(57)【要約】【課題】免疫応答抑制活性を示し、副作用が低減された化合物であって、例えば、全身性エリテマトーデス、慢性リウマチ様関節炎、Ｉ型糖尿病、炎症性腸疾患、胆汁性肝硬変、ブドウ膜炎、多発性硬化症、又は他の障害を含む広範囲の様々な自己免疫疾患、或いは慢性炎症性疾患、又はガン、リンパ腫若しくは白血病、或いは臓器又は組織の移植に対する抵抗性若しくは移植拒絶を防止又は処置するための化学療法において有用な化合物を提供する。【解決手段】Ｓ１Ｐ１／Ｅｄｇ１受容体アゴニスト作用を有する新規アミン化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグが提供される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2009269819.tif 000210
［一般式（１）中、
Ｇ１は、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ１で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ１で置換される場合のＸＧ１は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ１は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ１）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ１は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｇ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ２で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ２で置換される場合のＸＧ２は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ２は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ２）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ２は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｇ３は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ３で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ３で置換される場合のＸＧ３は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ３は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ３）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ３は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｇ４及びＧ５は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表し；
ＱＡｒは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は１−２個のＸＱＡｒで置換されていてもよく、２個のＸＱＡｒで置換される場合のＸＱＡｒは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＡｒは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸＱＡｒ、−ＳＲＸＱＡｒ、又は−ＲＸＱＡｒを表し；
ＲＸＱＡｒは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＱＢは、ＢＱ１、ＢＱ２、Ｂ３又はＢ４を表し；
ＢＱ１は、炭素原子で構成される３ないし８員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし８員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし８員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢＱ１で置換されていてもよく、２個以上のＸＢＱ１で置換される場合のＸＢＱ１は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢＱ１は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ１）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ１、−ＯＧＸＢ１及び−ＮＧＸＢ１ＧＸＢ１’からなる群から選ばれる基を表すか、或いは下記式（Ｂ３−１）〜（Ｂ３−５）
【化２】
2009269819.tif 000211
からなる群から選ばれる基（各式中、矢印は結合位置を表す）を表し；
ＧＸＢ１及びＧＸＢ１’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＲＸＢＱ１は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＢＱ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基、又はＣ２−Ｃ４アルキニレン基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ２で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ２で置換される場合のＸＢ２は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ２は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ２）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ２、−ＯＧＸＢ２及び−ＮＧＸＢ２ＧＸＢ２’からなる群から選ばれる基を表し；
ＧＸＢ２及びＧＸＢ２’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＲＸＢＱ２は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｂ３は、飽和単環式炭化水素環化合物、部分飽和単環式炭化水素環化合物、及び単環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において環内の１−２の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が３ないし８である化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ３で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ３で置換される場合のＸＢ３は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ３は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ３）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ３、−ＯＧＸＢ３及び−ＮＧＸＢ３ＧＸＢ３’からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＸＢＱ３は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＧＸＢ３及びＧＸＢ３’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｂ４は、飽和二環式炭化水素環化合物、部分飽和二環式炭化水素環化合物、及び二環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において、環内の１−５の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が７ないし１１である化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ４で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ４で置換される場合のＸＢ４は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ４は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ２Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ４）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ４、−ＯＧＸＢ４及び−ＮＧＸＢ４ＧＸＢ４’からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＸＢＱ４は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＧＸＢ４及びＧＸＢ４’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＤは、単結合、或いは１−６個のフッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基を表し；
ＱＥは、−ＯＨ、−ＣＯ２ＲＱＥ、−ＣＨ２ＣＯ２ＲＱＥ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ２Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＱＥ）２及び１Ｈ−テトラゾール−５−イル基からなる群から選ばれる基を表すか、或いは下記式（Ｂ３−１）〜（Ｂ３−５）
【化３】
2009269819.tif 000212
からなる群から選ばれる基（各式中、矢印は結合位置を表す）を表し；
ＲＱＥは、独立に、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＱＥ１）（ＲＱＥ２）、又は−Ｃ（ＲＱＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＱＥＲＱＥ４を表し；
ｍは整数２又は３を表し；
ＲＱＥ１及びＲＱＥ２は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表すか、或いはＲＱＥ１とＲＱＥ２が繋がって窒素原子とともに３〜６員環を形成して飽和の含窒素シクロアルキル基を示すか、又は窒素原子とともにモルホリノ基を形成し；
ＲＱＥ３は、独立に、水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表し；
ＲＱＥ４はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；ＡＱＥは単結合又は酸素原子を表し；
ＱＹは、ＱＷ−ＱＴ−ＱＺ−（ＣＧ６Ｇ７）ｎ−ＱＶ−を表し；
ＱＷは、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ＮＲＱＷＲＱＷ２で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ＮＲＱＷＲＱＷ２で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル基において環内炭素原子の１−２個が窒素原子で置換されていてもよい基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基を表し、但し該単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基は１−２個のＸＱＷで置換されていてもよく、２個のＸＱＷで置換される場合のＸＱＷは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＷは、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸＱＷ、−ＳＲＸＱＷ、又は−ＲＸＱＷを表し；
ＲＸＱＷは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＲＱＷ、ＲＱＷ２は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＴは、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＱＴ−、−ＮＲＱＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＱＴ−を表し；
ＲＱＴは、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＺは、単結合であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキレン基若しくはＣ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該ＱＺは更に１−２個のＸＱＺで置換されていてもよく、２個のＸＱＺで置換される場合のＸＱＺは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＺは、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸＱＺ、−ＳＲＸＱＺ、又は−ＲＸＱＺを表し；
ＲＸＱＺは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基（但し、該Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基はフッ素原子で置換されていてもよい。）を表し；
Ｇ６及びＧ７は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又は１−５個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＶは、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＱＶ− 、−ＣＲＱＶＲＱＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＣＲＱＶＯＲＱＶ２−、−ＣＲＱＶ（ＯＲＱＶ２）ＣＲＱＶ３ＲＱＶ４−、−ＣＲＱＶＲＱＶ２ＣＲＱＶ３（ＯＲＱＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＱＶ＝ＣＲＱＶ２−、−ＮＲＱＶ−、−ＮＲＱＶＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＲＱＶ−、又はフェニレンを表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基を表し；
ＲＱＶ、ＲＱＶ２、ＲＱＶ３、及びＲＱＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ｎは、０から２の整数を表し、但し、ｎが０を表す場合は単結合を意味し、；
ｍ１は、１から３の整数を表し；
ｍ２は、０から３の整数を表す。但し、ｍ２が０を表す場合は単結合を意味する。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項２】
下記式（２）
【化４】
2009269819.tif 000213
［一般式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｒ４及びＲ５は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表し；
Ａｒは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は１−２個のＸ１で置換されていてもよく、２個のＸ１で置換される場合のＸ１は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ１は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ１、−ＳＲＸ１、又は−ＲＸ１を表し；
ＲＸ１は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
Ｂは、Ｂ１又はＢ２を表し；
Ｂ１は、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし７員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−２個のＸ２で置換されていてもよく、２個のＸ２で置換される場合のＸ２は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ２は、水酸基、又はカルボキシル基を表し；
Ｂ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基、又はＣ２−Ｃ４アルキニレン基を表し、これらの基は１−２個のＸ３で置換されていてもよく、２個のＸ３で置換される場合のＸ３は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ３は、フッ素原子、カルボキシル基、又は水酸基若しくはカルボキシル基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｄは、単結合、メチレン基、又はエチレン基を表し；
Ｅは、水酸基、−ＣＯ２ＲＥ、又は１Ｈ−テトラゾール−５−イル基を表し；
ＲＥは、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＥ１）（ＲＥ２）、又は−Ｃ（ＲＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＥＲＥ４を表し；
ｍは整数２又は３を表し；
ＲＥ１及びＲＥ２は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表すか、或いはＲＥ１とＲＥ２が繋がって窒素原子とともに３〜６員環を形成している飽和の含窒素シクロアルキル基を示すか又は窒素原子とともにモルホリノ基を形成し；
ＲＥ３は水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表し；
ＲＥ４はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＡＥは単結合又は酸素原子を表し；
Ｙは、Ｗ−Ｔ−Ｚ−（ＣＲ６Ｒ７）ｎ−Ｖ−を表し；Ｗは、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ＮＲＷＲＷ２で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ＮＲＷＲＷ２で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルコキシ基、又はＣ３−Ｃ７シクロアルキル基において環内炭素原子の１−２個が窒素原子で置換されていてもよい基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表すか、或いは単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基を表し、但し該単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基は１−２個のＸ４で置換されていてもよく、２個のＸ４で置換される場合のＸ４は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ４は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ４、−ＳＲＸ４、又は−ＲＸ４を表し；
ＲＸ４は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＲＷ及びＲＷ２は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し；
Ｔは、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＴ−、−ＮＲＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＴ−を表し；
ＲＴは、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し；
Ｚは、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該Ｚは更に１−２個のＸ５で置換されていてもよく、２個のＸ５で置換される場合のＸ５は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ５は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸ５、−ＳＲＸ５、
又は−ＲＸ５を表し；
ＲＸ５は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基（但し該Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基はフッ素原子で置換されていてもよい。）を表し；
Ｒ６及びＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｖは、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶＯＲＶ２−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、−ＮＲＶ−、−ＮＲＶＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＶ−を表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基を表し；
ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、及びＲＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ｎは、０から２の整数を表し、但し、ｎが０を表す場合は単結合を意味し；
ｍ１は、１から３の整数を表し；
ｍ２は、０から３の整数を表す。但し、ｍ２が０を表す場合は単結合を意味する。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項３】
下記式（３）
【化５】
2009269819.tif 000214
［一般式（３）中、Ｗ、Ｔ、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｄ、Ｅは前記と同義であり、Ｂ３１は、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、Ｚ３は、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、チアジン、ペンタレン、アズレン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、及びイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該Ｚ３は更にフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよい。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項４】
下記式（４）
【化６】
2009269819.tif 000215
［一般式（４）中、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥは前記と同義である。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項５】
下記式（５）
【化７】
2009269819.tif 000216
［一般式（５）中、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥは前記と同義である。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項６】
Ｔが、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＮＲＴ−、−ＮＲＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＴ−であり、Ｖが、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶＯＲＶ２−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、−ＮＲＶ−、−ＮＲＶＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＶ−を表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である請求項５に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項７】
Ｗが、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基を表すか、又はフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン、ナフタレン、ベンゾチオフェン、チオフェン、イソキノリン、並びにインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基である請求項３〜６のいずれかに記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項８】
Ｗが、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン、ナフタレン、ベンゾチオフェン、チオフェン、イソキノリン、並びにインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基である請求項７に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項９】
Ｗが、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、又は１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基である請求項７に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項１０】
Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又はフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン、チオフェン、フラン、ピリジン、オキサゾール、チアゾール、ベンゾチオフェン、イソキノリン、並びにインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基である請求項３〜６のいずれかに記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項１１】
Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン並びにチオフェンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基である請求項１０に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項１２】
Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されている請求項１０又は１１に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項１３】
Ｅが−ＣＯ２ＲＥであり、Ｂが炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環であり、Ｖが−Ｏ−であり、Ｗがフェニレンであり、Ｚがフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である請求項２に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項１４】
Ｂが炭素原子で構成される３ないし５員の飽和環である請求項１３に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【請求項１５】
請求項２〜１４のいずれかに記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグを有効成分として含む医薬。
【請求項１６】
請求項２〜１４のいずれかに記載の化合物又は薬理学上許容されるその塩を有効成分として含むＳ１Ｐ１ ／Ｅｄｇ１ 受容体活性化剤。
【請求項１７】
