(57)【要約】【課題】光ディスクの検査方法、及び光ディスク製造装置において、短時間で突発的な信号転写不良の検査を可能にする。【解決手段】製造された全数の光ディスクに対して、突発的な信号転写不良を検査する検査方法であって、光ディスク製造装置３１内の外観検査装置３５で得られた前記光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報を、特定部位の信号検査機能を有する信号転写不良検査装置３６に送信して、該信号転写不良検査装置３６の光学系を最適化し、信号転写不良検査装置３６にて、光ディスクの特定部位の信号値のばらつきの標準偏差を測定して信号転写不良を判定する。【選択図】図１
2009146473.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造された全数の光ディスクに対して、突発的な信号転写不良を検査する検査方法であって、
光ディスク製造装置内の外観検査装置で得られた前記光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報を、信号検査機能を有する信号転写不良検査装置に送信して、該信号転写不良検査装置の光学系を最適化し、
前記信号転写不良検査装置にて、前記光ディスクの特定部位の信号値のばらつきの標準偏差を測定して信号転写不良を判定する
ことを特徴とする光ディスクの検査方法。
【請求項２】
前記光ディスクの特定部位は、信号転写トラックの１周以上且つ４０周以下の部位である
ことを特徴とする請求項１記載の光ディスクの検査方法。
【請求項３】
前記光ディスクの特定部位は、内周側の信号転写トラックである
ことを特徴とする請求項２記載の光ディスクの検査方法。
【請求項４】
前記検査を光ディスク製造装置内で行う
ことを特徴とする請求項１記載の光ディスクの検査方法。
【請求項５】
１枚の光ディスクの検査時間を５秒以下とする
ことを特徴とする請求項４記載の光ディスクの検査方法。
【請求項６】
ディスク成形装置と、
成膜装置と、
カバー層生成装置と、
製造後の光ディスクを検査する外観検査装置と、
前記外観検査装置で得られた前記光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報が送信される、信号検査機能を有する信号転写不良検査装置と、
前記ディスク成形装置、前記成膜装置、前記カバー層生成装置、前記外観検査装置及び前記信号転写不良検査装置を制御する制御装置とを備え、
前記信号転写不良検査装置にて、前記製造後の光ディスクの特定部位における信号値のばらつきの標準偏差を測定して信号転写不良を判定するようにして成る
ことを特徴とする光ディスク製造装置。
【請求項７】
前記光ディスクの特定部位は、信号転写トラックの１周以上且つ４０周以下の部位である
ことを特徴とする請求項６記載の光ディスク製造装置。
【請求項８】
前記光ディスクの特定部位は、内周側の信号転写トラックである
ことを特徴とする請求項６記載の光ディスク製造装置。
【請求項９】
１枚の光ディスクの検査時間を５秒以下とする
ことを特徴とする請求項６記載の光ディスク製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク製造装置において作成された光ディスクの検査方法、特に、突発的に生じる信号転写不良の検査方法、及びこの検査方法を実施する検査手段を備えた光ディスク製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えばBlu-ray Disc（登録商標）―ＲＯＭ（以下ＢＤ−ＲＯＭと記述する）、ＨＤ  ＤＶＤ（登録商標）−ＲＯＭ、ＣＤ（Compact DISC：登録商標）―ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc：登録商標）―ＲＯＭ等の光ディスクが広く一般に用いられている。
【０００３】
図４に、１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク１の概略構成を示す。この光ディスク１は、基板２の一面に信号となるピット３が転写され、このピット３が形成された面に反射膜４が形成され、さらに光透過膜によるカバー層５が形成されて構成される。また、図５に、２層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク７の概略構成を示す。この光ディスク７は、基板２の一面に信号となる第１ピット３Ａが転写され、このピット３Ａが形成された面に反射膜４が形成される。この反射膜４上に中間層８が形成され、この中間層８の上面に信号となる第２ピット３Ｂが転写される。中間層８は、第１ピット３Ａと第２ピット３Ｂとの間で信号のクロストークを発生させないための分離層に相当する。そして、この第２ピット３Ｂが形成された面上に反射膜を兼ねる半透過膜９が形成され、さらにその上に光透過膜によるカバー層５が形成されて構成される。
【０００４】
例えば、１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスクは次のようにして作成される。先ず、原盤となるスタンパが作成される。このスタンパを射出成形機の金型内に配置し、例えばポリカーボネート樹脂を金型内に射出し、冷却した後、スタンパの凹凸(以降ピットと記述する)が転写された成形基板を金型から取出す。次に、ピットが形成された成形基板の表面に成膜装置により反射膜を形成する。さらに表面にカバー層を形成して、目的の光ディスクを作成する。
