(57)【要約】【課題】エリプソメータを用いた膜厚計測方法及び膜厚計測装置において、膜形成前後の計測位置の位置ずれを回避する。【解決手段】レーザ光出射部１３と試料１０との間に減光フィルタ１５を挿入して試料１０の表面におけるレーザ光の投影光の中心を判定し、レーザ光が所定位置に照射されるようにする。その後、減光フィルタ１５を退避させ、試料１０の表面の偏光状態を計測する。次に、試料１０の面上に薄膜を形成した後、レーザ光出射部１３と試料１０との間に減光フィルタ１５を挿入して試料１０の表面におけるレーザ光の投影光の中心を判定し、レーザ光が所定位置に照射されるようにする。その後、減光フィルタ１５を退避させ、試料１０の表面の偏光状態を計測する。次いで、薄膜形成前後における偏光状態の変化から、薄膜の厚さを求める。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光の通過域に配置された偏光子と、
前記偏光子と試料との間に挿抜自在に配置された減光フィルタと、
前記試料の表面で反射されたレーザ光が透過する検光子と、
前記検光子を透過したレーザ光を検出する光検出器と
を有することを特徴とする膜厚計測装置。
【請求項２】
前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域に挿入したときの前記試料の表面におけるレーザ光の径が、前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させたときの前記試料の表面におけるレーザ光の径の０．２乃至０．６倍であることを特徴とする請求項１に記載の膜厚計測装置。
【請求項３】
レーザ光源から出射されたレーザ光を偏光子及び減光フィルタを介して試料の表面に照射し、前記レーザ光が前記試料の所定位置に照射されるようにする工程と、
前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させる工程と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子を介して前記試料の前記所定位置に照射し、前記試料で反射され検光子を透過したレーザ光を光検出器で検出して前記試料の表面の偏光状態を計測する工程と、
前記試料の表面上に薄膜を形成する工程と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子及び前記減光フィルタを介して前記薄膜形成後の前記試料の表面に照射し、前記レーザ光が前記試料の前記所定位置に照射されるようにする工程と、
前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させる工程と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子を介して前記薄膜形成後の前記試料の前記所定位置に照射し、前記試料で反射され前記検光子を透過したレーザ光を前記光検出器で検出して前記薄膜形成後の前記試料の表面の偏光状態を計測する工程と、
前記薄膜形成前の前記試料の表面の偏光状態と前記薄膜形成後の前記試料の表面の偏光状態とにより前記薄膜の厚さを算出する工程と
を有することを特徴とする膜厚計測方法。
【請求項４】
前記試料が、磁気記録装置用磁気ヘッドであることを特徴とする請求項３に記載の膜厚計測方法。
【請求項５】
前記薄膜が、前記試料表面に塗布又は付着した潤滑剤からなることを特徴とする請求項３又は４に記載の膜厚計測方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エリプソメータを用いた薄膜計測方法及び薄膜計測装置に関し、特に磁気ヘッドの表面に塗布又は付着した潤滑剤の膜厚計測に好適な薄膜計測方法及び薄膜計測装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク装置（ハードディスクドライブ）は、コンピュータ等の情報機器だけでなく、ハードディスクビデオレコーダ等の映像記録機器や携帯型音楽再生装置等にも使用されるようになった。磁気ディスク装置は、円盤状の磁気ディスク（磁気記録媒体）と、磁気ヘッドとを有している。磁気ヘッドは、磁気ディスクに対し情報を磁気的に記録する記録素子と、磁気ディスクから情報を読み出し電気信号に変換して出力する再生素子と、記録素子及び再生素子を支持するスライダとにより構成される。スライダはアルチック（ＡｌＴｉＣ）等の焼結体からなる直方体形状の部材であり、記録素子及び再生素子はスライダの端面に配置されている。
