(57)【要約】【課題】硬化後の着色層の線幅を一定にして直線性を良好にすることが可能な露光方法を提供する。【解決手段】透明基板１１上に、レッド用レジスト層１５ａ、ブルー用レジスト層１６ａ、グリーン用レジスト層１７ａのいずれかを設ける。次に透明基板１１を定盤２１上に配置するとともに単一波長のレーザー光Ｌを着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａ上に照射する。着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａの前記波長のレーザー光Ｌに対する透過率は２％乃至１４％となっている。これにより、着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａを透過して透明基板１１に至るレーザー光Ｌの光量を制限したので、硬化後に着色層１５、１６、１７の線幅が一定となる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、レッド用レジスト層、ブルー用レジスト層、グリーン用レジスト層のいずれかを設ける工程と、
透明基板を定盤上に配置するとともに単一波長のレーザー光をレジスト層上に照射する工程とを備え、
レジスト層の前記波長のレーザー光に対する透過率は２％乃至１４％となっており、これにより、レジスト層を透過して透明基板に至るレーザー光の光量を制限したことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
レーザー光の波長が、３５５ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】
レジスト層は、アクリル系光硬化型樹脂と顔料とを含むことを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項４】
透明基板と、
透明基板上に設けられ、上方から単一波長のレーザー光が照射される、レッド用レジスト層、ブルー用レジスト層、グリーン用レジスト層のいずれかとを備え、
レジスト層の前記波長のレーザー光に対する透過率は２％乃至１４％となっており、これにより、レジスト層を透過して透明基板に至るレーザー光の光量を制限したことを特徴とする画像形成材料。
【請求項５】
レーザー光の波長が、３５５ｎｍであることを特徴とする請求項４記載の画像形成材料。
【請求項６】
レジスト層は、アクリル系光硬化型樹脂と顔料とを含むことを特徴とする請求項４記載の画像形成材料。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか一項記載の画像形成材料を用いて作製されたカラーフィルターにおいて、
透明基板と、
透明基板上に設けられたレッド層、ブルー層、およびグリーン層と、
透明基板上に設けられたブラックマトリックス層とを備えたことを特徴とするカラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばカラーフィルターを製造する際、透明基板上のレジスト層上方からマスクを介してレーザー光を照射して、レジスト層を硬化させる露光方法に関する。また本発明は、透明基板と透明基板上に設けられたレジスト層とを備えた画像形成材料、およびこのような画像形成材料を用いて作製されたカラーフィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、カラーフィルターを製造する際、途中の工程で、ブラックマトリックス層が形成された透明基板上に光硬化性の着色レジスト層を形成することが行なわれている。そして、この着色レジスト層に対して、所定のマスクを介して例えば水銀ランプの光線を照射して露光して現像することにより、所定のパターンを有する着色レジストパターンが形成される。このような工程をレッド、グリーン、ブルーについて順次繰り返し、カラーフィルターの着色層を形成する。
【０００３】
また従来より、カラーフィルターの製造工程においてレジスト層に対して露光する際、光源としてレーザー光源を用いることも知られている。
【特許文献１】特開２００７−７９５６７号公報
【特許文献２】特許第３８７６９９１号公報
【特許文献３】特開平９−１２７７０２号公報
【特許文献４】特開２００５−２６５９８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで一般に、レーザー光は単一の波長を有している。したがって、カラーフィルターを製造する際、レーザー光を用いてレジスト層を露光する場合、レーザー光のもつ特定の波長に対して感度を高めた（高感度化した）レジスト層を用いている。しかしながら、レジスト層が当該波長のレーザー光に対して高感度であることにより、弱い照射光量でも露光されることになる。例えば、透明基板及びレジスト層内でレーザー光が鏡面反射および／または乱反射して迷光が生じる。この場合、このような迷光により、レジスト層のうち硬化させる必要がない部分まで硬化されてしまい、硬化後の着色層の線幅が太くなったり、または線の直線性が低減する等の不具合が生じるおそれがある。
