(57)【要約】【課題】マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。【解決手段】パターン描画装置１は、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０を装置内に備えるとともに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０の間でマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０を備える。このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。【選択図】図２
2009253252.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光部と遮光部とを有するマスクを介して基板の表面に光を照射することにより、基板の表面にパターンを描画するパターン描画装置であって、
前記マスクを保持する保持部を有し、前記保持部に保持された前記マスクを介して基板の表面に光を照射する複数の光学ヘッドと、
前記複数の光学ヘッドと異なる位置において、前記マスクの検査を行うマスク検査部と、
前記マスクを収納するストッカー部と、
所定のハンドにより前記マスクを保持しつつ、前記複数の光学ヘッドと、前記マスク検査部と、前記ストッカー部との間で前記マスクを搬送するマスク搬送手段と、
を備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン描画装置であって、
前記マスク搬送手段は、前記ハンドを前記複数の光学ヘッドの配列方向に沿って移動させる移動手段を有し、
前記移動手段による前記ハンドの移動経路の端部近傍に、前記マスク検査部および前記ストッカー部の少なくとも一方が配置されていることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のパターン描画装置であって、
前記マスクの洗浄を行うマスク洗浄部を更に備え、
前記マスク搬送手段は、前記複数の光学ヘッドと、前記マスク検査部と、前記ストッカー部と、前記マスク洗浄部との間で前記マスクを搬送することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項４】
請求項３に記載のパターン描画装置であって、
前記マスク洗浄部は、前記マスクに対して紫外線を照射する紫外線照射部を有することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載のパターン描画装置であって、
前記マスク洗浄部は、前記マスクに対して薬液による洗浄処理、純水によるリンス処理、および乾燥処理を行うことを特徴とするパターン描画装置。
【請求項６】
請求項３から請求項５までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記マスク検査部による前記マスクの検査結果に基づいて、前記マスク搬送手段による前記マスクの前記マスク洗浄部への搬送を実行するか否かを選択する制御部を更に備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記マスク検査部は、前記マスクに対して光を照射しつつ、前記マスクを透過する光を観察することにより、前記マスクの汚れを検出することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記マスク検査部は、前記マスク搬送手段の搬送経路の途中において、前記ハンドに保持された前記マスクを検査することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、
基板に対する描画処理が実行されていないときに、前記複数の光学ヘッドの前記保持部に保持された前記マスクを検査する補助検査手段を更に備えることを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項９までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記ストッカー部は、前記複数の光学ヘッドに同時に搭載される複数枚のマスクを一括して収納するカセットを有することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載のパターン描画装置であって、
前記カセットは、前記複数の光学ヘッドに同時に搭載される複数枚のマスクと、予備のマスクとを一括して収納することを特徴とするパターン描画装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、
ＨＥＰＡフィルタによる雰囲気制御がなされた環境に設置されることを特徴とするパターン描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ用ガラス基板、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、半導体基板、磁気／光ディスク用基板等の基板の表面にパターンを描画するパターン描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板の製造工程では、感光材料が塗布された基板の表面に光を照射することにより、基板の表面に所定のパターンを描画するパターン描画装置が使用されている。パターン描画装置は、基板を載置するステージと、ステージ上に載置された基板の上面に光を照射する複数の光学ヘッドとを備え、ステージとともに基板を水平方向に移動させつつ、複数の光学ヘッドから光を照射することにより、基板の上面に所定のパターンを描画する。
【０００３】
パターン描画装置の各光学ヘッドには、描画すべきパターンに応じた透光部と遮光部とを有するガラス板であるマスクが搭載されている。パターン描画装置は、光源から出射された光を、各光学ヘッドに搭載されたマスクを介して基板の上面に照射することにより、マスク上のパターンを基板の上面に投影する。
【０００４】
このような従来のパターン描画装置については、例えば特許文献１に開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１４５７４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記従来のパターン描画装置において、各光学ヘッドに搭載されるマスクは、描画すべきパターンに応じて交換される。しかしながら、従来では、使用前後のマスクを保管するストッカーが、パターン描画装置から離れた位置に設置されていた。したがって、各光学ヘッドに搭載されたマスクを交換するときには、人の手あるいは搬送台車（ＭＧＶ）により、ストッカーとパターン描画装置との間でマスクを搬送しなければならなかった。特に、大型のマスクを使用する場合には、工程毎に使用される複数枚のマスクを保管するスペースをパターン描画装置の近傍に確保するのは困難であるため、パターン描画装置から離れた場所に複数枚のマスクを保管せざるを得なかった。
