(57)【要約】  複数のレンズのうちの最下端のレンズ（９２）とその下方に配置された平行平板（９４）との間にスペーサ部材（９３）が配置され、レンズ（９２）及び平行平板の一部を吸引することで、レンズ（９２）に平行平板を吊り下げ支持させる。従って、スペーサ部材（９３）を平行平板（９４）よりも大きくする必要がなく、平行平板（９４）を把持により保持する保持機構を採用する場合と比べ、平行平板（９４）近傍のスペースを確保することができる。また、平行平板（９４）が把持されないため、平行平板（９４）の変形を回避することが可能であり、投影ユニット（ＰＵ）に収差が発生するのを抑制することができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学部材と第２の光学部材との間にスペーサ部材を介装するとともに、前記スペーサ部材が前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引することで、前記スペーサ部材を介して前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させる光学部材の支持方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光学部材の支持方法において、
前記スペーサ部材が前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と、前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を真空吸引することを特徴とする光学部材の支持方法。
【請求項３】
請求項１に記載の光学部材の支持方法において、
前記スペーサ部材が前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と、前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を静電気力又は磁気力により吸引することを特徴とする光学部材の支持方法。
【請求項４】
第１の光学部材の周縁部と第２の光学部材の周縁部との間に介装され、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引して、前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させるスペーサ部材を備える光学部材の支持構造。
【請求項５】
請求項４に記載の光学部材の支持構造において、
前記スペーサ部材が前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と、前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を真空吸引することを特徴とする光学部材の支持構造。
【請求項６】
請求項４に記載の光学部材の支持構造において、
前記スペーサ部材が前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と、前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を静電気力又は磁気力により吸引することを特徴とする光学部材の支持構造。
【請求項７】
複数の光学部材を含んで構成される光学装置であって、
前記複数の光学部材のうちの第１の光学部材の周縁部と第２の光学部材の周縁部との間に配置され、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引して、前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させるスペーサ部材を備える光学装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光学装置において、
前記スペーサ部材に接続され、前記スペーサ部材に形成された通気路内に負圧を生じさせ、前記スペーサ部材に前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引する真空吸引機構を更に備える光学装置。
【請求項９】
請求項７に記載の光学装置において、
前記スペーサ部材に設けられ、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を静電気力又は磁気力で吸引する吸引機構を更に備える光学装置。
【請求項１０】
所定のパターンの像を物体上に投影する露光装置であって、
前記物体が載置されるステージと；
前記物体に前記パターンの像を投影する請求項７〜９のいずれか一項に記載の光学装置と；を備える露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置において、
前記第２の光学部材は、前記複数の光学部材のうち、最も像面側に位置する光学部材であることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光装置において、
前記第２の光学部材と前記物体との間に液体が満たされた液浸領域を形成する液浸装置を更に備える露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記第２の光学部材は、平行平板であることを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記液浸装置は、前記第２の光学部材と前記物体との間に前記液体を供給する供給ノズルと、前記第２の光学部材と前記物体との間から液体を回収する回収ノズルとを有する露光装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光装置において、
前記供給ノズル及び前記回収ノズルの少なくとも一方は、その先端部が、前記第２の光学部材と前記物体との間に挿入されていることを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の露光装置において、
前記スペーサ部材は、環状であり、
前記第１の光学部材と前記第２の光学部材と前記スペーサ部材とで区画される空間が、液体で満たされることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記液体を外部から前記空間に供給するための流路が前記スペーサ部材に形成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記液体を外部から前記空間に供給するための供給流路と、前記液体を前記空間から回収するための回収流路とが、前記スペーサ部材に形成され、
前記供給流路の開口端の方が、前記回収流路の開口端よりも、重力方向下側に設けられていることを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記供給ノズル及び前記回収ノズルは、前記第２の光学部材と前記物体との間にその内周側の端部が挿入された環状部材にそれぞれ形成され、該環状部材と前記第２の光学部材及び前記スペーサ部材の少なくとも一方との間には、前記空間と外部とを隔離する環状のシール部材が設けられていることを特徴とする露光装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の露光装置において、
