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【手続補正書】
【提出日】令和2年4月13日(2020.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接地係合支持体と、着座する対象者の臀部と接するための、前記接地係合支持体上で支持されたシートと、前記接地係合支持体から概ね上向きの方向に延びる前記シートの後方に配置された後方支持部材と、椅子のそれぞれの対向側部上に、かつ、前記シートの概ね後部に向かって配置された一対の足部支持手段と、を備え、調節可能な連結手段が、前記足部支持手段を前記椅子に調節可能に連結する後方支持部材にスライド可能に連結され、これにより、前記足部支持手段の高さが前記シートの高さに対して調節可能であり、前記足部支持手段それぞれが、四頭筋および股関節屈筋のストレッチのために、対象者の対応する大腿部が膝に向かって前記シートから概ね下方に延び、前記対象者の対応する下腿が前記膝から前記足部支持手段に向かって上方に傾斜する状態で、前記椅子に着座する対象者の対応する足部または足首領域を支持するように構成された、椅子。
【請求項２】
前記調節可能な連結手段は、前記シートの高さに対して前記足部支持手段の高さを調節するために、概ね上下の方向にスライド可能である、請求項１に記載の椅子。
【請求項３】
第１の解除可能な固定手段は、前記足部支持手段が前記シートの高さに対して所望の高さにある状態で、前記調節可能な連結手段を前記椅子に解除可能に固定するように構成される、請求項１または２に記載の椅子。
【請求項４】
前記足部支持手段の高さは、前記シートの高さに対して、前記シートの高さよりも低い最下限高さと、前記シートの高さよりも高い最上限高さとの間で調節可能である、請求項１から３のいずれか一項に記載の椅子。
【請求項５】
前記シートの高さよりも低い前記足部支持手段の前記最下限高さは約４００ｍｍ、約３５０ｍｍ、及び、約３００ｍｍの１つであり、前記シートの高さよりも高い前記足部支持手段の最高限高さは約１００ｍｍ、約１２５ｍｍ、及び、約１５０ｍｍの１つである、請求項４に記載の椅子。
【請求項６】
前記足部支持手段は、横方向旋回軸線を中心として前記椅子に旋回式で連結され、前記シートに対して概ね前後方向に前記横方向旋回軸線を中心として旋回する、請求項１からら５のいずれか一項に記載の椅子。
【請求項７】
第２の解除可能な固定手段が、横方向旋回軸線を中心とした所望の角度位置に前記足部支持手段を解除可能に固定するために設けられる、請求項６に記載の椅子。
【請求項８】
各足部支持手段は、前記椅子の対応する側部から横方向に延びる足部支持部材を備える、請求項１から７のいずれか一項に記載の椅子。
【請求項９】
前記足部支持手段は、担持要素上で担持され、かつ、前記担持要素のそれぞれの対向側部上の前記担持要素から延在する、請求項１から８のいずれか一項に記載の椅子。
【請求項１０】
前記シートは、中央シート要素と、前記中央シート要素に結合されかつ前記中央シート要素から外向きに延びる一対の大腿部支持要素と、を備える、請求項１から９のいずれか一項に記載の椅子。
【請求項１１】
前記大腿部支持要素は、前記大腿部支持要素と前記中央シート要素が実質的に共通の平面を画定する第１の状態において前記中央シート要素と整列可能であり、各大腿部支持要素は、対応する前記四頭筋および股関節屈筋のストレッチの間に、前記シートに着座する対象者の前記対応する大腿部に適応するために、対応する実質的に水平な第１の旋回軸線を中心として、下向きの円弧を描いて前記第１の状態から前記中央シート要素に対して旋回する、請求項１０に記載の椅子。
【請求項１２】
概ね上向きの方向と概ね下向きの方向の一方または両方に、対応する前記第１の旋回軸線を中心として各大腿部支持要素を付勢するための第１の付勢手段が設けられ、かつ、対応する前記第１の旋回軸線を中心として各大腿部支持要素を所望の角度位置に保持するための第１の保持手段が設けられる、請求項１１に記載の椅子。
【請求項１３】
それぞれの前記大腿部支持要素は、休止位置から、それぞれの円弧を描いて、前記中央シート要素に対して概ね後ろ向きの方向に、前記中央シート要素に対して、それぞれの実質的に垂直に延びる第２の旋回軸線を中心として旋回する、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の椅子。
【請求項１４】
対応する前記第２の旋回軸線を中心として各大腿部支持要素を所望の角度位置に保持するための第２の保持手段が設けられる、請求項１３に記載の椅子。
【請求項１５】
それぞれの前記第２の旋回軸線を中心として前記大腿部支持要素を付勢するための第２の付勢手段が設けられる、請求項１３または１４に記載の椅子。
【請求項１６】
各大腿部支持要素上で支持される対応する大腿部の内側部分と接するための内側大腿部接触手段が、前記大腿部接触要素上に設けられ、各内側大腿部接触手段は、対応する前記大腿部支持要素によって画定される平面内に存在する非活動状態と、対応する前記大腿部支持要素上で支持される大腿部の内側部分と接するように対応する前記大腿部支持要素から実質的に上方に延びる活動状態と、の間で移動可能である、請求項１０から１５のいずれか一項に記載の椅子。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月3日(2020.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学機械平坦化パッドコンディショナにおいて、
ＣＭＰパッドと接触しかつそれをコンディショニングするように構成された表面を有する物品を備え、前記物品が、炭化ケイ素を特徴とするマトリックスに分布された複数のダイヤモンド粒子を特徴とする高密度複合本体を含み、前記接触表面における前記マトリックスは、いくつかのダイヤモンド粒子が前記マトリックスから部分的に突出するように前記ダイヤモンド粒子に対して凹状にされることを特徴とする化学機械平坦化パッドコンディショナ。
【請求項２】
請求項１に記載のＣＭＰパッドコンディショナにおいて、前記複合本体は、前記接触表面において、前記接触表面とは反対側の前記複合本体の表面におけるよりも高い前記ダイヤモンド粒子の密度を有することを特徴とするＣＭＰパッドコンディショナ。
【請求項３】
請求項１に記載のＣＭＰパッドコンディショナにおいて、前記ダイヤモンド粒子は、前記マトリックス全体に均一に分散されることを特徴とするＣＭＰパッドコンディショナ。
【請求項４】
請求項１に記載のＣＭＰパッドコンディショナにおいて、前記ダイヤモンド粒子は、前記高密度複合本体中に少なくとも５体積％の量で存在することを特徴とするＣＭＰパッドコンディショナ。
【請求項５】
請求項１に記載のＣＭＰパッドコンディショナにおいて、前記ダイヤモンド粒子は、前記高密度複合本体中に１０体積％以下の量で存在することを特徴とするＣＭＰパッドコンディショナ。
【請求項６】
ＣＭＰパッドコンディショナを作製する方法において、
