(57)【要約】  型（２４、２５）内で光硬化樹脂材料（４１）に光（２７）が照射される。光（２７）はマスク（３５）の周囲で光硬化樹脂材料（４１）を透過する。マスク（３５）の周囲で光硬化樹脂材料（４１）は硬化する。こうして型（２４、２５）に基づき成型部品の外形は形作られることができる。その一方で、マスク（３５）は光（２７）を部分的に遮断する。光硬化樹脂材料（４１）ではマスク（３５）の陰に未硬化領域（４２）が形成される。未硬化領域（４２）に残存する未硬化の光硬化樹脂材料（４１）が除去されれば、例えば孔は形成されることができる。マスク（３５）が微細に形成されれば、簡単に短時間で微細な孔は形成されることができる。微細な孔を有する成型部品は簡単に量産されることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
型に光硬化樹脂材料を流し入れる工程と、マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ光硬化樹脂材料に向けて光を照射する工程と、光の遮断に基づき残存する未硬化の光硬化樹脂材料を除去する工程とを備えることを特徴とする成型部品の製造方法。
【請求項２】
請求の範囲第１項に記載の成型部品の製造方法において、前記光の照射にあたって、前記型を透過した光を吸収させることを特徴とする成型部品の製造方法。
【請求項３】
請求の範囲第１項に記載の成型部品の製造方法において、前記照射の遮断にあたって前記マスクは前記型に固定されることを特徴とする成型部品の製造方法。
【請求項４】
請求の範囲第１項に記載の成型部品の製造方法において、前記マスクの陰で前記光硬化樹脂材料に光を照射する工程とをさらに備えることを特徴とする成型部品の製造方法。
【請求項５】
型に光硬化樹脂材料を流し入れる工程と、マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ光硬化樹脂材料に向けて第１方向に光を照射する工程と、マスクに向けて第１方向に逆向きの第２方向に光を照射する工程と、光の遮断に基づき残存する未硬化の光硬化樹脂材料を除去する工程とを備えることを特徴とする成型部品の製造方法。
【請求項６】
請求の範囲第５項に記載の成型部品の製造方法において、前記照射の遮断にあたって前記マスクは前記型に固定されることを特徴とする成型部品の製造方法。
【請求項７】
キャビティを区画する少なくとも部分的に光透過型の型と、型に向けて平行光を照射する光照射ユニットと、型に固定されて、キャビティおよび光照射ユニットの間に配置される光不透過性のマスクとを備えることを特徴とする成型装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は成型部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
いわゆる光造形は広く知られる。光造形では、所定のキャビティを区画する例えば透明な型が用意される。キャビティに流し込まれた光硬化樹脂材料には光が照射される。光の照射に基づき光硬化樹脂材料は硬化する。光硬化樹脂材料は型から取り出される。こうして成型部品は製造されることができる。
【特許文献１】日本国特許第３２２４２９９号公報
【特許文献２】日本国特許第３００８２１６号公報
【発明の開示】
【０００３】
微細な孔の形成にあたって、例えばキャビティ内で型に固定される微細なピンが想定される。しかしながら、光硬化樹脂材料が型に流し込まれる際、光硬化樹脂材料の流入の圧力に基づきピンは破壊されてしまう。同様に、型から光硬化樹脂材料が取り出される際にピンは破壊されてしまう。したがって、ピンは型に形成されることができない。
【０００４】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、簡単に微細な孔を形成することができる成型部品の製造方法および成型装置を提供することを目的とする。
【０００５】
上記目的を達成するために、第１発明によれば、型に光硬化樹脂材料を流し入れる工程と、マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ光硬化樹脂材料に向けて光を照射する工程と、光の遮断に基づき残存する未硬化の光硬化樹脂材料を除去する工程とを備えることを特徴とする成型部品の製造方法が提供される。
【０００６】
