(57)【要約】【課題】簡単な構成で、ワークを破損、変形させることなくセットテーブルに対しワークを浮かせることができる液滴吐出装置を提供することを課題としている。【解決手段】ワークＷに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行うインクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド１７と、描画処理に際し、ワークＷをセットするセットテーブル２１と、セットテーブル２１に組み込まれ、セットテーブル２１の表面から放出ガスを放出してワークＷに吹き付けることでワークＷを浮上させるワーク浮上手段と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図６
2009066468.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行うインクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドと、
前記描画処理に際し、前記ワークをセットするセットテーブルと、
前記セットテーブルに組み込まれ、前記セットテーブルの表面から放出ガスを放出して前記ワークを浮上させるワーク浮上手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記ワーク浮上手段は、前記セットテーブルに埋め込まれ、ガスを透過可能に構成された複数の多孔質部材と、
下流側を前記複数の多孔質部材に接続され、上流側を、前記放出ガスを供給する圧縮ガス供給手段に接続されたガス流路と、を有していることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記ガス流路から分岐した真空流路と、
前記真空流路の下流側に接続された真空吸引手段と、
前記ガス流路の分岐部に介設され、前記ガス流路と前記真空流路との間で流路切替えを行う切替手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記ガス流路に介設され、前記放出ガスをイオン化する除電手段を、更に備えたことを特徴とする請求項２または３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記セットテーブルに隣接して配設され、前記セットテーブルに前記ワークを給材する給材テーブルと、
前記給材テーブルに組み込まれ、前記給材テーブルの表面から放出ガスを放出して前記ワークを浮上させる給材浮上手段と、
浮上した前記ワークを前記給材テーブルから前記セットテーブルに移動させる給材手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記給材テーブルの表面は、前記セットテーブルの表面より高い位置に配設されていることを特徴とする請求項５に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
内部雰囲気を温度管理すると共に、前記機能液滴吐出ヘッド、前記セットテーブルおよび前記給材テーブルを収容するチャンバ手段を、更に備えたことを特徴とする請求項５または６に記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記セットテーブルに隣接して配設され、前記セットテーブルから前記ワークを除材する除材テーブルと、
前記除材テーブルに組み込まれ、前記除材テーブルの表面から放出ガスを放出して前記ワークを浮上させる除材浮上手段と、
浮上した前記ワークを前記セットテーブルから前記除材テーブルに移動させる除材手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記除材テーブルの表面は、前記セットテーブルの表面より低い位置に配設されていることを特徴とする請求項８に記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
前記ワークは、透明なガラス基板であり、
前記セットテーブルと前記除材テーブルとの間に位置して、前記機能液滴吐出ヘッドにより前記ワーク上面に描画された描画結果を検査する描画結果検出手段を、更に備え、
前記描画結果検出手段は、前記ワークに上下一方から臨む照明と、
前記ワークに上下他方から臨むと共に、前記照明に対向配置された撮像カメラと、を有していることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セットされたワークに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行う液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の液滴吐出装置として、ワークに機能液滴を吐出して描画処理を行う機能液滴吐出ヘッドと、描画処理に際しワークをセットするセットテーブル（吸着テーブル）を備えたものが知られている（特許文献１参照）。この場合、セットテーブルには、ワークの搬入搬出（給材・除材）に際し、これをリフトアップするリフトアップ装置が組み込まれている。リフトアップ装置は、セットテーブルの小穴から出没する多数のリフトアップピンを有し、この多数のリフトアップピンをセットテーブルから突出させることにより、セットテーブル上のワークをリフトアップするようになっている。
【特許文献１】特開２００５―６６４９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このような液滴吐出装置では、リフトアップピンを突き当ててワークをセットテーブル上に浮かせるようにしているため、リフトアップピンの接触によりワークが破損、変形してしまうという問題があった。また、リフトアップ装置を用いることにより、装置の構成が複雑になると共にセットテーブルが厚手のものとなってしまうという問題があった。
【０００４】
本発明は、簡単な構成で、ワークを破損、変形させることなくセットテーブルに対しワークを浮かせることができる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液滴吐出装置は、ワークに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行うインクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドと、描画処理に際し、ワークをセットするセットテーブルと、セットテーブルに組み込まれ、セットテーブルの表面から放出ガスを放出してワークを浮上させるワーク浮上手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、ワークをセットテーブル本体上に浮かせる機構として、放出ガスによりワークを浮上させるワーク浮上手段を用いることにより、ワークに直接接触することなくワークを浮かせることができるため、ワークが破損、変形することを抑えることができる。また、本装置を簡単な構成にすることができると共にセットテーブルを薄手のものにすることができる。
