(57)【要約】【課題】記録媒体の塗布領域境界部で生じる輝度ムラを良好に抑制する記録装置及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】記録装置１０は、基板１１を配置する処理ステーション１６と、インクジェット方式で記録媒体を塗布する複数の記録素子１８を備えた記録媒体塗布部１３と、記録媒体の塗布雰囲気を制御する雰囲気制御ユニット１４と、を備える。雰囲気制御ユニット１４は、処理ステーション１６を囲むように設けられた処理室２０と、供給された主溶媒３０を気化させる主溶媒気化部２１と、処理室２０と主溶媒気化部２１との間で気化された主溶媒３０を循環させる循環経路部２２と、を備える。【選択図】図１
2009066526.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象の基板を配置する処理ステーションと、
上記処理ステーションの基板上にインクジェット方式で記録媒体を塗布する複数の記録素子を備えた記録媒体塗布部と、
上記記録媒体塗布部が上記基板上に記録媒体を塗布する際の雰囲気を制御する雰囲気制御ユニットと、を備え、
上記雰囲気制御ユニットは、
上記処理ステーションを囲むように設けられた処理室と、
上記記録媒体の主溶媒が供給されると共に、供給された主溶媒を気化させる主溶媒気化部と、
上記処理室と上記主溶媒気化部との間で気化された主溶媒を循環させる循環経路部と、を備えた記録装置。
【請求項２】
請求項１に記載された記録装置において、
上記処理ステーションへ処理対象の基板を搬入する前に待機させる前段ステーションがさらに設けられた記録装置。
【請求項３】
請求項２に記載された記録装置において、
上記処理ステーションからの処理後の基板を搬出して待機させる後段ステーションがさらに設けられた記録装置。
【請求項４】
請求項３に記載された記録装置において、
上記前段ステーション及び上記後段ステーションが、それぞれ上記処理室内に設けられた記録装置。
【請求項５】
処理対象の基板を処理室内に設けた処理ステーションに配置し、該基板に塗布する記録媒体の主溶媒を気化させ、該処理室内と該処理室外との間で循環させた雰囲気下で該基板にインクジェット方式により記録媒体を塗布する表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載された表示装置の製造方法において、
上記気化した主溶媒の循環を、上記基板の処理及び搬送を通して常時行う表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項５に記載された表示装置の製造方法において、
上記記録媒体を塗布する際の上記処理室内の温度が１５〜３５℃である表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項５に記載された表示装置の製造方法において、
上記処理対象の基板を上記処理ステーションへ搬入する前に前段ステーションで待機させる表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載された表示装置の製造方法において、
上記処理後の基板を上記処理ステーションから搬出した後、後段ステーションで待機させる表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載された表示装置の製造方法において、
少なくとも上記前段ステーションにおける上記基板の待機から上記後段ステーションにおける該基板の待機までを上記処理室内で行う表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録装置及びそれを用いた表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は多様な分野でフラットパネルディスプレイとして用いられているが、視野角によりコントラストや色味が大きく変化する特性がある。また、液晶表示装置は、バックライトなどの光源を必要とするため、低消費電力化が困難であり、さらに薄型化に限界があるという問題がある。
【０００３】
そこで、液晶表示装置に代わる表示装置として、例えば有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬ）を用いた自発光型の表示装置が期待されている。有機ＥＬ素子は、陽極と陰極とで挟まれた有機ＥＬ層に電流を流すことで、有機ＥＬ層を構成する有機分子が発光する。その有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示装置は、自発光型であることから薄膜化や低消費電力化の点で優れており、また高視野角であるため、次世代のフラットパネルディスプレイの候補として大きな注目を集めている。
