(57)【要約】【課題】ドープ切り替え時に、ドープ製造設備などから排出される廃棄物から、溶媒を効率よく抽出する。【解決手段】ドープ製造設備１０は、ＴＡＣ３００と溶媒３０１とを含むドープ３０６を調製する。ドープ３０６の組成と異なる新たなドープを作る場合には、制御部２９により、ポンプ２１、３１を停止し、弁２６ａ、２８ａを閉位置にし、ホッパ２７からのＴＡＣ３００の供給を停止した後、ドープ製造設備１０をなす各装置に洗浄液３１０を導入する。各装置内に残留するドープ３０６を洗浄液３１０とともに、廃液３２０として排出される。脱溶媒装置４３に設けられた乾燥加熱室５１では、廃液３２０の液面が減率乾燥状態となるまで、乾燥気体４００中で廃液３２０を加熱する。湿潤加熱室５２では、湿潤気体４１０中で廃液３２０を加熱する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドープを調製する或いは前記ドープが通過するドープ調製通過装置内に残留し、第１ポリマーと第１溶媒と第１添加剤とを成分とする第１ドープから前記第１溶媒を取り除くポリマー溶液の脱溶媒方法において、
前記第１ポリマーと異なる第２ポリマー、前記第１溶媒と異なる第２溶媒、及び前記第１添加剤と異なる第２添加剤のうちいずれかを成分とする第２ドープが導入される前記ドープ調製通過装置から、前記第１ドープを含む廃棄物を排出し、
前記廃棄物を、前記第１溶媒をなす溶媒化合物よりもモル体積が小さい小体積物質中に配し、
前記廃棄物から前記第１溶媒を蒸発させることを特徴とするポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項２】
前記第１ドープを除去するための洗浄剤を前記ドープ調製通過装置内に導入し、
前記洗浄剤を含む前記廃棄物を、前記ドープ調製通過装置から排出することを特徴とする請求項１記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項３】
前記廃棄物の表面及びその近傍が、減率乾燥状態であることを特徴とする請求項１または２記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項４】
前記小体積物質を含む気体中に、前記廃棄物を配することを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項５】
前記気体における前記小体積物質の飽和蒸気量をＭＳとするときに、
前記気体が０．３ＭＳ以上ＭＳ以下の前記小体積物質を含むことを特徴とする請求項４記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項６】
前記気体の温度が、前記小体積物質の沸点（℃）以上前記沸点の３倍（℃）以下であることを特徴とする請求項４または５記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項７】
前記小体積物質を含む液体中に、前記廃棄物を配することを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項８】
前記液体の温度が、前記第１溶媒の沸点（℃）以上前記小体積物質の沸点（℃）以下であることを特徴とする請求項７記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項９】
前記第１溶媒が、複数の化合物からなる場合には、
前記複数の化合物のうち、モル体積が最も小さい化合物を、前記溶媒化合物とすることを特徴とする請求項１ないし８のうちいずれか１つ記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【請求項１０】
前記第１溶媒が、メチレンクロライド、メタノール、ブタノールのうち少なくとも１つを含み、前記小体積物質が水、メタノール、アセトン、メチルケトンのうち少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１ないし９のうちいずれか１つ記載のポリマー溶液の脱溶媒方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドープ製造設備や溶液製膜設備等から排出される廃棄物から溶媒を取り除くポリマー溶液の脱溶媒方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマーフイルム（以下、フイルムと称する）は、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学機能性フイルムとして多岐に利用されている。中でも、セルロースアシレート、特に５７．５％〜６２．５％の平均酢化度を有するセルローストリアセテート（以下、ＴＡＣと称する）から形成されるＴＡＣフイルムは、その強靭性と難燃性とから写真感光材料のフイルム用の支持体として利用されている。また、ＴＡＣフイルムは光学等方性に優れることから、市場が急激に拡大している液晶表示装置の偏光板の保護フイルムなどの光学機能性フイルムに用いられている。
【０００３】
フイルムの主な製造方法としては、溶融押出方法と溶液製膜方法とがある。溶融押出方法とは、ポリマーをそのまま加熱溶解させた後、押出機で押し出してフイルムを製造する方法であり、生産性が高く、設備コストも比較的低額であるなどの特徴を有する。しかし、フイルムの厚さの精度を調節することが難しく、また、フイルム上に細かいスジ（ダイライン）ができやすいため、光学機能性フイルムとして使用することができるような高品質のフイルムを製造することが困難である。一方、溶液製膜方法は、ポリマーと溶媒とを含んだポリマー溶液（以下、ドープと称する）を支持体上に流延し、流延膜を形成し、流延膜が自己支持性を有するものとなった後、これを支持体から剥がして湿潤フイルムとし、湿潤フイルムを乾燥しフイルムとして巻き取る方法である。この溶液製膜方法は、溶融押出方法と比べて、光学等方性や厚み均一性に優れるとともに、含有異物の少ないフイルムを得ることができるため、フイルム、特に光学機能性フイルムの製造方法として、溶液製膜方法が採用されている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
