(57)【要約】【課題】本発明により、高強度かつ高比抵抗の複合軟磁性材を提供できる。【解決手段】本発明は、軟磁性粒子を絶縁皮膜で被覆してなる絶縁被覆軟磁性粒子と、粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの粒子を混合して圧密し、焼成処理することにより、前記低融点ガラスを焼成してなる境界層を介して前記複数の絶縁被覆軟磁性粒子を結合してなる高強度高比抵抗複合軟磁性材を製造することを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟磁性粒子を絶縁皮膜で被覆してなる絶縁被覆軟磁性粒子と、粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの原料粉末粒子を混合して圧密し、焼成処理することにより、前記原料粉末粒子を焼成してなる低融点ガラスの境界層を介して前記複数の絶縁被覆軟磁性粒子を結合してなる高強度高比抵抗複合軟磁性材を製造することを特徴とする高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法。
【請求項２】
前記低融点ガラスの原料粉末粒子を焼成処理時に完全にまたは部分的に溶融した後、凝固させて前記境界層を形成することを特徴とする請求項１に記載の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法。
【請求項３】
前記絶縁被覆軟磁性粒子の絶縁皮膜が、（Ｍｇ、Ｆｅ）Ｏを主体としてなるＭｇ含有酸化物皮膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法。
【請求項４】
前記低融点ガラスが、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ系、Ｎａ２Ｏ−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｌｉ２Ｏ系ガラスのうち、少なくとも１種類以上であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法。
【請求項５】
前記絶縁被覆軟磁性粒子の絶縁皮膜が、厚さ５〜２００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの１項に記載の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法。
【請求項６】
プラズマを発生させた減圧雰囲気中に、前記低融点ガラスの液体原料を反応ガスとともに供給することで瞬間的に蒸発気化され、低融点ガラス組成物の微細な液滴を生成し、この液滴を冷却ガスで急速に冷却することにより、粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの原料粉末粒子を生成し、この低融点ガラスの粒子を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法により得られた高強度高比抵抗複合軟磁性材からなることを特徴とする電磁気回路部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モータ、アクチュエータ、リアクトル、トランス、チョークコア、磁気センサコアなどの各種電磁気回路部品の素材として使用される高強度高比抵抗複合軟磁性材とその製造方法及び電磁気回路部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、モータ、アクチュエータ、磁気センサなどの磁心用材料として、鉄粉末、Ｆｅ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｎｉ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｃｒ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｓｉ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｃｏ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｐ系鉄基軟磁性合金粉末（以下、これらを軟磁性粒子と総称する）を焼結して得られた軟磁性焼結材が知られている。
一方、鉄粉末や合金粉末をガス又はアトマイズ法で粉末化して作製した場合、鉄粉末や合金粉末は単体では比抵抗が低いため、鉄粉末や合金粉末の表面に絶縁皮膜の被覆を行うか、有機化合物を混合するなどして焼結を防止し比抵抗を上げるなどの対策を講じている。
この種の軟磁性材において、渦電流損失を抑制するために、鉄を含む金属磁性粒子の表面を非鉄金属の下層被膜と無機化合物を含む絶縁膜とで覆った圧粉軟磁性材料などが提案されている。
【０００３】
この種の軟磁性材の強度を向上させる１つの手段として、ＭｇおよびＯが表面から内部に向かって減少しておりかつＦｅが内部に向かって増加している濃度勾配を有するＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜を鉄粉末の表面に被覆したＭｇ含有酸化膜被覆鉄粉末を用い、鉄粉末との界面領域に鉄粉末の中心部に含まれる硫黄よりも高濃度の硫黄を含む硫黄濃化層を有するＭｇ含有酸化鉄膜被覆鉄粉末を低融点ガラス相で結合してなる高強度複合軟磁性材が知られている。（特許文献１参照）
