【事件の表示】
　特願２０１１−１１０７８５「配向層用原版、位相差フィルムの製造方法、長尺状配向膜および長尺位相差フィルム」拒絶査定不服審判事件〔平成２４年１２月１０日出願公開、特開２０１２−２４２５１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成２３年５月１７日を出願日とする出願であって、その手続の経緯は、概略、以下のとおりである。
平成２６年１２月　４日付け：拒絶理由通知書（同年同月９日発送）
平成２７年　１月２７日提出：意見書
平成２７年　１月２７日提出：手続補正書
平成２７年　６月　５日付け：拒絶査定（同年同月９日送達）
平成２７年　７月２３日提出：審判請求書
平成２７年　７月２３日提出：手続補正書（以下、この手続補正書による補正を「本件補正」という。）
第２　補正の却下の決定
［結論］
　本件補正を却下する。
［理由］
［１］　本件補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１及び２を次のとおりに補正しようとする事項を含むものである。（なお、下線は、本件補正による補正箇所及び本件補正前の対応箇所を示す。）
＜本件補正前＞
「【請求項１】
　表面に微細なライン状凹凸構造が形成されたロール基材を有
し、
　前
４５°の方向
　前記微細なライン状凹凸構造は、前記ロール基材表面の全面に
一定の方向
　【請求項２】
　
前記微細なライン状凹凸構造は、ストライプ状のライン状凹凸構造であり、前記ストライプ状のライン状凹凸構造
１００〜１０００ｎｍ
　
＜本件補正後＞　
「【請求項１】
　表面に微細なライン状凹凸構造が形成されたロール基材を有し、
　
前記微細なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された微細なライン状凹凸構造であり、
　前記微細なライン状凹凸構造の形成方向が、前記ロール基材の回転方向に対して
略４５°の方向
　前記微細なライン状凹凸構造は、前記ロール基材表面の全面に
前記略一定方向
　【請求項２】
　
前記略一定方向にランダムに形成された凹凸構造
０．１〜１００ｎｍ
［２］　補正の適否について
１　補正の内容
　本件補正の補正事項は、平成２７年　１月２７日に提出された手続補正書により補正された本件補正前の特許請求の範囲の請求項１及び２の記載を、本願明細書の【００３２】〜【００３７】の記載を根拠として補正するものであって、
　請求項１において、
（１）「微細なライン状凹凸構造」に関して、「
前記微細なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された微細なライン状凹凸構造であ
（２）「微細なライン状凹凸構造の形成方向」が、「ロール基材の回転方向に対して」本件補正前は「
４５°
略４５°
（３）「微細なライン状凹凸構造」が、「ロール基材表面の全面に」、本件補正前は「
一定の方向」
前記略一定方向
　また、請求項２において、
（４）本件補正前の「
前記微細なライン状凹凸構造は、ストライプ状のライン状凹凸構造であり、」との構成を削除し、
（５）「
ライン状凹凸構造」の幅に関して、本件補正前に「前記ストライプ状のライン状凹凸構造」の幅であって、「１００〜１０００ｎｍ」
前記略一定方向にランダムに形成された凹凸構造」
０．１〜１００ｎｍ
２　補正の目的に関して
（１）上記請求項２に関する補正事項（４）及び（５）は、「微細なライン状凹凸構造」が、「ストライプ状」であったものを、「略一定方向にランダムに形成された凹凸構造」に補正するものであるから、「微細なライン状凹凸構造」の形状自体を変更するものである。
　また、「ストライプ状のライン状凹凸構造」の幅が「１００〜１０００ｎｍ」の範囲内としていたものを、「略一定方向にランダムに形成された凹凸構造」の幅が「０．１〜１００ｎｍ」の範囲内と補正するものであるから、補正の前後において形状を異ならせ、その異ならせた形状に合わせて、幅を変更したものであり、「特許請求の範囲の減縮」を目的としたものではないことは明らかであり、他の各号の目的にも該当しない。
　なお、本件補正は、本件補正前の請求項２を削除し、新たな発明特定事項を記載した請求項２を追加した補正とみることもできなくはないが、この場合において、本件補正前の請求項２の削除と新たな請求項２を増項する補正となる。
　ところで、東京高裁平１５年（行ケ）２３０号、知財高裁平１７年(行ケ）１０１９２号の判決によれば、「特許請求の範囲の減縮」（２号）の規定は、請求項の発明特定事項を限定して、これを減縮補正することによって、当該請求項がそのままその補正後の請求項として維持されるという態様による補正を定めたものとみるのが相当であって、補正前の請求項と補正後の請求項とは、一対一又はこれに準ずるような対応関係に立つものでなければならないと解すべきであるとされている。
　上述の増項補正の目的要件についてみると、新たな請求項２を追加する補正は、特許法１７条の２第５項の各目的である「請求項の削除」（１号）、「誤記の訂正」（３号）、「明りょうでない記載の釈明」（４号）に該当しないことは明らかである。
　また、当該補正前の請求項と補正後の請求項とは、一対一又はこれに準ずるような対応関係に立つものではないから、「特許請求の範囲の減縮」（２号）にも該当しない。
　したがって、上記補正事項（４）及び（５）は、いずれも請求人が主張する、限定的減縮および請求項の削除を目的とするものに該当しないことは明らかである。
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
（２）上記（１）で検討したように、本件補正は却下すべきものであるが、請求項１の補正についても以下検討する。
　ア　補正事項（２）及び（３）について
