(57)【要約】【課題】導電材料層の線が直線状に形成され、導電材料層の外観が良好な電磁波シールド材および電磁波シールド材の製造方法を提供する。【解決手段】透明基材２１をグラビア版３０と圧胴４４との間で押圧して、水または溶剤に対して可溶な物質４２によって多角状の多数のドット２６を形成し、次にドット２６上およびドット２６間の隙間２１ａに導電材料層２２を形成する。次いで、水または溶剤によりドット２６を除去してドット２６間の隙間２１ａ上の導電材料層２２のみを残すことにより、透明基材２１とメッシュ状の導電材料層２２とを備えた電磁波シールド材２０を作製する。ドット２６を形成する際、水または溶剤に対して可溶な物質４２の粘度を１５０乃至３００ｍＰａ・ｓ、圧胴４４表面の硬度を７０乃至９０度、グラビア版３０と圧胴４４との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎとした。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波シールド材の製造方法において、
透明基材を準備する工程と、
透明基材をグラビア版と圧胴との間で押圧して、透明基材上に細線状の隙間を残して水または溶剤に対して可溶な物質によって多角状の多数のドットを形成する工程と、
透明基材上のドット上およびドット間の隙間に導電材料からなる導電材料層を形成する工程と、
多数のドットを水または溶剤により溶解してドットを除去してドット間の隙間上の導電材料層のみを残す工程とを備え、
ドットを形成する際、水または溶剤に対して可溶な物質の粘度を１５０乃至３００ｍＰａ・ｓ、圧胴表面の硬度を７０乃至９０度、およびグラビア版と圧胴との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎとしたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２】
導電材料層上に、電解めっき法により金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３】
透明基材の両面に易接着層が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項４】
水または溶剤に対して可溶な物質は、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電磁波シールド材の製造方法により製造された電磁波シールド材において、
透明基材と、
透明基材上に設けられたメッシュ状の導電材料層とを備えたことを特徴とする電磁波シールド材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置の前面に配置され、表示装置から発生される電磁波を遮蔽する機能（電磁波遮蔽機能）を有する電磁波シールド材および電磁波シールド材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特開２００３−２４３８８１号公報
【特許文献２】特開２００６−１５６６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような電磁波シールド材の製造方法としては様々なものが存在する。例えば特許文献１に記載された方法は、フレキソ印刷を用いて、フィルム面に溶剤に対して可溶な物質によりドットを形成し、次にフィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、その後フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することにより導電材料パターンを形成するものである。
【０００４】
また特許文献２には、グラビア印刷工程を含む導電性パターンの製造方法に用いられる印刷材料およびそれを用いた導電性パターンを有するフィルムが開示されている。特許文献２において、印刷材料の粘度は５００〜３０００ｍＰａ・ｓとされている。しかしながら、このような高い粘度を有する印刷材料はグラビア印刷には適しておらず、例えばグラビア版に目詰まりが生じて印刷不良が生じるおそれがある。また、このような粘度が高い印刷材料（グラビアインキ）は、ドクターブレードによって掻き取ることが難しいため、グラビア版にグラビアインキのかぶりや筋が発生することが懸念される。またドクターブレードによってグラビア版の版面を強く掻くことにより、グラビア版の表面に大きな負荷が加わるため、グラビア版は耐刷力に劣ると考えられる。
【０００５】
