(57)【要約】【課題】反射層の劣化を防止した、発光効率の高い有機発光デバイスを提供する。【解決手段】透明基板上に、少なくとも、半透明反射層と、バッファ層と、透明電極と、発光層を含む有機化合物材料からなる複数の層と、反射電極とが、この順に積層され、前記発光層を挟む、前記半透明反射層と前記反射電極とが、前記発光層から放射される光のうち特定波長の光強度を増強する微小共振器を構成するような光学距離に配置された有機発光デバイスであって、前記バッファ層が、前記半透明反射層を形成するのに引き続いて前記半透明反射層の少なくとも上面を覆って形成され、前記バッファ層を形成する際に前記半透明反射層がＯ2ガスに曝されないようにしたことを特徴とする。【選択図】図１
2009146774.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、少なくとも、半透明反射層と、バッファ層と、透明電極と、発光層を含む有機化合物材料からなる複数の層と、反射電極とが、この順に積層され、前記発光層を挟む、前記半透明反射層と前記反射電極とが、前記発光層から放射される光のうち特定波長の光強度を増強する微小共振器を構成するような光学距離に配置された有機発光デバイスであって、
前記バッファ層が、前記半透明反射層を形成するのに引き続いて前記半透明反射層の少なくとも上面を覆って形成され、前記バッファ層を形成する際に前記半透明反射層がＯ2ガスに曝されないようにしたことを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項２】
前記バッファ層が、酸化モリブテン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化レニウム、酸化ルテニウム、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化オスミウム、酸化プラセオジウム、及び酸化銅からなる群から選択される少なくとも１種の金属酸化物を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光デバイス。
【請求項３】
前記バッファ層が、抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法によって形成されたことを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細かつ視認性に優れ、多色表示可能な有機エレクトロルミネセンス（以下、有機ＥＬという）ディスプレイや照明機器に使用される、有機発光デバイスに関する。本発明の有機発光デバイスは、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、テレビ、ファクシミリ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電気式卓上計算機、電話機、携帯端末機、ならびに産業用の計器類等の表示用デバイスに利用することができる。また、カラー液晶表示器のバックライトその他の照明機器に使用する発光デバイスとしても有用である。
【背景技術】
【０００２】
表示装置や照明装置に適用される発光素子の一例として、有機化合物の薄膜積層構造を有する有機ＥＬ素子が知られている。有機ＥＬ素子は、薄膜の自発光型素子であり、低駆動電圧、高解像度、及び高視野角といった優れた特徴を有することから、それらの実用化に向けて様々な検討がなされている。
【０００３】
有機ＥＬ素子に関して、これまで発光効率の向上に焦点を当てた研究が多くなされている。有機ＥＬ素子の発光効率を下げている原因の一つとして、発光層で生じた光の半分以上が、素子あるいは透明基板内に閉じ込められてしまうことが知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
一方、この、外へ出て来られない光を取り出せるようにし、発光効率を向上させる方法の一つとして、微小共振器構造を用いることが広く知られており（例えば、非特許文献２参照）、この原理を利用した有機ＥＬ素子が提案されている。
【０００５】
微小共振器構造を適用すると、有機ＥＬ素子の発光層内で発光した光子が指向性を持って出射されるようになり、光子のエネルギー分布がシャープに、すなわち発光スペクトルがシャープになり、ピーク強度が数倍ないし数十倍にもなるという効果が得られ、発光層から得られる発光の増強効果、及び単色化の効果が得られる。なお、この効果は、マイクロキャビティー共振効果、または微小空洞共振効果などとも称される。
【０００６】
このような効果を利用した有機ＥＬ素子の最も基本的な構成の一つとして、透明基板と、半透明反射層と、透明電極と、少なくとも発光層を含む複数の有機層と、反射電極とを、この順に積層してなり、発光層を挟む半透明反射層と反射電極とが、発光層から放射される光のうち特定波長の光強度を増強する微小共振器を構成するような光学距離に配置されている構成がある。半透明反射層は、ハーフミラーとも称され、一般的に、ＡｇやＡｌを主成分とする金属の単体または合金を、スパッタ法や蒸着法によって数ｎｍ程度の膜厚を有するように形成される。また、透明電極は、一般的に、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）やＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）などの、インジウム系の導電性透明金属酸化物を、スパッタ法によって数十ないし数百ｎｍ程度の膜厚を有するように形成される。
