(57)【要約】【課題】  カラー液晶表示装置の表示むらを低減する。【解決手段】  表示領域を複数の開口領域に分割する格子状の遮光膜を有する表示装置であって、前記開口領域は、前記遮光膜のうちの第１の方向に延在する２つの部分と、第２の方向に延在する２つの部分とで囲まれた領域であり、前記複数の開口領域は、平面形状が２通り以上あり、前記複数の開口領域のうちの１つ以上の開口領域は、１つの開口領域における前記第１の方向の寸法が２通り以上あり、かつ、前記第１の方向の寸法が第１の寸法である部分と、前記第１の方向の寸法が第２の寸法である部分とが、周期的に存在している表示装置。【選択図】        図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域を複数の開口領域に分割する格子状の遮光膜を有する表示装置であって、
前記開口領域は、前記遮光膜のうちの第１の方向に延在する２つの部分と、第２の方向に延在する２つの部分とで囲まれた領域であり、
前記複数の開口領域は、平面形状が２通り以上あり、
前記複数の開口領域のうちの１つ以上の開口領域は、１つの開口領域における前記第１の方向の寸法が２通り以上あり、かつ、前記第１の方向の寸法が第１の寸法である部分と、前記第１の方向の寸法が第２の寸法である部分とが、周期的に存在していることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記複数の開口領域は、前記第１の方向の寸法が１通りである開口領域と、前記第１の方向の寸法が２通り以上である開口領域とがあることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記複数の開口領域は、すべての開口領域の前記第１の方向の寸法が２通り以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示領域は長方形であり、
前記表示領域の４つの辺のうちの１つの辺に沿って並んでいる複数の開口領域は、第１の方向の寸法が１通りである開口領域と、前記第１の方向の寸法が２通り以上である開口領域とがあることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示領域は長方形であり、
前記表示領域の４つの辺のうちの１つの辺に沿って並んでいる複数の開口領域は、すべての開口領域における前記第１の方向の寸法が２通り以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
当該表示装置は、液晶表示パネルを有し、
前記遮光膜は、前記液晶表示パネルに設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記液晶表示パネルは、複数本の走査信号線および複数本の映像信号線を有し、
前記第１の方向は、前記走査信号線の延在方向であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
絶縁基板の表面に格子状の遮光膜を形成する工程を有し、前記遮光膜を形成する工程は、感光性材料膜を露光する工程を有する表示装置の製造方法であって、
前記感光性材料膜を露光する工程は、一度に露光可能な領域を複数の微小領域に分割し、前記微小領域毎に光の照射／非照射を制御する光学系を有し、前記遮光膜のレイアウトデータに基づいて、前記複数の微小領域を感光させる微小領域と感光させない微小領域とに分け、前記光学系により前記感光させる微小領域の感光性材料膜を順次感光させる露光装置を用いて行い、
前記遮光膜を形成する工程の後、前記絶縁基板の表面に形成された前記遮光膜の寸法を計測する工程と、
前記計測した前記遮光膜の寸法と、前記レイアウトデータにおける前記遮光膜の寸法との差に基づいて、前記レイアウトデータを補正する工程とを有し、
前記レイアウトデータを補正する工程は、
前記遮光膜を複数の補正ユニットに分割し、１つの補正ユニットをさらに複数のブロックに分割し、１つの補正ユニットにおいて寸法が補正されるブロックの組み合わせが異なる複数種類の補正パターンを用意しておき、
前記計測した前記遮光膜の寸法と、前記レイアウトデータにおける前記遮光膜の寸法との差に基づいて、前記複数種類の補正パターンのうちのいずれかを選択し、当該選択した補正パターンに補正することを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置および表示装置の製造方法に関し、特に、カラー液晶表示装置の遮光膜およびその製造方法に適用して有効な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、カラー液晶表示装置は、たとえば、携帯電話端末やＰＤＡなどの携帯型電子機器の表示部に用いられている。
【０００３】
カラー液晶表示装置は、第１の基板および第２の基板の一対の基板の間に液晶材料を封入した液晶表示パネルを有する。このとき、第１の基板は、たとえば、複数本の走査信号線、複数本の映像信号線、複数個のＴＦＴ素子、および複数個の画素電極などを有する。また、第２の基板は、たとえば、表示領域を複数の開口領域に分割する格子状の遮光膜、カラーフィルタなどを有する。
【０００４】
またこのとき、第２の基板の遮光膜は、第１の基板の走査信号線および映像信号線と重畳しており、それぞれの開口領域には、所定のカラーフィルタが設けられている。ＲＧＢ方式のカラー液晶表示装置の場合、第２の基板の走査信号線の延在方向に並んだ複数の開口領域には、たとえば、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタがこの順で設けられている。
【０００５】
第２の基板の遮光膜を形成するときには、一般に、１つの表示領域内にあるすべての開口領域の面積が等しくなるように形成する。
【０００６】
また、第２の基板の遮光膜を形成するときには、たとえば、赤色フィルタを設ける開口領域の面積、緑色フィルタを設ける開口領域の面積、および青色フィルタを設ける開口領域の面積の比が１：１：１以外の所定の比率になるようにすることもある。この場合、第２の基板の遮光膜は、同じ色のフィルタを設けるすべての開口領域の面積が等しくなるように形成する。
【０００７】
ところで、第２の基板の遮光膜を形成するときには、一般に、フォトリソグラフィー法により形成する。すなわち、遮光膜を形成するときには、たとえば、ガラス基板などの絶縁基板の表面にネガ型の黒色レジスト（感光性材料膜）を塗布し、フォトマスクを通して当該黒色レジストを露光した後、未露光部の黒色レジストを現像で除去し、格子状の遮光膜を形成する。
【０００８】
また、遮光膜を形成するときには、たとえば、ガラス基板などの絶縁基板の表面にクロムなどの光透過率が低い材料からなる遮光性材料膜を形成し、当該遮光性材料膜の上にフォトリソグラフィー法によりエッチングレジストを形成した後、当該エッチングレジストをマスクにして前記遮光性材料膜をエッチングして、格子状の遮光膜を形成することもある。
【０００９】
しかしながら、前記感光性材料膜を露光するときには、一般に、フォトマスクを用いて露光する。そのため、遮光膜で分割された複数の開口領域は、たとえば、露光時に生じるフォトマスクのたわみにより、面積にばらつきが生じることがある。
【００１０】
また、遮光膜で分割された複数の開口領域の面積にばらつきは、たとえば、レジスト（感光性材料膜）の塗布膜厚分布や現像圧力、ベーク温度などの不均一によって生じることもある。
【００１１】
またさらに、遮光性材料膜をエッチングして遮光膜を形成する場合、遮光膜で分割された複数の開口領域の面積のばらつきは、たとえば、当該遮光性材料膜をエッチングする際のエッチング量のばらつきなどによっても生じることがある。
【００１２】
このように、遮光膜で分割された複数の開口領域の面積にばらつきが生じると、カラー液晶表示装置で映像や画像を表示したときに表示むらが発生する。
【００１３】
遮光膜で分割された複数の開口領域の面積のばらつきを低減する方法としては、たとえば、試作した第２の基板における開口領域の面積のばらつきを測定し、フォトマスクのパターン寸法を補正する方法が考えられる。しかしながら、第２の基板における開口領域の面積のばらつき方に応じてパターン寸法を補正したフォトマスクを作製するのは効率が悪く、また、第２の基板、ひいてはカラー液晶表示装置の製造コストを増大させる原因になる。
【００１４】
そのため、従来の第２の基板の製造方法では、遮光膜で分割された複数の開口領域の面積のばらつきを低減する代わりに、たとえば、それぞれの開口領域に形成するカラーフィルタの着色条件を補正する方法が提案されている（たとえば、特許文献１を参照。）。
【特許文献１】特許第３７８２６１８号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、特許文献１に記載された補正方法は、たとえば、インクジェット方式のプリンタを使用してカラーフィルタを形成する場合に有効な方法であり、フォトリソグラフィー法でカラーフィルタを形成する場合には適用できないという問題がある。
【００１６】
したがって、フォトリソグラフィー法でカラーフィルタを形成した第２の基板を有するカラー液晶表示装置には、遮光膜で分割された複数の開口領域の面積のばらつきによる表示むらが発生するという問題が残る。
【００１７】
また、第２の基板は、通常、マザーガラスと呼ばれる大面積のガラス基板を用いた多面取りと呼ばれる方法で製造される。そのため、１枚のマザーガラスから切り出した複数枚の第２の基板は、たとえば、それぞれの第２の基板における開口領域の面積にばらつきが生じる。したがって、フォトリソグラフィー法でカラーフィルタを形成した第２の基板を有するカラー液晶表示装置は、たとえば、開口領域の面積のばらつきによる表示むらの度合いがマザーガラスに割り付けられた場所毎に異なる、すなわち表示品質が表示パネル毎に異なるという問題もあった。
【００１８】
本発明の目的は、カラー液晶表示装置の表示むらを容易に低減することが可能な技術を提供することにある。
【００１９】
本発明の他の目的は、同じ構成である複数のカラー液晶表示装置の表示品質の差を低減することが可能な技術を提供することにある。
【００２０】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。
【００２２】
（１）表示領域を複数の開口領域に分割する格子状の遮光膜を有する表示装置であって、前記開口領域は、前記遮光膜のうちの第１の方向に延在する２つの部分と、第２の方向に延在する２つの部分とで囲まれた領域であり、前記複数の開口領域は、平面形状が２通り以上あり、前記複数の開口領域のうちの１つ以上の開口領域は、１つの開口領域における前記第１の方向の寸法が２通り以上あり、かつ、前記第１の方向の寸法が第１の寸法である部分と、前記第１の方向の寸法が第２の寸法である部分とが、周期的に存在している表示装置。
【００２３】
（２）前記（１）の表示装置において、前記複数の開口領域は、前記第１の方向の寸法が１通りである開口領域と、前記第１の方向の寸法が２通り以上である開口領域とがある表示装置。
【００２４】
（３）前記（１）の表示装置において、前記複数の開口領域は、すべての開口領域の前記第１の方向の寸法が２通り以上である表示装置。
【００２５】
（４）前記（１）の表示装置において、前記表示領域は長方形であり、前記表示領域の４つの辺のうちの１つの辺に沿って並んでいる複数の開口領域は、第１の方向の寸法が１通りである開口領域と、前記第１の方向の寸法が２通り以上である開口領域とがある表示装置。
【００２６】
（５）前記（１）の表示装置において、前記表示領域は長方形であり、前記表示領域の４つの辺のうちの１つの辺に沿って並んでいる複数の開口領域は、すべての開口領域における前記第１の方向の寸法が２通り以上である表示装置。
【００２７】
（６）前記（１）の表示装置において、当該表示装置は、液晶表示パネルを有し、前記遮光膜は、前記液晶表示パネルに設けられている表示装置。
【００２８】
（７）前記（６）の表示装置において、前記液晶表示パネルは、複数本の走査信号線および複数本の映像信号線を有し、前記第１の方向は、前記走査信号線の延在方向である表示装置。
【００２９】
（８）絶縁基板の表面に格子状の遮光膜を形成する工程を有し、前記遮光膜を形成する工程は、感光性材料膜を露光する工程を有する表示装置の製造方法であって、前記感光性材料膜を露光する工程は、一度に露光可能な領域を複数の微小領域に分割し、前記微小領域毎に光の照射／非照射を制御する光学系を有し、前記遮光膜のレイアウトデータに基づいて、前記複数の微小領域を感光させる微小領域と感光させない微小領域とに分け、前記光学系により前記感光させる微小領域の感光性材料膜を順次感光させる露光装置を用いて行い、前記遮光膜を形成する工程の後、前記絶縁基板の表面に形成された前記遮光膜の寸法を計測する工程と、前記計測した前記遮光膜の寸法と、前記レイアウトデータにおける前記遮光膜の寸法との差に基づいて、前記レイアウトデータを補正する工程とを有し、前記レイアウトデータを補正する工程は、前記遮光膜を複数の補正ユニットに分割し、１つの補正ユニットをさらに複数のブロックに分割し、１つの補正ユニットにおいて寸法が補正されるブロックの組み合わせが異なる複数種類の補正パターンを用意しておき、前記計測した前記遮光膜の寸法と、前記レイアウトデータにおける前記遮光膜の寸法との差に基づいて、前記複数種類の補正パターンのうちのいずれかを選択し、当該選択した補正パターンに補正する表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の表示装置および表示装置の製造方法によれば、カラー液晶表示装置の表示むらを容易に低減することができる。また、本発明の表示装置および表示装置の製造方法によれば、同じ構成である複数のカラー液晶表示装置の表示品質の差を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明について、図面を参照して実施の形態（実施例）とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【００３２】
図１（ａ）乃至図１（ｄ）は、本発明に関わる液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式図である。
