(57)【要約】【課題】従来よりも効率よくＤＣスパッタすることができる光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｔｉ２Ｏ３相、Ｔｉ２Ｏ３相およびＣｒが固溶したＴｉ２Ｏ３相、またはＣｒが固溶したＴｉ２Ｏ３相が分散している組織を有することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｔｉ２Ｏ３相が分散している組織を有することを特徴とする光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲット。
【請求項２】
ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｔｉ２Ｏ３相およびＣｒが固溶したＴｉ２Ｏ３相が分散している組織を有することを特徴とする光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲット。
【請求項３】
ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｃｒが固溶したＴｉ２Ｏ３相が分散している組織を有することを特徴とする光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲットに関するものであり、特に光記録媒体における第一界面膜を成膜するためのＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体は、レーザー光入射側から、透明基板、第一保護膜、第一界面膜、記録膜、第二界面膜、第二保護膜、反射膜および保護基板の順に積層された積層体で構成されている。そして、前記第一界面膜はＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を含む酸化物膜からなり、この酸化物膜からなる第一界面膜は、第一界面膜を構成する酸化物膜と同じ成分からなるターゲットを用い、不活性ガス雰囲気中でスパッタリングすることにより成膜するとされている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、この酸化物を含む酸化物膜からなる第一界面膜の具体的なものとしては、Ｔａ２Ｏ５膜、ＺｒＯ２−Ｃｒ２Ｏ３膜、ＺｒＯ２−Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２膜などが例示されており、前記Ｔａ２Ｏ５膜はＴａ２Ｏ５ターゲットを用いてＡｒガス雰囲気中でスパッタリングすることにより成膜し、ＺｒＯ２−Ｃｒ２Ｏ３膜はＺｒＯ２：７０ｍｏｌ％およびＣｒ２Ｏ３：３０ｍｏｌ％からなる成分組成を有するターゲットを用い、Ａｒガス雰囲気中でスパッタリングすることにより成膜し、さらにＺｒＯ２−Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２膜はＺｒＯ２：３５ｍｏｌ％、Ｃｒ２Ｏ３：３０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２：３５ｍｏｌ％からなる成分組成を有するターゲットを用い、Ａｒガス雰囲気中でスパッタリングすることにより成膜することが記載されており、したがって、ＺｒＯ２−Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２膜はＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットを用い、Ａｒガス雰囲気中でスパッタリングすることにより成膜することが示唆されており、このターゲットは原料粉末としてＺｒＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末およびＴｉＯ２粉末を用意し、これら原料粉末をＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するように配合し湿式微粉砕装置を用いて平均粒径：１μｍ以下に粉砕・混合して得られた混合粉末を乾燥し、この混合粉末をカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度：１０００〜１３００℃、圧力：１０〜５０ＭＰａでホットプレスすることにより製造することができる。
【特許文献１】特開２００３−３３８０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の第一界面膜を形成するためのＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲットは比抵抗値が高く、特に、ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットは比抵抗値が１０Ω・ｃｍを越えて高いために効率よくＤＣスパッタを行うことができないという問題点があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで、本発明者らはＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍからなる成分組成を有し比抵抗値の一層低いターゲットを開発すべく研究を行った。
その結果、ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中にＴｉ２Ｏ３相、Ｔｉ２Ｏ３相およびＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相（以下、Ｃｒが固溶したＴｉ２Ｏ３相を「Ｃｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相」という）またはＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相が均一に分散している組織を有するＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系ターゲットは従来のＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系ターゲットに比べて比抵抗が格段に低くなる、という研究結果が得られたのである。
【０００６】
この発明は、かかる研究結果に基づいて成されたものであって、
（１）ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｔｉ２Ｏ３相が分散している組織を有する光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲット、
（２）ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｔｉ２Ｏ３相およびＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相が分散している組織を有する光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
（３）ＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するターゲットの素地中に、Ｃｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相が分散している組織を有する光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
【０００７】
