(57)【要約】光硬化性組成物は、一般式（１）：【化１】
2005105866.tif 000008
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４〜Ｒ６は、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、Ｒ７は、水素または１価の有機基を示し、Ｒ８は、４価の芳香族基を示す。ただし、Ｒ７およびＲ８の少なくとも一方は、ビフェニル骨格を含む。）で示される少なくとも１種の化合物（Ａ）を含む光硬化性材料、および１．６０以上の屈折率を有するフィラー（Ｂ）を含有する。反射防止フィルムは、プラスチック基材の一方の面に、前記光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が１．２０〜１．５０の低屈折率層が順次積層されている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化５】
2005105866.tif 000007
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４〜Ｒ６は、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、Ｒ７は、水素または１価の有機基を示し、Ｒ８は、４価の芳香族基を示す。ただし、Ｒ７およびＲ８の少なくとも一方は、ビフェニル骨格を含む。）で示される少なくとも１種の化合物（Ａ）を含む光硬化性材料、および１．６０以上の屈折率を有するフィラー（Ｂ）を含む光硬化性組成物。
【請求項２】
Ｒ７およびＲ８の双方が、ビフェニル骨格を含む請求項１記載の組成物。
【請求項３】
Ｒ４〜Ｒ６が、アルキレン部位が１〜８個の炭素原子を有する非置換もしくは置換アルキレン基である請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ６が、β−ヒドロキシアルキレン基である請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ７が、式：
−Ｒ６−ＯＣ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ３）＝ＣＨ２
（ここで、Ｒ６およびＲ３は、一般式（１）で定義した通り）によって表される基であるか、または式−ＣＨ２−Ｃ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−Ｒ７１（ここで、Ｒ７１は、置換または非置換のビフェニルである）で示される基である請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ７が、式：−ＣＨ２−Ｃ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−Ｒ７１（ここで、Ｒ７１は、置換または非置換のビフェニルである）で示される基である請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
Ｒ８が、ベンゼン、ベンゾフェノン、ビフェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド、ペリレン、またはナフタレンである請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
Ｒ８が、ビフェニルである請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
フィラー（Ｂ）が、金属酸化物である請求項１〜８のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項１０】
プラスチック基材の一つ面に、請求項１に記載の光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が１．２０〜１．５０の低屈折率層が順次積層されている反射防止フィルム。
【請求項１１】
高屈折率ハードコート層の屈折率が１．６０〜１．７５の範囲内である請求項１０に記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】
高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度が２Ｈ以上である請求項１０に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、高い屈折率と、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性とを兼ね備えるとともに耐光性にも優れた光硬化性組成物に関する。【０００２】  また、本発明は、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビジョン等のディスプレイデバイス、例えばプラズマディスプレイデバイス、ＣＲＴディスプレイデバイス、液晶ディスプレイデバイス、プロジェクションディスプレイデバイス、ＥＬディスプレイデバイスの表面を保護する目的で使用される反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００３】  近年、高屈折率プラスチック材料の光学デバイスへの進出は著しく、各種ディスプレイデバイス用の反射防止フィルムとして盛んに検討されている。【０００４】  反射防止フィルムに用いられる高屈折率材料には、高い屈折率に加え、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性、透明性、低比重、耐光性等が必要であり、これまで、さまざまな材料が検討されている。【０００５】  例えば、高い屈折率を示す材料として、２つの（メタ）アクリレートとビフェニル骨格を有する化合物が開示されている。これは、ビフェニル骨格由来の高い屈折率を示すが、分子内に（メタ）アクリレートを２つしか持たないため、光照射時に重合系に取り込まれる確率が低く、結果的に鉛筆硬度等のハードコート性が低下しやすいという欠点があり、また、光照射時に重合系に効率よく取り込まれた場合においても、光硬化時の体積収縮が激しく、基材への密着性が劣化するという欠点があった。【０００６】  このような欠点を改善するために、分子内のビフェニル骨格と（メタ）アクリレート間の距離を長くする検討が行われたが、鉛筆硬度等のハードコート性は向上するものの、系内のビフェニル骨格の濃度が低下し、充分な屈折率が得られないという欠点があった。また、他の方法として、他の光重合性材料を併用した場合も同様に、系内のビフェニル骨格の濃度が低下し、結果として充分な屈折率が得られないという欠点があった。（特開２００３−６４０２５号公報、特開２００３−６４０２６号公報）
