(57)【要約】【課題】導電材料層の線が直線状に形成され、導電材料層の外観が良好な電磁波シールド材および電磁波シールド材の製造方法を提供する。【解決手段】透明基材２１上に細線状の隙間２１ａを残して水または溶剤に対して可溶な物質によって多数のドット２６を形成する。次にドット２６上およびドット２６間の隙間２１ａに導電材料からなる導電材料層２２を形成する。次に、導電材料層２２中を浸透する水または溶剤により多数のドット２６を溶解して、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を除去してドット２６間の隙間２１ａに形成された導電材料層２２のみを残す。導電材料層２２の厚みＹおよびドット２６の厚みＸは、０．５μｍ≦Ｘ≦１μｍ、０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍ、かつＹ≦１／２Ｘの条件を満たす。【選択図】図３
2009194077.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波シールド材の製造方法において、
透明基材を準備する工程と、
透明基材上に細線状の隙間を残して水または溶剤に対して可溶な物質によって多数のドットを形成する工程と、
透明基材上のドット上およびドット間の隙間に導電材料からなる導電材料層を形成する工程と、
導電材料層中を浸透する水または溶剤により多数のドットを溶解して、ドットおよびドット上の導電材料層を除去してドット間の隙間に形成された導電材料層のみを残す工程とを備え、
透明基材上のドット上およびドット間の隙間に形成された導電材料層の厚みＹおよびドットの厚みＸは、０．５μｍ≦Ｘ≦１μｍ、０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍ、かつＹ≦１／２Ｘの条件を満たすことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２】
導電材料層上に、電解めっきにより金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３】
ドットを形成する工程において、ドットはグラビア印刷により形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項４】
導電材料層を形成する工程において、導電材料層はスパッタリングにより形成され、導電材料層の厚みＹは０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍであり、かつＹ≦１／２Ｘとなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項５】
導電材料層を形成する工程において、導電材料層は蒸着により形成され、導電材料層の厚みＹは０．１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍであり、かつＹ≦１／２Ｘとなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項６】
導電材料は、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯからなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項７】
水または溶剤に対して可溶な物質は、ボリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の電磁波シールド材の製造方法により製造された電磁波シールド材において、
透明基材と、
透明基材上に設けられたメッシュ状の導電材料層とを備えたことを特徴とする電磁波シールド材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置の前面に配置され、表示装置から発生される電磁波を遮蔽する機能（電磁波遮蔽機能）を有する電磁波シールド材および電磁波シールド材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特開２００３−２４３８８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような電磁波シールド材の製造方法としては様々なものが存在する。例えば特許文献１に記載された方法は、フレキソ印刷を用いて、フィルム面に溶剤に対して可溶な物質によりドットを形成し、次にフィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、その後フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することにより導電材料パターンを形成するものである。
【０００４】
特許文献１において、真空蒸着により平均膜厚１０μｍの導電材料層を形成することが示されている。しかしながら、蒸着またはスパッタリングにより形成可能な導電材料層の厚みは一般に２μｍ以下であり、この厚みを１０μｍとすることは工程上非常に困難である。また仮に、蒸着またはスパッタリングにより導電材料層の厚みを１０μｍとする場合、コストおよび時間がかかるとともに、品質管理が困難となる。さらに、導電材料層の厚みが１０μｍであると、溶剤により導電材料層を溶解剥離することは困難であり、導電材料層の厚みが厚いほど溶解剥離後における導電材料層のパターンの直線性が悪くなり、外観不良となるおそれがある。
【０００５】
また、このようにフレキソ印刷（凸版印刷）を用いて電磁波シールド材を製造する方法は、以下に示すようないくつかの問題が存在する。
【０００６】
