(57)【要約】【課題】  ターゲット材ピース同士を摩擦攪拌接合する際に生じる虞のあった接合不良の発生を低減または解消して、確実に接合されることを可能としたスパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】  このスパッタリングターゲット材は、複数枚のターゲット材ピース１（１ａ、１ｂ）同士を突き合わせて当該突き合わせ部を摩擦攪拌接合２により接合して１枚板状に形成してなるスパッタリングターゲット材であって、前記ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の突き合わせ部がそれぞれ、当該ターゲット材ピース１ａ、１ｂの厚さ方向に凹凸した形状で互いに噛み合うように嵌合する噛み合わせ構造３ａ、３ｂを備えている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚のターゲット材ピース同士を突き合わせて当該突き合わせ部を摩擦攪拌接合により接合して１枚板状に形成してなるスパッタリングターゲット材であって、
前記ターゲット材ピース同士の突き合わせ部が、当該ターゲット材ピースの厚さ方向に凹凸した形状で互いに噛み合うように嵌合する噛み合わせ構造を備えた
ことを特徴とするスパッタリングターゲット材。
【請求項２】
複数枚のターゲット材ピースがそれぞれ当該ターゲット材ピースの厚さ方向に凸状の噛み合わせ構造を備えており、前記ターゲット材ピース同士を突き合わせた状態で、前記凸状の噛み合わせ構造に対して互いに噛み合う凹状を有する噛み合わせ構造を備えた接合用部材を、前記ターゲット材ピースの前記凸状を有する噛み合わせ構造に対して嵌合し、前記ターゲット材ピースと前記接合用部材との嵌合面をそれぞれ摩擦攪拌接合により接合して１枚板状に形成してなる
ことを特徴とするスパッタリングターゲット材。
【請求項３】
請求項１または２記載のスパッタリングターゲット材において、
前記摩擦攪拌接合の痕跡が表面に露出している面を、当該スパッタリングターゲット材におけるスパッタリングターゲット面として用いるように設定してなる
ことを特徴とするスパッタリングターゲット材。
【請求項４】
請求項１ないし３のうちいずれか１つの項に記載のスパッタリングターゲット材において、
前記ターゲット材ピースが、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ニッケル合金、銀、銀合金のうちのいずれか一種類の金属からなるものである
ことを特徴とするスパッタリングターゲット材。
【請求項５】
請求項１ないし４のうちいずれか１つの項に記載のスパッタリングターゲット材において、
前記ターゲット材ピースが、３Ｎ以上の無酸素銅からなるものである
ことを特徴とするスパッタリングターゲット材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば大型ディスプレイパネルのような電子部品の電極配線等の形成工程で用いられる、特にターゲット材ピースまたはターゲット材タイル等と呼ばれる材料板を複数枚接合して全体的な外形寸法を大判に形成してなるスパッタリングターゲット材に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば液晶ディスプレイパネルのようなフラットパネルディスプレイは、近年ますます大型化が進んでいるが、その一方で、パネル面積あたりの製造コストの低減を図るために、一枚の大判ガラス基板に複数枚の液晶ディスプレイパネルを作り込み、その後、個々を切断〜分離することで、一枚のガラス基板から複数枚の大型液晶ディスプレイパネルを作製することが行われている。このため、パネル材料のガラス基板は年々ますます大面積化が進んでおり、いわゆる第８世代と呼ばれる液晶ディスプレイパネル用のガラス基板の外形寸法は、２２００ｍｍ×２４００ｍｍにも達している。
【０００３】
このような大判のガラス基板に対して電極配線等を形成する際に使用されるスパッタリングターゲット材は、一般に、そのガラス基板よりも大きな外形寸法を有していることが要請される。このため、例えば上記のような第８世代の液晶ディスプレイパネルの製造に対応可能なスパッタリングターゲット材としては、３ｍ四方（３０００ｍｍ×３０００ｍｍ）以上のようないわゆる大判なものが必要とされる。
【０００４】
