(57)【要約】  従来に比べて簡便でかつ精度よく所望の形状を転写する転写方法を提供する。  基材の上に、所望の形状に対応する形状を呈する凸部を有する転写型を設置し、転写型の網目構造を有する基材の目の隙間からペーストを塗布することにより、隔壁を転写する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望の形状を転写するために用いられる転写型であって、
この転写型は、基材と、当該基材表面に形成され、前記所望の形状に対応する形状を呈する凸部と、からなり、
前記基材は、液体又は気体の少なくともいずれか一方が通り抜け可能な網目構造を有することを特徴とする転写型。
【請求項２】
所望の形状を転写するために用いられる転写型の製造方法であって、
支持基板の上に、液体又は気体の少なくともいずれか一方が通り抜け可能な網目構造を有する基材を配置し、その上に光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
前記光硬化性樹脂の表面にマスクを配置して選択露光し、露光されなかった部分の光硬化性樹脂を除去することによって、転写しようとする所望の形状に対応する凸型形状を形成する露光工程と、
前記露光工程で形成された凸部を基材と共に基板から剥がす剥離工程と、
を有することを特徴とする転写型の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の転写型を用いて、基板上に所望の形状を転写する方法であって、
基板上に請求項１の転写型の凸部を基板表面に接触するように配置し、この転写型の基材側から、網目を通してペーストを塗布することにより基板と転写型の凸部によって形成される空間にペーストを溜める塗布工程と、
前記溜まったペーストを乾燥させる乾燥工程と、
前記転写型を剥がす転写型剥離工程と、
を有することを特徴とする所望の形状の転写方法。
【請求項４】
前記ペーストは、基板から基材の高さより低い高さに留まるまで塗布することを特徴とする請求項３に記載の所望の形状の転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、所望の形状の転写方法等に関する。更に詳細には、コンピュータのディスプレイ端末装置に組み込まれるプラズマディスプレイパネルなどの隔壁を形成する際に好適に用いることができる転写型、転写型の製造方法及び所望の形状の転写方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、図１に示すように、放電型カラープラズマディスプレイパネルにおいて、Ｎｅ、Ｘｅなどの放電ガスを封止する放電空間１２は、一対のプラズマディスプレイパネル用基板１１が相互に間隔を隔てて対向配置されることによって形成されている。この放電空間１２は、一方のプラズマディスプレイパネル用基板１１側（背面板）に形成された隔壁１３によって単位表示要素（サブピクセル）毎に間仕切られて構成されている。【０００３】
ここで、このプラズマディスプレイの隔壁を形成する方法としては、従来から厚膜スクリーン印刷法やサンドブラスト法やプレス法が広く知られている。【０００４】
厚膜スクリーン法は、液状の感光性樹脂組成物をプラズマディスプレイパネル用基板の表面に繰り返し重ね印刷することにより、隔壁を積層形成するものである。【０００５】
また、サンドブラスト法は、プラズマディスプレイパネル用基板の表面に一定厚の感光性材料からなる膜を形成した後、隔壁となる部分にマスクをし、次いで露光を行う。すると、感光された部分が硬化するため、その後、サンドブラストによる切削を行えば、マスクされた部分が除去され、露光された部分が隔壁となる方法である。【０００６】
さらに、プレス法は、ペーストを塗布し、このペーストが効果する前段階で隔壁を形成するための型を押し当てる方法である。（例えば特許文献１−３）
【特許文献１】特開２００３−２１２７４４３号公報
【特許文献２】特開平１１−１６４９１号公報
【特許文献３】特開平９−６９３３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、厚膜スクリーン印刷法によって所定の高さの隔壁を高精度に形成するには、各層毎の膜厚管理が困難であり、また印刷精度も高める必要があり、歩留まりが非常に悪いという欠点があった。しかも、印刷時の位置ズレや印刷製版の伸びなどにより、各層毎の膜厚や隔壁ピッチが不均一になったり、隔壁の形状がくずれるなど、高精度の要求を満たすことができなかった。【０００８】
