(57)【要約】【課題】駆動回路からの信号に対して高い応答性を維持することができるような液滴吐出ヘッド等を得る。【解決手段】液体を液滴として吐出するノズル３１と、変位して液体を加圧する振動板２２を有し、ノズル３１に連通する液体の流路上に設けられる吐出室２１と、振動板２２を変位させる加圧手段となる個別電極１２とを備え、吐出室２１の側壁部分を導電性を有する金属材料で構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を液滴として吐出するノズルと、
変位して前記液体を加圧する振動板を有し、前記ノズルに連通する液体の流路に設けられる吐出室と、
前記振動板を変位させる加圧手段とを備え、
前記吐出室の側壁部分を、導電性を有する金属材料で構成することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
ニッケルを前記金属材料とすることを特徴とする請求項１記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
前記加圧手段は、
可動電極となる前記振動板と対向し、電荷供給により前記振動板との間に静電気力を発生させて前記振動板を変位させる固定電極であることを特徴とする請求項１又は２記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドを搭載したことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
液滴を吐出するノズルを有するノズル基板と、
底面が振動板となり、液体を溜めておく吐出室となる凹部を有するキャビティ基板と、
前記振動板を変位させて前記液体を加圧するための加圧手段とを備える液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記振動板となるシリコン板上に、電鋳法により導電性を有する金属材料を析出させて、前記吐出室となる凹部の側壁を形成することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の液滴吐出ヘッドの製造方法を適用して液滴吐出装置を製造することを特徴とする液滴吐出装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液滴吐出ヘッド、その液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置等に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えばシリコン（Ｓｉ：珪素）等を加工して微小な素子等を形成する微細加工技術（ＭＥＭＳ：Micro Electro Mechanical Systems）が急激な進歩を遂げている。微細加工技術により形成される微細加工素子の例としては、例えば液滴吐出方式のプリンタのような記録（印刷）装置で用いられている液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）、マイクロポンプ、光可変フィルタ、モータのような静電アクチュエータ、圧力センサ等がある。
【０００３】
液滴吐出方式（代表的なものとして、インクを吐出して印刷等を行うために用いるインクジェットがある）は、家庭用、工業用を問わず、あらゆる分野の印刷（プリント）等に利用されている。液滴吐出方式は、微細加工素子である例えば複数のノズルを有する液滴吐出ヘッドを、対象物との間で相対移動させ、対象物の所定の位置に液体を吐出するものである。近年では、液晶（Liquid Crystal）を用いた表示装置を作製する際のカラーフィルタ、有機電界発光（Organic ElectroLuminescence ）素子を用いた表示基板（ＯＬＥＤ）、ＤＮＡ等、生体分子のマイクロアレイ等の製造にも利用されている。
【０００４】
液滴吐出方式を実現する液滴吐出ヘッドとして、流路上の吐出液体を溜めておく吐出室の少なくとも一面の壁（例えば底壁とする。この壁は他の壁と一体形成されているが、以下、この壁のことを振動板ということにする）が撓んで形状が変化するようにしておき、振動板を撓ませて吐出室内の圧力を高め、吐出室と連通するノズルから液滴を吐出させるものがある。
