(57)【要約】【課題】リークの少ない高品質表示が可能な有機エレクトロルミネセンス表示装置を製造することができる有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法、及び、有機エレクトロルミネセンス表示装置を提供する。【解決手段】基板上に有機エレクトロルミネセンス層を有する有機エレクトロルミネセンス表示装置を製造する方法であって、上記製造方法は、有機エレクトロルミネセンス層形成用の塗液を中間部材上に配置し、上記中間部材から基板に塗液を転写する工程を含み、上記塗液は、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上である有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法である。【選択図】図１
2009099278.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に有機エレクトロルミネセンス層を有する有機エレクトロルミネセンス表示装置を製造する方法であって、
該製造方法は、有機エレクトロルミネセンス層形成用の塗液を中間部材上に配置し、該中間部材から基板に塗液を転写する工程を含み、
該塗液は、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上であることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記転写工程は、有機エレクトロルミネセンス層形成用の塗液を印刷版に塗布し、該印刷版から基板に塗液を転写するものであることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記転写工程は、有機エレクトロルミネセンス層形成用の塗液を印刷版に塗布し、該印刷版からブランケットに塗液を転移し、該ブランケットから基板に塗液を転写するものであることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記転写工程は、フレキソ印刷法及びオフセット印刷法からなる群より選択された少なくとも一種を用いて行われることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記塗液は、高分子材料が溶解されたものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記高分子材料は、発光物質であることを特徴とする請求項５記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法で製造されることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置の製造方法、及び、有機ＥＬ表示装置に関する。より詳しくは、高分子有機ＥＬ表示装置の製造に好適な有機ＥＬ表示装置の製造方法、及び、有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、高度情報化に伴い、フラットパネルディスプレイのニーズが高まっている。フラットパネルディスプレイとしては、一般的に液晶表示装置、プラズマ表示装置、無機ＥＬ表示装置、有機ＥＬ表示装置等が知られているが、これらの中でも、有機ＥＬ表示装置に関する技術進歩は特に著しい。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置は、基板上に複数の有機ＥＬ素子が配置された構造を有する。有機ＥＬ素子は、一対の電極間に少なくとも有機物による発光層を備え、更に必要に応じて発光層へ電荷を注入する役割を担う電荷注入層や、電極から有機層へ電荷を輸送する役割を担う電荷輸送層を備えたものである。本明細書では、一対の電極間に形成される有機層を有機ＥＬ層ともいう。
【０００４】
有機ＥＬ層は、低分子有機ＥＬ層と高分子有機ＥＬ層とに大別される。有機ＥＬ層の形成方法としては、真空下で蒸着で成膜する方法、常圧下で塗布や印刷で成膜する方法等が挙げられるが、高分子有機ＥＬ層の形成方法としては、印刷法を用いて高分子有機ＥＬ層形成用の塗液を基板上に塗布する方法が検討されている。また、後者の方法においては、近年、インクジェット法や印刷法により、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）パネル上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の発光層を形成する方法が広く用いられてきている。
【０００５】
