(57)【要約】【課題】凸版印刷法によって有機機能性素子を形成する際に、容易に印刷条件に適した隔壁基板の画素形状と、印刷方法の関係を明らかにすることにより、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような製造方法を提供する。【解決手段】隔壁の開口部に有機発光媒体層を形成した有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法であって、画素の周辺を隔壁で格子上に囲んだ基板の画素領域が長辺と短辺を有する矩形であり、少なくとも一層の有機発光媒体層を、凸版を配置した版胴を回転させ、前記画素領域の長辺方向に順次印刷形成することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法とする。【選択図】図４
2009099440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁の開口部に有機発光媒体層を形成した有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法であって、
画素の周辺を隔壁で格子上に囲んだ基板の画素領域が長辺と短辺を有する矩形であり、少なくとも一層の有機発光媒体層を、凸版を配置した版胴を回転させ、前記画素領域の長辺方向に順次印刷形成することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記凸版は、前記長辺方向に平行なストライプ状の表面パターンを有することを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネセンス素子の製造方法。
【請求項３】
前記画素領域の短辺の長さをａ、短辺方向での隔壁幅をｃとしたとき、前記凸版の線幅ｘがａ＜ｘ＜ａ＋ｃとなることを特徴とする請求項２に記載のエレクトロルミネセンス素子の製造方法。
【請求項４】
前記基板の印刷方向と直行する隔壁の高さが、０．５〜５μｍであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス素子を用いたディスプレイの解像度が５０ｐｐｉ〜４００ｐｐｉの範囲であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細ディスプレイの製造方法に関するものであり、詳しくは、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子などの精密部品製造用の基板等の被印刷体に、インキ化した材料を凸版印刷法でパターン印刷し、高精細ディスプレイを製造する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極基板の間に、有機発光材料からなる有機発光層を形成し、有機発光層に電流を流すことにより発光させるものであるが、効率良く発光させるには、有機発光層の膜厚のコントロールが重要であり、例えば膜厚１００ｎｍ程度に極めて薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには、高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
基板等に形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は、基板に抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほど、パターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では基板等に形成する有機発光材料に高分子材料を用い、この有機発光材料を溶剤に溶かしてインキ化して塗工インキ液にした後、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたり、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分けパターニングを得意とする印刷法でのパターン印刷による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
一方、高分子系発光材料を用いてフルカラー化するために有機発光層をパターニングする手段としては、主にインキジェット法によるパターン形成方法と、印刷版を用いたパターン形成方法が採用されている。例えば、特開平１０−１２３７７号公報に開示されているインキジェット法によるパターン形成方法は、インキジェットノズルから溶剤に溶かした発光層形成用材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることで所望のパターンを得る方法である。
【０００６】
