(57)【要約】【課題】熱処理室内で発生した昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定することが可能な、熱処理室における昇華物の測定装置を提供する。【解決手段】熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥの温度が維持された状態で昇華ガスＥを導入可能な昇華ガス導入室３と、昇華ガス導入室３内で昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出するように、昇華ガス導入室３内に昇華ガスＥよりも低温のガスＧを導入するガス導入手段１０と、昇華ガス導入室３の下流側に設けられて、析出した昇華物Ｓの量を測定する昇華物量測定手段１３とを備える。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱処理室内に収容された被熱処理物を熱処理する際に前記被熱処理物から発生する昇華ガスに含まれる昇華物の量を測定する昇華物測定装置であって、
前記熱処理室内で発生した前記昇華ガスの温度が維持された状態で前記昇華ガスを導入可能な昇華ガス導入室と、
前記昇華ガス導入室内で前記昇華ガスから昇華物が析出するように、前記昇華ガス導入室内に前記昇華ガスよりも低温のガスを導入するガス導入手段と、
前記昇華ガス導入室の下流側に設けられて、前記析出した昇華物の量を測定する昇華物量測定手段と、
を備えた昇華物測定装置。
【請求項２】
請求項１において、さらに、前記昇華ガス導入室に連通接続される一方、前記熱処理室内の前記昇華ガスを前記昇華ガス導入室内に導入可能な接続管と、
前記昇華ガスから前記昇華物が前記接続管内で析出しないように前記接続管を保温する接続管保温手段と、
を備えた昇華物測定装置。
【請求項３】
請求項１において、前記昇華ガス導入室が前記熱処理室に直接連通接続されている昇華物測定装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項において、前記ガス導入手段は、前記昇華ガス導入室に連通接続されたガス導入管を有しており、このガス導入管は、前記熱処理室から前記昇華ガス導入室内に導入された前記昇華ガスの流れのほぼ中央に配置されて前記昇華ガス流れの方向に向くガス流出口を有している昇華物測定装置。
【請求項５】
請求項４において、前記昇華ガス導入室は、前記昇華物を前記昇華ガス導入室から前記昇華物量測定手段へ導出する昇華物導出口を有しており、この昇華物導出口は、前記ガス導入管の前記ガス流出口から前記ガスが流れる方向に延長した線上で前記ガス流出口と対向するように位置している昇華物測定装置。
【請求項６】
請求項４において、前記ガス導入管が断熱材で被覆されている昇華物測定装置。
【請求項７】
請求項１において、さらに、前記昇華ガス導入室に連通接続される一方、前記昇華ガスを前記熱処理室から前記昇華ガス導入室内に導入可能な昇華ガス導入管を備え、
前記昇華ガス導入管は、前記ガス導入手段によって前記昇華ガス導入室内に導入された前記ガスの流れのほぼ中央に配置されて前記ガス流れの方向に向く昇華ガス導出口を有している昇華物測定装置。
【請求項８】
請求項７において、前記昇華ガス導入室は、前記昇華物を前記昇華ガス導入室から前記昇華物量測定手段へ導出する昇華物導出口を有しており、この昇華物導出口は、前記昇華ガス導入管の前記昇華ガス導出口から前記昇華ガスが流れる方向に延長した線上で前記昇華ガス導出口と対向するように位置している昇華物測定装置。
【請求項９】
請求項７において、前記昇華ガス導入管が断熱材で被覆されている昇華物測定装置。
【請求項１０】
請求項１において、さらに、前記昇華ガス導入室内に導入される前記昇華ガスを整流する整流部材を備えた昇華物測定装置。
【請求項１１】
請求項１において、さらに、前記昇華ガス導入室の空間を画定する壁を、前記昇華物が前記壁の内面に付着しないように保温する昇華ガス導入室保温手段を備えた昇華物測定装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項において、前記昇華物量測定手段は、前記昇華物の粒子数をカウントするパーティクルカウンタである昇華物測定装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項において、前記昇華物量測定手段は、前記昇華ガス導入室からの前記昇華物が流れる昇華物流路を有しており、前記昇華物が流れる前記昇華物流路に光を照射して、前記昇華物によって減衰した前記光の量を測定し、その減衰量に基づき前記昇華物の濃度を決定する測定手段である昇華物測定装置。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか一項において、前記昇華物量測定手段は、前記昇華ガス導入室からの前記昇華物が流れる昇華物流路を有しており、前記昇華ガス導入室は、前記昇華物流路に対して着脱自在である昇華物測定装置。
【請求項１５】
請求項１３または１４のいずれか一項において、前記昇華物流路に着脱自在な透明管が挿入されている昇華物測定装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項において、前記昇華物量測定手段の下流側に、前記昇華ガスの流量を測定する流量計が設けられている昇華物測定装置。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項において、前記昇華物量測定手段の下流側に、前記昇華物を捕集するフィルタが設けられている昇華物測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被熱処理物を熱処理する熱処理装置において、熱処理の際に被熱処理物から発生する昇華ガスに含まれる昇華物の量を測定する測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
熱処理装置は、熱処理室内に被熱処理物を収容した状態で、前記熱処理室内の空気を循環させながら加熱することにより前記被熱処理物を熱処理するものである。このような熱処理装置は、例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造工程におけるフォトレジストや有機物薄膜のプリベーク、ポストベーク工程に用いられる。
【０００３】
これらの工程では、ガラス基板等からなる被熱処理物が熱処理される際に、フォトレジスト等に含有される揮発性成分が気化して多量の昇華ガスが発生する。この昇華ガスが、前記熱処理室から外部に漏れ、冷却されると、前記揮発性成分からなる昇華物が析出または再結晶化して、ＦＰＤの製造ラインに設置されているセンサ類、前記熱処理部内で循環させる空気を換気する配管などの熱処理装置周辺に付着する。
