(57)【要約】  本発明は、印刷機上現像が可能であり、且つ耐刷性及び画像再現性に優れた平版印刷版が容易に得られる平版印刷版の製版方法及びこれに用いられる画像露光装置を提供する。  支持体上に、機上現像可能な画像形成層を有する印刷版材料を、画像露光し、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、該画像露光に用いられる露光光が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光であり、該現像処理の前に７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光により加熱する工程を有することを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、機上現像可能な画像形成層を有する印刷版材料を、画像露光し、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、該画像露光に用いられる露光光が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光であり、該現像処理の前に７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光により加熱する工程を有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。
【請求項２】
前記加熱する工程の加熱が前記画像露光の前後０．１秒の間に行われることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項３】
前記加熱する工程の加熱が前記画像露光と同時に行われることを特徴とする請求の範囲第２項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項４】
前記加熱する工程がレーザ光により画像様に加熱する工程であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項５】
前記画像形成層が（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）結合材、（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び（Ｄ）３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有することを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項６】
前記結合材が水溶性高分子化合物であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第５項のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項７】
前記画像形成層が光熱変換剤を含有することを特徴とする請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項８】
前記画像露光が印刷機上で行われることを特徴とする請求の範囲第１項〜第７項のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。
【請求項９】
請求の範囲第１項〜第８項のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法に用いられる画像露光装置であって、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光で画像露光する手段及び７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光で露光する手段を有することを特徴とする画像露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピュータートゥプレートシステム（以下ＣＴＰという）に用いられるプロセスレスタイプ印刷版材料を用いた平版印刷版の製版方法及び画像露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術において、画像のデジタルデータをレーザ光源で直接感光性印刷版材料に記録するＣＴＰが開発され、実用化が進んでいる。【０００３】
これらのうち、比較的高い耐刷力を要求される印刷の分野においては、重合可能な化合物を含む画像記録層を有するネガ型の画像形成層をアルミニウム支持体上に有する印刷版材料を用いることが知られている。【０００４】
一方レーザでデジタルデータを記録するＣＴＰ用感光性平版印刷版として、例えば、特開平９−８０７５０号、特開平１０−１０１７１９号に記載の重合開始剤であるチタノセンと特定の色素を含有する光重合系画像形成層を有するもの等が知られている。しかし、これらの感光性平版印刷版は、光源として比較的長波長の可視光源を使用するため印刷版作製のための製版作業を、暗い赤灯のセーフライト下で行う必要があり、作業性が悪く、より明るい黄色灯下で取り扱いが可能であること（明室化）の要求があった。【０００５】
そして、高出力かつ小型の例えば青紫色レーザ等の短波長に発光波長を有するレーザが比較的容易に入手できるようになり、これらのレーザ波長に適した感光性平版印刷版を開発することにより明室化がはかられてきており、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域でのレーザ露光に対応する光重合型の感光性平版印刷版材料が提案されている（例えば特許文献１〜３参照。）
しかしながら、これらの印刷版材料を用いた製版方法においては、露光後、例えばアルカリ水溶液などの湿式での現像処理を必要とした。【０００６】
一方、ＣＴＰシステムに使用される印刷版材料として、特別な薬剤（例えばアルカリ、酸、溶媒など）を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理が行われ、画像露光後特に現像工程を必要としないプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。【０００７】
上記のプロセスレスタイプの印刷版材料としては、光硬化可能基及び酸性基を有するポリマーを含有する画像形成層を有する印刷版材料（特許文献４参照）、アルミニウム支持体上に印刷機上現像可能な画像形成層を有するヒートモード記録方式のプロセスレスタイプの印刷版材料（特許文献５参照）などが知られている。【０００８】
又、赤外線吸収剤、ラジカル発生剤、ラジカル重合性化合物、バインダーポリマーを含む画像記録層を設けてなるネガ型画像形成材料において、赤外線レーザで画像露光した後、該材料を６０〜１２０℃の温度範囲で１〜２０秒間加熱し、露光後の加熱処理を行うことで耐刷力を向上させることが知られている（特許文献６参照）。【０００９】
しかしながら、これらの印刷版材料を用いた製版方法では、印刷機上で現像可能でありプロセスレスＣＴＰ用の印刷版材料として用いることができ、比較的高精細な画像形成ができるものの、まだ、耐刷力が不充分な場合がある、小点からシャドウ部までの網点の再現性が充分でなく画像再現性が不充分な場合があるなどの問題点があった。
【特許文献１】特開２００３−２１９０１号公報
【特許文献２】特開２０００−１４７７６３号公報
【特許文献３】特開２００２−２０２５９８号公報
【特許文献４】特表平１１−５０４４３５号公報
【特許文献５】特開２００１−２７７７４２号公報
【特許文献６】特開２００１−１７５００６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、印刷機上現像が可能であり、且つ耐刷性及び画像再現性に優れた平版印刷版が容易に得られる平版印刷版の製版方法及びこれに用いられる画像露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。【００１２】
１.支持体上に、機上現像可能な画像形成層を有する印刷版材料を、画像露光し、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、該画像露光に用いられる露光光が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光であり、該現像処理の前に７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光により加熱する工程を有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。【００１３】
２.前記加熱する工程の加熱が前記画像露光の前後０．１秒の間に行われることを特徴とする前記１に記載の平版印刷版の製版方法。【００１４】
３．前記加熱する工程の加熱が前記画像露光と同時に行われることを特徴とする前記２に記載の平版印刷版の製版方法。【００１５】
４．前記加熱する工程がレーザ光により画像様に加熱する工程であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。【００１６】
５．前記画像形成層が（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）結合材、（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び（Ｄ）３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。【００１７】
６．前記結合材が水溶性高分子化合物であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。【００１８】
７．前記画像形成層が光熱変換剤を含有することを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。【００１９】
８．前記画像露光が印刷機上で行われることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法。【００２０】