また、サンドブラスト法では、フォトレジストを用い、その後、サンドブラストを行うために工程が複雑であるという欠点があるうえに、精密な現像処理を必要とするため、未現像部分から生じる欠陥が隔壁に生じやすく、歩留まり良く高精度に隔壁を形成することが困難であった。さらに、サンドブラストに供される研磨材が摩耗劣化したり経時変化すると、研削力が低下するため、安定的な量産が困難であるという問題もあった。また、研削することにより除去された材料と研磨材とが混合した廃棄物は、リサイクルが困難であり、材料の使用率および環境の両面から問題がある。【０００９】
さらに、プレス法では、プレス面に均一な隔壁が形成できないという欠点があり、特に型を押し当てるときに泡を巻き込んでしまい、泡噛みの問題が致命的である。【００１０】
本願は、このような問題に鑑みてなされたものであり、従来に比べて簡便でかつ精度よく所望の形状を形成する転写方法等を提供することを課題の一例とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するための、請求項１記載の発明は、所望の形状を転写するために用いられる転写型であって、この転写型は、基材と、当該基材表面に形成され、前記所望の形状に対応する形状を呈する凸部と、からなり、前記基材は、液体又は気体の少なくともいずれか一方が通り抜け可能な網目構造を有することを特徴とする。【００１２】
上記課題を解決するための、請求項２記載の発明は、所望の形状を転写するために用いられる転写型の製造方法であって、支持基板の上に、液体又は気体の少なくともいずれか一方が通り抜け可能な網目構造を有する基材を配置し、その上に光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、前記光硬化性樹脂の表面にマスクを配置して選択露光し、露光されなかった部分の光硬化性樹脂を除去することによって、転写しようとする所望の形状に対応する凸型形状を形成する露光工程と、前記露光工程で形成された凸部を基材と共に基板から剥がす剥離工程と、を有することを特徴とする。【００１３】
上記課題を解決するための、請求項３記載の発明は、請求項１に記載の転写型を用いて、基板上に所望の形状を転写する方法であって、基板上に請求項１の転写型の凸部を基板表面に接触するように配置し、この転写型の基材側から、網目を通してペーストを塗布することにより基板と転写型の凸部によって形成される空間にペーストを溜める塗布工程と、前記溜まったペーストを乾燥させる乾燥工程と、前記転写型を剥がす転写型剥離工程と、を有することを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】プラズマディスプレイパネルの画素構造を示す図である。
【図２】（ａ）は本願の転写型の断面図であり、（ｂ）本願の転写型の正面図である。
【図３】本願の転写型の製造方法の一例を示す図である。
【図４】本願の隔壁転写方法の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００１５】
１１・・・プラズマディスプレイパネル用基板
１２・・・放電空間
１３・・・隔壁
２１・・・支持基板
２２・・・基材
２３・・・光硬化性樹脂
２４・・・光
２５・・・フォトマスク
２５ａ・・・開口部
２５ｂ・・・閉口部
２６・・・凸部
２７・・・網目構造の目の隙間
Ｍ・・・転写型
３１・・・基板
３２・・・隔壁
Ｓ・・・空間
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本願の転写型、転写型の製造方法及び所望の形状の転写方法について、図面を用いて具体的に説明する。【００１７】
図２（ａ）は、本願の転写型の断面図であり、（ｂ）は、本願の転写型の正面図である。【００１８】
まず、転写型の構造について説明する。【００１９】
転写型Ｍは、所望の形状を転写するために用いられる転写型であるが、ここでは、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）の隔壁を形成するために用いられる転写型として説明する。【００２０】
図２（ａ）によって、具体的に本願の転写型Ｍを説明すると、転写型Ｍは、基材２２と、基材２２表面に形成された凸部２６から構成されている。【００２１】
凸部２６は、隔壁の形状に対応する形状を呈しており、この凸部２６を転写することによって、所望の形状を有する隔壁を形成することができる。【００２２】
そして、このような本願の転写型Ｍは、基材２２が、液体又は気体の少なくともいずれか一方が通り抜け可能な網目構造を有していることを特徴としている。【００２３】
この構造により、図２（ｂ）に示すように、基材２２の凸部２６が形成されていない部分である、網目構造の目の隙間２７を通してペーストを塗布できるとともに、ペーストを塗布する際に生じる泡噛みも目の隙間２７から放出することができる（本願の転写型を用いた所望の形状の転写方法は後に詳細に説明する。）。【００２４】
