(57)【要約】【課題】基材に反射防止用の被膜を形成するにあたり、少ない層数で良好な反射防止性能を発揮することができて製造効率を向上することができる反射防止基材の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、紫外線硬化性樹脂と、この紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく且つこの紫外線硬化性樹脂の硬化物４よりも屈折率が低い屈折率１．０〜１．５の低屈折率粒子３と、溶剤とを含有するコーティング材組成物１を基材２に塗布して湿潤塗膜５を形成する工程と、前記湿潤塗膜５を加熱して溶剤を蒸発させることにより乾燥塗膜６を形成する工程と、前記乾燥塗膜６に紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させることにより硬化被膜７を形成する工程とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線硬化性樹脂と、屈折率１．０〜１．５の低屈折率粒子と、溶剤とを含有し、前記低屈折率粒子が前記紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく且つこの紫外線硬化性樹脂の硬化物よりも屈折率が低いコーティング材組成物を、基材に塗布して湿潤塗膜を形成する工程と、前記湿潤塗膜を加熱して溶剤を蒸発させることにより乾燥塗膜を形成する工程と、前記乾燥塗膜に紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させることにより硬化被膜を形成する工程とを含むことを特徴とする反射防止基材の製造方法。
【請求項２】
上記湿潤塗膜を加熱する際の加熱温度が６０℃以上であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止基材の製造方法。
【請求項３】
上記低屈折率粒子が中空粒子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止基材の製造方法。
【請求項４】
上記紫外線硬化性樹脂がシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の反射防止基材の製造方法。
【請求項５】
上記膜形成用組成物に紫外線硬化性樹脂の重合開始剤として光酸発生剤を含有させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の反射防止基材の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法により基材の表面に硬化被膜を形成して成ることを特徴とする反射防止基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被膜中における屈折率傾斜を利用することにより高い反射防止性を有する反射防止基材の製造方法及び反射防止基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ディスプレイや眼鏡レンズ等に反射防止用の被膜を形成するにあたっては、高屈折率層と低屈折率層等の屈折率が異なる二以上の層を積層して形成することが行われている。また、フィルム等の強度の低い基材の反射防止を行う場合には前記高屈折率層や低屈折率層等の下層に耐摩耗性を高めるためのハードコート層を設ける必要があり、このハードコート層が高屈折率層を兼ねる場合もある
例えば特許文献１には、有機フィルムの表面に、アクリル等の合成樹脂系薄膜で形成されたハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を積層して設けた反射防止フィルムが開示されており、このとき高屈折率層はＺｒＯ2，ＴｉＯ2，ＮｂＯ，ＩＴＯ，ＡＴＯ，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の金属酸化物微粒子を含有することで屈折率を増大させることが開示されている。
【特許文献１】特開２００１−３５０００１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記のような反射防止用の被膜は低屈折率層と高屈折率層との間の屈折率の相違を利用することにより反射防止を為すものであるが、そのためには屈折率の異なる二以上の層を積層して形成しなければならず、製造工程の煩雑化を招いていた。
【０００４】
本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、基材に反射防止用の被膜を形成するにあたり、少ない層数で良好な反射防止性能を発揮することができて製造効率を向上することができる反射防止基材の製造方法、及び反射防止基材を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に係る反射防止基材の製造方法は、紫外線硬化性樹脂と、この紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく且つこの紫外線硬化性樹脂の硬化物４よりも屈折率が低い屈折率１．０〜１．５の低屈折率粒子３と、溶剤とを含有するコーティング材組成物１を基材２に塗布して湿潤塗膜５を形成する工程と、前記湿潤塗膜５を加熱して溶剤を蒸発させることにより乾燥塗膜６を形成する工程と、前記乾燥塗膜６に紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させることにより硬化被膜７を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【０００６】
