(57)【要約】【課題】ＩＴＯフィルムと代替可能であり、高い初期表面抵抗を有する透明積層フィルムを提供すること。【解決手段】透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と、Ａｌを主成分とし、ＴａまたはＮｄを含有するアルミニウム系薄膜とが積層されている透明積層フィルムとする。上記アルミニウム系薄膜は、Ｔａおよび／またはＮｄを０．５〜５原子％の範囲内で含有することが好ましい。また、上記アルミニウム系薄膜の少なくとも一方面に、上記金属酸化物を構成する金属より主に構成される第１バリア薄膜、または、上記金属酸化物を構成する金属の酸化物より主に構成される第２バリア薄膜が形成されていることが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、
金属酸化物薄膜と、
Ａｌを主成分とし、Ｔａおよび／またはＮｄを含有するアルミニウム系薄膜とが積層されていることを特徴とする透明積層フィルム。
【請求項２】
前記アルミニウム系薄膜は、Ｔａおよび／またはＮｄを０．５〜５原子％の範囲内で含有することを特徴とする請求項１に記載の透明積層フィルム。
【請求項３】
前記アルミニウム系薄膜の少なくとも一方面に、
前記金属酸化物を構成する金属より主に構成される第１バリア薄膜、または、
前記金属酸化物を構成する金属の酸化物より主に構成される第２バリア薄膜が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の透明積層フィルム。
【請求項４】
前記第１バリア薄膜の膜厚は、０．５〜１．５ｎｍの範囲内にあり、
前記第２バリア薄膜の膜厚は、２〜１０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項３に記載の透明積層フィルム。
【請求項５】
前記金属酸化物薄膜は、チタン酸化物薄膜であり、
前記第１バリア薄膜は、チタン薄膜であり、
前記第２バリア薄膜は、チタン酸化物薄膜であることを特徴とする請求項３または４に記載の透明積層フィルム。
【請求項６】
前記金属酸化物薄膜は、有機分を含むことを特徴とする請求項１から５の何れかに記載の透明積層フィルム。
【請求項７】
タッチパネルの電極基板として用いられることを特徴とする請求項１から６の何れかに記載の透明積層フィルム。
【請求項８】
一対の電極基板が互いの導電面同士が対向するように配置されており、
タッチ位置のＸ座標の検出が一方の電極基板により行われ、タッチ位置のＹ座標の検出が他方の電極基板により行われるタッチパネルであって、
少なくとも一方の電極基板として、請求項１から７の何れかに記載の透明積層フィルムを用いたことを特徴とするタッチパネル。
【請求項９】
４線式抵抗膜方式であることを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明積層フィルムおよびタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイ分野において、導電性を示す透明積層フィルムの需要が増加している。この種の透明積層フィルムとしては、透明樹脂フィルムの表面にＩＴＯ薄膜を一層積層したＩＴＯフィルムが、代表的なものとして知られている。
【０００３】
最近では、透明樹脂フィルムの表面に、複数の薄膜を積層した多層構造の透明積層フィルムも提案されるようになっている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、酸化チタン層、銀層、酸化チタン層をこの順に積層した透明積層フィルムが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３１０４０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の透明積層フィルムは、以下の点で問題があった。
【０００７】
すなわち、透明積層フィルムは、用途に応じて、所定の透明性、表面抵抗値を有することが要求される。従来知られるＩＴＯフィルムは、比較的透明性が高く、表面抵抗も大きい。そのため、例えば、広く普及している４線式抵抗膜方式のタッチパネルの電極基板用途には、ＩＴＯフィルムが好適に用いられてきた。
【０００８】
しかし、ＩＴＯフィルムは、比較的コストが高い。また、ＩＴＯは柔軟性に劣るため割れも生じやすい。さらに、ＩＴＯを構成するインジウムの資源枯渇も懸念されている。
【０００９】
そこで、ＩＴＯフィルムの代替品として、透明樹脂フィルムの表面に酸化チタン薄膜と銀薄膜とを交互に積層した多層構造の透明積層フィルムを適用することが考えられる。
【００１０】
この透明積層フィルムは、比較的透明性が高く、また、銀薄膜の導電性が極めて良好なため表面抵抗が小さい。そのため、高透明性、低表面抵抗が要求される電磁波シールドなどの用途には好適に用いることができる。
【００１１】
しかし、用途によってはＩＴＯフィルムの代替品としてそのまま適用することが困難な場合があった。例えば、４線式抵抗膜方式のタッチパネルでは、その原理上、比較的高い表面抵抗の電極基板が必要になる。そのため、上記多層構造の透明積層フィルムをそのまま適用することができないといった問題があった。それ故、高コストなＩＴＯフィルムを使用せざるを得なかった。
【００１２】
なお、銀薄膜を極めて薄くすることができれば、上記積層構造を採用しても高表面抵抗化を図ることが可能であると考えられる。ところが、銀薄膜を薄くしていくと、銀薄膜が不連続になって不安定になりやすく、耐久性などを考慮すると現実的な対応ではない。
【００１３】
このように、ＩＴＯフィルムと代替可能であり、高表面抵抗を有する透明積層フィルムが要求されることがあるが、そのような透明積層フィルムは存在していないのが実情であった。
【００１４】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、本発明が解決しようとする課題は、ＩＴＯフィルムと代替可能であり、高い初期表面抵抗を有する透明積層フィルムを提供することにある。また、これを用いたタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と、Ａｌを主成分とし、Ｔａおよび／またはＮｄを含有するアルミニウム系薄膜とが積層されていることを要旨とする。
【００１６】
ここで、上記アルミニウム系薄膜は、Ｔａおよび／またはＮｄを０．５〜５原子％の範囲内で含有することが好ましい。
【００１７】
また、上記アルミニウム系薄膜の少なくとも一方面には、上記金属酸化物を構成する金属より主に構成される第１バリア薄膜、または、上記金属酸化物を構成する金属の酸化物より主に構成される第２バリア薄膜が形成されていることが好ましい。
【００１８】
また、上記第１バリア薄膜の膜厚は、０．５〜１．５ｎｍの範囲内にあり、上記第２バリア薄膜の膜厚は、２〜１０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００１９】
また、上記金属酸化物薄膜は、チタン酸化物薄膜であり、上記第１バリア薄膜は、チタン薄膜であり、上記第２バリア薄膜は、チタン酸化物薄膜であることが好ましい。
【００２０】
また、上記金属酸化物薄膜は、有機分を含んでいることが好ましい。
【００２１】
上記透明積層フィルムは、タッチパネルの電極基板として好適に用いることができる。
【００２２】
本発明に係るタッチパネルは、一対の電極基板が互いの導電面同士が対向するように配置されており、タッチ位置のＸ座標の検出が一方の電極基板により行われ、タッチ位置のＹ座標の検出が他方の電極基板により行われるものであって、少なくとも一方の電極基板として、上記透明積層フィルムを用いたことを要旨とする。
