(57)【要約】【課題】基板上の乾燥汚れの発生を減少させるか回避させる液体取扱システムを提供する。【解決手段】リソグラフィの投影システムと基板の間の空間に液体を閉じ込める抽出装置が、平面図で１つの角がある形状を有する液体取扱システムを開示する。液体取扱システムの回転可能な部品に抽出装置が設けられる。回転可能な部品は、制御装置の制御下で回転する。【選択図】図１３
2009141359.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用時に液浸液が設けられる空間に液体を閉じ込めるために、液体に力を加えるように構成された機構を備える液体取扱システムを含み、前記機構が前記空間を囲み、平面図で１つの角がある形状を有する、液浸リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記機構が、前記形状の方向を変化させるために、前記装置の光軸に実質的に平行な軸線の周囲で回転可能である、請求項１に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項３】
前記軸線の周囲での前記形状の回転を制御して、前記機構に対して前記機構の下方で前記形状の後縁の局所方向に対して実質的に直角の方向で動作可能である基板及び／又は基板テーブルの最高速度を減少させる制御装置をさらに備える、請求項２に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項４】
前記１つの角が前記形状の後縁の中心２５％以内にあるように、前記制御装置が前記軸線の周囲での回転を制御する、請求項２又は請求項３に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項５】
前記液体取扱システムが本体及び回転可能な部品を備え、
前記本体が投影システムに対して実質的に回転方向に静止して保持され、
前記回転可能な部品が前記機構を備え、前記形状を回転可能にするように、前記投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周囲で、前記本体に対して回転可能である、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項６】
前記機構が単相抽出装置を備える、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項７】
前記機構が、（ｉ）前記空間からの液体と（ｉｉ）前記空間の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去するために一直線上の複数の出口を備える、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項８】
前記機構が低圧源に接続された出口を備える、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項９】
前記１つの角が９０°未満、７０°未満、又は５０°未満の鋭角を形成する、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記形状の一部が円弧である、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記形状が前記１つの角を除いて滑らかである、前記請求項のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１２】
投影システムに対して実質的に回転方向に静止して保持された本体と、
前記投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周囲で前記本体に対して回転可能であるように構成され、液体及び／又は気体の入口、又は液体及び／又は気体の出口、又は前記入口及び前記出口の両方を備える回転可能部分と
を備える液体取扱システムを含む、液浸リソグラフィ装置。
【請求項１３】
使用時に液浸液が提供される空間を囲み、使用時に液体が提供される空間に液体を閉じ込める機構であって、前記装置の光軸に実質的に平行な軸線の周囲で回転可能であるような形状を平面図で有する機構と、
前記軸線の周囲での前記機構の回転を制御し、前記機構に対して前記機構の下方で前記形状の後縁の局所方向に対して実質的に直角の方向で動作可能である基板及び／又は基板テーブルの最高速度を減少させるように前記形状を回転させる制御装置と、
を備える液浸リソグラフィ装置。
【請求項１４】
基板を支持する基板サポートと、
平面図で角を有するように成形された液体閉じ込め構造を備える液体取扱システムと、
前記液体取扱システムと前記基板及び／又は前記基板サポートの間で相対運動する間に、前記角が前記液体閉じ込め構造の後縁に配置されるように、前記液体閉じ込め構造の位置を制御する制御装置と、
を備える液浸リソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明はリソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる互いに近接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  投影システムの最終要素と基板の間の空間を充填するように、リソグラフィ投影装置内の基板を水などの比較的高い屈折率を有する液に液浸することが提案されている。液体は蒸留水でよいが、別の液体を使用することもできる。本明細書の説明は、液体について言及している。しかし、ハイドロフルオロカーボンを含むが、それに制限されない炭化水素など、別の流体、特に湿潤性流体、非圧縮性流体及び／又は屈折率が空気より高い、望ましくは屈折率が水より高い流体が適切なことがある。そのポイントは、露光放射は液体中の方が波長が短いので、結像する形体の小型化を可能にすることである。（液体の効果は、システムの有効開口数（ＮＡ）を大きくでき、焦点深さも大きくすることと見なすこともできる。）固体粒子（例えば石英）が懸濁している水などの、他の液浸液も提案されている。粒子は、ナノ粒子のサイズでよく、これが懸濁している液体の屈折率を増加する濃度で提供することができる。
【０００４】
[0004]  しかし、基板を、又は基板と基板テーブルを液体の浴槽に浸すこと（例えば米国特許ＵＳ４，５０９，８５２号参照）は、スキャン露光中に加速すべき大きい塊の液体があることでもある。これには、追加のモータ又はさらに強力なモータが必要であり、液体中の乱流が望ましくない予測不能な効果を引き起こすことがある。
