(57)【要約】【課題】安全処理部において異常が生じてもロットに対して過剰処理が行われることを防止できる。【解決手段】第１のロットがペア内処理であるので、第２処理部の仮想リソースＰＢ２を使用する。また、第２のロットの処理が非ペア内処理であるので、第１処理部の仮想リソースＰＢ１を薬液処理部ＣＨＢ１における処理期間にわたって使用し、第２処理部をまたいだ処理期間にわたって、第２処理部の仮想リソースＰＢ２を使用する。仮想リソースＰＢ１，ＰＢ２の重複を排除して各リソースａ〜ｉの使用タイミングを決定すると、純水洗浄処理部ＯＮＢ２で異常が発生しても第２のロットに対して過剰処理が行われることを防止できる。【選択図】図９
2009238917.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロットを待機させることが可能な安全処理部と、ロットを待機させることが不可能な非安全処理部と、それらの間でのみロットを搬送する副搬送機構とを備えたペア処理部を複数個備えた基板処理装置により、制御部が各ペア処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記複数個のペア処理部ごとに仮想リソースを定義する過程と、
一方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行うペア内処理の場合には、一方のペア処理部のリソースを使用するとともに、一方のペア処理部における処理期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用し、他方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行う非ペア内処理の場合には、他方のペア処理部内の非安全処理部のリソースと一方のペア処理部内の安全処理部のリソースとを使用するとともに、他方のペア処理部の仮想リソースを非安全処理部における処理期間にわたって使用し、前記非安全処理部による処理開始から前記安全処理部による処理終了までの期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用する過程と、
仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定する過程と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記安全処理部は、純水洗浄処理部であり、
前記非安全処理部は、薬液処理部であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記ペア内処理では、安全処理部と非安全処理部との間のロットの移動時に当該ペア処理部内の副搬送機構のリソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項４】
ロットを待機させることが可能な安全処理部と、ロットを待機させることが不可能な非安全処理部と、それらの間でのみロットを搬送する副搬送機構とを備えたペア処理部を複数個備えた基板処理装置により、制御部が各ペア処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
前記複数個のペア処理部ごとに仮想リソースを定義するステップと、
一方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行うペア内処理の場合には、一方のペア処理部のリソースを使用するとともに、一方のペア処理部における処理期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用し、他方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行う非ペア内処理の場合には、他方のペア処理部内の非安全処理部のリソースと一方のペア処理部内の安全処理部のリソースとを使用するとともに、他方のペア処理部の仮想リソースを非安全処理部における処理期間にわたって使用し、前記非安全処理部による処理開始から前記安全処理部による処理終了までの期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用するステップと、
仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定するステップと、
を前記制御部であるコンピュータに実行させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の方法として、実際の処理を開始する前に、各処理部のリソースをどのロットでどのような順序で使用してゆくかを決定するものがある（例えば、特許文献１参照）。このように予めスケジューリングを行うことにより、前詰めで各ロットの各処理工程を、各処理部のリソースを使用するように配置することができるので、稼働率を向上することができる。
【０００３】
また、上述したような方法に加え、一対の処理部で兼用の副搬送機構と、基板を搬送する主搬送機構とで干渉する空間を有する基板処理装置におけるスケジューリング方法として、例えば、上記の干渉空間をリソースとして定義するものがある（例えば、特許文献２参照）。このように主搬送機構及び副搬送機構のリソースとともに干渉空間のリソースを使用することにより、主搬送機構または副搬送機構が他方の動作を終えるのを待つことなく、主搬送機構または副搬送機構により干渉空間のリソースの使用が完了した時点で、他方の搬送機構を動作開始させることができ、搬送待ちに起因する薬液によるロットへの過剰処理を防止できる。