すなわち、通常フレキソ印刷は版の素材としてゴムを使用するため、細線状のパターンを印刷することが難しい。またフレキソ印刷機のゴム版は短寿命であり、グラビア印刷の版と比較して交換頻度が高いため、生産能力が低い。また、フレキソ印刷機はその性能上、使用するインキの粘度を高くする必要がある。したがって、必然的にインキ層が厚盛になるため、材料コストが高くなる。
【０００７】
さらに、フレキソ印刷機の印刷版は、通常つなぎ目を有しているため、印刷する対象の大きさに限度がある。そして、塗工するインキと版の材料との相性が非常に重要となるため、塗工できる材料が限定されるとともに、インキに適する版の材料を選定することが容易でない。
【０００８】
一方、従来グラビア印刷は包装用途に用いられることがほとんどであるため、仮にグラビア印刷を用いて電磁波シールド材を製造しようとしても、電磁波シールド材の厳しい製造条件に適した印刷プロセスは確立されていない。
【０００９】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、導電材料層の線が直線状に形成され、導電材料層の外観が良好な電磁波シールド材および電磁波シールド材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法において、透明基材を準備する工程と、透明基材上に細線状の隙間を残して水または溶剤に対して可溶な物質によって多数のドットを形成する工程と、透明基材上のドット上およびドット間の隙間に導電材料からなる導電材料層を形成する工程と、導電材料層中を浸透する水または溶剤により多数のドットを溶解して、ドットおよびドット上の導電材料層を除去してドット間の隙間に形成された導電材料層のみを残す工程とを備え、透明基材上のドット上およびドット間の隙間に形成された導電材料層の厚みＹおよびドットの厚みＸは、０．５μｍ≦Ｘ≦１μｍ、０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍ、かつＹ≦１／２Ｘの条件を満たすことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１１】
本発明は、導電材料層上に、電解めっきにより金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１２】
本発明は、ドットを形成する工程において、ドットはグラビア印刷により形成されることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１３】
本発明は、導電材料層を形成する工程において、導電材料層はスパッタリングにより形成され、導電材料層の厚みＹは０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍであり、かつＹ≦１／２Ｘとなることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１４】
本発明は、導電材料層を形成する工程において、導電材料層は蒸着により形成され、導電材料層の厚みＹは０．１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍであり、かつＹ≦１／２Ｘとなることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１５】
本発明は、導電材料は、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯからなることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１６】
本発明は、水または溶剤に対して可溶な物質は、ボリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１７】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法により製造された電磁波シールド材において、透明基材と、透明基材上に設けられたメッシュ状の導電材料層とを備えたことを特徴とする電磁波シールド材である。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように本発明によれば、導電材料層の厚みＹが相対的に薄く、ドットの厚みＸが相対的に厚くなっているので、水または溶剤により多数のドットを溶解し、ドットおよびドット上の導電材料層を除去することが容易である。また、ドットおよびドット上の導電材料層を除去した後、ドット間の隙間に形成された導電材料層の線が直線状に形成され、導電材料層の外観を良好なものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１は、本実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図であり、図２は、電磁波シールド材を含む表示装置用フィルタを示す構成図である。図３は、本実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図であり、図４は、電磁波シールド材の製造工程において透明基材上にグラビア印刷された多数のドットを示す平面図である。
【００２０】
電磁波シールド材の構成
まず、図１により電磁波シールド材の概要について説明する。
【００２１】
図１に示す電磁波シールド材２０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものである。この電磁波シールド材２０は、ＰＥＴ製の透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の導電材料層２２と、導電材料層２２上に設けられた金属めっき層２３とを備えている。
