(57)【要約】【課題】基板上にリブを形成するリブ形成装置において、リブの始端部が他の部位よりも高くなることを防止する。【解決手段】リブ形成装置では、制御部によりノズル回転部４２７が制御されることにより、リブ形成時にノズル部４２１が回転軸４２６を中心として回転してノズル部４２１の姿勢（すなさち、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出方向）が変更され、リブの始端部の形成時におけるノズル部４２１の先端面と基板９の上面９１との間の角度が、始端部形成後の中間部の形成時における当該角度よりも小さくされる。これにより、始端部の形成時における吐出口の高さを中間部の形成時における吐出口の高さよりも小さくし、リブの始端部が中間部よりも高く盛り上がってしまうことを防止することができる。【選択図】図５
2009146661.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に吐出口からリブ形成材料を吐出するノズル部と、
前記吐出口からリブ形成材料が吐出される間に、前記基板の前記主面に平行かつ前記吐出口から見て吐出側へと向かう方向である移動方向に前記基板を前記吐出口に対して相対的に移動することにより、前記主面上に吐出されつつ硬化するリブ形成材料にて前記移動方向に平行なリブを形成する移動機構と、
前記吐出方向および前記移動方向に垂直な回転軸を中心として前記ノズル部を回転することにより前記吐出方向を変更する吐出方向変更部と、
前記吐出方向変更部による前記吐出方向の変更および前記ノズル部からのリブ形成材料の吐出を制御する制御部と、
を備え、
前記吐出口が設けられる前記ノズル部の先端面と前記基板の前記主面との間の角度がリブ形成時に鋭角とされ、前記先端面の下端が前記主面に近接または当接するとともに前記吐出口の下端が前記先端面の前記下端と一致し、
前記吐出方向変更部により前記ノズル部が回転される際に、前記先端面の前記下端が前記主面に近接または当接する状態が維持され、
前記制御部の制御により、前記先端面と前記主面とのなす角が、リブの始端部を形成する際に開始鋭角とされ、前記始端部が形成された後に前記開始鋭角よりも大きいリブ形成鋭角とされることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のリブ形成装置であって、
前記回転軸が前記基板の前記主面から離れており、
前記先端面と前記主面とのなす角が前記開始鋭角から前記リブ形成鋭角へと変更される際に、前記制御部により前記基板の相対移動速度が制御されることにより、前記吐出口の前記基板に対する相対移動速度が一定に維持されることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のリブ形成装置であって、
前記制御部の制御により、前記先端面と前記主面とのなす角が、前記リブの終端部を形成する際に前記リブ形成鋭角から前記リブ形成鋭角よりも小さい終了鋭角へと変更されることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項４】
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に吐出口からリブ形成材料を吐出するノズル部と、
前記吐出口からリブ形成材料が吐出される間に、前記基板の前記主面に平行かつ前記吐出口から見て吐出側へと向かう方向である移動方向に前記基板を前記吐出口に対して相対的に移動することにより、前記主面上に吐出されつつ硬化するリブ形成材料にて前記移動方向に平行なリブを形成する移動機構と、
前記吐出方向および前記移動方向に垂直な回転軸を中心として前記ノズル部を回転することにより前記吐出方向を変更する吐出方向変更部と、
前記吐出方向変更部による前記吐出方向の変更および前記ノズル部からのリブ形成材料の吐出を制御する制御部と、
を備え、
前記吐出口が設けられる前記ノズル部の先端面と前記基板の前記主面との間の角度がリブ形成時に鋭角とされ、前記先端面の下端が前記主面に近接または当接するとともに前記吐出口の下端が前記先端面の前記下端と一致し、
前記吐出方向変更部により前記ノズル部が回転される際に、前記先端面の前記下端が前記主面に近接または当接する状態が維持され、
前記制御部の制御により、前記先端面と前記主面とのなす角が、リブの終端部を形成する際にリブ形成鋭角から前記リブ形成鋭角よりも小さい終了鋭角へと変更されることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項５】
請求項４に記載のリブ形成装置であって、
前記ノズル部の前記回転軸が前記基板の前記主面から離れており、
前記先端面と前記主面とのなす角が前記リブ形成鋭角から前記終了鋭角へと変更される際に、前記制御部により前記基板の相対移動速度が制御されることにより、前記吐出口の前記基板に対する相対移動速度が一定に維持されることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記吐出口からのリブ形成材料の吐出を停止する際に、前記制御部が前記吐出方向変更部を制御することにより、前記先端面の全体が前記基板の前記主面に当接または近接することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のリブ形成装置であって、
前記基板の前記主面上に前記移動方向に沿って間隙をあけて配列された２つのリブ形成領域が設定されており、前記２つのリブ形成領域に２つのリブがそれぞれ形成される際に、前記２つのリブ形成領域の間において、前記吐出口からのリブ形成材料の吐出が停止されるとともに、前記先端面の全体が前記基板の前記主面に当接または近接した状態で前記基板が前記吐出口に対して前記移動方向に相対的に移動することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記基板の前記主面上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部をさらに備え、
前記リブ形成材料が光硬化性を有することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記ノズル部が、それぞれが前記吐出口と同形状であって前記先端面の前記下端に沿って一定のピッチにて配列された複数の吐出口を備えることを特徴とするリブ形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、プラズマ表示装置等の平面表示装置に用いられるパネルにリブを形成する方法として、サンドブラスト法（フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。）やスクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。また、近年、特許文献１に開示されているように、微細な吐出口を有するノズル部を走査しつつノズル部からペースト状のパターン形成材料を吐出してガラスの基板上に隔壁パターンを形成する方法も提案されている。
【特許文献１】特開２００４−３０９７４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、特許文献１に開示されるペースト状のパターン形成材料はチキソトロピー性（すなわち、圧力が加えられている間、粘度が低下する性質）を有するため、特許文献１のようなパターン形成装置では、吐出開始時にパターン形成材料に加えられる圧力は、その後の定常吐出時においてパターン形成材料に加えられる圧力よりも大きくする必要がある。パターン形成材料の吐出が開始されるとパターン形成材料の粘度は急速に低下するが、一方で、パターン形成材料に加えられる圧力を定常吐出時における圧力まで低下させるにはある程度時間が必要となる。
