(57)【要約】【課題】液状体の配置ムラを事前に予測することにより、描画後の検査工程を経ることなく、液状体の配置量が適正となる駆動条件を設定する。【解決手段】所定の駆動条件に係る前記各ノズルの吐出量、前記複数の所定領域のそれぞれにおいて前記液状体の吐出が選択されるノズル、及び当該ノズルの吐出回数を含む情報に基づき、前記複数の所定領域のそれぞれに対する前記液状体の配置量を求め、この配置量が規定の範囲から外れると予測される領域を特定するＡステップと、前記特定領域における前記液状体の配置量が規定の範囲となる適正条件を求め、この適正条件に基づいて補正された駆動条件を設定するＢステップと、を有する。【選択図】図１２
2009189953.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルを有する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを駆動制御する制御部とを備えた液状体吐出装置において、前記吐出ヘッドを吐出対象物に対して相対的に走査しながら、前記複数のノズルから液状体を吐出することにより、前記吐出対象物上に設定された複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置する際に、前記制御部による前記吐出ヘッドの駆動条件を設定する液状体吐出装置の駆動設定方法であって、
（ａ）所定の駆動条件に係る前記各ノズルの吐出量、前記複数の所定領域のそれぞれにおいて前記液状体の吐出が選択されるノズル、及び当該ノズルの吐出回数を含む情報に基づき、前記複数の所定領域のそれぞれに対する前記液状体の配置量を求め、この配置量が規定の範囲から外れると予測される領域を特定するＡステップと、
（ｂ）前記特定領域における前記液状体の配置量が規定の範囲となる適正条件を求め、この適正条件に基づいて補正された駆動条件を設定するＢステップと、を有する液状体吐出装置の駆動設定方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液状体吐出装置の駆動設定方法であって、
前記Ａステップにおいて、前記複数の所定領域のうち、隣りの領域との間で前記液状体の配置量に許容値を超える差分が生じると予測される領域を特定する、液状体吐出装置の駆動設定方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液状体吐出装置の駆動設定方法であって、
前記Ｂステップにおいて前記補正された駆動条件を設定する際に、前記補正前の駆動条件に対して、前記特定領域における前記液状体の配置量が規定の範囲となるように、前記ノズルの吐出回数を変更する補正を行う、液状体吐出装置の駆動設定方法。
【請求項４】
請求項３に記載の液状体吐出装置の駆動設定方法であって、
前記特定領域に対するノズルの吐出回数を２以上増減させる場合には、２つ以上のノズルを用いて吐出回数を増減させるようにする、液状体吐出装置の駆動設定方法。
【請求項５】
複数のノズルを有する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを駆動制御する制御部とを備えた液状体吐出装置を用いて、前記吐出ヘッドを吐出対象物に対して相対的に走査しながら、前記複数のノズルから液状体を吐出することにより、前記吐出対象物上に設定された複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置する液状体配置方法であって、
請求項１〜４の何れか一項に記載の液状体吐出装置の駆動設定方法を用いて、所定の駆動条件に対する補正された駆動条件を設定し、
前記補正された駆動条件に基づき、前記制御部が前記吐出ヘッドを駆動制御しながら、前記複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置する、液状体配置方法。
【請求項６】
請求項５に記載の液状体配置方法を用いて、前記複数の所定領域のそれぞれに、色材を含む前記液状体を配置し、配置された前記液状体を固化して、前記複数の所定領域をそれぞれ画素の対応領域とする着色部を形成する、カラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項５に記載の液状体配置方法を用いて、前記複数の所定領域のそれぞれに、有機ＥＬ材料を含む前記液状体を配置し、配置された前記液状体を固化して、前記複数の所定領域をそれぞれ画素の対応領域とする発光素子を形成する、ＥＬ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液状体吐出装置の駆動設定方法、液状体配置方法、カラーフィルタの製造方法、ＥＬ装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に液晶装置、ＥＬ装置等といった表示装置が広く用いられている。また、最近では表示装置によってフルカラー表示を行うことが多くなっている。液晶装置によるフルカラー表示は、例えば液晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すことによって行われる。そして、カラーフィルタは、ガラス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色フィルタエレメントをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定の配列で並べることによって形成される。
【０００３】
また、ＥＬ装置によってフルカラー表示を行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色ＥＬ発光層をストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピクセルを形成し、これらの電極に印加する電圧を絵素ピクセルごとに制御することによって当該絵素ピクセルを希望の色で発光させ、これにより、フルカラーの表示を行う。
【０００４】
従来、カラーフィルタのＲ，Ｇ，Ｂ等の各色フィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ装置のＲ，Ｇ，Ｂ等の各色絵素ピクセルをパターニングする場合には、フォトリソグラフィー法が用いられている。しかしながら、このフォトリソグラフィー法を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高くなるなどの問題ある。
【０００５】
このような問題を解消するため、インクジェット法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に吐出することにより、ドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層等を描画形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１，２を参照。）。
【０００６】
ここで、例えば図２５（ａ）に示すように、ガラス、プラスチック等によって形成された大面積の基板、いわゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領域３０２の内部領域に、図２５（ｂ）に示すように、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３をインクジェット法に基づいて形成する場合を考える。
【０００７】
この場合、例えば図２５（ｃ）に示すように、複数のノズル３０４を列状に配列してなるノズル列３０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図２５（ｂ）に矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３０２に関して複数回（図２５では２回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
【０００８】
フィルタエレメント３０３は、Ｒ，Ｇ，Ｂ等の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等といった適宜の配列形態で配列することによって形成されるものであるのである。インクジェットヘッド３０６によるインク吐出処理は、図２５（ｂ）に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，Ｂ等の３色分だけ予め設けておいて、それらのインクジェットヘッド３０６を順々に用いて１つのマザーボード３０１上にＲ，Ｇ，Ｂ等の３色配列を形成する。
【０００９】
ところで、インクジェットヘッド３０６に関しては、ノズル列３０５を構成する各ノズル３０４の間でインクの吐出量にバラツキが生じており、一般に、図２６（ａ）に示すように、ノズル列３０５の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ないといったインク吐出特性Ｑを示す。
【００１０】
このため、インクジェットヘッド３０６によってフィルタエレメント３０３を所定の厚みに形成する場合には、図２６（ｂ）に示すように、ノズル列３０５を構成する各ノズル３０４のインク吐出量のバラツキに起因して、インクジェットヘッド３０６の走査方向と直交する方向に並ぶ複数のフィルタエレメント３０３の間で、インクの配置量（膜厚）にバラツキが生じることになる。この場合、例えばノズル列３０５の端部に対応する位置Ｐ１又は中央部Ｐ２、或いはＰ１及びＰ２の両方に濃度の濃いスジムラ（配置ムラ）が形成されてしまうため、カラーフィルタの平面的な光透過特性が不均一になるといった問題が発生してしまう。また、このようなスジ状の配置ムラは視認されやすく、カラーフィルタを介して表示される画像の画質を低下させる原因ともなる。
【特許文献１】特開２００４−１０５９４８号公報
【特許文献２】特開２００４−９４２１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところで、従来の製造工程では、このような液状体の配置ムラが生じたことを描画後の検査において把握しており、この検査結果に基づく駆動条件の補正を行うまでの間は製造歩留りが低下するといった問題が生じる。また、上記の描画、検査、補正といった工程を繰り返す従来の製造工程では、生産タクトも長くなるために、コスト高になるといった問題もある。
【００１２】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、液状体の配置ムラを事前に予測することにより、描画後の検査工程を経ることなく、液状体の配置量が適正となる駆動条件を設定することを可能とした液状体吐出装置の駆動設定方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、そのような液状体吐出装置の駆動設定方法により設定された駆動条件に基づき、基板上に設定された複数の所定領域に対して液状体を配置することで、液状体の配置ムラを目立たなくすることを可能とした液状体配置方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、そのような液状体配置方法を用いて、高品質のカラーフィルタ及びＥＬ装置を製造することを可能としたカラーフィルタの製造方法及びＥＬ装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明に係る液状体吐出装置の駆動設定方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを駆動制御する制御部とを備えた液状体吐出装置において、前記吐出ヘッドを吐出対象物に対して相対的に走査しながら、前記複数のノズルから液状体を吐出することにより、前記吐出対象物上に設定された複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置する際に、前記制御部による前記吐出ヘッドの駆動条件を設定する駆動設定方法であって、所定の駆動条件に係る前記各ノズルの吐出量、前記複数の所定領域のそれぞれにおいて前記液状体の吐出が選択されるノズル、及び当該ノズルの吐出回数を含む情報に基づき、前記複数の所定領域のそれぞれに対する前記液状体の配置量を求め、この配置量が規定の範囲から外れると予測される領域を特定するＡステップと、前記特定領域における前記液状体の配置量が規定の範囲となる適正条件を求め、この適正条件に基づいて補正された駆動条件を設定するＢステップと、を有する。