請求項２に係る発明は、請求項１において、上記湿潤塗膜５を加熱する際の加熱温度が６０℃以上であることを特徴とする。
【０００７】
請求項３に係る発明は、請求項１又は２において、上記低屈折率粒子３が中空粒子であることを特徴とする。
【０００８】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか一項において、上記紫外線硬化性樹脂がシリコーン樹脂であることを特徴とする。
【０００９】
請求項５に係る発明は、請求項１乃至４のいずれか一項において、上記膜形成用組成物に紫外線硬化性樹脂の重合開始剤として光酸発生剤を含有させることを特徴とする。
【００１０】
請求項６に係る反射防止基材は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法により基材２の表面に硬化被膜７を形成して成ることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１に係る発明によれば、湿潤塗膜５を乾燥して乾燥塗膜６を形成する過程において塗膜の表層側に低屈折率粒子３を凝集させ、この乾燥塗膜６を紫外線硬化させることで形成される硬化被膜７の表層側に低屈折率粒子３が凝集した屈折率の小さい層を形成すると共にその下層に主として紫外線硬化性樹脂の硬化物４からなる屈折率の大きい層を形成することができ、一度の塗布成膜作業にて屈折率の異なる二層に分離した硬化被膜７を形成して反射防止性能を発揮させることができて、反射防止基材の製造効率を向上することができるものである。
【００１２】
請求項２に係る発明によれば、６０℃以上で加熱することにより溶剤を十分に蒸発させて乾燥させることができ、さらに紫外線硬化型樹脂を加温することにより流動性が向上し、比重が小さい粒子が膜表面に凝集しやすくなる。
【００１３】
請求項３に係る発明によれば、中空粒子を使用することで低屈折率粒子３の比重を低減することができて、低屈折率粒子３と紫外線硬化性樹脂との比重の差を大きくすることができ、硬化被膜７中の屈折率が大きい層と屈折率が小さい層との層分離を促進すると共に、低屈折粒子と紫外線硬化性樹脂との組み合わせの自由度を向上することができる。
【００１４】
請求項４に係る発明によれば、シリコーン樹脂は比重が高く、これを使用することにより粒子との比重の差を大きくすることができ、またアクリル樹脂等に比べ、膜の硬度、耐摩耗性を高くすることができる。
【００１５】
請求項５に係る発明によれば、光酸発生剤を用いることで、アクリレート系の官能基を持たないシラン化合物も用いることができ、膜の硬度、耐摩耗性をより高くすることができる。また、ＵＶ硬化による膜硬化後にさらに加温することにより膜強度を上げる効果も期待できる。
【００１６】
請求項６に係る発明によれば、湿潤塗膜５を乾燥して乾燥塗膜６を形成する過程において塗膜の表層側で低屈折率粒子３が凝集され、この乾燥塗膜６を紫外線硬化させることで形成される硬化被膜７の表層側に低屈折率粒子３が凝集した屈折率の小さい層が形成されると共にその下層に主として紫外線硬化性樹脂の硬化物４からなる屈折率の大きい層が形成されており、一度の塗布成膜作業にて形成された屈折率の異なる二層に分離した硬化被膜７によって、反射防止性能を発揮させることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００１８】
まず、反射防止基材を製造するためのコーティング材組成物１について説明する。このコーティング材組成物１は、紫外線硬化性樹脂と、屈折率１．０〜１．５の低屈折率粒子３と、溶剤とを含有する。前記低屈折率粒子３は、前記紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく且つこの紫外線硬化性樹脂の硬化物４よりも屈折率が低いものである。
【００１９】
紫外線硬化性樹脂としてはその樹脂単独、または光重合開始剤等を併用することにより、紫外線で硬化するものであれば適宜のものを使用することができるが、例えば多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。さらにアクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等も必要に応じて好適に使用することができる。
【００２０】
このような紫外線硬化性樹脂としては、特にシリコーン樹脂を用いることが好ましい。このシリコーン樹脂としてはアクリレート系の官能基を持たないシラン化合物も使用できる。これらを例示するとテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン類；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン類；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン類が挙げられる。これらのアルコキシシラン類は１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、多官能のアルコキシシランに加えて、１官能のアルコキシシランを併用することもできる。１官能のアルコキシシランとしては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシランなどが挙げられる。また、これらの縮合物である、メチルシリケートやエチルシリケートなども挙げられる。
