(57)【要約】【課題】装置構成の簡単な単一の洗浄処理チャンバーを用いて、単位時間当り可能な限り多くの枚数の被洗浄物の洗浄処理を可能とする。【解決手段】洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段とを備え、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄装置であって、洗浄前の被洗浄物を洗浄処理チャンバー内に搬送搬入する搬送搬入手段および洗浄処理終了後の被洗浄物を洗浄処理チャンバーから取り出す搬出搬送手段を設け、洗浄処理チャンバー内の複数の位置に同時に複数枚の被洗浄物を収納セットして順次洗浄処理することができるようにした。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段とを備え、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄装置であって、洗浄前の被洗浄物を洗浄処理チャンバー内に搬送搬入する搬送搬入手段および洗浄処理終了後の被洗浄物を洗浄処理チャンバーから取り出す搬出搬送手段を設け、洗浄処理チャンバー内の複数の位置に同時に複数枚の被洗浄物を収納セットして順次洗浄処理することができるようにしたことを特徴とする超臨界流体洗浄処理装置。
【請求項２】
搬送搬入手段と搬出搬送手段がそれぞれ独立の装置として構成されていることを特徴とする請求項１記載の超臨界流体洗浄処理装置。
【請求項３】
洗浄処理チャンバー内には、被洗浄物を載置するターンテーブルが設けられており、複数の被洗浄物各々のセット位置を順次搬送搬入手段又は搬出搬送手段のアプローチ位置に対応させるべく回転移動するようになっていることを特徴とする請求項２又は３記載の超臨界流体洗浄処理装置。
【請求項４】
洗浄処理チャンバー内の複数の位置に収納セットされる被洗浄物は、それぞれ所定の治具ケース内に洗浄可能な状態で複数枚積層保持され、同状態のまま洗浄処理されるようになっていることを特徴とする請求項１，２又は３記載の超臨界流体洗浄処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、超臨界流体を使用した超臨界流体洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近のＩＣチップ製造工程等の半導体製造分野では、回路パターンの極微細化が進み、極微量の金属、有機物等の不純物による汚染の影響が問題視されている。そして、その解決手段として、超臨界流体を用いた洗浄技術が実用化されようとしている。
【０００３】
例えば洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段を備え、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄処理を行うようにし、洗浄処理チャンバー内に例えば複数枚の半導体ウェーハ等の被洗浄物を平置きに１枚毎に搬送装置で収納配置して洗浄処理し、同処理終了後は同様に１枚毎に搬送装置により取出して被洗浄物収納部に収納するようにしたものがそれである（特許文献１、特許文献２等を参照）。
【０００４】
このような超臨界流体洗浄装置によれば、従来からのＲＣＡ洗浄、各種の高周波や超音波による洗浄、その他の洗浄方法、またスピンドライヤーやレーザー照射、加熱他による乾燥方法のような微細構造を破壊させる問題を解決することができる。
【０００５】
しかし、このように１枚毎の洗浄処理しか行えないのでは、処理効率が悪く、多くの枚数の被洗浄物を洗浄処理するのには相当に長い時間が必要となる。
【０００６】
従来、このような場合の洗浄処理枚数を増やすための方法としては、例えば同一の洗浄処理チャンバー内に複数枚の半導体ウエハーを入れる第１の方式と、洗浄処理チャンバーを複数台設ける第２の方式との２つの方法があるが、例えば被洗浄物が300mm、450mmという大口径ウェーハの場合、ワーク保持カセットに同ウェーハをそのまま多段に重ねて一括処理を行う従来からのバッチ式と呼ばれる洗浄処理方式では、ウェーハ自体の表面、裏面が交互に近接している。
【０００７】
したがって、上述のように回路パターンの微細化が進み、ウェーハ裏面のパーティクルの付着までもが嫌われる状況となった現在、このバッチ式の方法ではウェーハの表面、裏面が交互に近接することにより、パーティクル付着、その他の不具合要因が発生しやすいことと、ワーク保持カセット自身からのパーティクル発生、ケミカル汚染等から、採用は難しいのが実情である。
