Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月22日(2019.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正の吸気圧を維持しつつ非侵襲的換気装置システムにおいて患者の呼気のＣＯ２レベルを測定するための方法であり、前記非侵襲的換気装置システムはＣＯ２センサを備える、方法であって、前記方法は、
前記非侵襲的換気装置システムが、ユーザによって規定される第１の期間の間、患者からＣＯ２測定値を取得する命令を含む信号を受信するステップと、
前記信号に応答して、前記非侵襲的換気装置システムが、１つの吸気及び１つの呼気を少なくとも含む少なくとも１つの完全な患者の呼吸サイクルを含む、前記ユーザによって規定される第１の期間の間、呼気気道陽圧を第１の、より高いレベルから第２の、より低いレベルへと低下させるステップと、
前記ＣＯ２センサが、前記ユーザによって規定される第１の期間中にＣＯ２測定値を取得するステップと、
前記ユーザによって規定される第１の期間の呼気の後に、前記呼気気道陽圧を前記第１の、より高いレベルに戻すステップと、
を有する方法。
【請求項２】
患者からＣＯ２測定値を取得する命令を含む前記信号は、ユーザから受信される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記呼気気道陽圧を第１の、より高いレベルから第２の、より低いレベルへと低下させる前記ステップは、前記非侵襲的換気装置システムのブロワに制御信号を送るステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記非侵襲的換気装置システムのコントローラから前記ＣＯ２センサに信号を送るステップを更に有し、前記信号は、前記第１の期間中に前記ＣＯ２測定値を取得するための命令を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２の、より低いレベルは、約１ｃｍＨ２Ｏである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ユーザによって規定される第１の期間は少なくとも２呼吸である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記受信するステップは、ユーザによって規定される定期的な間隔においてＣＯ２測定値を取得するように、前記非侵襲的換気装置システムを構成するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記非侵襲的換気装置システムは、統合されたＣＯ２センサを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
正の吸気圧を維持しつつ患者の呼気のＣＯ２レベルを測定する非侵襲的換気装置であって、前記非侵襲的換気装置は、
ユーザから、各サイクルが１つの吸気及び１つの呼気を少なくとも含む少なくとも１つの完全な患者の呼吸サイクルを含む、ユーザによって規定される第１の期間中に、前記患者からＣＯ２測定値を取得する命令を含む信号を受信するユーザインターフェースと、
前記ユーザによって規定される第１の期間中に前記患者から１又は複数の呼気のＣＯ２測定値を取得するＣＯ２センサと、
前記ＣＯ２センサと通信するコントローラであって、前記コントローラは、前記信号に応答して、前記ユーザによって規定される第１の期間の間、呼気気道陽圧を第１の、より高いレベルから第２の、より低いレベルへと低下させ、前記ユーザによって規定される第１の期間中にＣＯ２測定値を取得するよう前記ＣＯ２センサに指令し、前記ユーザによって規定される第１の期間の呼気の後に、前記呼気気道陽圧を前記第１の、より高いレベルに戻す、コントローラと、
を備える、非侵襲的換気装置。
【請求項１０】
前記コントローラは、前記非侵襲的換気装置のブロワの動作を制御することによって前記呼気気道陽圧を低下させる、請求項９に記載の非侵襲的換気装置。
【請求項１１】
前記ＣＯ２センサは、患者インターフェースの近くに位置する統合されたセンサである、請求項９に記載の非侵襲的換気装置。
【請求項１２】
前記信号は、患者によってトリガされた呼吸中のユーザによって規定される定期的な間隔においてＣＯ２測定値を取得する命令を更に含む、請求項９に記載の非侵襲的換気装置。
【請求項１３】
正の吸気圧を維持しつつ患者の呼気のＣＯ２レベルを測定する非侵襲的換気装置システムのコントローラであって、前記コントローラは、
ユーザによって規定される第１の期間の間、前記非侵襲的換気装置システムのユーザインターフェースから、患者からＣＯ２測定値を取得する命令を含む信号を受信することと、
前記信号に応答して、１つの吸気及び１つの呼気を少なくとも含む少なくとも１つの完全な患者の呼吸サイクルを含む、前記ユーザによって規定される第１の期間の間、前記非侵襲的換気装置システムの呼気気道陽圧を第１の、より高いレベルから第２の、より低いレベルへと低下させ、前記コントローラは、前記非侵襲的換気装置システムのブロワに制御信号を送ることによって、前記呼気気道陽圧を第１の、より高いレベルから第２の、より低いレベルへと低下させることと、
前記非侵襲的換気装置システムのＣＯ２センサに信号を送ることであって、前記信号は、前記ユーザによって規定される第１の期間中に前記ＣＯ２測定値を取得する命令を含む、ことと、
前記ユーザによって規定される第１の期間の呼気の後に、前記呼気気道陽圧を前記第１の、より高いレベルに戻すことと、
を行う、コントローラ。
【請求項１４】
前記第２の、より低いレベルは、約１ｃｍＨ２Ｏである、請求項１３に記載のコントローラ。
【請求項１５】
前記第１の期間は約２呼吸である、請求項１３に記載のコントローラ。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月19日(2019.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元心臓画像における患者の心臓の冠動脈血管樹をセグメント化するためのシステムであって、
適合心臓モデルに基づいて前記三次元心臓画像における心臓組織の内面及び外面から空間境界を設定するように構成される一つ又はそれより多くのプロセッサを有する冠動脈ボリューム規定ユニットと、
前記心臓組織の前記内部及び外部から設定される前記空間境界によって制限される探索空間を用いるセグメンテーションアルゴリズムを使用して、前記三次元心臓画像における前記冠動脈血管樹をセグメント化するように構成される前記一つ又はそれより多くのプロセッサを有する冠動脈セグメンテーションユニットと
を有する、システム。
【請求項２】
前記空間境界は、外部の心臓表面からの第一の距離の第一の境界を含み、セグメンテーションから前記第一の距離の外部の組織を除外し、内部の心臓表面からの第二の距離の第二の境界を含み、セグメンテーションから前記第二の距離によって囲まれる組織を除外する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記適合心臓モデルに基づいて冠動脈確率マップを適合させるように構成される前記一つ又はそれより多くのプロセッサを有する冠動脈補助ユニット
を更に含み、
前記セグメンテーションアルゴリズムは、前記確率マップに基づいてセグメンテーションを導くように前記確率マップを使用する、
請求項１乃至２の何れか一項に記載のシステム。
【請求項４】
前記冠動脈確率マップは、前記適合心臓モデルの心臓モデルに変形可能に適合されるセグメント化冠動脈のサンプリングから構成される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記適合心臓モデルに基づいて識別される所定のポイントに基づいて位置されるセグメンテーションアルゴリズムのための初期シードポイントを識別するように構成される、前記一つ又はそれより多くのプロセッサを有する冠動脈口ファインダユニット
