【事件の表示】
　特願２０１０−　７９９２０「感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年１０月２０日出願公開、特開２０１１−２０９６６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成２２年３月３０日の出願であって、平成２５年１０月１８日付けで拒絶理由が通知され、同年１２月２７日に意見書及び手続補正書が提出され、平成２６年１月１７日付けで拒絶査定がなされ、これを不服として、同年４月２８日に審判請求がされると同時に手続補正書が提出され、当審において、平成２７年６月２３日付けで拒絶理由（以下「当審拒絶理由」という。）が通知され、同年８月２８日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。
２　本願発明
　本願の請求項１ないし１７に係る発明は、平成２７年８月２８日に提出された手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１７に記載された事項によりそれぞれ特定されるものであるところ、そのうち請求項４に係る発明は、平成２７年８月２８日付け手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項４に記載された次のとおりのものである。
「　（Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造をカチオン部に有する下記一般式（ＺＩ）で表されるイオン性化合物であって、活性光線又は放射線の照射によりイオン強度０、２５℃、水中における酸解離定数の逆数の対数値ｐＫａが−２以下の酸を発生するイオン性化合物、及び（Ｃ）下記（ｘ）及び（ｙ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ有する疎水性樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
　（ｘ）アルカリ可溶性基
　（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基
　　【化３】
　一般式（１）中、
　Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し、ＥＷＧは下記一般式（ＥＷ）で表される部分構造である電子求引性基を表す。
　　【化４】
　上記一般式（ＥＷ）中、
　＊は一般式（１）中の酸素原子に直結している結合手を表す。
　ｎｅｗは−Ｃ（Ｒｅｗ１）（Ｒｅｗ２）−で表される連結基の繰り返し数であり、０又は１の整数を表す。ｎｅｗが０の場合は単結合を表し、直接Ｙｅｗ１が結合していることを示す。
　Ｙｅｗ１は、−Ｃ（Ｒｆ１）（Ｒｆ２）−Ｒｆ３で表されるハロ（シクロ）アルキル基である。Ｒｆ１はハロゲン原子、パーハロアルキル基、パーハロシクロアルキル基、又はパーハロアリール基を表す。Ｒｆ２、Ｒｆ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子又は有機基を表し、Ｒｆ２とＲｆ３とが連結して環を形成してもよい。
　Ｒｅｗ１、Ｒｅｗ２は、各々独立して水素原子又は置換基を表す。
　Ｒｅｗ１、Ｒｅｗ２及びＹｅｗ１の少なくとも２つが互いに連結して環を形成していてもよい。
　　【化５】
　上記一般式（ＺＩ）において、
　Ｒ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３は、各々独立に、有機基を表す。ただし、Ｒ２０１〜Ｒ２０３の少なくとも１つがアリール基である。
　Ｒ２０１〜Ｒ２０３のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。
　Ｚ−は、非求核性アニオンを表す。」
（以下、「本願発明」という。）
３　当審で通知した拒絶理由の概要
　当審において、平成２７年６月２３日付けで通知した拒絶の理由（以下「当審拒絶理由」という。）のうち理由３の概要は、以下のとおりである。
 
「３　本件出願の下記の請求項に係る発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に特許掲載公報の発行又は出願公開がされた下記の特許出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。 
 　　　　　　　　　　　　　　　　記 
（１） 
・請求項１〜３、６〜９、１４〜１６ 
・先願１　特願２０１０−１２０７００号（特開２０１１−６４０１号、優先権主張特願２００９−１２９３４９号） 
（２） 
・請求項４〜７、９〜１６ 
・先願２　特願２００９−２１０８５７号（特開２０１０−１０７９５５号） 
  
（３） 
・請求項４〜１６ 
