【手続補正書】
【提出日】令和2年5月26日(2020.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線パルスレーザ放射を発生させるための装置であって、
パルスレーザ放射（２２）のビームを発生させるレーザ源（２０）であって、前記パルスレーザ放射（２２）は、約１００フェムト秒〜約２００ピコ秒のパルス持続時間を有する、レーザ源（２０）と、
周波数変換モジュール（２８）であって、前記周波数変換モジュール（２８）は、気密に密閉されている封入された内部容積を有する、周波数変換モジュール（２８）と、
前記レーザ源（２０）から前記周波数変換モジュール（２８）に前記パルスレーザ放射（２２）のビームを輸送するように配列されている、中空コア光ファイバ（２４）であって、前記中空コア光ファイバの中空コアは、ガスを含有し、かつ前記ファイバ（２４）を通過する前記レーザ放射をスペクトル的に広げるように構成されている、中空コア光ファイバ（２４）と、
前記スペクトル的に広げられたレーザ放射を受け取るためのパルス圧縮モジュール（４４）であって、前記パルス圧縮モジュール（４４）は、そこに通過する前記パルスを時間的に圧縮するためである、パルス圧縮モジュール（４４）と、
前記周波数変換モジュール（２８）の前記封入された内部容積内に位置する、第１の非線形結晶（７２）および第２の非線形結晶（７４）と
を備え、
前記パルスレーザ放射（２２）のビームは、前記中空コア光ファイバ（２４）、前記パルス圧縮モジュール（４４）、前記第１の非線形結晶（７２）、および前記第２の非線形結晶（７４）を通る、列挙された順序で伝搬し、
前記第１の非線形結晶（７２）および前記第２の非線形結晶（７４）は、紫外線パルスレーザ放射のビームを発生させるように配列されている、装置。
【請求項２】
前記パルス圧縮モジュール（４４）は、一対のプリズムまたは一対の回折格子を含み、前記スペクトル的に広げられたレーザ放射は、前記一対のプリズムまたは前記一対の回折格子を通して伝搬するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第２の非線形結晶（７４）は、四ホウ酸リチウムから作製される、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記中空コア光ファイバ（２４）の前記中空コア内の前記ガスの圧力は、調整されている、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項５】
ビームスキャナ（７８）と、集束レンズ（３４）とをさらに備え、前記ビームスキャナ（７８）は、前記紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、偏向させるように配列され、前記集束レンズ（３４）は、前記偏向された紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記紫外線パルスレーザ放射のビームをワークピースにおいて合焦させるように配列されている、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、気密エンクロージャ（４６）内で前記周波数変換モジュール（２８）と前記集束レンズ（３４）との間に伝搬する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記気密エンクロージャ（４６）は、真空化されている、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記気密エンクロージャ（４６）は、乾性ガスでパージされている、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記乾性ガスは、清浄な乾燥空気である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２６６ナノメートルの波長を有する、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項１１】
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２４４ナノメートルの波長を有する、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項１２】
前記周波数変換モジュール（２８）の前記封入された内部容積は、真空化されている、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項１３】
前記周波数変換モジュール（２８）の前記封入された内部容積は、乾性ガスでパージされている、請求項１または請求項２記載の装置。
【請求項１４】
前記乾性ガスは、清浄な乾燥空気である、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記中空コア光ファイバ（２４）は、約１５マイクロメートルを上回るモードフィールド直径を有する、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項１６】
