(57)【要約】【課題】パルス光の露光を与えるスリット露光に用いるフォトマスクで、複数種の開口部を設け、異なる領域に異なるパターンを形成しても、位置精度が低下しないフォトマスク、これを用いたカラーフィルタの製造方法。【解決手段】複数種のパターン開口部Ｋ１、Ｋ２が設けられたパターンマスクＰ−ＰＭと、該開口部より大きな透光開口部Ｋ１’、Ｋ２’が設けられた透光・遮光マスクＴＳ−ＰＭとで構成され、選択したパターン開口部上に、透光・遮光マスクに設けられた透光開口部を重ね合わせて、フォトマスクの開口部は該選択したパターン開口部Ｋ１又はＫ２であり、他の部分は遮光部であるフォトマスクとして機能するフォトマスクＰＭ３。このフォトマスクを用いパルス光の露光を与えるスリット露光でカラーフィルタを製造する。【選択図】図３
2009216762.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス光の露光を与えるスリット露光によって、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成するフォトマスクであって、
１）前記フォトマスクは、基板上に形成する異なるパターンに対応した複数種のパターン開口部が設けられたパターンマスクと、該複数種のパターン開口部の各々に対応した、該複数種のパターン開口部の形状より大きな形状を有する１種以上の透光開口部が設けられた透光・遮光マスクとで少なくとも構成され、
２）上記パターンマスク上に、透光・遮光マスクが移動可能に重ねられており、
３）上記パターンマスク上で透光・遮光マスクを移動させて、パターンマスクに設けられた複数種のパターン開口部から任意に選択したパターン開口部上に、該選択したパターン開口部に対応した、透光・遮光マスクに設けられた透光開口部を重ね合わせることにより、
前記フォトマスクの開口部は該選択したパターン開口部であり、他の部分は遮光部であるフォトマスクとして機能することを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記異なるパターンが、カラーフィルタを構成するパターンであることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク。
【請求項３】
前記透光・遮光マスクには、透光開口部として、積層フォトスペーサー又は単層フォトスペーサーを構成するドットパターンに対応した、いずれのパターン開口部の形状よりも大きな形状の１種の透光開口部が設けられており、透光・遮光マスクは各色に共通する透光・遮光マスクであることを特徴とする請求項２記載のフォトマスク。
【請求項４】
パルス光の露光を与えるスリット露光によって、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記異なるパターンを形成する際に用いるフォトマスクとして、請求項２又は請求項３に記載のフォトマスクを用い、
２）前記基板上の第１領域にカラーフィルタを構成する第１種パターンを形成する際には、前記フォトマスクを、フォトマスクの開口部は第１種パターンに対応したパターン開口部であり、他の部分は遮光部である第１種フォトマスクとして機能させてパルス光の第１種露光を与え、
３）前記基板上の第２領域にカラーフィルタを構成する第２種パターンを形成する際には、前記フォトマスクを、フォトマスクの開口部は第２種パターンに対応したパターン開口部であり、他の部分は遮光部である第２種フォトマスクとして機能させてパルス光の第２種露光を与え、
４）以降、同様に、第（３〜ｎ）領域にカラーフィルタを構成する第（３〜ｎ）種パターンを形成する際には、各々前記フォトマスクを、フォトマスクの開口部は第（３〜ｎ）種パターンに対応したパターン開口部であり、他の部分は遮光部である第（３〜ｎ）種フォトマスクとして機能させてパルス光の第（３〜ｎ）種露光を与えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記第１領域がカラーフィルタの表示部、第２領域が周縁部などの領域であり、前記第１種パターンが積層フォトスペーサー及び着色画素、第２種パターンがダミー積層フォトスペーサーであることを特徴とする請求項３記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成する小型のフォトマスク、及びそのフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法に関するものであり、特に、光学系内でのフォトマスクの位置精度が保たれ、パターン形成の生産効率が阻害されないフォトマスク、及び同一基板上にカラーフィルタの形状の異なる各種積層フォトスペーサーを廉価に形成するカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図２１は、２種のフォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの一例を模式的に示した断面図である。図２１に示すように、この液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、その透明導電膜（４３）上にフォトスペーサーが形成されたものである。このフォトスペーサーは、第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）と第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）で構成されている。
【０００３】
第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）は基板間のギャップを設定しており、この第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）は、パネルに荷重が加わると変形し、荷重が取り除かれると復元する。また、温度による液晶の熱膨張及び熱収縮に追従して変形する弾性を有している。
第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）は第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）より高さの低い（ΔＨ）フォトスペーサーである。この第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）は、パネルに過剰な荷重が加わった際に、その荷重を分散させ第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）の塑性変形、破壊を防ぐためのものである。
【０００４】
上記第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）及び第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）は、カラーフィルタの表示部、すなわち、着色画素が形成された領域内に設けられるフォトスペーサーである。また、カラーフィルタと対向基板を貼り合わせてパネルを組み立てる際に加わる荷重によって、表示部の周縁部のフォトスペーサーが変形し過ぎないように、表示部の周囲を囲むブラックマトリックスの額縁部、ガラス基板の周縁部などにもフォトスペーサーが設けられる。この表示部外のフォトスペーサーをダミーフォトスペーサーと称している。
【０００５】
図２２は、大サイズのガラス基板、例えば、６５０ｍｍ×８５０ｍｍのガラス基板（５０）に１基のサイズが対角１７のカラーフィルタ（４０）が４面付けされた例である。図２２に示すように、大サイズのガラス基板（５０）は、カラーフィルタの表示部（Ａ）と、ブラックマトリックスの額縁部、面間部、及びガラス基板の周縁部などの領域（Ｂ）で構成されている。表示部（Ａ）には、前記第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）及び第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）が設けられている。周縁部などの領域（Ｂ）にはダミーフォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ）が設けられている。
【０００６】
図２３は、図２２における大サイズのガラス基板（５０）の一隅（Ｃ）を拡大してダミーフォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ）の配列の一例を示す平面図である。図２３に示すように、この例においては、この領域の全面に同一のダミーフォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ）が等ピッチ（Ｐｉ−２）で設けられている。
尚、図示してないが、図２３中、表示部（Ａ）には、赤色、緑色、青色の着色画素、及び第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）及び第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）が設けられている。
【０００７】
このような液晶表示装置用カラーフィルタを製造する際には、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）などを形成した後に、カラーフィルタの表示部（Ａ）には第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）及び第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）を、また、周縁部などの領域（Ｂ）には、ダミーフォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ）を形成する。このため、フォトスペーサーを形成する１工程が追加され所望する仕様のカラーフィルタを製造することになる。
【０００８】
これに対し、図２４（ａ）、（ｂ）は、フォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの他の例の断面図、平面図であるが、このフォトスペーサーは積層構造となっている。フォトスペーサーを構成する複数の層を着色画素の形成と同時に形成することによって、フォトスペーサーを形成するための上記追加する１工程を低減させ、フォトスペーサーを設けたカラーフィルタを廉価に製造することができる。
【０００９】
図２４に示すように、この他の例として示す積層フォトスペーサー（ＰＳ−１１）は、ガラス基板（４０）上の第一色目の赤色ドットパターン（Ｐ１）と、第二色目の緑色ドットパターン（Ｐ２）と、第三色目の青色ドットパターン（Ｐ３）を積層した構成である。この積層フォトスペーサー（ＰＳ−１１）の平面形状は、第一フォトスペーサー（ＰＳ−１）及び第二フォトスペーサー（ＰＳ−２）と同様にドット状である。
【００１０】