本願は、具体的な網目の構造（例えば、網目の形状や大きさ）については、特に限定することはなく、前記作用効果を奏することができる構造、つまり、網目構造の目の隙間２７からペーストを塗布することができ、また、ペーストの泡噛みを放出することができる構造であればいかなる構造であってもよい。【００２５】
但し、本願の転写型は、網目構造を有する基材２２の表面に凸部２６を直接形成するので、網目の大きさ、（つまり、目の粗さ）は、凸部２６の大きさよりも小さく設定する必要がある。【００２６】
このような網目構造を有する基材２２の材質としては、本願は、特に限定することはなく、例えば布材（いわゆるメッシュ材）やフィルム材等を任意に選択することができる。【００２７】
次に、本願の転写型の製造方法について説明する。【００２８】
図３は、本願の転写型の製造方法の一例を示す図であり、図３の（ａ）〜（ｄ）は本実施形態としての転写型の製造方法を工程順に示す説明図である。以下、工程順に説明する。【００２９】
まず、図３（ａ）に示すように、支持基板２１の上に基材２２を重ね、その上に光硬化性樹脂２３を塗布する（樹脂塗布工程）。【００３０】
ここで、支持基板２１は、当該方法を実施するための作業台としての役割を果たすものであり、従って特に限定されることはない。また、光硬化性樹脂２３は、前述の本願の転写型Ｍにおける凸部２６を形成するための材料であり、従来公知の樹脂を用いることができる。【００３１】
次に、図３（ｂ）に示すように、支持基板２１に塗布された光硬化性樹脂２３の表面に、所望の（形成しようとする）凸部２６に応じた開口部２５ａを有するフォトマスク２５を配置し、このフォトマスク２５を介して光を照射する（露光工程）。【００３２】
フォトマスク２５を用いて選択的に露光することにより、光硬化性樹脂をフォトマスクの開口部２５ａの形状（つまり凸部２６の形状）に硬化せしめることができ、その後、前記露光工程において、フォトマスクの閉口部２５ｂにより露光されなかった部分の光硬化性樹脂を除去することで、図３（ｃ）に示すように、基材２２上に凸部２６を形成することができる。【００３３】
そして、図３（ｄ）に示すように、支持基板２１から凸部２６を基材２２と共に剥がすことにより、転写型Ｍが形成される（剥離工程）。【００３４】
この方法によれば、本願の転写型Ｍを簡易に製造することができる。【００３５】
次に、本願の所望の形状の転写方法について説明する。【００３６】
図４は、本願の所望の形状の転写方法の一例を示す図であり、図４の（ａ）〜（ｄ）は本願の方法を工程順に示す説明図である。なお、以下の説明においては、上記の説明と同様に、ＰＤＰの隔壁を転写する場合を例に挙げる。【００３７】
図４（ａ）に示すように、ＰＤＰ背面基板３１上に、上記で説明した本願の転写型Ｍを、当該転写型Ｍの凸部２６が基板３１の表面に接するように（つまり、図３（ｄ）で示した向きとは上下逆向きとなるように）、配置する。【００３８】
ここで、基板３１には、図示されていないが、ＰＤＰを形成するために必要な下地層、アドレス電極、および誘電体層等が形成されていてもよい。【００３９】
次に、図４（ｂ）（ｃ）に示すように、配置された転写型Ｍの基材２２の目の隙間からペーストを塗布することにより、基板３１と転写型Ｍの凸部２６によって形成された空間Ｓに前記ペーストを溜める（塗布工程）。【００４０】
ここで、前記ペーストは、図４（ｂ）で基材２２を通して基板３１に塗布されるが、その際に、基板３１から基材２２の高さより低い高さ、言い換えれば、転写型の基材２２に達しない高さとなるように塗布することが好ましい。これにより、後の工程で基材を剥がす時に剥がし易いからである。【００４１】
また、前記ペーストは、本願の方法では特に限定されることはなく、例えばガラスペースト等を好適に用いることができる。さらに、前記ペーストを塗布する方法についても、特に限定することはないが、テーブルコータ等の方法を用いることができる。【００４２】
次に、基板３１と転写型Ｍの凸部２６によって形成された空間Ｓに溜まったペーストを乾燥させ（乾燥工程）、乾燥することで当該ペーストが固化し始めた段階で、転写型Ｍを剥離する（剥離工程）。【００４３】
以上の工程により、基板３１上に隔壁３２が転写される。【００４４】
なお、この後、隔壁３２が形成された基板３１を高温に曝すことにより、隔壁３２を形成するペーストを完全に固化させるための焼成工程を行ってもよい。【００４５】
本願の転写方法によれば、転写型を用いているので、従来の印刷による方法と比較して均一な隔壁を形成することができる。【００４６】
また、本願の転写方法によれば、従来のプレスによる方法のように、予め塗布されたペーストに対して転写型をプレスするのではなく、始めに転写型を配置しその後ペーストを流し込むので、プレスによる方法において問題となっている泡噛みの発生をも防止することができる。【００４７】
