(57)【要約】【課題】処理槽内のリン酸水溶液中のシロキサン濃度の過剰な上昇を抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】処理槽から排出されたシロキサンを含むリン酸水溶液は熱交換器５１によって冷却され、反応槽６０に供給される。また、反応槽６０には、分液槽８０からドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤の混合液が送給される。反応槽６０の内部にてリン酸水溶液、ドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤が混合、攪拌されることによって、リン酸水溶液中のシロキサンがＴＯＰＯ抽出剤によって抽出されてドデカン中に移行する。その後、反応槽６０内の混合液体は液液遠心分離機７０に送り出され、遠心力によって比較的比重の大きなリン酸水溶液と比重の小さなドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤を含む軽液とに分離される。分離されたリン酸水溶は再度処理槽に送給される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板をリン酸水溶液中に浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理装置であって、
リン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に前記基板を浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を進行させる浸漬処理槽と、
前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液と、有機溶媒と、ＴＯＰＯ抽出剤と、を混合して攪拌する反応槽と、
前記反応槽にて混合された液を遠心分離によって有機溶媒およびＴＯＰＯ抽出剤を含む軽液とリン酸水溶液とに分離する液液遠心分離機と、
前記液液遠心分離機にて分離されたリン酸水溶液を前記浸漬処理槽に向けて送出するリン酸送出手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板処理装置において、
前記液液遠心分離機にて分離されたリン酸水溶液に残留するシロキサンを除去するフィルターをさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の基板処理装置において、
前記液液遠心分離機にて分離された軽液からシロキサンを分離する分液槽と、
前記分液槽にてシロキサンが分離された軽液を再び前記反応槽に送出する軽液送出手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液を前記有機溶媒の沸点以下にまで冷却する冷却手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された半導体ウェハー、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）をリン酸水溶液中に浸漬して選択的にシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程において、エッチング処理はパターン形成のための重要な工程であり、特に近年の半導体デバイスの高性能化および高集積化にともなって、基板上に形成されたシリコン窒化膜（Ｓｉ3Ｎ4膜）およびシリコン酸化膜（ＳｉＯ2膜）のうちシリコン酸化膜を残してシリコン窒化膜を選択的にエッチング除去する処理が要求されている。このようなシリコン窒化膜の選択的なエッチング処理を実行する手法として、高温（１５０℃〜１６０℃）のリン酸水溶液（Ｈ3ＰＯ4＋Ｈ2Ｏ）をエッチング液として使用するプロセスが知られている（例えば、特許文献１参照）。具体的には、特許文献１に開示されているように、高温のリン酸水溶液を貯留した処理槽にシリコン窒化膜およびシリコン酸化膜が形成された複数枚の基板を浸漬してシリコン窒化膜の選択的なエッチング処理を行う。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２２４１０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、リン酸水溶液を使用してシリコン窒化膜のエッチング処理を行うとシロキサンが生成される。”