(57)【要約】【課題】同一測定装置にて、電荷輸送層の膜厚と電荷発生層の光吸収特性を測定する。【解決手段】デバイスの機能層の特性測定装置は、光学顕微鏡装置３０と分光特性測定装置である分光光度計４０と演算装置５０とを備え、光学顕微鏡装置３０は、光源である照明装置３５と、前記光源を用いて明視野照明と暗視野照明とのいずれかに切り替える切り替え部３３と、対物レンズ２０とが設けられ、対物レンズ２０を通過した電子写真感光体１００の表面からの反射光は、光ファイバ３７を介して分光光度計４０に送られ、分光光度計４０において測定された分光特性のデータは、演算装置５０に送られ、電荷輸送層の膜厚と電荷発生層の光吸収特性が求められる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源を用いて明視野照明と暗視野照明とのいずれかに切り替える切り替え手段と、を有する光学顕微鏡装置と、
少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とを含む機能層を有するデバイスの表面に、前記明視野照明または暗視野照明により光を照射し、反射光の分光特性を検出する分光特性測定装置と、
前記分光特性測定装置にて検出された明視野照明による反射光の分光特性から電荷輸送層の膜厚を求め、且つ前記分光特性測定装置にて検出された暗視野照明による反射光の分光特性から電荷発生層の光吸収特性を求める演算装置と、を備えたことを特徴とするデバイスの機能層の特性測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載のデバイスの機能層の特性測定装置において、
前記演算装置は、デバイスの表面への明視野照明にて検出された反射光の分光特性から、干渉により生じた波形のピーク波長を求め、干渉波形の隣り合うピーク波長と前記電荷輸送層の屈折率とを用い、前記電荷輸送層の膜厚を求めることを特徴とするデバイスの機能層の特性測定装置。
【請求項３】
請求項１に記載のデバイスの機能層の特性測定装置において、
前記演算装置は、デバイスの表面への暗視野照明にて検出された反射光の分光特性から、前記電荷発生層に含まれる電荷発生材料由来の特定波長領域の反射率を求め、前記電荷発生層の光吸収特性を得ることを特徴とするデバイスの機能層の特性測定装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のデバイスの機能層の特性測定装置において、前記デバイスは、電子写真感光体であることを特徴とするデバイスの機能層の特性測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デバイスの機能層の特性測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、近年、電子写真装置は、白黒の複写機やプリンタからカラー複写機やカラープリンタへと発展普及し、より画質の向上が求められている。従来は感光体を作製しても、感光体が電子写真装置に適用可能か否かは、感光体を電子写真装置に搭載し得られる画像から判断する方式が用いられていた。しかし、より画質の向上が求められるようになり、電子写真装置に搭載し画像評価を行うことでは、得られた画像のばらつきにより評価精度が不充分であり、また評価効率の面からも、より迅速な評価方法が望まれていた。
【０００３】
電子写真装置に使用される電子写真感光体としては、光導電性を示す有機材料を用いた有機感光体が主流となっており、感光体の構成も導電性基体上に下引き層および電荷発生層および電荷輸送層を積層した機能分離型感光体へと変遷している。このような積層感光体では、電荷輸送層の膜厚および電荷発生層の膜厚や光吸収特性が、画像濃度に大きな影響を与えることが知られている。
【０００４】
電子写真感光体の電荷輸送層の膜厚を測定する方法としては、その膜厚が２５μｍ程度と比較的厚いことから、渦電流膜厚計、干渉膜厚計等の方式が広く知られている。干渉膜厚計は光ファイバを用いて、感光体表面に垂直に照射し、反射光を光ファイバに導き、分光光度計により測定された干渉波形より膜厚を求める方式が多く用いられる。例えば、特許文献１では、分光光度計によって得られた波形のピーク波長と屈折率により電荷輸送層の膜厚を求める方法が開示されている。
【０００５】
