(57)【要約】【課題】  ウエハ表面以外に液体が飛散、もしくは液が回り込んでも、装置を故障させず、従来よりも、性能の良い液浸式露光装置を提供する。【解決手段】  レチクルからの光をウエハに投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と該ウエハとの間隙を液体で満たした状態で該ウエハを露光する露光装置において、前記ウエハを保持するためのチャックにおける少なくとも前記ウエハとの接触部を親水面（液体との接触角を９０度以下）とする。【選択図】  図１
2009038346.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版からの光を基板に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と該基板との間隙を液体で満たした状態で該基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持するためのチャックにおける少なくとも前記基板との接触部が、前記液体との接触角が９０度以下の面になっていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記液体を保持する液体保持部の表面及び前記投影光学系のレンズ周縁部の表面は、前記液体との接触角が９０度以下の面を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板を搬送する搬送ロボットの表面及び前記基板をアライメントするためのステージの表面が前記液体との接触角が９０度以下の面を備えることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記前記液体との接触角が９０度以下の面が親水性の部材により構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記前記液体との接触角が９０度以下の面が親水性多孔質部材により構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記チャック、搬送ロボット及びステージにおける前記基板と接触しない部分が多孔質部材ではないことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記チャック及び前記投影光学系のレンズ周縁部と基板との間の、前記液体を回収する液体回収機構を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
前記チャック、ステージの周縁部、及び搬送ロボットの、基板と接触しない部分が疎水性部材であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
液体回収機構は前記液体を前記基板の側から回収する回収口を有することを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記回収口は、前記保持部に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記回収口は、前記基板を保持するチャックの周辺に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記投影光学系の側から前記投影光学系と前記基板との間へ前記液体を供給する供給口を有することを特徴とする請求項７乃至１１のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１３】
前記液体回収機構は、前記チャック、搬送ロボット、または投影光学系のレンズ周縁部に、多孔質の物体を近接もしくは接触させることによって、前記液体を回収することを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記液体回収機構は、前記基板をアライメントするためのステージの表面から前記液体を回収することを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１つに記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記基板を現像する工程と、該現像された基板を用いて、デバイスを形成する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原版からの光を基板に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と該基板との間隙を液体で満たした状態で該基板を露光する液浸式の露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レチクルやマスク等の原版に描画された回路パターンを投影光学系によってウエハやガラスプレート等の基板に露光する投影露光装置は従来から使用されており、近年では、高解像度で高品位な露光装置がますます要求されている。
