(57)【要約】【課題】一方の基板上に裏面導電膜が形成される液晶表示装置において、裏面導電膜に基準電位を確実に供給する。【解決手段】第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、前記第１基板は、前記第１基板上に設けられ導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されるパッド電極と、前記第１基板上で前記パッド電極よりも下の層に形成される導電膜と、前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、前記パッド電極と前記導電膜とを接続する少なくとも１個のコンタクトホールとを有する。前記第１基板の前記導電膜は、金属膜、あるいは、透明導電膜である。【選択図】図１
2009036794.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、
前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、
前記第１基板は、前記第１基板上に設けられ導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されるパッド電極と、
前記第１基板上で前記パッド電極よりも下の層に形成される導電膜と、
前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、
前記パッド電極と前記導電膜とを接続する少なくとも１個のコンタクトホールとを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記少なくとも１個のコンタクトホールは、前記第２基板により覆われていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１基板の前記導電膜は、金属膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１基板の前記導電膜は、透明導電膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、
前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、
前記第１基板は、前記第１基板上に設けられ導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されるパッド電極と、
前記第１基板上で前記パッド電極よりも下の層に形成される第１導電膜と、
前記第１基板上で前記第１の導電膜よりも下の層に形成される第２導電膜と、
前記第２導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、
前記パッド電極と前記第１導電膜とを接続するコンタクト部と、
前記パッド電極と前記第２導電膜とを接続する少なくとも１個の第１コンタクトホールとを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記コンタクト部は、前記パッド電極と前記第２導電膜とを接続する少なくとも１個の第２コンタクトホールと、
前記パッド電極と前記第１導電膜とを接続する少なくとも１個の第３コンタクトホールとを有することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記少なくとも１個の第１コンタクトホールは、前記第２基板により覆われていることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１導電膜は、透明導電膜であり、
前記第２導電膜は、金属膜であることを特徴とする請求項５ないし請求項７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、
前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、
前記第１基板は、前記第１基板の表面よりも下の層に形成される導電膜と、
前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、
前記導電膜を露出する開口部とを有し、
前記導電膜は、前記開口部内で導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
前記開口部の一部は、前記第２基板により覆われていることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１基板の前記導電膜は、金属膜であることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１基板の前記導電膜は、透明導電膜であることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、
前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、
前記第１基板は、前記第１基板の表面よりも下の層に形成される導電膜と、
前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、
前記導電膜を露出する開口部と、
前記第１基板上に設けられ、前記開口部を覆うパッド電極とを有し、
前記パッド電極は、前記開口部内で前記導電膜と接続されるとともに、前記開口部内で導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