また、電子写真感光体の電荷発生層の膜厚を測定する方法としては、その膜厚が０．５μｍ以下と薄い事から、電荷輸送層の膜厚測定に用いられる干渉方式により直接的に膜厚を測定する方式の適用は難しく、分光光度計を用いて光の吸収量が膜厚により変化する事を利用した方式が多く用いられる。例えば、特許文献１，２では、分光光度計により得られた当該位置の分光吸収スペクトルから吸収率を求め、膜厚換算する方法が開示されている。しかしながら、これらは、電荷発生層単層に光を照射し、基体からの反射光により、その層の吸収量を求め、膜厚に換算しようとするものである。
【０００６】
上述した方法を、電荷輸送層を塗布後の感光体に適用しようとした場合は、電荷輸送層表面からの反射光の影響を受けるという問題点があった。特に、レーザ光源を使用した複写機あるいはプリンタに使用する感光体では、導電性基体あるいは下引き層の表面を粗面状態にして、感光体内部での多重反射を防止し、干渉縞の発生を防止する対策が一般的に行なわれている。この様な感光体では、基材からの反射光が散乱してしまう為、電荷輸送層表面からの反射強度に比べて、基材からの反射強度が弱く、電荷輸送層による吸収量が検出できない問題点があった。
【０００７】
このような問題点を改善する手段としては、特許文献３では、投光手段からの正反射光路に対して、ずれた角度に受光手段を配置して散乱光を受光し、電荷発生層の膜厚を評価する方法が開示されている。これらの方法では、電荷輸送層表面の正反射光の影響を除き、電荷発生層の吸収量を検出することが可能である。しかしながら、これらの方法は、特定の角度に投受光手段を配置しているために、基材あるいは下引き層からの散乱光の内、特性の角度のものを検出している。そのために、基材あるいは下引き層の表面状態が変動し、散乱光の広がりが変化した場合には、電荷発生層の吸収量と無関係の反射光量の変化が発生するおそれがある。
【０００８】
【特許文献１】特開平６−１３０６８３号公報
【特許文献２】特開平９−１０６２１８号公報
【特許文献３】特開２００４−４５６０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明は、一つの測定装置によって、例えば電子写真感光体などのデバイスにおける電荷輸送層の膜厚と電荷発生層の光吸収特性とを測定するデバイスの機能層の特性測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明におけるデバイスの機能層の特性測定装置は、以下の特徴を有する。
【００１１】
（１）光源と、前記光源を用いて明視野照明と暗視野照明とのいずれかに切り替える切り替え手段とを有する光学顕微鏡装置と、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とを含む機能層を有するデバイスの表面に、前記明視野照明または暗視野照明により光を照射し、反射光の分光特性を検出する分光特性測定装置と、前記分光特性測定装置にて検出された明視野照明による反射光の分光特性から電荷輸送層の膜厚を求め且つ前記分光特性測定装置にて検出された暗視野照明による反射光の分光特性から電荷発生層の光吸収特性を求める演算装置と、を備えたデバイスの機能層の特性測定装置である。
【００１２】
（２）上記（１）に記載のデバイスの機能層の特性測定装置において、前記演算装置は、デバイスの表面への明視野照明にて検出された反射光の分光特性から、干渉により生じた波形のピーク波長を求め、干渉波形の隣り合うピーク波長と前記電荷輸送層の屈折率とを用い、前記電荷輸送層の膜厚を求めるデバイスの機能層の特性測定装置である。
【００１３】
（３）上記（１）に記載のデバイスの機能層の特性測定装置において、前記演算装置は、デバイスの表面への暗視野照明にて検出された反射光の分光特性から、前記電荷発生層に含まれる電荷発生材料由来の特定波長領域の反射率を求め、前記電荷発生層の光吸収特性を得るデバイスの機能層の特性測定装置である。
【００１４】
（４）上記（１）から（３）のいずれか１つに記載のデバイスの機能層の特性測定装置において、前記デバイスは、電子写真感光体であるデバイスの機能層の特性測定装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明におけるデバイスの機能層の特性測定装置によれば、一つの測定装置によって、例えば電子写真感光体などのデバイスにおける電荷輸送層の膜厚と電荷発生層の光吸収特性とを測定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本実施の形態の一例を説明する。なお、「少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とを含む機能層を有するデバイス」として、電子写真感光体を例に取り、以下に説明する。