一方、仮にグラビア印刷機の圧胴の表面が軟らかすぎると、細い線を印刷する際に線がつぶれてしまう。この場合、印刷された線の直線性が悪化し、外観不良が発生する。また、グラビア印刷する際の印圧が低いと、グラビア版のセルから転写されるインキの量が少なくなり、印刷パターンのインク抜けが発生する。
【０００６】
従来、グラビア印刷は包装用途に用いられることがほとんどであるため、仮にグラビア印刷を用いて電磁波シールド材を製造しようとしても、電磁波シールド材の厳しい製造条件に適した印刷プロセスは確立されていない。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、導電材料層の線が直線状に形成され、導電材料層の外観が良好な電磁波シールド材および電磁波シールド材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法において、透明基材を準備する工程と、透明基材をグラビア版と圧胴との間で押圧して、透明基材上に細線状の隙間を残して水または溶剤に対して可溶な物質によって多角状の多数のドットを形成する工程と、透明基材上のドット上およびドット間の隙間に導電材料からなる導電材料層を形成する工程と、多数のドットを水または溶剤により溶解してドットを除去してドット間の隙間上の導電材料層のみを残す工程とを備え、ドットを形成する際、水または溶剤に対して可溶な物質の粘度を１５０乃至３００ｍＰａ・ｓ、圧胴表面の硬度を７０乃至９０度、およびグラビア版と圧胴との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎとしたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【０００９】
本発明は、導電材料層上に、電解めっき法により金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１０】
本発明は、透明基材の両面に易接着層が形成されていることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１１】
本発明は、水または溶剤に対して可溶な物質は、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１２】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法により製造された電磁波シールド材において、透明基材と、透明基材上に設けられたメッシュ状の導電材料層とを備えたことを特徴とする電磁波シールド材である。
【発明の効果】
【００１３】
以上のように本発明によれば、ドットを形成する際、水または溶剤に対して可溶な物質（グラビアインキ）の粘度を１５０乃至３００ｍＰａ・ｓとするので、グラビアインキをドクターブレードで容易に掻き取ることができ、グラビアインキのかぶりや筋が生じない。この結果、印刷不良が無く、印刷されたドットの外観を良好なものとすることができる。またグラビアインキの粘度が低いので、ドクターブレードによってセル内に効率良くグラビアインキを充填することができ、この結果、透明基材上へのグラビアインキの転写率を向上させることができる。
【００１４】
また本発明によれば、透明基材の両面に易接着層が形成されているので、透明基材に対する導電材料の接着性を向上させることができるとともに、透明基材とグラビア印刷機の圧胴とのすべりを滑らかにして透明基材上にドットを良好に形成することができる。
【００１５】
さらに本発明によれば、ドットを形成する際、圧胴表面の硬度を７０乃至９０度とし、かつグラビア版と圧胴との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎとしている。このように圧胴表面の硬度を硬くすることにより、電磁波シールド材の導電材料層の線がつぶれることを防止することができるとともに、透明基材上へのグラビアインキの転写量を増加することができる。さらにグラビア版と圧胴との間の押圧力を高くすることにより、透明基材上へのグラビアインキの転写率を向上させることができ、電磁波シールド材の導電材料層の線の直線性を良好なものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１は、グラビア印刷機を示す概略図であり、図２は、本実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図であり、図３は、電磁波シールド材を含む表示装置用フィルタを示す構成図である。図４は、本実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図であり、図５は、電磁波シールド材の製造工程において透明基材上にグラビア印刷された多数のドットを示す平面図である。図６は、グラビア版の断面図であり、図７は、グラビア版から透明基材上へグラビアインキが転写される様子を示す拡大図である。
