【手続補正書】
【提出日】令和2年5月18日(2020.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ維持プラズマ形成システムであって、
第１ガス成分及び第２ガス成分を含有するガス混合物の塊を封じ込めるよう構成されたガス封入要素と、
ポンプ照明を生成するよう構成された照明源と、
上記照明源からのポンプ照明を上記ガス混合物塊内へと集束させることでそのガス混合物塊内にプラズマを発生させそのプラズマから広帯域輻射を放射させるよう構成された集光素子と、を備え、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方が第２ガス成分により抑圧される、
システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、上記第２ガス成分は、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、１個又は複数個の伝搬素子の吸収スペクトラム内の波長を有する輻射を抑圧する、
システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、上記１個又は複数個の伝搬素子は、集光素子、透過素子、反射素子及び集束素子の少なくともいずれかである、
システム。
【請求項４】
請求項２に記載のシステムであって、上記１個又は複数の伝搬素子は、水晶、サファイア、熔融シリカ、フッ化カルシウム、フッ化リチウム及びフッ化マグネシウムのうち少なくとも一種類で形成されている、
システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムであって、上記ガス混合物は、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、１個又は複数個の追加的要素の吸収スペクトラム内の波長を有する輻射を抑圧する、
システム。
【請求項６】
請求項５に記載のシステムであって、上記１個又は複数個の追加的要素は、フランジ及びシールのうち少なくとも一方を含む、
システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、上記プラズマにより放射される広帯域輻射に、赤外波長、可視波長、ＵＶ波長、ＤＵＶ波長、ＶＵＶ波長及びＥＵＶ波長のうち少なくとも一種類が含まれるシステム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記プラズマによる上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分でありＶＵＶ波長を含む部分が、第２ガス成分により抑圧されるシステム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記プラズマの上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分であり６００ｎｍ未満の波長を含む部分が、第２ガス成分により抑圧されるシステム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方が第２ガス成分により吸収されるシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、第２ガス成分が第１ガス成分関連エキシマによる輻射性放射を消沈させるシステム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のシステムであって、第２ガス成分が、第１ガス成分関連エキシマによる輻射性放射を、衝突解離、光分解プロセス及び共鳴エネルギ伝達のうち少なくとも一つにより消沈させるシステム。
【請求項１３】
請求項１に記載のシステムであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち２５％未満を組成するシステム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のシステムであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち０．５％〜２０％を組成するシステム。
【請求項１５】
請求項１３に記載のシステムであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち５％未満を組成するシステム。
【請求項１６】
請求項１３に記載のシステムであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち１０％〜１５％を組成するシステム。
【請求項１７】
請求項１に記載のシステムであって、上記ガス混合物が更に第３ガス成分を含有しており、そのガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第２ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第２ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方がその第３ガス成分により抑圧されるシステム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のシステムであって、第３ガス成分が、
上記ガス混合物のうち５ｍｇ／ｃｍ３未満を組成するシステム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムであって、第３ガス成分が、
上記ガス混合物のうち２ｍｇ／ｃｍ３未満を組成するシステム。
【請求項２０】
請求項１７に記載のシステムであって、第１ガス成分が、
アルゴンで組成されるシステム。
【請求項２１】
請求項２０に記載のシステムであって、第２ガス成分が、
キセノンで組成されるシステム。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシステムであって、第３ガス成分が、
水銀で組成されるシステム。
【請求項２３】
請求項１に記載のシステムであって、上記ガス封入要素がチャンバ、プラズマバルブ及びプラズマセルのうち少なくとも一つを有するシステム。
【請求項２４】
請求項１に記載のシステムであって、上記プラズマにより放射された広帯域輻射のうち少なくとも一部分を集め、その広帯域輻射を１個又は複数個の追加的光学素子へと差し向けるよう、上記集光素子が構成されているシステム。
【請求項２５】
請求項１に記載のシステムであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムにおける輻射の抑圧により、自システムの１個又は複数個の構成部材に対する損傷が阻害されるシステム。
【請求項２６】
請求項２５に記載のシステムであって、上記損傷にソラリゼーションが含まれるシステム。
【請求項２７】
請求項１に記載のシステムであって、上記照明源が、
１個又は複数個のレーザを備えるシステム。
【請求項２８】
請求項２７に記載のシステムであって、上記１個又は複数個のレーザが、
１個又は複数個の赤外レーザを含むシステム。
【請求項２９】
請求項２７に記載のシステムであって、上記１個又は複数個のレーザが、
ダイオードレーザ、連続波レーザ及び広帯域レーザのうち少なくとも一種類を含むシステム。
【請求項３０】
請求項１に記載のシステムであって、上記照明源が、
第１波長にてポンプ照明を放射しその第１波長とは別の追加的波長にて照明を放射するよう構成された照明源を備えるシステム。
【請求項３１】
請求項１に記載のシステムであって、上記照明源が、
自照明源により放射されるポンプ照明の波長を可調とする可調照明源を備えるシステム。
【請求項３２】
