【事件の表示】
　特願２０１２−５３９９４３「調整可能なビーム制限開口部によって可能にされた高感度及び高処理能力の電子ビーム検査柱」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　５月２６日国際公開、ＷＯ２０１１／０６２８１０、平成２５年　４月　４日国内公表、特表２０１３−５１１８０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１０年（平成２２年）１１月９日（パリ条約による優先権主張　２００９年１１月１８日　米国、　２００９年　１２月９日　米国）を国際出願日とする出願（特願２０１２−５３９９４３号）であって、平成２６年７月１４日付けで拒絶理由が通知され、平成２７年１月２１日付けで意見書が提出されるとともに、同日付で手続補正がなされ、同年６月２９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１１月６日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　
第２　平成２７年１１月６日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２７年１１月６日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲は、平成２７年１月２１日付けの手続補正書の特許請求の範囲の、
　
「【請求項１】
　基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置であって、
　電子ビーム用の電子を発生させる電子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む電子銃と、
　標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、前記基板を保持する可動な基板保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む電子柱と
　を備え、
　前記ビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記電子ビームにおける電子間の相互作用を低減する、電子ビーム装置。
【請求項２】
　前記調整可能なビーム制限開口部は、調整可能な開口部を有する、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項３】
　更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置されている、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項４】
　前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、前記調整可能なビーム制限開口部がビーム電流選択開口部としても機能するように、前記基板上に焦点が合うビーム電流を選択もする、請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項５】
　前記調整可能なビーム制限開口部は、前記電子銃が高真空環境にある間に調整可能である、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項６】
　前記調整可能なビーム制限開口部は、切替可能な開口部の配列を有する、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項７】
　前記切替可能な開口部の配列は、直線に配列された複数の開口部を含む、請求項６に記載の電子ビーム装置。
【請求項８】
　前記切替可能な開口部の配列は、円形に配列された複数の開口部を含む、請求項６に記載の電子ビーム装置。
【請求項９】
　更に、前記電子柱にビーム電流選択開口部を備え、前記ビーム電流選択開口部は、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されている、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項１０】
　前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、少なくとも１０個の異なった開口部サイズを含む、請求項４に記載の電子ビーム装置。
【請求項１１】
　更に、前記電子柱にビーム電流選択開口部を備え、前記ビーム電流選択開口部は、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されている、請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項１２】
　基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する半導体製造機器に電子ビームを供給する方法であって、
　電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
　前記電子銃内に複数の開口部サイズを有する調整可能なビーム制限開口部を設ける工程と、
　前記調整可能なビーム制限開口部の前記複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択する工程と、
　前記基板の標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる工程と、
　信号電子を検出する工程と
　を備える方法。
【請求項１３】
　前記開口部サイズを選択する工程を、前記ビーム制限開口部が前記電子銃の高真空環境内にある間に行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
