(57)【要約】【課題】曝気槽に使用する空気を利用して、極めて簡便かつ安価な状態にて測定用センサーの洗浄を可能とする洗浄システムの構成を提供すること。【解決手段】廃水処理施設における各種測定用センサー１の洗浄システムにおいて、曝気用空気配管から分流させ、当該分流ラインのバルブ４の開閉に関与しているタイマー制御装置の測定の時間毎の制御に基づいて、測定を行っていない段階にて、当該分流した空気及び当該空気と共に移動する水を前記測定用センサー１における測定素子が存在している測定部分１１に衝突させることに基づき、前記課題を達成することができる測定用センサー１の洗浄システム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃水処理施設における各種測定用センサーの洗浄システムにおいて、曝気用空気配管から分流させ、当該分流ラインのバルブの開閉に関与しているタイマー制御装置の測定の時間毎の制御に基づいて、測定を行っていない段階にて、当該分流した空気及び当該空気と共に移動する水を前記測定用センサーにおける測定素子が存在している測定部分に衝突させることに基づく測定用センサーの洗浄システム。
【請求項２】
分流ラインに係るパイプの突出口を下端側に位置している測定部分の下側近傍に配置し、かつ分流した空気を上側に突出させることを特徴とする請求項１記載の測定用センサーの洗浄システム。
【請求項３】
測定用センサーの下端側に位置して測定部及びその上側の周囲に上昇する空気及び水を遮蔽する遮蔽部を設置し、測定用センサーの周囲において乱流を生じさせ、かつ当該乱流によって測定用センサーの側部を洗浄することを特徴とする請求項２記載の測定用センサーの洗浄システム。
【請求項４】
分流ラインに係るパイプの突出口を測定用センサーの下端に位置している測定部の側部近傍に配置し、分流した空気を当該側部側に突出させることを特徴とする請求項１記載の測定用センサーの洗浄システム。
【請求項５】
パイプの先端から噴出した空気及び当該空気と共に移動する水流の一部が、測定部が存在している下端側より上側の周囲壁部に衝突し、かつ当該壁部に沿って流動することを特徴とする請求項４記載の測定用センサーの洗浄システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、生活廃水又は産業廃水等の廃水処理施設において、諸測定を行っている測定用センサーの洗浄システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
廃水処理システムでは、溶存酸素の濃度（ＤＯ濃度）、酸化還元電位（ＯＲＰ電位）、酸性及びアルカリ性の程度の値（ＰＨ値）等の測定が行われており、かつ当該測定に基づく測定値は、溶存酸素の供給量、更には電子受容体の供給量等の自動制御に不可欠なパラメーターとして設定されている。
【０００３】
上記測定は、通常廃水処理施設のうちの曝気槽、即ち溶存酸素を供給して廃水中の不純物に対するバクテリアの活性を伴う反応によって浄化を行う槽において行われているが、前記各測定を行う測定器において、測定素子が存在している部位である測定部には不純物が付着し、誤動作の原因となって正常な測定ができないという弊害を免れることができない。
【０００４】
このような状況に鑑み、従来の廃水処理システムにおいては、測定用センサーに対し浄化用の水を圧力ポンプによって配水管を通して水を圧送し、浄化を行っている。
【０００５】
しかしながら、このような浄化システムの場合には、浄化水を圧送する圧力ポンプ、更には配水管などの格別の施設が不可欠となり、相当の経済負担を免れることができない。
【０００６】
更には、寒冷地において浄化する水が凍結した場合には、浄化作用を行うことが不可能とならざるを得ない。
【０００７】
このような凍結によるアクシデントを改善するために、例えば特許文献１においては、超音波洗浄を採用しているが、超音波洗浄は、圧力水洗浄の場合よりも更に高価な装置を必要としている。
【０００８】
曝気槽においては、曝気用配管に供給された溶存酸素の槽内の移動によって乱流を伴った水流が生じているが、従来技術においては、このような曝気に使用する空気に着目せずして、前記のような余分のコストによる洗浄方式を採用していた。
【０００９】
【特許文献１】特開平５−３４５１８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
前記のような従来技術の状況に鑑み、本発明は、曝気槽に使用する空気流を利用して、極めて簡便かつ安価な状態にて測定用センサーの洗浄を可能とする洗浄システムの構成を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するため、本発明の基本構成は、廃水処理施設における各種測定用センサーの洗浄システムにおいて、曝気用空気配管から分流させ、当該分流ラインのバルブの開閉に関与しているタイマー制御装置の測定の時間毎の制御に基づいて、測定を行っていない段階にて、当該分流した空気及び当該空気と共に移動する水を前記測定用センサーにおける測定素子が存在している測定部分に衝突させることに基づく測定用センサーの洗浄システムからなる。
