(57)【要約】Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとその製造方法とを提供する。また、このようなＰＤＰを実現できる封着部材を提供する。一対の基板が、一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、一対の基板の周縁部が第１の封着部によって封着されたプラズマディスプレイパネルであって、第１の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、第１の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネルとする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、
前記一対の基板の周縁部が第１の封着部によって封着されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記第１の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、
前記第１の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項５】
前記第１の封着部が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、
前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、
前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第２の封着部によって封着され、
前記管体が封止されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記第２の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、
前記第２の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項１１】
前記第２の封着部が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、
前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項１７】
前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記第１の封着部材として、凸部を形成した前記第１の封着部材Ａと、前記凸部と嵌合する凹部を形成した前記第１の封着部材Ｂとを、前記凸部と前記凹部とを嵌合させて配置する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記第１の封着部材を、前記一対の基板の外部と前記放電空間とを連通する空隙が形成されるように配置し、
前記第１の封着部材を加熱することによって、前記空隙を塞ぎ、前記周縁部を封着する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】
表面に凸部を形成した前記第１の封着部材を、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板と前記凸部とが接するように配置する請求項２０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】
放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、
前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項２６】
前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項２６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２８】
一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、
前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２９】
放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、
前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３０】
Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である封着部材。
【請求項３１】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３２】
前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３３】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項３０に記載の封着部材。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項３４】
前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３５】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項３４に記載の封着部材。
【請求項３６】
Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である封着部材。
【請求項３７】
Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、前記無機結着剤のガラス転移点以上、前記ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体である封着部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、プラズマディスプレイパネルとその製造方法とに関する。また本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造に用いることができる封着部材に関する。
【背景技術】
【０００２】  大型化が容易であり、高精細および高輝度を実現できる表示デバイスとして、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の開発が進められている。ＰＤＰは、ガス放電により発生させた紫外線を用いて蛍光体を発光させ、画像を表示するデバイスである。ＰＤＰでは、一対の基板（前面板および背面板）を所定の間隔で対向させ、双方の基板の間に形成された放電空間に電圧を印加し、ガス放電を発生させている。画像を安定して表示するためには、ガス（放電ガス）が充填された放電空間の気密の保持が重要である。【０００３】  ＰＤＰでは、通常、以下に示す構造により放電空間の気密を保持している。前面板および背面板の周縁部が、第１の封着部によって封着されている。ＰＤＰの製造工程上、放電空間にガスを充填する通気孔が前面板および背面板のうち少なくとも１つに設けられており、通気孔の開口部にはガスの充填に用いたガラス管が配置されているが、ガラス管と開口部とは第２の封着部によって封着されており、さらにガラス管自体が封止されている。周縁部の封着、および、ガラス管が配置された基板とガラス管との封着は、封着部材を所定の位置に配置し、加熱などの所定の処理を行って実施できる。【０００４】  従来、封着部材として、酸化鉛を含む低融点ガラスからなるガラスフリットが多く用いられているが、環境保護の観点から、鉛成分を実質的に含まないガラスへの置き換えが求められている。鉛成分を実質的に含まず、かつ、封着部材として用いることができるガラス組成物は、例えば、特開２００１−３０２２７９号公報、特開２００１−１３９３４４号公報、特開２０００−７３７５号公報、特開２００２−３２６８３８号公報および特開２００３−２３８１９９号公報に開示されている。これら公報に開示されているガラス組成物は、樹脂や有機溶媒を含むビヒクル中に分散したペーストの状態、あるいは、有機系結着剤を用いて成型された成型体（プレスフリット）の状態で、封着部材として用いられる。【０００５】  上記各公報に開示されているガラス組成物は、成分としてＰ２Ｏ５およびＳｎＯを含んでいる。このうち、ＳｎＯは、封着時に酸化または還元作用を受けやすく、即ちＳｎの価数が変動しやすく、酸化作用によってＳｎＯ２に、還元作用によってＳｎに変化しやすい。ＳｎＯが酸化または還元されると、封着時におけるガラス組成物の流動性が低下し、その程度によっては、形成したＰＤＰにおける放電空間の気密が保持できず、ＰＤＰの性能が劣化することがある。【０００６】  このため、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰと、このようなＰＤＰを実現できる封着部材とが求められている。
【発明の開示】
【０００７】  本発明の第１のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板の周縁部が第１の封着部によって封着されたプラズマディスプレイパネルである。ここで、前記第１の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第１の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下である。
【０００８】  本発明の第２のＰＤＰは、一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第２の封着部によって封着され、前記管体が封止されたプラズマディスプレイパネルである。ここで、前記第２の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第２の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下である。
【０００９】  本発明の第１のＰＤＰの製造方法は、一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第１の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である。
【００１０】  本発明の第２のＰＤＰの製造方法は、放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第２の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である。
【００１１】  本発明の第３のＰＤＰの製造方法は、一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第１の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である。
【００１２】  本発明の第４のＰＤＰの製造方法は、放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第２の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である。
【００１３】  本発明の第１の封着部材は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である。
【００１４】  本発明の第２の封着部材は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である。
【００１５】  本発明の第３の封着部材は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、前記無機結着剤のガラス転移点以上、前記ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体である。
【００１６】  本発明によれば、封着部における有機物の含有量を規定することによって、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとその製造方法とを提供できる。また本発明によれば、このようなＰＤＰを実現できる封着部材を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明のＰＤＰの一例を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明のＰＤＰの構造の一例を説明するための模式図である。
【図３Ａ】図３Ａは、本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは、本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｅ】図３Ｅは、本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｆ】図３Ｆは、本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図４】図４は、本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を示す模式図である。
【図５】図５は、本発明のＰＤＰの製造方法に用いる封着部材の一例を示す模式図である。
【図６】図６は、本発明のＰＤＰの製造方法に用いる封着部材の別の一例を示す模式図である。
【図７】図７は、本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図８】図８は、本発明のＰＤＰの製造方法に用いる封着部材のまた別の一例を示す模式図である。