【０００４】
このため、パターンの形成開始直後において定常吐出時よりも多量のパターン形成材料が吐出されることとなり、基板上に形成された隔壁パターンにおいて、パターン形成が開始される側の端部（すなわち、始端部）が盛り上がって他の部位よりも高くなってしまう。例えば、チキソトロピー性が強いパターン形成材料の場合、隔壁パターンの始端部の高さは、他の部位の高さよりも１０％程度高くなる場合もある。その結果、隔壁パターンを挟んで当該基板上に他の基板を重ね合わせる際に、隔壁パターンの始端部近傍において、２枚の基板間の距離が所望の値よりも大きくなってしまう。
【０００５】
一方、パターン形成が終了する側の端部（すなわち、終端部）では、パターンの端部が角部を有する形状となるため、パターンが形成された基板を搬送する際や他の基板と重ね合わせる際等に生じる僅かな衝撃により、当該角部が破損してしまう場合がある。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、リブの始端部が他の部位よりも高くなることを防止すること、または、リブの終端部における損傷を防止することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に吐出口からリブ形成材料を吐出するノズル部と、前記吐出口からリブ形成材料が吐出される間に、前記基板の前記主面に平行かつ前記吐出口から見て吐出側へと向かう方向である移動方向に前記基板を前記吐出口に対して相対的に移動することにより、前記主面上に吐出されつつ硬化するリブ形成材料にて前記移動方向に平行なリブを形成する移動機構と、前記吐出方向および前記移動方向に垂直な回転軸を中心として前記ノズル部を回転することにより前記吐出方向を変更する吐出方向変更部と、前記吐出方向変更部による前記吐出方向の変更および前記ノズル部からのリブ形成材料の吐出を制御する制御部とを備え、前記吐出口が設けられる前記ノズル部の先端面と前記基板の前記主面との間の角度がリブ形成時に鋭角とされ、前記先端面の下端が前記主面に近接または当接するとともに前記吐出口の下端が前記先端面の前記下端と一致し、前記吐出方向変更部により前記ノズル部が回転される際に、前記先端面の前記下端が前記主面に近接または当接する状態が維持され、前記制御部の制御により、前記先端面と前記主面とのなす角が、リブの始端部を形成する際に開始鋭角とされ、前記始端部が形成された後に前記開始鋭角よりも大きいリブ形成鋭角とされる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のリブ形成装置であって、前記回転軸が前記基板の前記主面から離れており、前記先端面と前記主面とのなす角が前記開始鋭角から前記リブ形成鋭角へと変更される際に、前記制御部により前記基板の相対移動速度が制御されることにより、前記吐出口の前記基板に対する相対移動速度が一定に維持される。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のリブ形成装置であって、前記制御部の制御により、前記先端面と前記主面とのなす角が、前記リブの終端部を形成する際に前記リブ形成鋭角から前記リブ形成鋭角よりも小さい終了鋭角へと変更される。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に吐出口からリブ形成材料を吐出するノズル部と、前記吐出口からリブ形成材料が吐出される間に、前記基板の前記主面に平行かつ前記吐出口から見て吐出側へと向かう方向である移動方向に前記基板を前記吐出口に対して相対的に移動することにより、前記主面上に吐出されつつ硬化するリブ形成材料にて前記移動方向に平行なリブを形成する移動機構と、前記吐出方向および前記移動方向に垂直な回転軸を中心として前記ノズル部を回転することにより前記吐出方向を変更する吐出方向変更部と、前記吐出方向変更部による前記吐出方向の変更および前記ノズル部からのリブ形成材料の吐出を制御する制御部とを備え、前記吐出口が設けられる前記ノズル部の先端面と前記基板の前記主面との間の角度がリブ形成時に鋭角とされ、前記先端面の下端が前記主面に近接または当接するとともに前記吐出口の下端が前記先端面の前記下端と一致し、前記吐出方向変更部により前記ノズル部が回転される際に、前記先端面の前記下端が前記主面に近接または当接する状態が維持され、前記制御部の制御により、前記先端面と前記主面とのなす角が、リブの終端部を形成する際にリブ形成鋭角から前記リブ形成鋭角よりも小さい終了鋭角へと変更される。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のリブ形成装置であって、前記ノズル部の前記回転軸が前記基板の前記主面から離れており、前記先端面と前記主面とのなす角が前記リブ形成鋭角から前記終了鋭角へと変更される際に、前記制御部により前記基板の相対移動速度が制御されることにより、前記吐出口の前記基板に対する相対移動速度が一定に維持される。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記吐出口からのリブ形成材料の吐出を停止する際に、前記制御部が前記吐出方向変更部を制御することにより、前記先端面の全体が前記基板の前記主面に当接または近接する。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載のリブ形成装置であって、前記基板の前記主面上に前記移動方向に沿って間隙をあけて配列された２つのリブ形成領域が設定されており、前記２つのリブ形成領域に２つのリブがそれぞれ形成される際に、前記２つのリブ形成領域の間において、前記吐出口からのリブ形成材料の吐出が停止されるとともに、前記先端面の全体が前記基板の前記主面に当接または近接した状態で前記基板が前記吐出口に対して前記移動方向に相対的に移動する。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記基板の前記主面上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部をさらに備え、前記リブ形成材料が光硬化性を有する。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記ノズル部が、それぞれが前記吐出口と同形状であって前記先端面の前記下端に沿って一定のピッチにて配列された複数の吐出口を備える。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１ないし３の発明では、リブの始端部が他の部位よりも高くなることを防止するができる。また、請求項３ないし５の発明では、リブの終端部における損傷を防止することができる。さらには、請求項６および７の発明では、吐出停止後にノズル部内に残留するリブ形成材料が基板に付着することを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は本発明の一の実施の形態に係るリブ形成装置１の構成を示す図である。リブ形成装置１は、プラズマ表示装置や電界放出表示装置（Field Emission Display）等の平面表示装置用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）９上にリブ（平面表示装置の種類によっては、スペーサとも呼ばれる。）のパターンを形成する装置であり、リブが形成された基板９は他の工程を介して平面表示装置の組立部品であるパネルとなる。
【００１８】
リブ形成装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージ２０が、基板９の上側の主面９１（すなわち、（＋Ｚ）側の主面であり、以下、「上面９１」という。）に平行なＸ方向に移動可能とされる。すなわち、図１中のＸ方向が基板９の移動方向とされる。基台１１にはステージ２０を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはヘッド移動機構３を介してヘッド部４が取り付けられる。