【００２３】
ここで、上記タッチパネルは、４線式抵抗膜方式であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る透明積層フィルムは、金属酸化物薄膜と、アルミニウム系薄膜とが積層された積層構造を有している。そして、アルミニウム系薄膜として、Ａｌを主成分とし、Ｔａおよび／またはＮｄを含有する薄膜を用いている。
【００２５】
そのため、銀薄膜を用いた場合に比較して、初期における表面抵抗を高くすることが可能になる。また、上記アルミニウム系薄膜は、比較的薄く形成しても、銀薄膜よりも安定性が良い。そのため、その分、高表面抵抗化を図りやすい。また、上記アルミニウム系薄膜は、可視光に対する透明性を損ない難いので、透明積層フィルムの透明性を維持しやすい。したがって、上記透明積層フィルムは、ＩＴＯフィルムの代替品として有用である。
【００２６】
ここで、上記アルミニウム系薄膜におけるＴａおよび／またはＮｄの含有量が、０．５〜５原子％の範囲内である場合には、高表面抵抗化と光学特性とのバランスに優れる。
【００２７】
また、上記アルミニウム系薄膜の少なくとも一方面に、第１バリア薄膜または第２バリア薄膜が形成されている場合には、アルミニウム系薄膜を構成する金属が、上記金属酸化物薄膜中へ拡散するのを抑制しやすくなる。それ故、例えば、熱環境下に曝された場合でも、アルミニウム系薄膜の安定性が高く、耐久性に優れ、金属酸化物薄膜の透明性を損ない難い透明積層フィルムが得られる。
【００２８】
とりわけ、上記第１バリア薄膜を有する場合には、より透明性を確保しやすくなる。
【００２９】
また、第１バリア薄膜、第２バリア薄膜の膜厚が、それぞれ特定範囲内にある場合には、上記耐久性と透明性とのバランスに優れる。
【００３０】
また、上記金属酸化物薄膜が有機分を含有している場合には、金属酸化物薄膜に柔軟性を付与することができる。そのため、金属酸化物薄膜に亀裂が生じ難くなり、耐久性の向上に寄与することができる。
【００３１】
本発明に係るタッチパネルは、一対の電極基板が互いの導電面同士が対向するように配置されており、タッチ位置のＸ座標の検出が一方の電極基板により行われ、タッチ位置のＹ座標の検出が他方の電極基板により行われる抵抗膜方式のタッチパネルであって、少なくとも一方の電極基板として上記透明積層フィルムを用いている。
【００３２】
４線式抵抗膜方式に代表されるような、上記抵抗膜方式のタッチパネルでは、タッチ位置の検出が上下の電極基板によりなされるので、電極基板には、比較的高い表面抵抗が要求される。そのため、上記透明積層フィルムを電極基板に適用することで、ＩＴＯフィルムを用いた場合に比較して、比較的低コストなタッチパネルとすることができる。
【００３３】
上記タッチパネルの方式が４線式抵抗膜方式である場合には、現在主流の方式であるため、生産量の確保がしやすくなり、より低コスト化を図ることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本実施形態に係る透明積層フィルム（以下、「本フィルム」という。）、本実施形態に係るタッチパネル（以下、「本タッチパネル」という。）について詳細に説明する。
【００３５】
１．本フィルム
１．１  本フィルムの概略形態など
本フィルムは、透明高分子フィルムと、金属酸化物薄膜（以下、「ＭＯ薄膜」と略表記することがある。）と、アルミニウム系薄膜（以下、「Ａｌ系薄膜」と略表記することがある。）とを少なくとも備えている。Ａｌ系薄膜の何れか一方面または両面には、さらに、バリア薄膜（以下、「Ｂ薄膜」ということがある。）が形成されていても良い。
【００３６】
本フィルムにおいて、これら各薄膜は、透明高分子フィルムの何れか一方面に積層されていても良いし、透明高分子フィルムの両面に積層されていても良い。
【００３７】
ここで、本フィルムにおいて、ＭＯ薄膜とＡｌ系薄膜とは、基本的には、交互に積層されている。
【００３８】
したがって、本フィルムが有する積層構造の基本単位としては、具体的には、例えば、透明高分子フィルム側から、ＭＯ薄膜│Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜、ＭＯ薄膜│Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜、ＭＯ薄膜│Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜といった第１基本単位、または、透明高分子フィルム側から、Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜│ＭＯ薄膜、Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜│ＭＯ薄膜、Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜│ＭＯ薄膜といった第２基本単位などを例示することができる。
【００３９】
本フィルムは、第１基本単位から選択される１または２以上の基本単位を単数または複数繰り返し積層した積層構造を有していても良いし、第２基本単位から選択される１または２以上の基本単位を単数または複数繰り返し積層した積層構造を有していても良い。
【００４０】
これらのうち、Ａｌ系薄膜を構成する元素がＭＯ薄膜中に拡散するのを抑制しやすいなどの観点から、第１基本単位であれば、ＭＯ薄膜│Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜の単位を、第２基本単位であれば、Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜│ＭＯ薄膜の単位を好適に選択することができる。
【００４１】
なお、第１基本単位を用いる場合には、可視光に対する透明性を確保しやすいなどの観点から、透明高分子フィルムから最も遠い表面に、別途、ＭＯ薄膜を積層するのが好ましい。
【００４２】
上記積層構造の積層数は、各薄膜の材料や膜厚、用途によって要求される導電性、光学特性などを考慮して異ならせることができる。上記積層数としては、２〜１０層などが好ましく、３層、５層、７層、９層などの奇数層がより好ましい。
【００４３】
より具体的には、高表面抵抗化と透明性とのバランスを取りやすい、製造コストの抑制などの観点から、透明高分子フィルム側から、ＭＯ薄膜（１層目）│Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜（２層目）│ＭＯ薄膜（３層目）、ＭＯ薄膜（１層目）│Ｂ薄膜／Ａｌ系薄膜（２層目）│ＭＯ薄膜（３層目）、ＭＯ薄膜（１層目）│Ａｌ系薄膜／Ｂ薄膜（２層目）│ＭＯ薄膜（３層目）、ＭＯ薄膜（１層目）│Ａｌ系薄膜（２層目）│ＭＯ薄膜（３層目）などの３層が積層されていると良い。
【００４４】
なお、本願における積層数は、Ｂ薄膜がＡｌ系に付随する薄膜であるため、Ｂ薄膜を含めたＡｌ系薄膜を１層、ＭＯ薄膜を１層として数えている。
【００４５】
本フィルムにおいて、各薄膜は、一度に形成されたものであっても良いし、分割形成されたものであっても良い。また、積層構造中に含まれる各薄膜のうち、一部または全部が分割形成されていても良い。各薄膜が、複数の分割層よりなる場合、その分割数は、各薄膜ごとに同じであっても良いし、異なっていても良い。なお、分割層は積層数として数えず、複数の分割層が集合して形成された１つの薄膜を１層として数える。
【００４６】
