(57)【要約】【課題】製造工程が簡単であり、安価に電磁波シールド材を製造することができる電磁波シールド材およびその製造方法ならびに表示装置用フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明による電磁波シールド材２０は、透明基材２１と、メッシュ状の金属層２２と、金属めっき層２３とを備えている。この電磁波シールド材２０を製造する場合、まず透明基材２１を準備し、所望のパターンを有する可溶性樹脂層２６を、その隙間に形成された透明基材２１の露出部２１ａを残して印刷により形成する。次に可溶性樹脂層２６上および可溶性樹脂層２６間の露出部２１ａ上に金属層２２を蒸着形成する。その後、水または溶剤により可溶性樹脂２６を溶融し、透明基材２１の露出部２１ａ上の金属層２２のみを残して可溶性樹脂層２６および可溶性樹脂層２６上の金属層２２を除去する。【選択図】図３
2009016545.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、透明基材上に設けられたメッシュ状金属層とを有する表示装置用フィルタ用の電磁波シールド材を製造する電磁波シールド材の製造方法において、
透明基材を準備する工程と、
透明基材上に、所望のパターンを有する可溶性樹脂層をその隙間に形成された透明基材の露出部を残して印刷により形成する工程と、
可溶性樹脂層上および可溶性樹脂層間の透明基材の露出部上に、金属層を蒸着する工程と、
水または溶剤により可溶性樹脂を溶融し、透明基材の露出部上の金属層のみを残して可溶性樹脂層および可溶性樹脂層上の金属層を除去する工程と、を備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２】
可溶性樹脂層および可溶性樹脂層上の金属層を除去した後、透明基材の露出部上の金属層上に、めっきにより金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３】
所望のパターンを有する可溶性樹脂層は、グラビア印刷により形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項４】
可溶性樹脂は、ポリビニルアルコールまたはポリビニルブチラールからなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項５】
透明基材の露出部上に蒸着された金属層の厚さは、透明基材上に形成された可溶性樹脂層の厚さより薄いことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の電磁波シールド材の製造方法によって電磁波シールド材を得る工程と、
電磁波シールド材上に近赤外線カット層を設ける工程と、
近赤外線カット層上に反射防止フィルムを設ける工程と、を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれかに記載の電磁波シールド材の製造方法によって製造された電磁波シールド材。
【請求項８】
請求項６に記載の表示装置用フィルタの製造方法によって製造された表示装置用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置の前面に配置され、表示装置から発生される電磁波を遮蔽する機能（電磁波遮蔽機能）を有する電磁波シールド材の製造方法、およびこのような電磁波シールド材の製造方法によって製造された電磁波シールド材に関する。また本発明は、このような電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特開２００３−２５８４８５号公報
【特許文献２】特開２００３−２５８４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の電磁波シールド材の製造方法について、図６（ａ）〜（ｆ）を用いて述べる。まず図６（ａ）に示すように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる透明基材３１上に銅箔をラミネートすることにより、透明基材３１と銅層３２とを有する銅箔ラミネート基材３０を作成する。
【０００４】
次に、銅箔ラミネート基材３０の銅層３２上にレジスト樹脂を塗布して乾燥し、レジスト層３３を形成する（図６（ｂ））。次いでレジスト層３３上にフォトマスクを介して紫外線を照射して露光し（図６（ｃ））、これにより銅層３２上に所望のパターン状のレジスト層３３Ａを形成する（図６（ｄ））。
【０００５】
次にパターン状のレジスト層３３Ａをマスクとして、銅層３２をエッチング除去する（図６（ｅ））。その後レジスト層３３Ａを除去することにより、透明基材３１とパターン状の銅層３２Ａとからなる電磁波シールド材３４を作成する（図６（ｆ））。
【０００６】
