設けない構成の場合には、アンダーコート層における高屈折率層及び低屈折率層の好ましい厚み範囲は、試験２における数値範囲よりも拡がる傾向にあり、例えば、高屈折率層を設けずに低屈折率層のみからアンダーコート層を構成した場合でも、ある程度の視認性を得ることができる。
」（１６頁１０行〜１７頁４１行）
　
　　
　上記引用例２の記載及び図面並びにこの分野の技術常識を考慮すると、引用例２には、次の技術（以下、「引用例２記載の技術」という。）が記載されていると認められる。
　
「透明電極膜を備えた透明基板からなる静電容量式のタッチスイッチにおいて、透明基板の透明電極膜が形成される側の面上に、高屈折率層および低屈折率層を含むアンダーコート層を設け、該アンダーコート層を介して透明電極膜が形成されることで、該アンダーコート層の前記高屈折率層および前記低屈折率層によって、透明基板の透明電極膜が設けられている領域と、透明電極膜が設けられていない領域と、の間における光の反射率の差を抑制すること。」
　
ウ．対比・判断
　
　補正後の発明と引用発明１とを対比する。
　
ａ．引用発明１の「処理基板」は「フィルム基板上に、前記透明電極となるＩＴＯ膜と、該ＩＴＯ膜上に前記金属膜となるＣｒ膜を配置した」ものであるから積層体といえ、「フィルム基板」は透明なものであり、また、「ＩＴＯ膜」は「透明電極」となるものであるから透明であり導電性を有するものであり、さらに、「Ｃｒ膜」のＣｒが遮光性があり導電性あることは技術常識あるから、引用発明１の「フィルム基板」、「ＩＴＯ膜」及び「Ｃｒ膜」は、補正後の発明の「基材フィルム」、「第１透明導電層」、及び「第１被覆導電層」に相当する。
　以上を踏まえると、引用発明１の「処理基板」は、補正後の発明の「透明な基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、透光性および導電性を有する第１透明導電層と、前記第１透明導電層上に設けられ、透光性および導電性を有する第１被覆導電層と、を備え」という構成を有する「積層体」に相当する。
　
ｂ．また、引用発明１の「タッチ入力シート」は「指タッチあるいはペンタッチの何れかで入力できる」ものであり、また、該「タッチ入力シート」の「引き出し端子列」は、前記「処理基板」を「露光マスクによって端子列のパターンとなるように形成した」ものであり、「処理基板」をパターニングしたものといえ、引用発明１の「タッチ入力シート」と、補正後の発明の「積層体をパターニングすることによって得られる静電容量方式のタッチパネルセンサ」とは、「積層体をパターニングすることによって得られるタッチパネルセンサ」で共通する。
　
ｃ．引用発明１の「フィルム基板」の「入力表示部」は、「タッチ入力される領域」でありタッチを検出され得る領域といえ、また、該領域に対して「アクティブエリア」と称し、「タッチ入力される領域」に隣接されるタッチ入力されない領域に対して「非アクティブエリア」と称することは任意であるから、引用発明１の「フィルム基板」は、補正後の発明の「基材フィルムは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアに隣接する非アクティブエリアと、を有し」に相当する構成を有しているといえる。
　
ｄ．さらに、引用発明１の「タッチ入力シート」の「引き出し端子列」は、「フィルム基板」と「透明電極となるＩＴＯ膜」と「金属膜となるＣｒ膜」とからなる「処理基板」をパターニングし、「入力表示部以外の領域に」「透明電極の一部の上に金属膜が被覆して形成されて」いるものであるから、「透明電極となるＩＴＯ膜」及び「金属膜となるＣｒ膜」は「入力表示部以外の領域」においてはパターニングされ、「透明電極」、及び「金属膜」となっているといえ、引用発明１の「透明電極」と、補正後の発明の「 第１透明導電体」は、「透明導電体は、前記非アクティブエリアに、所定のパターンを有し」という構成を有する点で共通し、また、引用発明１の「金属膜」は、補正後の発明の「前記非アクティブエリアにおいて前記透明導電体上に設けられ」という構成を有する「第１取出導電体」に相当する。
　そして、引用発明１の「タッチ入力シート」と、補正後の発明の「前記基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、前記第１透明導電層をパターニングすることによって得られた第１透明導電体と、前記第１透明導電体の一部分上に設けられ、前記第１被覆導電層をパターニングすることによって得られた第１取出導電体と、を備え」という構成を有する「タッチパネルセンサ」は、「前記基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、前記第１透明導電層をパターニングすることによって得られた透明導電体と、前記透明導電体の一部分上に設けられ、前記第１被覆導電層をパターニングすることによって得られた第１取出導電体と、を備え」という構成を有する「タッチパネルセンサ」である点で共通する。
　
　したがって、補正後の発明と引用発明１とを対比すると、両者は、以下の点で一致し、また、相違している。
　
（一致点）
　 
「積層体をパターニングすることによって得られるタッチパネルセンサであって、
　前記積層体は、
　透明な基材フィルムと、
　前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、透光性および導電性を有する第１透明導電層と、
　前記第１透明導電層上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１被覆導電層と、を備え、
　前記基材フィルムは、フィルム本体を有し、
　前記タッチパネルセンサは、
　前記基材フィルムと、
　前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられ、前記透明導電層をパターニングすることによって得られた透明導電体と、
