【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月21日(2020.4.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
ｈ２．）ｘが２を意味する場合、キラル触媒の存在下で有機金属試薬と反応させ、次いで一般式ＩＶｂ．
【化２３】
2017531661.tif 000001
［式中、Ｒ2およびＲ4の意味は上と同義である］
の生成した化合物の保護基Ｒ4を除去し、
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2017531661.tif 000002
のトレプロスチニル、ならびに塩基を使用して得られたその非晶質塩形態、塩無水物、ならびに塩の一水和物および多水和物の製造方法であって、
一般式ＸＶＩＩ
【化２】
2017531661.tif 000003
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
ｘは０または２を表す］
の化合物を一般式ＸＶＩ
【化３】
2017531661.tif 000004
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表す］
の化合物と、
ａ１．）グリニャール試薬の存在下で反応させ、一般式ＸＶ
【化４】
2017531661.tif 000005
［式中、ｘ、Ｒ1およびＲ2は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を酸化させ、
一般式ＸＩＶ
【化５】
2017531661.tif 000006
［式中、ｘ、Ｒ1およびＲ2は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を選択的に還元し、
または
ａ２．）キラル塩基および亜鉛塩の存在下で反応させ、工程ａ１．）またはａ２．）で得られた一般式ＸＩＩＩ
【化６】
2017531661.tif 000007
［式中、ｘ、Ｒ1およびＲ2は上で定義した意味を有する］
の化合物を、基Ｒ3を導入するのに適した化合物と反応させ、ここで、Ｒ3はケイ素原子含有保護基を表し、
ｂ．）一般式ＸＩＩ
【化７】
2017531661.tif 000008
［式中、ｘ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を分子内環化に供し、
ｃ．）一般式ＸＩ
【化８】
2017531661.tif 000009
［式中、ｘ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を触媒的に水素化し、ｘ＝０の場合は異性化し、
ｄ．）一般式Ｘａ．またはＸｂ．
【化９】
2017531661.tif 000010
［式中、Ｒ1、Ｒ2は上で定義した意味を有し、式Ｘａ．の化合物においてはｘ＝０、式Ｘｂ．の化合物においてはｘ＝２である］
の生成した化合物を還元し、
ｅ．）一般式ＩＸ
【化１０】
2017531661.tif 000011
［式中、ｘ、Ｒ1およびＲ2は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を、基Ｒ4を導入するのに適した化合物と反応させ、ここで、Ｒ4はｐ−フェニルベンゾイル基を表す、
ｆ．）一般式ＶＩＩＩ
【化１１】
2017531661.tif 000012
［式中、ｘ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物から、該Ｒ1保護基を酸性媒体中で切断し、
ｇ．）一般式ＶＩＩ
【化１２】
2017531661.tif 000013
［式中、ｘ、Ｒ2およびＲ4は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を酸化させ、
ｈ．）一般式ＶＩ
【化１３】
2017531661.tif 000014
［式中、ｘ、Ｒ2およびＲ4は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を、
ｈ１．）ｘが０を意味する場合は、ウィッティヒ反応において一般式
ＣＨ3−（ＣＨ2）4−ＣＯ−ＣＨ2−ＰＯ（ＯＲ6）2
［式中、Ｒ6はＣ1〜4アルキル基またはフェニル基を表す］
の化合物と反応させ、一般式Ｖ
【化１４】
2017531661.tif 000015
［式中、Ｒ2およびＲ4は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を選択的に還元し、一般式ＩＶａ．
【化１５】
2017531661.tif 000016
［式中、Ｒ2およびＲ4は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物のＲ4保護基を除去し、一般式ＩＩＩ
【化１６】
2017531661.tif 000017
［式中、Ｒ2は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物を水素化するか、または
ｈ２．）ｘが２を意味する場合、キラル触媒の存在下で有機金属試薬と反応させ、一般式ＩＶｂ．
【化１７】
2017531661.tif 000018
［式中、Ｒ2およびＲ4は上で定義した意味を有する］
の生成した化合物の保護基Ｒ4を除去し、
ｉ）工程ｈ１．）またはｈ２．）で得られた一般式ＩＩ
【化１８】
2017531661.tif 000019
［式中、Ｒ2は上で定義した意味を有する］
の化合物を公知の方法によって式Ｉのトレプロスチニルに変換させ、所望の場合には、塩基を使用して得られるその塩に変換させる
ことを特徴とする、前記方法。
【請求項２】
Ｒ1保護基としてメトキシメチル基またはテトラヒドロピラニル基、Ｒ2保護基としてメチル基、Ｒ3保護基としてケイ素原子含有保護基、Ｒ4保護基としてｐ−フェニルベンゾイル基が適用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記工程ａ１において、グリニャール試薬としてメチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミド、シクロヘキシルマグネシウムブロミドが適用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記工程ａ１において、式ＸＶの化合物の酸化はスワーン酸化により実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記工程ａ１において、還元はキラルなオキサザボロリジン触媒の存在下でボラン化合物を使用して実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ボラン化合物として、ボラン−ジメチルスルフィド錯体、カテコールボランまたはボラン−ジエチルアニリン錯体が適用されることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記工程ａ２において、キラル塩基としてキラルなアミノアルコールまたはジアミンが適用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記工程ａ２において、亜鉛塩として亜鉛トリフラートが適用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記工程ｂにおいて、分子内環化はポーソン・カンド環化方法により実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ポーソン・カンド環化はジコバルトオクタカルボニルを使用することにより実行されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ジコバルトオクタカルボニルが等モル量でまたは等モル未満もしくは等モル超の量で適用されることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
