(57)【要約】  混練時等の高温処理時のスチレン生成が抑制されるスチレン系エラストマー組成物を提供する。スチレン系エラストマー、並びに、リン系酸化防止剤、若しくは、リン系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物、又は、スチレン系エラストマー、並びに、リン−フェノール複合系酸化防止剤、若しくは、リン−フェノール複合系複合系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
スチレン系エラストマー、並びに、リン系酸化防止剤、又は、リン系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物。
【請求項２】
スチレン系エラストマー、並びに、リン−フェノール複合系酸化防止剤、又は、リン−フェノール複合系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物。
【請求項３】
スチレン系エラストマーがスチレン系単量体単位からなるブロック及び脂肪族オレフィン系単量体単位からなるブロックよりなるブロック共重合体である請求項１又は２記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項４】
ブロック共重合体中の脂肪族オレフィン系単量体単位からなるブロックがイソブチレン単量体単位を主体とするブロックである請求項３記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項５】
スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を０．１から５重量部含有する請求項１、３又は４のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項６】
スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が５重量部以下となる量で含有する請求項１、３又は４のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項７】
スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン−フェノール複合系酸化防止剤を０．１から５重量部含有する請求項２〜４のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項８】
スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン−フェノール複合系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が５重量部以下となる量で含有する請求項２〜４のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項９】
リン系酸化防止剤がホスファイト系酸化防止剤である請求項１、３〜６のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項１０】
フェノール系酸化防止剤がヒンダードフェノール系酸化防止剤である請求項１〜４、６又は８のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【請求項１１】
混練時の温度が１５０℃以上３００℃以下、混練時間５分以上３０分以内の条件において製造される事を特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載のスチレン系エラストマー組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、混練時等の高温処理時におけるスチレン系単量体の生成が抑制されるスチレン系エラストマー組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スチレン系エラストマーをはじめとする、一般的なエラストマーは、溶融成形可能なゴム状物質であり、射出成形、押出し成形、カレンダー成形等、通常用いられる成形法により成形することができる。また、具体的用途としてはエラストマー材料、シール剤、改質剤、制振剤、粘着剤のベースポリマー、樹脂改質剤の成分として用いることができる。【０００３】
スチレン系エラストマーは、上記の様な用途に用いられる場合、通常は成形後の耐候性や耐熱性等の物性が良好であることが求められる。そのためにエラストマーに対してその使用目的にあわせた安定剤を添加する例が報告されている。【０００４】
例えば、特許文献１には、エラストマーにフェノール系化合物と耐候剤（紫外線吸収剤や光安定剤）を加えて耐候性を向上させたエラストマー組成物が開示されている。【０００５】
またエラストマーの例ではないが、特許文献２には、シアン化ビニル系単量体、芳香族ビニル系単量体、及び、メタクリル酸メチル等のこれらと共重合可能な他の単量体から構成されるゴム強化熱可塑性樹脂にフェノール系抗酸化剤とホスファイト系抗酸化剤をともに混合することにより透明性、耐薬品性、色調安定性及び加工時の熱安定性が均衡した樹脂組成物を作る方法が開示されている。【０００６】
エラストマー組成物に安定剤を添加する場合にはそれぞれの用途に適した品質となるよう、組成物毎に詳細なポリマー比率及び安定剤の配合比率の下で混合される。従来これらのエラストマー組成物や樹脂組成物は、工業製品等の工業用途において用いられることが多く、この場合においては、最終工業製品が耐候性や耐熱性等の物性のスペックを確保している限り、ベース樹脂そのものの劣化などが問題となることはほとんど無かった。【０００７】
しかしながら、昨今の市場ニーズから、近年、スチレン系エラストマー組成物の用途は広範囲にわたっており、工業用用途のみならず例えば食品容器や食品の包装等の食品関連用途としても用いられるようになっている。食品関連用途においては工業製品等において重視された耐候性や耐熱性等の物性よりもむしろ安全性等が厳しく求められることから、ベース樹脂の劣化や分解等による樹脂からの化学物質の揮発や溶出は大きな問題となっている。そのような背景の下、残留モノマーに対する規制なども厳しくなりつつあり、特にエラストマー組成物中に含まれる環境ホルモンの疑いのあるスチレンモノマーの揮発や溶出が問題となりつつある。このようなスチレンモノマーは混練時などの高温処理時に発生することが多いため、エラストマー組成物中の残留スチレン濃度を低減するために、混練時など高温処理時のスチレン系単量体の生成が抑制されるスチレン系エラストマー組成物を得るための技術確立が望まれていた。
