【事件の表示】
　特願２０１１−７５７５４「ハニカムフィルタ及びハニカムフィルタの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２４年１０月２５日出願公開、特開２０１２−２０６０７９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成２３年３月３０日を出願日とする出願であって、その手続の経緯は以下のとおりである。
平成２６年　６月　６日付け：拒絶理由の通知
　　　同年　７月２９日　　：意見書の提出
　　　同年１０月１０日付け：拒絶査定
平成２７年　１月１５日　　：審判請求書、手続補正書の提出
　　　同年１１月２５日付け：平成２７年１月１５日にされた手続補正についての補正却下の決定、当審による拒絶理由の通知
平成２８年　１月２１日　　：意見書、手続補正書の提出
第２　本願発明
　本件出願の請求項１〜６に係る発明は、平成２８年１月２１日にされた手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された事項により特定されるものと認められるところ、本件出願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
「　　【請求項１】
　流体の流路となる複数のセルを形成する複数の多孔質の隔壁部と、
　前記隔壁部上に形成され前記流体に含まれる固体成分を捕集する捕集層と、を備え、
　電子顕微鏡による前記隔壁部上の撮影画像を材料領域と複数の細孔領域とに分割し、該各々の細孔領域に内接する最大内接円により求められる内接円直径分布でのメディアン細孔径Ｄ５０が１μｍ以上６μｍ以下、且つ該内接円直径分布でのメディアン細孔径Ｄ８０が１μｍ以上７μｍ以下を満たし、前記内接円直径分布により求められる内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす所定の捕集領域が前記隔壁部上に存在し、
　前記隔壁部は、少なくとも下流側端面から前記ハニカムフィルタの全長に対して２０％の領域が前記所定の捕集領域であり、且つ下流側端面から前記ハニカムフィルタの全長に対して５０％以下の領域が前記所定の捕集領域であり、
　前記所定の捕集領域以外の領域は、前記内接円直径分布により求められる内接円気孔率が１５％以上３５％以下を満たす、
　ハニカムフィルタ。」
第３　当審による拒絶理由の概要
　平成２７年１１月２５日付けで当審が通知した拒絶理由の一つは、概ね以下のとおりである。
　本件出願は、発明の詳細な説明の記載が下記の点で、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。
　本願【００６１】【表４】、【００６２】【表５】には、本願発明の特定事項である、内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす捕集層（「所定の捕集領域」）を得た旨記載されているが、本願の図７に開示されたＳＥＭ画像から認識、算出される内接円気孔率は、１０％にも満たない。
　したがって、本願の発明の詳細な説明は、「内接円直径分布により求められる内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす所定の捕集領域が前記隔壁部上に存在する」ことを特定事項とする本願発明１に対し、実施可能要件を満たしているとはいえない。
第４　当審の判断
１．発明の詳細な説明の記載
　本件出願の発明の詳細な説明には、次のとおりの記載がある。
ａ　「【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図２】捕集層２４の細孔分布の測定位置の説明図。
【図３】ＳＥＭ画像による捕集層の細孔分布の算出方法の説明図。
【図４】最大内接円の直径と積算面積との関係図。
・・・
【図６】隔壁部のみの表面、上流領域及び下流領域の隔壁部表面のＳＥＭ写真。
