【事件の表示】
　特願２００９−５１７４００「ガス燃焼装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　１月　３日国際公開、ＷＯ２００８／００１０９５、平成２１年１２月　３日国内公表、特表２００９−５４３０１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２００７年６月２８日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００６年６月３０日、イギリス）を国際出願日とする出願であって、平成２０年１２月２６日に特許法第１８４条の５第１項に規定する国内書面が提出され、平成２１年２月２６日に同法第１８４条の４第１項に規定する明細書、請求の範囲、要約書及び図面の翻訳文（以下、「翻訳文」という。）が提出され、平成２４年４月２３日付けで拒絶理由が通知され、同年１０月３１日に意見書及び手続補正書が提出され、平成２５年５月１０日付けで再度最初の拒絶理由が通知され、同年８月２０日に意見書が提出されたが、同年１２月１７日付けで拒絶査定がされ、平成２６年４月２４日に拒絶査定不服審判の請求がされ、同年６月６日に審判請求書の請求の理由を補正する手続補正書が提出され、その後、当審において同年１２月２５日付けで拒絶理由（以下、「当審拒絶理由」という。）が通知され、平成２７年７月６日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　
第２　本願発明
　本願の特許請求の範囲の請求項１ないし８に係る発明は、平成２１年２月２６日に提出された翻訳文の明細書、平成２７年７月６日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲並びに国際出願時の図面及び翻訳文の図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　
　「【請求項１】
　可燃性ガスを燃焼させる方法であって、
　前記ガスを、燃焼チャンバに連結された燃焼ノズルに運ぶステップと、
　燃焼ノズルの回りに口火を形成するために水素及び酸化剤を前記チャンバに供給するステップと、を含み、
　前記口火を形成するために、水素と酸化剤を別々に前記チャンバ内に注入し、
　前記水素を、前記燃焼ノズルの回りに延びる第１の複数の開口を通して前記チャンバ内に注入し、前記酸化剤を、前記燃焼ノズルの回りに延びる第２の複数の開口を通して前記チャンバ内に注入する、
　ことを特徴とする方法。」
　
第３　引用文献の記載等
１　引用文献の記載
　当審拒絶理由で引用され、本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である特開平９−１０８５３２号公報（以下、「引用文献」という。）には、「排ガス処理装置」に関して、図面とともにおおむね次の記載（以下、順に、「記載１ａ」ないし「記載１ｃ」という。）がある。
 　 
１ａ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造設備等から排出される排ガスを処理するための排ガス処理装置に関し、特に、排ガス中に含まれているＮＦ３やＳＦ６等の無機系フッ素化合物或いはＣＦ４やＣ２Ｆ６等のフロン系ガスを分解処理するための排ガス処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造においては、ＳｉＨ４、Ｓｉ２ Ｈ６、ＰＨ３、ＮＨ３、ＮＦ３、ＳＦ６、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６等の有毒性ガスや環境汚染のおそれがあるガスが含まれた排ガスが生ずる。そのため、このような排ガスが排出される場所には排ガス処理装置を設置し、法令等が定める許容濃度（ＴＬＶ値）となるまで排ガスを分解処理する必要がある。