この発明のＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系ターゲットを製造するには、原料粉末として、ＺｒＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末およびＴｉ２Ｏ３粉末を用意し、これら原料粉末をＺｒｑＣｒｒＴｉｍＯ１００−ｑ−ｒ−ｍ（ただし、０＜ｑ＜２０、５＜ｒ＜３０、５＜ｍ＜２０、２０＜ｑ＋ｒ＋ｍ＜６０）からなる成分組成を有するように配合し湿式微粉砕装置を用いて平均粒径：１μｍ以下に粉砕・混合して得られた混合粉末を乾燥し、この混合粉末をカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度：１０００〜１３００℃、圧力：１０〜５０ＭＰａでホットプレスすることにより製造する。ホットプレス温度が低いと、得られたこの発明のＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系ターゲットは素地中にＴｉ２Ｏ３相が分散している組織となるが、ホットプレス温度が高くなると、Ｔｉ２Ｏ３粉末の一部にＣｒ２Ｏ３粉末のＣｒが固溶して素地中にＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相が生成し、このＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相の量はホットプレス温度が高くるほど多くなり、さらにホットプレス温度が高くなると大部分はＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相となる。
【０００８】
この方法により製造したこの発明のＺｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系ターゲットは、酸素または酸素を含む不活性ガス雰囲気中で通常の条件でＤＣスパッタを行うことにより従来と同じ成分組成を有するＴｉＯ２を含む第一界面膜を成膜することができる。
【発明の効果】
【０００９】
この発明の光記録媒体の酸化物膜成膜用Ｚｒ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｏ系スパッタリングターゲットは、従来よりも比抵抗が一層低いので、一層効率よくＤＣスパッタを行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
つぎに、この発明の光記録媒体の酸化物膜成膜用スパッタリングターゲットを実施例により具体的に説明する。
実施例１
原料粉末として、いずれも平均粒径：２μｍを有する市販のＺｒＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、ＴｉＯ2粉末およびＴｉ2Ｏ3粉末を用意した。
これら原料粉末を表１に示される配合組成となるように秤量し、ジルコニアボールミルで１２時間湿式混合した後、得られた混合粉末をカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度：１０００℃、圧力：４０ＭＰａで２時間保持することにより直径：１６０ｍｍ×厚さ：７ｍｍの寸法を有するホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工し、いずれも直径：１５２．４ｍｍ×厚さ：５ｍｍの寸法をもった表１に示される成分組成を有し素地中にＴｉ２Ｏ３相が均一分散した組織を有する本発明ターゲット１〜４および従来ターゲット１〜４を作製した。
【００１１】
これら本発明ターゲット１〜４および従来ターゲト１〜４について四探針抵抗測定装置ロレスター（三菱化学製）を用いて比抵抗を測定し、その結果を表１に示した。
【００１２】
【表１】
2009270148.tif 000002
【００１３】
表１に示される結果から、本発明ターゲット１は従来ターゲット１に比べて比抵抗が格段に低いことから、本発明ターゲット１は従来ターゲット１に比べて一層効率よくＤＣスパッタを行うことができることがわかる。同様にして本発明ターゲット２〜４は、それぞれ従来ターゲット２〜４に比べて比抵抗が格段に低いことから本発明ターゲット２〜４は従来ターゲット２〜４に比べて一層効率よくＤＣスパッタを行うことができることがわかる。
【００１４】
実施例２
原料粉末として、いずれも平均粒径：２μｍを有する市販のＺｒＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、ＴｉＯ2粉末およびＴｉ2Ｏ3粉末を用意した。
これら原料粉末を表２に示される配合組成となるように秤量し、ジルコニアボールミルで１２時間湿式混合した後、得られた混合粉末をカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：４０ＭＰａで２時間保持することにより直径：１６０ｍｍ×厚さ：７ｍｍの寸法を有するホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工し、いずれも直径：１５２．４ｍｍ×厚さ：５ｍｍの寸法をもった表２に示される成分組成を有し、素地中にＴｉ２Ｏ３相およびＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相が分散している組織を有する本発明ターゲット５〜９および従来ターゲット５〜９を作製した。
【００１５】
これら本発明ターゲット５〜９および従来ターゲト５〜９について四探針抵抗測定装置ロレスター（三菱化学製）を用いて比抵抗を測定し、その結果を表２に示した。
【００１６】
【表２】
2009270148.tif 000003
【００１７】
表２に示される結果から、本発明ターゲット５は従来ターゲット５に比べて比抵抗が格段に低いことから、本発明ターゲット５は従来ターゲット５に比べて一層効率よくＤＣスパッタを行うことができることがわかる。同様にして本発明ターゲット６〜９は、それぞれ従来ターゲット６〜９に比べて比抵抗が格段に低いことから本発明ターゲット６〜９はそれぞれ従来ターゲット６〜９に比べて一層効率よくＤＣスパッタを行うことができることがわかる。
【００１８】
実施例３
原料粉末として、いずれも平均粒径：２μｍを有する市販のＺｒＯ２粉末、Ｃｒ２Ｏ３粉末、ＴｉＯ2粉末およびＴｉ2Ｏ3粉末を用意した。
これら原料粉末を表３に示される配合組成となるように秤量し、ジルコニアボールミルで１２時間湿式混合した後、得られた混合粉末をカーボンモールドに充填し、真空雰囲気中、温度：１３００℃、圧力：４０ＭＰａで２時間保持することにより直径：１６０ｍｍ×厚さ：７ｍｍの寸法を有するホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工し、いずれも直径：１５２．４ｍｍ×厚さ：５ｍｍの寸法をもった表３に示される成分組成を有し、素地中にＣｒ固溶Ｔｉ２Ｏ３相が分散している組織を有する本発明ターゲット１０〜１２およびＣｒ固溶ＴｉＯ２相が分散している組織を有する従来ターゲット１０〜１２を作製した（ホットプレス温度が１３００℃になるとＴｉＯ２相にもＣｒが固溶するようになる）。
【００１９】
これら本発明ターゲット１０〜１２および従来ターゲト１０〜１２について四探針抵抗測定装置ロレスター（三菱化学製）を用いて比抵抗を測定し、その結果を表３に示した。
【００２０】
【表３】
2009270148.tif 000004
【００２１】
表３に示される結果から、本発明ターゲット１０は従来ターゲット１０に比べて比抵抗が格段に低いことから、本発明ターゲット１０は従来ターゲット１０に比べて一層効率よくＤＣスパッタを行うことができることがわかる。同様にして本発明ターゲット１１〜１２は、それぞれ従来ターゲット１１〜１２に比べて比抵抗が格段に低いことから、本発明ターゲット１１〜１２はそれぞれ従来ターゲット１１〜１２に比べて一層効率よくＤＣスパッタを行うことができることがわかる。