【事件の表示】
　特願２０１２−２３９４２０「サポート、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　６月１３日出願公開、特開２０１３−１１８３６６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２４年１０月３０日（パリ条約による優先権主張　２０１１年１２月１日　米国）の出願であって、平成２５年１２月１２日付けで拒絶理由が通知され、平成２６年３月１４日付けで手続補正がなされるとともに意見書が提出されたが、同年５月２２日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月２４日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものである。
　
第２　平成２６年９月２４日になされた手続補正（以下「本件補正」という。）についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容
　本件補正は、補正前（平成２６年３月１４日付け手続補正書によるもの）の特許請求の範囲の請求項１につき、
「物体のためのサポートであって、
　前記物体を支持するサポート表面を備え、
　前記サポート表面は主要部分および可動部分を含み、前記可動部分は、収縮位置と延在位置との間で移動可能であり、前記収縮位置では、前記可動部分が前記主要部分の平面と実質的に同じ平面にあり、前記延在位置では、前記可動部分が前記主要部分の前記平面から突出し、前記可動部分は、前記サポート表面の中心周りで上から見て多辺形を形成する、サポート。」
とあったものを、
「物体のためのサポートであって、
　前記物体を支持するサポート表面を備え、
　前記サポート表面は主要部分および可動部分を含み、前記可動部分は、収縮位置と延在位置との間で移動可能であり、前記収縮位置では、前記可動部分が前記主要部分の平面と実質的に同じ平面にあり、前記延在位置では、前記可動部分が前記主要部分の前記平面から突出し、前記可動部分は、
上から見て、
で多
の辺に沿って少なくとも部分的に連続的に延びる
に補正する内容を含むものである（下線は請求人が付したとおりである。）。
　
２　補正の目的
　本件補正は、補正前の請求項１において、「可動部分」に係り、「サポート表面の中心周りで上から見て多辺形を形成する」とあったものを、「上から見て、前記サポート表面の中心周りで多辺形の辺に沿って少なくとも部分的に連続的に延びる」と補正して、「辺に沿って少なくとも部分的に連続的に延びる」との限定を付加するものであるから、上記１の本件補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
３　独立特許要件について
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかどうか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項に規定する要件を満たすか否か）について検討する。
（１）本願補正発明の認定
　本願補正発明は、上記１において、本件補正後のものとして記載したとおりのものと認める。
　
（２）刊行物の記載及び引用発明
ア　原査定における拒絶理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００８−１０３７０３号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の記載がある（下線は当審にて付した。以下同じ。）。
（ア）「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、半導体素子製造装置、液晶表示素子製造装置等に用いる基板保持装置と、該基板保持装置を備える露光装置に関する。」
　
（イ）「【実施例１】
【００２０】
　本発明の実施例１を図１〜図４に基づいて説明する。
【００２１】
　図１は本発明の実施例１のウエハチャック（基板保持装置）を適用した縮小投影露光装置の構成図である。
【００２２】
　図１において、不図示の光源側から順に、照明光学系１１、レチクルＲ、レチクルチャック１２、レチクルステージ１３、投影光学系１４、シリコンウエハＷ（以下、『ウエハＷ』と記す）、ウエハチャック１５、ＸＹθステージ１６が、配置してある。
