(57)【要約】【課題】カラーフィルタ用基板のフィルタエレメント領域にフィルタ材料を充填する際にフィルタエレメント領域の縁部及び隅部にフィルタ材料が行き渡るようにすることで、色抜けの無い高品質なカラーフィルタを製造できるようにする。【解決手段】あらかじめマザー基板１２上に形成された隔壁６によって矩形状に区画されたフィルタエレメント領域７にインクジェットヘッド２２からインクを吐出して供給する際に、マザー基板１２をフィルタエレメント領域７の長手方向の一辺に沿って一方に傾斜させてフィルタエレメント領域７にインクを吐出する第１工程と、マザー基板１２をフィルタエレメント領域７の長手方向の一辺に沿って他方に傾斜させてフィルタエレメント領域７にインクを吐出する第２工程と、マザー基板１２を水平にしてフィルタエレメント領域７にインクを吐出する第３工程とをこの順に行うようにしたカラーフィルタ製造方法である。【選択図】図１５
2009069726.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にフィルタエレメントを形成してなるカラーフィルタを製造するカラーフィルタ
製造方法であって、
あらかじめ前記基板上に形成された隔壁によって矩形状に区画されたフィルタエレメン
ト領域にフィルタ材料の液状体を供給する際に、前記基板を傾斜させた状態で前記フィル
タエレメント領域に前記フィルタ材料の液状体を供給する工程を有することを特徴とする
カラーフィルタ製造方法。
【請求項２】
前記基板を前記フィルタエレメント領域の一辺に沿って一方に傾斜させて前記フィルタ
エレメント領域にフィルタ材料の液状体を供給する第１工程と、
前記基板を前記フィルタエレメント領域の前記一辺に沿って他方に傾斜させて前記フィ
ルタエレメント領域にフィルタ材料の液状体を供給する第２工程と、
前記基板を水平にして前記フィルタエレメント領域にフィルタ材料の液状体を供給する
第３工程と、
をこの順に行うことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ製造方法。
【請求項３】
前記第１工程、第２工程、第３工程で、前記フィルタ材料の液滴を前記フィルタエレメ
ント領域に向けて吐出する吐出方向を前記基板の傾斜角度に合わせて傾斜させることを特
徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ製造方法。
【請求項４】
前記第１工程、第２工程、第３工程それぞれの後に、前記基板を加熱して前記フィルタ
エレメント領域に供給されたフィルタ材料の液状体を乾燥させる乾燥工程を有することを
特徴とする請求項２又は３に記載のカラーフィルタ製造方法。
【請求項５】
前記フィルタエレメント領域は長方形状であり、前記第１工程及び前記第２工程におい
て前記基板を傾斜させる方向は、前記フィルタエレメント領域の長手方向であることを特
徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法。
【請求項６】
前記第３工程は、前記フィルタエレメント領域に必要量のフィルタ材料が供給されるま
で繰り返して行われることを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載のカラーフィル
タ製造方法。
【請求項７】
基板にフィルタエレメントを形成してなるカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製
造装置であって、
前記基板を搭載するステージと、前記基板上に形成された隔壁によって矩形状に区画さ
れたフィルタエレメント領域にフィルタ材料の液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記液
滴吐出ヘッドに前記フィルタ材料の液状体を供給するフィルタ材料供給部と、前記ステー
ジに搭載された基板を傾斜させる基板傾斜機構と、前記基板傾斜機構による前記基板の傾
斜を制御する制御手段と、を備え、
前記液滴吐出ヘッドで前記基板の前記フィルタエレメント領域に前記フィルタ材料を吐
出する際に前記基板傾斜機構で前記基板を傾斜させることを特徴とするカラーフィルタ製
造装置。
【請求項８】
前記液滴吐出ヘッドで前記基板の前記フィルタエレメント領域に前記フィルタ材料を吐
出する際に、前記基板を前記フィルタエレメント領域の一辺に沿って一方に傾斜させた状
態と、前記基板を前記フィルタエレメント領域の前記一辺に沿って他方に傾斜させた状態
と、前記基板を水平にした状態とでそれぞれ前記液滴吐出ヘッドから前記フィルタ材料の
液滴を吐出することを特徴とする請求項７に記載のカラーフィルタ製造装置。
【請求項９】
前記液滴吐出ヘッドを傾斜させるヘッド傾斜機構を備え、前記基板傾斜機構で前記基板
を傾斜させる際に前記ヘッド傾斜機構で前記液滴吐出ヘッドを前記基板の傾斜角度に合わ
せて傾斜させることを特徴とする請求項７又は８に記載のカラーフィルタ製造装置。
【請求項１０】
前記フィルタエレメント領域は長方形状であり、前記基板傾斜機構で前記基板を傾斜さ
せる方向は、前記フィルタエレメント領域の長手方向であることを特徴とする請求項７乃
至９のいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
【請求項１１】
前記基板を加熱して前記フィルタ材料を乾燥させる乾燥手段を備えることを特徴とする
請求項７乃至１０のいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置やＥＬ装置などの光学装置に用いられるカラーフィルタを製造
するカラーフィルタ製造方法、及びカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置に
関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に液晶装置、ＥＬ
装置等といった表示装置が広く用いられている。また最近では、表示装置によってフルカ
ラー表示を行うことが多くなっている。液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶
層によって変調される光をカラーフィルタに通すことによって行われる。カラーフィルタ
は、ガラス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（
緑），Ｂ（青）のドット状の各色フィルタエレメントをストライプ配列、デルタ配列又は
モザイク配列等といった所定の配列で並べることによって形成される。
【０００３】
また、ＥＬ装置によってフルカラー表示を行う場合には、例えば、ガラス、プラスチッ
ク等によって形成された基板の表面に、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のドット状の各色
ＥＬ発光層をストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定の配列で並べ
、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピクセルを形成し、これらの電極に印
加する電圧を絵素ピクセルごとに制御することによって当該絵素ピクセルを希望の色で発
光させ、これにより、フルカラーの表示を行う。
【０００４】
ここで、図１を参照して、特許文献１あるいは特許文献２に記載された従来のインクジ
ェット法によるカラーフィルタ製造工程について説明する。図１（ａ）において、ガラス
、プラスチック等によって形成された大面積の基板、いわゆるマザーボード３０１の表面
に設定される複数のパネル領域３０２の内部領域に、図１（ｂ）に示すように、ドット状
に配列された複数のフィルタエレメント３０３をインクジェット法に基づいて形成する。
【０００５】
この場合、マザーボード３０１上には、あらかじめ樹脂材料などによって格子状に形成
された隔壁６が設けられている。この隔壁６によって、パネル領域３０２内にドットマト
リクス状に並んだ複数の方形状の領域（フィルタエレメント領域）７が区画されている。
そして、図１（ｃ）に示すように、複数のノズル３０４を列状に配列して成るノズル列３
０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図１（ｂ）に矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示す
ように、１個のパネル領域３０２に関して複数回（図１では２回）主走査させながら、そ
れらの主走査の間に複数のノズル３０４から選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出
