(57)【要約】【課題】電磁波遮蔽効果を改善した光学フィルタ若しくはプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】主面及び主面に対向する裏面を有する透明基板と、透明基板の主面上に設けられる電極と、透明基板の主面上及び電極上に設けられる粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜と、透明基板の裏面に設けられる反射防止層とを備え、粘着層に対向する電極の主面には凹凸により幾何学図形を設け、電極上に設けられる粘着層の厚みを２５μｍ以下とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面を有する透明基板と、前記透明基板の前記主面上に設けられる電極と、前記透明基板の前記主面上及び前記電極上に設けられる粘着層と、前記粘着層上に設けられ前記電極と電気的に接続される導電性金属膜とを備えた光学フィルタであって、
前記電極上に設けられる前記粘着層の厚みは２５μｍ以下であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記粘着層に対向する前記電極の主面には凹凸により幾何学図形が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
前記透明基板は前記主面に対向する裏面を有し、
前記透明基板の前記裏面上に設けられる反射防止層を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
主面及び前記主面に対向する裏面を有し、前記裏面が前記導電性金属膜に対向するように、前記導電性金属膜上に設けられる透明高分子基材と、
前記透明高分子基材の前記主面上に設けられる反射防止層を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
電極が形成された主面を有する透明基板と、前記透明基板の前記主面上及び前記電極上に設けられ、前記電極上に設けられる厚さが２５μｍ以下である粘着層と、前記粘着層上に設けられ前記電極と電気的に接続される導電性金属膜とを含む光学フィルタを備えたプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルタに関し、特に、プラズマディスプレイ装置に用いられるフィルタ（以下、ＰＤＰフィルタという）に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ装置（以下、ＰＤＰ装置という）の前面からは、人体に有害な電磁波が発生している。この電磁波を遮蔽するために、ＰＤＰ装置の観測者側若しくはデバイス側のいずれか一方に、電磁波遮蔽フィルムを備えたＰＤＰフィルタが採用されている。近年、ＰＤＰ装置の薄型化に伴い、ＰＤＰフィルタの薄型化が要求され、様々なＰＤＰフィルタが提案されている（特許文献１）。特許文献１に記載のＰＤＰフィルタは、特許文献１の明細書の例３に示されるように、電磁波遮蔽メッシュフィルムをアクリル系粘着剤を介してガラス基板に貼り合わせている。ここで、電磁波遮蔽メッシュフィルムは、帯電した電荷を放電するために、ガラス基板上に設けた電極と電気的に接続する必要がある。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２１５３０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１は、電極と電磁波遮蔽フィルムとの間に設けられる粘着剤の厚さを具体的に開示をしていない。粘着剤自体は非導電性部材であり、粘着剤の厚さが厚いと、電極と電磁波遮蔽フィルムとの電気的接続を阻害する可能性がある。一方、粘着剤の厚さが薄いと、本来の目的である電極と電磁波遮蔽フィルムとの密着を損なう可能性がある。このように、粘着剤の厚さは、電気的接続や密着性という点を考慮するため、実際のフィルタ作製には重要な要素である。そのため、電極と電磁波遮蔽フィルムとの間に設けられる粘着剤の厚さが具体的に開示されていない特許文献１は、電気的接続が十分ではないことにより電磁波遮蔽効果が十分ではなかったり、密着性が十分ではないことにより剥離してしまうという可能性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様の光学フィルタは、主面を有する透明基板と、透明基板の主面上に設けられる電極と、透明基板の主面上及び電極上に設けられる粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜とを備えた光学フィルタであって、電極上に設けられる粘着層の厚みは２５μｍ以下であることを特徴とする。
