(57)【要約】【課題】  処理装置においてパラメータの設定により生じる動作の所要時間の偏りを確認しやすくする情報処理装置及び情報処理方法を提供する。【解決手段】  本発明は、物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理装置であって、前記動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算部と、前記演算部により演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示部と、を備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理装置であって、
前記動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算部と、
前記演算部により演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記表示部は、前記動作のなされた時刻と前記動作の所要時間との対応を示す図をさらに表示し、
前記演算部は、前記表示された図において前記複数の期間が定められることに応じて、当該定められた複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する、ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記演算部は、前記表示された図において期間を区分する時刻が指定されることに応じて、前記指定された時刻以前の期間と前記指定された時刻より後の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示部は、前記期間ごとの度数分布の表示において１つの所要時間が指定されることに応じて、前記指定された所要時間に対応する動作を規定する情報を表示する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか1項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記処理装置は、基板を露光する露光装置を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理装置であって、
前記動作の所要時間を集計し、前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算部と、
前記演算部により演算された前記度数分布を所要時間の指標値と比較可能な形式で表示する表示部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項７】
前記指標値は、前記物体を処理する他の１つ以上の処理装置における前記動作の所要時間に基づいて定められたものであることを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記処理装置は、基板を露光する露光装置を含むことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の情報処理装置。
【請求項９】
物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理方法であって、
前記動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算工程と、
前記演算工程で演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示工程と、
を含むことを特徴とする情報処理方法。
【請求項１０】
物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理方法であって、
前記動作の所要時間を集計し、前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算工程と、
前記演算工程で演算された前記度数分布を所要時間の指標値と比較可能な形式で表示する表示工程と、
を含むことを特徴とする情報処理方法。
【請求項１１】
物体を処理する処理装置の動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算ステップと、
前記演算ステップで演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示ステップと、
を含む処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【請求項１２】
物体を処理する処理装置の動作の所要時間を集計し、前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算ステップと、
前記演算ステップで演算された前記度数分布を所要時間の指標値と比較可能な形式で表示する表示ステップと、
を含む処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば露光装置の動作に関する情報を処理する情報処理装置、情報処理方法及びコンピュータプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ上に回路パターンを焼き付ける半導体露光装置、例えばステッパは、多数のウエハをロット単位で処理する。このとき、プロセスにより露光条件、アライメント条件などが異なる。ロット単位の処理時間はプロセスのパラメータや、ステッパの内部パラメータなどにより変化する。
