(57)【要約】【課題】光学補償フィルムのカール、レタデーション斑、及び液晶光学装置の光漏れの発生を防止するとともに、当該液晶表示装置の生産性を向上させる。【解決手段】光学補償フィルム20は、セルロースエステルを主成分とする厚さ70μｍ以下の光学的に2軸な支持体4と、支持体4に対して垂直方向に配向した液晶化合物からなる光学異方性層6と、紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分とする中間層5とを備える。支持体4は、ゴニオフォトメーター100によって出射光を垂直に照射させて、光源ランプ101の光軸上での透過光の強度を100％とし、この光軸に対して130°の位置での透過光の散乱光強度の割合を測定した場合に、遅相軸を横に向けた場合と、縦に向けた場合との散乱光強度の割合の差が0．05％以下であり、紫外線硬化型アクリレート化合物は分子量1000以下で、かつ1分子当たりに重合性基を2〜3個有する。【選択図】図1
2009265477.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルを主成分として含有する厚さ７０μｍ以下の光学的に２軸な支持体と、
前記支持体に対して垂直方向に配向した液晶化合物からなる光学異方性層と、
紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有し、前記支持体及び前記光学異方性層の間に介在する中間層と、を備え、
前記支持体は、
ゴニオフォトメーターによって光源からの出射光を当該支持体に垂直に照射させて、前記光源の光軸上での透過光の強度を１００％とし、この光軸に対して１３０°の測定位置での透過光の散乱光強度の割合を測定した場合に、前記光源及び前記測定位置を含む平面に対し、当該支持体の遅相軸を平行に向けた場合の散乱光強度の割合と、垂直に向けた場合の散乱光強度の割合との差が０．０５％以下であり、
前記紫外線硬化型アクリレート化合物は、分子量１０００以下で、かつ１分子当たりに重合性基を２〜３個有することを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項２】
請求項１記載の光学補償フィルムにおいて、
前記支持体は、厚さ３０μｍ以上であることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項３】
請求項１または２記載の光学補償フィルムにおいて、
前記支持体は、
アクリル系重合体と、
フラノース構造またはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物中のＯＨ基の少なくとも１つをエステル化した糖エステル化合物と、
をそれぞれ少なくとも１種含有するセルロースエステルフィルムであることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の光学補償フィルムにおいて、
前記光学異方性層は、
棒状液晶を前記支持体に対して実質的に垂直に配向させ、紫外線を照射することで配向が固定されていることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の光学補償フィルムを備えることを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項５記載の偏光板を備え、ＩＰＳモード型であることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードの液晶表示装置は、光学補償を行わなくても、それ自身単独で他のモードの表示装置に比べて視覚特性に優れているため、大型モニターや、液晶テレビに用いられてきている。
【０００３】
但し、近年では、このようなＩＰＳモードの液晶表示装置に対しても、更に光学特性を向上させるべく様々な光学補償フィルムが提案されている。なかでも、棒状液晶からなる光学異方性層を支持体上に設けた光学補償フィルムは、簡易な構成で光学特性を著しく向上できることから、活発に検討されてきている。
このような光学補償フィルムに関する技術としては、例えば以下のような４つの技術が挙げられる。
【０００４】
このうち、１つ目の技術では、垂直配向させた棒状液晶からなる光学異方性層をポリイミド配向膜上に設けて光学補償フィルムを形成することにより、ＩＰＳモードの液晶表示装置において視野角を向上させるようになっており（例えば、特許文献１参照）、２つ目の技術では、耐溶剤性の高い配向膜上に液晶層（光学異方性層）を設けて光学補償フィルムを形成することにより、当該液晶層の配向欠陥を無くすようになっている（例えば特許文献２，３参照）。
【０００５】
また、３つ目の技術では、所定の条件で配向層及び光線位相差粒子層を設けて光学補償フィルムを形成することにより、光線位相差材料と配向層との密着性を高めるようになっており（例えば、特許文献４参照）、４つ目の技術では、支持体上に所定の液晶組成物を塗布して光学補償フィルムを形成することにより、ＩＰＳモードの表示装置における斜め方向のコントラストとカラーシフトを改善するようになっている（例えば、特許文献５参照）。
【特許文献１】特開２００５−２６５８８９号公報
【特許文献２】特開２００３−１４９３５号公報
【特許文献３】特開２００３−３３１８８８号公報
【特許文献４】特開２００７−４１５２０号公報
【特許文献５】特開２００７−１４８０９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記１つ目の技術では、液晶表示装置の湿熱耐久性が悪くなり、レタデーションの変化によって光漏れが生じてしまう。
また、上記２つ目の技術では、光学補償フィルムのレタデーション特性が悪く、液晶表示装置に光漏れが生じてしまう。
更に、上記３つ目，４つ目の技術では、配向層の作製時に樹脂が重合反応により収縮するため、支持体が薄いと光学補償フィルムがカールするとともに、幅手方向にレタデーション斑を生じさせてしまう。そして、光学補償フィルムがカールすると、偏光板への貼合時に歩留まりを低下させてしまう上、偏光板もカールすることとなって液晶表示装置の作製時にも歩留まりを低下させてしまうため、液晶表示装置の生産性が低下してしまう。
【０００７】
本発明の課題は、光学補償フィルムのカール、レタデーション斑、及び液晶表示装置の光漏れの発生を防止するとともに、当該液晶表示装置の生産性を向上させることのできる光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の発明は、光学補償フィルムにおいて、
セルロースエステルを主成分として含有する厚さ７０μｍ以下の光学的に２軸な支持体と、
前記支持体に対して垂直方向に配向した液晶化合物からなる光学異方性層と、
紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有し、前記支持体及び前記光学異方性層の間に介在する中間層と、を備え、
前記支持体は、
ゴニオフォトメーターによって光源からの出射光を当該支持体に垂直に照射させて、前記光源の光軸上での透過光の強度を１００％とし、この光軸に対して１３０°の測定位置での透過光の散乱光強度の割合を測定した場合に、前記光源及び前記測定位置を含む平面に対し、当該支持体の遅相軸を平行に向けた場合の散乱光強度の割合と、垂直に向けた場合の散乱光強度の割合との差が０．０５％以下であり、
前記紫外線硬化型アクリレート化合物は、分子量１０００以下で、かつ１分子当たりに重合性基を２〜３個有することを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の光学補償フィルムにおいて、
前記支持体は、厚さ３０μｍ以上であることを特徴とする。
【００１０】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の光学補償フィルムにおいて、
前記支持体は、
アクリル系重合体と、
フラノース構造またはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物中のＯＨ基の少なくとも１つをエステル化した糖エステル化合物と、
をそれぞれ少なくとも１種含有するセルロースエステルフィルムであることを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の光学補償フィルムにおいて、
前記光学異方性層は、
棒状液晶を前記支持体に対して実質的に垂直に配向させ、紫外線を照射することで配向が固定されていることを特徴とする。
【００１２】
請求項５記載の発明は、偏光板において、
請求項１〜４の何れか一項に記載の光学補償フィルムを備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項６記載の発明は、液晶表示装置において、
請求項５記載の偏光板を備え、ＩＰＳモード型であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１記載の発明によれば、中間層は紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有し、この紫外線硬化型アクリレート化合物は分子量１０００以下であるので、分子量が１０００より大きい場合と比較して、中間層と支持体との積層物、ひいては光学補償フィルムのカールを防止することができる。また、この紫外線硬化型アクリレート化合物は１分子当たりに重合性基を２〜３個有するので、４個以上有する場合と比較して、自己重合を抑制し、より確実にカールを防止することができる。また、２個未満有する場合と比較して、支持体からの溶出物を光学異方性層に浸入させずに中間層で遮ることができるため、ヘイズの悪化や正面コントラストの低下など、光学補償フィルムの機能の低下を防止することができる。
また、このように中間層と支持体との積層物のカールを防止することができるため、光学異方性層の液晶化合物を当該積層物の中間層に塗布する工程や、塗布後の液晶化合物を乾燥する工程において、液晶化合物のウェット膜厚にムラができるのを防止することができ、これにより、光学異方性層にレタデーション斑が生じるのを防止することができる。
また、上記のように光学補償フィルムのカールを防止することができるため、当該光学補償フィルムを用いて偏光板及び液晶表示装置を製造する際の手間を軽減し、生産性を向上させることができる。
また、セルロースエステルを主成分として含有する光学的に２軸な支持体の厚さが７０μｍ以下であるので、７０μｍより大きい場合と比較して、液晶表示装置を長時間点灯させた場合に、支持体の表面側に設けられる偏光子が熱収縮して当該支持体に応力を加えたとしても、この応力に起因するレタデーション変化を低減することができる。よって、特に液晶表示装置のコーナーなど、レタデーション変化の大きい箇所（偏光子の熱収縮による応力が大きい箇所）であっても、偏光状態を正常に維持することができるため、光漏れを防止することができる。
また、上述のように中間層は紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有するので、ポリイミドを主成分として含有する場合と比較して、光学異方性層における液晶化合物との密着性を向上させることができる。  また、支持体はゴニオフォトメーターによって光源からの出射光を当該支持体に垂直に照射させて、前記光源の光軸上での透過光の強度を１００％とし、この光軸に対して１３０°の測定位置での透過光の散乱光強度の割合を測定した場合に、前記光源及び前記測定位置を含む平面に対し、当該支持体の遅相軸を平行に向けた場合の散乱光強度の割合と、垂直に向けた場合の散乱光強度の割合との差が０．０５％以下であるので、０．０５％より大きい場合と比較して異方性散乱（フィルムの遅層軸方向と、その直交方向とでの散乱光強度の差）が小さい分、正面コントラストを向上させることができる。
【００１５】
請求項２記載の発明によれば、支持体は厚さ３０μｍ以上であるので、光学異方性層を確実に支持することができる。従って、厚さが３０μｍ未満の場合と比較して、光学異方性層による位相差にムラが生じるのをより確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本実施の形態における液晶表示装置１の一例を示す概略図である。
【００１７】
この図に示すように、液晶表示装置１は、バックライト（図示せず）側から視認側に向かって偏光板３１と、液晶セル７と、本発明に係る偏光板３０とをこの順に有している。
【００１８】
［１］液晶セル７
液晶セル７は、従来より公知の液晶セルであり、本実施の形態においてはＩＰＳモード型となっている。この液晶セル７は、電圧未印加時での液晶層の遅相軸（以下、単に液晶層の遅相軸とする）を図中のＸ方向に有している。
【００１９】
［２］偏光板３１
偏光板３１は、偏光膜（ＰＶＡ層）９を偏光膜用の保護膜８，１０で狭持した構成を有している。
このうち、偏光膜９は、ポリビニルアルコールで形成された偏光子であり、図中のＹ方向に偏光透過軸を有している。
【００２０】
また、保護膜８は、面内レタデーション値Ｒｏが５ｎｍ以下であり、厚さ方向のレタデーション値Ｒｔが１０ｎｍ以下のフィルムとなっている。なお、このような保護膜８としては、従来より公知の保護膜を用いることができる。但し、保護膜８は必ずしも偏光板３１に備えられる必要はない。
また、保護膜１０は、偏光膜９を保護するものである。なお、このような保護膜１０としては、従来より公知の保護膜を用いることができる。
【００２１】
［３］偏光板３０
偏光板３０は、偏光膜（ＰＶＡ層）３を偏光膜用の保護膜（ＴＡＣ層）２と光学補償フィルム２０とで狭持した構成を有している。
【００２２】
［３．１］保護膜２
保護膜（ＴＡＣ層）２は、トリアセチルセルロースで形成された透明なフィルムであり、偏光膜（ＰＶＡ層）３における液晶セル７とは反対側の表面（図では視認側の表面）を覆って保護するようになっている。なお、このようなＴＡＣ層としては、従来より公知のフィルムのうち、例えば厚さ４０〜８０μｍ程度のものを用いることができる。
【００２３】
［３．２］偏光膜（ＰＶＡ層）３
偏光膜３は、ポリビニルアルコールで形成された偏光子であり、図中のＸ方向に偏光透過軸を有している。なお、このような偏光膜３としては、従来より公知の偏光子のうち、例えば厚さ２５μｍ程度のものを用いることができる。
【００２４】
［３．３］光学補償フィルム２０
光学補償フィルム２０は、液晶セル７に遠い側から近い側に向かって順に支持体４、中間層５及び光学異方性層６を備えている。
【００２５】
［３．３Ａ］支持体４
［３．３Ａ（１）］支持体４の物性
