(57)【要約】【課題】  インモールド射出成形法で、射出成形品の立体面へよく追従して割れや白化などが少ないホログラムを有するインモールド用転写箔、及びそれを用いた成形品を提供する。【解決手段】  基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９が設けてなり、ホログラム層１５が、（１）；（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（２）；エステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（３）；シリコーンオイル又は反応性シリコーン、（４）；ポエチレンワックス又はマイクロシリカを含むことを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、反射層及び接着層が設けてなるインモールド用転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が下記の（１）、（２）、（３）及び（４）を含む組成物を電離放射線で硬化させてなる層で、かつ、該ホログラム層が（ａ）電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、（ｂ）電離放射線硬化後の２３℃における破断伸度が５％以上で、（ｃ）基材、離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けたインモールド用転写箔状態で、１５０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を有することを特徴とするインモールド用転写箔。
（１）は（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（２）はエステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（３）はシリコーンオイル又は反応性シリコーンで、（４）は、ポエチレンワックス又はマイクロシリカである。
【請求項２】
請求項１に記載のインモールド用転写箔を用いて、インモールド射出成形法で成形された立体成形品に、ホログラム層、反射層及び接着層が転写されてなることを特徴とする成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インモールド用転写箔に関し、さらに詳しくは、成形用金型内へ挿入し成形することで、成形品の立体面への追従性がよく、白化せずにホログラムを転写することのできるインモールド用転写箔、及び成形品に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。また、「ホログラム」は「ホログラムと、回折格子などの光回折性機能を有するものも含む。
【背景技術】
【０００３】
（主なる用途）本発明のインモールド用転写箔を用いた成形品の主なる用途としては、日用品や生活用品などの機器本体、食品や各種物品の容器類、電子機器や事務用品などの筐体類など立体成形品で、成形品の表面にホログラムによる特異な意匠性やセキュリティ性を向上させたもので、成形品の形状や内容物は任意である。しかしながら、意匠性やセキュリティ性を向上させるために、成形品の表面にホログラムを転写した用途であれば、特に限定されるものではない。
【０００４】
（背景技術）従来、上記の用途の媒体、例えば、ブランド品や高級品では経済的価値を持つため、不正に偽造されることが絶えず、種々の改竄防止策が提案され、セキュリティ性の向上が図られている。偽造が困難で、セキュリティ性に優れ、光回折効果を持つホログラムを媒体へ転写することが知られている。一方、射出成形などによる成形品の平面や曲面では、成形時に、ホログラムなどの転写箔を金型内へ挿入して、射出成形と同時にホログラムを転写するインモールド射出成形が行われている。しかしながら、該転写は平面又は１方向の曲面に制限される。立体部分は溶融した高温の射出成形樹脂の流れによって、ホログラムなどの転写箔が伸張しシワや破れが発生し、また伸張及び／又は収縮によって、割れ、伸縮ジワによって光輝性が変化し、特に反射層がアルミニウム薄膜のみの場合には、本来の金属光沢が伸縮によって白化し全く金属光沢が失われ、ホログラムも消失してしまう。従来は伸縮の影響を最小に押えようと、伸縮の少ない部分へホログラムを貼着又は転写したり、小さい面積のホログラムとしたりすることで、伸縮の影響を最小に押えなければならなかった。
従って、さらなる意匠性やセキュリティ性の向上のために、ホログラムを有する転写箔を用いてインモールド射出成形法で転写した立体の射出成形品であっても、熱で白化しない耐熱性と、立体面へよく追従して割れや白化などが少ないホログラムを有するインモールド用転写箔、及びそれを用いた成形品が求められている。
【０００５】
（先行技術）従来、基材、印刷層、光回折構造層（本発明のホログラム層に相当する）及び熱接着性樹脂層とを含む積層シートで作製したラベルを、インモールドラベリング方式の射出成形により一体化成形するカップ状容器が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、ホログラム層が成形される周壁は平面であり立体面ではない。
また、加飾転写層（本発明のホログラム層を含む）を伸縮性材料に転写した後に、少なくとも表面の一部に凹凸又は曲面を有する成形品本体の表面の一部分に加熱加圧により転写した表面装飾成形品が知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、加飾転写層を直接成形品へ転写はできないという欠点がある。
さらに、ベースフィルム、保護層、金属薄膜（本発明のホログラム層と反射層に相当する）、接着層とからなる転写フィルムを作製し、この転写フィルムを挟んで一対の金型を型締めし、該金型内に溶融樹脂を射出して金属薄膜をつけ爪本体の表面に転写するつけ爪の製法が知られている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、つけ爪は１方向の大きな曲面で、転写フィルム自身は平面を巻き付けた状況であり、三次元の立体とは言い難い、また、転写フィルムを構成する保護層、金属薄膜、及び接着層の材料についても、極く一般的なものであり、立体物への転写で最大の問題点であある材料の伸縮性については記載も示唆もされていない。
