(57)【要約】【課題】コスト安で、製造工程の容易化を図る液晶配向用基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】電圧を印加するＩＴＯ電極膜を有する基板と、ＩＴＯ電極膜が設けられた側の基板に、液晶分子を所定の方向に配向させる配向膜とを有する液晶配向用基板の製造方法であって、配向膜の上記液晶分子と接触する側の接触面４ａに、液滴吐出方式により上記液晶分子に対する撥液材料を含む液滴５０を選択的に塗布して撥液性領域を形成する撥液部形成工程を有するという構成を採用する。【選択図】図６
2009156895.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電圧を印加する電極を有する基板と、前記電極が設けられた側の前記基板に、液晶分子を所定の方向に配向させる配向膜とを有する液晶配向用基板の製造方法であって、
前記配向膜の前記液晶分子と接触する側の接触面に、液滴吐出方式により前記液晶分子に対する撥液材料を含む液滴を選択的に塗布して撥液部を形成する撥液部形成工程を有することを特徴とする液晶配向用基板の製造方法。
【請求項２】
前記撥液部形成工程の前に、予め、前記接触面に前記液晶分子に対する親液化処理を施す工程を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶配向用基板の製造方法。
【請求項３】
前記撥液部は、所定の間隔で離間するストライプ状に形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶配向用基板の製造方法。
【請求項４】
前記撥液材料は、自己組織化単分子膜を形成するシラン化合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶配向用基板の製造方法。
【請求項５】
前記撥液材料は、フルオロアルキル基を有する化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶配向用基板の製造方法。
【請求項６】
前記基板に、前記液滴吐出方式により電極材料を含む液滴を選択的に塗布して前記電極を形成する工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶配向用基板の製造方法。
【請求項７】
前記電極は、透明導電膜であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶配向用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に用いられる液晶配向用基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶表示装置の視野角特性及び応答速度の向上に対する要求がされており、液晶配向用基板においては、こうした要求に応じて、一画素内で液晶分子の傾斜（配向）方向が複数になるように配向分割する技術が提案されている。
当該配向分割技術として、周知技術の液晶分子と接する配向膜にラビング処理を施す技術や、また、液晶層を挟持する基板上に複数の凸部を所定間隔で配置して、当該凸部により液晶分子を画素領域ごとに配向させる技術が知られている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【０００３】
しかし、上記配向分割技術は、ラビング処理や凸部を形成する工程が煩雑であることから、近年、配向膜上に疎水性領域と親水性領域とを所定のパターンで形成して、該疎水性及び該親水性により液晶分子を配向させる配向分割技術が提案されている（例えば、特許文献３及び特許文献４参照）。
【特許文献１】特開２０００−２８４２９０号公報
【特許文献２】特許第３４０８１３４号公報
【特許文献３】特開２００５−６２５４３号公報
【特許文献４】特開２００５−６２５４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記疎水性領域及び親水性領域の形成工程は、例えば、疎水性皮膜から形成される配向膜に対して光触媒層を有するマスクでパターニングし、露光処理を施すことにより、露光された部位を親水化して親水性領域を形成している。したがって、該技術を用いて製造される液晶配向用基板は、光触媒材料を用いることによるコスト高や、マスクによるパターニング及び露光処理を施すという複数の工程を経なければ製造できないという問題があった。