【００１４】
この発明の例によれば、複数の所定領域のそれぞれに対する液状体の配置量を求め、この液状体の配置量が規定の範囲から外れると予測される領域を特定し、この特定領域における液状体の配置量が規定の範囲となる適正条件を求め、この適正条件に基づいて補正された駆動条件を設定することで、液状体の配置ムラを事前に予測し、液状体の配置量が適正となる駆動条件を設定することができる。
したがって、この補正された駆動条件に基づいて制御部が吐出ヘッドを駆動制御することで、液状体の配置ムラを目立たなくすることができる。
また、液状体の配置ムラを事前に予測することにより、従来のような検査工程を経ることなく、液状体の配置量が適正となる駆動条件の補正を実施できるため、歩留りの向上及び生産タクトの向上を図ることができる。
【００１５】
また好ましくは、前記Ａステップにおいて、前記複数の所定領域のうち、隣りの領域との間で前記液状体の配置量に許容値を超える差分が生じると予測される領域を特定する。
この発明の例によれば、隣りの領域との間で液状体の配置量に許容値を超える差分が生じる特定領域において、液状体の配置ムラが相対的に目立ち易くなることから、この特定領域において液状体の配置量が適正となる駆動条件を設定する。これにより、液状体の配置ムラを相対的に視認し難くすることができる。
【００１６】
また好ましくは、前記Ｂステップにおいて前記補正された駆動条件を設定する際に、前記補正前の駆動条件に対して、前記特定領域における前記液状体の配置量が規定の範囲となるように、前記ノズルの吐出回数を変更する補正を行う。
この発明の例によれば、補正前の駆動条件に対してノズルの吐出回数を変更する補正を行うことで、特定領域における液状体の配置量が適正となる駆動条件を容易に設定することができる。
【００１７】
また好ましくは、前記特定領域に対するノズルの吐出回数を２以上増減させる場合には、２つ以上のノズルを用いて吐出回数を増減させるようにする。
この発明の例によれば、特定領域に対するノズルの吐出回数を２以上増減させる場合に、２つ以上のノズルを用いて吐出回数を増減させることで、１つのノズルを用いて吐出回数を２以上増減させる場合よりも、特定領域に対する液状体の配置を適切に行うことができる。
【００１８】
また、本発明に係る液状体配置方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを駆動制御する制御部とを備えた液状体吐出装置を用いて、前記吐出ヘッドを吐出対象物に対して相対的に走査しながら、前記複数のノズルから液状体を吐出することにより、前記吐出対象物上に設定された複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置する液状体配置方法であって、前記液状体吐出装置の駆動設定方法を用いて、所定の駆動条件に対する補正された駆動条件を設定し、前記補正された駆動条件に基づき、前記制御部が前記吐出ヘッドを駆動制御しながら、前記複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置する。
この発明の例によれば、前記液状体吐出装置の駆動設定方法により設定された補正後の駆動条件に基づき、制御部が吐出ヘッドを駆動制御しながら、複数の所定領域に対して前記液状体をそれぞれ配置することで、液状体の配置ムラを目立たなくすることができる。
【００１９】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、前記液状体配置方法を用いて、前記複数の所定領域のそれぞれに、色材を含む前記液状体を配置し、配置された前記液状体を固化して、前記複数の所定領域をそれぞれ画素の対応領域とする着色部を形成する。
この発明の例によれば、前記液状体配置方法を用いて着色部を形成しているので、高品質のカラーフィルタを製造することができる。
【００２０】
また、本発明に係るＥＬ装置の製造方法は、前記液状体配置方法を用いて、前記複数の所定領域のそれぞれに、有機ＥＬ材料を含む前記液状体を配置し、配置された前記液状体を固化して、前記複数の所定領域をそれぞれ画素の対応領域とする発光素子を形成する。
この発明の例によれば、前記液状体配置方法を用いて発光素子を形成しているので、高品質のＥＬ装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で参照する図では、図示の便宜上、部材ないし部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００２２】
（第１の実施形態）
（カラーフィルタの構成）
先ず、本発明を適用した液状体吐出装置の駆動設定方法及び液状体配置方法を説明するのに先立って、当該液状体吐出装置及び液状体配置方法を用いて製造されるカラーフィルタの例について説明する。図１（ａ）は、カラーフィルタの平面構造を模式的に示している。また、図１（ｄ）は、図１（ａ）のＶＩ−ＶＩ線による断面構造を示している。
【００２３】
このカラーフィルタ１は、ガラス、プラスチック等によって形成された方形状の基板２の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパターン状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、さらに図２（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層することによって形成されている。なお、図１（ａ）は保護膜４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に示している。
【００２４】
フィルタエレメント３は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁６によって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色材によって形成され、それらの各色フィルタエレメント３が所定の配列に並べられている。この配列としては、例えば、図３（ａ）に示すストライプ配列、図３（ｂ）に示すモザイク配列、図３（ｃ）に示すデルタ配列等が知られている。
【００２５】
ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、フィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。
【００２６】
カラーフィルタ１の大きさは、例えば、１．８インチである。また、１個のフィルタエレメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。また、各フィルタエレメント３の間の間隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
【００２７】
このカラーフィルタ１をフルカラー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットとして１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいずれか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラックマトリクスとして作用する。
【００２８】
このカラーフィルタ１は、例えば、図１（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定された複数のカラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さらにそれらのカラーフィルタ形成領域１１の周りに切断用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が形成される。
【００２９】
次に、上記カラーフィルタ１の製造方法（液状体配置方法）について説明する。
図２はカラーフィルタ１の製造方法を工程順に模式的に示している。先ず、マザー基板１２の表面に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成される領域、すなわちフィルタエレメント領域７である。この隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００３０】
隔壁６は、フィルタエレメント領域７に供給されるフィルタエレメント材料の流動を阻止する機能及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、隔壁６は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
【００３１】
隔壁６の形成後、図２（ｂ）に示すように、フィルタエレメント材料の液滴（液状体）８を各フィルタエレメント領域７に供給することにより、各フィルタエレメント領域７をフィルタエレメント材料１３で埋める。図２（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材料を示している。
【００３２】
各フィルタエレメント領域７に所定量のフィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィルタエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図２（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して膜化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント３が形成される。
【００３３】
以上によりフィルタエレメント３が形成された後、それらのフィラメント３を完全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法、又はインクジェット法等といった適宜の手法を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタエレメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の平坦化のために形成される。
【００３４】
なお、本実施形態においては、隔壁６として透光性のない樹脂材料を用いたが、透隔壁６として透光性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。その場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下等に別途遮光性の金属膜或いは樹脂材料を設けてブラックマスクとしてもよい。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラックマスクを設けない構成としてもよい。
【００３５】
また、本実施形態においては、フィルタエレメントとしてＲ，Ｇ、Ｂを用いたがもちろん、Ｒ，Ｇ．Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン），Ｍ（マゼンダ），Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタエレメント材料、に変えて、Ｃ，Ｍ、Ｙの色を有するフィルタエレメント材料を用いればよい。
【００３６】
また、本実施形態においては、隔壁６をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフィルタ同様にインクジェット法により隔壁６を形成することも可能である。
【００３７】
（液状体吐出装置の構成）
次に、上記カラーフィルタ１を製造する際に用いるインクジェット装置（液状体吐出装置）について説明する。
