(57)【要約】  入射光束を所定面において多極照明形状の光束へ変換するための光束変換素子において、多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域４０ａを所定面において極座標で表現するとき、局所照明領域は、数１2005062350.tif 000007の条件を満足する形状を有することを特徴とする。ただし、局所照明領域を極座標で表現するときの動径をＲ、局所照明領域を極座標で表現するときの偏角をθ、極座標の原点０から局所照明領域の中心Ａまでの径方向の距離をＲ´、局所照明領域の中心から局所照明領域の外側境界Ｂまでの距離（径方向半径）をＲ０、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線Ｃ１，Ｃ２の開き角（方位角）をφ、局所照明領域の中心における動径（局所方位角）をθ´とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光束を所定面において多極照明形状の光束へ変換するための光束変換素子において、
前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域を前記所定面において極座標で表現するとき、前記局所照明領域は以下の条件を満足する形状を有することを特徴とする光束変換素子。
数４
2005062350.tif 000005
ただし、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの動径をＲ、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの偏角をθ、前記極座標の原点から前記局所照明領域の中心までの径方向の距離をＲ´、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）をＲ０、前記極座標の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）をφ、前記局所照明領域の前記中心における動径（局所方位角）をθ´とする。
【請求項２】
前記多極照明形状は、前記所定面上の少なくとも周辺部に前記局所照明領域を有することを特徴とする請求項１記載の光束変換素子。
【請求項３】
前記多極照明形状は、２つの前記局所照明領域を有する２極照明形状または４つの前記局所照明領域を有する４極照明形状であることを特徴とする請求項２記載の光束変換素子。
【請求項４】
マスクのパターンを照明する照明光学系と、
照明された前記マスクの前記パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系と、
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の光束変換素子と
を備え、
前記光束変換素子は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な照明瞳またはその近傍に前記多極照明形状を形成することを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記照明光学系は、アキシコン系を備えていることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記アキシコン系は、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の前記外側境界までの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ前記極座標の原点から前記局所照明領域の前記中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記照明光学系は、前記多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えていることを特徴とする請求項４乃至請求項６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
複数の前記光束変換素子を備え、
該複数の光束変換素子は互いに交換可能に構成されることを特徴とする請求項４乃至請求項７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記照明瞳上において前記照明瞳からの０次光が前記投影光学系の前記瞳を通過することができる領域を有効照明領域とするとき、前記多極照明形状は、該有効照明領域の内側境界に略局在化する形状の光強度分布を持つことを特徴とする請求項４乃至請求項８の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記局所照明領域のうちの５０％以上の領域は前記有効照明領域内に局在していることを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
マスクのパターンを照明する照明光学系において、
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の光束変換素子を備えることを特徴とする照明光学系。
【請求項１２】
前記照明光学系は、アキシコン系を備えていることを特徴とする請求項１１記載の照明光学系。
【請求項１３】
前記アキシコン系は、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の前記外側境界までの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ前記極座標の原点から前記局所照明領域の前記中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することを特徴とする請求項１２記載の照明光学系。
【請求項１４】
前記照明光学系は、前記多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えていることを特徴とする請求項１１乃至請求項１３の何れか一項に記載の照明光学系。
【請求項１５】
マスクのパターンを照明する照明光学系において、
前記照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられて、入射光束を所定面において第１の多極照明形状の光束に変換する第１の光束変換手段と、
前記照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられて、入射光束を前記所定面において第２の多極照明形状の光束に変換する第２の光束変換手段と、
前記第１の光束変換手段と前記第２の光束変換手段との切替を行う切替手段とを備え、  前記所定面上の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角を方位角とするとき、前記切替手段により前記第１の光束変換手段と前記第２の光束変換手段との切替が行われた場合に、前記切替の前後における前記多極照明形状の方位角の変化量φ´が以下の条件を満足することを特徴とする照明光学系。
−１°＜φ´＜１°
【請求項１６】
前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域に内接する前記所定面上の円を内接円とするとき、前記複数の局所照明領域のうちの１つは、該１つの局所照明領域と前記内接円との接線よりも外側に局在していることを特徴とする請求項１５記載の照明光学系。
【請求項１７】
前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域を前記所定面において極座標で表現するとき、前記第１の光束変換手段及び前記第２の光束変換手段の前記局所照明領域は以下の条件を満足する形状を有することを特徴とする請求項１５又は請求項１６記載の照明光学系。
数５
2005062350.tif 000006
ただし、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの動径をＲ、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの偏角をθ、前記極座標の原点から前記局所照明領域の中心までの径方向の距離をＲ´、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）をＲ０、前記極座標の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）をφ、前記局所照明領域の前記中心における動径（局所方位角）をθ´とする。
【請求項１８】
感光性基板上にマスクのパターンを転写する露光装置において、
前記マスクを照明するための請求項１１乃至請求項１７の何れか一項に記載の照明光学系と、
前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系とを備え、  前記所定面は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な面または該共役な面の近傍に位置決めされることを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の光束変換素子を備える照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２０】
感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項４乃至請求項１０及び請求項１８の何れか一項に記載の露光装置中の照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２１】
感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項１１乃至請求項１７の何れか一項に記載の照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と
を含むことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に用いられる光束変換素子、該光束変換素子を備えた露光装置及び照明光学系並びに該光束変換素子を用いた露光方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置においては、光源から射出された光束がマイクロフライアイレンズ（またはフライアイレンズ）に入射し、その後側焦点面に多数の光源からなる二次光源を形成する。二次光源からの光束は、必要に応じてマイクロフライアイレンズの後側焦点面の近傍に配置された開口絞りを介して制限された後、コンデンサーレンズに入射する。【０００３】