このような高分子有機ＥＬ層の形成方法としては、種々開示されている。例えば、正孔注入層をスクリーン印刷により形成する方法として、少なくとも正孔注入材料と溶媒とを含有し、剪断速度１００ｓ−１における粘度が１〜１００ｃＰ（１〜１００ｍＰａ・ｓ）の範囲で、かつ２Ｈｚにおける動的表面張力（インキ温度２３℃）が２０〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であり、前記溶媒は水とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、該混合溶媒中の前記アルコール系溶媒の含有量は５〜７０重量％の範囲である正孔注入層用インキを用いる正孔注入層形成方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
また、ゴムブランケットを介してインキパターンを印刷するオフセット印刷法において、剪断速度１０ｓ−１における粘度が１〜１０Ｐａ・ｓ（１０００〜１００００ｍＰａ・ｓ）の範囲にあり、かつ剪断速度０．３ｓ−１における粘度Ａと剪断速度３ｓ−１における粘度の比（Ａ／Ｂ）が２．５〜８の範囲にあるインキを用いて版でインキパターンを形成し、これをゴムブランケットを介して印刷対象物に転写し印刷するオフセット印刷法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００７】
更に、正孔注入層の形成方法として、少なくとも正孔注入材料を含有する正孔注入層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の正孔注入層用インキを正孔注入層被形成面に転移する工程を有し、正孔注入層用インキは剪断速度１００ｓ−１における粘度（インキ温度２３℃）が１〜１００ｃＰ（１〜１００ｍＰａ・ｓ）の範囲である発光層形成方法が開示されている（例えば、特許文献３及び４参照。）。
【０００８】
そして、有機発光デバイスの発光層の形成方法として、少なくとも有機発光材料を含有する発光層用インキをグラビア版のセルに充填させ、該セルからブランケットに発光層用インキを受理させた後、前記ブランケット上の発光層用インキを発光層被形成面に転移する工程を有し、発光層用インキは剪断速度１００ｓ−１における粘度（インキ温度２３℃）が５〜２００ｃＰ（５〜２００ｍＰａ・ｓ）の範囲である発光層形成方法が開示されている（例えば、特許文献４参照。）。
【０００９】
なお、特許文献３及び４では、発光層用インキは剪断速度１００ｓ−１における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、剪断速度１０００ｓ−１における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となり、ほぼニュートン流動を示すことが好ましいこと等が記載されている。
【特許文献１】特開２００７−９５６２７号公報
【特許文献２】特開２０００−５３９０４号公報
【特許文献３】特開２００６−３１８８５０号公報
【特許文献４】特開２００７−１８９４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１の方法によれば、スクリーン印刷法を用いていることから、有機ＥＬ素子を効率よく発光させるために必要である１μｍ以下の薄膜を得ることができず、また、濃度を低くしても薄膜を得ても、スクリーン印刷用の金属メッシュの跡が形成された膜上に残り、素子がショートしたり、発光にむらが生じたりするというという点で改善の余地があった。
【００１１】
また、特許文献２の方法によれば、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度と、剪断速度０．３ｓ−１のときと３ｓ−１のときとの粘度の比率が有る一定の範囲であればよいとしているため、ニュートン性がなく（不充分であり）、印刷特性が不良（細線が切れる、転写しない、膜厚むらが大きい）な場合があるという点で改善の余地があった。更に、特許文献３及び４の方法によれば、印刷特性が不良な場合があるという点で改善の余地があった。