請求項１に記載のシステムであって、上記集光素子が上記ガス封入要素外に位置するシステム。
【請求項３３】
請求項１に記載のシステムであって、上記集光素子が上記ガス封入要素内に位置するシステム。
【請求項３４】
請求項１に記載のシステムであって、上記集光素子が、
楕円体状集光素子及び球状集光素子のうち少なくとも一方を備えるシステム。
【請求項３５】
レーザ維持プラズマを形成するプラズマランプであって、
第１ガス成分及び第２ガス成分を含有するガス混合物の塊を封じ込めるよう構成されたガス封入要素を備え、そのガス混合物が更に、ポンプ照明を受光してそのガス混合物塊内にプラズマを発生させそのプラズマから広帯域輻射を放射させるよう構成されており、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方が、第２ガス成分により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項３６】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、上記プラズマにより放射される上記広帯域輻射に、赤外波長、可視波長、ＵＶ波長、ＤＵＶ波長、ＶＵＶ波長及びＥＵＶ波長のうち少なくとも一種類が含まれるプラズマランプ。
【請求項３７】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記プラズマによる上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分でありＶＵＶ波長を含む部分が、第２ガス成分により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項３８】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記プラズマの上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分であり６００ｎｍ未満の波長を含む部分が、第２ガス成分により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項３９】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方が第２ガス成分により吸収されるプラズマランプ。
【請求項４０】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が第１ガス成分関連エキシマの輻射性放射を消沈させるプラズマランプ。
【請求項４１】
請求項４０に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が、第１ガス成分関連エキシマの輻射性放射を、衝突解離、光分解プロセス及び共鳴エネルギ伝達のうち少なくとも一つにより実質的に消沈させるプラズマランプ。
【請求項４２】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち２５％未満を組成するプラズマランプ。
【請求項４３】
請求項４２に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち０．５％〜２０％を組成するプラズマランプ。
【請求項４４】
請求項４２に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち５％未満を組成するプラズマランプ。
【請求項４５】
請求項４２に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が、
上記ガス混合物のうち１０％〜１５％を組成するプラズマランプ。
【請求項４６】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物が更に第３ガス成分を含有しており、そのガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第２ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第２ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方がその第３ガス成分により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項４７】
請求項４６に記載のプラズマランプであって、第３ガス成分が、
上記ガス混合物のうち５ｍｇ／ｃｍ３未満を組成するプラズマランプ。
【請求項４８】
請求項４７に記載のプラズマランプであって、第３ガス成分が、
上記ガス混合物のうち２ｍｇ／ｃｍ３未満を組成するプラズマランプ。
【請求項４９】
請求項４６に記載のプラズマランプであって、第１ガス成分が、
アルゴンで組成されるプラズマランプ。
【請求項５０】
請求項４９に記載のプラズマランプであって、第２ガス成分が、
キセノンで組成されるプラズマランプ。
【請求項５１】
請求項５０に記載のプラズマランプであって、第３ガス成分が、
水銀で組成されるプラズマランプ。
【請求項５２】
請求項３５に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、自プラズマランプの透過素子の吸収スペクトラム内の波長を含む輻射が、第２ガス成分により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項５３】
請求項５２に記載のプラズマランプであって、自プラズマランプの上記透過素子が、水晶、サファイア、熔融シリカ、フッ化カルシウム、フッ化リチウム及びフッ化マグネシウムのうち少なくとも一種類で形成されているプラズマランプ。
【請求項５４】
請求項５２に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムにおける輻射の抑圧により、自プラズマランプの上記透過素子に対する損傷が阻害されるプラズマランプ。
【請求項５５】
請求項５４に記載のプラズマランプであって、上記損傷にソラリゼーションが含まれるプラズマランプ。
【請求項５６】
請求項５２に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、自プラズマランプの透過素子の吸収スペクトラム内の波長を含む輻射が、第２ガス成分により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項５７】
レーザ維持プラズマ輻射生成方法であって、
ポンプ照明を生成するステップと、
第１ガス成分及び第２ガス成分を含有するガス混合物の塊をガス封入構造内に封入するステップと、
上記ポンプ照明のうち少なくとも一部分を上記ガス混合物塊内の１個又は複数個の焦点に集束させることで、そのガス混合物塊内でプラズマを持続させそのプラズマにより広帯域輻射を放射させるステップと、
上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップと、
を有する方法。
【請求項５８】
請求項５７に記載の方法であって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップが、
上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分でありＶＵＶ波長を含む部分を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップを有する方法。
【請求項５９】
請求項５７に記載の方法であって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップが、
