【事件の表示】
　特願２０１２−２３２３０２「リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　５月２０日出願公開、特開２０１３−　９８５５２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２４年１０月１９日（パリ条約による優先権主張２０１１年１０月２７日、米国）の出願であって、 平成２５年１１月２５日付けで拒絶理由が通知され、平成２６年２月１９日付けで意見書が提出され、同年７月９日付けで拒絶理由が通知され、同年１０月７日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出されたが、平成２７年２月２４日付けで拒絶査定がなされた。
　本件は、これに対して、平成２７年６月８日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
第２　平成２７年６月８日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２７年６月８日付けの手続補正を却下する。
［理由］
１　補正後の請求項に記載された発明
　平成２７年６月８日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、本願の特許請求の範囲は、本件補正前の（平成２６年１０月７日付けの手続補正により補正された）特許請求の範囲である、
「【請求項１】
　リソグラフィ装置であって、
　基板を保持する基板テーブルと、
　前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
　露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、
　熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
　前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される、リソグラフィ装置。
　【請求項２】
　前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画内に取り付けられる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項３】
　前記熱調整ユニットおよび前記基板テーブルは、前記移送の間、互いに隣接して位置決めされる、請求項１または２に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項４】
　前記移送システムは、前記熱調整ユニットに取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備える、請求項１〜３のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
　【請求項５】
　前記ホルダは、前記基板の粗アライメントのために垂直軸を中心に前記基板を回転させる、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項６】
　前記ホルダは、前記熱調整ユニットの冷却プレートの下で前記基板を保持する、請求項４または５に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項７】
　前記ホルダは、前記冷却プレートの近くで前記基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にする、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項８】
　前記ホルダは、前記基板テーブルが前記熱調整ユニットの下方に配置され、かつ前記基板テーブルのサポートが前記基板を支持しているときに、前記基板を解除する、請求項６または７に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項９】
　前記移送システムが、前記熱調整ユニットが前記基板テーブルに隣接している時に、前記熱調整された基板を前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへと変位させるグリッパを備える、請求項１〜５のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
　【請求項１０】
　前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画のローディングポートの近くに配置される、請求項１〜９のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
　【請求項１１】
　前記熱調整ユニットは、前記基板の粗アライメントを行うアライメントユニットを備える、請求項１〜１０のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
　【請求項１２】
　熱調整ユニットを備えるリソグラフィ装置を提供することと、
　露光対象の基板を前記熱調整ユニットによって受け取ることと、
　前記基板を熱調整することと、
　前記熱調整された基板を前記リソグラフィ装置のウェーハステージ区画内に設けられた基板テーブルへ移送することと、
　前記基板上にパターン付き放射ビームを投影することと、を含み、
　前記移送の間、前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットが前記装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される、デバイス製造方法。
　【請求項１３】
前記基板を熱調整することが、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記露光対象の基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にすることを含む、請求項１２に記載のデバイス製造方法。
　【請求項１４】
　前記移送することが、前記熱調整ユニットを前記基板テーブルに隣接して位置決めすることを含む、請求項１２または１３に記載のデバイス製造方法。
　【請求項１５】
　前記熱調整ユニットに取り付けられたアライメントユニットによって前記基板の粗アライメントを行うことを含む、請求項１２〜１４のいずれかに記載のデバイス製造方法。」
から、
「【請求項１】
　リソグラフィ装置であって、
　基板を保持する基板テーブルと、
　前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
　露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、
　熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
　前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され
