(57)【要約】【課題】表示品質が良好であり、且つ、狭額縁化が可能な表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】アクティブエリア１２において、自発光素子を備えた第１基板１０と、第１基板１０の自発光素子側に対向して配置されるとともに、凹部８０と、凹部８０を規定する枠状の周縁部１２０と、を有する第２基板２０と、第１基板１０と第２基板２０の周縁部１２０とを貼り合わせるシール材３０と、第２基板２０の凹部において、アクティブエリア１２の外側に配置された乾燥剤ＤＡと、を備え、凹部８０は、複数の側面８３によって囲まれた第１凹部８１と、第１凹部８１を囲む２つの側面８３を接続するとともに第１凹部８１より外側に向かって突出した接続面１１０によって囲まれた第２凹部８２と、を有することを特徴とする。【選択図】図４Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブエリアにおいて、自発光素子を備えた第１基板と、
前記第１基板の前記自発光素子側に対向して配置されるとともに、凹部と、前記凹部を規定する枠状の周縁部と、を有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の前記周縁部とを貼り合わせるシール材と、
前記第２基板の前記凹部において、前記アクティブエリアの外側に配置された乾燥剤と、を備え、
前記凹部は、複数の側面によって囲まれた第１凹部と、前記第１凹部を囲む２つの側面を接続するとともに前記第１凹部より外側に向かって突出した接続面によって囲まれた第２凹部と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第２凹部は、前記第１凹部より深い深さを有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記自発光素子から放射された光を前記第２基板側から取り出すトップエミッションタイプであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記接続面は、少なくとも１つの曲面からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記接続面は、少なくとも２つの平面からなることを特徴とする請求項１の表示装置。
【請求項６】
前記自発光素子は、
アクティブエリアにおいて、画素毎に独立島状に配置された第１電極と、
前記第１電極より前記第２基板側に配置され、光透過性を有する第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に保持された有機活性層と、によって構成された有機ＥＬ素子であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示装置に係り、特に、自発光素子を含んで構成される表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光素子である有機ＥＬ素子を備えていることから、視野角が広く、バックライトを必要とせずに薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。
【０００３】
このような有機ＥＬ表示装置は、基板上において陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む有機活性層を保持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成されている。しかしながら、有機ＥＬ素子に用いられる材料、特に、有機活性層を構成する材料には、水分や酸素により劣化しやすいものが含まれる。基板上に有機ＥＬ素子を形成しただけの構成の場合、水分や酸素により、短時間のうちにダークスポット、画素シュリンケージと呼ばれる点灯しない領域が発生し、また、このような領域が拡大して商品として使用できない状態になってしまう。
【０００４】