前記環状部材は、前記スペーサ部材による前記第１の光学部材及び前記第２の光学部材の少なくとも一方の吸引が解除されたときに、前記第２の光学部材及び前記スペーサ部材の少なくとも一方を、前記シール部材を介して支持することを特徴とする露光装置。
【請求項２１】
請求項１０に記載の露光装置を用いて、物体上にデバイスパターンを転写するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材の支持方法及び支持構造、光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、レンズなどの光学部材に別の光学部材を支持させるのに好適な光学部材の支持方法及び支持構造、該支持構造がその一部に採用された光学装置、該光学装置を備える露光装置、並びに前記露光装置を用いて物体上にデバイスパターンを転写するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイスを製造するリソグラフィ工程では、マスク（又はレチクル）のパターンの像を投影光学系を介して、レジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の感光性の物体（以下、「ウエハ」と呼ぶ）上の複数のショット領域の各々に転写するステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。【０００３】
この種の投影露光装置では、集積回路の高集積化によるパターンの微細化に伴って、より高い解像力（解像度）が年々要求されるようになり、そのために露光光の短波長化及び投影光学系の開口数（ＮＡ）の増大化（大ＮＡ化）が次第に進んできた。しかるに、露光光の短波長化及び投影光学系の大ＮＡ化は、投影露光装置の解像力を向上させる反面、焦点深度の狭小化を招く。また、露光波長は将来的に更に短波長化することが確実視されており、このままでは焦点深度が狭くなり過ぎて、露光動作時のフォーカスマージンが不足するおそれが生じていた。【０００４】
そこで、実質的に露光波長を短くして、かつ空気中に比べて焦点深度を大きく（広く）する方法として、液浸法を利用した露光装置が、最近注目されるようになってきた。この液浸法を利用した露光装置として、投影光学系の下端面、すなわちウエハに対向する投影光学系の終端に位置する光学部材の下面とウエハ表面との間に液浸領域（水又は有機溶媒等の液体で満たされた局所領域）を形成した状態で露光を行うものが知られている（例えば、下記特許文献１参照）。この特許文献１に記載の露光装置では、液体中での露光光の波長が、空気中の１／ｎ倍（ｎは液体の屈折率で通常１．２〜１．６程度）になることを利用して解像度を向上すると共に、その解像度と同一の解像度が液浸法によらず得られる投影光学系（このような投影光学系の製造が可能であるとして）に比べて焦点深度をｎ倍に拡大する、すなわち空気中に比べて焦点深度を実質的にｎ倍に拡大することができる。【０００５】
ところで、液浸露光装置では、終端の光学部材の下面が液体（水等）に直接接触することから、その光学部材の下面に対するレジストの付着や、液体の供給及び回収を繰り返すことで生じる液体の付着跡などによる露光精度の低下を防止するため、終端の光学部材を比較的頻繁に交換する必要がある。かかる点に鑑み、従来の投影露光装置では、例えば金属等から成り、終端の光学部材を機械的に把持する機構を投影光学系の鏡筒下端に設け、この機構により終端の光学部材を鏡筒に対して着脱自在に保持していた。【０００６】
しかしながら、上述のような機構を用いて終端の光学部材を保持する場合、終端の光学部材の中央部は光路となるため、必然的にその光学部材の外縁部を把持（保持）することとなるため、その機構は必然的にその一部が終端の光学部材の外側に張り出し、終端の光学部材に比べて大型化する。このため、例えば液浸型の露光装置の場合、終端の光学部材下面とウエハ表面との間に液浸領域を形成するためのノズルが上記の光学部材の把持機構の外側（すなわち投影光学系の外側）へ追いやられる。このことは、液浸領域が広くなることを意味する。この液浸領域の拡大は、ウエハの周囲にウエハ表面とほぼ面一の領域が必要であることを意味し、結果的にウエハを保持するテーブルの大型化、ひいてはその位置制御の困難化を招く。また、投影光学系による照明光の投射領域におけるウエハ表面の高さ位置を、例えば光学式のセンサで検出する場合には、そのセンサを投影光学系から離れた位置に配置せざるを得ない。このように、終端の光学部材を機械的に把持する機構を採用することは、露光装置の大型化を引き起こす一因となっている。【０００７】
また、終端の光学部材を機械的に把持する機構を採用した場合、終端の光学部材の変形を招き、ひいては投影光学系の結像性能の劣化を招くおそれもある。更に、その機械的な機構を構成する金属から金属イオンが液体中に溶出し露光精度を低下させるおそれもある。【０００８】
上述のレジスト飛沫の終端の光学部材への付着は、液浸型でない投影露光装置でも同様に生じるため、このような装置では、上述の終端の光学部材を機械的に把持する機構を投影光学系の鏡筒下端に設け、この機構により終端の光学部材を鏡筒に対して着脱自在に保持していた。従って、その終端の光学部材を機械的に把持する機構を採用した際の問題は、液浸独自の問題を除き、通常の投影露光装置にも存在している。【０００９】
かかる理由により、終端の光学部材の外側に張り出すことなく、その光学部材を支持することができる、新たな技術の出現が期待されていた。【００１０】
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、第１の光学部材と第２の光学部材との間にスペーサ部材を介装するとともに、前記スペーサ部材が前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引することで、前記スペーサ部材を介して前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させる光学部材の支持方法である。【００１２】
本明細書において、光学部材の周縁部の少なくとも一部とは、光学部材が光学素子のみから成る場合のその光学素子の周縁部の少なくとも一部は勿論、光学部材が光学素子とその周縁部に一体的に取り付けられた別部材とを有する場合にはその別部材の一部をも含む概念である。また、本明細書において、吸引とは、真空吸引は勿論、磁気力による吸引や静電気力による吸引なども含む。【００１３】
これによれば、第１の光学部材と第２の光学部材との間に介装され、第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引するスペーサ部材を介して第１の光学部材に第２の光学部材が支持される。この場合、スペーサ部材は、例えば、第１の光学部材、第２の光学部材の相互の対向面の少なくとも一部を吸引するようにできるので、そのスペーサ部材が第１の光学部材及び第２の光学部材の外側に張り出さないようにすることができる。従って、例えば第２の光学部材が前述した投影光学系のウエハに対向する光学部材（終端の光学部材）である場合、その外側に張り出すことなく、終端の光学部材を支持することが可能となる。また、第２の光学部材近傍のスペースを確保することができる。また、真空その他の吸引力を利用した支持方法なので、第２の光学部材の変形を抑制することが可能である。また、吸引力を解除することで、第２の光学部材を容易に取り外すことができ、その交換が容易である。【００１４】