シロキサン”とは、シリコン（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）とを主成分とする有機又は無機化合物群の総称である。エッチング処理中に生成したシロキサンは異物としてエッチング液中に蓄積する。シロキサンが蓄積されるにつれてシリコン窒化膜のエッチング速度が低下し、ある一定の濃度以上にシロキサンがエッチング液中に蓄積されると基板や処理槽に付着したり、エッチング液を循環させるフィルターを目詰まりさせる原因となる。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、処理槽内のリン酸水溶液中のシロキサン濃度の過剰な上昇を抑制することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板をリン酸水溶液中に浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理装置において、リン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に前記基板を浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を進行させる浸漬処理槽と、前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液と、有機溶媒と、ＴＯＰＯ抽出剤と、を混合して攪拌する反応槽と、前記反応槽にて混合された液を遠心分離によって有機溶媒およびＴＯＰＯ抽出剤を含む軽液とリン酸水溶液とに分離する液液遠心分離機と、前記液液遠心分離機にて分離されたリン酸水溶液を前記浸漬処理槽に向けて送出するリン酸送出手段と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る基板処理装置において、前記液液遠心分離機にて分離されたリン酸水溶液に残留するシロキサンを除去するフィルターをさらに備えることを特徴とする。
【０００８】
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発明に係る基板処理装置において、前記液液遠心分離機にて分離された軽液からシロキサンを分離する分液槽と、前記分液槽にてシロキサンが分離された軽液を再び前記反応槽に送出する軽液送出手段と、をさらに備えることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項４の発明は、請求項１から請求項３のいずれかの発明に係る基板処理装置において、前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液を前記有機溶媒の沸点以下にまで冷却する冷却手段をさらに備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液と、有機溶媒と、ＴＯＰＯ抽出剤と、を混合して攪拌する反応槽と、反応槽にて混合された液を遠心分離によって有機溶媒およびＴＯＰＯ抽出剤を含む軽液とリン酸水溶液とに分離する液液遠心分離機と、液液遠心分離機にて分離されたリン酸水溶液を浸漬処理槽に向けて送出するリン酸送出手段と、を備えるため、浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液に含まれるシロキサンはＴＯＰＯ抽出剤によって抽出されてドデカン中に移行し、シロキサン濃度が低下したリン酸水溶液が遠心分離されて浸漬処理槽に送出されることとなり、浸漬処理槽内のリン酸水溶液中のシロキサン濃度の過剰な上昇を抑制することができる。
【００１１】
特に、請求項２の発明によれば、液液遠心分離機にて分離されたリン酸水溶液に残留するシロキサンを除去するフィルターをさらに備えるため、浸漬処理槽に送出するリン酸水溶液のシロキサン濃度をさらに低下させることができる。
【００１２】
特に、請求項３の発明によれば、液液遠心分離機にて分離された軽液からシロキサンを分離する分液槽と、分液槽にてシロキサンが分離された軽液を再び反応槽に送出する軽液送出手段と、をさらに備えるため、有機溶媒およびＴＯＰＯ抽出剤を循環再利用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明に係る基板処理装置の全体概略構成を示す図である。この基板処理装置１は、シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板Ｗをリン酸水溶液中に浸漬させてシリコン窒化膜の選択的なエッチング処理を行うウエットエッチング処理装置である。基板処理装置１は、リン酸水溶液を貯留してエッチング処理を進行させる浸漬処理槽１０と、リン酸水溶液を浸漬処理槽１０に循環させる循環ライン２０と、リン酸水溶液を再生させる再生ライン３０と、を備える。