【０００６】
また、本発明のプラズマディスプレイ装置は、電極が形成された主面を有する透明基板と、透明基板の主面上及び電極上に設けられ、電極上に設けられる厚さが２５μｍ以下である粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜とを含む光学フィルタを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、電磁波遮蔽効果を改善した光学フィルタ若しくはプラズマディスプレイ装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の実施形態を、添付した図面を参照して以下に詳細に説明する。図では対応する部分は、対応する参照番号で示している。下記の実施形態は、一例として示されたものであり、本発明の精神から逸脱しない範囲で種々の変形をして実施することが可能であることは言うまでもない。
【０００９】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１０】
本発明の光学フィルタは、電極が形成された透明基板と、電極及び透明基板上に設けられ電極上に設けられる厚みは２５μｍ以下である粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜とを備える。ここで、本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイ装置の前面に配置されるものであるため、ディスプレイが見にくくならないように、可視光線透過率が３０％以上であることが好ましい。また、本発明の光学フィルタの可視光線反射率は６％未満であることが好ましく、特に３％未満であることが好ましい。
【００１１】
以下、構成要件について、詳細に説明する。
【００１２】
＜透明基板＞
透明基板の材料としては、ガラス板（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む）、及び後述する透明高分子基材の材料と同様の材料等が挙げられる。透明基板の厚さは、特に限定されないが、１〜１０ｍｍ程度が好ましい。透明基板は、六面を有する直方体であり、主面と、主面に対向する裏面と、主面及び裏面と接する４つの側面とを有する。ここで、主面は、第１及び第２の周辺領域と、第１及び第２の周辺領域とに挟まれる中央領域とを有する。
【００１３】
＜電極＞
電極は、透明基板の主面の第１及び第２の周辺領域に、主面を構成する辺に沿って設けられる。電極の表面は、平坦である。なお、粘着層との密着や導電性金属膜との電気的接続を考慮して、電極の表面に幾何学図形の凹凸が形成されているのが好ましい。ここで、幾何学図形とは、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組み合わせで使うことも可能である。ここで、凹部を構成する底面から凸部の先端までの最短距離は、粘着層の厚みを考慮すると、２０μｍ以上であることが好ましい。粘着層との密着力を考慮すると、１ｍｍ以下が好ましい。また、凸部の先端の幅は、密着力を考慮すると、４０μｍ以下が好ましい。
【００１４】
ここで、電極の材料としては、導電性テープ（例えば、支持体が金属であるＣｕテープや、支持体が布である導電性布テープ）、導電性ペースト（例えば、Ａｇペーストなど）、ガラス用はんだ等が挙げられる。導電性ペーストは、例えば銀、銅、ニッケルまたはカーボンなどの導電性微粒子を含有し、スクリーン印刷や、ディスペンスなどの手法を施すことにより形成することができる。導電性ペースト中の金属微粒子の大きさは任意でかまわないが、少なくとも大小２種類の径を有する導電性微粒子を用いることが好ましい。また、微粒子は導電性を有すればよく、カーボン等の非金属の材料を用いることもできる。
【００１５】
＜粘着層＞
粘着層は、電極の一部を露出するように、透明基板の主面の第１及び第２の周辺領域及び中央領域に設けられる。電極上に設けられる粘着層の厚さは、電極との密着及び電気的接続を考慮すると、２５μｍ以下が好ましい。また、粘着層が薄すぎると、電極の凹部内に粘着層が満たされず、導電性金属膜との密着力が低下してしまう。そのため、粘着層の厚さは、電極の凹部内に粘着層が満たされる程度の厚さがあることが好ましい。なお、粘着層のゲル分率は、７０〜１０％であり、好ましくは６８〜１５％、より好ましくは６５〜２９％である。また、粘着剤の弾性率は、１×１０３〜１×１０７Ｐａである。粘着剤が柔から過ぎたり硬すぎたりすると導電性金属膜との密着性を損なうため、１×１０４〜１×１０６Ｐａが好ましい。