しかし、このような大判の（大面積の）スパッタリングターゲット材を、その全体に亘って所定の誤差の範囲内で均一な材質に製造しようとすると、その製造装置の大きさが制約となることが多い。また、敢えてそのような大判のスパッタリングターゲット材を製造すると、結晶組織や組成が所定の誤差の範囲を逸脱してしまう傾向にある。
【０００５】
そこで、上記のような大判のスパッタリングターゲット材を作製するためには、それよりも小さな外形寸法の、複数枚のターゲット材ピース（スパッタリングターゲットタイル、または構成部材もしくは接合材などとも呼ばれる）を隙間なく並置または接合し、それら全体で一つの大判なスパッタリングターゲット材を構成するという技術が提案されている。
すなわち、スパッタリングターゲット材を構成する複数のターゲット材ピースとしてアルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金、銀、銀合金などからなる金属板を用い、それらターゲット材ピース同士を摩擦攪拌接合（ＦＳＷ；Friction Stir Welding）法など
によって接合することで、上記のような大判な一枚のスパッタリングターゲット材を構成する、という技術が提案されている。
【０００６】
より具体的には、例えば特許文献１には、スパッタリングターゲット材における金属結晶や金属間化合物の粒径・分散状態を接合部とそれ以外の非接合部とでほぼ同程度（接合部の平均粒径が非接合部のそれの６０〜１３０％）となるように調節するという技術が提案されている。
また、それとほぼ同様に、２つのスパッタリングターゲット材を、両者の端面どうしが相互に当接するように並べて配置し、その当接部分に、両者に跨るようにプローブを埋入・移動させることで摩擦攪拌接合を行うという技術が、特許文献２にて提案されている。
また、例えば特許文献３には、接合の突合せ部分にスパッタリングターゲットタイル（ターゲット材ピース）と同じ材質の粉末や小片を配置して接合を行うという技術が提案されている。
また、例えば特許文献４には、ピンを挟んで上下にショルダ部（フランジ部）を有する回転ツールを用いて摩擦攪拌接合（ＦＷＳ）を行うという、摩擦攪拌接合に関しての改良技術が提案されている。
摩擦攪拌接合は、突き合わせ部を一般的な溶接（加熱することで部分的に溶解させて接合する手法）と比べて、接して得られるスパッタリングターゲット材における残留応力や変形量を小さくすることができるという利点がある。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３０７９０６号公報
【特許文献２】特開２００５−１５９１５号公報
【特許文献３】特開２００６−３４８３８０号公報
【特許文献４】特開２００２−１８５８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、摩擦攪拌接合では、その接合作業で回転ツールを突き合わせ部に挿入し、回転させながら突き合わせ部の接合線（接合予定の線）に沿って移動させて行くことに起因して、そのとき接合される2つのターゲット材ピース同士の突き合わせ部には、互い
に左右に離れようとする強い力（互いに離間する方向に働く力）が掛かることが不可避的である。このため、突き合わせ部が左右に開いて（離間して）しまい、その結果、接合不良が発生しやすいという問題があった。
また、このような接合不良の発生を防ぐためには、両ターゲット材ピース同士が左右に離間しないように、強い力で両ターゲット材ピース同士を突き合わせて固定した状態に保ちながら摩擦攪拌接合を行わなければならないが、斯様な強い力を掛けて固定した状態を、摩擦攪拌接合の工程が完了するまで確実に保ち続けることは、容易ではなく、次第に突き合わせ部が離間するなどして接合不良が発生する虞が高いという問題があった。
【０００９】
本発明は、このような問題に鑑みて成されたもので、その目的は、ターゲット材ピース同士を摩擦攪拌接合する際に生じる虞のあった接合不良の発生を低減または解消して、確実に接合されることを可能としたスパッタリングターゲット材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のスパッタリングターゲット材は、複数枚のターゲット材ピース同士を突き合わせて当該突き合わせ部を摩擦攪拌接合により接合して１枚板状に形成してなるスパッタリングターゲット材であって、前記ターゲット材ピース同士の突き合わせ部が、当該ターゲット材ピースの厚さ方向に凹凸した形状で互いに噛み合うように嵌合する噛み合わせ構造を備えたものであることを特徴としている。