　前記透明導電体の一部分上に設けられ、前記第１被覆導電層をパターニングすることによって得られた第１取出導電体と、を備え、
　前記基材フィルムは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアに隣接する非アクティブエリアと、を有し、
　前記透明導電体は、前記非アクティブエリアに、所定のパターンを有し、
　前記第１取出導電体は、前記非アクティブエリアにおいて前記透明導電体上に設けられている、
　タッチパネルセンサ。」
 　
　
（相違点１）上記タッチパネルが、補正後の発明では、静電容量方式のタッチパネルセンサであるのに対して、引用発明１では、タッチ入力シートが静電容量方式とは特定されていない点。
　
（相違点２）上記基材フィルムが、補正後の発明では、前記フィルム本体の一方の側の面上に設けられたインデックスマッチング膜を有し、インデックスマッチング膜は、高屈折率膜および低屈折率膜を含み、 インデックスマッチング膜の前記高屈折率膜および前記低屈折率膜は、前記第１透明導電体が設けられている領域と、前記第１透明導電体が設けられていない領域と、の間における光の反射率の差を抑制するよう構成されているのに対して、引用発明１では、フィルム基板はインデックスマッチング膜を有していない点。
　
（相違点３）前記透明導電体が、補正後の発明では、前記アクティブエリアおよび前記非アクティブエリアの両方において、所定のパターンを有しているのに対して、引用発明１では、透明電極は前記非アクティブエリアに所定のパターンを有しているが、前記アクティブエリアに所定のパターンを有しているとは限らない（引用例１には、透明電極がアクティブエリア（タッチ入力される領域）に所定のパターンを有していることの記載がない。）点。
　　　　
　以下、上記各相違点について検討する。
　
（相違点１）について
　引用例１の記載（公報３頁左上欄１４行〜右上欄８行）によれば、引用発明１のものは、タッチ入力シートの引き出し端子列が透明なＩＴＯ膜で形成されることで見えにくいことを課題とするものであり、透明なＩＴＯ膜を用いて引き出し端子列が形成されるタッチ入力シートであれば、タッチ入力シートの方式にかかわらず適用が可能であることは明らかである。
　一方、静電容量方式のタッチパネルセンサであって「透明なＩＴＯ膜を用いて引き出し端子列が形成されるタッチ入力シート」に該当するもの自体は本願出願前に周知であり（引用例２の背景技術の欄に記載されている透明タッチスイッチもこれに該当する。）、引用発明１のタッチ入力シートを該周知の静電容量方式のものとすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　（相違点２）、（相違点３）について
　上記（相違点１）についての欄で言及した、周知の「静電容量方式のタッチパネルセンサであって透明なＩＴＯ膜を用いて引き出し端子列が形成されるタッチ入力シート」としては、引用例２の背景技術の欄の記載からも明らかなように、「透明電極がアクティブエリア（タッチ入力されるエリア）にも所定のパターンを有しているもの」が広く知られており、引用発明１のタッチ入力シートをそのような「透明電極がアクティブエリア（タッチ入力されるエリア）にも所定のパターンを有しているもの」にできない理由はない。
　したがって、引用発明１におけるタッチ入力シートを、上記（相違点１）についての欄で述べたところに従って静電容量方式とするにあたり、「透明電極がアクティブエリア（タッチ入力されるエリア）にも所定のパターンを有しているもの」とすることも、当業者が容易になし得たことである。
　そして、そのようにする場合には、引用例２の背景技術の欄に記載されるような「基材フィルムの透明導電体が設けられている領域のパターンが目立ってしまう」という課題が当然に生じるから、そこに上記引用例２記載の技術を採用することは当業者が容易に推考し得たことである。
　以上のことは、引用発明１において相違点２、３に係る補正後の発明の構成を採用することが、当業者にとって容易であったことを意味している。
　
　
３．結語
　以上のとおり、本件補正は、補正後の発明が特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである
　
　
第３．本願発明について
１．本願発明
　
　平成２６年１２月２６日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願発明は、上記「第２．補正却下の決定」の項中の「１．本願発明と補正後の発明」の項で「本願発明」として認定したとおりである。
　
　
２．引用発明
　
　引用発明等は、上記「第２．補正却下の決定」の項中の「２．補正の適否」の項中の「（２）独立特許要件」の項中の「イ．引用発明」の項で「引用発明として」認定したとおりである。
　 
　
３．対比・判断
　
　そこで、本願発明と引用発明１を対比するに、本願発明は上記補正後の発明から当該補正に係る限定を省いたものである。
　
　そうすると、本願発明の構成に当該補正に係る限定を付加した補正後の発明が、上記「第２．補正却下の決定」の項中の「２．補正の適否」の項中の「（２）独立特許要件」の項中の「ウ．対比・判断」の項で検討したとおり、上記引用例１に記載された発明及び引用例２記載の技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本願発明も同様の理由により、当業者が容易に発明することができたものである。
　
　
４．むすび
　
　以上のとおり、本願発明は、上記１引用例に記載された発明及び引用例２記載の技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものと認められるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。