９．前記１〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版の製版方法に用いられる画像露光装置であって、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光で画像露光する手段及び７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光で露光する手段を有することを特徴とする画像露光装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の構成により、印刷機上現像が可能であり、且つ耐刷性及び画像再現性に優れた平版印刷版が容易に得られる平版印刷版の製版方法及びこれに用いられる画像露光装置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の製版方法及び画像露光装置の一実施態様を示す側面模式図である。
【図２】本発明の製版方法の一実施態様を示す模式図である。
【図３】本発明の製版方法の一実施態様を示す模式図である。
【符号の説明】
【００２３】
１  印刷機
２  ３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光で画像露光する手段
３  ７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光で露光する手段
４、５  レーザ光発生装置
６  ミラー
７  ハーフミラー
８  画像露光装置
９  露光制御手段
１１、１２  インキ供給ローラ
１３  湿し水供給ローラ
１４  版胴
１５  印刷版材料
１６  ブランケット
１７  印刷用紙
１８  圧胴
２１、２２  レーザ光
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に本発明を詳細に説明する。【００２５】
本発明は、支持体上に、機上現像可能な画像形成層を有する印刷版材料を、画像露光し、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、この画像露光に用いられる露光光が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光であり、前記画像処理の前に７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光の露光により加熱する工程を有することを特徴とする。【００２６】
本発明においては、特に画像形成層が、（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）結合材、（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び（Ｄ）３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有する場合に有効であり、結合材として水溶性高分子化合物を用いる場合にとくに有効である。【００２７】
（画像露光）
本発明に係る画像露光は、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光により行われる。【００２８】
３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光とは、この波長範囲に発光波長範囲を有し、安定的に発信できるレーザにより発生したレーザ光であり、このレーザの発光素子としては例えば、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組合わせ（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組合わせ（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ）、その他にパルスレーザとしてＮ2レーザ（３３７ｎｍ、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ、パルス１０〜２５０ｍＪ）等が挙げられる。【００２９】
本発明に用いられるレーザとしては、ＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザ４００ｎｍ〜４１０ｎｍ）が波長特性の面から、好ましく用いることができる。【００３０】
使用するレーザの総出力は、３５ｍＷ〜２００ｍＷが好ましく、特に５０ｍＷ〜１８０ｍＷが好ましい。このレーザは単体で用いてもよいし、複数個を光ファイバーなどにより同軸化させたものでもよい。なお、複数個使用した場合のレーザ出力は合計した出力である。【００３１】
レーザの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザ露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザ光の移動を副走査とする。【００３２】
円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザビームを内側から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとｆθレンズ等を組み合わせてレーザ光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。【００３３】
画像露光は、画像露光用のレーザを発生するレーザ光発生装置を有する画像露光装置を用いて行うことができる。【００３４】
（加熱する工程）
本発明の製版方法においては印刷版材料は画像露光された後に平版印刷機上で現像処理が行われるが、この現像処理の前に７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光の露光により加熱する工程を有する。【００３５】
７００ｎｍ〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光とは、この波長範囲に発光波長範囲を有し、安定的に発信できるレーザにより発生したレーザ光であり、例えば、ガスレーザ、近赤外領域で発光する半導体レーザ等が挙げられる。【００３６】
本発明に係る加熱する工程の加熱は、上記波長範囲のレーザを照射することであり、この加熱に用いられるレーザとしては、半導体レーザが好ましく、例えば、ＡｌＧａＡｓ、ＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ、ＡｌＧａＩｎＰｓ半導体等で市販されている典型的な発光波長として７８０ｎｍ、８３０ｎｍ、８６０ｎｍ〜８８０ｎｍ、９４０ｎｍ〜９５０ｎｍ、１３１０ｎｍ〜１５００ｎｍ等のものが波長特性の面から、好ましく用いることができる。【００３７】
使用するレーザの総出力は、５ｍＷ〜５０００ｍＷであり、１００ｍＷ〜３０００ｍＷがさらに好ましい。【００３８】
このレーザは単体で用いてもよいし、複数個を光ファイバーなどにより同軸化させたものでもよい。なお、複数個使用した場合のレーザ出力は合計した出力である。【００３９】
加熱する工程の加熱は、現像処理の前のうち、特に画像露光の直前、直後、または画像露光と同時に行われることが好ましく、特に画像露光の前後０．１秒の間に行われることが好ましい。【００４０】
レーザによる画像露光は通常走査露光により画像露光されるが、本発明に係る画像露光の前後０．１秒の間とは、露光される露光部分において、画像露光が開始される時点より０．１秒前の時点から、画像露光が終了した時点から０．１秒後の時点までの間をいい、画像露光中も含む。【００４１】
本発明においては、画像露光から０．１秒以内に加熱することが好ましいが、特に画像露光と同時に加熱を行うのが好ましい。【００４２】
本発明において、加熱する工程の露光は、全面露光であっても画像様でもよいが、画像様であることが、画像再現性の面から特に好ましい。【００４３】
画像様に行うには、画像露光された部分に加熱する工程の露光がなされるように、加熱のための露光の露光位置、タイミングを調製することで可能となる。【００４４】
具体的には、例えば画像露光用レーザ光と加熱用レーザ光とをそれぞれ独立して走査、露光できるようにしておき、所望の時間だけずらしてドラム上を同じ経路で走査させ、同じ画像様信号を所望の時間だけずらして出力することで調整できる。【００４５】
なお、画像露光と加熱する工程の露光を同時に行う場合は、露光用レーザと加熱用レーザの走査と画像様信号の出力を全く同じにしてやればよい。【００４６】
加熱する工程に用いられる露光装置は、加熱する工程用のレーザ光を発生し、露光する露光手段を有する露光装置を用いて行うことができる。【００４７】
本発明の製版方法においては、１つの画像露光装置内に、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光で画像露光する手段及び７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光で露光する手段を有する画像露光装置を用いることが好ましい。【００４８】
本発明の製版方法及び画像露光装置の実施態様の一例を図１に示す。【００４９】
印刷機１内に設置されている版胴１４に印刷版材料１５が装着されている。画像露光装置８は３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光で画像露光する手段２及び加熱する工程用の７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光で露光する手段３を有している。【００５０】
画像露光する手段２はレーザ光発生装置４及びハーフミラー７を有しており、加熱する工程用の露光する手段３はレーザ発生装置５及びミラー６を有している。【００５１】
版胴１４上に装着されている印刷版材料１５は、版胴と共に回転しつつ、露光制御手段９により制御された条件でレーザ発生装置４で発生したレーザ光２１により画像露光が行われ、レーザ発生装置５で発生したレーザ光２２により加熱される。【００５２】
画像露光装置８は露光制御手段９を有しており、露光制御手段９は、画像露光情報のデータを保持し、この画像露光情報のデータ、レーザ発生装置の情報に関するデータ、版胴の回転数など印刷機に関する情報のデータなどのデータから、露光タイミング、露光位置、露光強度、版胴の回転数などの露光条件、加熱条件を制御する。【００５３】
