(57)【要約】【課題】  簡易な構成でありながら、貫通孔を使用することなく、基板の両面に形成されるパターンの位置決めを実行することが可能な、アライメントマーク形成装置を提供すること。【解決手段】  アライメントマーク形成装置１０は、基板を載置するためのテーブル１１と、このテーブル１１上に載置された基板を位置決めするための３個の位置決めピン２１と、３個のアライメントマーク形成部５１と、傾斜板１２とを備える。アライメントマーク形成部５１は、テーブル１１上に載置された基板の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された一対の露光部を備える。この一対の露光部は、基板の非有効領域に、ＵＶ光を照射することにより、アライメントマークを形成する。【選択図】        図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成するためのアライメントマーク形成装置であって、
基板を載置するためのテーブルと、
前記テーブル上に載置された基板を位置決めするための位置決め部材と、
前記テーブル上に載置された基板の非有効領域における当該基板の表面側と裏面側に、各々同軸上にアライメントマークを形成する複数のアライメントマーク形成部と、
を備えたことを特徴とするアライメントマーク形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記各アライメントマーク形成部は、
前記基板に塗布されたフォトレジストに像を形成することが可能な光を出射する光源と、
前記位置決め用アライメントマークに対応したパターンを有するマスクと、
前記マスクのパターンを前記基板上に投影する光学系と、から成る露光部を、
前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有するアライメントマーク形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記上下一対の露光部のうち、前記テーブル上に載置された基板の上方に配設された露光部を昇降させる移動機構を備えるアライメントマーク形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記テーブル上に載置された基板の表面の高さ位置を測定するセンサを備え、
前記移動機構は、前記センサの出力に基づいて前記テーブル上に載置された基板の上方に配設された露光部を昇降させるアライメントマーク形成装置。
【請求項５】
請求項１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記各アライメントマーク形成部は、アライメントマークとしての打痕を形成するためのものであり、
前記テーブル上に載置された基板の非有効領域における当該基板の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された一対の打痕形成ピンと、
当該一対の打痕形成ピンにより基板を挟持するように一対の打痕形成ピンのうちの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
から成る打痕形成部から構成されるアライメントマーク形成装置。
【請求項６】
請求項５に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記打痕形成部は、
前記テーブル上に載置された基板の下面側において、前記テーブルに固定された打痕形成ピンとしての固定ピンと、
前記テーブル上に載置された基板の上面側において、昇降可能に配設された打痕形成ピンとしての昇降ピンと、
前記昇降ピンを昇降駆動する駆動手段と、
を備えるアライメントマーク形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記昇降ピンの上方で昇降可能な重り部材と、
前記重り部材を上昇させた後、前記昇降ピン上に落下させる重り部材落下機構と、
を備えるアライメントマーク形成装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記固定ピンおよび昇降ピンの先端には、円柱状の形状を有し、その内部に断面円形の中空部が形成された打痕部が形成されるアライメントマーク形成装置。
【請求項９】
請求項８に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記打痕部における中空部は、排気機構に連結されるアライメントマーク形成装置。
【請求項１０】
請求項１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記各アライメントマーク形成部は、
前記基板にアライメントマークを転写するためのスタンプと、
前記スタンプを、前記テーブル上に載置された基板の表面または裏面に当接する転写位置と、前記テーブル上に載置された基板の表面または裏面から離隔した退避位置との間で昇降させるスタンプ部を、
前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有するアライメントマーク形成装置。
【請求項１１】
請求項１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記各アライメントマーク形成部は、
前記基板にアライメントマークを転写するためのインクジェットヘッド部を、
前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有するアライメントマーク形成装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記上下一対のインクジェットヘッド部のうち、前記テーブル上に載置された基板の上方に配設されたインクジェットヘッド部を昇降させる移動機構を備えるアライメントマーク形成装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記テーブル上に載置された基板の表面の高さ位置を測定するセンサを備え、
前記移動機構は、前記センサの出力に基づいて前記テーブル上に載置された基板の上方に配設されたインクジェットヘッド部を昇降させるアライメントマーク形成装置。
【請求項１４】
請求項１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記各アライメントマーク形成部は、
前記基板を加工することが可能なレーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記基板上に照射される光学系と、から成るレーザ加工部を、
前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有するアライメントマーク形成装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記レーザ光源は、赤外線レーザ光を出射するアライメントマーク形成装置。
【請求項１６】