【０００４】
ところで、従来の装置では、純水洗浄処理部と薬液処理部とのペアで構成された一つの処理部にて兼用の副搬送機構を備え、このような処理部を複数個備え、さらにこれらの処理部に沿って移動して、各副搬送機構との間で基板を受け渡す主搬送機構とを備えたものがある。このような装置においては、それぞれの処理部で処理が行われる間だけ各処理部の副搬送機構が占有されるようにスケジュールを組んでいる。なお、薬液処理部などは、ロットを待機させることで悪影響が生じる恐れがある。一方、純水洗浄処理部などは、ロットを待機させてもロットに悪影響が生じる恐れがない。本明細書では、前者を「非安全処理部」と称し、後者を「安全処理部」と称する。
【０００５】
ここで、具体例を示すため図４，５，１０を参照する。
まず、第1のロットは、第２処理部の薬液処理部ＣＨＢ２で薬液処理（処理工程Ｐ１−３）が行われた後、ペアである第２処理部の純水洗浄処理部ＯＮＢ２で純水洗浄処理（処理工程Ｐ１−５）が行われた後に搬出される処理である（図４）。また、第２のロットは、第１処理部の薬液処理部ＣＨＢ１で薬液処理（処理工程Ｐ２−３）が行われた後、薬液処理部ＣＨＢ１とはペアではない第２処理部の純水洗浄処理部ＯＮＢ２で純水洗浄処理（処理工程Ｐ２−５）が行われた後に搬出される（図５）。ここで、第２処理部の副搬送機構ＬＦＳ２が使用されるのは、第２処理部で処理が行われている間だけであり、第１処理部の副搬送機構ＬＦＳ１が使用されるのは、第１処理部で処理が行われている間だけとされる。図４及び図５のように、それぞれのロット単独（単バッチ）のスケジュールが作成され、次に、第１及び第２のロットのスケジュールを同じタイムチャート上に配置する（図１０）。
【特許文献１】特許第３７５８９９２号公報
【特許文献２】特許第３９６０７６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の方法によるスケジュールにしたがって処理を実行する際に、例えば、図１０のＴ１時点において第２処理部の純水洗浄処理部ＯＮＢ２に異常が発生したとする。この時点Ｔ１においては、第２のロットが薬液処理部ＣＨＢ１で並行して処理中であり（処理工程Ｐ２−３）、その後に純水洗浄処理部ＯＮＢ２で処理される予定（処理工程Ｐ２−５）であるにもかかわらず、第２のロットを薬液処理部ＣＨＢ１から搬出することができないので、第２のロットに対して薬液による過剰処理が行われるという問題がある。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、安全処理部において異常が生じてもロットに対して過剰処理が行われることを防止できる搬送基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、ロットを待機させることが可能な安全処理部と、ロットを待機させることが不可能な非安全処理部と、それらの間でのみロットを搬送する副搬送機構とを備えたペア処理部を複数個備えた基板処理装置により、制御部が各ペア処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記複数個のペア処理部ごとに仮想リソースを定義する過程と、一方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行うペア内処理の場合には、一方のペア処理部のリソースを使用するとともに、一方のペア処理部における処理期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用し、他方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行う非ペア内処理の場合には、他方のペア処理部内の非安全処理部のリソースと一方のペア処理部内の安全処理部のリソースとを使用するとともに、他方のペア処理部の仮想リソースを非安全処理部における処理期間にわたって使用し、前記非安全処理部による処理開始から前記安全処理部による処理終了までの期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用する過程と、仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定する過程と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、制御部は、複数個のペア処理部ごとにその実体のリソースとは別の仮想リソースを定義する。一方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、同じペア処理部内の安全処理部による処理を行うペア内処理の場合には、一方のペア処理部のリソースを使用するとともに、その処理期間にわたって同じペア処理部の仮想リソースを使用する。また、他方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行う非ペア内処理の場合には、他方のペア処理部内の非安全処理部のリソースと一方のペア処理部内の安全処理部のリソースとを使用するとともに、他方のペア処理部の仮想リソースを非安全処理部における処理期間にわたって使用し、さらに、異なるペア処理部をまたいだ処理期間にわたって、一方のペア処理部の仮想リソースを使用する。そして、仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定するが、ペア内処理の直後に非ペア内処理を配置しようとすると、非ペア内処理における一方のペア処理部の仮想リソースと、ペア内処理における一方のペア処理部の仮想リソースとが干渉することになるので、非ペア内処理をペア内処理から間隔をあけなければ配置することができない。したがって、ペア内処理の安全処理部で異常が発生しても、後続する非ペア内処理の非安全処理部にロットを投入することを中止できる余裕が生じる。その結果、安全処理部において異常が生じてもロットに対して過剰処理が行われることを防止できる。