反応は一酸化炭素雰囲気中で実行されることを特徴とする、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
反応は酢酸エチル中で実行されることを特徴とする、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記工程ｃにおいて、式ＸＩの化合物の水素化用の触媒として、Ｐｄ／Ｃ触媒または酸化白金触媒が適用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記工程ｄにおいて、式Ｘの化合物の還元は水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、アルミニウムイソプロピレートまたは水素化ホウ素ナトリウムを使用して実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記工程ｅにおいて、基Ｒ4の導入に適した化合物としてｐ−フェニルベンゾイルクロリドが適用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記工程ｇにおいて、式ＶＩＩの化合物の酸化はスワーン条件下で、もしくはＴＥＭＰＯを使用して、またはフィッツナー・モファット条件下で実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記工程ｈ１において、式Ｖの化合物の還元はオキサザボロリジン触媒の存在下でボラン化合物を使用して実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
ボラン化合物としてカテコールボラン、ボラン−ジエチルアニリン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体が適用されることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記工程ｉにおいて、適用される触媒は酸化白金触媒、Ｐｄ／Ｃ触媒であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記工程ｈ１またはｈ２において、Ｒ4保護基の切断は塩基の存在下でメタノリシスにより実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
一般式ＩＩＩ
【化１９】
2017531661.tif 000020
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表す］
の化合物。
【請求項２３】
一般式ＩＶ
【化２０】
2017531661.tif 000021
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ4はｐ−フェニルベンゾイル基を表す、
点線は単結合または二重結合を表す］
の化合物（ただし、メチル２−（（１Ｒ，２Ｒ，３ａＳ，９ａＳ）−２，３，３ａ，４，９，９ａ−ヘキサヒドロ−２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリオキシ）−１−（（Ｓ，Ｅ）−３−ヒドロキシオクト−１−エニル）−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］ナフタレン−５−イルオキシ）アセテートを除く）。
【請求項２４】
一般式Ｖ
【化２１】
2017531661.tif 000022
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ4はｐ−フェニルベンゾイル基を表す］
の化合物。
【請求項２５】
一般式ＶＩ
【化２２】
2017531661.tif 000023
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ4はｐ−フェニルベンゾイル基を表す、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項２６】
一般式ＶＩＩ
【化２３】
2017531661.tif 000024
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ4はｐ−フェニルベンゾイル基を表す、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項２７】
一般式ＶＩＩＩ
【化２４】
2017531661.tif 000025
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ4はｐ−フェニルベンゾイル基を表す、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項２８】
一般式ＩＸ
【化２５】
2017531661.tif 000026
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項２９】
一般式Ｘ
【化２６】
2017531661.tif 000027
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項３０】
一般式ＸＩ
【化２７】
2017531661.tif 000028
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ3はケイ素原子含有保護基を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項３１】
一般式ＸＩＩ
【化２８】
2017531661.tif 000029
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
Ｒ3はケイ素原子含有保護基を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項３２】
一般式ＸＩＩＩ
【化２９】
2017531661.tif 000030
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項３３】
一般式ＸＩＶ
【化３０】
2017531661.tif 000031
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項３４】
一般式ＸＶ
【化３１】
2017531661.tif 000032
［式中、
Ｒ1はテトラヒドロピラニル基またはメトキシメチル基を表す、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表し、
ｘは０または２を表す］
の化合物。
【請求項３５】
一般式ＩＩ
【化３２】
2017531661.tif 000033
［式中、
Ｒ2は−（ＣＨ2）nＹを表し、ここで、
Ｙは水素原子を表し、
ｎは１を表す］
の化合物のＲ2基の除去はアルカリハロゲン化物の存在下でドデカンチオールを使用して実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。