(57)【要約】【課題】隔壁に欠損部分を有するＰＤＰのパネル面における不要な発光を防止することが出来るＰＤＰの製造方法を提供する。【解決手段】ＰＤＰの放電空間を放電セルＣ毎に区画する隔壁６を備え、この隔壁６の隣接する放電セルＣ間を区画する縦壁６Ｂにこの縦壁６Ｂを挟んで隣接する放電セルＣを互いに連通させる欠損部分ｐが生じているＰＤＰに対して、二次電子放出材料によって形成された保護層３の縦壁６Ｂの欠損部分ｐに対向する部分３ａに向けてレーザ光ｂを照射する工程を有している。【選択図】図５
2009099289.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電空間を介して一対の基板が対向され、この一対の基板の一方の基板の他方の基板に対向する側に、放電空間内において放電を発生させる放電電極とこの放電電極を被覆する誘電体層とこの誘電体層を被覆する二次電子放出材料によって形成された保護層が形成され、他方の基板の一方の基板に対向する側に、放電空間をそれぞれ放電電極に対向する単位発光領域毎に区画する隔壁を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記隔壁の隣接する単位発光領域間を区画する部分にこの部分を挟んで隣接する単位発光領域を互いに連通させる欠損部分が生じたプラズマディスプレイパネルに対して、保護層の隔壁の欠損部分に対向する部分に向けてレーザ光を照射する工程を有していることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記レーザ光の照射が、放電の発生が不可にされた単位発光領域とこの単位発光領域に隣接する他の単位発光領域との間に位置する部分の隔壁に欠損部分が生じているプラズマディスプレイパネルに対して、このプラズマディスプレイパネルの隔壁の欠損部分に対向する部分の保護層に向けて行われる請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記レーザ光の照射によって、隔壁の欠損部分に対向する部分の保護層が除去される請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記レーザ光の照射によって、隔壁の欠損部分に対向する部分の保護層が変質されて、この部分の保護層を形成している二次電子放出材料の二次電子放出係数が低下される請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記レーザ光としてＹＡＧレーザ光が使用される請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１および２は、従来のプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の構成を示している。
【０００３】
この図１および２において、前面ガラス基板１の背面側に、行方向に延びる複数の行電極対（Ｘ，Ｙ）と、この行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆する誘電体層２が形成されており、さらに、この誘電体層２の背面が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等の二次電子放出材料によって形成された保護層３によって被覆されている。
【０００４】
行電極対（Ｘ，Ｙ）を構成する行電極ＸとＹは、それぞれ、行方向に延びるバス電極Ｘａ，Ｙａと、このバス電極Ｘａ，Ｙａから対になっている相手の行電極側に延びて互いに放電ギャップｇを介して対向する複数の透明電極Ｘｂ，Ｙｂとから構成されている。
【０００５】
この前面ガラス基板１と放電空間を介して平行に対向する背面ガラス基板４の前面ガラス基板１に対向する側の面上には、列方向に延びる複数の列電極Ｄと、この列電極Ｄを被覆する列電極保護層５と、この列電極保護層５上に形成されて放電空間の行電極対（Ｘ，Ｙ）と列電極Ｄが交差する位置にそれぞれ形成される放電セルＣを区画する隔壁６と、各放電セルＣ毎に赤，緑，青に色分けされた蛍光体層７とが形成されている。