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２６９７２号公報
【特許文献２】特開２００６−３０２７４８号公報
【非特許文献１】Advanced Materials, vol.6, p.491, 1994年
【非特許文献２】Applied Physics Letters, vol.64, p.2486, 1994年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このような構成の有機発光デバイスの作製過程においては、半透明反射層の形成に続いて、透明電極をスパッタ法によって形成する際に、スパッタ装置内にＯ2ガスを導入する必要がある。スパッタ装置内にＯ2ガスが導入されると、半透明反射層として形成したＡｇなどの金属薄膜は酸化してしまい、半透明反射層の反射率が低下してマイクロキャビティー共振効果の発現が弱まり、所期の発光増強効果が得られなくなるという問題があった。
【０００９】
また、有機発光デバイスの反射層上にある電極は、エッチングによりパターニングされて形成されることもある。そのため、エッチングに使用されるエッチング液が、電極の下にある反射層に付着して、反射層を劣化させてしまうという問題もあった。そこで、そのような反射層の劣化を防止するために、酸化ケイ素や窒化ケイ素などの材料で形成した保護層で、反射層を覆う技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、所定の電解液を用いて反射層の表面を陽極酸化することによって、反射層の表面に保護膜を形成し、エッチング液の付着による反射層の劣化を防ぐ技術も知られている（例えば、特許文献２参照）。
【００１０】
しかしながら、酸化ケイ素や窒化ケイ素などの材料を用いて、スパッタ法やＣＶＤ法により保護層を形成する場合、反射層にダメージを与える恐れがある。また、電解液を用いて反射層の表面を陽極酸化する工程は、ウェットプロセスであるため、デバイス内に水分が残留してデバイスに悪影響を与える恐れがあり、その作成工程も複雑になってしまう。
【００１１】
本発明は、このような問題を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、反射層の劣化を防止した、発光効率の高い有機発光デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このような目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、透明基板上に、少なくとも、半透明反射層と、バッファ層と、透明電極と、発光層を含む有機化合物材料からなる複数の層と、反射電極とが、この順に積層され、前記発光層を挟む、前記半透明反射層と前記反射電極とが、前記発光層から放射される光のうち特定波長の光強度を増強する微小共振器を構成するような光学距離に配置された有機発光デバイスであって、前記バッファ層が、前記半透明反射層を形成するのに引き続いて前記半透明反射層の少なくとも上面を覆って形成され、前記バッファ層を形成する際に前記半透明反射層がＯ２ガスに曝されないようにしたことを特徴とする。
【００１３】
すなわち、本発明に係る有機発光デバイスは、半透明反射層の形成に引き続いて、半透明反射層の少なくとも上面を覆ってバッファ層を形成することにより、透明電極をスパッタ法によって形成する際に使用されるＯ2ガスによって半透明反射層が酸化されることを防止することができる。また、半透明反射層上の透明電極をエッチングする際には、エッチング液が半透明反射層へ付着することを防止することができる。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の有機発光デバイスであって、前記バッファ層が、酸化モリブテン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化レニウム、酸化ルテニウム、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化オスミウム、酸化プラセオジウム、及び酸化銅からなる群から選択される少なくとも１種の金属酸化物を含むことを特徴とする。本発明に係る有機発光デバイスのバッファ層は、このような材料から形成されることが好ましい。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２のいずれかに記載の有機発光デバイスであって、前記バッファ層が、抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法によって形成されたことを特徴とする。本発明に係る有機発光デバイスのバッファ層は、このような方法によって形成されることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、反射層の劣化を防止した、発光効率の高い有機発光デバイスを提供することが可能となる。
【００１７】
すなわち、本発明によれば、透明電極をスパッタ法によって形成する際に使用されるＯ2ガスによって半透明反射層が酸化されることを防止することが可能となり、半透明反射層の反射率が低下してマイクロキャビティー共振効果の発現が弱まることを防ぎ、所期の発光増強効果が得られるようになり、有機ＥＬ素子の発光の高効率化が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、図面を参照しながら、本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、複数の図面において同一の符号は同一物を表し、その繰り返しの説明は省略する。
