(57)【要約】【課題】  真空環境で物体を駆動する駆動装置の構成を単純化することを目的とする。【解決手段】  真空環境で物体を駆動する駆動装置であって、内部を真空環境にした第１チャンバと、前記物体を搭載する可動子と、固定子とを含む平面モータと、を備え、前記可動子は、前記固定子の上面部に沿って移動し、前記固定子の上面部が前記第１チャンバの隔壁の一部である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空環境で物体を駆動する駆動装置であって、
内部を真空環境にした第１チャンバと、
前記物体を搭載する可動子と、固定子とを含む平面モータと、を備え、
前記可動子は、前記固定子の上面部に沿って移動し、
前記固定子の上面部が前記第１チャンバの隔壁の一部であることを特徴とする駆動装置。
【請求項２】
前記固定子は複数のコイルを備え、
該複数のコイルは前記第１チャンバの外部に配置されることを特徴とする請求項１に記載の駆動装置。
【請求項３】
内部を真空環境にした第２チャンバをさらに備え、
前記固定子が前記第２チャンバの内部に配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の駆動装置。
【請求項４】
前記第２チャンバの内部の圧力を調整する圧力調整ユニットを備えることを特徴とする請求項３に記載の駆動装置。
【請求項５】
前記第１チャンバの隔壁は、前記固定子に接続されたベローズを備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項６】
前記固定子を支持するベースと、
前記固定子の前記ベースに対する移動を案内する案内ユニットとを備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項７】
前記固定子に設けられ、前記可動子が前記固定子に及ぼす力に抗する力を前記固定子に及ぼすように質量体を駆動する駆動ユニットを備え、
前記駆動ユニットが、前記第１チャンバの外部に配置されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の駆動装置を備え、前記可動子は基板または原版を搭載することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空環境で物体を駆動する駆動装置に関するものである。さらに、この駆動装置によって基板または原版を移動させる露光装置に関するものである。さらに、この露光装置を使用するデバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、微細な回路パターンを半導体素子に露光するために、紫外線を用いた縮小投影露光装置が用いられてきた。縮小投影露光装置で転写可能な回路パターンの最小寸法は、露光に使用される光の波長に比例する。そのため、回路パターンの微細化に伴って、露光光の短波長化が進められ、現在ではＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）が主流となっている。
【０００３】
しかしながら、紫外線の波長では、今後の半導体素子の微細化に対応できなくなりつつある。そこで、より短い１０〜１５ｎｍ程度の波長を持つ極端紫外光（ＥＵＶ光）を用いた縮小投影露光装置が開発されている。
【０００４】
ＥＵＶ光は大気などのガスによって、強く吸収されるため、ＥＵＶ光の伝搬する空間は高い真空度に保つ必要がある。ＥＵＶ光が伝播する大部分の空間で少なくとも１０−１Ｐａ以下、望ましくは１０−３Ｐａ以下の圧力かつ酸素、水などの透過率の低いガスの分圧をできる限り低く保つ必要がある。また，炭素を含む成分が残留していた場合、ＥＵＶ光の照射によって光学素子表面に炭素が付着し、ＥＵＶ光を吸収してしまうという問題が発生する。この炭素付着を防止するためにはＥＵＶ光が照射される光学素子が置かれた空間の炭素を含む分子の分圧は少なくとも１０−４Ｐａ以下、望ましくは１０−６Ｐａ以下の圧力に保たれている必要があると考えられている。
【０００５】
現在の一般的な露光装置は、回路パターンの原版であるレチクルを搭載したレチクルステージと、回路パターンを焼き付けるウェハを搭載したウェハステージを有している。レチクルステージとウェハステージが、縮小倍率に比例する速度比で同期して走査を繰り返すことで露光を行うステップアンドスキャンという手法が主流となっている。そのため、レチクルステージ、ウェハステージともに高速かつ高精度に移動するための機構を持っている。例えば、ステージの位置を高精度に検出するためのレーザ干渉計等の位置センサや、ステージを高速に移動させるための大推力を発生させるリニアモータ等を装備している。
【０００６】