そこで、有機ＥＬ表示装置内の水分を除去するための乾燥剤を有機ＥＬ素子上に設置した基板を用意し、有機ＥＬ素子が配置された基板の周辺に設置したシール材を介して封止基板を貼り合わせることにより水分による劣化を防止する構成が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００２−２９９０４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、有機ＥＬ素子から放射された放射光を有機ＥＬ素子の上面側すなわち封止基板側から取り出すトップエミッションタイプの開発が進められている。しかしながら、乾燥剤として適用される材料は、一般的に十分な光透過性を有していない。このため、封止基板上のアクティブエリアの周囲にディスペンサを用いて液状の乾燥剤を塗布する方法が提案されている。
【０００６】
このように、ディスペンサを用いた場合には、アクティブエリアの周囲の角の部分に乾燥剤が溜まりやすい。また、近年の狭額縁化の要求に伴って、アクティブエリアの周囲の乾燥剤の塗布領域が狭くなっている。このため、乾燥剤がアクティブエリアにかかってしまうことがある。このため、アクティブエリアに表示された画像の一部が見えにくくなってしまうことがある。このように、乾燥剤がアクティブエリアにかかってしまった場合には、表示装置の表示品質を下げるおそれがある。
【０００７】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品質が良好であり、且つ、狭額縁化が可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明の態様による表示装置は、
アクティブエリアにおいて、自発光素子を備えた第１基板と、
前記第１基板の前記自発光素子側に対向して配置されるとともに、凹部と、前記凹部を規定する枠状の周縁部と、を有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の前記周縁部とを貼り合わせるシール材と、
前記第２基板の前記凹部において、前記アクティブエリアの外側に配置された乾燥剤と、を備え、
前記凹部は、複数の側面によって囲まれた第１凹部と、前記第１凹部を囲む２つの側面を接続するとともに前記第１凹部より外側に向かって突出した接続面によって囲まれた第２凹部と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、表示品質が良好であり、且つ、狭額縁化が可能な表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。
【００１１】
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、アレイ基板（第１基板）１０と、このアレイ基板１０に対向して配置された封止基板（第２基板）２０と、を備えている。このような構成の有機ＥＬ表示装置１は、画像を表示する略多角形状のアクティブエリア１２を有している。アクティブエリア１２は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されており、図１に示した例では、長方形状に形成されている。また、図１では、カラー表示タイプの有機ＥＬ表示装置１を例に示しており、アクティブエリア１２は、複数種類の色画素、例えば３原色に対応した赤色画素ＰＸＲ、緑色画素ＰＸＧ、及び、青色画素ＰＸＢによって構成されている。これらのアレイ基板１０と封止基板２０とは、アクティブエリア１２を囲むように枠状に配置されたシール材３０により貼り合せられている。
【００１２】
各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、画素回路及びこの画素回路によって駆動制御される表示素子を備えている。図２に画素回路の一例を示すが、他の構成の画素回路を適用しても良いことは言うまでもない。
【００１３】
図２に示すように、画素回路４０は、第１スイッチＳＷ１、第２スイッチＳＷ２、第３スイッチＳＷ３、第４スイッチＳＷ４、蓄積容量素子ＣＳなどを備えて構成されている。第１スイッチＳＷ１は、表示素子６０に供給する電流量を制御する機能を有している。第２スイッチＳＷ２及び第３スイッチＳＷ３は、サンプル・ホールドスイッチとして機能する。第４スイッチ素子ＳＷ４は、第１スイッチＳＷ１から表示素子６０への駆動電流の供給を制御する機能を有している。蓄積容量素子ＣＳは、第１スイッチＳＷ１のゲートーソース間の電位を保持する機能を有している。
【００１４】