【０００４】
前記昇華物の付着量が許容量を超えるとＦＰＤの製造に支障が生じる。このため、前記熱処理室内で発生する昇華ガスの量を抑制して、熱処理装置周辺に昇華物が付着することを防止する対策が講じられている。しかしながら、熱処理中に熱処理室内で発生した昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定して、その対策が効果的であるか否かを評価する方法は確立されていない。
【０００５】
一方、例えば特許文献１には、空気中に浮遊する粒子をカウントするパーティクルカウンタが記載されており、このようなパーティクルカウンタを熱処理装置の近傍に配置し、このパーティクルカウンタによって熱処理装置から漏出した昇華ガスの一部を捉え、該昇華ガスに含有される揮発性成分（昇華物）の粒子の数をカウントすることにより昇華物量を測定することが考えられる。
【特許文献１】特開平５−１３６２４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載のパーティクルカウンタを前記熱処理装置の近傍に配置して昇華物量を測定するとしても、前記熱処理室から漏出した空気中に浮遊する昇華物の粒子数を測定できるに過ぎず、熱処理室内で発生する昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定できるわけではない。仮に、熱処理室内にパーティクルカウンタを設置したとしても、熱処理室内は高温であるため、パーティクルカウンタが測定するのに十分な昇華物析出量を安定して得ることはできないと予測される。
【０００７】
このように、熱処理室内で発生した昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定する方法は確立されておらず、そのため、昇華ガス発生の抑制対策が効果的であるか否かを正確に評価することは難しい。
【０００８】
そこで、本発明は、上述の課題に鑑みてなされたもので、熱処理室内で発生した昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定することが可能な、熱処理室における昇華物の測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明にかかる、熱処理室における昇華物の測定装置は、熱処理室内に収容された被熱処理物を熱処理する際に前記被熱処理物から発生する昇華ガスに含まれる昇華物の量を測定する装置であり、前記熱処理室内で発生した前記昇華ガスの温度が維持された状態で前記昇華ガスを導入可能な昇華ガス導入室と、前記昇華ガス導入室内で前記昇華ガスから昇華物が析出するように、前記昇華ガス導入室内に前記昇華ガスよりも低温のガスを導入するガス導入手段と、前記昇華ガス導入室の下流側に設けられて、前記析出した昇華物の量を測定する昇華物量測定手段とを備えている。
【００１０】
本発明の昇華物の測定装置によれば、熱処理室内で発生した昇華ガスは、前記昇華ガスの温度が維持された状態で昇華ガス導入室に導入されるので、前記昇華ガスが大気に曝されることを防止でき、つまり前記昇華ガスが大気によって冷却されて、昇華物測定装置の外部で前記昇華ガスから昇華物が析出することを防止できる。これに加え、前記昇華ガスは、昇華ガス導入室内においてガス導入手段によって前記昇華ガスよりも低温のガスと接触して冷却されるので、昇華物量測定手段によって測定するのに十分な量の昇華物を前記昇華ガス導入室内で前記昇華ガスから安定して析出させることができる。その結果、熱処理室内で発生した昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定すること、ひいては、昇華ガスの抑制対策が効果的であるか否か等を正確に評価することが可能である。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態によれば、昇華物測定装置は、さらに、前記昇華ガス導入室に連通接続される一方、前記熱処理室内の前記昇華ガスを前記昇華ガス導入室内に導入可能な接続管と、前記昇華ガスから前記昇華物が前記接続管内で析出しないように前記接続管を保温する接続管保温手段とを備えている。
【００１２】
この構成によれば、接続管は、接続管保温手段によって該接続管内で前記昇華ガスから昇華物が析出しないように保温されているので、昇華物が接続管内で付着することが防止され、その結果、昇華ガス導入室内の昇華ガスから熱処理室内の昇華物の量を正確に推定することができる。前記接続管保温手段は、例えば断熱材やヒータである。
【００１３】
本発明の他の好ましい実施形態によれば、前記昇華ガス導入室は前記熱処理室に直接連通接続されている。この構成によれば、前記昇華ガス導入室は熱処理装置に直接連通接続されているので、昇華ガスを大気に曝すことなく熱処理装置から前記昇華ガス導入室に直接導入することができる。また、前記熱処理装置と前記昇華ガス導入室とを接続する接続管を必要としないので、昇華物測定装置の構成を簡略化できる。
【００１４】
本発明のさらに好ましい実施形態では、前記ガス導入手段は、前記昇華ガス導入室に連通接続されたガス導入管を有しており、このガス導入管は、前記熱処理室から前記昇華ガス導入室内に導入された前記昇華ガスの流れのほぼ中央に配置されて前記昇華ガス流れの方向に向くガス流出口を有している。
【００１５】
この構成によれば、ガス導入管のガス流出口から流出したガスは、昇華ガス流れの方向に沿って前記昇華ガス流れのほぼ中央を流れるように設定されているので、前記昇華ガスを効率良く冷却して十分な昇華物析出量を安定して得ることができる。このため、昇華物量測定手段により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室内の昇華物量の正確な推定が可能となる。前記ガス導入管は、好ましくは断熱材で被覆されており、昇華ガスが昇華ガス導入室内でガス導入管に接触して冷却され、析出した昇華物がガス導入管に付着することを防止する。
【００１６】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華ガス導入室は、前記昇華物を前記昇華ガス導入室から前記昇華物量測定手段へ導出する昇華物導出口を有しており、この昇華物導出口は、前記ガス導入管の前記ガス流出口から前記ガスが流れる方向に延長した線上で前記ガス流出口と対向するように位置している。
【００１７】
この構成によれば、前記ガス流出口と前記昇華物導出口は対向配置されているので、冷却された昇華ガスから析出した昇華物が、ガスの流れに乗って前記昇華物導出口に向かって流れる。このため、昇華物は、前記昇華ガス導入室内に滞留し難くなるので、前記昇華物導出口を介して昇華物量測定手段に運ばれる。その結果、昇華物量測定手段により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室内の昇華物量の正確な推定が可能となる。
