(57)【要約】【課題】ブラックマトリックスのプラズマ処理において、高い親液プラズマ耐性を有し、さらに白抜けが少ない１層構造のブラックマトリックスを提供する。【解決手段】少なくとも親水性黒色材料、バインダ樹脂、溶剤、分散剤および光重合開始系を含有する光重合性組成物を用いる。また、少なくとも親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いて形成され、プラズマ処理により表面を撥液化されたカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスであり、該ブラックマトリクスの上面よりも側面の撥液性が低いことを特徴とする、カラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスを用いる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いて形成され、プラズマ処理により表面を撥液化されたカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスであり、該ブラックマトリクスの上面よりも側面の撥液性が低いことを特徴とする、カラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項２】
親水性黒色材料が金属酸化物である、請求項１に記載のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項３】
金属酸化物がチタンブラックである、請求項１に記載のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項４】
光重合性組成物が、さらにバインダ樹脂、溶剤、分散剤および光重合開始系を含有する、請求項１ないし３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項５】
膜厚が１．４μｍ以上である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の樹脂ブラックマトリクスを有するカラーフィルタ。
【請求項７】
請求項６に記載のカラーフィルタを用いて形成したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
少なくとも親水性黒色材料、バインダ樹脂、溶剤、分散剤および光重合開始系を含有する光重合性組成物。
【請求項９】
親水性黒色材料が金属酸化物である、請求項８に記載の光重合性組成物。
【請求項１０】
金属酸化物がチタンブラックである、請求項９に記載の光重合性組成物。
【請求項１１】
バインダ樹脂が、下記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との反応物に、更に多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）を反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂である、請求項８ないし１０のいずれか一項に記載の光重合性組成物。
【化１】
2009037114.tif 000024
（式中、ｎは平均値を示し０〜１０の数を示す。Ｐ，Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、個々のＰ，Ｒはお互いに同一であっても異なっていても良い。Ｇはグリシジル基を表す。）
【請求項１２】
親水性黒色材料の含有量が、全固形分中１０〜８０重量％である、請求項８ないし１１のいずれか一項に記載の光重合性組成物。
【請求項１３】
請求項８ないし１２のいずれか一項に記載の光重合性組成物を用いて形成され、プラズマ処理により表面を撥液化されたカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項１４】
上面よりも側面の撥液性が低いことを特徴とする、請求項１３記載のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項１５】
膜厚が１．４μｍ以上である、請求項１３または１４記載のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクス。
【請求項１６】
請求項１３ないし１５のいずれか一項に記載の樹脂ブラックマトリクスを有するカラーフィルタ。
【請求項１７】
請求項１６に記載のカラーフィルタを用いて形成したことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット法にて画素部分を形成してなるカラーフィルタに適した樹脂ブラックマトリクス、およびこれを用いてなるカラーフィルタを提供する。また本発明は、当該樹脂ブラックマトリクスの製造に適した光重合性組成物を提供する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）には、カラー表示するためにカラーフィルタが広く用いられている。例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス方式のＬＣＤでは、ブラックマトリックス（ＢＭ）と呼ばれる遮光性に優れた膜をパターン化し、その上に色の三原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色パターンを備え、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素に対応する電極をＯＮ又はＯＦＦすることによって液晶がシャッタとして作動しＲ、Ｇ、Ｂの各画素を光が通過してカラー表示が行われる。そして、任意の色は、２色以上の画素に対応する液晶シャッタを開いて混色させる加法混色の原理により、網膜上で視覚的に表示される。従来のカラーフィルタは、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により製造されており、ＴＦＴ−ＬＣＤの場合は、顔料分散法が主流である。
顔料分散法は、まず基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
さらに他の方法としては、電着法や、熱硬化樹脂に顔料を分散させてＲ、Ｇ、およびＢの３回印刷を行った後、樹脂を熱硬化させる方法等を挙げることができる。
しかしながら、いずれの方法も、Ｒ、Ｇ、およびＢの３色を着色するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になるという問題や、工程を繰り返すため歩留まりが低下するという問題がある。
【０００３】
これらの問題を解決したカラーフィルタの製造方法として、インクジェット方式で着色インクを吹き付けして着色層（画素部）を形成する方法が提案されている。
インクジェット法によるカラーフィルタの作製方法において、吐出されたカラーインクが隣接する画素間で混色するという問題がある。そこで通常、画素間に撥液化されたブラックマトリックスを設けて、混色を防止する方法がとられている。ブラックマトリックスを撥液化する方法としては、例えば特許文献１に記載されているように、プラズマ処理によりブラックマトリックス表面を改質する方法が用いられている。具体的な処理手順としては、例えば、まず最初に酸素ガス中でプラズマ処理（以下、単に「酸素プラズマ処理」と称することがある）を行って、基板上のブラックマトリックスパターンのない部分（ガラス面）の洗浄処理を行う。次にフッ素ガス中でプラズマ処理（以下、単に「フッ素プラズマ処理」と称することがある）を行い、ブラックマトリックス部の撥液処理を行う。フッ素ガスとしては、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３などが用いられる。もしくは、酸素ガスとフッ素ガスの両方が含まれる雰囲気中でプラズマ処理を行っても目的とする処理は可能である。また、プラズマ処理は減圧雰囲気下や、大気圧雰囲気下で行うことが一般的である。ここで、ブラックマトリックスをプラズマ処理により撥液化するプロセスにおいて、２つの問題を解決することが必要となる。
まず一つ目は、「親液プラズマ耐性」の問題である。プラズマ処理のうち、酸素ガス中での処理は、ガラス面上の有機物等の汚れを除去する為に必要なプロセスである。カラーインクが画素内で濡れ広がる際に、ガラス面上の有機物は障害となる為、このプロセスは非常に重要であり、酸素ガス中でのプラズマ処理強度は高い方が好ましい。しかしながら、酸素ガス中でのプラズマ処理の強度を強くしていくと、その後フッ素ガス中でプラズマ処理を行っても、ブラックマトリックス部の撥液性が向上しない、という現象が観察される。この為、必要とする撥液性を得るためには、酸素ガス中でのプラズマ処理強度はある一定の限界を超えることができない。この限界のことをここでは、ブラックマトリックスの「親液プラズマ耐性」と呼ぶ。一般的には、高い親液プラズマ耐性を有するブラックマトリックスを用いることが、カラーフィルタの作製において好ましいとされている。
もう一つは、「白抜け」の問題である。ブラックマトリックスの表面全体が撥液処理されていると、カラーインクを乾燥させた際にブラックマトリックスの側面でカラーインクがはじかれてしまう。その結果、ブラックマトリックスに囲まれた画素の中央部では膜厚が厚いのに対して、ブラックマトリックスの裾に接する部分では膜厚がゼロ、もしくは非常に薄くなってしまうという問題が生じてしまう。透過光で観察すると、画素の周辺部が白く抜けて見えてしまうので、この現象は「白抜け」と呼ばれ、カラーフィルタの光学特性を低下させる。
白抜けを解決するためには、プラズマ処理を行う際に、ブラックマトリックスの上面が撥液化されると同時に、側面が親液化される必要がある。側面が親液化されていれば、カラーインクがはじかれないので白抜けは生じない。そこで例えば、特許文献１に記載されているように、ブラックマトリックスを有機材料と無機材料の２層構造にする方法などが提案されている。しかしながら、ブラックマトリックスを２層構造にすることは、歩留まりの低下、製造コストの上昇といった問題があり、好ましくない。
【特許文献１】ＷＯ９９／４８３３９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、ブラックマトリックスのプラズマ処理において、高い親液プラズマ耐性を有し、さらに白抜けが少ない１層構造のブラックマトリックスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、親水性黒色材料を含有するインクジェット法カラーフィルタ用のブラックマトリックス形成用フォトレジスト組成物を用いることにより、上記問題を１層構造のブラックマトリックスで解決できることを見出した。
【０００６】
すなわち本発明は、カラーフィルタの樹脂ブラックマトリクスを製造するに際し、その着色材料として、親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いることにより、得られるブラックマトリクスの上面よりも側面の撥液性が低くなることを見出した点に特徴がある。このような光重合性組成物を使用し、露光および現像工程を経てブラックマトリクスを形成することにより、現像にて現れた面（側面）に多く黒色材料が露出し、結果として上面より側面の撥液性が低下（親液性が向上）すると考えられる。
【０００７】
なお、該ブラックマトリクスの形成材料である光重合性組成物が、特定のバインダ樹脂を含有することにより、さらに上面と側面の撥液性の差が大きくなることも明らかになった。
【０００８】
すなわち本発明は、少なくとも親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いて形成され、プラズマ処理により表面を撥液化されたカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスであり、該ブラックマトリクスの上面よりも側面の撥液性が低いことを特徴とする、カラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、親水性黒色材料が金属酸化物である、上記のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、金属酸化物がチタンブラックである、上記のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、光重合性組成物が、さらに溶剤、分散剤、バインダ樹脂および光重合開始系を含有する、上記のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、膜厚が１．４μｍ以上である、上記のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、上記の樹脂ブラックマトリクスを有するカラーフィルタである。
また、本発明は、上記のカラーフィルタを用いて形成したことを特徴とする液晶表示装置である。
また、本発明は、少なくとも親水性黒色材料、溶剤、分散剤、バインダ樹脂および光重合開始系を含有する光重合性組成物である。
また、本発明は、親水性黒色材料が金属酸化物である、上記の光重合性組成物である。
また、本発明は、金属酸化物がチタンブラックである、上記の光重合性組成物である。
また、本発明は、バインダ樹脂が、下記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との反応物に、更に多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）を反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂である、上記の光重合性組成物である。
【化２】
2009037114.tif 000003
（式中、ｎは平均値を示し０〜１０の数を示す。Ｐ，Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、個々のＰ，Ｒはお互いに同一であっても異なっていても良い。Ｇはグリシジル基を表す。）
また、本発明は、親水性黒色材料の含有量が、全固形分中１０〜８０重量％である、上記の光重合性組成物である。
また、本発明は、上記の光重合性組成物を用いて形成され、プラズマ処理により表面を撥液化されたカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、上面よりも側面の撥液性が低いことを特徴とする、上記のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、膜厚が１．４μｍ以上である、上記のカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスである。
また、本発明は、上記の樹脂ブラックマトリクスを有するカラーフィルタである。
また、本発明は、上記のカラーフィルタを用いて形成したことを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、プラズマ処理により、ブラックマトリックス上面が撥液化されると同時に、側面が親液化される為、白抜けの問題を解決することが可能となる。ブラックマトリックスは単層構造でよく、歩留まり、製造コストの面からも好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施様態の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に限定されるものではない。
【００１１】
尚、本願明細書において、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリレート」等は、「アクリルおよび／又はメタクリル」、「アクリレートおよび／又はメタクリレート」等を意味するものとし、例えば「（メタ）アクリル酸」は「アクリル酸および／又はメタクリル酸」を意味するものとする。また、「（共）重合体」は「単一重合体（ホモポリマー）および／又は共重合体（コポリマー）」を意味するものとする。 
また、以下において、「全固形分」とは、後記する溶剤成分以外の本発明の光重合性組成物中の全成分を指す。 
また、以下において、樹脂（（共）重合体）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）にて測定したポリスチレン換算の値である。 
また、以下において、本発明のカラーフィルタにおける画素形成用の着色樹脂組成物は、単に「インク」と称されることがある。
【００１２】
本発明の第一は、少なくとも親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いて形成され、プラズマ処理により表面を撥液化されたカラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスであり、該ブラックマトリクスの上面よりも側面の撥液性が低いことを特徴とする、カラーフィルタ用樹脂ブラックマトリクスに存する。親水性の黒色材料を含む光重合性組成物を用いることにより、上面よりも側面の撥液性が低く、インクジェット法によるカラーフィルタ製造に適した樹脂ブラックマトリクスを、容易に得ることができる。
【００１３】
なお、本発明における「撥液性」、「親液性」とは、画素形成用の着色樹脂組成物に含まれる溶媒に対する性質であり、このような溶媒としては、例えば後述する本発明の光重合性組成物に用いることができる溶媒として挙げたものと同様のものが挙げられる。
【００１４】
［１］光重合性組成物
まず、ブラックマトリクス形成用の光重合性組成物について説明する。
［１−１］親水性黒色材料
本発明のブラックマトリクスは、親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いて形成される。親水性黒色材料としては、特に制限はないが、例えば表面が酸化処理されたカーボンブラック、金属酸化物などが挙げられ、中でも金属酸化物が好ましく、チタンブラックが特に好ましい。
【００１５】
本発明者らの検討によると、親水性の高いブラックマトリックスは、インクジェット法にてカラーフィルタの画素を形成する場合に使用する画素形成材料（以下、「画素形成用インク」または「カラーインク」と称する。）が含みうる一般的な溶剤（具体的には後述する）に対しても親和性が高いことが判明している。従って、親水性の高い黒色材料を使用することにより、該色材が多く露出しているブラックマトリクス側面では、親液性、すなわち画素形成用インクとの親和性が高くなり、白抜けが抑制されると考えられる。
【００１６】
なお前述したように、インクジェット法にて画素が形成されるカラーフィルタにおいて、ブラックマトリクスは「親液プラズマ耐性」が高い材料にて形成されることが好ましいと考えられる。チタンブラックに代表される金属酸化物などの親水性黒色材料は、一般に親液プラズマ耐性が低いが、本発明では、敢えてこのような材料を使用することにより、優れたブラックマトリクスが得られることを見出した。すなわち、当該黒色材料が多く露出したブラックマトリクスの側面では、酸素プラズマ処理に続いて行われるフッ素プラズマ処理を経ても、撥液性が向上せず、親液性が保たれるため、後にインクジェット法にて画素を形成した場合に、白抜けが生じにくい。この観点からも、親水性黒色材料を含む光重合性組成物を用いて、ブラックマトリクスを形成することは好ましい。
【００１７】
本発明の樹脂ブラックマトリクスを形成するための光重合性組成物において、親水性黒色材料の含有量は全固形分に対し、通常１０重量％以上、好ましくは１５重量％以上、より好ましくは２０重量％以上であり、また通常８０重量％以下、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。
【００１８】
ここで、チタンブラックの作製方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気下で加熱し還元させる方法（特開昭４９−５４３２号公報）、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを、水素を含む還元雰囲気中で還元する方法（特開昭５７−２０５３２２号公報）、二酸化チタン又は水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６０−６５０６９号公報、特開昭６１−２０１６１０号公報）、二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６１−２０１６１０号公報）、等があるがこれらに限定されるものではない。チタンブラックの市販品の例としては、三菱マテリアル社製のチタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃ等が挙げられる。 
【００１９】
［１−２］バインダ樹脂
本発明に用いる光重合性組成物は、バインダ樹脂を含有することが好ましい。
［１−２−１］アルカリ可溶性樹脂
本発明に用いるバインダ樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、これはエポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との反応物を更に多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）と反応させて得られるものであり、エポキシ樹脂（ａ）は下記一般式（１）で表される。
(1)  エポキシ樹脂（ａ）
【化３】
2009037114.tif 000004
（式中、ｎは平均値を示し０〜１０の数を示す。Ｐ，Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、個々のＰ，Ｒはお互いに同一であっても異なっていても良い。Ｇはグリシジル基を表す。） 
【００２０】
前記、上記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）は、例えば、下記一般式（２）で表される化合物とエピハロヒドリンとを、アルカリ金属水酸化物の存在下に反応させることにより得ることができる。 
【００２１】
【化４】
2009037114.tif 000005
（式中、ｎ，Ｐ，Ｒは一般式（１）におけるのと同じ意味を表す。） 
【００２２】
上記一般式（２）で表される化合物は、例えば下記一般式（３）で表される化合物とフェノール類とを酸触媒の存在下で縮合反応させることにより得ることができる。 
【００２３】
【化５】
2009037114.tif 000006
（式中、Ｘはハロゲン原子、水酸基、又は低級アルコキシ基を表す。Ｒは一般式（１）におけるのと同じ意味を表す。） 
【００２４】
上記一般式（３）のＸにおいて、ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子などが、低級アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基などがそれぞれ好ましい基として挙げられる。 
【００２５】
一方、フェノール類とは、フェノール性水酸基を１分子中に１個有する芳香族化合物であり、その具体例としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イソブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、キシレノール、メチルブチルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール等を代表例とするアルキルフェノールの各種ｏ−，ｍ−，ｐ−異性体、又はビニルフェノール、アリルフェノール、プロペニルフェノール、エチニルフェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、又はシクロペンチルフェノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表例とするシクロアルキルフェノール、又はフェニルフェノールなどの置換フェノール類が挙げられる。これらのフェノール類は１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。 
