(57)【要約】【課題】レーザ光を用いて基板上に光配向膜を形成する場合、大型基板では、複数回のスキャンを要するため、光配向膜の繋ぎ目で光配向剤の分子の配向に乱れが発生してしまう。また、種々の光配向剤の有機膜に対して装置構成がフレキシブルに対応できない。【解決手段】非偏光のＵＶレーザビームを基板４０に斜めに照射させる場合は、偏光ローテータ１６を取り外した構成とする。これにより、直変偏光のＵＶレーザビームＬＢは、デポラライザ１５により直線偏光を非偏光に変換された後、ビーム・シェイパ１７によりそのビームの断面形状を線状に成形され、ビーム・デフレクタ１８で反射されて、角度θで斜めに有機膜４１に照射され、有機膜４１を光配向膜に形成する。また、直線偏光のＵＶレーザビームＬＢを基板４０に垂直に照射させる場合は、偏光ローテータ１６を設置すると共に、デポラライザ１５とビーム・デフレクタ１８とを取り外した構成とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に塗布された、レーザ光が照射されると、光二量化、光異性化または光分解して、光配向性を示す光配向剤からなる有機膜に前記レーザ光を照射するレーザ照射装置であって、
２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長で、かつ、直線偏光のレーザビームを発生するレーザ光源と、
前記レーザ光源からの前記直線偏光のレーザビームを非偏光に変換する着脱自在な変換手段と、
入射するレーザビームの偏光方向を所定角度回転させる位相板からなる着脱自在な偏光方向回転手段と、
入射するレーザビームの断面形状を線状に成形して、線状のレーザビームを出射するレンズ光学系からなるビーム成形手段と、
前記ビーム成形手段から出射した前記線状のレーザビームを、その進行方向を変えて前記基板上に塗布された前記有機膜に斜めに照射する着脱自在な反射手段と、
前記線状のレーザビームを、前記基板上に塗布された前記有機膜上で、その線状の長手方向に対して直交方向に連続的に走査する走査手段と
を有し、前記線状のレーザビームを前記有機膜に斜めに照射するときは、前記偏光方向回転手段を取り外した構成として前記変換手段で非偏光とされた前記レーザビームを前記ビーム成形手段に入射して得た非偏光の前記線状のレーザビームを前記反射手段で反射させて前記有機膜に照射し、前記線状のレーザビームを前記有機膜に垂直に照射するときは、前記変換手段及び前記反射手段をそれぞれ取り外した構成として前記偏光方向回転手段で偏光方向が回転された前記レーザビームを前記ビーム成形手段に入射して得た直線偏光の前記線状のレーザビームを前記有機膜に照射することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項２】
照射領域可視化のための可視光レーザビームを発生する可視光レーザ光源と、
前記レーザ光源からの前記直線偏光のレーザビームと、前記可視光レーザ光源からの前記可視光レーザビームとを合成するビーム合成手段と、
を更に有し、前記線状のレーザビームを前記可視光レーザビームと共に前記有機膜に斜めに照射するときは、前記ビーム合成手段で合成された前記直線偏光のレーザビームと前記可視光レーザビームとを前記変換手段に入射し、前記線状のレーザビームを前記可視光レーザビームと共に前記有機膜に垂直に照射するときは、前記ビーム合成手段で合成された前記直線偏光のレーザビームと前記可視光レーザビームとを前記偏光方向回転手段に入射することを特徴とする請求項１記載のレーザ照射装置。
【請求項３】
前記偏光方向回転手段は、入射する前記レーザビームの光軸に対して、０°から９０°の範囲で前記レーザビームの偏光方向を回転させる偏光ローテータであることを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ照射装置。
【請求項４】
