(57)【要約】【課題】多種多様な基板に対し、低コストで、導電性が高く、高品質な配線パターンを形成することのできる配線形成方法を提供することにある。【解決手段】配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、前記パターン化された乳剤層を露光した後、前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することにより、前記課題を解決する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、
前記パターン化された乳剤層を露光した後、
前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することを特徴とする配線形成方法。
【請求項２】
前記ハロゲン化銀乳剤のパターニングは、
グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、および、インクジェット印刷法のいずれかを用いて行うものである請求項１に記載の配線形成方法。
【請求項３】
前記インクジェット印刷法は、ピエゾ素子を有するインクジェット記録装置で行うものである請求項２に記載の配線形成方法。
【請求項４】
前記導電性銀層を形成した後、
前記導電性銀層に、平滑化処理、蒸気接触処理、および、水洗処理のうちの少なくとも１つの処理を施す請求項１〜３のいずれかに記載の配線形成方法。
【請求項５】
前記基板表面上に前記パターン化された乳剤層を形成する前に、前記基板表面に下地処理を施す請求項１〜４のいずれかに記載の配線形成方法。
【請求項６】
前記下地処理は、前記基板表面の接触角の調整処理、または、前記基板と前記パターン化された乳剤層との密着力増強処理である請求項５に記載の配線形成方法。
【請求項７】
前記基板と前記パターン化された乳剤層との密着力増強処理は、前記基板表面に、前記パターン化された乳剤層のパターン形状に従って、下地膜を形成するものである請求項６に記載の配線形成方法。
【請求項８】
前記下地膜の形成は、インクジェット記録装置を用いて行うものである請求項７に記載の配線形成方法。
【請求項９】
前記ハロゲン化銀乳剤は、２５℃条件下において、１ｍＰａ・ｓ以上４０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し、かつ、２５℃条件下において、２０ｍＮ／ｍ〜１００ｍＮ／ｍの表面張力を有するものである請求項１〜８のいずれかに記載の配線形成方法。
【請求項１０】
前記パターン化された乳剤層を乾燥する工程を有する請求項１〜９のいずれかに記載の配線形成方法。
【請求項１１】
前記パターン化された乳剤層上に保護層を形成する工程を有する請求項１〜１０のいずれかに記載の配線形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配線形成方法に関し、詳しくは、プリント配線基板の配線形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線基板（電子回路基板）の配線部分（導体部分）のパターンの形成方法には、大別して、サブトラクト法とアディティブ法（セミアディティブ法）とがある。
【０００３】
サブトラクト法は、基板上に形成された金属層の不要な部分を除去して必要な部分を残し、配線パターン（導電部）とする方法であり、他方、アディティブ法は、基板上に、配線パターンを形成していく方法である。
【０００４】
上記いずれの方法においても、従来、フォトリソグラフィ技術が用いられている。
アディティブ法においては、例えば、無電解メッキによって、基板表面に金属を還元析出させて配線パターンを形成する際に用いるマスクのパターンを形成するために、フォトリソグラフィ技術が用いられている。
【０００５】
他方、サブトラクト法においては、例えば、絶縁層と配線用金属の銅箔とを有する銅貼積層板表面に塗布したドライフィルムレジストや液体レジスト等のフォトレジスト（感光性樹脂）に、回路等のパターンが形成されたフォトマスクを通して、紫外線やエキシマレーザ光線等の電磁波を照射して、マスクパターンを露光（転写）、現像することにより、レジストパターンを形成するために用いられている。
このようにして、フォトリソグラフィ技術によって、レジストパターンを形成した後、フォトレジストで被覆されていない銅箔、すなわち、配線用金属を、エッチング処理によって除去して、所望の配線パターンを形成する。
【０００６】
上記のような、フォトリソグラフィ技術によってレジストパターンを形成して、所望の配線パターンを形成する方法は、フォトマスクの作成に時間が必要であり、さらに、配線用金属の不要部除去のためのエッチング処理とは別に、レジストパターンを形成するためのレジストの露光現像処理も必要である。そのため、配線パターンを形成するために、時間やコストがかかる。
【０００７】
他にも、近年、導電微粒子分散インク方式を用いることにより、プリント配線基板（電子回路基板）の配線部分（導体部分）のパターンを形成する方法が提案されている。
導電微粒子分散インク描画方式は、インクジェット印刷方式を用いて、導電性の微粒子材料を、所望の配線パターンに応じて、直接、基板上にパターンニングすることにより、配線パターンを形成する。
【０００８】
この導電微粒子分散インク描画方式は、マスクを作成する必要がないため、フォトリソグラフィ技術によって、レジストパターンを形成して、所望の配線パターンを形成する方法と比較すると製造工程数が少ない。
しかしながら、微粒子材料の導電性を発現させるためには、高温下で長時間の焼成処理が必要であるので、配線パターンを形成可能な基板（基板材料）が限定される上に、ランニングコストが高く、さらに、高温処理のための装置の大型化も避けられない。
【０００９】
そこで、これらに対して、近年、感光性材料を露光現像処理することにより、所望の配線パターンを形成する方法が提案されている。
【００１０】
例えば、特許文献１には、レーザービームによる走査露光方式やフォトマスクを用いて、基板（支持体）全面に銀塩含有層を有する感光材料を露光し、現像することにより、基板上に、導電性パターンを形成し、この導電性パターンにめっき処理を施して導電性を付与して、配線パターンを形成する方法が開示されている。
【００１１】
また、特許文献２には、レーザービームによる走査露光方式やフォトマスクを用いて、基板（支持体）全面に銀塩乳剤を含有する乳剤層が形成されている感光材料を露光し、現像することにより、基板上に、金属銀を形成し、この金属銀に平滑化処理を施して、配線パターンを形成する方法が開示されている。
【００１２】
ここで、上記特許文献１および２に開示されているような配線パターンの形成方法について、図１０を用いて説明する。
なお、図１０は、従来の配線パターンの形成方法を示す図である。
【００１３】
まず、図１０（ａ）に示すように、基板Ｓ表面全面に、下地膜２０２を形成した後、例えば、ハロゲン化銀とゼラチンの体積比が２：１の乳剤を、基板Ｓ表面全面に塗布して、乳剤層２０４を形成する。
次いで、図１０（ｂ）に示すように、マスク２０８を用いて、アナログ露光方式で、乳剤層２０６を露光し、乳剤層２０４にマスク２０８のパターンを焼き付ける。
このとき、マスク２０８を用いずに、レーザ露光直接描画方式を用いて、乳剤層２０４を露光し、乳剤層２０４にマスク２０８のパターンを焼き付けてもよい。
【００１４】
図１０（ｃ）に示すように、マスク２０８のパターンを焼き付けた乳剤層２０４に、現像処理を施して、導電性銀２１２を生成する。
このとき、乳剤層２０４の未露光部２１４にも、ハロゲン化銀が存在するため、乳剤層２０４に加えられた圧力や基板Ｓ搬送時に生じる静電気によって生じたかぶりや現像液中の銀の付着等により、未露光部２１４に金属銀（黒ポツ）２１６が生じる場合がある。
【００１５】
そこで、図１０（ｄ）に示すように、未露光部２１４のハロゲン化銀を除去して、未露光部２１４を安定化させるために、定着処理や酸洗処理、圧力かぶり防止剤、帯電防止剤等の添加処理等を行い、さらに、水洗処理や乾燥処理を施す。
次いで、図１０（ｅ）に示すように、導電性銀２１２の導電性を増大させるために、銅電線銀（配線パターン）２１２に、カレンダー処理等の平滑化処理（圧密化処理）を施す。
【００１６】
さらに、導電性銀２１２の導電性を増大させるために、図１０（ｆ）に示すように、めっき処理を施し、導電性銀２１２上に導電性金属部２１８を形成する。
【００１７】
このようにして、近年、感光性材料を基板表面全面に塗布して、マスクパターンを焼き付け、露光現像処理し、所望の配線パターンを形成している。
【００１８】
【特許文献１】特開２００６‐３５２０７３号公報
【特許文献２】特開２００７‐１２９２０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、フォトリソグラフィ技術によって、レジストパターンを形成して、所望の配線パターンを形成する方法と比較すると、レジストパターンの形成工程が不要であり、さらに、図１０（ｂ）に示すような露光の際に、レーザ露光直接描画方式を用いれば、マスク２０８を用いる必要もなくなるので、マスク作成工程が不要になり、そのため、オンデマンド性にも優れている。
【００２０】
また、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、導電微粒子分散インク描画方式を用いて配線パターンを形成する方法と比較すると、微粒子材料の導電性を発現させるための焼成処理を行う必要が無いため、耐熱性の低い汎用の樹脂フィルム等の基板にも用いることができる。
【００２１】
しかしながら、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、配線パターンを形成する基板が、ハロゲン化銀を含有する乳剤層が全面に形成されているものに限定されるため、市場で流通している配線基板やＦＰＤ（Flat Panel Detector）等の基板には適用することができない。そのため、適用範囲が非常に限定されてしまう。
【００２２】
また、図１０（ｂ）に示すように、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法において、マスク２０８を用いる場合には、マスクを作成するために多額の費用がかかり、さらに、これにより、オンデマンド性が低くなるので、小ロットの生産や短期間での生産に適用するのが難しくなる場合が多い。
【００２３】
他方、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法において、マスク２０８を用いずに、レーザ露光装置を用いて、レーザ露光による光パターンニング行えば、マスク２０８が不要になるので、マスクの作成費用が不要になり、さらに、オンデマンド性を付与することができるものの、パターンを形成するように逐次露光しなければならないので、露光に非常に時間がかかり、生産性を向上させるのが難しい。
さらに、この場合には、ハロゲン化銀等の感光性材料の感度を高くする必要もあり、そのための増感色素の選択が難しい上に、必要に応じて、化学増幅処理を行わなければならなくなる。
また、高精細なレーザ露光装置になると、非常に高価なため、配線パターンの形成に非常にコストがかかるようになる。
【００２４】
さらに、いずれの方法で露光する場合でも、露光によって、乳剤層のパターニングを行うため、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の透明基板では、露光時にパターニング光が表裏に透過するため、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、両面に、配線パターンを形成することができない。そのため、実用に用いることが難しくなる。
【００２５】
さらに、上述のように、特許文献１および２に開示されている方法で形成した配線パターンには、未露光部２１４に、ハロゲン化銀が残存するため、特に、微細な配線を形成する際には、上述のように、未露光部２１４へ圧力が加わることにより、感光してしまったり、搬送中に、静電かぶりを生じたりして、図１０（ｃ）に示すように、未露光部２１４に、黒ポツ２１６が生じることが多い。そのため、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、これを解決するために、図１０（ｄ）に示すような、定着処理や酸洗処理、圧力かぶり防止剤や帯電防止剤の添加処理等が必要となる。
【００２６】
また、特許文献１および２に開示されている方法で形成した配線パターンには、未露光部２１４にゼラチンが残存することにより、ゼラチンが吸湿し、配線パターンの耐圧や絶縁の信頼性（マイグレーション等）を低下させることがある。
また、ゼラチン部分は、経時によって黄変し易い。ゼラチン部分の黄変は、特に、透明配線板の形成に用いる場合に、その光学特性に悪影響を及ぼす虞がある。
【００２７】