請求項１に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記各アライメントマーク形成部は、
その表面にアライメントマークに対応したパターンが形成され、前記基板の表面に当接可能なビットと、
前記ビットに対して超音波振動を付与する超音波振動子と、から成る超音波加工部を、
前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有するアライメントマーク形成装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記ビット付近の雰囲気を吸引して外部に排出する排気機構をさらに有するアライメントマーク形成装置。
【請求項１８】
請求項１乃至請求項１７のいずれかに記載のアライメントマーク形成装置において、
前記アライメントマーク形成部は、矩形状の基板における第１の辺の近傍に２個、前記第１の辺と直交する第２の辺の近傍に１個配設されるアライメントマーク形成装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記テーブルの表面は、前記第１の辺および前記第２の辺方向が低くなるように傾斜するアライメントマーク形成装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載のアライメントマーク形成装置において、
前記テーブルの表面には、基板に向けて空気を噴出する空気噴出口が形成されるアライメントマーク形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成するためのアライメントマーク形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、多層基板間でパターンを位置決めする際に、貫通孔、印刷されたパターン、窪み等を利用する点が開示されている。ここで、特許文献１に記載されたように、多層基板における表面のパターンの位置決めを行うためには、貫通孔、印刷されたパターン、窪み等を利用することができるが、基板の両面に形成されるパターンを位置決めするためには、これらのうち、貫通孔を利用する必要がある。
【特許文献１】特表２００４−５２３１０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、基板によっては、貫通孔を形成することが適当でないものがある。このような場合には、基板の両面に形成されるパターンの位置決めを行えないという問題が生ずる。また、貫通孔を形成可能な基板であっても、貫通孔を形成するためにはドリルマシン等の加工装置を使用する必要があり、製造工程が複雑になるという問題がある。
【０００４】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、簡易な構成でありながら、貫通孔を使用することなく、基板の両面に形成されるパターンの位置決めを実行することが可能な、アライメントマーク形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の発明は、基板の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成するためのアライメントマーク形成装置であって、基板を載置するためのテーブルと、前記テーブル上に載置された基板を位置決めするための位置決め部材と、前記テーブル上に載置された基板の非有効領域における当該基板の表面側と裏面側に、各々同軸上にアライメントマークを形成する複数のアライメントマーク形成部とを備えたことを特徴とする。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記各アライメントマーク形成部は、前記基板に塗布されたフォトレジストに像を形成することが可能な光を出射する光源と、前記位置決め用アライメントマークに対応したパターンを有するマスクと、前記マスクのパターンを前記基板上に投影する光学系と、から成る露光部を、前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有する。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記上下一対の露光部のうち、前記テーブル上に載置された基板の上方に配設された露光部を昇降させる移動機構を備える。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記テーブル上に載置された基板の表面の高さ位置を測定するセンサを備え、前記移動機構は、前記センサの出力に基づいて前記テーブル上に載置された基板の上方に配設された露光部を昇降させる。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記各アライメントマーク形成部は、アライメントマークとしての打痕を形成するためのものであり、前記テーブル上に載置された基板の非有効領域における当該基板の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された一対の打痕形成ピンと、当該一対の打痕形成ピンにより基板を挟持するように一対の打痕形成ピンのうちの少なくとも一方を移動させる移動機構とから成る打痕形成部から構成される。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記打痕形成部は、前記テーブル上に載置された基板の下面側において、前記テーブルに固定された打痕形成ピンとしての固定ピンと、前記テーブル上に載置された基板の上面側において、昇降可能に配設された打痕形成ピンとしての昇降ピンと、前記昇降ピンを昇降駆動する駆動手段とを備える。
【００１１】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記昇降ピンの上方で昇降可能な重り部材と、前記重り部材を上昇させた後、前記昇降ピン上に落下させる重り部材落下機構とを備える。
【００１２】
請求項８に記載の発明は、請求項６または請求項７に記載の発明において、前記固定ピンおよび昇降ピンの先端には、円柱状の形状を有し、その内部に断面円形の中空部が形成された打痕部が形成される。
【００１３】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記打痕部における中空部は、排気機構に連結される。
【００１４】
請求項１０に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記各アライメントマーク形成部は、前記基板にアライメントマークを転写するためのスタンプと、前記スタンプを、前記テーブル上に載置された基板の表面または裏面に当接する転写位置と、前記テーブル上に載置された基板の表面または裏面から離隔した退避位置との間で昇降させるスタンプ部を、前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有する。
【００１５】
