(57)【要約】【課題】表面平滑性に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用して、表面平滑性及び非タック性に優れたオーバープリント及びその製造方法を提供すること。【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用したオーバープリント及びその製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー、
（Ｂ）光重合開始剤、及び、
（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有することを特徴とする
光硬化性コーティング組成物。
【請求項２】
前記エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーが、エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位、及び、下記式（１）で表されるモノマー単位を少なくとも有する請求項１に記載の光硬化性コーティング組成物。
【化１】
2009079126.tif 000028
（式（１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は炭素数６〜１０のアリーロキシ基を表し、Ｒ3は水素原子又は一価の有機基を表し、ｍは１〜６の整数を表し、ｎは２〜１，０００の整数を表す。）
【請求項３】
可視域に実質的に吸収を有しない請求項１又は２に記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項４】
オーバープリント用である請求項１〜３いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項５】
電子写真印刷物のオーバープリント用である請求項１〜４いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項６】
電子写真印刷物上に請求項１〜５いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント。
【請求項７】
印刷基材上に電子写真印刷して電子写真印刷物を得る工程、
前記電子写真印刷物上に請求項１〜５いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、
前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含む
オーバープリントの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、電子線、紫外線等の活性放射線の照射により硬化可能な光硬化性コーティング組成物に関する。特に、平版、凸版、凹版、スクリーン印刷、インクジェット、電子写真等の方法でインク及び／又はトナーを印刷基材（受像基材）上に配置して作成した画像に対してコーティングを行うための光硬化性コーティング組成物に関する。さらに詳しくは、電子写真法により印刷されたトナーベースの印刷物をコーティングするために特に好適に用いることができる光硬化性オーバープリント組成物（ｏｖｅｒｐｒｉｎｔ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、紫外線硬化型の印刷用インキ、塗料、コーティングに利用できる、活性放射線硬化型組成物が多数開発され、現在それらの普及が図られている。しかし、硬化性、表面平滑性、強度、保存安定性等の全てにおいて満足する光硬化性組成物を得ることは難しい現状にある。
特に、電子写真法のようなトナーベースの画像は、画像表面にフェザーオイル層が存在する場合には、所望の性能を得ることが一層難しい。
電子写真法のような、トナーベースの画像を発生させる通常の方法においては、潜像保持体表面、例えば感光体（ｐｈｏｔｏｒｅｃｅｐｔｏｒ）に均一に帯電させることによって、静電荷を潜像保持体表面に形成させる。次いで、その均一帯電させた領域を、原稿の画像に対応する活性化照射のパターンにより選択的に電荷を逃がす。その表面に残る潜像電荷パターンは、照射に暴露されなかった領域に対応する。次いで、その感光体を、トナーを含む１つ又は複数の現像ハウジングに通すことにより、トナーが、静電引力によって電荷パターンで付着するので、その潜像電荷パターンが可視化される。次いでその現像された画像を、画像形成表面に定着させるか、又は、印刷基材、例えば紙に転写させ、適切な定着技術によりそれに定着させて、電子写真印刷物、すなわちトナーベースの印刷物が得られる。
【０００３】
印刷物を保護するための公知の方法としては、印刷物にオーバープリントコーティングを施すことが提案されている。例えば、特許文献１及び２には、電子写真法のような、トナーベースの画像の上に、透明トナーを転写した後に定着を行い、表面を被覆する方法が提案されている。
また、特許文献３には、紫外線などによって硬化させることが可能な液膜コーティングを施し、光によってコーティング成分を重合（架橋）させることにより、オーバープリントコーティングを施す方法が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−７０６４７号公報
【特許文献２】特開２００３−２４１４１４号公報
【特許文献３】特開昭６１−２１０３６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、表面平滑性に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用して、表面平滑性及び非タック性に優れたオーバープリント及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的は、下記に記載の＜１＞、＜６＞又は＜７＞により達成された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜５＞とともに以下に記す。
＜１＞  （Ａ）エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物、
＜２＞  前記エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーが、エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位、及び、下記式（１）で表されるモノマー単位を少なくとも有する上記＜１＞に記載の光硬化性コーティング組成物、
【０００７】
【化１】
2009079126.tif 000002
（式（１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は炭素数６〜１０のアリーロキシを表し、Ｒ3は水素原子又は一価の有機基を表し、ｍは１〜６の整数を表し、ｎは２〜１，０００の整数を表す。）
【０００８】
＜３＞  可視域に実質的に吸収を有しない上記＜１＞又は＜２＞に記載の光硬化性コーティング組成物、
＜４＞  オーバープリント用である上記＜１＞〜＜３＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物、
＜５＞  電子写真印刷物のオーバープリント用である上記＜１＞〜＜４＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物、
＜６＞  電子写真印刷物上に上記＜１＞〜＜５＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント、
＜７＞  印刷基材上に電子写真印刷して電子写真印刷物を得る工程、前記電子写真印刷物上に上記＜１＞〜＜５＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含むオーバープリントの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、表面平滑性に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用して、表面平滑性及び非タック性に優れたオーバープリント層を有するオーバープリント及びその製造方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の光硬化性コーティング組成物（以下、単に「コーティング組成物」ともいう。）は、（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有することを特徴とする。
本発明のオーバープリントは、電子写真印刷物上に上記の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有する。
本発明のオーバープリントの製造方法は、印刷基材上に電子写真印刷して電子写真印刷物を得る工程、前記電子写真印刷物上に上記の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含む。
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
（光硬化性コーティング組成物）