ドープ製造設備や溶液製膜設備に用いられる各装置は定期的に洗浄する必要がある。例えば、濾過装置でいえば、濾過部材を交換する際には、濾過装置内に残留付着したドープや異物を除去するために、洗浄液を用いて、濾過装置内を洗浄する。また、濾過装置等の洗浄剤として、ドープに含まれる溶媒が用いられる。したがって、ドープ製造設備や溶液製膜設備に用いられる各装置の洗浄時には、溶媒、残留付着したドープや異物等を含む廃棄物が生成する。
【０００５】
また、溶液製膜設備に設けられる流延室や乾燥室では、流延膜や湿潤フイルムを乾燥し、流延膜や湿潤フイルムから溶媒を蒸発させる。この乾燥工程により、溶媒を含有する気体が生成する。流延室や乾燥室に設けられた回収装置が、この気体を回収し、冷却すると、この気体から溶媒を含む廃棄物が生成する。
【０００６】
溶液製膜方法で用いられる溶媒は、ジクロロメタン等、そのまま自然界に廃棄できない化合物が含まれることが多い。また、この溶媒を含む廃棄物は、濾過装置等の洗浄過程や溶液製膜方法の乾燥工程等にて大量に生成する。一方、溶液製膜方法では多量の溶媒が必要である。そこで、洗浄過程や乾燥工程等で生成した廃棄物から溶媒を抽出し、抽出された溶媒を溶液製膜方法等に再利用することにより、大気汚染などの環境汚染の抑制と、溶液製膜方法におけるコスト低減とを同時に実現している（例えば、特許文献２）。特許文献２に記載される方法は、新たなドープと成分の同じ廃棄ドープに、所定量のポリマーや溶媒などを添加して、所望の成分割合の新たなドープをつくる方法である。
【特許文献１】特開２００６−３０６０５２号公報
【特許文献２】特開２００３−２３６８６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、近年の液晶表示装置の開発により、ＴＮ方式やＶＡ方式など様々な方式の液晶表示装置が登場したこと、及び，ＴＡＣフイルムの用途が、保護フイルムのみならず、光学補償フイルムや視野角拡大フイルム等に拡大したことに伴い、多品種のＴＡＣフイルムが求められるようになった。したがって、同一の溶液製膜設備において、多品種のＴＡＣフイルムを製造する際には、洗浄剤等により濾過装置、配管や溶液製膜設備等に残留するドープ等を除去した後に、新たなドープを濾過装置、配管や溶液製膜設備等に流す、いわゆるドープ切り替えを行う必要がある。
【０００８】
このドープ切り替えにおいて、異成分の廃棄ドープから新たなドープをつくる場合には、特許文献２に記載される方法をそのまま適用することができない。したがって、異成分の廃棄ドープから新たなドープに切り替える場合に、溶媒の再利用を行うためには、濾過装置、配管や溶液製膜設備等に設けられる各装置の洗浄を行い、洗浄にて生成した廃棄物から溶媒を抽出する必要がある。同様に、新たなドープから形成される流延膜や湿潤フイルムに、従前のドープに含まれる異成分等が混入することを防ぐために、流延室、乾燥室や、回収装置の洗浄を行い、洗浄にて生成した廃棄物から溶媒を取り除く（以下、脱溶媒と称する）必要がある。
【０００９】
これらの廃棄物から脱溶媒する場合には、廃棄物に加熱処理等を行い、廃棄物に含まれる溶媒を蒸発させることが一般的である。しかし、廃棄物を高温で、長時間加熱すると、廃棄物に含まれる、ポリマー、添加剤及び溶媒の加水分解の進行により酸が生成し、結果として、ドープ調製の再利用に適した溶媒を回収することができない。一方、廃棄物を低温域で加熱すると、溶媒の蒸発に要する時間が長くなることから、大量の廃棄物から溶媒を効率よく脱溶媒する方法として十分ではない。
【００１０】
更に、廃棄物に含まれる溶媒の蒸発効率の向上化の点から、支持体上に流れ延ばされた廃棄物を加熱してもよいが、大量の廃棄物から脱溶媒するためには、非常に大きな支持体が必要となってしまう。このような大きな支持体を用いることは、乾燥装置の設置スペースや、乾燥装置の規模が増大してしまうため好ましくない。一方、乾燥装置の設置スペース等の増大化を避けるために、所定の深さの槽に廃棄物を入れて、この廃棄物を乾燥すると、外気と接する廃棄物の表面及びその近傍に存在する溶媒から優先的に蒸発するため、最終的に、槽に貯留する廃棄物からすべての溶媒を蒸発させるまでに、長時間を要する。したがって、効率的に廃棄物から脱溶媒することができない。
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するものであり、ドープ等が調製される、または通過する装置や溶液製膜設備等から排出される廃棄物から、ドープ調製に再利用可能な溶媒を、効率よく除去するポリマー溶液の脱溶媒方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、ドープを調製する或いは前記ドープが通過するドープ調製通過装置内に残留し、第１ポリマーと第１溶媒と第１添加剤とを成分とする第１ドープから前記第１溶媒を取り除くポリマー溶液の脱溶媒方法において、前記第１ポリマーと異なる第２ポリマー、前記第１溶媒と異なる第２溶媒、及び前記第１添加剤と異なる第２添加剤のうちいずれかを成分とする第２ドープが導入される前記ドープ調製通過装置から、前記第１ドープを含む廃棄物を排出し、前記廃棄物を、前記第１溶媒をなす溶媒化合物よりもモル体積が小さい小体積物質中に配し、前記廃棄物から前記第１溶媒を蒸発させることを特徴とする。
【００１３】
前記第１ドープを除去するための洗浄剤を前記ドープ調製通過装置内に導入し、前記洗浄剤を含む前記廃棄物を、前記ドープ調製通過装置から排出することが好ましい。また、前記廃棄物の表面及びその近傍が、減率乾燥状態であることが好ましい。
【００１４】