【０００５】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、レーザー光を用いてレジスト層を露光する場合、透明基板及びレジスト層内でレーザー光が鏡面反射および／または乱反射して迷光が生じることを抑え、これにより硬化後の着色層の線幅を一定にして直線性を良好にすることが可能な露光方法、画像形成材料、およびカラーフィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、透明基板上に、レッド用レジスト層、ブルー用レジスト層、グリーン用レジスト層のいずれかを設ける工程と、透明基板を定盤上に配置するとともに単一波長のレーザー光をレジスト層上に照射する工程とを備え、レジスト層の前記波長のレーザー光に対する透過率は２％乃至１４％となっており、これにより、レジスト層を透過して透明基板に至るレーザー光の光量を制限したことを特徴とする露光方法である。
【０００７】
本発明は、レーザー光の波長が、３５５ｎｍであることを特徴とする露光方法である。
【０００８】
本発明は、レジスト層は、アクリル系光硬化型樹脂と顔料とを含むことを特徴とする露光方法である。
【０００９】
本発明は、透明基板と、透明基板上に設けられ、上方から単一波長のレーザー光が照射される、レッド用レジスト層、ブルー用レジスト層、グリーン用レジスト層のいずれかとを備え、レジスト層の前記波長のレーザー光に対する透過率は２％乃至１４％となっており、これにより、レジスト層を透過して透明基板に至るレーザー光の光量を制限したことを特徴とする画像形成材料である。
【００１０】
本発明は、レーザー光の波長が、３５５ｎｍであることを特徴とする画像形成材料である。
【００１１】
本発明は、レジスト層は、アクリル系光硬化型樹脂と顔料とを含むことを特徴とする画像形成材料である。
【００１２】
本発明は、画像形成材料を用いて作製されたカラーフィルターにおいて、透明基板と、透明基板上に設けられたレッド層、ブルー層、およびグリーン層と、透明基板上に設けられたブラックマトリックス層とを備えたことを特徴とするカラーフィルターである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、照射されるレーザー光の波長に対するレジスト層の透過率は、２％乃至１４％となっており、これにより、レジスト層を透過して透明基板に至るレーザー光の光量を制限したので、透明基板内においてレーザー光が鏡面反射および／または乱反射して迷光が生じることが抑えられる。これにより硬化後の着色層の線幅が正確に確保されるとともに、レジスト層の端線の直線性を良好に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施の形態について、図１乃至図５を参照して説明する。
ここで、図１は、本発明の一実施の形態によるカラーフィルターを示す図であり、図２は、カラーフィルターの製造方法を示す図である。また図３は、本発明の一実施の形態による露光方法を示す図であり、図４（ａ）（ｂ）は、露光時における鏡面反射を概略的に説明する図である。また図５（ａ）（ｂ）は、それぞれガラス基板上に形成された着色層の端線を概略的に示す断面図である。
【００１５】
まず、図１により、カラーフィルターの概略について説明する。
【００１６】
図１に示すように、カラーフィルター１０は、透明基板１１と、透明基板１１の一方の面に形成されたブラックマトリックス層１２と、透明基板１１上であって、ブラックマトリックス層１２の開口部内に各々形成されたレッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７とを備えている。
【００１７】
また、ブラックマトリックス層１２、レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７上に、これらブラックマトリックス層１２、レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７を覆う透明なオーバーコート層１８が形成されている。さらに、オーバーコート層１８上のうち、ブラックマトリックス層１２に対応する所定の位置に、感光性樹脂を主成分とした硬化物からなる複数のスペーサ２０が設けられている。
【００１８】
他方、透明基板１１の他方の面には、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層１９が均一に形成されている。
【００１９】
ところで透明基板１１としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス等の無機ガラス類、有機プラスチックのフィルム又はシート等を用いることができる。
【００２０】
またブラックマトリックス層１２は、スパッタリング法、真空蒸着法等によりクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
【００２１】
一方、レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７は、それぞれ赤色、青色、緑色に着色された着色層である。この着色層は、後述するように、アクリル系光硬化型樹脂と顔料とを含むレジスト材料からなる着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａをレーザ光により露光現像することにより形成される。
【００２２】