本発明において、画像露光と加熱する工程の露光を同時に行うには、例えば、図１に示すように、版胴１４上に装着された印刷版材料１５にハーフミラー７を介して、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲のレーザ光と、７００〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光とが、同軸になるように配置された装置を用いて行うことができる。【００５４】
図２に、画像露光の後加熱する場合の例を示す。図３に、画像露光前に加熱する場合の例を示す。図２及び図３において、露光制御手段９によりレーザ発生装置４および５で発生するレーザ光の露光タイミングが制御されて画像様に加熱が行われる。【００５５】
（画像形成層）
本発明に係る機上現像可能な画像形成層とは、画像露光後湿し水、または湿し水と印刷インキにより、印刷時に非画像部となる部分の画像形成層が除去されて、印刷可能な画像が形成され得る画像形成層のことをいう。【００５６】
本発明においては、画像形成層が（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）結合材、（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び（Ｄ）３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有する場合に特に有効である。【００５７】
また、結合材が水溶性高分子化合物である場合に特に有効である。【００５８】
（（Ａ）光重合開始剤）
本発明に係る光重合開始剤は、画像露光により重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物の重合を開始しうるものであり、好ましく使用できるものとして、チタノセン化合物、モノアルキルトリアリールボレート化合物、鉄アレーン錯体化合物、ポリハロゲン化合物が挙げられる。これらの中でも、明るい黄色灯下での取り扱いの観点から鉄アレーン錯体化合物、ポリハロゲン化合物がもっとも好ましい。【００５９】
チタノセン化合物としては、特開昭６３−４１４８３、特開平２−２９１に記載される化合物等が挙げられるが、更に好ましい具体例としては、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ジ−クロライド、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−フェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７２７Ｌ：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７８４：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（２−５−ジメチルピリ−１−イル）フェニル）チタニウム等が挙げられる。【００６０】
モノアルキルトリアリールボレート化合物としては、特開昭６２−１５０２４２、特開昭６２−１４３０４４に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ｎ−ブチル−トリナフタレン−１−イル−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ｎ−ブチル−トリフェニル−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ｎ−ブチル−トリ−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ｎ−ヘキシル−トリ−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ｎ−ヘキシル−トリ−（３−フルオロフェニル）−ボレート等が挙げられる。【００６１】
鉄アレーン錯体化合物としては、特開昭５９−２１９３０７に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、η−ベンゼン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−クメン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−フルオレン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ナフタレン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−キシレン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ベンゼン−（η−シクロペンタジエニル）鉄テトラフルオロボレート等が挙げられる。【００６２】
ポリハロゲン化合物は、トリハロゲンメチル基、ジハロゲンメチル基又はジハロゲンメチレン基を有する化合物であり、例えば、下記一般式（１）で表されるハロゲン化合物、上記基がオキサジアゾール環に置換した化合物などが挙げられる。【００６３】
一般式（１）    Ｒ1−ＣＹ2−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ2
式中、Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノスルホニル基またはシアノ基を表す。Ｒ2は一価の置換基を表す。Ｒ1とＲ2が結合して環を形成してもかまわない。Ｙはハロゲン原子を表す。【００６４】
一般式（１）で表される構造の具体的として、下記のＢＲ１からＢＲ６６の化合物が挙げられる。尚、これらの化合物はハロゲン原子を臭素から塩素に置き換えた化合物も本発明においては好適に用いることができる。【００６５】
【化１】
2006098100.tif 000002
【００６６】
【化２】
2006098100.tif 000003
【００６７】
【化３】
2006098100.tif 000004
【００６８】
【化４】
2006098100.tif 000005
【００６９】
【化５】
2006098100.tif 000006
【００７０】
【化６】
2006098100.tif 000007
【００７１】
【化７】
2006098100.tif 000008
【００７２】
【化８】
2006098100.tif 000009
【００７３】
その他に任意の光重合開始剤の併用が可能である。例えばＪ．コーサー（Ｊ．Ｋｏｓａｒ）著「ライト・センシテイブ・システムズ」第５章に記載されるようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許１，４５９，５６３号に開示されている。【００７４】
即ち、併用が可能な光重合開始剤としては、次のようなものを使用することができる。【００７５】
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−ｉ−プロピルエーテル、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体；ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；２−クロロチオキサントン、２−ｉ−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体；Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体；α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物の他、特公昭５９−１２８１号、同６１−９６２１号ならびに特開昭６０−６０１０４号記載のトリアジン誘導体；特開昭５９−１５０４号、同６１−２４３８０７号記載の有機過酸化物；特公昭４３−２３６８４号、同４４−６４１３号、同４４−６４１３号、同４７−１６０４号ならびに米国特許３，５６７，４５３号記載のジアゾニウム化合物；米国特許２，８４８，３２８号、同２，８５２，３７９号ならびに同２，９４０，８５３号記載の有機アジド化合物；特公昭３６−２２０６２ｂ号、同３７−１３１０９号、同３８−１８０１５号ならびに同４５−９６１０号記載のｏ−キノンジアジド類；特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号ならびに「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」１０巻，１３０７頁（１９７７年）記載の各種オニウム化合物；特開昭５９−１４２２０５号記載のアゾ化合物；特開平１−５４４４０号、ヨーロッパ特許１０９，８５１号、同１２６，７１２号ならびに「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」３０巻，１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体；特願平４−５６８３１号及び同４−８９５３５号記載の（オキソ）スルホニウム有機硼素錯体；「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗ）」８４巻，８５〜２７７頁（１９８８年）ならびに特開平２−１８２７０１号記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体；特開平３−２０９４７７号記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；四臭化炭素、特開昭５９−１０７３４４号記載の有機ハロゲン化合物等。【００７６】
本発明に係る光重合開始剤の含有量は重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物に対して、０．１質量％〜２０質量％が好ましく０．５質量％〜１５質量％が特に好ましい。【００７７】
（（Ｂ）結合材）
本発明に係る結合材は、（Ａ）光重合開始剤、（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び（Ｄ）色素などの画像形成層の成分を担持し得るものであり、高分子結合材が好ましく用いられる。【００７８】