さらにまた、本出願人も立体成形品を成形する際に微細な凹凸を予め形成しておいてから、該微細な凹凸面へ反射層を設けてホログラムとするものを開示している（例えば、特許文献４〜５参照。）。しかしながら、微細な凹凸を予め形成せるために微細な凹凸を賦型する専用の賦型フィルムを作成せねばならず、またそれを用いたインモールド成形方法も煩雑であり、さらに形成した微細な凹凸へ反射層を設ける工程が必要で、高コストとなるという問題点がある。
以上の特許文献１〜５のいずれにも、ホログラム層の伸縮性への対応についての記載も示唆もない。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−７６４７号公報
【特許文献２】特開２００４−５８５９９号公報
【特許文献３】特開２００３−９９４１号公報
【特許文献４】特開２００４−１６３４８２号公報
【特許文献５】特開２００４−２８４１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、ホログラムを有する転写箔を用いてインモールド射出成形法で転写した立体の射出成形品であっても、熱で白化しない耐熱性と、立体面へよく追従して割れや白化などが少ないホログラムを有するインモールド用転写箔、及びそれを用いた成形品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わるインモールド用転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、反射層及び接着層が設けてなるインモールド用転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が下記の（１）、（２）、（３）及び（４）を含む組成物を電離放射線で硬化させてなる層で、かつ、該ホログラム層が（ａ）電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、（ｂ）電離放射線硬化後の２３℃における破断伸度が５％以上で、（ｃ）基材、離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けたインモールド用転写箔状態で、１５０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を有することを特徴とし、（１）は（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（２）はエステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（３）はシリコーンオイル又は反応性シリコーンで、（４）は、ポエチレンワックス又はマイクロシリカである、ように、したものである。
請求項２の発明に係わる成形品は、請求項１に記載のインモールド用転写箔を用いて、インモールド射出成形法で成形された立体成形品に、ホログラム層、反射層及び接着層が転写されてなるように、したものである。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の本発明によれば、熱で白化しない耐熱性と、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、意匠性とセキュリティ性に優れるホログラムを、立体面へ割れや白化などの少なく転写することのできるインモールド用転写箔が提供される。
請求項２の本発明によれば、請求項１の効果に加えて、意匠性とセキュリティ性に優れるホログラムを、立体面へでも割れや白化などの少なく転写された成形品が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。
図２は、本発明のインモールド用転写箔を用いて、転写した成形品の断面図である。
図３は、本発明の１実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。
【００１１】
（インモールド用転写箔）本発明のインモールド用転写箔１０は、図１に示すように、基材１１と、該基材の一方の面へ離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９の層構成において、ホログラム層１５及び離型層１３が特定の材料からなる。即ち、離型層１３がメラミン系樹脂であり、ホログラム層１５が（１）、（２）、（３）及び（４）を含む組成物を電離放射線で硬化させてなる層とする。（１）は（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（２）はエステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（３）はシリコーンオイル又は反応性シリコーンで、（４）は、ポエチレンワックス又はマイクロシリカとする。
また、本発明のインモールド用転写箔１０は、図３に示すように、基材１１と、該基材の一方の面へ離型層１３、ホログラム層１５、透明反射層１７Ａ高輝度インキ層１８及び接着層１９の層構成としてもよい。
【００１２】
本発明の構成と材料を特定することで、ホログラム層１５が（ａ）電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、（ｂ）電離放射線硬化後の２３℃における破断伸度が５％以上で、（ｃ）基材、離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けたインモールド用転写箔状態で、１５０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性が発現する。このようにすることで、熱白化しない耐熱性と、立体面へ追従し割れにくい柔軟性が得られ、インモールド射出成形法でも、立体成形品の表面へ転写させることができる。
