(57)【要約】【課題】結像性能の向上が容易な位置決め装置、光学系、露光装置及び光学系の調整方法を提供する。【解決手段】光学素子２を鏡筒４内に位置決めする位置決め装置３は、光学素子２を支持する第１中間プレート１２０を位置決め部を介して第２中間プレート１２５から分割可能にし、鏡筒４の開口１６０から光学素子２、保持部１１０及び第１中間プレート１２０を一体的に出し入れ可能としている。第２中間プレート１２５を鏡筒４内に固定することによって修正加工された光学素子２を鏡筒４内に戻した際の位置再現性を向上している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子を鏡筒内に位置決めする位置決め装置であって、
前記光学素子を保持する保持部と、
前記保持部を搭載する第１中間プレートと、
前記第１中間プレートを支持する第２中間プレートと、
前記第２中間プレートを複数の軸に関して駆動し、前記鏡筒内に固定された複数の駆動部と、
前記第１中間プレートを前記第２中間プレートに対して位置決めする位置決め部と、
を有し、
前記第２中間プレートは前記複数の駆動部の端部を連結していることを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記位置決め部は、キネマチックマウント又は位置決めピンであることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記第１中間プレートを前記第２中間プレートに固定する固定部を更に有することを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記光学素子の位置を計測する位置計測部を更に有することを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の位置決め装置。
【請求項５】
各駆動部はパラレルリンク機構を有することを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか一項に記載の位置決め装置。
【請求項６】
光学素子と、当該光学素子を収納する鏡筒と、前記光学素子を前記鏡筒内で位置決めする請求項１〜５のうちいずれか一項に記載の位置決め装置と、を有することを特徴とする光学系。
【請求項７】
前記鏡筒は、前記光学素子、前記保持部及び前記第１中間プレートを一体として出し入れ可能な開口を有し、前記開口は前記位置決め装置全体を出し入れするには小さいことを特徴とする請求項６に記載の光学系。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の光学系を有する露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１０】
光学素子と、当該光学素子を収納する鏡筒と、前記光学素子を前記鏡筒内で位置決めする請求項１〜５のうちいずれか一項に記載の位置決め装置と、を有し、前記鏡筒は、前記光学素子、前記保持部及び前記第１中間プレートを一体として出し入れ可能な開口を有する光学系の調整方法であって、
前記光学系の波面収差を計測するステップと、
前記計測ステップによる計測結果に基づいて前記光学系が波面収差を設定範囲に抑えているかどうかを判断するステップと、
前記判断ステップが、前記光学系が波面収差を設定範囲に抑えていないと判断した場合に、前記鏡筒の前記開口から前記光学素子、前記保持部及び前記第１中間プレートを前記第２中間プレートと分離して一体として前記鏡筒から取り出すステップと、
前記光学素子を修正加工するステップと、
前記修正加工ステップ後に前記光学素子、前記保持部及び前記第１中間プレートを一体として前記鏡筒内の前記第２中間プレート上に戻すステップと、
前記光学素子の取り出し前とのずれ量を計測するステップと、
前記駆動部を使用して前記ずれ量を補正するステップと、
を有することを特徴とする光学系の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の位置決め装置、光学系、露光装置及び光学系の調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
原版パターンを投影光学系を介して基板に投影する露光装置には解像度の向上が益々要求されている。このため、近年では、波長の短い極紫外（ＥＵＶ）光を光源に使用するＥＵＶ露光装置も提案されている。また、投影光学系の収差やディストーションの低減も高解像度化に必要である。