【００１２】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、リークの少ない高品質表示が可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができる有機ＥＬ表示装置の製造方法、及び、有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、基板上に有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を製造する方法について種々検討したところ、有機ＥＬ層形成用の塗液の物性に着目した。基板上に有機ＥＬ層を形成するにあたっては、上記有機ＥＬ層形成用の塗液の物性の中でも、粘度、表面張力、固形分濃度等を調整することが一般的である。しかしながら、上記塗液を印刷版やブランケット等の中間部材上に一旦配置し、上記中間部材から基板に塗液を転写することで基板上に有機ＥＬ層を形成する場合、（１）従来調整していた塗液の物性では、その物性が同一であっても、印刷特性が良好（印刷版の形を忠実に再現可能、転写性が良好、膜厚むらが小さい）な場合と、印刷特性が不良（細線が切れる、転写しない、膜厚むらが大きい）な場合とがあること、及び、（２）上記（１）の現象について、従来では、中間部材と塗液との相性の問題と捉えられ、結局のところ、塗液の物性による調整ではなく、実際に印刷してみなければ、印刷特性は分からないものとされていることを見いだした。
【００１４】
そこで、本発明者は鋭意検討したところ、有機ＥＬ層形成用の塗液の物性の中でも特に粘度に着目し、２つの剪断速度（ずり速度、シェアレート）のときの粘性の比率を特定の範囲に調整することにより、塗液をニュートン流体により近づけることで、印刷特性を良好に保つことが可能であることを見いだした。具体的には、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度を５０〜３０００ｍＰａ・ｓとし、かつ剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度を剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上とすることにより、中間部材から基板に塗液を転写する工程において、高剪断速度が塗液にかかる際に塗液を比較的高粘度を保った状態で基板に転写することが可能となり、塗液の動きが少なくなるため、パターンを忠実に再現することが可能となる（印刷特性が常に良好となる）ことを見いだした。その結果、リークの少ない高品質表示が可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【００１５】
すなわち本発明は、基板上に有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を製造する方法であって、上記製造方法は、有機ＥＬ層形成用の塗液を中間部材上に配置し、上記中間部材から基板に塗液を転写する工程を含み、上記塗液は、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上である有機ＥＬ表示装置の製造方法である。
以下に本発明を詳述する。
【００１６】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を製造するものである。上記基板は、有機ＥＬ層の下地となる部材であり、特に限定されるものではない。上記有機ＥＬ層としては、例えば、発光層（陽極側から注入された正孔と、陰極側から注入された電子とが再結合することにより発光を生じることができる層）、正孔輸送層（陽極側から注入された正孔を発光層に輸送することでできる層）等が挙げられる。本発明の有機ＥＬ表示装置の形態としては、基板上に第一電極、有機ＥＬ層及び第二電極がこの順に積層されてなる有機ＥＬ素子が複数配置された形態が挙げられる。
【００１７】
上記製造方法は、有機ＥＬ層形成用の塗液を中間部材上に配置し、上記中間部材から基板に塗液を転写する工程を含む。これによれば、スクリーン印刷法等と異なり、有機ＥＬ素子を効率よく発光させるために必要である１μｍ以下の薄膜（有機ＥＬ層）を形成することができる。なお、塗液の形態としては特に限定されず、例えば、溶液であってもよく、分散液であってもよく、単に液化したもの（液体状態であるもの）であってもよい。上記中間部材としては、例えば、印刷版、ブランケット等が挙げられる。
【００１８】
上記塗液は、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上である。これによれば、ニュートン流体（ニュートンの粘性法則に従う流動をニュートン流動といい、この性質を持つ流体をニュートン流体という。）に近づくことから、中間部材から基板に塗液を転写する工程において、高剪断速度が塗液にかかる際に塗液を比較的高粘度を保った状態で基板に転写することが可能となり、塗液の動きが少なくなるため、パターンを忠実に再現することが可能となる（印刷特性が常に良好となる）ことを見いだした。その結果、リークの少ない高品質表示が可能な有機ＥＬ表示装置を製造することが可能となる。