【００１９】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ２０に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ２０がガイドレール２４に沿って主走査方向であるＸ方向に滑らかに移動する。
【００２０】
ヘッド移動機構３はフレーム１２に支持されたモータ３１、モータ３１の回転軸に接続されたボールねじ３２、および、ボールねじ３２に取り付けられたナット３３を有し、モータ３１が回転することにより、ナット３３が基板９の上面９１に平行かつ主走査方向（すなわち、Ｘ方向）に垂直なＹ方向に移動する。ナット３３にはヘッド部４のベース４０が取り付けられ、これにより、ヘッド部４が副走査方向であるＹ方向に移動可能とされる。ベース４０はフレーム１２に固定されたガイドレール３４に接続され、ガイドレール３４により滑らかに案内される。
【００２１】
ヘッド部４は、チキソトロピー性（すなわち、圧力が加えられている間、粘度が低下する性質）を有するペースト状のリブ形成材料を基板９上に吐出する吐出部４２、基板９に向けて紫外線を出射する光照射部４３、および、吐出部４２をＺ方向に移動する吐出部昇降機構４５を備え、光照射部４３および吐出部昇降機構４５はベース４０に取り付けられる。リブ形成材料は光硬化性を有し、紫外線により硬化（架橋反応）が開始する光開始剤や、バインダである樹脂、さらには、ガラスの粉体である低軟化点ガラスフリットを含む。
【００２２】
吐出部４２は、下端部（すなわち、（−Ｚ）側の端部）に設けられた複数の同形状の吐出口からリブ形成材料を吐出するノズル部４２１、および、ノズル部４２１を支持するノズル支持部４２８を備え、ノズル部４２１の複数の吐出口はＹ方向に一定のピッチにて配列される。光照射部４３は、吐出部４２の（−Ｘ）側において基板９に向かって光を出射し、各吐出口に対応する光のスポットを基板９の上面９１上に形成することにより、各吐出口から基板９の上面９１上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する。これにより、リブ形成材料は、基板９の上面９１上に吐出されつつ硬化する。
【００２３】
吐出部４２には逆止弁４４１を有する供給管４４２が取り付けられ、供給管４４２は分岐しており、一方がポンプ４４３に接続され、他方が制御弁４４４を介してリブ形成材料を貯溜するタンク４４５に接続される。光照射部４３は光ファイバ４３１を介して紫外線を発生する光源ユニット４３２に接続される。
【００２４】
図２は、ノズル部４２１の先端近傍を拡大して示す図である。図２に示すように、ノズル部４２１では、先端面４２４に設けられた各吐出口４２２へと連続する流路４２３（図２では、１つの吐出口４２２および１つの流路４２３のみに符号を付している。）が、基板９の上面９１に向かうとともに上面９１に対して傾斜する吐出方向（すなわち、ＺＸ平面に平行かつＸ方向に対して傾斜する方向）に伸びており、流路４２３および吐出口４２２を介してリブ形成材料８１が吐出方向に吐出される。
【００２５】
ノズル部４２１の先端面４２４は、吐出口４２２に連続する流路４２３に垂直とされ（すなわち、吐出方向に垂直とされ）、吐出口４２２の（−Ｚ）側の端部である下端は、先端面４２４の下端と一致する。吐出部４２では、ノズル部４２１の先端面４２４の下端が基板９の上面９１に当接しており、先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が鋭角（図２中では、４５度）とされる。換言すれば、ノズル部４２１の各吐出口４２２からのリブ形成材料８１の吐出方向（すなわち、ノズル部４２１の流路４２３の中心軸）と基板９の上面９１との間のＺＸ平面における鋭角である角度は、４５度となっている。
【００２６】
図３および図４はそれぞれ、吐出部４２を拡大して示す正面図および左側面図である。図３では、図示の都合上、ノズル支持部４２８の図示を省略している。図３および図４に示すように、吐出部４２は、（−Ｘ）側の面にノズル部４２１が固定される板状の第１ブロック４２５１、（−Ｘ）側の面に第１ブロック４２５１が取り付けられる板状の第２ブロック４２５２、および、外側面に第２ブロック４２５２が固定されるとともにノズル支持部４２８（図４参照）に回転可能に支持されるＹ方向を向く回転軸４２６を備える。図４に示すように、ノズル部４２１の先端面４２４には、複数（本実施の形態では、３０個）の吐出口４２２が、先端面４２４の下端に沿ってＹ方向に等ピッチにて配列される。また、図３および図４に示すように、ノズル部４２１の回転軸４２６は、基板９の上面９１から上方（すなわち、（＋Ｚ）側）に離れた位置に位置している。
【００２７】
第２ブロック４２５２の幅方向（すなわち、Ｙ方向）の中央には、幅方向に垂直に伸びる溝４２５３が形成されており、溝４２５３に第１ブロック４２５１の突起部４２５４が挿入されて第２ブロック４２５２の（＋Ｘ）側にて図３に示す脱落防止部材４２５５に接続されている。これにより、ノズル部４２１および第１ブロック４２５１が、第２ブロック４２５２に対して、第２ブロック４２５２の（−Ｘ）側の面に平行なスライド方向（すなわち、図４中における上下方向であり、図３中において右上と左下とを結ぶ方向）に滑らかにスライド可能とされる。また、ノズル部４２１および第１ブロック４２５１は、図示省略の弦巻バネ等の弾性部材により、基板９の上面９１に向けて軽く付勢されている。
【００２８】
図３および図４に示す吐出部４２は、ノズル部４２１、第１ブロック４２５１および第２ブロック４２５２を、Ｙ方向を向く（すなわち、基板９の移動方向およびリブ形成材料の吐出方向に垂直な方向を向く）回転軸４２６を中心として回転するノズル回転部４２７をさらに備える。ノズル回転部４２７は、図３に示すように、回転軸４２６の下側において第２ブロック４２５２の（＋Ｘ）側の面に当接するエアシリンダ４２７１、および、図３および図４に示すように、一端が第２ブロック４２５２の（−Ｘ）側の面に固定されるとともに他端がノズル支持部４２８（図４のみに示す。）に固定される２つの弾性部材４２７２（本実施の形態では、弦巻バネ）を備える。図３に示す状態では、弾性部材４２７２は伸張状態となっている。
【００２９】
吐出部４２では、図５に示すように、エアシリンダ４２７１のロッド４２７３の先端が、図５中に二点鎖線にて示す位置（すなわち、図３中に実線にて示す位置）から実線にて示す位置へと（＋Ｘ）方向に移動すると、弾性部材４２７２が収縮する。これにより、ノズル部４２１、第１ブロック４２５１および第２ブロック４２５２が回転軸４２６を中心として図５中における反時計回りに回転するとともに、ノズル部４２１および第１ブロック４２５１が第２ブロック４２５２の（−Ｘ）側の面に沿って上方へとスライドし、ノズル部４２１が図５中に二点鎖線にて示す位置（すなわち、図３中に実線にて示す位置）から実線にて示す位置へと移動する。
【００３０】
図６は、図５中において実線にて示すノズル部４２１の先端近傍を拡大して示す図である。上述のように、ノズル部４２１は基板９の上面９１に向けて付勢されているため、ノズル回転部４２７（図５参照）によりノズル部４２１が回転される際に、ノズル部４２１の先端面４２４の下端は、基板９の上面９１に当接する状態が維持される。また、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度は鋭角とされ、図６中では、３５度とされる。したがって、ノズル部４２１の各吐出口４２２からのリブ形成材料８１の吐出方向（すなわち、ノズル部４２１の流路４２３の中心軸）と基板９の上面９１との間のＺＸ平面における鋭角である角度は、５５度となっている。このように、吐出部４２では、ノズル回転部４２７によりノズル部４２１を回転することにより、ノズル部４２１からのリブ形成材料８１の吐出方向が変更される。すなわち、ノズル回転部４２７は、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出方向を変更する吐出方向変更部となっている。