本発明は、第２の観点からすると、第１の光学部材の周縁部と第２の光学部材の周縁部との間に介装され、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引して、前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させるスペーサ部材を備える光学部材の支持構造である。【００１５】
これによれば、第１の光学部材の周縁部と第２の光学部材の周縁部との間に介装され、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引して、前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させるスペーサ部材を備える。この場合、スペーサ部材は、例えば、第１の光学部材、第２の光学部材の相互の対向面の少なくとも一部を吸引するようにできるので、そのスペーサ部材が第１の光学部材及び第２の光学部材の外側に張り出さないようにすることができる。従って、例えば第２の光学部材が前述した投影光学系のウエハに対向する光学部材（終端の光学部材）である場合、その外側に張り出すことなく、終端の光学部材を支持することが可能となる。また、第２の光学部材近傍のスペースを確保することができる。また、真空その他の吸引力を利用した支持構造なので、第２の光学部材の変形を抑制することが可能である。また、吸引力を解除することで、第２の光学部材を容易に取り外すことができ、その交換が容易である。【００１６】
本発明は、第３の観点からすると、複数の光学部材を含んで構成される光学装置であって、前記複数の光学部材のうちの第１の光学部材の周縁部と第２の光学部材の周縁部との間に配置され、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引して、前記第１の光学部材に前記第２の光学部材を支持させるスペーサ部材を備える光学装置である。【００１７】
これによれば、複数の光学部材のうちの第１の光学部材と第２の光学部材との間に介装され、前記第１の光学部材の周縁部の少なくとも一部と前記第２の光学部材の周縁部の少なくとも一部との少なくとも一方を吸引するスペーサ部材を介して第１の光学部材に第２の光学部材が支持される。この場合、スペーサ部材は、例えば、第１の光学部材、第２の光学部材の相互の対向面の少なくとも一部を吸引するようにできるので、そのスペーサ部材が第１の光学部材及び第２の光学部材の外側に張り出さないようにすることができる。従って、例えば第２の光学部材を前述した投影光学系のウエハに対向する光学部材（終端の光学部材）とした場合、その外側に張り出すことなく、終端の光学部材を支持することが可能となる。また、第２の光学部材近傍のスペースを確保することができる。また、真空その他の吸引力を利用した支持方法なので、第２の光学部材の変形を抑制することが可能である。また、吸引力を解除することで、第２の光学部材を容易に取り外すことができ、その交換が容易である。【００１８】
本発明は、第４の観点からすると、所定のパターンの像を物体上に投影する露光装置であって、前記物体が載置されるステージと；前記物体に前記パターンの像を投影する本発明の光学装置と；を備える露光装置である。【００１９】
これによれば、物体にマスクに形成されたパターンの像を投影する本発明の光学装置を備えているので、第２の光学部材の変形が抑制されるとともに、その交換を容易に行うことができる。従って、この第２の光学部材の光学性能を長期に渡って良好に維持することができ、ひいては露光精度を高精度に維持することが可能となる。また、例えば第２の光学部材を投影光学系のウエハに対向する光学部材（終端の光学部材）とした場合、その第２の光学部材近傍のスペースが確保されていることから、露光の際に必要な部材を投影光学系の近傍に配置することができ、これにより露光装置全体の小型化を図ることができる。【００２０】
この場合において、前記第２の光学部材と前記物体との間に液体が満たされた液浸領域を形成する液浸装置を更に備えることとすることができる。かかる場合には、第２の光学部材近傍のスペースが確保されていることから、液浸装置を第２の光学部材の近傍に近づけることができるので、液浸領域を小さくすることができる。これにより、物体を保持するステージの小型化も図ることができるので、ステージの位置制御性が向上し、この点からも露光精度を向上することが可能となる。【００２１】
また、リソグラフィ工程において、本発明の露光装置を用いて物体上にデバイスパターンを転写するので、微細パターンを物体上に精度良く転写することができる。従って、本発明は別の観点からすると、本発明の露光装置を用いて、物体上にデバイスパターンを転写する工程を含むデバイス製造方法であるとも言える。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】一実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
【図２】投影光学系下端部近傍の縦断面図である。
【図３（Ａ）】スペーサ部材を上方から見た状態を示す斜視図である。
【図３（Ｂ）】スペーサ部材を下方から見た状態を示す斜視図である。
【図４】スペーサ部材の縦断面図である。
【図５（Ａ）】環状部材の内部構造及び液浸装置の構成を示す図である。
【図５（Ｂ）】環状部材の底面図である。
【図６】液浸装置の作用を説明するための図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図６に基づいて説明する。【００２４】
図１には、一実施形態の露光装置１００の概略構成が示されている。この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる）である。この露光装置１００は、照明系１０、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、光学装置としての投影ユニットＰＵ、ステージとしてのウエハステージＷＳＴを有するステージ装置５０、及びこれらの制御系等を備えている。ウエハステージＷＳＴ上には、物体としてのウエハＷが載置されるようになっている。【００２５】
前記照明系１０は、不図示のレチクルブラインド等（いずれも不図示）を含んで構成されている。この照明系１０では、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上でＸ軸方向に延びるスリット状の照明領域をエネルギビームとしての照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。【００２６】