【００１９】
図１は、本発明の一実施形態に係る有機発光デバイスの構造を示す断面模式図であり、透明基板１１上に、半透明反射層１６、バッファ層１７、透明電極２１、有機ＥＬ層２２、及び反射電極２３が、この順に形成される。有機ＥＬ層２２は、少なくとも発光層を含む、有機化合物材料からなる複数の層から構成される。なお、透明電極２１、有機ＥＬ層２２、及び反射電極２３が、発光源となる有機ＥＬ素子を構成する。発光層を挟む、半透明反射層１６と反射電極２３とは、発光層から放射される光のうち特定波長の光強度を増強する微小共振器を構成するような光学距離に配置される。また、バッファ層１７は、半透明反射層１６の少なくとも上面を覆って、半透明反射層１６がＯ2ガスに曝されない環境下で形成される。
【００２０】
半透明反射層１６は、抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法によって、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔａ、Ａｕ、及びＣｕのいずれかの単体、あるいは、これらのいずれかを含む合金または金属化合物により形成される。
【００２１】
半透明反射層１６の形成に引き続いて、バッファ層１７が形成される。バッファ層１７は、その上にスパッタ法によって形成される透明電極２１の成膜工程において使用されるＯ2ガスによって、半透明反射層１６が酸化されることを防止するために形成される。こうすることによって、半透明反射層１６の反射率が低下してマイクロキャビティー共振効果の発現が弱まることを防ぎ、所期の発光増強効果が得られるようになり、有機ＥＬ素子の発光の高効率化が可能となる。
【００２２】
バッファ層１７は、耐酸化性を有する透明酸化物材料を用いて形成することができる。このような透明酸化物材料として、１種または複数種の金属または合金、とりわけ遷移金属系元素の酸化物を用いることができる。下記に限るものではないが、透明酸化物材料の代表的な例として、酸化モリブテン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化レニウム、酸化ルテニウム、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化オスミウム、酸化プラセオジウム、及び酸化銅などが挙げられる。このような透明酸化物材料のうち、蒸着成膜に適している材料として、特に、三酸化モリブデン（ＭｏＯ3）が知られている。
【００２３】
バッファ層１７の成膜は、抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法のような、低エネルギーの成膜粒子による方法を用いて、前述したような耐酸化性材料を堆積させることが望ましい。
【００２４】
バッファ層１７の膜厚は、その上に形成する透明電極２１の成膜工程において、バッファ層１７が半透明反射層１６を酸化から保護するのに十分である必要がある。また、半透明反射層１６の少なくとも上面を覆って、一様な膜として存在できる膜厚を有することが望ましい。可視光線の波長域における透過率の高い透明酸化物材料を用いるとはいえ、透過率を損ねないようにするために、膜厚は１００ｎｍ以下であることが望ましい。より具体的には、バッファ層１７の膜厚は、好ましくは、５〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜５０ｎｍとすることが望ましい。そのような膜厚を有することによって、一様な膜となるバッファ層１７が、半透明反射層１６を有効に保護することができる。ここで、バッファ層１７の透過率は、可視光線の波長域において、少なくとも７０％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上であることが望ましい。
【００２５】
本発明に使用することができる有機ＥＬ素子は、一対の電極の間に有機ＥＬ層を挟持し、有機ＥＬ層には少なくとも有機発光層を含み、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層を介在させた構造を有している。あるいはまた、正孔の注入および輸送の両方の機能を有する正孔注入輸送層、電子の注入および輸送の両方の機能を有する電子注入輸送層、正孔の進行を阻害する正孔ブロック層、電子の進行を阻害する電子ブロック層などを介在させてもよい。
【００２６】
有機ＥＬ素子は、限定するものではないが、下記のような層構成からなる。  
（１）陽極／有機発光層／陰極  
（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
（３）陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／陰極
（５）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子輸送層／陰極
（６）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／陰極