【特許文献１】特開２００１−９８１６３号公報
【特許文献２】特開２００２−３１７０９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、混練時等の高温処理時のスチレン生成が抑制され、食品関連用途等にも好適に使用できる、スチレン系エラストマー組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、スチレン生成が抑制される、スチレン系エラストマー組成物について鋭意検討した結果、本発明を完成した。すなわち本発明は次の発明に関する。
（１）スチレン系エラストマー、並びに、リン系酸化防止剤、又は、リン系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物。
（２）スチレン系エラストマー、並びに、リン−フェノール複合系酸化防止剤、又は、リン−フェノール複合系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物。
（３）スチレン系エラストマーがスチレン系単量体単位からなるブロック及び脂肪族オレフィン系化合物単量体単位からなるブロックよりなるブロック共重合体である上記スチレン系エラストマー組成物。
（４）ブロック共重合体中の脂肪族オレフィン化合物よりなるブロックがイソブチレン単量体単位を主体とするブロックである上記スチレン系エラストマー組成物。
（５）スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を０．１から５重量部含有する上記スチレン系エラストマー組成物。
（６）スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が５重量部以下となる量で含有する上記スチレン系エラストマー組成物。
（７）スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン−フェノール複合系酸化防止剤を０．１から５重量部含有する上記スチレン系エラストマー組成物。
（８）スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン−フェノール複合系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が５重量部以下となる量で含有する上記スチレン系エラストマー組成物。
（９）リン系酸化防止剤がホスファイト系酸化防止剤である上記スチレン系エラストマー組成物。
（１０）フェノール系酸化防止剤がヒンダードフェノール系酸化防止剤である上記スチレン系エラストマー組成物。
（１１）混練時の温度が１５０℃以上３００℃以下、混練時間５分以上３０分以内の条件において製造される事を特徴とする上記スチレン系エラストマー組成物。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のスチレン系エラストマー組成物を用いる事により、混練時等の高温処理時のスチレン生成が抑制され、スチレン系エラストマー組成物中の残留スチレン濃度を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に本発明を詳細に説明する。本発明における「スチレン系エラストマー」とは、スチレン及びその誘導体のモノマー（以後「スチレン系単量体」と呼ぶ）を重合して得られる重合体ブロックを構成単位として含むブロック共重合体である。スチレン系エラストマーの原料として使用されるスチレン系単量体としては特に限定されないが、スチレン、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，６−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−メチル−ｏ−メチルスチレン、α−メチル−ｍ−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレン、β−メチル−ｏ−メチルスチレン、β−メチル−ｍ−メチルスチレン、β−メチル−ｐ−メチルスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、α−メチル−２，６−ジメチルスチレン、α−メチル−２，４−ジメチルスチレン、β−メチル−２，６−ジメチルスチレン、β−メチル−２，４−ジメチルスチレン、ｏ−、ｍ−又はｐ−クロロスチレン、２，６−ジクロロスチレン、２，４−ジクロロスチレン、α−クロロ−ｏ−クロロスチレン、α−クロロ−ｍ−クロロスチレン、α−クロロ−ｐ−クロロスチレン、β−クロロ−ｏ−クロロスチレン、β−クロロ−ｍ−クロロスチレン、β−クロロ−ｐ−クロロスチレン、２，４，６−トリクロロスチレン、α−クロロ−２，６−ジクロロスチレン、α−クロロ−２，４−ジクロロスチレン、β−クロロ−２，６−ジクロロスチレン、β−クロロ−２，４−ジクロロスチレン、ｏ−、ｍ−又はｐ−ｔ−ブチルスチレン、ｏ−、ｍ−又はｐ−メトキシスチレン、ｏ−、ｍ−又はｐ−クロロメチルスチレン、ｏ−、ｍ−又はｐ−ブロモメチルスチレン、シリル基で置換されたスチレン誘導体等が挙げられる。更に好ましいスチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンからなる群から選ばれた１種以上の単量体を使用することが好ましく、コストの面からスチレン、α−メチルスチレン、あるいはこれらの混合物を用いることが特に好ましい。【００１２】
本発明におけるスチレン系エラストマーは、スチレン系単量体とスチレン系単量体以外の単量体をブロック共重合させて得られたものである。このようなスチレン系単量体以外の単量体としては特に限定されないが、カチオン重合可能な単量体成分であることが好ましく、好適な例としては脂肪族オレフィン類、ジエン類、ビニルエーテル類、シラン類、ビニルカルバゾール、β−ピネン、アセナフチレン等の単量体が挙げられる。これらは１種又は２種以上組み合わせて使用される。【００１３】