（ａ）ＣＭＰパッドをコンディショニングするように構成された本体を提供するステップであって、前記本体は、パッド研磨表面のコンディショニング中にＣＭＰパッドの研磨表面に接触するように構成された表面を有し、（ｉ）前記本体の接触表面は、炭化ケイ素を含むマトリックス中に埋め込まれたダイヤモンド粒子を有する複合材料を特徴とする、ステップと、
（ｂ）前記マトリックスを優先的に浸食して、前記ダイヤモンド粒子に対して前記マトリックスを除去することにより、ダイヤモンドが豊富な表面を処理し、それによって凹んだマトリックスから突出するダイヤモンド粒子を前記表面に残すステップと
を具えることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、前記処理は、機械的摩耗を用いることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、前記機械的摩耗は、ダイヤモンドを含むグリット研磨材によって行われることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項６に記載の方法において、前記ダイヤモンド粒子を、前記複合本体の一方の側に向かって優先的に偏析させることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項６に記載の方法において、前記複合材料は、相互接続された形態のケイ素を更に含み、前記処理は、
（ｃ）放電加工電極を前記本体の接触表面に隣接して配置するステップと、
（ｄ）放電加工を実行するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、前記電極は、成形電極を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法において、前記複合本体中に存在する相互接続されたケイ素は、前記複合材料の少なくとも５体積％であることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項６に記載の方法において、前記複合材料は、
（ｃ）機能的に勾配のあるプリフォームを形成するステップと、
（ｄ）前記機能的に勾配のあるプリフォームに溶融ケイ素を浸透させるステップと
によって製造され、
前記機能的に勾配のあるプリフォームは、（ｉ）液体と、バインダと、炭化ケイ素およびダイヤモンドの粒子とを含むスラリーを提供するステップと、（ｉｉ）前記スラリーを型に流し込むステップであって、前記型の底面が前記接触表面を規定する、ステップと、（ｉｉｉ）前記ダイヤモンド粒子が沈降することを可能にし、それによって成形部品を形成するステップであって、ストークスの法則により、前記ダイヤモンド粒子が前記炭化ケイ素粒子よりも速く沈降する、ステップと、（ｉｖ）前記成形部品を乾燥、脱型、および炭化するステップと
によって製造されることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項６に記載の方法において、前記複合材料が、
（ｃ）プリフォームを形成するステップと、
（ｄ）前記プリフォームに溶融ケイ素を浸透させるステップと
によって製造され、
前記プリフォームは、（ｉ）液体と、バインダと、炭化ケイ素粒子とを含むスラリーを提供するステップと、（ｉｉ）底部内面が前記複合本体の接触表面を規定する型を提供するステップと、（ｉｉｉ）ダイヤモンド本体を前記型の底部内面に予め配置するステップと、（ｉｖ）前記スラリーを、前記型内に前記予め配置されたダイヤモンド本体上へと流し込み、それによって成形部品を形成するステップと、（ｖ）前記成形部品を乾燥、脱型、および炭化するステップと
によって製造されることを特徴とする方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年2月6日(2020.2.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次フィルム（２０）と、装飾フィルム（３０）を含む柔軟なチューブスカート（１０）であって、装飾フィルム（３０）は、装飾基材及び融着可能な外層（３３）を含み、装飾基材は、一次フィルム（２０）の表面の少なくとも一つの全面に適用され、及び、融着可能な外層（３３）の下側にあり、前記柔軟なチューブスカート（１０）は、オーバーラップサイドシーム（４０）を含み、装飾フィルム（３０）の融着可能な外層（３３）は、一次フィルム（２０）の外側融着可能層（２１）に直接融着されており、前記装飾基材は、サイドシーム（４０）の領域にあり、前記装飾基材は、基層（３１）及び装飾（３２）を含み、該基層（３１）は該装飾（３２）により完全に被覆されている、上記柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項２】
前記装飾（３２）は、金属化（メタライズ）された、ホログラフィックな、及び／又は印刷された表面である、請求項１に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項３】
前記基層（３１）は、ポリプロピレン、ポリエチレン及び／又はポリエチレンテレフタラートから選択される、請求項１又は２のいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項４】
前記装飾（３２）は、前記基層（３１）に対して、前記装飾フィルム（３０）の前記融着可能な外層（３３）の側に、及び／又は前記一次フィルム（２０）の側に向けられている、請求項１から３までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項５】
前記装飾フィルム（３０）は、装飾（３２）に、及び／又は融着可能な外層（３３）にさらに印刷が施されている、請求項１から４までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項６】
前記装飾フィルム（３０）の前記融着可能な外層（３３）は、透明であり、ＰＥ材料を含む、請求項１から５までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項７】
前記一次フィルム（２０）は、インフレーションフィルムである、請求項１から６までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項８】
前記一次フィルム（２０）は、最終的な柔軟なチューブスカート（１０）の少なくとも７０質量％に相当する多層フィルムである、請求項１から７までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項９】
前記一次フィルム（２０）は、少なくとも一つのバリア層を含む多層フィルムである、請求項１から８までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項１０】
前記少なくとも一つのバリア層がエチレンビニルアルコール（ＥＶＯＨ）層である、請求項９に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項１１】
前記一次フィルム（２０）は、前記装飾フィルム（３０）の側に向けられた表面に印刷が施される、請求項１から１０までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）を含む柔軟なチューブ。