【０００５】
図６に、従来のこの種の光ディスクの製造装置の概略構成を示す。例えば、１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク製造装置１１は、射出成形によりピットが転写された成形基板を作成する射出成形機装置１２と、成形基板のピットが形成された表面に反射膜を成膜する成膜装置１３と、カバー層を生成するカバー層生成装置１４と、製造された光ディスクの外観検査を行う外観検査装置１５と、各装置１２、１３、１４、１５を制御する制御装置２０とを備えて成る。さらに、合格品１８及び不合格品１９を振り分けてそれぞれに収容する合格（良品）ポール１６、不合格（不良品）ポール１７が配設される。外観検査装置１５では光ディスクの内周方向チルト、半径方向チルト、カバー層の厚み、外観不良等が測定される。２層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスクの場合には中間層の厚み情報も測定される。中間層、半透過膜は成膜装置１３で成膜される。
【０００６】
特許文献１には、半径位置により１周の分割セクタの数が異なるディスク状光学式記録媒体の成形時のアドレスピットの転写不良を検査する転写不良検査方法及び装置が示されている。
【特許文献１】特開平９−１４７４２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、従来は、上述のディスク成形装置１２において、例えば成形開始時など信号転写不良（剥離不良と呼ぶこともある）が発生しやすいタイミングで作成された光ディスクを定期的に破棄し、これにより、信号転写不良となった光ディスクが市場に出回ることを防いでいた。しかし、この手法は経験的に光ディスクの品質について問題が無いことを推測しているに過ぎない。実際に信号転写不良が起こっているか否かは、ディスク成形装置では判定することが出来ないため、品質管理上、更なる検査が必要となる。
【０００８】
ここで、問題としている信号転写不良は、突発的に発生する信号転写である。図３Ａは、突発的に信号転写不良のピット２Ａが発生した状態を模式的に示したものである。ピット２Ａの一部が流れたような形状に形成されている。図３Ｂは正常なピット２Ｂを示す。この図３Ａのピット２Ａで示す突発的な信号転写の発生原因は未だ解明されていないが、射出成形の際に発生するものと考えられている。従って、突発的な信号転写不良は、発生する場合もあり、発生しない場合もある。この信号転写不良は、同じ部位に発生するとは限らず、しかも局部的に発生する。そして、突発的な信号転写不良の検査は、製造された光ディスクの全数を検査する必要がある。
【０００９】
通常、光ディスク製造装置１１の外部に、図示しないが、抜き取り検査用の信号検査装置が配置されている。この信号検査装置で検出される信号転写不良は、連続性のある信号転写不良である。すなわち、原盤であるスタンパ自体のピット形成不良に起因した信号転写不良であり、各光ディスクとも同じ箇所に信号転写不良が発生する。従って、全数検査しなくても、ある一定間隔で検査すれば、不良の有無を検出することができる。
【００１０】
しかし、突発的に発生した信号転写不良の光ディスクを検出することは、定期的に抽出された光ディスクの検査では難しい。
【００１１】
また、従来の信号検査装置２１は、光ディスク毎に、チルト、フォーカスバイアス、トラックキングバランスなどの光学系の最適化を行う必要がある。そのため、従来の信号検査装置２１は、ある特定の部位の測定に要するサイクルタイム（１枚の光ディスクの測定に要する時間）であっても、約１分と長くかかっていた。従って光ディスク製造装置内で全数の光ディスクの信号を短い時間で測定することは、従来の信号検査装置では出来なかった。
【００１２】
本発明は、上述の点に鑑み、光ディスクにおける突発的な信号転写不良の検査処理の時間が短縮できる光ディスクの検査方法、及びこの検査方法を実施する検査手段を備えた光ディスク製造装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る光ディスクの検査方法は、製造された全数の光ディスクに対して、突発的な信号転写不良を検査する検査方法であって、光ディスク製造装置内の外観検査装置で得られた光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報を、信号検査機能を有する信号転写不良検査装置に送信して、この信号転写不良検査装置の光学系を最適化し、この信号転写不良検査装置にて、光ディスクの特定部位の信号値のばらつきの標準偏差(以下ジッタと記述する)を測定して信号転写不良を判定することを特徴とする。
【００１４】
本発明に係る光ディスク製造装置は、ディスク成形装置と、成膜装置と、カバー層生成装置と、製造後の光ディスクを検査する外観検査装置と、外観検査装置で得られた光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報が送信される、信号検査機能を有する信号転写不良検査装置と、ディスク成形装置、成膜装置、カバー層生成装置、外観検査装置及び信号転写不良検査装置を制御する制御装置とを備え、信号転写不良検査装置にて、製造後の光ディスクの特定部位における信号値のばらつきの標準偏差を測定して信号転写不良を判定するようにして成ることを特徴とする。