　前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように直線運動によって行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
　前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように回転運動によって行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
　前記開口部サイズを選択する工程を、前記電子銃における前記ビーム制限開口部のサイズを縮小または拡大して行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
　更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を設ける工程を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
　電子画像装置に電子ビームを供給する自動化された方法であって、
　電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
　前記電子画像装置で使用するビーム電流をユーザーが設定する工程と、
　前記電子銃内の調整可能なビーム制限開口部のサイズを選択すると共にビームの角電流密度を選択するために、マイクロコントローラを用いて前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を含む範囲のビーム電流を供給する工程と
　を備える自動化された方法。
【請求項１９】
　更に、前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を前記範囲内で実現するために、ビーム電流選択開口部のサイズの変更にマイクロコントローラを使用する工程を備える請求項１８に記載の自動化された方法。」が　
　
「【請求項１】
　基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置であって、
　電子ビーム用の電子を発生させる電子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む電子銃と、
　標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、前記基板を保持する可動な基板保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む電子柱と
、
　
前記調整可能なビーム制限開口部と前記対物レンズとの間に設けられ、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されたビーム電流選択開口部と
　を備え、
　前記
調整可能な
前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の
【請求項２】
　前記調整可能なビーム制限開口部は、調整可能な開口部を有する、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項３】
　更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置されている、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項４】
　前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、前記調整可能なビーム制限開口部がビーム電流選択開口部としても機能するように、前記基板上に焦点が合うビーム電流を選択もする、請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項５】
　前記調整可能なビーム制限開口部は、前記電子銃が高真空環境にある間に調整可能である、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項６】
　前記調整可能なビーム制限開口部は、切替可能な開口部の配列を有する、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項７】
　前記切替可能な開口部の配列は、直線に配列された複数の開口部を含む、請求項６に記載の電子ビーム装置。
【請求項８】
　前記切替可能な開口部の配列は、円形に配列された複数の開口部を含む、請求項６に記載の電子ビーム装置。
【請求項９】
　前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、少なくとも１０個の異なった開口部サイズを含む、請求項４に記載の電子ビーム装置。
【請求項１０】
　基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する半導体製造機器に電子ビームを供給する方法であって、
　電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
　前記電子銃内に複数の開口部サイズを有する調整可能なビーム制限開口部を設ける
とともに、前記調整可能なビーム制限開口部と対物レンズとの間に、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されたビーム電流選択開口部を設ける
　前記調整可能なビーム制限開口部の前記複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択することによって、
前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の
　前記基板の標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる工程と、
　信号電子を検出する工程と
　を備える方法。
【請求項１１】