【０００６】
隔壁６は、それぞれ行電極対（Ｘ，Ｙ）に対向する部分毎に、行方向に延びる二本の横壁６Ａとこの二本の横壁６Ａ間を列方向に延びる複数の縦壁６Ｂとによって略梯子形状に成形されていて、放電空間を各放電セルＣ毎に方形に区画しており、各放電セルＣに、それぞれ、行電極対（Ｘ，Ｙ）の放電ギャップｇを介して対向して互いに対になっている透明電極ＸｂとＹｂが対向されている。
【０００７】
放電空間Ｓ内には放電ガスが封入されている。
【０００８】
なお、この図１および２において、符号ＢＳは、前面ガラス基板１の背面の非表示領域に形成された光吸収層を示している。
【０００９】
このような構成のＰＤＰは、その製造工程において、前面ガラス基板１と列電極保護層４が重ね合わされて放電空間内に放電ガスが封入された後に駆動試験が行われるが、このとき、一部の放電セルＣが常時点灯してしまうことがある。  このような常時点灯する放電セルＣにおける輝度は、他の放電セルＣが点灯した場合の輝度よりも大きい場合が多く、その存在は、特にＰＤＰが暗い画面を表示する場合のような低輝度表示の際に非常に目立つので、画像の表示品質を低下させてしまうことになる。
【００１０】
ＰＤＰの製造工程において、製造したＰＤＰに上記のような常時点灯する放電セルＣが存在する場合には、前面ガラス基板１と背面ガラス基板４の封着前であれば、専用装置を用いてその常時点灯する放電セルＣの修復が行われるが、常時点灯する放電セルＣの存在が前面ガラス基板１と背面ガラス基板４の封着後に確認された場合には、行電極対（Ｘ，Ｙ）の常時点灯する放電セルＣに対向している透明電極ＸｂまたはＹｂがレーザによって切断されることにより、その放電セルＣが不点灯化、すなわち、その放電セルＣ内での放電が不可にされる。
【００１１】
図３は、レーザによって常時点灯する放電セルＣが不点灯化される工程の状態を示しており、レーザ発生装置Ｌにより、背面ガラス基板４上に重ね合わされて封着された前面ガラス基板１の上方から、常時点灯する放電セルＣに対向している透明電極Ｘｂに向かってレーザ光ｂが照射されて、この透明電極Ｘｂがその基端部分において切断される。
【００１２】
図４は、常時点灯する放電セルＣ（下段中央の放電セルＣＡ）に対向する透明電極Ｘｂの基端部分ｑがレーザによって切断されて、この放電セルＣＡが不点灯化された状態を示しており、この不点灯化された放電セルＣＡ内では、透明電極ＸｂとＹｂ間で放電が発生することは無くなる。
【００１３】
しかしながら、この図４に示されるように、上記のようにして不点灯化された放電セルＣＡとこの放電セルＣＡに隣接する放電セル（例えば、図４の下段右側の放電セルＣＢ）との間を区画する隔壁６の縦壁６Ｂの保護層３に対向する部分に、隔壁の成形不良等によって欠損部分ｐが生じているような場合には、放電セルＣＢ内において放電が発生する際に、この放電セルＣＢ内での放電が隣接する不点灯化処理された放電セルＣＡ内に縦壁６Ｂの欠損部分ｐを介して拡がる、所謂、放電干渉が生じ、これによって、放電セルＣＡが誤点灯してしまうという問題が発生する。
【００１４】
さらに、隔壁６の縦壁６Ｂに欠損部分ｐが生じていると、この欠損部分ｐに放電セルＣＡまたは放電セルＣＢから蛍光体層７を形成する蛍光材料が食み出してしまい、上記のような放電干渉が発生する際に欠損部分ｐに食み出した蛍光材料が発光して、パネル面に色むらを形成してしまうといった問題が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
この発明は、上記のような従来のＰＤＰが有している問題点を解決することが出来るＰＤＰの製造方法を提供することをその技術的課題の一つとしている。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
この発明によるＰＤＰの製造方法は、上記目的を達成するために、放電空間を介して一対の基板が対向され、この一対の基板の一方の基板の他方の基板に対向する側に、放電空間内において放電を発生させる放電電極とこの放電電極を被覆する誘電体層とこの誘電体層を被覆する二次電子放出材料によって形成された保護層が形成され、他方の基板の一方の基板に対向する側に、放電空間をそれぞれ放電電極に対向する単位発光領域毎に区画する隔壁を備えたＰＤＰの製造方法であって、前記隔壁の隣接する単位発光領域間を区画する部分にこの部分を挟んで隣接する単位発光領域を互いに連通させる欠損部分が生じたＰＤＰに対して、保護層の隔壁の欠損部分に対向する部分に向けてレーザ光を照射する工程を有していることを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
この発明は、放電空間を介して一対の基板が対向され、この一対の基板の一方の基板の他方の基板に対向する側に、放電空間内において放電を発生させる放電電極とこの放電電極を被覆する誘電体層とこの誘電体層を被覆する二次電子放出材料によって形成された保護層が形成され、他方の基板の一方の基板に対向する側に、放電空間をそれぞれ放電電極に対向する放電セル毎に区画する隔壁を備え、この隔壁の隣接する放電セル間を区画する部分にこの部分を挟んで隣接する放電セルを互いに連通させる欠損部分が生じているＰＤＰに対して、保護層の隔壁の欠損部分に対向する部分に向けてレーザ光を照射する工程を有するＰＤＰの製造方法を、最良の実施形態としている。
【００１８】
この実施形態によるＰＤＰの製造方法は、放電空間を放電セル毎に区画する隔壁の隣接する放電セルの間を区画する部分にこの隔壁を挟んで隣接する放電セル間を連通させるような欠損部分が生じているＰＤＰに対して実施される。
【００１９】
すなわち、この隔壁の欠損部分に対向している部分の保護層に向かってレーザ光が照射されて、二次電子放出材料によって形成された保護層の欠損部分に対向する部分からの欠損部分内への二次電子放出量を減少させる処理が行われる。
【００２０】
このような二次電子放出量を減少させる処理としては、例えば、レーザ光の照射によって保護層の隔壁の欠損部分に対向している部分を除去するか、または、保護層の隔壁の欠損部分に対向している部分の二次電子放出材料を変質させることによって、その部分の保護層の二次電子放出係数を低下させる方法が挙げられる。
【００２１】
この実施形態によるＰＤＰの製造方法によれば、ＰＤＰが隔壁の隣接する放電セル間を区画する部分にこの隣接する放電セル間を連通させるような欠損部分を有している場合でも、レーザ光の照射による保護層の加工処理によって、ＰＤＰの隔壁の欠損部分に対向する部分の保護層からの欠損部分内への二次電子の放出量を減少させることが出来るので、欠損部分を有する隔壁を挟んで隣接する一方の放電セル内において放電が発生された際に、この放電が欠損部分を介して他方の放電セル内に拡がろうとすると、この欠損部分内では二次電子量が不足して放電し難くなり、これによって、ＰＤＰの隣接する放電セル間における隔壁の欠損部分を介した放電干渉を防止することが出来るようになる。
【００２２】
さらに、ＰＤＰの隔壁の欠損部分に放電セル内から蛍光体層を形成する蛍光材が食み出している場合でも、この欠損部分内では放電がほぼ消滅してしまうので、この欠損部分に食み出した蛍光材が発光するのが防止される。
【００２３】
以上のようにして、この製造方法によって製造されたＰＤＰは、放電セル間を区画する隔壁に欠損部分が生じている場合でも、この欠損部分の存在によるパネル面での不要な発光の発生が防止されるので、表示品質の低下が防止されるようになる。
【００２４】
また、上記実施形態によるＰＤＰの製造方法において、レーザ光の照射によって保護層を形成する二次電子放出材料を変質させることによって、保護層の欠損部分に対向する部分の二次電子放出係数を低下させる場合には、この部分の保護層は除去されないので、保護層による誘電体層の保護機能が損なわれることはない。
【００２５】
この実施形態によるＰＤＰの製造方法は、放電セルとこの放電セルに隣接する他の放電セルとの間に位置する部分の隔壁に欠損部分が生じたプラズマディスプレイパネルに対して実施されるようにするのが好ましい。
【００２６】