を更に含む、請求項１乃至４の何れか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記外面及び前記内面は異なる表面である、請求項１乃至５の何れか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記第一の境界距離は、徐々に短縮され、前記患者の心臓の頂点に向かって減少する、請求項２乃至６の何れか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記冠動脈確率マップは、対応する空間的に位置されるボクセルが前記冠動脈血管樹に含まれる、指向性動脈流に基づく確率を含む、請求項３乃至７の何れか一項に記載のシステム。
【請求項９】
三次元心臓画像における患者の心臓の冠動脈血管樹をセグメント化する方法であって、
適合心臓モデルに基づいて、前記三次元心臓画像における心臓組織の内面及び外面から空間境界を設定するステップと、
前記心臓組織の前記内面及び外面から設定される前記空間境界によって制限される探索空間を用いるセグメンテーションアルゴリズムを使用して、前記三次元心臓画像における前記冠動脈血管樹をセグメント化するステップと
を有する、方法。
【請求項１０】
前記空間境界は、外部の心臓表面からの第一の距離の第一の境界を含み、セグメンテーションから前記第一の距離の外部の組織を除外し、内部の心臓表面からの第二の距離の第二の境界を含み、セグメンテーションから前記第二の距離によって囲まれる組織を除外する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記セグメント化するステップは、前記適合心臓モデルに基づいて冠動脈確率マップを適合させるステップを含み、
前記セグメンテーションアルゴリズムは、前記確率マップに基づいてセグメンテーションを導くように前記確率マップを使用する、
請求項９乃至１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記設定するステップは、
前記適合心臓モデルの心臓モデルに変形可能に適合されるセグメント化冠動脈のサンプリングから前記冠動脈確率マップを構成するステップ
を含む、請求項９乃至１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記内面及び外面は異なる表面である、請求項９乃至１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記冠動脈確率マップは、対応する空間的に位置されるボクセルが前記冠動脈血管樹に含まれる、方向性動脈流に基づく確率を含む、請求項１２乃至１３の何れか一項に記載の方法。
【請求項１５】
医用画像における患者の心臓の冠動脈血管樹をセグメント化するためのシステムであって、
適合心臓モデルを使用して前記画像における心臓組織の内面及び外面から設定される空間境界によって制限される探索空間を用いるセグメンテーションアルゴリズムを使用して前記画像における前記冠動脈血管樹をセグメント化するように構成される一つ又はそれより多くのプロセッサ
を有する、システム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月19日(2019.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置又はマスク検査装置の反射光学素子であって、光学有効面（４００ａ、５００ａ）を有し、該光学有効面（４００ａ、５００ａ）は、
基板（４０５、５０５）と、
反射層系（４１０、５１０）と、
少なくとも１つの多孔ガス放出層（４５０、５５０）であり、前記光学有効面（４００ａ、５００ａ）に電磁放射線が照射される際に吸着粒子を少なくとも断続的に放出する少なくとも１つの多孔ガス放出層（４５０、５５０）と
を有し、
前記ガス放出層（４５０、５５０）は、前記反射層系（４１０、５１０）のうち前記基板（４０５、５０５）に面する側に配置される反射光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の反射光学素子において、該反射光学素子は、第１多孔ガス放出層（５５０）及び第２多孔ガス放出層（５７０）を有し、該第２ガス放出層（５７０）は、前記光学有効面（５００ａ）に電磁放射線が照射される際に前記第１ガス放出層（５５０）が放出する粒子が前記第２ガス放出層（５７０）に少なくとも断続的に吸着するように設計されることを特徴とする反射光学素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の反射光学素子において、該反射光学素子は、少なくとも１つの放熱層を有し、該放熱層は、該放熱層のない類似の構造と比べて、前記光学有効面に電磁放射線が照射される際に該反射光学素子において電磁放射線により誘起される熱の放射を増加させることを特徴とする反射光学素子。
【請求項４】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置又はマスク検査装置の反射光学素子であって、光学有効面（１００ａ、２００ａ、３００ａ、４００ａ、５００ａ、７００ａ、８００ａ）を有し、該光学有効面（１００ａ、２００ａ、３００ａ、４００ａ、５００ａ、７００ａ、８００ａ）は、
基板（１０５、２０５、３０５、４０５、５０５、７０５、８０５）と、
反射層系（１１０、２１０、３１０、４１０、５１０、７１０、８１０）と、
少なくとも１つの放熱層（１２０、２２０、３２０）であり、該放熱層のない類似の構造と比べて、前記光学有効面（１００ａ、２００ａ、３００ａ、４００ａ、５００ａ、７００ａ、８００ａ）に電磁放射線が照射される際に前記反射光学素子において電磁放射線により誘起される熱の放射を増加させる少なくとも１つの放熱層（１２０、２２０、３２０）と
を有し、
前記放熱層（２２０、３２０）は、前記反射層系（２１０、３１０）のうち前記光学有効面（２００ａ、３００ａ）に面する側に配置される反射光学素子。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の反射光学素子において、前記放熱層（１２０）は、前記反射層系（１１０）のうち前記基板（１０５）に面する側に配置されることを特徴とする反射光学素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射光学素子において、該反射光学素子はさらに、前記基板（３０５）と前記反射層系（３１０）との間に配置される断熱層（３３０）を有することを特徴とする反射光学素子。
【請求項７】
請求項６に記載の反射光学素子において、前記断熱層（３３０）は石英を有することを特徴とする反射光学素子。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射光学素子において、該反射光学素子はさらに、前記基板（７０５）と前記反射層系（７１０）との間に配置されるペルチェ素子（７８０）を有することを特徴とする反射光学素子。
【請求項９】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置又はマスク検査装置の反射光学素子であって、光学有効面（７００ａ）を有し、該光学有効面は、
基板（７０５）と、
反射層系（７１０）と、
前記基板（７０５）と前記反射層系（７１０）との間に配置されるペルチェ素子（７８０）と
を有し、