する。これにより、マザーボード３０１上に供給されたインクによってフィルタエレメン
ト領域７が埋められる。その状態でマザーボード３０１を加熱するとインクの溶媒が蒸発
し、フィルタエレメント領域７に色材が固化して定着する。こうして、希望位置にフィル
タエレメント３０３を形成することができる。
【特許文献１】特開２００２−２２１６１６号公報
【特許文献２】特開２０００−３１０７０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のフィルタエレメントの形成工程では、フィルタエレメント領域７が矩形状の凹部
からなるため、フィルタエレメント領域７にインクを供給する際にフィルタエレメント領
域７の底部の縁部及び隅部にインクが十分に行き渡らず、形成したフィルタエレメント３
０３の縁部及び隅部に抜けが生じるおそれがあった。特に、フィルタエレメント領域７は
長方形状の凹部からなるため、従来のインク液滴の吐出による供給では、フィルタエレメ
ント領域７における長手方向の両側の縁部及び隅部にインクが到達し難く、この部分で色
材の抜けが生じ易かった。
【０００７】
本発明は上述の点に鑑みてなされたものでありその目的は、カラーフィルタ用基板のフ
ィルタエレメント領域にフィルタ材料を供給する際にフィルタエレメント領域の縁部及び
隅部にフィルタ材料が行き渡るようにすることで、色抜けの無い高品質なカラーフィルタ
を製造できるカラーフィルタ製造方法、カラーフィルタ製造装置を提供することを目的と
する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため本発明のカラーフィルタ製造方法は、あらかじめ基板上に形成
された隔壁によって矩形状に区画されたフィルタエレメント領域にフィルタ材料の液状体
を供給する際に、基板を傾斜させた状態でフィルタエレメント領域にフィルタ材料の液状
体を供給する工程を有することを特徴とする。
【０００９】
この方法によれば、基板を傾斜させてフィルタ材料の液状体を供給することで、フィル
タ材料の液状体がフィルタエレメント領域の縁部及び隅部にまで確実に行き渡るようにな
る。したがって、フィルタエレメントの縁部及び隅部での抜けを防止でき、色抜けや色ム
ラの無い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００１０】
また、上記のカラーフィルタの製造方法では、基板をフィルタエレメント領域の一辺に
沿って一方に傾斜させてフィルタエレメント領域にフィルタ材料の液状体を供給する第１
工程と、基板をフィルタエレメント領域の一辺に沿って他方に傾斜させてフィルタエレメ
ント領域にフィルタ材料の液状体を供給する第２工程と、基板を水平にしてフィルタエレ
メント領域にフィルタ材料の液状体を供給する第３工程と、をこの順に行うようにしても
よい。
【００１１】
この方法によれば、フィルタエレメント領域の両側の縁部及び隅部にフィルタ材料を行
き渡らせてからフィルタエレメント領域の全体にフィルタ材料を供給することが可能とな
るので、フィルタ材料の抜けが生じ易いフィルタエレメント領域の両側の縁部及び隅部に
フィルタ材料を確実に行き渡らせることができる。したがって、フィルタエレメントの縁
部及び隅部の抜けを防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラーフィルタを製造でき
る。
【００１２】
また、上記のカラーフィルタの製造方法では、第１工程、第２工程、第３工程で、フィ
ルタ材料の液滴をフィルタエレメント領域に向けて吐出する吐出方向を基板の傾斜角度に
合わせて傾斜させるようにしてもよい。
【００１３】
この方法によれば、フィルタエレメント材料をフィルタエレメント領域内で偏り無く吐
出することが可能となるので、フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けをさらに効果的
に防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００１４】
また、上記のカラーフィルタの製造方法では、第１工程、第２工程、第３工程それぞれ
の後に、基板を加熱してフィルタエレメント領域に供給されたフィルタ材料の液状体を乾
燥させる乾燥工程を有してもよい。
【００１５】
この方法によれば、第１工程及び第２工程でフィルタエレメント領域の両側の縁部及び
隅部に行き渡らせたフィルタ材料の液状体を縁部及び隅部に固定することができるので、
フィルタ材料がフィルタエレメント領域の縁部及び隅部に確実に定着する。したがって、
フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けをより効果的に防止でき、色抜けや色ムラの無
い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００１６】
また、上記のカラーフィルタの製造方法では、第１工程及び第２工程において基板を傾
斜させる方向は、長方形状のフィルタエレメント領域の長手方向としてもよい。
【００１７】
この方法によれば、長方形状のフィルタエレメント領域における長手方向の両側の縁部
及び隅部にフィルタ材料を行き渡らせることが可能となる。したがって、基板を水平にし
た状態で行う通常のフィルタ材料の供給工程で生じ易いフィルタエレメントの縁部及び隅
部の抜けを防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００１８】
また、上記のカラーフィルタの製造方法では、第３工程は、フィルタエレメント領域に
必要量のフィルタ材料の液状体が供給されるまで繰り返して行うようにしてもよい。
【００１９】
この方法によれば、フィルタエレメント領域の縁部及び隅部におけるフィルタ材料の抜
けを防止した上で、フィルタエレメント領域に必要量のフィルタ材料を供給することが可
能となる。したがって、フィルタエレメントの膜厚を一定にすることができ、高品質なカ
ラーフィルタを製造できる。
【００２０】
また、本発明のカラーフィルタ製造装置は、基板を搭載するステージと、基板上に形成
された隔壁によって矩形状に区画されたフィルタエレメント領域にフィルタ材料の液滴を
吐出する液滴吐出ヘッドと、液滴吐出ヘッドにフィルタ材料の液状体を供給するフィルタ
材料供給部と、ステージに搭載された基板を傾斜させる基板傾斜機構と、基板傾斜機構に
よる基板の傾斜を制御する制御手段と、を備え、液滴吐出ヘッドで基板のフィルタエレメ
ント領域にフィルタ材料を供給する際に基板傾斜機構で基板を傾斜させることを特徴とす
る。
【００２１】
この構成によれば、基板を傾斜させてフィルタ材料を供給することで、フィルタ材料の
液状体がフィルタエレメント領域の縁部及び隅部に確実に行き渡るようになる。したがっ
て、フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けを防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質
なカラーフィルタを製造できる。
【００２２】
また、上記のカラーフィルタ製造装置では、基板のフィルタエレメント領域にフィルタ
材料を供給する際に、基板をフィルタエレメント領域の一辺に沿って一方に傾斜させた状
態と、基板をフィルタエレメント領域の一辺に沿って他方に傾斜させた状態と、基板を水
平にした状態とでそれぞれ液滴吐出ヘッドからフィルタ材料の液滴を吐出するようにして
もよい。
【００２３】
この構成によれば、フィルタエレメント領域の両側の縁部及び隅部にフィルタ材料を行
き渡らせてからフィルタエレメント領域の全体にフィルタ材料を供給することが可能とな
る。これにより、フィルタ材料の抜けが生じ易いフィルタエレメント領域の両側の縁部及
び隅部にフィルタ材料を確実に供給することができる。したがって、フィルタエレメント
の縁部及び隅部の抜けを防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラーフィルタを製造
できる。
【００２４】
また、上記のカラーフィルタ製造装置では、液滴吐出ヘッドを傾斜させるヘッド傾斜機
構を備え、基板を傾斜させる際に該基板の傾斜角度に合わせて液滴吐出ヘッドを傾斜させ
るようにしてもよい。
【００２５】
この構成によれば、フィルタエレメント材料をフィルタエレメント領域内で偏り無く吐
出することが可能となるので、フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けをさらに効果的
に防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００２６】