哺乳動物の自己免疫疾患の予防及び／又は治療剤である請求項２〜１４のいずれかに記載の医薬。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｓ１Ｐ１／Ｅｄｇ１受容体アゴニスト作用を有し、その結果二次リンパ組織においてリンパ球隔離を生じさせることによって免疫抑制活性を示す医薬の有効成分として有用な新規アミン化合物及び該化合物の製造中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、関節リウマチやその他の自己免疫疾患等の治療においては、異常な免疫反応によって生じる炎症反応に対してステロイドなどの抗炎症薬が使用されてきたが、これらは対症療法であり根本的治療法ではない。一方、免疫応答を抑制する方法の開発は、臓器及び細胞移植における拒絶反応を抑制したり、種々の自己免疫疾患を治療及び予防する上でも極めて重要である。実際、免疫抑制剤は、全身性エリテマトーデス、慢性リウマチ様関節炎、Ｉ 型糖尿病、炎症性腸疾患、胆汁性肝硬変、ブドウ膜炎、多発性硬化症、又は他の障害（例えば、クローン病、潰瘍性大腸炎、水疱性天疱瘡、類肉腫症、乾癬、自己免疫筋炎、ヴェーゲナー肉芽腫症、魚鱗癬、グレーブズ眼症、アトピー性皮膚炎、又は喘息など）を含む広範囲の様々な自己免疫疾患或いは慢性炎症性疾患において有効であることが示されている。
【０００３】
自己免疫疾患のそれぞれの根本的な病因は異なると考えられるが、これらは共通して、様々な自己抗体及び／又は自己反応性リンパ球の出現を伴う。そのような自己反応性は、正常な免疫系が機能する恒常性制御の喪失が原因の一部である。同様に、骨髄移植又は臓器移植の後では、宿主のリンパ球が異物組織の抗原を認識し、抗体、サイトカイン及び細胞傷害性リンパ球を含む細胞性応答並びに液性応答の両方を生じさせることで移植片拒絶反応が起こる。
【０００４】
自己免疫反応のプロセス又は拒絶反応のプロセスを通じ、炎症性細胞及び／又は炎症性細胞が放出する媒介因子による組織破壊が引き起こされる。ＮＳＡＩＤｓなどの抗炎症剤は、これらの媒介因子の作用及び分泌を阻止する作用を持つが、疾患の免疫学的基礎を改善することはできない。
【０００５】
シクロスポリンＡやタクロリムスは、移植片臓器の拒絶を抑制するために使用されている薬物である。シクロスポリンＡやタクロリムスは、移植片の異物タンパク質を拒絶するために働く生体内の免疫反応を阻害することによって作用する。シクロスポリンＡやタクロリムスは、移植片の拒絶を遅らせるか、又は抑制することにおいて有効であるが、腎毒性、神経毒性、胃腸障害を含む望ましくない副作用をいくつか生じさせることが知られている。従って、これらの副作用を有しない免疫抑制剤は依然として開発されていないのが現状である。このような背景から、毒性が低く、優れた免疫抑制作用を有する化合物を見出すことが試みられている。
【０００６】
免疫抑制化合物ＦＴＹ７２０は、臨床試験が現在行われているリンパ球隔離剤である。
【０００７】
ＦＴＹ７２０のスフィンゴシン１−リン酸受容体に対するアゴニスト作用によりリンパ節及びパイエル板におけるリンパ球（Ｔ細胞及びＢ細胞）の隔離が、リンパ枯渇を伴うことなく誘導される。即ちスフィンゴシン１−リン酸受容体アゴニストは全身的な免疫抑制を引き起こすことなく、循環から二次リンパ組織への再分布に由来するリンパ球減少を誘導する免疫調節物質となりうる。そのような免疫抑制は、自己免疫障害の処置又は臓器移植後の拒絶を抑制するために望ましい。
【０００８】
しかしながら、ＦＴＹ７２０は投与後に徐脈が認められるとの副作用も報告されており（非特許文献１）、使用には十分な注意が必要である。そこで、高い効果を示し、かつ安全性の高い薬剤が求められている。
【０００９】
スフィンゴシン１−リン酸は、スフィンゴシン代謝における中間代謝物にすぎないとみなされていたが、細胞増殖促進作用や細胞運動機能の制御作用を有することが報告されるに至り、アポトーシス作用、細胞形態調節作用、血管収縮などの多彩な生理作用を発揮する新しい脂質メディエーターであることが明らかとなってきている。スフィンゴシン１−リン酸は、細胞膜表面上に存在する複数のＧタンパク質共役受容体を介して作用する。現在５つのサブタイプのスフィンゴシン１−リン酸受容体（Ｓ１Ｐ１、Ｓ１Ｐ２、Ｓ１Ｐ３、Ｓ１Ｐ４、Ｓ１Ｐ５、これらはまた、別名、内皮分化遺伝子Ｅｄｇ１、Ｅｄｇ５、Ｅｄｇ３、Ｅｄｇ６、Ｅｄｇ８として知られている）が特定されており、これらは広範囲の細胞分布及び組織分布を有し、また、ヒト及び齧歯類種ではよく保存されている。Ｓ１Ｐ１及びＳ１Ｐ３のリガンド誘導による活性化は、血管形成、走化性及び接着接合組立てを促進することが示されており、これに対して、Ｓ１Ｐ２のアゴニスト作用は神経突起の退縮を促進し、また、細胞の走化性を阻害する。Ｓ１Ｐ４は造血系の細胞及び組織に局在化し、これに対して、Ｓ１Ｐ５の発現は主としてニューロン受容体であり、若干の発現がリンパ組織で認められる。
【００１０】
動物へのスフィンゴシン１−リン酸の投与は、二次リンパ器官への末梢血リンパ球の全身的な隔離を誘導し、従って、治療的に有用な免疫抑制をもたらす。しかしながら、スフィンゴシン１−リン酸はまた、治療剤としてのその有用性を制限する心臓血管作用及び気管支収縮作用を有している。スフィンゴシン１−リン酸の静脈内投与は、ラットにおいて心拍数を低下させる（非特許文献２）。スフィンゴシン１−リン酸の望ましくない作用は、すべてのＳ１Ｐ受容体に対する非選択的なアゴニスト活性に起因するものとされている。
【００１１】
こうした背景から、Ｓ１Ｐ受容体サブタイプ選択的な化合物の開発が望まれるようになってきている。
【００１２】
尚、本発明の化合物と同様の作用を有する化合物としては、特許文献１〜３に記載された化合物が知られているが、いずれも本発明の化合物とは構造上の特徴が異なる。
【特許文献１】国際公開第ＷＯ０３／１０５７７１号パンフレット
【特許文献２】国際公開第ＷＯ０５／０５８８４８号パンフレット
【特許文献３】国際公開第ＷＯ０２／０４４７８０号パンフレット
【非特許文献１】Ｊ．Ａｍ．Ｓｏｃ．Ｎｅｐｈｒｏｌ．、１３、１０７３（２００２）
【非特許文献２】Ｊｐｎ．Ｊ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．、８２、３３８（２０００）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の課題は、副作用の少ない免疫応答を抑制する新規化合物を提供することにある。詳しくは、Ｓ１Ｐ１受容体アゴニストである新規化合物、即ち、二次リンパ組織においてリンパ球隔離を生じさせることによって免疫抑制活性を有する新規化合物を提供することにある。また、本発明の別の課題は、該化合物を有効成分として含有する医薬を提供することにある。詳しくは、自己免疫疾患等の根治的治療剤及び／又は予防剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記課題を解決するために、本発明者らは、Ｓ１Ｐ１／Ｅｄｇ１受容体選択的なアゴニスト活性を有するアゴニスト、特にＳ１Ｐ３／Ｅｄｇ３受容体に比してＳ１Ｐ１／Ｅｄｇ１受容体に対するアゴニスト活性が高い化合物の探索を課題として設定し、該選択的なＳ１Ｐ１受容体アゴニストを鋭意探索した結果、新規化合物である後記一般式（１）で示されるアミン化合物が優れた選択的なＳ１Ｐ１受容体アゴニスト活性を有していること、及び該化合物が免疫抑制剤として有用であることを見出した。本発明は上記の知見を基にして完成されたものである。
【００１５】
すなわち、本発明は以下に関する。
【００１６】
〔１〕
下記一般式（１）
【００１７】
【化８】
2009269819.tif 000002
［一般式（１）中、
Ｇ１は、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ１で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ１で置換される場合のＸＧ１は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ１は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ１）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ１は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｇ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ２で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ２で置換される場合のＸＧ２は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ２は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ２）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ２は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｇ３は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ３で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ３で置換される場合のＸＧ３は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ３は、独立に、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ３）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ３は、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｇ４及びＧ５は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表し；
ＱＡｒは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は１−２個のＸＱＡｒで置換されていてもよく、２個のＸＱＡｒで置換される場合のＸＱＡｒは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＡｒは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸＱＡｒ、−ＳＲＸＱＡｒ、又は−ＲＸＱＡｒを表し；
ＲＸＱＡｒは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＱＢは、ＢＱ１、ＢＱ２、Ｂ３又はＢ４を表し；
ＢＱ１は、炭素原子で構成される３ないし８員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし８員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし８員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢＱ１で置換されていてもよく、２個以上のＸＢＱ１で置換される場合のＸＢＱ１は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢＱ１は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ１）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ１、−ＯＧＸＢ１、及び−ＮＧＸＢ１ＧＸＢ１’からなる群から選ばれる基を表すか、或いは下記式（Ｂ３−１）〜（Ｂ３−５）
【００１８】
【化９】
2009269819.tif 000003
からなる群から選ばれる基（各式中、矢印は結合位置を表す）を表し；
ＧＸＢ１及びＧＸＢ１’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＲＸＢＱ１は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＢＱ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基、又はＣ２−Ｃ４アルキニレン基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ２で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ２で置換される場合のＸＢ２は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ２は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ２）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ２、−ＯＧＸＢ２、及び−ＮＧＸＢ２ＧＸＢ２’からなる群から選ばれる基を表し；
ＧＸＢ２及びＧＸＢ２’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＲＸＢＱ２は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｂ３は、飽和単環式炭化水素環化合物、部分飽和単環式炭化水素環化合物、及び単環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において環内の１−２の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が３ないし８である化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ３で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ３で置換される場合のＸＢ３は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ３は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ３）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ３、−ＯＧＸＢ３、及び−ＮＧＸＢ３ＧＸＢ３’からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＸＢＱ３は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＧＸＢ３及びＧＸＢ３’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｂ４は、飽和二環式炭化水素環化合物、部分飽和二環式炭化水素環化合物、及び二環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において、環内の１−５の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が７ないし１１である化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ４で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ４で置換される場合のＸＢ４は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ４は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ２Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ４）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ４、−ＯＧＸＢ４、及び−ＮＧＸＢ４ＧＸＢ４’からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＸＢＱ４は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＧＸＢ４及びＧＸＢ４’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＤは、単結合、或いは１−６個のフッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基を表し；
ＱＥは、−ＯＨ、−ＣＯ２ＲＱＥ、−ＣＨ２ＣＯ２ＲＱＥ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ２Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＱＥ）２、及び１Ｈ−テトラゾール−５−イル基からなる群から選ばれる基を表すか、或いは下記式（Ｂ３−１）〜（Ｂ３−５）
【００１９】
【化１０】
2009269819.tif 000004
からなる群から選ばれる基（各式中、矢印は結合位置を表す）を表し；
ＲＱＥは、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＱＥ１）（ＲＱＥ２）、又は−Ｃ（ＲＱＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＱＥＲＱＥ４を表し；
ｍは整数２又は３を表し；
ＲＱＥ１及びＲＱＥ２は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表すか、或いはＲＱＥ１とＲＱＥ２が繋がって窒素原子とともに３〜６員環を形成して飽和の含窒素シクロアルキル基を示すか、又は窒素原子とともにモルホリノ基を形成し；
ＲＱＥ３は、独立に、水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表し；
ＲＱＥ４はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；ＡＱＥは単結合又は酸素原子を表し；
ＱＹは、ＱＷ−ＱＴ−ＱＺ−（ＣＧ６Ｇ７）ｎ−ＱＶ−を表し；
ＱＷは、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ＮＲＱＷＲＱＷ２で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ＮＲＱＷＲＱＷ２で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルコキシ基、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル基において環内炭素原子の１−２個が窒素原子で置換されていてもよい基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基を表し、但し該単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基は１−２個のＸＱＷで置換されていてもよく、２個のＸＱＷで置換される場合のＸＱＷは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＷは、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸＱＷ、−ＳＲＸＱＷ、又は−ＲＸＱＷを表し；
ＲＸＱＷは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＲＱＷ、ＲＱＷ２は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＴは、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＱＴ−、−ＮＲＱＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＱＴ−を表し；
ＲＱＴは、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＺは、単結合であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキレン基若しくはＣ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該ＱＺは更に１−２個のＸＱＺで置換されていてもよく、２個のＸＱＺで置換される場合のＸＱＺは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＺは、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸＱＺ、−ＳＲＸＱＺ、又は−ＲＸＱＺを表し；
ＲＸＱＺは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基（但し、該Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基はフッ素原子で置換されていてもよい。）を表し；
Ｇ６及びＧ７は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又は１−５個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＱＶは、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＱＶ− 、−ＣＲＱＶＲＱＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＣＲＱＶＯＲＱＶ２−、−ＣＲＱＶ（ＯＲＱＶ２）ＣＲＱＶ３ＲＱＶ４−、−ＣＲＱＶＲＱＶ２ＣＲＱＶ３（ＯＲＱＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＱＶ＝ＣＲＱＶ２−、−ＮＲＱＶ−、−ＮＲＱＶＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＲＱＶ−、又はフェニレンを表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基を表し；
ＲＱＶ、ＲＱＶ２、ＲＱＶ３、及びＲＱＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ｎは、０から２の整数を表し、但し、ｎが０を表す場合は単結合を意味し、；
ｍ１は、１から３の整数を表し；
ｍ２は、０から３の整数を表す。但し、ｍ２が０を表す場合は単結合を意味する。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００２０】
〔２〕
下記式（２）
【００２１】
【化１１】
2009269819.tif 000005
［一般式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｒ４及びＲ５は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表し；
Ａｒは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は１−２個のＸ１で置換されていてもよく、２個のＸ１で置換される場合のＸ１は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ１は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ１、−ＳＲＸ１、又は−ＲＸ１を表し；
ＲＸ１は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
Ｂは、Ｂ１又はＢ２を表し；
Ｂ１は、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし７員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−２個のＸ２で置換されていてもよく、２個のＸ２で置換される場合のＸ２は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ２は、水酸基、又はカルボキシル基を表し；
Ｂ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基、又はＣ２−Ｃ４アルキニレン基を表し、これらの基は１−２個のＸ３で置換されていてもよく、２個のＸ３で置換される場合のＸ３は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ３は、フッ素原子、カルボキシル基、又は水酸基若しくはカルボキシル基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｄは、単結合、メチレン基、又はエチレン基を表し；
Ｅは、水酸基、−ＣＯ２ＲＥ、又は１Ｈ−テトラゾール−５−イル基を表し；
ＲＥは、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＥ１）（ＲＥ２）、又は−Ｃ（ＲＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＥＲＥ４を表し；
ｍは整数２又は３を表し；
ＲＥ１及びＲＥ２は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表すか、或いはＲＥ１とＲＥ２が繋がって窒素原子とともに３〜６員環を形成している飽和の含窒素シクロアルキル基を示すか又は窒素原子とともにモルホリノ基を形成し；
ＲＥ３は水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表し；
ＲＥ４はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＡＥは単結合又は酸素原子を表し；
Ｙは、Ｗ−Ｔ−Ｚ−（ＣＲ６Ｒ７）ｎ−Ｖ−を表し；Ｗは、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ＮＲＷＲＷ２で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ＮＲＷＲＷ２で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルコキシ基、又はＣ３−Ｃ７シクロアルキル基において環内炭素原子の１−２個が窒素原子で置換されていてもよい基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表すか、或いは単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基を表し、但し該単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基は１−２個のＸ４で置換されていてもよく、２個のＸ４で置換される場合のＸ４は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ４は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ４、−ＳＲＸ４、又は−ＲＸ４を表し；
ＲＸ４は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＲＷ及びＲＷ２は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し；
Ｔは、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＴ−、−ＮＲＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＴ−を表し；
ＲＴは、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し；
Ｚは、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該Ｚは更に１−２個のＸ５で置換されていてもよく、２個のＸ５で置換される場合のＸ５は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ５は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸ５、−ＳＲＸ５、
又は−ＲＸ５を表し；
ＲＸ５は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基（但し、該Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基はフッ素原子で置換されていてもよい。）を表し、；
Ｒ６及びＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
Ｖは、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶＯＲＶ２−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、−ＮＲＶ−、−ＮＲＶＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＶ−を表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基を表し；
ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、及びＲＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ｎは、０から２の整数を表し、但し、ｎが０を表す場合は単結合を意味し；
ｍ１は、１から３の整数を表し；
ｍ２は、０から３の整数を表す。但し、ｍ２が０を表す場合は単結合を意味する。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００２２】
〔３〕
下記式（３）
【００２３】
【化１２】
2009269819.tif 000006
［一般式（３）中、Ｗ、Ｔ、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｄ、Ｅは前記と同義であり、Ｂ３１は、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、Ｚ３は、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、或いはベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、チアジン、ペンタレン、アズレン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、及びイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該Ｚ３は更にフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよい。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００２４】