【００２１】
これらの樹脂を紫外線硬化性樹脂として使用する場合には、必要に応じてコーティング材組成物１中に、紫外線硬化性樹脂を硬化するために光重合開始剤を含有させることができる。光重合開始剤としては、ラジカル発生型の光重合開始剤としてベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、などのアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合物などがある。これらは単独または２種以上の混合物として使用でき、さらにはトリエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体等の光開始助剤などと組み合わせて使用することができる。
【００２２】
また、カチオン重合開始剤として光酸発生剤を使用することもできる。この光酸発生剤は、イオン性の化合物と非イオン性の化合物に大別できる。イオン性の化合物としてはアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩及びトリアリールホスホニウム塩等があり、対イオンとしてＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-等を有するものが用いられる。このようなオニウム塩系の光酸発生剤には必要に応じてアンスラセンや、チオキサントンのような光増感剤を併用することができる。また、非イオン性の化合物としては、光照射によってカルボン酸、スルホン酸、リン酸、ハロゲン化水素等を生成するものが使用でき、具体的にはスルホン酸の２−ニトロベンジルエステル、イミノスルホナート、１−オキソ−２−ジアゾナフトキノン−４−スルホナート誘導体、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホナート、トリ（メタンスルホニルオキシ）ベンゼン誘導体等が利用でき、さらにカルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステル、１−オキソ−２−ジアゾナフトキノン−５−アリールスルホナート、トリアリールリン酸エステル誘導体等が使用できる。
【００２３】
このような光酸発生剤を用いる場合には、アクリレート系の官能基を持たないシラン化合物も用いることができ、より膜の硬度、耐摩耗性を高くすることができる。また、ＵＶ硬化による膜硬化後にさらに加温することにより膜強度を上げる効果も期待できる。特に、加水分解基やエポキシ基を持った樹脂に用いると膜硬度、耐摩耗性向上に効果的である。
【００２４】
上記の光重合開始剤は、紫外線硬化性樹脂がラジカル重合型樹脂である場合にはラジカル光重合開始剤が用いられ、紫外線硬化性樹脂がカチオン重合型樹脂である場合にはカチオン光重合開始剤が用いられる。この光重合開始剤の含有量は特に制限されないが、紫外線硬化性樹脂１００質量部に対して好ましくは０．５〜２０質量部の範囲、特に好ましくは１〜１５質量部の範囲とする。
【００２５】
また、屈折率１．０〜１．５の低屈折率粒子３としては適宜のものを使用することができるが、例えばシリカ粒子、フッ化マグネシウム粒子、フッ化カルシウム粒子、フッ化セリウム粒子、フッ化アルミニウム粒子、アクリル粒子、スチレン粒子、ウレタン粒子等、或いはこれらの中空粒子や多孔質粒子を挙げることができる。これらの低屈折率粒子３は、一種単独で使用するほか、二種以上を併用しても良い。
【００２６】
この低屈折率粒子３は、ＳＥＭまたはＴＥＭによる観察で測定される平均一次粒子径が０．００１〜０．１μｍの範囲であることが好ましく、更に好ましくは０．００１〜０．０５μｍとされる。平均一次粒子径が大きすぎる場合には、調製されるコーティング材組成物１によって形成される硬化被膜７の透明性が低下する傾向が生じる。また平均一次粒子径があまりにも小さいものは入手が困難であるため、０．００１μｍが実質上の下限となる。
【００２７】
この低屈折率粒子３としては、その表面をシラン系、チタン系、アルミニウム系、或いはジルコニウム系のカップリング剤等の有機金属化合物にて処理したものを使用しても良い。
【００２８】
ここで、コーティング材組成物１中の被膜形成成分（固形分）のうち、低屈折率粒子３と、それ以外の成分との割合は、前者対後者が５：９５〜５０：５０の範囲となるようにすることが好ましく、１０：９０〜４０：６０の範囲とすることが更に好ましい。この範囲よりも低屈折率粒子３の割合が大きいとコーティング材組成物１によって得られる硬化被膜７の機械的強度が低下するおそれがあり、逆に低屈折率粒子３の割合が小さいと硬化被膜７による反射防止性能が充分に発揮されなくなるおそれがある。
【００２９】
また、紫外線硬化性樹脂と低屈折率粒子３との組み合わせは、既述のように低屈折率粒子３が紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく、且つこの紫外線硬化性樹脂の硬化物４よりも屈折率が低くなるように選択される。このとき、低屈折率粒子３と紫外線硬化性樹脂との比重の差は０．２以上の範囲であることが好ましい。この場合、後述する硬化被膜７の形成時における低屈折率の層と高屈折率の層との二層の分離が促進される。特に、低屈折率粒子３として中空粒子を用いると、低屈折率粒子３の比重を低減することで低屈折率粒子３と紫外線硬化性樹脂との比重の差を大きくし、硬化被膜７中の層分離を特に促進すると共に、低屈折粒子と紫外線硬化性樹脂との組み合わせの自由度を向上することができる。また、低屈折率粒子３と紫外線硬化性樹脂の硬化物４との屈折率の差は０．１以上の範囲であることが好ましい。この場合、硬化被膜７に特に優れた反射防止性能が付与される。
