(57)【要約】【課題】遮光部材を選択的に用いて露光用光を遮光して、最小非露光幅の領域を遮光できるとともに、マスクのパターン領域全域を効率的に遮光することができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供する。【解決手段】各遮光部１４が、搬送方向における幅ｗ１が該方向における最小非露光幅ｗＮＲ以下の第１遮光部材６０，６０と、搬送方向における幅ｗ２が第１遮光部材６０のものより大きい第２遮光部材６１と、搬送方向における幅ｗ３が第２の遮光部材６１の幅ｗ３より大きい第３遮光部材６２の４枚の遮光部材を有する。そして、基板ＷがマスクＭの下方で搬送される状態において、複数の遮光部材６０，６０，６１，６２によってマスクＭのパターンＰの領域全体を遮光し、第１遮光部材６０を基板Ｗの搬送と同期して移動させ、最小非露光幅ｗＮＲの非露光領域ＮＲを形成しながら基板Ｗを露光する。【選択図】図３
2009265244.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、前記所定の方向における幅が該方向における最小非露光幅以下の第１遮光部材と、前記所定の方向における幅が前記第１遮光部材より大きい第２遮光部材と、を少なくとも備えた複数の遮光部材を有し、
該各遮光部材の幅は、前記複数の遮光部材を前記所定の方向に重ね代を持って並べて配置したときに、前記パターンの領域全体を遮光するように設定されていることを特徴とするスキャン露光装置。
【請求項２】
前記複数の遮光部材は、少なくとも２枚の前記第１遮光部材を備えることを特徴とする請求項１に記載のスキャン露光装置。
【請求項３】
前記複数の遮光部材の幅は、前記最小非露光幅以上前記パターンの領域全体の幅以下の範囲内において任意の幅で遮光可能にそれぞれ設計されていることを特徴とする請求項１または２に記載のスキャン露光装置。
【請求項４】
所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記複数の照射部と前記複数のマスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、前記各遮光部は、前記所定の方向における幅が該方向における最小非露光幅以下の第１遮光部材と、前記所定の方向における幅が前記第１遮光部材より大きい第２遮光部材と、を少なくとも備えた複数の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送される状態において、前記複数の遮光部材によって前記マスクのパターンの領域全体を遮光する工程と、
前記第１遮光部材を前記基板の搬送と同期して移動させ、前記最小非露光幅の非露光領域を形成しながら前記基板を露光する工程と、
を備えることを特徴とするスキャン露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スキャン露光装置およびスキャン露光方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ基板やアレイ基板等に所望のパターンを露光転写するのに好適なスキャン露光装置およびスキャン露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。
【０００３】
また、特許文献１に記載の露光装置では、複数の遮光部材を用いて、基板の移動速度に合わせて遮光部材を移動させる際に、遮光部材の加速を他の遮光部材と重なった状態で行うようにして、遮光部材の移動に伴う露光への影響を抑えることが提案されている。
【特許文献１】特開２００８−４００６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記スキャン露光装置を用いて一枚の基板から複数のパネルを形成する場合において、基板の先端部分がマスクのパターン領域の下方に入り始めた際には、該先端部分が露光されないように、パターン領域全域が遮光されることが好ましい。しかしながら、特許文献１に記載の露光装置では、基板の非露光領域を覆うように複数の遮光部材を用いることが記載されているのみであり、マスクのパターン領域全域を遮光する点については考慮されていない。また、各遮光部材は、基板の搬送方向においてそれぞれ同じ幅で形成されており、パターン領域を全閉するには、当該幅の遮光部材をパターン領域の幅に対応する数だけ増やす必要があり、部品点数が増加するという問題がある。