前記開口部の一部は、前記第２基板により覆われていることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１基板の前記導電膜は、金属膜であることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第１基板の前記導電膜は、透明導電膜であることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第１基板の前記パッド電極と前記第１基板の前記透明導電膜との間に、窒化シリコン膜を有することを特徴とする請求項４、請求項８、または請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記パッド電極と前記基準電圧端子とを接続する第２接続配線を有することを特徴とする請求項１ないし請求項８、あるいは、請求項１３ないし請求項１７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記パッド電極は、透明導電膜であることを特徴とする請求項１ないし請求項８、あるいは、請求項１３ないし請求項１８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、一方の基板上に裏面側透明導電膜が形成される液晶表示装置に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置として、ＩＰＳ（In Plane Switching)方式の液晶表示装置が知られており、このＩＰＳ方式の液晶表示装置では、画素電極と対向電極とを同じ基板上に形成し、その間に電界を印加させ液晶を基板平面内で回転させることにより、明暗のコントロールを行っている。そのため、斜めから画面を見た際に表示像の濃淡が反転しないという特徴を有する。
ＩＰＳ方式の液晶表示パネルは、ＴＮ方式の液晶表示パネルやＶＡ方式の液晶表示パネルのように、カラーフィルタが設けられる基板上に対向電極が存在しない。そのため、表示ノイズを低減する等の理由により、カラーフィルタ等が設けられる基板上に裏面側透明導電膜が形成されている。（下記、特許文献１参照）
この裏面側透明導電膜は、薄膜トランジスタ等が形成される基板上に形成されたＧＮＤパッド電極と導電性部材により電気的に接続される。そして、ＧＮＤパッド電極は、フレキシブル配線基板のＧＮＤ端子に接続されるので、裏面側透明導電膜には、ＧＮＤの基準電圧が供給される。
【０００３】
なお、本願発明に関連する先行技術文献としては以下のものがある。
【特許文献１】特開平９−１０５９１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述したＧＮＤパッド電極と、ＧＮＤパッド電極とフレキシブル配線基板のＧＮＤ端子とを接続するＧＮＤ配線とは、絶縁膜上に形成される。
しかしながら、従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の構造では、絶縁膜の応力により、ＧＮＤパッド電極、あるいは、ＧＮＤ配線にクラックが生じ、裏面側透明導電膜と、フレキシブル配線基板のＧＮＤ端子との間の導通（接続）不良が発生する場合があった。
本発明は、前記従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、一方の基板上に裏面導電膜が形成される液晶表示装置において、裏面導電膜に基準電位を確実に供給することが可能となる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかにする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
（１）第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、前記第１基板は、前記第１基板上に設けられ導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されるパッド電極と、前記第１基板上で前記パッド電極よりも下の層に形成される導電膜と、前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、前記パッド電極と前記導電膜とを接続する少なくとも１個のコンタクトホールとを有する。
（２）（１）において、前記少なくとも１個のコンタクトホールは、前記第２基板により覆われている。
（３）（１）または（２）において、前記第１基板の前記導電膜は、金属膜である。
（４）（１）または（２）において、前記第１基板の前記導電膜は、透明導電膜である。
【０００６】
（５）第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、前記第１基板は、前記第１基板上に設けられ導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続されるパッド電極と、前記第１基板上で前記パッド電極よりも下の層に形成される第１導電膜と、前記第１基板上で前記第１の導電膜よりも下の層に形成される第２導電膜と、前記第２導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、前記パッド電極と前記第１導電膜とを接続するコンタクト部と、前記パッド電極と前記第２導電膜とを接続する少なくとも１個の第１コンタクトホールとを有する。
（６）（５）において、前記コンタクト部は、前記パッド電極と前記第２導電膜とを接続する少なくとも１個の第２コンタクトホールと、前記パッド電極と前記第１導電膜とを接続する少なくとも１個の第３コンタクトホールとを有する。
（７）（５）または（６）において、前記少なくとも１個の第１コンタクトホールは、前記第２基板により覆われている。
（８）（５）ないし（７）の何れかにおいて、前記第１導電膜は、透明導電膜であり、前記第２導電膜は、金属膜である。
【０００７】