［３．３Ａ（１−１）］散乱光強度
支持体４は、中間層５を介して光学異方性層６を支持する厚さ３０μｍ以上かつ７０μｍ以下、例えば４０μｍの透明なフィルムである。この支持体４は、光学的に２軸となっており、図中のＸ方向に遅相軸を有している。
【００２６】
より詳細には、この支持体４は、後述の図２に示すように、ゴニオフォトメーター１００によって光源ランプ１０１からの出射光を当該支持体４に垂直に照射させて、光源ランプ１０１の光軸Ｌ上での透過光の強度を１００％とし、この光軸Ｌに対して１３０°の測定位置１０６での透過光の散乱光強度の割合を測定した場合に、光源ランプ１０１及び測定位置１０６を含む平面に対し、当該支持体４の遅相軸を平行に向けた場合の散乱光強度の割合と、垂直に向けた場合の散乱光強度の割合との差が０．０５％以下となっている。換言すれば、支持体４は、ゴニオフォトメーター１００の散乱光プロファイルの入射光９０°のフィルムの散乱光強度測定であって、光源から１３０°の位置における散乱光強度を検出する測定する場合において、フィルム遅相軸を水平に試料台へ設置した場合と垂直に設置した場合の散乱光強度差が、０．０５以下となっている。
【００２７】
なお、本発明において平行，直交とは厳密な平行，直交の角度に対して±１５°の範囲内にあることをいう。
以下、ゴニオフォトメータにより測定される散乱光の意義及び内容について説明する。
【００２８】
《ゴニオフォトメーターにより測定される散乱光》
正面コントラストを改良させるためには、透明フィルムのヘイズを低下させることが必要であるとされてきたが、直進光に対応するヘイズを低減するだけでは、必ずしも正面コントラストを所望の値にすることはできないというということが判ってきた。
【００２９】
これに対し本発明者らは、異方性散乱を排除することが正面コントラストの改良に効果的であることを見出した。
【００３０】
ここで異方性散乱とは、フィルムの遅相軸方向とそれに直交する方向での散乱光強度の差をいう。この異方性散乱は、ゴニオフォトメーター１００により測定される。
【００３１】
図２にゴニオフォトメーター１００（型式：ＧＰ−１−３Ｄ、オプテック（株）製）における光源ランプ１０１、分光器１０２、試料台（ステージ）１０３、試料サンプル（支持体）１０４（図２（ｂ）参照）、測定位置（受光部分）１０６の位置関係を示す。ここで、図２（ａ）は基準光を測定するリファレンス測定或は透過率測定時における、光源ランプ１０１、分光器１０２、試料台１０３、測定位置１０６に配置され光の強度を計測する積分球１０５の配置を示し、図２（ｂ）は測定サンプル１０４を試料台１０３に載せてその反射率測定時における、光源ランプ１０１、分光器１０２、試料台１０３、積分球１０５の配置を示す。
【００３２】
なお、本実施の形態においては、光源ランプ１０１は１２Ｖ５０Ｗハロゲン球であり、測定位置１０６には、光電子増倍管（フォトマル  浜松フォトニクス  Ｒ６３６−１０）を用いている。
【００３３】
試料台は通常は測定サンプル縦掛け式となっていて押え金具１０６で測定サンプルを固定し、その台の下部は角度割出回転テーブル１０７となっており、試料面と入射面の角度を変えて透過率、反射率を測定することができる構造である。
【００３４】
本発明における異方性散乱光強度は、図２（ａ）の配置で測定することができる。つまり、ゴニオフォトメーターの散乱光プロファイルの入射光９０°のフィルムの散乱光強度測定とは、ゴニオフォトメーターの光源からサンプルに対して垂直に光が与えられた時の散乱光強度をいう。
【００３５】
光源から１３０°の位置における散乱光強度を検出する測定する場合とは、図２（ａ）の配置状態において、光源の法線方向と、サンプルの観察点と積分球とを結ぶ方向とがなす角θを１３０°とした場合に測定される散乱光強度をいう。
【００３６】
本発明においては、このθが１３０°の位置における散乱光強度の測定において、フィルム（支持体４）遅相軸を水平に試料台へ設置した場合と垂直に設置した場合の散乱光強度差が、０．０５以下であることを特徴とする。
【００３７】
水平および垂直の条件をとるためには、通常の水準器を使用することができる。例えばエツミ水準器ツーウェイ（シュー付）Ｅ−６０４４を使用することができる。
【００３８】
θとしては、色々な角度を選択することができるが、本発明では、液晶表示装置としての最終評価である正面コントラストとの相関が最も高かった１３０°とした。
【００３９】
水平にした場合、垂直にした場合の散乱光強度は０．０１〜０．２５であり、０．２０以下が好ましく、０．１０以下がさらに好ましい。
【００４０】
本発明においては、さらに光源から１０５°から１７５°の位置における散乱光強度を検出する測定において、１°ごとに７１点ずつ測定した値の合計である積分値が２．００以下であることが好ましい。散乱光強度差は、小さいければ小さい方がよい。
【００４１】
［３．３Ａ（１−２）］その他の物性
また、この支持体４の透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで１０〜１２００ｇ／ｍ2・２４ｈが好ましく、更に２０〜１０００ｇ／ｍ2・２４ｈが好ましく、２０〜８５０ｇ／ｍ2・２４ｈが特に好ましい。透湿度はＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い測定することができる。
【００４２】
また、支持体４は破断伸度は１０〜８０％であることが好ましく２０〜５０％であることが更に好ましい。
【００４３】
また、支持体４の可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることが更に好ましい。
【００４４】
また、支持体４のヘイズは１％未満であることが好ましく０〜０．１％であることが特に好ましい。
【００４５】
［３．３Ａ（２）］支持体４の成分
以上の支持体４は、セルロースエステルを主成分（最も多い成分）として含有しており、好ましくは、アクリル系重合体と、フラノース構造またはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物中のＯＨ基の少なくとも１つをエステル化した糖エステル化合物と、をそれぞれ少なくとも１種含有するセルロースエステルフィルムとなっている。
【００４６】
［３．３Ａ（２−１）］支持体成分としてのセルロースエステル
本発明のセルロースエステルとしては特に限定はないが、セルロースエステルとして炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特に炭素数が６以下の低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
【００４７】
水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数２〜６のアシル基の中で選択することが好ましい。前記セルロースエステルとしての炭素数が２〜４であることが好ましく、炭素数が２〜３であることがより好ましい。
【００４８】
具体的には、セルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることができる。
【００４９】
尚、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。本発明において好ましく用いられるセルロースエステルとしては、特にセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレートが好ましく用いられる。
【００５０】
本発明に好ましいセルロースアセテートフタレート以外のセルロースエステルとしては、下記式（１）及び（２）を同時に満足するものが好ましい。
【００５１】
式（１）    ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（２）    ０≦Ｙ≦１．５
式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはその混合物の置換度である。
【００５２】
また、目的に叶う光学特性を得るために置換度の異なる樹脂を混合して用いても良い。混合比としては１０：９０〜９０：１０（質量比）が好ましい。
【００５３】
この中で特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートでは、１．０≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦１．５、２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０であることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００５４】
本発明に用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に７００００〜２０００００のものが好ましく用いられる。
【００５５】
セルロースエステルの重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。
【００５６】
測定条件は以下の通りである。
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【００５７】
本発明に用いられる、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。
【００５８】
本発明のセルロースアセテートフタレート等のセルロースエステルは、公知の方法により製造することができる。具体的には特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参考にして合成することができる。
【００５９】
［３．３Ａ（２−１−１）］セルロースエステルに含有されるアクリル系重合体
本発明では、アクリル系重合体をセルロースエステルに添加する。なお、ここでアクリル系重合体にはメタクリル系重合体も含まれる。
【００６０】
本発明に用いられるアクリル系重合体としては、セルロースエステルフィルムに含有させた場合、機能として延伸方向に対して負の複屈折性を示すことが好ましく、特に構造が限定されるものではないが、エチレン性不飽和モノマーを重合して得られた重量平均分子量が５００以上３００００以下である重合体であることが好ましい。
【００６１】
＜アクリル系重合体の複屈折性試験法＞
アクリル系重合体を溶媒に溶解しキャスト製膜した後、加熱乾燥し、透過率８０％以上のフィルムについて複屈折性の評価を行った。
【００６２】
アッベ屈折率計−４Ｔ（（株）アタゴ製）に多波長光源を用いて屈折率測定を行った。延伸方向の屈折率ｎｙ及び直交する面内方向の屈折率をｎｘとした。５５０ｎｍの各々の屈折率について（ｎｙ−ｎｘ）＜０であるフィルムについて、アクリル系重合体は延伸方向に対して負の複屈折性であると判断する。
【００６３】
本発明に用いられる重量平均分子量が５００以上３００００以下であるアクリル系重合体は、芳香環を側鎖に有するアクリル系重合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系重合体であってもよい。
【００６４】
該重合体の重量平均分子量が５００以上３００００以下のもので該重合体の組成を制御することにより、例えばセルロースエステルフィルムが本発明において特に好ましいセルロースエステルフィルムである場合、該セルロースエステルと該重合体との相溶性を良好にすることができる。
【００６５】
芳香環を側鎖に有するアクリル系重合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系重合体について、好ましくは重量平均分子量が５００以上１００００以下のものであれば、上記に加え、製膜後のセルロースエステルフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。
【００６６】
該重合体は、重量平均分子量が５００以上３００００以下であるから、オリゴマーから低分子量重合体の間にあると考えられるものである。このような重合体を合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。
【００６７】
本発明のセルロースエステルフィルムに用いられるアクリル系重合体としては、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂと、Ｘａ、Ｘｂを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量２０００以上３００００以下の重合体Ｘ、または芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａと、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下の重合体Ｙであることが好ましい。
【００６８】
特に、本発明のセルロースエステルに加える添加剤としては、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａと、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下の重合体Ｙであることが好ましい。
【００６９】
［３．３Ａ（２−１−１−１）］アクリル系重合体に含有される重合体Ｙ
＜重合体Ｙの構造＞
重合体Ｙは、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａと、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られる低分子量の重合体であり、重量平均分子量が５００以上３０００以下となっている。
【００７０】
重量平均分子量５００以上であれば重合体の残存モノマーが減少し好ましい。また、３０００以下とすることは、レタデーション値Ｒｔを調整するために好ましい。Ｙａは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。
【００７１】
本発明に用いられる重合体Ｙは、下記一般式（Ｙ）で表される。
【００７２】
一般式（Ｙ）
−［Ｙａ］k−［Ｙｂ］q−
上記一般式（Ｙ）において、Ｙａは芳香環を有しないエチレン性不飽和モノマーを表し、ＹｂはＹａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを表す。ｋ及びｑは、各々モル組成比を表す。ただし、ｋ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。
