(57)【要約】【課題】耐食性が良好な裏面反射鏡を備えたミラーペンタ２７を提供する。【解決手段】ミラーペンタ２７はプリズム本体２７１を有する。プリズム本体２７１には反射鏡２７２が積層されている。反射鏡２７２は金属薄膜層２７２２と、この金属薄膜層に積層された保護層２７２４とを有する。保護層２７２４は防錆物質を含む。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属薄膜層と、前記金属薄膜層に積層された保護層とを有し、
前記保護層は、防錆物質を含む裏面反射鏡。
【請求項２】
請求項１記載の裏面反射鏡であって、
前記防錆物質は、金属リン酸塩系物質を含む裏面反射鏡。
【請求項３】
請求項２記載の裏面反射鏡であって、
前記金属リン酸塩系物質は、リン酸亜鉛を含む裏面反射鏡。
【請求項４】
請求項２又は３記載の裏面反射鏡であって、
前記金属リン酸塩系物質の含有量は、１．５〜３０重量％である裏面反射鏡。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項記載の裏面反射鏡であって、
前記保護層は、単層又は多層で形成してあり、膜厚が８０〜１２０μｍである裏面反射鏡。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項記載の裏面反射鏡であって、
前記保護層は、前記金属薄膜層に積層される第１保護層と、前記第１保護層に積層された第２保護層とで構成してあり、
前記第１保護層は、前記防錆物質を含む第１保護層用塗料を用いて形成され、
前記第２保護層は、ビヒクル樹脂とシランカップリング剤を含む第２保護層用塗料を用いて形成された裏面反射鏡。
【請求項７】
請求項１〜５の何れか一項記載の裏面反射鏡であって、
前記保護層は、ビヒクル樹脂、前記防錆物質及びシランカップリング剤を含む保護層用塗料を用いて形成された裏面反射鏡。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項記載の裏面反射鏡であって、
前記金属薄膜層は、銀薄膜と、前記銀薄膜に積層された銅薄膜とを含む裏面反射鏡。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか一項記載の裏面反射鏡を備えたペンタプリズム。
【請求項１０】
請求項９記載のペンタプリズムを備えた光学機器。
【請求項１１】
請求項１０記載の光学機器であって、
被写体像を所定位置に結像させる撮影レンズ部を有し、
前記ペンタプリズムは、プリズム本体に形成された前記撮影レンズ部からの光束が入射する入射面と、前記プリズム本体内で反射した前記光束を出射させる出射面とを有し、
前記保護層は、前記プリズム本体の前記入射面と前記出射面とを除くすべての面に形成されている光学機器。
【請求項１２】
防錆物質を含む第１保護層用塗料を金属薄膜層の上に塗布し、乾燥前第１保護層を形成する第１の工程と、
ビヒクル樹脂とシランカップリング剤を含む第２保護層用塗料を前記乾燥前第１保護層の上に塗布し、乾燥前第２保護層を形成する第２の工程と、
前記乾燥前第１保護層と前記乾燥前第２保護層とを同時に乾燥させる第３の工程とを、有する裏面反射鏡の製造方法。
【請求項１３】
ビヒクル樹脂、防錆物質及びシランカップリング剤を含む保護層用塗料を金属薄膜層の上に塗布し、乾燥前保護層を形成する第１の工程と、
前記乾燥前保護層を乾燥させる第２の工程とを、有する裏面反射鏡の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、裏面反射鏡、裏面反射鏡の製造方法、ペンタプリズム及び光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸化クロム保護膜を銀反射膜上に積層した裏面反射鏡を備えたペンタプリズムは知られている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２７５０２９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、酸化クロム保護膜を積層しただけでは、銀反射膜の耐食性を充分に向上させることはできず、良好な反射状態が得られないとの問題があった。