【００１５】
本発明の光ディスクの検査方法では、例えば１層の記録層、あるいは２層の記録層を有する光ディスクに応じて、外観検査装置で得られたカバー層の厚み情報、またはカバー層と中間層の厚み情報、いわゆる厚みデータを利用して、この厚みデータを、特定部位の信号を検査できる信号転写不良検査装置に送信することにより、信号転写不良検査装置の光学系、例えば収差補正レンズの最適化が速やかに行える。このため、信号検査装置に搬送された光ディスクに対して直ちに信号検査を行うことができる。しかも、特定部位のみの信号検査であるので、検査に要する時間も短くて済む。
【００１６】
本発明の光ディスク製造装置では、製造装置内で、光ディスクの製造と、製造された光ディスクにおける特定部位のみの信号検査を行うことができる。この信号検査に要する時間も短くて済む。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る光ディスクの検査方法によれば、製造された光ディスクの全数に対して、突発的な信号転写不良の検査処理の時間を短縮することができる。従って、光ディスクの品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを市場に出荷することができる。
【００１８】
本発明に係る光ディスク製造装置によれば、光ディスクの製造と同時に、製造された光ディスクの全数に対する、突発的な信号転写不良の検査処理を行うことができる。しかも、この検査処理の時間を短縮することができる。従って、光ディスクの品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
図１に、本発明に係る突発的な信号転写不良検査装置を備えた光ディスク製造装置の一実施の形態の概略構成を示す。本実施の形態の光ディスク製造装置は、製造装置内で信号転写不良の検査を行えるようにした光ディスク製造装置として構成される。
なお、本実施の形態で形成される光ディスクは、例えばBlu-ray Disc（登録商標）―ＲＯＭ、ＨＤ  ＤＶＤ（登録商標）−ＲＯＭ、ＣＤ（Compact DISC：登録商標）―ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc：登録商標）―ＲＯＭ等の光ディスクである。
【００２１】
本実施の形態に係る光ディスク製造装置３１は、図１に示すように、ディスク成形装置３２と成膜装置３３と、カバー層生成装置３４と、外観検査装置３５と、装置内に組み込まれた信号転写不良検査装置３６とが順次に配設され、さらに各装置３２、３３、３４、３５、３６を制御する制御装置３７とを備えて成る。光ディスク製造装置３１には、信号転写不良検査装置３６で合格、不合格と判定された光ディスクを振り分けて収容する合格ポール３８及び不合格ポール３９が配置される。
【００２２】
例えば１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク場合には、ディスク成形装置３２において、スタンパのピットが転写された成形基板を形成する。次に、ピットが形成された成形基板の表面に成膜装置３３にて反射膜を形成する。さらに、カバー層生成装置３４で表面にカバー層を形成して、目的の光ディスクを作成する。
【００２３】
例えば２層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスクの場合には、ディスク成形装置３２において、スタンパの第１ピットが転写された成形基板を形成する。次に、第１ピットが形成された成形基板の表面に成膜装置３３にて反射膜を形成する。また、この成膜装置３３において、中間層を形成し、第２ピットを転写し、さらに半透過膜を形成する。さらに、カバー層生成装置３４で表面にカバー層を形成して、目的の光ディスクを作成する。
【００２４】
信号転写不良検査装置３６は、光ディスクの特定部位の信号を検査する装置であり、例えば再生光を出射するレーザ光源、対物レンズ、収差補正レンズ等を備え、信号検査機能を有して構成される。
【００２５】
制御装置３７は、例えばプログラマブルコントローラと呼ばれる装置を適用することができ、デジタル入力／出力経由で制御する。すなわち、制御装置３７により、装置内に配置された各装置３２、３３、３４、３５、３６が制御される。
【００２６】
合格ポール３８、不合格ポール３９は、例えばそれぞれの合格した良品の光ディスク４０、不合格とされた不良品の光ディスク４１を積み重ねて収容できるように構成される。
【００２７】
なお、図示しないが、光ディスク製造装置３１内、または装置３１外には、製造された光ディスクを抜き取り検査するための信号検査装置が配置される。
【００２８】
次に、図１の光ディスク製造装置３１を用いて突発的な転写不良を検査する検査方法を説明する。図２は、突発的な信号転写不良を検査する検査フローチャートである。
【００２９】
ここで、本発明者らは、突発的な信号転写不良の発生部位が、主に光ディスクの内周側の記録トラックに発生していることを突き止めた。勿論、中間の記録トラック、あるいは外周側の記録トラックに発生する場合もあり得るが、いずれの特定部位に対しても、本発明の検査は可能である。突発的な信号転写不良が発生する特定部位としては、確率的に最内周の１周から４０周までの記録トラックであり、その中でも顕著に不良が現れる１周から３周までの記録トラックである。従って、本実施の形態における突発的な信号転写不良の検査は、内周側の１周以上で４０周以下の特定部位、好ましくは１周〜３周までの特定部位を検査する。