【０００３】
投影光学系の収差やディストーションを低減させるために、投影光学系の光学素子を光軸（共軸）に沿って移動させたり、チルトさせたり、光軸に直交する方向に移動させたりする位置決め装置が考案されている（特許文献１）。
【０００４】
その他の特許文献としては、特許文献２と非特許文献１がある。
【特許文献１】特開２００５−２７６９３３号公報
【特許文献２】特開２００４−３２７５２９号公報
【非特許文献１】ＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮＳ  ＯＦ  ＵＬＴＲＡＰＲＥＣＩＳＩＯＮ  ＭＥＣＨＡＮＩＳＭ  ＤＥＳＩＧＮ、Ｓ．Ｔ．  Ｓｍｉｔｈ、Ｇｏｒｄｏｎ  ａｎｄ  Ｂｒｅａｃｈ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（２０００）ＩＳＢＮ：２８８１２４８４０３、５４頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１は、鏡筒全体を組立てて結像性能の検査した結果に基づいて光学素子の形状を修正加工する場合、光学素子を位置決め装置と共に鏡筒から取り出す必要がある。位置決め装置を取り出すには、鏡筒に大きな開口を設けるか、鏡筒を分割する必要があるが、前者の方法では鏡筒の剛性が低下し、外乱振動で鏡筒ひいては光学素子が振動しやすくなり、結像性能が劣化する。一方、後者の方法では、修正加工後に光学素子を鏡筒に組み戻す際に、取出し前と正確に同じ位置に光学素子を取り付けることが困難になる。この結果、組立調整により結像性能を向上しにくいという問題がある。
【０００６】
また、特許文献２には鏡筒に固定された複数の粗動駆動手段の各々の先端にキネマティックマウントを介して着脱自在に保持エレメントを保持することが記載されている。しかしながら、着脱後に再度保持エレメントを粗動駆動手段の先端に取り付けるときに、各粗動駆動手段の先端の位置関係が変化してしまい、再現性よく位置決めするのが困難であった。
【０００７】
本発明は、結像性能の向上が容易な位置決め装置、光学系、露光装置及び光学系の調整方法を提供することを例示的な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面としての位置決め装置は、光学素子を鏡筒内に位置決めする位置決め装置であって、前記光学素子を保持する保持部と、前記保持部を搭載する第１中間プレートと、前記第１中間プレートを支持する第２中間プレートと、前記第２中間プレートを複数の軸に関して駆動し、前記鏡筒内に固定された複数の駆動部と、前記第１中間プレートを前記第２中間プレートに対して位置決めする位置決め部と、を有し、前記第２中間プレートは前記複数の駆動部の端部を連結していることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、結像性能の向上が容易な位置決め装置、光学系、露光装置及び光学系の調整方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１は、本実施例の露光装置の光路図である。露光装置は、露光用の照明光としてＥＵＶ光（例えば、波長１３．４ｎｍ）を用いてステップアンドスキャン方式でレチクルなどの原版７に形成されたパターンをウエハなどの基板５に露光する投影露光装置である。なお、露光装置はステップアンドリピート方式を採用することもできる。なお、光源としてＥＵＶ光源の代わりに、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２レーザなど他の光源を用いてもよい。露光装置は、照明装置（不図示）と、原版７を載置する不図示の原版ステージと、基板５を載置する基板ステージ６と、原版パターンの像を基板５に投影する投影光学系１と、を有する。ＥＵＶ光は大気に対する透過率が低いため、少なくとも、ＥＵＶ光が通る光路中（即ち、光学系全体）は真空雰囲気となっている。
【００１１】
照明装置は、ＥＵＶ光により原版７を照明し、不図示の光源と不図示の照明光学系を有する。光源は、例えば、レーザプラズマ光源を使用する。照明光学系は原版を均一に（本実施例では円弧形状のスリットを介して）照明する。
【００１２】