【０００５】
[0005]  提案されている解決法の１つは、液体供給システムが、液体閉じ込めシステムを使用して、基板の局所区域に、及び投影システムの最終要素と基板の間にのみ液体を提供することである（基板は通常、投影システムの最終要素より大きい表面積を有する）。これを配置構成するために提案されている１つの方法が、ＰＣＴ特許出願公開ＷＯ９９／４９５０４号で開示されている。図２及び図３に図示されているように、液体が少なくとも１つの入口ＩＮによって基板上に、好ましくは最終要素に対する基板の動作方向に沿って供給され、投影システムの下を通過した後に少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。つまり、基板Ｗが−Ｘ方向にて要素の下でスキャンされると、液体が要素の＋Ｘ側にて供給され、−Ｘ側にて取り上げられる。図２は、液体が入口ＩＮを介して供給され、低圧源に接続された出口ＯＵＴによって要素の他方側で取り上げられる構成を概略的に示したものである。図２の図では、液体が最終要素に対する基板の動作方向に沿って供給されるが、こうである必要はない。最終要素の周囲に配置された入口及び出口の様々な方向及び数が可能であり、一例が図３に図示され、ここでは各側に４組の入口と出口が、最終要素の周囲の規則的パターンで設けられる。
【０００６】
[0006]  局所液体供給システムがあるさらなる液浸リソグラフィの解決法が、図４に図示されている。液体は、投影システムＰＬのいずれかの側にある２つの溝入口ＩＮによって供給され、入口ＩＮの半径方向外側に配置された複数の別個の出口ＯＵＴによって除去される。入口ＩＮ及び出口ＯＵＴは、中心に穴があり、投影される投影ビームが通る板に配置することができる。液体は、投影システムＰＬの一方側にある１つの溝入口ＩＮによって供給されて、投影システムＰＳの他方側にある複数の別個の出口ＯＵＴによって除去される。これによって投影システムＰＳと基板Ｗの間に液体の薄膜の流れが生じる。どの組合せの入口ＩＮと出口ＯＵＴを使用するかの選択は、基板Ｗの動作方向によって決定することができる（他の組合せの入口ＩＮ及び出口ＯＵＴは動作しない）。
【０００７】
[0007]  それぞれが参照により全体が本明細書に組み込まれる欧州特許出願公開第１４２０３００号及び米国特許出願公開第２００４−０１３６４９４号では、ツイン又はデュアルステージ液浸リソグラフィ装置の概念が開示されている。このような装置には、基板を支持する２つのテーブルが設けられる。第一位置にあるテーブルで、液浸液がない状態でレベリング測定を実行する。液浸液が存在する第二位置にあるテーブルで、露光を実行する。あるいは、装置は、露光位置と測定位置の間で移動可能な１つのテーブルのみを有してもよい。
【０００８】
[0008]  米国特許出願公開ＵＳ２００６／０１０３８２１号は、液浸液を局所空間に供給する液浸リソグラフィ装置を開示している。空間は、平面図で実質的に多角形である。液体を空間内に実質的に密封するために設けられるガスカーテンも、多角形の形状を有する。この構成は、基板がガスカーテンに対して移動している間に、空間の縁部に小滴が堆積する可能性を低下させることができる。これは、多角形形状を使用することによって縁部ゾーンの長さが減少するので達成することができる。
【０００９】
[0009]  米国特許出願公開ＵＳ２００６／０１１９８０７号は、投影システムと基板の間の空間に液体を供給する入口、空間から液体を抽出する出口、又はその両方を、基板の露光面に対して実質的に直角の軸線を中心に回転するように構成された液体供給システムを開示している。
【発明の概要】
【００１０】
[0010]  例えば、基板上の乾燥汚れの発生を減少させるか、回避させる液体取扱システムを提供することが望ましい。
【００１１】
[0011]  本発明の態様によれば、使用時に液浸液が設けられる空間に液体を閉じ込めるために、液体に力を加える機構を備える液体取扱システムを備え、機構は空間を囲み、平面図で１つの角がある形状を有する。
【００１２】
[0012]  本発明の態様によれば、投影システムに対して実質的に回転方向に静止して保持された本体と、投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周囲で本体に対して回転可能であるように構成され、液体及び／又は気体の入口、又は液体及び／又は気体の出口、又は入口及び出口の両方を備える回転可能部分とを備える、液体取扱システムを含む液浸リソグラフィ装置が提供される。
【００１３】
[0013]  本発明の態様によれば、液浸リソグラフィ装置が提供され、装置は、使用時に液浸液が提供される空間を囲み、使用時に液浸液が提供される空間に液体を閉じ込める機構であって、装置の光軸に実質的に平行な軸線の周囲で回転可能であるような形状を平面図で有する機構と、軸線の周囲での機構の回転を制御し、機構に対して機構の下方で形状の後縁の局所方向に対して実質的に直角の方向で動作する基板及び／又は基板テーブルの最高速度を減少させるように形状を回転させる制御装置とを備える。
【００１４】
[0014]  本発明の態様によれば、
基板を支持する基板サポートと、
平面図で角を有するように成形された液体閉じ込め構造を備える液体取扱システムと、
液体取扱システムと基板及び／又は基板サポートの間で相対運動する間に、角が液体閉じ込め構造の後縁に配置されるように、液体閉じ込め構造の位置を制御する制御装置と、
を備える液浸リソグラフィ装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
[0015]  次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
【００１６】
【図１】[0016]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示した図である。
【図２】[0017]  リソグラフィ投影装置で使用する液体供給システムを示した図である。
【図３】[0017]  リソグラフィ投影装置で使用する液体供給システムを示した図である。
【図４】[0018]  リソグラフィ投影装置で使用するさらなる液体供給システムを示した図である。
【図５】[0019]  リソグラフィ投影装置で使用する別の液体供給システムを示した図である。
【図６】[0020]  液体除去デバイスを示した図である。
【図７】[0021]  図６の一部を示した拡大図である。
【図８】[0022]  液体供給及び除去システムを示した図である。
【図８ａ】[0022]  液体供給及び除去システムを示した図である。
