【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年11月27日(2019.11.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中において第１の標的と第２の標的が近接していることを決定する方法であって：
第１の修飾結合分子を第１の標的に結合させ、第１の複合体を形成することであって、第１の修飾結合分子が、切断可能な架橋成分を含み、切断可能な架橋成分は、切断部位、検出可能な部分及び第１の化学ライゲーション基を含み、切断部位は、検出可能な部分及び第１の化学ライゲーション基より、第１の修飾結合分子のプロキシマルにあり、第１の化学ライゲーション基は、切断可能な架橋成分の末端にあり、第１の化学ライゲーション基は生理的条件下で安定である、第１の修飾結合分子を第１の標的に結合させ、第１の複合体を形成すること；
第２の修飾結合分子を第２の標的に結合させ、第２の複合体を形成することであって、第２の修飾結合分子が、切断不能な架橋成分を含み、切断不能な架橋成分は、第２の化学ライゲーション基を含み、第２の化学ライゲーション基は、切断不能な架橋成分の末端にあり、第２の化学ライゲーション基は生理的条件下で安定である、第２の修飾結合分子を第２の標的に結合させ、第２の複合体を形成すること；
第１の化学ライゲーション基を第２の化学ライゲーション基に共有結合させ、第１の標的と第２の標的とが近接しているところに共有結合単位を形成すること；
共有結合単位が第２の修飾結合分子に結合して第１の修飾結合分子には結合しないように、切断可能な架橋成分の切断部位を切断すること；
共有結合単位の一部ではない切断可能な架橋成分を除去すること；及び
検出可能な部分を可視化することであって、第１の標的と第２の標的は検出可能な部分が可視であるところで近接している、可視化すること
を含む方法。
【請求項２】
第１の標的と第２の標的とは、互いに約４０ｎｍ未満の距離にあるという意味で近接している、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第１の標的と第２の標的とは、互いに約３０ｎｍ未満の距離にあるという意味で近接している、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第１の修飾結合分子が第１の抗体を含み、かつ第２の修飾結合分子が第２の抗体を含む、又は、第１の修飾結合分子が第１の一次抗体及び第１の二次抗体を含み、かつ第２の修飾結合分子が第２の一次抗体及び第２の二次抗体を含み、第１の二次抗体が第１の一次抗体に特異的に結合するが第２の一次抗体には特異的に結合せず、かつ第２の二次抗体が第２の一次抗体に特異的に結合するが第１の一次抗体に特異的に結合せず、切断可能な架橋成分が第１の二次抗体に結合し、かつ切断不能な架橋成分が第２の二次抗体に結合している、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
第１の化学ライゲーション基を第２の化学ライゲーション基に共有結合させることが、試料を触媒、紫外線、及び／又は脱保護条件に接触させることを含む、又は第１の化学ライゲーション基を第２の化学ライゲーション基に共有結合させることが、試料を銅（Ｉ）又はヒドラジン（Ｎ２Ｈ４）に接触させることを含む、又は第１の化学ライゲーション基を第２の化学ライゲーション基に共有結合させることが、ヒスゲン１，３−双極子付加環化反応を開始させることを含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
切断可能な架橋成分の切断部位を切断することが、試料を還元剤、過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）、又は紫外線に接触させることを含む、又は切断可能な架橋成分の切断部位を切断することが、試料をジチオスレイトール（ＤＴＴ）、ベータ−メルカプトエタノール（ＢＭＥ）、又はトリス（２−カルボキシエチル）ホスフィン（ＴＣＥＰ）に接触させることを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
第１の修飾結合分子が抗体−ＰＥＧ８−ＳＳ−ＨＡ−Ｎ３を含む、かつ／又は第２の修飾結合分子が抗体−ＰＥＧ４−ＣＣＨを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
切断可能な架橋成分を除去することが、試料をバッファーで洗浄することを含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
検出可能な部分を可視化することが、試料を発色検出システム、又は蛍光検出システムに接触させることを含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