【０００７】
また、パターン描画装置の各光学ヘッドに搭載されるマスクは、汚れや損傷の有無を確認するために、定期的あるいは必要に応じて検査される。しかしながら、このような検査工程は、描画工程を含む一連の生産工程とは別の場所で行われるのが一般的である。このため、従来では、マスクの検査を行うための検査装置も、パターン描画装置から離れた位置に設置されていた。したがって、マスクを検査するときにも、人の手あるいは搬送台車（ＭＧＶ）により、パターン描画装置と検査装置との間でマスクを搬送しなければならなかった。
【０００８】
このように、従来では、パターン描画装置とその外部に設置されたストッカーあるいは検査装置との間で、マスクを搬送する必要があった。このため、マスクを搬送する際に、マスクの表面に新たな汚れや損傷が発生する恐れがあった。また、パターン描画装置とストッカーおよび検査装置との間にマスクの搬送経路を確保する必要があるため、工程全体の作業スペースが大きくなってしまうという問題もあった。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、透光部と遮光部とを有するマスクを介して基板の表面に光を照射することにより、基板の表面にパターンを描画するパターン描画装置であって、前記マスクを保持する保持部を有し、前記保持部に保持された前記マスクを介して基板の表面に光を照射する複数の光学ヘッドと、前記複数の光学ヘッドと異なる位置において、前記マスクの検査を行うマスク検査部と、前記マスクを収納するストッカー部と、所定のハンドにより前記マスクを保持しつつ、前記複数の光学ヘッドと、前記マスク検査部と、前記ストッカー部との間で前記マスクを搬送するマスク搬送手段と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載のパターン描画装置であって、前記マスク搬送手段は、前記ハンドを前記複数の光学ヘッドの配列方向に沿って移動させる移動手段を有し、前記移動手段による前記ハンドの移動経路の端部近傍に、前記マスク検査部および前記ストッカー部の少なくとも一方が配置されていることを特徴とする。
【００１２】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載のパターン描画装置であって、前記マスクの洗浄を行うマスク洗浄部を更に備え、前記マスク搬送手段は、前記複数の光学ヘッドと、前記マスク検査部と、前記ストッカー部と、前記マスク洗浄部との間で前記マスクを搬送することを特徴とする。
【００１３】
請求項４に係る発明は、請求項３に記載のパターン描画装置であって、前記マスク洗浄部は、前記マスクに対して紫外線を照射する紫外線照射部を有することを特徴とする。
【００１４】
請求項５に係る発明は、請求項３または請求項４に記載のパターン描画装置であって、前記マスク洗浄部は、前記マスクに対して薬液による洗浄処理、純水によるリンス処理、および乾燥処理を行うことを特徴とする。
【００１５】
請求項６に係る発明は、請求項３から請求項５までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、前記マスク検査部による前記マスクの検査結果に基づいて、前記マスク搬送手段による前記マスクの前記マスク洗浄部への搬送を実行するか否かを選択する制御部を更に備えることを特徴とする。
【００１６】
請求項７に係る発明は、請求項１から請求項６までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、前記マスク検査部は、前記マスクに対して光を照射しつつ、前記マスクを透過する光を観察することにより、前記マスクの汚れを検出することを特徴とする。
【００１７】
請求項８に係る発明は、請求項１から請求項７までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、前記マスク検査部は、前記マスク搬送手段の搬送経路の途中において、前記ハンドに保持された前記マスクを検査することを特徴とする。
【００１８】
請求項９に係る発明は、請求項１から請求項８までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、基板に対する描画処理が実行されていないときに、前記複数の光学ヘッドの前記保持部に保持された前記マスクを検査する補助検査手段を更に備えることを特徴とする。
【００１９】
請求項１０に係る発明は、請求項１から請求項９までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、前記ストッカー部は、前記複数の光学ヘッドに同時に搭載される複数枚のマスクを一括して収納するカセットを有することを特徴とする。
【００２０】
請求項１１に係る発明は、請求項１０に記載のパターン描画装置であって、前記カセットは、前記複数の光学ヘッドに同時に搭載される複数枚のマスクと、予備のマスクとを一括して収納することを特徴とする。
【００２１】
請求項１２に係る発明は、請求項１から請求項１１までのいずれかに記載のパターン描画装置であって、ＨＥＰＡフィルタによる雰囲気制御がなされた環境に設置されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
請求項１〜１２に記載の発明によれば、パターン描画装置は、複数の光学ヘッドと異なる位置において、マスクの検査を行うマスク検査部と、マスクを収納するストッカー部と、所定のハンドによりマスクを保持しつつ、複数の光学ヘッドと、マスク検査部と、ストッカー部との間でマスクを搬送するマスク搬送手段と、を備える。このため、マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができる。
【００２３】
特に、請求項２に記載の発明によれば、マスク搬送手段は、ハンドを複数の光学ヘッドの配列方向に沿って移動させる移動手段を有し、移動手段によるハンドの移動経路の端部近傍に、マスク検査部およびストッカー部の少なくとも一方が配置されている。このため、複数の光学ヘッドの配列方向に沿ったハンドの移動軸を利用して、マスク検査部又はストッカー部へのマスクの搬送を行うことができる。
【００２４】