しかしながら、ノズルから噴出されたインキ液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインキが円形状に広がり、形成されたパターンの形状が直線性に欠けたり、あるいは着弾精度が悪くなってパターンの直線性が得られないという問題点がある。
【０００７】
これに対し、例えば、特開２００２−３０５０７７号公報には、予め基板上にフォトリソグラフィなどにより撥インキ性のある材料でバンクを形成し、そこにインキ液滴を着弾させることで、バンクの部分でインキをはじかせ、直線性のパターンを得られるようにした方法が開示されている。しかし、バンクの部分ではじかれたインキが画素内に戻るときに画素内部で盛り上がり、画素内の有機発光層の膜厚にばらつきができてしまうという問題がある。
【０００８】
そこで、低分子系有機発光材料にかえて、高分子系有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、このインキを用い、凸版印刷法、反転印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法によりパターニングする方法が提案されている。特に凸版印刷による方法はパターン形成精度、膜厚均一性などに優れ、印刷による有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法として適している。
【０００９】
さらに、各種印刷法の中でも、有機ＥＬ素子やディスプレイでは、基板としてガラス基板を用いることが多いため、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きである。そのために、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適正な印刷法として採用することができる。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷による  パターン印刷方法（特許文献１）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献２、３）などが提唱されている。
【００１０】
このような凸版印刷法による有機エレクトロルミネッセンス素子の作製は以下のようにして行う。すなわち、まず、高分子系有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、微細な正方あるいは六方格子のマトリクス状の規則的な孔を有するアニロックスロールのロール表面に塗布する。次に、アニロックスロール表面の余分なインキをドクターブレードでかきとることによって、アニロックスロールの単位面積あたりのインキの塗  布量を均一にする。そして、有機エレクトロルミネッセンス素子の画素の形状に対応して設けられている画像形成部を有する印刷版の画像形成部にアニロックスロール上のインキを版の凸部に転移させ、最後に、この印刷版の画像形成部上のインキ薄膜を基板上に転移させることで有機発光層を形成する。
【００１１】
次に被印刷物として使用される基板について説明する。基板は、既に画素電極（第一電極２）、取り出し電極、ＴＦＴ回路を保護するためのＳｉＮｘ膜からなる絶縁層およびポリイミドからなる絶縁層を備え、当該ポリイミドからなる絶縁層は画素を仕切るように形成されている。
【００１２】
基板の画素部は、ポリイミドからなる絶縁層で四方を段差で囲われており、有機機能性材料を印刷法によって５０ｐｐｉ〜４００ｐｐｉの高精細なストライプに成膜する場合、印刷方向に直行する方向の隔壁が高く、画素幅が印刷方向に対して狭いと版の凸部と基板の画素部が接触せずインク転写が不可能になってしまう。また、隔壁の高さ、画素が接触するに十分であって、基板画素部に凸版が接触したとしても、印刷の進行方向にある程度、画素部と版の接触している面積と時間が十分でないと、画素内に均一にパターニングが困難である。
【００１３】
一方、版のパターンをドット状にして画素部のみに直接印刷する方法では、画素部のみに転写可能だが、高精細パターニングになると、アニロックスから版への転写後に版に乗っているインクの量が少なくなるため乾燥など影響を大きく受け、画素内膜形状の悪化が起こり、パネル全体の均一性が出ない。
【００１４】
また、転写時間を長くするため版胴の転動の速度を遅くする方法もあるが、生産のスループットが遅くなり生産性の効率が悪くなるという問題が生じた。
【００１５】
関連する特許文献を以下に掲げる。
【特許文献１】特開２００１−１８９１９２号公報
【特許文献２】特開２００７−２５８１４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
