(57)【要約】【課題】有機機能層を簡易にパターン形成できると共に、その膜厚の均一性を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法および装置を提供することを課題とする。【解決手段】有機化合物を含む発光層を有する積層体である有機ＥＬ素子の製造方法であって、有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程（Ｓ−１１）と、前記平板印刷版上に塗布されたインクの溶媒を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程（Ｓ−１２）と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写工程（Ｓ−１３）と、前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第２の転写工程（Ｓ−１４）とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む有機機能層とをそれぞれ成膜して有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、
前記有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程と、
前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程と、
前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写工程と、
前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第２の転写工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記インクにおける溶媒の含有量が、９５重量％以上９９.９重量％以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記粘度調整工程では、前記インクを加熱することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つにおいて、
前記有機材料が有機高分子材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一つにおいて、
前記平板印刷版面にパターン塗布される前記インクが、熱硬化性を示し、
前記粘度調整工程では、インクの溶媒の一部を除去するとともに、加熱することによってインクの粘度を調整することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一つにおいて、
前記第１の転写工程又は前記第２の転写工程では、調整された圧力でインクを押圧することにより、転写されるインクの表面を平坦化することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一つにおいて、
前記有機機能層が、発光層であり、
前記塗布工程では、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料が少なくとも１種ずつ含まれる複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、
前記第１の転写工程と前記第２の転写工程とでは、前記複数の種類のインクを一括して転写することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一つにおいて、
前記塗布工程の後に、前記平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査工程と、
前記検査工程で塗布不良部分が発見されると、前記平板印刷版面上の塗布不良部分をインクジェット装置で再塗布し補修する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項９】
少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む有機機能層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子における有機機能層を成膜する製造装置であって、
インクジェット装置を有し、前記有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、前記インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布部と、
前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去してインクの粘度を調整する粘度調整部と、
前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写部と、
前記転写体に転写したインクを基板に転写する第２の転写部とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記粘度調整部が、前記インクを加熱することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０において、
前記有機材料が有機高分子材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１２】
請求項９乃至１１のいずれか一つにおいて、
前記第１の転写部又は前記第２の転写部が、調整された圧力でインクを押圧することにより転写されたインクの表面を平坦化することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１３】
請求項９乃至１２のいずれか一つにおいて、
前記塗布部が、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料をそれぞれ少なくとも１種ずつ含む複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、
第１の転写部と前記第２の転写部とが、前記複数の種類のインクを一括して転写することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１４】
請求項９乃至１３のいずれか一つにおいて、
前記平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査部をさらに有し、
前記検査部の検査により塗布不良部分が発見されると、前記平板印刷版面上の塗布不良部分を前記インクジェット装置で再塗布し補修することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光層の膜厚の均一性を実現できる有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子の製造方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子の一つに有機ＥＬ素子がある。有機ＥＬ素子は、有機物を含む発光層（有機機能層）と、この発光層を挟む一対の電極（陽極および陰極）とを備え、当該一対の電極に電圧を印加することによって、陽極から正孔が注入されるとともに陰極から電子が注入され、これら正孔と電子とが発光層において結合することで発光する。このような有機ＥＬ素子では、駆動電圧の低電圧化や素子の長寿命化などを目的として、電極と発光層との間に電荷注入層および電荷輸送層などの発光層とは異なる有機機能層または無機層を設けている。有機ＥＬ素子は、通常、支持基板上に電極および１または複数の有機機能層を所定の順序で積層させて作製される。