またオーバーコート層１８に用いられる樹脂としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ゼラチン等が好ましく用いられる。
【００２３】
カラーフィルタの製造方法
次に、図１に示すカラーフィルター１０の製造方法について、図２（ａ）−（ｆ）により説明する。
【００２４】
まず図２（ａ）に示すように、透明基板１１を準備する。
【００２５】
次に、透明基板１１の一方の面上に、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーによる方法等により、黒色感光材料を所定の膜厚になるように形成し、その後、露光、現像の各工程を行う。このようにして、透明基板１１の一方の面上に所定のパターンを有するブラックマトリックス層１２を形成する。（図２（ｂ））。
【００２６】
次に、透明基板１１の一方の面上にレッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７を順次形成する（図２（ｃ））。
【００２７】
続いてブラックマトリックス層１２、レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７上にオーバーコート層１８を形成する（図２（ｄ））。この際、まずブラックマトリックス層１２、レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７上にオーバーコート層用材料を塗布する。オーバーコート層用材料を塗布する方法としては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーによる方法などが好適に用いられる。その後、オーブンやホットプレートを用いて加熱乾燥を行う。このとき、レベリング性向上を目的として、必要に応じて真空乾燥、予備加熱乾燥（セミキュア）を行ってもよい。
【００２８】
次に、オーバーコート層１８上にスペーサ２０を形成する（図２（ｅ））。この場合、まずオーバーコート層１８上に、感光性のスペーサ用材料をディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコーティング法、またはワイヤーバーによる方法等によって塗布する。次にスペーサ２０の位置に対応するパターンを形成したフォトマスクを用いて、感光性のスペーサ用材料を露光、現像することにより、オーバーコート層１８上にスペーサ２０を形成する。
【００２９】
その後、透明基板１１の他方の面にＩＴＯ層１９を形成する（図２（ｅ））。この際、まず透明基板１１の他方の面にＩＴＯ層塗工液１９ａを塗布する。その後、透明基板１１を２００℃乃至３００℃の温度でベーク（加熱）することにより、ＩＴＯ層塗工液１９ａを固め、ＩＴＯ層１９を形成する。
【００３０】
着色層の形成方法
次に、図３により、着色層を形成する工程（図２（ｃ）参照）において、透明基板１１の一方の面上にレッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７（着色層）を順次形成する方法について、以下詳述する。レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７については、透明基板１１上に順番に形成されているが、いずれも同様の手法により形成されるため、ここでは便宜上レッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７を併記して記載する。
【００３１】
本実施の形態においては、透明基板１１の一方の面上にレッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７を形成する方法は、着色レジスト層の形成方法および露光方法からなる。
【００３２】
着色レジスト層の形成方法
まずブラックマトリックス層１２が形成された透明基板１１の一方の面上に、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーによる方法等により、対応する色に着色された光硬化型のレジスト材料を所定の膜厚になるように塗布形成し、続いて塗布されたレジスト材料を予備乾燥する。これにより、透明基板１１の一方の面上に着色レジスト層（レッド用レジスト層１５ａ、ブルー用レジスト層１６ａ、またはグリーン用レジスト層１７ａ）が形成される。
【００３３】
着色レジスト層を形成するための光硬化型レジスト材料（ネガ型）は、アクリル系光硬化型樹脂と顔料とを含んでいる。このうちアクリル系光硬化型樹脂は、光重合開始剤と、多官能アクリレートモノマーと、アクリル可溶性バインダー樹脂とを含んでいる。
【００３４】
光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ（株）製Ｎ１７１７、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられる。
【００３５】
また多官能アクリレートモノマーとしては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、グリセリンテトラ（メタ）アクリレート、テトラトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３６】