【０００４】
有機ＥＬ素子は、それを形成している機能性材料の種類によって、一般的に製造方法が異なる。例えば、機能性材料として高分子有機化合物を用いる場合は、スピンコート方式やスクリーン印刷方式、インクジェット方式等の湿式法によって有機ＥＬ素子の機能性材料を成膜する。一方、機能性材料として低分子有機化合物を用いる場合は、真空蒸着方式やスパッタリング方式等の乾式法がよく用いられる。
【０００５】
上記成膜方法の中で、インクジェット方式は、一般的に他方式に比べて成膜材料の使用効率が高く、マスク不要でパターニングが可能であることや大面積の有機ＥＬ表示装置の製造に容易に対応できる等の優れた利点を有している。このため、このインクジェット方式に関する研究が積極的に行われている。また、輝度ムラを改善する方法として、隣接する塗布領域の間にランダムに塗布材料の微小液滴を吐出させることで、塗布領域間の境界を非直線状にし、輝度ムラや色ムラを視認させ難くする方法が知られている。
【０００６】
しかしながら、上記成膜方法では、塗布領域を形成した直後に、塗布材料が設けられた画素において、上下左右の隣接画素が塗布されているかどうかにより、乾燥速度が変わる。隣接する画素のいずれにも塗布材料が設けられた画素（孤立塗布画素）が存在しないため、形成される溶媒雰囲気が希薄で乾燥が早く、輝度ムラの悪化を引き起こす。このため、例えば、特許文献１に開示されているように、成膜時に、装置全体をチャンバールーム化して不活性ガスを循環させた雰囲気制御が行われている。
【特許文献１】特開2005-087844号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記不活性ガス等のガス雰囲気制御では、成膜環境がドライになるため、塗布材料の微小液滴による成膜精度が悪くなる。また、塗布材料を描画する際の記録素子両側の液滴は乾燥が早いため、平坦に成膜するのが困難となる。
【０００８】
本発明は、上述のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、記録媒体の塗布領域境界部で生じる輝度ムラを良好に抑制する記録装置及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る記録装置は、処理対象の基板を配置する処理ステーションと、処理ステーションの基板上にインクジェット方式で記録媒体を塗布する複数の記録素子を備えた記録媒体塗布部と、記録媒体塗布部が基板上に記録媒体を塗布する際の雰囲気を制御する雰囲気制御ユニットと、を備え、雰囲気制御ユニットは、処理ステーションを囲むように設けられた処理室と、記録媒体の主溶媒が供給されると共に、供給された主溶媒を気化させる主溶媒気化部と、処理室と主溶媒気化部との間で気化された主溶媒を循環させる循環経路部と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
このような構成によれば、インクジェット方式による記録媒体の塗布を、気化された記録媒体の主溶媒雰囲気下で行うため、成膜環境がドライにならず、塗布した記録媒体の基板上の所定部分における乾燥速度差の発生を抑制することができる。したがって、記録媒体塗布領域の境界が非直線となるばかりでなく、塗布領域間で発生する膜厚差が抑制されるため、輝度ムラの発生を良好に抑制することができる。さらに、記録媒体の塗布雰囲気を制御する雰囲気制御ユニットは、処理ステーションを囲むように設けられた処理室と、記録媒体の主溶媒が供給されると共に、供給された主溶媒を気化させる主溶媒気化部と、処理室と主溶媒気化部との間で気化された主溶媒を循環させる循環経路部と、を備えるため、処理中の基板が外気と接触せず、記録媒体の変質や劣化等を良好に抑制することができる。また、記録媒体の塗布雰囲気は、気化された記録媒体の主溶媒の循環により作り出されているため、当該塗布雰囲気の状態を良好に保つことができる。
【００１１】
また、本発明に係る記録装置は、処理ステーションへ処理対象の基板を搬入する前に待機させる前段ステーションがさらに設けられていてもよい。
【００１２】
このような構成によれば、処理ステーションへ処理対象の基板を搬入する前に待機させる前段ステーションがさらに設けられているため、処理ステーションへの基板搬入時に外部雰囲気が進入するのを効果的に抑制することができる。
【００１３】
さらに、本発明に係る記録装置は、処理ステーションからの処理後の基板を搬出して待機させる後段ステーションがさらに設けられていてもよい。
【００１４】
このような構成によれば、処理ステーションからの処理後の基板を搬出して待機させる後段ステーションがさらに設けられているため、処理ステーションからの基板搬出時に外部雰囲気が進入するのを効果的に抑制することができる。また、後段ステーションで塗布後の記録媒体を安静に保持しておくことで、インクジェット方式による記録媒体のドットの安定化を図り、記録媒体が基板上に広がるのを良好に抑制することができる。