【００１６】
粘着層の具体的な材料としては、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム（イソブテン−イソプレン共重合体系ゴム）、又はシリコーン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。特に、良好な耐湿性が得られることから、アクリル樹脂の粘着剤が好ましく用いられる。アクリル樹脂としては、１種類のアクリル酸エステル単独の重合体、２種以上のアクリル酸エステルの共重合体、スチレン等アクリル酸（エステル）モノマー以外のモノマーとアクリル酸との共重合体などが挙げられる。
【００１７】
なお、粘着層に近赤外線吸収色素が添加されても良い。このような構成とすることで、近赤外線遮蔽フィルムを別途設けなくてもよく、光学フィルタを薄くすることができる。近赤外線吸収色素としては、ジイモニウム系、アントラキノン系、フタロシアニン系、シアニン系、ポリメチン系、ジチオール金属錯体などの金属錯体系、スクアリウム系、インドアニリン系等がある。
【００１８】
＜電磁波遮蔽フィルム＞
電磁波遮蔽フィルムは、ＰＤＰ装置から発する電磁波を遮蔽する部材であり、粘着層上に設けられ、透明基板上の電極と電気的に接続されている。電磁波遮蔽フィルムは、導電性金属膜と、透明高分子基材とを有する。
＜導電性金属膜＞
導電性金属膜は、複数の貫通孔を有するメッシュタイプや、透明導電性薄膜を積層する積層タイプがある。
【００１９】
メッシュタイプの導電性金属膜は、金属箔をエッチング加工したエッチングメッシュや、ポリエステル繊維メッシュに金属めっきを施した繊維メッシュや、導電性インキをパターン印刷した印刷メッシュなどが挙げられる。エッチングメッシュや繊維メッシュに用いられる金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、銀が用いられる。コスト面から考慮すると、銅が好ましい。
【００２０】
導電性金属膜の厚みは、視野が狭くなるため、４０μｍ以下が望ましい。導電性金属膜の貫通孔の形状は幾何学模様であり、四角形等の多角形が好ましい。各幾何学模様を構成する導電性金属膜のライン幅は、４０μｍ以下である。なお、ライン幅が広いと導電性金属膜が視野に入ってしまうため、ライン幅は２０μｍ以下が好ましい。ライン間隔は２００μｍ以上が望ましい。ここで、メッシュパターンを構成する導電性膜は直方体であり、直方体を構成する面は黒化処理が施されていても良い。ここで、黒化処理とは、例えば強アルカリ性溶液を用いて、面を酸化することをいう。この黒化処理によって、面は算術表面粗さＲａ１．４０〜１．６０μｍの凹凸が形成される。仕様により、導電性膜の４つの面、３つの面、１つの面に対して黒化処理を施しても良い。
【００２１】
積層タイプの導電性金属膜は、酸化物層と金属層とを繰り返し積層する積層体である。酸化物層としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ニオブまたは酸化ガリウムを主成分とする層などが挙げられる。金属層を構成する金属としては、銀若しくは銀合金が挙げられる。なお、抵抗値を考慮すると、銀は純度が高いほうが好ましく、純銀（１００質量％中に銀を９９．９質量％以上含有する）がより好ましい。銀合金は、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる観点から、金、パラジウム及びビスマスから選ばれる少なくとも１種の金属を含有する。銀以外の金属の合計は、比抵抗を５．０μΩｃｍ以下にするために、金属層（１００質量％）中、０．２〜１．５質量％が好ましい。なお、積層タイプの導電性金属膜の形成方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法等が挙げられる。これらのうち、品質、特性の安定性が良好であることから、スパッタ法が好ましい。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法、ＲＦスパッタ法等が挙げられる。
【００２２】