特に、請求項３に記載の発明によれば、マスク搬送手段は、複数の光学ヘッドと、マスク検査部と、ストッカー部と、マスク洗浄部との間でマスクを搬送する。このため、マスクを装置の外部に搬送することなく検査、洗浄、及び収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を更に防止することができる。
【００２５】
特に、請求項４に記載の発明によれば、マスク洗浄部は、マスクに対して紫外線を照射する紫外線照射部を有する。このため、マスクを装置の外部へ搬送することなく、マスクに対して紫外線による洗浄処理を行うことができる。
【００２６】
特に、請求項５に記載の発明によれば、マスク洗浄部は、マスクに対して薬液による洗浄処理、純水によるリンス処理、および乾燥処理を行う。このため、マスクを装置の外部へ搬送することなく、マスクに対して薬液による洗浄処理、純水によるリンス処理、および乾燥処理を行うことができる。
【００２７】
特に、請求項６に記載の発明によれば、パターン描画装置は、マスク検査部によるマスクの検査結果に基づいて、マスク搬送手段によるマスクのマスク洗浄部への搬送を実行するか否かを選択する制御部を更に備える。このため、洗浄が必要なマスクのみを効率よく洗浄することができる。
【００２８】
特に、請求項７に記載の発明によれば、マスク検査部は、マスクに対して光を照射しつつ、マスクを透過する光を観察することにより、マスクの汚れを検出する。このため、パターンの投影に影響するマスク上の汚れを良好に検出することができる。
【００２９】
特に、請求項８に記載の発明によれば、マスク検査部は、マスク搬送手段の搬送経路の途中において、ハンドに保持されたマスクを検査する。このため、ハンドから他の保持具へマスクを移載することなく、迅速にマスクを検査することができる。
【００３０】
特に、請求項９に記載の発明によれば、パターン描画装置は、基板に対する描画処理が実行されていないときに、複数の光学ヘッドの保持部に保持されたマスクを検査する補助検査手段を更に備える。このため、基板に対する描画処理の合間の時間には、光学ヘッドからマスクを搬出することなくマスクを検査することができる。
【００３１】
特に、請求項１０に記載の発明によれば、ストッカー部は、複数の光学ヘッドに同時に搭載される複数枚のマスクを一括して収納するカセットを有する。このため、マスクを品種毎にカセットに収納して管理することができる。
【００３２】
特に、請求項１１に記載の発明によれば、カセットは、複数の光学ヘッドに同時に搭載される複数枚のマスクと、予備のマスクとを一括して収納する。このため、複数の光学ヘッドに搭載された複数枚のマスクのうちの一部のマスクが使用できなくなっても、予備のマスクを使用して描画処理を継続することができる。
【００３３】
特に、請求項１２に記載の発明によれば、パターン描画装置は、ＨＥＰＡフィルタによる雰囲気制御がなされた環境に設置される。このため、マスク搬送手段によるマスクの搬送途中や、ストッカー部におけるマスクの収納時に、マスクにパーティクルが付着することを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下の説明において参照される図１〜図４および図７〜図９には、装置内の各部の位置関係や動作方向を明確化するために、共通のＸＹＺ直交座標系が示されている。
【００３５】
＜１．パターン描画装置の全体構成＞
図１および図２は、本発明の一実施形態に係るパターン描画装置１の側面図および上面図である。このパターン描画装置１は、液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において、カラーフィルタ用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）９の上面に液晶表示装置の画素となる規則性パターンを描画するための装置である。
【００３６】
図１および図２に示したように、パターン描画装置１は、基板９を保持するステージ１０と、ステージ１０に連結されたステージ駆動部２０と、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇを有するヘッド部３０と、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに搭載されるマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０と、マスクＭを収納するストッカー部５０と、マスクＭを検査するマスク検査部６０と、マスクＭを洗浄するマスク洗浄部７０と、装置内の各部の動作を制御する制御部８０とを備えている。
【００３７】
ステージ１０は、平板状の外形を有し、その上面に基板９を水平姿勢に載置して保持するための保持部である。ステージ１０の上面には複数の吸引孔（図示省略）が形成されている。このため、ステージ１０上に基板９を載置したときには、吸引孔の吸引圧により基板９はステージ１０の上面に固定保持される。なお、ステージ１０上に保持された基板９の表面には、カラーレジスト等の感光材料の層が形成されている。
【００３８】
ステージ駆動部２０は、ステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）、および回転方向（Ｚ軸周りの回転方向）に移動させるための機構である。ステージ駆動部２０は、ステージ１０を回転させる回転機構２１と、ステージ１０を回転可能に支持する支持プレート２２と、支持プレート２２を副走査方向に移動させる副走査機構２３と、副走査機構２３を介して支持プレート２２を支持するベースプレート２４と、ベースプレート２４を主走査方向に移動させる主走査機構２５と、を有している。
【００３９】
回転機構２１は、ステージ１０の−Ｙ側の端辺に取り付けられた移動子と、支持プレート２２の上面に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２１ａを有している。また、ステージ１０の中央部下面側と支持プレート２２との間には回転軸２１ｂが設けられている。このため、リニアモータ２１ａを動作させると、固定子に沿って移動子が副走査方向に移動し、支持プレート２２上の回転軸２１ｂを中心としてステージ１０が所定角度の範囲内で回転する。
【００４０】
副走査機構２３は、支持プレート２２の下面に取り付けられた移動子とベースプレート２４の上面に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２３ａを有している。また、支持プレート２２とベースプレート２４との間には、副走査方向にのびる一対のガイド部２３ｂが設けられている。このため、リニアモータ２３ａを動作させると、ベースプレート２４上のガイド部２３ｂに沿って支持プレート２２が副走査方向に移動する。
【００４１】