〔４〕
下記式（４）
【００２５】
【化１３】
2009269819.tif 000007
［一般式（４）中、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥは前記と同義である。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００２６】
〔５〕
下記式（５）
【００２７】
【化１４】
2009269819.tif 000008
［一般式（５）中、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥは前記と同義である。］で示される化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００２８】
〔６〕
Ｔが、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＮＲＴ−、−ＮＲＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＴ−であり、Ｖが、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶＯＲＶ２−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、−ＮＲＶ−、−ＮＲＶＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＶ−を表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である上記〔５〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００２９】
〔７〕
Ｗが、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基を表すか、又はフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン、ナフタレン、ベンゾチオフェン、チオフェン、イソキノリン、並びにインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基である上記〔３〕〜〔６〕のいずれかに記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３０】
〔８〕
Ｗが、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン、ナフタレン、ベンゾチオフェン、チオフェン、イソキノリン、並びにインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基である上記〔７〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３１】
〔９〕
Ｗが、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、又は１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基である上記〔７〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３２】
〔１０〕
Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子、及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、若しくはフッ素原子、塩素原子、及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン、チオフェン、フラン、ピリジン、オキサゾール、チアゾール、ベンゾチオフェン、イソキノリン、並びにインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基である上記〔３〕〜〔６〕のいずれかに記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３３】
〔１１〕
Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいベンゼン並びにチオフェンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基である上記〔１０〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３４】
〔１２〕
Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されている上記〔１０〕又は〔１１〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３５】
〔１３〕
Ｅが−ＣＯ２ＲＥであり、Ｂが炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環であり、ＹにおけるＶが−Ｏ−であり、ＹにおけるＷがフェニレンであり、ＹにおけるＺがフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよいチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である上記〔２〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３６】
〔１４〕
Ｂが炭素原子で構成される３ないし５員の飽和環である上記〔１３〕に記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ。
【００３７】
〔１５〕
上記〔２〕〜〔１４〕のいずれかに記載の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグを有効成分として含む医薬。
【００３８】
〔１６〕
上記〔２〕〜〔１４〕のいずれかに記載の化合物又は薬理学上許容されるその塩を有効成分として含むＳ１Ｐ１ ／Ｅｄｇ１ 受容体活性化剤。
【００３９】
〔１７〕
哺乳動物の自己免疫疾患の予防及び／又は治療剤である上記〔２〕〜〔１４〕のいずれかに記載の医薬。
【発明の効果】
【００４０】
本発明の化合物は、遊離状又はその塩の形でヒトや動物に投与した場合、強力な免疫抑制作用を有しており、例えば全身性エリテマトーデス、慢性リウマチ様関節炎、Ｉ型糖尿病、炎症性腸疾患、胆汁性肝硬変、ブドウ膜炎、多発性硬化症、又は他の障害を含む広範囲の様々な自己免疫疾患或いは慢性炎症性疾患、或いは、ガン、リンパ腫又は白血病を処置するための化学療法において有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
本発明について、以下具体的に説明する。
【００４２】
本明細書において、炭素原子を単に“Ｃ”で、水素原子を“Ｈ”で、酸素原子を“Ｏ”で、イオウ原子を“Ｓ”で、また窒素原子を“Ｎ”で表すことがある。またカルボニル基を単に“−ＣＯ−”で、カルボキシル基を“−ＣＯ２−”で、スルフィニル基を“−ＳＯ−”で、スルホニル基を“−ＳＯ２−で、エーテル結合を“−Ｏ−”で、チオエーテル結合を“−Ｓ−”で表すことがある（この場合の“−”は結合を表す）。
【００４３】
本明細書中、Ｃ１−Ｃ４アルキル基とは、炭素数１乃至４個の直鎖又は分岐しても良いアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、又はそれらの異性体［ノルマル（ｎ）、イソ（ｉｓｏ）、セカンダリー（ｓｅｃ）、ターシャリー（ｔ）等］が挙げられる。
【００４４】
本明細書中、Ｃ１−Ｃ６アルキル基とは、炭素数１乃至６個の直鎖又は分岐しても良いアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、又はそれらの異性体［ノルマル（ｎ）、イソ（ｉｓｏ）、セカンダリー（ｓｅｃ）、ターシャリー（ｔ）など］が挙げられる。
【００４５】
本明細書中、Ｃ１−Ｃ３アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、又はトリメチレン基が挙げられる。
【００４６】
本明細書中、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、又はそれらの異性体が挙げられる。
【００４７】
本明細書中、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、又はそれらの異性体が挙げられる。
【００４８】
本明細書中、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基としては、例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、又はブタジエニレン基が挙げられる。
【００４９】
本明細書中、Ｃ２−Ｃ４アルキニレン基としては、例えば、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、又はブタジイニレン基が挙げられる。
【００５０】
本明細書中、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基が挙げられる。
【００５１】
本明細書中、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、又はシクロヘキシレン基が挙げられる。
【００５２】
本明細書中、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又はシクロヘプチル基が挙げられる。
【００５３】
本明細書中、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等、又はそれらの異性体が挙げられる。
【００５４】
Ｃ３−Ｃ７シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、又はシクロヘプチルオキシ基が挙げられる。
【００５５】
本明細書中、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。
【００５６】
本発明においては、特に指示しない限り異性体はこれをすべて包含する。例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基には直鎖状のもの及び分枝鎖状のものが含まれる。さらに、二重結合、環、又は縮合環に基づく異性体（Ｅ又はＺ異性体、あるいはシス又はトランス異性体）、不斉炭素の存在などに基づく異性体（Ｒ−又はＳ−異性体、α−又はβ−配置に基づく異性体、エナンチオマー、あるいはジアステレオマーなど）、旋光性を有する光学活性体（Ｄ−又はＬ−体、又はｄ−又はｌ−体）、クロマトグラム分離による極性の違いに基づく異性体（高極性体又は低極性体）、平衡化合物、回転異性体、互変異性体又はこれら任意の割合の混合物、あるいはラセミ混合物はすべて本発明に含まれる。
【００５７】
本明細書においては、特に断らない限り、当業者にとって明らかなように記号
【００５８】
【化１５】
2009269819.tif 000009
は紙面の向こう側（すなわちα−配置）に結合していることを表し、記号
【００５９】
【化１６】
2009269819.tif 000010
は紙面の手前側（すなわちβ−配置）に結合していることを表し、記号
【００６０】
【化１７】
2009269819.tif 000011
はα−配置又はβ−配置のいずれか、あるいはそれらの混合物であることを表し、記号
【００６１】
【化１８】
2009269819.tif 000012
はα−配置及びβ−配置の混合物であることを表す。
【００６２】
本発明化合物（１）の塩としては、薬学上許容される塩が好ましく、化合物中にプロトン供与性の置換基、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、又はテトラゾール基などを含むとき、それらの酸性基の数に応じて任意の個数の塩基が付加した塩を形成することができる。例えば、ナトリウム等の金属、アンモニア等の無機塩基、又はトリエチルアミン等の有機塩基との塩を挙げることができる。また、化合物が置換又は無置換のアミノ基を含むとき、あるいはピリジン環又はキノリン環などのような塩基性の環状構造を含むとき、それらの塩基性置換基の数に応じて任意の個数の酸が付加した塩を形成することを意味する。例えば塩酸若しくは硫酸等の無機酸、又は酢酸若しくはクエン酸等の有機酸との塩を挙げることができる。
【００６３】
一般式（１）について以下詳細に説明する。
【００６４】
Ｇ１は、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ１で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ１で置換される場合のＸＧ１は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ１は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ１）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ１は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
Ｇ１におけるＣ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００６５】
ＸＧ１としては、−ＯＨ又は−ＣＯ２Ｈが好ましく、−ＯＨが特に好ましい。また、−ＣＯ２Ｈが好ましい別の態様もある。
【００６６】
ＲＧ１としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００６７】
Ｇ１としては、水素原子、或いは−ＯＨ又は−ＣＯ２Ｈが１個置換してもよいメチル基若しくはエチル基が好ましく、水素原子、或いは−ＯＨ又は−ＣＯ２Ｈが１個置換してもよいメチル基がより好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基が特に好ましく、水素原子、又はメチル基が大変に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００６８】
Ｇ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ２で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ２で置換される場合のＸＧ２は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ２は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ２）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ２は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００６９】
Ｇ２におけるＣ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００７０】
ＸＧ２としては、−ＯＨ、又は−ＣＯ２Ｈが好ましく、−ＯＨが特に好ましい。また、−ＣＯ２Ｈが好ましい別の態様もある。
【００７１】
ＲＧ２としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００７２】
Ｇ２としては、水素原子、フッ素原子、又は−ＯＨ若しくは−ＣＯ２Ｈが１個置換してもよいメチル基が好ましく、水素原子、又は−ＯＨ若しくは−ＣＯ２Ｈが１個置換してもよいメチル基がより好ましく、水素原子、フッ素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子、又はメチル基が大変に好ましく、水素原子が最も好ましい。また、メチル基が好ましい別の態様もあり、場合によってはフッ素原子が好ましい別の態様もある。
【００７３】
Ｇ３は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。但し、該アルキル基は、１−３個のＸＧ３で置換されていてもよく、２個以上のＸＧ３で置換される場合のＸＧ３は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＧ３は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、及び−ＯＰＯ（ＯＲＧ３）２からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＧ３は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００７４】
Ｇ３におけるＣ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００７５】
ＸＧ３としては、−ＯＨ、又は−ＣＯ２Ｈが好ましい。
【００７６】
ＲＧ３としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００７７】
Ｇ３としては、水素原子、フッ素原子、又は−ＯＨ若しくは−ＣＯ２Ｈが１個置換してもよいメチル基が好ましく、水素原子、又は−ＯＨ若しくは−ＣＯ２Ｈが１個置換してもよいメチル基がより好ましく、水素原子、フッ素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子、又はメチル基が大変に好ましく、水素原子が最も好ましい。また、メチル基が好ましい別の態様もあり、場合によってはフッ素原子が好ましい別の態様もある。
【００７８】
Ｇ４及びＧ５は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表すが、このうち、水素原子、又はフッ素原子が好ましく、水素原子がより好ましい。
【００７９】
ＱＡｒは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は１−２個のＸＱＡｒで置換されていてもよく、２個のＸＱＡｒで置換される場合のＸＱＡｒは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＡｒは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸＱＡｒ、−ＳＲＸＱＡｒ、又は−ＲＸＱＡｒを表し；
ＲＸＱＡｒは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表す。
【００８０】
ＱＡｒで表される単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物の具体例としては、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、チアジン、ペンタレン、アズレン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔２，３−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔３，２−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔３，２−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔２，３−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔４，３−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔４，３−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン、〔１，２，４〕トリアゾロ〔４，３−ａ〕ピリジン、チエノ〔３，２−ｃ〕ピリジン、チエノ〔３，２−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−チエノ〔３，２−ｃ〕ピラゾール、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｄ〕チアゾール、〔１，２，４〕トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピラジン、１Ｈ−イミダゾ〔４，５−ｂ〕ピラジン、７Ｈ−プリン、〔１，８〕ナフタリジン、又は〔１，５〕ナフタリジン、インダン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロベンゾフラン、１，３−ジオキサインダン、クロマン、１，３−ジヒドロベンズイミダゾール、ジヒドロ−３Ｈ−ベンゾオキサゾール、ジヒドロ−３Ｈ−ベンゾチアゾール、ジヒドロ−１Ｈ−キノリン、又はジヒドロ−２Ｈ−イソキノリン、１，３−ジヒドロピロロ〔２，３−ｂ〕ピリジンなどが挙げられる。
【００８１】
ＸＱＡｒとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、又は−ＯＲＸＱＡｒが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又はトリフルオロメチル基がより好ましく、フッ素原子が特に好ましい。また、塩素原子が好ましい別の態様、若しくはトリフルオロメチル基が好ましい別の態様もある。
【００８２】
ＲＸＱＡｒとしては、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基、又はプロピル基がさらに好ましい。
【００８３】
ＱＢは、ＢＱ１、ＢＱ２、Ｂ３又はＢ４を表すが、このうち、ＢＱ１、又はＢＱ２が好ましく、ＢＱ１がさらに好ましい。
【００８４】
ＢＱ１は、炭素原子で構成される３ないし８員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし８員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし８員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢＱ１で置換されていてもよく、２個以上のＸＢＱ１で置換される場合のＸＢＱ１は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢＱ１は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ１）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ１、−ＯＧＸＢ１、及び−ＮＧＸＢ１ＧＸＢ１’からなる群から選ばれる基を表すか、或いは下記式（Ｂ３−１）〜（Ｂ３−５）
【００８５】
【化１９】
2009269819.tif 000013
からなる群から選ばれる基（各式中、矢印は結合位置を表す）を表し；
ＧＸＢ１及びＧＸＢ１’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＲＸＢＱ１は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００８６】
ＢＱ１で表される、炭素原子で構成される３ないし８員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし８員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし８員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物としては、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物、又は炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物が好ましく、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物が好ましい。具体的には、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロヘキサジエン、ベンゼン、又はペンタレンなどが好ましい例として挙げられる。
【００８７】
ＸＢＱ１としては、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、フッ素原子、塩素原子、又はアミノ基が好ましく、−ＯＨ、フッ素原子、又はアミノ基が特に好ましく、−ＯＨが最も好ましい。
【００８８】
ＲＸＢＱ１は、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００８９】
ＢＱ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基、又はＣ２−Ｃ４アルキニレン基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ２で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ２で置換される場合のＸＢ２は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ２は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ２）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ２、−ＯＧＸＢ２、及び−ＮＧＸＢ２ＧＸＢ２’からなる群から選ばれる基を表し；
ＧＸＢ２及びＧＸＢ２’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＲＸＢＱ２は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００９０】
ＢＱ２としては、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又はＣ２−Ｃ４アルケニレン基が好ましく、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基が特に好ましく、エチレン基が最も好ましい。
【００９１】
ＸＢ２としては、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、フッ素原子、塩素原子、又はアミノ基が好ましく、−ＯＨ、フッ素原子、又はアミノ基が特に好ましく、−ＯＨが最も好ましい。
【００９２】
ＲＸＢＱ２としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００９３】
Ｂ３は、飽和単環式炭化水素環化合物、部分飽和単環式炭化水素環化合物、及び単環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において環内の１−２の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が３ないし８である化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ３で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ３で置換される場合のＸＢ３は、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＢ３は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ３）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ３、−ＯＧＸＢ３、及び−ＮＧＸＢ３ＧＸＢ３’からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＸＢＱ３は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＧＸＢ３及びＧＸＢ３’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００９４】
Ｂ３における、飽和単環式炭化水素環化合物、部分飽和単環式炭化水素環化合物、及び単環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において、環内の１−２の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が３ないし８である化合物の好適な具体例としては、例えば、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、チオモルホリン、オキソラン、チオラン、オキサチアン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、又はチアジンなどが挙げられる。
【００９５】
ＸＢ３としては、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、フッ素原子、塩素原子、又はアミノ基が好ましく、−ＯＨ、フッ素原子、又はアミノ基が特に好ましく、−ＯＨが最も好ましい。
【００９６】
ＲＸＢＱ３としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【００９７】
