(57)【要約】【課題】プラズマ処理において、プラズマ照射部の熱を効率的に利用し、処理効率を高める。【解決手段】プラズマ照射部１０から処理位置Ｐに向けてプラズマを照射する。被処理物９を移動手段２０によって処理位置Ｐを横切るように一方向に移動させる。処理位置Ｐを挟んでプラズマ照射部１０側とは反対側に熱授受部材３０を設ける。熱授受部材３０の受熱部３０ａは、プラズマ照射部１０と対向するよう配置され、プラズマ照射部１０からの熱を受ける。この受熱部１０から前記移動方向の少なくとも上流側に放熱部３０ｂを延出する。放熱部３０ｂは、受熱部１０から伝播された熱を放射する。熱授受部材３０の裏面に凸条３２を設ける。【選択図】図１
2009194048.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物にプラズマを照射し、前記被処理物の表面を処理する装置において、
（ａ）処理位置に向けてプラズマを照射するプラズマ照射部と、
（ｂ）被処理物を前記処理位置を横切るように一方向に移動させる移動手段と、
（ｃ）前記処理位置を挟んで前記プラズマ照射部と対向するよう配置され、前記プラズマ照射部からの熱を受ける受熱部と、この受熱部から前記移動方向の少なくとも上流側に延出され、受熱部から伝播された熱を放出する放熱部とを含む熱授受部材と、
を備え、前記熱授受部材に凸条が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記凸条が、前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記熱授受部材の縁部が、折曲され、前記凸条となっていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記熱授受部材が、複数の分割板部に分割されており、各分割板部に前記凸条が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記プラズマ照射部が前記移動方向と直交する方向に延びており、
前記凸条が、前記受熱部に配置され、前記プラズマ照射部と平行に延びていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記熱授受部材には熱を伝達する媒体を通す熱媒管が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記熱媒管が、前記凸条として提供されていることを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記熱媒管が、前記受熱部から前記放熱部へ延びる伝熱管部を含むことを特徴とする請求６又は７に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に断熱材を設けたことを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物の表面に対し、親水化、撥水化、アッシング、エッチング、洗浄、成膜等のプラズマ処理を行なう装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１に記載のプラズマ処理装置にはプラズマ照射部が設けられている。プラズマ照射部は、一対の電極を有しており、これら電極どうしの間にプラズマが生成され、処理ガスがプラズマ化されるようになっている。このプラズマ化された処理ガスが被処理物に向けて噴き出され、表面処理がなされる。被処理物は、移動手段によってプラズマ照射部に対し相対移動されるようになっている。
【特許文献１】特開２００４−００６２１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
一般に、プラズマ表面処理においては被処理物の温度を高めたほうが処理効率が向上する。通常はヒータを別途設け、被処理物を加熱している。しかし、プラズマ照射部からは輻射熱や加熱された処理ガスが放出されているところ、従来その熱は利用されておらず、非効率であった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、被処理物にプラズマを照射し、前記被処理物の表面を処理する装置において、
（ａ）処理位置に向けてプラズマを照射するプラズマ照射部と、
（ｂ）被処理物を前記処理位置を横切るように一方向に移動させる移動手段と、