【００１９】
本発明における「粘度」は、特に断りのない限り、温度２０℃の条件下、コーンプレート型の回転粘度計（商品名：ＡＲ−Ｇ２、ＴＡインスツルメント社製）を用いて測定した定常粘度を表す。この回転粘度計によれば、回転可能な円錐（コーン）と静止する円板（プレート）との間に試料を挟み、円錐（コーン）を回転させ、その回転数（剪断速度）と回転により生じるトルク（剪断応力、ねじりモーメント）とを電子的センサーで検出し、それをＸ−Ｙレコーダに記録することで、粘度（剪断応力／剪断速度）を測定することができる。なお、塗液の粘度は、材料、溶媒、分散媒、固形分濃度等で調整することができる。
【００２０】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記転写工程を構成要素として含むものである限り、その他の工程を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。例えば、上記有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記転写工程の後、基板に転写された塗液を乾燥する工程等を含んでいてもよい。なお、有機ＥＬ層が複数ある場合には、少なくとも一つの有機ＥＬ層について、上記転写工程を用いて形成すればよく、全ての有機ＥＬ層について上記転写工程を用いて形成する必要はない。
【００２１】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の好ましい形態について以下に詳しく説明する。
上記転写工程は、有機ＥＬ層形成用の塗液を印刷版に塗布し、上記印刷版から基板に塗液を転写するものであることが好ましい。本明細書で「印刷版」とは、印刷に用いる版の総称であり、例えば、凸版、凹版、平版、孔版等が挙げられる。
【００２２】
上記転写工程は、有機ＥＬ層形成用の塗液を印刷版に塗布し、上記印刷版からブランケットに塗液を転移し、上記ブランケットから基板に塗液を転写するものであることが好ましい。本明細書で「ブランケット」とは、印刷版のインキ画像を基板に再転移させる媒体として用いられる部材（中間転写体）のことである。ブランケットの構造としては特に限定されず、例えば、布層とゴム層とを積層させ、表面がゴム層のシート状のもの等が挙げられる。
【００２３】
上記転写工程は、フレキソ印刷法及びオフセット印刷法からなる群より選択された少なくとも一種を用いて行われることが好ましい。本明細書で「フレキソ印刷法」とは、ゴム、樹脂等の弾性物質からなる印刷版に塗液を供給し、該印刷版から基板（被印刷体）に塗液を直接転写する印刷法のことである。「オフセット印刷法」とは、印刷版から基板（被印刷体）に塗液を直接転写するのではなく、印刷版からブランケット等の中間転写体を介して基板に塗液を転写する印刷法のことである。なお、オフセット印刷法としては、グラビアオフセット印刷法（グラビア版（凹版）に塗液を供給し、該グラビア版に供給された塗液を該グラビア版と接触して回転しているゴム、樹脂等の弾性物質からなるブランケットに転移させ、更にブランケットから基板に塗液を転写させる印刷方法）、反転オフセット印刷法（凸版に塗液を供給し、該凸版に供給された塗液を凸版と接触して回転しているゴム、樹脂等の弾性物質からなるブランケットに転移させ、更にブランケットから基板に塗液を転写させる印刷方法）等が挙げられる。
【００２４】
上記塗液は、高分子材料が溶解されたものであることが好ましい。これによれば、リークの少ない高品質表示が可能な高分子有機ＥＬ表示装置を製造することが可能である。なお、上記高分子材料としては、分子量が１万から数百万程度のものことであれば特に限定されず、例えば、発光物質、電荷輸送物質等が挙げられるが、発光物質が好ましい。すなわち、上記高分子材料は、発光物質であることが好ましい。これによれば、発光層のパターンを忠実に再現することができる。本明細書で「発光物質」とは、有機ＥＬ層の中でも、発光層を構成する材料のことである。発光物質としては特に限定されず、ポリフルオレン発光材料等が挙げられる。なお、発光物質として例示した化合物は、その化合物だけでなく、その化合物の誘導体等のその化合物に類似したものをも含んでなる。例えば、ポリフルオレン発光材料は、ポリフルオレン発光材料だけでなく、ポリフルオレン誘導体等のポリフルオレン発光材料に類似した化合物をも含んでなる。
【００２５】