請求項１１に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記各アライメントマーク形成部は、前記基板にアライメントマークを転写するためのインクジェットヘッド部を、前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有する。
【００１６】
請求項１２に記載の発明は、請求項１１に記載の発明において、前記上下一対のインクジェットヘッド部のうち、前記テーブル上に載置された基板の上方に配設されたインクジェットヘッド部を昇降させる移動機構を備える。
【００１７】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載の発明において、前記テーブル上に載置された基板の表面の高さ位置を測定するセンサを備え、前記移動機構は、前記センサの出力に基づいて前記テーブル上に載置された基板の上方に配設されたインクジェットヘッド部を昇降させる。
【００１８】
請求項１４に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記各アライメントマーク形成部は、前記基板を加工することが可能なレーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記基板上に照射される光学系と、から成るレーザ加工部を、前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有する。
【００１９】
請求項１５に記載の発明は、請求項１４に記載の発明において、前記レーザ光源は、赤外線レーザ光を出射する。
【００２０】
請求項１６に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記各アライメントマーク形成部は、その表面にアライメントマークに対応したパターンが形成され、前記基板の表面に当接可能なビットと、前記ビットに対して超音波振動を付与する超音波振動子と、から成る超音波加工部を、前記テーブル上に載置された基板の上下に各々配設した構成を有する。
【００２１】
請求項１７に記載の発明は、請求項１６に記載の発明において、前記ビット付近の雰囲気を吸引して外部に排出する排気機構をさらに有する。
【００２２】
請求項１８に記載の発明は、請求項１乃至請求項１７のいずれかに記載の発明において、前記アライメントマーク形成部は、矩形状の基板における第１の辺の近傍に２個、前記第１の辺と直交する第２の辺の近傍に１個配設される。
【００２３】
請求項１９に記載の発明は、請求項１８に記載の発明において、前記テーブルの表面は、前記第１の辺および前記第２の辺方向が低くなるように傾斜する。
【００２４】
請求項２０に記載の発明は、請求項１９に記載の発明において、前記テーブルの表面には、基板に向けて空気を噴出する空気噴出口が形成される。
【発明の効果】
【００２５】
請求項１に記載の発明によれば、簡易な構成でありながら、貫通孔を使用することなく、基板の両面に形成されるパターンの位置決めを実行することが可能となる。
【００２６】
請求項２に記載の発明によれば、マスクを交換することによりアライメントマークのパターン形状を任意に変更することが可能となる。
【００２７】
請求項３および請求項１２に記載の発明によれば、基板の厚みが変化した場合であっても、正確にアライメントマークを形成することが可能となる。
【００２８】
請求項４および請求項１３に記載の発明によれば、基板の厚みに対応させてアライメントマーク形成部を適切に配置することが可能となる。
【００２９】
請求項５に記載の発明によれば、簡易な構成によりアライメントマークとしての打痕を形成することが可能となる。
【００３０】
請求項６に記載の発明によれば、昇降ピンを下降させることにより基板の両面にアライメント用の打痕を形成することが可能となる。
【００３１】
請求項７に記載の発明によれば、重り部材の作用により、鮮明に打痕を形成することが可能となる。
【００３２】
請求項８に記載の発明によれば、画像処理に好適な円形の打痕を形成することが可能となる。
【００３３】
請求項９に記載の発明によれば、基板表面の保護フィルムを回収することが可能となる。
【００３４】
請求項１０に記載の発明によれば、スタンプを交換することによりアライメントマークのパターン形状を任意に変更することが可能となる。
【００３５】
請求項１１に記載の発明によれば、転写パターンを変更することによりアライメントマークのパターン形状を任意に変更することが可能となる。
【００３６】
請求項１４に記載の発明によれば、レーザにより基板を加工することでアライメントマークを形成することが可能となる。
【００３７】
請求項１５に記載の発明によれば、赤外線レーザ光を利用して基板を加工することが可能となる。
【００３８】
請求項１６に記載の発明によれば、超音波振動により基板を加工することでアライメントマークを形成することが可能となる。
【００３９】
請求項１７に記載の発明によれば、ビットによる超音波振動で発生した基板の切り子を外部に排出することが可能となる。
【００４０】
請求項１８に記載の発明によれば、３個のアライメントマークを利用して、正確な位置決めを実行することが可能になる。
【００４１】
請求項１９に記載の発明によれば、基板を容易に位置決めすることが可能となる。
【００４２】
請求項２０に記載の発明によれば、基板の位置決め時に基板を容易に移動させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明の第１実施形態に係るアライメントマーク形成装置１０の斜視図である。
【００４４】
このアライメントマーク形成装置１０は、基板１００（図３参照）の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークとしての打痕を形成するためのものであり、架台１３上に載置されたベースフレーム１４と、基板１００を載置するためのテーブル１１と、このテーブル１１上に載置された基板１００を位置決めするための３個の位置決めピン２１と、アライメントマーク形成部としての３個の打痕形成部３１ａ、３１ｂ、３１ｃ（これらを総称する場合には、単に「打痕形成部３１」という）と、傾斜板１２とを備える。
【００４５】
３個の打痕形成部３１は、矩形状の基板１００の三箇所の位置にアライメントマークとしての打痕を形成するためのものである。すなわち、テーブル１１上に載置される矩形状の基板１００における図１に示すＹ方向に延びる第１の辺の近傍に２個の打痕形成部３１ａ、３１ｂが配置されており、Ｘ方向に延びる第２の辺の近傍に１個の打痕形成部３１ｃが配置されている。打痕形成部３１ａ、３１ｂは、リニアガイド１５の作用によりＹ方向に移動可能となっている。また、打痕形成部３１ｃは、リニアガイド１６の作用によりＸ方向に移動可能となっている。
【００４６】
また、位置決めピン２１は、テーブル１１上に載置される矩形状の基板１００におけるＹ方向に延びる第１の辺に１個、また、Ｘ方向に延びる第２の辺に２個、各々当接して、基板１００を位置決めする構成となっている。なお、この位置決めピン２１も、微動可能に構成されている。
【００４７】
