(57)【要約】【課題】ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程の各工程で発生する欠陥のみを修正する欠陥の修正方法及びそれを用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法並びにＬＣＤ用カラーフィルタを提供することを目的とする。【解決手段】ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程の各工程で発生する欠陥のみを、紫外領域の波長を有する前記レーザー光の単位面積当りの照射エネルギー量が１０〜２００ｍＪ／ｃｍ2の範囲で、レーザー光の被照射領域の遥動速度が１μｍ／秒〜１００ｍｍ／秒の範囲でそれぞれ欠陥の種類に応じて最適条件を設定して、レーザー光を遥動させながら修正して、本発明のＬＣＤ用カラーフィルタを得る。【選択図】図１
2009009013.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー光を用いてＬＣＤ用カラーフィルタの各製造工程で発生した欠陥を修正する方法であって、
レーザー光照射面内のエネルギー強度分布の不均一性から生じる下地膜へのダメージを与えないように、レーザー光の被照射部位を遥動させながら欠陥部を修正することを特徴とする欠陥修正方法。
【請求項２】
前記レーザー光を固定し、被欠陥修正試料が載置されたステージを遥動して、レーザー光の被照射部位を遥動しながら欠陥部を修正することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正方法。
【請求項３】
被欠陥修正試料が載置された前記ステージを固定し、前記レーザー光を遥動して、レーザー光の被照射部位を遥動しながら欠陥部を修正することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正方法。
【請求項４】
前記レーザー光と被欠陥修正試料が載置された前記ステージとを遥動して、レーザー光の被照射部位を遥動しながら欠陥部を修正することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正方法。
【請求項５】
前記レーザー光の遥動速度が、１μｍ／秒〜１００ｍｍ／秒であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の欠陥修正方法。
【請求項６】
前記レーザー光が紫外領域の波長を有する第４高調波のレーザー光であり、前記レーザー光の単位面積当りの照射エネルギー量が、１０〜２００ｍＪ／ｃｍ2であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の欠陥修正方法。
【請求項７】
前記欠陥の種類に応じて、レーザー光の被照射部位の遥動速度と単位面積当りの照射エネルギー量を変えるようにしたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の欠陥修正方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の欠陥修正方法を用いて、ＬＣＤ用カラーフィルタの各製造工程で発生した欠陥部を修正しながらＬＣＤ用カラーフィルタを作製することを特徴とするＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
請求項８記載のＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法を用いて、ＬＣＤ用カラーフィルタを作製したことを特徴とするＬＣＤ用カラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光を用いてＬＣＤ用カラーフィルタの各製造工程で発生した欠陥を修正する欠陥修正方法及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法並びにカラーフィルタに関し、特に、レーザー光を遥動させながら欠陥部を修正する欠陥の修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要の増加はめざましいものがある。
このカラーカラー液晶ディスプレイに使用されるＬＣＤ用カラーフィルタは、パターン精度、分光特性、欠陥レベルに対しても高度のものが要求されている。
【０００３】
カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるＬＣＤ用カラーフィルタは、ガラス基板等の透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、スペーサー等がフォトマスクを用いたパターン露光、現像等のパターニング処理を行うフォトリソグラフィープロセスを経て形成されるのが一般的である。
【０００４】
以下ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法について説明する。
まず、透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナー等にて塗布して黒色感光性樹脂層を形成し、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス２１を形成する（図２（ａ）参照）。
【０００５】
次に、ブラックマトリクス２１が形成された透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して、赤色感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ３１Ｒを形成する（図２（ｂ）参照）。
【０００６】
次に、ブラックマトリクス２１及び赤色フィルタ３１Ｒが形成された透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して緑色感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ３２Ｇを形成する（図２（ｃ）参照）。