積層タイプの導電性金属膜の膜厚は、１００〜５０ｎｍが好ましい。酸化物層の膜厚は、２０〜６０ｎｍが好ましく、３０〜５０ｎｍがより好ましい。すべての金属層の求められる表面抵抗の目標を１．５Ω／□とした場合、２５〜６０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましく、表面抵抗の目標を１Ω／□とした場合、３５〜８０ｎｍが好ましく、３５〜７０ｎｍがより好ましい。各金属層の膜厚は、合計膜厚を金属層の数で適宜配分する。なお、金属層の数が多くなると、各金属層の比抵抗が上がるため、抵抗値を下げるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。
【００２３】
＜透明高分子基材及び透明高分子基体＞
透明高分子基材及び透明高分子基体の材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、スチレンメチルメタアクリレート（ＭＳ）等の透明プラスチック材料が挙げられる。
【００２４】
透明高分子基材及び透明高分子基体の厚さは、特に限定されないが、１０μｍ〜２５０μｍ程度が好ましい。
【００２５】
＜接着剤＞
メッシュタイプの導電性金属膜を選択した場合、導電性金属膜と透明高分子基材とを接合するために、接着剤が必要となる。接着方法としては、積層（ラミネート）法とドライラミネート法がある。積層法は、接着剤又は粘着剤の樹脂、又はこれらの混合物を、加熱熔融物、未架橋重合物、ラテックス、水分散液、又は有機溶媒液等の流動体として、スクリーン印刷、グラビア印刷、コンマコート、ロールコートなどの公知の印刷又はコーティング法で、印刷又は塗布し、必要に応じて乾燥した後に、他方の材料と重ねて加圧した後、接着剤（粘着剤層）を固化すれば良い。接着層の膜厚としては、０．１〜２０μｍ（乾燥状態）程度、好ましくは１〜１０μｍが好ましい。ドライラミネート法とは、溶媒へ分散または溶解した接着剤を、乾燥後の膜厚が０．１〜２０μｍ（乾燥状態）程度、好ましくは１〜１０μｍとなるように、例えば、ロールコーティング、リバースロールコーティング、グラビアコーティングなどのコーティング法で塗布し、溶剤などを乾燥して、接着層を形成したら直ちに、貼り合せ基材を積層した後に、３０〜８０℃で数時間〜数日間のエージングで接着剤を硬化させることで、２種の材料を積層させる方法である。ドライラミネーション法で用いる接着層としては、熱、または紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する接着剤が適用できる。熱硬化接着剤としては、具体的には、トリレンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネート等の多官能イソシアネートと、ポリエーテル系ポリオール、ポリアクリレートポリオール等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる２液硬化型ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できるが、２液硬化型ウレタン系接着剤が好適である。
【００２６】
＜反射防止層＞
反射防止層は、屈折率が異なる層を積層して、層を通過する光の干渉性を利用して、可視領域における反射率の低減を図るものである。反射防止層は、乾式法（スパッタリング法等）や湿式法により形成され、単層や少なくとも各々１層以上である高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されている。この積層構造は、高屈折率層と低屈折率層の２層構造であってもよく、高屈折率層の両側に低屈折率層を設けたサンドイッチ構造の３層構造であってもよく、複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を交互に積層した４層以上の積層構造であってもよい。但し、積層構造の最も視認側に位置する層は、低屈折率層であることが好ましい。積層させる層数は、必要に応じて適宜選択することができるが、好ましい層数は２〜７である。積層構造の総数が２〜７であると、反射防止特性に優れており、かつ生産性にも優れている。これらの層はそれぞれ、優れた反射防止特性を得るため、後述する所定の膜厚（屈折率ｎ×層厚ｄ）を構成するのが好ましい。
【００２７】
反射防止層を構成する高屈折率層の屈折率（ｎ）は、１．６５以上であることが好ましい。高屈折率層の材料としては、具体的には、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）、ＺｎＯ、ＡｌでドープしたＺｎＯ（ＡＺＯ）等が挙げられる。これらの中でも、ＩＴＯおよびＡＺＯが好ましい。一方、低屈折率層の屈折率（ｎ）は、１．５以下の層であることが好ましい。低屈折率層の材料としては、具体的には、ＳｉＯ２、ＭｇＦ、Ａｌ２Ｏ３等が好ましい。これらの中でもＳｉＯ２が好ましい。