原版７は、反射型であり、転写されるべき回路パターンが形成されている。原版７は、静電チャック等を用いて原版ステージに支持、固定されており、原版ステージと一体的に駆動される。原版７から発せられた回折光は、投影光学系１で反射されて基板５上に投影される。原版７と基板５とは、光学的に共役の関係に配置される。基板５は、ウエハや液晶基板などの被露光体であり、フォトレジストが塗布されている。基板ステージ６は、チャックを介して基板５を支持する。原版７と基板５は、同期走査される。
【００１３】
投影光学系１は、複数のミラー（即ち、多層膜ミラー）からなる光学素子２を用いて原版パターンを像面である基板５に縮小投影する。光学素子２は、鏡筒４内に位置決め装置３によって位置決めされる。鏡筒４は、光学素子２と位置決め装置３を収納し、その内部は真空に維持される。鏡筒４には、開口１６０及び１６２が設けられる。開口１６０は、後述するように、光学素子２、複数の保持部１１０及び第１中間プレート１２０を一体として出し入れ可能な大きさを有する。但し、位置決め装置３全体を出し入れしたり、第２中間プレート１２５及び複数の駆動部を一体的に出し入れしたりするほどの大きさは有しない。開口１６０が位置決め装置全体を出し入れするには小さい。このため、特許文献１のように、鏡筒４の剛性が低下して外乱振動で鏡筒４ひいては光学素子２が振動しやすくなり、結像性能が劣化するという問題は発生しない。また、開口１６２は露光光が通過する開口である。鏡筒４は、必要があれば、作業者が手を入れる開口を有してもよいが、開口１６０が作業者が手を入れる開口を兼ねてもよい。
【００１４】
設置される床の振動が投影光学系１に伝達しないように、鏡筒定盤９とベースフレーム８は除振機構１１を介して締結される。
【００１５】
１０は位置決め装置３の制御部である。制御部１０は、収差やアライメント情報から得られる倍率誤差などの誤差を最小化するように、及び予め記憶されたプログラムに基づいて光学素子２を調整駆動し、投影光学系１の結像性能を最適化する。
【００１６】
図２は、図１に示す投影光学系１の一部の斜視図であり、位置決め装置３の一例を示している。位置決め装置３は、光学素子２を鏡筒内に位置決めし、複数の保持部１１０、第１中間プレート１２０、第２中間プレート１２５、複数の駆動部１００、位置決め部、複数のボルト２０、位置計測部１３０（図２には不図示）、ベースプレート１４０を有する。
【００１７】
複数の（本実施例では３つ）保持部は光学素子２を保持する。保持部１１０は、光学素子２が外乱や組立によって変形するのを軽減する目的で第１中間プレート１２０と光学素子２の間に構成される。
【００１８】
図３は、保持部１１０の一例を示す斜視図である。本実施例は、図３に示すように、保持部１１０を光学素子２の周囲におよそ１２０度で配置する。保持部１１０は、光学素子２の有効領域ＥＡを遮蔽しないように光学素子２の側面に取り付けられている。保持部１１０は、Ｕ字形状の一対の固定部１１２と１１４と、固定部１１２の両側面から延びる一対の羽部１１６と、一対の羽部１１６の端部に固定された固定部１１８と、を有する。固定部１１２と１１４は互いの凹部が向かい合うように配置され、その間に光学素子２の端部を保持する。固定部１１２と１１４は、図４に示すボルト１１１ａが挿入されるボルト穴１１４ａ（固定部１１２のボルト穴は不図示）を有してボルト１１１ａによって一体に固定される。これにより、光学素子２は保持部１１０に固定される。固定部１１８は、図４に示すボルト１１１ｂが挿入されるボルト穴１１８ａを有してボルト１１１ｂによって第１中間プレート１２０の表面１２１に固定される。
【００１９】
第１中間プレート１２０は複数の保持部１１０を搭載する板状部材であり、複数の保持部１１０と光学素子２を搭載したまま鏡筒４から出し入れ可能に構成されている。第２中間プレート１２５は第１中間プレート１２０を支持する板状部材であり、鏡筒４内に固定されたベースプレート１４０に固定された駆動部１００の他端１０４に固定されている。このように、従来は単一の板状部材であった中間プレートを、本実施例では、２つに分離している。第１中間プレート１２０は鏡筒４から着脱可能であり、第２中間プレート１２５は姿勢が変位可能であるが、位置は鏡筒４内で固定されている。もし位置決め装置全体を鏡筒から出し入れすれば位置決め装置を鏡筒に再度搭載した際に位置決め装置の位置決めを行わなければならない。これに対して、本実施例は、位置決め装置３の一部である第２中間プレート１２５を鏡筒４内に位置決めすることによって、位置決め装置の位置決めを不要にしている。