【０００５】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、コスト安で、製造の容易化を図る液晶配向用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明は、電圧を印加する電極を有する基板と、上記電極が設けられた側の上記基板に、液晶分子を所定の方向に配向させる配向膜とを有する液晶配向用基板の製造方法であって、上記配向膜の上記液晶分子と接触する側の接触面に、液滴吐出方式により上記液晶分子に対する撥液材料を含む液滴を選択的に塗布して撥液部を形成する撥液部形成工程を有するという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、液滴吐出方式により配向膜に撥液部を所望のパターンで形成することができる。したがって、本発明は、配向膜に光触媒材料を用いることや、マスクによるパターニング及び露光処理を施すという複数の工程を経るということなく、コスト安で、製造が容易な液晶配向用基板の製造方法を提供できる効果がある。
【０００７】
また、本発明においては、上記撥液部形成工程の前に、予め、上記接触面に上記液晶分子に対する親液化処理を施す工程を有するという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、予め親液化処理された配向膜に撥液部を形成することによって、容易に撥液性及び親液性を有する領域を形成することができる。
【０００８】
また、本発明においては、上記撥液部は、所定の間隔で離間するストライプ状に形成されるという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、所望の間隔をおいて直線的に液滴を塗布することで、撥液性領域及び親液性領域がストライプ状に形成された配向膜を容易に形成することができる。
【０００９】
また、本発明においては、上記撥液材料は、自己組織化単分子膜を形成するシラン化合物であるという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、塗布されたシラン化合物が自己組織化単分子膜を形成することで撥液性を発現させることができる。
【００１０】
また、本発明においては、上記撥液材料は、フルオロアルキル基を有する化合物であるという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、フルオロアルキル基が撥液部の表面に配向して撥液性を発現させることができる。
【００１１】
また、本発明においては、上記基板に、上記液滴吐出方式により電極材料を含む液滴を選択的に塗布して上記電極を形成する工程を有するという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、液滴吐出方式により基板に、容易に所望のパターンの電極を形成することができる。
【００１２】
また、本発明においては、上記電極は、透明導電膜であるという構成を採用する。
このような構成を採用することによって、本発明では、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電導膜から電極が形成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の膜パターン形成方法及び発光装置の製造方法を、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１４】
（液滴吐出装置）
まず、本実施形態に係る液晶配向用基板の製造方法に用いる液滴吐出方式を実現する液滴吐出装置について説明する。
図１は、液滴吐出装置ＩＪの概略的な構成図である。
液滴吐出装置（インクジェット装置）ＩＪは、液滴吐出ヘッドから基板Ｐに対して液滴を吐出（滴下）するものであって、液滴吐出ヘッド３０１と、Ｘ方向駆動軸３０４と、Ｙ方向ガイド軸３０５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ３０７と、クリーニング機構３０８と、基台３０９と、ヒータ３１５とを備えている。ステージ３０７は、この液滴吐出装置ＩＪによりインク（液体材料）が設けられる基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
【００１５】
液滴吐出ヘッド３０１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＸ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド３０１の下面にＸ軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド３０１の吐出ノズルからは、ステージ３０７に支持されている基板Ｐに対してインクが吐出される。
【００１６】
Ｘ方向駆動軸３０４には、Ｘ方向駆動モータ３０２が接続されている。Ｘ方向駆動モータ３０２はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＸ方向の駆動信号が供給されると、Ｘ方向駆動軸３０４を回転させる。Ｘ方向駆動軸３０４が回転すると、液滴吐出ヘッド３０１はＸ軸方向に移動する。