【００１７】
図１から図４には、本実施の形態におけるデバイスの機能層の特性測定装置の一例が示されている。
【００１８】
図２、図３に示すように、本実施の形態におけるデバイスの機能層の特性測定装置は、光学顕微鏡装置３０と、分光特性測定装置である分光光度計４０と、演算装置５０とを備えている。また、光学顕微鏡装置３０は、光源である照明装置３５と、前記光源を用いて明視野照明と暗視野照明とのいずれかに切り替える切り替え部３３と、対物レンズ２０とが設けられ、対物レンズ２０を通過した電子写真感光体１００の表面からの反射光は、光ファイバ３７を介して分光光度計４０に送られる。分光光度計４０では、上記反射光を基に分光特性が測定される。また、分光光度計４０において測定された分光特性のデータは、演算装置５０に送られ、後述する電荷輸送層の膜厚、電荷発生層の光吸収特性が求められる。また、上記光学顕微鏡装置３０は、測定対象物である電子写真感光体１００の軸面を測定するために、電子写真感光体１００の軸方向に移動可能なＸ軸移動テーブル３４上に設置され、さらに対物レンズ２０の焦点を合わせるために、Ｚ軸移動テーブル３９とが設けられ、また測定対象物である電子写真感光体１００の周面を測定するために、電子写真感光体１００を回転軸を介して回転させる回転モータ３２が設けられている。さらに、Ｘ軸移動テーブル３４と回転モータ３２からの位置信号は、演算装置５０に送られている。これにより、電子写真感光体１００のどの位置を測定しているかの情報を受け取り、電子写真感光体１００の面内の位置での分光特性（例えば反射率）の情報を得る。また、Ｚ軸移動テーブル３９は、高さ方向に移動が可能であり、径の異なる電子写真感光体１００に対しても、光学顕微鏡装置３０の焦点の位置合わせが可能となる。この様に、本実施の形態におけるデバイスの機能層の特性測定装置は、回転可能に電子写真感光体１００のドラムを保持し、分光特性の測定手段を軸方向に移動できるようにして、電子写真感光体１００のドラム面内の任意の位置での分光特性（例えば反射率）を測定可能とした装置である。
【００１９】
また、本実施の形態では、照明装置３５の明視野照明と暗視野照明を切り替える照明切り替え部３３は、演算装置５０により切り替え制御され、さらに演算装置５０において、分光光度計４０からの分光特性データが明視野照明時のものであるか暗視野照明時のものであるかを認識している。なお、上記構成に限るものではなく、例えば手動にて照明切り替え部３３の切り替え、照明切り替え部３３から演算装置５０に対して、２種の照明のいずれが選択されたかを送信する方式であってもよい。
【００２０】
また、上記照明装置３５は、ハロゲンランプ等による光学顕微鏡の白色照明装置を用いることができる。また、本実施の形態に用いる対物レンズ２０の開口数は、０．１から０．５であり、例えば「明暗視野用対物レンズＣＦ ＩＣ ＢＤ Ｐｌａｎ１０×」（株式会社ニコン製）を用いることができる。
【００２１】
また、図４に示すように、演算装置５０は、分光光度計で測定された分光データを読み込み電子写真感光体に設けられた電荷輸送層の膜厚を求める膜厚演算部５２と、電子写真感光体に設けられた電荷発生層の光吸収特性を求める光吸収特性算出部５４と、Ｘ軸移動テーブル３４と回転モータ３２からの位置信号をもとに電子写真感光体１００の面内の位置を検出する測定位置情報検出部５３と、上述した照明装置３５（図２）の明視野照明と暗視野照明との切り替えを制御するとともに明視野照明または暗視野照明に応じて膜厚演算部５２と光吸収特性算出部５４のいずれかを選択して演算制御する制御部５１と、記憶部５６とが設けられている。記憶部５６には、膜厚演算式や光吸収特性算出用の分光特性の基準値が格納されている。なお、演算装置としてパーソナルコンピュータを用いた場合、パーソナルコンピュータが、図４に示す演算装置５０の各構成の機能を果たしてもよい。
【００２２】
次に、測定対象である、各機能層塗布形成済み電子写真感光体１００における各機能層の特性の測定方法について、図１〜図４を用いて以下に説明する。
【００２３】