【００１０】
なお、本発明における「リソース」（resource）とは、純水洗浄処理部、薬液処理部、乾燥処理部、塗布処理部、メッキ処理部、エッチング処理部、基板を搬送する搬送機構、基板の姿勢を変換する姿勢変換部などのことを示す。
【００１１】
また、本発明において、前記安全処理部は、純水洗浄処理部であり、前記非安全処理部は、薬液処理部であることが好ましい（請求項２）。純水処理部は、ロットを待機させても悪影響が少ないが、薬液処理部は、ロットを待機させると悪影響が及ぶ。
【００１２】
また、本発明において、前記ペア内処理では、安全処理部と非安全処理部との間のロットの移動時に当該ペア処理部内の副搬送機構のリソースを使用することが好ましい（請求項３）。ペア内におけるロットの移動には副搬送機構を使用するので、そのリソースを使用する。
【００１３】
また、請求項４に記載の発明は、ロットを待機させることが可能な安全処理部と、ロットを待機させることが不可能な非安全処理部と、それらの間でのみロットを搬送する副搬送機構とを備えたペア処理部を複数個備えた基板処理装置により、制御部が各ペア処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、前記複数個のペア処理部ごとに仮想リソースを定義するステップと、一方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行うペア内処理の場合には、一方のペア処理部のリソースを使用するとともに、一方のペア処理部における処理期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用し、他方のペア処理部内の非安全処理部による処理に続いて、一方のペア処理部内の安全処理部による処理を行う非ペア内処理の場合には、他方のペア処理部内の非安全処理部のリソースと一方のペア処理部内の安全処理部のリソースとを使用するとともに、他方のペア処理部の仮想リソースを非安全処理部における処理期間にわたって使用し、前記非安全処理部による処理開始から前記安全処理部による処理終了までの期間にわたり、一方のペア処理部の仮想リソースを使用するステップと、仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定するステップと、を前記制御部であるコンピュータに実行させることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、ペア内処理の場合には、一方のペア処理部のリソースを使用するとともに、その処理期間にわたって同じペア処理部の仮想リソースを使用する。また、非ペア内処理の場合には、他方のペア処理部内の非安全処理部のリソースと一方のペア処理部内の安全処理部のリソースとを使用するとともに、他方のペア処理部の仮想リソースを非安全処理部における処理期間にわたって使用し、さらに、異なるペア処理部をまたいだ処理期間にわたって、一方のペア処理部の仮想リソースを使用する。そして、仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定するが、ペア内処理の直後に非ペア内処理を配置しようとすると、非ペア内処理における一方のペア処理部の仮想リソースと、ペア内処理における一方のペア処理部の仮想リソースとが干渉することになるので、非ペア内処理をペア内処理から間隔をあけなければ配置することができない。したがって、ペア内処理の安全処理部で異常が発生しても、後続する非ペア内処理の非安全処理部にロットを投入することを中止できる余裕が生じる。その結果、安全処理部において異常が生じてもロットに対して過剰処理が行われることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図１は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図２は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【００１６】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して薬液処理及び洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Ｗは、複数枚（例えば２５枚）がカセット１に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。投入部３は、カセット１を載置される載置台５を二つ備えている。投入部３に隣接する位置には、払出部７が備えられている。この払出部７は、処理済の基板Ｗをカセット１に収納してカセット１ごと払い出す。このような払出部７は、投入部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置台９を備えている。
【００１７】
投入部３と払出部７に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第１搬送機構ＣＴＣが設けられている。第１搬送機構ＣＴＣは、投入部３に載置されたカセット１に収納されている全ての基板Ｗを取り出した後、第２搬送機構ＷＴＲに対して搬送する。また、第１搬送機構ＣＴＣは、第２搬送機構ＷＴＲから処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板Ｗをカセット１に収納する。また、第２搬送機構ＷＴＲは、基板処理装置の長手方向に沿って移動可能に構成されている。
