(57)【要約】【課題】オリジナル画像データに地紋画像データを合成して出力するときに、地紋画像データの保持に要するメモリの容量及びメモリへのアクセス回数を低減する。【解決手段】地紋元画像データａは、オリジナル画像データよりも低い解像度で地紋元画像保持手段１３に保持され、読み出されたときに、地紋元画像変倍器１６により、オリジナル画像データの解像度に変倍される。マスクパターンデータｄ、不正コピーガードパターンｅも、オリジナル画像データよりも低い解像度で、それぞれマスクパターン保持手段２１、不正コピーガードパターン保持手段に保持され、読み出されたときに、マスク地紋生成器３１、不正コピーガード地紋生成器３２により、オリジナル画像データの解像度に変倍される。【選択図】  図２
2009044623.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地紋元画像データ、並びに前景パターンデータ、背景パターンデータ、マスクパターンデータ及び不正コピーガードパターンデータのうち所要のパターンデータに基づいて地紋画像データを生成し、該地紋画像データをオリジナル画像データと合成する画像処理装置であって、
前記地紋元画像データを前記出力画像データの解像度よりも低い解像度で保持する地紋元画像保持手段と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータを前記出力画像データの解像度よりも低い解像度で保持するパターン保持手段と、前記地紋元画像保持手段で保持される地紋元画像データの解像度を設定する第１の解像度設定手段と、前記パターン保持手段で保持されるマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの解像度を設定する第２の解像度設定手段と、前記地紋元画像保持手段に保持されている地紋元画像データ並びに前記パターンデータ保持手段に保持されているマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータに基づいて地紋画像データを生成する生成手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の画像処理装置において、
前記地紋元画像の複雑さを検知する第１の検知手段と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの複雑さを検知する第２の検知手段とを有し、前記第１、第２の解像度設定手段は、それぞれ前記第１、第２の検知手段で検知された複雑さに基づいて解像度を設定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
請求項１記載の画像処理装置において、
前記生成手段は、前記保持されている地紋元画像データの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第１の変倍率を算出する第１の変倍率算出手段と、前記保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第２の変倍率を算出する第２の変倍率算出手段と、前記保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータを前記算出された第１及び第２の変倍率に基づいて変倍する変倍手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項４】
請求項３記載の画像処理装置において、
前記変倍手段は、前記第１の変倍率に基づいて、前記地紋元画像保持手段に保持されている地紋元画像データの主走査方向の変倍、及び該地紋元画像データの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行い、前記第２の変倍率に基づいて、前記パターン保持手段に保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの主走査方向の変倍、及び該スクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行うことを特徴とする画像処理装置。
【請求項５】
地紋元画像データ、並びに前景パターンデータ、背景パターンデータ、マスクパターンデータ及び不正コピーガードパターンデータのうち所要のパターンデータに基づいて地紋画像データを生成し、該地紋画像データをオリジナル画像データと合成する画像処理方法であって、
前記地紋元画像データを保持するときの解像度を前記出力画像データの解像度よりも低い解像度に設定する第１の解像度設定工程と、該第１の解像度設定工程により設定された解像度で前記地紋元画像データを保持する工程と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータを保持するときの解像度を前記出力画像データの解像度よりも低い解像度に設定する第２の解像度設定工程と、該第２の解像度設定工程により設定された解像度で前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータを保持する工程と、該保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータに基づいて、地紋画像データを生成する生成工程とを有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項６】