【０００３】
磁気ヘッドは、記録素子及び再生素子の先端側が磁気ディスクと対向するように配置される。以下、磁気ディスクに対向する磁気ヘッドの面を対向面という。磁気ヘッドは、磁気ディスクの回転により生じる空気流によって磁気ディスクの表面からわずかに浮上し、その状態で記録素子により磁気ディスクに情報を書き込んだり、再生素子により磁気ディスクから情報を読み出す。一般的に、磁気ヘッド（スライダ）の対向面には、浮上安定性を確保するために、所定のパターンで凹凸が形成されている。
【０００４】
磁気ディスク装置の大容量化を図るためには、磁気ディスクの記録密度を向上させることが必須であり、そのために磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隔を小さくする傾向がある。磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隔は磁気スペーシングと呼ばれている。近年の磁気ディスク装置では、磁気スペーシングが１０ｎｍ程度と極めて小さくなっている。
【０００５】
ところで、何らかの原因（気圧の変化や振動等）により磁気ヘッドが磁気ディスクに接触しても磁気ディスクや磁気ヘッドが破損しないように、磁気ディスクの表面には潤滑剤の膜が１ｎｍ程度の厚さに形成されている。しかし、磁気スペーシングが極めて小さくなった近年の磁気ディスク装置では、長時間の使用により潤滑剤成分が磁気ヘッドの対向面に付着し、それにより磁気ヘッドの浮上安定性を低下させることがある。このような不具合を回避するためには、潤滑剤の種類と、磁気ヘッドの材質及び形状等と、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着量と、浮上安定性との関係を調べる必要がある。そのために磁気ヘッドの表面（対向面）に潤滑剤を塗布して（又は、付着させて）浮上安定性を調べる実験が行われており、磁気ヘッドに塗付した（又は、付着した）潤滑剤の膜厚を正確に計測することが重要となる。
【０００６】
一般的に、固体表面の薄膜の膜厚計測方法として、Ｘ線光電子分光法、フーリエ変換赤外吸収分光法及びエリプソメトリ法などがある。このうち、エリプソメトリ法では、計測に用いるレーザ光のスポット径を狭めることにより微小領域の計測が可能なため、磁気ヘッドのような複雑な構造をもつ部材の表面の膜厚計測に適している。エリプソメトリ法で潤滑剤の膜厚を計測する場合には、潤滑剤塗付前の磁気ヘッド表面の光の偏光状態と、潤滑剤塗付後の磁気ヘッド表面の光の偏光状態を調べ、偏光状態の変化を解析して潤滑剤の膜厚を算出する。
【０００７】
なお、レーザ光を遮断する電磁シャッターが設けられたエリプソメータや、レーザ光を出射する光源とレーザ光を検出する検出器とを２組づつ設けたエリプソメータが提案されている（特許文献１，２）。
【特許文献１】特開２００４−１３８５１９号公報
【特許文献２】特開平０４−１２７００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本願発明者らは、従来のエリプソメトリ法による磁気ヘッドの潤滑剤膜厚計測には、以下に示す問題点があると考える。すなわち、エリプソメトリ法による潤滑剤の膜厚計測では、上述したように潤滑剤塗付前（又は、潤滑剤付着前）の偏光状態と潤滑剤塗付後（又は、潤滑剤付着後）の偏光状態とを計測する。この場合、膜厚を良好な精度で計測するために、潤滑剤塗付前の計測位置と潤滑剤塗付後の計測位置とが一致していることが重要である。
【０００９】
一般的に、磁気ヘッドのスライダは焼結体により形成されているため、表面が比較的粗く、レーザ光を照射したときにレーザ光が散乱して輪郭がぼけてしまう。そのため、レーザ光の照射中心位置を決定することが難しく、潤滑剤塗付前の計測位置と潤滑剤塗付後の計測位置とがずれて、膜厚計測精度が大きく低下する。
【００１０】
本発明は、エリプソメータを用いた膜厚計測方法及び膜厚計測装置において、膜形成前後の計測位置の位置ずれを回避できる膜厚計測方法及び膜厚計測装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一観点によれば、レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光の通過域に配置された偏光子と、前記偏光子と試料との間に挿抜自在に配置された減光フィルタと、前記試料の表面で反射されたレーザ光が透過する検光子と、前記検光子を透過したレーザ光を検出する光検出器とを有する膜厚計測装置が提供される。