【００１３】
本発明のインモールド用転写箔１０は、インモールド射出成形法で、立体成形品へホログラム層を転写した成形品１００を図２に示す。なお、図２は作図の都合上、成形品は平面に描いているが、三次元の立体状であり、立体面へ転写された成形品である。
【００１４】
（インモールド射出成形法）まず、インモールド射出成形法とは、（１）インモールド用転写箔１０を準備する工程と、（２）該インモールド用転写箔１０を射出成形用金型内へ挿入する工程と、（３）該射出成形用金型へ樹脂を射出成形し密着させることで、該樹脂の表面へインモールド用転写箔１０のホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を転写する工程と、（４）冷却後、金型を解放し、インモールド用転写箔１０の基材１１及び離型層１３を剥離して成形品を取り出す工程と、からなる射出成形法で、立体面へホログラムが転写された成形品１００を製造できる。
【００１５】
（基材）基材１１としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、などがある。好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂のフィルムで、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該基材の厚さは、通常、２．５〜１００μｍ程度が適用できるが、４〜５０μｍが転写性の点で好ましい。
【００１６】
該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。該基材は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００１７】
（離型層）離型層１３としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用いる。該メラミン系樹脂を用いることで、後述する保護層保護層１４との組合わせで安定した剥離性を発揮する。
【００１８】
離型層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、プレーコートなどの印刷又はコーティング方法で、少なくとも１部に塗布し乾燥して塗膜を形成する。また、要すれば、温度３０℃〜１２０℃で加熱乾燥、あるいはエージングしてもよい。離型層１３の厚さとしては、通常は０．０１μｍ〜５μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３μｍ程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、０．１μｍ以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。
【００１９】
（ホログラム層）ホログラム層１５としては、（１）（２）（３）及び（４）を含ませる。（１）は（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（２）はエステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、（３）はシリコーンオイル又は反応性シリコーンで、（４）は、ポエチレンワックス又はマイクロシリカである。
【００２０】
（ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）前記（１）成分としては、（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、電離放射線硬化性を有するウレタン変性アクリレート樹脂である。好ましいウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、次の「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」であり、詳細は、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂が好ましい。具体的には、ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック（株）製、電離放射線硬化性樹脂商品名）、ユピマーＵＶ・Ｖ３０３１（三菱化学（株）製、電離放射線硬化性樹脂商品名）が例示できる。
【００２１】
（エステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）前記（２）成分としては、エステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。従来、本出願人も（メタ）アクリレートオリゴマーとして、例えば、日本合成化学社の商品名；紫光６６３０Ｂ、７５１０Ｂ、７６３０Ｂなどのエーテル単位を有するものを使用してきたが、鋭意研究の結果、エステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることで、熱白化しない耐熱性と、立体面へ追従し割れにくい柔軟性をより向上させることに至ったのである。しかも、ホログラム（微細なレリーフ）をプレススタンパ（エンボス版）を用いて賦型する際に、版へ密着せず貼り付いたり、版へホログラム層がとられたり、また、インモールド射出成形の際にもバリの発生が少なく、多くの矛盾点を解消することができた。
【００２２】
該エステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、電離放射線硬化性で、硬化後の皮膜は超軟質で、高伸度を有し、ゴム弾性を示し、ウレタンエラストマーに近似の引張り物性を有するので、電離放射線硬化後の２３℃における破断伸度が５％以上でとすることができる。また、引き裂き強度、耐割れ性に優れるので、インモールド射出成形法でも、立体面へ追従し、立体成形品の表面へ転写させることができる。しかも、耐熱性も合わせ持っているので、インモールド射出成形時の熱で白化しない。
【００２３】