以上のように、従来の技術では、高い屈折率と、高い鉛筆硬度・耐擦傷性等のハードコート性と、耐光性を兼ね備えた光硬化性材料は得られていなかった。
【発明の開示】
【０００７】  本発明は、高い屈折率と、優れたハードコート性と、耐光性を兼ね備えた光硬化性組成物を提供することを目的とする。
【０００８】  また、本発明は、優れたハードコート性と耐光性を兼ね備え、良好な光学特性を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【０００９】  本発明の第１の側面によれば、下記一般式（１）で示される化合物（Ａ）を含む光硬化性材料、および屈折率が１．６０以上のフィラー（Ｂ）を包含する光硬化性組成物が提供される。
【００１０】一般式（１）：
【化１】
2005105866.tif 000002
【００１１】（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４〜Ｒ６は、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、Ｒ７は、水素または１価の有機基を示し、Ｒ８は、４価の芳香族基を示す。ただし、Ｒ７およびＲ８の少なくとも一方は、ビフェニル骨格を含む。）
本発明の光硬化性組成物において、一般式（１）中のＲ７およびＲ８の双方が、ビフェニル骨格を含むことが好ましい。
【００１２】  また、本発明の光硬化性組成物において、フィラー（Ｂ）は、金属酸化物であることが好ましい。
【００１３】  本発明の第２の側面によれば、プラスチック基材の一つの面に、本発明の第１の側面による光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が１．２０〜１．５０の低屈折率層が順次積層されている反射防止フィルムが提供される。
【００１４】  本発明の反射防止フィルムにおいて、高屈折率ハードコート層の屈折率は１．６０〜１．７５の範囲内であることが好ましく、高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度は２Ｈ以上であることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】  まず、本発明の光硬化性組成物について説明する。【００１６】  本発明の光硬化性組成物は、上記一般式（１）で示される化合物（Ａ）を含む光硬化性材料、および１．６０以上の屈折率を有するフィラー（Ｂ）を包含する。【００１７】  上記一般式（１）で示される化合物（Ａ）は、高い屈折率と優れたハードコート性を付与する成分であり、ハロゲン原子を含まない場合には黄変化等が極めて低く、耐光性に優れるものである。特に、上記一般式（１）で示される化合物（Ａ）のうち、重合性不飽和二重結合基１つあたりの数平均分子量が３００より大きいものは、優れたハードコート性が得られるため好ましい。【００１８】  一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。【００１９】  Ｒ４〜Ｒ６は、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示す。このアルキレン基が任意に有し得る置換基には、芳香族含有基（例えば、フェノキシ基）、ハロゲン原子、ヒドロキシル基が含まれる。アルキレン基は、１〜８個の炭素原子を有することが好ましい。Ｒ６は、通常、置換基として１つのヒドロキシル基を有し、このヒドロキシル基は、通常、Ｒ６が結合するアシル基の−Ｏ−基に対してβ位の炭素に結合している。【００２０】  Ｒ７は、水素または１価の有機基を表す。後者の有機基は、式：
−Ｒ６−ＯＣ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ３）＝ＣＨ２
（ここで、Ｒ６およびＲ３は、一般式（１）で定義した通り）によって表される基であるか、または式−ＣＨ２−Ｃ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−Ｒ７１（ここで、Ｒ７１は、置換または非置換のビフェニルである）で示される基であり得る。ビフェニルが任意に有し得る置換基の例には、ヒドロキシル基、シアノ基およびビニル基が含まれる。【００２１】  Ｒ８は、４価の芳香族基である。芳香族基の例には、ベンゼン、ベンゾフェノン、ビフェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド、ペリレン、およびナフタレンが含まれる。【００２２】  本発明において、Ｒ７およびＲ８のいずれか一方はビフェニル基を含み、好ましくはＲ７およびＲ８のそれぞれがビフェニル基を含む。【００２３】  一般式（１）で示される化合物（Ａ）を製造するためには、まず、下記式（Ａ）：
【化２】
2005105866.tif 000003
【００２４】（ここで、Ｒ８は、一般式（１）で定義した通り）で示される芳香族テトラカルボン酸二無水物を下記式（Ｂ）：
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ４ＯＨ
（ここで、Ｒ１およびＲ４は、一般式（１）で定義した通り）で示される第１のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートおよび下記式（Ｃ）：
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ２）ＣＯＯＲ５ＯＨ
（ここで、Ｒ２およびＲ５は、一般式（１）で定義した通り）で示される第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートと反応させて式（Ｄ）：
【化３】
2005105866.tif 000004