【００１２】
本発明の他の観点によれば、レーザ光源から出射されたレーザ光を偏光子及び減光フィルタを介して試料の表面に照射し、前記レーザ光が前記試料の所定位置に照射されるようにする工程と、前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させる工程と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子を介して前記試料の前記所定位置に照射し、前記試料で反射され検光子を透過したレーザ光を光検出器で検出して前記試料の表面の偏光状態を計測する工程と、前記試料の表面上に薄膜を形成する工程と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子及び前記減光フィルタを介して前記薄膜形成後の前記試料の表面に照射し、前記レーザ光が前記試料の前記所定位置に照射されるようにする工程と、前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させる工程と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子を介して前記薄膜形成後の前記試料の前記所定位置に照射し、前記試料で反射され前記検光子を透過したレーザ光を前記光検出器で検出して前記薄膜形成後の前記試料の表面の偏光状態を計測する工程と、前記薄膜形成前の前記試料の表面の偏光状態と前記薄膜形成後の前記試料の表面の偏光状態とにより前記薄膜の厚さを算出する工程とを有する膜厚計測方法が提供される。
【００１３】
本発明においては、減光フィルタを配置して試料面にレーザ光を照射するので、試料表面での散乱が抑制され、その結果レーザ光の中心位置を容易にかつ精度よく判定することができる。これにより、試料の所定位置にレーザ光を照射することができる。
【００１４】
その後、レーザ光の通過域から減光フィルタを退避させ、試料の所定位置にレーザ光を照射して偏光状態を調べる。このようにして薄膜形成前及び薄膜形成後の試料表面の偏光状態の変化を計測することにより、薄膜の厚さを良好な精度で算出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して説明する。
【００１６】
図１は、本発明の実施形態に係る膜厚計測装置の構成を示す模式図である。なお、本実施形態においては、本発明を磁気ヘッドの表面（対向面）に塗布した潤滑剤の膜厚を計測する場合について説明する。
【００１７】
本実施形態に係る膜厚計測装置は、図１に示すように、ＸＹＺステージ１１と、ゴニオステージ（又は、傾斜ステージ）１２と、レーザ光出射部１３と、レーザ光検出部１４と、減光フィルタ１５と、顕微鏡１６と、制御部１７とを有している。
【００１８】
試料（磁気ヘッド）１０は、ゴニオステージ１２にセットされる。ゴニオステージ１２はＸＹＺステージ１１上に設置されており、制御部１７に制御されて試料１０をＸ軸に平行な直線を中心とする回転方向、Ｙ軸に平行な直線を中心とする回転方向、Ｚ軸に平行な直線を中心とする回転方向に回転する。ＸＹＺステージ１１は、制御部１７により制御されてゴニオステージ１２をＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に移動させる。図１では、Ｘ軸方向を横方向、Ｙ軸方向を紙面に垂直な方向、Ｚ軸方向を縦方向としている。
【００１９】
レーザ光出射部１３は、レーザ光を発生するレーザ光源２１と、偏光子２２とを有している。レーザ光源２１で発生したレーザ光は、偏光子２２を透過する際に直線偏光される。なお、偏光子２２の後段に波長板（λ／４板等）を配置してもよい。
【００２０】
減光フィルタ１５は、レーザ光出射部１３と試料１０との間のレーザ光通過域に挿抜自在に配置される。レーザ光出射部１３から出射された光（偏光）は、直接又は減光フィルタ１５を通過した後、試料１０の表面に所定の角度で入射し、試料１０の表面で反射されれる。このとき、レーザ光は、試料１０の表面状態に応じて偏光状態が変化する。
【００２１】
試料１０で反射されたレーザ光は、レーザ光検出部１４に入射する。レーザ光検出部１４は、検光子２３と光検出器２４とを有している。検光子２３は光軸に平行な軸を中心として回転し、光検出器２４は検光子２３を透過した光を検出する。制御部１７は、検光子２３の回転角と光検出器２４の出力とに基づいて、試料１０の表面の偏光状態を検出する。そして、制御部１７は、潤滑剤塗付前及び塗付後の試料１０の表面の偏光状態に変化から、潤滑剤の膜厚を算出する。
