(57)【要約】【課題】  気体と液体が混合して回収される液体の流量を、早くかつ精度よく測定し、液体の漏洩あるいは浸入による影響を低減し、良好な露光処理を可能とする液体回収装置および液浸露光装置を提供する。【解決手段】  気体ｇと液体ｆが混合して回収されるラインにおいて、液体のみの流量を測定する液体回収装置２０、２１は、気体ｇと液体ｆとが混合して回収される一つ以上の回収ラインである回収管１７，１８を有し、減圧タンク２２は、回収管１７，１８が挿入され、減圧される容器で、液体受容器２３は、減圧タンク２２内に設けられ、回収ラインから排出される液体ｆを受け、排水ラインである配管２４は、液体受容器２３の底部に接続され、流量検出部である流量センサ２６は、配管２４の途中に設けられ、液体ｆの流量を測定し、配管２４の、流量センサ２６よりも下流の部分のうちの少なくとも一部を、流量センサ２６より上方に配置する。【選択図】図1
2009016404.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体と液体とが混合して回収される一つ以上の回収ラインと、
前記回収ラインが接続され、内部が減圧される減圧タンクと、
前記減圧タンクの内部に設けられ、前記回収ラインから排出される前記液体を受ける液体受容器と、
前記液体受容器の底部に接続され、前記液体を前記減圧タンクの内部に排出する排水ラインと、
前記排水ラインの途中に設けられ、前記液体の流量を測定する流量検出部と、を有し、
前記排水ラインの前記流量検出部よりも下流の部分のうちの少なくとも一部を、前記流量検出部より上方に配置することを特徴とする液体回収装置。
【請求項２】
前記流量検出部は、前記減圧タンクの内部に備えることを特徴とする請求項１記載の液体回収装置。
【請求項３】
前記流量検出部は、前記減圧タンクの外部に備えることを特徴とする請求項１記載の液体回収装置。
【請求項４】
前記流量検出部は、容量式流量センサであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の液体回収装置。
【請求項５】
基板に最も近接した投影光学系の最終レンズと前記基板の間に供給される液体を介して前記基板を露光する露光装置であって、
前記液体を前記最終レンズの下に供給する供給ラインと、
前記供給ラインの途中に設けられ、前記液体の流れを制御する弁と、
前記弁の開閉を制御する制御部と、
請求項１から４のいずれかに記載の液体回収装置と、有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載の液体回収装置の前記流量検出部からの情報と、前記最終レンズの下に供給した前記液体の流量とを比較する比較器を有することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記比較器は、異常を判定するトレランスを有し、
前記流量検出部からの情報が前記トレランスの範囲を外れた場合に、前記制御部は前記弁を制御して、前記最終レンズの下に液体の供給を停止することを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１から４のいずれかに記載の液体回収装置を複数有することを特徴とする請求項５から７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１から４のいずれかに記載の前記液体回収装置は、各々前記流量検出部を備えることを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記比較器は、１つ以上の前記流量検出部の情報の内、いずれか１つ、または、複数、または、全ての情報を基に前記トレランスの判定を行うことを特徴とする請求項５から９のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
前記比較器による前記トレランスの判定は、前記液体の供給を開始後の所定時間の間において前記トレランスの判定を行わないことを特徴とする請求項５から１０のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１２】
請求項５から１１のいずれかに記載の露光装置を用いてウェハを露光する工程と、