【００２６】
上記縮合反応を行う場合、フェノール類の使用量は一般式（３）で表される化合物１モルに対して好ましくは０．５〜２０モル、特に好ましくは２〜１５モルである。 
【００２７】
上記縮合反応においては酸触媒を用いるのが好ましく、酸触媒としては種々のものが使用できるが、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シュウ酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛などが好ましく、特にｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸が好ましい。これら酸触媒の使用量は特に限定されるものではないが、一般式（３）で表される化合物に対して０．１〜３０重量％用いるのが好ましい。 
【００２８】
上記縮合反応は無溶剤下で、或いは有機溶剤の存在下で行うことができる。有機溶剤を使用する場合の具体例としてはトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。有機溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して５０〜３００重量％が好ましく、特に１００〜２５０重量％が好ましい。反応温度は４０〜１８０℃の範囲が好ましく、反応時間は１〜８時間が好ましい。 
【００２９】
反応終了後、中和処理或は水洗処理を行って生成物のｐＨ値を３〜７好ましくは５〜７に調節する。水洗処理を行う場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、アンモニア、リン酸二水素ナトリウム、更にはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アニリン、フェニレンジアミンなどの有機アミンなどの様々な塩基性物質等を中和剤として用いて処理すれば良い。また、水洗処理は常法に従って行えば良い。例えば反応混合物中に上記中和剤を溶解した水を加え、分液抽出操作を繰り返す方法を採用することができる。 
【００３０】
上記中和処理或いは水洗処理を行った後、減圧加熱下で未反応のジヒドロキシベンゼン類及び溶剤を留去して生成物の濃縮を行って、前記一般式（２）で表される化合物を得ることができる。 
【００３１】
前記一般式（２）で表される化合物から、前記一般式（１）で表される本発明に係るエポキシ樹脂（ａ）を得る方法としては公知の方法が採用できる。例えば、一般式（２）で表される化合物と過剰のエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンの溶解混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を予め添加し、又は添加しながら２０〜１２０℃の温度で１〜１０時間反応させることにより、一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）を得ることができる。 
【００３２】
このエポキシ樹脂（ａ）を得る反応において、アルカリ金属水酸化物はその水溶液を使用しても良く、その場合に該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に減圧下、又は常圧下連続的に水及びエピハロヒドリンを留出させ、更に分液し、水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法であっても良い。 
【００３３】
また、前記一般式（２）で表される化合物とエピハロヒドリンの溶解混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩を触媒として添加し、５０〜１５０℃で１〜５時間反応させて得られる、一般式（２）で表される化合物のハロヒドリンエーテル化物に、アルカリ金属水酸化物の固体又は水溶液を加え、再び２０〜１２０℃の温度で１〜１０時間反応させて脱ハロゲン化水素（閉環）させる方法でも良い。 
【００３４】
このような反応において使用されるエピハロヒドリンの量は、一般式（２）で表される化合物の水酸基１当量に対し通常１〜２０モル、好ましくは２〜１０モルである。また、アルカリ金属水酸化物の使用量は一般式（２）で表される化合物の水酸基１当量に対し通常０．８〜１５モル、好ましくは０．９〜１１モルである。 
【００３５】
更に、反応を円滑に進行させるためにメタノール、エタノールなどのアルコール類の他、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行っても良い。アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し２〜２０重量％、好ましくは４〜１５重量％である。また、非プロトン性極性溶媒を用いる場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し５〜１００重量％、好ましくは１０〜９０重量％である。 
【００３６】
このようなエポキシ化反応の反応生成物を水洗した後、又は水洗することなく、加熱減圧下、例えば１１０〜２５０℃、圧力１．３ｋＰａ（１０ｍｍＨｇ）以下の条件下で、エピハロヒドリンや他の添加溶媒などを除去して、目的とするエポキシ樹脂を得る。 
【００３７】
また、更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂を再びトルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行い、閉環を確実なものにすることもできる。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量はエポキシ化に使用した一般式（２）で表される化合物の水酸基１当量に対して好ましくは０．０１〜０．３モル、特に好ましくは０．０５〜０．２モルである。反応温度は５０〜１２０℃、反応時間は通常０．５〜２時間である。 
【００３８】
反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下、トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することにより、前記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）を得ることができる。 
【００３９】
(2)  不飽和基含有カルボン酸（ｂ） 
不飽和基含有カルボン酸（ｂ）としては、エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和カルボン酸が挙げられ、具体例としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体などのモノカルボン酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルアジピン酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルマレイン酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルアジピン酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルテトラヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルマレイン酸、２−（メタ）アクリロイロキシブチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシブチルアジピン酸、２−（メタ）アクリロイロキシブチルヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシブチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシブチルマレイン酸（メタ）、アクリル酸にε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を付加させたものである単量体、或いはヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートに（無水）コハク酸、（無水）フタル酸、（無水）マレイン酸などの酸（無水物）を付加させた単量体、（メタ）アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。
特に好ましいものは、（メタ）アクリル酸である。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。 
【００４０】
(3)  エポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との反応 
エポキシ樹脂（ａ）中のエポキシ基と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）とを反応させる方法としては公知の手法を用いることができる。例えば、上記エポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）とを、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルホスフィン等を触媒として、有機溶剤中、反応温度５０〜１５０℃で数〜数十時間反応させることにより、エポキシ樹脂にカルボン酸を付加することができる。 
【００４１】
該触媒の使用量は、反応原料混合物（エポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との合計）に対して好ましくは０．０１〜１０重量％、特に好ましくは０．３〜５重量％である。 
【００４２】
また、反応中の重合を防止するために、重合防止剤（例えばメトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等）を使用することが好ましく、その使用量は、反応原料混合物に対して好ましくは０．０１〜１０重量％、特に好ましくは０．１〜５重量％である。 
【００４３】
エポキシ樹脂（ａ）のエポキシ基に不飽和基含有カルボン酸（ｂ）を付加させる割合は、通常９０〜１００モル％である。エポキシ基の残存は保存安定性に悪影響を与えるため、不飽和基含有カルボン酸（ｂ）はエポキシ樹脂（ａ）のエポキシ基１当量に対して、通常０．８〜１．５当量、特に０．９〜１．１当量の割合で反応を行うことが好ましい。 
【００４４】
(4)  多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ） 
エポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との反応物の水酸基に付加させる多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）としては、公知のものが使用でき、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸等の二塩基性カルボン酸又はその無水物；トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸等の多塩基性カルボン酸又はその無水物等が挙げられる。中でも好ましくは、テトラヒドロ無水フタル酸又は無水コハク酸が挙げられる。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。 
【００４５】
多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）の付加率は、エポキシ樹脂（ａ）に不飽和基含有カルボン酸（ｂ）を付加させたときに生成される水酸基の、通常１０〜１００モル％、好ましくは２０〜１００モル％、より好ましくは３０〜１００モル％である。この付加率が多すぎると、現像時の残膜率が低下することがあり、少なすぎると溶解性が不足したり、基板への密着性が不足することがある。 
【００４６】
上記のエポキシ樹脂（ａ）に、不飽和基含有カルボン酸（ｂ）を付加させた後、多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）を付加させる方法としては、公知の方法を用いることができる。 
【００４７】
また、本発明においては、このようにして多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）を付加後、生成したカルボキシル基の一部にエポキシ基含有化合物（ｄ）を付加させても良い。この場合、エポキシ基含有化合物（ｄ）として、光感度を向上させるために、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートや、重合性不飽和基を有するグリシジルエーテル化合物などの、エポキシ基含有不飽和化合物を付加させたり、また、現像性を向上させるために、重合性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物を付加させることもでき、この両者を併用しても良い。重合性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物の具体例としてはフェニル基やアルキル基を有するグリシジルエーテル化合物（ナガセ化成工業（株）製、商品名：デナコールＥＸ−１１１、デナコールＥＸ−１２１、デナコールＥＸ−１４１、デナコールＥＸ−１４５、デナコールＥＸ−１４６、デナコールＥＸ−１７１、デナコールＥＸ−１９２）等がある。 
【００４８】
本発明に係るアルカリ可溶性樹脂は、前述のエポキシ樹脂（ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ）との反応物を更に多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）と反応させて得られる樹脂のカルボキシル基の一部にこのようなエポキシ基含有化合物（ｄ）を付加させて得られる樹脂であっても良い。 
【００４９】
(5)  アルカリ可溶性樹脂の物性等 
本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂のＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は通常７００以上、好ましくは１０００以上であり、通常５００００以下、好ましくは３００００以下である。このアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が小さすぎると、耐熱性、膜強度に劣る傾向があり、大きすぎると現像液に対する溶解性が不足するおそれがる。
なお、アルカリ可溶性樹脂を含む組成物の感度（光硬化させる場合の、露光光源に対する感度）の観点からは、分子量は比較的高いほうが好ましく、具体的には、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が３３００以上が好ましく、３５００以上がより好ましい。分子量の上限値に関しては、上述と同じである。比較的高分子量のアルカリ可溶性樹脂を用いることによる、感度上昇効果は、おそらく（１）通常、光重合による作用で高分子量化せしめている部分を、光重合前から予め若干高分子のものにしておくことにより、光重合の効率を実質的に高めている効果、および（２）基本となる骨格が高分子であることから現像液に対しての耐性が高くなる効果、によるものと推定される。
【００５０】
また、本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂の酸価（ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ）は、通常１０以上、好ましくは５０以上であり、通常２００以下、好ましくは１５０以下である。アルカリ可溶性樹脂の酸価が低すぎると十分な溶解性が得られない場合があり、酸価が高すぎると硬化性が不足し、表面性が悪化する傾向がある。
【００５１】
バインダ樹脂として、上述のアルカリ可溶性樹脂が好ましい理由としては、次のことが考えられる。即ち、親水性黒色材料のうち、例えばチタンブラックなどの酸化チタンは、カーボンブラックに比べて抵抗値が低いという利点があり、例えばＩＰＳ駆動方式に容易に対応可能である。
ここで、チタンブラックは親水性であるため、ブラックマトリクス形成材料中のチタンブラック配合量が少ない方が、より高い撥液性を得ることが可能となり、親液プラズマ耐性は高くなる。
しかし、酸化チタンは黒色度が低い為、十分な光学濃度を確保するためには大量に配合する必要があり、（光重合性組成物が色材以外に含有する）バインダ樹脂の割合が小さくなってしまう。結果として、撥液化処理された際の樹脂ブラックマトリクスの親液プラズマ耐性が低くなってしまう、という問題があった。
そこで、バインダ樹脂として上述のアルカリ可溶性樹脂を用いると、比較的樹脂量が少量であっても、ブラックマトリクス上面においては十分実用的な（高い）親液プラズマ耐性を得ることができるため好ましい。
【００５２】
［１−２−２］その他のバインダ樹脂 
上記の［１−２−１］で述べたバインダ樹脂の他に、或いは［１−２−１］で述べたバインダ樹脂と併用して用いることのできるバインダ樹脂としては、以下のものを挙げることができる。バインダ樹脂は、例えば、特開平７−２０７２１１号、特開平８−２５９８７６号、特開平１０−３００９２２号、特開平１１−１４０１４４号、特開平１１−１７４２２４号、特開２０００−５６１１８号、特開２００３−２３３１７９号などの各公報等に記載される公知の高分子化合物を使用することができるが、その他のバインダ樹脂として好ましいものにつき、以下に説明する。 
（ｉ）：「エポキシ基含有（メタ）アクリレートと、他のラジカル重合性単量体との共重合体に対し、該共重合体が有するエポキシ基の少なくとも一部に不飽和一塩基酸を付加させてなる樹脂、或いは該付加反応により生じた水酸基の少なくとも一部に多塩基酸無水物を付加させて得られるアルカリ可溶性樹脂」
特に好ましい樹脂の一つとして、「エポキシ基含有（メタ）アクリレート５〜９０モル％と、他のラジカル重合性単量体１０〜９５モル％との共重合体に対し、該共重合体が有するエポキシ基の１０〜１００モル％に不飽和一塩基酸を付加させてなる樹脂、或いは該付加反応により生じた水酸基の１０〜１００モル％に多塩基酸無水物を付加させて得られるアルカリ可溶性樹脂」が挙げられる。 
そのエポキシ基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル等が例示できる。中でもグリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。これらのエポキシ基含有（メタ）アクリレートは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
【００５３】
上記エポキシ基含有（メタ）アクリレートと共重合させる他のラジカル重合性単量体としては、下記一般式（４）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートが好ましい。 
【００５４】
【化６】
2009037114.tif 000007
【００５５】
式(４)中、Ｒ1〜Ｒ6は各々独立して、水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ7及びＲ8は各々独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、又は連結して環を形成していてもよい。 
式(４)において、Ｒ7とＲ8が連結して形成される環は、脂肪族環であるのが好ましく、飽和又は不飽和の何れでもよく、又、炭素数が５〜６であるのが好ましい。 
中でも、一般式(４)で表される構造としては、下記式(４a)、(４b)、又は(４c)で表される構造が好ましい。 
バインダ樹脂にこれらの構造を導入することによって、本発明の光重合性組成物をカラーフィルタや液晶表示素子に使用する場合に、該光重合性組成物の耐熱性を向上させたり、該光重合性組成物を用いて形成された画素の強度を増すことが可能である。 
尚、一般式(４)で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
【００５６】
【化７】
2009037114.tif 000008
【００５７】
前記一般式(４)で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートとしては、当該構造を有する限り公知の各種のものが使用できるが、特に下記一般式(５)で表されるものが好ましい。 
【００５８】
【化８】
2009037114.tif 000009
【００５９】
式(５)中、Ｒ9は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ10は前記一般式(４)の構造を示す。 
前記エポキシ基含有（メタ）アクリレートと、他のラジカル重合性単量体との共重合体において、前記一般式(４)で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートに由来する繰返し単位は、「他のラジカル重合性単量体」に由来する繰返し単位中、５〜９０モル％含有するものが好ましく、１０〜７０モル％含有するものが更に好ましく、１５〜５０モル％含有するものが特に好ましい。 
【００６０】
尚、前記一般式(４)で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレート以外の、「他のラジカル重合性単量体」としては、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、スチレン、スチレンのα−、ｏ−、ｍ−、ｐ−アルキル、ニトロ、シアノ、アミド、エステル誘導体等のビニル芳香族類；ブタジエン、２，３−ジメチルブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエン類；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸−ｉｓｏ−プロピル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ネオペンチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボロニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸プロパギル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ナフチル、（メタ）アクリル酸アントラセニル、（メタ）アクリル酸アントラニノニル、（メタ）アクリル酸ピペロニル、（メタ）アクリル酸サリチル、（メタ）アクリル酸フリル、（メタ）アクリル酸フルフリル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ピラニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェネチル、（メタ）アクリル酸クレジル、（メタ）アクリル酸−１，１，１−トリフルオロエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオルエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロ−ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸パーフルオロ−ｉｓｏ−プロピル、（メタ）アクリル酸トリフェニルメチル、（メタ）アクリル酸クミル、（メタ）アクリル酸３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル等の（メタ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリル酸アミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジ−ｉｓｏ−プロピルアミド、（メタ）アクリル酸アントラセニルアミド等の（メタ）アクリル酸アミド；（メタ）アクリル酸アニリド、（メタ）アクリロイルニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル等のビニル化合物類；シトラコン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジエステル類；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド等のモノマレイミド類；Ｎ−（メタ）アクリロイルフタルイミド等が挙げられる。 