【０００３】
例えば基板上において複数の有機ＥＬ素子をマトリクス状に配置することで、複数の画素を備えるマトリクス表示パネルを得ることができる。このような表示パネルを用いることによって、例えばモノクロームディスプレイまたはカラーディスプレイなどの表示装置を実現することができる。
【０００４】
基板の所定の位置に複数の有機ＥＬ素子をそれぞれ形成する方法として、各有機機能層となる有機材料を含むインクを基板の所定の位置に選択的に塗布する各種塗布法が提案されている。例えばインクジェット方式を利用したオフセット印刷では、まずインクジェット装置を用いて平板印刷版面にインクをパターン塗布し、次にパターン塗布されたインクを弾性ブランケット（転写体）に転写させ、さらに転写したインクを被印刷体にオフセット印刷する。これによって、平板印刷版面に塗布されたパターンと同じパターンのインクが被印刷体に転写される。その後インクを乾燥させ、被印刷体に定着させることで、基板の所定の位置に有機機能層が選択的に成膜される（例えば特許文献１参照）。
インクジェット装置を用いる場合には、粘度の低いインクを用いるのが通常であり、このような低粘度インクでは弾性ブランケット（転写体）にインクが高精度に転写されないので、紫外線を照射することで硬化するＵＶインクを用い、平板印刷版面にＵＶインクをパターン塗布した後にＵＶ（紫外線）又は電子線を照射することでＵＶインクを半乾燥させてから、インクを弾性ブランケット（転写体）に転写させる方法が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１３０７２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
有機ＥＬ素子用の有機材料は、ＵＶ照射により損傷をうけ易いので、仮に特許文献１に記載の方法を有機ＥＬ素子の製造に適用すると、ＵＶを照射する工程で有機機能層が劣化してしまい、高い特性を示す有機ＥＬ素子を作製することができない。
【０００７】
上記のような状況の下、本発明は、有機機能層を簡易にパターン形成できると共に、その膜厚の均一性を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法および装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を進めたところ、平板印刷版面上に所定のパターンでインクを塗布した後、オフセット印刷法により基板にインクを転写する方法で所定のパターンの発光層を簡易に形成できると共に、その膜厚の均一性を実現でき得るという知見を得て、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、下記有機ＥＬ素子の製造方法および装置を提供するものである。
【０００９】
第１の発明は、少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む有機機能層とをそれぞれ成膜して有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、前記有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程と、前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写工程と、前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第２の転写工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１０】
第２の発明は、第１の発明において、前記インクにおける溶媒の含有量が９５重量％以上９９.９重量％以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１１】
第３の発明は、第１又は２の発明において、前記粘度調整工程では、前記インクを加熱することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１２】
第４の発明は、第１乃至３のいずれか一つの発明において、前記有機材料が有機高分子材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１３】
第５の発明は、第１乃至４のいずれか一つの発明において、前記平板印刷版面にパターン塗布される前記インクが、熱硬化性を示し、前記粘度調整工程では、インクの溶媒の一部を除去するとともに、加熱することによってインクの粘度を調整することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１４】
第６の発明は、第１乃至５のいずれか一つの発明において、前記第１の転写工程又は前記第２の転写工程では、調整された圧力でインクを押圧することにより、転写されるインクの表面を平坦化することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１５】
第７の発明は、第１乃至６のいずれか一つの発明において、前記有機機能層が、発光層であり、前記塗布工程では、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料が少なくとも１種ずつ含まれる複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、前記第１の転写工程と前記第２の転写工程とでは、前記複数の種類のインクを一括して転写することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１６】
第８の発明は、第１乃至７のいずれか一つの発明において、前記塗布工程の後に、前記平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査工程と、前記検査工程で塗布不良部分が発見されると、前記平板印刷版面上の塗布不良部分をインクジェット装置で再塗布し補修する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にある。
【００１７】