【図９】[0023]  メニスカス釘付けシステムを示した平面図である。
【図１０】[0024]  投影システムの光軸に平行な面でメニスカス釘付けシステムを示した断面図である。
【図１１】[0025]  さらなる液体閉じ込めシステムを示した平面図である。
【図１２】[0026]  様々な異なる出口を示した図である。
【図１３】[0027]  本発明の実施形態を下から見た図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
[0028]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、
【００１８】
[0029]  放射ビームＢ（例えばＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、
【００１９】
[0030]  パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナＰＭに接続された支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、
【００２０】
[0031]  基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、
【００２１】
[0032]  パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ又は複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００２２】
[0033]  照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００２３】
[0034]  支持構造ＭＴは、パターニング構造の方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」又は「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００２４】
[0035]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００２５】
[0036]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型(alternating)位相シフトマスク、ハーフトーン型(attenuated)位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００２６】
[0037]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。
【００２７】
[0038]  ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。
【００２８】
[0039]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のパターニングデバイステーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に１つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００２９】
[0040]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００３０】
[0041]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００３１】
[0042]  放射ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターンが与えられる。放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二ポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一ポジショナＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、又はスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、支持構造ＭＴの移動は、第一ポジショナＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第二ポジショナＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを使用して実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、パターニングデバイスアラインメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、パターニングデバイスＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００３２】
[0043]  図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００３３】
[0044]  １．ステップモードにおいては、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００３４】
[0045]  ２．スキャンモードにおいては、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００３５】
[0046]  ３．別のモードでは、支持構造ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００３６】
[0047]  上述した使用モードの組合せ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００３７】
[0048]  本発明の実施形態は、任意のタイプの抽出システムに、特に基板及び／又は基板テーブルの局所区域に液体が提供される局所区域液体取扱システムに適用可能である。投影システムの最終要素と基板の間の空間に液体を閉じ込める、又は収容する抽出装置の幾つかの実施形態について説明する。これは、本発明の実施形態を多くの異なる種類の抽出装置に適用できることを示すに過ぎない。本発明の実施形態は、本明細書で開示されたタイプの抽出システムのみに制限されず、任意のタイプの抽出装置に適用することができる。
【００３８】