【０００８】
したがって、必然的にウェハー径を考慮した薄型の大口径洗浄チャンバー内に複数枚のウェハーを1枚ずつ平置きにするか、１枚のウェハーのみを収納する複数の洗浄処理チャンバー（マルチチャンバー）を１システムに内蔵するという２通りの方式の何れかにならざるを得ない。
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−１７３９９７号公報
【特許文献２】特開２００６−１３５１０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところが、後者のようなマルチチャンバー方式の場合、各チャンバーへの超臨界流体配管に開閉用バルブ類を多数要し、当該バルブ類の制御機構が複雑となる。また、バルブのみならず、コーナー継ぎ手等の配管継ぎ手類も同様に多数を要し、且つ配管長にも差が出ることから、配管流路を流体が流れる際の抵抗値にチャンバー毎の差が生じる。
【００１１】
そして、これに起因する圧力変動、昇圧・減圧時間、流体流量、処理時間等に差（ばらつき）が出やすくなり、均一な処理条件とするためには各種センサー類の増設が必要となり、さらに制御が煩雑となる。
【００１２】
さらにマルチチャンバーでは、ウェーハを平面的に配置し、各チャンバー間はロボットによるウェーハの搬送を行うため、設置面積が大きくなり、搬送距離も長く、装置自体も、それに応じて大型となる問題がある。
【００１３】
本願発明は、このような事情に基いてなされたもので、洗浄前の被洗浄物を洗浄処理チャンバー内に搬送搬入する搬送搬入手段および洗浄処理終了後の被洗浄物を洗浄処理チャンバーから取り出す搬出搬送手段を設け、洗浄処理チャンバー内に複数枚の被洗浄物を収納セットして順次洗浄処理することができるようにすることによって、上記従来の問題を解決した超臨界流体洗浄処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本願発明は、上記の目的を達成するために、次のような課題解決手段を備えて構成されている。
【００１５】
（１）  請求項１の発明
この発明の超臨界流体洗浄処理装置は、洗浄処理チャンバーと、該洗浄処理チャンバー内に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、上記洗浄処理チャンバー内の不要物を排出する流体排出手段とを備え、上記洗浄処理チャンバー内を超臨界状態に維持することによって、当該洗浄処理チャンバー内の被洗浄物の洗浄処理を行うようにしてなる超臨界流体洗浄装置であって、洗浄前の被洗浄物を洗浄処理チャンバー内に搬送搬入する搬送搬入手段および洗浄処理終了後の被洗浄物を洗浄処理チャンバーから取り出す搬出搬送手段を設け、洗浄処理チャンバー内の複数の位置に同時に複数枚の被洗浄物を収納セットして順次洗浄処理することができるようにしたことを特徴としている。
【００１６】
このような構成によると、同時に多くの被洗浄物の洗浄処理が可能となり、洗浄効率が大きく向上する。
【００１７】
しかも、上述したマルチ式のような問題を生じない。
【００１８】
（２）  請求項２の発明
この発明の超臨界流体洗浄処理装置は、上記請求項１の発明の構成において、搬送搬入手段と搬出搬送手段がそれぞれ独立の装置として構成されていることを特徴としている。
【００１９】
このような構成によると、洗浄処理終了後、被洗浄物搬出搬送手段が、洗浄処理チャンバー内の洗浄が完了した１つの被洗浄物を取り出すのに対応して、被洗浄物搬送搬入手段が洗浄前の被洗浄物を搬入して収納セットすることができるようになり、被洗浄物の搬入、搬出効率が高くなり、ひいては装置自体の洗浄処理効率が向上する。
【００２０】
（３）  請求項３の発明
この発明の超臨界流体洗浄処理装置は、上記請求項１又は２の発明の構成において、洗浄処理チャンバー内には、被洗浄物を載置するターンテーブルが設けられており、複数の被洗浄物各々のセット位置を順次搬送搬入手段又は搬出搬送手段のアプローチ位置に対応させるべく回転移動するようになっていることを特徴としている。
【００２１】
このような構成によると、被洗浄物搬送搬入手段による被洗浄物の搬入およびターンテーブルのセット位置へのセットおよび被洗浄物搬出搬送手段による被洗浄物の搬出搬送が、それぞれ容易かつ正確になる。
【００２２】
