(57)【要約】【課題】本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能となる。【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板１００の製造方法は、基板状態測定工程Ｓ２００と、基板マップ作成工程Ｓ２０２と、欠陥判定工程Ｓ２０４と、欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程Ｓ２０６と、欠陥の個数および大きさを計数する計数工程（第１計数工程Ｓ２１６および第２計数工程Ｓ２２０）と、連続欠陥判定工程Ｓ２０６の結果および計数工程の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程Ｓ２２２と、を含むことを特徴としている。【選択図】  図２
2009238294.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に内孔を有する円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記基板に光を照射し該基板から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する基板状態測定工程と、
前記測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方をマッピングし基板マップを作成する基板マップ作成工程と、
前記作成した基板マップをマトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに前記測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて欠陥があるか否かを判定する欠陥判定工程と、
前記欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程と、
欠陥の個数および大きさを計数する計数工程と、
前記連続欠陥判定工程の結果および前記計数工程の結果に基づいて前記基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記複数に分割された領域の面積は０．１μｍ２であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記基板状態測定工程において前記基板から反射した光は、散乱光もしくは回折光のいずれか一方または両方であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピュータ等の記録媒体として用いられる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板として、従来用いられていたアルミニウム基板と比して小型化、薄板化、および高密度記録化が達成でき、基板表面の平坦性および基板強度に優れたガラス基板が採用されている。
【０００３】
また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が８ｎｍから６ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドは、固有の障害としてヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。
【０００４】
サーマルアスペリティ障害とは、磁気ディスク面上の微小な凸形状あるいは凹形状上を磁気ヘッドが浮上飛行しながら通過するときに、空気の断熱圧縮または接触により磁気抵抗効果型素子が加熱されることにより、読み出しエラーを生じる障害である。したがって磁気抵抗型素子を搭載した磁気ヘッドに対しては、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。また塵埃や異物が付着したまま磁性層を形成すると凸欠陥が形成されてしまうため、ガラス基板には、凹凸をなくすことによる発塵の防止と、異物を除去する高度な洗浄とが求められている。
【０００５】
上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。ガラス基板の平滑性の検査方法としては、表面欠陥検出装置（ＡＯＩ：Automatic Optical Inspection）やＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）等の機器を用いて、ガラス基板の表面に光を照射して反射光の強度や変位等により付着物、凹欠陥、凸欠陥が存在するか否かを判定するという方法がある（例えば特許文献１）。
【特許文献１】特開２００７−２５６１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した特許文献１に記載のガラス基板の平滑性の検査方法では、反射光の強度や変位等によってのみ、欠陥の大きさを判定しているため、欠陥の形状を判定することはできない。
【０００７】
しかし、磁気ディスクとして用いるガラス基板においては欠陥の形状が重要となってくる。すなわち同じ面積を有する欠陥であっても、細長いもの（スクラッチ）であれば、もはや磁気ディスクとして用いることはできないが、平面的なものであればある程度までは許容することができる。
【０００８】
したがって、従来のガラス基板の検査方法では、反射光の強度によって欠陥の大きさ（面積）のみを判定しているため、本来１つでも存在すれば不良品となる細長い欠陥（連続性を有する欠陥）と、平面的な欠陥（不連続の欠陥）との区別をすることができず不良品にもかかわらず良品として判定してしまうおそれがあった。
【０００９】
そこで本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥（スクラッチ）と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、中心に内孔を有する円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、基板に光を照射し当該基板から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する基板状態測定工程と、測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方をマッピングし基板マップを作成する基板マップ作成工程と、作成した基板マップをマトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて欠陥があるか否かを判定する欠陥判定工程と、欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程と、欠陥の個数および大きさを計数する計数工程と、連続欠陥判定工程の結果および計数工程の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
かかる構成により、任意に分割した領域ごとに欠陥があるか否かを特定し、欠陥があると判定した領域に隣接する領域に欠陥があるか否かを判定することで当該欠陥が連続性を有するか否かを判断することができる。したがって、従来見逃されていた連続性を有する欠陥を検出することができ、誤判定を防止することができる。これにより、検査の信頼性を向上させることが可能となる。
【００１２】
