(57)【要約】  基材の表面に前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程および活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを前記前処理層上に吐出して記録を行う工程を有するインクジェット記録方法であって、前記前処理剤が高分子ラテックスであることを特徴とする。活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いて、生産性が高く、コストが安く、滲みがなく高画質かつ基材密着性に優れる印刷ができる活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの記録方法、及びそれに用いられる記録装置が提供できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程および活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを前記前処理層上に吐出して記録を行う工程を有するインクジェット記録方法であって、前記前処理剤が高分子ラテックスであることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項２】
前記高分子ラテックスが、カチオン重合反応性基を有する高分子化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項３】
前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが、カチオン重合性化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第１または２項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項４】
前記カチオン重合性化合物が、オキセタン環含有化合物、オキシラン基含有化合物及びビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求の範囲第１〜３項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項５】
前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが、光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする請求の範囲第１〜４項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項６】
前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが、顔料及び顔料分散剤を含有することを特徴とする請求の範囲第１〜５項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項７】
前記顔料が、平均粒経１０〜１５０ｎｍの顔料粒子であることを特徴とする請求の範囲第６項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項８】
前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの２５℃における粘度が、５〜５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求の範囲第１〜７項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項９】
前記前処理層の含水率が、０．０１〜５質量％であることを特徴とする請求の範囲第１〜８項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項１０】
前記前処理層の膜厚が、０．００１μｍ〜２μｍであることを特徴とする請求の範囲第１〜９項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項１１】
前記前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程および活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを該前処理層上に吐出して記録を行う工程を連続的に行うようにしたことを特徴とする請求の範囲第１〜１０項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項１２】
前記前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程の後に、前記基材を加熱する工程を有することを特徴とする請求の範囲第１〜１１項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
【請求項１３】
請求の範囲第１〜１２項のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法に用いられることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの記録方法およびそれに用いられる活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作成できる為、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印刷分野に応用されて来ている。特に微細なドットを射出・制御する記録装置、色再現域・耐久性・射出適性を改善したインク、及びインクの吸収性・色材の発色性・表面光沢などを飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。即ち、今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙が全て揃って初めて達成されている。【０００３】
一方、軟包装の印刷は、グラビア印刷方式やフレキソ印刷方式で行われている。グラビア印刷やフレキソ印刷は、製造方式の工夫などで低コスト・短納期化が進んでいるが、刷版の作成に多くの時間とコストが掛かることや、印刷開始後の濃度安定化に時間が掛かる為、少量サンプル（試作品や展示会、限定販売品等）の場合、大量のロスが出てしまい、単価が高いものになってしまう。【０００４】
又、最近、湿式電子写真方式で軟包装用フィルムにサンプルを作成できるものもあるが、立ち上げ時のレベル調整に時間が掛かったり、印刷画像の耐久性に問題があり、小ロットに効率良く対応できるものではない。【０００５】