　前記開口部サイズを選択する工程を、前記ビーム制限開口部が前記電子銃の高真空環境内にある間に行う、
請求項１０
【請求項１２】
　前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように直線運動によって行う、
請求項１０
【請求項１３】
　前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように回転運動によって行う、
請求項１０
【請求項１４】
　前記開口部サイズを選択する工程を、前記電子銃における前記ビーム制限開口部のサイズを縮小または拡大して行う、
請求項１０
【請求項１５】
　更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を設ける工程を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置される、
請求項１０
【請求項１６】
　電子画像装置に電子ビームを供給する自動化された方法であって、
　電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
　前記電子画像装置で使用するビーム電流をユーザーが設定する工程と、
　前記電子銃内の調整可能なビーム制限開口部のサイズを選択
し、前記調整可能なビーム制限開口部と対物レンズとの間に設けられたビーム電流選択開口部の開口部を選択
前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の
　を備える自動化された方法。
【請求項１７】
　更に、前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を前記範囲内で実現するために、ビーム電流選択開口部のサイズの変更にマイクロコントローラを使用する工程を備える
請求項１６
と補正された。（下線は、補正個所を示す。）
　
２　新規事項追加の違反についての検討
　本件補正により、補正後の請求項４が請求項１を引用する請求項３を引用する請求項であることから、請求項４に係る発明は、「固定ビーム制限開口部」及び「ビーム電流選択開口部としても機能する」「調整可能なビーム制限開口部」の他に「ビーム電流選択開口部」も備える電子ビーム装置の発明となった。
　しかしながら、本願の願書に最初に添付された特許請求の範囲、明細書の発明の詳細な説明及び図面（以下「当初明細書等」という。）には、上記の「固定ビーム制限開口部」及び「ビーム電流選択開口部としても機能する」「調整可能なビーム制限開口部」の他に「ビーム電流選択開口部」も備える電子ビーム装置については、どこにも記載されていない。
　補足すれば、上記の構成に関して,発明の詳細な説明及び図面には、次の事項が記載されている。
「【００２３】
  図３は、本発明の第１の実施形態に係る半導体アプリケーションに用いる電子ビームツールの更なる部品を示す模式図である。図示のように、電子ビームツールは、電子銃１０２及び電子柱１１０を含む。
【００２４】
  電子銃１０２では、電子エミッタ１０３は、電子源であり、銃レンズ１０４は、電子ビームを形成するように放出された電子の焦点を合わせる。上述したように、調整可能なＢＬＡ２０５は、電子銃２０２を出て柱の光軸１０６に沿い電子柱１１０に入るビームのサイズの制限に利用される。
【００２５】
  電子柱１１０では、ビーム電流選択開口部（ＢＳＡ）１１２は、標的の半導体ウェハ（又は他の標的の基板）１１６に照射される所望のビーム電流の選択に使用される。ウェハ１１８の領域を横切るビームを制御可能にスキャン（例えば、ラスタスキャン）するように偏向器３１３を構成してもよく、スキャン偏向器３１３にスキャンコントローラ３４６を連結して、偏向の制御に使用してもよい。」
「【００３１】
  図５は、本発明の第３の実施形態に係る半導体アプリケーションに用いる電子ビームツールの選択部品を示す模式図である。図５に見られるように、固定ＢＬＡ４０４と、組み合わされた調整可能なＢＬＡ及びＢＳＡ５０５との両方が、電子銃５０２内に配置されている。
【００３２】
  固定ＢＬＡ４０４は、放出されたビームを制限することで、各ＢＬＡ間の電流４０６を低減する。組み合わされた調整可能なＢＬＡ及びＢＳＡ５０５は、この低減された電流を更に低減し、ウェハへのビーム電流５０６の選択も行う。すなわち、組み合わされた調整可能なＢＬＡ及びＢＳＡ５０５は、調整可能なＢＬＡと、ＢＳＡとの両方の機能を提供する。一実施例では、組み合わされた調整可能なＢＬＡ及びＢＳＡ５０５は、約１０個から１２個の異なった選択可能な開口部サイズを有していてもよい。別の実施例では、組み合わされた調整可能なＢＬＡ及びＢＳＡ５０５は、開口部サイズが調整可能であってもよい。
【００３３】
  この実施形態の図５に更に示すように、電子柱５１０は、ＢＳＡを必要としない。これは、電子銃５０２内の組み合わされた調整可能なＢＬＡ及びＢＳＡ５０５が、ウェハへの電流５０６を既に選択しているからである。」
「【図５】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　上記（特に段落【００３３】）から、「固定ビーム制限開口部」及び「ビーム電流選択開口部としても機能するビーム制限開口部」を備えた電子ビーム装置（【図５】参照）に関しては、さらに「ビーム電流選択開口部（ＢＳＡ）」を追加する構成は意図的に排除されているということができ、また、他の個所においても、「固定ビーム制限開口部」及び「ビーム電流選択開口部としても機能するビーム制限開口部」の他に「ビーム電流選択開口部」も備える構成の記載は、どこにも認められない。
　よって、上記の「固定ビーム制限開口部」及び「ビーム電流選択開口部としても機能するビーム制限開口部」の他に「ビーム電流選択開口部」も備える構成が、願書に最初に添付された特許請求の範囲、明細書の発明の詳細な説明及び図面（以下「当初明細書等」という。）のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入しないものであるということはできない。