またアクリル可溶性バインダー樹脂としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物の１種以上と、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、sec-ブチルアクリレート、sec-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、１−ビニル−２−ピロリドンの１種以上とからなるコポリマー等が挙げられ、また、上記のコポリマーにグリシジル基または水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等が挙げられる。
【００３７】
一方、顔料としては、公知の赤色顔料、緑色顔料、および青色顔料を使用することができる。顔料の具体例をカラーインデックスナンバーで表示すると、赤色顔料はＰＲ１７７、ＰＲ４８：１、ＰＲ２５４、緑色顔料はＰＧ７、ＰＧ３６、青色顔料は ＰＢ１５番台、ＰＢ１、ＰＢ１９、ＰＢ６０、ＰＢ６１等を挙げることができる。
【００３８】
なお、上述した光硬化型レジスト材料には、更に添加剤として増感剤、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、界面活性剤、消泡剤等が必要に応じて含まれていても良い。
【００３９】
この場合、光硬化型レジスト材料は、露光時に使用される波長を有するレーザー光に対する着色レジスト層の透過率が２％乃至１４％となるように作製される。この場合、着色レジスト層の透過率の調整は、光硬化型レジスト材料を作製する際、アクリル系光硬化型樹脂に対する顔料の種類と比率を調整することにより行なう。
【００４０】
このようにして、透明基板１１と、透明基板１１上に設けられ、上方から単一波長のレーザー光が照射される着色レジスト層（レッド用レジスト層１５ａ、ブルー用レジスト層１６ａ、またはグリーン用レジスト層１７ａ）とを備えた画像形成材料３０が作製される。なお本実施の形態による画像形成材料３０は、ブラックマトリックス層１２を有していても良く、有していなくても良い。
【００４１】
露光方法
次に、上述した着色層を形成する工程（図２（ｃ）参照）における露光方法について説明する。
【００４２】
まず図３に示すように、上述した画像形成材料３０を定盤２１上に載置する。この場合、透明基板１１が定盤２１側に位置するように画像形成材料３０を配置する。
【００４３】
次に、図示しないレーザ光源により、例えば３５５ｎｍの単一波長を有するレーザー光Ｌを、所望パターンを有するマスク２２を介して着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａ上に照射する。このレーザ光源から照射されたレーザ光Ｌは、図示しないレンズを介して平行光に変えられ、マスク２２を通過して着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａ上の所定位置に到達する。このようにして、着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａのうち、レーザ光Ｌが照射された部分を選択的に硬化させる。
【００４４】
なおこのようなレーザ光Ｌを照射する露光装置としては、特開２００５−２６５９８５号公報（特許文献４）に示すような公知のものを用いることができる。
【００４５】
ところで、一般に、レーザ光源からのレーザ光Ｌはインテグレーターによって、定盤２１表面の垂線に対して最大約２°程度ずれる場合がある。この場合、例えば図４（ａ）に示すように、定盤２１に対してα＝２°程度斜めに入射したレーザー光Ｌaは、透明基板１１内を通過した後、透明基板１１裏面で反射し（鏡面反射）、透明基板１１表面側に再び到達する。
【００４６】
あるいは図４（ｂ）に示すように、定盤２１に対してα＝２°程度斜めに入射したレーザー光Ｌbは、透明基板１１内を通過した後、定盤２１表面で反射し、透明基板１１内を上方に向けて通過して再び透明基板１１表面側に到達する。
【００４７】
このようにして透明基板１１表面側に到達したレーザー光Ｌa（図４（ａ））、Ｌb（図４（ｂ））は、本来感光すべき箇所以外の場所にある着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａをも感光してしまう。このような場合、現像後に透明基板１１上に形成された着色層１５、１６、１７の端線が精度良く決まらず、着色層１５、１６、１７の端線の線幅が太くなったり、着色層１５、１６、１７の直線性が悪化したりするおそれがある。
【００４８】
これに対して本実施の形態において、所定波長（例えば３５５ｎｍ）のレーザー光に対する着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａの透過率は２％乃至１４％となっている。すなわち着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａを透過して透明基板１１に至るレーザー光Ｌの光量が制限されている。したがって、レーザー光Ｌが透明基板１１裏面および／または定盤２１表面で反射されることが抑制されるため、現像後の着色層１５、１６、１７端線が精度良く形成することができる。また現像後に着色層１５、１６、１７の端線の直線性が悪化することを防止することができる。
【００４９】
