(57)【要約】      （修正有）【課題】短波長レーザー光照射によって情報を高密度記録再生することができ、かつ保存性の良好な光情報記録媒体の提供。【解決手段】基板上に所定の構造、組成でなる色素化合物を主体とする記録層を備える。2009066895.tif 000028一般式（Ｉ−１）中、Ｅ１及びＥ２は、共役二重結合鎖の、Ｙ１と−（Ｅ１）−並びにＹ２と−（Ｅ２）−は炭素環又は複素環の、それぞれ形成に必要な原子団。Ｘ１はＯ又はＮＲ１、Ｘ２はＯ或いは−ＮＲ２又はＮＲ３Ｒ４。Ｒ１〜Ｒ４は置換基又は水素、Ｘ及びＹは０又は１。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に色素化合物を含有する記録層を有する光情報記録媒体であって、
前記色素化合物は、下記一般式(I-1)で表される色素化合物、下記一般式(I-1)で表される化合物と該化合物の電荷を中和し得る量の対イオンとを含む色素化合物、および下記一般式(I-1)で表される化合物を配位子として含む金属錯体色素化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の色素化合物を含む光情報記録媒体。
【化１】
2009066895.tif 000027
[一般式(I-1)中、Ｅ1およびＥ2は、それぞれ独立に、共役二重結合鎖を完成するために必要な原子団を表し、ｘおよびyは、それぞれ独立に０または１を表し、Ｙ1は、C-(E1)x-Cで表される部分構造とともに炭素環または複素環を形成するために必要な原子団を表し、Ｙ2は、C=(E2)y=Cで表される部分構造とともに炭素環または複素環を形成するために必要な原子団を表し、Ｘ1はＯまたはＮＲ1を表し、Ｘ2はＯ-、-ＮＲ2またはＮＲ3Ｒ4を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に置換基または水素原子を表す。Ｒ1が置換基を表す場合、Ｒ1はＹ1とC-(E1)x-Cとによって形成される炭素環または複素環と縮環した環を形成してもよく、Ｒ2が置換基を表す場合、Ｒ2はＹ2とC=(E2)y=Cとによって形成される炭素環または複素環と縮環した環を形成してもよく、Ｒ3、Ｒ4が置換基を表す場合、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれＹ2とC=(E2)y=Cとによって形成される炭素環または複素環と縮環した環を形成してもよい。]
【請求項２】
前記基板は、少なくとも一方の面にトラックピッチ５０〜５００ｎｍのプレグルーブを有し、該プレグルーブを有する面上に前記記録層を有する請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記基板と前記記録層との間に光反射層を有する請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記基板、前記光反射層、前記記録層、バリア層、および保護層をこの順に有する請求項３に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報を記録するために使用される請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光情報記録媒体に、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報を記録する情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体および情報記録再生方法に関するものである。特に本発明は、波長４４０ｎｍ以下の短波長レーザー光を用いて情報を記録するために適したヒートモード型の光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）として、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）が知られている。その代表的な構造では、透明な円盤状基板上に有機色素を含む記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）は記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。さらに、可視レーザー光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）を記録用レーザーとして高密度記録を可能としたＤＶＤ−Ｒが実用化されている。ＤＶＤ−Ｒは、記録用レーザー光としてＣＤ−Ｒより短波長レーザー光を使用するため、ＣＤ−Ｒより高密度記録が可能である。そのため近年、ＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度まで確保している。
【０００３】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映を間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。しかし、前述のＣＤ−ＲおよびＤＶＤ−Ｒは、将来の要求に対応できるほど十分に大きな記録要領を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められている。例えば、そのような光ディスクとして、４０５ｎｍの青色レーザーを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称される光記録ディスクが上市された。例えば特許文献１〜２２には、青色レーザー等の短波長レーザー光照射による情報記録再生方法として、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を用いた光ディスクに、青色（波長４００〜４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）または青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法、オキソノール色素を記録層の色素として用いた光ディスクに、５５０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法等が提案されている。
【特許文献１】特開平１１−５３７５８号公報
【特許文献２】特開２００１−２８７４６０号公報
【特許文献３】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献４】特開２００１−２５３１７１号公報
【特許文献５】特開２００１−３９０３４号公報
【特許文献６】特開２０００−３１８３１３号公報
【特許文献７】特開２０００−３１８３１２号公報
【特許文献８】特開２０００−２８０６２１号公報
【特許文献９】特開２０００−２８０６２０号公報
【特許文献１０】特開２０００−２６３９３９号公報
【特許文献１１】特開２０００−２２２７７２号公報
【特許文献１２】特開２０００−２２２７７１号公報
【特許文献１３】特開２０００−２１８９４０号公報
【特許文献１４】特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１５】特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１６】特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１７】特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１８】特開２００２−３０１８７０号公報
【特許文献１９】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献２０】米国特許出願公開第２００２／７６６４８号明細書
【特許文献２１】特開２００３−９４８２８号公報
【特許文献２２】特開２００１−７１６３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、本発明者らの検討によれば、上記特許文献１〜２１に記載された色素を使用した光ディスクでは、短波長記録特性は依然として十分満足できるレベルでなかった。
これに対し、特許文献２２に開示されているオキソノール色素類を使用した光ディスクは、短波長記録特性はある程度のレベルを確保できるものの耐光性について更なる改善が求められていた。