（９）第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、前記第１基板は、前記第１基板の表面よりも下の層に形成される導電膜と、前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、前記導電膜を露出する開口部とを有し、前記導電膜は、前記開口部内で導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続される。
（１０）（９）において、前記開口部の一部は、前記第２基板により覆われている。
（１１）（９）または（１０）において、前記第１基板の前記導電膜は、金属膜である。
（１２）（９）または（１０）において、前記第１基板の前記導電膜は、透明導電膜である。
【０００８】
（１３）第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持される液晶とを有する液晶表示装置であって、前記第２基板は、前記液晶と反対側の面に裏面導電膜を有し、前記第１基板は、前記第１基板の表面よりも下の層に形成される導電膜と、前記導電膜と基準電圧端子とを接続する第１接続配線と、前記導電膜を露出する開口部と、前記第１基板上に設けられ、前記開口部を覆うパッド電極とを有し、前記パッド電極は、前記開口部内で前記導電膜と接続されるとともに、前記開口部内で導電性部材を介して前記裏面導電膜と電気的に接続される。
（１４）（１３）において、前記開口部の一部は、前記第２基板により覆われている。
（１５）（１３）または（１４）において、前記第１基板の前記導電膜は、金属膜である。
（１６）（１３）または（１４）において、前記第１基板の前記導電膜は、透明導電膜である。
（１７）（４）、（８）、（１６）において、前記第１基板の前記パッド電極と前記第１基板の前記透明導電膜との間に、窒化シリコン膜を有する。
（１８）（１）ないし（８）、あるいは、（１３）ないし（１７）の何れかにおいて、前記パッド電極と前記基準電圧端子とを接続する第２接続配線を有する。
（１９）（１）ないし（８）、あるいは、（１３）ないし（１８）の何れかにおいて、前記パッド電極は、透明導電膜である。
【発明の効果】
【０００９】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである。
本発明によれば、一方の基板上に裏面導電膜が形成される液晶表示装置において、裏面導電膜に基準電位を確実に供給することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
［実施例１］
図１は、本発明の実施例１の液晶表示装置の概略構成を示す平面図であり、図２は、本発明の実施例１の液晶表示装置の概略構成を示す側面図である。本実施例の液晶表示装置は、携帯電話機等の表示部として使用される、小型のＴＦＴ方式の液晶表示装置である。
図１、図２に示すように、本実施例の液晶表示パネルは、画素電極、薄膜トランジスタ等が設けられた第１基板（以下、ＴＦＴ基板という。）１２と、カラーフィルタ等が形成される第２基板（以下、ＣＦ基板という。）１１とを、所定の間隙を隔てて重ね合わせ、該両基板間の周縁部近傍に枠状に設けたシール材により、両基板を貼り合わせると共に、シール材の一部に設けた液晶封入口から両基板間のシール材の内側に液晶を封入、封止し、さらに、両基板の外側に偏光板を貼り付けて構成される（一部図示省略）。このように、本実施例の液晶表示装置では、液晶が一対の基板の間に挟持された構造となっている。
また、ＴＦＴ基板１２は、ＣＦ基板１１よりも大きな面積を有し、ＴＦＴ基板１２の、ＣＦ基板１１と対向しない領域には、薄膜トランジスタを駆動するドライバを構成する半導体チップ（図示せず）が実装され、さらに、当該領域の一辺の周辺部には、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）が実装される。
【００１１】
ＩＰＳ方式の液晶表示パネルは、ＴＮ方式の液晶表示パネルやＶＡ方式の液晶表示パネルとは異なり、カラーフィルタが設けられるＣＦ基板１１上に対向電極（ＣＴ）が存在しない。そのため、表示ノイズを低減する等の理由により、図２に示すように、ＣＦ基板１１の外側には、裏面側透明導電膜（ＣＤ）が形成されている。なお、図２に示すように、この裏面側透明導電膜（ＣＤ）の上には偏光板（ＰＯＬ）が形成される。
この裏面側透明導電膜（ＣＤ）は、図１、図２に示すように、例えば、導電性樹脂膜などから成る導電性部材１４により、ＴＦＴ基板１２上に形成されたＧＮＤパッド電極１５と電気的に接続される。なお、このＧＮＤパッド電極１５は、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）に接続される。そして、ＧＮＤ端子は、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）側のＧＮＤ端子に接続されるので、裏面側透明導電膜（ＣＤ）には、ＧＮＤの基準電圧が供給される。
【００１２】
図１１は、従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５の構成を示す平面図であり、図１２は、従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５の断面構造を示す断面図である。
なお、図１２、および、後述する図４、図５、図６、図８、図１０において、ＰＡＳ１〜ＰＡＳ３は、層間絶縁膜であり、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）、および層間絶縁膜（ＰＡＳ３）は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜で構成され、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）は、光硬化性高分子膜で構成される。また、ＳＵＢは、例えば、ガラス基板やプラスチック基板などの透明な基板である。さらに、図１１、および、後述する図３、図７、図９において、１９は、ＣＦ基板１１の縁（あるいは、ブラックマトリクス（ＢＭ）の縁）である。