前記レチクルステージＲＳＴ上には、回路パターンなどがそのパターン面（図１における下面）に形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動部１１によって、照明系１０の光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微少駆動可能であるとともに、所定の走査方向（ここでは図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向とする）に指定された走査速度で駆動可能となっている。【００２７】
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置（Ｚ軸回りの回転を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１６によって、移動鏡１５を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。なお、移動鏡１５は、実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている。このレチクル干渉計１６の計測値は、主制御装置２０に送られ、主制御装置２０では、このレチクル干渉計１６の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動部１１を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。【００２８】
前記投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、該鏡筒４０内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子、及びウエハに対向する平行平板９４（図１では不図示、図２参照）を含む投影光学系ＰＬとを含んで構成されている。本実施形態では、投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ軸方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）及び前記平行平板９４を含む屈折光学系が用いられている。【００２９】
前記平行平板９４は、投影ユニットＰＵの下端部近傍の断面図である図２に示されるように、投影ユニットＰＵの鏡筒４０の内部の複数のレンズのうちの最下端に位置する第１の光学部材としてのレンズ９２の下方にスペーサ部材９３を介して支持されている。【００３０】
また、図２からわかるように、レンズ９２と平行平板９４との間には、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する屈折率が１より大きい液体Ｌｑ２が充填されるようになっている。【００３１】
本実施形態では、レンズ９２を含む鏡筒４０の内部の複数のレンズと水Ｌｑ２と平行平板９４とを含んで、両側テレセントリックで所定の投影倍率（例えば１／４倍又は１／５倍）を有する屈折光学系から成る投影光学系ＰＬが実質的に構成されている。【００３２】
また、平行平板９４とウエハＷとの間にはＡｒＦエキシマレーザ光が透過する屈折率が１より大きい液体、前述の液体Ｌｑ２と同一の液体Ｌｑ１が供給されるようになっている。【００３３】
このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域が照明されると、このレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域内の回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、上記投影光学系ＰＬ及び液体Ｌｑ１を介して、表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハ上の前記照明領域に共役な照明光ＩＬの照射領域に形成される。【００３４】
なお、本実施形態の露光装置１００では、液浸法を適用した露光が行われるため、開口数ＮＡが実質的に増大することに伴いレチクル側の開口が大きくなる。このため、レンズのみで構成する屈折光学系においては、ペッツヴァルの条件を満足することが困難となり、投影光学系が大型化する傾向にある。かかる投影光学系の大型化を避けるために、ミラーとレンズとを含んで構成される反射屈折系（カタディ・オプトリック系）を用いても良い。【００３５】
なお、スペーサ部材９３などを含む投影光学系ＰＬの下端部近傍の構成や、液体Ｌｑ１，Ｌｑ２の供給等を行う液浸装置の構成等については、後に詳述する。【００３６】
図１に戻り、前記ステージ装置５０は、フレームキャスタＦＣ、該フレームキャスタＦＣ上に不図示の防振機構を介して設けられたベース盤１２、該ベース盤１２の上面の上方に配置されたウエハステージＷＳＴ、及び該ウエハステージＷＳＴを駆動するステージ駆動部１２４等を備えている。【００３７】
前記ベース盤１２は、定盤とも呼ばれる板状部材からなり、該ベース盤１２の上面は平坦度が非常に高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴの移動の際のガイド面とされている。【００３８】
前記ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ベース盤１２上に配置され、リニアモータ等により２次元面内を移動可能なウエハステージ本体２８と、該ウエハステージ本体２８上に不図示のＺ・チルト駆動機構を介して搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えている。Ｚ・チルト駆動機構は、実際には、ウエハステージ本体２８上でウエハテーブルＷＴＢを３点で支持する３つのアクチュエータ（例えば、ボイスコイルモータ又はＥＩコア）等を含んで構成され、ウエハテーブルＷＴＢをＺ軸方向、θｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、θｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の３自由度方向に微小駆動する。【００３９】
前記ウエハテーブルＷＴＢ上には、ウエハＷを保持するウエハホルダ７０が設けられている。ウエハホルダ７０は、板状の本体部と、該本体部の上面に固定されその中央にウエハＷの直径より２ｍｍ程度直径が大きな円形開口が形成された補助プレートとを備えている。この補助プレートの円形開口内部の本体部の領域には、多数のピンが配置されており、その多数のピンによってウエハＷが支持された状態で真空吸着されている。この場合、ウエハＷが真空吸着された状態では、そのウエハＷ表面と補助プレートの表面との高さがほぼ同一の高さとなるようになっている。【００４０】