該露光した前記ウェハを現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系の最終レンズと基板の間に供給される液体を介して基板を露光する液浸露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩあるいは超ＬＳＩ等の極微細パターンで構成される半導体デバイスの製造工程において、マスクに形成されたパターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して転写する縮小型投影露光装置が使用されている。
半導体デバイスにおける集積密度の向上に伴いパターンの更なる微細化が要求され、レジストプロセスの発展と同時に露光装置の微細化への対応がなされてきた。
露光装置の解像力を向上させる手段としては、露光波長を短くする方法と、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくする方法とが一般的である。
露光波長については、３６５ｎｍのｉ線から１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザ光に移行しつつあり、更に、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザの開発も行なわれている。
【０００３】
一方、これらとは全く別な解像力向上技術として液浸法を用いた投影露光方法が注目されている。
従来は、投影光学系の最終面（最終レンズの光出射面）と露光対象基板（例えばウェハ）面との間の空間は気体で満たされていたが、液浸法では、この空間を液体で満たして投影露光を実施する。
液浸法の利点は、例えば、投影光学系とウェハとの間の空間に提供される液体を純水（波長１９３ｎｍの光に対する屈折率ｎ１．４４）とする。
ウェハに結像する光線の最大入射角が液浸法と従来法で等しいと仮定した場合において、同一波長の光源を用いても、液浸法の解像力が従来法の１．４４倍に向上することである。
これは従来法の投影光学系のＮＡを１．４４倍にすることと等価であり、液浸法によれば、従来法では不可能なＮＡ＝１以上の解像力を得ることが可能である。
【０００４】
この投影光学系の最終面とウェハ面との間の空間を液体で満たす方法の一つに、投影光学系とウェハ面とで挟まれた空間だけに液体を流すローカルフィル法がある。
ローカルフィル法は投影光学系の最終レンズ面とウェハ面との間の開放された領域に液体を供給し、この液体がステージ外へこぼれ出ないように真空吸引により液体を回収する。このとき、液体と共に雰囲気中の気体も一緒に減圧吸引される。
液体と共に減圧吸引された気体は、気液分離機により液体と気体とに分離され、分離した液体を液体回収部に移送する。
気液分離機から液体回収部を繋ぐ配管の途中には流量計を配置して流量を測定し、液体に関する異常を検出する液浸露光装置が特開２００５−１５９３２２号公報（特許文献1）に開示されている。
【特許文献１】特開２００５−１５９３２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の従来の液浸露光装置では、減圧吸引により回収した液体と気体を気液分離機により液体と気体を分離し、分離した液体は液体回収部へと移送される。
液体の流量検出方法には容量式、カルマン渦式、電磁式、超音波式、コリオリ式などがあるが、いずれの場合も液体の流量を精度よく測定するには、液体のみを流量計へ導かなくてはならない。
液体回収部へは液体のみを移送する仕組みが必要で、例えば、気液分離機の底部に溜まった液体の液面を測定する手段を有する。
さらに、気液分離機から液体回収部へと液体を排水する排水口よりも高い位置で液面が常に一定の高さとなるように、液体の移送を制御する方法がある。
この方法では流量計に液体のみを移送することが可能となるが、回収する液体の流量に比べ気体の吸引量が多いため、気液分離機は大きな容量を必要とし、数リットルから数十リットルの容量を有する。
気液分離機の底部に貯まった液面の変化量は気液分離機の容量が大きいほど小さくなるため、液体の移送に遅れが生じる。
そのため、流量検出の遅れは、液体の回収流量が極端に減った場合でも異常の判断を遅らせ、回収しきれなかった液体が投影レンズ下から漏れ出す量が増大し、漏れ出した液体により装置の故障、漏電あるいは錆び等を生じる可能性がある。この場合、露光処理を良好に行うことができなくなる。