図１１に示すように、従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５は、矩形形状の透明電極であり、このＧＮＤパッド電極１５は、例えば、ＩＴＯ等で形成される。また、ＧＮＤパッド電極１５は、ＧＮＤ配線２０により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。
ここで、図１２に示すように、前述したＧＮＤパッド電極１５と、ＧＮＤ配線２０とは、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）上に形成される。
しかしながら、前述したように、従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の構造では、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）の応力により、図１１のＡに示すようにＧＮＤパッド電極１５、あるいは、図１１のＢに示すようにＧＮＤ配線２０にクラックが生じ、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子との間の導通（接続）不良が発生する場合があった。
【００１３】
図３は、本実施例の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５の構成を示す平面図であり、図４は、図３に示すＡ−Ａ'切断線に相当する部分の断面構造を示す断面図であり、図５は、図３に示すＢ−Ｂ'切断線に相当する部分の断面構造を示す断面図であり、図６は図３に示すＣ−Ｃ’切断線に相当する部分の断面構造を示す断面図である。
図３に示すように、本実施例の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５も、矩形形状の透明電極であり、このＧＮＤパッド電極１５は、例えば、ＩＴＯ等で形成される。また、ＧＮＤパッド電極１５は、ＧＮＤ配線２０により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。
本実施例では、基板（ＳＵＢ）上に形成される金属膜１７と、ＧＮＤ配線２１とを有する。金属膜１７は、細長い帯状の形状を有するとともに、ＧＮＤ配線２１により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。なお、金属膜１７とＧＮＤ配線２１は、例えば、Ａｌ、あるいは、Ａｌ合金などで形成される。
図４に示すように、金属膜１７は、コンタクトホール１６ａにより、ＧＮＤパッド電極１５と電気的に接続される。なお、図３では、コンタクトホール１６ａは、５個形成した場合を図示しているが、少なくとも１個あればよい。
図４では、コンタクトホール１６ａを、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）の穴（１６ａ１）と、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）および層間絶縁膜（ＰＡＳ３）の穴（１６ａ２）２個で形成した場合を示している。なお、穴（１６ａ２）は、少なくとも１個あればよい。
本実施例において、コンタクトホール１６ａは、金属膜１７とＧＮＤパッド電極１５とを電気的に接続するために形成されるものであり、したがって、コンタクトホール１６ａは、１個でもよいが、複数個形成することにより冗長性を向上させることが可能である。
また、図４に示すように、コンタクトホール１６ａが形成される領域では、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）が除去され（１６ａ１）、穴１６ａ２は、ＰＡＳ１とＰＡＳ３の層間絶縁膜に形成される。
【００１４】
さらに、本実施例では、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）上に形成され、細長い帯状の形状の透明導電膜１８を有する。なお、透明導電膜１８は、例えば、ＩＴＯ等で形成され、対向電極（ＣＴ）と同一工程で形成される。
図５に示すように、透明導電膜１８は、コンタクトホール１６ｂにより、ＧＮＤパッド電極１５と電気的に接続される。図５では、コンタクトホール１６ｂは、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）の２つの穴（１６ｂ２）で形成しているが、穴（１６ｂ２）は、少なくとも１個あればよい。
そして、ＧＮＤパッド電極１５は、コンタクトホール１６ａにより、金属膜１７に接続される。なお、図３では、コンタクトホール１６ｂは、５個形成した場合を図示している。
本実施例において、コンタクトホール１６ｂは、透明導電膜１８とＧＮＤパッド電極１５とを電気的に接続するために、また、コンタクトホール１６ａは、ＧＮＤパッド電極１５と金属膜１７とを電気的に接続するために形成されるものであり、したがって、１６ａ，１６ｂのコンタクトホールは、１個でもよいが、複数個形成することにより冗長性を向上させることが可能である。また、図５に示すように、コンタクトホール１６ｂは、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）に形成される。
図６は、図３のＣ−Ｃ’切断線の断面を示す図であり、図３の点線枠２３で囲ったコンタクト部を示している。透明導電膜１８と金属膜１７とは、コンタクトホール１６ｂ、ＧＮＤパッド電極１５、コンタクトホール１６ａを介して電気的に接続されている。
【００１５】