【００３１】
図１に示すように、リブ形成装置１では、制御部６によりノズル回転部４２７が制御されることにより、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出方向の変更が制御される。また、制御部６によりポンプ４４３等が制御されることにより、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出が制御され、ステージ移動機構２が制御されることにより、基板９のノズル部４２１に対する相対移動が制御される。
【００３２】
次に、リブ形成装置１がリブを形成する動作について説明を行う。図７はリブ形成装置１が基板９上にリブを形成する動作の流れを示す図である。また、図８．Ａおよび図８．Ｂは、形成途上のリブを示す図であり、図９．Ａおよび図９．Ｂはそれぞれ、リブの始端部および終端部の形成時におけるノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度の変化を示す図である。また、図１０．Ａおよび図１０．Ｂはそれぞれ、リブの始端部および終端部の形成時における基板９およびノズル部４２１の吐出口４２２のＸ方向における移動速度を示す図である。なお、リブの始端部および終端部は、平面表示装置において画素を囲む隔壁としては使用されない。
【００３３】
図８．Ａおよび図８．Ｂでは、後述する第１姿勢および第２姿勢のノズル部４２１の吐出口４２２および流路４２３を二点鎖線にて併せて描いている。図９．Ａおよび図９．Ｂの横軸は、リブの形成開始時からの経過時間を示し、縦軸は、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度を示す。図１０．Ａおよび図１０．Ｂの横軸は、リブの形成開始時からの経過時間を示し、縦軸はＸ方向における速度を示す。
【００３４】
図１に示すリブ形成装置１では、外部の搬送機構により基板９が搬入されてステージ２０上に載置されると、ステージ移動機構２およびヘッド移動機構３によりノズル部４２１が基板９に対して所定の初期位置に配置される（ステップＳ１１）。このとき、ノズル部４２１は、図５および図６に示す姿勢（すなわち、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が３５度となる姿勢であり、以下、「第１姿勢」という。）となっている。また、ノズル部４２１の吐出口４２２は、基板９の（−Ｘ）側のエッジ近傍に位置している。
【００３５】
続いて、制御部６がステージ移動機構２のモータ２１を駆動制御して、吐出部４２の下方にてステージ２０を（−Ｘ）方向に移動する（すなわち、ノズル部４２１の複数の吐出口４２２から見て吐出側へと向かう移動方向に移動する）ことにより、ノズル部４２１の吐出口４２２が基板９に対して（＋Ｘ）方向に相対移動を開始する（ステップＳ１２）。
【００３６】
そして、基板９の移動開始とほぼ同時に、吐出部４２のノズル部４２１からリブ形成材料の吐出が開始される（ステップＳ１３）。吐出部４２からのリブ形成材料の吐出は、図１に示す逆止弁４４１、ポンプ４４３および制御弁４４４により行われる。まず、制御部６の制御により制御弁４４４が開放された状態でポンプ４４３が吸引動作を行う。このとき、逆止弁４４１によりリブ形成材料の逆流が阻止されるため、タンク４４５からポンプ４４３へとリブ形成材料が引き込まれる。次に、制御弁４４４が閉じられ、ポンプ４４３が押出動作を行う。これにより、吐出部４２から連続的にリブ形成材料が吐出される。リブ形成装置１では、さらに、基板９の移動開始、および、リブ形成材料の吐出開始とほぼ同時に、光照射部４３から紫外線の出射が開始される（ステップＳ１４）。
【００３７】
これにより、基板９上に吐出されたリブ形成材料には、ノズル部４２１の基板９に対する相対的な進行方向の後方に配置されている光照射部４３により紫外線が照射される。既述のように、リブ形成材料は光開始剤が添加されて光硬化性を有しており、光照射部４３からの紫外線の照射により、基板９上のリブ形成材料が容易に硬化してノズル部４２１の相対的な進行方向に伸びる高精細なリブが形成される。なお、リブ形成材料は紫外線以外の光に対する硬化性を有するものであってもよい。
【００３８】
上述のように、ノズル部４２１から吐出されるリブ形成材料はチキソトロピー性を有しており、吐出開始時におけるリブ形成材料の粘度は、リブ形成材料の吐出が連続的に行われている定常吐出状態における粘度よりも高いため、吐出開始時には定常吐出状態における圧力（本実施の形態では、約０．５メガパスカル（ＭＰａ））よりも高い圧力がリブ形成材料に加えられる。そして、リブ形成材料の吐出が開始されるとリブ形成材料の粘度は急速に低下するが、一方で、リブ形成材料に加えられる圧力を定常吐出時における圧力まで低下させるにはある程度時間が必要となる。
【００３９】
このため、リブ形成材料の吐出開始直後には、定常吐出状態よりも多量のリブ形成材料が吐出される。その結果、図８．Ａの左側に示すように、第１姿勢のノズル部４２１により形成されるリブ８２の始端部８２１（すなわち、リブの形成が開始される側の端部）において、リブ８２の高さが、吐出口４２２の高さ（すなわち、吐出口４２２の上端と下端との間のＺ方向に関する距離）よりも大きくなる。なお、リブ形成材料の吐出が定常吐出状態になると、吐出口４２２から吐出されつつ硬化するリブ形成材料により形成されるリブの高さは、吐出口４２２の高さとほぼ等しくなる。図８．Ａでは、リブ８２の高さを実際よりも大きく描いている（図８．Ｂにおいても同様）。
【００４０】
リブ形成装置１では、ステップＳ１２，Ｓ１３における基板９の移動開始およびリブ形成材料の吐出開始とほぼ同時に、制御部６によりノズル回転部４２７のエアシリンダ４２７１（図５参照）が駆動制御され（すなわち、エアシリンダ４２７１内のエアの流量が制御され）、ロッド４２７３の先端が（−Ｘ）方向に移動を開始することにより、ノズル部４２１の図５中における時計回りの回転が開始され、各吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出方向の変更が開始される（ステップＳ１５）。
【００４１】
ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度は、図９．Ａに示すように、基板９の（−Ｘ）方向への移動と並行して漸次増大し、各吐出口４２２の高さも漸次増大する。これにより、各吐出口４２２から吐出されつつ硬化するリブ８２の高さも、図８．Ａ中に矢印８２１ａにて示すように、始端部８２１よりも（＋Ｘ）側において（＋Ｘ）方向に向かうに従って漸次増大する。このとき、ノズル部４２１の先端面４２４の下端は、常に基板９の上面９１に当接した状態とされる。
【００４２】
図９．Ａに示すように、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度は、ステップＳ１５におけるノズル部４２１の回転開始から約１秒後に４５度となり、この状態で制御部６によりエアシリンダ４２７１のロッド４２７３の移動が停止される。これにより、ノズル部４２１の回転（すなわち、ノズル部４２１からのリブ形成材料８１の吐出方向の変更）が停止され、ノズル部４２１が図２および図３に示す姿勢（すなわち、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が４５度となる姿勢であり、以下、「第２姿勢」という。）にて固定される（ステップＳ１６）（図８．Ａの右側の吐出口４２２および流路４２３参照）。