、
前記移送システムは、前記熱調整ユニットに取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備え、
前記ホルダは、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にする、
　【請求項２】
　前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画内に取り付けられる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項３】
　前記熱調整ユニットおよび前記基板テーブルは、前記移送の間、互いに隣接して位置決めされる、請求項１または２に記載のリソグラフィ装置。
　【請求項４】
　前記ホルダは、前記基板の粗アライメントのために垂直軸を中心に前記基板を回転させる、請求項
１〜３のいずれかに
　【請求項５】
　前記ホルダは、前記基板テーブルが前記熱調整ユニットの下方に配置され、かつ前記基板テーブルのサポートが前記基板を支持しているときに、前記基板を解除する、請求項
１〜４のいずれかに
　【請求項６】
　前記熱調整ユニットは、前記ウェーハステージ区画のローディングポートの近くに配置される、請求項
１〜５
　【請求項７】
　前記熱調整ユニットは、前記基板の粗アライメントを行うアライメントユニットを備える、請求項
１〜６
　【請求項８】
　熱調整ユニットを備えるリソグラフィ装置を提供することと、
　露光対象の基板を前記熱調整ユニットによって受け取ることと、
　前記基板を熱調整することと、
　前記熱調整された基板を前記リソグラフィ装置のウェーハステージ区画内に設けられた基板テーブルへ移送することと、
　前記基板上にパターン付き放射ビームを投影することと、を含み、
　前記移送の間、前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニットが前記装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され
、
前記基板を熱調整することが、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記露光対象の基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にすることを含む、
　【請求項９】
　前記移送することが、前記熱調整ユニットを前記基板テーブルに隣接して位置決めすることを含む、請求項
８
　【請求項１０】
　前記熱調整ユニットに取り付けられたアライメントユニットによって前記基板の粗アライメントを行うことを含む、請求項
８または９
に、補正された。（下線は、請求人が付したものである。）
　このうち、本件補正後の請求項１は、本件補正前の請求項１を引用する請求項４を、請求項７の内容で限定したものであるから、本件補正後の請求項１は、特許請求の範囲の減縮を目的として補正されたものであって、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）は、本件補正後の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記本件補正後の請求項１の記載を参照）
　そこで、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するか否か）について、以下に検討する。
２　引用刊行物
（１）本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００２−２８０２８７号公報（以下「引用文献１」という。なお、引用文献１は、平成２５年１１月２５日付けの拒絶理由通知で引用された引用文献１である。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
　
ア　「【００３０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を、図１〜図１２を参照して説明する。
【００３１】図１には、一実施形態に係る基板搬送装置を含む露光装置１００の構成が示されている。
この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）である。
【００３２】
この露光装置１００は、
基板としてのウエハＷが搭載されるステージ装置としてのウエハステージＷＳＴ
を備えている。
・・中略・・
【００４３】
前記本体コラム９３は、床面に固定される防振台９４によって水平に支持された鏡筒定盤９２と、この鏡筒定盤９２の上面に固定された架台９１とから構成されている。鏡
【００４４】前記架台９１は、鏡筒定盤９２の上面に投影光学系ＰＬを取り囲むように鉛直方向に沿って配設された４本の脚部と、これら４本の脚部上端部相互間を連結する天板部、すなわちレチクルベース１３とを備えている。
【００４５】
前記ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの図１における下方に配置されたウエハベース盤１７上に配置され、
【００４６】ウエハステージＷＳＴは走査方向（Ｙ方向）の移動のみならず、ウエハＷ上の複数のショット領域を前記照明領域ＩＡＲと共役な露光領域ＩＡに位置させることができるように、走査方向に垂直な非走査方向（Ｘ方向）にも移動可能に構成されており、ウエハＷ上の各ショット領域を後述するようにして走査（スキャン）露光する動作と、次のショットの露光のための走査開始位置まで移動する動作とを繰り返すステップ・アンド・スキャン動作を行う。
【００４７】ウエハステージＷＳＴは、ここでは、磁気浮上型の２次元リニアアクチュエータから成るステージ駆動装置としてのウエハ駆動装置１５によりＸ軸及びＹ軸の２次元方向に駆動される。なお、ウエハ駆動装置１５は、上記の２次元リニアアクチュエータによって構成されるが、図１においては図示の便宜上からブロックにて示されている。
【００４８】ウエハステージＷＳＴは、Ｙ方向の一方側（例えば、＋Ｙ方向）とＸ方向の一方側（例えば、−Ｘ方向）の側面にそれぞれ鏡面加工が施され、防振台９４に固定されたウエハ干渉計２４により、ウエハステージＷＳＴのＸＹ面内での位置が例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。
【００４９】ここで、実際には、ウエハ干渉計２４は走査方向に３以上の複数軸、非走査方向に３以上の複数軸設けられているが、図１ではこれらが代表的にウエハ干渉計２４として示されている。そして、ウエハ干渉計２４による計測結果に基づいて、ウエハステージＷＳＴのＺ方向を除く５自由度方向に関する位置情報（又は速度情報）が検出されるようになっている。ウエハステージＷＳＴの位置情報（又は速度情報）ＷＰＶは、ステージ制御装置１９及びこれを介して主制御系２０に送られる。ステージ制御装置１９は、主制御系２０からのステージ制御データＳＣＤによる指示に応じて前記位置情報（又は速度情報）ＷＰＶに基づいて、ウエハ駆動装置１５を介してウエハステージＷＳＴを制御する。