また従来は、マトリクス状に分割する領域の面積を変化させて様々な大きさの欠陥を測定していたが、連続欠陥判定工程を含むことにより領域の面積を変化させずとも欠陥の大きさを測定することができる。
【００１３】
上記複数に分割された領域の面積は０．１μｍ２であってもよい。ガラス基板は用途によって、求められるものが異なるが、０．１μｍ２以下の欠陥であれば、如何なる用途においても適応することができる。
【００１４】
上記基板状態測定工程において基板から反射した光は、散乱光もしくは回折光のいずれか一方または両方であってもよい。
【００１５】
散乱光もしくは回折光のいずれか一方または両方を測定することにより、０．１μｍ２程度以上の欠陥を検出することができる。
【００１６】
上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板は、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。
【００１７】
上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスクは、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする。
【００１８】
上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の技術的思想に基づく構成要素やその説明は、当該磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクにも適用可能である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００２１】
本発明にかかる発明者らは、従来行っていた磁気ディスク用ガラス基板の平滑性の検査方法で検出された欠陥を鋭意検討した結果、欠陥にも連続性を有する欠陥を不連続な欠陥として検出されていることを見出し、連続性を有する欠陥を正確に判定して良品・不良品検査をすることによって、歩留まりを向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００２２】
すなわち、従来からもガラス基板を出荷する前にガラス基板の主表面に光を照射して検査することによってガラス基板が良品であるか否かを判断していた。しかし光を照射した検査にて良品と判定されたガラス基板の欠陥を詳しく調べてみると、連続性を有する欠陥であるものもあり、不良品であるのに良品であると判定されていることが分かった。
【００２３】
そこで、本実施形態においては、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、光を照射した検査で欠陥とされたものが連続した欠陥であるか否かを判定する連続欠陥判定工程の結果に基づいてガラス基板が良品であるか否かを判定する良品判定工程と、を含むこととした。これについて以下に説明する。
【００２４】
まず、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板について説明する。図１は、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の欠陥について説明する説明図である。
【００２５】
上記磁気ディスク用ガラス基板は、円板形状をしており、その中心には内孔が形成されている。そして磁気ディスク用ガラス基板１００は、図１に示すように、情報の記録再生領域となる主表面１１０と、当該主表面１１０に対して直交している端面１２０と、当該主表面１１０と端面１２０との間に介在している面取面１３０とを備えている。なお、後述する端面研磨工程により端面１２０と面取面１３０との境界が不明瞭となる場合もあるため、本発明は端面１２０とその両側の面取面１３０があわせて１つの曲面を構成する場合も含むものとする。
【００２６】
主表面１１０は、情報を記録再生するための領域であるため、記録ヘッドが浮上走行するために実質的に平滑になっている。しかし上記ガラス基板１００を製造する上で、主表面１１０に不連続な凸欠陥(異物系)１４０（図１（ａ））や不連続な凹欠陥（ダメージもしくはキズ系）１４２（図１（ｂ））もしくは連続した凸欠陥(異物系)１５０（図１（ｃ））や連続した凹欠陥（ダメージもしくはキズ系）１５２（図１（ｄ））が形成されることもある。また、ガラス基板１００の製造過程で付着物（パーティクル系）が磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面に付着してしまうこともある。
【００２７】
次に本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について説明する。
【００２８】
図２は、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の流れを説明するためのフローチャートである。
【００２９】
まず、後述する第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板１００に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板１００から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する（Ｓ２００：基板状態測定工程）。
【００３０】
図３は、基板状態測定工程Ｓ２００における測定方式を説明するための説明図である。図３に示すように、本実施形態において基板状態測定工程Ｓ２００は、表面欠陥検出装置（ＡＯＩ）３００を用いて行う。表面欠陥検出装置３００は、２種類のレーザ３０２（３０２ａ、３０２ｂ）と、４種類の検出器３０４（３０４ａ、３０４ｂ、３０４ｃ、３０４ｄ）と、ハーフミラー（もしくはビームスプリッタ）３０６と、を含んで構成される。
【００３１】
レーザ３０２ａは、波長７８０±１５ｎｍ、ビーム径１２０μｍ×１５μｍの半導体レーザであり、レーザ３０２ｂは、波長６７０±１０ｎｍ、ビーム径２０００μｍ×７００５μｍの半導体レーザである。検出器３０４は、フォトディテクタで構成されている。
【００３２】
図４は、表面欠陥検出装置３００の検出器３０４が検出可能な欠陥について説明するための説明図である。
【００３３】
レーザ３０２ａを用い検出器３０４ａで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥から反射される散乱光を検出する。これにより、検出器３０４ａでは、付着物や０．１μｍ２程度の凹欠陥を検出することができる。レーザ３０２ａを用い検出器３０４ｂで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥から反射される指向性のある散乱回折光の光量変化を検出する。これにより、検出器３０４ｂでは、付着物、０．１μｍ２程度の凹欠陥、内包物を検出することができる。レーザ３０２ａを用い検出器３０４ｃで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥からの正反射光量の増光もしくは減光を検出する。これより、検出器３０４ｃでは、散乱や回折が生じにくい凸欠陥、凹欠陥、１μｍ２以上の凹欠陥、内包物を検出することができる。
【００３４】