【００２２】
このうち透明基材２１としては、ＰＥＴ製フィルムのほか、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。透明基材２１を構成するプラスチックフィルムは、高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが最も望ましい。
【００２３】
また透明基材２１の厚さは、５０μｍ乃至２５０μｍであることが好ましく、７５μｍ乃至１００μｍであることが更に好ましい。透明基材２１の厚さが薄すぎると、後述するようにグラビア印刷機によりドット２６を形成することが困難となる。他方、透明基材２１の厚さが厚すぎると、電磁波シールド材２０の製造工程中で透明基材２１にしわや折れ目が生じやすく、また電磁波シールド材２０のコストの上昇にも繋がるため、好ましくない。
【００２４】
一方、メッシュ状の導電材料層２２を構成する金属の材質としては例えば、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯ（酸化インジウム錫）など電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００２５】
この導電材料層２２は、厚さ（Ｙ）が０．０１μｍ乃至０．５μｍとなっている。導電材料層２２の厚さが薄すぎると導電材料層２２の電気抵抗にムラが生じ、金属めっき層２３を作製する際にめっきムラが生じるので好ましくない。他方、導電材料層２２の厚さが厚すぎると、後述するようにドット２６を水または溶剤により溶解して除去することが困難となるおそれがある。
【００２６】
導電材料層２２の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様形状であってもよい。導電材料層２２の形状がメッシュ状である場合、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果および光透過率に応じて、導電材料層２２を構成する各線の幅を１μｍ乃至１００μｍとし、かつ各線の間隔を５０μｍ乃至５００μｍとすることができる。
【００２７】
金属めっき層２３を構成する金属の材質としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、クロム、銀、モリブデン、タングステンなどが挙げられ、導電材料層２２上に電解めっき法により形成することができる金属であれば良い。
【００２８】
この金属めっき層２３は、厚さが１μｍ乃至１００μｍとなっている。金属めっき層２３は、導電材料層２２の厚さが薄く、導電材料層２２の導電性が不十分となる場合に設けられる。したがって、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果に応じてその厚さを設定すれば良い。
【００２９】
表示装置用フィルタの構成
次に、図２により電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタについて説明する。
【００３０】
図２に示すように、表示装置用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）２５等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００３１】
このような表示装置用フィルタ１０は、図１に示す電磁波シールド材２０と、電磁波シールド材２０上に設けられた粘着材層１３と、粘着材層１３上に設けられた近赤外線カット層１５と、近赤外線カット層１５上に設けられた反射防止フィルム１７とを備えている。
【００３２】
このうち粘着材層１３は、ＰＤＰ２５から放出されるネオン光をカットする機能（ネオンカット機能）を有し、近赤外線カット層１５は、ＰＤＰ２５から放出される近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）をカットする機能（近赤外線カット機能）を有している。
【００３３】
また、反射防止フィルム１７は、外部からの紫外線を吸収して近赤外線カット層１５を保護する紫外線カット基材１６と、紫外線カット基材１６上に設けられた反射防止層１４とを有している。このうち反射防止層１４は、空気と表示装置用フィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ２５表面の反射を防止するものである。
【００３４】
電磁波シールド材２０上には、粘着性をもつアクリル樹脂等からなる粘着材層２４が設けられている。この粘着材層２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００３５】
電磁波シールド材の製造方法
次に、図１に示す電磁波シールド材２０の製造方法について、図３（ａ）〜（ｅ）、図４により説明する。
【００３６】
まず図３（ａ）に示すように、ＰＥＴ製の透明基材２１を準備する。透明基材２１の厚さは、上述したように、５０μｍ乃至２５０μｍとなることが好ましく、７５μｍ乃至１００μｍとなることが更に好ましい。
【００３７】
次に、透明基材２１上にグラビア印刷機を用いたグラビア印刷（凹版印刷）により、細線状の隙間２１ａを残して多角状、例えば正方形状の多数のドット２６を形成する（図３（ｂ））。この場合、水または溶剤に対して可溶な物質（グラビアインキ）を用いて、透明基材２１上にグラビア印刷を施し、更にグラビアインキを乾燥させることにより、透明基材２１上に多数のドット２６が形成される。
【００３８】