Ｂ４は、飽和二環式炭化水素環化合物、部分飽和二環式炭化水素環化合物、及び二環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において、環内の１−５の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が７ないし１１である化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−４個のＸＢ４で置換されていてもよく、２個以上のＸＢ４で置換される場合のＸＢ４は、同一であっても異なっていてもよく、；
ＸＢ４は、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ２Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＸＢＱ４）２、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基、フッ素原子、塩素原子、アミノ基、−ＧＸＢ４、−ＯＧＸＢ４、及び−ＮＧＸＢ４ＧＸＢ４’からなる群から選ばれる基を表し；
ＲＸＢＱ４は、独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し；
ＧＸＢ４及びＧＸＢ４’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００９８】
Ｂ４における、飽和二環式炭化水素環化合物、部分飽和二環式炭化水素環化合物、及び二環式芳香族炭化水素環化合物からなる群から選ばれる化合物において、環内の１−５の炭素原子が、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子で置換されている、環構成原子数が７ないし１１である化合物の好適な具体例としては、キヌクリジン、インドリン、イソインドリン、ジヒドロベンゾフラン、１，３−ジオキサインダン、クロマン、４Ｈ−クロメン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、１，３−ジヒドロベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ジヒドロ−３Ｈ−ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ジヒドロ−３Ｈ−ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、ジヒドロ−１Ｈ−キノリン、イソキノリン、ジヒドロ−２Ｈ−イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔２，３−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔３，２−ｂ〕ピリジン、１，３−ジヒドロピロロ〔２，３−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔３，２−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピロロ〔２，３−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔４，３−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔４，３−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｃ〕ピリジン、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン、〔１，２，４〕トリアゾロ〔４，３−ａ〕ピリジン、チエノ〔３，２−ｃ〕ピリジン、チエノ〔３，２−ｂ〕ピリジン、１Ｈ−チエノ〔３，２−ｃ〕ピラゾール、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｄ〕チアゾール、〔１，２，４〕トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン、１Ｈ−ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピラジン、１Ｈ−イミダゾ〔４，５−ｂ〕ピラジン、７Ｈ−プリン、〔１，８〕ナフタリジン、又は〔１，５〕ナフタリジンなどが挙げられる。
【００９９】
ＸＢ４としては、−ＯＨ、−ＣＯ２Ｈ、フッ素原子、塩素原子、又はアミノ基が好ましく、−ＯＨ、フッ素原子、又はアミノ基が特に好ましく、−ＯＨが最も好ましい。
【０１００】
ＲＸＢＱ４としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【０１０１】
ＧＸＢ１、ＧＸＢ１’、ＧＸＢ２、ＧＸＢ２’、ＧＸＢ３、ＧＸＢ３’、ＧＸＢ４、及びＧＸＢ４’は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、及びアミノ基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表すが、このうち、ハロゲン原子、及び水酸基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されてもよいメチル基又はエチル基が好ましく、フッ素原子及び水酸基からなる群から選ばれる１−５個の置換基で置換されてもよいメチル基又はエチル基が特に好ましく、１個の水酸基で置換されてもよいメチル基又はエチル基が最も好ましい。
【０１０２】
ＱＤは、単結合、又は１−６個のフッ素原子若しくは塩素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基を表すが、このうち、単結合、メチレン基、又はエチレン基が好ましく、単結合、又はメチレン基が特に好ましく、単結合が最も好ましい。
【０１０３】
ＱＥは、−ＯＨ、−ＣＯ２ＲＱＥ、−ＣＨ２ＣＯ２ＲＱＥ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＰＯ２Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＱＥ）２、及び１Ｈ−テトラゾール−５−イル基からなる群から選ばれる基を表すか、或いは下記式（Ｂ３−１）〜（Ｂ３−５）
【０１０４】
【化２０】
2009269819.tif 000014
からなる群から選ばれる基（各式中、矢印は結合位置を表す）を表し；
ＲＱＥは、独立に、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＱＥ１）（ＲＱＥ２）、又は−Ｃ（ＲＱＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＱＥＲＱＥ４を表し；
ｍは整数２又は３を表し；
ＲＱＥ１及びＲＱＥ２は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表すか、或いはＲＱＥ１とＲＱＥ２が繋がって窒素原子とともに３〜６員環を形成して飽和の含窒素シクロアルキル基を示すか、又は窒素原子とともにモルホリノ基を形成し；
ＲＱＥ３は、独立に、水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表し；
ＲＱＥ４はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；ＡＱＥは単結合又は酸素原子を表す。
ＱＥとしては、−ＯＨ、−ＣＯ２ＲＱＥ、−ＣＨ２ＣＯ２ＲＱＥ、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ（ＯＲＱＥ）２、又は１Ｈ−テトラゾール−５−イル基が好ましく、−ＯＨ、−ＣＯ２ＲＱＥ、又は１Ｈ−テトラゾール−５−イル基が特に好ましく、−ＣＯ２ＲＱＥが最も好ましい。
【０１０５】
ＲＱＥとしては、水素原子、メチル基、エチル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＱＥ１）（ＲＱＥ２）が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
【０１０６】
−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＱＥ１）（ＲＱＥ２）の例としては、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）エチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）プロピル基、２−ピロリジン−１−イルエチル基、２−ピペリジン−１−イルエチル基、２−モルホリン−４−イルエチル基、３−ピロリジン−１−イルプロピル基、３−ピペリジン−１−イルプロピル基、３−モルホリン−４−イルプロピル基などが挙げられる。
【０１０７】
−Ｃ（ＲＱＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＱＥＲＱＥ４の例としては、アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ブチリルオキシメチル基、（２−メチルプロピオニル）オキシメチル基、（２，２−ジメチルプロピオニル）オキシメチル基、シクロプロピオニルオキシメチル基、シクロペンタノイルオキシメチル基、シクロヘキサノイルオキシメチル基、フェニルカルボキシメチル基、１−アセトキシ−１−メチルエチル基、１−メチル−１−（２−メチルプロピオニルオキシ）エチル基、１−シクロペンタノイルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロヘキサノイルオキシ−１−メチルエチル基、メトキシカルボニルオキシメチル基、エトキシカルボニルオキシメチル基、イソプロピルオキシカルボニルオキシメチル基、ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシメチル基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル基、フェニルオキシカルボニルオキシメチル基、１−メトキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−エトキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−イソプロピルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロプロピルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロペンチルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、又は１−メチル−１−フェニルオキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
【０１０８】
ＱＹは、ＱＷ−ＱＴ−ＱＺ−（ＣＧ６Ｇ７）ｎ−ＱＶ−を表し；
ＱＷは、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ＮＲＱＷＲＱＷ２で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ＮＲＱＷＲＱＷ２で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルコキシ基、又はＣ３−Ｃ７シクロアルキル基において環内炭素原子の１−２個が窒素原子で置換されていてもよい基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表すか、又は、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基を表し、但し該単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基は１−２個のＸＱＷで置換されていてもよく、２個のＸＱＷで置換される場合のＸＱＷは、同一であっても異なっていてもよく；
ＸＱＷは、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸＱＷ、−ＳＲＸＱＷ、又は−ＲＸＱＷを表し；
ＲＸＱＷは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＲＱＷ、ＲＱＷ２は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【０１０９】
ＸＱＷとしては、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、又は−ＯＲＸＱＷが好ましく、フッ素原子、又はトリフルオロメチル基がさらに好ましい。
【０１１０】
ＲＸＱＷとしては、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基が好ましい。
【０１１１】
ＲＱＷ、ＲＱＷ２としては、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましい。
【０１１２】
ＱＷとしては、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、キノリン、テトラヒドロキノリン、イソキノリン、テトラヒドロイソキノリン、ピリジン、インドール、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基が好ましく、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソキノリン、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基がさらに好ましい。
【０１１３】
ＱＴは、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＱＴ−、−ＮＲＱＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＱＴ−を表し；
ＲＱＴは、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【０１１４】
ＱＴとしては、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、又は−ＣＯＮＲＱＴ−が好ましい。
【０１１５】
ＲＱＴとしては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましい。
【０１１６】
ＱＺは、単結合であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキレン基若しくはＣ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該ＱＺは更に１−２個のＸＱＺで置換されていてもよく、２個のＸＱＺで置換される場合のＸＱＺは、同一であっても異なっていてもよく、；
ＸＱＺは、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸＱＺ、−ＳＲＸＱＺ、又は−ＲＸＱＺを表し；
ＲＸＱＺは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基（但し、該Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基はフッ素原子で置換されていてもよい。）を表す。
【０１１７】
ＸＱＺとしては、フッ素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、又は−ＲＸＱＺが好ましく、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
【０１１８】
ＲＸＱＺとしては、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基がさらに好ましい。
【０１１９】
ＱＺとしては、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、及び二環式芳香族複素環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基が好ましく、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、チアジン、ペンタレン、アズレン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、及びイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、及びイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましい。
Ｇ６及びＧ７は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、水素原子、又は１−５個のハロゲン原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表すが、このうち、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
【０１２０】
ＱＶは、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＱＶ− 、−ＣＲＱＶＲＱＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＣＲＱＶＯＲＱＶ２−、−ＣＲＱＶ（ＯＲＱＶ２）ＣＲＱＶ３ＲＱＶ４−、−ＣＲＱＶＲＱＶ２ＣＲＱＶ３（ＯＲＱＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＱＶ＝ＣＲＱＶ２−、−ＮＲＱＶ−、−ＮＲＱＶＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＲＱＶ−、又はフェニレンを表すか、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基を表し；
ＲＱＶ、ＲＱＶ２、ＲＱＶ３、及びＲＱＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【０１２１】
ＱＶとしては、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＱＶ− 、−ＣＲＱＶＲＱＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＣＲＱＶ（ＯＲＱＶ２）ＣＲＱＶ３ＲＱＶ４−、−ＣＲＱＶＲＱＶ２ＣＲＱＶ３（ＯＲＱＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＱＶ＝ＣＲＱＶ２−、又はフェニレン、又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基が好ましく、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＱＶ− 、−ＣＲＱＶＲＱＶ２−、−Ｏ−、−ＣＲＱＶ（ＯＲＱＶ２）ＣＲＱＶ３ＲＱＶ４−、−ＣＲＱＶＲＱＶ２ＣＲＱＶ３（ＯＲＱＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＱＶ＝ＣＲＱＶ２−、又はフェニレン、又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＱＶ＝ＣＲＱＶ２−、又はフェニレン、又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましい。
【０１２２】
ＲＱＶ、ＲＱＶ２、ＲＱＶ３、及びＲＱＶ４としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
【０１２３】
ｎは、０から２の整数を表し、但し、ｎが０を表す場合は単結合を意味するが、０又は１が好ましい。
【０１２４】
ｍ１は、１から３の整数を表すが、１又は２が好ましく、１がより好ましい。
【０１２５】
ｍ２は、０から３の整数を表し、但し、ｍ２が０を表す場合は単結合を意味するが、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
【０１２６】
一般式（２）について以下詳細に説明する。
【０１２７】
Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表すが、このうち、Ｒ１については水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。Ｒ２、及びＲ３は、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。
【０１２８】
Ｒ４及びＲ５は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表すが、このうち、水素原子、又はフッ素原子が好ましく、水素原子がより好ましい。
【０１２９】
Ａｒは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は１−２個のＸ１で置換されていてもよく、２個のＸ１で置換される場合のＸ１は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ１は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ１、−ＳＲＸ１、又は−ＲＸ１を表し；
ＲＸ１は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表す。
【０１３０】
Ａｒが表す母骨格としては、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、及び二環式芳香族複素環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基が好ましく、ナフタレン、ベンゾチオフェン、キノリン、ベンゼン、イソキノリン、インダゾール、ピリジン、フラン、又はチオフェンから水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、ナフタレン、ベンゼン、イソキノリン、インダゾール、ピリジン、フラン、又はチオフェンから水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましい。
【０１３１】
一般式（２）中、ＡｒがＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置の好ましい例を下記に（Ｙの結合位置、−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅの結合位置）で示す。
【０１３２】
Ａｒがナフタレンから水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、４）、（１、５）、（２，５）、（２、６）、又は（２、７）が好ましく、（１、４）、（１、５）、又は（２、６）がより好ましく、（１、４）、又は（２、６）がさらに好ましい。
【０１３３】
Ａｒがベンゾチオフェン、或いはベンゾフランから水素原子を２つ除した２価基の場合、（２、４）、（２、５）、（２，６）、（３、６）、（４、７）、（４、２）、（５、２）、（６、２）、（６、３）又は（７、４）が好ましく、（２、５）、（２、６）、（４、７）、（５、２）、（６、２）、（７、４）がより好ましく、（２，６）、又は（６、２）がさらに好ましい。
【０１３４】
Ａｒがキノリン、或いはテトラヒドロキノリンから水素原子を２つ除した２価基の場合、（２、６）、（２、７）、（３，６）、（３、７）、（４、８）、（５、８）、（６、２）、（６、３）、（７、２）、（７、３）、（８、４）又は（８、５）が好ましく、（２、６）、（３、７）、（５、８）、（６、２）、（７、３）、又は（８、５）がより好ましく、（２，６）、（３、７）、（６、２）、又は（７、３）がさらに好ましい。
【０１３５】
Ａｒがベンゼンから水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、３）、（１、４）が好ましく、（１、４）がより好ましい。
【０１３６】
Ａｒがイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、４）、（１、５）、（３、６）、（３、７）、（４、８）、（５、８）、（４、１）、（５、１）、（６、３）、（７、３）、（８、４）、又は（８、５）が好ましく、（１、４）、（１、５）、（３、７）、（５、８）、（４、１）、（５、１）、（７、３）、又は（８、５）がより好ましく、（１、４）、（１、５）、（３、７）、（４、１）、（５、１）、又は（７、３）がさらに好ましい。
【０１３７】
Ａｒがインダゾールから水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、３）、（１、４）、（１、５）、（２、５）、（２、６）、（３、７）、（４、７）、（３、１）、（４、１）、（５、１）、（５、２）、（６、２）、（７、３）又は（７、４）が好ましく、（１、３）、（１、５）、（２、６）、（３、７）、（３、１）、（５、１）、（６、２）、又は（７、３）がより好ましく、（１、３）、（１、５）、（２、６）、（３、１）、（５、１）、又は（６、２）がさらに好ましい。
【０１３８】
Ａｒがピリジンから水素原子を２つ除した２価基の場合、（２、４）、（２、５）、（２、６）、（３、５）、（３、６）、又は（４、２）が好ましく、（２、５）、（２、６）、（３、５）、又は（３、６）がより好ましく、（２、５）、（２、６）、又は（３、６）がさらに好ましい。
【０１３９】
Ａｒがチオフェン、或いはフランから水素原子を２つ除した２価基の場合、（２、４）、（２、５）、又は（３、５）が好ましく、（２、５）がより好ましい。
【０１４０】
Ｘ１としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、−ＯＲＸ１、又は−ＲＸ１が好ましく、塩素原子、臭素原子、又は−ＯＲＸ１がさらに好ましい。
【０１４１】
ＲＸ１としては、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、又はイソプロピル基がより好ましく、メチル基、又はエチル基がさらに好ましい。
【０１４２】
また、Ａｒとしては、１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよい単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、及び二環式芳香族複素環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基が好ましく、１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいナフタレン、ベンゾチオフェン、キノリン、ベンゼン、イソキノリン、インダゾール、ピリジン、フラン、及びチオフェンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいナフタレン、ベンゼン、イソキノリン、インダゾール、ピリジン、及びチオフェンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましく、１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいナフタレン、ベンゼン、及びチオフェンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基が特に好ましい。
【０１４３】
Ｂは、Ｂ１、又はＢ２を表すが、Ｂ１がより好ましい。
【０１４４】
Ｂ１は、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし７員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は可能な範囲において１−２個のＸ２で置換されていてもよく、２個のＸ２で置換される場合のＸ２は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ２は、水酸基、又はカルボキシル基を表す。
【０１４５】
Ｂ１の母骨格としては、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物、又は炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基が好ましく、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基が特に好ましく、炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基が最も好ましい。
【０１４６】
Ｂ１が−ＮＲ１−、及び−Ｄ−Ｅと結合する位置の好ましい例を下記に（−ＮＲ１−の結合位置、−Ｄ−Ｅの結合位置）で示す。Ｂ１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、２）、（１、３）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、２）、（１、３）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。炭素原子で構成される６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、２）、（１、３）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。炭素原子で構成される７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、３）、（１、４）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。
【０１４７】
Ｂ１における、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物、炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物、及び炭素原子で構成される３ないし７員の不飽和環化合物からなる群から選ばれる化合物の具体例としては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロヘキサジエン、又はベンゼンなどが挙げられる。