（７）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
【００２７】
このような層構成において、陽極および陰極は、それぞれ透明電極または反射電極のいずれかである。本発明の属する技術分野においては、陽極を透明にすることは容易であることが知られており、本発明においても陽極を透明電極とし、陰極を反射電極として用いることが好ましい。透明電極は、有機ＥＬ層の発する光の領域において透明であることが好ましい。
【００２８】
上述した有機ＥＬ層２２の各層の材料としては、公知のものが使用される。例えば、有機発光層から、青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましい。
【００２９】
透明電極２１は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して、好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の高い透過率を有することが好ましい。透明電極２１は、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）、ＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）、ＮＥＳＡ膜、Ｓｎ酸化物、Ｚｎ酸化物、Ｚｎ−Ａｌ酸化物、Ｚｎ−Ｇａ酸化物、または、これらの酸化物に対してＦ及びＳｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて、スパッタ法により形成することができる。
【００３０】
また、後述するように、複数の部分電極からなる透明電極２１が必要になる場合には、導電性透明金属酸化物をバッファ層１７の全面にわたって均一に形成し、その後に所望のパターンを与えるようにエッチングを行って、複数の部分電極からなる透明電極２１を形成してもよい。あるいはまた、所望の形状を与えるマスクを用いて、複数の部分電極からなる透明電極２１を形成してもよい。
【００３１】
透明電極２１を陰極として用いる場合、有機ＥＬ層２２との界面に電子注入バッファ層（不図示）を設けて、電子注入効率を向上させることが好ましい。電子注入バッファ層の材料としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、ＢａまたはＳｒなどのアルカリ土類金属、またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれらの金属フッ化物などを用いることができるが、それらに限定されるものではない。電子注入バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができ、一般的には１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３２】
反射電極２３は、高反射率の金属、アモルファス合金、または微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属には、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、及びＣｒなどが含まれる。高反射率のアモルファス合金には、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰ、およびＣｒＢなどが含まれる。高反射率の微結晶性合金には、ＮｉＡｌなどが含まれる。
【００３３】
また、反射電極２３は、陰極として用いてもよいし、陽極として用いてもよい。反射電極２３を陰極として用いる場合には、反射電極２３と有機ＥＬ層２２との界面に、前述した電子注入バッファ層を設けて、有機ＥＬ層２２に対する電子注入効率を向上させてもよい。あるいはまた、反射電極２３を陰極として用いる場合、前述した高反射率金属、アモルファス合金、または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるＬｉ、Ｎａ、及びＫなどのアルカリ金属、またはＣａ、Ｍｇ、及びＳｒなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。反射電極２３を陽極として用いる場合には、反射電極２３と有機ＥＬ層２２との界面に導電性透明金属酸化物の層（不図示）を設けて、有機ＥＬ層２２に対する正孔注入効率を向上させてもよい。
【００３４】
反射電極２３は、その材料に依存して、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの、本発明の属する技術分野において周知な任意の手段を用いて形成することができる。後述するように、複数の部分電極からなる反射電極２３が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて、複数の部分電極からなる反射電極２３を形成してもよい。あるいはまた、有機ＥＬ層２２の積層前に、逆テーパー状の断面形状を有する分離隔壁（不図示）を形成し、それによって分離される複数の部分電極からなる反射電極２３を形成してもよい。
【００３５】
有機ＥＬ素子中に複数の独立した発光部を形成するためには、透明電極２１および反射電極２３のそれぞれを、互いに平行なストライプ状の複数の部分として形成し、透明電極２１を形成するストライプと反射電極２３を形成するストライプとが互いに交差（好ましくは直交）するように形成することが好ましい。このようにすることで、有機ＥＬ素子はマトリクス駆動を行うことができる。すなわち、透明電極２１の特定のストライプと、反射電極２３の特定のストライプとに電圧が印加された場合に、それらのストライプが交差する部分において有機ＥＬ層２２が発光する。
