(57)【要約】【課題】分光学的測定法による溶鋼連続モニタリング方法において、温度や湿度の変化に起因する光学素子の特性変化によって、測定値が影響を受ける問題を解決する。【解決手段】基板上に誘電体多層膜をコーティングして、干渉によって特定の波長λｓにおける反射率や透過率を高めた、分光光学特性を有するミラーやフィルター等の光学素子であり、誘電体多層膜の表面や膜内に吸着された水分量が概略０である乾燥状態で上記の分光光学特性が得られるように誘電体多層膜の各層の膜厚を制御した上記光学素子を使用し、光学素子温度や雰囲気湿度の制御により、常時、誘電体多層膜の表面や膜内に吸着された水分量が概略０である乾燥状態を保持する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
分光学的測定法による溶鋼連続モニタリング用測定装置であって、
該測定装置内に設置され、干渉によって特定の波長を有する光を反射又は透過させる光学素子の温度を制御する光学素子温度制御手段と、
該測定装置内の雰囲気湿度を乾燥させる測定装置内湿度制御手段と、
を少なくとも有することを特徴とする、溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項２】
前記光学素子温度制御手段が、電熱ヒーターと温度センサーとを有する温調器である
ことを特徴とする、請求項１記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項３】
前記電熱ヒーターが、前記光学素子の周囲に設置されている
ことを特徴とする、請求項２記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項４】
前記測定装置内湿度制御手段が、乾燥不活性ガスの流通である
ことを特徴とする、請求項１記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項５】
前記乾燥不活性ガスが、３％以下の湿度である
ことを特徴とする、請求項４記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項６】
前記光学素子が、基板上に誘電体多層膜をコーティングして形成される光学素子である
ことを特徴とする、請求項１〜４の何れかに記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項７】
前記コーティングが、イオンビームスパッタリング、イオンアシスト蒸着法又は高周波イオンプレーティングのいずれかの方法による成膜である
ことを特徴とする、請求項６記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
【請求項８】
分光学的測定法による溶鋼連続モニタリング方法であって、
請求項１〜７の何れかに記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置を用いる
ことを特徴とする、溶鋼連続モニタリング方法。
【請求項９】
前記分光学的測定方法が、第１のレーザで溶鋼の一部を蒸発させ、第２のレーザで目的元素を共鳴励起して誘起した該目的元素の蛍光を測定するレーザ誘起蛍光法である
ことを特徴とする、請求項８記載の溶鋼連続モニタリング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
金属、特に鉄鋼の精錬炉内の溶融金属を分光学的測定法により連続モニタリングするための溶鋼連続モニタリング用測定装置及び溶鋼連続モニタリング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属材料の精錬工程において、精錬反応進行中の溶融金属中の成分元素濃度をリアルタイムでモニターすることは、精錬工程最適化制御の上で非常に重要である。以下、金属材料として鉄鋼を例にとって説明する。
【０００３】
鉄鋼の製造工程の中で、酸素吹錬によって脱炭を行なう転炉精錬においては、過度の吹錬によるスラグ中トータルＦｅ濃度の増加、溶鋼中フリー酸素濃度過多、ＦｅやＭｎの歩留まり低下といった製鋼コスト増要因の完全な抑制のためには、現状のサブランスによる点測定のみでは不十分であり、溶鋼中炭素濃度の連続的なモニタリングが強く要求されている。