主走査機構２５は、ベースプレート２４の下面に取り付けられた移動子と本装置１の基台１１上に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２５ａを有している。また、ベースプレート２４と基台１１との間には、主走査方向にのびる一対のガイド部２５ｂが設けられている。このため、リニアモータ２５ａを動作させると、基台１１上のガイド部２５ｂに沿ってベースプレート２４が主走査方向に移動する。
【００４２】
ヘッド部３０は、ステージ１０上に保持された基板９の上面に向けてパルス光を照射するための機構である。ヘッド部３０は、ステージ１０およびステージ駆動部２０を跨ぐようにして基台１１上に架設されたフレーム３１と、フレーム３１に副走査方向に沿って等間隔に取り付けられた７つの光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇとを有する。７つの光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇは、照明光学系３３を介して１つのレーザ発振器３４に接続されている。また、レーザ発振器３４には、レーザ発振器３４のオンオフ駆動を行うレーザ駆動部３５が接続されている。レーザ駆動部３５を動作させると、レーザ発振器３４からパルス光が発振され、発振されたパルス光は照明光学系３３を介して各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの内部に導入される。
【００４３】
各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの内部には、照明光学系３３から導入されたパルス光を下方へ向けて出射するための出射部３６と、パルス光を部分的に遮光するためのマスクユニット３７と、パルス光を基板９の上面に結像させるための投影光学系３８とが設けられている。マスクユニット３７には、描画すべきパターンに応じた透光部と遮光部とを有するガラス板であるマスクＭが搭載（保持）されている。出射部３６から出射されたパルス光は、マスクユニット３７を通過する際にマスクＭ上のパターンに応じて遮光され、所定のパターン形状に成形された光束として投影光学系３８へ入射する。そして、投影光学系３８を介してパルス光が基板９の上面に照射され、基板９上の感光材料を露光することにより、基板９の上面にパターンが描画される。
【００４４】
本実施形態のパターン描画装置１は、このように、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇを備え、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇにより基板９の上面を分担して描画する。このため、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに搭載されるマスクＭを、例えば１００ｍｍ×１５０ｍｍ程度の小片とすることができる。これにより、マスクＭの搬送、検査、洗浄、および収納を、装置内の狭小なスペースで行うことが可能となる。また、後述するように、複数枚のマスクＭを個別に搬送、検査、洗浄、および収納することが可能となる。
【００４５】
図１中に概念的に示したように、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇには、マスク搬送機構４０との間でマスクＭの受け渡しを行う際に、マスクユニット３７を−Ｙ側へ進出させるマスク移動機構３７ａが設けられている。マスク移動機構３７ａは、例えば、主走査方向にのびるガイドレールと、リニアモータとを組み合わせた機構として実現される。マスク移動機構３７ａを動作させると、マスクユニット３７は、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの内部の位置（図１の位置）と、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの−Ｙ側に突き出した位置との間で進退移動する。
【００４６】
また、ヘッド部３０の下方位置には、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇから照射されるパルス光を撮影する照射光撮影部３９が設けられている。照射光撮影部３９は、ＣＣＤカメラ３９ａと、ベースプレート２４の＋Ｙ側の端辺に固定されたガイドレール３９ｂと、ガイドレール３９ｂに沿ってＣＣＤカメラ３９ａを副走査方向に移動させるカメラ移動機構３９ｃとを有する。カメラ移動機構３９ｃは、例えば、ＣＣＤカメラ３９ａとガイドレール３９ｂとの間に設けられたリニアモータとして実現される。
【００４７】
照射光撮影部３９による撮影を行うときには、まず、ＣＣＤカメラ３９ａがヘッド部３０の下方に位置するように（図１および図２の状態となるように）、ベースプレート２４を移動させる。そして、ガイドレール３９ｂに沿ってＣＣＤカメラ３９ａを副走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇからパルス光を照射し、照射されたパルス光をＣＣＤカメラ３９ａにより撮影する。ＣＣＤカメラ３９ａにより取得された画像データは、制御部８０へ送信され、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに搭載されたマスクＭの状態を検査するために使用される。
【００４８】
マスク搬送機構４０は、マスクＭを保持しつつ、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、ストッカー部５０、マスク検査部６０、およびマスク洗浄部７０の間でマスクＭを搬送するための機構である。マスク搬送機構４０は、マスクＭを保持するハンド４１と、図１中に概念的に示したハンド移動機構４２とを有する。ハンド４１は、上下に一対の保持爪を有し、一対の保持爪によりマスクＭの端部を摘むことにより、マスクＭを水平姿勢に保持する。
【００４９】
ハンド移動機構４２は、副走査方向にのびる搬送主軸４２ａに沿って、光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの−Ｙ側の位置、ストッカー部５０の−Ｙ側の位置、および、マスク洗浄部７０の−Ｘ側の位置の間で、ハンド４１を移動させる。ハンド４１と光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇとの間でマスクＭの受け渡しを行うときには、−Ｙ側へ進出させたマスクユニット３７に対してハンド４１を−Ｘ側から接近させ、ハンド４１からマスクユニット３７へのマスクＭの移載またはマスクユニット３７からハンド４１へのマスクＭの移載を行う。