また、ウエハテーブルＷＴＢの位置は、その上面端部に設けられた移動鏡１７を介して外部に配置された干渉計１８によって、０．５〜１ｎｍ程度の分解能で計測されている。ここで、実際には、ウエハテーブルＷＴＢ上面には、Ｘ軸方向の一端（−Ｘ側端）にＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡がＹ軸方向に延設され、Ｙ軸方向の一端（＋Ｙ側端）にＹ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡がＸ軸方向に延設されている。これらの移動鏡の各反射面には、Ｘ軸干渉計、Ｙ軸干渉計からの干渉計ビーム（測長ビーム）がそれぞれ投射され、各干渉計ではそれぞれの反射光を受光することで、各反射面の基準位置（一般には投影ユニットＰＵ側面や、不図示のオフアクシス・アライメント系の側面に固定ミラーを配置し、そこを基準面とする）からの計測方向の変位を計測する。Ｙ軸干渉計は、投影光学系ＰＬの投影中心（光軸ＡＸ）及びアライメント系の検出中心を結ぶＹ軸に平行な測長軸を有しており、Ｘ軸干渉計は、Ｙ軸干渉計の測長軸と投影光学系ＰＬの投影中心で垂直に交差する測長軸を有している。【００４１】
前記Ｙ軸干渉計は、少なくとも３本の光軸を有する多軸干渉計であり、各光軸の出力値は独立に計測できるようになっている。このＹ軸干渉計の出力値（計測値）は、主制御装置２０に供給され、主制御装置２０ではＹ軸干渉計からの出力値に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向の位置（Ｙ位置）のみならず、Ｘ軸回りの回転量（ピッチング量）及びＺ軸回りの回転量（ヨーイング量）をも計測できるようになっている。また、Ｘ軸干渉計は、少なくとも２本の光軸を有する多軸干渉計であり、各光軸の出力値は独立に計測できるようになっている。このＸ軸干渉計の出力値（計測値）は、主制御装置２０に供給され、主制御装置２０ではＸ軸干渉計からの出力値に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢのＸ軸方向の位置（Ｘ位置）のみならず、Ｙ軸回りの回転量（ローリング量）をも計測できるようになっている。【００４２】
上述のように、ウエハテーブルＷＴＢ上には、実際には、Ｘ軸移動鏡、Ｙ軸移動鏡が設けられ、これに対応してＸ軸干渉計、Ｙ軸干渉計が設けられているが、図１ではこれらが代表的に移動鏡１７、干渉計１８として示されている。なお、例えば、ウエハテーブルＷＴＢの端面を鏡面加工して反射面（移動鏡１７の反射面に相当）を形成しても良い。【００４３】
次に投影ユニットＰＵの下端部近傍の構成について説明する。【００４４】
前述の鏡筒４０内部の最下端のレンズ９２は、石英ガラス、フッ素ドープ石英、又はフッ化物結晶（例えば、ホタル石、フッ化リチウム等）から成り、その下端面が平面とされ、上側が球面（又は非球面）とされた平凸レンズである。このレンズ９２の外縁近傍には、全周に渡って傾斜面が形成されている。そして、この傾斜面が、図２の断面図に示されるように、鏡筒４０の下端部のテーパ部に下方から支持される状態で、レンズ９２が固定されている。鏡筒４０の下端には、リング状のシール部材４３が設けられている。【００４５】
前記スペーサ部材９３は、斜め上から見た斜視図である図３（Ａ）及び斜め下から見た斜視図である図３（Ｂ）に示されるように、断面略台形状（図２参照）で円環状の形状を有し、例えばレンズ材料である石英ガラス等の熱膨張率に近い非金属（例えば石英ガラスや低熱膨張セラミックス等）から成る。このスペーサ部材９３の上端面には全周に渡り凹溝から成る第１の溝９３ａが形成され、その下端面には、第１の溝９３ａと同様の第２の溝９３ｂが形成されている。【００４６】
スペーサ部材９３の＋Ｙ側の端部近傍の前記第１の溝９３ａの下方には、図４の断面図に示されるように、断面Ｌ字状の通気路１９３ｂが形成され、該通気路１９３ｂの一端が第１の溝９３ａの内部底面に開口している。通気路１９３ｂの他端は、スペーサ部材９３の外周面に開口している。この通気路１９３ｂの他端には、真空吸引管６１ｂの一端が接続されている。真空吸引管６１ｂの他端は、真空吸引装置２００に接続されている。【００４７】
スペーサ部材９３の−Ｙ側の端部近傍の前記第１の溝９３ａの下方にも、前述の通気路１９３ｂと同様の通気路１９３ａが左右対称に形成され、この通気路１９３ａの一端が第１の溝９３ａの内部底面に開口している。この通気路１９３ａの他端側の開口端には、真空吸引管６１ａの一端が接続され、この真空吸引管６１ａの他端は、前述の真空吸引装置２００に接続されている（図４参照）。【００４８】
スペーサ部材９３の＋Ｘ側、−Ｘ側の端部近傍の前記第２の溝９３ｂの上方には、前述の通気路１９３ｂと同様のＬ字状の通気路１９３ｃ，１９３ｄがそれぞれ形成され、これらの通気路１９３ｃ，１９３ｄの一端が図３（Ｂ）に示されるように前記第２の溝９３ｂの内部底面にそれぞれ開口している。これら通気路１９３ｃ，１９３ｄそれぞれの他端には、真空吸引管６１ｃ、６１ｄの一端が接続され、真空吸引管６１ｃ，６１ｄの他端は、前述の真空吸引装置２００に接続さている。【００４９】
本実施形態では、真空吸引管６１ａ〜６１ｄ及び真空吸引装置２００により、スペーサ部材９３に形成された通気路１９３ａ〜１９３ｄ及び第１、第２の溝９３ａ，９３ｂ内に負圧を生じさせることが可能な真空吸引機構が構成されている。【００５０】
前記スペーサ部材９３には、図３（Ａ）及び図４に示されるように、その外周面の外側から内周面の内側に至る半径方向の流路２９３ｂが形成されている。この流路２９３ｂの一端には、液体供給管６２の一端が接続されており、該液体供給管６２の他端側は、液体供給装置８８（図４では不図示、図５（Ａ）参照）に接続されている。この液体供給装置８８は、液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置を含んで構成されている。前記温度制御装置は、液体タンク内の液体の温度を、露光装置本体が収納されているチャンバ（不図示）内の温度と同程度の温度に調整する。また、供給管６２の一部には液体の供給・停止を制御するためのバルブ５１ａが設けられている。なお、このバルブ５１ａとしては、例えば液体の供給・停止のみならず、流量の調整も可能となるように、流量制御弁を用いることが望ましい。また、バルブ５１ａは液体供給装置８８の内部に設けることとしても良い。【００５１】
一方、図３（Ａ）に示されるように、スペーサ部材９３の流路２９３ｂに対して反対側の位置（点対称な位置）には、流路２９３ａが形成されている。この場合、図３（Ａ）からわかるように、流路２９３ａの開口端は、前述した流路２９３ｂの開口端よりも重力方向に関して高い位置に形成されている。この流路２９３ａの一端には、液体回収管６３が接続されており、該液体回収管６３の他端側は、液体のタンク及び吸引ポンプを含んで構成される液体回収装置９９（図３（Ａ）では不図示、図５（Ａ）参照）に接続されている。液体回収管６３の一部には、液体の回収・停止を制御するためのバルブ５１ｂが設けられている。このバルブ５１ｂとしては、前述した液体供給装置側のバルブに対応して流量制御弁を用いることが望ましい。なお、バルブ５１ｂは液体回収装置９９内部に設けることとしても良い。【００５２】
ここで、前記液体としては、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できると共に、ウエハ上のフォトレジストや光学レンズ等に対する悪影響がない利点がある。【００５３】
前記平行平板９４は、図３（Ａ）に示されるように、その上面と下面とが平行な平面とされた、レンズ９２と同様、ホタル石、フッ化リチウム等のフッ化物結晶から成る、全体として円板状の部材である。この平行平板９４の下面の外縁部には、周方向全体に渡って傾斜部（テーパ部）が形成されている（図２等参照）。【００５４】