【００１５】
また、本発明に係る記録装置は、前段ステーション及び後段ステーションが、それぞれ処理室内に設けられていてもよい。
【００１６】
このような構成によれば、各ステーション内での基板の処理や各ステーション間での基板の搬送につていも、気化された記録媒体の主溶媒雰囲気下で行うことになるため、処理ステーションにおける当該雰囲気がより良好に保たれる。
【００１７】
本発明に係る表示装置の製造方法は、処理対象の基板を処理室内に設けた処理ステーションに配置し、基板に塗布する記録媒体の主溶媒を気化させ、処理室内と処理室外との間で循環させた雰囲気下で該基板にインクジェット方式により記録媒体を塗布することを特徴とする。
【００１８】
このような構成によれば、インクジェット方式による記録媒体の塗布を、気化された記録媒体の主溶媒雰囲気下で行うため、成膜環境がドライにならず、塗布した記録媒体の基板上の所定部分における乾燥速度差の発生を抑制することができる。したがって、記録媒体塗布領域の境界が非直線となるばかりでなく、塗布領域間で発生する膜厚差が抑制されるため、輝度ムラの発生を良好に抑制することができる。また、記録媒体の塗布雰囲気は、気化された記録媒体の主溶媒の循環により作り出されているため、当該塗布雰囲気の状態を良好に保つことができる。
【００１９】
また、本発明に係る表示装置の製造方法は、気化した主溶媒の循環を、基板の処理及び搬送を通して常時行ってもよい。
【００２０】
このような構成によれば、気化した主溶媒の循環を、基板の処理及び搬送を通して常時行うため、所望の処理雰囲気を常に良好に保つことができる。
【００２１】
さらに、本発明に係る表示装置の製造方法は、記録媒体を塗布する際の処理室内の温度が１５〜３５℃であってもよい。
【００２２】
このような構成によれば、記録媒体を塗布する際の処理室内の温度が１５〜３５℃であるため、気化した主溶媒の粘度が記録媒体の塗布に最適なものとなり、塗布した記録媒体の基板上の所定部分における乾燥速度差の発生をさらに良好に抑制することができる。
【００２３】
また、本発明に係る表示装置の製造方法は、基板を処理ステーションへ搬入する前に前段ステーションで待機させてもよい。
【００２４】
このような構成によれば、基板を処理ステーションへ搬入する前に前段ステーションで待機させるため、処理ステーションへの基板搬入時に外部雰囲気が進入するのを効果的に抑制することができる。
【００２５】
さらに、本発明に係る表示装置の製造方法は、処理後の基板を処理ステーションから搬出した後、後段ステーションで待機させてもよい。
【００２６】
このような構成によれば、処理後の基板を処理ステーションから搬出した後、後段ステーションで待機させるため、処理ステーションからの基板搬出時に外部雰囲気が進入するのを効果的に抑制することができる。また、後段ステーションで塗布後の記録媒体を安静に保持することで、インクジェット方式による記録媒体のドットの安定化を図り、記録媒体が基板上に広がるのを良好に抑制することができる。
【００２７】
また、本発明に係る表示装置の製造方法は、少なくとも前段ステーションにおける基板の待機から後段ステーションにおける基板の待機までを処理室内で行ってもよい。
【００２８】
このような構成によれば、少なくとも前段ステーションにおける基板の待機から後段ステーションにおける基板の待機までを処理室内で行うため、処理ステーションにおける当該雰囲気がより良好に保たれる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、記録媒体の塗布領域境界部で生じる輝度ムラを良好に抑制する記録装置及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、以下、製造する表示装置として、有機ＥＬ表示装置を例に挙げて説明する。
【００３１】
（実施形態）
（記録装置１０の構成）
図１に、本発明の実施形態に係る記録装置１０の断面模式図を示す。図２は、記録装置１０の各ステーション１５〜１７の配置構成の上面模式図を示す。また、図１は、図２のＩ−Ｉ線断面である。
【００３２】
記録装置１０は、処理対象の基板１１を載置するステージ１２、ステージ１２上に設けられた記録媒体塗布部１３、及び、記録媒体塗布部１３が基板１１上に記録媒体を塗布する際の雰囲気を制御する雰囲気制御ユニット１４を備えている。
【００３３】