コンデンサーレンズにより集光された光束は、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクのパターンを透過した光は、投影光学系を介してウェハ上に結像する。こうして、ウェハ上には、マスクパターンが投影露光（転写）される。なお、マスクに形成されたパターンは高集積化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。【０００４】
また、マスクのパターンが微細になり、露光装置の解像限界付近にて露光が行われるようになると、照明光学系の開口絞りから射出した光のうち、解像に寄与するのは、開口絞りの周辺部から射出した光のみになり、開口部の中心部から射出した光は像のコントラストを下げるだけの働きしか持たなくなる。従って、近年、照明光学系の照明瞳の周辺部に光強度分布を有する輪帯状や多極状（例えば、４極状）の変形照明を行い、マイクロフライアイレンズの後側焦点面に二次光源を形成することにより、投影光学系の焦点深度や解像力を向上させる技術が注目されている。【０００５】
ここで、輪帯状や多極状の二次光源を形成ための手段として、露光装置の照明光学系に複数の基本光学素子からなる光束変換素子を備え、この光束変換素子を介することにより光束変換素子に入射する光束を照明光学系の照明瞳において所定の断面形状（例えば輪帯状や多極状）を有する光束に変換し、この所定の断面形状を有する光束が入射したマイクロフライアイレンズの後側焦点面に二次光源を形成する露光装置が開示されている（例えば、特開２００１−１７４６１５号公報参照）。また、入射光束から輪帯状や多極状の照明領域を形成するための手段として、ホログラムのような不規則的にパターン形成された回折フリンジ等を有し、入射光束の光強度を出力平面において予定された光強度分布を有する光束に変換することが開示されている（例えば、特表２００１−５０７１３９号公報参照）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、光束変換素子等を用いて照明光束を多極照明形状の局所照明領域を形成するための光束に変換し多極照明を行う場合、使用されるマスクのパターンに応じて局所照明領域の形状を規定する輪帯比を変化させて照明を行っているが、１つの光束変換素子で対応することができる輪帯比には限界があり、対応可能な輪帯比の範囲毎に光束変換素子を交換する必要がある。また、従来、多極照明形状を構成する局所照明領域の形状は、照明光学系の開口数ＮＡと輪帯比のみで規定されていた。ここで、輪帯比とは、照明光学系の照明瞳の中心から多極照明形状の局所照明領域の形状の内側境界までの距離と照明光学系の照明瞳の中心から多極照明形状局所照明領域の形状の外側境界までの距離との比である。【０００７】
従来、光束変換素子は円形状の局所照明領域を形成するための光束に入射光束を変換するように作成されており、局所照明領域を規定する輪帯比は、照明光学系が備えるアキシコン系を用いて変化させている。図１４Ａ，図１４Ｂは、２つの光束変換素子を用いて４極照明形状の局所照明領域の形状を変化させた状態を説明するための図である。図１４Ａに示すように、第１の光束変換素子により、入射光束が円形状の局所照明領域を形成するための光束に変換され、略円形の局所照明領域を形成する。局所照明領域の輪帯比が変更されることにより、円形状であった局所照明領域の形状は、照明光学系が備えるアキシコン系を用いることにより図１４Ｂや図１４Ｃに示すような形状に変化する。【０００８】
ここで、局所照明領域の輪帯比を維持した状態で、高い輪帯比に対応した第２の光束変換素子に交換した場合、図１４Ｄに示すように第２の光束変換素子により入射光束が局所照明領域を形成するための光束に変換され略円形の局所照明領域を形成する。局所照明領域の輪帯比が変更されることにより円形状であった局所照明領域の形状は、照明光学系が備えるアキシコン系を用いることにより図１４Ｅに示すような形状に変化する。【０００９】
上述したように光束変換素子は円形状の局所照明領域を形成するための光束に入射光束を変換するように作成されており、かつ輪帯比の範囲により局所照明領域の形状が規定されているため、第１の光束変換素子を第２の光束変換素子に交換した場合には、局所照明領域の形状が、図１４Ｃに示す形状から図１４Ｄに示す形状に変化する。即ち、交換前後における輪帯比は同一であるにもかかわらず、４極照明形状の中心から局所照明領域に引いた接線の開き角である方位角が交換前後において異なり、光束変換素子の交換前後における局所照明領域の形状が異なる。【００１０】
従って、露光装置において光束変換素子を適宜交換しつつマスクの連続照明を行う場合、図１４Ｃと図１４Ｄに示すように光束変換素子の交換前後における局所照明領域の形状が異なるため、照明光の照明特性の同一性を維持することができないという問題がある。【００１１】
この発明の課題は、入射光束を所定面において最適な多極照明形状の局所照明領域の光束へ変換する光束変換素子、該光束変換素子を備えた露光装置及び照明光学系並びに該光束変換素子を用いた露光方法を提供することである。【００１２】
この発明の光束変換素子は、入射光束を所定面において多極照明形状の光束へ変換するための光束変換素子において、前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域を前記所定面において極座標で表現するとき、前記局所照明領域は、【００１３】
【数１】
2005062350.tif 000002
【００１４】
の条件を満足する形状を有することを特徴とする。ただし、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの動径をＲ、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの偏角をθ、前記極座標の原点から前記局所照明領域の中心までの径方向の距離をＲ´、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）をＲ０、前記極座標の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）をφ、前記局所照明領域の前記中心における動径（局所方位角）をθ´とする。【００１５】
この発明の光束変換素子によれば、多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域の形状が所定面において極座標で表現するとき（１）式を満足しているため、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより多極照明形状を構成する局所照明領域の形状を規定することができる。従って、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて使用する光束変換素子を交換する場合においても、交換前の局所照明領域の形状と交換後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、交換前後において照明光の照明特性が変化するのを防止することができ、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００１６】
また、この発明の光束変換素子は、前記多極照明形状が前記所定面上の少なくとも周辺部に前記局所照明領域を有することを特徴とする。【００１７】
この発明の光束変換素子によれば、所定面上の少なくとも周辺部に局所照明領域を有するため、像のコントラストを極力下げることなく、最適な照明光によりマスクの照明を行うことができる。【００１８】
また、この発明の光束変換素子は、前記多極照明形状が２つの前記局所照明領域を有する２極照明形状または４つの前記局所照明領域を有する４極照明形状であることを特徴とする。この発明の光束変換素子によれば、光束変換素子を露光装置に搭載する場合、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて最適な光束変換素子を使用することができる。【００１９】
また、この発明の露光装置は、マスクのパターンを照明する照明光学系と、照明された前記マスクの前記パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系と、この発明の光束変換素子とを備え、前記光束変換素子は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な照明瞳またはその近傍に前記多極照明形状を形成することを特徴とする。【００２０】
この発明の露光装置によれば、この発明の光束変換素子を備えているため、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより多極照明形状を構成する局所照明領域の形状を規定することができる。従って、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて使用する光束変換素子を交換する場合においても、交換前の局所照明領域の形状と交換後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、交換前後において照明光の照明特性の変化を防止することができる。また、所定面上の少なくとも周辺部に多極照明形状の局所照明領域を有するため、像のコントラストの低下を抑えることができる。従って、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００２１】
また、この発明の露光装置は、前記照明光学系がアキシコン系を備えていることを特徴とする。【００２２】
また、この発明の露光装置は、前記アキシコン系が前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の前記外側境界までの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ前記極座標の原点から前記局所照明領域の前記中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することを特徴とする。【００２３】