ＥＵＶ露光装置では、レチクルやウェハを真空内で露光する必要があるため、レチクルステージやウェハステージを真空チャンバ内に設置することがある。しかし、そのためには、真空チャンバの内容積が大きくなり、また内部の表面積も大きくなるため、真空度の維持が困難になる。さらに、真空チャンバ内部に設置されるステージの機構は複雑で、表面積が大きく、また有機物を含む様々な材質の材料が使用されている。特に、リニアモータ等の駆動機構には、コイルや磁石、さらには電力を供給するためのケーブル等が含まれるため、これらからのアウトガスよって、真空度を維持することがさらに困難になっている。
【０００７】
真空チャンバ内部に設置されるステージ装置において、チャンバ内部の真空度を維持するための構成が特許文献１（特開２００５−５７２８９号公報）に開示されている。図６は特許文献１に記載されるステージ装置の図である。ステージ装置２は、ステージ可動部と一体となった第１駆動ユニット可動子１１と、第１駆動ユニット固定子１０と一体となった第２駆動ユニット可動子１２と，第２駆動ユニット固定子１３を有している。ここで、第１駆動ユニット可動子１１と第１駆動ユニット固定子１０の間に隔壁１５を設けている。それにより、第１駆動ユニット固定子１０以下の部分をレチクルまたはウェハを搭載したステージ可動部から分離している。これにより、レチクルまたはウェハを搭載するステージを内包するチャンバの容積を小さくするとともに、チャンバ内の表面積を小さくすることで、真空チャンバ内の真空度の維持管理が容易になる。さらに、第１駆動ユニット固定子１０および第２駆動ユニット１２，１３からのアウトガスによる真空度の劣化を抑えることができる。
【特許文献１】特開２００５−５７２８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述の特許文献では、隔壁１５は、第１可動ユニット可動子１１と第１可動ユニット固定子１０に対して接触してはならない。また、第１可動ユニットの駆動効率を高めるためには、第１可動ユニット可動子１１と第１可動ユニット固定子１０の間隔を、できるだけ小さくする必要がある。そのため、上記特許文献においては、隔壁１５の両側に圧力差を設ける、あるいは第１駆動ユニット固定子１０と隔壁１５の間に空気軸受けを設ける、などの隔壁間隔維持のための追加の機構が必要となる。さらに、隔壁１５が接触しないように維持するためには、これらの機構を高精度に制御する制御装置も必要となる。そのため、構造が複雑になるとともに、製造コストが増加してしまう。
【０００９】
本発明は上述の点を考慮し、真空環境で物体を駆動する駆動装置の構成を単純化することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
真空環境で物体を駆動する駆動装置であって、内部を真空環境にした第１チャンバと、前記物体を搭載する可動子と、固定子とを含む平面モータと、を備え、前記可動子は、前記固定子の上面部に沿って移動し、前記固定子の上面部が前記第１チャンバの隔壁の一部であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、真空環境で物体を駆動する駆動装置の構成を単純化することが可能となる。これにより、例えば、真空チャンバの容積を小さくして真空環境の維持を容易にするとともに、可動子と固定子との間隔を小さくして平面モータの駆動効率を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（実施例１）
図１は実施例１における駆動装置を備える露光装置１００を示す図である。
【００１３】
露光装置１００は、照明光学系（不図示）と、レチクル（原版）を駆動する駆動装置（不図示）と、投影光学系を内部に有する鏡筒８と、ウェハ１（基板）を駆動する駆動装置とを備える。駆動装置は、可動子２と固定子４を含む平面モータ２２を備える。ウェハ１を搭載した可動子２はその下側に複数の永久磁石を備える。固定子４は内部に複数の固定子コイル３を備える。この固定子コイル３に通電することによってローレンツ力を発生させて、可動子２を駆動する。典型的には、固定子４は、固定子コイル３の周辺に、固定子コイル３を冷却するための冷却液を流す管路を有する。
【００１４】
また固定子コイル３と可動子２とが接触しないように、固定子コイル３と可動子２との間には固定子４の上面部が存在する。上面部は、そのほかにも例えば、固定子コイル３周辺に冷却管路を形成する機能をもつ。固定子４の上面部は略平面となっており、可動子２がこの平面に沿って（二次元に）非接触で移動可能である。
【００１５】
固定子４は固定子マウント６を介して、ベース２０から支持されている。固定子マウント６は、装置が設置された床からベース２０を通して固定子４に伝わる振動を遮断する。さらに、可動子２を駆動した際の反力がベース２０を介して床に伝わることを緩和する。
【００１６】
可動子２の位置は、位置計測手段７によって計測される。位置計測手段７は、典型的にはレーザ干渉計が用いられるが、それ以外の各種センサが利用可能である。
【００１７】