　以上のとおりであるから、本件補正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてした補正であるということはできない。
　よって、本件補正は、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下する。
　
３　独立特許要件違反についての検討
　上記のように本件補正は新規事項を追加する補正であることは明らかであるが、さらに、本件補正のうち請求項１についての補正は、いわゆる限定的に減縮することを目的とする補正、すなわち、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる事項を目的とする補正であるから、本件補正後の本願の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものか（特許法第１７条の２第６項において準用する特許法第１２６条第７項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）引用例
ア　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００９−１６４１１０号公報（以下「引用例１」という。なお、原査定の拒絶理由においては、請求項１に係る発明に対する主引用例として引用されてはいない。）には、次の事項が記載されている。
　
ａ「【請求項７】
　
針状の陽極エミッタと、該エミッタ先端部にてガス分子をイオン化して引き出す電界を形成する引き出し電極とを有し、引き出したイオンを通過させる該引き出し電極の孔の孔径が少なくとも２種類の値に可変であるガス電界電離イオン源と、
　該イオン源からのイオンを加速し、集束して試料上に照射するレンズ系と、
　該試料上に集束されるイオンを制限する制限絞りと、
　該試料から放出される荷電粒子を検出する荷電粒子検出器と、
を有する走査荷電粒子顕微鏡
　
ｂ「【０００１】
　本発明は、半導体デバイスや新材料などの試料表面の観察する荷電粒子顕微鏡に関する。例えば、該荷電粒子を軽イオンとしたもので、試料表面を浅く、高分解能で、かつ大きい焦点深度で観察する走査荷電粒子顕微鏡や、そのイオン生成のためのガス電界電離イオン源に関する。」
　
ｃ「【００２２】
　図１は、ＧＦＩＳを搭載した走査荷電粒子顕微鏡の概略構成図である。ＧＦＩＳ４の
エミッタ１から放出されたイオン５は、集束レンズ６と対物レンズ１２で試料１４上に集束される。
試料１４から放出される二次電子１５は、二次電子検出器１６で検出される。
　
ｄ「【００３１】
　本実施例では、
引き出し電極３に孔径ｄ
apture
を可変にする手段を採用した。
　
ｅ「【００４７】
　
エミッタ１から広放出角範囲に放出されたイオン５は、集束レンズ（レンズ電圧Ｖaccを接地電位にしてレンズ作用オフ）を通過して可動ビーム制限絞り８に到達する。到達したイオンビームの一部は、可動ビーム制限絞り８の孔を通過し、
可動ビーム制限絞り８は、
その孔径も、大小種々の孔が選択できるようになっている。対物レンズ１２は、ビーム偏向器／アライナー７の偏向支点を試料１４上に投影するようにレンズ作用を調整する。
　
ｆ「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　上記「ア」のｆの図１の記載から、可動ビーム制限絞り８が、引き出し電極の孔径ｄaptureを可変にする手段を採用した引き出し電極３と対物レンズ１２との間に設けられていることは明らかである。
　上記記載（図面を含む）から、引用例１には、
「針状の陽極エミッタ１と、該エミッタ先端部にてガス分子をイオン化して引き出す電界を形成する引き出し電極３とを有し、引き出し電極３に孔径ｄaptureを可変にする手段を採用し、引き出したイオンを通過させる該引き出し電極の孔の孔径が少なくとも２種類の値に可変であるガス電界電離イオン源と、
　該イオン源からのイオンを加速し、集束して試料１４上に照射する集束レンズ６と対物レンズ１２からなるレンズ系と、
　引き出し電極の孔径ｄaptureを可変にする手段を採用した引き出し電極３と対物レンズ１２との間に設けられ、試料１４上に集束されるイオンを制限する可動ビーム制限絞り８であって、その孔径も、大小種々の孔が選択できるようになっている可動ビーム制限絞り８と、
　該試料１４から放出される二次電子を検出する二次電子検出器１６と、
を有する走査荷電粒子顕微鏡。」
の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　
（３）本願補正発明と引用発明１の対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明１を対比する。
　引用発明１の「イオン源からのイオンを加速し、集束して試料１４上に照射」する「走査荷電粒子顕微鏡」と、本願補正発明の「基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置」とは、「試料を観測する荷電粒子ビーム装置」である点で一致する。
　
　引用発明１の「ガス分子をイオン化して引き出す」ところである「針状の陽極エミッタ１」と、本願補正発明の「電子ビーム用の電子を発生させる電子源」とは、「荷電粒子ビーム用の荷電粒子を発生させる荷電粒子源」である点で一致する。
　引用発明１の「引き出し電極３」に採用された「孔径ｄaptureを可変にする手段」により「孔径が少なくとも２種類の値に可変である」「引き出したイオンを通過させる該引き出し電極の孔」が、本願補正発明の「複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部」に相当する。