【０００７】
この場合、ワーク浮上手段は、セットテーブルに埋め込まれ、ガスを透過可能に構成された複数の多孔質部材と、下流側を複数の多孔質部材に接続され、上流側を、放出ガスを供給する圧縮ガス供給手段に接続されたガス流路と、を有していることが好ましい。
【０００８】
この構成によれば、ワーク浮上手段が、複数の多孔質部材と、それに連なるガス流路と有することにより、圧縮ガス供給手段から供給された放出ガスがガス流路、多孔質部材を介して、セットテーブルの表面から放出される。これにより、ワーク浮上手段を簡単な構成にすることができる。
【０００９】
この場合、ガス流路から分岐した真空流路と、真空流路の下流側に接続された真空吸引手段と、ガス流路の分岐部に介設され、ガス流路と真空流路との間で流路切替えを行う切替手段と、を更に備えることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、ガス流路と真空流路との間で流路切替えを行うことにより、圧縮ガス供給手段によるワークの浮上と、真空吸引手段によるワークの吸引（吸着）とを同一の多孔質部材で行うことができる。そのため、簡単な構成で、ワークの浮上および吸引（吸着）を行うことができる。
【００１１】
これらの場合、ガス流路に介設され、放出ガスをイオン化する除電手段を、更に備えることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、放出ガスをイオン化する除電手段を有することにより、セットテーブル表面から放出される放出ガスがイオン化され、放出ガスによりワークに帯電した静電気を除電することができる。特に、セットテーブルに対しワークが離接するときに発生する静電気を効率良く除電することができる。
【００１３】
これらの場合、セットテーブルに隣接して配設され、セットテーブルにワークを給材する給材テーブルと、給材テーブルに組み込まれ、給材テーブルの表面から放出ガスを放出してワークを浮上させる給材浮上手段と、浮上したワークを給材テーブルからセットテーブルに移動させる給材手段と、を更に備えることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、給材手段により、給材テーブルの給材浮上手段によって浮上支持されたワークを、セットテーブルのワーク浮上手段よって浮上支持された状態となるように、移動させることができる。このように、ワークの給材搬送を、浮上した状態で行うことができるため、給材搬送に際しワークに直接接触して支持する必要がなく、ワークの破損、変形することを更に抑えることができる。また、極めて小さな力で、ワークを移動させることができる。
【００１５】
この場合、給材テーブルの表面は、セットテーブルの表面より高い位置に配設されていることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、給材手段による給材搬送（給材テーブルからセットテーブルへの移動）に際し、ワークが微小に降下した場合にも、ワークがセットテーブルの端に衝突してしまうのを防止することができる。
【００１７】
一方、内部雰囲気を温度管理すると共に、機能液滴吐出ヘッド、セットテーブルおよび給材テーブルを収容するチャンバ手段を、更に備えることが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、描画処理を行う機能液滴吐出ヘッドおよびセットテーブルに加え、給材テーブルをチャンバ手段に収容することにより、給材に際し、給材するワークを、チャンバ手段内の雰囲気温度に慣らした状態にすることができる。そのため、描画処理時のワークの熱性影響を排除することができる。
【００１９】
また、セットテーブルに隣接して配設され、セットテーブルからワークを除材する除材テーブルと、除材テーブルに組み込まれ、除材テーブルの表面から放出ガスを放出してワークを浮上させる除材浮上手段と、浮上したワークをセットテーブルから除材テーブルに移動させる除材手段と、を更に備えることが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、除材手段により、セットテーブルのワーク浮上手段によって浮上支持されたワークを、除材テーブルの除材浮上手段よって浮上支持された状態となるように、移動することができる。このように、ワークの除材搬送を、浮上した状態で行うことができるため、除材搬送に際しワークに直接接触して支持する必要がなく、ワークの破損、変形することを更に抑えることができる。
【００２１】
この場合、除材テーブルの表面は、セットテーブルの表面より低い位置に配設されていることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、除材手段による除材搬送（セットテーブルから除材テーブルへの移動）に際し、ワークが微小に降下した場合にも、ワークが除材テーブルの端に衝突してしまうのを防止することができる。
【００２３】
一方、ワークは、透明なガラス基板であり、セットテーブルと除材テーブルとの間に位置して、機能液滴吐出ヘッドによりワーク上面に描画された描画結果を検査する描画結果検出手段を、更に備え、描画結果検出手段は、ワークに上下一方から臨む照明と、ワークに上下他方から臨むと共に、照明に対向配置された撮像カメラと、を有していることが好ましい。なお、描画結果の検出には、混色やすじムラ等の検出がある。
【００２４】
この構成によれば、セットテーブルと除材テーブルとの間に位置して描画結果検出手段を配設することにより、除材搬送（セットテーブルから除材テーブルへの移動）を利用して、描画結果の検出を行うことができる。そのため、描画結果の検出を効率良く行うことができる。また、描画結果を照明からの透過光により検出することができるため、精度の高い描画結果の検出を行うことができる。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２６】
同様に、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２７】
この構成によれば、高品質の電気光学装置を効率良く製造することができる。なお、機能材料としては、有機ＥＬ装置の発光材料（Electro-Luminescence発光層・正孔注入層）は元より、液晶表示装置に用いるカラーフィルタのフィルタ材料（フィルタエレメント）、電子放出装置（Field Emission Display, ＦＥＤ）の蛍光材料（蛍光体）、ＰＤＰ（plasma Display Panel）装置の蛍光材料（蛍光体）、電気泳動表示装置の泳動体材料（泳動体）等であって、機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）により吐出可能な液体材料を言う。また、電気光学装置（Flat Panel Display, ＦＰＤ）としては、有機ＥＬ装置、液晶表示装置、電子放出装置、ＰＤＰ装置、電気泳動表示装置等がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明の機能液供給装置を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれており、例えば、特殊なインクや発光性の樹脂液である機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。なお、ワークとして透明なガラス基板を用いるものとする。