こういった成型部品の製造方法では、光はマスクの周囲で光硬化樹脂材料を透過する。マスクの周囲で光硬化樹脂材料は硬化する。こうして型に基づき成型部品の外形は形作られることができる。その一方で、マスクは、光硬化樹脂材料に向かう光を部分的に遮断する。その結果、光硬化樹脂材料ではマスクの陰に未硬化領域が形成される。未硬化領域に残存する未硬化の光硬化樹脂材料は除去される。こうして未硬化領域は例えば孔として形成される。未硬化領域の断面形状はマスクの形状を反映することから、マスクの形状に応じて孔の断面形状は規定されることができる。こうして、孔を有する成型部品は簡単に量産されることができる。例えばマスクが微細に形成されれば、簡単に短時間で微細な孔は形成されることができる。しかも、マスクは任意の形状に設定されることができることから、様々な形状で孔は形成されることができる。
【０００７】
こういった成型部品の製造方法では、光の照射にあたって、型を透過した光は吸収されればよい。こうして型を透過した光が吸収されれば、型に向かって光の反射は回避されることができる。前述の未硬化領域に光は届かない。未硬化領域はマスクの形状を正確に反映することができる。光の吸収にあたって、例えば型の表面に光を吸収する表面処理が施されればよい。
【０００８】
その他、成型部品の製造方法は、マスクの陰で光硬化樹脂材料に光を照射する工程をさらに備えてもよい。こういった光の照射によれば、前述の未硬化領域に少なくとも部分的に光は照射されることができる。こうして未硬化領域は完全に硬化した光硬化樹脂材料で取り囲まれることができる。例えば有底孔は簡単に形成されることができる。
【０００９】
以上のような成型部品の製造方法では、光の照射の遮断にあたってマスクは型に固定されればよい。こうしてマスクが型に固定されれば、前述の未硬化領域は個々の成型部品で同一の位置に正確に形成されることができる。その結果、成型部品は高い精度で設計通りに量産されることができる。
【００１０】
第２発明によれば、型に光硬化樹脂材料を流し入れる工程と、マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ光硬化樹脂材料に向けて第１方向に光を照射する工程と、マスクに向けて第１方向に逆向きの第２方向に光を照射する工程と、光の遮断に基づき残存する未硬化の光硬化樹脂材料を除去する工程とを備えることを特徴とする成型部品の製造方法が提供される。
【００１１】
こういった成型部品の製造方法では、第１方向に照射される光はマスクの周囲で光硬化樹脂材料を透過する。マスクの周囲で光硬化樹脂材料は硬化する。マスクは、光硬化樹脂材料に向かう光を部分的に遮断する。こうして、光硬化樹脂材料ではマスクの下方に未硬化領域が形成される。その一方で、第１方向に逆向きの第２方向に照射される光はマスクに向かって照射される。マスクの陰で光硬化樹脂材料は硬化する。このとき、第２方向に照射される光の例えば強度や照射時間が調節されれば、マスクの陰で未硬化領域が形成される。こうして未硬化領域に残存する未硬化の光硬化樹脂材料が除去されれば、未硬化領域は例えば有底孔として形成されることができる。未硬化領域の断面形状はマスクの形状を反映することから、マスクの形状に応じて有底孔の断面形状は規定されることができる。こうして、有底孔を有する成型部品は簡単に量産されることができる。しかも、第２方向に照射される光の例えば強度や照射時間の調節に基づき、有底孔の深さは調節されることができる。例えばマスクが微細に形成されれば、簡単に短時間で微細な有底孔は形成されることができる。しかも、マスクは任意の形状に設定されることができることから、様々な形状で有底孔は形成されることができる。
【００１２】
第３発明によれば、キャビティを区画する少なくとも部分的に光透過型の型と、型に向けて平行光を照射する光照射ユニットと、型に固定されて、キャビティおよび光照射ユニットの間に配置される光不透過性のマスクとを備えることを特徴とする成型装置は提供される。
【００１３】