凸版印刷法によって有機機能性素子を形成する際に、容易に印刷条件に適した隔壁基板の画素形状と、印刷方法の関係を明らかにすることにより、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するために為された請求項１に係る発明は、隔壁の開口部に有機発光媒体層を形成した有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法であって、画素の周辺を隔壁で格子上に囲んだ基板の画素領域が長辺と短辺を有する矩形であり、少なくとも一層の有機発光媒体層を、凸版を配置した版胴を回転させ、前記画素領域の長辺方向に順次印刷形成することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法である。画素の長辺方向に沿って印刷することで、基板と版の接触時間をより長く持続させられることと、平板に版胴を回転させて印刷する場合、開口部の幅が長いほど版面と印刷面との距離が近づけられることから、良好な転写が行える。
【００１８】
また請求項２に係る発明は、前記凸版が、前記長辺方向に平行なストライプ状の表面パターンを有することを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネセンス素子の製造方法である。隔壁を有しているため、その開口部にのみ有機層を形成することができ、かつ表面パターンがストライプ状であることから、位置合わせが容易である。
【００１９】
また請求項３に係る発明は、前記画素領域の短辺の長さをａ、短辺方向での隔壁幅をｃとしたとき、前記凸版の線幅ｘがａ＜ｘ＜ａ＋ｃとなることを特徴とする請求項２に記載のエレクトロルミネセンス素子の製造方法である。これにより十分なインキ量が確保されるために画素領域全面に渡って均一なパターン形成が可能となり、また隣り合う画素の一方に画素幅ぎりぎりまで版が寄った場合でも、隣り合う画素にインキが流入しないことから、位置合わせの許容度が広がり、アライメントが容易になる。
【００２０】
また請求項４に係る発明は、前記基板の印刷方向と直行する隔壁の高さが、０．５〜５μｍであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。これにより基板の画素と版の凸部との接触が十分行き届くことができる。
【００２１】
また請求項５に係る発明は、請求項１から４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス素子を用いたディスプレイの解像度が５０ｐｐｉ〜４００ｐｐｉの範囲であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法である。これにより品質の優れた有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の製造方法によれば、画素の長辺と短辺を適切に設定しており、印刷方向と画素の長辺方向が平行なため、印刷用凸版の凸状部の頂部面が画線部に十分接触する。そのためインキが画素内に均一に全面にムラなく高精細にパターニングすること可能になり、欠陥のない均一性に優れた高精細な有機エレクトロルミネッセンスを得ることができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
＜有機ＥＬ素子＞
本発明の有機ＥＬ素子について説明する。なお、本発明に係る有機ＥＬ素子及びその製造方法は、以下に説明する実施に限定されるものではない。また、以下、本実施の形態をアクティブマトリックス駆動型の有機ＥＬディスプレイパネルに適用した例について説明する。有機ＥＬ素子の駆動方法としては、パッシブマトリックスとアクティブマトリックスがあるが、本実施の形態における有機ＥＬ素子は、パッシブマトリックス方式またはアクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子のどちらにも適用可能である。
【００２４】
また、本発明の有機ＥＬ素子は光の取り出し方向についても、基板側、封止側のどちらにも適用可能である。すなわち、本発明の有機ＥＬ素子は、基板側から発光した光を取り出すボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子、基板の反対側から発光した光を取り出すトップエミッション方式の有機ＥＬ素子のいずれにも適用可能である。さらに、本発明の有機ＥＬ素子は、両側から発光した光を取り出す透明有機ＥＬ素子にも適用可能である。
【００２５】
本発明では、基板と、基板上に画素電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、対向電極を設けたものを有機ＥＬ素子基板とする。また、該有機ＥＬ素子基板上に必要に応じて水蒸気バリア層等を設け、接着剤を介して封止基材と有機ＥＬ素子基板を張り合わせることによって封止をおこなったものを有機ＥＬ素子とする。図１に本発明の有機ＥＬ素子基板
