【手続補正書】
【提出日】令和2年6月23日(2020.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学機械研磨組成物であって、
（ａ）砥粒、
（ｂ）コバルト促進剤、および
（ｃ）金属を酸化する酸化剤を含み、前記酸化剤が、ニトロ化合物、ニトロソ化合物、Ｎ−オキシド化合物、亜硝酸塩化合物、ヒドロキシルアミン化合物、オキシム化合物、およびこれらの組合せから選択され、
前記研磨組成物が約４から約１０のｐＨを有する、
研磨組成物。
【請求項２】
コバルト促進剤が、Ｎ−ジ（カルボキシルアルキル）アミン、Ｎ−ジ（ヒドロキシアルキル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシアルキル）−Ｎ−カルボキシルアルキルアミン、ジカルボキシヘテロ環状体、ヘテロシクリルアルキル−α−アミノ酸、Ｎ−アミノアルキルアミノ酸、非置換の複素環、アルキル置換された複素環、カルボン酸、ジカルボン酸、トリカルボン酸、アルキルアミン、Ｎ−アミノアルキル−α−アミノ酸、およびこれらの組合せから選択される、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項３】
コバルト腐食阻害剤をさらに含む、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項４】
前記砥粒がシリカである、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項５】
約０．１質量％から約５質量％の前記砥粒を含む、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項６】
約０．１質量％から約３質量％の前記砥粒を含む、請求項５に記載の研磨組成物。
【請求項７】
前記コバルト促進剤が、イミノ二酢酸、Ｎ−（２−アセトアミド）イミノ二酢酸、Ｎ−メチルイミダゾール、ピコリン酸、ジピコリン酸、４−（２−ヒドロキシエチル）−ｌ−ピペラジンエタンスルホン酸、グリシン、ビシン、トリエチルアミン、エチドロン酸、Ｎ−メチルモルホリン、マロン酸、２−ピリジンスルホネート、クエン酸、およびこれらの組合せから選択される、請求項２に記載の研磨組成物。
【請求項８】
前記コバルト促進剤が約５ｍＭから約１００ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項９】
前記コバルト促進剤が約１０ｍＭから約５０ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項８に記載の研磨組成物。
【請求項１０】
前記酸化剤が、アリールニトロ化合物、アリールニトロソ化合物、アリールＮ−オキシド化合物、アリールヒドロキシルアミン化合物、アリールオキシム化合物、およびこれらの組合せから選択される、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項１１】
前記酸化剤が、ヘテロアリールニトロ化合物、ヘテロアリールニトロソ化合物、ヘテロアリールＮ−オキシド化合物、ヘテロアリールヒドロキシルアミン化合物、ヘテロアリールオキシム化合物、およびこれらの組合せから選択される、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項１２】
前記酸化剤が、亜硝酸塩である、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項１３】
前記酸化剤が約１ｍＭから約１００ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項１４】
前記酸化剤が約１０ｍＭから約５０ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項１３に記載の研磨組成物。
【請求項１５】
前記コバルト腐食阻害剤が約１０ｐｐｍから約１０００ｐｐｍの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項３に記載の研磨組成物。
【請求項１６】
約５から約９のｐＨを有する、請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項１７】
約６．５から約７．５のｐＨを有する、請求項１６に記載の研磨組成物。
【請求項１８】
基板を化学機械的に研磨する方法であって、
（ｉ）基板を提供すること、
（ｉｉ）研磨パッドを提供すること、
（ｉｉｉ）化学機械研磨組成物であって、
（ａ）砥粒、
（ｂ）コバルト促進剤、および
（ｃ）金属を酸化する酸化剤を含み、前記酸化剤が、ニトロ化合物、ニトロソ化合物、Ｎ−オキシド化合物、亜硝酸塩化合物、ヒドロキシルアミン化合物、オキシム化合物、およびこれらの組合せから選択され、
前記研磨組成物が約４から約１０のｐＨを有する、
前記研磨組成物を提供すること、
（ｉｖ）前記基板を前記研磨パッドおよびそれらの間にある前記化学機械研磨組成物と接触させること、および
（ｖ）前記研磨パッドおよび前記化学機械研磨組成物を前記基板に対して移動させて前記基板の少なくとも一部分を摩損させることにより、前記基板を研磨すること
を含む、方法。
【請求項１９】
前記コバルト促進剤が、Ｎ−ジ（カルボキシルアルキル）アミン、Ｎ−ジ（ヒドロキシアルキル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシアルキル）−Ｎ−カルボキシルアルキルアミン、ジカルボキシヘテロ環状体、ヘテロシクリルアルキル−α−アミノ酸、Ｎ−アミノアルキルアミノ酸、非置換の複素環、アルキル置換された複素環、カルボン酸、ジカルボン酸、トリカルボン酸、アルキルアミン、Ｎ−アミノアルキル−α−アミノ酸、およびこれらの組合せから選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記研磨組成物がコバルト腐食阻害剤をさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記砥粒がシリカである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記研磨組成物が約０．１質量％から約５質量％の前記砥粒を含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記研磨組成物が約０．１質量％から約３質量％の前記砥粒を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記コバルト促進剤が、イミノ二酢酸、Ｎ−（２−アセトアミド）イミノ二酢酸、Ｎ−メチルイミダゾール、ピコリン酸、ジピコリン酸、４−（２−ヒドロキシエチル）−ｌ−ピペラジンエタンスルホン酸、グリシン、ビシン、トリエチルアミン、エチドロン酸、Ｎ−メチルモルホリン、マロン酸、２−ピリジンスルホネート、クエン酸、およびこれらの組合せから選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】
前記コバルト促進剤が約５ｍＭから約１００ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２６】
前記コバルト促進剤が約１０ｍＭから約５０ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記酸化剤が、アリールニトロ化合物、アリールニトロソ化合物、アリールＮ−オキシド化合物、アリールヒドロキシルアミン化合物、アリールオキシム化合物、およびこれらの組合せから選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２８】
前記酸化剤が、ヘテロアリールニトロ化合物、ヘテロアリールニトロソ化合物、ヘテロアリールＮ−オキシド化合物、ヘテロアリールヒドロキシルアミン化合物、ヘテロアリールオキシム化合物、およびこれらの組合せから選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２９】
前記酸化剤が、亜硝酸塩である、請求項１８に記載の方法。
【請求項３０】
前記酸化剤が約１ｍＭから約１００ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項１８に記載の方法。
【請求項３１】
前記酸化剤が約１０ｍＭから約５０ｍＭの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記コバルト腐食阻害剤が約１０ｐｐｍから約１０００ｐｐｍの濃度で前記研磨組成物中に存在する、請求項２０に記載の方法。
【請求項３３】
前記研磨組成物が約５から約９のｐＨを有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項３４】
前記研磨組成物が約６．５から約７．５のｐＨを有する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記基板がコバルトを含み、かつ前記コバルトの少なくとも一部分が摩損されて前記基板を研磨する、請求項１８に記載の方法。