【手続補正書】
【提出日】令和2年10月7日(2020.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フローセルを受け入れるフローセルチャンバを含むハウジングと、
所望量の液体を受け入れる液体ウェルを有するウェルプレートであり、前記ウェルプレートはバルブステーション、ポンプステーション、及び流体解析ステーションを含み、  前記ウェルプレートは前記ウェル、前記バルブステーション、前記ポンプステーション、及び前記流体解析ステーションと関連するチャネルを含む、ウェルプレートと、
前記ポンプステーションにおいて前記ウェルプレートの上に設けられたポンプアセンブリであり、前記ポンプアセンブリは前記ポンプステーションと前記流体解析ステーションとの間のチャネルを通る流体フローを制御する、ポンプアセンブリと、
前記バルブステーションにおいて前記ウェルプレートの上に設けられた回転バルブアセンブリであり、前記回転バルブアセンブリは回転軸を中心に回転して前記ウェルを前記ポンプステーションに選択的に結合するように設置されたロータシャフト及びロータバルブを含む、回転バルブアセンブリと、
を備え、
前記ロータシャフトは前記ハウジングを貫通して露出する遠位端を有し、
前記ロータシャフトは前記遠位端に二重スプライン構造を含み、前記二重スプライン構造は第１及び第２組のスプラインを有し、前記第１組のスプラインは駆動インタフェースを形成し、前記第２組のスプラインは位置コード化インタフェースを形成する、
カートリッジアセンブリ。
【請求項２】
前記ロータシャフトの前記遠位端は前記ハウジングに設けられたシャフトウェル内に延伸し、それにより前記二重スプライン構造が流体解析機器のバルブ駆動アセンブリに露出されている、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項３】
前記第１組のスプラインは前記遠位端の外面周囲に延在する外部スプラインに相当し、それらの隣接するスプラインの側面は第１の所定のスプライン間隔で隔てられ、該スプライン間隔はバルブ駆動アセンブリの駆動シャフト上のスプラインパターンに対応する、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項４】
前記第２組のスプラインは前記ロータシャフトの前記遠位端に設けられた空洞の内面周囲に形成された内部スプラインに相当し、前記内部スプラインは、それらの隣接する側面が互いに所定の非平衡の角度を成すように傾斜された側面を有し、前記隣接側面は底部で融合して前記バルブ駆動アセンブリの駆動シャフトの対応スプラインを受け入れるくぼみを形成する、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項５】
前記ロータバルブは結合フランジによって前記ロータシャフトの近位端に取り付けられ、前記結合フランジが前記ロータバルブと前記ロータシャフトとの間の所定量の傾動を許容する、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項６】
前記ロータバルブは前記ロータシャフトの近位端の周囲に置かれた１つ以上のリブを有するロータベースを含み、前記結合フランジが前記リブと前記ロータシャフトの近位端との間に保持される、請求項４に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項７】
前記ロータバルブは中心ポートと径方向ポートを有するウェルプレート接触面を含み、
前記ロータバルブは前記中心ポートから前記径方向ポートまで径方向に外向きに延在するチャネルを含む、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項８】
前記中心ポートは前記ロータシャフトの回転軸と一致するとともに前記ウェルプレートの中心フィードポートと一致するように整列され、前記ロータバルブは前記回転軸を中心に回転して前記径方向ポートを対応するウェルポートと整列させる、請求項６に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項９】
前記回転バルブは界面リングで形成されたウェルプレート接触面を含み、前記界面リングは前記ウェルプレート接触面の周囲に延在する、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１０】
前記回転バルブを回転可能に収容する内部空洞を含むバルブキャップを更に備え、前記バルブキャップは前記バルブキャップを前記ウェルプレートに対して下向きに前記ウェルに固定する１つ以上のラッチアームを含み、且つ
前記内部空洞に設けられたバイアス素子を更に備え、前記バイアス素子は前記回転バルブにバイアス力を加えて前記回転バルブのポートと前記ウェルプレートのポートとの間で密封された界面を維持する、
請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１１】