上記脂肪族オレフィン系単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘキセン、シクロヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキセン、オクテン、ノルボルネン等が挙げられる。【００１４】
上記ジエン系単量体としては、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、ジビニルベンゼン、エチリデンノルボルネン等が挙げられる。【００１５】
上記ビニルエーテル系単量体としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、（ｎ−、イソ）プロピルビニルエーテル、（ｎ−、ｓｅｃ−、ｔｅｒｔ−、イソ）ブチルビニルエーテル、メチルプロペニルエーテル、エチルプロペニルエーテル等が挙げられる。【００１６】
上記シラン化合物としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジメチルシラン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、トリビニルメチルシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。【００１７】
この中でも、本発明におけるスチレン系エラストマーについては、スチレン系単量体と脂肪族オレフィン系単量体を共重合させて得られるブロック共重合体であるが好ましく、スチレン系単量体単位からなるブロック及び脂肪族オレフィン系化合物単量体単位からなるブロックよりなるブロック共重合体がより好ましい。また物性等が良好なことから、上記脂肪族オレフィン系単量体単位からなるブロックがイソブチレン単量体単位を主体とするブロックであることが好ましい。【００１８】
スチレン系単量体からなるブロック及びイソブチレン単量体単位を主体とするブロックからなるスチレン系エラストマーの中でも特に、例えばα−クロル−イソプロピルベンゼン、１，４−ビス（α−クロル−イソプロピル）ベンゼン等を開始剤兼連鎖移動剤とし、ＢＣｌ3やＴｉＣｌ4などのルイス酸を触媒としてリビングカチオン重合を行うイニファー法（例えば米国特許第４２７６３９４号公報に開示されている方法）を用いて、分子量が制御されたイソブチレンの重合体を形成させ、引き続きスチレン系単量体を添加して共重合させることで製造されるスチレン系エラストマーが好適に適用できる。【００１９】
またスチレン系単量体を重合することにより得られる重合体ブロックは、スチレン系単量体以外の単量体を含んでいても含んでいなくても良く、通常、スチレン系単量体を６０重量％以上、好ましくは８０重量％以上含有する単量体成分から構成される。スチレン系単量体以外の単量体としてはカチオン重合可能な単量体であれば特に制限はないが、例えば上記の脂肪族オレフィン類、ジエン類、ビニルエーテル類、シラン類、ビニルカルバゾール、β−ピネン、アセナフチレン等の単量体が挙げられる。【００２０】
スチレン系単量体を主体として構成される重合体ブロックとスチレン系単量体以外の単量体を主体として構成される重合体ブロックの割合に関しては、特に制限はないが、各種物性の面から、スチレン系単量体を主体として構成される重合体ブロックが５から６０重量％、スチレン系単量体以外の単量体を主体として構成される重合体ブロックが９５から４０重量％であることが好ましく、スチレン系単量体を主体として構成される重合体ブロックが１５から５０重量％、スチレン系単量体以外の単量体を主体として構成される重合体ブロックが８５から５０重量％であることが特に好ましい。【００２１】
またスチレン系エラストマーの分子量にも特に制限はないが、流動性、加工性、物性等の面から、数平均分子量で３００００〜５０００００であることが好ましく、５００００〜４０００００であることが特に好ましい。スチレン系エラストマーの数平均分子量が上記範囲より低い場合には機械的な物性が十分に発現されない傾向にあり、一方、上記範囲を超える場合には流動性、加工性の面で不利となるおそれがある。なおここでいう数平均分子量はクロロホルムを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用したＧＰＣ測定を行ない、ポリスチレン換算の分子量として求めたものである。このようなＧＰＣ測定は例えばＷａｔｅｒｓ社製ＧＰＣシステム（カラム：昭和電工（株）製ＳｈｏｄｅｘＫ−８０４（ポリスチレンゲル））等を用いて測定することができる。【００２２】
スチレン系エラストマーの重合は、通常、溶媒中でカチオン重合により行われる。用いる重合溶媒は特に限定されないが、炭素数３〜８の１級及び／又は２級のモノハロゲン化炭化水素と脂肪族及び／又は芳香族炭化水素との混合溶媒が好ましい。ハロゲン化炭化水素としては塩化メチル、塩化メチレン、１−クロロブタン、クロロベンゼン、脂肪族炭化水素としてはヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、芳香族炭化水素としてはトルエン、キシレンなどを用いることができる。【００２３】
カチオン重合の際に用いられる開始剤は特に限定されないが、次のような化合物等が好ましい。（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン［Ｃ6Ｈ5Ｃ（ＣＨ3）2Ｃｌ］、１，４−ビス（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン［１，４−Ｃｌ（ＣＨ3）2ＣＣ6Ｈ4Ｃ（ＣＨ3）2Ｃｌ］、１，３−ビス（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン［１，３−Ｃｌ（ＣＨ3）2ＣＣ6Ｈ4Ｃ（ＣＨ3）2Ｃｌ］、１，３，５−トリス（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン［１，３，５−（ＣｌＣ（ＣＨ3）2）3Ｃ6Ｈ3］、１，３−ビス（１−クロル−１−メチルエチル）−５−（ｔ−ブチル）ベンゼン［１，３−（Ｃ（ＣＨ3）2Ｃｌ）2−５−（Ｃ（ＣＨ3）3）Ｃ6Ｈ3］。【００２４】