【００５０】
また、ハンド移動機構４２は、ストッカー部５０の−Ｙ側の位置において、ハンド４１を鉛直軸周りに回転させるとともに、主走査方向に移動させることができる。ハンド４１とストッカー部５０との間でマスクＭの受け渡しを行うときには、ストッカー部５０にセットされたカセット５１に対して、ハンド４１を−Ｙ側から接近させ、ハンド４１からカセット５１へのマスクＭの移載またはカセット５１からハンド４１へのマスクＭの移載を行う。
【００５１】
また、ハンド移動機構４２は、マスク洗浄部７０の−Ｘ側の位置において、マスク洗浄部７０の搬入口７１１に対向する位置と、マスク洗浄部７０の搬出口７１２に対向する位置との間で、ハンド４１を昇降移動させることができる（図３および図４参照）。マスク洗浄部７０へマスクＭを搬入するときには、搬入口７１１の−Ｘ側の位置から搬入口７１１を介してマスク洗浄部７０の内部へハンド４１の先端を進入させ、ハンド４１からマスク洗浄部７０へのマスクＭの移載を行う。また、マスク洗浄部７０からマスクＭを搬出するときには、搬出口７１２の−Ｘ側の位置から搬出口７１２を介してマスク洗浄部７０の内部へハンド４１の先端を進入させ、マスク洗浄部７０からハンド４１へのマスクＭの移載を行う。
【００５２】
ハンド移動機構４２は、例えば、ハンド４１の搬送経路に沿って敷設されたガイドレールと、ガイドレール上においてハンド４１を移動させるリニアモータと、鉛直軸周りにハンド４１を回転させる回転モータとを組み合わせた機構として実現することができる。
【００５３】
ストッカー部５０は、使用前後のマスクＭや、予備のマスクＭを収納しておくための機構である。ストッカー部５０には、複数枚のマスクＭを上下に多段に収納可能なカセット５１が、副走査方向（マスク搬送機構４０の搬送主軸４２ａの方向）に沿って３つ配列されている。各カセット５１には、単一の品種を描画する際に、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに同時に搭載される７枚のマスクＭと、１枚の予備のマスクＭとが一括して収納される。すなわち、複数枚のマスクＭは品種毎（パターン毎）に３つのカセット５１に分けて収納され、１つのカセット５１には同一の品種（同一のパターン）の８枚のマスクＭが収納される。
【００５４】
図２中に概念的に示したように、ストッカー部５０には、３つのカセット５１を個別に昇降移動させるカセット昇降機構５２が接続されている。カセット昇降機構５２は、例えば、鉛直方向に沿って立設されたボールネジと、ボールネジを回転させるモータとを組み合わせた機構として実現される。マスク搬送機構４０のハンド４１がカセット５１からのマスクＭの取り出し又はカセット５１へのマスクＭの収納を行うときには、カセット昇降機構５２は、カセット５１を昇降移動させることにより、マスクＭの取り出し又は収納を行う段の高さをハンド４１の高さに一致させる。
【００５５】
マスク検査部６０は、光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの外部においてマスクＭの検査を行うための機構である。図３は、マスク検査部６０とその近傍を−Ｙ側から見た側面図である。図３に示したように、マスク検査部６０は、マスクＭの搬送経路上に設定された検査位置ＩＰの下方から検査位置ＩＰへ向けて検査光を照射する投光部６１と、検査位置ＩＰの上方において検査光を撮影する検査用カメラ６２とを有する。マスクＭの検査を行うときには、まず、マスク搬送機構４０がマスクＭを検査位置ＩＰに配置する。そして、投光部６１から検査光を照射するとともに、マスクＭを透過した検査光を検査用カメラ６２で撮影し、取得された画像データを制御部８０において解析することにより、マスクＭ上に付着したパーティクル等の汚れを検出する。
【００５６】
このように、マスク検査部６０は、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇとは異なる位置において、かつ、ステージ１０の移動と干渉しない位置において、マスクＭの検査を行う。このため、描画処理の進行中であっても、描画処理から独立してマスクＭを検査することができる。また、特に、本実施形態のマスク検査部６０は、マスク搬送機構４０によるマスクＭの搬送経路の途中において、ハンド４１に保持された状態のマスクＭを検査する。このため、ハンド４１から他の保持具へマスクを移載することなく、迅速にマスクＭを検査することができる。
【００５７】
マスク洗浄部７０は、マスクＭを洗浄してマスクＭの表面に付着した汚れを除去するための機構である。図４は、マスク洗浄部７０の内部の構成を模式的に示した図である。図４に示したように、マスク洗浄部７０は、マスクＭを洗浄するための処理空間を内包するチャンバ７１と、チャンバ７１の内部に配置されたＵＶ洗浄処理部７２、薬液洗浄処理部７３、リンス処理部７４、乾燥処理部７５、下段コンベア７６、リフタ７７、および上段コンベア７８とを有する。チャンバ７１の−Ｘ側の側面には、マスクＭを搬入するための搬入口７１１と、マスクＭを搬出するための搬出口７１２とが、それぞれ下段と上段とに形成されている。搬入口７１１および搬出口７１２には、それぞれ開閉シャッタが設けられている。
【００５８】
チャンバ７１の内部には、搬入口７１１側から奥側へかけて、ＵＶ洗浄処理部７２、薬液洗浄処理部７３、リンス処理部７４、および乾燥処理部７５が順に配置されている。ハンド４１から搬入口７１１を介してチャンバ７１の内部に搬入されたマスクＭは、下段コンベア７６により搬送されつつ、ＵＶ洗浄処理部７２、薬液洗浄処理部７３、リンス処理部７４、および乾燥処理部７５において、それぞれ、紫外線の照射による洗浄処理、薬液による洗浄処理、純水によるリンス処理、およびエアナイフによる乾燥処理を受ける。そして、乾燥後のマスクＭはリフタ７７により上段へ引き上げられ、その後、上段コンベア７８により奥側から搬出口７１２側へ搬送されて、搬出口７１２を介して再びハンド４１に渡される。
【００５９】
マスク洗浄部７０の搬入口７１１付近は、洗浄前のマスクＭを搬送するエリアであり、また、薬液や純水のミストが飛散するエリアでもあるため、比較的清浄度が低い場合がある。この点について、本実施形態では、搬入口７１１とは別個に搬出口７１２を設けている。このため、搬入口７１１付近にパーティクルやミストが存在したとしても、そのパーティクルやミストが洗浄後のマスクＭに付着することはない。また、本実施形態では、チャンバ７１の内部の圧力は、チャンバ７１の外部の圧力よりもやや低くなるように制御されている。このため、搬入口７１１や搬出口７１２を開放したときにも、チャンバ７１の内部から搬入口７１１又は搬出口７１２を介してチャンバ７１の外部（描画処理を行う領域）へパーティクルやミストが飛散することはない。