【０００４】
次に、２次精錬技術では、例えば、大量生産の脱ガス装置ＲＨにおける場合を述べる。脱ガス装置ＲＨの主要な目標は脱炭であり、連続成分測定が必要になる。この連続成分測定として、２つの方法が一般的に採用されている。脱ガス処理でのＣ成分の挙動を把握することは重要であり、特に目標とするＣ値になった時点で処理を終了することで、真空化する際の蒸気の無駄な使用を避けて、コスト削減が可能となる。脱ガスでは、槽内を真空にしてＣをＣＯガスとして除去する。処理中のＣ値は、排気ガスの中の炭素を測定し、処理開始時点のＣ値から排出された炭素量を差し引いて、処理中の炭素を推定しているが、必ずしも精度が高くない。他の方法は、取鍋の表面に近い溶鋼のサンプルを採取して、迅速に発光分析装置で分析する方法で、Ｃとその他のＭｎ等の成分分析が可能であるが、サンプルをバッチで採取する上に、脱ガス装置とは離れた場所の分析装置で処理するので、脱ガス処理における成分変化に迅速に追従できないのが欠点である。
【０００５】
溶鋼中化学成分濃度を連続的にモニタリングするための技術として、溶鋼面に直接、原子蒸気を発生させ、原子固有の発光スペクトルや吸光スペクトルを測定する分光学的測定法がある。
【０００６】
例えば、特許文献１等には、尖頭出力の高いパルスレーザを集光して溶鋼に照射することによってプラズマ状態を生成し、このプラズマからの発光を分光分析するレーザ発光分析法が開示されている。
【０００７】
また、目的元素の共鳴波長の一つに波長をチューニングしたレーザを蒸気原子に照射してこの原子の蛍光を誘起するレーザ誘起蛍光法は、高感度でありかつ選択性に優れた分析法として知られており、本発明者等は、この点に注目して、レーザ誘起蛍光法による溶鋼中ＣやＰのモニタリング技術を開発した。これらの技術の詳細は、特許文献２に開示されているところである。レーザ誘起蛍光法を用いた分析では、まず試料の一部を蒸発・原子化するために、アブレーションレーザを照射する。そして、アブレーションレーザパルスから適当な遅延時間経過後、選択励起レーザを照射する。このとき、目的元素の蛍光のみが選択的に放出されるので、大型の分光器を用いる必要は無く、光電子増倍管やフォトダイオード等の光量測定器によって直接目的元素から放出されたシグナル光量を測定することができる。
【０００８】
【特許文献１】特開昭６０−２３１１４１号公報
【特許文献２】特開２００１−３５６０９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
分光学的測定法による溶鋼連続モニタリングにおいては、溶鋼中成分濃度とこの成分に固有のシグナル強度との関係（例えば、線形関係）に基づいて、濃度を測定する。しかしながら、このシグナル強度測定感度が、必ずしも一定に保たれないため、濃度の推定が困難となることが問題となっていた。
【００１０】
そこで、本発明は、上記溶鋼連続モニタリング技術における測定感度変動の問題への解決策を提供するものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、シグナル強度測定感度の変動を抑制することが可能な、新規かつ改良された溶鋼連続モニタリング用測定装置及び溶鋼連続モニタリング方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、その主旨は、以下の通りである。
【００１３】
（１）  分光学的測定法による溶鋼連続モニタリング用測定装置であって、該測定装置内に設置され、干渉によって特定の波長を有する光を反射又は透過させる光学素子の温度を制御する光学素子温度制御手段と、該測定装置内の雰囲気湿度を乾燥させる測定装置内湿度制御手段と、を少なくとも有することを特徴とする、溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（２）  前記光学素子温度制御手段が、電熱ヒーターと温度センサーを有する温調器である（１）記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（３）  