【０００５】
静電方式による液滴吐出ヘッドの場合には、可動電極である振動板と、振動板と対向する固定電極である個別電極との間に電圧印加により静電力を発生させ、振動板を個別電極に引きつける。その後、静電力を弱める又は発生を停止させると、振動板が元に戻って平衡状態になろうとする復元力（弾性力）の方が働くため、振動板が元の位置に変位する。これらを繰り返すことで振動板を駆動させ、液滴を吐出する。このとき、振動板については振動板を有するキャビティ基板に一律に電荷を供給し（このときキャビティ基板は共通電極となる）、個別電極に対しては選択的に電荷供給することで、静電力を発生させる振動板と個別電極との組み合わせを選択することで、液滴の吐出を行わせることができる（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特表平１０−５０１７６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
例えば、駆動回路からの信号として電圧印加（電荷供給）が行われるが、振動板、個別電極に至るまでの電気抵抗が高いと、静電力を発生させるための電荷供給時間が長くなることになる。そのため、例えば駆動回路が矩形波のように急速に波形が立ち上がる電圧印加がなされるような信号を液滴吐出ヘッド側に送信しても、波形は穏やかに立ち上がるものとなってしまう。
【０００７】
特に液滴吐出ヘッドのように、共通電極側とノズルの個別電極という構成において、共通電極側における電気抵抗が高いと、多数のノズルから液滴を吐出しようとする際には、多量の電荷の供給に時間を要し（充電時間が長くなり応答性が低くなる）、少数のノズルから液滴を吐出しようとする場合とは電圧印加に係る波形が異なってしまう。波形が異なるということは液滴の吐出特性も異なってしまう。例えば液滴吐出ヘッドを用いて印刷等を行うプリンタのような液滴吐出装置では、場所によって液滴を吐出するノズル数が異なるため、吐出特性が変わると、高品質の印刷を行うことができない。上述の特許文献１においては、ヘッドの長縁部分を端子とすることで大きな電流供給を可能とするが、例えば複数のノズル列等からなるヘッドでは端子から遠くなる部分も存在するため、対処が十分ではないと考えられる。
【０００８】
そこで、本発明は、液滴を吐出するノズル数等により吐出特性が変化しないように、駆動回路からの信号に対して高い応答性を維持することができるような液滴吐出ヘッド等を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る液滴吐出ヘッドは、液体を液滴として吐出するノズルと、変位して液体を加圧する振動板を有し、ノズルに連通する液体の流路上に設けられる吐出室と、振動板を変位させる加圧手段とを備え、吐出室の側壁部分を導電性を有する金属材料で構成する。
本発明によれば、吐出室の側壁部分を、導電性を有する金属材料で構成するようにしたので、各吐出室の一部である各振動板に至るまでの電気抵抗を低くすることができ、信号入力として行われる電荷供給に対する応答を素早く行うことができる。そのため、例えば、外部からの電荷供給を受ける端子の距離による電荷供給のばらつきを抑えることができるため、これにより各ノズルからの液滴の吐出特性のばらつきも抑えることができる。
【００１０】
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、ニッケルを金属材料とする。
本発明によれば、ニッケルを吐出室の側壁部分の金属材料としたので、導電性の他にも剛性の面からシリコンを上回る側壁を形成することができる。隣接する吐出室に影響を与えるクロストークを防ぐことができる。特に、ニッケルは電鋳法（めっき）を用いて析出させることにより側壁部分を形成することができるため、例えばエッチング法等のように、削っていく製造方法で生じ得る欠損等を起こさずに側壁部分を形成することができる。
【００１１】
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドの加圧手段は、可動電極となる、吐出室の一部である振動板と対向し、電荷供給により振動板との間に静電気力を発生させて振動板を変位させる固定電極である。