【００７３】
本発明に係る重合体Ｙにおいて、更に好ましくは下記一般式（Ｙ−１）で表される重合体である。
【００７４】
一般式（Ｙ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）］k−［Ｙｂ］q−
上記一般式（Ｙ−１）において、Ｒ5は、それぞれ水素原子またはメチル基を表す。Ｒ6は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｙｂは、［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）］と共重合可能なモノマー単位を表す。ｋ及びｑは、それぞれモル組成比を表す。ただしｋ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。
【００７５】
Ｙｂは、Ｙａである［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）］と共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ｙｂは複数であってもよい。ｋ＋ｑ＝１００、ｑは好ましくは０〜３０である。
【００７６】
芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られる重合体Ｙを構成するエチレン性不飽和モノマーＹａは、アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの；不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。
【００７７】
Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ｙｂは複数であってもよい。
【００７８】
＜重合体Ｙの合成方法＞
重合体Ｙを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で、かつ出来るだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。
【００７９】
かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号または同２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられる。
【００８０】
特に、重合体Ｙは、分子中にチオール基と２級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。この場合、重合体Ｙの末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、Ｙとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。
【００８１】
重合体Ｙの水酸基価は、３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。
【００８２】
なお、水酸基価の測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０（１９９２）に準ずる。この水酸基価は、試料１ｇをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。
【００８３】
具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。
【００８４】
１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。
【００８５】
次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。
【００８６】
更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価は、次の式によって算出する。
【００８７】
水酸基価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、また、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す。
【００８８】
上述の重合体Ｙは何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。
【００８９】
セルロースエステルフィルム中での重合体Ｙの好ましい含有量は、０．５〜１０質量％であり、より好ましくは１〜５質量％である。
【００９０】
重合体Ｙは、後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することができる。
【００９１】
［３．３Ａ（２−１−２）］セルロースエステルに含有される糖エステル化合物
上述したように、本発明のセルロースエステルフィルムは、フラノース構造またはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物中のＯＨ基の少なくとも１つをエステル化した糖エステル化合物を含んでいる。
【００９２】
エステル化の割合としては、ピラノース構造またはフラノース構造内に存在するＯＨ基の７０％以上であることが好ましい。
【００９３】
本発明においては、エステル化合物を総称して、糖エステル化合物とも称す。
【００９４】
本発明のエステル化合物の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９５】
グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、或いはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース或いはケストース挙げられる。
【００９６】
このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。
【００９７】
これらの化合物の中で、特にピラノース構造とフラノース構造を両方有する化合物が好ましい。
【００９８】
例としてはスクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。
【００９９】
ピラノース構造またはフラノース構造中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。
【０１００】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１０１】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１０２】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。
【０１０３】
オリゴ糖のエステル化合物は、本発明における「ピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１〜１２個を有する化合物」として適用できる。
【０１０４】
オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本発明に適用できるオリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。
【０１０５】
また、前記エステル化合物は、下記一般式（Ａ）で表されるピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１個以上１２個以下縮合した化合物である。ただし、Ｒ11〜Ｒ15、Ｒ21〜Ｒ25は、炭素数２〜２２のアシル基または水素原子を、ｍ、ｎはそれぞれ０〜１２の整数、ｍ＋ｎは１〜１２の整数を表す。
【０１０６】
【化１】
2009265477.tif 000003
【０１０７】
Ｒ11〜Ｒ15、Ｒ21〜Ｒ25は、ベンゾイル基、水素原子であることが好ましい。ベンゾイル基は更に置換基Ｒ26（ｐは０〜５）を有していてもよく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙げられ、更にこれらのアルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換基を有していてもよい。オリゴ糖も本発明のエステル化合物と同様な方法で製造することができる。
【０１０８】
以下に、本発明に係るエステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０９】
【化２】
2009265477.tif 000004
【０１１０】
【化３】
2009265477.tif 000005
【０１１１】
【化４】
2009265477.tif 000006
【０１１２】
【化５】
2009265477.tif 000007
【０１１３】
【化６】
2009265477.tif 000008
【０１１４】
【化７】
2009265477.tif 000009
【０１１５】
【化８】
2009265477.tif 000010
【０１１６】
【化９】
2009265477.tif 000011
【０１１７】
本発明のセルロースエステルフィルムは、位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化する為に、以上の糖エステル化合物を、セルロースエステルフィルムの１〜３０質量％含むことが好ましく、特には、５〜３０質量％含むことが好ましい。
【０１１８】
［３．３Ａ（２−１−３）］セルロースエステルに含有される他の添加剤
＜可塑剤＞
本発明のセルロースエステルフィルムは、本発明の効果を得る上で必要に応じて可塑剤を含有することができる。
【０１１９】
可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。
【０１２０】
そのうち、可塑剤を２種以上用いる場合は、少なくとも１種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
【０１２１】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【０１２２】
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（ａ）で表される。
【０１２３】
一般式（ａ）  Ｒ1−（ＯＨ）n
但し、Ｒ1はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／またはフェノール性水酸基を表す。
【０１２４】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２５】
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
【０１２６】
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１２７】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１２８】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１２９】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１３０】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１３１】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１３２】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基或いはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１３３】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１３４】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１３５】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１３６】
【化１０】
2009265477.tif 000012
【０１３７】
【化１１】
2009265477.tif 000013
【０１３８】
【化１２】
2009265477.tif 000014
【０１３９】
【化１３】
2009265477.tif 000015
【０１４０】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。
【０１４１】
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【０１４２】
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１４３】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１４４】
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１４５】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１４６】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなるものが挙げられる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１４７】
多価カルボン酸は次の一般式（ｂ）で表される。
【０１４８】
一般式（ｂ）  Ｒ2（ＣＯＯＨ）m（ＯＨ）n
（但し、Ｒ2は（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシル基、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す）
好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４９】
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
【０１５０】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。
【０１５１】