また、この種の軟磁性材の強度を向上させる他の手段として、少なくとも（Ｍｇ，Ｆｅ）Ｏを含むＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜と鉄粉末との界面領域に鉄粉末の中心部に含まれる硫黄よりも高濃度の硫黄を含む硫黄濃化層を有するＭｇ含有酸化鉄膜被覆鉄粉末を低融点ガラス相で結合してなる高強度複合軟磁性材であって、前記少なくとも（Ｍｇ，Ｆｅ）Ｏを含むＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜は、結晶粒径：２００ｎｍ以下の微細結晶組織を有し、前記少なくとも（Ｍｇ，Ｆｅ）Ｏを含むＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜は、その最表面を実質的にＭｇＯで構成している高強度複合軟磁性材が知られている。（特許文献２参照）
【０００４】
次に、この種の軟磁性材の強度を向上させる更に他の手段として、鉄粉末、リン酸塩被覆鉄粉末または酸化物膜被覆鉄粉末の表面に低融点ガラスを構成する元素の錯体またはアルコキシドを有機溶媒に溶かした溶液を塗布することにより溶液膜形成鉄粉末、溶液膜形成リン酸塩被覆鉄粉末または溶液膜形成酸化物膜被覆鉄粉末を作製し、この溶液膜形成鉄粉末、溶液膜形成リン酸塩被覆鉄粉末または溶液膜形成酸化物膜被覆鉄粉末における溶液膜の有機成分を加熱分解することにより低融点ガラスを被覆した鉄粉末、リン酸塩被覆鉄粉末または酸化物膜被覆鉄粉末を作製したのちこれら粉末を圧縮成形したのち熱処理するか、または前記溶液膜形成鉄粉末、溶液膜形成リン酸塩被覆鉄粉末または溶液膜形成酸化物膜被覆鉄粉末を圧縮成形したのち熱処理して複合軟磁性材を製造する技術が知られている。（特許文献３参照）
【特許文献１】特開２００６−３３２５２５号公報
【特許文献２】特開２００６−３３２５２４号公報
【特許文献３】特開２００６−２７８８３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記各特許文献に記載の技術を用いて複合軟磁性材料の特性改善を行う場合、絶縁被覆した鉄粉に低融点ガラスなどの原料粉末を混合し、圧密後に焼成することで製造しているが、絶縁皮膜被覆鉄粉と低融点ガラスの原料粉末との均一混合を行ったとしても、焼成後に得られた軟磁性複合材において数１０〜数１００μｍ程度の微細粒径をもつ鉄粉末の周囲の隅々に均一な厚さの低融点ガラス層をバインダー層として形成することが困難なことから、得られた複合軟磁性材の特性において、特に強度の面で不均一性を解消することができない問題があった。
【０００６】
例えば、前述の鉄粉末と低融点ガラスの原料粉末を均一混合して焼成する方法により軟磁性材を得ようとすると、微細化された鉄粉末の周囲に前述の技術に基づき形成しているＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜は、厚さ１００ｎｍ程度であるが、この軟磁性材にバインダーとして低融点ガラスの原料粉末を混合する場合、一般的な方法により低融点ガラスの原料粉末を極微細に粉砕しても、粉砕法により微細化する限り、その粒径を１μｍ程度、あるいはそれよりも若干細粒とする程度が限界であるので、この程度の粒径の原料粉末を前述のＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜を備えた鉄粉末と混合して圧密し、焼成しても低融点ガラスの原料成分が全ての鉄粉末の周囲に均一に回り込むことができず、バインダー層としての低融点ガラスの境界層が不均一になり易いという問題を有している。また、前述の粒径の低融点ガラス原料粉末では、加圧成形時にＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜が低融点ガラス原料粉末によって損傷される場合があり、本来鉄粉末の周囲を完全に取り囲んでいるべきＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜が部分的に損傷し、本来有する優れた絶縁性を確保できていない結果として、抵抗値を高めることができず、渦電流損失の面で不利となり易い問題があった。
【０００７】
次に、本発明者らは、前述の鉄粉末の表面にＭｇ−Ｆｅ−Ｏの三元系酸化物堆積膜を形成した酸化膜被覆鉄粉末の圧密体を更に高強度とするため、圧密体に水分含有雰囲気中において加熱処理（スチーム処理）することを研究している。
本発明者らの研究によりこの水分含有雰囲気において加熱処理を行うと、確実に強度を向上できることは判明したが、このスチーム処理を行うと、鉄粉末中のＦｅとスチーム中のＨ２Ｏが反応してＦｅ３Ｏ４が必要以上に増加し、比抵抗が低下するおそれがあった。
【０００８】