高分子結合材としては、特に水溶性高分子化合物が好ましく用いられ、
水溶性高分子化合物とは、水に対する溶解度（２５℃の水１００に溶解するｇ数）が０．１以上であり、分子量（質量平均）が５００以上の化合物をいう。【００７９】
本発明に係る水溶性高分子化合物としては、例えば種々の鹸化度を有するポリビニルアルコール、ヒドロキシスチレンの重合体やその共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルピロリドンやビニルピロリドンの共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸アミド、コーンスターチ、マンナン、ペクチン、寒天、デキストラン、プルラン、にかわ、ヒドロキシメチルセルロース、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸ナトリウム、等が挙げられる。【００８０】
水溶性高分子化合物としては、特に非イオン性親水性基を有する高分子化合物が好ましく用いられる。【００８１】
分子量としては耐刷性、画像再現性の面から重量平均分子量が１，０００〜１００，０００の範囲が好ましく特に１，０００〜５０，０００の範囲が好ましい。【００８２】
本発明に係る感光層は結合材として、水溶性高分子化合物以外の化合物を含んでもよいが、結合材の内、水溶性高分子化合物の占める割合は、全結合材に対して、８０〜１００質量％が好ましく、９０〜１００％が特に好ましい。【００８３】
本発明に係る結合材の含有量としては、感光層に対して、１０質量％〜９５質量％が好ましく、特に３０質量％〜９０質量％の範囲が好ましい。【００８４】
併用できる結合材としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等が挙げられる。【００８５】
（非イオン性親水性基を有する高分子化合物）
上記の非イオン性親水性基を有する高分子化合物の非イオン性親水性基とは、水中でイオン化することなく親水性を示す基あるいは結合であり、例えばアルコール性水酸基、芳香族性水酸基、酸アミド基、スルホンアミド基、チオール基、ピロリドン基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、糖残基などが挙げられる。【００８６】
非イオン性親水性基を有する高分子化合物としては、現像性の面から、特に非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物が好ましい。【００８７】
また、上記非イオン性親水性基を含有する化合物は現像性、画像再現性の面から重量平均分子量が１，０００〜５０，０００のオリゴマーまたは、ポリマーが好ましく、例えば、前記した非イオン性親水性基を側鎖に有する不飽和モノマーを１種又は２種以上重合したポリマーやポリビニルアルコール系ポリマー、多糖類であるセルロース系ポリマー、グルコース系ポリマーがあげられる。【００８８】
例えば、アミド基を側鎖に有する不飽和モノマーとしては、無置換又は置換の（メタ）アクリルアミド、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸等の二塩基酸のアミド化モノマー、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。【００８９】
無置換又は置換（メタ）アクリルアミドのより具体例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、スルホン酸プロピル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン等が挙げられる。【００９０】
また、前記イタコン酸等の二塩基酸のアミド化モノマーの場合は、一方のカルボキシル基がアミド化されたモノアミド、両方のカルボキシル基がアミド化されたジアミド、更に一方のカルボキシル基がアミド化され、他方のカルボキシル基がエステル化されたアミドエステルであってもよい。【００９１】
また、例えば水酸基を有する不飽和モノマーとしては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、及び、これらの（メタ）アクリレートにエチレンオキシド、プロピレンオキシドを付加したモノマー、メチロール（メタ）アクリルアミドや該メチロール（メタ）アクリルアミドとメチルアルコールやブチルアルコールとの縮合物であるメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。【００９２】
前記「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリロイル」等の記載はそれぞれアクリルまたはメタクリル、アクリレートまたはメタアクリレート、アクリロイルまたはメタアクリロイルを意味する。【００９３】
ポリビニルアルコール系ポリマーを更に詳細に説明すると、酢酸ビニルやプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニルモノマーのホモポリマーやコポリマーを完全又は部分加水分解して得られるポリマー、及びこのポリマーの部分ホルマール化、アセタール化、ブチラール化ポリマー等が挙げられる。【００９４】
非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物は、架橋剤と反応する架橋性官能基を有していてもよい。架橋性官能基の具体例としては、用いる架橋剤の種類により異なるが、非イオン性のものが好ましく、例えば、水酸基、イソシアナート基、グリシジル基、オキサゾリン基等が挙げられる。【００９５】
これらの架橋性官能基を導入するには、これらの官能基を有する不飽和モノマー、例えば前記した水酸基を有する不飽和モノマー、グリシジル基を有する不飽和モノマーとしてグリシジル（メタ）アクリレート等を他の（メタ）アクリレートモノマーと共重合すればよい。【００９６】
非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物は、前記非イオン性親水性基を有する不飽和モノマー、架橋性官能基を有する不飽和モノマー以外に、本発明の効果をさらに向上させるために、その他の共重合可能な不飽和モノマーを共重合することもできる。【００９７】
その他の共重合可能な不飽和モノマーとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、メトキシ（Ｃ１〜Ｃ５０）エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソポロニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、α−オレフィン（Ｃ４〜Ｃ３０）挙げられる。【００９８】
非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物を架橋するのに用いられる架橋剤として、「架橋剤ハンドブック」（金子東助、山下晋三編、大成社、昭和５６年）に記載の反応から架橋剤と官能基の組み合わせを選ぶことができる。【００９９】
例えば、架橋剤として非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物中の架橋性官能基である水酸基、グリシジル基、場合によってはアミド基と反応する、公知の多価アルコール化合物類、多価カルボン酸化合物やその無水物類、多価グリシジル化合物（エポキシ樹脂）類、多価アミン化合物類、ポリアミド樹脂類、多価イソシアナート化合物類（ブロックイソシアナート類を含む）、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、グリオキザール等が挙げられる。【０１００】
前記した架橋剤の中でも、現像性、印刷適性などの面から公知の種々の多価グリシジル化合物（エポキシ樹脂）、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、多価アミン化合物やポリアミド樹脂等のエポキシ樹脂用の硬化剤やグリオキザールが好ましい。【０１０１】
アミノ樹脂としては、公知のメラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリル樹脂等や、これら樹脂の変性樹脂、例えばカルボキシ変性メラミン樹脂等が挙げられる。また、架橋反応を促進するために、前記したグリシジル化合物を用いる際には３級アミン類を、アミノ樹脂を用いる場合はパラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、塩化アンモニウム等の酸性化合物を併用しても良い。感光性樹脂組成物を温風過熱、熱ローラー加熱、レーザ加熱などをすることで、これらの架橋剤が反応して非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物と架橋する。【０１０２】
非イオン性親水性基を３０質量％以上含有する化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。
１．ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体（６０／４０）重量平均分子量３４０００
商品名：ルビスコール６４、ビーエーエスエフジャパン社製、ＶＰ／ＶＡ＝６０質量％／４０質量％共重合体
２．ビニルピロリドン−１・ブテン共重合体（９０／１０）重量平均分子量１７０００
商品名：ＧＡＮＥＸ  Ｐ−９０４  ＬＣ  ＩＳＰｃｈｅｍｉｃａｌｓ
３．ビニルピロリドン−グリシジルメタクリレート共重合体（７０／３０）重量平均分子量１００００
４．ポリアクリルアミド平均分子量１７００
商品名：三井化学アクアポリマー（株）アコフロックＮ１０４
（（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物）
