Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年8月19日(2020.8.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食品を含む組成物であって、
前記食品は、食品成分、電解質、及び少なくとも５０重量％のポリエチレングリコールベースの下剤を含み、
前記組成物は、下剤と食品成分と電解質の混合物を含み、
前記組成物にはポリエチレングリコールの８０°Ｆ以上の温度で形成された熱的崩壊生成物が無く、
前記組成物は、ヤシ油、ラード、植物性ショートニング、パーム油、ココアバター、バター、又はマーガリンからなる群から選択される、一以上の成分を更に含む、組成物。
【請求項２】
約２５重量％乃至約４０重量％の前記食品である米糖化液を更に含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ヤシ油は、前記食品の約１．５重量％乃至約３．０重量％含まれる、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
グリセリンを更に含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記グリセリンは、前記食品の約１．０重量％乃至約３．０重量％含まれる、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
レモン、ミント、ショウガ、ペッパー、バニラ、チョコレート、又はカラメルの風味材料を更に含む、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記電解質は、塩化ナトリウム、塩化カリウム、重炭酸カリウム、及び塩化マグネシウムを含む、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記食品は食品バーの形態である、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
幾つかの実施形態において、本明細書に記載される食品バーは、ＰＥＧ−３３５０、米糖化液、ヤシ油、及びグリセリンを含む。幾つかの実施形態において、本明細書に記載される食品バーは、少なくとも５０重量％（例えば約５０重量％、５１重量％、５２重量％、５３重量％、５４重量％、５５重量％、５６重量％、５７重量％、５８重量％、５９重量％、６０重量％、６５重量％、７０重量％、７５重量％、８０重量％、８５重量％）のＰＥＧ−３３５０を含む。幾つかの実施形態において、本明細書に記載される食品バーは、約２５重量％乃至約４０重量％（例えば約２５重量％、２６重量％、２７重量％、２８重量％、２９重量％、３０重量％、３１重量％、３２重量％、３３重量％、３４重量％、３５重量％、３６重量％、３７重量％、３８重量％、３９重量％、４０重量％）の米糖化液を含み；又は、米糖化液の全て又は一部に代わるもの或いは代用品として、大麦シロップ、大麦麦芽シロップ、メープルシロップ、糖蜜、ハチミツ、アガベシロップ、又はコーンシロップが使用され得る。幾つかの実施形態において、本明細書に記載される食品バーは、約１．５重量％乃至約３．０重量％（例えば約１．５重量％、１．６重量％、１．７重量％、１．８重量％、１．９重量％、２．０重量％、２．１重量％、２．２重量％、２．３重量％、２．４重量％、２．５重量％、２．６重量％、２．７重量％、２．８重量％、２．９重量％、３．０重量％）のヤシ油を含み；又は、ヤシ油の全て又は一部に代わるもの或いは代用品として、ラード、植物性ショートニング、パーム油、ココアバター、バター、又はマーガリンが使用され得る。幾つかの実施形態において、本明細書に記載される食品バーは、約１．０重量％乃至約３．０重量％（例えば約１．０％重量％、１．６重量％、１．７重量％、１．８重量％、１．９重量％、２．０重量％、２．１重量％、２．２重量％、２．３重量％、２．４重量％、２．５重量％、２．６重量％、２．７重量％、２．８重量％、２．９重量％、３．０重量％）のグリセリンを含み；又は、グリセリンの全て又は一部に代わるもの或いは代用品として、コーンシロップ又は植物油が使用され得る。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年4月6日(2020.4.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７３】
【表１】
2017514967.tif 000001
ａ  Ｎｅｏｄｏｌ（登録商標）２５−７は、非イオン性界面活性剤としての、Ｓｈｅｌｌから入手可能な平均７モルのエチレンオキシドでエトキシル化されたＣ１２〜Ｃ１５アルコール
ｂ  キレート剤としての、ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウム塩
ｃ  数平均分子量（ＭＷｎ）約６００のＰＥＩ主鎖及び（ＥＯ）２０の側鎖を有するポリエチレンイミンエトキシレート
ｄ  数平均分子量（ＭＷｎ）約６００のＰＥＩ主鎖及び（ＥＯ）２０（ＰＯ）５の側鎖を有するポリエチレンイミンエトキシレート
ｅ  式（Ｖ）の双性イオン性ヘキサメチレンジアミン
ｆ  Ｔｉｎｏｓａｎ（登録商標）ＨＰ１００は、ＢＡＳＦから入手可能な４−４’−ジクロロ−２−ヒドロキシジフェニルエーテル
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７５】
【表２】
2017514967.tif 000002
ａ  Ｎｅｏｄｏｌ（登録商標）２５−７は、非イオン性界面活性剤としての、Ｓｈｅｌｌから入手可能な平均７モルのエチレンオキシドでエトキシル化されたＣ１２〜Ｃ１５アルコール
ｂ  数平均分子量（ＭＷｎ）約６００のＰＥＩ主鎖及び（ＥＯ）２０の側鎖を有するポリエチレンイミンエトキシレート
ｃ  Ｔｉｎｏｓａｎ（登録商標）ＨＰ１００は、ＢＡＳＦから入手可能な４−４’−ジクロロ−２−ヒドロキシジフェニルエーテル
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗菌洗浄組成物であって、
ａ）洗浄組成物の重量に対して、０．０３％〜０．５％の、４−４’−ジクロロ−２−ヒドロキシジフェニルエーテルである非イオン性抗菌剤と、
ｂ）前記洗浄組成物の重量に対して、０．２％〜１．５％の、アルキレンアミン主鎖及びアルキレンアミン主鎖の窒素原子に結合した側鎖を含む、汚れ分散剤であって、主鎖であるＰＥＩ及び前記ＰＥＩ主鎖の窒素原子に結合した式（Ｉ）：
−（ＥＯ）ｂ（ＰＯ）ｃ                    （Ｉ）
の側鎖を有するポリエチレンイミンエトキシレート（ここで、前記ポリエチレンイミンエトキシレートは、３００〜３，０００の範囲の数平均分子量（ＭＷｎ）を有するＰＥＩ主鎖を有し、ｂは、１５〜３５の範囲であり、ｃは０である）である、汚れ分散剤と、
ｃ）前記組成物の重量に対して、３％〜４０％の、アルキルエトキシサルフェート（ＡＥＳ）及び直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＬＡＳ）を含むアニオン性界面活性剤系と、