また、上記のカラーフィルタ製造装置では、基板傾斜機構で基板を傾斜させる方向は、
長方形状のフィルタエレメント領域の長手方向としてもよい。
【００２７】
この構成によれば、フィルタ材料が達し難い長方形状のフィルタエレメント領域におけ
る長手方向の両側の縁部及び隅部にフィルタ材料を行き渡らせることが可能となる。した
がって、従来のカラーフィルタ製造装置による製造で生じ易いフィルタエレメントの縁部
及び隅部の抜けを防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラーフィルタを製造できる
。
【００２８】
また、上記のカラーフィルタ製造装置では、基板を加熱してフィルタ材料を乾燥させる
乾燥手段を備えてもよい。
【００２９】
この構成によれば、基板を傾斜させることでフィルタエレメント領域の両側の縁部及び
隅部に行き渡らせたフィルタ材料の液状体を縁部及び隅部に固定することができるので、
フィルタ材料がフィルタエレメント領域の縁部及び隅部に確実に定着する。したがって、
フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けをより効果的に防止でき、色抜けや色ムラの無
い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明のカラーフィルタ製造方法及びカラーフィルタ製造装置によれば、フィルタエレ
メントの縁部及び隅部の抜けを効果的に防止でき、色抜けや色ムラの無い高品質なカラー
フィルタを製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。まず、本発明にかかるカラ
ーフィルタの製造方法及び製造装置の実施形態を説明する前に、当該カラーフィルタの製
造方法及び製造装置を用いて製造されるカラーフィルタの構造について説明する。図２は
、本発明に係るカラーフィルタの一実施形態及びその基礎となるマザー基板１２の一実施
形態を示す平面図である。また、図３は、図２（ａ）のＶＩ−ＶＩ線に従った断面部分を
用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図であり、図４は、カラーフィルタにお
けるＲ，Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルの配列例を示す図である。
【００３２】
本実施形態のカラーフィルタ１は、図２（ａ）に示すように、ガラス、プラスチック等
によって形成された方形状の基板２の表面に複数のフィルタエレメント３をドットパター
ン状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、さらに図３（ｄ）に示すように、そ
の上に保護膜４を積層することによって形成されている。なお、図２（ａ）は保護膜４を
取り除いた状態のカラーフィルタ１を平面的に示している。
【００３３】
フィルタエレメント３は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成され
た隔壁６によって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方形状の領域を色材で埋
めることによって形成される。また、これらのフィルタエレメント３は、それぞれが、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれか１色の色材によって形成され、それらの各
色フィルタエレメント３が所定の配列に並べられている。この配列としては、例えば、図
４（ａ）に示すストライプ配列、図４（ｂ）に示すモザイク配列、図４（ｃ）に示すデル
タ配列等が知られている。
【００３４】
ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、
縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色で
ある。そして、デルタ配列は、フィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
３つのフィルタエレメントがＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。
【００３５】
カラーフィルタ１の大きさは、例えば、１．８インチである。また、１個のフィルタエ
レメント３の大きさは、例えば、３０μｍ×１００μｍである。また、各フィルタエレメ
ント３の間の間隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍである。
【００３６】
本実施形態のカラーフィルタ１をフルカラー表示のための光学要素として用いる場合に
は、Ｒ，Ｇ，Ｂ３個のフィルタエレメント３を１つのユニットとして１つの画素を形成し
、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいずれか１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させ
ることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成さ
れた隔壁６はブラックマトリクスとして作用する。
【００３７】
上記のカラーフィルタ１は、例えば、図２（ｂ）に示すような大面積のマザー基板１２
から切り出される。具体的には、まず、マザー基板１２内に設定された複数のカラーフィ
ルタ領域１１のそれぞれの表面にカラーフィルタ１の１個分のパターンを形成し、さらに
それらのカラーフィルタ領域１１の周りに切断用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿っ
てマザー基板１２を切断することにより、個々のカラーフィルタ１が形成される。
【００３８】
ここで、カラーフィルタ１を製造する製造方法の概略について説明する。まず、図３（
ａ）に示すように、マザー基板１２の表面に透光性のない樹脂材料によって隔壁６を形成
する。隔壁６は矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形成される。格子状パターンの格子
穴の部分はフィルタエレメント３が形成される領域、すなわちフィルタエレメント領域７
である。この隔壁６によって形成される個々のフィルタエレメント領域７の矢印Ｂ方向か
ら見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。
【００３９】
隔壁６は、フィルタエレメント領域７に供給されるフィルタエレメント材料の流動を阻
止する機能及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、隔壁６は任意のパター
ニング手法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒー
タによって加熱されて焼成される。
【００４０】
隔壁６の形成後、図３（ｂ）に示すように、フィルタエレメント材料の液滴８を各フィ
ルタエレメント領域７に供給することにより、各フィルタエレメント領域７をフィルタエ
レメント材料１３で埋める。図３（ｂ）において、符号１３ＲはＲ（赤）の色を有するフ
ィルタエレメント材料を示し、符号１３ＧはＧ（緑）の色を有するフィルタエレメント材
料を示し、そして符号１３ＢはＢ（青）の色を有するフィルタエレメント材料を示してい
る。
【００４１】
各フィルタエレメント領域７に所定量のフィルタエレメント材料が充填されると、ヒー
タによってマザー基板１２を例えば７０℃程度に加熱して、フィルタエレメント材料の溶
媒を蒸発させる。この蒸発により、図３（ｃ）に示すようにフィルタエレメント材料１３
の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタとして十分
な膜厚が得られるまで、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴の加熱とを繰り
返して実行する。以上の処理により、最終的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残
留して膜化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント３が形成される。
【００４２】
以上によりフィルタエレメント３が形成された後、それらのフィルタエレメント３を完
全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、