また、本発明のスパッタリングターゲット材は、複数枚のターゲット材ピースがそれぞれ当該ターゲット材ピースの厚さ方向に凸状の噛み合わせ構造を備えており、前記ターゲット材ピース同士を突き合わせた状態で、前記凸状の噛み合わせ構造に対して互いに噛み合う凹状を有する噛み合わせ構造を備えた接合用部材を、前記ターゲット材ピースの前記凸状を有する噛み合わせ構造に対して嵌合し、前記ターゲット材ピースと前記接合用部材との嵌合面をそれぞれ摩擦攪拌接合により接合して１枚板状に形成してなることを特徴としている。
ここで、本発明のスパッタリングターゲット材では、前記摩擦攪拌接合の痕跡が表面に露出している面を、当該スパッタリングターゲット材におけるスパッタリングターゲット面として用いるように設定することが可能である。但しこれは、摩擦攪拌接合の痕跡が表面に露出している面とは反対側の面をスパッタリングターゲット面として用いるように設定することも可能であるということを否定するものではないことは勿論である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のスパッタリングターゲット材によれば、ターゲット材ピース同士の突き合わせ部が、そのターゲット材ピースの厚さ方向に凹凸した形状で互いに噛み合うように嵌合する噛み合わせ構造を備えているので、その噛み合わせ構造同士を嵌合することによって、突き合わされたターゲット材ピース同士が摩擦攪拌接合の際に左右に離間することを防ぐことができる。その結果、ターゲット材ピース同士を摩擦攪拌接合する際に生じる虞のあった接合不良の発生を低減または解消することが可能となる。
【００１２】
あるいはまた、ターゲット材ピース同士の突き合わせ部がそれぞれ、ターゲット材ピースの厚さ方向に凸状を有する噛み合わせ構造を備え、かつその凸状の噛み合わせ構造に対して互いに噛み合う凹状を有する噛み合わせ構造を備えた接合用部材を、ターゲット材ピース同士を突き合わせた状態でそれらターゲット材ピースの凸状を有する噛み合わせ構造に対して嵌合するようにしたので、その凹状の接合用部材が、あたかも鎹（かすがい）のようにターゲット材ピース同士を突き合わせた状態に保つように働いて、突き合わされたターゲット材ピース同士が摩擦攪拌接合の際に離間することを防ぐことができる。その結果、ターゲット材ピース同士を摩擦攪拌接合する際に生じる虞のあった接合不良の発生を低減または解消することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本実施の形態に係るスパッタリングターゲット材について、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る摩擦攪拌接合によって接合される噛み合わせ構造を備えたスパッタリングターゲット材における、その噛み合わせ構造の部分付近を特に拡大して示す図、図２は、本発明の実施の形態に係る接合用部材を備えたスパッタリングターゲット材における、その接合用部材が嵌合されて摩擦攪拌接合によって接合された部分付近を特に拡大して示す図、図３は、図１に示したスパッタリングターゲット材についての摩擦攪拌接合プロセスの主要部を模式的に示す図、図４は、図３に示した接合プロセスにて摩擦攪拌接合が行われている状態を示す断面図である。
【００１４】
本発明の実施の形態に係る摩擦攪拌接合によって接合される噛み合わせ構造を備えたスパッタリングターゲット材は、図１に示したように、ターゲット材ピース１ａとターゲット材ピース１ｂとを突き合わせ、その突き合わせ部に、接合線８に沿って摩擦攪拌接合２を施すことによって大判の１枚板状に形成してなるスパッタリングターゲット材である。そして、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の突き合わせ部には、そのターゲット材ピース１ａ、１ｂの厚さ方向に凹凸した形状で互いに噛み合って嵌合するように形成された噛み合わせ構造３ａ、３ｂが設けられている。
【００１５】
図１（ａ）に示したように、ターゲット材ピース１ａの突き合わせ部に設けられた噛み合わせ構造３ａと、ターゲット材ピース１ｂの突き合わせ部に設けられた噛み合わせ構造３ｂとが、互いに噛み合うように嵌合されている。
