(57)【要約】【課題】  フレキシビリティに優れ、かつ、高い透明性と導電性を有すると同時に、その導電性が安定した透明導電層付フィルムおよび分散型ＥＬ素子等の各種フレキシブル機能性素子の提供。【解決手段】  ベースフィルム上にパターン補助電極層が形成され、さらに前記ベースフィルムおよびパターン補助電極層上に塗布法によって透明導電層を形成した透明導電層付フィルムであって、前記ベースフィルムの厚さが３〜２００μｍ、前記パターン補助電極層が金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜からなり、前記透明導電層が前記パターン補助電極層の厚さの２〜１０倍の厚さであり、かつ、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、圧縮処理が施されていることを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルム上にパターン補助電極層が形成され、更に前記ベースフィルムおよびパターン補助電極層上に塗布法によって透明導電層を形成した透明導電層付フィルムであって、前記ベースフィルムの厚さが３〜２００μｍ、前記パターン補助電極層が金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜であり、前記透明導電層は前記パターン補助電極層の厚さの２〜１０倍の厚さを有し、かつ、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、さらに圧縮処理が施されていることを特徴とする透明導電層付フィルム。
【請求項２】
前記ベースフィルムの厚さが３〜２５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項３】
前記透明導電層付フィルムの透明導電層が形成されていない面に、該ベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムが裏打ちされていることを特徴とする請求項２に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項４】
前記微粘着層と前記ベースフィルムとの間の剥離強度（剥離部における単位長さ当りの剥離に必要な力）が、加熱処理工程の有無に関わらず、１〜１５ｇ／ｃｍであることを特徴とする請求項３に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項５】
前記透明導電層付フィルムの縦方向および横方向の寸法変化率（熱収縮率）が共に０．３％以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項６】
前記パターン補助電極層は、アルミニウム、ニッケル、クロム、銀のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項７】
前記パターン補助電極層のパターンが、格子状、網目状、ハニカム状、平行ライン状、櫛歯状を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項８】
前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項９】
前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項１０】
前記バインダーマトリックスは、架橋されており、有機溶剤耐性を有していることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項１１】
前記圧縮処理が、金属ロールの圧延処理により行われることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１に記載の透明導電層付フィルムの透明導電層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子のいずれかの機能性素子が形成され、微粘着層を有する前記支持フィルムが前記ベースフィルムに裏打ちされている場合には、該支持フィルムがベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去されていることを特徴とするフレキシブル機能性素子。
【請求項１３】
厚さ３〜２００μｍのベースフィルムの表面上にパターン補助電極層及び透明導電層を形成する透明導電層付フィルムの製造方法であって、前記ベースフィルムの表面に、金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍのパターン補助電極層を形成した後、前記ベースフィルムおよび前記パターン補助電極層の上に導電性酸化物微粒子と、バインダーと、溶剤を主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該塗布層が形成されたベースフィルムおよびパターン補助電極層に対し圧縮処理を施した後、該圧縮処理された塗布層の硬化を行って前記パターン補助電極層の厚さの２〜１０倍の厚さを有する透明導電層を形成することを特徴とする透明導電層付フィルムの製造方法。
【請求項１４】
前記ベースフィルムが、ベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムにより裏打ちされており、前記ベースフィルムの支持フィルムにより裏打ちされていない面にパターン補助電極層および透明導電層を順次形成することを特徴とする請求項１３に記載の透明導電層付フィルムの製造方法。
【請求項１５】
前記パターン補助電極層の形成が、物理的成膜方法でベースフィルム上に形成された金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜に、フォトリソグラフィ工程（フォトレジストパターニング及びエッチング）を適用して行うことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の透明導電層付フィルムの製造方法。
【請求項１６】
前記パターン補助電極層の形成が、金属ナノ粒子を主成分とする補助電極層形成用塗布液をベースフィルム上にパターン印刷して行うことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の透明導電層付フィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記圧縮処理を金属ロールの圧延処理で行うことを特徴とする請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の透明導電層付フィルムの製造方法。
【請求項１８】
前記圧延処理は、線圧：２９．４〜４９０Ｎ／ｍｍ（３０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ）であることを特徴とする請求項１７に記載の透明導電層付フィルムの製造方法。
【請求項１９】
請求項１４〜１８に記載の透明導電層付フィルムの透明導電層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子のいずれかの機能性素子を形成し、微粘着層を有する前記支持フィルムが前記ベースフィルムに裏打ちされている場合には、該支持フィルムを前記ベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去することを特徴とするフレキシブル機能性素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍのパターン補助電極層、および導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とする透明導電層をベースフィルム上に順次形成した透明導電層付フィルムとその透明導電層付フィルムを用いて得られる液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子のいずれかのフレキシブル機能性素子、およびそれらの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶を始めとする各種ディスプレイや携帯電話等の電子デバイスにおいては、軽薄短小化の動きが加速しており、それに伴って従来用いられてきたガラス基板をプラスチックフィルムに代替する研究が盛んに行われている。プラスチックフィルムは軽くかつフレキシビリティに優れているため、厚さ数μｍ程度の薄いプラスチックフィルムを、例えば、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下「有機ＥＬ素子」と略称する）、電子ペーパー素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子（以下「分散型ＥＬ素子」と略称する）、タッチパネル素子等に適用できれば、極めて軽量でかつフレキシブルな機能性素子を得ることが可能となる。
上記機能性素子の中で、分散型ＥＬ素子とは、交流電圧駆動による発光素子のことであり、従来から、携帯電話、リモートコントローラー等の液晶ディスプレイの小型のバックライト等に用いられてきたが、最近は店頭での購買時点商品広告（ＰＯＰ広告）用等のバックライトや夜間表示灯に組み込まれる発光素子等のように大型の表示デバイスに用いられるようになっている。
【０００３】