【図９】図９は、本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】  以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明において、同一の部材に同一の符号を付し、重複する説明を省略する場合がある。【００１９】  最初に、本発明の封着部材について説明する。【００２０】  本発明の封着部材は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満（好ましくは１５ｐｐｍ以下、より好ましくは有機物を含まない）である成型体である。このような封着部材とすることによって、封着時における流動性の低下を抑制でき、密着性などの封着特性を向上できる。本発明の封着部材は成型体であるため、ペースト状の封着部材に比べて、封着の際の寸法精度の確保が容易となる。【００２１】  従来、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物を含む封着部材とすることによって、鉛成分であるＰｂＯを含むガラス組成物を含む封着部材と同様の熱特性、例えば低い軟化点、が得られることが知られている。しかし、上述したように、ガラス組成物としてＰ２Ｏ５およびＳｎＯを単に含むだけでは、ＳｎＯの酸化または還元によって、封着時における封着部材の流動性が低下することがある。これに対して本発明の封着部材では、成型体の有機物含有量を３０ｐｐｍ未満に規定している。有機物含有量を規定することによって、封着時における流動性の低下が抑制される原因は明確ではないが、有機物がある程度の量以上含まれていると、封着時の熱によって有機物中の炭素が酸化し、ＳｎＯから酸素を奪ったり（Ｓｎが還元される）、有機物の酸化に伴って発生した水によってＳｎＯに酸素が付与されたり（Ｓｎが酸化される）する現象が起きる可能性がある。このため、成型体の有機物含有量を３０ｐｐｍ未満に制限することによって、ガラス組成物に含まれるＳｎＯの化学的変化が抑制され、封着時における流動性の低下が抑制できると考えられる。背景技術に上述した各公報に開示されている封着部材は、樹脂や有機溶媒を含むビヒクル中にガラス組成物を分散させたペーストや、ガラス組成物と有機系結着剤とを混合し、成型した成型体であるため、これら従来の封着部材の有機物含有量は、本発明で規定する３０ｐｐｍよりも大きくなる。なお、本明細書における「ｐｐｍ」は、質量百万分率を意味している。有機物含有量は、ガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ−ＭＳ）などの手法を用いて評価すればよい。【００２２】  本発明の封着部材では、成型体に含まれるガラス組成物の組成は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む限り特に限定されないが、ＳｎＯを１５モル％以上含むことが好ましい。封着部材として優れた熱特性（例えば、低い軟化点）を維持しながら、耐水性を向上できる。【００２３】  また、ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６０モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含むことが好ましい。Ｐ２Ｏ５はガラスの網目形成成分であり、主骨格を形成する成分として、２０モル％以上の含有が好ましく、耐水性を向上させる観点からは６０モル％以下の含有が好ましい。ＳｎＯは、上述したように１５モル％以上の含有が好ましく、ガラス組成物としての安定性を向上させる観点からは６０モル％以下の含有が好ましい。ＺｎＯは、ガラス組成物の形成を助け、耐水性を向上させる作用を有しており、０．５モル％以上１０モル％以下の含有が好ましい。【００２４】  ガラス組成物が、上述した成分以外の成分を含んでいてもよく、例えば、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含んでいてもよい。これらの成分を含むことによって、ガラス組成物の熱特性を調整したり、ガラス組成物としての安定性を向上させたりできる。ガラス組成物に含まれる各成分の好ましい量は、Ｂ２Ｏ３が０モル％〜５モル％、ＳｉＯ２が０モル％〜８モル％、Ａｌ２Ｏ３が０モル％〜５モル％である。Ｂ２Ｏ３が過剰になると、封着部材の耐水性が低下することがある。ＳｉＯ２が過剰になると、ガラス組成物の軟化点が上昇し、封着時の流動性が低下することがある。Ａｌ２Ｏ３が過剰になると、ガラス組成物の結晶化が起きやすくなり、封着特性が劣化することがある。【００２５】  ガラス組成物は、必要に応じ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｖ２Ｏ５、ＴｅＯ２、ＣｕＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＭｎＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、ＷＯ３、希土類酸化物などを含んでいてもよい。これらの成分を含むことによって、ガラス組成物の熱特性を調整したり、強度を向上したりできる。【００２６】  ガラス組成物の組成を制御することによって、ガラス組成物の熱特性、例えば軟化点やガラス転移点、を制御できる。例えば、ガラス組成物の組成が、Ｐ２Ｏ５：３５モル％、ＳｎＯ：５６モル％、ＺｎＯ：６モル％、Ｂ２Ｏ３：１モル％、Ａｌ２Ｏ３：２モル％である場合、軟化点が３５０℃のガラス組成物となる。また例えば、ガラス組成物の組成が、Ｐ２Ｏ５：５３モル％、ＳｎＯ：２２モル％、ＺｎＯ：１０モル％、ＳｉＯ２：７モル％、Ｎｂ２Ｏ５：６モル％、Ｌａ２Ｏ３：２モル％である場合、軟化点が３６５℃のガラス組成物となる。ガラス組成物の熱特性は、封着部材の熱特性に反映されるため、ガラス組成物の組成を制御することによって、所定の封着温度に適した封着部材を得ることができる。【００２７】  耐火物フィラーは、封着部材の熱膨張率を制御する作用を有している。ＰＤＰを製造する際には、基板の熱膨張率と、封着部材の熱膨張率との差をできるだけ小さくすることが好ましい。成型体に含まれる耐火物フィラーの種類や量を選択することによって、封着部材の熱膨張率を制御し、基板の熱膨張率との差を低減できる。【００２８】  耐火物フィラーの種類は特に限定されず、例えば、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を用いればよい。ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｓ��およびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。【００２９】  成型体に含まれる耐火物フィラーの量は特に限定されず、例えば、０重量％〜７０重量％の範囲であり、５重量％〜５０重量％の範囲が好ましい。具体例として、ガラス組成物を７０重量％、耐火物フィラーとしてコーディエライトを３０重量％含む成型体、あるいは、ガラス組成物を８０重量％、耐火物フィラーとしてリン酸ジルコニウムを２０重量％含む成型体などが挙げられる。【００３０】  本発明の封着部材では、成型体が、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含んでいてもよい。封着部材（成型体）を製造する際の成型が容易となる。また、有機系結着剤を含む従来の成型体とは異なり、成型体の有機物含有量を最小限にできる。なお、本発明の封着部材は、成型体の有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である限り、有機系結着剤などの有機物質を含んでいてもよい。【００３１】  無機結着剤は特に限定されず、例えば、非晶質ガラス、成型後に結晶化する結晶化ガラス、無機酸化物などを用いればよく、ケイ酸ナトリウムを主成分とする水ガラスを用いてもよい。このような無機結着剤は、ガラス組成物と耐火物フィラーとを結着し、成型体としての形状を保持する作用が大きい。【００３２】  また、無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含むことが好ましい。これらの元素は、例えば、酸化物として含めばよい。具体例として、Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３系ガラス、Ｐ２Ｏ５系ガラス、Ｐ２Ｏ５−ＳｎＯ系ガラス、ＴｅＯ２系ガラス、Ｖ２Ｏ５系ガラスなどが挙げられる。より具体的には、例えば、Ｂ２Ｏ３を１５モル％、Ｂｉ２Ｏ３を７０モル％、ＳｉＯ２を１５モル％含むガラス（軟化点：３５２℃）；Ｂｉ２Ｏ３を８０モル％、ＳｉＯ２を２０モル％含むガラス（軟化点：３２１℃）；Ｐ２Ｏ５を４０モル％、ＳｎＯを６０モル％含むガラス（軟化点：２１３℃）；Ｐ２Ｏ５を３６モル％、Ｎａ２Ｏを５０モル％、ＢａＯを１４モル％含むガラス（軟化点：３３０℃）；Ｐ２Ｏ５を３３モル％、Ｎａ２Ｏを６１％、ＢａＯを６モル％含むガラス（軟化点：３００℃）；Ｐ２Ｏ５を２９モル％、ＴｅＯ２を１９モル％、Ｖ２Ｏ５を５２モル％含むガラス（軟化点：３５０℃）；ＴｅＯ２を７０モル％、Ｌｉ２Ｏを２５モル％、ＴｉＯ２を５モル％含むガラス（軟化点：３１２℃）などを用いればよい。【００３３】  無機結着剤の組成は、ガラス組成物と同一の組成であってもよい。この場合、成型体の製造時に、無機結着剤の平均粒径をガラス組成物の平均粒径よりも小さくすることによって、封着部材（成型体）の成型がより容易となる。【００３４】  成型体に含まれる無機結着剤の量は特に限定されず、例えば、０．５重量％〜５０重量％の範囲であり、２重量％〜３０重量％の範囲が好ましい。【００３５】  成型体が無機結着剤を含む場合、本発明の封着部材は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である、ともいえる。このような封着部材においても、上述した効果と同様の効果を得ることができる。【００３６】  本発明の封着部材の形状は特に限定されず、例えば、楔状、直方体状、リング状、円盤状などの形状であればよい。【００３７】  成型体（成型体の表面）に、凸部および凹部から選ばれる少なくとも１つが形成されていてもよい。詳細は、本発明のＰＤＰの製造方法の説明において後述するが、例えば、凸部が形成された封着部材Ａと、上記凸部と嵌合する凹部が形成された封着部材Ｂとすれば、凸部と凹部とを嵌合させて両者を配置することによって、密着性および寸法精度をより高めた封着を行うことができる。凸部および凹部の形状は、特に限定されない。【００３８】  本発明の封着部材は、例えば、以下に示す製造方法により得ることができる。【００３９】  最初に、ガラス組成物を形成する。ガラス組成物は、例えば、ガラス組成物として必要な組成に応じて原料を混合し、加熱溶融した後に冷却して形成できる。形成したガラス組成物は、ボールミルなどを用いて粉砕し、所定の平均粒径を有する粉末とすればよい。このとき、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合が、粒度分布における頻度にして２０％以下になるように粉砕することが好ましく、成型体の成形性をより向上できる。成型体の成型時に加熱を行わない場合は、ガラス組成物の平均粒径が１０μｍ以下になるように粉砕することが好ましい。【００４０】  次に、形成したガラス組成物の粉末に、耐火物フィラーの粉末を混合する。混合する耐火物フィラーの平均粒径が１０μｍ以下であることが好ましく、１５０μｍ以上の粒径を有する耐火物フィラーの割合が粒度分布における頻度にして２０％以下であることが好ましい。この場合、成型体の成形性をより向上できる。【００４１】  ガラス組成物および耐火物フィラーの平均粒径が５μｍ〜６μｍの範囲にあり、かつ、ガラス組成物および耐火物フィラーを含め、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合が５％以下である場合や、ガラス組成物および耐火物フィラーの平均粒径が６μｍ〜８μｍの範囲にあり、かつ、ガラス組成物および耐火物フィラーを含め、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合が１０％以下である場合、特に良好な成型性を実現できる。【００４２】  次に、ガラス組成物と耐火物フィラーとの混合物を所定の型枠に充填し、加圧成型することによって、成型体を得ることができる。加圧成型する際に加熱してもよく、加熱することによって、成型体の成型性をより向上できる。加熱の温度は特に限定されず、例えば、ガラス組成物の軟化点未満であればよい。得られた成型体は、封着部材としてそのまま用いてもよいし、封着時の作業性を向上させるための部材を付加してもよい。【００４３】  加圧成型を行う前に、必要に応じて、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤を、ガラス組成物と耐火物フィラーとの混合物にさらに加えてもよい。無機結着剤を加えることによって、成型体の成型性をさらに向上できる。加圧成型する際に、加熱により無機結着剤を軟化させながら成型を行ってもよく、ガラス組成物と耐火物フィラーとをより良好に結着できる。加熱の温度は、無機結着剤のガラス転移点以上であることが好ましく、軟化点以上であることがより好ましい。ただし、ガラス組成物の軟化点未満であることが好ましい。このようにして得た封着部材は、無機結着剤を多く含む母材（マトリクス）に、ガラス組成物および耐火物フィラーを多く含むドメインが形成された構造を有していると考えられる。【００４４】  無機結着剤をさらに加え、加圧成型する際に加熱を併用する場合、得られた封着部材は、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、無機結着剤のガラス転移点以上、ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体である封着部材である、ともいえる。【００４５】  なお、封着部材を製造する際には、得られた成型体の有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である限り、有機系結着剤などの有機物質を、ガラス組成物および耐火物フィラーに加えてもよい。【００４６】  次に、本発明のＰＤＰについて説明する。【００４７】  本発明のＰＤＰの一例を図１に示す。図１に示すＰＤＰ５１では、一対の基板１ａおよび１ｂが、基板１ａおよび１ｂの間に放電空間２が形成されるように対向して配置されている。基板１ｂに通気孔１０が設けられており、基板１ｂにおける放電空間２とは反対側の主面に、通気孔１０と連通する管体１２が配置されている。ＰＤＰ５１では、基板１ａおよび１ｂの周縁部が第１の封着部１５によって封着され、基板１ｂと管体１２とが第２の封着部１６によって封着され、かつ、管体１２の末端が封止されることによって、放電空間２の気密が保持されている。第１の封着部１５および第２の封着部１６から選ばれる少なくとも１つの封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、上記少なくとも１つの封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下（好ましくは（５ｐｐｍ以下、より好ましくは有機物を含まない）である。このような構成により、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間２の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとすることができる。【００４８】  ここで、第１の封着部１５および第２の封着部１６の双方が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、その有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。放電空間２の気密をより確実に保持でき、性能の劣化がより抑制されたＰＤＰとすることができる。【００４９】  上記少なくとも１つの封着部の構成（ガラス組成物の組成、耐火物フィラーの種類、無機結着剤を含む場合における無機結着剤の種類など）は、上述した本発明の封着部材の構成と同様であればよい。上記少なくとも１つの封着部は、上述した本発明の封着部材を所定の位置に配置し、所定の温度に加熱することによって形成できる。無機結着剤を含む封着部材を用いた場合、形成された封着部は、無機結着剤を多く含む母材（マトリクス）中に、ガラス組成物および耐火物フィラーを多く含むドメインが形成された構造を有していると考えられる。【００５０】  図１に示すＰＤＰ５１では、基板１ａ（前面板）上に、維持電極および走査電極を含む電極群４、誘電体層５および保護層６が配置されており、基板１ｂ（背面板）上に、データ電極７、誘電体層８および隔壁９が配置されている。ＰＤＰ５１は、いわゆる３電極構造���有している。なお、図１では、実際のＰＤＰにおける隔壁やデータ電極を、その数を省略して示している。【００５１】  基板１ａ（前面板）に用いる材料は、透光性を有する限り特に限定されず、例えば、ガラス基板を用いればよい。基板１ｂ（背面板）に用いる材料は特に限定されず、例えば、ガラスおよび／または金属を含む基板を用いればよい。通常、基板１ａおよび１ｂには、ガラス基板が用いられる。【００５２】  管体１２の材料や構成は特に限定されないが、基板１ｂとの封着をスムーズに行えることから、ガラス管からなる管体１２が好ましい。管体１２は封止されているが、封止の位置や封止方法は特に限定されず、例えば、管体１２における基板１ｂ側とは反対側の末端が、融着などにより封止されていればよい。管体１２は、例えば、通気孔１０における放電空間２側とは反対側の開口部を覆うように配置されていればよい。【００５３】  図１に示すＰＤＰ５１では、基板１ｂに通気孔１０が形成されているが、基板１ａに通気孔１０が形成されていてもよい。