前記光ファイバ（２４）から出る前記パルスレーザ放射（２２）は、２０ピコ秒を上回るパルス持続時間を有し、前記パルス圧縮モジュール（４４）は、前記パルスレーザ放射の前記パルス持続時間を約２０ピコ秒未満まで減少させるように配列されている、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項１７】
前記光ファイバ（２４）から出る前記パルスレーザ放射は、１ピコ秒を上回るパルス持続時間を有し、前記パルス圧縮モジュール（４４）は、前記パルスレーザ放射の前記パルス持続時間を約１ピコ秒未満まで減少させるように配列されている、請求項１または請求項２に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（発明の要約）
一側面では、本発明による、ＵＶパルスレーザ放射発生装置は、パルスレーザ放射のビームを発生させるレーザ源を備える。パルスレーザ放射は、約１００フェムト秒〜約２００ピコ秒のパルス持続時間を有する。周波数変換モジュールが、提供される。周波数変換モジュールは、気密に密閉されている封入された内部容積を有する。光ファイバが、提供され、レーザ源から周波数変換モジュールにパルスレーザ放射のビームを輸送するように配列される。四ホウ酸リチウム結晶は、周波数変換モジュールの封入された内部容積内に位置する。四ホウ酸リチウム結晶は、パルスレーザ放射のビームを遮断し、そこからＵＶパルスレーザ放射のビームを発生させるように配列される。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
紫外線パルスレーザ放射を発生させるための装置であって、
パルスレーザ放射のビームを発生させるレーザ源であって、前記パルスレーザ放射は、約１００フェムト秒〜約２００ピコ秒のパルス持続時間を有する、レーザ源と、
周波数変換モジュールであって、前記周波数変換モジュールは、気密に密閉されている封入された内部容積を有する、周波数変換モジュールと、
前記レーザ源から前記周波数変換モジュールに前記パルスレーザ放射のビームを輸送するように配列されている、光ファイバと、
前記周波数変換モジュールの前記封入された内部容積内に位置する四ホウ酸リチウム結晶であって、前記四ホウ酸リチウム結晶は、前記パルスレーザ放射のビームを遮断し、そこから紫外線パルスレーザ放射のビームを発生させるように配列されている、四ホウ酸リチウム結晶と
を備える、装置。
（項目２）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２６６ナノメートルの波長を有する、項目１に記載の装置。
（項目３）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２４４ナノメートルの波長を有する、項目１に記載の装置。
（項目４）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２１３ナノメートルの波長を有する、項目１に記載の装置。
（項目５）
前記周波数変換モジュールの前記封入された内部容積は、真空化されている、任意の前記項目に記載の装置。
（項目６）
前記周波数変換モジュールの前記封入された内部容積は、乾性ガスでパージされている、項目１−４のいずれかに記載の装置。
（項目７）
前記乾性ガスは、清浄な乾燥空気である、項目６に記載の装置。
（項目８）
前記光ファイバは、中空コアを有し、前記パルスレーザ放射のビームは、その中で伝搬する、任意の前記項目に記載の装置。
（項目９）
前記中空コア光ファイバは、約１５マイクロメートルを上回るモードフィールド直径を有する、項目８に記載の装置。
（項目１０）
前記中空コアは、調整されている圧力を有するガスを含有する、項目８または項目９に記載の装置。
（項目１１）
前記光ファイバから出る前記パルスレーザ放射は、２０ピコ秒を上回るパルス持続時間を有し、前記装置はさらに、パルス圧縮器を備え、前記パルス圧縮器は、前記光ファイバと前記周波数変換モジュールとの間に位置し、前記パルス圧縮器は、前記パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記パルスレーザ放射の前記パルス持続時間を約２０ピコ秒未満まで減少させるように配列されている、任意の前記項目に記載の装置。
（項目１２）
前記光ファイバから出る前記パルスレーザ放射は、１ピコ秒を上回るパルス持続時間を有し、前記装置はさらに、パルス圧縮器を備え、前記パルス圧縮器は、前記光ファイバと前記周波数変換モジュールとの間に位置し、前記パルス圧縮器は、前記パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記パルスレーザ放射の前記パルス持続時間を約１ピコ秒未満まで減少させるように配列されている、項目１−１０のいずれかに記載の装置。
（項目１３）
ビームスキャナをさらに備え、前記ビームスキャナは、前記紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、偏向させるように配列されている、任意の前記項目に記載の装置。
（項目１４）
集束レンズをさらに備え、前記集束レンズは、前記紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記紫外線パルスレーザ放射のビームをワークピースにおいて合焦させるように配列されている、任意の前記項目に記載の装置。
