【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年1月15日(2020.1.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数（ＲＦ）発生器であって、
初期周波数で発振する信号を生成する励振器と、
前記信号を増幅させ、増幅された発振信号を産出するパワー増幅器と、
前記増幅された発振信号をフィルタリングし、プラズマ処理チャンバ内のプラズマ負荷にパワーを供給する出力信号を産出するフィルタと、
前記プラズマ負荷の少なくとも１つの特性を感知するセンサと、
周波数同調サブシステムであって、前記周波数同調サブシステムは、
励振器周波数の関数として、前記プラズマ負荷のインピーダンス軌道を産出することと、
複素反射係数平面内の基準点を受信することであって、前記基準点は、前記複素反射係数平面の基準点および原点を通過する基準ベクトル上に置かれる、ことと、
前記センサから、前記プラズマ負荷のインピーダンスの測定値を受信することであって、前記測定されるインピーダンスは、前記インピーダンス軌道に沿って置かれる、ことと、
複素反射係数の観点から表現されるように、前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の点とを通過する線との間の測定角を決定することと、
事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する信号を生成させることと
を行うように構成される、周波数同調サブシステムと
を備える、発生器。
【請求項２】
前記ＲＦ発生器は、１つ以上の整合ネットワークを通して前記プラズマ負荷にパワーを供給するように構成される、請求項１に記載のＲＦ発生器。
【請求項３】
前記周波数同調サブシステムは、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うように構成される、請求項１に記載のＲＦ発生器。 
【請求項４】
前記周波数同調サブシステムは、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数の大きさが、事前決定される閾値より小さくなるまで、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うように構成される、請求項３に記載のＲＦ発生器。
【請求項５】
前記周波数同調サブシステムは、前記測定角から前記事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するように構成される、請求項１に記載のＲＦ発生器。
【請求項６】
前記周波数同調サブシステムは、各反復において、前記測定角から前記事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって前記差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するように構成される、請求項３に記載のＲＦ発生器。
【請求項７】
前記周波数同調サブシステムは、前記複素反射係数平面内の複素反射係数の観点から表現されるように、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数と、前記インピーダンス軌道上の前記事前決定される離調点との間の差異の大きさが、事前決定される閾値より小さいとき、反復周波数調整を終了させるように構成される、請求項６に記載のＲＦ発生器。
【請求項８】
前記周波数同調サブシステムは、前記測定角の冪指数を１よりも大きい値に上昇させ、かつ前記事前決定される定数によって結果をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するように構成される、請求項１に記載のＲＦ発生器。
【請求項９】
前記周波数同調サブシステムは、前記インピーダンス軌道を産出し、前記基準点を受信し、前記測定されるインピーダンスを受信し、前記測定角を決定し、前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを追加し、前記励振器に前記信号を生成させるための命令でエンコードされる、非一過性、有形、機械可読の媒体を含む、請求項１に記載のＲＦ発生器。
【請求項１０】
無線周波数（ＲＦ）発生器であって、
信号を生成するための手段であって、前記信号は、初期周波数で発振する、手段と、
前記信号を増幅させ、増幅された発振信号を産出するための手段と、
前記増幅された発振信号をフィルタリングし、プラズマ処理チャンバ内のプラズマ負荷にパワーを供給する出力信号を産出するための手段と、
前記プラズマ負荷の少なくとも１つの特性を感知するための手段と、
周波数同調のための手段であって、前記周波数同調のための手段は、
周波数の関数として、前記プラズマ負荷のインピーダンス軌道を産出するための手段と、
複素反射係数平面内の基準点を受信するための手段であって、前記基準点は、前記複素反射係数平面の基準点および原点を通過する基準ベクトル上に置かれる、手段と、
前記感知するための手段から、前記プラズマ負荷のインピーダンスの測定値を受信するための手段であって、前記測定されるインピーダンスは、前記受信されるインピーダンス軌道に沿って置かれる、手段と、
複素反射係数の観点から表現されるように、前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の点とを通過する線との間の測定角を決定するための手段と、
事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、周波数ステップを産出するための手段と、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、調節される周波数を産出するための手段と、
前記信号を生成するための手段に、前記調節される周波数で発振する信号を生成させるための手段と
を含む、手段と
を備える、発生器。
【請求項１１】
前記ＲＦ発生器は、１つ以上の整合ネットワークを通して前記プラズマ負荷にパワーを供給するように構成される、請求項１０に記載のＲＦ発生器。
【請求項１２】
前記周波数同調のための手段は、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うための手段を含む、請求項１０に記載のＲＦ発生器。
【請求項１３】
前記周波数同調のための手段は、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数の大きさが、事前決定される閾値より小さくなるまで、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うための手段を含む、請求項１２に記載のＲＦ発生器。