本実施例では、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）の応力により、図１１のＡに示すようにＧＮＤパッド電極１５、あるいは、図１１のＢに示すようにＧＮＤ配線２０にクラックが生じたとしても、金属膜１７およびＧＮＤ配線２１により、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子とは電気的に接続されるので、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子との間の導通（接続）不良が発生するのを防止することが可能となる。
また、本実施例において、金属膜１７は、ＴＦＴ基板１２とＣＦ基板１１とが対向する領域内に形成することができるので、外観上、金属膜１７を見えなくすることができる。
なお、本実施例において、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子とは、金属膜１７およびＧＮＤ配線２１により電気的に接続されるので、ＧＮＤ配線２０は必ずしも必要がないが、２０と２１のＧＮＤ配線を形成することにより、より冗長性を向上させることが可能となる。
同様に、透明導電膜１８も必ずしも必要がないが、透明導電膜１８、コンタクトホール１６ｂ、およびコンタクト部２３（例えば、図６のように）を形成することにより、より冗長性を向上させることが可能となる。
さらに、金属膜１７に代えて、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）上に形成される透明導電膜を用いることも可能である。
【００１６】
［実施例２］
図７は、本発明の実施例２の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５の構成を示す平面図であり、図８は、本発明の実施例２の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の断面構造を示す断面図である。
図７に示すように、本実施例の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５も、矩形形状の透明電極であり、このＧＮＤパッド電極１５は、例えば、ＩＴＯ等で形成される。また、ＧＮＤパッド電極１５は、ＧＮＤ配線２０により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。
本実施例では、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）上に形成される透明導電膜１８と、ＧＮＤ配線２２とを有する。透明導電膜１８は、ＧＮＤ配線２２により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。なお、透明導電膜１８およびＧＮＤ配線２２は、例えば、ＩＴＯ等で形成され、対向電極（ＣＴ）と同一工程で形成される。
本実施例では、透明導電膜１８も矩形形状とされ、透明導電膜１８は、ＧＮＤパッド電極１５とほぼ同等の面積とされる。なお、透明導電膜１８の面積は、ＧＮＤパッド電極１５の面積に対して８０〜１２０％の範囲が望ましい。
さらに、本実施例では、透明導電膜１８の大部分（８０％以上が望ましい）を露出する開口部２５が、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）に形成される。ＧＮＤパッド電極１５は、この開口部２５を覆うように形成される。
【００１７】
したがって、本実施例では、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）の応力により、図１１のＡに示すようにＧＮＤパッド電極１５、あるいは、図１１のＢに示すようにＧＮＤ配線２０にクラックが生じることがないので、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子との間の導通（接続）不良が発生するのを防止することが可能となる。
なお、本実施例において、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子とは、透明導電膜１８およびＧＮＤ配線２２により電気的に接続されるので、ＧＮＤ配線２０は必ずしも必要がないが、２０と２２のＧＮＤ配線を形成することにより、より冗長性を向上させることが可能となる。
さらに、本実施例では、ＧＮＤパッド電極１５がない場合でも、開口部２５内に充填した導電性部材１４により、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、透明導電膜１８とを電気的に接続することができるので、ＧＮＤパッド電極１５も必ずしも必要がない。しかしながら、開口部２５内にゴミなど入り、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、透明導電膜１８との接続不良が発生するのを防止するために、開口部２５を覆うように、ＧＮＤパッド電極１５を形成するのが好ましい。なお、この透明導電膜１８は、細長い帯状の形状であってもよい。
【００１８】
［実施例３］
図９は、本発明の実施例３の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５の構成を示す平面図であり、図１０は、本発明の実施例３の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の断面構造を示す断面図である。
図９に示すように、本実施例の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極１５も、矩形形状の透明電極であり、このＧＮＤパッド電極１５は、例えば、ＩＴＯ等で形成される。また、ＧＮＤパッド電極１５は、ＧＮＤ配線２０により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。