の説明断面図を示した。
【００２６】
図１に示すように、有機ＥＬディスプレイパネルは、ＴＦＴ基板１の上に、陽極として第一電極２を有している。隔壁７は第一電極２間に設けられ、第一電極２の端部のバリ等よるショートを防ぐことを目的として第一電極２の端部を覆うことが好ましい。
【００２７】
そして、有機ＥＬディスプレイパネルは、第一電極２上であって、隔壁７で区画された領域（発光領域Ｌ、画素部）に有機発光層及び発光補助層を有している。電極間に挟まれる層は、有機発光層単独から構成されたものであってもよいし、有機発光層と発光補助層との積層構造から構成されたものでもよい。発光補助層としては正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層が挙げられる。図１では発光補助層である正孔輸送層３と有機発光層（４１、４２、４３）との積層構造からなる構成を示している。第一電極２上に正孔輸送層３が設けられ、正孔輸送層３上に赤色（Ｒ）有機発光層４１、緑色（Ｇ）有機発光層４２、青色（Ｂ）有機発光層４３がそれぞれ設けられている。本実施の形態では、これら複数（実施例では３つ）の有機発光層４１、４２、４３を、後述するように本発明に係るパターン形成方法により形成することができる。
【００２８】
次に、有機発光媒体層上に陽極である第一電極２と対向するように陰極（陰極層）として第二電極５が配置される。第二電極５は、有機ＥＬディスプレイパネル全面に形成される。更に、環境中の水分、酸素の第一電極２、有機発光層４１、４２、４３、発光補助層、第二電極５への侵入を防ぐために有効画素全面に対してガラスキャップ８等による封止体が設けられ、接着剤９を介してＴＦＴ基板１と貼りあわされる。
【００２９】
次にＴＦＴ基板１について説明する。
図２は、ＴＦＴ基板１の説明断面図である。ＴＦＴ基板１は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１２０上に、平坦化層１１７が形成してあるとともに、平坦化層１１７上に有機ＥＬディスプレイパネルの下部電極（第一電極２）が設けられており、かつ、ＴＦＴ１２０と下部電極とが平坦化層１１７に設けたコンタクトホール１１８を介して電気接続してあることが好ましい。このように構成することにより、ＴＦＴ１２０と、有機発光媒体層（正孔輸送層３、有機発光層４１、４２、４３）との間で、優れた電気絶縁性を得ることができる。
【００３０】
ＴＦＴ１２０や、その上方に構成される部分は支持体１１１で支持される。支持体としては機械的強度や、寸法安定性に優れていることが好ましい。支持体１１１の材料としては、例えば、ガラス基板や石英基板が使用できる。また、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートであっても良い。これら、プラスチックフィルムやシートに、有機発光媒体層への水分の侵入を防ぐことを目的として、金属酸化物薄膜、金属弗化物薄膜、金属窒化物薄膜、金属酸窒化膜薄膜、あるいは高分子樹脂膜を積層したものを利用してもよい。
【００３１】
ゲート絶縁膜１１３としては、通常、ゲート絶縁膜として使用されているものを用いることができ、例えば、ＰＥＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法等により形成されたＳｉＯ２  、ポリシリコン膜を熱酸化して得られるＳｉＯ２  等を用いることができる。
【００３２】
ゲート電極１１４としては、通常、ゲート電極として使用されているものを用いることができ、例えば、アルミ、銅等の金属、チタン、タンタル、タングステン等の高融点金属、ポリシリコン、高融点金属のシリサイド、ポリサイド等が挙げられる。
【００３３】
ＴＦＴ１２０は、シングルゲート構造、ダブルゲート構造、ゲート電極が３つ以上のマルチゲート構造であってもよい。また、ＬＤＤ構造、オフセット構造を有していてもよい。さらに、１つの画素中に２つ以上の薄膜トランジスタが配置されていてもよい。
【００３４】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、有機ＥＬディスプレイパネルのスイッチング素子として機能するように接続されている必要があり、トランジスタのドレイン電極１１６と有機ＥＬディスプレイパネルの画素電極（第一電極２）が電気的に接続されている。さらにトップエミッション構造をとるための画素電極は一般に光を反射する金属が用いられる必要がある。
【００３５】
ＴＦＴ１２０とドレイン電極１１６と有機ＥＬディスプレイパネルの画素電極（第一電極２）との接続は、平坦化膜１１７を貫通するコンタクトホール１１８内に形成された接続配線を介して行われる。
【００３６】