また、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、非常に高価な材料にも関らず、銀が、配線パターン以外の部分、すなわち、未露光部２１４にも用いられているため、ランニングコストを低減することが難しい。
また、特許文献１および２に開示されている配線パターンの形成方法は、光パターニングを行うため、露光および現像処理を施すため、暗室が必要となる。
【００２８】
そこで、本発明の目的は、前記従来技術に基づく問題点を解消し、多種多様な基板に対し、低コストで、導電性が高く、高品質な配線パターンを形成することのできる配線形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
上記目的を達成するために、本発明は、配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、前記パターン化された乳剤層を露光した後、前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することを特徴とする配線形成方法を提供するものである。
【００３０】
本発明においては、前記ハロゲン化銀乳剤のパターニングは、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、および、インクジェット印刷法のいずれかを用いて行うものであるのが好ましい。
【００３１】
また、本発明においては、前記インクジェット印刷法は、ピエゾ素子を有するインクジェット記録装置で行うものであるのが好ましい。
【００３２】
また、本発明においては、前記導電性銀層を形成した後、前記導電性銀層に、平滑化処理、蒸気接触処理、および、水洗処理のうちの少なくとも１つの処理を施すのが好ましい。
【００３３】
また、本発明においては、前記基板表面上に前記パターン化された乳剤層を形成する前に、前記基板表面に下地処理を施すのが好ましい。
【００３４】
また、本発明においては、前記下地処理は、前記基板表面の接触角の調整処理、または、前記基板と前記パターン化された乳剤層との密着力増強処理であるのが好ましい。
【００３５】
また、本発明においては、前記基板と前記パターン化された乳剤層との密着力増強処理は、前記基板表面に、前記パターン化された乳剤層のパターン形状に従って、下地膜を形成するものであるのが好ましい。
【００３６】
また、本発明においては、前記下地膜の形成は、インクジェット記録装置を用いて行うものであるのが好ましい。
【００３７】
また、本発明においては、前記ハロゲン化銀乳剤は、２５℃条件下において、１ｍＰａ・ｓ以上４０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し、かつ、２５℃条件下において、２０ｍＮ／ｍ〜１００ｍＮ／ｍの表面張力を有するものであるのが好ましい。
【００３８】
また、本発明においては、前記パターン化された乳剤層を乾燥する工程を有するのが好ましい。
【００３９】
また、本発明においては、前記パターン化された乳剤層上に保護層を形成する工程を有するのが好ましい。
【発明の効果】
【００４０】
本発明は、ハロゲン化銀乳剤でなる乳剤層を物理的にパターンニングした後に、パターニングされた乳剤層に露光現像処理を施すため、基板の全面に乳剤層が塗布された基板を用いる必要がないので、多種多様な基板に適用することができ、さらに、光パターンニングを行う必要がないので、両面基板にも適用することができる。
【００４１】
本発明は、露光処理に、マスクを用いる必要がないので、オンデマンド性が向上し、短納期や少量生産の製品の製造にも、適用可能である。
【００４２】
また、本発明は、予めパターニングされた乳剤層に全面一括露光処理を施すため、短時間で露光を実施することができ、露光に用いる照射光も、低照度でよく、生産性が向上する。
さらに、本発明は、光パターニングを行わないので、全ての処理を、明室で行うことができるため、特別な設備を設ける必要がなく、低コストで生産することができる。
【００４３】
また、本発明によって形成した配線パターンには、ハロゲン化銀を有する未露光部が存在しないため、従来、未露光部に存在するハロゲン化銀を除去するために行っていた定着処理等を行う必要がなくなり、生産性が向上する。
さらに、非配線部に乳剤が存在しないことにより、非配線部に残存した材料が、黄色等の有色に変色することがなくなるので、本発明を適用して製造した製品は、透過率が極めて高くなるので、ＰＤＰ(Plasma display panel)や電磁波シールドフィルムの製造にも適用することができる。又、非配線部にゼラチン等の材料が残存しないので、耐圧、耐マイグレーション性が著しく向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の配線形成方法を詳細に説明する。
【００４５】
図１は、本発明の配線形成方法を実施可能な配線形成装置の一実施例を概念的に示す図である。
【００４６】
配線形成装置１０（以下、単に装置１０ともいう）は、図示しない画像情報入力手段から入力した配線パターンの情報に応じて、フィルムＦの片側表面に、ハロゲン化銀乳剤を物理的にパターニングして、ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、形成されたパターン化された乳剤層を露光した後、露光されたパターン化された乳剤層に現像処理を施して、パターン化された導電性銀層を配線パターンとして形成するものである。
図示例において、装置１０は、パターンニング部１２と、プロセサ部１４とで構成されている。なお、特に説明はしないが、フィルムＦは、搬送ローラ対等の公知の搬送手段によって、各部位に搬送される。
【００４７】
図示例の装置１０において、パターニング部１２は、フィルム供給部１６と、下地処理部１７と、パターン形成部１８と、露光部１９とを有する。
【００４８】
フィルム供給部１６は、所望のサイズにフィルムＦを切断して、パターン形成部１８に供給する部位であり、図示例では、２つのマガジン２０と、カッタ２１とを有する。
なお、本発明におけるフィルム（基板、支持体）Ｆについては、後に詳述する。
【００４９】
マガジン２２は、フィルムＦを巻回してなるフィルムロール２２を収容するものである。
カッタ２１は、マガジン２０から引出されたフィルムＦを、所望のサイズに切断するものであり、公知のカッタが用いられる。
【００５０】
下地処理部１７は、フィルムＦ表面に、パターン化された乳剤層を形成する前に、フィルムＦの表面に下地処理を施す部位であり、図示例においては、接触角調整部２３、密着力増強部２４、および、乾燥部２５を有する。
【００５１】
接触角調整部２３は、フィルムＦ表面の濡れ性によって、後に形成する乳剤層のパターン形状の精度が変化するのを防止するために、フィルムＦの表面に、大気圧プラズマ処理等を施して、フィルムＦ表面の接触角を調整するものである。
【００５２】
密着力増強部２４は、フィルムＦと後に形成するパターン化された乳剤層との密着力（密着性）を向上させるために、下地膜を形成するものである。
ここでは、密着力増強部２４は、例えば、インクジェット記録装置を用いて、後に形成するパターン化された乳剤層のパターン形状に従い下地膜を形成するのが好ましい。
このように形成すると、フィルムＦ全面に下地膜を形成する場合と比較して、材料の使用量を削減することができ、さらに、配線パターンを形成しない部分の絶縁信頼性が高く保たれる。
なお、形成する下地膜については、後に詳述する。
【００５３】
乾燥部２５は、フィルムＦ表面に形成した下地膜を乾燥させるものであり、公知の手段が利用可能であるが、フィルムＦの乳剤層がパターニングされる面（以下、単に、フィルムＦのパターニング面ともいう）とは、非接触とするのが好ましい。
【００５４】
図示例においては、乾燥部２５は、フィルムＦの裏面側（非パターン面側）に設けられているヒートローラ３０と、フィルムＦのパターン面側に設けられている温風ノズルを有する温風ヒータ３１とで構成されている。
【００５５】
上記のような乾燥部２５を設けることにより、フィルムＦ表面に形成された下地膜に接触することなく、フィルムＦ表面の熱効率を向上させることができるので、形成した下地膜を短時間で乾燥させることができる。
【００５６】
パターン形成部１８は、フィルムＦの下地膜上に、ハロゲン化銀乳剤をパターニングして、下地膜上にパターン化された乳剤層を形成し、フィルムＦを露光部１９に供給する部位であり、図示例においては、インクジェット記録部３２と、乾燥部２６と、断熱遮風部２８，２９と、保護層形成部２７とを有する。
【００５７】
インクジェット記録部３２（以下、単に、記録部３２ともいう）は、フィルムＦの表面に形成した下地膜上に、ハロゲン化銀乳剤をパターニングし、下地膜上にパターン化された乳剤層を形成するものである。
なお、記録部３２については、後に詳述する。
【００５８】
乾燥部２６は、フィルムＦ表面に形成したパターン化された乳剤層を乾燥させるものであり、乾燥部２５と同様のものを用いることができる。
【００５９】
図示例においては、乾燥部２６も、乾燥部２５と同様に、フィルムＦの裏面側（非パターン面側）に設けられているヒートローラ３０と、フィルムＦのパターン面側に設けられている温風ノズルを有する温風ヒータ３１とで構成されている。
【００６０】
上記のような乾燥部２６を設けることにより、フィルムＦ表面に形成したパターン化された乳剤層に接触することなく、フィルムＦ表面の熱効率を向上させることができるので、形成したパターン化された乳剤層を短時間で乾燥させることができる。
【００６１】
保護層形成部２７は、乾燥処理されたパターン化された乳剤層上に、乳剤層の擦り傷防止や力学特性改良のために、ゼラチンや高分子ポリマー等のバインダーからなる保護層を形成するものである。
保護層の形成方法には、特に限定はなく、公知の方法で形成することができる。
なお、形成する保護層の厚みは、０．２μｍ以下が好ましい。
【００６２】
断熱遮風部２８（２９）は、上記乾燥部２５（２６）と記録部３２とを互いに、断熱し、かつ、遮風するものであり、記録部３２の乳剤をパターンニングする部位に、乾燥部２５，２６から、高湿度の空気が流入するのを防止し、記録部３２の乳剤を吐出するノズル（後に述べる吐出ノズル）が乾燥し、ノズル詰まりを生じるのを防止するものである。
【００６３】
なお、図が煩雑になるため、図示していないが、パターン形成部１８は、ワイプ、吸引式のメンテナンス手段、アライメント手段、不吐検出補正手段等、フィルムＦ上にパターンニングを形成する際に用いられる公知の手段を具備しているのは、勿論である。
【００６４】
露光部１９は、パターン形成部１８において形成された、パターン化された乳剤層に、可視光線、紫外線などの光やＸ線などの放射線等の電磁波を照射して、全面露光を行うものである。
【００６５】
上記電磁波を照射する光源には、特に限定はなく、波長分布を有する光源を用いてもよいし、特定波長を有する光源を用いてもよく、蛍光管、冷陰極管、紫外線ランプ、ｇ線、水銀ランプのｉ線等を照射する水銀ランプ、あるいは、レーザ等を用いることができる。
なお、乳剤層のパターンニングの一部に、インクジェット記録部３２で描画できないような高解像度のパターンが含まれる場合には、記録部３２より高解像度のレーザを用いて、走査露光するのが好ましい。
【００６６】
冷陰極管には、必要に応じてスペクトル領域に発光を示す各種発光体を用いるものがあるが、発光体としては、例えば、赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいずれか１種または２種以上が混合されて用いられ、スペクトル領域には、上記の赤色、緑色および青色に限定されず、黄色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光する蛍光体も用いられる。
冷陰極管を用いる場合には、特に、上記の発光体を混合して白色に発光する陰極線管を用いるのが好ましい。
【００６７】
光源として、レーザを用いる場合には、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザ、半導体レーザまたは半導体レーザを励起光源に用いた固体レーザと非線形光学結晶とを組み合わせた第二高調波発光光源、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２レーザー、および半導体レーザ、および、半導体レーザ或いは固体レーザと非線形光学結晶を組み合わせた第二高調波発生光源を用いることができる。
【００６８】
具体的には、波長４３０〜４６０ｎｍの青色半導体レーザ２００１年３月 第４８回応用物理学関係連合講演会で日亜化学発表）、半導体レーザ発振波長約１０６０ｎｍ）を導波路状の反転ドメイン構造を有するＬｉＮｂＯ3のＳＨＧ結晶により波長変換して取り出した約５３０ｎｍの緑色レーザ、波長約６８５ｎｍの赤色半導体レーザ日立タイプＮｏ．ＨＬ６７３８ＭＧ）、波長約６５０ｎｍの赤色半導体レーザ日立タイプＮｏ．ＨＬ６５０１ＭＧ）などが好ましく用いられる。