Ｙ方向ガイド軸３０５は、基台３０９に対して動かないように固定されている。ステージ３０７は、Ｙ方向駆動モータ３０３を備えている。Ｙ方向駆動モータ３０３はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ方向の駆動信号が供給されると、ステージ３０７をＹ方向に移動する。
【００１７】
制御装置ＣＯＮＴは、液滴吐出ヘッド３０１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ方向駆動モータ３０２に液滴吐出ヘッド３０１のＸ方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ方向駆動モータ３０３にステージ３０７のＹ方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構３０８は、液滴吐出ヘッド３０１をクリーニングするものである。クリーニング機構３０８には、図示しないＹ方向の駆動モータが備えられている。このＹ方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ方向ガイド軸３０５に沿って移動する。クリーニング機構３０８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
ヒータ３１５は、ここではランプアニールにより基板Ｐを熱処理する手段であり、基板Ｐ上に塗布された液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ３１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００１８】
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド３０１と基板Ｐを支持するステージ３０７とを相対的に走査しつつ基板Ｐに対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、Ｘ方向を非走査方向、Ｘ方向と直交するＹ方向を走査方向とする。
したがって、液滴吐出ヘッド３０１の吐出ノズルは、非走査方向であるＸ方向に一定間隔で並んで設けられている。なお、図１では、液滴吐出ヘッド３０１は、基板Ｐの進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド３０１の角度を調整し、基板Ｐの進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド３０１の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することが出来る。また、基板Ｐとノズル面との距離を任意に調節することが出来るようにしてもよい。
【００１９】
図２は、液滴吐出ヘッド３０１の断面図である。
液滴吐出ヘッド３０１には、液体材料（機能液）を収容する液体室３２１に隣接してピエゾ素子３２２が設置されている。液体室３２１には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系３２３を介して液体材料が供給される。
ピエゾ素子３２２は駆動回路３２４に接続されており、この駆動回路３２４を介してピエゾ素子３２２に電圧を印加して、ピエゾ素子３２２を変形させることにより、液体室３２１が変形し、ノズル３２５から液体材料が吐出される。
この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子３２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子３２２の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【００２０】
なお、液滴吐出方式の吐出技術としては、上記の電気機械変換式の他に、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に例えば３０ｋｇ／ｃｍ２程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進してノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散してノズルから吐出されない。
【００２１】
また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出方式は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出方式により吐出される液状材料（流動体）の一滴の量は、例えば１〜３００ナノグラムである。
【００２２】
（液晶表示装置）
次に、本実施形態に係る液晶配向用基板の構成について、組み込まれて最終製品となる液晶表示装置の構成と合わせて図３を参照して説明する。
図３は、本実施形態における液晶表示装置１００を示す断面構成図である。