【０００３】従来の排ガス処理装置としては、火炎により排ガスを燃焼させて分解する燃焼式のものが知られている。一般的な燃焼式排ガス処理装置は、排気ガスに対してバーナーからの火炎を吹き付けて、その熱により排気ガスを分解処理するものである。かかる燃焼式排ガス処理装置は、ＳｉＨ４、Ｓｉ２Ｈ６、ＰＨ３、ＮＨ３等の可燃性ガスに対しては有効に機能し得る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の燃焼式排ガス処理装置では、火炎が短く、しかもＮＦ３、ＳＦ６、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６等は非常に安定なガスであるため、これらのガスを分解処理するためには、大容量で大型の装置を用いなければならず、且つ、大量の燃料が必要となる。
【０００５】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、装置の小型化を図りつつ、効率的に排ガスの分解処理を行うことのできる燃焼式の排ガス処理装置を提供することにある。」（段落【０００１】ないし【０００５】）
　
１ｂ　「【００１０】図１は、本発明による排ガス処理装置を備える排ガス処理設備の一例を示している。これらの図において、符号１０，１２，１４，１６は、それぞれ、排ガス処理装置、フィルタ、排気用ブロワ及び湿式スクラバを示している。フィルタ１２、排気用ブロワ１４及び湿式スクラバ１６については、一般的な排ガス処理設備で通常用いられている型式のものである。
【００１１】本実施形態における排ガス処理装置１０は、図示するように、円筒形の処理筒１８を備えている。この処理筒１８は縦置き、即ちその軸線が鉛直方向に向くようにして設置されている。
【００１２】処理筒１８の底板２０の中央部には出口ノズル２２が形成されており、この出口ノズル２２は配管２４を介してフィルタ１２に接続されている。また、処理筒１８の上板２６の中心部には、排ガス導入管２８、燃料ガス導入管３０及び燃焼用空気導入管３２から成るガス導入部が設けられている。このガス導入部は、内側から順に排ガス導入管２８、燃料ガス導入管３０、燃焼用空気導入管３２を同軸に配置して構成されたものであり、排ガス導入管２８の内部空間、排ガス導入管２８と燃料ガス導入管３０との間の環状空間、及び、燃料ガス導入管３０と燃焼用空気導入管３２との間の環状空間が、それぞれ、排ガス導入路２９、燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３として機能するようになっている。これらの導入管２８，３０，３２は処理筒１８の上板２６を貫通し、処理筒１８内の上部の所定位置まで延びている。また、燃焼用空気導入管３２の下端には炎導管３４が接続され、この炎導管３４の下端は処理筒１８の底板２０の近傍まで延びている。なお、図示しないが、燃料ガス導入路３１の出口部分には、点火プラグ等の適当な点火手段が設けられている。
【００１３】半導体製造装置等からの排ガスは排ガス導入管２８の上端からその内部に導入されるようになっている。また、燃料ガス導入管３０の上部には、燃料ガス、例えばメタンガス、天然ガス、都市ガス、プロパンガス、水素ガス若しくはブタンガス又はこれらの混合ガスの供給源３６が接続され、燃焼用空気導入管３２の上部には燃焼用空気の供給源３８が接続されている。更に、冷却用空気供給源４０が、処理筒１８の上板２６の外周部分に設けられた冷却用空気導入口（冷却用空気導入手段）４２に接続されている。
【００１４】このような構成において、排ガスを処理する場合、排ガスを排ガス導入管２８内に送り込むと共に、燃料ガス、燃焼用空気、冷却用空気の各供給源３６，３８，４０及び排気用ブロワ１４を駆動する。供給源３６，３８，４０の駆動により、燃料ガス及び燃焼用空気がそれぞれ所定流量で燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３に供給される。ここで、点火手段を作動させて燃料ガスと燃焼用空気の混合ガスを発火させると、その火炎が排ガス導入管２８の下端から排出された排ガスに接触し、排ガス中に含まれている物質の分解処理が行われる。混合ガスの火炎は炎導管３４の存在により処理筒１８の底板２０の近傍まで延び、その結果、排ガスと火炎の接触効果が高められ、排ガス中の物質がフロン系ガスのように安定な物質であっても熱分解が可能となっている。」（段落【００１０】ないし【００１４】）