・先願３　特願２００９−５７１６７号（特開２０１０−２１０９５３号） 」
４　引用例の記載事項
　上記当審拒絶理由において先願３として引用し、本願の出願の日前の特許出願であって、本願の出願後に出願公開がされた出願である特願２００９−５７１６７号（特開２０１０−２１０９５３号）（以下「先願」という。）の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲及び図面（以下「当初明細書等」という。）には、以下の事項が記載されている（下線は審決で付した。以下同じ。）。
（１）「【請求項１】
　
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含フッ素化合物成分（Ｆ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、
　
前記基材成分（Ａ）は、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ、
　
前記含フッ素化合物成分（Ｆ）は、塩基解離性基を含有する構成単位（ｆ１）を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】
［式（ａ０−１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ
２
は２価の連結基であり、Ｒ
３
はその環骨格中に−ＳＯ
２
−を含む環式基である。］
（２）「【０２１５】
＜（Ｆ）成分＞
　本発明において、（Ｆ）成分は、塩基解離性基を含有する構成単位（ｆ１）を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）（以下「（Ｆ１）成分」という。）を含む。
【０２１６】
（構成単位（ｆ１））
　
構成単位（ｆ１）における「塩基解離性基」とは、
アルカリ現像液
の作用により解離する基である
　塩基解離性基は、アルカリ現像液の作用により加水分解が生じることにより解離する。そのため、
該塩基解離性基が解離すると
（Ｆ１）成分の親水性が高まり、アルカリ現像液に対する親和性が向上する
　（Ｆ１）成分において、構成単位（ｆ１）中の塩基解離性基以外の部位（すなわち、構成単位（ｆ１）以外の構成単位中、当該塩基解離性基以外の構成単位（ｆ１）中）にフッ素原子が含まれていない場合には、フッ素原子を含む塩基解離性基であることを要する。一方、構成単位（ｆ１）中の塩基解離性基以外の部位にフッ素原子が含まれている場合には、フッ素原子を含む塩基解離性基であってもよく、フッ素原子を含まない塩基解離性基であってもよい。
　なお、フッ素原子を含む塩基解離性基は、塩基解離性基における水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換された基をいう。
【０２１７】
　構成単位（ｆ１）において、塩基解離性基は、上記定義に該当する有機基であれば特に限定されるものではなく、フッ素原子を含むものであってもよく、フッ素原子を含まないものであってもよく、フッ素原子を含むことが好ましい。特に、構成単位（ｆ１）中に含まれるフッ素原子が、塩基解離性基のみに存在することが好ましい。塩基解離性基がフッ素原子を含む場合、アルカリ現像液の作用により該塩基解離性基が解離した際、フッ素原子も構成単位（ｆ１）から解離するため、アルカリ現像液に対する親和性がより高くなる。
【０２１８】
　
塩基解離性基の具体例としては、
　本発明において、塩基解離性基は、下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）で表される基からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、
露光時には疎水性であって現像時には親水性となる特性に優れ
る点から、下記一般式（ＩＩ−１）または（ＩＩ−４）で表される基であることが特に好ましい
【０２１９】
【化６７】
［
式中、Ｒ
０
はそれぞれ独立してフッ素原子を有していてもよい有機基である。
【０２２０】
　式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｒ０は、フッ素原子を有していてもよい有機基である。
　「有機基」は、少なくとも１つの炭素原子を含む基である。
　Ｒ０の構造は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよく、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。
　Ｒ０において、有機基の炭素数は１〜２０であることが好ましく、炭素数１〜１５であることがより好ましく、炭素数１〜１０が特に好ましく、１〜５が最も好ましい。