図１（ａ）は、液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。図１（ｃ）は、図１（ａ）の領域ＲＡの概略構成の一例を示す模式平面図である。図１（ｄ）は、図１（ｃ）のＢ−Ｂ’線における第２の基板の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【００３３】
本発明は、たとえば、カラー液晶表示装置の液晶表示パネルに設ける格子状の遮光膜（ブラックマトリクス）に適用される。液晶表示パネルは、たとえば、図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、第１の基板１および第２の基板２を有し、第１の基板１と第２の基板２との間には、液晶材料ＬＣが封入されている。このとき、第１の基板１と第２の基板２とは、表示領域ＤＡを囲む環状のシール材ＳＭで接着されており、液晶材料ＬＣは、第１の基板１、第２の基板２、およびシール材ＳＭで囲まれた領域に密封されている。
【００３４】
第１の基板１は、ガラス基板などの絶縁基板の表面に走査信号線、映像信号線、ＴＦＴ素子、画素電極、および配向膜などが設けられた基板である。このとき、第１の基板１の表示領域ＤＡには、図示していない複数本の走査信号線および複数本の映像信号線による格子が形成されおり、当該格子の格子点（走査信号線と映像信号線との交点）の近傍にＴＦＴ素子が配置されている。
【００３５】
複数本の走査信号線は、ｙ方向に並んでおり、それぞれの走査信号線は、ｘ方向に延在している。また、複数本の映像信号線は、ｘ方向に並んでおり、それぞれの映像信号線は、ｙ方向に延在している。
【００３６】
また、格子点の近傍に配置されたＴＦＴ素子は、ゲートが走査信号線に接続し、ドレインが映像信号線に接続している。またこのとき、格子点の近傍に配置されたＴＦＴ素子のソースは、複数本の走査信号線および複数本の映像信号線により形成された格子の開口領域に配置されている画素電極に接続している。
【００３７】
第２の基板２は、たとえば、図１（ｃ）および図１（ｄ）に示すように、ガラス基板などの絶縁基板２００の表面に格子状の遮光膜２０１（ブラックマトリクス）、赤色フィルタ２０２Ｒ、緑色フィルタ２０２Ｇ、青色フィルタ２０２Ｂ、平坦化膜２０３、および配向膜２０４などが設けられた基板である。遮光膜２０１は、第１の基板１の走査信号線１０１および映像信号線１０２により形成される格子と対応しており、表示領域ＤＡを複数の開口領域に分割している。以下の説明において、単に開口領域と記載している場合は、遮光膜２０１の開口領域のことを指すものとする。
【００３８】
液晶表示パネルがＲＧＢ方式のカラー表示に対応している場合、それぞれの開口領域には、赤色フィルタ２０２Ｒ、緑色フィルタ２０２Ｇ、青色フィルタ２０２Ｂのいずれかが配置されている。このとき、赤色フィルタ２０２Ｒ、緑色フィルタ２０２Ｇ、および青色フィルタ２０２Ｂは規則的に配置されており、赤色フィルタ２０２Ｒが配置された開口領域、緑色フィルタ２０２Ｇが配置された開口領域、および青色フィルタ２０２Ｂが配置された開口領域の３つの開口領域からなる領域ＤＴにより、映像または画像の１ドットの色を表現する。
【００３９】
なお、図１（ｄ）に示した第２の基板２の断面構成は、ＩＰＳ方式などと呼ばれる液晶駆動方式（いわゆる横電界駆動方式）の液晶表示パネルに用いる第２の基板２の断面構成の一例である。液晶表示パネルがＶＡ方式またはＴＮ方式などと呼ばれる液晶駆動方式（いわゆる縦電界駆動方式）である場合、第２の基板２は、たとえば、平坦化膜２０３と配向膜２０４の間に対向電極が設けられる。
【００４０】
また、第１の基板１および第２の基板２は、それぞれ、一般にＴＦＴ基板および対向基板（またはカラーフィルタ基板）と呼ばれている基板であり、従来より種々の構成および組み合わせが知られている。そして、本発明は、図１（ｃ）に示したような格子状の遮光膜２０１の平面形状に関するものであるため、第１の基板１および第２の基板２のその他の構成は、従来より知られている構成のいずれか、またはそれを応用した構成であればよい。したがって、本明細書では、第１の基板１および第２の基板２において、本発明と直接関係のない構成についての詳細な説明は省略する。
【００４１】
図２は、本発明に関わる液晶表示パネルの遮光膜を形成する工程における感光性材料膜の露光方法の一例を示す模式平面図である。
【００４２】
第２の基板２の製造方法において、遮光膜２０１を形成するときには、一般に、絶縁基板２００の表面に、ネガ型の黒色レジスト（感光性材料膜）を塗布し、フォトマスクを通して当該黒色レジストを露光した後、未露光部の黒色レジストを現像で除去して形成する。また、遮光膜２０１を形成するときには、たとえば、絶縁基板２００の表面全体にクロム膜などの遮光性材料膜を形成（成膜）し、当該遮光性材料膜の上にフォトリソグラフィー法によりエッチングレジストを形成した後、当該遮光性材料膜をエッチングして形成することもある。すなわち、遮光膜２０１を形成する工程は、感光性材料膜を露光、現像する工程を有する。
【００４３】
感光性材料膜の露光は、従来、フォトマスクを用いて行うのが一般的である。このとき、１枚のフォトマスクには、たとえば、１つの表示領域ＤＡの全体に対する露光パターンが形成されている。そのため、１つの表示領域ＤＡの面積が大きくなると、それにともない１枚のフォトマスクの面積も大きくなり、露光時にフォトマスクにたわみが生じる。その結果、たとえば、１つの表示領域ＤＡの外周部に形成される開口領域の面積と、当該表示領域ＤＡの中央部に形成される開口領域の面積との間に差が生じ、表示むらの原因になっていた。
【００４４】
また、１つの表示領域ＤＡの外周部に形成される開口領域の面積と、当該表示領域ＤＡの中央部に形成される開口領域の面積との間の差は、たとえば、感光性材料膜の塗布膜厚分布やベーク温度、現像圧力などの不均一によっても生じ、これが表示むらの原因になっていた。
【００４５】
遮光膜で分割された複数の開口領域の面積のばらつきを低減する方法としては、たとえば、試作した第２の基板における開口領域の面積のばらつきを測定し、フォトマスクのパターン寸法を補正する方法が考えられる。しかしながら、第２の基板における開口領域の面積のばらつき方に応じてパターン寸法を補正したフォトマスクを作製するのは効率が悪く、また、第２の基板、ひいてはカラー液晶表示装置の製造コストを増大させる原因になる。
【００４６】
以上のようなことから、本発明では、遮光膜２０１を形成する工程で行う感光性材料膜の露光を、直描露光方式またはダイレクト露光方式と呼ばれる方式で行う。直描露光方式で感光性材料膜を露光するときには、たとえば、図２に示すように、横方向（ｘ方向）の寸法がＬｘで縦方向（ｙ方向）の寸法がＬｙである１つの表示領域ＤＡ（露光対象領域）を、横方向の寸法がＬｘ’で縦方向の寸法がＬｙである帯状領域に分割し、当該帯状領域を走査して１つの表示領域ＤＡの全体を露光する。
【００４７】
このとき、直描露光方式の露光装置は、たとえば、一度に露光可能な領域３が多数の微小領域の集合で設定されており、微小領域毎に光の照射／非照射を制御できる光学系を有する。またこのとき、光学系における各微小領域の光の照射／非照射の制御は、たとえば、ＣＡＤで作成したレイアウトデータ（数値データ）に基づいて行う。
【００４８】
また、直描露光方式の露光装置における一度に露光可能な領域３は、１つの表示領域ＤＡに比べて十分に小さい。そのため、直描露光方式の露光装置を用いて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成すると、たとえば、フォトマスクのたわみによる開口領域の面積のばらつきが無くなり、表示むらの発生を防ぐことができる。
【００４９】
しかしながら、遮光膜２０１を形成したときの開口領域の面積のばらつきは、上記のようなフォトマスクのたわみだけではなく、製造プロセスにおいて生じるばらつき、たとえば、レジスト（感光性材料膜）の塗布膜厚分布やベーク温度、現像圧力などの不均一によっても生じる。
【００５０】
図３（ａ）および図３（ｂ）は、遮光膜を形成する工程における感光性材料膜の露光を直描露光方式で行った場合に生じる問題点の一例を説明するための模式図である。
図３（ａ）は、液晶表示パネルの透過光量の測定方法を説明するための模式平面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）に示した対角線上における透過光量の分布の一例および遮光膜の線幅の分布の一例を示す模式グラフ図である。
なお、図３（ｂ）のグラフ図において、横軸は図３（ａ）に示した対角線上における位置Ｐｄｉａであり、ＰＡ，ＰＢ，ＰＣは、それぞれ、図３（ａ）に示したＰＡ，ＰＢ，ＰＣに対応している。また、図３（ｂ）のグラフ図において、左側の縦軸は透過光量ＴＲ（単位は％）であり、対角線上における透過光量ＴＲのうちの、もっとも大きい透過光量ＴＲを１００％としている。また、図３（ｂ）のグラフ図において、右側の縦軸は遮光膜２０１の線幅Ｗ（単位はμｍ）である。また、図３（ｂ）のグラフ図において、実線で示した分布は、透過光量ＴＲの分布であり、点線で示した分布は、遮光膜２０１の線幅Ｗの分布である。また、図３（ｂ）のグラフ図において、左側の縦軸の数値と右側の縦軸の数値には相関がない。すなわち、たとえば、遮光膜２０１の線幅Ｗが８μｍのときに透過光量ＴＲが１００％になるというわけではないことは言うまでもない。
【００５１】
直描露光方式で露光した感光性材料膜を現像して遮光膜２０１を形成すると、原理的には、表示領域ＤＡにあるすべての開口領域の面積が概ね等しくなる。そのため、このような方法で形成した遮光膜２０１を有する液晶表示パネルでは、開口領域の面積のばらつきによる表示むらは発生しないと考えられる。
【００５２】
しかしながら、直描露光方式の露光を利用して形成した遮光膜２０１を有する液晶表示パネルにおいて、たとえば、図３（ａ）に示したように、表示領域ＤＡの左下の角部ＰＡと右上の角部ＰＢとを結ぶ対角線上における透過光量ＴＲを調べてみると、たとえば、図３（ｂ）に実線で示したような分布になることがある。すなわち、表示領域ＤＡの外周部における透過光量ＴＲが、中央部における透過光量ＴＲよりも小さくなることがある。
【００５３】
本願発明者らが、直描露光方式の露光を利用して形成した遮光膜２０１を有する液晶表示パネルにおいて、上記のような透過光量のばらつきが生じる原因を調べたところ、表示領域ＤＡの角部ＰＡと角部ＰＢとを結ぶ対角線上にある遮光膜２０１の線幅Ｗが、たとえば、図３（ｂ）に点線で示したような分布になっていた。すなわち、表示領域ＤＡの外周部にある遮光膜２０１の線幅Ｗが、中央部にある遮光膜２０１の線幅Ｗよりも太くなっていた。そのため、表示領域ＤＡの外周部にある開口領域の面積と、中央部にある開口領域の面積とに差が生じ、上記のような透過光量ＴＲの分布が生じていた。このような遮光膜２０１の線幅Ｗの分布（ばらつき）は、製造プロセス、たとえば、感光性材料膜を塗布したときに生じる膜厚の分布や、ベーク温度、現像圧力などの不均一に起因するものと考えられる。また、クロムなどの遮光性材料膜をエッチングして遮光膜２０１を形成する場合は、エッチングするときのエッチング量の不均一などもばらつきの原因に加わる。
【００５４】
以上のようなことから、直描露光方式で感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成する場合でも、表示領域ＤＡにあるすべての開口領域の面積を均一にするためには、何らかの対策が必要である。
【００５５】
遮光膜２０１の開口領域の面積を均一にするためには、たとえば、遮光膜２０１を形成する工程において感光性材料膜を直描露光方式で露光するときに使用するレイアウトデータ（数値データ）を、製造プロセスに起因する上記のような遮光膜２０１の線幅Ｗの分布に応じて補正することが有効である。
【００５６】
図４（ａ）乃至図４（ｃ）は、感光性材料膜の露光に使用するレイアウトデータの補正方法の一例およびその問題点を説明するための模式図である。
【００５７】
図４（ａ）は、補正前のレイアウトデータの概略構成の一例を示す模式平面図である。図４（ｂ）は、レイアウトデータの補正方法の一例を示す模式平面図である。図４（ｃ）は、図４（ｂ）に示したような補正をしたときに生じる問題点の一例を示す模式平面図である。
【００５８】
直描露光方式の露光装置で感光性材料膜を露光するときに使用するレイアウトデータは、たとえば、図４（ａ）に示すように、横方向（ｘ方向）の寸法および縦方向（ｙ方向）の寸法がそれぞれＧである単位領域４（グリッド）に基づいて作成される。すなわち、レイアウトデータ上における遮光膜２０１の線幅Ｗ１、および隣接する２つの遮光膜２０１の間隙Ｓ１は、それぞれ、単位領域の寸法Ｇの整数倍の値になっている。
【００５９】
このとき、単位領域４の寸法Ｇは、露光装置の光学系において制御可能な露光領域の最小寸法に相当し、直描露光方式の場合、たとえば、０．５μｍである。そのため、レイアウトデータにおける遮光膜２０１の線幅Ｗを補正するときには、最低でも、単位領域４の寸法Ｇと同じ分だけ広く（または狭く）する必要がある。
【００６０】
補正前のレイアウトデータに基づいて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成したときの遮光膜２０１の線幅Ｗに、図３（ｂ）に示したような分布が生じた場合、中央部における線幅Ｗと、外周部における線幅Ｗとの差は、最大で１μｍであり、かつ、外周部における線幅Ｗのほうが広い。そのため、レイアウトデータを補正するときには、たとえば、外周部に形成される遮光膜２０１の線幅Ｗが１μｍ程度細くなるように補正すればよい。したがって、この場合、レイアウトデータは、表示領域ＤＡの外周部における遮光膜２０１の線幅を、たとえば、図４（ｂ）に示すように、補正前の線幅Ｗ１よりも１μｍ（Ｇ×２）だけ細い線幅Ｗ２するような補正をすればよいと考えられる。このとき、補正前のレイアウトデータにおける遮光膜２０１の線幅Ｗ１が、５．０μｍであれば、補正後の遮光膜２０１の線幅Ｗ２は、４．０μｍになる。
【００６１】