本発明は前記の問題に鑑みて創案されたものであり、その目的は、軟磁性粒子の周囲に形成する絶縁皮膜に損傷を与えることなく圧密し、焼成することが可能であり、高抵抗化することが可能であり、また、バインダーとして用いる低融点ガラスを軟磁性粒子の周囲の隅々まで浸透させて焼成し生成することが可能であるので、高強度化することができ、しかも高比抵抗かつ低損失な特性を確保できる高強度高比抵抗複合軟磁性材の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）上記目的を達成するために本発明の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法は、軟磁性粒子を絶縁皮膜で被覆してなる絶縁被覆軟磁性粒子と、粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの原料粉末粒子を混合して圧密し、焼成処理することにより、前記原料粉末粒子を焼成してなる低融点ガラスの境界層を介して前記複数の絶縁被覆軟磁性粒子を結合してなる高強度高比抵抗複合軟磁性材を製造することを特徴とする。
本発明では絶縁被覆軟磁性粒子に対して粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの原料粉末粒子を複数混合して圧密し、焼成するので、隅々の軟磁性粒子の周囲まで低融点ガラスの原料が行き渡る結果として、隅々の軟磁性粒子の周囲まで低融点ガラスの境界層が形成される。このため、強度的に弱い部分が生じ難くなるので、高強度高比抵抗の軟磁性材を得ることができる。前記低融点ガラスの原料粉末の粒径は、より好ましくは２ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００１０】
（２）上記目的を達成するために本発明は、前記低融点ガラスの原料粉末粒子を焼成処理時に完全にまたは部分的に溶融した後、凝固させて前記境界層を形成することを特徴とする（１）に記載の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法に関する。
粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの原料粉末粒子を混合して圧密し、焼成するので、隅々の軟磁性粒子の周囲まで低融点ガラスが均一に浸透し、焼成体の隅々まで可能な限り均一な厚さの低融点ガラスの境界層を生成することができ、換言すると、均一な厚さの境界層で軟磁性粒子を結合した焼成材が得られる。前記低融点ガラスの原料粉末の粒径は、より好ましくは２ｎｍ〜１００ｎｍである。
（３）上記目的を達成するために本発明の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法は、前記絶縁被覆軟磁性粒子の絶縁皮膜が、（Ｍｇ、Ｆｅ）Ｏを主体としてなるＭｇ含有酸化物皮膜であることを特徴とする。
絶縁皮膜として、（Ｍｇ、Ｆｅ）Ｏを主体としてなるＭｇ含有酸化物皮膜が膜の強度や絶縁性、耐熱性の面で優れる。
（４）上記目的を達成するために本発明の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法は、前記低融点ガラスが、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ系、Ｎａ２Ｏ−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｌｉ２Ｏ系ガラスのうち、少なくとも１種類以上であることを特徴とする。
これらの系列のガラスであるならば、（Ｍｇ、Ｆｅ）Ｏを主体としてなるＭｇ含有酸化物皮膜を有する鉄粉末との馴染みも良好であり、絶縁性の被膜を設けることが有利となりやすい。
【００１１】
（５）上記目的を達成するために本発明の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法は、前記絶縁被覆軟磁性粒子の絶縁皮膜が、厚さ５〜２００ｎｍの範囲であることを特徴とする。
この範囲の絶縁皮膜厚さであるならば、粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの粒子を混合して圧密し、焼成した場合に、絶縁皮膜が損傷するおそれが少なく、しかも適度な厚さによって優れた絶縁性も確保できる。
【００１２】
（６）上記目的を達成するために本発明の高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法は、プラズマを発生させた減圧雰囲気中に、前記低融点ガラスの液体原料を反応ガスとともに供給することで低融点ガラス組成物の微細な液滴を生成し、冷却ガスで瞬間冷却することにより、粒径２ｎｍ〜２００ｎｍの低融点ガラスの原料粒子を生成し、この低融点ガラスの原料粒子を用いることを特徴とする。
プラズマにより高温となった反応場に，液体原料を反応ガスとともに噴霧する。反応場に放出された液体原料は瞬間的に蒸発気化し、低融点ガラス組成物の微細な液滴となり、さらに冷却ガスにより急速冷却されることで小さなナノ粒子となる。製造プロセスに液体原料を適用することで，多成分粒子を合成した場合でも組成がコントロールされた粒子が合成可能となる。粒子の大きさは反応場の温度、冷却ガス温度、冷却ガス量により制御できる。つまり反応場が高温時にはナノサイズであっても粒子径が大きくなり，反応場が低温時にはナノサイズであっても粒子径がより小さくなる。