一般に、ＢＤ方式の光ディスクは、レーベル面側（記録層と反対の面側）を上にして保存される。これは、ブルーレイディスクは、基板と記録層との間に光反射層を有するため、レーベル面を上にして保存すれば、室内光や自然光等は記録層に到達する前に光反射層により遮断されるからである。しかし、反射層が厚いと、反射層上のプレグルーブは、基板上のプレグルーブと比べて狭くなるため、十分な特性（変調度）を取ることが困難となる。この対策として、基板の溝が狭くなることを考慮して基板そのものの溝を広く、深くすることが考えられる。しかし、ＤＶＤ−Ｒのトラックピッチ（７２０ｎｍ）に比べて、ブルーレイディスク等の高密度記録用光ディスクでは、トラックピッチが狭い（３３０nm≧が好ましい）ため、基板上の溝を広くことは成形上望ましくない。よって、記録密度を上げるためトラックピッチを狭くしていった時に必要な溝幅を得るためには、反射率がとれる範囲で反射層厚みは薄いことが望ましい。他方、反射層を薄くすれば、反射層の光透過性が高くなるため、保存時に反射層による光遮断性は低下する。そのため、記録層の保存性を維持するためには、記録用色素として優れた耐光性を有する色素を使用する必要がある。また、反射層を薄くすれば、反射層厚みが十分厚いものに比べて反射率が低くなり、記録感度の点では不利である。そこで、記録密度を高めるため反射層を薄くするほど、色素の耐光性向上とともに、反射層が薄くなることによる感度低下を補うために記録層そのものの感度を上げることも求められる。
【０００５】
そこで本発明の目的は、短波長レーザー光、特に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって情報を高密度記録再生することができ、かつ保存性の良好な光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(I-1)で表される色素化合物、前記化合物と対イオンとにより形成される色素化合物、および前記化合物を配位子として含む金属錯体化合物が、短波長レーザー光照射による情報の記録再生特性に優れるとともに、優れた耐光性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、上記目的は、下記手段によって達成された。
[１]基板上に色素化合物を含有する記録層を有する光情報記録媒体であって、
前記色素化合物は、下記一般式(I-1)で表される色素化合物、下記一般式(I-1)で表される化合物と該化合物の電荷を中和し得る量の対イオンとを含む色素化合物、および下記一般式(I-1)で表される化合物と金属イオンまたは金属酸化物イオンを含む金属錯体色素化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の色素化合物を含む光情報記録媒体。
【化１】
2009066895.tif 000002
[一般式(I-1)中、Ｅ1およびＥ2は、それぞれ独立に、共役二重結合鎖を完成するために必要な原子団を表し、ｘおよびyは、それぞれ独立に０または１を表し、Ｙ1は、C-(E1)x-Cで表される部分構造とともに炭素環または複素環を形成するために必要な原子団を表し、Ｙ2は、C=(E2)y=Cで表される部分構造とともに炭素環または複素環を形成するために必要な原子団を表し、Ｘ1はＯまたはＮＲ1を表し、Ｘ2はＯ-、-ＮＲ2またはＮＲ3Ｒ4を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に置換基または水素原子を表す。Ｒ1が置換基を表す場合、Ｒ1はＹ1とC-(E1)x-Cとによって形成される炭素環または複素環と縮環した環を形成してもよく、Ｒ2が置換基を表す場合、Ｒ2はＹ2とC=(E2)y=Cとによって形成される炭素環または複素環と縮環した環を形成してもよく、Ｒ3、Ｒ4が置換基を表す場合、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれＹ2とC=(E2)y=Cとによって形成される炭素環または複素環と縮環した環を形成してもよい。]
[２]前記基板は、少なくとも一方の面にトラックピッチ５０〜５００ｎｍのプレグルーブを有し、該プレグルーブを有する面上に前記記録層を有する[１]に記載の光情報記録媒体。
[３]前記基板と前記記録層との間に光反射層を有する[１]または[２]に記載の光情報記録媒体。
[４]前記基板、前記光反射層、前記記録層、バリア層、および保護層をこの順に有する[３]に記載の光情報記録媒体。
[５]波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報を記録するために使用される[１]〜[４]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[６][１]〜[５]のいずれかに記載の光情報記録媒体に、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報を記録する情報記録方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、良好な記録特性を示し、かつ耐光保存性も良好な光情報記録媒体を得ることができる。特にＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの場合よりも短波長のレーザーを用いて上記効果が得られることから、より高密度の情報記録媒体および記録再生法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
[光情報記録媒体]
本発明の光情報記録媒体は、基板上に色素化合物を含有する記録層を有する。前記記録層に含まれる色素化合物は、(i)一般式(I-1)で表される色素化合物、(ii)一般式(I-1)で表される化合物と該化合物の電荷を中和し得る量の対イオンとを含む色素化合物、および(iii)一般式(I-1)で表される化合物を配位子として含む金属錯体色素化合物、からなる群から選ばれる少なくとも一種の色素化合物を含む。本発明の光情報記録媒体は、Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（ＢＤ）、ＨＤ−ＤＶＤ等の短波長レーザーにより情報の記録を行う高密度記録用光ディスクとして好適である。
上記高密度記録用光ディスクは、一般に、従来の追記型光ディスクと比べてトラックピッチが狭いという構造上の特徴を有する。また、ＢＤ構成の光ディスクは、基板上に反射層と記録層をこの順に有し、更に記録層の上に比較的薄い保護層（一般に、カバー層と呼ばれる）を有するという、従来の追記型光ディスクと異なる層構成を有する。そのため、短波長レーザー対応光情報記録媒体では、上記層構成の違いに起因し、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の従来の追記型光情報記録媒体用記録色素として使用されていた色素では、十分な記録再生特性が得られない点が課題であった。
これに対し、本発明者らは、前記色素化合物が、上記短波長レーザー対応光情報記録媒体において良好な記録再生特性を発揮し得ること、更には耐光性に優れることを新たに見出した。前記色素化合物を記録層に含む本発明の光情報記録媒体は耐光性が良好であり、更に短波長（例えば波長４４０ｎｍ以下）のレーザー光照射により、良好な記録再生特性を得ることができる。特に、本発明の光情報記録媒体は、ＢＤ構成の媒体として好適である。
以下に、本発明の光情報記録媒体について、更に詳細に説明する。
【００１０】
一般式(I-1)で表される色素化合物
【化２】
2009066895.tif 000003
【００１１】
一般式（I-1）中、Ｅ1およびＥ2は、それぞれ独立に、共役二重結合鎖を完成するために必要な原子団を表す。Ｅ1によって形成される共役二重結合鎖としては、例えば、-CH=CH-、-CH=CH-CH=CH-、-CH=C(CH3)-等を挙げることができ、Ｅ2によって形成される共役二重結合鎖としては、例えば、=CH-CH=、=CH-CH=CH-CH=、=CH-C(CH3)-等を挙げることができる。
【００１２】
ｘおよびyは、それぞれ独立に０または１を表し、好ましくは０である。
【００１３】
Ｙ1は、C-(E1)x-Cで表される部分構造とともに炭素環または複素環を形成するために必要な原子団を表し、Ｙ2は、C=(E2)y=Cで表される部分構造とともに炭素環または複素環を形成するために必要な原子団を表す。Ｙ1 に結合する［−Ｃ（＝ＮＲ）−（Ｅ1）x −Ｃ（＝Ｘ1 ）−］（以下、便宜的に、Ｗ1と称する。Ｗ1中、Ｒは一般式(I-1)中の対応する部分構造を表す。）と、Ｙ2 に結合する［−Ｃ（−ＮＲ’）＝（Ｅ2）y＝Ｃ（−Ｘ2）−］（以下、便宜的に、Ｗ2と称する。Ｗ1中、Ｒ’は一般式(I-1)中の対応する部分構造を表す。）とはそれぞれ共役状態にあるため、Ｙ1とC-(E1)x-Cで表される部分構造とにより形成される炭素環または複素環、Ｙ2とC=(E2)y=Cで表される部分構造とにより形成される炭素環または複素環は、それぞれ共鳴構造の１つとして考えられる。前記炭素環および複素環は、４〜７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることが特に好ましい。また、複素環を形成するヘテロ原子としては、ホウ素原子（Ｂ）、窒素原子（Ｎ）、酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）、セレン原子（Ｓｅ）、およびテルル原子（Ｔｅ）が好ましく、窒素原子（Ｎ）、酸素原子（Ｏ）、および硫黄原子（Ｓ）が特に好ましい。
【００１４】