【００４３】
リブ形成装置１では、ノズル部４２１の姿勢が第１姿勢から第２姿勢へと変更される際に（すなわち、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が３５度から４５度へと変更される際に）、ノズル部４２１の先端面４２４に形成された複数の吐出口４２２が、図１０．Ａ中にて符号１０１を付す破線にて示す速度にてＸ方向へと移動する。図１０．Ａでは、（＋Ｘ）方向への移動速度をプラスとして描いている（図１０．Ｂにおいても同様）。
【００４４】
また、ノズル部４２１の姿勢変更と並行して、制御部６によりステージ移動機構２が制御され、図１０．Ａ中にて符号１０２を付す実線にて示すように、基板９の（−Ｘ）方向への移動速度の絶対値が大きくなるように制御される。このように、制御部６によりノズル部４２１の吐出口４２２に対する基板９の相対移動速度が制御されることにより、吐出口４２２の基板９に対するＸ方向における相対移動速度（図１０．Ａ中において符号１０３を付す二点鎖線にて示す。）が一定に維持される。
【００４５】
リブ形成装置１では、ノズル部４２１が第２姿勢にて固定された後も、ノズル部４２１の複数の吐出口４２２からリブ形成材料が吐出される間に、基板９が（−Ｘ）方向に吐出口４２２に対して相対的に移動することにより、図８．Ａに示すように、Ｘ方向に平行なリブ８２の形成が連続して行われる。このときの基板９の移動速度は秒速約５ｍｍとされる。以下の説明では、リブ８２の始端部８２１（すなわち、図８．Ａにおいてリブ８２の（−Ｘ）側の端部にて盛り上がっている部位）近傍の高さが変化している部位と後述する終端部８２３（図８．Ｂ参照）との間の部位を中間部８２２と呼ぶ。リブ８２の中間部８２２の高さは一定であり、第２姿勢のノズル部４２１における吐出口４２２の高さとほぼ等しい。
【００４６】
リブ形成材料の吐出が続けられ、基板９上におけるリブ８２の中間部８２２の形成終了位置（すなわち、図８．Ｂに示すリブ８２の終端部８２３の形成開始位置）がノズル部４２１の吐出口４２２の真下に達すると、制御部６によりノズル回転部４２７のエアシリンダ４２７１（図５参照）が駆動制御され、ロッド４２７３の先端が（＋Ｘ）方向に移動を開始することにより、ノズル部４２１の図５中における反時計回りの回転が開始され、各吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出方向の変更が開始される（ステップＳ１７）。
【００４７】
ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度は、図９．Ｂに示すように、基板９の（−Ｘ）方向への移動と並行して漸次減少し、各吐出口４２２の高さも漸次減少する。これにより、リブ８２の終端部８２３の高さも、図８．Ｂに示すように、（＋Ｘ）方向に向かうに従って漸次減少する。このとき、ノズル部４２１の先端面４２４の下端は、常に基板９の上面９１に当接した状態とされる。
【００４８】
図９．Ｂに示すように、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度は、ステップＳ１７におけるノズル部４２１の回転開始から約１秒後に３５度となり、この状態でノズル部４２１の回転が停止される。これにより、ノズル部４２１からのリブ形成材料８１の吐出方向の変更が停止され、ノズル部４２１が図５および図６に示す第１姿勢となる（ステップＳ１８）。
【００４９】
リブ形成装置１では、ノズル部４２１の姿勢が第２姿勢から第１姿勢へと変更される際に（すなわち、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が４５度から３５度へと変更される際に）、ノズル部４２１の先端面４２４に形成された複数の吐出口４２２が、図１０．Ｂ中にて符号１０１を付す破線にて示す速度にて（＋Ｘ）方向へと移動する。
【００５０】
また、ノズル部４２１の姿勢変更と並行して、制御部６によりステージ移動機構２が制御され、図１０．Ｂ中にて符号１０２を付す実線にて示すように、基板９の（−Ｘ）方向への移動速度の絶対値が小さくなるように制御される。このように、制御部６によりノズル部４２１の吐出口４２２に対する基板９の相対移動速度が制御されることにより、吐出口４２２の基板９に対するＸ方向における相対移動速度（図１０．Ｂ中において符号１０３を付す二点鎖線にて示す。）が一定に維持される。
【００５１】
ノズル部４２１からのリブ形成材料８１の吐出方向の変更が停止されてノズル部４２１が第１姿勢にて固定されると、リブ８２の終端部８２３の硬化を行うために基板９がさらに僅かな距離だけ（−Ｘ）方向に移動した後、制御部６の制御により光照射部４３からの紫外線の出射が停止される（ステップＳ１９）。そして、制御部６の制御により、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出が停止され（ステップＳ２０）、ほぼ同時に基板９の移動も停止される（ステップＳ２１）。
【００５２】
このようにして、基板９上に複数（本実施の形態では、３０本）のリブが形成されると、制御部６によりヘッド移動機構３が駆動制御されてヘッド部４が副走査方向（すなわち、Ｙ方向）に所定の距離だけ移動し、基板９が初期位置へと移動された後、上記ステップＳ１１〜Ｓ２１が繰り返されることにより、副走査方向に関して基板９上の広範囲に亘って多数のリブが形成される。
【００５３】
以上の工程にて形成されたリブは他の工程において焼成され、リブ形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着する。そして、適宜、他の必要な工程を経て平面表示装置の組立部品であるパネルが完成する。
【００５４】
以上に説明したように、リブ形成装置１では、リブ形成時に、制御部６の制御によりノズル部４２１の姿勢（すなさち、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出方向）が変更され、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が、リブ８２の始端部８２１を形成する際に３５度とされ、始端部８２１が形成された後の中間部８２２の形成時に４５度とされる。このように、リブ８２の始端部８２１の形成時におけるノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度を、リブ８２の中間部８２２の形成時における当該角度よりも小さくすることにより、始端部８２１の形成時における吐出口４２２の高さを中間部８２２の形成時における吐出口４２２の高さよりも小さくし、図８．Ａに示すように、リブ８２の始端部８２１が中間部８２２よりも高く盛り上がってしまうことを防止することができる。
【００５５】
例えば、第２姿勢におけるノズル部４２１の吐出口４２２の高さが約０．２３ｍｍであるとすると、リブ８２の中間部８２２の高さも約０．２３ｍｍとなり、第１姿勢における吐出口４２２の高さは約０．１９ｍｍとなる。したがって、リブ８２の始端部８２１の形成時に、リブ形成材料が定常吐出時よりも多量に吐出されて始端部８２１が吐出口４２２の高さよりも仮に１０％程度高く盛り上がったとしても、始端部８２１の高さは約０．２１ｍｍであり、中間部８２２よりも低くなる。
【００５６】
また、仮に、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が３５度（第１姿勢）から４０度まで変更される間に始端部８２１が形成されるとした場合であっても、当該角度が４０度のときの吐出口４２２の高さは約０．２１ｍｍであり、始端部８２１の高さは吐出口４２２の高さの１１０％（すなわち、約０．２３ｍｍ）以下となるため、始端部８２１が中間部８２２よりも高く盛り上がってしまうことが防止される。