【００２０】
複数のボルト（固定部）２０は、第１中間プレート１２０を第２中間プレート１２５に固定する。
【００２１】
複数の（本実施例では３つ）駆動部１００は、第２中間プレート１２５を複数の軸（本実施例では３軸と各軸周りの回転の計６軸）に関して駆動する。各駆動部１００は、６軸方向の駆動を実現するためにスチュワート・プラットフォーム型のパラレルリンク機構を使用している。駆動部１００は、可動部である、光学素子２、保持部１１０、第１中間プレート１２０、第２中間プレート１２５を複数の軸方向に位置調整することができる。光学素子２の高精度な位置調整により、投影光学系１が最適な結像性能を得ることができる。
【００２２】
各駆動部１００の（図４に示す）一端１０２は鏡筒内に固定されたベースプレート１４０に固定される。第２中間プレート１２５が複数の駆動部の姿勢を維持するので第１中間プレート１２０が第２中間プレート１２５から分離されて再搭載される際の位置決め精度を維持することができる。第２中間プレート１２５は複数の駆動部１００の端部（他端）１０４を連結している。端部１０４は図４に示されている。第２中間プレート１２５が複数の駆動部１００の端部（他端）１０４を連結しているので、複数の駆動部１００の間の位置関係又は姿勢は維持される。もし第２中間プレート１２５が複数の駆動部１００の端部１０４を連結せずに、複数の駆動部１００の端部が自由端であれば複数の駆動部１００の間の位置関係又は姿勢を維持することは困難になる。
【００２３】
位置決め部は、第１中間プレート１２０を第２中間プレート１２５に対して位置決めし、後述するキネマチックマウント及び／又は位置決めピンから構成される。
【００２４】
位置計測部１３０は、光学素子２の位置を計測するセンサであり、図７を参照して後述するように、水平方向用のセンサヘッド１３１と垂直方向用のセンサヘッド１３２とを有する。ベースプレート１４０は、鏡筒４の隔壁４ａに位置決めピン１５０を介して位置決めされてボルト２５によって固定されている。
【００２５】
投影光学系１は一旦仮組立を行って光学性能を検査し、検査に不合格であれば光学素子を取り出してその形状を調整し、再度、光学素子を搭載してから検査し、検査に合格した後に本組立となる。
【００２６】
鏡筒４から光学素子２を取り出す方法は二通りある。第一の方法は、鏡筒を分割して取り出す方法であり、第二の方法は、図２に示すように、鏡筒４に開口１６０を設け、開口１６０を通じて取り出す方法である。光学素子２は取り出し前後で、その鏡筒４内の位置が正確に同じである必要がある。位置の再現性には、光学系の敏感度にもよるが、サブミクロンより高い精度が求められる場合がある。取り出し前と異なる位置に光学素子２が戻されると、そのずれ分によって結像性能が変化するため、修正加工で得られる改善が、相殺されるか、悪くすると悪化する可能性がある。第一の方法は、光学素子２を正確に戻すことが困難な規模の作業であるため、光学素子２の取り出し方法として適切ではない。
【００２７】
一方、第二の方法を使用したとしても、光学素子２の位置再現性を維持する工夫が必要がある。このため、本実施例は、開口１６０の大きさを小さくしている。鏡筒４の開口１６０からは光学素子２だけを取り出すのが望ましいが、図３に示すように、光学素子２には、外部からの力を遮断する目的で保持部１１０が取り付けられているため、光学素子２を単体で取り出すことが困難である。そこで、中間プレートと光学素子２を一体として取り出すことが考えられる。しかし、この場合、特許文献１のような構成であると（エンドエフェクタを取ってしまうと）、個々の駆動部（特許文献１ではリンク機構４７Ａ〜Ｆ）では構造上不安定になる。このような構造上不安定な駆動部にエンドエフェクタを再度組付けた場合、位置再現性が悪化する。
【００２８】
そこで、図５に示すように、本実施例は中間プレートを二つに分離可能にしている。第１中間プレート１２０は、保持部１１０及び光学素子２と共に鏡筒４から取り出し可能となっており、第２中間プレート１２５は、駆動部１００の剛性を保つために、駆動部１００を互いに連結する役目を果たす。第１中間プレート１２０と、第２中間プレート１２５の取付け位置再現性を高精度に保証するためには、図４に示す位置決めピン１５１を使用することができる。