【００２２】
顕微鏡１６はレーザ光により照射される部分の観察に用いられ、顕微鏡１６による観察結果に基づいてレーザ光の照射位置が調整される。顕微鏡１６に替えて、ＣＣＤ（Charge-Coupled Device）カメラを設けてもよい。
【００２３】
本実施形態に係る膜厚計測装置は、減光フィルタ１５及びそれに関連する機構を有することを除けば基本的に公知のエリプソメータと同様の構造を有している。
【００２４】
図２は、減光フィルタ１５の挿抜機構の一例を示す模式図である。減光フィルタ１５は支持部材１５ｂに支持され、レーザ光の進行方向に平行に配置された回転軸１５ａを中心に回転する。この回転軸１５ａは、回転駆動機構（図示せず）を介して制御部１７により駆動制御される。
【００２５】
本実施形態では、レーザ光源２１として波長が６３２．８ｎｍのレーザ光を出力するＨｅ−Ｎｅレーザ装置を使用し、減光フィルタ１５として波長が６３２．８ｎｍのレーザ光（計測光）を減光するバンドパスフィルタ（青色の波長範囲の光を中心に透過するバンドパスフィルタ）を使用する。
【００２６】
焼結体により形成された試料１０の表面にレーザ光を斜め方向から照射すると、図３（ａ）に示すようにレーザ光が試料表面で散乱されて投影光（試料面に投影されたレーザ光）の輪郭が不明確になり、レーザ光の中心を判定することは困難である。しかし、レーザ光の通過域に減光フィルタ１５を挿入すると、図３（ｂ）に示すように光の散乱が低減され、投影光の形状が小さくなるとともに輪郭が明瞭になって、レーザ光の中心を判定することが容易になる。オペレータが顕微鏡１６による観察像からレーザ光の中心位置を判定してもよく、顕微鏡１６の替わりにＣＣＤカメラを使用し、投影光の画像を制御部１７で画像処理してレーザ光の中心位置を自動的に判定するようにしてもよい。
【００２７】
減光フィルタ１５による減光率が小さい場合は、試料表面での光の散乱を減少する効果が十分でなく、投影光の輪郭を明確にすることができない。一方、減光フィルタ１５による減光率が大きすぎると、投影光が暗くなって輪郭がわかりにくくなる。レーザ光は試料面に斜めに入射するため、投影光は楕円形となる。本実施形態では、減光フィルタ１５として、投影光の径（長軸又は短軸の長さ）が、減光フィルタ１５がないときの０．２倍以上、かつ０．６倍以下になるものを使用する。
【００２８】
なお、減光フィルタ１５を挿入したときと減光フィルタ１５を外したときとで試料１０に対するレーザ光の入射角度が変化しないようにすることが重要である。また、図４に示すように、減光フィルタ１５をレーザ光の進行方向に直交する方向にスライドさせることにより減光フィルタ１５をレーザ光の通過域に挿抜する構成でもよい。
【００２９】
以下、本実施形態に係る膜厚計測装置を用いた膜厚計測方法について、図５に示すフローチャートを参照して説明する。
【００３０】
まず、ステップＳ１１において、試料１０をゴニオステージ１２にセットする。その後、ステップＳ１２に移行し、レーザ光の通過域に減光フィルタ１５を挿入する。
【００３１】
次に、ステップＳ１３において、レーザ光が計測位置を照射するように設定する。例えば、試料１０の表面の特定の位置（角部又は所定のパターン等）を原点とし、この原点にレーザ光の中心が重なるようにＸＹＺステージ１１を移動する。この場合、減光フィルタ１５によりレーザ光が減光されているため、図３（ｂ）に示すように試料面に投影されたレーザ光（投影光）の輪郭が明確になり、レーザ光の中心を原点に容易に一致させることができる。レーザ光の中心が原点に重なったら、その位置から所定の距離だけＸ軸方向及びＹ軸方向にＸＹＺステージ１１を移動し、試料１０の計測位置にレーザ光が照射されるようにする。
【００３２】
次に、ステップＳ１４に移行し、減光フィルタ１５をレーザ光の通過域から退避させる。そして、ステップＳ１５において、レーザ光を試料１０の計測位置に照射し、レーザ光検出部１４により反射光を検出して、試料面の偏光状態を計測する。このようにして潤滑剤塗付前の試料１０の表面の偏光状態を計測した後、ゴニオステージ１２から試料１０を取り外す。
【００３３】
次に、ステップＳ１６に移行し、試料１０に潤滑剤を塗布する。そして、ステップＳ１７に移行し、潤滑剤を塗布した試料１０をゴニオステージ１２にセットする。
【００３４】