【請求項１４】
前記周波数同調のための手段は、前記測定角から事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって前記差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するための手段を含む、請求項１０に記載のＲＦ発生器。
【請求項１５】
前記周波数同調のための手段は、各反復において、前記測定角から事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって前記差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するための手段を含む、請求項１２に記載のＲＦ発生器。
【請求項１６】
前記周波数同調のための手段は、前記複素反射係数平面内の複素反射係数の観点から表現されるように、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数と、前記インピーダンス軌道上の事前決定される離調点との間の差異の大きさが、事前決定される閾値より小さいとき、反復周波数調整を終了させるための手段を含む、請求項１５に記載のＲＦ発生器。
【請求項１７】
前記周波数同調のための手段は、前記測定角の冪指数を１よりも大きい値に上昇させ、かつ前記事前決定される定数によって前記結果をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するための手段を含む、請求項１０に記載のＲＦ発生器。
【請求項１８】
ＲＦ発生器を周波数同調させるための命令でエンコードされた、非一過性、有形、機械可読の媒体であって、前記命令は、
励振器周波数の関数として、前記プラズマ負荷のインピーダンス軌道を受信することと、
複素反射係数平面内の基準点を受信することであって、前記基準点は、前記複素反射係数平面の基準点および原点を通過する基準ベクトル上に置かれる、ことと、
センサから、前記プラズマ負荷のインピーダンスの測定値を受信することであって、前記測定されるインピーダンスは、前記受信されるインピーダンス軌道に沿って置かれる、ことと、
複素反射係数の観点から表現されるように、前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の点とを通過する線との間の測定角を決定することと、
事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、調節される周波数を産出することと、
励振器に、前記調節される周波数で発振する信号を生成させることと
を行わせるための命令を含む、媒体。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
さらに別の側面は、測定角から事前決定される離調角を減じ、かつ事前決定される定数によって差異をスケーリングすることによって、周波数ステップを産出するステップを含む方法として特徴付けられ得る。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
（項目１）
無線周波数（ＲＦ）発生器であって、
初期周波数で発振する信号を生成する励振器と、
前記信号を増幅させ、増幅された発振信号を産出するパワー増幅器と、
前記増幅された発振信号をフィルタリングし、プラズマ処理チャンバ内のプラズマ負荷にパワーを供給する出力信号を産出するフィルタと、
前記プラズマ負荷の少なくとも１つの特性を感知するセンサと、
周波数同調サブシステムであって、前記周波数同調サブシステムは、
励振器周波数の関数として、前記プラズマ負荷のインピーダンス軌道を産出することと、
複素反射係数平面内の基準点を受信することであって、前記基準点は、前記複素反射係数平面の基準点および原点を通過する基準ベクトル上に置かれる、ことと、
前記センサから、前記プラズマ負荷のインピーダンスの測定値を受信することであって、前記測定されるインピーダンスは、前記インピーダンス軌道に沿って置かれる、ことと、
複素反射係数の観点から表現されるように、前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の点とを通過する線との間の測定角を決定することと、
事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する信号を生成させることと
を行うように構成される、周波数同調サブシステムと
を備える、発生器。
（項目２）
前記ＲＦ発生器は、１つ以上の整合ネットワークを通して前記プラズマ負荷にパワーを供給するように構成される、項目１に記載のＲＦ発生器。
（項目３）
前記周波数同調サブシステムは、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うように構成される、項目１に記載のＲＦ発生器。 
（項目４）
前記周波数同調サブシステムは、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数の大きさが、事前決定される閾値より小さくなるまで、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うように構成される、項目３に記載のＲＦ発生器。
（項目５）
前記周波数同調サブシステムは、前記測定角から前記事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するように構成される、項目１に記載のＲＦ発生器。
（項目６）
前記周波数同調サブシステムは、各反復において、前記測定角から前記事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって前記差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するように構成される、項目３に記載のＲＦ発生器。
（項目７）
前記周波数同調サブシステムは、前記複素反射係数平面内の複素反射係数の観点から表現されるように、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数と、前記インピーダンス軌道上の前記事前決定される離調点との間の差異の大きさが、事前決定される閾値より小さいとき、反復周波数調整を終了させるように構成される、項目６に記載のＲＦ発生器。
（項目８）
前記周波数同調サブシステムは、前記測定角を１乗よりも大きい冪に上昇させ、かつ前記事前決定される定数によって結果をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するように構成される、項目１に記載のＲＦ発生器。