【００２３】
　特に、光学系１１および１４やレチクルＲ（原板）、ウエハＷ（基板）は、光源から出射した露光光の光路上に在る。
【００２４】
　投影光学系１４の近傍には、オフアクシスアライメントスコープ１７、面位置計測手段１８が配置されている。
【００２５】
　露光時には、原板であるレチクルＲがレチクルチャック１２を介してレチクルステージ１３上に載置される。そして、照明光学系１１からの露光光がレチクルＲ上に照射される。レチクルＲを通った露光光は、投影光学系１４により、例えば１／５に縮小され、感光剤を塗布したウエハＷ上に照射される。この
ウエハＷを保持するウエハチャック１５
【００３１】
　図２と図３は、図１の
ウエハチャック１５
【００３２】
　図２に示すとおり、
円板状のウエハチャック１５の中心付近に、真空吸引によって基板であるウエハＷを吸着するための吸引孔２１が設けられ
【００３３】
　
ウエハチャック１５には、円周方向に沿って等角度で３個の貫通孔２２が設け
各貫通孔２２内には、排気孔２３ａを有するリフトピン２３が鉛直方向（上下に）移動可能に挿通され
【００３４】
　
ウエハチャック１５の周縁部には円筒壁２４が形成してあ
円筒壁２４の内側の円Ｃ内の領域（中央部）には、ウエハチャック１５本体と一体成型された多数の支持ピン２５（複数の凸部）が鉛直方向上方に向けて突出し
【００３５】
　また、
ウエハチャック１５の円Ｃと壁２４の間の領域（周辺部）にもウエハチャック１５本体と一体成型された多数の支持ピン２６（複数の凸部）が同様に突出してい
支持ピン２５、２６は規則正しく、
配列し
【００３６】
　
中央部の多数の支持ピン２５はウエハＷの中央部を支持し、周辺部の支持ピン２６はウエハＷの周辺部を支持
【００４１】
　
ウエハＷの吸着前は、受け渡しのために上昇した複数のリフトピン２３がウエハＷをウエハチャック１５の多数の支持ピン２５、２６の上方で支持し、
【００４２】
　図３の状態から
リフトピン２３を下降させ、ウエハＷをウエハチャック１５に近付け
ウエハＷの裏面とチャック表面（載置面）と円筒壁２４とで囲まれた空間内を負圧にして
ウエハＷの中央部から外側に向けて順次ウエハチャック１５に吸着
　
（ウ）図２及び３は次のものである。
図２
図３
　
（エ）上記（ア）ないし（ウ）を踏まえて、上記図２を見ると、「ウエハチャック１５には、円周方向に沿って等角度で３個の貫通孔２２が設けてあ」り、「各貫通孔２２内には、排気孔２３ａを有するリフトピン２３が鉛直方向（上下に）移動可能に挿通されている」（上記（イ）段落【００３３】）貫通孔２２は、ウエハチャック１５のチャック表面（載置面）の中心周りで上から見て三角形を形成することがみてとれる。
　
（オ）引用発明
　上記（ア）ないし（エ）によれば、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「円板状のウエハチャック１５の中心付近に、真空吸引によって基板であるウエハＷを吸着するための吸引孔２１が設けられ、
　前記ウエハチャック１５には、円周方向に沿って等角度で３個の貫通孔２２が設けられ、前記各貫通孔２２内には、排気孔２３ａを有するリフトピン２３が鉛直方向（上下に）移動可能に挿通され、
　前記ウエハチャック１５の周縁部には円筒壁２４が形成してあり、前記円筒壁２４の内側の円Ｃ内の領域（中央部）には、ウエハチャック１５本体と一体成型された多数の支持ピン２５（複数の凸部）が鉛直方向上方に向けて突出し、
　前記ウエハチャック１５の円Ｃと壁２４の間の領域（周辺部）にもウエハチャック１５本体と一体成型された多数の支持ピン２６（複数の凸部）が同様に突出していて、前記支持ピン２５、２６は規則正しく配列し、
　中央部の多数の支持ピン２５はウエハＷの中央部を支持し、周辺部の支持ピン２６はウエハＷの周辺部を支持し、
　前記ウエハＷの吸着前は、受け渡しのために上昇した複数のリフトピン２３がウエハＷをウエハチャック１５の多数の支持ピン２５、２６の上方で支持し、
　前記リフトピン２３を下降させ、ウエハＷをウエハチャック１５に近付け、ウエハＷの裏面とチャック表面（載置面）と円筒壁２４とで囲まれた空間内を負圧にして、ウエハＷの中央部から外側に向けて順次ウエハチャック１５に吸着し、
　前記貫通孔２２は、ウエハチャック１５のチャック表面（載置面）の中心周りで上から見て三角形を形成する、