遮光膜２０１を形成する工程において、このようなレイアウトデータに基づいた直描露光方式で感光性材料膜を露光する場合、当該感光性材料膜がネガ型であれば、遮光膜２０１を形成する領域のみが感光するように露光する。また、感光性材料膜がポジ型の場合は、遮光膜２０１を形成する領域の外側の領域のみが感光するように露光する。
【００６２】
またこのとき、表示領域ＤＡのうちのレイアウトデータを補正する領域は、図３（ｂ）に示した透過光量ＴＲの分布に基づいて設定し、たとえば、１００％≧ＴＲ≧９５％である領域の線幅は補正せず、９５％＞ＴＲである領域の線幅のみを補正する。
【００６３】
しかしながら、このような補正をしたレイアウトデータに基づいて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成した場合、当該遮光膜２０１を有する液晶表示パネルにおける透過光量ＴＲは、たとえば、図４（ｃ）に示したような分布になる。なお、図４（ｃ）のグラフ図において、横軸は図３（ａ）に示した対角線上における位置Ｐｄｉａであり、ＰＡ，ＰＢ，ＰＣは、それぞれ、図３（ａ）に示したＰＡ，ＰＢ，ＰＣに対応している。また、図４（ｃ）のグラフ図において、縦軸は透過光量ＴＲ（単位は％）であり、対角線上における透過光量ＴＲのうちの、もっとも大きい透過光量ＴＲを１００％としている。
【００６４】
このように、遮光膜２０１のレイアウトデータを補正するときに、１００％≧ＴＲ≧９５％である領域の線幅は補正せず、９５％＞ＴＲである領域の線幅のみを補正した場合、補正した領域と補正していない領域との境界部分における透過光量ＴＲの変動量が大きくなり、当該境界部分における表示むらが目立ってしまう。
【００６５】
そのため、本発明では、以下で説明するような方法で遮光膜２０１レイアウトデータを補正することで、開口領域の面積（透過光量ＴＲ）のばらつきを低減し、表示むらを低減する。
【実施例１】
【００６６】
図５（ａ）乃至図５（ｆ）、図６、および図７（ａ）乃至図７（ｆ）、ならびに図８は、本発明による実施例１の遮光膜の形成方法の原理を説明するための模式図である。
図５（ａ）は、実施例１の遮光膜の形成方法における補正前の遮光膜のレイアウトデータの一例を示す模式平面図である。図５（ｂ）は、レイアウトデータの第１の補正パターンの一例を示す模式平面図である。図５（ｃ）は、レイアウトデータの第２の補正パターンの一例を示す模式平面図である。図５（ｄ）は、レイアウトデータの第３の補正パターンの一例を示す模式平面図である。図５（ｅ）は、レイアウトデータの第４の補正パターンの一例を示す模式平面図である。図５（ｆ）は、レイアウトデータの第５の補正パターンの一例を示す模式平面図である。
図６は、透過光量の面内分布の一例を示す模式平面図である。
図７（ａ）は、図６に示した境界線ＢＬ１の内側に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。図７（ｂ）は、図６に示した境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。図７（ｃ）は、図６に示した境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。図７（ｄ）は、図６の境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。図７（ｅ）は、図６の境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。図７（ｆ）は、図６の境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
図８は、実施例１の方法で形成した遮光膜を有する液晶表示パネルにおける開口領域の透過光量および遮光膜の線幅の平均値の分布の一例を示す模式グラフ図である。
【００６７】
実施例１では、補正前のレイアウトデータに基づいて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成したときの透過光量ＴＲに、図３（ｂ）に示したような分布が生じる場合に、透過光量ＴＲのばらつきを低減する遮光膜２０１の形成方法について説明する。
【００６８】
実施例１の遮光膜２０１の形成方法は、ネガ型の黒色レジスト（感光性材料膜）を露光、現像して形成する方法であるとする。このとき、遮光膜２０１を形成する工程では、まず、絶縁基板２００の表面全体にネガ型の黒色レジスト（感光性材料膜）を塗布し、ホットプレートで加熱して溶剤を飛ばす。次に、当該黒色レジストを直描露光方式で露光した後、現像して未露光部のレジストを除去する。またこのとき、実施例１の遮光膜２０１の形成方法では、黒色レジストを露光するときに使用する遮光膜２０１のレイアウトデータを、以下のような方法で補正することで、透過光量ＴＲのばらつきによる液晶表示パネルの表示むらを低減する。
【００６９】
実施例１の遮光膜２０１の形成方法において、遮光膜２０１のレイアウトデータを補正するときには、たとえば、図５（ａ）に示すように、遮光膜２０１のうちの縦方向（ｙ方向）に延在する部分を、縦方向の寸法がＬｂである複数のブロックに分割し、連続する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅを１つの補正ユニット２０１ｕとして補正をする。このとき、各ブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅの遮光膜の線幅Ｗ１は、補正前のレイアウトデータにおける線幅であり、実施例１の遮光膜２０１の形成方法では、各ブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅの遮光膜を、線幅Ｗ１から線幅Ｗ２に狭くする補正を行うことで、透過光量ＴＲのばらつきを低減する。またこのとき、レイアウトデータの単位領域４の寸法Ｇは０．５μｍとし、遮光膜２０１の線幅Ｗ１と線幅Ｗ２との差は、単位領域４の寸法の２倍（１μｍ）にする。
【００７０】
実施例１の遮光膜２０１の形成方法において、遮光膜２０１のレイアウトデータを補正するときには、１つの補正ユニット２０１ｕを補正単位とし、１つの補正ユニット２０１ｕを構成する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅの線幅の組み合わせを変えることで、当該補正ユニット２０１ｕの見かけ上の線幅を補正する。すなわち、実施例１の遮光膜２０１の形成方法では、遮光膜２０１のレイアウトデータを補正する際に、たとえば、図５（ｂ）乃至図５（ｆ）に示すような５通りの補正パターンを使用する。
【００７１】
第１の補正パターンは、図５（ｂ）に示すように、１つの補正ユニット２０１ｕを構成する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅのうちの、１つのブロック２０１ｃの線幅のみを、線幅Ｗ１から線幅Ｗ２に補正するパターンである。このとき、１つの補正ユニット２０１ｕは、全体の２０％の部分だけ、線幅が１μｍ狭くなる。そのため、第１の補正パターンにおける１つの補正ユニット２０１ｕは、補正ユニット全体の線幅を０．２μｍだけ狭くする補正をした場合と等価であるとみなすことができる。
【００７２】
第２の補正パターンは、図５（ｃ）に示すように、１つの補正ユニット２０１ｕを構成する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅのうちの、２つのブロック２０１ｂ，２０１ｄの線幅のみを、線幅Ｗ１から線幅Ｗ２に補正するパターンである。このとき、１つの補正ユニット２０１ｕは、全体の４０％の部分だけ、線幅が１μｍ狭くなる。そのため、第２の補正パターンにおける１つの補正ユニット２０１ｕは、補正ユニット全体の線幅を０．４μｍだけ狭くする補正をした場合と等価であるとみなすことができる。
【００７３】
第３の補正パターンは、図５（ｄ）に示すように、１つの補正ユニット２０１ｕを構成する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅのうちの、３つのブロック２０１ａ，２０１ｃ，２０１ｅの線幅のみを、線幅Ｗ１から線幅Ｗ２に補正するパターンである。このとき、１つの補正ユニット２０１ｕは、全体の６０％の部分だけ、線幅が１μｍ狭くなる。そのため、第３の補正パターンにおける１つの補正ユニット２０１ｕは、補正ユニット全体の線幅を０．６μｍだけ狭くする補正をした場合と等価であるとみなすことができる。
【００７４】
第４の補正パターンは、図５（ｅ）に示すように、１つの補正ユニット２０１ｕを構成する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅのうちの、４つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｄ，２０１ｅの線幅のみを、線幅Ｗ１から線幅Ｗ２に補正するパターンである。このとき、１つの補正ユニット２０１ｕは、全体の８０％の部分だけ、線幅が１μｍ細くなる。そのため、第４の補正パターンにおける１つの補正ユニット２０１ｕは、補正ユニット全体の線幅を０．８μｍだけ狭くする補正をした場合と等価であるとみなすことができる。
【００７５】
第５の補正パターンは、図５（ｆ）に示すように、１つの補正ユニット２０１ｕを構成する５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅすべての線幅を、線幅Ｗ１から線幅Ｗ２に補正するパターンである。このとき、１つの補正ユニット２０１ｕは、全体の線幅が１μｍ細くなる。すなわち、第５の補正パターンにおける１つの補正ユニット２０１ｕは、補正ユニット全体の線幅を１μｍだけ狭くする補正をしたことになる。
【００７６】
したがって、補正前のレイアウトデータにおける遮光膜２０１の線幅Ｗ１が、たとえば、５．０μｍである場合、第１の補正パターン乃至第５の補正パターンを用いてレイアウトデータを補正すると、補正後のレイアウトデータにおける遮光膜２０１の線幅は、見かけ上、５．０μｍ、４．８μｍ、４．６μｍ、４．４μｍ、４．２μｍ、および４．０μｍの６通りにすることができる。すなわち、実施例１のレイアウトデータの補正方法を適用すると、見かけ上、単位領域４の寸法Ｇよりも小さい寸法で遮光膜２０１の線幅を補正することができる。
【００７７】
上記のような５通りの補正パターンを用意し、レイアウトデータを補正するときには、たとえば、図３（ｂ）に示したような透過光量ＴＲの分布に基づき、表示領域ＤＡの中央部分から外周部に向かうにつれて、遮光膜２０１の見かけ上の線幅が段階的に狭くなるように補正する。このとき、レイアウトデータは、たとえば、下記表１のような補正テーブルに基づいて補正する。
【００７８】
【表１】
2009300587.tif 000003
【００７９】
またこのとき、表示領域ＤＡの全体でみた透過光量ＴＲの分布は、たとえば、図６に示すように、環状の境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５で表される。このとき、境界線ＢＬ１の内側における透過光量ＴＲは、１００％≧ＴＲ≧９９％である。そのため、レイアウトデータを補正する場合、境界線ＢＬ１の内側にある遮光膜２０１は、補正しない。
【００８０】
また、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間の領域における透過光量ＴＲは、９９％＞ＴＲ≧９７％である。そのため、レイアウトデータを補正する場合、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間の領域にある遮光膜２０１は、第１の補正パターンに補正する。
【００８１】
また、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間の領域における透過光量ＴＲは、９７％＞ＴＲ≧９５％である。そのため、レイアウトデータを補正する場合、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間の領域にある遮光膜２０１は、第２の補正パターンに補正する。
【００８２】
また、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間の領域における透過光量ＴＲは、９５％＞ＴＲ≧９３％である。そのため、レイアウトデータを補正する場合、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間の領域にある遮光膜２０１は、第３の補正パターンに補正する。
【００８３】
また、境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５との間の領域における透過光量ＴＲは、９３％＞ＴＲ≧９１％である。そのため、レイアウトデータを補正する場合、境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５との間の領域にある遮光膜２０１は、第４の補正パターンに補正する。
【００８４】
また、境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間の領域における透過光量ＴＲは、９１％＞ＴＲ≧８９％である。そのため、レイアウトデータを補正する場合、境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間の領域にある遮光膜２０１は、第５の補正パターンに補正する。
【００８５】
このような方法でレイアウトデータを補正した後、補正後のレイアウトデータに基づいて感光性材料膜（ネガ型の黒色レジスト）を露光し、遮光膜２０１を形成すると、その平面形状および寸法は、たとえば、図７（ａ）乃至図７（ｆ）に示したようになる。なお、ネガ型の感光性材料膜を直描露光方式で露光するときには、図５（ａ）乃至図５（ｆ）に示したようなパターンのレイアウトデータにおいて遮光膜２０１を形成する領域のみが感光するように露光する。また、ポジ型の感光性材料膜を直描露光方式で露光するときには、図５（ａ）乃至図５（ｆ）に示したようなパターンのレイアウトデータにおける遮光膜２０１を形成する領域の外側の領域のみが感光するように露光する。
【００８６】