【請求項１３】
−  前記一次フィルム（２０）と前記装飾フィルム（３０）をストリップとして組み合わせるステップ、
−  該ストリップを巻くことで円筒状のスリーブを製造するステップ、
−  該ストリップの二つの向かい合った長軸方向側のオーバーラップ溶着によって、該スリーブに沿ってサイドシーム（４０）を形成するステップを含み、
装飾フィルム（３０）の前記装飾基材は、サイドシーム（４０）の領域を含めて、前記一次フィルム（２０）の表面の少なくとも一つの全面にわたって適用される、請求項１から１２までのいずれか一項に記載の柔軟なチューブスカート（１０）を製造する方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明は、上記した柔軟なチューブスカートの製造方法にも関する。該方法は、
−  前記一次フィルムと前記装飾フィルムを帯（ストリップ）として組み合わせるステップ、
−  該帯（ストリップ）を巻くことで円筒状のスリーブを製造するステップ、
−  該帯（ストリップ）の二つの向かい合った長軸方向側のオーバーラップ溶着によって、スリーブに沿ってサイドシームを形成するステップを含み、
前記装飾フィルムの前記装飾基材は、サイドシームの領域を含めて、前記一次フィルムの表面の少なくとも一つの全面にわたって適用される。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月19日(2020.6.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
第２のファセットミラーが瞳平面の領域に配置される場合に、仮想の第１のファセット
は、第２のファセットの位置に実質的に依存しない。そのような実施形態をハニカム（ハチの巣）コンデンサーとも呼ぶ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
第２のファセットは、モノリシックな（一体式構造の）実施形態を有することができる。それらはまた、多数の個々のミラーにより、特に、物理的ファセットのようにその後に作用する群を形成する多数のマイクロミラーによって具現化することができる。これらのマイクロミラー群を仮想の第２のファセットとも呼ぶ。これらのマイクロミラー群は、瞳ファセット又は鏡面反射器のファセットを形成することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月7日(2020.4.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空冷プラズマ切断トーチのための旋回リングであって、
外面及び内部空洞を有する上流部と、
外面及び内部空洞を有する下流部と、
を含み、
前記上流部の外面は、前記下流部の外面の外径よりも大きい外径を有し、
前記上流部は、前記上流部の外面に形成されるとともに前記上流部の長さに沿って延びた複数の流路を有し、
前記下流部は、前記下流部の外面から前記下流部の内部空洞に延びた複数の孔を有し、該複数の孔は第１の種類の上側の孔及び第２の種類の下側の孔で構成され、前記第１の種類の上側の孔のそれぞれは第１の中心線を有し、該第１の中心線は、前記第１の種類の上側の孔の該第１の中心線が前記旋回リングの中心線に対して垂直になるように前記旋回リングの中心線を通って延び、該第２の種類の下側の孔のそれぞれは、前記旋回リングの中心線に対して外れた第２の中心線を有する、旋回リング。
【請求項２】
前記複数の流路は前記上流部の長さ全体に沿って延びる、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項３】
前記流路は前記旋回リングの中心線に対して傾斜している、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項４】
前記下流部は少なくとも２列の前記第１の種類の上側の孔及び少なくとも２列の前記第２の種類の下側の孔を有する、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項５】
前記第１の種類の上側の孔は第１の直径を有する第１の量の孔及び第２の直径を有する第２の量の孔を有する、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項６】
前記第２の種類の下側の孔は前記旋回リングの中心線に対して１５〜７５°の範囲で外れている、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項７】
前記第２の種類の下側の孔の第２の中心線は前記旋回リングの中心線に対して２５〜６０°の範囲で外れている、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項８】
前記第２の種類の下側の孔のそれぞれの第２の中心線は互いに対して同一平面上にある、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項９】
前記第２の種類の下側の孔は第１の直径を有する第１の量の孔及び第２の直径を有する第２の量の孔を有する、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項１０】
前記第２の種類の下側の孔は少なくとも２つの列に配置され、前記列のうちの第１の列にある前記第２の種類の下側の孔は前記旋回リングの中心線に対して第１の角度方向を有し、前記列のうちの第２の列にある前記第２の種類の下側の孔は前記下流部の中心線に対して第２の角度方向を有する、請求項１に記載の旋回リング。
【請求項１１】
空冷プラズマトーチであって、
ワークピースを切断するためのプラズマジェットの発生源であるハフニウム挿入体を有する電極と、
空洞を有する円筒部と、遠位端にのどを有する円錐状下流部とを有するノズルであって、前記プラズマジェットが前記のどを通って送られるように前記電極が前記空洞に挿入されている、ノズルと、
リング中心線と、外面及び内部空洞を有する上流部と、外面及び内部空洞を有する下流部とを含む旋回リングであって、前記電極は前記上流部の内部空洞及び前記下流部の内部空洞を通って挿入されている、旋回リングと、
を含み、
前記上流部の外面は、前記下流部の外面の外径よりも大きい外径を有し、
前記上流部は、前記上流部の外面に形成されるとともに前記上流部の長さに沿って延びた複数の流路を有し、
前記下流部は、前記下流部の外面から前記下流部の内部空洞に延びた複数の孔を有し、該複数の孔は第１の種類の上側の孔及び第２の種類の下側の孔で構成され、該第１の種類の上側の孔のそれぞれは第１の中心線を有し、該第１の中心線は前記第１の種類の上側の孔の第１の中心線が前記リング中心線に対して垂直になるように前記リング中心線を通って延び、該第２の種類の下側の孔のそれぞれは、前記リング中心線に対して外れた第２の中心線を有する、空冷プラズマトーチ。
【請求項１２】
前記複数の流路は前記上流部の長さ全体に沿って延びる、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１３】