【００６１】
これら「他のラジカル重合性単量体」の中で、光重合性組成物に優れた耐熱性及び強度を付与させるためには、スチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、及びモノマレイミドから選択された少なくとも一種を使用することが有効である。特に「他のラジカル重合性単量体」に由来する繰返し単位中、これらスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、及びモノマレイミドから選択された少なくとも一種に由来する繰返し単位の含有割合が、１〜７０モル％であるものが好ましく、３〜５０モル％であるものが更に好ましい。 
尚、前記エポキシ基含有（メタ）アクリレートと、前記他のラジカル重合性単量体との共重合反応には、公知の溶液重合法が適用される。使用する溶剤はラジカル重合に不活性なものであれば特に限定されるものではなく、通常用いられている有機溶剤を使用することができる。 
その溶剤の具体例としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類等の酢酸エステル類；エチレングリコールジアルキルエーテル類；メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；トリエチレングリコールジアルキルエーテル類；プロピレングリコールジアルキルエーテル類；ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、オクタン、デカン等の炭化水素類；石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等の乳酸エステル類；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの溶剤の使用量は得られる共重合体１００重量部に対し、通常３０〜１０００重量部、好ましくは５０〜８００重量部である。溶剤の使用量がこの範囲外では共重合体の分子量の制御が困難となる。 
【００６２】
又、共重合反応に使用されるラジカル重合開始剤は、ラジカル重合を開始できるものであれば特に限定されるものではなく、通常用いられている有機過酸化物触媒やアゾ化合物触媒を使用することができる。その有機過酸化物触媒としては、公知のケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアリルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネートに分類されるものが挙げられる。その具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシル−３、３−イソプロピルヒドロパーオキサイド、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジクミルヒドロパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、イソブチルパーオキサイド、３，３，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。又、アゾ化合物触媒としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスカルボンアミド等が挙げられる。これらの中から、重合温度に応じて、適当な半減期のラジカル重合開始剤が１種又は２種以上使用される。ラジカル重合開始剤の使用量は、共重合反応に使用される単量体の合計１００重量部に対して、０．５〜２０重量部、好ましくは１〜１０重量部である。 
共重合反応は、共重合反応に使用される単量体及びラジカル重合開始剤を溶剤に溶解し、攪拌しながら昇温して行ってもよいし、ラジカル重合開始剤を添加した単量体を、昇温、攪拌した溶剤中に滴下して行ってもよい。又、溶剤中にラジカル重合開始剤を添加し昇温した中に単量体を滴下してもよい。反応条件は目標とする分子量に応じて自由に変えることができる。 
【００６３】
本発明において、前記エポキシ基含有（メタ）アクリレートと前記他のラジカル重合性単量体との共重合体としては、エポキシ基含有（メタ）アクリレートに由来する繰返し単位５〜９０モル％と、他のラジカル重合性単量体に由来する繰返し単位１０〜９５モル％と、からなるものが好ましく、前者２０〜８０モル％と、後者８０〜２０モル％とからなるものが更に好ましく、前者３０〜７０モル％と、後者７０〜３０モル％とからなるものが特に好ましい。 
エポキシ基含有（メタ）アクリレートが少なすぎると、後述する重合性成分及びアルカリ可溶性成分の付加量が不十分となるおそれがあり、一方、エポキシ基含有（メタ）アクリレートが多すぎて、他のラジカル重合性単量体が少なすぎると、耐熱性や強度が不十分となる可能性がある。 
【００６４】
続いて、エポキシ樹脂含有（メタ）アクリレートと、他のラジカル重合性単量体との共重合体のエポキシ基部分に、不飽和一塩基酸（重合性成分）と、多塩基酸無水物（アルカリ可溶性成分）とを反応させる。 
エポキシ基に付加させる不飽和一塩基酸としては、公知のものを使用することができ、例えば、エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和カルボン酸が挙げられる。 
具体例としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、α−位がハロアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基などで置換された（メタ）アクリル酸等のモノカルボン酸等が挙げられる。中でも好ましくは（メタ）アクリル酸である。これらの１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
このような成分を付加させることにより、本発明で用いるバインダ樹脂に重合性を付与することができる。 
【００６５】
これらの不飽和一塩基酸は、通常、前記共重合体が有するエポキシ基の１０〜１００モル％に付加させるが、好ましくは３０〜１００モル％、より好ましくは５０〜１００モル％に付加させる。不飽和一塩基酸の付加割合が少なすぎると、光重合性組成物の経時安定性等に関して、残存エポキシ基による悪影響が懸念される。尚、共重合体のエポキシ基に不飽和一塩基酸を付加させる方法としては、公知の方法を採用することができる。 
【００６６】
更に、共重合体のエポキシ基に不飽和一塩基酸を付加させたときに生じる水酸基に付加させる多塩基酸無水物としては、公知のものが使用できる。 
例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物；無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物等の三塩基以上の酸の無水物が挙げられる。中でも、テトラヒドロ無水フタル酸、及び／又は無水コハク酸が好ましい。これらの多塩基酸無水物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
このような成分を付加させることにより、本発明で用いるバインダ樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。 
【００６７】
これらの多塩基酸無水物は、通常、前記共重合体が有するエポキシ基に、不飽和一塩基酸を付加させることにより生じる水酸基の１０〜１００モル％に付加させるが、好ましくは２０〜９０モル％、より好ましくは３０〜８０モル％に付加させる。この付加割合が多すぎると、現像時の残膜率が低下するおそれがあり、少なすぎると溶解性が不十分となる可能性がある。尚、当該水酸基に多塩基酸無水物を付加させる方法としては、公知の方法を採用することができる。 
【００６８】
更に、光感度を向上させるために、前述の多塩基酸無水物を付加させた後、生成したカルボキシル基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートや重合性不飽和基を有するグリシジルエーテル化合物を付加させてもよい。 
また、現像性を向上させるために、生成したカルボキシル基の一部に、重合性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物を付加させてもよい。 
又、この両方を付加させてもよい。 
重合性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物の具体例としては、フェニル基やアルキル基を有するグリシジルエーテル化合物等が挙げられる。市販品として、例えば、ナガセ化成工業社製の商品名「デナコールＥＸ−１１１」、「デナコールＥＸ−１２１」、「デナコールＥＸ−１４１」、「デナコールＥＸ−１４５」、「デナコールＥＸ−１４６」、「デナコールＥＸ−１７１」、「デナコールＥＸ−１９２」等がある。 
尚、このような樹脂の構造に関しては、例えば特開平８−２９７３６６号公報や特開２００１−８９５３３号公報に記載されており、既に公知である。 
【００６９】
上述のバインダ樹脂の、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００〜１０００００が好ましく、５０００〜５００００が特に好ましい。分子量が３０００未満であると、耐熱性や膜強度に劣る可能性があり、１０００００を超えると現像液に対する溶解性が不足する傾向がある。又、分子量分布の目安として、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比は、２．０〜５．０が好ましい。 
【００７０】
（ｉｉ）：カルボキシル基含有直鎖状アルカリ可溶性樹脂
カルボキシル基含有直鎖状アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を有していれば特に限定されず、通常、カルボキシル基を含有する重合性単量体を重合して得られる。
カルボキシル基含有重合性単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアジピン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルマレイン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルアジピン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルマレイン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシブチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシブチルアジピン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシブチルマレイン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシブチルヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシブチルフタル酸等のビニル系単量体；アクリル酸にε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を付加させたものである単量体；ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートにコハク酸、マレイン酸、フタル酸、或いはそれらの無水物等の酸或いは無水物を付加させた単量体等が挙げられる。これらは複数種使用してもよい。 
中でも好ましいのは、（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸であり、更に好ましいのは、（メタ）アクリル酸である。 
【００７１】
又、カルボキシル基含有直鎖状アルカリ可溶性樹脂は、上記のカルボキシル基含有重合性単量体に、カルボキシル基を有さない他の重合性単量体を共重合させてもよい。 
他の重合性単量体としては、特に限定されないが、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン及びその誘導体等のビニル芳香族類；Ｎ−ビニルピロリドン等のビニル化合物類；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、ポリスチレンマクロモノマー、ポリ２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、ポリエチレングリコールマクロモノマー、ポリプロピレングリコールマクロモノマー、ポリカプロラクトンマクロモノマー等のマクロモノマー類等が挙げられる。これらは複数種併用してもよい。 
特に好ましいのは、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドである。 
【００７２】
カルボキシル基含有直鎖状アルカリ可溶性樹脂が、さらに水酸基を有していてもよい。水酸基含有単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらを上述の各種単量体と共重合させることにより、カルボキシル基および水酸基を有する樹脂を得ることができる。 
【００７３】
カルボキシル基含有直鎖状アルカリ可溶性樹脂として、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸と、メチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルマレイミド等の水酸基を含まない重合性単量体と、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有単量体との共重合体；（メタ）アクリル酸と、メチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体；（メタ）アクリル酸とスチレンとの共重合体；（メタ）アクリル酸とスチレンとα−メチルスチレンとの共重合体；（メタ）アクリル酸とシクロヘキシルマレイミドとの共重合体等が挙げられる。 
顔料分散性に優れる点からは、特にベンジル（メタ）アクリレートを含む共重合体樹脂が好ましい。 
【００７４】
本発明におけるカルボキシル基含有直鎖状アルカリ可溶性樹脂の酸価は、通常３０〜５００ＫＯＨｍｇ／ｇ、好ましくは４０〜３５０ＫＯＨｍｇ／ｇ、さらに好ましくは５０〜３００ＫＯＨｍｇ／ｇである。酸価が小さすぎるとアルカリ現像性に乏しくなる傾向があり、大きすぎると、該樹脂を含む組成物を用いて形成された塗膜の表面が、現像液により荒れて粗面化するおそれがある。
また、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常２０００〜８００００、好ましくは３０００〜５００００、さらに好ましくは４０００〜３００００である。重量平均分子量が小さすぎると、光重合性組成物の安定性に劣る傾向があり、大きすぎると、後述するカラーフィルタや液晶表示装置に使用する場合に、現像液に対する溶解性が悪化する傾向がある。 
【００７５】
（ｉｉｉ）：（ｉｉ）樹脂のカルボキシル基部分に、エポキシ基含有不飽和化合物を付加させた樹脂
前記（ｉｉ）カルボキシル基含有樹脂の、カルボキシル基部分にエポキシ基含有不飽和化合物を付加させた樹脂も特に好ましい。 
エポキシ基含有不飽和化合物としては、分子内にエチレン性不飽和基及びエポキシ基を有するものであれば特に限定されるものではない。 
例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、グリシジル−α−エチルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、（イソ）クロトン酸グリシジルエーテル、Ｎ−（３，５−ジメチル−４−グリシジル）ベンジルアクリルアミド、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル等の非環式エポキシ基含有不飽和化合物も挙げることができるが、耐熱性や、後述する顔料の分散性の観点から、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物が好ましい。 
【００７６】
ここで、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、その脂環式エポキシ基として、例えば、２，３−エポキシシクロペンチル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕基等が挙げられる。又、エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基に由来するものであるのが好ましく、好適な脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、下記一般式(６a)〜(６m)で表される化合物が挙げられる。 
【００７７】
【化９】
2009037114.tif 000010
【００７８】
式(６a)〜(６m)中、Ｒ11は水素原子又はメチル基を、Ｒ12はアルキレン基を、Ｒ13は２価の炭化水素基をそれぞれ示し、ｎは１〜１０の整数である。 
一般式(６a)〜(６m)における、Ｒ12のアルキレン基は、炭素数１〜１０であるものが好ましい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が例示できるが、好ましくはメチレン基、エチレン基、プロピレン基である。又、Ｒ13の炭化水素基としては、炭素数が１〜１０であるものが好ましく、アルキレン基、フェニレン基等が挙げられる。 
【００７９】
これらの脂環式エポキシ基含有不飽和化合物は、１種類を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。 
中でも、一般式(６c)で表される化合物が好ましく、３，４−エポキシシクロヘキシル 
メチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。 
前記（ｉｉ）カルボキシル基含有樹脂のカルボキシル基部分に、前記エポキシ基含有不飽和化合物を付加させるには、公知の手法を用いることができる。例えば、カルボキシル基含有樹脂とエポキシ基含有不飽和化合物とを、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の３級アミン；ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩；ピリジン、トリフェニルホスフィン等の触媒の存在下、有機溶剤中、反応温度５０〜１５０℃で数時間〜数十時間反応させることにより、樹脂のカルボキシル基にエポキシ基含有不飽和化合物を導入することができる。 
【００８０】
エポキシ基含有不飽和化合物を導入したカルボキシル基含有樹脂の酸価は、通常１０〜２００ＫＯＨｍｇ／ｇ、好ましくは２０〜１５０ＫＯＨｍｇ／ｇ、より好ましくは３０〜１５０ＫＯＨｍｇ／ｇである。酸価が小さすぎるとアルカリ現像性に乏しくなる傾向があり、大きすぎると、該樹脂を含む組成物を用いて形成された塗膜の表面が、現像液により荒れて粗面化するおそれがある。
又、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常２０００〜１０００００、好ましくは４０００〜５００００、更に好ましくは５０００〜３００００である。重量平均分子量が小さすぎると、該樹脂を含む組成物を用いて塗膜を形成する際に、タック性が強すぎて作業性が悪化したり、現像液で膜表面が荒れて粗面化する場合がある。
【００８１】
（ｉｖ）：アクリル系樹脂
アクリル系樹脂としては、アクリル酸及び／又はアクリル酸エステルを単量体成分とし、これらを重合してなるポリマーをいう。好ましいアクリル系樹脂としては、例えば、（ｉｖ−１）：（メタ）アクリル酸及びベンジル（メタ）アクリレートを含む単量体成分を重合してなるポリマー、及び（ｉｖ−２）：下記一般式（７）及び／又は（８）で示される化合物を必須とする単量体成分を重合してなるポリマー、を挙げることができる。 
【００８２】
【化１０】
2009037114.tif 000011
【００８３】
式（７）中、Ｒ1ａおよびＲ2ａは、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。 
【００８４】
【化１１】
2009037114.tif 000012
【００８５】
式（８）中、Ｒ１ｂは水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｌ３は２価の連結基又は直接結合を表し、Ｘは下記式（９）で示される基又は置換されていてもよいアダマンチル基を示す。 
【００８６】
【化１２】
2009037114.tif 000013
【００８７】
式（９）中、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基を表し、Ｌ１、Ｌ２は２価の連結基を表す。なお式（８）中のＬ3はＲ３ｂ又はＲ４ｂと結合し、環を形成してもよい。また、Ｌ１、Ｌ２、および前記式（８）中のＬ３の２以上が互いに結合し、環を形成してもよい。 
（ｉｖ−１）：（メタ）アクリル酸及びベンジル（メタ）アクリレートを含む単量体成分を重合してなるポリマー 
（メタ）アクリル酸及びベンジル（メタ）アクリレートを含む単量体成分を重合してなるポリマーは、顔料との親和性が高いという点で、好ましく用いられる。 
単量体成分中における前記（メタ）アクリル酸及びベンジル（メタ）アクリレートの割合は、特に制限されないが、全単量体成分中（メタ）アクリル酸は、通常１０〜９０重量％、好ましくは１５〜８０重量％、さらに好ましくは２０〜７０重量％である。また、ベンジル（メタ）アクリレートは、全単量体成分中、通常５〜９０重量％、好ましくは１５〜８０重量％、さらに好ましくは２０〜７０重量％である。（メタ）アクリル酸の量が多すぎると、現像の際、塗膜表面が荒れやすくなり、少なすぎると、現像不可能になる場合がある。また、ベンジル（メタ）アクリレートの量は、多すぎても少なすぎても、分散が困難になる傾向がある。 
【００８８】
（ｉｖ−２）：一般式（７）及び／又は（８）で示される化合物を必須とする単量体成分を重合してなるポリマー 
まず、一般式（７）の化合物について説明する。 
一般式（７）で表されるエーテルダイマーにおいて、Ｒ1ａおよびＲ2ａで表される置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ステアリル、ラウリル、２−エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔ−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２−メチル−２−アダマンチル等の脂環式基；１−メトキシエチル、１−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。なお、Ｒ1ａおよびＲ2ａは、同種の置換基であってもよいし、異なる置換基であってもよい。 