そこで、本発明は、気体と液体が混合して回収される液体の流量を、早くかつ精度よく測定し、液体の漏洩あるいは浸入による影響を低減し、良好な露光処理を可能とする液体回収装置および液浸露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明の液体回収装置は、気体と液体とが混合して回収される一つ以上の回収ラインと、前記回収ラインが接続され、内部が減圧される減圧タンクと、前記減圧タンクの内部に設けられ、前記回収ラインから排出される前記液体を受ける液体受容器と、前記液体受容器の底部に接続され、前記液体を前記減圧タンクの内部に排出する排水ラインと、前記排水ラインの途中に設けられ、前記液体の流量を測定する流量検出部と、を有し、前記排水ラインの前記流量検出部よりも下流の部分のうちの少なくとも一部を、前記流量検出部より上方に配置することを特徴とする。
【０００７】
さらに、本発明の露光装置は、投影光学系の最終レンズ（複数のレンズのうち、最も基板に近いレンズ）と前記基板の間に供給される液体を介して前記基板を露光する露光装置であって、前記液体を前記最終レンズの下に供給する供給ラインと、前記供給ラインの途中に設けられ、前記液体の流れを制御する弁と、前記弁の開閉を制御する制御部と、前記液体回収装置と、有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、気体と液体が混合して回収される液体の流量を、早くかつ精度よく測定し、液体の漏洩あるいは浸入による影響を低減し、良好な露光処理を可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
【００１０】
まず、図５を参照して、本発明の実施例の液浸露光装置を説明する。
本発明の実施例は、基板であるウェハ９に最も近接した投影光学系４の最終レンズとウェハ９の間に供給される液体ｆを介してウェハ９を露光する液浸露光装置である。
供給ラインである供給管１６は、液体ｆを最終レンズの下に供給する。弁２９は、供給ラインである供給管１６の途中に設けられ、液体ｆの流れを制御する。制御部である液浸制御装置１９は、弁２９の開閉を制御する。
さらに、図１から４に示される本発明の実施例１から４の液体回収装置２０，２１を有する。
本実施例１においては、排水ラインである配管２４は、液体受容器２３の底部に接続され、液体ｆを減圧タンク２２内に排出口２７から排出する。
流量検出部である流量センサ２６は、排水ラインである配管２４の途中に設けられ、液体ｆの流量を測定する。
さらに、本実施例１において、排水ラインである配管２４の、流量検出部である流量センサ２６よりも下流の部分のうちの少なくとも一部を、流量検出部である流量センサ２６より上方に配置する。
流量検出部である流量センサ２６は、減圧タンク２２の内部に備え、容量式流量センサである。
排水口２７は流量センサ２６よりも重力方向１００に高い位置とすることで、排水口２７よりも重力方向１００に低い位置の配管２４と流量センサ２６の中は、液体ｆで満たす。
回収管１７を介して移送された液体ｆが液体受容器２３の底部に溜まり水面が排水口２７よりも高くなると、液体の質量と重力の作用により液体ｆは排水口２７へ向かって移送される。
この液体ｆの動きを流量センサ２６により読み取ることで回収した液体の流量を精度良く、且つ、早く測定する。
このため、気体と液体が混合して回収される液体ｆの流量を、早くかつ精度よく測定し、液体ｆの漏洩あるいは浸入による影響を低減し、良好な露光処理を可能とする。
配管２４、２５、及び、流量センサ２６を液体が流れるときに発生する圧力損失分、液体受容器２３の底部の液面は上昇するため、回収管１７の末端は排水口２７よりもより高い位置とする。
排水口２７から排水された液体ｆは、減圧タンク２２の底部に蓄えられ、排水ライン８を介して排出される。
【００１１】
ＡｒＦエキシマレーザやＦ２レーザ等の露光光源（不図示）から射出された光が照明光学系２に供給される。
照明光学系２は、露光光源から供給された光を用いて、原版であるレチクル１の一部を、スリットを通過した断面形状を有するスリット光により照明する。
スリット光によってレチクル１を照明している間、レチクル１を保持している原版ステージであるレチクルステージ３と基板であるウェハ９を保持している基板ステージであるウェハステージ１０は、一方が他方に同期しながらスキャン移動する。