【００２９】
図６は、第１中間プレート１２０と第２中間プレート１２５を位置決めピン１５１による方法よりも更に高精度に位置決めするためにキネマチックマウント（Ｋｅｌｖｉｎクランプとも呼ばれる）を使用している。第１中間プレート１２０には、略等角度間隔のＶ溝１２４が設けられ、第２中間プレート１２５には三つのコーン（三角錐穴でもよい）があり、Ｖ溝１２４とコーンの間に球１２６が配置される。球１２６と接するＶ溝１２４やコーンの各面の摩擦係数ができるだけ小さくなるような表面処理（ダイヤモンドライクカーボン薄膜をつけるなど）や、環境上許容されれば潤滑剤を用いるのが好ましい。これによって接触による摩擦歪が小さくなり、高い位置決め再現性が期待できる。なおコーンやＶ溝１２４の配置関係が第１中間プレート１２０と第２中間プレート１２５で逆になってもよい。図６は第１中間プレート１２０と第２中間プレート１２５の対向する面の状況を分かりやすくするために、互いに平行でなく角度をつけて描画している。キネマチックマウントは、図６に示すＶ溝−コーンの組み合わせに限定されず、三つのＶ溝１２４の代わりに、Ｖ溝、コーン、平面を使用してもよい。キネマチックマウントの詳細、例えば、非特許文献１に記載してあるので、ここでは省略する。
【００３０】
キネマチックマウントを用いた結合方法でも、光学的な位置に対する敏感度が高い場合には、光学素子２を組み付けた後の結像性能の変化が大きく十分でないこともある。図７は図２のＡ面に沿った断面図であり、光学素子２の取り出し前後の位置を、鏡筒４を基準として計測する位置計測部（センサ）１３０のセンサヘッド１３１、１３２を示している。図７では、ベースプレート１４０に固定されたセンサヘッド１３１、１３２から、光学素子２に取り付けられたターゲットとの距離を計測する。センサとしては、例えば、静電容量タイプのものを選択すれば、サブミクロン以下の精度で光学素子２の取り出し、組み付け前後での位置ずれ量をモニタすることができる。このようなセンサは、６軸方向計測するのが望ましいが、光学敏感度に応じて計測軸数を減らしてもよい。
【００３１】
以下、図８を参照して、投影光学系１の調整方法について説明する。なお、図８において、「Ｓ」はステップを表す。まず、前提として投影光学系１を仮組立する。位置決め装置３はリモートで操作可能である。制御部１０は、結像性能の評価結果に基づいて、計算によって理想的な位置を算出し、光学素子２を駆動部１００を介して移動させ、再度結像性能計測を行い、比較的短いサイクルで調整を進めることができる。次に、投影光学系１の波面収差を計測する（Ｓ３０）。Ｓ３０は、干渉計からなる不図示の波面収差測定器を用いて、結像性能を計測し、光学素子２の相対位置などを最適化することによって行う。次に、制御部１０は、計測ステップＳ３０による計測結果に基づいて投影光学系１が波面収差を設定範囲に抑えているかどうかを判断する（Ｓ３１）。制御部１０が、投影光学系１が波面収差を設定範囲に抑えていないと判断した場合（Ｓ３１）、鏡筒４の開口１６０から光学素子２、保持部１１０及び第１中間プレート１２０を第２中間プレート１２５と分離して一体として前記鏡筒から取り出す（Ｓ３２）。
【００３２】
次に、光学素子２を修正加工する（Ｓ３３）。修正加工ステップＳ３３は、光学素子２の有効領域ＥＡの表面形状をレーザ照射などにより修正する。この時、加工機は第１中間プレート１２０をそのまま取り付けられることが好ましい。これにより、第１中間プレート１２０、光学素子２、保持部１１０の間の位置関係を維持することができる。
【００３３】
次に、修正加工ステップ後に光学素子２、保持部１１０及び前記第１中間プレート１２０を一体として鏡筒４内の第２中間プレート上に戻す（Ｓ３４）。
【００３４】
次に、制御部１０は、位置計測部１３０を使用して光学素子２の取り出し前とのずれ量を計測する（Ｓ３５）。位置計測部１３０は、静電容量タイプ以外でも絶対的な変位計測ができればよい。レーザ干渉測長器は、高精度であるが、相対的な変位測定であるので、位置決め装置３の常時サーボ制御を行うためのセンサとしてはよいが、光学素子２のずれ計測には適さない。原点信号を備えたリニアエンコーダは、高精度で絶対的な変位計側が可能であるので空間配置ができれば光学素子２の位置ずれ計測とサーボ制御のためのセンサを兼ねることができる。
【００３５】