第９の発明は、少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む有機機能層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子における有機機能層を成膜する製造装置であって、インクジェット装置を有し、前記有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、前記インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布部と、前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去してインクの粘度を調整する粘度調整部と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写部と、前記転写体に転写したインクを基板に転写する第２の転写部とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置にある。
【００１８】
第１０の発明は、第９の発明において、前記粘度調整部が前記インクを加熱することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置にある。
【００１９】
第１１の発明は、第９又は１０の発明において、前記有機材料が有機高分子材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置にある。
【００２０】
第１２の発明は、第９乃至１１のいずれか一つの発明において、前記第１の転写部又は前記第２の転写部が、調整された圧力でインクを押圧することにより転写されたインクの表面を平坦化することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置にある。
【００２１】
第１３の発明は、第９乃至１２のいずれか一つの発明において、前記塗布部が、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料をそれぞれ少なくとも１種ずつ含む複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、第１の転写部と前記第２の転写部とが、前記複数の種類のインクを一括して転写することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置にある。
【００２２】
第１４の発明は、第９乃至１３のいずれか一つの発明において、前記平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査部をさらに有し、前記検査部の検査により塗布不良部分が発見されると、前記平板印刷版面上の塗布不良部分を前記インクジェット装置で再塗布し補修することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置にある。
【発明の効果】
【００２３】
本発明により、平面印刷版面上でインクの粘度を予め調整することによって、例えば粘度の低いインクを用いたとしても、平面印刷版面上にパターン塗布したインクを、転写体、さらには基板に順次転写することができ、これによって、有機機能層を簡易にパターン形成できる。
【００２４】
また塗布工程で各色（例えばＲ、Ｂ、Ｇ）用のインクをそれぞれ塗布した後に、転写を一括して行なうので、例えば各色ごとにそれぞれ転写を行なう際に問題となる各色間の位置ずれがなくなる。また、塗布工程ではインクジェット装置を用いてインクを予めパターン塗布するので、版を必要とすることなく、有機機能層を簡易にパターン形成できる。
【００２５】
また、平面印刷版面上で既に半乾燥状態になったインクを転写体に一旦転写させた後、基板に転写するので、オフセット印刷法で問題となる転写体の膨潤の問題を抑えることができ、安定して繰り返し印刷できる。
【００２６】
また、インクジェット印刷法による塗布では、転写されるべきインクのみが印刷面に接触するので、例えば版を用いた印刷のような印刷面の全面にインクを塗布する方法に比べて異物混入の可能性が低減する。
【００２７】
さらに、インクジェット印刷法を用いて選択的にインクを塗布することができるので、平板印刷版面にパターン塗布した後でも、不良塗布部分にのみ選択的にインクを再塗布することが可能であり、塗布不良部分を補修することで歩留まりの向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について、説明する。本発明は以下の記述によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【００２９】
［発明の実施の形態］
１．本発明の有機ＥＬ素子の製造方法
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法（以下、本明細書において「本発明の製造方法」という場合がある）は、図１に示すように、少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む発光層とをそれぞれ成膜して有機ＥＬ素子を製造する方法であって、有機機能層（本実施の形態では発光層）となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程（Ｓ−１１）と、前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程（Ｓ−１２）と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写工程（Ｓ−１３）と、前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第２の転写工程（Ｓ−１４）とを含むものである。
【００３０】
本発明の製造方法を限定するものではないが、本発明の製造方法の理解容易のため、本発明の製造方法によって製造される有機ＥＬ素子１００の実施形態の一例を図２に示す。図２に示す実施形態の有機ＥＬ素子１００は、支持基板１０１上に陽極１１１、正孔注入層１１２、正孔輸送層１１３、発光層１２０、電子輸送層１３３、電子注入層１３２、および陰極１３１がこの順に積層されて構成される。有機ＥＬ素子１００は、陽極１１１と陰極１３１との間に、前記有機機能層として発光層１２０を少なくとも一層備える。なお、図２には１つの有機ＥＬ素子１００が示されているが、実際には複数の有機ＥＬ素子１００が支持基板１０１上に形成されて、例えばマトリクス表示パネルが形成される。
以下の説明では、本発明の製造方法を用いて発光層１２０を成膜する場合について説明するが、例えば正孔注入層１１２、正孔輸送層１１３、電子輸送層１３３および電子注入層１３２が有機化合物を含む有機機能層であって、塗布法で成膜可能であれば、これらの層も本発明の製造方法を用いて成膜することができる。
【００３１】
変形例としては、陰極１３１を支持基板１０１上に設け、陽極１１１を発光層１２０を基準にして支持基板１０１とは反対側に設けてもよい。また有機ＥＬ素子としては、支持基板１０１側から採光するボトムエミッションタイプ、支持基板１０１とは反対側から採光するトップエミッションタイプ、又は両面採光型のいずれのタイプであってもよい。他の変形例としては、任意の保護膜、バッファー膜、反射層などの前述した各層とは異なる機能を有する層を設けてもよい。なお、有機ＥＬ素子の構成については、下記にて別途詳述する。有機ＥＬ素子はさらに封止基板が覆い被せられ、有機ＥＬ素子が外気と遮断された有機ＥＬ装置が形成される。
【００３２】
次に、本発明の製造方法について、図３−１〜図３−３を用いて、図１の工程図に沿って説明する。