第１の修飾結合分子が二つ以上の切断可能な架橋成分を含む、かつ／又は第２の修飾結合分子が二つ以上の切断不能な架橋成分を含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
試料中における第１の標的と第２の標的との近接性を検出するためのキットであって：
（ａ）第１の標的に結合させるための、切断可能な架橋成分を含む第１の修飾結合分子であって、切断可能な架橋成分が、切断部位、検出可能な部分、及び第１の化学ライゲーション基を含み、切断部位が、検出可能な部分及び第１の化学ライゲーション基より、第１の修飾結合分子のプロキシマルにあり、かつ第１の化学ライゲーション基が、切断可能な架橋成分の末端にある、第１の修飾結合分子；及び
（ｂ）第２の標的に結合させるための、切断不能な架橋成分を含む第２の修飾結合分子であって、切断不能な架橋成分が第２の化学ライゲーション基を含み、第２の化学ライゲーション基が切断不能な架橋成分の末端にある、第２の修飾結合分子
を含むキット。
【請求項１２】
第１及び第２の化学ライゲーション基が生理的条件下で安定である、請求項１１に記載のキット。
【請求項１３】
共有結合単位を形成するために第１の化学ライゲーション基を第２の化学ライゲーション基に共有結合させるために有効な触媒をさらに含む、請求項１１又は１２に記載のキットであって、触媒が、銅（Ｉ）、若しくはヒドラジン（Ｎ２Ｈ４）を含む脱保護試薬を含む、又は触媒が、還元剤若しくは過ヨウ素酸ナトリウム（ＮａＩＯ４）を含む、キット。
【請求項１４】
還元剤が、ジチオスレイトール（ＤＴＴ）、ベータ―メルカプトエタノール（βＭＥ）、若しくはトリス(２-カルボキシエチル)ホスフィン（ＴＣＥＰ）を含む、請求項１３に記載のキット。
【請求項１５】
切断可能な架橋成分の切断部位を切断するための触媒又は脱保護試薬をさらに含む、請求項１１、１３又は１４に記載のキット。
【請求項１６】
検出可能な部分を可視化する発色システム又は蛍光システムをさらに含む、請求項１１から１５のいずれか一項に記載のキットであって、発色システムが、ビオチン、ストレプトアビジン―ホースラディッシュペルオキシダーゼ（ＳＡ−ＨＲＰ）分子、ＤＡＢ、過酸化水素、又は銅にコンジュゲートされた抗検出可能な部分抗体を含む、キット。
【請求項１７】
第１の修飾結合分子が第１の抗体を含み、かつ第２の修飾結合分子が第２の抗体を含む、又は第１の修飾結合分子が第１の一次抗体及び第１の二次抗体を含み、かつ第２の修飾結合分子が第２の一次抗体及び第２の二次抗体を含み、第１の二次抗体が第１の一次抗体に特異的であるが第２の一次抗体には特異的でなく、かつ第２の二次抗体が第２の一次抗体に特異的であるが第１の一次抗体に特異的でなく、切断可能な架橋成分が第１の二次抗体に結合しており、かつ切断不能な架橋成分が第２の二次抗体に結合している、請求項１１から１６のいずれか一項に記載のキット。
【請求項１８】
切断部位が、ジスルフィド結合、ビシナルジオール、ビシナルヒドロキシルアミン、又はニトロフェニル誘導体を含む、請求項１１から１７のいずれか一項に記載のキット。
【請求項１９】
切断可能な架橋成分が、一つを超える検出可能な部分を含む、請求項１１から１８のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２０】
検出可能な部分が、ハプテン、ペプチドタグ、又はオリゴヌクレオチドを含む、請求項１９に記載のキット。
【請求項２１】
切断可能な架橋成分が足場をさらに含み、検出可能な部分が足場に結合し、かつ足場がペプチド、オリゴヌクレオチド、又はポリマーを含む、請求項１１から２０のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２２】
足場がリジンを含む、請求項２１に記載のキット。  
【請求項２３】
第１の化学ライゲーション基が、アジド
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、チオエステル
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、又はテトラゾール環
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、アルキン基（ＲＣ≡ＣＨ）、ハロゲン基、又はアルケン基（ＲＣ＝ＣＨ２）を含む、請求項１１から２２のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２４】
切断可能な架橋成分が、ｘ個のポリエチレングリコール基（ＰＥＧｘ）（ｘ≧１、好ましくはｘ≧８）を含む、請求項１１から２３のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２５】