レーザ３０２ｂを用い検出器３０４ｄで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥からの正反射光量の増光もしくは減光を検出する。これより、検出器３０４ｄでは、散乱や回折が生じにくいなだらかな凸欠陥やなだらかな凹欠陥を検出することができる。
【００３５】
図５は、基板マップを説明するための説明図である。図５（ａ）に示すように、基板状態測定工程Ｓ２００において検出器３０４で検出された結果をマッピングし、基板マップ４００を作成する（Ｓ２０２：基板マップ作成工程）。作成した基板マップ４００を、マトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに欠陥があるか否かを判定する（Ｓ２０４：欠陥判定工程）。本実施形態において、基板マップ４００をマトリクス状に複数に分割する領域（ピクセル）の面積は、０．１μｍ２である。さらに本実施形態では、１ピクセルにおける欠陥の占有面積が５０％未満であるものは欠陥でないと認識し、占有面積が５０％以上であるものを欠陥であると認識し、欠陥でないものを０値、欠陥を１値として２値化している。
【００３６】
次に、欠陥判定工程Ｓ２０４おいて欠陥があると判定されたピクセルに隣接するピクセルに欠陥がある場合に複数のピクセルにまたがって連続した１つの欠陥であると判定する（Ｓ２０６：連続欠陥判定工程）。
【００３７】
図５（ｂ）は、不連続の欠陥を解析した結果であり、図５（ｃ）および（ｄ）は連続した欠陥を解析した結果である。図５（ｂ）に示すように、連続していない欠陥は、隣接するピクセル間を連続的にまたぐことがないため、隣接するピクセルには欠陥がないと判定される。これにより、不連続な欠陥であることを容易に判定することができる。
【００３８】
一方、」図５（ｃ）、（ｄ）に示すように０．１μｍ２以上の欠陥であれば、連続した欠陥は、隣接するピクセル間を連続的にまたぐこととなるため、解析結果を２値化したものを判断すれば、様々な既存の判定方法を用いて、複数のピクセルにまたがった連続した１つの欠陥であるか否かを確実に判定することができる。
【００３９】
さらに連続欠陥判定工程Ｓ２０６において連続した欠陥であると判定された欠陥の形状および面積を、既存の解析方法を用いて解析する（Ｓ２０８：形状解析工程）。例えば図５（ｃ）に示すような形状の場合、１.４μｍ２のスクラッチであり、図５（ｄ）に示すような形状の場合、０．９μｍ２の欠陥であると解析される。
【００４０】
形状解析工程Ｓ２０８の結果に基づいて、連続した欠陥が特定形状であると判定された場合（Ｓ２１０：特定形状判定工程）、不良品であると判定する（Ｓ２１２：不良品決定工程）。
【００４１】
本実施形態において、特定形状はスクラッチとしているが、これに限定されず、ガラス基板の利用用途によって任意に変更することができる。
【００４２】
次に、特定形状判定工程Ｓ２１０において、特定形状でないと判定された欠陥の面積が０．３μｍ２を超えたか否かを判定する（Ｓ２１４：閾値判定工程）。閾値判定工程Ｓ２１４において、０．３μｍ２を超えていないと判定された欠陥すなわち０．１μｍ２を超え０．３μｍ２を超えていない欠陥および連続欠陥判定工程Ｓ２０６にて連続していないと判定された欠陥（以下、小欠陥とする。）の個数を計数する（Ｓ２１６：第１計数工程）。閾値判定工程Ｓ２１４において、０．３μｍ２を超えた欠陥（以下、大欠陥とする。）はさらに１μｍ２を超えた欠陥であるか否かを判定し（Ｓ２１８：第２閾値判定工程）、１μｍ２以下であれば個数を計数し（Ｓ２２０：第２計数工程）、１μｍ２以上であれば不良品であると判定する（Ｓ２１２：不良品決定工程）。
【００４３】
第１計数定工程Ｓ２１６の結果および第２計数工程Ｓ２２０の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定し（Ｓ２２２：良品判定工程）、小欠陥の個数および大欠陥の個数が所定値を満たしていれば、良品として判定され（良品決定工程Ｓ２２４）、所定値を満たしていなければ、不良品となる（Ｓ２１２：不良品決定工程）。良品判定工程Ｓ２２２において、所定値は、例えば、小欠陥の個数を５０個以下とし大欠陥の個数を１０個以下としてもよい。
【００４４】
上述した如く、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板１００の製造方法によれば、欠陥判定工程Ｓ２０２において欠陥を特定し、連続欠陥判定工程Ｓ２０４において特定した欠陥が連続性を有するか否かを判定することにより、従来見逃されていた連続性を有する欠陥を検出することができ、誤判定を防止することができる。これにより、検査の信頼性を向上させることが可能となる。
【００４５】
（実施例）
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクについて実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板１００および磁気ディスクは、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、２．５インチ型ディスクや３．５インチ型ディスクとして製造してもよい。
【００４６】
（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施形態においてガラス基板１００の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
【００４７】
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状の磁気ディスク用ガラス基板１００を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
【００４８】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。
【００４９】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板１００とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面１２０をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング）。
【００５０】
（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板１００の両主表面１１０について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面１１０に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００５１】
（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板１００の外周の端面研磨を行なう。まず端面１２０については、面取面１３０に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板１００を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
【００５２】
続いて面取面１３０については、鏡面研磨を行った。これにより、１枚のガラス基板１００の面取面１３０の、外周の全周における表面粗さの差は、０．００１μｍ以下の範囲になった。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板１００を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板１００の端面１２０は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。