第一色目の赤色ドットパターン（Ｐ１）は、第一色目の赤色着色画素（４２Ｒ）とは連続しておらず独立したパターンであるが、赤色着色画素（４２Ｒ）の形成と同時に形成されたものである。緑色ドットパターン（Ｐ２）及び青色ドットパターン（Ｐ３）も同様に独立したパターンであり、各々の着色画素の形成と同時に形成されたものである。従って、フォトスペーサーを形成するための前記追加工程は不要なものとなる。
【００１１】
さて、図２５（ａ）〜（ｄ）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、積層フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタの他の第２例を示す断面図である。積層フォトスペーサーは表示部（Ａ）内の２種の積層フォトスペーサー（図２５（ａ）〜（ｂ））と、単層フォトスペーサー（図２５（ｃ））と、表示部（Ａ）外の積層フォトスペーサー（図２５（ｄ））の４種のフォトスペーサーで構成されている。
図２５（ａ）に示すように、第一積層フォトスペーサー（ＰＳ−２１）は、表示部（Ａ）内の赤色着色画素（４２Ｒ）間のガラス基板（４０）上に形成されたものである。この第一積層フォトスペーサー（ＰＳ−２１）も図２４に示す積層フォトスペーサー（ＰＳ−１１）と同様に、平面形状はドット状である。
【００１２】
また、第二積層フォトスペーサー（ＰＳ−２２）は、図２５（ｂ）に示すように、表示部（Ａ）内の緑色着色画素（４２Ｇ）間のガラス基板（４０）上に形成されたものであり、赤色ドットパターン（Ｐ２Ｒ）と緑色ドットパターン（Ｐ３Ｇ）で構成されている。
また、図２５（ｃ）に示すように、表示部（Ａ）内の青色着色画素（４２Ｂ）間のガラス基板（４０）上に形成されたフォトスペーサーは、単層の赤色ドットパターン（Ｐ３Ｒ）である。
これら第二積層フォトスペーサー（ＰＳ−２２）及び単層のフォトスペーサー（ＰＳ−２３）の高さは、いずれも第一積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２１）の高さより低いものである。
【００１３】
また、図２５（ｄ）に示すように、ダミー積層フォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ−２）は、ガラス基板の周縁部などの領域（Ｂ）に設けられたものであり、赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）と、緑色ドットパターン（Ｄ−Ｐ２Ｇ）と、青色ドットパターン（Ｄ−Ｐ３Ｂ
）とで構成されている。これら４種の高さの関係は、略［（ＰＳ−２１）≒（Ｄ−ＰＳ−２）］＞（ＰＳ−２２）＞（ＰＳ−２３）］の関係にある。
【００１４】
一方、カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを大サイズのガラス基板に多面付けした状態で製造することが多い。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
【００１５】
この際の露光は、ガラス基板のサイズと略同程度のサイズのマスク基板に、例えば、対角１７インチのカラーフィルタを形成するためのマスクパターンが４面付けされたフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。４面付けされたマスクパターンの４画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
このような４種のフォトスペーサーが設けられたカラーフィルタを製造する場合には、ブラックマトリックス、３色の着色画素の少なくとも４枚の大サイズのフォトマスクを用いるので、フォトマスクのコスト高が伴う。
【００１６】
マスクサイズの大型化によるコスト高と、マスクの自重による撓みの問題の解決のため、ガラス基板のサイズが、例えば、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ程度の第４世代からは、露光方式は一括露光法から１軸ステップ露光方式が採用され始め、また、ガラス基板のサイズが、例えば、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ程度の第５世代からは、ＸＹ（２軸）ステップ露光方式（所謂、ステップ・アンド・リピート方式）に移行している。
【００１７】
図２６は、ＸＹステップ露光方式によりカラーフィルタを製造する際のステップ露光の一例を説明する平面図である。
図２６に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に、第１露光〜第６露光の６回の露光が行われた例である。第１露光から数えて５回のステップ移動（Ｐｙ、Ｐｘ）毎に、第２露光以降の各露光が行われたものである。符号（１Ｅｘ〜６Ｅｘ）は、各々第１露光〜第６露光の領域を表している。
【００１８】
このようなステップ露光方式への移行によって、マスクサイズの大型化によるコスト高は抑制され、自重による撓みの問題は解決された。
しかしながら、ガラス基板のサイズが、例えば、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度の第６世代、或いは、例えば、２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度の第８世代へと更に大型化へと移行するのに伴い、マスクサイズの大型化も付随し、コスト高と、撓みの問題が再燃している。
【００１９】
そこで、ガラス基板のサイズが更に大型化へと移行した際の、付随するフォトマスクのコスト高を回避するために、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型化にしてカラーフィルタを製造すべく、様々な露光方式が試みられている。
【００２０】
図２７は、スリット露光によりカラーフィルタを製造する際のスリット露光の一例を説明する平面図である。図２７に示す例は、大サイズのガラス基板（５０）に第１露光と第２露光の２回の露光が行われる例である。図２８（ａ）、（ｂ）は、図２７のＸ−Ｘ線での断面図である。図２８（ａ）は第１露光が開始される状態を、また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。
【００２１】
図２７、図２８に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の上方にフォトマスク（ＰＭ２）が配置されている。フォトマスク（ＰＭ２）は露光装置内で固定されており、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向には移動しないようになっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方の露光ステージ（６０）は、ガラス基板（５０）を載置した状態で、図中左方、Ｘ軸方向に等速で移動するようになっている。また、Ｙ軸方向ではステップ移動を行うようになっている。
【００２２】
スリット露光とは、露光装置内に、ガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に短く、幅方向（Ｙ軸方向）に長いスリット（開口部）を設け、露光装置又はガラス基板をガラス基板の長さ方向（Ｘ軸方向）に移動させながらスリットを介した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）に与え、ガラス基板の全面を露光する露光方法である。
カラーフィルタを製造する際のスリット露光は、ストライプ状の着色画素を形成するので、上記スリットの部分に着色画素のストライプの幅に対応した幅（Ｗｉ）を開口部とし、他の部分を遮光部としたフォトマスク（ＰＭ２）を設けている。
【００２３】
図２９は、スリット露光に用いられるフォトマスク（ＰＭ２）の一例におけるスリット（Ｓ）の部分を拡大して示す平面図である。このフォトマスク（ＰＭ２）は、ネガ型フォトレジストに対応した例である。
図２９に示すように、スリット（Ｓ）の長手方向（Ｌｓ）はＹ軸と平行であり、この長手方向（Ｌｓ）に多数個の開口部（５１）が配設されている。開口部（５１）以外の部分は遮光部（５２）となっている。フォトマスク（ＰＭ２）の下方では、図２９中、白太矢印で示す方向に露光ステージ（６０）を移動（Ｘ軸方向）させながら、開口部（５１）を透過した光をガラス基板（５０）上の塗膜（５４）を連続して照射する。尚、符号（Ｐｉ）は開口部（５１）のピッチ、符号（Ｗｉ）は開口部（５１）の幅、符号（Ｌｉ）は開口部（５１）の長さを表している。
【００２４】
図２８（ａ）は、ガラス基板（５０）上に塗布されたフォトレジストの塗膜（５４）にフォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介した第１露光が開始される状態を表したものである。また、（ｂ）は第１露光が終了した状態を表したものである。図２８中、白太矢印で示すように、露光ステージ（６０）を図中左方へ移動（Ｘ軸方向）させながら、フォトマスク（ＰＭ２）のスリットを介した連続した露光を与え、図２８（ｂ）中、斜線で示す第１露光を終了する。第２露光は図２８に示すステップ移動（Ｐｙ）を露光ステージ（６０）に与えた後に行われる。
このように、スリット露光は、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろマスクサイズを小型にして、Ｘ軸方向に長く、大面積の露光を可能とする方式である。
【００２５】
図３０は、露光後の現像処理によって得られたストライプパターンの一例を示す平面図である。図１６に示すように、ガラス基板（５０）上にピッチ（Ｐｉ）、幅（Ｗｉ）のストライプパターン、例えば、ストライプ状の着色画素（２２）が形成される。
【００２６】
図３１は、このようなスリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。図３１に示すように、このカラーフィルタは、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上に、赤色、緑色、青色の着色画素（２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂ）が形成された状態のものである。
各色の着色画素は、各々が図３１中、Ｘ軸方向に画素間で途切れず、連続したストライプ状のものである。また、Ｙ軸方向には、その各々のストライプ状の着色画素の列が、赤色、緑色、青色の順に繰り返し配設されている。すなわち、スリット露光方式が好適に適用された例である。
尚、図３１は、説明上、図３０を９０度回転させた図としている。
【００２７】
上記のようなスリット露光によってカラーフィルタを製造する方法は、前記ＸＹステップ露光によって製造する方法と比較して、確かに、小型のフォトマスクでストライプパターンを大サイズのガラス基板の全面に形成することを可能とする。しかし、上記のスリット露光による方法は、形成するパターンはストライプ状のものに制約され、矩形状の着色画素、円形状のフォトスペーサーのような任意形状のパターンの形成には適用できないといった制約がある。
【００２８】