軟包装用のインクジェット記録方式は、包装終了後、黒や白で、製造年月日や賞味期限等を記録することは一般的になっているが、文字、デザイン画や写真等の画像を直接記録することは一般的ではない。【０００６】
又、最近の包装では、商品のコンセプトや特徴を引き出す為に、マットの包装材料を用いたり、マットの基材の一部を光沢面にする、あるいは、その逆など様々な工夫がされている。更に、高画質、触感に違和感がない等、年々要求品質が高まっている。【０００７】
そこで、ＵＶ（紫外線）硬化性インクを用いてインクジェット方式でフィルム基材に画像記録する方法が検討されている。一般に、フィルム基材には様々な種類があり、その濡れ性も基材の原料、添加剤、表面状態などで様々である。通常の印刷（主にグラビア印刷）では、基材によってインクや印刷条件を変えたり、基材メーカーがコロナ処理等の前処理をした後、一定期間内で使い切る、又は直前にコロナ処理することで対応している。【０００８】
しかしながら、インクジェットを用いる場合、基材毎にインクを変えることは、元々インクジェットの持つ手軽さ、簡便さを大きく損なうものであり、基材を一定期間内に使い切ることは、大量印刷を前提にしたグラビア等では問題なくても、少量多品種を目的にしたインクジェットにはロスが多くなってしまう。又、従来の印刷物のコロナ処理等の前処理を兼用するのは、従来の印刷機の生産性を著しく下げるため現実的ではなかった。【０００９】
上記課題に対し、様々な改良手段の検討がなされており、例えば、ＵＶ硬化性下塗り層（特許文献１、２、４参照）、コロナ処理、プラズマ処理（特許文献３参照）が開示されている。しかしながら、これら提案されている記録方法においても、上記課題を十分に改良されるまでには至っていない。
【特許文献１】特表２００２−５３０２２９号公報  （特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−２１１６５１号公報  （特許請求の範囲）
【特許文献３】特開２００３−２３７２１７号公報  （特許請求の範囲）
【特許文献４】特開２００４−５９８１０号公報  （特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いて、生産性が高く、コストが安く、滲みがなく高画質かつ基材密着性に優れる印刷ができる活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの記録方法及びそれに用いられる活性エネルギー線硬化型インクジェットインク記録装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
１．基材の表面に前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程および活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを前記前処理層上に吐出して記録を行う工程を有するインクジェット記録方法であって、前記前処理剤が高分子ラテックスであることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
２．前記高分子ラテックスが、カチオン重合反応性基を有する高分子化合物を含有することを特徴とする１に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
３．前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが、カチオン重合性化合物を含有することを特徴とする１または２に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
４．前記カチオン重合性化合物が、オキセタン環含有化合物、オキシラン基含有化合物及びビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする１〜３のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
５．前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが、光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする１〜４のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
６．前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが、顔料及び顔料分散剤を含有することを特徴とする１〜５のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
７．前記顔料が、平均粒経１０〜１５０ｎｍの顔料粒子であることを特徴とする６に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
８．前記活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの２５℃における粘度が、５〜５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする１〜７のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
９．前記前処理層の含水率が、０．０１〜５質量％であることを特徴とする１〜８のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
１０．前記前処理層の膜厚が、０．００１μｍ〜２μｍであることを特徴とする１〜９のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
１１．前記前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程および活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを該前処理層上に吐出して記録を行う工程を連続的に行うようにしたことを特徴とする１〜１０のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
１２．前記前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程の後に、前記基材を加熱する工程を有することを特徴とする１〜１１のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法。