なお、ここで液晶配向用基板とは、後述する素子基板１１０及び対向基板１２０の少なくともいずれか一方を指すものとする。
【００２３】
液晶表示装置１００は、互いに対向するように配置された素子基板１１０と対向基板１２０と、これらの間に挟持された液晶層１３０と、対向基板１２０に付設された位相差板１４１ａ、偏光板１４２ａと、素子基板１１０に付設された位相差板１４１ｂ、偏光板１４２ｂとが備えられた液晶パネルを主体として構成されている。この液晶パネルに、液晶駆動用ドライバチップと、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶表示装置が構成される。
【００２４】
対向基板１２０は、光透過性の基板１２１と、この基板１２１に形成されたカラーフィルタ１２２とを主体として構成されている。カラーフィルタ１２２は、隔壁１２３と、隔壁１２３によって区画される領域に配置される着色層１２４Ｒ（赤色），１２４Ｇ（緑色），１２４Ｂ（青色）と、隔壁１２３及び着色層１２４Ｒ，１２４Ｇ，１２４Ｂを覆う保護膜１２５と、を具備して構成されている。
【００２５】
また、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料からなる液晶駆動用の電極層１２６が保護膜１２５の略全面にわたって形成されている。さらにこの液晶駆動用の電極層１２６を覆って配向膜１５０ａが設けられており、また、素子基板１１０側の画素電極１１３上にも配向膜１５０ｂが設けられている。
【００２６】
素子基板１１０は、光透過性の基板１１１上に図示略の絶縁層が形成され、さらにこの絶縁層の上に、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子１１２と画素電極１１３が形成されてなるものである。また、基板１１１上に形成された絶縁層上には、画素電極１１３が設けられ、各画素電極１１３と電気的に接続される位置にＴＦＴ素子１１２が組み込まれている。また、対向基板１２０側に形成された電極層１２６はこの実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされている。なお、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々なものを適用できる。
【００２７】
素子基板１１０と対向基板１２０とは、対向基板１２０の外周縁に沿って形成されたシール材１６０によって所定の間隙を介して貼り合わされている。なお、符号１７０は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定に保持するためのスペーサである。素子基板１１０と対向基板１２０との間には、平面視略額縁状のシール材１６０によって矩形の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液晶が封入されている。
【００２８】
（液晶配向用基板の製造方法）
続いて、上記素子基板１１０，対向基板１２０のような液晶配向用基板の製造方法について図４及び図５を参照して説明する。
図４は、液晶配向用基板１の概略構成図である。
図５は、液晶配向用基板１の製造方法を説明する図である。
【００２９】
図４に示すように、液晶配向用基板１は、光透過性の基板２に順次、ＩＴＯ電極膜（電極）３と、配向膜４とが厚さ方向に積層する構成となっている。
なお、上記具体例に示すように、素子基板１１０及び対向基板１２０においては、基板２とＩＴＯ電極膜３との間に、素子基板１１０であれば絶縁膜やＴＦＴ素子１１２等が、対向基板１２０であればカラーフィルタ１２２が設けられて形成されることとなるが、ここではこれら各部材の説明は割愛することとする。
以下、図５に沿って液晶配向用基板１の製造方法を順次説明する。
【００３０】
（基板の親液化処理）
図５（ａ）に示すように、先ず、ＩＴＯ電極膜３を液滴吐出装置ＩＪ用いた液滴吐出方式により基板２の表面２ａ上に形成するため、表面２ａに予め親液化処理を施す。
親液性を高める基板２の表面２ａの洗浄処理として、具体的には、ＵＶエキシマ洗浄、低圧水銀灯洗浄、Ｏ２プラズマ洗浄、ＨＦや硫酸等を用いた酸洗浄、アルカリ洗浄、超音波洗浄、メガソニック洗浄、コロナ処理、グロー洗浄、スクラブ洗浄、オゾン洗浄、水素水洗浄、マイクロバルブ洗浄、フッ素系洗浄等を実施する。
【００３１】
（電極膜形成工程）
次に、図５（ｂ）に示すように、洗浄処理により表面が親液化された基板２の表面２ａに、液滴吐出装置ＩＪ用いた液滴吐出方式によりＩＴＯ電極膜３を形成する。
具体的には、液滴吐出装置ＩＪは、図１に示すように、基板２をステージ３０７上に載置して、制御装置ＣＯＮＴの制御の下、液滴吐出ヘッド３０１と基板２を支持するステージ３０７とを相対的に走査しつつ、ＩＴＯ電極膜３を形成する電極材料を含む液体を収容している吐出ノズルから基板２に対して該電極材料を含む液滴を吐出し、所望の乾燥・焼成処理を施して表面２ａ上に所望のパターンのＩＴＯ電極膜３を形成する。