【００５４】  図１に示すＰＤＰ５１を、基板１ａと基板１ｂとを分離して見た斜視図を図２に示す。なお、図２では、封着部１５および１６の図示を省略し、基板１ａおよび１ｂの一部分のみを示す。【００５５】  図２に示すように、基板１ａには、電極群４として、ストライプ状の走査電極４１および維持電極４２が互いに平行に配置されており、走査電極４１および維持電極４２によって表示電極４３が形成されている。走査電極４１および維持電極４２は、それぞれ、透明電極（走査電極）４１ａおよび透明電極（維持電極）４２ａと、バス電極（走査電極）４１ｂおよびバス電極（維持電極）４２ｂとを積層した構造を有している。透明電極４１ａおよび４２ａには、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化スズなどを用いればよい。バス電極４１ｂおよび４２ｂには、アルミニウム、銅、銀などを用いればよい。走査電極４１と維持電極４２との間には、黒色の表示品質を向上させ、画像のコントラストを高めるためのブラックストライプと呼ばれるガラスおよび黒色顔料からなる黒色膜１７が配置されている。電極群４に含まれる各電極および黒色膜１７は、例えば、スクリーン印刷などの手法により基板１ａ上に形成できる。【００５６】  また、基板１ａには、表示電極４３を被覆するように誘電体層５が配置されており、誘電体層５上には（誘電体層５の放電空間２側には）、誘電体層５を保護するための保護層６が配置されている。誘電体層５は、ＰＤＰ５１が画像を表示する際に、電荷を蓄積するコンデンサーの役割を果たす。誘電体層５には、ＰＤＰとして一般的な材料を用いればよく、例えば、低融点ガラスからなる層であればよい。誘電体層５は、低融点ガラスと樹脂と溶剤とを混練して得た誘電体ペーストを、印刷または転写などの手法により基板１ａ上に塗布し、乾燥および焼成することによって形成できる。保護層６にもＰＤＰとして一般的な材料を用いればよく、例えば、ＭｇＯからなる層であればよい。【００５７】  基板１ｂには、誘電体層８、隔壁９およびストライプ状のデータ電極７が配置されている。誘電体層８はデータ電極７を被覆するように配置されており、隔壁９は互いに平���にとなるように配置されている。隣り合う隔壁９の間には蛍光体層１１が配置されており、放電空間２は、隔壁９によって画素に分割される。蛍光体層１１は、赤、緑または青を発光する蛍光体を含んでいる。データ電極７の構成は、バス電極の構成と同様であればよく、誘電体層８は、誘電体層５と同様であればよい。隔壁９は、ガラスおよび顔料などを用いて形成すればよい。【００５８】  基板１ａおよび１ｂは、保護層６および隔壁９が放電空間２に面するように、かつ、ストライプ状の電極群４およびデータ電極７が、基板１ａおよび１ｂの主面から見て直交するように、対向して配置されている。放電空間２内には、ネオンやキセノンなどの希ガスを含む放電ガスが充填されている。放電空間２内における放電ガスの圧力は、例えば、０．５３気圧〜０．７９気圧（４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒ）の範囲であればよい。【００５９】  ＰＤＰ５１では、表示電極４３に映像信号電圧を選択的に印加して蛍光体層１１に含まれる蛍光体を励起させ、励起した蛍光体が赤色、緑色または青色を発光することによって、カラー画像を表示できる。【００６０】  本発明のＰＤＰの構造や構成は、上記少なくとも１つの封着部を除き、特に限定されず、任意の構造や構成とすればよい。例えば、基板１ａおよび１ｂは、図１に示す例に限定されず、ＰＤＰとして一般的な構造や構成であればよい。【００６１】  また例えば、第１の封着部が上記少なくとも１つの封着部である場合、図１に示すように、基板１ｂと管体１２とが第２の封着部１６によって封着され、かつ、管体１２が封止されることによって通気孔１０が封止されていてもよいし、図１とは異なる構成により（例えば、管体１２を配置することなく）、通気孔が封止されていてもよい。【００６２】  次に、本発明のＰＤＰの製造方法について説明する。【００６３】  本発明のＰＤＰの製造方法では、封着部材として、上述した本発明の封着部材を用いている。このため、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰを製造できる。【００６４】  本発明の製造方法の一例を、図３Ａ〜図３Ｆに示す。【００６５】  最初に、図３Ａに示すように、一対の基板１ａおよび１ｂから選ばれる少なくとも１つの基板の周縁部に第１の封着部材３を配置し、第１の封着部材３が双方の基板によって狭持され、かつ、双方の基板の間に放電空間２が形成されるように、基板１ａおよび１ｂを対向して配置する。基板１ａ（前面板）には、誘電体層５、保護層６、および、維持電極および走査電極を含むストライプ状の電極群４が形成されている。基板１ｂ（背面板）には、誘電体層８、隔壁９、放電空間２と外部とを連通する通気孔１０、および、ストライプ状のデータ電極７が形成されている。隣り合う隔壁９の間には蛍光体層１１が形成されている。基板１ａおよび１ｂは、保護層６および隔壁９が互いに面するように、かつ、電極群４およびデータ電極７が、基板１ａおよび１ｂの主面から見て直交するように、対向して配置すればよい。配置する基板１ａおよび１ｂの構造や構成は、ＰＤＰとして用いることができる限り、図３Ａに示す例に限定されない。【００６６】  次に、図３Ｂに示すよ���に、基板１ａおよび１ｂの周縁部を、第１の封着部材３を加熱することによって封着する。第１の封着部材３は、加熱によって軟化または溶融し、温度低下後に第１の封着部１５となる。第１の封着部材３を加熱する方法は特に限定されず、例えば、所定の温度に保たれた加熱炉の中に基板１ａおよび１ｂを含む全体を収容すればよい。加熱の温度は、封着部材３のガラス転移点以上、好ましくは軟化点以上であればよい。ただし、保護層６や隔壁９など、基板１ａおよび１ｂ上に形成されている各部材の機能、および、基板１ａおよび１ｂ自体の機能が劣化しない温度である必要がある。また、蛍光体層１１の劣化を抑制するために、乾燥雰囲気下および／または減圧雰囲気下において封着することが好ましい。【００６７】  次に、図３Ｃに示すように、基板１ｂに設けられた通気孔１０と連通するように、基板１ｂにおける放電空間２とは反対側の主面に管体１２を配置し、管体１２の近傍に第２の封着部材１３を配置する。【００６８】  次に、図３Ｄに示すように、基板１ｂと管体１２とを、第２の封着部材１３を加熱することによって封着する。第２の封着部材１３は、加熱によって軟化または溶融し、温度低下後に第２の封着部１６となる。第２の封着部材１３を加熱する方法は、第１の封着部材３を加熱する方法と同様であればよい。【００６９】  次に、図３Ｅに示すように、第２の封着部１６によって基板１ｂに封着された管体１２と通気孔１０とを介して、放電空間２内の空気を排出し、放電空間２に放電ガスを充填する。放電空間２から空気を排出する方法、および、放電空間２に放電ガスを充填する方法は特に限定されず、ＰＤＰの製造に一般的に用いられる方法であればよい。充填は、放電空間２内における放電ガスの圧力が、例えば、０．５３気圧〜０．７９気圧（４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒ）の範囲になるように行えばよい。【００７０】  次に、図３Ｆに示すように、管体１２を封止し、放電空間２の気密を保持する。このようにして、ＰＤＰ５１を得ることができる。管体１２の封止方法は、管体１２の封止によって放電空間２の気密が保持できる限り特に限定されず、例えば、管体１２がガラス管である場合、管体１２の末端（基板１ｂ側とは反対側の末端）を加熱し、融着させて封止すればよい。【００７１】  本発明の製造方法では、第１の封着部材３および第２の封着部材１３から選ばれる少なくとも１つの封着部材に、上述した本発明の封着部材を用いればよく、なかでも、封着部材３および１３の双方に用いることが好ましい。【００７２】  なお、基板１ａと基板１ｂとの封着、および、基板１ｂと管体１２との封着は、同時に行ってもよい。【００７３】  基板１ａおよび／または基板１ｂの周縁部に第１の封着部材３を配置する方法は、形成した第１の封着部１５における気密を保持できる限り、特に限定されない。例えば、図４に示すように、基板１ｂの周縁部に、２以上の封着部材３を互いに隣接して配置すればよい（図４に示す封着部材３は、基板１ｂの周縁部の全周にわたって環状に配置されているともいえる）。このような配置方法では、基板１ａおよび１ｂの周縁部を、より確実に封着できる。なお、図４では、説明を分かり易くするために、基板１ｂにお��る隔壁９および蛍光体層１１について、その一部分のみを示す。【００７４】  第１の封着部材３は、図４に示すように基板１ｂ（背面板）の周縁部に配置する以外にも、基板１ａ（前面板）の周縁部に配置してもよいし、双方の基板の周縁部に配置してもよい。【００７５】  第１の封着部材３の形状は、基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着できる限り特に限定されず、例えば、図４および図５に示すように、直方体状であればよい。異なる形状を有する第１の封着部材３を２種類以上混合し、基板１ａおよび／または１ｂの周縁部に配置してもよい。【００７６】  第１の封着部材３に、凸部および凹部から選ばれる少なくとも１つが形成されていてもよい。凸部および／または凹部の形状や個数は特に限定されず、例えば、図６に示すように、互いに嵌合する形状を有する凸部３１および／または凹部３２が形成されていてもよい。このような封着部材３は、２以上の封着部材を隣接して配置する際に、隣り合う封着部材の凸部３１と凹部３２とを嵌合して配置できる。即ち、本発明の製造方法では、第１の封着部材３として、凸部３１を形成した第１の封着部材Ａと、第１の封着部材Ａの凸部３１と嵌合する凹部３２を形成した別の第１の封着部材Ｂとを、封着部材Ａの凸部３１と、封着部材Ｂの凹部３２とを嵌合させて、基板１ａおよび／または１ｂの周縁部に配置してもよい。その後、配置した封着部材Ａおよび封着部材Ｂを加熱することによって、基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着できる。この方法では、周縁部に配置する（特に周縁部のコーナー部に配置する）封着部材の位置決めが容易となる。また、密着性および寸法精度がより確実な封着が行える。凸部３１および凹部３２の形状は、凸部３１と凹部３２とを嵌合できる限り、特に限定されない。図６に示す例では、第１の封着部材３における双方の端部に、それぞれ凸部３１および凹部３２が形成されているが、凸部３１および／または凹部３２が形成される位置は特に限定されない。【００７７】  本発明の製造方法では、第１の封着部材３を、一対の基板１ａおよび１ｂの外部と放電空間２とを連通する空隙が形成されるように、基板１ａおよび／または１ｂの周縁部に配置してもよい。その後、配置した第１の封着部材３を加熱することによって、上記空隙を塞ぎ、基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着できる。この方法では、周縁部の封着における蛍光体層１１の熱劣化を抑制できる。【００７８】  蛍光体層１１に熱が加わると、蛍光体層１１に含まれる蛍光体が熱劣化し、発光強度や発光色度が低下することがある。特に、青色を発光する蛍光体への影響が大きい。蛍光体の熱劣化は、有機物や水分を多く含む雰囲気下において発生しやすいが、周縁部を封着する際に、パネル内部に吸着している有機物や水分が熱により脱離し、放電空間２内の有機物量や水分量が増大して、熱劣化が促進されることがある。第１の封着部材３を、上記空隙が形成されるように配置した場合、第１の封着部材３が軟化または溶融するまでは、放電空間２内に発生した有機物や水分を上記空隙から外部に逃がすことができる。このため、封着時における放電空間２内の有機物量や水分量を低減でき、蛍光体層１１の熱劣化を抑制できる。ここで、第１の封着部材３の���置方法に加えて、周縁部の封着を行う加熱炉内の雰囲気を乾燥雰囲気および／または減圧雰囲気とすれば、蛍光体の熱劣化をより抑制できる。【００７９】  外部と放電空間とを連通する空隙を形成するためには、例えば、図７に示すように、表面に凸部３３を形成した第１の封着部材３を、基板１ａおよび／または１ｂと接するように配置すればよい。第１の封着部材３が軟化または溶融するまでは、凸部３３によって放電空間２と外部とを連通する空隙が確保され、放電空間２内に発生した有機物や水分を外部に逃がすことができる。図７に示す例では、第１の封着部材３を、基板１ａ（前面板）の周縁部に凸部３３が接するように配置しているが、基板１ｂ（背面板）の周縁部に凸部３３が接するように配置してもよいし、双方の基板の周縁部に凸部３３が接するように配置してもよい。【００８０】  凸部３３の形状は特に限定されず、図８に示すような凸部３３を形成した第１の封着部材３であってもよい。また、対向する２つの表面に凸部３３を形成した第１の封着部材３であってもよい。【００８１】  管体１２の近傍に第２の封着部材１３を配置する方法は、形成した第２の封着部１６における気密が保持できる限り、特に限定されない。例えば、図３Ｃおよび図９に示すように、通気口１０と連通するように配置された管体１２の周囲に、基板１ｂと接するようにして、リング状の第２の封着部材１３を配置すればよい。第２の封着部材１３の形状は、基板１ｂと管体１２とを封着できる限り、特に限定されない。【００８２】  本発明の製造方法では、図１０に示すように、基板１ａおよび１ｂから選ばれる少なくとも一方の基板の周縁部に、第１の封着部材３を仮止めするためのペースト１４を塗布した後に、第１の封着部材３を配置してもよい。この方法では、第１の封着部材３の位置決めがより容易となり、密着性および寸法精度がより確実な封着を行える。ペースト１４は特に限定されず、例えば、低融点ガラス、上述した無機結着剤などを含むペーストであればよい。管体１２の近傍に第２の封着部材１３を配置する場合においても同様に、基板にペースト１４を塗布した後に、第２の封着部材１３を配置してもよい。【００８３】  本発明のＰＤＰの製造方法は、第１の封着部材３および／または第２の封着部材１３から選ばれる少なくとも１つの封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、その有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である限り、図３Ａ〜図３Ｆに示す例に限定されない。例えば、一対の基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着する第１の封着部材３が上述の条件を満たしている場合、通気孔１０の封止方法は、図３Ｃ〜図３Ｆに示すような、管体１２を利用した方法に限定されない。
【実施例】
【００８４】  以下、実施例を用いて、本発明をより詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。【００８５】  最初に、成型体からなる封着部材のサンプルを数種類作製し、作製した封着部材の有機物含有量を評価した。以下に、各封着部材サンプルの作製方法を示す。【００８６】  −サンプル１−
Ｐ２Ｏ５：３５モル％、ＳｎＯ：５６モル％、ＺｎＯ：６モル％、Ｂ２Ｏ３：１モル％、Ａｌ２Ｏ３：２モル％の組成となるように、原料としてＮＨ４Ｈ２ＰＯ４、ＳｎＯ、ＺｎＯ、Ｈ３ＢＯ３およびＡｌ（ＯＨ）３をそれぞれ秤量し、混合した後に、加熱溶融し、冷却して、上記組成を有するガラス組成物を得た。【００８７】  次に、得られたガラス組成物をボールミルを用いて粉砕し、ガラス組成物の粉末（平均粒径６μｍ）を得た。ガラス組成物の軟化点を示差熱分析（ＤＴＡ）により評価したところ、３５０℃であった。なお、これ以降に示す軟化点も、同様の手法により評価した値である。【００８８】  次に、作製したガラス組成物の粉末と、耐火物フィラーとしてコーディエライト粉末とを、耐火物フィラーの割合が、後から加える無機結着剤を含めて全体の２７重量％となるように混合した。混合後の粉末の平均粒径は６μｍであり、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合は全体の５％であった。【００８９】  次に、この混合物と、無機結着剤として、ＴｅＯ２：７０モル％、Ｌｉ２Ｏ：２５モル％、ＴｉＯ２：５モル％の組成を有するガラス粉末（軟化点３１２℃）とを、無機結着剤の割合が全体の１０重量％となるように混合した後、３３０℃において加圧成型し、直方体状およびリング状の成型体を得た。得られた成型体は、そのまま封着部材とした。【００９０】  −サンプル２−