（ｃ）前記処理位置を挟んで前記プラズマ照射部と対向するよう配置され、前記プラズマ照射部からの熱を受ける受熱部と、この受熱部から前記移動方向の少なくとも上流側に延出され、受熱部から伝播された熱を放出する放熱部とを含む熱授受部材と、
を備えている。好ましくは、前記熱授受部材に凸条が設けられている。
これによって、プラズマ照射部の熱を利用して被処理物を処理前に予熱することができ、処理効率を高めることができる。また、熱授受部材に凸条を設けることにより、熱授受部材が熱変形を来たすのを防止ないしは抑制できる。
【０００５】
前記凸条が、前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に設けられていることが好ましい。これによって、被処理物が凸条にひっかかるのを防止できる。
【０００６】
前記熱授受部材の縁部が、折曲され、前記凸条となっていてもよい。
前記熱授受部材が、複数の分割板部に分割されており、各分割板部に前記凸条が設けられていてもよい。分割方向は、前記移動方向でもよく、前記移動方向と直交する方向でもよい。
【０００７】
前記プラズマ照射部が前記移動方向と直交する方向に延びており、前記凸条が、前記受熱部に配置され、前記プラズマ照射部と平行に延びていることが好ましい。これによって、熱授受部材の変形を確実に抑制することができる。
【０００８】
前記熱授受部材には熱を伝達する媒体を通す熱媒管が設けられていてもよい。
これによって、プラズマ照射部からの熱を熱授受部材の広い範囲に伝達することができる。
【０００９】
前記熱媒管が、前記凸条として提供されていてもよい。
この熱媒管兼凸条によって、プラズマ照射部からの熱を熱授受部材の広い範囲に伝達できるとともに、熱授受部材の熱変形を防止することができる。
【００１０】
前記熱媒管が、前記受熱部から前記放熱部へ延びる伝熱管部を含むことが好ましい。
これによって、プラズマ照射部から受熱部に付与された熱を放熱部へ確実に伝達することができ、被処理物を処理前に確実に予熱することができる。
【００１１】
前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に断熱材を設けるのが好ましい。
これによって、熱が熱授受部材の前記反対側面から放散されるのを防止でき、被処理物を確実に加熱することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、プラズマ照射部の熱を利用して被処理物を処理前に予熱することができ、処理効率を高めることができる。また、凸条によって熱授受部材が熱変形を来たすのを防止ないしは抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の第１実施形態を説明する。
図１及び図２は、被処理物９の表面（上面）をプラズマ処理する装置１を示したものである。被処理物９は、例えば大型液晶ディスプレイ用のガラス基板であるが、これに限定されるものではなく、有機フィルムや半導体ウェハなどであってもよい。処理内容は、例えば被処理物９の表面改質（親水化、撥水化等）であるが、これに限定されるものではない。
【００１４】
プラズマ処理装置１は、プラズマ照射部１０と、ローラコンベア２０（移動手段）を備えている。プラズマ照射部１０は、一対をなす高圧電極１１と接地電極１２を含んでいる。高圧電極１１は、幅方向を左右に向け、長手方向を図１の紙面と直交する前後方向（図２の左右方向）に向けた厚板状の金属で構成され、プラズマ照射部１０の内部に絶縁されて配置されている。接地電極１２は、幅方向を左右に向け、長手方向を前後に向けた金属板で構成され、プラズマ照射部１０の底部に配置されている。高圧電極１１と接地電極１２は上下に対向し、両者の間に空間１３が形成されている。これら電極１１，１２の互いの対向面には固体誘電体層（図示省略）が設けられている。固体誘電体層は、少なくとも一方の電極に設けられていればよい。
【００１５】
図１に示すように、処理ガス供給源２から処理ガス供給路２ａが延び、この供給路２ａが２つに分岐して電極間空間１３の左右両側部にそれぞれ連なっている。処理ガス供給源２は、処理目的に応じた処理ガス（例えば、Ｎ２、Ｏ２、Ｈｅ、Ａｒ、ハロゲン系ガス等）を供給路２ａを介して電極間空間１３内に供給するようになっている。
【００１６】
図２に示すように、高圧電極１１には電源３が接続されている。接地電極１２は接地線３ｂを介して電気的に接地されている。電源３から高圧電極１１への電圧供給によって電極１１，１２間に電界が印加され、大気圧近傍下でのグロー放電が発生してプラズマＰＬが生成され、電極間空間１３がプラズマ生成空間となる。このプラズマ空間１３に供給された処理ガスがプラズマ化（分解、励起、活性化、ラジカル化、イオン化等）されるようになっている。
ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡易化の観点からは、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【００１７】
接地電極１２には多数（複数）の噴出口１２ａが形成されている。これら噴出口１２ａは、接地電極１２の上面から下面へ厚さ方向に貫通している。多数の噴出口１２ａは互いに規則的（例えば碁盤目状）に整列されている。噴出口１２ａの上端部は、プラズマ空間１３に連なっている。プラズマ生成空間１３内でプラズマ化された処理ガスＧＳが噴出口１２ａを通って下方へ噴出されるようになっている。また、プラズマ生成空間１３のプラズマＰＬからの発光（熱光線）ＬＴが噴出口１２ａを通って下方へ放射されるようになっている。
【００１８】
図１及び図２に示すように、ローラコンベア２０は、フレーム２１と、複数のシャフト２２を備え、プラズマ照射部１０の下方に配置されている。シャフト２２は、軸線を前後方向に向け、その両端がフレーム２１に支持されている。複数のシャフト２２は、互いに左右に間隔を置いて平行に並べられている。各シャフト２２にはローラ２３が軸方向に間隔を置いて複数設けられている。
【００１９】
シャフト２２の上に被処理物９が配置されている。ローラコンベア２０を駆動することにより被処理物９が図１の矢印Ａにて示す方向に移動されるようになっている。この被処理物９の上面の移動軌跡上の水平面であってプラズマ照射部１０の直下にあたる領域が「処理位置Ｐ」となる。図１において、仮想線で示すように、この処理位置Ｐを被処理物９が横切るように移動されることになる。
【００２０】
図２に示すように、シャフト２２の下方には下受け台２４が水平に設けられている。下受け台２４の端部が、ブラケット２５を介してフレーム２１に支持されている。
【００２１】
図１及び図２に示すように、下受け台２４上に熱授受部材３０が設置されている。熱授受部材３０は、処理位置Ｐを挟んでプラズマ照射部１０と対向するよう配置されている。
熱授受部材３０は、熱授受板３１と、脚部３３を備えている。脚部３３の下端部が下受け台２４に支持されている。
脚部３３に代えて、支持ブラケットを熱授受板３１から水平に外側へ延出してフレーム２１に連結することにより、熱授受部材３０を支持するようにしていてもよい。
【００２２】
熱授受板３１は、幅方向を左右に向け、長手方向を前後に向けた長方形の平板状をなしている。熱授受板３１の材質は、熱の伝導及び輻射性の良好なものであることが好ましく、更にパーティクルを生じにくいものであることがより好ましい。このような材質として、例えばステンレス、チタン等の金属が挙げられるが、これに限定されるものではなく、セラミック等の絶縁性の材料を用いてもよい。
【００２３】
熱授受板３１は、処理位置Ｐの僅かに下側に離れて配置されている。熱授受板３１のローラ２３に対応する箇所には、ローラ２３を挿通するためのローラ挿通孔３１ａが形成されている。ローラ挿通孔３１ａからローラ２３が僅かに上へ突出するようになっている。
【００２４】
図１に示すように、熱授受板３１は、プラズマ照射部１０より左右に幅広になっている。図３に示すように、熱授受板３１は、プラズマ照射部１０の直下に当たる受熱部３０ａと、この受熱部３０ａの左外側（移動方向Ａの上流側）と右外側（移動方向Ａの下流側）にそれぞれ延出された放熱部３０ｂを含んでいる。
【００２５】
図２に示すように、熱授受板３１の前後長手方向の寸法は、最も外側の噴出口１２ａより前後に延出する長さであって、更に被処理物９より前後に延出する長さになっている。これにより、被処理物９を前後方向に均一に処理することができる。
熱授受板３１の前後長手方向の寸法は、プラズマ照射部１０より少し短いが、プラズマ照射部１０と略同じ長さになっていてもよく、プラズマ照射部１０より長くなっていてもよい。
【００２６】
熱授受板３１の裏面（プラズマ照射部１０側とは反対側の面）には凸条３２が設けられている。凸条３２は、熱授受板３１と一体の金属にて形成されている。図３及び図４に示すように、凸条３２は、熱授受板３１の長辺側の両外周縁に沿う凸条部３２ａと、短辺側の両外周縁に沿う凸条部３２ｂと、左右幅方向の中間部において長辺方向に延びる凸条部３２ｃと、前後長手方向の中間部において短辺方向に延びる凸条部３２ｄとを含んでいる。
【００２７】
