【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年1月14日(2020.1.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子顕微鏡用の試料を薄片化する装置であって、前記試料は前縁と、後縁と、これら前縁及び後縁の間を延びる少なくとも一つの軸と、を有し、
前記装置は、
(i)  イオンビームを放射するイオンビーム生成装置であって、当該イオンビームが、
(a)  前記試料の表面の標的領域に向けられ、
(b)  前記試料の前記標的領域から物質の除去を行う、
イオンビーム生成装置と、
(ii)  前記試料の前記前縁と前記後縁との間を延びる前記少なくとも１つの軸に沿う方向に前記標的領域を横切るようにラスターされた少なくとも一つの電子ビームを連続して放射する電子ビーム生成装置と、
(iii)  電子ビーム検出器と、を備え、
前記電子ビーム検出器は、
(a)  前記イオンビーム生成器と電気的に通信状態であり、
(b)  前記試料に対して前記電子ビーム生成器と反対に設置され、
(c)  前記電子ビームが、前記標的領域内で試料を通過するか、前記標的領域内で試料により偏向されるか、前記標的領域内で試料の近傍を通過する、のうちの少なくともひとつの条件を満たした時に、前記電子ビームから電子を受け、かつ、
(d)  一連の測定結果を含む少なくとも１つの第１の電子シグナルを発信し、
前記測定結果は、それぞれ
(i)  前記標的領域内であり、かつ、前記標的領域に隣接する前記試料の前記前縁と前記後縁との間を延びる前記少なくとも一つの軸に沿った前記電子ビームの連続的なラスターに対応する複数の場所に関連付けられ、
(ii)  前記試料の少なくとも一つの軸に沿って取られた、前記電子ビームの連続的な各々のラスターの間に経過した時間の間に、前記電子ビーム検出器により受信された電子の量が、前記標的領域の試料を通過するか、前記標的領域の試料により偏向されるか、前記標的領域の試料の近傍を通過する、のうちの少なくともひとつの条件を満たしたことを示唆し、
(iii)  前記イオンビームが前記試料の前記標的領域から材料を除去する程度を示唆する前記試料の物理的プロフィールに対応する少なくとも概して均一な傾きと、不均一な傾きとを含むラインの形態で表され、
(e)  前記一連の測定結果のそれぞれを、前記第１の電子シグナルの予め選択された傾きと比較し、前記第１の電子シグナルが前記予め選択された傾きと適合する場合に、前記イオンビーム生成器に前記イオンビームの生成を終了させる第２の電子シグナルを送信する、
装置。
【請求項２】
イオンビームは、アルゴン、キセノン、ネオンを含むグループから選ばれたガスから生成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記試料はさらに前縁とその近傍の上面と底面を備え、前記イオンビームは前記前縁、前記上面、及び前記底面の少なくとも一つに向けられ、前記電子ビームは少なくとも前記上面と底面の一つに向けられている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記試料用に搭載面を備え、前記搭載面は前記イオンビームと前記電子ビームの少なくとも一つに対して三次元で調整可能である、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記電子ビームは走査型電子顕微鏡によって生成される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記電子ビーム検出器にはさらに走査透過型電子顕微鏡(STEM)検出器を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記試料の表面から反射していた電子を受けて、画像を作る少なくとももうひとつの検出器をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
電子顕微鏡用試料の薄片化法であって、
(i)  生成したイオンビームを前記試料の標的面に向けるステップと、
(ii)  前記試料の前記標的面で前記イオンビームにより前記試料から物質を除去するステップと、
(iii)  前記試料の前縁と後縁との間を前記標的面を横切って電子源からの電子ビームを連続的にラスターするステップと、
(iv)  前記試料に対して前記電子源の反対に電子ビーム検出器を設置するステップと、
(v)  前記電子ビーム検出器で、前記試料を通過するまたは近傍を通る前記電子ビームの少なくともひとつから電子を検出するステップと、
(vi)  (A)  前記検出器で受信した電子の量、及び、(B)  前記試料から物質を前記イオンビームが除去した程度を、示唆する電気シグナルの傾き条件を予め設定するステップと、
(vii)  前記電気シグナルを前記電子ビーム検出器から引き出すステップと、を含み、
前記電気シグナルは、前記標的面内の前記試料の前記前縁と前記後縁との間を延びる少なくとも１つの軸に沿う前記電子ビームの連続的なラスターに対応した複数の位置と関連付けられ、前記電気シグナルは、前記イオンビームが前記試料の前記標的領域から材料を除去する程度に対応する、前記電子ビームの連続的な各々のラスターの間に経過する時間の間に前記電子ビーム検出器により受けられた電子の量を示唆するラインの形態で表され、前記ラインは少なくとも概して均一な傾きと、不均一な傾きとを含み、
さらに、
(viii)  前記電子ビーム検出器からの前記引き出された電気シグナルを前記電気シグナルの予め設定した傾き条件と比較するステップと、
(ix)  前記電気シグナルの前記予め設定した傾き条件に到達した際に、前記イオンビームの生成を終了するステップと、
を含む、方法。
【請求項９】
前記イオンビームが前記試料の前縁に向けられ、前記電子ビームが前記イオンビームに垂直な方向から前記試料の前記前縁に向けられる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記電子ビームと前記イオンビームの少なくともひとつが、前記試料の少なくとも一表面にわたってスキャンされる、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記試料の前縁、上面又は底面の少なくとも一つに沿って前記イオンビームがスキャンした方向に垂直な方向で、前記電子ビームが、前記試料の上面と底面の少なくとも一つにわたってスキャンされる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記試料の前縁に沿って前記イオンビームがスキャンした方向に垂直な方向で、前記電子ビームが連続してスキャンされる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記電気シグナルが前記試料への電子の通過に対して変化し、前記電気シグナルのそのような変動の傾きは前記イオンビームによる前記試料からの物質の除去の程度を示している、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記予め設定された傾き条件は、前記電気シグナルの前記変動を示すラインの傾き値である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記電気シグナルの予め設定された前記傾き条件が均一な時、前記イオンビームの操作の前記終了を生じる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記試料の表面を反映する電子を検出し、そこから画像を引き出すステップをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１７】
前記電子ビームは、予め設定された時間間隔で、前記試料の前記標的領域を横切ってスキャンされる、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記電子ビームは、予め設定された時間間隔で、前記試料の前記標的領域を横切ってスキャンされる、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の電子シグナルは、前記試料の物理的寸法を示す、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
予め設定された前記傾き条件は物理的寸法の閾値に相互関連する、請求項１に記載の装置。