(57)【要約】【課題】ガラス基板を透過した光線を再反射せずに基板から遠ざかる方向に向け、パターンに対する多重露光を防ぎ、高い解像度のパターンを形成すること。【解決手段】基台に配置されてガラス基板を支持する支持柱２２は、基台２１に固定される底部にフランジ２２ａ１が形成され、上端に径の細い細径部２２ａ２が形成された円柱状の柱状部２２ａと、この柱状部２２ａに対して上下方向に調整可能に取り付けられてガラス基板を支持する支持部２２ｂとを備えている。支持部２２ｂは、透明なガラス製の支持体２２ｂ１と、この支持体２２ｂ１の外周を覆って設けられた不透明なスリーブ２２ｂ２とから構成されている。支持体２２ｂ１の上端面には、断面Ｖ字状の溝Ｇが複数形成され、これにより角錐台が複数形成されている。また、支持体２２ｂ１の上端面及び傾斜面には、反射防止膜が被覆されている。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光剤が塗布されたガラス基板を露光する露光装置の基板支持機構であって、
基台と、
該基台の上面から鉛直上方向に向けて設けられ、上端面で前記ガラス基板を支持する複数の支持柱と、を備え、
前記各支持柱の上端は、上端側に向けて細くなる錐台状に形成されていることを特徴とする露光装置の基板支持機構。
【請求項２】
前記支持柱は、ガラス又はプラスチックの透明物質で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置の基板支持機構。
【請求項３】
前記支持柱の基部には、その外周を覆う不透明体のスリーブが装着されていることを特徴とする請求項２に記載の露光装置の基板支持機構。
【請求項４】
前記支持柱の上端面には反射防止膜又は防眩膜が被覆されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置の基板支持機構。
【請求項５】
前記支持柱の上端面には、溝が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置の基板支持機構。
【請求項６】
前記支持柱は、前記基台に固定される柱状部と、該柱状部に対して上下方向に調節可能に取り付けられて前記ガラス基板を支持する支持部とを備え、該支持部は、上端が錐台状に形成された支持体と、該支持体の外周を覆うスリーブとを備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置の基板支持機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶用基板、プラズマディスプレイ用基板等の感光体が塗布されたガラス基板に光を照射する露光装置において、ガラス基板を支持するための基板支持機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶用基板、プラズマディスプレイ用基板は、縦横が2200mm×2500mmから3100ｍｍ×3200ｍｍ程度、厚さ0.7ｍｍ、１．１ｍｍの大型基板に予め設定された数の回路パターンを
形成した後、回路パターン毎に切断・分離することにより製作される。この大型基板には回路パターンの余白の部分に、基板の管理と製造工程の管理のための識別記号や、分離する位置を判別するための切断位置識別コード、あるいは、アライメントマーク等(以下、
識別記号等という)が描画される。
【０００３】
製造工程では、大型基板の片面全面にフォトレジスト(感光剤)を塗布し、パターン描画装置によりマスクを介して紫外線を照射して所定数の回路パターンをパターン領域に露光する。そして、周辺露光装置に搬送し、各種の識別記号やマーク等をパターン領域外にレーザを用いた走査光学系により露光した後、パターン領域と識別記号等が露光された領域とをブラインドによりマスクし、紫外線を照射してパターン領域外の周辺領域を露光する。周辺領域を露光するのは、パターン領域周辺に存在するフォトレジストが後工程で搬送や検査の際に剥離して支障となることがあるので、予め露光して除去しやすい状態に処理しておくためである。このような周辺露光装置は、例えば特許文献１に開示されている。
【０００４】
特許文献１に開示される周辺露光装置は、大型基板をステージにより保持して移動させつつ周辺領域を露光するよう構成されている。基板保持機構であるステージは、移動搬送機構に指示された偏平な直方体状の基台と、この基台に対して垂直に取り付けられた複数の円柱状の支持柱とを備えている。大型基板は、複数の支持柱の上端面により支持され、真空ポンプに連通する上端面の孔により吸着される。