本フィルムにおいて、各薄膜の組成または材料は、それぞれ同一の組成または材料から形成されていても良いし、異なる組成または材料から形成されていても良い。なお、この点は、各薄膜が複数の分割層よりなる場合も同様である。
【００４７】
また、各薄膜の膜厚は、ほぼ同一であっても良いし、各膜ごとに異なっていても良い。
【００４８】
本フィルムは、概略、上述した積層構造を有している。以下、本フィルムが必須構成として備える透明高分子フィルム、ＭＯ薄膜、および、Ａｌ系薄膜と、任意構成として備えることがあるＢ薄膜についてより詳細に説明する。
【００４９】
１．２  透明高分子フィルム
本フィルムにおいて、透明高分子フィルムは、上記積層構造を形成するためのベースとなるものである。その材料としては、可視光領域において透明性を有し、その表面に薄膜を支障なく形成できるものであれば、何れのものでも用いることができる。
【００５０】
透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマーなどの高分子材料を例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、２種以上積層して用いることもできる。
【００５１】
これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性等に優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマーなどを好適なものとして例示することができる。
【００５２】
上記透明高分子フィルムは、片面または両面に易接着層などが形成されていても良い。なお、片面に易接着層が形成されている透明高分子フィルムを用いる場合、ＭＯ薄膜をゾル−ゲル法等により成膜する際に、ＭＯ薄膜に生じうる亀裂の抑制効果が大きいなどの観点から、上記積層構造は、易接着層が形成されていないフィルム面に積層されていることが好ましい。
【００５３】
上記透明高分子フィルムの厚みは、本積層フィルムの用途、フィルム材料、光学特性、耐久性などを考慮して種々調節することができる。上記透明高分子フィルムの厚みの下限値は、タッチパネルに用いた場合に、入力耐久性、入力信頼性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、５０μｍ以上、より好ましくは、７５μｍ以上であると良い。一方、上記透明高分子フィルムの厚みの上限値は、タッチパネルに用いた場合に、入力信頼性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、５００μｍ以下、より好ましくは、２５０μｍ以下であると良い。
【００５４】
１．３  金属酸化物薄膜（ＭＯ薄膜）
本フィルムにおいて、ＭＯ薄膜は、可視光領域において透明性を有し、主として高屈折率層として機能しうるものである。ここで、高屈折率とは、６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．７以上ある場合をいう。
【００５５】
上記金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。
【００５６】
上記金属酸化物としては、とりわけ、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、酸化チタン（IV）（ＴｉＯ２）、チタン酸塩、ＩＴＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）などを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００５７】
ここで、上記金属酸化物薄膜（ＭＯ）は、主として金属酸化物より構成されているが、金属酸化物以外にも、有機分を含有していても良い。有機分を含有することで、本フィルムの柔軟性をより向上させることができるためである。この種の有機分としては、具体的には、例えば、ゾル−ゲル法の出発原料に由来する成分等、ＭＯ薄膜の形成材料に由来する成分などを例示することができる。
【００５８】
上記有機分としては、より具体的には、例えば、上述した金属酸化物を構成する金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどといった有機金属化合物（その分解物なども含む）や、上記有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物（後述する）等の各種添加剤などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００５９】
ＭＯ薄膜中に含まれる有機分の含有量の下限値は、柔軟性を付与しやすいなどの観点から、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、５質量％以上、さらに好ましくは、１０質量％以上であると良い。一方、ＭＯ薄膜中に含まれる有機分の含有量の上限値は、高屈折率を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、３０質量％以下、より好ましくは、２５質量％以下、さらに好ましくは、２０質量％以下であると良い。
【００６０】
なお、上記有機分の含有量は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）などを用いて調べることができる。また、上記有機分の種類は、赤外分光法（ＩＲ）（赤外吸収分析）などを用いて調べることができる。
【００６１】
ＭＯ薄膜の膜厚は、可視光領域における透明性や色調などを考慮して種々調節することができる。
【００６２】
ＭＯ薄膜の膜厚の下限値は、高透明性、低反射性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、１８ｎｍ以上、より好ましくは、２０ｎｍ以上、さらに好ましくは、２２ｎｍ以上であると良い。一方、ＭＯ薄膜の膜厚の上限値は、高透明性、低反射性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、１５０ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは、５０ｎｍ以下であると良い。
【００６３】
以上のような構成を有するＭＯ薄膜は、気相法、液相法の何れでも形成することができる。液相法は、気相法と比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がない。そのため、その分、コスト的に有利であり、生産性にも優れているので好適である。
【００６４】
上記液相法としては、有機分を残存させやすいなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に利用することができる。
【００６５】
上記ゾル−ゲル法としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の有機金属化合物を含有するコーティング液を薄膜状にコーティングし、これを必要に応じて乾燥させ、ＭＯ薄膜の前駆体膜を形成した後、この前駆体膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させ、有機金属化合物を構成する金属の酸化物を合成するなどの方法を例示することができる。これによれば、金属酸化物を主成分として含み、有機分を含有するＭＯ薄膜を形成することができる。以下、上記方法について詳細に説明する。
【００６６】