（ア）上記補正事項（２）及び（３）は、方向に関する限定について何れも「略」を付加する補正であるが、ここで、本願明細書における「略」の技術的意義について、微細凹凸形状に関する記載を参照すると、以下のとおり。
　ａ　「一定方向」に関する「略」について
　下記【００３１】、【００３２】には、「一定方向に形成される微細凹凸形状」が「ライン状凹凸構造」であることが説明されている。
　また、下記【００３３】〜【００３５】には、「微小なライン状凹凸構造」として、「微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様」と、「ストライプ状のライン状凹凸構造に形成された態様」の２種類を挙げていることから、「略一定方向」との特定がない「ストライプ状」とする態様は「略」ではない「一定方向」に形成されているものと認められる。
　したがって、「微細凹凸形状」として「
一定方向に形成
略一定方向
略一定方向ではない一定方向
　＜＜本願明細書の記載事項＞＞
「【００３１】
（１）
微細凹凸形状
  
本発明における微細凹凸形状は一定方向に形成されるもの
このような微細凹凸形状が転写されることにより、棒状化合物を一定方向に配列させる
【００３２】
　本発明における
微細凹凸形状は
一定方向に配列させることができるもの
本発明における微細凹凸形状は、ライン状凹凸構造からなるものであることが好ましい
「【００３３】
　本発明におけるライン状凹凸構造が形成される態様としては、
微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様
ライン状凹凸構造がストライプ状に形成された態様
【００３４】
　ここで、
微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様とは
微小な傷のようなライン状凹凸構造が、略一定方向に形成された態様を意味する
　一方、
ライン状凹凸構造がストライプ状に形成された態様とは
凸部が一定の間隔でストライプ状に形成された態様を意味する
微小な傷のような凹凸形状はこれに含まれない
【００３５】
　本発明においては、なかでも、微細凹凸形状が上記ストライプ状のライン状凹凸構造であることが好ましい。
微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様と、ストライプ状のライン状凹凸構造に形成された態様
　してみると、「一定方向」における「略」を付加する補正は、補正前の「微小なライン状凹凸構造」が、「微小なライン状凹凸構造が
略一定方向
略一定方向ではない一定方向
略一定方向
  なお、「一定方向」との構成自体は、出願当初の特許請求の範囲において特定されておらず、本件補正前の補正によって、請求項１に「前記ロール基材表面の全面に
一定の方向
　そして、その際に、「前記微細なライン状凹凸構造は、ストライプ状のライン状凹凸構造であ」るとの新たな請求項２が追加される補正も同時に行われていることから、当該請求項１の補正は、「微小なライン状凹凸構造が
略一定方向
　本件補正前の補正が、仮にそのような事を意図した補正であったとした場合、本件補正によって、上記除かれていた「微小なライン状凹凸構造が
略一定方向
　ｂ　「４５°」における「略」について
　本願明細書には、審判請求書において、主張している補正の根拠箇所である「本願明細書の（００３２）−（００３７）段落であります。」を含め明細書全体において「略４５°」との記載そのものは無い。
　一方、本願明細書の【００３９】には、ストライプ状或いはランダムに関する特定がなされずに、「微細凹凸形状の形成方向として」、「ロール基材の回転方向に対して」、「４５°の方向」、「４５°±３°の範囲内」、「４５°±２°程度の範囲内」、及び、「４５°±１°程度の範囲内」であることが好ましい旨説明されている。
　「４５°」を「略４５°」とすることで、「略」自体がどの程度の範囲を含むのかは明確ではないが、少なくとも【００３９】に記載されていた各範囲を含むことを明確にしようとすることを目的としている補正であると理解することができるが、拒絶理由通知に係る拒絶の理由に示す事項についてする補正には該当しない。
　また、「４５°」を「略４５°」とする補正は、限定的減縮及びその他の目的の何れにも該当しないものである。
　ｃ　補正事項（２）及び（３）についてのまとめ
　本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
イ　請求項１の補正について、審判請求人は、特許請求の範囲の減縮を目的としていると主張している。
　そこで、一応、本件補正によって補正された請求項１に係る発明（以下「本件補正後発明」という。）が、特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反していないか（特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか否か）についても、以下検討する。
３　独立特許要件違反
（１）引用例及びその記載事項
　本件出願の出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用文献２として引用された刊行物である、特開２０１０−１５２２９６号公報（【公開日】平成２２年７月８日、【発明の名称】位相差板の製造方法、以下「引用例」という。）には、以下の事項が記載されている。
ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
  特定の方向に延在する複数の溝を表面に有する基板と、
  前記基板の表面に接して設けられ、前記複数の溝の延在方向に沿って配向すると共に重合した液晶材料を含む位相差層と
  を備えた位相差板。
【請求項２】
・・・（中略）・・・
【請求項６】