凸条部３２ａ，３２ｂどうしは、熱授受板３１の角部において互いに直角に交差し連続している。この凸条部３２ａ，３２ｂの交差部に脚部３３が接合されている。接合手段は、溶接でもよく、ネジ止めでもよい。
なお、脚部３３は、凸条部３２ａ，３２ｂの交差部にではなく、凸条３２より内側の熱授受板３１の裏面に接合されていてもよい。
【００２８】
図１及び図２に示すように、凸条部３２ｃは、プラズマ照射部１０の左右幅方向の略中央部の直下においてプラズマ照射部１０の長手方向と平行に配置されている。凸条部３２ｄは、プラズマ照射部１０の前後長手方向の略中央部の直下においてプラズマ照射部１０の短手方向と平行に配置されている。凸条部３２ｃ，３２ｄどうしは中央部で互いに直角に交差している。
【００２９】
上記のように構成されたプラズマ処理装置１において、高圧電極１１への電圧印加によって電極間空間１３内でプラズマＰＬが生成される。このプラズマＰＬの発する熱光線ＬＴが噴出口１２ａを通って熱授受部材３０の受熱部３０ａに照射される。これにより、受熱部３０ａが輻射加熱され高温になる。また、電極間空間１３内でプラズマ化され高温化した処理ガスＧＳが噴出口１２ａを経て受熱部３０ａに吹き付けられる。これにより、受熱部３０ａが更に加熱される。受熱部３０ａの熱は左右の放熱部３０ｂへ伝わっていく。これにより、熱授受部材３０の全体が高温化する。
【００３０】
続いて、図１に示すように、ローラコンベア２０上に載せられた被処理物９が熱授受部材３０の左外側からやって来、熱授受部材３０の左側部分の上方に被さるようになる。このとき、左側（移動方向Ａの上流側）の放熱部３０ｂからの輻射熱が被処理物９に照射される。これによって、被処理物９を予熱することができる。
やがて、被処理物９がプラズマ照射部１０の直下の処理位置Ｐに位置するようになると、噴出口１２ａからのプラズマガスが被処理物９に接触する。これにより、被処理物９の表面処理がなされる。被処理物９が予熱されているため、反応を促進させることができ、処理効率を向上させることができる。また、受熱部３０ａからも輻射熱が被処理物９に照射される。これにより、被処理物９をプラズマ照射中も継続して加熱でき、反応を一層促進させ、処理効率を一層向上させることができる。さらに、処理位置Ｐを通過した被処理物９には、右側（移動方向Ａの下流側）の放熱部３０ｂからの輻射熱が照射される。これによって、被処理物９をプラズマ照射後も継続して加熱でき、十分な処理反応を確保できる。
【００３１】
熱授受部材３０には凸条３２が設けられているため、プラズマによって加熱されても、熱授受板３１が変形を来たすのを防止することができる。特に、熱授受板３１の中央部と周辺部の間に温度勾配が形成されたとしても、凸条部３２ｃによって熱授受板３１の長手方向の両端部が中央部に対し上または下に湾曲変形するのを防止できる。よって、熱授受板３１が被処理物９に衝突しないようにでき、被処理物９が損傷するのを防止することができる。また、被処理物９を均一に加熱することができる。
熱授受部材３０は構造が簡易であり、安価に製造できる。
【００３２】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
図５は、本発明の第２実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受部材３０の熱授受板３１を構成する長方形の金属板の４つの縁部が、それぞれ裏側（プラズマ照射部１０側とは反対側）へ折り曲げられ、凸条３２を構成している。これにより、熱授受部材３０を一層簡易な構造にでき、一層安価に製造できる。
なお、図５において、脚部３３の図示は省略している（以降の実施形態において同様）。
【００３３】
図６は、本発明の第３実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受部材３０が複数の分割板部３４に分割されている。ここでは、熱授受部材３０が短手方向に分割され、各分割板部３４が熱授受部材３０の長手方向に延びているが、これに限定されるものではなく、熱授受部材３０が長手方向に分割さ、各分割板部３４が熱授受部材３０の短手方向に延びていてもよい。
【００３４】
各分割板部３４に凸条３２が設けられている。凸条３２は、分割板部３４の長手方向に延びている。
各分割板部３４の所定位置にローラ挿通孔３１ａが形成されている。ローラ挿通孔３１ａは、隣り合う分割板部３４どうし間に跨るように形成されていてもよい。