＜第１工程（塗布工程）：有機ＥＬ材料を含むインクをパターン塗布する工程（Ｓ−１１）＞
図３−１に示すように、印刷用フレーム１１上に載置された印刷版定盤１２に設けられた平板印刷版１３の平板印刷版面（以下「版面」という）１３ａには、インクジェット装置ヘッド３０の吐出ノズルからインク液滴３１が吐出され、所定パターンを以て塗布インク３２が塗布されている。インクジェット装置ヘッド３０は、走査方向に垂直な方向に所定の間隔をあけて配置される複数の吐出ノズルを有し、走査方向に所定の速度で進みつつ、各吐出ノズルからそれぞれインク液滴３１を吐出する。したがって本実施の形態では、版面１３ａを平面視したときに、各塗布インク３２がマトリクス状にそれぞれ所定の間隔をあけて塗布される。なお本実施の形態では、一種類のインクをインクジェット装置ヘッド３０から吐出している。すなわち支持基板１０１上に作製される複数の有機ＥＬ素子１００の各発光層１２０は、互いに同じ組成であって、同じ色の光を発する。
ここで、インクジェット装置ヘッド３０は、数十ピコリットル程度のインクを数ｍ／ｓの速度で吐出する。
インクの組成としては、例えば有機機能層（本実施形態では発光層１２０）となる有機材料（ポリマー）が、好ましくは０.１重量％以上５重量％未満であり、さらに好ましくは１重量％以上５重量％未満であり、溶媒の含有量が、好ましくは９５重量％以上９９.９重量％未満であり、さらに好ましくは９５重量％以上９９重量％未満である。有機機能層（本実施形態では発光層１２０）となる有機材料（ポリマー）としては、後述の発光材料などが用いられる。インクジェット装置ヘッド３０から吐出される前のインクとしては、粘度が１〜２０ｍＰａ・ｓのものが好ましく、また表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍのものが好ましい。
【００３３】
＜第２工程（粘度調整工程）：インクの粘度を調整する工程（Ｓ−１２）＞
版面１３ａ上に塗布された塗布インク３２は、乾燥手段により溶媒の一部が除去されて、粘度が調整される。所定の膜厚に乾燥された調整インク３３は、転写体２０に搬送される。粘度を調整する乾燥手段としては、例えば赤外線ランプ、ヒータ等の加熱手段を挙げることができる。本工程ではインクに含まれる溶媒の含有量が５０〜６０重量％程度になるまで溶媒を除去するのが好ましい。なお、図３−２に示す調整インク３３の厚みは、本来溶媒が除去されて薄くなっているが、理解の容易のために実際の膜厚よりも厚く図示している。
【００３４】
＜第３工程（第１の転写工程）：インクをブランケットに転写する工程（Ｓ−１３）＞
次いで、図３−２に示すように、調整インク３３を転写体２０に転写する。本工程では、調整された圧力で調整インク３３を押圧することにより、転写されたインクの表面を平坦化する。転写体２０は、可動架台２１と、この可動架台２１に設けられた転写胴２３と、この転写胴２３に巻きまわされたブランケット２２とから構成されている。本実施の形態では、転写体２０が調整インク３３を押圧するときの圧力を制御することにより、ブランケット２２に転写されるインクの膜厚を一定にするようにしている。
【００３５】
＜第４工程（第２の転写工程）：転写されたインクを基板に転写する工程（Ｓ−１４）＞
その後、図３−３に示すように、ブランケット２２に転写された転写インク３４を、基板用定盤１４に設けられた基板１５上に転写して、所定パターンのインク層を形成する。なお本工程でインクが転写される基板１５には、陽極などが予め形成されており、これらの層の表面上にインクが転写される。次に形成されたインク層を放置する、または前述した乾燥手段などによってインク層に含まれる溶媒を除去し、発光層３５を形成する。
【００３６】
ここで図３−１〜図３−３では、一種類のインクを用いて同じ組成からなる複数の発光層を形成する方法について説明したが、複数の種類のインクを用いて、複数の種類の発光層を形成してもよい。すなわち塗布工程で、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料をそれぞれ少なくとも１種ずつ含む複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、複数の種類の発光層を形成してもよい。具体的には例えば赤色を発光する発光層となるＲインク、緑色を発光する発光層となるＧインク、青色を発光する発光層となるＢインクの３種類のインクを用い、各インクをそれぞれ所定のパターンで版面１３ａに塗布し、赤色、青色、緑色をそれぞれ発光する３種類の発光層を形成してもよい。例えばまずインクジェット装置ヘッド３０を列方向に走査させながら、行方向に所定の間隔をあけて配置される各吐出ノズルから、行方向に２列の間隔をあけてＲインクをそれぞれ滴下することによって、版面１３ａにおいて複数列のＲインクを塗布する。なお版面１３ａでは、各列のＲインクはそれぞれ列方向（走査方向）に所定の間隔をあけて配置される。次に同様にしてインクジェット装置ヘッド３０を列方向に走査させながら、Ｒインク列の一方に隣接する列に各吐出ノズルからＧインクを滴下することによって、版面１３ａにおいて複数列のＧインクを塗布する。次に同様にしてインクジェット装置ヘッド３０を列方向に走査させながら、ＲインクとＧインクの列の間の列に各吐出ノズルからＢインクを滴下することによって、版面１３ａにおいて複数列のＢインクが塗布される。なお、各色用のインクがそれぞれ走査方向に垂直な行方向に配置され、Ｒインクの行、Ｇインクの行、Ｂインクの行がこの順で繰り返し配置されるように各インクを塗布してもよい。
また複数の種類のインク（例えばＲインク、Ｇインク、Ｂインク）を塗布する場合には、第１の転写工程（本実施の形態では第３工程）と第２の転写工程（本実施の形態では第４工程）とでは、複数の種類のインクを一括して転写することが好ましい。具体的にはまず第１工程で複数の種類のインク（例えばＲインク、Ｇインク、Ｂインク）を版面１３ａに塗布し、第２工程（Ｓ−１２）で、塗布された全ての種類のインクの粘度調整を行い、第３工程（Ｓ−１３）で、全ての種類のインクを一括してブランケット２２に転写し、さらに第４工程（Ｓ−１４）で全ての種類のインクを一括して基板１５上に転写してもよい。
また、インクとして熱硬化性を示す溶液を用いてもよい。当該インクとしては、例えば熱硬化性を示す架橋剤をインクに添加してもよく、また主に有機機能層となる有機材料に、熱硬化性を示す材料を用いてもよい。熱硬化性を示すインクを用いた場合、第２工程（Ｓ−１２）で、インクの溶媒の一部を除去するとともに、加熱することによってインクの粘度を調整することができる。このような熱硬化性を示すインクを用いることによって、たとえば発光層を不溶化させることができ、該発光層上に塗布法によって新たな層を成膜するときに発光層が溶解して膜厚が減少することを防ぐことができる。
【００３７】
また、インクジェット装置ヘッド３０により吐出して塗布部分を形成した版面１３ａ上の塗布部分を検査する検査部（図示せず）を設け、塗布工程の後に、平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査工程をさらに設けて、該検査工程で、検査部の検査により塗布不良部分が発見されると、版面１３ａ上の塗布不良部分をインクジェット装置ヘッド３０で再塗布し補修するようにしてもよい。