スピンコート法、ロールコート法、リッピング法、又はインクジェット法等といった適宜
の手法を用いて保護膜４を形成する。この保護膜４は、フィルタエレメント３等の保護及
びカラーフィルタ１の表面の平坦化のために形成される。
【００４３】
次に、カラーフィルタ１を製造する製造装置について説明する。図５は、フィルタエレ
メント材料の供給処理を行うためのインクジェット装置１６の構成例を示す斜視図である
。また、図６は、インクジェット装置１６の主要部を拡大して示す斜視図である。インク
ジェット装置１６は、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ色のフィルタエレメント材料を
インクの液滴として、マザー基板１２の各カラーフィルタ領域１１に吐出して付着させる
ための装置である。Ｇ色のフィルタエレメント材料及びＢ色のフィルタエレメント材料の
ためのインクジェット装置もそれぞれに用意されるが、それらの構造は図５及び図６に示
すものと同じである。
【００４４】
インクジェット装置１６は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット２６と
、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘッド位置制御装置１７と、マザー基板１
２の水平面内での位置を制御する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２２を
マザー基板１２に対して主走査移動させる主走査駆動装置１９と、インクジェットヘッド
２２をマザー基板１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、マザー基板１２
をインクジェット装置１６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置２３と、ステージ
４９に搭載されたマザー基板１２を水平面に対して傾斜させる基板傾斜機構８３と、イン
クジェットヘッド２２を水平面に対して傾斜させるヘッド傾斜機構８５と、インクジェッ
ト装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２４とを有する。
【００４５】
ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動装
置２１の各装置、及び基板傾斜機構８３、ヘッド傾斜機構８５の各機構は、いずれもベー
ス９の上に設置される。また、それらの各装置及び各機構は、必要に応じてカバー１４に
よって覆われる。
【００４６】
図７は、インクジェットヘッド２２を拡大して示す斜視図である。インクジェットヘッ
ド２２は、複数のノズル２７を並べることによって形成されたノズル列２８を有する。ノ
ズル２７の数は例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径は例えば２８μｍであり、ノズ
ル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。なお、図２（ａ）及び図２（ｂ）に
おいてカラーフィルタ１及びマザー基板１２に対する主走査方向Ｘ及びそれに直交する副
走査方向Ｙは、図７において図示の通りに設定される。
【００４７】
インクジェットヘッド２２は、ノズル列２８が主走査方向Ｘと交差する方向へ延びるよ
うに位置設定され、主走査方向Ｘへ平行移動する間に、フィルタエレメント材料としての
インクを複数のノズル２７から選択的に吐出することにより、マザー基板１２の所定位置
にフィルタエレメント材料を付着させる。また、インクジェットヘッド２２は副走査方向
Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、インクジェットヘッド２２による主走査位置
を所定の間隔でずらすことができる。
【００４８】
図８は、インクジェットヘッドの内部構造を示す図で、（ａ）は一部破断斜視図、（ｂ
）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す図である。インクジェットヘッド２２は、
ステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接
合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕
切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成される。複数のインク室３
３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。
【００４９】
振動板３１の適所にはインク供給孔３６が形成され、このインク供給孔３６にインク供
給装置３７が接続される。このインク供給装置３７はＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色、例えばＲ
色のフィルタエレメント材料Ｍをインク供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通ってインク室３３に充満する。
【００５０】
ノズルプレート２９には、インク室３３からフィルタエレメント材料Ｍをジェット状に
噴射するためのノズル２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３３を形成す
る面の裏面には、該インク室３３に対応させてインク加圧体３９が取り付けられている。
このインク加圧体３９は、図８（ｂ）に示すように、圧電素子４１並びにこれを挟持する
一対の電極４２ａ及び４２ｂを有する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２ｂへの通電に
よって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室３３の容積が
増大する。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメント材料Ｍが液溜り３４か
ら通路３８を通ってインク室３３へ流入する。
【００５１】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形
状へ戻る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためインク室３３の内部にあるフ
ィルタエレメント材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル２７からマザー基板１２へ向けてフィル
タエレメント材料Ｍが液滴８となって噴出する。なお、ノズル２７の周辺部には、液滴８
の飛行曲がりやノズル２７の孔詰まり等を防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロ
エチレン共析メッキ層から成る撥インク層４３が設けられる。
【００５２】
一方、図６に示すヘッド位置制御装置１７は、インクジェットヘッド２２を面内回転さ
せるαモータ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと平行な軸線回りに揺動
回転させるβモータ４６と、インクジェットヘッド２２を主走査方向と平行な軸線回りに
揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェットヘッド２２を上下方向へ平行移動
させるＺモータ４８を有する。
【００５３】
基板位置制御装置１８は、マザー基板１２を載せるステージ４９と、ステージ４９を矢
印θのように面内回転させるθモータ５１とを有する。また、主走査駆動装置１９は、主
走査方向Ｘへ延びるガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスラ
イダ５３とを有する。スライダ５３は内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレー
ル５２に沿って主走査方向へ平行移動する。
【００５４】
また、副走査駆動装置２１は、副走査方向Ｙへ延びるガイドレール５４と、パルス駆動
されるリニアモータを内蔵したスライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニア
モータが作動するときにガイドレール５４に沿って副走査方向Ｙへ平行移動する。
【００５５】
スライダ５３やスライダ５６内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに
供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、ス
ライダ５３に支持されたインクジェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やステージ４
９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。なお、インクジェットヘッド２２や
ステージ４９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用
いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。
【００５６】
図９は、インクジェット装置１６のベース９の上部を示す概略側面図で、基板傾斜機構
８３とヘッド傾斜機構８５の構成及び動作を説明するための図である。ヘッド傾斜機構８
５は、ガイドレール５２の両端を昇降可能に支持する昇降機構８６を備えている。昇降機
構８６は、軸方向が鉛直方向に延びる一対のシリンダ８６ａ，８６ａで構成され、各シリ
ンダ８６ａの上端にガイドレール５２の両端がそれぞれ支持されている。シリンダ８６ａ
は、油や水などの液体あるいは気体の圧力で進退駆動するように構成したものの他、モー
タの回転により進退駆動するように構成したものでもよい。シリンダ８６ａ，８６ａの軸
方向の進退駆動によって、図９（ｂ）に示すように、ガイドレール５２の両端の高さが変
更される。これにより、インクジェットヘッド２２をガイドレール５２の長手方向（主走
査方向）に沿って所定の角度で傾斜させるようになっている。なお、ヘッド傾斜機構８５
によるインクジェットヘッド２２の傾斜方向は、マザー基板１２上に形成されたフィルタ
エレメント領域７の長手方向と一致する。
【００５７】
基板傾斜機構８３は、マザー基板１２を載置するステージ４９を副走査方向に延びる回
動軸８３ｂの回りでベース９に対して回動可能に支持する機構と、ステージ４９を回動軸
８３ｂの回りで回動させる回動モータ８３ａとを備えて構成されている。回動モータ８３
ａによる回動で、図９（ｂ）に示すように、ステージ４９を主走査方向に沿って所望の角
度に傾斜させることができる。基板傾斜機構８３によるステージ４９及びマザー基板１２
の傾斜方向は、マザー基板１２上に形成されたフィルタエレメント領域７の長手方向と一
致する。なお、基板傾斜機構８３とヘッド傾斜機構８５とによってマザー基板１２とイン
クジェットヘッド２２を傾斜させるタイミングあるいはマザー基板１２とインクジェット
ヘッド２２の傾斜の向き及び傾斜量は、コントロール装置２４によって制御される。
【００５８】
また、ステージ４９を傾斜させた際にステージ４９が撓むことを防止するために、図９
に示すように、ステージ４９に補強用のリブ８８を設けてもよい。リブ８８は、ステージ
４９の裏面の主走査方向に沿って細板状に突出する突出片などとして形成すればよい。
【００５９】
なお、図９に示す基板傾斜機構８３とヘッド傾斜機構８５の構成はいずれも一例であり
、基板傾斜機構８３とヘッド傾斜機構８５の構成としては、これ以外にも、マザー基板１
２とインクジェットヘッド２２とを主走査方向に沿って水平面に対して傾斜させることが
できるものであれば、他の構成であってもよい。例えば、基板傾斜機構８３の他の構成と
して、図１０（ａ）に示すように、ステージ４９の主走査方向における両端を昇降可能に
支持する昇降機構８９を備えてもよい。この場合の昇降機構８９は、軸方向が鉛直方向に
延びる一対のシリンダ８９ａ，８９ａで構成され、各シリンダ８９ａの上端にステージ４
９の主走査方向の両端がそれぞれ支持されている。この昇降機構８９では、シリンダ８９
ａ，８９ａでステージ４９の主走査方向の両端の高さを変更し、ステージ４９上のマザー
基板１２を主走査方向に沿って所定の角度で傾斜させる。
【００６０】
さらに、上記のようにマザー基板１２を傾斜させる基板傾斜機構８３とインクジェット
ヘッド２２を傾斜させるヘッド傾斜機構８５とを別の機構として設ける以外にも、図１１
に示すように、これらを一体に傾斜させるように構成したベース傾斜機構９０を設けても
よい。同図に示すベース傾斜機構９０は、ベース９を副走査方向に延びる回動軸９１の回
りで回動可能に支持する機構と、ベース９を回動軸９１の回りで回動させる回動モータ９
２とを備えて構成される。このベース傾斜機構９０では、ベース９を回動軸９１の回りで
回動させることにより、マザー基板１２とインクジェットヘッド２２とを一体に傾斜させ
ることができる。これによれば、マザー基板１２の面とガイドレール５２の長手方向とが
常に平行な状態を維持して一体に傾斜するようになる。また、マザー基板１２の傾斜の制
御とインクジェットヘッド２２の傾斜の制御とを一の制御で行うことができるので、これ
らの傾斜の制御が簡単に行える。
【００６１】
なお、図６に示すように、ステージ４９には、マザー基板１２を加熱する加熱手段であ
るヒータ８７が設置されている。ヒータ８７は、マザー基板１２を加熱することで、フィ
ルタエレメント領域７に供給されたインクを加熱し、該インクの溶媒を蒸発させる。
【００６２】
図５に示す基板供給装置２３は、マザー基板１２を収容する基板収容部５７と、マザー
基板１２を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、床、地面等といった設置
面に置かれる基台５９と、基台５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を中
心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２に対して回転する第２アーム６３と
、第２アーム６３の先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着パッド６４は
、空気吸引等によってマザー基板１２を吸着できる。
【００６３】
主走査駆動装置１９によって駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２の軌
跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置に、キャッピング装置７６及びクリーニ
ング装置７７が配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設される。クリーニ
ング装置７７はインクジェットヘッド２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８は
インクジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図７参照）から吐出されるインクの液
滴の重量をノズルごとに測定する機器である。そして、キャッピング装置７６はインクジ
ェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズル２７（図７参照）の乾燥を防止するため
の装置である。
【００６４】
インクジェットヘッド２２の近傍には、インクジェットヘッド２２と一体に移動するヘ
ッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設けた支持装置（図示せず）に支持
された基板用カメラ８２がマザー基板１２を撮影できる位置に配置される。
【００６５】
コントロール装置２４は、プロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装置
としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ
６８とを有する。
【００６６】
図１２は、インクジェット装置１６の電気制御系を示すブロック図である。上記プロセ
ッサは、演算処理を行うＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報を記憶す
るメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有する。また、上記のヘッド位置制御装置１７、
基板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動装置２１、基板傾斜機構８３、
ヘッド傾斜機構８５、インクジェットヘッド２２内の圧電素子４１（図８（ｂ）参照）を
駆動するヘッド駆動回路７２の各機器は、入出力インターフェース７３及びバス７４を介
してＣＰＵ６９に接続される。また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプレイ６