【００５０】さらに、本実施形態の露光装置１００では、投影光学系ＰＬの側面に、ウエハＷ上の各ショット領域に付設されたアライメントマーク（ウエハマーク）の位置を検出するためのオフ・アクシス方式の不図示のアライメント系が設けられている。かかるアライメント系には、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサが含まれている。このアライメントセンサの計測結果データが主制御系２０に送られるようになっている。
・・中略・・
【００５２】前記ウエハステージＷＳＴ上には、アライメントセンサの検出中心の位置とレチクルパターンの投影像の位置との相対位置関係を計測するためのベースライン計測用基準マークその他の基準マークが形成された不図示の基準プレートが配置されている。
【００５３】また、ウエハステージＷＳＴ上のウエハホルダ１８は、図２（Ａ）〜（Ｃ）に総合的に示されるように、下面（ウエハステージ側面）側はＸ方向両端の弓形部が除去された円形形状を有している。また、ウエハホルダ１８の上面（ウエハ載置面）側には、＋Ｘ方向端部に切り欠き３０ａ，３０ｂが形成されるとともに、−Ｘ方向端部に切り欠き３０ｃが形成されている。かかる切り欠き３０ａ，３０ｂの下方のウエハステージＷＳＴの表面には＋Ｙ方向に向かってウエハステージＷＳＴの辺縁まで延びる溝３１ａが形成され、また、切り欠き３０ｃの下方のウエハステージＷＳＴの表面には＋Ｙ方向に向かってウエハステージＷＳＴの辺縁まで延びる溝３１ｂが形成されている。この一組の切り欠き３０ａ，３０ｂ，３０ｃ及び一組の溝３１ａ，３１ｂは、後述する搬入アームを挿入するためのものである。
【００５４】図１に戻り、
露光装置１００では、更に、ウエハ受け渡し位置に配置されたウエハプリアライメント装置３２を備えている。このウエハプリアライメント装置３２は、鏡筒定盤９２に取り付けられており、
へ供給している。
【００５５】ウエハプリアライメント装置３２は、
鏡筒定盤９２に固定されたプリアライメント制御装置３４と、このプリアライメント制御装置３４の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム（以下、「搬入アーム」という）３６を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構３８と
を備えている。
・・中略・・
【００６０】前記ＣＣＤカメラ４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、搬入アーム３６に支持されたウエハＷの外縁をそれぞれ検出するためのものである。ＣＣＤカメラ４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、ここでは、図６の斜視図に示されるように、支持装置としての搬入アーム３６に支持された１２インチウエハＷ’のノッチＮを含む外縁を撮像可能な位置に配置されている。この内、中央のＣＣＤカメラ４０ａがノッチを検出するためのものである。なお、ＣＣＤカメラ４０ａ，４０ｂ，４０ｃによる撮像時には、背景板４２ａ，４２ｂ，４２ｃの一部が、ウエハＷ’の下面（裏面）に対向するように配置される（図６参照）。
【００６１】ＣＣＤカメラ４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、図５においてＣＣＤカメラ４０ａについて代表的に示されるように、光源５１、コリメータレンズ５２、ハーフミラー５４、ミラー５５、結像光学系５６、及びＣＣＤ撮像素子５７を含んで構成されている。ここで、このＣＣＤカメラ４０ａの構成各部についてその作用とともに説明する。
・・中略・・
【００６８】なお、本実施形態では、搬入アーム３６は、平面視でＴ字型の形状を有し、当該Ｔ字における３つの端点部それぞれから鉛直下方に３つの指部が延びている。そして、当該３つの指部の下方端部に、ウエハＷを支持する爪部が設けられている。
【００６９】更に、本実施形態
の露光装置１００は、
前記搬入アーム３６にウエハを搬入するウエハ搬送アーム４４及びこれらを駆動するアーム駆動機構４６とを備えている。
【００７０】搬出アーム４２は、図７からも明らかなように、前述した搬入アーム３６と全く同様に構成されている。但し、搬入アーム３６が上下動・回転機構３８の下端に保持されていたのに対し、搬出アーム４２は、リニアモータの可動子を含む上下動・スライド機構４８に保持されている点が異なる。
【００７１】前記主制御系２０は、図８に示されるように、主制御装置６０と記憶装置７０とを備えている。主制御装置６０は、（ａ）レチクルＲの位置情報（速度情報）ＲＰＶ及びウエハＷの位置情報（速度情報）ＷＰＶに基づいて、ステージ制御系１９にステージ制御データＳＣＤを供給する等して
露光装置２００の動作全体を制御する制御装置６９
・・中略・・
【００７６】以下、本実施形態の露光装置１００による露光動作を、図９に示されるフローチャートに沿って、適宜他の図面を参照しながら説明する。
【００７７】かかる露光動作では、まず、ステップ１０２において、主制御系２０の制御の下で、不図示のレチクルローダにより、転写したいパターンが形成されたレチクルＲがレチクルステージＲＳＴにロードされる。また、搬送アーム４４（図７参照）により、露光したいウエハＷが搬入アーム３６にロードされる。
【００７８】次に、ステップ１０３において、主制御系２０が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６をＺ軸方向に移動させて、ウエハＷの表面がＣＣＤカメラ４０ａ，４０ｂ，４０ｃによる観察面の高さ位置とする。また、主制御系２０が、プリアライメント制御装置３４を介してリニアモータ４５ａ，４５ｂ，４５ｃを制御し、背景板４２ａ，４２ｂ，４２ｃそれぞれの一部がウエハＷの裏面に対向する位置に、背景板４２ａ，４２ｂ，４２ｃを移動させる。
・・中略・・
【００８９】次いで、ステップ１０６において、制御装置６９は、上記で求めたウエハＷの形状測定以外の露光準備用計測を行う。すなわち、
制御装置６９は、撮像データ格納領域７２に格納されたウエハＷの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハＷのノッチＮ位置を検出する。これにより、ロードされたウエハＷのＺ軸回りの回転角を検出する。そして、検出されたウエハＷのＺ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を回転駆動する。引き続き、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を駆動して、ウエハＷをウエハホルダ１８にロードする。
【００９０】この後、制御装置６９は、ウエハＷに対する露光が、第２層目以降の露光であるときには、既に形成されている回路パターンと重ね合わせ精度良く回路パターンを形成するため、上述のウエハＷの形状測定結果に基づいて、ウエハＷの移動すなわちウエハステージＷＳＴの移動を規定する基準座標系と、ウエハＷ上の回路パターンの配列すなわちチップ領域（ショット領域）の配列に関する配列座標系との位置関係が、ウエハアライメントセンサを使用して高精度で検出される。
【００９１】次いで、ステップ１０７において、露光が行われる。