【００１７】
グラビア印刷機の構成
まず、図１によりグラビア印刷機の概略について説明する。
【００１８】
グラビア印刷機４０は、グラビア版本体３１とグラビア版本体３１の表面に多数形成されたセル３２とを有するグラビア版３０と、グラビア版３０の下方に配設され、グラビアインキ４２が充填されたインキパン４１とを有している。このうちインキパン４１内に、グラビア版３０にグラビアインキ４２を供給するファニッシャーロール４６が設けられている。
【００１９】
インキパン４１の周囲には、グラビアインキ４２が充填されたインキタンク４８と、グラビアインキ４２を循環させるインキ循環ポンプ４７とが配置されている。一方、グラビア版３０の側部には、グラビアインキ４２を掻き取るためのドクターブレード４３が設けられている。このドクターブレード４３としては、表面にセラミックスめっきが施されているもの（例えば株式会社東京製作所製セラメッキドクターブレード）が好ましい。このようなドクターブレード４３を用いることにより、グラビア版３０表面でグラビアインキ４２をムラ無く均一に掻き取ることができる。
【００２０】
また、グラビア版３０の上方に、グラビア版３０との間で透明基材２１を押圧することによりグラビアインキ４２を透明基材２１に転写するための圧胴４４が設けられている。さらに、透明基材２１の進行方向下流側に、圧胴４４からの透明基材２１を乾燥させる乾燥装置４９が設置されている。
【００２１】
図１に示すグラビア印刷機４０において、圧胴４４は、鉄製の中心部４４ａと、この中心部４４ａの周囲に設けられた表面部４４ｂとからなっている。このうち表面部４４ｂは、ＮＢＲ（ニトリルゴム）、ブチルゴム、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンゴム）、シリコンゴム等のゴム素材からなっている。また表面部４４ｂの硬度（ゴム硬度（JIS K6253））は７０乃至９０度となっている。一方、グラビア版３０と圧胴４４との間の押圧力は、５００乃至１５００Ｎに設定されている。この押圧力は、圧力センサー等、従来から公知の手段を用いて測定される。
【００２２】
電磁波シールド材の構成
次に、図２により電磁波シールド材の概要について説明する。
【００２３】
図２に示す電磁波シールド材２０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものである。この電磁波シールド材２０は、ＰＥＴ製の透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の導電材料層２２と、導電材料層２２上に設けられた金属めっき層２３とを備えている。
【００２４】
このうち透明基材２１としては、ＰＥＴ製フィルムのほか、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。透明基材２１を構成するプラスチックフィルムは、高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが最も望ましい。
【００２５】
また透明基材２１の厚さは、５０μｍ乃至２５０μｍであることが好ましく、７５μｍ乃至１００μｍであることが更に好ましい。透明基材２１の厚さが薄すぎると、後述するようにグラビア印刷機４０によりドット２６を形成することが困難となる。他方、透明基材２１の厚さが厚すぎると、電磁波シールド材２０の製造工程中で透明基材２１にしわや折れ目が生じやすく、また電磁波シールド材２０のコストの上昇にも繋がるため、好ましくない。
【００２６】
一方、メッシュ状の導電材料層２２を構成する金属の材質としては例えば、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯ（酸化インジウム錫）など電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００２７】
この導電材料層２２は、厚さが０．０１μｍ乃至０．５μｍとなっている。導電材料層２２の厚さが薄すぎると導電材料層２２の電気抵抗にムラが生じ、金属めっき層２３を作製する際にめっきムラが生じるので好ましくない。他方、導電材料層２２の厚さが厚すぎると、後述するようにドット２６を水または溶剤により溶解して除去することが困難となるおそれがある。
【００２８】