隣り合う分割板部３４どうしがくっついているが、少し離れて間に隙間が形成されていてもよく、この隙間を通してローラ２３が熱授受部材３０より上側に突出されるようになっていてもよい。
【００３５】
図７は、本発明の第４実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受部材３０の熱授受板３１の裏面（下面）に、熱授受板３１と一体の凸条３２が設けられていない。これに代えて、熱授受板３１とは別体の熱媒管３５が設けられている。熱媒管３５は、熱授受板３１に例えば溶接にて固定されている。熱媒管３５の固定手段は、これに限定されるものではなく、固定金具やネジ等を用いて熱授受板３１に固定されていてもよい。熱媒管３５は、熱授受板３１の全体に行き渡るように蛇行するよう折り曲げられ、受熱部３０ａから放熱部３０ｂへ向かう伝熱管部３５ａと、放熱部３０ｂから受熱部３０ａへ向かう還管部３５ｂとを含んでいる。熱媒管３５の両端部は、熱授受板３１から外部へ引き出され、一端部には循環ポンプ４の吐出ポート４ａが接続され、他端部には吸引ポート４ｂが接続されている。
【００３６】
循環ポンプ４の駆動によって、熱媒が熱媒管３５内を循環される。これによって、熱授受部材３０の受熱部３０ａが、噴出口１２ａからの輻射熱及び処理ガスで直接加熱された後、その熱を熱媒管３５内の熱媒によって放熱部３０ｂを含む熱授受部材３０全体に十分に行き渡らせることができる。特に、伝熱管部３５ａ内において熱媒が受熱部３０ａから放熱部３０ｂへ流れることにより、受熱部３０ａの熱を放熱部３０ｂへ確実に伝えることができる。これにより、被処理物９をより十分に加熱でき、処理効率を一層高めることができる。
熱媒としては水等を用いることができる。
熱媒管３５は、凸条として機能し、熱授受板３１の変形を抑制ないし防止することができる。
【００３７】
図８は、本発明の第５実施形態を示したものである。この実施形態では、熱媒管３５が、１つの往ヘッダ管部３５ｃと、多数（複数）の伝熱管部３５ｄと、２つの還ヘッダ管部３５ｅとを有している。往ヘッダ管部３５ｃは、受熱部３０ａの中央部において前後方向に延び、プラズマ照射部１０の左右方向のちょうど中央部の直下にプラズマ照射部１０と平行に配置されている。往ヘッダ管部３５ｃの一端部に循環ポンプ４の吐出ポート４ａが接続されている。
【００３８】
往ヘッダ管部３５ｃから長手方向の等間隔置きに伝熱管部３５ｄが左右両側へ分岐されている。伝熱管部３５ｄは、受熱部３０ａから放熱部３０ｂへ延び出ている。還ヘッダ管部３５ｅは、熱授受部材３０の左右両側の縁に沿って配置されている。この還ヘッダ管部３５ｅに伝熱管部３５ｄが合流されている。還ヘッダ管部３５ｅの一端部には循環ポンプ４の吸引ポート４ｂが接続されている。
【００３９】
この第５実施形態によれば、受熱部３０ａが、プラズマ照射部１０からの輻射熱及び処理ガスで直接加熱され、この熱を往ヘッダ管部３５ｃ内の熱媒が受け取った後、この熱媒が伝熱管部３５ｄによって左右外側の放熱部３０ｂへ流れる。これによって、受熱部３０ａで受け取った熱を放熱部３０ｂへ確実に伝播させることができ、放熱部３０ｂを確実に加熱することができる。したがって、被処理物９を一層十分に加熱できる。この結果、処理効率をより一層高めることができる。
【００４０】
また、熱媒管３５が凸条として機能することは第４実施形態（図７）と同様であるが、特に、往ヘッダ管部３５が受熱部３０ａの中央部に前後長手方向に延びるように配置されることにより、熱授受板３１の長手方向の両端部が中央部に対し上または下に湾曲変形するのを防止できる。
【００４１】
図９は、本発明の第６実施形態を示したものである。この実施形態では、ポンプ４に代えてヒータ５が設けられている。また、熱媒を流通させる熱媒管３５に代えて、電熱線３６が用いられている。詳細な図示は省略するが、電熱線３６は、電流により発熱する発熱導体と、この発熱導体の外周を絶縁して被覆する絶縁被覆とを含み、固定金具等によって熱授受板３１に固定されている。電熱線３６の配線構造は図７の熱媒管３５と同様になっているが、これに限定されるものではない。
【００４２】
この第６実施形態によれば、熱授受部材３０を、プラズマ照射部１０からの熱によってだけでなくヒータ５によっても加熱することができる。しかも、電熱線３６によって、ヒータ５の熱を熱授受部材３０の全体に万遍なく行き渡らせることができる。したがって、熱授受部材３０の全体を十分に高温化できる。よって、被処理物９をより一層確実に加熱でき、処理効率をより一層高めることができる。
また、電熱線３６が凸条として機能し、熱授受部材３０の変形を抑制ないし防止することができる。