【特許文献１】特開２００７−１４８３６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した従来の周辺露光装置の基板保持機構では、支持柱が円柱状であり、上端の基板を保持する面の面積が比較的大きいため、大型基板を透過して支持柱の上端面で反射される再反射光の光量が多く、本来形成されるべきパターンやマークを変形させる可能性が高い。すなわち、支持柱の上端面で反射した反射光は、反射戻り光、迷光とも呼ばれ、大型基板のフォトレジストの予定外の部分を裏面から露光する。このため、パターン領域の回路パターンや、パターン領域外に形成された識別記号等の部分の未露光部分のフォトレジストが予定外に反応し、その結果形成されるパターンの解像度が下がったり、パターンが太くなったり、予定外の位置にパターンが形成されたりする。
【０００６】
本発明は、上述した問題点に鑑みて創案されたものであり、複数の支持柱によりガラス基板を保持する構成を前提として、支持柱の上端面で反射する再反射光の光量を削減し、基板上に本来形成されるべき回路パターンや識別記号等を変形させる可能性の低い露光装置の基板支持機構を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる露光装置の基板支持機構は、上記の目的を達成させるため、感光剤が塗
布されたガラス基板を露光する露光装置の基板支持機構であって、基台と、基台の上面から鉛直上方向に向けて設けられ、上端面でガラス基板を支持する複数の支持柱とを備え、各支持柱の上端が、上端側に向けて細くなる錐台状に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
上記の支持柱は、ガラス又はプラスチックの透明物質で形成されていることが望ましい。また、この場合、支持柱の基部に、その外周を覆う不透明体のスリーブを装着することが望ましい。
【０００９】
支持柱の上端面には、反射防止膜又は防眩膜を被覆することが望ましい。さらに、支持柱の上端面には、溝を形成してもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の基板支持機構によれば、支持柱の上端が全体として上端側に向けて細くなる錐台状に形成されているため、上端面の面積が従来より小さく、ガラス基板を透過して支持柱の上端面で反射される再反射光の光量が小さく、基板上に本来形成されるべき回路パターンや識別記号等を変形させる可能性を低くすることができる。このため、回路パターンや識別記号等を正確に形成することができる。
【００１１】
また、支持柱をガラス又はプラスチックの透明体で形成した場合には、上端面に達した光の一部は支持柱内に入射するため、金属製の支持柱を用いる場合と比較して反射する光量をより低減することができる。さらに、不透明体のスリーブを設けることにより、支持柱内に入射した光束が外部に漏れるのを防ぐことができる。
【００１２】
支持柱の上端面に反射防止膜又は防眩膜を被覆すれば、反射光及び再反射光の強度をより小さくすることができる。さらに、支持柱の上端面に溝を形成すれば、上端面の面積がより小さくなり、反射光量低減の効果を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明にかかる露光装置の基板支持機構を実施するための最良の形態について説明する。ここでは、露光装置としてガラス基板用の周辺露光装置を用いた２つの実施例について説明する。
【実施例１】
【００１４】
図１〜図５は、実施例１の基板支持機構に関する。最初に、周辺露光装置の全体構成の概略とガラス基板の領域について図１〜図３に基づいて説明する。図１は、周辺露光装置の一部を省略して側面方向から装置内を模式的に示す断面図であり、図２はガラス基板の一例を示す平面図、図３はガラス基板を支持するステージの斜視図である。
【００１５】
図1に示す周辺露光装置１０は、ガラス基板Ｗを支持するステージ２０と、このステー
ジ２０を装置の長手方向（図１の左右方向）に移動させる移動機構３０と、ステージ２０に保持されたガラス基板Ｗ及びステージ２０の所定位置を撮像する撮像ユニット４０と、ガラス基板Ｗの回路パターンが形成されるパターン領域外の周辺領域に識別マークを露光するレーザユニット５０と、同じく周辺領域の余白部分に紫外線を照射する紫外光照射ユニット６０と、各機構、ユニットを制御する制御装置７０とを備えている。
【００１６】
ガラス基板Ｗは、例えば図２のような２行３列の長方形のパターン領域(回路パターン
が形成される領域)Ｗｐを備えている。各パターン領域Ｍｐの外側となる周辺領域Ｗｃは
、各パターン領域Ｗｐを切断して切り離すときの切断代となるとともに、文字、図形、記号等からなる識別記号である識別マークＭ（Ｍ１，Ｍ２）が縦横にそれぞれ形成される領域である。
【００１７】