　よって、引用発明１の「針状の陽極エミッタ１と、該エミッタ先端部にてガス分子をイオン化して引き出す電界を形成する引き出し電極３とを有し、引き出し電極３に孔径ｄaptureを可変にする手段を採用し、引き出したイオンを通過させる該引き出し電極の孔の孔径が少なくとも２種類の値に可変であるガス電界電離イオン源」と、本願補正発明の「電子ビーム用の電子を発生させる電子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む電子銃」とは、「荷電粒子ビーム用の荷電粒子を発生させる荷電粒子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む荷電粒子銃」である点で一致する。
　
　引用発明１の「イオン源からのイオン」を「試料１４上に照射する」ための「対物レンズ１２」と、本願補正発明の「標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズ」とは、「標的領域上に前記荷電粒子ビームの焦点を合わせる対物レンズ」である点で一致する。
　引用発明１の「試料１４」は、技術常識から当然に、何らかの可動部材（保持器）で保持されているといえるから、引用発明１の「試料１４」を保持している可動部材は、本願補正発明の「基板を保持する可動な基板保持器」に相当する。
　引用発明１の「該試料１４から放出される二次電子を検出する二次電子検出器１６」が、本願補正発明の「信号電子を検出する検出器」に相当する。
　よって、引用発明１の「イオン源からのイオンを加速し、集束して試料１４上に照射する集束レンズ６と対物レンズ１２からなるレンズ系」と「試料１４」を保持している可動部材と「該試料１４から放出される二次電子を検出する二次電子検出器１６」とで構成される部分と、本願補正発明の「標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、前記基板を保持する可動な基板保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む電子柱」とは、「標的領域上に前記荷電粒子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、試料を保持する可動な試料保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む柱部分」である点で一致する。
　引用発明１の「引き出し電極の孔径ｄaptureを可変にする手段を採用した引き出し電極３と対物レンズ１２との間に設けられ、試料１４上に集束されるイオンを制限する可動ビーム制限絞り８であって、その孔径も、大小種々の孔が選択できるようになっている可動ビーム制限絞り８」が、本願補正発明の「前記調整可能なビーム制限開口部と前記対物レンズとの間に設けられ、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されたビーム電流選択開口部」に相当する。
　
　引用発明１の「引き出し電極３」に採用された「孔径ｄaptureを可変にする手段」は、「引き出したイオンを通過させる」「孔の孔径が少なくとも２種類の値に可変である」ことが、本願補正発明の「前記調整可能なビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する」ことに相当し、上記引用発明１の「孔径ｄaptureを可変にする手段」と本願補正発明の「調整可能なビーム制限開口部」とは上記の点で同じ構成・機能を有するものであるから、当然に、本願補正発明の「調整可能なビーム制限開口部」が「前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の電子ビームにおける電子間の相互作用を低減する」という作用を奏するのと同様に、引用発明１の「孔径ｄaptureを可変にする手段」についても、「引き出し電極３に採用された孔径ｄaptureを可変にする手段」と「可動ビーム制限絞り８」との間のイオンビームにおけるイオン間の相互作用を低減するという作用を奏するものといえる。
　よって、引用発明１の「引き出し電極３」に採用された「孔径ｄaptureを可変にする手段」は、「引き出したイオンを通過させる」「孔の孔径が少なくとも２種類の値に可変である」ことと、本願補正発明の「前記調整可能なビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の電子ビームにおける電子間の相互作用を低減する」こととは、「前記調整可能なビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の荷電粒子ビームにおける荷電粒子間の相互作用を低減する」点で一致する。
　
イ　一致点
　よって、本願補正発明と引用発明１は、
「試料を観測する荷電粒子ビーム装置であって、
　荷電粒子ビーム用の荷電粒子を発生させる荷電粒子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む荷電粒子銃と、
　標的領域上に前記荷電粒子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、試料を保持する可動な試料保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む柱部分と、
　前記調整可能なビーム制限開口部と前記対物レンズとの間に設けられ、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されたビーム電流選択開口部と
　を備え、
　前記調整可能なビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記調整可能なビーム制限開口部と前記ビーム電流選択開口部との間の荷電粒子ビームにおける荷電粒子間の相互作用を低減する、荷電粒子ビーム装置。」
の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１
