(57)【要約】【課題】高精細／高輝度型のＰＤＰの製造工程において発生したリブ欠け欠陥も容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。【解決手段】この欠陥修正方法では、リブ欠け欠陥３６に修正ペースト１０を塗布する前にリブ欠け欠陥３６を整形し、リブ欠け欠陥３６に塗布した修正ペースト１０がリブ３４の横に垂れないように、リブ欠け欠陥３６の底部の幅方向の傾きを緩和させる。したがって、垂れた修正ペースト１０をスクラッチ針で除去する必要がないので、リブ間の隙間が小さな高精細／高輝度型のＰＤＰの製造工程で発生したリブ欠け欠陥３６も容易に修正できる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布して修正する欠陥修正方法において、
前記リブ欠け欠陥に前記修正ペーストを塗布する前に前記リブ欠け欠陥を整形する工程を含み、この工程では、前記リブ欠け欠陥に塗布した前記修正ペーストが前記リブの横に垂れないように、前記リブ欠け欠陥の底部の幅方向の傾きを緩和させることを特徴とする、欠陥修正方法。
【請求項２】
前記リブ欠け欠陥の底部にレーザ光を照射することによって前記リブ欠け欠陥を整形することを特徴とする、請求項１に記載の欠陥修正方法。
【請求項３】
炭酸ガスレーザから出射されたレーザ光を前記リブ欠け欠陥の底部に照射することを特徴とする、請求項２に記載の欠陥修正方法。
【請求項４】
前記リブ欠け欠陥の底部に機械加工を施すことによって前記リブ欠け欠陥を整形することを特徴とする、請求項１に記載の欠陥修正方法。
【請求項５】
回転砥石またはエンドミルを使用して前記機械加工を施すことを特徴とする、請求項４に記載の欠陥修正方法。
【請求項６】
前記修正ペーストの粘度は１００Ｐａｓ以上であることを特徴とする、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の欠陥修正方法。
【請求項７】
基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布して修正する欠陥修正装置において、
前記リブ欠け欠陥に前記修正ペーストを塗布する前に前記リブ欠け欠陥を整形する整形手段を備え、この整形手段は、前記リブ欠け欠陥に塗布した前記修正ペーストが前記リブの横に垂れないように、前記リブ欠け欠陥の底部の幅方向の傾きを緩和させることを特徴とする、欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は欠陥修正方法および欠陥修正装置に関し、特に、基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布して修正する欠陥修正方法および欠陥修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）の構成を示す組立て分解図である。図４において、このＰＤＰは、前面ガラス基板３０および背面ガラス基板３１を含む。前面ガラス基板３０の裏面には、複数のバス電極３２が所定のピッチで形成され、背面基板３１の表面には、複数のアドレス電極３３が所定のピッチで形成されている。また、複数のアドレス電極３３の各間および両側には所定寸法のリブ（隔壁）３４が形成され、複数のリブ３４の各谷間はＲ，ＧまたはＢの蛍光体層３５で被覆されている。
【０００３】
バス電極３２とアドレス電極３３が直交するようにして、前面ガラス基板３０と背面ガラス基板３１とがリブ３４を介して固着される。これにより、バス電極３２とアドレス電極３３の各交差部にセルと呼ばれる放電空間が形成される。複数のバス電極３２と複数のアドレス電極３３に選択的に電圧を印加すると、各セルが選択的に放電発光し、ＰＤＰには、１枚の画像が表示される。
【０００４】
このようなＰＤＰの製造工程においては、図５に示すように、リブ３４の一部が欠けたリブ欠け欠陥３６が発生する場合がある。リブ欠け欠陥３６を放置したままでパネルを形成すると、パネル点灯時に滅点や輝度の暗い点が発生して画質が著しく低下する。その一方、リブ欠け欠陥３６が発生した背面ガラス基板３１を全て廃棄すると、パネルの歩留りが低下してしまう。
【０００５】
そこで、リブ欠け欠陥３６に修正ペーストを塗布して修正する方法が提案された（たとえば特許文献１参照）。この欠陥修正方法では、塗布針を用いて修正ペーストをリブ欠け欠陥３６に塗布し、塗布した修正ペーストのうちのリブ３４の幅方向にはみ出た余分な修正ペーストをスクラッチ針を用いて除去し、高さ方向にはみ出た余分な修正ペーストをスキージング機構を用いて除去した後、修正ペースト部にレーザ光を照射して焼成する。
【特許文献１】特開２０００−２９９０５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、ＰＤＰの高精細化および高輝度化が進められている。ＰＤＰの高精細化を図るためには、リブ３４を含めた画素のサイズを小さくする必要がある。しかし、そのような画素サイズが小さなＰＤＰの製造工程でリブ欠け欠陥３６が発生した場合、リブ欠け欠陥３６に塗布した修正ペーストがリブ３４の横に垂れたときでも、リブ３４間の隙間が小さいのでスクラッチ針を挿入することができず、リブ欠け欠陥３６を修正できない可能性がある。