平坦化膜１１７の材料についてはＳｉＯ２  、スピンオンガラス、ＳｉＮ（Ｓｉ３Ｎ４）、ＴａＯ（Ｔａ２Ｏ５）等の無機材料、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フォトレジスト材料、ブラックマトリックス材料等の有機材料等を用いることができる。これらの材料に合わせてスピンコーティング、ＣＶＤ、蒸着法等を選択できる。必要に応じて、平坦化層として感光性樹脂を用いフォトリソグラフィの手法により、あるいは一旦全面に平坦化層を形成後、下層のＴＦＴ１２０に対応した位置にドライエッチング、ウェットエッチング等でコンタクトホール１１８を形成する。コンタクトホールはその後導電性材料で埋めて平坦化層上層に形成される画素電極との導通を図る。平坦化層の厚みは下層のＴＦＴ、コンデンサ、配線等を覆うことができればよく、厚みは数μｍ、例えば３μｍ程度あればよい。
【００３７】
開口部画素は図３に示すように、周辺部を隔壁７で格子上に囲んだ矩形であり、短辺、長辺をそれぞれａ，ｂとした時、ａ／ｂが０．９５〜０．１の範囲である画素パターンを有することが好ましい。また前記基板の印刷方向と直行する隔壁７の高さが、０．５〜５μｍであることが好ましい。基板の画素と版の凸部との接触が十分行き届くことができるからである。
【００３８】
＜有機ＥＬ素子の形成方法＞
次に、ＴＦＴ基板１上に有機発光媒体層、陰極、封止層を形成し、有機ＥＬ素子を形成する方法について説明する。
【００３９】
本発明に用いられるＴＦＴ基板１は、各画素がポリイミドなどの絶縁材料からなる隔壁７によって仕切られており、よって画素電極（第一電極２）上で独立したマトリックス状の開口部を有することになる。本発明では、この開口部画素に対して、少なくとも一層の有機発光媒体層を、凸版印刷法を用いて形成する。
【００４０】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法における特徴の一つは、図４に示したように、画素の長辺方向に順次有機層を印刷形成することである。これは、画素の長辺方向に沿って印刷することで、基板と版の接触時間をより長く持続させられることと、平板に版胴を回転させて印刷する場合、開口部の幅が長いほど版面と印刷面との距離が近づけられることから、良好な転写が行えるためである。つまり、５０〜４００ｐｐｉの範囲の高精細のディスプレイを作製するにあたって、凸版から画素へ均一に十分な量を転写するためには、版が転動し基板への接触する際、版の凸部と画素との接触時間と距離をある程度持続することで成り立つ。そのためには、印刷方向と平行に長辺を持つ矩形な画素の形状が最良であると考えられるのである。
【００４１】
さらに本発明では、図３（ａ）に示すように、上記マトリックス状の開口部画素に対して、ストライプ状の表面パターンを有する凸版でもって有機発光媒体層パターンを印刷形成することを特徴とする。隔壁を有しているため、その開口部にのみ有機層を形成することができ、かつ表面パターンがストライプ状であることから、位置合わせが容易である。特に、フルカラーの有機ＥＬディスプレイを製造する場合には、有機発光層を各色画素に塗り分ける必要が生じるため、本発明の方法が有効である。  以上のような本発明の様態を示したのが図４である。
【００４２】
また、画素の短辺の幅ａと、短辺方向での隔壁幅ｃ、ストライプ状の凸版表面パターンの線幅ｘとしたとき、線幅ｘがａ＜ｘ＜ａ＋ｃの関係となっていることが望ましい。線幅が印刷方向の画素幅よりも大きいことで、十分なインキ量が確保されるために画素領域全面に渡って均一なパターン形成が可能となる。また線幅が印刷方向の画素幅と印刷方向の隔壁幅の和よりも小さければ、図５（ｂ）に示すように、（ａ）のように版と画素が完全に中央にアライメントされた場合はもちろん、（ｂ）のように、隣り合う画素の一方に画素幅ぎりぎりまで版が寄った場合でも、隣り合う画素にインキが流入しないことから、位置合わせの許容度が広がり、アライメントが容易になる。
【００４３】
次に有機発光媒体層の形成方法について詳細に説明する。以下の説明では、特に発光層について上述の有機発光媒体層の形成方法を適用した場合を示すが、正孔輸送層、電子輸送層等、いずれの有機発光媒体層についても用いることが可能である。
【００４４】
図２に示したＴＦＴ基板１を用いて、まず正孔輸送層を形成する。正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）の混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）が挙げられる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法で全面塗布して薄膜形成できる。
【００４５】
正孔輸送層形成後に、有機発光層を形成する。