本発明の光硬化性コーティング組成物は、（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有することを特徴とする。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、可視域に実質的に吸収を有しないことが好ましい。「可視域に実質的に吸収を有しない」とは、４００〜７００ｎｍの可視域に吸収を有しないか、又は、光硬化性コーティング組成物として支障のない程度の吸収しか可視域に吸収を有しないことを意味する。具体的には、コーティング組成物の５μｍ光路長の透過率が、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、７０％以上、好ましくは８０％以上であることを意味する。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、オーバープリント用として好適に使用することができ、電子写真印刷物のオーバープリント用として特に好適に使用することができる。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像部がトナー分の厚みを有する電子写真印刷物に対してオーバープリント層を形成する場合においても、非タック性及び表面平滑性に優れ、艶や光沢のあるオーバープリントを与え、視覚的に従来からの銀塩写真プリントに近い印象を与えることができる。
また、本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像表面にフェザーオイル層が存在するトナー画像であっても、非タック性と表面平滑性に優れ、艶や光沢があり、反りの少ない柔軟性に富む画像印刷物を与え、視覚的に銀塩写真プリントに近いオーバープリントを得ることができる。
【００１２】
（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー
本発明の光硬化性コーティング組成物は、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーを少なくとも含有する。
本発明に用いることができるエチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、エチレン性不飽和結合を１つ以上有し、かつ、ケイ素原子を含有するポリマーであり、上記以外には特に制限はない。
【００１３】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーにおけるエチレン性不飽和結合は、エチレン性不飽和二重結合であることが好ましい。
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、エチレン性不飽和結合を有する基として、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルアミド基、スチリル基、ビニル基、アリル基、及び、クロトニル基よりなる群から選ばれた基を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基、及び、アリル基よりなる群から選ばれた基を有することがより好ましく、（メタ）アクリロイル基、及び／又は、アリルオキシカルボニル基を有することがさらに好ましい。なお、本発明において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及び／又はメタクリロイルを表し、また、（メタ）アクリルとは、アクリル及び／又はメタクリルを表す。
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーにおけるエチレン性不飽和結合は、前記ポリマー中の側鎖に有することが好ましく、前記ポリマー中の側鎖の末端に有することがより好ましい。
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１４】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、下記に示す式（Ａ）で表されるケイ素原子を含む基を少なくとも有することが好ましい。
【００１５】
【化２】
2009079126.tif 000003
（式（Ａ）中、Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立に、水素原子、一価炭化水素基、アルコキシ基又はアリーロキシ基を表し、ｐは１以上の整数を表す。）
【００１６】
式（Ａ）におけるＲ及びＲ’はそれぞれ独立に、水素原子、一価炭化水素基、アルコキシ基又はアリーロキシ基を表し、水素原子、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、又は、炭素数６〜２０のアリーロキシ基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基であることがより好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基であることがさらに好ましい。
前記一価炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等が例示できる。
また、前記アルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。前記アルキル基は、分岐を有していても、環を形成していてもよい。
また、前記アルコキシ基としては、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。前記アルコキシ基のアルキル部分は、分岐を有していても、環を形成していてもよい。
また、前記アリーロキシ基としては、炭素数６〜２０のアリーロキシ基であることが好ましく、炭素数６〜１０のアリーロキシ基であることがより好ましく、フェノキシ基であることがさらに好ましい。
式（Ａ）におけるｐは１以上の整数を表し、１以上２，０００以下の整数であることが好ましく、１以上１，０００以下であることがより好ましい。
また、式（Ａ）で表されるケイ素原子を含む基は、−Ｓｉ（ＣＨ3）2−Ｏ−、又は、ポリジメチルシロキサン基であることが好ましい。
【００１７】
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、下記に示す式（Ｂ）又は式（Ｃ）で表されるケイ素原子を含む基を少なくとも有することがより好ましく、下記に示す式（Ｂ）で表されるケイ素原子を含む基を少なくとも有することがさらに好ましい。
【００１８】
【化３】
2009079126.tif 000004
（式（Ｂ）及び式（Ｃ）中、Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立に、水素原子、一価炭化水素基、アルコキシ基又はアリーロキシを表し、ＲB及びＲCは、水素原子又は一価の有機基を表し、ｐは１以上の整数を表す。）
【００１９】
式（Ｂ）におけるＲ、Ｒ’及びｐは、前記式（Ａ）におけるＲ、Ｒ’及びｐと同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、式（Ｃ）におけるＲ及びＲ’は、前記式（Ａ）におけるＲ及びＲ’と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（Ｂ）及び式（Ｃ）におけるＲB及びＲCはそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表す。
一価の有機基としては、特に制限はなく、炭素数１〜２０の一価の有機基であることが好ましい。
また、式（Ｂ）におけるＲBは、水素原子、一価炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、これらの基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は、これらの基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることがより好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、炭素数１〜２０のアルキル基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることがさらに好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基であることが特に好ましい。
また、式（Ｃ）におけるＲCは、水素原子、一価炭化水素基、又は、これらの基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は、これらの基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基であることがより好ましい。
また、前記アルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましい。前記アルキル基は、分岐を有していても、環を形成していてもよい。
また、前記アルコキシ基としては、炭素数１〜２０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。前記アルコキシ基のアルキル部分は、分岐を有していても、環を形成していてもよい。
また、前記アリーロキシ基としては、炭素数６〜２０のアリーロキシ基であることが好ましく、炭素数６〜１０のアリーロキシ基であることがより好ましく、フェノキシ基であることがさらに好ましい。