【０００７】
また、ＰＤＰの高輝度化を図るためには、図６に示すように、従来からのストライプ型のリブ３４を格子型のリブ３７に変更するなどの工夫が必要となる。しかし、そのような格子型のリブ３７の製造工程においてリブ欠け欠陥３６が発生した場合、リブ欠け欠陥３６に塗布した修正ペーストがリブ３７の横に垂れたときでも、リブ３７で囲まれた画素内でスクラッチ針を移動させることができず、リブ欠け欠陥３６を修正できない可能性がある。
【０００８】
それゆえに、この発明の主たる目的は、高精細／高輝度型のＰＤＰの製造工程において発生したリブ欠け欠陥も容易に修正することが可能な欠陥修正方法および欠陥修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係る欠陥修正方法は、基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布して修正する欠陥修正方法において、リブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布する前にリブ欠け欠陥を整形する工程を含み、この工程では、リブ欠け欠陥に塗布した修正ペーストがリブの横に垂れないように、リブ欠け欠陥の底部の幅方向の傾きを緩和させることを特徴とする。
【００１０】
好ましくは、リブ欠け欠陥の底部にレーザ光を照射することによってリブ欠け欠陥を整形する。
【００１１】
また好ましくは、炭酸ガスレーザから出射されたレーザ光をリブ欠け欠陥の底部に照射する。
【００１２】
また好ましくは、リブ欠け欠陥の底部に機械加工を施すことによってリブ欠け欠陥を整形する。
【００１３】
また好ましくは、回転砥石またはエンドミルを使用して機械加工を施す。
また好ましくは、修正ペーストの粘度は１００Ｐａｓ以上である。
【００１４】
また、この発明に係る欠陥修正装置は、基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布して修正する欠陥修正装置において、リブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布する前にリブ欠け欠陥を整形する整形手段を備え、この整形手段は、リブ欠け欠陥に塗布した修正ペーストがリブの横に垂れないように、リブ欠け欠陥の底部の幅方向の傾きを緩和させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
この発明に係る欠陥修正方法および欠陥修正装置では、リブ欠け欠陥に修正ペーストを塗布する前にリブ欠け欠陥を整形し、リブ欠け欠陥に塗布した修正ペーストがリブの横に垂れないように、リブ欠け欠陥の底部の幅方向の傾きを緩和させる。したがって、リブ欠け欠陥に塗布した修正ペーストがリブの横に垂れるのを防止することができるので、高精細／高輝度型のＰＤＰの製造工程において発生したリブ欠け欠陥も容易に修正することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、この発明の一実施の形態による欠陥修正装置の全体構成を示す斜視図である。図１において、この欠陥修正装置は、修正対象となるＰＤＰ用の背面ガラス基板３１がその表面に載置され、背面ガラス基板３１と平行な図中Ｙ方向に移動するＹテーブル１と、背面ガラス基板３１と垂直な図中Ｚ方向に移動するＺテーブル２と、このＺ軸テーブル２を搭載して背面ガラス基板３１と平行でＹ方向と直交する図中Ｘ方向に移動するＸテーブル３とを備える。
【００１７】
Ｚテーブル２には、背面ガラス基板３１の表面に形成されたリブ３４の欠陥を観察するための観察機構４と、リブ欠け欠陥３６に塗布針を用いて修正ペーストを塗布する塗布機構５と、塗布した修正ペーストからなる修正部にレーザ光を照射して焼成させる焼成機構６と、リブ３４上にはみ出した修正ペーストを研磨テープを用いて除去するテープ研磨装置を含む機械的加工機構７とが設けられている。観察機構４、塗布機構５、焼成機構６、および機械的加工機構７は、修正ヘッドを構成する。
【００１８】
観察機構４は、複数の対物レンズとそれらのうちのいずれか１つを選択するレボルバとを含む顕微鏡と、ＣＣＤカメラからなる。塗布機構５は、塗布針と、塗布針を上下に駆動させるアクチュエータと、修正ペーストのタンクなどを含む。焼成機構６は、塗布した修正ペーストにレーザ光を照射して焼成させる他、修正ペーストを塗布する前にリブ欠け欠陥３６の底部にレーザ光を照射して底部の傾斜を緩和させる。機械的加工機構７は、テープ研磨装置に限るものではなく、回転砥石で研磨したり、エンドミルで切削するものでもよい。
【００１９】