境界線ＢＬ１の内側の領域の遮光膜２０１は、図５（ａ）に示したような補正前のレイアウトデータと同じレイアウトデータに基づいて形成される。そのため、境界線ＢＬ１の内側に形成される遮光膜２０１は、たとえば、図７（ａ）に示すように、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１とほぼ同じ線幅で形成される。このとき、隣接する２つの遮光膜２０１の間隙は１通りであり、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１とほぼ同じになる。したがって、境界線ＢＬ１の内側の領域に形成ある開口領域の面積は、補正前のレイアウトデータにおける面積とほぼ同じである。
【００８７】
境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間の領域の遮光膜２０１は、図５（ｂ）に示したような第１の補正パターンに基づいて形成される。そのため、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間に形成される遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｂ）に示すように、線幅が広い部分と、線幅が狭い部分とが存在する。このとき、線幅が広い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも広くなり、線幅が狭い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも狭くなる。
【００８８】
またこのとき、１つの補正ユニット２０１ｕで見ると、隣接する遮光膜２０１の間隙には２通りあり、線幅が広い部分の間隙Ｓ２ａは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．１μｍ狭くなり、線幅が狭い部分の間隙Ｓ２ｂは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．４μｍ広くなる。またさらに、１つの補正ユニット２０１ｕにおいて遮光膜の線幅が広い部分（間隙がＳ２ａになる部分）と、線幅が狭い部分（間隙がＳ２ｂになる部分）との比は、およそ４：１である。したがって、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間の領域にある開口領域の面積は、境界線ＢＬ１の内側の領域にある開口領域の面積とほぼ同じになると考えられる。
【００８９】
境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間の領域の遮光膜２０１は、図５（ｃ）に示したような第２の補正パターンに基づいて形成される。そのため、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間に形成される遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｃ）に示すように、線幅が広い部分と、線幅が狭い部分とが存在する。このとき、線幅が広い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも広くなり、線幅が狭い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも狭くなる。またこのとき、遮光膜２０１の線幅は、全体的に、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間に形成される遮光膜２０１の線幅よりも広くなる。
【００９０】
またこのとき、１つの補正ユニット２０１ｕで見ると、隣接する遮光膜２０１の間隙には２通りあり、線幅が広い部分の間隙Ｓ３ａは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．２μｍ狭くなり、線幅が狭い部分の間隙Ｓ３ｂは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．３μｍ広くなる。また、遮光膜の間隙Ｓ３ａ，Ｓ３ｂは、それぞれ、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間にある遮光膜の間隙Ｓ２ａ，Ｓ２ｂよりも狭くなる。またさらに、１つの補正ユニット２０１ｕにおいて遮光膜の線幅が広い部分（間隙がＳ３ａになる部分）と、線幅が狭い部分（間隙がＳ３ｂになる部分）との比は、およそ３：２である。したがって、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間の領域にある開口領域の面積は、境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２との間の領域にある開口領域の面積とほぼ同じになると考えられる。
【００９１】
境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間の領域の遮光膜２０１は、図５（ｄ）に示したような第３の補正パターンに基づいて形成される。そのため、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間に形成される遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｄ）に示すように、線幅が広い部分と、線幅が狭い部分とが存在する。このとき、線幅が広い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも広くなり、線幅が狭い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも狭くなる。またこのとき、遮光膜２０１の線幅は、全体的に、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間に形成される遮光膜２０１の線幅よりも広くなる。
【００９２】
またこのとき、１つの補正ユニット２０１ｕで見ると、隣接する遮光膜２０１の間隙には２通りあり、線幅が広い部分の間隙Ｓ４ａは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．３μｍ狭くなり、線幅が狭い部分の間隙Ｓ４ｂは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．２μｍ広くなる。また、遮光膜の間隙Ｓ４ａ，Ｓ４ｂは、それぞれ、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間にある遮光膜の間隙Ｓ３ａ，Ｓ３ｂよりも狭くなる。またさらに、１つの補正ユニット２０１ｕにおいて遮光膜の線幅が広い部分（間隙がＳ４ａになる部分）と、線幅が狭い部分（間隙がＳ４ｂになる部分）との比は、およそ２：３である。したがって、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間の領域にある開口領域の面積は、境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３との間の領域にある開口領域の面積とほぼ同じになると考えられる。
【００９３】
境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５との間の領域の遮光膜２０１は、図５（ｅ）に示したような第４の補正パターンに基づいて形成される。そのため、境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５との間に形成される遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｅ）に示すように、線幅が広い部分と、線幅が狭い部分とが存在する。このとき、線幅が広い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも広くなり、線幅が狭い部分は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも狭くなる。またこのとき、遮光膜２０１の線幅は、全体的に、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間に形成される遮光膜２０１の線幅よりも広くなる。
【００９４】
またこのとき、１つの補正ユニット２０１ｕで見ると、隣接する遮光膜２０１の間隙には２通りあり、線幅が広い部分の間隙Ｓ５ａは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．４μｍ狭くなり、線幅が狭い部分の間隙Ｓ５ｂは、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１よりも約０．１μｍ広くなる。また、遮光膜の間隙Ｓ５ａ，Ｓ５ｂは、それぞれ、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間にある遮光膜の間隙Ｓ４ａ，Ｓ４ｂよりも狭くなる。またさらに、１つの補正ユニット２０１ｕにおいて遮光膜の線幅が広い部分（間隙がＳ５ａになる部分）と、線幅が狭い部分（間隙がＳ５ｂになる部分）との比は、およそ１：４である。したがって、境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５との間の領域にある開口領域の面積は、境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４との間の領域にある開口領域の面積とほぼ同じになると考えられる。
【００９５】
境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間の領域の遮光膜２０１は、図５（ｆ）に示したような第５の補正パターンに基づいて形成される。そのため、境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間に形成される遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｆ）に示すように、線幅がほぼ一定である。また、第５の補正パターンにおける遮光膜２０１の線幅Ｗ２は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１よりも１μｍ狭くする補正がされている。そのため、境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間に形成される遮光膜２０１の線幅は、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１とほぼ同じになると考えられる。すなわち、境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間に形成される遮光膜２０１の間隙Ｓ６は、補正前のレイアウトデータにおける間隙Ｓ１とほぼ同じになると考えられる。したがって、境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周との間にある開口領域の面積は、境界線ＢＬ１の内側の領域にある開口領域の面積とほぼ同じになると考えられる。
【００９６】
以上のようなことから、実施例１で説明した方法で補正したレイアウトデータに基づいて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成した液晶表示パネルは、開口領域の面積のばらつきによる表示むらを低減でき、表示品質を向上させることができると考えられる。
【００９７】
本願発明者らが、図５（ｂ）乃至図５（ｆ）に示した補正パターン、および上記表１に基づいて補正したレイアウトデータを用いて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成した液晶表示パネルについて、表示領域ＤＡの対角線上における透過光量の分布および遮光膜２０１の線幅Ｗの平均値を測定したところ、図８に示すような結果が得られた。すなわち、実施例１で説明した方法でレイアウトデータを補正して遮光膜２０１を形成すると、対角線上にある開口領域の透過光量ＴＲおよび遮光膜２０１の線幅の平均値Ｗａはほぼ均一になることが確かめられた。
【００９８】
なお、図８のグラフ図において、横軸は図３（ａ）に示した対角線上における位置Ｐｄｉａであり、ＰＡ，ＰＢ，ＰＣは、それぞれ、図３（ａ）に示したＰＡ，ＰＢ，ＰＣに対応している。また、図８のグラフ図において、左側の縦軸は透過光量ＴＲ（単位は％）であり、対角線上における透過光量ＴＲのうちの、もっとも大きい透過光量ＴＲを１００％としている。また、図８のグラフ図において、右側の縦軸は遮光膜２０１の線幅の平均値Ｗａ（単位はμｍ）である。なお、上記の遮光膜２０１の線幅の平均値Ｗａは、たとえば、１つの補正ユニット内に生じる線幅が広いブロックの線幅および狭いブロックの線幅の値、ならびのそれらの比から算出される平均値である。また、図８のグラフ図において、実線で示した分布は、透過光量ＴＲの分布であり、点線で示した分布は、遮光膜２０１の線幅の平均値Ｗａの分布である。また、図３（ｂ）のグラフ図において、左側の縦軸の数値と右側の縦軸の数値には相関がない。すなわち、たとえば、遮光膜２０１の線幅Ｗが８μｍのときに透過光量ＴＲが１００％になるというわけではないということは言うまでもない。
【００９９】
図９は、実施例１の遮光膜の形成方法の変形例の一例を説明するための模式グラフ図である。
なお、図９のグラフ図において、横軸は図３（ａ）に示した対角線上における位置Ｐｄｉａであり、ＰＡ，ＰＢ，ＰＣは、それぞれ、図３（ａ）に示したＰＡ，ＰＢ，ＰＣに対応している。また、図９のグラフ図において、左側の縦軸は透過光量ＴＲ（単位は％）であり、対角線上における透過光量ＴＲのうちの、もっとも大きい透過光量ＴＲを１００％としている。また、図９のグラフ図において、実線の分布ＴＲは、補正前のレイアウトデータを用いて形成した遮光膜を有する液晶表示パネルにおける透過光量の分布であり、破線の分布ＴＲｃは、補正後のレイアウトデータを用いて形成した遮光膜を有する液晶表示パネルにおける透過光量の分布である。
【０１００】