例えば炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１５２】
また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１５３】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性の水酸基をモノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１５４】
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１５５】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。
【０１５６】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１５７】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。
【０１５８】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１５９】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。
【０１６０】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、レタデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１６１】
なお、酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０１６２】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１６３】
例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。
【０１６４】
ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることができる。ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（ｃ）で表せる芳香族末端エステル系可塑剤を用いることができる。
【０１６５】
一般式（ｃ）  Ｂ−（Ｇ−Ａ）n−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（ｃ）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【０１６６】
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。
【０１６７】
本発明に用いることのできるポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。
【０１６８】
特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
【０１６９】
また、上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。
【０１７０】
芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【０１７１】
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【０１７２】
以下に、本発明に用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１７３】
【化１４】
2009265477.tif 000016
【０１７４】
【化１５】
2009265477.tif 000017
【０１７５】
＜紫外線吸収剤＞
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
【０１７６】
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
【０１７７】
例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり好ましく使用できる。
【０１７８】
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。
【０１７９】
この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。
【０１８０】
本発明において偏光板３０を保護する支持体４のセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を２種以上を含有することが好ましい。
【０１８１】
また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０１８２】
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１８３】
無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
【０１８４】
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、セルロースエステルフィルムの乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、セルロースエステルフィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。
【０１８５】
＜酸化防止剤＞
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶表示装置１がおかれた場合には、セルロースエステルフィルムの劣化が起こる場合がある。
【０１８６】
酸化防止剤は、例えば、セルロースエステルフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりセルロースエステルフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記セルロースエステルフィルム中に含有させるのが好ましい。
【０１８７】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。
【０１８８】
特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【０１８９】
これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【０１９０】
＜微粒子＞
本発明におけるセルロースエステルフィルム（支持体４）は、微粒子を含有することが好ましい。
【０１９１】
本発明に使用される微粒子としては、無機化合物からなる微粒子や、ポリマーからなる微粒子があり、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０１９２】
微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０１９３】
微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍが好ましく、更に好ましいのは１０〜３００ｎｍである。
【０１９４】
これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径１００〜４００ｎｍの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【０１９５】
セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０１〜１質量％であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
【０１９６】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１９７】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１９８】
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１９９】
これらの中でもでアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。
【０２００】
各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。
【０２０１】
添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部で、より好ましくは、３〜５質量部である。
【０２０２】
本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。
【０２０３】
［３．３Ａ（３）］セルロースエステルフィルム（支持体）の製造方法
次に、本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
【０２０４】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。
【０２０５】
本発明のセルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
【０２０６】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０２０７】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。
【０２０８】
良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。
【０２０９】
そのため、セルロースエステルの平均酢化度（アセチル基置換度）によっては、良溶剤，貧溶剤となる溶剤の種類が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる場合、このアセトンは、アセチル基置換度２．４のセルロースエステルの酢酸エステルや、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、アセチル基置換度２．８のセルロースの酢酸エステルでは貧溶剤となる。
【０２１０】
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。
【０２１１】
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。
【０２１２】
また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。
【０２１３】
回収溶剤中に、セルロースエステルに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。
【０２１４】
上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。
【０２１５】
溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。
【０２１６】
また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
【０２１７】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０２１８】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。
【０２１９】
好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
【０２２０】
もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。
【０２２１】
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。
【０２２２】
このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。
【０２２３】
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。
【０２２４】
濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
【０２２５】
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ2以下であることが好ましい。
【０２２６】
より好ましくは１００個／ｃｍ2以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ2以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ2以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
【０２２７】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。
【０２２８】
好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。
【０２２９】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
【０２３０】
ここで、ドープの流延について説明する。
【０２３１】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０２３２】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化したりする場合がある。
【０２３３】
好ましい支持体温度は０〜４０℃であり、５〜３０℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０２３４】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０２３５】
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。