かかる分散型ＥＬ素子の製造方法としては、一般に、スパッタリング、あるいはイオンプレーティング等の物理的成膜法を用い、インジウム錫酸化物（以下「ＩＴＯ」と略称する）の透明導電層（以下「スパッタリングＩＴＯ層」と略称する）が形成されたプラスチックフィルム（以下「スパッタリングＩＴＯフィルム」と略称する）上に、更に、蛍光体層、誘電体層、背面電極層を順次スクリーン印刷等により形成する方法が広く知られている。
ここで、上記スパッタリングＩＴＯフィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明プラスチックフィルムの上に無機成分であるＩＴＯ単独層を上記物理的成膜法で厚さ：２０〜５０ｎｍ程度となるように形成したものであり、これにより、表面抵抗値：１００〜３００Ω/ □（オーム・パー・スクエアと読む）程度の低抵抗な透明導電層を得ることが可能となる。
【０００４】
しかし、上記スパッタリングＩＴＯ層は、無機成分の薄膜であって極めて脆いため、マイクロクラック（割れ）を生じやすく、例えばプラスチックフィルムをベースフィルムとして用いるフレキシブル素子に適用した場合には、素子の機能劣化を起こし易く、特に素子が大型化した場合（例えば５０ｃｍ×５０ｃｍ程度以上）には取扱い時のフィルムの折れ等に起因する上記機能劣化が顕著であり、また素子の製造工程での取扱いにも支障をきたすという問題があった。
【０００５】
また、上記スパッタリングＩＴＯフィルムのベースフィルムには、ＰＥＴフィルムが広く用いられているが、その厚みが５０μｍ未満の場合、ベースフィルムのフレキシビリティ（柔軟性）が高すぎて、ハンドリングの最中にスパッタリングＩＴＯ層に容易にクラックが生じ、膜の導電性を著しく損ねるため、例えば、厚さ１６μｍ等の薄いスパッタリングＩＴＯフィルムは高いフレキシビリティが要求されるようなデバイスには実用化されていないのが現状であった。
【０００６】
上記薄いＰＥＴフィルムにおいて、そのハンドリングを良くするために、厚さ７５μｍから１２５μｍ程度の支持フィルムを裏打ちした厚さ５０μｍ未満のベースフィルムを用い、該ベースフィルム上にスパッタリングＩＴＯ膜を形成することも試みられたが、この場合にもスパッタリングＩＴＯ層自体のフレキシビリティが乏しいため、支持フィルムを剥離除去するとスパッタリングＩＴＯ層の導電特性とフレキシビリティを両立できないという問題があった。
また、ウレタン等の柔らかいベースフィルムは、そのフィルム厚が７５μｍ以上であっても、スパッタリングＩＴＯ層を形成した場合にクラックが生じやすく実用化されていないのが現状であった。
【０００７】
したがって、前述の大型の表示デバイスに適用すべく従来のスパッタリングＩＴＯフィルムを用いて分散型ＥＬ素子を作製した場合には、スパッタリングＩＴＯ層のクラック防止のため、ベースフィルムの厚さを少なくとも１００μｍ以上（好ましくは１５０μｍ以上）としてフィルムの剛性を高める必要があり、柔軟（フレキシブル）な素材のベースフィルムが使用できないため、分散型ＥＬ素子を丸めた状態で保管、搬送することができず取扱いが不便なことに加えて、素子自体の重量が重くなるといった問題があった。
【０００８】
このため、上記スパッタリングによるＩＴＯ層形成に代えて、例えば特許文献２〜６にあるように、プラスチックベースフィルム上へ比較的フレキシブルな透明導電層を形成する方法として、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とする透明導電層形成用塗布液を、ベースフィルム上に塗布・乾燥した後、金属ロールによる圧縮（圧延）処理を行い、次いで、バインダー成分を硬化させる方法が知られている。
この方法では、金属ロールによる圧延処理により透明導電層中の導電性微粒子の充填密度を高めることにより、膜の電気（導電）特性、および光学特性を大幅に高めることができるという利点がある。しかしながら、上記方法で得られる透明導電層付きフィルムは、優れた透明性と導電性を両立させるという観点では不十分で、例えば、可視光線透過率が９０％程度では数百Ω／□程度の抵抗値しか得られず、数十Ω／□以下の低抵抗の透明導電層を得ることは困難であった。また、抵抗値の安定性（経時変化）という面でも十分とは言えず、例えば、大気中に放置すると徐々に抵抗値が増加していく現象が生じる場合があった。
ここで、大型の分散型ＥＬ素子（例えば５０ｃｍ×５０ｃｍ程度以上）においては、透明導電層の抵抗値が数百Ω／□程度と高くなると素子の中央部分に印加される電圧が低下して輝度の面内不均一が生じるため、可視光線透過率は高く維持したまま、その抵抗値を数十Ω／□程度以下まで低下させる必要がある。
【０００９】
以上のように、従来の塗布法による透明導電膜を形成する上記方法にあっても、依然として分散型ＥＬ素子に要求されるフレキシビリティや素子の大型化には十分に対応することができなかった。
また、上記分散型ＥＬ素子の場合と同様に、前述の液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子等のフレキシブル機能性素子においても、それらフレキシブル機能性素子の製造に必要とされる、ベースフィルム（プラスチックフィルム）上に形成された透明性およびフレキシビリティに優れ、かつ高い導電性を示すと同時に、その導電性が安定した（経時変化しない）透明導電層を有する透明導電層付フィルムは得られていなかった。
【特許文献１】特開２００１−２７３８３１号
【特許文献２】特開平４−２３７９０９号
【特許文献３】特開平５−０３６３１４号
【特許文献４】特開２００１−３２１７１７号
【特許文献５】特開２００２−３６４１１号
【特許文献６】特開２００２−４２５５８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムやそのフィルムを用いた分散型ＥＬ素子等の各種機能性素子と比べ、フレキシビリティに優れ、かつ高い透明性と導電性を有すると同時に、その導電性が安定している（経時変化が抑制された）透明導電層付フィルム、およびフレキシブル分散型ＥＬ素子等の各種フレキシブル機能性素子、具体的には、柔軟なベースフィルムを使用したハンドリング性が良好な透明導電層付フィルムと、その透明導電層付フィルムを用いた液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子、分散型ＥＬ素子のいずれかのフレキシブル機能性素子、およびそれらの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る透明導電層付フィルムは、ベースフィルム上にパターン補助電極層が形成され、さらに前記ベースフィルムおよびパターン補助電極層上に塗布法によって透明導電層を形成した透明導電層付フィルムであって、前記ベースフィルムの厚さが３〜２００μｍ、前記パターン補助電極層が金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜であり、前記透明導電層は前記パターン補助電極層の厚さの２〜１０倍の厚さを有し、かつ導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、さらに圧縮処理が施されていることを特徴とするものである。
ここで、前記ベースフィルムの厚さとしては３〜２５μｍが好ましく、また、前記透明電動層付フィルムの透明導電層が形成されていない面に該ベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムが裏打ちされていることを好ましい態様とするものである。さらに、前記微粘着層と前記ベースフィルムとの間の剥離強度（剥離部における単位長さ当りの剥離に必要な力）としては加熱処理工程の有無に関わらず、１〜１５ｇ／ｃｍが好ましく、またさらに、前記透明導電層付フィルムの縦方向および横方向の寸法変化率（熱収縮率）が共に０．３％以下であることを好ましい態様とするものである。
【００１２】
また、本発明における前記パターン補助電極層は、アルミニウム、ニッケル、クロム、銀のいずれか一つ以上を主成分として含有するものが好ましく、かつ前記パターン補助電極層のパターンは格子状、網目状、ハニカム状、平行ライン状、櫛歯状を有することを好ましい態様とするものである。さらに、本発明における前記導電性酸化物微粒子は酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有するものが好ましく、かつ前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることが好ましい。またさらに、本発明における前記バインダーマトリックスは、架橋されており、有機溶剤耐性を有していることが好ましい。本発明はまた、前記圧縮処理が、金属ロールの圧延処理により行われることを好ましい態様とするものである。
【００１３】
また、本発明に係るフレキシブル機能性素子は、前記の透明導電層付フィルムの透明導電層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子のいずれかの機能性素子が形成され、微粘着層を有する前記支持フィルムが前記ベースフィルムに裏打ちされている場合には、該支持フィルムがベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去されていることを特徴とするものである。
【００１４】