これによって、ＰＤＰが放電セルと隣接する放電セルとの間を区画する隔壁に欠損部分が存在する場合でも、この隔壁の欠損部分の存在によって放電干渉が発生するのが防止されて、不点灯化された放電セルが誤発光するのが防止される。
【００２７】
また、この実施形態によるＰＤＰの製造方法は、放電の発生が不可にされた放電セル（不点灯化された放電セル）とこの放電セルに隣接する他の放電セルとの間に位置する部分の隔壁に欠損部分が生じたプラズマディスプレイパネルに対して実施されるようにするのが好ましい。
【００２８】
これによって、ＰＤＰが不点灯化された放電セルを有し、この不点灯化された放電セルと隣接する放電セルとの間を区画する隔壁に欠損部が存在する場合でも、この隔壁の欠損部分の存在によって放電干渉が発生するのが防止されて、不点灯化された放電セルが誤発光するのが防止される。
【００２９】
さらに、この実施形態によるＰＤＰの製造方法において、レーザ光としてＹＡＧレーザ光を使用するのが好ましい。
【００３０】
このＹＡＧレーザ光は、一般に、放電電極の放電セルに対向して放電を発生させる部分を切断することによりこの放電セル内での放電を不可にする工程に使用されるので、このＰＤＰの製造方法にＹＡＧレーザ光が用いられることによって、放電セル内での放電を不可にする工程と保護層にレーザ光を照射する工程とを一台のＹＡＧレーザ装置によって行うことが可能になり、これによって、ＰＤＰの製造工程を簡素化することが出来るようになる。
【実施例１】
【００３１】
図５は、この発明の第１実施例におけるＰＤＰの製造方法を示す工程説明図である。
【００３２】
この図５の（ａ）図は、前述した図４においてＰＤＰの隔壁６の縦壁６Ｂの欠損部分ｐが形成されている部分をＶ２−Ｖ２線に沿って断面した図であり、（ｂ）図は、（ａ）図の欠損部分ｐの形成部分における補修工程の状態を示した図である。
【００３３】
なお、この図５の（ａ）図および（ｂ）図において、ＰＤＰの構成は前述した図１および２の構成と同様であるため、図１および２と同一の符号が付されている。
【００３４】
すなわち、このＰＤＰは、前面ガラス基板１の背面側に、行方向に延びる複数の行電極対（Ｘ，Ｙ）と、この行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆する誘電体層２が形成されており、さらに、この誘電体層２の背面が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等の二次電子放出材料によって形成された保護層３によって被覆されている。
【００３５】
この前面ガラス基板１と放電空間を介して平行に対向する背面ガラス基板４の前面ガラス基板１に対向する側には、列方向に延びる複数の列電極Ｄと、この列電極Ｄを被覆する列電極保護層５と、この列電極保護層５上に形成されて放電空間の行電極対（Ｘ，Ｙ）と列電極Ｄが交差する位置にそれぞれ形成される放電セルＣを区画する隔壁６と、各放電セルＣ毎に赤，緑，青に色分けされた蛍光体層７とが形成されている。
【００３６】
隔壁６は、各行電極対（Ｘ，Ｙ）に対向する部分毎に、列方向に所要の間隔を空けて行方向に互いに平行に延びる二本の横壁６Ａとこの二本の横壁６Ａ間を行方向に所要の間隔を空けて列方向に延びる複数の縦壁６Ｂとによって略梯子形状に成形されていて、前面ガラス基板１と背面ガラス基板４の間の放電空間を各放電セルＣ毎に方形に区画している。
【００３７】
そして、この隔壁６の少なくとも縦壁６Ｂの前面ガラス基板１に対向する側の頂面が保護層３に当接されていて、それぞれ行方向に隣接する放電セルＣの間の連通が遮断されている。
【００３８】
図５（ａ）において、行電極Ｘの透明電極が切断されて不点灯化された放電セルＣ（放電セルＣＡ）と、この放電セルＣＡに行方向において隣接する他の放電セル（図５（ａ）において紙面に対して奥側に位置する放電セル）との間を区画する隔壁６の縦壁６Ｂの保護層３に対向する部分に、欠落によって、放電セルＣＡと隣接する放電セルとを連通させる欠損部分ｐが形成されている（図４参照）。
【００３９】