実施例１の遮光膜２０１の形成方法における上記の説明では、たとえば、図３（ｂ）に示すように、表示領域ＤＡの外周部における透過光量ＴＲが、中央部における透過光量ＴＲよりも小さくなる場合のレイアウトデータの補正方法を例に挙げている。しかしながら、直描露光方式で感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成したときには、たとえば、図９に示すように、表示領域ＤＡの外周部における透過光量ＴＲが、中央部における透過光量ＴＲよりも大きくなる場合もある。そのような場合、たとえば、表示領域ＤＡの外周部にある遮光膜２０１の線幅が、中央部にある遮光膜２０１の線幅よりも狭くなっていると考えられる。したがって、そのような場合は、図５（ｂ）乃至図５（ｆ）に示したような補正パターンの関係とは逆に、遮光膜２０１の見かけ上の線幅が段階的に広くなるような補正パターンを使用してレイアウトデータを補正すればよい。そうすると、補正後のレイアウトデータに基づいて感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１したときに、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。そのため、補正後のレイアウトデータに基づいて形成された遮光膜２０１を有する液晶表示パネルの透過光量は、図９に示した分布ＴＲｃのようになり、透過光量のばらつきによる表示むらを低減でき、表示品質を向上させることができると考えられる。
【０１０１】
ところで、実施例１の遮光膜２０１の形成方法では、たとえば、あらかじめ補正前のレイアウトデータに基づいて１枚乃至複数枚の第２の基板２を試作し、当該試作した第２の基板２における遮光膜２０１の線幅の分布を測定し、その測定結果に基づいてレイアウトデータの補正をする。そして、補正したレイアウトデータを用いた直描露光方式で感光性材料膜を露光し、遮光膜２０１を形成することで、上記のように遮光膜２０１の開口領域の面積をほぼ均一にする。すなわち、感光性材料膜の露光を直描露光方式で行う場合、レイアウトデータの数値を補正するだけでよいので、遮光膜２０１の線幅（開口領域の面積）の補正が容易である。そのため、実施例１の遮光膜２０１の形成方法を適用することで、遮光膜２０１の開口領域の面積のばらつきによる表示むらがない液晶表示パネルを低コストで製造することができる。
【０１０２】
また、実施例１の遮光膜２０１の形成方法を適用した場合、たとえば、赤色フィルタ２０２Ｒ、緑色フィルタ２０２Ｇ、および青色フィルタ２０２Ｂをフォトリソグラフィー法で形成しても、開口領域の面積のばらつきによる表示むらがない液晶表示パネルを製造することができる。
【０１０３】
以上説明したように、実施例１の遮光膜２０１の形成方法は、遮光膜２０１により分割された複数の開口領域の面積を、容易に均一化できる。そのため、実施例１の遮光膜２０１の形成方法を適用して製造されたカラー液晶表示装置は、遮光膜２０１の開口領域の面積のばらつきによる表示むらを低減することができる。
【０１０４】
また、実施例１の遮光膜２０１の形成方法を適用した場合、たとえば、異なる製造装置を用いて形成された複数枚の第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の面積のばらつきも抑制することができる。すなわち、実施例１の遮光膜２０１の形成方法は、同じ構成である複数のカラー液晶表示装置の表示品質の差を低減することもできる。
【実施例２】
【０１０５】
実施例１では、１枚の第２の基板２の表示領域ＤＡにおける対角線上の透過光量ＴＲが、たとえば、図３（ｂ）に示すような分布になる場合のレイアウトデータの補正方法について説明した。しかしながら、第２の基板２を製造するときには、一般に、１枚のマザーガラスと呼ばれる大面積のガラス基板を用い、複数枚の第２の基板２をまとめて製造する多面取りと呼ばれる方法で製造される。そのため、１枚のマザーガラスから得られる複数枚の第２の基板２について、表示領域ＤＡの対角線上における透過光量を調べた場合、一般には、その分布に違いが生じる。
【０１０６】
そこで、実施例２では、第２の基板２を多面取りで製造する場合の透過光量ＴＲの分布の傾向およびレイアウトデータの補正方法、ならびに多面取りで製造された第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の特徴について説明する。
【０１０７】
図１０（ａ）および図１０（ｂ）は、本発明による実施例２の遮光膜の概略構成の第１の例を説明するための模式図である。
図１０（ａ）は、第２の基板を２面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。図１０（ｂ）は、図１０（ａ）に示した領域５０１に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【０１０８】
１枚のマザーガラスを用いて２枚の第２の基板２を製造する、いわゆる２面取りと呼ばれる製造方法は、たとえば、図１０（ａ）に示すように、１枚のマザーガラス５の２カ所の領域５０１，５０２のそれぞれに、第２の基板２を形成する。このとき、２カ所の領域５０１，５０２のそれぞれに遮光膜２０１を形成する工程は、たとえば、マザーガラス５の表面全体にネガ型の黒色レジストを塗布し、当該黒色レジストを露光した後、未露光部のレジストを現像で除去して格子状の遮光膜２０１を形成する。そのため、補正前のレイアウトデータに基づいてそれぞれの領域５０１，５０２に遮光膜２０１を形成した場合、たとえば、下側の領域５０２に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの左下の角部ＰＡと、上側の領域５０１に形成される第２の基板の表示領域ＤＡの右上の角部ＰＢとを結ぶ対角線上における透過光量の分布が、図３（ｂ）に示したような分布になる。
【０１０９】
したがって、実施例１で説明した方法でレイアウトデータを補正するときには、たとえば、図１０（ａ）に示したような位置に透過光量の境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５をとって補正する。
【０１１０】
このとき、上側の領域５０１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、以下のように補正する。まず、境界線ＢＬ１と表示領域ＤＡの外周の一部分とで囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は補正しない。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域の外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｂ）に示したような第１の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｃ）に示したような第２の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｄ）に示したような第３の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｅ）に示したような第４の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｆ）に示したような第５の補正パターンに補正する。
【０１１１】
領域５０１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータを、上記のように補正した場合、補正後のレイアウトデータに基づいて形成された遮光膜２０１を有する第２の基板２の遮光膜２０１の平面形状は、図１０（ｂ）に示したような境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５で区切られる領域毎に変化する。このとき、境界線ＢＬ１および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ａ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｂ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｃ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｄ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｅ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｆ）に示したような平面形状になる。したがって、領域５０１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、実施例１で説明したように、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１１２】
またこのとき、下側の領域５０２に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、たとえば、領域５０１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータと上下反転対称の関係になるように補正する。そうすると、領域５０２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１も、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１１３】
したがって、第２の基板２を２面取りで製造する場合も、実施例１で説明したような方法で遮光膜２０１のレイアウトデータを補正することにより、当該第２の基板２を用いた液晶表示パネルの表示むらを低減できる。また、このような方法で遮光膜２０１を形成すれば、２面取りで製造した一方の第２の基板２を用いた液晶表示パネルと、他方の第２の基板２を用いた液晶表示パネルとの表示品質の差を小さくすることもできる。
【０１１４】
またこのとき、領域５０１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の平面形状に、以下のような特徴がある。
【０１１５】
表示領域ＤＡの上辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、右上の角部に位置する開口領域６ｂ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。また、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、左下の角部に位置する開口領域６ｃ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またさらに、表示領域ＤＡの右辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち右上の角部に位置する開口領域６ｂ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１１６】
また、表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左下の角部に位置する開口領域６ｃ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と、ｘ方向の寸法が２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１１７】
また、領域５０２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の平面形状の特徴は、領域５０１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における特徴と上下反転対称の関係になっている。
【０１１８】
図１１（ａ）および図１１（ｂ）は、本発明による実施例２の遮光膜の概略構成の第２の例を説明するための模式図である。
図１１（ａ）は、第２の基板を４面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示した領域５１１に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【０１１９】
１枚のマザーガラスを用いて４枚の第２の基板２を製造する、いわゆる４面取りと呼ばれる製造方法は、たとえば、図１１（ａ）に示すように、１枚のマザーガラス５の４カ所の領域５１１，５１２，５１３，５１４のそれぞれに、第２の基板２を形成する。このとき、４カ所の領域５１１，５１２，５１３，５１４のそれぞれに遮光膜２０１を形成する工程は、たとえば、マザーガラス５の表面全体にネガ型の黒色レジストを塗布し、当該黒色レジストを露光した後、未露光部のレジストを現像で除去して格子状の遮光膜２０１を形成する。そのため、補正前のレイアウトデータに基づいてそれぞれの領域５１１，５１２，５１３，５１４に遮光膜２０１を形成した場合、たとえば、左下の領域５１２に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの左下の角部ＰＡと、右上の領域５１３に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの右上の角部ＰＢとを結ぶ対角線上における透過光量の分布が、図３（ｂ）に示したような分布になる。
【０１２０】
したがって、実施例１で説明した方法でレイアウトデータを補正するときには、たとえば、図１１（ａ）に示したような位置に透過光量の境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５をとって補正する。
【０１２１】