【００８９】
前記エーテルダイマーの具体例としては、例えば、ジメチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−プロピル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソプロピル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｎ−ブチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソブチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−ブチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−アミル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ステアリル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ラウリル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−エチルヘキシル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−メトキシエチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（１−エトキシエチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジフェニル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ｔ−ブチルシクロヘキシル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（ジシクロペンタジエニル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（トリシクロデカニル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（イソボルニル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジアダマンチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジ（２−メチル−２−アダマンチル）−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、１種のみ単独で使用してもよいし、２種以上併用してもよい。 
【００９０】
前記（ｉｖ）アクリル系樹脂を得る際の、単量体成分中における前記エーテルダイマーの割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、通常２〜６０重量％、好ましくは５〜５５重量％、さらに好ましくは５〜５０重量％である。エーテルダイマーの量が多すぎると、重合の際、低分子量のものを得ることが困難になったり、あるいはゲル化し易くなったりするおそれがあり、一方、少なすぎると、透明性や耐熱性などの塗膜性能が不充分となるおそれがある。 
【００９１】
続いて、一般式（８）の化合物について説明する。 
一般式（８）中、Ｒ1ｂは、好ましくは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子、メチル基である。 
また、一般式（９）中、Ｒ2ｂ、Ｒ3ｂ、Ｒ4ｂの有機基としては、それぞれ独立に、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、カルボキシル基、又はアシルオキシ基等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８のシクロアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数３〜１８のシクロアルケニル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１５のアルキルチオ基、炭素数１〜１５のアシル基、炭素数１のカルボキシル基、又は炭素数１〜１５のアシルオキシ基であり、更に好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１５のシクロアルキル基である。 
Ｒ2ｂ、Ｒ3ｂ、Ｒ4ｂの中で好ましい置換基としては、水素原子、水酸基、炭素数１〜１０のアルキル基である。 
Ｌ1、Ｌ2は２価の連結基、Ｌ3は２価の連結基又は直接結合であれば特に限定を受けないが、少なくともＬ1又はＬ2のどちらかは炭素数１以上の連結基であるのが好ましい。また、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3はそれぞれ独立に、直接結合、炭素数１〜１５のアルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、炭素数１〜１５のアルケニレン、フェニレン、あるいはそれらの組み合わせが好ましい。 
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3の好ましい組合せとしては、Ｌ3は直接結合、炭素数１〜５のアルキレン、又はＲ3ｂあるいはＲ4ｂと結合して形成する環であり、Ｌ1、Ｌ2は炭素数１〜５のアルキレンである。 
また、一般式（９）の好ましいものとしては、下記一般式（１０）で示される化合物を挙げることができる。 
【００９２】
【化１３】
2009037114.tif 000014
【００９３】
式（１０）中、Ｒ2ｂ、Ｒ3ｂ、Ｒ4ｂ、Ｌ1、Ｌ2は、式（９）におけると同義であり、Ｒ5ｂ、Ｒ6ｂはそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、又は有機基を表わす。 
一般式（１０）中、Ｒ5ｂ、Ｒ6ｂの有機基としては、それぞれ独立に、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、カルボキシル基、又はアシルオキシ基等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８のシクロアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数３〜１８のシクロアルケニル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１５のアルキルチオ基、炭素数１〜１５のアシル基、炭素数１のカルボキシル基、又は炭素数１〜１５のアシルオキシ基であり、更に好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１５のシクロアルキル基である。 
Ｒ5ｂ、Ｒ6ｂの中で好ましい置換基としては、水素原子、水酸基、炭素数１〜１０のアルキル基である。 
【００９４】
また、Ｒ1ｂのアルキル基、Ｒ2ｂ、Ｒ3ｂ、Ｒ4ｂ、の各有機基、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3の２価の連結基、Ｘのアダマンチル基は、それぞれ独立して置換基を有していてよく、具体的には以下の置換基を挙げることができる。 
ハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シアノ基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数３〜１８のシクロアルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数３〜１８のシクロアルケニル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、アミルオキシ基、ｔ−アミルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、アミルチオ基、ｔ−アミルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基；ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基；ビニルチオ基、プロペニルチオ基、ヘキセニルチオ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基；−ＣＯＲ17で表されるアシル基；カルボキシル基；−ＯＣＯＲ18で表されるアシルオキシ基；−ＮＲ19Ｒ20で表されるアミノ基；−ＮＨＣＯＲ21で表されるアシルアミノ基；−ＮＨＣＯＯＲ22で表されるカーバメート基；−ＣＯＮＲ23Ｒ24で表されるカルバモイル基；−ＣＯＯＲ25で表されるカルボン酸エステル基；−ＳＯ3ＮＲ26Ｒ27で表されるスルファモイル基；−ＳＯ3Ｒ28で表されるスルホン酸エステル基；２−チエニル基、２−ピリジル基、フリル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチオフェンジオキサイド基等の飽和もしくは不飽和の複素環基；トリメチルシリル基などのトリアルキルシリル基等。 
なお、Ｒ17〜Ｒ28は、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。 
また、上記置換基の位置関係は特に限定されず、複数の置換基を有する場合、同種でも異なっていてもよい。 
一般式（８）で表される化合物の具体例としては下記が挙げられる。 
【００９５】
【化１４】
2009037114.tif 000015
【００９６】
【化１５】
2009037114.tif 000016
【００９７】
本発明に係る（ｉｖ−２）ポリマーを構成する単量体成分中、一般式（８）の割合は、特に制限されないが、通常は全単量体成分中０．５〜６０重量％、好ましくは１〜５５重量％、さらに好ましくは５〜５０重量％である。多すぎると、分散剤として使用する場合、分散体の分散安定性が低下するおそれがあり、一方、少なすぎると、地汚れ適性が低下するおそれがある。 
【００９８】
本発明における（ｉｖ）アクリル系樹脂は、（ｉｖ−１）および（ｉｖ−２）で述べたポリマーを含め、いずれも酸基を有することが好ましい。酸基を有することにより、得られる光重合性組成物が、酸基とエポキシ基が反応してエステル結合を形成する架橋反応（以下、酸−エポキシ硬化と略する）により硬化が可能な光重合性組成物、あるいは未硬化部をアルカリ現像液で顕像可能な組成物、とすることができる。前記酸基としては、特に制限されないが、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、カルボン酸無水物基等が挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。 
【００９９】
アクリル系樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび／または「重合後に酸基を付与しうるモノマー」（以下「酸基を導入するための単量体」と称することもある。）を、単量体成分として使用すればよい。なお「重合後に酸基を付与しうるモノマー」を単量体成分として使用する場合には、重合後に、後述するような酸基を付与するための処理が必要となる。 
【０１００】
前記酸基を有するモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー；Ｎ−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられるが、これらの中でも特に、（メタ）アクリル酸が好ましい。 
前記重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するモノマー；グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー；２−イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。 
これら酸基を導入するための単量体は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。 
【０１０１】
アクリル系樹脂を得る際の単量体成分が、前記酸基を導入するための単量体をも含む場合、その含有割合は特に制限されないが、通常は全単量体成分中５〜７０重量％、好ましくは１０〜６０重量％である。 
また（ｉｖ）アクリル系樹脂は、ラジカル重合性二重結合を有するものであってもよい。 
【０１０２】
前記アクリル系樹脂にラジカル重合性二重結合を導入するには、例えば「重合後にラジカル重合性二重結合を付与しうるモノマー」（以下「ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体」と称することもある。）を、単量体成分として重合した後に、後述するようなラジカル重合性二重結合を付与するための処理を行えばよい。 
重合後にラジカル重合性二重結合を付与しうるモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー；グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマー等が挙げられる。これらラジカル重合性二重結合を導入するための単量体は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。 
【０１０３】
また、（ｉｖ）アクリル系樹脂を得る際の単量体成分が、前記ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体をも含む場合、その含有割合は特に制限されないが、通常は全単量体成分中５〜７０重量％、好ましくは１０〜６０重量％である。 
本発明の（ｉｖ）アクリル系樹脂が、（ｉｖ−２）の項で説明した、前記一般式（７）の化合物を必須の単量体成分とするポリマーである場合、エポキシ基を有することが好ましい。 
エポキシ基を導入するには、例えば、エポキシ基を有するモノマー（以下「エポキシ基を導入するための単量体」と称することもある。）を、単量体成分として重合すればよい。
【０１０４】
前記エポキシ基を有するモノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。これらエポキシ基を導入するための単量体は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。 
また、（ｉｖ）アクリル系樹脂を得る際の単量体成分が、前記エポキシ基を導入するための単量体をも含む場合、その含有割合は特に制限されないが、通常は全単量体成分中５〜７０重量％、好ましくは１０〜６０重量％であるのがよい。単量体成分が少なすぎると、ラジカル重合性二重結合の導入量が少なくなるため反応性が不足するおそれがあり、逆に多すぎると、該樹脂を含む組成物の保存安定性を低下させるおそれがある。
【０１０５】
なお、（ｉｖ）アクリル系樹脂を得る際の単量体成分は、上記必須の単量体成分のほかに、必要に応じて、他の共重合可能なモノマーを含んでいてもよい。 
他の共重合可能なモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸メチル２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；ブタジエン、イソプレン等のブタジエンまたは置換ブタジエン化合物；エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレンまたは置換エチレン化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。 
これらの中でも、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレンが、透明性が良好で、耐熱性を損ないにくい点で好ましい。これら共重合可能な他のモノマーは、１種のみ用いても２種以上を併用してもよい。 
また、特に（ｉｖ）アクリル系樹脂の一部または全部を、後述するように分散剤として用いる場合は、（メタ）アクリル酸ベンジルを用いることが好ましく、その含有量は、通常全単量体成分中１〜７０重量％、好ましくは５〜６０重量％であるのがよい。 
【０１０６】
前記アクリル系樹脂を得る際の単量体成分が、前記共重合可能な他のモノマーをも含む場合、その含有割合は特に制限されないが、９５重量％以下が好ましく、８５重量％以下がより好ましい。 
【０１０７】
次に、（ｉｖ）アクリル系樹脂の製造方法（重合方法）について説明する。 
前記単量体成分の重合方法に特に制限はなく、従来公知の各種方法を採用することができるが、特に、溶液重合法によることが好ましい。なお、重合温度や重合濃度（重合濃度＝［単量体成分の全重量／（単量体成分の全重量＋溶媒重量）］×１００とする）は、使用する単量体成分の種類や比率、目標とするポリマーの分子量によって異なる。重合温度に関しては、好ましくは４０〜１５０℃、さらに好ましくは重合温度６０〜１３０℃である。重合温度が高すぎると反応が不十分となるおそれがあり、また十分に高分子量にならない可能性がある。一方、重合温度が高すぎるとゲル化する場合がある。また重合濃度に関しては、好ましくは重合濃度５〜５０％、さらに好ましくは１０〜４０％である。重合濃度が低すぎると反応が遅くなり、高すぎるとゲル化する可能性がある。
【０１０８】
また、重合時に溶媒を用いる場合には、通常のラジカル重合反応で使用される溶媒を用いればよい。具体的には、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のエステル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これら溶媒は、１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。 
【０１０９】
前記単量体成分を重合する際には、必要に応じて、重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に特に制限は無いが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物；２，２′−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１′−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）等のアゾ化合物が挙げられる。これら重合開始剤は、１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。 
なお、開始剤の使用量は、用いる単量体の組み合わせや、反応条件、目標とするポリマーの分子量等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されないが、ゲル化することなく重量平均分子量が数千〜数万のポリマーを得ることができる点で、通常は全単量体成分に対して０．１〜１５重量％、より好ましくは０．５〜１０重量％である。 
【０１１０】
また分子量調整のために、連鎖移動剤を添加してもよい。連鎖移動剤としては、例えば、ｎ−ドデシルメルカプタン、メルカプト酢酸、メルカプト酢酸メチル等のメルカプタン系連鎖移動剤、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられるが、好ましくは、連鎖移動効果が高く、残存モノマーを低減でき、入手も容易な、ｎ−ドデシルメルカプタン、メルカプト酢酸がよい。連鎖移動剤を使用する場合、その使用量は、用いる単量体の組み合わせや、反応条件、目標とするポリマーの分子量等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されないが、ゲル化することなく重量平均分子量が数千〜数万のポリマーを得ることができる点で、通常は全単量体成分に対して０．１〜１５重量％、より好ましくは０．５〜１０重量％である。 
【０１１１】
なお、一般式（７）の化合物を必須の単量体成分として使用する場合、前記重合反応においては、エーテルダイマーの環化反応が同時に進行するものと考えられるが、このときのエーテルダイマーの環化率は必ずしも１００モル％である必要はない。 
前記アクリル系樹脂を得る際に、単量体成分として、前述した酸基を付与しうるモノマーを用いることにより酸基を導入する場合、重合後に酸基を付与するための処理を行う必要がある。該処理は、用いるモノマーの種類によって異なるが、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートのような水酸基を有するモノマーを用いた場合には、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物等の酸無水物を付加させればよい。グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有するモノマーを用いた場合には、Ｎ−メチルアミノ安息香酸、Ｎ−メチルアミノフェノール等のアミノ基と酸基を有する化合物を付加させるか、もしくは、まず（メタ）アクリル酸のような酸を付加させ、結果生じた水酸基に、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物等の酸無水物を付加させればよい。２−イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマーを用いた場合には、例えば、２−ヒドロキシ酪酸等の水酸基と酸基を有する化合物を付加させればよい。 
【０１１２】
前記アクリル系樹脂を得る際に、単量体成分として、前述したラジカル重合性二重結合を付与しうるモノマーを用いることによりラジカル重合性二重結合を導入する場合、重合後にラジカル重合性二重結合を付与するための処理を行う必要がある。 
該処理は、用いるモノマーの種類によって異なるが、例えば、（メタ）アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマーを用いた場合には、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等の、エポキシ基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させればよい。無水マレイン酸や無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマーを用いた場合には、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の、水酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させればよい。グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−（またはｍ−、またはｐ−）ビニルベンジルグリシジルエーテル等の、エポキシ基を有するモノマーを用いた場合には、（メタ）アクリル酸等の酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させればよい。 
【０１１３】
本発明に用いる（ｉｖ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、特に制限されないが、好ましくはＧＰＣにて測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が２０００〜２０００００、より好ましくは４０００〜１０００００である。重量平均分子量が２０００００を超える場合、高粘度となりすぎ塗膜を形成しにくくなる場合があり、一方２０００未満であると、十分な耐熱性を発現しにくくなる傾向がある。 