本発明によれば、振動板を可動電極とし、固定電極との間で電荷供給により静電気力を発生させるようにしたので、振動板と固定電極との間の電荷供給を素早く行うことができ、各振動板への電荷供給のばらつきを抑えることができる。
【００１２】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、上記の液滴吐出ヘッドを搭載したものである。
本発明によれば、吐出室の側壁部分を導電性を有する金属材料で構成する液滴吐出ヘッドを搭載するようにしたので、信号に対する応答を良好にすることができ、良好な吐出特性を維持することができる。
【００１３】
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、液滴を吐出するノズルが形成されたノズル基板と、底面が振動板となり、液体を溜めておく吐出室となる凹部が形成されたキャビティ基板と、振動板を変位させて液体を加圧するための加圧手段とを備える液滴吐出ヘッドの製造方法であって、振動板となるシリコン板上に、電鋳法により導電性を有する金属材料を析出させて、吐出室となる凹部の側壁を形成するものである。
本発明によれば、電鋳法により、導電性を有する金属材料を析出させて吐出室となる凹部の側壁を形成するようにしたので、欠損を生じることなく側壁部分を金属材料で形成することができ、歩留まり向上を図ることができる。そして、振動板に電荷供給を素早く行うことができ、電荷供給にばらつきを抑えることができるため、これにより各ノズルからの液滴の吐出特性のばらつきも抑えることができる。
【００１４】
また、本発明に係る液滴吐出装置の製造方法は、上記の液滴吐出ヘッドの製造方法を適用して液滴吐出装置を製造するものである。
本発明によれば、欠損を生じることなく吐出室の側壁部分を金属材料で形成することができるため、歩留まり向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
実施の形態１．
図１は本発明の実施の形態１に係る液滴吐出ヘッドを分解して表した図である。図１は液滴吐出ヘッドの一部を示している（図１に見えるノズルだけでなく、実際にはさらに多くのノズルを有している）。本実施の形態では、例えば静電方式で駆動する静電アクチュエータを用いる素子（デバイス）の代表として、フェイスイジェクト型の液滴吐出ヘッドについて説明する。（なお、構成部材を図示し、見やすくするため、図１を含め、以下の図面では各構成部材の大きさの関係が実際のものと異なる場合がある。また、図の上側を上とし、下側を下として説明する。）。
【００１６】
図１に示すように本実施の形態に係る液滴吐出ヘッドは、電極基板１０、キャビティ基板２０及びノズル基板３０の３つの基板が下から順に積層されて構成される。本実施の形態では、電極基板１０とキャビティ基板２０とは陽極接合により接合する。また、キャビティ基板２０とノズル基板３０とはエポキシ樹脂等の接着剤を用いて接合する。
【００１７】
電極基板１０は、厚さ約１ｍｍの例えば硼珪酸系の耐熱硬質ガラス等の基板を主要な材料としている。本実施形態では、ガラス基板とするが、例えば単結晶シリコンを基板とすることもできる。電極基板１０の表面には、後述するキャビティ基板２０の吐出室２１となる凹部に合わせ、例えば深さ約０．３μｍを有する複数の溝部１１が形成されている。そして、溝部１１の内側（特に底部）に、キャビティ基板２０の各吐出室２１（振動板２２）と対向するように固定電極となる個別電極１２が設けられ、さらにリード部１３及び端子部１４が一体となって設けられている（以下、特に区別する必要がない限り、これらを合わせて個別電極１２として説明する）。この個別電極１２は、例えばスパッタ法により、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物）を０．１μｍの厚さで溝部１１の内側に成膜することで形成される。そして、振動板２２と個別電極１２との間は、溝部１１により振動板２２が撓む（変位する）ことができる一定のギャップ（溝部１１等に囲まれた空間、空隙室）が形成される。また、電極基板１０には、外部のタンク（図示せず）から供給された液体を取り入れる流路となる液体供給口１５となる貫通穴が設けられている。