前記反射光学素子は、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー又はマスク検査装置のミラーである反射光学素子。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射光学素子において、該反射光学素子はさらに、前記基板（８０５）と前記反射層系（８１０）との間に配置される熱緩衝層（８９０）を有することを特徴とする反射光学素子。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の反射光学素子において、該反射光学素子は、３０ｎｍ未満、特に１５ｎｍ未満の作動波長用に設計されることを特徴とする反射光学素子。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の少なくとも１つの反射光学素子を備えた光学系。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学系において、さらにヒートシンクが基板のうち反射積層体に面しない側に配置されることを特徴とする光学系。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の光学系において、該光学系は、マイクロリソグラフィ投影露光装置（９００）の光学系、特に照明デバイス又は投影レンズであることを特徴とする光学系。
【請求項１５】
請求項１２又は１３に記載の光学系において、該光学系は、マスク検査装置の光学系、特に照明デバイス又は検査レンズであることを特徴とする光学系。
【請求項１６】
照明デバイス及び投影レンズを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置（９００）において、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の反射光学素子を有することを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１７】
照明デバイス及び検査レンズを有するマスク検査装置において、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の反射光学素子を有することを特徴とするマスク検査装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月5日(2019.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射型バックライト付きディスプレイであって、
バックライトと、
互いに対向する２つの透明基板層の間に配置された液晶層を含む液晶セルと、
第１の反射偏光子と、
第２の反射偏光子と、を備え、
前記第１及び第２の反射偏光子は、前記互いに対向する透明基板層のうちの１つに各々直接隣接している、反射型バックライト付きディスプレイ。
【請求項２】
第３の反射偏光子を更に備え、前記第３の反射偏光子は、前記第１又は第２の反射偏光子のいずれかの上に配置されている、請求項１に記載の反射型バックライト付きディスプレイ。
【請求項３】
ミラーであって、
ミラー部と、
請求項１または２に記載の反射型バックライト付きディスプレイを含む反射型バックライト付きディスプレイ部と、を備え、
前記反射型バックライト付きディスプレイは画像を直接表示することができ、前記ミラー部は画像を表示することができない、ミラー。
【請求項４】
請求項３に記載のミラーを備え、前記ミラーはバックミラーとして構成されている、車両。
【請求項５】
前記反射型バックライト付きディスプレイは、吸収偏光子を備えていない、請求項１または２に記載の反射型バックライト付きディスプレイ。
【請求項６】
前記反射型バックライト付きディスプレイは、偏光非依存性の部分反射体を備えていない、請求項１または２に記載の反射型バックライト付きディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月19日(2019.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡張現実ディスプレイシステムであって：
前記拡張現実ディスプレイシステムは、少なくとも１つの光学レンズ素子を備え；
前記光学レンズ素子は、少なくとも１つの透過型回折光学素子と、少なくとも１つの部分反射型回折光学素子とを備え；
前記拡張現実ディスプレイシステムはまた、光学画像を出力するよう構成された発光型ディスプレイデバイスを備え；
前記発光型ディスプレイデバイス、前記透過型回折光学素子、及び前記部分反射型回折光学素子は、前記光学画像を視認者のアイボックスへと反射するよう構成される、拡張現実ディスプレイシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月20日(2019.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向軸ならびに第１の端部および第２の端部を画定する細長い物体の寸法に関連するデータを取得するための装置であって、
−  視野および光軸を確定し、前記視野内の前記細長い物体を撮像するよう適合される撮像センサ装置と、
−  前記視野内に前記細長い物体を配置するように、前記細長い物体の前記長手方向軸に対して実質的に平行な搬送方向に前記細長い物体を移動するよう適合され、前記光軸と角度を形成する搬送装置と、
−  電磁放射を発して前記視野内の前記細長い物体を照射するよう適合される照明装置と、
−  第１の動作位置と第２の動作位置との間を移動可能に適合され、前記細長い物体の前記第１の端部または前記第２の端部の画像を取得するように、前記第２の動作位置で、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏光するよう適合される光偏向器を含む光偏向システムと、を含み、
−  前記光偏向システムは、前記第２の動作位置が、第１の対で前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を、前記細長い物体の前記第１の端部の画像を取得するように前記撮像センサ装置の方へ偏向する第１のサブ位置、および第２の対で前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を、前記細長い物体の前記第２の端部の画像を取得するように前記撮像センサ装置の方へ偏向する第２のサブ位置を含むように、前記光偏向器を回転させるよう適合される光偏向器ホルダを含む、装置。
【請求項２】
前記光検知器が、前記細長い物体の端部の前に配置されるよう適合され、前記搬送方向に対して傾斜した面を有するプリズムを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記搬送方向と前記プリズムの面との間に形成される角度が、約３０°〜約６０°の間に含まれる、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記搬送方向と前記プリズムの面との間に形成される前記角度が、約４５°である、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記搬送方向が前記光軸に対して実質的に垂直である、請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記撮像センサ装置が、固定焦点カメラを含み、前記搬送装置が、前記撮像センサ装置の固定焦点面内にある前記搬送方向に沿って前記細長い物体を搬送するよう適合される、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記搬送装置が、前記長手方向軸の周りに前記細長い物体を回転させるよう適合される、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記第２の動作位置で、前記光偏向器が前記搬送方向と前記光軸との間の幾何学的交点に位置する、請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
前記画像センサ装置が、画像センサホルダおよび画像センサを含み、前記画像センサが前記光軸に沿って前記画像センサを移動するよう適合される、請求項１〜９のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
前記照明装置が、