（７）上記目的を達成するために本発明の電磁気回路部品は、（１）〜（６）のいずれかに記載の製造方法により得られた高強度高比抵抗複合軟磁性材からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の高強度高比抵抗複合軟磁性材によれば、絶縁被覆軟磁性粒子が個々の絶縁皮膜で被覆された上に、低融点ガラスの粒界層を介し結合されているので、粒界層部分での結合力に優れ、高強度な複合軟磁性材が得られる。
また、粒界層が均一であり、かつ、軟磁性粒子が個々に確実に絶縁被覆されているので、粒界層が高比抵抗の状態とされる結果、軟磁性焼成材として高抵抗化ができており、渦電流損失も抑制することができる。
【００１４】
また、絶縁被覆が（Ｍｇ、Ｆｅ）Ｏを主体としてなるＭｇ含有酸化物皮膜であるならば、Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子が個々に高比抵抗の粒界層で分離されているので、Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子が本来有する優れた軟磁気特性を維持しながら、高比抵抗で渦電流損失の抑制された低損失の高強度高比抵抗複合軟磁性材を提供できる。
本発明の製造方法により得られた高強度高比抵抗複合軟磁性材は、高密度、高強度、高比抵抗および高磁束密度を有するので、本発明の軟磁性複合圧密焼成材は、高強度と高磁束密度、かつ、高周波低鉄損の特徴を兼ね備えた優れたものであり、これらの特徴を生かした各種電磁気回路部品の材料として使用できる。
【００１５】
前記高強度高比抵抗低損失複合軟磁性材を用いて構成される電磁気回路部品として、例えば、磁心、電動機コア、発電機コア、ソレノイドコア、イグニッションコア、リアクトルコア、トランスコア、チョークコイルコアまたは磁気センサコアなどとしての利用が可能であり、いずれにおいても優れた特性を発揮し得る電磁気回路部品を提供できる。
そして、これら電磁気回路部品を組み込んだ電気機器には、電動機、発電機、ソレノイド、インジェクタ、電磁駆動弁、インバータ、コンバータ、変圧器、継電器、磁気センサシステム等があり、これら電気機器の高効率高性能化や小型軽量化に寄与するという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に本発明をＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の製造方法に適用した場合を例にして以下に詳細に説明するが、軟磁性粒子の外面に被覆する絶縁皮膜をＭｇの酸化物皮膜に限定するものではなく、リン酸塩皮膜、またはシリカのゾルゲル溶液（シリケート）もしくはアルミナのゾルゲル溶液などの湿式溶液を添加・混合後に乾燥して焼成した酸化ケイ素もしくは酸化アルミニウム皮膜等であってもよい。
「Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の製造」
本発明ではまず、（Ｍｇ,Ｆｅ）Ｏを含むＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜が軟磁性粒子の表面に被覆形成されたＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子（粉末）を作製する。
この被覆軟磁性粒子を得るためには、以下のいずれかの原料粉末を用い、後述に記載の方法で実施すれば良い。
この発明のＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の製造方法において使用する原料粉末としてのＦｅ系軟磁性粒子は、従来から一般に知られている鉄粉末、Ｆｅ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｎｉ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｃｒ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｓｉ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｃｏ系鉄基軟磁性合金粉末、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ系鉄基軟磁性合金粉末またはＦｅ−Ｐ系鉄基軟磁性合金粉末であることが好ましい。
更に具体的には、鉄粉末は純鉄粉末であり、Ｆｅ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末はＡｌ：０．１〜２０質量％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末（例えば、Ｆｅ−１５質量％Ａｌからなる組成を有するアルパーム粉末）であることが好ましい。
【００１７】