１３．１〜１２のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクによるインクジェット記録方法に用いられることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いて、生産性が高く、コストが安く、滲みがなく高画質かつ基材密着性に優れる印刷ができる活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの記録方法及びそれに用いられる活性エネルギー線硬化型インクジェットインク記録装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインク（以下、単にインクジェットインク、またはインクともいう）の記録方法は、基材の表面に前処理剤を用いて前処理を行い前処理層を形成する工程および活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを前記前処理層上に吐出して記録を行う工程を有するインクジェット記録方法であって、前記前処理剤が高分子ラテックスであることを特徴とする。
上記構成をとることにより、滲みがなく高画質かつ基材密着性に優れる印刷ができる活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの記録方法を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。【００１４】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００１５】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの記録方法においては、上述のように、基材（被記録媒体）表面上の前処理剤として高分子ラテックスを用いて基材表面の前処理を行う。【００１６】
この前処理に用いられる方法は、例えば、スプレー塗布、ロール塗布、グラビア塗布、エアナイフ塗布、押出塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、またはフェルト塗布等の塗布工程を用いる方法、またはインクジェットによる方法が用いられるが、本発明ではインクジェットによる方法が好ましい。【００１７】
インクジェットによる方法では、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを吐出する部分にのみ前処理層を付与することもできる。【００１８】
高分子ラテックスは、高分子化合物（ポリマー）を溶媒中に分散させた分散体であり、スチレン・ブタジエン共重合体，アクリロニトリル・ブタジエン共重合体，ポリイソプレン，ポリブタジエン，ポリウレタン，ポリアクリル酸，ポリ塩化ビニル等の高分子化合物（ポリマー）を活性剤、保護コロイド等で水に分散させた公知の高分子ラテックスが好ましく使用できる。【００１９】
本発明においては、前記高分子ラテックスが、カチオン重合反応性基を有する高分子化合物（ポリマー）を含有することが好ましい。
カチオン重合反応性基とは、カチオン重合性の活性種と反応できる基であり、水酸基、カルボキシル基、アミノ基およびエポキシ基等のエーテル結合を有する基が挙げられ、これらが好ましく用いられる。【００２０】
具体的には、特開平５−３９３２４号、特開平５−９３０７１号、特開平５−１４８７９６号、特開平５−２４７３８１号、特開平６−９２０４７号、特開平６−１７９７０７号、特開平６−２５８７７１号、特開平７−２６１７０号、特開平７−２８１８１号、特開平７−１３８３０４号、特開平８−１０６１４２号、特開２０００−６３４０６号、特開２００２−１４４７０７号、特開２００３−２４６８２１号の各公報等に記載されているものを用いることが出来る。【００２１】
さらに以下に記載する市販の高分子ラテックスも用いられる。ＳＢ（スチレン・ブタジェン）ラテックス０５６１、０５８９、０６０２、２１０８、０５３３、０５４５、０５４８、０５６８、０５６９、０５７３、０５９７Ｃ、ＡＥ（アクリルエマルジョン）ＡＥ１１６、ＡＥ１１９、ＡＥ１２０、ＡＥ１２１、ＡＥ１２５、ＡＥ１３４、ＡＥ１３７、ＡＥ１４０、ＡＥ１７３、ＡＥ２００、ＡＥ３１１、ＡＥ３１８、ＡＥ３３７、ＡＥ３４３、ＡＥ３６２、ＡＥ３７３、ＡＥ３７９、ＡＥ３１５、ＡＥ５１７、ＡＥ６０４、ＡＥ６１０、ＡＥ８１５、ＡＥ８６６、ＡＥ９４５、ＡＥ９５０、ＡＥ９８６Ａ（以上ＪＳＲ社製）、ポリゾール（ＥＶＡ、ＳＵＭ、ＰＳＡ、ＲＯＹ）（以上昭和高分子社製）、スチレン・ブタジエン系ラテックス（Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ４０７ＡＳシリーズ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ４０７Ｆシリーズ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ４０７Ｇシリーズ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ４０７Ｈシリーズ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ４０７Ｋシリーズ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ４０７Ｓシリーズ、Ｎｉｐｏｌ  ２５１８ＦＳシリーズ、ＳＢ  ＬＡＴＥＸ、Ｎｉｐｏｌ
２５１８ＧＬ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ６０３、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ１１０、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ１１２）、ポリブタジエン及び低スチレン・ブタジエン系（Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ１１２Ａ２、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ１１１Ｈ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ１１１ＮＦ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ１１１Ｋ、Ｎｉｐｏｌ  Ｃ４８５０Ａ）、アクリロニトリル・ブタジエン系ラテックス（Ｎｉｐｏｌ  １５６１、Ｎｉｐｏｌ  １５６２、Ｎｉｐｏｌ  １５７１Ｈ、Ｎｉｐｏｌ  １５７１Ｃ、Ｎｉｐｏｌ  １５７１ＣＬ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ５１７Ａ、Ｎｉｐｏｌ  １５７７、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ５１１Ａ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ５１３）、アクリレート系ラテックス（Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８１１Ｈ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８１４、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５１Ｃ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５１Ｅ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５１Ｆ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５２、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５４Ｅ、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５５ＥＸ１、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８５７Ｘ２、Ｎｉｐｏｌ  ＬＸ８７４）、ソープフリーラテックス（Ｎｉｐｏｌ  ＳＸ１１０５、Ｎｉｐｏｌ  ＳＸ１５０３、Ｎｉｐｏｌ  ＳＸ１７０６）（以上日本ゼオン社製）、ヨドゾール（アクリル樹脂エマルジョン、アクリル・シリコン樹脂エマルジョン、ウレタン樹脂エマルジョン、エポキシ樹脂エマルジョン）（以上日本エヌエスシー社製）、ＫＡＴＨＯＮRＬＸ、ＫＡＴＨＯＮRＬＸＥ、ＫＯＲＤＥＫRＭＬＸ（以上ローム＆ハース社製）。【００２２】
基材表面への前処理方法として、インクジェットによる方法を用いる場合は、高分子ラテックスの粘度が５５℃で１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。【００２３】
さらに、高分子ラテックスの乾燥性を改善するために、極微量の有機溶剤を添加してもよい。この場合、硬化膜の耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その量は０．１〜５質量％、好ましくは０．１〜３質量％である。【００２４】
上記高分子ラテックスを用いた前処理により前処理膜が基材上に膜形成されるが、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの滲みによる画質低下防止の面から、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクが吐出される前に、含水率が０．０１〜５質量％になっていることが好ましい。【００２５】
そのために、本発明では高分子ラテックスによる前処理層を形成する工程と活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを吐出する工程との間に例えば加熱乾燥工程を設けることが好ましい。【００２６】
上記高分子ラテックスにより形成される前処理層の膜厚は基材種にもよるが、０．００１μｍより大きく、２μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１μｍであることが好ましい。【００２７】
次に、本発明におけるインクジェット記録方法（画像形成方法）の形態について述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。【００２８】
《インクジェット画像形成方法−Ｎｏ．１》
・高分子ラテックス塗工工程−１：ロール塗布
・高分子ラテックス乾燥工程−１：ロール加熱
・インクジェットインク吐出工程：共通
《インクジェット画像形成方法−Ｎｏ．２》
・高分子ラテックス塗工工程−２：インクジェット法
・高分子ラテックス乾燥工程−２：赤外線加熱
・インクジェットインク吐出工程：共通
《インクジェット画像形成方法−Ｎｏ．３》
・高分子ラテックス塗工工程−３：浸漬塗布
・高分子ラテックス乾燥工程−３：マイクロ波加熱
・インクジェットインク吐出工程：共通
次いで、本発明に係る活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの詳細について説明する。【００２９】
本発明に係るインクは、活性エネルギー線硬化型インクであるが、特にカチオン性重合化合物を含有するインクであることが好ましく、カチオン性重合化合物としては、オキセタン環含有化合物、オキシラン基含有化合物及びビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。【００３０】
本発明に係るオキシラン基含有化合物は、分子中に１個以上の下式で示されるオキシラン環を有する化合物であり、通常、エポキシ樹脂として用いられているものは、モノマー、オリゴマーまたはポリマーいずれも使用可能である。【００３１】
【化１】
2006082733.tif 000002
【００３２】
具体的には、従来公知の芳香族エポキシド、脂環族エポキシドおよび脂肪族エポキシドが挙げられる。なお、以降、エポキシドとは、モノマーまたはそのオリゴマーを意味する。これら化合物は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。【００３３】
芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えば、ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。【００３４】
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく、具体例としては、例えば、ダイセル化学工業（株）製、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ａ、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００、セロキサイド２０００、エポリードＧＴ３０１、エポリードＧＴ３０２、エポリードＧＴ４０１、エポリードＧＴ４０３、ＥＨＰＥ−３１５０、ＥＨＰＥＬ３１５０ＣＥ、ユニオンカーバイド社製、ＵＶＲ−６１０５、ＵＶＲ−６１１０、ＵＶＲ−６１２８、ＵＶＲ−６１００、ＵＶＲ−６２１６、ＵＶＲ−６０００等が挙げられる。【００３５】
脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。【００３６】
更に、これらの化合物の他に、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルおよびフェノール、クレゾールのモノグリシジルエーテル等も用いることができる。これらのエポキシドのうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。【００３７】