次に、本発明に係る透明導電層付フィルムの製造方法は、厚さ３〜２００μｍのベースフィルムの表面上にパターン補助電極層および透明導電層を形成する透明導電層付フィルムの製造方法であって、前記ベースフィルムの表面に、金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍのパターン補助電極層を形成した後、前記ベースフィルムおよび前記パターン補助電極層の上に導電性酸化物微粒子と、バインダーと、溶剤を主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該塗布層が形成されたベースフィルムおよびパターン補助電極層に対し圧縮処理を施した後、該圧縮処理された塗布層の硬化を行って前記パターン補助電極層の厚さの２〜１０倍の厚さを有する透明導電層を形成することを特徴とするものである。
ここで、前記ベースフィルムは、該ベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムにより裏打ちされており、前記ベースフィルムの支持フィルムにより裏打ちされていない面にパターン補助電極層および透明導電層を順次形成することを好ましい態様とするものである。また、前記パターン補助電極層は、物理的成膜方法でベースフィルム上に形成された金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜に、フォトリソグラフィ工程（フォトレジストパターニングおよびエッチング）を適用して形成することができる。さらに、前記パターン補助電極層は、金属ナノ粒子を主成分とする補助電極層形成用塗布液をベースフィルム上にパターン印刷して形成することができる。なお、前記圧縮処理は、金属ロールの圧延処理を適用して行うことができ、かつ前記圧延処理は、線圧：２９．４〜４９０Ｎ／ｍｍ（３０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ）が好ましい。
【００１５】
また、本発明に係るフレキシブル機能性素子の製造方法は、前記の透明導電層付フィルムの透明導電層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子のいずれかの機能性素子を形成し、微粘着層を有する前記支持フィルムが前記ベースフィルムに裏打ちされている場合には支持フィルムを前記ベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の透明導電層付フィルムは、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムやそのフィルムを用いた分散型ＥＬ素子等の各種機能性素子と比べ、フレキシビリティに優れ、かつ高い透明性と導電性を有すると同時に、その導電性が安定しており（経時変化が抑制された）、また、本発明方法によれば、透明導電層付フィルムおよびそれを用いた分散型ＥＬ素子等が組み込まれた各種フレキシブル機能性素子を安価に提供することができる。さらに、前記透明導電層付フィルムを分散型ＥＬ素子に適用した場合は、透明導電層の透明性が高く、かつ、その抵抗値が十分に低いため、高い輝度と発光均一性に優れる大型の素子を得ることが可能となる。またさらに、透明導電層の抵抗値の経時変化が抑制されているため、分散型ＥＬ素子以外の液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子等の各種フレキシブル機能性素子の透明電極として好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の透明導電層付フィルムが適用可能なフレキシブル機能性素子としては、液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子、分散型ＥＬ素子が挙げられる。
【００１８】
液晶表示素子は、携帯電話、ＰＤＡ、ＰＣ等のディスプレイに広く用いられている非発光型の電子表示素子であり、単純マトリクス方式とアクティブマトリクス方式があり、画質や応答スピードの点でアクティブマトリクス方式が優れている。その基本構造は、液晶を透明電極で挟み込み電圧駆動で液晶分子を配向させて表示を行うものであるが、実際の素子は、上記透明電極に加え、さらにカラーフィルター、位相差フィルム、偏光フィルム等を積層して用いられている。
【００１９】
有機ＥＬ素子は、液晶表示素子と異なり自発光素子であり、低電圧駆動で高輝度が得られるためディスプレイ等の表示装置として期待されている。その構造は、アノード電極層としての透明導電層上に、ポリチオフェン誘導体等の導電性高分子からなる正孔注入層（ホール注入層）、有機発光層（蒸着形成される低分子発光層や塗布形成される高分子発光層）、カソード電極層（発光層への電子注入性の良い、仕事関数の低いマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属層）、ガスバリアコーティング層（あるいは金属やガラスでの封止処理）を順次形成したものである。
【００２０】
電子ペーパー素子は、自らは発光しない非発光型の電子表示素子であり、電源を切っても表示がそのまま残るメモリ効果を備えており、文字表示のためのディスプレイとして期待されている。その表示方式には、電気泳動法により着色粒子を電極間の液体中を移動させる電気泳動方式や、二色性を有する粒子を電場で回転させることにより着色させるツイストボール方式、例えばコレステリック液晶を透明電極で挟み込んで表示を行う液晶方式、着色粒子（トナー）や電子粉流体（Quick Response Liquid Powder）を空気中を移動させて表示を行う粉体系方式、電気化学的な酸化・還元作用に基づき発色を行うエレクトロクロミック方式、電気化学的な酸化・還元により金属を析出・溶解させ、これに伴う色の変化で表示を行うエレクトロデポジション方式等を挙げることができる。
【００２１】
タッチパネル素子としては、各種表示装置と組み合わせて入力装置に用いる透明タッチパネルが一般的であり、抵抗検出方式、静電容量方式、電磁誘導方式等検出方式等の違いはあるものの、少なくとも一枚以上の透明導電層（透明電極）を有する透明基板から構成されている。例えば、抵抗検出方式の透明タッチパネルは、ガラスやプラスチックなどの厚い基板上に形成された透明導電層からなる下部電極の上に、高分子フィルムにアンダーコート層、透明導電層を順次形成して構成された上部電極を、透明導電層同士が対面するようにスペーサー（マイクロドットスペーサー）を介して積層したものであり、上部電極の表示面を指やペンで押すと、上部電極と下部電極とが接触して通電し、信号が入力されるものである。
【００２２】
分散型ＥＬ素子は、蛍光体粒子を含む層に強い電界を印加して発光させる自発光素子であり、これについては後で詳細に説明する。
【００２３】
前記いずれの機能性素子においても、素子の薄型化、軽量化、フレキシビリティ付与がますます重要な課題となっており、また、大型の分散型ＥＬ素子を初めとして、電子ペーパー素子やタッチパネル素子においても一層の低抵抗化や高透明性が要求されると同時に低コスト化も求められており、本発明の透明導電層付フィルムを適用すればこれらの課題を達成できる。
【００２４】
以下、本発明の透明導電層付フィルムをフレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子に適用した場合について図面を参照しつつ説明する。なお、前記他のフレキシブル機能性素子に関しても、素子の製造工程の違いはあるものの同様に適用できることは言うまでもない。
図１は本発明に係るフレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子の一実施例を示す概略断面図、図２は同上の分散型ＥＬ素子が支持フィルムで裏打ちされた状態を示す概略断面図、図３はベースフィルム上にパターン補助電極層と透明導電層が形成された透明導電層付フィルムの一実施例を示す概略断面図、図４はベースフィルム上に格子状のパターン補助電極層を形成した後、透明導電層がパターン補助電極層を覆うようにベースフィルム上に塗布法によって形成された透明導電層付フィルムを透明導電層側から見た平面図、図５は従来の分散型ＥＬ素子の基本構造の一例を示す概略断面図、図６は同じく従来の分散型ＥＬ素子の他の構造例を示す概略断面図であり、１は透明プラスチックフィルム、２は透明導電層、３は蛍光体層、４は誘電体層、５は背面電極層、６は集電電極、７は絶縁保護層、８はベースフィルム、９はパターン補助電極層、１０は支持フィルムである。
【００２５】
まず、従来の分散型ＥＬ素子について説明すると、図５に示すように、透明プラスチックフィルム１上に順次形成された透明導電層２、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５を少なくとも有しており、実際のデバイスへの適用では、図６に示すように、銀等の集電電極６や、絶縁保護層７をさらに形成して用いるのが一般的である。
【００２６】
一方、本発明のフレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子は、図１に示すように、ベースフィルム８上に順次形成された、パターン補助電極層９、透明導電層２、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５を少なくとも有している。ここで、ベースフィルム８の厚さが、例えば２５μｍ程度以下と薄い場合には、図２に示す様に、微粘着層（図示せず）を有する支持フィルム１０を、微粘着層を介してベースフィルム８に裏打ちした状態で分散型ＥＬ素子を製造し、最終的にベースフィルム８と微粘着層の界面で支持フィルム１０を剥離除去した形で用いられる。