【００３８】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によれば、以下のような効果を奏することができる。
（１）インクジェット法とオフセット印刷法とを併用する結果、インクジェット装置のみの成膜に比べて膜厚の均一化を図ることができる。これは、インクジェット工程後の塗布インク３２を所定の粘度に調整して調整インク３３とした後、ブランケット２２への転写時の制御圧力により平坦化することができることとなり、従来のインクジェット法よりも膜厚の均一性が向上することとなる。
【００３９】
（２）また、インクジェット装置で各色（例えばＲ、Ｇ、Ｂ）用のインクを塗布した後で、転写を一括して行なうことにより、位置合せの問題がなくなる。また、インクジェット法を用いるので、版が不要になる。さらに各色を塗布するヘッドを有するインクジェット印刷用設備も１つだけとなり、有機ＥＬ装置の製造設備の費用の低廉化を図ることができる。
【００４０】
（３）また、インクジェット法とオフセット印刷法とを併用する結果、従来の反転印刷のように、ブランケット全面にインクを塗布して半乾燥状態にするのではなく、版上で既に半乾燥状態になったインクをブランケットに一旦転写させた後、基板に転写するので、ブランケットが溶媒で膨潤することを抑制でき、長期間に亙って安定して繰り返し印刷できる。
【００４１】
（４）インクジェット法による塗布では、印刷面に液滴のみが接触するので、従来の平板反転印刷に比べて異物混入の可能性が低減し、歩留まりの良い印刷が可能となる。
【００４２】
（５）従来の平板反転印刷法では、インク供給ローラーを用いてインクを供給するものであるので、部分的な欠陥へのインクの再塗布が不可能であった。これに対し、インクジェット法による塗布であれば、一旦成膜した後でも基板に転写される前に不良成膜箇所に再びインクを塗布可能であり、成膜不良の補修、歩留まり向上が可能である。
（６）また、紫外線を照射することなく発光層を成膜することができるので、発光層の特性が劣化することを防いで、高特性な発光層を実現することができる。
【００４３】
次に、図４−１〜図４−３を用いて、複数の種類のインクを基板の所定の位置に選択的に塗布する有機ＥＬ素子の製造装置について説明する。具体的には、一例として前述したＲインク、Ｇインク、Ｂインクを、基板の所定の位置にそれぞれ選択的に塗布する製造装置について説明する。
なお、この有機ＥＬ素子の製造装置は、多関節ロボットを備えた一連の製造工程により有機ＥＬ素子を製造する製造ラインにおいて、有機ＥＬ素子の発光層を形成する例えばチャンバ内に設けられるものである。
【００４４】
図４−１に示すように、有機ＥＬ素子の製造装置１０は、印刷機フレーム１１の上面に、印刷用定盤１２および基板用定盤１４がそれぞれ設けられる。印刷用定盤１２および基板用定盤１４には、平板印刷版１３および基板１５がそれぞれ設けられ、水平方向に並んで設置されている。インクジェット装置は、インクジェット装置ヘッド３０（３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂ）の各ノズルから３種類のインクをそれぞれ順次吐出することで（図４−１では、インク３１Ｂが吐出されている状態を示す）、前述したようにＲインク、Ｇインク、Ｂインクをそれぞれ所定の位置に選択的に塗布（パターン塗布）している。
【００４５】
次にヒータ等の粘度調整装置（不図示）が、例えば加熱することで版面１３ａに塗布された塗布インク３２（３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂ）の溶媒の一部を除去して、所定の粘度に調整することで、調整インク３３（３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂ）が得られる。
【００４６】
そして、有機ＥＬ素子の製造装置１０は、版面１３ａ上の粘度調整された調整インク３３（３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂ）をブランケット２２に転写する第１の転写部４１と、前記ブランケット２２に転写した転写インク３４（３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂ）を電極が形成された基板１５に転写して発光層３５（３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂ）を形成する第２の転写部４２とを備えており、これらの第１の転写部４１および第２の転写部４２により、発光層３５を形成するようにしている。また、第１の転写部と前記第２の転写部とは、それぞれ複数の種類のインクを一括して転写する。この第１の転写部４１および第２の転写部４２は、本実施の形態では転写体２０と、当該転写体２０を回転および変位駆動する電動機を備える図示しない駆動手段とを含んで構成されている。なお、図４−１の塗布インク３２と図４−２の調整インク３３との厚みは作図上、同様の厚さとしているが、本来では調整インク３３は溶媒が除去されて薄くなっている。
【００４７】
ここで、図４−１〜図４−３においては、印刷機フレーム１１の上面には図示しないレール等が設けられており、可動架台２１は同レール上を水平方向に往復運動できるようにしている。また、可動架台２１に取り付けられている転写胴２３は水平方向には可動架台２１と共に移動し、上下方向には可動架台とは別に昇降手段（図示せず）により昇降自在としている。
【００４８】
このように、本発明によれば、塗布工程の後に、版面１３ａに塗布されたインクをブランケットに転写し、さらに電極を形成した基板に転写するので、転写時の制御圧力により膜厚を平坦化することができ、従来のインクジェット装置を用いて単に乾燥したものよりも膜厚の均一性が向上する。
【００４９】
さらに、各色（Ｒ、Ｂ、Ｇ）用のインクを塗布した後で、転写を一括して行なうようにしているので、各色の位置合せの問題がなくなると共に、インクジェット装置を用いているので版が不要になる。
【００５０】
２．有機ＥＬ素子
次に、本発明の製造方法により製造し得る有機ＥＬ素子の実施形態について、より具体的に説明する。なお、本発明の製造方法が下記の有機ＥＬ素子に限定されるわけではない。
【００５１】
有機ＥＬ素子は、前述したように陽極、発光層および陰極を必須に有するのに加えて、前記陽極と前記発光層との間、および／又は前記発光層と前記陰極との間にさらに他の層を有することができる。
【００５２】
陰極と発光層の間に設け得る層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層等が挙げられる。電子注入層および電子輸送層の両方が設けられる場合、陰極に近い層が電子注入層となり、発光層に近い層が電子輸送層となる。
【００５３】
電子注入層は、陰極からの電子注入効率を改善する機能を有する層であり、電子輸送層は、陰極、電子注入層又は陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。また、電子注入層、若しくは電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。