【００３２】
ＩＴＯ電極膜３を形成する液体には、例えば、インジウム化合物及び錫化合物を溶剤に溶解させた透明導電膜形成用塗布液を用いる。透明導電膜形成用塗布液として、例えば、インジウム化合物としてアセチルアセトンインジウム、錫化合物としてアセチルアセトン錫、バインダーとしてセルロース誘導体、溶剤としてアルキルフェノール、二塩基酸エステル、ジエチレングリコール誘導体等を含有する液体が挙げられる。また、インジウム、錫、アンチモン、アルミニウム及び亜鉛又はそれらの合金からなる金属ナノ粒子の混合物を含有した分散液等も挙げることができる。
【００３３】
（配向膜形成工程）
次に、図５（ｃ）に示すように、液滴吐出方式により形成されたＩＴＯ電極膜３上に、配向膜４を形成する。
配向膜４は、液滴吐出装置ＩＪ用いた液滴吐出方式若しくは、他の塗布方法（例えば、スピンコート法、スプレー法、スクリーン印刷法等）により形成する。液滴吐出装置ＩＪ用いた液滴吐出方式で形成する場合は、液滴吐出装置ＩＪにより、今度は、配向膜４を形成する機能液（本実施形態では、熱硬化特性を有するポリイミドを含む液体）を収容している吐出ノズルからＩＴＯ電極膜３に対して当該機能液を塗布し、所望の熱処理によって乾燥・硬化させてポリイミドを主成分とする配向膜４を形成する。
【００３４】
続いて、上記工程により形成された液晶配向用基板１の配向膜４に接触する液晶層の液晶分子を所定方向に配向させる撥液性領域及び親液性領域を形成する工程について図６及び図７を参照して説明する。
図６は、撥液性領域（撥液部）１０の形成工程を説明する図である。
図７は、撥液性領域１０及び親液性領域２０が形成された配向膜４の平面図である。
【００３５】
（配向膜の親液化処理）
先ず、配向膜４に液滴吐出方式により撥液材料を含有する液滴５０を塗布する前に予め、図５（ｃ）に示す配向膜４の液晶分子と接触する側の接触面４ａに親液化処理を施す。親液性を高める配向膜４の接触面４ａの洗浄処理として、上記記載の基板の親液化処理と同様に、ＵＶエキシマ洗浄、低圧水銀灯洗浄等から好ましいもの選択して実施する。
【００３６】
（撥液部形成工程）
次いで、液滴吐出装置ＩＪを用いて、洗浄処理により接触面４ａが親液化された配向膜４に、図６に示すように、液晶分子に対して撥液性を有する撥液材料を含む液滴５０を幅方向において所定の間隔Ｗ１で互いに離間するように、且つ、長さ方向において液滴５０が互いに重なり合うように吐出ピッチＰ１で塗布する。
具体的には、液滴５０の１ドット（滴）の液滴吐出量を２ｎｇと、長さ方向の吐出ピッチＰ１を２０ｕｍと、幅方向の吐出ピッチＰ２を６０ｕｍと設定することで、間隔Ｗ１及び幅Ｗ２が互いに３０ｕｍのストライプ状に液滴５０を塗布することができる。
【００３７】
撥液性を発現させる撥液材料としては、シラン化合物、フルオロアルキル基を有する化合物、フッ素樹脂（フッ素を含む樹脂）、及びこれらの混合物を用いることができる。
撥液材料としてシラン化合物を用いることにより、配置した箇所にシラン化合物の自己組織化単分子膜が形成されるので、膜表面に優れた撥液性を付与することができる。
また、フッ素を含有するシラン化合物（撥液性シラン化合物）を用いることができ、フッ素を含有するシラン化合物として例えば、含フッ素アルキルシラン化合物を挙げることができる。含フッ素アルキルシラン化合物を塗布すると、膜表面にフルオロアルキル基が位置するように配向して自己組織化単分子膜が形成されるので、膜表面により優れた撥液性を付与することができる。
また、撥液材料にフッ素樹脂を用いる場合には、所定量のフッ素樹脂を所定の溶媒に溶解させたものが用いられる。具体的には、住友スリーエム株式会社製「ＥＧＣ１７２０」（ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）溶媒にフッ素樹脂を０．１ｗ％溶解させたもの）等を用いることができる。なお、フッ素樹脂の用いる種類によって撥液性の発現のために加熱・重合の必要があるものについては、必要に応じて例えば１５０℃から２００℃の加熱をして、塗布したフッ素を含む樹脂を重合させることで、撥液性を発現させることができる。
【００３８】
最後に、接触面４ａにストライプ状に液滴５０が塗布された配向膜４を、選択した撥液材料に応じて乾燥・加熱処理等を施すことによって、図７に示すように、撥液性領域１０及び親液性領域２０が幅方向において交互に配列されるストライプ状の親撥液パターンを有する配向膜４を形成することができる。
そして、上記工程により製造された液晶配向用基板１を、図３に示す液晶表示装置１００に組み込み、液晶層１３０と配向膜４の接触面４ａとを接触させることによって、撥液性領域１０においては撥液性により接触面４ａに対して液晶分子を垂直方向に配向させ、また、親液性領域２０においては親液性により液晶分子を上記垂直方向よりも接触面４ａに対して傾くように配向させて、画素内での配向分割を可能とさせることとなる。
【００３９】