なお、前記微粘着層は、支持フィルム１０とベースフィルム８の間にあり、支持フィルム１０を剥離する際に該支持フィルム１０と一緒に剥離除去されるが、支持フィルム１０の素材自体が微粘着性を有する場合は、該支持フィルムが微粘着層の働きを兼ね備えるため、特に微粘着層を支持フィルム上に形成する必要はない。また、図１および図２に示す本発明の分散型ＥＬ素子には示していないが、図６に示す従来の分散型ＥＬ素子と同様に、銀等の集電電極６や、絶縁保護層７をさらに形成して用いるのが一般的である。
【００２７】
前記のように、本発明の透明導電層付フィルムやフレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子では、図３に示すようにベースフィルム上８に、金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍのパターン補助電極層９を形成した後、透明導電層２がパターン補助電極層９を覆うようにベースフィルム８上に塗布法によって形成されているため、パターン補助電極層９が良好な導電性と導電安定性（抵抗値の経時劣化抑制）を透明導電層付フィルムに付与する。また、透明導電層２はパターン補助電極層９の厚さの２〜１０倍の厚さであり、金属を主成分とするため強度に劣るパターン補助電極層９を物理的に保護すると同時に、パターン補助電極層９のパターン内部のベースフィルム８が露出した部分を覆うことで、その部分に導電性を付与し、パターン補助電極層９を集電電極６として機能させる作用を有している。
【００２８】
ここで、パターン補助電極層９は、金属を主成分とすることが必要である。金属は、導電性や柔軟性に優れるため補助電極層の材質に好適であり導電性、成膜性、柔軟性、耐食性、材料コスト等を考慮すると、アルミニウム、ニッケル、クロム、銀のいずれか一つ以上を主成分として含有していることが好ましい。アルミニウム、銀は導電性と柔軟性に優れ、ニッケル、クロムは耐食性に優れるため、その用途に応じ適宜選択すればよい。
【００２９】
また、上記パターン補助電極層９の厚さは、０．０２〜０．２μｍである必要がある。すなわち、０．０２μｍ未満であると透明導電層付フィルムの抵抗値が高くなりすぎて、パターン補助電極層を形成した効果が見られず、他方、０．２μｍを超えるとパターン補助電極層が厚くなりすぎて、透明導電層で覆った際に、透明導電層の凹凸が大きくなると同時に、透明導電層の厚さが厚くなりすぎて、透明導電層付フィルムの可視光線透過率が低下しすぎて好ましくないからである。
【００３０】
パターン補助電極層９のパターンは、可視光線の透過性と導電性を両立できる形状であれば特に制約はなく、要は、適度の開口率で、補助電極として抵抗値を低下させる役割を有すればよい。好ましい例として、格子状、網目状、ハニカム状、平行ライン状、櫛歯状等が挙げられる。パターン補助電極層９の開口率は、透明導電層付フィルムの可視光線透過率を大きく左右するため、大きい方が良く、９０％程度以上が好ましく、９５％程度以上がさらに好ましい。
【００３１】
図４に示す本発明の透明導電層付フィルムは、ベースフィルム８上に格子状のパターン補助電極層９を形成した後、透明導電層２をパターン補助電極層９を覆うようにベースフィルム８上に塗布法によって形成したものである。
【００３２】
次に、透明導電層２は上記パターン補助電極層９の厚さの２〜１０倍の厚さに形成することが必要である。すなわち、厚さが２倍未満であると、強度に劣るパターン補助電極層９を物理的に保護する効果が低下する同時に、透明導電層で覆った際に透明導電層２の凹凸が大きくなるため好ましくなく、他方、厚さが１０倍を超えると、透明導電層の厚さが厚くなりすぎて、透明導電層付フィルムの可視光線透過率が低下しすぎるため好ましくないためである。パターン補助電極層９の導電性は、透明導電層２の導電性よりも大幅に高いため、透明導電層２を厚くし過ぎても透明導電層付フィルムの抵抗値を改善する効果は小さく、透過率を損なうだけである。
本発明の透明導電層２は、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、なおかつ、圧縮処理が施されているため後述の通り、透明性と導電性に優れる。
【００３３】
本発明で用いるベースフィルム８は、その厚さが３〜２００μｍであることが必要である。すなわち、ベースフィルム８の厚さが２００μｍを超えるとその剛性が高くなり、フレキシブル機能性素子としての機能が十分に発揮できず、他方、ベースフィルムの厚さが３μｍ未満と薄くなると、一般に流通している汎用のフィルムからは得られにくくなること、ベースフィルム自体の取扱いが難しくなり支持フィルムによる裏打ちが困難になること、ベースフィルム自体の強度が低下し素子自体の強度が低下するためである。なお、フレキシブル機能性素子のフレキシビリティをより高めたい場合は、３〜２５μｍが好ましく、さらには３〜９μｍがより好ましい。ベースフィルムの厚さを２５μｍ以下にすると、フレキシビリティを高めるだけでなく、素子そのものの厚さも薄くすることができる。
【００３４】
また、ベースフィルム８の材質は、透光性であり、かつその上にパターン補助電極層９及び透明導電層２を形成でき、また支持フィルム１０で裏打ちした場合に該支持フィルム１０と微粘着層を介して密着するとともに剥離性を有すれば、特に限定されず、各種プラスチックを用いることができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ウレタン、フッ素系樹脂等のプラスチックを用いることができる。その中でも、安価でかつ強度に優れ、透明性と柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ＰＥＴフィルムが好ましい。また、ベースフィルムとして、可視光線透過性の無機および／または有機（プラスチック）繊維（針状、棒状、ウィスカー微粒子も含む）やフレーク状微粒子（板状も含む）で強化されたフィルムを用いてもよい。繊維やフレーク状微粒子で強化されたベースフィルムは、より薄いフィルムでも良好な強度を有することが可能となる。
【００３５】
上記のように、本発明の透明導電層付フィルムやフレキシブル分散型ＥＬ素子では、前記透明導電層付フィルムの透明導電層２が形成されていない面に該ベースフィルム８との界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルム１０を裏打ちすることによって、ベースフィルム自体の厚さを薄く設定でき、かつベースフィルムの材質を適宜選定すれば良好な柔軟性を分散型ＥＬ素子に付与することも可能である。
なお、本発明で用いる支持フィルム１０の役割としては、本発明のフレキシブル分散型ＥＬ素子の製造工程での取扱いを容易にする働き、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５等の積層工程における基材のそり（カール）を防止する働き、透明導電層付フィルムおよび分散型ＥＬ素子の輸送・ハンドリング中に保護する働き、透明導電層２、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５等の印刷を均一に行う働き（一般にスクリーン印刷では、多数の小径の穴があいた吸引ステージを用い、穴の部分を減圧にしてフィルム固定するが、基材としてのフィルムが薄いと、その穴の部分のフィルムが減圧により変形してくぼみが生じ、スクリーン印刷した膜にこのくぼみの跡が生じる。）等が挙げられる。
【００３６】
ここで、本発明で用いられる支持フィルム１０はその厚さが５０μｍ以上、好ましくは７５μｍ以上、さらに好ましくは１００μｍ以上であることが好ましい。支持フィルムの厚さが５０μｍ未満であるとフィルムの剛性が低下し、前記の分散型ＥＬ素子の製造工程での取扱い、基材のそり（カール）、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５等の印刷性、等に問題を生じやすくなるからである。
また、本発明のフレキシブル分散型ＥＬ素子は、作製工程の最後で、所定の形状の分散型ＥＬ素子部分だけを裏打ちフィルムから剥がせるようにするため、ハーフカット処理を行っているが、支持フィルム１０の厚さが５０μｍ未満であると、ハーフカット処理がうまく行えない問題が生じる。ハーフカット処理とは、支持フィルム１０で裏打ちされた分散型ＥＬ素子において、金型プレス等を用い、ベースフィルム８を含む分散型ＥＬ素子部分だけを素子形状に合わせてカットする方法のことであるが、実際には裏打ちしている支持フィルム１０の一部もカットされるため、前記のように支持フィルム１０には所定の厚さが要求される。一方、本発明で用いる支持フィルム１０はその厚さが２００μｍ以下であることが好ましい。すなわち、２００μｍを超えると支持フィルムが硬く、かつ重くなって扱いづらくなると同時に、コスト的にも好ましくないためである。
【００３７】
本発明で用いる支持フィルム１０には、透明性は要求されず、またその材質は特に限定されず、各種プラスチックを用いることができる。具体的には、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ウレタン、フッ素系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）等のプラスチックを用いることができる。その中でも、安価でかつ強度に優れ、柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ＰＥＴフィルムが好ましい。
【００３８】