導電材料層２２の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様形状であってもよい。導電材料層２２の形状がメッシュ状である場合、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果および光透過率に応じて、導電材料層２２を構成する各線の幅を１μｍ乃至１００μｍとし、かつ各線の間隔を５０μｍ乃至５００μｍとすることができる。
【００２９】
金属めっき層２３を構成する金属の材質としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、クロム、銀、モリブデン、タングステンなどが挙げられ、導電材料層２２上に電解めっき法により形成することができる金属であれば良い。
【００３０】
この金属めっき層２３は、厚さが１μｍ乃至１００μｍとなっている。金属めっき層２３は、導電材料層２２の厚さが薄く、導電材料層２２の導電性が不十分となる場合に設けられる。したがって、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果に応じてその厚さを設定すれば良い。
【００３１】
表示装置用フィルタの構成
次に、図３により電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタについて説明する。
【００３２】
図３に示すように、表示装置用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）２５等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００３３】
このような表示装置用フィルタ１０は、図２に示す電磁波シールド材２０と、電磁波シールド材２０上に設けられた粘着材層１３と、粘着材層１３上に設けられた近赤外線カット層１５と、近赤外線カット層１５上に設けられた反射防止フィルム１７とを備えている。
【００３４】
このうち粘着材層１３は、ＰＤＰ２５から放出されるネオン光をカットする機能（ネオンカット機能）を有し、近赤外線カット層１５は、ＰＤＰ２５から放出される近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）をカットする機能（近赤外線カット機能）を有している。
【００３５】
また、反射防止フィルム１７は、外部からの紫外線を吸収して近赤外線カット層１５を保護する紫外線カット基材１６と、紫外線カット基材１６上に設けられた反射防止層１４とを有している。このうち反射防止層１４は、空気と表示装置用フィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ２５表面の反射を防止するものである。
【００３６】
電磁波シールド材２０上には、粘着性をもつアクリル樹脂等からなる粘着材層２４が設けられている。この粘着材層２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００３７】
電磁波シールド材の製造方法
次に、図２に示す電磁波シールド材２０の製造方法について、図４（ａ）〜（ｅ）、図５により説明する。
【００３８】
まず図４（ａ）に示すように、両面に水系ポリエステル系樹脂からなる易接着層２１ｂ、２１ｃが形成された透明基材２１を準備する。透明基材２１の厚さは、上述したように、５０μｍ乃至２５０μｍとなることが好ましく、７５μｍ乃至１００μｍとなることが更に好ましい。
【００３９】
次に、透明基材２１上にグラビア印刷（凹版印刷）により、細線状の隙間２１ａを残して多角状、例えば正方形状の多数のドット２６を形成する（図４（ｂ））。この場合、水または溶剤に対して可溶な物質（グラビアインキ４２）を用いて、透明基材２１上にグラビア印刷を施し、更にグラビアインキ４２を乾燥させることにより、透明基材２１上に多数のドット２６が形成される。なお、このようにグラビア印刷により透明基材２１上に多数のドット２６を形成する方法については後述する（図１参照）。
【００４０】
この場合、透明基材２１の両面に易接着層２１ｂ、２１ｃが形成されているので、透明基材２１とグラビア印刷機４０の圧胴４４とのすべりが滑らかになり、透明基材２１上にドット２６を良好に形成することができる。これに対して、透明基材２１の片面のみに易接着層が形成されている場合、透明基材２１両面の滑りやすさが互いに異なるため、グラビア印刷機４０内で透明基材２１を円滑に搬送できない。したがって、ドット２６が正しい形状にならないおそれがある。
【００４１】
なお、グラビア印刷により形成されるドット２６の厚さｔ2は、約０．５μｍ乃至１．０μｍとすることが好ましい。この厚さｔ2が薄すぎると、後述するドット２６の溶解除去工程（図４（ｄ））で、ドット２６を水または溶剤により溶解してドット２６上の導電材料層２２を除去することが困難となる。