図４は、図２（ｂ）に示したフィルタエレメント材料の供給処理を行うためのインクジェット装置１６の一例を示している。図５は、このインクジェット装置１６の主要部を拡大して示している。また、図６は、このインクジェット装置１６の主要部であるインクジェットヘッドを拡大して示している。
【００３８】
このインクジェット装置１６は、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料をインクの液滴として、マザー基板１２（図１（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフィルタエレメント材料のためのインクジェット装置もそれぞれに用意されるが、それらの構造は図４のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。
【００３９】
インクジェット装置１６は、図４に示すように、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘッド位置制御装置１７と、マザー基板１２の位置を制御する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、マザー基板１２をインクジェット装置１６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２４とを有する。
【００４０】
ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２１の各装置はベース９の上に設置される。また、それらの各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。
【００４１】
インクジェットヘッド２２は、例えば図６に示すように、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。図１（ａ）及び図１（ｂ）においてカラーフィルタ１及びマザー基板１２に対する主走査方向Ｘ及びそれに直交する副走査方向Ｙは図６において図示の通りに設定される。
【００４２】
インクジェットヘッド２２は、そのノズル列２８が主走査方向Ｘと交差する方向へ延びるように位置設定され、この主走査方向Ｘへ平行移動する間に、インクとしてのフィルタエレメント材料を複数のノズル２７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２（図１（ｂ）参照）内の所定位置にフィルタエレメント材料を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、インクジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００４３】
インクジェットヘッド２２は、例えば、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示す内部構造を有する。具体的には、インクジェットヘッド２２は、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。
【００４４】
振動板３１の適所にはインク供給孔３６が形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料Ｍをインク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレメント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通ってインク室３３に充満する。
【００４５】
ノズルプレート２９には、インク室３３からフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３３を形成する面の裏面には、該インク室３３に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。このインク加圧体３９は、圧電素子４１並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室３３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメント材料Ｍが液溜り３４から通路３８を通ってインク室３３へ流入する。
【００４６】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためインク室３３の内部にあるフィルタエレメント材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２（図１（ｂ）参照）へ向けてフィルタエレメント材料Ｍが液滴８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、液滴８の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
【００４７】
ヘッド位置制御装置１７は、図５に示すように、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモータ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、インクジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェットヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８を有する。
【００４８】
基板位置制御装置１８は、図５に示すように、マザー基板１２を載せるテーブル４９と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモータ５１とを有する。
【００４９】
主走査駆動装置１９は、図５に示すように、主走査方向Ｘへ延びるガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【００５０】
また、副走査駆動装置２１は、図５に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５４に沿って副走査方向Ｙへ平行移動する。
【００５１】
スライダ５３やスライダ５６内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル４９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。なお、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。
【００５２】
基板供給装置２３は、マザー基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着パッド６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着できる。
【００５３】
インクジェット装置１６では、図４に示すように、主走査駆動装置１９によって駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はインクジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図６参照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに測定する機器である。そして、キャッピング装置７６はインクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズル２７（図６参照）の乾燥を防止するための装置である。
【００５４】
インクジェットヘッド２２の近傍には、そのインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
【００５５】
コントロール装置２４は、図４に示すように、制御部としてのプロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上記プロセッサは、図７に示すように、演算処理を行うＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有する。
【００５６】
ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電素子４１（図７（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路７２の各機器は、図８に示すように、入出力インターフェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプレイ６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキャッピング装置７６の各機器も入出力インターフェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００５７】
メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図２に示す各種のＲ，Ｇ，Ｂ配列を実現するためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２（図１参照）内における吐出位置を座標データとして記憶するための記憶領域や、副走査方向Ｙへのマザー基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
【００５８】
ＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基板１２の表面の所定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現部として、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤７８（図４参照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、インクジェットヘッド２２によってフィルタエレメント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有する。
【００５９】
また、描画演算部を詳しく分割すれば、インクジェットヘッド２２を描画のための初期位置へセットするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部等といった各種の機能演算部を有する。
【００６０】
なお、本実施形態では、上記の各機能をＣＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００６１】
以下、上記構成からなるインクジェット装置１６の動作を図９に示すフローチャートに基づいて説明する。
【００６２】
オペレータによる電源投入によってインクジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１において初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等が予め決められた初期状態にセットされる。
【００６３】
次に、重量測定タイミングが到来すれば（ステップＳ２でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によって電子天秤７８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ステップＳ４）。そして、ノズル２７のインク吐出特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。 
【００６４】
次に、クリーニングタイミングが到来すれば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所まで移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニングする（ステップＳ８）。
【００６５】
重量測定タイミングやクリーニングタイミングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮＯ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステップＳ９において、基板供給装置２３を作動させてマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的には、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２をテーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に予め設けてある位置決めピン５０（図５）に押し付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１２の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザー基板１２をテーブル４９に固定することが望ましい。
【００６６】
次に、基板用カメラ８２によってマザー基板１２を観察しながら、θモータ５１の出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板１２を位置決めする（ステップＳ１０）。
【００６７】
次に、ヘッド用カメラ８１によってマザー基板１２を観察しながらインクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走査駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動させてインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する（ステップＳ１２）。
【００６８】
このとき、インクジェットヘッド２２は、図１０の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８がインクジェットヘッド２２の副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜するように配設される。これは、通常のインクジェット装置の場合には、隣り合うノズル２７の間の間隔であるノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント３すなわちフィルタエレメント形成領域７の間の間隔であるエレメントピッチとが異なることが多く、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ移動させるときに、ノズル間ピッチの副走査方向Ｙの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に等しくなるようにするための措置である。
【００６９】
ステップＳ１２でインクジェットヘッド２２が描画開始位置に置かれると、インクジェットヘッド２２は、図１０の（ａ）位置に置かれる。その後、図９のステップＳ１３で主走査方向Ｘへの主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的には、図１０に示すように、主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２２が主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメント領域７に対応するノズル２７が到達したときにそのノズル２７からインクすなわちフィルタエレメント材料が吐出される。
【００７０】
なお、このときのインク吐出量は、フィルタエレメント領域７の容積全部を埋める量ではなく、その全量の数分の１、本実施形態では全量の１／４の量である。これは、後述するように、各フィルタエレメント領域７はノズル２７からの１回のインク吐出によって埋められるのではなくて、数回のインク吐出の重ね吐出によって、本実施形態では４回の重ね吐出によって容積全部を埋めることになっているからである。
【００７１】
インクジェットヘッド２２は、マザー基板１２に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（ａ）へ復帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副走査方向Ｙへ予め決められた副走査量δだけ移動する（ステップＳ１６）。
【００７２】
本実施形態では、ＣＰＵ６９は、図１０に示すように、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７を複数のグループｎに概念的に分割する。本実施形態ではｎ＝４、すなわち１８０個のノズル２７から成る長さＬのノズル列２８を４つのグループに分割して考える。これにより、１つのノズルグループはノズル２７を１８０／４＝４５個含む長さＬ／ｎすなわちＬ／４に決められる。上記の副走査量δは上記のノズルグループ長さＬ／４の副走査方向の長さ、すなわち（Ｌ／４）ｃｏｓθに設定される。
【００７３】
従って、１ライン分の主走査が終了して初期位置（ａ）へ復帰したインクジェットヘッド２２は副走査方向Ｙへ距離δだけ平行移動して位置（ｂ）へ移動する。なお、図１０では位置（ａ）と位置（ｂ）とが主走査方向Ｘに関して少しずれて描かれているが、これは説明を分かり易くするための措置であり、実際には、位置（ａ）と位置（ｂ）は主走査方向Ｘに関しては同じ位置である。
【００７４】
位置（ｂ）へ副走査移動したインクジェットヘッド２２は、ステップＳ１３で主走査移動及びインク吐出を繰り返して実行する。この主走査移動時には、マザー基板１２上におけるカラーフィルタ形成領域１１内の２列目のラインが先頭のノズルグループによって初めてインク吐出を受けると共に、１列目のラインは先頭から２番目のノズルグループによって２回目のインク吐出を受ける。
【００７５】
これ以降、インクジェットヘッド２２は、位置（ｃ）〜位置（ｋ）のように副走査移動を繰り返しながら主走査移動及びインク吐出を繰り返し（ステップＳ１３〜ステップＳ１６）、これにより、マザー基板１２のカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着処理が完了する。
【００７６】
本実施形態では、ノズル列２８を４つのグループに分割して副走査量δを決定したので、上記のカラーフィルタ形成領域１１の１列分の主走査及び副走査が終了すると、各フィルタエレメント領域７は４個のノズルグループによってそれぞれ１回ずつ、合計で４回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量のインクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給される。
【００７７】
なお、インクジェットヘッド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７のインク吐出量の分布が不均一になることは図２６（ａ）に関連して説明した通りである。また、特にノズル列２８の両端部に存在する数個、例えば片端側１０個ずつ、のノズル２７が特にインク吐出量が大きくなることも記述の通りである。このようにインク吐出量が他のノズルに比べて特に多いノズルを使用することは、インク吐膜すなわちフィルタエレメントの膜厚を均一にすることに関して好ましくない。
【００７８】
従って、望ましくは、図１１に示すように、ノズル列２８を形成する複数のノズル２７のうちノズル列２８の両端部Ｅに存在する数個、例えば１０個程度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残りの部分Ｆに存在するノズル２７を複数、例えば４個のグループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移動を行うことが良い。
【００７９】
こうしてカラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド２２は副走査駆動手段２１によって駆動されて次列のカラーフィルタ形成領域１１の初期位置へ搬送され（ステップＳ１９）、そして当該列のカラーフィルタ形成領域１１に対して主走査、副走査及びインク吐出を繰り返してフィルタエレメント領域７内にフィルタエレメントを形成する（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。
【００８０】
その後、マザー基板１２内の全てのカラーフィルタ形成領域１１に関してＲ，Ｇ，Ｂの１色、例えばＲ１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステップＳ１８でＹＥＳ）、ステップＳ２０でマザー基板１２を基板供給装置２３によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマザー基板１２が外部へ排出される。その後、オペレータによって処理終了の指示がなされない限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２に対するＲ１色に関するインク吐着作業を繰り返して行う。
【００８１】
オペレータから作業終了の指示があると（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９はインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってインクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施す（ステップＳ２２）。
【００８２】
以上により、カラーフィルタを構成するＲ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色についてのパターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，Ｇ，Ｂの第２色、例えばＧ色をフィルタエレメント材料とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパターニングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例えばＢ色をフィルタエレメント材料とするインクジェット装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これにより、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂのドット配列を有するカラーフィルタ１（図１（ａ））が複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマザー基板１２をカラーフィルタ領域１１ごとに切断することにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出される。
【００８３】
なお、本カラーフィルタ１を液晶装置のカラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィルタ１の表面にはさらに電極や配向膜等が積層されることになる。そのような場合、電極や配向膜等を積層する前にマザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基板１２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直ぐにマザー基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した後にマザー基板１２を切断することが望ましい。
【００８４】
（液状体吐出装置の駆動設定方法）
次に、本発明を適用した液状体吐出装置の駆動設定方法について説明する。
図１２は、本実施形態の駆動設定方法を示すフローチャートである。
本発明を適用した液状体吐出装置の駆動設定方法は、所定の駆動条件に係る描画データに基づいて、上記インクジェット装置１６がマザー基板１２上に設定された複数のフィルタエレメント領域７に対してインクの液滴（液状体）をそれぞれ所定の膜厚（配置量）で配置する際に、インクの配置ムラを事前に予測して、描画後の検査工程を経ることなく、インク配置量が適正となる駆動条件を設定できるようにしたものである。
