(57)【要約】  給気用のチューブ等を接続することなく十分な移動ストロークを確保する。パッド部（７３）を有する移動体（３）と固定体（２）とを有する。パッド部（７３）に媒体が供給されて移動体（３）が固定体（２）に移動自在に支持される。固定体（２）に設けられ前記媒体が供給される供給部（５）と、供給部（５）とパッド部（７３）とを連絡する連絡部（７５）と、固定体（２）に対する移動体（３）の位置に応じて連絡部（７５）を開閉する開閉装置（６）とを有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッド部を有する移動体と固定体とを有し、前記パッド部に媒体が供給されて前記移動体が前記固定体に移動自在に支持される軸受装置であって、
前記固定体に設けられ前記媒体が供給される供給部と、
前記供給部と前記パッド部とを連絡する連絡部と、
前記固定体に対する前記移動体の位置に応じて前記連絡部を開閉する開閉装置とを有することを特徴とする軸受装置。
【請求項２】
請求項１記載の軸受装置において、
前記連絡部は、前記固定体に前記移動体の移動経路に沿って複数配置され前記供給部に連通する連通部を有し、
前記開閉装置は、前記複数の連通部毎に設けられ前記移動体が前記連通部と対向したときに該連通部を開放し、前記移動体が前記連通部と対向しないときに前記連通部を閉塞する弁体を有することを特徴とする軸受装置。
【請求項３】
請求項２記載の軸受装置において、
前記移動体は、前記連通部に臨む位置に前記パッド部と接続して設けられた媒体溜まりを有し、
前記弁体は、前記媒体溜まりに導入された前記媒体の圧力により前記連通部を開放することを特徴とする軸受装置。
【請求項４】
請求項３記載の軸受装置において、
前記媒体溜まりは、前記固定体を挟んだ両側に設けられていることを特徴とする軸受装置。
【請求項５】
請求項３または４記載の軸受装置において、
前記弁体には、前記移動体が前記連通部と対向したときに、前記供給部と前記媒体溜まりとを接続状態とする接続路が設けられていることを特徴とする軸受装置。
【請求項６】
移動部材を有するステージ装置において、
前記移動部材が請求項１から５のいずれか一項に記載の軸受装置により移動自在に支持されることを特徴とするステージ装置。
【請求項７】
ステージ装置に載置された基板にパターンを露光する露光装置において、
請求項６記載のステージ装置が用いられることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
パッド部を有する移動体と固定体とを有し、前記パッド部に媒体が供給されて前記移動体が前記固定体に移動自在に支持される軸受装置であって、
前記固定体に設けられ前記媒体を供給可能な供給部と、
前記供給部と前記移動体とに連通可能な複数の弁装置と、
前記固定体に対する前記移動体の位置に応じて前記複数の弁装置の中から少なくとも１つの弁装置を前記供給部と前記移動体とに連通して前記パッド部に前記媒体を供給する供給装置とを有することを特徴とする軸受装置。
【請求項９】
請求項８記載の軸受装置において、
前記供給装置は、前記複数の弁装置のうち前記移動体と対向する弁装置を用いて前記パッド部に前記媒体を供給することを特徴とする軸受装置。
【請求項１０】
請求項８記載の軸受装置において、
前記移動体は、前記供給部からの前記媒体が供給される媒体溜まりを有し、
前記パッド部に前記媒体を供給する弁装置は、前記媒体溜まりの前記媒体の圧力により前記供給部と前記移動体とに連通することを特徴とする軸受装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の軸受装置において、
前記媒体の圧力は大気圧よりも大きな圧力であることを特徴とする軸受装置。
【請求項１２】
請求項１０記載の軸受装置において、
前記媒体溜まりは前記パッド部とは異なる位置に設けられていることを特徴とする軸受装置。
【請求項１３】
請求項１０記載の軸受装置において、
前記媒体溜まりは、前記固定体を挟んだ両側に設けられていることを特徴とする軸受装置。
【請求項１４】
請求項８記載の軸受装置において、
前記パッド部に前記媒体を供給する弁装置は、磁力により前記供給部と前記移動体とに連通することを特徴とする軸受装置。
【請求項１５】
請求項８記載の軸受装置において、
前記複数の弁装置のそれぞれは、電磁弁を有していることを特徴とする軸受装置。
【請求項１６】
請求項８記載の軸受装置において、
前記複数の弁装置のそれぞれは、ブリード孔を有していることを特徴とする軸受装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、媒体により移動体を移動自在に支持する軸受装置及びこの軸受装置により移動部材が支持されるステージ装置並びに露光装置に関するものである。
本願は、２００４年１０月１８日に出願された特願２００４−３０２６９９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子や液晶表示基板等を製造するためのリソグラフィ工程において、マスクとしてのレチクルのパターンを、フォトレジストが塗布されたウェハまたはガラス基板等の各ショット領域に転写露光する露光装置が使用されている。
この種の露光装置においては、レチクルステージ、ウエハステージ等の移動体が移動する際のガイド機構として、軸受装置を用いて移動体の移動を支持する構成が多く採用されている。【０００３】
従来、エア等の媒体を用いて移動体を固定体に対して移動自在に支持させる軸受装置としては、例えばエアベアリングが挙げられる。このエアベアリングは、移動方向に延びる固定体であるガイド軸に沿って移動体であるテーブルがガイド軸に対してエアを吹き付けることでベアリング効果を奏した状態で移動する構成となっている。
ところが、上記の構成では移動体に給気用のチューブ等を接続する必要があるため、チューブの耐久性やチューブを屈曲させたり、引き回すためのスペースが必要となってしまう。【０００４】
