(57)【要約】【課題】欠陥画素の発生にもかかわらず、機能を回復することができる有機ＥＬディスプレイを提供する。欠陥画素が発生した際に、有機ＥＬディスプレイを正常に機能できるように、修復する方法を提供する。【解決手段】有機ＥＬディスプレイは、基板と、ｘ方向に延びるストリップ形状を有する第１電極１２と、ｙ方向に延びるストリップ形状を有する第２電極１４と、を具備する。第１電極１２および第２電極１４と、それらに挟まれる有機ＥＬ膜１３とは、有機ＥＬ素子を構成している。第１電極１２は、ｘ方向に延びるとともに第２電極１４の幅を超える長さを有するスリット１７を、有機ＥＬ素子領域に備えている。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに直交する第１方向および第２方向の両方に広がる基板と、
上記基板の上に設けられ、かつ、上記第１方向に延びるストリップ形状を有する第１電極と、
上記第２方向に延びるストリップ形状を有する第２電極と、
上記第１電極および上記第２電極が交差する有機ＥＬ素子領域に設けられ、かつ、上記第１電極および上記第２電極に挟まれている、有機ＥＬ膜と、
を具備する有機ＥＬディスプレイであって、
上記第１電極は、上記第１方向に延びるとともに上記第２電極の幅を超える長さを有する電極スリットを、上記有機ＥＬ素子領域に備えていることを特徴とする、有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】
上記第１電極は、上記電極スリットに平行であるとともに上記第２電極の幅を超える長さを有する追加スリットを、さらに上記有機ＥＬ素子領域に有している、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】
互いに直交する第１方向および第２方向の両方に広がる基板と、上記基板の上に設けられ、かつ、上記第１方向に延びるストリップ形状を有する第１電極と、上記第２方向に延びるストリップ形状を有する第２電極と、上記第１電極および上記第２電極が交差する有機ＥＬ素子領域に設けられ、かつ、上記第１電極および上記第２電極に挟まれている、有機ＥＬ膜と、を具備するものであり、かつ、上記第１電極は、上記第１方向に延びるとともに上記第２電極の幅を超える長さを有する電極スリットを、上記有機ＥＬ素子領域に備えている、有機ＥＬディスプレイ、を修復する方法であって、
上記第１電極および上記第２電極を介して、電圧を、上記有機ＥＬ膜に印加する工程と、
上記電圧を印加された上記有機ＥＬ膜が正常に発光しているかを調べることによって、上記第１電極および上記第２電極の絶縁を検査する工程と、
上記電極スリットから延びる切断線に沿って、上記第１電極をレーザで切断することによって、上記検査する工程において発見された絶縁不良箇所を、上記第１電極から電気的に分離する工程と、
からなる、有機ＥＬディスプレイの修復方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光素子として機能する複数の有機ＥＬ素子から構成される、有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
図６は、有機ＥＬディスプレイの基本的な構造を示している。有機ＥＬディスプレイ９０は、透明な基板９１と、複数の第１電極９２と、複数の第２電極９４と、を具備している。各第１電極９２は、透明な導電材料からなり、ｘ方向に延びるストリップの形状を有している。一方、各第２電極９４は、導電材料からなり、ｘ方向と直交するｙ方向に延びたストリップの形状を有している。複数の有機ＥＬ膜９３は、マトリクス状に配列されている。各々の有機ＥＬ膜９３は、１つの第１電極９２と１つの第２電極９４とによって挟まれている。さらに、有機ＥＬディスプレイ９０は、絶縁膜９５と、保護膜９６と、を具備している。絶縁膜９５は、第１電極９２と第２電極９４との短絡を防ぐためのものであり、絶縁材料からなる。保護膜９６は、第２電極９４を覆っている。
【０００３】
第１電極９２と第２電極９４を介して、電圧が選択的に有機ＥＬ膜９３に印加されることにより、有機ＥＬ膜９３は光を発する。この光は、第１電極９２および基板９１を順に透過する。ユーザは、基板９１の側から、複数の有機ＥＬ膜９３が作り出す画像を見ることができる。各有機ＥＬ膜９３は、ユーザが見る画像を構成する画素の１つとして機能する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この有機ＥＬディスプレイ９０の製造過程において、ある確率で、欠陥のある有機ＥＬ膜９３が作られてしまう。欠陥のある有機ＥＬ膜９３は充分な耐圧を持たない。このため、第１電極９２と第２電極９４との絶縁が維持できなくなる。こうして短絡した第１電極９２および第２電極９４は正常に動作できないので、それらに接触するすべての有機ＥＬ膜９３が発光できなくなる。換言すれば、１つの画素の欠陥は、その画素の機能不全のみならず、１つのライン全体の機能不全を招く。これは、有機ＥＬディスプレイ９０の製造歩留まりを低下させる原因となる。