前記小体積物質を含む気体中に、前記廃棄物を配することが好ましい。また、前記気体における前記小体積物質の飽和蒸気量をＭＳとするときに、前記気体が０．３ＭＳ以上ＭＳ以下の前記小体積物質を含むことが好ましい。更に、前記気体の温度が、前記小体積物質の沸点（℃）以上前記沸点の３倍（℃）以下であることが好ましい。
【００１５】
前記小体積物質を含む液体中に、前記廃棄物を配することが好ましい。また、前記液体の温度が、前記第１溶媒の沸点（℃）以上前記小体積物質の沸点（℃）以下であることが好ましい。
【００１６】
前記第１溶媒が、複数の化合物からなる場合には、前記複数の化合物のうち、モル体積が最も小さい化合物を、前記溶媒化合物とすることが好ましい。また、前記第１溶媒が、メチレンクロライド、メタノール、ブタノールのうち少なくとも１つを含み、前記小体積物質が水、メタノール、アセトン、メチルケトンのうち少なくとも１つを含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の溶液製膜方法によれば、廃棄物に含まれる溶媒をなす溶媒化合物よりもモル体積が小さい小体積物質中に廃棄物を配し、廃棄物から溶媒を蒸発させるため、溶媒を廃棄物から効率よく蒸発させることができる。特に、廃棄物の表面や表面近傍が、存在する溶媒化合物の量が微量の減率乾燥状態であっても、廃棄物内における溶媒化合物の拡散が促進されるため、廃棄物の内部に存在する溶媒化合物が表面や表面近傍に到達しやすくなる結果、廃棄物から容易に溶媒を蒸発させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の実施態様について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施態様に限定されるものではない。
【００１９】
図１のように、ドープ製造設備１０は、ドープ製造配管１１を介して、ストックタンク１２と接続する。また、ストックタンク１２は、製膜配管１３を介して、溶液製膜設備１４と接続する。
【００２０】
ドープ製造設備１０は、溶解タンク２０と、ポンプ２１と、加熱装置２２と、温調機２３と、濾過装置２４などを備え、これらはドープ製造配管１１に、上流側から設けられる。また、溶解タンク２０には、溶媒タンク２６と、ホッパ２７と、添加剤タンク２８とが、それぞれ配管により接続する。また、溶媒タンク２６と溶解タンク２０とを接続する配管、及び、添加剤タンク２８と溶解タンク２０とを接続する配管には、弁２６ａ、２８ａが設けられる。弁２６ａ、２８ａは、制御部２９の制御の下、開位置と閉位置とのいずれかの位置に変位する。
【００２１】
ホッパ２７は、制御部２９の制御の下、ＴＡＣ３００を溶解タンク２０に供給する。
溶媒タンク２６には溶媒３０１が貯留し、添加剤タンク２８には添加剤３０２が貯留する。弁２６ａが開位置になると、溶媒タンク２６から溶解タンク２０への溶媒３０１の供給が開始する。そして、弁２６ａが閉位置になると、溶媒タンク２６から溶解タンク２０への溶媒３０１の供給が停止する。同様にして、弁２８ａが開位置になると、添加剤タンク２８から溶解タンク２０への添加剤３０２の供給が開始し、弁２６ａが閉位置になると、添加剤タンク２８から溶解タンク２０への添加剤３０２の供給が停止する。
【００２２】
溶解タンク２０は、その外面を包み込むジャケット２０ａと、モータ２０ｂにより回転する第１攪拌翼２０ｃとが備えられている。さらに、溶解タンク２０には、モータ２０ｄにより回転する第２攪拌翼２０ｅが取り付けられていることが好ましい。なお、第１攪拌翼２０ｃは、アンカー翼であることが好ましく、第２攪拌翼２０ｅは、ディゾルバータイプのものを用いることが好ましい。ジャケット２０ａに伝熱媒体を流して溶解タンク２０内を所定の範囲の温度に調整することが好ましい。溶解タンク２０は、ＴＡＣ３００、溶媒３０１及び添加剤３０２を含む液を所定の温度範囲で加熱し、第１攪拌翼２０ｃ，第２攪拌翼２０ｅを適宜選択して回転させることで、ＴＡＣ３００が溶媒３０１中で膨潤した膨潤液３０５を得ることができる。
【００２３】
ポンプ２１は、溶解タンク２０内の膨潤液３０５を、加熱装置２２に送る。加熱装置２２は、ジャケット付き配管を用いることが好ましく、更に膨潤液３０５を加圧できる構成であることが好ましい。加熱装置２２は、膨潤液３０５を加熱し、ＴＡＣ３００が溶媒３０１に溶解したドープ３０６を調製する。温調機２３は、調製されたドープ３０６の温度を所定の範囲内で略一定に保持する。その後、濾過装置２４によりドープ３０６の濾過を行いドープ３０６中の不純物を取り除く。濾過装置２４の濾過フィルタの平均孔径が１００μｍ以下であることが好ましい。また、濾過流量は、５０Ｌ／時以上であることが好ましい。
【００２４】
ストックタンク１２は、ドープ製造設備１０で調製されたドープ３０６を貯留し、ドープ３０６の温度を所定の範囲内で略一定に保持する。また、製膜配管１３には、ストックタンク１２に貯留するドープ３０６を送り出すポンプ３１と、濾過装置３４とが設けられる。そして、溶液製膜設備１４では、流延ダイが、流延室内で、ポンプ３１によって送られ、濾過装置３４を通過したドープ３０６を支持体上に流延し、支持体上に流延膜を形成し、流延膜を乾燥する。流延膜に自己支持性が発現すると、流延膜は支持体から剥ぎ取られ、湿潤フイルムとして乾燥室に送られる。湿潤フイルムは、乾燥室での乾燥処理を経て、フイルムとなる。
【００２５】
洗浄装置３７は、制御部２９と接続する。洗浄装置３７は、制御部２９の制御の下、ドープ製造設備１０、配管１１、ストックタンク１２、配管１３、溶液製膜設備１４、濾過装置２４へ洗浄液３１０を供給する。以下、ドープ製造設備１０及び溶液製膜設備１４を構成する各装置、並びに、ストックタンク１２、濾過装置２４及び配管１１、１３等の装置の総称として、ドープ調製通過装置と称する。また、制御部２９は、図示しない信号出力手段からのドープ切り替え信号を検出すると、弁２６ａ、２８ａを閉位置にし、ホッパ２７によるＴＡＣ３００の供給を停止し、ポンプ２１、３１を停止する。その後、洗浄装置３７は、洗浄液３１０をドープ調製通過装置へ供給する。