【００１８】
上述した第２搬送機構ＷＴＲの移動方向における最も手前側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部ＬＰＤが設けられている。
【００１９】
第２搬送機構ＷＴＲの移動方向であって乾燥処理部ＬＰＤに隣接する位置には、第１処理部１９が配設されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板Ｗに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部ＯＮＢ１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液を含む処理液によって薬液処理を施すための薬液処理部ＣＨＢ１を備えている。また、第１処理部１９は、第２搬送機構ＷＴＲとの間で基板Ｗを受け渡すとともに、純水洗浄処理部ＯＮＢ１と薬液処理部ＣＨＢ１でのみ昇降可能な副搬送機構ＬＦＳ１を備えている。
【００２０】
第１処理部１９に隣接した位置には、第２処理部２１が設けられている。第２処理部２１は、上述した第１処理部１９と同様の構成である。つまり、純水洗浄処理部ＯＮＢ２と薬液処理部ＣＨＢ２と副搬送機構ＬＦＳ２とを備えている。
【００２１】
上記のように構成された基板処理装置は、図２のブロック図に示すように制御部２５によって統括的に制御される。なお、制御部２５が本発明におけるコンピュータに相当する。
【００２２】
制御部２５は、ＣＰＵやタイマ等を備え、スケジューリング部２７と、仮想リソース処理部２９と、処理実行指示部３１とを備えている。制御部２５に接続されている記憶部３３は、この基板処理装置のユーザなどによって予め作成され、基板Ｗをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムと、後述する定義ファイルなどが予め格納されている。
【００２３】
スケジューリング部２７は、カセット１に収納されて投入部３に載置された基板Ｗを一つのロットとして取り扱い、装置のオペレータによって指示された、記憶部３３に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、ロット毎の処理工程を時系列的に効率よく配置できるようにスケジュールを作成する。作成されたスケジュールは、記憶部３３に格納される。なお、スケジュールを作成する際には、後述する仮想リソースを考慮する。
【００２４】
仮想リソース処理部２９は、装置の処理部ごとに安全処理部であるか非安全処理部であるかを含む装置構成を記述した定義ファイルを参照し、安全処理部と非安全処理部と、それらの間でのみロットを搬送する副搬送機構とを備えたペア処理部にあたる処理部ごとに仮想リソースを定義する。なお、安全処理部とは、ロットを待機させることができる処理部であり、非安全処理部とは、ロットを待機させることができない処理部のことをいう。具体的には、安全処理部として乾燥処理部ＬＰＤや純水洗浄処理部ＯＮＢ１，２があり、非安全処理部として薬液処理部ＣＨＢ１，２がある。この例では、第１処理部１９と第２処理部２１とに対してそれぞれ仮想リソースが定義されるものとする。
【００２５】
なお、ここでいうリソースとは、第１搬送機構ＣＴＣ、第２搬送機構ＷＴＲ、乾燥処理部ＬＰＤ、純水洗浄処理部ＯＮＢ１，２、薬液処理部ＣＨＢ１，２、副搬送機構ＬＦＳ１，２など、制御部２５の制御の下でロットの処理のために使用される資源をいう。また、ここでいう仮想リソースとは、第１処理部１９や第２処理部２１などの処理部の実体とは相違し、実体はないものの仮想的に存在するものとして取り扱うためのリソースである。この実施例では、後述するように、ペア処理部である第１処理部１９に相当する仮想リソースＰＢ１と、ペア処理部である第２処理部２１に相当する仮想リソースＰＢ２を定義している。
【００２６】
処理実行指示部３１は、スケジューリング部２７によって作成されて、記憶部３３に格納されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作を指示する。
【００２７】
次に、具体的なスケジューリングについて、図３〜９を参照して説明する。なお、図３は、スケジュール動作を示すフローチャートであり、図４及び図５は、単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートであり、図６及び図７は、仮想リソースを含めた単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートであり、図８は、全体のスケジュール例を示し、仮想リソースが重複した例を示すタイムチャートであり、図９は、全体のスケジュール例を示し、仮想リソースの重複を回避した例を示すタイムチャートである。
【００２８】
以下においては、説明の理解を容易にするために、第１のロット及び第２のロットの二つのロットのみをスケジュールする場合を例に採って説明するが、３つ以上のロットについても同様にしてスケジューリングすることができる。
【００２９】
また、この例における第１のロットのレシピは、例えば、図４に示すようになものである。ここで処理工程Ｐの後の数字は、ロット番号を示し、「−」の後が処理工程番号を表す。また、各処理工程Ｐ１−１〜Ｐ１−９において、前の空白にあたる部分は、リソースを使用するための準備にあたる前作業であり、後ろの空白にあたる部分は、使用したリソースの片付けにあたる後作業である。図４及び図５に示すように副搬送機構ＬＦＳ１，２（リソースｆ，ｉ）におけるドットハッチングした部分は、純水洗浄処理部ＯＮＢ１，２及び薬液洗浄処理部ＣＨＢ１，２のリソースが使用される場合に付随する処理工程である。