スリット露光によりカラーフィルタを製造する際のスリット露光の他の例としては、パルス光で露光を行う、言わば、小型のフォトマスクを用いたパルス光露光方式が挙げられる（特許文献１参照）。この方式は、小型のフォトマスクを用いて、矩形状の着色画素、円形状のフォトスペーサーのような任意形状のパターンを大サイズのガラス基板に形成することを可能としたものである。
【００２９】
この方式の露光装置は、例えば、図２７、図２８に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたガラス基板（５０）の上方にフォトマスク（ＰＭ２）が配置されているものである。フォトマスク（ＰＭ２）は露光装置内で固定されており、フォトマスク（ＰＭ２）の下方の露光ステージ（６０）は、ガラス基板（５０）を載置した状態で、図中左方、Ｘ軸方向に等速で移動するようになっている。また、Ｙ軸方向ではステップ移動を行うようになっている。
【００３０】
図２９は、この方式に用いられるフォトマスク（ＰＭ２）の一例におけるスリット（Ｓ）の部分を拡大して示す平面図である。このフォトマスク（ＰＭ２）は、ネガ型フォトレジストに対応した例である。
図２９に示すように、スリット（Ｓ）の長手方向（Ｌｓ）はＹ軸と平行であり、この長手方向（Ｌｓ）に多数個の開口部（５１）が配設されている。この開口部は、ガラス基板に形成するパターン、例えば、矩形状の着色画素、円形状のフォトスペーサーに対応した形状のものである。
開口部（５１）以外の部分は遮光部（５２）となっている。開口部（５１）の符号（Ｐｉ）は開口部（５１）のピッチ、符号（Ｗｉ）は、例えば、矩形状の着色画素のＹ軸方向の幅、符号（Ｌｉ）は、例えば、矩形状の着色画素のＸ軸方向のの長さを表している。
【００３１】
フォトマスク（ＰＭ２）の下方で、図２９中、白太矢印で示す方向に、露光ステージ（６０）を等速で連続して移動（Ｘ軸方向）させ、ガラス基板上のパターンを形成する位置がフォトマスク（ＰＭ２）の直下を通過する瞬間に１パルスの発光を行い開口部（５１）を介した露光を与える。
この発光時間は、例えば、数十μ秒程度であるので、露光ズレは許容される範囲にとどまる。
【００３２】
図３２は、この方式によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。図３２は、図３１に対比して説明する図である。図３１は、前記小型のフォトマスクを用い、連続した露光を与えるスリット露光によって得られたストライプ状の着色画素が形成された状態を示すものである。また、図３２は、矩形状の着色画素に対応した開口部が設けられた小型のフォトマスクを用い、パルス光の露光を与えるスリット露光によって得られた矩形状の着色画素が形成された状態を示すものである。
【００３３】
図３２に示すように、このカラーフィルタは、ブラックマトリックス（２１）が形成されたガラス基板上に、赤色、緑色、青色の矩形状の着色画素（２２Ｒ’、２２Ｇ’、２２Ｂ’）が形成された状態のものである。
各色の矩形状の着色画素は、各々が図３２中、Ｘ軸方向に画素間で途切れて等ピッチ（Ｐｉ−４）で形成されている。また、Ｙ軸方向には、その各々の矩形状の着色画素の列が、赤色、緑色、青色の順に繰り返し等ピッチ（Ｐｉ−５）で配設されている。すなわち、この小型のフォトマスクを用いたパルス光露が好適に適用された例である。
【００３４】
この方式は、フォトマスクに設けられたパターンを繰り返し露光するので、図３２に示
すように、同一着色画素を多数個形成する際には好適は方式といえる。
【００３５】
さて、この方式によって、図２３或いは図２５に示すように、ガラス基板上の表示部（Ａ）には積層フォトスペーサー（及び着色画素）を形成し、また、周縁部などの領域（Ｂ）にはダミー積層フォトスペーサーを形成するといった、異なる形状の、例えば、２種のフォトスペーサー（例えば、図２５中、Ｗ１≠Ｗ２）を形成する際に、第一の手法としては、例えば、表示部（Ａ）に対応したフォトマスクを用いた露光と、周縁部などの領域（Ｂ）に対応したフォトマスクを用いた露光の、２枚のフォトマスク、２回の露光といった手法を採用することが考えられる。しかし、この手法は廉価にカラーフィルタを生産する手法ではない。
【００３６】
或いは、第二の手法として、１枚のフォトマスク上に表示部（Ａ）に対応したパターンと、周縁部などの領域（Ｂ）に対応したパターンを設けておき、ａ）ガラス基板上の表示部（Ａ）には表示部（Ａ）に対応したパターンを介した露光を、ｂ）ガラス基板上の周縁部などの領域（Ｂ）には、光学系内のフォトマスクの位置を移動させ周縁部などの領域（Ｂ）に対応したパターンを介した露光を、ｃ）再び、ガラス基板上の表示部（Ａ）には、光学系内のフォトマスクの位置を移動させ戻し表示部（Ａ）に対応したパターンを介した露光を行う、ｄ）、ｅ）・・・。つまり、１枚のフォトマスク、１回のスリット露光中に光学系内のフォトマスクの位置をその都度に移動させる、といった手法を採用することが考えられる。
【００３７】
しかし、第二の手法を採用すると、上記光学系内のフォトマスクの位置精度が低下することがあり、その都度、ガラス基板上の基準マークを基にフォトマスクの位置を合わせ直すことになる。この位置を合わせには相応の時間を費やすこととなり、これは生産効率を阻害するといった問題がある。
【００３８】
上記のように、小型のフォトマスクを用い、パルス光の露光を与えるスリット露光を用いたカラーフィルタの製造方法は、ガラス基板のサイズが更に大型に移行した際に、フォトマスクのサイズを更に大型にせずに、むしろ、フォトマスクのサイズを小型にしてカラーフィルタを製造することが可能な技法といえる。しかしながら、パルス光の露光を与える方式では繰返されるパターンに制約されるので、前記図２３或いは図２５に示すような、異なる形状のパターンを設けることは出来ないといった問題がある。
【特許文献１】特開平１１−１８６１６０号公報
【特許文献２】特開２００６−２９２９５５号公報
【特許文献３】特開２００６−１７８９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３９】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、形成するパターンに対応した開口部が基板の幅方向にスリット状に設けられた、パルス光の露光を与えるスリット露光に用いる小型のフォトマスクであって、フォトマスク上に複数種のパターンに対応した開口部を設け、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成しても、光学系内でのフォトマスクの位置精度が低下することなく保たれ、パターン形成の生産効率が阻害されることのないフォトマスクを提供することを課題とするものである。
また、例えば、カラーフィルタの表示部（Ａ）には積層フォトスペーサー及び着色画素、周縁部などの領域（Ｂ）にはダミー積層フォトスペーサーが設けられたカラーフィルタを製造する際に、パターン形成の生産効率が阻害されることのないカラーフィルタの製造方
法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００４０】
本発明は、パルス光の露光を与えるスリット露光によって、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成するフォトマスクであって、
１）前記フォトマスクは、基板上に形成する異なるパターンに対応した複数種のパターン開口部が設けられたパターンマスクと、該複数種のパターン開口部の各々に対応した、該複数種のパターン開口部の形状より大きな形状を有する１種以上の透光開口部が設けられた透光・遮光マスクとで少なくとも構成され、
２）上記パターンマスク上に、透光・遮光マスクが移動可能に重ねられており、
３）上記パターンマスク上で透光・遮光マスクを移動させて、パターンマスクに設けられた複数種のパターン開口部から任意に選択したパターン開口部上に、該選択したパターン開口部に対応した、透光・遮光マスクに設けられた透光開口部を重ね合わせることにより、
前記フォトマスクの開口部は該選択したパターン開口部であり、他の部分は遮光部であるフォトマスクとして機能することを特徴とするフォトマスクである。
【００４１】
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記異なるパターンが、カラーフィルタを構成するパターンであることを特徴とするフォトマスクである。
【００４２】
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記透光・遮光マスクには、透光開口部として、積層フォトスペーサー又は単層フォトスペーサーを構成するドットパターンに対応した、いずれのパターン開口部の形状よりも大きな形状の１種の透光開口部が設けられており、透光・遮光マスクは各色に共通する透光・遮光マスクであることを特徴とするフォトマスクである。
【００４３】
また、本発明は、パルス光の露光を与えるスリット露光によって、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記異なるパターンを形成する際に用いるフォトマスクとして、請求項２又は請求項３に記載のフォトマスクを用い、
２）前記基板上の第１領域にカラーフィルタを構成する第１種パターンを形成する際には、前記フォトマスクを、フォトマスクの開口部は第１種パターンに対応したパターン開口部であり、他の部分は遮光部である第１種フォトマスクとして機能させてパルス光の第１種露光を与え、
３）前記基板上の第２領域にカラーフィルタを構成する第２種パターンを形成する際には、前記フォトマスクを、フォトマスクの開口部は第２種パターンに対応したパターン開口部であり、他の部分は遮光部である第２種フォトマスクとして機能させてパルス光の第２種露光を与え、
４）以降、同様に、第（３〜ｎ）領域にカラーフィルタを構成する第（３〜ｎ）種パターンを形成する際には、各々前記フォトマスクを、フォトマスクの開口部は第（３〜ｎ）種パターンに対応したパターン開口部であり、他の部分は遮光部である第（３〜ｎ）種フォトマスクとして機能させてパルス光の第（３〜ｎ）種露光を与えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００４４】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記第１領域がカラーフィルタの表示部、第２領域が周縁部などの領域であり、前記第１種パターンが積層フォトスペーサー及び着色画素、第２種パターンがダミー積層フォトスペーサーであることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００４５】
本発明は、基板上に形成する異なるパターンに対応した複数種のパターン開口部が設けられたパターンマスクと、複数種のパターン開口部の形状より大きな形状を有する１種以上の透光開口部が設けられた透光・遮光マスクとで構成され、パターンマスク上で透光・遮光マスクを移動させて、パターンマスクから選択したパターン開口部上に、透光・遮光マスクに設けられた透光開口部を重ね合わせることにより、フォトマスクの開口部は選択したパターン開口部であり、他の部分は遮光部であるフォトマスクとして機能するフォトマスクであるので、パルス光の露光を与えるスリット露光に用いる小型のフォトマスクであって、光学系内でのフォトマスクの位置精度が低下することなく保たれるフォトマスクとなる。