【００８５】
具体的には、本発明の駆動設定方法を実行する手段としてのコンピュータを用意する。このコンピュータは、本発明の駆動設定方法の手順が記述されたプログラムソフトを実行するものであればよく、例えば、上記インクジェット装置１６のコンピュータ本体部６６であっても、このコンピュータ本体部６６とは独立した情報処理装置であってもよい。そして、このコンピュータは、本発明の駆動設定方法の手順が記述されたプログラムソフトに従って描画データの補正を行う。
【００８６】
本発明の駆動設定方法の手順としては、先ず、図１２に示すステップＳ１において、コンピュータに所定の駆動条件に係る描画データを入力する。この描画データは、マザー基板１２に描画するフィルタエレメント３のパターンに応じた描画情報であり、実際にインクジェット装置１６のコンピュータ本体部６６に入力されることによって、インクジェットヘッド２２がインク吐出作業を実行する際の駆動条件を設定するための情報である。
【００８７】
また、コンピュータには、インクジェットヘッド２２の各ノズルから吐出されるインク吐出量のバラツキについてのインク吐出特性情報が入力されて、メモリに記憶されている。上述したように、インクジェットヘッド２２では、ノズル列２８を構成する各ノズル２７の吐出量が一様ではなく、図２６（ａ）に示すようなインク吐出特性Ｑを有することは説明した通りである。また、ヘッドユニット２６が複数のインクジェットヘッド２２を備えたキャリッジ構造を有する場合は、インクジェットヘッド２２毎のインク吐出特性情報と共に、各インクジェットヘッド２２の配置情報もコンピュータに入力される。
【００８８】
次に、図１２に示すステップＳ２において、コンピュータに入力された描画データ及びインク吐出特性情報に基づいて、コンピュータがマザー基板１２上に設定された各フィルタエレメント領域７のインク配置量を算出する。
【００８９】
具体的に、コンピュータは、描画データが入力されたコンピュータ本体部６６がマザー基板１２に描画するための演算を行うのと同様に、マザー基板１２上に設定された各フィルタエレメント領域７にインクを吐出する際に、インクジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを選択してインクを吐出するか、また、選択されたノズル２７の吐出回数をいくつに設定するかといった演算を行う。これにより、マザー基板１２上に設定された複数のフィルタエレメント領域７のそれぞれに対して、どのノズル２７から何回インクが吐出されるかを求めることができる。
【００９０】
そして、コンピュータは、フィルタエレメント領域７毎に選択されるノズル及び当該ノズルの吐出回数と、インク吐出特性情報により得られた各ノズル２７のインク吐出量とを積算することによって、各フィルタエレメント領域７のインク配置量を算出する。
【００９１】
次に、図１２に示すステップＳ３において、各フィルタエレメント領域７のインク配置量の算出結果に基づいて、インク配置量が規定の範囲から外れると予測されるフィルタエレメント領域７を特定する。
【００９２】
ここで、各フィルタエレメント領域７は、インクジェットヘッド２２の複数のノズル２７から重ねてインクの吐出を受けることにより所定のインク配置量となるが、上述した各ノズルのインク吐出量のバラツキと、選択するノズル及びその吐出回数によって、インク配置量に差（配置ムラ）が生じることになる。
【００９３】
また、インク配置量の規定範囲とは、この配置ムラを生じさせないための許容範囲のことであり、特に、隣りのフィルタエレメント領域７との間でインク配置量に大きな差が生じると、インクの配置ムラが相対的に目立ち易くなることから、図１２に示すステップＳ３では、上述した各フィルタエレメント領域７のインク配置量の算出結果から、隣りのフィルタエレメント領域７との間でインク配置量に許容値を超える差分、すなわち配置ムラが生じると予測される領域を特定する（以下、特定領域という。）。
【００９４】
次に、図１２に示すステップＳ４において、特定領域のインク配置量が規定範囲となる適正条件を算出する。具体的に、このステップＳ４では、その適正条件として、特定領域のインク配置量が規定範囲となるインク吐出の増減数を算出する。すなわち、上記ステップＳ２では、複数のフィルタエレメント領域７のそれぞれに対して、どのノズル２７から何回インクが吐出されるかを求めている。したがって、ステップＳ４では、この情報に基づいて、特定領域のインク配置量が規定範囲となるインク吐出の増減数を求めることができる。
【００９５】
例えば、上述した各フィルタエレメント領域７のインク配置量の算出結果から、隣りのフィルタエレメント領域７との間で特定領域のインク配置量が相対的に少ないと判断した場合には、インク配置量が規定範囲となるインク吐出を増やす回数を算出し、一方、隣りのフィルタエレメント領域７との間で特定領域のインク配置量が相対的に多いと判断した場合には、インク配置量が規定範囲となるインク吐出の減らす回数を算出する。
【００９６】
また、特定領域に対してインクの吐出回数を調整するノズルは、任意であるが、特定領域に対するノズルの吐出回数を２以上増減させる場合には、２つ以上のノズルを用いて吐出回数を増減させることが好ましい。上述したように、インクジェット装置１６では、インクジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して走査しながら、複数のノズル２７から選択的にインクを吐出することによって、各フィルタエレメント領域７にインクを配置していくことから、２つ以上のノズルを用いた方が１つのノズル２７を用いて吐出回数を２以上増減させる場合よりも、特定領域に対するインクの配置を適切に行うことが可能である。
【００９７】
次に、図１２に示すステップＳ５において、上述した適正条件に基づいて、描画データを補正する。この補正された描画データは、補正前の描画データに、上記ステップＳ４において算出した特定領域に対するノズル２７の吐出回数を変更する補正データを加えたものである。これにより、上述した適正条件に基づく補正された描画データを作成することができる。
【００９８】
以上の手順を経ることにより、補正前の駆動条件に対して、各フィルタエレメント領域７のインク配置量（膜厚）が適正となるインクジェットヘッド２２の補正された駆動条件を設定することができる。
【００９９】
以上のように、本発明を適用した液状体吐出装置の駆動設定方法によれば、マザー基板１２上に設定された複数のフィルタエレメント領域７のそれぞれに対するインク配置量を求め、このインク配置量が規定の範囲から外れると予測される領域を特定し、この特定領域におけるインク配置量が規定の範囲となる適正条件を求め、この適正条件に基づいて補正された駆動条件を設定することで、インクの配置ムラを事前に予測し、インク配置量が適正となる駆動条件を設定することができる。
【０１００】
具体的に、図１３は、複数のフィルタエレメント領域７におけるインク配置量のバラツキを示すグラフであり、（ａ）は補正前の駆動条件の場合、（ｂ）補正後の駆動条件の場合である。図１４は、複数のフィルタエレメント領域における明度差ΔＶを示すグラフであり、（ａ）は補正前の駆動条件の場合、（ｂ）補正後の駆動条件の場合である。
【０１０１】
補正前の駆動条件においては、図１３（ａ）中の○で示す部分に、隣りのフィルタエレメント領域７との間でインク配置量に許容値を超える差分が生じていることがわかる。その結果、図１４（ａ）中の○で示す部分に、インクの配置ムラが生じてしまい、描画されたフィルタエレメント３に規定範囲を超える明度差ΔＶが生じていることがわかる。
【０１０２】
これに対して、補正後の駆動条件においては、図１３（ｂ）中の○で示す部分にインク配置量を増やす補正を加えたことで、隣りのフィルタエレメント領域７との間でインク配置量の差が相対的に小さくなっていることがわかる。その結果、図１４（ｂ）中の○で示す部分では、描画されたフィルタエレメント３の明度差ΔＶが補正前よりも小さくなっていることがわかる。
【０１０３】
このように、隣りのフィルタエレメント領域７との間でインク配置量に許容値を超える差分が生じる特定領域において、インクの配置ムラが相対的に目立ち易くなることから、この特定領域においてインク配置量が適正となる駆動条件を設定することで、インクの配置ムラを相対的に視認し難くすることができる。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。
【０１０４】
また、本実施形態の駆動設定方法では、補正前の駆動条件に対してノズル２７の吐出回数を変更する補正を行うことで、特定領域におけるインク配置量が適正となる駆動条件を容易に設定することができる。
また、本実施形態の駆動設定方法では、インクの配置ムラを事前に予測することにより、従来のような検査工程を経ることなく、インク配置量が適正となる駆動条件の補正を実施できるため、歩留りの向上及び生産タクトの向上を図ることができる。
【０１０５】
（第２の実施形態）
図１５は、第２の実施形態としてインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１０６】
本実施形態によって実施される概略の工程は図２に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も図４に示した装置と機構的には同じである。また、図８のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、各ノズルグループの長さＬ／ｎ又はＬ／４に対応させて副走査量δを決定することも図１０の場合と同じである。
【０１０７】
本実施形態が図１０に示した先の実施形態と異なる点は、メモリ７１内に格納したプログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的にはＣＰＵ６９によって行う主走査制御演算と副走査制御演算に改変を加えたことである。
【０１０８】
より具体的に説明すれば、図１５において、インクジェットヘッド２２は主走査方向Ｘへの走査移動の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、１方向への主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグループ１個分に相当する移動量δだけ移動して位置（ｂ）へ移動した後、主走査方向Ｘの上記１方向の反対方向へ走査移動を行って初期位置（ａ）から副走査方向へ距離δだけずれた位置（ｂ'）へ戻るように制御される。なお、位置（ａ）から位置（ｂ）までの主走査の間及び位置（ｂ）から位置（ｂ'）への主走査移動の間の両方の期間において複数のノズル２７から選択的にインクが吐出されることはもちろんである。
【０１０９】
つまり、本実施形態ではインクジェットヘッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮化できる。
【０１１０】
（第３の実施形態）
図１６は、第３の実施形態としてインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１１１】
本実施形態によって実施される概略の工程は図２に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も図４に示した装置と機構的には同じである。また、図８のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けすることも図１０の場合と同じである。
【０１１２】
本実施形態が図１０に示した先の実施形態と異なる点は、図９のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図１６の（ａ）位置に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点である。このようなノズルの配列構造は、インクジェットヘッド２２に関するノズル間ピッチとマザー基板１２に関するエレメント間ピッチとが等しい場合に有利な構造である。
【０１１３】