ステージ１２には、処理対象の基板１１を待機させる前段ステーション１５、前段ステーション１５から基板１１を搬入して記録媒体の塗布処理を行う処理ステーション１６、及び、処理ステーション１６から処理後の基板１１を搬出し、待機させておく後段ステーション１７の、３つの領域が設けられている。ステージ１２上には、基板１１を吸着固定するための不図示の吸着部が形成されている。ステージ１２の処理ステーション１６には、基板１１を精度良く配置するための不図示のアライメント部が設けられている。
【００３４】
記録媒体塗布部１３は、処理ステーション１６の基板１１上にインクジェット方式で記録媒体を塗布する複数の記録素子１８を備えた記録ヘッド１９、記録ヘッド１９へ記録媒体を送る不図示の塗布部本体を備えている。
【００３５】
雰囲気制御ユニット１４は、処理室２０、主溶媒気化部２１、及び、循環経路部２２を備えている。
【００３６】
処理室２０は、ステージ１２の各ステーション１５〜１７及び記録ヘッド１９の少なくとも記録媒体塗布領域を囲むように設けられている。処理室２０には、ステージ１２の前段ステーション１５へ処理対象の基板１１を搬入する搬入口２３、及び、ステージ１２の後段ステーション１７から処理後の基板１１を搬出する搬出口２４が設けられている。搬入口２３及び搬出口２４は、それぞれ開閉自在に構成されている。処理室２０には、処理ステーション対応位置の側面において、それぞれ対向するように主溶媒の通気口２５が形成されている。
【００３７】
主溶媒気化部２１には、記録媒体の主溶媒３０（トリメチルベンゼンやエチレングリコール等）が供給される気化部本体２６、気化部本体２６内の記録媒体を加熱等により気化させる温調設備２７が設けられている。
【００３８】
循環経路部２２は、処理室２０の一方の通気口２５と主溶媒気化部２１、及び、他方の通気口２５と主溶媒気化部２１とを連通するように設けられており、これにより、処理室２０と主溶媒気化部２１との間で、気化された主溶媒３０を循環させている。循環経路部２２には、処理室２０から排出された主溶媒３０が主溶媒気化部２１へ戻される途中にフィルター２８が設けられている。循環経路部２２には、主溶媒３０を経路内で循環させるブロアー２９が設けられている。
【００３９】
（記録装置１０の機能）
次に、記録装置１０の機能について説明する。
【００４０】
ステージ１２は、処理室２０へ搬入口２３から搬入された処理対象の基板１１をまず前段ステーション１５で待機させる。その後、所定のタイミングで基板１１を処理ステーション１６へ搬送する。処理ステーション１６で記録媒体の塗布が行われた基板１１は、その後、後段ステーション１７へ搬送され、所定時間待機される。後段ステーション１７の基板１１は、待機後、処理室２０外へ搬出口２４から搬出される。搬入口２３及び搬出口２４は、処理室２０内の雰囲気を安定に保つために、それぞれ基板１１が通過するときだけ開かれ、通過後はすぐに閉じられる。
【００４１】
記録媒体塗布部１３は、塗布部本体から送られた記録媒体を記録ヘッド１９に設けられた複数の記録素子１８からインクジェット方式で処理ステーション１６に配置された基板１１上へ塗布する。このとき、記録素子１８により記録媒体は微小液滴３１として基板１１上に塗布される。記録媒体塗布部１３の記録ヘッド１９とステージ１２とは相対移動することにより、基板１１上に記録媒体の所定パターンを形成する。
【００４２】
雰囲気制御ユニット１４は、気化された主溶媒３０を常に循環させることにより、処理室２０内の雰囲気を安定に保っている。具体的には、主溶媒気化部２１の気化部本体２６内の主溶媒３０が、温調設備２７により加熱されて気化される。気化された主溶媒３０は、気化部本体２６に連通された循環経路部２２を通り、処理室２０の一方の通気口２５から処理室２０内へ送られる。処理室２０内へ送られた気化された主溶媒３０が処理室２０内を満たし、他方の通気口２５から循環経路を通り、途中のフィルター２８で浄化された後、気化部本体２６内へ戻される。このとき、循環経路部２２に設けたブロアー２９を常時作動させることにより、処理室２０と主溶媒気化部２１との間において、主溶媒３０の循環が常に行われる。
【００４３】
（記録装置１０を用いた有機ＥＬ表示装置４０の製造方法）
次に、記録装置１０を用いた有機ＥＬ表示装置４０の製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。ここで、図３は、本発明の実施形態に係る製造方法によって製造される有機ＥＬ表示装置４０の上面図を示す。図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線における断面図を示す。
【００４４】
まず、ガラス基板４１を準備し、ガラス基板上にアモルファスシリコン膜や多結晶シリコン膜で作製されたＴＦＴをマトリクス状に形成し、さらにスパッタリング法によってＩＴＯ膜を形成する。
【００４５】
