【手続補正書】
【提出日】令和2年3月25日(2020.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理チャンバ（１）、特に少なくとも１つの板状基板のための真空プラズマ処理チャンバであって、
−中心軸（Ｂ；Ｂ１００）の周りで輪になっており、ポンピングポート（７；１４２）を備える側壁（５；１０５）を有する真空受容器（３；１０３）；
−前記中心軸（Ｂ；Ｂ１００）の周りで、前記側壁（５；１０５）の一部に沿って輪になっている、前記真空受容器（３；１０３）内のスクリーン（１３；１１３）；
−前記スクリーン（１３；１１３）の内側に晒され、前記中心軸（Ｂ；Ｂ１００）に垂直な支持平面（Ｅ）に沿って、その２次元的に拡張された表面の１つにある板状基板を支持するように適合された固定基板支持体（１１；１３２）；及び
−前記中心軸（Ｂ；Ｂ１００）に対して垂直で交差する開口中心軸を有する前記側壁（５；１０５）の少なくとも１つの基板操作用開口（２５；１２５）；
−前記スクリーン（１３；１１３）の少なくとも１つの基板操作用切欠き（１７；１１７）であって、前記基板操作用開口（２５；１２５）及び前記基板操作用切欠き（１７；１１７）が、そこを通る前記基板支持体（１１；１３２）に対する板状基板の操作及び前記基板支持体（１１；１３２）からの板状基板の操作を可能にするように相互に整列され、調整された、少なくとも１つの基板操作用切欠き（１７；１１７）；
−前記基板操作用切欠き（１７；１１７）を駆動的に解放して覆う駆動可能に可動なスクリーンシャッタ（１９；１１９）であって、前記スクリーンシャッタが、導電性表面を有し、前記切欠きが、少なくとも前記スクリーンシャッタによって覆われているときに、前記導電性のシャッタ表面を有する前記スクリーンシャッタが、前記スクリーンの前記導電性表面と電気的に接触する、駆動可能に可動なスクリーンシャッタ（１９；１１９）；
を備え、
前記固定基板支持体が、前記チャンバのＲＦバイアス供給源コネクタに電気的に接続された、前記板状基板のための導電性支持面を含み、
前記スクリーンが、前記側壁を介して前記チャンバのシステム接地コネクタに電気的に接続され、
前記スクリーンが、前記中心軸の周りで輪になっており、前記スクリーンを補完する底部シールドを備え、前記底部シールドが、金属製であり、前記スクリーンが、その底部縁において、前記側壁に加えて前記底部シールドと電気的に接触し、前記底部シールドが、さもなければ、前記システム接地コネクタにしっかりと電気的に接続されていることを追加的に除いて、前記処理チャンバの他の部分から電気的に絶縁されている、
真空処理チャンバ（１）、特に少なくとも１つの板状基板のための真空プラズマ処理チャンバ。
【請求項２】
前記スクリーンが金属製である、請求項１に記載の真空処理チャンバ。
【請求項３】
前記スクリーンがメンテナンス交換部品である、請求項１又は２に記載の真空処理チャンバ。
【請求項４】
前記スクリーンシャッタが金属製である、請求項１から３の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項５】
前記スクリーンシャッタが、前記中心軸に平行な方向に駆動可能に移動することができる、請求項１から４の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項６】
前記基板支持体が、前記支持平面の上方に突出し、それらの軸に沿って前記支持平面に対して駆動可能に格納可能かつ上昇可能である少なくとも３つのピンを備える、請求項５に記載の真空処理チャンバ。
【請求項７】
前記突出した位置にある前記ピンが、前記１つの支持平面に平行なさらなる支持平面を画定し、前記支持平面がさらに、前記スクリーン内の前記中心軸と交差する、請求項６に記載の真空処理チャンバ。
【請求項８】
前記支持平面が、前記スクリーンの内部の前記中心軸と交差する、請求項１から７の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項９】
前記中心軸の方向にあると考えて前記スクリーンの断面形状が、円形及び多角形の１つであり、特に円形、長方形又は正方形である、請求項１から８の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１０】