従来は、露光装置の微細化性能向上のためには、その露光装置の使用する露光光の波長の短波長化で対応してきた。その結果、使用する光源は、ｇ線、ｉ線、エキシマレーザへと推移してきた。また、より高解像度を達成させるために投影光学系の高ＮＡ化も図られてきた。
【０００３】
一方、光学式顕微鏡の解像力を向上される技術のひとつに、対物レンズと観察試料との間に高屈折率液体を充填する液浸法がある（例えば、非特許文献１参照）。
更なる露光装置の微細化性能向上のため、この液浸法を半導体素子微細化プロセスに応用することも提案されている（例えば、特許文献１参照）。液浸法としては、投影光学系の最終面と共に基板の全体を液槽の中に浸す方式（例えば、特許文献２及び３参照）や、投影光学系と基板に挟まれた空間だけに液体を流す所謂ローカルフィル方式（例えば、特許文献４参照）が提案されている。
【０００４】
ここで、投影光学系の最終面と共に基板の全体を液槽の中に浸す方式の露光装置について説明する。
図８は、従来の液浸式露光装置８００の概略図である。回路パターンの描かれているレチクル８２０は、照明系８１０によって、不図示の光源からの光で照明される。照明系８１０は、光源からの光を整形し、均一な強度分布とするためのものである。レチクル８２０のパターンは投影光学系８３０で縮小され、ウエハ８４０に投影される。投影光学系８３０とウエハ８４０の間には、液浸液８６０が満たされている。液浸液８６０を保持するために液浸液保持容器８７０がウエハ８４０、ウエハステージ８５０を内包するように配置されている。液浸液８６０は保持容器８７０に対して供給、回収される。ウエハ８４０全面に渡り露光する際には、液浸液保持容器８７０自体を移動させて行う構成になっている。また、ウエハ交換方法は、ウエハ搬送用アームを液浸液保持容器８７０に挿入してウエハを回収、供給する。または、液浸液保持容器８７０を図８中で下方に下げて、ウエハ８４０をウエハ８４０裏面よりピン等で押し上げて、ウエハ搬送用アームに引渡して行うことができる。
【特許文献１】米国特許第５１２１２５６号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第００２３２３１明細書
【特許文献３】特開平０６−１２４８７３号公報
【特許文献４】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【非特許文献１】Ｄ．Ｗ．Ｐｏｈｌ，  Ｗ  Ｄｅｎｋ＆Ｍ．Ｌａｎｚ，  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ，  Ｌｅｔｔ．４４６５２（１９８４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、投影光学系の最終面と共に、基板の全体を液槽の中に浸す方式の液浸式露光装置ではウエハ全体が液体に浸漬されることから、ウエハ裏面に液体が付着したままウエハが露光装置内を移動することとなる。その結果、露光装置内に液体を飛散させてしまい、金属構成物のサビ等の発生を引き起こす原因となってしまう。
また、ローカルフィル方式の液浸式露光装置においても、ウエハの周辺露光の際にはウエハエッジに液体が接するため、液体がウエハ裏面に回り込む可能性が高い。従って、この方式においても、ウエハ裏面に液体が付着したままウエハが露光装置内を移動するので、露光装置内に液体を飛散させてしまい、金属構成物のサビ等の発生を引き起こす原因となってしまう。