【０００３】
従来、試験用のプロセスパラメータ、装置の内部パラメータによって装置を試験することにより、レチクルの搬送、ウエハの搬送、アライメント計測及び露光のそれぞれについて処理時間を調べ、装置の異常を点検することが行われている。
【特許文献１】特開２００６−２３７０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、新しいプロセスの投入によって新しいプロセスパラメータを運用したり、装置メンテナンスや運用変更のために装置パラメータの設定を変更したりすることによって所要時間が変化する。しかし、発生した所要時間の変化は、この固定化されたパラメータの設定で行う定形的な点検では見つけることができなかった。
【０００５】
また、工場内では製品の立ち上げから量産の開始までに割くことができる時間は限られており、パラメータの最適値を決定するために割くことができる時間も当然に限られている。そのため、十分な最適化がされずに同じパラメータで装置やプロセスを運用することが多く、パラメータを最適化することで所要時間を改善することが可能なのかを、装置、プロセスを比較して知ることができなかった。
【０００６】
本発明は、例えば、処理装置においてパラメータの設定により動作の所要時間に生じる偏りを確認しやすくする情報処理装置及び情報処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第1の側面は、物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理装置であって、前記動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算部と、前記演算部により演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示部と、
を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明の第2の側面は、物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理装置であって、前記動作の所要時間を集計し、前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算部と、前記演算部により演算された前記度数分布を所要時間の指標値と比較可能な形式で表示する表示部と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明の第3の側面は、物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理方法であって、前記動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算工程と、前記演算工程で演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明の第4の側面は、物体を処理する処理装置の動作に関する情報を処理する情報処理方法であって、前記動作の所要時間を集計し、前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算工程と、前記演算工程で演算された前記度数分布を所要時間の指標値と比較可能な形式で表示する表示工程と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
本発明の第5の側面は、物体を処理する処理装置の動作の所要時間を複数の期間のそれぞれについて集計し、前記複数の期間のそれぞれにおける前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算ステップと、前記演算ステップで演算された前記期間ごとの度数分布を相互に比較可能な形式で表示する表示ステップと、を含む処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムに関する。
【００１２】
本発明の第6の側面は、物体を処理する処理装置の動作の所要時間を集計し、前記動作の所要時間の度数分布を演算する演算ステップと、前記演算ステップで演算された前記度数分布を所要時間の指標値と比較可能な形式で表示する表示ステップと、を含む処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムに関する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、例えば、処理装置においてパラメータの設定により動作の所要時間に生じる偏りを確認しやすくする情報処理装置及び情報処理方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［露光装置の説明］