【００１８】
本発明のさらに他の実施形態では、昇華物測定装置は、さらに、前記昇華ガス導入室に連通接続される一方、前記昇華ガスを前記熱処理室から前記昇華ガス導入室内に導入可能な昇華ガス導入管を備えており、この昇華ガス導入管は、前記ガス導入手段によって前記昇華ガス導入室内に導入された前記ガスの流れのほぼ中央に配置されて前記ガス流れの方向に向く昇華ガス導出口を有している。
【００１９】
この構成によれば、昇華ガス導入管の昇華ガス導出口から流出した昇華ガスは、前記ガス流れの方向に沿って前記ガス流れのほぼ中央を流れるように設定されているので、前記昇華ガスを効率良く冷却して十分な昇華物析出量を安定して得ることができる。このため、昇華物量測定手段により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室内の昇華物量の正確な推定が可能となる。また、析出した昇華物は、前記ガス流れに遮られて前記昇華ガス導入室の壁面に付着し難くなる。このように、前記ガス流れは、昇華物が昇華ガス導入室の壁面に付着するのを防止する付着防止手段としても作用する。前記昇華ガス導入管は、好ましくは断熱材で被覆されており、前記昇華ガス導入管内を流れる前記昇華ガスがガスによって冷却され、析出した昇華物が前記昇華ガス導入管内で付着するのを防止する。
【００２０】
本発明のさらに好ましい実施形態では、前記昇華ガス導入室は、前記昇華物を前記昇華ガス導入室から前記昇華物量測定手段へ導出する昇華物導出口を有しており、この昇華物導出口は、前記昇華ガス導入管の前記昇華ガス流出口から前記昇華ガスが流れる方向に延長した線上で前記昇華ガス流出口と対向するように位置している。
【００２１】
この構成によれば、前記昇華ガス流出口と前記昇華物導出口は対向配置されているので、冷却された昇華ガスから析出した昇華物が、前記ガス流れに乗って前記昇華物導出口に向かって流れる。このため、昇華物は、前記昇華ガス導入室内に滞留し難くなるので、前記昇華物導出口を介して昇華物量測定手段に運ばれる。その結果、昇華物量測定手段により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室内の昇華物量の正確な推定が可能となる。
【００２２】
本発明のさらに他の実施形態では、昇華物測定装置は、さらに、前記昇華ガス導入室内に導入される前記昇華ガスを整流する整流部材を備えている。この構成によれば、昇華ガスは前記昇華ガス導入室内で整流となって流れるので、ガスの流れと効率良く接触して冷却される。これにより、前記昇華ガス導入室内での昇華物析出量が安定するため、熱処理室内の昇華物量の推定をさらに正確に行うことができる。
【００２３】
本発明のさらに他の実施形態では、昇華物測定装置は、さらに、前記昇華ガス導入室の空間を画定する壁を、前記昇華物が前記壁の内面に付着しないように保温する昇華ガス導入室保温手段を備えている。この構成によれば、昇華物が昇華ガス導入室の壁の内面に付着するのが防止されるので、前記昇華ガス導入室内において昇華物の析出が安定する。これにより、熱処理室内の昇華物量の推定をさらに正確に行うことができる。
【００２４】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華物量測定手段は、前記昇華物の粒子数をカウントするパーティクルカウンタである。パーティクルカウンタを用いれば、昇華物の粒子数をカウントするのみで、熱処理室内の昇華物量を容易に推定できる。
【００２５】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華物量測定手段は、前記昇華ガス導入室からの前記昇華物が流れる昇華物流路を有しており、前記昇華物が流れる前記昇華物流路に光を照射して、前記昇華物によって減衰した前記光の量を測定し、その減衰量に基づき前記昇華物の濃度を決定する測定手段である。この構成によれば、昇華物の粒子数をカウントしなくても昇華物によって減衰された光の量を測定するのみで、熱処理室内の昇華物量を容易に推定できる。
【００２６】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華物量測定手段は、前記昇華ガス導入室からの前記昇華物が流れる昇華物流路を有しており、前記昇華ガス導入室は、前記昇華物流路に対して着脱自在である。この構成によれば、長時間の使用により昇華ガス導入室の壁面に昇華物が付着し堆積した場合、汚れた昇華ガス導入室を、新しい昇華ガス導入室と交換することができるので、清掃作業に伴う時間のロスを回避することができる。
【００２７】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華物量測定手段は、前記昇華ガス導入室からの前記昇華物が流れる昇華物流路を有しており、この昇華物流路に着脱自在な透明管が挿入されている。この構成によれば、昇華物が流れる昇華物流路に透明管が挿入されているので、昇華物が昇華物流路に付着して堆積することが防止できると共に、長時間の使用により透明管の内壁面に昇華物が付着して堆積した場合、汚れた透明管を、新しい透明管と交換することができるので、清掃作業に伴う時間のロスを回避することができる。しかも、透明な管を用いているので、昇華物を測定するために昇華物流路に照射される光を遮ることはないので、昇華物量の測定を支障なく行うことができる。
【００２８】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華物量測定手段の下流側に、前記昇華ガスの流量を測定する流量計が設けられている。この構成によれば、昇華物量の測定を開始する前に昇華ガスのみを昇華ガス導入室に導入すれば、その流量を測定することができるので、昇華物量測定装置が、析出した昇華物を安定して検出かつ測定できるように昇華ガスの流量を制御できる。
【００２９】
本発明のさらに他の実施形態では、前記昇華物量測定手段の下流側に、前記昇華物を捕集するフィルタが設けられている。この構成によれば、捕集した昇華物の成分を分析できるので、昇華物量の測定結果と併用すれば、昇華ガス発生防止の対策をさらに向上することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の昇華物の測定装置によれば、熱処理室内で発生した昇華ガスに含有される昇華物の量を正確に測定することが可能であり、ひいては昇華ガス発生抑制の対策が効果的であるか否かを正確に評価することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３２】
（実施形態１）