オキシラン基含有化合物は、インク中、印字物としての耐性、吐出性の面から、１０〜５０質量％、好ましくは３０〜５０質量％配合される。【００３８】
本発明に係るオキセタン環含有化合物としては、分子中に１個または２個以上のオキセタン環を有する化合物が挙げられる。【００３９】
分子中に１個のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。【００４０】
【化２】
2006082733.tif 000003
【００４１】
上記一般式（１）において、Ｚは酸素原子または硫黄原子、Ｒ1は水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、炭素数１〜６個のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基、Ｒ2は、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基または３−ブテニル基等の炭素数１〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基またはフェノキシエチル基等のアリール基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基またはペンチルカルボニル基等の炭素数１〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基またはブトキシカルボニル基等の炭素数１〜６個のアルコキシカルボニル基、エトキシカルバモイル基、プロピルカルバモイル基またはブチルペンチルカルバモイル基等の炭素数１〜６個のアルコキシカルバモイル基を表す。【００４２】
本発明に係るオキセタン環含有化合物としては、上記一般式（１）において、Ｒ1が低級アルキル基、特にエチル基、Ｒ2がブチル基、フェニル基またはベンジル基、Ｚが酸素原子であるものが好ましい。【００４３】
分子中に２個以上のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式（２）〜（８）で表わされる化合物を挙げることができる。【００４４】
【化３】
2006082733.tif 000004
【００４５】
一般式（２）において、ｍは２、３または４を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子、Ｒ3は水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜６個のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基またはフリル基、Ｒ4は、例えば、一般式（３）で示される炭素数１〜１２の線形または分枝アルキレン基、線形或いは分枝ポリ（アルキレンオキシ）基、【００４６】
【化４】
2006082733.tif 000005
【００４７】
〔式中、Ｒ5はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基を表す。〕または、下記一般式（４）、（５）及び（６）からなる群から選択される多価基を表す。【００４８】
【化５】
2006082733.tif 000006
【００４９】
一般式（４）において、ｎは０または１〜２０００の整数、Ｒ6はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜１０個のアルキル基及び下記一般式（７）から成る群から選択される基を表す。【００５０】
【化６】
2006082733.tif 000007
【００５１】
〔式中、ｊは０または１〜１００の整数、Ｒ8は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル、Ｒ7はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基を表す。〕【００５２】
【化７】
2006082733.tif 000008
【００５３】
一般式（５）において、Ｒ9は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜１０個のアルキル基、炭素数１〜１０個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシレート基またはカルボキシル基を表す。【００５４】
【化８】
2006082733.tif 000009
【００５５】
一般式（６）において、Ｒ10は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ2、ＣＨ2、Ｃ（ＣＨ3）2またはＣ（ＣＦ3）2を表す。【００５６】
本発明に係るオキセタン環含有化合物としては、上記一般式（２）において、Ｒ3が低級アルキル基、特にエチル基、Ｒ4が、一般式（５）におけるＲ9が水素原子である基、ヘキサメチレン基、一般式（３）において、Ｒ5がエチル基、Ｒ7及びＲ8は各々メチル基、Ｚが酸素原子であるものが好ましい。【００５７】
【化９】
2006082733.tif 000010
【００５８】
上記一般式（８）において、ｒは２５〜２００の整数であり、Ｒ11は炭素数１〜４のアルキル基またはトリアルキルシリル基である。【００５９】
本発明では、カチオン重合性インクとして、上記の分子中に一個以上のオキセタン環を有する化合物を２種類以上が併用されたものであってもよい。【００６０】
オキセタン環含有化合物はインク中、印字物としての耐性、吐出性の面から、５０〜９０質量％、好ましくは５０〜７０質量％配合される。【００６１】
本発明に係るインクに含まれるビニルエーテル化合物は、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジまたはトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。【００６２】
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジビニルエーテル化合物またはトリビニルエーテル化合物が好ましく、特に、ジビニルエーテル化合物が好ましい。【００６３】
本発明では、上記ビニルエーテル化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。【００６４】
ビニルエーテル化合物は、任意の配合成分であり、配合させることによってインクジェットインクに要求される低粘度化が実現できる。また、硬化速度の向上もできる。ビニルエーテル化合物は、オキシラン基含有化合物およびオキセタン環含有化合物からなる液状成分中、０〜４０質量％、好ましくは０〜２０質量％が配合されることが好ましい。【００６５】