　荷電粒子ビーム装置での試料の観測が、本願補正発明においては、「基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する」ことであるのに対して、引用発明においては、その点の限定がない点。
　
（イ）相違点２
　試料に照射する荷電粒子ビームの荷電粒子が、本願補正発明においては「電子」であるのに対して、引用発明においては「イオン」である点。
（なお、本願補正発明においては装置や各部品等の名称に「電子」が付くのに対して、引用発明においては、そのようになっていないが、この点は、上記の相違点２に伴うもので、実質的に上記相違点２と同じ相違点といえる。）
　
（４）当審の判断
ア　上記相違点１及び２について検討する。
　走査荷電粒子顕微鏡において、当該顕微鏡での観測の対象を「基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する」（相違点１）こととし、そのために用いる荷電粒子ビームの荷電粒子を「電子」（相違点２）とすることは、例えば、特開２００６−１９６２８１号公報、特開２００７−１９２１０号公報、特開２００９−２４５９５３号公報にも記載されているように周知の技術である。
　そして、一般に、荷電粒子ビームを用いた顕微鏡による基板の欠陥検査において、荷電粒子として電子ビームを用いるものも、イオンビームを用いるものも周知である（例えば、特開２００９−１３９３７９号公報、【０００８】参照）。そして、電子ビームとイオンビームの比較では、イオンビームを用いた場合は、電子ビームを用いた場合より試料損傷は少し多いが、回折効果が無視でき焦点深度の深い画像を得ることができる（引用例１の【０００３】参照）という特性を有し、どちらのビームを用いた顕微鏡を使うかは、基板の材質や構造、欠陥の特徴等に応じて当業者が適宜選択し得ることである。
　よって、引用発明１の顕微鏡においても、必要に応じてイオンビームに換えて電子ビームを用いることは当業者が容易に想到し得ることである。そして、電子ビームを用いるに際して、上記周知技術を採用し、上記相違点１及び２に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になし得たことである。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明１及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明１及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、特許法第１７条の２第７項で準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２７年１１月６日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２７年１月２１日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成２２年４月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
（１）原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００６−１９６２８１号公報（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
ａ「【０００１】
　本発明は、
半導体ウェーハ等の観察対象物に対して収束電子ビームを照射してその照射位置から放出される電子を検出して観察対象物表面の画像を撮像する走査電子顕微鏡
検出された欠陥をより詳細に観察する
ｂ「【００３２】
　次に図１により、本実施の形態によるＳＥＭの動作を説明する。
【００３３】
　
電子線源１０１は電子ビームを照射する。照射された電子ビームは、コンデンサレンズ１０２，１０３を通過した後、
電子ビームは対物レンズ１０７により収束されてウェーハ１０８の撮像対象１０９に対して照射される。撮像対象１０９からは、この結果、２次電子と反射電子が放出され、２次電子及び反射電子はＥ×Ｂ１１０により偏向され、電子検出器１１１により検出される。
ＸＹステージ１１４はウェーハ１０８を移動させ、ウェーハ１０８の任意の位置の画像撮像を可能にしている。
ｃ「【００６０】
　図４は、この方式によるＳＥＭの構成を示す図である。図４に示すＳＥＭは、前記図１に示した実施の形態と比較して、開口絞りセット４０３と、視野絞り４０４と、絞り変更手段４０５とを追加し、電子線源１０１を電子線源４０１に、コンデンサレンズ１０２をコンデンサレンズ４０２に代えたものであり、他の構成は図１と同じである。
【００６１】
　
開口絞りセット４０３には、複数の径の異なる絞りが設けられており、絞り変更手段４０５で、いずれの絞りを用いるか選択できる。径の小さい絞りを用いた場合にはビーム電流は小さく、径の大きい絞りを用いた場合にはビーム電流は大きくなる。
ｄ「【図４】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（２）引用例２に記載された発明
　上記（１）のｄの図４の記載から、電子線源４０１から照射された電子線は、開口絞り４０３を通過した後、（視野絞り４０４、Ｅ×Ｂ（イークロスビー）１１０を通過して）対物レンズ１０７に至ることが見て取れるから、上記（１）の記載（図面の記載も含む）から、引用例２には、
「半導体ウェーハ等の観察対象物に対して収束電子ビームを照射してその照射位置から放出される電子を検出して観察対象物表面の画像を撮像し、検出された欠陥を観察する走査電子顕微鏡であって、
　電子線源４０１、開口絞りセット４０３、対物レンズ１０７，電子検出器１１１、ＸＹステージ１１４を備え、
　電子線源１０１は電子ビームを照射し、照射された電子ビームは、開口絞りセット４０３を通過した後、対物レンズ１０７により収束されてウェーハ１０８の撮像対象１０９に対して照射され、撮像対象１０９からは、この結果、２次電子と反射電子が放出され、電子検出器１１１により検出され、