前記反射手段は、前記有機膜へ入射するレーザビームの光軸と、前記有機膜の表面とのなす角度を０°から９０°の範囲内の任意の角度に調節できるビーム・デフレクタであることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項記載のレーザ照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザ照射装置に係り、特に液晶ディスプレイを構成する配向膜基板にレーザ光を照射することで、液晶に対する配向制御能を付与した光配向膜を形成するレーザ照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイにおいては、液晶は対向して設けられた２枚の配向膜基板に接触している。配向膜基板は表面に配向膜が形成され、その配向膜が有する配向特性によって配向膜に接触する液晶の分子が特定の方向に揃えられる。この配向膜に配向特性を付与する方法としては、従来は所定速度で移動するガラス基板上の配向膜に、表面にラビング布を設けたローラを回転してラビングするラビング処理を行っていた。
【０００３】
しかしながら、ラビング処理では、静電気による薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の破壊や、ラビング時に発生するラビング布の繊維屑などにより所望の配向特性が得られないことがある。更に、近年の液晶ディスプレイの大型化の要求に伴い、ラビングローラを長大化すると、配向膜全面を均一な圧力でラビングすることが困難である。
【０００４】
そこで、近年は、配向膜にラビング処理を施さずに、レーザ光を配向膜上に照射しながら走査することで、配向膜に配向特性を付与し、これにより液晶に対する配向制御能を付与する方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照）。非特許文献１には、配向膜に偏光光を照射して配向膜中の特定方向に構造変化をさせ、液晶に対する配向制御能を付与する技術が開示されており、これは光配向法と呼ばれ、形成された配向膜は光配向膜と呼ばれる。
【０００５】
また、このような光配向膜を形成する方法として、ガラス基板に形成された（光）配向膜への（光）配向処理を、紫外線レーザ光を用いて面内均一性を確保しながら効率用良く行うことが出来る配向膜の製造方法も提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
【非特許文献１】（社）高分子学会  編、「最新  高分子による表面機能設計」、（株）エヌ・ティー・エス、２００３年９月１３日、第２０５頁から第２２９頁
【特許文献１】特開２００６−２４３６４０号公報（第１頁から第１５頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１記載の光配向膜の製造方法では、長尺形にプロファイル変形したレーザ光を、基板をスキャンしながら照射させているが、大型基板では、複数回のスキャンを要するため、１つのスキャンとその次のスキャンで形成された光配向膜の繋ぎ目で光配向剤の分子の配向に乱れが発生し、実際の液晶素子を作製して見るとその繋ぎ目周辺でムラが見えるといった問題点がある。
【０００８】
また、特許文献１記載の光配向膜の製造方法では、種々の光配向剤の有機膜に対して装置構成が対応できない。更に照射領域が不可視であるため、照射領域を視認することができず肉眼による光配向プロセスのモニタができない。
【０００９】
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、従来の光配向処理における問題点を解決するとともに、種々の光配向剤に対しても対応可能なフレキシビリティと、光配向膜の繋ぎ目発生の防止とを具現し得るレーザ照射装置を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、照射領域を視認することができず肉眼による光配向プロセスのモニタが可能なレーザ照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、第１の発明は基板上に塗布された、レーザ光が照射されると、光二量化、光異性化または光分解して、光配向性を示す光配向剤からなる有機膜にレーザ光を照射するレーザ照射装置であって、２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長で、かつ、直線偏光のレーザビームを発生するレーザ光源と、レーザ光源からの直線偏光のレーザビームを非偏光に変換する着脱自在な変換手段と、入射するレーザビームの偏光方向を所定角度回転させる位相板からなる着脱自在な偏光方向回転手段と、入射するレーザビームの断面形状を線状に成形して、線状のレーザビームを出射するレンズ光学系からなるビーム成形手段と、ビーム成形手段から出射した線状のレーザビームを、その進行方向を変えて基板上に塗布された有機膜に斜めに照射する着脱自在な反射手段と、線状のレーザビームを、基板上に塗布された有機膜上で、その線状の長手方向に対して直交方向に連続的に走査する走査手段とを有し、線状のレーザビームを有機膜に斜めに照射するときは、偏光方向回転手段を取り外した構成として変換手段で非偏光とされたレーザビームをビーム成形手段に入射して得た非偏光の線状のレーザビームを反射手段で反射させて有機膜に照射し、線状のレーザビームを有機膜に垂直に照射するときは、変換手段及び反射手段をそれぞれ取り外した構成として偏光方向回転手段で偏光方向が回転されたレーザビームをビーム成形手段に入射して得た直線偏光の線状のレーザビームを有機膜に照射する構成であることを特徴とする。
【００１２】
この発明では、変換手段、偏光方向回転手段及び反射手段を、レーザビームの光路中に選択的に挿入又は退避させることで、基本的な構成を変更することなく同一のレーザ光源を用いて、基板上の有機膜に直線偏向のレーザビームを垂直に照射したり、非偏光のレーザビームを斜めに照射して、１回の走査（スキャン）により光配向膜を形成することができる。
【００１３】
また、上記の目的を達成するため、第２の発明は、第１の発明の構成に、照射領域可視化のための可視光レーザビームを発生する可視光レーザ光源と、レーザ光源からの直線偏光のレーザビームと、可視光レーザ光源からの可視光レーザビームとを合成するビーム合成手段とを更に付加し、線状のレーザビームを可視光レーザビームと共に有機膜に斜めに照射するときは、ビーム合成手段で合成された直線偏光のレーザビームと可視光レーザビームとを変換手段に入射し、線状のレーザビームを可視光レーザビームと共に有機膜に垂直に照射するときは、ビーム合成手段で合成された直線偏光のレーザビームと可視光レーザビームとを偏光方向回転手段に入射することを特徴とする。
【００１４】
この発明では、２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の波長の光配向膜形成用レーザビームと共に可視光レーザビームも基板上の有機膜に照射されるため、不可視の光配向膜形成用レーザビームの照射領域を、可視光レーザビームによって使用者に視認させることができる。
【００１５】
ここで、上記の偏光方向回転手段は、入射するレーザビームの光軸に対して、０°から９０°の範囲でレーザビームの偏光方向を回転させる偏光ローテータであってもよい。この場合は、レーザビームの偏光面を容易に変更でき、実基板の縦置きあるいは横置きのステージに対しても容易に対応できる。
【００１６】
また、上記の反射手段は、有機膜へ入射するレーザビームの光軸と、有機膜の表面とのなす角度を０°から９０°の範囲内の任意の角度に調節できるビーム・デフレクタであってもよい。この場合は、レーザビームの基板への照射角度を任意の角度にすることができるため、レーザビームの偏光状態の調整を極めて容易になしうる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、基板が大型基板であっても、線状のレーザビームを基板上の有機膜に対して１回スキャンさせるだけで光配向膜を形成することができるため、１つのスキャンとその次のスキャンで形成された光配向膜の繋ぎ目の発生を防止することができる。
【００１８】
また、本発明によれば、基本的な構成を変更することなく同一のレーザ光源を用いて、レーザビームの偏光を直線偏光または非偏光に切り替えることや、偏光方向を任意の角度にすることが容易なため、種々の光配向剤からなる有機膜を装置の大幅な改造なしにフレキシブルに対応して使用することができ、また、装置の低コスト化が実現できる。
【００１９】
更に、本発明によれば、不可視の光配向膜形成用レーザビームの照射領域を、可視光レーザビームによって使用者に視認させることができるため、光配向プロセスのモニタを最適に行わせることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照しながら本発明の各実施例について詳細に説明する。