ｄ）前記組成物の重量に対して、０．５％〜１０％の、平均５〜９モルのエチレンオキシドでエトキシル化されたＣ１２〜Ｃ１６アルコールである、非イオン性界面活性剤とを含むことを特徴とする、抗菌洗浄組成物。
【請求項２】
水溶性フィルム内に収容される、請求項１に記載の組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７６】
粒子形成（工程＃１）。１０未満の酸価を有する３２ｇの第１の結晶性ポリエステル、１０超の酸価を有する８ｇの第２の結晶性ポリエステル、１０ｇのＭＰＳ、２０ｇのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、及び１０ｇのイソプロパノール（ＩＰＡ）を、オーバーヘッドスターラー、コンデンサー、熱電対及び加熱マントルを備えた５００ｍＬの４首丸底フラスコ中で組み合わせた。ポリマーを溶解するために、反応混合物の温度を、溶液が透明になるまで約２０分間かけて６５℃に上げた。ポリマーが完全に溶解するのを確実にするために、反応混合物を追加で３０分間撹拌した。この溶液に、２ｇの５Ｍの水性水酸化アンモニウムを加えて、１ｇのポリマーあたり１７９μｍｏｌ以上の酸基を脱プロトン化して、２０分間反応させた。次いで、水中油型エマルジョンが形成されるまで、注射器ポンプを使用して１００ｇの脱イオン水を３．３ｍＬ／分間の速度で加えた。最終分散体を室温に冷却して、粒子サイズ分布、13Ｃ  ＤＰＭＡＳ  ＮＭＲ及びＴＥＭ測定のために試料を収集した。ＮＭＲの結果は、この工程で加えたＭＰＳからのメトキシシラン基は縮合されたが、メタクリル酸側鎖は可動性が高く、ポリエステルの表面に位置したと推定される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアシェルコンポジット粒子を調製するためのプロセスであって、
（ｉ）有機溶媒中に、１つ又は複数のポリエステルと、ポリエステルの全体量１部に対して質量で１０部以下のアルコキシシラン基を有する第１のエチレン性不飽和シラン化合物とを含む溶液を提供する工程と、
（ｉｉ）工程（ｉ）で提供された溶液に十分な塩基を加えて、溶解したポリエステル上の酸基を脱プロトン化する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で得られた溶液に水を加えて、エマルジョンを形成する工程と、
（ｉｖ）エマルジョンから塩基及び溶媒の少なくとも一部を抽出して、エマルジョンを５〜７のｐＨにする工程と、
（ｖ）ポリエステルの全体量１部に対して質量で３０部以下のアルコキシシラン基を有する第２のエチレン性不飽和シラン化合物をエマルジョンに加える工程と、
（ｖｉ）エチレン性不飽和シラン化合物をラジカル重合して、コアシェル粒子の分散体を提供する工程と、
（ｖｉｉ）アルコキシシラン基の少なくとも一部を加水分解及び縮合させることで、重合したエチレン性不飽和シラン化合物を架橋する工程とを含み、
前記コアシェルコンポジット粒子が、ポリエステルの全体量１部に対して質量で合計０．１部以上のアルコキシシラン基を有するエチレン性不飽和シラン化合物を用いて製造される、プロセス。
【請求項２】
コアシェル粒子を疎水化剤で表面処理することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記疎水化剤がシラン及び／又はシラザンを含み、架橋及び疎水化が同時に行われる、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記第１のエチレン性不飽和シラン化合物及び前記第２のエチレン性不飽和シラン化合物が同一の組成を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記第１のエチレン性不飽和シラン化合物のアルコキシシラン基の一部が、ラジカル重合する前に加水分解される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
工程（ｖ）において、ビニルモノマー、アクリルモノマー、又はアルコキシシランをエマルジョンに加えることをさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
コアシェル粒子を分離することをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記第１のエチレン性不飽和シラン化合物及び前記第２のエチレン性不飽和シラン化合物が、独立して、構造Ｒ４ＳｉＲ’ｍ（ＯＲ”）ｎを有し、式中、Ｒ４が、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル又はＲ３Ｃ（ＣＨ２）（ＣＯ）ＯＲ２−のいずれかであり、Ｒ３がＨ又はＣ１〜Ｃ６アルキルのいずれかであり、Ｒ２がＣ３〜Ｃ２２アルキレンであり、Ｒ’及びＲ”が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキルであり、ｍが０〜２の整数であり、ｎが１〜３の整数であり、ｍ＋ｎ＝３である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月23日(2020.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
船舶又は海洋施設の周囲に沿って実装するための障害物（１０）であって、前記船舶又は海洋施設は、周囲レール（２０）を有するデッキ（５１）と、前記デッキの縁部に沿った直立板（５３）とを含み、前記障害物は細長ボディを有し、前記細長ボディは、
前記周囲レールの最下位列のレール（２０３）を受容するための縦溝（１２）と、
前記板（５３）の上にその船外即ち海側で突き出るための舌状部（１４）であって、前記障害物（１０）が前記船舶又は海洋施設の前記周囲に沿って実装されるときに船内方向に面するように意図された後面（１４２）を含む、舌状部とを含み、
前記舌状部の後面（１４２）と前記縦溝（１２）の中心線（Ｘ−Ｘ’）との間の分離（ｓ）は、３０〜３００ｍｍであり、
前記縦溝（１２）の前記中心線（Ｘ−Ｘ’）と前記分離（ｓ）とは、前記舌状部の前記後面（１４２）に対する９０度〜１３５度の角度（θ）を範囲決めする平面を共に規定する、障害物。
【請求項２】
前記舌状部（１４）は、前記縦溝（１２）から離れる方向に減っていく厚さ（ｔ）を有する、請求項１に記載の障害物。
【請求項３】
前記縦溝（１２）は、前記最下位列のレール（２０３）まわりの前記障害物（１０）の回転に適合され、それによって、前記障害物は、デッキの縁部に沿って異なった高さの板（５３ａ、５３ｂ）を収容することができる、請求項１又は２に記載の障害物。
【請求項４】
前記障害物（１０）が前記船舶又は海洋施設の前記周囲に沿って実装されるときに上方に面するように意図された上面（１６）を更に含み、前記上面は、前記障害物（１０）の深さの方向（Ｄ−Ｄ’）に凸状に湾曲している、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の障害物。
【請求項５】
前記上面（１６）は、実質上滑らかである、請求項４に記載の障害物。
【請求項６】
前記舌状部（１４）は、前記障害物（１０）が前記船舶又は海洋施設の前記周囲に沿って実装されるときに海方向に面するように意図された前面（１４４）を含み、前記前面は、実質上滑らかである、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の障害物。