【００２６】
廃液処理設備４０は、廃液タンク４２と、脱溶媒装置４３と、蒸留塔４４とを備える。廃液タンク４２は、ドープ調製通過装置から、洗浄液３１０とドープ調製通過装置に残留していたドープ３０６とを含む廃液３２０を回収する。脱溶媒装置４３は、廃液３２０に所定の処理を施すことにより、廃液３２０から、ＴＡＣ３００や添加剤３０２などを含む残留物３２１と、溶媒３０１を含む混合液３２２と、に分離する。蒸留塔４４は、混合液３２２を蒸留し、混合液３２２から、新たなドープの調製に利用可能な精製溶媒３３０を分留する分留処理を行う。なお、残留物３２１は、そのまま廃棄するほか、所定の処理を経た後、セメントの材料、助燃剤や活性炭の原料、或いは、ＴＡＣ３００を分離した後、ドープの調製材料として用いることができる。
【００２７】
図２のように、脱溶媒装置４３には、乾燥加熱室５１と湿潤加熱室５２とが設けられる。そして、乾燥加熱室５１には、図示しないダクトが設けられ、このダクトを介して、第１吸着回収部５５と乾燥気体供給部５６とが接続する。また、湿潤加熱室５２には、図示しないダクトが設けられ、このダクトを介して、第２吸着回収部５７と湿潤気体供給部５８とが接続する。
【００２８】
乾燥加熱室５１の内部は、乾燥気体４００で満たされている。第１吸着回収部５５は、ダクトを介して、乾燥加熱室５１内の乾燥気体４００を回収気体４０１として回収する。次に、第１吸着回収部５５は、活性炭などの吸着剤を用いて、回収気体４０１から溶媒３０１を吸着する吸着処理を行う。更に、第１吸着回収部５５は、吸着処理により吸着剤に吸着された溶媒３０１を、蒸気を用いて脱着する脱着処理を行う。吸着処理及び脱着処理により、回収気体４０１から、水と溶媒３０１とを含む混合液３２２が生成し、混合液３２２は蒸留塔４４（図１参照）へ送られる。一方、吸着処理により溶媒３０１が奪われた回収気体４０１は、残留気体４０２として乾燥気体供給部５６に送られる。乾燥気体供給部５６は、回収した残留気体４０２の温度や湿度などを所望の範囲内に調節した後、残留気体４０２を乾燥気体４００として、ダクトを介して、乾燥加熱室５１へ供給する。また、乾燥加熱室５１には、廃液容器６１が配され、廃液タンク４２に貯留する廃液３２０は、廃液容器６１に注がれる。こうして、乾燥加熱室５１では、温度や湿度等が所望の範囲に調節された乾燥気体４００中で廃液３２０が加熱される乾燥加熱処理が行われる。
【００２９】
湿潤加熱室５２の内部は、湿潤気体４１０で満たされている。第２吸着回収部５７は、まず、ダクトを介して、湿潤加熱室５２内の湿潤気体４１０を回収気体４１１として回収する。次に、第２吸着回収部５７は、活性炭などの吸着剤を用いて、回収気体４１１から溶媒３０１を吸着する吸着処理を行う。更に、第２吸着回収部５７は、吸着処理により吸着剤に吸着された溶媒３０１を、蒸気を用いて脱着する脱着処理を行う。吸着処理及び脱着処理により、回収気体４１１から、水と溶媒３０１とを含む混合液３２２が生成し、混合液３２２は蒸留塔４４（図１参照）へ送られる。一方、吸着処理により溶媒が奪われた回収気体４１１は、残留気体４１２として湿潤気体供給部５８に送られる。湿潤気体供給部５８は、回収した残留気体４０２の温度や湿度などを所望の範囲内に調節した後、残留気体４１２を湿潤気体４１０として、ダクトを介して、湿潤加熱室５２へ供給する。また、湿潤加熱室５２には、乾燥加熱処理が施された廃液３２０を貯留する廃液容器６１が配される。第２加熱室５１では、温度や湿度等が所望の範囲に調節された湿潤気体４１０中で廃液３２０が加熱される湿潤加熱処理が行われる。
【００３０】
図３のように、湿潤気体供給部５８は、軟水４２０を加熱して、水蒸気４２１をつくるボイラ６１と、空気４２２を送風するブロア６２と、ブロア６２によって送られた空気４２２を加熱する熱交換器６３と、水蒸気４２１と熱交換器６３を経た空気４２２とから湿潤気体４１０をつくる混合器６４と、湿潤気体４１０を加熱して、湿潤加熱室５２へ送る加熱器６５と、第２吸着回収部５７から回収した残留気体４１２を凝縮し、加熱気体４２５と凝縮液４２６とをつくる凝縮器６９とを有する。
【００３１】
また、ボイラ６１と混合器６４とを接続する配管には、水蒸気４２１の圧力を所定の値まで減圧する減圧弁７２及び水蒸気４２１の流量の調節を行う流量調節弁７３が設けられる。また、制御器７５は、流量調節弁７３と、加熱器６５と接続し、湿潤気体４１０の湿度及び温度を所望の範囲に調節する。湿潤気体４１０の湿度及び温度の調節は、湿潤加熱室５２に設けられる湿度センサ（図示しない）から読み取った値に基づいて行っても良いし、湿潤加熱処理における条件に応じて調節してもよい。
【００３２】
凝縮器６９には、冷却装置８０が接続する。冷却装置８０は、凝縮器６９に冷水４３０を送る。凝縮器６９に送られた冷水４３０は、残留気体４１２の凝縮に用いられる。残留気体４１２の凝縮により、冷水４３０は、温水４３１となる。冷却装置８０は、回収した温水４３１に冷却処理を施して、再び、冷水４３０として、凝縮器６９に送る。凝縮器６９によって生成する加熱気体４２５の一部は、ブロア８１により熱交換器６３に送られ、熱の再利用が行われる。また、余剰の加熱気体４２５は廃棄される。
【００３３】
凝縮器６９にて生成した凝縮液４２６は、貯水タンク８３へ送られる。貯水タンク８３には、凝縮液４２６における溶媒の濃度を検出する濃度センサが設けられる。凝縮液４２６における溶媒の濃度が所定値以下である場合は、凝縮液４２６は、所定の後処理を経て廃棄される。なお、凝縮液４２６における溶媒の濃度が所定値を超える場合は、混合液３２２として、蒸留塔４４（図１参照）に送ってもよい。
【００３４】