【図７】ＳＥＭ画像から内接円直径分布を求める説明図。」
ｂ　「【００２４】
　ここで、内接円直径分布でのメディアン細孔径Ｄ５０，Ｄ８０及び、内接円直径分布での内接円気孔率について詳しく説明する。隔壁部２２上に形成された捕集層２４の細孔分布や比表面積などは、ガス吸着測定や水銀圧入法などでも求めることが困難である。ここでは、隔壁上のＳＥＭ写真を撮影し、撮影したＳＥＭ写真を解析することにより、捕集層２４を主とする細孔径や気孔率を求めるものとした。・・・試料は、図２の下段に示すように、隔壁部２２と水平な面で切断するものとする。・・・次に、各切出試料の隔壁部２２の表面に対して、任意の５視野のＳＥＭ写真を撮影する（図３上段参照）。・・・３つの切出試料、各５視野の計１５のＳＥＭ画像を取得し、画像解析を実行してメディアン細孔径や気孔率値を計測し、その平均値を所定の捕集領域（下流領域）での値とする。ここでは、捕集層の内接円直径分布により求められるメディアン細孔径Ｄ５０（μｍ）、捕集層のメディアン細孔径Ｄ８０（μｍ）、捕集層の内接円気孔率（面積％）を求めた。なお、画像解析方法については、後述する。・・・
【００２５】
　電子顕微鏡による隔壁部上の撮影画像を材料領域と複数の細孔領域とに分割し、この各々の細孔領域に内接する最大内接円により内接円直径分布を求め、この内接円直径分布から得られるメディアン細孔径Ｄ５０、メディアン細孔径Ｄ８０及び内接円気孔率を求める。図３中段に示すように、ＳＥＭ画像３０に対し、画像解析ソフトによる２値化処理を行い、材料領域３３と細孔領域３４とに分割する。・・・また、この２値化処理にて、取得された細孔領域に関して、５０ピクセル未満のサイズのものは・・・これを排除し、５０ピクセル以上のサイズのものを細孔領域と定義する。次に、図３下段に示すように、ＳＥＭ画像３０に含まれる複数の細孔領域３４の各々に対し、その領域に内接する最大内接円３６を描き、この最大内接円３６の直径や個数などをカウントする。細孔領域は、様々な形状を有しているが、１つの領域に対して１つの最大内接円３６を描くものとする。図４に示すように、横軸を最大内接円の直径とし、縦軸をこの最大内接円の積算面積としてプロットし、この分布より内接円直径分布によるメディアン細孔径Ｄ５０、Ｄ８０を算出することができる。また、観察視野全体の面積に対する最大内接円の積算面積の割合を内接円気孔率（面積％）とすることができる。」
ｃ　「【００４２】
（内接円直径分布）
　電子顕微鏡による隔壁部上の撮影画像を材料領域と複数の細孔領域とに分割し、この各々の細孔領域に内接する最大内接円により内接円直径分布を求め、この内接円直径分布から得られるメディアン細孔径Ｄ５０、メディアン細孔径Ｄ８０及び内接円気孔率を求めた。ＳＥＭの膜面画像に対し、画像解析ソフトによる２値化処理を行い、材料領域と細孔領域とに分けた（図７中段参照）。・・・また、この２値化にて取得された細孔領域に関して、５０ピクセル未満のサイズのものは・・・これを排除し、５０ピクセル以上のサイズのものを細孔領域と定義した。次に、ＳＥＭ画像に含まれる複数の細孔領域の各々に対し、その領域に内接する最大円を描き、この最大円の直径や個数などをカウントした。細孔領域は、様々な形状を有しているが、１つの領域に対して１つの最大内接円を描くものとした（図７下段参照）。この分布より内接円直径分布によるメディアン細孔径Ｄ５０、Ｄ８０を算出した。また、観察視野全体の面積に対する最大内接円の積算面積の割合を内接円気孔率（面積％）とした。」
ｄ　「【００４５】
　このように、実験例６〜１０では、下流領域の捕集層の内接円直径分布により求められるメディアン細孔径Ｄ５０を主として調整した。この細孔分布調整処理について説明する。・・・下流領域での原料平均粒径（μｍ）、製膜量（ｇ／Ｌ）、供給空気流量（Ｌ／ｍｉｎ）に加え、この条件で得られた下流領域でのメディアン細孔径Ｄ５０（μｍ）をまとめて表１に示した。このようにして、下流領域のメディアン細孔径Ｄ５０を主として種々の値に調整したハニカムフィルタを得ることができる。なお、実験例１〜５においても同様の手法により、メディアン細孔径Ｄ５０を調整した。」