本発明はまた、上記有機ＥＬ表示装置の製造方法で製造される有機ＥＬ表示装置でもある。本発明の有機ＥＬ表示装置によれば、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を用いて製造されることから、表示品質が良好である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、有機ＥＬ層形成用の塗液の剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上であるので、中間部材から基板に有機ＥＬ層形成用の塗液を転写する工程において、高剪断速度が塗液にかかる際に塗液が比較的高粘度を保った状態で基板に転写することが可能であり、塗液の動きが少ないためにパターンが忠実に再現可能になる。その結果、リークの少ない高品質表示が可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に実施例を掲げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００２８】
＜塗液の粘度と細線再現性の評価＞
（実施例１〜５、比較例１〜４）
まず、下記一般式（１）で表されるポリフルオレン発光材料Ａ１〜Ａ５を用意した。ポリフルオレン発光材料Ａ１〜Ａ５は、下記一般式（１）に示すように、アルキル鎖Ｒ、Ｒ’を有するフルオレン環と、少なくとも１以上のユニットＡ（Ａ’、Ａ’’）との共重合化合物である。ポリフルオレン発光材料の分子量Ａ１〜Ａ５は、数十万であり、発光色は、共重合させるユニット、並びに、ｌ、ｍ、ｎ及びｏの比率によって異なる。
【００２９】
【化１】
2009099278.tif 000003
【００３０】
式中、Ｒ及びＲ’はアルキル鎖を表し、Ａ、Ａ’及びＡ’’はユニットを表す。ｌ及びｍは１以上の整数であり、ｎ及びｏは０又は１以上の整数である。Ａ、Ａ’及びＡ’’のユニットとしては、ジメチルベンゼン、ピリジン、ベンゼン、アントラセン、スピロビフルオレン、カルバゾールユニット、ベンゾアミン、ビピリジン、ベンゾチアジアゾール、デンドリマ等が用いられる。
【００３１】
次に、下記表１に示すように、ポリフルオレン発光材料Ａ１〜Ａ５を有機溶媒に溶解することで、実施例１〜５、及び、比較例１〜４の９種類の発光層形成用の塗液を作製した。次に、コーンプレート型回転粘度計（商品名：ＡＲ−Ｇ２、ＴＡインスツルメント社製）を用いて、各塗液の粘度を測定した。具体的には、直径６０ｍｍ、頂角０．５°の回転可能な円錐（コーン）と、静止する円板（プレート）との間に塗液を挟み、円錐（コーン）を回転させ、その回転数（剪断速度）と回転により生じるトルク（剪断応力、ねじりモーメント）とを電子的センサーで検出し、それをＸ−Ｙレコーダに記録することで、剪断速度１０ｓ−１のときの定常粘度と、１００００ｓ−１のときの定常粘度とをそれぞれ２０℃で測定した。測定結果を下記表１に示す。
【００３２】
次に、各塗液をフレキソ印刷装置、グラビアオフセット印刷装置、又は、反転オフセット印刷装置を用いて細線のパターンの作製し、細線再現性を見た。結果を下記表１に示す。なお、ここでいう細線再現性とは、良好な塗液を用いて膜厚８０ｎｍ、幅５０μｍで塗布することができるように設定された条件で、どのぐらいの幅で細線が再現されたかを表す。
【００３３】
【表１】
2009099278.tif 000004
【００３４】
上記表１に示すように、実施例１〜５においては、±１０％以内で再現した。これに対し、比較例１、３及び４では、線が細ってしまった。また、比較例２では、細線は再現可能なものの、転写不良によるパターンの欠けが発生した。
【００３５】
これについては、次のように説明される。実施例１〜５の塗液は、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上であるため、高剪断速度が塗液にかかる際に、塗液が比較的高粘度を保った状態で基板に転写することが可能であり、塗液の動きが少ないためにパターンが忠実に再現可能になると考えられる。
【００３６】
これに対し、比較例１の塗液は、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上であったものの、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０ｍＰａ・ｓ未満であったため、線が細ってしまったと考えられる。また、比較例２の塗液は、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍以上であるものの、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が３０００ｍＰａ・ｓを超えたため、転写不良によるパターンの欠けが発生したものと考えられる。更に、比較例３及び４の塗液は、剪断速度１０ｓ−１のときの粘度が５０〜３０００ｍＰａ・ｓであったものの、剪断速度１００００ｓ−１のときの粘度が剪断速度１０ｓ−１のときの粘度の０．７０倍未満であったため、線が細ってしまったと考えられる。