【００４６】
また、本発明は、パルス光の露光を与えるスリット露光によって、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成するカラーフィルタの製造方法において、上記フォトマスクを用い、第１領域にカラーフィルタを構成する第１種パターンを形成する際には、フォトマスクを第１種フォトマスクとして機能させてパルス光の第１種露光を与え、第２領域にカラーフィルタを構成する第２種パターンを形成する際には、フォトマスクを第２種フォトマスクとして機能させてパルス光の第２種露光を与えて製造するカラーフィルタの製造方法であるので、例えば、カラーフィルタの表示部には積層フォトスペーサー及び着色画素、周縁部などの領域にはダミー積層フォトスペーサーが設けられたカラーフィルタを製造する際に、パターン形成の生産効率が阻害されることのないカラーフィルタの製造方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１〜図４は、本発明によるフォトマスクの構成及び原理を示す説明図である。
図１は、基板上に形成する複数種のパターンとして、２種のパターンを形成する際のパターンを示す平面図である。図１（ａ）は、基板上のある領域（第１領域）に形成する第１種パターン（丸パターン）（Ｐ１１）、図１（ｂ）は、他の領域（第２領域）に形成する第２種パターン（角パターン）（Ｐ１２）を例示したものである。第１種及び第２種パターン（Ｐ１１、Ｐ１２）の幅は、各々Ｗ１１、Ｗ１２を有し異なるものである。
【００４８】
図２（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるフォトマスクの構成を示す平面図、図２（ｄ）は、図２（ｃ）のＸ−Ｘ線での断面図である。図２（ａ）〜（ｄ）に示すように、本発明によるフォトマスク（ＰＭ３）は、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）と透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）で構成されており、図２（ｃ）に示すように、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）上に透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）が滑らかに移動できるように重ねられている。
【００４９】
図２（ａ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ３）には、基板上に形成する第１種パターン（丸パターン）（Ｐ１１）に対応した第１種パターン開口部（Ｋ１）と、第２種パターン（角パターン）（Ｐ１２）に対応した第２種パターン開口部（Ｋ２）が設けられている。
また、図２（ｂ）に示すように、透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）には、上記第１種パターン開口部（Ｋ１）に対応した、該第１種パターン開口部（Ｋ１）の形状より大きな形状を有する第１種透光開口部（Ｋ１’）と、上記第２種パターン開口部（Ｋ２）に対応した、該第２種パターン開口部（Ｋ２）の形状より大きな形状を有する第２種透光開口部（Ｋ２’）が設けられている。
【００５０】
図２においては、第１種透光開口部（Ｋ１’）の形状は、第１種パターン開口部（Ｋ１）と相似とし、また、第２種透光開口部（Ｋ２’）の形状は、第２種パターン開口部（Ｋ２）と相似としているが、第１種透光開口部（Ｋ１’）及び第２種透光開口部（Ｋ２’）の形状は、各々が第１種パターン開口部（Ｋ１）及び第２種パターン開口部（Ｋ２）より大きければ相似であることに限定されない。
第１種透光開口部（Ｋ１’）及び第２種透光開口部（Ｋ２’）の形状の大きさは、各々の幅、Ｗ１１’、Ｗ１２’で表わすように、Ｗ１１＜Ｗ１１’、Ｗ１２＜Ｗ１２’の関係にある。また、図２（ｂ）において、透光開口部は２個設けているが１個でもよい。
【００５１】
図２（ｃ）は、一点鎖線及びＸ−Ｘ線を基準として、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）上に透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）を重ね合わせたものである。図２（ｃ）が本発明のフォトマスク（ＰＭ３）の平面図であり、図２（ｄ）が断面図である。
図２（ｃ）、（ｄ）に示すように、本発明のフォトマスク（ＰＭ３）は、この状態では、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）の第１種パターン開口部（Ｋ１）及び第２種パターン開口部（Ｋ２）は、透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）の遮光部で覆われ、また、透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）の第１種透光開口部（Ｋ１’）及び第２種透光開口部（Ｋ２’）は、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）の遮光部で覆われ、その全体が遮光部として機能している。
【００５２】
図３（ａ）、（ｂ）は、本発明によるフォトマスク（ＰＭ３）を、その開口部は第１種パターン（丸パターン）（Ｐ１１）に対応した第１種パターン開口部（Ｋ１）であり、他の部分は遮光部である第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図及び断面図である。
図２（ｃ）、（ｄ）に示す状態から、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）は固定した状態で、透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）のみを、図３中、矢印で示すように、左方へ移動させ、第１種パターン開口部（Ｋ１）の中心に第１種透光開口部（Ｋ１’）の中心を重ね合わせると、本発明によるフォトマスク（ＰＭ３）は、第１種パターン開口部（Ｋ１）のみを開口部とし、他の部分は遮光部となった第１種フォトマスクとなる。
【００５３】
図４（ａ）、（ｂ）は、本発明によるフォトマスク（ＰＭ３）を、その開口部は第２種パターン（角パターン）（Ｐ１２）に対応した第２種パターン開口部（Ｋ２）であり、他の部分は遮光部である第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図及び断面図である。
図２（ｃ）、（ｄ）に示す状態から、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）は固定した状態で、透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ）のみを、図４中、矢印で示すように、右方へ移動させ、第２種パターン開口部（Ｋ２）の中心に第２種透光開口部（Ｋ２’）の中心を重ね合わせると、本発明によるフォトマスク（ＰＭ３）は、第２種パターン開口部（Ｋ２）のみを開口部とし、他の部分は遮光部となった第２種フォトマスクとなる。
【００５４】
このように、本発明によるフォトマスク（ＰＭ３）は、基板上に形成するパターンに対応したパターン開口部（Ｋ１、Ｋ２）が設けられパターンマスク（Ｐ−ＰＭ）は固定した状態のまま、第１種パターン開口部（Ｋ１）を有する第１種フォトマスクの機能と、第２種パターン開口部（Ｋ２）を有する第２種フォトマスクの機能を有し、その機能を任意に選択できるフォトマスクとなる。
【００５５】
パターンマスク（Ｐ−ＰＭ）は固定した状態であるということは、前記従来の技法にて、パルス光の露光を与えるスリット露光における、第二の手法の問題点として挙げた、光学系内のフォトマスクの位置精度の低下は解消され、位置精度は常に保たれたものとなる。
つまり、ガラス基板上の基準マークを基に行うフォトマスクの位置合わせは、露光作業の初期の調整時に、基準マークとパターンマスク（Ｐ−ＰＭ）との位置合わせを一度行えばよいことになる。
【００５６】
これにより、パルス光の露光を与えるスリット露光において、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成しても、光学系内でのフォトマスクの位置精度が低下することなく保たれ、パターン形成の生産効率が阻害されることはなくなる。
【実施例】
【００５７】
以下に、実施例により具体的に説明する。
＜実施例１＞
図５は、ガラス基板上に形成された、本実施例におけるカラーフィルタの一部分の構成を示す平面図である。図５中、点線より上方の表示部（Ａ）には、赤色、緑色、青色の矩形状の着色画素（４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ）が配設されている。
各色の矩形状の着色画素は、各々が図５中、Ｘ軸方向に画素間で途切れて繰り返し等ピッチ（Ｐｉ−１１）で配設されている。また、Ｙ軸方向には、その各々の矩形状の着色画素が、赤色、緑色、青色の順に繰り返し等ピッチ（Ｐｉ−１０）で配設されている。
【００５８】
これら着色画素（４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ）の配列は、前記図１８に示すカラーフィルタにおける着色画素（２２Ｒ’、２２Ｇ’、２２Ｂ’）に類似している。
図５において、Ｘ軸方向にて、同色の着色画素間には、各々異なる積層フォトスペーサー〔第一積層フォトスペーサー（ＰＳ−２１）、第二積層フォトスペーサー（ＰＳ−２２）、第三積層フォトスペーサー（単層）（ＰＳ−２３）の３種〕が配設されている。
３色の着色画素（４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ）と、３種の積層フォトスペーサーの位置関係は一定なものであり、表示部（Ａ）にては、これらの群パターンが等ピッチでＹ軸方向及びＸ軸方向に配設されていることになる。すなわち、本実施例では、表示部（Ａ）（第１領域）には上記群パターンが第１種パターンとして配設されている。
【００５９】
また、図５中、点線より下方の周縁部などの領域（Ｂ）（第２領域）には、ダミー積層フォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ−２）が第２種パターンとして配設されている。このダミー積層フォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ−２）のＹ軸方向のピッチは、（Ｐｉ−１０）×２、Ｘ軸方向のピッチは、（Ｐｉ−１３）であり、各々が上記群パターン（第１種パターン）のピッチ、Ｙ：（Ｐｉ−１０）、Ｘ：（Ｐｉ−１１）とは異なっている。
【００６０】