[0049]  提案されている局所液体供給システムの別の液浸リソグラフィの解決法は、投影システムの最終要素と基板テーブルの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するバリア部材を液体供給システムに設けることである。このような解決法が図５に図示されている。バリア部材は、投影システムに対してＸＹ面で実質的に静止しているが、Ｚ方向（光軸の方向）では多少の相対運動があってよい。シールがバリア部材と基板の表面との間に形成される。
【００３９】
[0050]  図５を参照すると、リザーバ１０が、投影システムの像フィールドの周囲で基板の非接触シールを形成し、したがって液体が閉じ込められて、基板表面と投影システムの最終要素との間の空間を充填する。リザーバは、投影システムＰＬの最終要素の下方に配置され、それを囲むバリア部材１２によって形成される。液体が、例えばポート１３を通して投影システムの下方で、バリア部材１２内の空間に運び込まれる。実施形態では、液体はポート１３によって空間から除去することができる。バリア部材１２は、投影システムの最終要素の少し上まで延在し、液体のバッファが提供されるように、液体が最終要素の上まで上昇する。バリア部材１２は、その上端が実施形態では投影システム又はその最終要素の形状に非常に一致することができ、例えば円形でよい内周を有する。底部では、内周は像フィールドの形状に非常に一致し、例えば長方形であるが、そうである必要はない。
【００４０】
[0051]  液体は、バリア部材１２の底部と基板Ｗの表面との間のガスシール１６によってリザーバ内に閉じ込められる。ガスシールは、気体、例えば空気又は合成空気によって、しかし実施形態ではＮ2又は別の不活性ガスなどの気体によって形成され、圧力下で入口１５を介してバリア部材１２と基板の間のギャップに提供され、第一出口１４を介して抽出される。ガス入口１５への過剰圧力、第一出口１４の真空のレベル、及びギャップの幾何学的形状は、液体を閉じ込める内側への高速の気体流があるように構成される。このようなシステムが、参照により全体が本明細書に組み込まれる米国特許ＵＳ６，９５２，２５３号で開示されている。
【００４１】
[0052]  図６及び図７は、後者が前者の一部の拡大図であるが、液体除去デバイス２０を示している。液体除去デバイス２０は、わずかに低圧ｐcに維持され、液浸液で充填されたチャンバを備える。チャンバの下面は、例えば５μｍから５０μｍの範囲の直径ｄholeという小さい穴を多数有する薄い板２１で形成され、例えば基板Ｗの表面などの液体が除去される表面から、１ｍｍ未満、望ましくは５０μｍから３００μｍの範囲のギャップ高さｈgapに維持される。実施形態では、多孔質部材２１は少なくともわずかに親液性である。つまり水などの液浸液に対して９０°未満、６０°未満、又はわずか３０°未満の接触角を有する。
【００４２】
[0053]  低圧ｐcは、多孔質部材２１の穴に形成されたメニスカス２２によって、気体が液体除去デバイスのチャンバに引き込まれることが防止されるような圧力である。しかし、多孔質部材２１が表面Ｗ上の液体と接触すると、流れを制限するメニスカスがなくなり、液体が液体除去デバイスのチャンバに自由に流入することができる。このようなデバイスは、基板Ｗの表面から液体の大部分を除去することができるが、図面に示すように、液体の薄膜が残ることがある。
【００４３】
[0054]  液体の除去を改良するか、最大限にするために、多孔質部材２１は可能な限り薄くなければならず、液体の圧力ｐgapとチャンバ内の圧力ｐcとの圧力差は可能な限り高くなければならない。それと同時に、チャンバ内の圧力ｐcとギャップ内の気体の圧力ｐairとの圧力差は、有意の量の気体が液体除去デバイス２０に引き込まれるのを防止するのに十分なほど低くなければならない。液体除去デバイスに気体が引き込まれるのを防止することが常に可能なわけではないが、多孔質部材は、振動を引き起こし得る大きい不均一な流れを防止する。電気鋳造、フォトエッチング及び／又はレーザ切断によって作成されたマイクロシーブを、多孔質部材２１として使用することができる。適切なシーブを、オランダのEerbeekのStock Veco B.V.が作成している。孔のサイズが、使用中に経験する圧力差でメニスカスを維持するのに適切であれば、他の多孔質板又は多孔質材料の中実ブロックも使用することができる。
【００４４】
[0055]  図８は、液浸装置のバリア部材１２に組み込まれた液体除去デバイスを示す。図８は、投影システムＰＬ（図８には図示せず）の露光フィールドの周囲の少なくとも一部にリング（本明細書では、リングは円形、長方形又は任意の他の形状でよい）を形成するバリア部材１２の一方側の断面図である。この実施形態では、液体除去デバイス２０は、バリア部材１２の下側の最内縁付近にリング状チャンバ３１によって形成される。チャンバ３１の下面は、以上で説明したように多孔質部材３０を備える。リング状チャンバ３１は適切なポンプに接続されて、チャンバから液体を除去し、所望の低圧を維持する。使用時には、チャンバ３１は液体で一杯であるが、明快さを期して空の状態で図示されている。
【００４５】
[0056]  リング状チャンバ３１の外側には、気体抽出リング３２及び気体供給リング３３がある。気体供給リング３３はその下部分に狭いスリットを有し、スリットから逃げる気体がガスナイフ３４、つまり気体のジェットを形成するような圧力で、例えば空気、人工空気又はフラッシングガスなどの気体が供給される。ガスナイフを形成する気体は、気体抽出リング３２に接続された適切な真空ポンプによって抽出され、したがって結果となる気体流が残留した液体を全て内側に押しやり、ここで液体除去デバイス及び／又は真空ポンプで除去することができ、これは液浸液及び／又は小さい液体小滴の蒸気に耐性がなければならない。しかし、液体の大部分は液体除去デバイス２０によって除去されるので、真空システムを介して除去される少量の液体が、振動を引き起こし得る不安定な流れを引き起こすはずがない。
【００４６】
[0057]  チャンバ３１、気体抽出リング３２、気体供給リング３３及び他のリングは、本明細書ではリングと説明されているが、これが露光フィールドを囲むか、完全である必要はない。実施形態では、このような入口及び出口は、例えば図２、図３及び図４に示すように、単純に露光フィールドの１つ又は複数の側に沿って部分的に延在する円形、長方形又は他のタイプの要素でよい。
【００４７】