本実施形態では、前述したように、スペーサ部材９３に真空吸引管６１ａ〜６１ｄを介して真空吸引装置２００が接続されていることから、図２に示されるように、レンズ９２の下面（平面）と平行平板９４の上面（平面）との間にスペーサ部材９３を介装させた状態とし、真空吸引装置２００を作動させることで、スペーサ部材９３の通気路１９３ａ〜１９３ｄ内部及び第１、第２の溝９３ａ，９３ｂ内部に負圧を生じさせ、スペーサ部材９３にレンズ９２の周縁部及び平行平板９４の周縁部を真空吸引させることができ、このようにして、平行平板９４がスペーサ部材９３を介してレンズ９２に支持されている。【００５５】
また、スペーサ部材９３は円環状の部材であることから、レンズ９２とスペーサ部材９３と平行平板９４とで囲まれる空間は、閉空間２１となる（図２参照）。この閉空間２１内に液体（水）が保持されるので、以下ではこの閉空間２１を液体室２１と呼ぶ。本実施形態では、この液体室２１内に、次のようにして液体（水）Ｌｑ２が保持されている。【００５６】
すなわち、主制御装置２０（図１参照）が、液体供給管６２に接続されたバルブ５１ａを所定開度で開き、流路２９３ｂを介して前記液体室２１内への水の供給を開始する。そして、液体室２１内が水で満たされるのに先立って、主制御装置２０は、液体回収管６３に接続されたバルブ５１ｂを所定開度で開き、流路２９３ａを介して液体室２１から液体回収装置９９（液体のタンク）の内部への水の回収を開始する（図５参照）。このとき、主制御装置２０は、液体室２１内へ供給される水の量と、液体室２１から回収される水の量とが常に等しくなるようにする。従って、液体室２１内に、一定量の水Ｌｑ２（図２参照）が保持される。この場合、液体室２１内で保持された水Ｌｑ２は、常に入れ替わっている。また、本実施形態では、水が液体室２１の下端部近傍から供給され、液体室２１の上端部近傍から回収されるので、液体室２１内の空気が水の回収の際に同時に回収されるので、液体室２１内を水で確実に満たすことが可能となっている。【００５７】
前記平行平板９４の周囲には、図２に示されるように、その平行平板９４及びスペーサ部材９３を取り囲む状態で環状部材９５が設けられている。これを更に詳述すると、環状部材９５は、平行平板９４の前述したテーパ部とウエハＷとの間にその先端部（内周側の端部）が挿入された状態で、かつその底面がＸＹ平面に平行になる状態で、不図示の支持部材を介して、例えば投影ユニットＰＵを保持する保持部材に吊り下げ支持されている。これにより、投影光学系ＰＬと環状部材９５との投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向（Ｚ軸方向）に関する位置関係が一定に維持されている。【００５８】
また、環状部材９５は、図２の状態で、スペーサ部材９３の外周縁近傍に所定のクリアランスを介して下方から嵌合（係合）する段部がその内周側の上端面近傍に形成されている。この環状部材９５の段部上面には、スペーサ部材９３の下面に圧接する環状のシール部材４２が設けられている。また、この環状部材９５上面の段部の内周側には、平行平板９４の前述のテーパ部に下方から圧接する環状のシール部材４１が設けられている。この場合、スペーサ部材９３による真空吸引力が解除された場合、環状部材９５によって、シール部材４２，４１をそれぞれ介してスペーサ部材９３、平行平板９４が下方から支持されるようになっている。【００５９】
環状部材９５の底面には、図２では省略されているが、図５（Ａ）と、図５（Ｂ）の環状部材９５の底面図とを総合するとわかるように、円環状の給水溝７０、及び円環状の排水溝７２が、内側から外側に順次、かつ同心円状に形成されている。なお、図５（Ａ）、図５（Ｂ）においては、２つの溝７０，７２の内、給水溝７０の溝幅が排水溝７２の溝幅より大きく設定されている。【００６０】
給水溝７０の内部底面（図５（Ａ）の内部上面）には、上下方向に貫通する貫通孔７８が、ほぼ等間隔で複数形成され、各貫通孔７８に給水管８０の一端がそれぞれ上方から接続されている。各給水管８０の他端は、バルブ８６ａをそれぞれ介して、前述した液体供給装置８８にその一端が接続された供給管路９０の他端にそれぞれ接続されている。この場合、対応するバルブ８６ａが開状態のとき、液体供給装置８８が作動されると、例えば露光装置１００（の本体）が収納されているチャンバ（図示省略）内の温度と同程度の温度に温度制御装置によって温調された液浸用の液体が、供給管路９０、給水管８０及び貫通孔７８を順次介して、環状部材９５の給水溝７０内部に供給される。なお、以下では、各給水管８０に設けられたバルブ８６ａを纏めて、バルブ群８６ａとも記述する。【００６１】
上記の液浸用の液体としては、前述した液体Ｌｑ２と同様、ここでは、ＡｒＦエキシマレーザ光（１９３．３ｎｍの光）が透過する超純水を用いるものとする。水の屈折率ｎは、ほぼ１．４４である。この水の中では、照明光ＩＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。また、超純水は環境に対する悪影響がないと共に、不純物の含有量が極めて低いため、ウエハの表面、及び平行平板９４の表面を洗浄する作用も期待できる。【００６２】
前記排水溝７２の内部底面（図５（Ａ）の内部上面）には、上下方向に貫通する貫通孔７４が、ほぼ等間隔で複数形成され、各貫通孔７４に排水管７６の一端がそれぞれ上方から接続されている。前記各排水管７６の他端は、バルブ８６ｂをそれぞれ介して、前述した液体回収装置９９にその一端が接続された排水路９８の他端にそれぞれ接続されている。この場合、対応するバルブ８６ｂが開状態のとき、環状部材９５の下面とウエハＷ表面との間の、排水溝７２近傍に存在する水が排水管７６を介して液体回収装置９９によって回収される。なお、以下では、各排水管７６に設けられたバルブ８６ｂを纏めて、バルブ群８６ｂとも記述するものとする。【００６３】
ここで、バルブ群８６ａ、８６ｂの各バルブとしては、前述と同様に、開閉の他、その開度の調整が可能な調整弁（例えば流量制御弁）などが用いられている。【００６４】
次に、液浸用の水の給排動作について説明する。ここでは、ウエハステージＷＳＴは、静止しているものとする。【００６５】
まず、主制御装置２０は、バルブ群８６ａの各バルブを所定の開度で開いた状態で、液体供給装置８８から環状部材９５に対して給水を開始するとともに、バルブ群８６ｂの各バルブを所定の開度で開いた状態で、液体回収装置９９の作動を開始させる。これにより、液体供給装置８８から給水路９０及び各給水管８０を介して環状部材９５の給水溝７０内部に所定の圧力（陽圧）の水が送り込まれ、この送り込まれた水の一部が環状部材９５の給水溝７０内部及び環状部材９５の下面とウエハＷとの間の空間、並びに平行平板９４とウエハＷとの間の空間に行き渡った後、排水溝７２、各貫通孔７４を介して液体回収装置９９に回収される。【００６６】
このとき、主制御装置２０は、環状部材９５に対する給水量が、排水溝７２から排水される量とほぼ同じになるように、バルブ群８６ａ，８６ｂの各バルブの開度、液体供給装置８８から供給される水の圧力、液体回収装置９９が各配水管７６の内部に生じさせる負圧などを設定している。このようにして、常時一定量の水が平行平板９４下方に送り込まれ、この送り込まれた水が液体回収装置９９によって常時回収されている。【００６７】