ステージ２０は、図１及び図３に示すように、ガラス基板Ｗを水平に支持するものであり、移動機構３に支持された扁平な直方体状の基台２１と、この基台２１の上面から鉛直上方向に向けて設けられた複数の支持柱２２とを備えている。支持柱２２は、その上端面でガラス基板Ｗを支持するものであり、ガラス基板Ｗに撓みが生じない程度に密に、かつ、ガラス基板Ｗの移送時にガラス基板Ｗと基台２１との間にフォークを挿入できる程度に疎に設けられている。具体的には、複数の支持柱２２は、例えば狭い部分で約２００ｍｍ程度のピッチで配置されている。支持柱２２の詳細については後述する。
【００１８】
移動機構３０は、ガラス基板Ｗをレーザユニット５０や紫外光照射ユニット６０に対して位置決めする機能と、これらのユニットによる露光時にガラス基板をＸ方向に所定速度で移動させる機能とを有しており、駆動源としてのリニアモータ３１と、移動をガイドするレール３２等を備えている。
【００１９】
撮像ユニット４０は、ＣＣＤカメラ等を備え、支持フレームＡ１に移動可能に取り付けられており、ガラス基板Ｗの上方からガラス基板Ｗの所定位置およびステージ２０の位置決めマーク２３を撮像して画像データを制御装置７０に出力する。制御装置７０は、画像データを解析して得られる基板位置と、ステージ位置とに基づいて、移動機構３０を制御し、位置決め作業を行う。
【００２０】
レーザユニット５０は、ガラス基板Ｗの周辺領域Ｗｃに識別マークＭをレーザビームにより露光するためのものであり、支持フレームＡ１に支持されて固定されている。このレーザユニット５０は、一つのレーザビーム光源から照射されたレーザビームを分岐してそれぞれの３つのレーザ照射ユニットを介してガラス基板Ｗの周辺領域Ｗｃの三箇所に同時にレーザビームを照射するように構成されている。
【００２１】
紫外光照射ユニット６０は、装置中央に設けられた支持フレームＡ２に支持されており、ガラス基板Ｗの周辺領域Ｗｃの識別マークＭが形成されていない部分を露光して余分なフォトレジストを除去しやすい状態に処理するものである。なお、紫外光照射ユニット６０には、照射領域を調整するためのシャッタ機構が備えられており、パターン領域や周辺領域のマークＭが形成された部分は露光しないように遮光される。
【００２２】
ただし、従来のような円柱状の支持柱を用いる場合には、シャッタ機構を設けたとしても、ガラス基板Ｗを透過した紫外光が支持柱の上端面で反射して意図しない部分を裏面から露光する場合があった。そのため、実施例１では、図４及び図５に拡大して示すように支持柱２２を構成している。次に、支持柱２２の構成について説明する。図４は実施例１の支持柱２２の外観を示す斜視図、図５はその断面図である。
【００２３】
支持柱２２は、図４及び図５に示されるように、基台２１に固定される底部にフランジ２２ａ１が形成され、上端に径の細い細径部２２ａ２が形成された円柱状の柱状部２２ａと、この柱状部２２ａに対して上下方向に調整可能に取り付けられてガラス基板を支持する支持部２２ｂとを備えている。支持部２２ｂは、透明なガラス製の支持体２２ｂ１と、この支持体２２ｂ１の外周を覆って設けられた不透明なスリーブ２２ｂ２とから構成されている。すなわち、スリーブ２２ｂ２は、柱状部２２ａの細径部２２ａ２に外周から嵌合すると共に、スリーブ２２ｂ２に形成されたねじ穴を介して螺合する調整ねじ２２ｃを締めることにより、柱状部２２ａに固定されている。また、支持体２２ｂ１は、スリーブ２２ｂ２内に保持されると共に、スリーブ２２ｂ２に形成されたねじ穴を介して螺合する調整ねじ２２ｄを締めることによりスリーブ２２ｂ２に固定され、このスリーブ２２ｂ２を介して柱状部２２ａに固定されている。支持柱２２の高さは、調整ねじ２２ｃを緩めて支持部２２ｂ１とスリーブ２２ｂ２とを一体に上下させることにより調整することができる
。
【００２４】
支持体２２ｂ１は、ガラス基板Ｗに接する上端が、上端側に向けて細くなる錐台状に形成されている。具体的には、支持体２２ｂ１の上端面には、断面Ｖ字状の溝Ｇが複数形成されている。溝Ｇは正方格子状に形成され、その結果、上端面には上面が２〜３ｍｍ角の正方形、高さが１ｍｍ程度、斜面の傾斜が１５〜２０度の角錐台が複数形成されている。角錐台の上面には、ＳｉＯ２、ＭｇＯ２、ＭｇＦ２等から成る反射防止膜が皮膜されている。
【００２５】
上端の中央の角錐台には、柱状部２２ａの下面まで通る吸気用の貫通孔２２ｅが形成されている。貫通孔２２ｅは、支持体２２ｂ１、柱状部２２ａの中心を通って鉛直方向に貫通している。基台２１には、各支持柱２２の貫通孔２２ｅに連通する通気口が形成され、これらはまとめて図示せぬ真空ポンプに接続されている。ガラス基板Ｗを支持柱２２上に載せた状態で真空ポンプを作動させることにより、基台２１の通気口を介して各支持柱２２の貫通孔２２ｅから吸気し、ガラス基板Ｗを吸い付けてステージ２０に固定することができる。柱状部２２ａの中間部、及びスリーブ２２ｂ２の外径は約３０ｍｍであり、これに対して貫通孔２２ｅは直径約２ｍｍである。
【００２６】