【０１４８】
Ｘ２としては、水酸基が好ましい。
【０１４９】
Ｂ２は、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、Ｃ２−Ｃ４アルケニレン基、又はＣ２−Ｃ４アルキニレン基を表し、これらの基は１−２個のＸ３で置換されていてもよく、２個のＸ３で置換される場合のＸ３は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ３は、フッ素原子、カルボキシル基、又は水酸基若しくはカルボキシル基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【０１５０】
Ｂ２の主鎖としては、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基、又はＣ２−Ｃ４アルケニレン基が好ましく、Ｃ１−Ｃ４アルキレン基がさらに好ましく、エチレン基が特に好ましい。
【０１５１】
Ｘ３としては、水酸基又はカルボキシル基で置換されていてもよいメチル基又はエチル基が好ましい。
【０１５２】
Ｄは、単結合、メチレン基、又はエチレン基を表すが、このうち、単結合、又はメチレン基が好ましく、単結合がさらに好ましい。
【０１５３】
Ｅは、水酸基、−ＣＯ２ＲＥ、又は１Ｈ−テトラゾール−５−イル基を表し；
ＲＥは、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＥ１）（ＲＥ２）、又は−Ｃ（ＲＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＥＲＥ４を表し；
ｍは整数２又は３を表し；
ＲＥ１及びＲＥ２は、同一であっても異なってもよく、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表すか、或いはＲＥ１とＲＥ２が繋がって窒素原子とともに３〜６員環を形成している飽和の含窒素シクロアルキル基を示すか又は窒素原子とともにモルホリノ基を形成し；
ＲＥ３は水素原子、メチル基、エチル基、又はプロピル基を表し；
ＲＥ４はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＡＥは単結合又は酸素原子を表す。
【０１５４】
Ｅとしては、水酸基、又は−ＣＯ２ＲＥが好ましく、−ＣＯ２ＲＥが特に好ましい。
【０１５５】
ＲＥとしては、水素原子、メチル基、エチル基、−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＥ１）（ＲＥ２）が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。−（ＣＨ２）ｍＮ（ＲＥ１）（ＲＥ２）の例としては、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）エチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）プロピル基、２−ピロリジン−１−イルエチル基、２−ピペリジン−１−イルエチル基、２−モルホリン−４−イルエチル基、３−ピロリジン−１−イルプロピル基、３−ピペリジン−１−イルプロピル基、３−モルホリン−４−イルプロピル基などが挙げられる。
【０１５６】
−Ｃ（ＲＥ３）２ＯＣ（Ｏ）ＡＥＲＥ４の例としては、アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ブチリルオキシメチル基、（２−メチルプロピオニル）オキシメチル基、（２，２−ジメチルプロピオニル）オキシメチル基、シクロプロピオニルオキシメチル基、シクロペンタノイルオキシメチル基、シクロヘキサノイルオキシメチル基、フェニルカルボキシメチル基、１−アセトキシ−１−メチルエチル基、１−メチル−１−（２−メチルプロピオニルオキシ）エチル基、１−シクロペンタノイルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロヘキサノイルオキシ−１−メチルエチル基、メトキシカルボニルオキシメチル基、エトキシカルボニルオキシメチル基、イソプロピルオキシカルボニルオキシメチル基、ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシメチル基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル基、フェニルオキシカルボニルオキシメチル基、１−メトキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−エトキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−イソプロピルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロプロピルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロペンチルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ−１−メチルエチル基、又は１−メチル−１−フェニルオキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
【０１５７】
Ｙは、Ｗ−Ｔ−Ｚ−（ＣＲ６Ｒ７）ｎ−Ｖ−を表す。
【０１５８】
Ｗは、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、ＮＲＷＲＷ２で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ＮＲＷＲＷ２で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルコキシ基、又はＣ３−Ｃ７シクロアルキル基において環内炭素原子の１−２個が窒素原子で置換されていてもよい基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表すか、或いは、単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基を表し、但し該単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基は１−２個のＸ４で置換されていてもよく、２個のＸ４で置換される場合のＸ４は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ４は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ４、−ＳＲＸ４、又は−ＲＸ４を表し；
ＲＸ４は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基を表し；
ＲＷ及びＲＷ２は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。
【０１５９】
Ｘ４としては、フッ素原子、トリフルオロメチル基、−ＯＲＸ４、又は−ＲＸ４が好ましい。
【０１６０】
ＲＸ４としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、又はフェニル基が好ましい。
【０１６１】
ＲＷ及びＲＷ２としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
【０１６２】
Ｗとしては、水素原子、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、或いはベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、キノリン、テトラヒドロキノリン、イソキノリン、テトラヒドロイソキノリン、ピリジン、インドール、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基が好ましく、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基、或いはベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソキノリン、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基がより好ましく、１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基又は１−７個のフッ素原子で置換されてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基がさらに好ましく、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソキノリン、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基がさらに好ましい別の態様もある。
【０１６３】
また、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、キノリン、テトラヒドロキノリン、イソキノリン、テトラヒドロイソキノリン、ピリジン、インドール、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基において上記の好ましいＸ４、ＲＸ４で置換されている基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソキノリン、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基において上記の好ましいＸ４、ＲＸ４で置換されている基がより好ましい別の態様もある。
【０１６４】
Ｔは、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＴ−、−ＮＲＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＴ−を表し；
ＲＴは、水素原子、又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。
【０１６５】
Ｔとしては、単結合、Ｃ１−Ｃ６アルキレン基、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＮＲＴ−、−ＮＲＴＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＴ−が好ましく、単結合、メチレン基、エチレン基、又は−Ｏ−がより好ましく、単結合又は−Ｏ−がさらに好ましい。−ＣＯＮＲＴ−がより好ましい別の態様もある。
【０１６６】
ＲＴとしては、水素原子、メチル基、又はＣ４−Ｃ６アルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましく、Ｃ４−Ｃ６アルキル基がより好ましい別の態様もある。
【０１６７】
Ｚは、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基を表すか、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物、単環式芳香族複素環に飽和炭化水素環が縮合した二環式化合物、及び単環式芳香族複素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該Ｚは更に１−２個のＸ５で置換されていてもよく、２個のＸ５で置換される場合のＸ５は、同一であっても異なっていてもよく；
Ｘ５は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸ５、−ＳＲＸ５、
又は−ＲＸ５を表し；
ＲＸ５は、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、又はフェニル基（但し該Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基はフッ素原子で置換されていてもよい。）を表す。
【０１６８】
Ｘ５としては、フッ素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸ５、又は−ＲＸ５が好ましく、トリフルオロメチル基、又は−ＲＸ５がさらに好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【０１６９】
ＲＸ５としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、又はフェニル基が好ましい。
【０１７０】
Ｚとしては、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、又は単環式芳香族炭化水素環化合物、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、及び二環式芳香族複素環化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基が好ましく、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、チアジン、ペンタレン、アズレン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、及びイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、若しくはイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましく、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン基、又はフラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、若しくはイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基が大変に好ましい。
【０１７１】
また、上記の好ましいＸ５、ＲＸ５で置換された上記の好ましいＺも大変に好ましい。
【０１７２】
Ｒ６及びＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表すが、このうち、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
【０１７３】
Ｖは、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＣＨ２−、−ＳＯＣＨ２−、−ＳＯ２ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶＯＲＶ２−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、−ＮＲＶ−、−ＮＲＶＮＨＣＯ−、又は−ＣＯＮＲＶ−、或いはオキサジアゾール又はチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基を表し；
ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、及びＲＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【０１７４】
Ｖとしては、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、又は−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、或いはチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基が好ましく、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＣＲＶ− 、−ＣＲＶＲＶ２−、−Ｏ−、−ＣＲＶ（ＯＲＶ２）ＣＲＶ３ＲＶ４−、−ＣＲＶＲＶ２ＣＲＶ３（ＯＲＶ４）−、−Ｃ≡Ｃ−、又は−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、或いはチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＣＲＶ（ＯＣＲＶ２）ＣＲＶ３ＣＲＶ４−、−Ｃ≡Ｃ−、又は−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、或いはチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−、或いはチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましい。
【０１７５】
ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、及びＲＶ４は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。
【０１７６】
また、上記の好ましいＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、又はＲＶ４を有する上記の好ましいＶも大変に好ましい。
【０１７７】
ｎは、０から２の整数を表し、但し、ｎが０を表す場合は単結合を意味するが、０又は１が好ましい。
【０１７８】
ｍ１は、１から３の整数を表すが、１又は２が好ましく、１がより好ましい。
【０１７９】
ｍ２は、０から３の整数を表し、但し、ｍ２が０を表す場合は単結合を意味するが、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
【０１８０】
一般式（３）について以下詳細に説明する。
【０１８１】
一般式（３）中、Ｗ、Ｔ、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｄ、Ｅは前記と同義である。
【０１８２】
Ｂ３１は、炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基を表す。
【０１８３】
Ｂ３１としては、炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基が好ましく、炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基がより好ましい。
【０１８４】
Ｂ３１が−ＮＲ１−、及び−Ｄ−Ｅと結合する位置の好ましい例を下記に（−ＮＲ１−の結合位置、−Ｄ−Ｅの結合位置）で示す。
【０１８５】
Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、２）、（１、３）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、２）、（１、３）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。炭素原子で構成される６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、２）、（１、３）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。炭素原子で構成される７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基の場合、（１、３）、（１、４）、が好ましく、（１、３）がより好ましい。
【０１８６】
Ｚ３は、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オキサジン、チアジン、ペンタレン、アズレン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン、及びイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジンからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、但し該Ｚ３は更にフッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されていてもよい。
【０１８７】
Ｚ３としては、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン基、又はベンゼン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、１Ｈ−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、若しくはイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基が好ましく、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン基、又はフラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、若しくはイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基がより好ましく、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキレン基、又はフラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾール、ベンゾ〔ｄ〕イソチアゾール、ベンゾ〔ｃ〕イソチアゾール、ベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾール、キノリン、若しくはイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基がさらに好ましく、チオフェン、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、ピリジン、ナフタレン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、インドール、１Ｈ−インダゾール、２Ｈ−インダゾール、キノリン、又はイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基が大変に好ましく、チオフェン、オキサゾール、オキサジアゾール、ピリジン、ナフタレン、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、１Ｈ−インダゾール、又は２Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基が最も好ましい。また、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換された上記の好ましいＺ３も大変に好ましい。
【０１８８】
一般式（４）、一般式（５）について以下に説明する。
【０１８９】
一般式（４）、一般式（５）中、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥは前記と同義である。
【０１９０】
一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、
＜Ａ１＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいナフタレンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ２＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいベンゾチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ３＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ４＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいベンゼンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ５＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ６＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいインダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ７＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいピリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ８＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ９＞Ａｒが１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１０＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいナフタレンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１１＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいベンゾチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１２＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１３＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいベンゼンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１４＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいピリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１５＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１６＞Ａｒが１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよいチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ａ１７＞Ａｒがナフタレン、ベンゾチオフェン、キノリン、ベンゼン、イソキノリン、インダゾール、ピリジン、フラン、又はチオフェンから水素原子を２つ除した２価基であり、但し、１−２個のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよい化合物；
＜Ａ１８＞Ａｒがナフタレン、ベンゾチオフェン、キノリン、ベンゼン、ピリジン、フラン、又はチオフェンから水素原子を２つ除した２価基であり、但し、１−２個の塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基、又はエチル基で置換されていてもよい化合物；
＜Ａ１９＞ナフタレンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、４）、又は（２、６）である上記＜Ａ１＞又は＜Ａ１０＞に記載の化合物；
＜Ａ２０＞ベンゾチオフェンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（２，６）、又は（６、２）である上記＜Ａ２＞又は＜Ａ１１＞に記載の化合物；
＜Ａ２１＞キノリンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（２，６）、（３、７）、（６、２）、又は（７、３）である上記＜Ａ３＞又は＜Ａ１２＞に記載の化合物；
＜Ａ２２＞ベンゼンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、３）、（１、４）である上記＜Ａ４＞又は＜Ａ１３＞に記載の化合物；
＜Ａ２３＞ベンゼンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、４）である上記＜Ａ４＞又は＜Ａ１３＞に記載の化合物；
＜Ａ２４＞イソキノリンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、４）、（１、５）、（３、７）、（４、１）、（５、１）、又は（７、３）である上記＜Ａ５＞に記載の化合物；
＜Ａ２５＞インダゾールから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、３）、（１、５）、（２、６）、（３、１）、（５、１）、又は（６、２）である上記＜Ａ６＞に記載の化合物；
＜Ａ２６＞ピリジンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（２、５）、（２、６）、又は（３、６）である上記＜Ａ７＞又は＜Ａ１４＞に記載の化合物；
＜Ａ２７＞フランから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（２、５）である上記＜Ａ８＞又は＜Ａ１５＞に記載の化合物；
＜Ａ２８＞チオフェンから水素原子を２つ除した２価基のＹ、及び−（ＣＲ２Ｒ３）ｍ１−ＮＲ１−（ＣＲ４Ｒ５）ｍ２−Ｂ−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（２、５）である上記＜Ａ９＞又は＜Ａ１６＞に記載の化合物；
＜Ｂ１＞ＢがＢ１である化合物；