本発明に係るインクでは、カチオン重合性化合物と共に、光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。【００６６】
本発明で用いることのできる光カチオン重合開始剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体（例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアＵＶＩ−６９９０、サイラキュアＵＶＩ−６９７４、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２等）、アリルヨードニウム塩誘導体（例えば、ローディア社製のＲＰ−２０７４等）、アレン−イオン錯体誘導体（例えば、チバガイギー社製のイルガキュア２６１等）、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤を挙げることができる。【００６７】
光カチオン重合開始剤は、インク中に脂環式エポキシ基を有する化合物１００質量部に対し、０．２〜２０質量部の比率で含有させることが好ましい。光カチオン重合開始剤の含有量が０．２質量部未満では硬化物を得ることが困難となり、２０質量部を越えて含有させても更なる硬化性向上効果は期待できない。これら光カチオン重合開始剤は、１種または２種以上を選択して使用することができる。【００６８】
本発明に係るインクには、光重合促進剤を用いることができ、例えば、アントラセン、アントラセン誘導体（例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１００）が挙げられる。これらの光重合促進剤は１種または複数を組み合わせて使用することができる。【００６９】
本発明に係るインクには、色材として顔料及び顔料分散剤を含有することが好ましい。【００７０】
本発明に係るインクに用いることのできる顔料としては、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等の無彩色無機顔料または有彩色の有機顔料が挙げられる。【００７１】
有機顔料としては、例えば、トルイジンレッド、トルイジンマルーン、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、ピラゾロンレッドなどの不溶性アゾ顔料、リトールレッド、ヘリオボルドー、ピグメントスカーレット、パーマネントレッド２Ｂなどの溶性アゾ顔料、アリザリン、インダントロン、チオインジゴマルーンなどの建染染料からの誘導体、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどのフタロシアニン系有機顔料、キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタなどのキナクリドン系有機顔料、ペリレンレッド、ペリレンスカーレットなどのペリレン系有機顔料、イソインドリノンイエロー、イソインドリノンオレンジなどのイソインドリノン系有機顔料、ピランスロンレッド、ピランスロンオレンジなどのピランスロン系有機顔料、チオインジゴ系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、キノフタロンイエローなどのキノフタロン系有機顔料、イソインドリンイエローなどのイソインドリン系有機顔料、その他の顔料として、フラバンスロンイエロー、アシルアミドイエロー、ニッケルアゾイエロー、銅アゾメチンイエロー、ペリノンオレンジ、アンスロンオレンジ、ジアンスラキノニルレッド、ジオキサジンバイオレット等が挙げられる。【００７２】
また、有機顔料をカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ナンバーで例示すると、
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、７４、８３、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１８０、１８５
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１６、３６、４３、５１、５５、５９、６１
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、４８、４９、５２、５３、５７、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２０２、２０６、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２３８、２４０
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３７、４０、５０
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、６４
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５、２６等が挙げられる。【００７３】
上記顔料の中で、キナクリドン系有機顔料、フタロシアニン系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、イソインドリノン系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、キノフタロン系有機顔料、イソインドリン系有機顔料等は耐光性が優れているため好ましい。有機顔料は、レーザ散乱による測定値で平均粒径１０〜１５０ｎｍの顔料であることが好ましい。【００７４】
顔料の平均粒径が１０ｎｍ未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じ、１５０ｎｍを越える場合は、分散の安定維持が困難になり、顔料の沈澱が生じやすくなる。【００７５】
有機顔料の微細化、いわゆる分散処理は下記の方法で行うことができる。すなわち、有機顔料と、有機顔料の３質量倍以上の水溶性の無機塩および水溶性の溶剤の少なくとも３つの成分からなる混合物を粘土状の混合物とし、ニーダー等で強く練りこんで微細化したのち水中に投入し、ハイスピードミキサー等で攪拌してスラリー状とする。次いで、スラリー状の混合物を、濾過と水洗を繰り返して水溶性の無機塩および水溶性の溶剤を除去する。微細化工程において、樹脂、顔料分散剤等を添加してもよい。水溶性の無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム等が挙げられる。これらの無機塩は、有機顔料の３質量倍以上、２０質量倍以下の範囲で用いるのが好ましい。無機塩の量が３質量倍よりも少ないと、所望の大きさの顔料粒子が得られない。また、２０質量倍よりも多いと、後の工程における洗浄処理が多大であり、有機顔料の実質的な処理量が少なくなる。【００７６】
