(57)【要約】【課題】より高い脱硝性能を有する脱硝触媒を提供する。【解決手段】窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒であって、前記触媒が、１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程を含む方法によって得られることを特徴とする脱硝触媒に係る。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒であって、
前記触媒が、１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程を含む方法によって得られることを特徴とする脱硝触媒。
【請求項２】
水蒸気を含む雰囲気下において、窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いる、請求項１に記載の脱硝触媒。
【請求項３】
Ｇａ−Ａｌ系結晶性酸化物におけるＧａ：Ａｌがモル比で１：０．５〜１０である、請求項１又は２に記載の脱硝触媒。
【請求項４】
窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒であって、
細孔径が１００〜４００Åであって細孔容積が１ｍＬ／ｇ以上である細孔を有するＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物である脱硝触媒。
【請求項５】
前記触媒が、１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液から炭酸アンモニウムの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程を含む方法によって得られる請求項４に記載の脱硝触媒。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の脱硝触媒の存在下において、窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換することを特徴とする脱硝方法。
【請求項７】
反応系が水蒸気を含む雰囲気である、請求項６に記載の脱硝方法。
【請求項８】
窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒を製造する方法であって、
１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、
２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、
３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程
を含むことを特徴とする脱硝触媒の製造方法。
【請求項９】
アルカリが炭酸アンモニウムである、請求項８に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、脱硝触媒及び当該脱硝触媒を用いた脱硝方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、環境汚染が問題となっており、その中でも酸性雨による森林、湖沼、建築物等への被害が深刻化している。酸性雨の原因の一つに、自動車や工場等から排出されるガスに含まれる窒素酸化物がある。このため、窒素酸化物を除去する技術が望まれており、窒素酸化物を除去するための触媒として、共沈法により製造されるアルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を主成分とする複合酸化物が開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、この触媒は活性が十分なものとはいえない。特に、従来の触媒は、水蒸気が存在するとその活性が著しく低下することが知られている。従って、水蒸気の存在下であっても高い活性を有する脱硝触媒が求められている。これに対し、本発明者は、先にゾルボサーマル法で得られるＧａ−Ａｌ系酸化物が脱硝触媒として効果的であることを報告している（特許文献２）。
【特許文献１】特開平１０−１５１３４６号公報
【特許文献２】特開２００６−５１４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ソルボサーマル法は、高温高圧下で結晶性酸化物を合成する方法である。一方、ソルボサーマル方よりも温和な条件で同等以上の性能をもつ脱硝触媒を製造することができれば、工業的規模での生産という見地からみてより好適と言える。
【０００５】
従って、本発明の主な目的は、より温和な条件で優れた脱硝性能を有する脱硝触媒を製造することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、従来技術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の方法により製造された材料が上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、下記の脱硝触媒及び当該脱硝触媒を用いた脱硝方法に係る。
１．  窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒であって、
前記触媒が、１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程を含む方法によって得られることを特徴とする脱硝触媒。
２．  水蒸気を含む雰囲気下において、窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いる、上記項１に記載の脱硝触媒。