【００６０】
制御部８０は、パターン描画装置１の上記各部の動作を制御するための情報処理部である。図５は、パターン描画装置１の上記各部と制御部８０との間の接続構成を示したブロック図である。図５に示したように、制御部８０は、上記の回転機構２１、副走査機構２３、主走査機構２５、レーザ駆動部３５、照明光学系３３、投影光学系３８、マスク移動機構３７ａ、ＣＣＤカメラ３９ａ、カメラ移動機構３９ｃ、ハンド移動機構４２、カセット昇降機構５２、マスク検査部６０、およびマスク洗浄部７０と電気的に接続されており、これらの動作を制御する。なお、制御部８０は、例えば、ＣＰＵやメモリを有するコンピュータにより構成され、コンピュータにインストールされたプログラムや種々の入力データに従ってコンピュータが動作することにより上記各部の制御を行う。
【００６１】
このようなパターン描画装置１において描画処理を行うときには、入力された描画データに従い、ステージ１０を主走査方向および副走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇからパルス光を照射することにより、基板９の上面にパターンを描画する。具体的には、まず、ステージ１０を主走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇからパルス光を照射する。これにより、基板９の上面には所定の露光幅（例えば５０ｍｍ幅）で複数本のパターン群が主走査方向に描画される。１回の主走査方向への描画が終了すると、パターン描画装置１は、ステージ１０を副走査方向に露光幅分だけ移動させ、ステージ１０を再び主走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇからパルス光を照射する。このように、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの露光幅分ずつ基板９を副走査方向にずらしながら、主走査方向への描画を所定回数（例えば４回）繰り返すことにより、基板９の上面にカラーフィルタ用の規則性パターンを描画する。
【００６２】
＜２．マスクの検査、洗浄、および交換について＞
このパターン描画装置１は、各光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに搭載されたマスクＭを個別に検査し、必要に応じてマスクＭの洗浄や交換を行う機能を有する。以下では、このようなマスクＭの検査、洗浄、および交換の動作の一例について、図６のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、以下の一連の動作は、制御部８０が装置内の各部を動作制御することにより、進行する。
【００６３】
まず、パターン描画装置１は、検査対象となる光学ヘッド（以下、「光学ヘッド３２ｎ」と表記する。）からマスクＭを取り出す（ステップＳ１）。具体的には、マスク搬送機構４０のハンド４１を光学ヘッド３２ｎの近傍位置まで移動させるとともに、光学ヘッド３２ｎのマスクユニット３７を−Ｙ側へ進出させる。そして、マスクユニット３７に保持されたマスクＭを、ハンド４１が摘んで取り出す。マスクユニット３７からハンド４１へマスクＭが移載されると、マスクユニット３７は＋Ｙ側へ後退する。
【００６４】
次に、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２ｎから取り出したマスクＭの検査を行う（ステップＳ２）。具体的には、パターン描画装置１は、ハンド４１を＋Ｘ側へ移動させ、マスクＭを検査位置ＩＰに配置する。そして、マスク検査部６０の投光部６１から検査光を照射するとともに、マスクＭを通過した検査光を検査用カメラ６２で撮影する。検査用カメラ６２により取得された画像データは、制御部８０に送信され、制御部８０において解析される。これにより、マスクＭ上の汚れが検出される。
【００６５】
続いて、パターン描画装置１の制御部８０は、ステップＳ２の検査において、汚れの検出があったか否かを判定する（ステップＳ３）。汚れの検出がなかったと判定された場合には、当該マスクＭは、マスク洗浄部７０やストッカー部５０に搬送されることなく、光学ヘッド３２ｎに戻される（ステップＳ４）。具体的には、マスク搬送機構４０のハンド４１を再び光学ヘッド３２ｎの近傍位置まで移動させるとともに、光学ヘッド３２ｎのマスクユニット３７を−Ｙ側へ進出させ、ハンド４１に保持されたマスクＭをマスクユニット３７上に移載する。
【００６６】
ステップＳ４の後、パターン描画装置１の制御部８０は、光学ヘッド３２ｎが、検査すべき光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇのうちの最終の光学ヘッドであるか否かを判定する（ステップＳ５）。そして、光学ヘッド３２ｎが最終の光学ヘッドであると判定された場合には、制御部８０は、マスクＭの検査、洗浄、および交換に関するパターン描画装置１の一連の動作を終了させる。
【００６７】
また、ステップＳ５において、光学ヘッド３２ｎが最終の光学ヘッドでないと判定された場合には、パターン描画装置１は、検査対象の光学ヘッド３２ｎを変更し（ステップＳ６）、ステップＳ１に戻る。パターン描画装置１は、新たに検査対象として指定された光学ヘッド３２ｎのマスクＭについて、ステップＳ１以降の処理を繰り返す。
【００６８】
一方、上記のステップＳ３において、汚れの検出があったと判定された場合には、パターン描画装置１は、マスク搬送機構４０のハンド４１を、更に＋Ｘ方向および−Ｚ方向に移動させ、マスク洗浄部７０の搬入口７１１までマスクＭを搬送する。そして、ハンド４１から搬入口７１１を介してマスク洗浄部７０の内部へマスクＭを移載し、マスク洗浄部７０の内部において、マスクに対して紫外線による洗浄処理、薬液による洗浄処理、純水によるリンス処理、およびエアナイフによる乾燥処理を順次に行う（ステップＳ７）。乾燥処理後のマスクＭは、上段コンベア７８により搬出口７１２付近まで搬送される。
【００６９】
マスク洗浄部７０によるマスクＭの洗浄処理が行われている間に、パターン描画装置１は、ストッカー部５０のカセット５１から予備のマスクＭを取り出し、予備のマスクＭを光学ヘッド３２ｎに搭載する（ステップＳ８）。具体的には、上記のステップＳ７においてマスク洗浄部７０にマスクＭを渡したハンド４１を、ストッカー部５０の近傍位置へ移動させ、カセット５１に収納された予備のマスクＭをハンド４１により摘んで取り出す。そして、予備のマスクＭを保持したハンド４１を光学ヘッド３２ｎの近傍位置まで移動させるとともに、光学ヘッド３２ｎのマスクユニット３７を−Ｙ側へ進出させて、ハンド４１に保持された予備のマスクＭをマスクユニット３７上に移載する。