【００２８】
反射防止層の可視光線反射率としては、４００ｎｍから７００ｎｍの光の波長領域で５％以下であることが好ましい。さらに波長５５０ｎｍにおける反射率が２％以下、さらには１％以下であることが好ましい。反射防止層の各層の厚みは、下記式を満足する光学膜厚となるように設定すると、効果が最も高くなるので好ましい。
【００２９】
ｄ＝０．２５×λ／ｎ
上記の式において、ｄは層厚み（ｎｍ）、λは光の波長（５５０ｎｍ）、ｎは層構成物質の屈折率を表す。
【００３０】
なお、反射防止層の下層にハードコート層を設けても良い。
【００３１】
＜反射防止コート剤＞
透明基板若しくは透明高分子基材の表面に塗布される反射防止用のコート剤は、有機化合物を含む重合性配合物、無機酸化物微粒子とバインダー、ゾルーゲル反応物の溶液である。有機化合物としては、含フッ素化合物が挙げられる。この中で、低屈折率と硬度のため、不飽和基を持つ含フッ素化合物が好ましい。なお、屈折率の調整等のために、無機化合物を混合しても良い。無機化合物としては、フッ化マグネシウム、酸化珪素、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化トリウムの微粒子が挙げられる。好ましくは、フッ化マグネシウムである。
【００３２】
＜付加機能層＞
光学フィルタは、付加機能層を備えてもよい。付加機能層は、含フッ素化合物または含ケイ素化合物を含有する主面を有する。含フッ素化合物は含フッ素重合体が好ましく、含ケイ素化合物は含ケイ素重合体が好ましい。例えば、付加機能層として、防汚層が挙げられる。
【００３３】
防汚層は、反射防止層の保護膜的な効果を狙うもので、外的要因により汚れた表面を清掃することで反射防止効果を常に保つことができるものである。この層の形成材料としては、透明性を有し、反射防止特性を損なわないものが必要である。例えば、フルオロアルキル基含有樹脂やフルオロカーボンやフルオロシランやパーフルオロポリエーテル等、あるいはこれらの化合物等が好ましい。また指紋拭き取り性には、メチル基を導入した化合物も適している。防汚層の形成方法としては適用材料に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合やロールコート法、スプレーコート法、ディップコート法等各種コーティング法を用いることができる。防汚層は反射防止特性を損なうことが無いよう、通常膜厚は３０ｎｍ以下で形成される。
【００３４】
＜各種樹脂フィルム＞
「飛散防止用樹脂フィルム」
本発明の光学フィルタにおいては、特に基体としてガラス板を用いる場合に、光学フィルタの前面側（観察者側）及び／又は裏面側（表示装置側）に、飛散防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。飛散防止用樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に光学フィルタに用いられているもの、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、スチレンメチルメタアクリレート（ＭＳ）等が使用できる。
【００３５】
「近赤外線遮蔽フィルム」
本発明の光学フィルタにおいては、光学フィルタの前面側（観察者側）及び／又は裏面側（表示装置側）に、近赤外線遮蔽フィルムが設けられていてもよい。
【００３６】
近赤外線遮蔽フィルムとしては、特に制限はなく、一般的に光学フィルタに用いられているものが使用できる。
【００３７】
また、近赤外線遮蔽フィルムの代わりに、近赤外線吸収基体を用いる、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる、等の方法が可能である。
【００３８】
本発明の光学フィルタにおいては、防止用樹脂フィルム等の樹脂フィルムを、適宜、色調調整のため、有色のフィルム（着色層）とすることもできる。たとえば、第１の導電層は、厚みによっては着色して見えることがあるが、樹脂フィルムをその補色のフィルムとすることにより、全体の色調のニュートラル化が可能となる。
【００３９】
＜プラズマディスプレイ装置＞
プラズマディスプレイ装置は、電極が形成された主面を有する透明基板と、透明基板の主面及び電極上に設けられ電極上に設けられる厚さが２５μｍ以下である粘着層と、粘着層上に設けられ電極と電気的に接続される導電性金属膜とを含む光学フィルタを備える。
【００４０】