[0058]  図８に示す装置では、ガスナイフを形成する気体の大部分は、気体抽出リング３２を介して抽出されるが、一部の気体が液浸フードの周囲の環境へと流入し、干渉計位置測定システムＩＦを妨害する可能性がある。これは、図８ａに示すように、ガスナイフの外側に追加の気体抽出リング３５を設けることによって防止することができる。この実施形態では、液体除去システムが、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴの表面から５０から３００μｍの高さにある間に、液浸液の全部ではないまでも大部分を除去することができるので、液浸液を閉じ込めるためにガスベアリングを使用する場合より、バリア部材の垂直位置に与えられる要件が重荷でなくなる。つまり、バリア部材は、起動及び制御システムを単純にして、垂直に配置することができる。これは、基板テーブル及び基板の平坦さに対する要件が軽減されるという意味でもあり、これによって基板テーブルＷＴの上面に設けたセンサなどのデバイスの構築が容易になる。
【００４８】
[0059]  蒸発させずに液体の大部分を除去すると、温度勾配を軽減することができ、印刷誤差につながり得る基板の熱変形を回避する。蒸発は、ガスナイフ内で湿り気体を使用することによって、例えば約５０から７５％の相対湿度を約１００から５００ｍｂａｒの圧力低下及び約２０〜２００ ｌ／分の流量と組み合わせて、さらに最少化することができる。
【００４９】
[0060]  図９は、例えば図５のメニスカス釘付けデバイス１４、１５、１６のようなメニスカス釘付けデバイスを示す。図９のメニスカス釘付けデバイスは複数の別個の出口５０を備える。出口５０は、円形であるように図示されているが、そうである必要はない。実際、出口は正方形、長方形、三角形、細長いスリットなどでよい。幾つかの例示的形状が図１２に与えられている。
【００５０】
[0061]  図９のメニスカス釘付けデバイスの各出口５０を、別個の低圧源に接続することができる。あるいは、各出口５０を、それ自体が低圧に保持されている共通のチャンバ（環状でよい）に接続することができる。この方法で、各出口で均一な低圧を達成することができる。隣接する出口５０の間に尾根７０を設けることができる。図９の線Ｘ−Ｘを通る鏡像断面図である図１０に見られるように、１つの実施形態では、バリア１２の下面４０からの突起に出口５０を形成する。尾根７０は、出口５０と同じ高さに配置されるか、バリア部材１２の表面から出口５０と同じ量又はそれより小さい量だけ突出する。出口５０は、例えば管又は細長い通路５５の出口である。出口は、基板に面するように配置することが望ましい。これを別の方法で考えると、出口５０が接続された通路５５の細長い軸線が、基板Ｗの上面に対して実質的に直角に（例えば直角から±４５°、３５°、２５°、又は１５°）接続される。
【００５１】
[0062]  各出口５０は、液体と気体の混合物を抽出するように設計される。液体が空間１１から抽出され、気体は出口５０及び尾根７０の液体とは他方の側で雰囲気から抽出される。これは、矢印１００で示すような気体流を生成し、この気体流は、出口５０間のメニスカスを図９に示すような所定の位置に釘付けにするのに効果的である。
【００５２】
[0063]  図１１に見られるように、出口及び尾根は、平面図で多角形を形成するように配置される。図９のケースでは、これは主軸１１０、１２０が投影システムの下方で基板Ｗが移動する主要方向に位置合わせされた菱形の形状である。これは、出口及び尾根７０を円形形状で構成した場合よりも最大スキャン速度が速くなることを保証するのに役立つ。というのは、２つの出口の間でメニスカスにかかる力がｃｏｓθの係数で減少するからであり、θは基板Ｗの移動方向に対する２つの出口を結ぶ線の角度である。したがって、出口の形状の主軸１１０を基板の主要移動方向（通常はスキャン方向）に位置合わせし、第二軸１２０を基板の他の主要移動方向（通常はステッピング方向）に位置合わせすることにより、スループットを最適化することができる。θが９０°とは異なる構成が有利であることが理解される。したがって、主軸を主要移動方向と正確に位置合わせすることは不可欠ではない。形状が円形である場合は、常に移動方向に対して直角に位置合わせされた２つの出口５０があり、したがってこれらの２つの出口間のメニスカスが、基板Ｗの移動によって入手可能な最大の力を受けることが、さらに理解される。以上から、基板の主要移動方向に対して約４５°に位置合わせされた辺を有する正方形の形状を使用しても、大きい利点があることが分かる。正方形の主要寸法と短い方の寸法との比率は２：１であり、このような比率が１．２：１より大きい任意の形状が特に適切である。２つの主軸がある形状では、ステッピング及びスキャン方向の動作の量及び速度を考慮して、４／９と８／９の間、望ましくは５／９と７／９の間の長さ比が適切である。
【００５３】
[0064]  図１０は、バリア部材１２の下面４０の突起に出口５０が設けられていることを示す。しかし、こうである必要はなく、出口５０はバリア部材１２の主要下面にあってよい。この場合、液体は主要下面に突き当たり、したがって望ましくない波の発生を生じやすい自由な上面がない。この場合、規定可能な尾根７０がない。矢印１００は、バリア部材１２の外側から出口５０に関連する通路５５内への気体の流れを示し、矢印１５０は、空間１１から出口５０への液体の通過を示す。通路５５及び出口５０は、２相抽出（つまり気体と液体）が環状流れモードで生じ、気体が通路５５の中心を通って流れて、液体が通路５５の壁に沿って流れるように設計される。その結果、脈動を発生せずに滑らかな流れになる。
【００５４】
[0065]  図１０では、空間１１内の液体のレベルが、出口５０の半径方向内側でもバリア部材１２の下面４０に接触しないように構成される。しかし、以上で検討したように、こうである必要はない。この実施形態では、出口５０の半径方向内側にメニスカス釘付け機構がなく、出口５０の半径方向外側にも他のコンポーネント又はメニスカス釘付け機構がない。したがって、図５の液体閉じ込めシステムと比較すると、気体入口５０又は同等品がなく、出口１４が幾つかの別個の出口５０に分割され、それぞれが低圧源に接続されている。メニスカスは、出口５０に入る気体の流れによって誘発された抵抗力によって出口５０間に釘付けされる。約１５ｍ／秒、望ましくは２０ｍ／秒を上回る気体速度が、所望の抵抗力を生成するのに十分である。１つ又は複数の他の液体閉じ込めシステムに存在するようなガスナイフを必要なくすることによって、基板からの液体の蒸発量を減少させ、したがって液体の跳ね返り、さらに熱膨張／収縮効果の両方を減少させることができる。
【００５５】
[0066]  実施形態では、メニスカスを釘付けするために、出口５０としてそれぞれが直径１ｍｍで３．９ｍｍ離間された３６個の別個のニードルが効果的である。このようなシステムの合計気体流量は、１００ ｌ／分のオーダである。