上記の角錐台は、エッチング等の化学処理により溝Ｇを形成することにより構成してもよく、研削加工等の機械加工により溝Ｇを形成することにより構成してもよい。角錐台の高さ(溝の深さ)は、低過ぎると塵埃が残留する恐れがあるため、少なくとも１ｍｍ程度とすることが望ましい。
【００２７】
実施例１の支持柱２２を用いた場合のガラス基板に照射された光線の軌跡を図５の一部拡大図である図６に示す。実施例１の基板支持装置を利用して露光する場合、ガラス基板Ｗのフォトレジストが希薄な領域、またはフォトレジストが塗布されていない領域からガラス基板に入射した光は、ガラス基板を透過して裏面に到達する。ガラス基板Ｗを透過した光線は、基板を支持している支持体２２ｂ１の上端の角錐台に到達する。このガラス基板Ｗに接する支持体２２ｂ１の上端は錐台状に形成されており、かつ、上端面には溝Ｇが形成されているため、上端面の面積が従来より小さく、ガラス基板を透過して支持柱の上端面で反射される再反射光の光量の反射光を削減することができる。また、反射防止膜が被膜されているため、上端面に達した光は支持体２２ｂ１内に入射し、支持体２２ｂ１の内部、あるいは、スリーブ２２ｂ２の内面で反射を繰り返すうちに減衰する。角錐体の斜面から入射した光も支持体２２ｂ１内に入射し、繰り返し反射されるうちに減衰する。したがって、フォトレジストが塗布されたガラス基板Ｗの方向には再反射光は戻らなくなり、迷光も発生しなくなる。このため、意図しない部分が露光するのを防ぐことができ、回路パターンや識別マーク等を正確に形成することができる。
【実施例２】
【００２８】
図７は、本発明の実施例２に係る基板支持機構の特徴部分である支持柱の断面図である。実施例１との共通部分には同一の符号を付して重複した説明は省略する。実施例２の支持柱２２Ａは、支持体２２ａ３の上端面に溝が形成されていない点で実施例１とは異なる。他の構成は実施例１と共通である。
【００２９】
支持体２２ｂ３は透明なガラス製であり、上端が全体として上端側に向けて細くなる錐台状に形成されている。また、支持体２２ｂ３の上端面及び傾斜面には、ＳｉＯ２、ＭｇＯ２、ＭｇＦ２等から成る反射防止膜が被覆されている。あるいは、ＳｉＯ2等の無機物
もしくはスチレン等の微粒子を上端の表面に薄膜状に塗布して防眩膜を被覆してもよい。なお、支持体２２ｂ３、柱状部２２ａの中心には、吸気用の貫通孔２２ｅが形成されている。
【００３０】
実施例２の基板支持装置を利用して露光する場合、ガラス基板を透過した光の一部は、支持体２２ｂ３に突き当たる。支持体２２ｂ３の上端は錐台状に形成されているため、上端面の面積が従来より小さく、ガラス基板を透過して支持柱の上端面で反射される再反射光の光量が小さくなる。また、支持体２２ｂ３を透明なガラスで形成し、反射防止膜を形成しているため、上端面、傾斜面に達した光の殆どは透過して支持体２２ｂ３内に入射し、支持体２２ｂ３の内部、あるいは、スリーブ２２ｂ２の内面で反射を繰り返すうちに減衰し、ガラス基板Ｗ側には戻らない。したがって、再反射光をほぼなくすことができる。このため、実施例２の基板支持装置を利用すれば、露光装置により回路パターンや識別記号等を正確に形成することができる。
【００３１】
なお、支持体２２ｂ１、２２ｂ３は、透明であれば、ガラスの他、プラスチックでもよい。スリーブ２２ｂ２は、不透明であれば、プラスチックでも金属でもよい。柱状部２２ａは、アルミ等の金属製である。また、柱状部２２ａや支持体２２ｂ１は円柱でなく角柱でもよいし、高さ調整手段も上記の例には限定されない。また、調整ねじ２２ｄの上端と支持体２２ｂ１との間には、軟質のゴムもしくは樹脂等の緩衝材を挟んで固定することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の基板支持機構が適用された露光装置である周辺露光装置の一部を省略して側面方向から装置内を模式的に示す断面図である。
【図２】ガラス基板の一例を示す平面図である。
【図３】図１に示す周辺露光装置内でガラス基板を支持するステージの斜視図である。
【図４】本発明の実施例１の支持柱の外観を示す斜視図である。
【図５】本発明の実施例１の支持柱の断面図である。
【図６】本発明の実施例１の支持柱における光線の進み方を示す説明図である。
【図７】本発明の実施例２の支持柱の断面図である。
【符号の説明】
【００３３】
１０  周辺露光装置
２０  ステージ
２１  基台
２２  支持柱
２２ａ  支柱部
２２ａ１  フランジ
２２ａ２  細径部
２２ｂ  支持部
２２ｂ１  支持体
２２ｂ２  スリーブ
２２ｃ，２２ｄ  調整ねじ
２２ｅ  貫通孔
３０  移動機構
４０  撮像ユニット
５０  レーザユニット
６０  紫外光照射ユニット
７０  制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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