このとき、左上の領域５１１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、以下のように補正する。まず、境界線ＢＬ１および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は補正しない。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｂ）に示したような第１の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｃ）に示したような第２の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｄ）に示したような第３の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｅ）に示したような第４の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｆ）に示したような第５の補正パターンに補正する。
【０１２２】
領域５１１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータを、上記のように補正した場合、補正後のレイアウトデータに基づいて形成された遮光膜２０１を有する第２の基板２の遮光膜２０１の平面形状は、図１１（ｂ）に示したような境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５で区切られる領域毎に変化する。このとき、境界線ＢＬ１および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ａ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｂ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｃ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｄ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｅ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｆ）に示したような平面形状になる。したがって、領域５１１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、実施例１で説明したように、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１２３】
またこのとき、左下の領域５１２に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、たとえば、領域５１１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータと上下反転対称の関係になるように補正する。そうすると、領域５１２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１も、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１２４】
また、右上の領域５１３に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、たとえば、領域５１１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータと左右反転対称の関係になるように補正する。そうすると、領域５１３に形成された第２の基板２の遮光膜２０１も、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１２５】
また、右下の領域５１４に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、たとえば、領域５１１に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータと１８０度回転対称の関係になるように補正する。そうすると、領域５１４に形成された第２の基板２の遮光膜２０１も、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１２６】
したがって、第２の基板２を４面取りで製造する場合も、実施例１で説明したような方法で遮光膜２０１のレイアウトデータを補正することにより、当該第２の基板２を用いた液晶表示パネルの表示むらを低減できる。また、このような方法で遮光膜２０１を形成すれば、４面取りで製造した４枚の第２の基板２のそれぞれを用いた４つの液晶表示パネルの表示品質の差を小さくすることもできる。
【０１２７】
またこのとき、領域５１１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の平面形状に、以下のような特徴がある。
【０１２８】
表示領域ＤＡの上辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、右上の角部に位置する開口領域６ｂ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。また、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、左下の角部に位置する開口領域６ｂ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１２９】
また、表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左下の角部に位置する開口領域６ｃ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と、ｘ方向の寸法が２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またさらに、表示領域ＤＡの右辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち右上の角部に位置する開口領域６ｂ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と、ｙ方向の寸法が２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１３０】
また、領域５１２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の形状の特徴は、領域５１１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における特徴と上下反転対称の関係になっている。また、領域５１３に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の形状の特徴は、領域５１１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における特徴と左右反転対称の関係になっている。また、領域５１１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の形状の特徴は、領域５１１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における特徴と１８０度回転対称の関係になっている。
【０１３１】
図１２（ａ）および図１２（ｂ）は、本発明による実施例２の遮光膜の概略構成の第３の例を説明するための模式図である。
図１２（ａ）は、第２の基板を６面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）に示した領域５２２に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【０１３２】
１枚のマザーガラスを用いて６枚の第２の基板２を製造する、いわゆる６面取りと呼ばれる製造方法は、たとえば、図１２（ａ）に示すように、１枚のマザーガラスの６カ所の領域５２１，５２２，５２３，５２４，５２５，５２６のそれぞれに、第２の基板２を形成する。このとき、６カ所の領域５２１，５２２，５２３，５２４，５２５，５２６のそれぞれに遮光膜２０１を形成する工程は、たとえば、マザーガラス５の表面全体にネガ型の黒色レジストを塗布し、当該黒色レジストを露光した後、未露光部のレジストを現像で除去して格子状の遮光膜２０１を形成する。そのため、補正前のレイアウトデータに基づいてそれぞれの領域５２１，５２２，５２３，５２４，５２５，５２６に遮光膜２０１を形成した場合、たとえば、左下の領域５２３に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの角部ＰＡと、右上の領域５２４に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの角部ＰＢとを結ぶ対角線上における透過光量の分布が、図３（ｂ）に示したような分布になる。
【０１３３】
したがって、実施例１で説明した方法でレイアウトデータを補正するときには、たとえば、図１２（ａ）に示したような位置に透過光量の境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５をとって補正する。
【０１３４】
このとき、左上の領域５２１、左下の領域５２３、右上の領域５２４、および右下の領域５２６の４つの領域に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、それぞれ、４面取りで製造する場合の左上の領域５１１、左下の領域５１２、右上の領域５１３、および右下の領域５１４と同じ要領で補正する。そうすると、左上の領域５２１、左下の領域５２３、右上の領域５２４、および右下の領域５２６の４つの領域に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１３５】
またこのとき、左中段の領域５２２に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、以下のように補正する。まず、境界線ＢＬ１と表示領域ＤＡの外周の一部分とで囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は補正しない。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域の外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｂ）に示したような第１の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｃ）に示したような第２の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｄ）に示したような第３の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｅ）に示したような第４の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｆ）に示したような第５の補正パターンに補正する。
【０１３６】
領域５２２に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータを、上記のように補正した場合、補正後のレイアウトデータに基づいて形成された遮光膜２０１を有する第２の基板２の遮光膜２０１の平面形状は、図１２（ｂ）に示したような境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５で区切られる領域毎に変化する。このとき、境界線ＢＬ１および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ａ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｂ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｃ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｄ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｅ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｆ）に示したような平面形状になる。したがって、領域５０１に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、実施例１で説明したように、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１３７】
またこのとき、右中段の領域５２５に形成する遮光膜のレイアウトデータは、たとえば、領域５２２に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータと左右反転対称の関係になるように補正する。そうすると、領域５０２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１も、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１３８】
したがって、第２の基板２を６面取りで製造する場合も、実施例１で説明したような方法で遮光膜２０１のレイアウトデータを補正することにより、当該第２の基板２を用いた液晶表示パネルの表示むらを低減できる。また、このような方法で遮光膜２０１を形成すれば、６面取りで製造した６枚の第２の基板２のそれぞれを用いた６つの液晶表示パネルの表示品質の差を小さくすることもできる。
【０１３９】
またこのとき、領域５２２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域に、以下のような特徴がある。
【０１４０】