ＰＤＰの製造工程において、互いに重ね合わされた前面ガラス基板１と背面ガラス基板４の封着工程の終了後に、常時点灯する放電セルＣＡの存在が検出されると、前述したように、前面ガラス基板１の上方からのレーザ照射による行電極ＸまたはＹの透明電極の切断によって（図３参照）、常時点灯する放電セルＣＡの不点灯化が行われる。
【００４０】
そして、さらに、この不点灯化された放電セルＣＡと行方向に隣接する他の放電セル（図４の放電セルＣＢ）との間を区画する隔壁６の縦壁６Ｂに、図５（ａ）に示されるような欠損部分ｐの存在が検出されると、図５（ｂ）に示されるように、レーザ発生装置Ｌ１により、背面ガラス基板４上に重ね合わされて封着された前面ガラス基板１の上方から、保護層３の縦壁６Ｂの欠損部分ｐに対向している部分３ａ（図５（ａ）参照）に向かってレーザ光ｂ１が照射されて、この保護層３の欠損部分ｐに対向する部分３ａが除去される。
【００４１】
この保護層３の欠損部分ｐに対向する部分３ａの除去に使用されるレーザ発生装置Ｌ１には、ＹＡＧレーザ装置を用いるのが好ましい。
【００４２】
このＹＡＧレーザ装置は、一般に、放電セルを不点灯化する際の行電極の透明電極の切断に用いられており、そして、上記のようにして保護層３を部分的に除去する際の加工条件は、ＹＡＧレーザ装置の使用条件の範囲内である。
【００４３】
このため、ＰＤＰの製造工程において、ＹＡＧレーザ装置を用いることによって、放電セルの不点灯化工程と保護層の部分的な除去工程とを一台のＹＡＧレーザ装置によって行うことが可能になり、ＰＤＰの製造工程を簡素化することが出来る。
【００４４】
レーザ発生装置Ｌ１による縦壁６Ｂの欠損部分ｐに対向する保護層３の部分３ａの除去工程は、前面ガラス基板１の上方において、例えば酸化マグネシウム（ＭｇＯ）によって形成された保護層３の成膜面（誘電体層２に接する面）にレーザの焦点を合わせることによって行われる。
【００４５】
このレーザ発生装置Ｌ１から照射されるレーザ光ｂ１の加工エネルギは、（レーザ出力）×（照射時間）によって表わされる。
【００４６】
従って、実施例におけるＰＤＰの製造方法においては、レーザ発生装置Ｌ１からのレーザ光の出力と照射時間が互いの相互関係によって調整されることにより、レーザ光ｂ１による加工エネルギが、保護層３を部分的に除去するのに最適な大きさとなるように設定される。
【００４７】
この製造方法によって製造されたＰＤＰは、縦壁６Ｂの欠損部分ｐに対向する保護層３の部分３ａが除去されていることによって、不点灯化された放電セルＣＡとこの放電セルＣＡに行方向において隣接する放電セルＣＢ（図４参照）とを連通させる欠損部分ｐに対向する部分に、放電によって放電空間内に二次電子を放出する二次電子放出材が無く、これによって、隣接する放電セルＣＢ内で放電が発生しても、この放電が欠損部分ｐを介して放電セルＣＡ内に拡がろうとすると、この欠損部分ｐ内では二次電子が不足しているため、放電を維持され難くなる。
【００４８】
これによって、隣接する放電セルＣＢから不点灯化された放電セルＣＡへの放電干渉が防止される。
【００４９】
そして、この縦壁６Ｂの欠損部分ｐに蛍光体層７の蛍光材が食み出している場合でも、上述したように、この欠損部分ｐにおいては放電セルＣＢ内において発生した放電がほぼ消滅してしまうため、欠損部分ｐに食み出した蛍光材が発光するのが防止される。
【００５０】
以上のように、上記ＰＤＰの製造方法によれば、製造されたＰＤＰに不点灯化された放電セルと隣接する放電セルとの間を区画する隔壁に欠損部分が存在する場合でも、この隔壁の欠損部分の存在によって不点灯化された放電セルが誤発光したり、隔壁の欠損部分に食み出した蛍光材が発光したりするのが防止されることによって、ＰＤＰのパネル面における不要な発光の発生による表示品質の低下を防止することが出来るようになる。
【実施例２】
【００５１】
図６は、この発明の第２実施例におけるＰＤＰの製造方法を示している。
【００５２】
なお、この図６において、ＰＤＰの構成は前述した図５の場合と同様に、図１および２と同一の符号が付されている。
【００５３】