前記流路は前記リング中心線に対して傾斜している、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１４】
前記下流部は少なくとも２列の前記第１の種類の上側の孔及び少なくとも２列の前記第２の種類の下側の孔を有する、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１５】
前記第１の種類の上側の孔は第１の直径を有する第１の量の孔及び第２の直径を有する第２の量の孔を有する、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１６】
前記第２の種類の下側の孔は前記リング中心線に対して１５〜７５°の範囲で外れている、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１７】
前記第２の種類の下側の孔の第２の中心線は前記リング中心線に対して２５〜６０°の範囲で外れている、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１８】
前記第２の種類の下側の孔のそれぞれの第２の中心線は互いに対して同一平面上にある、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１９】
前記第２の種類の下側の孔は第１の直径を有する第１の量の孔及び第２の直径を有する第２の量の孔を有する、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項２０】
前記第２の種類の下側の孔は少なくとも２つの列に配置され、前記列のうちの第１の列にある前記第２の種類の下側の孔は前記リング中心線に対して第１の角度方向を有し、前記列のうちの第２の列にある前記第２の種類の下側の孔は前記リング中心線に対して第２の角度方向を有する、請求項１１に記載のトーチ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
上側の列の孔３３１ｄとは異なり、下側の列の孔３１１ｅは、ガスが電極３０５の近傍の空洞内に流れ込むときに旋回又は回転を与えるのに用いられる。そのため、本発明の例示の実施形態では、下側の列の孔３１１ｅは異なる孔の形状を有する。孔の中心線はリング３１１の中心線に対して傾斜している。この傾斜はガス流に改善した回転が付与されるようにガス流を送る。本発明の例示の実施形態では、孔３１１ｅは、各孔３１１ｅの中心線がリング３１１の中心線に対して１５〜７５°の範囲の角度を有するように傾斜されている。他の実施形態では、角度の範囲は２５〜６０°である。例示の実施形態では、孔３１１ｅは、リング３１１の中心線に対して外れているが、それらはそれらの各中心線が孔３１１ｅの中心線でリング３１１を横断する面内にあるように方向付けられるように形成されている。即ち、全ての孔の中心線は同一平面上にある。しかしながら、他の例示の実施形態では、孔３１１ｅはそれらの中心線が同一平面上にないように傾斜させることができる。即ち、一部の実施形態では、孔の中心線はリング３１１の下端面の方に（即ち、トーチの端部の方に）傾斜されている。そのような実施形態はガス流に渦回流を付与するが、ガス流を下方に向ける。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年12月20日(2019.12.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高潜熱蓄熱容量を有する可塑性ＰＣＭシート材であって、
表面上に、キャリア構造に強く固定されたポリマー結合相変化物質のＰＣＭポリマー成形品が別々に配置され、幾何学的に画定した構造を有する可塑性２次元キャリア構造を有し、
前記相変化物質が、少なくとも２つのポリマーで結合され、
少なくとも１つのポリマーがスチレン含有ブロック共重合体の群から選択され、少なくとも１つのポリマーがスチレンを含まないエチレン／ブチレン共重合体の群から選択され、
前記可塑性ＰＣＭシート材は、相変化に対して寸法的に安定であり、１００〜２５０Ｊ／ｇおよび／または３００〜１０００ｋＪ／ｍ２の潜熱蓄熱エネルギー容量を有し、ロール状、折り畳み状、巻き付け状態、サイズに合わせて切断または多層の形態に処理可能であり、
前記ＰＣＭポリマー成形品の互いの距離が、少なくとも０．５ｍｍであることを特徴とする、可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項２】
前記キャリア構造が、ウェブ、不織品、ニットウェア、編み物、繊維または毛糸またはスリットフィルムの組紐、フィルムまたは膜を含んでなることを特徴とする、請求項１に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項３】
前記キャリア構造が、大きなメッシュサイズ状または多孔状のまたは縒り合わさった構造を有するウェブを含んでなることを特徴とする、請求項１に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項４】
前記キャリア構造の材料が、ポリアミド、ポリエステル、ポリプロピレン、セルロース、炭素、金属、ガラス、天然繊維またはこれら材料の混合物を含んでなることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項５】
１〜１０重量％のキャリア構造および９０〜９９重量％の前記キャリア構造に適用された前記ポリマー結合相変化物質の幾何学的に画定された構造を含んでなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項６】
前記ポリマー結合相変化物質が、前記少なくとも２つのポリマーの１０〜３０重量％、および相変化物質の９０〜７０重量％を含んでなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項７】
５〜２０重量％の無機または有機添加剤を含むことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項８】
高分子材、金属材またはセラミック材の厚さ３〜１０μｍの層で表面が被覆された、またはこれら材料を含んでなるテキスタイルシートで被覆されたことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項９】
前記ポリマー結合相変化物質の単位面積あたりの重量が１〜４ｋｇ／ｍ２であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項１０】
液体または気体の熱媒体によって流動透過性であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の高潜熱蓄熱エネルギー容量を有する可塑性ＰＣＭシート材の製造方法であって、
ポリマー結合相変化物質の可塑化質量が、幾何学的に画定された構造で布調キャリア材に強く固定され、溶融液化ポリマー結合相変化物質が、連続的または不連続的工程において成形装置によって射出成形、噴霧、塗り延ばし被覆、または加圧されていない成形によって、１〜１０ｍｍの厚さを有する球状、四角形状、長方形状または多角形状の個別に形作られた要素としてキャリア材に適用されることを特徴とする、製造方法。