【請求項７】
前記障害物（１０）を前記最下位列のレール（２０３）に取り付けるための前記縦溝（１２）に近位の取付け設備（１１）を更に含む、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の障害物。
【請求項８】
前記取付け設備（１１）は、前記障害物の１つ又は複数の貫通穴（１１２）を含む、請求項７に記載の障害物。
【請求項９】
前記最下位列のレール（２０３）まわりの前記障害物（１０）の回転を妨げるための回転防止デバイス（１３）を更に含む、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の障害物。
【請求項１０】
前記回転防止デバイス（１３）は、前記舌状部（１４）の１つ又は複数の貫通穴（１３２）を含む、請求項９に記載の障害物。
【請求項１１】
前記障害物（１０）は、０．７０〜１．５０メートルの幅（ｗ）を有する、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の障害物。
【請求項１２】
前記舌状部（１４）は、２００〜６００ｍｍの高さ（ｈ）を有する、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の障害物。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか１項に記載の複数の障害物（１０ａ、１０ｂ）と、
前記障害物の上で、前記船舶又は海洋施設の前記周囲レール（２０）に実装するための複数のセキュリティ防壁（１ａ、１ｂ、１ｃ）とを含む、周囲保護システム（１００）。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれか１項に記載の、前記船舶又は海洋施設の前記周囲に沿って並んで互いに隣接して配置される複数の障害物（１０ａ、１０ｂ）と、
前記障害物の上で、前記船舶又は海洋施設の前記周囲レール（２０）に沿って並んで互いに隣接して配置される複数のセキュリティ防壁（１ａ、１ｂ、１ｃ）とを含む、船舶又は海洋施設。
【請求項１５】
前記複数の障害物（１０ａ、１０ｂ）及び前記複数のセキュリティ防壁（１ａ、１ｂ、１ｃ）によって保護される積荷を更に含む、請求項１４に記載の船舶又は海洋施設。
【請求項１６】
船舶又は海洋施設の周囲を保護する方法であって、前記船舶又は海洋施設は、周囲レール（２０）を有するデッキ（５１）と、前記デッキの縁部に沿った直立板（５３）とを含み、
請求項１から１２のいずれか１項に記載の複数の障害物（１０ａ、１０ｂ）を、前記船舶又は海洋施設の前記周囲に沿って並んで互いに隣接して位置決めするステップと、
前記周囲レールの最下位列のレール（２０３）を前記障害物の前記縦溝（１２）に受容するステップと、
前記障害物の前記舌状部（１４）をその船外即ち海側の前記板（５３）の上に掛けるステップとを含む、方法。
【請求項１７】
少なくとも１つの前記障害物（１０ａ、１０ｂ）を前記周囲レール（２０）に取り付けるステップを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記最下位列のレール（２０３）まわりの少なくとも１つの前記障害物（１０ａ、１０ｂ）の回転を妨げるステップを更に含む、請求項１６又は１７に記載の方法。
【請求項１９】
複数のセキュリティ防壁（１ａ、１ｂ、１ｃ）を、前記障害物の上で、前記船舶又は海洋施設の前記周囲レールに沿って並んで互いに隣接して位置決めするステップを更に含む、請求項１６から１８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月10日(2020.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
缶ボディ製造機（１０）の再絞りアセンブリ（１８）用の再絞りスリーブ（４０）において、
前記缶ボディ製造機（１０）はダイパック（１６）を含んでおり、
前記ダイパック（１６）は再絞りダイ（４２）を含んでおり、
前記ダイパック（１６）及び前記再絞りダイ（４２）は長手方向軸を含んでおり、
前記再絞りスリーブ（４０）は、第２の端部（８０）を含む本体（７２）を備えており、
前記第２の端部（８０）は、成形された輪郭を含む、再絞りスリーブ。
【請求項２】
前記本体の第２の端部（８０）は、軸方向面（１００）を含んでおり、
前記第２の端部の軸方向面（１００）は、内向きテーパーの第２の端部の軸方向面である、請求項１に記載の再絞りスリーブ。
【請求項３】
前記第２の端部（８０）は、径方向面（１０４）を含んでおり、
前記第２の端部の径方向面（１０４）は、内向きオフセットの第２の端部径方向面である、請求項２に記載の再絞りスリーブ。
【請求項４】
前記第２の端部の軸方向面（１００）が、約０°２’乃至０°１０’のテーパーを有する、請求項３に記載の再絞りスリーブ。
【請求項５】
前記第２の端部の径方向面（１０４）は、径方向外辺部（１１０）及びオフセット部分（１１２）を含んでおり、
前記第２の端部のオフセット部分（１１２）は、前記第２の端部の径方向面の径方向外辺部（１１０）に対して、約０．０００５インチ乃至０．００１インチの距離だけ内向きにオフセットしている、請求項３に記載の再絞りスリーブ。
【請求項６】
前記第２の端部（８０）は、径方向面（１０４）を含んでおり、
前記第２の端部の径方向面（１０４）は、内向きオフセットの第２の端部の径方向面である、請求項１に記載の再絞りスリーブ。
【請求項７】
前記第２の端部の径方向面（１０４）は、径方向外辺部（１１０）及びオフセット部分（１１２）を含んでおり、
前記第２の端部のオフセット部分（１１２）は、前記第２の端部の径方向面の径方向外辺部（１１０）に対して、約０．００２インチ乃至０．００３インチの距離だけ内向きにオフセットしている、請求項６に記載の再絞りスリーブ。
【請求項８】
前記第２の端部（８０）は、軸方向面（１００）、移行部（１０２）、及び径方向面（１０４）を含んでおり、
前記第２の端部の移行部（１０２）は、接して合致する輪郭を有する、請求項１に記載の再絞りスリーブ。
【請求項９】
前記第２の端部の移行部（１０２）は、マルチアール面であり、係合部分（１０６）及び非係合部分（１０８）を含んでおり、
前記係合部分（１０６）は、約０．０６０インチ乃至０．１００インチのアールによって規定され、
前記非係合部分（１０８）は、約０．０８０インチ乃至０．１２０インチのアールによって規定され、
前記係合部分（１０６）は中心（１０７）を有しており、
前記非係合部分（１０８）は中心（１０９）を有しており、
前記係合部分の中心（１０７）と前記非係合部分の中心（１０９）は、最低限度距離だけ離れている、請求項８に記載の再絞りスリーブ。
【請求項１０】
前記係合部分（１０６）は、約０．０８０インチのアールによって規定され、
前記非係合部分（１０８）は、約０．１００インチのアールによって規定され、
前記係合部分の中心（１０７）と前記非係合部分の中心（１０９）は、特定の最低限度距離だけ離れている、請求項９に記載の再絞りスリーブ。
【請求項１１】
ボディ製造機（１０）であって、