また、式（Ｂ）で表されるケイ素原子を含む基は、ポリジメチルシロキサン基を含む基であることが好ましく、末端にアルキル基を有するポリジメチルシロキサン基を含む基であることがより好ましい。
また、式（Ｃ）で表されるケイ素原子を含む基は、トリアルキルシリルオキシ基であることが好ましく、トリメチルシリルオキシ基であることがより好ましい。
【００２０】
本発明に用いることができるエチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、付加重合により重合した付加重合系樹脂であることが好ましく、ラジカル重合により重合したラジカル重合系樹脂であることがより好ましい。
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、ケイ素原子を含む基を有するモノマーと、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和結合を導入可能な基を有するモノマーとの共重合体であることが好ましい。
前記エチレン性不飽和結合を導入可能な基とは、例えば、ヒドロキシ基やアミノ基のようなエチレン性不飽和結合を有する基を別途結合することができる反応性基や、α位に水素原子を有する脱離基が挙げられる。
前記脱離基としては、公知の脱離基を反応条件等により適宜選択することができる。
【００２１】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位、及び、下記式（１）で表されるモノマー単位を少なくとも有することが好ましい。
【００２２】
【化４】
2009079126.tif 000005
（式（１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は炭素数６〜１０のアリーロキシ基を表し、Ｒ3は水素原子又は一価の有機基を表し、ｍは１〜６の整数を表し、ｎは２〜１，０００の整数を表す。）
【００２３】
式（１）におけるＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０の一価炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は炭素数６〜１０のアリーロキシ基を表し、炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
式（１）におけるＲ3は水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、又は、これらの基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、炭素数１〜２０のアルキル基を１個以上のフッ素原子により置換した基であることがより好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であることが特に好ましい。
式（１）におけるｍは１〜６の整数を表し、２〜６の整数であることが好ましく、２又は３であることがより好ましい。
式（１）におけるｎは２〜１，０００の整数を表し、４〜８００の整数であることが好ましく、６〜６００の整数であることがより好ましい。
ｎが２以上であると、コーティング組成物の表面エネルギーが大きく低下し、表面平滑性の向上に大きく寄与することができる。また、上記範囲であると、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーによって優れた表面平滑性が得られる。
【００２４】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの製造に使用するケイ素原子を有するモノマーとしては、特に制限はないが、ケイ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物及び／又はケイ素原子を有する（メタ）アクリルアミド化合物であることが好ましく、ケイ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの製造に使用するケイ素原子を有するモノマーは、下記式（１−１）で表されるモノマーであることが好ましい。
【００２５】
【化５】
2009079126.tif 000006
【００２６】
式（１−１）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、ｍ及びｎは、前記式（１）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、ｍ及びｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００２７】
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、ケイ素原子を含むモノマー単位を、全モノマー単位中、１〜６０モル％の範囲で有していることが好ましく、３〜５０モル％の範囲で有していることがより好ましく、５〜４０モル％の範囲で有していることがさらに好ましい。ケイ素原子を含むモノマー単位の含有量が１モル％以上であると、所望の表面平滑性が得られる。また、ケイ素原子を含むモノマー単位の含有量が６０モル％以下であると、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの溶解性が十分である。
【００２８】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、ケイ素原子を含むモノマー単位、及び、エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位を少なくとも有するポリマーであることが好ましく、前記式（１）で表されるモノマー単位及び下記式（２）で表されるモノマー単位を少なくとも有するポリマーであることがより好ましく、前記式（１）で表されるモノマー単位及び下記式（２）で表されるモノマー単位のみを有するポリマーであることがさらに好ましい。
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、前記エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位を、１種単独で有していても、２種以上有していてもよく、ケイ素原子を含むモノマー単位がエチレン性不飽和結合を有する場合、有していなくともよい。
前記エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位としては、下記式（２）で表されるモノマー単位が好ましい。
【００２９】
【化６】
2009079126.tif 000007
（式（２）中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、ＸはＯ又はＮＲを表し、Ｒは水素原子又は一価の有機基を表し、Ｒ5はエチレン性不飽和基を有する基を表す。）
【００３０】
式（２）におけるＲ5は、エチレン性不飽和基を少なくとも１つ有する基を表す。Ｒ5におけるエチレン性不飽和基は１つ又は２つであることが好ましく、１つであることがより好ましい。
前記エチレン性不飽和基としては、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基であれば特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイルアミド基、スチリル基、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、又は、クロトニル基等が挙げられる。中でも、好ましくは（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルアミド基、又は、アリル基であり、より好ましくは（メタ）アクリロイル基又はアリル基である。
【００３１】
式（２）におけるＲ5として、前記エチレン性不飽和基とＸとは、二価以上の多価の連結基を介して結合されていてもよい。
前記多価の連結基としては下記の部分構造、又は、これらが２以上組み合わされて構成される連結基が挙げられる。
【００３２】
【化７】
2009079126.tif 000008
【００３３】
式（２）におけるＲ5はさらに置換基を有していてもよい。
前記置換基としては、炭素数１〜４個のアルコキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アシル基、アシロキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基等を挙げることができる。
また、式（２）おけるＲは、水素原子又は一価の有機基を表す。
前記一価の有機基としては、特に制限はないが、炭化水素基、又は、Ｒ5におけるエチレン性不飽和基を有する基であることが好ましい。
前記Ｒとしては、水素原子、アルキル基、前記エチレン性不飽和基を有する基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
【００３４】
前記エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位としては、下記に示す具体例を好ましく例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
【化８】
2009079126.tif 000009