  基板表面に、特定の方向に延在する複数の溝を形成する工程と、
  前記複数の溝を形成した基板の表面に、重合性を有する液晶材料を塗布する工程と、
  前記液晶材料を重合させる工程と
  を含む位相差板の製造方法。
【請求項７】
  前記複数の溝は、第１の方向に延在した溝を含む第１の溝領域と、前記第１の方向に直交する第２の方向に延在した溝を含む第２の溝領域とを有し、
  前記第１および第２の溝領域は、それぞれストライプ状であると共に交互に配置されている
  請求項６に記載の位相差板の製造方法。
【請求項８】
  前記基板は、プラスチック材料により構成されている
  請求項７に記載の位相差板の製造方法。
【請求項９】
  型を用いた転写により、前記複数の溝を前記基板の表面に一括形成する
  請求項８に記載の位相差板の製造方法。
【請求項１０】
・・・（中略）・・・
【請求項１４】
  前記型は、その表面を固定砥粒または遊離砥粒で研磨することにより、前記複数の溝の反転パターンが形成されたものである
  請求項９に記載の位相差板の製造方法。」
イ　「【技術分野】
　【０００１】
　本発明は、液晶材料を用いた位相差板およびその製造方法、並びにこのような位相差板を用いた表示装置に関する。」
ウ　「【背景技術】
　【０００２】
　近年、３次元表示が可能なディスプレイの開発が進んでいる。３次元表示方式としては、例えば、右眼用の画像と左眼用の画像とをそれぞれディスプレイの画面に表示し、これを偏光めがねをかけた状態で観察する方式がある（例えば、特許文献１参照）。この方式は、２次元表示が可能なディスプレイ、例えばブラウン管、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に、パターニングされた位相差板を配置することで実現される。このような位相差板では、左右の眼にそれぞれ入射する光の偏光状態を制御するために、リターデンションや光学軸をディスプレイの画素レベルでパターニングすることが必要となる。
　【０００３】
　例えば、特許文献１，２では、液晶材料や位相差材料を、フォトレジストなどを用いて部分的にパターニングすることにより、上記のような位相差板を作製する手法が開示されている。ところが、このような手法では、プロセスステップ数が多く、低コストで製造しにくいという問題があった。そこで、特許文献３には、光配向膜を用いてパターニングを行うことにより位相差板を作製する手法が開示されている。具体的には、基板上に光配向膜を形成したのち、この光配向膜を、偏光紫外線を用いてパターニングする。こののち、パターニングした光配向膜上に、重合性を有する液晶材料（以下、液晶性モノマーという）を塗布し、液晶分子を所望の方向に配向させる。こののち、紫外線を照射して液晶性モノマーを重合させることにより、位相差板を作製する。また、液晶ディスプレイにおいては、ポリイミド配向膜にラビング処理を施すことによりパターニングを行う手法がよく用いられている。」
エ　「【発明が解決しようとする課題】
　【０００５】
　しかしながら、上記特許文献３の光配向膜を用いる手法や、ポリイミド配向膜にラビング処理を施す手法では、配向膜において光吸収や色づきが生じて透過率が低下し、利用効率が低下してしまうという問題があった。また、光配向膜による手法では、パターニングの際に偏光紫外線を用いて部分照射を行う必要があるため、プロセスステップ数が多くなるという問題があった。
　【０００６】
　本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡易な工程で製造することができると共に、光利用効率の低下を抑制することが可能な位相差板およびその製造方法並びに表示装置を提供することにある。」
オ　「【課題を解決するための手段】
　【０００７】
　本発明の位相差板は、・・・（中略）・・・
　【００１０】
　本発明の位相差板の製造方法は、基板の表面に、特定の方向に延在する複数の溝を形成する工程と、複数の溝を形成した基板の表面に、重合性を有する液晶材料を塗布する工程と、液晶材料を重合させる工程とを含むものである。
　【００１１】
　本発明の位相差板の製造方法では、複数の溝を形成した基板の表面に、重合性を有する液晶材料を塗布することにより、液晶分子は、溝の形状により溝の延在方向に基づいて配向する。その後、上記液晶材料を重合させることにより、液晶分子の配向状態が固定される。
【発明の効果】
【００１２】
  本発明の位相差板および位相差板の製造方法によれば、複数の溝を有する基板表面に接して位相差層を設け、すなわち光配向膜やラビング用の配向膜を用いることなく、基板上の溝によって重合性液晶材料を配向させている。これにより、上記のような配向膜を用いる場合に比べ、基板と位相差層との界面付近における光損失を低減させることができる。よって、簡易な工程で製造できると共に、光利用効率の低下を抑制することが可能となる。また、本発明の表示装置によれば、上記位相差板を、表示セルの光源側もしくは表示側に設けるようにしたので、位相差板を例えば偏光めがねを用いた立体視用の位相差板や視野角補償フィルムとして用いる場合に、明るい表示を行うことが可能となる。」
カ　「【００１４】
  以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
  １．実施の形態（位相差領域の光学軸がストライプ方向と＋４５°，−４５°をなす例）
・・・（中略）・・・ 
  ６．変形例５（位相差領域の光学軸が基板面内の一方向にのみ形成されている例）
  ７．変形例６（転写用型の溝を、端面に研削加工痕を有する金属薄板を重ね合わせることにより形成する例）
  ８．変形例７（転写用型の溝を、傾けて回転させた砥石による加工により形成する例）
・・・（中略）・・・
【００１５】
［位相差板１０の構成］