８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキャッピング装置７６の各機器も入出力イ
ンターフェース７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
【００６７】
メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等とい
った半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体等
といった外部記憶装置等を含む概念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図４に示す各種のＲ，
Ｇ，Ｂ配列を実現するためのＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色のマザー基板１２内における吐出位
置を座標データとして記憶するための記憶領域や、図６における副走査方向Ｙへのマザー
基板１２の副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９のためのワークエリア
やテンポラリファイル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
【００６８】
ＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基板１２
の所定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐出するための制御を行うもの
であり、具体的な機能実現部として、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリ
ーニング演算部と、キャッピング処理を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤
７８（図５参照）を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、イン
クジェットヘッド２２を傾斜させる際にその傾斜方向及び傾斜角度を演算するヘッド傾斜
演算部と、マザー基板１２を傾斜させる際にその傾斜方向及び傾斜角度を演算する基板傾
斜演算部と、インクジェットによってフィルタエレメント材料を描画するための演算を行
う描画演算部と、を有する。
【００６９】
描画演算部を詳しく分割すれば、インクジェットヘッド２２を描画のための初期位置へ
セットするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ所
定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板１２を
副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、
インクジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作動させてインクすな
わちフィルタエレメント材料を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演
算部等といった各種の機能演算部を有する。
【００７０】
なお、本実施形態では、上記の各機能をＣＰＵ６９を用いてソフト的に実現することに
したが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、
そのような電子回路を用いることも可能である。
【００７１】
図１３は、インクジェット装置１６によるマザー基板１２へのインク吐出工程の流れを
示すフローチャートである。以下、インクジェット装置１６の動作をこのフローチャート
に基づいて説明する。オペレータによる電源投入によってインクジェット装置１６が作動
すると、まず、ステップＳ１において初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニッ
ト２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等が予め決められた初期状態にセット
される。
【００７２】
次に、重量測定タイミングが到来すれば（ステップＳ２でＹＥＳ）、ヘッドユニット２
６を主走査駆動装置１９によって電子天秤７８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノ
ズル２７から吐出されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ステップＳ４）。
そして、ノズル２７のインク吐出特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１
に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。
【００７３】
次に、クリーニングタイミングが到来すれば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニッ
ト２６を主走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所まで移動させて（ステッ
プＳ７）、クリーニング装置７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニングする
（ステップＳ８）。
【００７４】
重量測定タイミングやクリーニングタイミングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ
６でＮＯ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステップＳ９において、基板供
給装置２３を作動させてマザー基板１２をステージ４９へ供給する。具体的には、基板収
容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、
第１アーム６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１２をステージ４９まで搬送
し、さらにステージ４９の適所に予め設けてある位置決めピン５０（図６参照）に押し付
ける。なお、ステージ４９上におけるマザー基板１２の位置ズレを防止するため、空気吸
引等の手段によってマザー基板１２をステージ４９に固定することが望ましい。
【００７５】
次に、基板用カメラ８２によってマザー基板１２を観察しながら、θモータ５１の出力
軸を微小角度単位で回転させることによりステージ４９を微小角度単位で面内回転させて
マザー基板１２を位置決めする（ステップＳ１０）。次に、ヘッド用カメラ８１によって
マザー基板１２を観察しながらインクジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を
演算によって決定し（ステップＳ１１）、主走査駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を
適宜に作動させてインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する（ステップＳ１２
）。
【００７６】
続いて、主走査方向Ｘへの主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される（ステ
ップＳ１３）。ここでは、主走査駆動装置１９が作動してインクジェットヘッド２２が主
走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべきフィル
タエレメント領域７に対応する位置にノズル２７が到達したときに該ノズル２７からイン
クが吐出される。
【００７７】
ここで、このステップＳ１３におけるインク吐出の際の動作についてさらに詳細に説明
する。図１４は、ステップＳ１３の詳細な工程を示すフローチャートである。ステップＳ
１３では、カラーフィルタ領域１１の１列にインクを吐出する。ここでは、まず、インク
ジェット装置１６の基板傾斜機構８３によってマザー基板１２を水平面に対して主走査方
向に沿って一方に傾斜させる。同時にヘッド傾斜機構８５でガイドレール５２を水平面に
対して主走査方向に沿って一方に傾斜させる。（ステップＳ１３−１）。このとき、マザ
ー基板１２とガイドレール５２とを同じ方向に同じ角度で傾斜させ、マザー基板１２の面
とガイドレール５２の長手方向とが平行になるようにする。この状態で、主走査駆動装置