本発明における支持フィルム１０は、ベースフィルム８と密着しながら透明導電層付フィルムおよび分散型ＥＬ素子の作製工程を経て、最後にベースフィルムから剥離されるので、一般的には片面にアクリル系またはシリコーン系の微粘着層が塗布・形成される。シリコーン系の微粘着層は耐熱性に優れる点で好ましい。
ここで、本発明で用いられる微粘着層は、ベースフィルム８との関係で剥離強度（Ｔ型剥離試験［引張り速度＝３００ｍｍ／ｍｉｎ］における、剥離部における単位長さ当りの剥離に必要な力）が１〜１５ｇ／ｃｍ、好ましくは２〜１０ｇ／ｃｍ、より好ましくは２〜６ｇ／ｃｍである。すなわち、剥離強度が１ｇ／ｃｍ未満では支持フィルム１０とベースフィルム８とを接着したとしても、透明導電層付フィルムや分散型ＥＬ素子の製造工程において剥がれ易くなるため好ましくなく、他方、剥離強度が１５ｇ／ｃｍを超えると、支持フィルム１０とベースフィルム８が剥がしづらくなるため、フレキシブル分散型ＥＬ素子が支持フィルム１０から剥がれにくくなって、ＥＬ素子の剥離工程の作業性の悪化、無理に剥がすことによる素子の伸びや透明導電層２の劣化（亀裂等）、ベースフィルム８面への微粘着層の一部の付着等が生ずる危険性が高くなるためである。
【００３９】
ところで、本発明のフレキシブル分散型ＥＬ素子は、後述の通り、透明導電層付フィルムに対し数度の加熱処理工程（通常１２０〜１４０℃程度）を経て製造されるため、これらの処理工程を経た後でも上記剥離強度を維持している必要があり、そのためには、前記微粘着層の材質には、耐熱性が要求される。また、透明導電層付フィルムの製造時には、紫外線硬化工程が適用される場合があるため、その場合は微粘着層の材質には、耐紫外線性も必要である。
【００４０】
本発明のフレキシブル分散型ＥＬ素子は、前記した通り、透明導電層付フィルムに対し数度の加熱処理工程を経て製造されるため、これら加熱処理工程の前後で、上記透明導電層付フィルムの縦方向（ＭＤ）および横方向（ＴＤ）の寸法変化率（熱収縮率）は共に０．３％以下（より好ましくは０．１５％以下、さらに好ましくは０．１％以下）であることが好ましい。すなわち、縦方向（ＭＤ）および横方向（ＴＤ）のいずれかの寸法変化率が０．３％を超えると、透明導電層付フィルム上に蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５等の各層をそれぞれの層の形成用ペーストを順次パターン印刷・乾燥・加熱硬化させて形成していく各積層過程で、各加熱硬化処理の度に寸法変化（収縮）が起こり印刷ずれを生じるが、そのずれの大きさが分散型ＥＬ素子の製造における許容範囲を超えるため、好ましくない。従って、透明導電層付フィルムの寸法変化率が０％（全くないことを意味する）の状態であっても、本発明の技術的思想の範囲内であることはいうまでもない。
なお、プラスチックフィルムにおいては、加熱処理に伴う寸法変化率は一般的に収縮率を示し、例えば２軸延伸ＰＥＴフィルムでは、加熱処理の縦方向（ＭＤ）の収縮率は横方向（ＴＤ）の収縮率の数倍程度大きい値となる。
【００４１】
前記寸法変化率を低減させる方法としては、予め熱収縮させた低熱収縮タイプの支持フィルムやベースフィルムを用いる方法、あるいは、支持フィルムで裏打ちされたベースフィルムを予め熱収縮させておく方法、透明導電層付フィルムごと熱収縮させる方法等が考えられるがこれらに限定されない。これらの方法を適宜適用すれば、前記加熱処理工程時の透明導電層付フィルムの寸法変化率低減が可能となると同時に、支持フィルム１０とベースフィルム８の寸法変化率の差に起因する透明導電層付フィルムや支持フィルム１０で裏打ちされたフレキシブル分散型ＥＬ素子におけるそり（カール）も抑制することが可能である。
【００４２】
次に、本発明の透明導電層付フィルムの製造方法について説明する。
まず、厚さ３〜２００μｍのベースフィルム８の全面に金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜を、スパッタリング法や真空蒸着法等の物理的成膜方法で形成する。次いで、この薄膜に対し、フォトリソグラフィ工程（フォトレジストを塗布形成し露光・現像した後、エッチング液を用いてエッチングするフォトパターニング）を適用してパターニングを行う。また、別の方法としては、銀コロイドインク等の金属ナノ粒子を主成分とする補助電極層形成用塗布液をベースフィルム上にインクジェット印刷やスクリーン印刷等のパターン印刷して行ってもよい。
【００４３】
上記パターン補助電極層を有するベースフィルム８上への導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とする透明導電層２の形成は、前記の特許文献２〜６に記載の形成方法を用い、以下のように行うことができる。
まず、導電性酸化物微粒子を、バインダー成分を含む溶媒に分散させた透明導電層形成用塗布液を、ベースフィルム８、およびその上に形成されたパターン補助電極層９の上に塗布・乾燥して塗布層を形成した後、ベースフィルム８ごと圧縮処理を行い、次いで、圧縮処理された塗布層のバインダー成分を硬化させる。支持フィルム１０で裏打ちされたベースフィルム８を用いた場合には、支持フィルム１０が裏打ちされたベースフィルム８ごと前記塗布層の圧縮処理を行う。
なお、透明導電層２の厚さは前記パターン補助電極層９の厚さ（０．０２〜０．２μｍ）の２〜１０倍の厚さに設定してあり、かつベースフィルム８の厚さ（３〜２００μｍ）と比べて大幅に薄いため、パターン補助電極層９が存在しても透明導電層２には圧縮処理時の圧力を均等に印加することができる。
【００４４】
ここで、前記圧縮処理について説明する。
前記塗布層が形成されたベースフィルム８およびパターン補助電極層９に対し圧縮処理を行うと、透明導電層２中の導電性微粒子の充填密度が上昇するため光の散乱を低下させて膜の光学特性を向上させるだけでなく、導電性を大幅に高めることができる。
圧縮処理としては、例えば、透明導電層形成用塗布液が塗布・乾燥されたベースフィルム８をハードクロムメッキされた金属ロールにより圧延すればよく、この場合の金属ロールの圧延圧力は線圧：２９．４〜４９０Ｎ／ｍｍ（３０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ）がよく、９８〜２９４Ｎ／ｍｍ（１００〜３００ｋｇｆ／ｃｍ）がより好ましい。すなわち、線圧：２９．４Ｎ／ｍｍ（３０ｋｇｆ／ｃｍ）未満では圧延処理による透明導電層の抵抗値改善の効果が不十分で、他方、線圧：４９０Ｎ／ｍｍ（５００ｋｇｆ／ｃｍ）を超えると、圧延設備が大型化すると同時に、ベースフィルムや支持フィルムが歪んでしまう場合があるためである。
前記金属ロールの圧延処理における単位面積当りの圧延圧力（Ｎ／ｍｍ２）は、線圧をニップ幅（金属ロールと透明導電層の接触部分において金属ロールで透明導電層がつぶされる領域の幅）で割った値であって、ニップ幅は、金属ロールの径と線圧にもよるが、１５０ｍｍ程度のロール直径であれば、０．７〜２ｍｍ程度である。本発明では、支持フィルム１０を裏打ちしたベースフィルム８を用いているため、極めて薄いベースフィルム８に対して圧延処理を施しても、ベースフィルム８の歪みやしわの発生を効果的に防止できる。さらに、ハードクロムメッキされた金属ロールによる圧延処理では、その金属ロール表面の凹凸が極めて小さい鏡面ロールを用いることで、圧延処理後に得られる透明導電層２の表面を極めて平滑にすることができる。これは、透明導電膜形成用塗布液を塗布して得られる塗布層に凸部分があった場合でも、その凸部分を前記金属ロールによる圧延処理で物理的に平らにできるからである。透明導電層２の表面の平滑性が良好であると、前記の各種機能性素子において、電極間のショートや素子の欠陥の発生を防止する効果があり、非常に好ましい。
【００４５】
なお、前記ベースフィルム８には、透明導電層２との密着力を高めるために、易接着処理、具体的にはプラズマ処理、コロナ放電処理、短波長紫外線照射処理等を予め施しておくこともできる。
【００４６】
本発明で用いられる透明導電層形成用塗布液に適用される導電性酸化物微粒子としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分とする導電性酸化物微粒子であって、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）微粒子、インジウム−タングステン酸化物（ＩＷＯ）微粒子、インジウム−チタン酸化物（ＩＴｉＯ）微粒子、インジウムジルコニウム酸化物微粒子、錫アンチモン酸化物（ＡＴＯ）微粒子、フッ素錫酸化物（ＦＴＯ）微粒子、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）微粒子、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）微粒子等が挙げられるが、透明性と導電性を具備していればよく、これらに限定されない。ただし、その中でもＩＴＯが最も高特性であり、好ましい。
【００４７】
本発明で用いられる導電性酸化物微粒子の平均粒径は、１〜５００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがさらに好ましい。すなわち、平均粒径が１ｎｍ未満では透明導電層形成用塗布液の製造が困難となり、また得られる透明導電層の抵抗値が高くなり、他方、５００ｎｍを超えると、透明導電層形成用塗布液中で導電性酸化物微粒子が沈降し易く取扱いが容易でなくなると同時に、透明導電層において高透過率と低抵抗値を同時に達成することが困難になるためである。なお、前記導電性酸化物微粒子の平均粒径は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察された値を示している。