本発明に係る重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物は、分子内に、重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、一般的なラジカル重合性のモノマー類、紫外線硬化樹脂に一般的に用いられる分子内に付加重合可能なエチレン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー類を用いることができる。【０１０３】
これらの重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物に特に限定は無いが、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の２官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。【０１０４】
（光で酸化し得る基を含む重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物）
本発明の画像形成層に用いられる重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物は、少なくとも一つの、光で酸化し得る基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物であることが好ましい。【０１０５】
特に好ましいのは、少なくとも１つの光酸化性基と少なくとも１つのウレタン基とを、分子中に含む、付加重合性化合物である。適当な光酸化性基としては、特に、複素環の構成員となっていてもよいチオ基、チオエーテル基、ウレイド基、アミノ基、およびエノール基である。それらの基の例としては、トリエタノールアミノ基、トリフェニルアミノ基、チオウレイド基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、アセチルアセトニル残基、Ｎ−フェニルグリシン残基およびアスコルビン酸残基である、好ましいものは、３級アミノ基、チオエーテル基を含む付加重合性化合物である。【０１０６】
光酸化性基を含む化合物の例は、ヨーロッパ特許出願公開第２８７，８１８号、同第３５３，３８９号および同第３６４，７３５号各明細書に記載されている。そこに記載されている化合物のなかで好ましいものは、第３アミノ基に加えて、ウレイド基および（または）ウレタン基をも含むものである。【０１０７】
また、少なくとも１つの光酸化性基と少なくとも１つのウレタン基を有する化合物としては、特開昭６３−２６０９０９号公報、特許２６６９８４９号公報、特開平６−３５１８９号公報、特開２００１−１２５２５５に記載のものが挙げられる。【０１０８】
さらに本発明では、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物を使用することが好ましい。【０１０９】
ここで言う、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコールとしては、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−ｔｅｒｔ．−ブチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシエチル）アニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−２−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン、ｐ−トリルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−２−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アニリン、アリルジエタノールアミン、３−（ジメチルアミノ）−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオ−ル、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）アミノ−２，３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ−ジ（ｉｓｏ−プロピル）アミノ−２，３−プロパンジオール、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）−１，２−プロパンジオ−ル等が挙げられるが、これに限定されない。【０１１０】
ジイソシアネート化合物としては、ブタン−１，４−ジイソシアネート、ヘキサン−１，６−ジイソシアネート、２−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、オクタン−１，８−ジイソシアネート、１，３−ジイソシアナートメチル−シクロヘキサノン、２，２，４−トリメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，２−フェニレンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、トリレン−２，４−ジイソシアネート、トリレン−２，５−ジイソシアネート、トリレン−２，６−ジイソシアネート、１，３−ジ（イソシアナートメチル）ベンゼン、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン等が挙げられるが、これに限定されない。分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物としては、特に限定されないが、好ましくは、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジメタクリレート、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート等が挙げられる。【０１１１】
これらの反応は、通常のジオール化合物、ジイソシアネート化合物、ヒドロキシル基含有アクリレート化合物の反応で、ウレタンアクリレートを合成する方法と同様に行うことが出来る。【０１１２】
また、これらの分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物において具体例を以下に示す。【０１１３】
Ｍ−１：トリエタノールアミン（１モル）、ヘキサン−１，６−ジイソシアネート（３モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−２：トリエタノールアミン（１モル）、イソホロンジイソシアネート（３モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−３：Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン（１モル）、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−４：Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン（１モル）、１，３−ジ（イソシアナートメチル）ベンゼン（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−５：Ｎ−メチルジエタノールアミン（１モル）、トリレン−２，４−ジイソシアネート（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジメタクリレート（２モル）の反応生成物
（その他の重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物）
重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物として、プレポリマーも上記同様に使用することができる。【０１１４】
プレポリマーとしては、後述する様な化合物等が挙げることができ、また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与したプレポリマーも好適に使用できる。【０１１５】
これらプレポリマーは、１種又は２種以上を併用してもよいし、上述の単量体及び／又はオリゴマーと混合して用いてもよい。【０１１６】
プレポリマーとしては、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等の多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに（メタ）アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類；例えば、ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸のようにエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類；例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、１，２−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したウレタンアクリレート；例えば、ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類；その他、油変性アルキッド樹脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類；等のプレポリマーが挙げられる。【０１１７】
また、本発明に係る重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物として、ホスファゼンモノマー・トリエチレングリコール・イソシアヌール酸ＥＯ（エチレンオキシド）変性ジアクリレート、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性・ウレタン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及びプレポリマーを挙げることができる。【０１１８】