【００３０】
４０周を越えると検査に要する処理時間、すなわちタクトタイムがかかり過ぎるので、実用的でない。３周以下であれば、なおさらタクトタイムが短縮する。さらに、本実施の形態では、装置内で、全数の光ディスクの信号転写不良を検査するには、タクトタイムの短縮を考えると、検査時間を５秒以下にすることが望ましい。
【００３１】
本実施の形態においては、信号転写不良検査装置３６で検査する部位を、予め多数枚の光ディスクの信号を全面検査して特定しておく。そして、信号転写不良検査装置３６に、予め、測定すべき測定範囲を入力しておく。
【００３２】
先ず、ディスク成形装置３２および成膜装置３３において、例えば１層記録層の場合には最上層の反射膜を形成した状態のディスクを形成し、例えば２層記録層の場合には最上層の半透過膜を形成した状態のディスクを形成する。このディスクをカバー層生成装置３４に搬送し、ディスク表面に保護用のカバー層を形成する（図２のステップＳ１参照）。
【００３３】
次に、カバー層を形成して完成した光ディスクを外観検査装置３５に搬送して、ディスク特性を測定する（図２のステップＳ２参照）。この外観検査装置３５では、ディスクの内周方向チルトデータ、半径方向チルトデータ、カバー層厚みデータ、中間層厚みデータ、外観不良データ等が測定される。
【００３４】
次に、外観検査装置３５で得られた上記データのうち、１層記録層の光ディスクの場合にはカバー層厚みデータのみが、２層記録層の光ディスクの場合にはカバー層厚みデータと中間層厚みデータのみが、シリアル通信経由で信号転写不良検査装置３６に送信される（図２のステップＳ３参照）。信号転写不良検査装置３６では、上記光ディスクの種類に応じて、１層記録層であればカバー層厚みデータの受信により、２層記録層でればカバーそう厚きデータと中間層厚みデータの受信により、直にカバー層厚みデータ、あるいはカバー層厚みデータと中間層厚みデータを基に収差補正レンズ等の光学系の最適化が行われる（図２のステップＳ４参照）。
【００３５】
そして、外観検査装置３５から外観検査を終えた光ディスクが信号転写不良検査装置３６へ搬送され、ここにおいて特定部位の信号値、すなわちジッタ値の測定が速やかに行われる（図２のステップＳ５参照）。規格では、例えばＢＤの1層記録層の場合ジッタ値が６．５％以下であれば、その光ディスクは合格とされる。ジッタ値が６．５％を越えた光ディスクは不合格とされる。突発的な信号転写不良が発生した光ディスクでは、ジッタ値が極めて大きな値を示すことが確認されている。信号転写不良装置３６では、ジッタ値を測定値に基づき、合格か、不合格かの判定がなされる（図２のステップＳ５参照）。
【００３６】
そして、このジッタ値の検査結果が制御装置３７に送信される（図２のステップＳ６参照）。制御装置３７では、ジッタ値の検査結果の信号に基づき、再び信号転写不良検査装置３６へ、合否の光ディスクをそれぞれのポール３８、３９へ分別供給させるための制御信号が送信される（図２のステップＳ７参照）。同時に、外観検査装置３５から合否判定結果が制御装置３７に送信される。
【００３７】
この制御信号に基づき、外観検査で合格かつ信号転写不良検査で合格した光ディスク４０が合格ポール３８へ送られて蓄積され（図２のステップＳ８）、外観検査で不合格、信号転写不良検査で不合格の光ディスク４１が不合格ポール３９へ送られて蓄積される（図２のステップＳ９参照）。
【００３８】
上述した本実施の形態によれば、光ディスク製造装置２１内で、突発的な信号転写不良の検査が短時間で行われる。すなわち、同一スタンパから作成される光ディスクのうち、特に変動による影響が大きいパラメータである、収差補正レンズの最適化に必要なカバー層厚みデータが、装置２１内の外観検査装置２５から取得されて直ちに信号転写不良検査装置２５へ送信されることにより、検査時間を短縮することができる。従って、本検査方法を用いることにより、光ディスクの品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを市場に出荷することができる。また、本光ディスク製造装置を用いることにより、品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを製造することができる。
【００３９】
特定部位１周分以上（通常、３周分）のジッタ値の測定を行うことで、従来とほぼ同等のジッタ値を求めることが確認でき、かつ検査時間を例えば５秒以下に短縮することが可能となる。
【００４０】
光ディスク製造装置に組み込んだ信号転写不良検査装置３６を用いて、ディスク成形装置３２、成膜装置３３及びカバー層生成装置３４を経て製造された全数の光ディスクを測定することで、突発的な信号転写不良を検出し、光ディスクをより高い品質で製造することが可能になる。これにより、従来、定期抽出検査として人手を使って外部の信号検査装置で１分程度かけて調べていた突発的な信号転写不良の確認作業を、人手を介することなく光ディスク製造装置内で自動的に行うことができる。
【００４１】