すなわち、本実施例のカラーフィルタを構成するパターンは、第１領域（表示部（Ａ））では、３色の着色画素（４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ）と、３種の積層フォトスペーサーからなる上記群パターンが第１種パターンとして、ピッチ、Ｙ：（Ｐｉ−１０）、Ｘ：（Ｐｉ−１１）にて配設され、また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））では、上記群パターンとは異なったダミー積層フォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ−２）が第２種パターンとして、上記ピッチとは異なったピッチ、Ｙ：（Ｐｉ−１０）×２、Ｘ：（Ｐｉ−１３）にて配設されている例である。
【００６１】
図５中の第１領域（表示部（Ａ））に形成された群パターンが、前記図２３中の表示部（Ａ）の着色画素とフォトスペーサーに対応した具体例であり、また、図５中の第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））に形成されたダミー積層フォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ−２）が、前記図２３中の周縁部などの領域（Ｂ）のダミーフォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ）に対応した具体例である。
また、図５中、Ｙ０ −Ｙ０ 線での断面が、前記図２５（ａ）に相当し、同様に、Ｇ−Ｇ線での断面が図２５（ｂ）に、Ｂ−Ｂ線での断面が図２５（ｃ）に、また、Ｙ２ −Ｙ２ 線での断面が図２５（ｄ）に相当する。従って、図５中、符号（ＰＳ−２１）、（ＰＳ−２２）、（ＰＳ−２３）は、各々図２５に示す積層フォトスペーサーである。
【００６２】
図５中、上左端の赤色着色画素（４２Ｒ）のＹ軸方向中央をＹ０ とし、該赤色着色画素（４２Ｒ）のＸ軸方向中央をＸ０ とし、また、この交点を原点（Ｏ）とし、これらを
基準として、以降、本実施例における着色画素、積層フォトスペーサーなどの位置、ピッチ、重ね合わせ、移動などの説明を行う。
【００６３】
図５中、符号Ｙ１ 、Ｙ３ 、Ｙ５ など奇数Ｙ符号は、第１領域（表示部（Ａ））にて着色画素が赤色、緑色、青色の順に繰り返し等ピッチで配設されているＹ軸方向での赤色着色画素のＹ軸方向の中央を配設順に表している。また、符号Ｘ１
、Ｘ３ 、Ｘ５ など奇数Ｘ符号は、第１領域（表示部（Ａ））にて同色着色画素が繰り返し等ピッチで配設されているＸ軸方向での同色着色画素のＸ軸方向の中央を配設順に表している。
【００６４】
また、符号Ｙ２ 、Ｙ４ など偶数Ｙ符号は、第２領域（表示部（Ｂ））にてダミー積層フォトスペーサー（Ｄ−ＰＳ−２）が繰り返し等ピッチで配設されているＹ軸方向でのダミー積層フォトスペーサーのＹ軸方向の中央を配設順に表している。また、符号Ｘ２ 、Ｘ４ など偶数Ｘ符号は、Ｘ軸方向でのダミー積層フォトスペーサーのＸ軸方向の中央を配設順に表している。
【００６５】
本実施例においては、図５に示すカラーフィルタを作製するに際し、本発明による赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）、計３枚のフォトマスクを用いる。赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）は、このカラーフィルタの赤色パターン、すなわち、赤色着色画素（４２Ｒ）と、積層フォトスペーサー及びダミー積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ、Ｄ−Ｐ１Ｒ）の形成に用いる。
【００６６】
また、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）は、このカラーフィルタの緑色パターン、すなわち、緑色着色画素（４２Ｇ）と、積層フォトスペーサー及びダミー積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｐ２Ｇ、Ｐ３Ｇ、Ｄ−Ｐ２Ｇ）の形成に用いる。また、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）は、このカラーフィルタの青色パターン、すなわち、青色着色画素（４２Ｂ）と、積層フォトスペーサー及びダミー積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｐ３Ｂ、Ｄ−Ｐ３Ｂ）の形成に用いる。
【００６７】
上記各色パターンを形成する順序は、赤色、緑色、青色の順であり、赤色パターンを形成する際には、赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）を用い、第１領域（表示部（Ａ））にては、赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）を第１種フォトマスクとして機能させてパルス光の露光を与え、上記群パターン内の赤色着色画素（４２Ｒ）と、積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ）を形成する。また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））にては、赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）を第２種フォトマスクとして機能させて、ダミー積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）を形成する。
【００６８】
緑色及び青色パターンを形成する際には、同様に、各々、第１領域（表示部（Ａ））にては第１種フォトマスクとして機能させて、各々、第１種パターンを形成し、また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））にては第２種フォトマスクとして機能させて、第２種パターンを形成する。
【００６９】
図６（ａ）、（ｂ）は、赤色パターンの形成に用いる赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）を構成する、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）及び赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）の平面図である。この赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）上に、赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）が重ねられて赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）となる。
図６（ａ）に示すように、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）には、ガラス基板上に
形成する第１種パターンに対応した第１種パターン開口部と、第２種パターンに対応した第２種パターン開口部が設けられている。
【００７０】
第１種パターンは、前記赤色着色画素（４２Ｒ）と、積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ）であり、Ｙ０ 、Ｘ０ を基準として、図５に示す上記パターンの対応した、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）上の位置に、第１種パターン開口部として、〔赤色着色画素開口部（Ｋ１−ａＲ）、赤色ドットパターン開口部（（Ｋ１−ｂＲ）、（Ｋ１−ｃＲ）、（Ｋ１−ｄＲ））〕が設けられている。
また、第２種パターンは、前記ダミー積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）であり、隣接する２個の赤色着色画素開口部（Ｋ１−ａＲ）の中間の位置、例えば、Ｙ０ から１／２ピッチ（（Ｐｉ−１０）／２）右方の位置（Ｙ２ ）に赤色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｒ）が設けられている。
【００７１】
図６（ｂ）は、赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）の平面図である。赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）には、上記第１種パターン開口部〔赤色着色画素開口部（Ｋ１−ａＲ）、赤色ドットパターン開口部（（Ｋ１−ｂＲ）、（Ｋ１−ｃＲ）、（Ｋ１−ｄＲ））〕に対応した、該第１種パターン開口部〔赤色着色画素開口部（Ｋ１−ａＲ）、赤色ドットパターン開口部（（Ｋ１−ｂＲ）、（Ｋ１−ｃＲ）、（Ｋ１−ｄＲ））〕より大きな形状を有した第１種透光開口部〔赤色着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＲ’）、赤色ドットパターン透光開口部（（Ｋ１−ｂＲ’）、（Ｋ１−ｃＲ’）、（Ｋ１−ｄＲ’））〕が設けられている。
【００７２】
赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）には、上記赤色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｒ）に対応した、赤色ドットパターン透光開口部（Ｋ２−Ｒ’）は設けられておらず、赤色着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＲ’）が赤色ドットパターン透光開口部（Ｋ２−Ｒ’）を兼ねている。
【００７３】
図７（ａ）は、図６（ａ）に示す、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）上に、赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）が重ねられた赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）を第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。第１種パターン開口部（（Ｋ１−ａＲ）、（Ｋ１−ｂＲ）、（Ｋ１−ｃＲ）、（Ｋ１−ｄＲ））のみを開口部とし、他の部分を遮光部とするフォトマスクである。
図７（ａ）は、図６（ａ）に示す、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）のＹ０ 、Ｘ０ 上に、赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）のＹ０ −ＴＳ、Ｘ０ を重ね合わせたものである。
【００７４】
この状態、すなわち、第１種フォトマスクとして機能させた状態で、表示部（Ａ）への赤色パターンの形成を行う。つまり、第１種フォトマスクを介したパルス光を与え、表示部（Ａ）へ赤色着色画素（４２Ｒ）と、積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ）を形成する。