平面モータ２２について、詳しく説明する。平面モータ２２は、可動子２を平面方向（ＸＹ方向、Ｚ軸回りの回転方向）に駆動するとともに、可動子２の自重を支える力（Ｚ方向の力）を発生させる。さらに、可動子２の傾斜駆動（Ｘ軸回りの回転方向、Ｙ軸回りの回転方向）を制御する力を発生することができる。このような構成で、ウェハ１を搭載した可動子２を露光位置に移動させるとともに、可動子２の姿勢（傾斜量）を変化させ、適切な状態で露光が行えるようにすることが可能である。平面モータの発生力の制御は，不図示の制御装置によって，固定子コイル３に流す電流を制御することによって行われる。
【００１８】
固定子コイル３には電流を供給するためのケーブルが接続されている。固定子コイル３は、可動子２の可動範囲に渡って多数敷き詰められているため、固定子コイル３への電気ケーブルも多くの本数が必要となる。さらにコイルの発熱を冷却するための冷却液を供給・回収するための配管も接続されている。これらのケーブル・配管類５はコイルを固定子側に設置し、磁石を可動子側に設置することで、可動子側には配線を接続する必要が無くなる。すなわち、配線の曲げや引きずりによって可動子に与える外乱の影響がなくなる。
【００１９】
駆動効率を高めるためには、磁石とコイルの距離はできるだけ近い方がよい。そのため、磁石は可動子２のうち固定子４と対向する面に設置される。また、固定子コイル３は、可動子２と対向する、固定子４の上面側に設置される。固定子コイル３の可動子２側の表面には、上述のように固定子の上面部が設けられている。上面部の材質は、平面モータの磁気回路を妨げないために、非磁性体であることが望ましい。さらに、渦電流による損失を発生させないため、非導電体であることが望ましい。
【００２０】
ＥＵＶ露光装置では、真空内で露光を行う必要がある。ウェハ１および可動子２の移動する空間を隔壁で閉鎖することで、ステージチャンバ１０（第１チャンバ）を構成し、ドライポンプ・ターボ分子ポンプ等の排気ユニット１３を用いて内部の空気を排気することで、真空環境にすることができる。真空環境として、例えば、チャンバ内空間で少なくとも１０−１Ｐａ以下、望ましくは１０−３Ｐａ以下の圧力にすることが好ましい。
【００２１】
固定子コイル３やケーブル・配管類５は、柔軟性を維持するために有機物が使われることが多く、これらをステージチャンバ１０内に配置すると、チャンバ内において露光の障害になるアウトガス成分が多くなってしまう。特に、平面モータは固定子コイル３・ケーブル・配管類５が多いため、アウトガス成分はより多くなってしまう。なぜなら、固定子コイル３・ケーブル・配管類５が多いと、アウトガスが発生する表面の面積が大きくなってしまうためである。また、平面モータの固定子は一般に大きいため、これをステージチャンバ１０の内部に配置しようとすると、ステージチャンバ１０には大きな容積が必要となる。すると、ステージチャンバ１０内を要求される真空環境にすることが難しくなってしまう。
【００２２】
そこで、本実施例においては、固定子４の上面部をステージチャンバ１０の隔壁の一部として利用する。
【００２３】
これにより、固定子４の内部に配置される部材をステージチャンバ１０の外に配置することができ、これらの部材からのアウトガスの影響をステージチャンバ１０内に及ぼさないようにすることができる。部材の例として、先ほど挙げた固定子コイル３、固定子４へのケーブル・配管類５などがある。すなわち、これらの少なくとも一部、好適にはすべてをステージチャンバ１０外部に配置することができる。特に、平面モータは固定子コイル３が多くのコイル導線をもつため、ステージチャンバ１０外部に配置することが好ましい。
【００２４】
また、チャンバ内空間の容積を大幅に小さくすることができるため、真空度の維持が容易になる。本実施例では、固定子の上面部全域を隔壁の一部として利用しているが、上面部のうち可動子２の移動範囲を含む領域のみを隔壁の一部として利用することもできる。
【００２５】
また、本実施例においては、ウェハステージの駆動手段として平面モータを用いている。隔壁は、固定子コイル３および固定子４と一体に固定されているため、可動子２と固定子コイル３の間に固定子４から独立した構造の隔壁を設ける必要が無く、簡単な構造でステージチャンバ１０を実現可能である。さらに、可動子２と固定子コイル３の間に独立した隔壁がないため、磁石とコイルの間隔を狭くすることが容易であり、平面モータの駆動効率を向上することが可能となる。また、固定子４の表面形状は略平面であるため、構成が簡単となり容易に実現可能であるとともに、チャンバ内壁の表面積を小さくすることができる。
【００２６】
また、ステージチャンバ１０の隔壁は、固定子４に接続されたベローズを備えうる。これにより、固定子４が振動したとしてもベローズにより変形をかわすことが可能となる。
【００２７】
一方、ステージチャンバ１０内を真空環境にすると、固定子４には大気との圧力差が掛かり、固定子４を変形させてしまうことが考えられる。可動子２と対向する固定子４上面の変形量が大きくなると、可動子２が固定子に接触する等、ステージの移動に支障を来すことがあり得る。具体的には、可動子２と固定子４の対抗する面積内において、固定子４の変形量が、少なくとも可動子２と固定子４の浮上間隔よりも小さい必要がある。