【実施例１】
【００２１】
図１は本発明になるレーザ照射装置の実施例１の構成図を示す。図１に示すように、本実施例のレーザ照射装置１０１は、直線偏光の紫外線レーザビーム（以下、ＵＶレーザビームと記す）ＬＢを発生するＵＶレーザ光源１１と、ＵＶレーザビームＬＢを通過又は遮断するシャッタ１２と、ＵＶレーザビームＬＢを所定倍率で広げるビーム・エクスパンダ１３と、ＵＶレーザビームＬＢの強度を調節するバリアブル・アテネータ１４と、ＵＶレーザビームＬＢの直線偏光を非偏光に変換するデポラライザ１５と、入射するＵＶレーザビームの偏光方向を、ＵＶレーザビームの光軸に対して０°から９０°の角度範囲で回転させる位相板からなる偏光ローテータ１６と、ＵＶレーザビームＬＢの形状を線状に成形するレンズ光学系からなるビーム・シェイパ１７と、ＵＶレーザビ−ムＬＢの進行方向を任意の角度だけ変えるビーム・デフレクタ１８とを備えることを特徴とする。また、本実施例においては、デポラライザ１５と偏光ローテータ１６とビーム・デフレクタ１８とは、着脱自在な構成、すなわち、レーザ光の光路内に挿入するか、光路外に取り外すことが自在な構成とされている。
【００２２】
また、図１において、基板４０は透明な基体であって、ガラス、プラスチック等の材料が用いられる。基板４０上には、有機膜４１が形成されている。有機膜４１は、ＵＶレーザが照射されると、光二量化、光異性化または光分解して、光配向性を示す光配向剤からなる。
【００２３】
ＵＶレーザ光源１１としては、種々の励起波長のものが使用可能であるが、光配向の目的のためには、３００ｎｍから４００ｎｍの波長範囲のＵＶレーザビームを発生するものが好適である。特に、３５５ｎｍの連続発振式のレーザが、多くの光配向剤に適しているので、汎用性に優れる。
【００２４】
次に、本実施例の動作について説明する。図１において、ＵＶレーザ光源１１から出射し、シャッタ１２を通過した直線偏光のＵＶレーザビームＬＢは、ビーム・エクスパンダ１３で平行拡大される。この平行拡大されたＵＶレーザビームＬＢは、バリアブル・アテネータ１４でその強度が所定値に制御される。
【００２５】
ここで、本実施例では（１）非偏光のＵＶレーザビームを基板４０に斜めに照射させる場合と、（２）直線偏光のＵＶレーザビームＬＢを基板４０に垂直に照射させる場合とで予め構成を以下のように変えてレーザ照射を行う。すなわち、上記の（１）の場合は有機膜４１が非偏光のＵＶレーザビームを基板４０に対して斜めに照射しなければならない光配向剤からなる場合に選択され、（２）の場合は有機膜４１が直線偏向のＵＶレーザビームを基板４０に対して垂直に照射しなければならない光配向剤からなる場合に選択される。
【００２６】
まず、非偏光のＵＶレーザビームを基板４０に斜めに照射させる場合について説明する。この場合は、偏光ローテータ１６を取り外した構成とする。これにより、バリアブル・アテネータ１４でその強度が所定値に制御された直変偏光のＵＶレーザビームＬＢは、デポラライザ１５により直線偏光を非偏光に変換された後、ビーム・シェイパ１７によりそのビームの断面形状を線状に成形される。
【００２７】
上記の線状の長手方向は、基板４０上の有機膜４１に対するビーム走査方向（スキャン方向）に直交する方向である。ビーム・シェイパ１７により線状に成形された非偏光のＵＶレーザビームは、ビーム・デフレクタ１８で反射されて光進行方向が変えられ、図１に示すように基板４０上の有機膜４１と角度θ（０°＜θ＜９０°）をなすように斜めに有機膜４１に照射され、有機膜４１を光配向膜に形成する。ここで、基板４０が大型基板であっても、非偏光のＵＶレーザビームを基板４０上の有機膜４１に対して１回スキャンさせるだけで基板４０の全面に光配向膜を形成することができる。
【００２８】
なお、ビーム・デフレクタ１８は、有機膜４１へ入射するＵＶレーザビームの光軸と、有機膜４１の表面とのなす角度θを０°から９０°の範囲内の任意の角度に調節することができる。
【００２９】
