(57)【要約】【課題】  レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動しても、所望の断面形状及び光量を有する照明光を所定位置に導くことができる導光光学系を提供する。【解決手段】  光源２からの照明光を、該光源とは異なる筐体６に収容された露光装置の光入射窓８に導く導光路を備える導光光学系であって、前記導光路の少なくとも一部を、内面反射によって照明光を伝播する光学部材４により形成した。【選択図】  図１
2009141186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの照明光を、該光源とは異なる筐体に収容された露光装置の光入射窓に導く導光路を備える導光光学系であって、
前記導光路の少なくとも一部を、内面反射によって照明光を伝播する光学部材により形成したことを特徴とする導光光学系。
【請求項２】
前記光学部材は、ロッド形状の光学ガラスを備えることを特徴とする請求項１記載の導光光学系。
【請求項３】
前記光学部材は、筒形状の部材を備えることを特徴とする請求項１記載の導光光学系。
【請求項４】
前記光学部材は、光ファイバを備えることを特徴とする請求項１記載の導光光学系。
【請求項５】
前記光学部材は、入射口の大きさと射出口の大きさが異なることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の導光光学系。
【請求項６】
前記光入射窓は、前記露光装置中に設けられて前記照明光に基づいて所定のパターンを照明する照明光学系の最も光源側に位置する光学部材であることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の導光光学系。
【請求項７】
前記光入射窓の前記光学部材は、入射光束の断面形状を変換して前記照明光学系の瞳面に所定の光強度分布を形成することを特徴とする請求項６記載の導光光学系。
【請求項８】
前記光入射窓の前記光学部材は、回折光学素子又はフライアイレンズであることを特徴とする請求項７記載の導光光学系。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８の何れか一項に記載の導光光学系を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程と
を含むことを特徴とするマイクロデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスを製造するための露光装置に用いられる光源からの照明光を照明光学系へ導く導光光学系、該導光光学系を備えた露光装置及び該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体素子等のマイクロデバイスを製造するための露光装置においては、露光するパターンの高集積化に伴い、露光用の照明光として波長の短いＫｒＦエキシマレーザ（波長約２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ（波長約１９３ｎｍ）が使用されている。エキシマレーザのレーザビームは略平行にレーザ光源から射出されるものの、若干の発散角を有している。従って、従来の露光装置においては、光源から射出されたレーザビームを、複数のレンズから構成される整形光学系を通過させてレーザビームの発散を修正すると共に、露光装置の照明光学系の所定の光学部材に入射する際に所望の断面形状を有する光束となるように拡大整形している。
【０００３】
しかしながら、上述のエキシマレーザを用いる場合には、発光周波数、発光デューティー、射出エネルギー等の発光条件の変化、レーザ光源のレーザ放電チャンバー内のガス状態の変化、あるいは放電電極の磨耗等の構成部品の劣化により、レーザ光源から射出されるレーザビームの断面形状や発散角は短期的、長期的に変動する。射出されるレーザビームにこのような変動が生じると、上述の整形光学系を介してもレーザビームが所定の位置において所定の断面形状を有する光束に整形されなくなる。特に発散角が拡大した場合には、整形光学系により整形された光束の断面の一部が照明光学系の光学有効径から外れてしまい、照明光の光量の損失が生じる。
【０００４】
このような問題を解決するために、レーザ光源から射出されたレーザビームの発散角等の諸性能を検出する検出手段と、レーザビームの正常時の諸性能と該検出手段による検出結果との誤差量に基づいて、整形光学系に入射する前のレーザビームの諸性能を補正する補正手段とを備えたビーム制御装置が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１０−１２９５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述の特許文献１に記載されているビーム制御装置は、レーザ光源から射出されたレーザビームの諸性能を所定の状態に保って、レーザビームの発散角を所定値に保持することができるという効果を有するが、レーザビームの諸性能を検出する種々のモニタや、補正を行うための演算処理ユニット、制御装置や駆動手段が必要であり、装置構成が複雑になる。