＜Ｂ２＞Ｂが炭素原子で構成される３ないし７員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ３＞Ｂが炭素原子で構成される３ないし７員の部分不飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ４＞Ｂが炭素原子で構成される３ないし６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ５＞Ｂが炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ６＞Ｂが炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ７＞Ｂが炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ８＞Ｂが炭素原子で構成される５員の部分不飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ９＞Ｂが１−２個のＸ２で置換されている、炭素原子で構成される３ないし６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ１０＞Ｂが１−２個のＸ２で置換されている、炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ１１＞Ｂが１−２個のＸ２で置換されている、炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ１２＞Ｂが１−２個のＸ２で置換されている、炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｂ１３＞Ｂが炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、３）である、上記＜Ｂ６＞又は＜Ｂ１１＞に記載の化合物；
＜Ｂ１４＞Ｂが炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−Ｄ−Ｅと結合する位置が（１、３）である、上記＜Ｂ７＞又は＜Ｂ１２＞に記載の化合物；
＜Ｃ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ１＞である化合物；
＜Ｃ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ２＞である化合物；
＜Ｃ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ３＞である化合物；
＜Ｃ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ４＞である化合物；
＜Ｃ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ５＞である化合物；
＜Ｃ６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ６＞である化合物；
＜Ｃ７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ７＞である化合物；
＜Ｃ８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ８＞である化合物；
＜Ｃ９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ９＞である化合物；
＜Ｃ１０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ１０＞である化合物；
＜Ｃ１１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ１１＞である化合物；
＜Ｃ１２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ１２＞である化合物；
＜Ｃ１３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ１３＞である化合物；
＜Ｃ１４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ａ２８＞のいずれかにおいて、＜Ｂ１４＞である化合物；
＜Ｄ１＞Ｅが水酸基である化合物；
＜Ｄ２＞Ｅが−ＣＯ２ＲＥである化合物；
＜Ｄ３＞Ｅが−ＣＯ２Ｈである化合物；
＜Ｄ４＞Ｅが−ＣＯ２Ｍｅである化合物；
＜Ｄ５＞Ｅが−ＣＯ２Ｅｔである化合物；
＜Ｄ６＞Ｅが１Ｈ−テトラゾール−５−イル基である化合物；
＜Ｅ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｃ１４＞のいずれかにおいて、＜Ｄ１＞である化合物；
＜Ｅ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｃ１４＞のいずれかにおいて、＜Ｄ２＞である化合物；
＜Ｅ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｃ１４＞のいずれかにおいて、＜Ｄ３＞である化合物；
＜Ｅ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｃ１４＞のいずれかにおいて、＜Ｄ４＞である化合物；
＜Ｅ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｃ１４＞のいずれかにおいて、＜Ｄ５＞である化合物；
＜Ｅ６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｃ１４＞のいずれかにおいて、＜Ｄ６＞である化合物；
＜Ｆ１＞ＹにおけるＺがＣ３−Ｃ６シクロアルキレン基である化合物；
＜Ｆ２＞ＹにおけるＺがＣ５−Ｃ６シクロアルキレン基である化合物；
＜Ｆ３＞ＹにおけるＺがベンゼンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ４＞ＹにおけるＺが単環式芳香族複素環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ５＞ＹにおけるＺが二環式芳香族炭化水素環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物：
＜Ｆ６＞ＹにおけるＺが二環式芳香族複素環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ７＞ＹにおけるＺがフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ８＞ＹにおけるＺがチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ９＞ＹにおけるＺがオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１０＞ＹにおけるＺがイソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１１＞ＹにおけるＺがオキサジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１２＞ＹにおけるＺがチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１３＞ＹにおけるＺがイソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１４＞ＹにおけるＺがチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１５＞ＹにおけるＺがイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１６＞ＹにおけるＺがピラゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１７＞ＹにおけるＺがピランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１８＞ＹにおけるＺがピリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ１９＞ＹにおけるＺがピリダジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２０＞ＹにおけるＺがピリミジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２１＞ＹにおけるＺがピラジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２２＞ＹにおけるＺがナフタレンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２３＞ＹにおけるＺがベンゾフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２４＞ＹにおけるＺがベンゾ〔ｂ〕チオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２５＞ＹにおけるＺがインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２６＞ＹにおけるＺがイソインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２７＞ＹにおけるＺがインドリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２８＞ＹにおけるＺが１Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ２９＞ＹにおけるＺが２Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３０＞ＹにおけるＺが１Ｈ−ベンズイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３１＞ＹにおけるＺがベンゾオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３２＞ＹにおけるＺがベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３３＞ＹにおけるＺがベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３４＞ＹにおけるＺがベンゾチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３５＞ＹにおけるＺがベンゾ〔ｄ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３６＞ＹにおけるＺがベンゾ〔ｃ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３７＞ＹにおけるＺが１Ｈ−ベンゾトリアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３８＞ＹにおけるＺがベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ３９＞ＹにおけるＺがキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ４０＞ＹにおけるＺがイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｆ４１＞Ｚが１−２個の置換基Ｘ５で置換されている上記＜Ｆ１＞〜＜Ｆ４０＞に記載の化合物；
＜Ｆ４２＞Ｚが１個の置換基Ｘ５で置換されている上記＜Ｆ４１＞に記載の化合物；
＜Ｆ４３＞Ｘ５がフッ素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、−ＯＲＸ５、又は−ＲＸ５である上記＜Ｆ４１＞又は＜Ｆ４２＞に記載の化合物；
＜Ｆ４４＞Ｘ５がトリフルオロメチル基、又は−ＲＸ５である上記＜Ｆ４１＞又は＜Ｆ４２＞に記載の化合物；
＜Ｆ４５＞ＲＸ５が、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、又はフェニル基である上記＜Ｆ４３＞又は＜Ｆ４４＞に記載の化合物；
＜Ｆ４６＞Ｘ５がトリフルオロメチル基である上記＜Ｆ４１＞又は＜Ｆ４２＞に記載の化合物；
＜Ｇ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１＞である化合物；
＜Ｇ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２＞である化合物；
＜Ｇ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３＞である化合物；
＜Ｇ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４＞である化合物；
＜Ｇ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ５＞である化合物；
＜Ｇ６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ６＞である化合物；
＜Ｇ７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ７＞である化合物；
＜Ｇ８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ８＞である化合物；
＜Ｇ９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ９＞である化合物；
＜Ｇ１０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１０＞である化合物；
＜Ｇ１１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１１＞である化合物；
＜Ｇ１２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１２＞である化合物；
＜Ｇ１３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１３＞である化合物；
＜Ｇ１４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１４＞である化合物；
＜Ｇ１５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１５＞である化合物；
＜Ｇ１６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１６＞である化合物；
＜Ｇ１７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１７＞である化合物；
＜Ｇ１８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１８＞である化合物；
＜Ｇ１９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ１９＞である化合物；
＜Ｇ２０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２０＞である化合物；
＜Ｇ２１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２１＞である化合物；
＜Ｇ２２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２２＞である化合物；
＜Ｇ２３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２３＞である化合物；
＜Ｇ２４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２４＞である化合物；
＜Ｇ２５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２５＞である化合物；
＜Ｇ２６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２６＞である化合物；
＜Ｇ２７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２７＞である化合物；
＜Ｇ２８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２８＞である化合物；
＜Ｇ２９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ２９＞である化合物；
＜Ｇ３０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３０＞である化合物；
＜Ｇ３１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３１＞である化合物；
＜Ｇ３２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３２＞である化合物；
＜Ｇ３３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３３＞である化合物；
＜Ｇ３４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３４＞である化合物；
＜Ｇ３５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３５＞である化合物；
＜Ｇ３６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３６＞である化合物；
＜Ｇ３７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３７＞である化合物；
＜Ｇ３８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３８＞である化合物；
＜Ｇ３９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ３９＞である化合物；
＜Ｇ４０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４０＞である化合物；
＜Ｇ４１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４１＞である化合物；
＜Ｇ４２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４２＞である化合物；
＜Ｇ４３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４３＞である化合物；
＜Ｇ４４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４４＞である化合物；
＜Ｇ４５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４５＞である化合物；
＜Ｇ４６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｅ６＞のいずれかにおいて、＜Ｆ４６＞である化合物；
＜Ｈ１＞Ｗが水素原子である化合物；
＜Ｈ２＞Ｗが１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基である化合物；
＜Ｈ３＞Ｗが１−７個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ７シクロアルキル基である化合物；
＜Ｈ４＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいベンゼンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ５＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいナフタレンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ６＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいチオフェンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ７＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいベンゾチオフェンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ８＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいベンゾフランから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ９＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいキノリンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１０＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいテトラヒドロキノリンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１１＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいイソキノリンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１２＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいテトラヒドロイソキノリンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１３＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいピリジンから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１４＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいインドールから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１５＞Ｗが１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよいインダゾールから水素原子を１つ除した１価基である化合物；
＜Ｈ１６＞Ｗが、単環式芳香族複素環化合物、二環式芳香族炭化水素環化合物、二環式芳香族複素環化合物、及び単環式芳香族炭化水素環に飽和複素環が縮合した二環式化合物からなる群から選ばれる化合物から水素原子を１つ除した１価基であり、但し、これらの基は、１−２個のフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基で置換されていてもよい化合物；
＜Ｉ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１＞である化合物；
＜Ｉ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ２＞である化合物；
＜Ｉ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ３＞である化合物；
＜Ｉ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ４＞である化合物；
＜Ｉ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ５＞である化合物；
＜Ｉ６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ６＞である化合物；
＜Ｉ７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ７＞である化合物；
＜Ｉ８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ８＞である化合物；
＜Ｉ９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ９＞である化合物；
＜Ｉ１０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１０＞である化合物；
＜Ｉ１１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１１＞である化合物；
＜Ｉ１２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１２＞である化合物；
＜Ｉ１３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１３＞である化合物；
＜Ｉ１４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１４＞である化合物；
＜Ｉ１５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１５＞である化合物；
＜Ｉ１６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｇ４６＞のいずれかにおいて、＜Ｈ１６＞である化合物；
＜Ｊ１＞Ｖが単結合である化合物；
＜Ｊ２＞Ｖが−Ｏ−である化合物；
＜Ｊ３＞Ｖが−ＣＯ−である化合物；
＜Ｊ４＞Ｖが−ＣＲＶ（ＯＣＲＶ２）ＣＲＶ３ＣＲＶ４−である化合物；
＜Ｊ５＞Ｖが−ＣＲＶ＝ＣＲＶ２−である化合物；
＜Ｊ６＞Ｖが−Ｃ≡Ｃ−である化合物；
＜Ｊ７＞Ｖが−ＣＯＮＲＶ−である化合物；
＜Ｊ８＞Ｖがオキサジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｊ９＞Ｖがチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜Ｊ１０＞ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、ＲＶ４が存在する場合、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基である上記＜Ｊ４＞、＜Ｊ５＞又は＜Ｊ７＞に記載の化合物；
＜Ｊ１１＞ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、ＲＶ４が存在する場合、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基である上記＜Ｊ４＞、＜Ｊ５＞又は＜Ｊ７＞に記載の化合物；
＜Ｊ１２＞ＲＶ、ＲＶ２、ＲＶ３、ＲＶ４が存在する場合、それらが水素原子である上記＜Ｊ４＞、＜Ｊ５＞又は＜Ｊ７＞に記載の化合物；
＜Ｋ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ１＞である化合物；
＜Ｋ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ２＞である化合物；
＜Ｋ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ３＞である化合物；
＜Ｋ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ４＞である化合物；
＜Ｋ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ５＞である化合物；
＜Ｋ６＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ６＞である化合物；
＜Ｋ７＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ７＞である化合物；
＜Ｋ８＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ８＞である化合物；
＜Ｋ９＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ９＞である化合物；
＜Ｋ１０＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ１０＞である化合物；
＜Ｋ１１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ１１＞である化合物；
＜Ｋ１２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｉ１６＞のいずれかにおいて、＜Ｊ１２＞である化合物；
＜Ｌ１＞ＺにおけるＸ５がフッ素原子である化合物；
＜Ｌ２＞ＺにおけるＸ５が塩素原子である化合物；
＜Ｌ３＞ＺにおけるＸ５が−ＯＲＸ５である化合物；
＜Ｌ４＞ＺにおけるＸ５が−ＲＸ５である化合物；
＜Ｌ５＞ＺにおけるＸ５がシアノ基である化合物；
＜Ｍ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｋ１２＞（但し、＜Ｆ４４＞〜＜Ｆ４６＞を除く）のいずれかにおいて、＜Ｌ１＞である化合物；
＜Ｍ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｋ１２＞（但し、＜Ｆ４３＞〜＜Ｆ４６＞を除く）のいずれかにおいて、＜Ｌ２＞である化合物；
＜Ｍ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｋ１２＞（但し、＜Ｆ４４＞〜＜Ｆ４６＞を除く）のいずれかにおいて、＜Ｌ３＞である化合物；
＜Ｍ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｋ１２＞（但し、＜Ｆ４４＞〜＜Ｆ４６＞を除く）のいずれかにおいて、＜Ｌ４＞である化合物；
＜Ｍ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｋ１２＞（但し、＜Ｆ４４＞〜＜Ｆ４６＞を除く）のいずれかにおいて、＜Ｌ５＞である化合物；
＜Ｎ１＞Ｒ１〜Ｒ７が水素である化合物；
＜Ｏ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｍ５＞のいずれかにおいて、＜Ｎ１＞である化合物；
＜Ｐ１＞ｍ１＝１である化合物
＜Ｑ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｏ１＞のいずれかにおいて、＜Ｐ１＞である化合物；
＜Ｒ１＞ｍ２＝０である化合物；