【００４８】
また、透明導電層形成用塗布液のバインダー成分は、導電性酸化物微粒子どうしを結合させ膜の導電性と強度を高める働きや、ベースフィルム８と透明導電層２の密着力を高める働き、および、分散型ＥＬ素子の製造工程において蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５等の形成に用いる各種印刷ペーストに含まれる有機溶剤による透明導電層の劣化防止のための耐溶剤性を付与する働きを有している。バインダーとしては、有機および／または無機バインダーを用いることが可能であり、前記役割を満たすように、透明導電層形成用塗布液を適用するベースフィルム、透明導電層の膜形成条件等を考慮して、適宜選定することができる。
【００４９】
本発明で用いる有機バインダーとしては、アクリル樹脂やポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂も適用できなくはないが、一般的には耐溶剤性を有することが好ましく、そのために架橋可能な樹脂であることが必要で、熱硬化性樹脂、常温硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等から選定することができる。例えば、熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹脂、フッ素樹脂など、常温硬化性樹脂としては２液性のエポキシ樹脂やウレタン樹脂等、紫外線硬化性樹脂としては各種オリゴマー、モノマー、光開始剤を含有する樹脂等、電子線硬化性樹脂としては各種オリゴマー、モノマーを含有する樹脂等を挙げることができる。
【００５０】
また、本発明で用いる無機バインダーとしては、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル等を主成分とするバインダーを挙げることができる。例えば、シリカゾルとしては、オルトアルキルシリケートに水や酸触媒を加えて加水分解し、脱水縮重合を進ませた重合物、あるいはすでに４〜５量体まで重合を進ませた市販のアルキルシリケート溶液を、さらに加水分解と脱水縮重合を進行させた重合物等を利用することができる。
【００５１】
なお、脱水縮重合が進行し過ぎると、溶液粘度が上昇して最終的に固化してしまうので、脱水縮重合の度合いについては、透明基板上に塗布可能な上限粘度以下に調整する。ただし、脱水縮重合の度合いは前記上限粘度以下のレベルであれば特に限定されないが、膜強度、耐候性等を考慮すると、重量平均分子量で５００〜５００００程度が好ましい。そして、このアルキルシリケート加水分解重合物（シリカゾル）は、透明導電層形成用塗布液の塗布・乾燥後の加熱時において脱水縮重合反応（架橋反応）がほぼ完結し、硬いシリケートバインダーマトリックス（酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックス）になる。前記脱水縮重合反応は膜の乾燥直後から始まり、時間が経過すると導電性酸化物微粒子どうしが動けなくなる程強固に固めてしまうため、無機バインダーを用いた場合には、前記の圧縮処理は、透明導電層形成用塗布液の塗布・乾燥後、可能な限り速やかに行う必要がある。
【００５２】
本発明で用いるバインダーとしてはさらに、有機−無機のハイブリッドバインダーを用いることもできる。例えば、前記のシリカゾルを一部有機官能基で修飾したバインダーや、シリコンカップリング剤等の各種カップリング剤を主成分とするバインダーが挙げられる。
【００５３】
前記本発明で用いる無機バインダーや有機−無機のハイブリッドバインダーを用いた透明導電層は、必然的に優れた耐溶剤性を有しているが、ベースフィルムとの密着力や、透明導電層の柔軟性等が悪化しないように、適宜選定する必要がある。
【００５４】
本発明で用いる透明導電層形成用塗布液中の、導電性酸化物微粒子とバインダー成分の割合は、仮に導電性酸化物微粒子とバインダー成分の比重をそれぞれ７．２程度（ＩＴＯの比重）と１．２程度（通常の有機樹脂バインダーの比重）と仮定した場合、重量比で、導電性酸化物微粒子：バインダー成分＝８５：１５〜９７：３、好ましくは８７：１３〜９５：５が好ましい。その理由は、本発明の圧延処理を行う場合、８５：１５よりバインダー成分が多いと透明導電層の抵抗が高くなりすぎ、他方、９７：３よりバインダー成分が少ないと透明導電層の強度が低下すると同時に、ベースフィルムとの十分な密着力が得られなくなるためである。
【００５５】
次に、本発明で用いられる透明導電層形成用塗布液の製造方法について説明する。
まず、導電性酸化物微粒子を溶剤、および必要に応じて分散剤、と混合した後、分散処理を行い導電性酸化物微粒子分散液を得る。分散剤としては、シリコンカップリング剤等の各種カップリング剤、各種高分子分散剤、アニオン系・ノニオン系・カチオン系等の各種界面活性剤が挙げられる。これら分散剤は、用いる導電性酸化物微粒子の種類や分散処理方法に応じて適宜選定することができる。また、分散剤を全く用いなくても、適用する導電性酸化物微粒子と溶剤の組合せ、および分散方法の如何によっては、良好な分散状態を得ることができる場合がある。分散剤の使用は膜の抵抗値や耐候性を悪化させる可能性があるので、分散剤を用いない透明導電層形成用塗布液が最も好ましい。分散処理としては、超音波処理、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ビーズミル等の汎用の方法を適用することができる。
【００５６】
そして、得られた導電性酸化物微粒子分散液にバインダー成分を添加し、さらに導電性酸化物微粒子濃度、溶剤組成等の成分調整を行うことにより、透明導電層形成用塗布液が得られる。ここでは、バインダー成分を導電性酸化物微粒子の分散液に加えたが、前記の導電性酸化物微粒子の分散工程前に予め加えてもよく、特に制約はない。導電性酸化物微粒子濃度は、用いる塗布方法に応じて、適宜設定すればよい。
【００５７】
前記透明導電層形成用塗布液に用いる溶媒としては、特に制限はなく、塗布方法、製膜条件、ベースフィルムの材質により適宜に選定することができる。例えば、水、メタノール（ＭＡ）、エタノール（ＥＡ）、１−プロパノール（ＮＰＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（ＥＣＳ）、エチレングリコールイソプロピルエーテル（ＩＰＣ）、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコールエチルエーテル（ＰＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭ−ＡＣ）、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート（ＰＥ−ＡＣ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、ホルムアミド（ＦＡ）、Ｎ−メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド( ＤＭＳＯ) 、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、クロロホルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５８】
本発明のフレキシブル分散型ＥＬ素子を製造する場合は、前記透明導電層形成用塗布液をスクリーン印刷、ブレードコーティング、ワイヤーバーコーティング、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷等の方法で、パターン補助電極層を有するベースフィルム、あるいは、さらに支持フィルムで裏打ちされたベースフィルム上に塗布・乾燥し塗布層を形成した後、前記の圧縮処理を施す。圧縮処理は、金属ロールの圧延処理により行われることが好ましい。その後、圧縮処理された塗布層は、塗布液の種類により加熱処理（乾燥硬化、熱硬化）、紫外線照射処理（紫外線硬化）等の硬化処理が施され透明導電層２となる。
【００５９】
そして、前記透明導電層２上に、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５を順次スクリーン印刷等により形成する方法が一般的であり、通常、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５の各層の塗布（印刷）形成用ペーストを順次塗布（印刷）・乾燥・加熱硬化（通常１２０〜１４０℃）して行われる。これらのペーストは、市販されているペーストを用いることができる。蛍光体層ペースト、誘電体層ペーストは、それぞれ蛍光体粒子（硫化亜鉛系微粒子）、誘電体微粒子（チタン酸バリウム系微粒子）を、フッ素ゴム等の高誘電性成分を主成分としたバインダーを含む溶剤に分散させたもので、背面電極層ペーストはカーボン微粒子等の導電性微粒子を熱硬化樹脂バインダーを含む溶剤に分散させたものである。
【００６０】
ここで、透明導電層２上に、蛍光体層３等の各層をスクリーン印刷する場合には、一般に、多数の小径の穴があいた吸引ステージを用い、穴の部分を減圧にしてフィルム固定する方法が用いられる。ベースフィルムが薄いと、その穴の部分のフィルムが減圧により変形してくぼみが生じ、スクリーン印刷した膜にこのくぼみの跡が生じる問題が発生するが、前記のように、本発明では、スクリーン印刷時には十分な強度を有する支持フィルム１０を用い、分散型ＥＬ素子の形成後にそれを剥離除去するため、上記問題を防止できる。