上記コーティング液は、上記有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製することができる。この際、有機金属化合物としては、具体的には、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００６７】
上記有機金属化合物としては、具体的には、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。好ましくは、空気中での安定性などの観点から、金属キレートであると良い。
【００６８】
上記有機金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の有機化合物を好適に用いることができる。このような有機金属化合物としては、例えば、有機チタン化合物などを例示することができる。
【００６９】
上記有機チタン化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのＭ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのＭ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。また、これらは単量体、多量体の何れであっても良い。
【００７０】
上記コーティング液中に占める有機金属化合物の含有量は、塗膜の膜厚均一性、一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、１〜２０質量％、より好ましくは、３〜１５質量％、さらに好ましくは、５〜１０質量％の範囲内であると良い。
【００７１】
また、上記有機金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００７２】
この際、上記溶媒量は、上記有機金属化合物の固形分重量に対して、塗膜の膜厚均一性、一回に塗工できる膜厚、ゾル−ゲル重合反応性などの観点から、好ましくは、５〜１００倍量、より好ましくは、７〜３０倍量、さらに好ましくは、１０〜２０倍量の範囲内であると良い。
【００７３】
上記溶媒量が１００倍量より多くなると、一回のコーティングで形成できる膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回のコーティングが必要となる傾向が見られる。一方、５倍量より少なくなると、膜厚が厚くなり過ぎ、有機金属化合物の加水分解・縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。
【００７４】
また、上記コーティング液中には、ゾル−ゲル法による加水分解が促進され、高屈折率化が図りやすくなるなどの観点から、必要に応じて水が含まれていても良い。
【００７５】
上記コーティング液の調製は、例えば、所定割合となるように秤量した有機金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、撹拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、１度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。
【００７６】
また、上記コーティング液のコーティング法としては、均一なコーティングが行いやすいなどの観点から、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種のウェットコーティング法を好適なものとして例示することができる。これらは適宜選択して用いることができ、１種または２種以上併用しても良い。
【００７７】
また、コーティングされたコーティング液を乾燥する場合、公知の乾燥装置などを用いて乾燥させれば良く、この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、８０℃〜１２０℃の温度範囲、０．５分〜５分の乾燥時間などを例示することができる。
【００７８】
また、前駆体膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段としては、具体的には、例えば、紫外線照射、電子線照射、加熱など、各種の手段を例示することができる。これらは１種または２種以上組み合わせて用いても良い。これらのうち、とりわけ、紫外線照射を好適に用いることができる。他の手段と比較した場合、低温、短時間で金属酸化物を生成できるし、熱劣化など、熱による負荷を透明高分子フィルムに与え難いからである。また、有機分として、有機金属化合物（その分解物なども含む）などを残存させやすい利点もあるからである。
【００７９】
この際、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。これらは１種または２種以上組み合わせて用いても良い。
【００８０】
また、照射する紫外線の光量は、前駆体膜を主に形成している有機金属化合物の種類、コーティング層の厚みなどを考慮して種々調節することができる。もっとも、照射する紫外線の光量が過度に小さすぎると、ＭＯ薄膜の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する紫外線の光量が過度に大きすぎると、紫外線照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形することがある。したがって、これらに留意すると良い。
【００８１】
照射する紫外線の光量は、金属酸化物薄膜の屈折率、透明高分子フィルムが受けるダメージなどの観点から、測定波長３００〜３９０ｎｍのとき、好ましくは、３００〜８０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは、５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であると良い。
【００８２】
なお、前駆体膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段として、紫外線照射を用いる場合、上述したコーティング液中に、有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物等の添加剤を添加しておくと良い。出発溶液であるコーティング液中に上記添加剤が添加されている場合には、予め紫外線吸収性キレートが形成されたところに紫外線照射がなされるので、比較的低温下においてＭＯ薄膜の高屈折率化を図り得やすくなるからである。
【００８３】
上記添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシ−２−プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００８４】
これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。
【００８５】
また、上記添加剤の配合割合としては、屈折率の上がりやすさ、塗膜状態での安定性などの観点から、上記有機金属化合物における金属原子１モルに対して、好ましくは、０．１〜２倍モル、より好ましくは、０．５〜１．５倍モルの範囲内にあると良い。
【００８６】
１．４  アルミニウム系薄膜（Ａｌ系薄膜）
本フィルムにおいて、Ａｌ系薄膜は、主として導電性層として機能しうる。
【００８７】
ここで、Ａｌ系薄膜は、Ａｌを主成分とし、Ｔａおよび／またはＮｄを含有する合金より構成されている。具体的には、Ａｌ−Ｔａ系合金、Ａｌ−Ｎｄ系合金、Ａｌ−Ｔａ−Ｎｄ系合金などである。好ましくは、高表面抵抗化を図りやすいなどの観点から、Ａｌ−Ｔａ系合金であると良い。