これらの中でも特に好ましいのは（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン［Ｃ6Ｈ5Ｃ（ＣＨ3）2Ｃｌ］、ビス（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼン［Ｃ6Ｈ4（Ｃ（ＣＨ3）2Ｃｌ）2］である［なおビス（１−クロル−１−メチルエチル）ベンゼンは、ビス（α−クロロイソプロピル）ベンゼン、ビス（２−クロロ−２−プロピル）ベンゼンあるいはジクミルクロライドとも呼ばれる］。【００２５】
スチレン系エラストマーを重合する際には、さらにルイス酸触媒を共存させるのが好ましい。このようなルイス酸としてはリビングカチオン重合に使用できるものであれば良く、上述のイニファー法でも使用されるＢＣｌ3、ＴｉＣｌ4の他にＴｉＢｒ4、ＢＦ3、ＢＦ3・ＯＥｔ2、ＳｎＣｌ4、ＳｂＣｌ5、ＳｂＦ5、ＷＣｌ6、ＴａＣｌ5、ＶＣｌ5、ＦｅＣｌ3、ＺｎＢｒ2、ＡｌＣｌ3、ＡｌＢｒ3等の金属ハロゲン化物；Ｅｔ2ＡｌＣｌ、ＥｔＡｌＣｌ2等の有機金属ハロゲン化物を好適に使用することができる。中でも触媒としての能力、工業的な入手の容易さを考えた場合、ＴｉＣｌ4、ＢＣｌ3、ＳｎＣｌ4が好ましい。ルイス酸の使用量は、特に限定されないが、使用する単量体の重合特性あるいは重合濃度等を鑑みて設定することができる。通常は一般式（１）で表される化合物に対して０．１〜１００モル当量使用することができ、好ましくは１〜６０モル当量の範囲である。【００２６】
スチレン系エラストマーの重合に際しては、必要に応じて電子供与体成分を共存させることもできる。この電子供与体成分は、カチオン重合に際して、成長炭素カチオンを安定化させる効果があるものと考えられており、電子供与体の添加によって分子量分布の狭い構造が制御された重合体が生成する。使用可能な電子供与体成分としては特に限定されないが、例えば、ピリジン類、アミン類、アミド類、スルホキシド類、エステル類、または金属原子に結合した酸素原子を有する金属化合物等を挙げることができる。【００２７】
実際の重合を行なうに当たっては、各成分を、冷却下、例えば−１００℃以上０℃未満の温度で混合する。エネルギーコストと重合の安定性を釣り合わせるために、特に好ましい温度範囲は−３０℃〜−８０℃である。【００２８】
重合によって得られた反応液は、無機塩基性水溶液あるいは水を用いる方法でルイス酸触媒を失活させ、更に水洗や濾過処理などにより触媒残渣等の不純物を除去する。これにより、スチレン系エラストマー溶液を得ることができる。【００２９】
このようにして得られたスチレン系エラストマー溶液から、引き続き蒸発操作により重合溶媒及び未反応モノマーを除去してスチレン系エラストマーを単離する。蒸発方式としては薄膜蒸発方式、フラッシュ蒸発方式、クラム化方式、押出しスクリューを備えた横形蒸発方式などを用いることができる。スチレン系エラストマーは粘着性を有するため、上記蒸発方式の中でも、スチレン系エラストマーを水とのスラリー状態で取出して得られるクラム化方式や押出しスクリューを備えた横形蒸発方式等を用いることで、特に効率的な蒸発が可能である。【００３０】
蒸発操作により溶剤を除去した重合体は、引き続き押出し機に供給されペレット化される。押出し機出口は直径２ｍｍ〜８ｍｍ程度の単一または複数の孔をもつダイスで構成し、押出されたスチレン系エラストマーはストランド状で冷却され、その後カットすることにより円柱状のペレットとなる。円柱状ペレットは脱揮機構を有する押出機と水中カットシステムにより、更なる溶媒及びスチレン系単量体の除去がなされ、球状ペレットとして得られる。【００３１】
本発明のスチレン系エラストマー組成物は、このペレットにリン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤、リン−フェノール複合系酸化防止剤、又は、リン−フェノール複合系及びフェノール系酸化防止剤を添加し混練等によって混合することにより得ることができる。そのような混練は、例えば２５０℃の設定温度にてミル混練機（東洋製作所製）を用いて１０分間混合することにより行なうことができる。【００３２】
本発明で使用されるリン系酸化防止剤としてはホスファイト系酸化防止剤、ホスファフェナントレン系酸化防止剤等が挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシルホスファイト）、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ及び／又はジノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジフォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト等が挙げられ、ホスファフェナントレン系酸化防止剤としては９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン等が挙げられる。中でもコストや取扱容易性等の面からホスファイト系酸化防止剤が好ましく、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシルホスファイト）（例えば旭電化製のアデカスタブＰＥＰ−８等）、又は、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイトやビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイトが特に好ましい。【００３３】