【００３０】
処理工程Ｐ１−１は、第1搬送機構ＣＴＣ（リソースａ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ１−２は、第２搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ１−３は、第２処理部２１の薬液処理部ＣＨＢ２（リソースｈ）による薬液処理であり、処理工程Ｐ１−４は、副搬送機構ＬＦＳ２（リソースｉ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ１−５は、第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２（リソースｇ）による純水洗浄処理であり、処理工程Ｐ１−６は、第２搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ１−７は、乾燥処理部ＬＰＤ（リソースｃ）による乾燥処理であり、処理工程Ｐ１−８は、第２搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ１−９は、第１搬送機構ＣＴＣ（リソースａ）による搬送処理である。このように、第１のロットのレシピは、第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２と薬液処理部ＣＨＢ２とを利用した「ペア内処理」であり、第２処理部２１が本発明における「一方のペア処理部」に相当する。
【００３１】
また、この例における第２のロットのレシピは、例えば、図５に示すようなものである。
処理工程Ｐ２−１は、第１搬送機構ＣＴＣ（リソースａ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ２−２は、第２搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ２−３は、第１処理部１９の薬液処理部ＣＨＢ１（リソースｅ）による薬液処理であり、処理工程Ｐ２−４は、第２搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ２−５は、第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２（リソースｇ）による純水洗浄処理であり、処理工程Ｐ２−６は、第１搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ２−７は、乾燥処理部ＬＰＤ（リソースｃ）による乾燥処理であり、処理工程Ｐ２−８は、第２搬送機構ＷＴＲ（リソースｂ）による搬送処理であり、処理工程Ｐ２−９は、第１搬送機構ＣＴＣ（リソースａ）による搬送処理である。このように、第２のロットのレシピは、第１処理部１９の薬液処理部ＣＨＢ１と、第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２とを利用した「非ペア内処理」である。第１処理部１９が本発明における「他方のペア処理部」に相当する。
【００３２】
ステップＳ１〜Ｓ３
装置のオペレータは、未処理の基板Ｗが収納されたカセット１を投入台３の載置台５に載置する（ステップＳ１）。図示しない指示部から上述したレシピを指示する（ステップＳ２）。すると、制御部２５は、記憶部３３に記憶されているレシピのデータを読み込む（ステップＳ３）。
【００３３】
ステップＳ４
スケジューリング部２７は、読み込まれたレシピのデータに基づいて、第１のロット及び第２のロットについて、それぞれ単バッチのスケジュールを作成する。具体的には、第１のロットについて各処理工程Ｐ１−１〜Ｐ１−９の時間計算を行うとともに、図４に示すように各処理工程Ｐ１−１〜Ｐ１−９に要する時間に基づいてスケジュールを作成する。また、第２のロットについて各処理工程Ｐ２−１〜Ｐ２−９の時間計算を行うとともに、図５に示すように各処理工程Ｐ２−１〜Ｐ２−９に要する時間に基づきスケジュールを作成する。
【００３４】
ステップＳ５
仮想リソース処理部２９は、図６及び図７に示すように、第１のロットのスケジュール及び第２のロットのスケジュール中に、仮想リソースＰＢ１，ＰＢ２を使用するスケジュールを追加する。具体的には、第１のロットのスケジュール中には「ペア内処理」があるので、第２処理部２１（純水洗浄処理部ＯＮＢ２，薬液処理部ＣＨＢ２）のリソースｇ，ｈの使用に加え、第２処理部２１における処理期間にわたり、仮想リソースＰＢ２を使用するようにスケジュールする。
【００３５】
また、第２のロットのスケジュール中には「非ペア内処理」があるので、第１処理部１９の薬液処理部ＣＨＢ１のリソースｅと第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２のリソースｇの使用に加え、第１処理部１９の仮想リソースＰＢ１を薬液処理部ＣＨＢ１による処理期間にわたって使用し、さらに、第１処理部１９の薬液処理部ＣＨＢ１の処理開始から第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２の処理終了までの期間にわたり仮想リソースＰＢ２を使用するようにスケジュールを加える。
【００３６】
ステップ６