前述した第１実施例においては、ＰＤＰの不点灯化された放電セルとこの放電セルに隣接する他の放電セルとの間の隔壁の欠損部分に対向している部分の保護層をレーザ照射によって除去することにより、不点灯化された放電セルへの放電干渉を防止している。
【００５４】
これに対して、この実施例においては、不点灯化された放電セルＣＡと行方向に隣接する他の放電セルＣＢ（図４参照）との間を区画する隔壁６の縦壁６Ｂに欠損部分ｐが存在することが検出されると、第１実施例の場合と同様に、レーザ発生装置Ｌ１からレーザ光ｂ１が、背面ガラス基板４上に重ね合わされて封着された前面ガラス基板１の上方から酸化マグネシウム（ＭｇＯ）によって形成された保護層３の成膜面（誘電体層２に接する面）に焦点を合わせて、保護層３の縦壁６Ｂの欠損部分ｐに対向している部分３ａ（図５（ａ）参照）に向かって照射される。
【００５５】
このとき、レーザ発生装置Ｌ１から照射されるレーザ光ｂ１の（レーザ出力）×（照射時間）によって表わされる加工エネルギは、レーザ光ｂ１の照射により、二次電子放出材である酸化マグネシウム（ＭｇＯ）によって形成された保護層３が除去されることなく、このレーザ光ｂ１が照射された部分の保護層３の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を変質させてその二次電子放出係数γを低下させる値、すなわち、第１実施例の場合よりも小さい所要の値となるように設定される。
【００５６】
図６に符号３ｂによって示された部分は、レーザ光ｂ１の照射によって酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が変質してその二次電子放出係数γが低下された保護層３の欠損部分ｐに対向する部分を示している。
【００５７】
このレーザ光ｂ１の加工エネルギの設定は、第１実施例において説明したように、レーザ発生装置Ｌ１からのレーザ光ｂ１のレーザ出力と照射時間の何れか、またはその双方を調整することによって行われる。
【００５８】
レーザ発生装置Ｌ１には、第１実施例の場合と同様の理由により、ＹＡＧレーザ装置を用いるのが好ましい。
【００５９】
この製造方法によって製造されたＰＤＰは、縦壁６Ｂの欠損部分ｐに対向する保護層３の部分３ｂの二次電子放出係数γがレーザ照射によって低下されていることによって、不点灯化された放電セルＣＡとこの放電セルＣＡに行方向において隣接する放電セルＣＢ（図４参照）とを連通する欠損部分ｐ内への二次電子の放出量が少なくなり、これによって、放電セルＣＢ内で放電が発生した際に、この放電が欠損部分ｐを介して放電セルＣＡ内に拡がろうとしても、この欠損部分ｐにおいて放電が維持され難くなる。
【００６０】
これによって、隣接する放電セルＣＢから不点灯化された放電セルＣＡへの放電干渉が防止される。
【００６１】
そして、この縦壁６Ｂの欠損部分ｐに蛍光体層７の蛍光材が食み出している場合でも、上述したように、この欠損部分ｐにおいては放電セルＣＢ内において発生した放電がほぼ消滅してしまうため、欠損部分ｐに食み出した蛍光材が発光するのが防止される。
【００６２】
以上のように、上記ＰＤＰの製造方法によれば、第１実施例の場合と同様に、製造されたＰＤＰが不点灯化された放電セルと隣接する放電セルとの間を区画する隔壁に欠損部分を有している場合でも、この隔壁の欠損部分の存在によって不点灯化された放電セルが誤発光したり隔壁の欠損部分に食み出した蛍光材が発光したりするのが防止されて、ＰＤＰのパネル面における不要な発光の発生による表示品質の低下を防止することが出来るようになる。
【００６３】
そして、この実施例におけるＰＤＰの製造方法によれば、製造されたＰＤＰの隔壁の欠損部分に対向する部分の保護層は、レーザ光の照射によって変質するだけで、除去されないので、誘電体層の保護機能が損なわれることはない。
【００６４】