＜第１の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図１は、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す上面図である。図２は、図１の光学フィルタをＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。ここで、図１の光学フィルタは、図２のＢ側から見た上面図である。図２において、Ｂ側はデバイス側であり、Ｃ側は人側である。図３は、図２の光学フィルタの一部２００を拡大した部分断面図である。
【００４１】
本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタは、透明基板１００と、電極１１０と、粘着層１２０と、電磁波遮蔽フィルム１３０とを備える。図示しないが、光学フィルタの電極１１０は、接続バンプを介して、ＰＤＰ装置と電気的に接続される。
【００４２】
透明基板１００は、ガラス基板である。透明基板１００は、主面１００ａと裏面１００ｂとを有する。ここで、主面１００ａは、第１及び第２の周辺領域１００ａ１と、第１及び第２の周辺領域１００ａ１とにより挟まれる中央領域１００ａ２とを有する。なお、ここでは、第１及び第２の周辺領域１００ａ１は、中央領域１００ａ２を挟んで対向するように位置している。しかし、周辺領域１００ａ１が主面１００ａの４つの外縁辺に沿い、中央領域１００ａ２を取り囲むように構成しても良いことは言うまでもない。
【００４３】
電極１１０は、透明基板１００の第１及び第２の周辺領域１００ａ１の主面１００ａに銅テープにより形成された電極である。
【００４４】
粘着層１２０は、透明基板１００の中央領域１００ａ２の一部及び電極１１０の一部上に形成されたアクリル系粘着剤を用いて形成されている。
【００４５】
電磁波遮蔽フィルム１３０は、メッシュタイプの導電性金属膜３００と、接着剤３１０と、接着剤３１０を介して導電性金属膜３００と接合される透明高分子基材３２０とを有する。ここで、導電性金属膜３００は、電極１１０と電気的に接続されている。この場合、導電性金属膜３００と電極１１０との間には粘着層１２０が存在せず、導電性金属膜３００と電極１１０とが物理的に直接接続しているのが好ましい。しかし、導電性金属膜３００と電極１１０との電気的接続が取れていれば、僅かに粘着層１２０が存在してもよく、必ずしも物理的に直接接続していなければならないということではない。
【００４６】
以上、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタによれば、実用上問題のない電磁波遮断性能を有するという効果を奏する。
【００４７】
＜第２の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図４は、図１の光学フィルタをＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第１の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００４８】
本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタは、透明基板１００と、電極１１０と、粘着層１２０と、電磁波遮蔽フィルム１３０と、反射防止層４００とを備える。
【００４９】
反射防止層４００は、反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）である。反射防止層４００は、図示しない接着剤を介して、透明基板１００の裏面１００ｂの全面に貼りつけられる。
【００５０】
以上、本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタによれば、第１の実施形態に係る光学フィルタの奏する効果に加えて、反射防止という効果を奏する。
【００５１】
＜第３の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図５は、図１の光学フィルタをＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第１及び第２の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５２】
本発明の第３の実施形態に係る光学フィルタは、透明基板５００と、電極１１０と、粘着層１２０と、電磁波遮蔽フィルム１３０とを備える。
【００５３】