（項目９）
前記周波数同調サブシステムは、前記インピーダンス軌道を産出し、前記基準点を受信し、前記測定されるインピーダンスを受信し、前記測定角を決定し、前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを追加し、前記励振器に前記信号を生成させるための命令でエンコードされる、非一過性、有形、機械可読の媒体を含む、項目１に記載のＲＦ発生器。
（項目１０）
無線周波数（ＲＦ）発生器であって、
信号を生成するための手段であって、前記信号は、初期周波数で発振する、手段と、
前記信号を増幅させ、増幅される発振信号を産出するための手段と、
前記増幅される発振信号をフィルタリングし、プラズマ処理チャンバ内のプラズマ負荷にパワーを供給する出力信号を産出するための手段と、
前記プラズマ負荷の少なくとも１つの特性を感知するための手段と、
周波数同調のための手段であって、前記周波数同調のための手段は、
周波数の関数として、前記プラズマ負荷のインピーダンス軌道を産出するための手段と、
複素反射係数平面内の基準点を受信するための手段であって、前記基準点は、前記複素反射係数平面の基準点および原点を通過する基準ベクトル上に置かれる、手段と、
前記感知するための手段から、前記プラズマ負荷のインピーダンスの測定値を受信するための手段であって、前記測定されるインピーダンスは、前記受信されるインピーダンス軌道に沿って置かれる、手段と、
複素反射係数の観点から表現されるように、前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の点とを通過する線との間の測定角を決定するための手段と、
事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、周波数ステップを産出するための手段と、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、調節される周波数を産出するための手段と、
信号を生成するための手段に、前記調節される周波数で発振する信号を生成させるための手段と
を含む、手段と
を備える、発生器。
（項目１１）
前記ＲＦ発生器は、１つ以上の整合ネットワークを通して前記プラズマ負荷にパワーを供給するように構成される、項目１０に記載のＲＦ発生器。
（項目１２）
前記周波数同調のための手段は、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うための手段を含む、項目１０に記載のＲＦ発生器。
（項目１３）
前記周波数同調のための手段は、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数の大きさが、事前決定される閾値より小さくなるまで、反復的に、
前記センサから、前記プラズマ負荷の測定されるインピーダンスを受信することと、
前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の前記点とを通過する前記線との間の前記測定角を決定することと、
前記事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、前記周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、前記調節される周波数を産出することと、
前記励振器に、前記調節される周波数で発振する前記信号を生成させることと
を行うための手段を含む、項目１２に記載のＲＦ発生器。
（項目１４）
前記周波数同調のための手段は、前記測定角から事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって前記差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するための手段を含む、項目１０に記載のＲＦ発生器。
（項目１５）
前記周波数同調のための手段は、各反復において、前記測定角から事前決定される離調角を減じ、かつ前記事前決定される定数によって前記差異をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するための手段を含む、項目１２に記載のＲＦ発生器。
（項目１６）
前記周波数同調のための手段は、前記複素反射係数平面内の複素反射係数の観点から表現されるように、前記測定されるインピーダンスに対応する複素反射係数と、前記インピーダンス軌道上の事前決定される離調点との間の差異の大きさが、事前決定される閾値より小さいとき、反復周波数調整を終了させるための手段を含む、項目１５に記載のＲＦ発生器。
（項目１７）
前記周波数同調のための手段は、前記測定角を１乗よりも大きい冪に上昇させ、かつ前記事前決定される定数によって前記結果をスケーリングすることによって、前記周波数ステップを産出するための手段を含む、項目１０に記載のＲＦ発生器。
（項目１８）
ＲＦ発生器を周波数同調させるための命令でエンコードされた、非一過性、有形、機械可読の媒体であって、前記命令は、
励振器周波数の関数として、前記プラズマ負荷のインピーダンス軌道を受信することと、
複素反射係数平面内の基準点を受信することであって、前記基準点は、前記複素反射係数平面の基準点および原点を通過する基準ベクトル上に置かれる、ことと、
センサから、前記プラズマ負荷のインピーダンスの測定値を受信することであって、前記測定されるインピーダンスは、前記受信されるインピーダンス軌道に沿って置かれる、ことと、
複素反射係数の観点から表現されるように、前記基準ベクトルと、前記基準点と前記測定されるインピーダンスに対応する前記複素反射係数平面内の点とを通過する線との間の測定角を決定することと、
事前決定される定数によって前記測定角をスケーリングし、周波数ステップを産出することと、
前記初期周波数に前記周波数ステップを追加し、調節される周波数を産出することと、
励振器に、前記調節される周波数で発振する信号を生成させることと
を行わせるための命令を含む、媒体。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
いくつかの実施形態では、周波数ステップ発生器２２８は、事前決定される定数（ループ利得）Ｋによって結果をスケーリングする前に、測定角３３０を１乗よりも大きい冪に上昇させる。この技術は、測定角３３０が小さいときには比較的に小さく、測定角３３０が大きいときには比較的により大きい周波数ステップを提供するための１つの方法である。言い換えると、測定角３３０に対して非線形に変動する周波数ステップは、図４−６および８−１０に関連して説明されるもの等の周波数同調アルゴリズムの性能をさらに改良する。