【０００５】
したがって、本発明は、欠陥画素の発生にもかかわらず、機能を回復することができる有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。さらに、本発明は、欠陥画素が発生した際に、有機ＥＬディスプレイを正常に機能できるように、修復する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によって提供される有機ＥＬディスプレイは、互いに直交する第１方向および第２方向の両方に広がる基板と、上記基板の上に設けられ、かつ、上記第１方向に延びるストリップ形状を有する第１電極と、上記第２方向に延びるストリップ形状を有する第２電極と、上記第１電極および上記第２電極が交差する有機ＥＬ素子領域に設けられ、かつ、上記第１電極および上記第２電極に挟まれている、有機ＥＬ膜と、を具備する。上記第１電極は、上記第１方向に延びるとともに上記第２電極の幅を超える長さを有する電極スリットを、上記有機ＥＬ素子領域に備えている。
【０００７】
好ましくは、上記第１電極は、上記電極スリットに平行であるとともに上記第２電極の幅を超える長さを有する追加スリットを、さらに上記有機ＥＬ素子領域に有している。
【０００８】
本発明によって提供される有機ＥＬディスプレイの修復方法は、上記第１電極および上記第２電極を介して、電圧を、上記有機ＥＬ膜に印加する工程と、上記電圧を印加された上記有機ＥＬ膜が正常に発光しているかを調べることによって、上記第１電極および上記第２電極の絶縁を検査する工程と、上記電極スリットから延びる切断線に沿って、上記第１電極をレーザで切断することによって、上記検査する工程において発見された絶縁不良箇所を、上記第１電極から電気的に分離する工程と、からなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１は、本発明の第１実施形態を示している。有機ＥＬディスプレイ１０は、例えばガラスからなる透明な基板１１と、複数の第１電極１２と、複数の第２電極１４と、を具備している。各第１電極１２は、例えばＩＴＯなどの透明な導電材料からなり、ｘ方向に延びるストリップの形状を有している。各第１電極１２は、特徴的に、スリット１７を備えている。一方、各第２電極１４は、金属などの導電材料からなり、ｘ方向と直交するｙ方向に延びたストリップの形状を有している。複数の有機ＥＬ膜１３は、電圧を印加されることによって発光するものであり、マトリクス状に配列されている。各々の有機ＥＬ膜１３は、１つの第１電極１２と１つの第２電極１４とによって挟まれている。さらに、有機ＥＬディスプレイ１０は、絶縁膜１５と、保護膜１６とを具備している。絶縁膜１５は、第１電極１２と第２電極１４との短絡を防ぐためのものであり、絶縁材料からなる。保護膜１６は、有機ＥＬディスプレイ１０を保護するために第２電極１４を覆うものであり、例えば樹脂からなる。
【００１０】
図２は、基板１１の側から見た有機ＥＬディスプレイ１０の平面図である。簡略化のため、同図においては、基板１１、絶縁膜１５、および、保護膜１６は省略されている。１つの第１電極１２と、１つの第２電極１４とが交差する各領域には、１つの画素として機能する有機ＥＬ素子が形成されている。各有機ＥＬ素子は、１つの有機ＥＬ膜１３を含んでいる。スリット１７は、その有機ＥＬ素子領域に設けられており、かつ、第２電極１４の幅、すなわちｘ方向の長さ、を超える長さを有している。したがって、同図から明らかなように、第２電極１４および有機ＥＬ膜１３のいずれもが、スリット１７の中央にのみ配置されており、スリット１７の両端には配置されていない。
【００１１】
第１電極１２と第２電極１４を介して、電圧が選択的に有機ＥＬ膜１３に印加されることにより、有機ＥＬ膜１３は光を発する。この光は、第１電極１２および基板１１を順に透過する。ユーザは、基板１１の側から、複数の有機ＥＬ膜１３が作り出す画像を見ることができる。
【００１２】