【００５６】
[0067]  図１１は、可能な出口の構成の他の幾何学的形状を平面図で示す。これは正方形、つまり主要移動方向に対して所望の角度を有する拡張部が上下に追加されている円形（点線で図示）の変形を含む。この設計は、他の主要移動方向で同様の拡張部を含むように、さらに変形することができる。これらの形状は、部分的な星、部分的な円と見なすことができる。完全な星形も良好に働く。最後の例は、円形／星形の実施形態と同様であるが、全ての直線を備える。
【００５７】
[0068]  図１２は、出口の幾つかの可能な形状、及び個々の出口間の様々な間隔を示す。
【００５８】
[0069]  以上から理解されるように、空間の周囲にある抽出装置が平面図で、移動方向に対して抽出装置が形成する角度が９０°から可能な限り離れるような形状であることを保証するために、措置を執ると有利である。これは、抽出装置における相対速度を減少させる。しかし、この構成の欠点は、液体取扱システムの（平面図の）サイズが大きくなり、したがって基板テーブルＷＴの上面の全部品に届くことができないことである。本発明の実施形態が図１３に図示され、この問題及び／又は他の問題に対応している。
【００５９】
[0070]  図１３は、液体取扱システムの下からの図である。１つ又は複数の閉じ込め又はメニスカス釘付け機構又は抽出装置の形状が、線１０００で図示されている。液体に力を加える任意のタイプの１つ又は複数の機構を使用することができる。例えば、図５のガスシール又は図６から図１０の抽出装置を使用することができる。１つ又は複数の機構が表面に形成され、平面図で全体的形状を有する。本発明の実施形態を抽出装置（その機構は出口５０である）について説明するが、本発明の実施形態は、１つ又は複数の他の閉じ込め又はメニスカス釘付け又は抽出機構に適用してもよい。
【００６０】
[0071]  図１３には、複数の別個の出口１０１０を備える抽出装置が図示されている。これらの出口は、図９の実施形態の出口と同じである。出口は、液体取扱システムの回転可能な部品１１００に設けられ、液体閉じ込め構造を規定するように構成される。したがって、回転可能な部品１１００は、１つ又は複数の機構が形成される表面を提供する。回転可能な部品１１００は、本体１２００内に装着される。
【００６１】
[0072]  回転可能な部品１１００は、投影システムＰＳの光軸と実質的に平行であるか、同軸である軸線の周囲で、本体１２００に対して回転可能である。本体１２００は、他の実施形態と同様に、投影システムＰＳに対して実質的に静止して保持される。そのために、本体１２００は、例えば接続部材１３００によって、例えば装置のベースフレーム又は基準フレームなどのフレームに取り付けられる。
【００６２】
[0073]  実施形態では、投影システムＰＳに対して本体１２００が動くことができる。特に、基板Ｗの上面の面に平行な直交軸に対する傾斜運動が可能である。投影システムの光軸と実質的に平行であるか、同軸である軸線の周囲で小さい（例えば偶発的）回転が可能である。さらに、光軸に実質的に平行な方向の運動と同様に、基板Ｗの上面に平行な面での運動が可能である。
【００６３】
[0074]  理解されるように、抽出装置１０００は、平面図で１つしか角１０２０がない形状を有する。つまり、形状には、２本の線が収束又は交差する箇所が１つしかない。１つの角１０２０は、抽出装置１０００の形状で唯一の鋭角点である。形状の残りの部分は滑らかで、１つの部分１０３０は実質的に半円形でよい。半円形部分１０３０は１つの角の反対側である。半円の線は、少なくとも部分的に実質的に直線１０３５として連続している。直線１０３５が合う箇所が１つの角１０２０である。したがって、抽出装置１０００の平面図の形状は非対称である。これは、他のシステムの場合よりウェットフットプリント(wet footprint)が狭くなるという利点を有する。その結果、基板Ｗの熱調節及びスキャン表面のレイアウトが容易になり得る。
【００６４】
[0075]  理解されるように、基板Ｗが液体取扱システムに対して方向１５００に移動すると、１つの角１０２０が後縁を提供し、半円形部分１０３０が前縁を提供する。つまり、投影システムＰＳの下方で移動する基板の部分が、後端１０２０に遭遇する前に、最初に前縁１０３０に遭遇する。
【００６５】
[0076]  液体を適切に密封する、つまりメニスカスを適切に釘付けするのに重要であるのは、後縁である。このように釘付けすると、基板及び／又は基板テーブルと液体取扱システムの間でスキャンする間の速度、特に直線速度を上げることができる。メニスカスは、抽出装置１０００の前端ではそれほど良好に釘付けされないことがある。というのは、その点での基板Ｗの部品が、いかなる場合でもその後に液浸液に曝露することになるからである。その点が後縁の下方を通過した後、その点は必ずしも投影システムＰＳの下方に行かず、基板上に液体がほとんど、又は全く残らないことが望ましいのはここである。
【００６６】
[0077]  したがって、本体１２００に対する回転可能な部品１１００の相対的回転を制御するために制御装置１６００を設けることにより、いかなる動きでも１つの角１０２０が後縁を形成するように、抽出装置１０００を並べることが可能である。これを保証するのに役立てるために、制御装置１６００でアクチュエータ１７００を制御することができる。
【００６７】
[0078]  アクチュエータ１７００は、液体取扱システムで完全に囲むことができる。例えば、本体１２００及び／又は回転可能な部品１１００内に収容してよい。
【００６８】
[0079]  理解されるように、回転可能な部品１１００を、移動方向に直角である抽出装置（特に後縁）の長さの量を減少させる、又は抽出装置の直角から離れる移動方向の角度を増加させる任意の位置にすると、投影システムの下方を基板が通過できる速度を上げられるようにするのに有用であり、以上で述べたように、この幾何学的形状の構成は、液体が逃げる速度を上げることができ、したがって投影システムＰＳの下方でスキャンを加速することができる。言い換えると、制御装置が回転可能な部品１１００を回転させ、したがって形状を回転させて、形状の後縁の局所方向に対して直角の方向で抽出装置の下を移動する基板又は基板テーブルの抽出装置に対する最高速度を減少させる（つまりその方向の成分が減少する）のに役立つ。後縁は、抽出装置の部分の下方にある基板の点の抽出装置に対して考察した相対的運動方向が、空間に向かう方向の成分をほとんど、又は全く含んでいない抽出装置の部分である。通常、１つの角１０２０が後縁の中心２５％以内にある場合は、有意の利点を達成することができる。実施形態では、１つの角が後縁の中心にある。つまり、後縁が点１１１５の間（図１３の実施形態では、半円形部分１０３０の端部）にある。形状の方向は、基板テーブルＷＴの所与の運動方向について最適化される。