前記電熱ヒーターが、前記光学素子の周囲に設置されている（２）記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（４）  前記測定装置内湿度制御手段が、乾燥不活性ガスの流通である（１）記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（５）  前記乾燥不活性ガスが、３％以下の湿度である（４）記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（６）  前記光学素子が、基板上に誘電体多層膜をコーティングしてなる光学素子である（１）〜（４）の何れかに記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（７）  前記コーティングが、イオンビームスパッタリング、イオンアシスト蒸着法又は高周波イオンプレーティングのいずれかの方法での成膜である（６）記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置。
（８）  分光学的測定法による溶鋼連続モニタリング方法であって、（１）〜（７）の何れかに記載の溶鋼連続モニタリング用測定装置を用いることを特徴とする溶鋼連続モニタリング方法。
（９）  前記分光学的測定方法が、第１のレーザで溶鋼の一部を蒸発させ、第２のレーザで目的元素を共鳴励起して誘起した該目的元素の蛍光を測定するレーザ誘起蛍光法である（８）記載の溶鋼連続モニタリング方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、分光学的測定法による溶鋼連続モニタリング方法において、測定感度の変動が少なく、高感度で安定して光学シグナル測定ができるので、溶鋼中化学成分濃度を高精度に測定することができ、二次精錬における脱炭反応のモニタリング等による製鋼操業の制御性改善に寄与するところ大である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１６】
本願発明者らは、上述のような問題点を解決するために原因について詳細に調査を行った結果、レーザやシグナル光の反射や波長選択透過の目的で測定装置内に装備されているミラーやフィルター等の光学素子の分光特性が変化することが原因であることに想到した。以下に、その詳細を説明する。
【００１７】
分光学的測定による溶鋼連続モニタリングにおいては、蒸発・原子化のためのレーザを溶鋼に照射する照射系や、溶鋼面で発生した原子の発光や蛍光等のシグナル光を検出するための検出系において、ミラーやフィルター等の光学素子を用いている。これら光学素子としては、例えば、ガラス等の基板に誘電体多層膜をコーティングしたものが使用されている。誘電体多層膜光学素子は、金属蒸着光学素子と比較して、尖頭出力密度が数十ＭＷ／ｃｍ２にも及ぶパワーレーザパルスによる損傷に対する耐性が高い、特定波長において高反射率とし、その他の波長では高透過率とする等の分光特性をもつように設計することが可能である、等の優れた特性を有しており、溶鋼連続モニタリングにおいても欠かせない光学素子である。
【００１８】
誘電体多層膜光学素子は、シリカやアルミナ等の誘電体を一定の厚みに制御しながら交互に積層して形成される。例えば、各層の光学厚みがλｓ／４（ｎｍ）であるとき、この波長λｓにおいて高い反射率が得られるような干渉条件が満たされる。従って、層の光学厚みが変化すると、高反射率や高透過率を示す波長が変化することになる。光学厚みが変化する原因の一つとしては、大きな温度変化があった場合、熱膨張や誘電率の温度変化に起因する変動が挙げられる。しかし、この変動は比較的小さく、通常の温度変動では大きな問題とはならない。
【００１９】
もう一つの原因は、誘電体多層膜の水分吸着による変動である。例えば、シリカの場合、表面にＯＨ基が吸着して親水性の表面となり、環境湿度に応じてさらに水分子の吸着が進むものと考えられる。また、膜の平坦度が低くポーラスな場合は、このような間隙に水の層が形成される。このように水分の吸着により見かけ上の屈折率が変化し、光学厚みに変化をきたし、結果として、分光特性がシフトするのである。温度変動が数十〜百℃程度の範囲では、この水分吸着量変化に起因する分光特性変化が主である。