（４）  請求項４の発明
この発明の超臨界流体洗浄処理装置は、上記請求項１，２又は３の発明の構成において、洗浄処理チャンバー内の複数の位置に収納セットされる被洗浄物は、それぞれ所定の治具ケース内に洗浄可能な状態で複数枚積層保持され、同状態のまま洗浄処理されるようになっていることを特徴としている。
【００２３】
このような構成によると、１回の洗浄処理工程で、より多くの枚数の被洗浄物を洗浄処理することができるようになる。
【発明の効果】
【００２４】
以上の結果、本願発明によれば、一度に相当数の被洗浄物の洗浄が可能な、従来の装置に比べて洗浄効率が高い超臨界流体洗浄処理装置を提供することができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
（最良の実施の形態１）
先ず図１〜図４は、例えば洗浄流体として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明の最良の実施の形態１に係る超臨界流体洗浄処理装置の全体的なシステムおよび要部の構成を示している。
【００２６】
（装置の特徴）
この最良の実施の形態１の超臨界流体洗浄処理装置は、所定の洗浄処理チャンバー内で、洗浄流体である二酸化炭素（ＣＯ2）が全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体→気体の相変化を伴ってシリコンウェーハ等所定の被洗浄物（マイクロマシン等）の洗浄および乾燥を行うことができるようになっている。そして、洗浄処理チャンバーの開閉から、加減圧、洗浄処理チャンバー内への置換用溶媒の充填までを、人手を介さず、自動運転が可能とし、超臨界二酸化炭素流体による洗浄処理システムの量産工程へ導入を可能とすることで、従来の乾燥方法ではスティッキングを起こすために不可能であった構造やパターン設計の自由度をも向上させ得るようにしたことを特徴としている。
【００２７】
（全体的なシステム構成）
先ず同装置の全体的なシステム構成を示す図１中、符号１０は本願発明の中心となる洗浄処理チャンバーであり、該洗浄処理チャンバー１０は、例えば図２および図３に示すように上部が開口した有底筒状の耐圧性のある容器本体１０ａと、下部側が上記容器本体１０ａの開口部に対応して開口し、上記容器本体１０ａの上部をカバーするとともに加熱保温用の図示しない電気ヒータを備えた同形状の蓋体１０ｂとからなり、これら容器本体１０ａと蓋体１０ｂとを図３のように嵌合一体化することにより洗浄処理チャンバー１０を形成するようになっている。そして、該洗浄処理チャンバー１０を形成する容器本体１０ａおよび蓋体１０ｂの外周部には、同一体化されて洗浄処理チャンバー１０を形成した時に当該洗浄処理チャンバー１０内の洗浄処理空間Ａ内をシールするシール部が設けられており、該シール部を介して両者が上述のように一体に嵌合固定されるようになっている。
【００２８】
すなわち、容器本体１０ａの周壁部中央には、容器本体１０ａの開口面よりも所定の高さ高い所定の幅の凸条部２１ａが全周に亘って設けられており、その外周面側には、例えば高強度の合成樹脂材よりなる所定の幅の位置合わせリング（ガイドリング）Ｇが、また同凸条部２１ａの内周面側には、例えば反発弾性の大きな合成ゴムよりなる断面Ｃ字形の内圧式Ｏリング（シールリング）Ｓが、それぞれ嵌合されている。
【００２９】
位置合わせリングＧの外周面側上端部（肩部）は、上面側から側面側にかけて好ましくは所定の曲率のアール面に形成され、蓋体１０ｂ側嵌合用の溝部２１ｂの周壁部（外周壁部）２１ｄの内周面部が、同アール面によりガイドされてスムーズに嵌合されるようになっている。また、ＯリングＳの上部は、蓋体１０ｂとの非嵌合状態では、図示のように上記蓋体１０ｂ側溝部２１ｂとの衝合面となる凸条部２１ａの上端面よりも所定の高さ高く突出しているが、嵌合時には、図３のように同蓋体１０ｂ側溝部２１ｂの内周面側段部２１ｃ内にシール性良く係合されるようになっている。
【００３０】
この実施の形態の場合、上記容器本体１０ａの開口内には円筒体型のターンテーブル１０ｃが底面ａと側面ｃとの間に例えばボールベアリングＢ，Ｂ・・・、Ｂ，Ｂ・・・等の回転支持部材を介して水平方向に自由に回転できるように支持されているとともに、その上面上（ワークセット面上）には周方向に１２０°毎の間隔で正三角形の各頂点位置に配置された各々３本のワーク支持機能を有した位置規制ピンＰ，Ｐ，Ｐ、Ｐ，Ｐ，Ｐ、Ｐ，Ｐ，Ｐが立設されている。