【請求項１２】
溶融液化ポリマー結合相変化物質が、連続的または不連続的工程において成形装置によって射出成形、噴霧、塗り延ばし被覆、または加圧されていない鋳造によって、１〜５ｍｍの厚さを有する球状、四角形状、長方形状または多角形状の個別に形作られた要素としてキャリア材に適用されることを特徴とする、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
熱および冷気の蓄積のためおよび熱調節のための請求項１〜１０のいずれか一項に記載の可塑性ＰＣＭシート材の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年10月27日(2020.10.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼空気用の第１ダクト（３３）と、燃焼ガス用の第２ダクト（１２）とが付いた熱交換器（１１）を備えるとともに、少なくとも１個の第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）と、前記少なくとも１個の第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）と同心円になった第１環状室（２０）に至る空気取り入れダクト（１７）を有する、バーナボディであって、前記第１環状室（２０）は、前記少なくとも１個の第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）の内側に設けられたベンチュリ管（１６）にも接続することを特徴するセルフリジェネバーナ。
【請求項２】
前記第１環状室（２０）は、前記熱交換器（１１）と同心円になった第２環状室（２４）に接続することを特徴とする、請求項１に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項３】
前記第２環状室（２４）は、前記熱交換器（１１）と接する第１通路（３２）と連通し、第１通路（３２）は、前記熱交換器（１１）と、熱交換器（１１）内で熱交換器（１１）と軸線を同じくする第１パイプ（３４）との間に設けられることを特徴とする、請求項２に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項４】
前記戻り燃焼排ガス用に、熱交換器（１１）と接する第２通路（４０）を有し、第２通路（４０）は、前記熱交換器（１１）と、前記熱交換器（１１）外で熱交換器（１１）と軸線を同じくする第２パイプ（４１）との間に設けられることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項５】
前記ベンチュリ管の下流で、前記第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）の出口に接続される第２燃焼排ガス排出パイプ（３１）を有する、請求項１乃至４のいずれか１に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項６】
前記第１環状室（２０）は、前記少なくとも１個の第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）を囲むことにより、前記少なくとも１個の第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）と熱交換を行うことを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項７】
前記第１環状室（２０）に接続された第３環状室（２５）を備え、前記第２環状室（２０）と第３環状室（２５）とは、前記熱交換器（１１）の始端部としての熱交換器（１１）の部分を囲む内側シェル（２７）と外側シェル（２６）で構成されることを特徴とする、請求項２に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項８】
前記外側シェル（２６）は、アルミニウム又は鋳鉄製で、前記内側シェル（２７）は、鋼鉄製であることを特徴とする、請求項７に記載したセルフリジェネバーナ。
【請求項９】
前記外側シェル（２６）に付着した断熱材（３０）を備えることを特徴とする、請求項７に記載したセルフリジェネバーナ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
添付図面を参照すると、本発明によるセルフリジェネバーナは、熱交換器１１を備えたバーナボディ１０を有し、バーナボディは、その内部に、第２ダクトとしてのガス供給パイプ１２を備え、先端がバーナヘッド１３になっている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
熱交換器１１の始端近傍では、燃焼排ガス排出パイプ１５が、上方に突出し、燃焼排ガス排出パイプの内側には、ベンチュリ管１６が設けられ、燃焼排ガス排出パイプの外側には、空気取り入れダクトとしての空気取入口１７が設けられる。空気取入口は、熱交換器１１に対して左右にいずれの側に設けられてもよい。２個の取り付け口は、いずれかが使用される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
空気取入口１７と第１環状室２０は、前記少なくとも１個の第１燃焼排ガス排出パイプ（２１）と熱交換を行うため、第１燃焼排ガス排出パイプ２１を囲む一体構造体２２として構成される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
第１環状室２０は、熱交換器１１の方に下降して延び、第２環状室２４と（第１燃焼排ガス排出パイプ２１と）接続し、第２環状室２４は、熱交換器１１を囲むように第３環状室２５と接続する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
第２環状室２４と第３環状室２５とは、外側シェル２６と内側シェル２７とで構成され、内側シェルは、熱交換器１１の始端部としての熱交換器の部分を囲む。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
第１燃焼排ガス排出パイプ２１の端部には、第２燃焼排ガス排出パイプとしての第２上方パイプ３１が、ねじ込まれる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
第３環状室２５は、熱交換器１１に対して直角をなす第１通路３２を備え、熱交換器内で熱交換器と軸線を同じくする第１パイプ３４と熱交換器との間に設けられたまま、熱交換器１１と接する燃焼空気用の第１ダクトとしての別の通路３３を連通する。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