【００６９】
上述した陰極線管は、低コストで、光軸や色の調整も容易なため、操作性が高く、さらに、システムをコンパクトにすることができる等の利点があり、半導体レーザ或いは第二高調波発生光源は、低コストで寿命が長く、さらに、安定性が高く、システムをコンパクトにすることができる等の利点があるので、それぞれの目的にあわせて、光源を選択すればよい。
【００７０】
図示例の装置１０において、プロセサ部１４は、現像処理部４０と、水洗処理部４１と、乾燥処理部４２と、平滑化処理部４３と、蒸気接触処理部４４とを有する。
【００７１】
現像処理部４０は、露光部１９において、フィルムＦのパターニング面に露光を行った後、フィルムＦに、現像処理を施し、フィルムＦ表面に、パターニング化された導電性銀層を形成する部位である。
【００７２】
本発明において、現像処理の方法には、特に限定は無いが、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理に用いる現像液は、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液、ＫＯＤＡＫ社処方のＤ８５など等のリス現像液等を用いられる。
具体的には、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトールや、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄｓｄ−１９、Ｄ−７２などの現像液、またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。
【００７３】
さらに、例えば、現像液１リットルの中に、ハイドロキノンを０．０３７ｍｏｌ／Ｌ、Ｎ−メチルアミノフェノールを０．０１６ｍｏｌ／Ｌ、メタホウ酸ナトリウムを０．１４０ｍｏｌ／Ｌ、水酸化ナトリウムを０．３６０ｍｏｌ／Ｌ、臭化ナトリウムを０．０３１ｍｏｌ／Ｌ、メタ重亜硫酸カリウムを０．１８７ｍｏｌ／Ｌを加えたものを用いてもよい。
【００７４】
水洗処理部４１は、パターニングされた導電性銀層の導電性を向上させるために、露光部１９から供給されたフィルムＦに、水洗処理を施し、フィルムＦを乾燥処理部４２に供給する部位である。
【００７５】
図示例の水洗処理部４１は、４つの水が満たされた水洗槽４５と、フィルムＦを搬送するための多数のローラ対とで構成され、さらに、水洗槽４５と水洗槽４５との間の隔壁には、生産性を向上させるために、夫々、フィルムＦの通過を可能にし、水洗液の通過を阻止可能な液通スクイズ部４６が設けられている。
さらに、水洗処理部４１は、ローラの汚れやフィルムＦへの転写を防止するために、水洗液の外側に位置するローラ対を自動で洗浄するための液外搬送部自動洗浄手段（図示せず）を有する。
【００７６】
本発明において、水洗処理の方法には、特に限定はなく、水洗槽４５に満たされた水に、フィルムＦを浸して、ローラ対で搬送する等の一般的な方法を適用すればよく、ここでは、水洗槽４５の浴温度および時間は０〜５０℃、５秒〜２分であることが好ましい。
【００７７】
乾燥処理部４２は、水洗処理部４１において水洗処理を施したフィルムＦの表面、すなわち、フィルムＦのパターニング面を乾燥させる部位であり、図示例においては、フィルムＦのパターニング面に接触することなく、フィルムＦのパターニング面の水洗水を除去して乾燥させる複数の温風ノズルを有する温風ヒータ４７と、ローラ４８とエンドレスベルト４９でなる、フィルムＦを搬送する搬送ユニット３６とで構成されている。
【００７８】
乾燥処理部４２は、上記のようなフィルムＦのパターニング面に接触しない手段を用いて、フィルムＦのパターニング面の水洗水を乾燥させることにより、フィルムＦ上のパターン化された導電性銀層が、付着または転写するのを防ぐことができる。
【００７９】
平滑処理部４６は、乾燥処理部４２から供給された、フィルムＦ表面上のパターン化された導電性銀層における金属粒子同士の結合部分を増加させて、パターン化された導電性銀層の導電性を増大させるために、導電性銀層に平滑化処理を施す部位である。
【００８０】
本発明において、平滑化処理の方法には、特に限定はないが、一対のローラからなるカレンダーロール３７を用いるのが好ましい。
平滑化処理を実施する温度は、１０℃（温調なし）〜１００℃が好ましく、より好ましい温度は、金属配線パターンの画線密度や形状、バインダー種によって異なるが、約１０℃（温調なし）〜５０℃の範囲である。
【００８１】
カレンダーロール３７には、特に限定はないが、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミドなどのプラスチックロール又は金属ロールが用いられる。
フィルムＦの両面に乳剤層を有する場合には、金属ロール対を用いるのが好まく、フィルムＦの片面に乳剤層を有する場合は、シワ防止の点から金属ロールとプラスチックロールの組み合わせるのが好ましい。
【００８２】
例えば、カレンダーロール３７として、金属ロール対を用いて、油圧で制御したロールニップを通すことにより、平滑化処理を行う方法や、ヒートロールと、フィルムＦ搬送と同期して回転する円筒形状の可塑性ジャケットおよび可塑性ジャケットの内部にフィルムＦ幅方向に渡って配置された加圧シューを有するシュープレスロールとを用いて、可塑性ジャケットを介してシューをフィルムＦに所定圧で加圧するシュープレスロールニップを通して、平滑化処理を行う方法が挙げられる。
【００８３】
なお、カレンダーロール３７の線圧力の下限値は、導電膜の表面抵抗を十分に低減するために、９８０Ｎ／ｃｍ（１００ｋｇ／ｃｍ）以上、好ましくは１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇ／ｃｍ）以上、さらに好ましくは２９４０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）以上とする。
また、線圧力の上限値は、好ましくは６８６０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）以下とする。
ここで、線圧力（荷重）とは、圧密処理されるフィルム試料１ｃｍあたりにかかる力とする。
【００８４】
蒸気接触処理部４４は、短時間で簡便に導電性を向上させるために、フィルムＦのパターン化された導電性銀層に蒸気を接触させる部位であり、図示例においては、フィルムＦのパターニング面に接触することなく、フィルムＦの導電性銀層に蒸気を接触させる、蒸気ノズルを有する蒸気発生ユニット３８と、ローラ３３とエンドレスベルト３４でなる、フィルムＦを搬送する搬送ユニット３９とで構成されている。
【００８５】
パターン化された導電性銀層（フィルムＦ）に接触させる蒸気の温度は、８０℃以上が好ましい。蒸気の温度は１気圧で１００℃以上１４０℃以下がさらに好ましい。蒸気への接触時間は、使用するバインダーの種類によって異なるが、基板のサイズが６０ｃｍ×１ｍの場合、１０秒〜５分程度が好ましく、１分〜５分が更に好ましい。
【００８６】
ここで、図２を用いて、インクジェット記録部３２について、詳述する。
図２は、記録部３２の一実施例の概念図である。
【００８７】
図２に示した記録部３２は、ハロゲン化銀乳剤Ｑ（以下、単に、乳剤Ｑともいう）を用い、この乳剤Ｑに圧力を作用させることにより、乳剤Ｑを吐出するピエゾ方式のインクジェット記録装置である。
なお、乳剤Ｑについては、後に詳述する。
【００８８】
記録部３２は、図２に示すように、基本的に、メインタンク５２と、乳剤循環ポンプ９２と、フィルタ１００と、乳剤循環経路５８と、吐出ヘッド（インクジェットヘッド）５０と、乳剤補充ユニット９０と、洗浄ユニット９４とを有する。
なお、記録部３２は、図に示す部材以外にも、公知のピエゾ方式のインクジェット記録装置が有する各種の構成要素を有する。
【００８９】
メインタンク５２は、記録部３２の乳剤循環経路５８を循環する乳剤を貯留するための密閉型のタンクである。
なお、インクタンク５２は、乳剤Ｑの品質を保持するために、遮光性を有するものであるのが好ましい。
【００９０】
図示例のメインタンク５２は、乳剤Ｑの沈降／堆積を防止して、乳剤Ｑの品質保持、および、吐出ヘッド５０のノズル詰まり防止のために、乳剤Ｑを攪拌する攪拌手段８２を有する。他にも、図示していないが、乳剤Ｑの吐出安定性を向上するために温度調節手段や、系内の乳剤の圧力を制御するために水頭差方式またはダイヤフラム方式の圧力制御手段を有する。
【００９１】
乳剤循環ポンプ９２は、一端が乳剤循環経路５８の共通供給配管６０と接続されていて、メインタンク５２内の乳剤Ｑを吸引し、乳剤循環経路５８に供給するものである。
乳剤循環ポンプ９２は、稼動時に乳剤Ｑを乳剤循環経路５８に供給し、停止時は、乳剤循環経路５８内の乳剤Ｑを保持することなく重力に応じて、メインタンク５２内に乳剤Ｑが回収される非自給式ポンプが好ましく用いられる。
【００９２】
フィルタ１００は、乳剤循環ポンプ９２に接続されていて、吐出ヘッド５０および乳剤循環経路５８内に混入して異物となる可能性のある大きさの物質を除去するものである。
フィルタ１００は、上記物質を除去することができ、かつ、円滑な乳剤の循環を妨げないものであれば、特に限定は無いが、メッシュフィルタが好ましく用いられる。
【００９３】
乳剤循環経路５８は、メインタンク５２の乳剤Ｑを吐出ヘッド５０に供給する乳剤供給経路と、吐出ヘッド５０から吐出されなかった乳剤Ｑを回収する乳剤回収経路とから構成される。
なお、乳剤循環経路５８も、乳剤Ｑの品質を保持するために、遮光性を有するものであるのが好ましい。
【００９４】
乳剤循環経路５８の乳剤供給経路は、供給サブタンク５４、乳剤循環ポンプ９２に接続された共通供給配管６０、共通供給配管６０と供給サブタンク５４とを接続する第１供給配管６２、共通供給配管６０と回収サブタンク５６とを接続する第２供給配管６４、供給サブタンク５４と吐出ヘッド５０とを接続する第３供給配管６６、及び、供給サブタンク５４内のオーバーフロー管５４ａからオーバーフローした乳剤Ｑを回収する第３回収配管９８から主に構成される。
【００９５】
他方、乳剤循環経路５８の乳剤回収経路は、回収サブタンク５６、吐出ヘッド５０と回収サブタンク５６とを接続する第１回収配管６８、回収サブタンク５６内のオーバーフロー管５６ａからオーバーフローした乳剤を回収する第２回収配管７０、第２回収配管７０および第３回収配管９８によって回収した乳剤をメインタンク５２に回収する共通回収配管７２から主に構成される。
【００９６】
吐出ヘッド５０は、本実施形態においては、ピエゾ素子を有し、このピエゾ素子に電圧をかけて、ピエゾ素子を変形させることにより、乳剤Ｑに圧力を加えて、乳剤Ｑを吐出するピエゾ方式の吐出ヘッドである。
吐出ヘッド５０については、後に詳述する。
【００９７】
乳剤補充ユニット９０は、消費した乳剤Ｑをメインタンク５２に補充するものであり、基本的に乳剤補充タンク７６と、希釈剤補充タンク７４と補充用配管１０２、１０４，７８とを有する。
【００９８】
乳剤補充タンク７６は、高濃度の乳剤を充填する密閉型のタンクであり、補充用配管１０２および７８によってメインタンク５２と接続される。
他方、希釈剤補充タンク７４は、乳剤Ｑを補充する際の高濃度乳剤の希釈剤として用いるキャリア液を充填する密閉型のタンクであり、補充用配管１０４および７８によってメインタンク５２と接続される。
【００９９】
補充用配管１０２および１０４は、それぞれ補充制御用バルブ１０２ａおよび１０４ａを有し、この補充制御用バルブ１０２ａおよび１０４ａを必要に応じて開閉させることで、所定量の乳剤、希釈剤をメインタンク５２に補充する。
【０１００】
洗浄ユニット９４は、洗浄液供給配管８６と、洗浄液回収配管８４と、三方制御弁８６ａ、８４ａと、ポンプ９６、洗浄液タンク８０とを有する。
【０１０１】
洗浄液供給配管８６は、一端が洗浄液タンク８０に接続され、他端が共通供給配管６０に設けられた三方制御弁８６ａに接続されている。また、洗浄液供給配管８６には、ポンプ９６が設けられている。
他方、洗浄液回収配管８４は、一端が洗浄液タンク８０に接続され、他端は共通回収配管７２に設けられた三方制御弁８４ａに接続されている。
【０１０２】
ここで、上記構成を有する記録部３２の運転時（記録時）の乳剤循環系の動作について説明する。
【０１０３】
まず、乳剤循環ポンプ９２によって、メインタンク５２から共通供給配管６０、第１供給配管６２、第２供給配管６４を通じて供給サブタンク５４およびに回収サブタンク５６に乳剤Ｑが送液され、供給サブタンク５４および回収サブタンク５６に乳剤Ｑが貯留される。
【０１０４】
供給サブタンク５４に貯留された乳剤Ｑは、供給サブタンク５４と吐出ヘッド５０の落差のために、第３供給配管６６を通じて吐出ヘッド５０に流入する。
他方、吐出ヘッド５０において吐出に寄与しなかった乳剤Ｑは、吐出ヘッド５０と回収サブタンク５６との落差のために、第１回収配管６８を通じて回収サブタンク５６に供給される。