この発明の露光装置によれば、照明光学系が径方向半径Ｒ０を一定に維持しつつ極座標の原点から局所照明領域の中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することができるアキシコン系を備えているため、多極照明形状の中心から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φを変化させることなく、局所照明領域の形状を変化させることができる。【００２４】
また、この発明の露光装置は、前記照明光学系が前記多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えていることを特徴とする。この発明の露光装置によれば、照明光学系が多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えているため、多極照明形状の大きさを自由に設定することができる。【００２５】
また、この発明の露光装置は、複数の前記光束変換素子を備え、該複数の光束変換素子は互いに交換可能に構成されることを特徴とする。この発明の露光装置によれば、互いに交換可能に構成された複数の光束変換素子を備えているため、露光装置のマスクのパターンのピッチ等の違いに対応した最適な光束変換素子を使用することができる。【００２６】
また、この発明の露光装置は、前記照明瞳上において前記照明瞳からの０次光が前記投影光学系の前記瞳を通過することができる領域を有効照明領域とするとき、前記多極照明形状は、該有効照明領域の内側境界に略局在化する形状の光強度分布を持つことを特徴とする。【００２７】
また、この発明の露光装置は、前記局所照明領域のうちの５０％以上の領域は前記有効照明領域内に局在していることを特徴とする。【００２８】
この発明の露光装置によれば、多極照明形状が上述の有効照明領域の内側境界に略局在化する形状の光強度分布を持ち、多極照明形状を構成する局所照明領域のうちの５０％以上の領域が有効照明領域内に局在していることから、結像に寄与しない無駄な照明光を減少させることができ、効率良く有効照明領域を照明することができる。なお、結像に寄与しない無駄な照明光を減少させて、像コントラストを向上させるためには、多極照明形状を構成する局所照明領域のうちの７５％以上の領域が有効領域内に局在していることが好ましい。【００２９】
また、この発明の照明光学系は、マスクのパターンを照明する照明光学系において、この発明の光束変換素子を備えることを特徴とする。また、この発明の照明光学系は、前記照明光学系が、アキシコン系を備えていることを特徴とする。【００３０】
また、この発明の照明光学系は、前記アキシコン系が、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の前記外側境界までの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ前記極座標の原点から前記局所照明領域の前記中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することを特徴とする。また、この発明の照明光学系は、前記照明光学系がは、前記多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えていることを特徴とする。【００３１】
また、この発明の照明光学系は、マスクのパターンを照明する照明光学系において、前記照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられて、入射光束を所定面において第１の多極照明形状の光束に変換する第１の光束変換手段と、前記照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられて、入射光束を前記所定面において第２の多極照明形状の光束に変換する第２の光束変換手段と、前記第１光束変換手段と前記第２の光束変換手段との切替を行う切替手段とを備え、前記所定面上の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角を方位角とするとき、前記切替手段により前記第１の光束変換手段と前記第２の光束変換手段との切替が行われた場合に、前記切替の前後における前記多極照明形状の方位角の変化量φ´が−１°＜φ´＜１°の条件を満足することを特徴とする。【００３２】
この発明の照明光学系によれば、挿脱自在に設けられている第１の光束変換手段と第２の光束変換手段との切替の前後における多極照明形状の方位角φ´が−１°から１°までの範囲でのみ変化するため、切替前の局所照明領域の形状と切替後の局所照明領域の形状を略同一に保つことができ、照明光の照明特性が変化するのを防止することができる。従って、照明光学系が露光装置に搭載され第１の光束変換手段と第２の光束変換手段との切替が行われた場合においても、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００３３】
また、この発明の照明光学系は、前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域に内接する前記所定面上の円を内接円とするとき、前記複数の局所照明領域のうちの１つは、該１つの局所照明領域と前記内接円との接線よりも外側に局在していることを特徴とする。【００３４】
この発明の照明光学系によれば、投影露光装置に適用された場合に、結像に寄与しない無駄な照明光を減少させることができ、像コントラストを向上させることができる。【００３５】
また、この発明の照明光学系は、前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域を前記所定面において極座標で表現するとき、前記第１の光束変換手段及び前記第２の光束変換手段の前記局所照明領域は、【００３６】
【数２】
2005062350.tif 000003
【００３７】
の条件を満足する形状を有することを特徴とする。ただし、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの動径をＲ、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの偏角をθ、前記極座標の原点から前記局所照明領域の中心までの径方向の距離をＲ´、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）をＲ０、前記極座標の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）をφ、前記局所照明領域の前記中心における動径（局所方位角）をθ´とする。【００３８】
この発明の照明光学系によれば、第１の光束変換手段及び第２の光束変換手段の多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域の形状が所定面において極座標で表現するとき（２）式を満足しているため、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより多極照明形状を構成する局所照明領域の形状を規定することができる。従って、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて第１の光束変換手段と第２の光束変換手段とを切替した場合においても、切替前の局所照明領域の形状と切替後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、切替前後において照明光の照明特性が変化するのを防止することができ、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００３９】
また、この発明の露光装置は、感光性基板上にマスクのパターンを転写する露光装置において、前記マスクを照明するためのこの発明の照明光学系と、前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系とを備え、前記所定面は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な面または該共役な面の近傍に位置決めされることを特徴とする。【００４０】
この発明の露光装置によれば、この発明の照明光学系を備えているため、挿脱自在に設けられている第１の光束変換手段と第２の光束変換手段との切替の前後における多極照明形状の方位角φ´が−１°から１°までの範囲でのみ変化する。また、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより多極照明形状を構成する局所照明領域の形状を規定することができる。従って、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて第１の光束変換手段と第２の光束変換手段とを切替した場合においても、切替前の局所照明領域の形状と切替後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、切替前後において照明光の照明特性が変化するのを防止することができ、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００４１】
また、この発明の露光方法は、感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、この発明の光束変換素子を備える照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程とを含むことを特徴とする。【００４２】
この発明の露光方法によれば、この発明の光束変換素子を備える照明光学系を用いてマスクの照明を行うため、マスクのパターンのピッチ等に対応した最適な照明を行うことができ、良好な露光を行うことができる。【００４３】
また、この発明の露光方法は、感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、この発明の露光装置中の照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程とを含むことを特徴とする。【００４４】