フェノール系酸化防止剤としては、モノフェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、高分子型フェノール系酸化防止剤等が挙げられる。モノフェノール系酸化防止剤としては、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。ビスフェノール系酸化防止剤としては、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５’］ウンデカン等が挙げられる。高分子型フェノールとしては、（１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、トコフェロール類等が挙げられる。これらのフェノール系酸化防止剤の中でも特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が取扱性、反応性などが良好な点で好ましく、具体的には（１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］プロピオネートが好ましい酸化防止剤として挙げられる。市販のものとしては、住友化学製のスミライザーＧＭやＧＳ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０、旭電化社製のアデカスタブＡＯ−３０等あげられる。【００３４】
またリン−フェノール複合系酸化防止剤としては旭電化社製のアデカスタブＡＯ−５１や６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン、住友化学社製のスミライザーＧＰ等が挙げられ、特に６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピンが好適に用いられる。【００３５】
リン系酸化防止剤を用いる場合、酸化防止剤の含有量はスチレン系エラストマー１００重量部に対して、０．１〜５重量部であるのが好ましく、０．２〜１．０重量部であるのがより好ましく、０．２〜０．５重量部であるのが特に好ましい。０．１重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性が有り、一方、５重量部より多いと強度などの機械物性が低下する可能性がある。【００３６】
またリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤を併用する場合には、スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が５重量部以下で含有するのが好ましく、リン系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤との合計部数が０．５重量部以下含有するのがより好ましい。リン系酸化防止剤の含有量が０．１重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性があり、またリン系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤との合計部数が５重量部を超えると、強度などの機械物性が低下するおそれがある。【００３７】
リン−フェノール複合系酸化防止剤を用いる場合、酸化防止剤の含有量はスチレン系エラストマー１００重量部に対して、０．１〜５重量部であるのが好ましく、０．２〜１．０重量部であるのがより好ましく、０．２〜０．５重量部であるのが特に好ましい。０．１重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性が有り、一方、５重量部より多いと強度などの機械物性が低下する可能性がある。【００３８】
またリン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤を併用する場合には、スチレン系エラストマー１００重量部に対して、リン−フェノール複合系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤との合計部数が５重量部以下で含有するのが好ましく、リン−フェノール複合系酸化防止剤を０．１重量部以上含有し、且つリン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が０．５重量部以下で含有するのがより好ましい。リン−フェノール複合系酸化防止剤の添加量が０．１重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性があり、またリン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤との合計部数が５重量部を超えると強度などの機械物性が低下するおそれがある。【００３９】
本発明のスチレン系エラストマー組成物を用いる事により、混練時等の高温処理時のスチレン生成を抑制する事ができる。ここで「スチレン生成」とは、文字通りスチレンそのものが生成する場合を意味するのみならず、スチレン以外のスチレン系単量体を重合用単量体として用いた場合には、そのスチレン系単量体が生成する場合をも意味する。【００４０】
また、本発明でいう「スチレン濃度」の語についても、厳密にスチレンモノマーのみの濃度を意味するものではなく、スチレン以外のスチレン系単量体を重合用単量体として用いた場合には用いたスチレン系単量体全体の組成物中における濃度を意味する。【００４１】
本発明においては、スチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度が低いスチレン系エラストマー組成物を得ることができる。従来のスチレン系樹脂・エラストマー組成物では組成物中のスチレン濃度は数ｐｐｍ〜数十ｐｐｍであったのに対し、本発明においては１ｐｐｍ以下、より有利には０．５ｐｐｍ以下、更に有利には０．２５ｐｐｍ以下といった低スチレン濃度のスチレン系エラストマー組成物を得ることができる。【００４２】
本発明のスチレン系エラストマー組成物は、１５０℃以上３００℃以下の温度で混練することにより製造されることが好ましく、２００℃以上２８０℃以下で混練するのがより好ましく、２５０℃以上２７０℃で混練するのが特に好ましい。温度が１５０℃より低いとスチレン系エラストマーが溶解しにくい場合が有り、スチレン系エラストマーに対し均一に酸化防止剤を混合することが難しくなる。一方、３００℃を超えるとスチレン系エラストマーが分解する恐れがある。また混練の時間は５分以上３０分以内で行なうことが好ましく、５分以上１５分以内で行なうことがより好ましく、特に約１０分混練するのが好ましい。混練時間が５分より短いと均一に攪拌するのが難しい場合があり、一方、混合は通常３０分も行なえば十分であることから、生産性を考えると３０分を超えて混練を行なうのは好ましくない場合が多い。【００４３】