【０００５】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、遮光部材を選択的に用いて露光用光を遮光して、最小非露光幅の領域を遮光できるとともに、マスクのパターン領域全域を効率的に遮光することができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、前記所定の方向における幅が該方向における最小非露光幅以下の第１遮光部材と、前記所定の方向における幅が前記第１遮光部材より大きい第２遮光部材と、を少なくとも備えた複数の遮光部材を有し、
該各遮光部材の幅は、前記複数の遮光部材を前記所定の方向に重ね代を持って並べて配置したときに、前記パターンの領域全体を遮光するように設定されていることを特徴とするスキャン露光装置。
（２）  前記複数の遮光部材は、少なくとも２枚の前記第１遮光部材を備えることを特徴とする（１）に記載のスキャン露光装置。
（３）  前記複数の遮光部材の幅は、前記最小非露光幅以上前記パターンの領域全体の幅以下の範囲内において任意の幅で遮光可能にそれぞれ設計されていることを特徴とする（１）または（２）に記載のスキャン露光装置。
（４）  所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記複数の照射部と前記複数のマスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、前記各遮光部は、前記所定の方向における幅が該方向における最小非露光幅以下の第１遮光部材と、前記所定の方向における幅が前記第１遮光部材より大きい第２遮光部材と、を少なくとも備えた複数の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送される状態において、前記複数の遮光部材によって前記マスクのパターンの領域全体を遮光する工程と、
前記第１遮光部材を前記基板の搬送と同期して移動させ、前記最小非露光幅の非露光領域を形成しながら前記基板を露光する工程と、
を備えることを特徴とするスキャン露光方法。
【０００７】
ここで、本発明の「パターンの領域全体」とは、遮光部によって遮光されていないマスクに露光用光が照射される領域全体であり、例えば、本実施形態では、マスク保持部の開口領域を表す。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のスキャン露光装置及びスキャン露光方法によれば、各遮光部が、所定の方向における幅が該方向における最小非露光幅以下の第１遮光部材と、所定の方向における幅が第１遮光部材より大きい第２遮光部材と、を少なくとも備えた複数の遮光部材を有する。そして、基板がマスクの下方で搬送される状態において、複数の遮光部材によってマスクのパターンの領域全体を遮光し、第１遮光部材を基板の搬送と同期して移動させ、最小非露光幅の非露光領域を形成しながら基板を露光する。従って、簡易な構成で遮光部を構成して、遮光部材を選択的に用いて露光用光を遮光し、最小の非露光幅の領域を遮光できるとともに、マスクのパターン領域全域を効率的に遮光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明に係るスキャン露光装置及びスキャン露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明では、下地パターン層であるブラックマトリクス層が形成された露光領域と、下地パターン層が形成されていない非露光領域を有した、複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層のいずれかを形成する近接スキャン露光装置及び露光方法について説明する。
【００１０】
先ず、本実施形態の近接スキャン露光装置１の構成について概略説明する。図１及び図２に示すように、本実施形態のスキャン露光装置１は、基板（カラーフィルタ基板）Ｗを浮上させて支持すると共に、所定方向（図１のＸ方向）に搬送する基板搬送機構１０と、複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向（図１のＹ方向）に沿って千鳥状に二列配置された複数（図１に示す実施形態において、左右それぞれ６個）のマスク保持部１１と、マスク保持部１１を駆動するマスク駆動部１２と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部１３と、各照射部１３と各マスク保持部１１との間にそれぞれ配置され、照射部１３から出射された露光用光を遮光する複数の遮光部１４と、スキャン露光装置１の各作動部分の動きを制御する制御部１５と、を主に備える。
【００１１】