第１スイッチＳＷ１は、電源線Ｐと第４スイッチＳＷ４との間に接続されている。第１スイッチＳＷ１のゲート電極は第２スイッチＳＷ２に接続されている。第４スイッチＳＷ４は、第１スイッチＳＷ１と表示素子６０との間に接続されている。第４スイッチＳＷ４のゲート電極は、第１ゲート線ＧＬ１に接続されている。
【００１５】
第２スイッチＳＷ２は、信号線ＳＬと第１スイッチＳＷ１及び第４スイッチＳＷ４との間に接続されている。第３スイッチＳＷ３は、第１スイッチＳＷ１と第２スイッチＳＷ２との間に接続されている。第２スイッチＳＷ２及び第３スイッチＳＷ３のゲート電極は、第２ゲート線ＧＬ２に接続されている。
【００１６】
これらの第１スイッチＳＷ１、第２スイッチＳＷ２、第３スイッチ素子ＳＷ３、及び、第４スイッチＳＷ４は、例えば薄膜トランジスタによって構成され、その半導体層は、ここではポリシリコンによって形成されている。
【００１７】
このような回路構成の場合、第２ゲート線ＧＬ２からオン信号が供給されたのに基づいて第２スイッチＳＷ２及び第３スイッチＳＷ３がオンとなり、信号線ＳＬを流れる電流に応じて電源線Ｐから電流が第１スイッチＳＷ１を流れ、また、第１スイッチＳＷ１を流れる電流に応じて蓄積容量素子ＣＳが充電される。そして、第１ゲート線ＧＬ１からオン信号が供給されたのに基づいて第４スイッチＳＷ４がオンとなり、蓄積容量素子ＣＳで保持した容量に応じた電流が第１スイッチＳＷ１を介して第４スイッチＳＷ４を流れる。これにより、表示素子６０に所定の輝度に応じた電流が供給される。
【００１８】
表示素子は、自発光素子である有機ＥＬ素子６０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。すなわち、赤色画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子６０Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子６０Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子６０Ｂを備えている。
【００１９】
各種有機ＥＬ素子６０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、例えば、図３に示すように、配線基板１００上に配置されている。なお、配線基板１００は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性の支持基板１０１上に、アンダーコート層、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、平坦化膜などの絶縁層１０２を備える他に、画素回路４０や各種配線などを備えて構成されたものとする。
【００２０】
この有機ＥＬ素子６０は、各画素ＰＸに独立島状に配置された第１電極６１と、第１電極６１に対向して配置され複数の画素ＰＸに共通の第２電極６２と、これらの第１電極６１と第２電極６２との間に保持された有機活性層６３と、によって構成されている。
【００２１】
第１電極６１は、配線基板１００の表面の絶縁層１０２上に配置され、陽極として機能する。この第１電極６１は、絶縁層１０２に形成されたコンタクトホールを介して第４スイッチＳＷ４に接続されている。トップエミッション方式の場合、第１電極６１は、反射層を含んでいることが望ましい。
【００２２】
有機活性層６３は、第１電極６１上に配置され、少なくとも発光層を含んでいる。この有機活性層６３は、発光層以外の層として、例えば、ホール輸送層、ホール注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。このような有機活性層６３は、低分子系の材料を用いて蒸着法などのドライプロセスを経て形成しても良いし、高分子系の材料を用いて選択塗布法（例えばインクジェット法）などのウエットプロセスを経て形成しても良い。
【００２３】
第２電極６２は、有機活性層６３を覆うように配置され、陰極として機能する。この第２電極６２は、アクティブエリア１２の周囲に配置されコモン電位、ここでは接地電位を供給する図示しない第２電極電源線に接続されている。トップエミッション方式の場合、第２電極６２は、光透過性を有する導電材料により形成される。
【００２４】