【００２５】（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８は、一般式（１）で定義した通り）で示される化合物を得ることができる。【００２６】  式（Ａ）で示される芳香族テトラカルボン酸二無水物の例には、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が含まれる。これら芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ビフェニル骨格を有するものであり、ビフェニル骨格を化合物（Ａ）の分子内に効率よく導入でき、さらに化合物（Ａ）の屈折率を１．５７以上にするため特に好ましい。【００２７】  第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートは、同じであっても異なっていてもよい。そのようなヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの例には、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、および２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレートが含まれる。【００２８】  上記芳香族テトラカルボン酸二無水物と第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとの反応は、芳香族テトラカルボン酸二無水物の有する２つのカルボン酸無水物基と第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートがそれぞれ有するヒドロキシル基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノン（ｍｅｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ）のような重合禁止剤を添加することができる。【００２９】  上記反応後、反応生成物である式（Ｄ）の化合物を含む反応混合物に、これを精製することなく、例えば、下記式（Ｅ）：
【化４】
2005105866.tif 000005
【００３０】（ここで、Ｒ０は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−基（ここで、Ｒ３は、上記定義の通り）またはＲ７１−Ｏ−基（ここで、Ｒ７１は、上記定義の通り）であるエポキシ基含有化合物を添加し、反応させて一般式（１）で示される化合物を得ることができる。【００３１】  式（Ｅ）で示される化合物の例には、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートのようなエポキシ基含有（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、ｐ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、モノスチレン化フェノールグリシジルエーテル、４−シアノ−４−ヒドロキシビフェニルグリシジルエーテル、４，４’−ビフェノールモノグリシジルエーテル、４，４’−ビフェノールジグリシジルエーテルのような芳香族グリシジルエーテル化合物等が含まれる。【００３２】  式（Ｄ）で示される化合物と式（Ｅ）で示される化合物との反応は、式（Ｄ）で示される化合物の有するカルボキシル基と式（Ｅ）で示される化合物の有するエポキシ基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で行うことができる。【００３３】  一般式（１）で示される化合物（Ａ）を含む光硬化性組成物は、以下の方法で屈折率とハードコート性が適宜調整できる。【００３４】  ＜屈折率とハードコート性を調整する方法（１）＞
予め、１分子中の重合性不飽和二重結合基、ビフェニル基の個数が異なる、複数の一般式（１）で示される化合物（Ａ）を、別々に単体として調製しておき、後で任意の割合でこれらの単体を混合することで、屈折率およびハードコート性を適宜調整できる。この場合、単体の混合割合を容易に変えることができるため、目標となる屈折率およびハードコート性の値が、予め把握できていない場合において、目標物性に近づける検討を行いやすいという意味で、非常に有用である。【００３５】  ＜屈折率とハードコート性を調整する方法（２）＞
予め調製した式（Ｄ）の化合物に式（Ｅ）の化合物を反応させる際に、複数種の式（Ｅ）の化合物（例えば、Ｒ０がＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−基である式（Ｅ）の化合物と、Ｒ０がＲ７１−Ｏ−基である化合物）を、混合して添加し、反応させる。このとき、種の式（Ｅ）の化合物の混合割合を変えることで、屈折率とハードコート性を適宜調整できる。この場合、一段の反応で、複数種の化合物（Ａ）の混合物が得られる。したがって、この方法は、目標となる屈折率およびハードコート性の値が、予め大まかに把握できている場合において、上記調整方法（１）に比べ、作成工程が短縮できるという意味で、非常に有用である。【００３６】  また、一般式（１）で示される化合物（Ａ）において、Ｒ７が水素原子である化合物は、式（Ｄ）で示される化合物のカルボキシル基のモル数よりも少ないモル数の式（Ｅ）の化合物を反応させることにより得ることができる。【００３７】  なお、本発明において、光硬化性材料が、複数種の化合物（Ａ）の混合物から構成される場合、Ｒ７およびＲ８の少なくとも一方がビフェニル骨格を含む化合物は、該混合物の合計量の９５モル％以上を占めることが好ましい。同様に、一般式（１）で示される化合物（Ａ）において、Ｒ７が水素原子である化合物は、該混合物の合計量の５モル％以下を占めることが好ましい。【００３８】  カルボキシル基を有する一般式（１）の化合物は、アルカリ現像性を有するので、光硬化後に未硬化部分をアルカリ現像してハードコート層を形成する場合に好適に用いることができる。また、このカルボキシル基を中和して水性化させることで、水性の光硬化性高屈折率ハードコート材料として使用することもできる。また、このカルボキシル基を有する化合物は、一般的な熱硬化剤、たとえば、エポキシ系、イソシアネート系、ビニルエーテル系等と混合し、熱硬化させることにより、光硬化性兼熱硬化性高屈折率ハードコート材料として使用することもできる。【００３９】  屈折率が１．６０以上のフィラー（Ｂ）は、ハードコート層の表面抵抗値を下げたり、屈折率を上げる働きをする成分である。フィラーの屈折率が１．６０より低いと、一般式（１）で示される化合物（Ａ）よりも屈折率が低くなってしまい、高屈折率化の働きが無くなってしまう。【００４０】  フィラー（Ｂ）としては、例えば、金属酸化物、金属フッ化物、これらの混合物、複合化合物が挙げられるが、化学的安定性に優れ、導電性が高いため、金属酸化物が好適に用いられる。【００４１】  金属酸化物としては、ＴｉＯ２（屈折率：２．３〜２．７）、Ｙ２Ｏ３（屈折率：１．９）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率：２．０）、ＺｒＯ２（屈折率：２．１）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率：１．６）、Ｎｂ２Ｏ３（屈折率：１．９〜２．１）、Ｉｎ２Ｏ３（屈折率：１．９〜２．１）、Ｓｎ２Ｏ３（屈折率：１．９〜２．１）、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９〜２．