【０００６】
本発明の課題は、レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動しても、所望の断面形状及び光量を有する照明光を所定位置に導くことができる導光光学系、該導光光学系を備えた露光装置及び該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
以下に本発明の構成を実施の形態の符号を付して説明するが、本発明は、本実施の形態に限定されるものではない。
【０００８】
本発明の導光光学系は、光源（２）からの照明光を、該光源とは異なる筐体（６）に収容された露光装置の光入射窓（８）に導く導光路を備える導光光学系であって、前記導光路の少なくとも一部を、内面反射によって照明光を伝播する光学部材（４）により形成したことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の露光装置は、本発明の導光光学系を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のマイクロデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程（Ｓ４４）と、前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程（Ｓ４６）と、前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程（Ｓ４８）とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の導光光学系によれば、光源から射出される照明光の発散角が変動した場合であっても、光学部材の射出口から所望の断面形状を有する光束が射出されるので、光量の損失を発生させずに光束を所定位置に導くことができる。
【００１２】
また、本発明の露光装置によれば、光源から射出される照明光の発散角が変動した場合であっても、光量の損失を発生させずに光束を露光装置の光入射窓へ導くことができる導光光学系を備えるため、所望の断面形状及び光量を有する照明光を露光装置の照明光学系に安定して供給することができる。従って、高解像度でかつ高スループットで、マスクのパターンを感光性基板上に露光することができる。
【００１３】
また、本発明のマイクロデバイス製造法によれば、高解像度でかつ高スループットで、マイクロデバイスの製造を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態に係る露光装置について説明する。図１は、この実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。この実施の形態に係る露光装置は、図１に示すように、照明光を射出するレーザ光源２として、例えば波長が約１９３ｎｍの光を射出するＡｒＦエキシマレーザ光源または波長が約２４８ｎｍの光を射出するＫｒＦエキシマレーザ光源を備えている。レーザ光源２から射出されたレーザビームは、光学部材４の入射口４ａに入射する。図２に示すように、導光光学系を構成する光学部材４は、光軸ＡＸの方向に延びる直方体状のロッド形状を有し、石英ガラス等の光学ガラス材料により形成されている。
【００１５】
入射口４ａから光学部材４へ入射したレーザビームは、光学部材４の光軸ＡＸに平行な側面の内側、即ち内面で全反射をしながら光学部材４内を伝播し、光学部材の射出口４ｂから射出する。光学部材４に入射したレーザビームが射出口４ｂから射出される際には、射出口４ｂの形状で規定される断面形状を有する光束に整形される。従って、レーザ光源２から射出されるレーザビームの断面形状や発散角が変動した場合であっても、光学部材４に入射したレーザビームは射出口４ｂによって規定される所定の断面形状を有する光束に整形されて射出されるので、光量の損失を発生させずに光束を後述する露光装置の照明光学系へ導くことができる。
【００１６】
光学部材４を介して所定の断面形状に整形された光束は、筐体６の開口６ａを通過して、開口６ａの近傍に配置された露光装置の光入射窓を構成する回折光学素子（ＤＯＥ）８に入射する。ここで、回折光学素子８は、露光装置に設けられた照明光学系の最も光源側に位置する光学部材である。一般に、回折光学素子は、ガラス基板に照明光の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射した光束を所望の角度に回折する作用を有する。従って、回折光学素子８に入射した光束は、所望の角度に回折されてアフォーカルレンズ１０の照明瞳または該照明瞳の近傍、ひいては露光装置の照明光学系の照明瞳または該照明瞳の近傍に所望の光分布を形成する。ここで、アフォーカルレンズ１０は、その前側焦点位置と回折光学素子８の位置とがほぼ一致し、かつその後側焦点位置と図１において破線で示された所定面１２の位置とがほぼ一致するように設定されたアフォーカル系（無焦点光学系）である。従って、回折光学素子８に入射した光束は、アフォーカルレンズ１０の照明瞳面に所望の光分布を形成した後にアフォーカルレンズ１０から射出される。