【０１０５】
ここで、回収サブタンク５６をオーバーフローした乳剤Ｑは、第２回収配管７０、共通回収配管７２を通じてメインタンク５２に戻される。
このようにして、メインタンク５２、供給サブタンク５４、吐出ヘッド５０、回収サブタンク５６を乳剤Ｑが循環する。
なお、供給サブタンク５４をオーバーフローした乳剤Ｑは、第３回収配管９８、共通回収配管７２を介してメインタンク５２に戻される。
【０１０６】
次いで、記録部３２の洗浄時の動作について説明する。
【０１０７】
まず、乳剤循環ポンプ９２を停止させ、乳剤循環経路５８（供給サブタンク５４、回収サブタンク５６およびそれらを接続する配管）内の乳剤Ｑをメインタンク５２に回収し、三方制御弁８６ａをメインタンク５２側から洗浄液供給配管８６側に切り替え、三方制御弁８４ａもメインタンク５２側から洗浄液回収配管８４側に切り替える。
【０１０８】
次いで、ポンプ９６により洗浄液タンク８０内の洗浄液を洗浄液供給配管８６から供給サブタンク５４、吐出ヘッド５０、回収サブタンク５６、それらを接続する配管を循環させ、三方弁８４ａを通じて洗浄液回収配管８４から回収することで、吐出ヘッド５０、乳剤循環経路５８を洗浄する。
【０１０９】
上記のようにして経路内の洗浄を行うことで、より確実にメインタンク以外での乳剤の残留を防止することができる。
そのため、記録部３２を使用した作業終了後に、上記のような記録部３２の洗浄を行って、記録部３２（吐出ヘッド５０）内を洗浄後の状態で保管すると、特に、粘性の高い乳剤中のゼラチンが残留することによって起こる、吐出ヘッド５０のノズルのつまりを防止することができる。
【０１１０】
次いで、図３〜図６を用いて、吐出ヘッド５０について説明する。
図３は、吐出ヘッド５０の構造例を示す平面透視図であり、図４は、その一部の拡大図である。
また、図５は、吐出ヘッド５０の他の構造例を示す平面透視図であり、図６は、１つの液滴吐出素子（１つのノズル１５１に対応したユニット）の立体的構成を示す断面図（図３中の１２３−１２３線に沿う断面図）である。 
【０１１１】
吐出ヘッド５０は、フルライン型のヘッドであり、図３及び図４に示すように、乳剤の吐出口であるノズル１５１と、各ノズル１５１に対応する圧力室１５２等からなる複数のユニット（液滴吐出素子）１５３を千鳥でマトリクス状に（２次元的に）配置させた構造を有する。
このような吐出ヘッド５０は、自身の長手方向（フィルム送り方向と直交する方向、以下、直交方向とする）に沿って並ぶように投影されるため、実質的なノズル間隔（投影ノズルピッチ）の高密度化を達成している。
【０１１２】
吐出ヘッド５０は、図３および図４に示す例に限定されず、図５に示すように、複数のノズル１５１が２次元に配列された短尺のヘッドモジュール１５０を千鳥状に配列して繋ぎ合わせることでフィルムＦの直交方向の全幅に対応する長さのノズル列を有するラインヘッド５０’を構成してもよい。
【０１１３】
圧力室１５２は、図３および図４に示すように、その平面形状が概略正方形となっており、対角線上の両隅部の一方にノズル１５１への流出口が設けられ、他方に供給インクの流入口（供給口）１５４が設けられている。
なお、圧力室１５２の形状は、特に限定はなく、平面形状が四角形（菱形、長方形など）、五角形、六角形その他の多角形、円形、楕円形など、多様な形態があり得る。
【０１１４】
各圧力室１５２は、図６に示すように、供給口１５４を介して共通流路１５５と連通している。
共通流路１５５は、乳剤の供給源であるメインタンク５２と連通しており、メインタンク１５２から供給される乳剤は共通流路１５５を介して各圧力室１５２に分配供給される。
【０１１５】
圧力室１５２の一部の面（図６において天面）を構成している加圧板（共通電極と兼用される振動板）１５６には個別電極１５７を備えたピエゾ素子１５８が接合されている。
【０１１６】
個別電極１５７と共通電極間に駆動電圧を印加することによってピエゾ素子１５８が変形して圧力室１５２の容積が変化し、これに伴う圧力変化によりノズル１５１から乳剤Ｑが吐出される。
乳剤吐出後、ピエゾ素子１５８の変位が元に戻る際に、共通流路１５５から供給口１５４を通って新しい乳剤Ｑが圧力室１５２に充填される。
【０１１７】
なお、ピエゾ素子１５８には、チタン酸ジルコン酸鉛やチタン酸バリウムなどの圧電体を用いた素子が好適に用いられる。
【０１１８】
以下、図７を用いて、上記構成を有する配線形成装置１０の作用を説明することにより、本発明の配線形成方法を詳細に説明する。
なお、図７は、本発明の配線形成方法の一実施例を示す図である。
【０１１９】
まず、フィルム供給部１６において、マガジン２０に装填されたフィルムロール２２を、マガジン２０から引き出し、カッタ２１で切断して、所望のサイズのフィルムＦを作成し、下地処理部１７に供給する。
次いで、下地処理部１７の接触角調整部２３において、後に形成する乳剤層のパターンニングの精度を向上させるために、プラズマ処理等を実施して、フィルムＦ表面の接触角を調整する。
フィルムＦ表面の接触角を調整した後、図７（ａ）に示すように、下地処理部１７の密着力増強部２４において、フィルムＦと乳剤層１６４との密着力を向上させるために、フィルムＦの表面に、後に形成する乳剤層１６４のパターンに従い、インクジェット記録法（図示せず）を用いて、下地膜１６２を形成し、乾燥部３１において、フィルムＦの下地膜１６２を乾燥させ、フィルムＦをパターン形成部１８に供給し、次いで、インクジェット記録部３２において、予め入力された配線パターニング情報に応じて、フィルムＦの下地膜１６４上に、ハロゲン化銀乳剤をパターニングして、ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層１６４を形成する。
【０１２０】
上記のように、下地膜１６２の形成に、インクジェット記録法を用いることにより、フィルムＦ全面に下地膜を形成する場合と比較して、使用する材料を削減することができ、さらに、製品の未パターン部の絶縁信頼性を高く保つことができる。
また、パターン化された乳剤層１６４の形成に、インクジェット記録法を用いることにより、乳剤の使用効率が向上するため、ランニングコストが低下する。また、乾燥処理も容易に行うことができる。さらに、シャトルスキャン方式を用いる場合には、特に、フィルムＦの幅による制限が無いため、幅が極めて広いフィルムＦ（基板）にも、パターン化された乳剤層１６４を形成することができる。
また、乳剤層１６４の形成に、インクジェット記録法を用いることにより、フィルムＦのパターン面に接触することなく、パターン化された乳剤層１６４を形成することができるので、コンタミ等の汚染を殆どなくすことができ、さらに、乳剤層形成面が凹凸を有する場合にも、本発明を適用することができる。
【０１２１】
パターン形成部１８において、上記のようにして、基板表面上の下地膜１６２上に、パターン化された乳剤層１６４を形成した後、乾燥部３１において、フィルムＦの乳剤層１６４形成面、すなわち、フィルムＦのパターニング面に、乾燥処理を施し、保護層形成部２７に供給し、保護層形成部２７において、フィルムＦ表面に、保護層を形成し、フィルムＦを露光部１９に搬送する。
【０１２２】
次いで、露光部１９において、図７（ｂ）に示すように、フィルムＦのパターニング面に、蛍光管や冷陰極管等を用いて、全面露光を施す。
露光部１９において、フィルムＦのパターニング面を全面露光した後、現像処理部４０にフィルムＦを供給し、現像処理部４０において、図７（ｃ）に示すように、フィルムＦに、現像処理を施す。これにより、フィルムＦ表面の下地膜１６２上に、パターン化された導電性銀層１６８を形成する。
【０１２３】
上記のようにして、現像処理部４０において、パターン化された導電性銀層１６８を形成した後、フィルムＦを水洗処理部４１に供給する。
水洗処理部４１において、フィルムＦに水洗処理を施した後、乾燥処理部４２において、フィルムＦに、乾燥処理を施し、平滑処理部４３に供給する。
次いで、平滑化処理部４３において、フィルムＦのパターン化された導電性銀層１６８の導電率を向上させるために、図７（ｄ）に示すように、カレンダーロール１３（図７には図示せず）を用いて、フィルムＦのパターン化された導電性銀層１６８に平滑化処理を施す。
【０１２４】
本発明における平滑化処理は、上述したような、基板上に、未露光部と導電性銀部とからなる層が形成されている基板表面に平滑化処理を施す場合とは異なり、導電性銀層だけに平滑処理を施すことができるので、導電性銀層、すなわち、パターン部に、集中して圧力を付与することができ、上記従来の構成の基板表面に平滑化処理を施す場合と比較して、圧密率や導電率が非常に効率的に向上する。
【０１２５】
上記のように、平滑処理部４３において、フィルムＦの導電性銀層１６８に平滑化処理を施した後、フィルムＦを、蒸気接触処理部４４に供給し、蒸気接触処理部４４において、図７（ｅ）に示すように、フィルムＦのパターニング面に、蒸気を接触させる蒸気接触処理を施す。
蒸気接触処理部４４において、フィルムＦのパターニング面に蒸気接触処理を施した後は、好ましくは、図７（ｆ）に示すように、図示していないめっき処理部で、フィルムＦのパターン化された導電性銀層１６８上にめっき処理を施し、導電性金属層１７０を形成する。
【０１２６】
上記のようにして、フィルムＦ表面に、パターン化された導電性銀層、すなわち、配線パターンを形成することができる。
【０１２７】
上記のように、本発明の配線形成方法は、ハロゲン化銀乳剤からなる乳剤層を形成し、基板表面に、ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成するため、全面に乳剤層が塗布されたフィルム（基板）を用いる必要がないので、多種多様な基板に適用することができ、さらに、両面基板にも適用することができる。
また、パターン化された乳剤層に一括露光処理を施すため、露光に用いる照射光は、低照度でよい。
【０１２８】
さらに、本発明は、パターニングに、マスクを用いる必要がないので、オンデマンド性に優れ、短納期や少量生産の製品の製造にも、適用可能である。
また、本発明は、光パターニングを行わないので、全ての処理を、明室で行うことができるため、特別な設備を設ける必要がなく、低コストで生産することができる。
【０１２９】
また、本発明の配線形成方法は、上述した従来の配線パターンの形成方法とは異なり、乳剤層に未露光部が存在しないため、従来、未露光部のハロゲン化銀を除去するために行っていた安定化処理等を行う必要がなくなり、生産性が向上する。
さらに、乳剤層に未露光部が存在しないため、未露光部にゼラチン等の材料が残存すること、すなわち、未露光部に残存した材料が、黄色等の有色に変色することがなくなるので、基板上の配線が形成されていない部分の透過率が極めて高いので、ＰＤＰ(Plasma display panel)や電磁波シールドフィルムの製造にも適用することができる。
【０１３０】
ここで、本発明で用いるフィルムＦについて、詳述する。
本発明に用いるフィルムＦについては、特に限定は無いが、プラスチックフィルム、プラスチック板、およびガラス板などを用いることができ、プラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
本発明におけるプラスチックフィルムおよびプラスチック板は、単層で用いることもできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
またアルミなどの金属箔支持体を用いることもできる。
【０１３１】
ここで、下地膜について、詳述する。
下地膜については、特に限定は無いが、ハロゲン化銀を含まないバインダー層や微少空隙型乳剤受容層が挙げられる。
【０１３２】
上記バインダー層を形成する材料としてはゼラチンを好適に用いるが、それ以外の親水性コロイドを用いてもよい。
例えば、ゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体のような多種の合成親水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
バインダー層の厚みの範囲は、0.2μｍ〜2μｍが好ましく、さらに、0.5μｍ〜1μｍが好ましい。
【０１３３】
また、バインダー層を形成する方法にも特に限定は無いが、フィルムＦ表面に、乳剤層のパターンに従いバインダーを塗布し、例えば、４０℃〜１００℃の温度条件下で、０．５分〜５分、乾燥硬化させて形成する方法が挙げられる。
【０１３４】
同様に、微少空隙型乳剤受容層を形成する方法にも、特に限定は無いが、一例としては、フィルムＦ表面に、例えば、平均粒子径２０ｎｍ以下の気相法シリカ、ＰＶＡ(polyvinyl alcohol)等の水溶性樹脂、および、２価異常の水溶性金属を含む液を、乳剤層のパターンに従い塗布し、この塗布と同時、または、後の乾燥処理に入る前に、ホウ酸等の水溶性樹脂を架橋する架橋剤を含む液を、乳剤層のパターンに従い塗布した後、例えば、４０℃〜１００℃の温度条件下で、０．５分〜５分、乾燥硬化させて形成する方法が挙げられる。