【００５７】
リブ形成装置１では、また、制御部６の制御により、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が、リブ８２の終端部８２３を形成する際に４５度から３５度へと変更される。これにより、リブ８２の終端部８２３の高さを中間部８２２から離れるに従って漸次減少させて終端部８２３を滑らかな形状とすることができる。その結果、終端部が角部を有する形状となっているリブに比べて、基板搬送時の衝撃等によるリブ８２の終端部８２３の損傷を防止することができる。
【００５８】
ここで、リブ８２の始端部８２１の形成開始時におけるノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度（本実施の形態では、３５度）を「開始鋭角」と呼び、リブ８２の中間部８２２の形成時、および、終端部８２３の形成終了時における当該角度（本実施の形態では、それぞれ４５度および３５度）をそれぞれ「リブ形成鋭角」および「終了鋭角」と呼ぶと、リブ形成装置１では、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が、リブ８２の始端部８２１を形成する際に開始鋭角とされ、始端部８２１が形成された後に開始鋭角よりも大きいリブ形成鋭角とされることにより、リブ８２の始端部８２１が中間部８２２よりも高く盛り上がってしまうことを防止することができる。
【００５９】
また、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が、リブ８２の終端部８２３を形成する際にリブ形成鋭角から終了鋭角へと変更されることにより、終端部８２３を滑らかな形状として終端部８２３の損傷を防止することができる。なお、上記実施の形態では、開始鋭角および終了鋭角が共に３５度とされるが、開始鋭角と終了鋭角とは異なる角度とされてもよい。
【００６０】
リブ形成装置１では、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が開始鋭角（３５度）からリブ形成鋭角（４５度）へと変更される際に、基板９の移動速度が制御されることにより、ノズル部４２１の吐出口４２２の基板９に対する相対移動速度が一定に維持される。これにより、リブ８２の始端部８２１および始端部８２１と中間部８２２との間の部位の合計長さを、容易に所望の長さとすることができる。また、リブ８２の単位長さ当たりのリブ形成材料の量が、リブ８２の始端部８２１、および、始端部８２１と中間部８２２との間の部位の形成時と、リブ８２の中間部８２２の形成時とで等しくされる。その結果、リブ８２を安定して形成することができる。
【００６１】
また、リブ形成装置１では、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度がリブ形成鋭角（４５度）から終了鋭角（３５度）へと変更される際にも、基板９の移動速度が制御されることにより、ノズル部４２１の吐出口４２２の基板９に対する相対移動速度が一定に維持される。これにより、リブ８２の終端部８２３の長さを、容易に所望の長さとすることができる。また、リブ８２の単位長さ当たりのリブ形成材料の量が、リブ８２の中間部８２２の形成時と終端部８２３の形成時とで等しくされることにより、リブ８２をより安定して形成することができる。
【００６２】
上述のように、リブ形成装置１では、ノズル部４２１から吐出された光硬化性を有するリブ形成材料に光照射部４３から光が照射されることにより、リブ形成材料が迅速に硬化してリブが形成される。これにより、リブを迅速かつ容易に形成することができる。また、ノズル部４２１に複数の吐出口４２２が形成されることにより、複数のリブを迅速に形成することができ、基板９上へのリブの形成効率を向上することができる。
【００６３】
次に、上面上に２つのリブ形成領域が設定された基板に対するリブ形成装置１によるリブの形成について説明する。図１１は、２つのリブ形成領域９２を有する基板９ａを示す平面図であり、図１２．Ａおよび図１２．Ｂは、基板９ａに対するリブの形成の流れを示す図である。また、図１３および図１４はそれぞれ、基板９ａに対するリブ形成途上における吐出部４２を示す正面図および左側面図である。図１１に示すように、基板９ａの上面９１上では、２つのリブ形成領域９２がＸ方向（すなわち、リブ形成装置１における主走査方向）に沿って間隙をあけて配列されている。
【００６４】
リブ形成装置１では、図１１に示すように、基板９ａの２つのリブ形成領域９２にそれぞれ複数のリブ８２が形成され、２つのリブ形成領域９２間の間隙部９３にはリブは形成されない。リブ８２が形成された基板９ａからは２枚の平面表示装置用パネルが製造される。なお、図１１では、図示の都合上、各リブ８２のＹ方向の幅、および、隣接するリブ８２間のＹ方向の距離を実際よりも大きく描いている。
【００６５】
図１に示すリブ形成装置１により、基板９ａに対してリブ８２の形成が行われる際には、上記と同様に、基板９ａがステージ２０上に載置され、基板９ａの（−Ｘ）方向への移動が開始されるとともにノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出が開始される（ステップＳ３１〜Ｓ３３）。
【００６６】
続いて、基板９ａの移動開始、および、リブ形成材料の吐出開始とほぼ同時に、光照射部４３からの紫外線の出射が開始されるとともにノズル回転部４２７によるノズル部４２１の回転（すなわち、吐出方向の変更）が開始され、ノズル部４２１の姿勢が図５および図６に示す第１姿勢から図２および図３に示す第２姿勢へと変更された後（すなわち、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９ａの上面９１との間の角度が３５度から４５度へと変更された後）、ノズル部４２１の回転が停止される（ステップＳ３４〜Ｓ３６）。このとき、上記と同様に、制御部６によりノズル部４２１の吐出口４２２に対する基板９の相対移動速度が制御されることにより、吐出口４２２の基板９に対するＸ方向における相対移動速度が一定に維持される。これにより、基板９ａの上面９１上における（−Ｘ）側のリブ形成領域９２に、リブ８２の始端部８２１（図８．Ａ参照）、および、始端部８２１と中間部８２２（図８．Ａ参照）との間の部位が形成される。
【００６７】
リブ形成装置１では、ノズル部４２１の回転が停止された後も、基板９ａの（−Ｘ）方向への移動、リブ形成材料の吐出、および、基板９ａ上のリブ形成材料への紫外線の照射が継続されることにより、（−Ｘ）側のリブ形成領域９２にリブ８２の中間部８２２が形成される。そして、（−Ｘ）側のリブ形成領域９２における中間部８２２の形成終了位置がノズル部４２１の吐出口４２２の真下に達すると、ノズル部４２１の回転が開始され、ノズル部４２１の姿勢が第２姿勢から第１姿勢へと変更された後（すなわち、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９ａの上面９１との間の角度が４５度から３５度へと変更された後）、ノズル部４２１の回転が停止される（ステップＳ３７，Ｓ３８）。このときも、制御部６によりノズル部４２１の吐出口４２２に対する基板９の相対移動速度が制御されることにより、吐出口４２２の基板９に対するＸ方向における相対移動速度が一定に維持される。これにより、（−Ｘ）側のリブ形成領域９２にリブ８２の終端部８２３（図８．Ｂ参照）が形成される。
【００６８】
ノズル部４２１の回転が停止されると、光照射部４３からの紫外線の出射が停止され、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出も停止される（ステップＳ３９，Ｓ４０）。このとき、ノズル部４２１の吐出口４２２は、基板９ａの（−Ｘ）側のリブ形成領域９２の（＋Ｘ）側のエッジ近傍（例えば、当該エッジよりも僅かに（−Ｘ）側の位置）に位置している。