表示領域ＤＡの上辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、右上の角部に位置する開口領域６ｂ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法が１通りの開口領域と、２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。また、表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左下の角部に位置する開口領域６ｃ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法が１通りの開口領域と、２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１４１】
また表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、左下の角部に位置する開口領域６ｃ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。また、表示領域ＤＡの右辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち右上の角部に位置する開口領域６ｂ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１４２】
また、領域５２５に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の形状の特徴は、領域５２２に形成された第２の基板２の遮光膜２０１における特徴と左右反転対称の関係になっている。
【０１４３】
図１３（ａ）乃至図１３（ｄ）は、本発明による実施例２の遮光膜の概略構成の第４の例を説明するための模式図である。
図１３（ａ）は、液晶表示パネルの概略構成の別の一例を示す模式平面図である。図１３（ｂ）は、図１３（ａ）に示した液晶表示パネルの第２の基板を４０面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。図１３（ｃ）は、図１３（ｂ）に示した領域５３３に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。図１３（ｄ）は、図１３（ｂ）に示した領域５３５に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【０１４４】
実施例２の遮光膜の概略構成に関する上記の説明では、たとえば、図１（ａ）に示したように、表示領域ＤＡが横長の長方形の液晶表示パネルの第２の基板２を多面取りで製造した場合を例に挙げている。このとき、第１の基板１に形成された複数本の走査信号線は、ｙ方向に並んでおり、それぞれの走査信号線は、ｘ方向に延在している。またこのとき、第１の基板１に形成された複数本の映像信号線は、ｘ方向に並んでおり、それぞれの映像信号線は、ｙ方向に延在している。
【０１４５】
しかしながら、液晶表示パネルには、たとえば、図１３（ａ）に示すように、表示領域ＤＡが縦長の長方形のものもある。なお、図１３（ａ）において、第１の基板１に形成された複数本の走査信号線は、ｙ方向に並んでおり、それぞれの走査信号線は、ｘ方向に延在している。またこのとき、第１の基板１に形成された複数本の映像信号線は、ｘ方向に並んでおり、それぞれの映像信号線は、ｙ方向に延在している。
【０１４６】
このように、縦長の表示領域ＤＡを有する液晶表示パネルは、たとえば、携帯電話端末の表示部などに用いられており、表示領域ＤＡの対角の寸法が３インチ程度である。そのため、このような液晶表示パネルの第２の基板２を多面取りで製造する場合には、たとえば、１枚のマザーガラスを用いて数十枚から数百枚の第２の基板２を製造することもある。その場合も、実施例１で説明した遮光膜２０１の形成方法が適用できることはもちろんである。以下の説明では、たとえば、図１３（ｂ）に示すように、１枚のマザーガラスの４０カ所の領域のそれぞれに第２の基板２を形成する、いわゆる４０面取りの場合を例に挙げる。
【０１４７】
このとき、４０カ所の領域のそれぞれに遮光膜２０１を形成する工程は、たとえば、マザーガラス５の表面全体にネガ型の黒色レジストを塗布し、当該黒色レジストを露光した後、未露光部のレジストを現像で除去して格子状の遮光膜２０１を形成する。そのため、補正前のレイアウトデータに基づいてそれぞれの領域に遮光膜２０１を形成した場合、たとえば、左下の領域に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの角部ＰＡと、右上の領域に形成される第２の基板２の表示領域ＤＡの角部ＰＢとを結ぶ対角線上における透過光量の分布が、図３（ｂ）に示したような分布になる。
【０１４８】
したがって、実施例１で説明した方法でレイアウトデータを補正するときには、たとえば、図１３（ｂ）に示したような位置に透過光量の境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５をとって補正する。
【０１４９】
このとき、領域５３１のように、すべての領域が境界線ＢＬ１の内側にある領域に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、補正する必要がない。そのため、領域５３１のように、すべての領域が境界線ＢＬ１の内側にある領域に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、補正前のレイアウトデータのまま形成されるが、すべての開口領域の面積が概ね等しくなっている。またこのとき、表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１５０】
また、領域５３２のように、マザーガラス５の角部にある領域に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、たとえば、４面取りの場合のときと同じ要領で補正される。そのため、領域５３２のように、マザーガラス５の角部にある領域に形成された第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の平面形状は、４面取りで製造された第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の平面形状と同様の特徴を有する。
【０１５１】
また、領域５３３に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、以下のように補正する。まず、境界線ＢＬ１および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は補正しない。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｂ）に示したような第１の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ２および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｃ）に示したような第２の補正パターンに補正する。
【０１５２】
領域５３３に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータを、上記のように補正した場合、補正後のレイアウトデータに基づいて形成された遮光膜２０１を有する第２の基板２の遮光膜２０１の平面形状は、図１３（ｃ）に示したような境界線ＢＬ１，ＢＬ２で区切られる領域毎に変化する。このとき、境界線ＢＬ１および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ａ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ１、境界線ＢＬ２、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｂ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ２および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｃ）に示したような平面形状になる。したがって、領域５３３に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、実施例１で説明したように、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１５３】
またこのとき、領域５３３に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の平面形状に、以下のような特徴がある。
【０１５４】
表示領域ＤＡの上辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、右上の角部に位置する開口領域６ｂ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が２通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またさらに、表示領域ＤＡの上辺に沿って並んでいる開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｘ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が２通りある。
【０１５５】
表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左下の角部に位置する開口領域６ｃ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と、２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またさらに、表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域のうちのｘ方向の寸法が２通りの開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｙ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が２通りある。
【０１５６】
また、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、左下の角部に位置する開口領域６ｃ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が２通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またこのとき、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｘ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が１通りである。
【０１５７】
また、表示領域ＤＡの右辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち右上の角部に位置する開口領域６ｂ、左下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と、２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またこのとき、表示領域ＤＡの右辺に沿って並んでいる開口領域のうちの、ｘ方向の寸法が２通りの開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｘ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が１通りである。
【０１５８】
また、領域５３４に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、たとえば、６面取りの場合の領域５２５に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータと同じ要領で補正される。そのため、領域５３４に形成された第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の平面形状は、６面取りの場合の領域５２５に形成された第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の平面形状と同様の特徴を有する。
【０１５９】
また、領域５３５に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータは、以下のように補正する。まず、境界線ＢＬ２および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｂ）に示したような第１の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｃ）に示したような第２の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｄ）に示したような第３の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｅ）に示したような第４の補正パターンに補正する。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１の線幅は、たとえば、図５（ｆ）に示したような第５の補正パターンに補正する。
【０１６０】