図１に示すように、測定対象物である電子写真感光体１００は、例えば、基体１０の表面に下引き層１２が形成され、さらに機能層である電荷輸送層１６と電荷発生層１４が順次積層されて形成されている。
【００２４】
測定対象である電子写真感光体１００の電荷輸送層１６の膜厚を測定する場合には、演算装置５０の制御部５１からの制御信号により照明切り替え部３３により照明装置３５からの照明を明視野照明に切り替える。ここで、明視野照明とは、測定対象物を照らす光線を光軸中心に沿って垂直に照明することをいう。明視野照明によって、電子写真感光体１００の表面に対して垂直方向に光を照射し、垂直方向に反射した正反射光を対物レンズ２０により受光して、受光した光を分光光度計４０にて分光特性を測定し、制御部５１の制御信号に基づき、得られた分光特性を演算装置５０の膜厚演算部５２において、分光波長に対する各反射率を求め、図５に示すような分光波形を得、次に分光波形中から図６にしめすような干渉波形を抽出し、この干渉波形を用いて隣り合うピーク波長λ1，λ2を抽出し、電荷輸送層１６の屈折率ｎを用いて、記憶部５６に格納されている以下に示す膜厚演算式に代入し、膜厚を求める。なお、隣り合うピーク波長λ1，λ2を複数サンプリングして、膜厚を算出し、この平均値より電荷輸送層１６の膜厚を求めることが好ましい。また、電荷輸送層１６の屈折率ｎは、予め電荷輸送層１６の構成材料を考慮し求めておく。
【００２５】
【数１】
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（式中、λ1，λ2：隣り合うピーク波長（ｎｍ）、ｎ：電荷輸送層の屈折率、ｄ：電荷輸送層の膜厚（ｎｍ））
【００２６】
さらに、Ｘ軸移動テーブル３４と回転モータ３２を用いて、測定する電子写真感光体１００の面を移動させていき、上述同様に、電荷輸送層１６の各位置の膜厚を算出するとともに、演算装置５０内の測定位置情報検出部５３に送られてきたＸ軸移動テーブル３４と回転モータ３２からの位置信号をもとに、電子写真感光体１００の面内の位置と関連づけて、例えば記憶部５６に一旦格納する。
【００２７】
次に、電子写真感光体１００の電荷発生層１４の光吸収特性を求める方法について以下に説明する。まず、照明切り替え部３３により照明装置３５からの照明を暗視野照明に切り替える。ここで、暗視野照明とは、測定対象物を照らす光線を光軸中心ではなく、斜めから照射することをいう。
【００２８】
次に、測定する電子写真感光体１００と同一条件の基体１０を使用し、その上に下引き層１２のみを塗布したサンプルを用いて、暗視野照明により分光測定を行う。得られた分光特性から選択した波長における「基準強度」を求める。次に、電子写真感光体１００の測定を行い、選択した波長の光強度を基準強度から反射率に変換することにより、基体１０あるいは下引き層１２の条件の異なるサンプルでも、電荷発生層１４の光吸収特性を、反射率として定義することができる。
【００２９】
さらに具体的に説明すると、電子写真感光体１００の中心軸を含む長さ方向に平行な面でとった断面を有する平面内に於いて、光学顕微鏡装置３０における暗視野照明では、図１に示すように、照射光は対物レンズ２０内の外側の光路を通り、電子写真感光体１００の表面に斜め方向から入射する。そして、照射光の一部は、電子写真感光体１００の表面で入射角と反対側に同じ角度で正反射する。また、電荷輸送層１６に入射した光のうち電荷発生層１４で吸収されなかった光は、基体１０または下引き層１２の表面に達するが、その表面が粗面であると反射光は散乱する。さらに電荷発生層１４で吸収されなかった散乱光は、電荷輸送層１６を通過して電子写真感光体１００の外側へ出る。正反射光よりも内側に出た散乱光は、その多くが対物レンズ２０で集光され、光電変換素子に導かれて検出される。この方法では、電荷発生層１４由来の散乱光のみが検出されるため、電荷輸送層１６表面からの正反射光の影響を受けずに、電荷発生層１４の吸収と関連のある反射光を検出することができるとともに、対物レンズ２０により、周辺からの散乱光を効率良く集めることができる。したがって、基体１０または下引き層１２表面の状態の変化によって、散乱角度が多少変動しても、散乱光全体の受光光量への影響を小さくすることが可能となり、測定精度が向上する。
【００３０】