本発明にかかるスチレン系エラストマー組成物には、要求される物性に応じて、充填材等の添加剤や、他の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ライオトロピック液晶樹脂、液状樹脂、熱硬化性樹脂、架橋ゴムなどを配合することができる。好適な充填材としては、クレー、珪藻土、シリカ、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、金属酸化物、マイカ、グラファイト、水酸化アルミニウム等の麟片状無機充填材、各種の金属粉、木片、ガラス粉、セラミックス粉、カーボンブラックなどが挙げられる。【００４４】
他の熱可塑性樹脂としては、（ｉ）汎用熱可塑性樹脂、（ｉｉ）汎用エンジニアリングプラスチック、および（ｉｉｉ）特殊エンジニアリングプラスチックなどがあげられる。【００４５】
（ｉ）汎用熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂、芳香族ビニル化合物系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリエーテル系樹脂などがあげられる。【００４６】
ポリオレフィン系樹脂としては、α−オレフィンの単独重合体、ランダム共重合体、ブロック共重合体およびそれらの混合物、またはα−オレフィンと他の不飽和単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体およびこれら重合体の酸化、ハロゲン化またはスルホン化したものなどがあげられる。具体的には、ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、その他のエチレン−αオレフィン系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、塩素化ポリエチレンなどのポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン、プロピレン−エチレンランダム共重合体、プロピレン−エチレンブロック共重合体、塩素化ポリプロピレンなどのポリプロピレン系樹脂、ポリブテン、ポリイソブチレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィンの（共）重合体などがあげられる。【００４７】
芳香族ビニル化合物系樹脂としては、ポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリ−ｐ−メチルスチレン、スチレン−無水マレイン酸共重合体などがあげられる。【００４８】
ポリ塩化ビニル系樹脂としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリ塩化ビニルなどがあげられる。【００４９】
ポリアクリル系樹脂としては、アクリロニトリル−スチレン樹脂（ＡＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＡＢＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン−α−メチルスチレン（耐熱ＡＢＳ）、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−スチレン共重合体などがあげられる。【００５０】
ポリエーテル系樹脂としては、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフランなどがあげられる。【００５１】
（ｉｉ）汎用エンジニアリングプラスチックとしては、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリメチルペンテン、超高分子量ポリエチレンなどがあげられる。【００５２】
ポリアミド系樹脂としては、ナイロン−６、ナイロン−６６、ナイロン−１１、ナイロン−１２、ナイロン−４６、ナイロン−６１０、ナイロン−６１２などがあげられる。【００５３】
ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアリレート、無定形ポリエチレンテレフタレート、結晶性ポリエチレンテレフタレートなどがあげられる。【００５４】
ポリカーボネート系樹脂としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、ビスェノールＡの芳香族水素の一部または全部を、アルキル基、ハロゲン原子で置換したもの、ヒドロキノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンなどに基づいて形成されるポリカーボネート系樹脂などがあげられる。【００５５】
ポリアセタール系樹脂としては、ポリオキシメチレンなどがあげられる。【００５６】
ポリフェニレンエーテル系樹脂としては、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジブチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジフェニル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジメトキシ−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジクロロ−１，４−フェニレン）エーテルなどがあげられる。【００５７】
（ｉｉｉ）特殊エンジニアリングプラスチックとしては、ポリスルホン系樹脂、ポリスルフィド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、フッ素系樹脂、熱可塑性ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、サーモトロピック液晶樹脂などがあげられる。【００５８】
ポリスルホン系樹脂としては、ポリ（エーテルスルホン）、ポリ（４，４’−ビスフェノールエーテルスルホン）などがあげられる。【００５９】
ポリスルフィド系樹脂としては、ポリフェニレンスルフィド、ポリ（４，４’−ジフェニレンスルフィド）などがあげられる。【００６０】