図１は、本発明における物体を処理する処理装置として好適な露光装置の構成を概略的に示す図である。この実施形態における露光装置１００は、走査型露光装置として構成されている。露光装置１００において、光源１から提供される光束は、照明光学系２でスリット形状に整形されるとともに光量分布が調整され、レチクルステージ６に保持されたレチクル（原版）３を照明する。レチクル３のパターンは、投影光学系４を介して、ウエハステージ７に保持された感光剤（レジスト）が塗布されたウエハ（基板）５に転写される。これにより、感光剤に潜像パターンが形成される。潜像パターンは、現像工程において現像されて、マスクパターン（レジストパターン）となる。しかしながら、本発明において、露光装置は、走査露光装置には限定されない。
【００１５】
照明光学系２には、例えば、コヒーレンスファクタσ値を設定するための円形開口面積が異なる複数の開口絞りが備えられうる。照明光学系２には、更に、輪帯照明用のリング形状絞り、４重極絞り、照明光量を調整するための機構（例えば、複数のＮＤフィルタ及びそれを切り替える機構）が備えられうる。照明光学系２には、更に、光量を計測する光量検出器、スリット状の照明範囲を確保するためにレチクル３と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。投影光学系４には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を補正するためのレンズ駆動機構が備えられうる。 
スリット状の照明領域をもって照明されたレチクル３のパターンからの光は、投影光学系４を介してウエハ５に投影される。レチクルステージ６（結果としてレチクル３）の位置は、レチクルステージ計測系１０によって計測され、レチクルステージ制御系１１によって制御される。
【００１６】
ウエハ５の位置は、ウエハステージ計測系１２及びアライメント計測系８によって計測されうる。ウエハステージ計測系１２は、例えば、投影光学系４の光軸方向（即ち、Ｚ方向）、該光軸に直交する面内における直交する２つの軸方向（即ち、Ｘ、Ｙ方向）の位置、並びに、これらの軸周り回転を計測する。アライメント計測系８は、投影光学系４の光軸方向（Ｚ方向）におけるウエハ５の表面位置を計測する。アライメント計測系８は、ウエハ５の露光時にウエハ５の表面位置を計測することができる。ウエハステージ制御系１３は、ウエハステージ計測系１２及びアライメント計測系８から提供される情報に基づいてウエハステージ７の位置を制御する。投影光学系４の光軸方向におけるレチクルステージ６（レチクル３）の位置を計測するための計測系が更に設けられてもよい。
【００１７】
また、ウエハ５表面を非露光光で観察及び計測することが可能なオフアクシス観察光学系２１が構成される。オフアクシス観察光学系２１は、アライメント計測時に、ウエハ５表面のマークを観察する。また、オフアクシス観察光学系２１は、ステージ基準マーク２２を観察し、ステージ基準マーク２２の位置を計測できる。
【００１８】
スリット状の照明光束でレチクル３の全てのパターン範囲をウエハ５に転写するため、レチクルステージ６によって保持されたレチクル３は、図１に示された走査方向に駆動される。それと同時に、ウエハステージ７によって保持されたウエハ５も図１に示された走査方向に駆動される。そのとき、レチクル３とウエハ５は、投影光学系４の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル３とウエハ５との相対位置がずれると、ウエハ５に変形したパターンが転写される。そこで、相対位置制御系１５は、レチクル３とウエハ５との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系１１及びウエハステージ制御系１３を制御する。
【００１９】
主制御系１６は、露光装置１００の構成要素、例えば、相対位置制御系１５、レチクルステージ制御系１１、ウエハステージ制御系、照明光学系２等を制御する。
【００２０】
露光装置１００の走査露光動作について説明する。まず、主制御系１６は、通信インターフェイス２０１を介して、露光装置１００の露光動作を規定する情報（パラメータ）を取得する。設定パラメータは、例えば、工程名（ジョブ名）、ロット認識ID、アライメント方式、サンプルショットの数、アライメント計測回数、ウエハ搬送方式等を含む。
【００２１】
主制御系１６は、上記のパラメータに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御し、ウエハ５及びレチクル３の搬入出と、露光装置１００とウエハ５等とのアライメント計測を実施し、ウエハ５をステップ・アンド・スキャン方式で露光する。
【００２２】
主制御系１６は、通信インターフェイス２０１を介して以下のような情報を後述の情報処理装置２０２に送信する機能を有する。
・露光装置１００の露光動作を規定するパラメータ
・パラメータに従って実施された、ウエハ５及びレチクル３の搬送の所要時間、露光装置１００とウエハ５等とのアライメント計測の所要時間、ショット露光処理の所要時間
・露光装置１００の動作イベント、エラーイベント
・装置認識ID、ロット認識ID、ジョブ名、ウエハ番号、ショット番号、実施時刻の情報
図２は、本発明の好適な実施形態の露光システムの構成を概略的に示す図である。露光システムは、露光装置１００と、該露光装置１００に通信インターフェイス２０１を介して接続された情報処理装置２０２とを備えうる。情報処理装置２０２は、露光装置１００を管理する管理装置或いは管理システムとして把握することもできる。
【００２３】
情報処理装置２０２は、露光装置１００から提供される露光動作を規定するパラメータと、それに従い実施された、ウエハ５及びレチクル３の搬送の所要時間、露光装置１００とウエハ５等とのアライメント計測の所要時間等、各動作項目毎の所要時間を集計する。