【００１５】
浸漬処理槽１０は、エッチング液としてリン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に基板Ｗを浸漬させる内槽１１および内槽１１の上部からオーバーフローしたエッチング液を回収する外槽１２によって構成される二重槽構造を有している。内槽１１は、エッチング液に対する耐食性に優れた石英またはフッ素樹脂材料にて形成された平面視矩形の箱形形状部材である。外槽１２は、内槽１１と同様の材料にて形成されており、内槽１１の外周上端部を囲繞するように設けられている。
【００１６】
また、浸漬処理槽１０に貯留されたエッチング液に基板Ｗを浸漬させるためのリフター１３が設けられている。リフター１３は、起立姿勢（基板主面の法線が水平方向に沿う姿勢）にて相互に平行に配列された複数（例えば５０枚）の基板Ｗを３本の保持棒によって一括して保持する。リフター１３は、図示を省略する昇降機構によって鉛直方向に沿って昇降可能に設けられており、保持する複数枚の基板Ｗ（ロット）を内槽１１内のエッチング液中に浸漬する処理位置（図１の位置）とエッチング液から引き上げた受渡位置との間で昇降させる。
【００１７】
循環ライン２０は、浸漬処理槽１０から排出されたリン酸水溶液を濾過・加熱して再び浸漬処理槽１０に圧送還流させる配管経路であり、具体的には浸漬処理槽１０の外槽１２の底部と内槽１１の底部とを流路接続して構成されている。循環ライン２０の経路途中には、上流側から循環ポンプ２１とフィルター２２とが設けられている。循環ポンプ２１は、循環ライン２０を介して外槽１２から汲み出したリン酸水溶液を内槽１１に圧送する。フィルター２２は、循環ライン２０を流れるリン酸水溶液中の異物を取り除くための濾過フィルターである。
【００１８】
また、循環ライン２０には、フィルター２２の下流にヒータ２３が付設されている。ヒータ２３は、循環ライン２０のうちの比較的内槽１１に近い位置に設けられており、循環ライン２０を流れるリン酸水溶液を所定の処理温度（１５０℃〜１６０℃）にまで再加熱する。なお、浸漬処理槽１０にも図示省略のヒータが設けられており、浸漬処理槽１０に貯留されているリン酸水溶液も所定の処理温度を維持するように加熱されている。
【００１９】
また、循環ライン２０の経路中には、循環ポンプ２１よりも上流側（外槽１２に近い側）に濃度計２４が介挿されている。濃度計２４は、特定波長の吸光度を測定することによって液中のシロキサン濃度を測定するタイプの濃度計であり、浸漬処理槽１０の外槽１２から排出されたリン酸水溶液中に含まれるシロキサンの濃度を測定する。
【００２０】
再生ライン３０は、循環ライン２０を流れるリン酸水溶液の一部を取り出して再生した液を循環ライン２０とは別経路にて浸漬処理槽１０に還流させる配管経路である。リン酸水溶液の”再生”とは、リン酸水溶液中に含まれるシロキサンを回収してシロキサン濃度を下げることである。再生ライン３０は、循環ライン２０のうちのフィルター２２よりも下流（内槽１１に近い側）から分岐され、再生したリン酸水溶液を浸漬処理槽１０の外槽１２に還流させる。なお、再生ライン３０の分岐位置は循環ライン２０の経路中の任意の位置とすることが可能であるが、本実施形態のようにフィルター２２よりも下流とするとリン酸水溶液中の異物を除去した後の液を取り出すことができるため好ましい。
【００２１】
再生ライン３０の経路途中には、リン酸水溶液中に含まれるシロキサンを回収してリン酸水溶液を再生する再生装置３１が介挿されている。再生装置３１についてはさらに後述する。再生ライン３０の経路のうち再生装置３１よりも下流側（外槽１２に近い側）には流量調整弁３３が介挿されている。流量調整弁３３は、再生ライン３０を流れるリン酸水溶液の流量を調整するバルブである。
【００２２】
また、基板処理装置１には、装置全体を管理する制御部４０が設けられている。制御部４０のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部４０は、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭおよび制御用アプリケーションやデータなどを記憶しておく磁気ディスク等を備えている。制御部４０は、循環ポンプ２１、ヒータ２３、リフター１３の昇降機構、再生装置３１内の機構等の基板処理装置１の作動部を制御するとともに、濃度計２４の測定結果に基づいて流量調整弁３３を制御する。