【００１８】
図２は流路と直交する方向に対する液滴吐出ヘッドの断面の一部を表す図である。図２にも示すように、キャビティ基板２０は、吐出させる液体を一時的にためる吐出室２１となる凹部を複数有している。本実施の形態では、この凹部の側壁（吐出室２１間を隔てる隔壁ともなる）を導電性を有する金属を材料として構成しており、金属としてニッケルを用いるものとする。一方、各凹部の底壁が可動電極となる振動板２２となる。振動板２２はボロン（Ｂｏ：硼素）からなり、キャビティ基板２０の下面（電極基板１０と対向する面）側全体を覆う、高濃度でドープ（注入、拡散）したボロンドープ板２２Ａの一部である。また、ボロンドープ板２２Ａのさらに下面（電極基板１０と対向する面）側には、ボロンドープ板２２Ａ全体を覆うように、個別電極１２との間を電気的に絶縁等するためのＴＥＯＳ膜（ここでは、Tetraethyl orthosilicate Tetraethoxysilane：テトラエチルオルソシリケート（珪酸エチル）を原料ガスとして用いてできる酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）膜をいう）による絶縁膜２３を０．１μｍ成膜している。ここでは絶縁膜２３をＴＥＯＳ膜で成膜しているが、例えばＡｌ2Ｏ3（酸化アルミニウム（アルミナ））等を用いてもよい。このように、本実施の形態のキャビティ基板２０はニッケル、シリコン、酸化シリコンを材料とする板（膜）が積層して構成されることになる。
【００１９】
また、キャビティ基板２０には、各吐出室２１に液体を供給するリザーバ（共通液室）２４となる凹部が形成されている。本実施の形態では、このリザーバ２４となる凹部についてもニッケルを材料として形成するものとする。さらに、外部の電力供給手段（図示せず）からキャビティ基板２０（振動板２２）に電荷を供給する際の端子となる、例えばプラチナ（Ｐｔ）からなる共通電極端子２７を備えている。
【００２０】
ノズル基板３０については、例えば加工性に優れたシリコン基板を主要な材料とする。ノズル基板３０には、複数のノズル３１が形成されている。各ノズル３１は、振動板２２の変位により加圧された液体を液滴として外部に吐出する。また、吐出室２１とリザーバ２４とを連通させるための溝となるオリフィス３２が設けられている。また、振動板２２が撓むことでリザーバ２４方向に加わる圧力を緩衝するダイヤフラム３３を、さらにノズル基板３０に設けている。
【００２１】
図３は流路方向に対する液滴吐出ヘッドの断面等を表す図である。図３において、吐出室２１はノズル孔３１から吐出させる液体をためておく。吐出室２１の底壁である振動板２２を撓ませることにより、吐出室２１内の圧力を高め、ノズル孔３１から液滴を吐出させる。ここで、異物、水分（水蒸気）等がギャップに入り込まないように、ギャップを外気から遮断し、密閉するために電極取り出し口２６に封止材２５が設けられている。
【００２２】
例えばドライバＩＣ等の発振駆動回路４１は、ＦＰＣ（Flexible Print Circuit）、ワイヤ等の配線４２を介して電気的に端子部１４、共通電極端子２７と接続され、個別電極１２、キャビティ基板２０（振動板２２）に電荷（電力）の供給及び停止を制御する。発振駆動回路４１は例えば２４ｋＨｚで発振し、例えば０Ｖと３０Ｖのパルス電位の電圧を個別電極１２に印加して電荷供給を行う。発振駆動回路４１が発振駆動することにより、個別電極１２に電荷を供給して帯電させ、振動板２２を相対的に逆の極性で帯電させると、振動板２２と個別電極１２との間に静電力が発生し、振動板２２は引き寄せられて撓む。これにより吐出室２１の容積は広がる。そして電荷供給を止めると振動板２２は元に戻るが、そのときの吐出室２１の容積も元に戻り、その圧力により差分の液滴が吐出する。この液滴が例えば記録対象となる記録紙に着弾することによって印刷等の記録が行われる。
【００２３】
図４はシリコンとニッケルをはじめとする金属材料との特性を比較するための図である。液滴吐出ヘッドには、発信駆動回路４１から電圧波形として表される信号が送信される。例えばこのときキャビティ基板２０（複数の振動板２２）に電荷供給が行われる。一方、個別電極１２には選択的に電荷供給が行われ、これにより選択された個別電極と対応する振動板２２との間に静電力が発生する。以上のようなことから、複数の振動板２２には一斉に電荷供給されることが望ましいが、キャビティ基板２０における電気抵抗が大きいと、共通電極端子２７との距離の違いにより振動板２２間に供給時間差が生じる可能性が高い。