しかしながら、このような方法で電磁波シールド材３４を製造する場合、レジスト層３３をマスク露光する工程（図６（ｃ））および銅層３２をエッチング除去する工程（図６（ｄ））が必要とされるため、プロセスが複雑であるとともに高い製造コストがかかっている。また銅箔ラミネート基材３０を作成する工程（図６（ａ））にも高い製造コストがかかるため、銅箔ラミネート基材３０自体の価格も高価である。このため電磁波シールド材３４の製造コストを引き下げることが望まれている。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、製造工程が簡単であり、安価に電磁波シールド材を製造することができる電磁波シールド材の製造方法およびこのような製造方法により製造された電磁波シールド材、ならびにこのような電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、透明基材と、透明基材上に設けられたメッシュ状金属層とを有する表示装置用フィルタ用の電磁波シールド材を製造する電磁波シールド材の製造方法において、透明基材を準備する工程と、透明基材上に、所望のパターンを有する可溶性樹脂層をその隙間に形成された透明基材の露出部を残して印刷により形成する工程と、可溶性樹脂層上および可溶性樹脂層間の透明基材の露出部上に、金属層を蒸着する工程と、水または溶剤により可溶性樹脂を溶融し、透明基材の露出部上の金属層のみを残して可溶性樹脂層および可溶性樹脂層上の金属層を除去する工程と、を備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【０００９】
本発明は、可溶性樹脂層および可溶性樹脂層上の金属層を除去した後、透明基材の露出部上の金属層上に、めっきにより金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１０】
本発明は、所望のパターンを有する可溶性樹脂層は、グラビア印刷により形成されることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１１】
本発明は、可溶性樹脂は、ポリビニルアルコールまたはポリビニルブチラールからなることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１２】
本発明は、透明基材の露出部上に蒸着された金属層の厚さは、透明基材上に形成された可溶性樹脂層の厚さより薄いことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１３】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法によって電磁波シールド材を得る工程と、電磁波シールド材上に近赤外線カット層を設ける工程と、近赤外線カット層上に反射防止フィルムを設ける工程と、を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法である。
【００１４】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法によって製造された電磁波シールド材である。
【００１５】
本発明は、表示装置用フィルタの製造方法によって製造された表示装置用フィルタである。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように本発明によれば、電磁波シールド材を製造する際、マスク露光する工程や銅層をエッチング除去する工程が必要ない。また、予め銅箔ラミネート基材を準備する必要もない。このため電磁波シールド材を製造する工程を簡略化することができ、電磁波シールド材およびこのような電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタの製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１は、本発明の一実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図であり、図２は、本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタを示す構成図である。図３は、本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図であり、図４は、電磁波シールド材の製造工程において透明基材上に印刷された可溶性樹脂層を示す平面図である。図５は、本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタの製造方法を示す構成図である。
【００１８】
電磁波シールド材の構成
まず、図１により本実施の形態による電磁波シールド材について説明する。
【００１９】
図１に示すように、電磁波シールド材２０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものである。この電磁波シールド材２０は、透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の金属層２２と、金属層２２上に設けられた金属めっき層２３とを備えている。
【００２０】
このうち透明基材２１としては、ＰＥＴ製フィルムのほか、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいはガラス板等を用いることができる。透明基材２１を構成するプラスチックフィルムは、高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが望ましい。
【００２１】
一方、メッシュ状の金属層２２を構成する金属の材質としては例えば、銅、アルミニウム、錫、ニッケル、クロム、銀、モリブデン、タングステンなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００２２】
また金属層２２は、厚さが０．５μｍ乃至２μｍとなっている。金属層２２の厚さが薄すぎると金属層２２の導電性が不足し、電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果が低くなるので好ましくない。他方、金属層２２は、蒸着により形成されるので概ね２μｍ以上の厚さにすることはむずかしい。なお、金属層２２の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様形状であってもよい。