エステル単位を有するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有させる質量基準での割合としては、前記（１）成分のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー１００部に対して１０〜４５部程度、好ましくは１５〜３０部である。この範囲未満では高温で白化しやすく、この範囲を超えてはエンボス版への貼り付き、転写時にバリが発生しやすい。
【００２４】
（シリコーン）前記（３）成分としては、シリコーンオイル又は反応性シリコーンである。反応性シリコーンは電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化したり、１部は残留するものもある。該反応性シリコーンとしてはアクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては、前記（１）と（２）成分の合計１００部に対して、０．１〜１０部程度、好ましくは０．３〜５部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、密着したり、版とられしたり、逆にプレススタンパを汚染したりして、賦型できなかったり、賦型性が悪かったりする。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。
【００２５】
（フィラー）前記（４）成分としては、ポエチレンワックス又はマイクロシリカで、フィラー成分である。ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、前記（１）と（２）成分の合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度、好ましくは０．１〜５質量部とする。この範囲未満では転写時にバリが発生し、この範囲を超えては透明性が悪くなる。
【００２６】
ホログラム層１５を（１）（２）（３）及び（４）を含む組成物を電離放射線で硬化させてなる層とすることで、次の効果を奏する。（１）電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層１５の塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができる。（２）ホログラム層１５へはシリコーンを含ませることで、賦型性がよいので、レリーフ構造を容易に賦型でき、賦型後に電離放射線で硬化できる。また、ホログラム層１５は伸縮が大きな立体的な成形品へ転写しても、伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできる。電離放射線硬化後の２３℃における破断伸度を５％以上、好ましくは７％以上とすることができる。５％未満では伸縮時にヒビ割れたり白化したりする。７％以上であると、伸縮率が高くても伸縮時にヒビ割れたり白化したりしない。（３）基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けたインモールド用転写箔状態で、１５０℃、好ましくは１７０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を有するので、通常の射出成形での樹脂温度である１５０〜２００℃の熱でもホログラムが劣化しない。２００℃の熱でも瞬間的なために、ホログラム像が劣化しないのである。なお、耐熱性は接着層１９を設けても設けなくとも同じである。
【００２７】
さらに、次の作用効果もある。（４）転写後のホログラム層１５は最表面層となり、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗からホログラムを保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。（５）ホログラム層１５はメラミン系樹脂を用いた離型層１３と界面を接しているので、安定した剥離性を有し、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少なくすることができる。
【００２８】
（破断伸度）ホログラム層１５の伸縮性を破断伸度で表し、該層の破断伸度（％）の測定方法は、２３℃５５％ＲＨの条件下でＵＶ硬化後樹脂層を２４時間以上放置した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機ＲＴＡ−１００を用いデータ処理は、テンシロン多機能型データ処理ＴＹＰＥ  ＭＰ−１００／２００Ｓ  Ｖｅｒ．４４を用い測定を行なった。試料幅１０ｍｍ、チャック間距離５０ｍｍ、ＲＡＮＧＥは２０％、荷重は１００ｋｇの条件で、引っ張り速度１０ｍｍ／ｍｉｎで引っ張り、破断伸度は、引っ張り時の破断または亀裂が入ったときの破断点伸びの自長に対する伸び率とした。ホログラム層１５の破断伸度の測定では、ホログラム層１５膜のみを作成するのは難しいため、２５μｍ剥離ＰＥＴに１０μｍのホログラム層１５を形成し、メタルハライドランプにて積算露光量２５０ｍｊで露光した後に剥離して試料とした。
【００２９】
（耐熱性）ホログラム層１５の耐熱性は、基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けたインモールド用転写箔１０状態で、１５０℃から１７０℃のオーブン中に１時間放置して、目視によりヒビ割れ及び／又は白化しないものを合格とした。
【００３０】
（ホログラム層の形成）ホログラム層１５の形成は、上記の（１）、（２）、（３）及び（４）成分と、必要に応じて、光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、レリーフを賦型した後に、電離放射線で反応（硬化）させればよい。ホログラム層１５の厚さとしては、通常は１μｍ〜３０μｍ程度、好ましくは２μｍ〜２０μｍ程度である。複数回の塗布でもよい。
【００３１】
（ホログラム）次に、ホログラム層１５の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。
【００３２】
これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び／又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。
【００３３】
（レリーフの賦型）ホログラム層１５面へ、上記のレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。
【００３４】
（レリーフの硬化）ホログラム層１５は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（ホログラム層１５）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００３５】
（レリーフの絵柄）ホログラム層１５の絵柄を擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型（スタンパという）を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。大面積又は全面のホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と、同調させたり、合わせたりして、さらなる特異な意匠性を向上させることができる。印刷絵柄は、層間又は層表面に、公知の印刷法などで適宜設ければよく、印刷絵柄はインモールド用転写箔、及び／又は収縮フィルムのいずれへ設けてもよい。
【００３６】
（反射層）反射層１７は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層１５面のレリーフ面へ、反射層１７へ設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、ホログラム層１５の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層１７としては、通常、金属層や透明層が適用できるが、ＩＤカードなどのように、支持体１０１に画像１０５を有する場合には、画像１０５を観察できる透明層が好ましい。支持体１０１に画像１０５を有しない場合や、支持体１０１の１部分へ転写する場合には、不透明な金属層でもよい。
【００３７】
該反射層１７に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層１７の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。
【００３８】
また、反射層１７として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。
【００３９】
透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層１５と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層１９材料とホログラム層１５材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層１９が反射層１７を兼ねることもできる。
【００４０】
（別の反射層）図３に示すように、反射層１７の代わりに、透明反射層１７Ａと高輝度インキ層１８とからなる２層を用いてもよい。透明反射層１７Ａ及び高輝度インキ層１８の２層とすることで、明るいホログラム層１５の光回折画像が視認できるようになる。金属薄膜片とバインダとからなる高輝度インキを用いたメタリック印刷層（高輝度インキ層１８）を透明反射層１７Ａ面へ印刷することで、よりメタリック調の高輝度を発揮でき、光回折画像の反射層とする。また、意匠性が高く、かつ、目視で容易に真偽が判定できてセキュリティ性も高まり、小ロット生産にも対応でき、また、コストも低くできるという著しい効果を発揮する。
【００４１】
（高輝度インキ層）透明反射層１７Ａとしては、上記の反射層１７の透明なものを用いればよく、高輝度インキ層１８としては、金属光沢様（メタリック調）を付与する印刷インキを用いた印刷層であり、高輝度インキを用いた印刷層である。該高輝度インキとしては、金属蒸着膜に匹敵する金属光沢を有する高輝度インキで、金属蒸着膜細片の表面を有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、又はセルロース誘導体で処理して、インキ中への分散性を向上させて、インキ塗膜の金属光沢を高輝度としたものである。該インキは、有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、またはセルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片、バインダ、添加剤、及び溶剤からなり、必要に応じてグラビアインキ、スクリーンインキ、又はフレキソインキ化すればよい。
【００４２】
金属蒸着膜細片の金属としては、アルミニウムが適用できるが、必要に応じて、金、銀、銅、真鍮、チタン、クロム、ニッケル、ニッケルクロム、ステンレス等も使用できる。金属蒸着膜の厚さは、０．０１〜０．１μｍが好ましく、さらに好ましくは０．０３〜０．０８μｍであり、インキ中に分散させた金属蒸着膜細片の大きさは、５〜２５μｍが好ましく、さらに好ましくは１０〜１５μｍである。大きさが、この範囲未満の場合はインキ塗膜の輝度が不十分となり、この範囲を超えると、グラビア版のセルに入りにくく、またスクリーン版が目詰まりし易く、印刷塗膜の光沢が低下する。
【００４３】
以上のようにして得られたインキを、公知のグラビア印刷、スクリーン印刷、又はフレキソ印刷で、所要の絵柄を製版して、印刷し、乾燥、必要に応じて硬化すればよい。高輝度インキ層１８は印刷法なので、部分的に設けてもよく、高輝度インキ反射層を既存の印刷設備で安価に製造することができ、他の印刷層があればこの印刷絵柄に同調させて、高輝度インキ層を設けることが容易である。印刷絵柄と同調するように設けることで、より一層意匠効果が高まる。部分的とは、文字、数字、記号、イラスト、模様、写真などのすべての絵柄が使用できる。
【００４４】