ラム（１２）と、
前記ラム（１２）に結合しており、前記ラム（１２）に往復運動をもたらすように構成された駆動機構（１４）と、
ダイパック（１６）と、
可動再絞りアセンブリ及び再絞りダイ（４２）を含む再絞りアセンブリ（１８）と、
を備えており、
前記ラム（１２）は、前記ラム（１２）が前記ダイパック（１６）から離間した第１の後退位置と、前記ラム（１２）が前記ダイパック（１６）を通って延びる第２の前進位置との間を往復するように構成されており、
前記再絞りダイ（４２）は、前記ダイパック（１６）内に配置され、
前記再絞りアセンブリ（１８）は、請求項１乃至１０の何れかに記載の再絞りスリーブ（４０）を含んでいる、ボディ製造機。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月29日(2020.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性材料の鋳造物を製造する方法であって、
導電性材料の装入物（１）を少なくとも１つの交番電磁場の影響の範囲内に導入して前記装入物が浮揚状態に維持されるようにするステップと、
前記装入物（１）を熔解するステップと、
浮揚する前記装入物（１）の下の充填領域内に型（２）を配置するステップと、
前記型（２）内に前記装入物（１）全体を注入するステップと、
前記型（２）から凝固した前記鋳造物を取り出すステップとを含み、
熔解した前記装入物（１）の体積が、前記鋳造物を製造するのに十分な程度まで前記型（２）を充填するのに十分であり、かつ、鋳造の際、前記型（２）が前記装入物（１）の注入方向に平行に移動されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
充填された前記型（２）が、前記装入物（１）の注入後かつ前記鋳造物の取り出し前に、前記充填領域から取り除かれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記装入物（１）で充填された前記型（２）を前記充填領域から取り除いた後、又は、前記装入物（１）で充填された前記型（２）を前記充填領域から除去するのと完全に若しくは部分的に同時に、別の空の型（２）を前記充填領域に移動させる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記型（２）が充填前に予熱される、請求項１乃至３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記型（２）が、充填の間、垂直軸の周りに回転される、請求項１乃至４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記回転は、１０回転／分以上１０００回転／分以下、特に１００回転／分以上５００回転／分以下の回転速度で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記装入物（１）の熔解と前記型（２）の充填との両方が、真空下で、特に最大１０００Ｐａの圧力で、又は、プロテクトガス、特に窒素、希ガスの１つ若しくはそれらの混合ガス下で行われる、請求項１乃至６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
充填の際、前記型（２）が、注入方向に移動される、請求項１乃至７の何れか１項に記載の方法。
【請求項９】
回転動作及び／又は移動動作が、前記装入物（１）の注入によってトリガされる、請求項５乃至８の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記導電性材料が、チタン、ジルコニウム、バナジウム、タンタル、タングステン、ハフニウム、ニオブ、レニウム、モリブデン、ニッケル、鉄、アルミニウムからなるグループ中の少なくとも１つの金属を含む、請求項１乃至９の何れか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記金属が、前記導電性材料の少なくとも５０重量％、特に少なくとも６０重量％又は少なくとも７０重量％の割合を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記導電性材料が、チタン又はチタン合金、特にＴｉＡｌ又はＴｉＡｌＶである、請求項１乃至１１の何れか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記導電性材料は、熔解中に、前記導電性材料の融点より少なくとも１０℃、少なくとも２０℃、又は少なくとも３０℃高い温度に過熱される、請求項１乃至１２の何れか１項
に記載の方法。
【請求項１４】
鋳造用の前記型（２）が、金属材料又はセラミック材料、特に酸化物セラミック材料で作製されている、請求項１乃至１３の何れか１項に記載の方法。
【請求項１５】
熔解が、０．５分以上２０分以下、特に１分以上１０分以下の間、行われる、請求項１乃至１４の何れか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記装入物（１）の浮揚状態をもたらすために、異なる交流電流周波数の少なくとも２つの電磁場が使用される、請求項１乃至１５の何れか１項に記載の方法。
【請求項１７】
負荷がない場合、生成された磁場は、水平に伸びる、及び／又は、互いに直交するように配置される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
磁場を集中させかつ前記装入物（１）を安定化させるために、特に振幅透磁率μa＞１０を有する強磁性材料からなる少なくとも１つの強磁性素子（４）が、前記装入物（１）が熔解される領域周りに水平に配置される、請求項１乃至１７の何れか１項に記載の方法。
【請求項１９】
電磁場が、軸（Ａ、Ｂ）が水平に配向された少なくとも２対の誘導コイル（３）を使用して生成される、請求項１６乃至１８の何れか１項に記載の方法。
【請求項２０】
さらに、注入速度に影響を及ぼすために、垂直方向のコイル軸を有するコイル（３）、特に円錐コイルが、熔解される前記装入物（１）の下に配置され、このコイルが第３の交流電流周波数の電磁場を生成する、請求項１６乃至１９の何れか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記型（２）は二つ又はそれ以上の型要素（８、９）を有する永久ダイであり、前記永久ダイからの前記鋳造物の取り出しは、前記型要素（８、９）の分離を含む、請求項１乃至２０の何れか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月30日(2020.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合計で１００質量％となる混合物全体に基づいて、２２．０質量％〜３２．０質量％の水及び１５質量％〜１９質量％の３，４−ジメチルピラゾール、並びに、３，４−ジメチルピラゾールに対するモル比が少なくとも２：１であるリン酸を含む、混合物。
【請求項２】
合計で１００質量％となる前記混合物全体に基づいて、１６．０質量％〜１８．０質量％の３，４−ジメチルピラゾールを含有することを特徴とする、請求項１に記載の混合物。
【請求項３】