【００２３】
金属めっき層２３を構成する金属の材質としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、クロム、銀、モリブデン、タングステンなどが挙げられ、金属層２２上に電解めっきにより形成することができる金属であれば良い。
【００２４】
この金属めっき層２３は、厚さが１μｍ乃至１００μｍとなっている。金属めっき層２３は、金属層２２の厚さが薄いために金属層２２の導電性が不十分となる場合に設けられる。したがって、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果に応じてその厚さを設定すれば良い。金属層２２のみで電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果が十分に得られる場合は、金属めっき層２３を設けなくても良い。
【００２５】
表示装置用フィルタの構成
次に、図２により本実施の形態による表示装置用フィルタについて説明する。
【００２６】
図２に示すように、本実施の形態による表示装置用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）２５等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００２７】
このような表示装置用フィルタ１０は、電磁波シールド材２０と、電磁波シールド材２０上に設けられた粘着材層１３と、粘着材層１３上に設けられた近赤外線カット層１５と、近赤外線カット層１５上に設けられた反射防止フィルム１７とを備えている。
【００２８】
このうち粘着材層１３は、ＰＤＰ２５から放出されるネオン光をカットする機能（ネオンカット機能）を有している。この粘着材層１３は、粘着性を有するアクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれたネオン吸収色素とを有している。このうちネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。このようなネオン吸収色素としては、シアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００２９】
また粘着材層１３を構成する樹脂としては、アクリル樹脂のほか、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、またはポリウレタンエステル系等の接着剤、あるいは、主成分としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、または２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された樹脂が挙げられる。なお、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタアクリレートの双方を意味する。接合剤層を形成するにあたっては、必要に応じて、その原料にイソシアネート系、ポリチオール系、イミド系等の硬化剤を含有させることができる。
【００３０】
また粘着材層１３に色調補正色素または色調補正顔料を更に添加しても良い。これにより、ＰＤＰ２５からの映像光の色再現範囲を増加させ、画面の鮮明度を向上させることができる。なお、このような色調補正色素または色調補正顔料としては、例えばアントラキノン系、シアニン系、アゾ系、ストリル系、フタロシアニン系、メチン系などの有機色素を含むものを用いることができる。
【００３１】
近赤外線カット層１５は、ＰＤＰ２５から放出される近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）をカットする機能（近赤外線カット機能）を有している。この近赤外線カット層１５は、アクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれた近赤外線吸収色素を有している。このうち近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。このような近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物が挙げられる。
【００３２】
また近赤外線カット層１５を構成する樹脂としては、アクリル樹脂のほか、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。
【００３３】
他方、反射防止フィルム１７は、外部からの紫外線を吸収して近赤外線カット層１５を保護する紫外線カット基材１６と、紫外線カット基材１６上に設けられた反射防止層１４とを有している。
【００３４】
このうち紫外線カット基材１６としては、透明基材中に紫外線吸収剤を含有したものが用いられる。透明基材としては、上述した透明基材２１の材料として列挙したものと同様のものを用いることができる。また紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、ベンゾエート系等の有機系紫外線吸収剤や、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等の無機系紫外線吸収剤が挙げられる。あるいは、紫外線カット基材１６は、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エチレンービニルアルコール系共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル系共重合樹脂等のバインダー樹脂に上述した紫外線吸収剤を含有させたものを、透明基材上に塗布することにより形成しても良い。