この発明の露光方法によれば、この発明の露光装置を用いて露光を行うため、マスクのパターンのピッチ等に対応した最適な照明を行うことができ、良好な露光を行うことができる。【００４５】
また、この発明の露光方法は、感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、この発明の照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程とを含むことを特徴とする。【００４６】
この発明の光束変換素子によれば、多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域の形状が所定面において極座標で表現するとき（１）式を満足しているため、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより多極照明形状を構成する局所照明領域の形状を規定することができる。従って、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて使用する光束変換素子を交換する場合においても、交換前の局所照明領域の形状と交換後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、交換前後において照明光の照明特性が変化するのを防止することができ、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００４７】
また、所定面上の少なくとも周辺部に局所照明領域を有するため、像のコントラストを極力下げることなく、最適な照明光によりマスクの照明を行うことができる。【００４８】
また、この発明の露光装置によれば、この発明の光束変換素子を備えているため、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて使用する光束変換素子を交換する場合においても、交換前の局所照明領域の形状と交換後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、交換前後において照明光の照明特性の変化を防止することができ、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００４９】
また、多極照明形状が有効照明領域の内側境界に略局在化する形状の光強度分布を持ち、多極照明形状を構成する局所照明領域のうちの５０％以上の領域が有効照明領域内に局在していることから、結像に寄与しない無駄な照明光を減少させることができ、効率良く有効照明領域を照明することができる。【００５０】
また、この発明の照明光学系によれば、挿脱自在に設けられている第１の光束変換手段と第２の光束変換手段との切替の前後における多極照明形状の方位角φ´が−１°から１°までの範囲でのみ変化するため、切替前の局所照明領域の形状と切替後の局所照明領域の形状を略同一に保つことができ、照明光の照明特性が変化するのを防止することができる。従って、照明光学系が露光装置に搭載され第１の光束変換手段と第２の光束変換手段との切替が行われた場合においても、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００５１】
また、第１の光束変換手段及び第２の光束変換手段の多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域の形状が所定面において極座標で表現するとき（２）式を満足しているため、極座標の原点から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより多極照明形状を構成する局所照明領域の形状を規定することができる。従って、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じて第１の光束変換手段と第２の光束変換手段とを切替した場合においても、切替前の局所照明領域の形状と切替後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができるため、切替前後において照明光の照明特性が変化するのを防止することができ、最適な照明光によりマスクの連続照明を行うことができる。【００５２】
また、この発明の露光方法によれば、この発明の光束変換素子を備える照明光学系またはこの発明の露光装置中の照明光学系を用いてマスクの照明を行うため、マスクのパターンのピッチ等に対応した最適な照明を行うことができ、良好な露光を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】実施の形態にかかる露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】実施の形態にかかる照明光学系の照明瞳面上に形成される局所照明領域を有する光強度分布の図である。
【図３】実施の形態にかかる照明光学系の照明瞳面に形成される４極照明形状の４つの局所照明領域のうちの１つの局所照明領域の極座標表現を説明するための図である。
【図４】実施の形態にかかるアキシコン系の概略構成を示す図である。
【図５】実施の形態にかかる第１シリンドリカルレンズ対及び第２シリンドリカルレンズ対の概略構成を示す図である。
【図６】実施の形態にかかるマイクロフライアイレンズから投影光学系に備えられている開口絞りまでの光路を説明するための概略構成図である。
【図７Ａ】２極照明形状の局所照明領域と有効照明領域を説明するための図である。
【図７Ｂ】２極照明形状の局所照明領域と有効照明領域を説明するための図である。
【図８】この発明の実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての半導体デバイスを製造する方法を示すフローチャートである。
【図９】この発明の実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての液晶表示素子を製造する方法を示すフローチャートである。
【図１０Ａ】輪帯比が０．５０〜０．６３の範囲をカバーすることができる第１の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１０Ｂ】輪帯比が０．５０〜０．６３の範囲をカバーすることができる第１の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１１Ａ】輪帯比が０．６３〜０．７４の範囲をカバーすることができる第２の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１１Ｂ】輪帯比が０．６３〜０．７４の範囲をカバーすることができる第２の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１２Ａ】輪帯比が０．７４〜０．８０の範囲をカバーすることができる第３の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１２Ｂ】輪帯比が０．７４〜０．８０の範囲をカバーすることができる第３の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１３Ａ】輪帯比が０．７４〜０．８０の範囲をカバーすることができる光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される２極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１３Ｂ】輪帯比が０．７４〜０．８０の範囲をカバーすることができる光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される２極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。
【図１４Ａ】従来の２つの光束変換素子を用いて４極照明形状の局所照明領域の形状を変化させた状態を説明するための図である。
【図１４Ｂ】従来の２つの光束変換素子を用いて４極照明形状の局所照明領域の形状を変化させた状態を説明するための図である。
【図１４Ｃ】従来の２つの光束変換素子を用いて４極照明形状の局所照明領域の形状を変化させた状態を説明するための図である。
【図１４Ｄ】従来の２つの光束変換素子を用いて４極照明形状の局所照明領域の形状を変化させた状態を説明するための図である。
【図１４Ｅ】従来の２つの光束変換素子を用いて４極照明形状の局所照明領域の形状を変化させた状態を説明するための図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５４】
図面を参照して、この発明の実施の形態にかかる露光装置について説明する。図１は、この発明の実施の形態にかかる露光装置の概略構成を示す図である。なお、以下の説明においては、図１中に示すＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷに対して平行となるように設定され、Ｚ軸がウエハＷに対して直交する方向に設定されている。また、この実施の形態にかかる照明光学系は、４つの局所照明領域を形成する４極照明を行うように構成されている。【００５５】
この実施の形態にかかる露光装置は、図１に示すように、露光光（照明光）を供給するための光源１として、例えば波長が２４８ｎｍの光を供給するＫｒＦエキシマレーザー光源または波長が１９３ｎｍの光を供給するＡｒＦエキシマレーザー光源を備えている。光源１からＺ方向に沿って射出された略平行な光束は、Ｘ方向に沿って細長く延びた矩形状の断面を有し、一対のレンズ２ａおよび２ｂからなるビームエキスパンダー２に入射する。各レンズ２ａおよび２ｂは、図１のＹＺ平面内において負の屈折力および正の屈折力をそれぞれ有する。したがって、ビームエキスパンダー２に入射した光束は、図１のＹＺ平面内において拡大され、所定の矩形状の断面を有する光束に整形される。【００５６】
整形光学系としてのビームエキスパンダー２を介した略平行な光束は、折り曲げミラー３により反射されることによりＹ方向に偏向された後、回折光学素子（ＤＯＥ）により構成される４極照明用の光束変換素子４ａに入射する。光束変換素子４ａは、光束変換素子４ａに入射する光束を４極照明形状の局所照明領域を形成するための光束へ変換する。一般に、回折光学素子は、ガラス基板に露光光（照明光）の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。【００５７】