こういった成型装置では、型のキャビティに例えば光硬化樹脂材料が流し込まれると、光照射ユニットから平行光が照射される。型には、キャビティおよび光照射ユニットの間に配置される光不透過性のマスクが固定されることから、平行光はマスクの周囲で光硬化樹脂材料を透過する。マスクの周囲で光硬化樹脂材料は硬化する。こうして型に基づき成型部品の外形は形作られることができる。その一方で、平行光に基づき光硬化樹脂材料ではマスクの陰にまっすぐに延びる未硬化領域が形成される。未硬化領域で未硬化の光硬化樹脂材料が除去されれば、未硬化領域はそのまま例えば孔として形成されることができる。マスクの形状に応じて未硬化領域が形成されることから、マスクの形状に応じて孔は規定されることができる。こうして、孔を有する成型部品は簡単に量産されることができる。例えばマスクが微細に形成されれば、簡単に短時間で微細な孔は形成されることができる。しかも、マスクは任意の形状に設定されることができる。様々な形状で孔は形成されることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る成型部品の構造を概略的に示す斜視図である。
【図２】成型部品の構造を概略的に示す斜視図である。
【図３】図１の３−３線に沿った部分拡大断面図である。
【図４】孔の配置を概略的に示す成型部品の部分拡大平面図である。
【図５】一具体例に係る成型装置の構造を概略的に示す図である。
【図６】下型の構造を概略的に示す斜視図である。
【図７】上型の構造を概略的に示す斜視図である。
【図８】突起群の構造を概略的に示す上型の裏面の斜視図である。
【図９】下型に紫外線硬化樹脂材料を流し入れる工程を概略的に示す図である。
【図１０】下型の表面に上型の裏面を重ね合わせる工程を概略的に示す図である。
【図１１】マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ紫外線硬化樹脂材料に向けて光を照射する工程を概略的に示す図である。
【図１２】型から取り出された紫外線硬化樹脂材料の構造を概略的に示す図である。
【図１３】未硬化の紫外線硬化樹脂材料を除去する工程を概略的に示す図である。
【図１４】成型シートから個々に成型部品を切り出す工程を概略的に示す図である。
【図１５】下型の製造にあたって、ガラス材料の表面にドライフィルムおよびマスクを配置する工程を概略的に示す図である。
【図１６】マスクに基づきガラス材料の表面でドライフィルムに露光および現像を実施する工程を概略的に示す図である。
【図１７】ガラス材料の表面に電鋳に基づき金属材料を形成する工程を概略的に示す図である。
【図１８】金属材料に基づき製造された下型を概略的に示す図である。
【図１９】上型の製造にあたって、ガラス材料の表面にドライフィルムおよびマスクを配置する工程を概略的に示す図である。
【図２０】マスクに基づきガラス材料の表面でドライフィルムに露光および現像を実施する工程を概略的に示す図である。
【図２１】ガラス材料およびドライフィルムの表面に電鋳に基づき金属材料を形成する工程を概略的に示す図である。
【図２２】金属材料の表面に電鋳に基づき金属材料を形成する工程を概略的に示す図である。
【図２３】溶融したガラス材料の表面に金属材料の表面を押し付ける工程を概略的に示す図である。
【図２４】ガラス材料の表面にフォトレジスト材料を形成する工程を概略的に示す図である。
【図２５】ガラス材料に基づき製造された上型を概略的に示す図である。
【図２６】他の具体例に係る成型装置の構造を概略的に示す図である。
【図２７】マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ紫外線硬化樹脂材料に向けて第１方向に沿って光を照射する工程と、マスクに向けて第１方向に逆向きの第２方向に沿って光を照射する工程とを概略的に示す図である。
【図２８】未硬化の紫外線硬化樹脂材料を除去する工程を概略的に示す図である。
【図２９】型から取り出された紫外線硬化樹脂材料の構造を概略的に示す図である。
【図３０】マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ紫外線硬化樹脂材料に向けて第１方向に光を照射する工程と、マスクで部分的に光の照射を遮断しつつ第１方向に逆向きの第２方向に光を照射する工程とを概略的に示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明する。【００１６】
図１は、本発明の一具体例に係る成型部品１１の構造を概略的に示す。成型部品１１は、例えば細胞を捕捉する捕捉板として用いられる。この成型部品１１は光硬化樹脂製の本体１２を備える。ここでは、光硬化樹脂には例えば紫外線硬化樹脂材料が用いられればよい。図２を併せて参照し、本体１２の裏面には窪み１３が形成される。この窪み１３に基づき本体１２には、平板部１２ａと、平板部１２ａの周囲を囲む枠体部１２ｂとが区画される。【００１７】