Ｐ２Ｏ５：５３モル％、ＳｎＯ：２２モル％、ＺｎＯ：１０モル％、ＳｉＯ２：７モル％、Ｎｂ２Ｏ５：６モル％、Ｌａ２Ｏ３：２モル％の組成となるように、原料としてＮＨ４Ｈ２ＰＯ４、ＳｎＯ、ＺｎＯ、ＳｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５およびＬａ２Ｏ３をそれぞれ秤量し、混合した後に、加熱溶融し、冷却して、上記組成を有するガラス組成物を得た。【００９１】  次に、得られたガラス組成物をボールミルを用いて粉砕し、ガラス組成物の粉末（平均粒径７μｍ）を得た。ガラス組成物の軟化点は３６５℃であった。【００９２】  次に、作製したガラス組成物の粉末と、耐火物フィラーとしてリン酸ジルコニウム粉末とを、耐火物フィラーの割合が、後から加える無機結着剤を含めて全体の１９重量％となるように混合した。混合後の粉末の平均粒径は７μｍであり、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合は全体の５％であった。【００９３】  次に、この混合物と、無機結着剤として、Ｐ２Ｏ５：３６モル％、Ｎａ２Ｏ：５０モル％、ＢａＯ：１４モル％の組成を有するガラス粉末（軟化点３３０℃）とを、無機結着剤の割合が全体の７重量％となるように混合した後、３５０℃において加圧成型し、直方体状およびリング状の成型体を得た。得られた成型体は、そのまま封着部材とした。【００９４】  −サンプルＡ（比較例）−
比較例であるサンプルＡは、サンプル２と同様にして作製した。ただし、無機結着剤の代わりに、有機系結着剤であるニトロセルロースを加えた。有機系結着剤は、全体の１重量％となるようにした。【００９５】  −サンプルＢ（比較例）−
別の比較例であるサンプルＢは、サンプル２と同様にして作製した。ただし、無機結着剤の代わりに、有機系結着剤であるアクリル系樹脂を加えた。有機系結着剤は、全体の１重量％となるようにした。【００９６】  −サンプルＣ（従来例）−
従来例であるサンプルＣは、以下のようにして作製した。【００９７】  ＰｂＯ：６６モル％、Ｂ２Ｏ３：３０モル％、ＳｉＯ２：４モル％の組成となるように、原料としてＰｂ３Ｏ４、Ｈ３ＢＯ３およびＳｉＯ２をそれぞれ秤量し、混合した後に、加熱溶融し、冷却して、上記組成を有するガラス組成物を得た。【００９８】  次に、得られたガラス組成物をボールミルを用いて粉砕し、ガラス組成物の粉末（平均粒径６μｍ）を得た。ガラス組成物の軟化点は３８５℃であった。【００９９】  次に、作製したガラス組成物の粉末と、耐火物フィラーとしてチタン酸鉛粉末とを、耐火物フィラーの割合が、後から加える有機系結着剤を含めて全体の４０重量％となるように混合した。混合後の粉末の平均粒径は６μｍであり、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合は全体の５％であった。【０１００】  次に、この混合物と、有機系結着剤としてアクリル系樹脂とを、有機系結着剤の割合が全体の１重量％となるように混合した後、３５０℃において加圧成型し、直方体状およびリング状の成型体を得た。得られた成型体は、そのまま封着部材とした。【０１０１】  以上のようにして準備した各サンプルについて、室温から４００℃まで加熱した際の発生ガスをガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ−ＭＳ）により測定し、その有機物含有量を求めた。【０１０２】  次に、各サンプルを用い、図３Ａ〜図３Ｆに示す方法により、図１に示すＰＤＰを作製した。直方体状のサンプルは、図４に示すように、第１の封着部材３として背面板（基板１ｂ）の周縁部に配置して用いた。リング状のサンプルは、図９に示すように、第２の封着部材１３として、ガラス管（管体１２）を囲み、背面板（基板１ｂ）に接するように配置した。ＰＤＰを作製する際の具体的な手順は、本発明のＰＤＰの製造方法に従った。
ただし、前面板および背面板の周縁部の封着、および、ガラス管と背面板との封着は同時に行い、それぞれの封着温度を４５０℃とした。放電空間には、放電ガスとしてＸｅ−Ｎｅガスを、その圧力が０．５３気圧（４００Ｔｏｒｒ）となるように充填した。【０１０３】  このようにして作製したＰＤＰにおける封着部の有機物含有量は、封着部を採取し、室温から４００℃まで加熱した際の発生ガスをガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ−ＭＳ）により測定して求めた。なお、第１の封着部の有機物含有量と、第２の封着部の有機物含有量とは、ほぼ同一の値であった。【０１０４】  次に、作製したＰＤＰの点灯試験を行い、パネルの輝度を評価した。点灯試験およびパネルの輝度の評価は、輝度計（ディスプレイカラーアナライザー）を用いて行った。封着部材の有機物含有量、封着部の有機物含有量およびパネルの輝度の評価結果を表１に示す。なお、表１におけるパネルの輝度は、サンプルＣを用いて形成したパネルの輝度を１００％とする相対値である。【０１０５】
【表１】
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【０１０６】  表１に示すように、有機系結着剤を用いて成型され、有機物含有量が３０ｐｐｍ以上である（作製したＰＤＰにおける封着部の有機物含有量が１１ｐｐｍ以上である）サンプルＡおよびＢでは、従来例であるサンプルＣに比べて、パネルの輝度が低下した。なかでも、有機物含有量が５１ｐｐｍである（作製したＰＤＰにおける封着部の有機物含有量が１９ｐｐｍである）サンプルＢでは、パネルの点灯自体ができなかった。封着部材（成型体）の有機物含有量が大きくなることによって、封着時における封着部材の流動性が低下し、封着部の気密性が十分に得られなかったためであると考えられる。これに対して、サンプル１および２では、従来例であるサンプルＣに比べて、パネルの輝度が向上した。封着部材（成型体）の有機物含有量を３０ｐｐｍ未満とすることによって、封着時における封着部材の流動性の低下が抑制されたと考えられる。さらに、パネル内に持ち込まれる有機物が抑制されたことによって、従来例であるサンプルＣに比べて蛍光体の劣化が抑制され、パネルの輝度が向上できたと考えられる。【０１０７】  また、サンプルＣにおけるガラス組成物と同様の組成を有するガラス組成物を、樹脂（ニトロセルロース）と溶媒（酢酸イソアミル）とを含むビヒクル中に分散させ、ペースト状の封着部材（サンプルＤ：従来例）とした。サンプルＤを用いてＰＤＰを作製し、同様の点灯試験を行ったところ、パネルの輝度は、サンプルＣを用いてＰＤＰを作製した場合とほぼ同じであった。即ち、サンプル１および２では、サンプルＤと比べても、作製したＰＤＰのパネルの輝度が向上した。なお、サンプルＤを用いたＰＤＰの作製は、一般的なＰＤＰの製造方法に従った。【０１０８】  本発明は、その意図および本質的な特徴から逸脱しない限り、他の実施形態に適用しうる。この明細書に開示されている実施形態は、あらゆる点で説明的なものであってこれに限定されない。本発明の範囲は、上記説明ではなく添付したクレームによって示されており、クレームと均等な意味および範囲にあるすべての変更はそれに含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】  本発明によれば、封着部における有機物の含有量を規定することによって、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとその製造方法とを提供できる。また本発明によれば、このようなＰＤＰを実現できる封着部材を提供できる。【０１１０】  本発明の封着部材は、ＰＤＰの製造だけではなく、例えばＰＤＰと同様に、一対の基板が対向して配置され、上記一対の基板の間に形成された空間の気密が保持されたディスプレイパネル（気密封止ディスプレイパネル）の製造に用いることができる。気密封止ディスプレイパネルの製造に本発明の封着部材を用いた場合、ＰＤＰの場合と同様に、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、一対の基板間の空間の機密が保持され、性能の劣化が抑制されたディスプレイパネルを提供できる。【０１１１】  このようなディスプレイパネルは、一対の基板が、前記一対の基板の間に空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板の周縁部が第３の封着部によって封着されることにより、外部に対する前記空間の気密が保持されたディスプレイパネルであって、前記第３の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第３の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるディスプレイパネルであるといえる。【０１１２】  また、製造時に本発明の封着部材を配置する位置によっては、一対の基板が、前記一対の基板の間に空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、前記少なくとも１つの基板における前記空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第４の封着部によって封着され、かつ、前記管体が封止されることにより、外部に対する前記空間の気密が保持されたディスプレイパネルであって、前記第４の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第４の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるディスプレイパネルであるともいえる。【０１１３】  気密封止ディスプレイパネルとしては、例えば、電界放出型ディスプレイパネル（ＦＥＤ）、蛍光表示管、表面電界ディスプレイパネル（ＳＥＤ）などが挙げられる。ＰＤＰを含め、これらのディスプレイパネルは、高精細および高輝度な画像を実現でき、画面の大型化が容易であるため、今後のさらなる普及が期待される。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【手続補正書】
【提出日】平成18年4月11日(2006.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】請求の範囲
【請求項１】（補正後）一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、
前記一対の基板の周縁部が第１の封着部によって封着されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記第１の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含み、
前記第１の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項５】前記第１の封着部が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】（補正後）一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、
前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、
前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第２の封着部によって封着され、
前記管体が封止されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記第２の封着部が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含み、
前記第２の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項１１】前記第２の封着部が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】（補正後）一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、
前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項１７】前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】前記第１の封着部材として、凸部を形成した前記第１の封着部材Ａと、前記凸部と嵌合する凹部を形成した前記第１の封着部材Ｂとを、前記凸部と前記凹部とを嵌合させて配置する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】前記第１の封着部材を、前記一対の基板の外部と前記放電空間とを連通する空隙が形成されるように配置し、
前記第１の封着部材を加熱することによって、前記空隙を塞ぎ、前記周縁部を封着する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】表面に凸部を形成した前記第１の封着部材を、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板と前記凸部とが接するように配置する請求項２０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】（補正後）放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、
前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項２６】前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項２６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２８】（補正後）一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、
前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２９】（補正後）放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、
前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２の封着部材が、Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３０】（補正後）Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含む封着部材。