【００２９】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、石定盤に支持されたＸ軸支持ベース２上に配設され、主走査方向となるＸ軸方向に延在して、セットテーブル２１上にセットされたワークＷをＸ軸方向（主走査方向）に移動させるＸ軸テーブル１１と、複数本の支柱４を介してＸ軸テーブル１１を跨ぐように架け渡された１対（２つ）のＹ軸支持ベース３上に配設され、副走査方向となるＹ軸方向に延在するＹ軸テーブル１２と、複数の機能液滴吐出ヘッド１７が搭載された１０個のキャリッジユニット５１と、から成り、１０個のキャリッジユニット５１は、Ｙ軸テーブル１２に移動自在に吊設されている。さらに、液滴吐出装置１は、給材テーブル１４１、除材テーブル１４２およびロボットアームユニット１４４を有し、セットテーブル２１へのワークＷの給除材を行う給除材機構２０と、これらの装置を温度および湿度が管理された雰囲気内に収容するチャンバ（チャンバ手段）６と、を備えている。給除材機構２０によりワークＷが給材された後、Ｘ軸テーブル１１およびＹ軸テーブル１２の駆動と同期して機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動させる。これにより、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液滴を吐出させ、ワークＷに所定の描画パターンが描画される。描画されたワークＷは、給除材機構２０により除材される。
【００３０】
また、液滴吐出装置１は、フラッシングユニット１４、吸引ユニット１５、ワイピングユニット１６、吐出性能検査ユニット１８から成るメンテナンス装置５を備えており、これらユニットを機能液滴吐出ヘッド１７の保守に供して、機能液滴吐出ヘッド１７の機能維持・機能回復を図るようになっている。なお、メンテナンス装置５を構成する各ユニットのうち、フラッシングユニット１４および吐出性能検査ユニット１８は、Ｘ軸テーブル１１に搭載され、吸引ユニット１５およびワイピングユニット１６は、Ｘ軸テーブル１１から直角に延び、かつＹ軸テーブル１２によりキャリッジユニット５１が移動可能である位置に配設された架台上に配設されている（厳密には、吐出性能検査ユニット１８は、後述するステージユニット７７がＸ軸テーブル１１に搭載され、カメラユニット７８がＹ軸支持ベース３に支持されている。）。
【００３１】
フラッシングユニット１４は、一対の描画前フラッシングユニット７１,７１と、定期フラッシングユニット７２とを有し、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出直前や、ワークＷの載換え時等の描画処理休止時に行われる、機能液滴吐出ヘッド１７の捨て吐出（フラッシング）を受ける。吸引ユニット１５は、複数の分割吸引ユニット７４を有し、各機能液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル９８から機能液を強制的に吸引すると共に、キャッピングを行う。ワイピングユニット１６は、ワイピングシート７５を有し、吸引後の機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面９７を拭取る。吐出性能検査ユニット１８は、機能液滴吐出ヘッド１７から吐出された機能液滴を受ける検査シート８３を搭載したステージユニット７７と、ステージユニット７７上の機能液滴を画像認識により検査するカメラユニット７８を有し、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出性能（吐出の有無および飛行曲り）を検査する。
【００３２】
次に、液滴吐出装置１の構成要素について簡単に説明する。図１または図２に示すように、Ｘ軸テーブル１１は、ワークＷをセットするセットテーブル２１と、セットテーブル２１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸第１スライダ２２と、上記のフラッシングユニット１４およびステージユニット７７をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸第２スライダ２３と、Ｘ軸方向に延在し、Ｘ軸第１スライダ２２を介してセットテーブル２１（ワークＷ）をＸ軸方向に移動させると共に、Ｘ軸第２スライダ２３を介してフラッシングユニット１４およびステージユニット７７をＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸リニアモータに並設され、Ｘ軸第１スライダ２２およびＸ軸第２スライダ２３の移動を案内する一対（２本）のＸ軸共通支持ベース２４と、を備えている。
【００３３】
セットテーブル２１は、ワークＷを吸着してセットする吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１を支持し、吸着テーブル３１にセットしたワークＷの位置をθ軸方向に補正するためのθテーブル３２等を有している。また、セットテーブル２１のＹ軸方向と平行な一対の辺には、それぞれ上記の描画前フラッシングユニット７１が添設されている。
【００３４】
Ｙ軸テーブル１２は、１０個の各キャリッジユニット５１をそれぞれ吊設した１０個のブリッジプレート５２と、１０個のブリッジプレート５２を両持ちで支持する１０組のＹ軸スライダ（図示省略）と、上記した一対のＹ軸支持ベース３上に設置され、１０組のＹ軸スライダを介してブリッジプレート５２をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、を備えている。また、Ｙ軸テーブル１２は、各キャリッジユニット５１を介して描画時に機能液滴吐出ヘッド１７を副走査するほか、機能液滴吐出ヘッド１７をメンテナンス装置５（吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６）に臨ませる。
【００３５】
一対のＹ軸リニアモータを（同期して）駆動すると、各Ｙ軸スライダが一対のＹ軸支持ベース３を案内にして同時にＹ軸方向を平行移動する。これにより、ブリッジプレート５２がＹ軸方向を移動し、これと共にキャリッジユニット５１がＹ軸方向に移動する。なお、この場合、Ｙ軸リニアモータの駆動を制御することにより、各キャリッジユニット５１を独立させて個別に移動させることも可能であるし、１０個のキャリッジユニット５１を一体として移動させることも可能である。
【００３６】
各キャリッジユニット５１は、１２個の機能液滴吐出ヘッド１７と、１２個の機能液滴吐出ヘッド１７を６個ずつ２群に分けて支持するヘッドプレート５３と、から成るヘッドユニット１３を備えている（図３参照）。また、各キャリッジユニット５１は、ヘッドユニット１３をθ補正（θ回転）可能に支持するθ回転機構６１と、θ回転機構６１を介して、ヘッドユニット１３をＹ軸テーブル１２（各ブリッジプレート５２）に支持させる吊設部材６２と、を備えている。