１）、ＺｎＯ（屈折率：２．０〜２．１）、Ｓｂ２Ｏ５（屈折率：１．８〜２．１）、ＣａＯ（屈折率：１．７５〜１．９０）、ＢａＯ（屈折率：１．８０〜１．２１）、Ｓｂ−Ｓｎ複合酸化物（屈折率：１．７０〜１．９０）、Ｓｂ−Ｚｎ複合酸化物（屈折率：１．７０〜１．９０）、Ｚｎ−Ａｌ複合酸化物（屈折率：１．８０〜１．２１）、Ｐ−Ｓｎ複合酸化物（屈折率：１．７０〜１．９０）等が挙げられる。また、金属酸化物以外のフィラーとしては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム等が挙げられる。これらのフィラーは、１種を単独で、または２種以上の混合物として用いられる。【００４２】  本発明の光硬化性組成物中の化合物（Ａ）の配合量は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、６〜７０重量％の範囲内であることが好ましく、６〜４９重量％の範囲内であることがより好ましい。化合物（Ａ）の配合量が上記範囲外の場合には、光硬化性組成物のハードコート性が低くなる。【００４３】  また、フィラー（Ｂ）の配合量は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、３０〜８０重量％の範囲内であることが好ましく、５０〜８０重量％の範囲内であることがより好ましい。フィラー（Ｂ）の配合量が３０重量％未満の場合には、高屈折率ハードコート層の屈折率が低くなり、８０重量％を超える場合には、高屈折率ハードコート層の耐擦傷性が低くなる。【００４４】  本発明の光硬化性組成物を紫外線により硬化させる場合は、該組成物に光重合開始剤を加える。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤はなくても良い。【００４５】  光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。【００４６】  具体的にはモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル−エネタノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１，３−アクリロイル−１，４，７，１０，１３−ペンタオキソトリデシル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）メタアンモニウム蓚酸塩、２−／４−イソ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリン等が挙げられる。【００４７】  ジカルボニル化合物としては、１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２，１，１］ヘプタン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイル等が挙げられる。【００４８】  アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（��−イソプロピルフェニル）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾール等が挙げられる。【００４９】  ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル、等が挙げられる。【００５０】  アシルフォスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル−ジ（２，６−ジクロロベンゾイル）ホスフィンオキシド等が挙げられる。【００５１】  アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート２−ｎブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４’−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス−４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，５’−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン等が挙げられる。【００５２】  光重合開始剤は上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。【００５３】  光重合開始剤の使用量に特に制限はないが、被硬化物の乾燥重量１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲内で使用することが好ましい。【００５４】  また、増感剤として公知の有機アミン等を加えることもできる。【００５５】  さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかにカチオン重合用の開始剤も併用することができる。【００５６】  本発明の光硬化性組成物には、前述の一般式（１）で示される化合物（Ａ）以外に、その他のバインダー樹脂、光硬化性成分を加えても良い。【００５７】  バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で添加しても良いし、２種類以上の複数の樹脂を添加しても良い。バインダー樹脂は、光硬化性組成物の固形分の全��を基準として、２０重量％以下の範囲内で配合することが好ましい。【００５８】  光硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していても良い。化合物（Ａ）以外の光硬化性成分は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、４９重量％以下の範囲内、特に６〜４９重量％の範囲内で配合することが好ましい。【００５９】  （メタ）アクリル系化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と重合性不飽和二重結合基とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用することができる。塗膜硬度の点からは、多官能のものが好ましい。【００６０】  単官能の（メタ）アクリル系化合物を具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２２のアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。極性の調節を目的とする場合には、炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートを用いることが好ましい。