【００５４】
陽極と発光層の間に設けるものとしては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層等があげられる。正孔注入層および正孔輸送層の両方が設けられる場合、陽極に近い層が正孔注入層となり、発光層に近い層が正孔輸送層となる。
【００５５】
正孔注入層は、陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する層であり、正孔輸送層とは、陽極、正孔注入層又は陽極により近い正孔輸送層からの正孔注入を改善する機能を有する層である。また、正孔注入層、又は正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。
【００５６】
有機ＥＬ素子において、発光層は通常１層設けられるが、これに限らず２層以上の発光層を設けることもできる。その場合、２層以上の発光層は、直接接して積層することもでき、発光層と発光層との間に、前述した発光層とは異なる層、および導電性を有する金属酸化物層などの電荷発生層を設けることができる。
【００５７】
なお、電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層と呼ぶことがあり、電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層と呼ぶことがある。
【００５８】
有機ＥＬ素子のとりうる層構成の一例を以下に挙げる。
ａ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｂ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｃ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｄ）陽極／電荷注入層／発光層／陰極
ｅ）陽極／発光層／電荷注入層／陰極
ｆ）陽極／電荷注入層／発光層／電荷注入層／陰極
ｇ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｈ）陽極／正孔輸送層／発光層／電荷注入層／陰極
ｉ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電荷注入層／陰極
ｊ）陽極／電荷注入層／発光層／電荷輸送層／陰極
ｋ）陽極／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
ｌ）陽極／電荷注入層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
ｍ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電荷輸送層／陰極
ｎ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
ｏ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟んで記載される２つの層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。）
【００５９】
有機ＥＬ素子は、２層以上の発光層を有していてもよい。
２層の発光層を有する有機ＥＬ素子としては、具体的には、
ｐ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／電極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極
の層構成を有するものが挙げられる。
また３層以上の発光層を有する有機ＥＬ素子としては、具体的には、電極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層を一つの繰返し単位（以下において「繰返し単位Ａ」という）として、
ｑ）陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／繰返し単位Ａ／繰返し単位Ａ・・・／陰極
と、２層以上の繰返し単位Ａを含む層構成を有するものが挙げられる。
上記層構成ｐおよびｑにおいて、陽極、電極、陰極、発光層以外の各層は必要に応じて省略することができる。
ここで、電極とは電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。当該電極を構成する材料としては、例えば、酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、および酸化モリブデンなどが挙げられる。
【００６０】
有機ＥＬ素子は、発光層からの光を放出するために、通常、発光層のいずれか一方側の層を全て透明なものとする。具体的には例えば、陽極／電荷注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電荷注入層／陰極／封止部材という構成を有する有機ＥＬ素子の場合、陽極、電荷注入層および正孔輸送層の全てを透明なものとし、所謂ボトムエミッション型の素子とするか、又は電子輸送層、電荷注入層、陰極および封止部材の全てを透明なものとし、所謂トップエミッション型の素子とすることができる。また、陰極／電荷注入層／電子輸送層／発光層／正孔輸送層／電荷注入層／陽極／封止部材という構成を有する有機ＥＬ素子の場合、陰極、電荷注入層および電子輸送層の全てを透明なものとし、所謂ボトムエミッション型の素子とするか、又は正孔輸送層、電荷注入層、陽極および封止部材の全てを透明なものとし、所謂トップエミッション型の素子とすることができる。ここで透明とは、発光層から光を放出する層までの可視光透過率が４０％以上のものが好ましい。紫外領域又は赤外領域の発光が求められる素子の場合は、当該領域において４０％以上の透過率を有するものが好ましい。
【００６１】
有機ＥＬ素子は、さらに電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して前記の電荷注入層又は膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けてもよく、また、界面の密着性向上や混合の防止等のために電荷輸送層や発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。
積層する層の順番や数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができる。
【００６２】
次に、有機ＥＬ素子を構成する各層の材料および形成方法について、より具体的に説明する。
【００６３】
＜陽極＞
有機ＥＬ素子の陽極としては、透明又は半透明の電極を用いることが、陽極を通して発光する素子を構成しうるため好ましい。かかる透明電極又は半透明電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物や金属の薄膜を用いることができ、透過率が高いものが好適に利用でき、用いる有機層により適宜、選択して用いる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもＩＴＯ、ＩＺＯ、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。作製方法としては、真空蒸着法（電子ビーム蒸着法を含む）、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