このような同期スキャンを通して、結果としてレチクル１上のパターン全体が投影光学系４を介してウェハ９上に連続的に結像し、ウェハ９の表面に塗布されたレジストを感光させる。
レチクルステージ３は定盤１４に支持され、ウェハステージ１０もまた定盤１５にて支持されている。
【００１２】
レチクルステージ３やウェハステージ１０の二次元的な位置は、参照ミラー１１とレーザ干渉計１２によってリアルタイムに計測される。
この計測値に基づいて、ステージ制御装置１３は、レチクル１（レチクルステージ３）やウェハ９（ウェハステージ１０）の位置決めや同期制御を行う。
ウェハステージ１０には、ウェハ９の上下方向（鉛直方向）の位置や回転方向、傾きを調整、変更或いは制御する駆動装置が内蔵される。
露光時は、この駆動装置により投影光学系４の焦点面にウェハ９上の露光領域が常に高精度に合致するようにウェハステージ１０が制御される。
ここで、ウェハ９上の面の位置（上下方向位置と傾き）は、不図示の光フォーカスセンサーによって計測され、ステージ制御装置１３に供給される。
露光装置本体は、不図示の環境チャンバの中に設置されており、露光装置本体を取り巻く環境が所定の温度に保たれる。
【００１３】
レチクルステージ３、ウェハステージ１０、レーザ干渉計１２を取り巻く空間や、投影レンズ４を取り巻く空間には、更に個別に温度制御された空調空気が吹き込まれて、環境温度が更に高精度に維持される。
この実施例では、投影光学系４の最終レンズとウェハ９との間の空間（間隙）を液体で満たす液浸法は、ウェハ９の上方かつ投影光学系４の近傍に配置された液体供給ノズル５と、液体供給ノズル５の外側に配置された液体回収ノズル６によって実現される。
さらに、不図示のウェハステージ１０内に配置する吸引口によって実現される。
本発明の実施例の露光装置は、例えば、露光光として紫外光を用い、投影光学系と基板であるウェハ間を液体で満たす液浸法が適用されるあらゆる露光方法及び露光装置に有用である。
そのような露光装置には、例えば、基板を静止させた状態で該基板に原版のパターンを投影転写する露光装置や、基板と原版とを同期スキャンしながら該基板に該原版のパターンをスリット光によりスキャン露光する露光装置が含まれる。
【００１４】
次に、図６を参照して、本実施例の液浸露光装置における液浸法および本発明の実施例の液体回収装置２０、２１について詳細に説明する。
液体供給ノズル５は、供給管１６を介して液体供給装置７と接続されており、同様に液体回収ノズル６は、回収ラインである回収管１７を介して本発明の実施例の液体回収装置２０と接続されている。
前記不図示の吸引口は、回収ラインである回収管１８を介して本発明の実施例の液体回収装置２１と接続されている。
液体回収装置２０，２１を複数設けてもよいし、液体回収装置２０へ複数の回収ラインである回収管１７を接続してもよい。
液体供給装置７は、例えば、液体を貯めるタンク、液体を送り出す圧送装置、液体の供給流量の制御を行う流量制御装置、液体の供給・停止を制御する制御弁を含む場合もある。
液体供給装置７には、更に、液体の供給温度を制御するための温度制御装置を含むことが好ましい。
【００１５】
本発明の実施例の液体回収装置２０、２１は、回収した液体を一時的に貯める減圧タンク２８、液体を吸い取る図示されない真空発生装置、回収した液体流量を測定する流量センサ２６を有する。
液浸制御装置１９は、ウェハステージ１０の現在位置、速度、加速度、目標位置、移動方向等の情報をステージ制御装置１３から受ける。
液浸制御装置１９は、これらの情報に基づいて、液浸の開始や中止、流量等の制御指令を液体供給装置７と液体回収装置２０、２１に与える。
また、液浸制御装置１９は、液体回収装置２０、２１の流量検出部である流量センサ２６からの情報である回収した液体ｆの流量の情報と、最終レンズの下に供給した液体ｆの流量である液体供給装置７の供給流量の情報とを比較する比較器１９ａを有する。
この比較器１９ａは、異常を判定するトレランスを有し、流量検出部である流量センサ２６からの情報がトレランスの範囲を外れた場合に、制御部である液浸制御装置１９は弁２９を制御して、最終レンズ下への液体ｆの供給を停止する。
本実施例の露光装置においては、液体回収装置２０，２１を複数有し、各々、流量検出部である流量センサ２６を備える。