【００３７】
図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針９２を有する機能液導入部９１と、機能液導入部９１に連なる２連のヘッド基板９３と、機能液導入部９１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体９４と、を備えている。接続針９２は、図外の機能液供給系に接続され、機能液導入部９１に機能液を供給する。ヘッド本体９４は、キャビティ９５（ピエゾ圧電素子）と、多数の吐出ノズル９８が開口したノズル面９７を有するノズルプレート９６と、で構成されている。機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動すると（ピエゾ圧電素子に電圧が印加され）、キャビティ９５のポンプ作用により、吐出ノズル９８から機能液滴が吐出される。
【００３８】
なお、ノズル面９７には、多数の吐出ノズル９８からなる２つのノズル列９８ｂが相互に平行に形成されている。そして、２つのノズル列９８ｂ同士は、相互に半ノズルピッチ分位置ずれしている。
【００３９】
チャンバ６は、内部温度及び湿度、或いはガス濃度等を一定に保つガス調和設備を組み込んだプレハブ形式のクリーンブース（クリーンルーム）で、構成されている。すなわち、液滴吐出装置１によるワークＷへの描画は、温度および湿度が一定値に管理された雰囲気中で行われる。また、チャンバ６には、ロボットアームユニット１４４によりワークＷを搬入する際に用いる搬入用開閉扉１０２と、除材テーブル１４２によりワークＷを除材する際に用いる除材用開閉扉１０１が形成されている。なお、有機ＥＬ装置等を製造する場合には、チャンバ６内を、不活性ガス（窒素ガス）の雰囲気で構成することが好ましい。
【００４０】
ここで、図５および図６を参照して、吸着テーブル３１について詳細に説明する。本図に示すように、吸着テーブル３１は、ワークＷを載置するテーブル本体１０３と、テーブル本体１０３に連なり、テーブル本体１０３上のワークＷを浮上もしくは吸着するガス流路系１０４とを備えている。
【００４１】
テーブル本体１０３には、その上面に段付きで且つ円形凹設した複数の嵌入部１０５が形成されている。嵌入部１０５には、段付き部に支持される形で複数の多孔質部材１０６が嵌め込まれており、複数の多孔質部材１０６の下側には、嵌入部１０５の下部空間を構成するバッファ部１０５ａが形成されている。複数の嵌入部１０５は複数の多孔質部材１０６が嵌め込まれた際、複数の多孔質部材１０６の表面とテーブル本体１０３の表面が面一になるように形成されている。バッファ部１０５ａの下面には、連通孔１０７が形成されており、各連通孔１０７は、その他端に位置して形成された共通のエアー室１０８に接続されている。さらにエアー室１０８の側面には、エアー室１０８をテーブル本体１０３外部（ガス流路系１０４）に接続する接続孔１１０が形成されている。
【００４２】
浮上処理時には、ガス流路系１０４から放出ガスが供給され、接続孔１１０、エアー室１０８、各連通孔１０７および各バッファ部１０５ａを介して各多孔質部材１０６に放出ガスが供給されて各多孔質部材１０６から放出ガスが放出される。一方、吸着処理時には、ガス流路系１０４から吸引負圧がかかり、接続孔１１０、エアー室１０８、各連通孔１０７、各バッファ部１０５ａおよび各多孔質部材１０６を介して、テーブル本体１０３上にセットされたワークＷが真空吸着される。
【００４３】
また、テーブル本体１０３の給材テーブル１４１側の端部には、除材のために浮上したワークＷを、除材テーブル１４２に向かって押し出すようにして自走力を付与する除材用蹴出し機構１０９が設けられている。除材用蹴出し機構１０９は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共にテーブル本体１０３の表面から出没するように回動する蹴出しアームと、蹴出しアームを回動させるエアーシリンダ等で構成されている。一方、テーブル本体１０３の除材テーブル１４２側の端部には、後述する給材用蹴出し機構１６４により蹴り出されたワークＷをセットテーブル２１上に停止させる給材用ストッパ機構１１４が設けられている。給材用ストッパ機構１１４は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共にテーブル本体１０３の表面から出没する障壁状のストッパ本体と、ストッパ本体を出没させるエアーシリンダ等で構成されている。
【００４４】
ガス流路系１０４は、テーブル本体１０３に放出ガスを供給する放出ガス供給機構（圧縮ガス供給手段）１１１と、テーブル本体１０３を介してワークＷを吸引する真空吸引機構（真空吸引手段）１１２と、テーブル本体１０３と、放出ガス供給機構１１１および真空吸引機構１１２とを接続する接続流路１１３と、を備えている。また、ガス流路系１０４は、圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給設備８５と、各部からガス排気を行うためのガス排気設備８７と、を備えている。
【００４５】
接続流路１１３は、テーブル本体１０３の接続孔１１０に接続された主流路１２２と、主流路１２２に、主流路１２２を２分岐する分岐部１２４を介して接続され、他方を放出ガス供給機構１１１に接続した供給側流路１２５と、主流路１２２に分岐部１２４を介して接続され、他方を真空吸引機構１１２に接続した吸引側流路１２６と、を備えている。主流路１２２には、放出ガスをイオン化するイオナイザ１２７（除電手段）が介設されており、放出ガスの放出により、ワーク（およびテーブル本体１０３）に帯電した静電気が除電されるように構成されている。また、供給側流路１２５および吸引側流路１２６の主流路１２２近傍には、一対の切替バルブ１２８,１２８が介設されている。この一対の切替バルブ１２８,１２８により、主流路１２２からの流路接続を供給側流路１２５と吸引側流路１２６との間で切り替える切替手段が構成されている。なお、請求項にいうガス流路は、主流路１２２および供給側流路１２５により構成されており、請求項にいう真空流路は、吸引側流路１２６により構成されている。
【００４６】
放出ガス供給機構１１１は、圧縮エアー供給設備８５に接続された流量調整バルブ１３１を有している。圧縮エアー供給設備８５から供給された圧縮エアーは、流量調整バルブ１３１により流量が調整されて、接続流路１１３を介してテーブル本体１０３に供給される。すなわち、放出ガス供給機構１１１は、圧縮エアー供給設備８５と、流量調整バルブ１３１により構成されている。
【００４７】
真空吸引機構１１２は、圧縮エアー供給設備８５およびガス排気設備８７に接続されたイジェクタ１３５と、イジェクタ１３５と圧縮エアー供給設備８５の間の流路に介設され、イジェクタ１３５に供給される圧縮エアーの圧力を調整する電空レギュレータ１３６と、電空レギュレータ１３６に隣接した介設された流量センサ１３７と、を備えている。電空レギュレータ１３６により圧力が調整され、イジェクタ１３５に供給された圧縮エアーの随伴流によって、接続流路１１３中のエアーがガス排気設備８７側に引っ張られる形で、接続流路１１３側に吸引負圧がかかる。