【００３７】
＜有機ＥＬ表示装置の発光特性の評価＞
（実施例１）
図１（ａ）は、実施例１に係る有機ＥＬ表示装置を示す平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中の線分Ａ−Ｂにて切断したときの断面模式図である。
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、実施例１に係る有機ＥＬ表示装置１００は、基板１上に複数の有機ＥＬ素子１０が配置されたものである。有機ＥＬ素子１０は、陽極２、バッファ層３、発光層（有機ＥＬ層）４及び陰極５をこの順に積層した構造を有する。本実施例では、バッファ層３上にバンク６が設けられ、発光層４はバンク６に囲まれている。また、有機ＥＬ素子１０は、基板１にシール剤を介して貼り付けられたガラスキャップ（図示せず）で、窒素（Ｎ２）等の不活性ガス雰囲気下で封止されている。
【００３８】
以下、実施例１に係る有機ＥＬ表示装置の製造プロセスについて説明する。
まず、ＵＶオゾン洗浄機を用いて、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）付きガラス基板１の表面を親液化する。その後、スピンコート法を用いて、下記組成のバッファ層形成用の塗液を成膜した後、２００℃で６０分間焼成することで、膜厚７０ｎｍのバッファ層３を全面に形成した。
【００３９】
＜バッファ層形成用の塗液の組成＞
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（商品名：Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＣＨ８０００、スタルクヴィテック社製）  ２重量部
水  １重量部
【００４０】
次に、フレキソ印刷法を用いて、バッファ層３上にアモルファスフッ素樹脂（商品名：サイトップＣＴＸ−８０９ＡＰ、旭硝子社製）を幅４０μｍの塗布部７、及び、幅４０μｍの非塗布部８を交互に持つようなストライプパターンで０．５μｍの膜厚で塗布し、バンク６を形成した。
【００４１】
次に、５０μｍ幅、８０μｍピッチのストライプパターンを塗布できるように設計された印刷版（中間部材）に、上記表１に示す実施例１の発光層形成用の塗液を塗布し、該印刷版からバンクの非塗布部８に塗液を転写することで、発光層４を形成した。なお、発光層４の設定膜厚は８０ｎｍである。その後、２００℃で１０分間焼成を行い、その後、発光層４上にカルシウム（Ｃａ）と銀（Ａｇ）とを蒸着し、窒素（Ｎ２）雰囲気下、ガラスキャップで封止を行い、有機ＥＬ素子１０を作製した。
【００４２】
（実施例２〜５）
発光層形成用の塗液として、実施例２〜５の発光層形成用の塗液を用いたこと以外は、実施例と同じである。
（比較例１〜４）
発光層形成用の塗液として、比較例１〜４の発光層形成用の塗液を用いたこと以外は、実施例と同じである。
【００４３】
以上のようにして作製した実施例１〜５、及び、比較例１〜４に係る有機ＥＬ素子を発光させたところ、実施例のものはいずれもバンクの非塗布部８に均一に発光層４が形成され、均一な発光が観察されたのに対し、比較例１、３及び５においては、バンクの非塗布部８に発光層４が形成されていない部分があり、リークが大きく発光しなかった。比較例２においては、発光層４が塗布された部分に島状に非塗布部が観察され、その部分からのリークが大きいため発光しなかった。
【００４４】
なお、本実施例では、有機ＥＬ層のうち発光層４がバンク６に囲まれた構造について説明したが、これに限定されることはなく、バッファ層３もまた、バンク６に囲まれていてもよい。また、有機ＥＬ素子１０の積層構造として、陽極２、バッファ層３、発光層４及び陰極５をこの順に積層した構造について説明したが、これに限定されることはなく、その他の積層構造であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】（ａ）は、実施例１に係る有機ＥＬ表示装置を示す平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中の線分Ａ−Ｂにて切断したときの断面模式図である。
【符号の説明】
【００４６】
１：基板
２：陽極
３：バッファ層
４：発光層（有機ＥＬ層）
５：陰極
６：バンク
７：バンクの塗布部
８：バンクの非塗布部
１０：有機ＥＬ素子
１００：有機ＥＬ表示装置
【図１】
2009099278.tif 000005