なお、グラビア印刷により形成されるドット２６の厚みＸは、約０．５μｍ乃至１．０μｍとすることが好ましい。この厚みＸが薄すぎると、後述するドット２６の溶解除去工程（図３（ｄ））で、ドット２６を水または溶剤により溶解してドット２６上の導電材料層２２を除去することが困難となる。他方、ドット２６の厚みＸが厚すぎると、グラビアインキを溶解するのに時間がかかるため溶解効率が悪いこと、グラビア印刷後の乾燥が不十分となり、グラビアインキに含まれる溶剤の不揮発分が残ってブロッキングするおそれがあること、グラビアインキの使用量が増加することによりコストアップにつながること、等の問題が生じる。
【００３９】
グラビア印刷により形成されるドット２６のパターンは、透明基材２１上に設けられる導電材料層２２の形状と正反対の形状となる。例えば導電材料層２２をメッシュ状に形成する場合、透明基材２１上に形成されるドット２６のパターンは、多数の正方形を互いに等間隔に並べた形状となる（図４参照）。図４において、各ドット２６間の間隔ｄ2を１μｍ乃至１００μｍとし、かつドット２６の一辺の長さｄ1を５０μｍ乃至５００μｍとすることが好ましい。
【００４０】
なお、ドット２６を構成するグラビアインキ（水または溶剤に対して可溶な物質）は、後述するドット２６の溶解除去工程（図３（ｄ））で用いられる液体（水または有機溶剤）に溶解する材料から選択される。例えば溶解除去工程で水が用いられる場合、グラビアインキは水溶性である。このようなグラビアインキとしては、例えばポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むもの等が挙げられる。一方ドット２６の溶解除去工程で有機溶剤が用いられる場合、グラビアインキは有機溶剤可溶性であり、このようなグラビアインキとして、例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート、溶剤可溶型フッ素樹脂等を含むものを使用することができる。
【００４１】
次いで、透明基材２１上のドット２６上、ドット２６側部、およびドット２６間の隙間２１ａに、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯ等の導電材料からなる導電材料層２２を形成する（図３（ｃ））。
【００４２】
導電材料層２２を形成する方法としては、導電材料を塗布するほか、気相めっき（スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着等）または液相めっき（電解めっき、無電解めっき等）等の手法を用いることができる。
【００４３】
なお、図３（ｄ）に示すドット２６の溶解除去工程において、導電材料層２２内に水または有機溶剤を浸透させ、ドット２６を溶解してドット２６上の導電材料層２２を確実に除去する必要がある。このため、導電材料層２２の厚みＹは０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍとなり、かつドット２６の厚みＸに対してＹ≦１／２Ｘという関係を満たしている。すなわち導電材料層２２の厚みＹが厚すぎると、導電材料層２２内に水または有機溶剤を浸透させることが困難となる。これに対して導電材料層２２の厚みＹが薄すぎると、後述するように電解めっき法により導電材料層２２上に金属めっき層２３を形成することが難しくなる。
【００４４】
なお、導電材料層２２を形成する工程（図３（ｂ））において、導電材料層２２がスパッタリングにより形成される場合、導電材料層２２の厚みＹは０．０１μｍ乃至０．５μｍであり、かつＹ≦１／２Ｘとなることが好ましい。他方、導電材料層２２を形成する工程（図３（ｂ））において、導電材料層２２が蒸着（真空蒸着、化学蒸着）により形成される場合、導電材料層２２の厚みＹは０．１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍであり、かつＹ≦１／２Ｘとなることが好ましい。
【００４５】
次に、導電材料層２２中を浸透する水または有機溶剤により多数のドット２６を溶解することにより、ドット２６と、ドット２６上およびドット２６側部の導電材料層２２とを除去するとともに、ドット２６間の隙間２１ａに形成された導電材料層２２のみを残存させる（図３（ｄ））。すなわち、水または有機溶剤を導電材料層２２に供給して導電材料層２２内に浸透させ、ドット２６を溶解させる。このようにしてドット２６が溶解されることにより、ドット２６上およびドット２６側部の導電材料層２２も取り除かれる。他方、隙間２１ａ上の導電材料層２２は残存する。なお、このような有機溶剤として、例えばトルエン、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、アセトン、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）等を使用することができる。
【００４６】
その後、透明基材２１の隙間２１ａ上の導電材料層２２上に、電解めっき法により例えば銅、アルミニウム、錫、ニッケル等からなる金属めっき層２３を形成する（図３（ｅ））。このようにして、図１に示す電磁波シールド材２０が作製される。
【００４７】
このように本実施の形態によれば、電磁波シールド材２０を製造する際、導電材料層２２の厚みＹおよびドット２６の厚みＸは、０．５μｍ≦Ｘ≦１μｍ、０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍ、かつＹ≦１／２Ｘの条件を満たしている。すなわち導電材料層２２の厚みＹが相対的に薄く、ドット２６の厚みＸが相対的に厚くなっているので、水または溶剤により多数のドット２６を溶解し、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を除去することが容易となる。また、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を除去した後、ドット２６間の隙間２１ａに形成された導電材料層２２の線が直線状に形成され、電磁波シールド材２０の導電材料層２２の外観を良好なものにすることができる。