【００４８】
ここで、吸着テーブル３１の浮上処理動作および吸着処理動作について説明する。浮上処理を行う場合には、一対の切替バルブ１２８,１２８により、主流路１２２からの流路接続を供給側流路１２５に切り替えると共に、放出ガス供給機構１１１を駆動する。厳密には、流量調整バルブ１３１を調整し、所望の圧力で放出ガスを供給する。供給された放出ガスは、供給側流路１２５および主流路１２２を介して複数の多孔質部材１０６に送られ、複数の多孔質部材１０６から放出される。この結果、セットされたワークＷの下面に放出ガスが吹き付けられ、ワークＷを浮上させる。
【００４９】
このように、請求項にいうワーク浮上手段は、多孔質部材１０６と、それに連なる接続流路１１３（主流路１２２および供給側流路１２５）により構成されている。ワークＷをテーブル本体１０３上に浮かせる機構として、放出ガスによりワークＷを浮上させるワーク浮上手段を用いることにより、ワークＷに直接接触することなくワークＷを浮かせることができるため、ワークＷが破損、変形することを抑えることができると共に、本装置を簡単な構成することができる。また、ワーク浮上手段が多孔質部材１０６と、それに連なる接続流路１１３とを有することにより、ワーク浮上手段を簡単な構成にすることができる。
【００５０】
一方、吸着処理を行う場合には、一対の切替バルブ１２８,１２８により、主流路１２２からの流路接続を吸引側流路１２６に切り替えると共に、真空吸引機構１１２を駆動する。厳密には、電空レギュレータ１３６の調整により、イジェクタ１３５による吸引負圧を調整する。当該吸引負圧が、吸引側流路１２６、主流路１２２および多孔質部材１０６を介して、セットされたワークＷに伝達される。この結果、ワークＷがテーブル本体１０３に吸着される。
【００５１】
このように、一対の切替バルブ１２８,１２８にて供給側流路１２５と吸引側流路１２６との間で流路切替えを行うことにより、放出ガス供給機構１１１によるワークＷの浮上と、真空吸引機構１１２によるワークＷの吸引（吸着）とを同一の多孔質部材１０６で行うことができる。そのため、簡単な構成で、ワークＷの浮上および吸引（吸着）を行うことができる。なお、本実施形態における複数の多孔質部材１０６は、単一のエアー室１０８に連通して１系統の吸引・浮上系を構成しているが、大きさの異なる複数種のワークＷを処理する場合には、ワークＷの種別に応じてテーブル本体１０３をエリア分けし、複数系統の吸引・浮上系とすることが好ましい。但し、浮上のときは、ワークの大きさにかかわらず全系統を使用する。
【００５２】
次に、図５および図６を参照して、給除材機構２０について説明する。給除材機構２０は、給除材位置に位置するセットテーブル２１のＹ軸方向一方に（図５中左側に）隣接して配設され、セットテーブル２１にワークＷを給材する給材テーブル１４１と、給除材位置に位置するセットテーブル２１のＹ軸方向他方に（図５中右側に）隣接して配設され、セットテーブル２１にワークＷを除材する除材テーブル１４２と、セットテーブル２１と除材テーブル１４２の間に配設され、除材搬送中のワークＷの描画結果を検査する描画結果検出装置（描画結果検出手段）１４３と、別工程から給材テーブル１４１にワークＷを搬入すると共に除材テーブル１４２から別工程にワークＷを搬出するロボットアームユニット１４４と、を備えている。すなわち、ロボットアームユニット１４４により、描画処理前のワークＷが給材テーブル１４１に搬入され、その後、給材テーブル１４１により、ワークＷがセットテーブル２１に給材される。一方、除材テーブル１４２により、描画処理後のワークＷがセットテーブル２１から除材され、その後、ロボットアームユニット１４４により、ワークＷが除材テーブル１４２から搬出される。
【００５３】
ロボットアームユニット１４４は、ロボットアーム１５１と、ロボットアーム１５１をＹ軸方向に移動自在に支持するアーム移動機構１５４と、を備えている。ロボットアーム１５１は、先端部にワークＷを吸着保持する保持部１５２を備えており、その先端に形成された一対（２本）の保持片１５３,１５３によりワークＷを載せこむ形で保持する。この状態で、ロボットアーム１５１により保持部１５２を移動させることで、ワークＷの搬送（搬入および搬出）を行う。
【００５４】
アーム移動機構１５４は、給材テーブル１４１および除材テーブル１４２に臨むように配設されると共に、給材テーブル１４１にワークＷを搬入する搬入位置と、除材テーブル１４２にワークＷを搬出する搬出位置との間で、ロボットアーム１５１を平行移動させる。これにより、単一のロボットアーム１５１によって、搬入と搬出を行うことができる。なお、ロボットアーム１５１は、チャンバ６外に配設されているのに対し、給材テーブル１４１はチャンバ６内に配設されている。そのため、ロボットアーム１５１は、チャンバ６の搬入用開閉扉１０２を介して、チャンバ６内にワークＷを搬入することになる（図１参照）。
【００５５】
給材テーブル１４１は、給材テーブル本体１６１と、給材テーブル本体１６１に放出ガスを供給する給材ガス供給系１６２と、を備えている。給材テーブル本体１６１の表面から、給材ガス供給系１６２から供給された放出ガスを放出して給材時にワークＷを浮上させる。また、給材テーブル本体１６１のセットテーブル２１側の端部には、給材のために浮上したワークＷを、セットテーブル２１に向かって押し出すようにして自走力を付与する給材用蹴出し機構１６４が設けられている。給材用蹴出し機構１６４は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共に給材テーブル本体１６１の表面から出没するように回動する蹴出しアームと、蹴出しアームを回動させるエアーシリンダ等で構成されている。給材用蹴出し機構１６４により蹴り出されたワークＷは、上記したセットテーブル２１の給材用ストッパ機構１１４により、セットテーブル２１上で停止される。このように、請求項にいう給材手段は、給材用蹴出し機構１６４および給材用ストッパ機構１１４により構成されている。
【００５６】
給材テーブル本体１６１は、その表面がセットテーブル２１の表面より高い位置に構成されており、セットテーブル２１のテーブル本体１０３と同様、複数の多孔質部材１０６を有すると共に、複数の多孔質部材１０６を嵌入する複数の嵌入部１０５およびそれに連なる複数の連通孔１０７、エアー室１０８および接続孔１１０が形成されている。また、複数の嵌入部１０５を除く位置には、ロボットアーム１５１の一対の保持片１５３,１５３が挿入される一対の挿入溝１６３,１６３が形成されている。ロボットアーム１５１が、一対の保持片１５３,１５３にワークＷを載せた状態で、一対の挿入溝１６３,１６３上方から下降し、一対の保持片１５３,１５３が一対の挿入溝１６３,１６３に入り込むことで、ワークＷが給材テーブル本体１６１にセットされる。これにより、ロボットアーム１５１から給材テーブル本体１６１にワークＷが受け渡される。なお、給材テーブル本体１６１は、チャンバ６内に配設されている（図１参照）。これにより、給材に際し、給材するワークＷを、チャンバ６内の雰囲気温度に慣らせた状態にすることができる。そのため、描画処理時のワークＷの熱性影響を排除することができる。