【００６９】
[0080]  理解されるように、抽出装置１０００の他の形状も可能である。１８０°未満の任意の角度は、スキャン速度を上げる。２本の直線１０３５によって作られる角度が鋭角であるほど良好である。角度は９０°未満、７０°未満、又は５０°未満、又はさらに小さいことが望ましい。
【００７０】
[0081]  静止本体１２００と回転部品１１００との構成が有利であるのは、これによって液体取扱システムに液体を提供する入口ポートを装置の残りの部分に対して静止させることができるからである。同様に、液体取扱システムから液体及び／又は気体を除去する出口ポート１８１０を設けることができる。さらなる消耗品を提供又は除去するために、より多くのポートを設けられることは明白である。回転可能な部品１１００に形成された任意の出口又は入口は、回転可能な部品１１００の外周にある尾根を通して、回転可能な部品１１００の外面と隣接する本体１２００の表面にある１つ又は複数の穴と交差する入口及び出口ポート１８００、１８１０と流体連絡することができる。様々な高さで穴及び窪みを設けることにより、消耗品を分離しておくことができる。
【００７１】
[0082]  図１３には、回転可能な部品１１００には出口しか設けられていないように図示されているが、そうである必要はない。例えば、回転可能な部品１１００の入口を通して空間に液体を提供することが有利なことがある。その場合、運動方向１５００に対して最適な方向で液体を提供することができる。追加的又は代替的に、空間に液体を提供するために本体１２００の内側部分に入口があってよい。本体１２００と回転可能な部品１１００の両方に、入口を設けることができる。実際、これが最適であるのは、こうすると本体１２００を通して投影システムＰＳの最終要素に近い空間の頂部に液体を提供でき、回転可能な部品１１００の入口から基板Ｗに近い方の部分に液体を提供できるからである。回転可能な部品１１００に、例えば抽出装置１０００の半径方向内側にさらなる出口があってよい。本体１２００の内側部分に出口があってよい。さらに、抽出装置１０００の半径方向外側に閉じ込め／メニスカス釘付け機構の他のコンポーネントがあってよい。このようなさらなる機構は、抽出装置１０００のそれと同じ又は同様の形状を有しても、有していなくてもよい。
【００７２】
[0083]  制御装置１６００は、投影システムＰＳの下方で基板テーブルＷＴの動作を制御する制御装置から情報を受信することができる。この方法で、本体１２００に対する回転可能な部品１１００の相対的回転の制御が、フィードフォワード式に制御される。つまり、制御装置１６００がスキャン方向１５００を知り、それに従ってアクチュエータ１７００を使用して回転可能な部材１１００を回転することができる。代替的又は追加的に、センサはスキャン方向を検出することができ、本体１２００に対する回転可能な部品１１００の相対的回転をフィードバック式に実行できるように、この方法を制御装置１６００に提供することができる。
【００７３】
[0084]  本発明の実施形態の利点は、スキャン速度を上げることができ、実際に任意の方向の動きを増大させることができ、したがってスループットを増加させることができることである。さらに、これは液体取扱システムのための空間に関して、小さい費用で達成することができる。またこの構成は、ポート１８００、１８１０の静止した性質により、液体取扱システムの全体を回転するより良好である。
【００７４】
[0085]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に明らかである。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００７５】
[0086]  本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はその辺りの波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００７６】
[0087]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折及び反射光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか、又はその組合せを指す。
【００７７】
[0088]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。リソグラフィ装置の少なくとも１つのコンポーネント内に配置された１つ又は複数のコンピュータ処理装置が１つ又は複数のコンピュータプログラムを読み取った場合に、本明細書で言及している１つ又は複数の異なる制御装置を動作可能にしてよい。１つ又は複数の処理装置は、制御装置の少なくとも１つと通信するように構成され、それによって制御装置は、１つ又は複数のコンピュータプログラムの機械読み取り式命令に従って動作する。
【００７８】
[0089]  本発明の１つ又は複数の実施形態は、液浸液を槽の形態で提供するか、基板の局所表面区域にのみ提供するか、閉じ込めないかにかかわらず、任意の液浸リソグラフィ装置に、特に排他的ではないが上述したタイプに適用することができる。閉じ込めない構成では、液浸液は基板及び／又は基板テーブルの表面上に流れることができ、したがって基板テーブル及び／又は基板の覆われていないほぼ全表面が濡れる。このように閉じ込められていない液浸システムでは、液体供給システムは液浸液を閉じ込めない、又はある割合の液浸液の閉じ込めを提供することができるが、液浸液をほぼ完全には閉じ込めない。
【００７９】
[0090]  本明細書で想定するような液体供給システムは、広義に解釈されたい。特定の実施形態では、これは投影システムと基板及び／又は基板テーブルの間の空間に液体を提供する機構又は構造の組合せでよい。これは、１つ又は複数の構造、１つ又は複数の液体入口、１つ又は複数の気体入口、１つ又は複数の気体出口、及び／又は液体を空間に提供する１つ又は複数の液体出口の組合せを備えてよい。実施形態では、空間の表面が基板及び／又は基板テーブルの一部であるか、空間の表面は基板及び／又は基板テーブルの表面を完全に覆うか、空間が基板及び／又は基板テーブルを囲んでよい。液体供給システムは任意選択で、液体の位置、量、品質、形状、流量又は任意の他の特徴を制御する１つ又は複数の要素をさらに含んでよい。
【００８０】