合計で１００質量％となる前記混合物全体に基づいて、２５．０質量％〜３０．０質量％の量で水を含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の混合物。
【請求項４】
水、３，４−ジメチルピラゾール、リン酸、及び合計で１００質量％となる前記混合物全体に基づいて０質量％〜１０質量％のさらなる添加剤からなることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の混合物。
【請求項５】
合計で１００質量％となる前記混合物全体に基づいて、２５．０質量％〜３０．０質量％の水、１７．０質量％〜１７．８質量％の３，４−ジメチルピラゾール、リン酸、並びに、０．１質量％〜２質量％の染料、及び０質量％〜５質量％のさらなる添加剤からなることを特徴とする、請求項４に記載の混合物。
【請求項６】
３，４−ジメチルピラゾール、リン酸、及び任意にさらなる添加剤を水に導入し、水に導入された前記物質を混合することによって、請求項１から５のいずれか一項に記載の混合物を製造する方法。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか一項に記載の混合物を液体肥料又は液体肥料製剤に添加する工程を含む、液体肥料又は液体肥料製剤を安定化する方法。
【請求項８】
安定化されたアンモニウム窒素含有肥料の粉末、顆粒、チップ、錠剤又は押出物を製造する方法であって、請求項１から５のいずれか一項に記載の混合物をアンモニウム窒素含有肥料の粉末、顆粒、チップ、錠剤又は押出物に適用し、前記肥料の表面にわたって均一に分布することを特徴とする、方法。
【請求項９】
前記適用が噴霧塗布、ドラム塗布又は含浸によって行われ、ここで、前記肥料を機械的に動かして適用を均一化し、前記適用後に乾燥させることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
３，４−ジメチルピラゾールの量が前記肥料中のアンモニウム窒素に基づいて少なくとも０．４質量％であるような量で、前記混合物を前記肥料に適用することを特徴とする、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
３，４−ジメチルピラゾールの量が、前記肥料中のアンモニウム窒素に基づいて、０．４質量％〜１．４質量％であるような量で、前記混合物を前記肥料に適用することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月10日(2020.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＴＷフレームワーク型ゼオライトを合成する方法であって、
（ａ）以下を含む反応混合物を調製すること：
（１）ＦＡＵフレームワーク型ゼオライト；
（２）ポリエチレンイミン（Ｑ）；
（３）フッ化物イオン；及び
（４）水；ならびに
（ｂ）該反応混合物を、該ＭＴＷフレームワーク型ゼオライトの結晶を形成するのに十分な結晶化条件に供することを含み、
該反応混合物が、モル比で以下の組成を有する、
【表１】
2020514209.tif 000001
上記方法。
【請求項２】
前記ポリエチレンイミンが線状ポリエチレンイミンである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記線状ポリエチレンイミンが、１５００〜５０００の範囲の数平均分子量を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記結晶化条件が１２５℃〜２００℃の温度を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ポリエチレンイミンをその細孔構造内に含むＭＴＷフレームワーク型ゼオライト。
【請求項６】
合成されたままの無水の形態で、モル比で以下の組成を有する、請求項５記載のＭＴＷフレームワーク型ゼオライト：
【表３】
2020514209.tif 000002
【請求項７】
合成されたままの無水の形態で、モル比で以下の組成を有する、請求項５記載のＭＴＷフレームワーク型ゼオライト：
【表４】
2020514209.tif 000003
【請求項８】
前記ポリエチレンイミンが線状ポリエチレンイミンである、請求項５に記載のＭＴＷフレームワーク型ゼオライト。
【請求項９】
前記線状ポリエチレンイミンが、１５００〜５０００の範囲の数平均分子量を有する、請求項８に記載のＭＴＷフレームワーク型ゼオライト。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月9日(2020.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
植物、植物の根、土壌若しくは基材、又は植物の種子に、不活性酵母及び／又は酵母誘導体と少なくとも１種類の窒素源との組み合わせを、前記少なくとも１種類の窒素源は硝酸アンモニウムを含まないという条件で、同時に、逐次に、又は互いに個別に供給することを含む、植物生長を向上させるための方法。
【請求項２】
前記少なくとも１種類の窒素源が有機窒素源、無機窒素源、又はそれらの混合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１種類の有機窒素源が尿素含有化合物である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１種類の有機窒素源が尿素である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１種類の無機窒素源が硝酸含有化合物又はアンモニウム含有化合物である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１種類の無機窒素源が液体尿素硝酸アンモニウム、無水アンモニウム、硝酸カルシウム、硝酸カリウム、硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、液体ポリリン酸アンモニウム、又はそれらの混合物である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記酵母がサッカロミセス・セレビシエ又はサッカロミセス・セレビシエ変種ブラウディである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体が熱処理、機械的処理、化学的処理又は酵素的処理によって作出される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体並びに少なくとも１種類の窒素源が同時に供給される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体が、１ヘクタール当たり乾物で少なくとも０．５ｋｇ〜５０ｋｇ、１ヘクタール当たり乾物で１ｋｇ〜１０ｋｇ又は１ヘクタール当たり乾物で１ｋｇ〜５ｋｇの量で、植物、植物の根、土壌若しくは基材、又は植物の種子に直接供給される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体のパーセンテージが、不活性酵母及び／又は酵母誘導体並びに少なくとも１種類の窒素源の総重量に対して約０．