また、アレイ基板１０は、アクティブエリア１２において、各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を分離する隔壁７０を備えている。隔壁７０は、第１電極６１の周縁を覆うように格子状またはストライプ状に配置されている。このような隔壁７０は、樹脂材料をパターニングすることによって形成されている。また、隔壁７０は、有機活性層６３とともに、第２電極６２によって覆われている。
【００２５】
封止基板２０は、アレイ基板１０の有機ＥＬ素子６０側に対向するように配置されている。図３に示したようなトップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置においては、封止基板２０の外面（すなわちアレイ基板と対向する面と反対側の面）には、偏光板などの光学素子ＯＤが配置されている。
【００２６】
有機ＥＬ表示装置１は、さらに、乾燥剤ＤＡを備えている。このような乾燥剤ＤＡとしては、光透過性に乏しい材料が選択されることが多い。このため、トップエミッション方式の場合、封止基板２０上のアクティブエリア１２に乾燥剤ＤＡを配置すると、有機ＥＬ素子からの光取出効率が低下する。
【００２７】
このため、乾燥剤ＤＡは、封止基板２０の内面（すなわちアレイ基板と対向する面）において、アクティブエリア１２の外側に配置されている。このような配置に適した乾燥剤ＤＡとしては、液状のものなどがある。この液状の乾燥剤ＤＡは、ディスペンサを利用して塗布される。このような乾燥剤ＤＡとしては、例えば、酸化カルシウム（ＣａＯ）や酸化バリウム（ＢａＯ）といった酸化物の粉末などを溶媒に溶かした液状としたものが使用可能である。
【００２８】
以下に、乾燥剤ＤＡが配置される封止基板２０の構造についてより詳細に説明する。
【００２９】
図４Ａ及び図４Ｂに示すように、封止基板２０は、凹部８０及び周縁部１１０を有している。凹部８０は、第１凹部８１及び第２凹部８２を有している。
【００３０】
第１凹部８１は、封止基板２０の内面２０Ａから窪んだ形状であり、封止基板２０の内面２０Ａから深さＤ１だけ沈降した底面８３Ａを有している。底面８３Ａは、アクティブエリア１２より大きく形成されている。ここでは、底面８３Ａは、長方形状に形成されている。第１凹部８１は、底面８３Ａの各辺に沿って延びた側面８３ａ、８３ｂ、８３ｃ、８３ｄによって囲まれている。つまり、これらの側面は、直線的に延在している。
【００３１】
第２凹部８２は、第１凹部８１を囲む側面のうちの２つの側面を接続するとともに、第１凹部８１より外側に向かって突出した接続面１１０によって囲まれている。すなわち、封止基板３０は、４つの第２凹部８２Ａ、８２Ｂ、８２Ｃ、及び８２Ｄを有している。第２凹部８２Ａは、側面８３ａ及び８３ｂを接続するとともに、接続面１１０Ａによって囲まれている。第２凹部８２Ｂは、側面８３ｂ及び８３ｃを接続するとともに、接続面１１０Ｂによって囲まれている。第２凹部８２Ｃは、側面８３ｃ及び８３ｄを接続するとともに、接続面１１０Ｃによって囲まれている。第２凹部８２Ｄは、側面８３ｄ及び８３ａを接続するとともに、接続面１１０Ｄによって囲まれている。これらの第２凹部８２（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）は、封止基板２０の内面２０Ａから深さＤ２だけ沈降している。図４Ａに示した例では、第１凹部８１の深さＤ１と第２凹部８２の深さＤ２は、同等である（Ｄ１＝Ｄ２）。
【００３２】
ガラスによって構成された封止基板２０において、第１凹部８１及び第２凹部８２は、ウェットエッチングなどの化学処理や、サンドブラストなどの機械的処理を施すことにより、所定の深さに形成可能である。
【００３３】
周縁部１２０は、第１凹部８１の大きさを規定し、枠状の形状を有している。シール材３０は、周縁部１２０に配置され、アレイ基板１０と封止基板２０の周縁部１２０とを貼り合わせている。これにより、有機ＥＬ素子６０は、気密なスペースに封止される。周縁部１２０の幅は、概ね一定に形成されている。特に、図４Ｂに示すように、直線的に延在する側面８３（ａ、ｂ、ｃ、ｄ）に交差する周縁部１２０の幅Ｗ１は、略一定である。一方で、第１凹部８１より外側に向かって突出している接続面１１０（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）と交差する周縁部１２０の幅Ｗ２は、幅Ｗ１より小さく形成されている（Ｗ１＞Ｗ２）。
【００３４】