【００４８】
（実施例）
次に、本発明の具体的実施例を説明する。まず、ドット２６および導電材料層２２の適正な厚みを確認する試験を実施した。
【００４９】
すなわち、まず厚さ１００μｍのＰＥＴ製透明基材２１を準備した。このＰＥＴ製透明基材２１の上に水または溶剤に対して可溶な物質（グラビアインキ）をグラビア印刷にて印刷し、更に乾燥することによってドット２６を形成した。なお、この印刷厚み（Ｘ）は１μｍに固定した。
【００５０】
次に、このようにして形成されたドット２６の上に、銅からなる導電材料を用いて導電材料層２２を蒸着により形成した。ここでは、導電材料層２２の厚み（Ｙ）が互いに異なるサンプルを５種類（Ｙ＝０．１μｍ、０．２μｍ、０．５μｍ、１μｍ、２μｍ）作製した。
【００５１】
その後、各サンプルの導電材料層２２中を浸透する水または溶剤により多数のドット２６を溶解し、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を水洗剥離した。なお水洗剥離は、まず導電材料層２２が形成された透明基材２１を２５℃の水に３０秒浸漬し、その後、導電材料層２２の表面を軽く擦って水洗することにより行なった。この水洗剥離の際におけるドット２６およびドット２６上の導電材料層２２の剥離状態を確認した。
【００５２】
この結果、Ｙ＝２μｍ（Ｙ＝２Ｘ）のものはドット２６およびドット２６上の導電材料層２２が全く剥離せず、Ｙ＝１μｍ（Ｙ＝Ｘ）のものは、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２が部分的に剥離していることが認められた。これに対して、Ｙ＝０．５μｍ以下（Ｙ≦１／２Ｘ）のものは、いずれもドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を全てきれいに剥離でき、ドット２６間の隙間２１ａに形成された導電材料層２２のみが残り、外観も良好であった。
【００５３】
次に、ドット２６の厚みＸが０．５μｍ≦Ｘ≦１μｍ、導電材料層２２の厚みＹが０．０１μｍ≦Ｙ≦０．５μｍ、かつＹ≦１／２Ｘとなる条件で、電磁波シールド材２０を作製した。
【００５４】
すなわち、まず、ＰＥＴ製透明基材２１（東洋紡製Ａ４３００または東レ製Ｕ４６）を準備した。なお透明基材２１の厚さは１００μｍのものを用いた。
【００５５】
この透明基材２１上に水溶性のグラビアインキによりグラビア印刷（印刷速度３０ｍ／ｍｉｎ）を施すとともに、グラビアインキを乾燥させ、透明基材２１上に多数のドット２６を形成した。各ドット２６の印刷厚さ（Ｘ）は、乾燥後で約１μｍであった。
【００５６】
グラビア印刷機の圧胴は、耐溶剤性を考慮してゴム硬度７０乃至９０度のＮＢＲ製のものを使用した。またグラビア印刷機のグラビア版と圧胴との間の押圧力を５００乃至１５００Ｎに設定した。
【００５７】
グラビア印刷機のグラビア版としては、表面にドット２６に対応する多数のセルが形成されたものを使用した。これらのセルは、正方格子状に配列され、それぞれ１辺が２７５μｍの略正方形状であり、かつ各凹部間の間隔は２５μｍであった。また各セルのうち透明基材２１の送り方向後方にある部分に内方へ入り込む補正部分（幅１０μｍ）を設けた。
【００５８】
なおグラビア印刷で用いたグラビアインキの材質および組成は、以下の通りである。
・樹脂：ポリビニルピロリドン・・・２０重量％
・体質顔料：硫酸バリウム・・・２０重量％
・マット剤：シリカ・・・５重量％
・溶剤：水・・・２０重量％、メタノール・・・３０重量％
【００５９】
グラビアインキの粘度は、メタノールの量を増減することによって調整することができ、１５０乃至３００ｍＰａ・ｓとなるようにした。
【００６０】
次に、ドット２６上およびドット２６間の隙間２１ａに、銅からなる導電材料層２２をその厚み（Ｙ）が０．２μｍとなるように蒸着により形成した（Ｙ＝０．２Ｘ）。
【００６１】
次いで、導電材料層２２が形成された透明基材２１を３０℃乃至４０℃程度の水に浸漬し、スポンジやブラシ等で表面を軽く擦ることにより、ドット２６およびドット２６上の導電材料層２２を溶解除去した。さらに、透明基材２１を水洗し、乾燥することにより、隙間２１ａ上に残存する導電材料層２２からなる電磁波シールドパターンを形成した。
【００６２】
その後、電解めっき加工により銅からなる金属めっき層２３を平均膜厚２μｍとなるように形成し、このようにして図１に示す電磁波シールド材２０を作製した。
【００６３】
この電磁波シールド材２０の導電材料層２２のパターンは、正方格子状であり、各線の幅は約２０μｍ、開口率は８７％であった。また電磁波シールド材２０の抵抗値は０．２Ω／□であり、電磁波シールド性能を十分に満たしていた。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図。
【図２】電磁波シールド材を含む表示装置用フィルタを示す構成図。
【図３】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【図４】電磁波シールド材の製造工程において透明基材上にグラビア印刷された多数のドットを示す平面図。
【符号の説明】
【００６５】
１０      表示装置用フィルタ
２０      電磁波シールド材
２１      透明基材
２１ａ    隙間
２２      導電材料層
２３      金属めっき層
２５      ＰＤＰ
２６      ドット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2009194077.tif 000006