５重量％〜５０重量％；０．５重量％〜４５重量％；０．５重量％〜４０重量％；０．５重量％〜３５重量％；０．５重量％〜３０重量％；０．５重量％〜２５重量％；０．５重量％〜２０重量％；０．５重量％〜１５重量％；０．５重量％〜１０重量％；又は０．５重量％〜５重量％である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記植物生長が、前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体単独又は前記少なくとも１種類の窒素源単独で処理した対照に比べての、植物の地上部及び／又は根の乾燥重量；及び／又は植物の地上部及び／又は根の平均長；及び／又は植物によって生産される地上部及び／又は根の平均数、及び／又は総植物バイオマスの増加である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記植物生長が、前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体単独又は前記少なくとも１種類の窒素源単独で処理した対照に比べて少なくとも１％、２％、３％、４％、５％、６％、７％、８％、９％、１０％、１１％、１２％、１３％、１４％、１５％、１６％、１７％、１８％、１９％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％又は５０％増加する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
不活性酵母及び／又は酵母誘導体と少なくとも１種類の窒素源との組み合わせからなる（ただし、前記少なくとも１種類の窒素源は硝酸アンモニウムを含まない）、植物生長を向上させるための組成物。
【請求項１５】
前記少なくとも１種類の窒素源が有機窒素源、無機窒素源、又はそれらの混合物である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記少なくとも１種類の有機窒素源が尿素含有化合物である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記少なくとも１種類の有機窒素源が尿素である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記少なくとも１種類の無機窒素源が硝酸含有化合物又はアンモニウム含有化合物である、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記少なくとも１種類の無機窒素源が液体尿素硝酸アンモニウム、無水アンモニウム、硝酸カルシウム、硝酸カリウム、硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、液体ポリリン酸アンモニウム、又はそれらの混合物である、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記酵母がサッカロミセス・セレビシエ又はサッカロミセス・セレビシエ変種ブラウディである、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体が熱処理、機械的処理、化学的処理又は酵素的処理によって作出される、請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
前記不活性酵母及び／又は酵母誘導体のパーセンテージが、不活性酵母及び／又は酵母誘導体並びに少なくとも１種類の窒素源の総重量に対して約０．５重量％〜５０重量％；０．５重量％〜４５重量％；０．５重量％〜４０重量％；０．５重量％〜３５重量％；０．５重量％〜３０重量％；０．５重量％〜２５重量％；０．５重量％〜２０重量％；０．５重量％〜１５重量％；０．５重量％〜１０重量％；又は０．５重量％〜５重量％である、請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月23日(2020.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピューティング装置が、通知ソースによって生成された通知を受信すること、
前記コンピューティング装置が、前記通知ソースによって定義された通知チャネルのセットを決定し、各通知チャネルが前記通知ソースによって定義された１つ以上のパラメータを有すること、
前記コンピューティング装置が、前記通知ソースによって前記通知に割り当てられた通知チャネルの前記セットから特定の通知チャネルを決定すること、
前記コンピューティング装置が、前記特定の通知チャネルの１つ以上のパラメータを決定すること、及び
前記コンピューティング装置が、前記特定の通知チャネルの前記１つ以上のパラメータに従って前記通知の表示を出力することを備える、方法
【請求項２】
前記特定の通知チャネルを示すグラフィカル要素を含む通知バッジを決定すること、及び
上記コンピューティング装置が、前記通知ソースを起動するためのグラフィカル要素にて前記通知バッジを表示することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記特定の通知チャネルの前記１つ以上のパラメータは、前記通知の前記表示が、可聴アラート、視覚的アラート、触覚的アラート、若しくは音声アラートのうちの１つ以上であり、前記特定の通知チャネルの前記１つ以上のパラメータが、前記可聴アラート、前記視覚的アラート、前記触覚的アラート若しくは前記音声アラートの１つ以上の属性を定義するかどうかを定義する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記通知の前記表示は視覚的アラートであり、前記１つ以上のパラメータは、前記視覚的アラートの色、前記視覚的アラートのアイコン、前記視覚的アラートのグラフィカル要素、前記視覚的アラートのフォント、又は前記視覚的アラートのフォントサイズのうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記通知の前記表示は、可聴アラートであり、前記１つ以上のパラメータは、前記可聴アラートの着信音又は音の属性のうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記通知の前記表示は触覚的アラートであり、前記１つ以上のパラメータは、前記触覚的アラートのバイブレーションパターン又はバイブレーション強度のうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記１つ以上のパラメータは、前記通知の重要度又は優先度のレベルのうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記通知は第１の通知であり、前記特定の通知チャネルは第１の通知チャネルであって、
前記コンピューティング装置が、前記第１の通知とは異なる前記通知ソースによって生成される第２の通知を受信すること、
前記コンピューティング装置が、前記第１の通知チャネルとは異なる、前記第２の通知に割り当てられた通知チャネルの前記セットから第２の通知チャネルを決定すること、