テーブル１１の表面には、多数の孔部が形成されており、この孔部より空気を噴出可能となっている。また、テーブル１１の表面は、傾斜板１２の作用により、Ｘ方向、Ｙ方向の両方において、位置決めピン２１側が低くなるように傾斜している。このため、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置したときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。このため、基板１００を容易に位置決めすることが可能となる。
【００４８】
図２は打痕形成部３１の斜視図であり、図３はその縦断面図である。
【００４９】
この打痕形成部３１は、テーブル１１上に載置された基板１００の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された、一対の打痕形成ピンとしての固定ピン３４および昇降ピン３２を備える。この固定ピン３４および昇降ピン３２は、基板１００の非有効領域で、かつ、上記第１の辺および第２の辺の近傍に、アライメントマークとしての打痕を形成する。
【００５０】
固定ピン３４は、ベースブロック３５を介してテーブル１１に固定されている。一方、昇降ピン３２は、支持部材４９により支持されており、この支持部材４９はガイド部材４１により案内されて昇降ピン３２とともに昇降可能となっている。また、支持部材４９は、ブラケット３８を介してエアシリンダ４６と連結されている。このため、昇降ピン３２は、エアシリンダ４６の駆動により昇降する。
【００５１】
図４は、昇降ピン３２を、支持部材４９およびガイド部材４１とともに示す斜視図である。
【００５２】
昇降ピン３２は、支持部材４９と着脱自在となっており、必要に応じて交換可能となっている。この昇降ピン３２の先端には、円柱状の形状を有し、その内部に断面円形の直径約２ｍｍの中空部１０１が形成された打痕部が形成されている。そして、この昇降ピン３２の中空部１０１は、ブロアまたは真空ポンプ等の排気機構に連結されたチューブ４４と接続されている。
【００５３】
同様に、固定ピン３４も、打痕形成部３１に対して着脱自在となっており、必要に応じて交換可能となっている。この固定ピン３４の先端には、円柱状の形状を有し、その内部に断面円形の中空部が形成された打痕部が形成されている。そして、この固定ピン３４の中空部も、ブロアまたは真空ポンプ等の排気機構に連結されたチューブ４４と接続されている。
【００５４】
打痕形成部３１の最上部には重り部材としてのカウンター３３が配設されており、このカウンター３３にはハンマーヘッド３６が連結されている。また、ハンマーヘッド３６は、カウンター３３とともに、ハンマーヘッド３６が昇降ピン３２に連結されたパンチヘッド３７と当接する位置と、ハンマーヘッド３６がパンチヘッド３７から所定距離離隔した位置との間を昇降可能となっている。そして、ハンマーヘッド３６およびカウンター３３は、エアシリンダ４５の駆動により昇降する構成となっている。このため、エアシリンダ４５の駆動により、カウンターを上昇させた後、昇降ピン３２に連結されたパンチヘッド上に落下させることが可能となる。
【００５５】
打痕形成部３１の下方には、ガイド３９が配設されており、このガイド３９の上部には、押さえ部４３を備えたエアシリンダ４２が配設されいる。このガイド３９および押さえ部４３は、それらの間に基板１００を挟持して固定するためのものである。このガイド３９の上面は、固定ピン３４の上端と略同一の高さ位置となっている。なお、押さえ部４３を使用するかわりに、テーブル１１に形成された多数の孔部から空気を吸引することにより、基板１００をテーブル１１上に吸着保持するようにしてもよい。
【００５６】
次に、以上のような構成を有するアライメントマーク形成装置１０により、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークとしての打痕を形成する場合の打痕形成動作について説明する。
【００５７】
打痕を形成する場合には、最初に、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置する。このときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。
【００５８】
この状態において、エアシリンダ４２の駆動により押さえ部４３を下降させ、位置決めピン２１により位置決めされた基板１００を押さえ部４３とガイド３９との間に挟持して固定する。そして、エアシリンダ４６の駆動により昇降ピン３２を下降させ、昇降ピン３２および固定ピン３４を基板１００の両面に当接させる。
【００５９】
次に、エアシリンダ４５の駆動によりカウンター３３をハンマーヘッド３６とともに上昇させる。そして、エアシリンダを切り換え、カウンター３３をハンマーヘッド３６とともに落下させることにより、ハンマーヘッド３６でパンチヘッド３７を打ち付ける。このときのカウンター３３の運動エネルギーにより、基板１００の両面には、昇降ピン３２および固定ピン３４によるアライメントマークとしての打痕が形成される。なお、カウンターの重量は、基板１００の種類にもよるが、１乃至５キログラム程度とすることが好ましい。
【００６０】
一例として、厚みが０．５ｍｍの基板１００に対して、約３ｋｇの重量のカウンター３３を２０ｍｍ程度落下させることにより、アライメントマークとしての打痕を形成することが可能となる。
【００６１】
なお、基板１００の種類によっては、フォトレジストの表面に保護フィルムが貼着されている場合がある。この場合には、打痕の形成時に保護フィルムが円形に切り取られることになる。この保護フィルムは、排気機構の作用により、一対のチューブ４４を介して回収される。
【００６２】
なお、上述した実施形態においては、円柱状の形状を有しその内部に断面円形の中空部が形成された打痕部を有する昇降ピン３２および固定ピン３４を使用している。このため、後工程における画像処理に好適な円形の打痕を形成することができ、また、昇降ピン３２および固定ピン３４の加工を容易なものとすることが可能になる。但し、他の形状の打痕部を有する昇降ピンや固定ピンを使用してもよい。
【００６３】
次に、この発明の他の実施の形態について説明する。図５は、この発明の第２実施形態に係るアライメントマーク形成装置１０の斜視図である。なお、上述した第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６４】
このアライメントマーク形成装置１０は、基板１００の表面に塗布されたフォトレジストに対して露光を行うことにより、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成するためのものであり、第１実施形態と同様、架台１３上に載置されたベースフレーム１４と、基板１００を載置するためのテーブル１１と、このテーブル１１上に載置された基板１００を位置決めするための３個の位置決めピン２１と、３個のアライメントマーク形成部５１ａ、５１ｂ、５１ｃ（これらを総称する場合には、単に「アライメントマーク形成部５１」という）と、傾斜板１２とを備える。
【００６５】