次に、直線偏光のＵＶレーザビームＬＢを基板４０に垂直に照射させる場合について説明する。この場合は、偏光ローテータ１６を設置すると共に、デポラライザ１５とビーム・デフレクタ１８とを取り外した構成とする。これにより、バリアブル・アテネータ１４でその強度が所定値に制御された直線偏光のＵＶレーザビームＬＢは、偏光ローテータ１６に入射してその偏光面がＵＶレーザビームの光軸に対し、０°から９０°の範囲内の所定の角度だけ回転され、更にビーム・シェイパ１７によりそのビームの断面形状を線状に成形された後、基板４０上の有機膜４１に対して垂直（すなわち、前記角度θが９０°）に照射され、有機膜４１を光配向膜に形成する。ここで、基板４０が大型基板であっても、直線偏光のＵＶレーザビームを基板４０上の有機膜４１に対して１回スキャンさせるだけで基板４０の全面に光配向膜を形成することができる。
【００３０】
なお、ビーム・デフレクタ１８を取り外さず、ビーム・シェイパ１７からのビームの断面形状を線状に成形された直線偏光のＵＶレーザビームを反射させて、基板４０に斜めに入射することも可能である。
【００３１】
このように、本実施例によれば、光配向膜形成用の光源としてレーザ光源を用いることで、従来の高圧水銀灯を光源として、偏光光を発生する場合に使用していた偏光子の紫外線による劣化という問題点を回避でき、また、レーザ光を用いることで、高圧水銀灯を光源とした場合に平行光を出すためのコリメーション光学系を不要にでき、従って従来の高圧水銀灯を光源とする光配向膜の形成装置に比べ、よりコンパクトなＵＶレーザ光源１１を使用でき、更に光学系も簡略化されるので、装置の低コスト化が実現できる。
【００３２】
また、基板４０が大型基板であっても、ＵＶレーザビームを基板４０上の有機膜４１に対して１回スキャンさせるだけで光配向膜を形成することができるため、１つのスキャンとその次のスキャンで形成された光配向膜の繋ぎ目は生じることがなく、よって、実際の液晶素子を作製して見るとその繋ぎ目周辺でムラが見えるという現象を防止することができる。また、本実施例によれば、ＵＶレーザビームの偏光を直線偏光または非偏光に切り替えることや、偏光方向を任意の角度にすることが容易なため、種々の光配向剤（有機膜４１）を装置の大幅な改造なしに用いることができる。
【実施例２】
【００３３】
図２は本発明になるレーザ照射装置の実施例２の構成図を示す。同図中、図１と同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する。図２に示すように、本実施例のレーザ照射装置１０２は、図１におけるＵＶレーザ光源１１を水平に載置すると共に、基板４０上でのＵＶレーザビームの照射領域を可視化するために、可視光レーザ光源３１とミラー３２とからなる照明光学系３０を設置した点に特徴がある。
【００３４】
可視光レーザ光源３１は可視波長領域のレーザ光（可視光）を出射する。この可視光は基板４０上でのＵＶレーザビームの照射領域を可視化しても配向膜形成に影響のないように、光配向プロセスで用いられるＵＶレーザ波長範囲外であって可視域の波長であればよく、例えば６３３ｎｍの波長のレーザ光などが用いられる。
【００３５】
また、図１の実施例１に比べて、ＵＶレーザ用ミラー２１とダイクロイック・ミラー２２とが追加されている。ダイクロイック・ミラー２２は可視光レーザビームＬＢ２とＵＶレーザビームＬＢ１とを合成するためのミラーである。
【００３６】
次に、本実施例の動作について説明する。ＵＶレーザ光源１１で発生されたＵＶレーザビームＬＢ１はシャッタ１２を通過してＵＶレーザ用ミラー２１で反射され、その進行方向が９０度変えられてダイクロイック・ミラー２２に入射する。一方、可視光レーザ光源３１で発生された可視光レーザビームＬＢ２は可視光レーザ用ミラー３２で反射され、その進行方向が９０度変えられてダイクロイック・ミラー２２に入射する。
【００３７】
ダイクロイック・ミラー２２は、可視光レーザビームＬＢ２を全反射し、ＵＶレーザビームＬＢ１を透過させる構成であるため、ダイクロイック・ミラー２２からは可視光レーザビームＬＢ２とＵＶレーザビームＬＢ１とが共にビーム・エクスパンダ１３に入射するように取り出される。
【００３８】
ビーム・エクスパンダ１３からビーム・デフレクタ１８までの構成は実施例１と同様であり、実施例１と同様にして、基板４０上にある有機膜４１にＵＶレーザビームを垂直に又は斜めに照射して光配向膜を形成することができる。ただし、本実施例では、ＵＶレーザビームの有機膜４１上の照射領域には、可視光レーザビームＬＢ２もガイド光として照射されるので、有機膜４１上の不可視のＵＶレーザビーム照射領域が、使用者に可視光で識別させることができる。このため、本実施例は上記の実施例１と同様の特長を有するとともに、それに加えて光配向プロセスを最適にモニタすることができるという特長も有する。