【００７５】
図７（ｂ）は、赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）を第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。第２種パターンは、前記ダミー積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）であり、第２種パターン開口部（赤色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｒ））のみを開口部とし、他の部分を遮光部とするフォトマスクである。
図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す状態から、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）は固定した状態で、赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）のみを矢印で示すように、右方へ移動させ赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）のＹ２ 、Ｘ０ 上に、赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）のＹ０ −ＴＳ、Ｘ０ を重ね合わせた
ものである。
【００７６】
この状態、すなわち、第２種フォトマスクとして機能させた状態で、周縁部などの領域（Ｂ）への赤色パターンの形成を行う。つまり、第２種フォトマスクを介したパルス光を与え、周縁部などの領域（Ｂ）へダミー積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）を形成する。
【００７７】
図８は、上記により得られた、本実施例のカラーフィルタを構成する赤色パターンの平面図である。図８に示すように、ガラス基板上の第１領域（表示部（Ａ））には、第１種パターンの赤色パターンである、赤色着色画素（４２Ｒ）と、積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ）が形成されており、また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））には、第２種パターンの赤色パターンである、赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）が形成されている（図５参照）。
【００７８】
上記説明は、本実施例におけるカラーフィルタの赤色パターンの形成についてのものであるが、本発明によるフォトマスクは、上記説明で明らかなように、上記赤色パターンに限らず、パルス光の露光を与えるスリット露光に用いる小型のフォトマスクにおいて、フォトマスク上に複数種のパターンに対応した開口部を設け、同一基板上の異なる領域に各々異なるパターンを形成しても、光学系内でのフォトマスクの位置精度が低下することなく保たれ、パターン形成の生産効率が阻害されることのないフォトマスクとなる。
【００７９】
図９（ａ）、（ｂ）は、緑色パターンの形成に用いる緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）を構成する、緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）及び緑色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｇ）の平面図である。この緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）上に、緑色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｇ）が重ねられて緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）となる。
第１種パターンは、前記緑色着色画素（４２Ｇ）と、積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｐ２Ｇ、Ｐ３Ｇ）であり、Ｙ０ 、Ｘ０ を基準として、図５に示す上記パターンの対応した、緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）上の位置に、第１種パターン開口部として、〔緑色着色画素開口部（Ｋ１−ａＧ）、緑色ドットパターン開口部（（Ｋ１−ｃＧ）、（Ｋ１−ｄＧ））〕が設けられている。
また、第２種パターンは、前記ダミー積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｄ−Ｐ２Ｇ）であり、隣接する２個の緑色着色画素開口部（Ｋ１−ａＧ）の中間の位置に緑色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｇ）が設けられている。
【００８０】
図９（ｂ）は、緑色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｇ）の平面図である。緑色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｇ）には、上記第１種パターン開口部に対応した、該第１種パターン開口部より大きな形状を有した第１種透光開口部〔緑色着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＧ’）、緑色ドットパターン透光開口部（（Ｋ１−ｃＧ’）、（Ｋ１−ｄＧ’））〕が設けられている。
また、図１０（ａ）は、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）を第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。第１種パターン開口部〔（Ｋ１−ａＧ）、（Ｋ１−ｃＧ）、（Ｋ１−ｄＧ）〕のみを開口部とし、他の部分を遮光部とするフォトマスクである。
【００８１】
この状態、すなわち、第１種フォトマスクとして機能させた状態で、表示部（Ａ）への緑色パターンの形成を行う。つまり、第１種フォトマスクを介したパルス光を与え、表示部（Ａ）へ緑色着色画素（４２Ｇ）と、積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｐ２Ｇ、Ｐ３Ｇ）を形成する。
図１０（ｂ）は、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）を第２種フォトマスクとして機能さ
せた状態を示す平面図である。第２種パターン開口部（緑色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｇ））のみを開口部とし、他の部分を遮光部とするフォトマスクである。
【００８２】
この状態、すなわち、第２種フォトマスクとして機能させた状態で、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）のＹ２ −Ｇ（Ｙ０ −Ｇ−ＴＳ）を白太矢印で示すように、Ｙ２ に移動させて周縁部などの領域（Ｂ）への緑色パターンの形成を行う。
つまり、第２種フォトマスクを介したパルス光を与え、周縁部などの領域（Ｂ）へダミー積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｄ−Ｐ２Ｇ）を形成する。
【００８３】
図１１は、上記により得られた、本実施例のカラーフィルタを構成する緑色パターンの平面図である。図１１に示すように、ガラス基板上の第１領域（表示部（Ａ））には、第１種パターンの緑色パターンである、緑色着色画素（４２Ｇ）と、積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｐ２Ｇ、Ｐ３Ｇ）が形成されており、また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））には、第２種パターンの緑色パターンである、緑色ドットパターン（Ｄ−Ｐ２Ｇ）が形成されている（図５参照）。
【００８４】
図１２（ａ）、（ｂ）は、青色パターンの形成に用いる青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）を構成する、青色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）及び青色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｂ）の平面図である。第１種パターンは、前記青色着色画素（４２Ｂ）と、積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｐ３Ｂ）であり、Ｙ０ 、Ｘ０ を基準として、図５に示す上記パターンの対応した、青色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）上の位置に、第１種パターン開口部として、〔青色着色画素開口部（Ｋ１−ａＢ）、青色ドットパターン開口部（Ｋ１−ｄＢ）〕が設けられている。
また、第２種パターンは、前記ダミー積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｄ−Ｐ３Ｂ）であり、隣接する２個の青色着色画素開口部（Ｋ１−ａＢ）の中間の位置に青色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｂ）が設けられている。
【００８５】
図１２（ｂ）は、青色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｂ）の平面図である。青色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｂ）には、上記第１種パターン開口部に対応した、該第１種パターン開口部より大きな形状を有した第１種透光開口部〔青色着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＢ’）、青色ドットパターン透光開口部（Ｋ１−ｄＢ’）〕が設けられている。
図１３（ａ）は、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）を第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。第１種パターン開口部〔（Ｋ１−ａＢ）、（Ｋ１−ｄＢ）〕のみを開口部とし、他の部分を遮光部とするフォトマスクである。
【００８６】
この状態、すなわち、第１種フォトマスクとして機能させた状態で、表示部（Ａ）への青色パターンの形成を行う。つまり、第１種フォトマスクを介したパルス光を与え、表示部（Ａ）へ青色着色画素（４２Ｂ）と、積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｐ３Ｂ）を形成する。