【００８８】
上記Ａｌ系薄膜は、Ａｌ、Ｔａ、Ｎｄ以外にも、例えば、本発明の目的に反しない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。
【００８９】
上記Ｔａおよび／またはＮｄの含有量の下限値は、高表面抵抗化しやすいなどの観点から、好ましくは、０．５原子％以上、より好ましくは、０．８原子％以上、さらに好ましくは、１原子％以上であると良い。
【００９０】
一方、上記Ｔａおよび／またはＮｄの含有量の上限値は、高透明性を確保しやすくなる、薄膜形成をスパッタ法により行う場合、スパッタターゲットが作製しやすいなどの観点から、好ましくは、５原子％以下、より好ましくは、３原子％以下、さらに好ましくは、２原子％以下であると良い。
【００９１】
なお、上記Ｔａおよび／またはＮｄの含有量は、ＩＣＰ分析法を用いて測定することができる。
【００９２】
上記Ａｌ系薄膜の膜厚の下限値は、耐久性、膜連続性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、０．３ｎｍ以上、より好ましくは、０．５ｎｍ以上、さらに好ましくは、０．７ｎｍ以上であると良い。一方、上記Ａｌ系薄膜の膜厚の上限値は、高透明性の確保、高表面抵抗化を図りやすくなるなどの観点から、好ましくは、４ｎｍ以下、より好ましくは、３ｎｍ以下、さらに好ましくは、２ｎｍ以下であると良い。
【００９３】
ここで、上記Ａｌ系薄膜を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などの気相法、導電性ペーストを塗工し、焼結する方法などを例示することができる。上記積層構造中の各Ａｌ系薄膜は、これらのうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【００９４】
これら方法のうち、緻密な膜質が得られる、膜厚制御が比較的容易であるなどの観点から、好ましくは、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【００９５】
１．５  バリア薄膜（Ｂ薄膜）
本フィルムにおいて、Ｂ薄膜は、主として、上記Ａｌ系薄膜を構成する元素が、ＭＯ薄膜中へ拡散するのを抑制するバリア的な機能を有している。また、ＭＯ薄膜とＡｌ系薄膜との間に介在することで、両者の密着性の向上にも寄与しうる。
【００９６】
なお、Ｂ薄膜は、連続膜であることが好ましいが、上記拡散を抑制できれば、浮島状など、不連続な部分があっても良い。
【００９７】
ここで、上記Ｂ薄膜としては、Ａｌ系薄膜を構成する金属の拡散抑制効果に優れる、密着性に優れるなどの観点から、ＭＯ薄膜を構成する金属より主に構成される第１バリア薄膜（以下、「Ｂ１薄膜」ということがある。）、ＭＯ薄膜を構成する金属の酸化物より主に構成される第２バリア薄膜（以下、「Ｂ２薄膜」ということがある。）を好適に用いることができる。
【００９８】
より具体的には、例えば、ＭＯ薄膜としてＴｉＯ２薄膜を選択した場合、Ｂ１薄膜は、ＴｉＯ２薄膜を構成する金属であるＴｉより主に構成されるチタン薄膜となる。Ｂ２薄膜は、ＴｉＯ２薄膜を構成する金属であるＴｉの酸化物より主に構成されるチタン酸化物薄膜となる。
【００９９】
Ｂ薄膜は、より透明性を確保しやすいなどの観点から、好ましくは、Ｂ１薄膜であると良い。基本的に、Ｂ１薄膜は金属薄膜、Ｂ２薄膜は金属酸化物薄膜ということになるため、何れを選択するかにより、Ｂ薄膜の好適な膜厚範囲は異なる。Ａｌ系薄膜を構成する金属の拡散を抑制しやすい範囲、製造コストなどを考慮して決定することができる。
【０１００】
Ｂ１薄膜の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、０．３ｎｍ以上、より好ましくは、０．５ｎｍ以上、さらに好ましくは、０．７ｎｍ以上であると良い。一方、上記Ｂ１薄膜の膜厚の上限値は、高透明性を確保しやすくなるどの観点から、好ましくは、１．５ｎｍ以下、より好ましくは、１．２ｎｍ以下、さらに好ましくは、０．９ｎｍ以下であると良い。
【０１０１】
Ｂ２薄膜の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、１ｎｍ以上、より好ましくは、１．５ｎｍ以上、さらに好ましくは、２ｎｍ以上であると良い。一方、上記Ｂ２薄膜の膜厚の上限値は、高透明性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、１６ｎｍ以下、より好ましくは、１３ｎｍ以下、さらに好ましくは、１０ｎｍ以下であると良い。
【０１０２】
Ｂ２薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ｔｉ／Ｏの下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、１．０／４．０以上、より好ましくは、１．０／３．８以上、さらに好ましくは、１．０／３．５以上、さらにより好ましくは、１．０／３．０以上、最も好ましくは、１．０／２．８以上であると良い。
【０１０３】
Ｂ２薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ｔｉ／Ｏの上限値は、高透明性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、１．０／０．５以下、より好ましくは、１．０／０．７以下、さらに好ましくは、１．０／１．０以下、さらにより好ましくは、１．０／１．２以下、最も好ましくは、１．０／１．５以下であると良い。
【０１０４】
上記Ｔｉ／Ｏ比は、当該膜の組成から算出することができる。当該膜の組成分析方法としては、極めて薄い薄膜の組成を比較的正確に分析することが可能な観点から、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析（ＥＤＸ）を好適に用いることができる。
【０１０５】
具体的な組成分析方法について説明すると、先ず、超薄切片法（ミクロトーム）などを用いて、分析対象となる当該膜を含む積層構造の断面方向の厚みが１００ｎｍ以下の試験片を作製する。次いで、断面方向から積層構造と当該膜の位置を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により確認する。次いで、ＥＤＸ装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となる当該膜の膜厚中央部近傍に入射させる。試験片表面から入射した電子は、ある深さまで入り込み、各種の電子線やＸ線を発生させる。この際の特性Ｘ線を検出して分析することで、当該膜の構成元素分析を行うことができる。
【０１０６】
本フィルムにおいて、上記Ｂ薄膜は、緻密な膜を形成できる、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の薄膜を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法により好適に形成すると良い。
【０１０７】
上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などを例示することができる。
【０１０８】
この際、上記Ｂ２薄膜は、主に金属酸化物より形成されているので、上記各薄膜形成法による成膜時には、その雰囲気中に酸素を含むガスを導入する必要がある。
【０１０９】
なお、上記積層構造中に含まれうる各Ｂ薄膜は、これら気相法のうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【０１１０】