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、耐食性が良好な裏面反射鏡、その製造方法、前記裏面反射鏡を備えたペンタプリズム及び光学機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の解決手段によって上記課題を解決する。なお、本発明の実施形態を示す図面に対応する符号を付して説明するが、この符号は本発明の理解を容易にするためだけのものであって本発明を限定する趣旨ではない。
【０００７】
本発明に係る光学機器（１）はペンタプリズム（２７）を備える。ペンタプリズム（２７）は裏面反射鏡（２７２）を備える。裏面反射鏡（２７２）は金属薄膜層（２７２２）と、この金属薄膜層に積層された保護層（２７２４）とを有する。そして保護層（２７２４）は防錆物質を含む。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、耐食性を良好なものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１０】
《デジタルスチルカメラ》
図１に示すように、光学機器の一例としての本実施形態に係るデジタルスチルカメラ１は、カメラボディ２に交換レンズ４が着脱自在に取り付けられる。
【００１１】
交換レンズ４は、撮影レンズ４２等の光学系を有する。光学系は、被写体像をカメラボディ２内の所定位置に結像させる。
【００１２】
カメラボディ２は、撮像素子２０、シャッタ２１、クイックリターンミラー２２（ハーフミラー部２２２）、サブミラー２３、焦点調節部２４、焦点板２５、液晶表示素子２６、ミラーペンタ２７、ファインダー２８、接眼レンズ２９、操作部材３０、制御装置３１、レンズ駆動装置３２などを備えている。
【００１３】
撮像素子２０は、交換レンズ４の光学系により結像される被写体像を撮像して画像を記録する。撮像素子２０は、例えばＣＣＤやＣＭＯＳ（何れも図示省略）などで構成される。
【００１４】
シャッタ２１は、撮像素子２０の前方に開閉自在に配置してあり、撮影時に開放され、交換レンズ４からの光束Ｌを撮像素子２０に入射させる。
【００１５】
クイックリターンミラー２２は、シャッタ２１の前方に、光軸に対して略４５度傾くように配置されており、交換レンズ４からの光束Ｌを反射する。クイックリターンミラー２２は、反射位置（図１の破線）と退避位置（図１の実線）との間を回動自在であり、撮影時には撮影光路外である退避位置に退避する。
【００１６】
ハーフミラー部２２２は、クイックリターンミラー２２の略中央部に形成されている。ハーフミラー部２２２は、交換レンズ４からの光束Ｌの一部を透過させる。
【００１７】
サブミラー２３は、ハーフミラー部２２２の後方に配置してあり、ハーフミラー部２２２を透過した光束Ｌを焦点調節部２４へ反射する。
【００１８】
焦点調節部２４は、クイックリターンミラー２２の下方に配置されており、サブミラー２３からの光束Ｌが入射して撮影レンズ４２の焦点調節状態を検出する。焦点調節部２４による焦点検出方法に特に制限は無く、瞳分割位相差検出方式などを適宜採用可能である。
【００１９】
焦点板２５は、クイックリターンミラー２２の上方に配置してあり、クイックリターンミラー２２が反射位置にあるときに交換レンズ４からの光束Ｌが結像する。
【００２０】
液晶表示素子２６は、焦点板２５の下方に配置してあり、焦点板２５に結像された被写体像に焦点検出位置や露出値などの種々の情報を重畳して表示する。
【００２１】
ミラーペンタ２７は、焦点板２５の上方に配置してあり、クイックリターンミラー２２からの光束Ｌをファインダー２８に導く。ミラーペンタ２７の詳細は後述する。
【００２２】
接眼レンズ２９は、ミラーペンタ２７の後方に配置してあり、反射鏡２７２により反射された光束Ｌを結像する。その結果、撮影者はファインダー２８を介して被写体像を視認することができる。
【００２３】
操作部材３０は、シャッターボタンや焦点検出エリア選択スイッチなどのカメラ１を操作するためのスイッチやセレクターを含む。
【００２４】
制御装置３１は、ＣＰＵとその周辺部品とから構成され、操作部材３０や焦点調節部２４からの信号に基づいてカメラ１全体の各種制御と演算などを行う。
【００２５】
レンズ駆動装置３２は、モータと駆動回路とを有しており、焦点調節部２４の検出結果に基づいて撮影レンズ４２の焦点調整を行う。