また、レベリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数６以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。【００６１】  また、アルキレングリコール系（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン���を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートが挙げられる。【００６２】  さらに、カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合基を有する化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。【００６３】  水酸基含有（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシビニルベンゼン、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。【００６４】  窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）ア���リルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミド等のモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチルール）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミド等のジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ３−（Ｑ：炭素数１〜１２のアルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の４級アンモニウム塩等がある。【００６５】  さらに、その他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類を挙げることができる。【００６６】  また、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレートが挙げられる。【００６７】  脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルチミン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。【００６８】  アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。【００６９】  α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。【００７０】  ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。【００７１】  エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。【００７２】  これらは、単独で、若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。【００７３】  また、本発明の光硬化性組成物には、溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤等を加えても良い。【００７４】  溶剤を加える場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行えば良い。溶剤としては、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、テトラヒドロフラン、メチルピロリドン等が挙げられる。【００７５】  次に、本発明の反射防止フィルムについて説明する。【００７６】  本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材の一方の面に、本発明の光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が１．２０〜１．５０の低屈折率層が順次積層されているものであり、高屈折率ハードコート層は、本発明の光硬化性組成物をプラスチック基材上に膜厚が０．１〜３０μｍになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。【００７７】  塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種コーティング方法を用いることができる。【００７８】  また、硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。紫外線および波長４００〜５００ｎｍの可視光線の線源（光源）には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。【００７９】  照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲内であることが好ましく、さらには工程上管理しやすい点から５０〜１０００ｍＪの範囲内であることが好ましい。【００８０】  また、これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。【００８１】  高屈折率ハードコート層は、プラスチック基材に光硬化性組成物��塗工し、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行って形成しても良いし、塗工し硬化処理を行った後に自然または強制乾燥させてもよいが、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行う方がより好ましい。【００８２】  特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行う方がより好ましい。【００８３】  また、硬化処理のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。【００８４】  プラスチック基材としては、ポリエステル系、アクリル系、トリアセテート系等の基材を用いることができるが、強度および屈折率の高さから、ポリエステル系の基材を用いることが好ましい。ポリエステル系の基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、屈折率：１．