この他に特開昭５８−２１２９９４号公報、同６１−６６４９号公報、同６２−４６６８８号公報、同６２−４８５８９号公報、同６２−１７３２９５号公報、同６２−１８７０９２号公報、同６３−６７１８９号公報、特開平１−２４４８９１号公報等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「１１２９０の化学商品」化学工業日報社ｐ．２８６〜ｐ．２９４に記載の化合物、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」高分子刊行会ｐ．１１〜６５に記載の化合物なども本発明においては用いることができる。【０１１９】
本発明に係る重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物の画像形成層中の含有量としては、画像形成層に対して、１．０〜８０．０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは３．０〜７０．０質量％の範囲である。【０１２０】
（（Ｄ）３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する色素）
３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する色素としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物、特開平８−１２９２５８号公報のＢ−１からＢ−２２のクマリン誘導体、特開２００３−２１９０１号公報のＤ−１からＤ−３２のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０６号公報の１から２１のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０７号公報の１から４０のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０８号公報の１から３４のクマリン誘導体、特開２００２−３６３２０９号公報の１から５６のクマリン誘導体等が好ましく使用可能である。以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に挙げる。【０１２１】
【化９】
2006098100.tif 000010
【０１２２】
【化１０】
2006098100.tif 000011
【０１２３】
【化１１】
2006098100.tif 000012
【０１２４】
【化１２】
2006098100.tif 000013
【０１２５】
【化１３】
2006098100.tif 000014
【０１２６】
さらに、他の増感色素としては、例えば特開２０００−９８６０５号、特開２０００−１４７７６３号、特開２０００−２０６６９０号、特開２０００−２５８９１０号、特開２０００−３０９７２４号、特開２００１−０４２５２４号、特開２００２−２０２５９８号、特開２０００−２２１７９０号、特開２００３−２０６３０７号公報、特開２００３−２２１５１７号公報に記載の増感色素等が挙げられる。【０１２７】
（光熱変換剤）
本発明に係る画像形成層は、耐刷性の面から光熱変換剤を含むことが好ましい。【０１２８】
光熱変換剤は、７００ｎｍ〜１５００ｎｍの波長範囲のレーザ光の露光光により熱を発生するものであり、光熱変換剤としては、下記の光変換色素、その他の光熱変換剤が用いられる。【０１２９】
［光熱変換色素］
光熱変換色素としては下記のようなものを用いることができる。【０１３０】
一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭６３−１３９１９１号、特開昭６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８３号、特開平１−２８０７５０号、特開平１−２９３３４２号、特開平２−２０７４号、特開平３−２６５９３号、特開平３−３０９９１号、特開平３−３４８９１号、特開平３−３６０９３号、特開平３−３６０９４号、特開平３−３６０９５号、特開平３−４２２８１号、特開平３−９７５８９号、特開平３−１０３４７６号等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。【０１３１】
また、特開平１１−２４０２７０号、特開平１１−２６５０６２号、特開２０００−３０９１７４号、特開２００２−４９１４７号、特開２００１−１６２９６５号、特開２００２−１４４７５０号、特開２００１−２１９６６７号に記載の化合物も好ましく用いることができる。【０１３２】
［その他の光熱変換剤］
上記光熱変換色素に加えて、それ以外の光熱変換剤を併用することも可能である。【０１３３】
好ましく用いられる光熱変換剤としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。【０１３４】
カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度（ｄ５０）は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。【０１３５】
グラファイトとしては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を使用することができる。【０１３６】
金属としては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子（Ａｇ、Ａｕ等）が好ましい。【０１３７】
金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材、または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。【０１３８】
前者としては、黒色酸化鉄（Ｆｅ3Ｏ4）や、二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。【０１３９】
後者としては、例えばＳｂをドープしたＳｎＯ2（ＡＴＯ）、Ｓｎを添加したＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）、ＴｉＯ2、ＴｉＯ2を還元したＴｉＯ（酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック）などが挙げられる。【０１４０】
（各種添加剤）
本発明に係る画像形成層には、上記した成分の他に、感光性平版印刷版材料の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合化合物の不要な重合を阻止するために、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物およびその他の重合防止剤を添加してもよい。【０１４１】
ヒンダードフェノール系化合物の例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス−（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリレート基を有する２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレートの等が挙げられる。【０１４２】
ヒンダードアミン系化合物の例としては、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルー４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。【０１４３】
その他の重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体等のヒンダードアミン類等があげられる。【０１４４】
重合防止剤の添加量は、画像形成層の質量に対して、約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で光重合性画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。【０１４５】
本発明に係る画像形成層には、上記した成分の他に、着色剤も使用することができ、着色剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」，日本顔料技術協会編（誠文堂新光社）、カラーインデックス便覧等に述べられているものが挙げられる。【０１４６】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料（二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等）及び有機顔料（アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等）が挙げられる。【０１４７】
これらの中でも、使用する露光レーザに対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザ波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が０．０５以下であることが好ましい。【０１４８】
又、顔料の添加量としては、画像形成層の固形分に対し０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜５質量％である。【０１４９】
また、画像形成層は支持体への接着性を向上させるために可塑剤を含有することができる。【０１５０】
可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルエチルグリコール、ジメチルイソフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリンなどを挙げることができる。可塑剤の添加量は、上記塗布組成物の全固形分に対し好ましくは約０〜３質量％であり、より好ましくは０．１〜２質量％である。【０１５１】
また、画像形成層を塗設する場合必要な界面活性剤などの塗布性改良剤を、本発明の性能を損わない範囲で、含有することができる。その中でも好ましいのはフッ素系界面活性剤である。【０１５２】
また、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は画像形成層の全固形分の１０質量％以下が好ましい。【０１５３】