【発明の効果】
【００１２】
前記基本構成においては、単に曝気用配管からの分流ラインによるパイプ、及び当該ラインにおけるバルブ並びに当該バルブに対するタイマー制御装置を設けるという極めて簡単な構成によって、圧力水洗浄方式及び超音波洗浄方式よりも安価な経済コストにて、しかも同程度の洗浄機能を発揮することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明においては、曝気用空気配管から分流した曝気用空気を測定用センサーの測定部に突出させ、当該突出に伴う水流に基づいて、測定部及びその近傍に付着した不純物を除去することを基本原理としている。
【００１４】
但し、測定部に対し、前記水流が生じている段階では、センサーが正常な値を測定することができないことから、本発明においては、所定の時間間隔に従って、測定段階において分流ラインにおけるバルブを閉鎖し、洗浄段階において、バルブを開放するというタイマー制御装置（図示せず）が行われている（尚、このようなタイマー制御装置による制御は、従来技術である圧力水位浄方式及び超音波洗浄方式においても変わりはない。）。
【００１５】
図１（ａ）は、本発明の典型的な実施形態を示しており、分流ラインに係るパイプの突出口を下端側に位置している測定部分の下側近傍に配置し、かつ分流した空気を上側に突出させることを特徴としている。
【００１６】
このような実施形態においては、パイプの突出口から突出した空気及び当該空気の突出に伴う水流が測定部１１の真正面に衝突することになり、効率的な洗浄を実現することができる。
【００１７】
図１（ｂ）の実施形態は、図１（ａ）の実施形態に立脚したうえで、測定用センサー１の下端側に位置して測定部１１及びその上側の周囲に上昇する空気及び水を遮蔽する遮蔽部５を設置し、測定用センサー１の周囲において乱流を生じさせ、かつ当該乱流によって測定用センサー１の側部を洗浄することを特徴としている。
【００１８】
即ち、単に遮蔽部５を設けることによって、測定用センサー１の側部を効率的に洗浄することができる。
【００１９】
本発明に係る洗浄システムの場合においても、従来技術の場合と同様に、完璧な洗浄を保証する訳ではなく、定期的に廃水処理施設から測定用センサー１を取り出し、付着物の除去を行うという定期的な点検を不可欠とするが、そのような点検及び洗浄の頻度を少なくすることに技術的意義が存在する。
【００２０】
したがって、測定用センサー１を定期的な点検のために曝気槽の外部に取り出すことを考慮するならば、前記遮蔽部５は測定用センサー１に固着するのではなく、分流パイプ３に固着すると良い。
【００２１】
以下、実施例に即して説明する。
【実施例】
【００２２】
実施例においては、図２に示すように、分流ラインに係るパイプの突出口を測定用センサー１の下端に位置している測定部１１の側部近傍に配置し、分流した空気を当該側部側に突出させることを特徴としている。
【００２３】
このような実施例においては、パイプの突出口から突出する空気及び当該突出に伴う水流は、片側に位置している測定部１１に付着している不純物を測定部の表面に沿った水流によって離脱させることができるので、効率的な不純物の除去を実現することができる（これに対し、図１（ａ）、（ｂ）の実施形態の場合には、水流が測定部１１の表面に直交した状態にて衝突する関係上、直ちに不純物が離脱する訳ではない。）。
【００２４】
そして、図２に示すように、分流ラインに係るパイプの突出口を測定用センサー１の下端に位置している測定部１１の側部近傍に配置し、分流した空気を当該側部側に突出させることを特徴とする構成を採用した場合には、前記分流によって、測定用センサー１において測定部１１の上側に位置している側部をも洗浄を行うことが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明は、廃水処理施設の種類を問わず、測定用センサー１の経済的な洗浄に資することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の典型的な実施形態を示す側面図であって、（ａ）は基本構成を示しており、（ｂ）は特に測定用センサーの側部において乱流を生じさせる実施形態を示す。
【図２】本発明の実施例の構成を示す側面図である（曝気用配管及びバルブの配置は図１と同様なので、これらの図示を省略する。）。
【符号の説明】
【００２７】
１  測定用センサー
１１  測定部
２  曝気用配管
３  分流パイプ
３１  分流パイプの先端部
４  バルブ
５  遮蔽部
５１  遮蔽部に対する支持部
【図１】
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【図２】
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