３．  Ｇａ−Ａｌ系結晶性酸化物におけるＧａ：Ａｌがモル比で１：０．５〜１０である、上記項１又は２に記載の脱硝触媒。
４．  窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒であって、
細孔径が１００〜４００Åであって細孔容積が１ｍＬ／ｇ以上である細孔を有するＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物である脱硝触媒。
５．  前記触媒が、１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液から炭酸アンモニウムの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程を含む方法によって得られる上記項４に記載の脱硝触媒。
６．  上記項１〜５のいずれか記載の脱硝触媒の存在下において、窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換することを特徴とする脱硝方法。
７．  反応系が水蒸気を含む雰囲気である、上記項６に記載の脱硝方法。
８．  窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒を製造する方法であって、
１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、
２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、
３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程
を含むことを特徴とする脱硝触媒の製造方法。
９．  アルカリが炭酸アンモニウムである、上記項８に記載の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の脱硝触媒は、還元剤として炭化水素を使用することにより、効率良く窒素酸化物を分解除去することができる。特に、本発明触媒は、水蒸気の存在下でも、優れた触媒活性を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
１．脱硝触媒及びその製造方法
本発明の脱硝触媒は、窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるための触媒であって、
前記触媒が、１）Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる第１工程、２）前記沈殿物のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度（好ましくは２７〜２８度）、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する第２工程、３）選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る第３工程を含む方法によって得られることを特徴とする。
【００１０】
第１工程
第１工程では、Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液からアルカリの存在下で沈殿物を析出させる。
【００１１】
Ｇａイオン及びＡｌイオンを含む水溶液は、例えば水溶性ガリウム化合物及び水溶性アルミニウム化合物を水に溶解して得られる水溶液を使用することができる。これらの化合物の形態としては、例えばアルコキシド（ノルマルプロポキシド、イソプロポキシド等）、アセチルアセトナート、オキシン錯体等の金属錯体；酢酸塩、シュウ酸塩（カルボン酸塩）等の有機酸塩；硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、塩化物等の無機酸塩のほか、各種の金属化合物を使用することができる。
【００１２】
より詳細には、ガリウム化合物としては、ガリウムアセチルアセトナート、酢酸ガリウム、シュウ酸ガリウム、塩化ガリウム、硝酸ガリウム、硫酸ガリウム等の少なくとも１種を使用することができる。これらの中でも、硝酸ガリウム等の硝酸塩；酢酸ガリウム、シュウ酸ガリウム等のガリウムのカルボン酸塩；ガリウムアセチルアセトナート等の少なくとも１種が好ましい。
【００１３】
アルミニウム化合物としては、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムブトキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム等の少なくとも１種を使用することができる。これらの中でも、硝酸アルミニウム等の硝酸塩；アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムブトキシド等のアルミニウムアルコキシド、アルミニウムアセチルアセトナート等の少なくとも１種が好ましい。
【００１４】
原料におけるＧａ及びＡｌの比率は限定的でなく、モル比でＧａ：Ａｌ＝１：０．５〜１０程度、好ましくは１：１〜４程度とすれば良い。また、Ｇａイオン及びＡｌイオンの濃度は、特に制限されない。一般的には、両者の合計量で０．０１〜１ｍｏｌ／Ｌ程度、特に０．１〜０．３ｍｏｌ／Ｌ程度とすることが好ましい。
【００１５】
次いで、上記水溶液にアルカリ（塩基）を添加して沈殿物を析出させる。アルカリは、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、ジエチレントリアミン等の公知のアルカリを使用することができる。特に、本発明では、後記のピークをもつ沈殿物をより確実に得ることができるという点で炭酸アンモニウムを用いることが望ましい。
【００１６】