（保護層）
本発明に係る画像形成層層の上側には、保護層を設けることが好ましい。保護層（酸素遮断層）は、平版印刷における湿し水への溶解性が高いことが好ましい。【０１５４】
本発明においては、耐刷性、画像再現性の面から保護層が上記の光熱変換剤を含む態様も好ましい態様である。【０１５５】
光熱変換剤としては、前述の光熱変換剤を用いることができる。【０１５６】
光熱変換剤の保護層中での含有量は、０．５質量％〜９０質量％が好ましく、特に１質量％〜７０質量％が好ましい。【０１５７】
保護層を構成する素材として好ましくは、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等が挙げられる。これらの化合物を単独又は２種以上併用し保護層塗布組成物とし用いることができる。特に好ましい化合物としてはポリビニルアルコールが挙げられる。【０１５８】
保護層塗布組成物を調製するには、上記の素材を適当な溶剤に溶解して塗布液とすることができ、この塗布液を本発明に係る光重合型画像形成層上に塗布し、乾燥して保護層を形成することができる。保護層の厚みは０．１〜５．０μｍが好ましく、特に好ましくは０．５〜３．０μｍである。保護層には、更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有することができる。【０１５９】
保護層の塗布方法としても、上記画像形成層用塗布液の塗布において挙げた公知の塗布方法を好適に用いることができる。保護層の乾燥温度は、画像形成層の乾燥温度よりも低い方が好ましく、好ましくは画像形成層乾燥温度との差が１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、上限はせいぜい５０℃程度である。【０１６０】
また、保護層の乾燥温度が、画像形成層が含有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）より低いことが好ましい。保護層の乾燥温度と、画像形成層が含有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）の差は２０℃以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃以上であり、上限はせいぜい６０℃程度である。【０１６１】
（塗布）
本発明に係る画像形成層は、画像形成層用の塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥して得られる。【０１６２】
塗布する際に使用する溶剤としては、例えば、アルコール類：ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，５−ペンタンジオール等；エーテル類：プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等；ケトン類、アルデヒド類：ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等；エステル類：乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等；が好ましく挙げられる。【０１６３】
塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。【０１６４】
（支持体）
本発明に係る支持体は画像形成層を担持可能な板状体またはフィルム体であり、画像形成層が設けられる側に親水性表面を有するのが好ましい。【０１６５】
本発明の支持体として、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムに前述の金属薄膜をラミネートまたは蒸着したもの等が挙げられる。【０１６６】
また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水性層を有する支持体化も使用できるが、本発明においては、特に耐刷性の面からアルミニウム支持体が好ましく使用され、後述する粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム支持体が好ましく用いられる。【０１６７】
アルミニウム支持体の場合、純アルミニウムまたはアルミニウム合金が用いられる。【０１６８】
支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。又アルミニウム支持体は、保水性付与のため、表面を粗面化したものが用いられる。【０１６９】
粗面化（砂目立て処理）するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。【０１７０】
用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。【０１７１】
電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。【０１７２】
上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。【０１７３】
機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。【０１７４】
粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。【０１７５】
陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。【０１７６】
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えばホウ酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平５−３０４３５８号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。【０１７７】
（製版方法）
（機上現像方法）
本発明の製版方法においては、画像露光された平版印刷版材料は、画像露光後、特に湿式処理工程を経ることなく、印刷機上で湿し水及び／または印刷インクにより現像処理が行われ、印刷のための画像が形成され、引き続き印刷が行われる。【０１７８】
画像露光は、平版印刷版材料を印刷機に装着する前に行ってもよいし、印刷機に装着して画像露光を行い、引き続き機上現像を行ってもよいが、本発明においては、画像露光が印刷機上で行われることが、画像再現性の面から特に好ましい。【０１７９】
本発明に係る平版印刷機上で現像処理を行うとは、上記のように印刷機上で印刷準備の段階で、平版印刷機の湿し水及び／または印刷インキを用いて非画像部を除去することであり、いわゆる現像工程を印刷装置上で行うことである。【０１８０】
印刷機上での画像形成層の非画像部（未露光部）の除去は、版胴を回転させながら水付けローラーやインクローラーを接触させて行うことができるが、下記に挙げる例のような、もしくは、それ以外の種々のシークエンスによって行うことができる。また、その際には、印刷時に必要な湿し水水量に対して、水量を増加させたり、減少させたりといった水量調整を行ってもよく、水量調整を多段階に分けて、もしくは、無段階に変化させて行ってもよい。（１）印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転回転させ、次いで、インクローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。（２）印刷開始のシークエンスとして、インクローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転回転させ、次いで、水付けローラーを接触させて版胴を１回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。（３）印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーとインクローラーとを実質的に同時に接触させて版胴を１回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。【０１８１】
印刷機としては、一般に公知の平版オフセット印刷機が使用される。【０１８２】
（湿し水）
湿し水としては、一般に平版印刷版の印刷に用いられている湿し水を適用することができる。水のみでもよいし、添加剤を含んでもよい。【０１８３】
湿し水としては、従来使用されてきたイソプロパノール、を含有しない湿し水が好ましく用いられる。この場合含有しないとは、含有量が０．５％未満のものをいう。【０１８４】
又湿し水としては、界面活性剤を含む水溶液、が好ましく用いられる。【０１８５】
湿し水の水としては、水道水、井戸水等一般に得られる水が適用できる。【０１８６】
湿し水は、微量成分として、酸類、例えば、りん酸またはその塩、クエン酸またはその塩、硝酸またはその塩、酢酸またはその塩、さらに具体的には、リン酸、リン酸アンモニウム、リン酸ナトリム等、クエン酸、クエン酸アンモニム、クエン酸ナトリウム、酢酸、酢酸アンモニウム、酢酸ナトリウム等、また、水溶性高分子化合物として、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、等を含んでもより。【０１８７】
これらの微量成分の含量は、０．１質量％未満、好ましくは０．０５質量％以下である。【０１８８】
またさらにグリコール系化合物、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル等も含むことができる、これらグリコール系化合物の含量も少量が好ましく、０．１質量％未満、好ましくは０．０５質量％以下である。【０１８９】
また、界面活性剤を含んでもよい。【０１９０】
界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、またはこれら界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、またはこれらの混合した界面活性剤が好ましく用いられる。【０１９１】