　前記ウエハＷを保持するウエハチャック１５。」
　
イ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−１５４７４０号公報（以下「引用文献２」という。）には、以下の記載がある。
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体等の基板に使用されるウェハを搬送することに関し、さらに、ウェハを熱処理用のトレーにセッティングさせて搬送するためのセッティングシステムとそのために配設されるトレーへのウェハセッティング装置に関する。」
　
（イ）「【００１１】図１は、ウェハＷとトレー１０をセッティングしてカセットに収納するセッティングシステムＳを示すものである。架台１上に搬送ロボット（以下、ロボットという）２が配置され、搬送ロボット２の回りを囲うように、ウェハＷが収納されているカセットステージ（ウェハカセット部）３、ウェハＷのオリフラ位置合わせを行なうウェハ位置合わせステージ｛（ウェハ位置合わせ部）以下、位置合わせステージという｝４、トレー１０にウェハＷをセッティングするウェハ・トレーセットステージ｛（ウェハ・トレーセット部）以下、セットステージという｝５、トレー１０が収納されるかまたはウェハＷがセッティングされるトレー１０（以下、ウェハセッティングトレー１５とする）が収納されるトレーステージ（トレーカセット部）６が、それぞれ順に配設されている。・・・（途中省略）・・・
【００１５】
セットステージ
ウェハＷ
上下方向に貫通されるピン穴１２が２組づつ３箇所に等分されて形成されている
【００１６】セットステージ５に配置されるセッティング装置５１は、図４〜５に示されるように、架台１上に支持され、トレー１０の心出しをするトレー支持台５２と、トレー支持台５２の下方に配置されトレー１０のピン穴１２に挿通されるピン５３を有する昇降台５４と、昇降台５４の下面に固定され昇降台５４を回転駆動する駆動モータ５５と、駆動モータ５５の下方でモータ支持板５６を介して取り付けられ昇降台５４をモータ５５とともに昇降駆動するシリンダ５７と、を有して構成されている。」
　
（ウ）図１ないし３は次のものである。
図１
　
ウ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平９−１７３９４５号公報（以下「引用文献３」という。）には、以下の記載がある。
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、回転式塗布装置や回転式洗浄装置等、基板を水平に保持して回転させながら基板上に所定の処理を行うための回転式基板処理装置に関する。」
　
（イ）「【００２２】図１において、基板回転保持装置は、基板１０を水平に保持して回転する基板保持台１を備えている。基板保持台１は、円形底板３と、円形底板３の上面の周縁部に固定された基板支持枠４とから構成されている。
【００２３】円形底板３の中心には回転軸２が固定されている。回転軸２には、基板保持台１を回転させるための駆動モータ（図示省略）が接続されている。円形底板３には、貫通孔５が複数箇所設けられている。
【００２４】基板支持枠４は、基板１０の周囲を取り囲むように形成された環状の連続部材から構成されている。環状の基板支持枠４は、基板１０の周縁部の底面を支持するための水平部分と、基板１０の水平方向の位置を規制するための垂直部分とを有する断面Ｌ字形に形成されている。基板支持枠４の水平部分の上面には複数の基板底面支持ピン４ａが形成されており、この基板底面支持ピン４ａによって基板１０が支持されている。
【００２５】
基板保持台１
【００２６】受け渡しピン６ａは、基板１０の裏面を支持する支持ピン７と、支持ピン７を保持するピン保持部８とから構成されている。ピン保持部８には、支持ピン７を弾性支持するばね等からなる弾性部材８ａと、弾性部材８ａの弾性力による支持ピン７の動作を緩慢にさせるためのダンパー８ｂとを備えている。なお、図１は、この弾性部材８ａとダンパー８ｂとを模式的に示しており、その取り付け方法は当該技術分野における適当な方法を種々適用することができる。また、図２に示される受け渡しピン６ｂ〜６ｆも上記の受け渡しピン６ａと同様の構成を有している。
【００２７】ここで、円形底板３の貫通孔５と受け渡しピン６との関係について図２を参照して説明する。図２において、