−  前記撮像センサ装置に対して前記搬送方向の反対側の前記光軸に沿って配置されるバックライトであって、前記バックライトが前記バックライトに面する前記細長い物体の表面を照射するよう適合されるバックライトと、
−  前記撮像センサ装置に対して前記搬送方向の同じ側の前記光軸に沿って配置されるフロントライトであって、前記フロントライトが前記撮像センサ装置に面する前記細長い物体の表面を照射するよう適合されるフロントライトと、のうちの１つ以上を含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
−  前記撮像センサ装置により取得された前記画像から前記細長い物体の寸法値を計算するよう適合される精密化ユニットを含む、請求項１〜１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
長手方向軸を画定し、第１の端部および第２の端部を有する細長い物体の寸法に関連するデータを取得するための方法であって、
−  光軸および視野を有する撮像センサ装置を提供するステップと、
−  前記長手方向軸に対して平行な搬送方向に沿って前記細長い物体を移動し、前記撮像センサ装置の前記視野内で前記光軸と角度を形成するステップと、
−  電磁放射により前記細長い物体を照射するステップと、
−  前記細長い物体の前記端部のうちの１つの画像を形成するように前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップと、を含み、
電磁放射を偏光させる前記ステップが、
−  前記細長い物体の前記第１の端部の画像を形成するように前記細長い物体の前記第１の端部の前に配置された光偏向システムにより、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップと、
−  前記細長い物体の前記第２の端部の画像を形成するように前記第１の端部に対して軸方向に反対側の前記細長い物体の前記第２の端部の前に配置された前記光偏向システムにより、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップと、のうちの少なくとも１つを含む、方法。
【請求項１３】
−  前記細長い物体の前記第１の端部の画像を形成するように前記細長い物体の前記第１の端部の前に配置された前記光偏向システムにより、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップと、
−  前記細長い物体の前記第２の端部の画像を形成するように前記第１の端部に対して軸方向に反対側の前記細長い物体の前記第２の端部の前に配置された前記光偏向システムにより、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップとの間に、前記方法が、
−  前記光偏向システムを回転させるステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
−  前記細長い物体の前記第１の端部の画像を形成するように前記細長い物体の前記第１の端部の前に配置された前記光偏向システムにより、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップと、
−  前記細長い物体の前記第２の端部の画像を形成するように前記第１の端部に対して軸方向に反対側の前記細長い物体の前記第２の端部の前に配置された前記光偏向システムにより、前記撮像センサ装置の方へ前記長手方向軸に対して平行に移動する電磁放射を偏向させるステップとの間に、前記方法が、
−  前記搬送方向に沿って前記細長い物体を移動するステップを含む、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
−  前記細長い物体の側面の画像を取得するステップであって、前記側面が前記細長い物体の前記長手方向軸に対して実質的に平行である取得するステップを含む、請求項１２〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
−  前記細長い物体の第１の側面の画像を取得するステップと、
−  前記長手方向軸に沿って前記細長い物体を回転させるステップと、
−  前記第１の側面に対して回転される前記細長い物体の第２の側面の画像を取得するステップと、を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
−  前記画像から前記細長い物体の寸法を決定するステップを含む、請求項１２〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
請求項１〜１１のいずれかに記載の前記装置を使用する、請求項１２〜１７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月8日(2020.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報推薦を生成する方法であって、
クライアントによって第１のサーバに送信されたテキストデータを取得するステップと、
所定の情報推薦ルールセットが前記テキストデータとの照合に用いられる情報推薦ルールを含むかどうかを判定するステップであって、前記情報推薦ルールは、推薦する情報に基づいて設定され、前記テキストデータとの照合が、前記情報推薦ルールに基づいて構築されたトライ（Ｔｒｉｅ）における複数の単語を検索することを含む、ステップと、
前記所定の情報推薦ルールセットが、前記テキストデータと一致する情報推薦ルールを含むと判定したことに応答して、前記一致する情報推薦ルールに一致し、かつ第２のサーバによって提供される前記推薦する情報を取得するステップと、
前記推薦する情報を前記クライアントに送信するステップと
を備える、方法。
【請求項２】
前記第２のサーバによって提供される前記推薦する情報を取得するステップが、
前記推薦する情報をプッシュするために前記第２のサーバをトリガし、かつ前記第２のサーバよりプッシュされるべき前記推薦する情報を取得するステップか、または、
前記推薦する情報を第２のサーバからダウンロードするステップ
を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記推薦する情報をプッシュするために前記第２のサーバをトリガするステップが、
前記第２のサーバに情報の取得要求を直接送信し、かつ前記情報の取得要求に応じて前記第２のサーバが送信する前記推薦する情報を受信するステップか、または、
情報の取得要求を前記第２のサーバに送信するように情報プッシュ型アプリケーションをトリガし、かつ前記情報プッシュ型アプリケーションを使用して前記情報の取得要求に応じて前記第２のサーバが送信する前記推薦する情報を受信するステップ
を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記情報の取得要求は、前記推薦する情報の特徴を備える、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記推薦する情報の前記特徴が、
前記推薦する情報のテーマ、
前記推薦する情報のキーワード、
前記推薦する情報の数、
前記推薦する情報に対応する情報推薦ルールの識別子
のうちの少なくとも１つを備える、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記情報推薦ルールセット内の情報推薦ルール毎に、１つのテーマ及び前記テーマに対応する少なくとも１つのキーワードが設定され、前記第２のサーバに前記情報の取得要求を送信するステップが、
前記情報推薦ルールセットが、前記テキストデータと一致する少なくとも２つの情報推薦ルールを含むかどうかを判定するステップと、
前記情報推薦ルールセットが、前記テキストデータと一致する少なくとも２つの情報推薦ルールを含むと判定したことに応答して、前記少なくとも２つの情報推薦ルール中のキーワードに対して個別に特定された重みに基づいて、前記少なくとも２つの情報推薦ルールから情報推薦ルールを選択するステップと、