【００２６】
《ミラーペンタ》
図２に示すように、ミラーペンタ２７（ペンタプリズム）は、プリズム本体２７１を有する。本実施形態のプリズム本体２７１は、７面体の５角柱構造で形成される１つの側面に、直角に交わる２面に分割したダハ面２７１ｃを持つ８面体構造で形成されている場合を例示する。
【００２７】
プリズム本体２７１は、撮影レンズ４２（図１参照）からの光束Ｌが入射する入射面２７１ａと、プリズム本体２７１内部で光束の向きを変える反射面２７１ｂ（ダハ面２７１ｃ，２７１ｃを含む）と、プリズム本体２７１内で反射した光束Ｌを出射させる出射面２７１ｄとを有する。
【００２８】
図３に示すように、入射面２７１ａから入射した光束は、プリズム本体２７１内部のダハ面２７１ｃ，２７１ｃと、他の反射面２７１ｂとで３回反射され、出射面２７１ｄから出射して接眼レンズ２９（図１参照）に導かれる。
【００２９】
プリズム本体２７１は、ガラス基板や樹脂基板などで構成される。ガラス基板を構成するガラスとしては、例えばＢＫ７（光学ガラス）などが挙げられる。樹脂基板を構成する樹脂としては、ポリカーボネイト樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ＡＢＳ樹脂などが挙げれる。
【００３０】
図２に戻り、本実施形態では、プリズム本体２７１の反射面２７１ｂ（ダハ面２７１ｃ，２７１ｃを含む）には、反射鏡２７２が形成してある。
【００３１】
《反射鏡》
図４及び図５に示すように、反射鏡２７２（裏面反射鏡）は、金属薄膜層２７２２を有する。本実施形態の金属薄膜層２７２２は、単層で形成してもよく、多層で形成してもよい。
【００３２】
金属薄膜層２７２２を単層で形成する場合、銀を主成分とする薄膜（銀薄膜）２７２２ａ（図５参照）で形成することができる。銀薄膜２７２２ａには、銅等の不純物が含まれていてもよく、さらには金（Ａｕ）等との合金で銀薄膜２７２２ａを形成してもよい。
【００３３】
金属薄膜層２７２２を多層で形成する場合、銀薄膜２７２２ａの上に、銅を主成分とする薄膜（銅薄膜）２７２２ｂを形成すればよい。
【００３４】
金属薄膜層２７２２の厚み（多層の場合は合計膜厚）は、例えば１０００〜４０００オングストローム（Å）の範囲が好ましい。金属薄膜層２７２２の厚みが薄すぎると反射特性が低下するおそれがあり、厚過ぎると膜表面の凹凸により光吸収を生じ反射率が低下するおそれがある。
【００３５】
金属薄膜層２７２２の形成方法は、特に制限無く公知の方法を適用可能であるが、速い膜形成速度で銀分子及び／又は銅分子を蒸着させて形成するのが好ましい。金属薄膜層２７２２の膜形成速度を速くすることで、金属分子の蒸着速度が速くなり、金属分子の衝突エネルギーも高くなる。その結果、プリズム本体２７１上で金属分子が安定な状態に再配列され緻密な金属薄膜層２７２２が形成される。また、プリズム本体２７１上で金属分子が高いエネルギーを持つので、Ｈ２  ＯやＯＨ等の不純物が金属薄膜層２７２２に含まれるおそれが少ない。こうして形成された金属薄膜層２７２２は、低波長領域（特に３５０〜４００ｎｍ）での反射率が顕著に向上する。
【００３６】
金属薄膜層２７２２の蒸着方法は、銀を主成分とするため、蒸着材料の入った反応容器（図示省略）に電流を流して抵抗熱を発生させ、その熱で蒸着材料を蒸発させる抵抗加熱法が好ましい。特に、金属薄膜層２７２２の蒸着方法は、膜形成速度を速くするために、抵抗加熱法により反応容器を高温に加熱させて銀分子を蒸発させるフラッシュ蒸着が好ましい。フラッシュ蒸着においては、反応容器としてモリブデン（融点２６２０℃）を用い、モリブデンの融点に近い２４００〜２５００℃まで加熱させる。この加熱温度は、一般的な蒸着方法での加熱温度である２０００℃付近（この温度は銀の沸点（２１６２℃）に近い）より高いので、金属分子の蒸発速度を速くすることができる。
【００３７】
金属薄膜層２７２２には、保護層２７２４が積層してある。本実施形態の保護層２７２４は、単層で形成してもよく、多層で形成してもよい。また、保護層２７２４には、カーボンブラックなどの黒色顔料を添加してミラーペンタ２７の外観を黒色化してもよい。
【００３８】
保護層２７２４を単層で形成する場合、図４に示すように、保護層２７２４は、プリズム本体２７１及び金属薄膜層２７２２の全体を覆うように形成されていることが好ましい。