【００２４】
以下で説明するような特有の機能を有する情報処理装置２０２は、例えば、汎用のコンピュータに後述する処理を実行させるためのコンピュータプログラムをインストールすることによって構成されうる。情報処理装置２０２は、例えば、該コンピュータプログラムがインストールされることによってデータベース２３１、情報収集部２２１、フィルタリング部２２２、演算部２２３、入力部２３２、出力部２３３、管理部２３０を備える装置として動作する。
【００２５】
情報収集部２２１は、露光装置１００から通信インターフェイス２０１を介して、露光装置１００のパラメータと各動作項目の所要時間結果情報、露光装置の動作イベント、エラーイベントを収集してデータベース（ＤＢ）２３１に格納する。
【００２６】
フィルタリング部２２２は、データベース２３１に格納されている情報より、入力部２３２から提供されるフィルタリング条件２４１に合致した情報を抽出して演算部２２３に提供する。
【００２７】
演算部２２３は、フィルタリング部２２２によって抽出された情報を集計条件２４２に従って所要時間結果を演算する。
【００２８】
出力部２３３は、出力デバイスとして、表示部や記憶部を含み、例えば、演算部２２３による演算結果を出力デバイスに出力する。本実施形態では、出力部は表示部として構成されている。
【００２９】
管理部２３０は、情報処理装置２０２の構成要素、即ち、データベース２３１、情報収集部２２１、フィルタリング部２２２、演算部２２３、入力部２３２、出力部２３３を管理（制御）する。
【００３０】
〔第1の実施形態〕
本発明に係る第１の実施形態を説明する。第１の実施形態では、所要時間の偏りの発生と偏りの大きさを見やすくするため、所要時間の時経列グラフとヒストグラムを並べて表示する。所要時間の時系列グラフは、露光装置１００の動作のなされた時刻と動作の所要時間との対応を示す図である。所要時間のヒストグラムは、動作の所要時間の度数分布を示すものである。本実施形態では、指定された時刻によって当該時刻以前の期間（過去）と当該時刻より後の期間（現在）との２つの期間に区分される。そして、過去と現在のヒストグラムを重ねて相互に比較可能な形式で表示し、偏り状況の変化を比較し、所要時間区間ごとにジョブ名のリストを出すことができる。本実施形態では、２つの期間に区分したが、3つ以上の期間に区分することも可能である。
【００３１】
図３は、第1の実施形態を実施する流れを示した図である。オペレータは、先ず、フィルタリングステップS702で所要時間を表示したい動作項目と、データの期間、装置をフィルタリング条件として指示する。ここで動作項目とは、ウエハやレチクルの搬入出動作、各アライメント計測動作を指す。また、オペレータは、動作項目として１枚目だけなど、特定なウエハ番号で特に所用時間がかかるものなどの所要時間を表示したい場合は、ウエハ番号をフィルタリング条件として指示してもよい。フィルタリング部２２２はフィルタリング条件に従い、データベース２３１より指定された装置の指定された動作項目における１回の動作ごとの動作発生時間、ジョブ名、ウエハ番号、ロット認識ID、所要時間の情報を抽出する。
【００３２】
演算ステップS703で、演算部２２３は、装置ごとに所要時間の集計とヒストグラムの為のデータ集計を行う。所要時間の集計では、オペレータは、所要時間をウエハ毎、もしくは、ロット毎に算出するかの条件を動作項目毎に指定する。これは動作項目により、全ウエハで発生する動作や、そうでない動作があることに対応する。オペレータがウエハ毎を指定した場合、演算部２２３は、１ウエハ処理中における各動作項目の所要時間の総計をウエハ毎に演算する。オペレータがロット毎を指定した場合、演算部２２３は、１ロット処理中における各動作項目の所要時間総計をロット毎に演算する。
【００３３】
ヒストグラムの為のデータ集計ではヒストグラムの区間が集計条件として入力される。例えばヒストグラムは、動作項目毎に所要時間に対し区間を決め、区画ごとのデータ量の比率を示す。この場合、演算部２２３は、指定された期間の全データ個数を母数にし、各区間でのデータ個数の比率を求める。
【００３４】
表示ステップS704で、出力部２３３は、演算ステップS703の処理結果を時系列グラフとヒストグラムを出力する。時系列グラフは、ロット毎、もしくはウエハ毎に算出された所要時間をロットもしくはウエハの処理動作がなされた時刻との対応を示す時系列で表示される。
【００３５】
画面操作ステップS705で、オペレータは、過去と現在とのヒストグラムを演算するために必要な、過去の期間と現在の期間とを切り分ける時刻を指定する。
【００３６】
図４は期間を切り分ける時刻を指定の画面操作の例を示した図である。例えば、オペレータがマウスを操作し、マウスポインタで時系列グラフ上の位置をクリックすると、その位置の時刻が切り分け時刻となる。演算部２２３はその位置の時刻で期間を前後に分け、それぞれの期間のヒストグラムを計算し、出力部２３３は、それらを重ねて相互に比較可能な形式で表示する。図４では前の期間を線グラフ、後の期間を棒グラフでヒストグラムを示している。
【００３７】
また、画面操作ステップS705で、オペレータは、所要時間内のジョブ名一覧を出す為、特定の所要時間区間を指定する。
【００３８】
