【手続補正書】
【提出日】令和2年1月8日(2020.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基およびそれらの組み合わせから選択される基を有する１つ以上の硬化性樹脂と、潜在性硬化剤とを含んでなる放射線硬化性シーラント組成物であって、１つ以上の硬化性樹脂における（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は０．２より大きい、放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項２】
１つ以上の硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、（メタ）アクリレート樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基およびマレイミド基から選択される少なくとも２つの基を有するハイブリッド樹脂、並びにそれらの混合物から選択される、請求項１に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項３】
エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂およびビスフェノールＳ型エポキシ樹脂から選択される、請求項２に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項４】
（メタ）アクリレート樹脂はエポキシ（メタ）アクリレートである、請求項２に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項５】
マレイミド樹脂は、１つ以上の部分（Ｉ）：
【化１】
2020506255.tif 000001
［式中、Ｒ１およびＲ２は、ＨまたはＣ１〜６アルキル基であるか、或いはＲ１およびＲ２は一緒にＣ２〜６アルキレン基になる］
で示される部分構造を有する、請求項２に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項６】
１つ以上の硬化性樹脂における（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は０．２５〜１０である、請求項１〜５のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項７】
シーラント組成物中の１つ以上の硬化性樹脂は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて、３０〜９０重量％の量で存在する、請求項１〜６のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項８】
潜在性硬化剤は、５０〜１１０℃の融点を有する、請求項１〜７のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項９】
潜在性硬化剤は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて１〜５０重量％の量で存在する、請求項１〜８のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項１０】
放射線硬化性シーラント組成物は本質的に光開始剤を含まない、請求項１〜９のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項１１】
放射線硬化性シーラント組成物は、２００秒未満の、４０５ｎｍで５００Ｍｗ／ｃｍ２の放射でのゲル化時間を有する、請求項１〜１０のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
【請求項１２】
１）第一基材の表面の周縁部のシーリング領域に、請求項１〜１１のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物を適用する工程；
２）放射線硬化性シーラント組成物の放射線硬化を実施し、部分的に硬化した生成物を得る工程；
３）第一基材の表面のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域、または第二基材の対応する領域に、液晶を滴下し、液晶層を形成する工程；
４）第一基材と第二基材とを重ね合わせる工程；および
５）部分的に硬化した生成物の熱硬化を実施する工程
を含む、第一基材と第二基材との間に液晶層を有する液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
液晶デバイスを製造するためのワンドロップフィル法における、請求項１〜１１のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物または請求項１２に記載の液晶ディスプレイの製造方法の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
ハイブリッド樹脂
本発明において、マレイミド基と、エポキシ基および（メタ）アクリロイル基から選択される１つ以上の基とを有する樹脂をハイブリッド樹脂と称する。好ましくは、ハイブリッド樹脂は、分子末端に、マレイミド基と、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基から選択される基とを有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
放射線硬化性樹脂の量は、シーラント組成物中の潜在性硬化剤の種類に応じて適宜選択してよい。好ましくは、シーラント組成物中の放射線硬化性樹脂は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて、約３０〜約９０重量％、より好ましくは約５０〜約８０重量％の量で存在する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
好ましくは、シーラント組成物における潜在性硬化剤は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて、約１〜約５０重量％、より好ましくは約５〜約４０重量％の量で存在する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
放射線硬化性シーラント組成物は、約２００秒未満、好ましくは１８５秒未満の、４０５ｎｍ、約５００Ｍｗ／ｃｍ２の放射線下でのゲル化時間を有する。放射線硬化性シーラント組成物のゲル化は、放射線硬化中にシーラント組成物に木製スティックを挿入または接触させ、シーラント組成物から木製スティックを引き上げ、シーラント組成物の糸状物の形成を目視確認できるかどうかによって調べることができる。硬化開始時、シーラント組成物は流動性であり、スティック端部とシーラントとの間にシーラントの糸状物は形成されない。硬化の継続およびゲル化に伴って、シーラント組成物の流動性は低下し、その粘度は上昇し、シーラント組成物に木製スティックを挿入して引き上げるときに糸状物が形成される。ゲル化時間は、放射線硬化の開始から、糸状物が木製スティックに付着しない時間として定義される。ゲル化時間が２００秒を超えると、放射線硬化中にシーラント組成物の粘度は上昇するが、熱硬化後であっても液晶が浸透する危険性が高い。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
〔１〕エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基およびそれらの組み合わせから選択される基を有する１つ以上の硬化性樹脂と、潜在性硬化剤とを含んでなる放射線硬化性シーラント組成物であって、１つ以上の硬化性樹脂における（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は０．２より大きい、放射線硬化性シーラント組成物。
〔２〕１つ以上の硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、（メタ）アクリレート樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基およびマレイミド基から選択される少なくとも２つの基を有するハイブリッド樹脂、並びにそれらの混合物から選択される、上記〔１〕に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔３〕エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂およびビスフェノールＳ型エポキシ樹脂から選択される、上記〔２〕に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔４〕（メタ）アクリレート樹脂はエポキシ（メタ）アクリレート、好ましくは完全（メタ）アクリレート化エポキシである、上記〔２〕に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔５〕マレイミド樹脂は、１つ以上の、好ましくは１つまたは２つの部分（Ｉ）：
〔化１〕
2020506255.tif 000002
［式中、Ｒ１およびＲ２は、ＨまたはＣ１〜６アルキル基であるか、或いはＲ１およびＲ２は一緒にＣ２〜６アルキレン基になる］
で示される部分構造を有する、上記〔２〕に記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔６〕１つ以上の硬化性樹脂における（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は０．２５〜１０、好ましくは０．３〜５．０である、上記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔７〕シーリング組成物中の１つ以上の硬化性樹脂は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて、３０〜９０重量％、より好ましくは５０〜８０重量％の量で存在する、上記〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔８〕潜在性硬化剤は、５０〜１１０℃の融点、特に６０〜１００℃の融点を有する、上記〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔９〕潜在性硬化剤は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％の量で存在する、上記〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔１０〕放射線硬化性シーラント組成物は本質的に光開始剤を含まない、好ましくは光開始剤を含まない、上記〔１〕〜〔９〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔１１〕放射線硬化性シーラント組成物は、２００秒未満、好ましくは１８５秒未満の、４０５ｎｍで５００Ｍｗ／ｃｍ２の放射でのゲル化時間を有する、上記〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物。
〔１２〕１）第一基材の表面の周縁部のシーリング領域に、上記〔１〕〜〔１１〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物を適用する工程；
２）放射線硬化性シーラント組成物の放射線硬化を実施し、部分的に硬化した生成物を得る工程；
３）第一基材の表面のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域、または第二基材の対応する領域に、液晶を滴下し、液晶層を形成する工程；
４）第一基材と第二基材とを重ね合わせる工程；および
５）部分的に硬化した生成物の熱硬化を実施する工程
を含む、第一基材と第二基材との間に液晶層を有する液晶ディスプレイの製造方法。
〔１３〕液晶デバイスを製造するためのワンドロップフィル法における、上記〔１〕〜〔１１〕のいずれかに記載の放射線硬化性シーラント組成物または上記〔１２〕に記載の液晶ディスプレイの製造方法の使用。