図３、図４に示したような摩擦攪拌接合プロセスによって摩擦攪拌接合２を施す工程で、回転ツール７を突き合わせ部に挿入し、さらにそれを回転させながら突き合わせ部の接合線８に沿って移動させて行くことに起因して、図４および図１（ｂ）に示したような、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が互いに左右に離間されるような強い外力Ｆａ、Ｆｂ（矢印Ｆａ、Ｆｂで模式的に表現してある）を受ける。しかし、噛み合わせ構造３ａ、３ｂを互いに噛み合うように嵌合させているので、ターゲット材ピース１ａの噛み合わせ構造３ａの側面４ａと、ターゲット材ピース１ｂの噛み合わせ構造３ｂの側面４ｂとが、常に対面して係止された状態にあり、それら側面４ａと側面４ｂとで外力Ｆａ、Ｆｂを相殺し合うこととなる。これにより、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が左右に離間することを防止することができる。
【００１６】
このように、本発明の実施の形態に係るスパッタリングターゲット材によれば、摩擦攪拌接合２を施す際に、突き合わせたターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が左右に離間することを防ぐことができ、その結果、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の接合不良の発生を低減または解消することが可能となる。
しかも、摩擦攪拌接合法は一般に、突き合わせ部付近を溶解して接合するという他の接合方法と比べて、残留応力や変形量が小さく、その摩擦攪拌接合２が施された部分は微細な結晶粒組織となる。これにより、摩擦攪拌接合２を採用した本発明の実施の形態に係るスパッタリングターゲット材は、従来の接合方式によって大判に形成してなるスパッタリングターゲット材よりも、格段に高い接合強度を得ることが可能となる。
【００１７】
本発明の実施の形態に係る接合用部材を備えたスパッタリングターゲット材は、図２に示したように、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の突き合わせ部がそれぞれ、ターゲット材ピース１ａ、１ｂの厚さ方向に凸状を有する噛み合わせ構造３ｃ、３ｄを備えている。それらターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士を突き合わせた状態で、それらターゲット材ピース１ａ、１ｂの凸状の噛み合わせ構造３ｃ、３ｄの両方に対して噛み合うように形成された凹状の噛み合わせ構造９を備えた接合用部材１０が、ターゲット材ピース１ａ、１ｂの凸状を有する噛み合わせ構造３ｃ、３ｄの両方に対して噛み合うように嵌合されている。そして、その嵌合された状態で、接合用部材１０の噛み合わせ構造９とターゲット材ピース１ａ、１ｂの噛み合わせ構造３ｃ、３ｄとが嵌合して接触している面（嵌合面）をそれぞれ中心としてその近傍に摩擦攪拌接合２を裏面５側から施すことによって、接合用部材１０と共にターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士を接合して、全体として１枚板状を成すように形成されている。
【００１８】
上記のようにターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士を突き合わせた状態で、そのターゲット材ピース１ａ、１ｂの凸状を有する噛み合わせ構造３ｃ、３ｄの両方に対して噛み合うように接合用部材１０の凹状の噛み合わせ構造９を嵌合させることにより、摩擦攪拌接合２を施す工程で、回転ツール７を用いた接合作業を行うことに起因してターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が互いに左右に離間されるような強い外力Ｆａ、Ｆｂを受けても、ターゲット材ピース１ａの噛み合わせ構造３ｃの側面４ｃと、接合用部材１０の凹状の噛み合わせ構造９の側面４ｅとが、常に対面して係止された状態にあり、かつターゲット材ピース１ｂの噛み合わせ構造３ｄの側面４ｄと、接合用部材１０の凹状の噛み合わせ構造９の側面４ｆとが、常に対面して係止された状態にあるので、接合用部材１０があたかも鎹（かすがい）のように機能することとなり、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が左右に離間することを、裏面５側は勿論のこと表面６側についても、さらに確実に防止することができる。また、摩擦攪拌接合２を施した後、このスパッタリングターゲット材を使用する際にも、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が左右に離間することを、ターゲット材ピース１ａ、１ｂの表面６でも裏面５でも、さらに確実に防止することができる。