前記選択された情報推薦ルールで特定されたテーマを前記情報の取得要求に追加するステップと、
前記情報の取得要求を前記第２のサーバに送信するステップと
を備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
クライアントによって前記第１のサーバに送信されるテキストデータを取得するステップが、
前記クライアントによって送信された前記テキストデータを受信するステップを備え、前記クライアントによって送信された前記テキストデータは、前記クライアントによって送信された前記テキストデータを前記第１のサーバにコピーすることによって取得される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
情報推薦ルールセットが前記テキストデータと一致する情報推薦ルールを含むかどうかを判定するステップの前に、
前記第２のサーバによって提供される情報推薦ルールセットを取得し保存するステップ
をさらに備える、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記テキストデータとの照合は、一致するノードのセットを作成するステップを備える、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記テキストデータを照合するステップが、トライ木の各ノードに割り当てられた文字が前記テキストデータ内で取得することができると判定するステップと、前記テキストデータが前記情報推薦ルールに適合していることを示すステップとを備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記推薦する情報が、前記情報推薦ルールに関連する広告、ニュース、写真、映画のうちの少なくとも１つを備える、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法を実行するように構成された複数のモジュールを備える、情報推薦を生成するための装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークアクセスデバイスにおけるワイヤレス通信のための方法であって、
時分割複信TDDサブフレームの間のすべての送信のためのハイブリッド自動再送要求HARQフィードバックが前記TDDサブフレームの間に送信されることを特徴とする動的サブフレームタイプのセットから前記TDDサブフレームの動的サブフレームタイプを選択するステップと、
前記TDDサブフレームのTDDヘッダにおいて時間的に最初のシンボル期間内で前記動的サブフレームタイプを示すステップとを備える、方法。
【請求項２】
前記TDDサブフレームの前記時間的に最初のシンボル期間、または、前記TDDサブフレームの前記時間的に最初のシンボル期間および前記TDDサブフレームの時間的に2番目のシンボル期間、のうちの少なくとも1つの中で、前記TDDヘッダのダウンリンク制御領域を送信するステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記TDDサブフレームの終わりに前記TDDサブフレームのためのHARQ送信期間を割り振るステップ、または前記TDDサブフレームのための少なくとも1つのダウンリンクHARQ送信リソースおよび前記TDDサブフレームのための少なくとも1つのアップリンクHARQ送信リソースを前記TDDサブフレームにおいて割り振るステップ
のうちの少なくとも1つをさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
セルと関連付けられるユーザ機器UEに前記動的サブフレームタイプをブロードキャストするステップ、または前記セルと関連付けられるUEのサブセットに前記動的サブフレームタイプをユニキャストするステップ
のうちの少なくとも1つをさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記選択された動的サブフレームタイプに少なくとも一部基づいて、前記TDDサブフレームのデータ領域をスケジューリングするステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記TDDサブフレームのダウンリンク制御領域において前記動的サブフレームタイプを示すステップと、
前記動的サブフレームタイプがアップリンク部分を有するデータ領域と関連付けられるとき、前記ダウンリンク制御領域と前記データ領域との間にガード期間をスケジューリングするステップとをさらに備える、請求項5に記載の方法。
【請求項７】
前記動的サブフレームタイプを示すステップが、
システム帯域幅の周波数の狭い帯域内で前記動的サブフレームタイプの指示を送信するステップか、
アップリンクデータ送信方向もしくはダウンリンクデータ送信方向を示す第1のビット、または半二重データ送信もしくは全二重データ送信を示す第2のビット、またはこれらの組合せのうちの少なくとも1つを送信するステップか、
参照信号に前記動的サブフレームタイプの指示を埋め込むステップ、またはサブフレームタイプインジケータチャネルにおいて前記動的サブフレームタイプの前記指示を送信するステップ、または前記動的サブフレームタイプに対応するダウンリンク制御情報DCIのタイプを送信するステップのうちの少なくとも1つ
のいずれかを備える、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
ネットワークアクセスデバイスと少なくとも1つのUEとの間で送信されるべきデータと関連付けられるトラフィック条件を各TDDサブフレームについて特定するステップをさらに備え、前記トラフィック条件がアップリンク/ダウンリンクトラフィック比を備える、請求項1に記載の方法。
【請求項９】
前記動的サブフレームタイプが、前記トラフィック条件に少なくとも一部基づいて選択される、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
前記アップリンク/ダウンリンクトラフィック比が、前記ネットワークアクセスデバイスへの送信のために待ち行列に入れられたトラフィックと、前記少なくとも1つのUEへの送信のために待ち行列に入れられたトラフィックとの比を備える、請求項8に記載の方法。
【請求項１１】
ワイヤレス通信のためのネットワークアクセスデバイスにおける装置であって、
時分割複信TDDサブフレームの間のすべての送信のためのハイブリッド自動再送要求HARQフィードバックが前記TDDサブフレームの間に送信されることを特徴とする動的サブフレームタイプのセットから前記TDDサブフレームの動的サブフレームタイプを選択するための手段と、
前記TDDサブフレームのTDDヘッダにおいて時間的に最初のシンボル期間内で前記動的サブフレームタイプを示すための手段とを備える、装置。
【請求項１２】
ユーザ機器におけるワイヤレス通信のための方法であって、
時分割複信TDDサブフレームのTDDヘッダにおいて、前記TDDサブフレームの動的サブフレームタイプの指示を特定するステップであって、前記動的サブフレームタイプは、動的サブフレームタイプのセットから選択され、前記指示は、前記TDDサブフレームの時間的に最初のシンボル期間内にあり、前記TDDサブフレームの間のすべての送信のためのハイブリッド自動再送要求HARQフィードバックが前記TDDサブフレームの間に送信される、ステップと、
前記動的サブフレームタイプに少なくとも一部基づいて、前記TDDサブフレームのデータ領域においてデータを送信しまたはデータを受信するステップとを備える、方法。
【請求項１３】
前記動的サブフレームタイプが、ダウンリンク中心動的サブフレームタイプ、またはアップリンク中心動的サブフレームタイプ、または双方向動的サブフレームタイプ、または全二重動的サブフレームタイプ、または動的切替え動的サブフレームタイプ、または混合干渉測定動的サブフレームタイプ、または分散スケジューリング動的サブフレームタイプを備える、請求項1または12に記載の方法。