【０２３６】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０２３７】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、指揮中の「Ｍ」はウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量であり、「Ｎ」は採取した試料を１１５℃で１時間加熱した後の質量である。
【０２３８】
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０２３９】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０２４０】
本発明のセルロースエステルフィルムを作製するためには、ウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。剥離張力は３００Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましい。
【０２４１】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。
【０２４２】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２００℃で段階的に高くしていくことが好ましい。
【０２４３】
セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは３０〜７０μｍである。
【０２４４】
本発明のセルロースエステルフィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０２４５】
本発明で目標とするレタデーション値Ｒｏ、Ｒｔ（Ｒｏは面内方向のレタデーション値、Ｒｔは厚さ方向のレタデーション値）を得るには、セルロースエステルフィルムが本発明の構成をとり、更に延伸操作により屈折率制御を行うことが好ましい。
【０２４６】
例えばフィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に２軸延伸もしくは１軸延伸することができる。
【０２４７】
互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に０．８〜１．５倍、幅方向に１．１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に０．８〜１．０倍、幅方向に１．２〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。
【０２４８】
延伸温度は１２０℃〜２００℃が好ましく、さらに好ましくは１６０℃〜２００℃であり、さらに好ましくは１７０℃を超えて２００℃以下で延伸するのが好ましい。
【０２４９】
フィルム中の残留溶媒は２０〜０％が好ましく、さらに好ましくは１５〜０％で延伸するのが好ましい。
【０２５０】
具体的には１７５℃で残留溶媒が１１％で延伸する、あるいは１７５℃で残留溶媒が２％で延伸するのが好ましい。もしくは１８５℃で残留溶媒が１１％で延伸するのが好ましく、あるいは１８５℃で残留溶媒が１％未満で延伸するのが好ましい。
【０２５１】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。
【０２５２】
また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【０２５３】
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０２５４】
本発明のセルロースエステルフィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。
【０２５５】
このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。
【０２５６】
［３．３Ｂ］中間層５
中間層５は、支持体４及び光学異方性層６の間に介在する厚さ１μｍ程度の層であり、紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有している。
【０２５７】
ここで、中間層５に用いられる紫外線硬化型アクリレート化合物は、分子量１０００以下で、かつ１分子当たりに重合性基を２〜３個有している。
【０２５８】
＜中間層の形成方法＞
このような中間層５を形成するには、紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分とし、光重合開始剤を副成分として溶媒中に含有する塗布液をセルロースエステルフィルム（支持体４）の表面に塗布した後、当該塗布液を乾燥させるとともに、光重合開始剤の光効果反応によって硬化させる方法を用いることができる。
【０２５９】
塗布液を塗布するには、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明支持体の表面にドライ膜厚０．１〜１０μｍで塗布することが好ましく、０．３〜５μｍで塗布することがより好ましく、特に好ましくは０．３〜３μｍで塗布する。この範囲であれば、支持体４からのセルロースエステルまたは添加剤等が光学異方性層６に溶出して配向阻害を起こすのを防ぎ、かつ生産性、薄膜化の観点で好ましい。
【０２６０】
塗布後の乾燥温度は、１０〜１５０℃が好ましく、より好ましくは４０〜１２０℃である。乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さを考慮すれば、熱風で行うことが好ましい。
【０２６１】
温度は余り低いと乾燥に時間がかかり、生産性が低下する。高すぎると、膜厚ムラが発生しやすくなり、中間層５に膜厚ムラができると、光学異方性層６に膜厚ムラが発生しやすくなる。光学異方性層６の膜厚ムラはそのままリタデーションのムラとなり、液晶表示装置１の表示性能が低下してしまうため好ましくない。乾燥時間は５〜６００秒が好ましく、より好ましくは５〜２００秒、さらに好ましくは５〜６０秒である。上記範囲であれば、乾燥が十分行われかつ、生産性が高い。また、熱風による乾燥の場合、風は弱いほうが好ましい。風が強いと膜厚ムラが発生することがある。
【０２６２】
塗布液を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層（中間層５）を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは３０〜３００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０２６３】
紫外線の照射は塗布液の乾燥中または乾燥後に行うのがよく、必要な活性線の照射量を得るための照射時間としては、０．１秒〜１分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から０．１〜１０秒がより好ましい。これら活性線照射部の照度は５０〜１５０ｍＷ／ｍ2であることが好ましい。
【０２６４】
また、紫外線を照射する際には、セルロースエステルフィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよい。
【０２６５】
本発明の光学補償フィルム２０の製造方法では、中間層の塗布液を塗布、乾燥、紫外線照射による半硬化を行って中間層を形成し、その上に光学異方性層を形成することが好ましい。
【０２６６】
本発明において「半硬化」とは、中間層５のゲル分率が３０〜８０質量％になるように紫外線を照射することをいう。半硬化した中間層５のゲル分率が３０質量％未満の場合には、架橋度が不十分なため耐溶剤性に乏しくなり、光学異方性層６を形成する際に半硬化状態の中間層５が溶解する恐れがある。一方、ゲル分率が８０質量％を超えると、架橋過多となり膜の硬化が進行しすぎて光学異方性層６との界面での接着性が低下するため好ましくない。紫外線照射量は使用するウレタンアクリレートオリゴマーまたはアクリレートオリゴマー組成物の種類によっても異なるが、好ましくは上記照射量の範囲内で調整すればよい。紫外線照射量とは、紫外線光量測定機（ＥＩＴ社製、ＵＶ  Ｐｏｗｅｒ  Ｐｕｃｋ）で測定したＵＶＣ（２５０−２６０ｎｍ）、ＵＶＢ（２８０−３２０ｎｍ）、ＵＶＡ（３２０−３９０ｎｍ）、及びＵＶＶ（３９５−４４５ｎｍ）の合計照射光量をいう。
【０２６７】
なお、中間層５についてのゲル分率の測定は、例えば以下のように行うことができる。
まず、半硬化状態の中間層５を約０．１ｇとり、これを秤量して質量（Ｗ１）を測定する。次いで、これを微孔性テトラフルオロエチレン膜（膜質量Ｗ２）に包んで、約５０ｍｌの酢酸エチルに７日間浸漬した後、可溶分を抽出する。次いで、これを乾燥し、全体の質量（Ｗ３）を測定する。そして、これらの測定値から、下記式により半硬化中間層のゲル分率（質量％）を求める。
【０２６８】
ゲル分率（質量％）＝｛（Ｗ３−Ｗ２）／Ｗ１｝×１００
【０２６９】
［３．３Ｃ］光学異方性層６
光学異方性層６は、支持体４に対して垂直方向に配向した液晶化合物からなる、厚さ２μｍ程度の層である。
この光学異方性層６は、所定の棒状液晶を支持体４及び中間層５に対して実質的に垂直に配向させた後、紫外線を照射することで配向が固定されている。
【０２７０】
より具体的には、光学異方性層６は、中間層５の表面に液晶（もしくは液晶の溶液）を塗布して乾燥及び熱処理（配向処理ともいう）を行うとともに、紫外線硬化または熱重合などで液晶配向を固定化している。
【０２７１】
ここで、垂直配向とは、偏光顕微鏡を用い、光学異方性層６を有する光学補償フィルム２０をクロスニコル偏光子の間に挟んで光学位相差を評価する場合に、当該光学補償フィルム２０をクロスニコル偏光子に対して平行に挟んだ場合に黒色に見え、傾けて挟んだ場合に白色に見えるものを垂直配向しているものと定義する。但し、光学異方性層６の面内レタデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍであり、厚さ方向のレタデーション値Ｒｔが−５０ｎｍ以下であることを、垂直方向に配向していることとしても良い。
【０２７２】
本発明における光学異方性層６は、レタデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが−１００〜−４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。更にＲｏは０〜５ｎｍの範囲がより好ましい。光学異方性層６のリタデーションを当該範囲とするためには、光学異方性層６の膜厚制御、紫外線硬化時の温度、チルト角制御、及び支持体４と空気界面でのプレチルト角の制御を行うことが好ましい。
【０２７３】
光学異方性層６は、所定の温度で液晶相となり得る液晶材料が、所定の液晶規則性を有して硬化することにより形成されたものである。液晶相を示す温度の上限は、例えば基材のセルロースエステルフィルム（支持体４）がダメージを受けない温度であれば特に限定されるものはない。具体的には、プロセス温度のコントロールの容易性と寸法精度維持の観点から１２０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下の温度で液晶相となる液晶材料が好適に用いられる。一方、液晶相を示す温度の下限は、位相差板として用いる際に、液晶材料が配向状態を保持し得る温度であるといえる。
【０２７４】
光学異方性層６に用いられる液晶材料としては、重合性液晶材料を用いることが好ましい。重合性液晶材料は、所定の活性放射線を照射することにより重合させて用いることができ、重合させた状態では配向状態は固定化されているので、重合性液晶材料を用いる場合には、液晶相となる温度の下限は特に限定されるものではない。
【０２７５】
重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、もしくは重合性液晶ポリマーのいずれかを用いることができ、相互に混合して用いることもできる。重合性液晶材料は、配向状態を固定化することが可能であるので、液晶の配向を低温で容易に行うことが可能であり、かつ使用に際しては配向状態が固定化されているので、温度等の使用条件にかかわらず使用することができる。
【０２７６】
重合性液晶材料としては、上記のうちでも、特に重合性液晶モノマーが好適に用いられる。重合性液晶モノマーは、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーと比較して、より低温で配向が可能であり、かつ配向に際しての感度が高いことから、配向させることが容易だからである。
【０２７７】
具体的な重合性液晶モノマーとしては、下記の一般式（４）で表される棒状液晶性化合物（ａ）、及び下記の一般式（５）で表される棒状液晶性化合物（ｂ）を挙げることができる。化合物（ａ）としては、一般式（４）に包含される化合物の２種以上を混合して使用することもでき、同様に、化合物（ｂ）としては、一般式（５）に包含される化合物の２種以上を混合して使用することもできる。また、化合物（ａ）を１種以上と化合物１種以上を混合して使用することもできる。
【０２７８】
【化１６】
2009265477.tif 000018
【０２７９】
【化１７】
2009265477.tif 000019
【０２８０】
化合物（ａ）を表す一般式（４）において、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ1及びＲ2は共に水素であることが好ましい。Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、もしくはニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素またはメチル基であることが好ましい。また、化合物（ａ）の分子鎖両端の（メタ）アクリロイロキシ基と、芳香環とのスペーサであるアルキレン基の鎖長を示すａ及びｂは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数を取り得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。ａ＝ｂ＝０である一般式（４）の化合物は、安定性に乏しく、加水分解を受けやすい上に、化合物自体の結晶性が高い。また、ａ及びｂがそれぞれ１３以上である一般式（４）の化合物は、アイソトロピック転移温度（ＴＩ）が低い。この理由から、これらの化合物はどちらも液晶性を示す温度範囲が狭く好ましくない。
【０２８１】