請求項５記載の画像処理方法において、
前記地紋元画像の複雑さを検知する第１の検知工程と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの複雑さを検知する第２の検知工程とを有し、前記第１、第２の解像度設定工程は、それぞれ前記第１、第２の検知工程手段で検知された複雑さに基づいて解像度を設定することを特徴とする画像処理方法。
【請求項７】
請求項５記載の画像処理方法において、
前記生成工程は、前記保持されている地紋元画像データの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第１の変倍率を算出する第１の変倍率算出工程と、前記保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第２の変倍率を算出する第２の変倍率算出工程と、前記保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータを前記算出された第１及び第２の変倍率に基づいて変倍する変倍工程とを有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
請求項７記載の画像処理方法において、
前記変倍工程は、前記第１の変倍率に基づいて、前記保持されている地紋元画像データの主走査方向の変倍、及び該地紋元画像データの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行い、前記第２の変倍率に基づいて、前記保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの主走査方向の変倍、及び該マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行うことを特徴とする画像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像処理装置及び画像処理方法に関し、詳細には、オリジナル画像の複写を抑制するための地紋画像等をそのオリジナル画像に合成する機能を有する画像処理装置及び画像処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
領収書、有価証券、各種証明書などには、簡単に複写されることがないように、複写すると文字や画像が浮かび上がる特殊な模様が背景に印刷されているものがある。この特殊な模様は一般に「偽造抑止地紋」と呼ばれ、複写によって原本が容易に複製できないような仕掛けを施すことで、心理的に原本の複写を抑止している。しかし、このような偽造防止用紙は通常の用紙と比較してコストが高いという問題がある。
【０００３】
このような問題に対処した装置として、コンピュータを用いて印刷用のオリジナル画像データに地紋画像データを合成し、プリンタで普通紙に印刷する画像処理装置がある（特許文献１参照）。この印刷された地紋を含む画像は、印刷物である原本では人間の目には単なる模様や背景画像などに見えるが、複写すると所定の文字やイメージなどが顕像化する。従って、この原本は上記の偽造防止用紙と同様な複写抑制効果を与えることができる。
【０００４】
地紋画像は、複写物にも原本と同様の画像が残る前景（潜像）領域と、原本には存在する画像が消えるか或いは薄くなる背景領域の２つの領域から構成される。前景領域は、図１０Ａに示すような、比較的大きなドットを比較的疎に配置した前景パターンにより構成されているため、複写されない。一方、背景領域は、図１０Ｂに示すような、比較的小さなドットを比較的密に配置した背景パターンにより構成されているため、複写される。
【０００５】
また、地紋画像データは、図１０Ｃに示すような、背景をより判別しにくくする、「マスクパターン（カモフラージュ）」パターンを備えている。このマスクパターンの濃度を前景や背景の濃度と異ならせて、地紋画像領域全体に配置することにより、マクロ的には、前景や背景とは異なる濃度のカモフラージュ模様が目立ち、潜像が更に目立たなくなる。
【０００６】
以上のような前景パターン、背景パターン、マスクパターンと、図１０Ｄに示すような地紋元画像データとを用い、地紋元画像の文字（ここでは「ＣＯＰＹ」の３段）の部分に前景パターンを配置し、文字以外の部分に背景パターンを配置し、所定の地紋画像領域にマスクパターンを配置することで、図１０Ｅに示すように、地紋画像データｇを生成し、これをオリジナル画像データｈ（画面のみ図示）と合成することで印刷データを得る。この印刷データで印刷した原本には図１０Ｅと同様な画像が形成されており、それを複写すると、図１０Ｆに示すように、マスクパターンなどが消え、地紋元画像の文字が顕像化する。
【０００７】
しかしながら、前記従来の画像処理装置では、地紋元画像データ及び各パターンともに、印刷出力する画像データと同じ解像度でメモリに保持しているため、出力画像の解像度が高い場合に、必要とするメモリ容量が大きくなってしまうという問題がある。また、メモリ容量が大きくなることに伴い、メモリにアクセスする回数も多くなってしまうという問題もある。