【請求項３１】前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３２】前記ガラス組成物が、Ｐ２Ｏ５を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３３】前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ２（ＭＯ４）３によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項３０に記載の封着部材。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項３４】前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３５】前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項３４に記載の封着部材。
【請求項３６】（補正後）Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含む封着部材。
【請求項３７】（補正後）Ｐ２Ｏ５およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、前記無機結着剤のガラス転移点以上、前記ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれる少なくとも１つを含む封着部材。
３５
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月17日(2006.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、
前記一対の基板の周縁部が第１の封着部によって封着されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記第１の封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含み、
前記第１の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記ガラス組成物が、Ｐ2Ｏ5を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ2（ＭＯ4）3によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項５】
前記第１の封着部が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、
前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、
前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第２の封着部によって封着され、
前記管体が封止されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記第２の封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含み、
前記第２の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記ガラス組成物が、Ｐ2Ｏ5を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ2（ＭＯ4）3によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項１１】
前記第２の封着部が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、
前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記ガラス組成物が、Ｐ2Ｏ5を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ2（ＭＯ4）3によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項１７】
前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記第１の封着部材として、凸部を形成した前記第１の封着部材Ａと、前記凸部と嵌合する凹部を形成した前記第１の封着部材Ｂとを、前記凸部と前記凹部とを嵌合させて配置する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記第１の封着部材を、前記一対の基板の外部と前記放電空間とを連通する空隙が形成されるように配置し、
前記第１の封着部材を加熱することによって、前記空隙を塞ぎ、前記周縁部を封着する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】
表面に凸部を形成した前記第１の封着部材を、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板と前記凸部とが接するように配置する請求項２０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】
放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、
前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記ガラス組成物が、Ｐ2Ｏ5を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ2（ＭＯ4）3によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項２６】
前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項２６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２８】
一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、
前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２９】
放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、
前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、
前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３０】
Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含む封着部材。
【請求項３１】
前記ガラス組成物が、ＳｎＯを１５モル％以上含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３２】
前記ガラス組成物が、Ｐ2Ｏ5を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６５モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３３】
前記耐火物フィラーが、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ2（ＭＯ4）3によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含む請求項３０に記載の封着部材。
ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【請求項３４】
前記成型体が、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含む請求項３０に記載の封着部材。
【請求項３５】
前記無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含む請求項３４に記載の封着部材。
【請求項３６】
Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含む封着部材。
【請求項３７】
Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、前記無機結着剤のガラス転移点以上、前記ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体であり、
前記ガラス組成物が、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含む封着部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルとその製造方法とに関する。また本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造に用いることができる封着部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型化が容易であり、高精細および高輝度を実現できる表示デバイスとして、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の開発が進められている。ＰＤＰは、ガス放電により発生させた紫外線を用いて蛍光体を発光させ、画像を表示するデバイスである。ＰＤＰでは、一対の基板（前面板および背面板）を所定の間隔で対向させ、双方の基板の間に形成された放電空間に電圧を印加し、ガス放電を発生させている。画像を安定して表示するためには、ガス（放電ガス）が充填された放電空間の気密の保持が重要である。
【０００３】
ＰＤＰでは、通常、以下に示す構造により放電空間の気密を保持している。前面板および背面板の周縁部が、第１の封着部によって封着されている。ＰＤＰの製造工程上、放電空間にガスを充填する通気孔が前面板および背面板のうち少なくとも１つに設けられており、通気孔の開口部にはガスの充填に用いたガラス管が配置されているが、ガラス管と開口部とは第２の封着部によって封着されており、さらにガラス管自体が封止されている。周縁部の封着、および、ガラス管が配置された基板とガラス管との封着は、封着部材を所定の位置に配置し、加熱などの所定の処理を行って実施できる。
【０００４】
従来、封着部材として、酸化鉛を含む低融点ガラスからなるガラスフリットが多く用いられているが、環境保護の観点から、鉛成分を実質的に含まないガラスへの置き換えが求められている。鉛成分を実質的に含まず、かつ、封着部材として用いることができるガラス組成物は、例えば、特開2001-302279号公報、特開2001-139344号公報、特開2000-7375号公報、特開2002-326838号公報および特開2003-238199号公報に開示されている。これら公報に開示されているガラス組成物は、樹脂や有機溶媒を含むビヒクル中に分散したペーストの状態、あるいは、有機系結着剤を用いて成型された成型体（プレスフリット）の状態で、封着部材として用いられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記各公報に開示されているガラス組成物は、成分としてＰ2Ｏ5およびＳｎＯを含んでいる。このうち、ＳｎＯは、封着時に酸化または還元作用を受けやすく、即ちＳｎの価数が変動しやすく、酸化作用によってＳｎＯ2に、還元作用によってＳｎに変化しやすい。ＳｎＯが酸化または還元されると、封着時におけるガラス組成物の流動性が低下し、その程度によっては、形成したＰＤＰにおける放電空間の気密が保持できず、ＰＤＰの性能が劣化することがある。
【０００６】
このため、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰと、このようなＰＤＰを実現できる封着部材とが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板の周縁部が第１の封着部によって封着されたプラズマディスプレイパネルである。ここで、前記第１の封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第１の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下である。
【０００８】
本発明の第２のＰＤＰは、一対の基板が、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第２の封着部によって封着され、前記管体が封止されたプラズマディスプレイパネルである。ここで、前記第２の封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第２の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下である。
【０００９】
本発明の第１のＰＤＰの製造方法は、一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第１の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である。
【００１０】
本発明の第２のＰＤＰの製造方法は、放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第２の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である。
【００１１】
本発明の第３のＰＤＰの製造方法は、一対の基板と第１の封着部材とを、前記第１の封着部材が前記一対の基板によって狭持され、かつ、前記一対の基板の間に放電空間が形成されるように配置し、前記一対の基板の周縁部を、前記第１の封着部材を加熱することによって封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第１の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である。
【００１２】
本発明の第４のＰＤＰの製造方法は、放電空間を形成する一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に設けられた通気孔と連通するように、前記少なくとも１つの基板における前記放電空間側とは反対側の主面に管体を配置し、前記少なくとも１つの基板と前記管体とを、前記管体の近傍に第２の封着部材を配置した後に、前記第２の封着部材を加熱することによって封着し、前記管体および前記通気孔を介して前記放電空間に所定の気体を充填した後に、前記管体を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。ここで、前記第２の封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点よりも低い軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である。
【００１３】
本発明の第１の封着部材は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である成型体である。
【００１４】
本発明の第２の封着部材は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である。
【００１５】
本発明の第３の封着部材は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、前記ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、前記無機結着剤のガラス転移点以上、前記ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、封着部における有機物の含有量を規定することによって、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとその製造方法とを提供できる。また本発明によれば、このようなＰＤＰを実現できる封着部材を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明において、同一の部材に同一の符号を付し、重複する説明を省略する場合がある。