また、従来の硬いホログラム層へ真空蒸着法で形成したアルミニウムの金属薄膜は、十分な金属光沢が得られる。しかしながら、意匠的に高めるために、部分的なアルミニウムの金属薄膜を設けるには、一旦、真空成膜法でアルミニウム金属薄膜を全面に設けた後に、別工程で、レジストを印刷しエッチングするので、コストが非常に高く、また、製造工程が多くなって小ロット生産に向かない。しかも、高温や曲げられると、白化するという欠点がある。立体面へインモールド射出成形すると、平面状の転写箔は射出された高温の溶融樹脂で立体面に沿って引き伸ばされると、金属反射層では細かいヒビ割れ（クラック）が発生して、輝度が低下したり、白化してホログラムが観察できなくなるという欠点がある。
【００４５】
ところが、本発明のインモールド用転写箔１０を用いると、反射層１７、又は透明反射層１７Ａと高輝度インキ層１８を用いることで、金属反射層を持つホログラムと同等の輝度を有しながら、高温で引き伸ばされても白化しにくく、明るいホログラムを立体面へ転写できるインモールド用転写箔１０となる。反射層１７、又は透明反射層１７Ａと高輝度インキ層１８は、ホログラム層１５と共に立体面に沿って引き伸ばされるが、クラックが発生しにくく、発生しても目立たない。また、透明反射層１７Ａと高輝度インキ層１８の２層であれば、そのクラック部分は高輝度インキ層１８で補助されて、輝度が維持されるのである。高輝度インキ層１８は金属反射層のように１層の薄膜ではなく、表面処理された金属蒸着膜細片の分散層であり、立体面に沿って引き伸ばされても、クラックが発生せず、メタリック光沢が維持される。もちろん、ホログラム層１５も立体面に沿って引き伸ばされるが、破断伸度が５％以上と大きくクラックは発生しない。ホログラムのレリーフも引き伸ばされるが、光回折効果を維持できる程度の伸びであるし、又は推定伸度に応じて、微細の程度をあげておいてもよい。基材１１も立体面に沿って引き伸ばされるが、充分に追従できる伸度を持っているので問題はない。
【００４６】
（接着層）反射層１７面、即ち被転写体と相対する面へ接着層１９を設ける。該接着層１９の材料としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニール酢酸ビニール共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ０．１〜３０μｍ程度、好ましくは０．５〜１０μｍの層とする。接着層１９の材料としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニール酢酸ビニール共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ０．１μｍから３０μｍの層を得る。
【００４７】
（他の層）ホログラム層１５と、反射層１７、又は透明反射層１７Ａと高輝度インキ層１８との間に印刷層を設けてもよく、該印刷層を全面に透明着色したり、絵柄印刷したりすることができる。また、ホログラム図柄や高輝度インキ層１８の絵柄へ、文字、数字、記号、イラスト、模様、写真などの印刷絵柄を同調させて印刷すれば、より一層意匠効果が高まる。このようにして、基材１１／離型層１３／ホログラム層１５／反射層１７／印刷層１６（必要に応じて）／接着層１９、基材１１／離型層１３／ホログラム層１５／透明反射層１７Ａ／印刷層１６（必要に応じて）／高輝度インキ層１８／接着層１９の層構成からなるインモールド用転写箔１０も得られる。
【００４８】
（インモールド射出成形）このようにして本発明のインモールド用転写箔１０が準備できる。該インモールド用転写箔１０を用いて、インモールド射出成形法して、立体面へホログラムが転写された成形品を製造することができる。まず、（２）該インモールド用転写箔１０を射出成形用金型内へ挿入し、（３）該射出成形用金型へ樹脂を射出成形し密着させ、該樹脂の表面へインモールド用転写箔１０のホログラムを転写し、（４）冷却後、金型を解放し、インモールド用転写箔の基材１１及び離型層１３を剥離して成形品を取り出す公知の方法でよい。なお、離型層１３の１部がホログラム層１５側に残る場合もあるが、剥離に支障はなく、本発明の範囲内である。
【００４９】
（ホログラム付き射出成形品）このように、離型層１３、及びホログラム層１５を特定の材料を用いたインモールド用転写箔１０とし、インモールド射出成形法で立体面へ、ホログラム自身の熱で白化しない耐熱性、及び伸縮へ追従性がよく、割れや白化などが極めて少ない意匠性に優れたホログラムが転写されたホログラム付き成形品を製造できる。また、インモールド用転写箔１０には、ホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と合わせて、さらなる特異な意匠性も向上させることができる。
【００５０】
（射出成形品）射出樹脂の材料は特に限定されず、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、アクリル系樹脂などの射出樹脂のできる公知の樹脂でよい。該射出成形品の形状としては、特に限定されず、少なくとも１部分に立体部があれば、適用できる。立体部とは二次面、三次面でもよく、波状、曲面状、多面体状、円又は角錐状、球状などがあり、これらの１、又は複数の組合わせ、若しくはランダム形状でもよい。射出成形による成形品は、日用品や生活用品などの機器本体、食品や各種物品の容器類、携帯電話などの電子機器や事務用品などの筐体類などに使用できる。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。
【００５２】
（実施例１）基材１１として厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムを用い、該基材１１の一方の面へ、グラビアコート法で、ＴＣＭ０１メジューム（大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名）塗工液を乾燥後２μｍになるように塗布し乾燥して、１８０℃２０秒間焼き付けて、離型層１３を形成した。