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−９４３２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、その目的は、オリジナル画像データに地紋画像データを合成して出力するときに、地紋画像データの保持に要するメモリの容量及びメモリへのアクセス回数を低減することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、地紋元画像データ、並びに前景パターンデータ、背景パターンデータ、マスクパターンデータ及び不正コピーガードパターンデータのうち所要のパターンデータに基づいて地紋画像データを生成し、該地紋画像データをオリジナル画像データと合成する画像処理装置であって、前記地紋元画像データを前記出力画像データの解像度よりも低い解像度で保持する地紋元画像保持手段と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータを前記出力画像データの解像度よりも低い解像度で保持するパターン保持手段と、前記地紋元画像保持手段で保持される地紋元画像データの解像度を設定する第１の解像度設定手段と、前記パターン保持手段で保持されるマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの解像度を設定する第２の解像度設定手段と、前記地紋元画像保持手段に保持されている地紋元画像データ並びに前記パターンデータ保持手段に保持されているマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータに基づいて地紋画像データを生成する生成手段とを有することを特徴とする画像処理装置である。
請求項２の発明は、請求項１記載の画像処理装置において、前記地紋元画像の複雑さを検知する第１の検知手段と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの複雑さを検知する第２の検知手段とを有し、前記第１、第２の解像度設定手段は、それぞれ前記第１、第２の検知手段で検知された複雑さに基づいて解像度を設定することを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１記載の画像処理装置において、前記生成手段は、前記保持されている地紋元画像データの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第１の変倍率を算出する第１の変倍率算出手段と、前記保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第２の変倍率を算出する第２の変倍率算出手段と、前記保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータを前記算出された第１及び第２の変倍率に基づいて変倍する変倍手段とを有することを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項３記載の画像処理装置において、前記変倍手段は、前記第１の変倍率に基づいて、前記地紋元画像保持手段に保持されている地紋元画像データの主走査方向の変倍、及び該地紋元画像データの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行い、前記第２の変倍率に基づいて、前記パターン保持手段に保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの主走査方向の変倍、及び該スクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行うことを特徴とする。
請求項５の発明は、地紋元画像データ、並びに前景パターンデータ、背景パターンデータ、マスクパターンデータ及び不正コピーガードパターンデータのうち所要のパターンデータに基づいて地紋画像データを生成し、該地紋画像データをオリジナル画像データと合成する画像処理方法であって、前記地紋元画像データを保持するときの解像度を前記出力画像データの解像度よりも低い解像度に設定する第１の解像度設定工程と、該第１の解像度設定工程により設定された解像度で前記地紋元画像データを保持する工程と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータを保持するときの解像度を前記出力画像データの解像度よりも低い解像度に設定する第２の解像度設定工程と、該第２の解像度設定工程により設定された解像度で前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータを保持する工程と、該保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータに基づいて、地紋画像データを生成する生成工程とを有することを特徴とする画像処理方法である。
請求項６の発明は、請求項５記載の画像処理方法において、前記地紋元画像の複雑さを検知する第１の検知工程と、前記マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの複雑さを検知する第２の検知工程とを有し、前記第１、第２の解像度設定工程は、それぞれ前記第１、第２の検知工程手段で検知された複雑さに基づいて解像度を設定することを特徴とする。