続いて、ガラス基板のＩＴＯ膜をパターニングして陽極４２を形成する。陽極４２は、ＴＦＴと平坦化層の機能を有する層間絶縁膜で分離し、層間絶縁膜に穿ったコンタクトホールを通して、その下のマトリクス状に形成されたＴＦＴに各々電気的に接続する。
【００４６】
次に、ガラス基板４１上に、スパッタリング法によってＳｉＯ２膜４３を形成し、パターニングする。
【００４７】
次に、パターニングしたＳｉＯ２膜４３上に感光性アクリル樹脂を塗布し、露光及び現像を行って障壁４４を形成する。また、プラズマ処理を施して、障壁４４に親水性を、それに囲まれた開口部４５に撥水性をそれぞ付与する。このとき、例えば、障壁４４には、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理を行う。開口部４５には、四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。
【００４８】
次に、図１に示すように、記録装置１０を準備し、主溶媒気化部２１の気化部本体２６内にトリメチルベンゼンやエチレングリコール等の記録媒体の主溶媒３０を供給する。また、処理室２０内の温度を例えば１５〜３５℃程度に設定しておく。
【００４９】
次いで、主溶媒３０を温調設備２７により加熱して気化させると共に、ブロアー２９を作動させて処理室２０と主溶媒気化部２１との間で主溶媒３０を常時循環させる。ここで、温調設備２７による加熱は、主溶媒３０がトリメリルベンゼンであれば２３℃以上とし、エチレングリコールであれば３０℃以上とする。
【００５０】
このように、処理室２０内を気化した主溶媒３０で十分に満たした状態で、図２に示すように、搬入口２３を開いて基板１１をステージ１２の前段ステーション１５へ搬入して搬入口２３を閉じ、基板１１を前段ステーション１５で数秒間待機させた後、処理ステーション１６へ送る。このとき、ステージ１２上の吸着部で基板１１を吸着固定し、さらに処理ステーション１６に設けられたアライメント部によって精度良く基板１１が配置される。
【００５１】
処理ステーション１６に基板１１が配置されると、記録媒体塗布部１３の記録ヘッド１９が基板１１上の所定描画位置上へ移動し、塗布部本体から送られた所定の記録媒体を複数の記録素子１８からインクジェット方式で基板１１上へ塗布する。このとき、記録素子１８により記録媒体は微小液滴３１として基板１１上に塗布される。また、記録媒体塗布部１３の記録ヘッド１９とステージ１２とが相対移動することにより、基板１１上に記録媒体の所定パターンを形成する。
【００５２】
次に、処理後の基板１１を後段ステーション１７へ搬送し、記録媒体が面内に均一に広がるまで数秒間待機させる。
【００５３】
続いて、搬出口２４を開き、基板１１を処理室２０外へ搬出し、搬出口２４を閉じる。処理室２０外へ搬出された基板１１は、その後、１０℃以上、且つ、６０秒間以上の減圧乾燥処理、又は、７０℃以上、且つ、６０秒間以上の焼成処理によって乾燥させる。
【００５４】
以上により正孔輸送層４７を形成し、再度処理室２０の搬入口２３から基板１１を前段ステーション１５、処理ステーション１６へと順次搬入し、上述と同様にして所定の記録媒体の塗布を繰り返すことにより、さらに発光層４８及び有機層４９を形成する。
【００５５】
次いで、公知の技術を用いて、基板１１上にＢａ及びＡｌ等で構成される陰極（不図示）を形成し、有機ＥＬ表示装置４０を製造する。
【００５６】
尚、本実施形態では、表示装置として有機ＥＬ（organic electroluminescence ）に係る表示装置について説明したが、これに限らず、ＬＣＤ（liquid crystal display；液晶表示ディスプレイ）、ＰＤ（plasma display；プラズマディスプレイ）、ＰＡＬＣ（plasma addressed liquid crystal display；プラズマアドレス液晶ディスプレイ）、無機ＥＬ（inorganic electroluminescence ）、ＦＥＤ（field emission display；電界放出ディスプレイ）、又は、ＳＥＤ（surface-conduction electron-emitter display；表面電界ディスプレイ）等のその他の記録媒体層を備えた表示装置についても適用することができる。
【００５７】
（作用効果）
次に、本発明の実施形態に係る記録装置１０の作用効果について説明する。
【００５８】
本発明に係る記録装置１０は、処理対象の基板１１を配置する処理ステーション１６と、処理ステーション１６の基板１１上にインクジェット方式で記録媒体を塗布する複数の記録素子１８を備えた記録媒体塗布部１３と、記録媒体塗布部１３が基板１１上に記録媒体を塗布する際の雰囲気を制御する雰囲気制御ユニット１４と、を備え、雰囲気制御ユニット１４は、処理ステーション１６を囲むように設けられた処理室２０と、記録媒体の主溶媒３０が供給されると共に、供給された主溶媒３０を気化させる主溶媒気化部２１と、処理室２０と主溶媒気化部２１との間で気化された主溶媒３０を循環させる循環経路部２２と、を備えたことを特徴とする。