図１を用いて、本発明の作用について説明する。始めに、制御部２９により、弁２６ａ、弁２８ａが開位置となって、溶媒タンク２６から溶媒３０１が、添加剤タンク２８から添加剤３０２が、ホッパ２７からＴＡＣ３００が、それぞれ、溶解タンク２０に送られる。そして、ジャケット２０ａにより、溶解タンク２０内を−１０℃以上５５℃以下の範囲に温度調整し、第１攪拌翼２０ｃ、第２攪拌翼２０ｅを適宜選択して回転させることにより、ＴＡＣ３００、溶媒３０１そして添加剤３０２を含む液から、膨潤液３０５を得る。
【００３５】
ポンプ２１により、膨潤液３０５を加熱装置２２に送液する。膨潤液３０５に加熱処理または加圧下での加熱処理を施し、ＴＡＣ３００を溶媒３０１に溶解させてドープ３０６を得る。なお、この場合に膨潤液３０５の温度は、−１００℃以上−１０℃以下、或いは０℃以上１２０℃以下であることが好ましい。加熱溶解法及び冷却溶解法を適宜選択して行うことでＴＡＣを溶媒に十分溶解させることが可能となる。温調機２３によりドープ３０６の温度を０〜４０℃とした後に、濾過装置２４により濾過を行いドープ３０６中の不純物を取り除く。濾過後のドープ３０６は、図示しないバルブを介してストックタンク１２に入れられる。
【００３６】
これらの方法により、ＴＡＣ濃度が５重量％〜４０重量％であるドープ３０６を製造することができる。より好ましくはＴＡＣ濃度が１５重量％以上３０重量％以下であり、最も好ましくは１７重量％以上２５重量％以下の範囲とすることである。また、添加剤３０２（主には可塑剤である）の濃度は、ドープ中の固形分全体を１００重量％とした場合に１重量％以上３０重量％以下の範囲とすることが好ましい。
【００３７】
ドープ製造設備１０にて調製されたドープ３０６は、ストックタンク１２に貯蔵される。ストックタンク１２に貯蔵されたドープ３０６は、ポンプ３１により濾過装置３４を介して、溶液製膜設備１４へ送られる。溶液製膜設備１４では、溶液製膜方法により、ドープ３０６から最終製品となるフイルムを製造する。
【００３８】
次に、ドープ３０６を調製していたドープ製造設備１０において、ドープ３０６から、ＴＡＣ３００の代わりに他のポリマーが含まれる新たなドープへ切り替える場合の、各装置の詳細について説明する。まず、図示しない信号出力手段を用いて、制御部２９にドープ切り替え信号を送信する。制御部２９は、図示しない信号出力手段からのドープ切り替え信号を検出すると、弁２６ａ、２８ａを閉位置にし、ホッパ２７のＴＡＣ３００の供給を停止し、ポンプ２１、３１を停止する。
【００３９】
その後、洗浄装置３７は、洗浄液３１０をドープ調製通過装置へ供給する。そして、ドープ調製通過装置に送られた洗浄液３１０は、ドープ調製通過装置に残留する膨潤液３０５やドープ３０６とともに、廃液３２０となって、ドープ調製通過装置から排出され、洗浄処理が行われる。そして、残留する膨潤液３０５やドープ３０６を十分に除去した後、洗浄液３１０のドープ調製通過装置への供給を停止して、洗浄処理が完了する。洗浄処理にて排出される廃液３２０の固形分濃度は、０．１重量％以上２５重量％以下である。なお、固形分濃度とは、廃液３２０におけるポリマーや添加剤の濃度を指す。
【００４０】
そして、洗浄装置３７による洗浄処理が終わった後、再び、図示しない信号出力手段を用いて、制御部２９にドープ切り替え信号を送信する。制御部２９は、ドープ切り替え信号を検出すると、弁２６ａ、２８ａを開位置にし、ホッパ２７から新たなポリマーの供給を開始し、ポンプ２１、３１を運転する。こうして、ドープ製造装置１０では、新たなドープを調製し、溶液製膜設備１４では、従前のフイルムと異なる品種のフイルムを新たなドープから製造することができる。
【００４１】
次に、洗浄処理にて生成した廃液３２０から精製溶媒３３０を抽出するまでの詳細について説明する。図１及び図２のように、洗浄処理の開始後、廃液タンク４２は、ドープ調製通過装置から排出され、洗浄液３１０と、ドープ調製通過装置に残留する膨潤液３０５又はドープ３０６とを含む廃液３２０を回収する。
【００４２】
廃液タンク４２は、乾燥加熱室５１内に配される廃液容器６１に、廃液３２０を供給する。乾燥気体供給部５６が、４０℃以上１５０℃以下に調節した乾燥気体４００を乾燥加熱室５１に供給することにより、乾燥加熱室５１では乾燥加熱処理が行われる。乾燥加熱処理により、廃液３２０から溶媒３０１が蒸発する。蒸発した溶媒３０１は、第１吸着回収部５５により残留気体４０２として回収され、吸着処理及び脱着処理を経て、混合液３２２となる。
【００４３】
乾燥加熱処理の後、廃液３２０を貯留する廃液容器６１は、湿潤加熱室５２へ案内される。湿潤気体供給部５８が、温度及び湿度を所定の範囲内で略一定になるように調節した湿潤気体４１０を湿潤加熱室５２に供給することにより、湿潤加熱室５２では湿潤加熱処理が行われる。湿潤加熱処理により、廃液３２０から溶媒３０１が蒸発する。蒸発した溶媒３０１は、第２吸着回収部５７により回収され、吸着処理及び脱着処理を経て、混合液３２２となる。
【００４４】
また、第１吸着回収部５５及び第２吸着回収部５７における吸着処理及び脱着処理により生成した混合液３２２は、蒸留塔４４に送られる。蒸留塔４４では、混合液３２２に分留処理を施して、精製溶媒３３０を生成する。この精製溶媒３３０は、新たなドープの調製用の溶媒として用いられる。一方、乾燥加熱処理及び湿潤加熱処理により、廃液容器６１内の廃液３２０から溶媒３０１が蒸発し、最終的に、廃液容器６１には、残留物３２１が残留する。また、乾燥加熱処理及び湿潤加熱処理を経て生成した残留物３２１は、所定の処理を経て、廃棄或いは、再利用される。
【００４５】
次に、乾燥加熱処理及び湿潤加熱処理における、溶媒３０１の蒸発の詳細について説明する。溶媒３０１をなす化合物（以下、溶媒化合物と称する）を十分に含む廃液３２０に乾燥加熱処理を施すと、廃液３２０の液面及び液面の近傍に存在していた溶媒化合物が外気に放出される。したがって、乾燥加熱処理を一定期間以上行うと、廃液３２０の液面及び液面の近傍は、微量の溶媒化合物が存在する状態、いわゆる減率乾燥状態になる。
【００４６】