【００５７】
給材ガス供給系１６２は、ガス供給機構１７１と、給材テーブル本体１６１とガス供給機構１７１とを接続するガス供給流路１７２と、を備えている。ガス供給機構１７１は、圧縮エアー供給設備８５に接続したガス流量調整バルブ１７３を有し、ガス流量調整バルブ１７３を調整することで、一定圧力の放出ガス（圧縮エアー）を供給する。供給された放出ガスは、ガス供給流路１７２、連通孔１０７および嵌入部１０５を介して複数の多孔質部材１０６に供給され、複数の多孔質部材１０６から放出ガスが放出される。これにより、セットされたワークＷを浮上させる。このように、請求項にいう給材浮上手段は、多孔質部材１０６および給材ガス供給系１６２により構成されている。
【００５８】
除材テーブル１４２は、除材テーブル本体１８１と、除材テーブル本体１８１に放出ガスを供給する除材ガス供給系１８２と、を備えている。除材テーブル本体１８１の表面から、除材ガス供給系１８２から供給された放出ガスを放出して除材時にワークＷを浮上させる。また、除材テーブル本体１８１のセットテーブル２１側の端部には、上記したセットテーブル２１の除材用蹴出し機構１０９により蹴り出されたワークＷを除材テーブル１４２上に停止させる除材用ストッパ機構１８４が設けられている。除材用ストッパ機構１８４は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共にテーブル本体１０３の表面から出没する障壁状のストッパ本体と、ストッパ本体を出没させるエアーシリンダ等で構成されている。すなわち、請求項にいう除材手段は、除材用蹴出し機構１０９と除材用ストッパ機構１８４とにより構成されている。
【００５９】
除材テーブル本体１８１は、その表面がセットテーブル２１の表面より低い位置になるよう構成されており、セットテーブル２１のテーブル本体１０３と同様、複数の多孔質部材１０６を有すると共に、複数の多孔質部材１０６を嵌入する複数の嵌入部１０５およびそれに連なる複数の連通孔１０７、エアー室１０８および接続孔１１０が形成されている。また、複数の嵌入部１０５を除く位置に、ロボットアーム１５１の一対の保持片１５３,１５３が挿入される一対の挿入溝１６３,１６３が形成されている。ロボットアーム１５１は、ワークＷがセットされた状態で、一対の保持片１５３,１５３を一対の挿入溝１６３,１６３に横から挿入した後、保持部１５２を上昇されて一対の保持片１５３,１５３にワークＷを載せこむ。これにより、除材テーブル本体１８１からロボットアーム１５１にワークＷが受け渡される。なお、請求項にいう除材浮上手段は、多孔質部材１０６および除材ガス供給系１８２により構成されている。また、除材ガス供給系１８２は、給材ガス供給系１６２と同様の構成であるため、説明を省略する。
【００６０】
描画結果検出装置１４３は、セットテーブル２１と除材テーブル１４２との間に配設されており、除材搬送（セットテーブル２１から除材テーブル１４２への搬送）されるワークＷに上方から臨む混色カメラ（撮像カメラ）１９１と、ワークＷを挟むように混色カメラ１９１に対向配置された照明１９２と、を備えている。除材搬送されるワークＷの描画処理結果は、照明１９２による照射光を受けた状態で、混色カメラ１９１に撮像される。ワークＷは、透明なガラス基板であるため、透過光により、描画結果を検出することができる。この検出結果に基づいて、描画結果の混色が検査され、描画処理されたワークの不良が判定される。
【００６１】
このように、セットテーブル２１と除材テーブル１４２との間に位置して描画結果検出装置１４３を配設することにより、除材搬送を利用して、描画結果の検出を行うことができる。そのため、描画結果の検出を効率良く行うことができる。また、描画結果を、照明１９２からの透過光により検出することができるため、精度の高い描画結果の検出を行うことができる。なお、本実施形態においては、混色カメラ１９１により、画素混色検査を行っている。しかしながら、混色カメラ１９１に代わり（または加えて）色濃度検出カメラを備え、色濃度を検査し、濃度ムラ、すじムラを検出するものでもよい。
【００６２】
ここで、図７を参照して液滴吐出装置１の給除材動作について説明する。給除材動作は、給材および除材を同一工程に行うものである。そのため、本動作は、給材テーブル１４１に描画処理前のワークＷ（以後、給材ワークＷ１と表記）がセットされ、セットテーブル２１に描画処理後のワークＷ（以後、除材ワークＷ２と表記）がセットされた状態にて行なわれる（図７（ａ））。また、チャンバ６に形成された除材用開閉扉１０１が開放されている状態にて行われる。
【００６３】
まず、給材ガス供給系１６２、除材ガス供給系１８２およびガス流路系１０４を駆動する（ガス流路系１０４は、浮上処理駆動）。これにより、給材テーブル１４１上の給材ワークＷ１を浮上すると共に、セットテーブル２１上の除材ワークＷ２を浮上する（図７（ｂ））。各ワークＷ１,Ｗ２が浮上したら、給材ワークＷ１を給材用蹴出し機構１６４で、除材ワークＷ２を除材用蹴出し機構１０９で水平方向に移動させる（図７（ｃ））。これにより、給材ワークＷ１が給材テーブル１４１からセットテーブル２１に、除材ワークＷ２がセットテーブル２１から除材テーブル１４２に受け渡される。この際、除材ワークＷ２は、除材用開閉扉１０１を通過後、描画結果検出装置１４３上を通過して、描画結果が検査される。
【００６４】
給材ワークＷ１がセットテーブル２１上に移動し、除材ワークＷ２が除材テーブル１４２上に移動すると、給材ワークＷ１は、セットテーブル２１の給材用ストッパ機構１１４にて、セットテーブル２１上の所定の位置に停止される。一方、除材ワークＷ２は、除材テーブル１４２の除材用ストッパ機構１８４にて、除材テーブル１４２上の所定の位置に停止される（図７（ｄ））。その後、ガス流路系１０４、給材ガス供給系１６２および除材ガス供給系１８２の駆動を停止し、給除材を完了する（図７（ｅ））。
【００６５】
このように、上記の構成により、ワークＷの給除材搬送を、浮上した状態で行うことができる。そのため、給除材搬送に際し、ワークＷに直接接触して支持する必要がなく、ワークＷの破損、変形することを抑えることができると共に、極めて小さな力で、ワークＷを移動させることができる。また、ワークＷの給除材搬送を同時に行うことができるため、ワークＷの給除材を効率良く行うことができる。さらに、給材テーブル１４１の表面よりセットテーブル２１の表面が低く、セットテーブル２１の表面より除材テーブル１４２の表面が低く形成されているため、給除材搬送に際し、ワークＷが微小に降下した場合にも、ワークＷが受け取り側のテーブル（セットテーブル２１もしくは除材テーブル１４２）の端に衝突してしまうのを防止することができる。
【００６６】
以上のような構成によれば、ワークＷをテーブル本体１０３上に浮かせる機構として、放出ガスによりワークＷを浮上させるワーク浮上手段を用いることにより、ワークＷに直接接触することなくワークＷを浮かせることができるため、ワークＷが破損、変形することを抑えることができる。また、本装置を簡単な構成にすることができると共にセットテーブル２１を薄手のものにすることができる。