・・中略・・
【００９４】そして、ステップ１０８において、搬出アーム４２により、露光が完了したウエハＷがウエハホルダ１８からアンロードされる。こうして、ウエハＷの露光処理が終了する。」
イ　「【図１】
【図２】
【図３】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
ウ　上記記載事項アの段落【００４３】の「前記本体コラム９３は、床面に固定される防振台９４によって水平に支持された鏡筒定盤９２と、この鏡筒定盤９２の上面に固定された架台９１とから構成されている。」という記載、段落【００４５】の「前記ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの図１における下方に配置されたウエハベース盤１７上に配置され、」という記載、段落【００５４】の「露光装置１００では、更に、ウエハ受け渡し位置に配置されたウエハプリアライメント装置３２を備えている。このウエハプリアライメント装置３２は、鏡筒定盤９２に取り付けられており、」という記載及び上記記載事項イの【図１】の記載から、「ウエハステージＷＳＴ」及び「ウエハプリアライメント装置３２」は、「鏡筒定盤９２」、「防振台９４」及び「ウエハベース盤１７」に囲まれた空間に配置された構成を読み取ることができる。
　すると、上記引用文献１の記載事項から、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
「ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置である露光装置１００であって、
　露光装置１００は、基板としてのウエハＷが搭載されるステージ装置としてのウエハステージＷＳＴを備え、更に、ウエハ受け渡し位置に配置されたウエハプリアライメント装置３２を備えており、
　ウエハプリアライメント装置３２は、鏡筒定盤９２に固定されたプリアライメント制御装置３４と、このプリアライメント制御装置３４の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム（以下、「搬入アーム」という）３６を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構３８とを備えており、
　さらに、露光装置１００は、搬入アーム３６にウエハを搬入するウエハ搬送アーム４４及びこれらを駆動するアーム駆動機構４６と、露光装置１００の動作全体を制御する制御装置６９を備えていて、
　ウエハステージＷＳＴ及びウエハプリアライメント装置３２は、鏡筒定盤９２、防振台９４及びウエハベース盤１７に囲まれた空間に配置され、
　制御装置６９は、撮像データ格納領域７２に格納されたウエハＷの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハＷのノッチＮ位置を検出し、これにより、ロードされたウエハＷのＺ軸回りの回転角を検出し、検出されたウエハＷのＺ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を回転駆動し、引き続き、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を駆動して、ウエハＷをウエハホルダ１８にロードする、露光装置１００。」
（２）本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００１−１１０７２２号公報（以下「引用文献２」という。なお、引用文献２は、平成２５年１１月２５日付けの拒絶理由通知で周知の技術事項を示すために引用された文献であり、かつ、拒絶査定に引用された引用文献１である。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
ア　「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置及びこれを用いた露光方法に係り、より詳細にはウェーハ冷却手段を具備する露光装置及びこれを用いた露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程でウェーハはいろいろな段階の工程を経ながら常温から数百度以上の温度変化を経る。これにより、ウェーハは各工程を経ながら熱膨張と収縮を経る。
【０００３】ウェーハの物理的特性は工程に関係なく一定の状態を維持することが理想的であるが、前記のようにウェーハはいろいろな工程を経ながら温度変化による熱膨張と収縮でその物理的状態が変わるため、これはウェーハを整列する過程でウェーハの整列誤差を決まった範囲以上に増やす結果を招く。半導体装置の製造工程で、写真工程はウェーハ上にフォトレジストを塗布する工程から前記ウェーハを整列し露光して現像する工程を全て含む。図１は、従来の技術による整列露光装置の構成及びウェーハ移送経路を示すことであって便宜上現像工程は省略されている。
【０００４】図１を参照すれば、参照番号１０は、ウェーハ上にフォトレジスト膜を塗布する装備のスピンナ１０を示す。前記スピンナ１０でフォトレジスト膜が塗布されたウェーハは露光設備１２に移送される。前記露光設備１２はウェーハトランスファシステム１４、ウェーハプレアライメントシステム１６、ウェーハステージ１８及びＤ−チャック２０より構成されている。前記スピンナ１０でフォトレジスト膜が塗布されたウェーハは、前記ウェーハトランスファシステム１４を経て前記ウェーハプレアライメントシステム１６へ移送される。前記ウェーハは、前記ウェーハステージ１８へ移送される前に前記ウェーハプレアライメントシステム１６で予備整列される。即ち、ウェーハのフラットゾーンが決まった方向に整列される。予備整列されたウェーハは前記ウェーハステージ１８へ移送されて正確に整列される。次いで、露光工程が進行される。前記露光工程で前記ウェーハ上に塗布されたフォトレジスト膜にレチクルに彫られたパターンと同じパターンが転写される。以後、前記ウェーハは前記Ｄ−チャック２０及びウェーハトランスファシステム１４を経て前記スピンナ１０に移送される。
【０００５】図２は、図１に示した従来の技術に係るウェーハ整列露光装置１２の一構成要素のウェーハプレアライメントシステム１６の部分断面図である。これを参照すれば、従来の技術に係る整列露光装置のウェーハプレアライメントシステム１６にウェーハがローディングされるＰ−チャック２２が備わっていて、前記Ｐ−チャック２２の周りにマークセンサー２３及びエッジセンサー２４が備わっている。前記エッジセンサー２４は、前記Ｐ−チャック２２上にローディングされるウェーハＷのフラットゾーンを感知し、前記マークセンサー２３は感知されたフラットゾーンを決まった方向に整列させる。この過程で、前記エッジセンサー２４は前記ウェーハＷのフラットゾーンを感知する過程で発熱し、その結果前記ウェーハＷのエッジセンサー２４に露出される部分の温度は高くなる。