  図１（Ａ）は、本発明の一実施の形態に係る位相差板１０の断面構成の一例を表すものである。図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の基板１１を表面側からみたものである。位相差板１０では、基板１１の表面に溝領域１１Ａ，１１Ｂがパターニングされており、この基板１１の表面に接して位相差層１２が形成されている。
【００１６】
  基板１１は、例えばプラスチックなどの熱可塑性を有する材料、具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレンなどから構成されている。また、位相差板１０を、後述の偏光めがね方式による３次元表示用に用いる場合には、基板１１の位相差はできるだけ小さい方が好ましいので、非晶質シクロオレフィンポリマーや脂環式アクリル樹脂、ノルボルネン系樹脂から構成されることが好ましい。基板１１の厚みは、例えば３０μｍ〜５００μｍである。本実施の形態では、従来のように配向膜を用いて液晶分子を配向させる場合と異なり、高温での加熱処理を必要としないため、ガラス材料などに比べて、加工し易く、かつ安価なプラスチック材料を用いることができる。
【００１７】
  
基板１１は、例えば単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。基板１１が多層構造となっている場合には、基板１１は、例えば、図２に示したように、基材３１の表面に樹脂層３２が形成された２層構造となっている。
なお、図２には、基板１１の最表層に形成された樹脂層３２に、上述した溝領域１１Ａ，１１Ｂがパターニングされている場合が例示されている。
【００１８】
  溝領域１１Ａ，１１Ｂは、基板１１の表面において、例えばストライプ状に、交互に配列している。これらのストライプ幅は、例えば表示装置（後述）における画素ピッチと同等の幅となっている。このうち、溝領域１１Ａは、複数の溝１１１ａが配列したものであり、これら複数の溝１１１ａは、互いに同一の方向ｄ１に沿って延在している。溝領域１１Ｂは、複数の溝１１１ｂが配列したものであり、これら複数の溝１１１ｂが互いに同一の方向ｄ２に沿って延在している。また、方向ｄ１，ｄ２は、互いに直交している。但し、本実施の形態では、方向ｄ１，ｄ２は、溝領域１１Ａ，１１Ｂのストライプ方向Ｓに対してそれぞれ、−４５°，＋４５°の角度をなしている。
【００１９】
  位相差層１２は、ストライプ状の位相差領域１２ａ，１２ｂが交互に配列して構成されたものである。これらの位相差領域１２ａ，１２ｂは、上記溝領域１１Ａ，１１Ｂのそれぞれに対向して設けられ、互いに位相差特性が異なっている。具体的には、位相差領域１２ａでは、溝領域１１Ａにおける溝１１１ａの延在方向ｄ１を光学軸とし、位相差領域１２ｂでは、溝領域１１Ｂにおける溝１１１ｂの延在方向ｄ２を光学軸として、それぞれ所定のリタデーション値が設定されている。本実施の形態では、位相差領域１２ａ，１２ｂは、光学軸方向が異なり、リタデーションの絶対値は互いに等しくなっている。」
キ　「【００２５】
［位相差板１０の製造方法］
  次いで、上記位相差板１０の製造方法について説明する。最初に、熱転写法により基板１１を製造する場合について説明し、続いて、いわゆる２Ｐ成型法（Photo Polymerization：光硬化を利用した成型法）により基板１１を製造する場合について説明する。その後、これらの方法により製造された基板１１を利用して位相差板１０を製造する方法について説明する。
【００２６】
  図５は、熱転写法により基板１１を製造する過程を示したものである。図５に示したように、基板１１の表面に溝領域１１Ａ，１１Ｂをパターニングする。このときの基板１１は、単層構造となっていてもよいし、多層構造（例えば、基材の表面に樹脂層が形成された２層構造）となっていてもよい。このとき、例えば、溝領域１１Ａ，１１Ｂの反転パターンが形成された型ロール１１２を用いた転写により、溝領域１１Ａ，１１Ｂを一括形成する。すなわち、上述した材料よりなる基板１１をガラス転移温度付近まで加熱し、この加熱した基板１１の表面に型ロール１１２を押し当てたのち、冷却、離型することにより、基板１１上の全面に溝領域１１Ａ，１１Ｂを形成する。これにより、図６に示したように、基板１１の表面に溝領域１１Ａ，１１Ｂがストライプ状に交互に形成される。
【００２７】
  上記型ロール１１２の材料としては、例えば、ＮｉＰ、銅（Ｃｕ）およびステンレスなどの金属材料や、石英、シリコン、炭化ケイ素、サファイア、ダイヤモンドなどを用いることができる。型ロール１１２は、このような材料よりなる基材の表面に、例えばバイト切削や各種リソグラフィ法などを用いて反転パターンを形成したのち、この基材をロールに巻き付けることにより形成する。なお、バイト切削の場合には、型ロール１１２の材料としてはＮｉＰを用いることが好ましい。また、転写用の型としては、本実施の形態のようなロール状の型ロール１１２を用いてもよいが、平板状の型を用いるようにしてもよい。但し、ロール状の型を用いた方が、量産性を向上させることができる。
【００２８】
  図７は、２Ｐ成型法により基板１１を製造する装置の一例を表したものである。２Ｐ成型法では、例えば、基材上に紫外線や電子線で硬化する樹脂材料を塗布して樹脂層を形成し、形成した樹脂層の上から溝領域の反転パターンを有する型を押し当てる。この後、紫外線や電子線などのエネルギー線を照射して樹脂層を硬化させることにより、型のパターンを樹脂層の表面に転写するようにしている。以下に、図７に記載の製造装置の構成と、この製造装置を用いた基板１１の製造方法とについて説明する。」
ク　「【００４６】
［位相差板１０の製造方法の作用］
  また、