さらに、本願の転写方法によれば、ペーストを塗布する前の段階で、予め転写型を配置しているので、従来のフォトレジストによる方法のように、隔壁を形成しない部分にまでペーストを塗布することがなく（つまり、余分なペーストを使用したり、これを除去したりする必要がなく）、その結果廃棄物のリサイクル問題をも解消することができる。【００４８】
なお、本願の転写型、転写型の製造方法、及び所望の形状の転写方法は、上記実施の形態に限定されるものではない。上記実施の形態は例示であり、本願の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本願の技術的範囲に包含される。【００４９】
例えば、上記実施の形態では、始めに転写型を配置し、そこにペーストを流し込むことで隔壁を転写する方法を示したが、例えば、従来のプレスによる方法における転写型として、本願の転写型を用いることもできる。本願の転写型を用いることにより、プレス時に泡噛みが発生しても転写型の基材に形成された網目構造から、泡噛みを転写型の外へ放出することができる。【００５０】
また、上記実施の形態で例に挙げた隔壁についても、ＰＤＰに限定されることはなく、本願は液晶ディスプレイパネルのブラックマトリクスにも応用可能であり、その他の様々な分野において、所定の形状を転写する際に用いることができる。
【図１】
2005095116.tif 000002
【図２】
2005095116.tif 000003
【図３】
2005095116.tif 000004
【図４】
2005095116.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月30日(2006.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】所望の形状を転写するために用いられる転写型であって、
この転写型は、基材と、当該基材表面に形成され、前記所望の形状に対応する形状を呈する凸部と、からなり、
前記基材は、少なくとも液体が通り抜け可能な網目構造を有することを特徴とする転写型。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】所望の形状を転写するために用いられる転写型の製造方法であって、
支持基板の上に、少なくとも液体が通り抜け可能な網目構造を有する基材を配置し、その上に光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
前記光硬化性樹脂の表面にマスクを配置して選択露光し、露光されなかった部分の光硬化性樹脂を除去することによって、転写しようとする所望の形状に対応する凸型形状を形成する露光工程と、
前記露光工程で形成された凸部を基材と共に基板から剥がす剥離工程と、
を有することを特徴とする転写型の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
［発明の開示］
［発明が解決しようとする課題］
［０００７］
しかしながら、厚膜スクリーン印刷法によって所定の高さの隔壁を高精度に形成するには、各層毎の膜厚管理が困難であり、また印刷精度も高める必要があり、歩留まりが非常に悪いという欠点があった。しかも、印刷時の位置ズレや印刷製版の伸びなどにより、各層毎の膜厚や隔壁ピッチが不均一になったり、隔壁の形状がくずれるなど、高精度の要求を満たすことができなかった。
［０００８］
また、サンドブラスト法では、フォトレジストを用い、その後、サンドブラストを行うために工程が複雑であるという欠点があるうえに、精密な現像処理を必要とするため、未現像部分から生じる欠陥が隔壁に生じやすく、歩留まり良く高精度に隔壁を形成することが困難であった。さらに、サンドブラストに供される研磨材が摩耗劣化したり経時変化すると、研削力が低下するため、安定的な量産が困難であるという問題もあった。また、研削することにより除去された材料と研磨材とが混合した廃棄物は、リサイクルが困難であり、材料の使用率および環境の両面から問題がある。
［０００９］
さらに、プレス法では、プレス面に均一な隔壁が形成できないという欠点があり、特に型を押し当てるときに泡を巻き込んでしまい、泡噛みの問題が致命的である。
［００１０］
本願は、このような問題に鑑みてなされたものであり、従来に比べて簡便でかつ精度よく所望の形状を形成する転写方法等を提供することを課題の一例とする。
［課題を解決するための手段］
［００１１］
上記課題を解決するための、請求項１記載の発明は、所望の形状を転写するために用いられる転写型であって、この転写型は、基材と、当該基材表面に形成され、前記所望の形状に対応する形状を呈する凸部と、からなり、前記基材は、少なくとも気体が通り抜け可能な網目構造を有することを特徴とする。
［００１２］