前記アクリル系樹脂が酸基を有する場合、好ましい酸価は３０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の場合、アルカリ現像に適用することが難しくなる場合があり、５００ｍｇＫＯＨ／ｇを超える場合、高粘度となりすぎ塗膜を形成しにくくなる傾向がある。 
【０１１４】
尚、前記アクリル系樹脂成分のうち、一般式（７）で示される化合物を必須の単量体成分とするポリマーは、それ自体公知の化合物であり、例えば、特開２００４−３００２０３号公報及び特開２００４−３００２０４号公報に記載の化合物を挙げることが出来る。
【０１１５】
（ｖ）：カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂
エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂にα，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸無水物を反応させることにより合成される。かかる反応生成物は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さず、かつ「アクリレート」に限定されるものではないが、エポキシ樹脂が原料であり、かつ「アクリレート」が代表例であるので、慣用に従いこのように命名したものである。 
【０１１６】
原料となるエポキシ樹脂として、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例えば、油化シェルエポキシ社製の「エピコート８２８」、「エピコート１００１」、「エピコート１００２」、「エピコート１００４」等）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のアルコール性水酸基とエピクロルヒドリンの反応により得られるエポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＮＥＲ−１３０２」（エポキシ当量３２３，軟化点７６℃））、ビスフェノールＦ型樹脂（例えば、油化シェルエポキシ社製の「エピコート８０７」、「ＥＰ−４００１」、「ＥＰ−４００２」、「ＥＰ−４００４等」）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂のアルコール性水酸基とエピクロルヒドリンの反応により得られるエポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＮＥＲ−７４０６」（エポキシ当量３５０，軟化点６６℃））、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニルグリシジルエーテル（例えば、油化シェルエポキシ社製の「ＹＸ−４０００」）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＥＰＰＮ−２０１」、油化シェルエポキシ社製の「ＥＰ−１５２」、「ＥＰ−１５４」、ダウケミカル社製の「ＤＥＮ−４３８」）、（ｏ，ｍ，ｐ−）クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＥＯＣＮ−１０２Ｓ」、「ＥＯＣＮ−１０２０」、「ＥＯＣＮ−１０４Ｓ」）、トリグリシジルイソシアヌレート（例えば、日産化学社製の「ＴＥＰＩＣ」）、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＥＰＰＮ−５０１」、「ＥＰＮ−５０２」、「ＥＰＰＮ−５０３」）、フルオレンエポキシ樹脂（例えば、新日鐵化学社製のカルドエポキシ樹脂「ＥＳＦ−３００」）、脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業社製の「セロキサイド２０２１Ｐ」、「セロキサイドＥＨＰＥ」）、ジシクロペンタジエンとフェノールの反応によるフェノール樹脂をグリシジル化したジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＸＤ−１０００」、大日本インキ社製の「ＥＸＡ−７２００」、日本化薬社製の「ＮＣ−３０００」、「ＮＣ−７３００」）、および下記構造式で示されるエポキシ樹脂（特開平４−３５５４５０号公報参照）、等を好適に用いることができる。 
【化１６】
2009037114.tif 000017
これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
【０１１７】
エポキシ樹脂の他の例としては共重合型エポキシ樹脂が挙げられる。共重合型エポキシ樹脂としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルメチルシクロヘキセンオキサイド、ビニルシクロヘキセンオキサイドなど（以下「共重合型エポキシ樹脂の第１成分」と称す。）とこれら以外の１官能エチレン性不飽和基含有化合物（以下、「共重合型エポキシ樹脂の第２成分」と称す。）、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、スチレン、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、α−メチルスチレン、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、下記一般式（８）で表される化合物から選ばれる１種又は２種以上、とを反応させて得られた共重合体が挙げられる。 
【０１１８】
【化１７】
2009037114.tif 000018
式（１１）中、Ｒ６１は水素又はエチル基、Ｒ６２は水素又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｒは２〜１０の整数である。 
【０１１９】
一般式（１１）の化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、等のアルコキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【０１２０】
上記共重合型エポキシ樹脂の分子量は約１０００〜２０００００が好ましい。また、上記共重合型エポキシ樹脂の第１成分の使用量は、上記共重合型エポキシ樹脂の第２成分に対して好ましくは１０重量％以上、特に好ましくは２０重量％以上であり、好ましくは７０重量％以下、特に好ましくは５０重量％以下である。 
【０１２１】
このような共重合型エポキシ樹脂としては、具体的には日本油脂社製の「ＣＰ−１５」、「ＣＰ−３０」、「ＣＰ−５０」、「ＣＰ−２０ＳＡ」、「ＣＰ−５１０ＳＡ」、「ＣＰ−５０Ｓ」、「ＣＰ−５０Ｍ」、「ＣＰ−２０ＭＡ」等が例示される。 
【０１２２】
原料エポキシ樹脂の分子量は、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量として、通常２００〜２０万、好ましくは３００〜１０００００の範囲である。重量平均分子量が上記範囲未満であると被膜形成性に問題を生じる場合が多く、逆に、上記範囲を越えた樹脂ではα，β−不飽和モノカルボン酸の付加反応時にゲル化が起こりやすく製造が困難となるおそれがある。 
【０１２３】
α，β−不飽和モノカルボン酸としては、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられ、好ましくは、アクリル酸及びメタクリル酸であり、特にアクリル酸が反応性に富むため好ましい。 
エステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルとしては、アクリル酸−２−サクシノイルオキシエチル、アクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル、アクリル酸−２−フタロイルオキシエチル、アクリル酸−２−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、メタクリル酸−２−サクシノイルオキシエチル、メタクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル、メタクリル酸−２−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸−２−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、クロトン酸−２−サクシノイルオキシエチル等が挙げられ、好ましくは、アクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル及びアクリル酸−２−フタロイルオキシエチルであり、特にアクリル酸−２−マレイノイルオキシエチルが好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
【０１２４】
α，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルとエポキシ樹脂との付加反応は、公知の手法を用いることができ、例えば、エステル化触媒存在下、５０〜１５０℃の温度で反応させることにより実施することができる。エステル化触媒としてはトリエチルアミン、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチルアミン等の３級アミン；テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩等を用いることができる。 
【０１２５】
α，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルの使用量は、原料エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対し０．５〜１．２当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．１当量の範囲である。α，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルの使用量が少ないと不飽和基の導入量が不足し、引き続く多塩基酸無水物との反応も不十分となる。また、多量のエポキシ基が残存することも有利ではない。一方、該使用量が多いとα，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルが未反応物として残存する。いずれの場合も硬化特性が悪化する傾向が認められる。 
【０１２６】
α，β−不飽和カルボン酸又はそのエステルが付加したエポキシ樹脂に、更に付加させる多塩基酸無水物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、好ましくは、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、特に好ましい化合物は、無水テトラヒドロフタル酸及びビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
【０１２７】
多塩基酸無水物の付加反応に関しても公知の手法を用いることができ、α，β−不飽和カルボン酸又はそのエステルの付加反応と同様な条件下で継続反応させることにより実施することができる。 
多塩基酸無水物の付加量は、生成するエポキシアクリレート樹脂の酸価が１０〜１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの範囲となるような量が好ましく、更に２０〜１４０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの範囲が特に好ましい。樹脂の酸価が小さすぎるとアルカリ現像性に乏しくなり、また、樹脂の酸価が大きすぎると硬化性能に劣る傾向が認められる。 
【０１２８】
その他、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂としては、例えば特開平６−４９１７４号公報記載のナフタレン含有樹脂；特開２００３−８９７１６、特開２００３−１６５８３０、特開２００５−３２５３３１、特開２００１−３５４７３５号公報記載のフルオレン含有樹脂；特開２００５−１２６６７４、特開２００５−５５８１４、特開２００４−２９５０８４号公報等に記載の樹脂を挙げることができる。 
また、市販のカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂を用いることもでき、市販品としては例えばダイセル社製の「ＡＣＡ−２００Ｍ」等を挙げることが出来る。 
【０１２９】
バインダ樹脂としては、また、例えば特開２００５−１５４７０８号公報などに記載のアクリル系のバインダも用いることができる。 
【０１３０】
本発明におけるバインダ樹脂としては、前述の［１−２−１］および［１−２−２］に示した各種バインダ樹脂のうち１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、前述したとおり、［１−２−１］および［１−２−２］に示した各種バインダ樹脂のうち、最も好ましいものは［１−２−１］アルカリ可溶性樹脂であるが、これと併用する樹脂としては、［１−２−２］に示した（ｖ）：カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が好ましい。
前述の各種バインダ樹脂は、特に後述する分散剤等との併用で、基板上の非画像部に未溶解物が残存することなく、基板との密着性に優れた、高濃度の色画素を形成し得るといった効果を奏し、好ましい。 
本発明に用いる光重合性組成物において、バインダ樹脂の含有割合は、バインダ樹脂の全量として、全固形分中、通常０．１重量％以上、好ましくは１重量％以上であり、又、通常８０重量％以下、好ましくは６０重量％以下である。バインダ樹脂の含有量がこの範囲よりも少ないと、膜が脆くなり、基板への密着性が低下することがある。逆に、この範囲よりも多いと、露光部への現像液の浸透性が高くなり、画素の表面平滑性や感度が悪化する場合がある。
【０１３１】
［１−３］溶剤 
本発明に用いる光重合性組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤は、前記各成分を溶解又は分散させ、粘度を調節する機能を有する。 
かかる溶剤としては、光重合性組成物を構成する各成分を溶解または分散させることができるものであればよく、沸点が１００〜２００℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２０〜１７０℃の沸点をもつものである。 
このような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類； 
【０１３２】
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類； 
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類； 
アミルエーテル、プロピルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類； 
【０１３３】
アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトンのようなケトン類； 
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリンのような１価又は多価アルコール類； 
ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジイソブチレン、ｎ−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類； 
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類； 
【０１３４】
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類； 
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類； 
３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類； 
【０１３５】
ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類； 
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類； 
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類である。 
上記に該当する市販の溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントＮｏ．１及びＮｏ．２、ソルベッソ＃１５０、シェルＴＳ２８  ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム（いずれも商品名）などが挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 
【０１３６】
上記溶剤中、塗布性、表面張力などのバランスが良く、組成物中の構成成分の溶解度が比較的高い点からは、グリコールアルキルエーテルアセテート類が好ましい。 
また、グリコールアルキルエーテルアセテート類は、単独で使用してもよいが、他の溶剤を併用してもよい。併用する溶剤として、特に好ましいのはグリコールモノアルキルエーテル類である。中でも、特に組成物中の構成成分の溶解性からプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。なお、グリコールモノアルキルエーテル類は極性が高く、添加量が多すぎるとレジスト顔料が凝集しやすく、光重合性組成物の粘度が上がっていくなどの保存安定性が低下する傾向があるので、溶剤中のグリコールモノアルキルエーテル類の割合は５％〜３０％が好ましく、５％〜２０％がより好ましい。 
また、１５０℃以上の沸点をもつ溶剤を併用することも好ましい。このような高沸点の溶剤を併用することにより、光重合性組成物は乾きにくくなるが、急激に乾燥することによる顔料分散体の相互関係（後述する）の破壊を起こし難くする効果がある。高沸点溶剤の含有量は、溶剤に対して３％〜５０％が好ましく、５％〜４０％がより好ましく、５％〜３０％が特に好ましい。高沸点溶剤の量が少なすぎると、例えばスリットノズル先端で色材成分などが析出・固化して異物欠陥を惹き起こす可能性があり、また多すぎると組成物の乾燥温度が遅くなり、後述するカラーフィルタ製造工程における、減圧乾燥プロセスのタクト不良や、プリベークのピン跡といった問題を惹き起こすことが懸念される。
なお沸点１５０℃以上の溶剤が、グリコールアルキルエーテルアセテート類であっても、またグリコールアルキルエーテル類であってもよく、この場合は、沸点１５０℃以上の溶剤を別途含有させなくてもかまわない。 
本発明の光重合性組成物において、溶剤の含有割合に特に制限はないが、その上限は通常９９重量％とする。溶剤が９９重量％を超える場合は、溶剤を除く各成分の濃度が小さくなり過ぎて、塗布膜を形成するには不適当となるおそれがある。一方、溶剤含有割合の下限値は、塗布に適した粘性等を考慮して、通常５０重量％、好ましくは５５重量％、更に好ましくは６０重量％である。
【０１３７】
［１−４］分散剤
本発明に用いる光重合性組成物は、分散剤を含有することが好ましい。分散剤は、親水性黒色材料や、必要に応じて用いられるその他の色材を微細に分散させ、且つ、その分散状態を安定化させる作用を有し、分散剤は品質安定上重要となる。
【０１３８】
分散剤としては、ノニオン、カチオン、アニオン等の界面活性剤、高分子分散剤等が挙げられるが、なかでも、高分子分散剤が好ましく、特に１級、２級、若しくは３級アミノ基、ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環等の塩基性官能基を有する高分子分散剤（本発明において、このような塩基性官能基を有する高分子分散剤を「塩基性高分子分散剤」と称す。）が有利に使用される。
【０１３９】
塩基性高分子分散剤としては、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリアリルアミン系分散剤、アクリル系分散剤などが挙げられるが、ウレタン系分散剤が好ましく、例えば、ポリイソシアネート化合物と、同一分子内に水酸基を１個または２個有する化合物と、同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物とを反応させることによって得られる高分子分散剤等が挙げられる。
【０１４０】
上記のポリイソシアネート化合物の例としては、パラフェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ω，ω′−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α，α，α′，α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニルメタン）、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート等のトリイソシアネート、およびこれらの三量体、水付加物、およびこれらのポリオール付加物等が挙げられる。ポリイソシアネートとして好ましいのは有機ジイソシアネートの三量体で、最も好ましいのはトリレンジイソシアネートの三量体とイソホロンジイソシアネートの三量体である。これらのポリイソシアネート化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１４１】
ポリイソシアネートの三量体の製造方法としては、適当な三量化触媒、例えば第３級アミン類、ホスフィン類、アルコキシド類、金属酸化物、カルボン酸塩類等を用いて上記ポリイソシアネート類のイソシアネート基の部分的な三量化を行い、触媒毒の添加により三量化を停止させた後、未反応のポリイソシアネートを溶剤抽出、薄膜蒸留により除去して目的のイソシアヌレート基含有ポリイソシアネートを得る方法が挙げられる。
【０１４２】
同一分子内に水酸基を１個または２個有する化合物としては、ポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリカーボネートグリコール、ポリオレフィングリコール等、およびこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数１〜２５のアルキル基でアルコキシ化されたもの、およびこれら２種類以上の混合物が挙げられる。
【０１４３】
ポリエーテルグリコールとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、およびこれら２種類以上の混合物が挙げられる。
【０１４４】
ポリエーテルジオールとしては、アルキレンオキシドを単独または共重合させて得られるもの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン−プロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシオクタメチレングリコール、およびそれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【０１４５】
ポリエーテルエステルジオールとしては、エーテル基含有ジオールもしくは他のグリコールとの混合物をジカルボン酸またはそれらの無水物と反応させるか、またはポリエステルグリコールにアルキレンオキシドを反応させることによって得られるもの、例えばポリ（ポリオキシテトラメチレン）アジペート等が挙げられる。
【０１４６】