　
１ｃ　「【００２５】ところで、半導体製造時に使用されるＳｉＨ４、ＰＨ３、Ｂ２Ｈ６等の排ガスを燃焼処理する場合、多量の生成酸化物である粉体が発生する。この粉体は、排ガス導入管２８の出口側端部に堆積する傾向がある。このような粉体の堆積が生じ成長していくと、正常な火炎の形成を阻害し、処理能力の低下を招くこととなる。」（段落【００２５】）
　
２　引用文献の記載事項
　記載１ａないし１ｃ及び図面の記載から、引用文献には、次の事項（以下、順に、「記載事項２ａ」ないし「記載事項２ｇ」という。）が記載されていると認める。
　
２ａ　記載１ａの「従来の排ガス処理装置としては、火炎により排ガスを燃焼させて分解する燃焼式のものが知られている。一般的な燃焼式排ガス処理装置は、排気ガスに対してバーナーからの火炎を吹き付けて、その熱により排気ガスを分解処理するものである。かかる燃焼式排ガス処理装置は、ＳｉＨ４、Ｓｉ２Ｈ６、ＰＨ３、ＮＨ３等の可燃性ガスに対しては有効に機能し得る。」（段落【０００３】）及び「本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、装置の小型化を図りつつ、効率的に排ガスの分解処理を行うことのできる燃焼式の排ガス処理装置を提供することにある。」（段落【０００５】）、記載１ｃ並びに図面によると、引用文献には、可燃性ガスを燃焼させる方法が記載されている。
　
２ｂ　記載１ｂの「また、処理筒１８の上板２６の中心部には、排ガス導入管２８、燃料ガス導入管３０及び燃焼用空気導入管３２から成るガス導入部が設けられている。」（段落【００１２】）、「半導体製造装置等からの排ガスは排ガス導入管２８の上端からその内部に導入されるようになっている。」（段落【００１３】）及び「このような構成において、排ガスを処理する場合、排ガスを排ガス導入管２８内に送り込むと共に、燃料ガス、燃焼用空気、冷却用空気の各供給源３６，３８，４０及び排気用ブロワ１４を駆動する。供給源３６，３８，４０の駆動により、燃料ガス及び燃焼用空気がそれぞれ所定流量で燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３に供給される。」（段落【００１４】）並びに図面を記載事項２ａとあわせてみると、引用文献には、可燃性ガスを、処理筒１８に設けられた排ガス導入管２８に導入するステップが記載されている。
　
２ｃ　記載１ｂの「このガス導入部は、内側から順に排ガス導入管２８、燃料ガス導入管３０、燃焼用空気導入管３２を同軸に配置して構成されたものであり、排ガス導入管２８の内部空間、排ガス導入管２８と燃料ガス導入管３０との間の環状空間、及び、燃料ガス導入管３０と燃焼用空気導入管３２との間の環状空間が、それぞれ、排ガス導入路２９、燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３として機能するようになっている。これらの導入管２８，３０，３２は処理筒１８の上板２６を貫通し、処理筒１８内の上部の所定位置まで延びている。」（段落【００１２】）、「また、燃料ガス導入管３０の上部には、燃料ガス、例えばメタンガス、天然ガス、都市ガス、プロパンガス、水素ガス若しくはブタンガス又はこれらの混合ガスの供給源３６が接続され、燃焼用空気導入管３２の上部には燃焼用空気の供給源３８が接続されている。」（段落【００１３】）及び「このような構成において、排ガスを処理する場合、排ガスを排ガス導入管２８内に送り込むと共に、燃料ガス、燃焼用空気、冷却用空気の各供給源３６，３８，４０及び排気用ブロワ１４を駆動する。供給源３６，３８，４０の駆動により、燃料ガス及び燃焼用空気がそれぞれ所定流量で燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３に供給される。」（段落【００１４】）並びに図面を記載事項２ａ及び２ｂとあわせてみると、引用文献には、排ガス導入管２８の回りに燃料ガスである水素ガス及び燃焼用空気を処理筒１８に供給するステップが記載されている。
　