１９によってインクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ一定の速度で移動させる。この
移動中にインクを供給すべきフィルタエレメント領域７に対応する位置にノズル２７が到
達したら、該ノズル２７からフィルタエレメント領域７にインクを吐出する（ステップＳ
１３−２）。
【００７８】
図１５は、フィルタエレメント領域７に吐出されるインクの状態を説明するための図で
ある。ステップＳ３２でノズル２７から吐出されたインクは、図１５（ａ）に示すように
、マザー基板１２の傾斜によってフィルタエレメント領域７の底面と下側の隔壁（傾斜方
向の下側の側壁）６との間の部分（縁部及び隅部）に溜まる（Ｗ１）。この状態でヒータ
８７によりマザー基板１２を加熱する（ステップＳ１３−３）。これにより、縁部及び隅
部に溜まったインクＷ１が加熱されて溶媒が蒸発する。こうして、フィルタエレメント領
域７の長手方向の一方の縁部及び隅部に色材が固定される。
【００７９】
次に、ヘッド傾斜機構８５によってガイドレール５２を主走査方向に沿ってステップＳ
１３−１とは反対の向きに傾斜させる。同時に、基板傾斜機構８３でマザー基板１２を主
走査方向に沿ってステップＳ１３−１とは反対の向きに傾斜させる。（ステップＳ１３−
４）。このときも、ガイドレール５２とマザー基板１２とを同じ角度で傾斜させ、マザー
基板１２の面とガイドレール５２の長手方向とが平行になるようにする。
【００８０】
この状態で、主走査駆動装置１９によりインクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ一
定の速度で移動させ、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメント領域７に対応
する位置にノズル２７が到達したら、該ノズル２７からインクを吐出する（ステップＳ１
３−５）。なお、このときのインクジェットヘッド２２の移動の向きは、主走査方向Ｘの
どちら向きでもよい。ステップＳ１３−２と同じ向きに移動させる場合は、インクジェッ
トヘッド２２を予め初期位置へ戻しておく。
【００８１】
このとき、インクジェットヘッド２２から吐出されたインクは、図１５（ｂ）に示すよ
うに、マザー基板１２の傾斜によってフィルタエレメント領域７の底面と下側の隔壁（傾
斜方向の下側の側壁）６との間の部分（縁部及び隅部）に溜まる（Ｗ２）。この状態でヒ
ータ８７によりマザー基板１２を加熱する（ステップＳ１３−６）。これにより、縁部及
び隅部に溜まったインクＷ２が加熱されて溶媒が蒸発する。こうして、フィルタエレメン
ト領域７の長手方向の他方の縁部及び隅部にインクが固定される。
【００８２】
続いて、基板傾斜機構８３によるマザー基板１２の傾斜状態を解除し、マザー基板１２
を水平に戻す。同時に、ヘッド傾斜機構８５によるガイドレール５２の傾斜状態を解除し
、ガイドレール５２を水平に戻す（ステップＳ１３−７）。この状態で、主走査駆動装置
１９によりインクジェットヘッド２２を主走査方向Ｘへ一定の速度で移動させ、その移動
中、インクを供給すべきフィルタエレメント領域７に対応する位置にノズル２７が到達し
たら、該ノズル２７からインクを吐出する（ステップＳ１３−８）。なお、このときのイ
ンクジェットヘッド２２の移動の向きは、主走査方向Ｘのどちら向きでもよい。ステップ
Ｓ１３−２と同じ向きに移動させる場合は、あらかじめインクジェットヘッド２２を初期
位置に配置してそこから移動させれば良い。
【００８３】
このとき、インクジェットヘッド２２から吐出されたインクは、図１５（ｃ）に示すよ
うに、ステップＳ１３−２及びステップＳ１３−５でのインクの吐出でフィルタエレメン
ト領域７の長手方向の両側の縁部及び隅部に固定されたインクＷ１，Ｗ２の上部や該イン
クＷ１，Ｗ２の間に供給され、フィルタエレメント領域７の全体に溜まる（Ｗ３）。ここ
で、フィルタエレメント領域７内のインクが所定の膜厚に達していない場合は（ステップ
Ｓ１３−９）、再度、ステップＳ１３−８の工程を行う。ステップＳ１３−８の工程は、
フィルタエレメント領域７内のインクが所望の膜厚に達するまで繰り返して行う。フィル
タエレメント領域７内のインクが所望の膜厚に達したら、ヒータ８７によってマザー基板
１２を加熱する。これにより、インクＷ３が加熱されて溶媒が蒸発する（ステップＳ１３
−１０）。こうして、フィルタエレメント領域７の全体にインクが積層される。
【００８４】
ステップＳ１３−１０でのヒータによる加熱後、ヒータ８７の温度を上げてさらにマザ
ー基板１２を加熱することで、フィルタエレメント領域７内のインクを焼成する（ステッ
プＳ１３−１１）。こうして、カラーフィルタ領域１１の１列分のインク吐出の工程が終
了する。
【００８５】
ここで、図１３に戻り、ステップＳ１３より後の工程を説明する。ステップＳ１３で、
カラーフィルタ領域１１の１列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド２２
は副走査駆動装置２１で副走査方向に駆動されて、次列のカラーフィルタ領域１１の初期
位置へ搬送される（ステップＳ１６）。そして、当該列のカラーフィルタ領域１１に対し
て主走査及びインク吐出を繰り返してフィルタエレメント領域７内にフィルタエレメント
を形成する（ステップＳ１３）。
【００８６】
その後、マザー基板１２内の全てのカラーフィルタ領域１１に関してＲ，Ｇ，Ｂの１色
、例えばＲ１色のフィルタエレメント３が形成されると（ステップＳ１５でＹＥＳ）、基
板供給装置２３あるいは別の搬送機器によって処理後のマザー基板１２が外部へ排出され
る（ステップＳ１７）。その後、オペレータによって処理終了の指示がなされない限り（
ステップＳ１８でＮＯ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基板１２に対するＲ１色に関
するインク吐着作業を繰り返して行う。
【００８７】
オペレータから作業終了の指示があると（ステップＳ１８でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９はイ
ンクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の所まで搬送して、キャッピング装置７
６によってインクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施す（ステップＳ１９
）。
【００８８】
以上により、カラーフィルタを構成するＲ，Ｇ，Ｂ３色のうちの第１色、例えばＲ色に
ついてのパターニングが終了し、その後、マザー基板１２をＲ，Ｇ，Ｂの第２色、例えば
Ｇ色をフィルタエレメント材料とするインクジェット装置１６へ搬送してＧ色のパターニ
ングを行い、さらに最終的にＲ，Ｇ，Ｂの第３色、例えばＢ色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置１６へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これにより、スト
ライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂのドット配列を有するカラーフィルタ１（図２（
ａ））が複数個形成されたマザー基板１２が製造される。このマザー基板１２をカラーフ
ィルタ領域１１ごとに切断することにより、１個のカラーフィルタ１が複数個切り出され
る。
【００８９】
以上説明したように、本実施形態のカラーフィルタ製造方法及びカラーフィルタ製造装
置によれば、マザー基板１２を傾斜させてフィルタエレメント領域７にインクを供給する
ことで、インクがフィルタエレメント領域７の縁部及び隅部にまで確実に行き渡るように
なる。したがって、フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けを防止でき、色抜けや色ム
ラの無い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００９０】
本実施形態のカラーフィルタの製造方法では、マザー基板１２をフィルタエレメント領
域７の一辺に沿って一方に傾斜させてインクを供給する工程（以下、「第１工程」という
）と、マザー基板１２をフィルタエレメント領域７の一辺に沿って他方に傾斜させてイン
クを供給する工程（以下、「第２工程」という）と、マザー基板１２を水平にしてインク
を供給する工程（以下、「第３工程」という）とをこの順に行うので、先にフィルタエレ
メント領域７の上記一辺に対する両側の縁部及び隅部にインクを行き渡らせてから、フィ
ルタエレメント領域７の全体にインクを供給することが可能となる。これにより、フィル