突発的な信号転写不良の検査コストを、本実施の形態と、仮にオフラインの信号検査装置３２で測定した場合とを比較すると、本実施の形態の方が人件費を削減することができる。これにより光ディスク作成に必要なコストを下げることができ、同時に向上側の品質管理の向上に大きく寄与することができる。同時にこの信号転写不良検査装置２５により、突発的な信号転写不良発生に起因するディスク再生不良による市場クレームを最小限に抑えることができる。同様に、光ディスク１枚当たりにおけるトータルコストをより低く抑えることができる、という実益がある。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る光ディスク検査方法に実施に適用される光ディスク製造装置の概略構成図である。
【図２】本発明に係る光ディスク検査方法のフローチャートである。
【図３】本発明の説明に供する信号転写によるピットの状態図である。
【図４】１層記録層を有する光ディスクの概略図である。
【図５】２層記録層を有する光ディスクの概略図である。
【図６】従来の光ディスク製造装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００４３】
２１・・光ディスク製造装置、２２・・ディスク成形装置、２３・・カバー層生成装置、２４・・外観検査装置、２５・・信号転写不良検査装置、２９・・合格ポール、２８・・不合格ポール、２９・・合格光ディスク、３１・・不合格光ディスク、３２・・信号検査装置
【図１】
2009146473.tif 000003
【図２】
2009146473.tif 000004
【図３】
2009146473.tif 000005
【図４】
2009146473.tif 000006
【図５】
2009146473.tif 000007
【図６】
2009146473.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月5日(2008.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク製造装置において作成された光ディスクの検査方法、特に、突発的に生じる信号転写不良の検査方法、及びこの検査方法を実施する検査手段を備えた光ディスク製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えばBlu-ray Disc（登録商標）−ＲＯＭ（以下ＢＤ−ＲＯＭと記述する）、ＨＤ  ＤＶＤ（登録商標）−ＲＯＭ、ＣＤ（Compact Disc：登録商標）−ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc：登録商標）−ＲＯＭ等の光ディスクが広く一般に用いられている。
【０００３】
図４に、１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク１の概略構成を示す。この光ディスク１は、基板２の一面に信号となるピット３が転写され、このピット３が形成された面に反射膜４が形成され、さらに光透過膜によるカバー層５が形成されて構成される。また、図５に、２層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク７の概略構成を示す。この光ディスク７は、基板２の一面に信号となる第１ピット３Ａが転写され、このピット３Ａが形成された面に反射膜４が形成される。この反射膜４上に中間層８が形成され、この中間層８の上面に信号となる第２ピット３Ｂが転写される。中間層８は、第１ピット３Ａと第２ピット３Ｂとの間で信号のクロストークを発生させないための分離層に相当する。そして、この第２ピット３Ｂが形成された面上に反射膜を兼ねる半透過膜９が形成され、さらにその上に光透過膜によるカバー層５が形成されて構成される。
【０００４】
例えば、１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスクは次のようにして作成される。先ず、原盤となるスタンパが作成される。このスタンパを射出成形機の金型内に配置し、例えばポリカーボネート樹脂を金型内に射出し、冷却した後、スタンパの凹凸(以降ピットと記述する)が転写された成形基板を金型から取出す。次に、ピットが形成された成形基板の表面に成膜装置により反射膜を形成する。さらに表面にカバー層を形成して、目的の光ディスクを作成する。
【０００５】
図６に、従来のこの種の光ディスクの製造装置の概略構成を示す。例えば、１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク製造装置１１は、射出成形によりピットが転写された成形基板を作成するディスク成形装置１２と、成形基板のピットが形成された表面に反射膜を成膜する成膜装置１３と、カバー層を生成するカバー層生成装置１４と、製造された光ディスクの外観検査を行う外観検査装置１５と、各装置１２、１３、１４、１５を制御する制御装置２０とを備えて成る。さらに、合格品１８及び不合格品１９を振り分けてそれぞれに収容する合格（良品）ポール１６、不合格（不良品）ポール１７が配設される。外観検査装置１５では光ディスクの内周方向チルト、半径方向チルト、カバー層の厚み、外観不良等が測定される。２層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスクの場合には中間層の厚み情報も測定される。中間層、半透過膜は成膜装置１３で成膜される。
【０００６】