基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と、基板ＷのＹ方向一側（図１において上辺）を保持してＸ方向に搬送する基板駆動ユニット１７とを備える。浮上ユニット１６は、複数のフレーム１９上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１を備え、ポンプ（図示せず）やソレノイドバルブ（図示せず）を介して排気エアパッド２０や吸排気エアパッド２１からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット１７は、図１に示すように、浮上ユニット１６によって浮上、支持された基板Ｗの一端を保持する吸着パッド２２を備え、モータ２３、ボールねじ２４、及びナット（図示せず）からなるボールねじ機構２５によって、ガイドレール２６に沿って基板ＷをＸ方向に搬送する。なお、図２に示すように、複数のフレーム１９は、地面にレベルブロック１８を介して設置された装置ベース２７上に他のレベルブロック２８を介して配置されている。また、基板Ｗは、ボールねじ機構２５の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
【００１２】
マスク駆動部１２は、フレーム（図示せず）に取り付けられ、マスク保持部１１をＸ方向に沿って駆動するＸ方向駆動部３１と、Ｘ方向駆動部３１の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＹ方向に沿って駆動するＹ方向駆動部３２と、Ｙ方向駆動部３２の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をθ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の法線回り）に回転駆動するθ方向駆動部３３と、θ方向駆動部３３の先端に取り付けられ、マスク保持部１１をＺ方向（Ｘ，Ｙ方向からなる水平面の鉛直方向）に駆動するＺ方向駆動部３４と、を有する。これにより、Ｚ方向駆動部３４の先端に取り付けられたマスク保持部１１は、マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動可能である。なお、Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，３４の配置の順序は、適宜変更可能である。
【００１３】
また、図１に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部１１ａ，１１ｂ間には、各マスク保持部１１ａ，１１ｂのマスクＭを同時に交換可能なマスクチェンジャ２が配設されている。マスクチェンジャ２により搬送される使用済み或いは未使用のマスクＭは、マスクストッカ３，４との間でローダー５により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ３，４とマスクチェンジャ２とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構（図示せず）によってマスクＭのプリアライメントが行われる。
【００１４】
図２に示すように、マスク保持部１１の上部に配置される照射部１３は、ＹＡＧレーザーや、エキシマレーザー等の光源４１と、この光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。
【００１５】
図３に示すように、各遮光部１４は、搬送方向における幅ｗ１が図５（ａ）に示す該方向における基板Ｗの非露光領域ＮＲの最小非露光幅ｗＮＲ以下の２枚の第１遮光部材６０と、搬送方向における幅ｗ２が第１遮光部材６０の幅ｗ１より大きい第２遮光部材６１と、搬送方向における幅ｗ３が第２の遮光部材６１の幅ｗ２より大きい第３遮光部材６２の４枚の遮光部材を有する。各遮光部材６０，６０，６１，６２は、搬送方向に直交する方向に延在する直線帯板状であって、その端部はリニアモータ７０，７０，７１，７２に連結されている。リニアモータ７０，７０，７１，７２は、不図示のドライバにより、ガイドレール７５，７５，７６，７７に沿ってＸ軸方向に移動自在となっている。
【００１６】
これら遮光部材６０，６０，６１，６２の各幅ｗ１，ｗ１，ｗ２，ｗ３は、これら遮光部材６０，６０，６１，６２を搬送方向に重ね代を持って並べて配置したときに、幅ｗｍのパターンＰの領域全体を遮光できるように、また、非露光領域ＮＲの最小非露光幅ｗＮＲ以上、パターンＰの領域全体の幅ｗｍ以下の範囲内において任意の幅で遮光できるように、それぞれ設計されている。
【００１７】