図１は、本発明の第１実施形態に係る昇華物測定装置１Ａの概略構成図であり、熱処理装置１００の熱処理室１１０に連通接続された状態を示している。昇華物測定装置１Ａは、熱処理装置１００に連通接続可能な装置であり、熱処理装置１００内で被熱処理物Ｗを熱処理する際に被熱処理物Ｗから発生する昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を測定する装置である。熱処理装置１００は、例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造工程に用いられるものであり、クリーンルーム内に設置されるいわゆるクリーンオーブンと呼ばれるものである。
【００３３】
熱処理装置１００は、被熱処理物Ｗが出し入れ可能に収容される熱処理室１１０を有している。この熱処理室１１０の内側には、１または２以上の被熱処理物Ｗを所定状態で保持できる保持部材（図示せず）が二点鎖線で示す位置に設けられている。また、熱処理室１１０には、熱処理用気体、例えば加熱エアを熱処理室１１０内に導入する図示しない気体導入ダクトと、熱処理室１１０から熱処理済みの気体を導出する図示しない気体導出ダクトとが連通接続されている。これらの前記気体導入ダクトおよび前記気体導出ダクトを介して熱処理室１１０内で熱処理気体を循環させながら被熱処理物Ｗを加熱すると、被熱処理物Ｗが熱処理される。
【００３４】
被熱処理物Ｗは、例えばガラス基板であり、フォトレジスト膜や有機物薄膜が形成されている。被熱処理物Ｗが熱処理されると、フォトレジスト等に含有される揮発性成分が気化し、昇華ガスＥが熱処理室内に発生する。
【００３５】
一方、昇華物測定装置１Ａは、熱処理室１１０からの昇華ガスＥが導入される昇華ガス導入室３と、昇華ガス導入室３に連通接続されて熱処理室１１０内の昇華ガスＥを昇華ガス導入室３内に導入可能な接続管７と、ガスＧを昇華ガス導入室３に導入するガス導入手段１０と、昇華ガス導入室３の下流側に接続されて、昇華ガス導入室３内に導入された昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を測定する昇華物量測定手段１３とを有している。
【００３６】
昇華ガス導入室３は、熱処理室１１０からの昇華ガスＥおよびガス導入手段１０からのガスＧが流れる空間を形成するものであり、この空間は壁部３ａにより画定されている。以下、本明細書では、前記空間において、昇華ガスＥおよびガスＧが導入される側を上流側とし、昇華ガスＥから析出する昇華物ＳおよびガスＧが導出される側を下流側とする。
【００３７】
昇華ガス導入室３における上流側の壁部３ａには、接続管７が接続されて、昇華ガス導入室３と接続管７とは連通可能な状態となっている。この接続管７は、その流入口７ａに連結用フランジ８を有している。熱処理室１１０は、その空間を画定する断熱壁１１２を貫通して形成された昇華ガス導出用の導出管１１４を有しており、この昇華ガス導出管１１４の導出口１１４ａには、連結用フランジ１１６が設けられている。昇華物測定装置１Ａを使用する際、接続管７の連結用フランジ８と、熱処理室１１０の昇華ガス導出管１１４の連結用フランジ１１６とを、ボルトおよびナット等の締結手段で連結すると、接続管７が熱処理室１１０に連通接続される。このように、接続管７と熱処理室１１０とが連通接続されることで、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥが接続管７を介して昇華ガス導入室３内に導入可能となる。なお、接続管７は、図示は省略するが、ボルトを、連結用フランジ８に穿孔された貫通孔に通し、熱処理室１１０の断熱壁１１２に形成されたボルト孔に螺入することにより、熱処理室１１０に直接取り付けてもよい。
【００３８】
熱処理室１１０の昇華ガス導出管１１４には、図示しないバルブ等の開閉部材が設けられており、昇華物測定装置１Ａを用いて熱処理室１１０内の昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を測定するとき、開閉部材を開状態にする。この開閉部材を開状態にすると、熱処理された被熱処理物Ｗから発生した高圧下にある高温の昇華ガスＥが接続管７に流入する。熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥは、例えば２２０〜２３０℃のガスであるが、接続管７内に流入した際に冷却されて２００℃以下になると、昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出し、接続管７内で付着するおそれがある。昇華物Ｅが接続管７内で付着してしまうと、昇華物導入室３内で安定した昇華物析出量を得ることができないので、正確な昇華物量を昇華物量測定手段１３によって測定することはできない。
【００３９】
そこで、接続管７内における昇華物Ｓの付着を防止するために、接続管７には、該接続管７内を流れる昇華ガスＥの温度が少なくとも２００℃以下に低下しないように接続管７を保温する接続管保温手段９が設けられている。接続管保温手段９は、例えばヒータを接続管７の周囲に配置したり、断熱材を接続管７に被覆することで構成される。また、熱処理室１１０の昇華ガス導出管１１４にも、接続管保温手段９と同様の目的で保温手段１１５が設けられている。
【００４０】
昇華ガス導入室３における上流側の壁部３ａには、接続管７に加え、ガス導入手段１０に連通接続された送ガス管１１が接続されている。この送ガス管１１を介して、ガス導入手段１０からのガスＧが昇華ガス導入室３内に導入される。このガスＧは、熱処理室１１０から昇華ガス導入室３内に高圧下で導入される昇華ガスＥと等しい圧力、またはそれ以上の圧力で昇華ガス導入室３内に導入される。
【００４１】
また、送ガス管１１は、該送ガス管１１を通るガスＧが、昇華ガス導入室３の空間の中央部を占める領域Ｃ（図２）付近を流れるように昇華ガス導入室３に接続されており、接続管７も、送ガス管１１と同様に、該接続管７を通る昇華ガスＥが昇華ガス導入室３の空間の中央領域Ｃを流れるように昇華ガス導入室３に接続されている。このように、接続管７および送ガス管１１を昇華ガス導入室３に接続することで、昇華ガスＥおよびガスＧが、昇華ガス導入室３の空間の中央領域Ｃ付近で互いに接触して流れるように設定されている。
【００４２】
ガスＧは、例えば、外気であり、ガス導入手段１０は、例えば送風機である。ガスＧは、外気に限らず、２２０〜２３０℃の昇華ガスＥを昇華ガス導入室３内で１５０〜１８０℃にまで冷却して昇華ガスＥから昇華物Ｓを析出させることが可能なガスであればよい。
【００４３】
昇華ガス導入室３における下流側の壁部３ａには、昇華物Ｓが昇華ガス導入室３から昇華物量測定手段１３へ導出される昇華物導出部３ｂが設けられており、この昇華物導出部３ｂの導出口３ｃには、連結用フランジ１５が設けられている。