【００３６】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの製造に使用するエチレン性不飽和結合を有するモノマーとしては、特に制限はないが、エチレン性不飽和結合若しくはエチレン性不飽和結合を導入可能な基を有する（メタ）アクリレート化合物及び／又はエチレン性不飽和結合若しくはエチレン性不飽和結合を導入可能な基を有する（メタ）アクリルアミド化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合若しくはエチレン性不飽和結合を導入可能な基を有する（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましく、下記式（２−１）で表されるモノマーであることがさらに好ましい。
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、前記式（１−１）で表されるモノマー及び下記式（２−１）で表されるモノマーを少なくとも共重合したポリマーであることが好ましく、前記式（１−１）で表されるモノマー及び下記式（２−１）で表されるモノマーのみを共重合したポリマーであることがより好ましい。
【００３７】
【化９】
2009079126.tif 000010
【００３８】
式（２−１）におけるＲ4及びＸは、前記式（１）におけるＲ4及びＸと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（２−１）におけるＲ5は、エチレン性不飽和結合を有する基、又は、エチレン性不飽和結合を導入可能な基を有する基を表す。
Ｒ5におけるエチレン性不飽和結合を有する基としては、スチリル基、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、又は、クロトニル基であることが好ましく、アリル基であることがより好ましい。
Ｒ5におけるエチレン性不飽和結合を導入可能な基を有する基としては、例えば、ヒドロキシ基やアミノ基のようなエチレン性不飽和結合を有する基を別途結合することができる反応性基、及び／又は、α位に水素原子を有する脱離基を有する基が例示できる。
前記エチレン性不飽和結合を導入可能な基は、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、α−ブロモプロピオニル基、及び、α−ブロモ−α−メチルプロピオニル基等が好ましく例示でき、α−ブロモプロピオニル基、及び、α−ブロモ−α−メチルプロピオニル基をより好ましく例示できる。
【００３９】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、ケイ素原子を含むモノマー単位、及び、エチレン性不飽和結合を有するモノマー単位以外に、他のモノマー単位を有していてもよい。
他のモノマー単位としては、公知のモノマーより形成されるモノマー単位であればよく、公知のラジカル重合性モノマーより形成されるモノマー単位であることが好ましく、（メタ）アクリレート化合物、及び／又は、（メタ）アクリルアミド化合物より形成されるモノマー単位であることがより好ましい。
【００４０】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの製造に用いることができるモノマーとしては、特に限定はないが、ラジカル重合性モノマーであることが好ましく、エチレン性不飽和結合を有するモノマーであることがより好ましい。
ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。
【００４１】
具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート等のメタクリル誘導体、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー社）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知の単官能ラジカル重合性モノマーを用いることができる。
【００４２】
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーは、下記式（３）で表されるポリマーであることが好ましい。
【００４３】
【化１０】
2009079126.tif 000011
（式（３）中、ＲSiはケイ素原子を含む基を表し、ＲCaはエチレン性不飽和結合を有する基を表し、ＲNはケイ素原子及びエチレン性不飽和結合を含まない有機基を表し、Ｒx、Ｒy及びＲzはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ｘは１〜６０を表し、ｙは２０〜９９を表し、ｚは０〜７９を表し、また、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。）
【００４４】
式（３）におけるＲSiは、ケイ素原子を含む基を表し、式（Ａ）で表されるケイ素原子を含む基を少なくとも有する基であることが好ましく、式（Ｂ）又は式（Ｃ）で表されるケイ素原子を含む基を少なくとも有する基であることがより好ましい。
式（３）におけるＲCaは、エチレン性不飽和結合を有する基を表し、−ＣＯＯＲD、又は、−ＣＯＮＨＲDであることが好ましい。前記ＲDはエチレン性不飽和基を少なくとも１つ有する基を表し、エチレン性不飽和基を１つ又は２つ有する基であることが好ましく、エチレン性不飽和基を１つ有する基であることがより好ましい。
式（３）におけるＲNは、ケイ素原子及びエチレン性不飽和結合を含まない有機基を表し、−ＣＯＯＲE、又は、−ＣＯＮＨＲEであることが好ましい。前記ＲEは一価の有機基を表し、炭素数１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
式（３）におけるおけるｘ、ｙ及びｚは、各モノマー単位のモル比を表し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００とする。
式（３）におけるｘは、１〜６０を表し、３〜５０が好ましく、５〜４０がより好ましい。
式（３）におけるｙは、２０〜９９を表し、３０〜９７が好ましい。
式（３）におけるｚは、０〜７９を表し、０〜２０であることが好ましく、０であることがより好ましい。
式（３）における各モノマー単位はそれぞれ、１種単独で有していても、２種以上を有していてもよい。
また、式（３）で表されるポリマーの末端は、水素原子であることが好ましい。
【００４５】
本発明にて好適に用いることのできる、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、本発明では、化学式において、炭化水素鎖を炭素（Ｃ）及び水素（Ｈ）の記号を省略した簡略構造式で記載する場合もある。また、下記具体例において、各モノマー単位の括弧に付記されている数字は、ポリマー中の各モノマー単位のモル比を表す。
【００４６】
【化１１】
2009079126.tif 000012
【００４７】
【化１２】
2009079126.tif 000013
【００４８】
【化１３】
2009079126.tif 000014
【００４９】
また、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーにおけるエチレン性不飽和結合の導入量としては、０．１〜１００ｍｍｏｌ／ｇの範囲のものが好ましく、０．２〜８０ｍｍｏｌ／ｇの範囲のものがより好ましい。導入量が０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上であると、表面ベトツキ抑制の性能（非タック性）に優れ、また、１００ｍｍｏｌ／ｇ以下であると、保存安定性に優れる。
【００５０】
エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの重量平均分子量は、５，０００〜２００，０００であることが好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、５０，０００〜１２０，０００であることがさらに好ましい。重量平均分子量が５，０００以上であると、表面の皮膜性に優れ、非タック性に優れる。また、重量平均分子量が２００，０００以下であると、コーティング組成物への溶解性に優れる。
【００５１】
本発明の光硬化性コーティング組成物におけるエチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーの含有量は、表面ベトツキ抑制（非タック性）、表面平滑性の観点から、光硬化性コーティング組成物全体の重量に対して、０．００１〜４０重量％の範囲であることが好ましく、０．０１〜３０重量％の範囲がより好ましく、０．１〜２０重量％の範囲であることがさらに好ましく、０．５〜５重量％の範囲であることが特に好ましい。
【００５２】
（Ｂ）光重合開始剤
本発明のコーティング組成物は、光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明において、ラジカル光重合開始剤を使用することが好ましい。
本発明のコーティング組成物に使用する光重合開始剤は、活性放射線による外部エネルギーを吸収して重合開始種を生成する化合物である。活性放射線には、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。使用する波長は特に限定されないが、好ましくは２００〜５００ｎｍの波長領域であり、より好ましくは２００〜４５０ｎｍの波長領域である。