平板部１２ａには複数の微細な貫通孔１４が穿たれる。貫通孔１４は平板部１２ａの表面から裏面に貫通する。図３を併せて参照し、貫通孔１４は相互に平行にまっすぐに平板部１２ａを貫通する。貫通孔１４の断面は例えば円形に規定される。貫通孔１４は、平板部１２ａの表面側に区画される大径部１４ａと、大径部１４ａに連続しつつ平板部１２ａの裏面まで延びる小径部１４ｂとを備える。大径部１４ａおよび小径部１４ｂは円柱空間を規定する。ここでは、大径部１４ａおよび小径部１４ｂの軸心は一致する。【００１８】
大径部１４ａの孔径は例えば１０μｍに設定される。大径部１４ａの深さは例えば３μｍに設定される。その一方で、小径部１４ｂの孔径は例えば１０μｍ以下に設定されればよい。ここでは、小径部１４ｂの孔径は例えば２μｍに設定される。小径部１４ｂの深さは例えば７μｍに設定される。細胞の大きさは例えば２０μｍ程度に規定される。貫通孔１４の孔径は細胞の大きさよりも小さく規定されればよい。こうして貫通孔１４の大径部１４ａには細胞が捕捉されることができる。図４に示されるように、貫通孔１４は例えば等間隔に配置されればよい。なお、貫通孔１４の断面は円形に限られない。このとき、「孔径」は、貫通孔１４の断面の形状に拘わらず、例えば貫通孔１４の最大径で定義されればよい。【００１９】
次に、成型部品１１の製造方法を簡単に説明する。図５に示されるように、成型部品１１の製造にあたって成型装置２１が用意される。成型装置２１は、キャビティ２２を区画する型２３を備える。型２３は、上型２４と、表面で上型２４の裏面を受け止める下型２５とを備える。上型２４は例えば光透過性のガラス材料から構成されればよい。下型２５は例えば金属材料から構成されればよい。下型２５の表面には光を吸収する表面処理が施されればよい。こうして型２３は少なくとも部分的に光透過性に構成される。【００２０】
成型装置２１は、型２３すなわち上型２４の表面に向き合わせられる光照射ユニット２６をさらに備える。光照射ユニット２６は型２３に向けて平行光２７を照射することができる。平行光２７には例えば紫外線が用いられればよい。ここでは、平行光２７は、上型２４の表面や下型２５の表面に直交する垂直方向に照射される。上型２４は光透過性に構成されることから、平行光２７は上型２４を透過する。その一方で、下型２５の表面には光を吸収する表面処理が施されることから、平行光２７は下型２５に吸収される。【００２１】
図６に示されるように、下型２５は例えば円盤状に形成される。下型２５の表面には複数の窪み２８、２８…が区画される。窪み２８の形状は成型部品１１の輪郭に一致する。窪み２８および上型２４で前述のキャビティ２２は区画される。窪み２８内には、窪み２８の底面から立ち上がる突部２９が区画される。突部２９の輪郭は成型部品１１の窪み１３の輪郭に一致する。突部２９の頂上面には平坦面３１が区画される。下型２５では、窪み２８同士を隔てる仕切り壁３２が区画される。【００２２】
その一方で、図７に示されるように、上型２４は、下型２５と同様に、例えば円盤状に形成される。上型２４の裏面には複数の突起群３３、３３…が区画される。突起群３３の配置は下型２５の平坦面３１の配置の鏡像に相当する。図８に示されるように、各突起群３３は、上型２４の裏面から直立する複数の突起３４、３４…を備える。突起３４は円柱状に形成される。突起３４の輪郭は貫通孔１４の大径部１４ａの輪郭に一致する。各突起３４の頂上面には光不透過性のマスク３５が固定される。マスク３５は例えば円形に規定される。マスク３５の直径は貫通孔１４の小径部１４ｂの直径に一致する。こうしたマスク３５は例えばＴｉ膜から構成されればよい。【００２３】
図９に示されるように、まず、下型２５の窪み２８に紫外線硬化樹脂材料４１が流し入れられる。続いて、図１０に示されるように、下型２５の表面には上型２４の裏面が重ね合わせられる。下型２５の平坦面３１上には上型２４の突起群３３が正確に位置決めされる。このとき、仕切り壁３２の頂上面と上型２４の裏面との間には所定の間隔が区画されればよい。こうして上型２４の裏面および下型２５の表面の間すなわちキャビティ２２内には紫外線硬化樹脂材料４１が充填される。【００２４】