【００２４】
そこで、本実施の形態の液滴吐出ヘッドは、発信駆動回路４１からの信号に対する応答性を高めるため、吐出室２１の側壁となる部分を、シリコンよりも導電性の高い金属であるニッケルで構成するものである。図４に示すように、シリコンとニッケルとでは、電気抵抗率が大きく異なることが分かる。電気抵抗率が格段に低いニッケルを吐出室２１の側壁とすることで、振動板２２間の電荷供給の時間差をできる限りなくし、同じ条件で吐出を行えるようにする。また、縦弾性係数（ヤング率）の点から、吐出室２１の側壁となる部分をシリコンの代わりにニッケルとしても剛性にも差がない又は上回るものと考えられるので、シリコンでキャビティ基板２０を構成した場合と同様又はそれ以上に、高密度化を図る又は吐出室２１の容積を大きくすることができる。特に吐出室２１を高くすることができれば、流路抵抗を低くして液体を流れやすくすることができる。
【００２５】
図５及び図６は液滴吐出ヘッドの製造工程を表す図である。特に吐出室２１の側壁部分の製造工程を主として示すため、図５及び図６では流路と直交する方向から見た図とし、図５及び図６に基づいて他の基板の作製をはじめとする液滴吐出ヘッド製造工程について説明する。なお、実際には、シリコンウェハから複数個分の液滴吐出ヘッドの部材を同時形成するが、図５及び図６ではその一部分だけを示している。
【００２６】
電極基板１０となる約１ｍｍのガラスの基板の一方の面に対し、電極部１２の形状パターンに合わせて０．２μｍの深さの溝部１１を形成する。そして、例えばスパッタ等の方法を用いて、０．１μｍの厚さのＩＴＯを溝部１１の内側（特に底壁）に成膜し、電極部１２を形成する。さらに液体供給口１３をサンドブラスト法または切削加工により形成する。これにより、電極基板１０が作製される（図５（ａ））。
【００２７】
一方、酸素濃度の低いシリコン基板５１の片面を鏡面研磨する（図５（ｂ））。次に、シリコン基板６１にボロンドープ板２２Ａとなるエッチングストップ層５２を形成する面を、Ｂ2 Ｏ3 を主成分とする固体の拡散源に対向させて石英ボートにセットする。さらに縦型炉に石英ボートをセットして、炉内を窒素雰囲気にし、例えば、温度を１０５０℃に上昇させて７時間保持してボロンをシリコン基板６１中に拡散させ、エッチングストップ層５２を形成する。このとき、エッチングストップ層５２の表面にはボロン化合物が形成されているが（図示なし）、酸素及び水蒸気雰囲気中、６００℃の条件で１時間３０分酸化することで、フッ酸水溶液によるエッチングが可能なＢ2Ｏ3＋ＳｉＯ2 に化学変化させ、フッ酸水溶液を用いて異方性ウェットエッチング法（以下、ウェットエッチングという）により除去する。そして、さらにエッチングストップ層５２を形成した面に、プラズマＣＶＤ法により絶縁膜２３を成膜する（図５（ｃ））。絶縁膜２３は、例えばプラズマＣＶＤ法により、成膜時の処理温度を３６０℃、高周波出力を２５０Ｗ、圧力は６６．７Ｐａ（０．５Ｔｏｒｒ）、ガス流量をＴＥＯＳ流量１００ｃｍ3 ／ｍｉｎ（１００ｓｃｃｍ）、酸素流量１０００ｃｍ3 ／ｍｉｎ（１０００ｓｃｃｍ）の条件で０．１μｍ成膜する。
【００２８】
次にシリコン基板５１と電極基板１０を３６０℃に加熱した後、電極基板１０に負極、シリコン基板５１に正極を接続して、８００Ｖの電圧を印加して陽極接合を行う（図５（ｄ））。そして、陽極接合後の接合済み基板において、アルカリ性溶液である水酸化カリウム（ＫＯＨ）溶液でウェットエッチングを行い、エッチングストップ層５２を露出させてボロンドープ板２２Ａを形成する（図５（ｅ））。ここで、エッチングストップ層５２については、ボロンをドープしていないシリコンに比べてエッチング速度が非常に遅く、エッチングストップが十分に効くため、所定の厚みのボロンドープ板２２Ａを高精度に形成することができる。ここで、シリコン基板５１を研削加工して薄くしてからウェットエッチングを行うようにしてもよい。
【００２９】