有機発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機発光インキとすることができる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶媒が有機発光材料の溶解性の面から好適である。
【００４６】
有機発光層の形成方法は、水現像タイプの樹脂凸版（凸版）を用いて凸版印刷法で行うことができる。本発明における樹脂版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００４７】
樹脂凸版に用いられる基材は凸部を形成する合成樹脂材料とは異なる材料で形成されている。基材としては、印刷に対する機械的強度を有すれば良く、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂、鉄や銅、アルミニウムといった公知の金属、またはそれらの積層体を用いることができる。なお、本発明に使用する樹脂凸版を構成する基材としては、樹脂部分の寸法変化を抑えるのに十分な剛性をもっていることと、基材自身も寸法変化しにくいことが要求される。また、有機発光インキに含まれる有機溶剤への耐性が高いものが望ましい。したがって、基材として用いられる材料としては金属材料が好適に使用される。また、金属からなる基材の中でも、加工性、経済性からスチール基材やアルミ基材が好適である。
【００４８】
さらに、樹脂版が寸法変化を起こす要因として、温度変化による寸法変化が考えられるが、これについても基材自身が温度による寸法変化起こしにくいものであれば、版としての寸法変化も抑えることが可能であり、よって使用する基材としては熱膨張係数の小さいものが望ましい。基材に用いられる材料の熱膨張係数は、好ましくは２．０×１０−５  ／Ｋ以下であり、更に好ましくは、３．０×１０−６  ／Ｋ以下である。鉄等の金属は、熱膨張係数１．０×１０−４  ／Ｋ以上のポリエステルフィルムに比べると十分に低い熱膨張係数を示し、この点からも本発明の樹脂版の基材２００として適する。ちなみに鉄の熱膨張係数は１．２×１０−５  ／Ｋである。さらに、鉄とニッケル系の合金は鉄よりも低い熱膨張率を示し、中でも鉄６４％、ニッケル３６％の比率の合金は、鉄や一般的な金属の１０分の１以下の熱膨張率を示し、最も好適な合金である。
【００４９】
有機発光インキに用いられる溶媒としては芳香族系の有機溶剤が好適に使用される。芳香族系の有機溶剤を代表するトルエンの溶解度パラメータ（以下、ＳＰ値）は８．９であり、キシレンのＳＰ値は８．８である。対して、水溶性の樹脂材料であるポリアミド（ナイロン）のＳＰ値は１３．６、ポリビニルアルコールのＳＰ値は１２．６、セルロースのＳＰ値は１５．７であり、トルエン、キシレンのＳＰ値と十分に離れていることから、これらの水溶性樹脂はトルエン、キシレンといった芳香族系の有機溶剤に対して十分な耐性を持っていることが分かる。
【００５０】
また加工が容易であることから樹脂材料としては感光性樹脂を用いることが望ましい。例えば、ポリマーと不飽和結合を含むモノマーと光重合開始材を構成要素とする感光性樹脂が挙げられる。このとき、ポリマーとしては、先ほど示した理由と同じく、水溶性であることが好ましく、ポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体、アクリル樹脂を用いることができる。また、不飽和結合を含むモノマーとしては例えばビニル結合を有するメタクリレート類を用いることができ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物を用いることができる。
【００５１】
また、本発明の樹脂凸版における、凸部の形成方法としてフォトリソグラフィ法以外に、レーザーアブレーション法や切削加工により凸部を形成することも可能である。
【００５２】
有機発光層の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。凸版印刷機は、インクタンクとインキチャンバーとアニロックスロールと樹脂凸版を取り付けした版胴を有している。インクタンクには、溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、インキチャンバーにはインクタンクより有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロールは、インキチャンバーのインキ供給部及び版胴に接して回転するようになっている。
【００５３】
アニロックスロールの回転にともない、インキチャンバーから供給された有機発光インキはアニロクスロール表面に均一に保持されたあと、版胴に取り付けされた樹脂凸版の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板（ＴＦＴ基板１）は摺動可能な基板固定台上に固定され樹脂凸版の凸部のパターンと被印刷基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴の回転に合わせて樹脂凸版の凸部が被印刷基板に接しながらさらに移動し、ステージ上にある被印刷基板の所定位置にパターニングして有機発光インキを転移する。