そこで、固定体のガイド軸に対して給気を行う方法も考えられるが、この構成では、テーブルがガイド軸と嵌合していない領域からエアが漏出することを防止するため、テーブルの可動範囲の中、常にテーブルとガイド軸とが嵌合している領域のみにエアを吹き付けている。また、特許文献１には、固定体としての定盤に給気穴及び排気穴を設け、これらの給気穴及び排気穴を通じて移動体にエアの給排気を行う構成が開示されている。
【特許文献１】特開２００１−２０９５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
移動体は、固定体に対してエアの給気穴が形成された領域を常に嵌合した（覆った）状態で移動する必要があるため、大きな長さが必要となり、結果として十分な移動ストロークを確保することが困難になってしまう。【０００６】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、給気用のチューブ等を接続することなく十分な移動ストロークを確保できる軸受装置及びこの軸受装置を備えたステージ装置並びに露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１０に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の軸受装置は、パッド部（７３、７９）を有する移動体（３）と固定体（２）とを有し、パッド部（７３、７９）に媒体が供給されて移動体（３）が固定体（２）に移動自在に支持される軸受装置（１）であって、固定体（２）に設けられ媒体が供給される供給部（５、５Ａ、９０）と、供給部（５、５Ａ、９０）とパッド部（７３、７９）とを連絡する連絡部（７５、９２）と、固定体（２）に対する移動体（３）の位置に応じて連絡部（７５、９２）を開閉する開閉装置（６、６Ａ〜６Ｃ、９３）とを有することを特徴とするものである。【０００８】
従って、本発明の軸受装置では、移動体（３）が移動すると、移動体（３）の位置と対応する位置の開閉装置（６、６Ａ〜６Ｃ、９３）が作動して連絡部（７５、９２）を開くことができる。連絡部（７５，９２）が開くと、供給部（５、５Ａ、９０）から当該連絡部（７５、９２）を介してパッド部（７３、７９）に媒体が供給されて、固定体（２）に対する移動体（３）の移動が支持される。また、移動体（３）が移動してこの開閉装置（６、６Ａ〜６Ｃ、９３）から離間すると、開閉装置（６、６Ａ〜６Ｃ、９３）が作動して連絡部（７５、９２）を閉じることができる。従って、移動体（３）は、給気穴等の連絡部（７５、９２）が形成された領域を常に覆う必要がなくなるため、必要最低限の大きさを有すればよく、給気用のチューブ等を接続することなく十分な移動ストロークを確保することが可能になる。【０００９】
また、本発明のステージ装置は、移動部材（６９Ａ、６９Ｂ）を有するステージ装置（１２）において、移動部材（６９Ａ、６９Ｂ）が上記の軸受装置（１）により移動自在に支持されることを特徴とするものである。
そして、本発明の露光装置は、ステージ装置に載置された基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）にパターンを露光する露光装置（１０）において、上記のステージ装置（１２）が用いられることを特徴とするものである。【００１０】
従って、本発明のステージ装置では、給気用のチューブ等を接続することなく、また必要最低限の大きさを有すればよく、十分な移動ストロークで移動部材（６９Ａ、６９Ｂ）を移動させることが可能になる。
また、本発明の露光装置では、パターンの露光に関して、給気用のチューブ等を接続することなく、十分な移動ストロークで基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を移動させることが可能になる。【００１１】
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１２】
以上のように、本発明では、給気用のチューブ等を接続することなく、媒体供給に係る制限を受けることなく、移動体の長さを自由に設定することができ、十分な移動ストロークを確保することが可能になる。また、本発明では、媒体供給に係る制限を受けることなく、露光処理に要する任意のストロークで基板を移動させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、軸受装置の一実施例を示す断面図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ線視断面図である。
【図３】軸受装置の要部を示す部分拡大図である。
【図４Ａ】軸受装置の動作を示す図である。
【図４Ｂ】軸受装置の動作を示す図である。
【図４Ｃ】軸受装置の動作を示す図である。
【図４Ｄ】軸受装置の動作を示す図である。
【図５】軸受装置の第２実施形態を示す図である。
【図６】軸受装置の第３実施形態を示す図である。
【図７】軸受装置の第４実施形態を示す図である。
【図８】軸受装置の第５実施形態を示す図である。
【図９】本発明に係る露光装置の概略構成を示す図である。
【図１０】本発明に係るステージ装置の概略構成を示す斜視図である。
【図１１】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００１４】
Ｗ、Ｗ１、Ｗ２…ウエハ（基板）、  １…軸受装置、  ２…ガイド軸（固定体）、  ３…テーブル（移動体）、  ５…エア供給路（供給部）、  ５Ａ…真空吸引路（供給部）、  ６、６Ａ〜６Ｃ…パイロット弁（開閉装置）、  １０…露光装置、  １２…ステージ装置、  ６８Ａ、６８Ｂ…Ｙガイド（固定体）、  ６９Ａ、６９Ｂ…Ｙガイドステージ（移動体、移動部材）、  ７０…導入路（連通部）、  ７１…ブリード孔（接続路）、  ７２…エア溜まり（媒体溜まり）、  ７３、７９…エアパッド（パッド部）、  ７５…連絡路（連絡部）、  ９０…給気口（供給部）、  ９２…給気配管（連絡部）、  ９３…電磁弁（開閉装置）