次に、ステップＳ１８に移行し、レーザ光の通過域に減光フィルタ１５を挿入する。その後、ステップＳ１９に移行し、レーザ光が計測位置を照射するように設定する。すなわち、ステップＳ１３と同様に、試料１０の測定面の特定の位置を原点とし、この原点にレーザ光の中心が重なるようにＸＹＺステージ１１を移動する。この場合、減光フィルタ１５によりレーザ光が減光されているため、試料面に投影されたレーザ光（投影光）の輪郭が明確になり、レーザ光の中心を原点に容易に一致させることができる。レーザ光の中心が原点に重なったら、その位置から所定の距離だけＸ軸方向及びＹ軸方向にＸＹＺステージ１１を移動し、試料１０の測定位置にレーザ光が照射されるようにする。
【００３５】
次に、ステップＳ２０に移行し、減光フィルタ１５をレーザ光の通過域から退避させる。そして、ステップＳ２１において、レーザ光を試料１０の計測位置に照射し、光検出部１４により反射光を検出して、偏光状態を計測する。
【００３６】
このようにして潤滑剤塗付前及び塗付後の試料面の偏光状態を計測した後、ステップＳ２２に移行し、制御部１７により潤滑剤塗布前及び塗布後の偏光状態から潤滑剤の膜厚を算出する。
【００３７】
本実施形態においては、レーザ光が計測位置を照射するように設定する際に、レーザ光の通過域に減光フィルタ１５を挿入するので、試料表面における投影光の形状が小さくなるとともに光の散乱が抑制される。これにより、投影光の輪郭が明確になり、レーザ光を計測位置に良好な精度で照射することができる。その結果、潤滑剤の膜厚計測精度が向上する。
【００３８】
以下、上述した膜厚計測方法を用いて実際に潤滑剤の膜厚を計測した結果について、比較例と比較して説明する。
【００３９】
まず、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて、試料（磁気ヘッド）の表面の２０μｍ×２０μｍの領域内の表面粗さＲａを測定した。その結果、試料の表面粗さＲａは０．８ｎｍであった。
【００４０】
その後、上述した方法により、潤滑剤塗付前及び塗付後の試料表面の偏光状態を計測し、その結果から潤滑剤の膜厚を算出した。但し、潤滑剤として、パーフルオロポリエーテルを使用した。また、１つの試料には潤滑剤を１０Åの厚さになるように塗布し、他の試料には潤滑剤を２０Åの厚さになるように塗付した。減光フィルタは、駿河精機製のバンドパスフィルタ（青色：ＢＧ７)を使用した。また、各試料毎に、２２箇所の位置で潤滑剤の膜厚を計測し、その平均値と標準偏差とを算出した。一方、比較例として、減光フィルタを有しないエリプソメータを用いて、同様に試料表面に塗布した潤滑剤の膜厚を計測し、平均値及び標準偏差を算出した。
【００４１】
それらの結果を、図６（ａ），（ｂ）にまとめて示す。なお、図６（ａ）は潤滑剤を約１０Åの厚さになるように塗付したときの実施例及び比較例による膜厚計測結果を示しており、図６（ｂ）は潤滑剤を約２０Åの厚さになるように塗付したときの実施例及び比較例による膜厚計測結果を示している。また、図６（ａ），（ｂ）において、エラーバーは標準偏差を示している。
【００４２】
図６（ａ）から、本発明の実施例に係る膜厚計測方法は、比較例の膜厚計測方法に比べて計測値のばらつき（標準偏差）が小さく、膜厚計測精度がよいことがわかる。図６（ｂ）に示すように、潤滑剤の膜厚が厚い場合は比較例においても計測値のばらつきが比較的小さいが、実施例のほうがより一層計測値のばらつきが小さい。これらのことから、本発明が磁気ヘッドの表面に塗布（又は付着）した潤滑剤の膜厚計測に有効であることが確認された。
【００４３】
なお、上述の実施形態では、本発明を磁気ヘッドの表面に塗布（又は付着）した潤滑剤の膜厚計測に適用した例について説明したが、これにより本発明が磁気ヘッドの表面の潤滑剤の膜厚計測に限定されるものでないことは勿論である。本発明は、種々の部材の上に形成される薄膜の膜厚計測に適用することができる。
【００４４】
以下、本発明の諸態様を、付記としてまとめて記載する。
【００４５】
（付記１）レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光の通過域に配置された偏光子と、
前記偏光子と試料との間に挿抜自在に配置された減光フィルタと、
前記試料の表面で反射されたレーザ光が透過する検光子と、
前記検光子を透過したレーザ光を検出する光検出器と
を有することを特徴とする膜厚計測装置。
【００４６】