【００１９】
このように、本発明の実施の形態に係るスパッタリングターゲット材によれば、摩擦攪拌接合２を施す際に、突き合わせたターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が左右に離間することを、表面側でも裏面側でもさらに確実に防ぐことが可能となり、その結果、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の接合不良の発生をさらに確実に低減または解消することができる。
しかも、摩擦攪拌接合法は一般に、突き合わせ部付近を溶解して接合するという他の接合方法と比べて、残留応力や変形量が小さく、その摩擦攪拌接合２が施された部分は微細な結晶粒組織となるので、従来の接合方式によって大判に形成してなるスパッタリングターゲット材よりも、格段に高い接合強度を得ることが可能となり、かつその摩擦攪拌接合２の痕跡が表れている面を支障なくスパッタリングターゲット面として用いることが可能となる。
【００２０】
ここで、ターゲット材ピース１ａ、１ｂとしては、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ニッケル合金、銀、銀合金のうちのいずれか一種類の金属からなるものとすることが可能である。
あるいは、３Ｎ以上の無酸素銅からなるものとしてもよい。
【００２１】
なお、本発明の実施の形態に係るスパッタリングターゲット材では、主に、摩擦攪拌接合２の痕跡が表面に露出している裏面５をスパッタリングターゲット面として用いる。但し、表面６を用いるようにすることも可能であることは言うまでもない。
【実施例】
【００２２】
上記の実施の形態にて説明したようなスパッタリングターゲット材を、実施例として試験的に作製した。
図５は、本実施例に係るスパッタリングターゲット材と比較例に係るスパッタリングターゲット材とでの接合不良発生頻度を一覧表として纏めて示す表図、図６は、締め付け作業方法の概要を模式的に示す図、図７は、図１に示した接合構造を採用した実施例に係るスパッタリングターゲット材の主要部の仕様を示す図、図８は、図２に示した接合構造を採用した実施例に係るスパッタリングターゲット材の主要部の仕様を示す図である。
【００２３】
ターゲット材ピース１ａ、１ｂとしては、純度が４Nの無酸素銅に鋳造、熱間圧延、中
間熱処理、冷間圧延を行って、厚さ１５mm×幅５００mm×長さ３０００mmの板材としたものを用いた。そしてその板材の接合部となる端面を機械加工装置によって切削加工して、上記の実施の形態で説明したような噛み合わせ構造３ａ、３ｂを形成した。
その後、再結晶による結晶粒径の均質化のための熱処理を行って、図１（ａ）に示したようなターゲット材ピース１（１ａ、１ｂ）とした。
本実施例では、図１に示した接合構造における主要部の仕様を、図７に示したように、ｔ＝１５ｍｍ、ｄ＝１０ｍｍ、ｈ＝３ｍｍ、Ｗ1＝７ｍｍ、Ｗ2＝７ｍｍとした。また、図２に示した接合構造における主要部の仕様を、図８に示したように、ｔ＝１５ｍｍ、ｄ＝１０ｍｍ、ｈ＝３ｍｍ、Ｗ3＝Ｗ4＝３ｍｍ、Ｗ5＝１８ｍｍとした。
【００２４】
そして、図３、図４に示したような摩擦攪拌接合プロセスを繰り返すことにより、全６枚のターゲット材ピース１を全部接合して、全体で厚さ１５ｍｍ×幅３０００ｍｍ×長さ３０００ｍｍの（すなわち３ｍ四方の）大判なスパッタリングターゲット材を形成した。
【００２５】
このような本実施例に係る大判のスパッタリングターゲット材を形成するにあたり、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の突き合わせ部を摩擦攪拌接合プロセスによって接合する作業では、図６に示したように、そのターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が離間しないようにボルト締め付けによって固定するようにした。すなわち、台６０の上に、嵌め合せた状態でターゲット材ピース１ａ、１ｂを載置し、押え板６１ａ、６１ｂをそれぞれ介して固定用ボルト６２ａ、６２ｂで各々締め付けて固定した。固定用ボルト６２ａ、６２ｂの締め付けにはトルクレンチ（図示省略）を使用し、所定のトルク量（単位；Ｎｍ）まで締め付けを行うことを標準作業とした。その固定強度を、図５の一覧表に纏めて示したように５段階に変化させ、その各々の場合ごとで接合を１０回ずつ試行して、その１０回のうちの接合不良の発生回数（頻度）を調べた。