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の軸受装置及びステージ装置並びに露光装置の実施の形態を、図１ないし図１１を参照して説明する。
ここでは、まず軸受装置について説明する。【００１６】
（第１実施形態）
図１は、軸受装置の一実施例を示す断面図であり、図２は図１におけるＡ−Ａ線視断面図である。
これらの図に示す軸受装置１は、図１中、左右方向に沿って延びる断面矩形（図２参照）のガイド軸（固定体）２と、断面矩形筒状に形成されガイド軸２に微小隙間を有して嵌合して移動自在に支持されるテーブル（移動体）３とを主体に構成されている。【００１７】
ガイド軸２の内部中央には、媒体としてのエアが供給される断面円形のエア供給路（供給部）５が長さ方向に沿って形成されている。このエア供給路５に対しては、エア供給源４から、例えば大気圧よりも大きい０．５ＭＰａ程度の圧力でエアが供給される。また、ガイド軸２の幅方向略中央部には、長さ方向に所定ピッチで配置されたパイロット弁（開閉装置）６及びブッシュ７がそれぞれ複数設けられている。【００１８】
ブッシュ７は、図中、上下方向に沿った軸線を有する筒状に形成されており、図３に示すように、フラットに形成された下端面７ａがエア供給路５内に突出して設けられている。また、ブッシュ７の上端面７ｂは、ガイド軸２の上面２ａにブッシュ７毎に設けられた凹部２ｂに臨んで、且つ凹部２ｂの底面２ｄと略面一に設けられている。また、ガイド軸２には、各凹部２ｂに臨み（開口し）、且つ一方の側面２ｃに開口する大気開放孔８が形成されている。【００１９】
パイロット弁６は、ブッシュ７の内周面７ｃに摺動自在に支持される軸部６ａと、軸部６ａの下端部に位置し、軸部６ａよりも大径でブッシュ７の外径と略同一に形成された係合部６ｂと、軸部６ａの上端部に位置し、係合部６ｂよりも大径で凹部２ｂの内径よりも僅かに小径に形成された係合部６ｃとから構成されている。軸部６ａの長さ（すなわち係合部６ｂ、６ｃ間の長さ）は、ブッシュ７の長さよりも大きく形成され、軸部６ａがブッシュ７の内周面７ｃを摺動した際に係合部６ｂが下端面７ａに係合するか、または係合部６ｃが上端面７ｂ（または凹部２ｂの底面２ｄ）に係合する構成となっている。また、軸部６ａは、係合部６ｂがブッシュ７の下端面７ａに係合したときに係合部６ｃの上面が凹部２ｂ（ガイド軸２の上面２ａ）から突出しない長さに形成される。
なお、パイロット弁６においては、軸部６ａが図３中で下方に下がった際には、ブッシュ７の上端面７ｂと凹部２ｂの底面２ｄとの高い位置にある方と係合部６ｃが係合するが、ここでは底面２ｄと係合するものとして説明する。【００２０】
軸部６ａの下端部近傍には、軸方向と直交する方向に貫通する導入孔７０ａが形成されている。導入孔７０ａは、軸部６ａが下降して係合部６ｃが底面２ｄに係合したときに、ブッシュ７の内周面７ｃによる閉塞状態から外れてエア供給路５に開口する位置に形成されている（図３中、二点鎖線で示す）。
また軸部６ａには、上端が係合部６ｃから凹部２ｂ内に開口し下端が導入孔７０ａに開口する導入口７０ｂが軸方向に沿って形成されている。これら導入口７０ａ、７０ｂにより、エア供給路５に供給されたエアを凹部２ｂ内（または係合部６ｃの上面と対向する側）に導入するための導入路７０が形成される。【００２１】
さらに、パイロット弁６には、上端が導入孔７０ａに開口し、下端が係合部６ｂからエア供給路５に開口するブリード孔（接続路）７１が軸方向に沿って形成されている。ブリード孔７１は、エア供給路５を介して供給されるエアの流量に大きな影響を与えない程度の少量のエアが流れる極めて小さな口径で形成されている。【００２２】
テーブル３は、ガイド軸２の上面２ａと対向する内周面に、幅方向略中央で凹部２ｂと対向する位置にエア溜まり（媒体溜まり）７２を有している。図２及び図３に示すように、ガイド軸２の幅方向に関し、エア溜まり７２は、凹部２ｂの内径（すなわちパイロット弁６の係合部６ｃの外径）よりも広い。また、ガイド軸２の長さ方向に関し、エア溜まり７２は、図４に示すように、所定ピッチで配列された凹部２ｂの少なくとも２つを覆えるような大きさに形成されている。すなわち、ガイド軸２の長さ方向に関し、エア溜まり７２の長さは、凹部２ｂの配列ピッチに凹部２ｂの内径を加えた長さよりも大きい。
テーブル３のガイド軸２と対向する内周面のそれぞれには、所定間隔で離間し、且つガイド軸２に形成された凹部２ｂ及び大気開放孔８と重ならない位置にエアパッド（パッド部）７３が設けられている。各エアパッド７３は、給気用内部配管７４を介してエア溜まり７２に接続されている。
上記の導入路７０、エア溜まり７２及び給気用内部配管７４により、エア供給路５とエアパッド７３とを連絡する連絡路（連絡部）７５が構成される。また、導入路７０は、この連絡路７５の中、エア供給路５とエア溜まり７２とを連通させる連通部を構成している。【００２３】
続いて、上記の軸受装置１の動作について説明する。
図１に示すように、テーブル３に形成されたエア溜まり７２とパイロット弁６（図１中、左から２番目のパイロット弁６、以下左側から６Ａ、６Ｂ、…と称する）とが対向し、図３中、二点鎖線で示すように、パイロット弁６Ｂが下がって係合部６ｃが底面２ｄに係合している場合、エア供給路５に供給されたエアは、導入路７０（導入孔７０ａ、７０ｂ）を通じてエア溜まり７２に導かれ、給気用内部配管７４を介して各エアパッド７３に供給される。そして、エアパッド７３からガイド軸２に対してエアが吹き付けられることにより、テーブル３はガイド軸２に沿って非接触で円滑に移動することができる。【００２４】
このように、パイロット弁６Ｂがエア溜まり７２と対向する場合には、係合部６ｃの外径（すなわち係合部６ｃの上面の面積）が係合部６ｂの外径（すなわち係合部６ｂの下面の面積）よりも大きいことから、エア溜まり７２のエアから係合部６ｃが受ける力がエア供給路５のエアから係合部６ｂが受ける力を上回ることになる。そのため、パイロット弁６Ｂは、安定して下方に押し込まれた状態となり、エア溜まり７２にエアが供給されることになる。【００２５】