【００３６】
あるいはまた、一方の電極（たとえば、透明電極２１）を、ストライプパターンを持たない一様な平面電極とし、他方の電極（たとえば、反射電極２３）を、各発光部に対応するような複数の部分電極としてパターニングしてもよい。その場合には、各発光部に対応する複数のスイッチング素子を設け、各発光部に対応する部分電極に１対１で接続することにより、いわゆるアクティブマトリクス駆動を行うことが可能になる。
【００３７】
透明基板１１は、可視光透過率に優れ、有機ＥＬデバイスの作成工程において、有機ＥＬデバイスの性能低下を引き起こさないものであればよい。好ましい透明基板には、ガラス基板、ポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などの樹脂で形成された剛直性の樹脂基板が含まれる。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、基板として用いてもよい。なお、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、及びポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む、ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００３８】
以下に、本発明に係る有機発光デバイスの実施例について、詳細に説明する。
（実施例１）
図１を参照しながら、本発明に係る有機発光デバイスの実施例（以下、実施例１という）を説明する。  
まず、厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１を純水中で超音波洗浄し、乾燥させた後に、さらにＵＶオゾン洗浄した。
【００３９】
次いで、洗浄したガラス基板１１を、真空蒸着装置に接続されているロードロック室を介して、減圧状態に保たれている真空蒸着装置内に搬送した。この装置では、装置に接続されているロードロック室を介して基板を搬入および搬出する場合、装置内を減圧状態に保ったまま、基板を、装置内、ロードロック室、装置外との間で移動させることが可能である。
【００４０】
次いで、ガラス基板１１を、装置内の上方にある抵抗加熱方式の熱板に装着した。この真空蒸着装置には、予め、半透明反射層１６の材料であるＡｇを入れたモリブデン製坩堝、およびバッファ層１７の材料である酸化モリブデン（ＭｏＯ3）を入れたモリブデン製坩堝が、真空蒸着装置の下方のガラス基板１１と向かい合う位置に互いに遮蔽板で仕切られて複数設置されている抵抗加熱式蒸着源に装着されている。ここで、ガラス基板１１と坩堝との間隔は、ガラス基板１１の長さの４倍とした。真空蒸着装置の減圧状態を維持したまま、比例制御式温度コントローラーを利用して、ガラス基板１１を５０℃に維持した。
【００４１】
次いで、真空蒸着装置内が１×１０-4Ｐａ以下の圧力に達してから、Ａｇを入れた坩堝を加熱し、ガラス基板１１上に、０．１Å／ｓの蒸着速度にてＡｇを蒸着し、膜厚２５ｎｍの半透明反射層１６を形成した。  
次いで、真空蒸着装置内の真空度をそのまま保った状態で、ＭｏＯ3を入れた坩堝を５００℃に加熱し、半透明反射層１６上に、０．１Å／ｓの蒸着速度にてＭｏＯ3を蒸着し、膜厚２０ｎｍのバッファ層１７を形成した。
【００４２】
次いで、バッファ層１７の上に、有機ＥＬ素子を形成した。まず、ＤＣスパッタ法を用いて、バッファ層１７上に膜厚２２０ｎｍのＩＺＯ膜を成膜した。ターゲットとしてＩｎ−Ｚｎ酸化物を用い、スパッタガスとしてＯ2およびＡｒを用いた。このとき、投入電力は１００Ｗであり、成膜速度は０．３３ｎｍ／ｓであった。次いで、シュウ酸水溶液をエッチング液として用いるフォトリソグラフ法によってパターニングを行い、更に乾燥処理（１５０℃）およびＵＶ処理（水銀灯、室温および１５０℃）を行って、透明電極２１を得た。透明電極２１は、複数のストライプ状部分（幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍ）となるように形成した。
【００４３】
次いで、絶縁性コーティング剤フォトニース（東レ株式会社製）を用いてポリイミド膜を形成し、フォトリソグラフ法を用いて、透明電極２１の各ストライプ状部分の上に、幅０．１ｍｍ、長さ０．３ｍｍの開口部（有機ＥＬ素子の発光部となる部分）が長さ方向のピッチ０．３３ｍｍで配置された絶縁膜を形成した。
【００４４】
次いで、反射電極分離隔壁（不図示）を形成した。ネガ型フォトレジスト（ＺＰＮ１１６８（日本ゼオン製））をスピンコート法によって塗布し、プリベークを実施し、フォトマスクを用いて透明電極２１のストライプと直交する方向に伸びるストライプ形状のパターンを焼き付け、１１０℃のホットプレート上で６０秒間にわたってポストエクスポージャベークを行い、現像を行い、最後に１６０℃のホットプレート上で１５分間にわたって加熱を行い、反射電極分離隔壁を形成した。得られた反射電極分離隔壁は、逆テーパー状の断面形状を有し、透明電極２１のストライプと直交する方向に伸びる複数のストライプ形状部を形成するように構成された。
【００４５】