＜Ｓ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｑ１＞のいずれかにおいて、＜Ｒ１＞である化合物；
＜Ｔ１＞Ｄが単結合である化合物；
＜Ｕ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｓ１＞のいずれかにおいて、＜Ｔ１＞である化合物；
＜Ｖ１＞Ｔが単結合である化合物；
＜Ｖ２＞Ｔがメチレン基である化合物；
＜Ｖ３＞Ｔがエチレン基である化合物；
＜Ｖ４＞Ｔが−Ｏ−である化合物；
＜Ｖ５＞Ｔが−ＣＯＮＲＴ−である化合物；
＜Ｗ１＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｕ１＞のいずれかにおいて、＜Ｖ１＞である化合物；
＜Ｗ２＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｕ１＞のいずれかにおいて、＜Ｖ２＞である化合物；
＜Ｗ３＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｕ１＞のいずれかにおいて、＜Ｖ３＞である化合物；
＜Ｗ４＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｕ１＞のいずれかにおいて、＜Ｖ４＞である化合物；
＜Ｗ５＞上記＜Ａ１＞〜＜Ｕ１＞のいずれかにおいて、＜Ｖ５＞である化合物
が好ましい。
【０１９１】
また、一般式（３）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、Ｗ、Ｔ、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｄ、Ｅに関しては、前記一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを採用することが好ましい。
【０１９２】
Ｂ３１及びＺ３に関しては、例えば、
＜ＡＡ１＞Ｂ３１が炭素原子で構成される３ないし６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＡ２＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＡ３＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＡ４＞Ｂ３１が炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＡ５＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−Ｄ−Ｅと結合する位置が、（１、３）である、上記＜ＡＡ３＞に記載の化合物；
＜ＡＡ６＞Ｂ３１が炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−Ｄ−Ｅと結合する位置が（１、３）である、上記＜ＡＡ４＞に記載の化合物；
＜ＡＢ１＞Ｚ３がＣ５−Ｃ６シクロアルキレン基である化合物；
＜ＡＢ２＞Ｚ３がベンゼンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３＞Ｚ３がフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ４＞Ｚ３がチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ５＞Ｚ３がオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ６＞Ｚ３がイソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ７＞Ｚ３がオキサジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ８＞Ｚ３がチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ９＞Ｚ３がイソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１０＞Ｚ３がチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１１＞Ｚ３がイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１２＞Ｚ３がピラゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１３＞Ｚ３がピランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１４＞Ｚ３がピリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１５＞Ｚ３がピリダジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１６＞Ｚ３がピリミジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１７＞Ｚ３がピラジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１８＞Ｚ３がナフタレンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ１９＞Ｚ３がベンゾフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２０＞Ｚ３がベンゾ〔ｂ〕チオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２１＞Ｚ３がインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２２＞Ｚ３がイソインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２３＞Ｚ３がインドリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２４＞Ｚ３が１Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２５＞Ｚ３が２Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２６＞Ｚ３が１Ｈ−ベンズイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２７＞Ｚ３がベンゾオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２８＞Ｚ３がベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ２９＞Ｚ３がベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３０＞Ｚ３がベンゾチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３１＞Ｚ３がベンゾ〔ｄ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３２＞Ｚ３がベンゾ〔ｃ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３３＞Ｚ３が１Ｈ−ベンゾトリアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３４＞Ｚ３がベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３５＞Ｚ３がキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３６＞Ｚ３がイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＡＢ３７＞Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されている化合物；
＜ＡＣ１＞上記＜ＡＢ１＞〜＜ＡＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＡＡ１＞である化合物；
＜ＡＣ２＞上記＜ＡＢ１＞〜＜ＡＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＡＡ２＞である化合物；
＜ＡＣ３＞上記＜ＡＢ１＞〜＜ＡＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＡＡ３＞である化合物；
＜ＡＣ４＞上記＜ＡＢ１＞〜＜ＡＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＡＡ４＞である化合物；
＜ＡＣ５＞上記＜ＡＢ１＞〜＜ＡＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＡＡ５＞である化合物；
＜ＡＣ６＞上記＜ＡＢ１＞〜＜ＡＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＡＡ６＞である化合物
が好ましい。
【０１９３】
さらには、一般式（３）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、Ｗ、Ｔ、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｄ、Ｅに関しては、前記一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを採用し、且つ、前記＜ＡＡ１＞〜＜ＡＣ６＞である化合物も好ましい。
【０１９４】
また、一般式（４）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥに関しては、前記一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを採用することが好ましい。
【０１９５】
Ｂ３１及びＺ３に関しては、例えば、
＜ＢＡ１＞Ｂ３１が炭素原子で構成される３ないし６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＡ２＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＡ３＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＡ４＞Ｂ３１が炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＡ５＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−ＣＯ２ＲＥと結合する位置が、（１、３）である、上記＜ＢＡ３＞に記載の化合物；
＜ＢＡ６＞Ｂ３１が炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−ＣＯ２ＲＥと結合する位置が（１、３）である、上記＜ＢＡ４＞に記載の化合物；
＜ＢＢ１＞Ｚ３がＣ５−Ｃ６シクロアルキレン基である化合物；
＜ＢＢ２＞Ｚ３がベンゼンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３＞Ｚ３がフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ４＞Ｚ３がチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ５＞Ｚ３がオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ６＞Ｚ３がイソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ７＞Ｚ３がオキサジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ８＞Ｚ３がチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ９＞Ｚ３がイソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１０＞Ｚ３がチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１１＞Ｚ３がイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１２＞Ｚ３がピラゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１３＞Ｚ３がピランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１４＞Ｚ３がピリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１５＞Ｚ３がピリダジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１６＞Ｚ３がピリミジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１７＞Ｚ３がピラジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１８＞Ｚ３がナフタレンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ１９＞Ｚ３がベンゾフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２０＞Ｚ３がベンゾ〔ｂ〕チオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２１＞Ｚ３がインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２２＞Ｚ３がイソインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２３＞Ｚ３がインドリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２４＞Ｚ３が１Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２５＞Ｚ３が２Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２６＞Ｚ３が１Ｈ−ベンズイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２７＞Ｚ３がベンゾオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２８＞Ｚ３がベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ２９＞Ｚ３がベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３０＞Ｚ３がベンゾチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３１＞Ｚ３がベンゾ〔ｄ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３２＞Ｚ３がベンゾ〔ｃ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３３＞Ｚ３が１Ｈ−ベンゾトリアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３４＞Ｚ３がベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３５＞Ｚ３がキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３６＞Ｚ３がイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＢＢ３７＞Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されている化合物；
＜ＢＣ１＞上記＜ＢＢ１＞〜＜ＢＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＢＡ１＞である化合物；
＜ＢＣ２＞上記＜ＢＢ１＞〜＜ＢＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＢＡ２＞である化合物；
＜ＢＣ３＞上記＜ＢＢ１＞〜＜ＢＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＢＡ３＞である化合物；
＜ＢＣ４＞上記＜ＢＢ１＞〜＜ＢＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＢＡ４＞である化合物；
＜ＢＣ５＞上記＜ＢＢ１＞〜＜ＢＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＢＡ５＞である化合物；
＜ＢＣ６＞上記＜ＢＢ１＞〜＜ＢＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＢＡ６＞である化合物
が好ましい。
【０１９６】
さらには、一般式（４）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ａｒ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥに関しては、前記一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを採用し、且つ、前記＜ＢＡ１＞〜＜ＢＣ６＞である化合物も好ましい。
また、一般式（５）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥに関しては、前記一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを採用することが好ましい。
【０１９７】
Ｂ３１及びＺ３に関しては、例えば、
＜ＣＡ１＞Ｂ３１が炭素原子で構成される３ないし６員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＡ２＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４ないし５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＡ３＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＡ４＞Ｂ３１が炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＡ５＞Ｂ３１が炭素原子で構成される４員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−ＣＯ２ＲＥと結合する位置が、（１、３）である、上記＜ＣＡ３＞に記載の化合物；
＜ＣＡ６＞Ｂ３１が炭素原子で構成される５員の飽和環化合物から水素原子を２つ除した２価基であって、該２価基の−ＮＲ１−、及び−ＣＯ２ＲＥと結合する位置が（１、３）である、上記＜ＣＡ４＞に記載の化合物；
＜ＣＢ１＞Ｚ３がＣ５−Ｃ６シクロアルキレン基である化合物；
＜ＣＢ２＞Ｚ３がベンゼンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３＞Ｚ３がフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ４＞Ｚ３がチオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ５＞Ｚ３がオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ６＞Ｚ３がイソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ７＞Ｚ３がオキサジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ８＞Ｚ３がチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ９＞Ｚ３がイソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１０＞Ｚ３がチアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１１＞Ｚ３がイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１２＞Ｚ３がピラゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１３＞Ｚ３がピランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１４＞Ｚ３がピリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１５＞Ｚ３がピリダジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１６＞Ｚ３がピリミジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１７＞Ｚ３がピラジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１８＞Ｚ３がナフタレンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ１９＞Ｚ３がベンゾフランから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２０＞Ｚ３がベンゾ〔ｂ〕チオフェンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２１＞Ｚ３がインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２２＞Ｚ３がイソインドールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２３＞Ｚ３がインドリジンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２４＞Ｚ３が１Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２５＞Ｚ３が２Ｈ−インダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２６＞Ｚ３が１Ｈ−ベンズイミダゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２７＞Ｚ３がベンゾオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２８＞Ｚ３がベンゾ〔ｄ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ２９＞Ｚ３がベンゾ〔ｃ〕イソオキサゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３０＞Ｚ３がベンゾチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３１＞Ｚ３がベンゾ〔ｄ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３２＞Ｚ３がベンゾ〔ｃ〕イソチアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３３＞Ｚ３が１Ｈ−ベンゾトリアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３４＞Ｚ３がベンゾ〔１，２，５〕チアジアゾールから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３５＞Ｚ３がキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３６＞Ｚ３がイソキノリンから水素原子を２つ除した２価基である化合物；
＜ＣＢ３７＞Ｚ３が、フッ素原子、塩素原子及びトリフルオロメチル基からなる群から各々独立に選ばれる１又は２個の基によって置換されている化合物；
＜ＣＣ１＞上記＜ＣＢ１＞〜＜ＣＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＣＡ１＞である化合物；
＜ＣＣ２＞上記＜ＣＢ１＞〜＜ＣＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＣＡ２＞である化合物；
＜ＣＣ３＞上記＜ＣＢ１＞〜＜ＣＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＣＡ３＞である化合物；
＜ＣＣ４＞上記＜ＣＢ１＞〜＜ＣＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＣＡ４＞である化合物；
＜ＣＣ５＞上記＜ＣＢ１＞〜＜ＣＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＣＡ５＞である化合物；
＜ＣＣ６＞上記＜ＣＢ１＞〜＜ＣＢ３７＞のいずれかにおいて、＜ＣＡ６＞である化合物
が好ましい。
【０１９８】
さらには、一般式（５）で示される化合物における各置換基の組み合わせは特に限定されないが、例えば、Ｗ、Ｔ、Ｚ３、Ｒ６、Ｒ７、ｎ、Ｖ、Ｒ１、Ｂ３１、ＲＥに関しては、前記一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを採用し、且つ、前記＜ＣＡ１＞〜＜ＣＣ６＞である化合物も好ましい。
【０１９９】
また、一般式（２）で示される化合物、若しくは一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを限定した上記＜Ａ１＞〜＜Ｗ５＞の化合物、又は一般式（３）、一般式（４）、若しくは一般式（５）で示される化合物、又は一般式（３）、一般式（４）、若しくは一般式（５）で示される化合物における各置換基の組み合わせを限定した上記の化合物、さらにはこれらの塩；
一般式（２）で示される化合物、又は一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを限定した上記＜Ａ１＞〜＜Ｗ５＞の化合物の薬理学的に許容される塩；
一般式（２）で示される化合物、又は一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを限定した上記＜Ａ１＞〜＜Ｗ５＞の化合物のプロドラッグ；
一般式（２）で示される化合物、又は一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを限定した上記＜Ａ１＞〜＜Ｗ５＞の化合物の塩のプロドラッグ；或いは
一般式（２）で示される化合物、又は一般式（２）で示される化合物における各置換基の組み合わせを限定した上記＜Ａ１＞〜＜Ｗ５＞の化合物の薬理学的に許容される塩のプロドラッグが好ましい。
【０２００】
また、一般式（１）〜（５）で示される化合物、若しくは一般式（２）〜（５）で示される化合物の各置換基の組み合わせを限定した上記化合物、又はその可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグを用いる下記の医薬、医薬組成物、及び治療方法も本発明の範囲内である。
【０２０１】
＜ＤＡ１＞哺乳動物のアレルギー性疾患の予防及び／又は治療のための上記一般式（１）〜（５）で示される化合物、若しくは一般式（２）〜（５）で示される化合物の各置換基の組み合わせを限定した上記化合物、又はその可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグを有効成分として含有する医薬。
【０２０２】
＜ＤＡ２＞哺乳動物における急性又は慢性の自己免疫疾患が認められる生体状態の予防及び／又は治療のための医薬組成物であって、上記予防及び／又は治療に有効な量の上記一般式（１）〜（５）で表される化合物、若しくは一般式（２）〜（５）で示される化合物の各置換基の組み合わせを限定した上記化合物、又はその可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグ及び薬学的に許容される担体を含む医薬組成物。
【０２０３】
＜ＤＡ３＞哺乳動物における急性又は慢性の自己免疫疾患が認められる生体状態の予防及び／又は治療方法であって、上記予防及び／又は治療に有効な量の上記一般式（１）〜（５）で表される化合物、若しくは一般式（２）〜（５）で示される化合物の各置換基の組み合わせを限定した上記化合物、又はその可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグを該哺乳動物に投与する工程を含む方法。
【０２０４】
具体的に、本発明化合物（１）のうち好ましい例としては、以下の化合物：
【０２０５】
【化２１】
2009269819.tif 000015
2009269819.tif 000016
2009269819.tif 000017
を挙げることができるが、本発明の範囲はこれらの好ましい例に限定されることはない。
【０２０６】
また、これら化合物の可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグも本発明の範囲である。
【０２０７】
本発明の一般式（２）で示される化合物は、例えば、下記の諸方法の反応を用いて製造することができる。尚、本発明の一般式（１）で示される化合物は、一般式（２）で示される化合物の製造法に準じて製造することができる。
【０２０８】
一般式（２）で示される本発明の化合物は例えば下記の方法により製造できるが、本発明の化合物の製造方法は特に下記記載の方法に限定されるものではない。
【０２０９】
それぞれの反応において、反応時間は特に限定されないが、公知の分析手段により反応の進行状態を容易に追跡できるため、目的物の収量が最大となる時点で終了すればよい。
【０２１０】
一般式（２）で示される化合物は、例えば製造方法Ａ反応工程式
【０２１１】
【化２２】