　Ｒ０は、浸漬露光時のレジスト膜の疎水性が高まることから、フッ素化率が２５％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、６０％以上であることが特に好ましい。「フッ素化率」は、当該有機基における（水素原子およびフッ素原子の合計数）に対する（フッ素原子数）の割合（％）である。」
（３）「【０３５９】
　ポリマー合成例１：高分子化合物（１）の合成］
　温度計、還流管を繋いだ３つ口フラスコに、１１．７７ｇ（６９．２３ｍｍｏｌ）の化合物（８）、１５．００ｇ（４７．４７ｍｍｏｌ）の化合物（１）、１６．５８ｇ（６３．２９ｍｍｏｌ）の化合物（５）、４．６５ｇ（２７．６９ｍｍｏｌ）の化合物（６）、３．２７ｇ（１３．８５ｍｍｏｌ）の化合物（１２）を、７６．９１ｇのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させた。この溶液に、重合開始剤としてアゾビスイソ酪酸ジメチル（Ｖ−６０１）を２２．１ｍｍｏｌ添加し溶解させた。これを窒素雰囲気下、３時間かけて、７８℃に加熱したＭＥＫ４２．７２ｇに滴下した。滴下終了後、反応液を４時間加熱攪拌し、その後、反応液を室温まで冷却した。得られた反応重合液を大量のノルマル（ｎ−）ヘプタンに滴下し、重合体を析出させる操作を行い、沈殿した白色粉体をろ別、ｎ−ヘプタン／イソプロピルアルコール混合溶媒にて洗浄、乾燥して、目的物である高分子化合物（１）を４１ｇ得た。
　この高分子化合物（１）について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）は７，９００であり、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．７８であった。また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１３Ｃ−ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））は、ａ２１／ａ０／ａ１５／ａ１６／ａ３＝３５／２７／１８／１３／７であった。
【０３６０】
【化９６】
　
」
（４）「【０３７８】
　［合成例１８：酸発生剤（５）の合成］
・・・（略）・・・
【０３８２】
　（ｉｉｉ）窒素雰囲気下、三口フラスコに化合物（２−１）(８．５４ｇ)及びＴＨＦ(４２．７ｇ)を加え完溶させた。そこへエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド(４．８１ｇ)を添加し、室温にて１０分間撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（０．３１ｇ）を添加し、３０時間反応を行った。反応終了後、ろ別した有機相を濃縮し、ジクロロメタン(４２．７ｇ)を加え完溶させた。ジクロロメタン相を水洗後、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた油状物質を乾燥することによって酸発生剤（５）９．８０ｇを得た。
【０３８３】
　次に、得られた酸発生剤（５）についてＮＭＲによる分析を行った。
　１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６、４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝ ７．７５−７．８７(ｍ，１０Ｈ，ＡｒＨ), ７．６３(ｓ，２Ｈ，ＡｒＨ), ４．９４(ｔ，２Ｈ，ＯＣＨ２ＣＦ２),  ４．８４(ｓ，２Ｈ，ＯＣＨ２),  ２．３７(ｓ，６Ｈ，ＣＨ３)１９Ｆ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６、３７６ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝−７７．８，−８０．４, −１１１．９，−１１８．５，−１１９．７，−１２３
　上記分析の結果から、酸発生剤（５）が下記に示す構造を有することが確認できた。
【０３８４】
【化１０６】
　
」
（５）「【０４０７】
　（ｉｉｉ）含フッ素高分子化合物（１）の合成
　温度計、還流管を繋いだ３つ口フラスコに、２０．００ｇ（８８．４４ｍｍｏｌ）の化合物（２１）、６．６０ｇ（２９．４８ｍｍｏｌ）の化合物（２５）を３９．９０ｇのテトラヒドロフランを加えて溶解させた。この溶液に、重合開始剤としてアゾビスイソ酪酸ジメチル（Ｖ−６０１）を２３．５８ｍｍｏｌ添加し溶解させた。これを窒素雰囲気下、３時間かけて、６７℃に加熱したテトラヒドロフラン２２．１７ｇに滴下し、重合反応を行った。滴下終了後、反応液を４時間加熱撹拌し、その後、反応液を室温まで冷却した。得られた反応重合液を大量のｎ−ヘプタンに滴下し、重合体を析出させる操作を行い、沈殿した高分子化合物をろ別、洗浄、乾燥して、目的物である含フッ素高分子化合物（１）を１３ｇ得た。