また、Ｆｅ−Ｎｉ系鉄基軟磁性合金粉末はＮｉ：３５〜８５質量％を含有し、必要に応じてＭｏ：５質量％以下、Ｃｕ：５質量％以下、Ｃｒ：２質量％以下、Ｍｎ：０．５質量％以下の内の１種または２種以上を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるニッケル基軟磁性合金粉末（例えば、Ｆｅ−４９質量％Ｎｉ粉末）であり、Ｆｅ−Ｃｒ系鉄基軟磁性合金粉末はＣｒ：１〜２０質量％を含有し、必要に応じてＡｌ：５質量％以下、Ｎｉ：５質量％以下の内の１種または２種を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ｃｒ系鉄基軟磁性合金粉末であり、Ｆｅ−Ｓｉ系鉄基軟磁性合金粉末は、Ｓｉ：０．１〜１０質量％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ｓｉ系鉄基軟磁性合金粉末であることが好ましい。
また、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末は、Ｓｉ：０．１〜１０質量％、Ａｌ：０．１〜２０質量％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ系鉄基軟磁性合金粉末であり、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ系鉄基軟磁性合金粉末は、Ｃｏ：０．１〜５２質量％、Ｖ：０．１〜３質量％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ｃｏ−Ｖ系鉄基軟磁性合金粉末であり、Ｆｅ−Ｃｏ系鉄基軟磁性合金粉末は、Ｃｏ：０．１〜５２質量％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ｃｏ系鉄基軟磁性合金粉末であり、Ｆｅ−Ｐ系鉄基軟磁性合金粉末は、Ｐ：０．５〜１質量％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなるＦｅ−Ｐ系鉄基軟磁性合金粉末であることが好ましい。
【００１８】
そして、これらＦｅ系の軟磁性粒子は平均粒径：５〜５００μｍの範囲内にある軟磁性金属粉末（粒子）を使用することが好ましい。その理由は、平均粒径が５μｍより小さすぎると、粉末の圧縮性が低下し、軟磁性粒子の体積割合が低くなるために磁束密度の値が低下するので好ましくなく、一方、平均粒径が５００μｍより大きすぎると、軟磁性粒子内部の渦電流が増大して高周波における透磁率が低下することによるものである。
【００１９】
これら各種のＦｅ系軟磁性粒子のいずれかを原料粉末とし、酸化雰囲気中で室温〜５００℃に保持する酸化処理を施した後、この原料粉末にＭｇ粉末を添加し混合して得られた混合粉末を温度：１５０〜１１００℃、圧力：１×１０−１２〜１×１０−１ＭＰａの不活性ガス雰囲気または真空雰囲気中で加熱し、さらに必要に応じて酸化雰囲気中、温度：５０〜４００℃で加熱すると、軟磁性粒子表面にＭｇを含む酸化絶縁皮膜を有するＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粉末（粒子）が得られる。
前記Ｍｇ粉末の添加量は０．１〜０．３質量％の範囲内にあることが好ましく、前記加熱温度は６５０℃、前記真空雰囲気は圧力：１×１０−７〜１×１０−４ＭＰａの真空雰囲気であることが好ましい。
このＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子は、従来のＭｇフェライト膜を形成したＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子に比べて密着性が格段に優れたものとなり、このＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子をプレス成形して圧粉体を作製しても絶縁皮膜が破壊し剥離することが少なく、また、このＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の圧粉体を温度：４００〜１３００℃で焼成して得られた軟磁性複合圧密焼成材は粒界にＭｇ含有酸化膜が均一に分散し、粒界三重点にＭｇ含有酸化膜が集中していない組織が得られる。
【００２０】
前述の製造方法の場合、酸化処理した軟磁性粒子を原料粉末とし、この原料粉末にＭｇ粉末を添加し混合して得られた混合粉末を温度：１５０〜１１００℃、圧力：１×１０−１２〜１×１０−１ＭＰａの不活性ガス雰囲気または真空雰囲気中で加熱するには、前記混合粉末を転動させながら加熱することが好ましい。
【００２１】
「堆積膜」という用語は、通常、真空蒸着やスパッタされた皮膜構成原子が例えば基板上に堆積された皮膜を示すが、本発明において用いる堆積膜とは、酸化鉄膜を有するＦｅ系軟磁性粒子の酸化鉄（Ｆｅ−Ｏ）とＭｇが反応を伴って当該Ｆｅ系軟磁性粒子表面に堆積した皮膜を示す。このＦｅ系軟磁性粒子の表面に形成されているＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜の膜厚は、圧粉成形後に軟磁性複合圧密焼成材の高磁束密度と高比抵抗を得るために、５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。ここでの膜厚が５ｎｍより薄いと、圧粉成形した軟磁性複合圧密焼成材の比抵抗が充分ではなく、渦電流損失が増加するので好ましくなく、膜厚が２００ｎｍを越える厚さでは、圧粉成形した軟磁性複合圧密焼成材の磁束密度が低下する傾向となる。このような範囲において好ましい膜厚は、５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内である。