受け渡しピン６ａ〜６ｆは回転軸２を中心とする円周上に等間隔に６本配置され
隣接する受け渡しピン６ｃ，６ｆの間の角度は６０°である
　
（ウ）図１及び２は次のものである。
図１
図２
　
（３）対比・判断
ア　対比
（ア）本願補正発明と引用発明を対比すると、引用発明の「ウエハＷ」、「（鉛直方向（上下に）移動可能に挿通される）リフトピン２３」、「支持ピン２５」、「チャック表面（載置面）」及び「ウエハチャック１５」は、本願補正発明の「物体」、「（収縮位置と延在位置との間で移動可能である）可動部分」、「主要部分」、「サポート表面」及び「サポート」にそれぞれ相当する。
　
（イ）引用発明の「ウエハチャック１５」は、「チャック表面（載置面）」に「ウエハＷを保持する」ものであることが、本願補正発明の（「サポート」が）「物体のためのサポートであって、前記物体を支持するサポート表面を備え」ることに相当する。
　
（ウ）引用発明の「ウエハチャック１５」は、「円周方向に沿って等角度で３個の貫通孔２２が設けられ、前記各貫通孔２２内には、排気孔２３ａを有するリフトピン２３が鉛直方向（上下に）移動可能に挿通され」る「リフトピン２３」、及び、「支持ピン２５、２６」を備えることが、本願補正発明の「サポート表面は主要部分および可動部分を含」むことに相当する。
　
（エ）引用発明の「リフトピン２３」は、「鉛直方向（上下に）移動可能に挿通され」、「ウエハＷの吸着前は、受け渡しのために上昇した複数のリフトピン２３がウエハＷをウエハチャック１５の多数の支持ピン２５、２６の上方で支持」するものであることが、本願補正発明の「可動部分」は、「収縮位置と延在位置との間で移動可能であり」、「前記延在位置では、前記可動部分が前記主要部分の前記平面から突出し」ていることに相当する。
　
（オ）引用発明の「貫通孔２２」は、「ウエハチャック１５のチャック表面（載置面）の中心周りで上から見て三角形を形成する」ところ、「各貫通孔２２内には、排気孔２３ａを有するリフトピン２３が鉛直方向（上下に）移動可能に挿通され」るから、「リフトピン２３」は、「ウエハチャック１５のチャック表面（載置面）の中心周りで上から見て三角形を形成する」といえる。
　また、三角形が多角形（多辺形）の一種であることは、本願優先日当時周知の事項である。
　そうすると、引用発明の「リフトピン２３」が「挿通され」ている「貫通孔２２」は「ウエハチャック１５のチャック表面（載置面）の中心周りで上から見て三角形を形成する」ことと、本願補正発明の「可動部分」は「上から見て、前記サポート表面の中心周りで多辺形の辺に沿って少なくとも部分的に連続的に延びる」こととは、「可動部分」は「上から見て、前記サポート表面の中心周りで多辺形の辺に沿って」いる点で一致する。
　
イ　一致点
　上記ア（ア）ないし（オ）によれば、本願補正発明と引用発明は、
「物体のためのサポートであって、
　前記物体を支持するサポート表面を備え、
　前記サポート表面は主要部分および可動部分を含み、前記可動部分は、収縮位置と延在位置との間で移動可能であり、前記延在位置では、前記可動部分が前記主要部分の前記平面から突出し、前記可動部分は、上から見て、前記サポート表面の中心周りで多辺形の辺に沿っている、サポート。」
である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）本願補正発明の「可動部分」は、「収縮位置では、前記可動部分が前記主要部分の平面と実質的に同じ平面にあ」るのに対して、引用発明の「リフトピン２３」は、このように特定されない点（以下「相違点１」という。）。
　
（イ）本願補正発明の「可動部分」は、多辺形の辺に沿って「少なくとも部分的に連続的に延びる」のに対して、引用発明の「リフトピン２３」は、このように特定されない点（以下「相違点２」という。）。
　
エ　判断
（ア）上記相違点１について検討する。
　引用発明の「リフトピン２３」は、「下降させ、ウエハＷをウエハチャック１５に近付け、ウエハＷの裏面とチャック表面（載置面）と円筒壁２４とで囲まれた空間内を負圧にして、ウエハＷの中央部から外側に向けて順次ウエハチャック１５に吸着」すると、「支持ピン２５、２６」が、「中央部の多数の支持ピン２５はウエハＷの中央部を支持し、周辺部の支持ピン２６はウエハＷの周辺部を支持」するから、「リフトピン２３」の「下降」位置では、「支持ピン２５、２６」が「ウエハＷ」を支持している。