光束変換素子４ａは、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合、そのファーフィールド（フラウンホーファー回折領域）において、４つの局所照明領域を有する光強度分布を形成する機能を有する。従って、光束変換素子４ａに入射した略平行な光束は、後述する投影光学系ＰＬの瞳と光学的に共役な照明光学系の照明瞳面（所定面）上または所定面の近傍の周辺部に図２に示すような４つの局所照明領域４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄを有する光強度分布を形成する。【００５８】
図３は、照明光学系の照明瞳面に形成される４極照明形状の４つの局所照明領域４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄのうちの１つの局所照明領域４０ａの極座標表現を説明するための図である。図３に示すように、局所照明領域４０ａは数式１の条件を満足する形状を有する。【００５９】
【数３】
2005062350.tif 000004
【００６０】
ここで、局所照明領域４０ａを極座標で表現するときの動径をＲ、局所照明領域４０ａを極座標で表現するときの偏角をθ、照明瞳面の中心である極座標の原点０から局所照明領域４０ａの中心Ａまでの径方向の距離をＲ´、局所照明領域４０ａの中心Ａから局所照明領域４０ａの外側境界Ｂまでの距離（径方向半径）をＲ０、極座標の原点０から局所照明領域４０ａに引いた接線Ｃ１及びＣ２の開き角（方位角）をφ、局所照明領域４０ａの中心Ａにおける動径（局所方位角）をθ´とする。同様に、局所照明領域４０ｂ，４０ｃ，４０ｄを極座標で表現した場合においても、局所照明領域４０ｂ，４０ｃ，４０ｄのそれぞれの形状は、数式１の条件を満足している。【００６１】
この露光装置は、複数の光束変換素子４ａ，４ｂを備えており、４極照明用の光束変換素子（第１の光束変換手段）４ａ及び４極照明用の光束変換素子（第２の光束変換手段）４ｂは照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられており、かつ互いに交換可能に構成されている。光束変換素子４ａと光束変換素子４ｂとの交換（切替）は、制御系（切替手段）２１からの指令に基づいて動作する駆動系２２により行われる。制御系２１には、ステップ・アンド・リピート方式またはステップ・アンド・スキャン方式にしたがって順次露光すべき各種のマスクに関する情報などがキーボードなどの入力手段２０を介して入力される。【００６２】
また、光束変換素子４ａと光束変換素子４ｂとの間の切替の前後における極座標の原点０から局所照明領域４０ａに引いた接線Ｃ１及びＣ２の開き角（方位角）φの変化量φ´は、−１°＜φ´＜１°の条件を満足している。同様に、局所照明領域４０ｂ〜４０ｄに引いた接線の開き角（方位角）の変化量φ´は、−１°＜φ´＜１°の条件を満足している。従って、光束変換素子４ａと光束変換素子４ｂとの間の切替が行われた場合においても、その切替前後における局所照明領域の形状は略同一に保たれる。【００６３】
光束変換素子４ａを介した光束は、アフォーカルレンズ（リレー光学系）５に入射する。アフォーカルレンズ５は、その前側焦点位置と光束変換素子４ａの位置とがほぼ一致するように設定されたアフォーカル系（無焦点光学系）である。したがって、光束変換素子４ａに入射した略平行な光束は、照明光学系の照明瞳面に４つの局所照明領域を有する４極照明形状を形成した後、略平行な光束となってアフォーカルレンズ５から射出される。【００６４】
なお、アフォーカルレンズ５の前側レンズ群５ａと後側レンズ群５ｂとの間の光路中において照明瞳またはその近傍には、円錐アキシコン系（アキシコン系）７、第１シリンドリカルレンズ対８及び第２シリンドリカルレンズ対９が配置されている。図４は、円錐アキシコン系７の概略構成を示す図である。円錐アキシコン系７は、光源側から順に、光源側に平面を向け且つマスク側に凹円錐状の屈折面を向けた第１プリズム部材７ａと、マスク側に平面を向け且つ光源側に凸円錐状の屈折面を向けた第２プリズム部材７ｂとから構成されている。【００６５】
第１プリズム部材７ａの凹円錐状の屈折面と第２プリズム部材７ｂの凸円錐状の屈折面とは、互いに当接可能なように相補的に形成されている。また、第１プリズム部材７ａおよび第２プリズム部材７ｂのうち少なくとも一方の部材が光軸ＡＸに沿って移動可能に構成され、第１プリズム部材７ａの凹円錐状の屈折面と第２プリズム部材７ｂの凸円錐状の屈折面との間隔が可変に構成されている。円錐アキシコン系７の間隔の変化は、制御系２１からの指令に基づいて動作する駆動系２５により行われる。【００６６】
ここで、第１プリズム部材７ａの凹円錐状の屈折面と第２プリズム部材７ｂの凸円錐状の屈折面とが互いに当接している状態では、円錐アキシコン系７は平行平面板として機能し、形成される４極照明形状の二次光源に及ぼす影響はない。しかしながら、第１プリズム部材７ａの凹円錐状の屈折面と第２プリズム部材７ｂの凸円錐状の屈折面とを離間させると、円錐アキシコン系７は、いわゆるビームエキスパンダーとして機能する。したがって、円錐アキシコン系７の間隔の変化に伴って、図１中破線で示すアフォーカルレンズ５の後側焦点面６への入射光束の角度は変化する。即ち、図３に示す局所照明領域４０ａの中心Ａから局所照明領域の外側境界Ｂまでの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ極座標の原点０から局所照明領域４０ａの中心Ａまでの径方向の距離Ｒ´を変更する。同様に、局所照明領域４０ｂ〜４０ｄの中心からそれぞれの局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）を一定に維持しつつ極座標の原点０からそれぞれの局所照明領域４０ｂ〜４０ｄの中心までの径方向の距離を変更する。従って、極座標の原点０から局所照明領域４０ａ〜４０ｄに引いた接線の開き角（方位角）を変化させることなく、４つの局所照明領域４０ａ〜４０ｄのそれぞれの形状を変化させることができる。【００６７】
図５は、アフォーカルレンズ５の前側レンズ群５ａと後側レンズ群５ｂとの間の光路中に配置された第１シリンドリカルレンズ対８および第２シリンドリカルレンズ対９の概略構成を示す図である。図５に示すように、第１シリンドリカルレンズ対８は、光源側から順に、たとえばＹＺ平面内に負屈折力を有し且つＸＹ平面内に無屈折力の第１シリンドリカル負レンズ８ａと、同じくＹＺ平面内に正屈折力を有し且つＸＹ平面内に無屈折力の第１シリンドリカル正レンズ８ｂとにより構成されている。一方、第２シリンドリカルレンズ対９は、光源側から順に、たとえばＸＹ平面内に負屈折力を有し且つＹＺ平面内に無屈折力の第２シリンドリカル負レンズ９ａと、同じくＸＹ平面内に正屈折力を有し且つＹＺ平面内に無屈折力の第２シリンドリカル正レンズ９ｂとにより構成されている。【００６８】
第１シリンドリカル負レンズ８ａと第１シリンドリカル正レンズ８ｂとは、制御系２１からの指令に基づいて動作する駆動系２６により、光軸ＡＸを中心として一体的に回転するように構成されている。同様に、第２シリンドリカル負レンズ９ａと第２シリンドリカル正レンズ９ｂとは、制御系２１からの指令に基づいて動作する駆動系２７により、光軸ＡＸを中心として一体的に回転するように構成されている。【００６９】
第１シリンドリカルレンズ対８はＺ方向にパワーを有するビームエキスパンダーとして機能し、第２シリンドリカルレンズ対９はＸ方向にパワーを有するビームエキスパンダーとして機能する。また、この実施の形態においては、第１シリンドリカルレンズ対８及び第２シリンドリカルレンズ対９のパワーが同一となるように設定されている。従って、第１シリンドリカルレンズ対８及び第２シリンドリカルレンズ対９を通過した光束は、Ｚ方向及びＸ方向に同一のパワーにより拡大作用を受ける。【００７０】
アフォーカルレンズ５を介した光束は、σ値可変用のズームレンズ（変倍光学系）１０を介して、オプティカルインテグレータとしてのマイクロフライアイレンズ１１に入射する。なお、σ値は、照明光学系の照明瞳に形成される二次光源の大きさ（直径）をＲ１とし、照明光学系の照明瞳と光学的に共役な投影光学系ＰＬの瞳に形成される照明光束または光源像の大きさ（直径）をＲ２とし、投影光学系ＰＬのマスクＭ側の開口数をＮＡｏとし、マスクＭを照明する照明光学系の開口数をＮＡｉとするとき、σ＝ＮＡｉ／ＮＡｏ＝Ｒ２／Ｒ１として定義される。【００７１】
なお、ズームレンズ１０の前側焦点位置はアフォーカルレンズ５の後側焦点面６またはその近傍に設定され、マイクロフライアイレンズ１１の入射面はズームレンズ１０の後側焦点位置の近傍に設定されている。換言すると、ズームレンズ１０は、後側焦点面６とマイクロフライアイレンズ１１の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に設定し、ひいてはアフォーカルレンズ５の照明瞳面とマイクロフライアイレンズ１１の入射面とを光学的にほぼ共役に設定している。したがって、マイクロフライアイレンズ１１の入射面上には、照明光学系の照明瞳面と同様に、図２に示すような４極照明形状が形成される。この４つの局所照明領域４０ａ〜４０ｄを有する４極照明形状は、ズームレンズ１０の焦点距離に依存して相似的に拡大または縮小する。ズームレンズ１０の焦点距離の変化は、制御系２１からの指令に基づいて動作する駆動系２３により行われる。【００７２】
マイクロフライアイレンズ１１を構成する各微小レンズは、マスクＭ上において形成すべき照野の形状（ひいてはウェハＷ上において形成すべき露光領域の形状）と相似な矩形状の断面を有する。マイクロフライアイレンズ１１に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、その後側焦点面（ひいては照明瞳）にはマイクロフライアイレンズ１１への入射光束によって形成される照野とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源、すなわち４つの局所照明領域を有する４極照明形状に基づく実質的な面光源からなる二次光源が形成される。【００７３】