具体的に、遮光部材６０，６０，６１，６２の各幅ｗ１，ｗ１，ｗ２，ｗ３は、以下のように設定される。例えば、基板Ｗの最小非露光幅ｗＮＲが１０ｍｍ、マスクのパターンＰの搬送方向の幅ｗｍ、即ち、マスク保持部１１の開口部１１ｃの搬送方向の幅が６０ｍｍ、各遮光部材６０，６０，６１，６２間の必要重ね代ｓを１．０ｍｍとする。そして、この場合、第１遮光部材６０，６０の幅ｗ１を最小非露光幅ｗＮＲに合わせて１０ｍｍとすると、これら２つの第１遮光部材６０，６０は、１０ｍｍ〜１９ｍｍの範囲でマスクＭのパターンＰを遮光可能である。
【００１８】
そして、第２及び第３遮光部材６１，６２がパターンＰの残りの領域を遮光する幅は、４１ｍｍとなる。仮に、第２及び第３遮光部材ｗ２，ｗ３を互いの必要重ね代ｓを考慮して同じ２０．５ｍｍとすると、１９ｍｍ〜２０．５ｍｍの幅では遮光することができないので、第２の遮光部材を１９ｍｍとする。従って、２つの第１遮光部材６０，６０及び第２遮光部材６１は、１０〜３７ｍｍの範囲でマスクＭのパターンＰを遮光可能である。
【００１９】
これにより、第３遮光部材６２は、パターンＰの残りの領域を遮光するために、必要重ね代ｓを考慮して２４ｍｍに設定することで、これらの遮光部材６０，６０，６１，６２は、１０〜６０ｍｍの範囲でマスクＭのパターンＰを遮光できる。なお、実際には、各遮光部材を広げた際に両側に位置する遮光部材の幅は、マスク保持部１１の開口部１１ｃとの重ね代も考慮して設定される。
【００２０】
図４は、遮光部材がｎ´枚の時の各幅ｗｎの設定方法を説明するフローチャートである。まず、ｎ＝１（ステップｓ１）として、２枚の第１遮光部材６０，６０の幅ｗ１を基板Ｗの非露光領域ＮＲの最小非露光幅ｗＮＲ以下に設定する（ステップｓ２）。次に、パターンの領域全体を遮光するため、ｎ´−（ｎ＋１）枚の残りの遮光部材での残り遮光必要幅ｗｒを計算する(ステップｓ３)。即ち、パターンＰの領域全体の幅をｗｍ、必要重ね代をｓとすると、開口部１１ｃとの必要重ね代ｓを考慮した残り遮光必要幅ｗｒは、以下の式（１）で計算される。
【００２１】
2009265244.tif 000003
【００２２】
次に、ｎ´−（ｎ＋１）枚の残りの遮光部材を一様幅としたときの幅ｗｘを、以下の式（２）で計算する（ステップｓ４）。
【００２３】
2009265244.tif 000004
【００２４】
そして、この幅ｗｘの遮光部材で任意の幅を遮光可能かどうか、式（３）で判断する(ステップｓ５)。
【００２５】
2009265244.tif 000005
【００２６】
式（３）が成立する場合には、残りの遮光部材の幅をｗｘに設定する（ステップｓ６）。一方、式（３）が成立しない場合には、第（ｎ＋１）遮光部材の幅ｗ（ｎ＋１）をｗａに設定し（ステップｓ７）、ｎに１を加算して（ステップｓ８）、ステップｓ３に戻す。
【００２７】
次に、このように構成された近接スキャン露光装置１の動作について説明する。ここで、使用される基板としては、例えば、図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、パネル間の最小非露光幅ｗＮＲ、ｗＮＲ´（＞ｗＮＲ）の領域ＮＲ、ＮＲ´を有する２枚の基板Ｗを用い、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層のいずれかのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する場合について説明する。
【００２８】
近接スキャン露光装置１は、浮上ユニット１６の排気エアパッド２０及び吸排気エアパッド２１の空気流によって基板Ｗを浮上させて保持し、基板Ｗの一端を基板駆動ユニット１７で吸着してＸ方向に一定の速度で搬送する。そして、マスク保持部１１の下方に位置する基板Ｗに対して、照射部１３からの露光用光ＥＬがマスクＭを介して照射され、マスクＭのパターンを基板Ｗに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板ＷとマスクＭとの位置誤差は、図示しない撮像手段が検出する基板Ｗ及びマスクＭの位置データに基づいて制御部１５から出力される指令信号によって、θ方向駆動部３３、及びＹ方向駆動部３２が作動してマスクＭの位置を微調整することで補正（位置合わせ）される。
【００２９】
ここで、図６（ａ）に示すように、基板Ｗの先端部分がマスクＭのパターン領域の下方に入り始めた際には、該先端部分の非露光領域ＮＲＯが露光されないように、複数の遮光部材６０，６０，６１，６２を搬送方向に必要重ね代ｓを持って並べて配置して、パターンＰの領域全域を遮光する。そして、基板Ｗの露光領域がマスクＭの下方に入るに従って、遮光部材６０，６０，６１，６２を基板の搬送に同期させながら徐々に移動させて、マスクＭのパターンＰを露光転写していく。