【００３９】
次に、図１、図２で説明したレーザ照射装置１０１、１０２を用いて有機膜にレーザ照射させる光配向膜形成装置について説明する。図３は光配向膜形成装置の一例の外観斜視図を示す。この光配向膜形成装置は、光照射ユニット２２０内に前記レーザ照射装置１０１又は１０２を搭載した、ＸＹガントリー型ステージによる光配向膜形成装置である。
【００４０】
図３において、光配向膜形成装置２００は、ステージ部２１０と、ガントリー部２３０と、架台部２４０ａ、２４０ｂとから構成され、有機膜を形成した基板２８０はステージ部２１０に載置されている。基板２８０は前記有機膜４１を形成した基板４０に相当する。また、左右に一対設けられた架台部２４０ａ、２４０ｂには、第１のリニアモータ２４２ａ、２４２ｂと、リニアスケール２４６ａ、２４６ｂと、第１のレール２４４ａ、２４４ｂとが設置され、第１のレール２４４ａ、２４４ｂに沿って、第１のリニアモータ２４２ａ、２４２ｂにより矢印Ａ、Ａ’方向にガントリー部２３０が移動する。
【００４１】
ガントリー部２３０には、第２のリニアモータ２３２とリニアスケール２３６と第２のレール２３４とが設置され、第２のレール２３４に沿って、第２のリニアモータ２３２により矢印Ｂ、Ｂ’方向に光照射ユニット２２０が移動する。光照射ユニット２２０には、前記レーザ照射装置１０１又は１０２が装着され、例えば、基板２８０に対してθの角度をなし、Ｃで示す領域に線状のＵＶレーザビームを照射する。
【００４２】
これにより、基板２８０が大型であっても、断面が線状のＵＶレーザビームの長手方向の長さを、例えば図４（ａ）に５０で示すように基板２０８の一辺に略等しい長さに選定して、線状の長手方向に対して直交する矢印方向に走査（スキャン）することにより、１回のスキャン（連続走査）で基板２０８全面に光配向膜を形成することができる。なお、基板２０８上の線状のＵＶレーザビームは１本でなくてもよく、例えば図４（ｂ）に５１、５２、５３で示すように３本（本数はこれに限らず複数本でよい）とし、これらを線状の長手方向に対して直交する矢印方向に互いに同期して走査（スキャン）することにより、１回のスキャン（連続走査）で基板２０８全面に光配向膜を形成することができる。
【００４３】
なお、本発明は以上の実施の形態に限定されるものではなく、例えば使用する光源はＵＶレーザ光源に限らず、波長４０５ｎｍのレーザ光を発振するレーザーダイオードなども使用でき、波長２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内のレーザ光を発振するレーザ光源を使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明のレーザ照射装置の実施例１の構成図である。
【図２】本発明のレーザ照射装置の実施例２の構成図である。
【図３】本発明のレーザ照射装置を有する光配向膜形成装置の一例の構成図である。
【図４】本発明における基板上のレーザビーム照射位置とスキャン方向の各例を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００４５】
１１  ＵＶレーザ光源
１２  シャッタ
１３  ビーム・エクスパンダ
１４  バリアブル・アテネータ
１５  デポラライザ
１６  偏光ローテータ
１７  ビーム・シェイパ
１８  ビーム・デフレクタ
２１  ＵＶレーザ用ミラー
２２  ダイクロイック・ミラー
３０  照明光学系
３１  可視光レーザ光源
３２  可視光レーザ用ミラー
４０、２８０  基板
４１  有機膜
１０１、１０２  レーザ照射装置
２００  光配向膜形成装置
２２０  光照射ユニット
ＬＢ、ＬＢ１  ＵＶレーザビーム
ＬＢ２  可視光レーザビーム
【図１】
2009037014.tif 000003
【図２】
2009037014.tif 000004
【図３】
2009037014.tif 000005
【図４】
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