【００６９】
リブ形成装置１では、次のリブ形成領域９２（すなわち、（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２）があるため、リブ形成材料の吐出停止後も基板９ａの（−Ｘ）方向への移動が継続される（ステップＳ４１）。そして、ノズル部４２１の吐出口４２２が、２つのリブ形成領域９２の間の間隙部９３の（−Ｘ）側のエッジ（すなわち、（−Ｘ）側のリブ形成領域９２の（＋Ｘ）側のエッジ）上に到達すると、制御部６によりノズル回転部４２７および吐出部昇降機構４５が制御されることにより、ノズル部４２１の回転、および、ノズル部４２１のＺ方向への移動が開始される（ステップＳ４２）。
【００７０】
ノズル部４２１は、図１３中に二点鎖線にて示す第１姿勢から回転軸４２６を中心として図１３中における反時計回りに回転するとともに、図１３および図１４に示す第１ブロック４２５１、第２ブロック４２５２、回転軸４２６、ノズル回転部４２７およびノズル支持部４２８（図１４のみに示す。）と共に（＋Ｚ）方向に移動する。これにより、ノズル部４２１が、図１３中に実線にて示す第３姿勢となり、ノズル部４２１の回転およびＺ方向への移動が停止される（ステップＳ４３）。ノズル部４２１の姿勢が第１姿勢から第３姿勢へと変更される間、ノズル部４２１の先端面４２４の下端は、常に基板９ａの上面９１に当接した状態とされる。
【００７１】
第３姿勢をとるノズル部４２１では、先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に当接しており、流路４２３（図２参照）の中心軸は基板９ａの上面９１に略垂直となっている。そして、ノズル部４２１の先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に当接した状態で、基板９ａが（−Ｘ）方向に移動することにより（すなわち、ノズル部４２１の吐出口４２２に対して（−Ｘ）方向に相対移動することにより）、ノズル部４２１の吐出口４２２の下方を基板９ａの間隙部９３が通過する。
【００７２】
ノズル部４２１の吐出口４２２が、間隙部９３の（＋Ｘ）側のエッジ（すなわち、（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２の（−Ｘ）側のエッジ）近傍に到達すると、制御部６によりノズル回転部４２７および吐出部昇降機構４５が制御されることにより、ノズル部４２１の回転、および、ノズル部４２１のＺ方向への移動が再度開始される（ステップＳ４４）。ノズル部４２１の姿勢は、図１３中に実線にて示す第３姿勢から二点鎖線にて示す第１姿勢へと変更され、ノズル部４２１の回転および（−Ｚ）方向への移動が停止される（ステップＳ４５）。ノズル部４２１の姿勢が第３姿勢から第１姿勢へと変更される間も同様に、ノズル部４２１の先端面４２４の下端は、常に基板９ａの上面９１に当接した状態とされる。
【００７３】
その後、次のリブ形成領域９２である（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２に対し、リブ形成材料の吐出および紫外線の出射が開始される（ステップＳ３２，Ｓ３３）。続いて、リブ形成材料の吐出開始とほぼ同時に、ノズル回転部４２７によるノズル部４２１の回転（すなわち、吐出方向の変更）が開始され、ノズル部４２１の姿勢が第１姿勢から第２姿勢へと変更された後、ノズル部４２１の回転が停止される（ステップＳ３５，Ｓ３６）。これにより、（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２に、リブ８２の始端部８２１、および、始端部８２１と中間部８２２との間の部位が形成される。
【００７４】
リブ形成装置１では、基板９ａの（−Ｘ）方向への移動、リブ形成材料の吐出、および、基板９ａ上のリブ形成材料への紫外線の照射が継続されることにより、（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２にリブ８２の中間部８２２が形成される。そして、（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２における中間部８２２の形成終了位置がノズル部４２１の吐出口４２２の真下に達すると、ノズル部４２１の回転が開始され、ノズル部４２１の姿勢が第２姿勢から第１姿勢へと変更された後、ノズル部４２１の回転が停止される（ステップＳ３７，Ｓ３８）。これにより、（＋Ｘ）側のリブ形成領域９２にリブ８２の終端部８２３が形成される。
【００７５】
ノズル部４２１の回転が停止されると、光照射部４３からの紫外線の出射が停止され、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出も停止され（ステップＳ３９，Ｓ４０）、さらに、基板９ａの移動も停止される（ステップＳ４１，Ｓ４６）。リブ形成装置１では、ノズル部４２１の一の吐出口４２２に注目すると、一の吐出口４２２から吐出されるリブ形成材料により、２つのリブ形成領域９２にＸ方向に並ぶ２つのリブ８２がそれぞれ形成される。
【００７６】
このようにして、基板９ａ上の２つのリブ形成領域９２に複数（本実施の形態では、３０本）のリブがそれぞれ形成されると、制御部６によりヘッド移動機構３が駆動制御されてヘッド部４が副走査方向（すなわち、Ｙ方向）に所定の距離だけ移動し、基板９ａが初期位置へと移動された後、上記ステップＳ３１〜Ｓ４６が繰り返されることにより、副走査方向に関して基板９ａ上の広範囲に亘って多数のリブが形成される。なお、塗布装置１ではノズル部４２１の姿勢が図１３および図１４に示す第３姿勢とされた状態で、ヘッド部４の副走査方向への移動が行われてもよい。
【００７７】
以上に説明したように、リブ形成装置１では、ノズル部４２１の吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出を停止する際に、ノズル部４２１の姿勢が第３姿勢とされて先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に当接する。これにより、リブ形成材料の吐出停止時に、ノズル部４２１を基板９ａから大きく離間させることなく、吐出停止後にノズル部４２１内に残留しているリブ形成材料が基板９ａに付着することを抑制することができる。
【００７８】
ところで、リブ形成材料の吐出停止時にノズル部を基板から大きく離間する場合には、ノズル部内に残留しているリブ形成材料がノズル部の先端面の吐出口近傍に溜まり、溜まったリブ形成材料を吐出再開時に除去する必要があるが、本実施の形態に係るリブ形成装置１では、上述のようにノズル部４２１の先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に当接するため、吐出口４２２近傍にリブ形成材料が溜まることが防止または抑制される。その結果、吐出再開時におけるノズル部４２１の吐出口４２２近傍のクリーニングを不要とする（あるいは、クリーニングの頻度を低減する）ことができる。
【００７９】
リブ形成装置１では、また、基板９ａの２つのリブ形成領域９２の間の間隙部９３において、吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出が停止されるとともに、ノズル部４２１の先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に当接した状態で基板９ａが移動する。これにより、２つのリブ形成領域９２にリブ８２を形成する際に、吐出停止後にノズル部４２１内に残留しているリブ形成材料が間隙部９３に付着することを抑制することができる。また、上述のように、ノズル部４２１のクリーニングが不要となる（あるいは、クリーニングの頻度が低減する）ため、リブ８２の形成に要する時間を短縮することができる。なお、リブ形成装置１は、上面上に２以上のリブ形成領域が設定された基板に対するリブの形成にも同様に利用される。