２ｄ　記載１ｂの「供給源３６，３８，４０の駆動により、燃料ガス及び燃焼用空気がそれぞれ所定流量で燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３に供給される。ここで、点火手段を作動させて燃料ガスと燃焼用空気の混合ガスを発火させると、その火炎が排ガス導入管２８の下端から排出された排ガスに接触し、排ガス中に含まれている物質の分解処理が行われる。」（段落【００１４】）によると、引用文献には、燃料ガスと燃焼用空気を混合させて発火させることにより火炎を形成することが記載されている。
　
２ｅ　記載事項２ｃ及び２ｄによると、引用文献には、排ガス導入管２８の回りに火炎を形成するための水素ガス及び燃焼用空気を処理筒１８に供給するステップが記載されている。
　
２ｆ　記載１ｂの「このガス導入部は、内側から順に排ガス導入管２８、燃料ガス導入管３０、燃焼用空気導入管３２を同軸に配置して構成されたものであり、排ガス導入管２８の内部空間、排ガス導入管２８と燃料ガス導入管３０との間の環状空間、及び、燃料ガス導入管３０と燃焼用空気導入管３２との間の環状空間が、それぞれ、排ガス導入路２９、燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３として機能するようになっている。これらの導入管２８，３０，３２は処理筒１８の上板２６を貫通し、処理筒１８内の上部の所定位置まで延びている。」（段落【００１２】）、「また、燃料ガス導入管３０の上部には、燃料ガス、例えばメタンガス、天然ガス、都市ガス、プロパンガス、水素ガス若しくはブタンガス又はこれらの混合ガスの供給源３６が接続され、燃焼用空気導入管３２の上部には燃焼用空気の供給源３８が接続されている。」（段落【００１３】）及び「このような構成において、排ガスを処理する場合、排ガスを排ガス導入管２８内に送り込むと共に、燃料ガス、燃焼用空気、冷却用空気の各供給源３６，３８，４０及び排気用ブロワ１４を駆動する。供給源３６，３８，４０の駆動により、燃料ガス及び燃焼用空気がそれぞれ所定流量で燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３に供給される。」（段落【００１４】）並びに図面を記載事項２ａないし２ｅとあわせてみると、引用文献には、火炎を形成するために、水素ガスと燃料用空気を別々に処理筒１８内に供給することが記載されている。
　
２ｇ　記載１ｂの「このガス導入部は、内側から順に排ガス導入管２８、燃料ガス導入管３０、燃焼用空気導入管３２を同軸に配置して構成されたものであり、排ガス導入管２８の内部空間、排ガス導入管２８と燃料ガス導入管３０との間の環状空間、及び、燃料ガス導入管３０と燃焼用空気導入管３２との間の環状空間が、それぞれ、排ガス導入路２９、燃料ガス導入路３１及び燃焼用空気導入路３３として機能するようになっている。これらの導入管２８，３０，３２は処理筒１８の上板２６を貫通し、処理筒１８内の上部の所定位置まで延びている。」（段落【００１２】）及び図面を記載事項２ａないし２ｆとあわせてみると、引用文献には、水素ガスを、排ガス導入管２８の回りに延びる第１の環状の開口（便宜状、「第１の環状の開口」という。）を通して処理筒１８内に供給し、燃焼用空気を、排ガス導入管２８の回りに延びる第２の環状の開口（便宜状、「第２の環状の開口」という。）を通して処理筒１８内に供給することが記載されている。
　
３　引用発明
　記載１ａないし１ｃ、記載事項２ａないし２ｇ及び図面を整理すると、引用文献には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認める。
 　 
　「可燃性ガスを燃焼させる方法であって、
　前記ガスを、処理筒１８に設けられた排ガス導入管２８に導入するステップと、
　排ガス導入管２８の回りに火炎を形成するための水素ガス及び燃焼用空気を前記処理筒１８に供給するステップとを、含み、
　前記火炎を形成するために、水素ガスと燃料用空気を別々に前記処理筒１８内に供給し、
　前記水素ガスを、前記排ガス導入管２８の回りに延びる第１の環状の開口を通して前記処理筒１８内に供給し、前記燃焼用空気を、前記排ガス導入管２８の回りに延びる第２の環状の開口を通して前記処理筒１８内に供給する、
　方法。」
　
第４　対比