前記炭素環および複素環は、それぞれ更に他の４〜７員環と縮合環を形成してもよく、またこれらは更に置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、以下のものを挙げることができる。炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、メトキシエチル基、エトキシカルボニルエチル基、シアノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ヒドロキシエチル基、クロロエチル基、アセトキシエチル基、トリフルオロメチル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルケニル基（例、ビニル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルキニル基（例、エチニル基等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニル基、４−メチルフェノル基、４−メトキシフェニル基、４−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基等）；炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）の置換もしくは無置換のアラルキル基（例、ベンジル基、カルボキシベンジル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、クロロアセチル基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルまたはアリールスルホニル基（例、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、オクタンスルフィニル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等）；炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基、４−メトキシフェニルカルボニル基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基等）；炭素数６〜１０（好ましくは炭素数１〜８）のアリールチオ基（例、フェニルチオ基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ基、エチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルキシ基、ベンゾイルオキシ基、クロロアセチルオキシ基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基（例、メチルカルバモイルオキシ基、ジエチルカルバモイルオキシ等）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基、メトキシフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ基、エチルチオカルバモイルアミノ基、メチルスルファモイルアミノ基、フェニルスルファモイルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、エチルチオカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、クロロアセチルアミノ基、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアミド基（例、アセトアミド基、アセチルメチルアミド基、アセチルオクチルアミド基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のウレイド基（例、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ジメチルウレイド基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ｔ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピロリジノカルバモイル基等）；無置換のスルファモイル基もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等）；ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）；水酸基；メルカプト基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基；スルホ基；ホスホノ基（例、ジエトキシホスホノ等）；ヘテロ環基（例、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、モルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、およびクマリン環など）。
【００１５】
一般式(I-1)中、下記部分構造：
【化３】
2009066895.tif 000004
[式中、＊は結合部位を示す。]
の具体例としては、以下のものが挙げられる。下記例示式中、Ｒａ、Ｒｂ、ＲｃおよびＲｄは、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。＊は連結部位を表す。また、一般式(I-1)中、下記部分構造：
【化４】
2009066895.tif 000005
[式中、＊は結合部位を示す。]
の具体例としては、下記例示式の共鳴構造を挙げることができる。
【００１６】
【化５】
2009066895.tif 000006
【００１７】
【化６】
2009066895.tif 000007
【００１８】
【化７】
2009066895.tif 000008
【００１９】
【化８】
2009066895.tif 000009
【００２０】
【化９】
2009066895.tif 000010
【００２１】
【化１０】
2009066895.tif 000011
【００２２】
【化１１】
2009066895.tif 000012
【００２３】
【化１２】
2009066895.tif 000013
【００２４】
【化１３】
2009066895.tif 000014
【００２５】
【化１４】
2009066895.tif 000015
【００２６】
上記例示式中、好ましい炭素環または複素環は、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１１、Ａ−１２、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７、Ａ−３６、Ａ−３９、Ａ−４１、Ａ−５４、Ａ−５７、Ａ−６５、Ａ−６６で示されるものである。更に好ましくは、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７、Ａ−５７、Ａ−６５、Ａ−６６で示されるものである。最も好ましくは、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１７、Ａ−５７、Ａ−６５で示されるものである。
【００２７】
上記例示式中、Ｒａ、Ｒｂ、ＲｃおよびＲｄは、それぞれ独立に水素原子または置換基であり、置換基としては、例えば以下のものを挙げることができる。炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、メトキシエチル基、エトキシカルボニルエチル基、シアノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ヒドロキシエチル基、クロロエチル基、アセトキシエチル基、トリフルオロメチル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルケニル基（例、ビニル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルキニル基（例、エチニル基等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニル基、４−メチルフェノル基、４−メトキシフェニル基、４−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基等）；炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）の置換もしくは無置換のアラルキル基（例、ベンジル基、カルボキシベンジル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、クロロアセチル基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルまたはアリールスルホニル基（例、