　したがって、「リフトピン２３」の「下降」位置では、「リフトピン２３」は、「支持ピン２５、２６」と同じ平面にあるか、あるいは、「支持ピン２５、２６」と同じ平面より低い位置にあるといえる。
　そして、「リフトピン２３」の「下降」位置では、「支持ピン２５、２６」が「ウエハＷ」を支持できればよいのであるから、「リフトピン２３」の「下降」位置を、「リフトピン２３」と「支持ピン２５、２６」とを同じ平面として「ウエハＷ」を「リフトピン２３」と「支持ピン２５、２６」で支持するようにするか、あるいは、「支持ピン２５、２６」と同じ平面より低い位置として「ウエハＷ」を「支持ピン２５、２６」のみで支持するようにするかは当業者が適宜定める設計的事項であるといえる。
　さらに、「リフトピン２３」の「下降」位置を「支持ピン２５、２６」とを同じ平面とする点に格別の技術的な困難性はない。
　そうすると、引用発明の「リフトピン２３」を「下降させ、ウエハＷをウエハチャック１５に近付け、ウエハＷの裏面とチャック表面（載置面）と円筒壁２４とで囲まれた空間内を負圧にして、ウエハＷの中央部から外側に向けて順次ウエハチャック１５に吸着する」と、「支持ピン２５、２６」が、「中央部の多数の支持ピン２５はウエハＷの中央部を支持し、周辺部の支持ピン２６はウエハＷの周辺部を支持」する状態において、「リフトピン２３」の「下降」位置を「リフトピン２３」と「支持ピン２５、２６」とを同じ平面として「ウエハＷ」を「リフトピン２３」と「支持ピン２５、２６」で支持するようになすことにより、上記相違点１に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（イ）上記相違点２について検討する。
　引用文献２には、「ウェハＷ」の「セットステージ５」において、「上下方向に貫通されるピン穴１２が２組づつ３箇所に等分されて形成されている」点及び図３が記載され（上記（２）イ）、また、引用文献３には、「基板保持台」において、「受け渡しピン６ａ〜６ｆは回転軸２を中心とする円周上に等間隔に６本配置され・・・隣接する受け渡しピン６ｃ，６ｆの間の角度は６０°である」点及び図２が記載されている（上記（２）ウ）。
　したがって、「ウエハチャック１５（ウェハセットステージ／基板保持台）」において、「ピン」を部分的に連続的に延びるよう（２組づつ３箇所に等分されて／等間隔に６本配置され、隣接する受け渡しピンの間の角度は６０°）配置することは、本願優先日当時周知の事項である。
　そうすると、引用発明の「リフトピン２３」を配置するに際して、上記従来周知の、「ピン」を部分的に連続的に延びるよう（２組づつ３箇所に等分されて／等間隔に６本配置され、隣接する受け渡しピンの間の角度は６０°）配置することにより、上記相違点２に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（４）まとめ
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
４　補正却下の決定についてのむすび
　上記３の検討によれば、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　上記のとおり、本件補正は却下されたので、本願の特許請求の範囲の各請求項に係る発明は、平成２６年３月１４日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１４に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、前記第２、［理由］１において、本件補正前のものとして示したとおりのものである。
　
２　刊行物の記載及び引用発明
　上記第２、［理由］３（２）アのとおりである。
　
３　対比・判断
　上記「第２、［理由］２　補正の目的」のとおり、本件補正は、補正前の請求項１において、「可動部分」に係り、「少なくとも部分的に連続的に延びる」との限定を付加するものである。
　そうすると、本願発明は、本願補正発明から上記限定を省いたものと認められるところ、上記第２　［理由］３（３）アないしウでの検討に照らすと、引用発明との間で相違点１のみ相違する。そして、相違点１については、上記第２　［理由］３（３）エ（ア）で検討したとおりである。よって、本願発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。