【００５３】
本発明で好ましく使用できるラジカル光重合開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）アシルホスフィン化合物、（ｃ）芳香族オニウム塩化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）チオ化合物、（ｆ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｇ）ケトオキシムエステル化合物、（ｈ）ボレート化合物、（ｉ）アジニウム化合物、（ｊ）メタロセン化合物、（ｋ）活性エステル化合物、（ｌ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、並びに、（ｍ）アルキルアミン化合物等が挙げられる。
光重合開始剤としては、透明性の観点から、光重合開始剤を３ｇ／ｃｍ2の厚みで製膜した際に、４００ｎｍの波長の吸光度が０．３以下の化合物であることが好ましく、０．２以下の化合物であることがより好ましく、０．１以下の化合物であることがさらに好ましい。
上記の中でも、好ましい光重合開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）アシルホスフィン化合物、（ｃ）芳香族オニウム塩化合物が挙げられる。
本発明における光重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５４】
本発明における光重合開始剤の含有量は、エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマー及びエチレン性不飽和結合を有する化合物の総量に対して、０．０１〜３５重量％であることが好ましく、０．１〜３０重量％であることがより好ましく、０．５〜３０重量％であることがさらに好ましい。
また、光重合開始剤は、後述する増感剤を用いる場合、増感剤に対して、光重合開始剤：増感剤の重量比で、２００：１〜１：２００であることが好ましく、５０：１〜１：５０であることがより好ましく、２０：１〜１：５であることがさらに好ましい。
【００５５】
本発明において、上記のカチオン重合性化合物と併用するカチオン光重合開始剤（光酸発生剤）としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（例えば、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページを参照することができる。）。
本発明に好適なカチオン光重合開始剤の例を以下に挙げる。
すなわち、第１に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のＢ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＣＦ3ＳＯ3-塩を挙げることができる。第２に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。第３に、ハロゲン化水素を光により発生するハロゲン化物も用いることができる。第４に、鉄アレーン錯体を挙げることができる。
上記如きカチオン光重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５６】
（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物
本発明のコーティング組成物は、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有する。
本発明に用いることができるエチレン性不飽和結合を有する化合物は、ラジカル重合又はカチオン重合可能な化合物であれば、特に限定されない。
また、本発明に用いることができるエチレン性不飽和結合を有する化合物は、前記エチレン性不飽和結合を有する含ケイ素ポリマーと共重合可能な化合物であることが好ましい。
【００５７】
本発明におけるラジカル重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であれば、どのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。
ラジカル重合性化合物は、１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。反応性、物性などの性能を制御する点から、２種以上のラジカル重合性化合物を併用することが好ましい。
【００５８】
ラジカル重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和結合を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。
【００５９】
具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー社）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性又は架橋性のモノマー、オリゴマー、及び、ポリマーを用いることができる。
【００６０】
また、ラジカル重合性化合物としては、例えば、特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特開平９−１３４０１１号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性化合物材料が知られており、これらも本発明のコーティング組成物に適用することができる。
【００６１】
さらに、ラジカル重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いることも好ましい。好適に用いられるビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度の観点から、ジビニルエーテル化合物又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、ジビニルエーテル化合物が特に好ましい。ビニルエーテル化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【００６２】
本発明の用いることができる他の重合性化合物としては、（メタ）アクリル系モノマー若しくはプレポリマー、エポキシ系モノマー若しくはプレポリマー、又は、ウレタン系モノマー若しくはプレポリマー等の（メタ）アクリル酸エステル（以下、適宜、「アクリレート化合物」ともいう。）が好ましく用いられる。さらに好ましくは、下記化合物である。
【００６３】
すなわち、２−エチルヘキシルジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物アクリレート、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールＡジアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド（ＰＯ）付加物ジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ラクトン変性アクリレート等が挙げられる。
【００６４】
また、ここに列挙されているアクリレート化合物は、反応性が高く、粘度が低く、印刷基材への密着性に優れる。
【００６５】
本発明において、非タック性（表面ベトツキ）、透明性をより改善するためには、式（I）で示される化合物と、前述のエチレン性不飽和結合を有する化合物に記載の中でも、多官能アクリレート化合物とを併用することが好ましい。
多官能アクリレートとしては、ビスフェノールＡエポキシジアクリレートやトリプロピレングリコールジアクリレートを特に好ましく例示できる。
また、多官能エチレン性不飽和化合物を使用する場合、多官能エチレン性不飽和化合物の含有量としては、コーティング組成物の全重量に対し、５〜８０重量％であることが好ましく、４０〜７０重量％であることがより好ましい。上記範囲であると、非タック性に優れる。
なお、本発明において、種々の目的に応じて、ラジカル重合性化合物とラジカル光重合開始剤との組み合わせの他、これらと共に、下記に示すようなカチオン重合性化合物とカチオン光重合開始剤とを併用した、ラジカル・カチオンのハイブリッド型コーティング組成物としてもよい。
【００６６】
本発明に用いることができるカチオン重合性化合物としては、光酸発生剤から発生する酸により重合反応を開始し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。
使用するカチオン重合性化合物が、エチレン性不飽和結合を有しない場合は、エチレン性不飽和結合を有する化合物とエチレン性不飽和結合を有しないカチオン重合性化合物とを併用する。
カチオン重合性化合物としては、例えば、特開平６−９７１４号、特開２００１−３１８９２号、同２００１−４００６８号、同２００１−５５５０７号、同２００１−３１０９３８号、同２００１−３１０９３７号、同２００１−２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
【００６７】