マイクロフライアイレンズ１１の後側焦点面に形成された４極照明形状の二次光源からの光束は、必要に応じて開口絞りを介して制限され、コンデンサー光学系１２の集光作用を受けた後、照明視野絞りとしてのマスクブラインド１３を重畳的に照明する。マスクブラインド１３の矩形状の開口部（光透過部）を介した光束は、結像光学系１４により集光される。ビームエキスパンダー２〜結像光学系１４により構成される照明光学系を射出した光束は、マスクＭを重畳的に照明する。【００７４】
マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、ウェハＷ上にマスクパターンの像を形成する。投影光学系ＰＬの入射瞳面には投影光学系ＰＬの開口数を規定するための可変開口絞り１５が設けられ、この可変開口絞り１５の駆動は制御系２１からの指令に基づいて動作する駆動系２４により行われる。【００７５】
こうして、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内においてウェハＷを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハＷの各露光領域にはマスクＭのパターンが逐次露光される。なお、一括露光では、いわゆるステップ・アンド・リピート方式にしたがって、ウェハの各露光領域に対してマスクパターンを一括的に露光する。【００７６】
この実施の形態にかかる露光装置によれば、図３に示す極座標の原点０から局所照明領域４０ａに引いた接線の開き角（方位角）φ及び極座標の原点０から局所照明領域４０ｂ〜４０ｄに引いた接線の開き角（方位角）によりそれぞれの局所照明領域の形状を規定することができる。そのため、露光装置のマスクＭのパターンのピッチ等に応じて使用する光束変換素子を交換した場合においても、交換前の局所照明領域の形状と交換後の局所照明領域の形状とを略同一に保つことができ、照明光の照明特性が変化するのを防止することができる。従って、光学変換素子を切替しつつ連続的に露光を行う場合においても、最適な照明特性を有する照明光によりマスクを照明することができる。【００７７】
また、この実施の形態にかかる露光装置によれば、照明光学系の照明瞳面上に形成される局所照明領域４０ａ〜４０ｄからの光束は結像に寄与する光束となるため、結像に寄与しない無駄な照明光を減少させることができ、効率良く照明を行うことができる。即ち、図６は、図１における照明光学系のマイクロフライアイレンズ１１から投影光学系ＰＬに備えられている開口絞り１５までの光路を説明するための概略構成図である。なお、図６においては、図１に示すマスクブラインド１３及び結像光学系１４の図示を省略し、マスクブラインド１３が配置される位置にマスクＭが配置されているものとして説明を行う。【００７８】
照明光学系の照明瞳１７の円形領域全体から射出した光束は、図６に示すように、コンデンサー光学系１２により集光され、図６の紙面上における左右方向にピッチを持つマスクＭのパターンＰを照明する。光束は、マスクＭのパターンＰにより回折される。ここで、回折光のうちマスクＭのパターンＰを素抜けした回折光成分（０次光成分）は、投影光学系ＰＬの前側レンズ群１８により集光され、開口絞り１５の開口部１５ａ内の領域（内側領域）に到達する。【００７９】
一方、マスクＭのパターンＰにより反時計回りの方向へ回折される−１次回折光成分は、投影光学系ＰＬの前側レンズ群１８により集光され、その一部の光束のみが開口絞り１５の開口部１５ａの内側領域に到達する。なお、開口絞り１５の開口部１５ａに到達しない−１次回折光成分は、投影光学系ＰＬの前側レンズ群１８または開口絞り１５の開口部１５ａによりけられる。同様に、マスクＭのパターンＰにより時計回りの方向へ回折される＋１次回折光成分は、投影光学系ＰＬの前側レンズ群１８により集光され、その一部の光束のみが開口絞り１５の開口部１５ａの内側領域に到達する。なお、開口絞り１５の開口部１５ａに到達しない＋１次回折光成分は、投影光学系ＰＬの前側レンズ群１８または開口絞り１５の開口部１５ａによりけられる。【００８０】
投影光学系ＰＬの前側レンズ群１８や開口絞り１５の開口部１５ａによりけられた回折光成分は結像に寄与せず、投影光学系ＰＬの開口絞り１５の開口部１５ａを通過する光束のみが結像に寄与する。従って、この結像に寄与する光束を有効光束としたとき、照明光学系の照明瞳の領域において有効光束に対応する領域Ｓ（以下、有効照明領域とする。）からの光束は、投影光学系ＰＬの開口絞り１５の開口部１５ａによりけられることなく、結像に寄与する。【００８１】
従って、照明光学系の照明瞳面上の有効照明領域Ｓに光強度分布を有する多極状の変形照明を行うことにより、結像に寄与しない無駄な照明光を低減し効率良く照明を行う。ここで、この実施の形態においては、４極照明形状の４つの局所照明領域４０ａ〜４０ｄの形状の光強度分布が照明光学系の照明瞳面における有効照明領域Ｓの内側境界に略局在化しており、局所照明領域４０ａ〜４０ｄのうちの７５％以上（すなわち５０％以上）が有効照明領域Ｓ内に局在しているため、照明光の多くが結像に寄与し、より効率良く照明を行うことができる。【００８２】
言い換えると、この実施の形態においては、４極照明形状を構成する４つの局所照明領域４０ａ〜４０ｄに内接する照明瞳面上の内接円を考えるとき、４つの局所照明領域４０ａ〜４０ｄは、４つの局所照明領域４０ａ〜４０ｄと上記内接円との接線よりも外側に局在しているため、照明光の多くを結像に寄与させることができ、より効率よく照明を行うことができる。【００８３】
なお、この実施の形態においては、多極照明用の光束変換素子として４極照明用の光束変換素子を用いているが、使用するマスク上に形成されるパターンのピッチ等に応じて２極照明用の光束変換素子を備えてもよい。この場合には、露光装置のマスクのパターンのピッチ等に応じてより最適な光束変換素子を使用することができる。【００８４】
図７Ａは、この実施の形態にかかる露光装置を用いて形成された２極照明形状の局所照明領域と有効照明領域を説明するための図である。図７Ａに示すように局所照明領域（白抜き部分）６０は、有効照明領域（網掛け部分）６２の内側境界に略局在化している。図７Ｂは、輪帯照明切り出しの２極照明形状の局所照明領域と有効照明領域を説明するための図である。図７Ｂに示すように輪帯照明切り出しの２極照明形状の局所照明領域６４は、有効照明領域６６外の領域も照明する。有効照明領域６６外の領域を照明する照明光は、無駄な光となり結像に寄与しない。図７Ａと図７Ｂとを比較した場合、図７Ａに示す局所照明領域６０は、マスクＭのパターンＰにより回折される回折光のうち投影光学系を構成するレンズ群や開口絞り等により遮光されずに結像に寄与する回折光成分の光束に対応する領域（有効照明領域６２）を効率良く照明している。【００８５】
また、この実施の形態においては、照明光学系の照明瞳面上の周辺部に多極照明形状を構成する局所照明領域を有しているが、照明光学系の照明瞳面上の少なくとも周辺部に局所照明領域を有するようにしてもよい。即ち、多極照明用の光束変換素子として３極照明用の光束変換素子または５極照明用の光束変換素子を用いる場合、照明光学系の照明瞳面上の中央部及び周辺部に局所照明領域を有するようにしてもよい。【００８６】
また、上述の実施の形態においては、回折光学素子により構成される光束変換素子を用いているが、回折フリンジからなるホログラムにより構成されるホモジェナイザにより構成される光束変換素子を用いてもよい。【００８７】
ここで、回折光学素子は、例えば次のような構成を有する。即ち、複数の基本光学素子から構成されており、さらに、各基本光学素子は複数の部分光学素子から構成されている。各基本光学素子は同じ部分光学素子を有しており、各基本光学素子を稠密に行列状に繰り返して配置したものが回折光学素子の全有効径に対応する。ここで、局所照明領域を形成するための回折光学素子を製造する場合には、１つの局所照明領域を形成するために必要な複数の部分光学素子を例えば１列に配列し、同様に他の局所照明領域を形成するために必要な複数の部分光学素子を１列に配列する。１つの局所照明領域を形成するために１列に配列された複数の部分光学素子を部分光学素子群とする。次に、多極照明形状において各局所照明領域が形成される位置に基づいて各局所照明領域を形成するための部分光学素子群を配置することにより基本光学素子を構成する。このようにして各局所照明領域を形成するための部分光学素子群を配置することにより構成された複数の基本光学素子を稠密に行列上に繰り返し配列する。なお、上述の回折光学素子の詳細については特開２００１−１７４６１５号公報、特開２００３−５０４５５号公報等に開示されている。【００８８】
また、ホモジェナイザは、例えば次のような構成を有する。即ち、複数のサブホログラムを２次元的に配列することにより構成されている。ホモジェナイザを構成する各ホログラムに入射した光束は、回折することにより、多極照明形状が形成される面において各局所照明領域が形成されるように予定された領域に到達するように構成されている。即ち、ホモジェナイザを構成する各ホログラムは、多極照明形状が形成される面において照射されることが予定された領域全体に、ホモジェナイザに入射した光束の一部を照射させるために機能する。なお、ホモジェナイザの詳細については特表２００１−５０７１３９号公報、特開平８−９４８３９号公報、特表２００３−５２９７８４号公報等に開示されている。【００８９】
なお、上記実施形態では、光透過性基板上に所定のパターンをパターンニングした透過型マスクを用いたが、反射型マスクであっても良い。さらに、パターンの消去や書込みが可能な可変パターン生成部（空間光変調器）を備えたマスク、例えば透過型又は反射型液晶表示素子（ＬＣＤ）やデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）、反射型液晶表示素子（ＬＣＤ）、エレクトロクロミックディスプレイ（ＥＣＤ）等を備えたマスクであっても良い。【００９０】
また、上述の実施形態では、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の光路中を気体としたが、この投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の光路中に液体を満たす、いわゆる液浸露光装置に本発明を適用しても良い。【００９１】