【００４４】
また、昇華ガス導入室３の壁部３ａには保温手段４３が設けられている。この保温手段４３は、昇華ガス導入室３の壁部３ａの内面に、昇華ガスＥから析出した昇華物Ｓが付着することを防止するために、前記壁部３ａを保温するものである。昇華ガス導入室３が、円形断面を有する円筒状の管状部材である場合、保温手段４３は、管状部材の周壁に設けられる。昇華ガス導入室３の壁部（周壁）３ａは大気と接触している部分であるため、昇華ガスＥが前記壁部（周壁）３ａの内面と接触すると、冷却され、析出した昇華物Ｓが前記壁部３ａの内面に付着するおそれがあるが、保温手段４３によって、昇華物Ｓの付着を防止できる。これにより、昇華ガス導入室３内において昇華物Ｓの析出が安定する。保温手段４３は、例えばヒータを昇華ガス導入室３の壁部３ａの周囲に配置したり、断熱材を昇華ガス導入室３の壁部３ａに被覆することで構成される。なお、保温手段４３は省略してもよい。
【００４５】
昇華物量測定手段１３は、昇華ガス導入室３の昇華物導出部３ｂから導出された昇華物Ｓが導入される昇華物導入部１３ａを有しており、この昇華物導入部１３ａの導入口１３ｂには、連結用フランジ１６が設けられている。昇華物量測定手段１３の内部には、昇華物導入部１３ａから導入された昇華物Ｓが流れる昇華物流路１７が形成されており、測定部１８によって昇華物流路１７を流れる昇華物Ｓの量が測定される。測定部１８によって測定された昇華物Ｓは、ガスＧと共に昇華物排出口１３ｃから外部に排出される。
【００４６】
昇華物量測定手段１３の測定部１８は、昇華物Ｓの量を測定することが可能なものであればよく、種々の公知の測定方法を採用でき、例えばパーティクルカウンタを採用している。パーティクルカウンタを用いれば、昇華物Ｓの粒子数をカウントするのみで、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を容易に推定できる。
【００４７】
また、昇華物量測定手段１３の昇華物排出口１３ｃには、昇華ガスＥの流量を測定する流量計４７が接続されている。昇華物量の測定を開始する前に昇華ガスＥのみを昇華ガス導入室３に導入すれば、昇華ガス導入室３内から昇華物流路１７に流れ込み、昇華物排出口１３ｃから流出する昇華ガスＥの流量を測定することができるので、昇華物量測定装置１Ａが、析出した昇華物Ｓを安定して検出かつ測定できるように昇華ガスＥの流量を制御できる。流量計４７は省略してもよい。
【００４８】
昇華ガス導入室３の昇華物導出部３ｂの連結用フランジ１５と、昇華物量測定手段１３の昇華物導入部１３ａの連結用フランジ１６とを、ボルトおよびナット等の締結手段で連結すると、昇華ガス導入室３と昇華物量測定手段１３とは互いに連通接続される。このように、昇華ガス導入室３と昇華物量測定手段１３とが連通接続されることで、昇華ガス導入室３内で析出した昇華物Ｓが昇華物流路１７に流れ込むので、昇華物量測定手段１３によって昇華物Ｓの量が測定可能となる。なお、昇華物量測定手段１３は、図示は省略するが、ボルトを、連結用フランジ１６に穿孔された貫通孔に通し、昇華ガス導入室３の壁部３ａに形成されたボルト孔に螺入することにより、昇華ガス導入室３に直接取り付けてもよい。
【００４９】
以下、図１および図２を参照して昇華物測定装置１Ａの動作を説明する。
【００５０】
熱処理装置１００の熱処理室１１０内で被熱処理物Ｗを熱処理すると、被熱処理物Ｗから昇華ガスＥが発生する。熱処理室１１０の開閉部材を開状態にすると、熱処理室１１０内で高圧下にある昇華ガスＥが、矢印で示すように、昇華ガス導出管１１４の導出口１１４ａを介して接続管７内に流入する。接続管７は接続管保温手段９により保温されているので、接続管７内で昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出することなく、昇華ガスＥは２２０〜２３０℃の温度に維持された状態で接続管７内を流れる。なお、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥは、大気圧よりは高圧下にあるので、ブロワ等によって昇華ガス導入室３内に吸引する必要はない。なお、熱処理装置１００の構成によっては、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥを、ブロワ等によって昇華ガス導入室３内に吸引する、またはファン等によって昇華ガス導入室３内に送出する必要がある。
【００５１】
接続管７内に流入した昇華ガスＥは、図２に示すように、昇華ガス導入室３内に導入され、ガス導入手段１０によって送ガス管１１を通して昇華ガス導入室３内に導入された矢印で示すガスＧと、昇華ガス導入室３の空間における一点鎖線で示す中央領域Ｃ付近で接触して冷却される。このとき、昇華ガスＥはガスＧによって２２０〜２３０℃から１５０〜１８０℃にまで冷却され、その結果、昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出する。析出した昇華物Ｓは、矢印で示すように、ガスＧの流れに乗り、昇華物／ガス流れとなって昇華物導出部３ｂの昇華物導出口３ｃを介して昇華物量測定手段１３の昇華物流路１７に運ばれる。そして、昇華物量測定手段１３の測定部１８において、析出した昇華物Ｓの量が測定され、その測定値に基づき、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を推定する。
【００５２】
上述のように、第１実施形態に係る昇華物測定装置１Ａは、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥを、昇華ガスＥの温度が維持された状態で昇華ガス導入室３に導入できるので、昇華ガスＥが大気に曝されることを防止でき、つまり前記昇華ガスＥが大気によって冷却されて、昇華物測定装置１Ａの外部で昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出することを防止できる。これに加え、前記昇華ガスＥは、昇華ガス導入室３内の中央領域Ｃ付近で昇華ガスＥよりも低温のガスＧと接触して冷却されるので、昇華物量測定手段１３によって測定するのに十分な量の昇華物Ｓを昇華ガス導入室３内で前記昇華ガスＥから安定して析出させることができる。その結果、昇華物量測定手段１３によって測定された昇華物量に基づき、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を正確に推定することが可能である。
【００５３】
また、昇華物測定装置１Ａにおいて、昇華ガス導入室３は、昇華物量測定手段１３とフランジ１５，１６によって連結されているが、このフランジ連結を解除することで、長時間の使用により昇華ガス導入室３の壁部３ａの内面に昇華物Ｓが付着し堆積した場合、汚れた昇華ガス導入室３を、新しい昇華ガス導入室３と交換することができるので、清掃作業に伴う時間のロスを回避することができる。