【０００６】このように従来の技術に係る整列露光装置を構成する要素はウェーハの温度を高める発熱要素を具備しているが、前記ウェーハ整列露光装置１２を構成する前記ウェーハトランスファシステム１４や前記ウェーハプレアライメントシステム１６、前記ウェーハステージ１８の温度環境は相異なる。例えば、前記ウェーハステージ１８は、別の温度制御装置を使用して温度を一定に維持する。反面、前記ウェーハトランスファシステム１４と前記ウェーハプレアライメントシステム１６は、温度調節にクリーンルームから供給される空気を用いている。ところが、クリーンルーム内部にある各種発熱源により前記各システムにヒーティングされた空気が流入されるだけでなく前記ウェーハプレアライメントシステム１６に備わったエッジセンサー２４のように、ウェーハ整列露光装置１２を構成する各要素自体にも発熱要素が備わっていて前記各構成要素内部はヒーティングされる。また、半導体装置の製造工程別に用いられる整列露光装置が異なってそれに属するウェーハトランスファシステムやウェーハフリーアラインシステムも相異なる。
【０００７】このような理由で、
前記露光設備１２のウェーハトランスファシステム１４や前記ウェーハプレアライメントシステム１６を通過するウェーハはヒーティングされて、前記ウェーハステージ１８に到達する時点で前記ウェーハ温度は前記ウェーハステージ１８で維持される温度より高い状態になる。
ウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターンを転写できなくなる。これを防止するために、前記ウェーハステージ１８でウェーハを長時間待機させて前記ウェーハと前記ウェーハステージ１８を熱的平衡状態にした後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、
本発明が解決しようとする技術的課題は、従来の技術が有するこのような問題点を解消することであって、
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記課題を達成するために、本発明はウェーハトランスファシステム、Ｐ−チャック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具備するウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステージ及びＤ−チャックを具備する露光装置において、前記ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わっている露光装置を提供する。
イ　「【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るウェーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段を具備する露光装置及びこれを用いた露光方法を添付した図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】しかし本発明の実施例は色々な他の形態に変形することができ、本発明の範囲が後述する実施例に限られることと解釈されてはいけない。本発明の実施例は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。図面で層とか領域の厚さは明細書の明確性のために誇張されたことである。図面上で同じ符号で示される要素は同じ要素を示す。今から説明しようとする本発明の実施例に係る露光装置及びこれを用いた露光方法は、半導体装置の製造工程に適用される全ての写真工程に適用できるが、説明の便宜と明確性のために
本発明の実施例に係る露光装置はステッパ型露光装置であるとみなす。
【００１８】先ず、本発明の実施例に係る露光装置に関して詳細に説明する。図３を参照すれば、
本発明の露光装置４０はウェーハトランスファシステム４２、ウェーハプレアライメントシステム４４、ウェーハステージ４６及びＤ−チャック４８よりなっている。前記ウェーハプレアライメントシステム４４にウェーハ冷却手段４４ａがさらに備わっている。
【００１９】スピンナ１０から前記ウェーハトランスファシステム４２及び前記ウェーハプレアライメントシステム４４を経て前記ウェーハステージ４６にくる間、ウェーハは前記ウェーハプレアライメントシステム４４に備わったウェーハ予備整列のためのエッジセンサーにより部分的に加熱された状態になるが、前記ウェーハ冷却手段４４ａは、前記ウェーハステージ４６にウェーハを移送する前にウェーハの温度を冷却させる役割をする。即ち、前記ウェーハプレアライメントシステム４４にくる間にヒーティングされた前記ウェーハを決まった温度まで、望ましくは前記ウェーハステージ４６の温度まで冷却させる役割をする。このような役割をする前記ウェーハ冷却手段４４ａはエアシャワーである。
【００２０】図４を参照すれば、本発明の実施例に係る露光装置の一構成要素の
ウェーハプレアライメントシステム５０の下部にウェーハ５４がローディングされるＰ−チャック５２が備わっている。
【００２１】図示したように、前記Ｐ−チャック５２上にウェーハ５４がローディングされる時、前記ウェーハ５４はその縁部が前記マークセンサー５５及びエッジセンサー５６に取り囲まれるようにローディングされる。即ち、前記マークセンサー５５及びエッジセンサー５６は二つともローディングされたウェーハ５４の縁部の上下面全部と対向できる面を有している。
前記ウェーハ５４を介在して前記Ｐ−チャック５２上に前記ウェーハ５４を冷却させるためのウェーハ冷却手段５８が備わっている。前記のように、前記ウェーハ冷却手段５８はエアシャワーである。
・・中略・・
【００２５】次に、前述したような構成要素及び特徴を有する露光装置を用いた露光方法を詳細に説明する。図８を参照すれば、第１段階１００は感光膜塗布及びべーク段階である。この段階では、図３に示したように、スピンナ１０でウェーハ上に感光膜、例えばフォトレジスト膜を塗布した後、適正温度で前記塗布された感光膜を露光に適した状態になるまでべークする。
【００２６】第２段階１０２はウェーハ整列及び冷却段階である。この段階では、前記スピンナ１０で感光膜塗布及びべーク工程が完了すれば、ウェーハをウェーハトランスファシステム４２へ移送する。前記ウェーハトランスファシステム４２へ移送されたウェーハはロボットによりウェーハプレアライメントシステム４４へ移送される。
【００２７】図４を参照すれば、まず、エッジセンサー５６によりウェーハ５４のフラットゾーンが感知される。次いで、前記エッジセンサー５６により感知された前記ウェーハ５４のフラットゾーンはマークセンサー５５により決まった方向に整列されることによって、前記ウェーハプレアライメントシステム４４におけるウェーハ予備整列が完了する。
【００２８】一方、図面に具体的に示されなかったが、前記エッジセンサー５６のウェーハ５４の下面と対向する部分に前記ウェーハ５４のフラットゾーンを感知する部分がある。この部分で前記ウェーハ５４のフラットゾーンは光学的方法で感知される。この過程で、前記ウェーハ５４の前記エッジセンサー５６の光が通過する部分は光に露出されるので、ウェーハの他の部分に比べて温度が上がる。
【００２９】従って、前記ウェーハ５４をこの状態で次の設備のウェーハステージへ移送して整列及び露光を実施する場合、待機時間が長くなったり整列誤差が増える問題が発生するので、これを解消するために、前記ウェーハプレアライメントシステム５０の前記Ｐ−チャック５２上に備わったウェーハ冷却手段５８、即ちエアシャワーを使用して前記ウェーハ５４を冷却させる。この時、前記ウェーハは前記ウェーハステージの温度まで冷却させることが望ましい。