図４Ｂに示すように、乾燥剤ＤＡは、第１凹部８１において、アクティブエリア１２の外側に枠状の限られた幅の領域１０３に配置される。より具体的には、乾燥剤ＤＡは、底面８３Ａ上のアクティブエリア１２と側面８３ａ、８３ｂ、８３ｃ、８３ｄとの間に配置される。
【００３５】
近年の狭額縁化の要求に伴ってアクティブエリアと第１凹部８１の側面との間に十分の幅の領域１０３を確保することが困難となってきている。このため、限られた幅の領域１０３に液状の乾燥剤ＤＡをディスペンサにより描画した際に描画方向が直角に変わるアクティブエリア１２の周囲の角の部分付近では、液状の乾燥剤ＤＡがアクティブエリア１２にかかってしまうことがある。
【００３６】
そこで、この実施の形態においては、乾燥剤ＤＡが配置される封止基板２０は、第１凹部８１を囲む２つの側面を接続するとともに、第１凹部８１より外側に向かって突出した接続面１１０によって囲まれた第２凹部８２を備えている。すなわち、描画方向が変わることによって液状の乾燥剤ＤＡが溜まりやすいアクティブエリア１２の周囲の角部において、第２凹部８２が形成されている。このため、塗布した液状の乾燥剤ＤＡを第２凹部８２に誘導することが可能である。つまり、多量に塗布され溜まった液状乾燥剤は、硬化する過程で広がるが、アクティブエリアから遠ざかる方向に第２凹部８２を形成したことにより、液状乾燥剤の広がりを許容できるスペースが確保され、アクティブエリア１２への乾燥剤ＤＡの広がりを抑制することが可能になる。
【００３７】
図４Ａに示した例では、第１凹８１部の深さＤ１と第２凹部８２の深さＤ２を同等としたが、図５Ａ及び図５Ｂに示した例では、第２凹部８２の深さＤ２が第１凹部８１の深さＤ１より深い場合を図示している（Ｄ２＞Ｄ１）。図５Ａに示した例では、第２凹部８２の深さＤ２が略一定の場合を図示しており、底面８４は、第１凹部８１の底面８３Ａと略平行な平面である。図５Ｂに示した例では、第２凹部８２の深さＤ２が第１凹部８１から離れるにしたがって次第に深くなる場合を図示しており、底面８４は、第１凹部８１の底面８３Ａと交差する傾斜面である。
【００３８】
このように、第２凹部８２の深さＤ２が第１凹部８１の深さＤ１より深いことから、液状の乾燥剤ＤＡを第２凹部８２にさらに誘導しやすくなる。さらには、図４Ａに示した例よりも第２凹部８２の容量が増すため、乾燥剤ＤＡのアクティブエリア１２方向への広がりをさらに抑制することができる。
【００３９】
図４Ｂに示した例では、第２凹部８２の接続面１１０は、１つの曲面であるが、この例に限らず、接続面１１０は、複数の曲面によって構成してもよい。図６に示した第１変形例では、接続面１１０Ａは、それぞれの一端が側面８３ａ及び８３ｂにつながり、次第に外側に向かって延びる曲面１１０ａ及び１１０ｂからなる。第２凹部８２Ａは、このような接続面１１０によって囲まれている。このように、複数の曲面に囲まれた第２凹部８２についても、アクティブエリア１２の周囲の角の部分に溜まった液状乾燥剤ＤＡを誘導することができる。このような構成によっても上述した構成と同様の効果が得られる。
【００４０】
図４Ｂ及び図６に示した例では、第２凹部８２の接続面１１０は、曲面であるが、この例に限らず、接続面１１０は、少なくとも２つの平面によって構成してもよい。図７に示した第２構成例では、接続面１１０Ａは、３つの平面１１０ａ、１１０ｂ、及び１１０ｃからなる。第２凹部８２Ａは、このような接続面１１０Ａによって囲まれている。このように、複数の平面に囲まれた第２凹部８２についても、アクティブエリア１２の周囲の角の部分に溜まった液状乾燥剤ＤＡを誘導することができる。このような構成によっても上述した構成と同様の効果が得られる。
【００４１】
図４Ｂ、図６、及び図７に示した例では、第２凹部８２を囲む接続面１１０は、第１凹部８１を囲む２つの側面８３ａ、８３ｂからそれぞれ外側に向かって延びる曲面または平面によって構成されているが、この例に限らない。図８に示す第３変形例では、側面８３ａの端部８３ａＥからの延長線上に側面８３ｂの端部８３ｂＥが位置しており、第２凹部８２Ａを囲む接続面１１０Ａは、２つの端部８３ａＥ及び８３ｂＥを接続するとともに第１凹部８１の外側に向かって突出した曲面によって構成されている。このように、２つの側面が隣接する角部において１つの側面８３から外側に突出した第２凹部８２についても、アクティブエリア１２の周囲の角の部分に溜まった液状乾燥剤ＤＡを誘導することが可能である。ゆえに、このような構成によっても上述した構成と同様の効果が得られる。