【００７０】
光学ヘッド３２ｎに予備のマスクＭが搭載されると、パターン描画装置１は、ハンド４１を再び＋Ｘ側へ移動させ、マスク洗浄部７０の搬出口７１２の前でハンド４１を待機させる。そして、マスク洗浄部７０によるマスクＭの洗浄処理が終了すると、洗浄処理後のマスクＭをマスク洗浄部７０から搬出口７１２を介してハンド４１に移載する。その後、パターン描画装置１は、ハンド４１をストッカー部５０の近傍位置へ移動させ、洗浄後のマスクＭをカセット５１に収納し（ステップＳ９）、一連の処理を終了させる。
【００７１】
以上のように、本実施形態のパターン描画装置１は、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０を装置内に備えるとともに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０の間でマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０を備える。このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。
【００７２】
特に、本実施形態のマスク搬送機構４０は、マスクＭを、主として複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇの配列方向に沿って搬送する。そして、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０は、マスクＭの搬送主軸４２ａの端部近傍に配置されている。このため、マスクＭの搬送主軸４２ａを利用して、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇと、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０との双方へ、マスクＭを搬送することができる。
【００７３】
また、本実施形態のマスク搬送機構４０、マスク検査部６０、およびマスク洗浄部７０は、いずれも、マスクＭを１枚ずつ搬送、検査、および洗浄する。このため、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに搭載されたマスクＭのうち、所望のマスクＭだけを搬送、検査、および洗浄することができる。また、１枚のマスクを洗浄している間は、ストッカー部５０に予め収納された予備のマスクＭを使用して描画処理を継続することができる。このため、パターン描画装置１の生産性を維持しつつ、マスクＭの洗浄を行うことができる。
【００７４】
また、本実施形態のパターン描画装置１は、マスク検査部６０において複数枚のマスクＭを順次に検査し、その検査結果に基づいて、マスクＭをマスク洗浄部７０へ搬送するか否かを判断する。このため、洗浄が必要なマスクＭのみをマスク洗浄部７０へ搬送して効率よく洗浄することができる。
【００７５】
＜３．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、上記の実施形態では、装置内の各部の駆動機構の例として、モータとボールネジとを組み合わせた機構や、リニアモータを用いた機構を挙げたが、装置内の各部の駆動機構は、他の公知の駆動機構を利用して同等の動作を実現するものであってもよい。
【００７６】
また、上記の実施形態では、マスク検査部６０は、マスク搬送機構４０の搬送経路上において、ハンド４１に保持されたマスクＭを検査するものであったが、マスク検査部６０に固有の保持具を設け、ハンド４１からマスク検査部６０の保持具にマスクＭを移載してマスクＭを検査するようにしてもよい。その場合には、例えば、図７に示したように、マスクＭの搬送主軸４２ａを挟んでストッカー部５０に対向する位置に、マスク検査部６０を配置すればよい。
【００７７】
また、上記の実施形態では、マスク洗浄部７０は、マスク搬送機構４０の搬送主軸４２ａに面する位置に配置され、マスク搬送機構４０との間で直接マスクＭの受け渡しをしていたが、マスク洗浄部７０は、必ずしもマスク搬送機構４０が直接アクセスできる位置に配置されていなくてもよい。例えば、図８に示したように、マスク洗浄部７０とマスク検査部６０とを連結し、マスク洗浄部７０とマスク検査部６０との間でマスクＭの受け渡しを行うようにしてもよい。また、マスク洗浄部７０については、パターン描画装置１の外部に配置されていてもよい。
【００７８】
また、上記の実施形態では、ストッカー部５０、マスク検査部６０、およびマスク洗浄部７０は、全て搬送主軸４２ａの一方（＋Ｘ側）の端部付近に配置されていたが、これらが搬送主軸４２ａの両端部付近に振り分けられて配置されていてもよい。例えば、図９に示したように、搬送主軸４２ａの＋Ｘ側の端部付近にストッカー部５０が配置され、−Ｘ側の端部付近にマスク検査部６０およびマスク洗浄部７０が配置されていてもよい。
【００７９】
また、上記の実施形態では、マスク洗浄部７０により洗浄されたマスクＭを、そのままストッカー部５０へ搬送していたが、マスク洗浄部７０により洗浄されたマスクＭを、マスク検査部６０へ搬送して再検査するようにしてもよい。このようにすれば、洗浄後のマスクＭの状態を確認することができるとともに、マスク洗浄部７０の動作状態の良否を確認することもできる。また、上記の実施形態では、マスク検査部６０の検査結果により洗浄の要否を判断していたが、検査結果に関わらずマスクＭをマスク洗浄部７０へ搬送して洗浄し、洗浄後のマスクＭを再度マスク検査部６０へ搬送して検査するようにしてもよい。
【００８０】
また、ストッカー部５０に新たにカセット５１をセットしたときには、カセット５１に収納された各マスクＭを検査部６０において検査した上で、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇに搭載するようにしても良い。具体的には、各マスクＭについて、例えば図１０に示したような一連の動作を行えばよい。まず、パターン描画装置１は、ハンド４１によりカセット５１からマスクＭを取り出し（ステップＳ１１）、取り出したマスクＭをマスク検査部６０へ搬送して検査する（ステップＳ１２）。制御部８０は、ステップＳ１２の検査において汚れの検出があったか否かを判定し（ステップＳ１３）、汚れの検出がなかったと判定された場合には、ハンド４１が当該マスクＭを更に搬送して、光学ヘッド３２ｎに搭載する（ステップＳ１４）。一方、ステップＳ１３において汚れの検出があったと判定された場合には、パターン描画装置１は、当該マスクＭをマスク洗浄部７０へ搬送して洗浄し（ステップＳ１５）、洗浄後のマスクＭを再びマスク検査部６０へ搬送して検査する（ステップＳ１６）。制御部８０は、ステップＳ１６の検査において汚れの検出があったか否かを判定し（ステップＳ１７）、汚れの検出がなかったと判定された場合には、ハンド４１が当該マスクＭを更に搬送して、光学ヘッド３２ｎに搭載する（ステップＳ１４）。一方、ステップＳ１７において汚れの検出があったと判定された場合には、パターン描画装置１は、アラームを発して装置管理者による対処を待つ（ステップＳ１８）。