前記コンピューティング装置が、前記第１の通知チャネルの前記１つ以上のパラメータとは異なる、前記第２の通知チャネルの１つ以上のパラメータを決定すること、及び
前記コンピューティング装置が、前記第２の通知チャネルの前記１つ以上のパラメータに従って、前記第２の通知の表示を出力することをさらに備える、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
出力装置、及び
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法を実行するように構成されている少なくとも１つのプロセッサを備える、コンピューティング装置。
【請求項１０】
実行されたときにコンピューティング装置の少なくとも１つのプロセッサに請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法を実行させる命令を備える、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法をコンピューティング装置に実行させる、コンピュータプログラム。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法を実行するための手段を備える、システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和2年10月27日(2020.10.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学センサーであって、
ホウ素ドープダイヤモンド材料で形成されるホウ素ドープダイヤモンド電極；
前記ホウ素ドープダイヤモンド電極の感知表面に配置された非ダイヤモンド炭素サイトの配列；
第１酸化還元ピークを溶存酸素に関連する第１電位で、第２酸化還元ピークをｐＨにより変化する第２電位で生成するための前記非ダイヤモンド炭素サイトに結合した電気化学的に活性な非ダイヤモンド炭素表面基であって、第１及び第２酸化還元ピークは重なり合わないように分離している電気化学的に活性な非ダイヤモンド炭素表面基；
前記ホウ素ドープダイヤモンド電極を少なくとも前記第１酸化還元ピークを生成する電位範囲にわたってスキャンするように構成された電気コントローラー；及び
電気化学測定値を前記第１酸化還元ピークの位置及び強度の一方又は両方に基づいて与えるように構成されたプロセッサー、を含むセンサー。
【請求項２】
前記プロセッサーが溶存酸素濃度測定値を第１酸化還元ピークの強度に基づいて与えるように構成された、請求項１項に記載の電気化学センサー。
【請求項３】
電気コントローラーが、前記ホウ素ドープダイヤモンド電極を第１及び第２酸化還元ピークの両方を生成する電位範囲にわたってスキャンするように構成され、及び
前記プロセッサーが第１及び第２酸化還元ピークの間の電位差に基づいてｐＨ測定値を与えるように構成され、溶存酸素と関連する第１の酸化還元ピークが内部参照として機能し、ｐＨが標準参照電極を必要とすることなく決定される、請求項１又は２に記載の電気化学センサー。
【請求項４】
更にホウ素ドープダイヤモンド電極に取り付けられた温度センサーを含む、請求項１から３のいずれか１項に記載の電気化学センサー。
【請求項５】
前記ホウ素ドープダイヤモンド電極が医療デバイスに取り付けられた、請求項１から４のいずれか１項に記載の電気化学センサー。
【請求項６】
前記医療デバイスが侵襲的デバイスであって、その全体又は一部が、ヒト又は動物の体内に開口部または体表のいずれかを通じて侵入し、前記ホウ素ドープダイヤモンド電極が、使用に際しインビボ電気化学測定値を取得するよう前記ホウ素ドープダイヤモンド電極が体内に位置付けられるよう、前記侵襲的デバイスに取り付けられる、請求項５に記載の電気化学センサー。
【請求項７】
前記侵襲的デバイスが、前記電気コントローラーに接続され、計数器及び疑似参照電極のいずれかとして機能する金属部分を含む、請求項６に記載の電気化学センサー。
【請求項８】
ヒト又は動物の身体からの流体の特徴を測定するための、請求項１から７のいずれか１項に記載の電気化学センサーの使用。
【請求項９】
前記特徴が、ｐＨ、酸素濃度、及び温度のいずれかより選択される、請求項８に記載の電気化学センサーの使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
図２は、本発明の実施形態に従うｓｐ２官能化ホウ素ドープダイヤモンド電極を含む電気化学センサーの基本的な構成要素を示す。電気化学センサーは、ホウ素ドープダイヤモンド材料で形成されたホウ素ドープダイヤモンド電極２を含む。非ダイヤモンド炭素サイトの配列４は、ホウ素ドープダイヤモンド電極の感知表面に配置される。電気化学的に活性な非ダイヤモンド炭素表面基は、非ダイヤモンド炭素サイトに結合し、第１の酸化還元ピークを、溶存酸素に関連する第１電位において生成し、第２の酸化還元ピークをｐＨによって変化する第２電位において生成し、第１と第２の酸化還元ピークは重なり合わないよう分離されている。電気コントローラー６はホウ素ドープダイヤモンド電極を少なくとも前記第１の酸化還元ピークを生成する電位範囲にわたってスキャンするように構成される。プロセッサー８は、前記第１酸化還元ピークの位置及び強度の一方又は両方に基づく電気化学測定値を与えるように構成される。該プロセッサーは、第１酸化還元ビークの強度に基づき溶存酸素濃度測定値を与えるように構成されることができる。追加的にあるいは代替的に、電気コントローラーは、ホウ素ドープダイヤモンド電極を第１及び第２の両方の酸化還元ピークを生成する電位範囲にわたってスキャンするように構成され、前記プロセッサーは、第１及び第２酸化還元ピークの間の電位差に基づいてｐＨ測定値を与えるように構成され、溶存酸素に関連する第１酸化還元ピークが内部参照として機能し、ｐＨが標準参照電極を必要とせずに決定される。図２で示される実施形態はまた、ホウ素ドープダイヤモンド電極に取り付けられた温度センサー１０及び計数／参照電極１２を含む。計数／参照電極はセンサーが取り付けられるデバイスの構成要素によって形成されてよいことに留意すべきである。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月17日(2020.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検知回路と、
前記検知回路に通信連結されたプローブと
を備え、
前記プローブは、認識素子でコーティングされた３次元（３Ｄ）検知面を備え、少なくとも部分的に所定の素材と相互作用する３次元（３Ｄ）検知面に基づいて第１の測定値を生成するように構成された、
センサ。
【請求項２】
前記プローブ構造が、複数のプローブを有するアレイを備え、
前記３Ｄ検知面構造が、複数の３Ｄ検知面を有する、請求項１に記載のセンサ。
【請求項３】
前記プローブの前記３Ｄ検知面が、生体細胞の壁を貫通し、前記生体細胞内の液体と接触するようにさらに構成された、請求項１または２に記載のセンサ。
【請求項４】
前記検知回路が、前記第１の測定値に基づいて、検知回路出力を生成するように構成される、請求項１ないし３のいずれかに記載のセンサ。
【請求項５】