[0091]  液体取扱システムを備える液浸リソグラフィ装置が提供される。液体取扱システムは、使用時に液浸液が設けられる空間に液体を閉じ込めるために液体に力を加えるように構成された機構を備える。この機構は空間を囲む。機構は、平面図で１つの角がある形状を有する。
【００８１】
[0092]  機構は、形状の方向を変化させるために、装置の光軸に実質的に平行な軸線の周囲で回転可能でよい。液浸リソグラフィ装置は制御装置を備えてよい。制御装置は、形状の後縁の局所方向に対して実質的に直角の方向で、機構に対して機構の下方で動作可能な基板及び／又は基板テーブルの最高速度を低下させるために、軸線の周囲における形状の回転を制御するように構成することができる。制御装置は、１つの角が形状の後縁の中心２５％以内にあるように、軸線の周囲における回転を制御するように構成することができる。
【００８２】
[0093]  液体取扱システムは本体及び回転可能な部品を備える。本体は、投影システムに対して実質的に回転方向に静止して保持することができる。回転可能な部品は機構を備えることができる。回転可能な部品は、形状を回転可能にするために、投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周囲で本体に対して回転可能でよい。
【００８３】
[0094]  機構は単相抽出装置を備えることができる。機構は、（ｉ）空間からの液体と（ｉｉ）空間の外側の雰囲気からの気体との混合物を除去するために、一直線上の複数の出口を備えることができる。機構は、低圧源に接続された出口を備えることができる。
【００８４】
[0095]  １つの角は９０°未満、７０°未満、又は５０°未満の鋭角を形成することができる。形状の一部は円弧である。形状は、１つの角を除いて滑らかである。
【００８５】
[0096]  液体取扱システムを備える液浸リソグラフィ装置が提供される。液体取扱システムは本体及び回転可能な部品を備える。本体は、投影システムに対して実質的に回転方向に静止して保持することができる。回転可能な部品は、投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周囲で本体に対して回転可能であるように構成することができる。回転可能な部品は、液体及び／又は気体を提供する入口、又は液体及び／又は気体を除去する出口、又は入口及び出口の両方を備えることができる。
【００８６】
[0097]  回転可能な部品の入口及び／又は出口は、本体内の通路と流体連絡することができる。液体取扱システムは、投影システムの最終要素と基板及び／又は基板テーブルの間で回転可能な部品に囲まれた空間に液体を提供するように構築及び構成された入口を備えることができる。液浸リソグラフィ装置は、本体、回転可能な部品又はその両方に形成された入口を備えることができる。
【００８７】
[0098]  回転可能な部品は、液体取扱システムに囲まれ、投影システムの最終要素と基板及び／又は基板テーブルの間にある空間から液体を抽出する、及び／又はそこに液体を閉じ込めるように構成された機構を備えることができる。
【００８８】
[0099]  回転可能な部品は、投影システムの最終要素と基板及び／又は基板テーブルの間にある空間に液体を提供する入口を備えていない。
【００８９】
[00100]  液浸リソグラフィ装置はアクチュエータを備えることができる。アクチュエータは、本体に対して回転可能な部品を回転するように構成することができる。アクチュエータは、本体及び／又は回転可能な部品内に収容することができる。
【００９０】
[00101]  機構及び制御装置を備える液浸リソグラフィ装置が提供される。機構は、使用時に液体が提供される空間を囲んでいる。機構は、使用時に液体が提供される空間に液体を閉じ込めるように構築及び構成され、平面図で形状を有する。機構は、装置の光軸に実質的に平行な軸線の周囲で回転可能でよい。制御装置は、軸線の周囲における機構の回転を制御し、形状の後縁の局所方向に対して実質的に直角の方向で、機構に対して機構の下方で動作可能な基板及び／又は基板テーブルの最高速度を低下させるように構築及び構成される。
【００９１】
[00102]  形状は１つの角を有する。１つの角は９０°未満、７０°未満、又は５０°未満の鋭角を形成する。形状は、１つの角を除いて滑らかである。液体取扱システムは本体及び回転可能な部品を備える。本体は、投影システムに対して実質的に回転方向に静止して保持される。回転可能な部品は機構を備え、投影システムの光軸に実質的に平行な軸線の周囲で、本体に対して回転可能である。形状の一部は円弧である。
【００９２】
[00103]  機構は単相抽出装置を備える。機構は、（ｉ）空間からの液体と（ｉｉ）空間の外側の雰囲気からの気体との混合物を除去するために、一直線上の複数の出口を備える。機構は、低圧源に接続された出口を備える。
【００９３】
[00104]  基板サポート、液体取扱システム及び制御装置を備える液浸リソグラフィ装置が提供される。基板サポートは基板を支持するように構成される。液体取扱システムは、平面図で角を有するように成形された液体閉じ込め構造を備える。制御装置は、液体取扱システムと基板及び／又は基板サポートの間で相対運動する間に、角が液体閉じ込め構造の後縁にあるように、液体閉じ込め構造の位置を制御するように構成される。
【００９４】
[00105]  液体閉じ込めシステムは、基板及び／又は基板サポートと液浸リソグラフィ装置の投影システムとの間に液体を提供するように構築及び構成される。液体閉じ込め構造は、液体取扱システムと基板及び／又は基板サポートの間で相対運動する間に液体を抽出するように構築及び構成荒れた複数の出口を備える。
【００９５】
[00106]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図１】
2009141359.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図８ａ】
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【図９】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１０】
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【図１３】
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【外国語明細書】
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