領域５３５に形成する遮光膜２０１のレイアウトデータを、上記のように補正した場合、補正後のレイアウトデータに基づいて形成された遮光膜２０１を有する第２の基板２の遮光膜２０１の平面形状は、図１３（ｄ）に示したような境界線ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５で区切られる領域毎に変化する。このとき、境界線ＢＬ２および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｂ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ２、境界線ＢＬ３、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｃ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ３、境界線ＢＬ４、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｄ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ４、境界線ＢＬ５、および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｅ）に示したような平面形状になる。また、境界線ＢＬ５および表示領域ＤＡの外周の一部分で囲まれる領域の遮光膜２０１は、たとえば、図７（ｆ）に示したような平面形状になる。したがって、領域５３５に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、実施例１で説明したように、すべての開口領域の面積が概ね等しくなる。
【０１６１】
またこのとき、領域５３５に形成された第２の基板２の遮光膜２０１は、表示領域ＤＡの外周に沿って並んだ開口領域の平面形状に、以下のような特徴がある。
【０１６２】
表示領域ＤＡの上辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、右上の角部に位置する開口領域６ｂ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。
【０１６３】
表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左下の角部に位置する開口領域６ｃ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、それぞれの開口領域におけるｘ方向の寸法（遮光膜の間隙）が２通りであり、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またこのとき、表示領域ＤＡの下辺に沿って並んでいる開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｘ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が１通りである。
【０１６４】
また、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち左上の角部に位置する開口領域６ａ、左下の角部に位置する開口領域６ｃ、およびその間にある開口領域は、ｙ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またこのとき、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域のうちの、ｘ方向の寸法が２通りある開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｘ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が３通りである。
【０１６５】
また、表示領域ＤＡの右辺に沿って並んでいる開口領域、すなわち右上の角部に位置する開口領域６ｂ、右下の角部に位置する開口領域６ｄ、およびその間にある開口領域は、ｙ方向の寸法（遮光膜の間隙）が１通りの開口領域と２通りの開口領域とが存在し、かつ、すべての開口領域の面積が概ね等しい。またこのとき、表示領域ＤＡの左辺に沿って並んでいる開口領域のうちの、ｘ方向の寸法が２通りある開口領域は、それぞれの開口領域における２通りのｘ方向の寸法を第１の寸法および第２の寸法としたときに、第１の寸法である部分と第２の寸法である部分との周期（組み合わせ）が３通りである。
【０１６６】
このように、第２の基板２を４０面取りで製造した場合、それぞれの第２の基板２における遮光膜２０１の開口領域の平面形状のパターンに、さまざまな分布があるが、実施例１で説明した方法でレイアウトデータを補正することにより、それぞれの第２の基板２を用いた４０枚の液晶表示パネルにおける表示品質の差を小さくすることができる。
【０１６７】
以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。
【０１６８】
たとえば、実施例１および実施例２では、透過光量の分布に基づいた補正パターンを５通り用意し、補正の対称となる領域を５本の境界線ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５で６つの領域に分割して遮光膜２０１のレイアウトデータを補正する場合を例に挙げている。しかしながら、本発明は、これに限らず、たとえば、さらに多数の補正パターンを用意し、補正の対称となる領域をさらに多くの領域に分割して遮光膜２０１のレイアウトデータを補正してもよいことはもちろんである。このとき、補正パターンは、たとえば、補正前のレイアウトデータにおける線幅Ｗ１を基準にして、見かけ上の線幅が線幅Ｗ１から段階的に広くなる複数通りの補正パターンと、見かけ上の線幅が線幅Ｗ１から段階的に狭くなる複数通りの補正パターンとを用意する。またこのとき、見かけ上の線幅が線幅Ｗ１から段階的に広くなる複数通りの補正パターンは、５通りに限らず、さらに多くの補正パターンを用意してもよい。同様に、見かけ上の線幅が線幅Ｗ１から段階的に狭くなる複数通りの補正パターンも、５通りに限らず、さらに多くの補正パターンを用意してもよい。
【０１６９】
またさらに、実施例１および実施例２では、５つのブロック２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅを１つの補正ユニット２０１ｕにしているが、これに限らず、さらに多数のブロックを１つの補正ユニット２０１ｕにしてもよいことはもちろんである。
【０１７０】
また、実施例１および実施例２では、液晶表示パネルの第２の基板２に設ける遮光膜２０１を例に挙げている。しかしながら、本発明は、液晶表示パネルの遮光膜２０１に限らず、同様の格子状の遮光膜を有する表示装置、たとえば、ＣＲＴやＰＤＰ、ＦＥＤなどの表示装置の遮光膜の形成方法にも適用できることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１７１】
【図１（ａ）】液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式平面図である。
【図１（ｂ）】図１（ａ）のＡ−Ａ’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図１（ｃ）】図１（ａ）の領域ＲＡの概略構成の一例を示す模式平面図である。
【図１（ｄ）】図１（ｃ）のＢ−Ｂ’線における第２の基板の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図２】本発明に関わる液晶表示パネルの遮光膜を形成する工程における感光性材料膜の露光方法の一例を示す模式平面図である。
【図３（ａ）】液晶表示パネルの透過光量の測定方法を説明するための模式平面図である。
【図３（ｂ）】図３（ａ）に示した対角線上ににおける透過光量の分布の一例および遮光膜の線幅の分布の一例を示す模式グラフ図である。
【図４（ａ）】補正前のレイアウトデータの概略構成の一例を示す模式平面図である。
【図４（ｂ）】レイアウトデータの補正方法の一例を示す模式平面図である。
【図４（ｃ）】図４（ｂ）に示したような補正をしたときに生じる問題点の一例を示す模式平面図である。
【図５（ａ）】実施例１の遮光膜の形成方法における補正前の遮光膜のレイアウトデータの一例を示す模式平面図である。
【図５（ｂ）】レイアウトデータの第１の補正パターンの一例を示す模式平面図である。
【図５（ｃ）】レイアウトデータの第２の補正パターンの一例を示す模式平面図である。
【図５（ｄ）】レイアウトデータの第３の補正パターンの一例を示す模式平面図である。
【図５（ｅ）】レイアウトデータの第４の補正パターンの一例を示す模式平面図である。
【図５（ｆ）】レイアウトデータの第５の補正パターンの一例を示す模式平面図である。
【図６】透過光量の面内分布の一例を示す模式平面図である。
【図７（ａ）】図６に示した境界線ＢＬ１の内側に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
【図７（ｂ）】図６に示した境界線ＢＬ１と境界線ＢＬ２の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
【図７（ｃ）】図６に示した境界線ＢＬ２と境界線ＢＬ３の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
【図７（ｄ）】図６の境界線ＢＬ３と境界線ＢＬ４の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
【図７（ｅ）】図６の境界線ＢＬ４と境界線ＢＬ５の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
【図７（ｆ）】図６の境界線ＢＬ５と表示領域ＤＡの外周の間に形成される遮光膜の平面形状の一例を示す模式平面図である。
【図８】実施例１の方法で形成した遮光膜を有する液晶表示パネルにおける開口領域の透過光量および遮光膜の線幅の平均値の分布の一例を示す模式グラフ図である。
【図９】実施例１の遮光膜の形成方法の変形例の一例を説明するための模式グラフ図である。
【図１０（ａ）】第２の基板を２面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。
【図１０（ｂ）】図１０（ａ）に示した領域５０１に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【図１１（ａ）】第２の基板を４面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。
【図１１（ｂ）】図１１（ａ）に示した領域５１１に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【図１２（ａ）】第２の基板を６面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。
【図１２（ｂ）】図１２（ａ）に示した領域５２２に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【図１３（ａ）】液晶表示パネルの概略構成の別の一例を示す模式平面図である。
【図１３（ｂ）】図１３（ａ）に示した液晶表示パネルの第２の基板を４０面取りで製造する場合の透過光量の分布の一例を示す模式平面図である。
【図１３（ｃ）】図１３（ｂ）に示した領域５３３に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【図１３（ｄ）】図１３（ｂ）に示した領域５３５に形成された第２の基板における遮光膜の開口領域の特徴の一例を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【０１７２】
１…第１の基板
１０１…走査信号線
１０２…映像信号線
２…第２の基板
２００…絶縁基板
２０１…遮光膜
２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃ，２０１ｄ，２０１ｅ…ブロック
２０１ｕ…補正ユニット
２０２Ｒ…赤色フィルタ
２０２Ｇ…緑色フィルタ
２０２Ｂ…青色フィルタ
２０３…平坦化膜
２０４…配向膜
３…一度に露光可能な領域
４…単位領域
５…マザーガラス
６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ…開口領域
ＤＡ…表示領域
ＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４，ＢＬ５…境界線
【図１（ａ）】
2009300587.tif 000004
【図１（ｂ）】
2009300587.tif 000005
【図１（ｃ）】
2009300587.tif 000006
【図１（ｄ）】
2009300587.tif 000007
【図２】
2009300587.tif 000008
【図３（ａ）】
2009300587.tif 000009
【図３（ｂ）】
2009300587.tif 000010
【図４（ａ）】
2009300587.tif 000011
【図４（ｂ）】
2009300587.tif 000012
【図４（ｃ）】
2009300587.tif 000013
【図５（ａ）】
2009300587.tif 000014
【図５（ｂ）】
2009300587.tif 000015
【図５（ｃ）】
2009300587.tif 000016
【図５（ｄ）】
2009300587.tif 000017
【図５（ｅ）】
2009300587.tif 000018
【図５（ｆ）】
2009300587.tif 000019
【図６】
2009300587.tif 000020
【図７（ａ）】
2009300587.tif 000021
【図７（ｂ）】
2009300587.tif 000022
【図７（ｃ）】
2009300587.tif 000023
【図７（ｄ）】
2009300587.tif 000024
【図７（ｅ）】
2009300587.tif 000025
【図７（ｆ）】
2009300587.tif 000026
【図８】
2009300587.tif 000027
【図９】
2009300587.tif 000028
【図１０（ａ）】
2009300587.tif 000029
【図１０（ｂ）】
2009300587.tif 000030
【図１１（ａ）】
2009300587.tif 000031
【図１１（ｂ）】
2009300587.tif 000032
【図１２（ａ）】
2009300587.tif 000033
【図１２（ｂ）】
2009300587.tif 000034
【図１３（ａ）】
2009300587.tif 000035
【図１３（ｂ）】
2009300587.tif 000036
【図１３（ｃ）】
2009300587.tif 000037
【図１３（ｄ）】
2009300587.tif 000038