ポリエーテルグリコールとして最も好ましいのはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールまたはこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数１〜２５のアルキル基でアルコキシ化された化合物である。
【０１４７】
ポリエステルグリコールとしては、ジカルボン酸（コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、フタル酸等）またはそれらの無水物とグリコール（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジーオル、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレングリコール、２−メチル−１，８−オクタメチレングリコール、１，９−ノナンジオール等の脂肪族グリコール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン等の脂環族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、Ｎ−メチルジエタノールアミン等のＮ−アルキルジアルカノールアミン等）とを重縮合させて得られたもの、例えばポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレン／プロピレンアジペート等、または前記ジオール類または炭素数１〜２５の１価アルコールを開始剤として用いて得られるポリラクトンジオールまたはポリラクトンモノオール、例えばポリカプロラクトングリコール、ポリメチルバレロラクトンおよびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。ポリエステルグリコールとして最も好ましいのはポリカプロラクトングリコールまたは炭素数１〜２５のアルコールを開始剤としたポリカプロラクトンである。
【０１４８】
ポリカーボネートグリコールとしては、ポリ（１，６−ヘキシレン）カーボネート、ポリ（３−メチル−１，５−ペンチレン）カーボネート等、ポリオレフィングリコールとしてはポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。
【０１４９】
同一分子内に水酸基を１個または２個有する化合物の数平均分子量は通常３００〜１０，０００、好ましくは５００〜６，０００、さらに好ましくは１，０００〜４，０００である。
【０１５０】
同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物において、活性水素、すなわち、酸素原子、窒素原子またはイオウ原子に直接結合している水素原子としては、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基中の水素原子が挙げられ、中でもアミノ基、特に１級アミノ基の水素原子が好ましい。３級アミノ基は特に限定されない。また、３級アミノ基としては、炭素数１〜４のアルキル基を有するアミノ基、またはヘテロ環構造、より具体的には、イミダゾール環またはトリアゾール環が挙げられる。
【０１５１】
同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物を例示するならば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミン等が挙げられる。
【０１５２】
また、３級アミノ基がＮ含有ヘテロ環であるものとして、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアジアゾール環等のＮ含有ヘテロ５員環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環、等のＮ含有ヘテロ６員環が挙げられる。これらのＮ含有ヘテロ環として好ましいものはイミダゾール環またはトリアゾール環である。
【０１５３】
これらのイミダゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、１−（３−アミノプロピル）イミダゾール、ヒスチジン、２−アミノイミダゾール、１−（２−アミノエチル）イミダゾール等が挙げられる。また、トリアゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、５−（２−アミノ−５−クロロフェニル）−３−フェニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３，５−ジオール、３−アミノ−５−フェニル−１Ｈ−１，３，４−トリアゾール、５−アミノ−１，４−ジフェニル−１，２，３−トリアゾール、３−アミノ−１−ベンジル−１Ｈ−２，４−トリアゾール等が挙げられる。
【０１５４】
なかでも、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，３−プロパンジアミン、１−（３−アミノプロピル）イミダゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾールが好ましい。
【０１５５】
分散剤原料の好ましい配合比率はポリイソシアネート化合物１００重量部に対し、同一分子内に水酸基を１個または２個有する数平均分子量３００〜１０，０００の化合物が１０〜２００重量部、好ましくは２０〜１９０重量部、さらに好ましくは３０〜１８０重量部、同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物が０．２〜２５重量部、好ましくは０．３〜２４重量部である。
【０１５６】
反応は、ポリウレタン樹脂製造の公知の方法に従って行われる。反応を行う際の溶媒としては、通常、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類、ダイアセトンアルコール、イソプロパノール、第二ブタノール、第三ブタノール等の水酸基周辺に比較的分子量の大きい置換基をもつアルコール類、例えば第一アルコール以外のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム等の塩化物、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒等の１種または２種以上が用いられる。
【０１５７】
上記反応に際して、通常、ウレタン化反応触媒が用いられる。使用されるウレタン化反応触媒としては、例えば、ジブチルチンジラウレート、ジオクチルチンジラウレート、ジブチルチンジオクトエート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の３級アミン系等の１種または２種以上が挙げられる。
【０１５８】
なお、同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物の導入量は、反応後のアミン価で１〜１００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの範囲に制御するのが好ましい。このアミン価は、より好ましくは５〜９５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの範囲である。ここで、アミン価は、塩基性アミノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてＫＯＨのｍｇ数で表した値である。このアミン価が上記範囲未満であると分散能力が低下する傾向があり、また、上記範囲を超えると現像性が低下しやすくなる。
【０１５９】
なお、以上の反応で作られる高分子分散剤にイソシアネート基が残存する場合にはさらに、アルコールやアミノ化合物で残存イソシアネート基を変性すると生成物の経時安定性が高くなるので好ましい。
【０１６０】
このような塩基性高分子分散剤の重量平均分子量は通常１，０００〜２００，０００、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜５０，０００の範囲である。重量平均分子量が１，０００未満では分散性および分散安定性が劣り、２００，０００を超えると溶解性が低下し、分散性が劣ると同時に反応の制御が困難となる。
なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によってポリスチレン換算により測定される。
【０１６１】
塩基性高分子分散剤としては、市販のものを利用することもでき、例えば、商品名で、ビックケミー社製Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、１６２、１６３、１６４、１６６、１８２、ＥＦＫＡ社製４０４６、ル−ブリゾ−ル社製ソリスパ−ス３８５００、ソリスパ−ス２００００、ソリスパ−ス２４０００、ソリスパース２７０００、ソリスパース２８０００等を挙げることができる。
これらの分散剤は１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【０１６２】
本発明の光重合性組成物中の全固形分量に対するこれらの分散剤の割合は、通常０．０５重量％以上、好ましくは０．１重量％以上、更に好ましくは０．５重量％以上であり、通常１０重量％以下、好ましくは６重量％以下、更に好ましくは５重量％以下である。分散剤の含有割合が少なすぎると、分散安定性が悪化し、再凝集や増粘等の問題が発生する場合がある。逆に多すぎると、相対的に顔料の割合が減るため、着色力が低くなったり、露光による架橋において感度が低下するおそれがある。
【０１６３】
［１−５］光重合開始系
本発明に用いる光重合組成物は、光重合開始系を含有することが好ましい。本発明に用いる光重合性組成物に含まれる光重合開始系は、通常、加速剤および必要に応じて添加される増感色素等の付加剤との混合物（光重合開始系）として用いられる。光重合開始系は、光を直接吸収し、或いは光増感されて分解反応または水素引き抜き反応を起こし、重合活性ラジカルを発生する機能を有する成分である。
【０１６４】
光重合開始系成分を構成する光重合開始系としては、例えば、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載のチタノセン化合物を含むメタロセン化合物や、特開平１０−３９５０３号公報記載のヘキサアリールビイミダゾール誘導体、ハロメチル−ｓ−トリアジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリール−α−アミノ酸類、Ｎ−アリール−α−アミノ酸塩類、Ｎ−アリール−α−アミノ酸エステル類等のラジカル活性剤、α−アミノアルキルフェノン系化合物、特開２０００−８００６８号公報、特開２００６−３６７５０号公報等に記載されているオキシムエステル系開始剤等が挙げられる。
【０１６５】
本発明で用いることができる光重合開始系の具体的な例を以下に列挙する。
２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル化トリアジン誘導体；
【０１６６】
２−トリクロロメチル−５−（２′−ベンゾフリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−〔β−（２′−ベンゾフリル）ビニル〕−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−〔β−（２′−（６″−ベンゾフリル）ビニル）〕−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５一フリル−１，３，４−オキサジアゾール等のハロメチル化オキサジアゾール誘導体；
【０１６７】
２−（２′−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダソール２量体、２−（２′−クロロフェニル）−４，５−ビス（３′−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（２′−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（２′−メトキシフエニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、（４′−メトキシフエニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体等のイミダゾール誘導体；
【０１６８】
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類；
【０１６９】
２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラキノン誘導体；
【０１７０】
ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；
【０１７１】
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−（４′−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体；
【０１７２】
チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；
【０１７３】
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体；
【０１７４】
９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン等のアクリジン誘導体；
【０１７５】
９，１０−ジメチルベンズフェナジン等のフェナジン誘導体；
【０１７６】
ベンズアンスロン等のアンスロン誘導体；
【０１７７】
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１−イル、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−２，６一ジープルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−２，４−ジ−フルオロフエニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジェニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジェニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジェニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等のチタノセン誘導体；
【０１７８】
２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、４−ジメチルアミノエチルベンゾエ−ト、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエ−ト、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン等のα−アミノアルキルフェノン系化合物；
【０１７９】
１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物。
【０１８０】
このオキシムエステル系化合物としては、特に以下に例示する化合物を好ましく用いる
ことができる。
【０１８１】
【化１８】
2009037114.tif 000019
【０１８２】
【化１９】
2009037114.tif 000020
【０１８３】
【化２０】
2009037114.tif 000021
【０１８４】
これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、本発明における光重合開始系としては、オキシムエステル系化合物が特に好ましい。
【０１８５】
光重合開始系成分を構成する加速剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等の複素環を有するメルカプト化合物または脂肪族多官能メルカプト化合物等が用いられる。
【０１８６】
これら光重合開始系および加速剤は、それぞれ１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【０１８７】
具体的な光重合開始系成分としては、例えば、「ファインケミカル」（１９９１年、３月１日号、ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．４）の第１６〜２６頁に記載されている、ジアルキルアセトフェノン系、ベンゾイン、チオキサントン誘導体等のほか、特開昭５８−４０３０２３号公報、特公昭４５−３７３７７号公報等に記載されている、ヘキサアリールビイミダゾール系、Ｓ−トリハロメチルトリアジン系、特開平４−２２１９５８号公報、特開平４−２１９７５６号公報等に記載されている、チタノセンとキサンテン色素、アミノ基またはウレタン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化合物を組み合わせた系、等が挙げられる。
【０１８８】
上記光重合開始系成分の配合割合は、本発明の光重合性組成物中の全固形分中、通常０．１〜４０重量％、好ましくは０．５〜３０重量％である。この配合割合が著しく低いと露光光線に対する感度が低下する原因となることがあり、反対に著しく高いと未露光部分の現像液に対する溶解性が低下し、現像不良を誘起させることがある。
【０１８９】
光重合開始系成分には、必要に応じて、感応感度を高める目的で、画像露光光源の波長に応じた増感色素を配合させることができる。これら増感色素としては、特開平４−２２１９５８号、同４−２１９７５６号公報に記載のキサンテン色素、特開平３−２３９７０３号、同５−２８９３３５号公報に記載の複素環を有するクマリン色素、特開平３−２３９７０３号、同５−２８９３３５号に記載の３−ケトクマリン化合物、特開平６−１９２４０号公報に記載のピロメテン色素、その他、特開昭４７−２５２８号、同５４−１５５２９２号、特公昭４５−３７３７７号、特開昭４８−８４１８３号、同５２−１１２６８１号、同５８−１５５０３号、同６０−８８００５号、同５９−５６４０３号、特開平２−６９号、特開昭５７−１６８０８８号、特開平５−１０７７６１号、特開平５−２１０２４０号、特開平４−２８８８１８号公報に記載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色素等を挙げることができる。
【０１９０】
これらの増感色素のうち好ましいものは、アミノ基含有増感色素であり、更に好ましいものは、アミノ基およびフェニル基を同一分子内に有する化合物である。特に、好ましいのは、例えば、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−アミノベンゾフェノン、４−アミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ［４，５］ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ［６，７］ベンゾオキサゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−チアジアゾール、（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリジン、（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリジン、（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キノリン、（ｐ−ジエチルアミノフェニル）キノリン、（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリミジン、（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリミジン等のｐ−ジアルキルアミノフェニル基含有化合物等である。このうち最も好ましいものは、４，４’−ジアルキルアミノベンゾフェノンである。増感色素もまた１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【０１９１】
本発明に用いる光重合性組成物中に占める増感色素の配合割合は、光重合性組成物中の全固形分中、通常０〜２０重量％、好ましくは０〜１５重量％、更に好ましくは０〜１０重量％である。増感色素が著しく少ないと、露光光源に対する感度向上効果が期待できず、また著しく多いと、未露光部分の現像液に対する溶解性が低下し、現像不良を誘起する場合がある。
【０１９２】
［１−６］顔料 
本発明に用いる光重合性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、前述した親水性黒色材料以外の顔料を併用することができる。顔料は、例えば、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料等各種の色の顔料を使用することができる。又、その化学構造としては、例えばアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンツイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料が挙げられる。この他に種々の無機顔料等も利用可能である。
【０１９３】
無機顔料としては、例えば、硫酸バリウム、硫酸鉛、黄色鉛、ベンガラ、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒等が挙げられる。これらの中では、遮光率、画像特性の観点からカーボンブラックが好ましい。
【０１９４】
無機顔料、有機顔料は、平均粒径が、通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下となるよう分散して使用するのが好ましい。
【０１９５】
本発明に用いる光重合性組成物において、これら顔料は、前述した親水性黒色材料の一部と置き換える形で使用される。その量は、前述したように、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に制限は無いが、通常は、親水性黒色材料の５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下、より好ましくは１０重量％以下を置き換える形で使用される。
【０１９６】
［１−７］単量体 
本発明に用いる光重合性組成物は、単量体を含有するのが好ましい。単量体は、重合可能な低分子化合物であれば特に制限はないが、エチレン性二重結合を少なくとも１つ有する付加重合可能な化合物（以下、「エチレン性化合物」と言う場合がある。）が好ましい。 
エチレン性化合物は、本発明の光重合性組成物が活性光線の照射を受けた場合、前述した光重合開始系の作用により付加重合し、硬化するようなエチレン性二重結合を有する化合物である。尚、本発明における単量体は、いわゆる高分子物質に相対する概念を意味し、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オリゴマーも含まれる。 
【０１９７】
エチレン性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸、モノヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステル、ポリイソシアネート化合物と（メタ）アクリロイル基含有ヒドロキシ化合物とを反応させたウレタン骨格を有するエチレン性化合物等が挙げられる。 
【０１９８】
脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。又、これらアクリレートの（メタ）アクリル酸部分を、イタコン酸部分に代えたイタコン酸エステル、クロトン酸部分に代えたクロトン酸エステル、或いは、マレイン酸部分に代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。 