図１３（ｂ）は、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）を第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。第２種パターン開口部（青色ドットパターン開口部（Ｋ２−Ｂ））のみを開口部とし、他の部分を遮光部とするフォトマスクである。
【００８７】
この状態、すなわち、第２種フォトマスクとして機能させた状態で、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）のＹ２ −Ｂ（Ｙ０ −Ｂ−ＴＳ）を白太矢印で示すように、Ｙ２ に移動させて周縁部などの領域（Ｂ）への青色パターンの形成を行う。
つまり、第２種フォトマスクを介したパルス光を与え、周縁部などの領域（Ｂ）へダミー積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｄ−Ｐ３Ｂ）を形成する。
【００８８】
図１４は、上記により得られた、本実施例のカラーフィルタを構成する青色パターンの平面図である。図１４に示すように、ガラス基板上の第１領域（表示部（Ａ））には、第１種パターンの青色パターンである、青色着色画素（４２Ｂ）と、積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｐ３Ｂ）が形成されており、また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））には、第２種パターンの青色パターンである、青色ドットパターン（Ｄ−Ｐ３Ｂ）が形成されている（図５参照）。
【００８９】
上述のように、本発明によるカラーフィルタの製造方法は、本発明による赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）を用い、各々の露光にて、第１領域（表示部（Ａ））にては、第１種フォトマスクとして機能させてパルス光の露光を与え、また、第２領域（周縁部などの領域（Ｂ））にては、第２種フォトマスクとして機能させてパルス光の露光を与えるので、例えば、カラーフィルタの表示部（Ａ）には積層フォトスペーサー及び着色画素、周縁部などの領域（Ｂ）にはダミー積層フォトスペーサーが設けられたカラーフィルタを製造する際に、パターン形成の生産効率が阻害されることのないカラーフィルタの製造方法となる。
【００９０】
＜実施例２＞
実施例２は、請求項３に係わるフォトマスクの実施例である。実施例１においては、図５に示すカラーフィルタを作製するに際し、赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）、計３枚のフォトマスクを用いる。赤色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｒ）は、赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）と赤色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｒ）で構成され、緑色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｇ）は、緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）と緑色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｇ）で構成され、また、青色用フォトマスク（ＰＭ４−Ｂ）は、青色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）と青色用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−Ｂ）で構成されている。すなわち、３枚のパターンマスクと、各々のパターンマスクと対になる３枚の透光・遮光マスクが用いられている。
【００９１】
本発明では、パターンマスクは、各色に対応した３枚のパターンマスクであるが、透光・遮光マスクを、各色に対応した３枚のパターンマスク〔（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）、（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）、（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）〕に共通に対になることができる１枚の共通用透光・遮光マスクとしたものである。
この共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）には、透光開口部として、矩形状の同一サイズの各色着色画素に対応した開口部の形状よりも大きな形状の１種の共通用着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＡＬＬ）が複数個設けられている。
【００９２】
また、この共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）には、透光開口部として、積層フォトスペーサー又は単層フォトスペーサーを構成するドットパターンに対応した、いずれのパターン開口部の形状よりも大きな形状の１種の共通用ドットパターン透光開口部（Ｋ１−ｂＡＬＬ）が複数個設けられている。
本発明のフォトマスク（ＰＭ５）を用いることにより、透光・遮光マスクの枚数が３枚から１枚へと削減されたものとなる。
【００９３】
図１５は、本発明によるフォトマスク（ＰＭ５）における赤色用フォトマスク（ＰＭ５−Ｒ）の構成を示す平面図である。図１５（ａ）に示す赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）は実施例１の赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）と同一のものである。図１５（ｂ）は共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）の平面図である。図１５（ｂ）に示すように、各色着色画素に対応した開口部の形状よりも大きな形状の１種の共通用着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＡＬＬ）が設けられている。この共通用着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＡＬＬ）の大きさは、前記赤色着色画素透光開口部（Ｋ１−ａＲ’）と略同一
の大きさである。
【００９４】
また、前記赤色ドットパターン開口部（（Ｋ１−ｂＲ）、（Ｋ１−ｃＲ）、（Ｋ１−ｄＲ））のいずれの開口部よりも大きな形状を有した共通用ドットパターン透光開口部（（Ｋ１−ｂＡＬＬ）が設けられている。この共通用ドットパターン透光開口部（（Ｋ１−ｂＡＬＬ）の大きさは、前記赤色ドットパターン透光開口部（Ｋ１−ｂＲ’）と略同一の大きさである。
【００９５】
図１６（ａ）は、赤色用フォトマスク（ＰＭ５−Ｒ）が第１種フォトマスクとして機能する状態を示したものであり、（ｂ）は、第２種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。赤色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｒ）への共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）の重ね合わせ、移動の仕方は実施例１の同じである。
【００９６】
第１種フォトマスクとして機能させた状態で、表示部（Ａ）への赤色パターンの形成を行い、また、第２種フォトマスクとして機能させた状態で、周縁部などの領域（Ｂ）への赤色パターンの形成を行う。これにより、表示部（Ａ）へ赤色着色画素（４２Ｒ）と、積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ）を形成し、周縁部などの領域（Ｂ）へダミー積層フォトスペーサーを構成する赤色ドットパターン（Ｄ−Ｐ１Ｒ）を形成し、前記図８に示す赤色パターンが得られる。
【００９７】
図１７は、本発明によるフォトマスク（ＰＭ５）における緑色用フォトマスク（ＰＭ５−Ｇ）の構成を示す平面図である。図１７（ａ）に示す緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）は実施例１の緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）と同一のものである。図１７（ｂ）は、図１５（ｂ）に示す共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）と同一のものである。
【００９８】
図１８（ａ）は、緑色用フォトマスク（ＰＭ５−Ｇ）が第１種フォトマスクとして機能する状態を示したものであり、緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）への共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）の重ね合わせは、〔（Ｙ０ −Ｇ）、Ｘ０ 〕に〔（Ｙ０ −ＴＳ）、Ｘ０ 〕を重ね合わせる。また、（ｂ）は、第２種フォトマスクとして機能する状態を示したものであり、緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）への共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）の重ね合わせは、〔（Ｙ２ −Ｇ）、Ｘ０ 〕に〔（Ｙ０ −ＴＳ）、Ｘ０ 〕を重ね合わせる。
【００９９】
第１種フォトマスクとして機能させた状態で、表示部（Ａ）への緑色パターンの形成を行い、また、第２種フォトマスクとして機能させた状態で、周縁部などの領域（Ｂ）への緑色パターンの形成を行う。これにより、表示部（Ａ）へ緑色着色画素（４２Ｇ）と、積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｐ２Ｇ、Ｐ３Ｇ）を形成し、周縁部などの領域（Ｂ）へダミー積層フォトスペーサーを構成する緑色ドットパターン（Ｄ−Ｐ２Ｇ）を形成し、前記図１１に示す緑色パターンが得られる。
【０１００】
図１９は、本発明によるフォトマスク（ＰＭ５）における青色用フォトマスク（ＰＭ５−Ｂ）の構成を示す平面図である。図１９（ａ）に示す青色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）は実施例１の青色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）と同一のものである。図１９（ｂ）は、図１５（ｂ）に示す共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）と同一のものである。
【０１０１】