請求項７の発明は、請求項５記載の画像処理方法において、前記生成工程は、前記保持されている地紋元画像データの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第１の変倍率を算出する第１の変倍率算出工程と、前記保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの解像度を前記オリジナル画像データの解像度に変換するための第２の変倍率を算出する第２の変倍率算出工程と、前記保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータを前記算出された第１及び第２の変倍率に基づいて変倍する変倍工程とを有することを特徴とする。
請求項８の発明は、請求項７記載の画像処理方法において、前記変倍工程は、前記第１の変倍率に基づいて、前記保持されている地紋元画像データの主走査方向の変倍、及び該地紋元画像データの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行い、前記第２の変倍率に基づいて、前記保持されているマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの主走査方向の変倍、及び該マスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行うことを特徴とする。
【００１１】
［作用］
請求項１、５の発明によれば、地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ又は若しくは不正コピーガードパターンデータの解像度をオリジナル画像データの解像度よりも低い解像度に設定して保持し、それらの保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータに基づいて、オリジナル画像データの解像度と同じ解像度の地紋画像データを生成する。
請求項２、６の発明によれば、地紋元画像の複雑さを検知し、その検知知された複雑さに基づいて、保持される地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータの解像度を設定する。
請求項３、７の発明によれば、保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータの解像度をオリジナル画像データの解像度に変換するための変倍率を算出し、算出された変倍率に基づいて、保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータを変倍する。
請求項４、８の発明によれば、算出された変倍率に基づいて、保持されている地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータの主走査方向の変倍、及び該地紋元画像データ並びにマスクパターンデータ若しくは不正コピーガードパターンデータの同一ラインの繰り返し読み出しによる副走査方向の変倍を行う。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、オリジナル画像データに地紋画像データを合成して出力するときに、地紋画像データの保持に要するメモリの容量及びメモリへのアクセス回数を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は本発明の実施形態の画像処理装置の概略ブロック図である。この画像処理装置は、地紋生成器２と、画像合成器４と、画像データ出力装置６とからなる。ここで、地紋生成器２及び画像合成器４はホストコンピュータのハードウェア及びソフトウェアにより実現される。また、画像データ出力装置６はコンピュータ用のプリンタである。地紋生成器２及び画像合成器４を画像データ出力装置６のプリンタコントローラにより実現することもできる。
【００１４】
地紋生成器２には、地紋元画像データａ、前景パターンデータｂ、背景パターンデータｃ、マスクパターンデータｄ、不正コピーガードパターンデータｅ、及び地紋生成領域情報ｆが入力され、これの入力データに基づいて、地紋画像データｇを生成する。
【００１５】
ここで、地紋元画像データａ、前景パターンデータｂ、背景パターンデータｃ、及びマスクパターンデータｄは図１０に示したものと同様なものである。地紋元画像データａについては、図１０Ｄ、Ｆに示すようなコピーしたときに文字が濃く浮き出るもの（通常地紋）と、反対に白抜きになるもの（反転地紋）とがある。不正コピーガードパターンデータｅは、不正コピー検知機能付の複写機が検知可能な特殊なパターンを形成するためのデータである。地紋生成領域情報ｆは、印刷用のオリジナル画像内において地紋画像データｇを合成する領域を示す情報である。
【００１６】
各パターンデータは最小単位が入力される。また、詳細は後述するが、地紋元画像データａ、マスクパターンデータｄ、及び不正コピーガードパターンｅについては、印刷用のオリジナル画像データよりも低解像度で保持し、地紋画像データｇを生成するときに、オリジナル画像データの解像度に合うように解像度を高くする。