【００１７】
アフォーカルレンズ１０を介した光束は、リレーレンズ１４に入射する。上述の所定面１２はリレーレンズ１４の前側焦点位置またはその近傍に配置され、後述するマイクロレンズアレイ１６の入射面はリレーレンズ１４の後側焦点面またはその近傍に配置されている。即ち、リレーレンズ１４は、所定面１２とマイクロレンズアレイ１６の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に配置している。また、所定面１２はアフォーカルレンズ１０の後側焦点位置またはその近傍に位置するため、リレーレンズ１４は、アフォーカルレンズ１０の照明瞳面とマイクロレンズアレイ１６の入射面とを光学的に略共役に配置している。従って、マイクロレンズアレイ１６の入射面上には、アフォーカルレンズ１０の照明瞳面と同様の光分布形状が形成される。
【００１８】
マイクロレンズアレイ１６は、縦横にかつ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子である。マイクロレンズアレイ１６を構成する各微小レンズは、マスク（被照射面）Ｍにおいて形成すべき照野の形状（ひいてはウエハＷ上において形成すべき露光領域の形状）と相似な矩形上の断面を有する。マイクロレンズアレイ１６に入射した光束は、多数の微小レンズにより二次元的に分割され、その後側焦点面（ひいては照明瞳）にはマイクロレンズアレイ１６への入射光束によって形成される照野と略同じ光分布を有する二次光源が形成される。
【００１９】
マイクロレンズアレイ１６の後側焦点面に形成された二次光源からの光束は、マイクロレンズアレイ１６の後側焦点面（射出面）またはその近傍に配置可能に設けられている開口絞り１８を通過する。開口絞り１８は、マイクロレンズアレイ１６の後側焦点面に形成される二次光源の大きさを所定の大きさに制限する例えば虹彩絞り等により構成されており、回折光学素子８により形成される回折光により生じるフレア光を除去する機能を有している。開口絞り１８を介した光束は、コンデンサレンズ２０を介して、マスクブラインドＭＢを重畳的に照明する。
【００２０】
照明視野絞りとしてのマスクブラインドＭＢには、マイクロレンズアレイ１６を構成する各微小レンズの形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。マスクブラインドＭＢの矩形状の開口部を介した光束は、結像光学系２２の集光作用を受けた後、反射鏡２４により反射され、所定のパターンが形成されたマスク（被照射面）Ｍを重畳的に照明する。即ち、結像光学系２２は、マスクブラインドＭＢの矩形状開口部の像をマスクＭ上に形成する。
【００２１】
マスクＭのパターンを透過した光束は、投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるウエハＷ上にマスクＭのパターン像を形成する。こうして、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面内においてウエハＷを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウエハＷの各露光領域にはマスクＭのパターンが逐次露光される。
【００２２】
この第１の実施の形態に係る露光装置によれば、レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動した場合であっても、光学部材の射出口から所望の断面形状を有する光束が射出されるので、光量の損失を発生させずに光束を露光装置の光入射窓を構成する回折光学素子へ導くことができる。従って、所望の断面形状及び光量を有する照明光を露光装置の照明光学系に安定して供給することができるので、高解像度でかつ高スループットで、マスクのパターンを感光性基板上に露光することができる。
【００２３】
次に、図面を参照して、本発明の第２の実施の形態に係る露光装置について説明する。第２の実施の形態に係る露光装置は、第１の実施の形態に係る露光装置の光学部材４を図３に示す円筒形状部材４０に変更した点以外は、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成を備えている。従って、第２の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成については説明を省略し、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成には第１の実施の形態で用いた符号と同一の符号を付して説明を行なう。
【００２４】
図３は、この実施の形態の露光装置に係る導光光学系の概略構成を示す断面図である。図３に示すように、この実施の形態の露光装置は、導光路を構成する光学部材として円筒形状部材４０を備えている。円筒形状部材４０の内面には反射面が形成されており、円筒形状部材４０の内部の中空部を進行する光が円筒形状部材４０の内面において全反射されるように構成されている。