スケジューリング部２７は、第１のロットの単バッチスケジュール（図６）と第２のロットの単バッチスケジュール（図７）とを一つのタイムチャート上でスケジュールする。その際には、第１のロットと第２のロットとで各リソースａ〜ｉが時間的に重複しないことはもちろんのこと、仮想リソースＰＢ１，ＰＢ１が時間的に重複しないように使用タイミングを決定する。
【００３７】
例えば、図１０に示した従来例のような各リソースａ〜ｉの使用タイミングにした場合には、図８に示すように仮想リソースＰＢ２において干渉が生じる。したがって、従来例のような使用タイミングではスケジュールを組むことはできない。そこで、上記の干渉を回避するように仮想リソースＰＢ２の重複を排除して、第２のロットの単バッチのスケジュールを配置すると図９に示すようになる。
【００３８】
上述したようにして全体のスケジュールが完了すると、処理実行指示部３１がそのスケジュールにしたがって各リソースを制御して実際にロットに対する処理を順次に行わせてゆく。その際に、従来例と同様の時点Ｔ１で第２処理部２１の純水洗浄処理部ＯＮＢ２に異常が発生したとする。この時点Ｔ１においては、処理工程Ｐ２−３（薬液処理部ＣＨＢ１による第２のロットの処理）が実施される前であるので、制御部２５が第２のロットを処理工程Ｐ２−１で中止させる余裕をつくることができる。したがって、第２のロットに対して薬液による過剰処理が行われることを防止できる。
【００３９】
上述したように、本実施例によると、制御部２５は、第１のロットがペア内処理であるので、第２処理部２１のリソースｇ〜ｉを使用するとともに、その処理期間にわたって同じ第２処理部２１の仮想リソースＰＢ２を使用する。また、第２のロットの処理が非ペア内処理であるので、第１処理部１９の薬液処理部ＣＨＢ１のリソースｅと第２処理部１９の純水洗浄処理部ＯＮＢ１のリソースｇとを使用するとともに、第１処理部１９の仮想リソースＰＢ１を薬液処理部ＣＨＢ１における処理期間にわたって使用し、さらに、第２処理部２１をまたいだ処理期間にわたって、第２処理部２１の仮想リソースＰＢ２を使用する。そして、仮想リソースＰＢ１，ＰＢ２の重複を排除して各リソースａ〜ｉの使用タイミングを決定するが、ペア内処理（処理工程Ｐ１−３、Ｐ１−５）の直後に非ペア内処理（処理工程Ｐ２−３，Ｐ２−５）を配置しようとすると、非ペア内処理における第２処理部２１の仮想リソースＰＢ２と、ペア内処理（処理工程Ｐ１−３、Ｐ１−５）における第２処理部２１の仮想リソースＰＢ２とが干渉することになるので、非ペア内処理（処理工程Ｐ２−３，Ｐ２−５）をペア内処理（処理工程Ｐ１−３、Ｐ１−５）から間隔をあけなければ配置することができない。したがって、ペア内処理（処理工程Ｐ１−３、Ｐ１−５）の純水洗浄処理部ＯＮＢ２で異常が発生しても、後続する非ペア内処理（処理工程Ｐ２−３，Ｐ２−５）の薬液処理部ＣＨＢ１に第２のロットを投入することを中止できる余裕が生じる。その結果、純水洗浄処理部ＯＮＢ２において異常が生じても第２のロットに対して過剰処理が行われることを防止できる。
【００４０】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４１】
（１）上述した実施例におけるレシピは一例であり、上記以外のレシピの場合であっても同様の効果を奏する。
【００４２】
（２）上述した実施例における基板処理装置の構成は一例であり、上記以外の構成の基板処理装置であっても同様の効果を奏する。
【００４３】
（３）上述した実施例では、ペア内処理である第１のロットが先行し、非ペア内処理である第２のロットが後続するとしたが、第２のロットが先行し、第１のロットが後続であっても仮想リソースＰＢ１，ＰＢ２の重複を回避することで上述した効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図３】スケジュール動作を示すフローチャートである。
【図４】単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートである。
【図５】単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートである。
【図６】仮想リソースを含めた単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートである。
【図７】仮想リソースを含めた単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートである。
【図８】全体のスケジュール例を示し、仮想リソースが重複した例を示すタイムチャートである。
【図９】全体のスケジュール例を示し、仮想リソースの重複を回避した例を示すタイムチャートである。
【図１０】従来例による全体のスケジュール例を示したタイムチャートである。
【符号の説明】
【００４５】
Ｗ  …  基板
１  …  カセット
３  …  投入部
５  …  載置台
ＣＴＣ  …  第１搬送機構
ＷＴＲ  …  第２搬送機構
ＬＰＤ  …  乾燥処理部
１９  …  第１処理部
ＯＮＢ１  …  純水洗浄処理部
ＣＨＢ１  …  薬液処理部
ＬＦＳ１  …  副搬送機構
２１  …  第２処理部
ＯＮＢ２  …  純水洗浄処理部
ＣＨＢ２  …  薬液処理部
ＬＦＳ２  …  副搬送機構
２５  …  制御部
２７  …  スケジューリング部
２９  …  仮想リソース処理部
３１  …  処理実行指示部
３３  …  記憶部
ＰＢ１，ＰＢ２  …  仮想リソース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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