【手続補正書】
【提出日】令和2年5月28日(2020.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスであって、
格子パラメータの第１のセットによって特徴付けられる第１の格子構造を有する入力結
合格子であって、前記入力結合格子は、光を光源から受光するように構成される、入力結
合格子と、
少なくとも２つの次元において変動する格子パラメータの第２のセットによって特徴付
けられる第２の格子構造を有する拡張格子であって、前記第２の格子構造は、光を前記入
力結合格子から受光するように構成され、前記第２の格子構造は、前記第２の格子構造に沿って異なる部分における異なる位相を伴って光ビームを回折させる、位相変動パターンを有する、拡張格子と、
格子パラメータの第３のセットによって特徴付けられる第３の格子構造を有する出力結
合格子であって、前記出力結合格子は、光を前記拡張格子から受光し、光を視認者に出力
するように構成される、出力結合格子と
を備える、デバイス。
【請求項２】
前記少なくとも２つの次元は、ピッチ、角度、頂角、屈折率、高さ、およびデューティ
サイクルのうちの少なくとも２つを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記第２の格子構造は、第１の屈折率によって特徴付けられる複数の第１の領域と、第
２の屈折率によって特徴付けられる複数の第２の領域とを有する、フィルムを含み、前記
第２の屈折率は、前記第１の屈折率より低い、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記位相変動パターンは、周期的または段階的な周期的パターン、ヒューリスティック
パターン、算出ホログラム、またはランダムパターンのうちの少なくとも１つを含む、連
続位相変動パターンを備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記第２の格子構造は、周期的構造を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記第２の格子構造は、第２の屈折率を有する層によって被覆される、第１の屈折率を
有する複数の領域を含み、前記第２の屈折率は、前記第１の屈折率より低い、請求項１に
記載のデバイス。
【請求項７】
前記第２の格子構造は、第１の回折部分と、前記第１の回折部分に隣接する第２の回折
部分とを備え、前記第１の回折部分は、第１の回折次数における第１の位相偏移を伴って
、第１の光ビームを回折させるように構成され、前記第２の回折部分は、第２の回折次数
における第２の位相偏移を伴って、第２の光ビームを回折させるように構成され、前記第
２の回折次数は、前記第１の回折次数に類似し、前記第２の位相偏移は、前記第１の位相
偏移と異なり、前記第１の位相偏移と前記第２の位相偏移との間の差異は、位相変動パタ
ーンと関連付けられる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記第１の回折部分は、前記第１の光ビームを前記第１の回折次数における第１の回折
された光ビームに偏向させるように構成され、前記第２の回折部分は、前記第１の回折さ
れた光ビームを前記第２の回折次数の負の次数における第２の回折された光ビームに偏向
するように構成され、前記第２の回折された光ビームは、前記第１の光ビームと比較して
、位相変化を有し、前記位相変化は、前記第１の位相偏移から前記第２の位相偏移を差し
引いたものである、請求項７に記載のデバイス。
【請求項９】
光学構造であって、
少なくとも部分的に第１の次元および第２の次元によって画定された平面に存在する導
波管層と、
前記導波管層に結合され、光を前記平面において回折するように動作可能である回折要
素であって、前記回折要素は、少なくとも前記第１の次元および前記第２の次元において
変動する回折パラメータのセットによって特徴付けられ、前記回折要素は、前記回折要素に沿って異なる部分における異なる位相を伴って光ビームを回折させる、位相変動パターンを有する、回折要素と
を備える、光学構造。
【請求項１０】
前記回折パラメータのセットは、少なくとも前記第１の次元および前記第２の次元にお
いて連続的に変動する、請求項９に記載の光学構造。
【請求項１１】
前記回折パラメータのセットは、ピッチ、格子ベクトル角度、デューティサイクル、高
さ変動、屈折率変動、またはブレーズ角または頂角のうちの少なくとも１つを備える、請