【請求項１４】
前記TDDサブフレームは、28以下のシンボル期間を含む、請求項1または12に記載の方法。
【請求項１５】
ワイヤレス通信のためのユーザ機器における装置であって、
時分割複信TDDサブフレームのTDDヘッダにおいて、前記TDDサブフレームの動的サブフレームタイプの指示を特定するための手段であって、前記動的サブフレームタイプは、動的サブフレームタイプのセットから選択され、前記指示は、前記TDDサブフレームの時間的に最初のシンボル期間内にあり、前記TDDサブフレームの間のすべての送信のためのハイブリッド自動再送要求HARQフィードバックが前記TDDサブフレームの間に送信される、手段と、
前記動的サブフレームタイプに少なくとも一部基づいて、前記TDDサブフレームのデータ領域においてデータを送信しまたはデータを受信するための手段とを備える、装置。
【請求項１６】
ワイヤレス通信のためのコンピュータ実行可能コードを記憶しているコンピュータ可読記録媒体であって、前記コードが、
ワイヤレス通信デバイスに請求項1〜10および12〜14のいずれか一項に記載の方法を実行させる
ようにプロセッサによって実行可能である、非一時的コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月23日(2019.12.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩＩＩＡ−Ｎ族トランジスタを製造する方法であって、
堆積システムの堆積チャンバにおいて第１の温度で基板上に少なくとも第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層を堆積することと、
前記堆積システムの前記堆積チャンバにおいて前記第１の温度より低いか又は等しい第２の温度で前記第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層上に少なくとも１つのＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層を堆積することであって、その後、前記堆積チャンバがベントされる冷却温度まで継続的に前記堆積チャンバに気体混合物を供給する冷却プロセスを用いて前記基板を５５０℃又は５５０℃より低い温度まで冷却し、前記気体混合物がＮＨ３と容量で４０％未満のＨ２を含む少なくとも１つの他の気体とを含み、前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層の表面において、（ｉ）２乗平均平方根（ｒｍｓ）粗さが１０Åより大きく、（ｉｉ）２ｎｍ深さより大きいピット層に対するピット密度が０．０５μｍより小さな平均ピット直径で１０ピット／μｍ２よりも小さくなるように、前記気体混合物が前記堆積チャンバにおいて前記キャップ層に対して非エッチである雰囲気を提供する、前記堆積することと、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層上にゲート誘電体層を形成することと、
前記ゲート誘電体層上に金属ゲート電極を形成することと、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層へのソースコンタクトを有するソースと前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層へのドレインコンタクトを有するドレインとを形成することと、
を含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層を堆積した後で前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層を堆積する前に、前記基板を前記第１の温度からキャップ層堆積温度へ冷却する間に前記冷却プロセスを用いることを更に含む、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記堆積システムが、有機金属化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）システム、分子ビームエピタキシー（ＭＢＥ）システム、又はハイドライド気相エピタキシー（ＨＶＰＥ）システムを含む、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層の厚みが３ｎｍと５０ｎｍとの間の範囲である、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層と前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層との両方が、ＧａＮ又はＡｌＧａＮを含む、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記基板が、サファイア、シリコン、又はシリコンカーバイド（ＳｉＣ）を含む、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記気体混合物がＮ２を更に含む、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、
前記気体混合物がＨ２を含まない、方法。
【請求項９】
ＩＩＩＡ−Ｎ族トランジスタを製造する方法であって、
堆積システムの堆積チャンバにおいて第１の温度で基板上に第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層を堆積することと、
前記堆積チャンバにおける雰囲気が前記第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層に対して非エッチであるようにＮＨ３と少なくとも１つの他の気体とを含む気体混合物を用いて前記第１の温度より低いか又は等しい第２の温度で前記基板を冷却することと、
前記堆積システムの堆積チャンバにおいて前記第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層上にＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層を堆積することであって、前記堆積チャンバがベントされるまで５５０℃以下への冷却プロセスが続き、前記冷却プロセスがＮＨ３とＮ２とを含む前記堆積チャンバに供給される気体混合体を利用する、前記堆積することと、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層上にゲート誘電体層を形成することと、
前記ゲート誘電体層上に金属ゲート電極を形成することと、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層へのソースコンタクトを有するソースと前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層へのドレインコンタクトを有するドレインとを形成することと、
を含む、方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、
前記堆積システムが、有機金属化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）システム、分子ビームエピタキシー（ＭＢＥ）システム、又はハイドライド気相エピタキシー（ＨＶＰＥ）システムを含む、方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法であって、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層の厚さが３ｎｍと５０ｎｍとの間の範囲にある、方法。
【請求項１２】
請求項９に記載方法であって、
前記基板がシリコン基板である、方法。