陽極には、光を反射させる材料を用いてもよく、該材料としては、仕事関数３．０ｅＶ以上の金属、金属酸化物、金属硫化物が好ましい。
【００６４】
陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、例えば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００６５】
＜正孔注入層＞
正孔注入層は、陽極と正孔輸送層との間、又は陽極と発光層との間に設けることができる。
正孔注入層を形成する材料としては、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。
正孔輸送層の成膜の方法に制限はないが、高分子正孔注入材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。
溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒、水が例示される。
溶液からの成膜方法としては、溶液からのスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェット法等の印刷法等の塗布法を用いることができ、特に本発明の有機ＥＬ素子の製造装置１０によって成膜することが好ましい。
【００６６】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層を構成する材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などが例示される。
【００６７】
これらの中で、正孔輸送層に用いる正孔輸送材料として、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等の高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。
【００６８】
正孔輸送層の成膜の方法に制限はないが、低分子正孔輸送材料では、高分子バインダーとの混合溶液からの成膜による方法が例示される。また、高分子正孔輸送材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。
【００６９】
溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒が例示される。
【００７０】
溶液からの成膜方法としては、溶液からのスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェット法等の印刷法等の塗布法を用いることができ、特にインクジェット法とオフセット印刷法とを併用した印刷法を用いる本発明の製造装置１０によって成膜することが好ましい。
【００７１】
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収が強くないものが好適に用いられる。該高分子バインダーとして、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサン等が例示される。
【００７２】
正孔輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該正孔輸送層の膜厚としては、例えば１ｎｍから１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００７３】
＜発光層＞
発光層は、有機化合物を含む。通常、主として蛍光又はりん光を発光する有機物（低分子化合物および高分子化合物）が含まれる。なお、さらにドーパント材料を含んでいてもよい。本発明において用いることができる発光層を形成する材料としては、例えば、以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、およびドーパント材料などが挙げられる。
【００７４】
［色素系材料］
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーなどが挙げられる。
【００７５】
［金属錯体系材料］
金属錯体系材料としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体など、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅなど又はＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体などを挙げることができる。
【００７６】
［高分子系材料］
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどが挙げられる。
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることが出来る。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。  
【００７７】
［ドーパント材料］
発光層中に発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で、ドーパントを添加することができる。このようなドーパントとしては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約２０〜２０００Åである。
【００７８】
＜発光層の成膜方法＞
有機物を含む発光層の成膜方法としては、前述したように、有機発光材料を含むインクを、インクジェット法とオフセット印刷法とを併用した印刷法を用いる本発明の有機ＥＬ素子の製造装置１０によって成膜することが好ましい。
【００７９】
＜電子輸送層＞
電子輸送層を構成する材料としては、公知のものが使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が例示される。
【００８０】
これらのうち、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。
【００８１】
電子輸送層の成膜法としては特に制限はないが、低分子電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法（電子ビーム蒸着法を含む）、又は溶液若しくは溶融状態からの成膜による方法が、高分子電子輸送材料では溶液又は溶融状態からの成膜による方法がそれぞれ例示される。溶液又は溶融状態からの成膜時には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液から電子輸送層を成膜する方法としては、前述の溶液から正孔輸送層を成膜する方法と同様の成膜法があげられ、特にインクジェット法とオフセット印刷法とを併用した印刷法を用いる本発明の製造装置１０によって成膜することが好ましい。
【００８２】