その後、図１１に示されるように、光照射ユニット２６から型２３に向かって平行光２７が照射される。平行光２７は、前述されるように、下型２５の表面や上型２４の表面に直交する垂直方向に照射される。上型２４は光透過性のガラス材料から構成されることから、平行光２７は上型２４を透過する。透過する平行光２７はマスク３５の周囲で紫外線硬化樹脂材料４１を透過する。こうしてマスク３５の周囲で紫外線硬化樹脂材料４１は硬化する。紫外線硬化樹脂材料４１では、光照射ユニット２６に近い領域から徐々に硬化する。【００２５】
このとき、マスク３５はキャビティ２２および光照射ユニット２６の間に配置されることから、マスク３５は、紫外線硬化樹脂材料４１に向かう平行光２７を遮断する。マスク３５の陰すなわち下方にはマスク３５からまっすぐに延びる未硬化領域４２が形成される。下型２５の表面には光を吸収する表面処理が施されることから、下型２５の表面で平行光２７は吸収される。下型２５の表面で平行光２７の反射は回避される。未硬化領域４２には平行光２７は届かない。未硬化領域４２以外の領域で紫外線硬化樹脂材料４１が完全に硬化すると、紫外線硬化樹脂材料４１はキャビティ２２から取り出される。【００２６】
こうして、図１２に示されるように、紫外線硬化樹脂材料４１では、上型２４の突起３４に基づき大径部４３が形成される。大径部４３は前述の貫通孔１４の大径部１４ａに相当する。続いて、紫外線硬化樹脂材料４１は例えば超音波に基づき洗浄される。図１３に示されるように、未硬化領域４２では未硬化の紫外線硬化樹脂材料４１は除去される。こうして未硬化領域４２には貫通孔すなわち小径部４４が形成される。小径部４４は前述の貫通孔１４の小径部１４ｂに相当する。【００２７】
こうして、図１４に示されるように、紫外線硬化樹脂材料４１に基づき成型シート４５が形成される。仕切り壁３２の頂上面と上型２４の裏面との間には所定の間隔が規定されることから、成型シート４５には薄肉部４５ａが形成される。この薄肉部４５ａで切断や溶断が実施される。切断や溶断に基づき成型シート４５から個々の成型部品１１が切り出される。切断や溶断にあたって例えばダイシングブレードやレーザが用いられればよい。その他、人間の手に基づき切断が実施されてもよい。こうした薄肉部４３ａの厚みは仕切り壁３２の頂上面と上型２４の裏面との間の間隔に基づき設定されることができる。【００２８】
以上のような成型部品１１の製造方法によれば、紫外線硬化樹脂材料４１では、マスク３５の働きで未硬化領域４２が形成される。未硬化領域４２で未硬化の紫外線硬化樹脂材料４１が除去されれば、マスク３５の形状に応じた貫通孔が形成されることができる。これまでの微細な貫通孔の形成方法に比べて、簡単に短時間で微細な貫通孔は形成されることができる。同時に、下型２５および上型２４に基づき成型部品１１の外形は形作られることができる。したがって、微細な貫通孔を有する成型部品１１は簡単に量産されることができる。【００２９】
しかも、マスク３５は上型２４に固定されることから、未硬化領域４２は個々の成型部品１１で同一の位置に正確に形成されることができる。こうして成型部品１１は高い精度で設計通りに量産されることができる。同時に、マスク３５は任意の形状に設定されることができる。未硬化領域４２の断面形状はマスク３５の形状を反映することから、マスク３５の形状に基づき様々な形状で微細な貫通孔は形成されることができる。加えて、下型２５の表面には光を吸収する表面処理が施されることから、下型２５で平行光２７の反射は回避される。未硬化領域４２に平行光２７は届かない。紫外線硬化樹脂材料４１ではマスク３５の下方で正確に未硬化領域４２が形成されることができる。【００３０】
次に、下型２５の製造方法を簡単に説明する。図１５に示されるように、ガラス材料５１が用意される。このガラス材料５１の表面にドライフィルム５２が貼り付けられる。ドライフィルム５２の表面には、規定の形状にパターニングされたマスク５３が配置される。マスク５３に基づきドライフィルム５２には露光および現像が実施される。図１６に示されるように、ガラス材料５１の表面には規定の形状のドライフィルム５２ａが残存する。こうしてガラス材料５１およびドライフィルム５２ａで下型２５の母型が形成される。すなわち、ガラス材料５１およびドライフィルム５２ａは下型２５の表面の形状に象られる。その後、ドライフィルム５２ａ上のマスク５３は除去される。なお、ドライフィルム５２に代えてフォトレジスト液が用いられてもよい。【００３１】