次に、ボロンドープ板２２Ａ上の全面にフォトレジスト５３を塗布する（図５（ｆ））。塗布方法については、例えばスピンコート法等、特に限定するものではない。そして、フォトリソグラフィ（Photolithography）法を用い、吐出室２１の側壁、リザーバ２４となる凹部等を形成するためのパターンを形成する（図５（ｇ））。
【００３０】
そして、電鋳法（電界めっき）により、例えば陽極をニッケルとし、接合済み基板を陰極として、電解液で満たした電解槽に浸漬して、レジスト以外の部分（ボロンドープ板２２Ａが露出している部分）にニッケルを析出させる（図５（ｈ））。ここで、ニッケル析出の際、リザーバ２４となる部分を補強のため、あらかじめ底上げするような処理を行っておくことが望ましい。ニッケルが所定の高さ以上になったものと判断すると電解槽から引き上げる。そして、例えばＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing ：化学機械研磨）技術を用いて、ニッケルを所定の高さ（吐出室２１の高さとなる）までレジストごと研磨した後、レジストを除去する（図５（ｉ））。ニッケルを析出させることで吐出室２１の側壁を形成するようにしたので、エッチングにより形成する場合に比べて欠損を生じることがない。そのため、歩留まりを向上させることができる。
【００３１】
さらに、ボロンドープ板２２Ａの電極取出し口２６となる部分を除去し、開口する。除去の方法については、特に限定しないが、例えばピン等で突いて壊すこともできる。また、ドライエッチングを行って開口することもできる。その後、電極取出し口２６の端部にあるキャビティ基板２０と各溝部１１との間で形成されるギャップの開口部に沿って、例えばエポキシ樹脂を流し込んだり、酸化シリコンを堆積等させたりして封止材２５を形成して封止し、ギャップを外気から遮断する。ここで、特に図示はしないが、例えば、キャビティ基板２０の上面に、液体保護のための酸化シリコン膜を、例えばＴＥＯＳを用い、プラズマＣＶＤ法により形成するようにしてもよい。
【００３２】
封止が完了すると、例えば、共通電極端子２７となる部分を開口したマスクを、接合基板のシリコン基板６１側の表面に取り付ける。そして、例えばプラチナ（Ｐｔ）をターゲットとしてスパッタ等を行い、共通電極端子２７を形成する。そして、別工程で作製した前述のノズル基板３０を、例えばエポキシ系接着剤により、接合基板のキャビティ基板２０側から接着し、接合する（図５（ｊ））。そして、ダイシングラインに沿ってダイシングを行い、個々の液滴吐出ヘッドに切断し、液滴吐出ヘッドが完成する。
【００３３】
以上のように実施の形態１の液滴吐出ヘッドによれば、少なくともキャビティ基板２０における吐出室２１の側壁を、導電性を有する金属であるニッケルで構成するようにしたので、共通電極端子２７との距離に依らず、また、液滴を吐出するノズル３１の数に依らず、液滴吐出ヘッドが有する全ての振動板２２に電荷供給を素早く行うことができる。そのため、信号に起因する各ノズル３１における吐出特性のばらつきを抑えることができる。
【００３４】
実施の形態２．
上述の実施の形態ではキャビティ基板２０の主となる導電性を有する金属材料としてニッケルを用いて説明したが、これに限定するものではない。ニッケルは、シリコンよりも高い剛性を確保することができる。また、電鋳法を利用した加工を行いやすいが、例えば、電気抵抗率、剛性等の面から考えると、上述した図４にも示したタングステン、コバルト等の材料を用いることもできる。また、場合によっては、電鋳法による製造方法に限定するものではなく、金属材料によってはエッチング等で製造するようにしてもよい。
【００３５】
実施の形態３．
上述の実施の形態では、キャビティ基板２０におけるリザーバ２４となる凹部についても金属材料で形成するようにしているが、これに限定するものではない。少なくとも、共通電極端子２７から吐出室２１の側壁部分に至るまでを金属材料で構成するようにしておけば、電荷供給における応答性を高めることができる。例えば、図５（ｄ）のウェットエッチングによりシリコン基板５１のシリコン部分全体を除去せず、パターニングを行ってシリコンによりリザーバ２４となる凹部を形成するようにしてもよい。
【００３６】
実施の形態４．