化合物（ａ）は任意の方法で合成することができる。例えば、Ｘがメチル基である化合物（ａ）は、１当量のメチルヒドロキノンと２当量の４−（ｍ−（メタ）アクリロイロキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応により得ることができる。エステル化反応は、上記安息香酸を酸クロリドやスルホン酸無水物などで活性化し、これとメチルヒドロキノンとを反応させるのが通例である。また、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）等の縮合剤を用いて、カルボン酸単位とメチルヒドロキノンを直接反応させることもできる。これ以外の方法としては、１当量のメチルヒドロキノンと、２当量の４−（ｍ−ベンジルオキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応をまず行い、次いで得られたエステルを水素添加反応等により脱ベンジル化した後、分子末端をアクリロイル化する方法によっても、化合物（ａ）を合成することができる。メチルヒドロキノンと４−（ｍ−ベンジルオキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応を行うに際しては、メチルヒドロキノンをジアセテートに導入した後、上記の安息香酸と溶融状態で反応させ、直接エステル体を得ることも可能である。一般式（４）のＸがメチル基でない場合の化合物（ａ）も、対応する置換基を有するヒドロキノンを、メチルヒドロキノンの代わりに用いて上と同様の反応を行うことにより得ることができる。
【０２８２】
化合物（ｂ）を表す一般式（５）において、Ｒ3は水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ3は水素であることが好ましい。アルキレン基の鎖長を示すｃに関して言えば、この値が２〜１２である化合物（ｂ）は液晶性を示さない。しかしながら、液晶性を持つ化合物（ａ）との相溶性を考慮すると、ｃは４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがより好ましい。化合物（ｂ）も任意の方法で合成可能であり、例えば、１当量の４−シアノフェノールと１当量の４−（ｎ−（メタ）アクリロイロキシアルコキシ）安息香酸とのエステル化反応により化合物（ｂ）を合成することができる。このエステル化反応は化合物（ａ）を合成する場合と同様に、上記安息香酸を酸クロリドやスルホン酸無水物などで活性化し、これと４−シアノフェノールとを反応させるのが一般的である。また、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）等の縮合剤を用いて上記安息香酸と４−シアノフェノールを反応させてもよい。
【０２８３】
以上の他、本発明においては、光学異方性層６の重合性液晶材料として重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマー等を用いることが可能である。このような重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーとしては、従来提案されているものを適宜選択して用いることが可能である。
【０２８４】
本発明においては、重合性液晶材料に加え、必要に応じて光重合開始剤を用いてもよい。電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合があるが、一般的に用いられている例えば紫外線（ＵＶ）照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられる。
【０２８５】
光重合開始剤としては、ベンジル（ビベンゾイルとも言う）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、もしくは１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等を挙げることができる。光重合開始剤の添加量としては、一般的には０．０１％〜２０％が好ましく、より好ましくは０．１％〜１０％であり、更に好ましくは０．５％〜５％の範囲で、本発明の重合性液晶材料に添加することができる。尚、光重合開始剤の他に、本発明の目的が損なわれない範囲で増感剤を添加することも可能である。
【０２８６】
本発明における光学異方性層６の膜厚は０．１μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましく、０．２〜１０μｍの範囲内であることがより好ましい。本発明の光学異方性層６が上記範囲を超えて厚くなると必要以上の光学異方性が生じてしまい、また上記範囲より薄いと所定の光学異方性が得られない場合がある。よって、光学異方性層６の膜厚は、必要な光学異方性に準じて決定すればよい。
【０２８７】
重合性液晶材料は、必要に応じて光重合開始剤、増感剤等を配合して光学異方性層形成用組成物を調製して用い、中間層上に塗布し、光学異方性層を形成する。本発明においては、光学異方性層形成用組成物としては溶媒を加えて、その他の成分を溶解した塗布用組成物を用いて中間層上に塗布し、溶媒を除去することにより光学異方性層を形成することが好ましい。
【０２８８】
溶媒としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶媒であり、かつセルロースエステルフィルム（支持体４）や中間層５の性状を低下させない溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、もしくは２，４−ペンタンジオン等のケトン類；酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、もしくはγ−ブチロラクトン等のエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、もしくはジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、もしくはオルソジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、もしくはブチルセルソルブ等のアルコール類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類等の１種または２種以上が使用可能である。
【０２８９】
単一種の溶媒を使用しただけでは、重合性液晶材料等の溶解性が不十分であったり、上述したように基材が侵食されたりする場合がある。しかし２種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することができる。上記した溶媒のなかにあって、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒とグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類またはケトン類と、グリコール類との混合系である。溶液の濃度は、重合性液晶材料等の溶解性や製造しようとする光学異方性層６の膜厚に依存するため一概には規定できないが、通常は１％〜６０％が好ましく、より好ましくは３％〜４０％の範囲で調整される。
【０２９０】
本発明に用いられる光学異方性層６の形成用組成物（以下、光学異方性層形成用組成物とする）には、本発明の目的を損なわない範囲内で、上記以外の化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族もしくは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物、またはアクリル基もしくはメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。本発明の光学異方性層形成用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択され、一般的には、本発明の光学異方性層形成用組成物の４０％以下であることが好ましく、より好ましくは２０％以下である。これらの化合物の添加により、本発明における液晶材料の硬化性が向上し、得られる光学異方性層の機械強度が増大し、またその安定性が改善される。
【０２９１】
また、溶剤を配合した光学異方性層形成用組成物には、界面活性剤等を加えることができる。添加可能な界面活性剤を例示すると、イミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤；ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、第一級或いは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレングリコール及びそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族或いは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン系界面活性剤；ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活性剤；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗布する配向膜の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる重合性液晶材料の１０ｐｐｍ〜１０％が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ〜５％であり、更に好ましくは０．１〜１％の範囲である。
【０２９２】
光学異方性層形成用組成物を塗布する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、押し出しコート法、インクジェット法等が挙げられる。光学異方性層形成用組成物を塗布した後、溶媒を除去する方法としては、例えば、風乾、加熱除去、もしくは減圧除去、さらにはこれらを組み合わせる方法等により行われる。溶媒が除去されることにより、光学異方性層６が形成される。
【０２９３】
重合性液晶材料を硬化させる工程では、重合性液晶材料を硬化させるためのエネルギーが与えられ、熱エネルギーでもよいが、通常は、重合を起こさせる能力がある電離放射線の照射によって行う。必要であれば重合性液晶材料内に重合開始剤が含まれていてもよい。電離放射線としては、重合性液晶材料を重合せさることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光線が使用され、波長が１５０〜５００ｎｍの光が好ましく、より好ましくは２５０〜４５０ｎｍであり、更に好ましくは３００〜４００ｎｍの波長の紫外線である。
【０２９４】
本発明においては、紫外線（ＵＶ）を活性放射線として照射し、紫外線で重合開始剤からラジカルを発生させ、ラジカル重合を行わせる方法が好ましい。活性放射線としてＵＶを用いる方法は、既に確立された技術であることから、用いる重合開始剤を含めて、本発明への応用が容易である。
【０２９５】
この紫外線を照射するための光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、もしくはショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等を挙げることができる。なかでもメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。照射強度は、光学異方性層を形成している重合性液晶材料の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜に調整すればよい。
【０２９６】
活性放射線の照射による配向固定化工程は、上述した光学異方性層形成用層を形成する工程における処理温度、すなわち重合性液晶材料が液晶相となる温度条件で行ってもよく、また液晶相となる温度より低い温度で行ってもよい。一旦液晶相となった重合性液晶材料は、その後温度を低下させても、配向状態が急に乱れることはない。
【０２９７】
以上に示したように、本発明においては、中間層５は紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有し、この紫外線硬化型アクリレート化合物は分子量１０００以下であるので、分子量が１０００より大きい場合と比較して、中間層５と支持体４との積層物、ひいては光学補償フィルム２０のカールを防止することができる。また、この紫外線硬化型アクリレート化合物は１分子当たりに重合性基を２〜３個有するので、４個以上有する場合と比較して、自己重合を抑制し、より確実にカールを防止することができる。また、２個未満有する場合と比較して、支持体４からの溶出物を光学異方性層６に浸入させずに中間層５で遮ることができるため、ヘイズの悪化や正面コントラストの低下など、光学補償フィルム２０の機能の低下を防止することができる。
【０２９８】
また、このように中間層５と支持体４との積層物のカールを防止することができるため、光学異方性層６の液晶化合物を当該積層物の中間層５に塗布する工程や、塗布後の液晶化合物を乾燥する工程において、液晶化合物のウェット膜厚にムラができるのを防止することができ、これにより、光学異方性層６にレタデーション斑が生じるのを防止することができる。
【０２９９】
また、上記のように光学補償フィルム２０のカールを防止することができるため、当該光学補償フィルム２０を用いて偏光板３０及び液晶表示装置１を製造する際の手間を軽減し、生産性を向上させることができる。
【０３００】
また、セルロースエステルを主成分として含有する光学的に２軸な支持体４の厚さが７０μｍ以下であるので、７０μｍより大きい場合と比較して、液晶表示装置１を長時間点灯させた場合に、支持体４の表面側に設けられる偏光膜３（ＰＶＡ層）が熱収縮して当該支持体４に応力を加えたとしても、この応力に起因するレタデーション変化を低減することができる。よって、特に液晶表示装置１のコーナーなど、レタデーション変化の大きい箇所（偏光子の熱収縮による応力が大きい箇所）であっても、偏光状態を正常に維持することができるため、光漏れを防止することができる。
【０３０１】
また、上述のように中間層５は紫外線硬化型アクリレート化合物を主成分として含有するので、ポリイミドを主成分として含有する場合と比較して、光学異方性層６における液晶化合物との密着性を向上させることができる。
【０３０２】