続いて、図１７に示されるように、例えば周知の電鋳に基づきガラス材料５１およびドライフィルム５２ａの表面に金属材料５４が形成される。こうして金属材料５４にはガラス材料５１の表面の形状が転写される。その後、金属材料５４はガラス材料５１から剥離される。こうして、図１８に示されるように、金属材料５４に基づき下型２５は製造されることができる。こうした金属材料５４の表面には光を吸収する表面処理が施されればよい。なお、電鋳の実施に先立って、ガラス材料５１およびドライフィルム５２ａの表面には金属材料の蒸着に基づきＡｌやＣｒの金属薄膜（図示されず）が形成されてもよい。【００３２】
次に、上型２４の製造方法を簡単に説明する。図１９に示されるように、ガラス材料６１が用意される。このガラス材料６１の表面にドライフィルム６２が貼り付けられる。ドライフィルム６２の表面に例えばマスク６３が配置される。マスク６３に基づきドライフィルム６２には露光および現像が実施される。こうして、図２０に示されるように、ガラス材料６１の表面には、規定の形状のドライフィルム６２ａが残存する。ガラス材料６１およびドライフィルム６２ａの表面は上型２４の裏面の形状に象られる。その後、マスク６３は除去される。なお、ドライフィルム６２に代えてフォトレジスト液が用いられてもよい。【００３３】
続いて、図２１に示されるように、例えば周知の電鋳に基づきガラス材料６１およびドライフィルム６２ａの表面に金属材料６４が形成される。こうして金属材料６４の表面にはガラス材料６１およびドライフィルム６２ａの表面の形状が転写される。その後、金属材料６４はガラス材料６１およびドライフィルム６２ａの表面から剥離される。【００３４】
続いて、図２２に示されるように、例えば周知の電鋳に基づき金属材料６４の表面に金属材料６５が形成される。こうして金属材料６５の表面には金属材料６４の表面の形状が転写される。その後、金属材料６５は金属材料６４から剥離される。こうして、金属材料６５で上型２４の母型が形成される。なお、電鋳の実施に先立って、ガラス材料６１およびドライフィルム６２ａの表面や金属材料６４の表面には金属材料の蒸着に基づきＡｌやＣｒの金属薄膜（図示されず）が形成されればよい。【００３５】
続いて、図２３に示されるように、金属材料６５の表面は、溶融したガラス材料６６の表面に押し付けられる。ガラス材料６６の表面には金属材料６５の表面の形状が転写される。ここでは、ガラス材料６６には光透過性の材料が用いられればよい。冷却に基づきガラス材料６６は硬化する。ガラス材料６６には前述の突起３４が形成される。その後、ガラス材料６６は金属材料６５の表面から剥離される。【００３６】
続いて、図２４に示されるように、ガラス材料６６にはフォトレジスト材料６７が塗布される。フォトレジスト材料６７には例えばマスク（図示されず）に基づき露光および現像が実施される。フォトレジスト材料６７は規定の形状で残存する。こうして突起３４の頂上面は規定の形状で露出する。その後、フォトレジスト材料６７に基づき金属材料（図示されず）の蒸着が施される。金属材料には例えばＴｉが用いられればよい。その後、フォトレジスト材料６７は取り払われる。こうして図２５に示されるように、突起３４の頂上面にはＴｉ膜６８すなわちマスク３５が形成される。こうしてガラス材料６６に基づき上型２４は製造されることができる。【００３７】
その他、例えば図２６に示されるように、成型装置２１は、上型２４の表面に向き合わせられる第１光照射ユニット７１と、下型２５の裏面に向き合わせられる第２光照射ユニット７２とを備えてもよい。第１光照射ユニット７１は第１方向７３に第１平行光７４を照射する。第２光照射ユニット７２は、第１方向７３に逆向きの第２方向７５に第２平行光７６を照射する。したがって、第１および第２平行光７４、７６は相互に平行に規定される。このとき、下型２５は例えば光透過性のガラス材料から構成されればよい。その他、前述と均等な構成や構造には前述と同一の参照符号が付される。【００３８】
成型部品１１の製造にあたって、前述と同様に、上型２４の裏面および下型２５の表面の間すなわちキャビティ２２内には紫外線硬化樹脂材料４１が充填される。その後、図２７に示されるように、第１光照射ユニット７１から紫外線硬化樹脂材料４１に向かって第１方向７３に第１平行光７４が照射される。マスク３５の周囲で紫外線硬化樹脂材料４１は硬化する。紫外線硬化樹脂材料４１では、第１光照射ユニット７１に近い領域から徐々に硬化する。同様に、第２光照射ユニット７２からマスク３５や紫外線硬化樹脂材料４１に向かって第２平行光７６が照射される。マスク３５の陰では第２平行光７６に基づき紫外線硬化樹脂材料４１は硬化する。【００３９】