次に、対物レンズ２０により集光された散乱光を分光光度計４０にて分光特性を測定し、演算装置５０の光吸収特性算出部５４にて、予め求めた「基準強度」を基に（すなわち、基準強度を反射率１００％として）、選択した波長域における分光波長に対する反射率を求める。次いで、電荷発生層１４の光吸収特性の変化により、その吸収量が変化することから、受光強度の変化の大きな波長を選択する。例えば、図７に示すように、電荷発生層１４の膜厚の相違に基づき、波長７５０ｎｍにおいて、反射率で大きく異なることから、このように分光反射率の大きく変動する波長を選択して、光吸収特性を求め、用途に応じて必要な光吸収特性を有するか否かを判定する。
【００３１】
さらに、Ｘ軸移動テーブル３４と回転モータ３２を用いて、測定する電子写真感光体１００の面を移動させていき、上述同様に、電荷発生層１４の各位置の光吸収特性を算出するとともに、演算装置５０内の測定位置情報検出部５３に送られてきたＸ軸移動テーブル３４と回転モータ３２からの位置信号をもとに、電子写真感光体１００の面内の位置と電荷発生層の光吸収特性とを関連づけて、例えば記憶部５６に一旦格納する。
【００３２】
本実施の形態では、受光強度の変化の大きな波長を選択して、電荷発生層１４の光吸収特性を求めているが、これに限るものではなく、例えば、適用する電子写真装置の露光に用いられるレーザまたはＬＥＤの波長に対して、受光強度の変化が大きい場合は、その波長を選択することにより、より電子写真装置の画像濃度に対応した結果を得ることができる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明のデバイスの機能層の特性測定装置の内容をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例中において特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を表す。
【００３４】
次に、図１から図７を用い、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本方法により電子写真感光体の電荷輸送層および電荷発生層の膜厚を測定するために、以下の処方により電子写真感光体を作成した。
【００３５】
直径３０ｍｍで長さ３４０ｍｍのアルミニウムパイプ上に湿式ホーニング処理を行い、導電性基体の中心線平均粗さＲａを０．１８μｍとした３種類のサンプルを作成した。中心線平均粗さＲａは表面粗さ測定装置(東京精密(株)製サーフコム１４００型)により測定した。この上に４部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール１７０部、有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０部及び有機シラン化合物の混合物（γ−アミノプロピルトリエトキシシシラン）３部を混合し、攪拌し得られた、下引き層形成用の塗布液を塗布乾燥し約１μｍの下引き層を形成した。
【００３６】
さらに、電荷発生物質として塩化ガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂１０部、ｎ−ブチルアルコール３００部からなる混合物を、サンドミルにて４時間分散し得られた分散液を下引き層上に浸漬塗布乾燥して、電荷発生層を形成した。この時に、前記のＲａの異なる３種類の基体を使用したサンプルに、それぞれ塗布速度（浸漬塗布における引き上げ速度）を（ａ）１５０ｍｍ／ｓｅｃ，（ｂ）２２０ｍｍ／ｓｅｃ，（ｃ）３３０ｍｍ／ｓｅｃの３種類の条件で塗布を行い、電荷発生層の膜厚を変えた、３種類のサンプルを作製した。
【００３７】
次に、トリアリールアミン系電荷輸送物質４部と、結着樹脂としてのビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量３０，０００）６部とを、ＴＨＦ／クロルベンゼン６０／２０部とを加えて溶解した。こうして得られた溶液を電荷輸送層用の塗布液として用い、これを前記電荷発生層上に塗布し、乾燥することにより、厚みが約２５μｍの電荷輸送層を形成した。
【００３８】
このような組成の電子写真感光体１００を用いて電荷輸送層１６の膜厚測定を行った。測定装置は図２に示す装置を用いた。光学顕微鏡装置３０は、ニコン製の「フォーカシングユニットＩＭ−３」、照明装置３５は、ニコン製の「１２Ｖ５０Ｗ」ハロゲン照明装置、対物レンズ２０は、ニコン製の「明暗視野用対物レンズＣＦ  ＩＣ  ＢＤ  Ｐｌａｎ１０×」を用いた。また、分光光度計４０は、大塚電子(株)製の「ＭＣＰＤ２０００」を用い、光ファイバ３７は上記「ＭＣＰＤ２０００」に付属しているものを用いた。