【００２３】
図２は、再生ライン３０に設けられた再生装置３１の構成を示す図である。再生装置３１は、主として熱交換器５１、反応槽６０、液液遠心分離機７０、分液槽８０およびフィルターユニット９０を備える。熱交換器５１は、図示省略のチラーユニットから供給された冷却水と再生ライン３０を流れてきたリン酸水溶液との間で熱交換を行い、リン酸水溶液を冷却する。熱交換器５１としては、プレート式熱交換器等の公知の種々の液液熱交換器を使用することができる。
【００２４】
反応槽６０は、熱交換器５１から抜出しポンプ５２によって送り出されたリン酸水溶液と分液槽８０から送給されたドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤とを槽内部に貯留するとともに、攪拌機６１によってそれらを混合して攪拌する。ドデカン(Dodecane)は、有機溶媒の一種であり、構造式ＣＨ3−（ＣＨ2）10−ＣＨ3で表される直鎖アルカンである。また、ＴＯＰＯ(tri-octyl phosphine oxide)抽出剤は、リン酸水溶液中のシロキサンを抽出して有機溶媒であるドデカン中に移行させる。
【００２５】
液液遠心分離機７０は、回転による遠心力を作用させて比較的比重の大きなリン酸水溶液と比重の小さなドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤を含む軽液とに分離する。液液遠心分離機７０は、分離したリン酸水溶液をリン酸中継タンク７５に送出するとともに、分離した軽液を分液槽８０に送出する。
【００２６】
分液槽８０は、液液遠心分離機７０から送られた軽液からシロキサンを含む相を分離する。シロキサンを含む相が分離された後の軽液は溶媒循環ポンプ８１によって反応槽６０に還流される。また、分液槽８０には、ドデカンタンク８２からドデカンポンプ８３によってドデカンが補充されるとともに、ＴＯＰＯタンク８６からＴＯＰＯポンプ８７によってＴＯＰＯ抽出剤が補充される。
【００２７】
フィルターユニット９０は、リン酸中継タンク７５からフィルター送液ポンプ７７によって送液されたリン酸水溶液に残留しているシロキサンを除去する。フィルターユニット９０を経たリン酸水溶液は再生リン酸タンク９５に流入する。また、再生リン酸タンク９５には、リン酸タンク９２からリン酸ポンプ９３によって新たなリン酸水溶液が補充される。
【００２８】
再生リン酸タンク９５に貯留されているリン酸水溶液は再生リン酸ポンプ９７によって再生ライン３０に送り出される。また、再生リン酸ポンプ９７から再生ライン３０に至る配管の経路途中にはリン酸加熱器９９が設けられている。
【００２９】
次に、上記構成を有する基板処理装置１における動作内容について説明する。まず、浸漬処理槽１０に貯留されているリン酸水溶液中に基板Ｗが浸漬されているか否かに関わらず、循環ポンプ２１は常時一定流量にてリン酸水溶液を圧送している。循環ライン２０によって浸漬処理槽１０に還流されたリン酸水溶液は内槽１１の底部から供給される。これによって、内槽１１の内部には底部から上方へと向かうリン酸水溶液のアップフローが生じる。底部から供給されたリン酸水溶液はやがて内槽１１の上端部から溢れ出て外槽１２に流入する。外槽１２に流れ込んだリン酸水溶液は循環ライン２０を介して循環ポンプ２１に回収され、再び浸漬処理槽１０に圧送還流されるという循環プロセスが継続して行われる。循環ライン２０による還流の過程において、リン酸水溶液中に混在している異物はフィルター２２によって取り除かれる。また、還流されるリン酸水溶液はヒータ２３によって所定の処理温度（本実施形態では１６０℃）にまで再加熱される。
【００３０】
このような循環ライン２０によるリン酸水溶液の循環プロセスを実行しつつ、受渡位置にて複数の基板Ｗを受け取ったリフター１３が処理位置にまで降下して内槽１１内に貯留されたリン酸水溶液中に基板Ｗを浸漬させる。これにより、基板Ｗ上に形成されているシリコン酸化膜およびシリコン窒化膜のうちシリコン窒化膜の選択的エッチング処理が進行し、シリコン窒化膜が徐々に除去される。所定時間のエッチング処理が終了した後、リフター１３が再び受渡位置にまで上昇して基板Ｗをエッチング液から引き上げる。
【００３１】