【００６１】
また、前記透明導電層２、蛍光体層３、誘電体層４、背面電極層５で分散型ＥＬ素子の主要部分は構成されるが、実際の分散型ＥＬ素子においては、透明導電層２の集電電極（銀ペーストで形成）、背面電極層５のリード電極（銀ペーストで形成）、電極間ショート、感電等を防止するための絶縁保護コーティング（絶縁ペーストで形成）等がさらに形成される。
【００６２】
さらに、本発明に係る液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子のいずれかのフレキシブル機能性素子の製造方法についても、前記分散型ＥＬ素子の製造方法と同様に、本発明の透明導電層付フィルムの透明導電層２上に、上記各機能性素子を形成し、微粘着層を有する前記支持フィルム１０がベースフィルム８に裏打ちされている場合には支持フィルム１０をベースフィルム８と微粘着層の界面にて剥離除去することで実施することができる。
【００６３】
本発明に係る分散型ＥＬ素子等の各種フレキシブル機能性素子は、ベースフィルムの厚さが薄く、かつ柔軟なため、フレキシビリティに優れており、中でも、フレキシブル分散型ＥＬ素子は、携帯電話、リモートコントローラー、携帯情報端末等のデバイスのキイ入力部品に組み込まれる発光素子として適用することができる。
［実施例］
【００６４】
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、本文中の「％」は「重量％」を示し、また「部」は「重量部」を示している。
【実施例１】
【００６５】
平均粒径０．０４μｍの粒状のＩＴＯ微粒子（商品名：ＦＳ−２１、同和鉱業製）３６ｇを溶剤としてのシクロヘキサノン６０ｇと微量の高分子分散剤と混合し、分散処理を行った後、ウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂バインダー３．８ｇと光開始剤（ダロキュアー１１７３）０．２ｇを加えてよく攪拌して、平均分散粒径１４０ｎｍのＩＴＯ微粒子が分散した透明導電層形成用塗布液を得た。
【００６６】
まず、透明導電層付フィルムの製造に先立って、耐熱性シリコーン微粘着層を介して支持フィルム（ＰＥＴ：厚さ１００μｍ）が裏打ちされたベースフィルム（ＰＥＴ：厚さ２５μｍ）の加熱収縮処理（１５０℃×１０分、テンションフリー）を行った。その後、ベースフィルム上の全面に厚さ約０．１μｍの金属アルミニウムを蒸着法により形成した。この金属アルミニウム層の表面抵抗値は、約１Ω／□であった。続いて、前記金属アルミニウム層上にポジ型フォトレジストを塗布・乾燥して成膜した後、図４に示す格子パターン（ライン幅＝２０μｍ、格子穴のサイズ：３８０μｍ角、開口率＝９０．３％）を有するフォトマスクを用いて露光し、さらにアルカリ溶液で現像して、最終的に前記格子状のレジスト膜を形成した。そして、レジスト膜が形成されていない部分の金属アルミニウム層を燐酸−硝酸系のエッチング液でエッチング除去し、さらにレジストを除去して、ベースフィルム上に格子状の金属アルミニウム層からなるパターン補助電極層を形成した。
【００６７】
このパターン補助電極層が形成されたベースフィルム上に、前記透明導電層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング（線径：０．０５ｍｍ）し、６０℃で１分間乾燥した後、直径１００ｍｍのハードクロムめっきした金属ロールによる圧延処理（線圧：２００ｋｇｆ／ｃｍ＝１９６Ｎ／ｍｍ、ニップ幅：０．９ｍｍ）を行い、さらに高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化（窒素中、１００ｍＷ/ ｃｍ2 ×２秒間）を行って、ベースフィルムおよびパターン補助電極層上に緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーで構成される透明導電層（膜厚：約０．３μｍ）を形成し、支持フィルム／ベースフィルム／パターン補助電極層および透明導電層からなる実施例１に係る透明導電層付フィルムを得た。
前記透明導電層付フィルムの支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、２．４ｇ／ｃｍであった。ここで、前記剥離強度は、Ｔ型剥離強度（ベースフィルムを３００ｍｍ／ｍｉｎの引張り速度でＴ型ピールを実施）である。また、加熱時の寸法変化率（熱収縮率）は、０．０５％であった。なお、前記寸法変化率（熱収縮率）は、本実施例に係る透明導電層付フィルムを加熱処理（１５０℃×３０分）して求めたフィルムの縦方向（ＭＤ）と横方向（ＴＤ）の寸法変化率（収縮率）の内、値の大きい縦方向（ＭＤ）の寸法変化率（収縮率）を示す。
【００６８】
前記透明導電層の膜特性は、可視光透過率：８８．５％、ヘイズ値：１．９％、表面抵抗値：約２０Ω／□であった。
【００６９】
なお、前記の透明導電層の透過率およびヘイズ値は、パターン補助電極層および透明導電層だけの値であり、それぞれ下記計算式１及び２により求められる。
【００７０】
［計算式１］
透明導電層の透過率（％）＝［（パターン補助電極層および透明導電層と支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムごと測定した透過率）／支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムの透過率］×１００
【００７１】
［計算式２］
透明導電層のヘイズ値（％）＝（パターン補助電極層および透明導電層と支持フィルムにが裏打ちされたベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムのヘイズ値）
【００７２】
また、透明導電層の表面抵抗は、三菱化学（株）製の表面抵抗計ロレスタＡＰ（ＭＣＰ−Ｔ４００）を用い測定した。ヘイズ値と可視光透過率は、村上色彩技術研究所製のヘイズメーター（ＨＲ−２００）を用いて測定した。
【００７３】
次に、上記透明導電層付フィルムの透明導電層上に、蛍光体である硫化亜鉛粒子をフッ素ポリマーを主成分とする樹脂溶液中に分散させた蛍光体ペースト（デュポン製、７１５４Ｊ）を２００メッシュポリエステルスクリーンを用いて４０×２９ｃｍの大きさにスクリーン印刷し、１２０℃×３０分乾燥して、蛍光体層を形成し、該蛍光体層の上に、フッ素ポリマーを主成分とする樹脂溶液中にチタン酸バリウム粒子を分散させた誘電体ペースト（デュポン製、７１５３）を２００メッシュポリエステルスクリーンを用いて４０×２９ｃｍの大きさにスクリーン印刷し、乾燥（１２０℃×３０分）し、これを２度繰り返して、誘電体層を形成した。続いて、前記誘電体層上に、カーボン導電ペースト（藤倉化成製、ＦＥＣ−１９８）を２００メッシュポリエステルスクリーンにより３９×２８ｃｍの大きさにスクリーン印刷し、１３０℃×３０分間乾燥し背面電極層を形成した。
【００７４】
その後、前記透明導電層の一辺（発光部分でない端部）、および背面電極層の一部に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成し、支持フィルムを剥離して、本実施例に係るフレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子（ベースフィルム／パターン補助電極層および透明導電層／蛍光体層／誘電体層／背面電極層）を得た。なお、電極間ショート、感電等を防止するために、必要に応じて、透明導電層、背面電極層の絶縁保護コーティングとして、絶縁ペースト（藤倉化成製、ＸＢ−１０１Ｇ）を用いて絶縁層を形成した。
【００７５】
前記分散型ＥＬ素子の作製工程において、ベースフィルムは支持フィルムとの界面で簡単に剥離できた。支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、３．１ｇ／ｃｍであった。このフレキシブル分散型ＥＬ素子の電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加したところ、分散型ＥＬ素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、４８．５Ｃｄ／ｍ２であった。輝度は、輝度計（トプコン社製商品名：ＢＭ−９）で測定した。
【実施例２】
【００７６】
実施例１で、透明導電層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング（線径：０．０７５ｍｍ）して、支持フィルムが裏打ちされたベースフィルム上に緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーで構成される透明導電層（膜厚：約０．５μｍ）を形成し、支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度２．４ｇ／ｃｍで、加熱時の寸法変化率（熱収縮率）０．０５％で、可視光透過率：９５．１％、ヘイズ値：１．４％、表面抵抗値：１５００Ω／□の透明導電層を有する実施例２に係る透明導電層付フィルムを得た以外は、実施例１と同様に行い、フレキシブル分散型ＥＬ素子を得た。
【００７７】
本実施例におけるフレキシブル分散型ＥＬ素子の作製工程においても、ベースフィルムは支持フィルムとの界面で簡単に剥離できた。支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、３．０ｇ／ｃｍであった。このフレキシブル分散型ＥＬ素子の電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加したところ、分散型ＥＬ素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、５３Ｃｄ／ｍ２であった。