求項９に記載の光学構造。
【請求項１２】
前記回折要素は、前記第１の次元および前記第２の次元に直交する第３の次元において
延在する突出部の高さおよび間隔におけるランダム変動によって特徴付けられる、請求項
９に記載の光学構造。
【請求項１３】
前記回折要素は、第１の屈折率によって特徴付けられる複数の第１の領域と、第２の屈
折率によって特徴付けられる複数の第２の領域とを有するフィルムを含み、前記第２の屈
折率は、前記第１の屈折率より低い、請求項９に記載の光学構造。
【請求項１４】
前記位相変動パターンの周期は、１００μｍ〜５ｃｍの範囲内である、請求項９に記載の光学構造。
【請求項１５】
前記位相変動パターンは、周期的または段階的な周期的パターン、ヒューリスティック
パターン、算出ホログラム、またはランダムパターンのうちの少なくとも１つを含む、連
続位相変動パターンを備える、請求項９に記載の光学構造。
【請求項１６】
前記回折要素は、第２の屈折率を有する層によって被覆される、第１の屈折率を有する
複数の領域を含み、前記第２の屈折率は、前記第１の屈折率より低い、請求項９に記載の光学構造。
【請求項１７】
前記回折要素は、第１の回折部分と、前記第１の回折部分に隣接する第２の回折部分と
を備え、前記第１の回折部分は、第１の回折次数における第１の位相偏移を伴って、第１
の光ビームを回折させるように構成され、前記第２の回折部分は、第２の回折次数におけ
る第２の位相偏移を伴って、第２の光ビームを回折させるように構成され、前記第２の回
折次数は、前記第１の回折次数に類似し、前記第２の位相偏移は、前記第１の位相偏移と
異なり、前記第１の位相偏移と前記第２の位相偏移との間の差異は、位相変動パターンと
関連付けられる、請求項９に記載の光学構造。
【請求項１８】
前記第１の回折部分は、前記第１の光ビームを前記第１の回折次数における第１の回折
された光ビームに偏向するように構成され、前記第２の回折部分は、前記第１の回折され
た光ビームを前記第２の回折次数の負の次数における第２の回折された光ビームに偏向す
るように構成され、前記第２の回折された光ビームは、前記第１の光ビームと比較して、
位相変化を有し、前記位相変化は、前記第１の位相偏移から前記第２の位相偏移を差し引
いたものである、請求項１７に記載の光学構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本開示のこれらおよび他の実施形態は、その利点および特徴の多くとともに、以下の文
章および添付の図と併せてより詳細に説明される。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
デバイスであって、
格子パラメータの第１のセットによって特徴付けられる第１の格子構造を有する入力結
合格子であって、前記入力結合格子は、光を光源から受光するように構成される、入力結
合格子と、
少なくとも２つの次元において変動する格子パラメータの第２のセットによって特徴付
けられる第２の格子構造を有する拡張格子であって、前記第２の格子構造は、光を前記入
力結合格子から受光するように構成される、拡張格子と、
格子パラメータの第３のセットによって特徴付けられる第３の格子構造を有する出力結
合格子であって、前記出力結合格子は、光を前記拡張格子から受光し、光を視認者に出力
するように構成される、出力結合格子と
を備える、デバイス。
（項目２）
前記少なくとも２つの次元は、ピッチ、角度、頂角、屈折率、高さ、およびデューティ
サイクルのうちの少なくとも２つを含む、項目１に記載のデバイス。
（項目３）
前記第２の格子構造は、第１の屈折率によって特徴付けられる複数の第１の領域と、第
２の屈折率によって特徴付けられる複数の第２の領域とを有する、フィルムを含み、前記
第２の屈折率は、前記第１の屈折率より低い、項目１に記載のデバイス。
（項目４）
前記第２の格子構造は、位相変動パターンまたは位相ディザリング格子のうちの少なく
とも１つを有する、項目１に記載のデバイス。
（項目５）
前記位相変動パターンは、周期的または段階的な周期的パターン、ヒューリスティック
パターン、算出ホログラム、またはランダムパターンのうちの少なくとも１つを含む、連
続位相変動パターンを備える、項目４に記載のデバイス。
（項目６）
前記第２の格子構造は、周期的構造を有する、項目１に記載のデバイス。
（項目７）
前記第２の格子構造は、第２の屈折率を有する層によって被覆される、第１の屈折率を