これら界面活性剤の使用は単独で用いても、２種以上を併用しても良い。湿し水中の界面活性剤の量は０．０１質量％以下がこのましく、さらに好ましくは０．０５質量％以下である。【０１９２】
（印刷）
本発明の製版方法により作製された平版印刷版は、平版印刷に供せられるが、印刷機としては上記のように湿し水を用いる一般的な平版オフセット印刷機を用いることができる。【０１９３】
印刷に用いる印刷用紙、印刷インキ、湿し水等特に限定されない。【０１９４】
近年印刷業界においても環境保全の面から、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に有効である。【０１９５】
これらのインキとしては大豆油を含むインキが好ましい。【０１９６】
大豆油を含むインキは、通常、有機・無機顔料、バインダー樹脂、大豆油、高沸点石油系溶剤を混合したものであり、その他に補助剤として可塑剤、安定剤、乾燥剤、増粘剤、分散剤、充填剤などを含んでいても良い。【０１９７】
平版印刷に、好ましく用いられるインキとしては、アメリカ大豆協会（ＡＳＡ）がソイシール認定制度を設けて認定したインキが挙げられる。【０１９８】
大豆油としては、公知の大豆油を用いることがで、日本農林規格で認定した食用大豆油（精製大豆油）が特に好ましく用いられる。【０１９９】
大豆油を含むインキは、各インキメーカーより販売されており容易に入手することができ、例えば、ナチュラリス１００（Ｎａｔｕｒａｌｉｔｈ）枚葉インキ、ウエブワールドアドバン（ＷｅｂＷｏｒｌｄＡｄｖａｎ）オフ輪インキ、＜以上、大日本インキ化学工業（株）＞、ＴＫハイユニティＳＯＹ枚葉インキ、ＴＫハイエコーＳＯＹ枚葉インキ、ＣＫウインエコーＳＯＹ枚葉インキ、ＷＤスーパーレオエコーＳＯＹオフ輪インキ、ＷＤレオエコーＳＯＹオフ輪インキ、ＳＣＲＳＯＹビジネスフォームｉｎｋｉ＜以上、東洋インキ（株）＞、ソイセルボ枚葉インキ＜東京インキ（株）＞等が挙げられる。
【実施例】
【０２００】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。【０２０１】
（実施例１〜４、比較例１）
〈支持体の作製〉
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０，調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、１分間の脱脂処理を行った後、水洗した。【０２０２】
この脱脂アルミニウム板を、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中に１分間浸漬して中和した後、水洗した。【０２０３】
次いで、このアルミニウム板を、塩酸濃度１１ｇ／Ｌ、温度２５℃、周波数５０Ｈｚ、５０Ａ／ｄｍ2の交流電流において２０秒間電解粗面化処理を行った。電解粗面化を行った後、水洗し、５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液中で１０秒間のデスマット処理を行い、水洗し、５０℃に保たれた３０％硫酸中で３０秒間中和処理を行い、水洗した。【０２０４】
次いで、３０％硫酸溶液中で、２５℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ2、電圧２５Ｖの条件下に３０秒間陽極酸化処理を行い、水洗した。【０２０５】
更に、０．４４％のポリビニルホスホン酸水溶液に、７５℃、３０秒間ディップ処理を行い、次いで蒸留水で水洗し、２５℃の冷風で乾燥し、光重合性感光性平版印刷版用支持体を得た。この時、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．５０μｍであった。【０２０６】
〈感光性印刷版材料の作製〉
上記支持体上に、下記組成の光重合性画像形成層塗工液１を乾燥時１．２ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥し、光重合性画像形成層塗布試料を得た。【０２０７】
（光重合性画像形成層塗工液１）
分子内に三級アミノ基を含有する重合可能なエチレン性二重結合含有単量体
Ｍ−１（前記）                                            ２５．０部
その他の重合可能なエチレン性二重結合含有単量体（ＮＫエステル４Ｇ（新中村化学社製）ポリエチレングリコールジメタクリレート）                １５．０部
光重合開始剤η−クメン−（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェート                                                          ３．０部
光重合開始剤（ＢＲ４３）                                    １．５部
分光増感色素Ｄ７（前記）                                    ４．０部
水溶性高分子化合物−１（下記）                            ４０．０部
Ｎ−フェニルグリシンベンジルエステル                        ４．０部
フタロシアニン顔料（ＭＨＩ４５４：御国色素社製）            ６．０部
赤外色素１                                              表１記載の量
２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジ
ル）−４−メチルフェニルアクリレート（スミライザーＧＳ：住友３Ｍ社製）
０．５部
弗素系界面活性剤  （Ｆ−１７８Ｋ；大日本インキ社製）        ０．５部
メチルエチルケトン                                        １０．０部
シクロヘキサノン                    上記と合計して１０００部となる量
水溶性高分子化合物−１：ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体（６０／４０）重量平均分子量３４０００（ルビスコール６４、ビーエーエスエフジャパン社製、ＶＰ／ＶＡ＝６０質量％／４０質量％共重合体）
上記光重合画像形成層塗布試料上に、下記組成の酸素遮断層塗工液１を乾燥時１．１ｇ／ｍ2になるようアプリケーターで塗布し、７５℃で１．５分間乾燥して、画像形成層上に酸素遮断層を有する感光性平版印刷版材料を作製した。【０２０８】
（酸素遮断層塗工液１）
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０５：日本合成化学社製）      ８２．５部
ポリビニルピロリドン（Ｋ−３０：ＢＡＳＦ社製）                １２部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業社製）        ０．５部
赤外色素２                                              表１記載の量
水                                                          ９００部【０２０９】
【化１４】
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【０２１０】
〈印刷評価〉
上記で作製した感光性平版印刷版材料を、図１に示す印刷機の版胴に装着し、画像露光用のレーザ光（第一のレーザ光）として、出力１００ｍＷ、露光波長４０５ｎｍのレーザ光を用い、露光エネルギー２００μＪ／ｃｍ2、２４００ｄｐｉ（ｄｐｉは２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。）、１７５線で画像様露光すると同時に、加熱する工程用のレーザ光（第二のレーザ光）として、露光波長８３０ｎｍ、スポット径約１８μｍのレーザビームを用い、露光エネルギー２５０ｍＪ／ｃｍ2で全面露光または第一のレーザ光露光と同様の画像様露光（表１に記載）を行い、画像形成した（実施例１〜４及び比較例１）。【０２１１】
露光した画像はベタ画像と１〜９９％の網点画像とを含むものである。【０２１２】
画像形成された印刷版材料は、印刷機上でそのまま、印刷工程にかけられ、下記の湿し水及び印刷インキにより現像処理されて印刷版となり、印刷が開始された。【０２１３】
湿し水としてアストロマーク３（日研化学研究所製）の２質量％溶液、インクとして東洋インキ製造株式会社製の大豆油タイプのＴＫハイエコーＳＯＹ１の紅のインクを使用してコート紙に印刷を行った。【０２１４】
印刷開始のシークエンスはＰＳ版の印刷シークエンスで行った。印刷後に版面を観察したところ、印刷版試料の非画像部は問題なく除去されていた。【０２１５】
（耐刷性）
印刷開始時の網点画像の再現域を評価し、２％ハイライト部の点細りの発生する印刷枚数を目視により観察して印刷枚数を測定し、これを耐刷力の指標とした。【０２１６】
（画像再現性）
また、原稿の網点が、印刷版に再現される領域を目視により求め、これを画像再現性の指標とした。【０２１７】
印刷版に再現される領域とは、網点の飛び（画像が欠損している）を起すこと無く、再現される原稿の網点を再現する領域をいう。この領域が広いほうが、画像再現性に優れている。【０２１８】
結果を表１に示す。【０２１９】
表１から、本発明の製版方法は、耐刷力に優れ、画像再現性に優れることが分かる。【０２２０】
【表１】
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【０２２１】
（実施例５）
実施例２において、加熱するレーザの位置を図２に示す位置にして、画像露光から０．１秒後に加熱用の第二のレーザによる露光を行った他は、実施例２と同様にして、印刷版材料の作製、製版および印刷を行った。実施例２と同様の評価を行ったところ、網点再現域は、２．０〜９８．０（％）であり、耐刷力は２０００００であった。これから本発明の製版方法は、耐刷力に優れ、画像再現性に優れることが分かる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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