位相差板１０の製造方法では、溝領域１１Ａ，１１Ｂを形成した基板１１の表面に、液晶層１２−１を塗布形成することにより、液晶性モノマーは、基板１１の表面との界面における作用により、溝１１１ａ，１１１ｂの延在方向に沿って配向する。その後、上記液晶層１２−１を重合させることにより、液晶分子の配向状態が固定される。
ケ　「【００７４】
（変形例５）
  図２０（Ａ）は、変形例５に係る位相差板２０の断面構造を表すものである。図２０（Ｂ）は、基板１７を表面側からみたものである。位相差板２０では、基板１７の表面に溝領域１７Ａがパターニングされており、この基板１７の表面に接して位相差層１８が形成されている。但し、本変形例では、基板１７の全面に渡って溝領域１７Ａが形成されている。溝領域１７Ａは、一の方向ｄ１に沿って延在する複数の溝１７０ａによって構成されている。
【００７５】
  このように、基板１７の表面において、溝領域は必ずしもストライプ状にパターニングされていなくともよい。上記実施の形態で説明した位相差板は、例えば３Ｄディスプレイの構成部品として好適であることは既に述べたが、本変形例の位相差板２０は、上記のような３Ｄディスプレイに限らず、例えば通常の２次元表示用のディスプレイの視野角補償フィルム（例えば、後述のＡプレート）として好適に用いることができる。」
【００７６】
（変形例６）
  
図２１は、変形例６に係る位相差板の製造方法において、各溝領域のパターンを基板へ転写する際に用いる型２１０の平面構成を模式的に表したものである。型２１０の表面には、例えばパターン領域２１０Ａ，２１０Ｂが交互に配列している。パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂにはそれぞれ、位相差板１０の溝領域１１Ａ，１１Ｂの反転パターンとなる凹凸が形成されており、この凸（凹）部の延在方向ｄ１，ｄ２が互いに直交している。
【００７７】
  例えば、図２２（Ａ）に示したように、厚みがパターン領域２１０Ａの幅と等しい複数の金属薄板３１０Ａと、厚みがパターン領域２１０Ｂの幅と等しい複数の金属薄板３１０Ｂとを用意する。金属薄板３１０Ａの一の端面には、パターン領域２１０Ａが形成されており、金属薄板３１０Ｂの一の端面には、パターン領域２１０Ｂが形成されている。次に、図２２（Ｂ）に示したように、金属薄板３１０Ａと、金属薄板３１０Ｂとを、パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂが同一面内に配置されるように、交互に重ね合わせる。このようにして、本変形例に係る型２１０を作製することができる。
【００７８】
  金属薄板３１０Ａ，３１０Ｂは、例えば、次にようにして作製することができる。まず、図２３（Ａ）に示したように、厚みがパターン領域２１０Ａの幅と等しい複数の金属薄板３１１を互いに重ね合わせた積層体３１２を用意する。このとき、金属薄板３１１として、例えば、厚さ０．３ｍｍのＳＵＳ薄板を用い、積層体３１２に含まれる金属薄板３１１の枚数を１０枚とする。次に、図２３（Ｂ）に示したように、積層体３１２を両側から鋼材３２０で挟み固定したのち、図２３（Ｂ）の矢印Ａに示したように、積層体３１２の一の側面に対して、筋目が＋４５°となるように、研削砥石を移動させて研削加工痕を入れる。さらに、図２３（Ｂ）の矢印Ｂに示したように、積層体３１２の他の側面に対して、筋目が−４５°となるように、研削砥石を移動させて研削加工痕を入れる。このとき研削砥石としてアルミナ系砥粒の＃１０００〜＃３０００程度のものを使用する。研削加工後に、積層体３１２に含まれる複数の金属薄板３１１のうち偶数枚目のものはそのままで、奇数枚目のものだけを回転させる。具体的には、図２３（Ｃ）に示したように、筋目が−４５°となるように研削加工痕が入れられた面（パターン領域２１０Ａ）と、筋目が４５°となるように研削加工痕が入れられた面（パターン領域２１０Ｂ）とが互いに同一面内となるように奇数枚目の金属薄板３１１を回転させる。このようにして作製した型２１０を用いて、位相差板１０を製造したところ、液晶分子１２０が研削筋目の方向に配向することを確認することができた。
【００７９】
（変形例７）
 
 変形例７に係る位相差板の製造方法では、図２１に示した型２１０のパターン領域２１０Ａ，２１０Ｂを、固定砥粒や遊離砥粒による加工時の加工痕を用いて形成する。
【００８０】
  例えば、図２４に示したように、未加工の平板３５０を一の方向Ｄ１にスライドさせると共に、円板状の砥石３４０を、砥石３４０の法線と平行な軸ＡＸ２を中心として回転させる。このとき、図２５（Ａ）に示したように、砥石３４０を、中心軸ＡＸ２が方向Ｄ１に対して＋４５°で交差するように傾けて、砥石３４０の周面に形成された砥粒面を平板３５０の上面（のうち未研磨領域）に押し当てることにより、研削加工痕を入れる。また、図２５（Ｂ）に示したように、砥石３４０を、中心軸ＡＸ２が方向Ｄ１に対して−４５°で交差するように傾けて、砥石３４０の周面に形成された平板３５０の上面（のうち未研磨領域）に押し当てることにより、研削加工痕を入れる。このとき研削砥石としてアルミナ系砥粒の＃１０００〜＃３０００程度のものを使用する。このようにして作製した型２１０を用いて、位相差板１０を製造したところ、液晶分子１２０が研削筋目の方向に配向することを確認することができた。
【００８１】
  また、
パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂをロールに形成するときには、例えば、以下のようにすればよい。すなわち、図２６に示したように、未加工のロール３３０を、ロール３３０の中心軸ＡＸ１を中心として回転させると共に、円板状の砥石３４０を、砥石３４０の法線と平行な軸ＡＸ２を中心として回転させる。このとき、図２７（Ａ）に示したように、砥石３４０を、中心軸ＡＸ２が中心軸ＡＸ１に対して＋４５°で交差するように傾けて、砥石３４０の周面に形成された砥粒面をロール３３０の周面（のうち未研磨領域）に押し当てることにより、研削加工痕を入れる。また、図２７（Ｂ）に示したように、砥石３４０を、中心軸ＡＸ２が中心軸ＡＸ１に対して−４５°で交差するように傾けて、砥石３４０の周面に形成された砥粒面をロール３３０の周面（のうち未研磨領域）に押し当てることにより、研削加工痕を入れる。このとき砥石３４０の粒面の幅は、パターン領域２１０Ａ、２１０Ｂの幅に対応する幅とすればよい。このようにして作製した型２１０を用いて、位相差板１０を製造することができる。
（２）引用発明
　引用例には、
　【００７９】の（変形例７）に係る、図２１に示した型２１０のパターン領域２１０Ａ，２１０Ｂを、固定砥粒や遊離砥粒による加工時の加工痕を用いて形成する位相差板の製造方法であって、【００７６】によれば、「型２１０の表面」に「パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂが交互に配列し」、「パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂにはそれぞれ、位相差板１０の溝領域１１Ａ，１１Ｂの反転パターンとなる凹凸が形成されており、この凸（凹）部の延在方向ｄ１，ｄ２が互いに直交している」ものに関し、
　「パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂをロールに形成するとき」として、【００８１】及び【００８１】において参照される図２６，図２７（特に、図２７（Ａ）において、ＡＸ１とＡＸ２のなす角度が＋４５°、（Ｂ）において、ＡＸ１とＡＸ２のなす角度が＋４５°である点）によれば、パターン領域２１０Ａ，２１０Ｂをロールに形成する際、未加工のロール（３３０）に対して、砥石（３４０）を、その法線と平行な回転軸である中心軸ＡＸ２をロール（３３０）の回転軸である中心軸ＡＸ１に対して＋４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てることにより、研削加工痕を入れ、中心軸ＡＸ２が中心軸ＡＸ１に対して−４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てることにより、研削加工痕を入れて、パターン領域（２１０Ａ，２１０Ｂ）をロールに形成することが記載されている。
　また、このようにして作製したロール（３３０）からなる型（２１０）として、砥石（３４０）を、その法線と平行な回転軸である中心軸ＡＸ２をロール（３３０）の回転軸である中心軸ＡＸ１に対して＋４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てて研削加工痕が入れられたパターン領域と、中心軸ＡＸ２が中心軸ＡＸ１に対して−４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てて研削加工痕を入れられたパターン領域が形成され、両パターン領域が交互に配列したロール（３３０）からなる型（２１０）が把握される。
　さらに、【００７６】によれば、型（２１０）は、そのパターン領域（２１０Ａ，２１０Ｂ）にそれぞれ位相差板（１０）の溝領域（１１Ａ，１１Ｂ）の反転パターンとなる凹凸が形成されており、この凸（凹）部の延在方向ｄ１，ｄ２が互いに直交していて、各溝領域のパターンを基板へ転写する際に用いる型であり、【００１７】，【００４６】によれば、単層構造あるいは樹脂層との２層構造の基板の表面の溝領域１１Ａ，１１Ｂの溝１１１ａ，１１１ｂはその延在方向に沿って液晶性モノマーを配向する。
　してみると、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「ロール（３３０）を、ロール（３３０）の中心軸ＡＸ１を中心として回転させると共に、円板状の砥石（３４０）を、砥石（３４０）の法線と平行な軸ＡＸ２を中心として回転させ、砥石（３４０）を、その法線と平行な回転軸である中心軸ＡＸ２をロール（３３０）の回転軸である中心軸ＡＸ１に対して＋４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てて研削加工痕が入れられたパターン領域と、中心軸ＡＸ２が中心軸ＡＸ１に対して−４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てて研削加工痕が入れられたパターン領域が形成され、両パターン領域が交互に配列したロール（３３０）からなる、液晶性モノマーを配向する単層構造あるいは樹脂層との２層構造の基板に用いる型（２１０）」
（３）対比
　本件補正後発明と引用発明とを対比すると、以下のとおりとなる。
　まず、引用発明は、「ロール（３３０）を、ロール（３３０）の中心軸ＡＸ１を中心として回転させると共に、円板状の砥石（３４０）を、砥石（３４０）の法線と平行な軸ＡＸ２を中心として回転させ」、「砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てて研削加工痕が入れられたパターン領域」を具備する。
　ここで、引用発明の「ロール（３３０）」、「周面」、「研削加工痕」及び「入れられ」は、それぞれ、本件補正後発明の「ロール基材」、「表面」、「凹凸構造」及び「形成され」に相当する。また、砥石の砥粒分布がランダムであり、かつ、砥粒及びこれによる研削加工痕が微細なことは技術常識であるから、引用発明の「ロール（３３０）」及び「研削加工痕」は、それぞれ、本件補正後発明の「表面に微細なライン状凹凸構造が形成されたロール基材」及び「前記微細なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された微細なライン状凹凸構造」の要件を満たす。