【００４２】
グラビア印刷により形成されるドット２６のパターンは、透明基材２１上に設けられる導電材料層２２の形状と正反対の形状となる。例えば導電材料層２２をメッシュ状に形成する場合、透明基材２１上に形成されるドット２６のパターンは、多数の正方形を互いに等間隔に並べた形状となる（図５参照）。図５において、各ドット２６間の間隔ｄ2を１μｍ乃至１００μｍとし、かつドット２６の一辺の長さｄ1を５０μｍ乃至５００μｍとすることが好ましい。
【００４３】
なお、ドット２６を構成するグラビアインキ４２（水または溶剤に対して可溶な物質）は、後述するドット２６の溶解除去工程（図４（ｄ））で用いられる液体（水または有機溶剤）に溶解する材料から選択される。例えば溶解除去工程で水が用いられる場合、グラビアインキ４２は水溶性である。このようなグラビアインキ４２としては、例えばポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むもの等が挙げられる。一方ドット２６の溶解除去工程で有機溶剤が用いられる場合、グラビアインキ４２は有機溶剤可溶性であり、このようなグラビアインキ４２として、例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート、溶剤可溶型フッ素樹脂等を含むものを使用することができる。
【００４４】
なお、グラビアインキ４２（水または溶剤に対して可溶な物質）の粘度は、１５０乃至３００ｍＰａ・ｓ（１５０乃至３００ｃｐｓ）となっている。グラビアインキ４２の粘度が３００ｍＰａ・ｓより高い場合、グラビアインキ４２をドクターブレード４３で掻き取ることが難しくなり、印刷後のドット２６の外観が悪化するおそれがある。他方、グラビアインキ４２の粘度が１５０ｍＰａ・ｓ未満の場合、グラビアインキ４２が透明基材２１上で広がりすぎることにより印刷後のドット２６の外観が悪化するため、好ましくない。
【００４５】
次いで、透明基材２１上のドット２６上、ドット２６側部、およびドット２６間の隙間２１ａに、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯ等の導電材料からなる導電材料層２２を形成する（図４（ｃ））。この場合、透明基材２１の表面に易接着層２１ｂが設けられていることにより、導電材料層２２と透明基材２１との接着性を高めることができる。
【００４６】
導電材料層２２を形成する方法としては、導電材料を塗布するほか、気相めっき（スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着等）または液相めっき（電解めっき、無電解めっき等）等の手法を用いることができる。
【００４７】
なお、ドット２６の溶解除去工程において（図４（ｄ））、ドット２６を溶解してドット２６上の導電材料層２２を除去できるようにするため、導電材料層２２の厚さｔ1は、０．０１μｍ乃至０．５μｍとすることが好ましい。
【００４８】
次に、多数のドット２６を水または有機溶剤により溶解することにより、ドット２６と、ドット２６上およびドット２６側部の導電材料層２２とを除去するとともに、隙間２１ａ上の導電材料層２２のみを残存させる（図４（ｄ））。すなわち、水または有機溶剤を導電材料層２２に供給して導電材料層２２内に浸透させ、ドット２６を溶解させる。このようにしてドット２６が溶解されることにより、ドット２６上およびドット２６側部の導電材料層２２も取り除かれる。他方、隙間２１ａ上の導電材料層２２は残存する。なお、このような有機溶剤として、例えばトルエン、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、アセトン、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）等を使用することができる。
【００４９】
その後、透明基材２１の隙間２１ａ上の導電材料層２２上に、電解めっき法により例えば銅、アルミニウム、錫、ニッケル等からなる金属めっき層２３を形成する（図４（ｅ））。このようにして、図２に示す電磁波シールド材２０が作製される。
【００５０】
グラビア印刷方法
次に、グラビア印刷機４０を用いるグラビア印刷により、透明基材２１上に多数のドット２６を形成する方法（図４（ｂ））について、図１、図６、および図７により説明する。
【００５１】