【０００７】
次に、ブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ及び緑色フィルタ３２Ｇが形成された透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して青色感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ３３Ｂを形成し、ブラックマトリクス２１が形成された透明基板１１上に赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び青色フィルタ３３Ｂを形成する（図２（ｄ）参照）。
【０００８】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲット等をスパッタリングして、透明基板１１上のブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び青色フィルタ３３Ｂ上に透明導電膜を成膜し、透明電極４１を形成する（図３（ｅ）参照）
次に、ブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び青色フィルタ３３Ｂが形成された透明基板１１上に、スピンナー等を用いてアクリル系のクリアレジストを塗布して感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、配向制御突起５１を形成する（図３（ｆ）参照）。
【０００９】
次に、ブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ、青色フィルタ３３Ｂ及び配向制御突起５１が形成された透明基板１１上に、スピンナー等を用いてアクリル系のクリアレジストを塗布して感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、スペーサー６１を形成し、透明基板１１上にブラックマトリクス２１と、赤色フィルタ３１Ｒと、緑色フィルタ３２Ｇと、青色フィルタ３３Ｂと、透明電極４１と、配向制御突起５１と、スペーサー６１と、が形成されたＬＣＤ用カラーフィルタを得ることができる（図３（ｇ）参照）。
ここで、カラーフィルタ基板と対向基板との間に液晶を狭持してパネル化した際、配向制御突起５１は液晶の配向を制御し、スペーサー６１は両基板間のギャップを一定化する。
【００１０】
上記ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法では、ブラックマトリクス形成工程、赤色フィルタ形成工程、緑色フィルタ形成工程、青色フィルタ形成工程、配向制御突起形成工程及びスペーサー形成工程と少なくとも７工程のフォトリソグラフィープロセスを経て形成され、各工程毎に程度の差はあれ欠陥が発生することがある。
欠陥としては、パターン周辺部に発生する残膜欠陥、パターン間に発生する異物欠陥、パターン上に発生する高さのある異物欠陥等がある。
【００１１】
パターン周辺部に発生する残膜欠陥、パターン間に発生する異物欠陥及びパターン上に発生する高さのある異物欠陥を除去する方法として、レーザー光を照射することにより、異物欠陥を除去するカラーフィルタの修正方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
これは、波長１ミクロン以下のレーザー光を照射することにより、異物欠陥近傍にあるカラーフィルタ構成物質とともに除去するもので、異物欠陥は除去するときに下地層（各色のカラーフィルタ）も同時に除去されるため、所定の欠陥部位のみを選択的に除去することは非常に難しいという問題を有している。
また、このようなレーザー光照射による異物欠陥除去方法では、レーザー光照射面内のエネルギー分布が一様にならず、その影響を受けて欠陥の除去性に差が生じ、除去残りの部分が出ることで、外観上の問題が発生し易いという問題を有している。
【００１２】
また、パターン上に発生する高さのある異物欠陥を除去、修正する方法として、テープ研磨による修正方法がある。これは、赤色フィルタ形成工程、緑色フィルタ形成工程、青色フィルタ形成工程で発生したパターン上の高さのある異物欠陥をテープ研磨で除去するもので、この方法は、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ形成工程以降の工程の配向制御突起層及びスペーサー形成工程で発生した異物欠陥には適用できないという問題を有している。
【特許文献１】特公平６−１００６８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程、例えば、ブラッククマトリクス形成工程、赤色フィルタ形成工程、緑色フィルタ形成工程、青色フィルタ形成工程、配向制御突起形成工程及びスペーサー形成工程の各工程で発生する欠陥のみを修正する欠陥の修正方法及びそれを用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法並びにＬＣＤ用カラーフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、レーザー光を用
いてＬＣＤ用カラーフィルタの各製造工程で発生した欠陥を修正する方法であって、
レーザー光照射面内のエネルギー強度分布の不均一性から生じる下地膜へのダメージを与えないように、レーザー光の被照射部位を遥動させながら欠陥部を修正することを特徴とする欠陥修正方法としたものである。
【００１５】
また、請求項２においては、前記レーザー光を固定し、被欠陥修正試料が載置されたステージを遥動して、レーザー光の被照射部位を遥動しながら欠陥部を修正することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正方法としたものである。