【００１８】
最初に、本発明の封着部材について説明する。
【００１９】
本発明の封着部材は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、かつ、有機物含有量が３０ｐｐｍ未満（好ましくは１５ｐｐｍ以下、より好ましくは有機物を含まない）である成型体である。このような封着部材とすることによって、封着時における流動性の低下を抑制でき、密着性などの封着特性を向上できる。本発明の封着部材は成型体であるため、ペースト状の封着部材に比べて、封着の際の寸法精度の確保が容易となる。
【００２０】
従来、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物を含む封着部材とすることによって、鉛成分であるＰｂＯを含むガラス組成物を含む封着部材と同様の熱特性、例えば低い軟化点、が得られることが知られている。しかし、上述したように、ガラス組成物としてＰ2Ｏ5およびＳｎＯを単に含むだけでは、ＳｎＯの酸化または還元によって、封着時における封着部材の流動性が低下することがある。これに対して本発明の封着部材では、成型体の有機物含有量を３０ｐｐｍ未満に規定している。有機物含有量を規定することによって、封着時における流動性の低下が抑制される原因は明確ではないが、有機物がある程度の量以上含まれていると、封着時の熱によって有機物中の炭素が酸化し、ＳｎＯから酸素を奪ったり（Ｓｎが還元される）、有機物の酸化に伴って発生した水によってＳｎＯに酸素が付与されたり（Ｓｎが酸化される）する現象が起きる可能性がある。このため、成型体の有機物含有量を３０ｐｐｍ未満に制限することによって、ガラス組成物に含まれるＳｎＯの化学的変化が抑制され、封着時における流動性の低下が抑制できると考えられる。背景技術に上述した各公報に開示されている封着部材は、樹脂や有機溶媒を含むビヒクル中にガラス組成物を分散させたペーストや、ガラス組成物と有機系結着剤とを混合し、成型した成型体であるため、これら従来の封着部材の有機物含有量は、本発明で規定する３０ｐｐｍよりも大きくなる。なお、本明細書における「ｐｐｍ」は、質量百万分率を意味している。有機物含有量は、ガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ−ＭＳ）などの手法を用いて評価すればよい。
【００２１】
本発明の封着部材では、成型体に含まれるガラス組成物の組成は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む限り特に限定されないが、ＳｎＯを１５モル％以上含むことが好ましい。封着部材として優れた熱特性（例えば、低い軟化点）を維持しながら、耐水性を向上できる。
【００２２】
また、ガラス組成物が、Ｐ2Ｏ5を２０モル％以上６０モル％以下、ＳｎＯを１５モル％以上６０モル％以下、ＺｎＯを０．５モル％以上１０モル％以下含むことが好ましい。Ｐ2Ｏ5はガラスの網目形成成分であり、主骨格を形成する成分として、２０モル％以上の含有が好ましく、耐水性を向上させる観点からは６０モル％以下の含有が好ましい。ＳｎＯは、上述したように１５モル％以上の含有が好ましく、ガラス組成物としての安定性を向上させる観点からは６０モル％以下の含有が好ましい。ＺｎＯは、ガラス組成物の形成を助け、耐水性を向上させる作用を有しており、０．５モル％以上１０モル％以下の含有が好ましい。
【００２３】
ガラス組成物が、上述した成分以外の成分を含んでいてもよく、例えば、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3から選ばれる少なくとも１つを含んでいてもよい。これらの成分を含むことによって、ガラス組成物の熱特性を調整したり、ガラス組成物としての安定性を向上させたりできる。ガラス組成物に含まれる各成分の好ましい量は、Ｂ2Ｏ3が０モル％〜５モル％、ＳｉＯ2が０モル％〜８モル％、Ａｌ2Ｏ3が０モル％〜５モル％である。Ｂ2Ｏ3が過剰になると、封着部材の耐水性が低下することがある。ＳｉＯ2が過剰になると、ガラス組成物の軟化点が上昇し、封着時の流動性が低下することがある。Ａｌ2Ｏ3が過剰になると、ガラス組成物の結晶化が起きやすくなり、封着特性が劣化することがある。
【００２４】
ガラス組成物は、必要に応じ、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｖ2Ｏ5、ＴｅＯ2、ＣｕＯ、Ｂｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＭｎＯ2、ＺｒＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＷＯ3、希土類酸化物などを含んでいてもよい。これらの成分を含むことによって、ガラス組成物の熱特性を調整したり、強度を向上したりできる。
【００２５】
ガラス組成物の組成を制御することによって、ガラス組成物の熱特性、例えば軟化点やガラス転移点、を制御できる。例えば、ガラス組成物の組成が、Ｐ2Ｏ5：３５モル％、ＳｎＯ：５６モル％、ＺｎＯ：６モル％、Ｂ2Ｏ3：１モル％、Ａｌ2Ｏ3：２モル％である場合、軟化点が３５０℃のガラス組成物となる。また例えば、ガラス組成物の組成が、Ｐ2Ｏ5：５３モル％、ＳｎＯ：２２モル％、ＺｎＯ：１０モル％、ＳｉＯ2：７モル％、Ｎｂ2Ｏ5：６モル％、Ｌａ2Ｏ3：２モル％である場合、軟化点が３６５℃のガラス組成物となる。ガラス組成物の熱特性は、封着部材の熱特性に反映されるため、ガラス組成物の組成を制御することによって、所定の封着温度に適した封着部材を得ることができる。
【００２６】
耐火物フィラーは、封着部材の熱膨張率を制御する作用を有している。ＰＤＰを製造する際には、基板の熱膨張率と、封着部材の熱膨張率との差をできるだけ小さくすることが好ましい。成型体に含まれる耐火物フィラーの種類や量を選択することによって、封着部材の熱膨張率を制御し、基板の熱膨張率との差を低減できる。
【００２７】
耐火物フィラーの種類は特に限定されず、例えば、コーディエライト、ウィレマイト、フォルステライト、アノーサイト、ジルコン、ムライト、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン、クリストバライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、石英ガラス、サイアロン、窒化珪素、炭化珪素、β−石英固溶体、および式ＡＤ2（ＭＯ4）3によって示される化合物から選ばれる少なくとも１種を用いればよい。ただし、上記式において、Ａは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、ＮｉおよびＭｎから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ａｌ、ＳｃおよびＹから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｐ、Ｓｉ、ＷおよびＭｏから選ばれる少なくとも１種の元素である。
【００２８】
成型体に含まれる耐火物フィラーの量は特に限定されず、例えば、０重量％〜７０重量％の範囲であり、５重量％〜５０重量％の範囲が好ましい。具体例として、ガラス組成物を７０重量％、耐火物フィラーとしてコーディエライトを３０重量％含む成型体、あるいは、ガラス組成物を８０重量％、耐火物フィラーとしてリン酸ジルコニウムを２０重量％含む成型体などが挙げられる。
【００２９】
本発明の封着部材では、成型体が、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤をさらに含んでいてもよい。封着部材（成型体）を製造する際の成型が容易となる。また、有機系結着剤を含む従来の成型体とは異なり、成型体の有機物含有量を最小限にできる。なお、本発明の封着部材は、成型体の有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である限り、有機系結着剤などの有機物質を含んでいてもよい。
【００３０】
無機結着剤は特に限定されず、例えば、非晶質ガラス、成型後に結晶化する結晶化ガラス、無機酸化物などを用いればよく、ケイ酸ナトリウムを主成分とする水ガラスを用いてもよい。このような無機結着剤は、ガラス組成物と耐火物フィラーとを結着し、成型体としての形状を保持する作用が大きい。
【００３１】
また、無機結着剤が、Ｂ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｎ、Ｔｅ、ＶおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の元素を含むことが好ましい。これらの元素は、例えば、酸化物として含めばよい。具体例として、Ｂ2Ｏ3−Ｂｉ2Ｏ3系ガラス、Ｐ2Ｏ5系ガラス、Ｐ2Ｏ5−ＳｎＯ系ガラス、ＴｅＯ2系ガラス、Ｖ2Ｏ5系ガラスなどが挙げられる。より具体的には、例えば、Ｂ2Ｏ3を１５モル％、Ｂｉ2Ｏ3を７０モル％、ＳｉＯ2を１５モル％含むガラス（軟化点：３５２℃）；Ｂｉ2Ｏ3を８０モル％、ＳｉＯ2を２０モル％含むガラス（軟化点：３２１℃）；Ｐ2Ｏ5を４０モル％、ＳｎＯを６０モル％含むガラス（軟化点：２１３℃）；Ｐ2Ｏ5を３６モル％、Ｎａ2Ｏを５０モル％、ＢａＯを１４モル％含むガラス（軟化点：３３０℃）；Ｐ2Ｏ5を３３モル％、Ｎａ2Ｏを６１％、ＢａＯを６モル％含むガラス（軟化点：３００℃）；Ｐ2Ｏ5を２９モル％、ＴｅＯ2を１９モル％、Ｖ2Ｏ5を５２モル％含むガラス（軟化点：３５０℃）；ＴｅＯ2を７０モル％、Ｌｉ2Ｏを２５モル％、ＴｉＯ2を５モル％含むガラス（軟化点：３１２℃）などを用いればよい。
【００３２】
無機結着剤の組成は、ガラス組成物と同一の組成であってもよい。この場合、成型体の製造時に、無機結着剤の平均粒径をガラス組成物の平均粒径よりも小さくすることによって、封着部材（成型体）の成型がより容易となる。
【００３３】
成型体に含まれる無機結着剤の量は特に限定されず、例えば、０．５重量％〜５０重量％の範囲であり、２重量％〜３０重量％の範囲が好ましい。
【００３４】
成型体が無機結着剤を含む場合、本発明の封着部材は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを含む成型体である、ともいえる。このような封着部材においても、上述した効果と同様の効果を得ることができる。
【００３５】
本発明の封着部材の形状は特に限定されず、例えば、楔状、直方体状、リング状、円盤状などの形状であればよい。
【００３６】
成型体（成型体の表面）に、凸部および凹部から選ばれる少なくとも１つが形成されていてもよい。詳細は、本発明のＰＤＰの製造方法の説明において後述するが、例えば、凸部が形成された封着部材Ａと、上記凸部と嵌合する凹部が形成された封着部材Ｂとすれば、凸部と凹部とを嵌合させて両者を配置することによって、密着性および寸法精度をより高めた封着を行うことができる。凸部および凹部の形状は、特に限定されない。
【００３７】
本発明の封着部材は、例えば、以下に示す製造方法により得ることができる。
【００３８】
最初に、ガラス組成物を形成する。ガラス組成物は、例えば、ガラス組成物として必要な組成に応じて原料を混合し、加熱溶融した後に冷却して形成できる。形成したガラス組成物は、ボールミルなどを用いて粉砕し、所定の平均粒径を有する粉末とすればよい。このとき、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合が、粒度分布における頻度にして２０％以下になるように粉砕することが好ましく、成型体の成形性をより向上できる。成型体の成型時に加熱を行わない場合は、ガラス組成物の平均粒径が１０μｍ以下になるように粉砕することが好ましい。
【００３９】
次に、形成したガラス組成物の粉末に、耐火物フィラーの粉末を混合する。混合する耐火物フィラーの平均粒径が１０μｍ以下であることが好ましく、１５０μｍ以上の粒径を有する耐火物フィラーの割合が粒度分布における頻度にして２０％以下であることが好ましい。この場合、成型体の成形性をより向上できる。
【００４０】
ガラス組成物および耐火物フィラーの平均粒径が５μｍ〜６μｍの範囲にあり、かつ、ガラス組成物および耐火物フィラーを含め、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合が５％以下である場合や、ガラス組成物および耐火物フィラーの平均粒径が６μｍ〜８μｍの範囲にあり、かつ、ガラス組成物および耐火物フィラーを含め、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合が１０％以下である場合、特に良好な成型性を実現できる。
【００４１】
次に、ガラス組成物と耐火物フィラーとの混合物を所定の型枠に充填し、加圧成型することによって、成型体を得ることができる。加圧成型する際に加熱してもよく、加熱することによって、成型体の成型性をより向上できる。加熱の温度は特に限定されず、例えば、ガラス組成物の軟化点未満であればよい。得られた成型体は、封着部材としてそのまま用いてもよいし、封着時の作業性を向上させるための部材を付加してもよい。
【００４２】
加圧成型を行う前に、必要に応じて、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤を、ガラス組成物と耐火物フィラーとの混合物にさらに加えてもよい。無機結着剤を加えることによって、成型体の成型性をさらに向上できる。加圧成型する際に、加熱により無機結着剤を軟化させながら成型を行ってもよく、ガラス組成物と耐火物フィラーとをより良好に結着できる。加熱の温度は、無機結着剤のガラス転移点以上であることが好ましく、軟化点以上であることがより好ましい。ただし、ガラス組成物の軟化点未満であることが好ましい。このようにして得た封着部材は、無機結着剤を多く含む母材（マトリクス）に、ガラス組成物および耐火物フィラーを多く含むドメインが形成された構造を有していると考えられる。
【００４３】
無機結着剤をさらに加え、加圧成型する際に加熱を併用する場合、得られた封着部材は、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーと、ガラス組成物の軟化点未満の軟化点を有する無機結着剤とを混合し、無機結着剤のガラス転移点以上、ガラス組成物の軟化点未満の温度において成型して得た成型体である封着部材である、ともいえる。
【００４４】
なお、封着部材を製造する際には、得られた成型体の有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である限り、有機系結着剤などの有機物質を、ガラス組成物および耐火物フィラーに加えてもよい。
【００４５】
次に、本発明のＰＤＰについて説明する。
【００４６】
本発明のＰＤＰの一例を図１に示す。図１に示すＰＤＰ５１では、一対の基板１ａおよび１ｂが、基板１ａおよび１ｂの間に放電空間２が形成されるように対向して配置されている。基板１ｂに通気孔１０が設けられており、基板１ｂにおける放電空間２とは反対側の主面に、通気孔１０と連通する管体１２が配置されている。ＰＤＰ５１では、基板１ａおよび１ｂの周縁部が第１の封着部１５によって封着され、基板１ｂと管体１２とが第２の封着部１６によって封着され、かつ、管体１２の末端が封止されることによって、放電空間２の気密が保持されている。第１の封着部１５および第２の封着部１６から選ばれる少なくとも１つの封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、上記少なくとも１つの封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下（好ましくは（５ｐｐｍ以下、より好ましくは有機物を含まない）である。このような構成により、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間２の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとすることができる。