３個のアライメントマーク形成部５１は、矩形状の基板１００の三箇所の位置にアライメントマークとしての潜像を形成するためのものである。すなわち、テーブル１１上に載置される矩形状の基板１００における図５に示すＹ方向に延びる第１の辺の近傍に２個のアライメントマーク形成部５１ａ、５１ｂが配置されており、Ｘ方向に延びる第２の辺の近傍に１個のアライメントマーク形成部５１ｃが配置されている。アライメントマーク形成部５１ａ、５１ｂは、リニアガイド１５の作用によりＹ方向に移動可能となっている。また、アライメントマーク形成部５１ｃは、リニアガイド１６の作用によりＸ方向に移動可能となっている。
【００６６】
また、位置決めピン２１は、第１実施形態の場合と同様、テーブル１１上に載置される矩形状の基板１００におけるＹ方向に延びる第１の辺に１個、また、Ｘ方向に延びる第２の辺に２個、各々当接して、基板１００を位置決めする構成となっている。なお、この位置決めピン２１も、微動可能に構成されている。
【００６７】
テーブル１１の表面には、多数の孔部が形成されており、この孔部より空気を噴出可能となっている。また、テーブル１１の表面は、傾斜板１２の作用により、Ｘ方向、Ｙ方向の両方において、位置決めピン２１側が低くなるように傾斜している。このため、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置したときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。このため、基板１００を容易に位置決めすることが可能となる。
【００６８】
図６はアライメントマーク形成部５１の斜視図であり、図７はその縦断面図である。
【００６９】
このアライメントマーク形成部５１は、テーブル１１上に載置された基板１００の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された、一対の露光部５２、５３を備える。この一対の露光部５２、５３は、基板１００の非有効領域で、かつ、上記第１の辺および第２の辺の近傍に、アライメントマークを形成する。
【００７０】
各露光部５２、５３は、ＵＶ光を出射するＬＥＤ５４と、位置決め用アライメントマークに対応したパターンを有するマスク５５と、複数のレンズ６１、６２、６３、６４、６５、６６および絞りとしてのアパーチャ６７より成る光学系とを備える。マスク５５、複数のレンズ６１、６２、６３、６４、６５、６６およびアパーチャ６７は、鏡筒６８により支持されている。なお、複数のレンズ６１、６２、６３、６４、６５、６６およびアパーチャ６７より成る光学系は、マスク５５のパターンを基板１００の表面および裏面に投影する投影光学系として機能する。
【００７１】
テーブル１１上に載置された基板１００の裏面側に配設された露光部５３は、ホルダー７２を介してベースブロック７１に固定されている。
【００７２】
また、テーブル１１上に載置基板１００の表面側に配設された露光部５２は、ホルダー７４により支持されている。このホルダー７４はリニアガイド７３を介してベースブロック７１に連結されている。また、ホルダー７４には、ナット７８が付設されている。このナット７８は、ボールねじ７７と螺合している。そして、このボールねじ７７は、カップリング７６を介してモータ７５と連結されている。このため、上側の露光部５２は、モータ７５の駆動により昇降する。
【００７３】
図６に示すように、上側の露光部５２の側方には、押さえ部５７を備えたエアシリンダ５６が配設されいる。また、図６および図７に示すように、上側の露光部５２と下側の露光部５３との間には、その中央に開口部８１が形成された支持板８２が配設されている。この支持板８２および押さえ部５７は、それらの間に基板１００を挟持して固定するためのものである。なお、押さえ部５７を使用するかわりに、テーブル１１に形成された多数の孔部から空気を吸引することにより、基板１００をテーブル１１上に吸着保持するようにしてもよい。
【００７４】
また、図６に示すように、上側の露光部５２の側方には、テーブル１１上に載置され支持板８２上に配置された基板１００の表面の高さ位置を測定するためのセンサ８３が配設されている。
【００７５】
次に、この第２実施形態に係るアライメントマーク形成装置１０により、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成する場合のアライメントマーク形成動作について説明する。
【００７６】
アライメントマークを形成する場合には、最初に、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置する。このときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。
【００７７】
この状態において、エアシリンダ５６の駆動により押さえ部５７を下降させ、位置決めピン２１により位置決めされた基板１００を押さえ部５７と支持板８２との間に挟持して固定する。そして、センサ８３より検出した基板１００の表面の高さ位置に基づいて、モータ７５の駆動により上側の露光部５２を昇降させ、テーブル１１上に載置された基板１００の上面に露光部５２におけるマスク５５のパターンが結像されるようにする。なお、露光部５３におけるマスク５５のパターンは、テーブル１１上に載置され支持板８２上に配置された基板１００の裏面に結像されるように、露光部５３が予め配置されている。
【００７８】
この状態において、各露光部５２、５３におけるＬＥＤ５４を点灯し、ＵＶ光を出射させる。これにより、マスク５５のパターンが光学系を介して基板１００の表面および裏面に投影される。このときには、基板１００の表面に形成されたフォトレジストに対し、マスク５５のパターンが焼き付けられ、潜像が形成される。これにより、基板１００に対し、この基板の両面に形成されるパターンに対する、位置決め用アライメントマークが形成される。
【００７９】
なお、この実施形態に係るアライメントマーク形成部５１においては、マスク５５を交換することにより、基板１００の表面および裏面に形成されるアライメントマークのパターンを変更することができる。このため、アライメントマークの形状に基づいて基板１００の情報や描画データの情報を読み込むことができる。また、基板１００の表面と裏面とでパターンを異ならせることにより、基板１００の表裏の判定を実行することも可能となる。
【００８０】
次に、この発明のさらに他の実施の形態について説明する。図８はこの発明の第３実施形態に係るアライメントマーク形成部１２１を示す斜視図であり、図９はその側面図である。
【００８１】
なお、以下で説明する実施形態は、いずれも、上述した第２実施形態に係るアライメントマーク形成装置１０において、アライメントマーク形成部５１の構成のみが異なっている。このため、以下の実施形態においては、アライメントマーク形成部の構成のみを説明することとする。
【００８２】
この第３実施形態に係るアライメントマーク形成部１２１は、テーブル１１上に載置された基板１００の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された、一対のスタンプ部１２２、１２３を備える。この一対のスタンプ部１２２、１２３は、上述した実施形態と同様、基板１００の非有効領域で、かつ、上記第１の辺および第２の辺の近傍に、アライメントマークを形成する。