初めに図６に示すグラビア版３０を作製する。この際、まずアルミニウム製の中空シリンダ部３１ａ表面に銅めっき加工を施して銅めっき部３１ｂを形成する。次に銅めっき部３１ｂを腐食方式または切削方式により製版加工し、さらにエッチング加工することにより、銅めっき部３１ｂに多数のセル３２を形成する。その後、銅めっき部３１ｂ上に例えばＣｒめっき加工を施し、Ｃｒめっき層からなる表面処理部３１ｃを形成する。このようにして、グラビア版本体３１と、グラビア版本体３１の表面に多数形成されたセル３２とを有するグラビア版３０が作製される（図６参照）。
【００５２】
次に、図１に示すように、このグラビア版３０をグラビア印刷機４０内に設置する。
【００５３】
次いで、このグラビア印刷機４０を運転することにより、透明基材２１上にグラビアインキ４２が転写され、さらにこのグラビアインキ４２を乾燥させることにより多数のドット２６が形成される。
【００５４】
この間、まずファニッシャーロール４６により、グラビア版３０の版面の凹部（セル３２）がグラビアインキ４２で満たされる。
【００５５】
次に、グラビア版３０が回転することによりグラビアインキ４２は圧胴４４側へ引き上げられる。この間、ドクターブレード４３によりグラビア版３０表面が擦られ、グラビア版３０の凹部（セル３２）以外に付着したグラビアインキ４２が掻き取られる。
【００５６】
上述したように、グラビアインキ４２の粘度は、１５０乃至３００ｍＰａ・ｓとなっている。このようにグラビアインキ４２の粘度が低いことにより、グラビアインキ４２をドクターブレード４３で容易に掻き取ることができ、グラビア版３０上のグラビアインキ４２にかぶりや筋が生じることがない。また、ドクターブレード４３によってグラビア版３０のセル３２内に効率良くグラビアインキ４２を充填することができるので、透明基材２１へのグラビアインキ４２の転写率を向上させることができる。
【００５７】
次いで、グラビア版３０と圧胴４４との間で透明基材２１が挟まれて押圧され、この際グラビアインキ４２は、グラビア版３０の凹部（セル３２）から透明基材２１上に転写される（図７参照）。この際、グラビア版３０および圧胴４４によって押圧されることにより、グラビア版３０のセル３２からのグラビアインキ４２は、透明基材２１上でドット２６の形状（例えば正方形状）に広がる。
【００５８】
その後、透明基材２１上のグラビアインキ４２は乾燥装置４９内で乾燥されて硬化され、透明基材２１上に多数のドット２６が形成される。
【００５９】
この場合、圧胴４４の表面部４４ｂの硬度は７０乃至９０度であり、すなわち表面部４４ｂの硬度は従来より硬くなっている。これにより、グラビア版３０と圧胴４４との間で透明基材２１を押圧する際、透明基材２１上でドット２６間の隙間２１ａがつぶれることがない。したがって、電磁波シールド材２０の導電材料層２２の線がつぶれることを防止できる。また透明基材２１上へ転写されるグラビアインキ４２の量を増加することができる。これに対して、比較例として、例えば表面部４４ｂの硬度が５０乃至６０度である圧胴４４を用いた場合、グラビアインキ４２を透明基材２１上に十分転写することが難しい。
【００６０】
また、グラビア版３０と圧胴４４との間の押圧力が５００乃至１５００Ｎとされ、比較的高い押圧力となっているので、透明基材２１上へのグラビアインキ４２の転写率を向上させることができる。したがって、透明基材２１上でドット２６間の隙間２１ａを直線状に構成することができ、これにより電磁波シールド材２０の導電材料層２２の線も直線状に構成することができる。
【００６１】
このように本実施の形態によれば、水または溶剤に対して可溶な物質（グラビアインキ４２）の粘度を１５０乃至３００ｍＰａ・ｓ、圧胴４４の表面部４４ｂの硬度を７０乃至９０度、およびグラビア版３０と圧胴４４との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎとしている。これにより、透明基材２１上に印刷されたドット２６の外観を良好なものとすることができ、さらに電磁波シールド材２０の導電材料層２２の線を直線状に形成することができる。
【００６２】
また本実施の形態によれば、透明基材２１の両面に易接着層２１ｂ、２１ｃが形成されているので、透明基材２１に対する導電材料の接着性を向上させることができるとともに、透明基材２１とグラビア印刷機４０の圧胴４４とのすべりを滑らかにして透明基材２１上にドット２６を良好に形成することができる。
【００６３】
ところで一般に、透明基材２１上のグラビアインキ４２が乾燥装置４９内で乾燥されるまでの間、グラビアインキ４２が透明基材２１上で流れることが考えられる。この場合、グラビアインキ４２が乾燥した後、透明基材２１上のドット２６の形状が、透明基材２１の送り方向の前方と後方とで対称にならない（すなわちドット２６が正方形状とならない）おそれがある。
【００６４】