バーナヘッド１３から戻る燃焼排ガスは、熱交換器１１の外部で熱交換器に接する別の第２通路４０であって、外側が第２パイプとしての別のパイプ４１になっている通路を通過する。燃焼排ガスが、燃焼排ガス排出パイプ１５近傍に到達すると、燃焼排ガスは、第１燃焼排ガス排出パイプ２１と連通する環状室４２内に流入し、ベンチュリ管１６に沿って第２上方パイプ３１に達する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月12日(2020.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図３〜図５、特に図４を続けて参照すると、図示されたバッフル２６の例の端面３０、３２は、バッフル２６を、筐体１２内で直立からある角度をなすように配置するように構成されている。図示の例では、面３２の凸面部分４２は、反対側にある面３０の凸面部分３４よりも曲がりが顕著である。同様に、面３０の凸面部分３６は、面３２の凸面部分４４よりも曲がりが顕著である。図示の例では、バッフル２６は、バッフル２６の壁２８が筐体１２に対して、直立からおおよそ１０°の角度をなすこととなるように、筐体１２に挿入されるように構成されている。これ以外にも、バッフル２６の壁２８は、本発明を逸脱しない範囲で、直立から１０°未満の角度を形成してもよいし、筐体１２に対して直立であってもよいし、直立から１０°超の角度をなしてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銃口を画定する銃身を有する小火器用のサウンドサプレッサにおいて、
内面を画定する管状筐体であって、中心軸、入口端部キャップ及び出口端部キャップを有しており、前記入口端部キャップは、前記サウンドサプレッサを前記銃口に固定するための取付け構造を画定する筐体と、
前記筐体内に配置される複数の別個の管状バッフルと、
を備えており、
各管状バッフルは、バッフル壁を画定しており、各管状バッフル壁の中心部で、隣接する各管状バッフルと当接してバッフルアセンブリを形成するように構成されており、
各バッフル壁は、第１のアパーチャと、前記第１のアパーチャに対向する第２のアパーチャとを画定しており、
各バッフル壁は、第１のバッフル壁端部及び第２のバッフル壁端部を画定しており、前記第１のバッフル壁端部及び前記第２のバッフル壁端部は、各バッフル壁端部の実質的に全周辺の周りで、前記筐体の内面の対向する部分と当接するように構成されており、
前記第１のバッフル壁端部は、第１の凸面と、前記第１の凸面に対向する第２の凸面とを画定しており、前記第２のバッフル壁端部は、前記第３の凸面と、前記第３の凸面に対応する第４の凸面とを画定しており、前記第１の凸面と前記第３の凸面は前記第１のアパーチャの両側にあり、前記第２の凸面と前記第４の凸面は前記第２のアパーチャの両側にあり、前記第１の凸面は前記第３の凸面よりも外方に延びており、前記第４の凸面は前記第２の凸面よりも外方に延びていることで、各管状バッフル壁は、前記筐体の中心軸に対して、直立から傾いており、
各管状バッフルの第１のアパーチャ及び第２のアパーチャは、前記サウンドサプレッサ内で、他の管状バッフルの第１のアパーチャ及び第２のアパーチャと実質的に同軸である、サウンドサプレッサ。
【請求項２】
前記筐体は、略円筒状である、請求項１に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項３】
各管状バッフルは、略円筒状である、請求項２に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項４】
各管状バッフルは、略円筒状である、請求項１に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項５】
各管状バッフルで画定される前記バッフル壁は、前記バッフル全体を形成する単一のバッフル壁である、請求項１に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項６】
各管状バッフル壁が、各隣接するバッフルの各壁に対して前記筐体の中心軸回りに回転していることで、各管状バッフル壁が各隣接するバッフルの各壁に対して傾いている、請求項５に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項７】
各バッフル壁は、略円筒状である、請求項５に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項８】
各管状バッフル壁が、各隣接するバッフルの各壁に対して前記筐体の中心軸回りに回転していることで、各管状バッフル壁が各隣接するバッフルの各壁に対して傾いている、請求項１に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項９】
前記第１の凸面が前記第２の凸面よりも外方に延びており、前記第４の凸面が前記第３の凸面よりも外方に延びている、請求項１に記載のサウンドサプレッサ。
【請求項１０】
銃口を画定する銃身を有する小火器用のサウンドサプレッサにおいて、
内面を画定する管状筐体であって、中心軸、入口端部キャップ及び出口端部キャップを有しており、前記入口端部キャップは、前記サウンドサプレッサを前記銃口に固定するための取付け構造を画定する筐体と、
前記筐体内に配置される複数の別個の管状バッフルと、
を備えており、
各管状バッフルは、バッフル壁を画定しており、隣接する各管状バッフルと当接してバッフルアセンブリを形成するように構成されており、
各バッフル壁は、第１のアパーチャと、前記第１のアパーチャに対向する第２のアパーチャとを画定しており、
各バッフル壁は、第１のバッフル壁端部及び第２のバッフル壁端部を画定しており、各バッフル壁端部は、そのバッフル壁端部の実質的に全周辺の周りで、前記筐体の内面の対向する部分と当接するように構成されており、各管状バッフルの第１のアパーチャ及び第２のアパーチャは、前記サウンドサプレッサ内で、他の管状バッフルの第１のアパーチャ及び第２のアパーチャと実質的に同軸であり、
各バッフルの第２のアパーチャは、その第２のアパーチャの周辺の実質的に全周辺の周りにおいて、隣接するバッフルの第１のアパーチャの周囲にあるバッフル壁と当接するほど十分に大きい、サウンドサプレッサ。
【請求項１１】
各バッフル壁は、前記筐体の中心に対して、直立から傾けられている、請求項１０に記載のサウンドサプレッサ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月19日(2020.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内側挿入部と、
前記内側挿入部の外部を包む外側支持部と、を含み、
前記内側挿入部は、
中心に配置された貫通孔を有する円筒状の突出部と、
前記突出部の外周面から半径方向に延びるように構成された多角形の形状のプレートと、を含み、
前記外側支持部は、
前記プレートに結合された収容部と、
前記収容部の縁から延びるように構成された円筒状の外壁と、
前記外壁の内側から前記突出部に向かって延びるように構成された複数の突起部と、を含み、
前記プレートは、複数の連結溝を含み、
前記収容部は、前記連結溝に部分的に設けられる、
カプラー。
【請求項２】