固定強度の大きさは、標準作業での固定用ボルトの締め付けのトルク量を１００％とし、それを基準値として、９５％の場合、９０％の場合、８５％の場合、８０％の場合の、５段階とした。
接合不良の発生の有無の具体的な調査・判定は、摩擦攪拌接合２の表面の部分すなわち接合面の部分を研磨し、カラーチェックによって行った。
【００２６】
その結果、図５の一覧表に「実施例」として纏めて示したように、本実施例に係るスパ
ッタリングターゲット材では、固定強度を標準作業の１００％とした場合には勿論のこと、９５％、９０％、８５％とした場合、そして最低の８０％とした場合の、いずれの場合でも、接合不良は全く発生しないことが確認された。
他方、従来の接合構造および接合方法である、突き合わせ部に噛み合わせ構造３ａ、３ｂを有さない平らな突き合わせ面を有するターゲット材ピース（図示省略）を、本実施例に係るターゲット材ピース１ａ、１ｂと同じ材料から作製し、それに本実施例と同様の上記条件で摩擦攪拌接合２を施して、接合不良の発生回数を調べたところ、図５の一覧表に「比較例（従来技術）」として纏めて示したように、固定強度を標準作業の１００％とした場合には、接合不良は０すなわち全く発生しなかったが、固定強度を９５％にした場合には２回／１０回、９０％にした場合には７回／１０回、８５％にした場合には１０回／１０回（全数）、８０％にした場合には１０回／１０回（全数）、のように、固定強度を弛めて行くにつれて、接合不良の発生が急増し、特に８５％以下の場合には全数が接合不良となってしまうことが確認された。
【００２７】
以上のように、本実施例に係るスパッタリングターゲット材によれば、摩擦攪拌接合２を施す際に、突き合わせたターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士が左右に離間することを防ぐことができ、その結果、ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の接合不良の発生を低減または解消されることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態に係る摩擦攪拌接合によって接合される噛み合わせ構造を備えたスパッタリングターゲット材における、その噛み合わせ構造の部分付近を特に拡大して示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る接合用部材を備えたスパッタリングターゲット材における、その接合用部材が嵌合されて接合された部分付近を特に拡大して示す断面図である。
【図３】図１に示したスパッタリングターゲット材を形成する際に行われる摩擦攪拌接合プロセスの主要部を模式的に示す図である。
【図４】図３に示したプロセスにて摩擦攪拌接合が行われている状態を示す断面図である。
【図５】本発明の実施例に係るスパッタリングターゲット材と比較例に係るスパッタリングターゲット材とでの接合不良発生頻度を一覧表として纏めて示す図である。
【図６】本発明の実施例に係るスパッタリングターゲット材の接合工程およびその準備工程における締め付け作業方法の概要を模式的に示す図である。
【図７】図１に示した接合構造を採用した実施例に係るスパッタリングターゲット材における、その接合構造の主要部の仕様を説明するための図である。
【図８】図２に示した接合構造を採用した実施例に係るスパッタリングターゲット材における、その接合構造の主要部の仕様を説明するための図である。
【符号の説明】
【００２９】
１    ターゲット材ピース
２    摩擦攪拌接合（部）
３    噛み合わせ構造
４    （噛み合わせ構造の）側面
５    ターゲット材ピースの裏面側
６    ターゲット材ピースの表面側
７    回転ツール
８    接合線
９    噛み合わせ構造
１０  接合用部材
【図１】
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【図２】
2009221543.tif 000004
【図３】
2009221543.tif 000005
【図４】
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【図５】
2009221543.tif 000007
【図６】
2009221543.tif 000008
【図７】
2009221543.tif 000009
【図８】
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