【００８３】
各スタンプ部１２２、１２３は、基板１００の表面および裏面にアライメントマークを転写するためのスタンプ１２４と、このスタンプ１２４を保持するスタンプホルダー１２５とを備える。このスタンプホルダー１２５は、ガイド付きエアシリンダー１２６を介してベースブロック１２７に連結されている。このため、スタンプ１２４は、ガイド付きエアシリンダー１２６の駆動により昇降する。また、スタンプ１２４は、スタンプホルダー１２５およびインク供給ホース１２８を介して、インクの供給源と接続されている。
【００８４】
上側のスタンプ部１２２の両側には、押さえ部１３２を備えたエアシリンダ１３１が配設されいる。また、上側のスタンプ部１２２と下側のスタンプ部１２３との間には、その中央に開口部１３３が形成された支持板１３４が配設されている。この支持板１３４および押さえ部１３２は、それらの間に基板１００を挟持して固定するためのものである。なお、押さえ部１３２を使用するかわりに、テーブル１１に形成された多数の孔部から空気を吸引することにより、基板１００をテーブル１１上に吸着保持するようにしてもよい。
【００８５】
次に、この第３実施形態に係るアライメントマーク形成部１２１により、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成する場合のアライメントマーク形成動作について説明する。
【００８６】
アライメントマークを形成する場合には、上述した実施形態と同様、最初に、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置する。このときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。
【００８７】
この状態において、エアシリンダ１３１の駆動により押さえ部１３２を下降させ、位置決めピン２１により位置決めされた基板１００を押さえ部１３２と支持板１３４との間に挟持して固定する。
【００８８】
しかる後、ガイド付きエアシリンダー１２６の駆動により、一対のスタンプ１２４を昇降させ、これらのスタンプ１２４を基板１００の表面および裏面に当接させる。これにより、基板１００に対してスタンプ１２４のパターンが転写され、この基板の両面に形成されるパターンに対する、位置決め用アライメントマークが形成される。
【００８９】
なお、この実施形態に係るアライメントマーク形成部１２１においては、一対のスタンプ１２４を交換することにより、基板１００の表面および裏面に形成されるアライメントマークのパターンを変更することができる。
【００９０】
次に、この発明のさらに他の実施の形態について説明する。図１０はこの発明の第４実施形態に係るアライメントマーク形成部１４１を示す斜視図であり、図１１はその側面図である。
【００９１】
この第４実施形態に係るアライメントマーク形成部１４１は、テーブル１１上に載置された基板１００の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された、一対のインクジェットヘッド部１４２、１４３を備える。この一対のインクジェットヘッド部１４２、１４３は、上述した実施形態と同様、基板１００の非有効領域で、かつ、上記第１の辺および第２の辺の近傍に、アライメントマークを形成する。
【００９２】
各インクジェットヘッド部１４２、１４３は、基板１００の表面および裏面にアライメントマークを転写するためのインクジェットヘッド１４５を備える。このインクジェットヘッド１４５は、カバー１４４内に収納されている。
【００９３】
テーブル１１上に載置された基板１００の裏面側に配設されたインクジェットヘッド部１４３は、ホルダー１５０を介してベースブロック１４８に固定されている。
【００９４】
また、テーブル１１上に載置基板１００の表面側に配設されたインクジェットヘッド部１４２は、ホルダー１４６により支持されている。このホルダー１４６はリニアガイド１４７を介してベースブロック１４８に連結されている。また、ホルダー１４６には、ボールねじユニット１４９が付設されている。このボールねじユニット１４９は、モータ１５５と連結されている。このため、上側のインクジェットヘッド部１４２は、モータ１５５の駆動により昇降する。
【００９５】
図１０に示すように、上側のインクジェットヘッド部１４２の側方には、押さえ部１５２を備えたエアシリンダ１５１が配設されいる。また、図１０および図１１に示すように、上側のインクヘットヘッド部１４２と下側のインクジェットヘッド部１４３との間には、その中央に開口部１５５が形成された支持板１５３が配設されている。この支持板１５３および押さえ部１５２は、それらの間に基板１００を挟持して固定するためのものである。なお、押さえ部１５２を使用するかわりに、テーブル１１に形成された多数の孔部から空気を吸引することにより、基板１００をテーブル１１上に吸着保持するようにしてもよい。
【００９６】
また、図１０に示すように、上側のインクジェットヘッド部１４２の側方には、テーブル１１上に載置され支持板１５３上に配置された基板１００の表面の高さ位置を測定するためのセンサ１５６が配設されている。
【００９７】
次に、この第４実施形態に係るアライメントマーク形成部１４１により、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成する場合のアライメントマーク形成動作について説明する。
【００９８】
アライメントマークを形成する場合には、最初に、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置する。このときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。
【００９９】
この状態において、エアシリンダ１５１の駆動により押さえ部１５２を下降させ、位置決めピン２１により位置決めされた基板１００を押さえ部１５２と支持板１５３との間に挟持して固定する。そして、センサ１５６より検出した基板１００の表面の高さ位置に基づいて、モータ１５５の駆動により上側のインクジェットヘッド部１４２を昇降させ、インクジェットヘッド１４５と基板１００の表面との距離を印刷に適した位置に設定する。なお、インクジェットヘッド部１４３におけるインクジェットヘッド１４５と基板１００の裏面との距離は、予め適正となるように設定されている。
【０１００】
この状態において、各インクジェットヘッド部１４２、１４３からインクを吐出することにより、基板１００の表面および裏面に対して、位置決め用アライメントマークが描画される。これにより、基板１００に対し、この基板の両面に形成されるパターンに対する、位置決め用アライメントマークが形成される。
【０１０１】
なお、この実施形態に係るアライメントマーク形成部１４１においては、各インクジェットヘッド部１４２、１４３による描画パターンを変更することにより、基板１００の表面および裏面に形成されるアライメントマークのパターンを任意に変更することができる。