前記プレートの多角形の構造は、前記複数の突起部の数の倍数の角形として設けられる、
請求項１に記載のカプラー。
【請求項３】
前記突起部の下部には、前記プレートの最外殻点が位置する、
請求項２に記載のカプラー。
【請求項４】
前記突出部は、前記貫通孔を形成する貫通面を含み、
前記貫通面には、線形のギア歯が形成される、
請求項１に記載のカプラー。
【請求項５】
前記突出部は、前記貫通孔を形成する貫通面を含み、
螺旋状のねじ山が前記貫通面に形成される、
請求項１に記載のカプラー。
【請求項６】
前記突起部および隣接する前記突起部は、前記外側支持部に同じ間隔で配置される、
請求項１に記載のカプラー。
【請求項７】
前記突起部の上側面は、前記突起部の下側に傾斜部を備える、
請求項１に記載のカプラー。
【請求項８】
前記突起部の側面は、インボリュート曲線で形成される、
請求項７に記載のカプラー。
【請求項９】
前記内側挿入部は、鍛造工法によって製造され、
前記外側支持部は、射出工法によって製造される、
請求項１に記載のカプラー。
【請求項１０】
回転軸と、
前記回転軸が配置されるホールを含むローターと、
前記ローターの外側に配置されるステーターと、
前記ローターおよび前記ステーターを収容するハウジングと、
前記回転軸と結合するカプラーと、
を含み、
内側挿入部と、
前記内側挿入部の外部を包む外側支持部と、を含み、
前記内側挿入部は、
中心に配置された貫通孔を有する円筒状の突出部と、
前記突出部の外周面から半径方向に延びるように構成された多角形の形状のプレートと、を含み、
前記外側支持部は、
前記プレートに結合された収容部と、
前記収容部の縁から延びるように構成された円筒状の外壁と、
前記外壁の内側から前記突出部に向かって延びるように構成された複数の突起部と、を含み、
前記プレートは、複数の連結溝を含み、
前記収容部は、前記連結溝に部分的に設けられる、
モーター組立体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月28日(2020.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１６年１０月２６日付け出願の米国仮出願第６２／４１２，９４８号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
（先行技術文献）
（特許文献）
（特許文献１）  米国特許出願公開第２０１３／００５９７５８号明細書
（特許文献２）  米国特許出願公開第２０１６／００１７２９２号明細書
（非特許文献）
（非特許文献１）  Ｄｏｍａｎｎ  Ｊｒ．  ｅｔ  ａｌ．  ‘Ｃｏｎｓｔｉｔｕｔｉｖｅ  ＡＰ−１  ＤＮＡ  Ｂｉｎｄｉｎｇ  ａｎｄ  Ｔｒａｎｓａｃｔｉｖａｔｉｎｇ  Ａｂｉｌｉｔｙ  ｏｆ  Ｍａｌｉｇｎａｎｔ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  Ｂｅｎｉｇｎ  Ｍｏｕｓｅ  Ｅｐｉｄｅｒｍａｌ  Ｃｅｌｌｓ’，  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃａｒｃｉｎｏｇｅｎｅｓｉｓ，  Ｆｅｂｒｕａｒｙ  １９９４，  Ｖｏｌ．９，  ｐａｇｅｓ  ６１−６６；  Ａｂｓｔｒａｃｔ，  ｐ６４
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月30日(2020.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
レンズアセンブリ内のレンズに機械的に結合されるトランスデューダにドライバから発振駆動信号を供給することと、
前記トランスデューダが或る周波数範囲内の第１及び第２の周波数で前記レンズを振動させるように前記発振駆動信号の周波数を制御することと、
前記レンズを前記第１の周波数で振動させる間に、前記トランスデューダの第１の電流を測定し、前記トランスデューダの第１の電圧を測定し、前記第１の測定された電流と前記第１の測定された電圧とに応答して第１の周波数応答値を判定することと、
前記レンズを前記第２の周波数で振動させる間に、前記トランスデューダの第２の電流を測定し、前記トランスデューダの第２の電圧を測定し、前記第２の測定された電流と前記第２の測定された電圧とに応答して第２の周波数応答値を判定することと、
第１の比較において、第１の相違が前記第１の周波数応答値とベースラインレンズアセンブリの第１のベースライン周波数応答値との間に存在するかを判定することと、
第２の比較において、第２の相違が前記第２の周波数応答値と前記ベースラインレンズアセンブリの第２のベースライン周波数応答値との間に存在するかを判定することと、
前記第１及び第２の比較に応答して前記レンズアセンブリにおける劣化の存在を判定することであって、前記劣化が、前記レンズにおける亀裂又は破損、前記トランスデューサにおける減極又は亀裂、前記レンズアセンブリにおける密封の欠陥、又は前記レンズアセンブリにおける接着の欠陥である、前記判定することと、
を含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１及び第２の比較に応答して前記劣化のタイプを識別することを更に含む、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
コントローラを用いて、多数の周波数にわたる前記ベースラインレンズアセンブリに対する測定された周波数応答値を含むベースライン周波数応答プロファイルを測定することと、
前記コントローラを用いて、前記ベースライン周波数応答プロファイルを格納することと、
前記コントローラを用いて、前記ベースライン周波数応答プロファイルの極又はゼロに応答して前記周波数範囲を識別することと、
を更に含む、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、
コントローラを用いて、前記劣化の存在を判定することに応答して信号を提供することを更に含む、方法。
【請求項５】
請求項２に記載の方法であって、
前記発振駆動信号を提供することが、
周波数制御信号に応答して信号生成器回路から前記ドライバにゼロでない周波数で発振する出力信号を提供することと、
前記ドライバ内の増幅器を使用して、前記発振駆動信号を前記トランスデューサに提供するために前記出力信号を増幅することと、
コントローラから前記信号生成器回路に前記周波数制御信号を提供することを含む前記発振駆動信号の周波数を制御することと、
を含む、方法。
【請求項６】
請求項２に記載の方法であって、
前記劣化を識別することが、前記第１の相違が前記第２の相違の代わりに存在するかどうかに応答して前記劣化のタイプを識別することを含む、方法。
【請求項７】
請求項２に記載の方法であって、
コントローラを用いて、前記劣化の存在を判定することに応答して信号を提供することを更に含む、方法。
【請求項８】
請求項３に記載の方法であって、
前記ベースライン周波数応答プロファイルを測定することが、トランスデューサ電圧に対して前記多数の周波数にわたる前記ベースラインレンズアセンブリに対する前記周波数応答値を測定することを含む、方法。
【請求項９】