【００３１】
そして、洗浄時、各ワークＷ，Ｗ，Ｗは、これらターンテーブル１０ｃ上の各々３組の位置規制ピンＰ，Ｐ，Ｐ、Ｐ，Ｐ，Ｐ、Ｐ，Ｐ，Ｐにより規制された第１〜第３のセット位置に各々１枚づつ搬入されて、ターンテーブル１０ｃの上面との間に所定の隙間を保った表裏両面が洗浄可能な状態にセットされて行く。
【００３２】
上記ターンテーブル１０ｃは、図４に示すように、上記蓋体１０ｂが開放された状態では、その外周面に対して、図示のように外部側方からターンテーブル回転駆動手段１９の回転駆動ローラ１９ｄが当接して摩擦力で１２０°間隔で回転駆動されるようになっており、上記３本のセット位置規制ピンＰ，Ｐ，Ｐで位置規制された第１，第２，第３の各ワークセット位置が順次後述する搬送ロボット１１の第１のマニュピレータのアプローチ位置（手前側）に対応するように位置せしめられて、一度に洗浄される３枚の各ワークＷ，Ｗ，Ｗが収納セットされるようになっている。
【００３３】
そして、該洗浄処理チャンバー１０内のターンテーブル１０ｃの上面に、搬送ロボット１１を介して収納カセット１２内から取り出し、搬送した、例えばナノレベルの太さのセンサーワイヤーを設置したシリコンウェーハ等の被洗浄物（マイクロマシン等）よりなるワークＷ，Ｗ，Ｗが納入されると、図２から図３のように蓋体１０ｂが閉められ、その後、蓋開閉機構１３により挟着固定されて高精度にシールされるようになっている（詳細については、後述する）。
【００３４】
一方、符号１は洗浄流体としての液化された二酸化炭素（ＣＯ2）を所望の量保存している二酸化炭素ボンベ、２は同二酸化炭素ボンベ１からの二酸化炭素（ＣＯ2）の供給状態を開閉する流体開閉バルブ、３は同流体開閉バルブ２の開状態において供給される二酸化炭素（ＣＯ2）流体を所定の圧力に加圧する加圧ポンプ、４は同加圧ポンプ３によって加圧された二酸化炭素（ＣＯ2）流体の温度を液相状態から気相状態となるに十分な所定の温度に加熱調節する電気ヒータを備えた流体温度調節手段であり、上記流体開閉バルブ２、加圧ポンプ３、流体温度調節手段４は、それぞれ上記二酸化炭素ボンベ１から、上記洗浄処理チャンバー１０内洗浄処理空間への洗浄流体供給配管Ｌ1上に設けられている。そして、上記二酸化炭素ボンベ１、流体開閉バルブ２、加圧ポンプ３、流体温度調節手段４、洗浄流体供給配管Ｌ1により、洗浄流体供給手段が形成されている。
【００３５】
また、符号５はチッ素Ｎ2等の不活性ガスを所望の量保存している不活性ガスタンク、６は同不活性ガスの供給状態を開閉制御する不活性ガス開閉バルブであり、不活性ガス開閉バルブ６は、上記不活性ガスタンク５から上記洗浄流体供給配管Ｌ1の流体温度調節手段４の入口側に到る不活性ガス供給配管Ｌ2上に設けられている。
【００３６】
そして、それら不活性ガスタンク５、不活性ガス開閉バルブ６、不活性ガス供給配管Ｌ2により、不活性ガス供給手段が形成されている。
【００３７】
また、符号７は、上記二酸化炭素（ＣＯ2）流体との親和性が高く、その液体密度が同二酸化炭素（ＣＯ2）流体の調節可能な密度範囲に対応した、例えばアルコール等の液体溶媒を所望の量保存している溶媒タンク、８は同液体溶媒の供給状態を開閉する溶媒開閉バルブであり、溶媒開閉バルブ８は、上記溶媒タンク７から上記洗浄流体供給配管Ｌ1の流体温度調節手段４の出口までの溶媒供給配管Ｌ3上に設けられている。そして、それら溶媒タンク７、溶媒開閉バルブ８、溶媒供給配管Ｌ3により、溶媒供給手段が形成されている。該溶媒供給手段により供給された溶媒は、上述した洗浄流体供給配管Ｌ1上の流体温度調節手段４の出口側で二酸化炭素（ＣＯ2）流体中に混入され、開閉バルブ９を介して上記洗浄処理チャンバー１０内の洗浄処理空間の底部に所定量貯留され、上記被洗浄物を浸漬した状態に保持する。
【００３８】
さらに、符号Ｌ4は上記洗浄処理チャンバー１０内の洗浄処理空間での洗浄により取り出された溶媒その他の廃液等を排出するドレン配管、１７は上記洗浄処理チャンバー１０内洗浄処理空間の圧力を検出する圧力センサ、１８は同排出流体の流量を可変することによって上記洗浄処理空間内の圧力を調整する圧力調節バルブ、１９は安全弁であり、圧力調節バルブ１８は上記ドレン配管Ｌ4上に、また圧力センサ１７、安全弁１９は、上記ドレン配管Ｌ4と並列なバイパス配管Ｌ5上に、それぞれ設けられている。そして、これらドレン配管Ｌ4、バイパス配管Ｌ5、圧力調節バルブ１８、圧力センサ１７、安全弁１９により、流体排出手段が形成されている。