【００３９】
測定は、光学顕微鏡装置３０の照射切り替え部３３に相当する光路レバーの切り替えにより、照明方法が明視野になるように設定し、照明装置３５からの白色光を、光学顕微鏡装置３０の対物レンズ２０を通して、電子写真感光体１００の表面に垂直方向に照射した。そして、電子写真感光体１００からの、反射光を対物レンズ２０により集光し、光ファイバ３７により、分光光度計４０に導き、分光特性を求めた。得られた分光波形を図５に示す。なお、後述するように、予め、測定する電子写真感光体１００と同一条件の基体１０を使用し、その上に下引き層１２のみを塗布したサンプルを用いて、明視野照射により分光測定を行い、得られた分光特性から選択した波長における「基準強度」を求めておき、予め求めた「基準強度」を基に（すなわち、基準強度を反射率１００％として）、選択した波長域における分光波形をえてもよい。図６は、図５の分光波形中の干渉波形を拡大したものである。図６から干渉波形の隣合うピーク波長λ1、λ2および電荷輸送層１６を形成するポリカーボネート樹脂の屈折率ｎ＝１．７を、以下の膜厚への換算式（１）に代入し膜厚を求めた。
【００４０】
【数２】
2009097983.tif 000004
（式中、λ1，λ2：隣り合うピーク波長（ｎｍ）、ｎ：電荷輸送層の屈折率、ｄ：電荷輸送層の膜厚（ｎｍ））
【００４１】
次に、同一の電子写真感光体１００における電荷発生層１４の光吸収特性を、上述した同一の装置を用いて測定した。電荷輸送層の膜厚測定に用いたのと同じ図２の装置を用いた。測定は、光学顕微鏡装置３０の照射切り替え部３３に相当する光路レバーの切り替えにより、照明方法が暗視野になるように設定し、照明装置３５からの白色光を、光学顕微鏡装置３０の対物レンズ２０を通して、電子写真感光体１００の表面に斜め方向に照射した。そして、電子写真感光体１００からの、反射散乱光を対物レンズ２０により集光し、光ファイバ３７により、分光光度計４０に導き、分光特性を求めた。また、反射強度の基準化のために、あらかじめＲａが０．１８μｍの感光体の基体１０と下引き層１２のみを塗布したサンプルを用いて、暗視野照明の条件にて測定を行い、分光特性の基準値（各波長における１００％の反射率強度）を求め、この基準値をもとに、電子写真感光体１００の分光特性を、波長毎に基準値からの比率として求めた。測定結果を図７に示す。
【００４２】
図７に示すように、電荷発生層１４の膜厚を変えたサンプルの分光反射率の変動は、波長７５０ｎｍ付近が最も大きい。したがって、波長７５０ｎｍにおける反射率を、電荷発生層の光吸収特性の代用特性とすることにより、電荷発生層１４の光吸収特性の差を精度良く定量化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の実施の形態における対物レンズと電子写真感光体の各機能層への入射光と正反射光及び散乱光の経路を説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態におけるデバイスの機能層の特性測定装置の構成の一例を示す模式正面図である。
【図３】本発明の実施の形態におけるデバイスの機能層の特性測定装置の構成の一例を示す模式側面図である。
【図４】本実施の形態におけるデバイスの機能層の特性測定装置の演算装置の構成の一例を示す図である。
【図５】電荷輸送層による分光特性の一例を示す図である。
【図６】図５の干渉波形部分を拡大した拡大図である。
【図７】電荷発生層の膜厚を変えた３種類のサンプルの分光特性を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１０  基体、１２  下引き層、１４  電荷発生層、１６  電荷輸送層、２０  対物レンズ、３０  光学顕微鏡装置、３２  回転モータ、３３  照明切り替え部、３４  Ｘ軸移動テーブル、３５  照明装置、３６  記憶部、３７  光ファイバ、３９  Ｚ軸移動テーブル、４０  分光光度計、５０  演算装置、５１  制御部、５２  膜厚演算部、５３  測定位置情報検出部、５４  光吸収特性算出部、５６  記憶部、１００  電子写真感光体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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