図５はオペレータが特定の所要時間区間を指定する画面操作を示す。例えば、オペレータがマウスを操作し、マウスポインタでヒストグラム上のグラフの一部をクリックすると、その位置に対応する区間が特定の所要時間区間となる。演算部２２３は、所要時間がその特定区間内のジョブ名ごとのロット数を集計し、出力部２３３は、図６のような所要時間に関係するパラメータ設定値と共に結果を表示する。
【００３９】
これにより、使用者は所要時間の偏りの発生時期を時経列グラフで知り、続けて偏り度合いをヒストグラムで確認できる。さらに偏りを引き起こしているジョブ名を特定できることで、設定パラメータの確認が必要なジョブを簡単に見つけ出すことができる。
【００４０】
〔第２の実施形態〕
本発明に係る第２の実施形態を説明する。第２の実施形態では、情報処理装置２０２が接続されている露光装置１００と、当該情報処理装置２０２に接続されていない他の1つ以上の露光装置とで所要時間のヒストグラムを比較する。例えば、当該情報処理装置２０２に接続されていない露光装置は、例えば、市場にある大多数の露光装置をいう。他の露光装置における所要時間に基づくヒストグラムは、所要時間の指標値として使用される。
【００４１】
この場合、当該情報処理装置２０２に接続されていない露光装置の各動作項目における所要時間のヒストグラム演算結果は入力部２３２より入力しデータベース２３１に保管される。また、このヒストグラム演算の所要時間区間、所要時間集計単位（ロット単位、又は、ウエハ単位等）、ウエハ番号の指定など集計条件も動作項目ごとに保管される。
【００４２】
情報処理装置２０２における処理の流れを説明する。
【００４３】
フィルタリングステップS702で、オペレータは、フィルタリング条件２４１として所要時間のヒストグラムを表示したい動作項目と装置と、期間を指定する。フィルタリング部２２２は、フィルタリング条件２４１に従い、指定された露光装置１００の指定された動作項目における1回の動作ごとの動作発生時間、ジョブ名、ウエハ番号、ロット認識ID、所要時間の情報をデータベース２３１から抽出する。
【００４４】
また、フィルタリング部２２２は、データベース２３１に保管された、接続されていない露光装置のヒストグラム演算結果より、指定された動作項目におけるヒストグラム演算結果と集計条件も抽出する。
【００４５】
演算ステップS703で、演算部２２３は、抽出された集計条件に従い、所要時間の集計と、ヒストグラムの為のデータ集計を行い、所要時間の度数分布（ヒストグラム）を演算する。
【００４６】
表示ステップS704で、出力部２３３は、演算部２２３が演算したヒストグラムと、フィルタリング部２２２が抽出した接続されていない露光装置のヒストグラムとを重ね、比較可能な形式で表示する。
【００４７】
2つのヒストグラムが重ねて表示されることにより、例えば、ある特定装置の所要時間分布を、データベース２３１に保管された市場の大多数の露光装置での所要時間分布を比較対象として比べることがでる。
【００４８】
また、市場の大多数の露光装置における所要時間分布に基づいて、情報処理装置２０２に接続されている露光装置１００が目標とする所要時間を指標値として定めることができる。
【００４９】
画面操作ステップS705では、作業者が比較対象のヒストグラム分布を見て、指標とする所要時間を指示する。例えば、マウスを操作し、マウスポインタで、ヒストグラムのグラフ上の位置をクリックし、その位置に対応する所要時間区間を指標値とする。演算部２２３は、その所要時間区画より長い時間がかかっている所要時間から改善指標を算出する。図７は指標とする所要時間を指示の画面操作を示した図である。ここでは比較対象の、市場の大多数の露光装置における所要時間分布を線グラフで表し、分析をしたい装置を棒グラフで表している。例えば、クリックした区画が２〜５秒であった場合、５秒を目標値とし、所要時間が５秒以上の総所要時間と、それらが全て５秒であった場合の総時間の差を出し、それをフィルタリング条件で指定した期間の日数で割った値を改善指標とする。
【００５０】
所要時間の改善指標を装置間や、動作項目間で比較することで、所要時間短縮の改善をすべき装置や動作項目が特定できる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図
【図２】本発明の好適な実施形態の露光システムの構成を概略的に示す図
【図３】第1の実施形態による処理の流れについて説明する図
【図４】期間を区分する時刻を指定の画面操作の例を示した図
【図５】特定の所要時間区間を指示する画面操作を示した図
【図６】特定の所要時間区間内のジョブ名ごとのロット数、パラメータ値を集計した図
【図７】目標とする所要時間を指示の画面操作を示した図
【符号の説明】
【００５２】
１００：露光装置
２０１：通信インターフェイス
２０２：情報処理装置
２２１：情報収集部
２２２：フィルタリング部
２２３：演算部
２３０：管理部
２３１：データベース
２３２：入力部
２３３：出力部
２４１：フィルタリング条件
２４２：集計条件
【図１】
2009169624.tif 000003
【図２】
2009169624.tif 000004
【図３】
2009169624.tif 000005
【図４】
2009169624.tif 000006
【図５】
2009169624.tif 000007
【図６】
2009169624.tif 000008
【図７】
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