液面及び液面の近傍が減率乾燥状態にある廃液３２０から、溶媒化合物が蒸発するためには、廃液３２０の液面及び液面の近傍から離れた深層部に存在する溶媒化合物が、廃液３２０の液面及び液面の近傍まで拡散する必要がある。しかしながら、減率乾燥状態にある廃液３２０の液面及び液面近傍では、ポリマー分子などによって網目構造が形成され、この網目構造の目が、所定のモル体積を有する溶媒化合物が廃液３２０中を拡散するための十分な大きさを持っていない。したがって、乾燥加熱処理において、廃液３２０の深層部に存在する溶媒化合物が、減率乾燥状態にある液面及び液面の近傍まで拡散することは困難である。
【００４７】
本発明では、水分子を含む湿潤気体４１０中で、液面及び液面の近傍が減率乾燥状態にある廃液３２０を加熱する湿潤加熱処理を行うため、液面及び液面近傍の廃液３２０に水分子が吸収する結果、廃液３２０から溶媒化合物を容易に蒸発させることができる。なぜならば、減率乾燥状態にある廃液３２０の液面から水分子が吸収されると、水分子により廃液３２０内の網目構造の目を押し広げられ、深層部に存在する溶媒化合物が廃液３２０の液面及び液面の近傍まで拡散到達しやすくなるためである。したがって、湿潤加熱処理により、廃液３２０から溶媒３０１を容易に蒸発させることができる。
【００４８】
廃液３２０が、減率乾燥状態であるか否かの判断手法としては、残留溶媒量の規定で判断する方法などが挙げられる。条件が一定である加熱実験において、廃液３２０から溶媒３０１が蒸発する速度、すなわち図４のようなプロット図における勾配が略一定となる状態を恒率乾燥状態Ｃ１とし、恒率乾燥状態以降の状態を減率乾燥状態Ｃ２としてもよい。図４のプロット図は、ドープ調製通過装置から回収した直後の廃液３２０から残留物３２１になるまでに、乾燥加熱処理が施された時間及び湿潤加熱処理が施された時間の合計時間（経過時間）と残留溶媒量の変化を示すものである。図中の点Ｐ１は、ドープ調製通過装置から回収した直後の廃液３２０を表し、点Ｐ２は、乾燥加熱処理及び湿潤加熱処理を経て生成した残留物３２１を表す。なお、図４のようなプロット図を用いずに、例えば、残留溶媒量が乾量基準で１００重量％以下の状態を減率乾燥状態Ｃ１としてもよい。この乾量基準による残留溶媒量は、サンプリング時における試料の重量をｘ、その試料を乾燥した後の重量をｙとするとき｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で算出される値である。
【００４９】
通常、廃液３２０内における溶媒化合物の拡散を促進させるためには、廃液３２０の温度を一定値（略１１０℃）以上で、長時間（例えば、２４時間以上）処理する必要があるが、本発明では、上記処理を長時間行わなくても、廃液３２０内における溶媒化合物の拡散を促進させて、廃液３２０からの溶媒３０１の蒸発を容易にすることができるため、エネルギー的にも効率がよい。また、高温下での長時間の湿潤加熱処理は、溶媒３０１の加水分解を誘発することとなるが、本発明では、溶媒３０１の加水分解を抑えることができるため、良質な溶媒３３０を得ることができる。
【００５０】
洗浄液３２０としては、ＴＡＣ３００などポリマーを溶解できるものが好ましく、具体的には、ドープ３０６に含まれる溶媒３０１、或いは、新たなドープに含まれる溶媒を用いることが好ましい。
【００５１】
湿潤加熱処理が施される際の、廃液３２０の液面から廃液容器６１の内側の底面までの深さＤは、水分子が廃液３２０に侵入し得る深さを超えないことが好ましく、具体的には、深さＤは３０ｃｍ以下であることが好ましい。なお、廃液３２０がゲル状のもの或いは、固体の場合も同様である。
【００５２】
湿潤加熱室５２で用いられる湿潤気体４１０の好ましい条件として、水分子をより多く含むこと、相対湿度が高いことなどがある。
【００５３】
湿潤気体４１０における水分子の飽和蒸気量をＭＳとするときに、湿潤気体４１０に含まれる水分子の重量は、０．３ＭＳ以上ＭＳ以下であることが好ましく、０．３１ＭＳ以上０．５ＭＳ以下であることがより好ましい。湿潤気体４１０に含まれる水分子の量が、０．３ＭＳ未満の場合には、ポリマー分子の網目が押し広げられなくなり、廃液３２０から溶媒３０１を容易に蒸発させることが困難となるため好ましくない
【００５４】
湿潤気体４１０の温度は、小体積物質の沸点ＢＰ（℃）以上３ＢＰ（℃）以下であることが好ましく、ＢＰ（℃）以上２ＢＰ（℃）以下であることがより好ましく、１．１ＢＰ（℃）以上１．７ＢＰ（℃）以下であることが特に好ましい。湿潤気体４１０の温度が、２００℃を超えると、溶媒３０１の加水分解が起こってしまうため好ましくない。
【００５５】
上記実施形態では、湿潤気体の成分として軟水４２０を用いたが、本発明はこれに限られず、その他の小体積物質でもよい。ここで、小体積物質は、ドープ３０６に含まれる溶媒３０１をなす溶媒化合物より小さいモル体積の物質をいう。小体積物質のモル体積が、網目構造の目にくらべてより小さくなるほど、この網目構造の目を押し広げ、溶媒化合物の拡散を促進する効果がより顕著に発揮される。温度が０℃、１ａｔｍ下における、小体積物質のモル体積は、ポリマーの組成にもよるが、５以上１５０以下であることが好ましく、１０以上１００以下であることがより好ましい。
【００５６】
また、小体積物質が溶媒３０１と相溶する場合には、小体積物質への溶解により、減率乾燥状態の廃液３２０中における溶媒化合物の拡散が行われやすくなるため、好ましい。
【００５７】
小体積物質として、具体的には、水分子、有機化合物、これらの混合物を用いることができる。水分子を含むものとして、軟水のほか、硬水、純水などを用いることができる。なお、本発明に明細書における純水とは、電気抵抗率が少なくとも１ＭΩ以上であり、特にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属イオンの含有濃度は１ｐｐｍ未満、塩素、硝酸などのアニオンは０．１ｐｐｍ未満の含有濃度を指す。純水は、逆浸透膜、イオン交換樹脂、蒸留などの単体、あるいは組み合わせによって、容易に得ることができる。
【００５８】