【００１７】
マスクパターンデータｄ、不正コピーパターンデータｅは、ユーザの指示によりいずれか一方を入力することができる。マスクパターンデータｄを入力するときは、地紋元画像データａ、前景パターンデータｂ、及び背景パターンデータｃをセットで入力し、不正コピーパターンデータｅを入力するときは、地紋元画像データａ、及び背景パターンデータｃをセットで入力する。これにより、不正コピーガードパターンを有する地紋画像データをオリジナル画像データに合成して生成した印刷データによる印刷原本を不正コピーパターンデータの検知機能のない複写機でコピーしたときに、地紋元画像が白抜きで見えるようにすることができる。
【００１８】
画像合成器４には、オリジナル画像データｈと、地紋生成器２で生成された地紋画像データｇとが入力され、それらを合成して印刷データを生成する。オリジナル画像データｈは、イメージスキャナで読み込まれたり、コンピュータで作成されたりした印刷用の画像データである。印刷データは画像出力装置６に送られ、出力画像ｉが生成される。
【００１９】
図２は図１における地紋生成器２の内部構成を示すブロック図である。
地紋生成器２は、地紋画像データｇを生成するためのデータの保持手段として、地紋元画像データａを保持する地紋元画像データ保持手段１３、前景パターンデータｂを保持する前景パターン保持手段１７、背景パターンデータｃを保持する背景パターン保持手段１８、マスクパターンデータｄを保持するマスクパターン保持手段２１、及び不正コピーガードパターンデータｅを保持する不正コピーガードパターン保持手段２５を備えている。
【００２０】
ここで、前景パターンｂ及び背景パターンｃは、オリジナル画像データｈの解像度と同じ解像度で入力され、保持される。一方、地紋元画像データａ、マスクパターンデータｄ、及び不正コピーガードパターンデータｅのような、オリジナル画像ほど滑らかさが要求されないデータは、オリジナル画像データｈよりも低い解像度で保持する。
【００２１】
そのため、地紋元画像データａについては、地紋元画像解像度決定手段１２が、地紋元画像データ生成手段１１で生成された地紋元画像地紋元画像データａの複雑さを検知し、その複雑さに応じて解像度を自動決定する。そして、その解像度で地紋元画像保持手段１３が地紋元画像データａを保持する。地紋元画像データ生成手段１１は、ユーザがコンピュータを操作することで動作する機能ブロックであり、任意の通常地紋及び反転地紋を作成することができる。地紋元画像の複雑さについて説明すると、例えば図９Ｄに示す地紋元画像データにおいて、背景の白の部分を「０」、文字の部分を「１」とした場合、「１」の分散の度合が高いほど複雑さが高いと言える。
【００２２】
同様にマスクパターンデータｄについても、マスクパターン解像度決定手段２０が、マスクパターン選択手段１９で選択されたマスクパターンデータｄの複雑さを検知し、その複雑さに応じて、解像度を自動決定する。そして、その解像度でマスクパターン保持手段２１がマスクパターンデータｄを保持する。ここで、マスクパターン選択手段１９は、ユーザがコンピュータを操作することで動作する機能ブロックであり、予め登録されている複数のパターンの中から任意のパターンを選択することができる。
【００２３】
また、不正コピーガードパターンデータｅについても、不正コピーガードパターン解像度決定手段２４が、入力された不正コピーガードパターンデータｅの複雑さを検知し、その複雑さに応じて、解像度を自動決定する。そして、その解像度でマスクパターン保持手段２５が不正コピーガードパターンデータｅを保持する。
【００２４】
地紋合成器３３は、前述した各保持手段１３，１７，１８，２１，２５に保持されているデータ、及び地紋生成領域生成手段２８により生成された地紋生成領域情報ｆに基づいて、地紋画像データｇを生成する。地紋生成領域生成手段２８は、ユーザがコンピュータを操作することで実現される機能ブロックである。
【００２５】
地紋元画像変倍器１６は、地紋元画像保持手段１３に保持されている地紋元画像データａを読み出し、オリジナル画像データｈの解像度に変倍し、所定単位（例：６４ビット）で地紋合成器３３へ出力する。このとき、地紋元画像解像度自動決定手段１２から出力される地紋元画像データの解像度情報と、ユーザにより予め設定されているオリジナル画像データｈの解像度情報（図では出力画像解像度）とに基づいて、地紋元画像変倍率算出手段１４が変倍率を算出し、地紋元画像変倍率保持手段１５がその変倍率情報を保持するとともに、地紋元画像変倍器１６に供給する。地紋元画像変倍器１６は、地紋元画像変倍率保持手段１５から供給された変倍率情報に基づいて変倍を行う。図３Ａは地紋元画像保持手段１３に保持されている地紋元画像データに対応する画像であり、図３Ｂはオリジナル画像データｈの解像度に変倍した地紋元画像データに対応する画像である。
【００２６】
前景地紋生成器２９は、前景パターン保持手段１７に保持されている最小単位の前景パターンデータｂを読み出し、前景パターンの最小単位サイズと、地紋生成領域情報生成手段２８から入力された地紋生成領域情報ｆとから、地紋生成領域に合うように、地紋元画像データａと同じ単位（例：６４ビット）で地紋合成器３３へ出力する。
【００２７】