【００２０】
このため、誘電体多層膜光学素子は、常温大気中に放置した状態で分光特性仕様を満たすように製造されている。従って、常温大気中における通常の使用条件では、測定に支障をきたすほどの分光特性変化はみられない。しかし、溶鋼連続モニタリングの場合は、光学系が熱影響を受けることは避け難く、測定中に吸着水分の脱離が進行し、これに応じて分光特性が変化し、シグナル測定強度に影響が生じる。
【００２１】
平衡吸着水分量は、光学素子が置かれている環境の温度と湿度で決定されるので、理想的には温度、湿度を一定に制御すれば、光学特性の変化は生じないものと考えられる。しかし、高温に曝される溶鋼連続モニタリングにおいては、これは困難である。また、溶鋼輻射に曝される光学素子では、水に吸収される波長の輻射を受けて、選択的に水が加熱され、脱離が平衡吸着量に対して過度に進むことも有り得る。
【００２２】
以上の実験事実及び考察に鑑み、本発明では、測定時は常に、誘電体多層膜光学素子の水分吸着量が概略０となるように制御することで、測定中の分光特性変化の影響を排除することとしたのである。ここで、用いる誘電体多層膜光学素子は、吸着水分量が概略０のときに、要求する分光特性を示すものでなければならない。
【００２３】
以下、本発明の第１の実施形態について図を用いてより詳細に説明する。
本実施形態に関わる測定装置の構成の一例を、図１に示す。図１は、レーザ誘起蛍光法により溶鋼中成分をモニタリングするための測定装置の一例を説明するための説明図である。
【００２４】
アブレーションレーザ発振器１９から発振された所定波長のアブレーションレーザａは、ミラー４によって反射され、反射ミラー５、６を透過する。反射ミラー５、６を透過したアブレーションレーザａは、さらに、窓材３を透過して、中空管１６内を伝播し、測定試料面１７に照射される。かかるアブレーションレーザａが測定試料面１７に照射されることで、測定試料の一部が蒸発・原子化されることとなる。
【００２５】
アブレーションレーザａの照射から適当な時間間隔をとって選択励起レーザ発振器２０から発振される選択励起レーザｂは、ミラー５によって反射され、ミラー６を透過する。反射ミラー６を透過した選択励起レーザｂは、さらに、窓材３を透過し、中空管１６内を伝播して試料面１７に照射される。そして、アブレーションレーザａにより原子化された試料から発生した蛍光は、中空管１６内をレーザとは逆向きに伝播してミラー６によって反射され、レンズ９及び１０によって集光及びコーリメートされた後、光フィルター７を通って光量検出器２によって電気シグナルに変換され、電送線１３によって図示していないデータ解析装置へ伝送される。
【００２６】
ここで、上記光量検出器２は、検出する光の種類や波長に応じて、光電子増倍管やフォトダイオード等の任意の検出器を用いることが可能である。また、上記窓材３は、アブレーションレーザａ、選択励起レーザｂならびに試料面１７から発生した発光又は蛍光を吸収しない材料を用いて形成されているものであれば、任意のものを使用することが可能である。また、上述のレンズ９、１０は、試料面１７から発生したシグナル光を透過可能な材料を用いて形成されているものであれば、任意のものを使用することが可能である。
【００２７】
ミラー、レンズ、光フィルター、光量検出器等の光学部品は、溶融金属試料面からのダストやスプラッシュ、熱輻射から保護するために、保護ケース１８内に収納されている。また、レーザや発光、蛍光の光路からのダスト、スプラッシュ、ヒューム等の排除及び中空管１６の内壁や窓材３の汚染防止を目的として、ガス導入口１５より所定のガスを流入させ、中空管１６の試料側端面より試料面１７に向けてガスを吹き付ける。ここで、ガスの種類としては、通常、試料との反応がないＡｒ、Ｈｅ、Ｎ２等の不活性ガスが用いられる。
【００２８】
中空管１６の試料側端面は、溶融金属中に浸漬されていても良い。また、溶融金属容器の底面または側面の耐火物を貫通した中空管である場合には、溶融金属が中空管を通して流出することを防ぐために必要なガス流量を吹き込むようにしてもよい。
【００２９】