　次に、引用発明は、「砥石（３４０）を、その法線と平行な回転軸である中心軸ＡＸ２をロール（３３０）の回転軸である中心軸ＡＸ１に対して＋４５°で交差するように傾けて、砥石（３４０）の周面に形成された砥粒面をロール（３３０）の周面のうち未研磨領域に押し当てて研削加工痕が入れられたパターン領域」を具備するから、引用発明において「研削加工痕」が入れられる方向は、ロール（３３０）の回転方向に対して略４５°の方向となる。そして、引用発明は、本件補正後発明の「前記微細なライン状凹凸構造の形成方向が、前記ロール基材の回転方向に対して略４５°の方向であり」の要件を満たす。
　最後に、引用発明の「型（２１０）」は、「ロール（３３０）からなる、液晶性モノマーを配向する単層構造あるいは樹脂層との２層構造の基板に用いる型（２１０）」であるから、引用発明の「型（２１０）」は、本件補正後発明の「配向層用原版」に相当する。
（４）一致点
　本件補正後発明と引用発明とは、以下の点において一致する。
「表面に微細なライン状凹凸構造が形成されたロール基材を有し、
　前記微細なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された微細なライン状凹凸構造であり、
　前記微細なライン状凹凸構造の形成方向が、前記ロール基材の回転方向に対して略４５°の方向である、配向層用原版。」
（５）相違点
　本件補正後発明と引用発明とは、以下の点において相違する。
（相違点）
　本件補正後発明において、「前記微細なライン状凹凸構造は，前記ロール基材表面の全面に前記略一定方向で形成されている」のに対して、引用発明においては、「前記ロール基材表面の全面に前記略一定方向で」は形成されていない点。
（６）判断
　上記相違点について検討する。
　引用例の【００７４】，【００７５】，図２０（Ａ）（変形例５に係る位相差板２０の断面構造を表すもの），図２０（Ｂ）（基板１７を表面側からみたもの）には、（変形例５）（位相差領域の光学軸が基板面内の一方向にのみ形成されている例）に関し、「本変形例では、基板１７の全面に渡って溝領域１７Ａが形成されている。溝領域１７Ａは、一の方向ｄ１に沿って延在する複数の溝１７０ａによって構成されている。」と記載されている。
　そこで、図２０（Ｂ）の位相差板２０を製造する場合の「ロール（３３０）」の構成について検討すると、以下のとおりとなる。
　すなわち、位相差板２０の溝領域１７Ａは、「基板１７の全面に渡って」「形成され」、かつ、「一の方向ｄ１に沿って延在する複数の溝１７０ａによって構成され」るから、引用発明の「ロール（３３０）」の研削加工痕についても、全て「略一定方向」とすることとなる。また、その際には、研削加工痕を「ロール（３３０）」の全面に設けるべきである（例えば、図５においても、型ロール１１２の全面に溝が設けられている。）。
　以上のとおり引用発明の構成を変更し、本件補正後発明の構成に到ることは、引用例の【００７４】，【００７５】，図２０の記載に接した当業者が、容易に発明できた事項である。
　また、本件補正後発明が奏する作用・効果として、「微細状凹凸形状が一定方向に形成されていることにより、棒状化合物を一定方向に配列できる優れた配向規制力を有する配向層を有する配向膜を、低コストで製造することができ、また、製造時に粉塵や静電気の発生の少ないものとすることができる。」（本件出願の発明の詳細な説明の【００１２】）、「長手方向に対して４５°の方向に上記微細凹凸形状が転写された配向層を形成することができ、例えば、アクティブ方式の３次元表示装置に好適に用いられるものとすることができる。」（本件出願の発明の詳細な説明の【００１２】）、「より簡単に微細なライン状凹凸構造を形成することができます。」（審判請求書「３．本願が特許されるべき理由」の「（２）本願発明の説明」の欄）という作用効果や、「本発明の原版のように回転方向に対して４５°の方向に微細凹凸が形成されていることにより、このような原版を用いて形成された配向層も長手方向に対して４５°の方向に棒状化合物を配列させることができるものとすることができる。また、このような配向層上に位相差層を形成した場合には、長手方向に対して４５°の方向に配列した棒状化合物を含む位相差層とすることができる。このため、長手方向に対して、垂直方向に位相差フィルムを裁断することのみで、遅相軸方向が第１位相差領域の遅相軸方向と平行または直交の関係となるλ／４板とすることができ、ロスなく３次元表示装置に用いられるλ／４板を得ることができるのである。」（本件出願の発明の詳細な説明の【００２８】）という作用効果が挙げられている。
　しかしながら、引用発明においても、型による転写を用いることにより、「光配向膜やラビング用の配向膜を用いることなく、基板上の溝によって重合性液晶材料を配向させている」（引用例の【００１２】）ことから、コスト、製造時の粉塵や静電気の発生、簡便性に関して、本件補正後発明と同様な作用・効果を当然に奏するはずである。
　また、回転方向に対して４５°の方向に微細凹凸が形成されていることによって、このような原版を用いて形成された配向層も長手方向に対して４５°の方向に棒状化合物を配列させることができるものとすることができ、このため、長手方向に対して、垂直方向に位相差フィルムを裁断することのみで、ロスなくλ／４板を得ることができることも、当業者にとって自明、あるいは、予測可能なことである。
　そうすると、本件補正後発明の上記作用・効果は格別のものとは認められない。
（７）　小括
　本件補正後発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際に独立して特許を受けることができない。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するので、同法第１５９条１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条１項の規定により却下すべきものである。