さらに、比較器１９ａは、１つ以上の流量検出部である流量センサ２６の情報の内、いずれか１つ、または、複数、または、全ての情報を基にトレランスの判定を行う。
さらに、比較器１９ａによるトレランスの判定は、液体ｆの供給を開始後の所定時間の間においてトレランスの判定を行わない場合も有る。
【００１６】
液浸用の液体ｆは、露光光の吸収が少ないものから選ばれ、更に石英や蛍石などの屈折系光学素子とほぼ同程度の屈折率を有することが望まれる。
具体的には、液浸用の液体ｆとしては、純水、機能水、フッ化液（例えば、フルオロカーボン）などが候補として掲げられる。液浸用の液体ｆは、予め脱気装置を用いて溶存ガスが十分に取り除かれたものが好ましい。
これは、気泡の発生を抑制し、また、気泡が発生しても即座に液体中に吸収できるからである。
例えば、環境気体中に多く含まれる窒素、酸素を対象とし、液体に溶存可能なガス量の８０％以上を除去すれば、十分に気泡の発生を抑制することができる。
もちろん、不図示の脱気装置を露光装置に備えて、常に液体中の溶存ガスを取り除きながら液体供給装置７に液体ｆを供給してもよい。
脱気装置としては、例えば、ガス透過性の膜を隔てて一方に液体を流し、もう一方を真空にして液体中の溶存ガスをその膜を介して真空中に追い出す、真空脱気装置が好適である。
【００１７】
次に、図１から図４、図６を参照して、本発明の実施例１から４の液体回収装置２０、２１を有する露光装置について説明する。
液体回収装置２０、２１内に構成した流量センサ２６からの情報から、液体供給装置７内の制御弁２９を用いた装置保護機能について説明する。
液浸制御装置１９は、液体供給装置７に含まれる流量センサ３０からの情報を基に、制御弁２９を操作することで、供給管１６を介して液体供給ノズル５から投影光学系４とウェハステージ１０の間に供給する液体ｆの流量を制御する。
液体供給ノズル５の近傍には、液体を回収する液体回収ノズル６から回収管１７を介して液体回収装置２０へと液体ｆと共に雰囲気中の気体ｇと気液混合状態で移送される。
液体回収装置２０内部で液体と気体を分離後流量センサ２６にて液体の流量を測定する。
同様に、ウェハステージ１０側にも一部の液体を回収する液体回収口３１から回収管１８を介して液体回収装置２１へと液体ｆと気体ｇが移送され、流量センサ２６にて液体の流量を測定する。
流量センサ２６の情報は、液浸制御装置１９にて供給流量と比較され、供給流量に対し、回収流量が著しく少ない場合には制御弁２９にて液体の供給を停止する。
液体の供給を止める手段に制御弁２９を用いたが、不図示のＯＮ／ＯＦＦ弁や、三法弁を用いて、液体供給ノズル５への液体の供給を遮断してもよい。
また、液体回収装置２０、２１も、１つ、または２つ以上あってもよい。
また、制御弁２９による液体の供給停止以外にも、ウェハステージ１０からこぼれ出る液体の量を最小限にするため、ウェハステージ１０をその場で停止させことも効果的である。
また、投影光学系４の下部にウェハステージ１０の中心が来るようにウェハステージを移動させ、あるいは、残った液体ｆの回収が容易となる液体回収口３１付近までウェハステージを移動させることも効果的である。
その後、漏電を避けるためウェハステージ１０への全て、または一部の給電を停止することも効果的である。
【００１８】
次に、図７と図８を参照して、本実施例の液浸露光装置における液体回収装置による流量の検出について説明する。
図７は、図６に示されるよう液体ｆの供給と回収装置を利用し、投影光学系４とウェハステージ１０との間に液体ｆを流し始めた時の、２つの流量センサ２６の情報の合計（流量）を、時系列に示したものである。
図６の露光装置において、液体回収装置２０、２１には、図１から図４に示される真空ライン２８があり、真空ライン２８の真空吸引はＯＮ／ＯＦＦすることができる。
真空ライン２８をＯＮし、液体回収ノズルや液体回収口から液体ｆと気体ｇの回収を液体供給命令（ステップ１０１）により開始する。（ステップ１０２）
図７の回収開始時点では、流量センサ２６からの情報はゼロである。その後、回収管１７、１８に残っていた液体ｆと気体ｇが液体受容器２３に移動する。
この時点では、液体供給装置７からは液体ｆは供給を停止している。
そのため、回収管１７、１８の配管中に残っている液体ｆの総量は時間とともに減り、移送における配管圧損の低下から、液体受容器２３へ流し込まれる液体ｆの移動速度が速くなるため、流量は一時的に増加する。