そこで、本発明の例示的な目的は、ウエハ表面以外に液体が飛散、もしくは液が回り込んでも、装置を故障させない露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明の露光装置は、原版からの光を基板に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と該基板との間隙を液体で満たした状態で該基板を露光する露光装置であって、前記基板を保持するためのチャックにおける少なくとも前記基板との接触部が、前記液体との接触角が９０度以下の面になっていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、従来よりも、性能の良い液浸式露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に本発明の実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【実施例１】
【０００９】
図１に本発明の実施例１に係る露光装置の概略図を示す。また、図２は図１の装置におけるウエハ４０と液浸液保持板５３をレチクル２０側から見た図である。図１及び図２において、パターンの描かれている原版としてのレチクル（マスク）２０は、照明系１０によって、不図示の光源からの光で照明される。照明系１０は、光源からの光を整形し、均一な強度分布とするためのものである。レチクル２０のパターンは投影光学系３０で縮小され、基板としてのウエハ４０に投影される。投影光学系３０とウエハ４０の間の少なくとも一部分には液浸液６０が満たされている。
図８に示した従来の露光装置８００は、液浸液保持容器８７０を有していたが、本実施例の露光装置は液浸液保持容器を有しておらず、ローカルフィル方式の液浸式露光装置である。
【００１０】
本実施例では、液浸液６０をウエハ４０上に保持するために投影光学系３０の下部に液浸液供給機構８０の供給口を設けている。供給機構の構造は複数のノズル、可動式ノズル、またはリング状のノズルで実現することが可能である。本実施例では複数のノズル構成を用いた。ノズルを複数にすることで、ウエハ４０の移動方向に合わせて、液浸液の供給方向を変えることが出来る。このように供給方向を変えることで、投影光学系３０の下面で液浸液をウエハのウエハステージによる移動に合わせて保持することが可能である。また、投影光学系下面と露光すべきウエハ面との間に不純物混入の無い液浸液を供給、保持することが可能となり、良好な露光像性能を実現することができる。
【００１１】
一方、露光が終了し露光エリアから出た余分な液浸液はウエハから外側に移動し、ウエハの表面とほぼ同一高さにその表面を配置した液浸液保持板（液体保持部、同面板とも言う）５３に移動する。この液浸液保持板５３は、ウエハと共にその表面で液浸液６０を保持するためのものである。液浸液保持板５３は、板を親水性の部材で構成するか、または、少なくとも表面５３ｂ（図３）が親水面となるような処理が施されている。ここで、親水性とは液体との接触角が９０度以下のものを指すものとする。
【００１２】
さらに液浸液保持板５３には回収口としてのスリット口５２または複数の穴が配置され、それらを保持板５３下面よりバキュームすることで、移動してきた液浸液６０をスリット口５２等より排出することができる。
しかし、これだけではウエハ４０と液浸液保持板５３の僅かな隙間よりウエハ裏面への液浸液が回り込む可能性がある。また、ウエハ裏面に回りこんだ液浸液が、ウエハ搬送経路上に液を溢す可能性がある。
【００１３】
図３に本実施例のウエハ４０と液浸液保持板５３の周辺を拡大した模式図を示す。図３のように、液浸液保持板５３はウエハと共にその表面で液浸液を保持している。そして、ウエハ４０と液浸液保持板５３との間には僅かな隙間５７ａが存在している。その隙間５７ａはウエハ４０の加工精度と液浸液保持板５３の加工精度、及び、ウエハ４０をウエハステージ５０のウエハチャック５９で固定したときの歪み等で決定される。その間隙のうち、最も間隙の開く個所はウエハノッチ部である。
【００１４】
本実施例では、その間隙がウエハノッチ部で５ｍｍ、その他のウエハ周辺で２ｍｍの間隙が出来るように液浸液保持板５３を加工してある。そして、ウエハチャック５９に親水性の多孔質セラミックを用い、チャック表面には液浸液が残らないようにしている。
【００１５】
なお、ウエハ４０の裏面とウエハチャック５９との間には隙間５７ｂが存在している。そのため、保持板５３の壁面５３ａが、比較的接触角の小さい、ステンレス面、アルミ面、ＫＮメッキ面である場合、ウエハ４０の裏面へ液浸液が回り込んでしまう。