ｅ　「【００４６】
」
ｆ　「【００４９】
　・・・このとき、実験例１１〜１６では、下流領域には平均粒径３μｍの捕集層原料粒子を用い、実験例１７〜２３では、下流領域には平均粒径５μｍの捕集層原料粒子を用いた。」
ｇ　「【００５２】
  このように、実験例２４〜３４では、下流領域の捕集層の内接円直径分布により求められる内接円気孔率を調整した。この細孔分布調整処理について説明する。内接円気孔率の調整は、捕集層を形成する原料の平均粒径を固定し、製膜時の供給空気流量を制御する事で捕集層の気孔率の調整を行った。流量が多いほど原料粒子が圧密されるため気孔率が低くなり、流量が少ないほど粒子が緩やかに堆積するため気孔率が高くなる。まず、下流領域以外の部分を吸水させて下流領域以外の透過抵抗を高めた状態とする。次に、捕集層原料粒子（平均粒径５μｍ）を、流量１６０Ｌ／ｍｉｎ〜７２０Ｌ／ｍｉｎに調整して空気を流通させ、下流領域での捕集層の形成量である製膜量を１．０ｇ／Ｌとなるよう調整し、この下流領域に捕集層原料を堆積させた。・・・下流領域での原料粒径（μｍ）、製膜量（ｇ／Ｌ）、供給空気流量（Ｌ／ｍｉｎ）に加え、この条件で得られた下流領域での内接円気孔率（％）をまとめて表３に示した。このようにして、下流領域の内接円気孔率だけを種々の値に調整したハニカムフィルタを得ることができる。」
ｈ　「【００５３】
」
ｉ　「【００６１】
」
ｊ　「
」
ｋ　「
」
ｌ　「
」
ｍ　「
」
ｎ　「
」
２．検討
　本願発明は、前記「第２」に記載したとおりのものである。
　また、前記「第３」の当審による拒絶理由の概要は、要するに、本件出願の発明の詳細な説明は、当業者が、「内接円直径分布により求められる内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす所定の捕集領域が前記隔壁部上に存在する」ことを特定事項とする本願発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていない、というものである。
　ここで、前記１．に摘示した事項に基づいて、本件出願の発明の詳細な説明に記載されていた事項を整理すると、次のとおりの事項が開示されていたものと認められる。
ア　捕集層のＳＥＭ画像は、材料領域と複数の細孔領域とに分割されること。（摘示箇所ａ〜ｃ、ｊ、ｋ、ｎ）
イ　捕集層のＳＥＭ画像に含まれる複数の細孔領域の各々に対し、１つの最大内接円を描くこと。（摘示箇所ａ〜ｃ、ｊ、ｋ、ｎ）
ウ　捕集層のメディアン細孔径Ｄ５０は、最大内接円の積算面積が５０％となる点に対応する、最大内接円の直径であること。（摘示箇所ａ、ｂ、ｊ、ｌ）
エ　捕集層の内接円気孔率は、観察視野全体の面積に対する最大内接円の積算面積の割合を、面積％で表したものであること。（摘示箇所ａ、ｂ、ｊ、ｌ）
オ　捕集層のメディアン細孔径Ｄ５０は、捕集層原料の平均粒径により調整されること。（摘示箇所ｄ、ｅ）
カ　平均粒径５μｍの捕集層原料粒子を用い、流量を２２０Ｌ／ｍｉｎ〜６４０Ｌ／ｍｉｎに調整して空気を流通させ、製膜量を１．０ｇ／Ｌとなるように調整し、メディアン細孔径Ｄ５０が３μｍ、内接円気孔率が３５〜６０％となる下流領域の捕集層を形成したこと。（摘示箇所ｇ〜ｉ）
　そこで、上記本件出願の発明の詳細な説明に記載されていた事項に基づいて、本願発明の条件を満たすものを製造することができるか否かを検討する。
（１）本願の図７には、「ＳＥＭ画像から内接円直径分布を求める説明図」が開示されているが、「捕集層の内接円気孔率は、観察視野全体の面積に対する最大内接円の積算面積の割合」である（上記記載事項エ）ことに照らせば、当該ＳＥＭ画像から認識、算出される内接円気孔率、すなわち、図７の「＜隔壁＋捕集層＞」の最下段のＳＥＭ画像において、白い円で表されている最大内接円の面積の合計の、ＳＥＭ画像全体の面積に対する割合は、本願発明における「所定の捕集領域」の下限値である「３５％」にはるかに及ばず、１０％にも満たないものと認められる。