【０１３５】
ここで、本発明で用いるハロゲン化銀乳剤について、詳述する。
【０１３６】
本発明に係るハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀、バインダー、溶媒、好ましくは、染料、帯電防止剤、および、その他の添加剤を含有するハロゲン化銀乳剤であれば、特に限定はなく、公知の製法で生成された公知のハロゲン化銀乳剤を用いることができる。
【０１３７】
なお、ハロゲン化銀乳剤の粘度は、一般的に２５℃において１以上４０ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは１以上３０ｍＰａ・ｓ以下、さらに好ましくは１以上２０ｍＰａ・ｓ以下である。
また、その表面張力は動的及び静的表面張力いずれも一般的に２５℃において２０〜１００ｍＮ／ｍ、好ましくは２０〜７０ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは２０〜５０ｍＮ／ｍである。
粘度及び表面張力は、種々の添加剤、例えば、粘度調整剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜調整剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、防黴剤、防錆剤、分散剤及び界面活性剤を添加することによって、調整すればよい。
【０１３８】
＜ハロゲン化銀＞
本発明に係るハロゲン化銀乳剤に含有されるハロゲン化銀については、特に限定はないが、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀が好ましく、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれか、または、これらを組み合わせたハロゲン元素を有するハロゲン化銀が例示される。
【０１３９】
本発明で好ましく用いられるハロゲン化銀について説明する。
本発明においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましく、ハロゲン化銀に関する銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本発明においても用いることができる。
【０１４０】
上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらにＡｇＢｒやＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。
【０１４１】
尚、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
【０１４２】
なお、ハロゲン化銀乳剤における沃化銀含有率は、ハロゲン化銀乳剤１モルあたり１．５ｍｏｌ％であることが好ましい。沃化銀含有率を１．５ｍｏｌ％とすることにより、カブリを防止し、圧力性を改善することができる。より好ましい沃化銀含有率は、ハロゲン化銀乳剤１モルあたり１ｍｏｌ％以下である。
【０１４３】
ハロゲン化銀は固体粒子状であり、露光、現像処理後に形成されるパターン状金属銀層の画像品質の観点からは、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ１μｍ）であることが好ましく、０．１〜１００ｎｍであることがより好ましく、１〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。
尚、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
【０１４４】
ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができ、立方体、１４面体が好ましい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相からなっていても異なっていてもよい。また粒子内部或いは表面にハロゲン組成の異なる局在層を有していてもよい。
本発明における乳剤層の形成に用いられるハロゲン化銀乳剤は単分散乳剤が好ましく、｛粒子サイズの標準偏差）／平均粒子サイズ）｝×１００で表される変動係数が２０％以下、より好ましくは１５％以下、最も好ましくは１０％以下であることが好ましい。
【０１４５】
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、粒子サイズの異なる複数種類のハロゲン化銀乳剤を混合してもよい。
【０１４６】
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、VIII族、VIIB族に属する金属を含有してもよい。特に、高コントラストおよび低カブリを達成するために、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物、鉄化合物、オスミウム化合物などを含有することが好ましい。これら化合物は、各種の配位子を有する化合物であってよく、配位子として例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナートイオン、ニトロシルイオン、水、水酸化物イオンなどや、こうした擬ハロゲン、アンモニアのほか、アミン類メチルアミン、エチレンジアミン等）、ヘテロ環化合物イミダゾール、チアゾール、５−メチルチアゾール、メルカプトイミダゾールなど）、尿素、チオ尿素等の、有機分子を挙げることができる。
また、高感度化のためにはＫ4〔ＦｅＣＮ）6〕やＫ4〔ＲｕＣＮ）6〕、Ｋ3〔ＣｒＣＮ）6〕のごとき六シアノ化金属錯体のドープが有利に行われる。
【０１４７】
上記ロジウム化合物としては、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。水溶性ロジウム化合物としては、例えば、ハロゲン化ロジウム（III）化合物、ヘキサクロロロジウム（III）錯塩、ペンタクロロアコロジウム錯塩、テトラクロロジアコロジウム錯塩、ヘキサブロモロジウム（III）錯塩、ヘキサアミンロジウム（III）錯塩、トリザラトロジウム（III）錯塩、Ｋ3Ｒｈ2Ｂｒ9等が挙げられる。
これらのロジウム化合物は、水或いは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液例えば塩酸、臭酸、フッ酸等）、或いはハロゲン化アルカリ例えばＫＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＮａＢｒ等）を添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
【０１４８】
その他、本発明では、Ｐｄ（ＩＩ）イオンおよび／またはＰｄ金属を含有するハロゲン化銀も好ましく用いることができる。Ｐｄはハロゲン化銀粒子内に均一に分布していてもよいが、ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有させることが好ましい。ここで、Ｐｄが「ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有する」とは、ハロゲン化銀粒子の表面から深さ方向に５０ｎｍ以内において、他層よりもパラジウムの含有率が高い層を有することを意味する。
このようなハロゲン化銀粒子は、ハロゲン化銀粒子を形成する途中でＰｄを添加することにより作製することができ、銀イオンとハロゲンイオンとをそれぞれ総添加量の５０％以上添加した後に、Ｐｄを添加することが好ましい。またＰｄ（ＩＩ）イオンを後熟時に添加するなどの方法でハロゲン化銀表層に存在させることも好ましい。
このＰｄ含有ハロゲン化銀粒子は、物理現像や無電解メッキの速度を速め、所望の電磁波シールド材の生産効率を上げ、生産コストの低減に寄与する。Ｐｄは、無電解メッキ触媒としてよく知られて用いられているが、本発明では、ハロゲン化銀粒子の表層にＰｄを偏在させることが可能なため、極めて高価なＰｄを節約することが可能である。
【０１４９】
本発明において、ハロゲン化銀に含まれるＰｄイオンおよび／またはＰｄ金属の含有率は、ハロゲン化銀の、銀のモル数に対して１０-4〜０．５モル／モルＡｇであることが好ましく、０．０１〜０．３モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
使用するＰｄ化合物の例としては、ＰｄＣｌ4や、Ｎａ2ＰｄＣｌ4等が挙げられる。
【０１５０】
本発明では一般のハロゲン化銀写真感光材料と同様に化学増感を施しても、施さなくてもよい。化学増感の方法としては、例えば特開平２０００−２７５７７０号の段落番号００７８以降に引用されている、写真感光材料の感度増感作用のあるカルコゲナイト化合物あるいは貴金属化合物からなる化学増感剤をハロゲン化銀乳剤に添加することによって行われる。本発明の感光材料に用いる銀塩乳剤としては、このような化学増感を行わない乳剤、すなわち未化学増感乳剤を好ましく用いることができる。本発明において好ましい未化学増感乳剤の調製方法としては、カルコゲナイトあるいは貴金属化合物からなる化学増感剤の添加量を、これらが添加されたことによる感度上昇が、０．１以内になる量以下の量にとどめることが好ましい。カルコゲナイトあるいは貴金属化合物の添加量の具体的な量に制限はないが、本発明における未化学増感乳剤の好ましい調製方法として、これら化学増感化合物の総添加量をハロゲン化銀１モルあたり５×１０−７モル以下にすることが好ましい。
【０１５１】
＜バインダー＞
本発明に係るハロゲン化銀乳剤に用いるバインダーについては、特に限定はなく、ハロゲン化銀粒子を均一に分散させ、かつ、乳剤層とフィルムＦとの密着性を補助することができるものであれば、特に限定はなく、非水溶性ポリマーおよび水溶性ポリマーのいずれを用いることもできるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
【０１５２】
具体的には、バインダーとして、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコールＰＶＡ）、ポリビニルピロリドンＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロースおよびその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
またゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基,カルボキシル基を修飾したゼラチンフタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン)を使用することができる。
【０１５３】
本発明に係るハロゲン化銀乳剤で形成される乳剤層に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。乳剤層中のバインダーの含有量は、Ａｇ／バインダー体積比率が１／２以上であることが好ましく、１／１以上であることがより好ましい。
【０１５４】
＜溶媒＞
本発明に係るハロゲン化乳剤に含有される溶媒についても、特に限定はなく、例えば、水、水性溶媒、有機溶媒、例えば、メタノール等アルコール類、アセトンなどケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、およびこれらの混合溶媒を用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀乳剤で形成される乳剤層に含有される溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
【０１５５】
水性媒体は、水を主成分とし、所望により、水混和性有機溶剤を添加した混合物を用いることができる。
水混和性有機溶剤の例には、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール）、グリコール誘導体（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングルコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル）、アミン（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエチレンイミン、テトラメチルプロピレンジアミン）及びその他の極性溶媒（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、アセトニトリル、アセトン）が含まれる。
尚、前記水混和性有機溶剤は、二種類以上を併用してもよい。
【０１５６】
＜染料＞