【００５４】
（実施形態２）
図３は、本発明の第２実施形態に係る昇華物測定装置１Ｂの概略構成図であり、熱処理装置１００の熱処理室１１０に連通接続された状態を示している。なお、図１の昇華物測定装置１Ａと同一構成部分には、同一符号を付して、その説明を省略する。
【００５５】
この昇華物測定装置１Ｂでは、図１に示す昇華物測定装置１Ａで用いられる接続管７を省略し、代わりに、昇華ガス導入室３を熱処理室１１０に直接連通接続が可能なものとしており、昇華ガス導入室３を、その上流側部分が熱処理装置１００の熱処理室１１０内に位置するように熱処理装置１００に直接取り付けている。
【００５６】
熱処理装置１００の熱処理室１１０には、熱処理室１１０の断熱壁１１２を貫通する貫通部１１８が形成されており、この貫通部１１８は、昇華ガス導入室３における上流側部分の壁部３ａの形状に対応する形状を有している。この貫通部１１８に、昇華ガス導入室３の上流側部分が熱処理室１１０内に位置するように挿通される。前記貫通部１１８は、昇華ガス導入室３における上流側部分の壁部の形状が、例えば円筒状であれば、円形の貫通孔である。
【００５７】
熱処理室１１０内に挿通された昇華ガス導入室３を熱処理室１１０に固定する方法として、例えば、昇華ガス導入室３における上流側部分の壁部３ａにフランジ２０を設け、ボルト２１を、フランジ２０に穿孔された貫通孔２０ａ（図４）に通し、フランジ２０の貫通孔２０ａに対応する位置で熱処理室１１０の断熱壁１１２に形成されたボルト孔１２０（図４）に螺入することにより、昇華ガス導入室３を熱処理装置１００に気密に固定する。
【００５８】
このように昇華ガス導入室３を熱処理室１１０に固定することで、昇華ガス導入室３は熱処理室１１０と連通可能な状態となる。昇華ガス導入室３における、熱処理室１１０内に位置する上流側部分の壁部３ａには、昇華ガス導入口３ｄが形成されており、この昇華ガス導入口３ｄを介して、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥが昇華ガス導入室３内に導入される。
【００５９】
昇華物測定装置１Ｂのガス導入手段１０は、昇華ガス導入室３に連通接続されてガスＧを昇華ガス導入室３内に導入するガス導入管２３を有しており、このガス導入管２３は、昇華ガス導入室３の壁部３ａを貫通するとともに途中で折れ曲がって、昇華ガス導入室３内をガス流れの方向に延在している。このガス導入管２３のガス流出端部２４は、図４に示すように、熱処理室１１０から昇華ガス導入室３内に直接導入された昇華ガスＥの流れのほぼ中央に配置されており、ガス流出端部２４のガス流出口２４ａは、昇華ガス流れの方向に向いている。
【００６０】
昇華ガス導入室３の下流側部分に設けられた昇華物導出部３ｂの昇華物導出口３ｃは、図４に示すように、ガス導入管２３のガス流出口２４ａからガスＧが流れる方向に延長した一点鎖線で示す線Ｌ上でガス流出口２４ａと対向するように配置されている。
【００６１】
昇華物量測定手段１３の昇華物排出口１３ｃには、ガスＧによって運ばれる昇華物Ｓを捕集するフィルタ４８が設けられている。ガスＧのみがフィルタ４８を通過して外部に排出される。フィルタ４８によって捕集した昇華物Ｓの成分を分析できるので、昇華物量の測定結果と併用すれば、昇華ガス発生防止の対策をさらに向上することができる。フィルタ４８は省略してもよい。
【００６２】
以下、図３および図４を参照して昇華物測定装置の動作を説明する。
【００６３】
熱処理装置１００の熱処理室１１０内で被熱処理物Ｗを熱処理すると、被熱処理物Ｗから昇華ガスＥが発生する。熱処理室１１０内で高圧下にある昇華ガスＥは、昇華ガス導入口３ｄを介して昇華ガス導入室３内に２２０〜２３０℃の温度で直接流入する。
【００６４】
昇華ガス導入室３内に流入した昇華ガスＥは、昇華ガス導入室３内において、昇華ガス流れのほぼ中央に配置されたガス導入管２３のガス流出口２４ａから昇華ガス導入室３内に導入されたガスＧの周囲を流れながらガスＧと、前記線Ｌ上に位置する破線で示す接触領域Ｘにおいて接触して冷却される。このとき、昇華ガスＥは、昇華ガス流れのほぼ中央を流れるガスＧによって２２０〜２３０℃から１５０〜１８０℃にまで冷却され、その結果、主として昇華ガスＥの流路の中央付近で昇華物Ｓが析出する。析出した昇華物Ｓは、矢印で示すように、昇華ガスＥのほぼ中央を流れるガスＧの流れに乗り、昇華物／ガス流れとなって、ガス導入管２３のガス流出口２４ａに対して対向配置された昇華物導出口３ｃを介して昇華物量測定手段１３の昇華物流路１７に運ばれる。そして、昇華物量測定手段１３の測定部１８において、析出した昇華物Ｓの量が測定され、その測定値に基づき、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を推定する。
【００６５】
ガス導入管２３、または少なくともガス導入管２３における昇華ガス導入室３内に延在する部分は、保温部材２６、例えば断熱材で被覆されている。ガス導入管２３は、昇華ガスＥよりも低温のガスＧが流れるため、昇華ガスＥが、ガス導入管２３から流出したガスＧと接触して冷却される前に、ガス導入管２３自体に接触して冷却され、析出した昇華物Ｓがガス導入管２３に付着するおそれがあるが、保温部材２６をガス導入管２３に被覆することで、昇華物Ｓの付着を防止できる。
【００６６】
この第２実施形態において、ガスＧが昇華ガス流れのほぼ中央を流れるとは、昇華ガス導入室３が、例えば円形断面を有する円筒状の管状部材からなるものである場合、管状部材の一端（上流側）から他端（下流側）にかけて延びる軸心上に、ガス導入管２３のガス流出口２４ａを配置し、そのガス流出口２４ａから流出したガスＧが前記軸心に沿って流れ、そのガス流れの周囲を昇華ガスＥが前記一端から他端に向かって流れるように設定された構成のことをいう。この場合、前記軸心は前記線Ｌに合致する。言うまでもないが、昇華ガス導入室３の形状、特に昇華ガス導入室３の空間の形状は、ガスが昇華ガス流れのほぼ中央を流れることが可能な形状とされている限り、特に限定されない。
【００６７】
上述のように、第２実施形態に係る昇華物測定装置１Ｂは、第１実施形態に係る昇華物測定装置１Ａにおいて用いられている接続管７を省略し、昇華ガス導入室３を熱処理室１１０に直接連通接続しているので、昇華ガスＥを大気に曝すことなく温度維持された状態で熱処理室１１０から昇華ガス導入室３内に直接導入することができると共に、昇華物測定装置１Ｂの構成を簡略化できる。
【００６８】
また、昇華物測定装置１Ｂでは、ガス導入管２３のガス流出口２４ａから流出したガスＧが、昇華ガスＥの流れの方向に沿って昇華ガス流れのほぼ中央を流れるように設定されているので、昇華ガスＥを効率良く冷却して十分な昇華物析出量を安定して得ることができる。