【００２２】
「高強度高比抵抗複合軟磁性材の製造方法」
以上説明した方法により前述の如く作製したＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子を使用して高強度高比抵抗低損失複合軟磁性材を製造するには、まず、前述の方法で作製したＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子に対し、バインダー材としての低融点ガラスの原料粉末（粒子）を添加する。前記低融点ガラスの原料混合粉末（粒子）として、ナノオーダー、特に２〜１００ｎｍ程度の原料粉末でなければならない。なお、この範囲の原料粉末をハンドリングすることは容易ではないので、先のＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子に添加する場合、原料粉末をエタノールなどの有機溶媒に超音波分散により均一分散し、この有機溶媒中に先のＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子を浸漬して取り出し、有機溶媒を加熱し乾燥して除去し、成形する方法を採用することが好ましい。ただし、乾式によって原料粉末と先のＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子を混合し成形する方法も可能である。
【００２３】
ここで用いる低融点ガラスとして、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ系、Ｎａ２Ｏ−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｌｉ２Ｏ系ガラスのうち、少なくとも１種類以上を使用することが好ましい。
また、必要に応じ、これらの低融点ガラスにＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、ＳｎＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、Ａｌ２Ｏ３の１種類または２種類以上を添加した組成を有する低融点ガラスを使用しても良い。
例えば、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系にＡｌ２Ｏ３とＬｉ２Ｏを添加した組成系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ系にＳｎＯとＢａＯとＣａＯとＡｌ２Ｏ３を添加した組成系などを例示することができる。
【００２４】
更に具体的な組成例として、（Ａ１）ＳｉＯ２：１３質量％、ＺｎＯ：３５質量％、Ｂ２Ｏ３：４０質量％、Ａｌ２Ｏ３：５質量％、Ｌｉ２Ｏ：７質量％の組成例、（Ａ２）ＳｉＯ２：１０〜１５質量％、Ｎａ２Ｏ：５〜１０質量％、ＺｎＯ：３０〜４０質量％、Ｂ２Ｏ３：４０〜５０質量％の組成例、（Ａ３）ＳｉＯ２＋Ｎａ２Ｏ：４０質量％以下、ＺｎＯ：２０〜３０質量％、ＢａＯ：１〜１０質量％、Ｂ２Ｏ３：２０〜３０質量％の組成例、（Ａ４）ＳｉＯ２：５〜２５質量％、ＳｎＯ：１〜１０質量％、ＺｎＯ：３０〜５０質量％、ＢａＯ：１〜１０質量％、ＣａＯ：１〜１０質量％、Ｂａ２Ｏ３：２３質量％、Ａｌ２Ｏ３：１〜１０質量％の組成例などを例示することができる。
次に、先の成形体を望ましくは窒素雰囲気中などの非酸化性雰囲気において３００℃〜１０００℃、例えば６５０℃で数１０分、例えば３０分程度焼成して高強度高比抵抗複合軟磁性材を形成する。
【００２５】
図１はＭｇ含有酸化物被覆軟磁性材を製造する場合において、原料を準備するための最初の工程から、最終処理するまでの工程順の一例を記載したもので、図１の工程Ｓ１において用意した原料としての軟磁性合金粉末の原料（例えば純鉄粉末）を工程Ｓ２において前酸化して表面酸化し、工程Ｓ３においてＭｇを蒸着し、工程Ｓ４において別途用意した低融点ガラス原料粉末（粒子）１と混合した後、工程Ｓ５において乾燥し、工程Ｓ６において成形し、工程Ｓ７において焼成処理することにより、先に説明した如く本発明に係る高強度高比抵抗複合軟磁性材を得ることができる。
なお、前述の混合を行う工程Ｓ４においては、１つの例として、低融点ガラス原料混合粉末１をエタノールなどの有機溶媒中において超音波振動を付加してエタノール中に均一分散し、この有機溶媒中に前述のＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜を形成した絶縁被覆軟磁性粒子を投入し、この後の工程Ｓ５において乾燥する方法でも良いし、前述のＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜を形成した絶縁被覆軟磁性粒子と低融点ガラス原料混合粉末１を直接混合しても良い。なお、このような乾式で直接混合する方法を採用する場合、工程Ｓ５の加熱し乾燥する工程は必要がない。