６０〜１．６７）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、屈折率：１．６８〜１．７２）等が挙げられる。【００８５】  また、プラスチック基材には、コロナ処理、プラズマ処理等の前処理を施しても良い。前処理を行うことにより、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性が向上する。【００８６】  高屈折率ハードコート層の屈折率は、基材との屈折率の差が０．０１未満の範囲内であると、干渉縞の発生を抑えることができ好ましい。例えば、プラスチック基材としてポリエステル系基材を用いる場合には、高屈折率ハードコート層の屈折率が１．６０〜１．７５の範囲内であると、干渉縞の発生を抑えることができるため好ましい。【００８７】  また、高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度は、プラスチック基材を保護するため２Ｈ以上であることが好ましい。【００８８】  高屈折率ハードコート層の上に積層される低屈折率層には、屈折率の低いＭｇＦ２（屈折率：約１．４）、ＳｉＯ２（屈折率：約１．２〜１．５）、ＬｉＦ（屈折率：約１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（屈折率：約１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（屈折率：約１．３３）等を用いることができる。また、これらＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の微粒子を紫外線および電子線硬化型樹脂や珪素アルコキシド系のマトリックスに分散させたものを用いることができるが、これに限定されるものではない。【００８９】  低屈折率層は、前記低屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、低屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことで形成できる。【００９０】  塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種コーティング方法を用いることができる。【００９１】  また、低屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等を用いて形成してもよい。【００９２】  本発明の反射防止フィルムには、低屈折率層１層だけでなく、屈折率の異なる層を複数積層してもよい。例えば、高屈折率ハードコート層上に、低屈折率層、この低屈折率層より屈折率の高い高屈折率層、さらに低屈折率層を設けた構成等が挙げられるが、これに限る物ではない。【��０９３】  また、本発明の反射防止フィルムには、さらに他の機能層を設けても良い。機能層としては、例えば、汚染防止層、帯電防止層、電磁波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層等が挙げられる。これらの機能層は、公知の材料を用い、公知の方法で形成することができる。また、機能層は、一つの層で複数の機能を有していても良い。【００９４】  汚染防止層は、本発明の反射防止フィルムをディスプレイ用途に用いる場合、表面側となる反射防止層上に設けることが好ましい。【００９５】  また、本発明の反射防止フィルムをプラズマディスプレイ用途に用いる場合、電磁波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層のいずれか一つ、または全部を設けることが好ましく、どこに設けても構わないが、視認性等を考慮すると、基材の反射防止層を設けた側とは反対側に設けることが好ましい。【００９６】  以下に、製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の製造例、実施例において、特に断らない限り「部」は「重量部」を意味する。【００９７】  ＜製造例１：光硬化性化合物（ａ）の製造＞
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物        ５２５部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート        ４７５部、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン    １０部、
メトキノン                          ０．２５部、
シクロヘキサノン                        １１１部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、９０℃で反応させた。反応中、合計８８９部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のＩＲ測定で酸無水物基のピーク、すなわち、１７８０−１ｃｍおよび１８５０ｃｍ−１付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、２１５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【００９８】  続いて、この溶液中に、
グリシジルメタクリレート              １６４部、
ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（三光株式会社製「ＯＰＰ−Ｇ」）６０７部、
ジメチルベンジルアミン                  １３部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、９０度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物（ａ）の最終的な酸価は５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、１分子中のビフェニル骨格の個数は平均１．７０、重合性不飽和二重結合基１つあたりの数平均分子量は２６４、１分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均３．３０であった。また、得られた反応生成物におけるビフェニル基とメタクリル基とのモル比は、０．７：０．３であった。【００９９】  ＜製造例２：光硬化性化合物（ｂ）の製造＞