【００６９】
さらに、昇華物測定装置１Ｂでは、ガス導入管２３のガス流出口２４ａと昇華ガス導入室３の昇華物導出口３ｃとを同一の線Ｌ上で対向配置しているので、冷却された昇華ガスＥから析出した昇華物Ｓを、ガスＧの流れに乗せて昇華物導出口３ｃに向かって円滑に流すことができる。このため、昇華物Ｓは、昇華ガス導入室３内に滞留し難くなるので、昇華物導出口３ｃを介して昇華物量測定手段１３に運ばれる。その結果、昇華物量測定手段１３により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室１１０内の昇華物量の正確な推定が可能となる。その他の構成、作用、効果は第１実施形態と同じである。
【００７０】
（実施形態３）
図５は、本発明の第３実施形態に係る昇華物測定装置１Ｃの概略構成図であり、熱処理装置１００の熱処理室１１０に連通接続された状態を示している。なお、図１の第１実施形態に係る昇華物測定装置１Ａと同一構成部分には、同一符号を付して、その説明を省略する。
【００７１】
昇華物測定装置１Ｃは、昇華ガス導入室３における上流側部分に、ガス導入手段１０に連通接続された送ガス管１２を有している。この送ガス管１２を介して、ガス導入手段１０からのガスＧが昇華ガス導入室３内に導入され、昇華ガス導入室３内において上流側から下流側に向かって流れる。
【００７２】
また、昇華物測定装置１Ｃは、昇華ガス導入室３に連通接続される一方、昇華ガスＥを熱処理室１１０から昇華ガス導入室３内に導入可能な昇華ガス導入管２８を有している。この昇華ガス導入管２８は、熱処理室１１０から昇華ガスＥが導入される昇華ガス導入端部２９を有しており、昇華ガス導入端部２９の昇華ガス導入口２９ａには、連結用フランジ３２が設けられている。この昇華ガス導入管２８の連結用フランジ３２と、熱処理室１１０の昇華ガス導出管１１４の連結用フランジ１１６とを、ボルトおよびナット等の締結手段で連結すると、昇華ガス導入管２８が熱処理室１１０に連通接続される。このように、昇華ガス導入管２８と熱処理室１１０とが連通接続されることで、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥが昇華ガス導入管２８を通って昇華ガス導入室３内に導入可能となる。
【００７３】
昇華ガス導入管２８は、昇華ガス導入端部２９に加え、昇華ガス導入室３の壁部３ａを貫通して昇華ガス導入室３内に延在する昇華ガス導出端部３０を有しており、この昇華ガス導出端部３０には、昇華ガスＥが昇華ガス導入室３内に導入される昇華ガス導出口３０ａが形成されている。
【００７４】
昇華ガス導入管２８の昇華ガス導出端部３０は、図６に示すように、ガス導入手段１０によって送ガス管１２を介して昇華ガス導入室３内に導入されて上流側から下流側に向かって流れるガスＧの流れのほぼ中央に配置されており、昇華ガス導出端部３０の昇華ガス導出口３０ａは、ガス流れの方向に向いている。
【００７５】
昇華ガス導入室３の下流側部分に設けられた昇華物導出部３ｂの昇華物導出口３ｃは、図６に示すように、昇華ガス導入管２８の昇華ガス導出口３０ａから昇華ガスＥが流れる方向に延長した線Ｒ上で昇華ガス導出口３０ａと対向するように配置されている。
【００７６】
以下、図５および図６を参照して昇華物測定装置の動作を説明する。
【００７７】
昇華ガス導入室３内に流入した昇華ガスＥは、ガス導入手段１０により送ガス管１２を介して昇華ガス導入室３内に導入された矢印で示すガスＧの流れのほぼ中央を流れながら、前記線Ｒ上に位置する破線で示す接触領域ＹにおいてガスＧと接触して冷却される。これにより、主としてガスＧの流れの中央で昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出する。このため、昇華ガス導入室３の壁部３ａの内面に昇華物Ｓが付着し難い。
【００７８】
析出した昇華物Ｓは、矢印で示すように、昇華ガスＥの周囲を流れるガスＧの流れに乗り、昇華物／ガス流れとなって、昇華ガス導入管２８の昇華ガス導出口３０ａに対して対向配置された昇華物導出口３ｃを介して昇華物量測定手段１３の昇華物流路１７に運ばれる。そして、昇華物量測定手段１３の測定部１８において、析出した昇華物Ｓの量が測定され、その測定値に基づき、熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥに含有される昇華物Ｓの量を推定する。
【００７９】
第３実施形態において、昇華ガス導入管２８は、図６に示すように、例えば断熱材３１で被覆されている。ガスＧは、昇華ガス導入室３内において、昇華ガスＥが流れる昇華ガス導入管２８と接触しながら流れるので、昇華ガス導入管２８内を流れる昇華ガスＥが昇華ガス導入管２８を通して冷却され、析出した昇華物Ｓが、昇華ガス導入管２８における昇華ガス導入室３内に延在する部分の内部で付着するおそれがあるが、断熱材３１を昇華ガス導入管２８に被覆することで、昇華物Ｓの析出および付着を防止できる。
【００８０】
また、昇華ガス導入管２８における昇華ガス導入室３外に延在する部分も、断熱材３１で被覆されているので、昇華ガスＥは、大気によって冷却されることなく、したがって、昇華ガスＥから昇華物Ｓが析出して付着することなく、昇華ガス導入室３内に導入される。断熱材３１の代わりに、昇華ガス導入管２８における昇華ガス導入室３外に延在する部分には、ヒータをその周囲に配置してもよい。
【００８１】
第３実施形態において、昇華ガスＥがガス流れのほぼ中央を流れるとは、昇華ガス導入室３が、例えば円形断面を有する円筒状の管状部材からなるものである場合、昇華ガス導入管２８を、管状部材の周壁を貫通して昇華ガス導入室３内に延在させ、昇華ガス導入管２８の昇華ガス導出口３０ａを、管状部材の一端（上流側）から他端（下流側）にかけて延びる軸心上に配置し、その昇華ガス導出口３０ａから流出した昇華ガスＥが前記軸心に沿って流れ、その昇華ガス流れの周囲をガスＧが前記一端から他端に向かって流れるように設定された構成のことをいう。この場合、前記軸心は前記線Ｒに合致する。言うまでもないが、昇華ガス導入室３の形状、特に昇華ガス導入室３の空間の形状は、昇華ガスがガス流れのほぼ中央を流れることが可能な形状とされている限り、特に限定されない。
【００８２】
上述のように、第３実施形態に係る昇華物測定装置１Ｃでは、昇華ガス導入管２８の昇華ガス導出口３０ａから導出された昇華ガスＥは、ガス流れの方向に沿ってガス流れのほぼ中央を流れるように設定されているので、昇華ガスＥを効率良く冷却して十分な昇華物析出量を安定して得ることができる。このため、昇華物量測定手段１３により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室１１０内の昇華物量の正確な推定が可能となる。また、析出した昇華物Ｓは、昇華ガスＥの周囲を流れるガスＧの流れに遮られて昇華ガス導入室３の壁部３ａの内面に付着し難くなる。