【００６７】
なお、本実施形態とは異なり、セットテーブル２１、給材テーブル１４１および除材テーブル１４２上において、複数の多孔質部材１０６をＸＹ方向で均等に配設するようにしても良い。
【００６８】
また、本実施形態においては、浮上したワークＷの移動する機構（請求項にいう給材手段および除材手段）として蹴出し機構およびストッパ機構を用いたが、それに限るものではない。別実施方法として、ロボットアームユニット１４４により、ワークＷの端面を押す（もしくは引っ張る）ことで、浮上したワークＷを移動するようにしても良い。また、別実施方法として、多孔質部材１０６毎に放出ガス供給機構１１１（流量調整バルブ１３１）を設け、各多孔質部材１０６で放出圧力を調整することで、ワークＷを移動するものでも良い。例えば、移動方向先端側の多孔質部材１０６の放出圧力に比べ、移動方向尾端側の多孔質部材１０６の放出圧力を低くし、ワークＷをわずかに斜めに支持するように移動させるものでも良い。さらに、別実施方法として、圧縮エアー供給設備８５に接続され、ワークＷ端部に向かって斜めに圧縮エアーを放出するエアーノズルを有し、エアーノズルから放出する圧縮エアーにより、ワークＷを押圧するようにしても良い。
【００６９】
さらに、本実施形態においては、１０個のキャリッジユニット５１を備えた液滴吐出装置１を備えたものを使用しているが、キャリッジユニット５１の個数は任意である。
【００７０】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００７１】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図８は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図９は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図９（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７２】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図９（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図９（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７３】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００７４】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図９（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７５】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図９（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７６】
図１０は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図９に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７７】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７８】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７９】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８０】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００８１】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００８２】
図１１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８３】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００８４】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８５】
図１２は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８６】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８７】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８８】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８９】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００９０】
次に、図１３は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００９１】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９２】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００９３】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００９４】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９５】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９６】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９７】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９８】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９９】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１００】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１０１】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１０２】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１４〜図２２を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１４に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０３】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１５に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１６に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１０４】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０５】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０６】