この実施形態においても、インクジェットヘッド２２は初期位置（ａ）から終端位置（ｋ）に至るまで、主走査方向Ｘへの走査移動、初期位置への復帰移動及び副走査方向Ｙへの移動量δでの副走査移動を繰り返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル２７から選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出し、これにより、マザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内のフィルタエレメント領域７内へフィルタエレメント材料を付着させる。
【０１１４】
なお、本実施形態では、ノズル列２８が副走査方向Ｙに対して平行に位置設定されるので、副走査移動量δは分割されたノズルグループの長さＬ／ｎすなわちＬ／４と等しく設定される。
【０１１５】
（第４の実施形態）
図１７は、第４の実施形態としてインクジェットヘッド２２を用いてマザー基板１２内のカラーフィルタ形成領域１１内の各フィルタエレメント領域７へインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出によって供給する場合を模式的に示している。
【０１１６】
本実施形態によって実施される概略の工程は図２に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も図４に示した装置と機構的には同じである。また、図８のＣＰＵ６９がノズル列２８を形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個，例えば４つにグループ分けすることも図１０の場合と同じである。
【０１１７】
本実施形態が図１０に示した先の実施形態と異なる点は、図９のステップＳ１２でインクジェットヘッド２２をマザー基板１２の描画開始位置にセットしたとき、そのインクジェットヘッド２２は図１７（ａ）に示すように、ノズル列２８の延びる方向が副走査方向Ｙと平行である点と、図１５の実施形態の場合と同様にインクジェットヘッド２２の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく連続して交互に行われる点である。
【０１１８】
なお、図１７に示す本実施形態及び図１６に示す先の実施形態では、主走査方向Ｘがノズル列２８に対して直角の方向となるので、ノズル列２８を図１８に示すように主走査方向Ｘに沿って２列設けることにより、同じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１つのフィルタエレメント領域７にフィルタエレメント材料を供給することができる。
【０１１９】
（第５の実施形態）
図１９は、第５の実施形態に用いられるインクジェットヘッド２２Ａを示している。
このインクジェットヘッド２２Ａが図６に示すインクジェットヘッド２２と異なる点は、Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のインクジェットヘッド２２Ａに形成し、それら３種類のそれぞれに図７（ａ）及び図７（ｂ）に示したインク吐出系を設け、Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系にはＲインク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８Ｇに対応するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇを接続し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク吐出系にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことである。
【０１２０】
本実施形態によって実施される概略の工程は図２に示した工程と同じであり、インク吐着のために用いるインクジェット装置も基本的には図４に示した装置と同じである。また、図８のＣＰＵ６９がノズル列２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂを形成する複数のノズル２７を概念的にｎ個、例えば４つにグループ分けして、それらのノズルグループごとにインクジェットヘッド２２Ａを副走査移動量δで副走査移動させることも図１０の場合と同じである。
【０１２１】
図１０に示した実施形態では、インクジェットヘッド２２に１種類のノズル列２８が設けられるだけであったので、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色によってカラーフィルタを形成する際には図４に示したインクジェットヘッド２２がＲ，Ｇ，Ｂの３色それぞれについて準備されていなければならなかった。これに対し、図１９に示す構造のインクジェットヘッド２２Ａを使用する場合には、インクジェットヘッド２２Ａの主走査方向Ｘへの１回の主走査によってＲ，Ｇ，Ｂの３色を同時にマザー基板１２へ付着させることができるので、インクジェットヘッド２２は１つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズル列間隔をマザー基板のフィルタエレメント領域のピッチに合わせることにより、ＲＧＢ３色の同時打ちが可能となる。
【０１２２】
（第６の実施形態）
図２０は、第６の実施形態として液晶装置の製造方法の一例を示している。また、図２１はその製造方法によって製造される液晶装置の一例を示している。また、図２２は図２１におけるＩＸ−ＩＸ線に従った液晶装置の断面構造を示している。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明に先立って、まず、その製造方法によって製造される液晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶装置である。
【０１２３】
図２１において、液晶装置１０１は、液晶パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦＰＣ（Fleｘible Printed Circuit）１０４を液晶パネル１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に照明装置１０６をバックライトとして設けることによって形成される。
【０１２４】
液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わせることによって形成される。シール材１０８は、例えば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付着させることによって形成される。また、シール材１０８の内部には図２２に示すように、導電性材料によって球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で含まれる。
【０１２５】
図２２において、第１基板１０７ａは透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側表面（図２２の上側表面）には反射膜１１２が形成され、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図２１参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形成される。また、基材１１１ａの外側表面（図２２の下側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着される。
【０１２６】
図２１では第１電極１１４ａの配列を分かり易く示すために、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。
【０１２７】
図２２において、第２基板１０７ｂは透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側表面（図２２の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図２１参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面（図２２の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によって装着される。 
【０１２８】
図２１では、第２電極１１４ｂの配列を分かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数本が基材１１１ｂ上に形成される。
【０１２９】
図２２において、第１基板１０７ａ、第２基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ（SuperTwisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのスペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。
【０１３０】
第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂは互いに直交関係に配置され、それらの交差点は図２２の矢印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そして、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向から見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることによって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそれらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そしてＲ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになって１画素が構成される。
【０１３１】
ドット・マトリクス状に配列される複数の絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させることにより、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に文字、数字等といった像が表示される。このようにして像が表示される領域が有効画素領域であり、図２１及び図２２において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領域が有効表示領域となっている。
【０１３２】
図２２において、反射膜１１２はＡＰＣ合金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によって形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂとの交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図２２の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マトリクス状に配列されている。
【０１３３】
第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂは、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成される。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が決定される。
【０１３４】
図２１において、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これらの基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材１０９（図２２参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
【０１３５】