特許文献１には、半径位置により１周の分割セクタの数が異なるディスク状光学式記録媒体の成形時のアドレスピットの転写不良を検査する転写不良検査方法及び装置が示されている。
【特許文献１】特開平９−１４７４２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、従来は、上述のディスク成形装置１２において、例えば成形開始時など信号転写不良（剥離不良と呼ぶこともある）が発生しやすいタイミングで作成された光ディスクを定期的に破棄し、これにより、信号転写不良となった光ディスクが市場に出回ることを防いでいた。しかし、この手法は経験的に光ディスクの品質について問題が無いことを推測しているに過ぎない。実際に信号転写不良が起こっているか否かは、ディスク成形装置では判定することが出来ないため、品質管理上、更なる検査が必要となる。
【０００８】
ここで、問題としている信号転写不良は、突発的に発生する信号転写である。図３Ａは、突発的に信号転写不良のピット２Ａが発生した状態を模式的に示したものである。ピット２Ａの一部が流れたような形状に形成されている。図３Ｂは正常なピット２Ｂを示す。この図３Ａのピット２Ａで示す突発的な信号転写の発生原因は未だ解明されていないが、射出成形の際に発生するものと考えられている。従って、突発的な信号転写不良は、発生する場合もあり、発生しない場合もある。この信号転写不良は、同じ部位に発生するとは限らず、しかも局部的に発生する。そして、突発的な信号転写不良の検査は、製造された光ディスクの全数を検査する必要がある。
【０００９】
通常、光ディスク製造装置１１の外部に、図示しないが、抜き取り検査用の信号検査装置が配置されている。この信号検査装置で検出される信号転写不良は、連続性のある信号転写不良である。すなわち、原盤であるスタンパ自体のピット形成不良に起因した信号転写不良であり、各光ディスクとも同じ箇所に信号転写不良が発生する。従って、全数検査しなくても、ある一定間隔で検査すれば、不良の有無を検出することができる。
【００１０】
しかし、突発的に発生した信号転写不良の光ディスクを検出することは、定期的に抽出された光ディスクの検査では難しい。
【００１１】
また、抜き取り検査用の信号検査装置は、光ディスク毎に、チルト、フォーカスバイアス、トラックキングバランスなどの光学系の最適化を行う必要がある。そのため、抜き取り検査用の信号検査装置は、ある特定の部位の測定に要するサイクルタイム（１枚の光ディスクの測定に要する時間）であっても、約１分と長くかかっていた。従って光ディスク製造装置内で全数の光ディスクの信号を短い時間で測定することは、抜き取り検査用の信号検査装置では出来なかった。
【００１２】
本発明は、上述の点に鑑み、光ディスクにおける突発的な信号転写不良の検査処理の時間が短縮できる光ディスクの検査方法、及びこの検査方法を実施する検査手段を備えた光ディスク製造装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る光ディスクの検査方法は、製造された全数の光ディスクに対して、突発的な信号転写不良を検査する検査方法であって、光ディスク製造装置内の外観検査装置で得られた光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報を、信号検査機能を有する信号転写不良検査装置に送信して、この信号転写不良検査装置の光学系を最適化し、この信号転写不良検査装置にて、光ディスクの特定部位の信号値のばらつきの標準偏差(以下ジッタと記述する)を測定して信号転写不良を判定することを特徴とする。
【００１４】
本発明に係る光ディスク製造装置は、ディスク成形装置と、成膜装置と、カバー層生成装置と、製造後の光ディスクを検査する外観検査装置と、外観検査装置で得られた光ディスクのカバー層厚み情報、またはカバー層厚み情報と中間層厚み情報が送信される、信号検査機能を有する信号転写不良検査装置と、ディスク成形装置、成膜装置、カバー層生成装置、外観検査装置及び信号転写不良検査装置を制御する制御装置とを備え、信号転写不良検査装置にて、製造後の光ディスクの特定部位における信号値のばらつきの標準偏差を測定して信号転写不良を判定するようにして成ることを特徴とする。
【００１５】
本発明の光ディスクの検査方法では、例えば１層の記録層、あるいは２層の記録層を有する光ディスクに応じて、外観検査装置で得られたカバー層の厚み情報、またはカバー層と中間層の厚み情報、いわゆる厚みデータを利用して、この厚みデータを、特定部位の信号を検査できる信号転写不良検査装置に送信することにより、信号転写不良検査装置の光学系、例えば収差補正レンズの最適化が速やかに行える。このため、信号検査装置に搬送された光ディスクに対して直ちに信号検査を行うことができる。しかも、特定部位のみの信号検査であるので、検査に要する時間も短くて済む。
【００１６】
本発明の光ディスク製造装置では、製造装置内で、光ディスクの製造と、製造された光ディスクにおける特定部位のみの信号検査を行うことができる。この信号検査に要する時間も短くて済む。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る光ディスクの検査方法によれば、製造された光ディスクの全数に対して、突発的な信号転写不良の検査処理の時間を短縮することができる。従って、光ディスクの品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを市場に出荷することができる。