【００３０】
第３段階１０４はウェーハ整列及び露光段階である。この段階では、図３を参照すれば、前記ウェーハプレアライメントシステム４４で前記ウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージ４６へ移送してウェーハ整列を実施した後、露光を実施する。
【００３１】第４段階１０６は整列及び露光が完了したウェーハをスピンナへ移送する段階である。この段階では、図３を参照すれば、前記露光されたウェーハをＤ−チャック４８へ移送する。次いで、前記Ｄ−チャック４８から前記ウェーハトランスファシステム４２を経て前記スピンナ１０に前記ウェーハを移送する。
【００３２】前記の説明で多くの事項が具体的に記載されているが、これらは発明の範囲を限定することというより、望ましい実施例の例示として解釈されるべきである。例えば本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、前記ウェーハ冷却手段として開示された前記エアシャワーの形態を前記実施例に開示されたものから変形して本発明を実施できることが明らかである。例えば、図５に示したウェーハ冷却手段５８でガス噴射部７６に形成された複数個のホール７８は、完全にオープンされた状態ではない必要なガスだけを選択的に通過させうる機能を有する透気性膜に取り替えられる場合もある。そのため、本発明の範囲は説明された実施例によって決まることではなく特許請求範囲に記載された技術的思想により決まるべきである。
【００３３】
【発明の効果】前述したように、本発明による露光装置は、構成要素中の一つのウェーハプレアライメントシステムへ移送されるウェーハの温度調節のための別のウェーハ冷却手段、即ちエアシャワーを備える。
ウェーハトランスファシステムを経てスピンナから移送されてくる間ヒーティングされたウェーハを前記ウェーハプレアライメントシステムで、次に移送するウェーハステージの温度と同じ温度になるまで冷却させる。
ウェーハとウェーハステージとの温度差から発生するウェーハの過度な熱膨張を防止でき、その結果ウェーハ整列過程で過度な整列誤差が発生することを防止できるので正確なウェーハ整列をなすことができる。
ウ　「【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図８】
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
エ　上記記載事項イの段落【００３０】の「第３段階１０４はウェーハ整列及び露光段階である。この段階では、図３を参照すれば、前記ウェーハプレアライメントシステム４４で前記ウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージ４６へ移送してウェーハ整列を実施した後、露光を実施する。」という記載から、「露光装置４０」には、「ウェーハ」を、「ウェーハプレアライメントシステム４４」から「ウェーハステージ４６」へ移送する手段が備わっていることは明らかである。
オ　ステッパ型露光装置において、一般に、ウェーハステージが所定の空間内に配置され、ウェーハステージは、常に、その空間内で移動するように構成されていることは、当業者の技術常識であるから、上記記載事項イの「ウェーハステージ４６」も、常に、「ウェーハステージ４６」が配置された空間内で移動するように構成されていると認められる。
　すると、上記引用文献２の記載事項から、引用文献２には、以下の技術事項（以下「引用文献２の技術事項」という。）が記載されている。
「露光設備１２のウェーハトランスファシステム１４やウェーハプレアライメントシステム１６を通過するウェーハはヒーティングされて、ウェーハステージ１８に到達する時点でウェーハ温度はウェーハステージ１８で維持される温度より高い状態になり、ウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターンを転写できなくなる。これを防止するために、ウェーハステージ１８でウェーハを長時間待機させてウェーハとウェーハステージ１８を熱的平衡状態にした後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。
　従来の技術が有するこのような問題点を解消することを目的として、ウェーハトランスファシステム、Ｐ−チャック周りにマークセンサー及びエッジセンサーを具備するウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステージ及びＤ−チャックを具備する露光装置において、ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わっている露光装置を提供する。
　具体的には、下記のような露光装置（以下「引用発明２」という。）を提供する。
「ステッパ型露光装置である露光装置であって、
　露光装置はウェーハトランスファシステム、ウェーハプレアライメントシステム、ウェーハステージ及びＤ−チャックよりなっており、ウェーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段がさらに備わっていて、
　ウェーハプレアライメントシステムの下部にウェーハがローディングされるＰ−チャックが備わっており、ウェーハを介在してＰ−チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わっていて、ウェーハ冷却手段はエアシャワーであり、
　ウェーハを、ウェーハプレアライメントシステムからウェーハステージへ移送する手段を備え、
　ウェーハステージは、常に、ウェーハステージが配置された空間内で移動するように構成されており、
　ウェーハプレアライメントシステムでウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージへ移送してウェーハ整列を実施した後、露光を実施する、露光装置。」
　この引用発明２では、ウェーハトランスファシステムを経てスピンナから移送されてくる間ヒーティングされたウェーハを前記ウェーハプレアライメントシステムで、次に移送するウェーハステージの温度と同じ温度になるまで冷却させることによって、ウェーハとウェーハステージとの温度差から発生するウェーハの過度な熱膨張を防止でき、その結果ウェーハ整列過程で過度な整列誤差が発生することを防止できるので正確なウェーハ整列をなすことができる。」
３　対比
（１）本願補正発明と引用発明１との対比
ア　引用発明１の「ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置である露光装置１００」、「ウエハＷ」、「基板としてのウエハＷが搭載されるステージ装置としてのウエハステージＷＳＴ」及び「ウエハ搬入アーム（以下、「搬入アーム」という）３６」は、それぞれ、本願補正発明の「リソグラフィ装置」、「基板」、「基板を保持する基板テーブル」及び「基板を保持するホルダ」に相当する。