前記検知回路出力が、前記所定の素材の所定の特性に比例する、請求項４に記載のセンサ。
【請求項６】
前記検知回路が、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）を備え、
前記第１の測定値が、電圧を含み、
前記ＦＥＴが、前記ＦＥＴのゲートにおける前記電圧を受け取るように構成され、
前記検知回路出力が、前記ＦＥＴのソースから前記ＦＥＴのドレインへの電流の流れを含む、
請求項４または５に記載のセンサ。
【請求項７】
前記３Ｄ検知面の形状が、
角錐、円錐、または円柱を含む、請求項１ないし６のいずれかに記載のセンサ。
【請求項８】
前記角錐または前記円錐が、頂点を含み、
前記頂点が、生体細胞の壁を貫通し、前記生体細胞内の液体と接触するように構成される、
請求項７に記載のセンサ。
【請求項９】
前記円柱が、露出した末端を有し、
前記露出した末端が、生体細胞の壁を貫通し、前記生体細胞内の液体と接触するように構成される、
請求項７に記載のセンサ。
【請求項１０】
センサを形成する方法であって、
検知回路を形成することと、
３次元（３Ｄ）検知面構造を有するプローブ構造を形成することと、
前記プローブ構造を前記検知回路に通信連結することと、
認識素子を有するコーティングを含む前記３Ｄ検知面構造を構成することと、
さらに、少なくとも部分的に所定の素材と相互作用する前記３Ｄ検知面構造に基づいて第１の測定値を生成するように前記３Ｄ検知面構造を構成することと
を含む、方法。
【請求項１１】
前記検知回路が、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）を備え、
前記第１の測定値が、電圧を含み、
前記ＦＥＴが、前記ＦＥＴのゲートにおける前記電圧を受け取るように構成され、
前記検知回路出力が、前記ＦＥＴのソースから前記ＦＥＴのドレインへの電流の流れを含む、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
角錐、円錐、または円柱を有する形状を有するように前記３Ｄ検知面構造を構成することをさらに含む、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
検知回路と、前記検知回路に通信連結されたプローブとを備え、前記プローブが、認識素子の導電性コーティングを有する３次元（３Ｄ）検知面を備えるセンサを使用する方法であって、
サンプルにアクセスすることと、
前記サンプルをセンサに露出させることとを含み、
少なくとも部分的に前記サンプル内の所定の素材と接触する前記３Ｄ検知面構造に基づいて、前記３Ｄ検知面構造を使用して第１の測定値を生成し、
前記第１の測定値に基づいて、前記検知回路を使用して前記所定の素材の所定の特性に比例する検知回路出力を生成する、方法。
【請求項１４】
前記サンプルを前記センサに露出させることが、前記プローブに、前記サンプル内の生体細胞の壁を貫通させ、前記生体細胞内の液体と接触させることを含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2020514754.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2020514754.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2020514754.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月25日(2020.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）であって、
該二層多重ストランドコードが、
少なくとも２つの層（Ｃ１，Ｃ３）を有する内部ストランド（ＴＩ）から構成されるコード内層（ＣＩ）を有し、
前記少なくとも２つの層（Ｃ１，Ｃ３）は、
・Ｑ個の内部ワイヤ（Ｆ１）から構成される内層（Ｃ１）、及び、
・該内層（Ｃ１）の廻りに巻かれたＮ個の外部ワイヤ（Ｆ３）から構成される外層（Ｃ３）を含み、
該二層多重ストランドコードが、
３つの層（Ｃ１’，Ｃ２’，Ｃ３’）を有するＬ＞１個の外部ストランド（ＴＥ）から構成されるコード外層（ＣＥ）を有し、
前記３つの層（Ｃ１’，Ｃ２’，Ｃ３’）は、
・Ｑ’＝１個の内部ワイヤ（Ｆ１’）から構成される内層（Ｃ１’）、
・ピッチｐ２’で前記内層（Ｃ１’）の廻りに巻かれたＭ’個の中間ワイヤ（Ｆ２’）から構成される中間層（Ｃ２’）、及び、
・ピッチｐ３’で前記中間層（Ｃ２’）の廻りに巻かれたＮ’個の外部ワイヤ（Ｆ３’）から構成される外層（Ｃ３’）を含み、
−  前記コード外層（ＣＥ）は、前記二層多重ストランドコードの巻き方向で前記コード内層（ＣＩ）の廻りに巻かれ、
−  前記内部ストランド（ＴＩ）及び前記外部ストランド（ＴＥ）の各々の各外層（Ｃ３，Ｃ３’）は、前記コードの巻き方向と反対方向で同じ巻き方向で前記内部ストランド（ＴＩ）及び前記外部ストランド（ＴＥ）の各々の内層（Ｃ１）及び中間層（Ｃ２’）それぞれの廻りに巻かれ、
−  前記コード外層（ＣＥ）が脱飽和化されており、
−  前記ピッチｐ２’及びピッチｐ３’が、０．３６≦（ｐ３’−ｐ２’）／ｐ３’≦０．５７の関係を満たす、ことを特徴とする二層多重ストランドコード。
【請求項２】
前記ピッチｐ２’及びピッチｐ３’は、０．３８≦（ｐ３’−ｐ２’）／ｐ３’である、請求項１に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項３】
前記ピッチｐ２’及びピッチｐ３’は、（ｐ３’−ｐ２’）／ｐ３’≦０．５５である、請求項１から２の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項４】
前記ピッチｐ２’は、８ｍｍ≦ｐ２’≦１６ｍｍである、請求項１から３の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項５】
前記ピッチｐ３’は、１０ｍｍ≦ｐ３’≦４０ｍｍである、請求項１から４の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項６】
前記各外部ストランド（ＴＥ）の中間層（Ｃ２’）が、脱飽和化される、請求項１から５の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項７】
前記各外部ストランド（ＴＥ）の外層（Ｃ３’）が、脱飽和化される、請求項１から６の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項８】
前記Ｌは、６，７，８，９，又は１０に等しい、請求項１から７の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項９】
Ｑ’＝１、Ｍ’＝５又は６、及びＮ’＝１０、１１又は１２である、請求項１から８の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）。
【請求項１０】
請求項１から９の何れか一項に記載の二層多重ストランドコード（５０；５１；５２；５３；５４；５５；５６；５７；５８；５９）を備えることを特徴とする、タイヤ（１０）。