前記ポンプアセンブリはプランジャの両端に駆動端とバイアス面を有するプランジャを含み、前記駆動端と前記バイアス面は前記ハウジングの上面及び底面で露出され、前記プランジャの往復運動と関連して対応する単方向駆動力とバイアス力が前記駆動端と前記バイアス面に加えられる、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１２】
前記プランジャはブリッジセグメントによりＵ字形に相互結合され且つモノリシック構造に一体に形成された駆動アームとプランジャアームを有し、前記駆動アームと前記プランジャアームは前記ウェルプレート上に位置する支持ポスト内に収容される、請求項１１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１３】
前記プランジャは異なる材料で一体にモールド成形されたプランジャアームとプランジャ素子を備える、請求項１１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１４】
前記プランジャ素子は前記プランジャアームの先端に形成され、前記プランジャ素子は前記ポンプステーションに高圧及び低圧を生成するために対応する支持ポスト中を移動する、請求項１３に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１５】
前記ポンプステーションは機能的に準備区分と排出区分とポンプ作業区分とに分割されたチャネル区分を含み、これらのすべての区分は互いに連続して両方向の流体フローを支持するように形成される、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１６】
前記ポンプステーションは作業エリアの上流と下流に置かれた１対のピンチバルブの間に挟まれた作業エリアを含み、前記ポンプアセンブリは前記作業エリアと整列するプランジャを備え、前記プランジャは作業エリアに対して往復運動して高圧及び低圧状態を導入し、前記ポンプアセンブリは前記ピンチバルブと整列するプッシュピンを更に備え、前記プッシュピンは交互に移動して前記ピンチバルブを開閉する、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１７】
前記ハウジング内に設けられ且つ前記ウェルに近接して位置する穿孔機ユニットを更に備え、前記穿孔機ユニットは穿孔素子を含み、前記穿孔機ユニットが穿孔位置へ移動されると、前記穿孔素子が対応するウェルのカバーに孔をあける、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１８】
前記ハウジングは、前記穿孔機ユニットの上端への機器アクセスを提供する穿孔機アクセス開口を有するカバーを含む、請求項１７に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項１９】
前記穿孔機ユニットは、下部プラットフォームと中間部分と上部フランジを有する円錐管状に形成された本体を含み、前記下部プラットフォーム又は前記上部フランジの少なくとも１つが所定の態様に分布された穿孔素子を含み、前記穿孔素子は前記ウェルプレートの前記ウェルと整列するように配置される、請求項１７に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項２０】
前記ロータシャフトの周りに嵌合するプラットフォームを更に備え、前記プラットフォームは、前記穿孔素子を対応するウェルと整列させるために、前記回転バルブアセンブリの係合機構部と係合して前記穿孔機ユニットを前記ロータシャフトに対して所定の回転配向に位置させるインデックス機構部を含む、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項２１】
前記ウェルプレートは前記回転バルブアセンブリに対応する所定の態様に配置されたウェルトランジションポートを含み、前記ウェルプレートは対応するウェルと整列するウェル排出ポートを含み、前記ウェルプレートは対応するウェル排出ポートとウェルトランジションポートとの間に延在するウェル排出チャネルを含む、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項２２】
前記ウェルプレートは上面及び底面を有し、それらの少なくとも一つの面がチャネルを含み、それらのチャネルは側面開口チャネルを含み、前記ベースは前記側面開口チャネルを閉鎖するためにバック層に接合されている、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項２３】
前記ウェルプレートは光学解析ステーション内に設けられた光学インタフェース窓を含み、前記ウェルプレートの上面は機器の照明素子と係合する挿入制限素子を含む、請求項１に記載のカートリッジアセンブリ。
【請求項２４】
前記挿入制限素子は前記光学インタフェース窓の周囲に設けられた１つ以上のリブに相当し、これらのリブは照明素子と前記光学インタフェース窓との間のＺ公差を規定する、請求項２３に記載のカートリッジアセンブリ。