【実施例３】
【００７８】
耐熱性シリコーン微粘着層を介して支持フィルム（ＰＥＴ：厚さ１２５μｍ）が裏打ちされたベースフィルム（ＰＥＴ：厚さ１２μｍ）に加熱収縮処理（１５０℃×１５分、テンションフリー）を施して用いた以外は、実施例２と同様に行い、支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度２．３ｇ／ｃｍで、加熱時の寸法変化率（熱収縮率）０．０６％で、可視光透過率：９５．０％、ヘイズ値：１．６％、表面抵抗値：１５００Ω／□の透明導電層を有する透明導電層付フィルムを得た。また、この透明導電層付フィルムを用いた以外は実施例２と同様に行い、フレキシブル分散型ＥＬ素子を得た。
【００７９】
本実施例におけるフレキシブル分散型ＥＬ素子の作製工程においても、ベースフィルムは支持フィルムとの界面で簡単に剥離できた。支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、３．２ｇ／ｃｍであった。このフレキシブル分散型ＥＬ素子の電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加したところ、分散型ＥＬ素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、５３Ｃｄ／ｍ２であった。
（比較例１）
【００８０】
実施例１で、パターン補助電極層の形成を行わず、厚さ２５μｍのベースフィルム上に緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーで構成される透明導電層（膜厚：約０．３μｍ）を形成し、支持フィルム／ベースフィルム／透明導電層からなる透明導電層付フィルムを得た。支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、２．４ｇ／ｃｍであった。また、加熱時の寸法変化率（熱収縮率）は、０．０５％であった。
【００８１】
得られた透明導電層の膜特性は、可視光透過率：９７．８％、ヘイズ値：１．８％、表面抵抗値：５ＫΩ／□であった。なお、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
【００８２】
そして、前記透明導電層付フィルム（表面抵抗値：５ＫΩ／□）を用いた以外は、実施例１と同様にして行い、フレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子を得た。
【００８３】
本比較例の場合は、分散型ＥＬ素子の作製工程において、ベースフィルムは支持フィルムとの界面で簡単に剥離でき、支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、３．１ｇ／ｃｍであった。しかし、この分散型ＥＬ素子の電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加したところ、発光が不均一で、電圧印加用Ａｇリードを設けた一辺の近傍のみが発光し、それ以外の部分は著しく輝度が低下していた。
（比較例２）
【００８４】
実施例１で、パターン補助電極層と緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーで構成される透明導電層を有するＰＥＴフィルムの代わりに、スパッタリング法によりＩＴＯ層が厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（ベースフィルム）上に形成された市販のスパッタリングＩＴＯフィルム（可視光透過率：９２．０％、ヘイズ値：０％、表面抵抗値：１００Ω／□）を用いた以外は、実施例１と同様にして行い、分散型ＥＬ素子（ＰＥＴフィルム／スパッタリングＩＴＯ層／蛍光体層／誘電体層／背面電極層）を得た。なお、前記スパッタリングＩＴＯフィルムの加熱時の寸法変化率（熱収縮率）は、０．３％であった。
【００８５】
上記分散型ＥＬ素子の電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加したところ、分散型ＥＬ素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、５５Ｃｄ／ｍ２であった。
【００８６】
なお、前記のスパッタリングＩＴＯフィルムの透過率及びヘイズ値は、ＩＴＯ層だけの値であり、それぞれ下記計算式１および２により求められている。
【００８７】
［計算式１］
ＩＴＯ層の透過率（％）＝［（ＩＴＯ層が形成されたベースフィルムごと測定した透過率）／ベースフィルムの透過率］×１００
【００８８】
［計算式２］
透明導電層のヘイズ値（％）＝（ＩＴＯ層が形成されたベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（ベースフィルムのヘイズ値）
【００８９】
次に、透明導電層付きフィルムの抵抗値の経時変化を評価するため、実施例１に係る透明導電層付きフィルムを、２５℃、５０〜６０％ＲＨの環境に３ヶ月間放置して表面抵抗値の変化、および外観変化を観察したが、いずれも全く変化が見られなかった。一方、比較例１の透明導電層付きフィルムでは、同様の条件に放置したところ、初期抵抗値の約１０倍まで導電性が悪化した。
【００９０】
また、分散型ＥＬ素子のフレキシビリティ評価を行うため、実施例１に係る分散型ＥＬ素子（支持フィルムを剥離したもの）と比較例２に係る分散型ＥＬ素子を直径５ｍｍの棒にその発光面がそれぞれ内側、および外側となるように１回ずつ巻きつけた後、分散型ＥＬ素子の電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加して、素子の発光状態を観察した。その結果、実施例１においては、発光状態に変化は見られなかったが、比較例２では、スパッタリングＩＴＯ層にクラックが生じ、ほとんどの部分で発光しなくなった。なお、比較例１は、もともと発光が不均一だったので評価していない。
【００９１】
さらに、分散型ＥＬ素子の耐溶剤性評価を行うため、実施例１に係る透明導電層付きフィルムにおいて、アセトンを浸した綿棒でその透明導電層面を１０往復擦って外観変化を観察したが、全く変化が見られなかった。また、この評価を行った透明導電層を用い分散型ＥＬ素子を作製し、電圧印加用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印加して、素子の発光状態を観察したが、綿棒で擦った部分を含めて発光は均一であり、アセトンによる影響は見られなかった。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明の透明導電層付フィルムは、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムやそのフィルムを用いた分散型ＥＬ素子等の各種機能性素子と比べ、フレキシビリティに優れ、かつ高い透明性と導電性を有すると同時に、その導電性が安定しており（経時変化が抑制された）、また、その製造方法によれば、透明導電層付フィルムおよびそれを用いた分散型ＥＬ素子等が組み込まれた各種フレキシブル機能性素子を安価に提供することができる。さらに、前記透明導電層付フィルムを分散型ＥＬ素子に適用した場合は、透明導電層の透明性が高く、かつ、その抵抗値が十分に低いため、高い輝度と発光均一性に優れる大型の素子を得ることが可能となり、またさらに、透明導電層の抵抗値の経時変化が抑制されているため、分散型ＥＬ素子以外の液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子、タッチパネル素子等の各種フレキシブル機能性素子の透明電極として好適である等、そのもたらす効果は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明に係るフレキシブル機能性素子としての分散型ＥＬ素子の一実施例を示す概略断面図である。
【図２】同上の分散型ＥＬ素子が支持フィルムで裏打ちされた状態を示す概略断面図である。
【図３】ベースフィルム上にパターン補助電極層と透明導電層が形成された透明導電層付フィルムの一実施例を示す概略断面図である。
【図４】ベースフィルム上に格子状のパターン補助電極層を形成した後、透明導電層が上記パターン補助電極層を覆うようにベースフィルム上に塗布法によって形成された透明導電層付フィルムの一実施例を示す透明導電層側から見た概略平面図である。
【図５】従来の分散型ＥＬ素子の基本的構造の一例を示す断面図である。
【図６】従来の分散型ＥＬ素子の他の構造例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００９４】
１    透明プラスチックフィルム
２    透明導電層
３    蛍光体層
４    誘電体層
５    背面電極層
６    集電電極
７    絶縁保護層
８    ベースフィルム
９    パターン補助電極層
１０  支持フィルム
【図１】
2009059666.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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