以上に説明した有機ＥＬディスプレイ１０が製造された後、出荷される前に、欠陥のある画素を発見するために、動作確認が行われる。以下、図２の絶縁不良箇所Ｐに起因する欠陥画素が発見された場合を考える。絶縁不良箇所Ｐは、多くの場合、有機ＥＬ膜１３が充分な耐圧を持たないために発生する。第１電極１２と第２電極１４とは絶縁不良箇所Ｐにおいて短絡している。このため、当該欠陥画素に相当する有機ＥＬ素子は発光することができない。加えて、絶縁不良箇所Ｐを通過する第１電極１２および第２電極１４もまた、正常に動作することができず、ひいては、画像の１ラインすべての発光が阻害される。
【００１３】
このような欠陥画素を持つ有機ＥＬディスプレイ１０を修復するために、レーザによる第１電極１２の切断が行われる。すなわち、外部から透明な基板１１を介してレーザを切断線Ｌに照射する。この結果、図３に示すように、第１電極１２の絶縁不良箇所Ｐを含む領域は、第１電極１２の他の部分から切り離される。これにより、第１電極１２と第２電極１４との短絡および耐圧不足は解消され、第１電極１２および第２電極１４は正常に機能することができる。切断線Ｌはスリット１７の両端から延びており、第２電極１４と重なりあっていない。このため、レーザによる切断が第２電極１４または有機ＥＬ膜１３を損傷することはない。この処置により、欠陥画素に相当する有機ＥＬ素子の半分は、第１電極１２を失ったことにより機能できないものの、当該有機ＥＬ素子の残りの半分は発光機能を回復する。
【００１４】
図４は、本発明の第２実施形態を示している。本実施形態は、１つの有機ＥＬ素子領域に、２つのスリットが設けられている点が、第１の実施形態と異なっている。本実施形態の持つ第１実施形態と同一または類似の要素には、同一または類似の参照番号を付し、説明を適宜省略することとする。
【００１５】
１つの有機ＥＬ素子領域には、互いに平行なスリット１７Ａおよびスリット１７Ｂが設けられている。これらのスリットのいずれもが、第１実施形態と同様に、第２電極１４の幅を超える長さを有している。したがって、同図から明らかなように、第２電極１４は、スリット１７Ａおよびスリット１７Ｂの中央にのみ配置されており、スリット１７Ａおよびスリット１７Ｂの両端には配置されていない。
【００１６】
このような構成によれば、レーザによる絶縁不良箇所Ｐの分離の際に失われる第１電極１２の面積を、より少なくできる。このため、欠陥画素に相当する有機ＥＬ素子の、より多くの面積が、発光機能を回復できる。本実施形態においても、レーザによる切断が第２電極１４または有機ＥＬ膜１３を損傷することはないのは明白である。
【００１７】
図５は、本発明の第３実施形態を示している。本実施形態は、ｙ方向に延びる３つ目のスリット１７Ｃをさらに有する点が、第２の実施形態と異なっている。このような構成によれば、絶縁不良箇所Ｐの分離に際して失われる第１電極１２の面積を、第２実施形態よりも少なくできる。
【００１８】
本発明は、上述した実施形態に限定されない。本発明の各部の具体的な構成は、適宜に変更可能である。たとえば、１つの有機ＥＬ素子領域には３つ以上の平行なスリットが設けられていてもよい。スリットの形状は直線に限られず、曲線であってもよい。複数のスリットからなる、より複雑なパターンが、有機ＥＬ素子領域に形成されてもよい。さらに、第２電極がスリットを備えてもよい。この場合、第２電極は、レーザを透過できる材料からなる保護膜の側から照射されるレーザによって、切断されることとなる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構造を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構造を示す平面図である。
【図３】修復された有機ＥＬディスプレイを示す平面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構造を示す平面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構造を示す平面図である。
【図６】従来の有機ＥＬディスプレイの構造を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００２０】
１０  有機ＥＬディスプレイ
１１  基板
１２  第１電極
１３  有機ＥＬ膜
１４  第２電極
１５  絶縁膜
１６  保護膜
１７、１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｃ  スリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2009037841.tif 000006
【図５】
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【図６】
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