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、オクタンスルフィニル基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等）；炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基、４−メトキシフェニルカルボニル基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基等）；炭素数６〜１０（好ましくは炭素数１〜８）のアリールチオ基（例、フェニルチオ基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ基、エチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルキシ基、ベンゾイルオキシ基、クロロアセチルオキシ基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ基等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基（例、メチルカルバモイルオキシ基、ジエチルカルバモイルオキシ基等）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基、メトキシフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ基、エチルチオカルバモイルアミノ基、メチルスルファモイルアミノ基、フェニルスルファモイルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、エチルチオカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、クロロアセチルアミノ基、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアミド基（例、アセトアミド基、アセチルメチルアミド基、アセチルオクチルアミド基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のウレイド基（例、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ジメチルウレイド基等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル基、ｔ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピロリジノカルバモイル基等）；無置換のスルファモイル基もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等）；ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）；水酸基；メルカプト基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基；スルホ基；ホスホノ基（例、ジエトキシホスホノ等）；ヘテロ環基（例、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、モルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、およびクマリン環など）。
【００２８】
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄはそれぞれ互いに連結して炭素環または複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、およびベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、およびピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Ｒa 、Ｒb 、Ｒc、Ｒｄで表される置換基として挙げたものを挙げることができる。
【００２９】
一般式(I-1)で表される化合物と該化合物の電荷を中和し得る量の対イオンとを含む色素化合物
一般式(I-1)で表される化合物は、対イオンを含まない状態で色素化合物として存在することもでき、該化合物の電荷を中和し得る量の対イオンを含む状態で色素化合物として存在することもできる。対イオンを含む色素化合物としては、一般式(I-1)で表される化合物と、（Ｍ）ｎで表される対イオンとを含む下記一般式(I-2)で表される色素化合物を挙げることができる。
【００３０】
【化１５】
2009066895.tif 000016
【００３１】
一般式(I-2)中、一般式(I-1)に相当する構造の詳細は先に説明した通りである。一般式(I-2)中、Ｍはカチオンまたはアニオンを表し、好ましくはカチオンである。ｎは分子全体の電荷を中和するために必要な対イオンの数を表し、例えば１〜４の範囲である。
【００３２】
Ｍがカチオンである場合、Ｍで表されるカチオンとしては、例えば、水素イオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、カルシウムイオン、鉄イオン、銅イオン等の金属イオン、金属錯体イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、セレノニウムイオン、ヨードニウムイオン等が挙げられる。好ましくは、第４級アンモニウムイオンである。
【００３３】
第４級アンモニウムは、一般に第３級アミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラメチルエチレンジアミンなど）または含窒素複素環（ピリジン環、ピコリン環、２，２´−ビピリジル環、４，４´−ビピリジル環、１，１０−フェナントロリン環、キノリン環、オキサゾール環、チアゾール環、Ｎ−メチルイミダゾール環、ピラジン環、テトラゾール環など）をアルキル化（メンシュトキン反応）、アルケニル化、アルキニル化またはアリール化することにより得ることができる。
【００３４】
Ｍで表される第４級アンモニウムイオンとしては、含窒素複素環からなる第４級アンモニウムイオンが好ましく、特に好ましくは第４級ピリジニウムイオンである。
【００３５】
以下に、一般式(I-1)で表される色素化合物および一般式(I-2)で表される色素化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
【化１６】
2009066895.tif 000017
［上記式中、＊は窒素原子との結合部位を示す。］
【００３７】
【化１７】
2009066895.tif 000018
【００３８】
金属錯体色素化合物
一般式(I-1)で表される化合物を配位子として含む金属錯体色素化合物において、一般式（Ｉ−１）の化合物が金属種と配位結合を形成する場合の配位点としては、Ｘ1、Ｘ2、およびＹ1とＹ2を連結している窒素原子のうち、少なくとも２ヶ所以上であることが好ましい。
【００３９】
一般式（Ｉ−１）で表される化合物が配位する金属種としては、一般式（Ｉ−１）で表される化合物と錯形成し得る金属イオンまたは金属酸化物イオンであればどのようなものでも可能であるが、錯体の安定性の点から、２価または３価の遷移金属イオンであることが好ましい。具体例としては、Ｎｉイオン、Ｃｕイオン、Ｃｏイオン、Ｚｎイオン、Ａｌイオン、Ｆｅイオン、Ｐｄイオン、Ｃｒイオン、Ｍｎイオンを挙げることができ、好ましくはＮｉイオン、Ｃｕイオン、Ｃｏイオン、Ｚｎイオン、Ｆｅイオンであり、特に好ましくはニッケルイオンまたは銅イオンである。なお、一般式（Ｉ−１）で表される色素化合物を配位子とする金属錯体化合物は、一般式（Ｉ−１）で表される色素化合物以外に配位子を有していてもよい。
【００４０】
以下に、前記金属錯体色素化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。各構造式中、点線で表される結合は、配位結合を意味する。
【００４１】
【化１８】
2009066895.tif 000019
【００４２】
【化１９】
2009066895.tif 000020
【００４３】
一般式(I-1)で表される色素化合物、および一般式(I-2)で表される化合物が対イオンと塩形成した一般式(I-2)で表される色素化合物は、一般に、該当する活性メチレン化合物（例として前記Ａ１〜Ａ７６に対応する酸性核）をニトロソ化し、さらにもう一当量の該当する活性メチレン化合物（例として前記Ａ１〜Ａ７６に対応する酸性核）との縮合反応によって合成することができる。具体的には、活性メチレン化合物のニトロソ化は、例えば、亜硝酸塩（例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなど）やニトロシル硫酸などを用いることができ、縮合反応は酸（例えば酢酸、塩化アンモニウム）または塩基（例えばトリエチルアミン、ピリジン）触媒や、無水酢酸などの脱水剤を用いて行うことができる。また、ニトロソ化工程と縮合反応工程はｏｎｅ−ｐｏｔで連続して行ってもよい。