本実施形態では、第１電極１１４ａから延びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通する引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料であるＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。また、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及びＣｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ１％から成る合金である。
【０１３６】
液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び液晶駆動用ＩＣ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造においては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によって、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続され、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バンプと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続される。
【０１３７】
図２１において、ＦＰＣ１０４は、可撓性の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有する。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付けその他の導電接続手法によって直接に搭載される。また、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そして、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きにより、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側の金属配線端子１２７とが導通する。
【０１３８】
ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々のピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
【０１３９】
図２１において、いわゆるバックライトとして機能する照明装置１０６は、図２２に示すように、アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、その導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。
【０１４０】
ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持され、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥＤ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることにより、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するための緩衝材を示している。
【０１４１】
ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート１３３を通して外部へ平面光として出射する。
【０１４２】
本実施形態の液晶装置１０１は以上のように構成されているので、太陽光、室内光等といった外部光が十分に明るい場合には、図２２において、第２基板１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌへ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できない光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等といった像が表示される。これにより、反射型の表示が行われる。
【０１４３】
他方、外部光の光量が十分に得られない場合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給される。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに変調され、これにより、外部へ像が表示される。これにより、透過型の表示が行われる。
【０１４４】
上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図２０に示す製造方法によって製造される。この製造方法において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程である。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、それぞれが独自に行われる。
【０１４５】
まず、第１基板形成工程について説明すれば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０２の複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知の成膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリソグラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１１４ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工程Ｐ２）。
【０１４６】
次に、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さらにその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すことにより液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。
【０１４７】
以上の第１基板形成工程とは別に、第２基板形成工程（図２０の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの形成工程は図２に示した製造方法を用いて行われ、その製造方法中のＲ，Ｇ，Ｂの各色フィルタエレメントの形成は図４のインクジェット装置１６を用いて図１０、図１５、図１６、図１７等に示したインクジェットヘッドの制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタの製造方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
【０１４８】
図２（ｄ）に示すようにマザー基板１２すなわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１すなわちカラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォトリソグラフィー法によって第２電極１１４ｂが形成され（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第２基板が形成される。
【０１４９】
以上により大面積のマザー第１基板及びマザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体が形成される。
【０１５０】
次に、完成した空のパネル構造体の所定位置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１０（図２４参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短冊状の空のパネル構造体が形成される。
【０１５１】
その後、露出した液晶注入用開口１１０を通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さらに各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャンバーを大気圧に開放することによって行われる。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネルは工程２４において洗浄処理を受ける。
【０１５２】
その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネルが個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製された個々の液晶パネル１０２に対して図２１に示すように、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０１が完成する（工程Ｐ２６）。 
【０１５３】
以上に説明した液晶装置の製造方法及び製造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において次のような特徴を有する。すなわち、図１（ａ）に示すカラーフィルタ１すなわち図２２のカラーフィルタ１１８内の個々のフィルタエレメント３はインクジェットヘッド２２（図１０参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメント３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２２の液晶装置１０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１５４】
また、本実施形態の液晶装置の製造方法及び製造装置では、図４に示すインクジェット装置１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１５５】
（第７の実施形態）
図２３は、第７の実施形態としてＥＬ装置の製造方法の一例を示している。また、図２４はその製造方法の主要工程及び最終的に得られるＥＬ装置の主要断面構造を示している。図２４（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成し、それらの格子状凹部の中に正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列等といった所定配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及びＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれらの上に対向電極２１３を形成することによって形成される。
【０１５６】
上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は単一な面電極として形成される。
【０１５７】
各画素電極２０２と各対向電極２１３とによって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
【０１５８】
上記ＥＬ装置２０１は、例えば、図２３に示す製造方法によって製造される。すなわち、工程Ｐ５１及び図２４（ａ）のように、透明基板２０４の表面にＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッタリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oｘide）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等を用いることができる。
【０１５９】
次に、工程Ｐ５２及び図２４（ａ）に示すように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止することができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフッ素処理できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好ましい。