４　まとめ
　上記２から、本件補正は、特許法１７条の２第５項の規定に違反するので、同法１５９条１項において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。
　また、上記３から、本件補正は、特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するので、同法１５９条１項の規定において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜７のうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２７年　１月２７日に提出された手続補正書により補正されたその特許請求の範囲の請求項１に記載された、上記「第２［理由］［１］＜本件補正前＞」に記載したとおりのものであり、再掲すると次のとおりのものである。
「【請求項１】
　表面に微細なライン状凹凸構造が形成されたロール基材を有し、
　前記微細なライン状凹凸構造の形成方向が、前記ロール基材の回転方向に対して４５°の方向であり、
　前記微細なライン状凹凸構造は、前記ロール基材表面の全面に一定の方向で形成されていることを特徴とする配向層用原版。」
２　引用刊行物及びその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２、記載事項及び引用発明は、上記「第２［理由］３（１）」及「同（２）」に記載されたとおりである。
３　対比・判断
（１）本願発明は、上記「第２［理由］３」で検討した本願補正後発明の「微細なライン状凹凸構造」に関して、
　ア　「前記微細なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された微細なライン状凹凸構造であ」るとの限定を削除し、
　イ　「微細なライン状凹凸構造の形成方向」が、「ロール基材の回転方向に対して」「略４５°の方向」とあるものを、「略」を削除して「４５°の方向」とし、さらに、
　ウ　「微細なライン状凹凸構造」が、「ロール基材表面の全面に」、「前記略一定方向」で形成されていたものを、「略」を削除し「一定の方向」で形成されたとするものでる。
（２）ア　ここで、上記（１）イの点については、上記第２［理由］［２］２（２）ア（ア）ｂで検討したように、明りょうでない記載の釈明を目的としたものであり、「略」が除かれても、【００３９】に記載されていた各範囲を含むという点でその技術的意義に変わりはない場合（以下「広義の場合」という。）と、狭義には「４５°」であることを意味している場合（以下「狭義の場合」という。）の何れかであるか不明瞭な記載となる。
　イ　次に、上記（１）ウの点については、上記第２［理由］［２］２（２）ア（ア）ａで検討したように、「略」が除かれた場合、「一定方向」が「微小なライン状凹凸構造が
略一定方向
略一定方向ではない一定方向
（３）そうすると、上記（１）ア、（２）アで広義の場合及び（２）イで広義の場合には、本願発明の構成要件をすべて含み、これをより限定したものである本件補正後発明が、上記「第２［理由］［２］３　独立特許要件違反」において検討したとおり、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用文献２に記載された引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）また、上記（１）ア、（２）アで狭義の場合及び（２）イで狭義の場合について検討すると、上記「第２［理由］［２］３　独立特許要件違反」において検討した引用発明と本願発明とを対比すると、本願発明が、「微細なライン状凹凸構造は、前記ロール基材表面の全面に
一定の方向
ライン状凹凸構造
微細なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された微細なライン状凹凸構造」に相当）である点で相違しているが、
【００８４】
　例えば、図２８（Ａ）に示したように、
周面の延在方向に対して４５°で交差する方向に延在する複数の溝３６１が形成された円板状の型３６０を用意
図２９に示したように、未加工のロール３３０を、ロール３３０の中心軸ＡＸ１を中心として回転させると共に、円板状の型３６０を、型３６０の法線と平行な軸ＡＸ３を中心として回転させる。このとき、軸ＡＸ３が中心軸ＡＸ１と平行となり、かつ型３６０とロール３３０の周速度が同じになるように、型３６０を回転させる。そして、型３６０をロール３３０の周面（のうち未研磨領域）に押し当てることにより、型３６０の溝３６１をロール３３０に圧力転写する
【０１０１】
　以上の手法にて作製した
型の凹凸は、その周期構造のピッチが約７００ｎｍ、深さが５０〜２５０ｎｍ程度
【図２８】
　してみると、引用例の上記【００８４】、【０１０１】の記載及び図２８（Ａ）から、引用例には、型の凹凸の
その周期構造のピッチが約７００ｎｍ、深さが５０〜２５０ｎｍ程度
４５°の方向
一定の方向
　したがって、本願発明は、引用発明と同一であるか、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
第４　結言
　以上のとおり、本願発明は、引用発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないか、或いは、本願発明は、引用文献２に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　したがって、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。