【００４７】
ここで、第１の封着部１５および第２の封着部１６の双方が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、その有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。放電空間２の気密をより確実に保持でき、性能の劣化がより抑制されたＰＤＰとすることができる。
【００４８】
上記少なくとも１つの封着部の構成（ガラス組成物の組成、耐火物フィラーの種類、無機結着剤を含む場合における無機結着剤の種類など）は、上述した本発明の封着部材の構成と同様であればよい。上記少なくとも１つの封着部は、上述した本発明の封着部材を所定の位置に配置し、所定の温度に加熱することによって形成できる。無機結着剤を含む封着部材を用いた場合、形成された封着部は、無機結着剤を多く含む母材（マトリクス）中に、ガラス組成物および耐火物フィラーを多く含むドメインが形成された構造を有していると考えられる。
【００４９】
図１に示すＰＤＰ５１では、基板１ａ（前面板）上に、維持電極および走査電極を含む電極群４、誘電体層５および保護層６が配置されており、基板１ｂ（背面板）上に、データ電極７、誘電体層８および隔壁９が配置されている。ＰＤＰ５１は、いわゆる３電極構造を有している。なお、図１では、実際のＰＤＰにおける隔壁やデータ電極を、その数を省略して示している。
【００５０】
基板１ａ（前面板）に用いる材料は、透光性を有する限り特に限定されず、例えば、ガラス基板を用いればよい。基板１ｂ（背面板）に用いる材料は特に限定されず、例えば、ガラスおよび／または金属を含む基板を用いればよい。通常、基板１ａおよび１ｂには、ガラス基板が用いられる。
【００５１】
管体１２の材料や構成は特に限定されないが、基板１ｂとの封着をスムーズに行えることから、ガラス管からなる管体１２が好ましい。管体１２は封止されているが、封止の位置や封止方法は特に限定されず、例えば、管体１２における基板１ｂ側とは反対側の末端が、融着などにより封止されていればよい。管体１２は、例えば、通気孔１０における放電空間２側とは反対側の開口部を覆うように配置されていればよい。
【００５２】
図１に示すＰＤＰ５１では、基板１ｂに通気孔１０が形成されているが、基板１ａに通気孔１０が形成されていてもよい。
【００５３】
図１に示すＰＤＰ５１を、基板１ａと基板１ｂとを分離して見た斜視図を図２に示す。なお、図２では、封着部１５および１６の図示を省略し、基板１ａおよび１ｂの一部分のみを示す。
【００５４】
図２に示すように、基板１ａには、電極群４として、ストライプ状の走査電極４１および維持電極４２が互いに平行に配置されており、走査電極４１および維持電極４２によって表示電極４３が形成されている。走査電極４１および維持電極４２は、それぞれ、透明電極（走査電極）４１ａおよび透明電極（維持電極）４２ａと、バス電極（走査電極）４１ｂおよびバス電極（維持電極）４２ｂとを積層した構造を有している。透明電極４１ａおよび４２ａには、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、酸化スズなどを用いればよい。バス電極４１ｂおよび４２ｂには、アルミニウム、銅、銀などを用いればよい。走査電極４１と維持電極４２との間には、黒色の表示品質を向上させ、画像のコントラストを高めるためのブラックストライプと呼ばれるガラスおよび黒色顔料からなる黒色膜１７が配置されている。電極群４に含まれる各電極および黒色膜１７は、例えば、スクリーン印刷などの手法により基板１ａ上に形成できる。
【００５５】
また、基板１ａには、表示電極４３を被覆するように誘電体層５が配置されており、誘電体層５上には（誘電体層５の放電空間２側には）、誘電体層５を保護するための保護層６が配置されている。誘電体層５は、ＰＤＰ５１が画像を表示する際に、電荷を蓄積するコンデンサーの役割を果たす。誘電体層５には、ＰＤＰとして一般的な材料を用いればよく、例えば、低融点ガラスからなる層であればよい。誘電体層５は、低融点ガラスと樹脂と溶剤とを混練して得た誘電体ペーストを、印刷または転写などの手法により基板１ａ上に塗布し、乾燥および焼成することによって形成できる。保護層６にもＰＤＰとして一般的な材料を用いればよく、例えば、ＭｇＯからなる層であればよい。
【００５６】
基板１ｂには、誘電体層８、隔壁９およびストライプ状のデータ電極７が配置されている。誘電体層８はデータ電極７を被覆するように配置されており、隔壁９は互いに平行にとなるように配置されている。隣り合う隔壁９の間には蛍光体層１１が配置されており、放電空間２は、隔壁９によって画素に分割される。蛍光体層１１は、赤、緑または青を発光する蛍光体を含んでいる。データ電極７の構成は、バス電極の構成と同様であればよく、誘電体層８は、誘電体層５と同様であればよい。隔壁９は、ガラスおよび顔料などを用いて形成すればよい。
【００５７】
基板１ａおよび１ｂは、保護層６および隔壁９が放電空間２に面するように、かつ、ストライプ状の電極群４およびデータ電極７が、基板１ａおよび１ｂの主面から見て直交するように、対向して配置されている。放電空間２内には、ネオンやキセノンなどの希ガスを含む放電ガスが充填されている。放電空間２内における放電ガスの圧力は、例えば、０．５３気圧〜０．７９気圧（４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒ）の範囲であればよい。
【００５８】
ＰＤＰ５１では、表示電極４３に映像信号電圧を選択的に印加して蛍光体層１１に含まれる蛍光体を励起させ、励起した蛍光体が赤色、緑色または青色を発光することによって、カラー画像を表示できる。
【００５９】
本発明のＰＤＰの構造や構成は、上記少なくとも１つの封着部を除き、特に限定されず、任意の構造や構成とすればよい。例えば、基板１ａおよび１ｂは、図１に示す例に限定されず、ＰＤＰとして一般的な構造や構成であればよい。
【００６０】
また例えば、第１の封着部が上記少なくとも１つの封着部である場合、図１に示すように、基板１ｂと管体１２とが第２の封着部１６によって封着され、かつ、管体１２が封止されることによって通気孔１０が封止されていてもよいし、図１とは異なる構成により（例えば、管体１２を配置することなく）、通気孔が封止されていてもよい。
【００６１】
次に、本発明のＰＤＰの製造方法について説明する。
【００６２】
本発明のＰＤＰの製造方法では、封着部材として、上述した本発明の封着部材を用いている。このため、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰを製造できる。
【００６３】
本発明の製造方法の一例を、図３Ａ〜図３Ｆに示す。
【００６４】
最初に、図３Ａに示すように、一対の基板１ａおよび１ｂから選ばれる少なくとも１つの基板の周縁部に第１の封着部材３を配置し、第１の封着部材３が双方の基板によって狭持され、かつ、双方の基板の間に放電空間２が形成されるように、基板１ａおよび１ｂを対向して配置する。基板１ａ（前面板）には、誘電体層５、保護層６、および、維持電極および走査電極を含むストライプ状の電極群４が形成されている。基板１ｂ（背面板）には、誘電体層８、隔壁９、放電空間２と外部とを連通する通気孔１０、および、ストライプ状のデータ電極７が形成されている。隣り合う隔壁９の間には蛍光体層１１が形成されている。基板１ａおよび１ｂは、保護層６および隔壁９が互いに面するように、かつ、電極群４およびデータ電極７が、基板１ａおよび１ｂの主面から見て直交するように、対向して配置すればよい。配置する基板１ａおよび１ｂの構造や構成は、ＰＤＰとして用いることができる限り、図３Ａに示す例に限定されない。
【００６５】
次に、図３Ｂに示すように、基板１ａおよび１ｂの周縁部を、第１の封着部材３を加熱することによって封着する。第１の封着部材３は、加熱によって軟化または溶融し、温度低下後に第１の封着部１５となる。第１の封着部材３を加熱する方法は特に限定されず、例えば、所定の温度に保たれた加熱炉の中に基板１ａおよび１ｂを含む全体を収容すればよい。加熱の温度は、封着部材３のガラス転移点以上、好ましくは軟化点以上であればよい。ただし、保護層６や隔壁９など、基板１ａおよび１ｂ上に形成されている各部材の機能、および、基板１ａおよび１ｂ自体の機能が劣化しない温度である必要がある。また、蛍光体層１１の劣化を抑制するために、乾燥雰囲気下および／または減圧雰囲気下において封着することが好ましい。
【００６６】
次に、図３Ｃに示すように、基板１ｂに設けられた通気孔１０と連通するように、基板１ｂにおける放電空間２とは反対側の主面に管体１２を配置し、管体１２の近傍に第２の封着部材１３を配置する。
【００６７】
次に、図３Ｄに示すように、基板１ｂと管体１２とを、第２の封着部材１３を加熱することによって封着する。第２の封着部材１３は、加熱によって軟化または溶融し、温度低下後に第２の封着部１６となる。第２の封着部材１３を加熱する方法は、第１の封着部材３を加熱する方法と同様であればよい。
【００６８】
次に、図３Ｅに示すように、第２の封着部１６によって基板１ｂに封着された管体１２と通気孔１０とを介して、放電空間２内の空気を排出し、放電空間２に放電ガスを充填する。放電空間２から空気を排出する方法、および、放電空間２に放電ガスを充填する方法は特に限定されず、ＰＤＰの製造に一般的に用いられる方法であればよい。充填は、放電空間２内における放電ガスの圧力が、例えば、０．５３気圧〜０．７９気圧（４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒ）の範囲になるように行えばよい。
【００６９】
次に、図３Ｆに示すように、管体１２を封止し、放電空間２の気密を保持する。このようにして、ＰＤＰ５１を得ることができる。管体１２の封止方法は、管体１２の封止によって放電空間２の気密が保持できる限り特に限定されず、例えば、管体１２がガラス管である場合、管体１２の末端（基板１ｂ側とは反対側の末端）を加熱し、融着させて封止すればよい。
【００７０】
本発明の製造方法では、第１の封着部材３および第２の封着部材１３から選ばれる少なくとも１つの封着部材に、上述した本発明の封着部材を用いればよく、なかでも、封着部材３および１３の双方に用いることが好ましい。
【００７１】
なお、基板１ａと基板１ｂとの封着、および、基板１ｂと管体１２との封着は、同時に行ってもよい。
【００７２】
基板１ａおよび／または基板１ｂの周縁部に第１の封着部材３を配置する方法は、形成した第１の封着部１５における気密を保持できる限り、特に限定されない。例えば、図４に示すように、基板１ｂの周縁部に、２以上の封着部材３を互いに隣接して配置すればよい（図４に示す封着部材３は、基板１ｂの周縁部の全周にわたって環状に配置されているともいえる）。このような配置方法では、基板１ａおよび１ｂの周縁部を、より確実に封着できる。なお、図４では、説明を分かり易くするために、基板１ｂにおける隔壁９および蛍光体層１１について、その一部分のみを示す。
【００７３】
第１の封着部材３は、図４に示すように基板１ｂ（背面板）の周縁部に配置する以外にも、基板１ａ（前面板）の周縁部に配置してもよいし、双方の基板の周縁部に配置してもよい。
【００７４】
第１の封着部材３の形状は、基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着できる限り特に限定されず、例えば、図４および図５に示すように、直方体状であればよい。異なる形状を有する第１の封着部材３を２種類以上混合し、基板１ａおよび／または１ｂの周縁部に配置してもよい。
【００７５】
第１の封着部材３に、凸部および凹部から選ばれる少なくとも１つが形成されていてもよい。凸部および／または凹部の形状や個数は特に限定されず、例えば、図６に示すように、互いに嵌合する形状を有する凸部３１および／または凹部３２が形成されていてもよい。このような封着部材３は、２以上の封着部材を隣接して配置する際に、隣り合う封着部材の凸部３１と凹部３２とを嵌合して配置できる。即ち、本発明の製造方法では、第１の封着部材３として、凸部３１を形成した第１の封着部材Ａと、第１の封着部材Ａの凸部３１と嵌合する凹部３２を形成した別の第１の封着部材Ｂとを、封着部材Ａの凸部３１と、封着部材Ｂの凹部３２とを嵌合させて、基板１ａおよび／または１ｂの周縁部に配置してもよい。その後、配置した封着部材Ａおよび封着部材Ｂを加熱することによって、基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着できる。この方法では、周縁部に配置する（特に周縁部のコーナー部に配置する）封着部材の位置決めが容易となる。また、密着性および寸法精度がより確実な封着が行える。凸部３１および凹部３２の形状は、凸部３１と凹部３２とを嵌合できる限り、特に限定されない。図６に示す例では、第１の封着部材３における双方の端部に、それぞれ凸部３１および凹部３２が形成されているが、凸部３１および／または凹部３２が形成される位置は特に限定されない。
【００７６】
本発明の製造方法では、第１の封着部材３を、一対の基板１ａおよび１ｂの外部と放電空間２とを連通する空隙が形成されるように、基板１ａおよび／または１ｂの周縁部に配置してもよい。その後、配置した第１の封着部材３を加熱することによって、上記空隙を塞ぎ、基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着できる。この方法では、周縁部の封着における蛍光体層１１の熱劣化を抑制できる。
【００７７】
蛍光体層１１に熱が加わると、蛍光体層１１に含まれる蛍光体が熱劣化し、発光強度や発光色度が低下することがある。特に、青色を発光する蛍光体への影響が大きい。蛍光体の熱劣化は、有機物や水分を多く含む雰囲気下において発生しやすいが、周縁部を封着する際に、パネル内部に吸着している有機物や水分が熱により脱離し、放電空間２内の有機物量や水分量が増大して、熱劣化が促進されることがある。第１の封着部材３を、上記空隙が形成されるように配置した場合、第１の封着部材３が軟化または溶融するまでは、放電空間２内に発生した有機物や水分を上記空隙から外部に逃がすことができる。このため、封着時における放電空間２内の有機物量や水分量を低減でき、蛍光体層１１の熱劣化を抑制できる。ここで、第１の封着部材３の配置方法に加えて、周縁部の封着を行う加熱炉内の雰囲気を乾燥雰囲気および／または減圧雰囲気とすれば、蛍光体の熱劣化をより抑制できる。
【００７８】
外部と放電空間とを連通する空隙を形成するためには、例えば、図７に示すように、表面に凸部３３を形成した第１の封着部材３を、基板１ａおよび／または１ｂと接するように配置すればよい。第１の封着部材３が軟化または溶融するまでは、凸部３３によって放電空間２と外部とを連通する空隙が確保され、放電空間２内に発生した有機物や水分を外部に逃がすことができる。図７に示す例では、第１の封着部材３を、基板１ａ（前面板）の周縁部に凸部３３が接するように配置しているが、基板１ｂ（背面板）の周縁部に凸部３３が接するように配置してもよいし、双方の基板の周縁部に凸部３３が接するように配置してもよい。
【００７９】
凸部３３の形状は特に限定されず、図８に示すような凸部３３を形成した第１の封着部材３であってもよい。また、対向する２つの表面に凸部３３を形成した第１の封着部材３であってもよい。
【００８０】
管体１２の近傍に第２の封着部材１３を配置する方法は、形成した第２の封着部１６における気密が保持できる限り、特に限定されない。例えば、図３Ｃおよび図９に示すように、通気口１０と連通するように配置された管体１２の周囲に、基板１ｂと接するようにして、リング状の第２の封着部材１３を配置すればよい。第２の封着部材１３の形状は、基板１ｂと管体１２とを封着できる限り、特に限定されない。