有する複数の領域を含み、前記第２の屈折率は、前記第１の屈折率より低い、項目１に記載のデバイス。
（項目８）
前記第２の格子構造は、第１の回折部分と、前記第１の回折部分に隣接する第２の回折
部分とを備え、前記第１の回折部分は、第１の回折次数における第１の位相偏移を伴って
、第１の光ビームを回折させるように構成され、前記第２の回折部分は、第２の回折次数
における第２の位相偏移を伴って、第２の光ビームを回折させるように構成され、前記第
２の回折次数は、前記第１の回折次数に類似し、前記第２の位相偏移は、前記第１の位相
偏移と異なり、前記第１の位相偏移と前記第２の位相偏移との間の差異は、位相変動パタ
ーンと関連付けられる、項目１に記載のデバイス。
（項目９）
前記第１の回折部分は、前記第１の光ビームを前記第１の回折次数における第１の回折
された光ビームに偏向させるように構成され、前記第２の回折部分は、前記第１の回折さ
れた光ビームを前記第２の回折次数の負の次数における第２の回折された光ビームに偏向
するように構成され、前記第２の回折された光ビームは、前記第１の光ビームと比較して
、位相変化を有し、前記位相変化は、前記第１の位相偏移から前記第２の位相偏移を差し
引いたものである、項目８に記載のデバイス。
（項目１０）
光学構造であって、
少なくとも部分的に第１の次元および第２の次元によって画定された平面に存在する導
波管層と、
前記導波管層に結合され、光を前記平面において回折するように動作可能である回折要
素であって、前記回折要素は、少なくとも前記第１の次元および前記第２の次元において
変動する回折パラメータのセットによって特徴付けられる、回折要素と
を備える、光学構造。
（項目１１）
前記回折パラメータのセットは、少なくとも前記第１の次元および前記第２の次元にお
いて連続的に変動する、項目１０に記載の光学構造。
（項目１２）
前記回折パラメータのセットは、ピッチ、格子ベクトル角度、デューティサイクル、高
さ変動、屈折率変動、またはブレーズ角または頂角のうちの少なくとも１つを備える、項目１０に記載の光学構造。
（項目１３）
前記回折要素は、前記第１の次元および前記第２の次元に直交する第３の次元において
延在する突出部の高さおよび間隔におけるランダム変動によって特徴付けられる、項目１０に記載の光学構造。
（項目１４）
前記回折要素は、第１の屈折率によって特徴付けられる複数の第１の領域と、第２の屈
折率によって特徴付けられる複数の第２の領域とを有するフィルムを含み、前記第２の屈
折率は、前記第１の屈折率より低い、項目１０に記載の光学構造。
（項目１５）
前記回折要素は、位相ディザリング格子または位相変動パターンのうちの少なくとも１
つを含む、項目１０に記載の光学構造。
（項目１６）
前記位相変動パターンの周期は、１００μｍ〜５ｃｍの範囲内である、項目１５に記載の光学構造。
（項目１７）
前記位相変動パターンは、周期的または段階的な周期的パターン、ヒューリスティック
パターン、算出ホログラム、またはランダムパターンのうちの少なくとも１つを含む、連
続位相変動パターンを備える、項目１５に記載の光学構造。
（項目１８）
前記回折要素は、第２の屈折率を有する層によって被覆される、第１の屈折率を有する
複数の領域を含み、前記第２の屈折率は、前記第１の屈折率より低い、項目１０に記載の光学構造。
（項目１９）
前記回折要素は、第１の回折部分と、前記第１の回折部分に隣接する第２の回折部分と
を備え、前記第１の回折部分は、第１の回折次数における第１の位相偏移を伴って、第１
の光ビームを回折させるように構成され、前記第２の回折部分は、第２の回折次数におけ
る第２の位相偏移を伴って、第２の光ビームを回折させるように構成され、前記第２の回
折次数は、前記第１の回折次数に類似し、前記第２の位相偏移は、前記第１の位相偏移と
異なり、前記第１の位相偏移と前記第２の位相偏移との間の差異は、位相変動パターンと
関連付けられる、項目１０に記載の光学構造。
（項目２０）
前記第１の回折部分は、前記第１の光ビームを前記第１の回折次数における第１の回折
された光ビームに偏向するように構成され、前記第２の回折部分は、前記第１の回折され
た光ビームを前記第２の回折次数の負の次数における第２の回折された光ビームに偏向す
るように構成され、前記第２の回折された光ビームは、前記第１の光ビームと比較して、
位相変化を有し、前記位相変化は、前記第１の位相偏移から前記第２の位相偏移を差し引
いたものである、項目１９に記載の光学構造。