アルカリの添加量は、沈殿物を生成させるのに十分な量（当量又はそれ以上）とすれば良いが、特に当量の２倍以上、さらに３倍以上とすることが望ましい。これによって、後記に示す特定のピークをもつ沈殿物をより確実に調製することが可能となる。例えば、当量の３倍又は５倍に設定できる。
【００１７】
第２工程
第２工程では、前記沈殿物（熱処理していないもの（前駆体））のＸ線回折パターンにおいて、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２６．６〜２８度（好ましくは２７〜２８度）、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものを選出する。
【００１８】
本発明では、それぞれの２θの各範囲において、少なくとも１つずつのピークがあれば良い。すなわち、合計で少なくとも６つのピークがある。各範囲のいずれかに２つ以上のピークがあっても良い。このようなピークを示す前駆体を用いて触媒を製造することによって、高い反応活性（脱硝性能）を得ることができる。
【００１９】
第３工程
第３工程では、第２工程で選出された前記沈殿物を焼成することによりＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得る。
【００２０】
なお、第３工程に先立って、沈殿物を水洗、乾燥等の処理を施しておいても良い。乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥等のいずれであっても良い。
【００２１】
第３工程における焼成温度は、例えば２５０〜８００℃程度、特に５００〜７５０℃程度とすることが望ましい。また、焼成時間は、例えば０．５〜１０時間程度、好ましくは０．５〜３時間程度焼成すれば良い。
焼成雰囲気は、大気中又は酸化性雰囲気とすれば良い。
【００２２】
焼成方法としては、例えば、前記焼成温度になるまで所定の昇温速度で除々に昇温させながら焼成する方法と、余熱（徐々に昇温させて加熱する）ことなく、前記焼成温度の雰囲気中に前記沈殿物を投入して焼成する方法がある。特に、触媒の脱硝性能をより向上させることができる点で、後者の方法が好ましい。
【００２３】
特に、後者の方法で焼成する場合、焼成温度は、６５０〜８００℃程度が好ましく、６５０〜７５０℃程度がより好ましい。焼成時間は、３０分間〜３時間程度であればよい。
【００２４】
上記のようにして得られた酸化物は、実質的にＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物から構成される。ＧａとＡｌとの比率は特に限定されないが、前記と同様にモル比でＧａ：Ａｌ＝１：０．５〜１０程度、好ましくは１：１〜４程度とすれば良い。
【００２５】
なお、酸化物の成分は、ＩＣＰ発光分析等の公知の手段により確認することができる。また、酸化物における結晶の有無については、粉末Ｘ線回折等の公知の手段によって確認することができる。
【００２６】
本発明の脱硝触媒は、多孔性であり、細孔を有する。特に、本発明の脱硝触媒は、細孔径が１００〜４００Åであって細孔容積が１ｍＬ／ｇ以上である細孔を有するＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物であることが望ましい。前記細孔は、細孔径が２００〜４００Åであって細孔容積が２〜４ｍＬ／ｇであることがより好ましい。細孔径１００〜４００Åであって細孔容積が１ｍＬ／ｇ以上である細孔を有する場合、大きな表面積を確保できるため、脱硝効率が高い。
【００２７】
前記細孔を有するＧａ−Ａｌ系結晶性酸化物を得るには、前記第１工程において、アルカリとして炭酸アンモニウムを用いることが好ましい。他のアルカリ（例えば、アンモニア水、ジエチレントリアミン等）を用いた場合、前記細孔が十分に形成されないおそれがある。
【００２８】
本発明の脱硝触媒の形態は限定的ではないが、一般的には粒状、粉末状等の形態で使用することも可能である。また、例えばハニカム状、格子状、板状等の形態で使用すること
も可能である。これらの形態は、公知の粉砕方法、造粒方法、分級方法、成型方法等を適宜組み合わせて実現できる。
【００２９】
本発明の脱硝触媒は、公知の脱硝触媒と同様にして使用することができる。特に、後記の脱硝方法に従って使用することが望ましい。
【００３０】
２．脱硝方法
本発明の脱硝方法は、前記脱硝触媒の存在下において、窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換することを特徴とする。
【００３１】
本発明に適用される窒素酸化物（ＮＯｘ）の種類は限定されない。例えば、一酸化窒素（ＮＯ）、二酸化窒素（ＮＯ２）、一酸化二窒素（Ｎ２Ｏ）、三酸化二窒素（Ｎ２Ｏ３）等の気体の窒素酸化物を使用することができる。これらの中でも、ＮＯ、ＮＯ２が比較的安定という点でより好適である。
【００３２】
炭化水素としては、特に限定されない。本発明では、特に炭素数１〜４の炭化水素を好適に使用することができる。炭素数１〜４の炭化水素としては、メタン、エタン、エチレン、プロパン、プロピレン、ブタン、イソブタン、ブテン、イソブテン等の低級炭化水素の少なくとも１種が好ましく、この中でもメタンがより好ましい。
【００３３】
用いる炭化水素の濃度は限定されない。例えば、窒素酸化物１ｍｏｌに対して炭化水素１〜２００ｍｏｌ程度、好ましくは炭化水素２〜５０ｍｏｌ程度とすれば良い。
【００３４】
反応系には、酸素が通常１０〜２０ｖｏｌ％、好ましくは１２〜１５ｖｏｌ％含まれている。上記範囲内の酸素が存在することにより、より効果的に脱硝反応を進行させることができる。
【００３５】
また、反応系に水蒸気を含む場合、反応ガス中に含まれる水蒸気の量は限定されないが、例えば、反応ガス全量中２５ｖｏｌ％程度以下、好ましくは１０ｖｏｌ％程度以下とすることが好ましい。換言すれば、本発明では、２ｖｏｌ％以上の水蒸気を含む雰囲気下であっても、優れた触媒活性を得ることができる。
【００３６】