　また、本願の図６にも、「＜下流領域＞」とされるＳＥＭ写真が開示されているが、該ＳＥＭ写真は、図７の「＜隔壁＋捕集層＞」のＳＥＭ写真と同一の写真と認められることから、上記図７に対する理由と同様の理由により、図６から認識、算出される内接円気孔率も、上記「所定の捕集領域」の下限値である「３５％」にははるかに及ばないものと認められる。
　したがって、本件出願の明細書、特許請求の範囲又は図面（以下、「本件明細書等」という。）には、内接円気孔率が３５〜６０％の範囲にあると認められる捕集層、すなわち、本願発明における「所定の捕集領域」の捕集層にあたるＳＥＭ写真は具体的に開示されていないといえる。
　なお、この点については、当審において作成した応対記録と、該応対記録に添付した、２０１６年２月２９日に請求人から提出された回答書に記載のとおり、請求人に対し、本願発明に係る「内接円気孔率が３５％以上」を満たす所定の捕集領域のＳＥＭ画像について釈明を求めたが、請求人は当該ＳＥＭ画像の提示を行わなかった。
（２）そこで、「所定の捕集領域」に相当する下流領域の捕集層の内接円気孔率が、本願発明の下限値の「３５％」である「実験例２６」（上記１．の摘示箇所ｇ〜ｉを参照）について、捕集層が本願の図３（同摘示箇所ｋ）に記載されたような構造を有するものとし、また、上記記載事項ア、ウ、カに基づいて、捕集層粒子（○）として、捕集層原料粒子の平均粒径と等しい直径５μｍの円を用い、また、細孔領域の最大内接円（●）の直径が、全て捕集層のメディアン細孔径Ｄ５０の値と等しい３μｍである場合に、内接円気孔率が大きくなるように原料粒子を配置して作成した［参考図Ａ］を以下に示す。
［参考図Ａ］（当審において作成）
　上記［参考図Ａ］にて、四角で囲まれた範囲は、一辺が１５μｍに相当するものであり、かかる範囲内には、直径３μｍの最大内接円（●）が、おおよそ６個分包含されるものと認められる。
　してみれば、上記［参考図Ａ］において、本願発明で定義される内接円気孔率は下記のように算出されるが、これは、「実験例２６」の内接円気孔率とされる「３５％」を大きく下回る。
　（１．５×１．５×π×６）／（１５×１５）≒０．１８８＝１８．８％
　一方、
　（１５×１５）×０．３５／（１．５×１．５×π）≒１１．１
であるから、本願発明の定義に照らせば、「内接円気孔率が３５％」となるためには、上記［参考図Ａ］中の四角で囲まれた一辺１５μｍの範囲内に、最大内接円（●）の直径が３μｍの細孔領域を、おおよそ１１個以上収める必要があるといえる。
　しかしながら、「捕集層のＳＥＭ画像に含まれる複数の細孔領域の各々に対し、１つの最大内接円を描く」（上記記載事項イ）ことに照らせば、各々の細孔領域は、捕集層粒子（○）により形成される材料領域によって区画されていなければならず、一辺１５μｍの範囲内に、最大内接円（●）の直径が３μｍとなる１１個の細孔領域を配置し、更に、それらを直径５μｍの円で表される捕集層粒子（○）で形成される材料領域によって個々の細孔領域に区画するのが幾何的に不可能であることは、上記［参考図Ａ］からみて明らかである。
　「所定の捕集領域」に相当する下流領域の捕集層の内接円気孔率が、本願発明の下限値の「３５％」とされる「実験例２６」についてみても上記のとおりであるから、内接円気孔率がより大きい、本願明細書等に開示されたその他の実験例においても、同様のことがいえる。
　したがって、本件明細書等には、「所定の捕集領域」に相当する下流領域の捕集層の内接円気孔率が３５〜６０％となる実験例が開示されてはいるものの、そのような内接円気孔率を有する捕集層とは具体的にいかなるものであるかについて、本件出願の発明の詳細な説明の記載から、当業者は合理的に理解することができない。