【００８１】
また、上記の実施形態では、マスク検査部６０は、マスクＭを介して透過する検査光を観察する、いわゆる透過光検査を行うものであったが、マスク検査部６０は、反射光検査等の他の検査方法によりマスクＭを検査するものであってもよい。但し、透過光検査は、透過光によるパターンの投影に影響するマスクＭ上の汚れを良好に検出することができる点で望ましい。
【００８２】
また、上記の実施形態では、照射光撮影部３９はマスクＭの検査に関与していなかったが、照射光撮影部３９を補助的に利用してマスクＭの検査を行ってもよい。具体的には、基板９に対する描画処理が実行されていないときに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇから照射されるパルス光を照射光撮影部３９により撮影し、その撮影結果に基づいてマスクＭに付着した汚れを検出するようにしてもよい。このようにすれば、基板９に対する描画処理の合間の時間には、光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇからマスクＭを搬出することなくマスクＭを検査することができる。
【００８３】
また、上記の実施形態では、マスク洗浄部７０は、マスクＭを搬入する搬入口７１１と、マスクＭを搬出する搬出口７１２とを有していたが、マスク洗浄部７０は、１つの搬入出口を介してマスクＭの搬入と搬出とを行うものであってもよい。また、マスク洗浄部７０は、上記のＵＶ洗浄処理、薬液洗浄処理、リンス処理、および乾燥処理以外の処理によりマスクＭの洗浄を行うものであってもよい。
【００８４】
また、上記の実施形態では、ストッカー部５０の各カセット５１に予備のマスクＭを１枚ずつ収納していたが、各カセット５１に収納される予備のマスクＭは２枚以上であってもよい。また、ストッカー部５０には、３つのカセット５１が配置されていたが、ストッカー部５０に配置されるカセットの数は、１つ、２つ、あるいは４つ以上であってもよい。また、ストッカー部５０は、カセット５１以外の収納器にマスクＭを収納するものであってもよい。
【００８５】
また、上記の実施形態では、パターン描画装置１の設置環境については特に言及しなかったが、パターン描画装置１は、温度、湿度、および清浄度が良好に管理されたクリーンルームに設置されることが望ましい。具体的には、ＨＥＰＡフィルタにより清浄化された下降気流（ダウンフロー）が形成された、例えばｃｌａｓｓ１０程度のクリーンルームに設置されることが望ましい。パターン描画装置１をこのようなクリーンルームに設置すれば、マスク搬送機構４０による搬送の途中や、ストッカー部５０におけるマスクＭの収納時に、マスクＭにパーティクルが付着することをより良好に防止することができる。
【００８６】
また、図１１に示したように、パターン描画装置１は、クリーンルームＣＲに設置されたクリーンベンチＣＢの内部に配置されていてもよい。図１１の例では、クリーンベンチＣＢの上部にＨＥＰＡフィルタ９０が設けられ、ＨＥＰＡフィルタ９０によりクリーンベンチＣＢの内部に清浄化された下降気流が形成されている。また、図１１の例では、マスク洗浄部７０は、クリーンベンチＣＢの側部に接続され、搬入口７１１および搬出口７１２がクリーンベンチＣＢの内部空間に面するようになっている。このようにすれば、クリーンベンチＣＢの内部の隔離された清浄な空間において、マスクＭを搬送することができる。このため、マスクＭにパーティクルが付着することを更に防止することができる。
【００８７】
また、上記の実施形態では、パターン描画装置１は、７つの光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇを有するものであったが、光学ヘッドの数は７つに限定されるものではない。また、上記のパターン描画装置１は、カラーフィルタ用のガラス基板９を処理対象としていたが、本発明のパターン描画装置は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、半導体基板、磁気／光ディスク用基板等の他の基板を処理対象とするものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】パターン描画装置の側面図である。
【図２】パターン描画装置の上面図である。
【図３】マスク検査部とその近傍を−Ｙ側から見た側面図である。
【図４】マスク洗浄部の内部の構成を模式的に示した図である。
【図５】パターン描画装置の各部と制御部との間の接続構成を示したブロック図である。
【図６】マスクの検査、洗浄、および交換の動作の流れを示したフローチャートである。
【図７】変形例に係るパターン描画装置の上面図である。
【図８】変形例に係るパターン描画装置の上面図である。
【図９】変形例に係るパターン描画装置の上面図である。
【図１０】新たにセットされたカセットに収納されたマスクを光学ヘッドに搭載するときの動作の流れを示したフローチャートである。
【図１１】パターン描画装置の設置環境の一例を示した図である。
【符号の説明】
【００８９】
１  パターン描画装置
９  基板
１０  ステージ
２０  ステージ駆動部
３０  ヘッド部
３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ  光学ヘッド
３７  マスクユニット
３９  照射光撮影部
４０  マスク搬送機構
４１  ハンド
４２  ハンド移動機構
４２ａ  搬送主軸
５０  ストッカー部
５１  カセット
６０  マスク検査部
６１  投光部
６２  検査用カメラ
７０  マスク洗浄部
７１１  搬入口
７１２  搬出口
７２  ＵＶ洗浄処理部
７３  薬液洗浄処理部
７４  リンス処理部
７５  乾燥処理部
８０  制御部
【図１】
2009253252.tif 000003
【図２】
2009253252.tif 000004
【図３】
2009253252.tif 000005
【図４】
2009253252.tif 000006
【図５】
2009253252.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
2009253252.tif 000010
【図９】
2009253252.tif 000011
【図１０】
2009253252.tif 000012
【図１１】
2009253252.tif 000013