以上の測定装置構成のなかで、反射ミラー４、５、６及び光フィルター７が、誘電体多層膜光学素子である。これらの誘電体多層膜光学素子は、ガラス等の基板上に、シリカやアルミナ等の誘電体を用いた誘電体多層膜をコーティングして形成される光学素子である。誘電体多層膜のコーティングには、例えば、イオンビームスパッタリング、イオンアシスト蒸着法又は高周波イオンプレーティング等の方法を利用することが可能である。
【００３０】
本実施形態に係る測定装置では、これらの光学素子は、それぞれ電熱ヒーターと温度センサーを内蔵したホルダー４１、５１、６１及び７１で把持されている。各ホルダーは、温調器１と接続されており、電熱ヒーターのＯＮ／ＯＦＦにより、温調器１にて設定した温度に制御される。
【００３１】
保護ケース１８内部には、電磁弁１２の開閉により、乾燥ガスが吹き込まれる。乾燥ガスとしては、例えば、乾燥空気の他、Ａｒ、Ｎ２ガス等の不活性ガスが適当である。湿度が例えば３％以下である上述の乾燥ガスを保護ケース１８内に流通させることにより、測定装置内の湿度を所定の値に維持することが可能である。また、保護ケース１８には、湿度センサー２１が取り付けられており、測定装置内の湿度をモニタリングすることが可能となっている。
【００３２】
上記に例示した本実施形態に係る測定装置において、誘電体多層膜光学素子の温度が高すぎる場合には、水分起因のシフトの他に誘電体多層膜の熱膨張や誘電率の温度変化に起因するシフトが発生する可能性や、ホルダーの熱歪みに起因するズレが生じる可能性がある。また、測定装置内の雰囲気温度が高くなりすぎると、光量検出器に悪影響が及ぶ可能性がある。他方、誘電体多層膜光学素子の温度が低すぎる場合には、吸着水分量を概略０にすることが困難となる。そのため、上記に例示した本実施形態に係る測定装置において、誘電体多層膜光学素子は、例えば１００〜１２０℃の温度に維持されることが好ましい。また、測定装置内部の雰囲気湿度は、乾燥ガスによりほぼ０％に保たれる。そのため、誘電体多層膜吸着水分量は、概略０の状態に保たれる。さらに、本実施形態に係る測定装置に用いられる誘電体多層膜光学素子は、吸着水分量が概略０のときに所定の分光特性を示すように製造されたものであるため、測定中に分光特性の変化が起こらず、シグナル光の検出感度が一定であり、安定した測定が可能である。
【００３３】
本実施形態に関わる測定装置は、誘電体多層膜の吸着水分量を概略０に制御できるものであれば良く、その具体的方法は、上記に限らず、例えば、測定装置内全体を均一に加熱する、あるいは予め不活性ガスを所定温度に予熱して測定装置内部に流通させる、等の方法でも良い。また、測定装置内部に除湿装置を備え、湿度を３％以下に制御しても良い。
【実施例】
【００３４】
（実施例１）
誘導溶解炉で溶融させた溶鋼表面に、図１に示した測定装置を近づけて、レーザ誘起蛍光法により溶鋼中炭素濃度を測定した。アブレーションレーザとしてＱスイッチパルスＮｄ：ＹＡＧレーザを、選択励起レーザとしては、チタンサファイアレーザを用いた。ガス導入口１５からＡｒガスを導入し、中空管１６の下端より溶鋼面に吹き付けながら分析した。ここで、アブレーションレーザおよび選択励起レーザの波長は、それぞれ１０６４ｎｍおよび２４８ｎｍとし、アブレーションレーザの照射と選択励起レーザの照射との時間間隔（すなわち、遅延時間）は、１００μｓとなるようにした。また、ガス導入口１５から導入するＡｒガスの流量は、２００Ｌ／ｍｉｎとした。なお、溶鋼中炭素濃度の測定に用いる溶鋼として、図３に示すような炭素濃度が異なる５種類の溶鋼を用意した。各溶鋼の炭素濃度は、溶鋼を凝固させた後に燃焼赤外吸収法によって定量した。
【００３５】
誘電体多層膜光学素子４、５、６は、１００℃乾燥環境中（湿度０％）において、それぞれ、波長１０６４、２４８及び１９３ｎｍにて４５°入射時の反射率が≧９８％となるものを用いた。また、誘電体多層膜光学素子７は、１００℃乾燥環境中（湿度０％）において、０°入射時の波長２４８ｎｍにおける反射率が≧９８％となるものを用いた。なお、本実施例に用いた誘電体多層膜光学素子４、５、６及び７は、イオンビームスパッタリングの方法で誘電体多層膜をコーティングした光学素子である。一例として、本実施例に用いた誘電体多層膜光学素子６の分光反射率を図２（Ａ）に示した。図２（Ａ）において、点線は室温大気環境（２５℃、湿度５５％）における実測値であり、実線は１００℃乾燥環境（湿度０％）における実測値である。