【００２５】
この露光装置においては、レーザ光源２から射出されたレーザビームは、円筒形状部材４０の入射口４０ａから円筒形状部材４０に入射する。円筒形状部材４０に入射したレーザビームは、円筒形状部材４０の内面に形成された反射面で全反射をしながら進行して射出口４０ｂから射出し、筐体６の開口６ａを通過して露光装置の光入射窓を構成する照明光学系の回折光学素子８へ入射する。円筒形状部材４０に入射したレーザビームが射出口４０ｂから射出される際には、射出口４０ｂの形状で規定される断面形状を有する光束に整形される。
【００２６】
この第２の実施の形態に係る露光装置によれば、レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動した場合であっても、円筒形状部材の射出口から所望の断面形状を有する光束が射出されるので、光量の損失を発生させずに光束を露光装置の光入射窓を構成する回折光学素子へ導くことができる。従って、所望の断面形状及び光量を有する照明光を露光装置の照明光学系に安定して供給することができるので、高解像度でかつ高スループットで、マスクのパターンを感光性基板上に露光することができる。
【００２７】
次に、図面を参照して、本発明の第３の実施の形態に係る露光装置について説明する。第３の実施の形態に係る露光装置は、第１の実施の形態に係る露光装置の光学部材４を図３に示す光ファイバ４２、集光レンズ４４及びコンデンサレンズ４６に変更した点以外は、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成を備えている。従って、第３の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成については説明を省略し、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成には第１の実施の形態で用いた符号と同一の符号を付して説明を行なう。
【００２８】
図４は、この実施の形態の露光装置に係る導光光学系の概略構成を示す断面図である。図４に示すように、この実施の形態の露光装置は、導光路を構成する光学部材として光ファイバ４２を備えており、更にレーザ光源２からのレーザビームを光ファイバ４２の入射口４２ａに入射させるための集光レンズ４４及び光ファイバ４２の射出口４２ｂから射出したレーザビームを回折光学素子８へ入射させるコンデンサレンズ４６が導光路に配置されている。
【００２９】
この露光装置においては、レーザ光源２から射出されたレーザビームは、集光レンズ４４によって集光され、光ファイバ４２の入射口４２ａから光ファイバ４２に入射する。光ファイバ４２に入射したレーザビームは、光ファイバ４２の内面で全反射をしながら進行して射出口４２ｂから射出する。射出口４２ｂから射出した光束は、コンデンサレンズ４６によって断面形状が所望の大きさまで変換された後、露光装置の筐体６の開口６ａを通過して露光装置の光入射窓を構成する照明光学系の回折光学素子８に入射する。
【００３０】
この第３の実施の形態に係る露光装置によれば、レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動した場合であっても、光量の損失を発生させずに光束を露光装置の光入射窓を構成する回折光学素子へ導くことができる。従って、所望の断面形状及び光量を有する照明光を露光装置の照明光学系に安定して供給することができるので、高解像度でかつ高スループットで、マスクのパターンを感光性基板上に露光することができる。また、この実施の形態に係る露光装置によれば、光ファイバの形状を変形させる（曲げる）ことができるので、導光光学系の導光路の設計の自由度が増大する。
【００３１】
次に、図面を参照して、本発明の第４の実施の形態に係る露光装置について説明する。第４の実施の形態に係る露光装置は、第１の実施の形態に係る露光装置の光学部材４を図５に示す光学部材４８に変更した点以外は、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成を備えている。従って、第４の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成については説明を省略し、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成には第１の実施の形態で用いた符号と同一の符号を付して説明を行なう。
【００３２】
図５は、この実施の形態の露光装置に係る導光光学系の概略構成を示す断面図である。図５に示すように、この実施の形態の露光装置は、導光路を構成する光学部材として、第１の実施の形態における光学部材４よりも短いロッド形状を有する光学ガラスから形成される光学部材４８を備えている。
【００３３】