【００３９】
保護層２７２４を多層で形成する場合、図４及び図５に示すように、少なくとも第２保護層２７２４ｂ（より好ましくは第１保護層２７２４ａ及び第２保護層２７２４ｂの双方）が、プリズム本体２７１及び金属薄膜層２７２２の全体を覆うように形成されていることが好ましい。
【００４０】
なお、保護層２７２４にカーボンブラックなどの黒色顔料を添加する場合、光束を透過させるために、保護層２７２４を単層及び多層のいずれで形成しても、プリズム本体２７１における入射面２７１ａ（図２及び図３参照）と出射面２７１ｄ（図２及び図３参照）については保護層２７２４を形成しないこととする。
【００４１】
保護層２７２４の厚み（多層の場合は合計膜厚）は、例えば８０〜１２０μｍの範囲が好ましい。
【００４２】
まず、本実施形態の保護層２７２４を多層で形成する場合を例示する。この場合の保護層２７２４は、金属薄膜層２７２２側から順に、第１保護層２７２４ａと、第２保護層２７２４ｂを有する。
【００４３】
第１保護層２７２４ａは、防錆物質を含有する。防錆物質を含有することで、保護層２７２４の防錆効果、ひいては耐食性を向上させることができる。
【００４４】
本実施形態で用いることのできる防錆物質は、リン化合物であり、例えば金属縮合リン酸塩系（例えば縮合リン酸アルミニウム）、金属リン酸塩系（例えばリン酸亜鉛、リン酸ケイ素、リン酸チタニウムなど）、金属亜リン酸塩系（例えば亜リン酸亜鉛、バリウム塩、マグネシウム塩、マンガン塩など）、金属次亜リン酸塩系（例えば次亜リン酸カルシウムまたは次亜リン酸鉄など）、金属モリブデン酸塩（例えば亜鉛塩、カルシウム塩など）などの各物質が挙げられる。中でも金属リン酸塩系物質を含むことが好ましく、より好ましくはリン酸亜鉛を含む。
【００４５】
第１保護層２７２４ａでの防錆物質の含有量は、用いる防錆物質や保護層に含有させる物質の種類に応じて適宜調整することが好ましい。防錆物質の含有量が多すぎると、塗装性、密着性、耐触性などが低下するおそれがあり、逆に少なすぎると含有させる効果がない。
【００４６】
防錆物質での金属リン酸塩系物質の含有量は、防錆物質を含む保護層（本実施形態では第１保護層２７２４ａの）全体の、好ましくは１．５〜３０重量％、より好ましくは２〜５重量％、さらに好ましくは３〜４重量％である。金属リン酸塩系物質の含有量が多すぎると製造が困難になるおそれがあり、逆に少なすぎると含有させる効果がない。
【００４７】
第１保護層２７２４ａの膜厚は、本実施形態においては２〜４μｍの範囲が好ましい。第１保護層２７２４ａの膜厚が薄すぎると、保護層としての効果が得られ難く、膜厚が厚過ぎると、製造に時間がかかってしまう。
【００４８】
第１保護層２７２４ａの形成は、本実施形態では第１保護層用塗料を用いて行うことができる。
【００４９】
第２保護層２７２４ｂは、ビヒクル樹脂とシランカップリング剤を含んで構成される。ビヒクル樹脂としては、例えばアクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。中でも耐食性の観点からはエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
【００５０】
シランカップリング剤は、プリズム本体２７１をガラス基板で構成する場合に好適に作用する。シランカップリング剤を含有させることで、シランカップリング剤のシラノールの水酸基がガラス表面のシラノール基に結合するとともに、シランカップリング剤の結合性官能基がビヒクル樹脂分子と結合することになり、その結果、ガラスと樹脂との強固な結合が実現され、両者の接着性が高まる。
【００５１】
シランカップリング剤としては、シラノール基（又は加水分解により脱保護されてシラノール基になる加水分解性基）と、樹脂に結合する結合性官能基とを、有する分子構造を持つ化合物を広く使用することができる。
【００５２】
第２保護層２７２４ｂ中の各成分の含有量は、例えば、ビヒクル樹脂：４０〜５０重量％、シランカップリング剤：０．４〜０．５重量％であることが好ましい。シランカップリング剤の含有量が少ないと、プリズム本体２７１をガラス基板で構成した場合に、ガラスに対する接着性を確保することができない傾向にある。逆に多すぎると、塗膜の外観性（美観性）を損なうおそれがある。