該離型層１３面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させた。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック社製、電離放射線硬化性樹脂、商品名）
８０部
紫光ＵＶ３５２０ＥＡ（日本合成化学社製、
エステル単位を有するメタアクリレートオリゴマー、商品名）  ２０部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５）    ０．１５部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ）                              ４部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）                  ５部
溶媒（メチルイソブチルケトン：トルエン＝１：１）                ３００部
次に、該層は電離放射線硬化前であり、塗膜は指乾状態であった。該層面へ、２光束干渉法による回折格子から２Ｐ法で複製した擬似連続絵柄としたプレス型を複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ホログラム層１５を形成した。
該ホログラム層１５のレリーフ面へ、厚さ５００ｎｍのアルミニウムを真空蒸着法で形成して反射層１７とした。
該反射層１７面へ、接着層組成物としてＴＭ−Ａ１ＨＳ（大日精化社製、商品名）をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が１μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、接着層１９を形成して、基材１１／剥離層１３／ホログラム層１５／反射層１７／接着層１９の層構成からなる実施例１のインモールド用転写箔１０を得た。
【００５３】
（実施例２）ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、実施例４のインモールド用転写箔１０を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック社製、電離放射線硬化性樹脂、商品名）
９０部
紫光ＵＶ３５２０ＥＡ（日本合成化学社製、
エステル単位を有するメタアクリレートオリゴマー、商品名）  １０部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５）    ０．１５部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ）                              ４部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）                  ５部
溶媒（メチルイソブチルケトン：トルエン＝１：１）                ３００部
【００５４】
（実施例３）ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、実施例４のインモールド用転写箔１０を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック社製、電離放射線硬化性樹脂、商品名）
７０部
紫光ＵＶ３５２０ＥＡ（日本合成化学社製、
エステル単位を有するメタアクリレートオリゴマー、商品名）  ３０部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５）    ０．１５部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ）                              ４部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）                  ５部
溶媒（メチルイソブチルケトン：トルエン＝１：１）                ３００部
【００５５】
（実施例４）反射層１７として、厚さ２００ｎｍの酸化チタンを真空蒸着法で形成して、透明な反射層１７とする以外は、実施例１と同様にして、実施例２のインモールド用転写箔１０を得た。
【００５６】
（実施例５）ホログラム層１５の形成までは、実施例１と同様にし、このホログラム層１５のレリーフ面へ、厚さ２００ｎｍの硫化亜鉛を真空蒸着法で形成して、透明反射層１７Ａとした。
該透明な反射層１７Ａ面へ、ファインラップスーパーメタリックシルバーインキ（大日本インキ化学工業社製、高輝度インキ商品名）を用いて、グラビア印刷法で、乾燥後の厚さが２μｍになるように印刷して、高輝度インキ層１８を形成した。
該高輝度インキ層１８面へ、接着層組成物としてＴＭ−Ａ１ＨＳ（大日精化社製、商品名）をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が１μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、接着層１９を形成して、基材１１／剥離層１３／ホログラム層１５／反射層１７Ａ／高輝度インキ層１８／接着層１９の層構成からなる実施例３のインモールド用転写箔１０を得た。
【００５７】
（比較例１）ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例１のインモールド用転写箔１０を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック社製、電離放射線硬化性樹脂、商品名）
１００部
紫光ＵＶ３５２０ＥＡ（日本合成化学社製、
エステル単位を有するメタアクリレートオリゴマー、商品名）    ０部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５）    ０．１５部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ）                              ４部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）                  ５部