その後、所望パターンが形成された着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａを現像しベークすることにより、着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａを硬化させ、所望形状の各着色層（レッド層１５、ブルー層１６、またはグリーン層１７）を形成する。
【００５０】
同様の工程をレッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７に関して繰り返し行うことにより、透明基板１１の一方の面上にレッド層１５、ブルー層１６、およびグリーン層１７を形成する。
【００５１】
このように本実施の形態によれば、着色レジスト層１５ａ、１６ａ、１７ａの照射される所定波長のレーザー光Ｌに対する透過率は、２％乃至１４％となっていることにより、透明基板１１内においてレーザー光Ｌが鏡面反射および／または乱反射して迷光が生じることを防止し、硬化後の着色層１５、１６、１７の線幅を一定にするとともに着色層１５、１６、１７の端線の直線性を確保することができる。
【００５２】
（実施例）
次に、本発明の具体的実施例について述べる。
【００５３】
まず３５５ｎｍの波長を有するレーザー光Ｌに対して高感度なバインダー樹脂を含むアクリル系光硬化型樹脂に、種種の顔料を分散させて光硬化型レジスト材料を調整した。この際、所定波長のレーザー光Ｌに対する着色レジスト層１５ａの透過率を変化させるため、アクリル系光硬化型樹脂に対する顔料の種類と比率を調整した１３種類の光硬化型レジスト材料のサンプル（後述するサンプル１〜１３）を作成した。
【００５４】
次にスピンコーターを用い、厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１上に各光硬化型レジスト材料をコーティングした。その後、各レジスト材料を真空減圧乾燥し、次いで８０℃のホットプレート上で３分間乾燥させ、それぞれ着色レジスト層１５ａを形成した。
【００５５】
この各着色レジスト層１５ａに対して、端線の線幅が１００μｍとなるパターンを有するマスク２２を介して、３５５ｎｍの波長を有するレーザー光Ｌを照射した。これにより各着色レジスト層１５ａを硬化させ、各サンプルのそれぞれについてレッド層１５を形成した。なおマスク２２とガラス基板１１との間隔は、２００μｍに設定した。この結果、以下の表に示す結果が得られた。
【表１】
2009300763.tif 000003
【００５６】
この結果、サンプル１〜６は、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2以上必要となることから、量産タクトが低下するおそれがある。また、サンプル１０〜１３は、線幅変動が顕著であり、カラーフィルタ面内における照度ムラなどが製品に転写されるおそれがあるため、品質向上の観点から好ましくない。
【００５７】
したがって、レーザー光に対する着色レジスト層の透過率は２％乃至１４％とすることが好ましいと考えられる（サンプル７〜９参照）。
【００５８】
なお、上記表中、最小露光量とは、着色層１５の端線に残膜やテーパー性の悪化等の問題が生じることなくレーザ光Ｌによる露光が可能となる最小の照射量である。ここでテーパー性の悪化とは、図５（ａ）に示すように、ガラス基板１１上に形成された着色層１５、１６、１７端線の断面が略台形形状にならないことをいう。一方、図５（ｂ）に示す着色層１５、１６、１７の場合、端線の断面が略台形形状であるためテーパー性が良好である。
【００５９】
また上記表中、線幅変動とは、レーザ光Ｌの露光量の増減に対する着色層１５の端線の線幅の増減について比較したものである。さらに、上記各サンプルにおいて、着色レジスト層１５ａの波長３５５ｎｍのレーザ光Ｌに対する透過率は、分光光度計（ＵＶ−２４００ＰＣシリーズ、ＵＶ−２４５０（島津製作所））と大型試料室（ＭＰＣ−２２００）とを用いて測定したものである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の一実施の形態によるカラーフィルターを示す図。
【図２】カラーフィルターの製造方法を示す図。
【図３】本発明の一実施の形態による露光方法を示す図。
【図４】露光時における鏡面反射を概略的に説明する図。
【図５】ガラス基板上に形成された着色層の端線を概略的に示す断面図。
【符号の説明】
【００６１】
１０    カラーフィルター
１１    透明基板
１２    ブラックマトリックス層
１５    レッド層
１５ａ  レッド用レジスト層
１６    ブルー層
１６ａ  ブルー用レジスト層
１７    グリーン層
１７ａ  グリーン用レジスト層
１８    オーバーコート層
１９    ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層
２０    スペーサ
２１    定盤
２２    マスク
３０    画像形成材料
【図１】
2009300763.tif 000004
【図２】
2009300763.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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