続いて、図４Ａに示すように、テーブル３が例えば右に移動して、右隣のパイロット弁６（図中、左から３番目のパイロット弁６Ｃ）がエア溜まり７２と対向すると、エア供給路５のエア圧を係合部６ｂが受けて、当該係合部６ｂがブッシュ７の下端面７ａに係合する上がった状態であったパイロット弁６Ｃの係合部６ｃに対してエア溜まり７２からのエア圧により下向きの力が加わる。このとき、係合部６ｃの裏側（下側）の凹部２ｂは大気開放孔８により大気圧となっているため、係合部６ｃの上面と下面との間に圧力差が生じ、係合部６ｃに大気圧より大きなエア圧が加わり、また上述したように、エア圧の受圧面積が係合部６ｂよりも係合部６ｃの方が大きいことから、図４Ｂに示すように、このパイロット弁６Ｃは下がり（図３に示す実線の状態から二点鎖線で示す状態）、導入路７０を通じてエア供給路５からエア溜まり７２にエアが導入される。【００２６】
次に、図４Ｃに示すように、テーブル３の右方への移動が進み、パイロット弁６Ｂがエア溜まり７２と対向しない状態となると、パイロット弁６Ｂの係合部６ｃにはエア溜まり７２のエア圧が加わらなくなり、また係合部６ｂにはエア供給路５のエア圧が加わるため、エア溜まり７２からの残圧による下向きの力に、エア供給路５から受ける上向きの力が勝ると、図４Ｄ及び図３（実線）に示すように、パイロット弁６Ｂ（図３では符号６）は上昇して係合部６ｂがブッシュ７に係合する状態となる。その結果、導入路７０が閉塞され、エア供給路５からのエアの吹出が停止される。
そして、この後、図１及び図４Ａ〜４Ｄの動作を繰り返しながら、テーブル３が移動することになる。【００２７】
なお、図４Ａを用いて説明したように、テーブル３の移動によりエア溜まり７２と対向したときに、パイロット弁６Ｃにはエア溜まり７２からのエア圧により下向きの力が加わるが、何らかのトラブルが生じてエア溜まり７２へのエア供給が停止してしまった場合（例えば全てのパイロット弁６が上がった状態で導入路７０が閉塞している場合）には、エア溜まり７２からのエア圧がパイロット弁６に加わらない状態となってしまう。また、エア供給源４の駆動が一時的に停止してしまい、復旧する必要が生じた場合も同様の事態となる。【００２８】
このような場合、つまり図３に示すように、導入孔７０ａがブッシュ７で閉塞された状態でも、テーブル３のエア溜まり７２と対向するパイロット弁６のブリード孔７１によってエア供給路５とエア溜まり７２とが接続状態となり、エア供給路５からブリード孔７１及び導入路７０を通じてエア溜まり７２に供給されたエア圧により当該パイロット弁６を下げることができる。
ここで、テーブル３がガイド軸２と嵌合していない領域では、ブリード孔７１を通じてエアが漏れることになるため、ブリード孔７１の孔径が小さければ小さいほどエア流量の損失は少なくて済むが、初期状態（エア溜まり７２からのエア圧が掛からない状態）からの回復に時間を要することになる。逆にブリード孔７１の孔径が大きい場合には、初期状態からの回復が迅速であるが、エア流量の損失が多くなり、エア供給路５におけるエア圧の低下を招いてしまう。そのため、ブリード孔７１の孔径は、エア流量の損失と初期状態からの回復時間とを考慮して設定することが好ましい。【００２９】
以上のように、本実施形態では、テーブル３が移動してエア溜まり７２が対向する位置のパイロット弁６が作動することにより、導入路７０（連絡路７５）が開放されてエアパッド７３にエアが供給され、またテーブル３の移動が進み、パイロット弁６がエア溜まり７２と対向しない状態になると導入路７０（連絡路７５）が閉塞されるため、テーブル３はガイド軸２に配列された給気部（導入路７０）の位置（ガイド軸２との嵌合位置）に関係なく、また、給気用のチューブ等を接続することなく、エアパッド７３へのエア供給を継続しながら当該ガイド軸２に沿って移動することが可能になる。そのため、給気部の配置に制限を受けることなくテーブル３の長さを自由に設定することができ、十分な移動ストロークを確保することが可能になる。【００３０】
また、本実施の形態では、パイロット弁６にブリード孔７１が設けられているので、不測の事態が生じてエア溜まり７２のエア圧が低下した場合でも、容易にパイロット弁６を初期状態から回復させることが可能になる。そのため、本実施形態では、煩雑な復旧作業を回避することができ、作業性を向上させることも可能になる。【００３１】
（第２実施形態）
続いて、軸受装置の第２実施形態について説明する。
上記第１実施形態では、テーブルに設けられたエア溜まり７２のエア圧によりパイロット弁６を作動させる構成としたが、本実施の形態ではマグネットを用いた磁力によりパイロット弁を駆動する構成について図５を参照して説明する。この図において、図１乃至図４Ｄに示した第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。【００３２】
本実施形態では、パイロット弁６（本実施形態でも図６中、左側から６Ａ、６Ｂ、６Ｃとする）が軸部６ａと係合部６ｂと軸部６ａの上端部に順次設けられたＮ極マグネット７６Ｎ、Ｓ極マグネット７６Ｓとから構成されている。各マグネット７６Ｎ、７６Ｓには軸部６ａに形成された導入孔７０ａと連通し、且つ凹部２ｂに臨んで開口する導入孔７０ｃがそれぞれ設けられている。【００３３】
また、テーブル３のエア溜まり７２の天部７２ａには、テーブル３の移動方向（すなわちガイド軸２の長さ方向）に沿ってＮ極マグネット７７Ｎ、Ｓ極マグネット７７Ｓが対をなして複数配列されている。各対においては、Ｎ極マグネット７７Ｎが天部７２ａに設けられ、Ｓ極マグネット７７Ｓがガイド軸２（すなわち同極のマグネット７６Ｓ）と対向する側に設けられている。この場合、マグネット７６Ｓ、７７Ｓによる反発力は、エア供給路５のエアによりパイロット弁６が受ける力よりも大きくなるように設定されている。
他の構成は上記第１実施形態と同様である。【００３４】
本実施の形態では、パイロット弁６Ｃのように、テーブル３のマグネット７７Ｎ、７７Ｓと対向しない位置にある場合は、マグネット７６Ｎ、７６Ｓにマグネット７７Ｎ、７７Ｓの磁力が加わらず、エア供給路５のエア圧が係合部６ｂに上向きの力として作用するため、導入路７０が閉塞され、従ってエア供給路５からのエアの吹出が停止される。【００３５】