上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【０１１１】
但し、Ｂ２薄膜を成膜する場合には、例えば、スパッタリングガスとしてのアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させながらＢ２薄膜を形成することになる（反応性スパッタリング法）。
【０１１２】
また、反応性スパッタリング法を用いて、例えば、上記Ｔｉ／Ｏ比を有するチタン酸化物薄膜を得る場合、雰囲気中の酸素濃度（不活性ガスに対する酸素を含むガスの体積割合）は、上述した膜厚範囲を考慮して最適な割合を適宜選択すれば良い。
【０１１３】
なお、本フィルムが有する積層構造において、ＭＯ薄膜、Ａｌ系薄膜、Ｂ薄膜の各材料は、必要に応じて上述したものから適宜選択して用いることができる。最も好適な膜材料の組み合わせとしては、ＭＯ薄膜がＴｉＯ２薄膜、Ａｌ系薄膜がＡｌ−Ｔａ合金薄膜、Ｂ薄膜がチタン酸化物薄膜を挙げることができる。ＩＴＯフィルムに比較して、高表面抵抗化、透明性に優れるなど、特性バランスが良いからである。
【０１１４】
１．６  各薄膜の積層方法
上記積層構造を有する本フィルムを製造するにあたり、ＭＯ薄膜の形成方法と、Ａｌ系薄膜の形成方法と、Ｂ薄膜の形成方法とを適宜組み合わせ、透明高分子フィルムの表面に、ＭＯ薄膜、Ａｌ系薄膜、Ｂ薄膜を積層していく方法としては、具体的には、例えば、次のような方法を例示することができる。以下、透明高分子フィルムの表面に、ＭＯ薄膜│Ｂ１薄膜／Ａｌ系薄膜／Ｂ１薄膜│ＭＯ薄膜の３層積層構造を形成する場合を用いて説明する。
【０１１５】
先ず、透明高分子フィルムの表面上に、上述したゾル−ゲル法などの液相法によりＭＯ薄膜を形成した後、これをロールに巻き取る。
【０１１６】
次に、このロールを、スパッタリング法などの気相法による薄膜形成装置の成膜室内に装着し、ロールを繰り出しながら、Ａｒガスなどの不活性ガス雰囲気中で、ＭＯ薄膜の表面上にＢ１薄膜を形成する。次いで、このフィルム体を他の成膜室に移動させ、引き続き、Ａｒガスなどの不活性ガス雰囲気中で、Ｂ１薄膜の表面上にＡｌ系薄膜を形成する。次いで、このフィルム体を他の成膜室に移動させ、上記と同様にして、Ａｌ系薄膜の表面上にＢ１薄膜を形成し、これをロールに巻き取る。
【０１１７】
次に、このロールを繰り出しながら、上記と同様にして、Ｂ１薄膜の表面上にＭＯ薄膜を形成し、これをロールに巻き取る。
【０１１８】
基本的には、このような操作を行えば、本フィルムを連続的に製造することができる。なお、他の基本単位を含む積層構造を得るには、上記方法に準じて行えば良い。また、各薄膜を複数の分割層より形成する場合には、各操作を分割数だけ繰り返し行えば良い。
【０１１９】
３．本フィルムの用途
本フィルムの用途は、特に限定されるものではない。本フィルムは、ＩＴＯフィルムが適用されている各種の用途に適用可能である。本フィルムは、具体的には、例えば、タッチパネル電極、調光シート電極、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイなどのディスプレイ表示電極、電磁波シールド、熱線カット、有機ＥＬなどのガス（Ｏ２、Ｈ２Ｏ等）バリアフィルムなどの各種の用途に適用することができる。以下では、本フィルムをタッチパネルに適用する場合について説明を行う。
【０１２０】
４．本タッチパネル
本タッチパネルは、上部電極基板と下部電極基板とが、互いの導電面（薄膜形成面側）同士が対向するように配置されてなる。
【０１２１】
本タッチパネルは、アナログ形式かつ抵抗膜方式を採用しており、タッチ位置のＸ座標の検出が一方の電極基板（例えば、上部電極基板）により行われ、タッチ位置のＹ座標の検出が他方の電極基板（例えば、下部電極基板）により行われるものであると良い。
【０１２２】
抵抗膜方式において、タッチ位置の検出が上下の電極基板によりなされる方式としては、代表的なものとして４線式がある。
【０１２３】
本タッチパネルは、好ましくは、４線式であると良い。現在主流の方式であるため、生産量の確保がしやすく、より低コスト化を図ることが可能になるからである。もっとも、本タッチパネルは、上下の基板が上記のように機能する方式のものであれば特に限定されることはなく、５線式、静電容量式、これらに類似する方式やその発展形などであっても良い。
【０１２４】
ここで、本タッチパネルは、上部電極基板および／または下部電極基板として、本フィルムを用いている。入力時基板変形の耐久性などの観点から、好ましくは、本フィルムを上部電極基板として用いていると良い。
【０１２５】
なお、何れか一方の電極基板にだけ本フィルムを適用する場合、残りの電極基板としては、例えば、ＩＴＯフィルム、ＩＴＯガラス、他の透明積層フィルムなどを適用すれば良い。
【０１２６】
また、上下の電極基板の間には、任意にスペーサを介在させても良い。スペーサを介在させる場合、スペーサは、特に限定されるものではなく、従来知られる材質、構造のものを採用することができる。
【０１２７】
スペーサとしては、例えば、紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂などによりドットパターンを印刷形成したものなどが挙げられる。これらは１種または２種以上併用されていても良い。
【０１２８】
本タッチパネルは、例えば、次のように製造することができる。上部電極基板および下部電極基板の一組の対向する２辺全長に、導電性ペーストなどの導電性材料により、取り出し電極を形成し、この取り出し電極に電位取り出し配線を取り付ける。
【０１２９】
そして、上部電極基板の導電面と下部電極基板の導電面とを、取り出し電極が直交する無機で対向させ、スペーサなどを任意に介して所定の隙間を形成した状態で貼り合わせるなどすれば、本タッチパネルを製造することができる。
【実施例】
【０１３０】
以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。
【０１３１】
１．透明積層フィルムの作製
実施例および比較例に係る透明積層フィルムとして、概略以下の層構成を有する各透明積層フィルムを作製した。
【０１３２】
すなわち、実施例１〜９に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、第１層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜、第２層目として、金属チタン薄膜（第１バリア薄膜）／Ａｌ−Ｔａ合金薄膜／金属チタン薄膜（第１バリア薄膜）、第３層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が順に積層されている。
【０１３３】
実施例１０に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、第１層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜、第２層目として、金属チタン薄膜（第１バリア薄膜）／Ａｌ−Ｔａ合金薄膜／チタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）、第３層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が順に積層されている。
【０１３４】