ポリエーテルケトン系樹脂としては、ポリエーテルエーテルケトンなどがあげられる。【００６１】
サーモトロピック液晶樹脂としては、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ビフェノールおよびテレフタル酸の共重合体、ｐ−ヒドロキシ安息香酸および６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸の共重合体、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびｐ−ヒドロキシ安息香酸の共重合体などがあげられる。【００６２】
これらの中でコスト、樹脂組成物の物性バランスの点からポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、またはこれらの混合物が好ましく使用できる。【００６３】
熱可塑性エラストマーとしては、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン−エチレン／プロピレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）、およびこれらの水添系エラストマー、ポリオレフィン系、ポリジエン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、フッ素系、シリコーン系、アイオノマー系などの各種エラストマーなどがあげられる。【００６４】
ライオトロピック液晶樹脂としては、アラミド、ポリｐ−フェニレンベンゾビスチアゾール、ポリテレフタロイルフドラジドなどがあげられる。【００６５】
液状樹脂としては、シリコーン系樹脂、変性シリコーン（ＭＳ）系樹脂、ポリイソブチレン（ＰＩＢ）系樹脂、ポリサルファイド系樹脂、変性ポリサルファイド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリアクリルウレタン系樹脂などがあげられる。【００６６】
熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ヒドロシリル化架橋系樹脂、フェノール系樹脂、アルキッド系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ユリア系樹脂、ポリウレタン系樹脂、メラミン系樹脂などがあげられる。【００６７】
架橋ゴムとしては、天然ゴム系、ポリブタジエン系ゴム（ＰＢＤ）、スチレン−ブタジエン系ゴム（ＳＢＲ）、水添スチレン−ブタジエン系ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン系ゴム、ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、クロロプレン系ゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、イソプレン系ゴム、エチレン−プロピレンゴム、フッ素系ゴム、シリコーン系ゴムなどがあげられる。
【実施例】
【００６８】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではなく、本発明の範囲内において適宜変更可能である。【００６９】
（スチレン濃度の測定方法）
スチレン系エラストマーのペレットとリン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤、リン−フェノール複合系酸化防止剤、又は、リン−フェノール複合系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を、２５０℃の設定温度にてミル混練機（東洋製作所製）を用いて１０分間混練して組成物を調製し、混練前のペレット及び混練後の組成物中のスチレン濃度を測定した。測定方法はＪＩＳ  Ｋ６８６９に準じ、混練前のペレット又は混練後の組成物をクロロホルムに溶解させ、ガスクロマトグラフィーにてスチレン濃度を測定した。【００７０】
（製造例１）
攪拌機付き２００Ｌ反応容器に、１−クロロブタン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）６９．４ｋｇ、ヘキサン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）３６．５ｋｇ、１，４−ビス（α−クロル−イソプロピル）ベンゼン６５．３ｇ及びジメチルアセトアミド４９．２ｇを加えた。反応容器を−７０℃に冷却した後、イソブチレン１２．８ｋｇを添加した。さらに四塩化チタン１．５ｋｇを加えて重合を開始し、−７０℃で溶液を攪拌しながら９０分反応させた。次いで反応溶液にスチレン５．５ｋｇを添加し、さらに６０分反応を続けた後、反応溶液を大量の水中へあけて反応を停止させた。さらに水相中の電気伝導度が５０μＳ以下となるまで水洗を繰り返し行った。得られたドープは蒸発機により溶剤を留去したのち、押出機を用いてペレット化した。【００７１】
（製造例２）
ドープを得るまでは製造例１と同様であるが、得られたドープと同量の水と少量の乳化剤を加え、撹拌下で懸濁させたところに蒸気により加熱し溶剤を留去した。組成物は水中でクラムとなって得られ、脱水機により固液分離した後、乾燥しクラム樹脂を得た。【００７２】
（実施例１）
製造例１で作成したペレットを熱風乾燥により乾燥し、ペレット中のスチレン濃度が０．２ｐｐｍ以下となるようにした。このペレット１００重量部に対しリン−フェノール複合系酸化防止剤（スミライザーＧＰ、住友化学社製）０．２重量部とフェノール系酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５重量部を添加し、ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練した。混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度を測定したところ、０．２ｐｐｍ以下であった。【００７３】
（実施例２）