　ＸＹステージ１１４はウェーハ１０８を移動させ、ウェーハ１０８の任意の位置の画像撮像を可能にしており、
　開口絞りセット４０３には、複数の径の異なる絞りが設けられており、絞り変更手段４０５で、いずれの絞りを用いるか選択でき、径の小さい絞りを用いた場合にはビーム電流は小さく、径の大きい絞りを用いた場合にはビーム電流は大きくなる走査電子顕微鏡。」
の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている。
　
３　本願発明と引用発明２の対比・当審の判断
（１）対比
　本願補明と引用発明２を対比する。
　引用発明２の「半導体ウェーハ等の観察対象物に対して収束電子ビームを照射してその照射位置から放出される電子を検出して観察対象物表面の画像を撮像し、検出された欠陥を観察する走査電子顕微鏡」が、本願発明の「基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置」に相当する。
　
　引用発明２の「電子ビームを照射」する「電子線源４０１」が、本願発明の「電子ビーム用の電子を発生させる電子源」に相当する。
　また、引用発明２の「複数の径の異なる絞りが設けられており、絞り変更手段４０５で、いずれの絞りを用いるか選択でき、径の小さい絞りを用いた場合にはビーム電流は小さく、径の大きい絞りを用いた場合にはビーム電流は大きくなる」「開口絞りセット４０３」が、本願発明の「複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部」に相当する。
　
　引用発明２の「電子ビーム」を「収束」して「ウェーハ１０８の撮像対象１０９に対して照射」する「対物レンズ１０７」が、本願発明の「標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズ」に相当する。
　また、引用発明２の「ウェーハ１０８を移動させ、ウェーハ１０８の任意の位置の画像撮像を可能にして」いる「ＸＹステージ１１４」が、本願発明の「基板を保持する可動な基板保持器」に相当する。
　また、引用発明２の「撮像対象１０９から」「放出され」る「２次電子と反射電子」を「検出」する「電子検出器１１１」が、本願発明の「信号電子を検出する検出器」に相当する。
　
　引用発明２の「開口絞りセット４０３には、複数の径の異なる絞りが設けられており、絞り変更手段４０５で、いずれの絞りを用いるか選択でき、径の小さい絞りを用いた場合にはビーム電流は小さく、径の大きい絞りを用いた場合にはビーム電流は大きくなる」ことから、引用発明２の「開口絞りセット４０３」は、本願発明の「ビーム制限開口部」と同じ構造と機能を有しているから、当然に、本願発明と同様の「複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記電子ビームにおける電子間の相互作用を低減する」という作用を奏するものといえる。よって、引用発明２の「開口絞りセット４０３には、複数の径の異なる絞りが設けられており、絞り変更手段４０５で、いずれの絞りを用いるか選択でき、径の小さい絞りを用いた場合にはビーム電流は小さく、径の大きい絞りを用いた場合にはビーム電流は大きくなる」ことが、本願発明の「前記ビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記電子ビームにおける電子間の相互作用を低減する」ことに相当する。
　
（２）一致点
　よって、本願発明と引用発明２は、
「基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置であって、
　電子ビーム用の電子を発生させる電子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、
　標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、前記基板を保持する可動な基板保持器と、信号電子を検出する検出器と、
　を備え、
　前記ビーム制限開口部は、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用することによって、前記電子ビームにおける電子間の相互作用を低減する、電子ビーム装置。」
の発明である点で一致し、次の点で相違する。
　
（３）相違点
　本願発明においては、「電子源」と「ビーム制限開口部」が「電子銃」に含まれ、また、「対物レンズ」、「基板保持器」及び「検出器」が「電子柱」に含まれると特定されているのに対して、引用発明２の上記各部材に相当する「電子線源４０１」、「開口絞りセット４０３」、「対物レンズ１０７」，「電子検出器１１１」及び「ＸＹステージ１１４」のそれぞれが、何に含まれるかについて特定されていない点。
（４）判断
ア　上記相違点について
　複数の部材を備える装置内の各部材を、どのように区分けして１つのまとまりとするかは、当業者が必要に応じて適宜設定し得る事項である。
　よって、引用発明２においても、「電子線源４０１」及び「開口絞りセット４０３」を１つのまとまりとして、当該まとまりの部分を「電子銃」と称し、また、「対物レンズ１０７」，「電子検出器１１１」及び「ＸＹステージ１１４」を１つのまとまりとして、当該まとまりの部分を「電子柱」と称することは、当業者が必要に応じて適宜設定し得ることにすぎない。
　すなわち、上記相違点に係る本願発明の特定事項は、当業者が容易に想到し得たことである。
　
イ　本願発明の奏する作用効果
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明２から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願発明は、引用発明２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。