本発明に係るハロゲン化乳剤に含有される染料についても、特に限定はなく、フィルター染料として若しくはイラジエーション防止その他種々の効果を有する、固体分散染料等、公知の染料を用いることができる。
本発明に好ましく用いられる染料としては、特開平９−１７９２４３号公報記載の一般式ＦＡ）、一般式ＦＡ１）、一般式ＦＡ２）、一般式ＦＡ３）で表される染料が挙げられ、具体的には同公報記載の化合物Ｆ１〜Ｆ３４が好ましい。
また、特開平７−１５２１１２号公報記載のＩＩ−２）〜ＩＩ−２４）、特開平７−１５２１１２号公報記載のＩＩＩ−５）〜ＩＩＩ−１８）、特開平７−１５２１１２号公報記載のＩＶ−２）〜ＩＶ−７）等も好ましく用いられる。
【０１５７】
＜帯電防止剤＞
本発明に係るハロゲン化銀乳剤に含有される帯電防止剤についても、特に限定はなく、
例えば、表面抵抗率が２５℃、２５％ＲＨの雰囲気下で１０１２ Ω以下の導電性物質含有層を好ましく用いることができる。
本発明に好ましい帯電防止剤として、下記の導電性物質を好ましく用いることができる。
特開平２−１８５４２号公報第２頁左下１３行目から同公報第３頁右上７行目に記載の導電性物質。具体的には、同公報第２頁右下２行目から同頁右下１０行目に記載の金属酸化物、および同公報に記載の化合物Ｐ−１〜Ｐ−７の導電性高分子化合物。ＵＳＰ５５７５９５７号公報、特開平１０−１４２７３８号公報段落番号００４５〜００４３及び特開平１１−２２３９０１号公法段落番号００１３〜００１９に記載の針状の金属酸化物等を用いることができる。
【０１５８】
本発明で用いられる導電性金属酸化物粒子は、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＢａＯおよびＭｏＯ3ならびにこれらの複合酸化物、そしてこれらの金属酸化物にさらに異種原子を含む金属酸化物の粒子を挙げることができる。金属酸化物としては、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、およびＭｇＯが好ましく、さらに、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3およびＴｉＯ2が好ましく、ＳｎＯ2が特に好ましい。異種原子を少量含む例としては、ＺｎＯに対してＡｌあるいはＩｎ、ＴｉＯ2に対してＮｂあるいはＴａ、Ｉｎ2Ｏ3に対してＳｎ、およびＳｎＯ2に対してＳｂ、Ｎｂあるいはハロゲン元素などの異種元素を０．０１〜３０モル％好ましくは０．１〜１０モル％）ドープしたものを挙げることができる。異種元素の添加量が、０．０１モル％未満の場合は酸化物または複合酸化物に充分な導電性を付与することができにくくなり、３０モル％を超えると粒子の黒化度が増し、帯電防止層が黒ずむため適さない。従って、本発明では導電性金属酸化物粒子の材料としては、金属酸化物または複合金属酸化物に対し異種元素を少量含むものが好ましい。また結晶構造中に酸素欠陥を含むものも好ましい。
【０１５９】
上記異種原子を少量含む導電性金属酸化物微粒子としては、アンチモンがドープされたＳｎＯ2粒子が好ましく、特にアンチモンが０．２〜２．０モル％ドープされたＳｎＯ2粒子が好ましい。
【０１６０】
本発明に用いる導電性金属酸化物の形状については特に制限はなく、粒状、針状等が挙げられる。また、その大きさは、球換算径で表した平均粒径が０．５〜２５μｍである。
【０１６１】
また、導電性を得るためには、例えば、可溶性塩例えば塩化物、硝酸塩など）、蒸着金属層、米国特許第２８６１０５６号公報および同第３２０６３１２号公報に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国特許第３４２８４５１号公報に記載のような不溶性無機塩を使用することもできる。
【０１６２】
このような導電性金属酸化物粒子を含有する帯電防止層はバック面の下塗り層、乳剤層の下塗り層などとして設けることが好ましい。その添加量は両面合計で０．０１〜１．０ｇ／ｍ２であることが好ましい。
また、感光材料の内部抵抗率は２５℃２５％ＲＨの雰囲気下で１．０×１０7〜１．０〜１０１２Ωであることが好ましい。
【０１６３】
本発明において、前記導電性物質のほかに、特開平２−１８５４２号公報第４頁右上２行目から第４頁右下下から３行目、特開平３−３９９４８号公報第１２頁左下６行目から同公報第１３頁右下５行目に記載の含フッ素界面活性剤を併用することによって、更に良好な帯電防止性を得ることができる。
【０１６４】
＜その他の添加剤＞
本発明に係るハロゲン化乳剤に含有される各種添加剤に関しては、特に限定はなく、例えば下記公報等に記載されたものを好ましく用いることができる。
【０１６５】
１）造核促進剤
上記造核促進剤としては、特開平６−８２９４３号公報に記載の一般式Ｉ）、ＩＩ）、ＩＩＩ）、ＩＶ）、Ｖ）、ＶＩ）の化合物や、特開平２−１０３５３６号公報第９頁右上欄１３行目から同第１６頁左上欄１０行目の一般式ＩＩ−ｍ）〜ＩＩ−ｐ）および化合物例ＩＩ−１〜ＩＩ−２２、並びに、特開平１−１７９９３９号公報に記載の化合物が挙げられる。
【０１６６】
２）分光増感色素
上記分光増感色素としては、特開平２−１２２３６号公報第８頁左下欄１３行目から同右下欄４行目、同２−１０３５３６号公報第１６頁右下欄３行目から同第１７頁左下欄２０行目、さらに特開平１−１１２２３５号、同２−１２４５６０号、同３−７９２８号、および同５−１１３８９号各公報に記載の分光増感色素が挙げられる。
【０１６７】
３）界面活性剤
上記界面活性剤としては、特開平２−１２２３６号公報第９頁右上欄７行目から同右下欄７行目、および特開平２−１８５４２号公報第２頁左下欄１３行目から同第４頁右下欄１８行目に記載の界面活性剤が挙げられる。
【０１６８】
４）カブリ防止剤
上記カブリ防止剤としては、特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下欄１９行目から同第１８頁右上欄４行目および同右下欄１行目から５行目、さらに特開平１−２３７５３８号公報に記載のチオスルフィン酸化合物が挙げられる。
【０１６９】
５）ポリマーラテックス
上記ポリマーラテックスとしては、特開平２−１０３５３６号公報第１８頁左下欄１２行目から同２０行目に記載のものが挙げられる。
【０１７０】
６）酸基を有する化合物
上記酸基を有する化合物としては、特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右下欄６行目から同第１９頁左上欄１行目に記載の化合物が挙げられる。
７）硬膜剤
上記硬膜剤としては、特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右上欄５行目から同第１７行目に記載の化合物が挙げられる。
【０１７１】
８）黒ポツ防止剤
上記黒ポツ防止剤とは、未露光部に点状の現像銀が発生することを抑制する化合物であり、例えば、米国特許ＵＳ第４９５６２５７号公報および特開平１−１１８８３２号公報に記載の化合物が挙げられる。
９）レドックス化合物
レドックス化合物としては、特開平２−３０１７４３号公報の一般式Ｉ）で表される化合物特に化合物例１ないし５０）、同３−１７４１４３号公報第３頁ないし第２０頁に記載の一般式Ｒ−１）、Ｒ−２）、Ｒ−３）、化合物例１ないし７５、さらに特開平５−２５７２３９号、同４−２７８９３９号各公報に記載の化合物が挙げられる。
１０）モノメチン化合物
上記モノメチン化合物としては、特開平２−２８７５３２号公報の一般式ＩＩ）の化合物特に化合物例ＩＩ−１ないしＩＩ−２６）が挙げられる。
１１）ジヒドロキシベンゼン類
特開平３−３９９４８号公報第１１頁左上欄から第１２頁左下欄の記載、および欧州特許公開ＥＰ４５２７７２Ａ号公報に記載の化合物が挙げられる。
【０１７２】
１２）乾燥防止剤
乾燥防止剤はインクジェット記録方式に用いるノズルのインク噴射口において塗布した物が乾燥することによる目詰まりを防止する目的で好適に使用される。
乾燥防止剤としては、水より蒸気圧の低い水溶性有機溶剤が好ましい。具体的な例としてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、チオジグリコール、ジチオジグリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール、アセチレングリコール誘導体、グリセリン、トリメチロールプロパン等に代表される多価アルコール類、エチレングリコールモノメチル（又はエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノメチル（又はエチル）エーテル、トリエチレングリコールモノエチル（又はブチル）エーテル等の多価アルコールの低級アルキルエーテル類、２−ピロリドン、Ｎ−メチルー２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−エチルモルホリン等の複素環類、スルホラン、ジメチルスルホキシド、３−スルホレン等の含硫黄化合物、ジアセトンアルコール、ジエタノールアミン等の多官能化合物、尿素誘導体が挙げられる。これらのうちグリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコールがより好ましい。また上記の乾燥防止剤は単独で用いても良いし２種以上併用しても良い。これらの乾燥防止剤はインク中に１０〜５０質量％含有することが好ましい。
【０１７３】
＜浸透促進剤＞
浸透促進剤は、インクジェット用インクを紙により良く浸透させる目的で好適に使用される。前記浸透促進剤としてはエタノール、イソプロパノール、ブタノール，ジ（トリ）エチレングリコールモノブチルエーテル、１，２−ヘキサンジオール等のアルコール類やラウリル硫酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウムやノニオン性界面活性剤等を用いることができる。これらはインク中に５〜３０質量％含有すれば通常充分な効果があり、印字の滲み、紙抜け（プリントスルー）を起こさない添加量の範囲で使用するのが好ましい。
【０１７４】
＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、画像の保存性を向上させる目的で使用される。前記紫外線吸収剤としては特開昭５８−１８５６７７号公報、同６１−１９０５３７号公報、特開平２−７８２号公報、同５−１９７０７５号公報、同９−３４０５７号公報等に記載されたベンゾトリアゾール系化合物、特開昭４６−２７８４号公報、特開平５−１９４４８３号公報、米国特許第３２１４４６３号等に記載されたベンゾフェノン系化合物、特公昭４８−３０４９２号公報、同５６−２１１４１号公報、特開平１０−８８１０６号公報等に記載された桂皮酸系化合物、特開平４−２９８５０３号公報、同８−５３４２７号公報、同８−２３９３６８号公報、同１０−１８２６２１号公報、特表平８−５０１２９１号公報等に記載されたトリアジン系化合物、リサーチディスクロージャーＮｏ．２４２３９号に記載された化合物やスチルベン系、ベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物、いわゆる蛍光増白剤も用いることができる。
【０１７５】
＜褐色防止剤＞
褪色防止剤は、画像の保存性を向上させる目的で使用される。前記褪色防止剤としては、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。有機の褪色防止剤としてはハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類などがあり、金属錯体としてはニッケル錯体、亜鉛錯体などがある。より具体的にはリサーチディスクロージャーＮｏ．１７６４３の第ＶＩＩのＩないしＪ項、同Ｎｏ．１５１６２、同Ｎｏ．１８７１６の６５０頁左欄、同Ｎｏ．３６５４４の５２７頁、同Ｎｏ．３０７１０５の８７２頁、同Ｎｏ．１５１６２に引用された特許に記載された化合物や特開昭６２−２１５２７２号公報の１２７頁〜１３７頁に記載された代表的化合物の一般式及び化合物例に含まれる化合物を使用することができる。
【０１７６】
＜防黴剤＞
防黴剤としてはデヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンおよびその塩等が挙げられる。これらはインク中に０．０２〜１．００質量％使用するのが好ましい。
【０１７７】
＜ｐＨ調整剤＞
ｐＨ調整剤としては前記中和剤（有機塩基、無機アルカリ）を用いることができる。前記ｐＨ調整剤はインクジェット用インクの保存安定性を向上させる目的で、該インクジェット用インクがｐＨ６〜１０と夏用に添加するのが好ましく、ｐＨ７〜１０となるように添加するのがより好ましい。
【０１７８】
＜表面張力調整剤＞