その後、回収管１７、１８内部の液体が減少するにつれて流量センサ２６で検出される流量は減少する。次に、液体供給装置７より液体ｆを供給管１６を介して供給を始める。（ステップ１０３）
投影光学系４とウェハステージ１０との間に供給された液体ｆは液体回収ノズル６、液体回収口３１から液体回収装置２０、２１へ移送される。
この間、液体ｆの移送には遅れが生じるため、流量センサ２６の値が再び上昇し始めるには、液体供給装置７が液体ｆの供給を開始してから所定の時間がかかる。（ステップ１０４）
その間に、回収した液体ｆの流量をトレランス判定してしまうと、異常と誤検知してしまうため、トレランス判定を開始するまでには所定の待ち時間を利用する。
なお、最初に行った回収管１７、１８の液抜き作業を実施しなくても良い。その場合には、トレランス判定を開始するまでの時間を短くすることが可能である。（ステップ１０６）
その後、液体ｆの供給を停止する。（ステップ１０７）
【実施例１】
【００１９】
次に、図１を参照して、本発明の実施例１の液体回収装置２０，２１を説明する。
本実施例１は、気体ｇと液体ｆが混合して回収されるラインにおいて、液体のみの流量を測定する液体回収装置である。
液体回収装置２０、２１は、気体ｇと液体ｆとが混合して回収される一つ以上の回収ラインである回収管１７，１８を有する。減圧タンク２２は、回収管１７，１８が接続され、内部が減圧される容器である。液体受容器２３は、減圧タンク２２の内部に設けられ、回収ラインから排出される液体ｆを受ける。
排水ラインである配管２４は、液体受容器２３の底部に接続され、液体ｆを減圧タンク２２内に排出口２７から排出する。
流量検出部である流量センサ２６は、排水ラインである配管２４の途中に設けられ、液体ｆの流量を測定する。
さらに、本実施例１において、排水ラインである配管２４の、流量検出部である流量センサ２６よりも下流の部分のうちの少なくとも一部を、流量検出部である流量センサ２６より上方に配置する。
流量検出部である流量センサ２６は、減圧タンク２２の内部に備え、容量式流量センサである。
【００２０】
気体ｇと液体ｆが混合して回収される回収管１７は、減圧タンク２２内部に導入される。
減圧タンク２２内の気体ｇを減圧吸引する真空ライン２８により、気体ｇは排気される。
移送された液体ｆと気体ｇは、回収管１７の末端を覆うように配置された液体受容器２３により、液体ｆは液体受容器２３の底部に集められ、気体ｇは減圧タンク２２内に開放され、真空ライン２８により排気される。
液体受容器２３の底部に集められた液体ｆは、液体受容器２３の底部に接続された配管２４を介して流量センサ２６を通過し、配管２５を経て排水口２７から減圧タンク２２内に押し出される。
排水口２７は流量センサ２６よりも重力方向１００に高い位置とすることで、排水口２７よりも重力方向１００に低い位置の配管と流量センサの中は、液体ｆで満たす。
回収管１７を介して移送された液体ｆが液体受容器２３の底部に溜まり水面が排水口２７よりも高くなると、液体の質量と重力の作用により液体ｆは排水口２７へ向かって移送される。
この液体ｆの動きを流量センサ２６により読み取ることで回収した液体の流量を精度良く、且つ、早く測定する。
このため、気体と液体が混合して回収される液体ｆの流量を、早くかつ精度よく測定し、液体ｆの漏洩あるいは浸入による影響を低減し、良好な露光処理を可能とする。
配管２４、２５、及び、流量センサ２６を液体が流れるときに発生する圧力損失分、液体受容器２３の底部の液面は上昇するため、回収管１７の末端は排水口２７よりもより高い位置とする。
排水口２７から排水された液体ｆは、減圧タンク２２の底部に蓄えられ、排水ライン８を介して排出される。
【実施例２】
【００２１】
次に、図２を参照して、本発明の実施例２の液体回収装置２０，２１を説明する。
図１の実施例との差は流量センサ２６から排水口２７までの配管２５の配置が異なっている。
配管２５の一部が、流量センサ２６よりも重力方向１００に対し高い位置に配置されることにより、排水口２７の位置は流量センサ２６よりも低い位置に配置してもかまわない。
但し、配管２５の最も高い位置は、回収管１７の末端よりも低い位置でなくてはならない。
【実施例３】
【００２２】
次に、図３を参照して、本発明の実施例３の液体回収装置２０，２１を説明する。