同様に、背景地紋生成器３０は、背景パターン保持手段１８に保持されている最小単位の背景パターンデータｃを読み出し、背景パターンの最小単位サイズと、地紋生成領域情報生成手段２８から入力された地紋生成領域情報ｆとから、地紋生成領域に合うように、地紋元画像データａと同じ単位で地紋合成器３３へ出力する。
【００２８】
マスク地紋生成器３１は、マスクパターン保持手段２１に保持されている最小単位のマスクパターンデータｄを読み出し、オリジナル画像データｈの解像度に変倍し、変倍されたマスクパターンのサイズと、地紋生成領域情報生成手段２８から入力された地紋生成領域情報ｆとから、地紋生成領域に合うように、地紋元画像データａと同じ単位で地紋生成器３３へ出力する。このとき、マスクパターン解像度自動決定手段２０から出力されるマスクパターンデータの解像度情報と、ユーザにより予め設定されているオリジナル画像データｈの解像度情報とに基づいて、マスクパターン変倍率算出手段２２が変倍率を算出し、マスクパターン変倍率保持手段２１がその変倍率情報を保持するともに、マスク地紋生成器３１に供給する。図４Ａはマスクパターン保持手段１３に保持されている最小単位のマスクパターンデータに対応する画像であり、図４Ｂはオリジナル画像データｈの解像度に変倍したマスクパターンデータに対応する画像であり、図４Ｃは地紋合成器４の出力画像データにおけるマスクパターンデータを示す図である。
【００２９】
不正コピーガード地紋生成器３２は、不正コピーガードパターン保持手段２５に保持されている最小単位の不正コピーガードパターンデータｅを読み出し、オリジナル画像データｈの解像度に変倍し、変倍された不正コピーガードパターンのサイズと、地紋生成領域情報生成手段２８から入力された地紋生成領域情報ｆとから、地紋生成領域に合うように、地紋元画像データａと同じ単位で地紋合成器３３へ出力する。このとき、不正コピーガードパターン解像度自動決定手段２４から出力される不正コピーガードパターンデータの解像度情報と、ユーザにより予め設定されているオリジナル画像データｈの解像度情報とに基づいて、不正コピーガードパターン変倍率算出手段２６が変倍率を算出し、不正コピーガードパターン変倍率保持手段２７が変倍率情報を保持するとともに、不正コピーガード地紋生成器３２に供給する。
【００３０】
地紋合成器３３は所定の単位で入力された地紋元画像データ、前景地紋データ、背景地紋データ、マスク地紋データ若しくは不正コピーガード地紋データを合成することで地紋画像データｇを生成する。
【００３１】
図５は図２に示す地紋生成器の動作を示すフローチャートである。
まずステップＳ１で、ユーザによるコンピュータの操作に基づいて、地紋元画像生成手段１１が地紋元画像データａを生成し、ステップＳ２で、地紋元画像解像度自動決定手段１２が地紋元画像データａの複雑さに基づいて解像度を決定し、ステップＳ３で、地紋元画像保持手段１３が先にステップＳ２にて決定された解像度で地紋元画像データを保持する。
【００３２】
次いでステップＳ４で、ユーザがコンピュータを操作することで、前景パターンデータｂ、背景パターンデータｃ、マスクパターンデータｄ、不正コピーガードパターンデータｅの中から、必要なパターンデータを設定する。次にステップＳ５で、必要なパターンデータのうち、マスクパターンデータｄ又は不正コピーガードパターンデータｅの複雑さに基づいて解像度を決定し、ステップＳ６で、マスクパターン保持手段２１又は不正コピーガードパターン保持手段２５が先にステップＳ５にて決定された解像度でマスクパターンデータｄ又は不正コピーガードパターンデータｅを保持する。
【００３３】
次にステップＳ７で、地紋画像データｇの生成に必要な条件、即ち保持されている地紋元画像データａの解像度、オリジナル画像データｈの解像度、地紋生成領域ｆ、地紋の種類（通常／反転／マスクパターンの有無／不正コピーガードパターンの有無）を設定する。
【００３４】
次いでステップＳ８で、地紋元画像変倍率算出手段１４が地紋元画像データの変倍率を算出し、地紋元画像変倍率保持手段１５が算出された変倍率を保持するとともに、マスクパターン変倍率算出手段２２又は不正コピーガードパターン変倍率算出手段２６がマスクパターンデータ又は不正コピーガードパターンデータの変倍率を算出し、マスクパターン変倍率保持手段２３又は不正コピーガードパターン変倍率保持手段２７が算出された変倍率を保持する。
【００３５】
次にステップＳ９で、地紋元画像変倍器１６、前景地紋生成器２９、背景地紋生成器３０、マスク地紋生成器３１、不正コピーガード地紋器３２のうち、必要なものが動作して、地紋元画像データ、前景地紋データ、背景地紋データ、マスク地紋データ、不正コピーガード地紋データのうち、必要なデータを生成する。
【００３６】
次にステップＳ１０で地紋画像データの生成に必要なデータが揃うまで待ち、揃ったときに、ステップＳ１１で地紋合成器３３が地紋画像データｇを生成する。生成された地紋画像データｇは、ステップＳ１２で、図１の画像合成器４内のメモリに書き込まれる。
【００３７】
図６は地紋元画像変倍器１６の内部構成を示すブロック図である。