（付記２）前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域に挿入したときの前記試料の表面におけるレーザ光の径が、前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させたときの前記試料の表面におけるレーザ光の径の０．２乃至０．６倍であることを特徴とする付記１に記載の膜厚計測装置。
【００４７】
（付記３）更に、前記レーザ光により照射される試料面を撮影するカメラと、
前記カメラにより撮影された画像を画像処理してレーザ光の中心位置を判定する制御部とを有することを特徴とする付記１に記載の膜厚計測装置。
【００４８】
（付記４）前記減光フィルタが、前記レーザ光の進行方向に平行な軸を中心として回転移動することを特徴とする付記１乃至３のいずれか１項に記載の膜厚計測装置。
【００４９】
（付記５）前記減光フィルタが、前記レーザ光の進行方向に直交する方向にスライド移動することを特徴とする付記１乃至３のいずれか１項に記載の膜厚計測装置。
【００５０】
（付記６）レーザ光源から出射されたレーザ光を偏光子及び減光フィルタを介して試料の表面に照射し、前記レーザ光が前記試料の所定位置に照射されるようにする工程と、
前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させる工程と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子を介して前記試料の前記所定位置に照射し、前記試料で反射され検光子を透過したレーザ光を光検出器で検出して前記試料の表面の偏光状態を計測する工程と、
前記試料の表面上に薄膜を形成する工程と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子及び前記減光フィルタを介して前記薄膜形成後の前記試料の表面に照射し、前記レーザ光が前記試料の前記所定位置に照射されるようにする工程と、
前記減光フィルタを前記レーザ光の通過域から退避させる工程と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光を前記偏光子を介して前記薄膜形成後の前記試料の前記所定位置に照射し、前記試料で反射され前記検光子を透過したレーザ光を前記光検出器で検出して前記薄膜形成後の前記試料の表面の偏光状態を計測する工程と、
前記薄膜形成前の前記試料の表面の偏光状態と前記薄膜形成後の前記試料の表面の偏光状態とにより前記薄膜の厚さを算出する工程と
を有することを特徴とする膜厚計測方法。
【００５１】
（付記７）前記試料が焼結体により形成されたものであることを特徴とする付記６に記載の膜厚計測方法。
【００５２】
（付記８）前記薄膜が、磁気記録装置用磁気ヘッドの表面に塗布又は付着した潤滑剤からなることを特徴とする付記６又は７に記載の膜厚計測方法。
【００５３】
（付記９）前記減光フィルタを介して前記試料表面にレーザ光を照射したときの前記試料に対するレーザ光の入射角と、前記減光フィルタを退避させた状態で前記試料表面にレーザ光を照射したときの前記試料に対するレーザ光の入射角とが同じであることを特徴とする付記６に記載の膜厚計測方法。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る膜厚計測装置の構成を示す模式図である。
【図２】図２は、減光フィルタの挿抜機構の一例を示す模式図である。
【図３】図３（ａ）は減光フィルタがないときの試料表面に投影されたレーザ光を示す図、図３（ｂ）は減光フィルタを挿入したときの試料表面に投影されたレーザ光を示す図である。
【図４】図４は、減光フィルタの挿抜機構の他の例を示す模式図である。
【図５】図５は、実施形態に係る膜厚計測方法を示すフローチャートである。
【図６】図６（ａ），（ｂ）は、実施例及び比較例による膜厚計測結果を示す図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０…試料、
１１…ＸＹＺステージ、
１２…ゴニオステージ、
１３…レーザ光出射部、
１４…レーザ光検出部、
１５…減光フィルタ、
１６…顕微鏡、
１７…制御部、
２１…レーザ光源、
２２…偏光子、
２３…検光子、
２４…光検出器。
【図１】
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【図２】
2009270889.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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