【００２８】
そこで、固定子４はステージチャンバ１０とは分離された内部空間を持つ固定子チャンバ１１（第２チャンバ）内に設置し、固定子チャンバ１１を排気ユニット１３により低真空に減圧することも可能である。これにより、固定子４にかかる圧力差を低減し、固定子４の変形量を小さくすることが可能となる。固定子４の剛性は一般に十分高いので、ステージチャンバ１０と固定子チャンバ１１の内圧は、可動子の動作に支障が生じない程度に、大まかに一致していればよい。必要な圧力の一致度合いは、固定子の剛性や固定子の受圧面積によって変わってくるが、１０Ｐａ程度の圧力差は許容される。固定子チャンバ１１の内圧は、ステージチャンバ１０の内圧よりは高く設定する。そうすることにより、固定子チャンバ１１側の排気ユニットの性能を下げることが可能となる。また、固定子チャンバ１１内の汚染状態は、露光には影響しないため、アウトガス等の成分については気にする必要はない。すなわち、ケーブル・配管類５などが固定子チャンバ１１内を通過していても問題ない。また、固定子チャンバ１１内の残留ガスを，ヘリウム等の不活性ガスで置換してもよい。
【００２９】
さらに、ステージチャンバ１０内と固定子チャンバ１１内の圧力差を制御するための機構を設けてもよい。ステージチャンバ１０と固定子チャンバ１１に、それぞれ圧力センサ１７を設置し、それらのチャンバ内圧力を測定する。圧力調整ユニット１８では、測定されたステージチャンバ１０と固定子チャンバ１１の内圧に基づき、それぞれが所定の圧力となるように排気ユニット１３を制御する。これにより、固定子４が変形しないように圧力を制御して、接触を防止することができる。
【００３０】
なお、ステージチャンバ１０と固定子チャンバ１１の内圧の差が所定の範囲となるように、固定子チャンバ１１のみの内圧を制御するようにしてもよい。
【００３１】
固定子チャンバ１１は、床から直接支持することも可能であるが、ステージチャンバ１０、および固定子４に振動が伝わらないように、ベローズ等によって振動絶縁しておくことが望ましい。
【００３２】
ＥＵＶ露光装置では投影光学系は複数枚の反射鏡から構成されており、鏡筒８はこれらの反射鏡を所定の位置に固定している。またいくつかの反射鏡は駆動機構により調整可能に構成されていてもよい。不図示の光源から射出されたＥＵＶ光は、不図示のレチクルで反射され鏡筒８内の投影光学系に導かれ、最終的にウェハ１上に結像する。鏡筒８内の空間も真空である必要があるため、鏡筒８は鏡筒チャンバ１２内に設置されている。鏡筒チャンバ１２空間とステージチャンバ１０空間は，ＥＵＶ光が通過する部分でのみ接続されている。
【００３３】
鏡筒８はステージとは独立して鏡筒マウント９で支持されており、床からの振動、ステージからの振動が伝わらないようになっている。さらに、ステージチャンバ１０と鏡筒チャンバ１２の間もベローズなどにより振動を絶縁するように構成しておくことが望ましい。
【００３４】
さらに、可動子２を駆動したときの反力による影響を低減する機構を有することが望ましい。たとえば、可動子２を駆動したときの反力により，固定子４がベースに対して移動可能に支持されていてもよい。これにより、可動子２の反力を固定子４が移動することで吸収し、外部に振動が伝わらなくなる。固定子４の移動を案内する案内ユニット２１としては、メカニカルなベアリングを用いたガイド機構を用いてもよいし、空気などの流体を用いた非接触ガイドを用いてもよい。案内ユニット２１には、固定子４が所定の基準位置に戻るための、アクティブあるいはパッシブな駆動機構も必要である。また、固定子マウント６の可動範囲が十分に広い場合には、固定子マウント６が案内ユニット２１の役割を兼ねることも可能である。これらの場合には、ステージチャンバ１０は、固定子４の移動を妨げないように、固定子４の可動範囲内に渡って移動可能なベローズによって、鏡筒チャンバ１２と接続されていることが必要となる。あるいは、ステージチャンバ１０と固定子４の間にベローズを設けてもよい。
【００３５】
なお、露光装置は上述の形態に限るものではなく、異なる形態としてもよい。例えば、ウェハステージを２台装備した、いわゆるツインステージ構成や液浸露光装置にも適用可能であることは、容易に推察できるであろう。
【００３６】
なお、本実施例では平面モータはローレンツ力を利用しているが、実施例の形態に限るものではない。ステージチャンバ１０の容積を小さくしつつ、固定子４の部材を外部に配置できるものであれば、リニアパルス平面モータであってもよい。
【００３７】
以上説明したように、本実施例においては、固定子４の上面部がステージチャンバ１０の隔壁の一部であるため、簡単な構成によって、チャンバ空間を小さくすることができる。さらに、固定子４、固定子コイル３、ケーブル・配管類５をチャンバ外に設置して、汚染物質を極力チャンバ外に配置することができる。それにより、ステージチャンバ空間の汚染物質の低減、真空度の向上、真空度管理の容易化が可能となる。