また、支持体４はゴニオフォトメーターによって光源ランプ１０１からの出射光を当該支持体４に垂直に照射させて、光源ランプ１０１の光軸上での透過光の強度を１００％とし、この光軸に対して１３０°の測定位置１０６での透過光の散乱光強度の割合を測定した場合に、光源ランプ１０１及び測定位置１０６を含む平面に対し、当該支持体４の遅相軸を平行に向けた場合の散乱光強度の割合と、垂直に向けた場合の散乱光強度の割合との差が０．０５％以下であるので、０．０５％より大きい場合と比較して異方性散乱（フィルムの遅層軸方向と、その直交方向とでの散乱光強度の差）が小さい分、正面コントラストを向上させることができる。
【０３０３】
また、支持体４は厚さ３０μｍ以上であるので、光学異方性層６を確実に支持することができる。従って、厚さが３０μｍ未満の場合と比較して、光学異方性層６による位相差にムラが生じるのをより確実に防止することができる。
【０３０４】
なお、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。
【０３０５】
例えば、上記の実施形態では、本発明に係る光学補償フィルム２０が偏光板３０，液晶表示装置１に用いられることとして説明したが、他の光学部材や光学装置に用いられることとしても良い。同様に、本発明に係る偏光板３０が液晶表示装置１に用いられることとして説明したが、他の光学装置に用いられることとしても良い。
【０３０６】
また、本発明に係る光学補償フィルム２０が液晶セル７に対して視認側に配設されることとして説明したが、図３に示すように、バックライト側に配設されることとしても良い。この場合には、液晶セル７に対して偏光板３０はバックライト側に、偏光板３１は視認側に配設されることとなる。なお、バックライト側に配設される偏光膜（ＰＶＡ膜）の偏光遅相軸と、液晶セル７における液晶層の遅相軸とが直交の場合には、光学補償フィルム２０は液晶セル７よりも視認側に配設され（図１参照）、平行の場合には、バックライト側に配設されることとなる（図３参照）。但し、何れの場合であっても、光学補償フィルム２０における支持体４の遅相軸は、液晶セル７の遅相軸と平行に配設される。
【実施例１】
【０３０７】
以下、実施例および比較例を挙げることにより、本発明に係る光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置をさらに具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されるものではない。
【０３０８】
［支持体の作製］
本発明における支持体の実施例，比較例として、以下の表１に示すように、セルロースエステルフィルム（１０１）〜（２０５）を作製した。
【０３０９】
【表１】
2009265477.tif 000020
【０３１０】
なお、表１中、「（樹脂）種類」の欄における「Ａ１」〜「Ｃ１」とは、下記表２のセルロースエステル樹脂を示す。また、この「（樹脂）種類」の欄において、例えば「Ａ１／Ｂ１（９／１）」とは、「Ａ１」の樹脂が９質量部、「Ｂ１」の樹脂が１質量部の割合で混合された樹脂であることを意味する。また、表中、「（アクリル系重合体）質量部」，「（糖エステル化合物）質量部」，「（その他の添加剤）質量部」の欄の各数値は、「樹脂」欄の樹脂の質量部を１００とした場合の数値を示す。また、表中、「（アクリル系重合体）種類」の欄における「Ａ２」，「Ｂ２」とは、下記表３のアクリル系重合体を示す。また、「（糖エステル化合物）種類」の欄における「３」，「４」，「５」，「１２」，「１８」，「２３」とは、［３．３Ａ（２−１−２）］で上述したエステル化合物の具体例における対応番号の化合物を示す。また、「（その他の添加剤）種類」の欄における「Ａ３」，「Ｂ３」とは、可塑剤としてのトリフェニルホスフェート，エチルフタリルエチルグリコレートを示す。
【０３１１】
更に、この表１や、後述の表４〜表７においては、薄い網掛けで示した部分は、本発明の範囲には含まれるものの、最適な範囲からは外れていることを示している。また、濃い網掛けで示した部分は、本発明の範囲から外れていること、または実用化不可能な性能であることを示している。
【０３１２】
【表２】
2009265477.tif 000021
【０３１３】
なお、表２中、アシル基の置換度はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の測定方法に準じて測定することができる。
【０３１４】
【表３】
2009265477.tif 000022
【０３１５】
以下、各セルロースエステルフィルム（１０１）〜（２０５）の作製方法について、具体的に説明する。
【０３１６】
＜セルロースエステルフィルム（１０１）の作製＞
本発明における支持体の実施例として、セルロースエステルフィルム（１０１）を以下のように作製した。
〈微粒子分散液（１）の調整〉
微粒子（アエロジル  Ｒ９７２Ｖ  日本アエロジル（株）製）        １１質量部
エタノール                                                      ８９質量部
以上の成分をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、分散機（マントンゴーリン製）で分散を行い、微粒子分散液（１）を調整した。
【０３１７】
〈微粒子添加液（１）の調整〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに対し、十分攪拌しながら微粒子分散液（１）をゆっくりと添加した。このとき、各成分の割合は以下の通りとした。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液（１）を調製した。
メチレンクロライド                                              ９９質量部
微粒子分散液（１）                                                ５質量部
【０３１８】
〈ドープ液の調整〉
上記の微粒子添加液（１）を用いて、下記組成の主ドープ液を調製した。
具体的には、まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。次に、溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルＡ１を攪拌しながら投入した。これを加熱攪拌しながら、完全に溶解させ、安積濾紙（株）製の安積濾紙「Ｎｏ．２４４」で濾過して、主ドープ液を調製した。
【０３１９】
なお、この主ドープ液における各成分の割合は以下の通りとした。
メチレンクロライド                                              ３４０質量部
エタノール                                                        ６４質量部
セルロースエステル（Ａ１）                                      １００質量部
アクリル系重合体（Ａ２）                                        ３．０質量部
糖エステル化合物（３）                                            １０質量部
微粒子添加液（１）                                                  １質量部
続いて、得られた主ドープ液を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。
【０３２０】
〈ドープ液のフィルム化〉
続いて、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は５０℃に制御した。
【０３２１】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力７０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。
【０３２２】
剥離したセルロースエステルフィルムを、１７０℃に加熱しながらテンターで幅方向に４５％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は２０％であった。
【０３２３】
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１２０℃で、搬送張力は９０Ｎ／ｍとした。
【０３２４】
以上のようにして、乾燥膜厚５０μｍのセルロースエステルフィルム（１０１）を得た。
【０３２５】
＜セルロースエステルフィルム（１０２）〜（２０５）の作製＞
上記と同様に、本発明における支持体の実施例として、セルロースエステルフィルム（１０２）〜（１１９）を作製した。
また、本発明における支持体の比較例として、セルロースエステルフィルム（２０１）〜（２０５）を作製した。
なお、添加するドープ構成物や、延伸倍率、膜厚、延伸温度などの作製条件は上記の表１に示す通りとした。
【０３２６】
［支持体の評価］
＜レタデーション値Ｒｏ、Ｒｔの測定＞
得られたセルロースエステルフィルム（１０１）〜（２０５）について、レタデーション値Ｒｏ，Ｒｔを測定したところ、上記の表１に示す通りとなった。
なお、測定にあたっては、得られたフィルムから試料３５ｍｍ×３５ｍｍを切り出して試料とし、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））を用いた。より具体的には、切り出した試料を２５℃，５５％ＲＨで２時間調湿し、使用波長を５９０ｎｍとした場合に垂直方向から測定したレタデーション値と、フィルム面を傾けながら同様に測定したレタデーション値との外挿値よりレタデーション値Ｒｏ，Ｒｔを算出した。
【０３２７】
＜ヘイズ＞
また、セルロースエステルフィルム（１０１）〜（２０５）について、ヘイズを測定したところ、上記の表１に示す通りとなった。
なお、ヘイズメーター（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を使用して、ＪＩＳ  Ｋ−６７１４に準じて測定した。
【０３２８】
＜散乱光強度＞
また、セルロースエステルフィルム（１０１）〜（２０５）について、散乱光強度を測定したところ、上記の表１に示す通りとなった。
なお、ゴニオフォトメーター（型式：ＧＰ−１−３Ｄ、オプテック（株）製（光源：１２Ｖ５０Ｗハロゲン球、受光部：光電子増倍管（フォトマル  浜松フォトニクス  Ｒ６３６−１０）））を用いて測定した。
【０３２９】
測定時の光量は、θ＝１８０°での光量にて補正し（フォトマル受光感度：−１８５Ｖ）、この光量での測定値を散乱光強度とした。
【０３３０】
測定にあたっては、光源及び測定位置を含む平面に対し、フィルムの遅相軸を平行、垂直に向けてそれぞれ測定した。
【０３３１】
［光学補償フィルムの作製］
本発明に係る光学補償フィルムの実施例，比較例として、以下の表４に示すように、光学補償フィルム（１）〜（７３）を作製した。
ここで、表中、「透明支持体」の欄における「１０１」〜「２０５」とは、上述のように作製したセルロースエステルフィルム（１０１）〜（２０５）を示す。以下、中間層及び光学異方性層について詳細に説明する。
【０３３２】
【表４】
2009265477.tif 000023
【０３３３】
＜中間層の塗設＞
表４中、「中間層」の欄における「Ｏ−１」〜「Ｏ−２７」とは、下記表５の条件で成膜された中間層を示す。
【０３３４】
【表５】
2009265477.tif 000024
【０３３５】
更に、表５中、「官能基数」の欄の数値は、１分子あたりの重合性基の平均個数である。また、「溶媒組成」の欄の「ＩＰＡ」とはイソプロピルアルコール、「ＰＧＭＥ」とはプロピレングリコールモノメチルエーテル、「ＥｔＯＨ」とはエタノールを示す。また、この欄において、例えば「ＩＰＡ／ＰＧＭＥ（８／２）」とは「ＩＰＡ」が８質量部「ＰＧＭＥ」が２質量部の割合で混合された組成であることを意味する。
【０３３６】
以下、各中間層（Ｏ−１）〜（Ｏ−２７）の塗設方法について、具体的に説明する。
【０３３７】
〈中間層（Ｏ−１）の塗設〉
（中間層（Ｏ−１）用組成物の調製）
ＡＨ−６００（共栄社化学製）                                  ２５質量部
光重合開始剤（１‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニルケトン）（イルガキュア１８４、チバスペシャルティケミカルズ製）                          １．２５質量部
溶剤（ＩＰＡ）                                                ７５質量部
以上の成分を混合して、中間層（Ｏ−１）用組成物を調製した。
【０３３８】
（中間層（Ｏ−１）の塗設）
中間層（Ｏ−１）の塗設（作製）にあたっては、上記のセルロースエステルフィルム（１０１）上に、表５の中間層（Ｏ−１）用組成物をスリットダイで塗布して温風温度８０℃で３０秒乾燥した。続いて、酸素濃度１．５％雰囲気下で高圧水銀灯により０．１Ｊ／ｃｍ２の照射強度で紫外線を照射し、乾燥膜厚０．５μｍの中間層を設けた。
【０３３９】
〈中間層（Ｏ−２）〜（Ｏ−２７）の塗設〉
上記と同様に、本発明における中間層の実施例として、中間層（Ｏ−２）〜（Ｏ−２３）を塗設した。
また、本発明における中間層の比較例として、中間層（Ｏ−２４）〜（Ｏ−２７）を塗設した。
なお、塗設対象とする支持体の種類は上記の表４に示す通りとし、塗設条件は上記の表５に示す通りとした。
【０３４０】
＜光学異方性層の調製及び塗設＞
上記の表４中、「光学異方性層」の欄における「Ｆ−１」とは、以下のようにして得られる重合性液晶組成物（Ｆ−１）からなる光学異方性層であることを意味する。
【０３４１】
光学異方性層の作製にあたっては、まず、下記式（ａ）の化合物４５質量％、下記式（ｂ）の化合物４５質量％、下記式（ｄ）の化合物１０質量％からなる重合性液晶組成物を調製した。この重合性液晶組成物のネマチック−等方性液体相転移温度は７３℃であった。上記重合性液晶組成物９９．７％に光重合開始剤ルシリンＴＰＯ（バスフ社製）０．２％、ヒンダードアミンＬＳ−７６５（三共ライフテック株式会社製）を０．１％添加し重合性液晶組成物（Ｆ−１）を調製した。次に重合性液晶組成物（Ｆ−１）を３３％含有するキシレン溶液を調製した。このキシレン溶液をダイコータにより中間層上に５μｍの厚みで塗布した。塗布したフィルムに酸素濃度０．２％、温度３８℃にて２５０ｍＪ／ｍｍの紫外線を８０秒照射して、重合性液晶組成物（Ｆ−１）を硬化させ、光学異方性層を得た。
【０３４２】
【化１８】