【請求項１３】
ＩＩＩＡ−Ｎ族トランジスタを製造する方法であって、
堆積システムの堆積チャンバにおいて第１の温度で少なくとも第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層を基板上に堆積することと、
前記堆積システムの前記堆積チャンバにおいて前記第１の温度より低いか又は等しい第２の温度で前記第１のＩＩＩＡ−Ｎ族バッファ層上に少なくとも１つのＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層を堆積することであって、続いて、前記堆積チャンバがベントされる冷却温度まで継続的に前記堆積チャンバに気体混合物を提供する冷却プロセスを用いて前記基板を５５０度以下に冷却し、前記気体混合物がＮＨ３と容量で４０％未満のＨ２を含む少なくとも１つの他の気体とを含む、前記堆積することと、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層上にゲート誘電体層を形成することと、
前記ゲート誘電体層上に金属ゲート電極を形成することと、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層へのソースコンタクトを有するソースと前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層へのドレインコンタクトを有するドレインとを形成することと、
を含む、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、
前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層の表面において、（ｉ）２乗平均平方根（ｒｍｓ）粗さが１ｎｍ未満であり、（ｉｉ）２ｎｍ深さより大きいピットに対するピット密度が０．０５μｍより小さな平均ピット直径で１０ピット／μｍ２未満であるように、前記気体混合物が前記ＩＩＩＡ−Ｎ族表面キャップ層に対して非エッチである前記堆積チャンバにおける雰囲気を提供する、方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法であって、
前記気体混合物がＨ２を含まない、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポーションカプセル（１０）から抽出飲料を作るための抽出モジュール用カプセル認識モジュールであって、そこを通ってカプセル認識位置へとカプセルが挿入されることができるカプセル挿入口（１１）を備え、さらに、
カプセル認識位置に位置される前記カプセル（１０）の光学特性を検出するための光学センサー、特にカメラ（５０）と、
前記カプセル認識位置と前記光学センサーとの間の透明材料のカプセル認識窓（５２）とを備え、
アクセス開口部を閉じかつ可逆的に開かれおよび／または除去されるよう構成されるモジュールカバー（１８）と、を備え、モジュールカバー（１８）が開かれまたは除去されると、前記カプセル認識位置に向かう前記カプセル認識窓（５２）の側面は、アクセス開口部を通してアクセス可能であり、
前記アクセス開口部は、前記カプセル挿入口から分離していることを特徴とする、カプセル認識モジュール。
【請求項２】
前記カプセル認識窓（５０）は、前記カプセル認識位置と前記光学センサーとの間の軸に対して非直角に配置される、請求項１に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項３】
前記カプセル認識窓への垂線と、前記窓を通過する前記軸の通路の位置における前記軸との間の角度（α）は、１０°と４５°との間である、請求項２に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項４】
前記カプセル認識窓（５２）は、前記モジュールカバー（１８）の前記側面に向かって傾けられる、請求項２または請求項３に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項５】
前記カプセル認識位置において前記カプセルを照らすための少なくとも１つの光源（６２）を備え、前記光源は、前記光学センサーに向かう前記カプセル認識窓（５２）の前記側面上に配置される、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項６】
前記光源（６２）によって生成される光のためのディフューザー（５３）を備える、請求項５に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項７】
前記カプセル認識位置に向かう前記カプセル認識窓（５２）の前記側面において気流を生成するためのファン（７０）を備える、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項８】
前記モジュールカバーは、旋回軸においてモジュールハウジング上に固定され、旋回移動によって開かれることができる、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のカプセル認識モジュール。
【請求項９】
飲料製造機、特にコーヒーマシンであって、給水部と、ポンプ（９２）と、水供給手段（９３）と、並びに、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のカプセル認識モジュール（５）と、を備える、飲料製造機。
【請求項１０】
前記アクセス開口部は、カプセル挿入口が開かれてアクセス可能である場合に、前記モジュールカバー（１８）によって閉じられることが可能である、請求項９に記載の飲料製造機。
【請求項１１】
前記カプセル挿入口（１１）を閉じるための操作部品（２６）を備え、前記操作部品（２６）が前記カプセル挿入口を閉じるときに、前記モジュールカバーは、前記操作部品によって覆われる、請求項９または請求項１０に記載の飲料製造機。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非哺乳動物複製起点と少なくとも２５キロベース（ｋｂ）のＤＮＡを保持する能力とを含んでなる核酸ベクターであって、
ｇａｇおよびｐｏｌタンパク質；ならびに
ｅｎｖタンパク質；
をコードするレトロウイルス核酸配列を含んでなり、
前記レトロウイルス核酸配列のそれぞれが核酸ベクター内に個々の発現構築物として配置されている
核酸ベクター。
【請求項２】
レトロウイルスベクター粒子のＲＮＡゲノムをコードする核酸配列を付加的に含んでなる、請求項１に記載の核酸ベクター。
【請求項３】
補助遺伝子ｒｅｖまたはその類似遺伝子を付加的に含んでなる、請求項１または請求項２に記載の核酸ベクター。
【請求項４】
ベクターが細菌人工染色体、酵母人工染色体、Ｐ１由来人工染色体、フォスミドまたはコスミドから選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項５】
ベクターが細菌人工染色体である、請求項４に記載の核酸ベクター。
【請求項６】
レトロウイルス核酸配列がレンチウイルス、アルファレトロウイルス、ガンマレトロウイルスまたは泡沫状レトロウイルスから選択されるレトロウイルスに由来する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項７】
レトロウイルス核酸配列がＨＩＶ−１、ＨＩＶ−２、ＳＩＶ、ＦＩＶ、ＥＩＡＶおよびＶｉｓｎａからなる群から選択されるレンチウイルスに由来する、請求項６に記載の核酸ベクター。
【請求項８】
レトロウイルス核酸配列がＨＩＶ−１に由来する、請求項７に記載の核酸ベクター。
【請求項９】
ｅｎｖタンパク質が水疱性口内炎ウイルスに由来する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１０】
転写調節エレメントを付加的に含んでなる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１１】