【００３０】
また、溶剤としては加熱等により容易に揮発させることができる適宜のものを用いることができるが、例えばメタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸エチル等のエステル類、キシレン、トルエン等を用いることができる。
【００３１】
溶剤の配合量は適宜設定されるが、塗装のし易さ、硬化被膜７の膜厚の制御のし易さ、及びコーティング材組成物１の安定性を考慮すれば、組成物中の溶剤の含有量が５０〜９９質量％の範囲であることが好ましく、特に７０〜９８質量％の範囲が更に好ましい。
【００３２】
上記各成分を混合することにより被膜形成用樹脂組成物を調製することができる。
【００３３】
このように調製されるコーティング材組成物１を用いて基材２に硬化被膜７を形成することにより、反射防止基材を得ることができる。
【００３４】
上記基材２としては特に限定されるものではないが、例えば、ガラスに代表される無機系基材２、金属基材２、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートに代表される有機系基材２等を挙げることができ、また基材２の形状としては、板状やフィルム状等を挙げることができる。
【００３５】
硬化被膜７の形成にあたっては、まず基材２の表面に被膜形成用樹脂組成物を塗布して湿潤塗膜５を形成する。塗装方法は特に限定されるものではなく、例えば、刷毛塗り、スプレーコート、浸漬（ディッピング、ディップコート）、ロールコート、フローコート、カーテンコート、ナイフコート、スピンコート、テーブルコート、シートコート、枚葉コート、ダイコート、バーコート等の通常の各種塗装方法を適宜選択することができる。
【００３６】
次にこの湿潤塗膜５を加熱して溶剤を揮発させ、乾燥塗膜６を形成する。このように乾燥塗膜６が形成される過程では、塗膜中の紫外線硬化性樹脂よりも比重の小さい低屈折率粒子３は塗膜の表層側に集まると共に、塗膜の体積が減少することにより低屈折率粒子３が凝集する。このため乾燥塗膜６は、表層側に低屈折率粒子３が凝集した層が形成されると共に、その下層側に主として紫外線硬化性樹脂からなる層が形成されて、二層に分離する。このとき、紫外線硬化性樹脂が熱硬化しない温度で溶剤を蒸発させることで塗膜の粘度を下げ、比重の小さな低屈折率粒子を塗膜の上方に浮かび上がらせることができ、図１（ｂ）に示すような層分離が促進されることとなる。
【００３７】
上記湿潤塗膜５の加熱条件は適宜設定されるが、加熱温度が６０℃以上であることが好ましい。この場合、溶剤を十分に蒸発させることができ、さらに紫外線硬化型樹脂を加温することにより流動性が向上し、比重が小さい粒子が膜表面に凝集しやすくなる。また、光重合開始剤及び光酸発生剤の中には高温で分解してしまうものがあるため、加熱温度の上限は使用する開始剤により制限されるが、通常は２００℃以下の温度とすることが好ましい。また、加熱時間は湿潤塗膜５から溶剤が充分に揮発するように適宜設定されるが、５分間〜５時間の範囲であることが好ましい。
【００３８】
この乾燥被膜に紫外線を照射することにより乾燥塗膜６中の紫外線硬化性樹脂を硬化させて硬化被膜７を形成し、反射防止基材を得ることができる。
【００３９】
硬化被膜７の膜厚は、使用用途や目的に応じて適宜選択することができ、特に限定されるものではないが、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。
【００４０】
ここで、硬化被膜７の屈折率と膜厚の積が光学膜厚であり、波長λの光の反射率が最低反射率になるためには、硬化被膜７の光学膜厚がλ／４に設定される必要がある。そして反射防止の対象となる波長λ＝５４０ｎｍの光の反射率が最低反射率になるためには、硬化被膜７の屈折率が１．３５の場合には、硬化被膜７の膜厚は１００ｎｍであることが必要である（光学膜厚＝１．３５×１００＝１３５≒λ／４）。また硬化被膜７の屈折率が１．４２の場合には、硬化被膜７の膜厚は９５ｎｍであることが必要である（光学膜厚＝１．４２×９５＝１３４．９≒λ／４）。このように反射防止被膜として光学設計する場合、硬化被膜７の膜厚は５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましいものである。
【００４１】
このようにして形成される硬化被膜７は、表層側に低屈折率層が凝集した相対的に屈折率の低い層が形成されると共に、下層側に主として紫外線硬化性樹脂の硬化物４からなる相対的に屈折率の高い層が形成される。すなわち、一度の塗布成膜作業により、低屈折率の層と高屈折率の層の二層に分離した、反射防止機能を有する硬化被膜７を形成することができるものである。
【００４２】
このコーティング材組成物１を用いれば、反射防止機能を有する硬化被膜７を容易に形成することができ、反射防止用途に好適である。反射防止の用途としては、例えば、反射防止用のフィルムや、ディスプレイの最表面、自動車のサイドミラー、フロントガラス、サイドガラス、リアガラスの内面、その他車両用ガラス、建材ガラス等を挙げることができる。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明を実施例により更に詳述する。