【００５３】
第２保護層２７２４ｂの膜厚は、本実施形態においては８０〜１００μｍの範囲が好ましい。第２保護層２７２４ｂの膜厚が薄すぎると、保護層としての効果が得られ難く、膜厚が厚過ぎると、製造に時間がかかってしまう。
【００５４】
第２保護層２７２４ｂの形成は、本実施形態ではビヒクル樹脂とシランカップリング剤を含む第２保護層用塗料を用いて行うことができる。
【００５５】
次に、本実施形態の保護層２７２４を単層で形成する場合を例示する。この場合の保護層２７２４は、ビヒクル樹脂と、シランカップリング剤と、防錆物質を含有する。ビヒクル樹脂、シランカップリング剤及び防錆物質は、上述した多層で形成する場合に用いるものと同様のものを使用することができる。
【００５６】
保護層２７２４中の各成分の含有量は、例えば、ビヒクル樹脂：４０〜５０重量％、シランカップリング剤：０．４〜０．５重量％、防錆物質：３〜４重量％であることが好ましい。
【００５７】
保護層２７２４の形成は、本実施形態ではビヒクル樹脂とシランカップリング剤と防錆物質を含む保護層用塗料を用いて行うことができる。
【００５８】
一般に、最表面に配置される保護膜をエポキシ樹脂を含む塗料で形成した場合、高温多湿（例えば５０℃、９０％）環境下におくと、外部からの水分が保護層を透過し、銅薄膜と銀薄膜の間に水分が入り込むことがあった。このため、イオン化傾向に起因する電池作用によって銀薄膜に腐食が起こり、結果として、銀薄膜による良好な反射状態が得られない傾向にあった。
【００５９】
これに対し、本実施形態では、金属薄膜層２７２２の上に積層される保護層２７２４には、防錆物質（好ましくは金属リン酸塩系物質、より好ましくはリン酸亜鉛）とシランカップリング剤を含有させる。これにより、防錆物質による防錆効果と、シランカップリング剤によるプリズム本体２７１への付着効果が働き、保護層２７２４の耐食性が向上する。
【００６０】
なお、本実施形態では、プリズム本体２７１と反射鏡２７２の間に、両者の密着性を向上させるための下地層（図示省略）を介在させてもよい。
【００６１】
下地層としては、プリズム本体２７１と反射鏡２７２の密着性を確保できるものであれば特に限定されず、例えば酸化物、酸窒化物及び窒化物などが挙げられる。プリズム本体２７１をガラス基板で構成し、金属薄膜層２７２２を銀薄膜２７２２ａで構成する場合、両者の密着力を向上させる観点からは、下地層を酸化アルミニウムで形成することが好ましい。下地層の膜厚は、密着性を確保するとともに金属薄膜層２７２２の腐食を防止できれば特に限定されないが、例えば１０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。
【００６２】
下地層の形成方法は、特に限定されないが、酸化アルミニウムなどの融点の高い蒸着材料を用いる場合は、加速した電子線を当てて蒸着材料を蒸発させる電子線蒸着法を用いることが好ましい。下地層の膜形成速度は、蒸着条件や蒸着材料によって異なるが、例えば１ｎｍ／秒程度である。
【実施例】
【００６３】
次に、本発明の実施の形態をより具体化した実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明する。但し、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６４】
《実施例１》
まず、リン酸亜鉛の含有量が全固形分の３．８重量％となるように、ポリビニルブチラール樹脂及びエポキシ樹脂を溶剤に混合した主剤：４（重量比。以下同じ。）と、リン酸亜鉛、水及び溶剤を混合した硬化剤：１を、キシレン、ｎ−ブタノール及びブチルグリコールを混合した希釈剤：１で希釈して混合した液に対し、シランカップリング剤を１重量％添加混合して、第１保護層用塗料としての下地塗料（ウォッシュプライマー塗料）を準備した。
【００６５】
次に、エポキシ樹脂とカーボンブラックを溶剤に混合した主剤：１と、シリカ、キシレン、エチルベンゼン、ｎ−ブチルアルコール及びポリアミドアミンを混合した硬化剤：１を、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトンなどの溶剤からなる希釈剤：０．２で希釈して混合した後、イワタ粘度カップで粘度調整して、第２保護層用塗料としての上塗り塗料（エポラ２０００Ｎ塗料）を準備した。