なお、反応ガス中には、本発明の効果を妨げない範囲内で他の成分が含まれていても良い。
【００３７】
脱硝触媒による反応形式は特に限定されず、例えば固定床、流動床等のいずれの形式であっても良い。また、回分式又は連続式のいずれであっても良い。
【００３８】
脱硝触媒の形態は、特に４〜２００メッシュ、好ましくは１０〜２２メッシュの篩いを通過する程度の大きさの粒子の形態で使用するのがより好ましい。このような範囲の粒子径を有する触媒を使用することにより、高流速条件下でも差圧を生じにくく、安定した触媒作用が得られる。
【００３９】
反応ガスの流速、流量等は限定されず、反応ガス中の窒素酸化物等の濃度、反応温度等に応じて適宜選択することができる。例えば、本発明の触媒１ｇに対して、５０〜５０００ｍＬ／分程度、好ましくは２００〜２０００ｍＬ／分程度とすれば良い。脱硝を行う際の温度は、例えば、３００〜８００℃程度、好ましくは４５０〜７００℃程度とすれば良い。
【００４０】
反応終了後、得られたガスをガスクロマトグラフィー等の公知の手段に供することにより、窒素酸化物が分解（除去）されたことを確認することができる。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明の特徴を実施例によりさらに詳述する。ただし、本発明はこれら実施例の範囲に限定されない。なお、細孔分布の測定には、ガス吸着量測定装置（商品名「ＡＵＴＯＳＯＲＢ−１」ＱＵＡＮＴＡＣＨＲＯＭ社製）を使用した。
【００４２】
実施例１
Ｇａ／（Ｇａ＋Ａｌ）＝０．２２５となるように硝酸ガリウムｎ水和物（Ｇａ＝１８．９％）（MITSUWA）と硝酸アルミニウム９水和物（ナカライ）を水１００ｍＬに溶解させ
て水溶液を調製した。次に、前記水溶液に炭酸アンモニウム（当量の３倍）（ここで、「当量」とは、ＧａイオンとＡｌイオンの合計モル数を基準とする。）を一気に加えてスターラーで１時間攪拌した。生成した沈殿物を数回水で洗浄して回収した。得られた沈殿物についてＸ線回折分析を行った。その結果を図１に示す。また、ピークの２θと強度を表１に示す。
【００４３】
【表１】
2009050844.tif 000002
【００４４】
図１及び表１に示すように、２θ＝１４．５〜１６度、２１〜２２度、２５．５〜２６．５度、２７〜２８度、３３〜３５度及び４３〜４５度の各範囲でそれぞれ１つ以上のピークを有するものであった。より具体的には、２θ＝１４．５〜１６度では１つ、２１〜２２度では１つ、２５．５〜２６．５度では１つ、２６．６〜２８度では１つ、３３〜３５度では１つ、４３〜４５度では２つのピークを有するものであった。
【００４５】
次に、前記沈殿物を乾燥機中８０℃で一晩乾燥した後、得られた乾燥物を室温（２５℃）から７００℃まで昇温速度１０℃／ｍｉｎで昇温させた後、大気中７００℃で３０分間焼成することにより焼成体（酸化物）を得た。得られた焼成体を粉砕機により１０〜２２メッシュ程度の粉粒体として本発明脱硝触媒を得た。
【００４６】
実施例２
炭酸アンモニウムの添加量を当量の５倍とし、さらに、除々に昇温させる方法ではなく、直接、大気中７００℃で３０分間、乾燥物を焼成した以外は実施例１と同様の方法により脱硝触媒を製造した。
【００４７】
参考例１
アルカリとしてアンモニア水を用いたほかは、実施例１と同様にして脱硝触媒を製造した。得られた沈殿物については、実施例１と同様にしてＸ線回折分析を行った。その結果を図１に併せて示す。
【００４８】
参考例２
アルカリとしてジエチレントリアミンを用いたほかは、実施例１と同様にして脱硝触媒を製造した。得られた沈殿物については、実施例１と同様にしてＸ線回折分析を行った。その結果を図１に併せて示す。
【００４９】
試験例１
ＮＯ除去反応試験を実施した。脱硝用触媒として実施例１及び比較例１〜２で得られた触媒を用い、固定床流通反応装置を用いた。石英管に石英ウールを詰め、前記触媒０．５ｇを入れた。次いで、反応ガス（ＮＯ：１０００ｐｐｍ、ＣＨ４：１０００ｐｐｍ、Ｏ２：６．７％、Ｈｅ：ｂａｌａｎｃｅ）をＷ／Ｆ＝０．３ｇ・ｓ／ｍＬで流通させた。
【００５０】
反応は、まず前処理として、上記石英管にヘリウムガスを通した。当該ヘリウムガスは１０℃／分の速度で昇温させ、６５０℃になってから３０分間通した。その後、前記反応ガスに切り替え、６５０℃から５℃／分で降温し、５０℃ごとに１５分保持した。出口ガスの組成をオンラインガスクロマトグラフィーにより分析した。それに基づいて転化率（反応により変化した各ガス成分の初期濃度に対する割合）を算出した。その結果を表２及び図２に示す。
【００５１】
【表２】
2009050844.tif 000003
【００５２】
表２及び図２の結果からも明らかなように、特定の位置にピークを示す沈殿物（前駆体）を用いて製造された実施例１の触媒は、参考例に比べて高い脱硝性能を発揮していることがわかる。
【００５３】
なお、実施例１、実施例２、参考例１及び参考例２得られた触媒の細孔分布を、図３、図４、図５及び図６にそれぞれ示す。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】実施例１で得られた沈殿物のＸ線回折分析の結果を示す図である。
【図２】実施例及び比較例で得られた触媒の転化率を示すグラフである。
【図３】実施例１で得られた触媒の細孔分布を示す図である。
【図４】実施例２で得られた触媒の細孔分布を示す図である。
【図５】参考例１で得られた触媒の細孔分布を示す図である。
【図６】参考例２で得られた触媒の細孔分布を示す図である。
【図１】
2009050844.tif 000004
【図２】
2009050844.tif 000005
【図３】
2009050844.tif 000006
【図４】
2009050844.tif 000007
【図５】
2009050844.tif 000008
【図６】
2009050844.tif 000009