　この含フッ素高分子化合物（１）について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）は１３，８００であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．５０であった。また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ１３Ｃ−ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））は、ｆ１１１／ｆ２＝７７．６／２２．４であった。
【０４０８】
【化１１６】
　
」
（６）「【０４２３】
【表２】
」
（７）「【０４２６】
  表２〜４中、各略号はそれぞれ以下のものを示し、［  ］内の数値は配合量（質量部）である。
  （Ａ）−１：前記高分子化合物（１０）。
  （Ａ）−２：前記高分子化合物（１１）。
  （Ａ）−３：前記高分子化合物（１２）。
  
（Ａ）−４：前記高分子化合物（１）
  （Ａ）−５：前記高分子化合物（２）。
  （Ａ）−６：前記高分子化合物（３）。
  （Ａ）−７：前記高分子化合物（１３）。
  （Ａ）−８：前記高分子化合物（４）。
  （Ａ）−９：前記高分子化合物（１４）。
  （Ａ）−１０：前記高分子化合物（５）。
  （Ａ）−１１：前記高分子化合物（６）。
  （Ａ）−１２：前記高分子化合物（１５）。
  （Ａ）−１３：前記高分子化合物（７）。
  （Ａ）−１４：前記高分子化合物（１６）。
  （Ａ）−１５：前記高分子化合物（８）。
  （Ａ）−１６：前記高分子化合物（９）。
【０４２７】
  （Ｂ）−１：（４−メチルフェニル）ジフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート。
  （Ｂ）−２：前記酸発生剤（２）。
  （Ｂ）−３：下記化学式で表される酸発生剤（３）。
  （Ｂ）−４：下記化学式で表される酸発生剤（４）。
【０４２８】
【化１２２】・・・（略）・・・
【０４２９】
  
（Ｂ）−５：前記酸発生剤（５）
  （Ｂ）−６：前記酸発生剤（６）。
  （Ｂ）−７：前記酸発生剤（７）。
【０４３０】
  
（Ｆ）−１：前記含フッ素高分子化合物（１）
  （Ｆ）−２：前記含フッ素高分子化合物（２）。
  （Ｆ）−３：前記含フッ素高分子化合物（３）。
  （Ｆ）−４：前記含フッ素高分子化合物（４）。
【０４３１】
  （Ｄ）−１：トリ−ｎ−ペンチルアミン。
  （Ｅ）−１：サリチル酸。
  （Ｓ）−１：γ−ブチロラクトン。
  （Ｓ）−２：ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝６／４（質量比）の混合溶剤。」
（８）上記（１）ないし（７）から、先願の当初明細書等には、以下の発明が記載されていると認められる。
「　酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含フッ素化合物成分（Ｆ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、
　前記基材成分（Ａ）は、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ、
　前記含フッ素化合物成分（Ｆ）は、塩基解離性基を含有する構成単位（ｆ１）を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）を含むポジ型レジスト組成物であって、
【化１】
［式（ａ０−１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ２は２価の連結基であり、Ｒ３はその環骨格中に−ＳＯ２−を含む環式基である。］
　前記構成単位（ｆ１）における塩基解離性基は、アルカリ現像液の作用により解離し、解離すると（Ｆ１）成分の親水性が高まり、アルカリ現像液に対する親和性が向上する基であり、
　前記塩基解離性基の具体例としては、露光時には疎水性であって現像時には親水性となる特性に優れる点から、下記の構造のうち一般式（ＩＩ−１）または（ＩＩ−４）で表される基であることが特に好ましく、
　
［式中、Ｒ０はそれぞれ独立してフッ素原子を有していてもよい有機基である。］
　前記基材成分（Ａ）、前記酸発生成分（Ｂ）及び前記含フッ素化合物成分（Ｆ）は、具体的には、
基材成分（Ａ）として下記の構造の高分子化合物（１）、
　
酸発生成分（Ｂ）として下記の構造の酸発生剤（５）、
　
含フッ素化合物成分（Ｆ）として下記の構造の含フッ素高分子化合物（１）、
　
を含む、ポジ型レジスト組成物。」
５　対比