【００１６】
また、請求項３においては、被欠陥修正試料が載置された前記ステージを固定し、前記レーザー光を遥動して、レーザー光の被照射部位を遥動しながら欠陥部を修正することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正方法としたものである。
【００１７】
また、請求項４においては、前記レーザー光と被欠陥修正試料が載置された前記ステージとを遥動して、レーザー光の被照射部位を遥動しながら欠陥部を修正することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正方法としたものである。
【００１８】
また、請求項５においては、前記レーザー光の遥動速度が、１μｍ／秒〜１００ｍｍ／秒であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の欠陥修正方法としたものである。
【００１９】
また、請求項６においては、前記レーザー光が紫外領域の波長を有する第４高調波のレーザー光であり、前記レーザー光の単位面積当りの照射エネルギー量が、１０〜２００ｍＪ／ｃｍ2であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の欠陥修正方法としたものである。
【００２０】
また、請求項７においては、前記欠陥の種類に応じて、レーザー光の被照射部位の遥動速度と単位面積当りの照射エネルギー量を変えるようにしたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の欠陥修正方法としたものである。
【００２１】
また、請求項８においては、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の欠陥修正方法を用いて、ＬＣＤ用カラーフィルタの各製造工程で発生した欠陥部を修正しながらＬＣＤ用カラーフィルタを作製することを特徴とするＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法としたものである。
【００２２】
また、請求項９においては、請求項８記載のＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法を用いて、ＬＣＤ用カラーフィルタを作製したことを特徴とするＬＣＤ用カラーフィルタとしたものである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の欠陥修正方法は、欠陥の種類に応じて、レーザー光の被照射部位の遥動速度と単位面積当りの照射エネルギー量とを変えて、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正することにより、欠陥の種類に応じた最適の修正条件が設定できるため、下地面にダメージを与えることなく、欠陥部位のみの修正を行うことができる。
また、欠陥部位のみの修正を行うことから効率の良い欠陥修正を行うことができる。
さらに、本発明の欠陥修正方法を用いてＬＣＤ用カラーフィルタを作製することにより、ＬＣＤ用カラーフィルタの良品向上率が見込める。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図１は、本発明のＬＣＤ用カラーフィルタの一実施例を示す模式構成図である。
本発明のＬＣＤ用カラーフィルタは、ガラス等からなる透明基板１１上に、ブラックマトリクス２１と、赤色フィルタ３１Ｒと、緑色フィルタ３２Ｇと、青色フィルタ３３と、透明電極４１と、配向制御突起５１と、スペーサー６１と、が形成されおり、ブラックマトリクス形成工程、赤色フィルタ形成工程、緑色フィルタ形成工程、青色フィルタ形成工程、配向制御突起形成工程及びスペーサー形成工程の各工程で本発明の欠陥修正方法を適用して作製したＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）方式のＬＣＤ用カラーフィルタの一例である。
【００２５】
本発明の本発明の欠陥修正方法について説明する。
請求項１に係る本発明の欠陥修正方法は、レーザー光照射面内のエネルギー強度分布の不均一性から生じる下地膜へのダメージを与えないように、レーザー光を遥動させながら欠陥部を修正することを特徴とする欠陥修正方法である。
レーザー光を遥動することによりレーザー光照射面が均一になるようにして、下地面にダメージを与えることなく、欠陥部位のみを修正できるにしている。
レーザー光は、紫外領域の波長を有するレーザー光が好ましく、例えば、Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの第３高調波及び第４高調波、エキシマレーザーが好適に使用できる。
【００２６】
請求項２に係る本発明の欠陥修正方法は、レーザー光を遥動させる方法として、レーザー光を固定した状態で、被欠陥修正試料が載置されたステージを遥動して、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正するものである。
レーサ’−照射面内のエネルギーが不均一な場合、工ネルキ’一の高い領域のみで加工が進行し易く、場合によってはその領域のみで下地膜にダメージが及ぶ。
一方、エネルギーの弱い部分では、加工が進行しにくく、加工対象の残りが生じやすくなる。
ステージを揺動することによって、レーザー照射面が一定箇所に固定されず、絶えず移動するため、工ネルギーの高い領域と低い領域が交互に訪れ、上記の様な不均一な加工が生じにくくなる。
【００２７】
請求項３に係る本発明の欠陥修正方法は、欠陥修正試料が載置されたステージを固定した状態で、レーザー光を遥動して、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正するようにしたものである。
レーザー光を遥動する方法としては、ガルバノ、遥動ミラー等を用いてレーザー光を遥動する。