【００３９】
圧力センサ１７の圧力検出値は、制御器２０に入力され、制御器２０は、その入力値に基いて上記圧力調節バルブ１８の開度を調節することにより、上記洗浄処理チャンバー１０内の圧力を所望の圧力に調節する。
【００４０】
（洗浄処理方法）
以上の構成において、被洗浄物は、例えば次のようにして洗浄処理される。
【００４１】
（１）  先ず不活性ガス開閉バルブ６および溶媒開閉バルブ８を開いて、不活性ガスタンク５内の不活性ガスおよび溶媒タンク７内の溶媒を上記洗浄処理チャンバー１０の洗浄処理空間Ａ内底部に所定量貯留する。同不活性ガスおよび溶媒が所定量入ると、上記不活性ガス開閉バルブ６および溶媒開閉バルブ８を閉じる。
【００４２】
（２）  次に、被洗浄物を、洗浄処理チャンバー１０内の底部に入れて上記貯留された溶媒中に浸漬させて、蓋体１０ｂを閉じる。
【００４３】
（３）  次に、流体温度調節手段４およびチャンバー温度調整手段を調整操作して、洗浄処理チャンバー１０内に供給される二酸化炭素流体（ＣＯ2流体）の温度および洗浄処理チャンバー１０の洗浄処理空間Ａ内の温度を超臨界状態を形成するのに適した所定の温度となるように調整設定する。
【００４４】
また、それと同時に、上記圧力調節バルブ１８の開度を電気的に調節制御する制御器２０内に上記圧力センサ１７の圧力検出値を入力し、その検出値が超臨界状態を形成するのに適した所望の圧力値になるように、上記圧力調節バルブ１８の開度を適切に調節制御する。
【００４５】
（４）  次に、その上で上記二酸化炭素ボンベ１側の洗浄流体開閉バルブ２を開き、洗浄流体である二酸化炭素流体を洗浄流体供給配管Ｌ1を介して洗浄処理チャンバー１０の洗浄処理空間Ａ内に供給する。
【００４６】
この場合、該洗浄流体供給配管Ｌ1の下流領域の、上記加圧ポンプ３と洗浄処理チャンバー１０の洗浄流体導入口との間には、上述のように流体温度調節手段４が設けられているために、予じめ洗浄処理チャンバー１０に入る前の段階で、上記液相状態の二酸化炭素流体が気体ないし超臨界状態になるに適した温度に加熱、加圧され、気体ないし超臨界状態になり、その上で洗浄処理チャンバー１０の洗浄処理空間内に導入される。
【００４７】
（５）  その結果、上記洗浄流体である二酸化炭素流体が全く液相状態を経ることなく、気体→超臨界流体→気体の相変化を伴って被洗浄物の洗浄を行う。
【００４８】
すなわち、該構成の場合、上記洗浄処理チャンバー１０の洗浄処理空間Ａ内に供給される洗浄流体である二酸化炭素流体は、上記圧力調節バルブ１８および流体温度調整手段４により、最初から気体又は超臨界状態にして導入されるので、速に洗浄処理チャンバー１０の洗浄処理空間Ａ内を超臨界状態にすることができ、かつ同気体ないし超臨界状態の高圧の洗浄流体によって洗浄初期に確実に空気が排出される。
【００４９】
そして、その結果、液相状態の洗浄流体の作用による被洗浄物損傷の問題も解消される。従って、前述したようなマイクロマシンでも安心して洗浄・乾燥処理することができる。
【００５０】
（６）  以上のようにして洗浄された後の、被洗浄物からの汚れ等不要物や溶媒を含む二酸化炭素流体は、上記圧力調節バルブ１８および安全弁１９の下流側で、図示しないＣＯ2分離回収機能を備えた廃液回収装置に供給され、二酸化炭素流体と溶媒および不要物が相互に分離され、個別に回収される。
【００５１】
なお、上記容器本体１０ａの底壁部には、図１〜図３に示されるように、上記洗浄流体（ＣＯ2）の流入口３１と流出口３２が設けられている。
【００５２】
（蓋体開閉機構およびチャンバー支持部の構成）
上述のように容器本体１０ａに対して、蓋体１０ｂを対応させて嵌合させ、また容器本体１０ａから蓋体１０ｂを取り外して容器本体１０ａ内の洗浄処理空間Ａを開放する蓋体開閉機構は、例えば図４に示すように、その全行程が搬送ロボット１１のワーク搬入・搬出動作と同期して自動化された開閉機構として構成されている。
【００５３】
すなわち、該蓋体開閉機構１３は、図４に示すように、床面にあって油圧シリンダ１３ｃおよび上下伸縮ロッド１３ｂを介して所定の高さ上方に起立し、水平方向の蓋体支持アーム１３ａを介して蓋体１０ｂを支持している昇降手段と、床面上にあって、その上面に容器本体１０ａを上方側に向けて支持固定している容器本体支持台１４とから構成されている。
【００５４】