【０１６０】
次に、正孔注入層用インクを塗布する直前に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行った（工程Ｐ５３）。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化され、インクジェット液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【０１６１】
次に、工程Ｐ５４及び図２４（ａ）に示すように、正孔注入層用インクを図４のインクジェット装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各画素電極２０２の上にパターニング塗布を行った。具体的なインクジェットヘッドの制御方法は図１０、図１５、図１６又は図１７に示した方法を用いた。その塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去し（工程Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層２２０を形成した（工程Ｐ５６）。膜厚は４０ｎｍであった。
【０１６２】
次に、工程Ｐ５７及び図２４（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク及びＧ発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層用インクは、図４のインクジェット装置１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェットヘッドの制御方法は図１０、図１５、図１６又は図１７に示した方法に従った。インクジェット方式によれば、微細なパターニングを簡便に且つ短時間に行うことができる。また、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。
【０１６３】
発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除去し（工程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇを形成した（工程Ｐ５９）。膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。 
【０１６４】
なお、発光層を形成する前に正孔注入層２２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層２２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
【０１６５】
次に、工程Ｐ６０及び図２４（ｃ）に示すように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２２０の上に重ねて形成した。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しない。
【０１６６】
以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。
【０１６７】
その後、工程Ｐ６１及び図２４（ｄ）に示すように、対向電極２１３を形成することにより、目標とするＥＬ装置２０１を製造した。対向電極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を用いて形成できる。
【０１６８】
以上に説明したＥＬ装置の製造方法及び製造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法として図１０、図１５、図１６又は図１７等に示した制御方法を採用したので、図２４における各絵素ピクセル内の正孔注入層２２０及びＲ，Ｇ，Ｂ各色発光層２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂは、インクジェットヘッド２２（図１０参照）の１回の主走査Ｘによって形成されるのではなくて、１個の絵素ピクセル内の正孔注入層及び／又は各色発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。このことは、図２４（ｄ）のＥＬ装置２０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということである。
【０１６９】
また、本実施形態のＥＬ装置の製造方法及び製造装置では、図４に示すインクジェット装置１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用いたインク吐出によってＲ，Ｇ，Ｂの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
【０１７０】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１７１】
例えば、図４及び図５に示したカラーフィルタの製造装置では、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ移動させて基板１２を主走査し、基板１２を副走査駆動装置２１によって移動させることによりインクジェットヘッド２２によって基板１２を副走査することにしたが、これとは逆に、基板１２の移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２の移動によって副走査を実行することもできる。
【０１７２】
また、上記実施形態では、圧電素子の撓み変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッドを用いることもできる。また、上記実施形態では、主走査方向と副走査方向とが直交する最も一般的な構成についてのみ例示したが、主走査方向と副走査方向との関係は直交関係には限られず、任意の角度で交差していればよい。
【０１７３】
また、上記実施形態では、カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ装置の製造方法及び製造装置、を例として説明してきたが、本発明はこれらに限定されることなく、対象物上に微細パターニングを施す工業技術全般に用いることが可能である。例えば、各種半導体素子（薄膜トランジスタ、薄膜ダイオード等）、各種配線パターン、及び絶縁膜の形成等がその利用範囲の一例として挙げられる。ヘッドから吐出させる材料としては、基板等の対象物上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば上述してきたインク、ＥＬ発光材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又は半導体材料がその一例として挙げられる。
【０１７４】
また、上記実施形態では、簡便のため「インクジェットヘッド」と呼称してきたが、このインクジェットヘッドから吐出される吐出物はインクには限定されず、例えば、前述のＥＬ発光材料、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、又は半導体材料等様々であることはいうまでもない。上記実施形態の製造方法により製造された液晶装置、ＥＬ装置は、例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に搭載することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１７５】
【図１】カラーフィルタの一例及びその基礎となるマザー基板の一例を示す平面図である。
【図２】カラーフィルタの製造工程を説明するための図１（ａ）のＶＩ−ＶＩ線による断面図である。
【図３】カラーフィルタにおけるＲ，Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルの配列例を示す図である。
【図４】インクジェット装置の一例を示す斜視図である。
【図５】インクジェット装置の主要部を拡大して示す斜視図である。
【図６】インクジェットヘッドを拡大して示す斜視図である。
【図７】インクジェットヘッドの内部構造を示し、（ａ）は、その一部破断斜視図、（ｂ）は、（ａ）のＪ−Ｊ線による断面図である。
【図８】インクジェット装置に用いられる電気制御系を示すブロック図である。
【図９】電気制御系によって実行される制御の流れを示すフローチャートである。
【図１０】カラーフィルタを製造する際の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図１１】インクジェットヘッドのノズル列を示す平面図である。
【図１２】インクジェット装置の駆動設定方法を示すフローチャートである。
【図１３】複数のフィルタエレメント領域におけるインク配置量のバラツキを示すグラフであり、（ａ）は補正前の駆動条件の場合、（ｂ）補正後の駆動条件の場合である。
【図１４】複数のフィルタエレメント領域における明度差ΔＶを示すグラフであり、（ａ）は補正前の駆動条件の場合、（ｂ）補正後の駆動条件の場合である。
【図１５】他の実施形態としてカラーフィルタを製造する際の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図１６】他の実施形態としてカラーフィルタを製造する際の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図１７】他の実施形態としてカラーフィルタを製造する際の主要工程を模式的に示す平面図である。
【図１８】インクジェットヘッドの変形例を示す斜視図である。
【図１９】インクジェットヘッドの別の変形例を示す斜視図である。
【図２０】液晶装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２１】液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図である。
【図２２】図２０におけるＩＸ−ＩＸ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図２３】ＥＬ装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２４】図２３に示す工程図に対応するＥＬ装置の断面図である。
【図２５】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す図である。
【図２６】従来のカラーフィルタの特性を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１７６】
１…カラーフィルタ  ２…基板  ３…フィルタエレメント  ４…保護膜  ６…隔壁  ７…フィルタエレメント形成領域  １１…カラーフィルタ形成領域  １２…マザー基板  １３…フィルタエレメント材料  １６…インクジェット装置  １７…ヘッド位置制御装置  １８…基板位置制御装置  １９…主走査駆動装置  ２１…副走査駆動装置  ２２…インクジェットヘッド  ２６…ヘッドユニット  ２７…ノズル  ２８…ノズル列  ３９…インク加圧体  ４１…圧電素子  ４９…テーブル  ７６…キャッピング装置  ７７…クリーニング装置  ７８…電子天秤  ８１…ヘッド用カメラ  ８２…基板用カメラ  １０１…液晶装置  １０２…液晶パネル  １０７ａ，１０７ｂ…基板  １１１ａ，１１１ｂ…基材  １１４ａ，１１４ｂ…電極  １１８…カラーフィルタ  ２０１…ＥＬ装置  ２０２…画素電極  ２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ…発光層  ２０４…基板  ２０５…バンク  ２１３…対向電極  ２２０…正孔注入層  Ｌ…液晶  Ｍ…フィルタエレメント材料  Ｘ…主走査方向  Ｙ…副走査方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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