この露光装置においては、レーザ光源２から射出されたレーザビームは、所定の発散角を有して進行し、光学部材４８の入射口４８ａから光学部材４８に入射する。光学部材４８に入射したレーザビームは、光学部材４８の内面で全反射をしながら進行して射出口４８ｂから射出し、筐体６の開口６ａを通過して露光装置の光入射窓を構成する照明光学系の回折光学素子８へ入射する。光学部材４８に入射したレーザビームが射出口４８ｂから射出される際には、射出口４８ｂの形状で規定される断面形状を有する光束に整形される。
【００３４】
この第４の実施の形態に係る露光装置によれば、レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動した場合であっても、光学部材の射出口から所望の断面形状を有する光束が射出されるので、光量の損失を発生させずに光束を露光装置の光入射窓を構成する回折光学素子へ導くことができる。従って、所望の断面形状及び光量を有する照明光を露光装置の照明光学系に安定して供給することができるので、高解像度でかつ高スループットで、マスクのパターンを感光性基板上に露光することができる。また、この実施の形態に係る露光装置によれば、短い光学部材を用いることにより、導光光学系の製造コストを低減させることができる。
【００３５】
次に、図面を参照して、本発明の第５の実施の形態に係る露光装置について説明する。第５の実施の形態に係る露光装置は、第１の実施の形態に係る露光装置の光学部材４を図６に示す光学部材５０に変更した点以外は、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成を備えている。従って、第５の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成については説明を省略し、第１の実施の形態に係る露光装置と同一の構成には第１の実施の形態で用いた符号と同一の符号を付して説明を行なう。
【００３６】
図６は、この実施の形態の露光装置に係る導光光学系の概略構成を示す断面図である。図６に示すように、この実施の形態の露光装置は、導光路を構成する光学部材として、レーザビームの入射口５０ａの大きさが射出口５０ｂの大きさよりも大きいロッド形状を有する光学ガラスから形成される光学部材５０を備えている。
【００３７】
この露光装置においては、レーザ光源２から射出されたレーザビームは、光学部材５０の入射口５０ａから光学部材５０に入射する。光学部材５０に入射したレーザビームは、光学部材５０の内面で全反射をしながら進行して射出口５０ｂから射出し、筐体６の開口６ａを通過して露光装置の光入射窓を構成する照明光学系の回折光学素子８へ入射する。光学部材５０に入射したレーザビームが射出口５０ｂから射出される際には、射出口５０ｂの形状で規定される断面形状を有する光束に整形される。
【００３８】
この第５の実施の形態に係る露光装置によれば、レーザ光源から射出されるレーザビームの発散角が変動した場合であっても、光学部材の射出口から所望の断面形状を有する光束が射出されるので、光量の損失を発生させずに光束を露光装置の光入射窓を構成する回折光学素子へ導くことができる。また、光学部材の射出口の形状を、入射口の形状と異なる形状にすることで、照明光の光束の断面形状や強度分布を変化させることができる。従って、所望の断面形状及び光量を有する照明光を露光装置の照明光学系に安定して供給することができるので、高解像度でかつ高スループットで、マスクのパターンを感光性基板上に露光することができる。
【００３９】
なお、上述の第１乃至第５の実施の形態に係る露光装置においては、導光光学系の導光路を構成する光学部材を一つの部材で構成しているが、複数の部材を備える構成にしてもよい。即ち、複数のロッド形状の光学ガラス、円筒形状の部材や光ファイバを組み合わせてもよいし、各部材間にレンズやミラーを配置して、導光光学系の光軸を折り曲げるようにしてもよい。
【００４０】
また、上述の第１乃至第５の実施の形態に係る露光装置においては、導光光学系の導光路を構成する光学部材として、光透過性の光学部材における全反射を利用しているが、この光学部材として中空状部材の内面に反射膜を設け、この反射膜での反射を利用してもよい。
【００４１】
なお、導光光学系の導光路を構成する光学部材において、内面反射を繰り返すようにその長さや入射角を設定して、光強度分布の均一化を行ってもよい。また、上述の第１、第４及び第５の実施の形態における光学部材の断面形状は、上述の形状に限らず、６角形などの多角形や円形、楕円形等であってもよい。更に、第２の実施の形態における筒形状の光学部材は、上述の円筒形状に限らず、多角筒形状であってもよい。また、上述の第１乃至第５の実施の形態に係る露光装置においては、露光装置の照明光学系の最も光源側に位置する光学部材として回折光学素子を配置しているが、フライアイレンズを配置してもよい。
【００４２】