上記課題を解決するための、請求項２記載の発明は、所望の形状を転写するために用いられる転写型の製造方法であって、支持基板の上に、少なくとも液体が通り抜け可能な網目構造を有する基材を配置し、その上に光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、前記光硬化性樹脂の表面にマスクを配置して選択露光し、露光されなかった部分の光硬化性樹脂を除去することによって、転写し
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
３１・・・基板
３２・・・隔壁
Ｓ・・・空間
［発明を実施するための最良の形態］
［００１６］
以下に、本願の転写型、転写型の製造方法及び所望の形状の転写方法について、図面を用いて具体的に説明する。
［００１７］
図２（ａ）は、本願の転写型の断面図であり、（ｂ）は、本願の転写型の正面図である。
［００１８］
まず、転写型の構造について説明する。
［００１９］
転写型Ｍは、所望の形状を転写するために用いられる転写型であるが、ここでは、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）の隔壁を形成するために用いられる転写型として説明する。
［００２０］
図２（ａ）によって、具体的に本願の転写型Ｍを説明すると、転写型Ｍは、基材２２と、基材２２表面に形成された凸部２６から構成されている。
［００２１］
凸部２６は、隔壁の形状に対応する形状を呈しており、この凸部２６を転写することによって、所望の形状を有する隔壁を形成することができる。
［００２２］
そして、このような本願の転写型Ｍは、基材２２が、少なくとも液体が通り抜け可能な網目構造を有していることを特徴としている。
［００２３］
この構造により、図２（ｂ）に示すように、基材２２の凸部２６が形成されていない部分である、網目構造の目の隙間２７を通してペーストを塗布できるとともに、ペーストを塗布する際に生じる泡噛みも目の隙間２７から放出することができる（本願の転写型を用いた所望の形状の転写方法は後に詳細に説明する。）。
［００２４］
本願は、具体的な網目の構造（例えば、網目の形状や大きさ）については、特に限定することはなく、前記作用効果を奏することができる構造、つまり、網目構造の目の隙間２７からペーストを塗布することができ、また、ペーストの泡噛みを放出することができる構造であればいかなる構造であってもよい。
［００２５］
但し、本願の転写型は、網目構造を有する基材２２の表面に凸部２６を直接形成するので、網目の大きさ、（つまり、目の粗さ）は、凸部２６の大きさよりも小さく設定する必要がある。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月30日(2006.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望の形状を転写するために用いられる転写型であって、
この転写型は、基材と、当該基材表面に形成され、前記所望の形状に対応する形状を呈する凸部と、からなり、
前記基材は、少なくとも液体が通り抜け可能な網目構造を有しており、
前記凸部は、複数存在し、かつ、それぞれの凸部は互いに非接触である、ことを特徴とする転写型。
【請求項２】
所望の形状を転写するために用いられる転写型の製造方法であって、
支持基板の上に、少なくとも液体が通り抜け可能な網目構造を有する基材を配置し、その上に光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
前記光硬化性樹脂の表面にマスクを配置して選択露光し、露光されなかった部分の光硬化性樹脂を除去することによって、転写しようとする所望の形状に対応する複数の凸型形状を互いに非接触の状態で形成する露光工程と、
前記露光工程で形成された凸部を基材と共に基板から剥がす剥離工程と、
を有することを特徴とする転写型の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の転写型を用いて、基板上に所望の形状を転写する方法であって、
基板上に請求項１の転写型の凸部を基板表面に接触するように配置し、この転写型の基材側から、網目を通してペーストを塗布することにより基板と転写型の凸部によって形成される空間にペーストを溜める塗布工程と、
前記溜まったペーストを乾燥させる乾燥工程と、
前記転写型を剥がす転写型剥離工程と、
を有することを特徴とする所望の形状の転写方法。
【請求項４】
前記ペーストは、基板から基材の高さより低い高さに留まるまで塗布することを特徴とする請求項３に記載の所望の形状の転写方法。
【国際調査報告】
2005095116.tif 000006
2005095116.tif 000007