【００５９】
このような構成によれば、インクジェット方式による記録媒体の塗布を、気化された記録媒体の主溶媒雰囲気下で行うため、成膜環境がドライにならず、塗布した記録媒体の基板１１上の所定部分における乾燥速度差の発生を抑制することができる。したがって、記録媒体塗布領域の境界が非直線となるばかりでなく、塗布領域間で発生する膜厚差が抑制されるため、輝度ムラの発生を良好に抑制することができる。さらに、記録媒体の塗布雰囲気を制御する雰囲気制御ユニット１４は、処理ステーション１６を囲むように設けられた処理室２０と、記録媒体の主溶媒３０が供給されると共に、供給された主溶媒３０を気化させる主溶媒気化部２１と、処理室２０と主溶媒気化部２１との間で気化された主溶媒３０を循環させる循環経路部２２と、を備えるため、処理中の基板１１が外気と接触せず、記録媒体の変質や劣化等を良好に抑制することができる。また、記録媒体の塗布雰囲気は、気化された記録媒体の主溶媒３０の循環により作り出されているため、当該塗布雰囲気の状態を良好に保つことができる。
【実施例】
【００６０】
次に、本発明の実施形態に係る記録装置１０を用いて有機ＥＬ表示装置を製造し、その試験評価を行った。
【００６１】
（評価試験）
まず、上述の本発明の実施形態に記載した記録装置１０及びそれを用いた製造方法によって有機ＥＬ表示装置を製造して実施例とし、各画素ごとの輝度を評価し、その結果を図５に示した。また、図６は、それぞれ図５の番号（１〜７）に対応する有機ＥＬ表示装置の画素領域（１０１〜１０７）の断面図を示す。
【００６２】
次に、上述の本発明の実施形態に記載した記録装置１０において、気化させた記録媒体の主溶媒による雰囲気制御を行わない状態で有機ＥＬ表示装置を製造して比較例とし、各画素ごとの輝度を評価し、その結果を図７に示した。また、図８は、それぞれ図７の番号（１〜７）に対応する有機ＥＬ表示装置の画素領域（２０１〜２０７）の断面図を示す。
【００６３】
（評価結果）
実施例に係る有機ＥＬ表示装置は、図５に示すように記録媒体の塗布領域両端のプロファイルが最適化、且つ、安定化することで輝度が均一となり、表面の輝度ムラが改善された。
【００６４】
これに比べて、比較例に係る有機ＥＬ表示装置は、図７に示すように塗布領域両端の乾燥が早く、膜厚が厚く仕上がってしまい、輝度が暗くなる部分が生じ、表面に輝度ムラが発生した。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
以上説明したように、本発明は、記録装置及びそれを用いた表示装置の製造方法に関する。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施形態に係る記録装置の断面模式図である。
【図２】記録装置の各ステーションの配置構成の上面模式図である。
【図３】本発明の実施形態に係る製造方法によって製造される有機ＥＬ表示装置の上面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線における断面図である。
【図５】実施例に係る有機ＥＬ表示装置の輝度評価結果を示すグラフである。
【図６】図５の番号に対応する有機ＥＬ表示装置の画素領域の断面図である。
【図７】比較例に係る有機ＥＬ表示装置の輝度評価結果を示すグラフである。
【図８】図７の番号に対応する有機ＥＬ表示装置の画素領域の断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０      記録装置
１１      基板
１２      ステージ
１３      記録媒体塗布部
１４      雰囲気制御ユニット
１５      前段ステーション
１６      処理ステーション
１７      後段ステーション
１８      記録素子
１９      記録ヘッド
２０      処理室
２１      主溶媒気化部
２２      循環経路部
２３      搬入口
２４      搬出口
２５      通気口
２６      気化部本体
２７      温調設備
２８      フィルター
２９      ブロアー
３０      主溶媒
３１      微小液滴
４０      有機ＥＬ表示装置
４３      ＳｉＯ２膜
４４      障壁
４５      開口部
４７      正孔輸送層
４８      発光層
４９      有機層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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