請求項５に記載の方法であって、
コントローラを用いて、多数の周波数にわたる前記ベースラインレンズアセンブリに対する測定された周波数応答値を含むベースライン周波数応答プロファイルを測定することと、
前記コントローラを用いて、前記ベースライン周波数応答プロファイルを格納することと、
前記コントローラを用いて、前記ベースライン周波数応答プロファイルの極又はゼロに応答して前記周波数範囲を識別することと、
を更に含む、方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の方法であって、
前記トランスデューサ電圧が第１のトランスデューサ電圧であり、
前記ベースライン周波数応答プロファイルを測定することが、第２のトランスデューサ電圧に対して前記多数の周波数にわたる前記ベースラインレンズアセンブリに対する前記周波数応答値を測定することを含む、方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法であって、
前記ベースライン周波数応答プロファイルを測定することが、トランスデューサ電圧に対して前記多数の周波数にわたる前記ベースラインレンズアセンブリに対する前記周波数応答値を測定することを含む、方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法であって、
前記第１の相違が前記第２の相違の代わりに存在するかどうかに応答して前記劣化のタイプを識別することを更に含む、方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の方法であって、
前記トランスデューダ電圧が第１のトランスデューダ電圧であり、
前記ベースライン周波数応答プロファイルを測定することが、第２のトランスデューサ電圧に対して前記多数の周波数にわたる前記ベースラインレンズアセンブリに対する前記周波数応答値を測定することを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月30日(2020.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイオセンサであって、以下：
裏面照射型相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）イメージセンサであって、以下：
電子回路層；及び
前記電子回路層上の光検知層、
を含むイメージセンサ、ここで、前記光検知層は、
基板層と、
前記電子回路層と接触している複数のフォトダイオードとを含み、
ここで、受光面は、前記電子回路層とは反対側の前記複数のフォトダイオードの面によって規定される；
前記複数のフォトダイオードの上のパッシベーション層；並びに
前記受光面上の前記パッシベーション層上の複数のスポット、ここで、各スポットは、核酸高分子を含むようにサイズ設定及び官能化され、かつ、各スポットは単一のフォトダイオードを覆うか、又は複数のフォトダイオードを含むユニットセルを覆う、
を含む、バイオセンサ。
【請求項２】
前記パッシベーション層が、１００ｎｍ以下の厚さを有する、請求項１に記載のバイオセンサ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のバイオセンサであって:
前記複数のフォトダイオードはそれぞれ、第１の長さ寸法（linear dimension）によって特徴づけられ；並びに
前記複数のスポットはそれぞれ、第２の長さ寸法によって特徴づけられ、前記第２の長さ寸法は、前記第１の長さ寸法よりも小さい、バイオセンサ。
【請求項４】
前記電子回路層が、以下：
誘電体層；及び
前記誘電体層において形成された金属配線、ここで、前記金属配線は、前記複数のフォトダイオードを外部装置に結合するように構成される、
を含む、請求項１に記載のバイオセンサ。
【請求項５】
各スポットが単一のフォトダイオードを覆う、請求項１に記載のバイオセンサ。
【請求項６】
複数の核酸高分子をさらに含む、請求項１に記載のバイオセンサであって、各核酸高分子が、前記複数のスポットの１つのスポット内に配置されている、バイオセンサ。
【請求項７】
前記核酸高分子が、ローリングサークル増幅によって生成されたＤＮＡナノボールであるか、又はブリッジポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）によって生成されたクローンクラスターである、請求項６に記載のバイオセンサ。
【請求項８】
前記複数のフォトダイオードの各フォトダイオードが、前記複数の核酸高分子の１つの核酸高分子上の蛍光又は化学発光標識から放出された光を検出するように構成されている、請求項１又は６に記載のバイオセンサ。
【請求項９】
前記光が、スポット上に固定化された核酸高分子にハイブリダイズした蛍光標識プライマー伸長産物から放出される、請求項８に記載のバイオセンサ。
【請求項１０】
前記光が、スポット上に固定化された核酸高分子にハイブリダイズした化学発光標識プライマー伸長産物から放出される、請求項８に記載のバイオセンサ。
【請求項１１】
励起光源をさらに含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載のバイオセンサ。
【請求項１２】
励起光源を含まない、請求項１から１０のいずれか一項に記載のバイオセンサ。
【請求項１３】
請求項１に記載のバイオセンサを使用するＤＮＡ配列決定の方法であって、以下：
核酸高分子内の特定の位置でヌクレオチド塩基を同定する蛍光標識で核酸高分子を標識すること；
核酸高分子に関連付けられた蛍光標識を検出すること、
ここで、前記蛍光標識を検出することは、以下：
核酸高分子を励起光で照射すること、ここで、核酸高分子は励起光を吸収し、裏面照射型相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）イメージセンサのフォトダイオード上に放射光を透過させる；
フォトダイオードで受光された放射光の少なくとも１つのパラメータを測定すること；及び
蛍光標識に対して放射光の少なくとも１つのパラメータを相関させること、
を含む；並びに
核酸高分子から蛍光標識を除去すること、
を含むプロセスを反復して実施することを含む、方法。
【請求項１４】
請求項１に記載のバイオセンサを使用するＤＮＡ配列決定の方法であって、以下：
核酸高分子内の特定の位置でヌクレオチド塩基を同定する化学発光標識で核酸高分子を標識すること；
裏面照射型相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）イメージセンサのフォトダイオード上に核酸高分子から放射された化学発光を検出すること；
フォトダイオードで受光された放射光の少なくとも１つのパラメータを測定すること；及び
化学発光標識に対して放射光の少なくとも１つのパラメータを相関させること；並びに
核酸高分子から化学発光標識を除去すること、
を含むプロセスを反復して実施することを含む、方法。
【請求項１５】
前記核酸高分子から放射された化学発光が、ルシフェラーゼに媒介されるルシフェリンのオキシルシフェリンへの変換によって生成される、請求項１４に記載の方法。