小体積物質として用いられる有機化合物としては、メタノール、アセトンやメチルエチルケトンなどが挙げられる。
【００５９】
また、ドープ３０６等に含まれる溶媒３０１が、複数の化合物の混合物である場合には、抽出対象である当該化合物の中で最もモル体積の小さい化合物を溶媒化合物とすればよい。  
【００６０】
上記実施形態では、空気４２２を用いたが、本発明はこれに限られず、空気４２２に代えて、窒素やＨｅやＡｒなどの不活性ガスを用いても良い。なお、空気４２２に含まれる不純物の量は、小体積物質と同様に、できるだけ少ないことが好ましい。
【００６１】
上記実施形態では、乾燥加熱処理の後に、湿潤加熱処理を行ったが、本発明はこれに限られず、湿潤加熱処理のみを行ってもよい。また、乾燥加熱処理及び、湿潤加熱処理において、廃液３２０を加熱するとしたが、本発明はこれに限られず、廃液３２０から溶媒３０１が蒸発する雰囲気中に、廃液３２０を配すればよい。また、乾燥加熱室５１では乾燥加熱処理を、湿潤加熱室５２では湿潤加熱処理を、それぞれ行ったが、本発明はこれに限られず、加熱室内の雰囲気を、乾燥気体４００や湿潤気体４１０と同等の条件に調節可能な調節装置を乾燥室に設けてもよい。この調節装置を有する乾燥室により、乾燥加熱処理と湿潤加熱処理とを連続的に行うことができる。
【００６２】
上記実施形態では、洗浄液３１０とドープ３０６とを含む廃液３２０を回収し、廃液３２０から溶媒を取り除いたが、本発明はこれに限られず、溶媒を含む廃棄物から溶媒を取り除く場合にも、本発明を適用することができる。このような廃棄物として、例えば、流延膜や湿潤フイルムを乾燥する溶液製膜設備１４内の乾燥室等から排気される空気を蒸着して生成する廃棄物や溶液製膜設備１４から排出される廃棄フイルムなどがある。
【００６３】
上記実施形態における、廃液３２０は、液体のものに限られず、廃棄物であればよい。この廃棄物としては、液面のみ、または、液面及び液面の近傍が、ゲル化または固化したものでもよいし、全体がゲル化または固化したものでもよい。
【００６４】
乾燥加熱室５１や湿潤加熱室５２に、廃液３２０が貯留する複数の廃液容器６１を配し、乾燥加熱処理或いは湿潤加熱処理を行ってもよい。
【００６５】
上記実施形態では、ドープ調製通過装置に残留する第１ドープをドープ３０６としたが、本発明の第１ドープは、これに限れず、溶解タンク２０に送られ、未だＴＡＣ３００が溶媒３０１に溶解または膨潤していない液、或いは膨潤液３０５が含まれる。
【００６６】
上記実施形態では、溶解タンク２０に入れる順番が、溶媒３０１、添加剤３０２、ＴＡＣ３００であったが、この順番に限定されるものではない。ＴＡＣ３００を計量しながら溶解タンク２０に送り込んだ後に、好ましい量の溶媒３０１を送液することもできる。また、添加剤３０２は必ずしも溶解タンク２０に予め入れる必要はなく、後の工程でＴＡＣ３００と溶媒３０１との混合物に混合させることもできる。
【００６７】
なお、上記実施形態では、ＴＡＣ３００から新たなポリマーに変更して、ドープ製造設備１０にて調製するドープを、新たな組成のものに切り替えたが、本発明はこれに限られず、溶媒３０１を新たな溶媒に切り替える場合や、添加剤３０２を新たな添加剤に切り替える場合でもよい。
【００６８】
上記実施形態では、洗浄処理において、ドープ調製通過装置に洗浄液３１０を導入し、ドープ調製通過装置に残留するドープ３０６等を洗い流したが、本発明はこれに限られず、新たなドープを洗浄液３１０としてドープ調製通過装置に流し、ドープ調製通過装置内に残留するドープを押し流すようにしてもよい。例えば、溶解タンク２０から導入された洗浄液３１０により、残留するドープ３０６を押し流し、ストックタンク１２や、溶液製膜設備１４の直前で、廃液３２０として回収してもよい。また、配管１１、１３の上流側から洗浄液３１０を導入し、残留するドープ３０６等を配管１１、１３の下流側まで押し流した後、配管１１、１３の下流側から廃液３２０を回収してもよい。
【００６９】
上記実施形態では、湿潤気体４１０を用いて、湿潤加熱処理を行ったが、本発明はこれに限られない。次に、廃液３２０を軟水に接触させながら湿潤加熱処理を行なう、湿潤加熱室を説明するが、上記実施形態と同一の部材、装置には同一の符号を付し、その詳細の説明は省略する。図５のように、湿潤加熱室１５２には、廃液容器６１が配される。廃液容器６１には、表面３２０ａが減率乾燥状態にある廃液３２０が入っている。図示しない軟水供給装置により、この表面３２０ａ上に、所定の温度に調節された軟水４２０が供給される。また、廃液容器６１には、廃液３２０の温度を所定の範囲に調節する温調器１５６が設けられる。そして、温調機１５６により廃液３２０を所定の温度になるまで加熱することで、軟水４２０と廃液３２０とを接触させながら、湿潤加熱処理を行なうことができる。こうして、湿潤加熱処理において、減率乾燥状態にある廃液３２０の表面３２０ａに水分子を吸収させることができるため、結果として、廃液３２０から溶媒化合物を容易に放出させることができる。
【００７０】
軟水４２０の温度を、４０℃以上１００℃以下にすることが好ましく、７０℃以上１００℃以下にすることがより好ましい。また、温調機１５６は、廃液３２０の温度を４０℃以上１００℃以下にすることが好ましく、７０℃以上１００℃以下にすることがより好ましい。なお、湿潤乾燥室１５２に、第１吸着回収部５５と乾燥気体供給部５６とを設けて、湿潤乾燥室１５２の内部を乾燥気体４００で満たした状態で湿潤加熱処理を行ってもよいし、湿潤乾燥室１５２に第２吸着回収部５７と湿潤気体供給部５８とを設けて、湿潤乾燥室１５２の内部を湿潤気体４１０で満たした状態で湿潤加熱処理を行ってもよい。
【００７１】
上記実施形態において、凝縮器６９（図３参照）とから生成する温水４３１を軟水４２０の代わりに設けてもよい。更に、凝縮器６９と水槽１５５とを、及び冷却器８０（図３参照）と水槽１５５とを、それぞれ配管で接続し、凝縮器６９で残留気体４１２（図３参照）から得た熱エネルギーを、温水４３１を介して、軟水４２０の温度調節に利用してもよい。