実施例１１に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、第１層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜、第２層目として、チタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）／Ａｌ−Ｔａ合金薄膜／チタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）、第３層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が順に積層されている。
【０１３５】
実施例１２に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、第１層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜、第２層目として、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜（第１バリア薄膜、第２バリア薄膜ともになし）、第３層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が順に積層されている。
【０１３６】
なお、バリア薄膜は、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜に付随する薄膜として、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜に含めて積層数を数えている。
【０１３７】
比較例１に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、第１層目として、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）薄膜が積層されている。
【０１３８】
比較例２に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、第１層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜、第２層目として、Ａｇ薄膜、第３層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が順に積層されている。
【０１３９】
表１に、後述する手順により作製した各透明積層フィルムの詳細な層構成を示す。
【０１４０】
【表１】
2009226754.tif 000002
【０１４１】
以下、実施例および比較例に係る透明積層フィルムの具体的な作製手順を示す。
【０１４２】
表２に、各透明積層フィルム作製時における、バリア薄膜（スパッタリング法による金属チタン薄膜、反応性スパッタリング法によるチタン酸化物薄膜）の成膜条件をまとめて示す。表３に、各透明積層フィルム作製時における、スパッタリング法による導電性薄膜（アルミニウム系薄膜、銀薄膜）の成膜条件をまとめて示す。
【０１４３】
【表２】
2009226754.tif 000003
【０１４４】
【表３】
2009226754.tif 000004
【０１４５】
（実施例１〜１２）
先ず、以下の手順により、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜の形成に使用するコーティング液を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体（日本曹達（株）製、「Ｂ４」）と、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトンとを、ｎ−ブタノールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて１０分間混合することにより、コーティング液を調製した。この際、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体／アセチルアセトン／ｎ−ブタノール／イソプロピルアルコールの配合は、それぞれ６．７５質量％／３．３８質量％／５９．８７質量％／３０．００質量％とした。
【０１４６】
次に、透明高分子フィルムとして、易接着層が片面に形成された厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）を用い、このＰＥＴフィルムの易接着層面側とは反対側の面（ＰＥＴ面）側に、１層目として、ＴｉＯ２薄膜を以下の手順により成膜した。
【０１４７】
すなわち、ＰＥＴフィルムのＰＥＴ面側に、マイクログラビアコーターを用いて、線速３ｍ／ｍｉｎで上記コーティング液を連続的に塗工した。次いで、インラインの乾燥炉を用いて、塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥させ、ＴｉＯ２薄膜の前駆体膜を形成した。次いで、インラインの紫外線照射機〔高圧水銀ランプ（１６０Ｗ／ｃｍ）〕を用いて、上記塗工時と同線速で、上記前駆体膜に対して連続的に紫外線を１．５秒間照射した。これによりＰＥＴフィルム上に、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が成膜されたロール状のサンプルを作製した。
【０１４８】
なお、作製したＴｉＯ２薄膜の屈折率を、ＦｉｌｍＴｅｋ３０００（Scientific Computing International社製）により測定したところ、測定波長６３３ｎｍにおいて屈折率１．９０であった。
【０１４９】
また、このＴｉＯ２薄膜中に含まれる有機分の含有量を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定したところ、１５質量％であった。
【０１５０】
次に、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、表１に示す２層目の各薄膜を表２、３に示した成膜条件にて成膜した。
【０１５１】
すなわち、実施例１〜９については、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、下側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）をスパッタリングにより成膜した。次いで、この下側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）上に、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このＡｌ−Ｔａ合金薄膜上に、上側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）をスパッタリングにより成膜した。
【０１５２】
実施例１０については、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、下側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）をスパッタリングにより成膜した。次いで、この下側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）上に、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このＡｌ−Ｔａ合金薄膜上に、上側のチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）を反応性スパッタリングにより成膜した。
【０１５３】
