【手続補正書】
【提出日】令和2年5月8日(2020.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビームを供給するイオンビーム発生器と、
前記イオンビームの向かい合った側に位置付けられる第１及び第２のスキャンプレートを含み、前記イオンビームを受けるスキャニングシステムであって、前記第１及び第２のスキャンプレートは前記イオンビームからスキャンビームを生成し、該スキャンビームはスキャン源及び見掛けのスキャン源を有する、スキャニングシステムと、
前記スキャンビームを受ける電極であって、該電極の少なくとも１部は、前記見掛けのスキャン源の位置を維持するための湾曲形状を有する、電極と、を備える、イオン注入システムの装置。
【請求項２】
前記電極は、前記スキャニングシステムの下流にあり、前記スキャニングシステムの前記第１及び第２のスキャンプレートに直接、隣接して、位置付けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記電極は、前記スキャニングシステムの下流にある、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１及び第２のスキャンプレートは、平行部分及び該平行部分の下流にある分岐部分を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記電極の上流に位置付けられる、スキャン前の電極を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記スキャンビームは扇形のビームエンベロープを有し、該扇形のビームエンベロープは、前記スキャン源において始まり、前記電極により受けられ、前記見掛けのスキャン源は前記スキャン源を重ね合わせる、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
イオンビームを発生するステップと、
前記イオンビームを受け、スキャンビームを前記イオンビームから供給するステップであって、前記スキャンビームはスキャン源及び見掛けのスキャン源を有する、ステップと、
湾曲電極により前記スキャンビームを受けるステップであって、前記スキャンビームが前記湾曲電極を通過するときに、前記スキャンビームの前記見掛けのスキャン源の位置は維持される、ステップと、を有する、イオン注入方法。
【請求項８】
スキャニングシステムは、前記イオンビームの向かい合った側に位置付けられる第１及び第２のスキャンプレートを備え、前記イオンビームを受けて、前記イオンビームから前記スキャンビームを供給する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１及び第２のスキャンプレートは、平行部分及び該平行部分の下流にある分岐部分を備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記スキャンビームの前記スキャン源及び前記見掛けのスキャン源は、前記第１及び第２のスキャンプレートの間に位置付けられる、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記スキャンビームは扇形のビームエンベロープを有し、該扇形のビームエンベロープは、前記スキャン源において始まり、前記見掛けのスキャン源は前記スキャン源を重ね合わせる、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
イオンビームを供給するイオンビーム発生器と、
前記イオンビームを受けるスキャニングシステムであって、
前記イオンビームの向かい合った側に位置付けられる第１及び第２のスキャンプレートであって、前記イオンビームからスキャンビームを生成し、該スキャンビームはスキャン源及び見掛けのスキャン源を有する、第１及び第２のスキャンプレートと、
該第１及び第２のスキャンプレートの上流に配置され、前記イオンビームを減速する、減速レンズと、を含む、スキャニングシステムと、
前記スキャンビームを受ける電極であって、該電極の少なくとも１部は、前記見掛けのスキャン源の位置を維持するための湾曲形状を有する、電極と、を備える、イオン注入システムの装置。
【請求項１３】
前記電極は、前記スキャニングシステムの下流にあり、前記スキャニングシステムの前記第１及び第２のスキャンプレートに直接、隣接して、位置付けられる、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記電極の上流に配置される、スキャン前の電極を更に備える、請求項１２に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一実施態様において、イオンビームを供給するイオンビーム発生器を含む装置が提供され、スキャニングシステムは前記イオンビームを受け、スキャンビームを供給してもよく、電極は前記スキャンビームを受けてもよい。前記電極の少なくとも１部は前記スキャンビームの伝播方向に垂直である。一実施態様において、前記スキャンビームの前記伝播方向に垂直である前記電極の少なくとも１部は湾曲形状を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
スキャンプレート２０２及び２０４は、扇形のビームエンベロープ２１２を供給するように機能することができる。例示されるように、扇形のビームエンベロープ２１２は、扇形のビームエンベロープ２１２がスキャンプレート２０２及び２０４を通過するにつれて、幅において、増大する。スキャンプレート２０２及び２０４は、扇形のビームエンベロープ２１２から、比較的、一定の間隔を維持するように、成形される。通常、扇形のビームエンベロープ２１２は、実際のスキャン源２１４において始まる。以下に説明するように、少なくとも湾曲形状又は弧状形状を有するスキャン後の電極２０６の使用により、見掛けのスキャン源２１４ａを実際のスキャン源２１４の同じ位置にほぼ維持する。一実施形態において、見掛けのスキャン源２１４ａは実際のスキャン源２１４を重ね合わせる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
扇形のビームエンベロープ２１２がスキャン後の電極２０６を通過するときに、見掛けのスキャン源２１４ａを実際のスキャン源２１４とほぼ同じ位置に維持することは、有益であり得る。一実施形態において、扇形のビームエンベロープ２１２は、スキャン後の電極２０６の少なくとも湾曲又は弧状部分を通過する。例示の湾曲形状又は弧状形状を有するスキャン後の電極２０６の使用により、扇形のビームエンベロープ２１２がスキャン後の電極２０６を通過するときに、実際のスキャン源２１４及び見掛けのスキャン源２１４ａが同じ又はほぼ同じままであることを確実にする。扇形のビームエンベロープ２１２の伝播方向に垂直である形状（例えば、湾曲形状）を有するスキャン後の電極２０６の使用により、実際のスキャン源２１４に比較して、見掛けのスキャン源２１４ａの屈折シフトを有利に避けることができる。言い換えれば、湾曲形状又は弧状形状を有するスキャン後の電極２０６を使用しないで、むしろ、平坦な形状を有する従来のスキャン後の電極を使用すれば、見掛けのスキャン源２１４ａのシフトが生じるであろう。見掛けのスキャン源のそのようなシフトは、実際のスキャン源２１４の下流に見られ、見掛けのスキャン源のそのようなシフトは、エンドステーション１１４において、ビームの平行を達成するのに必要なより高いコリメータ場を不必要に強制する。より高いコリメータ場は、ビーム角の望ましくない変化を動作させ得て、線量測定精度及び他のプロセスパラメータを低下させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
他の優位性は、湾曲形状又は弧状形状を有するスキャン後の電極２０６を使用することにより、実現される。例えば、湾曲形状又は弧状形状を有するスキャン後の電極２０６の使用により、従来のスキャニングシステムで用いられるものに比べて、スキャンプレート２０２及び２０４並びにスキャン後の電極２０６に、顕著に、より高い電圧の使用を可能にする。もっと詳しくは、従来のスキャニングシステムのスキャンプレート及びスキャン後の電極に印加される電圧は、見掛けのスキャン源２１４ａに不必要なシフトを引き起こし得る。したがって、従来のスキャニングシステムは、見掛けのスキャン源２１４ａのシフトに対して軽減するために、望ましいスキャンプレート及びスキャン後の電圧より低い電圧を用いることが要求され得る。比較すると、湾曲形状又は弧状形状を有するスキャン後の電極２０６の形状により、スキャンプレート２０２及び２０４並びにスキャン後の電極２０６に、大きな電圧の使用を可能にし、大きな電圧の使用は見掛けのスキャン源２１４ａを実質的に変更しない。一例において、スキャン後の抑制電圧発生器２１６は、最大で９ｋＶまでの電圧を、スキャン後の電極２０６に印加することができ、一方、見掛けのスキャン源２１４ａは、実際のスキャン源２１４とほぼ同じ位置のままである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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