【００４４】
また、一般式(I-1)で表される化合物を配位子として含む金属錯体色素化合物は、一般式(I-1)で表される化合物と金属塩（例:酢酸ニッケル、過塩素酸ニッケル、酢酸銅、塩化銅、酢酸亜鉛、酢酸コバルトなど）とを溶媒中で混合することで容易に合成することができる。この際、一般式(I-1)で表される化合物の活性水素を解離させてアニオン性の配位子とすることにより配位力を高める目的で、反応系に有機塩基（例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、キノリンなど）または無機塩基（例えば水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）を添加してもよい。
【００４５】
本発明の光情報記録媒体は、記録用色素として、(i)一般式(I-1)で表される色素化合物、(ii)一般式(I-1)で表される化合物と該化合物の電荷を中和し得る量の対イオンとを含む色素化合物、および(iii)一般式(I-1)で表される化合物を配位子として含む金属錯体色素化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の色素化合物を含み、それらを２種以上含むこともできる。また、前記色素化合物とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。前記記録層中の前記色素化合物の含有率は、記録層の全質量に対して、例えば１〜１００質量％の範囲であり、好ましくは７０〜１００質量％の範囲であり、より好ましくは８０〜１００質量％の範囲であり、最も好ましくは９０〜１００質量％の範囲である。
【００４６】
色素成分として、前記色素化合物以外の色素を使用する場合、該色素としては、例えば波長４４０ｎｍ以下の短波長領域において吸収を有するものが好ましい。そのような色素としては、特に限定されないが、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、フタロシアニン色素、オキソノール色素、シアニン色素等が挙げられる。
【００４７】
本発明の光情報記録媒体において、前記色素化合物を含む記録層は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な層である。ここで、レーザー光の照射により情報の記録が可能とは、記録層のレーザー光が照射された部分がその光学的特性を変えることをいう。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化（例えば、ピットの生成）を生じすることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り（再生）は、例えば記録用のレーザー光と同様の波長のレーザ光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。一般式(I-1)で表される色素化合物は、例えば４４０ｎｍ以下のレーザー光に対して吸収性を有するものである。このように短波長領域に吸収性を有する色素化合物を含む記録層を有する本発明の光情報記録媒体は、４０５ｎｍの青色レーザーを用いるＢｌｕ−ｒａｙ方式の光ディスクなどの短波長レーザーによる記録が可能な大容量光ディスクとして好適である。本発明の光情報記録媒体への情報の記録方法については後述する。
【００４８】
本発明の光情報記録媒体は、少なくとも前記記録層を基板上に有するものであり、更に、前記記録層に加えて光反射層、保護層などを有することもできる。
【００４９】
本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。基板としては、透明な円盤状基板を用いることが好ましい。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、一般に０．７〜２ｍｍの範囲であり、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
【００５０】
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、前記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００５１】
前記基板の記録層が形成される面には、通常、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表す凹凸（プリグルーブ）が形成されている。本発明の光情報記録媒体は、より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより狭いトラックピッチを形成した基板を用いることが好ましい。トラックピッチの好ましい範囲等の詳細は後述する。
【００５２】
本発明の光情報記録媒体の好ましい態様としては、下記態様（１）および（２）を挙げることができる。
【００５３】
態様（１）：厚さ０．７〜２ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層とを基板側から順に有する光情報記録媒体
態様（２）：厚さ０．１〜１．０ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板とを基板側から順に有する光情報記録媒体
【００５４】
態様（１）においては、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましく、態様（２）においては、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００５５】
［態様（１）の光情報記録媒体］
態様（１）の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層とを有する態様であり、いわゆるＢＤ構成の光ディスクである。態様（１）の光情報記録媒体の具体例を、図１に示す。図１に示す第１光情報記録媒体１０Ａは、第１基板１２上に、第１光反射層１８と、第１追記型記録層１４と、バリア層２０と、第１接着層または第１粘着層２２と、カバー層１６とをこの順に有する。
以下に、これらを構成する材料について順次説明する。
【００５６】
基板
態様（１）の基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、およびウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されている。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００５７】
プリグルーブのトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であり、上限値は４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。トラックピッチが５０ｎｍ以上であれば、プリグルーブを正確に形成することができる上に、クロストークの発生を回避することができ、５００ｎｍ以下であれば、高密度記録を行うことができる。
【００５８】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であり、上限値は２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、さらに記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、２５０ｎｍ以下であれば、同じく成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができる。
【００５９】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であり、上限値は１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが５ｎｍ以上であれば十分な記録変調度を得ることができ、１５０ｎｍ以下であれば、高い反射率を得ることができる。
【００６０】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°以上であれば、十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることができ、８０°以下であれば成型性が良好である。
【００６１】
追記型記録層
態様（１）の追記型記録層は、色素を、結合剤等と共にまたは結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を基板上または後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行なわれることになる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００６２】
塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００６３】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜３８℃の範囲であることが特に好ましい。
【００６４】
追記型記録層の厚さは、ランド（前記基板において凸部）上で、１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましく、４０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
また、追記型記録層の厚さは、グルーブ上（前記基板において凹部）で、２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値としては、２０ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがより好ましく、４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
更に、ランド上の追記型記録層の厚さ／グルーブ上の追記型記録層の厚さの比は、０．３以上であることが好ましく、０．４以上であることがより好ましく、０．５以上であることが更に好ましく、０．５５以上であることが特に好ましい。上限値としては、０．９未満であることが好ましく、０．８以下であることがより好ましく、０．７以下であることが更に好ましく、０．６以下であることが特に好ましい。
【００６５】
また、追記型記録層には、追記型記録層の耐光性をさらに向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号公報に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、および同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式(Ａ)で表される化合物を挙げることができる。
【００６６】
【化２０】
2009066895.tif 000021
【００６７】
一般式（Ａ）中、Ｒ21は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｑ-はアニオンを表す。
【００６８】
一般式（Ａ）において、Ｒ21は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基）、アシル基（例、アセチル基、プロピオニル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、アルケニル基（例、ビニル基）、アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ4-、ＡｓＦ6-、ＢＦ4-、およびＳｂＦ6-を挙げることができる。
【００６９】
一般式(Ａ)で表される化合物例（化合物番号Ａ−１〜Ａ−８）を下記表に示す。
【００７０】
【表１】
2009066895.tif 000022
【００７１】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００７２】
カバー層
態様（１）のカバー層は、通常、上述した追記型記録層上に、または図１に示すようにバリア層上に、接着剤や粘着剤を介して貼り合わされる。
カバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネートまたは三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録および再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【００７３】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤および／または５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータおよび３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録および再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７４】
カバー層の厚さは、記録および再生のために照射されるレーザー光の波長やＮＡにより、適宜、規定することができるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましく、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と、接着剤または粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（図１に示す態様ではハードコート層４４）が設けられていてもよい。
【００７５】
カバー層を追記型記録層またはバリア層と貼り合せるために用いられる接着剤としては、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、またはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサから被塗布面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【００７６】
接着剤は、例えば、被貼り合わせ面（例えばバリア層表面）上に、所定量塗布し、その上に、カバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。このような接着剤からなる接着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００７７】
また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができ、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【００７８】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらの イソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【００７９】
粘着剤は、被貼り合わせ面（例えばバリア層表面）上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。また、カバー層に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。このような粘着剤からなる粘着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００８０】
その他の層
態様（１）の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層が形成された側と逆側の非形成面側）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層（詳細は後述する）、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（詳細は後述する）、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、および熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
なお、上記した必須および任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
【００８１】
態様（１）の光情報記録媒体では、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。
【００８２】
光反射層は、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質を、例えば、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、２０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００８３】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属またはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌまたはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇまたはこれらの合金である。
【００８４】
バリア層（中間層）
態様（１）の光情報記録媒体においては、図１に示すように、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。