以上説明した工程Ｓ１〜Ｓ７において選択するべき各種の条件は前述した条件、あるいは後述する条件が好ましい。
【００２６】
図２は工程Ｓ５において乾燥した後のＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子とその周囲に存在する低融点ガラス原料混合粉末の状態を部分的に拡大して模式的に示したものである。純鉄粉末（軟磁性粒子）５の周囲にＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜（絶縁皮膜）６が被覆されるとともに、それら純鉄粉末５、５の間に低融点ガラスの原料混合粉末７が分散され付着された構造を呈している。低融点ガラス原料混合粉末７は例えば３種類の原料を添加混合した粉末である場合、平均粒径の比較的大きな第１の原料粉末７ａとそれよりも若干小さな平均粒径の第２の原料粉末とそれよりも更に平均粒径の小さな第３の原料粉末７ｃの混合粉末として模式的に示した。なお、図２では第１〜第３の低融点ガラス原料粉末７ａ、７ｂ、７ｃの間に間隙をあけた状態として記載しているが、実際の乾燥後の低融点ガラス原料混合粉末はこれらの核原料粉末がＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜６の外面にランダムに付着分散された状態を呈するが、図２では略記している。また、低融点ガラス原料混合粉末７は図２に示す状態とは異なり、第１〜第３低融点ガラス原料粉末７ａ、７ｂ、７ｃがいずれも同一平均粒径の粉末を混合した混合粉末であっても良い。
【００２７】
以上説明の方法により得られた高比抵抗複合軟磁性材は、前記複数のＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の粒界層を介する結合が、前記軟磁性粒子５と該軟磁性粒子５の表面に被覆されたＭｇ含有酸化物皮膜（絶縁皮膜）６とを具備してなるＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子と、前述のナノオーダーの原料混合粉末を混合し、圧密して焼成することにより低融点ガラス層からなる境界層が得られた材料であり、例えば、図３に示す如く、Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子５、５間の間に存在する低融点ガラスからなる粒界層８が実質的に全てのＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子間に可能な限り均一に分散されて粒界層８とされたものであるので、高強度のものが得られる。これは、図２に示す如くナノオーダーの微細な低融点ガラスの原料混合粉末７が溶融する際に各元素がＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の周囲に容易に流動して組成比の均一な境界層８が生成するためである。
【００２８】
また、以上の製造方法により得られた高強度高比抵抗複合軟磁性材は、高密度、高強度、高比抵抗および高磁束密度を有し、この高比抵抗低損失複合軟磁性材は、高磁束密度で高周波低鉄損の特徴を有する事から、この特徴を生かした各種電磁気回路部品の材料として使用できる。
また、以上の製造方法により得られた高強度高比抵抗複合軟磁性材にあっては、（Ｍｇ,Ｆｅ）Ｏを含むＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜と、その界面に存在する低融点ガラスの均一性に優れた粒界層を備えているので、特にＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子同士の接合が良好になされていて、強度が高く、比抵抗の高い、渦電流損失の少ない、低鉄損失の軟磁気特性に優れた高強度高比抵抗低損失複合軟磁性材を得ることができる。
【００２９】
なお、軟磁性粒子の表面に被覆する絶縁皮膜は先のＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜に限るものではなく、リン酸塩皮膜、酸化ケイ素皮膜、酸化アルミニウム皮膜等であっても良い。
【実施例】
【００３０】
粒径１００μｍの軟磁性粒子（純鉄粉末）に対して大気中２５０℃にて加熱処理を０〜６０分間行った。ここでＭｇＯ膜は前段の２５０℃大気中加熱処理で生成される酸化膜厚に比例するので、Ｍｇの添加量は必要最小限度で良く、鉄粉に対して０．３質量％のＭｇ粉末を配合し、この配合粉末を０．１Paの真空雰囲気中、バッチ式回転キルンによって転動させながら６５０℃に加熱することによりＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子を作製した。
Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の外周面に形成されている（Ｍｇ,Ｆｅ）Ｏを含むＭｇ−Ｆｅ−Ｏ三元系酸化物堆積膜の膜厚は、前述の大気中加熱処理で生成される酸化膜厚に比例するので、膜厚２０〜２００ｎｍのものを試験試料として用いた。
【００３１】
【表１】
2009130286.tif 000003
【００３２】
【表２】