次に、制御部１０は、駆動部１００を使用してずれ量を補正する（Ｓ３６）。これにより、光学素子２は取り出し前の位置に正確に戻ることができる。この状態で波面収差測定器によって結像性能を再計測すれば、得られた波面は光学素子２の修正加工によるものだけとなり、光学素子２の位置ずれ分を含むことはない。その結果結像性能の高い追い込みも可能となり、それに必要とされる期間も短縮することが可能となる。制御部１０は、投影光学系１が波面収差を設定範囲に抑えていると判断した場合（Ｓ３１）、調整を終了する（Ｓ３７）。この後で投影光学系１は本組立てされる。
【００３６】
本実施例では、光学素子２をその面形状修正加工のために取り出しているが、その表面に成膜をするなど別の目的で鏡筒４から取り出してもよい。光学素子２を取り出した後に行う工程によっては、保持部１１０や第１中間プレート１２０を光学素子２と分離する必要のない場合がある。この場合は、光学素子２と中間プレート１２０の位置関係にずれが生じないので、鏡筒４に付け戻す際のずれ計測は、光学素子２ではなく、第１中間プレート１２０や保持部１１０の位置を計測対象としてもよい。また、投影光学系１には、複数の位置決め装置３が搭載されているが、波面収差測定器によって調整する過程において、鏡筒４から光学素子２を取り出す必要のないものについては、鏡筒４内部のスペースの節約上、中間プレート１２０を分割可能にする必要がない。
【００３７】
本実施例は、露光装置の投影光学系に位置決め装置を適用しているが、本発明の位置決め装置は、例えば、照明装置の照明光学系など、他の光学素子に適用されてもよい。
【００３８】
露光において、不図示の照明装置の光源から放射されたＥＵＶ光は、不図示の照明装置の照明光学系によって原版７を均一に円弧照明する。原版パターンを反映するＥＵＶ光は投影光学系１により基板５に投影される。本実施例の露光装置は、投影光学系１の結像性能が図８に示すフローによって向上しており、高品位な解像性能を発揮することができる。デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、前述の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される（デバイス製造方法）。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施例の露光装置の光路図である。
【図２】図１に示す投影光学系の部分斜視図である。
【図３】図２に示す位置決め装置の保持部と光学素子の斜視図である。
【図４】図２に示す位置決め装置の斜視図である。
【図５】図４に示す位置決め装置の部分分解斜視図である。
【図６】位置決め装置の部分分解斜視図である。
【図７】図２に示すＡ面に関する断面図である。
【図８】図１に示す投影光学系の調整方法を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【００４０】
１                          投影光学系
２                          光学素子
３                          位置決め装置
４                          鏡筒  
５                          基板
７                          原版
１００                      駆動部
１１０                      保持部
１２０                      第１中間プレート
１２４                      Ｖ溝
１２５                      第２中間プレート
１２６                      球
１５１                      位置決めピン
１６０                      開口
【図１】
2009246047.tif 000003
【図２】
2009246047.tif 000004
【図３】
2009246047.tif 000005
【図４】
2009246047.tif 000006
【図５】
2009246047.tif 000007
【図６】
2009246047.tif 000008
【図７】
2009246047.tif 000009
【図８】
2009246047.tif 000010