　本願発明と引用発明を対比する。
　
　引用発明における「処理筒１８」は、その機能、構成及び技術的意義からみて、本願発明における「燃焼チャンバ」に相当し、以下、同様に、「設けられた」は「連結された」に、「導入する」は「運ぶ」に、「排ガス導入管２８」は「燃焼ノズル」に、それぞれ、相当する。
　また、記載１ｂの「図示しないが、燃料ガス導入路３１の出口部分には、点火プラグ等の適当な点火手段が設けられている。」（段落【００１２】）及び「ここで、点火手段を作動させて燃料ガスと燃焼用空気の混合ガスを発火させると、その火炎が排ガス導入管２８の下端から排出された排ガスに接触し、排ガス中に含まれている物質の分解処理が行われる。混合ガスの火炎は炎導管３４の存在により処理筒１８の底板２０の近傍まで延び、その結果、排ガスと火炎の接触効果が高められ、排ガス中の物質がフロン系ガスのように安定な物質であっても熱分解が可能となっている。」（段落【００１４】）並びに記載１ｃの「ところで、半導体製造時に使用されるＳｉＨ４、ＰＨ３、Ｂ２Ｈ６等の排ガスを燃焼処理する場合」（段落【００２５】）によると、引用発明における「火炎」は、点火手段を作動させることにより生じ、その後、排ガスと接触することにより、燃焼を生じさせるものであるから、本願発明における「口火」に相当する。
　さらに、引用発明における「水素ガス」は、その機能、構成及び技術的意義からみて、本願発明における「水素」に相当し、以下、同様に、「燃焼用空気」は「酸化剤」に、「供給」は「供給」及び「注入」に、それぞれ、相当する。
　さらにまた、引用発明における「第１の環状の開口」は、本願発明における「第１の複数の開口」と、「第１の開口」という限りにおいて一致する。
　さらにまた、引用発明における「第２の環状の開口」は、本願発明における「第２の複数の開口」と、「第２の開口」という限りにおいて一致する。
　したがって、本願発明と引用発明は、以下の点で一致する。
　
　「可燃性ガスを燃焼させる方法であって、
　前記ガスを、燃焼チャンバに連結された燃焼ノズルに運ぶステップと、
　燃焼ノズルの回りに口火を形成するために水素及び酸化剤を前記チャンバに供給するステップと、を含み、
　前記口火を形成するために、水素と酸化剤を別々に前記チャンバ内に注入し、
　前記水素を、前記燃焼ノズルの回りに延びる第１の開口を通して前記チャンバ内に注入し、前記酸化剤を、前記燃焼ノズルの回りに延びる第２の開口を通して前記チャンバ内に注入する、
　方法。」 
　
　そして、以下の点で相違する。
　
＜相違点＞
　「第１の開口」及び「第２の開口」に関して、本願発明においては、「第１の複数の開口」及び「第２の複数の開口」であるのに対し、引用発明においては、「第１の環状の開口」及び「第２の環状の開口」である点（以下、「相違点」という。）。
　
第５　相違点に対する判断
　そこで、相違点について、以下に検討する。
　
　円環状に設けた第１の複数の開口を通して燃料ガスを注入し、円環状に設けた第２の複数の開口を通して酸化剤を注入することによって、炎を形成することは周知（必要であれば、下記１ないし４等を参照。特に、下記１には、開口自体が円環状のものと複数の開口を円環状に配置するものが代替可能であることが記載されている。以下、「周知技術」という。）であるから、引用発明において、炎である口火を形成するために、周知技術を適用し、「第１の環状の開口」を第１の複数の開口とし、「第２の環状の開口」を第２の複数の開口として、相違点に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者であれば容易に想到し得たことである。
　
　そして、本願発明を全体としてみても、本願発明が、引用発明及び周知技術からみて、格別顕著な効果を奏するともいえない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
１　特開平１１−２５７６１５号公報の記載
　本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である特開平１１−２５７６１５号公報には、「球状粒子製造用バーナ」に関して、図面とともにおおむね次の記載がある（なお、下線は当審で付したものである。他の文献についても同様。）。