ここで、シリコン窒化膜のエッチング処理が進行するにつれて、リン酸水溶液中にシロキサンが蓄積される。シロキサンが過剰に蓄積されると、シリコン窒化膜のエッチング速度が低下するだけでなく、基板Ｗや浸漬処理槽１０を汚染したり、フィルター２２を目詰まりさせたりするといった問題が生じることは既述した通りである。このため、本実施形態では、再生ライン３０に再生装置３１を設けて過剰のシロキサンを回収することによりリン酸水溶液を再生する処理を行っている。以下、再生装置３１におけるリン酸水溶液の再生処理について説明する。再生装置３１における基本的な処理内容は溶媒抽出法によってリン酸水溶液からシロキサンを抽出して分離するというものである。
【００３２】
まず、エッチング処理に使用されているリン酸水溶液は約１６０℃の比較的高温の液体であり、そのまま有機溶媒と接触させることはできないため、浸漬処理槽１０から排出されて再生ライン３０から再生装置３１に流れ込んだリン酸水溶液は熱交換器５１にて冷却される。熱交換器５１においては、図示省略のチラーユニットから供給された冷却水と再生ライン３０を流れてきたリン酸水溶液との間での熱交換が実行され、約１６０℃のリン酸水溶液が４０℃以下にまで冷却される。なお、熱交換器５１によってリン酸水溶液を冷却する温度は４０℃以下に限定されるものではなく、溶媒抽出に使用する有機溶媒の沸点以下であれば良い。
【００３３】
熱交換器５１にて冷却されたリン酸水溶液は抜出しポンプ５２によって反応槽６０に送出される。一方、分液槽８０からは溶媒循環ポンプ８１によってドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤の混合液が反応槽６０に送給される。リン酸水溶液、ドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤は反応槽６０の内部において混合され、攪拌機６１によって攪拌される。リン酸水溶液、ドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤が十分に混合・攪拌されることによって、リン酸水溶液中のシロキサンがＴＯＰＯ抽出剤によって抽出されてドデカン中に移行する。その結果、リン酸水溶液中のシロキサン濃度は低下することとなり、リン酸水溶液の再生処理が実行される。
【００３４】
反応槽６０における溶媒抽出処理後、反応槽６０内の液体（リン酸水溶液、ドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤が混合したもの）は液液遠心分離機７０に送り出される。液液遠心分離機７０は、混合液を高速回転させて強大な加速度を与え、比較的比重の大きなリン酸水溶液と比重の小さなドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤を含む軽液とに分離する。そして、分離されたリン酸水溶液はリン酸中継タンク７５に流入し、軽液は分液槽８０へと流入する。
【００３５】
リン酸中継タンク７５に貯留されたリン酸水溶液はフィルター送液ポンプ７７によってフィルターユニット９０へと送給される。液液遠心分離機７０にて分離されてリン酸中継タンク７５へと流入するリン酸水溶液は、反応槽６０での溶媒抽出によって大半のシロキサンが除かれたものであるが、若干のシロキサンが残留している。このような僅かに残留しているシロキサンもフィルターユニット９０を通過することによって取り除かれ、リン酸水溶液のさらなる再生処理が実行される。
【００３６】
フィルターユニット９０を通過して再生されたリン酸水溶液は再生リン酸タンク９５に流入して貯留される。再生リン酸タンク９５に貯留される再生後のリン酸水溶液中にはほとんどシロキサンが含まれていない。また、再生リン酸タンク９５には、リン酸タンク９２の新鮮なリン酸水溶液もリン酸ポンプ９３によって適宜補充される。
【００３７】
再生リン酸タンク９５に貯留されているシロキサン濃度の低いリン酸水溶液は再生リン酸ポンプ９７によって再生ライン３０に送り出される。また、再生リン酸ポンプ９７によって送出されるリン酸水溶液はリン酸加熱器９９によって所定の処理温度（本実施形態では１６０℃）にまで加熱される。これにより、処理温度にまで加熱された再生後のリン酸水溶液が再生ライン３０に送給されることとなり、再生ライン３０からはシロキサン濃度の低いリン酸水溶液が浸漬処理槽１０に流入することとなる。その結果、浸漬処理槽１０内におけるリン酸水溶液中のシロキサン濃度が著しく高くなるのを防止することができる。なお、再生ライン３０から浸漬処理槽１０の外槽１２に再生後のリン酸水溶液を供給しているのは、内槽１１にシロキサン濃度の低いリン酸水溶液を直接供給するよりも外槽１２に供給して一旦循環ライン２０を経由させてから内槽１１に供給する方が、内槽１１内のシロキサン濃度の変化および分布が安定するためである。