イ　引用発明１の「露光装置１００は、基板としてのウエハＷが搭載されるステージ装置としてのウエハステージＷＳＴを備えており、」「ウエハステージＷＳＴ」「は、鏡筒定盤９２、防振台９４及びウエハベース盤１７に囲まれた空間に配置され」ていることは、本願補正発明の「基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、」「を備え」ることに相当する。
ウ　引用発明１の「ウエハプリアライメント装置３２」は、「制御装置６９は、撮像データ格納領域７２に格納されたウエハＷの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハＷのノッチＮ位置を検出し、これにより、ロードされたウエハＷのＺ軸回りの回転角を検出し、検出されたウエハＷのＺ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を回転駆動」することにより、「ウエハ」の位置を調整する手段であることは明らかであるから、引用発明１の「ウエハプリアライメント装置３２」と、本願補正発明の「該基板を熱調整する熱調整ユニット」は、「該基板を調整する手段」である点で、一致する。
　また、引用発明１において、「露光装置１００は、搬入アーム３６にウエハを搬入するウエハ搬送アーム４４及びこれらを駆動するアーム駆動機構４６と、」「を備えて」いることから、引用発明１の「ウエハプリアライメント装置３２」は、「ウエハ」を受け取るものであることは明らかである。
　すると、引用発明１の「ウエハプリアライメント装置３２」と、本願補正発明の「熱調整ユニット」は、「露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を調整する手段」である点で，一致する。
エ　引用発明１では、「制御装置６９は、撮像データ格納領域７２に格納されたウエハＷの外縁近傍の撮像データに基づいて、ウエハＷのノッチＮ位置を検出し、これにより、ロードされたウエハＷのＺ軸回りの回転角を検出し、検出されたウエハＷのＺ軸回りの回転角に基づき、必要に応じて、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を回転駆動し、引き続き、制御装置６９が、プリアライメント制御装置３４を介して上下動・回転機構３８を制御し、搬入アーム３６を駆動して、ウエハＷをウエハホルダ１８にロードする」のであるから、引用発明１の「搬入アーム３６」及び「上下動・回転機構３８」と、本願補正発明の「移送システム」は、「調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システム」である点で、一致する。
オ　引用発明１において、「ウエハステージＷＳＴ」が、
常に
　また、引用発明１の「ウエハプリアライメント装置３２は、鏡筒定盤９２に
固定された
常に
　すると、引用発明１の「ウエハステージＷＳＴ及びウエハプリアライメント装置３２」と、本願補正発明の「前記基板テーブルおよび前記熱調整ユニット」は、「前記基板テーブル及び前記調整する手段は、前記調整された基板の前記調整する手段から前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され」ている点で、一致する。
カ　引用発明１の「ウエハプリアライメント装置３２は、鏡筒定盤９２に固定されたプリアライメント制御装置３４と、このプリアライメント制御装置３４の下方に設けられ、支持部材としてのウエハ搬入アーム（以下、「搬入アーム」という）３６を支持して上下動及び回転する上下動・回転機構３８とを備えて」いることと、本願補正発明の「前記移送システムは、前記熱調整ユニットに取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備え」ることは、「前記移送システムは、前記調整する手段に取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備え」ることで、一致する。
（２）一致点
　してみると、両者は、
「リソグラフィ装置であって、
　基板を保持する基板テーブルと、
　前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
　露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を調整する手段と、
　調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
　前記基板テーブル及び前記調整する手段は、前記調整された基板の前記調整する手段から前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置され、
　前記移送システムは、前記調整する手段に取り付けられ、前記基板を保持するホルダを備える、リソグラフィ装置。」
で一致し、次の点で相違する。
（３）相違点
　本願補正発明では、調整する手段が「該基板を熱調整する熱調整ユニット」であって、「前記ホルダは、前記熱調整ユニットの冷却プレートの近くで前記基板を保持し、前記基板と前記冷却プレートとの間の熱交換を可能にする」のに対して、引用発明１では、調整する手段が、「ウエハプリアライメント装置３２」である点。（以下「相違点ア」という。）
４　判断
（１）相違点アについて
　引用発明１の、「支持部材としてのウエハ搬入アーム（以下、「搬入アーム」という）３６」、「上下動・回転機構３８」、「搬入アーム３６にウエハを搬入するウエハ搬送アーム４４」を備える点が、引用文献２の技術事項の「ウェーハトランスファシステム１４やウェーハプレアライメントシステム１６」を備える点に相当するから、引用発明１でも、引用文献２の技術事項の「露光設備１２のウェーハトランスファシステム１４やウェーハプレアライメントシステム１６を通過するウェーハはヒーティングされて、ウェーハステージ１８に到達する時点でウェーハ温度はウェーハステージ１８で維持される温度より高い状態になり、ウェーハの整列誤差が増えてウェーハに正確にパターンを転写できなくなる。これを防止するために、ウェーハステージ１８でウェーハを長時間待機させてウェーハとウェーハステージ１８を熱的平衡状態にした後に整列及び露光工程を進行できるが、ウェーハの待機時間が延びて生産性が急に低下する問題がある。」という問題と同様の問題が生じることは、当業者には容易に理解し得るところである。
　そこで、引用発明１において、これらの問題を解決するべく、引用文献２の技術事項の「ウェーハプレアライメントシステムにウェーハを予備整列しながら冷却させうるウェーハ冷却手段が備わ」る構成を適用することは容易に想到し得ることであって、その際、引用発明１の「プリアライメント装置３２」と、引用発明２の「ウェーハプレアライメントシステム」は、それぞれ、その下部にウエハを支持・移送する手段（引用発明１においては、「支持部材としてのウエハ搬入アーム（以下、「搬入アーム」という）３６」及び「上下動・回転機構３８」、引用発明２においては、「ウェーハがローディングされるＰ−チャック」）を備えている点で共通するから、引用発明１に、引用発明２の「ウェーハを介在してＰ−チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わ」る構成を採用して、「搬入アーム３６」で支持された「ウエハＷ」の上側に冷却手段を備えるよう構成することは、当業者が容易になし得ることである。