（項目１５）
ビームスキャナと、集束レンズとをさらに備え、前記ビームスキャナは、前記紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、偏向させるように配列され、前記集束レンズは、前記偏向された紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記紫外線パルスレーザ放射のビームをワークピースにおいて合焦させるように配列されている、項目１−１２のいずれかに記載の装置。
（項目１６）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、気密エンクロージャ内で前記周波数変換モジュールと前記集束レンズとの間に伝搬する、項目１５に記載の装置。
（項目１７）
前記気密エンクロージャは、真空化されている、項目１６に記載の装置。
（項目１８）
前記気密エンクロージャは、乾性ガスでパージされている、項目１６に記載の装置。
（項目１９）
前記乾性ガスは、清浄な乾燥空気である、項目１８に記載の装置。
（項目２０）
紫外線パルスレーザ放射を発生させるための装置であって、
パルスレーザ放射のビームを発生させるレーザ源であって、前記パルスレーザ放射は、約１００フェムト秒〜約２００ピコ秒のパルス持続時間を有する、レーザ源と、
周波数変換モジュールであって、前記周波数変換モジュールは、気密に密閉されている封入された内部容積を有する、周波数変換モジュールと、
前記レーザ源から前記周波数変換モジュールに前記パルスレーザ放射のビームを輸送するように配列されている、中空コア光ファイバと、
前記周波数変換モジュールの前記封入された内部容積内に位置する、第１の非線形結晶および第２の非線形結晶と
を備え、
前記パルスレーザ放射のビームは、前記中空コア光ファイバ、前記第１の非線形結晶、および前記第２の非線形結晶を通る、列挙された順序で伝搬し、
前記第１の非線形結晶および前記第２の非線形結晶は、紫外線パルスレーザ放射のビームを発生させるように配列されている、装置。
（項目２１）
前記第２の非線形結晶は、四ホウ酸リチウムから作製される、項目２０に記載の装置。
（項目２２）
前記中空コア光ファイバの中空コアは、調整されている圧力を有するガスを含有する、項目２０または項目２１に記載の装置。
（項目２３）
ビームスキャナと、集束レンズとをさらに備え、前記ビームスキャナは、前記紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、偏向させるように配列され、前記集束レンズは、前記偏向された紫外線パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記紫外線パルスレーザ放射のビームをワークピースにおいて合焦させるように配列されている、項目２０−２２のいずれかに記載の装置。
（項目２４）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、気密エンクロージャ内で前記周波数変換モジュールと前記集束レンズとの間に伝搬する、項目２３に記載の装置。
（項目２５）
前記気密エンクロージャは、真空化されている、項目２４に記載の装置。
（項目２６）
前記気密エンクロージャは、乾性ガスでパージされている、項目２４に記載の装置。
（項目２７）
前記乾性ガスは、清浄な乾燥空気である、項目２６に記載の装置。
（項目２８）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２６６ナノメートルの波長を有する、項目２０−２７のいずれかに記載の装置。
（項目２９）
前記紫外線パルスレーザ放射のビームは、約２４４ナノメートルの波長を有する、項目２０−２７のいずれかに記載の装置。
（項目３０）
前記周波数変換モジュールの前記封入された内部容積は、真空化されている、項目２０−２９のいずれかに記載の装置。
（項目３１）
前記周波数変換モジュールの前記封入された内部容積は、乾性ガスでパージされている、項目２０−２９のいずれかに記載の装置。
（項目３２）
前記乾性ガスは、清浄な乾燥空気である、項目３１に記載の装置。
（項目３３）
前記中空コア光ファイバは、約１５マイクロメートルを上回るモードフィールド直径を有する、項目２０−３２のいずれかに記載の装置。
（項目３４）
前記光ファイバから出る前記パルスレーザ放射は、２０ピコ秒を上回るパルス持続時間を有し、前記装置はさらに、パルス圧縮器を備え、前記パルス圧縮器は、前記光ファイバと前記周波数変換モジュールとの間に位置し、前記パルス圧縮器は、前記パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記パルスレーザ放射の前記パルス持続時間を約２０ピコ秒未満まで減少させるように配列されている、項目２０−３３のいずれかに記載の装置。
（項目３５）
前記光ファイバから出る前記パルスレーザ放射は、１ピコ秒を上回るパルス持続時間を有し、前記装置はさらに、パルス圧縮器を備え、前記パルス圧縮器は、前記光ファイバと前記周波数変換モジュールとの間に位置し、前記パルス圧縮器は、前記パルスレーザ放射のビームを遮断し、前記パルスレーザ放射の前記パルス持続時間を約１ピコ秒未満まで減少させるように配列されている、項目２０−３３のいずれかに記載の装置。