【０１０２】
次に、この発明のさらに他の実施の形態について説明する。図１２はこの発明の第５実施形態に係るアライメントマーク形成部１６１を示す斜視図であり、図１３はその側面図である。なお、図１３においては、アライメントマーク形成部１６１のうち、上部に配置されたレーザ加工部１６２のみを示している。
【０１０３】
この第５実施形態に係るアライメントマーク形成部１６１は、テーブル１１上に載置された基板１００の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された、一対のレーザ加工部１６２、１６３を備える。この一対のレーザ加工部１６２、１６３は、上述した実施形態と同様、基板１００の非有効領域で、かつ、上記第１の辺および第２の辺の近傍に、アライメントマークを形成する。
【０１０４】
各レーザ加工部１６２、１６３は、鏡筒１６５と、高出力のＩＲ光（ｉｎｆｒａ−ｒｅｄ  ｒａｄｉａｔｉｏｎ）を出射するＩＲ半導体レーザ１６８と、ＩＲ半導体レーザ１６８から出射されたＩＲ光をコリメートするコリメートレンズ１６９と、絞り１７２と、一対の投影レンズ１７３、１７４とを備える。なお、鏡筒１６５は、図示しない昇降機構により昇降する構成となっている。
【０１０５】
ＩＲ半導体レーザ１６８は、制御ケーブル１７１を介して制御部に接続されており、制御部からの制御信号でその発光が制御される。ＩＲ半導体レーザ１６８の周囲には、ＩＲ半導体レーザ１６８からの発熱を外部に放出するためのヒートシンク１６４が配設されている。
【０１０６】
鏡筒１６５の一端には、基板１００の表面および裏面と当接する当接部１６７が形成されている。そして、この当接部１６７付近には、パージエアの供給管１７６および排出管１７７を有するエア流通路１６６と、整流板１７５とが配設されている。
【０１０７】
次に、この第５実施形態に係るアライメントマーク形成部１６１により、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成する場合のアライメントマーク形成動作について説明する。
【０１０８】
アライメントマークを形成する場合には、最初に、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置する。このときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。
【０１０９】
次に、図示しない昇降機構により各レーザ加工部１６２、１６３を互いに近接する方向に移動させ、各レーザ加工部１６２、１６３における当接部１６７と基板１００の表面および裏面とを当接させる。
【０１１０】
この状態において、ＩＲ半導体レーザ１６８を点灯させる。ＩＲ半導体レーザ１６８から出射された高出力のＩＲ光は、投影レンズ１７３、１７４により基板１００の表面および裏面に投影され、基板１００の表面および裏面に絞り１７２の像を結像する。このときの投影像の直径を１２０μｍ程度の大きさに制御することにより、集中したＩＲ光の光エネルギーで基板１００の表面の保護フィルムやフォトレジスト等が瞬時に加熱され、蒸発または熱分解を起こして飛散する。このときに生ずる蒸発や熱分解による生成物は、パージエアの供給管１７６および排出管１７７を有するエア流通路１６６と、整流板１７５との作用により、迅速に排出される。
【０１１１】
このようにして、ＩＲ半導体レーザ１６８の点灯と消灯を繰り返すことにより、基板１００の表面および裏面に必要な深さの凹部が形成される。これにより、基板１００に対し、この基板の両面に形成されるパターンに対する、位置決め用アライメントマークが形成される。
【０１１２】
次に、この発明のさらに他の実施の形態について説明する。図１４はこの発明の第６実施形態に係るアライメントマーク形成部１８１を示す斜視図であり、図１５はその側面図である。なお、図１５においては、アライメントマーク形成部１８１のうち、上部に配置された一対の超音波加工部１８２のみを示している。
【０１１３】
この第６実施形態に係るアライメントマーク形成部１８１は、テーブル１１上に載置された基板１００の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された、一対の超音波加工部１８２、１８３を備える。この一対の超音波加工部１８２、１８３は、上述した実施形態と同様、基板１００の非有効領域で、かつ、上記第１の辺および第２の辺の近傍に、アライメントマークを形成する。
【０１１４】
超音波加工部１８２、１８３は、超音波振動子１８４と、ビット１８６と、超音波振動子１８４の振動をビット１８６に伝達する加工ロッド１８５と、ビット１８６の周囲に配設されたカップ１９１とを備える。加工ロッド１８５の内部には、ブロー配管１８７に連結するエア流通路１８９が形成されている。また、カップ１９１は、バキューム配管１８８と接続されている。これらの超音波加工部１８２、１８３は、図示しない昇降機構により昇降する構成となっている。
【０１１５】
ビット１８６は、基板１００の表面または裏面に当接した状態で超音波振動が付与されることにより、基板１００の表面または裏面に凹部を形成するためのものである。このビット１８６の加工面には、図１６に示すような二重円状のパターン１９２や、図１７に示すような同心円状のパターン１９３、あるいは、図１８に示すような十字状のパターン１９４が形成されている。
【０１１６】
次に、この第６実施形態に係るアライメントマーク形成部１６１により、基板１００の両面に形成されるパターンの位置決め用アライメントマークを形成する場合のアライメントマーク形成動作について説明する。図１９乃至図２１は、アライメントマークの形成行程を示す説明図である。なお、図１９乃至図２１においては、上下一対の超音波加工部１８２、１８３のうち、上側の超音波加工部１８２のみを図示している。
【０１１７】
アライメントマークを形成する場合には、最初に、テーブル１１の孔部から空気を噴出した状態でテーブル１１上に基板１００を載置する。このときには、基板１００はテーブル１１上をテーブル１１の表面に沿って移動し、自動的にその２辺が各々位置決めピン２１と当接する状態となる。この状態においては、図１９に示すように、基板１００は上下一対の超音波加工部１８２、１８３の間に配置される。
【０１１８】
次に、図示しない昇降機構により各超音波加工部１８２、１８３を互いに近接する方向に移動させ、図２０に示すように、各超音波加工部１８２、１８３におけるビット１８６と基板１００の表面および裏面とを当接させる。
【０１１９】
そして、この状態において、超音波振動子１８４を振動させる。このときの振動周波数は、例えば、１０キロヘルツ程度の周波数である。これにより、基板１００の表面のフォトレジスト１０３および保護フィルム１０２がビット１８６の微小振動により徐々に削られる。このときには、ブロー配管１８７に連結するエア流通路１８９から空気が噴出され、また、バキューム配管１８８からカップ１９１の雰囲気が排出される。
【０１２０】