又、芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシンジ（メタ）アクリレート、ピロガロールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステルは、必ずしも単一物ではなく、混合物であってもよい。代表例としては、（メタ）アクリル酸、フタル酸、及びエチレングリコールの縮合物；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、及びジエチレングリコールの縮合物；（メタ）アクリル酸、テレフタル酸、及びペンタエリスリトールの縮合物；（メタ）アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール、及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。 
【０１９９】
ポリイソシアネート化合物と（メタ）アクリロイル基含有ヒドロキシ化合物とを反応させたウレタン骨格を有するエチレン性化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート；シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート；トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネートと、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ〔１，１，１−トリ（メタ）アクリロイルオキシメチル〕プロパン等の（メタ）アクリロイル基含有ヒドロキシ化合物との反応物が挙げられる。 
【０２００】
その他、本発明に用いられるエチレン性化合物の例としては、エチレンビス（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステル類；ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が挙げられる。 
又、エチレン性化合物は酸価を有する単量体であってもよい。酸価を有する単量体としては、例えば、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能単量体が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールであるものである。これらの単量体は１種を単独で用いてもよいが、製造上、単一の化合物を得ることは難しいことから、２種以上を混合して用いてもよい。又、必要に応じて単量体として酸基を有しない多官能単量体と酸基を有する多官能単量体を併用してもよい。 
【０２０１】
酸基を有する多官能単量体の好ましい酸価としては、０．１〜４０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５〜３０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇである。多官能単量体の酸価が低すぎると現像溶解特性が低下する傾向があり、高すぎると製造や取扱いが困難になる場合があり、また光重合性能が落ちたり、画素の表面平滑性等の硬化性が劣る場合がある。従って、異なる酸基の多官能単量体を２種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能単量体を併用する場合、全体の多官能単量体としての酸基が上記範囲に入るように調整することが好ましい。 
本発明において、より好ましい酸基を有する多官能単量体は、東亞合成社製の「ＴＯ１３８２」として市販されているジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸エステルを主成分とする混合物である。この多官能単量体と他の多官能単量体を組み合わせて使用することもできる。 
【０２０２】
本発明の光重合性組成物において、これらの単量体の含有割合は、全固形分中、通常０重量％以上、好ましくは５重量％以上、更に好ましくは１０重量％以上であり、又、通常８０重量％以下、好ましくは７０重量％以下、更に好ましくは５０重量％以下、特に好ましくは４０重量％以下である。又、前述の顔料に対する比率は、通常０重量％以上、好ましくは５重量％以上、更に好ましくは１０重量％以上、特に好ましくは２０重量％以上であり、又、通常２００重量％以下、好ましくは１００重量％以下、更に好ましくは８０重量％以下である。
単量体の量が少なすぎると、光硬化が不十分となり現像時に密着不良を誘起する要因となるおそれがあり、逆に多すぎると、光硬化が強すぎて現像後の断面が逆テーパー形状となったり、また溶解性が低下して剥離現象を呈したり、抜け不良を発生の原因となる可能性がある。
【０２０３】
［１−８］分散助剤
本発明の光重合性組成物はまた、前述の分散剤に加えて、分散助剤を含有していてもよい。
分散助剤としては、例えば顔料誘導体が挙げられる。
【０２０４】
顔料誘導体としては、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンツイミダゾロン系、キノフタロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インダンスレン系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、ジオキサジン系顔料等の誘導体が挙げられる。顔料誘導体の置換基としてはスルホン酸基、スルホンアミド基およびその４級塩、フタルイミドメチル基、ジアルキルアミノアルキル基、水酸基、カルボキシル基、アミド基等が顔料骨格に直接またはアルキル基、アリール基、複素環基等を介して結合したものが挙げられ、好ましくはスルホンアミド基およびその４級塩、スルホン酸基が挙げられ、より好ましくはスルホン酸基である。またこれら置換基は一つの顔料骨格に複数置換していても良いし、置換数の異なる化合物の混合物でも良い。顔料誘導体の具体例としてはアゾ顔料のスルホン酸誘導体、フタロシアニン顔料のスルホン酸誘導体、キノフタロン顔料のスルホン酸誘導体、アントラキノン顔料のスルホン酸誘導体、キナクリドン顔料のスルホン酸誘導体、ジケトピロロピロール顔料のスルホン酸誘導体、ジオキサジン顔料のスルホン酸誘導体等が挙げられる。
【０２０５】
顔料誘導体の添加量は、本発明の光重合性組成物の全固形分に対して通常０．０１〜４重量％、好ましくは０．０５〜３重量％以下、更に好ましくは０．１〜２重量％である。顔料誘導体の添加量が少ないと分散安定性が悪化し、再凝集や増粘等の問題が発生する場合がある。逆に多すぎても分散安定性への寄与は飽和し、却って色純度の低下を招くことがある。
【０２０６】
［１−９］有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物
本発明の光重合性組成物は、上記成分以外に、更に、有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物を含んでいても良い。
【０２０７】
［１−９−１］有機カルボン酸
有機カルボン酸としては、脂肪族カルボン酸および／または芳香族カルボン酸が挙げられる。脂肪族カルボン酸としては、具体的には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸、グリコール酸、アクリル酸、メタクリル酸などのモノカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸などのジカルボン酸、トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸などのトリカルボン酸などが挙げられる。また、芳香族カルボン酸としては、具体的には、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、フタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸などのフェニル基に直接カルボキシル基が結合したカルボン酸、およびフェニル基から炭素結合を介してカルボキシル基が結合したカルボン酸類等が挙げられる。
【０２０８】
上記有機カルボン酸の中では、モノカルボン酸、ジカルボン酸が好ましく、中でもマロン酸、グルタル酸、グリコール酸が更に好ましく、マロン酸が特に好ましい。
【０２０９】
上記有機カルボン酸の分子量は、通常１０００以下であり、通常５０以上である。上記有機カルボン酸の分子量が大きすぎると地汚れ改善効果が不十分であり、小さすぎると昇華、揮発などにより添加量の減少やプロセス汚染を起こす恐れがある。
【０２１０】
［１−９−２］有機カルボン酸無水物
有機カルボン酸無水物としては、脂肪族カルボン酸無水物および／または芳香族カルボン酸無水物が挙げられ、脂肪族カルボン酸無水物としては、具体的には無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水グルタル酸、無水１，２−シクロヘキセンジカルボン酸、無水ｎ−オクタデシルコハク酸、無水５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸などの脂肪族カルボン酸無水物が挙げられる。芳香族カルボン酸無水物としては、具体的には無水フタル酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、無水ナフタル酸などが挙げられる。
【０２１１】
上記有機カルボン酸無水物の中では、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸が好ましく、無水マレイン酸が更に好ましい。
【０２１２】
上記有機カルボン酸無水物の分子量は、通常８００以下、好ましくは６００以下、更に好ましくは５００以下であり、通常５０以上である。上記有機カルボン酸無水物の分子量が大きすぎると地汚れ改善効果が不十分であり、小さすぎると昇華、揮発などにより添加量の減少やプロセス汚染を起こす恐れがある。
【０２１３】
これらの有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物は、それぞれ１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【０２１４】
これらの有機カルボン酸および／または有機カルボン酸無水物の添加量は、本発明の光重合性組成物の全固形分中、通常０．０１重量％以上、好ましくは０．０３重量％以上、更に好ましくは０．０５重量％以上であり、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、更に好ましくは３重量％以下である。この添加量が少なすぎると十分な添加効果が得られず、多すぎると表面平滑性や感度が悪化し、未溶解剥離片が発生する場合がある。
【０２１５】
［１−１０］その他の固形分
本発明の光重合性組成物には、更に、必要に応じ上記成分以外の固形分を配合できる。このような成分としては、界面活性剤、熱重合防止剤、可塑剤、保存安定剤、表面保護剤、密着向上剤、現像改良剤等が挙げられる。
【０２１６】
［１−１０−１］界面活性剤 
本発明の光重合性組成物は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤は、前述したように分散剤として用いることもできるが、光重合性組成物の表面張力等を調整するために、分散処理より後の工程で配合させることもできる。界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、非イオン性、両性界面活性剤等、各種のものを用いることができるが、電圧保持率や有機溶媒に対する相溶性等の諸特性に悪影響を及ぼす可能性が低い点で、非イオン性界面活性剤を用いるのが好ましい。 
アニオン性界面活性剤としては、例えば、花王社製の「エマール１０」等のアルキル硫酸エステル塩系界面活性剤、花王社製の「ペレックスＮＢ−Ｌ」等のアルキルナフタレンスルフォン酸塩系界面活性剤、花王社製の「ホモゲノールＬ−１８」、「ホモゲノールＬ−１００」等の特殊高分子系界面活性剤等が挙げられる。これらのうち、特殊高分子系界面活性剤が好ましく、特殊ポリカルボン酸型高分子系界面活性剤が更に好ましい。 
【０２１７】
カチオン性界面活性剤としては、例えば、花王社製の「アセタミン２４」等のアルキルアミン塩系界面活性剤、花王社製の「コータミン２４Ｐ」、「コータミン８６Ｗ」等の第４級アンモニウム塩系界面活性剤等が挙げられる。これらのうち、第４級アンモニウム塩系界面活性剤が好ましく、ステアリルトリメチルアンモニウム塩系界面活性剤が更に好ましい。 
非イオン系性界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーン社製の「ＳＨ８４００」；シリコーン社製の「ＫＰ３４１」等のシリコーン系界面活性剤；住友３Ｍ社製の「ＦＣ４３０」；大日本インキ化学工業社製の「Ｆ−４７０」、「Ｆ−４７５」；ネオス社製の「ＤＦＸ−１８」等の弗素系界面活性剤；花王社製の「エマルゲン１０４Ｐ」、「エマルゲンＡ６０」等のポリオキシエチレン系界面活性剤等が挙げられる。これらのうち、シリコーン系界面活性剤が好ましく、ポリジメチルシロキサンにポリエーテル基又はアラルキル基の側鎖が付加された構造を有する、いわゆるポリエーテル変性又はアラルキル変性シリコーン系界面活性剤が更に好ましい。 
【０２１８】
界面活性剤は２種類以上を併用してもよく、例えばシリコーン系界面活性剤／弗素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤／特殊高分子系界面活性剤、弗素系界面活性剤／特殊高分子系界面活性剤の組み合わせ等が挙げられる。中でも、シリコーン系界面活性剤／弗素系界面活性剤の組み合わせが好ましい。 
このシリコーン系界面活性剤／弗素系界面活性剤の組み合わせとしては、例えばポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤／オリゴマー型弗素系界面活性剤の組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、ジーイー東芝シリコーン社製「ＴＳＦ４４６０」／ネオス社製「ＤＦＸ−１８」、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００」／セイミケミカル社製「Ｓ−３９３」、信越シリコーン社製「ＫＰ３４０」／大日本インキ化学工業社製「Ｆ−４７８」、トーレシリコーン社製「ＳＨ７ＰＡ」／ダイキン社製「ＤＳ−４０１」、日本ユニカー社製「Ｌ−７７」／住友３Ｍ社製「ＦＣ４４３０」等の組み合わせが挙げられる。
【０２１９】
本発明の光重合性組成物において、これら界面活性剤の含有割合は、全固形分中、通常０．００１重量％以上、好ましくは０．００５重量％以上、更に好ましくは０．０１重量％以上、特に好ましくは０．０２重量％以上である。又、通常１０重量％以下、好ましくは１重量％以下、更に好ましくは０．１重量％以下、特に好ましくは０．０５重量％以下の範囲で用いられる。界面活性剤の含有割合が低すぎると塗布膜の平滑性、均一性が得難くなり、高すぎても、やはり均一な塗布が難しくなる場合がある。
【０２２０】
［１−１０−２］熱重合防止剤
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロール、カテコール、２，６−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、β−ナフトール等の１種または２種以上が用いられる。熱重合防止剤の添加量は、本発明の光重合性組成物の全固形分に対し０〜３重量％の範囲であることが好ましい。
【０２２１】
［１−１０−３］可塑剤
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等の１種または２種以上が用いられる。これら可塑剤の添加量は、本発明の光重合性組成物の全固形分に対し１０重量％以下であることが好ましい。
【０２２２】
［１−１０−４］その他
その他、保存安定剤、表面保護剤、密着向上剤、現像改良剤等を必要に応じて添加することが出来る。これら成分の添加量は、本発明の光重合性組成物の全固形分に対し合計で２０重量％以下であることが好ましい。
【０２２３】
［２］光重合性組成物の調製方法
［２−１］黒色色材分散液の製造方法
親水性黒色材料、溶剤、および必要に応じて分散剤、その他の成分（親水性黒色材料に併用しうる他の色材を含む）を各々所定量秤量し、分散処理工程において、親水性黒色材料を分散させて液状の黒色色材分散液とする。この分散処理工程では、ペイントコンディショナー（ペイントシェーカー）、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザーなどを使用することができる。この分散処理を行うことによって親水性黒色材料を含む色材が微粒子化されるため、このようにして調製された黒色色材分散液を用いた光重合性組成物は塗布特性が向上し、製品のカラーフィルタ基板の遮光能力が向上する。
【０２２４】
色材を分散処理する際には、前記のバインダ樹脂、または分散助剤などを適宜併用してもよい。例えば、サンドグラインダーを用いて分散処理を行う場合は、０．１〜８ｍｍ径のガラスビーズ、またはジルコニアビーズを用いるのが好ましい。分散処理する際の温度は通常、０℃〜１００℃の範囲、好ましくは室温〜８０℃の範囲に設定する。なお、分散時間は、黒色色材分散液の組成（色材、溶剤、分散剤等）、およびサンドグラインダーの装置の大きさなどにより適正時間が異なるため、適宜調整する必要がある。
【０２２５】
この場合、ＪＩＳ  Ｚ８７４１における２０度鏡面光沢度が１００〜２００の範囲となるように黒色色材分散液の光沢を制御するのが分散の目安である。黒色色材分散液の光沢が低い場合には分散処理が十分でなく荒い色材粒子が残っていることが多く、現像性、密着性、解像性等の点で不十分である。また、光沢値を上記範囲を越えるまで分散処理すると超微粒子が多数生じるために却って分散安定性が損なわれることになりやすい。
【０２２６】
このようにして製造される黒色色材分散液は、上述の如く、色材を分散処理する際に、バインダ樹脂を添加して、本発明の光重合性組成物のバインダ樹脂の一部を含むものであっても良く、このようなバインダ樹脂を含むことにより、黒色色材分散液を製造する際の分散安定性を高めることができる。
【０２２７】
この場合、バインダ樹脂の添加量は、黒色色材分散液中の色材に対して、５〜１００重量％、特に１０〜８０重量％とすることが好ましい。バインダ樹脂の添加量が少なすぎると分散安定性を高める効果が不十分であり、多すぎると親水性黒色材料等色材濃度が低下するため、十分な遮光性が得られない。
【０２２８】
なお、黒色色材分散液中の固形分濃度は、通常１０〜２０重量％程度である。
ここで、「全固形分」とは、溶剤以外の黒色色材分散液の全成分を指す。
【０２２９】
［２−２］光重合性組成物（レジスト）の製造方法
本発明の光重合性組成物は、上記工程により得られた黒色色材分散液と光重合性組成物の成分として他の成分を添加、混合し均一な溶液とすることにより調製される。この場合、光重合性組成物として配合する全成分を同時に混合した液での分散処理は、分散時に生じる発熱のため高反応性の成分が変性するおそれがあるので好ましくない。また、製造工程においては微細なゴミが液中に混じることが多いため、得られた光重合性組成物はフィルタ等により濾過処理するのが望ましい。
【０２３０】
［３］樹脂ブラックマトリクス及びカラーフィルタの製造
次に、本発明の樹脂ブラックマトリクス及びカラーフィルタの製造方法の具体例について説明する。
【０２３１】
カラーフィルタは、透明基板上に、本発明の樹脂ブラックマトリックスを設けた後、通常、赤色、緑色、青色の各色の画素画像を順次形成することにより製造される。
【０２３２】
本発明の光重合性組成物は、特に、カラーフィルタのブラックマトリックス形成用塗布液として使用される。
ブラックレジストに関しては透明基板上に、赤色、緑色、青色の着色樹脂組成物に関しては透明基板上に形成された樹脂ブラックマトリックス形成面上に、各色の画素画像が形成される。
【０２３３】
［３−１］透明基板（支持体）
カラーフィルタの透明基板としては、透明で適度の強度があれば、その材質は特に限定されるものではない。材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホンなどの熱可塑性樹脂製シート、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂などの熱硬化性樹脂シート、または各種ガラスなどが挙げられる。この中でも、耐熱性の観点からガラス、耐熱性樹脂が好ましい。
【０２３４】
透明基板およびブラックマトリックス形成基板には、接着性などの表面物性の改良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤や、ウレタン系樹脂などの各種樹脂の薄膜形成処理などを行っても良い。
【０２３５】
透明基板の厚さは、通常０．０５〜１０ｍｍ、好ましくは０．１〜７ｍｍの範囲とされる。また各種樹脂の薄膜形成処理を行う場合、その膜厚は、通常０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍの範囲である。
【０２３６】
［３−２］樹脂ブラックマトリクスの形成
［３−２−１］塗布膜の形成
ブラックマトリックスの形成にあたっては、本発明の光重合性組成物を透明基板上に塗布、乾燥した後、形成された塗布膜の上にフォトマスクを重ね、このフォトマスクを介して画像露光、現像、必要に応じて熱硬化または光硬化を行う。
【０２３７】
光重合性組成物、着色組成物の塗布は、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などによって行うことができる。中でも、ダイコート法によれば、塗布液使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響が全くなく、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。
【０２３８】
［本発明の樹脂ブラックマトリクスの膜厚について］
本発明の樹脂ブラックマトリクスは、その性質から、インクジェット法にて形成されるカラーフィルタに適用した場合に、その効果が顕著である。インクジェット法カラーフィルタに適用する場合、該樹脂ブラックマトリクスの膜厚は１．４μｍ以上が好ましく、１．６μｍ以上がより好ましく、１．８μｍ以上が特に好ましい。膜厚が１．４μｍ未満の場合、カラーインクを画素バンク（ブラックマトリックスで囲まれた略矩形の凹部）内に噴きつけ、乾燥させたときに、得られる膜厚が不均一になるという問題が生じるおそれがある。なお、均一な膜厚を得るという観点から、膜厚は通常３μｍ以下である。
【０２３９】
このような膜厚を得るためには、前述した各種塗布方法により、乾燥後の膜厚が、目標とする樹脂ブラックマトリクスの膜厚となるように、組成物中の固形分濃度、及び後述する熱硬化処理を行う場合はその工程での熱収縮率を考慮して、塗布時の膜厚を設定すればよい。
【０２４０】
［３−２−２］塗布膜の乾燥
透明基板に光重合性組成物または着色組成物を塗布して形成した塗布膜の乾燥は、ホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブンを使用した乾燥法によるのが好ましい。通常は、予備乾燥の後、再度加熱させて乾燥させる２段乾燥が行われる。予備乾燥の条件は、光重合性組成物または着色組成物中の溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。乾燥時間は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて、通常は４０〜８０℃の温度で１５秒〜５分間の範囲で選ばれ、好ましくは５０〜７０℃の温度で３０秒〜３分間の範囲で選ばれる。