一方、テーブル３が移動して、エア溜まり７２とパイロット弁６（例えば６Ａ）とが対向すると、同極であるマグネット７６Ｓ、７７Ｓ同士が反発し、その反発力により、エア供給路５のエア圧に抗してパイロット弁６Ａが下がる。
これにより、導入路７０が開放され、この導入路７０を介してエア供給路５のエアがエア溜まり７２に導入される。また、テーブル３がパイロット弁６から離れた場合には、上記パイロット弁６Ｃと同様に、マグネット７６Ｓ、７７Ｓ同士の反発力がなくなるとともに、エア供給路５のエア圧によりパイロット弁６Ａに上向きの力が作用することで、導入路７０が閉塞される。【００３６】
このように、本実施の形態では上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、マグネットの磁力によりパイロット弁６を作動させるので、エア供給が停止してエア溜まり７２のエア圧が低下した場合でも、より確実にパイロット弁６を動作させることが可能になる。【００３７】
（第３実施形態）
上記第１、第２実施形態では、エアを媒体とする構成としたが、本実施形態では、例えば真空予圧型のエアパッドに対して媒体としての真空を供給する（実際には真空吸引によりエアパッドからエアが吸引されることでエアパッドに真空状態が供給（形成）される）場合の例について、図６を参照して説明する。【００３８】
本実施形態では、ガイド軸２の内部に、真空吸引源４Ａに接続された真空供給部としての真空吸引路５Ａが設けられている。この真空吸引路５Ａには、パイロット弁６の軸部６ａと嵌合するブッシュ７Ａが突設されている。ブッシュ７Ａには、パイロット弁６が上に上がって不図示の係合部で係合した際に、パイロット弁６に形成された導入孔７０ａと連通し、且つ真空吸引路５Ａに開口するとともに、パイロット弁６が下がったときに導入孔７０ａとの連通が解除される連通孔７Ｂが形成されている。また、ガイド軸２に形成された凹部２ｂには、一端が底面２ｄに係合し、他端がパイロット弁６の係合部６ｃに下方から係合して当該係合部６ｃを上方に付勢する予圧バネ７８が軸部６ａに巻回して設けられている。予圧バネ７８の付勢力は、係合部６ｃが大気圧下に開放されたときに真空吸引路５Ａから軸部６ａが受ける吸引力よりも小さく設定されている。【００３９】
また、テーブル３には、ガイド軸２の上面２ａと対向する内周面に、幅方向略中央で凹部２ｂと対向する位置に真空溜まり（媒体溜まり）７２Ａが設けられている。この真空溜まり７２Ａは、内部配管を介して真空予圧型のエアパッド（パッド部）７９に接続されている。エアパッド７９は、テーブル３の下面に設けられており、エアを吹き出す吹出口７９Ｂと、テーブル３の下面側のエアを吸引する吸気口７９Ａとを備えており、吹出口７９Ｂからの気体の吹き出しによる反発力と吸気口７９Ａによる吸引力との釣り合いにより、テーブル３の下面と、移動面との間に一定の隙間（ギャップ）を形成・保持する予圧型流体ベアリングとなっている。なお、図示しないものの、第１、第２実施形態で示したエア供給路及びパイロット弁をガイド軸２の真空吸引路５Ａ及び真空用パイロット弁とは異なる位置に設けるとともに、テーブル３にエア溜まり及び給気用配管を設け、この給気用配管を吹出口７９Ｂに接続すれば、チューブ等を用いることなくエアの吹き出しを実現できる。【００４０】
上記の構成では、真空溜まり７２Ａとパイロット弁６（例えば６Ａ）とが対向すると、軸部６ａに作用する真空吸引路５Ａからの吸引力と、係合部６ｃに作用する真空溜まり７２Ａからの吸引力とが相殺されるため、予圧バネ７８の付勢力によりパイロット弁６Ａが上がり、導入孔７０ａとブッシュ７Ａの連通孔７Ｂとが連通することにより、導入路７０を介して真空溜まり７２Ａに真空吸引路５Ａの真空状態が供給される（実際には真空溜まり７２Ａのエアが導入路７０を介して真空吸引路５Ａに真空吸引される）。これにより、エアパッド７９における吸気口７９Ａのエア吸引が行われる。【００４１】
一方、テーブル３が移動して、真空溜まり７２Ａとパイロット弁６（例えば６Ｃ）とが対向しない状態になると、パイロット弁６Ｃの係合部６ｃには大気圧が加わるため、パイロット弁６Ｃは、予圧バネ７８の付勢力に抗して下がる。これにより、導入孔７０ａと連通孔７Ｂとの連通が解除され、導入路７０が閉塞される。従って、真空吸引路５Ａの真空吸引力が低下することを防止できる。【００４２】
このように、本実施の形態では、真空状態を媒体として供給する場合であっても、テーブル３にチューブ等を接続することなく、エアパッド７９における吸気口７９Ａのエア吸引を継続しながらテーブル３を当該ガイド軸２に沿って移動させることが可能になる。そのため、吸引部の配置に制限を受けることなくテーブル３の長さを自由に設定することができ、十分な移動ストロークを確保することが可能になる。【００４３】
（第４実施形態）
上記実施の形態では、パイロット弁を機械的に作動させ、エアや真空等の媒体をパッド部に供給・供給停止する構成としたが、本実施の形態では電磁弁を用いて電気的にエアの供給を制御する構成について図７を参照して説明する。なお、この図において、図１乃至図４Ｄに示した第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。【００４４】
図７に示すように、本実施形態では、ガイド軸２に長さ方向に沿って複数の給気口（供給部）９０が設けられており、各給気口９０には給気用コネクタ９１がそれぞれ設けられている。各コネクタ９１は、給気配管（連絡部）９２を介してエア供給源４に接続されている。この給気配管９２には、電磁弁（開閉装置）９３が介装されている。各電磁弁９３の駆動は、不図示の制御装置により制御されソレノイドバルブを切り替えることにより、給気用コネクタ９１を介しての給気口９０へのエア供給と供給停止とを自在に切り替えられる構成となっている。【００４５】
上記の構成では、制御装置がテーブル３の位置に対応して電磁弁９３毎にソレノイドバルブを切り替えてエア溜まり７２へのエア供給を制御する。