水溶性の溶剤は、有機顔料と破砕補助剤として用いられる水溶性の無機塩との適度な粘土状態をつくり、充分な破砕を効率よく行うために用いられ、水に溶解する溶剤であれば特に限定されないが、混練時に温度が上昇して溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から沸点１２０〜２５０℃の高沸点の溶剤が好ましい。水溶性溶剤としては、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−ブトキシエタノール、２−（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液体ポリエチレングリコール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、低分子量ポリプロピレングリコール等が挙げられる。【００７７】
本発明において顔料は、十分な濃度および十分な耐光性を得るため、インクジェットインク中に３〜１５質量％の範囲で含まれることが好ましい。【００７８】
本発明で好ましく用いられる顔料分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルの塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート、顔料誘導体等を挙げることができる。【００７９】
顔料分散剤の具体例としては、ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ（ポリアミノアマイド燐酸塩）」、「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−２０３／２０４（高分子量ポリカルボン酸塩）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミノアマイド燐酸塩と酸エステル）、１０７（水酸基含有カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアマイド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「４００」、「Ｂｙｋｕｍｅｎ」（高分子量不飽和酸エステル）、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸）」、「Ｐ１０４Ｓ、２４０Ｓ（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン系）」、「Ｌａｃｔｉｍｏｎ（長鎖アミンと不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン）」等が挙げられる。【００８０】
また、Ｅｆｋａ  ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製「エフカ４４、４６、４７、４８、４９、５４、６３、６４、６５、６６、７１、７０１、７６４、７６６」、「エフカポリマー１００（変性ポリアクリレート）、１５０（脂肪族系変性ポリマー）、４００、４０１、４０２、４０３、４５０、４５１、４５２、４５３（変性ポリアクリレート）、７４５（銅フタロシアニン系）」、共栄社化学社製「フローレン  ＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「フローノンＳＨ−２９０、ＳＰ−１０００」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合物）」、楠本化成社製「ディスパロン  ＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。【００８１】
さらに、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＥＰ」、「ホモゲノールＬ−１８（ポリカルボン酸型高分子）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３１、９３５、９５０、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン２４（ココナッツアミンアセテート）、８６（ステアリルアミンアセテート）」、ゼネカ社製「ソルスパーズ５０００（フタロシアニンアンモニウム塩系）、１３２４０、１３９４０（ポリエステルアミン系）、１７０００（脂肪酸アミン系）、２４０００、３２０００」、日光ケミカル社製「ニッコール  Ｔ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）、Ｈｅｘａｇｌｉｎｅ  ４−０（ヘキサグリセリルテトラオレート）」等が挙げられる。【００８２】
本発明に係るインクにおいては、顔料分散剤はインク中に０．１〜１０質量％の範囲で含有させることが好ましい。【００８３】
本発明に係るインクジェットインクは、活性エネルギー線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め顔料高濃度の濃縮液を調製しておいて、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散においても充分な分散が可能であるため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としない。そのため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径が３μｍ以下、更には１μｍ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。【００８４】
本発明に係るインクジェットインクは、２５℃での粘度を、吐出の安定性の面から５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインクは、特に通常の４〜１０ｋＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ｋＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。【００８５】
また、本発明に係るインクジェットインクは、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。【００８６】
また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。【００８７】