【００８１】
本発明の製造方法では、図１０に示すように、基板１ａおよび１ｂから選ばれる少なくとも一方の基板の周縁部に、第１の封着部材３を仮止めするためのペースト１４を塗布した後に、第１の封着部材３を配置してもよい。この方法では、第１の封着部材３の位置決めがより容易となり、密着性および寸法精度がより確実な封着を行える。ペースト１４は特に限定されず、例えば、低融点ガラス、上述した無機結着剤などを含むペーストであればよい。管体１２の近傍に第２の封着部材１３を配置する場合においても同様に、基板にペースト１４を塗布した後に、第２の封着部材１３を配置してもよい。
【００８２】
本発明のＰＤＰの製造方法は、第１の封着部材３および／または第２の封着部材１３から選ばれる少なくとも１つの封着部材が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と耐火物フィラーとを含み、その有機物含有量が３０ｐｐｍ未満である限り、図３Ａ〜図３Ｆに示す例に限定されない。例えば、一対の基板１ａおよび１ｂの周縁部を封着する第１の封着部材３が上述の条件を満たしている場合、通気孔１０の封止方法は、図３Ｃ〜図３Ｆに示すような、管体１２を利用した方法に限定されない。
【実施例】
【００８３】
以下、実施例を用いて、本発明をより詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。
【００８４】
最初に、成型体からなる封着部材のサンプルを数種類作製し、作製した封着部材の有機物含有量を評価した。以下に、各封着部材サンプルの作製方法を示す。
【００８５】
−サンプル１−
Ｐ2Ｏ5：３５モル％、ＳｎＯ：５６モル％、ＺｎＯ：６モル％、Ｂ2Ｏ3：１モル％、Ａｌ2Ｏ3：２モル％の組成となるように、原料としてＮＨ4Ｈ2ＰＯ4、ＳｎＯ、ＺｎＯ、Ｈ3ＢＯ3およびＡｌ（ＯＨ）3をそれぞれ秤量し、混合した後に、加熱溶融し、冷却して、上記組成を有するガラス組成物を得た。
【００８６】
次に、得られたガラス組成物をボールミルを用いて粉砕し、ガラス組成物の粉末（平均粒径６μｍ）を得た。ガラス組成物の軟化点を示差熱分析（ＤＴＡ）により評価したところ、３５０℃であった。なお、これ以降に示す軟化点も、同様の手法により評価した値である。
【００８７】
次に、作製したガラス組成物の粉末と、耐火物フィラーとしてコーディエライト粉末とを、耐火物フィラーの割合が、後から加える無機結着剤を含めて全体の２７重量％となるように混合した。混合後の粉末の平均粒径は６μｍであり、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合は全体の５％であった。
【００８８】
次に、この混合物と、無機結着剤として、ＴｅＯ2：７０モル％、Ｌｉ2Ｏ：２５モル％、ＴｉＯ2：５モル％の組成を有するガラス粉末（軟化点３１２℃）とを、無機結着剤の割合が全体の１０重量％となるように混合した後、３３０℃において加圧成型し、直方体状およびリング状の成型体を得た。得られた成型体は、そのまま封着部材とした。
【００８９】
−サンプル２−
Ｐ2Ｏ5：５３モル％、ＳｎＯ：２２モル％、ＺｎＯ：１０モル％、ＳｉＯ2：７モル％、Ｎｂ2Ｏ5：６モル％、Ｌａ2Ｏ3：２モル％の組成となるように、原料としてＮＨ4Ｈ2ＰＯ4、ＳｎＯ、ＺｎＯ、ＳｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5およびＬａ2Ｏ3をそれぞれ秤量し、混合した後に、加熱溶融し、冷却して、上記組成を有するガラス組成物を得た。
【００９０】
次に、得られたガラス組成物をボールミルを用いて粉砕し、ガラス組成物の粉末（平均粒径７μｍ）を得た。ガラス組成物の軟化点は３６５℃であった。
【００９１】
次に、作製したガラス組成物の粉末と、耐火物フィラーとしてリン酸ジルコニウム粉末とを、耐火物フィラーの割合が、後から加える無機結着剤を含めて全体の１９重量％となるように混合した。混合後の粉末の平均粒径は７μｍであり、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合は全体の５％であった。
【００９２】
次に、この混合物と、無機結着剤として、Ｐ2Ｏ5：３６モル％、Ｎａ2Ｏ：５０モル％、ＢａＯ：１４モル％の組成を有するガラス粉末（軟化点３３０℃）とを、無機結着剤の割合が全体の７重量％となるように混合した後、３５０℃において加圧成型し、直方体状およびリング状の成型体を得た。得られた成型体は、そのまま封着部材とした。
【００９３】
−サンプルＡ（比較例）−
比較例であるサンプルＡは、サンプル２と同様にして作製した。ただし、無機結着剤の代わりに、有機系結着剤であるニトロセルロースを加えた。有機系結着剤は、全体の１重量％となるようにした。
【００９４】
−サンプルＢ（比較例）−
別の比較例であるサンプルＢは、サンプル２と同様にして作製した。ただし、無機結着剤の代わりに、有機系結着剤であるアクリル系樹脂を加えた。有機系結着剤は、全体の１重量％となるようにした。
【００９５】
−サンプルＣ（従来例）−
従来例であるサンプルＣは、以下のようにして作製した。
【００９６】
ＰｂＯ：６６モル％、Ｂ2Ｏ3：３０モル％、ＳｉＯ2：４モル％の組成となるように、原料としてＰｂ3Ｏ4、Ｈ3ＢＯ3およびＳｉＯ2をそれぞれ秤量し、混合した後に、加熱溶融し、冷却して、上記組成を有するガラス組成物を得た。
【００９７】
次に、得られたガラス組成物をボールミルを用いて粉砕し、ガラス組成物の粉末（平均粒径６μｍ）を得た。ガラス組成物の軟化点は３８５℃であった。
【００９８】
次に、作製したガラス組成物の粉末と、耐火物フィラーとしてチタン酸鉛粉末とを、耐火物フィラーの割合が、後から加える有機系結着剤を含めて全体の４０重量％となるように混合した。混合後の粉末の平均粒径は６μｍであり、１５０μｍ以上の粒径を有する粉末の割合は全体の５％であった。
【００９９】
次に、この混合物と、有機系結着剤としてアクリル系樹脂とを、有機系結着剤の割合が全体の１重量％となるように混合した後、３５０℃において加圧成型し、直方体状およびリング状の成型体を得た。得られた成型体は、そのまま封着部材とした。
【０１００】
以上のようにして準備した各サンプルについて、室温から４００℃まで加熱した際の発生ガスをガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ−ＭＳ）により測定し、その有機物含有量を求めた。
【０１０１】
次に、各サンプルを用い、図３Ａ〜図３Ｆに示す方法により、図１に示すＰＤＰを作製した。直方体状のサンプルは、図４に示すように、第１の封着部材３として背面板（基板１ｂ）の周縁部に配置して用いた。リング状のサンプルは、図９に示すように、第２の封着部材１３として、ガラス管（管体１２）を囲み、背面板（基板１ｂ）に接するように配置した。ＰＤＰを作製する際の具体的な手順は、本発明のＰＤＰの製造方法に従った。ただし、前面板および背面板の周縁部の封着、および、ガラス管と背面板との封着は同時に行い、それぞれの封着温度を４５０℃とした。放電空間には、放電ガスとしてＸｅ−Ｎｅガスを、その圧力が０．５３気圧（４００Ｔｏｒｒ）となるように充填した。
【０１０２】
このようにして作製したＰＤＰにおける封着部の有機物含有量は、封着部を採取し、室温から４００℃まで加熱した際の発生ガスをガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ−ＭＳ）により測定して求めた。なお、第１の封着部の有機物含有量と、第２の封着部の有機物含有量とは、ほぼ同一の値であった。
【０１０３】
次に、作製したＰＤＰの点灯試験を行い、パネルの輝度を評価した。点灯試験およびパネルの輝度の評価は、輝度計（ディスプレイカラーアナライザー）を用いて行った。封着部材の有機物含有量、封着部の有機物含有量およびパネルの輝度の評価結果を表１に示す。なお、表１におけるパネルの輝度は、サンプルＣを用いて形成したパネルの輝度を１００％とする相対値である。
【０１０４】
【表１】
2006064733.tif 000018
【０１０５】
表１に示すように、有機系結着剤を用いて成型され、有機物含有量が３０ｐｐｍ以上である（作製したＰＤＰにおける封着部の有機物含有量が１１ｐｐｍ以上である）サンプルＡおよびＢでは、従来例であるサンプルＣに比べて、パネルの輝度が低下した。なかでも、有機物含有量が５１ｐｐｍである（作製したＰＤＰにおける封着部の有機物含有量が１９ｐｐｍである）サンプルＢでは、パネルの点灯自体ができなかった。封着部材（成型体）の有機物含有量が大きくなることによって、封着時における封着部材の流動性が低下し、封着部の気密性が十分に得られなかったためであると考えられる。これに対して、サンプル１および２では、従来例であるサンプルＣに比べて、パネルの輝度が向上した。封着部材（成型体）の有機物含有量を３０ｐｐｍ未満とすることによって、封着時における封着部材の流動性の低下が抑制されたと考えられる。さらに、パネル内に持ち込まれる有機物が抑制されたことによって、従来例であるサンプルＣに比べて蛍光体の劣化が抑制され、パネルの輝度が向上できたと考えられる。
【０１０６】
また、サンプルＣにおけるガラス組成物と同様の組成を有するガラス組成物を、樹脂（
ニトロセルロース）と溶媒（酢酸イソアミル）とを含むビヒクル中に分散させ、ペースト状の封着部材（サンプルＤ：従来例）とした。サンプルＤを用いてＰＤＰを作製し、同様の点灯試験を行ったところ、パネルの輝度は、サンプルＣを用いてＰＤＰを作製した場合とほぼ同じであった。即ち、サンプル１および２では、サンプルＤと比べても、作製したＰＤＰのパネルの輝度が向上した。なお、サンプルＤを用いたＰＤＰの作製は、一般的なＰＤＰの製造方法に従った。
【０１０７】
本発明は、その意図および本質的な特徴から逸脱しない限り、他の実施形態に適用しうる。この明細書に開示されている実施形態は、あらゆる点で説明的なものであってこれに限定されない。本発明の範囲は、上記説明ではなく添付したクレームによって示されており、クレームと均等な意味および範囲にあるすべての変更はそれに含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明によれば、封着部における有機物の含有量を規定することによって、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、放電空間の気密が保持され、性能の劣化が抑制されたＰＤＰとその製造方法とを提供できる。また本発明によれば、このようなＰＤＰを実現できる封着部材を提供できる。
【０１０９】
本発明の封着部材は、ＰＤＰの製造だけではなく、例えばＰＤＰと同様に、一対の基板が対向して配置され、上記一対の基板の間に形成された空間の気密が保持されたディスプレイパネル（気密封止ディスプレイパネル）の製造に用いることができる。気密封止ディスプレイパネルの製造に本発明の封着部材を用いた場合、ＰＤＰの場合と同様に、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含む封着部を備えながら、一対の基板間の空間の機密が保持され、性能の劣化が抑制されたディスプレイパネルを提供できる。
【０１１０】
このようなディスプレイパネルは、一対の基板が、前記一対の基板の間に空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板の周縁部が第３の封着部によって封着されることにより、外部に対する前記空間の気密が保持されたディスプレイパネルであって、前記第３の封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第３の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるディスプレイパネルであるといえる。
【０１１１】
また、製造時に本発明の封着部材を配置する位置によっては、一対の基板が、前記一対の基板の間に空間が形成されるように対向して配置され、前記一対の基板から選ばれる少なくとも１つの基板に通気孔が設けられており、前記少なくとも１つの基板における前記空間側とは反対側の主面に、前記通気孔と連通する管体が配置されており、前記少なくとも１つの基板と前記管体とが第４の封着部によって封着され、かつ、前記管体が封止されることにより、外部に対する前記空間の気密が保持されたディスプレイパネルであって、前記第４の封着部が、Ｐ2Ｏ5およびＳｎＯを含むガラス組成物と、耐火物フィラーとを含み、前記第４の封着部の有機物含有量が１０ｐｐｍ以下であるディスプレイパネルであるともいえる。
【０１１２】
気密封止ディスプレイパネルとしては、例えば、電界放出型ディスプレイパネル（ＦＥＤ）、蛍光表示管、表面電界ディスプレイパネル（ＳＥＤ）などが挙げられる。ＰＤＰを含め、これらのディスプレイパネルは、高精細および高輝度な画像を実現でき、画面の大型化が容易であるため、今後のさらなる普及が期待される。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】本発明のＰＤＰの一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明のＰＤＰの構造の一例を説明するための模式図である。
【図３Ａ】本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｂ】本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｃ】本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｄ】本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｅ】本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３Ｆ】本発明のＰＤＰの製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を示す模式図である。
【図５】本発明のＰＤＰの製造方法に用いる封着部材の一例を示す模式図である。
【図６】本発明のＰＤＰの製造方法に用いる封着部材の別の一例を示す模式図である。
【図７】本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図８】本発明のＰＤＰの製造方法に用いる封着部材のまた別の一例を示す模式図である。
【図９】本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図１０】本発明のＰＤＰの製造方法における封着部材の配置方法の一例を模式的に示す断面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006064733.tif 000019
【図２】
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【図３Ａ】
2006064733.tif 000021
【図３Ｂ】
2006064733.tif 000022
【図３Ｃ】
2006064733.tif 000023
【図３Ｄ】
2006064733.tif 000024
【図３Ｅ】
2006064733.tif 000025
【図３Ｆ】
2006064733.tif 000026
【図４】
2006064733.tif 000027
【図５】
2006064733.tif 000028
【図６】
2006064733.tif 000029
【図７】
2006064733.tif 000030
【図８】
2006064733.tif 000031
【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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