転写調節エレメントがＣＭＶプロモーターである、請求項１０に記載の核酸ベクター。
【請求項１２】
インスレーターを付加的に含んでなる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１３】
インスレーターが前記レトロウイルス核酸配列のそれぞれの間に存在する、請求項１２に記載の核酸ベクター。
【請求項１４】
１以上の導入遺伝子を付加的に含んでなる、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１５】
内部リボソーム進入部位（ＩＲＥＳ）を付加的に含んでなる、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１６】
ポリＡシグナルを付加的に含んでなる、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１７】
イントロン配列を付加的に含んでなる、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１８】
多重クローニング部位（ＭＣＳ）を付加的に含んでなる、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項１９】
レトロウイルスベクター粒子の製造方法において使用するための、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の核酸ベクター。
【請求項２０】
複製欠陥レトロウイルスベクター粒子の製造方法であって、
（ａ）請求項１〜１８のいずれか一項に記載の核酸ベクターを哺乳動物宿主細胞の培養物に導入すること；および
（ｂ）前記哺乳動物宿主細胞を複製欠陥レトロウイルスベクター粒子が産生される条件下で培養すること
を含んでなる、方法。
【請求項２１】
哺乳動物宿主細胞がＨＥＫ２９３細胞である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
導入工程（ａ）がリポフェクション、エレクトロポレーションまたはリン酸カルシウム処理などの化学薬品に基づくトランスフェクション法を用いて行われる、請求項２０または請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
培養工程（ｂ）が哺乳動物宿主細胞を加湿条件下でインキュベートすることにより行われる、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
複製欠陥レトロウイルスベクター粒子を単離することを付加的に含んでなる、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
単離が低タンパク質結合膜などのフィルターを使用することにより行われる、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
複製欠陥レトロウイルスベクター粒子が導入工程（ａ）後７２時間以内に単離される、請求項２４または請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
複製欠陥レトロウイルス粒子が導入工程（ａ）後４８〜７２時間の間に単離される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
請求項２０〜２７のいずれか一項に記載の方法により得られた複製欠陥レトロウイルスベクター粒子。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月26日(2019.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイオリアクター内で組み換え発現されたモノクローナル抗体のアフコシル化種（afucosylated species）を減少させるための方法であって、以下、
バイオリアクター内でモノクローナル抗体を発現する組み換え細胞を培養し、
培養の１日目、２日目、３日目、又は４日目に開始し、かつ培養の終了まで隔日で継続して、前記細胞によって発現されたモノクローナル抗体のアフコシル化種が減少するように、培養物に約０.５ g/L〜約５ g/Lのフコースを注入すること、
を含む、方法。
【請求項２】
前記モノクローナル抗体が、腫瘍壊死因子（TNF）アルファに特異的に結合する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記組み換え細胞が、哺乳動物細胞、チャイニーズハムスター卵巣細胞、HEK２９３細胞、又はSp２/０細胞を含む、請求項１から２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４】
前記方法が、培養物に約１ g/L〜約５ g/L、４ g/L、３ g/L、２ g/L、のフコースを注入することを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記方法が、培養物に約２ g/L〜約４ g/Lのフコースを注入することを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記フコースが、ボーラス（bolus）で注入される、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記培養が連続供給培養（continuous-feed culture）であって、培養の２日目、３日目、又は４日目に開始し、かつ培養の終了まで毎日継続して、２４時間の期間にわたって連続して、培養物に供給培地がさらに注入される、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記培養が延長供給培養（extended-feed culture）であって、培養の２日目、３日目、又は４日目に開始し、かつ培養の終了まで毎日継続して、約１８時間〜約２０時間の期間にわたって連続して、培養物に供給培地がさらに注入される、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記アフコシル化種が、G０グリカン、G１aグリカン、G１bグリカン、G２グリカン、Man ３グリカン、Man ４グリカン、Man ５グリカン、Man ６グリカン、Man ７グリカン、Man ８グリカン、又はMan ９グリカンを含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記アフコシル化種が、G０グリカンを含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記モノクローナル抗体のアフコシル化種が、前記細胞によって発現されたモノクローナル抗体の総量の約１０%以下に減少する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記モノクローナル抗体のアフコシル化種が、前記細胞によって発現されたモノクローナル抗体の総量の約２%〜約１０%に減少する、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記モノクローナル抗体のアフコシル化種が、前記細胞によって発現されたモノクローナル抗体の総量の約６%以下に減少する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記モノクローナル抗体のアフコシル化種が、前記細胞によって発現されたモノクローナル抗体の総量の約２%〜約６%に減少する、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記方法が、少なくとも１２日間バイオリアクター内でモノクローナル抗体を発現する組み換え細胞を培養することを含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。