【００４３】
図１０は、本発明の第７実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受板３１の裏面に断熱材３７が設けられている。断熱材３７は、熱授受部材３０の裏面全体を覆い、熱授受部材３０の外端面をも覆っている。
断熱材としてはウレタンフォーム等の断熱性樹脂のほかセラミック等を用いることができる。
【００４４】
この第７実施形態によれば、熱授受部材３０からの熱が下方（プラズマ照射部１０側とは反対側）へ放散するのを防止でき、熱のほとんどが上方へのみ輻射されるようにでき、被処理物９を確実に輻射加熱することができる。
【００４５】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、当業者に自明の範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、凸条３２は、熱授受板３１と別体になっており、溶接やネジ止め等の固着手段にて熱授受板３１に固着されるようになっていてもよい。
凸条３２，３５，３６は、被処理物９の移動経路等と干渉しない限り、熱授受板３１から上方（プラズマ照射部１０側）へ突出されていてもよい。
熱授受部材３０は、プラズマ照射部１０よりも被処理物９の移動方向の少なくとも上流側（図１の左側）に延出していればよく、下流側にはほとんど延出していなくてもよい。熱授受部材３０の上記移動方向の上流側への延出量が上記移動方向の下流側への延出量より大きくてもよい。
２以上の実施形態を組み合わせてもよい。例えば、熱授受板３１に凸条３２と熱媒管３５の両方が設けられていてもよい。
プラズマ照射部１０の電極１１，１２どうしが、上下に対向するのに代えて、左右に対向していてもよく、これら電極１１，１２どうし間の下端部にスリット状の噴出口が連なっていてもよい。
本発明は、表面改質に限られず、洗浄、アッシング、エッチング、成膜、乾燥等の種々の表面処理に適用可能であり、大気圧近傍下でのプラズマ処理に限られず、低圧下でのプラズマ処理にも適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や半導体ウェハの製造に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の第１実施形態に係るプラズマ処理装置を、図２のＩ−Ｉ線に沿って示す正面断面図である。
【図２】上記プラズマ処理装置を、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って示す側面断面図である。
【図３】上記プラズマ処理装置の熱授受部材の底面図である。
【図４】上記熱授受部材を裏側から矢視した斜視図である。
【図５】本発明の第２実施形態を示し、熱授受部材を裏側から矢視した斜視図である。
【図６】本発明の第３実施形態を示し、熱授受部材を裏側から矢視した斜視図である。
【図７】本発明の第４実施形態を示し、熱授受部材の底面図である。
【図８】本発明の第５実施形態を示し、熱授受部材の底面図である。
【図９】本発明の第６実施形態を示し、熱授受部材の底面図である。
【図１０】本発明の第７実施形態を示し、熱授受部材の断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１      プラズマ処理装置
２      処理ガス供給源
３      電源
４      ポンプ
５      ヒータ（加熱源）
９      被処理物
１０    プラズマ照射部
１２ａ  噴出口
１３    プラズマ空間
２０    ローラコンベア（移動手段）
２３    ローラ
３０    熱授受部材
３０ａ  受熱部
３０ｂ  放熱部
３１    熱授受板
３２    凸条
３４    分割板部
３５    熱媒管（凸条）
３５ａ  伝熱管部
３５ｄ  伝熱管部
３６    電熱線（凸条）
３７    断熱材
【図１】
2009194048.tif 000003
【図２】
2009194048.tif 000004
【図３】
2009194048.tif 000005
【図４】
2009194048.tif 000006
【図５】
2009194048.tif 000007
【図６】
2009194048.tif 000008
【図７】
2009194048.tif 000009
【図８】
2009194048.tif 000010
【図９】
2009194048.tif 000011
【図１０】
2009194048.tif 000012