表面張力調整剤としてはノニオン、カチオンあるいはアニオン界面活性剤が挙げられる。界面活性剤の例としては、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩等のアニオン系界面活性剤や、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー等のノニオン系界面活性剤が好ましい。また、アセチレン系ポリオキシエチレンオキシド界面活性剤であるＳＵＲＦＹＮＯＬＳ（ＡｉｒＰｒｏｄｕｃｔｓ＆Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社）も好ましく用いられる。また、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−アルキルアミンオキシドのようなアミンオキシド型の両性界面活性剤等も好ましい。更に、特開昭５９−１５７，６３６号の第（３７）〜（３８）頁、リサーチディスクロージャーＮｏ．３０８１１９（１９８９年）記載の界面活性剤として挙げたものも使うことができる。
【０１７９】
＜消泡剤＞
消泡剤としては、フッ素系、シリコーン系化合物やＥＤＴＡに代表されるキレート剤等も必要に応じて使用することができる。
【０１８０】
＜高沸点溶剤＞
高沸点溶剤としては、特開２００４−７５７４２号公報の段落［０１１４］および［０１１５］に記載されている添加剤を用いることができる。
【０１８１】
なお、本発明においては、本発明の配線形成方法を実施可能な配線形成装置は、図１に示すような、フィルムＦの片側表面に乳剤層をパターンニングして、パターニングされた導電性銀層を形成する装置に限定はされず、図８に示すような、フィルムＦの両面に、乳剤層をパターニングし、パターニングされた導電性金属銀を形成する装置であってもよい。
なお、図８に示す配線形成装置１８０（以下、単に、装置１８０ともいう）は、フィルムＦの両面に、乳剤層をパターニング可能なように、下地処理部１８６およびパターン形成部１８２を２つずつ有し、また、パターン形成部１８２の間に、位置検出ユニット１８５を有し、パターン形成部１８２にヒートローラ１８３およびロール洗浄ユニット１８４を有する以外は、図１に示す配線形成装置１０と同様の部材、手段を有するものである。
そのため、ここでは、ヒートローラ１８３、ロール洗浄ユニット１８４、および、位置検出ユニット１８５についてのみ説明する。
【０１８２】
ヒートローラ１８３は、フィルムＦを加熱しつつ搬送するものであり、他方、ロール洗浄ユニット１８４は、ヒートローラ１８３表面への付着物を洗浄するためのものであり、いずれの公知の手段を用いることができる。
また、位置検出ユニット１８４は、フィルムＦの裏面側のパターンを、フィルムＦの表面側のパターンに合わせて形成できるように、フィルムＦの表面側のパターンの位置を検出するものであり、公知の位置検出手段を用いることができる。
【０１８３】
上記構成を有する装置１８０は、まず、装置１０と同様に、フィルム供給部１６から、フィルムＦを下流側に位置する方の下地処理部１８６に供給し、フィルムＦ表面の接触角を調整し、下地膜を形成した後、フィルムＦを、下流側に位置する方のパターン形成部１８２に供給し、フィルムＦ表面の下地膜上にパターン化された乳化層を形成する。次いで、フィルムＦを、上流側に位置する方の下地処理部１８６に供給し、フィルムＦの裏面の接触角を調整し、下地膜を形成した後、さらに、フィルムＦを、上流側に位置する方のパターン形成部１８２に供給して、フィルムＦの裏面に形成された下地膜上に、パターン化された乳化層を形成する。
【０１８４】
上記構成を有する装置１８０は、上記のようにして、フィルムＦの両面に、パターン化された乳化層を形成した後は、装置１０と同様に処理をして、フィルムＦの両面に配線パターンを形成する。
なお、装置１８０における露光は、予め、フィルムＦの両面にパターン化された乳剤層が形成されているので、両面同時に曝露することができ、非常に効率的である。
【０１８５】
なお、装置１０，１８０のフィルム搬送手段について、特に限定はないが、水分量が２０％以上、好ましくは、２％以上の、パターン化された乳剤層が形成されたフィルムＦを搬送する搬送手段は、フィルムＦのパターン領域に、搬送手段が接触しないように、例えば、公知のニップロータ等を、フィルムＦの幅方向両端に配置するのが好ましい。
【０１８６】
ここで、上記のように、水分量２０％以上の乳剤層がパターニングされたフィルムＦを搬送する場合に、フィルムＦのパターン領域に接触しないように、搬送手段を配置するのは、水分量２０％以上の乳剤層は、流動性を有するため、ローラ等の搬送手段に転写し易く、これにより、乳剤層のパターンが崩れてしまうからである。
【０１８７】
さらに、水分量２％以上の乳剤層を有するフィルムＦを搬送する場合でも、搬送手段を、上記のように配置するのは、水分量が２％以上２０％未満の乳剤層は、乳剤層の流動性は小さくなるものの、乳剤層の粘着性が増加するため、ローラ等の搬送手段に、乳剤層が剥離して貼付するからであり、さらには、貼付した乳剤層が乾燥固化し、全てのフィルムＦのパターン面を損傷したり汚染したりしてしまうからである。
【０１８８】
上記のように、搬送手段に、乳剤層が付着すると、様々な不具合が生じるため、装置１０，１８０は、搬送手段、特に、乳剤層が付着する可能性の高い位置にある搬送手段を、自動で洗浄する洗浄手段を有するのが好ましい。
【０１８９】
また、装置１０，１８０の水洗処理部４１については、上記実施形態に限定されず、例えば、多段向流方式（例えば２段、３段など）を用いる構成としてもよい。
上記多段向流方式を本発明に適用した場合、現像後のフィルムＦは徐々に正常な方向、即ち現像液で汚れていない処理液の方向に順次接触して処理されていくので、さらに効率のよい水洗がなされる。
【０１９０】
さらに、上記多段向流方式を用いる場合には、水洗水量を、フィルムＦ１ｍ2当り、２０リットル以下、補充量を、３リットル以下（０も含む、すなわち貯水水洗）にして、水洗処理または安定処理を行うのが好ましい。
これにより、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置の配管を不要とすることができる。
このように、水洗を少量の水で行う場合には、水洗安定処理部４２は、特開昭６３−１８３５０号、同６２−２８７２５２号各公報などに記載のスクイズローラ、クロスオーバーローラを有することが好ましい。
【０１９１】
また、水洗処理部４１は、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および／またはスクイズローラに付着する処理剤成分が処理されたフィルムに転写することを防止するために、水溶性界面活性剤や消泡剤が添加された水洗水を用いてもよいし、少量水洗時に問題となる公害負荷低減のために、種々の酸化剤を添加した水洗水を用いたり、さらに、フィルタ濾過を行う手段を具備したりしてもよい。
また、水洗処理部４１においては、還元銀を有するフィルムＦから溶出した染料による汚染を防止するために、特開昭６３−１６３４５６号公報に記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。
【０１９２】
なお、上記実施形態においては、水洗処理部４１において、フィルムＦに水洗処理を施したが、本発明においては、これに限定されず、フィルムＦの状態を安定化させるために、水洗処理だけでなく、安定化処理を施してもよい。
安定化処理を行う場合には、特開平２−２０１３５７号、同２−１３２４３５号、同１−１０２５５３号、特開昭４６−４４４４６号の各公報に記載の化合物を加えた水洗水を、最終水洗槽に使用してもよい。
この際、必要に応じてアンモニウム化合物、Ｂｉ、Ａｌなどの金属化合物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜ｐＨ調節剤、硬膜剤、殺菌剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加えた水洗水を用いてもよい。
【０１９３】
水洗水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤（オゾン、過酸化水素、塩素酸塩など）等によって殺菌された水を使用することが好ましい。
また、特開平４−３９６５２号、特開平５−２４１３０９号公報記載の化合物を含む水洗水を使用してもよい。
【０１９４】
また、上記実施形態においては、乳剤の制御性、乳剤に対する信頼性、および、耐久性が高いため、ピエゾ素子を有するピエゾ式の吐出ヘッド５０を用いたが、本発明においては、これに限定されず、静電方式のインクジェットヘッド、サーマル方式のインクジェットヘッド、マイクロマシン等によって乳剤室の振動板振動することにより乳剤を吐出するタイプのインクジェットヘッド等、各種のインクジェットヘッドを用いてもよい。
【０１９５】
また、上記実施形態においては、ピエゾ素子１５８の変形によって乳剤を吐出させる方式が用いられているが、本発明においては、これに限定されず、ピエゾ素子１５８のアクチュエータの変形によって、乳剤を吐出させる方式を用いてもよいし、ヒータなどの発熱体によってインクを加熱して気泡を発生させ、その圧力でインク滴を飛ばすサーマルジェット方式など、各種方式を適用してもよい。
【０１９６】
なお、上記実施形態においては、フィルムＦを所定のサイズにカットしてから配線パターンを形成したが、本発明においては、これに限定されず、フィルムＦをロール状搬送しつつ、配線パターンを形成してもよい。
【０１９７】
また、上記実施形態においては、吐出ヘッド５０を遮光していないが、吐出ヘッド５０内の乳剤の品質を保持するために、少なくとも吐出ヘッド５０近傍を遮光する遮光手段を用いるのが好ましい。
【０１９８】
また、上記実施形態においては、フルライン型の吐出ヘッド５０を用いて、乳剤層のパターニングを実施したが、本発明においては、これに限定されず、シャトルスキャンやシングルパスを用いて、さらに、これらを、搬送方向および搬送方向と直交する方向の２方向に走査して、あるいは、フィルムＦを前記２方向に移動させて、乳剤層をパターンニングしてもよい。
【０１９９】
また、上記実施形態においては、フィルムＦ表面上にパターン化された乳剤層を形成して、乳剤層を乾燥させた後に、露光を実施したが、本発明においては、これに限定されず、パターン化された乳剤層を形成した後に、露光を実施し、パターン化された乳剤層を乾燥させてもよい。
【０２００】
また、上記実施形態においては、露光部１９において、フィルムＦ表面全面に、一様に露光を行ったが、本発明においては、これに限定されず、一部分ずつ、露光を行ってもよい。
ただし、フィルムＦ表面に、一様に露光を行った方が、処理速度が向上するため、また、低照度で露光を行うことができ、生産性も向上するため、好ましい。
【０２０１】
また、上記実施形態においては、フィルムＦに現像処理を施した後に、水洗安定化処理を施したが、本発明においては、これに限定せれず、現像処理を施した後に、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着化処理を施してもよい。
定着処理については、特に限定はなく、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
ただし、本発明においては、乳剤層全体に露光を行うため、未露光部が殆ど存在しなちため、定着化処理を施さなくても、十分な効果を得ることができる。
【０２０２】
また、定着処理を施す場合には、水洗処理部４１において、水洗槽４５に防黴手段を用いて防黴処理を施した水を、処理に応じて補充することによって、水洗槽４５からのオーバーフロー液の一部または全部を、特開昭６０−２３５１３３号公報に記載されているように、定着処理の処理液として利用することもできる。
【０２０３】
また、上記実施形態においては、フィルムＦに現像処理を施した後に、水洗処理を施す構成としたが、本発明においては、これに限定せれず、現像処理を施した後に、フィルムＦの金属銀部に、酸化処理を施してもよい。
酸化処理については、特に限定はなく、例えば、ＦｅIIIイオン処理など、種々の酸化剤を用いた公知の方法が挙げられる。
【０２０４】
また、上記実施形態においては、フィルムＦに現像処理を施した後に、水洗処理を施したが、本発明においては、これに限定されず、現像処理を施した後に、導電性を向上させるために、フィルムＦを、還元水溶液に浸漬する還元処理を施してもよい。
還元水溶液には、特に限定はなく、亜硫酸ナトリム水溶液、ハイドロキノン水溶液、パラフェニレンジアミン水溶液、シュウ酸水溶液などを用いることができ、水溶液ＰＨは１０以上とすることがさらに好ましい。
【０２０５】
上記実施形態においては、フィルムＦに、平滑化処理を施した後に、蒸気接触処理を施したが、本発明においては、これに限定されず、蒸気接触処理を施した後に、平滑化処理を施してもよい。
ただし、平滑化処理を行った後に、蒸気接触処理を行った方が、導電性粒子を結合させ蒸気浴により導電性融着させることができ、より効果的に導電性を向上させることができる。
【０２０６】
上記実施形態においては、フィルムＦに、現像処理をした後に、水洗処理、乾燥処理を順に施したが、本発明においては、これに限定されず、現像処理を施した後に、水洗処理を施し、次いで、フィルムＦ表面の導電性銀に、導電性微粒子を担持させめっき（導電性金属部）を形成するめっき処理を行ってもよい。