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物                ５２５部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート                ４７５部、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン    １０部、
メトキノン                                    ０．２５部、
シクロヘキサノン                          １１１部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、９０度で反応させた。反応中、合計８８９部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のＩＲ測定で酸無水基のピーク、すなわち、１７８０ｃｍ−１および１８５０ｃｍ−１付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、２１５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【０１００】  続いて、この溶液中に
グリシジルメタクリレート              ３８２部、
ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（三光株式会社製「ＯＰＰ−Ｇ」）２６０部、
ジメチルベンジルアミン                    １３部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、９０度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物（ｂ）の最終的な酸価は６ｍｇＫＯＨ／ｇであり、１分子中のビフェニル骨格の個数は平均１．３０、重合性不飽和二重結合基１つあたりの数平均分子量は２２６、１分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均３．７０であった。また、得られた反応生成物におけるビフェニル基とメタクリル基とのモル比は、０．３：０．７であった。【０１０１】＜製造例３：光硬化性化合物（ｃ）の製造＞
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物                      ５２５部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート                      ４７５部、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０」−７−ウンデセン    １０部、
メトキノン                                        ０．２５部、
シクロヘキサノン                                  １１１部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、９０度で反応させた。反応中、合計８８９部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のＩＲ測定で酸無水基のピーク、すなわち、１７８０ｃｍ−１および１８５０ｃｍ−１付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、２１５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【０１０２】  続いて、この溶液中に
グリシジルメタクリレート            ４６３部、
ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（三光株式会社製「ＯＰＰ−Ｇ」）１３０部、
ジメチルベンジルアミン                  １３部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、９０度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物（ｃ）の最終的な酸価は４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、１分子中のビフェニル骨格の個数は平均１．１５、重合性不飽和二重結合基１つあたりの数平均分子量は２０３、１分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均３．８５であった。また、得られた反応生成物におけるビフェニル基とメタクリル基とのモル比は、０．１５：０．８５であった。【０１０３】  ＜製造例４：光硬化性化合物（ｄ）の製造＞
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物                        ５２５部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート                      ４７５部、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン    １０部、
メトキノン                                    ０．２５部、および
シクロヘキサノン                                    １１１部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、９０度で反応させた。反応中、合計８８９部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のＩＲ測定で酸無水基のピーク、すなわち、１７８０ｃｍ−１および１８５０ｃｍ−１付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、２１５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。【０１０４】  続いて、この溶液中に
４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル
（日本化成株式会社製）                            ７６７部、および