　
・「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機質粉体原料から球状粒子を得る際に用いられる球状粒子製造用バーナに関するものである。
・・・（略）・・・
【０００３】上記火炎法による代表的な無機質球状粒子製造装置の一例を図５に示す。この装置によれば、定量供給装置１を備えたホッパー２から、無機質粉体原料３が一定量ずつ排出され、原料搬送用ガス供給配管４から供給される原料搬送用ガス（酸素，ＬＰＧ等）によってバーナ５に搬送供給されるようになっている。上記バーナ５の先端は、球状化炉６内に設置されており、
配管７，８から導入される燃料ガス（ＬＰＧ等）と支燃ガス（酸素等）を受けて、球状化炉６内に燃焼フレームが形成されるようになっている。
【０００４】上記バーナ５の先端は、例えば図６に示すように、同心円的に配置された、大、中、小、三つの環状隔壁１５を有している。そして、その最も内側に、無機質粉体原料３を原料搬送用ガスとともに噴出するための原料噴出孔１２が形成されており、その外側に、燃料ガス噴出孔１３が形成され、さらにその外側に、支燃ガス噴出孔１４が形成されている。」（段落【０００１】ないし【０００４】）
　
・「【００１１】図１（ａ）および（ｂ）は、本発明の球状粒子製造用バーナの一実施の形態を示している。このバーナ２０は、基本的には、図６に示す従来のバーナ５と同一であり、同一部分に同一番号を付している。ただし、
このバーナ２０は、原料噴出孔１２と燃料ガス噴出孔１３と支燃ガス噴出孔１４を形成するために同心円的に配置される
　
・「【００１７】また、各噴出孔１２，１３，１４を環状隔壁１５で形成するのではなく、図４に示すように、中心に、原料噴出孔１２となるパイプ２２を配し、
その周囲に、細い燃料ガス供給パイプ２３を環状に配して燃料ガス噴出孔１３を形成し、さらにその周囲に、細い支燃ガス供給パイプ２４を環状に配して支燃ガス噴出孔１４を形成したバーナ２１を用いることも考えられる。こ
　
２　実願昭５８−１９９４３１号（実開昭６０−１１１８３０号）のマイクロフィルムの記載
　本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である実願昭５８−１９９４３１号（実開昭６０−１１１８３０号）のマイクロフィルムには、「加熱炉燃焼バーナ」に関して、図面とともにおおむね次の記載がある。
　
・「まず、第１図（ａ）並びに（ｂ）において、バーナの先端部で、例えば、
同心円状に複数個の燃焼ガス孔９が設けられている。このガス孔９には、燃料ガスの入口８から燃料ガスが送給され、各燃料ガス孔９から噴出される。これら燃料ガス孔９の外側並びに内側にはそれぞれ複数個の外側空気孔５と内側空気孔７が設けられ
　
３　特開昭５９−４９４２６号公報の記載
　本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である特開昭５９−４９４２６号公報には、「酸素・燃料バーナを点火する方法およびバーナ」に関して、図面とともにおおむね次の記載がある。
　
・「第３図は
オリフィス４ａ（炭化水素）とオリフィス５ａ（酸素）から出るジエツトＪを図示する。
　
・ＦＩＧ．２から、オリフィス４ａとオリフィス５ａは、何れも、複数の開口が円環状に設けられたものであることが看取される。
　
４　実公平５−３１３７７号公報の記載
　本願の優先日前に日本国内において頒布された刊行物である実公平５−３１３７７号公報には、「ガスバーナ」に関して、図面とともにおおむね次の記載がある。
　
・「バーナ本体１の内部に、ブロワＢに接続する燃焼用空気供給路２を形成し、バーナ本体１の先端円筒部１ａの中心に配置した状態でガスノズル３をバーナ本体１に取付け、ガスノズル３の先端側に、
小孔状の空気口４ａを分散配置
空気口４ｂ
ガス燃料噴出孔７
・・・（略）・・・
　
ガス燃料噴出孔７の６〜８個を、全てがほぼ等間隔でノズル周方向に並設し
　
第６　むすび
　上記第５のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。