上記のようにして、導電性銀層にめっき処理を行うことにより、導電率が向上し、製造する製品の実装性も向上する。
めっき処理としては、公知の無電解めっき技術を適用することができる。
ここで、導電性金属部は、導電性金属部に含まれる金属の全質量に対して、銀を５０質量％以上含有することが好ましく、６０質量％以上含有することがさらに好ましい。
【０２０７】
さらに、本発明においては、めっき処理後、平滑化処理後、または、蒸気接触処理後に、フィルムＦのパターン化された導電性銀層表面に、ソルダーレジストを被覆するのが好ましい。
【０２０８】
上記実施形態においては、フィルムＦの表面に、現像処理を施した後に、水洗処理を施しているが、本発明においては、これに限定されず、蒸気接触処理を施した後にも、水洗処理を施してもよい。
こうすることにより、蒸気で溶解又は脆くなったバインダーを洗い流すことができ、これにより導電性銀層の抵抗値をさらに下げることができる。
【０２０９】
上記実施形態においては、インクジェット記録装置を用いて、後に形成する乳剤層のパターン形状に従い下地膜を形成したが、本発明においては、これに限定されず、公知の方法で、フィルムＦ表面全面に一様に塗布してもよい。
ただし、使用する材料の削減や、乳剤層をパターニングしない部分の絶縁性を向上させるために、乳剤層のパターンに従い下地膜を形成するのが好ましい。
【０２１０】
上記実施形態においては、インクジェット記録部３２において、インクジェット記録法（インクジェット印刷法）で、フィルムＦ表面に、乳剤層をパターンニングしたが、本発明においては、これに限定されず、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法等を用いて、フィルムＦ表面に、乳剤層をパターンニングしてもよい。
【０２１１】
以上、本発明の配線形成方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいことはいうまでもない。
【０２１２】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。
なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の主旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【実施例】
【０２１３】
（乳剤の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液及び３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。  続いて下記４液、５液を８分間にわたって加え、さらに、下記の２液及び３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え５分間熟成し粒子形成を終了した。
【０２１４】
・１液：
水                                                ７５０ｍｌ
ゼラチン（フタル化処理ゼラチン）                      ３ｇ
塩化ナトリウム                                        ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン          ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム                    １０ｍｇ
クエン酸                                          ０．７ｇ
・２液：
水                                                ３００ｍｌ
硝酸銀                                            １５０ｇ
・３液：
水                                                ３００ｍｌ
塩化ナトリウム                                      ３８ｇ
臭化カリウム                                        ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（III）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ  ２０％水溶液）              ５ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ  ２０％水溶液）            ７ｍｌ
３液に用いるヘキサクロロイリジウム（III）酸カリウム（０．００５％ＫＣｌ  ２０％水溶液）およびヘキサクロロロジウム酸アンモニウム（０．００１％ＮａＣｌ  ２０％水溶液）は、粉末をそれぞれＫＣｌ  ２０％水溶液、ＮａＣｌ  ２０％水溶液に溶解し、４０℃で１２０分間加熱して調製した。
【０２１５】
・４液：
水                                                １００ｍｌ
硝酸銀                                              ５０ｇ
・５液：
水                                                １００ｍｌ
塩化ナトリウム                                      １３ｇ
臭化カリウム                                        １１ｇ
黄血塩                                                ５ｍｇ
【０２１６】
その後、常法にしたがってフロキュレーション法によって水洗した。
具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩行程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。
最終的に塩化銀を７０モル％、沃化銀を０．０８モル％含む平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。
最終的に乳剤として、ｐＨ＝６．４、ｐＡｇ＝７．５、電導度＝４０００μＳ/ｍ、粘度＝１０ｍＰａ・ｓ、表面張力＝３０ｍＮ／ｍとなった。
【０２１７】
上記乳剤を生成した後、フィルタリングすることにより、上記乳剤の異物を除去した。
異物を除去した乳剤を、ピエゾ式のインクジェットヘッドに充填して、５枚のポリイミド製のフィルムＦにパターン化された乳剤層を形成し、５枚のサンプルとした。
パターニングした乳剤層のＡｇとバインダーとの体積比は、４：１であった。
【０２１８】
次いで、５枚のサンプル、それぞれに、Ｐｈ＝１０．５に調整した以下の現像液を用いて、現像処理を施した。
【０２１９】
［現像液の組成］
現像液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン                    １５ｇ／Ｌ
亜硫酸ナトリウム                  ３０ｇ／Ｌ
炭酸カリウム                      ４０ｇ／Ｌ
エチレンジアミン・四酢酸          ２ｇ／Ｌ
臭化カリウム                      ３ｇ／Ｌ
ポリエチレングリコール２０００    １ｇ／Ｌ
水酸化カリウム                    ４ｇ／Ｌ
【０２２０】
（カレンダー処理）
上記のように現像処理したサンプルに、鉄芯にハードクロムメッキを施した直径２５０ｍｍのロール対でなるカレンダーロールを用いて、１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ）、２９４０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇｆ／ｃｍ）、３９２０Ｎ／ｃｍ（４００ｋｇｆ／ｃｍ）、５８８０Ｎ／ｃｍ（６００ｋｇｆ／ｃｍ）、又は６８６０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）の線圧をかけて、カレンダー処理を施した。
【０２２１】
（水洗処理・蒸気接触処理）
カレンダー処理後、５枚のサンプルを、９０°の温水に、約５分間浸漬させた後、９０°の水蒸気に約３分間接触させた。
【０２２２】
以上のようにして得たサンプルの表面抵抗値（Ω／ｓｑ）を、ダイアインスツルメンツ社製ロスターＧＰ（型番ＭＣＰ−Ｔ６１０）直列４深針プローブ（ＡＳＰ）により、２回ずつ測定した。
結果を、図９に示す。
図９は、サンプルにかけられた線圧と、そのサンプルの表面抵抗との関係を表したグラフである。
【０２２３】
図９に示すグラフから明らかなように、カレンダー処理（平滑化処理）を実施する際に、サンプルにかける線圧を、１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ）以上にすると、表面抵抗が、１．８（Ω／ｓｑ）以下のサンプルを得ることができることが分った。
また、サンプルにかける線圧を、６８６０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）を超えると、サンプルの表面抵抗が、グラフに示すように、僅かに上昇することがわかった。
そのため、サンプルにかける線圧の上限は、６８６０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）が好ましいことがわかった。
なお、線圧力とは、圧密処理されるサンプル１ｃｍあたりにかかる力とする。
【図面の簡単な説明】
【０２２４】
【図１】本発明を実施可能な配線形成装置の一実施形態の構成概略図である。
【図２】インクジェット記録装置の一実施例の概念図である。
【図３】吐出ヘッドの構造例を示す平面透視図である。
【図４】図３に示す吐出ヘッドの一部拡大図である。
【図５】吐出ヘッドの他の構造例を示す平面透視図である。
【図６】１つの液体吐出素子の立体的構成を示す断面図である。
【図７】本発明の配線形成方法の一実施例を示す図である。
【図８】本発明を実施可能な配線形成装置の別の一実施形態の構成概略図である。
【図９】平滑化処理時の線圧と導電性銀層の抵抗値との関係を表わすグラフである。
【図１０】従来の配線形成方法の一実施例を示す図である。
【符号の説明】
【０２２５】
１０，１８０  配線形成装置
１２  パターニング部
１４  プロセサ部
１６  フィルム供給部
１７  下地処理部
１８，１８２  パターニング形成部
１９  露光部
２０  マガジン
２１  カッタ
２２  フィルムロール
２３  接触角調整部
２４  密着力増強部
２５，２６  乾燥部
１７  保護層形成部
２８，２９  断熱遮風部
３０，１８３  ヒートローラ
３１  温風ヒータ
３２  インクジェット記録部
３３，４８  ローラ
３４，４９  エンドレスベルト
３６，３９搬送ユニット
３７  カレンダーロール
３８  蒸気発生ユニット
４０  現像処理部
４１  水洗処理部
４２  乾燥処理部
４３  平滑処理部
４４  蒸気接触処理部
４５  水洗槽
４６  スクイズ部
４７  温風ヒータ
５０  吐出ヘッド
５２  メインタンク
５４  供給サブタンク
５６  回収サブタンク
５８  乳剤循環経路
６０  共通供給管
６２  第１供給配管
６４  第２供給配管
６６  第３供給配管
６８  第１回収配管
７０  第２回収配管
７２  共通回収配管
７４  希釈剤補充タンク
７６  乳剤補充タンク
７８，１０２，１０４  補充用配管
８０  洗浄液タンク
８２  攪拌手段
８４  洗浄液回収配管
８６  洗浄液供給配管
８４ａ，８６ａ  三方制御弁
９０  乳剤補充ユニット
９２  乳剤循環ポンプ
９４  洗浄ユニット
９６  ポンプ
９８  第３回収配管
１００  フィルタ
１５１  ノズル
１５２  圧力室
１５３  ユニット
１５４  流入口
１５５  共通流路
１５６  加圧板
１５７  個別電極
１５８  ピエゾ素子
１８４  ロール洗浄ユニット
１８５  位置検出ユニット
２０２  下地膜
２０４  乳剤層
２０８  マスク
２１２  導電性銀
２１４  未露光部
２１６  黒ポツ
２１８  導電性金属部
Ｓ  基板
Ｆ  フィルム
【図１】
2009239070.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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