　また、引用発明２では、「ウェーハ冷却手段」は「エアシャワー」であるが、ウエハの冷却手段として、冷却プレートは、特開２００３−１４２３８６号公報（例えば、段落【００１９】、【００３８】、図１、２、７等参照）、特開２００１−８５３２３号公報（例えば、段落【００１８】〜【００１９】、【００３４】〜【００３６】、図２〜４等参照）、特開２０００−６８１７６号公報（例えば、段落【００１４】〜【００１８】、図１等参照）、特開２００２−５７０９２号公報（特に、段落【０００１】、【００１０】〜【００１１】、図１〜４等参照）、特開２００６−７８０２９号公報（特に、段落【０００１】、【００１８】〜【００２２】、図１〜４等参照）等に示されるように、当業者には周知の技術であるから、引用発明１に引用発明２の「ウェーハ冷却手段」の構成を適用する際に、ウエハの冷却手段として、冷却プレートを採用することは、当業者が適宜設計変更し得る程度の事項にすぎない。
　したがって、引用発明１に、引用文献２の技術事項に基づいて、引用発明２及び周知技術を適用して、引用発明１の「プリアライメント装置３２」に冷却プレートである冷却手段を備える構成とすることにより、上記相違点アに係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得ることである。
（２）効果について
　本願補正発明が奏し得る効果は、引用発明１、引用文献２の技術事項及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
（３）結論
　したがって、本願補正発明は、引用発明１、引用文献２の技術事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
５．小括
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定により読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２７年６月８日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２６年１０月７日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。（上記「第２」「［理由］」「１」の本件補正前の請求項１の記載を参照）
２　引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された引用文献２、その記載内容及び引用発明２は、上記「第２」「［理由］」「２」「（２）」に記載したとおりである。
３　対比
（１）本願発明と引用発明２との対比
ア　引用発明２の「ステッパ型露光装置である露光装置」、「ウェーハ」、「ウェーハステージ」、「ウェーハ冷却手段」は、それぞれ、本願発明の「リソグラフィ装置」、「基板」、「基板を保持する基板テーブル」、「該基板を熱調整する熱調整ユニット」に相当する。
イ　引用発明２の「ウェーハステージは、常に、ウェーハステージが配置された空間内で移動するように構成されている」ことは、本願発明の「前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、」「を備え」ることに相当する。
ウ　引用発明２において、「ウェーハプレアライメントシステムの下部に」「備わって」いる「Ｐ−チャック」は、「ウェーハがローディングされる」ものであり、「ウェーハを介在してＰ−チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わってい」るものであるから、引用発明２の「ウェーハプレアライメントシステムにウェーハ冷却手段がさらに備わっていて、ウェーハプレアライメントシステムの下部にウェーハがローディングされるＰ−チャックが備わっており、ウェーハを介在してＰ−チャック上にウェーハを冷却させるためのウェーハ冷却手段が備わってい」ることは、本願発明の「露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、」「を備え」ることに相当する。
エ　引用発明２において、「ウェーハプレアライメントシステムでウェーハ予備整列と共にウェーハ冷却を実施した後、ウェーハをウェーハステージへ移送してウェーハ整列を実施」するのであるから、引用発明２の「ウェーハを、ウェーハプレアライメントシステムからウェーハステージへ移送する手段」は、本願発明の「熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システム」に相当する。
オ　引用発明２の「ウェーハステージは、常に、ウェーハステージが配置された空間内で移動するように構成されて」いることは、本願発明の「前記基板テーブル」「は、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される」ことに相当する。
（２）一致点
　してみると、両者は、
「リソグラフィ装置であって、
　基板を保持する基板テーブルと、
　前記基板テーブルが位置決めされているウェーハステージ区画と、
　露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整する熱調整ユニットと、
　熱調整された基板を前記基板テーブルへ移送する移送システムと、を備え、
　前記基板テーブルは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される、リソグラフィ装置。」
で一致し、次の点で相違する。
（３）相違点
　本願発明は、「前記熱調整ユニットは、前記熱調整された基板の前記熱調整ユニットから前記基板テーブルへの移送の間、該リソグラフィ装置の前記ウェーハステージ区画内に配置される」のに対して、引用発明２では、「ウェーハ冷却手段」、すなわち、「ウェーハ冷却手段がさらに備わってい」る「ウェーハプレアライメントシステム」は、「ウェーハ」の「ウェーハ冷却手段」、すなわち、「ウェーハ冷却手段がさらに備わってい」る「ウェーハプレアライメントシステム」から「ウェーハステージ」への移送の間、「ウェーハステージが配置された空間内に」配置されるか否かが明らかでない点。（以下「相違点イ」という。）
４　判断
（１）相違点イについて
　ステッパ型露光装置において、一般に、プリアライメント装置が、
常に
常に
（２）効果について
　本願発明が奏し得る効果は、引用発明２及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
（３）結論
　したがって、本願発明は、引用発明２及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
第４　むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。