2009265477.tif 000025
【０３４３】
【化１９】
2009265477.tif 000026
【０３４４】
【化２０】
2009265477.tif 000027
【０３４５】
［光学補償フィルムの評価］
＜光学異方性層の配向状態＞
各光学補償フィルム（１）〜（７３）をクロスニコル偏光子の間に挟んで当該光学補償フィルム（１）〜（７３）における光学異方性層の配向状態を偏光顕微鏡で評価したところ、クロスニコル偏光子に対して平行に挟んだ場合には黒色に見え、クロスニコル偏光子に対して傾けて挟んだ場合には白色に観察された。これにより、光学異方性層は垂直配向していることが確認できた。
【０３４６】
＜光学補償フィルムのカール＞
各光学補償フィルム（１）〜（７３）を５ｍｍ×５ｍｍの大きさに切り出して試料とし、温度２３度、湿度５５％ＲＨの恒温恒湿室に２４時間放置した。次に、各資料を平板上に置き、曲率スケールを用いて試料の曲率半径を求めた。ここで、曲率半径とは、１／（試料と合致するカーブを有する円の半径）（１／ｍ）である。
【０３４７】
求められたカールの大きさを、取り扱い易さの観点から以下のように評価したところ、上記の表４に示す通りとなった。
【０３４８】
◎：０以上、５未満
○：５以上、１０未満
△：１０以上、３０未満
×：３０以上
なお、これらの評価レベルのうち、「◎」，「○」の評価レベルは光学補償フィルムの取り扱い易さが実用可能な程度であることを意味し、「△」，「×」は取り扱いが極めて困難であることを意味する。
【０３４９】
＜光学補償フィルムのレタデーション＞
各光学補償フィルム（１）〜（７３）をそれぞれ中央３箇所、幅手方向の両端３箇所ずつ３５ｍｍ×３５ｍｍの大きさに切り出して試料とし、自動服屈折率計（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いて２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において３次元屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求めた。
【０３５０】
次に、各資料についての面内方向のレタデーション値Ｒｏと、厚み方向のレタデーション値Ｒｔとを下記式に従って算出した。
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
【０３５１】
次に、各光学補償フィルム（１）〜（７３）について、（両端３箇所ずつ計６箇所のレタデーションの平均値）―（中央３箇所のレタデーションの平均値）を算出し、算出結果の絶対値を以下のように評価したところ、上記の表４に示す通りとなった。
◎：０ｎｍ以上、２ｎｍ未満
○：２ｎｍ以上、４ｎｍ未満
△：４ｎｍ以上、８ｎｍ未満
×：８ｎｍ以上
なお、これらの評価レベルのうち、「◎」，「○」の評価レベルは光学補償フィルムのレタデーション斑が実用的に許容される程度であることを意味し、「△」，「×」は実用化困難な程度であることを意味する。
【０３５２】
＜まとめ＞
以上のカール及びレタデーションの評価のうち、光学補償フィルム（２４）の結果から、中間層の分子量が１０００よりも大きいと、カールが発生することが分かる。
また、光学補償フィルム（２５）の結果から、重合性の官能基数が４個より多いと、自己重合が進んでしまいカールが発生し、その結果、レタデーションのムラも生じることが分かる。
また、光学補償フィルム（２６）の結果から、中間層の分子量が１０００よりも大きく官能基数が４個より多いと、カールが発生し、その結果、レタデーションのムラも生じることが分かる。
【０３５３】
これにより、実施例としての光学補償フィルム（１）〜（２３），（２８）〜（４５），（５１）〜（６８）は、比較例としての光学補償フィルム（２４）〜（２７）と比較して、カールの発生と、レタデーション差とにおいて優れていることが分る。
【０３５４】
［偏光板の作製］
本発明に係る偏光板の実施例，比較例として、以下の表６に示すように、偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）を作製した。
具体的には、まず、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作した。次に、市販のセルロースアセテートフィルム（コニカミノルタタックＫＣ４ＵＹ、コニカミノルタオプト（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に貼り付けた。そして、表６に示すように、光学補償フィルム（１）〜（７３）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて当該フィルムにおける支持体の側を前記偏光膜の他方の面に貼り付けて、偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）を作製した。
ここで、表中、「光学補償フィルム」の欄における「１」〜「７３」とは、上述のように作製した光学補償フィルム（１）〜（７３）を流延幅手ほぼ中央部から流延方向３００ｍｍ、幅方向２００ｍｍのサイズで切り出したフィルムを示す。
【０３５５】
【表６】
2009265477.tif 000028
【０３５６】
［偏光板の評価］
＜偏光板のカール特性評価＞
各偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）を２３℃、８０％ＲＨの環境で平らな台上に１００時間静置し、偏光板の四隅の浮き上がり高さを複数回（４回〜５回）測定し、平均値を算出した。算出結果を以下のように評価したところ、上記の表６に示す通りとなった。
【０３５７】
○：０ｍｍ以上〜５ｍｍ未満
△：５ｍｍ以上〜１０ｍｍ未満
×：１０ｍｍ以上
なお、これらの評価レベルのうち、「○」の評価レベルは、偏光板を液晶表示装置に貼合する場合にカールがないために優れた特性が発揮されることを意味する。また、「△」の評価レベルは、偏光板を液晶表示装置に貼合する場合に、少しカールを有するために、貼合ミスを含むことがあるが表示画像上は問題ないことを意味する。また「×」の評価レベルは、偏光板のカールが著しく、当該偏光板を液晶表示装置に用いることができないことを意味する。
【０３５８】
以上の結果から、実施例としての偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−２３），（Ｑ−２８）〜（Ｑ−４５），（Ｑ−５１）〜（Ｑ−６８）は、比較例としての偏光板（Ｑ−２４）〜（Ｑ−２７）と比較して、カールが少なく優れていることが分かる。
【０３５９】
＜偏光板の偏光度評価＞
各偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）を２枚用意し、透過軸を互いに平行に重ね合わせた場合の透過率（Ｔ１）と、互いに直交に重ね合わせた場合の透過率（Ｔ２）とを測定し、下記式から偏光度を求めたところ、上記の表６に示す通りとなった。なお、測定条件は、温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨ環境下とし、測定には分光光度計（（株）日立製作所、Ｕ３３１０）を用いた。
偏光度（％）＝√（Ｔ１−Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）×１００
なお、偏光度の値は、９９．９８以上であれば実用上、好ましい。
【０３６０】
＜まとめ＞
以上の結果より、実施例としての偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−２３），（Ｑ−２８）〜（Ｑ−４５），（Ｑ−５１）〜（Ｑ−６８）は、比較例としての偏光板（Ｑ−２４）〜（Ｑ−２６），（Ｑ−４７）〜（Ｑ−５０），（Ｑ−７０）〜（Ｑ−７３）と比較して、偏光度が優れていることが分る。
【０３６１】
［液晶表示装置の作製］
本発明に係る液晶表示装置の実施例，比較例として、以下の表７に示すように、液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−７３）を作製した。ここで、表中、「偏光板」の欄における「Ｑ−１」〜「Ｑ−７３」とは、上述のように作製した偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）を示す。また、表には示していないが、バックライト側の偏光板としては、以下のように作製した偏光板を用いた。
【０３６２】
＜バックライト側の偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作した。次に、市販のセルロースアセテートフィルム（コニカミノルタタックＫＣ４ＵＥ、コニカミノルタオプト（株）製、Ｒｏ＝０．１ｎｍ、Ｒｔ＝０．５ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に貼り付けた。また、他方の面には、同様にしてセルロースアセテートフィルム（コニカミノルタタックＫＣ４ＵＹ、コニカミノルタオプト（株）製）を貼り付け、バックライト側の偏光板を作製した。
【０３６３】
【表７】
2009265477.tif 000029
【０３６４】
＜液晶表示装置の作製＞
液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−７３）の作製にあたっては、ＩＰＳモード型液晶表示装置であるＰａｎａｓｏｎｉｃ製液晶テレビ「ＶＩＥＲＡ  ＴＨ−２６ＬＸ６０」に予め貼合されていた視認側の偏光板を剥がして、偏光板の吸収軸が一致するように上記の偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）を液晶セルのガラス面に貼合した。同様に、バックライト側の偏光板も剥がして、上記のバックライト側用の偏光板を、ＫＣ４ＵＥのセルロースアセテートフィルムが液晶セル側になるように貼り付けて、ＩＰＳモード型液晶表示装置を作製した。その際、偏光板（Ｑ−１）〜（Ｑ−７３）の光学補償フィルムが液晶セル側になるように貼合した。
【０３６５】
［液晶表示装置の評価］
＜液晶表示装置の正面コントラスト評価＞
温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境で、各液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−７３）のバックライトを１週間連続点灯した後、正面コントラストの測定を行ったところ、上記の表７に示す通りとなった。なお、測定にはコニカミノルタセンシング社製の装置「ＣＳ−２０００」を用い、波長５５０ｎｍの光を照射して、液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−７３）の白表示状態，黒表示状態での輝度を当該液晶表示装置の法線方向から測定し、以下の式で求められる値を正面コントラストとした。
【０３６６】
正面コントラスト＝（白表示状態での輝度）−（黒表示状態での輝度）
なお、正面コントラストの値は、約５００以上であれば実用上、好ましい。
【０３６７】
以上の結果から、実施例としての液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−２３），（Ｐ−２８）〜（Ｐ−４５），（Ｐ−５１）〜（Ｐ−６８）は、比較例としての液晶表示装置（Ｐ−２４）〜（Ｐ−２７），（Ｐ−４７）〜（Ｐ−５０），（Ｐ−７０）〜（Ｐ−７３）と比較して、正面コントラストの向上に優れた液晶表示装置であることが明らかである。
【０３６８】
＜液晶表示装置のコーナー斑（光漏れ）評価＞
液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−７３）を温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨの高温槽で１００時間放置した後、温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下でバックライトを５時間連続点灯し、全面黒表示状態でのコーナー斑を暗室にて目視で観察した。観察結果を以下のように評価したところ、上記の表７に示す通りとなった。
【０３６９】
○：コーナー斑が観察されない、または僅かに観察される。
×：コーナー斑がはっきりと観察される。
なお、これらの評価レベルのうち、「○」の評価レベルは実用上問題が無く、「×」の評価レベルは実用上問題があることを意味する。
【０３７０】
以上の結果から、実施例としての液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−２３），（Ｐ−２８）〜（Ｐ−４５），（Ｐ−５１）〜（Ｐ−６８）は、比較例としての液晶表示装置（Ｐ−４６），（Ｐ−５０），（Ｐ−６９），（Ｐ−７３）と比較して、コーナー斑の防止に優れた液晶表示装置であることが明らかである。
【０３７１】
＜まとめ＞
以上の結果より、実施例としての液晶表示装置（Ｐ−１）〜（Ｐ−２３），（Ｐ−２８）〜（Ｐ−４５），（Ｐ−５１）〜（Ｐ−６８）は、比較例としての液晶表示装置（Ｐ−２４）〜（Ｐ−２７），（Ｐ−４６）〜（Ｐ−５０），（Ｐ−６９）〜（Ｐ−７３）と比較して、正面コントラストの向上と、コーナー斑（光漏れ）の防止との少なくとも一方において優れていることが分る。
【０３７２】
［総合評価］
以上より、実施例としての光学補償フィルム（１）〜（２３），（２８）〜（４５），（５１）〜（６８）では、比較例としての光学補償フィルム（２４）〜（２７），（４６）〜（５０），（６９）〜（７３）と比較して、カールの発生と、レタデーション斑発生と、液晶光学装置の光漏れの発生とがそれぞれ防止されることが分かった。また、カールの発生が防止されるため、液晶表示装置の生産性が向上することが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０３７３】
【図１】本発明に係る液晶表示装置、偏光板及び光学補償フィルムを示す概略図である。
【図２】ゴニオフォトメータによる散乱光の強度測定方法を説明するための図である。
【図３】本発明に係る液晶表示装置の変形例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０３７４】
１  液晶表示装置
４  支持体
５  中間層
６  光学異方性層
２０  光学補償フィルム
３０  偏光板
【図１】
2009265477.tif 000030
【図２】
2009265477.tif 000031
【図３】
2009265477.tif 000032