図７は上述の実施の形態で製造した液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出装置の外観図である。また、図８は液滴吐出装置の主要な構成手段の一例を表す図である。図７及び図８の液滴吐出装置は液滴吐出方式（インクジェット方式）による印刷を目的とする。また、いわゆるシリアル型の装置である。図８において、被印刷物であるプリント紙１００が支持されるドラム１０１と、プリント紙１００にインクを吐出し、記録を行う液滴吐出ヘッド１０２とで主に構成される。また、図示していないが、液滴吐出ヘッド１０２にインクを供給するためのインク供給手段がある。プリント紙１１０は、ドラム１０１の軸方向に平行に設けられた紙圧着ローラ１０３により、ドラム１０１に圧着して保持される。そして、送りネジ１０４がドラム１０１の軸方向に平行に設けられ、液滴吐出ヘッド１０２が保持されている。送りネジ１０４が回転することによって液滴吐出ヘッド１０２がドラム１０１の軸方向に移動するようになっている。
【００３７】
一方、ドラム１０１は、ベルト１０５等を介してモータ１０６により回転駆動される。また、プリント制御手段１０７は、印画データ及び制御信号に基づいて送りネジ１０４、モータ１０６を駆動させ、また、ここでは図示していないが、発振駆動回路を駆動させて振動板２２を振動させ、制御をしながらプリント紙１１０に印刷を行わせる。
【００３８】
ここでは液体をインクとしてプリント紙１１０に吐出するようにしているが、液滴吐出ヘッドから吐出する液体はインクに限定されない。例えば、カラーフィルタとなる基板に吐出させる用途においては、カラーフィルタ用の顔料を含む液体、ＯＬＥＤ等の表示基板に吐出させる用途においては、発光素子となる化合物を含む液体、基板上に配線する用途においては、例えば導電性金属を含む液体を、それぞれの装置において設けられた液滴吐出ヘッドから吐出させるようにしてもよい。また、液滴吐出ヘッドをディスペンサとし、生体分子のマイクロアレイとなる基板に吐出する用途に用いる場合では、ＤＮＡ（Deoxyribo Nucleic Acids ：デオキシリボ核酸）、他の核酸（例えば、Ribo Nucleic Acid：リボ核酸、Peptide Nucleic Acids：ペプチド核酸等）タンパク質等のプローブを含む液体を吐出させるようにしてもよい。その他、布等の染料の吐出等にも利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】実施の形態１に係る液滴吐出ヘッドを分解して表した図である。
【図２】流路と直交する方向に対する液滴吐出ヘッドの断面の一部を表す図である。
【図３】流路方向に対する液滴吐出ヘッドの断面等を表す図である。
【図４】シリコンと金属材料との特性を比較するための図である。
【図５】液滴吐出ヘッドの製造工程を表す図（その１）である。
【図６】液滴吐出ヘッドの製造工程を表す図（その２）である。
【図７】液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出装置の外観図である。
【図８】液滴吐出装置の主要な構成手段の一例を表す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１０  電極基板、１１  溝部、１２  個別電極、１３  リード部、１４  端子部、１５  液体供給口、２０  キャビティ基板、２１  吐出室、２２  振動板、２２Ａ  エッチングストップ層、２３  絶縁膜、２４  リザーバ、２５  封止材、２６  電極取出し口、２７  共通電極端子、３０  ノズル基板、３１  ノズル、３２  オリフィス、３３  ダイヤフラム、４１  発振回路、４２  配線、５１  シリコン基板、５２  エッチングストップ層、５３  フォトレジスト、１００  プリンタ、１０１  ドラム、１０２  液滴吐出ヘッド、１０３  紙圧着ローラ、１０４  送りネジ、１０５  ベルト、１０６  モータ、１０７  プリント制御手段、１１０  プリント紙。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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