（１）引用発明の「ポジ型レジスト組成物」は、本願発明の「感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物」に相当する。
（２）引用発明の「酸発生剤（５）」は、本願発明の一般式（１）で表される部分構造において、Ｘが酸素原子、ＥＷＧの一般式（ＥＷ）で表される部分構造のｎｅｗが１、Ｙｅｗ１がペンタフルオロエチル、Ｒｅｗ１及びＲｅｗ２が水素原子であり、一般式（ＺＩ）において、Ｒ２０１を上記一般式（１）で現れる部分構造を有する基とすると、Ｒ２０２及びＲ２０３がフェニル基であり、Ｚ−がＣ４Ｆ９ＳＯ３−である、イオン性化合物に相当する。そして、Ｃ４Ｆ９ＳＯ３−は、本願明細書【０５３５】に記載された（ＰＡＧ−Ｊ）及び【０５５０】に記載された（ＰＡＧ−Ｌ）のアニオン部と同一構造であり、本願明細書【０５４７】に記載された【表３】の実施例１４及び比較例１の記載によると、前記（ＰＡＧ−Ｊ）及び（ＰＡＧ−Ｌ）から発生する酸のｐＫａは−３．５７であるから、引用発明の「酸発生剤（５）」から発生する酸のイオン強度０、２５℃、水中における酸解離定数の逆数の対数値ｐＫａは−２以下である。
（３）引用発明の「含フッ素高分子化合物（１）」は、「塩基解離性基を含有する構成単位」を含有するものであり、該「塩基解離性基」は、アルカリ現像液の作用により解離して、含フッ素高分子化合物のアルカリ現像液に対する親和性を向上させるものであるから、本願発明の「『（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基』から選ばれる基を少なくとも１つ有する疎水性樹脂」に相当する。
（４）したがって、本願発明と引用発明とは、
「　（Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造をカチオン部に有する下記一般式（ＺＩ）で表されるイオン性化合物であって、活性光線又は放射線の照射によりイオン強度０、２５℃、水中における酸解離定数の逆数の対数値ｐＫａが−２以下の酸を発生するイオン性化合物、及び（Ｃ）下記（ｘ）及び（ｙ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ有する疎水性樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
　（ｘ）アルカリ可溶性基
　（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基
　　【化３】
　一般式（１）中、
　Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し、ＥＷＧは下記一般式（ＥＷ）で表される部分構造で
ある電子求引性基を表す。
　　【化４】
　上記一般式（ＥＷ）中、
　＊は一般式（１）中の酸素原子に直結している結合手を表す。
　ｎｅｗは−Ｃ（Ｒｅｗ１）（Ｒｅｗ２）−で表される連結基の繰り返し数であり、０又は１の整数を表す。ｎｅｗが０の場合は単結合を表し、直接Ｙｅｗ１が結合していることを示す。
　Ｙｅｗ１は、−Ｃ（Ｒｆ１）（Ｒｆ２）−Ｒｆ３で表されるハロ（シクロ）アルキル基である。Ｒｆ１はハロゲン原子、パーハロアルキル基、パーハロシクロアルキル基、又はパーハロアリール基を表す。Ｒｆ２、Ｒｆ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子又は有機基を表し、Ｒｆ２とＲｆ３とが連結して環を形成してもよい。
　Ｒｅｗ１、Ｒｅｗ２は、各々独立して水素原子又は置換基を表す。
　Ｒｅｗ１、Ｒｅｗ２及びＹｅｗ１の少なくとも２つが互いに連結して環を形成していてもよい。
　　【化５】
　上記一般式（ＺＩ）において、
　Ｒ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３は、各々独立に、有機基を表す。ただし、Ｒ２０１〜Ｒ２０３の少なくとも１つがアリール基である。
　Ｒ２０１〜Ｒ２０３のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。
　Ｚ−は、非求核性アニオンを表す。」
である点で一致し、相違するところはない。
（５）上記（１）ないし（４）からみて、本願発明は、先願の当初明細書等に記載された発明と同一の発明である。
６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、先願の当初明細書等に記載された発明と同一の発明であり、しかも、本願の発明者が先願発明をした者と同一ではなく、また本願の出願の時において、本願の出願人が先願の出願人と同一でもないから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、他の請求項について検討するまでもなく、当審拒絶理由によって拒絶すべきものである。
 
　よって、結論のとおり審決する。