この現象は、以下のようにして起こると考えられる。すなわち、ウエハ４０側から進行してきた液浸液６０は、ウエハ端に来た後、ウエハチャック５９と保持板５３の壁面５３ａとの隙間５７ａまたは保持板表面５３ｂへと進むこととなる。壁面５３ａに疎水処理を施さなかった場合には、保持板の壁面５３ａにおける液浸液の接触角と表面５３ｂにおける液浸液の接触角とはほぼ同じである。すなわち、チャック５９と保持板５３の隙間５７ａにおける接触角と保持板５３表面における接触角とはほぼ同じである。したがって、チャック５９と保持板５３の隙間５７ａの方にも、液浸液が進入するようになる。
【００１６】
これに対して、本実施例のようにウエハチャック自体が多孔質で液を表面に残さないようにしてあると、ウエハを取り上げ、裏面を確認しても液浸液が観測されなかった。
このように、本実施例においては、ウエハチャック５９表面を多孔質にすることで、液浸液が隙間５７ａ、５７ｂに進入した場合も、ウエハ裏面及び装置周辺に液浸液を残留させないことが出来た。
なお、ウエハチャック５９はウエハ４０を真空吸着するため、チャック周縁部は多孔質ではない部材で構成するか、もしくは多孔質の穴を塞ぐ処理をするようにする。
【００１７】
以上の実施例では、液浸液保持板５３の壁面５３ａも、チャック５９の保持板５３側の壁面５９ａも、その全ての面を親水性もしくは親水性多孔質になるような加工を施した。しかし、それらの壁面５３ａ、５９ａのウエハ４０に近い部分のみにその加工を施すこととしても、本実施例と同様の効果を得ることができる。
以上、本実施例では、ウエハ裏面に液浸液が回りこんでも、装置を故障させない液浸式露光装置を実現することができた。
【実施例２】
【００１８】
本実施例では、実施例１の露光装置よりも、液浸液の回収能力が向上することが可能になる構成を示す。その概略図を図４に示した。なお、図４において、図１と同様の部材には同じ番号を付した。
現在、露光装置のプロセススループットを向上させるために、ウエハステージのスピードを上げる方法が取られている場合があり、その時のスピードは約５００ｍｍ／ｓｅｃと非常に高速である。また、ウエハ端でウエハ移動方向を反転させる場合には、非常に大きな加速度が生じる。
そのような動作を液浸式露光装置で行った場合には、ウエハから液浸液を飛散させる。本実施例は、露光装置内の液浸液の回収を確実に行える方法を提案する。
【００１９】
液浸液の供給は実施例１と同じ構成により行う。液浸液の回収方法において、上記実施例１と同様に液浸液保持板５３にスリット口５２を設けるが、さらに、それと対向する位置に液浸液回収アーム（液体回収機構）６５を配置する。液浸液回収アーム６５のヘッドの材質はスポンジ形状の多孔質材料が最も好ましく、スリット形状を有した構造物でも可能である。このような多孔質の物体を近接もしくは接触させることによって、前記液体を回収する。本実施例では高密度ポリエチレンの多孔質を用いた。この多孔質材料のある面にバキュームラインと接続できる配管を接続し、液浸液６０を吸い込めるような構成とした。この液浸液回収アーム６５をウエハ面より投影光学系３０側に一定の距離を離して配置する。また、この液浸液回収アーム６５はウエハに対して移動することが出来る。なお、実際はウエハ側が移動するので、投影光学系３０に対しては静止状態である。
【００２０】
図５に記した座標Ｘ，Ｙを用いて説明すると、ウエハ４０はウエハ中心付近でＸ方向に最も移動する。そして、Ｙ方向にはウエハ上に転写される回路パターンサイズの大きさの分だけステップ移動する。ウエハの移動状態が前述したようなものであれば、液浸液回収アームは図５中でＹ方向にのみウエハに対して相対的に移動する。
【００２１】
例えばウエハが左から右に移動して、ウエハ端面で移動方向を切り返したときが最も液浸液がウエハ端面で多くなり、液浸液保持板部に液浸液を取り残していく。レジストやレジスト上反射防止膜が疎水性である場合、液浸液は玉状になって、疎水性程度とウエハステージ移動速度によってはウエハまたは液浸液保持板より離れて飛んでいってしまう。その飛んでくる液浸液を回収するのが、液浸液回収アーム６５である。液浸液を離散させるほどステージ移動速度が速くない場合や液浸液接触面の疎水性が低い場合には、実施例１に記載されているのと同様の液浸液保持板５３のスリット口５２で十分、液浸液を回収することが出来る。
【００２２】
さらに本実施例では非常に疎水性部材であるレジスト、またはレジスト上反射防止膜剤と高速ウエハステージの組み合わせでも、液浸液を周辺に撒き散らさないように、回収用スリット、または複数の孔をウエハ配置に対して２つの同心円状に配置した。