次に、上述の実施形態に係る露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法について説明する。図７は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。この図に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウエハＷに金属膜を蒸着し（ステップＳ４０）、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する（ステップＳ４２）。続いて、各実施形態の投影露光装置を用い、レチクル（マスクＭ）に形成されたパターンの投影像をウエハＷ上の各ショット領域に転写し（ステップＳ４４：露光工程（照明工程、投影工程））、この転写が終了したウエハＷの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う（ステップＳ４６：現像工程）。その後、ステップＳ４６によってウエハＷ表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウエハＷ表面に対してエッチング等の加工を行う（ステップＳ４８：加工工程）。
【００４３】
ここで、レジストパターンとは、各実施形態の投影露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップＳ４８では、このレジストパターンを介してウエハＷ表面の加工を行う。ステップＳ４８で行われる加工には、例えばウエハＷ表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップＳ４４では、各実施形態の投影露光装置は、フォトレジストが塗布されたウエハＷを感光性基板としてパターンの転写を行う。
【００４４】
図８は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。この図に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）、セル組立工程（ステップＳ５４）およびモジュール組立工程（ステップＳ５６）を順次行う。
【００４５】
ステップＳ５０のパターン形成工程では、プレートとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、各実施形態の投影露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、各実施形態の投影露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。ステップＳ５２のカラーフィルタ形成工程では、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）に対応する３つのドットの組をマトリクス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。ステップＳ５４のセル組立工程では、ステップＳ５０によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップＳ５２によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップＳ５６のモジュール組立工程では、ステップＳ５４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。
【００４６】
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】第１の実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】第１の実施形態に係る露光装置の導光光学系の概略構成を示す断面図である。
【図３】第２の実施形態に係る露光装置の導光光学系の概略構成を示す断面図である。
【図４】第３の実施形態に係る露光装置の導光光学系の概略構成を示す断面図である。
【図５】第４の実施形態に係る露光装置の導光光学系の概略構成を示す断面図である。
【図６】第５の実施形態に係る露光装置の導光光学系の概略構成を示す断面図である。
【図７】実施の形態に係るマイクロデバイスとしての半導体デバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図８】実施の形態に係るマイクロデバイスとしての液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４８】
２…レーザ光源、４…光学部材、４ａ，４０ａ，４２ａ，４８ａ，５０ａ…入射口、４ｂ，４０ｂ，４２ｂ，４８ｂ，５０ｂ…射出口、６…筐体、６ａ…開口、８…回折光学素子（ＤＯＥ）、１０…アフォーカルレンズ、１２…所定面、１４…リレーレンズ、１６…マイクロレンズアレイ、１８…開口絞り、２０…コンデンサレンズ、２２…結像光学系、２４…反射鏡、４０…円筒形状部材、４２…光ファイバ、４４…集光レンズ、４６…コンデンサレンズ、４８…光学部材、５０…光学部材、ＡＸ…光軸、ＭＢ…マスクブラインド、Ｍ…マスク、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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