レーザー光自体を揺動（レーザースキャン）することによっても、加工対象に対して、エネルギーの高い領域と低い領域の両方を用いて加工を行なうため、ステージを揺動させた場合と同様の効果が得られる。
【００２８】
請求項４に係る本発明の欠陥修正方法は、レーザー光と被欠陥修正試料が載置されたステージとを遥動して、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正するようにしたものである。
レーザー光と被欠陥修正試料が載置されたステージとをともに遥動して、レーザー光の被照射領域を遥動することにより、同様の効果が得られる。
【００２９】
請求項５に係る本発明の欠陥修正方法は、レーザー光の遥動速度を、１μｍ／秒〜１００ｍｍ／秒の範囲に設定して、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正するようにしたものである。
欠陥は、有機物、無機物、欠陥部の大きさ等多岐にわたるため、欠陥の種類に応じて、最適のレーザー光の遥動速度を設定する。レーザー光の遥動速度は、１μｍ／秒〜１００ｍｍ／秒の範囲が好適である。
レーザー光の遥動速度が１μｍ／秒以下では、レーザーのＲｅｐＲａｔｅ、レーザーの照射径にもよるが、一般的に用いられるレーザーでは、1ｕｍ／ｓｅｃを下回ると均一な加工性を得にくい。また、揺動速度が遅くなると、除去時間がかかってしまう。
レーザー光の遥動速度が１００ｍｍ／秒以上では、レーザーのＲｅｐＲａｔｅ、レーザーの照射径、修正対象の面積にも依存するが、一般的に修正対象は大きくとも数百ｕｍφ程度であるため、これ以上の速度は必要ない。
【００３０】
請求項６に係る本発明の欠陥修正方法は、紫外領域の波長を有するレーザー光の単位面積当りの照射エネルギー量を、１０〜２００ｍＪ／ｃｍ2の範囲に設定して、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正するようにしたものである。
欠陥は、有機物、無機物、欠陥部の大きさ等多岐にわたるため、欠陥の種類に応じて、最適のレーザー光の単位面積当りの照射エネルギー量を設定する。レーザー光の単位面積当りの照射エネルギー量は、１０〜２００ｍＪ／ｃｍ2の範囲が好適である。
単位面積当りの照射エネルギー量が、１０ｍＪ／ｃｍ2以下では、照射エネルギー量が小さいため、加工速度が著しく遅くなるため、好ましくない。
単位面積当りの照射エネルギー量が、２００ｍＪ／ｃｍ2以上では、照射エネルギー量が大きく、下地膜へダメージを及ぼし、かえって欠陥を拡大してしまう。
【００３１】
請求項７に係る本発明の欠陥修正方法は、欠陥の種類に応じて、レーザー光の遥動速度と単位面積当りの照射エネルギー量とを変えて、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正するようにしたものである。
欠陥は、有機物、無機物、大きさ等多岐にわたるため、欠陥の種類に応じて、最適のレーザー光の遥動速度と、レーザー光のフルエンス（単位面積当りの照射エネルギー量）とを設定することにより、欠陥の種類に応じた最適の設定量ができ、かつ微調整を可能としている。
【００３２】
上記したように、本発明の欠陥修正方法は、欠陥の種類に応じて、レーザー光の遥動速度とフルエンス（単位面積当りの射エネルギー量）とを変えて、レーザー光を遥動しながら欠陥部を修正することにより、欠陥の種類に応じた最適の修正条件が設定できるため、下地面にダメージを与えることなく、欠陥部位のみの修正を行うことができる。
【００３３】
請求項８に係る本発明の欠陥修正方法を用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法は、ＬＣＤ用カラーフィルタの各製造工程で発生した欠陥部を修正しながらＬＣＤ用カラーフィルタを作製するようにしたものである。
以下、本発明の欠陥修正方法を用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法の実施例について説明する。
図２（ａ）〜（ｄ）及び図３（ｅ）〜（ｇ）は、本発明の欠陥修正方法を用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法の一実施例を工程順に示す模式構成断面図である。
【実施例１】
【００３４】
まず、透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して黒色感光性樹脂層を形成し、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス２１を形成した（図２（ａ）参照）。
ここで、工程検査を実施した結果、欠陥は発見されなかった。
【００３５】
次に、ブラックマトリクス２１が形成された透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂に赤色顔料（例えば、ジアントラキノン系顔料）を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して、赤色感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ３１Ｒを形成した（図２
（ｂ）参照）。
ここで、工程検査を実施した結果、欠陥は発見されなかった。
【００３６】
次に、ブラックマトリクス２１及び赤色フィルタ３１Ｒが形成された透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂に緑色顔料（例えば、フタロシアニングリーン系顔料）を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して緑色感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ３２Ｇを形成した（図２（ｃ）参照）。
ここで、工程検査を実施した結果、赤色フィルタ３１Ｒ上に図4に示すような大きさ１５μｍφの欠陥３２Ｇｄが発見されたので、以下に示す修正条件にて、ガルバノミラーにてレーザー光を遥動しながら欠陥の修正を行った。