また、カチオン重合性化合物としては、例えば、カチオン重合系の光硬化性樹脂に適用される重合性化合物が知られており、最近では４００ｎｍ以上の可視光波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂に適用される重合性化合物として、例えば、特開平６−４３６３３号、特開平８−３２４１３７号の各公報等に公開されている。これらも本発明のコーティング組成物に適用することができる。
【００６８】
本発明の光硬化性コーティング組成物における（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物の含有量は、硬化性と表面平滑性の観点から、コーティング組成物全体の重量に対して、１０〜９７重量％の範囲であることが好ましく、３０〜９５重量％の範囲がより好ましく、５０〜９０重量％の範囲であることが特に好ましい。
また、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６９】
＜増感剤＞
本発明のコーティング組成物には、前記光重合開始剤の活性放射線の照射による分解を促進させるために増感剤を添加することができる。
増感剤は、特定の活性放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、光重合開始剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用を生じ、これにより光重合開始剤の化学変化、すなわち、分解、ラジカル、酸又は塩基の生成を促進させるものである。
また、本発明に用いることのできる増感剤は、本発明のコーティング組成物をオーバープリントに使用した際に、着色等の影響が小さい化合物又は量を使用することが好ましい。
本発明における増感剤の含有量は、コーティング組成物の全重量に対して、０．００１〜５重量％であることが好ましく、０．０１〜３重量％であることがさらに好ましい。この添加量であると、硬化性が向上し、着色の影響が少ない。
【００７０】
増感剤は、使用する光重合開始剤に開始種を発生させる活性放射線の波長に応じた化合物を使用すればよいが、一般的なコーティング組成物の硬化反応に使用されることを考慮すれば、好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン）、ベンゾフェノン類（例えば、ベンゾフェノン）等が挙げられる。
【００７１】
より好ましい増感剤の例としては、下記式（II）〜（VI）で表される化合物が挙げられる。
【００７２】
【化１４】
2009079126.tif 000015
【００７３】
式（II）中、Ａ1は硫黄原子又はＮＲ50を表し、Ｒ50はアルキル基又はアリール基を表し、Ｌ2は隣接するＡ1及び隣接炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ51、Ｒ52はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ｒ51、Ｒ52は互いに結合して、酸性核を形成してもよい。Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表す。
【００７４】
【化１５】
2009079126.tif 000016
【００７５】
式（III）中、Ａｒ1及びＡｒ2はそれぞれ独立にアリール基を表し、−Ｌ3−による結合を介して連結している。ここでＬ3は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。また、Ｗは式（II）に示したものと同義である。
【００７６】
【化１６】
2009079126.tif 000017
【００７７】
式（IV）中、Ａ2は硫黄原子又はＮＲ59を表し、Ｌ4は隣接するＡ2及び炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57及びＲ58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団の基を表し、Ｒ59はアルキル基又はアリール基を表す。
【００７８】
【化１７】
2009079126.tif 000018
【００７９】
式（V）中、Ａ3、Ａ4はそれぞれ独立に−Ｓ−又は−ＮＲ62−又は−ＮＲ63−を表し、Ｒ62、Ｒ63はそれぞれ独立に置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基を表し、Ｌ5、Ｌ6はそれぞれ独立に、隣接するＡ3、Ａ4及び隣接炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ60、Ｒ61はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団であるか又は互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。
【００８０】
【化１８】
2009079126.tif 000019
【００８１】
式（VI）中、Ｒ66は置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Ａ5は酸素原子、硫黄原子又はＮＲ67を表す。Ｒ64、Ｒ65及びＲ67はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ｒ67とＲ64、及び、Ｒ65とＲ67はそれぞれ互いに脂肪族性又は芳香族性の環を形成するため結合することができる。
【００８２】
式（II）〜（VI）で表される化合物の好ましい具体例としては、以下に示すものが挙げられる。なお、下記具体例におけるＰｈは、フェニル基を表し、Ｍｅはメチル基を表す。
【００８３】
【化１９】
2009079126.tif 000020
【００８４】
【化２０】
2009079126.tif 000021
【００８５】
＜共増感剤＞
本発明のコーティング組成物は、共増感剤を含有することもできる。
本発明において共増感剤は、増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、又は、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばＭ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  ３３８２５号記載の化合物等が挙げられる。
具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が例示できる。
【００８６】
共増感剤の別の例としてはチオール及びスルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号公報、特表昭５５−５００８０６号公報、特開平５−１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられる。
具体的には、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が例示できる。
【００８７】
また別の例としては、アミノ酸化合物（例えば、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例えば、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例えば、トリチアン等）、特開平６−２５０３８７号公報記載のリン化合物（例えば、ジエチルホスファイト等）、特開平８−５４７３５号記載のＳｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等が挙げられる。
【００８８】
＜界面活性剤＞
本発明のコーティング組成物は、界面活性剤を含有していてもよい。
界面活性剤としては、特開昭６２−１７３４６３号、同６２−１８３４５７号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。また、前記界面活性剤として有機フルオロ化合物やポリシロキサン化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物（例、フッ素油）及び固体状フッ素化合物樹脂（例、四フッ化エチレン樹脂）が含まれ、特公昭５７−９０５３号（第８〜１７欄）、特開昭６２−１３５８２６号の各公報に記載されたものが挙げられる。これらの中でも、界面活性剤としては、ポリジメチルシロキサンが好ましく例示できる。
これらの界面活性剤は、１種単独で使用しても、２種類以上を併用してもよい。
【００８９】
＜その他の成分＞
本発明のコーティング組成物には、必要に応じて、他の成分を添加することができる。その他の成分としては、例えば、重合禁止剤、溶剤、無機粒子、有機粒子等が挙げられる。
重合禁止剤は、保存性を高める観点から添加され得る。重合禁止剤は、本発明のコーティング組成物全量に対し、２００〜２０，０００ｐｐｍ添加することが好ましい。
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ベンゾキノン、ｐ−メトキシフェノール、ＴＥＭＰＯ、ＴＥＭＰＯＬ、クペロンＡｌ等が挙げられる。
アエロジル（デグサ社製二酸化ケイ素粒子）のような無機粒子や、架橋したポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のような有機粒子を本発明のコーティング組成物に添加して、意図的に表面光沢を下げたオーバープリント層又はオーバープリントを形成することができる。