【００７２】
なお、ドープ製造設備１０において、ドープ３０６の調製に用いるポリマーとしてＴＡＣ３００を用いたが、本発明におけるポリマーとしては、ＴＡＣ３００に限らず、有機化合物やその他のセルロースアシレート等を用いてもよい。
【００７３】
（ポリマー）
本実施形態においては、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いており、セルロースアシレートとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が特に好ましい。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基の水素原子に対するアシル基の置換度が下記式(I)〜(III)の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式(I)〜(III)において、Ａ及びＢは、セルロースの水酸基の水素原子に対するアシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ）  ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（II）  ０≦Ａ≦３．０
（III）  ０≦Ｂ≦２．９
また、本発明に用いられるポリマーはセルロースアシレートに限定されるものではない。
【００７４】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１である）を意味する。
【００７５】
全アシル化置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）である。
【００７６】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位及び６位の水酸基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位，３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳＢは０．３０以上であり、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢはその２０％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは２５％以上が６位水酸基の置換基であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位の置換度が０．７５以上であり、さらには０．８０以上であり特には０．８５以上であるセルロースアシレートも挙げることができる。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性の良い溶液の作製が可能となる。
【００７７】
セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良い。
【００７８】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル、ブタノイルである。
【００７９】
（溶媒）
ドープを調製する溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶媒に溶解または分散して得られるポリマー溶液，分散液を意味している。
【００８０】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フイルムの機械的強度など及びフイルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００８１】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶媒組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。これらを適宜混合して用いることがある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶媒が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−及び−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができる。
【００８２】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶媒及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】廃液から精製溶媒を抽出する廃液処理設備、ドープ製造設備、及び溶液製膜設備等の概要を示す説明図である。
【図２】脱溶媒装置の概要を示す説明図である。
【図３】湿潤気体供給部の概要を示す説明図である。
【図４】ドープ調製通過装置から回収直後の廃液が残留物になるまでに要する乾燥処理時間と残留溶媒量の推移の概要を示す説明図である。
【図５】第２の湿潤加熱室の概要を示す説明図である。
【符号の説明】
【００８４】
１０  ドープ製造設備
１１、１３  配管
１２  ストックタンク
１４  溶液製膜設備
４０  廃液処理設備
４３  脱溶媒装置
４４  蒸留塔
５１  乾燥加熱室
５２  湿潤加熱室
３００  ＴＡＣ
３０１  溶媒
３０２  添加剤
３０５  膨潤液
３０６  ドープ
３２０  廃液
３２１  残留物
３２２  混合液
３３０  精製溶媒
４１０  湿潤気体
【図１】
2009083219.tif 000003
【図２】
2009083219.tif 000004
【図３】
2009083219.tif 000005
【図４】
2009083219.tif 000006
【図５】
2009083219.tif 000007