【００４２】
なお、図６乃至図８に示した各変形例では、１つの第２凹部８２Ａのみを図示しているが、他の３つの第２凹部８２（Ｂ、Ｃ、Ｄ）についても同様に構成されている。また、図６乃至図８に示した各変形例においては、第２凹部の深さＤ２は第１凹部の深さＤ１と同等であっても良いし、第１凹部の深さＤ１より深くても良い。
【００４３】
以上説明したように、本実施形態によれば、液状の乾燥剤ＤＡを塗布した際に、特に角部分でのアクティブエリア１２への広がりを抑制することが可能である。このため、乾燥剤ＤＡの塗布領域が狭い場合においても、乾燥剤ＤＡのアクティブエリア１２への流れ込み防止が可能である。このため、狭額縁化が可能となる。また、アクティブエリア１２に表示された画像の一部が見えにくくなること、画像の一部が欠落してしまうことを防ぐことができる。これにより、表示品質の良好な表示装置を提供できる。
【００４４】
また、上述したような配置パターンの乾燥剤ＤＡは、図４Ｂに示したように封止基板２０側に配置する例に限らず、アレイ基板１０側に配置してもよいが、アレイ基板１０上には、アクティブエリア１２から周辺エリアに向かって複数の配線が引き出されているため、これらに跨るように乾燥剤ＤＡを配置することはあまり望ましいことではない。また、液状の乾燥剤ＤＡが硬化する過程において、アレイ基板１０に先に形成された有機ＥＬ素子６０が液状乾燥剤に含まれる溶媒に曝されることは望ましくない。このため、乾燥剤ＤＡは、封止基板２０側に配置されることが望ましい。
【００４５】
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示した有機ＥＬ表示装置において画素を構成する表示素子及び画素回路の一例を示す図である。
【図３】図３は、有機ＥＬ素子で発生した光を封止基板側から外部に取り出す上面発光（トップエミッション）方式の有機ＥＬ表示装置におけるアクティブエリアの構造を概略的に示す断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、図１に示した有機ＥＬ表示装置に適用可能な封止基板の構造を概略的に示す斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、図１に示した有機ＥＬ表示装置に適用可能な封止基板の構造を概略的に示す平面図である。
【図５Ａ】図５は、図４Ａに示した封止基板をＡ−Ａ線で切断したときの断面構造を概略的に示す図である。
【図５Ｂ】図５Ａは、図４Ａに示した封止基板をＡ−Ａ線で切断したときの断面構造を概略的に示す図である。
【図６】図６は、図１に示した有機ＥＬ表示装置に適用可能な封止基板の第１変形例を概略的に示す平面図である。
【図７】図７は、図１に示した有機ＥＬ表示装置に適用可能な封止基板の第２変形例を概略的に示す平面図である。
【図８】図８は、図１に示した有機ＥＬ表示装置に適用可能な封止基板の第３変形例を概略的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…有機ＥＬ表示装置  １０…アレイ基板  １２…アクティブエリア
２０…封止基板  ３０…シール材
４０…画素回路  ＰＸ…画素  ＤＡ…乾燥剤
６０…表示素子（有機ＥＬ素子）  ６１…第１電極  ６２…第２電極  ６３…有機活性層
１００…配線基板  １０１…支持基板  １０２…絶縁層
ＤＡ…乾燥剤
８０…凹部  ８１…第１凹部  ８２…第２凹部
１１０…接続面  １２０…周縁部
【図１】
2009021162.tif 000003
【図２】
2009021162.tif 000004
【図３】
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【図４Ａ】
2009021162.tif 000006
【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
2009021162.tif 000008
【図５Ｂ】
2009021162.tif 000009
【図６】
2009021162.tif 000010
【図７】
2009021162.tif 000011
【図８】
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