【００５３】
なお、本実施例では端部の研磨を行った後に面取面１３０の研磨を行なうよう説明した。しかしこの順序については任意であって、面取面１３０の研磨を先に行ってから端面１２０の研磨を行ってもよい。
【００５４】
次に、内周端面については、多数枚積層したガラス基板ブロックを形成し、面取りした内周端部をブラシロールにて同時に研磨してよい。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００５５】
（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面１１０に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５６】
この第１研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００５７】
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面１１０を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５８】
この第２研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
【００５９】
（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板１００に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板１００を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板１００の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板１００が端面１２０で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００６０】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板１００の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板１００が強化される。ガラス基板１００の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍ乃至２００μｍであった。
【００６１】
化学強化処理を終えたガラス基板１００を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板１００を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板１００を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
【００６２】
上記の如く、第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板１００を得た。
【００６３】
（７）検査工程
得られた磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面１１０について検査を行った。図２に示すように、検査工程は、磁気ディスク用ガラス基板１００に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板１００から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する基板状態測定工程Ｓ２００と、測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方をマッピングし基板マップ４００を作成する基板マップ作成工程Ｓ２０２と、作成した基板マップ４００をマトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて欠陥があるか否かを判定する欠陥判定工程Ｓ２０４と、欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程Ｓ２０６と、欠陥の個数および大きさを計数する計数工程（第１計数工程Ｓ２１６および第２計数工程Ｓ２２０）と、連続欠陥判定工程Ｓ２０６の結果および計数工程の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程Ｓ２２２と、を含む。
【００６４】
図６は、従来のＡＯＩ検査における良品と、実施例にかかるＡＯＩ検査における良品とを、作業員が画像をビジュアル検査（表面画像を目視することによる検査）し、正当率を判断したものを説明するための説明図である。図６に示すように、従来のＡＯＩ検査で良品と判断されたもののうち約３％は連続傷などの原因により不良と判断すべきであり、正当率は約９７％であった。これに対し実施例にかかるＡＯＩ検査において良品と判断されたものは、ほぼ全てがビジュアル検査においても良品と判断された。このように、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させて製造コストの低減を図ることができると共に、極めて高い確率で良品を出荷することができるため顧客満足度を飛躍的に向上させることができる。
【００６５】
（８）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板１００の両面に、ガラス基板１００の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクとして利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の欠陥について説明する説明図である。
【図２】実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の流れを説明するためのフローチャートである。
【図３】基板状態測定工程における測定方式を説明するための説明図である。
【図４】表面欠陥検出装置の検出器が検出可能な欠陥について説明するための説明図である。
【図５】基板マップを説明するための説明図である。
【図６】従来のＡＯＩ検査における良品と、実施例にかかるＡＯＩ検査における良品とを、作業員が画像をビジュアル検査し、正当率を判断したものを説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０   …欠陥
１００  …磁気ディスク用ガラス基板
１１０  …主表面
１２０  …端面
１３０  …面取面
１４０  …不連続な凸欠陥
１４２  …不連続な凹欠陥
１５０  …連続した凸欠陥
１５２  …連続した凹欠陥
３００  …表面欠陥検出装置（ＡＯＩ）
３０２  …レーザ
３０４  …検出器
４００  …基板マップ
【図１】
2009238294.tif 000003
【図２】
2009238294.tif 000004
【図３】
2009238294.tif 000005
【図４】
2009238294.tif 000006
【図５】
2009238294.tif 000007
【図６】
2009238294.tif 000008