【００３８】
一方、液液遠心分離機７０から分液槽８０に流入した軽液からはシロキサンを含む相が分離される。シロキサンを含む有機相はペースト状となっており、このような相を分液槽８０にて軽液から分離するのである。この分離に伴って減少したドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤がドデカンタンク８２およびＴＯＰＯタンク８６からそれぞれドデカンポンプ８３およびＴＯＰＯポンプ８７によって分液槽８０に補充される。シロキサンを含む相が分離されたドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤の混合液は溶媒循環ポンプ８１によって分液槽８０から反応槽６０に再度送給される。これにより、ドデカンおよびＴＯＰＯ抽出剤を再利用することができる。
【００３９】
以上のようにして再生装置３１におけるリン酸水溶液の再生処理がなされることにより、再生ライン３０からはシロキサン濃度の低いリン酸水溶液を浸漬処理槽１０に供給することができ、浸漬処理槽１０内のリン酸水溶液中のシロキサン濃度の過剰な上昇を抑制することができる。
【００４０】
また、再生ライン３０からのリン酸水溶液供給量は流量調整弁３３によって調整される。基板処理装置１の循環ライン２０には濃度計２４が設けられており、制御部４０は濃度計２４のシロキサン濃度測定結果に基づいて流量調整弁３３を制御する。具体的には、浸漬処理槽１０から循環ライン２０に排出されたリン酸水溶液中のシロキサン濃度が所定値よりも高くなったときには、制御部４０が流量調整弁３３を制御して再生ライン３０から浸漬処理槽１０に流すシロキサン濃度が低下したリン酸水溶液の流量を増加させる。逆に、浸漬処理槽１０から循環ライン２０に排出されたリン酸水溶液中のシロキサン濃度が所定値よりも低くなったときには、制御部４０が流量調整弁３３を制御して再生ライン３０から浸漬処理槽１０に流すリン酸水溶液の流量を減少させる。その結果、浸漬処理槽１０に貯留されているリン酸水溶液のシロキサン濃度が所定値に維持されることとなる。
【００４１】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態においては、有機溶媒としてドデカンを使用していたが、これに限定されるものではなく、他の有機化合物の溶媒を用いるようにしても良い。
【００４２】
また、上記実施形態においては、再生ライン３０を流れてきたリン酸水溶液を熱交換器５１によって冷却していたが、浸漬処理槽１０から排出されたリン酸水溶液を有機溶媒の沸点以下にまで冷却する他の冷却手段を用いるようにしても良い。
【００４３】
また、再生装置３１の構成は図２に限定されるものではなく、有機溶媒、ＴＯＰＯ抽出剤および浸漬処理槽１０から排出されたリン酸水溶液を混合して攪拌する溶媒抽出処理機構と、溶媒抽出後の有機溶媒およびＴＯＰＯ抽出剤とリン酸水溶液とを分離する分離機構とを備え、その分離されたリン酸水溶液を浸漬処理槽１０に送出する構成であれば良い。
【００４４】
また、上記実施形態において、外槽１２は必須のものではなく、循環ライン２０の配管両端を内槽１１に連通接続し、循環ライン２０によって内槽１１内のリン酸水溶液を循環させる形態であっても良い。また、リフター１３が複数の基板Ｗを直接保持することに限定されるものではなく、リフター１３が複数の基板Ｗを収容したキャリアを保持して昇降するようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係る基板処理装置の全体概略構成を示す図である。
【図２】再生装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  基板処理装置
１０  浸漬処理槽
１１  内槽
１２  外槽
２０  循環ライン
２１  循環ポンプ
２２  フィルター
２４  濃度計
３０  再生ライン
３１  再生装置
３３  流量調整弁
４０  制御部
５１  熱交換器
６０  反応槽
７０  液液遠心分離機
８０  分液槽
８１  溶媒循環ポンプ
９０  フィルターユニット
９７  再生リン酸ポンプ
９９  リン酸加熱器
Ｗ  基板
【図１】
2009130032.tif 000003
【図２】
2009130032.tif 000004