【００１８】
本発明に係る光ディスク製造装置によれば、光ディスクの製造と同時に、製造された光ディスクの全数に対する、突発的な信号転写不良の検査処理を行うことができる。しかも、この検査処理の時間を短縮することができる。従って、光ディスクの品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
図１に、本発明に係る突発的な信号転写不良検査装置を備えた光ディスク製造装置の一実施の形態の概略構成を示す。本実施の形態の光ディスク製造装置は、製造装置内で信号転写不良の検査を行えるようにした光ディスク製造装置として構成される。
なお、本実施の形態で形成される光ディスクは、例えばBlu-ray Disc（登録商標）−ＲＯＭ、ＨＤ  ＤＶＤ（登録商標）−ＲＯＭ、ＣＤ（Compact Disc：登録商標）−ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc：登録商標）−ＲＯＭ等の光ディスクである。
【００２１】
本実施の形態に係る光ディスク製造装置３１は、図１に示すように、ディスク成形装置３２と成膜装置３３と、カバー層生成装置３４と、外観検査装置３５と、装置内に組み込まれた信号転写不良検査装置３６とが順次に配設され、さらに各装置３２、３３、３４、３５、３６を制御する制御装置３７とを備えて成る。光ディスク製造装置３１には、合格、不合格と判定された光ディスクを振り分けて収容する合格ポール３８及び不合格ポール３９が配置される。
【００２２】
例えば１層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスク場合には、ディスク成形装置３２において、スタンパのピットが転写された成形基板を形成する。次に、ピットが形成された成形基板の表面に成膜装置３３にて反射膜を形成する。さらに、カバー層生成装置３４で表面にカバー層を形成して、目的の光ディスクを作成する。
【００２３】
例えば２層ＢＤ−ＲＯＭの光ディスクの場合には、ディスク成形装置３２において、スタンパの第１ピットが転写された成形基板を形成する。次に、第１ピットが形成された成形基板の表面に成膜装置３３にて反射膜を形成する。また、この成膜装置３３において、中間層を形成し、第２ピットを転写し、さらに半透過膜を形成する。さらに、カバー層生成装置３４で表面にカバー層を形成して、目的の光ディスクを作成する。
【００２４】
信号転写不良検査装置３６は、光ディスクの特定部位の信号を検査する装置であり、例えば再生光を出射するレーザ光源、対物レンズ、収差補正レンズ等を備え、信号検査機能を有して構成される。
【００２５】
制御装置３７は、例えばプログラマブルコントローラと呼ばれる装置を適用することができ、デジタル入力／出力経由で制御する。すなわち、制御装置３７により、装置内に配置された各装置３２、３３、３４、３５、３６が制御される。
【００２６】
合格ポール３８、不合格ポール３９は、例えばそれぞれの合格した良品の光ディスク４０、不合格とされた不良品の光ディスク４１を積み重ねて収容できるように構成される。
【００２７】
なお、図示しないが、光ディスク製造装置３１内、または装置３１外には、製造された光ディスクを抜き取り検査するための信号検査装置が配置される。
【００２８】
次に、図１の光ディスク製造装置３１を用いて突発的な転写不良を検査する検査方法を説明する。図２は、突発的な信号転写不良を検査する検査フローチャートである。
【００２９】
ここで、本発明者らは、突発的な信号転写不良の発生部位が、主に光ディスクの内周側の記録トラックに発生していることを突き止めた。勿論、中間の記録トラック、あるいは外周側の記録トラックに発生する場合もあり得るが、いずれの特定部位に対しても、本発明の検査は可能である。突発的な信号転写不良が発生する特定部位としては、確率的に最内周の１周から４０周までの記録トラックであり、その中でも顕著に不良が現れる１周から３周までの記録トラックである。従って、本実施の形態における突発的な信号転写不良の検査は、内周側の１周以上で４０周以下の特定部位、好ましくは１周〜３周までの特定部位を検査する。
【００３０】
４０周を越えると検査に要する処理時間、すなわちタクトタイムがかかり過ぎるので、実用的でない。３周以下であれば、なおさらタクトタイムが短縮する。さらに、本実施の形態では、装置内で、全数の光ディスクの信号転写不良を検査するには、タクトタイムの短縮を考えると、検査時間を５秒以下にすることが望ましい。
【００３１】
本実施の形態においては、信号転写不良検査装置３６で検査する部位を、予め多数枚の光ディスクの信号を全面検査して特定しておく。そして、信号転写不良検査装置３６に、予め、測定すべき測定範囲を入力しておく。
【００３２】
先ず、ディスク成形装置３２および成膜装置３３において、例えば１層記録層の場合には最上層の反射膜を形成した状態のディスクを形成し、例えば２層記録層の場合には最上層の半透過膜を形成した状態のディスクを形成する。このディスクをカバー層生成装置３４に搬送し、ディスク表面に保護用のカバー層を形成する（図２のステップＳ１参照）。
【００３３】
次に、カバー層を形成して完成した光ディスクを外観検査装置３５に搬送して、ディスク特性を測定する（図２のステップＳ２参照）。この外観検査装置３５では、ディスクの内周方向チルトデータ、半径方向チルトデータ、カバー層厚みデータ、中間層厚みデータ、外観不良データ等が測定される。