したがって、該構成では、上記昇降手段の油圧シリンダ１３ｃを作動させることにより、作動ロッド１３ｂおよび蓋体支持アーム１３ａを所定のストローク距離で上下に昇降させることができる。そして、それにより蓋体１０ｂを上記容器本体１０ａの上方に取り外し、また逆に下降させて容器本体１０ａに嵌合することができる。
【００５５】
これらの昇降動作は、もちろん所定の自動化制御ユニットを使用して、次に述べる搬送ロボット１１によるワークＷの搬入、搬出動作と適切に組み合わせてなされ、一旦所定枚数のワークＷ，Ｗ・・・、の洗浄・乾燥処理が終了すると、上記蓋開閉機構１３による蓋体１０ｂの挟圧固定状態を解除した後、蓋体１０ｂを上昇させ、同ワークＷ，Ｗ・・・を取り出して新たなワークＷ，Ｗ・・・を収納する。
【００５６】
（搬送ロボットの構成）
この搬送ロボット１１は、上記洗浄処理チャンバー１０とワーク供給用ホッパー１２ａとワーク収納用カセット１２ｂを載置した設置台１２ｃとの間に位置し、それらの間の空間を作動領域として設置されており、例えばシリンダ１１ａおよびシリンダロッド１１ｂ上に昇降可能に支持された第１，第２の２組のワーク搬送用マニュピレータ（ワーク搬送搬入手段、ワーク搬出搬送手段に該当する）を備えた所謂スカラーロボットにより構成されている。
【００５７】
ワーク搬送搬入用第１のマニュピレータは、上記シリンダロッド１１ｂの上端面に水平回動駆動可能に軸支された第１アーム１１ｃと、該第１アーム１１ｃの先端に対して基端側を回動駆動可能に軸支された第２アーム１１ｄと、該第２アーム１１ｄの先端に対して先端側が上方になるように鉤状に折り曲げて軸着した第３アーム１１ｅと、該第３アーム１１ｅの先端に対して基端側を回動駆動可能に軸着した先端側がＹ型のワーク保持部１１ｇに形成された第４アーム１１ｆとからなり、上述のワークホッパー１２ａ部分に積層状態に置かれている多数枚のワークＷ，Ｗ・・・を１枚毎に取り出して、ワーク洗浄処理チャンバー１０の容器本体１０ａ内のターンテーブル１０ｃ上の各々３つの位置規制ピンＰ，Ｐ，Ｐにより規制された第１〜第３の３ケ所（３組）のセット位置に各々１枚づつ搬入されて、ターンテーブル１０ｃの上面との間に所定の隙間を置いた状態でセットされて行く。
【００５８】
この場合、上述のようにターンテーブル１０ｃは、容器本体１０ａ内で所望のボールベアリングＢ，Ｂ・・・、Ｂ，Ｂ・・・により水平回転可能に支持されている一方、蓋体１０ｂが開放された状態では、その外周面に対して、図示のように外部側方からターンテーブル回転駆動手段１９の回転駆動ローラ１９ｄが当接して摩擦力で１２０°間隔で回転駆動されるようになっており、上記３本のセット位置規制ピンＰ，Ｐ，Ｐで位置規制された周方向に１２０°間隔の第１，第２，第３の各ワークセット位置が順次第１のマニュピレータのアプローチ位置（手前側）に対応するように位置せしめられて、３枚のワークＷ，Ｗ，Ｗが収納セットされ、また搬出される。
【００５９】
上記ターンテーブル回転駆動手段１９の回転駆動ローラ１９ｄは、水平方向に延びる外部ケーシング１９ｅそのものが押圧レバーとして矢印方向に回動せしめられ、上記回転駆動ローラ１９ｄをターンテーブル１０ｃの外周面に圧接されるようになっているとともに内部にチェーン又はベルト等の回転伝達機構を有し、モータ１９ａおよびモータ出力軸１９ｂを介して回転駆動力が伝達されるようになっている。
【００６０】
以上のように、容器本体１０ａ内のターンテーブル１０ｃ上の第１〜第３の各ワーク収納セット位置に各々１枚のワークＷ、Ｗ、Ｗの収納セットが完了すると、搬送ロボット１１の上記第１のマニュピレータをシリンダロッド１１ｂ側に収縮させる一方、上記蓋体開閉機構１３を作動させて蓋体１０ｂを下降させ、上述の図３のように容器本体１０ａ上に嵌合して容器本体１０ａ内に密閉された洗浄処理空間Ａを形成して、上述のような洗浄処理を行う。
【００６１】
ところで、上記ターンテーブル回転駆動手段１９の回転駆動ローラ１９ｄは、上記のようにして洗浄処理チャンバー１０の蓋体１０ｂが閉じられる洗浄処理中には、その外ケース１９部分を外方に回動させてエスケープさせて置くようになっている。
【００６２】
そして、所定の処理時間が経過して各ワークＷ、Ｗ、Ｗの洗浄・乾燥処理が終了すると、再び蓋体１０ｂが上方に開かれて容器本体１０ａのターンテーブル１０ｃ上部が開放される。
【００６３】
すると、それに対応して今度は上記搬送ロボット１１のワーク搬出搬送用の第２のマニュピレータが作動して、ターンテーブル１０ｃ上の第１〜第３の各ワーク収納セット位置上ワークＷ、Ｗ、Ｗの取り出しとワーク収納ケース１２ｂ内への収納作業が始まる。