【００９０】
本発明のコーティング組成物が放射線硬化性コーティング組成物であることに鑑み、塗布後に速やかに反応しかつ硬化し得るよう、本発明のコーティング組成物は溶剤を含まないことが好ましい。しかし、コーティング組成物の硬化速度等に影響がない限り、所定の溶剤を含めることができる。
本発明において、溶剤としては、有機溶剤が使用でき、硬化速度の観点から水は実質的に添加しないことが好ましい。有機溶剤は、印刷基材（紙などの受像基材）との密着性を改良するために添加され得る。
有機溶剤を使用する場合も、その量は少ないほど好ましく、本発明のコーティング組成物全体の重量に対し、０．１〜５重量％であることが好ましく、０．１〜３重量％であることがより好ましい。
【００９１】
この他に、必要に応じて公知の化合物を本発明のコーティング組成物に添加することができる。
例えば、界面活性剤、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類等を適宜選択して添加することができる。
【００９２】
また、ポリオレフィンやポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の印刷基材への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤー（粘着付与剤）を含有させることも好ましい。具体的には、特開２００１−４９２００号公報の５〜６頁に記載されている高分子量の粘着性ポリマー（例えば、（メタ）アクリル酸と炭素数１〜２０のアルキル基を有するアルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数３〜１４の脂環族アルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数６〜１４の芳香族アルコールとのエステルからなる共重合物）や、エチレン性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などが挙げられる。
【００９３】
＜光硬化性コーティング組成物の性質＞
本発明の光硬化性コーティング組成物における好ましい物性について説明する。
光硬化性コーティング組成物として使用する場合には、塗布性を考慮し、２５〜３０℃における粘度が、５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、７〜７５ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。
２５〜３０℃における粘度を上記の値に設定することにより、非タック性に優れ（表面ベトツキがなく）、表面平滑性に優れたオーバープリント層を有するオーバープリントが得られる。
本発明の光硬化性コーティング組成物の表面張力は、１６〜４０ｍＮ／ｍであることが好ましく、１８〜３５ｍＮ／ｍであることがより好ましい。
【００９４】
（オーバープリント及びその製造方法）
本発明のオーバープリントは、印刷物上に本発明のコーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有する。
前記オーバープリントとは、電子写真印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、平版印刷、凹版印刷又は凸版印刷等の印刷方法により得られた印刷物の表面上に、少なくとも１層のオーバープリント層を形成したものである。
本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層は、印刷物の一部に形成しても、印刷物の表面全体に形成してもよく、また、両面印刷物の場合には印刷基材の両方側全面に形成することが好ましい。また、前記オーバープリント層は、印刷物における印刷されていない部分に形成してもよいことは言うまでもない。
本発明のオーバープリントに使用する印刷物は、電子写真印刷物であることが好ましい。電子写真印刷物上に本発明のコーティング組成物の硬化層であるオーバープリント層を形成することにより、非タック性、表面平滑性、光沢性に優れ、視覚的に銀塩写真プリントに類似したオーバープリントを得ることができる。
また、本発明のオーバープリントは、非タック性に優れるため、複数作製した本発明のオーバープリントを重ねて長期間保存しても、オーバープリント同士が張り付いたりせず、保管性に優れる。
本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、３〜６μｍであることがより好ましい。
【００９５】
本発明のオーバープリントの製造方法は、印刷基材上に印刷して印刷物を得る工程、前記印刷物上に本発明の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含むことが好ましい。
また、本発明のオーバープリントの製造方法は、潜像担持体の上に静電潜像を発生させる工程と、前記静電潜像をトナーにより現像する工程と、現像された静電画像を印刷基材へ転写させ電子写真印刷物を得る工程と、前記電子写真印刷物上に本発明の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程とを含むことがより好ましい。
前記印刷基材としては、特に制限はなく、公知のものを使用することができるが、受像用紙であることが好ましく、普通紙又はコート紙であることがより好ましく、コート紙であることがさらに好ましい。コート紙としては、両面コート紙が、フルカラー画像を美しく両面印刷できるので好ましい。印刷基材が紙又は両面コート紙である場合、好ましい坪量は２０〜２００ｇ／ｍ2であり、より好ましい坪量は４０〜１６０ｇ／ｍ2である。
【００９６】
電子写真法における画像を現像させるための方法に特に制限はなく、当業者には公知の方法から任意に選択することができる。例えば、カスケード法、タッチダウン法、パウダー・クラウド（ｐｏｗｄｅｒ ｃｌｏｕｄ）法、磁気ブラシ法などが挙げられる。
また、現像された画像を印刷基材に転写させるための方法としては、コロトロン又はバイアスロールを使用する方法が例示できる。
電子写真法における画像を定着させるための定着工程（ｆｉｘｉｎｇ ｓｔｅｐ）は、各種適切な方法により実施することができる。例えば、フラッシュ定着、加熱定着、加圧定着、蒸気定着（ｖａｐｏｒ ｆｕｓｉｎｇ）などが挙げられる。
電子写真法による画像形成方法、装置及びシステムとしては、特に制限はないが、公知のものを使用することができる。具体的には、以下の米国特許に記載されているようなものである。
米国特許第４，５８５，８８４号明細書、米国特許第４，５８４，２５３号明細書、米国特許第４，５６３，４０８号明細書、米国特許第４，２６５，９９０号明細書、米国特許第６，１８０，３０８号明細書、米国特許第６，２１２，３４７号明細書、米国特許第６，１８７，４９９号明細書、米国特許第５，９６６，５７０号明細書、米国特許第５，６２７，００２号明細書、米国特許第５，３６６，８４０号明細書；米国特許第５，３４６，７９５号明細書、米国特許第５，２２３，３６８号明細書、及び、米国特許第５，８２６，１４７号明細書。
【００９７】
光硬化性コーティング組成物を塗布するためには、通常使用される液膜コーティング装置（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ ｃｏａｔｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅ）を使用することができる。具体的には、ロールコーター、ロッドコーター、ブレード、ワイヤバー、浸漬（ｄｉｐｓ）、エアナイフ、カーテンコーター、スライドコーター、ドクターナイフ、スクリーンコーター、グラビアコーター、オフセットグラビアコーター、スロットコーター、及び、押出しコーターなどが例示できる。それらの装置は、通常と同じようにして使用することができるが、例えば、ダイレクトロールコーティング及びリバースロールコーティング（ｄｉｒｅｃｔ ａｎｄ ｒｅｖｅｒｓｅ ｒｏｌｌ ｃｏａｔｉｎｇ）、ブランケットコーティング（ｂｌａｎｋｅｔ ｃｏａｔｉｎｇ）、ダンプナーコーティング（ｄａｍｐｎｅｒ ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング、平版コーティング、スクリーンコーティング、及び、グラビアコーティングなどがある。好ましい実施の態様においては、本発明のコーティング組成物の塗布及び硬化は、２台又は３台のロールコーターとＵＶ硬化ステーションを使用して実施する。
また、本発明のコーティング組成物の塗設時や硬化時においては、必要に応じ、加熱を行ってもよい。
本発明のコーティング組成物の塗布量の典型的なレベルは、単位面積当たりの重量で表して、１〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、３〜６ｇ／ｍ2であることがより好ましい。
また、本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層の形成量は、単位面積当たり、１〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、３〜６ｇ／ｍ2であることがより好ましい。
【００９８】
本発明のコーティング組成物に含まれる重合性化合物の重合を開始させるために使用するエネルギー源としては、例えば、スペクトルの紫外線又は可視光線の波長を有する放射線のような、化学線作用のある（ａｃｔｉｎｉｃ）もの（活性放射線）が挙げられる。活性放射線の照射による重合は、重合の開始及び重合速度の調節に優れる。