具体的には、制御装置は、エア溜まり７２と対向する給気口９０に接続された電磁弁９３に対して給気配管９２を開放するようにバルブを駆動し、逆にエア溜まり７２と対向しない給気口９０に接続された電磁弁９３に対して給気配管９２を閉塞するようにバルブを駆動する。
このように、本実施の形態では、上記第１〜第３実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、電磁弁９３を制御することにより、給気口９０毎のエア供給を容易に調節することが可能になる。【００４６】
（第５実施形態）
上記第１実施形態では、ガイド軸２の一方の側にパイロット弁及びテーブル３のエア溜まり７２を設ける構成としたが、本実施形態ではガイド軸２を挟んだ両側に設ける構成について図８を参照して説明する。
図８に示すように、本実施の形態では、エア供給路５の上側及び下側にパイロット弁６とブッシュ７とが同一のピッチで、且つ互いに半ピッチずれた位置に配列されている。そして、テーブル３には、ガイド軸２の上面２ａと対向する内周面及び底面２ｄと対向する内周面に、幅方向略中央で凹部２ｂと対向する位置にエア溜まり７２がそれぞれ設けられている。【００４７】
図２に示した構成では、エア溜まり７２からエアパッド７３に導入するための内部配管７４の経路長が、上側のエアパッド７３と下側のエアパッド７３とで異なるため、エア圧の圧力損失により各エアパッド７３から吹き出されるエアの量が不均一になってしまうが、本実施の形態では、上下それぞれにエア溜まり７２を設けることにより、エアパッド７３からのエア吹出量の不均一化を抑制することが可能になる。【００４８】
（ステージ装置及び露光装置）
続いて、上記の軸受装置１を備えたステージ装置及び露光装置について図９及び図１０を参照して説明する。本実施形態では、上記の軸受装置１を露光装置におけるウエハステージのガイド部材に適用している。ここでは、例えば露光装置として、レチクルとウエハとを同期移動しつつ、レチクルに形成された半導体デバイスの回路パターンをウエハ上に転写する、スキャニング・ステッパを使用する場合の例を用いて説明する。【００４９】
図９には、一実施形態に係る露光装置１０の概略構成が示されている。
この露光装置１０は、不図示の光源及び照明ユニットＩＬＵを含み、露光用照明光によりマスクとしてのレチクルＲを上方から照明する照明系、レチクルＲを主として所定の走査方向、ここではＹ軸方向（図１における紙面左右方向）に駆動するレチクル駆動系、レチクルＲの下方に配置された投影光学系ＰＬ、投影光学系ＰＬの下方に配置され、基板としてのウエハＷ１、Ｗ２（適宜、代表的にＷと称する）をそれぞれ保持して独立してＸＹ２次元面内で移動するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を含む基板ステージとしてのステージ装置１２、投影光学系ＰＬの−Ｙ側に配置されたアライメント光学系ＡＬＧ等を備えている。この内、不図示の光源を除く上記各部は、超クリーンルームの床面上に設置され、温度、湿度等が精度良く管理された環境制御チャンバ（以下、「チャンバ」という）１４内に収納されている。【００５０】
なお、投影光学系ＰＬの光軸は、ステージ定盤４４の＋Ｙ側の位置に配置され、アライメント光学系ＡＬＧの光軸はステージ定盤４４の−Ｙ側の位置に配置される。従って、ステージ定盤４４の＋Ｙ側が露光エリアとされ、このエリアに位置するウエハステージに対して露光処理が行われ、ステージ定盤４４の−Ｙ側がアライメントエリアとされ、このエリアに位置するウエハステージに対してアライメントが行われる。【００５１】
レチクル駆動系は、レチクルチャンバ２２内に収容されており、レチクルベース盤２４上をレチクルＲを保持してＸＹ２次元面内で移動可能なレチクルステージ（マスクステージ）ＲＳＴを備えている。レチクルステージＲＳＴは、実際には、不図示の非接触ベアリング、例えば真空予圧型気体静圧軸受け装置を介してレチクルベース盤２４上に浮上支持され、不図示のリニアモータによって、走査方向であるＹ軸方向に所定ストローク範囲で駆動されるレチクル粗動ステージと、該レチクル粗動ステージに対しボイスコイルモータ等からなる駆動機構によってＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθＺ方向（Ｚ軸回りの回転方向）に微少駆動されるレチクル微動ステージとから構成される。【００５２】
ステージ装置１２は、図９に示されるように、内部にウエハ室４０を形成するチャンバ４２の内部に設置されている。このチャンバ４２の上壁には、投影光学系ＰＬの鏡筒の下端部近傍が隙間無く接合されている。
ステージ装置１２は、ウエハ室４０内に収納されたステージ定盤４４、このステージ定盤４４の上方に非接触ベアリングである不図示の真空予圧型気体静圧軸受け装置を介して浮上支持され、Ｙ軸方向（図９における紙面内左右方向）及びＸ軸方向（図９における紙面直交方向）に独立して２次元移動可能な２つのウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２、これらのウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を駆動するステージ駆動系、及びウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の位置を計測するウエハ干渉計システム等から主に構成される。【００５３】
なお、前記ウエハ室４０内には、空気（酸素）の含有濃度が数ｐｐｍ程度とされたクリーンなヘリウムガス（Ｈｅ）あるいは乾燥窒素ガス（Ｎ２）が充填されている。また、このウエハ室４０を形成するチャンバ４２の−Ｘ側（図９における紙面手前側）の−Ｙ側半部（図９における右半部）の位置には、ウエハをロード・アンロードする不図示のウエハローダが設けられている。【００５４】