第２の化学ライゲーション基が、アルキン基（ＲＣ≡ＣＨ）、ハロゲン基、又はアルケン基（ＲＣ＝ＣＨ２）を含む、請求項１１から２４のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２６】
ハロゲン基が、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩを含む、請求項２５のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２７】
切断不能な架橋成分が、ｘ個のポリエチレングリコール基（ＰＥＧｘ）（ｘ≧１、好ましくはｘ≧４）を含む、請求項１１から２５のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２８】
第１の修飾結合分子が抗体−ＰＥＧ８−ＳＳ−ＨＡ−Ｎ３を含む、かつ／又は第２の修飾結合分子が抗体−ＰＥＧ４−ＣＣＨを含む、請求項１１に記載のキット。
【請求項２９】
切断部位が、ジスルフィド結合、ビシナルジオール、ビシナルヒドロキシルアミン、又はニトロフェニル誘導体を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
切断可能な架橋成分が、一つを超える検出可能な部分を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
検出可能な部分が、ハプテン、ペプチドタグ、又はオリゴヌクレオチドを含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
切断可能な架橋成分が足場をさらに含み、検出可能な部分が足場に結合し、かつ足場がペプチド、オリゴヌクレオチド、又はポリマーを含む、請求項１から４、３０及び３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３】
足場がリジンを含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
第１の化学ライゲーション基が、アジド
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、チオエステル
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、又はテトラゾール環
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、アルキン基（ＲＣ≡ＣＨ）、ハロゲン基、又はアルケン基（ＲＣ＝ＣＨ２）を含む、請求項１から４及び請求項３０から３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
切断可能な架橋成分が、ｘ個のポリエチレングリコール基（ＰＥＧｘ）（ｘ≧１、好ましくはｘ≧８）を含む、請求項１から４及び請求項３０から３４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３６】
第２の化学ライゲーション基が、アルキン基（ＲＣ≡ＣＨ）、ハロゲン基、又はアルケン基（ＲＣ＝ＣＨ２）を含む、請求項１から４及び請求項３０から３５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３７】
ハロゲン基が、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩを含む、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
切断不能な架橋成分が、ｘ個のポリエチレングリコール基（ＰＥＧｘ）（ｘ≧１、好ましくはｘ≧４）を含む、請求項１から４及び請求項３４から３７のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
第１の修飾結合分子は一つの切断可能な架橋成分（又は一を超える切断可能な架橋成分）を含み、切断可能な架橋成分は、切断部位（例えば、ジスルフィド結合、ビシナルジオール、ビシナルヒドロキシルアミン、ニトロフェニル誘導体など）、検出可能な部分（例えば、１、少なくとも１、少なくとも２、少なくとも３、少なくとも４、少なくとも５、少なくとも６、少なくとも７、少なくとも８、少なくとも９、少なくとも１０など）、及び第１の化学ライゲーション基（例えば、アジド、チオエステル、テトラゾール環など）を含む。切断部位は、検出可能な部分及び第１の化学ライゲーション基があるところよりも、第１の修飾結合分子のよりプロキシマルにある。第１の化学ライゲーション基は切断可能な架橋成分の末端に位置している。第１の化学ライゲーション基は生理的条件下において安定である。