前記スクリーンが、メンテナンス可能な交換部品であり、前記スクリーンの周囲に沿って分布した弾性接触要素を介して前記側壁を直接的または間接的に電気的に接触させ、前記弾性接触要素の各々が、前記スクリーン、又は、前記側壁と直接又は間接的に電気的に接触する金属部分に機械的に取り付けられている、請求項１から９の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１１】
前記スクリーンが、前記基板支持体に対向するカバープレートを備え、前記カバープレートが、前記スクリーンの内部空間に放電する少なくとも１つのガス供給ラインを備える、請求項１から１０の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１２】
前記底部シールドが、前記スクリーンの外側で前記中心軸の方向で前記スクリーンに重なる、請求項１から１１の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１３】
前記底部シールドが、前記切欠きの少なくとも一部を含む前記中心軸の周りの領域に沿って前記スクリーンと重なり、前記底部シールドが、前記スクリーンの前記切欠き及び前記側壁の前記基板操作用開口に位置合わせされた基板操作用切欠きを備える、請求項１から１２の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１４】
前記スクリーンが、金属製であり、前記側壁及び／又は前記底部シールドから熱的に分離されており、前記スクリーンが、前記受容器に吊るされており、前記スクリーンの前記底部縁の周囲に沿って分布された弾力性のある別個の電気接触要素のみによって前記側壁及び／又は前記底部シールドを接触させる、請求項１から１３の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１５】
前記スクリーンが、冷却媒体又は加熱媒体のためのチャネル装置を含む冷却プレート又は加熱プレートの上部に取り付けられている、請求項１から１４の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１６】
前記真空処理チャンバが、エッチングチャンバであり、前記中心軸の周りで且つ前記金属製のスクリーンの外側で輪になっている誘導コイルを備え、前記側壁が、前記スクリーンと前記コイルとの間で前記中心軸に沿って半径方向に輪になっている誘電体材料の一部を含み、前記金属スクリーンが、前記金属スクリーンに沿って分布され、前記中心軸に平行な方向の支配的な構成要素を有する貫通スリットのパターンを含む、請求項１から１５の何れか一項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１７】
−真空処理チャンバの内面の一部に沿って、それから分離したスクリーンを提供する段階と、
−板状基板を平面に沿って支持するように適合され、前記スクリーンの内部空間に晒された固定基板ホルダを提供する段階と、
−前記スクリーンに基板供給用切欠きを開ける段階と、
−前記開けられた基板供給用切欠きを介して、前記平面に平行な二次元的に拡張された表面の１つを有する板状基板を前記スクリーンに導入する段階と、
−前記基板支持体に前記板状基板を置く段階と、
−前記スクリーン内の前記基板供給用切欠き及び前記スクリーンの基板除去用切欠きがまだ閉じられていない場合、前記スクリーン内の前記基板供給用切欠き及び前記スクリーンの基板除去用切欠きを閉じる段階と、
−前記支持体上及び前記スクリーン内で前記基板を真空処理し、それによって前記基板をＲｆバイアスする段階と、
−少なくとも前記処理中に、少なくとも第１及び第２の個別の相互に平行な電流通路を確立する段階であって、前記第１の電流通路が、前記スクリーンから前記真空処理チャンバの前記壁を介してシステム接地コネクタまでであり、前記第２の電流通路が、前記スクリーンから個別のシールドを介して前記システム接地コネクタまでである、段階と、
−前記基板除去用切欠きを開ける段階と；
−前記処理された板状基板を前記支持体から、前記スクリーンから、及び、前記真空処理チャンバから前記基板除去用切欠きまで除去する段階と；
を含む、真空処理された板状基板を製造する方法。
【請求項１８】
前記真空処理が、好ましくは誘導結合プラズマを利用したエッチングである、請求項１７に記載の真空処理された板状基板を製造する方法。
【請求項１９】
前記基板供給用切欠きが前記基板除去用切欠きである、請求項１７又は１８に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１から１６の少なくとも一項に記載の真空処理チャンバを用いて行われる、請求項１７から１９の何れか一項に記載の方法。