電子輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該電子輸送層の膜厚としては、例えば１ｎｍから１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８３】
＜電子注入層＞
電子注入層としては、発光層の種類に応じて、アルカリ金属やアルカリ土類金属、或いは前記金属を１種類以上含む合金、或いは前記金属の酸化物、ハロゲン化物および炭酸化物、或いは前記物質の混合物などが挙げられる。アルカリ金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウム等が挙げられる。また、アルカリ土類金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。電子注入層は、２層以上を積層したものであってもよい。具体的には、ＬｉＦ／Ｃａなどが挙げられる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法等により形成される。電子注入層の膜厚としては、１ｎｍ〜１μｍ程度が好ましい。
【００８４】
＜陰極材料＞
有機ＥＬ素子１００で用いる陰極１１１の材料としては、仕事関数の小さく発光層への電子注入が容易な材料かつ／もしくは電気伝導度が高い材料かつ／もしくは可視光反射率の高い材料が好ましい。金属では、アルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属やＩＩＩ−Ｂ族金属を用いることができる。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、又は上記金属のうち２つ以上の合金、又はそれらのうち１つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち１つ以上との合金、又はグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。また、陰極として透明導電性電極を用いることができ、例えば導電性金属酸化物や導電性有機物などを用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、導電性有機物としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。なお、陰極を２層以上の積層構造としてもよい。なお、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。
【００８５】
陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば１０ｎｍから１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００８６】
陰極の作製方法としては、真空蒸着法（電子ビーム蒸着法を含む）、スパッタリング法、また金属薄膜を圧着するラミネート法等が用いられる。
【００８７】
本実施の形態の有機ＥＬ素子は、面状光源、セグメント表示装置およびドットマトリックス表示装置の光源、並びに液晶表示装置のバックライトとして用いることができる。
本実施の形態の有機ＥＬ素子を面状光源として用いる場合には、例えば面状の陽極と陰極とを積層方向の一方から見て重なり合うように配置すればよい。またセグメント表示装置の光源としてパターン状に発光する有機ＥＬ素子を構成するには、光を通す窓がパターン状に形成されたマスクを前記面状光源の表面に設置する方法、消光すべき部位の有機物層を極端に厚く形成して実質的に非発光とする方法、陽極および陰極のうちの少なくともいずれか一方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらの方法でパターン状に発光する有機ＥＬ素子を形成するとともに、いくつかの電極に対して選択的に電圧を印加できるように配線を施すことによって、数字や文字、簡単な記号などを表示可能なセグメントタイプ表示装置を実現することができる。ドットマトリックス表示装置の光源とするためには、陽極と陰極とをそれぞれストライプ状に形成して、積層方向の一方からみて互いに直交するように配置すればよい。部分カラー表示、マルチカラー表示が可能なドットマトリックス表示装置を実現するためには、発光色の異なる複数の種類の発光材料を塗り分ける方法、並びにカラーフィルターおよび蛍光変換フィルターなどを用いる方法を用いればよい。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動してもよく、ＴＦＴなどと組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。
【００８８】
さらに、前記面状光源は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
以上のように、本発明は有機ＥＬ装置に関連する産業分野において有用である。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】有機ＥＬ素子の製造工程を示すフローチャートである。
【図２】本発明の製造方法によって製造される有機ＥＬ素子の構成を簡略化して示す正面図である。
【図３−１】有機ＥＬ素子の一製造工程（第１の工程）の説明図である。
【図３−２】有機ＥＬ素子の一製造工程（第３の工程）の説明図である。
【図３−３】有機ＥＬ素子の一製造工程（第４の工程）の説明図である。
【図４−１】有機ＥＬ素子の他の一製造工程（第１の工程）の説明図である。
【図４−２】有機ＥＬ素子の他の一製造工程（第３の工程）の説明図である。
【図４−３】有機ＥＬ素子の他の一製造工程（第４の工程）の説明図である。
【符号の説明】
【００９１】
１０  有機ＥＬ素子の製造装置
１１  印刷用フレーム
１２  印刷版定盤
１３  平板印刷版
１３ａ  平板印刷版面（版面）
１４  基板用定盤
１５  基板
２０  転写体
２１  可動架台
２２  ブランケット
２３  転写胴
３０  インクジェット装置ヘッド
３１  インク液滴
３２  塗布インク
３３  調整インク
３４  転写インク
３５  発光層
４１  第１の転写部
４２  第２の転写部
１０１  支持基板
１１１  陽極
１１２  正孔注入層
１１３  正孔輸送層
１２０  発光層
１３１  陰極
１３２  電子注入層
１３３  電子輸送層
【図１】
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【図２】
2009238709.tif 000004
【図３−１】
2009238709.tif 000005
【図３−２】
2009238709.tif 000006
【図３−３】
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【図４−１】
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【図４−２】
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【図４−３】
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