2009130286.tif 000004
【００３３】
次に表２に示す各組成比であって、表１に示す各平均粒径の低融点ガラス用の原料粉末試料１〜８を用い、これらの原料粉末を適宜使用してＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子とともにエタノール中に１０ｇ／ｃｍ３の割合で投入し、超音波加振器により均一分散させた後、加熱してエタノールを蒸発させることで、Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の表面に前述の各組成比の低融点ガラスの原料粉末を付着させた混合粉末を得た。
次に表１に示す成形圧力で圧密し、表３に示す如く窒素雰囲気中、６５０℃にて０．５時間焼成し、目的の軟磁性複合圧密焼成材を得た。
得られた軟磁性複合圧密焼成材の各試料の抗折強度（ＭＰａ）、比抵抗（μΩ・ｍ）、密度（Ｍｇ／ｍ３）、１０ｋＡ／ｍにおける磁束密度（Ｔ）、１Ｔ・４００Ｈｚにおけるコアロス（Ｗ／ｋｇ）の値を測定した結果を表３に示す。
【００３４】
【表３】
2009130286.tif 000005
【００３５】
表３に示す結果から、従来例および比較例に比べ抗折強度が高く、比抵抗が高く、密度が高く、磁束密度が高く、鉄損も少ない優れた高強度高比抵抗低損失複合軟磁性材を得られることが判明した。また、低融点ガラスの原料粉末の粒径が２〜１００ｎｍであることがより好ましいことがわかった。
【００３６】
「比較例」
比較のために、表２に示す各組成比であって、表１に示す各平均粒径の低融点ガラス用の原料粉末試料９〜１６を適宜使用してＭｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子とともにエタノール中に１０ｇ／ｃｍ３の割合で投入し、超音波加振器により均一分散させた後、加熱してエタノールを蒸発させることで、Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子の表面に前述の各組成比の低融点ガラスの原料粉末を付着させた混合粉末を得た。
次に表１に示す成形圧力で圧密し、表３に示す如く窒素雰囲気中、６５０℃にて０．５時間焼成し、目的の軟磁性複合圧密焼成材を得た。
【００３７】
「従来例」
Ｍｇ含有酸化物被覆軟磁性粒子を成形圧力：７９０ＭＰａで圧密し、表３に示す如く窒素雰囲気中、６５０℃にて０．５時間焼成し、前記低融点ガラス用の原料混合粉末無添加の軟磁性複合圧密焼成材を得た。
従来例および比較例で得られた軟磁性複合圧密焼成材の各試料の抗折強度（ＭＰａ）、比抵抗（μΩ・ｍ）、密度（Ｍｇ／ｍ３）、１０ｋＡ／ｍにおける磁束密度（Ｔ）、１Ｔ・４００Ｈｚにおけるコアロス（Ｗ／ｋｇ）の値を測定した結果を表３に示す。
【００３８】
表３においてＮｏ.９〜Ｎｏ.１６の試料はいずれも低融点ガラス原料粉末の平均粒径が２００ｎｍを超える大きい試料であるが、抗折強度においてＮｏ.９〜１２、１３、１５、１６の試料は実施例の試料より大幅に低く、比抵抗についてはＮｏ.９〜１６のいずれの試料においても実施例試料よりも大幅に小さく、鉄損について数値が上昇し、特性が悪化した。また、従来例の試料は、抗折強度が著しく劣化しており、比較例の試料よりも比抵抗は若干高いものの、実施例の試料よりも遙かに低い比抵抗となった。
表３に示す対比から、本発明に係るＮｏ.１〜９の試料は、抗折強度が高く、比抵抗値が高く、従って鉄損が少なく、密度も高く磁束密度で示される軟磁気特性においても優秀であることが明らかとなった。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明による高強度高比抵抗低損失複合軟磁性材は、電磁気回路部品として、例えば、磁心、電動機コア、発電機コア、ソレノイドコア、イグニッションコア、リアクトルコア、トランスコア、チョークコイルコアまたは磁気センサコアなどとしての利用が可能であり、いずれにおいても優れた特性を発揮し得る電磁気回路部品へ適用ができる。
そして、これら電磁気回路部品を組み込んだ電気機器には、電動機、発電機、ソレノイド、インジェクタ、電磁駆動弁、インバータ、コンバータ、変圧器、継電器、磁気センサシステム等があり、これら電気機器の高効率高性能化や小型軽量化を推進できる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１は本発明に係る高強度高比抵抗複合軟磁性材を製造するための工程の一例を示す工程説明図。
【図２】図２は本発明に係る絶縁皮膜を備えた軟磁性粒子とその周囲に設けた低融点ガラスの原料混合粉末の分散状態を模式的に示す図。
【図３】図３は焼成後に得られる本発明に係る高強度高比抵抗複合軟磁性材の一例構造を示す図。
【符号の説明】
【００４１】
５…軟磁性粒子、６…酸化物堆積膜（絶縁皮膜）、７…低融点ガラスの原料粉末（粒子）、７ａ…第１の低融点ガラス原料粉末、７ｂ…第２の低融点ガラス原料粉末、７ｃ…第３の低融点ガラス原料粉末、８…境界層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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