修正条件
レーザー光：Ｎｄ−ＹＡＧ第４高調波
波長：２６６ｎｍ
パルス幅：６ｎｓｅｃ
レップレート：６０Ｈｚ
ショット数：７５０
フルエンス（単位面積当りの射エネルギー量）：５０ｍｊ／ｃｍ2
遥動速度：１０μｍ／Ｓｅｃ
遥動範囲：１５μｍ
上記の修正条件で赤色フィルタ３１Ｒ上の欠陥３２Ｇｄを修正した結果、下地面の赤色フィルタ３１Ｒにダメージを与えることはなかった。
【００３７】
次に、ブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ及び緑色フィルタ３２Ｇが形成された透明基板１１上にアクリル系の感光性樹脂に青色顔料（例えば、フタロシアニンブルー系顔料）を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナー等にて塗布して青色感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ３３Ｂを形成し、ブラックマトリクス２１が形成された透明基板１１上に赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び青色フィルタ３３Ｂを形成した（図２（ｄ）参照）。
ここで、工程検査を実施した結果、欠陥は発見されなかった。
【００３８】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、透明基板１１上のブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び青色フィルタ３３Ｂ上に透明導電膜を成膜し、透明電極４１を形成した（図３（ｅ）参照）
ここで、工程検査を実施した結果欠陥は発見されなかった。
【００３９】
次に、ブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び青色フィルタ３３Ｂが形成された透明基板１１上に、スピンナー等を用いてアクリル系のクリアレジストを塗布して感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、配向制御突起５１を形成した（図３（ｆ）参照）。
ここで、工程検査を実施した結果、青色フィルタ３３Ｂ上の透明電極４１上に、図５に示すような１３μｍφの欠陥５１ｄが発見されたので、以下に示す修正条件にて、ガルバノミラーにてレーザー光を遥動しながら欠陥の修正を行った。
修正条件
レーザー光：Ｎｄ−ＹＡＧ第４高調波
波長：２６６ｎｍ
パルス幅：６ｎｓｅｃ
レップレート：６０Ｈｚ
ショット数：７５０
フルエンス（単位面積当りの射エネルギー量）：５０ｍｊ／ｃｍ2
遥動速度：１０μｍ／Ｓｅｃ
遥動範囲：１３μｍ
上記の修正条件で青色フィルタ３３Ｂ上の透明電極４１上の欠陥５１ｄを修正した結果、青色フィルタ３３Ｂ及び透明電極４１にダメージを与えることはなかった。
【００４０】
次に、ブラックマトリクス２１、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ、青色フィルタ３３Ｂ及び配向制御突起５１が形成された透明基板１１上に、スピンナー等を用いてアクリル系のクリアレジストを塗布して感光性樹脂層を形成し、所定のフォトマスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、スペーサー６１を形成した。
ここで、工程検査を実施した結果、欠陥は発見されなかった。
以上の工程により、透明基板１１上にブラックマトリクス２１と、赤色フィルタ３１Ｒと、緑色フィルタ３２Ｇと、青色フィルタ３３Ｂと、透明電極４１と、配向制御突起５１と、スペーサー６１と、が形成された本発明のＬＣＤ用カラーフィルタを得ることができた（図３（ｇ）参照）。
【００４１】
上記したように、カラーフィルタ製造工程での工程検査を実施し、本発明の欠陥修正方法で欠陥を修正することにより、下地面にダメージを与えることなく、欠陥部位のみの修正を行うことができた。
さらに、本発明の欠陥修正方法を用いてＬＣＤ用カラーフィルタを作製することにより、ＬＣＤ用カラーフィルタの良品向上率が見込めるようになった。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明のＬＣＤ用カラーフィルタの一実施例を示す模式構成断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、本発明のＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法の一実施例の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【図３】（ｅ）〜（ｇ）は、本発明のＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法の一実施例の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【図４】赤色フィルタ３１Ｒ上に形成された欠陥の一例を示す説明図である。
【図５】青色フィルタ３３Ｂ１上の透明電極４１上に形成された欠陥の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４３】
１１……透明基板
２１……ブラックマトリクス
３１Ｒ……赤色フィルタ
３２Ｇ……緑色フィルタ
３２Ｇｄ、５１ｄ……欠陥
３３Ｂ……青色フィルタ
４１……透明電極
５１……配向突起
６１……スペーサー
【図１】
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【図２】
2009009013.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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