（３）なお、最大内接円（●）の直径を固定したとき、捕集層粒子（○）で形成される材料領域の幅を狭くすれば、本願発明で定義される内接円気孔率を大きくとることができるから、仮に捕集層粒子（○）を表す直径を、実験例の平均粒径よりも小さくし、材料領域の幅を狭くした例についても検討する。
　ここで、上記記載事項オのとおり、捕集層のメディアン細孔径Ｄ５０は、捕集層原料の平均粒径により調整することができるとされる。
　しかしながらその一方で、上記１．の摘示箇所ｄ〜ｉからみて、捕集層のメディアン細孔径Ｄ５０は、捕集層原料の平均粒径よりも大きくはならないものと理解される。
　そこで、捕集層粒子（○）を表す円の直径を、細孔領域の最大内接円（●）の直径と同じになるまで小さくできるものと仮定し、かつ、本願発明で定義される内接円気孔率が最大となるように原料粒子を配置して作成した［参考図Ｂ］を以下に示す。
［参考図Ｂ］（当審において作成）
　上記［参考図Ｂ］によれば、一辺が２Ｘ［μｍ］の正六角形で囲まれた領域の中心に、直径２Ｘ［μｍ］の最大内接円（●）を配した単位領域が繰り返されることになるから、上記［参考図Ｂ］における内接円気孔率は、下記のように算出される。
　（Ｘ２×π）／（√３×Ｘ２×６）≒０．３０２＝３０．２％
　ここで、最大内接円（●）の直径を固定して、捕集層粒子（○）を表す円の直径を大きくすれば、材料領域の幅は相対的に広くなるから、本願発明で定義される内接円気孔率の値は、上記の「３０．２％」より小さくなることが明らかである。
　そして、上記のとおり、捕集層のメディアン細孔径Ｄ５０は、捕集層原料の平均粒径よりも大きくはならないものと理解されるから、上記仮定に従い、材料領域の幅を、本願明細書等の記載から予測可能な範囲で狭くしたとしても、得られる捕集層の内接円気孔率は「最大で３０．２％」であり、本願発明に係る「内接円気孔率が３５〜６０％」の捕集層を得ることは不可能である。
（４）上記［参考図Ａ、Ｂ］を用いた検討、及び、本件明細書等には、本願発明の捕集層の具体的なＳＥＭ画像が開示されていないことに照らせば、当業者は、本件出願の発明の詳細な説明の記載から、「内接円直径分布により求められる内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす所定の捕集領域」が具体的にいかなるものであり、また、具体的にどのようにして得るのかを、合理的に理解することができない。
（５）本願【００３３】にも記載のとおり、本願発明は、捕集層の細孔状態を、従来知られていた「ガス吸着測定」や「水銀圧入法」にかえて、「ＳＥＭ画像から得られる内接円直径分布により求められる内接円気孔率」という新規なパラメータによって特定しようとするものであり、本件出願の出願時において、該「内接円気孔率」の制御に関する技術常識は存在しない。
　そして、「捕集層を形成する原料の平均粒径を固定し、製膜時の供給空気流量を制御する」（１．の摘示箇所ｇを参照）という記載をはじめ、その他本件出願の発明の詳細な説明の記載全体を考慮しても、技術的に合理性のある具体的な実験例の開示によることなく、「内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす捕集層」を得る具体的手段を当業者が合理的に理解し、本願発明を実施することができるとはいえない。
３．まとめ
　よって、本件出願の発明の詳細な説明は、「内接円直径分布により求められる内接円気孔率が３５％以上６０％以下を満たす所定の捕集領域が前記隔壁部上に存在する」点において、当業者が本願発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていたとはいえない。
第５　むすび
　以上のとおり、本件出願の発明の詳細な説明の記載は、本願発明を、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるとはいえないから、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。