なお、環状部材９５の底面の給水溝７０の内側に別の排水溝を形成し、この別の排水溝の内部を不図示の管路を介して大気に解放しても良い。この場合には、主制御装置２０は、環状部材９５に対する給水量が、排水溝７２から排水される量より僅かに多くなるように、バルブ群８６ａ，８６ｂの各バルブの開度、液体供給装置８８から供給される水の圧力、液体回収装置９９が各配水管７６の内部に生じさせる負圧などを設定する必要がある。このようにすると、環状部材９５に供給され、排水溝７２から排水されなかった残りの水は、環状部材９５の下面及び平行平板９４とウエハＷとの間の空間を満たした後、別の排水溝及び管路を介して外部に排水される。この場合、別の排水溝は、大気開放された受動的な排水溝となっているので、平行平板９４には、殆ど水圧がかからず、ストレス（応力）が発生しないようになる。【００６８】
いずれにしても、ウエハステージＷＳＴが、所定方向、例えば図６中に矢印Ｃで示される方向に移動する際には、平行平板９４の下方に同図に矢印Ｆで示されるような水の流れが生じる。この矢印Ｆで示される流れは、非圧縮性の粘性流体であり、かつニュートンの粘性の法則が成り立つニュートン流体である水が、ウエハＷ表面と平行平板９４下面との相対変位によりせん断力を受けることに起因して生じる、層流クエット（Couette）流れである。【００６９】
本実施形態の露光装置１００では、ウエハステージＷＳＴ及びウエハＷが駆動されるとき、例えばウエハステージＷＳＴ（及びウエハＷ）のショット間ステッピング時及びスキャン露光時などには、その駆動方向に応じた向きの層流クエット流れが生じるので、平行平板９４下方の水が入れ替わるようになっている。【００７０】
上述のようにして構成された本実施形態の露光装置１００では、通常のスキャニング・ステッパと同様に、不図示のレチクルアライメント系、アライメント検出系等を用いた、レチクルアライメント、アライメント検出系のベースライン計測、並びにＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）等のウエハアライメントなどの所定の準備作業が行われた後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行われ、ウエハＷ上の各ショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。なお、これらの各動作は、前述したようにして液体室２１内に液体Ｌｑ２を保持し、かつ平行平板９４とウエハＷとの間に液体Ｌｑ１を保持した状態で、レチクルアライメント及び露光動作が行われる点を除き、通常のスキャニング・ステッパの場合と特に異なる点はないので、詳細説明については省略する。【００７１】
これまでの説明からわかるように、本実施形態では、環状部材９５に形成された各貫通孔７８及び給水溝７０が液体供給ノズルの機能を果たし、環状部材９５に形成された各貫通孔７４及び排水溝７２が液体回収ノズルとしての機能を果たしている。しかしながら、本実施形態の構成は、一例に過ぎず、例えば、国際公開第９９／４９５０４号パンフレットに開示されるような供給ノズル及び回収ノズルを、環状部材９５に代えて設けることとしても良い。【００７２】
以上説明したように、本実施形態に係る投影ユニットＰＵによると、該投影ユニットＰＵを構成する平行平板９４の支持構造として、本発明の支持構造が採用されている。すなわち、投影光学系ＰＬを構成する複数のレンズのうちの鏡筒４０内部の最下端に位置するレンズ９２と平行平板９４との間に介装され、レンズ９２の周縁部と平行平板９４の周縁部とを吸引するスペーサ部材９３を介してレンズ９２に平行平板９４が支持される。この場合、スペーサ部材９３は、レンズ９２、平行平板９４の相互の対向面をそれぞれ吸引するようになっているので、そのスペーサ部材９３がレンズ９２及び平行平板９４の外側に張り出さないようになっている。従って、平行平板９４を、その外側に張り出すことなく、スペーサ部材９３によって支持できるようになっている。これにより、平行平板９４近傍のスペースを確保することができる。【００７３】
また、スペーサ部材９３による平行平板９４の支持方法は、真空吸引力を利用した支持方法なので、平行平板９４の変形を抑制することが可能である。また、吸引力を解除することで、平行平板９４を容易に取り外すことができ、その交換が容易であるので、比較的頻繁に平行平板９４を交換することができる。【００７４】
従って、本実施形態の露光装置１００によると、上述のような理由により、結像性能が良好に維持された投影光学系ＰＬを用いてウエハＷ上にレチクルＲのパターンが転写される。【００７５】
また、平行平板９４近傍のスペースが確保されていることから、そのスペースに露光のために必要な部材、例えば上述した環状部材９５などのノズル形成部材を配置することができ、これにより、液浸領域を小さくすることができる。これにより、ウエハテーブルＷＴＢの小型化を図ることができ、ウエハテーブルＷＴＢの位置制御性が向上し、この点においても露光精度を向上することが可能となる。【００７６】
更に、本実施形態の露光装置によると、レンズ９２と平行平板９４との間に形成された液体室２１に、水（液体）が供給された状態の投影光学系ＰＬを介して、平行平板９４とウエハＷとの間に液浸領域を形成した状態で露光が行われるので、高解像度かつ空気中と比べて大焦点深度（ＮＡ＞１）の露光を行うことが可能となり、レチクルＲのパターンを精度良くウエハ上に転写することができ、例えばデバイスルールとして７０〜１００ｎｍ程度の微細パターンの転写を実現することができる。【００７７】
また、本実施形態では、投影光学系ＰＬの最も像面側の光学素子が、平行平板９４になっているので、交換前後の位置決めが簡単であるとともに、交換前後における結像性能の変化が殆ど生じない。従って、この点においても、投影光学系ＰＬの良好な結像性能を維持することができる。【００７８】
なお、上記実施形態において、前述の給水溝７０及び排水溝７２を隔壁で仕切り、複数のセルを形成しても良い。このようにすると、ウエハのエッジ部分に環状部材９５がかかった際に、エッジ部分に対応するセルの圧力変化が生じる場合であっても、該圧力変化の影響がその他のセルに及ばないようにすることができる。【００７９】
なお、上記実施形態では、環状部材９５によりシール部材４２，４１を介して平行平板９４を下方から支持するものとしたが、必ずしもこのようにしなくても良い。【００８０】
なお、上記実施形態では、本発明が液浸露光装置に採用された場合について説明したが、これに限らず、通常の露光装置に採用することもできる。この場合、平行平板９４により、ウエハＷ表面に塗布されたレジストが飛散した場合に、レンズ９２に付着するのを防止することができる。【００８１】
なお、上記実施形態では、レンズ９２の下側に配置される光学部材として、平行平板９４を採用したが、本発明がこれに限られるものではなく、平行平板９４に代えてレンズを採用しても良い。この場合、レンズの上面の周縁部近傍を平面に加工し、該平面を真空吸引することとしても良いし、レンズに保持部材（フランジ）を設け、該フランジ部分を真空吸引しても良い。【００８２】