バリア層は、追記型記録層の保存性向上、追記型記録層とカバー層との接着性向上、反射率調整、熱伝導率調整等のために設けることができる。
バリア層に用いられる材料としては、記録および再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料、Ａｇ合金などの反射層材料との接触により腐食を生じない材料、湿熱環境での腐食が生じない材料を用いることが好ましく、誘電体であることが更に好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5が好ましく、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5がより好ましい。
【００８５】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましい。
バリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲が好ましく、２〜１００ｎｍの範囲がより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲が更に好ましい。
【００８６】
［態様（２）の光情報記録媒体］
態様（２）の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、保護基板とを有し、好ましくは貼り合わせ型の光情報記録媒体であり、いわゆるＨＤ−ＤＶＤと呼ばれる光ディスクである。その代表的な層構成は下記の通りである。
（１）第１の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設けた構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設けた構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設けた構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設けた構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設けた構成である。
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもよい。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
【００８７】
上記のうち、態様（２）の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板を基板側から順に有する構成を例に以下に詳細に説明をする。前記構成を有する光情報記録媒体の具体例を図２に示す。図２に示す第２光情報記録媒体１０Ｂは、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６と、第２光反射層３０と、第２接着層３２と、保護基板２８とをこの順に有する。
【００８８】
基板
態様（２）における基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、およびウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されている。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００８９】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であり、上限値は５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることが更に好ましい。トラックピッチが２００ｎｍ以上であればプリグルーブを正確に形成することができ、更にクロストークの発生を回避することができ、６００ｎｍ以下であれば、高密度記録を行うことができる。
【００９０】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であり、上限値は２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が５０ｎｍ以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、さらに記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、３００ｎｍ以下であれば、記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができ、さらに十分な変調度を得ることができる。
【００９１】
プリグルーブの溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であり、上限値は１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが３０ｎｍ以上であれば、十分な記録変調度を得ることができ、２００ｎｍ以下であれば、高い反射率を得ることができる。
【００９２】
基板の厚さは、一般に０．１〜１．０ｍｍの範囲であり、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００９３】
なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することができる。その詳細は先に説明した通りである。
【００９４】
追記型記録層
態様（２）における追記型記録層に関する詳細については、態様（１）の追記型記録層と同様である。
【００９５】
光反射層
態様（２）において、レーザー光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することができる。態様（２）の光反射層に関する詳細は、態様（１）の光反射層と同様である。
【００９６】
接着層
態様（２）では、前記光反射層と後述の保護基板との密着性を向上させるために、光反射層と保護基板の間に接着層を設けることもできる。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、中でもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。
また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【００９７】
保護基板
態様（２）における保護基板（ダミー基板）は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さは、一般に厚さ０．１〜１．０ｍｍの範囲であり、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。なお、記録層を複数有する記録媒体を作製するにあたっては、保護基板側にもプリグルーブ、追記記録層、反射層などの層を設けておいてもよい。この方式は、インバーススタック方式などと呼ばれる場合もある。保護基板側に形成される記録層については、記録再生波長が、保護基板でない側の基板に設けられた記録層と同一であってもよいし、異なってもよい。具体的には、トラックピッチや溝形状、追記記録層素材、反射層素材、下塗り層素材などの各層の素材が複数の記録層間で同一でもよいし、異なってもよい。
【００９８】
保護層
態様（２）の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【００９９】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂を用いて保護層を形成する場合には、ＵＶ硬化性樹脂をそのまままたは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することもできる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は、一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【０１００】
その他の層
態様（２）の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上記の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層の詳細については、前記態様（１）のその他の層と同様である。
【０１０１】
[情報記録方法]
更に、本発明は、基板上に記録層を有する光情報記録媒体に情報を記録する方法に関する。本発明の情報記録方法では、本発明の光情報記録媒体に対して波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより記録層へ情報を記録する。
【０１０２】