したがって、上述した本実施形態によれば、電圧を印加するＩＴＯ電極膜３を有する基板２と、ＩＴＯ電極膜３が設けられた側の基板２に、液晶分子を所定の方向に配向させる配向膜４とを有する液晶配向用基板１の製造方法であって、配向膜４の上記液晶分子と接触する側の接触面３ａに、液滴吐出方式により上記液晶分子に対する撥液材料を含む液滴５０を選択的に塗布して撥液性領域１０を形成する撥液部形成工程を有するという構成を採用することによって、液滴吐出方式により配向膜４に所望の親撥水パターンを極めて容易に形成することができる。
したがって、本実施形態では、配向膜４に光触媒材料を用いることや、マスクによるパターニング及び露光処理を施すという複数の工程を経るということなく、コスト安で、製造が容易な液晶配向用基板１の製造方法を提供できる効果がある。
【００４０】
また、本実施形態においては、撥液部形成工程の前に、予め、接触面４ａに液晶分子に対する親液化処理を施す工程を有するという構成を採用することによって、親液化処理された配向膜４に撥液性領域１０を形成することによって、接触面４ａに容易に親撥水パターンを形成することができる。
【００４１】
また、本実施形態においては、撥液性領域１０は、所定の間隔Ｗ１で離間するストライプ状に形成されるという構成を採用することによって、液滴吐出ヘッド３０１と基板２を支持するステージ３０７とを直線的に走査させることで、所望の間隔をおいて直線的に液滴を塗布することができ、撥液性領域及び親液性領域がストライプ状に形成される親撥水パターンを有する配向膜４を容易に形成することができる。
【００４２】
また、本実施形態においては、上記撥液材料は、自己組織化単分子膜を形成するシラン化合物であるという構成を採用することによって、塗布されたシラン化合物が自己組織化単分子膜を形成することで撥液性を発現させることができる。
【００４３】
また、本実施形態においては、上記撥液材料は、フルオロアルキル基を有する化合物であるという構成を採用することによって、フルオロアルキル基が撥液部の表面に配向して撥液性を発現させることができる。
【００４４】
また、本実施形態においては、基板２に、上記液滴吐出方式により電極材料を含む液滴を選択的に塗布してＩＴＯ電極膜３を形成する工程を有するという構成を採用することによって、既存のスパッタリング法、真空蒸着法、化学蒸着法等を用いてＩＴＯ電極膜３を形成する方法に比べて、容易に所望のパターンのＩＴＯ電極膜３を形成することができる。したがって、液晶用配向基板１の製造の容易化に寄与することができる。
【００４５】
以上、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４６】
例えば、上記実施形態において、撥液部形成工程の前に、接触面４ａに対して親液化処理を施すと説明した。しかしながら、本発明は、少なくとも撥液性領域１０が形成される領域と、親液性領域２０が形成される領域との間で、撥液性若しくは親液性のコントラストの差が生ずるようにパターンを形成すればよいため、必ずしも親液化処理を施す必要は無いが、親液化処理を施すことによって液晶分子の配向をより明確にすることができる効果がある。
また、例えば、接触面４ａに撥液部形成工程により撥液性領域１０を間隔Ｗ１で形成した後に、上記液滴吐出方式を用いて、隣り合う撥液性領域１０との間である間隔Ｗ１に液晶分子に対する親液材料を含む液滴を塗布して、親液性領域２０を形成して、親撥水パターンを形成しても良い。
【００４７】
また、上記実施形態において、親撥水パターンは、ストライプ状に形成すると説明したが、当該形状に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施の形態における液滴吐出装置の概略的な構成図である。
【図２】本発明の実施の形態における液滴吐出ヘッドの断面図である。
【図３】本発明の実施の形態における液晶配向用基板が組み込まれた液晶表示装置を示す断面構成図である。
【図４】本発明の実施の形態における液晶配向用基板の概略構成図である。
【図５】本発明の実施の形態における液晶配向用基板の製造方法を説明する図である。
【図６】本発明の実施の形態における撥液性領域の形成工程を説明する図である。
【図７】本発明の実施の形態における撥液性領域及び親液性領域が形成された配向膜の平面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１…液晶配向用基板、２…基板、３…ＩＴＯ電極膜（電極）、４…配向膜、４ａ…接触面、１０…撥液性領域（撥液部）
【図１】
2009156895.tif 000003
【図２】
2009156895.tif 000004
【図３】
2009156895.tif 000005
【図４】
2009156895.tif 000006
【図５】
2009156895.tif 000007
【図６】
2009156895.tif 000008
【図７】
2009156895.tif 000009