また、投影光学系の開口数が０．９を超える、特に液浸露光法との組み合わせにより投影光学系の開口数が１を超えるような場合には、従来から露光光として用いられているランダム偏光光では偏光効果によって結像性能が悪化することもあるので、偏光照明を用いるのが望ましい。その場合、マスク（レチクル）のライン・アンド・スペースパターンのラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明を行い、マスク（レチクル）のパターンからは、Ｓ偏光成分（ＴＥ偏光成分）、すなわちラインパターンの長手方向に沿った偏光方向成分の回折光が多く射出されるようにすると良い。このような偏光照明装置としては、例えば国際特許公開第ＷＯ２００４／０５１７１７号公報に開示されており、本実施形態の光束変換素子は、当該公報の偏光照明装置にも適用できる。【００９２】
上述の実施の形態にかかる露光装置では、照明装置によってレチクル（マスク）を照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図８のフローチャートを参照して説明する。【００９３】
先ず、図８のステップＳ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。
次のステップＳ３０２において、そのｌロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップＳ３０３において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップＳ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップＳ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。【００９４】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。なお、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０５では、ウェハ上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、ウェハ上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。【００９５】
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図９のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図９において、パターン形成工程Ｓ４０１では、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程Ｓ４０２へ移行する。【００９６】
次に、カラーフィルター形成工程Ｓ４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程Ｓ４０２の後に、セル組み立て工程Ｓ４０３が実行される。セル組み立て工程Ｓ４０３では、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程Ｓ４０３では、例えば、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。【００９７】
その後、モジュール組み立て工程Ｓ４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【実施例１】
【００９８】
輪帯比が０．５０〜０．６３の範囲をカバーすることができる４極照明用の第１の光束変換素子、輪帯比が０．６３〜０．７４の範囲をカバーすることができる４極照明用の第２の光束変換素子、輪帯比が０．７４〜０．８０の範囲をカバーすることができる４極照明用の第３の光束変換素子を用いて変形照明を行った。【００９９】
図１０Ａ，図１０Ｂは、第１の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。図１０Ａは、円錐アキシコン系７を通過する前の局所照明領域の形状を示している。また、図１０Ａに示す各局所照明領域の形状は、数式１の条件を満足するように形成される。ここで、図１０Ａに示す各局所照明領域の形状を図３に示す極座標表現したときの各パラメータを以下に示す。
Ｒ´＝３．５９５
Ｒ０＝１．３４５
φ＝３５ｄｅｇ
θ´＝４５ｄｅｇ
また、図１０Ｂは、円錐アキシコン系７を通過した場合の局所照明領域の形状を示している。図１０Ｂに示すように各局所照明領域の形状は、数式１の条件を略満足した状態で、各局所照明領域の中心から局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）を一定に維持しつつ多極照明形状の中心から局所照明領域の中心までの径方向の距離が変更されることにより変形する。【０１００】
次に、第１の光束変換素子から第２の光束変換素子に交換する。図１１Ａ，図１１Ｂは、第２の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。図１１Ａは、円錐アキシコン系７を通過する前の局所照明領域の形状を示している。また、図１１Ａに示す各局所照明領域の形状は、数式１の条件を満足するように形成される。ここで、図１１Ａに示す各局所照明領域の形状を図３に示す極座標表現したときの各パラメータを以下に示す。
Ｒ´＝４．０００
Ｒ０＝０．９５０
φ＝３５ｄｅｇ
θ´＝４５ｄｅｇ
また、図１１Ｂは、円錐アキシコン系７を通過した場合の局所照明領域の形状を示している。図１１Ｂに示すように各局所照明領域の形状は、数式１の条件を略満足した状態で、各局所照明領域の中心から局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）を一定に維持しつつ多極照明形状の中心から局所照明領域の中心までの径方向の距離が変更されることにより変形する。【０１０１】
次に、第２の光束変換素子から第３の光束変換素子に交換する。図１２Ａ，図１２Ｂは、第３の光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される４極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。図１２Ａは、円錐アキシコン系７を通過する前の局所照明領域の形状を示している。また、図１２Ａに示す各局所照明領域の形状は、数式１の条件を満足するように形成される。ここで、図１２Ａに示す各局所照明領域の形状を図３に示す極座標表現したときの各パラメータを以下に示す。
Ｒ´＝４．２７０
Ｒ０＝０．６８０
φ＝３５ｄｅｇ
θ´＝４５ｄｅｇ
また、図１２Ｂは、円錐アキシコン系７を通過した場合の局所照明領域の形状を示している。図１２Ｂに示すように各局所照明領域の形状は、数式１の条件を略満足した状態で、各局所照明領域の中心から局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）を一定に維持しつつ多極照明形状の中心から局所照明領域の中心までの径方向の距離が変更されることにより変形する。【０１０２】
実施例１によれば、照明光学系の照明瞳面の中心から局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）φにより局所照明領域の形状を規定するため、図１０Ｂに示す切替前の局所照明領域の形状と図１１Ａに示す切替後の局所照明領域の形状とは略同一に保たれる。同様に、図１１Ｂに示す切替前の局所照明領域の形状と図１２Ａに示す切替後の局所照明領域の形状とは略同一に保たれる。
【実施例２】
【０１０３】
輪帯比が０．７４〜０．８０の範囲をカバーすることができる２極照明用の光束変換素子を用いて変形照明を行った。【０１０４】
図１３Ａ，図１３Ｂは、光束変換素子を用いた場合における照明光学系の照明瞳上に形成される２極照明形状の局所照明領域の形状を示す図である。図１３Ａは、円錐アキシコン系７を通過する前の局所照明領域の形状を示している。また、図１３Ａに示す各局所照明領域の形状は、数式１の条件を満足するように形成される。ここで、図１３Ａに示す各局所照明領域の形状を図３に示す極座標表現したときの各パラメータを以下に示す。
Ｒ´＝３．５９５
Ｒ０＝１．３４５
φ＝３５ｄｅｇ
θ´＝４５ｄｅｇ
また、図１３Ｂは、円錐アキシコン系７を通過した場合の局所照明領域の形状を示している。図１３Ｂに示すように各局所照明領域の形状は、数式１の条件を略満足した状態で、各局所照明領域の中心から局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）を一定に維持しつつ多極照明形状の中心から局所照明領域の中心までの径方向の距離が変更されることにより変形することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
以上のように、この発明の光束変換素子、露光装置、照明光学系及び露光方法は、高性能な半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスの製造に用いるのに適している。
【図１】
2005062350.tif 000008
【図２】
2005062350.tif 000009
【図３】
2005062350.tif 000010
【図４】
2005062350.tif 000011
【図５】
2005062350.tif 000012
【図６】
2005062350.tif 000013
【図７Ａ】
2005062350.tif 000014
【図７Ｂ】
2005062350.tif 000015
【図８】
2005062350.tif 000016
【図９】
2005062350.tif 000017
【図１０Ａ】
2005062350.tif 000018
【図１０Ｂ】
2005062350.tif 000019
【図１１Ａ】
2005062350.tif 000020
【図１１Ｂ】
2005062350.tif 000021
【図１２Ａ】
2005062350.tif 000022
【図１２Ｂ】
2005062350.tif 000023
【図１３Ａ】
2005062350.tif 000024
【図１３Ｂ】
2005062350.tif 000025
【図１４Ａ】
2005062350.tif 000026
【図１４Ｂ】
2005062350.tif 000027
【図１４Ｃ】
2005062350.tif 000028
【図１４Ｄ】
2005062350.tif 000029
【図１４Ｅ】
2005062350.tif 000030