【００４４】
（実施例１）
紫外線硬化樹脂であるメチルシリケート（Ｓｉ（ＯＣＨ3）4：三菱化学株式会社製「ＭＳ５１」、比重２．２、硬化物４の屈折率１．５０）１１７．６質量部に対して、イソプロパノールを１６８２．４質量部、光重合開始剤として光酸発生剤（三新化学工業株式会社製「ＳＩ１００Ｌ」）を１０質量部加え、次に、低屈折率粒子３として中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾル（触媒化成工業株式会社製、固形分２０質量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ、比重１．７、屈折率１．３０）を用い、これを中空シリカ微粒子／メチルシリケートが固形分基準で質量比が４０／６０となるように２００重量部配合し、全固形分が５％になるようにコーティング材組成物１を調製した。
【００４５】
このコーティング材組成物１を、ガラス（厚み１ｍｍ、屈折率：１．５２）の表面にワイヤーバーコーターによって塗布して厚さ約１００ｎｍの湿潤塗膜５を形成し、この湿潤塗膜５を８０℃で５分間加熱乾燥して乾燥塗膜６を形成し、この乾燥塗膜６に紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射して紫外線硬化させることで硬化被膜７を形成し、反射防止基材を得た。
【００４６】
（実施例２）
低屈折率粒子３としてフッ化マグネシウム粒子（比重２、屈折率１．３８）を用い、それ以外は実施例１と同一の条件で反射防止基材を得た。
【００４７】
（実施例３）
紫外線硬化樹脂としてフッ素樹脂（旭硝子株式会社製「サイトップ」、比重２．０、屈折率１．４８）を用い、光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」を用い、それ以外は実施例１と同一の条件で反射防止基材を得た。
【００４８】
（実施例４）
紫外線硬化樹脂として光重合開始剤含有ＵＶ硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業製「Ｘ−１２−２４００」、比重２．１、硬化物４の屈折率１．５２、固形分３０％）２００質量部を用い、イソプロパノールの使用量を１６００質量とした。それ以外は実施例１と同一の条件で反射防止基材を得た。
【００４９】
（比較例１）
メチルシリケート（Ｓｉ（ＯＣＨ3）4：三菱化学株式会社製「ＭＳ５１」、比重２．２、硬化物４の屈折率１．５０）２０８質量部にイソプロパノールを３５６質量部を加え、更に水を１８質量部、０．０１Ｎの塩酸水溶液を１８質量部（［Ｈ2Ｏ］／［ＯＲ］＝０．５）加え、次に、中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾル（触媒化成工業株式会社製、固形分２０質量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ、比重１．７、屈折率１．３０）を用い、中空シリカ微粒子／メチルシリケート（縮合化合物換算）が固形分基準で質量比が４０／６０となるように配合し、全固形分が５％になるようにコーティング材組成物１を調製した。このコーティング材組成物１をガラス（厚み１ｍｍ、屈折率：１．５２）の表面にワイヤーバーコーターによって塗布して厚さ約１００ｎｍの塗膜を形成し、これを８０℃で５分間加熱乾燥して、硬化被膜７を形成し、反射防止基材を得た。
【００５０】
（比較例２）
中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾルに代えてシリカゾル（日産化学工業株式会社製「ＩＰＡ−ＳＴ」、比重２．２、屈折率１．４７）を用い、それ以外の条件は実施例１と同一にして、反射防止基材を得た。
【００５１】
（比較例３）
中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾルに代えてＺｒゾル（シーアイ化成製、比重６．０、屈折率２．２）を用い、それ以外の条件は実施例１と同一にして、反射防止基材を得た。
【００５２】
（比較例4）
紫外線硬化樹脂であるメチルシリケート（Ｓｉ（ＯＣＨ3）4：三菱化学株式会社製「ＭＳ５１」、比重２．２、硬化物４の屈折率１．５０）のみからなるコーティング材組成物１を用い、それ以外の条件は実施例１と同一にして、反射防止基材を得た。
【００５３】
（光学特性評価）
各実施例及び比較例で得られた反射防止基材につき、ヘイズメータ（日本電色工業社製「ＮＤＨ２０００」を使用してヘイズ値を測定した。
【００５４】
また、これらの反射防止基材につき、分光光度計（株式会社日立製作所製「Ｕ−４１００」）を使用して、波長５５０ｎｍでの反射率（最低反射率）を測定した。
【００５５】
以上の結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2009037064.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】（ａ）乃至（ｃ）は本発明の実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１    コーティング材組成物
２    基材
３    低屈折率粒子
４    硬化物
５    湿潤塗膜
６    乾燥塗膜
７    硬化被膜
【図１】
2009037064.tif 000004