本実施例では、基板（ＳＵＢ）上に形成される金属膜１７と、ＧＮＤ配線２１とを有する。金属膜１７は、ＧＮＤ配線２１により、ＴＦＴ基板１２におけるＣＦ基板１１と対向しない領域の一辺の周辺部に形成されたＧＮＤ端子（図示せず）と接続される。なお、金属膜１７およびＧＮＤ配線２１は、例えば、Ａｌ、あるいは、Ａｌ合金などで形成される。
本実施例では、金属膜１７も矩形形状とされ、金属膜１７は、ＧＮＤパッド電極１５とほぼ同等の面積とされる。なお、金属膜１７の面積は、ＧＮＤパッド電極１５の面積に対して８０〜１２０％の範囲が望ましい。
さらに、本実施例では、金属膜１７の大部分（８０％以上が望ましい）を露出する開口部２５が形成される。この開口部２５内で、ＧＮＤパッド電極１５と金属膜１７とは電気的に接続される。ＧＮＤパッド電極１５は、この開口部２５を覆うように形成される。なお、図１０に示すように、開口部２５が形成される領域では、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）が除去され、開口部２５は、ＰＡＳ１とＰＡＳ３の層間絶縁膜に形成される。
【００１９】
したがって、本実施例では、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）の応力により、図１１のＡに示すようにＧＮＤパッド電極１５、あるいは、図１１のＢに示すようにＧＮＤ配線２０にクラックが生じることがないので、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子との間の導通（接続）不良が発生するのを防止することが可能となる。
なお、本実施例において、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、フレキシブル配線基板（ＦＰＣ）のＧＮＤ端子とは、金属膜１７およびＧＮＤ配線２１により電気的に接続されるので、ＧＮＤ配線２０は必ずしも必要がないが、２０と２１のＧＮＤ配線を形成することにより、より冗長性を向上させることが可能となる。
さらに、本実施例では、ＧＮＤパッド電極１５がない場合でも、開口部２５内に充填した導電性部材１４により、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、金属膜１７とを電気的に接続することができるの、ＧＮＤパッド電極１５も必ずしも必要がない。しかしながら、その後の製造工程において、金属膜１７が酸化し、裏面側透明導電膜（ＣＤ）と、金属膜１７との接続不良が発生するのを防止するために、開口部２５を覆うように、ＧＮＤパッド電極１５を形成するのが好ましい。なお、この金属膜１７は、細長い帯状の形状であってもよい。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施例１の液晶表示装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】本発明の実施例１の液晶表示装置の概略構成を示す側面図である。
【図３】本発明の実施例１の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の構成を示す平面図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ'切断線に相当する部分の断面構造を示す断面図である。
【図５】図３に示すＢ−Ｂ'切断線に相当する部分の断面構造を示す断面図である。
【図６】図３に示すＣ−Ｃ'切断線に相当する部分の断面構造を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例２の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の構成を示す平面図である。
【図８】本発明の実施例２の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の断面構造を示す断面図である。
【図９】本発明の実施例３の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の構成を示す平面図である。
【図１０】本発明の実施例３の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の断面構造を示す断面図である。
【図１１】従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極の構成を示す平面図である。
【図１２】従来の液晶表示装置のＧＮＤパッド電極部の断面構造を示す断面図である。
【符号の説明】
【００２１】
１１  ＣＦ基板
１２  ＴＦＴ基板
１４  導電性部材
１５  ＧＮＤパッド電極
１６ａ，１６ｂ  コンタクトホール
１６ａ１，１６ａ２，１６ｂ２  穴
２３  コンタクト部
１７  金属膜
１８  透明導電膜
１９  ＣＦ基板の縁
２０，２１，２２  ＧＮＤ配線
２５  開口部
ＣＤ  裏面側透明導電膜
ＰＯＬ  偏光板
ＰＡＳ１，ＰＡＳ２，ＰＡＳ３  層間絶縁膜
ＦＰＣ  フレキシブル配線基板
ＳＵＢ  基板
【図１】
2009036794.tif 000003
【図２】
2009036794.tif 000004
【図３】
2009036794.tif 000005
【図４】
2009036794.tif 000006
【図５】
2009036794.tif 000007
【図６】
2009036794.tif 000008
【図７】
2009036794.tif 000009
【図８】
2009036794.tif 000010
【図９】
2009036794.tif 000011
【図１０】
2009036794.tif 000012
【図１１】
2009036794.tif 000013
【図１２】
2009036794.tif 000014