【０２４１】
再加熱乾燥の温度条件は、予備乾燥温度より高い５０〜２００℃、中でも７０〜１６０℃が好ましく、特に７０〜１３０℃が好ましい。また乾燥時間は、加熱温度にもよるが１０秒〜１０分、中でも１５秒〜５分の範囲とするのが好ましい。乾燥温度は、高いほど透明基板に対する塗布膜の接着性が向上するが、高すぎるとバインダ樹脂が分解し、熱重合を誘発して現像不良を生ずる場合がある。なお、この塗布膜の乾燥は、温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う減圧乾燥法により行っても良い。
【０２４２】
［３−２−３］露光工程
画像露光は、乾燥させた光重合性組成物または着色組成物の塗布膜上に、ネガのマトリクスパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線または可視光線の光源を照射して行う。この際、必要に応じ、酸素による塗布膜の感度の低下を防ぐため、塗布膜上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行っても良い。
【０２４３】
画像露光に使用される光源は、特に限定されるものではなく、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルタを利用することもできる。
【０２４４】
［３−２−４］現像工程
現像は、上記画像露光後、有機溶剤、或いは、界面活性剤とアルカリ性化合物とを含む水溶液を用いて行うことができる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料または色材を含ませることができる。
【０２４５】
アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ−・ジ−またはトリエタノールアミン、モノ−・ジ−またはトリメチルアミ、モノ−・ジ−またはトリエチルアミン、モノ−またはジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノ−・ジ−またはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【０２４６】
界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤、アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤が挙げられ、これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【０２４７】
有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、１種を単独で使用しても、２種以上を混合して用いても良く、また、１種または２種以上を水と併用して使用しても良い。
【０２４８】
現像処理の条件は特に制限はなく、通常、現像温度は１０〜５０℃の範囲、中でも１５〜４５℃、特に好ましくは２０〜４０℃で、現像方法は、浸漬現像法、スプレー現像法、ブラシ現像法、超音波現像法などのいずれかの方法によることができる。
【０２４９】
［３−２−５］熱硬化処理
現像後のカラーフィルタ基板には、通常熱硬化処理または光硬化処理、好ましくは熱硬化処理を施す。
熱硬化処理条件は、温度は１００〜２８０℃の範囲、好ましくは１５０〜２５０℃の範囲で選ばれ、時間は５〜６０分間の範囲で選ばれる。
【０２５０】
［３−２−６］フッ素プラズマ処理と酸素プラズマ処理
樹脂ブラックマトリクスが形成された基板は、次にガラス基板面の洗浄処理を目的に酸素プラズマ処理を行い、続いてフッ素プラズマ処理により、樹脂ブラックマトリクス部分の撥液化処理を施される。
【０２５１】
酸素プラズマ条件と、通常これに続いて施されるフッ素プラズマ処理の処理条件に、特に制限はなく、通常一般に行われている条件で処理すればよい。
例えば酸素プラズマ処理は、酸素ガス雰囲気下、圧力１０〜１０００Ｐａ、ＲＦパワー１０〜１０００Ｗ、１〜３０分程度行えばよく、またフッ素プラズマ処理は、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３などのフッ素含有ガス雰囲気下で、圧力１０〜１０００Ｐａ、ＲＦパワー１０〜１０００Ｗ、１〜３０分程度行えばよい。
【０２５２】
このフッ素プラズマ処理により撥液化された樹脂ブラックマトリクスの上面と、前述した現像工程にて親水性黒色材料が露出した側面の撥液性（親液性）の差により、以下に記すインクジェット法による画素形成時に、隣接する画素間の混色が防止され、さらに白抜けの発生も防止されるため、高品質なカラーフィルタを提供することができる。
【０２５３】
［３−２−７］画素の形成方法
次に、赤色、青色、緑色などの各色色材を含む樹脂組成物（インク）を用いた、インクジェット法によるカラーフィルタ用画素の製造方法について説明する。 
インクジェット法では、まず基板上に設けたブラックマトリクスパターン（以下、「画素バンク」と称する。）内に画素形成用のインクをダイレクトに付与し、カラーフィルタを作製する。インクの微小液滴を所望の位置に描画できるため、カラーフィルタの高生産性、低コスト化が達成できる。
【０２５４】
インクジェット法によるカラーフィルタのブラックマトリックス（ＢＭ）は、従来必要とされている遮光機能のみならず、画素バンク内に打ち込まれたＲＧＢインクが混色しないための隔壁としての機能も果たしているため、従来のフォトリソグラフィー法によるカラーフィルタの場合に比べ、前述したように膜厚が厚いという特徴がある。また、ＲＧＢインクの混色を防ぐために、ブラックマトリクスの上面に撥液処理を施す場合が多い。 
従って、この点からも、従来用いられてきた金属クロム、酸化クロム、窒化クロム等のクロム化合物や、ニッケルとタングステン合金等の遮光金属材料からなるブラックマトリックスより、黒色色材を含む感光性材料を用いて形成された、樹脂ブラックマトリクス（ＢＭ）の方が好ましい。 
【０２５５】
本発明のカラーフィルタは、画素バンク内に、画素形成用の着色インクを用いてインクジェット装置により描画し、乾燥および光硬化および／または熱硬化にて該組成物を完全に硬化させ、画素を形成することによりカラーフィルタを得る。画素形成用の着色インクとしては、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色が使用される場合が多いが、これらに限定されない。
【０２５６】
画素形成用インクの塗膜の乾燥には、ホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブン等の加熱乾燥を用いることができ、好ましい乾燥条件は４０〜１５０℃、乾燥時間は１０秒〜６０分の範囲である。また減圧(真空)乾燥を用いることもでき、好ましい乾燥条件は０．１〜１Ｔｏｒｒ、乾燥時間は１０秒〜６０分の範囲である。さらに両者を併用することもでき、順次または同時に行うこともできる。 
【０２５７】
また、画素形成用インクを光硬化により硬化させる場合、露光に用いる光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源やアルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。特定の照射光の波長のみを使用する場合には光学フィルタを利用することもできる。
【０２５８】
［３−２−８］透明電極の形成
本発明に係るカラーフィルタは、このままの状態で画像上にＩＴＯなどの透明電極を形成して、カラーディスプレー、液晶表示装置などの部品の一部として使用されるが、表面平滑性や耐久性を高めるため、必要に応じ、画像上にポリアミド、ポリイミドなどのトップコート層を設けることもできる。
また一部、平面配向型駆動方式（ＩＰＳモード）などの用途においては、透明電極を形成しないこともある。
【０２５９】
［４］液晶表示装置（パネル）
次に、本発明の液晶表示装置（パネル）の製造法の具体例について説明する。
【０２６０】
本発明の液晶表示装置は、通常、上記本発明のカラーフィルタ上に配向膜を形成し、この配向膜上にスペーサーを散布した後、対向基板と貼り合わせて液晶セルを形成し、形成した液晶セルに液晶を注入し、対向電極に結線して作製される。
【０２６１】
配向膜としては、ポリイミド等の樹脂膜が好適である。配向膜の形成には、通常、グラビア印刷法および／またはフレキソ印刷法が採用され、配向膜の厚さは通常数１０ｎｍとされる。配向膜は熱焼成によって硬化処理された後、紫外線の照射やラビング布による処理によって表面処理され、液晶の傾きを調整し得る表面状態に加工される。
【０２６２】
スペーサーは、対向基板とのギャップ（隙間）に応じた大きさのものが用いられ、通常
２〜８μｍのものが好適である。カラーフィルタ基板上に、フォトリソグラフィ法によって透明樹脂膜のフォトスペーサー（ＰＳ）を形成し、これをスペーサーの代わりに活用することもできる。
対向基板としては、通常、アレイ基板が用いられ、特にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板が好適である。
対向基板との貼り合わせのギャップは、液晶表示装置の用途によって異なるが、通常２〜８μｍの範囲で選ばれる。対向基板と貼り合わせた後、液晶注入口以外の部分は、エポキシ樹脂等のシール材によって封止する。シール材は、紫外線（ＵＶ）照射および／または加熱することによって硬化させ、液晶セル周辺がシールされる。
【０２６３】
周辺をシールされた液晶セルは、パネル単位に切断した後、真空チャンバー内で減圧とし、上記液晶注入口を液晶に浸漬した後、チャンバー内をリークすることによって、液晶を液晶セル内に注入する。液晶セル内の減圧度は、通常、１×１０−２〜１×１０−７Ｐａであるが、好ましくは１×１０−３〜１×１０−６Ｐａである。また、減圧時に液晶セルを加温するのが好ましく、加温温度は通常３０〜１００℃であり、より好ましくは５０〜９０℃である。減圧時の加温保持は、通常１０〜６０分間の範囲とされ、その後液晶中に浸漬される。液晶を注入した液晶セルは、液晶注入口をＵＶ硬化樹脂を硬化させて封止することによって、液晶表示装置（パネル）が完成する。
【０２６４】
液晶の種類には特に制限はなく、芳香族系、脂肪族系、多環状化合物等、従来から知られている液晶が用いられ、リオトロピック液晶、サーモトロピック液晶等のいずれでも良い。サーモトロピック液晶には、ネマティック液晶、スメスティック液晶およびコレステリック液晶等が知られているが、いずれであっても良い。
【０２６５】
実施例
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。尚、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
本発明において、白抜けについては、「重なり高さ」により評価を行う。重なり高さとは、図１に示すように画素内に吐出したカラーインクを乾燥させた後における、ブラックマトリックスに接する部分でのカラーインクの膜厚のことである。重なり高さが非常に小さい、例えば0.1μｍ以下である場合は、透過光で観察した際に白抜けが観察される。白抜け防止という観点からは重なり高さは大きいほど良い。
なお、以下の合成例、実施例および比較例中で、「部」とあるのはいずれも「重量部」を意味する。
【０２６６】
（合成例１）
日本化薬（株）製エポキシ樹脂「ＮＣ３０００Ｈ」（エポキシ当量２８８、軟化点６９℃。前記一般式（１）におけるＰ＝Ｈ、Ｒ＝Ｈ。）４００部、アクリル酸１０２部、ｐ−メトキシフェノール  ０．３部、トリフェニルホスフィン  ５部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ２６４部を反応容器に仕込み、９５℃で酸価が３ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下になるまで撹拌した。酸価が目標に達するまで９時間を要した（酸価２．２）。次いで、更にテトラヒドロ無水フタル酸  １５１部を添加し、９５℃  で４時間反応させ、酸価１０２、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量３９００のバインダ樹脂溶液１を得た。
【０２６７】
（合成例２）「ＮＣ３０００Ｈ」の代わりに、これと同様の構造で分子量３９００のエポキシ樹脂（前記一般式（１）において、Ｐ＝Ｈ、Ｒ＝Ｈ）を用い、合成例１に準じた合成方法で、酸価１０２ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量６８００の  バインダ樹脂溶液２を得た。
【０２６８】
（合成例３）
日本化薬（株）製「ＸＤ１０００」（ジシクロペンタジエン・フェノール重合物のポリグリシジルエーテル、重量平均分子量７００、エポキシ当量２５２）３００部、アクリル酸８７部、ｐ−メトキシフェノール０．２部、トリフェニルホスフィン５部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５５部を反応容器に仕込み、１００℃で酸価が３．３０ｍｇＫＯＨ／ｇになるまで撹拌した。酸価が目標に達するまで９時間を要した（酸価２．５）。次いで更にテトラヒドロ無水フタル酸１４５部を添加し、１２０℃で４時間反応させ、酸価１００、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量２６００のバインダ樹脂溶液３を得た。
【０２６９】
（合成例４）
特願２００６−３４３０６５号公報に記載の合成方法により、下記化合物を得た。
【化２１】
2009037114.tif 000022
【０２７０】
（合成例５） 
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４００重量部を仕込み、窒素置換したあと、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。 
一方、モノマー槽中にジメチル−２，２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート１０重量部、メタクリル酸１５重量部、メタクリル酸メチル２０重量部、メタクリル酸ベンジル５５重量部、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート２．６重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０重量部を仕込み、連鎖移動剤槽にｎ−ドデシルメルカプタン５．２重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２７重量部を仕込み、反応槽の温度が９０℃に安定してからモノマー槽および連鎖移動剤槽から滴下を開始し、重合を開始させた。
温度を９０℃に保ちながら滴下をそれぞれ１３５分かけて行い、滴下が終了して６０分後に昇温を開始して反応槽を１１０℃にした。３時間、１１０℃を維持した後、室温まで冷却し、重量平均分子量９２００，酸価１０７ｍｇＫＯＨ／ｇの３０重量％重合体溶液を得た。
【実施例１】
【０２７１】
（チタンブラック分散液ａの調製）
チタンブラック（三菱マテリアル社製「１３Ｍ−Ｃ」）１００重量部、ビッグケミー社製分散剤「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２」を２０重量部の割合で、かつ固形分濃度が３６重量％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を加えた。これを撹拌機により十分に撹拌しプレミキシングを行った。
次に、分散機（ピコミル）により分散処理を行った。ビーズは０．５ｍｍ径のジルコニアビーズを用い、分散液と同じ重量を加えた。５時間後、７０°鏡面光沢度が１４０となった時点で分散を終了し、フィルタによりビーズと分散液を分離して、チタンブラック分散液ａを調製した。  
【０２７２】
（ブラックレジストの調製）  
チタンブラック分散液ａを用い、固形分として下記の配合割合となるように各成分を加え、スターラーにより攪拌、溶解させて、チタンブラックレジストを調整した。
＜配合割合＞
チタンブラック分散液ａ：固形分として６２．４ｇ
バインダ樹脂：合成例２で得られたバインダ樹脂溶液２：固形分として１８．３ｇ
バインダ樹脂：合成例３で得られたバインダ樹脂溶液３：固形分として、３．７ｇ
モノマー：ジペンタエリスリトールエキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：１．１ｇ
光重合開始系：合成例４で得られた化合物４：１４．０ｇ
有機溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）：２３５ｇ
有機溶剤：３−メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）：１００ｇ
界面活性剤：住友３Ｍ社製フッ素系界面活性剤「Ｆ−４７５」：組成物中の濃度が２００ｐｐｍとなる量
【０２７３】
（画素形成用着色樹脂組成物の調製）
色材としてピグメントグリーン３６を８．６ｇ、ピグメントイエロー１５０を８．６ｇ、分散剤として下記の部分構造を有するビックケミー社製「ＢＹＫ−ＬＰＮ６９１９」を５．８ｇ、合成例５で得られた樹脂を５．８ｇ、溶媒としてジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＤＥＧＢＥＡ）１１５．２ｇを混合し、攪拌均一化した後に、粒子径０．５ｍｍのジルコニアビーズを３００ｇ加え、ペイントコンディショナーで５時間振とうして分散処理し、色材分散液を作製した。
また別途、バインダ樹脂としてダイセル化学社製エポキシ樹脂「ＥＨＰＥ３１５０」を１０．５ｇ、重合開始剤としてチバガイギー社製イルガキュアー９０７を１．４ｇ、溶媒としてブチルカルビトールアセテート１６．２ｇを混合して、クリアーベースを作製した。
上記色材分散液７２．０ｇを攪拌しながら、上記クリアーベース２８．０ｇを滴下混合した後、５μｍのメンブレンフィルタで濾過して、均一な着色樹脂組成物を得た。
＜分散剤：ビックケミー社製「BYK-LPN6919」＞
３級アミノ基を有するメタクリル系Ａ−Ｂブロック共重合体である分散剤。重量平均分子量Ｍｗは９０００、アミン価は１２１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、Ａブロックにおける「側鎖にアミノ基を有する繰り返し単位」が下記式（ｉ）で表される構造であり、下記式（ii）で表される繰り返し単位の、Ｂブロックにおける割合は１１モル％である。
【化２２】
2009037114.tif 000023
【０２７４】
なおアミン価は、以下の方法で測定した。
＜アミン価の測定＞
１００ｍＬのビーカーに分散剤試料（分散剤そのもの、または分散剤溶液）の０．５〜１．５ｇを精秤し、５０ｍＬの酢酸で溶解した。ｐＨ電極を備えた自動滴定装置を使って、この溶液を０．１ｍｏｌ／Ｌ  ＨＣＬＯ４酢酸溶液にて中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点とし次式によりアミン価を求めた。
アミン価  ［ｍｇＫＯＨ／ｇ］＝（５６１×Ｖ）／（Ｗ×Ｓ）
（但し、Ｗ：分散剤試料秤取量［ｇ］、Ｖ：滴定終点での滴定量［ｍＬ］、Ｓ：分散剤試料の固形分濃度［ｗｔ％］である。）
【０２７５】
（樹脂ブラックマトリクスの形成）
１０ｃｍ角０．７ｍｍ厚の旭ガラス社製無アルカリガラス基板（ＡＮ６３５）に、上記チタンブラックレジストをスピンコーターにて塗布し、フォトマスクを介して高圧水銀灯により塗膜を露光させ、温度２５℃、濃度０．８重量％の炭酸ナトリウム水溶液によりスプレー現像を行い、さらにオーブンにてポストベーク処理を行って、膜厚２μｍ、７００μｍ×２２０μｍの長方形の開口部を有するブラックマトリックスパターンを作製した。
【０２７６】
上記ブラックマトリックスパターンに対し、サムコ（株）社製「ＰＣ−３００」を用いて、下記条件（１）（２）の順にプラズマ処理を行ったところ、ブラックマトリクス上面の、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートに対する接触角は６０°であり、十分な撥液性が得られた。
＜プラズマ処理条件＞
・  ガス：Ｏ２、圧力：２５Ｐａ、ＲＦパワー：１００Ｗ、処理時間：１分
・  ガス：ＣＦ４、圧力：８０Ｐａ、ＲＦパワー：３００Ｗ、処理時間：１０分
続いてインクジェット法により、上記ブラックマトリックスパターンで形成された画素バンク中央部分に、上記着色樹脂組成物を１８００ｐｌだけ吐出した。その後、１００Ｐａの条件で１０分間減圧乾燥を行った。
【０２７７】
乾燥後の画素部分の形状をレーザー顕微鏡で観察したところ、ブラックマトリックスと接する部分の重なり高さが０．５μｍとなり、白抜けは観察されなかった。白抜けが観察されなかったということは、ＢＭ側面部は親液化されていることを意味しており、ＢＭ上面が側面よりも撥液性が高い（ＢＭ側面が上面よりも親液性である）ことが分かる。
【０２７８】
（比較例１）
（樹脂被覆カーボンブラック分散液ｂの調製）
樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学（株）製）２０重量部、ビッグケミー社製樹脂Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２を３．５重量部の割合で、かつ固形分濃度が２４重量％となるようにＰＧＭＥＡを加えた。これを撹拌機により十分に撹拌しプレミキシングを行った。
次に、分散機（ピコミル）により分散処理を行った。ビーズは０．５ｍｍ径のジルコニアビーズを用い、分散液と同じ重量を加えた。８時間後、７０°鏡面光沢度が１００となった時点で分散を終了し、フィルタによりビーズと分散液を分離して、樹脂被覆カーボンブラック分散液ｂを調製した。  
【０２７９】
（ブラックレジストの調製）  
樹脂被覆カーボンブラック分散液ｂを用い、固形分として下記の配合割合となるように各成分を加え、スターラーにより攪拌、溶解させて、カーボンブラックレジスト感光液を調整した。
＜配合割合＞
樹脂被覆カーボンブラック分散液ｂ：固形分として３６．８ｇ
バインダ樹脂：合成例１で得られたバインダ樹脂溶液１：固形分として１１．１ｇ
バインダ樹脂：合成例３で得られたバインダ樹脂溶液３：固形分として、３３．４ｇ
モノマー：ジペンタエリスリトールエキサアクリレート（ＤＰＨＡ）：４．１ｇ
光重合開始系：合成例４で得られた化合物４：１４．０ｇ
有機溶剤（ＰＧＭＥＡ）：２３５ｇ
有機溶剤（ＭＢＡ）：１００ｇ
界面活性剤：住友３Ｍ社製フッ素系界面活性剤「Ｆ−４７５」：レジスト液中の濃度が２００ｐｐｍとなる量
【０２８０】
実施例１と同様に、ガラス基板上に、上記カーボンブラックレジスト感光液を塗布し、露光、現像、ポストベーク処理を行って、膜厚２μｍ、７００μｍ×２２０μｍの長方形の開口部を有するブラックマトリックスパターンを作製した。
【０２８１】
上記ブラックマトリックスパターンを実施例１と同様にプラズマ処理を行ったところ、ブラックマトリクス上面のブチルカルビトールアセテートに対する接触角は６１°であり、十分な撥液性が得られた。
これらの基板に、実施例１で作製した着色樹脂組成物を用い、実施例１と同様に吐出、乾燥試験を行った。
乾燥後の基板形状をレーザー顕微鏡で観察したところ、ブラックマトリックスと接する部分の重なり高さは０．０μｍであり、白抜けが観察された。
【産業上の利用可能性】
【０２８２】
本発明によれば、ブラックマトリックスのプラズマ処理において、高い親液プラズマ耐性を有し、さらに白抜けが少ない１層構造のブラックマトリックスを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０２８３】
【図１】図１は、ブラックマトリックスに接する部分でのカラーインクの膜厚（重なり高さ）を示す図である。
【符号の説明】
【０２８４】
１  画素
２  樹脂ブラックマトリクス
【図１】
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