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月20日(2005.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】請求の範囲
【請求項１】入射光束を所定面において多極照明形状の光束へ変換するための光束変換素子において、
前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域を前記所定面において極座標で表現するとき、前記局所照明領域は以下の条件を満足する形状を有することを特徴とする光束変換素子。
【数４】
2005062350.tif 000031
ただし、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの動径をＲ、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの偏角をθ、前記極座標の原点から前記局所照明領域の中心までの径方向の距離をＲ´、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）をＲ０、前記極座標の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）をφ、前記局所照明領域の前記中心における動径（局所方位角）をθ´とする。
【請求項２】前記多極照明形状は、前記所定面上の少なくとも周辺部に前記局所照明領域を有することを特徴とする請求項１記載の光束変換素子。
【請求項３】前記多極照明形状は、２つの前記局所照明領域を有する２極照明形状または４つの前記局所照明領域を有する４極照明形状であることを特徴とする請求項２記載の光束変換素子。
【請求項４】マスクのパターンを照明する照明光学系と、
照明された前記マスクの前記パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系と、
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の光束変換素子と
を備え、
前記光束変換素子は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な照明瞳またはその近傍に前記多極照明形状を形成することを特徴とする露光装置。
【請求項５】前記照明光学系は、アキシコン系を備えていることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】前記アキシコン系は、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の前記外側境界までの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ前記極座標の原点から前記局所照明領域の前記中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】前記照明光学系は、前記多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えていることを特徴とする請求項４乃至請求項６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】複数の前記光束変換素子を備え、
該複数の光束変換素子は互いに交換可能に構成されることを特徴とする請求項４乃至請求項７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】前記照明瞳上において前記照明瞳からの０次光が前記投影光学系の前記瞳を通過することができる領域を有効照明領域とするとき、前記多極照明形状は、該有効照明領域の内側境界に略局在化する形状の光強度分布を持つことを特徴とする請求項４乃至請求項８の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】前記局所照明領域のうちの５０％以上の領域は前記有効照明領域内に局在していることを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】マスクのパターンを照明する照明光学系において、
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の光束変換素子を備えることを特徴とする照明光学系。
【請求項１２】前記照明光学系は、アキシコン系を備えていることを特徴とする請求項１１記載の照明光学系。
【請求項１３】前記アキシコン系は、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の前記外側境界までの距離（径方向半径）Ｒ０を一定に維持しつつ前記極座標の原点から前記局所照明領域の前記中心までの径方向の距離Ｒ´を変更することを特徴とする請求項１２記載の照明光学系。
【請求項１４】前記照明光学系は、前記多極照明形状を相似的に拡大・縮小するための変倍光学系を備えていることを特徴とする請求項１１乃至請求項１３の何れか一項に記載の照明光学系。
【請求項１５】前記照明光学系の照明光路に配置されて、面光源を形成するためのオプティカルインテグレータを更に備え、
前記光束変換素子は、前記照明光学系に光束を供給する光源と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に挿脱自在に設けられることを特徴とする請求項１１乃至請求項１４の何れか一項に記載の照明光学系。
【請求項１６】マスクのパターンを照明する照明光学系において、
前記照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられて、入射光束を所定面において第１の多極照明形状の光束に変換する第１の光束変換手段と、
前記照明光学系の照明光路に対して挿脱自在に設けられて、入射光束を前記所定面において第２の多極照明形状の光束に変換する第２の光束変換手段と、
前記第１の光束変換手段と前記第２の光束変換手段との切替を行う切替手段とを備え、前記所定面上の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角を方位角とするとき、前記切替手段により前記第１の光束変換手段と前記第２の光束変換手段との切替が行われた場合に、前記切替の前後における前記多極照明形状の方位角の変化量φ´が以下の条件を満足することを特徴とする照明光学系。
−１°＜φ´＜１°
【請求項１７】前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域に内接する前記所定面上の円を内接円とするとき、前記複数の局所照明領域のうちの１つは、該１つの局所照明領域と前記内接円との接線よりも外側に局在していることを特徴とする請求項１６記載の照明光学系。
【請求項１８】前記多極照明形状を構成する複数の局所照明領域のうちの１つの局所照明領域を前記所定面において極座標で表現するとき、前記第１の光束変換手段及び前記第２の光束変換手段の前記局所照明領域は以下の条件を満足する形状を有することを特徴とする請求項１６又は請求項１７記載の照明光学系。
【数５】
2005062350.tif 000032
2005062350.tif 000033
ただし、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの動径をＲ、前記局所照明領域を前記極座標で表現するときの偏角をθ、前記極座標の原点から前記局所照明領域の中心までの径方向の距離をＲ´、前記局所照明領域の前記中心から前記局所照明領域の外側境界までの距離（径方向半径）をＲ０、前記極座標の原点から前記局所照明領域に引いた接線の開き角（方位角）をφ、前記局所照明領域の前記中心における動径（局所方位角）をθ´とする。
【請求項１９】前記照明光学系の照明光路に配置されて、面光源を形成するためのオプティカルインテグレータを更に備え、
前記第１の光束変換手段と前記第２の光束変換手段とは、前記照明光学系に光束を供給する光源と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に挿脱自在に設けられることを特徴とする請求項１６乃至請求項１８の何れか一項に記載の照明光学系。
【請求項２０】感光性基板上にマスクのパターンを転写する露光装置において、
前記マスクを照明するための請求項１１乃至請求項１８の何れか一項に記載の照明光学系と、
前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系とを備え、
前記所定面は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な面または該共役な面の近傍に位置決めされることを特徴とする露光装置。
【請求項２１】前記投影光学系の瞳と光学的に共役な面を照明瞳とし、前記照明瞳上において前記照明瞳からの０次光が前記投影光学系の瞳を通過することができる領域を有効照明領域とするとき、前記多極照明形状は、該有効照明領域の内側境界に略局在化する形状の光強度分布を持つことを特徴とする請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】前記局所照明領域のうちの５０％以上の領域は前記有効照明領域内に局在していることを特徴とする請求項２１記載の露光装置。
【請求項２３】感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の光束変換素子を備える照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２４】感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項４乃至請求項１１及び請求項２０乃至請求項２２の何れか一項に記載の露光装置中の照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２５】感光性基板上に所定のパターンを転写する露光方法において、
請求項１１乃至請求項１９の何れか一項に記載の照明光学系を用いて前記所定のパターンが形成されるマスクを照明する照明工程と、
前記感光性基板上に前記所定のパターンを転写する転写工程と
を含むことを特徴とする露光方法。
３４
【国際調査報告】
2005062350.tif 000034
2005062350.tif 000035
2005062350.tif 000036
2005062350.tif 000037