【００５４】
その際、版胴の転動方向と版のストライプ方向、また、画素の長辺方向は、平行である状態で印刷することで、画素との接触の時間と距離を進行方向にある程度持続することができ、画素内の膜厚の均一性と、パターンの全面の均一性を可能にする。
【００５５】
図１に示すように、有機発光層（赤色（Ｒ）有機発光層４１、緑色（Ｇ）有機発光層４２、青色（Ｂ）有機発光層４３）の形成後、陰極層（第二電極５）を形成する。
陰極層（第二電極５）の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層（第二電極５）の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ８と接着剤９を用いて密封封止し、有機ＥＬディスプレイパネルを得ることができる。
【実施例】
【００５６】
次に、本発明の実施例を説明する。
本実施例においては、既に画素電極（第一電極２）、取り出し電極、ＴＦＴ回路を保護するためのＳｉＮｘ膜からなる絶縁層およびポリイミドからなる絶縁層を備え、当該ポリイミドからなる絶縁層は画素を仕切るように形成されており、よって各画素の隔壁７としても機能するようなＴＦＴ基板１を用いて、その上に正孔輸送層３、発光層、陰極（第二電極５）を順次形成して、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
【００５７】
このとき、隔壁７で仕切られた画素開口部Ｐ１の底面は、ａ＝３０μｍ、ｂ＝１２０μｍの長方形状であった。つまり画素の長辺と短辺の比率０．４であった。
【００５８】
正孔輸送層３は、ＴＦＴ基板１上にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの水分散液をスピンコート法で塗布して膜厚５０ｎｍの薄膜を得ることで形成した。発光層は有機発光材料であるポリフルオレン系のＲ材料、Ｇ材料、Ｂ材料をそれぞれ濃度１％になるようにトルエンに溶解させたＲ、Ｇ、Ｂ３色の有機発光インキを用い、凸版で、各画素にＲ、Ｇ、Ｂを塗り分けて、凸版印刷法で印刷した。このとき、発光層の印刷には水現像タイプの感光性樹脂版を使用した。この版表面に対する発光材料インキの接触角は１０度以下であった。
凸版を巻きつけた版胴をストライプ状の凸版画像形成部のストライプ方向に転動させて画素長辺と平行に印刷し、ストライプの凸部が画素形状の中央に転写させた。
【００５９】
その上にＣａ、Ａｌからなる陰極層（第二電極５）を抵抗加熱蒸着法により真空蒸着し
て形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ８と接着剤９を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００６０】
得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらのドライバーを介して駆動装置に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。画素内の膜厚均一性も良く、パネル点灯もムラなく発光した。
【００６１】
（比較例１）
操作方法は、実地例１と同様であるが、ＴＦＴ基板の画素幅が、ａが１２０μｍ  ｂが３０μｍの場合。ａ／ｂ＝４  図４に示す。
【００６２】
（比較例２）
操作方法は、実施例１と同様であるが、ＴＦＴ基板の隔壁が５０μｍの場合。
【００６３】
＜比較結果＞
比較例１  基板に版の凸部が接触せず転写不可箇所があった。パネル点灯もムラが発生した。
比較例２  隔壁に乗り上げて基板へ版が接触せず転写不良。パネル点灯もムラが発生した。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】有機ＥＬディスプレイパネルの説明断面図である。
【図２】ＴＦＴ基板１の説明断面図である。
【図３】画素のストライブ配列説明図であり、短辺と長辺をそれぞれａ，ｂで示し画素の周りの隔壁と（ａ）実施例１と（ｂ）比較例１の印刷方向を示した。
【図４】本発明における印刷工程を説明する説明図である。
【図５】本発明における凸版の線幅と画素幅の関係を示す説明図である。
【符号の説明】
【００６５】
１…ＴＦＴ基板、２…陰極、３…正孔輸送層、５…陽極、７…隔壁、１４ａ…有機発光インキ、４１…赤色有機発光層、４２…緑色有機発光層、４３…青色有機発光層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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