流量検出部である流量センサ２６は、減圧タンク２２の外に備える。液体受容器２３の底部に接続した配管２４を減圧タンク２２の外に引き出し、流量計２６を介した後に、再び配管２５により減圧タンク２２内に導いた後、減圧タンク２２内部に排水口２７を設ける。
流量センサを減圧タンク２２の外部に配置することで、流量センサは防水の必要性がなく、負圧に対応した汎用性の高い流量センサが利用可能となる。
【実施例４】
【００２３】
次に、図４を参照して、本発明の実施例４の液体回収装置２０，２１を説明する。
本実施例４は、２本の回収管１７、１７ａあるいは１８，１８ａを液体受容器２３で受ける場合で、回収管の本数は２本以上でもよい。
ここで、図３の実施例のように、流量センサ２６を減圧タンク２２の外部に配置してもよく、図２の実施例のように配管を変更してもよい。
【００２４】
次に、図９及び図１０を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図９は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
露光装置を用いてウェハを露光する工程と、前記ウェハを現像する工程とを備え、具体的には、以下の工程から成る。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。
ステップ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップ５（組立）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップ６（検査）では、ステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップ７）される。
【００２５】
図１０は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップ１１（酸化）では、ウェハの表面を酸化させる。
ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップ１３（電極形成）では、ウェハに電極を形成する。
ステップ１４（イオン打込み）では、ウェハにイオンを打ち込む。
ステップ１５（レジスト処理）では、ウェハに感光剤を塗布する。
ステップ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。
ステップ１７（現像）では、露光したウェハを現像する。
ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例１の液体回収装置の構成図である。
【図２】本発明の実施例２の液体回収装置の構成図である。
【図３】本発明の実施例３の液体回収装置の構成図である。
【図４】本発明の実施例４の液体回収装置の構成図である。
【図５】本発明の実施例の露光装置の概略構成図である。
【図６】本発明の実施例の露光装置の液体の供給・停止機構と制御部の模式図である。
【図７】本発明の実施例による流量測定結果を時間軸で示した図である。
【図８】本発明の実施例のフロー図である。
【図９】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
【図１０】図９に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【００２７】
１：レチクル
２：照明光学系
３：レチクルステージ
４：投影光学系
５：液体供給ノズル
６：液体回収ノズル
７：液体供給装置
８：排水ライン
９：ウェハ
１０：ウェハステージ
１１：参照ミラー
１２：測距用レーザ干渉計
１３：ステージ制御装置、
１４，１５：定盤
１６：供給管
１７、１７ａ：回収管
１８：回収管
１９：液浸制御装置
２０，２１：液体回収装置
２２：減圧タンク
２３：液体受容器
２４：配管１
２５：配管２
２６：流量センサ
２７：排水口
２８：真空ライン
２９：制御弁
３０：流量センサ
３１：液体回収口
ｆ：液浸用液体
ｇ：気体
１００：重力方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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