【００３５】
また、反射防止層１４は空気と表示装置用フィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ２５表面の反射を防止するものである。この反射防止層１４は光学薄膜を積層することにより構成される。なお、反射防止層１４の代わりに、表面に凹凸をつけて外光を散乱させるぎらつき防止層を設けてもよい。
【００３６】
なお、表示装置用フィルタ１０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ２５からの映像のコントラストを高める光学機能層（ＣＲＦ層）を任意的に有していても良い。
【００３７】
また図１において、電磁波シールド材２０上に粘着性をもつアクリル樹脂等からなる粘着材層２４が設けられている。この粘着材層２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００３８】
なお、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を粘着材層２４を介してＰＤＰ２５の前面に接着させる方法のほか、ガラス、フィルム等からなる支持用基材を有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材とＰＤＰ２５とを接着させても良い。また支持用基材を有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材がＰＤＰ２５側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ２５に固定しても良い。さらにまた支持用基材を有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ２５に固定しても良い。
【００３９】
電磁波シールド材の製造方法
次に、図１に示す電磁波シールド材２０の製造方法について、図３（ａ）〜（ｅ）、図４により説明する。
【００４０】
まず図３（ａ）に示すように、透明基材２１を準備する。次に、透明基材２１上に、所望のパターンを有する可溶性樹脂層２６をその隙間に形成された透明基材２１の露出部２１ａを残して印刷により形成する（図３（ｂ））。
【００４１】
この際、印刷により形成される可溶性樹脂層２６のパターンは、透明基材２１上に設けられる金属層２２の形状と正反対の形状となる。例えば金属層２２を斜めのメッシュ状に形成する場合、透明基材２１上に印刷される可溶性樹脂層２６のパターンは、多数の菱形を互いに等間隔に並べた形状となる（図４参照）。
【００４２】
また可溶性樹脂層２６は、グラビア印刷（凹版印刷）により透明基材２１上に形成されることが好ましい。グラビア印刷を用いることにより、可溶性樹脂層２６が広がって幅が狭い露出部２１ａを潰し、この結果、形成される金属層２２が断線されるおそれが少ない。なお、グラビア印刷以外にも、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷、オフセット印刷等を用いることも可能である。
【００４３】
なお、可溶性樹脂層２６を構成する可溶性樹脂（リフトオフ材料）は、後述する溶融工程（図３（ｄ））で用いられる液体（水または有機溶剤）に溶融する材料から選択される。例えば溶融工程で水が用いられる場合、可溶性樹脂は水溶性である。このような可溶性樹脂としては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性ポリマ、その他ポリアリルアミン、ポリアクリルアミド、メチルセルロース、カゼインナトリウム等、水溶性樹脂一般が挙げられる。一方溶融工程で有機溶剤が用いられる場合、可溶性樹脂は有機溶剤可溶性であり、このような可溶性樹脂として、例えばアクリル系、ポリエステル系、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート、溶剤可溶型フッ素樹脂等を使用することができる。
【００４４】
次いで、可溶性樹脂層２６上および可溶性樹脂層２６間の透明基材２１の露出部２１ａ上に、例えば銅、アルミニウム、錫、ニッケル等からなる金属層２２を蒸着により形成する（図３（ｃ））。なお、後述する溶融工程（図３（ｄ））において可溶性樹脂層２６および可溶性樹脂層２６上の金属層２２を溶融できるようにするため、透明基材２１の露出部２１ａ上に蒸着された金属層２２の厚さｔ1は、透明基材２１上に形成された可溶性樹脂層２６の厚さｔ2より薄くし、可溶性樹脂層２６を横方向に露出させることが好ましい。
【００４５】
次に、水または有機溶剤により可溶性樹脂層２６を溶融し、透明基材２１の露出部２１ａ上の金属層２２のみを残して可溶性樹脂層２６および可溶性樹脂層２６上の金属層２２を除去する（図３（ｄ））。すなわち、水または有機溶剤を露出部２１ａ上の金属層２２上方から供給し、露出部２１ａ上で横方向に露出している可溶性樹脂層２６を溶融する。このようにして可溶性樹脂層２６が溶融されることにより、可溶性樹脂層２６上の金属層２２も取り除かれる。他方、露出部２１ａ上の金属層２２は残存する。なお、このような有機溶剤として、例えばトルエン、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、アセトン、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）等を使用することができる。