地紋元画像変倍器１６は、地紋元画像主走査変倍手段１６１及び地紋元画像ラインリード回数判定手段１６２からなる。地紋元画像主走査変倍手段１６１は、地紋元画像変倍率保持手段１５からの変倍率情報に基づいて、地紋元画像保持手段１３に保持されている地紋元画像データを主走査方向に変倍する。地紋元画像ラインリード回数判定手段１６２は、地紋元画像変倍率保持手段１５からの変倍率情報に基づいて、紋元画像保持手段１３に保持されている地紋元画像データの同一ラインの読み出し回数を判断し、副走査方向に変倍する。
【００３８】
図７は図６に示す地紋元画像変倍器１６の動作を示すフローチャートである。
まずステップＳ２１で必要条件をロードする。ここで、必要条件は、地紋元画像変倍率保持手段１５に保持されている変倍率情報、地紋元画像保持手段１３に保持されている地紋元画像データの各ラインの終端を示すエンドオブライン情報などである。
【００３９】
次にＳ２２で、地紋元画像保持手段１３のＸアドレス（主走査方向の読み出しアドレス）、Ｙアドレス（副走査方向の読み出しアドレス）、及びラインリードカウンタ（同一ラインの繰り返し読み出し数をカウントするカウンタ）を初期化する。
【００４０】
次いでステップＳ２３でエンドオブラインか否かを判断し、エンドオブラインでなければ（Ｓ２３：Ｎｏ）、ステップＳ２７に進んで同じラインの続きを読み出し、エンドオブラインであれば（Ｓ２３：Ｙｅｓ）、ステップＳ２４で、地紋元画像データをラインの先頭から読み出すために、地紋元画像保持手段１３のＸアドレスを初期化するとともに、ラインリードカウンタをカウントアップする。
【００４１】
次にステップＳ２５でラインリードカウンタの値に基づいて、次のラインを読み出すか否かを判断し、読み出すと判断した場合（Ｓ２５：Ｙｅｓ）はＳ２６でＹアドレスをカウントアップするともにラインリードカウンタを初期化した後に、ステップＳ２７へ移行して、次のラインを読み出す。一方、読み出さないと判断した場合（Ｓ２５：Ｎｏ）は、そのままステップＳ２７に進み、再び現在のライン読み出す。
【００４２】
ステップ２７で所定単位の読み出しを行った後に、ステップＳ２８で、同じラインの次の続きを読み出せるように、Ｘアドレスをカウントアップする。次いでステップＳ２９に進み、先にステップＳ２７で読み出されたデータを主走査方向に変倍し、保持する。
【００４３】
次にステップＳ３０で、Ｙアドレスが地紋元画像保持手段１３に保持されている地紋元画像データの最終ラインのアドレスか否かを判断し、最終ラインのアドレスになるまで、ステップＳ２３〜Ｓ２９の処理を繰り返す。そして、最終ラインになったときに、ステップＳ２９を繰り返す毎に保持しておいた変倍された地紋元画像データを地紋合成器３３に出力し、処理を終える。
【００４４】
図８はマスク地紋生成器３１の内部構成を示すブロック図である。
マスク地紋生成器３１は、マスクパターン主走査変倍手段３１１及びマスクパターンラインリード回数判定手段３１２からなる。マスクパターン主走査変倍手段３１１は、マスクパターン変倍率保持手段２３からの変倍率情報に基づいて、マスクパターン保持手段２１に保持されている地紋元画像データを主走査方向に変倍する。マスクパターンラインリード回数判定手段３１２は、マスクパターン変倍率保持手段２３からの変倍率情報に基づいて、マスクパターン保持手段２１に保持されているマスクパターンデータの同一ラインの読み出し回数を判断し、副走査方向に変倍する。
【００４５】
図９は図８に示すマスク地紋生成器３１の動作を示すフローチャートである。
まずステップＳ３１で必要条件をロードする。ここで、必要条件は、マスクパターン変倍率保持手段２３に保持されている変倍率情報、マスクパターン保持手段２１に保持されているマスクパターンデータの各ラインの終端を示すエンドオブライン情報などである。
【００４６】
次にＳ３２で、マスクパターン保持手段２１のＸアドレス（主走査方向の読み出しアドレス）、Ｙアドレス（副走査方向の読み出しアドレス）、及びラインリードカウンタ（同一ラインの繰り返し読み出し数をカウントするカウンタ）を初期化する。
【００４７】
次いでステップＳ３３でエンドオブラインか否かを判断し、エンドオブラインでなければ（Ｓ３３：Ｎｏ）、ステップＳ３９に進んで同じラインの続きを読み出し、エンドオブラインであれば（Ｓ３３：Ｙｅｓ）、ステップＳ３４で、マスクパターンデータをラインの先頭から読み出すために、マスクパターン保持手段２１のＸアドレスを初期化するとともに、ラインリードカウンタをカウントアップする。
【００４８】
次にステップＳ３５でラインリードカウンタの値に基づいて、次のラインを読み出すか否かを判断し、読み出すと判断した場合（Ｓ３５：Ｙｅｓ）は、Ｓ３６でＹアドレスがマスクパターンのＹサイズ（副走査方向のサイズ）に等しいか否かを判断する。そして、等しいと判断した場合（Ｓ３６：Ｙｅｓ）は、マスクパターンの最初のラインに戻るために、ステップＳ３７でＹアドレスを初期化した後に、ステップＳ３９に進んでマスクパターンの最初のラインを読み出す。一方、等しくないと判断した場合（Ｓ３６：Ｎｏ）は、次のラインを読み出すために、ステップＳ３８でＹアドレスをカウントアップするともにラインリードカウンタを初期化した後に、ステップＳ３９でマスクパターンの次のラインを読み出す。ステップＳ３５で、次のラインを読み出さないと判断した場合（Ｓ３５：Ｎｏ）は、そのままステップＳ３９に移行し、再び現在のライン読み出す。
【００４９】