このような状態で一定の時間が経過すれば、基板１００の表面および裏面に必要な深さの凹部が形成される。この凹部は、フォトレジスト１０３にのみ形成してもよいし、基板１００にいたる凹部を形成してもよい。これにより、基板１００に対し、この基板の両面に形成されるパターンに対する、位置決め用アライメントマークが形成される。
【０１２１】
基板１００に必要なアライメントマークが形成されれば、図示しない昇降機構により各超音波加工部１８２、１８３を互いに離隔する方向に移動させ、図２１に示すように、各超音波加工部１８２、１８３におけるビット１８６と基板１００の表面および裏面とを離隔させる。そして、ブロー配管１８７に連結するエア流通路１８９から空気を噴出するとともに、バキューム配管１８８からカップ１９１の雰囲気を排出することにより、超音波加工により生じた切り子等を完全に排出する。
【０１２２】
図２２は、上述した各アライメントマーク形成装置１０を基板１００の処理ラインに組み込んだ場合を示す斜視図である。
【０１２３】
この処理ラインにおいては、この発明の第１の実地形態に係る打痕形成部３１を備えたアライメントマーク形成装置１０によりアライメントマークとしての打痕を基板１００の両面に形成する。もちろん、上記打痕形成部３１の代わりに第２乃至第６の実地形態に係るアライメントマーク形成部５１、１２１、１４１、１６１、１８１を備えたいずれかのアライメントマーク形成装置１０により、アライメントマークを基板１００の両面に形成してもよい。しかる後、搬送装置９３により基板１００を搬送し、表面用露光機９１において基板１００の表面に形成された打痕を利用して基板１００を位置決めした後に表面の露光を行い、引き続き、裏面用露光機９２において基板１００の裏面に形成された打痕を利用して基板１００を位置決めした後に裏面の露光を行い、両面露光後の基板１００を矢印９４に示す方向に排出する。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】この発明の第１実施形態に係るアライメントマーク形成装置１０の斜視図である。
【図２】打痕形成部３１の斜視図である。
【図３】打痕形成部３１の縦断面図である。
【図４】昇降ピン３２を、支持部材４９およびガイド部材４１とともに示す斜視図である。
【図５】この発明の第２実施形態に係るアライメントマーク形成装置１０の斜視図である。
【図６】アライメントマーク形成部５１の斜視図である。
【図７】アライメントマーク形成部５１の縦断面図である。
【図８】この発明の第３実施形態に係るアライメントマーク形成部１２１を示す斜視図である。
【図９】この発明の第３実施形態に係るアライメントマーク形成部１２１を示す側面図である。
【図１０】この発明の第４実施形態に係るアライメントマーク形成部１４１を示す斜視図である。
【図１１】この発明の第４実施形態に係るアライメントマーク形成部１４１を示す側面図である。
【図１２】この発明の第５実施形態に係るアライメントマーク形成部１６１を示す斜視図である。
【図１３】この発明の第５実施形態に係るアライメントマーク形成部１６１を示す側面図である。
【図１４】この発明の第６実施形態に係るアライメントマーク形成部１８１を示す斜視図である。
【図１５】この発明の第６実施形態に係るアライメントマーク形成部１８１を示す側面図である。
【図１６】ビット１８６のパターンを示す斜視図である。
【図１７】ビット１８６のパターンを示す斜視図である。
【図１８】ビット１８６のパターンを示す斜視図である。
【図１９】アライメントマークの形成行程を示す説明図である。
【図２０】アライメントマークの形成行程を示す説明図である。
【図２１】アライメントマークの形成行程を示す説明図である。
【図２２】アライメントマーク形成装置１０を基板１００の処理ラインに組み込んだ場合を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１２５】
１０      アライメントマーク形成装置
１１      テーブル
１２      傾斜板
１３      架台
１４      ベースフレーム
１５      リニアガイド
１６      リニアガイド
２１      位置決めピン
３１      打痕形成部
３２      昇降ピン
３３      カウンター
３４      固定ピン
３５      ベースブロック
３６      ハンマーヘッド
３７      パンチヘッド
３８      ブラケット
３９      ガイド
４１      ガイド部材
４２      エアシリンダ
４３      押さえ部
４４      チューブ
４５      エアシリンダ
４６      エアシリンダ
４９      支持部材
５１      アライメントマーク形成部
５２      露光部
５３      露光部
５４      ＬＥＤ
５５      マスク
５６      エアシリンダ
５７      押さえ部
７１      ベースブロック
７２      ホルダー
７３      リニアガイド
７４      ホルダー
７５      モータ
７７      ボールねじ
７８      ナット
８２      支持板
９１      露光装置
９２      露光装置
９３      搬送装置
１００    基板
１０１    中空部
１２１    アライメントマーク形成部
１２２    スタンプ部
１２３    スタンプ部
１２４    スタンプ
１２６    ガイド付きエアシリンダー
１３１    エアシリンダ
１３２    押さえ部
１３４    支持板
１４１    アライメントマーク形成部
１４２    インクジェットヘッド部
１４３    インクジェットヘッド部
１４５    インクジェットヘッド
１４７    リニアガイド
１４９    ボールねじユニット
１５１    エアシリンダ
１５２    押さえ部
１５３    支持板
１５５    モータ
１５６    センサ
１６１    アライメントマーク形成部
１６２    レーザ加工部
１６３    レーザ加工部
１６４    ヒートシンク
１６５    鏡筒
１６７    当接部
１６８    ＩＲ半導体レーザ
１６９    コリメートレンズ
１７２    絞り
１７３    投影レンズ
１７４    投影レンズ
１８１    アライメントマーク形成部
１８２    超音波加工部
１８３    超音波加工部
１８４    超音波振動子
１８５    加工ロッド
１８６    ビット
１８７    ブロー配管
１８８    バキューム配管
１８９    エア流通路
【図１】
2009099939.tif 000003
【図２】
2009099939.tif 000004
【図３】
2009099939.tif 000005
【図４】
2009099939.tif 000006
【図５】
2009099939.tif 000007
【図６】
2009099939.tif 000008
【図７】
2009099939.tif 000009
【図８】
2009099939.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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