タエレメント領域７の両側の縁部及び隅部にインクを確実に行き渡らせることができる。
したがって、フィルタエレメントの縁部及び隅部の抜けを防止でき、色抜けや色ムラの無
い高品質なカラーフィルタを製造できる。
【００９１】
本実施形態のカラーフィルタの製造方法では、上記第１工程、第２工程、第３工程それ
ぞれの後にマザー基板１２を加熱してフィルタエレメント領域７に供給されたインクを乾
燥させる乾燥工程を有しているので、マザー基板１２を傾斜させることでフィルタエレメ
ント領域７の縁部及び隅部に行き渡らせたインクを縁部及び隅部で固化させることができ
、インクがフィルタエレメント領域の縁部及び隅部に確実に定着する。
【００９２】
上記第１工程及び第２工程においてマザー基板１２を傾斜させる方向は、長方形状のフ
ィルタエレメント領域７の長手方向なので、マザー基板１２を水平にした状態で行う通常
のインクの供給工程ではインクが行き渡り難いフィルタエレメント領域７における長手方
向の両側の縁部及び隅部に十分なインクを行き渡らせることが可能となる。
【００９３】
上記実施形態で示した基板傾斜機構８３あるいはヘッド傾斜機構８５の構成は一例であ
る。基板傾斜機構８３は、インクジェットヘッド２２からマザー基板１２にインクを吐出
する際にマザー基板１２を所定の角度で傾斜した状態に維持できる機構であれば、他の構
成であってもよい。同様にヘッド傾斜機構８５も、インクジェットヘッド２２からマザー
基板１２にインクを吐出する際にインクジェットヘッド２２を所定の角度で傾斜した状態
に維持できる機構であれば、他の構成であってもよい。
【００９４】
上記実施形態で示したカラーフィルタの製造方法では、第１工程、第２工程、第３工程
の後にそれぞれフィルタエレメント領域７に供給されたインクを乾燥させる乾燥工程を有
しているが、各乾燥工程は省略することも可能である。
【００９５】
上記実施形態では、マザー基板１２及びインクジェットヘッド２２を傾斜させる方向は
、マザー基板１２に形成したフィルタエレメント領域７の長手方向と一致させているが、
マザー基板１２及びインクジェットヘッド２２を傾斜させる方向はこれに限定されない。
したがって、マザー基板１２及びインクジェットヘッド２２をフィルタエレメント領域７
の短手方向に傾斜させることも可能であるし、フィルタエレメント領域７の底面の一の隅
部が最下位置になるようにフィルタエレメント領域７の一辺に対して斜め方向に傾斜させ
ることも可能である。
【００９６】
上記実施形態では、フィルタエレメント領域７に積層されたインクの膜厚が所定の厚さ
に達していない場合は第３工程を繰り返して行う場合を示したが、第３工程は必ずしも繰
り返さなくてもよい。
【００９７】
上記実施形態では、インクジェット装置１６によるマザー基板１２へのインク吐出工程
として、マザー基板１２上のカラーフィルタ領域１１の１列ごとにインクを吐出する場合
を説明したが、これ以外にも、一回のインク吐出工程（上記のステップＳ１３に相当する
工程）で、マザー基板１２の全体、すなわちマザー基板１２上の全カラーフィルタ領域１
１にインクを吐出するようにインク吐出工程を行うことも可能である。
【００９８】
上記実施形態では、第１工程乃至第３工程を一台のカラーフィルタ製造装置で順に行う
場合を示したが、これ以外にも、上記の三工程を行うカラーフィルタ製造装置をそれぞれ
別の装置として構成することも可能である。その場合は、例えば、マザー基板１２及びイ
ンクジェットヘッド２２を一方に傾斜させた状態で支持可能な装置と、マザー基板１２及
びインクジェットヘッド２２を他方に傾斜させた状態で支持可能な装置と、マザー基板１
２及びインクジェットヘッド２２を水平な状態で支持可能な装置との三台の装置を備え、
これら三台の装置で順にマザー基板１２へのインクの吐出を行うようにして、本発明にか
かるカラーフィルタ製造方法を実施すればよい。
【００９９】
また本実施形態においては、フィルタエレメントとしてＲ，Ｇ，Ｂを用いたが、フィル
タエレメントは、Ｒ，Ｇ，Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン），Ｍ（マゼン
ダ），Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィ
ルタエレメント材料に代えて、Ｃ，Ｍ，Ｙの色を有するフィルタエレメント材料を用いれ
ばよい。
【０１００】
以上本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく
、特許請求の範囲、及び明細書、図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変
形が可能である。なお、直接明細書及び図面に記載のない何れの形状・構造・材質であっ
ても、本願発明の作用・効果を奏する以上、本願発明の技術的思想の範囲内である。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す図である。
【図２】本発明に係るカラーフィルタの一実施形態及びマザー基板の一実施形態を示す平面図である。
【図３】カラーフィルタの製造工程を模式的に示す図である。
【図４】カラーフィルタにおけるＲ，Ｇ，Ｂ３色の絵素ピクセルの配列例を示す図である。
【図５】本発明の一実施形態に係るインクジェット装置を示す斜視図である。
【図６】インクジェット装置の主要部を拡大して示す斜視図である。
【図７】インクジェットヘッドを拡大して示す斜視図である。
【図８】インクジェットヘッドの内部構造を示す図である。
【図９】基板傾斜機構とヘッド傾斜機構の構成及び動作を説明するための図である。
【図１０】基板傾斜機構とヘッド傾斜機構の他の構成例を示す図である。
【図１１】ベースを傾斜させるベース傾斜機構の構成例を示す図である。
【図１２】インクジェットヘッド装置に用いられる電気制御系を示すブロック図である。
【図１３】インクジェット装置によるマザー基板へのインク吐出工程の流れを示すフローチャートである。
【図１４】インクジェットヘッドの移動とインク吐出の手順の流れを示すフローチャートである。
【図１５】フィルタエレメント領域に吐出されるインクの状態を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１      カラーフィルタ
２      基板
３      フィルタエレメント
４      保護膜
６      隔壁
７      フィルタエレメント領域
８      液滴
９      ベース
１１    カラーフィルタ領域
１２    マザー基板
１３    フィルタエレメント材料
１４    カバー
１６    インクジェット装置（カラーフィルタ製造装置）
１７    ヘッド位置制御装置
１８    基板位置制御装置
１９    主走査駆動装置
２１    副走査駆動装置
２２    インクジェットヘッド
２３    基板供給装置
２４    コントロール装置
２６    ヘッドユニット
２７    ノズル
２８    ノズル列
２９    ノズルプレート
３１    振動板
３２    仕切部材
３３    インク室
３６    インク供給孔
３７    インク供給装置
３８    通路
３９    インク加圧体
４１    圧電素子
４２ａ  電極
４３    撥インク層
４４    モータ
４６    モータ
４７    モータ
４８    モータ
４９    ステージ
５０    ピン
５１    モータ
５２    ガイドレール
５３    スライダ
５６    スライダ
５７    基板収容部
５８    ロボット
５９    基台
６１    昇降軸
６２    アーム
６３    アーム
６４    吸着パッド
６６    コンピュータ本体部
６７    キーボード（入力装置）
６８    ディスプレイ
７１    メモリ（情報記憶媒体）
７２    ヘッド駆動回路
７３    入出力インターフェース
７４    バス
７６    キャッピング装置
７７    クリーニング装置
７８    電子天秤
８１    ヘッド用カメラ
８２    基板用カメラ
８３    基板傾斜機構
８３ａ  回動モータ
８３ｂ  回動軸
８５    ヘッド傾斜機構
８６    昇降機構
８６ａ  シリンダ
８７    ヒータ
８８    リブ
８９    昇降機構
８９ａ  シリンダ
９０    ベース傾斜機構
９１    回動軸
９２    回動モータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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