ステップ３９で所定単位の読み出しを行った後に、ステップＳ４０でＸアドレスがマスクパターンのＸサイズ（主走査方向のサイズ）に等しいか否かを判断する。そして、等しいと判断した場合（Ｓ４０：Ｙｅｓ）は、ラインの先頭から読み出すために、ステップＳ４１でＸアドレスの初期化及びラインリードカウンタのカウントアップを行った後に、ステップＳ４３で、先にステップＳ３９で読み出されたデータを主走査方向に変倍し、変倍されたデータを保持する。ステップＳ４０で等しくないと判断した場合（Ｓ４０：Ｎｏ）は、同じラインの続きを読み出すために、ステップＳ４２でＸアドレスをカウントアップした後に、先にステップＳ３９で読み出されたデータを主走査方向に変倍し、保持する。
【００５０】
次いで、ステップＳ４４でＹアドレスがＹサイズであると判断するまで、ステップＳ３３〜Ｓ４３の処理を繰り返す。そして、ＹアドレスがＹサイズであると判断したときに（Ｓ４４：Ｙｅｓ）、ステップＳ４３を繰り返す毎に保持しておいた変倍されたマスクパターンデータを地紋合成器３３に出力し、処理を終える。
【００５１】
不正コピーガードパターン生成器３２は、マスク地紋生成器３１と同様に構成されている。
【００５２】
以上説明したように、本実施形態の地紋生成器２は、地紋元画像データａ、マスクパターンデータｄ、及び不正コピーガードパターンデータｅの解像度をオリジナル画像データｈの解像度よりも低い解像度で保持するので、それらのデータの保持に要するメモリの容量を低減することができる。
また、低い解像度で保持したデータを読み出すときにオリジナル画像データｈの解像度に変換するので、それらのデータを保持しているメモリに対するアクセス回数を低減することができる。従って、消費電力を低減することができる。
また、地紋元画像データａ、マスクパターンデータｄ、不正コピーガードパターンデータｅの複雑さを検知し、その結果に基づいて、保持するときの解像度を自動的に決定するので、地紋画像データにしたときの画質の低下がなくなり、単純な入力だった場合には大きく低解像度化できるため、メモリ容量及び消費電力を大きく削減できる。
さらに、変倍率算出手段と変倍率保持手段とを持つことにより、低解像度化して保持したデータを、地紋元画像変倍器、マスク地紋生成器、不正コピーガード地紋生成器のそれぞれで、解像度の変倍を確実に行うことができる。
また、主走査方向の変倍は主走査変倍手段で、副走査方向の変倍はラインリード回数判断手段により行うことにより、変倍用にラインメモリを持つ必要がなくなるため、装置全体のメモリ容量を大幅に削減できる。
【００５３】
なお、以上説明した実施形態では、地紋元画像データａ、マスクパターンデータｄ、不正コピーガードパターンデータｅの複雑さを検知し、その結果に基づいて、保持するときの解像度を自動的に決定しているが、手動で設定できるように構成してもよい。これにより、メモリの使用可能量に応じて、柔軟に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の実施形態の画像処理装置の概略ブロック図である。
【図２】図１における地紋生成器の内部構成を示すブロック図である。
【図３】本発明の実施形態の地紋元画像データを説明するための図である。
【図４】本発明の実施形態のマスクパターンデータを説明するための図である。
【図５】図２の地紋生成器の動作を示すフローチャートである。
【図６】図２の地紋元画像変倍器の内部構成を示すブロック図である。
【図７】図６の地紋元画像変倍器の動作を示すフローチャートである。
【図８】図２のマスク地紋生成器の内部構成を示すブロック図である。
【図９】図８のマスク地紋生成器の動作を示すフローチャートである。
【図１０】従来の地紋画像データを説明するための図である。
【符号の説明】
【００５５】
２・・・地紋生成器、４・・・画像合成器、１１・・・地紋元画像生成手段、１２・・・地紋元画像解像度自動決定手段、１３・・・地紋元画像保持手段、１４・・・地紋元画像変倍率算出手段、１５・・・地紋元画像変倍率保持手段、１６・・・地紋元画像変倍器、１７・・・前景パターン保持手段、１８・・・背景パターン保持手段、１９・・・マスクパターン選択手段、２０・・・マスクパターン解像度自動決定手段、２１・・・マスクパターン保持手段、２２・・・マスクパターン変倍率保持算出手段、２３・・・マスクパターン変倍率保持手段、２４・・・不正コピーガードパターン解像度自動決定手段、２５・・・不正コピーガードパターン保持手段、２６・・・不正コピーガードパターン変倍率算出手段、２７・・・不正コピーガードパターン変倍率保持手段、２８・・・地紋生成領域情報生成手段、２９・・・前景地紋生成器、３０・・・背景地紋生成器、３１・・・マスク地紋生成器、３２・・・不正コピーガード地紋生成器、３３・・・地紋合成器。
【図１】
2009044623.tif 000003
【図２】
2009044623.tif 000004
【図３】
2009044623.tif 000005
【図４】
2009044623.tif 000006
【図５】
2009044623.tif 000007
【図６】
2009044623.tif 000008
【図７】
2009044623.tif 000009
【図８】
2009044623.tif 000010
【図９】
2009044623.tif 000011
【図１０】
2009044623.tif 000012