図１７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１８に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１０７】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０８】
そして次に、図１９に示すように、各色のうちのいずれか（図１９の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０９】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２０に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１１０】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２１に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１１１】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１２】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２２に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１３】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１１４】
次に、図２３は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１５】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１６】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１７】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１８】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１９】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１２０】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１２１】
次に、図２４は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１２２】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２３】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２４】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２５】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２６】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２５（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２５（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２７】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】液滴吐出装置の平面図である。
【図２】液滴吐出装置の側面図である。
【図３】ヘッド群を構成する機能液滴吐出ヘッドの図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図５】セットテーブルおよび給除材機構廻りについて示した平面図である。
【図６】セットテーブルおよび給除材機構廻りについて示した模式図である。
【図７】給除材機構による給除材動作について示した説明図である。
【図８】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図９】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１４】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１５】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１６】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１７】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１８】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１９】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２３】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２４】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２５】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２９】
１：液滴吐出装置、  ６：チャンバ、  １７：機能液滴吐出ヘッド、  ２１：セットテーブル、  １０６：多孔質部材、  １０９：除材用蹴出し機構、  １１１：放出ガス供給機構、  １１２：真空吸引機構、  １１３：接続流路、  １１４：給材用ストッパ機構  １２２：主流路、  １２５：供給側流路、  １２６：吸引側流路、  １２７：イオナイザ、  １２８：切替バルブ、  １４１：給材テーブル、  １４２：除材テーブル、  １４３：描画結果検出装置、  １６２：給材ガス供給系、  １６４：給材用蹴出し機構、  １８２：除材ガス供給系、  １８４：除材用ストッパ機構、  １９１：混色カメラ、  １９２：照明、  Ｗ：ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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