本発明で用いる基材（被記録媒体）としては、従来より各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂が全て対象となり、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。【００８８】
本発明においては、まずインクをインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドから基材上に吐出し、その後、紫外線または電子線等の活性エネルギー線を照射する。これにより記録媒体上のインクは速やかに硬化する。【００８９】
なお、活性エネルギー線の光源としては、紫外線を照射する場合には、例えば、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプおよび太陽光を使用することができる。電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、実施例中の部および％は、質量部および質量％をそれぞれ示す。【００９１】
《インクの調製》
表１に記載の顔料（Ｐ１）、分散剤（Ｓ３２０００）と、オキセタン環含有化合物（ＯＸ２１１）、オキシラン基含有化合物（ＣＥＬ２０２１Ｐ）、ビニルエーテル化合物（ＤＶＥ−３）を共にサンドミルに入れて４時間かけて分散を行ない、各活性エネルギー線硬化型のインク原液を得た。次いで、光カチオン重合開始剤（ＳＰ−１５２）を各インク原液に添加し、光カチオン重合開始剤が溶解するまで穏やかに混合させた後、これをメンブランフィルターで加圧濾過して、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを得た。
尚、  表１の最下行の数値は質量部を表す。【００９２】
【表１】
2006082733.tif 000011
【００９３】
表１に記載の各添加剤の詳細は、以下の通りである。
・顔料（Ｐ１）：
粗製銅フタロシアニン（東洋インク製造社製  銅フタロシアニン）            ２５０部
塩化ナトリウム                                                        ２５００部
ポリエチレングリコール（東京化成社製  ポリエチレングリコール３００）    １６０部
上記材料をそれぞれスチレン製５．５５Ｌ（１ガロン）のニーダー（井上製作所社製）に入れ、３時間混練した。次に、この混合物を２．５リットルの温水に投入し、約８０℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約１時間攪拌してスラリー状とした後、濾過、水洗を５回繰り返して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、次いでスプレードライにより乾燥して、顔料Ｐ１とした。
・オキセタン環含有化合物（ＯＸＴ−２２１）：ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル、東亞合成社製。
・オキシラン基含有化合物（ＣＥＬ２０２１Ｐ）：脂環式エポキシ化合物  ダイセル社製。
・ビニルエーテル化合物（ＤＶＥ−３）：トリエチレングリコールジビニルエーテル  ＩＳＰ社製。
・顔料分散剤（Ｓ３２０００）：脂肪族変性系分散剤  ソルスパーズ３２０００  ゼネカ社製。
・光カチオン重合開始剤（ＳＰ−１５２）：トリフェニルスルホニウム塩  アデカオプトマーＳＰ−１５２  旭電化社製。【００９４】
《評価方法》
［印刷物の作製］
インクを、ピエゾヘッドを有するインクジェットプリンタにてポリエチレンテレフタラートおよび前処理を行ったポリエチレンテレフタラート（基材）に印字を行い、その後ＵＶ照射装置（冷陰極管８灯：出力２０Ｗ）により、基材の搬送速度５００ｍｍ／秒で硬化を行って印刷物を作製した。【００９５】
［硬化性］
ＵＶ照射後、硬化表面を指で触ってタックが残っているかどうかで硬化性を評価した。
○：インクが取れない。
×：インクが取れる。【００９６】
［膜強度］
硬化膜の強度を爪の引っ掻き試験で行った。
○：引っ掻いても印字画像が全くとれない。
△：強く引っ掻くと印字画像が若干とれる。
×：引っ掻くと印字画像が簡単にとれてしまう。【００９７】
［密着性］
上記作製した印字画像について、全く印字面に傷をつけない試料と、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に準拠して、印字面上に１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作った試料を作製し、各印字面上にセロテープ（登録商標）を貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った印字画像あるいは碁盤目の状況について、下記の基準に則り評価した。２５℃４５％ＲＨで硬化した試料を使用。
○：碁盤目テストでも、印字画像の剥がれが全く認められない。
△：碁盤目テストでは若干のインク剥がれが認められるが、インク面に傷をつけなければ剥がれは殆ど認められない。
×：両条件共に、簡単にセロテープ（登録商標）での剥がれが認められる。【００９８】
［画像滲み］
◎：滲みもなく印字性も良好である。
○：僅かに滲みと印字の乱れが生じる。
△：滲みはあるが文字の識別は可能である。
×：滲みで文字の識別が不能である。【００９９】
結果を表２に示す。【０１００】
【表２】
2006082733.tif 000012
【０１０１】
尚、表２中のインクジェット記録方法（画像形成方法）のＮｏ１〜３は、前記のインクジェット記録方法の形態を表す。【０１０２】
《比較例》
［コロナ処理］
ピラー社製ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡモデルを用い、支持体の両面を室温下において２０ｍ／分で処理した。これを比較例１とした。【０１０３】
この時の電流、電圧の読取り値から、支持体には０．３７５ＫＶ・Ａ・分／ｍ2の処理がなされていることがわかった。この時、処理や周波数は９．６ｋＨｚ、電極と誘電体ロールのギャップクリアランスは１．６ｍｍであった。【０１０４】
［紫外線硬化性下塗り層］
本発明の実施例のインク組成から顔料を抜いた組成で、実施例のインクの調整と同様にして調整を行い、これを比較例２とした。また、前処理を全く行わないものを比較例３とした。【０１０５】
表２の結果より、本発明の記録方法により、生産性が高く、コストが安く、滲みがなく高画質かつ基材密着性に優れる印刷ができることが分かる。
【国際調査報告】
2006082733.tif 000013
2006082733.tif 000014
2006082733.tif 000015
2006082733.tif 000016