【００３４】
次に、外観検査装置３５で得られた上記データのうち、１層記録層の光ディスクの場合にはカバー層厚みデータのみが、２層記録層の光ディスクの場合にはカバー層厚みデータと中間層厚みデータのみが、シリアル通信経由で信号転写不良検査装置３６に送信される（図２のステップＳ３参照）。信号転写不良検査装置３６では、上記光ディスクの種類に応じて、１層記録層であればカバー層厚みデータの受信により、２層記録層でればカバーそう厚きデータと中間層厚みデータの受信により、直にカバー層厚みデータ、あるいはカバー層厚みデータと中間層厚みデータを基に収差補正レンズ等の光学系の最適化が行われる（図２のステップＳ４参照）。
【００３５】
そして、外観検査装置３５から外観検査を終えた光ディスクが信号転写不良検査装置３６へ搬送され、ここにおいて特定部位の信号値、すなわちジッタ値の測定が速やかに行われる（図２のステップＳ５参照）。規格では、例えばＢＤの1層記録層の場合ジッタ値が６．５％以下であれば、その光ディスクは合格とされる。ジッタ値が６．５％を越えた光ディスクは不合格とされる。突発的な信号転写不良が発生した光ディスクでは、ジッタ値が１０％以上を示すことが確認されている。信号転写不良装置３６では、ジッタ値を測定値に基づき、合格か、不合格かの判定がなされる（図２のステップＳ５参照）。
【００３６】
そして、このジッタ値の検査結果が制御装置３７に送信される（図２のステップＳ６参照）。制御装置３７では、ジッタ値の検査結果の信号に基づき、再び信号転写不良検査装置３６へ、合否の光ディスクをそれぞれのポール３８、３９へ分別供給させるための制御信号が送信される（図２のステップＳ７参照）。同時に、外観検査装置３５から合否判定結果が制御装置３７に送信される。
【００３７】
この制御信号に基づき、外観検査で合格かつ信号転写不良検査で合格した光ディスク４０が合格ポール３８へ送られて蓄積され（図２のステップＳ８）、外観検査で不合格、信号転写不良検査で不合格の光ディスク４１が不合格ポール３９へ送られて蓄積される（図２のステップＳ９参照）。
【００３８】
上述した本実施の形態によれば、光ディスク製造装置３１内で、突発的な信号転写不良の検査が短時間で行われる。すなわち、同一スタンパから作成される光ディスクのうち、特に変動による影響が大きいパラメータである、収差補正レンズの最適化に必要なカバー層厚みデータが、装置３１内の外観検査装置３５から取得されて直ちに信号転写不良検査装置３６へ送信されることにより、検査時間を短縮することができる。従って、本検査方法を用いることにより、光ディスクの品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを市場に出荷することができる。また、本光ディスク製造装置を用いることにより、品質の向上を図り、品質の良い光ディスクを製造することができる。
【００３９】
特定部位１周分以上（通常、３周分）のジッタ値の測定を行うことで、従来とほぼ同等のジッタ値を求めることが確認でき、かつ検査時間を例えば５秒以下に短縮することが可能となる。
【００４０】
光ディスク製造装置に組み込んだ信号転写不良検査装置３６を用いて、ディスク成形装置３２、成膜装置３３及びカバー層生成装置３４を経て製造された全数の光ディスクを測定することで、突発的な信号転写不良を検出し、光ディスクをより高い品質で製造することが可能になる。これにより、従来、定期抽出検査として人手を使って外部の信号検査装置で１分程度かけて調べていた突発的な信号転写不良の確認作業を、人手を介することなく光ディスク製造装置内で自動的に行うことができる。
【００４１】
突発的な信号転写不良の検査コストを、本実施の形態と、仮に、図示しないが、光ディスク製造装置３１の外の信号検査装置で測定した場合とを比較すると、本実施の形態の方が人件費を削減することができる。これにより光ディスク作成に必要なコストを下げることができ、同時に向上側の品質管理の向上に大きく寄与することができる。同時にこの信号転写不良検査装置３６により、突発的な信号転写不良発生に起因するディスク再生不良による市場クレームを最小限に抑えることができる。同様に、光ディスク１枚当たりにおけるトータルコストをより低く抑えることができる、という実益がある。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る光ディスク検査方法に実施に適用される光ディスク製造装置の概略構成図である。
【図２】本発明に係る光ディスク検査方法のフローチャートである。
【図３】本発明の説明に供する信号転写によるピットの状態図である。
【図４】１層記録層を有する光ディスクの概略図である。
【図５】２層記録層を有する光ディスクの概略図である。
【図６】従来の光ディスク製造装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００４３】
３１・・光ディスク製造装置、３２・・ディスク成形装置、３３・・成膜装置、３４・・カバー層生成装置、３５・・外観検査装置、３６・・信号転写不良検査装置、３７・・制御装置、３８・・合格ポール、３９・・不合格ポール、４０・・合格光ディスク、４１・・不合格光ディスク
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2009146473.tif 000009