【００３８】
（実施例２）
図２は実施例２における駆動装置を適用した露光装置２００を示す図である。本実施例において、実施例１と同様の構成については同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００３９】
本実施例は、駆動反力による影響を低減するための機構が実施例１と異なる。実施例１では案内ユニット２１によって固定子４を移動可能にしていたのに対して、本実施例では質量体を駆動する駆動ユニット１４を固定子４に取り付けている。典型的な駆動ユニット１４の構成は、質量体と、質量体を案内するための非接触あるいは接触式のガイド機構と、質量体を駆動するための駆動部からなる。駆動ユニット１４は、可動子２の移動方向とは逆方向に質量体を駆動することで、可動子２の駆動反力を相殺し、外部に反力による振動が伝わらないようにすることができる。この場合は、固定子４は移動する必要がないため，ステージチャンバ１０のベローズは振動を絶縁する機能のみを有していればよい。このような前記可動子が前記固定子に及ぼす力に抗する力を前記固定子に及ぼすように質量体を駆動する駆動ユニットをステージチャンバ１０の外に設置することで、ステージ空間の汚染を抑えることができる。これらの機構により、可動子２の加減速反力による振動を低減し、より高精度な駆動が可能となる。
【００４０】
（実施例３）
図３は実施例３における駆動装置を適用した露光装置３００を示す図である。本実施例において、実施例１と同様の構成については同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４１】
本実施例は上述の構成をレチクルステージに適用したものである。
【００４２】
レチクルステージにおいても，ウェハステージと基本的に同じ構成が可能である。レチクルステージはウェハステージに対して上下反転した構造となっていることが異なる。レチクルステージ可動子１６は下向きにレチクル１５を搭載し、モータのＺ方向の力によって、固定子に対して自重を支持されている。
【００４３】
また、ウェハステージが平面内を広い範囲で移動するのに対し、レチクルステージはスキャン動作を行う方向には大きく動くが、直交する方向にはほとんど移動しない。そのため、ステージチャンバ空間の容積を小さくすることが可能である。また、固定子４もスキャン方向には長いが、直交方向にはレチクルステージ可動子１６相当の幅にまで短くすることが可能であるので、固定子４の変形もウェハステージに比べると小さくすることが可能である。
【００４４】
なお、本実施例では駆動反力に対して実施例２における駆動ユニットを用いているが、もちろん実施例１における案内ユニットを用いてもよい。
【００４５】
（デバイス製造方法の例）
次に、図４及び図５を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図４は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
【００４６】
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成（転写）する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが作製され、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００４７】
図５は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】実施例１における位置決め装置の概略図
【図２】実施例２における位置決め装置の概略図
【図３】実施例３における位置決め装置の概略図
【図４】デバイス製造方法を示す図
【図５】ウエハプロセスを示す図
【図６】従来例を示す図
【符号の説明】
【００４９】
１  ウェハ
２  可動子
３  固定子コイル
４  固定子
５  ケーブル・配管類
６  固定子マウント
７  位置計測手段
８  鏡筒
９  鏡筒マウント
１０  ステージチャンバ
１１  固定子チャンバ
１２  鏡筒チャンバ
１３  排気ユニット
１４  駆動ユニット
１５  レチクル
１６  レチクルステージ可動子
１７  圧力センサ
１８  圧力調整ユニット
１９  ベローズ
２０  ベース
２１  案内ユニット
２２  平面モータ
１００，２００，３００  露光装置
【図１】
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【図２】
2009038204.tif 000004
【図３】
2009038204.tif 000005
【図４】
2009038204.tif 000006
【図５】
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【図６】
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