前述の好ましい態様（１）または態様（２）の光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を一定の線速度（例えば０．５〜１０ｍ／秒）または一定の角速度にて回転させながら、基板側または保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、レーザー光照射部分の光学的特性が変化して情報が記録される。図１に示す態様では、カバー層１６側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光４６を、第一対物レンズ４２（例えば開口数ＮＡが０．８５）を介して照射する。このレーザー光４６の照射により、追記型記録層１４がレーザー光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化（例えばピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。同様に、図２に示す態様では、第２基板２４側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光４６を、開口数ＮＡが例えば０．６５の第２対物レンズ４８を介して照射する。このレーザー光４６の照射により、第２追記型記録層２６がレーザー光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化（例えばピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【０１０３】
本発明においては、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報を記録することが好ましい。記録光としては、４４０ｎｍ以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられ、好ましい光源としては３９０〜４４０ｎｍ（更に好ましくは３９０〜４１５ｎｍ）の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側または保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
その他の本発明の情報記録方法の詳細は、先に本発明の光情報記録媒体について説明した通りである。
【実施例】
【０１０４】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【０１０５】
［合成例１：例示化合物（Ｂ−１）の合成］
例示化合物（Ｂ−１）を、下記スキーム（１）〜（３）に従って合成した。他の化合物も同様に合成することができる。
【０１０６】
【化２１】
2009066895.tif 000023
【０１０７】
（スキーム１の説明）
化合物１  １０．２ｇをエタノール７０ｍｌに加えた後、亜硝酸ナトリウム２．８ｇの水溶液６ｍｌを滴下した。４５分間加熱還流した後、反応液を氷冷して生じた燈色結晶を濾取した。これを希塩酸水中で中和し、化合物２  ９．４ｇを得た。
【０１０８】
（スキーム２の説明）
化合物２  ２．５ｇと化合物１  ２．２５ｇを無水酢酸１０ｍｌに加え、トリエチルアミン１．２５ｍｌを加えて６０℃で２時間撹拌した。反応液を水に開け、酢酸エチルによる抽出物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物３  ２．５ｇを得た。
【０１０９】
（スキーム３の説明）
化合物３  ２．５ｇのメタノール溶液１０ｍｌに化合物４  １．４ｇを加え、２時間加熱還流した後に室温まで冷却し、生成する結晶をろ過し、例示化合物（Ｂ−１）３．０ｇを得た。溶液吸収極大波長は４８５ｎｍ（テトラフルオロプロパノール中）であった。
【０１１０】
［合成例２：例示化合物（Ｃ−１）の合成］
例示化合物（Ｃ−１）を、下記スキームに従って合成した。
【０１１１】
【化２２】
2009066895.tif 000024
【０１１２】
合成例１で得た化合物３  ０．３ｇをメタノール３ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．０８ｍｌ、過塩素酸ニッケル六水和物０．１１ｇを加えて１時間加熱還流した。室温まで冷却し、生じる結晶を濾取、水洗いして例示化合物（Ｃ−１）  ０．４ｇを得た。同定結果を以下に示す。
ＭＳ（Ｐｏｓｉ）＝１０８８
【０１１３】
［実施例１〜２０］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：オングルーブ幅１２０ｎｍ、溝深さ：３５ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【０１１４】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０１１５】
（追記型記録層の形成）
表２に示す化合物各１ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層を形成した。形成した記録層の厚さは、グルーブ上で４５ｎｍ、ランド上で２５ｎｍであった。
【０１１６】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０１１７】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（ＺｎＯ：Ｇａ2Ｏ3＝７：３（質量比））からなる、厚さ１０ｎｍのバリア層を形成した。
【０１１８】
（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。
そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。
これにより、実施例１〜２０の光情報記録媒体が作製された。
【０１１９】
（比較例１〜４）
記録層用色素として、下記比較化合物（Ａ）〜（Ｄ）を用いた以外は、実施例１〜２０と同様な方法で光情報記録媒体を作製した。
【０１２０】
【化２３】
2009066895.tif 000025
【０１２１】
＜光情報記録媒体の評価＞
Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価
作製した光情報記録媒体にカバー層側から、ＯＫ４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２８ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（パルステックＭＳＧ２）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。記録はグルーブ上に行った。さらに作製した光情報記録媒体にカバー層側から１４万ルクスのキセノン光を２４時間照射した後に、同様の測定を行った。結果を表２に示す。ここで、（記録後の）Ｃ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、再生信号強度が十分であり、実用上好ましいことを指す。
【０１２２】
【表２】
2009066895.tif 000026
【０１２３】
上記表２の結果から、一般式(I-1)で表される色素化合物、一般式(I-1)で表される化合物が対イオンと塩形成した色素化合物、または一般式(I-1)で表される化合物を配位子として含む金属錯体色素化合物を含有する記録層を有する実施例１〜２０の記録媒体は、比較例１〜４の記録媒体に比べて高い再生信号強度を示し、さらに耐光保存性も良好であることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１２４】
本発明の光情報記録媒体は、ブルーレイ方式の光ディスク等の高密度記録用光情報記録媒体として好適である。
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明の光情報記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の光情報記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１２６】
１０Ａ…第１光情報記録媒体              １０Ｂ…第２光情報記録媒体
１２…第１基板                          １４…第１追記型記録層
１６…カバー層                          １８…第１光反射層
２０…バリア層                          ２２…第１接着層
２４…第２基板                          ２６…第２追記型記録層
２８…保護基板                          ３０…第２光反射層
３２…第２接着層                        ４４…ハードコート層
【図１】
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【図２】
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