ジメチルベンジルアミン                        １４部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、９０度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物（ｄ）の最終的な酸価は５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、１分子中のビフェニル骨格の個数は平均１．００、重合性不飽和二重結合基１つあたりの数平均分子量は２４６、１分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均４．００であった。【０１０５】  実施例１〜５、比較例１〜３
製造例１〜５で調製した光硬化性化合物（ａ）〜（ｄ）を用いて、表１に示す組成の光硬化性組成物を調製し、５０μｍ厚のＰＥＴフィルムにバーコーダーで膜厚が４μｍになるように塗工した後、メタルハライドランプで４００ｍＪの紫外線を照射し、高屈折率ハードコート層を形成した。得られた高屈折率ハードコート層について、下記の方法で、耐光性、屈折率、耐擦傷性、鉛筆硬度および表面抵抗値を評価した。その結果を表１に示す。【０１０６】  また、高屈折率ハードコート層上に、ワイヤーバーを用いて、下記の低屈折率層用塗液を硬化塗膜厚さが約０．１μｍになるよう塗工後、メタルハライドランプで４００ｍＪの紫外線を照射して、低屈折率層を積層し、反射防止フィルムを作成した。得られた反射防止フィルムについて、下記の方法で、干渉縞の有無を評価した。その結果を表１に示す。
【表１】
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【０１０７】  表１において、
ベンジルメタクリレート：共栄社化学株式会社製「ライトエステルＢＺ」
フェノールＥＯ変性アクリレート：東亞合成株式会社製「アロニックスＭ１０２」
ヒドロキシフェノキシプロピルアクリレート：日本化薬株式会社製「カヤラッドＲ１２８Ｈ」
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
五酸化アンチモン分散体：五酸化アンチモンのＭＩＢＫ分散体、固形分３０重量％
光重合開始剤：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製「イルガキュア１８４」
＜低屈折率層用塗液＞
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（日本化薬株式会社製「ＰＥＴ−３０」）１０部をイソプロピルアルコール２００部に溶解し、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製「イルガキュア１８４」）０．８部を加え、溶解するまで撹拌した。シリカゾル（屈折率１．３、エタノール溶媒、固形分１５重量％）４４部を撹拌し、ここに、先に調製したペンタエリスリトールテトラアクリレート溶液全量を加え、均一になるまで撹拌し、低屈折率層用塗液を得た。【０１０８】  （１）耐光性
光連続照射時の経時での黄変は、用途展開上、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。【０１０９】  まず、耐光性試験機（光源：キセノンランプ、照度：１００Ｗ／ｃｍ２、ブラックパネル温度：６０℃、６０％ＲＨ）にて塗工物を、２４時間曝露した。その後、白色紙上に塗工物を置き、測色機（ミノルタＣＲ−３００）を用いて着色を測定した。測色値はＬａｂ＊にて表示し、黄変性の目安をｂ値にて判断した。ｂ値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく、耐光性が良好であることをあらわす。実用的な要求物性を考慮して、ｂ値が
３．５未満のものを○、
３．５以上のものを×
と判定した。【０１１０】  （２）屈折率
アッベ屈折計（アタゴ株式会社）を用いて、塗工物の屈折率を測定した。【０１１１】  （３）耐擦傷性
塗工物を、がく震型耐摩擦試験機にセットし、スチールウールのＮｏ．００００を用いて、荷重２５０ｇで１０回、がく震させた。取り出した塗工物について、キズの付き具合を以下の５段階で目視で判断した。数値が大きいほど、耐擦傷性が良好であることを示す。【０１１２】    ５…キズが全く無い
４…わずかにキズが付いている
３…キズは付いているが、基材は見えていない
２…キズが付き、一部塗工物が剥がれている
１…塗工物が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
（４）鉛筆硬度
鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ  Ｔｅｓｔｅｒ  ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、鉛筆の芯の堅さを種々変えて、荷重５００ｇにて５回試験をした。５回中、１回も傷が付かない、もしくは１回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その塗工物の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、鉛筆硬度が
２Ｈ以上のものを○
２Ｈより低いものを×
と判定した。【０１１３】  （５）干渉縞
反射防止フィルムの高屈折率ハードコート層が形成されていない面をサンドペーパーで荒らし、裏面の反射防止処理を行った。得られたサンプルを、２０Ｗ蛍光灯の直近２０ｃｍの距離から目視で観察し、干渉縞の有無を評価した。【０１１４】  表１の評価結果から明らかなように、本発明の光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層は、１．６４以上の高い屈折率を有すると共に、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐光性に優れていた。この結果は、本発明の光硬化性組成物が、従来検討されてきた材料では達し得なかった、高い屈折率、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性、耐光性の全てを兼ね備えていることを示している。また、表１に示す結果からわかるように、光硬化性化合物にフィラーを配合しないと、屈折率が要求水準に達しない。また、光硬化性化合物を含まず、微粒子と他の樹脂からなる組成物では、塗膜が脆くなり、耐擦傷性、鉛筆硬度が要求水準に達しない。【０１１５】  以上述べたように、本発明により、高い屈折率と、優れたハードコート性と、耐光性の、全てを兼ね備えた光硬化性組成物を提供することができる。また、本発明により、優れたハードコート性と耐光性を兼ね備え、良好な光学特性を有する反射防止フィルムを提供することができる。
【国際調査報告】
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