透明基板５００は、主面５００ａと裏面５００ｂとを有する。透明基板５００の主面５００ａには粘着層１２０を介して電磁波遮蔽フィルム１３０が設けられる。透明基板５００の裏面５００ｂには、反射防止成分を含有するコート剤（日産化学工業社製、商品名：ＬＲ−２０２）がマイクログラビア法により塗布され、薄い膜５１０が形成されている。
【００５４】
以上、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルタによれば、第１及び第２の実施形態に係る光学フィルタの奏する効果に加えて、反射防止層を接着剤等で貼合する必要がなく、生産性に優れる反射防止という効果を奏する。
【００５５】
＜第４の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明の第４の実施形態に係る光学フィルタについて説明する。図６は、光学フィルタの断面図である。図６は図１の光学フィルタとは構成要件の配置の向きが異なるが、図１の光学フィルタをＡ−Ａ線で切断したときの断面図とみなしても良い。なお、以下に記載する実施形態において、第１〜３の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５６】
本発明の第４の実施形態に係る光学フィルタは、透明基板１００と、電極１１０と、粘着層１２０と、反射防止機能付き電磁波遮蔽フィルム６００とを備える。
【００５７】
反射防止機能付き電磁波遮蔽フィルム６００は、電磁波遮蔽機能を有すると共に、反射防止機能を有する。反射防止機能付き電磁波遮蔽フィルム６００は、電磁波遮蔽フィルム１３０と、透明高分子基体６１０とを有する。透明高分子基体６１０は、主面６１０ａと裏面６１０ｂとを有する。透明高分子基体６１０の主面６１０ａには、図示しない粘着剤を介して電磁波遮蔽フィルム１３０が設けられる。透明高分子基体６１０の裏面６１０ｂには、反射防止成分を含有するコート剤（日産化学工業社製、商品名：ＬＲ−２０２）がマイクログラビア法により塗布され、薄い膜６１１が形成されている。なお、反射防止成分を含有するコート剤を塗布する代わりに、第２の実施形態に係る光学フィルタのように、透明高分子基体６１０の裏面６１０ｂに粘着剤を介して反射防止フィルムを貼り付ける構成としても良い。
【００５８】
＜第５の実施形態＞
以下、図面を用いて、本発明のプラズマディスプレイ装置について説明する。図７は、本発明のプラズマディスプレイ装置の断面図である。なお、以下に記載する実施形態において、第１〜４の実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５９】
本発明のプラズマディスプレイ装置は、筐体７００と、光学フィルタ７１０と、プラズマディスプレイ本体７２０とを備える。
【００６０】
光学フィルタ７１０は、上述した本発明の第１〜４の実施形態の光学フィルタのいずれか一つを用いている。なお、光学フィルタ７１０として、本発明の第４の実施形態の光学フィルタを用いる場合、図７の光学フィルタ７１０の搭載方向が左右反対となる。
【実施例】
【００６１】
（実施例１）
図２に示す構成の光学フィルタを、以下の手順で作製した。
【００６２】
厚みが約１０μｍの銅箔を、厚みが約１２５μｍのＰＥＴフィルムに接着剤を介して積層し、銅箔フィルムを作製した。そして、フォトリソグラフ法を利用したエッチングレジストパターン形成方法によって、銅箔フィルムの銅箔を線幅が約１５μｍ、線間隔が約３００μｍの格子状に形成した（以下、格子状に成形された銅箔フィルムを導電性メッシュフィルムという）。一方、重剥離面と軽剥離面とを有する粘着層と、粘着層の重剥離面及び軽剥離面上に剥離処理用ＰＥＴフィルム（セパレートフィルム）とにより構成されるフィルム状粘着剤（東洋インキ社製アクリル粘着剤  ＮＣＫ１０１）を準備した。なお、粘着層の厚みは、２５μｍである。ここで、粘着層の厚み測定は、レーザー変位計（キーエンス社製、ＬＫ−Ｇ１５）を用いて測定した。電磁波遮蔽フィルムとフィルム状粘着剤は５７０ｍｍ巾のロールである。
【００６３】
次に、フィルム状粘着剤の軽剥離面側のＰＥＴフィルムを剥離して粘着面を露出させ、導電性メッシュフィルムの銅箔層と露出されたフィルム状粘着剤の粘着面とが対向するようにし、かつ幅方向端部が同位置になるように連続生産ラインでロール・ツー・ロール方式で積層した。この積層は気圧１０ｋＰａの雰囲気下で行った。
【００６４】
このようにして作製されたロール状積層体を切断して、所定サイズ（長辺：９６４ｍｍ、短辺：５５４ｍｍ）のディスプレイ用部材（Ａ）を得た。
【００６５】