図１０には、チャンバ４２内に収納されたステージ装置１２の概略的な斜視図が示されている。この図１０及び図９に示されるように、ステージ装置１２は、チャンバ４２の内部底面に設置されたベースプレートＢＰ上に不図示の防振ユニットを介して３点あるいは４点で水平に支持されたステージ定盤４４、ウエハステージＷＳＴ１に接続されＸ方向に延在するＸガイドステージ６１Ａに沿って移動する粗動ステージ６３Ａ、ウエハステージＷＳＴ２に接続されＸ方向に延在するＸガイドステージ６１Ｂに沿って移動する粗動ステージ６３Ｂ、粗動ステージ６３Ａ、６３Ｂ及びＸガイドステージ６１Ａ、６１Ｂを介してウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２をそれぞれＹ軸方向に駆動するＹリニアモータ６５Ａ、６５Ｂ、粗動ステージ６３Ａ、６３Ｂを介してウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２をそれぞれＸ軸方向に駆動するＸリニアモータ６７Ａ、６７Ｂを有している。【００５５】
Ｘガイドステージ６１Ａ、６１Ｂの両端下側には、非接触ベアリングである真空予圧型の複数のエアベアリング６０Ａ、６０Ｂがそれぞれ設けられており、エアベアリング６０Ａ、６０Ｂの軸受け面から吹き出される加圧気体（例えば空気、ヘリウム、あるいは窒素ガスなど）の静圧と、Ｘガイドステージ６１Ａ、６１Ｂ全体の自重と真空吸引力とのバランスにより、Ｘガイドステージ６１Ａ、６１Ｂがステージ定盤４４の上面である移動面４４ａの上方に数ミクロン程度のクリアランスを介して非接触で支持されるようになっている。【００５６】
Ｙリニアモータ６５Ａは、ステージ定盤４４のＸ軸方向両外側にそれぞれＹ軸方向に沿って配置された固定子５８Ａと、Ｘガイドステージ６１Ａの両端に設けられ、それぞれ固定子５８Ａとの間の電磁気的相互作用により固定子５８Ａに沿ってＹ軸方向に駆動される可動子６２Ａとから構成されている。これら固定子５８Ａは、ステージ定盤４４のＸ軸方向に分離して設けられた支持ブロック６４Ａにそれぞれ支持される。
同様に、Ｙリニアモータ６５Ｂは、ステージ定盤４４のＹ軸方向両外側にそれぞれＹ軸方向に沿って配置された固定子５８Ｂと、それぞれ固定子５８Ｂとの間の電磁気的相互作用により固定子５８Ｂに沿ってＹ軸方向に駆動される可動子６２Ｂとから構成されている。これら固定子５８Ｂは、支持ブロック６４Ｂにそれぞれ支持される。【００５７】
また、＋Ｘ側に位置する支持ブロック６４Ａ、６４Ｂには、Ｙ方向に沿ってＹガイド６８Ａ、６８Ｂがそれぞれ設けられており、＋Ｘ側に位置する可動子６２Ａ、６２ＢにはＹガイド６８Ａ、６８Ｂに嵌合してガイドされるＹガイドステージ（移動部材）６９Ａ、６９Ｂが設けられている。本実施形態では、このＹガイド６８Ａ、６８Ｂが固定体として上記第１実施形態のガイド軸２が適用され、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９Ｂが移動体として上記第１実施形態のテーブル３が適用される。【００５８】
すなわち、Ｙガイド６８Ａ、６８Ｂには、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９Ｂの移動方向に沿って、図２に示した複数のパイロット弁６及びエア供給路５等がそれぞれ設けられている。また、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９ＢのＹガイド６８Ａ、６８Ｂと対向する内周面には、エア溜まり７２がそれぞれ設けられるとともに、内部配管７４を介してエア溜まり７２に接続されたエアパッド７３が設けられている。【００５９】
露光エリアに位置するウエハステージのＹ軸方向の位置は、ステージ定盤４４の＋Ｙ側外部に設けられ移動鏡７７Ｙに対してレーザ光を照射するレーザ干渉計３２により計測され、Ｘ軸方向の位置はステージ定盤４４の−Ｘ側外部に設けられ移動鏡７７Ｘに対してレーザ光を照射するレーザ干渉計３３により計測される。また、アライメントエリアに位置するウエハステージのＹ軸方向の位置は、ステージ定盤４４の略中央に吊設され（図９参照）移動鏡７７Ｙに対してレーザ光を照射するレーザ干渉計３４により計測され、Ｘ軸方向の位置はステージ定盤４４の−Ｘ側外部に設けられ移動鏡７７Ｘに対してレーザ光を照射するレーザ干渉計３５により計測される。【００６０】
続いて、本実施形態に係る露光装置１０におけるステージ装置１２の動作について説明する。
露光動作やアライメント動作により、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２をＹ軸方向に移動させる際にはＹリニアモータ６５Ａ、６５ＢをＹガイド６８Ａ、６８Ｂに沿って長ストロークで駆動させる。また、ステップ移動等によりウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２をＸ軸方向に移動させる際には、Ｘリニアモータ６７Ａ、６７ＢをＸガイドステージ６１Ａ、６１Ｂに沿って長ストロークで駆動する。【００６１】
このウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＹ軸方向の移動は、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９ＢがＹガイド６８Ａ、６８Ｂにガイドされた状態で移動するが、このとき、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９Ｂのエア溜まり７２と対向する位置のパイロット弁６が開き、エア供給路５から供給されたエアが連絡路７５を介してエアパッド７３からＹガイド６８Ａ、６８Ｂに吹き出されることで、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９Ｂは、Ｙガイド６８Ａ、６８Ｂに対して非接触で支持される（図２参照）。
また、Ｙガイドステージ６９Ａ、６９Ｂが移動して、エア溜まり７２と対向しない位置のパイロット弁６は連絡路７５を閉塞するため、エア供給路５からのエア供給が停止され、エアパッド７３からの吹出しに寄与しないエアの無駄な消費が抑えられる。【００６２】