【００３０】
また、図６（ｂ）に示すように、最小非露光領域ＮＲを有する基板Ｗを露光する際には、この幅ｗＮＲに対応するように形成された第１遮光部材６０を基板の搬送と同期して移動させ、この非露光領域ＮＲを形成しながら基板Ｗを露光する。
【００３１】
さらに、図６（ｃ）に示すように、最小非露光領域ＮＲＯを有する基板Ｗを露光する際には、この幅ｗＮＲＯに対応するように２枚の第１遮光部材６０，６０を重ね合わせて、それぞれ基板の搬送と同期して移動させ、非露光領域ＮＲＯを形成しながら基板Ｗを露光する。従って、本実施形態では、４つの遮光部材６０，６０，６１，６２を用いることで、最小非露光領域ＮＲの幅ｗＮＲ以上、パターンＰの領域全体の幅ｗｍ以下の範囲内において搬送方向に任意の幅で非露光領域を形成しながら露光転写することができる。
【００３２】
以上説明したように、本実施形態のスキャン露光装置１及びスキャン露光方法によれば、各遮光部１４が、搬送方向における幅ｗ１が該方向における最小非露光幅ｗＮＲ以下の第１遮光部材６０，６０と、搬送方向における幅ｗ２が第１遮光部材６０のものより大きい第２遮光部材６１と、搬送方向における幅ｗ３が第２の遮光部材６１の幅ｗ３より大きい第３遮光部材６２の４枚の遮光部材を有する。そして、基板ＷがマスクＭの下方で搬送される状態において、複数の遮光部材６０，６０，６１，６２によってマスクＭのパターンＰの領域全体を遮光し、第１遮光部材６０を基板Ｗの搬送と同期して移動させ、最小非露光幅ｗＮＲの非露光領域ＮＲを形成しながら基板Ｗを露光する。従って、簡易な構成で遮光部１４を構成して、遮光部材６０，６０，６１，６２を選択的に用いて露光用光ＥＬを遮光し、最小の非露光幅ｗＮＲの領域を遮光できるとともに、マスクＭのパターン領域全域を効率的に遮光することができる。
【００３３】
また、遮光部１４は、２枚の第１遮光部材６０，６０を備えるので、第１遮光部材６０の幅ｗ１から２枚の第１遮光部材６０，６０の必要重ね代ｓを考慮した幅２×ｗ１−ｓの範囲で、搬送方向に任意の幅の非露光領域を設計することができる。
【００３４】
さらに、本実施形態では、第１乃至第３遮光部材の幅ｗ１，ｗ２、ｗ３は、第１遮光部材６０の幅ｗ１以上パターンＰの領域全体の幅ｗｍ以下の範囲内において任意の幅で遮光可能にそれぞれ設計されている。これにより、遮光部材６０，６０，６１，６２の数に応じて遮光部材６０，６０，６１，６２の幅を設計し、基板Ｗに応じた所望の非露光領域を形成しながら露光することができる。
【００３５】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
本発明の基板の所定の方向における最小非露光幅とは、スキャン露光装置で露光される各種基板のうち、最小非露光幅が最も小さい基板に対応した最小非露光幅を表し、第１ブラインド部材の幅は、露光される各種基板を考慮して設定される。
【００３６】
例えば、上記実施形態においては、基板搬送機構１０は、浮上ユニット１６と基板駆動ユニット１７によって基板Ｗを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Ｗを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態である近接スキャン露光装置の平面図である。
【図２】図１における近接スキャン露光装置の正面図である。
【図３】本実施形態の遮光部材とマスクのパターンとを示す斜視図である。
【図４】遮光部材の幅を設計するためのフローチャートである。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は、最小非露光幅の異なる基板を示す図である。
【図６】露光時における遮光部材の位置関係を示す図であり、（ａ）は、基板がマスクの下方に入り始めた状態、（ｂ）は、図５（ａ）の遮光部材の最小非露光幅を遮光する状態、（ｃ）は、図５（ｂ）の遮光部材の最小非露光幅を遮光する状態を示す図である。
【符号の説明】
【００３８】
１    近接スキャン露光装置
１０    基板搬送機構
１１    マスク保持部
１３    照射部
１４    遮光部
６０    第１遮光部材
６１    第２遮光部材
６２    第３遮光部材
ＥＬ    露光用光
Ｍ    マスク
Ｗ    ガラス基板
【図１】
2009265244.tif 000006
【図２】
2009265244.tif 000007
【図３】
2009265244.tif 000008
【図４】
2009265244.tif 000009
【図５】
2009265244.tif 000010
【図６】
2009265244.tif 000011