次に、透明基板として、９７８．６ｍｍ×５６８．３ｍｍ、厚さ２．５ｍｍの旭硝子社製ガラス基板を用いた。電極として、ガラス表面の４辺端部に、１７ｍｍ幅、厚さ０．０７ｍｍのフラット型金属箔テープ（３Ｍ社製、商品名：ＣＵ−３５Ｃ）を貼り付けた。
【００６６】
ディスプレイ用部材（Ａ）の粘着層の重剥離面側のＰＥＴフィルムを剥離して粘着面を露出させ、作製した電極付きガラス基板上に貼合機を用いて加圧荷重して貼り付けた。
【００６７】
ガラス基板の反対の面には、透明なアクリル系接着剤を介して所定サイズ（長辺：９７８ｍｍ、短辺：５６８ｍｍ）反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）を貼り合わせ、ディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【００６８】
このディスプレイ用光学フィルタの４辺側端部から約７ｍｍの幅で金属箔テープが剥き出しとなっており、この剥き出し部を電極部とした。
【００６９】
（実施例２）
厚さ１７ｍｍ幅、厚さ０．１５ｍｍの逆エンボス型金属箔テープ（３Ｍ社製、商品名：３２４５）を用いた以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作成した。
【００７０】
（比較例１）
粘着層の厚みを５０μｍとした以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作成した。
【００７１】
前記実施例及び比較例において、電磁波遮蔽効果と電極部の接触点を評価した。その結果を表１に示す。
【００７２】
＜電磁波遮蔽効果の評価＞
電磁波遮蔽効果を評価するために、ディスプレイ用光学フィルタをプラズマディスプレイ（松下電器産業（株）製のプラズマディスプレイテレビ  ＴＨ―４２ＰＺ７００の前面光学フィルタを取り外したもの）に取り付け、筐体の外部電極と導通が取れるように組み立てた。電磁波遮蔽体の放射電界強度は、情報処理装置等電波障害自主規制協議会（以下、ＶＣＣＩという。）の技術基準に規定された方法に準じて測定した。
【００７３】
ＶＣＣＩの規格に準じ、ＶＣＣＩに登録された電波暗室内で、回転テーブル上の木製テーブルに電磁波遮蔽体を取りつけたプラズマティスプレイ（松下電器産業（株）社製、品名：ＴＨ−４２ＰＨ９ＴＲＫ）を設置した。次に、木製テーブルから１０ｍの位置に、アンテナを設置した。検出器は、アンリツ（株）社製スペクトラム・アナライザＭＳ２６６１ＣとＲＯＨＤＥ  ＡＮＤ  ＳＣＨＷＡＲＺ社製ＥＭＩ  Ｔｅｓｔ  ｒｅｓｅｉｖｅｒ  ＥＳＣＳ３０を用いた。プラズマディスプレイの電源を入れて動作させた状態で回転テーブルを回転させること、及びアンテナの高さを１〜４ｍ間で調節することにより、検出器が検出する値が最大となる位置での電界強度（周波数が３０ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚ帯域における放射電界強度）を測定した。
【００７４】
＜接触点＞
電磁波遮蔽フィルムの導電性メッシュと電極間の導電性を評価するため、ディスプレイ用光学フィルタの該当部を剥離し、光学顕微鏡で接触点を観察した。
【００７５】
【表１】
2009239044.tif 000003
【００７６】
表１からわかるように、電磁波遮蔽フィルムの導電性メッシュと電極との接触点が多ければ多いほど、電磁波遮蔽効果が良好である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す上面図である。
【図２】図１の光学フィルタをＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。
【図３】図２の光学フィルタの一部２００を拡大した拡大図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第４の実施形態に係る光学フィルタの構成を示す断面図である。
【図７】本発明の第５の実施形態に係るプラズマディスプレイ装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７８】
１００、５００  透明基板
１１０  電極
１２０  粘着層
１３０  電磁波遮蔽フィルム
３００  導電性金属膜
３１０  接着剤
３２０  透明高分子基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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