【００８３】
また、昇華ガス導出管２８の昇華ガス導出口３０ａと昇華物導出口３ｃとを同一の線Ｒ上で対向配置しているので、冷却された昇華ガスＥから析出した昇華物Ｓは、ガス流れに乗って昇華物導出口３ｃに向かって流れ易くなる。このため、昇華物Ｓは、昇華ガス導入室３内に滞留し難くなるので、昇華物導出口３ｃを介して昇華物量測定手段１３に運ばれる。その結果、昇華物量測定手段１３により昇華物量を正確に測定できるので、熱処理室１１０内の昇華物量の正確な推定が可能となる。
【００８４】
（実施形態４）
第１〜第３実施形態で採用しているパーティクルカウンタに代えて、昇華物Ｓを透過した光の減衰量に基づき昇華物量を測定することもできる。図７は、その一例を示す昇華物量測定手段１３の測定部１８の概略構成図である。昇華物量測定手段１３の測定部１８は、図示しない光源からの光Ｆを昇華物流路１７に投光する投光素子３３と、昇華物流路１７を流れる昇華物Ｓを前記光Ｆで照射するための照射エリア部３５と、投光素子３３から照射エリア部３５に投光された光Ｆを受光する受光素子３７とを有している。
【００８５】
以下に、測定方法を説明する。まず、測定部１８の投光素子３３から昇華物流路１７に対して光Ｆを照射する。昇華物Ｓが照射エリア部３５において光Ｆの光路を横切ると、光Ｆは、その一部が昇華物Ｓによって吸収されたり、昇華物Ｓ上で反射されるが、昇華物Ｓを透過した光Ｔ、つまり減衰された光Ｔは受光素子３７によって検知される。つづいて、受光素子３７に接続された図示しない処理回路等によって、検出された透過光Ｔの強度に応じた電気信号が出力され、光Ｔの減衰量に基づき昇華物Ｓの濃度が決定される。この測定方法によれば、昇華物Ｓの粒子数をカウントしなくても昇華物Ｓによって減衰された光Ｔの量を測定するのみで、熱処理室１１０内の昇華物量を容易に推定できる。
【００８６】
また、図７に示す測定方法の変形例として、反射ミラーを照射エリア部３５に設け、投光素子３３によって照射エリア部３５に投光された光Ｆを反射ミラーで反射させ、反射した光を受光素子３７によって受光する構成としてもよい。反射ミラーを用いれば、照射エリア部３５において光Ｆは昇華物Ｓによって２度減衰されるので、光Ｆの減衰量を大きくできる。これにより、昇華物量を正確に測定できる。この構成は、特に昇華物Ｓの濃度が低い場合に有利である。
【００８７】
（実施形態５）
第１〜第３実施形態の昇華物測定装置１Ａ〜１Ｃは、上述した構成に加え、昇華ガスＥを、昇華ガス導入室３内においてガス導入手段１０からのガスＧと効率良く接触させて冷却するために、図８に示すように、昇華ガス導入室３の壁部３ａの上流側に整流部材３９を備えていてもよい。この整流部材３９は、例えば、図３の第２実施形態に係る昇華物測定装置１Ｂの昇華ガス導入室３の壁部３ａの上流側に取り付けられる。整流部材３９は、図４に示す前記線Ｌと平行に、かつ互いに所定の間隔をあけて配置された複数の整流板４１を有している。
【００８８】
熱処理室１１０内で発生した昇華ガスＥは、整流部材３９の流入口３９ａから整流部材３９内に流入し、矢印Ｍで示すように、整流板４１によって前記線Ｌに対して平行に流れるように整流される。整流となった昇華ガスＥの流れＭは、流出口３９ｂから昇華ガス導入室３の昇華ガス導入口３ｄを介して昇華ガス導入室３内に流入し、ガス導入手段１０からのガスＧの流れと効率良く接触して冷却される。これにより、昇華ガス導入室３内での昇華物析出量が安定するため、熱処理室１１０内の昇華物量の推定を昇華物量測定手段１３によってさらに正確に行うことができる。また、整流部材３９を用いる場合、昇華ガス導入室３の断面形状を、整流部材３９の流出口３９ｂの断面形状とほぼ同一とするのがよい。これにより、整流された昇華ガスＭは昇華ガス導入室３内を円滑に流れ、昇華物Ｓが昇華ガス導入室３内で滞留し難くなる。
【００８９】
（実施形態６）
第１〜第３実施形態において、昇華物量測定手段１３は、その昇華物流路１７に着脱自在な透明管４５が挿入される構成としてもよい。図９は、昇華物流路１７に透明管４５を昇華物排出口１３ｃ側から挿入した状態を示している。昇華物Ｓが流れる昇華物流路１７に透明管４５を挿入することで、昇華物Ｓが昇華物流路１７に付着して堆積することが防止できると共に、長時間の使用により透明管４５の内壁面４５ａに昇華物Ｓが付着して堆積した場合、汚れた透明管４５を、新しい透明管４５と交換することができるので、清掃作業に伴う時間のロスを回避することができる。しかも、透明な管を用いているので、昇華物Ｓを測定するために昇華物流路１７に照射される光Ｆを遮ることはないので、昇華物量の測定を支障なく行うことができる。この透明管４５は、例えばガラス管である。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る昇華物測定装置の概略構成図である。
【図２】図１の昇華物測定装置の昇華ガス導入室の拡大図であり、昇華ガスが冷却されて昇華物が析出する状態を示している。
【図３】本発明の第２実施形態に係る昇華物測定装置の概略構成図である。
【図４】図２の昇華物測定装置の昇華ガス導入室の拡大図であり、昇華ガスが冷却されて昇華物が析出する状態を示している。
【図５】本発明の第３実施形態に係る昇華物測定装置の概略構成図である。
【図６】図３の昇華物測定装置の昇華ガス導入室の拡大図であり、昇華ガスが冷却されて昇華物が析出する状態を示している。
【図７】本発明に係る昇華物測定装置の昇華物量測定手段の測定部の一例を示す概略構成図である。
【図８】本発明に係る昇華物測定装置の昇華ガス導入室に整流部材を取り付けた構成を示す概略図である。
【図９】本発明に係る昇華物測定装置の昇華物量測定手段の昇華物流路に透明管を挿入した構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００９１】
１Ａ〜１Ｃ  昇華物測定装置
３  昇華ガス導入室
７  接続管
１０  ガス導入手段
１１  送ガス管
１３  昇華物量測定手段
１００  熱処理装置
１１０  熱処理室
Ｅ  昇華ガス
Ｇ  ガス
Ｓ  昇華物
【図１】
2009079827.tif 000003
【図２】
2009079827.tif 000004
【図３】
2009079827.tif 000005
【図４】
2009079827.tif 000006
【図５】
2009079827.tif 000007
【図６】
2009079827.tif 000008
【図７】
2009079827.tif 000009
【図８】
2009079827.tif 000010
【図９】
2009079827.tif 000011