【００２３】
最も疎水性のある表面状態としてテフロン（登録商標）コートしたウエハを用いた。このウエハの水の接触角は１１０度以上であった。ウエハステージ速度は１０００ｍｍ／ｓｅｃで移動させ、ステージを突き当て停止させ液浸液を飛散させ、液浸液回収を試み、液浸回収アーム先端に配置した高密度ポリエチレン製スポンジと回収用スリットで略全量回収することができた。
【００２４】
以上、本実施例の液浸式露光装置によれば、疎水性の高いフッ素系レジスト上反射防止膜剤をウエハに用い、現状以上の駆動速度でウエハステージを駆動させた場合であっても、ウエハ上の液浸液の回収を略確実に行うことができる。
【実施例３】
【００２５】
本実施例では、実施例１及び実施例２の露光装置に、さらに液浸液が装置に飛散した場合の対処を施した構成を示す。その概略図を図６に示した。なお図６において、図１と同様の部材には同じ番号を付した。
本実施例の露光装置は、駆動手段である公知の６軸駆動テーブル機構によって移動されるウエハステージ５０と、ウエハステージ５０上に載置されたウエハチャック５９と、その上方に配置された投影光学系３０とを有する。照明系１０から発せられた照明光は、レチクル２０および投影光学系３０を経てウエハチャック５９に吸着された基板であるウエハ（図示せず）に照射され、該ウエハの表面のレジストを露光する。
【００２６】
投影光学系３０の最終レンズとウエハの間は水に満たされており、実施例２（図２）で示した通り、液を供給・回収している。レンズ系支持体（レンズ定盤）およびウエハ径外のステージ上を親水面、親水性部材、または親水性多孔質部材としている。これにより、液が該レンズ系支持体およびウエハ径外のＸＹステージ上に付着しても、その液が他に移動して、装置が錆びたり、故障することを防止することができる。
【００２７】
図６のスキャナ本体の側傍には、ウエハを自動的に供給、回収するための基板供給装置が設けられている。該基板供給装置は、図７に示すように、図示しない搬送用コンベア等から搬入されたウエハを集積する供給用カセット８と、供給用カセット８から順次取出されたウエハのプリアライメントを行うプリアライメント装置１１を備える。また、プリアライメントを終えたウエハを不図示のスキャナ本体に搬入する搬入ハンド（搬送ロボット）４を備える。また、露光、焼き付けを終えたウエハをスキャナ本体から回収する動作と供給用カセット８から順次ウエハを取出してプリアライメント装置１１へ搬入する動作を交互に行うロボット（搬送ロボット）５を備える。さらに、ロボット５によって回収されたウエハを集積する回収用カセット９を有する。
【００２８】
プリアライメント装置１１は、プリアライメントステージ１５、プリアライメントステージ駆動装置１６及びポジションセンサ１４を備えている。ウエハが搭載されるステージおよび搬入ハンド４を含めた基板供給装置はウエハから液が転写、付着しても液が他の部品に飛散しないように、ウエハ接触部は、親水面もしくは、親水性多孔質部材を用いる。ウエハ接触部とは、搬入ハンド４、ロボット５、ウエハステージ５０、ウエハチャック５９、及びプリアライメントステージ１５である。これにより、ウエハ裏面に液が回りこんだり、水がウエハ表面に残留していたり、液浸液供給口よりステージ上に滴下した場合にも、他へ液が飛散することを抑制できる。また、液浸液供給口、液浸液回収アームにおいても、液が付着した場合にも飛散しないように、表面は、親水面もしくは、親水性多孔質部材とする。
図９及び図１０に、本実施例のウエハ搬入ハンドの模式図を示す。図９のように、ウエハ搬入ハンド４には、ウエハ４０との接触部に親水面５４を有し、液浸液が飛散するのを防いでいる。ウエハの接触部から外側においては、液がそれ以上浸蝕しないように、疎水性の部材５５を構成するのも液の流れを制御するのに効果的である。
【００２９】
ロボット５によって供給用カセット８から取出され、プリアライメントステージ１５に載置されたウエハは、プリアライメント装置１１によって所定の位置に位置合わせされた後、搬入ハンド４によって、スキャナ本体のウエハステージ５０に移送される。
【００３０】