【００８０】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００８１】
リブ形成装置１では、第１姿勢または第２姿勢をとるノズル部４２１において、ノズル部４２１の先端面４２４の下端は、必ずしも基板の上面９１に当接する必要はなく、高精度にノズル部４２１の姿勢および位置を制御することにより、当該下端と基板の上面９１との間の間隙がほぼ一定の微小な距離（例えば、５０マイクロメートル（μｍ））にて保たれ、ノズル部４２１の先端面４２４の下端が常時、基板の上面９１に近接した状態とされてもよい。また、リブ形成材料の吐出停止時にノズル部４２１が第３姿勢をとる場合も同様に、ノズル部４２１の先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に近接した状態とされてもよい。この場合、基板９ａの２つのリブ形成領域９２の間の間隙部９３がノズル部４２１の下方を通過する際には、ノズル部４２１の先端面４２４の全体が基板９ａの上面９１に近接した状態で基板９ａが移動される。
【００８２】
吐出部４２では、リブ８２の始端部８２１の形成開始時におけるノズル部４２１の先端面４２４と基板の上面９１との間の角度である開始鋭角は、必ずしも３５度とされる必要はない。同様に、リブ８２の中間部８２２の形成時における当該角度であるリブ形成鋭角も、開始鋭角よりも大きければ必ずしも４５度とされる必要はなく、終端部８２３の形成終了時における当該角度である終了鋭角も、リブ形成鋭角よりも小さければ必ずしも３５度とされる必要はない。
【００８３】
リブ形成装置１では、リブ８２の始端部８２１および終端部８２３の双方においてノズル部４２１の回転によりリブ形成材料の吐出方向の変更が行われるが、例えば、リブ８２の材質が終端部８２３の損傷がほとんど発生しない種類である場合には、始端部８２１の形成時のみにノズル部４２１の姿勢が第１姿勢から第２姿勢へと変更され、終端部８２３の形成は、ノズル部４２１が第２姿勢のまま行われてもよい。
【００８４】
また、リブ形成材料のチキソトロピー性があまり高くなく、始端部８２１におけるリブ形成材料の盛り上がりが許容範囲内である場合等、始端部８２１の形成はノズル部４２１が第２姿勢のまま行われ、終端部８２３の形成時のみにノズル部４２１の姿勢が第２姿勢から第１姿勢へと変更されてもよい。換言すれば、リブ８２の始端部８２１の形成開始から中間部８２２の形成終了までの間、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度がリブ形成鋭角とされ、リブ８２の終端部８２３を形成する際にのみ、ノズル部４２１の先端面４２４と基板９の上面９１との間の角度が、リブ形成鋭角からリブ形成鋭角よりも小さい終了鋭角へと変更されてもよい。
【００８５】
リブ形成装置１では、リブ８２の始端部８２１および終端部８２３の形成時におけるノズル部４２１の姿勢変更、並びに、リブ形成材料の吐出停止時および吐出再開時におけるノズル部４２１の姿勢変更は、例えば、多関節ロボットによりノズル部４２１を支持し、当該ロボットを駆動することにより実現されてもよい。この場合も、ノズル部４２１の姿勢変更が行われる際には、ノズル部４２１の先端面４２４の下端が、基板の上面９１に当接または近接した状態にて上面９１に沿って移動する。また、多関節ロボット等により、ノズル部４２１の先端面４２４の下端を回転軸としてノズル部４２１が回転されてもよい。
【００８６】
上記実施の形態では、リブ形成材料は紫外線の照射により硬化するが、他の波長帯の光の照射により硬化するものであってもよく、この場合、光照射部４３からの出射光の波長帯も適宜変更される。また、リブ形成材料は、低軟化点ガラスフリットを含むものが好ましいが、リブが形成される基板の用途によっては、他の材料を用いることも可能である。
【００８７】
リブ形成装置１では、ステージ２０上の基板がノズル部４２１に対してＸ方向に移動するが、ノズル部４２１を基板に対してＸ方向に移動する機構が設けられてもよい。すなわち、リブ形成装置１におけるノズル部４２１の基板に対するＸ方向への相対的な移動は、いかなる機構にて実現されてもよい。
【００８８】
リブ形成装置１においてリブが形成される基板は、ガラス以外の材料により形成されるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】リブ形成装置の構成を示す図である。
【図２】ノズル部の先端近傍を拡大して示す図である。
【図３】吐出部を拡大して示す正面図である。
【図４】吐出部を拡大して示す左側面図である。
【図５】吐出部を拡大して示す正面図である。
【図６】ノズル部の先端近傍を拡大して示す図である。
【図７】リブ形成装置の動作の流れを示す図である。
【図８．Ａ】形成途上のリブを示す図である。
【図８．Ｂ】形成途上のリブを示す図である。
【図９．Ａ】ノズル部の先端面と基板の上面との間の角度の変化を示す図である。
【図９．Ｂ】ノズル部の先端面と基板の上面との間の角度の変化を示す図である。
【図１０．Ａ】基板およびノズル部の吐出口の移動速度を示す図である。
【図１０．Ｂ】基板およびノズル部の吐出口の移動速度を示す図である。
【図１１】２つのリブ形成領域を有する基板を示す平面図である。
【図１２．Ａ】リブ形成装置の動作の流れを示す図である。
【図１２．Ｂ】リブ形成装置の動作の流れを示す図である。
【図１３】吐出部を拡大して示す正面図である。
【図１４】吐出部を拡大して示す左側面図である。
【符号の説明】
【００９０】
１    リブ形成装置
２    ステージ移動機構
６    制御部
９，９ａ    基板
４３    光照射部
８１    リブ形成材料
８２    リブ
９１    上面
９２    リブ形成領域
４２１    ノズル部
４２２    吐出口
４２４    先端面
４２６    回転軸
４２７    ノズル回転部
８２１    始端部
８２３    終端部
Ｓ１１〜Ｓ２１，Ｓ３１〜Ｓ４５    ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８．Ａ】
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【図８．Ｂ】
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【図９．Ａ】
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【図９．Ｂ】
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【図１０．Ａ】
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【図１０．Ｂ】
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【図１１】
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【図１２．Ａ】
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【図１２．Ｂ】
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【図１３】
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【図１４】
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