上記各実施例におけるＰＤＰの製造方法は、放電空間を介して一対の基板が対向され、この一対の基板の一方の基板の他方の基板に対向する側に、放電空間内において放電を発生させる放電電極とこの放電電極を被覆する誘電体層とこの誘電体層を被覆する二次電子放出材料によって形成された保護層が形成され、他方の基板の一方の基板に対向する側に、放電空間をそれぞれ放電電極に対向する放電セル毎に区画する隔壁を備え、この隔壁の隣接する放電セル間を区画する部分にこの部分を挟んで隣接する放電セルを互いに連通させる欠損部分が生じたＰＤＰに対して、保護層の隔壁の欠損部分に対向する部分に向けてレーザ光を照射する工程を有する実施形態のＰＤＰの製造方法を、その上位概念の実施形態としている。
【００６５】
この実施形態によるＰＤＰの製造方法は、放電空間を放電セル毎に区画する隔壁の隣接する放電セルの間を区画する部分にこの隔壁を挟んで隣接する放電セル間を連通させるような欠損部分が生じているＰＤＰに対して実施される。
【００６６】
すなわち、この隔壁の欠損部分に対向している部分の保護層に向かってレーザ光が照射されて、二次電子放出材料によって形成された保護層の欠損部分に対向する部分からの欠損部分内への二次電子放出量を減少させる処理が行われる。
【００６７】
このような二次電子放出量を減少させる処理としては、例えば、レーザ光の照射によって保護層の隔壁の欠損部分に対向している部分を除去するか、または、保護層の隔壁の欠損部分に対向している部分の二次電子放出材料を変質させることによって、その部分の保護層の二次電子放出係数を低下させる方法が挙げられる。
【００６８】
この実施形態によるＰＤＰの製造方法によれば、ＰＤＰが隔壁の隣接する放電セル間を区画する部分にこの隣接する放電セル間を連通させるような欠損部分を有している場合でも、レーザ光の照射処理によって、ＰＤＰの隔壁の欠損部分に対向する部分の保護層からの欠損部分内への二次電子の放出量を減少させることが出来るので、欠損部分を有する隔壁を挟んで隣接する一方の放電セル内で発生した放電が、この放電が欠損部分を介して他方の放電セル内に拡がろうとしても、この欠損部分内では、二次電子量が不足していることによって放電が維持され難くなり、これによって、ＰＤＰの隣接する放電セル間における隔壁の欠損部分を介した放電干渉を防止することが出来るようになる。
【００６９】
さらに、ＰＤＰの隔壁の欠損部分に放電セル内から蛍光体層を形成する蛍光材が食み出している場合でも、欠損部分内では放電がほぼ消滅してしまうので、この欠損部分に食み出した蛍光材が発光するのが防止される。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】従来のＰＤＰの構成を示す正面図である。
【図２】図１のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図３】ＰＤＰの製造方法の従来例を示す説明図である。
【図４】従来のＰＤＰにおける問題点を説明するための説明図である。
【図５】この発明の実施形態における第１実施例を示す工程説明図であり、（ａ）は工程実施前のＰＤＰの状態を示す断面図であり、（ｂ）はＰＤＰの工程の実施状態を示す断面図である。
【図６】この発明の実施形態における第２実施例を示す工程説明図である。
【符号の説明】
【００７１】
１          …前面ガラス基板（一方の基板）
２          …誘電体層
３          …保護層
３ａ，３ｂ  …欠損部分に対向する保護層の部分
４          …背面ガラス基板（他方の基板）
６          …隔壁
６Ａ        …横壁（隔壁）
６Ｂ        …縦壁（隔壁）
７          …蛍光体層
Ｃ          …放電セル（単位発光領域）
ＣＡ        …不点灯化された放電セル
ＣＢ        …不点灯化された放電セルに隣接する放電セル
Ｌ１        …レーザ発生装置
Ｘ，Ｙ      …行電極（放電電極）
ｂ          …レーザ光
ｐ          …欠損部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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