【００３６】
温調器１にて、制御温度を１００℃と設定した。誘電体多層膜素子４、５、６及び７の各ホルダー４１、５１、６１及び７１は電熱ヒーターと温度センサーを内蔵し、温調器１を用いた制御により、常時９５〜１０５℃の温度範囲に保持された。溶鋼モニタリング中は、電磁弁１２を開き、Ｎ２ガスを１００Ｌ／ｍｉｎの流量で保護ケース１８内部に吹き込んだ。保護ケース１８内部の湿度は、湿度センサー２１により常時測定された。溶鋼モニタリング中は、湿度は３％以下に保たれた。
【００３７】
溶鋼表面１７にて発生した蛍光は、中空管１６を通り、誘電体多層膜光学素子６で反射され、レンズ９及び１０によりコーリメートされた後、誘電体多層膜光学素子７を通過して、光電子増倍管２で検出された。検出強度と溶鋼中Ｃ濃度との間には、図３に示すように、直線相関が認められ、Ｃ濃度の定量分析ができることが判る。
【００３８】
（比較例１）
実施例１と同様の溶鋼モニタリング実験において、誘電体多層膜光学素子４、５、６は、室温大気環境中（２５℃、湿度５５％）において、それぞれ、波長１０６４、２４８及び１９３ｎｍにて４５°入射時の反射率が≧９８％となるものを用いた。また、誘電体多層膜光学素子７は、室温大気環境中（２５℃、湿度５５％）において、０°入射時の波長２４８ｎｍにおける反射率が≧９８％となるものを用いた。一例として、比較例に用いた誘電体多層膜光学素子６の分光反射率を図２（Ｂ）に示した。図２（Ｂ）において、点線は室温大気環境中（２５℃、湿度５５％）における実測値であり、実線は１００℃乾燥環境中（湿度０％）における実測値である。
【００３９】
保護ケース１８内にはＮ２ガスを吹き込んだが、各々の誘電体多層膜光学素子ホルダーの電熱ヒーターには通電せず、温度制御は行なわなかった。保護ケース１８内の湿度は、実験中５％以下であったが、各誘電体多層膜光学素子ホルダーの温度は、実験開始時から終了時にかけて、２５℃から４０〜４５℃まで上昇した。光電子増倍管２で検出されたＣの蛍光強度と溶鋼中Ｃ濃度との関係を図５に示した。検出強度と溶鋼中Ｃ濃度との間には、明確な相関関係は認められず、Ｃ濃度の定量分析ができないことが判る。
【００４０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る測定装置の一例を説明するための説明図である。
【図２】同実施形態に係る測定装置の実施例で用いられる誘電体多層膜の分光特性の一例（Ａ）と、比較例にて用いられる誘電体多層膜の分光特性の一例（Ｂ）を示したスペクトル図である。
【図３】同実施形態に係る測定装置の実施例による溶鋼中炭素濃度と炭素の蛍光強度との関係を示したグラフ図である。
【図４】比較例における溶鋼中炭素濃度と炭素の蛍光強度との関係を示したグラフ図である。
【符号の説明】
【００４２】
１    温調器
２    光量検出器
３    窓材
４    誘電体多層膜光学素子（アブレーションレーザ反射ミラー）
５    誘電体多層膜光学素子（選択励起レーザ反射ミラー）
６    誘電体多層膜光学素子（シグナル光反射ミラー）
７    誘電体多層膜光学素子（光学フィルター）
９、１０    レンズ
７    光ファイバー受光端
８    光ファイバーケーブル
１１    光学フィルター
１２    電磁バルブ
１３    シグナル電送ケーブル
１５    ガス導入口
１６    中空管
１７    試料
１８    保護ケース
１９    アブレーションレーザ発振器
２０    選択励起レーザ発振器
２１    湿度センサー
４１、５２、６２、７２    電熱ヒーター及び温度センサー内蔵ホルダー
ａ    アブレーションレーザ
ｂ    選択励起レーザ
【図１】
2009236488.tif 000002
【図２】
2009236488.tif 000003
【図３】
2009236488.tif 000004
【図４】
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