これに対して、本実施の形態において、各セル３２のうち透明基材２１の送り方向後方にある部分に内方へ入り込む補正部分を設けても良い。このような構成により、グラビア版３０により透明基材２１上に形成されるドット２６の形状を、透明基材２１の送り方向の前方と後方とで対称（すなわちドット２６を正方形状）に形成することができる。
【００６５】
（実施例）
次に、本発明の具体的実施例を説明する。
【００６６】
まず、予め両面に水系ポリエステルからなる易接着層２１ｂ、２１ｃが形成されたＰＥＴ製透明基材２１（東洋紡製Ａ４３００または東レ製Ｕ４６）を準備した。なお透明基材２１の厚さは１００μｍのものを用いた。
【００６７】
この透明基材２１上に水溶性のグラビアインキ４２によりグラビア印刷（印刷速度３０ｍ／ｍｉｎ）を施すとともに、グラビアインキ４２を乾燥させ、透明基材２１上に多数のドット２６を形成した。各ドット２６の印刷厚さは、乾燥後で約１μｍであった。
【００６８】
グラビア印刷機４０の圧胴４４は耐溶剤性を考慮して、ＮＢＲ製の硬度７０乃至９０度のものを使用した。またグラビア版３０と圧胴４４との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎとした。
【００６９】
グラビア版３０としては、表面にドット２６に対応する多数のセル３２が形成されたものを使用した。これらのセル３２は、正方格子状に配列され、それぞれ１辺が２７５μｍの略正方形状であり、かつ各凹部間の間隔は２５μｍであった。また各セル３２のうち透明基材２１の送り方向後方にある部分に内方へ入り込む補正部分（幅１０μｍ）を設けた。
【００７０】
なおグラビア印刷で用いたグラビアインキ４２の材質および組成は、以下の通りである。
・樹脂：ポリビニルピロリドン・・・２０重量％
・体質顔料：硫酸バリウム・・・２０重量％
・マット剤：シリカ・・・５重量％
・溶剤：水・・・２０重量％、メタノール・・・３０重量％
【００７１】
グラビアインキ４２の粘度は、メタノールの量を増減することによって調整することができ、１５０乃至３００ｍＰａ・ｓとなるようにした。
【００７２】
次に、ドット２６上およびドット２６間の隙間２１ａに、銅からなる導電材料層２２を平均膜厚０．２μｍとなるように蒸着により形成した。
【００７３】
次いで、導電材料層２２が形成された透明基材２１を３０℃乃至４０℃程度の水に浸漬し、スポンジやブラシ等で表面を軽く擦ることにより、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を溶解除去した。さらに、透明基材２１を水洗し、乾燥することにより、隙間２１ａ上に残存する導電材料層２２からなる電磁波シールドパターンを形成した。
【００７４】
その後、電解めっき加工により銅からなる金属めっき層２３を平均膜厚２μｍとなるように形成し、このようにして図２に示す電磁波シールド材２０を作製した。
【００７５】
この電磁波シールド材２０の導電材料層２２のパターンは、正方格子状であり、各線の幅は約２０μｍ、開口率は８７％であった。また電磁波シールド材２０の抵抗値は０．２Ω／□であり、電磁波シールド性能を十分に満たしていた。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】グラビア印刷機を示す概略図。
【図２】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図。
【図３】電磁波シールド材を含む表示装置用フィルタを示す構成図。
【図４】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【図５】電磁波シールド材の製造工程において透明基材上にグラビア印刷された多数のドットを示す平面図。
【図６】グラビア版の断面図。
【図７】グラビア版から透明基材上へグラビアインキが転写される様子を示す拡大図。
【符号の説明】
【００７７】
１０      表示装置用フィルタ
２０      電磁波シールド材
２１      透明基材
２１ａ    隙間
２１ｂ、２１ｃ  易接着層
２２      導電材料層
２３      金属めっき層
２６      ドット
３０      グラビア版
３１      グラビア版本体
３２      セル
４０      グラビア印刷機
４２      グラビアインキ
４３      ドクターブレード
４４      圧胴
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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