なお、上記実施形態では、スペーサ部材９３を環状とする場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではない。スペーサ部材９３としては、単体の場合に限らず、例えば３つのスペーサ部材を光学部材の周縁部に対して所定距離離して配置し、平行平板９４を３点にて吊り下げ支持することとしても良い。【００８３】
更に、上記実施形態のようにスペーサ部材９３とレンズ９２との間、及びスペーサ部材９３と平行平板９４との間の両方に、真空吸引力を作用させる場合に限らず、いずれか一方、例えば平行平板９４にのみ真空吸引力を作用させ、他方をねじ等で固定することとしても良い。この場合、レンズ９２の周囲にフランジを設け、該フランジをねじ等で固定することとしても良い。【００８４】
なお、上記実施形態では、吸引力として真空吸引力を用いることとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、例えば、静電気力や磁気力を用いることとしても良い。【００８５】
なお、上記実施形態では、スペーサ部材９３を介装して、投影光学系ＰＬを構成する最下端のレンズ９２に平行平板９４を保持させる場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、投影光学系ＰＬ内の一のレンズと、該一のレンズの下方に配置された他のレンズとの間にスペーサ部材９３を介装し、一のレンズに他のレンズを支持させることとしても良い。【００８６】
また、本発明の支持方法は、投影光学系を構成する光学部材の支持に採用する場合に限られず、照明系を構成する光学部材の支持に採用することとしても良い。【００８７】
なお、上記実施形態では、液体として超純水（水）を用いるものとしたが、本発明がこれに限定されないことは勿論である。液体としては、化学的に安定で、照明光ＩＬの透過率が高く安全な液体、例えばフッ素系不活性液体を使用しても良い。このフッ素系不活性液体としては、例えばフロリナート（米国スリーエム社の商品名）が使用できる。このフッ素系不活性液体は冷却効果の点でも優れている。また、液体として、照明光ＩＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、また、投影光学系やウエハ表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油等）を使用することもできる。また、Ｆ2レーザを光源とする場合は、フォンブリンオイルを選択すれば良い。【００８８】
また、上記実施形態で、回収された液体を再利用するようにしても良く、この場合は回収された液体から不純物を除去するフィルタを液体回収装置、又は回収管等に設けておくことが望ましい。【００８９】
また、上記実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されないことは勿論である。すなわちステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置、さらに、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置、又はプロキシミティ方式の露光装置などにも、本発明は適用できる。【００９０】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。【００９１】
なお、上記実施形態の露光装置では、照明光ＩＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）、Ａｒ2レーザ光（波長１２６ｎｍ）、Ｋｒ2レーザ光（波長１４６ｎｍ）などのパルスレーザ光や、超高圧水銀ランプからのｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝線などを用いることも可能である。また、ＹＡＧレーザの高調波や、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、投影光学系は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良い。【００９２】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられる。【００９３】
また、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、本発明は適用できる。なお、電子線露光装置は、ペンシルビーム方式、可変成形ビーム方式、セルプロジェクション方式、ブランキング・アパーチャ・アレイ方式、及びマスク投影方式のいずれであっても良い。例えば、電子線を用いる露光装置では、電磁レンズを備えた光学系が用いられるが、この光学系が露光光学系を構成し、この露光光学系の鏡筒などを含んで露光光学系ユニットが構成される。【００９４】
なお、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した調整方法によりパターンの転写特性が調整される上記実施形態の露光装置で、マスクに形成されたパターンを感光物体上に転写するリソグラフィステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、パターンの転写特性が調整される上記実施形態の露光装置が用いられるので、高集積度のデバイスを歩留り良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
以上説明したように、本発明の光学部材の支持方法及び支持構造は、光学部材の支持に適している。また、本発明の光学装置は、露光装置を構成する投影光学系として用いるのに適している。また、本発明の露光装置は、マスクに形成されたパターンを物体上に転写するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの製造に適している。
【図１】
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【図２】
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【図３（Ａ）】
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【図３（Ｂ）】
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【図４】
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【図５（Ａ）】
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【図５（Ｂ）】
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【図６】
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【国際調査報告】
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