実施例１１については、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、下側のチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）を反応性スパッタリングにより成膜した。次いで、この下側のチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）上に、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このＡｌ−Ｔａ合金薄膜上に、上側のチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）を反応性スパッタリングにより成膜した。
【０１５４】
実施例１２については、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。
【０１５５】
次に、３層目として、２層目の上側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）（実施例１〜９）、２層目の上側のチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）（実施例１０、１１）、２層目のＡｌ−Ｔａ合金薄膜（実施例１２）上に、それぞれゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜を成膜した。ここでは、狙いの膜厚にするためのマイクログラビアロール設定条件にて、１層目に準じた成膜手順を１回行った。
【０１５６】
以上により、表１に示す層構成を有する実施例１〜１２に係る透明積層フィルムを作製した。
【０１５７】
（比較例１）
酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）薄膜付きフィルム（トービ（株）製、「ＯＴＥＣ−２３０」を、比較例１に係る透明積層フィルムとした。
【０１５８】
（比較例２）
実施例１に係る透明積層フィルムの作製において、２層目の上側および下側のチタン薄膜（第１バリア薄膜）を成膜せず、かつ、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜に代えて、表３に示した成膜条件にてＡｇ薄膜を成膜した以外は同様にして、比較例２に係る透明積層フィルムを作製した。
【０１５９】
２．各透明積層フィルムの評価
次に、作製した各透明積層フィルムについて、その初期および１００℃にて４８時間加熱処理した後の各表面抵抗値、可視光透過率、可視光反射率を測定した。
【０１６０】
この際、表面抵抗値の測定には、渦電流計（コペル電子（株）製、「非接触抵抗率計モデル７１７」）を用いた。可視光透過率および可視光反射率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠し、分光光度計（島津製作所（株）製、「ＵＶ３１００」）を用いて、波長３００〜１０００ｎｍの透過スペクトルを測定し、可視光透過率および可視光反射率を計算することにより行った。
【０１６１】
また、実施例１０、１１に係る透明積層フィルムについては、チタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）についてＥＤＸ分析を行い、Ｔｉ／Ｏ比を次のようにして求めた。
【０１６２】
すなわち、実施例１０、１１に係る透明積層フィルムをミクロトーム（ＬＫＢ（株）製、「ウルトロームＶ２０８８」）により切り出し、分析対象となるチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）を含む積層構造の断面方向の厚みが１００ｎｍ以下の試験片を作製した。
【０１６３】
次いで、この試験片の断面を、電界放出型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）（日本電子（株）製、「ＪＥＭ２００１Ｆ」）により確認した。
【０１６４】
次いで、ＥＤＸ装置（分解能１３３ｅＶ以下）（日本電子（株）製、「ＪＥＤ−２３００Ｔ」）を用い、この装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となるチタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）の膜厚中央部近傍に入射させ、発生した特性Ｘ線を検出して分析することにより、チタン酸化物薄膜（第２バリア薄膜）の構成元素分析を行った。
【０１６５】
また、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜中のＴａ含有量は、各成膜条件において、別途、ガラス基板上にＡｌ−Ｔａ合金薄膜を形成した試験片を作製し、この試験片を６％ＨＮＯ３溶液に浸漬し、２０分間超音波による溶出を行った後、得られた試料液を用いて、ＩＣＰ分析法の濃縮法により測定した。
【０１６６】
また、各透明積層フィルムの薄膜密着性を、積層面へ一定加重をかけた布を押しつけた状態でフィルムを移動させる布擦傷試験にて判定した。
【０１６７】
表１に、各透明積層フィルムについて得られた結果をまとめて示す。
【０１６８】
表１によれば、次のことが分かる。すなわち、比較例２に係る透明積層フィルムは、導電性薄膜として、Ａｇ薄膜を用いている。そのため、導電性が極めて良好であり、ＩＴＯフィルムである比較例１に係る透明積層フィルムと比較して、表面抵抗が小さいことが分かる。そのため、相対的に高表面抵抗が要求される用途、例えば、４線式抵抗膜方式のタッチパネルの電極基板等に用いることは難しいといえる。
【０１６９】
なお、比較例２に係る透明積層フィルムにおいて、Ａｇ薄膜をより薄くすることで、高表面抵抗化を図ることも考えられるが、すでに８ｎｍの膜厚で耐久性に乏しく、これ以上薄くすることは安定性の観点から現実的でないといえる。
【０１７０】
これに対し、実施例に係る透明積層フィルムは、比較例１に係る透明積層フィルムに比べて、何れも相対的に高い初期表面抵抗を有しており、ＩＴＯフィルムと代替しやすいことが分かる。また、熱環境下に曝されても、表面抵抗の安定性が良好であることが分かる。
【０１７１】
また、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜の表面に、１層目、３層目であるＴｉＯ２薄膜を構成する金属であるＴｉより主に構成されるチタン薄膜からなる第１バリア薄膜、あるいは、１層目、３層目であるＴｉＯ２薄膜を構成する金属であるＴｉの酸化物より主として構成されるチタン酸化物薄膜からなる第２バリア薄膜を形成した場合には、熱環境下に曝された場合でも、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜の安定性が高く、耐久性に優れ、かつ、可視光透過率、可視光反射率の安定性も良好で、透明性に優れることが分かる。
【０１７２】
とりわけ、第１バリア薄膜を有する場合には、第２バリア薄膜を有する場合よりも、透明性を確保しやすいことが分かる。これは、第２バリア薄膜を成膜するときに、反応ガスとして供給する酸素ガスが、Ａｌ−Ｔａ合金薄膜と反応し、吸収が増える一方、第１バリア薄膜は、反応ガスを使用していないため、吸収が増加しないためであると考えられる。
【０１７３】
また、第１バリア薄膜、第２バリア薄膜を形成することで、薄膜密着性を向上させることができ、耐久性の向上に寄与できることが分かる。
【０１７４】
以上、本発明の実施形態、実施例について説明したが、本発明は上記実施形態・実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。