【００４６】
その後、透明基材２１の露出部２１ａ上の金属層２２上に、電解めっきにより例えば銅、アルミニウム、錫、ニッケル等からなる金属めっき層２３を形成する（図３（ｅ））。なお、このようにして金属めっき層２３を形成する工程は、上述したように、金属層２２の厚さが薄いために金属層２２の導電性が不十分となる場合に行なえば良い。
【００４７】
表示装置用フィルタの製造方法
次に表示装置用フィルタの製造方法について、図３（ａ）〜（ｅ）、図５（ａ）〜（ｃ）により説明する。
【００４８】
はじめに図３（ａ）〜（ｅ）に示す工程により、透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の金属層２２と、金属層２２上に設けられた金属めっき層２３とを有する電磁波シールド材２０を作成する（図５（ａ））。
【００４９】
次に、電磁波シールド材２０上に粘着材層１３を介して近赤外線カット層１５を設ける（図５（ｂ））。この場合、近赤外線カット層１５はスピンコート、ディップコート、ダイコート等の湿式法、あるいは蒸着等の乾式法により設けられる。
【００５０】
次いで、近赤外線カット層１５上に、紫外線カット基材１６と反射防止層１４とを有する反射防止フィルム１７を設け、電磁波シールド材２０上に粘着材層２４を設けることにより、図２に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図５（ｃ））。
【００５１】
その後、表示装置用フィルタ１０は、粘着材層２４を介してＰＤＰ２５の前面に接着される。
【００５２】
なお、各層間のいずれかに、ＰＤＰ２５からの映像のコントラストを高める光学機能層を更に設けても良い。
【００５３】
このように本実施の形態によれば、電磁波シールド材２０を製造する際、マスク露光する工程や銅層をエッチング除去する工程が必要ない。また、予め銅箔ラミネート基材を準備する必要もない。このため電磁波シールド材２０を製造する工程を簡略化することができ、電磁波シールド材２０およびこのような電磁波シールド材２０を有する表示装置用フィルタ１０の製造コストを低減することができる。
【００５４】
（実施例）
次に、図３（ａ）〜（ｅ）により、本発明の具体的実施例を説明する。
【００５５】
まず、予め易接着処理を施した厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（透明基材２１）に対して、水溶性のプライマー層（可溶性樹脂層２６）をグラビア印刷にて塗工した（図３（ａ）〜（ｂ））。
【００５６】
この際、グラビア版として、形成されるＥＭＩ（電磁波シールド材２０）の銅層（金属層２２）の線が４５度傾斜するとともに、銅層（金属層２２）の線間隔が３００μｍピッチであり、かつ線幅が２０μｍとなるようなものを使用した。なお、この寸法はＥＭＩ（電磁波シールド材２０）の銅層（金属層２２）のパターンであり、プライマー層（可溶性樹脂層２６）は、形成される銅層（金属層２２）のパターンとネガポジ反転した関係となる。またプライマーの塗布厚は２μｍとした。
【００５７】
次に、巻取り蒸着装置を用いて、プライマー層（可溶性樹脂層２６）上およびプライマー層（可溶性樹脂層２６）間のＰＥＴフィルム（透明基材２１）の露出部２１ａ上に、銅を蒸着した（図３（ｃ））。その後、さらに銅層（金属層２２）が１μｍ厚となるまで成膜した。
【００５８】
次いで、水によりプライマー層（可溶性樹脂層２６）を溶融し、プライマー層（可溶性樹脂層２６）上の銅層（金属層２２）を剥離した。これにより、上述したように線間隔が３００μｍピッチであるとともに、線幅が２０μｍである銅層（金属層２２）を形成した（図３（ｄ））。
【００５９】
その後、電解めっきにより銅層（金属層２２）上に更に銅層（金属めっき層２３）を形成し、最終膜厚（金属層２２および金属めっき層２３の合計厚さ）を１０μｍとした。このようにして十分な電磁遮蔽効果が得られるＥＭＩ（電磁波シールド材２０）を完成させた（図３（ｅ））。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図。
【図２】本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタを示す構成図。
【図３】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【図４】電磁波シールド材の製造工程において透明基材上に印刷された可溶性樹脂層を示す平面図。
【図５】本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタの製造方法を示す構成図。
【図６】従来の電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【符号の説明】
【００６１】
１０    表示装置用フィルタ
１３    粘着材層
１４    反射防止層
１５    近赤外線カット層
１６    紫外線カット基材
１７    反射防止フィルム
２０    電磁波シールド材
２１    透明基材
２１ａ  露出部
２２    金属層
２３    金属めっき層
２４    粘着材層
２５    ＰＤＰ
２６    可溶性樹脂層
【図１】
2009016545.tif 000003
【図２】
2009016545.tif 000004
【図３】
2009016545.tif 000005
【図４】
2009016545.tif 000006
【図５】
2009016545.tif 000007
【図６】
2009016545.tif 000008