上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分であり６００ｎｍ未満の波長を含む部分を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップを有する方法。
【請求項６０】
請求項５７に記載の方法であって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップが、
上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方を第２ガス成分の働きで吸収するステップを有する方法。
【請求項６１】
請求項５７に記載の方法であって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第１ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第１ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射を、第２ガス成分の働きで抑圧するステップが、
第１ガス成分関連エキシマの輻射性放射を第２ガス成分の働きで消沈させるステップを有する方法。
【請求項６２】
請求項６１に記載の方法であって、第１ガス成分関連エキシマの輻射性放射を第２ガス成分の働きで消沈させるステップが、
第１ガス成分関連エキシマの輻射性放射を、衝突解離、光分解プロセス及び共鳴エネルギ伝達のうち少なくとも一つにより消沈させるステップを有する方法。
【請求項６３】
請求項５７に記載の方法であって、上記ガス混合物が更に第３ガス成分を含有する方法であり、更に、
上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射の第２ガス成分関連部分、並びに一種類又は複数種類の第２ガス成分関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射を、第３ガス成分の働きで抑圧するステップを有する方法。
【請求項６４】
レーザ維持プラズマを形成するプラズマランプであって、
アルゴン及びキセノンを含有するガス混合物の塊を封じ込めるよう構成されたガス封入要素を備え、そのガス混合物が更に、ポンプ照明を受光してそのガス混合物塊内にプラズマを発生させそのプラズマから広帯域輻射を放射させるよう構成されており、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射のガス混合物内アルゴン関連部分、並びに一種類又は複数種類のガス混合物内アルゴン関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方がガス混合物内キセノンにより抑圧されるプラズマランプ。
【請求項６５】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記プラズマにより放射される広帯域輻射に、赤外波長、可視波長、ＵＶ波長、ＤＵＶ波長、ＶＵＶ波長及びＥＵＶ波長のうち少なくとも一種類が含まれるプラズマランプ。
【請求項６６】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射のガス混合物内アルゴン関連部分でありＶＵＶ波長を含む部分が、上記ガス混合物内キセノンにより抑圧されるプラズマランプ。
【請求項６７】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射のガス混合物内アルゴン関連部分であり６００ｎｍ未満の波長を含む部分が、上記ガス混合物内キセノンにより抑圧されるプラズマランプ。
【請求項６８】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記広帯域輻射のガス混合物内アルゴン関連部分、並びに一種類又は複数種類のガス混合物内アルゴン関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方が上記ガス混合物内キセノンにより吸収されるプラズマランプ。
【請求項６９】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内キセノンがガス混合物内アルゴン関連エキシマの輻射性放射を消沈させるプラズマランプ。
【請求項７０】
請求項６９に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内キセノンが、ガス混合物内アルゴン関連エキシマの輻射性放射を、衝突解離、光分解プロセス及び共鳴エネルギ伝達のうち少なくとも一つにより実質的に消沈させるプラズマランプ。
【請求項７１】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内キセノンが、
上記ガス混合物のうち２５％未満を組成するプラズマランプ。
【請求項７２】
請求項７１に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内キセノンが、
上記ガス混合物のうち０．５％〜２０％を組成するプラズマランプ。
【請求項７３】
請求項７１に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内キセノンが、
上記ガス混合物のうち５％未満を組成するプラズマランプ。
【請求項７４】
請求項７１に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内キセノンが、
上記ガス混合物のうち１０％〜１５％を組成するプラズマランプ。
【請求項７５】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物が更に水銀を含有しており、そのガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、上記広帯域輻射のガス混合物内キセノン関連部分、並びに一種類又は複数種類のガス混合物内キセノン関連エキシマによる輻射、のうち少なくとも一方の放射が、そのガス混合物内水銀により抑圧されるプラズマランプ。
【請求項７６】
請求項７５に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内水銀が、
上記ガス混合物のうち５ｍｇ／ｃｍ３未満を組成するプラズマランプ。
【請求項７７】
請求項７６に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物内水銀が、
上記ガス混合物のうち２ｍｇ／ｃｍ３未満を組成するプラズマランプ。
【請求項７８】
請求項６４に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、自プラズマランプの透過素子の吸収スペクトラム内の波長を含む輻射が、上記ガス混合物内キセノンにより抑圧されるプラズマランプ。
【請求項７９】
請求項７８に記載のプラズマランプであって、自プラズマランプの上記透過素子が、水晶、サファイア、熔融シリカ、フッ化カルシウム、フッ化リチウム及びフッ化マグネシウムのうち少なくとも一種類で形成されているプラズマランプ。
【請求項８０】
請求項７８に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムにおける輻射の抑圧により、自プラズマランプの上記透過素子に対する損傷が阻害されるプラズマランプ。
【請求項８１】
請求項８０に記載のプラズマランプであって、上記損傷にソラリゼーションが含まれるプラズマランプ。
【請求項８２】
請求項７８に記載のプラズマランプであって、上記ガス混合物から出て行こうとしている輻射のスペクトラムのうち、自プラズマランプの透過素子の吸収スペクトラム内の波長を含む輻射が、上記ガス混合物内キセノンにより抑圧されるプラズマランプ。