図２０（ａ）は、青色用フォトマスク（ＰＭ５−Ｂ）が第１種フォトマスクとして機能する状態を示したものであり、青色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｂ）への共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）の重ね合わせは、〔（Ｙ０ −Ｂ）、Ｘ０ 〕に〔（Ｙ０ −ＴＳ）、Ｘ０ 〕を重ね合わせる。また、（ｂ）は、第２種フォトマスクとして機能する状態を示したものであり、緑色用パターンマスク（Ｐ−ＰＭ−Ｇ）への共通用透光・遮光マスク（ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ）の重ね合わせは、〔（Ｙ２
−Ｂ）、Ｘ０ 〕に〔（Ｙ０ −ＴＳ）、Ｘ０ 〕を重ね合わせる。
【０１０２】
第１種フォトマスクとして機能させた状態で、表示部（Ａ）への青色パターンの形成を行い、また、第２種フォトマスクとして機能させた状態で、周縁部などの領域（Ｂ）への青色パターンの形成を行う。これにより、表示部（Ａ）へ青色着色画素（４２Ｂ）と、積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｐ３Ｂ）を形成し、周縁部などの領域（Ｂ）へダミー積層フォトスペーサーを構成する青色ドットパターン（Ｄ−Ｐ３Ｂ）を形成し、前記図１４に示す青色パターンが得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】２種のパターンを形成する際のパターンを示す平面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるフォトマスクの構成を示す平面図である。（ｄ）は、図２（ｃ）のＸ−Ｘ線での断面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、本発明によるフォトマスクを第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図及び断面図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は、本発明によるフォトマスクを第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図及び断面図である。
【図５】本実施例におけるカラーフィルタの一部分の構成を示す平面図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は、赤色用パターンマスク及び赤色用透光・遮光マスクの平面図である。
【図７】（ａ）は、赤色用フォトマスクを第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。（ｂ）は、赤色用フォトマスクを第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。
【図８】本実施例のカラーフィルタを構成する赤色パターンの平面図である。
【図９】（ａ）、（ｂ）は、緑色用パターンマスク及び緑色用透光・遮光マスクの平面図である。
【図１０】（ａ）は、緑色用フォトマスクを第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。（ｂ）は、緑色用フォトマスクを第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。
【図１１】本実施例のカラーフィルタを構成する緑色パターンの平面図である。
【図１２】（ａ）、（ｂ）は、青色用パターンマスク及び青色用透光・遮光マスクの平面図である。
【図１３】（ａ）は、青色用フォトマスクを第１種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。（ｂ）は、青色用フォトマスクを第２種フォトマスクとして機能させた状態を示す平面図である。
【図１４】本実施例のカラーフィルタを構成する青色パターンの平面図である。
【図１５】本発明によるフォトマスクにおける赤色用フォトマスクの構成を示す平面図である。
【図１６】（ａ）は、赤色用フォトマスクが第１種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。（ｂ）は、第２種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。
【図１７】本発明によるフォトマスクにおける緑色用フォトマスクの構成を示す平面図である。
【図１８】（ａ）は、緑色用フォトマスクが第１種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。（ｂ）は、第２種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。
【図１９】本発明による青色用フォトマスクの構成を示す平面図である。
【図２０】（ａ）は、青色用フォトマスクが第１種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。（ｂ）は、第２種フォトマスクとして機能する状態を示したものである。
【図２１】２種のフォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの一例を模式的に示した断面図である。
【図２２】大サイズのガラス基板に１基のサイズが対角１７のカラーフィルタが４面付けされた例である。
【図２３】図２２における大サイズのガラス基板の一隅を拡大してダミーフォトスペーサーの配列の一例を示す平面図である。
【図２４】（ａ）、（ｂ）は、フォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの他の例の断面図、平面図である。
【図２５】（ａ）〜（ｄ）は、積層フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタの他の第２例を示す断面図である。
【図２６】ステップ露光の一例を説明する平面図である。
【図２７】スリット露光の一例を説明する平面図である。
【図２８】（ａ）、（ｂ）は、図２７のＸ−Ｘ線での断面図である。
【図２９】スリット露光に用いられるフォトマスクの一例におけるスリットの部分を拡大して示す平面図である。
【図３０】得られたストライプパターンの一例を示す平面図である。
【図３１】スリット露光によって製造されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。
【図３２】スリット露光によって矩形状の着色画素が形成されたカラーフィルタの一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１０４】
２１、４１・・・ブラックマトリックス
２２、４２・・・着色画素
４０・・・ガラス基板
４３・・・透明導電膜
５０・・・大サイズのガラス基板
Ａ・・・カラーフィルタの表示部
Ｂ・・・周縁部などの領域
Ｄ−ＰＳ・・・ダミーフォトスペーサー
Ｄ−ＰＳ−２・・・ダミー積層フォトスペーサー
Ｋ１・・・第１種パターン開口部
Ｋ２・・・第２種パターン開口部
Ｋ１’・・・第１種透光開口部
Ｋ２’・・・第２種透光開口部
Ｋ１−ａＲ、Ｋ１−ａＧ、Ｋ１−ａＢ・・・赤色、緑色、青色着色画素開口部
Ｋ１−ａＲ’、Ｋ１−ａＧ’、Ｋ１−ａＢ’・・・赤色、緑色、青色着色画素透光開口部Ｋ１−ｂＲ、Ｋ１−ｃＲ、Ｋ１−ｄＲ、Ｋ２−Ｒ・・・赤色ドットパターン開口部
Ｋ１−ｂＲ’、Ｋ１−ｃＲ’、Ｋ１−ｄＲ’、Ｋ２−Ｒ’・・・赤色ドットパターン透光開口部
Ｋ１−ｃＧ、Ｋ１−ｄＧ、Ｋ２−Ｇ・・・緑色ドットパターン開口部
Ｋ１−ｃＧ’、Ｋ１−ｄＧ’、Ｋ２−Ｇ’・・・緑色ドットパターン透光開口部
Ｋ１−ｄＢ、Ｋ２−Ｂ・・・青色ドットパターン開口部
Ｋ１−ｄＢ’、Ｋ２−Ｂ’・・・青色ドットパターン透光開口部
ＴＳ−ＰＭ−ＡＬＬ・・・共通用透光・遮光マスク
Ｋ１−ａＡＬＬ・・・共通用着色画素透光開口部
Ｋ１−ｂＡＬＬ・・・共通用ドットパターン透光開口部
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３・・・ドットパターン
Ｐ１Ｒ、Ｐ２Ｒ、Ｐ３Ｒ、Ｄ−Ｐ１Ｒ・・・赤色ドットパターン
Ｐ２Ｇ、Ｐ３Ｇ、Ｄ−Ｐ２Ｇ・・・緑色ドットパターン
Ｐ３Ｂ、Ｄ−Ｐ３Ｂ・・・青色ドットパターン
Ｐ１１、Ｐ１２・・・第１種、第２種パターン
ＰＭ、ＰＭ２・・・フォトマスク
ＰＭ３、ＰＭ４、ＰＭ５・・・本発明によるフォトマスク
ＰＭ４−Ｒ、ＰＭ４−Ｇ、ＰＭ４−Ｂ・・・本発明による赤色用、緑色用、青色用フォトマスク
ＰＭ５−Ｒ、ＰＭ５−Ｇ、ＰＭ５−Ｂ・・・本発明による赤色用、緑色用、青色用フォトマスク
Ｐ−ＰＭ・・・パターンマスク
Ｐ−ＰＭ−Ｒ、Ｐ−ＰＭ−Ｇ、Ｐ−ＰＭ−ＧＢ・・・赤色用、緑色用、青色用パターンマスク
ＰＳ−１、ＰＳ−２・・・第一、第二フォトスペーサー
ＰＳ−１１・・・積層フォトスペーサー
ＰＳ−２１・・・第一積層フォトスペーサー
ＰＳ−２２・・・第二積層フォトスペーサー
ＰＳ−２３・・・第三積層フォトスペーサー（単層）
ＴＳ−ＰＭ・・・透光・遮光マスク
ＴＳ−ＰＭ−Ｒ、ＴＳ−ＰＭ−Ｇ、ＴＳ−ＰＭ−Ｂ・・・赤色用、緑色用、青色用透光・遮光マスク
【図１】
2009216762.tif 000003
【図２】
2009216762.tif 000004
【図３】
2009216762.tif 000005
【図４】
2009216762.tif 000006
【図５】
2009216762.tif 000007
【図６】
2009216762.tif 000008
【図７】
2009216762.tif 000009
【図８】
2009216762.tif 000010
【図９】
2009216762.tif 000011
【図１０】
2009216762.tif 000012
【図１１】
2009216762.tif 000013
【図１２】
2009216762.tif 000014
【図１３】
2009216762.tif 000015
【図１４】
2009216762.tif 000016
【図１５】
2009216762.tif 000017
【図１６】
2009216762.tif 000018
【図１７】
2009216762.tif 000019
【図１８】
2009216762.tif 000020
【図１９】
2009216762.tif 000021
【図２０】
2009216762.tif 000022
【図２１】
2009216762.tif 000023
【図２２】
2009216762.tif 000024
【図２３】
2009216762.tif 000025
【図２４】
2009216762.tif 000026
【図２５】
2009216762.tif 000027
【図２６】
2009216762.tif 000028
【図２７】
2009216762.tif 000029
【図２８】
2009216762.tif 000030
【図２９】
2009216762.tif 000031
【図３０】
2009216762.tif 000032
【図３１】
2009216762.tif 000033
【図３２】
2009216762.tif 000034