【００６６】
そしてまず、内部が所定の真空度（２×１０−５Ｔｏｒｒ）に設定された真空装置（図示省略）内に、ＢＫ７（硼珪クラウンガラス（ｎ＝１．５１６３））で構成したガラス基板を配置した。
【００６７】
次に、ガラス基板の上に、膜厚１０００〜２０００オングストロームの銀薄膜を蒸着法によって形成した後、ターゲットを銅に代え、銀薄膜の上に、膜厚１０００〜２０００オングストロームの銅薄膜を蒸着法によって形成し、ガラスペンタ蒸着部品を得た。
【００６８】
次に、得られたガラスペンタ蒸着部品を真空装置内から取り出し、塗装工具にセットした。
【００６９】
次に、セットされたガラスペンタ蒸着部品の銅薄膜の上に、第１保護層用塗料を、塗装ガンで、硬化後厚みが２〜４μｍとなるような所定厚みで塗布し、室温で１０〜３０分程度放置（指触乾燥）した。
【００７０】
次に、放置後の第１保護層用塗料膜の上に、第２保護層用塗料を、塗装ガンで、硬化後厚みが４０〜６０μｍとなるような所定厚みで塗布し、室温で１０〜３０分程度放置（指触乾燥）した。
【００７１】
次に、放置後の第２保護層用塗料膜の上に、再び、同じ第２保護層用塗料を、硬化後厚みが４０〜６０μｍとなるような所定厚みで塗布し（総膜厚８０〜１２０μｍ。２回塗装）、室温で３０〜４０分程度放置した。
【００７２】
その後、乾燥機に入れ、１３０℃−４０分の条件で、第１保護層用塗料膜及び第２保護層用塗料膜を同時に乾燥（完全硬化）させて実施例サンプル（ガラス基板−金属薄膜−第１保護層−第２保護層の層構造）を得た。
【００７３】
そして、得られた実施例サンプルのガス腐食試験を行った。
【００７４】
ガス腐食試験は、ＪＩＳ−Ｃ００９２に準拠した方法により、温度５０℃及び湿度９０％の環境下で、濃度１５ｐｐｍの硫化水素（Ｈ２  Ｓ）ガス雰囲気内に実施例サンプルを放置し、２０時間経過したときの実施例サンプルの検査をし、金属薄膜（銀、銅）の剥がれや浮きが発生しているか否かを判断することにより行った。その結果、実施例サンプルにおいては、２０時間経過後においても、金属薄膜に剥がれや浮きなどの不良を確認できず、耐食性が良好であることが確認できた。その後、８０時間（合計１００時間）経過後に不良が発生しているかどうかを確認したところ、不良を確認できなかった。
【００７５】
《比較例１》
第１保護層用塗料膜を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして比較例サンプル（ガラス基板−金属薄膜−第２保護層の層構造）を形成し、実施例１と同様の試験を行った。その結果、比較例サンプルにおいては、２０時間経過後に、金属薄膜に斑点浮きの不良が確認され、耐食性に劣っていた。このことから、実施例１の優位性が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】図１は本実施形態に係るデジタルスチルカメラを示すブロック図である。
【図２】図２は図１のデジタルスチルカメラに用いられる本発明の一実施形態に係るミラーペンタを模式的に示した概略断面図である。
【図３】図３は図２のミラーペンタで反射状況を説明する図である。
【図４】図４は図２及び図３のミラーペンタに形成される反射鏡を模式的に示した概略断面図である。
【図５】図５は図４のＶ部分の拡大図である。
【符号の説明】
【００７７】
１…デジタルスチルカメラ（光学機器）
２…カメラボディ
２０…撮像素子
２１…シャッタ
２２…クイックリターンミラー
２２２…ハーフミラー部
２３…サブミラー
２４…焦点調節部
２５…焦点板
２６…液晶表示素子
２７…ミラーペンタ（ペンタプリズム）
２７１…プリズム本体
２７２…反射鏡（裏面反射鏡）
２７２２…金属薄膜層
２７２２ａ…銀薄膜
２７２２ｂ…銅薄膜
２７２４…保護層
２７２４ａ…第１保護層
２７２４ｂ…第２保護層
２８…ファインダー
２９…接眼レンズ
３０…操作部材
３１…制御装置
３２…レンズ駆動装置
４…交換レンズ
４２…撮影レンズ
【図１】
2009169028.tif 000003
【図２】
2009169028.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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