このとき、第２平行光７６の強度や照射時間が調節される。こうした調節に基づきマスク３５の陰では、紫外線硬化樹脂材料４１は第２光照射ユニット７２に近い領域から徐々に硬化する。こうして紫外線硬化樹脂材料４１は、マスク３５の陰で紫外線硬化樹脂材料４１の裏面から表面に向かって所定の領域で硬化する。こうしてマスク３５の陰すなわち下方では未硬化領域７７が形成される。この未硬化領域７７で未硬化の紫外線硬化樹脂材料４１が例えば超音波洗浄に基づき除去されれば、未硬化領域７７には有底孔７８が形成されることができる。【００４０】
以上のような成型部品１１の製造方法によれば、紫外線硬化樹脂材料４１では、第１および第２平行光７４、７６に基づきマスク３５の陰で未硬化領域７７が形成される。こうした未硬化領域７７で未硬化の紫外線硬化樹脂材料４１が除去されれば、マスク３５の形状に応じた有底孔７８が形成されることができる。簡単に短時間で有底孔７８は形成されることができる。同時に、下型２５および上型２４に基づき成型部品１１の外形は形作られることができる。したがって、有底孔７８を有する成型部品１１は簡単に量産されることができる。しかも、例えば第２平行光７６の強度や照射時間が調節されれば、紫外線硬化樹脂材料４１では硬化する領域は調節されることができる。こうして有底孔７８の深さは調節されることができる。【００４１】
その他、図３０に示されるように、前述の下型２５の表面に光不透過性のマスク３５が固定されてもよい。下型２５に固定されるマスク３５の配置は、上型２４に固定されるマスク３５の配置に揃えられればよい。その他、前述と均等な構成や構造には同一の参照符号画布される。こうして第１平行光７４に基づきマスク３５の周囲で紫外線硬化樹脂材料４１は硬化する。同様に、第２平行光７６に基づきマスク３５の周囲で紫外線硬化樹脂材料４１は硬化する。マスク３５、３５の配置は揃えられることから、マスク３５同士の間には未硬化領域７９が形成されることができる。この未硬化領域７９で未硬化の紫外線硬化樹脂材料４１が例えば超音波洗浄に基づき除去されれば、未硬化領域７９には貫通孔が形成されることができる。
【図１】
2006100755.tif 000002
【図２】
2006100755.tif 000003
【図３】
2006100755.tif 000004
【図４】
2006100755.tif 000005
【図５】
2006100755.tif 000006
【図６】
2006100755.tif 000007
【図７】
2006100755.tif 000008
【図８】
2006100755.tif 000009
【図９】
2006100755.tif 000010
【図１０】
2006100755.tif 000011
【図１１】
2006100755.tif 000012
【図１２】
2006100755.tif 000013
【図１３】
2006100755.tif 000014
【図１４】
2006100755.tif 000015
【図１５】
2006100755.tif 000016
【図１６】
2006100755.tif 000017
【図１７】
2006100755.tif 000018
【図１８】
2006100755.tif 000019
【図１９】
2006100755.tif 000020
【図２０】
2006100755.tif 000021
【図２１】
2006100755.tif 000022
【図２２】
2006100755.tif 000023
【図２３】
2006100755.tif 000024
【図２４】
2006100755.tif 000025
【図２５】
2006100755.tif 000026
【図２６】
2006100755.tif 000027
【図２７】
2006100755.tif 000028
【図２８】
2006100755.tif 000029
【図２９】
2006100755.tif 000030
【図３０】
2006100755.tif 000031
【国際調査報告】
2006100755.tif 000032
2006100755.tif 000033