【００６４】
この第２のマニュピレータは、上記シリンダロッド１１ｂの上端面に水平回動駆動可能に軸支された第１アーム１１ｈと、該第１アーム１１ｈの先端に対して基端側を回動駆動可能に軸支された第２アーム１１ｉと、該第２アーム１１ｉの先端に対して先端側が上方になるように鉤状に折り曲げて軸着した第３アーム１１ｊと、該第３アーム１１ｊの先端に対して基端側を回動駆動可能に軸着した先端側がＹ型のワーク保持部１１ｇに形成された第４アーム１１ｋとからなり、上述の容器本体１０ａ内のターンテーブル１０ｃ上の第１〜第３ののワーク収納セット位置に置かれている各１枚（合計３枚）のワークＷ、Ｗ、Ｗを１枚づつ取り出して、ワーク収納ケース１２ｂ内の収納位置に複数枚積層して行く。
【００６５】
以後、以上の動作が繰り返されて、所要枚数のワークＷ、Ｗ、Ｗの洗浄・乾燥、収納作業が行われる。
【００６６】
このような構成によると、容器本体１０ａ内のワークＷ，Ｗ・・・は、あくまでもターンテーブル１０ｃ上に平置きされるので、従来の同一チャンバーに複数枚を入れる方式やバッチ方式による場合のようにワークの表裏面が近接することなく、適切なスペースを保ってセットすることができる。
【００６７】
したがって、ワークの表面、裏面が交互に近接することによるパーティクルの付着、その他の不具合要因が発生しにくく、カセット自身からのパーティクル発生、ケミカルの汚染等も生じにくい。
【００６８】
また薄型大口径チャンバー内にワークを１枚ずつ平置きとする場合のような洗浄処理効率の悪さも解決できるし、１枚のみを収納する複数チャンバー（マルチチャンバー）を１システム化した場合のような装置構成の複雑化や高コスト化、処理品質の差も生じないし、装置全体のコンパクト化、ワーク搬送距離の短縮にもつながる。
【００６９】
なお、上述のターンテーブル１０ｃの高さは、図２に示すように蓋体１０ｂを開放したワークセット状態又はワーク搬出状態では、上記搬送ロボット１１の第１，第２のマニュプレータによるワークの搬出、搬送が容易な容器本体１０ａの開口面より少し高い突出高さにあり、また容器本体１０ａと蓋体１０ｂが嵌合した洗浄処理状態では、セットされたワークＷ，Ｗ，Ｗと蓋体１０ｂの開口内上面ｂとの間に適度な隙間が形成されるような高さに設定されている。
【００７０】
（最良の実施の形態２）
図５および図６は、同じく洗浄流体として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明の最良の実施の形態２に係る超臨界流体洗浄装置の構成を示している。
【００７１】
この実施の形態では、上記実施の形態１の搬送ロボット１１の第１，第２のマニュピレータを、図５のように伸縮作動可能にロングアーム構造の１ハンド型のものとして低コスト化するとともに、それに合わせて洗浄処理チャンバー１０の方も図６のようなターンテーブルが不要なシンプルな構造のものとしたことを特徴とするものであり、その他の部分の構成は上述の実施の形態１のものと基本的に同様であり、同様の作用を奏する。
【００７２】
すなわち、該構成の場合、洗浄処理チャンバー１０は蓋体１０ｂ側のみに洗浄処理室Ａ形成用の開口があり、容器本体１０ａ側中央部には上述のターンテーブル１０ｃの上面と同様のワークセット面ａ′が高台状に形成されている。そして、該高台状のワークセット面ａ′の外周側段部面には上述のＯリング（シールリング）Ｓが嵌合固定されており、同ＯリングＳを介して上記蓋体１０ｂ側の周壁部２１ｆが嵌合されて所定の高さのシール状態の洗浄処理室Ａを形成するようになっている。
【００７３】
一方、搬送ロボット１１のシリンダロッド１１ｂの上端面側には、所定の長さのスライド溝１１ｍを有するアーム支持部材１１lが水平回動自在に軸支されており、そのスライド溝１１ｍに対して所定の長さのスライドアーム（伸縮アーム）１１ｎがシリンダ又はラックアンドピニオン方式で伸縮作動可能に嵌合されていてる。
【００７４】
そして、同スライドアーム１１ｎの先端部１１ｏの左右には矢印方向に挟着作動可能な左右一対のチャック片１１ｐ，１１ｐが設けられている。
【００７５】
したがって、このような構成の場合、上記蓋体１０ｂが開放された図示の状態において、上記スライドアーム１１ｎを縮み方向に伸縮作動させた状態で、先端部１１ｏをワークホッパー１２ａ内にアプローチさせて上段側のワークＷをチャッキングして取り出し、次に１８０°回転させた後に容器本体１０ａ側に必要な長さ伸長作動させて、上述したターンテーブル面と同様のワークセット面ａ′上の第１〜第３のワーク収納セット位置に収納セットして行く。これを３回繰り返して、上記ワークセット面ａ′上に少なくとも３枚のワークＷ，Ｗ，Ｗをセットし、蓋体１０ｂを閉めて実施の形態１の場合と同様の洗浄処理を行う。