Ｚテーブル２は、背面ガラス基板３１に垂直なＺ方向において基板３１と修正ヘッドの相対位置決めを行なうことにより、観察機構４の焦点調整を行なったり、塗布機構５のＺ方向の位置決めを行なったり、機械的加工機構７の研磨テープをリブ３４の上面に接触させるために使用される。Ｘテーブル３およびＹテーブル１は、背面ガラス基板３１に平行なＸＹ平面内において、基板３１と修正ヘッドの相対位置決めを行なうために使用される。テーブル１〜３の各々は、モータ、ボールねじなどにより駆動される。
【００２０】
なお、背面ガラス基板３１と観察機構４などを含む修正ヘッドとを相対的に位置決めするテーブル１〜３の構成は図１に示したものに限定されるものではない。たとえば、ＺテーブルはＸＹ方向に静止し、基板３１がＸＹ方向に移動する構成でもよいし、静止した基板３１に対してＺテーブルがＸＹ方向に移動する構成でもよい。また、全機構４〜７を１つのＺテーブル２に搭載してもよいが、複数のＺテーブルに分割して搭載してもよい。
【００２１】
次に、この欠陥修正装置を用いてリブ欠け欠陥３６を修正する方法について説明する。まず、テーブル１〜３を制御し、図２（ａ）に示すように、リブ欠け欠陥３６の上方に焼成機構６に含まれるレーザ８を配置する。レーザ８としては、炭酸ガスレーザを用いることが好ましい。次に、レーザ８からリブ欠け欠陥３６の底部にレーザ光を照射し、図２（ａ）（ｂ）に示すように、斜めに傾いた底部を溶融させて傾きを緩和させる。
【００２２】
次いで、テーブル１〜３を制御して塗布機構５をリブ欠け欠陥３６の上方に配置する。この状態で塗布機構５を制御し、図２（ｂ）に示すように、先端に修正ペースト１０が付着した塗布針９をリブ欠け欠陥３６の上方に配置し、塗布針９を上下動させて修正ペースト１０をリブ欠け欠陥３６の底部に塗布する。このとき、レーザ整形によってリブ欠け欠陥３６の底部の傾きが緩和されているので、図２（ｃ）に示すように、修正ペースト１０はリブ欠け欠陥３６の底部の上に保持され、リブ３４の横に垂れることはない。液垂れを抑制するためには、１００Ｐａｓ以上の高粘度の修正ペースト１０を使用することが好ましい。
【００２３】
次に、テーブル１〜３を制御して、焼成機構６に含まれるレーザ８をリブ欠け欠陥３６の上方に配置し、リブ欠け欠陥３６に塗布された修正ペースト１０にレーザ光を照射して焼成させる。１回の塗布でリブ欠け欠陥３６に修正ペースト１０を充填できない場合は、複数回に分けて塗布および焼成を行なえばよい。修正ペースト１０を塗布する毎にレーザ光を照射して焼成してもよいし、修正ペースト１０を複数回塗布した後に焼成を１回行なってもよい。
【００２４】
次いで、テーブル１〜３を制御して機械的加工機構７をリブ欠け欠陥３６の上方に配置し、機械的加工機構７を制御して、リブ欠け欠陥３６に塗布した修正ペースト１０のうちの正常なリブ３４の上面よりも上にはみ出た部分を研磨テープで研磨して除去する。これにより、リブ欠け欠陥３６の修正を終了する。
【００２５】
図３（ａ）（ｂ）は、この実施の形態の比較例を示す図であって、図２（ａ）〜（ｃ）と対比される図である。図３（ａ）（ｂ）に示すように、リブ欠け欠陥３４の底部が幅方向に斜めに傾いている場合に修正ペースト１０を塗布すると、修正ペースト１０がリブ３４の横に垂れてしまう。横に垂れた余分な修正ペースト１０はスクラッチ針で除去すればよいが、上述のように、高精細／高輝度型のＰＤＰでは、スクラッチ針を用いて余分な修正ペースト１０を除去できない可能性がある。
【００２６】
これに対して本願発明では、リブ欠け欠陥３４の底部を平坦に整形してから修正ペースト１０を塗布するので、修正ペースト１０が横に垂れることがない。したがって、リブ３４間の隙間が小さな高精細型のＰＤＰや、複雑な形状のリブ３７を有する高輝度型のＰＤＰの製造工程において発生したリブ欠け欠陥３６も容易に修正することができる。
【００２７】
なお、上記実施の形態では、レーザ光を照射することによってリブ欠け欠陥３６の底部を整形したが、回転砥石あるいはエンドミルを用いてリブ欠け欠陥３６の底部を平坦に整形してもよい。
【００２８】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】この発明の一実施の形態による欠陥修正装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示した欠陥修正装置を用いてリブ欠け欠陥を修正する方法を示す図である。
【図３】実施の形態の比較例を示す図である。
【図４】ＰＤＰの構成を示す組立て分解図である。
【図５】図４に示したＰＤＰの製造工程で発生したリブ欠け欠陥を示す図である。
【図６】従来の欠陥修正方法の問題点を説明するための図である。
【符号の説明】
【００３０】
１  Ｙテーブル、２  Ｚテーブル、３  Ｘテーブル、４  観察機構、５  塗布機構、６  焼成機構、７  機械的加工機構、８  レーザ、９  塗布針、１０  修正ペースト、３０  前面ガラス基板、３１  背面ガラス基板、３２  バス電極、３３  アドレス電極、３４，３７  リブ、３５  蛍光体層、３６  リブ欠け欠陥。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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