ウエハステージ５０が露光位置へ戻ると、図示しないアライメント光学系によってウエハのアライメントが行われ、続いて公知の方法でウエハの露光焼付けが行われる。露光、焼き付けを終えたウエハはロボット５によってスキャナ本体から取出されて回収用カセット９に収納される。ロボット５によって回収用カセット９にウエハが収納される間、スキャナ本体では次のウエハについて最終アライメントおよびそれに続く露光、焼き付けが行われる。同時にプリアライメント装置１１においてはその次に露光、焼き付けを行うウエハのプリアライメントが行われる。ここでの露光とは、液浸露光であり、露光を行う際には、投影光学系とウエハ間には液で満たされるものとする。また、液は液回収口によって回収される。本構成では、液回収口によって回収されないか、もしくは回収できなかった液について、液が接触する部位を親水面もしくは親水性多孔質部材を用いることで、他の部位へ液が飛散することがなく、装置の故障を引き起こすことを防ぐことができる。装置において液が接触する部位とは、上記したものの他に投影光学系のレンズ周縁部をも含むものである。
上記対応の構成として、図１１に液浸液回収アームの詳細図を示す。
液浸露光時の液浸液は液浸液回収口６７から回収される。液浸液回収アーム６５表面を親水性多孔質部材６６で構成すると、ウエハステージ５０及びステージに搭載している位置を補正する基準マーク５１、及び投影光学系レンズ３０周縁部に飛散した液を、液浸液回収アーム６５で近接または微蝕させて、液を吸い取ることができる。これは、アーム表面が多孔質であることで毛管現象によるものである。
ここで液浸液回収アーム表面が多孔質部材で構成される以外に、毛管現象を得られる表面の加工を施す方法もある。具体的には、表面に溝切を施し、表面積を増やすことで、多孔質部材を構成するのと同じ効果が得られる。この構成により、液浸エリア外に飛散する液をコントロールし、装置の故障を未然に防ぐことができる。
【００３１】
（デバイス製造方法の実施例）
デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して、感光剤を塗布した基板（ウェハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより形成、製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を含む。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施例１に係る液浸式露光装置の構成を示す図である。
【図２】図１の装置におけるウエハと液浸液保持板をレチクル側から見た図である。
【図３】液浸液保持領域での親水性（もしくは親水性多孔質材）分布状態を表す図である。
【図４】本発明の実施例２に係る液浸式露光装置の構成を示す図である。
【図５】図４の装置におけるウエハと液浸液保持板と液浸液回収アームをレチクル側から見た図である。
【図６】本発明の実施例３に係る液浸式露光装置の構成を示す図である。
【図７】図６の装置の模式平面図である。
【図８】従来例に係る液浸式露光装置を説明するための図である。
【図９】図６の装置におけるウエハ搬入ハンドの構成を示す図である。
【図１０】図９のウエハ搬入ハンドの模式側面図である。
【図１１】図６の装置における液浸液回収アームの構成を示す図である。
【符号の説明】
【００３３】
１  台盤
４  搬入ハンド
５  ロボット
８  供給用カセット
９  回収用カセット
１０、８１０  照明系
１１  プリアライメント装置
１４  ポジションセンサ
１５  プリアライメントステージ
１６  プリアライメントステージ駆動装置
２０、８２０  レチクル
３０、８３０  投影光学系
４０、８４０  ウエハ
５０、８５０  ウエハステージ
５２  スリット口（液浸液回収口）
５３  液浸液保持板
５３ａ、５３ｂ、５９ａ  親水処理面／親水性多孔質材
５９  ウエハチャック
６０、８６０  液浸液
６１  液浸液タンク
６５  液浸液回収アーム
８０  液浸液供給口
８７０  液浸液保持容器
【図１】
2009038346.tif 000003
【図２】
2009038346.tif 000004
【図３】
2009038346.tif 000005
【図４】
2009038346.tif 000006
【図５】
2009038346.tif 000007
【図６】
2009038346.tif 000008
【図７】
2009038346.tif 000009
【図８】
2009038346.tif 000010
【図９】
2009038346.tif 000011
【図１０】
2009038346.tif 000012
【図１１】
2009038346.tif 000013