【００７６】
その後、再び蓋体１０ｂを開放して、今度は上記スライドアーム１１ｎを上記と逆の動作で作動させてワークセット面ａ′上の各ワークＷ，Ｗ，Ｗを順次取り出し、ワーク収納ケース１２ｂ内に積層して行く。
【００７７】
このような構成の場合、スライドアーム１１ｎの伸長量が大きく、その昇降、回転移動と合わせて先端側チャック片１１ｐ，１１ｐが容器本体１０ａのワークセット面ａ′上のワーク収納セット位置に自由に届くため、上述した最良の実施の形態１の場合のようなターンテーブル１０ｃおよびその回転駆動手段１９等はなくてもよくなる。したがって、構成が簡単かつコストが安価になる。
【００７８】
（最良の実施の形態３）
図７および図８は、同じく洗浄流体として二酸化炭素（ＣＯ2）を採用し、アルコール等所定の液体溶媒と併用して洗浄を行うようにした本願発明の最良の実施の形態３に係る超臨界流体洗浄装置の構成を示している。
【００７９】
この実施の形態は、上記最良の実施の形態１，２の場合に比べて、一層多くのワークＷ，Ｗ・・・、Ｗ，Ｗ・・・、Ｗ，Ｗ・・・の洗浄処理を行えるように、図３のタイプの洗浄処理チャンバー１０の容器本体１０ａ側開口部を深く形成するとともに蓋体１０ｂ側の開口をなくし、かつ複数枚のワークＷ，Ｗ・・・を所望の有効な洗浄間隔を保って積層保持し得る複数組（４組）のプロセスカセット１６，１６・・・内に各々収納し、これら複数組のプロセスカセット１６，１６・・・を同容器本体１０ａの深い開口内に所定の間隔を置いて設けた第１〜第４のワーク収納セット位置に収納セットして洗浄処理を行い、洗浄処理が終了した後にも、そのままプロセスカセット１６，１６・・・に収納したまま取り出して、一旦中継点であるプロセスカセット載置台１７上に載置する。
【００８０】
そして、同状態でプロセスカセット１６，１６・・・内から各ワークＷ，Ｗ・・・を１枚毎に取り出してワーク収納ケース１２ｂに収納積層して行く。
【００８１】
これらのワークホッパー１２ａからのワークＷ，Ｗ・・・の取り出し、それに続くプロセスカセット１６，１６・・・内へのワークＷ，Ｗ・・・の移し替え、プロセスカセット１６，１６・・・からのワークＷ，Ｗ・・・の取り出し、それに続くワーク収納ケース１２ｂ内への収納の各々は、それらの何れにあっても上述の第１，第２のマニュピレータを備えた搬送ロボット１１によってなされるようになっている。
【００８２】
このような構成によれば、ワークＷ，Ｗ・・・のプロセスカセット１６，１６・・・内への収納取り出し工程が付加されることになるが、これは専用のマニュピレータを使用して洗浄処理中の余剰時間を使って行うようにすれば作業効率、タクト時間に影響を与えることはない。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本願発明の最良の実施の形態１に係る超臨界流体洗浄処理装置の全体的なシステム構成を示す図である。
【図２】同洗浄処理装置のチャンバー部分の容器本体および蓋体の非嵌合時における構成を示す断面図である。
【図３】同洗浄処理装置のチャンバー部分の容器本体および蓋体の嵌合時における構成を示す断面図である。
【図４】同洗浄処理装置の搬送機構部分の構成を示す斜視図である。
【図５】本願発明の最良の実施の形態２に係る超臨界流体洗浄処理装置の構成を示す図である。
【図６】同洗浄処理装置のチャンバー部分の容器本体および蓋体の非嵌合時における構成を示す断面図である。
【図７】本願発明の最良の実施の形態３に係る超臨界流体洗浄処理装置の構成を示す図である。
【図８】同洗浄処理装置のチャンバー部分の容器本体および蓋体の非嵌合時における構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８４】
１は二酸化炭素ボンベ、２は流体開閉バルブ、３は加圧ポンプ、５は不活性ガスタンク、７は溶媒タンク、１０は洗浄処理チャンバー、１０ａは容器本体、１０ｂは蓋体、１１は搬送ロボット、１３は蓋体開閉機構である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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