好適な活性放射線照射源としては、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、タングステンフィラメントランプ、レーザー、太陽光などが挙げられる。
【００９９】
紫外線照射（ＵＶ光照射）の下で、高速コンベヤ（好ましくは、２０〜７０ｍ／分）を用いた中圧（ｍｅｄｉｕｍ ｐｒｅｓｓｕｒｅ）水銀ランプによる照射が好ましく、その場合ＵＶ光照射は、波長２００〜５００ｎｍで、１秒未満の間与えることが好ましい。高速コンベヤの速度を１５〜３５ｍ／分とし、波長２００〜４５０ｎｍのＵＶ光を１０〜５０ミリ秒（ｍｓ）間照射するのがより好ましい。ＵＶ光源の発光スペクトルは通常、ＵＶ重合開始剤の吸収スペクトルと重なっている。場合によっては使用される硬化装置（ｃｕｒｉｎｇ ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）としては、ＵＶ光を焦点に集めたり拡散させたりする反射板や、ＵＶ光源により発生する熱を除去するための冷却システムなどがあるが、これらに限定される訳ではない。
【実施例】
【０１００】
以下に示す実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例における形態に限定されるものではない。
【０１０１】
＜ポリマー（Ｐ−１０）の合成＞
ポリジメチルシロキサン末端がメタクリルオキシプロピル基で修飾されたモノマー（ＭＣＲ−Ｍ１１、Ｇｅｌｅｓｔ社製）（０．２モル）、メタクリル酸アリル（０．８モル）、及び、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業（株）製）（０．０１モル）の、１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）溶液を、窒素気流下、８０℃の１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに８５℃で３時間撹拌し、ポリマー（Ｐ−１０）を得た。このポリマー（Ｐ−１０）を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定したところ、重量平均分子量は９．６万であった。さらに得られたポリマー（Ｐ−１０）は、ＮＭＲにより構造を同定した。
【０１０２】
【化２１】
2009079126.tif 000022
【０１０３】
上記と同様の方法により、ポリマー（Ｐ−１１）、（Ｐ−１６）、（Ｐ−２２）、（Ｐ−２８）、（Ｐ−２９）、及び、（Ｚ−２）〜（Ｚ−５）を合成した。
【０１０４】
＜ポリマー（Ｐ−１２）の合成＞
ポリジメチルシロキサン末端がメタクリルオキシプロピル基で修飾されたモノマー（ＭＣＲ−Ｍ１１、Ｇｅｌｅｓｔ社製）（０．１モル）、以下の構造の化合物（Ｍ−１）（０．９モル）及び２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業（株）製）（０．０１モル）の、１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）溶液を、窒素気流下、８０℃の１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに８５℃で３時間撹拌し、ポリマー（Ｐ−１２）の前駆体（Ｑ−１２）の１−メトキシ−２−プロパノール溶液を得た。
【０１０５】
【化２２】
2009079126.tif 000023
【０１０６】
【化２３】
2009079126.tif 000024
【０１０７】
得られた（Ｑ−１２）の１−メトキシ−２−プロパノール溶液を０℃に冷却し、４，４−ジメチルアミノピリジン（０．８モル）を１時間かけて滴下し、徐々に室温に昇温させ、室温で２時間反応させることによって、ポリマー（Ｐ−１２）を得た。このポリマー（Ｐ−１２）を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定したところ、重量平均分子量は６．９万であった。さらに得られたポリマー（Ｐ−１２）は、ＮＭＲにより構造を同定した。
【０１０８】
【化２４】
2009079126.tif 000025
【０１０９】
上記と同様の方法により、ポリマー（Ｐ−１３）〜（Ｐ−１５）、（Ｐ−１７）、（Ｐ−２１）、（Ｐ−２６）、（Ｐ−２７）、（Ｐ−３０）、及び、（Ｐ−３１）を合成した。
【０１１０】
（実施例１）
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物を得た。
・トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製）    ４０重量％
・トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ社製）          ２０重量％
・アクリル酸ドデシル（東京化成工業（株）製）                          ２０重量％
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７（チバスペシャルティーケミカルズ社製）      １５重量％
・ベンゾフェノン（東京化成工業（株）製）                                ３重量％
・ポリマー（Ｐ−１）                                                    ２重量％
【０１１１】
得られた実施例１の無溶剤型の光硬化性コーティング組成物を、以下の方法により性能評価を行った。
【０１１２】
＜表面平滑性（レベリング性）評価＞
富士ゼロックス（株）製デジタルプリンター（ＤＣ８０００）で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、シナノケンシ（株）製ＵＶニスコーター（ＳＧ６１０Ｖ）を用いて５ｇ／ｍ2の膜厚で片面にコーティングを行い、次いで、１．０Ｗ／ｃｍ2の照度で１２０ｍＪ／ｃｍ2露光を行い、オーバープリントのサンプルを作製し、コーティングされた印刷物表面のタテスジ発生状態を目視にて評価した。評価基準を以下に示す。
◎：タテスジなし
○：少しタテスジが残る
×：激しくタテスジが見られる
【０１１３】
＜非タック性（表面ベトツキ抑制）評価＞
富士ゼロックス（株）製デジタルプリンター（ＤＣ８０００）で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、コーティング組成物が膜厚５ｇ／ｍ2となるように片面にバーコートで塗布を行い、得られた塗布膜に対して、浜松ホトニクス（株）製ＵＶランプ（ＬＣ８）を用いて、１．０Ｗ／ｃｍ2の照度で１２０ｍＪ／ｃｍ2露光を行い、オーバープリントのサンプルを作製した。露光後の非タック性を触感で評価した。評価基準を以下に示す。
◎：ベトツキなし
○：ほぼベトツキなし
×：ベトツキあり
【０１１４】
上記の方法にて評価した結果、実施例１の光硬化性コーティング組成物は、表面平滑性は○、非タック性は○であった。
【０１１５】
（実施例２〜１６、及び、比較例１〜５）
ポリマー（Ｐ−１０）を表１に記載のポリマーに変更した以外は、実施例１と同様の方法で光硬化性コーティング組成物を作製した。また、実施例１と同様に性能評価を行った。
【０１１６】
（比較例６）
ポリマー（Ｐ−１０）（２重量％）及びアクリル酸ドデシル（２０重量％）の代わりに、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製）を２２重量％（全体で６２重量％）用いた以外は、実施例１と同様の方法で光硬化性コーティング組成物を作製した。また、実施例１と同様に性能評価を行った。
【０１１７】
【表１】
2009079126.tif 000026
【０１１８】
なお、表１に記載のＺ−１は、エチレン性不飽和結合を有しないポリシロキサン系ポリマー（ＢＹＫ−ＵＶ  ３５１０、ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）であり、Ｚ−２〜Ｚ−５は、下記に示す構造のポリマーである。
【０１１９】
【化２５】
2009079126.tif 000027
【０１２０】
（実施例１７）
Ａ４サイズの両面コート紙（坪量１００ｇ／ｍ2）の両面に各数コマずつのフルカラー画像を電子写真印刷した２０枚の印刷物を作製し、その印刷物の両面に、前記の実施例１〜１６にて作製した光硬化性コーティング組成物をそれぞれ、実施例１と同様の方法で、片面５ｇ／ｍ2の塗布量になるように塗布した後、紫外線を照射して両面オーバープリントを作製した。これらを製本して表紙と共に写真アルバムとしたところ、銀塩写真プリントと同様の視認性が得られる写真アルバムが得られた。
【０１２１】
（実施例１８）
ほぼＢ４サイズの両面コート紙（坪量１００ｇ／ｍ2）の両面に献立写真を含むフルカラー画像とテキストを電子写真印刷した１０枚の印刷物を作製し、その印刷物の両面に、前記の実施例１〜１６にて作製した光硬化性コーティング組成物をそれぞれ、実施例１と同様の方法で、片面５ｇ／ｍ2の塗布量になるように塗布した後、紫外線を照射して両面オーバープリントを作製した。これらを綴じてレストランメニューとしたところ、銀塩写真プリントと同様の視認性が得られるレストランメニューが得られた。