そして、この露光装置１０においては、例えばウエハステージＷＳＴ２上のウエハＷ２に対して投影光学系ＰＬを介して露光処理を行っている間に、ウエハステージＷＳＴ１においてウエハ交換が行われ、ウエハ交換に引き続いてアライメント動作およびオートフォーカス／オートレベリングが行われる。
２つのウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２上で並行して行われる露光シーケンスとウエハ交換・アライメントシーケンスとは、先に終了したウエハステージの方が待ち状態となり、両方の動作が終了した時点でウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が移動制御される。
そして、露光シーケンスが終了したウエハステージＷＳＴ２上のウエハＷ２は、ローディングポジションでウエハ交換がなされ、アライメントシーケンスが終了したウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１は、投影光学系ＰＬの下で露光シーケンスが行われる。【００６３】
このように、一方のウエハステージでウエハ交換とアライメント動作を実行する間に、他方のウエハステージで露光動作を実行することとし、両方の動作が終了した時点でお互いの動作を切り換えるようにすることで、スループットを大幅に向上させることが可能になる。【００６４】
本実施の形態では、Ｙガイド６８Ａ、６８Ｂ及びＹガイドステージ６９Ａ、６９Ｂが上述した軸受装置１で構成されているので、給気用のチューブ等を接続することなく所望の移動ストロークをもってウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２（すなわちウエハＷ１、Ｗ２）のＹ軸方向への移動をガイド（支持）することが可能になる。【００６５】
なお、本実施の形態では、上記の軸受装置１を、例えば固定体としてのＸガイドステージ６１Ａ、６１Ｂ及び移動体としての粗動ステージ６３Ａ、６３Ｂに適用することも可能である。この場合、Ｘリニアモータ６７Ａ、６７Ｂの固定子であるＸガイドステージ６１Ａ、６１Ｂにコイルユニットを設け、可動子である粗動ステージ６３Ａ、６３Ｂに磁石ユニットを設ける、いわゆるムービングマグネット型を採用することにより、移動体を完全にケーブル・チューブフリー（すなわち摩擦フリー）の構成とすることも可能になる。【００６６】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。【００６７】
例えば、上記実施の形態では、パッド部に供給する媒体としてエア及び真空を例示したが、この他にも、例えば工作機械等において潤滑油を供給しながらワークや工具を移動させる場合において、この潤滑油を媒体として供給することも可能である。
また、上記実施形態では、テーブル３等の移動体が１軸で移動する構成を例示したが、これに限定されるものではなく、平面に沿って移動する２軸の場合にも適用可能である。【００６８】
また、上記実施形態の基板Ｗとしては、半導体デバイス用の半導体ウエハのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。【００６９】
露光装置１０としては、レチクルＲと基板Ｗとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置の他に、レチクルＲと基板Ｗとを静止した状態でレチクルＲのパターンを露光し、基板Ｗを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置にも適用することができる。【００７０】
また、本発明は、上述したように、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）あるいは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。【００７１】
露光装置１０の種類としては、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置に限られず、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶表示素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。【００７２】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。【００７３】
投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、レチクルＲと基板Ｗとを密接させてレチクルＲのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。【００７４】
上記実施形態のようにステージ装置１２やレチクルステージＲＳＴにリニアモータを用いる場合においてエアベアリングを用いたエア浮上型に限られず、ローレンツ力を用いた磁気浮上型を用いてもよい。【００７５】
ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。また、レチクルステージＲＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。【００７６】
以上のように、本願実施形態の露光装置１０は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。【００７７】
半導体デバイスは、図１１に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置１０によりマスクのパターンを基板（ウエハ）に露光するウエハ処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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