実施例１と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット１００重量部に対しホスファイト系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−８、旭電化社製）０．２重量部とフェノール系酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５重量部を添加し、ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練した。混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度を測定したところ、０．２ｐｐｍ以下であった。【００７４】
（実施例３）
実施例１と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット１００重量部に対しリン−フェノール複合系酸化防止剤（スミライザーＧＰ、住友化学社製）０．２重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度は０．２ｐｐｍ以下であった。【００７５】
（実施例４）
製造例２で作成したクラム樹脂を用いる以外は実施例１と同様に、クラム樹脂１００重量部に対しリン−フェノール複合系酸化防止剤（スミライザーＧＰ、住友化学社製）０．２重量部とフェノール系酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５重量部を添加し、ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練した。混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度を測定したところ、０．２ｐｐｍ以下であった。【００７６】
（実施例５）
製造例２で作成したクラム樹脂を用いる以外は実施例２と同様に、クラム樹脂１００重量部に対しホスファイト系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−８、旭電化社製）０．２重量部とフェノール系酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５重量部を添加し、ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練した。混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度を測定したところ、０．２ｐｐｍ以下であった。【００７７】
（実施例６）
製造例２で作成したクラム樹脂を用いる以外は実施例３と同様、クラム樹脂１００重量部に対しリン−フェノール複合系酸化防止剤（スミライザーＧＰ、住友化学社製）０．２重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度は０．２ｐｐｍ以下であった。【００７８】
（実施例７）
実施例１と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット１００重量部に対しホスファイト系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−８、旭電化社製）０．２重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度は０．２ｐｐｍ以下であった。【００７９】
（比較例１）
実施例１と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット１００重量部に対しフェノール系酸化防止剤（アデカスタブＡＯ−３０、旭電化社製）０．２重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度は５ｐｐｍであった。【００８０】
（比較例２）
実施例１と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット１００重量部に対しフェノール系酸化防止剤（スミライザーＧＳ、住友化学社製）０．２重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度は５ｐｐｍであった。【００８１】
（比較例３）
製造例２で作成したクラム樹脂を用いて、クラム樹脂１００重量部に対しフェノール系酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５重量部のみ添加した、ミル混練機を用いて２５０℃×１０分間混練した。混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度を測定したところ、３ｐｐｍであった。【００８２】
以上の実施例、比較例の結果から分かるようにホスファイト系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤を併用した場合（実施例２、５）、リン−フェノール複合系酸化防止剤を単独で用いた場合（実施例３、６）、及び、リン−フェノール複合系酸化防止剤とフェノール系酸化防止剤を併用した場合（実施例１、４）にはいずれも混練時のスチレン発生が抑制され、混練後の残留スチレン濃度が低いものが得られた。一方フェノール系酸化防止剤を単独で用いた場合（比較例１、２）においては混練後の残留スチレン濃度は顕著に増加していた。以上のことから、本願発明にかかる組成物では、混練時等の高温処理時のスチレン系単量体の生成が効果的に抑制されることが示された。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の製造法により得られたスチレン系エラストマー組成物は種々の用途に使用できる。具体的には、食品容器や食品包装等の食品関連用途、日用雑貨、玩具・運動用具用途、文具用途、自動車内外装用途、土木・建築用途、家電機器用途、衣料・履物用途、医療用途、衛生用品、包装輸送資材、電線用途等に利用可能である。特に残留スチレン濃度が低いことから食品容器や食品包装用の用途に適している。
【国際調査報告】
2006070624.tif 000002
2006070624.tif 000003
2006070624.tif 000004
2006070624.tif 000005