溶媒（メチルイソブチルケトン：トルエン＝１：１）                ３００部
【００５８】
（参考例１）ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例２のインモールド用転写箔１０を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック社製、電離放射線硬化性樹脂、商品名）
６０部
紫光ＵＶ３５２０ＥＡ（日本合成化学社製、
エステル単位を有するメタアクリレートオリゴマー、商品名）  ４０部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５）    ０．１５部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ）                              ８部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）                  ５部
溶媒（メチルイソブチルケトン：トルエン＝１：１）                ３００部
【００５９】
（評価試験）評価は、ホログラム複製時の版とられ、貼り付き、インモールド射出成形時のバリ、成形品のホログラムの白化で評価した。
ホログラム複製時の版とられは、実施例１〜５、比較例１及び参考例１のインモールド用転写箔１０の作成にあたって、微細な凹凸をプレススタンパ（版）で賦型する際の版とられで、問題のないものを合格とし「◎印」で示し、やや版とられするが、実用上支障のないものを合格とし「△印」で示した。
貼り付きは、微細な凹凸をプレススタンパ（版）で賦型する際の版への密着で、賦型に問題のないものを合格とし「◎印」で示し、密着して製造に支障のあるものを不合格とし「×印」で示した。
インモールド射出成形時のバリ、成形品のホログラムの白化は、まず、次のように射出成形した。実施例１〜５、比較例１及び参考例１のインモールド用転写箔１０を射出成形装置の自動箔送り装置に、接着層面が成形樹脂側になるように挿入（インサート）し、スミペックスＳＴＨ−５５（住友化学社製、アクリル樹脂商品名）を、溶融温度２５０℃、金型温度８０℃の通常条件で射出成形を行った。冷却後、金型を解放し、基材１１を離型層１３と共に剥離して取り出して、インモールド用転写箔を用いたホログラム付き成形品を得た。なお、該射出成形は成形サイクル１２秒で連続的に成形した。得られた成形品は３次元形状（周囲に５ｍｍの縁取りがあり、中央部が球面状に盛り上った直径１５０ｍｍのＣＤプレイヤーの部材）とした。
インモールド射出成形時のバリは、射出成形後に金型を解放し、基材１１／離型層１３を剥離した際に、ホログラム層１５のバリを目視で観察して、バリのほとんどないものを合格とし「◎印」で示し、バリが若干あるが実用上支障のないものも合格とし「○印」で示し、バリがあり実用上支障のあるものを不合格とし「×印」で示した。
成形品のホログラムの白化は、射出成形後に金型を解放し、成形品へ転写されたホログラム層１５を目視で観察して、白化のないものを合格とし「◎印」で示し、白化が部分的に若干あるが実用上支障のないものも合格とし「○印」で示し、白化が全体にややあるが実用上支障のないものも合格とし「△印」で示し、白化があり実用上支障のあるものを不合格とし「×印」で示した。結果を表１に示す。
【００６０】
【表１】
2009248477.tif 000003
【００６１】
（評価）実施例１では「版とられ、貼り付き、バリ、白化」のすべてが合格であった。
実施例２では「バリ」が○印であったが、「版とられ、貼り付き、バリ、白化」のすべてが合格であった。
実施例３では「白化」が○印であったが、「版とられ、貼り付き、バリ、白化」のすべてが合格であった。
参考例１では「版とられ」が△印であり、「白化」が○印であったが、「版とられ、貼り付き、バリ、白化」のすべてが合格であった。
比較例１では「貼り付き」、「バリ」が×印で不合格であった。
【００６２】
（評価）実施例１〜５及び参考例１の硬化前のホログラム層はいずれも指乾状態であり、巻取りができ、以降の工程もロールツーロール加工ができた。実施例１のホログラム層１５の破断伸度は３１％、実施例２のホログラム層１５の破断伸度は３１％、実施例３のホログラム層１５の破断伸度は２５％であった。
インモールド用転写箔１０の耐熱性としては、実施例１が１７０℃、実施例２も１７０℃、実施例３が１５０℃でであった。
また、実施例１〜５のインモールド用転写箔１０はいずれの成形品も球面部及び縁取り部分にも追随し、アクリル樹脂表面に転写され、該ホログラムは割れもなく正常に転写できた。
【００６３】
また、実施例１〜５のインモールド用転写箔１０を用いた成形品１００の最表面となっているホログラム層１５面の鉛筆硬度試験を、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠して測定したところ、２Ｈ以上の硬度を有し、さらに、スクラッチ強度はサファイア２００ｇ以上であり、充分な耐久性を有していた。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の１実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。
【図２】本発明のインモールド用転写箔を用いて、転写した成形品の断面図である。
【図３】本発明の１実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１０：インモールド用転写箔
１１：基材
１３：離型層
１５：ホログラム層
１７：反射層
１７Ａ：透明反射層
１８：高輝度インキ層
１９：接着層
１００：成形品
１０１：射出樹脂
【図１】
2009248477.tif 000004
【図２】
2009248477.tif 000005
【図３】
2009248477.tif 000006