以上のように、反射電極分離隔壁を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、ホール注入層、ホール輸送層、発光層及び電子輸送層からなる有機ＥＬ層２２を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は、１×１０-5Ｐaまで減圧した。ホール注入層として、４，４’−トリス（３−メチルフェニルアミン）−トリフェニルアミン（ｍ−ＮＴＤＡＴＡ）とテトラフロロテトラシアノ−キノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）との共蒸着膜を、膜厚比がｍ−ＮＴＤＡＴＡ：Ｆ４−ＴＣＮＱ＝１００：２となるように、膜厚１６３ｎｍで成膜した。ホール輸送層として、ｎ，ｎ’−ビス−（１−ナフチル）−ｎ，ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＮＰＢ）を１０ｎｍ積層し、発光層としてＤＰＶＢｉとＢＤ−１０２（出光興産製）との共蒸着膜を、膜厚比が１００：３となるように１５ｎｍ積層した。続いて、電子輸送層として、Ａｌｑ３を膜厚２０ｎｍで成膜した。
【００４６】
この後、真空を破ることなしに、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の重量比）膜を抵抗加熱蒸着法によって堆積させ、幅０．３０ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍの複数のストライプ形状の部分電極からなる反射電極２３を得た。
【００４７】
こうして得られたデバイスを、グローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）下において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤を用いて封止して、有機発光デバイスを得た。
【００４８】
得られた有機発光デバイス（実施例１）は、初期において、波長４７０ｎｍ付近に発光ピークを有し、ピーク強度が１３９００Ｗ／ｓｒ／ｎｍ／Ａであった。
【００４９】
（比較例１）
次に、実施例１と比較して、バッファ層１７を含まない有機発光デバイス（以下、比較例１という）について説明する。図２は、比較例１に係る有機発光デバイスの構造を示す断面模式図である。
【００５０】
比較例１は、バッファ層１７を形成しなかったことを除いて、実施例１と同様の手順によって形成された。比較例１は、初期において、波長４７０ｎｍ付近に発光ピークを有し、ピーク強度が８０５０Ｗ／ｓｒ／ｎｍ／Ａであった。
【００５１】
（比較例２）
次に、実施例１と比較して、半透明反射層１６及びバッファ層１７を含まない有機発光デバイス（以下、比較例２という）について説明する。図３は、比較例２に係る有機発光デバイスの構造を示す断面模式図である。
【００５２】
比較例２は、半透明反射層１６およびバッファ層１７を形成しなかったことを除いて、実施例１と同様の手順によって形成された。比較例２は、初期において、波長４７０ｎｍ付近に発光ピークを有し、ピーク強度が５８００Ｗ／ｓｒ／ｎｍ／Ａであった。
【００５３】
以下に、実施例１、比較例１、及び比較例２について、発光ピークにおけるピーク強度を比較するための表を示す。
【００５４】
【表１】
2009146774.tif 000003
【００５５】
この表からわかるように、実施例１は、比較例１および２に比べて、発光ピークでの発光効率が高く、同じピーク輝度の発光を得るために必要な電流が小さいことがわかる。
【００５６】
実施例１の発光効率が比較例１と比較して高い理由は、比較例１では、半透明反射層１６上に透明電極２１をスパッタ法によって成膜する際に、Ｏ2ガスによって、半透明反射層１６のＡｇが酸化し、半透明反射層１６の反射率が低下して、マイクロキャビティー共振効果の発現が弱まり、所期の発光増強効果が得られなくなったためと考えられる。すなわち、実施例１では、バッファ層１７の挿入によって、半透明性反射層１６の酸化が防止され、比較例１に比べて強いマイクロキャビティー共振効果の発現が得られたと考えられる。
【００５７】
また、実施例１の発光効率が比較例２と比較して高い理由は、比較例２が、半透明反射層１６を有さず、マイクロキャビティー共振効果を利用しないデバイスであるのに対して、実施例１は、マイクロキャビティー共振効果が得られているためと考えられる。比較例１の発光効率が比較例２と比較して高い理由も、同様の理由によるものと考えられる。
【００５８】
このように、本発明によると、Ｏ2ガスによる反射層の劣化を防止した、発光効率の高い有機発光デバイスを提供することができる。また、電極のエッチングに使用されるエッチング液が反射層に付着して、反射層を劣化させてしまうことも防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機発光デバイスの構造を示す模式的断面図である。
【図２】比較例１の有機発光デバイスの構造を示す模式的断面図である。
【図３】比較例２の有機発光デバイスの構造を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１１  透明基板
１６  半透明性反射層（ハーフミラー）
１７  バッファ層
２１  透明電極
２２  有機ＥＬ層
２３  反射電極
【図１】
2009146774.tif 000004
【図２】
2009146774.tif 000005
【図３】
2009146774.tif 000006