2009269819.tif 000018
【０２１２】
（製造方法Ａ反応工程式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ａｒ、Ｙ、Ｂ、Ｄ、Ｅ、ｍ１、及びｍ２は前記と同義であり、ＹＡ、ＢＡ、及びＥＡは、それぞれ前記Ｙ、Ｂ、及びＥと同義であるか、或いはこれらのうちの１以上の基が保護されていてもよい。）に示すような工程で製造することができる。一般式（２Ａ）で示される化合物は、一般式（２−１）で示される化合物と、一般式（２−２）で示される化合物との還元的アミノ化反応、もしくは、一般式（２−４）で示される化合物と、一般式（２−５）で示される化合物との還元的アミノ化反応により製造することができる。
【０２１３】
該還元的アミノ化反応により、一般式（２Ａ）で示される化合物を製造する方法は、例えば、成書（第４版実験化学講座、第２０巻、第６章、丸善）や文献（Ｒｏｂｅｒｔ、Ｍ．Ｂ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，３９，３４５１（１９９８）等に記載されている公知の還元アミノ化反応の方法に準じて行うことができる。
【０２１４】
該還元的アミノ化反応に際して使用される還元剤の種類は特に限定されないが、例えば、水素、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化ホウ素トリアセテート、ボラン、蟻酸−トリエチルアミン錯体等が例示され、好ましい例として水素、水素化ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化ホウ素トリアセテート、ボラン、又は蟻酸−トリエチルアミン錯体が挙げられる。
【０２１５】
反応に用いられる溶媒は還元反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、アルコール系溶媒、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等が挙げられ、これら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、又は２−プロパノール等が挙げられ、飽和炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例として２−プロパノール、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン、又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【０２１６】
還元剤の量は、一般式（２−１）、もしくは一般式（２−４）で示される化合物に対して、０．１モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１００倍モル以下が好ましく、１０倍モル以下がさらに好ましい。反応温度は特に限定されないが−２０℃以上で反応を行うことが好ましく、０℃以上がさらに好ましい。
【０２１７】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分乃至７２時間が例示され、好ましくは１時間乃至４８時間が例示される。
【０２１８】
また、一般式（２−２）、もしくは一般式（２−４）で示される化合物においてＲ１が水素原子である化合物を用いて該還元的アミノ化反応を行う場合、中間体として生成する一般式（２−３）、もしくは一般式（２−６）で示される化合物は、通常単離することなく還元反応を行うことができるが、該中間体が単離できる場合には、これを単離したのち還元反応に供してもよい。
【０２１９】
また、一般式（２Ａ）で示される化合物のうち、Ｒ１がＣ１−４アルキル基である化合物は、一般式（２Ａ）で示される化合物において、Ｒ１が水素原子である化合物と公知のＣ１−４飽和アルデヒド又はＣ１−４飽和ケトンとの還元的アミノ化反応により製造することもできる。該還元的アミノ化反応としては前記と同様の方法が例として挙げられる。
【０２２０】
また、上記工程の別法として、一般式（２Ａ）で示される化合物においてＲ１がＣ１−４アルキル基である化合物は、一般式（２Ａ）で示される化合物において、Ｒ１が水素原子である化合物と、公知のＲ１Ｌ１（式中、Ｒ１はＣ１−４アルキル基を示し、Ｌ１は脱離しうる基を示す。）で示される化合物とのアルキル化反応により製造することもできる。該アルキル化反応に際しては、必要に応じて塩基を存在させてもよい。
【０２２１】
該脱離しうる基Ｌ１としては、ハロゲン原子、又はアシルオキシ基等が例示される。該ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましい。該アシルオキシ基としては、ハロゲン化されていても良いアルキルスルホニルオキシ基、置換されていても良いアリールスルホニルオキシ基、又はアルキルオキシスルホニルオキシ基等が好ましい。該ハロゲン化されていても良いアルキルスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ基、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が好ましい。該置換されていても良いアリールスルホニルオキシ基としては、ベンゼンスルホニルオキシ基、又はパラトルエンスルホニルオキシ基等が好ましい。該アルキルオキシスルホニルオキシ基としては、メトキシスルホニルオキシ基、又はエトキシスルホニルオキシ基等が好ましい。
【０２２２】
該アルキル化反応において、Ｒ１Ｌ１で示される化合物の使用量は、一般式（２Ａ）で示される化合物においてＲ１が水素原子である化合物に対し、通常は０．９〜１０倍モル量、好ましくは１〜３倍モル量が例示される。ここで用いられる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、或いはアセトニトリル等が例示される。これらは単独、或いは混合溶媒として用いることができる。上記の反応においては、用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、又はナトリウムメチラート等のアルカリ金属化合物、或いはピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ −ジイソプロピルエチルアミン、又はＮ−メチルモルフォリン等の有機第３級アミンが例示される。これらの使用量は一般式（２Ａ）で示される化合物においてＲ１が水素原子である化合物に対し、通常は１〜２０倍モル量、好ましくは１〜１０倍モル量が例示される。反応温度は、−３０℃以上が好ましく、０℃以上がさらに好ましい。また、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がさらに好ましい。
【０２２３】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分乃至７２時間が例示され、好ましくは１時間乃至４８時間が例示される。
【０２２４】
一般式（２）で示される化合物は、一般式（２Ａ）で示される化合物に１以上の保護基が存在する場合、すべての保護基を同時又は順次脱保護することにより製造することができる。脱保護反応は、公知の方法、例えばＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ 刊（１９９９）に記載の方法等に準じて行えばよい。一般式（２Ａ）で示される化合物に保護基が存在しない場合は、一般式（２Ａ）で示される化合物が、一般式（２）で示される化合物に相当することは当業者に容易に理解される。
【０２２５】
また、別法として、一般式（２Ａ）で示される化合物は、例えば製造方法Ｂ反応工程式
【０２２６】
【化２３】
2009269819.tif 000019
（製造方法Ｂ反応工程式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ａｒ、Ｄ、ｍ１、及びｍ２は前記と同義であり、ＹＡ、ＢＡ、及びＥＡは、それぞれ前記Ｙ、Ｂ、及びＥと同義であるか、或いはこれらのうちの１以上の基が保護されていてもよく、Ｌ２は脱離しうる基を示す。）に示すように、一般式（２−７）で示される化合物と一般式（２−２）で示される化合物とのアルキル化反応、もしくは、一般式（２−４）で示される化合物と一般式（２−８）で示される化合物とのアルキル化反応により製造することもできる。該アルキル化反応に際しては、必要に応じて塩基を存在させてもよい。一般式（２−７）、及び一般式（２−８）で表される化合物において、脱離しうる基Ｌ２としては、ハロゲン原子、又はアシルオキシ基等が例示される。該ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましい。該アシルオキシ基としては、ハロゲン化されていても良いアルキルスルホニルオキシ基、又は置換されていても良いアリールスルホニルオキシ基等が好ましい。該ハロゲン化されていても良いアルキルスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ基、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が好ましい。該置換されていても良いアリールスルホニルオキシ基としては、ベンゼンスルホニルオキシ基、又はパラトルエンスルホニルオキシ基等が好ましい。該アルキル化反応としては前記と同様の方法が例として挙げられる。
【０２２７】
前記の製造方法Ａ反応工程式中で、一般式（２−１）で示される化合物は、例えば製造方法Ｃ反応工程式
【０２２８】
【化２４】
2009269819.tif 000020
（製造方法Ｃ反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ａｒ、ＹＡ、及びｍ１は前記と同義であり、Ａは製造方法Ｃ反応工程式中に図示される基（２−１Ａ−１）、基（２−１Ａ−２）、基（２−１Ａ−３）、基（２−１Ａ−４）、基（２−１Ａ−５）、又は基（２−１Ａ−６）を示し、ＲＡ１、ＲＡ２は、同一でも異なっていてもよく、それぞれＣ１−４アルキル基を示すか、もしくはＲＡ１、ＲＡ２は、一緒になってＣ２−Ｃ５アルキレン基を形成してもよく、ＲＡ３はＣ１−４アルキル基を示し、ＲＡ４、ＲＡ５は、同一でも異なっていてもよく、それぞれＣ１−４アルキル基を示し、Ｌ３は脱離しうる基を示す。）で示される方法で製造することができる。
【０２２９】
ＲＡ１、ＲＡ２において、Ｃ１−４アルキル基としては、メチル基、又はエチル基等が例示され、Ｃ２−Ｃ５アルキレン基としては、エチレン基、又はプロピレン基等が例示され、脱離しうる基Ｌ３としては塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子等が例示される。
【０２３０】
一般式（２−１）で示される化合物は、一般式（２−１Ａ）で示される化合物を官能基変換反応により変換することにより製造することができる。なお、一般式（２−１Ａ−１）で示される化合物が、一般式（２−１）で示される化合物に相当することは当業者に容易に理解される。
【０２３１】
一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−２）、基（２−１Ａ−４）、又は基（２−１Ａ−５）である化合物の多くは市販されており、当業者には公知の方法を用いて、一般式（２−１）で示される化合物を製造することができる。
【０２３２】
一般式（２−１）で示される化合物において末端のＲ２が水素原子である化合物は、例えば、一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−４）、基（２−１Ａ−５）、又は基（２−１Ａ−６）である化合物を金属水素化物又は、金属水素錯化合物等により還元することにより製造することができる。
【０２３３】
一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−４）である化合物の還元反応に際して使用される還元剤としては、金属水素化物が好ましく、該金属水素化物としては水素化ジイソブチルアルミニウム等が好ましい。
【０２３４】
一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−６）である化合物の還元反応に際して使用される還元剤としては、金属水素錯化合物が好ましく、該金属水素錯化合物としては、水素化リチウムアルミニウム等が好ましい。
【０２３５】
一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−４）、又は基（２−１Ａ−６）である化合物の還元反応に用いられる溶媒は還元反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタン等が挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が挙げられる。
【０２３６】
還元剤の量は一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−４）、もしくは基（２−１Ａ−６）である化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１００倍モル以下が好ましく、１０倍モル以下がさらに好ましい。
【０２３７】
反応温度は原料化合物、還元剤、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃以上で反応を行うことが好ましく、また５０℃以下で反応を行うのが好ましい。
【０２３８】
反応時間は、原料化合物、還元剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。
【０２３９】
一般式（２−１）で示される化合物において末端のＲ２がＣ１−４アルキル基である化合物は、例えば、一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−５）、又は基（２−１Ａ−６）である化合物とＲ２Ｍ（式中、Ｒ２はＣ１−４アルキル基を示し、Ｍは金属原子、又はハロゲン化された金属原子を示す。）で示される有機金属試薬との反応により製造することができる。
【０２４０】
金属原子又はハロゲン化された金属原子Ｍとしては、アルカリ金属原子、又はハロゲン化アルカリ土類金属原子が例示される。アルカリ金属原子としてはＬｉが好ましく、ハロゲン化アルカリ土類金属原子としては、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、又はＭｇＩが好ましい。
【０２４１】
該反応に際して使用される溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、又はエーテル系溶媒等が例示される。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が例示され、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン、キシレン等が例示され、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、又は１，４−ジオキサン等が例示され、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が好ましい。
【０２４２】
該反応において使用されるＲ２Ｍで示される有機金属試薬の量は一般式（２−１Ａ−５）、又は一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−６）である化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１００倍モル以下が好ましく、１０倍モル以下がさらに好ましい。
【０２４３】
反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃以上で反応を行うことが好ましく、また１００℃以下で反応を行うのが好ましい。
【０２４４】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分乃至２４時間が例示される。
【０２４５】
一般式（２−１）で示される化合物は、例えば、一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−２）である化合物を酸化することにより製造することもできる。
【０２４６】
一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−２）である化合物の多くは市販されており、当業者には公知の酸化反応を用いて、一般式（２−１）で示される化合物を製造することができる。
【０２４７】
該酸化反応としては、例えばＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬による酸化反応が例示される。
【０２４８】
該酸化反応に際して使用される溶媒は該酸化反応において不活性であれば特に限定されないが、ジクロロメタン等が例示される。
【０２４９】
該酸化反応に際して使用される酸化剤の量は一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−２）である化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１００倍モル以下が好ましく、１０倍モル以下がさらに好ましい。
【０２５０】
反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃以上で反応を行うことが好ましく、また５０℃以下で反応を行うのが好ましい。
【０２５１】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至２４時間が例示される。
【０２５２】
また、一般式（２−１）で示される化合物は、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、Ａが、基（２−１Ａ−３）である化合物を、酸触媒存在下、脱保護することにより製造することができる。
【０２５３】
該脱保護反応に際して使用される酸触媒は特に限定されないが、パラトルエンスルホン酸等が例示される。
【０２５４】
該脱保護反応に際して使用される溶媒は特に限定されないが、水、アセトン、又はそれらの溶媒の任意の割合での混合溶媒等が例示される。
【０２５５】
該脱保護反応に際して使用される酸触媒の量は、一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−３）である化合物に対して、０．００１倍モル以上が好ましい。
【０２５６】
反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、周囲温度で反応を行うのが好ましい。
【０２５７】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至４８時間が例示される。
【０２５８】
一般式（２−１）で示される化合物においてＲ２が水素原子であり、ｍ１が１である一般式（２−１−３）で示される化合物は、（２−１−２）で示される化合物と有機リチウム化合物の金属−ハロゲン交換により得られる有機金属化合物溶液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを作用させてホルミル化反応を行うこと等により製造することができる。
【０２５９】
該金属−ハロゲン交換反応に用いられる有機リチウム化合物としては、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が例示される。
【０２６０】
該金属−ハロゲン交換反応に際して用いられる溶媒としては、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、又はエーテル系溶媒等が例示される。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が例示され、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン、キシレン等が例示され、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、又は１，４−ジオキサン等が例示され、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が好ましい。
【０２６１】
該金属−ハロゲン交換反応において使用される有機金属試薬の量は、一般式（２−１−２）で示される化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、０．５倍モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。
【０２６２】
該金属−ハロゲン交換反応において、反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃以上で反応を行うことが好ましく、また０℃以下で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。
【０２６３】
該ホルミル化反応において使用されるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの量は、一般式（２−１−２）で示される化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、０．５倍モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。
【０２６４】
該ホルミル化反応において、反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃以上で反応を行うことが好ましく、また５０℃以下で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。
【０２６５】
前記の製造方法Ｂ反応工程式中で、一般式（２−７）、及び（２−４）で示される化合物は、例えば製造方法Ｄ反応工程式
【０２６６】
【化２５】
2009269819.tif 000021
（製造方法Ｄ反応工程式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａｒ、ＹＡ、ｍ１は及びＬ２は前記と同義である。但しＲ３のうち、Ｌ２に直接結合するメチレン基に置換するＲ３、及びＲ１が結合する窒素原子に直接結合するメチレン基に置換するＲ３は水素原子を示す。）で示される方法で製造することができる。
【０２６７】
一般式（２−９）で示される化合物は、一般式（２−１）で示される化合物を還元することより製造することができる。
【０２６８】
該還元反応に際して使用される還元剤の種類は特に限定されないが、金属水素錯化合物等が例示される。金属水素錯化合物としては、水素化ホウ素ナトリウム等が例示される。
【０２６９】
反応に用いられる溶媒は還元反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えばアルコール系溶媒が挙げられる。アルコール系溶媒としてはメタノール、又はエタノール等が挙げられる。
【０２７０】
還元剤の量は一般式（２−１）で示される化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１００倍モル以下が好ましく、１０倍モル以下がさらに好ましい。
【０２７１】
反応温度は原料化合物、還元剤、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至室温が例示される。
【０２７２】
反応時間は、原料化合物、還元剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１分乃至２時間が例示される。
【０２７３】
一般式（２−７）で示される化合物は、一般式（２−９）で示される化合物の水酸基をＬ２に変換することにより製造することができる。
【０２７４】
一般式（２−７）で示される化合物において、Ｌ２がアシルオキシ基の場合、例えば一般式（２−９）で示される化合物に、不活性溶媒中、塩基存在下で対応するアシルハライドを作用させることにより一般式（２−７）で示される化合物を製造することができる。該アシルハライドとしてはパラトルエンスルホニルクロリド、又はメタンスルホニルクロリド等が例示される。
【０２７５】
該アシル化反応に際して用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はピリジン等が例示される。
【０２７６】
該アシル化反応に用いられる溶媒は該アシル化反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサンが挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタンが挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサンが挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又はトルエン等が挙げられる。
【０２７７】
該アシル化反応に際して用いられるアシルハライドの量は、一般式（２−９）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、２倍モル以下がさらに好ましい。
【０２７８】
該アシル化反応に際して用いられる塩基の量は、該アシルハライドに対して、等モル以上が好ましく、また、２倍モル以下が好ましい。
【０２７９】
反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−３０℃乃至室温で反応を行うのが好ましい。
【０２８０】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１分乃至１２時間が例示される。
【０２８１】
一般式（２−７）で示される化合物において、Ｌ２が臭素原子の場合、例えば一般式（２−９）で示される化合物に不活性溶媒中、トリフェニルホスフィン存在下、四臭化炭素を作用させることにより一般式（２−７）で示される化合物を製造することができる。
【０２８２】
該ハロゲン化反応に用いられる溶媒は該ハロゲン化反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサンが挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタンが挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサンが挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又はトルエン等が挙げられる。
【０２８３】
該ハロゲン化反応に際して用いられる四臭化炭素の量は、一般式（２−９）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。
【０２８４】
該ハロゲン化反応に際して用いられるトリフェニルホスフィンの量は、四臭化炭素に対して、等モル以上が好ましく、また、５倍モル以下が好ましい。
【０２８５】
反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−３０℃以上で反応を行うことが好ましく、また５０℃以下で反応を行うのが好ましい。
【０２８６】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１分乃至１２時間が例示される。
【０２８７】
一般式（２−４）で示される化合物は、一般式（２−７）で示される化合物と一般式Ｒ１ＮＨ２（式中、Ｒ１はＣ１−４アルキル基を示す）で示される化合物とのアルキル化反応により製造することができる。
【０２８８】
該アルキル化反応としては前記と同様の方法が例示される。
【０２８９】
また、別法として一般式（２−４）で示される化合物は、一般式（２−１）で示される化合物と一般式Ｒ１ＮＨ２で示される化合物との還元的アミノ化反応により製造することができる。
【０２９０】
該還元的アミノ化反応としては前記と同様の方法が例示される。
【０２９１】
また、一般式（２−４）で示される化合物は、一般式（２−９）で示される化合物とイミド化合物を用いる光延反応を行った後、脱保護反応により製造することができる。
【０２９２】
該光延反応において用いられるイミド化合物としてはフタルイミド、ニトロフタルイミド等が例示される。
【０２９３】
該光延反応において用いられるイミド化合物の使用量は、一般式（２−９）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０２９４】
該光延反応において用いられるアゾ化合物としてはアゾジカルボン酸エチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、Ｎ,Ｎ,Ｎ´,Ｎ´−テトラメチルアゾジカルボキサミド、Ｎ,Ｎ,Ｎ´,Ｎ´−テトライソプロピルアゾジカルボキサミド等が例示される。
【０２９５】
該光延反応において用いられるアゾ化合物の使用量は、一般式（２−９）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０２９６】
該光延反応において用いられるホスフィン試薬としてはトリフェニルホスフィン、トリｎ−ブチルホスフィン等が例示される。
【０２９７】
該光延反応において用いられるホスフィン試薬の使用量は、一般式（２−９）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０２９８】
該光延反応において使用される溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、またこれら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタン等が挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、トルエン、又はこれらの溶媒の任意の比率での混合溶媒等が挙げられる。
【０２９９】
該光延反応に際して、反応温度は−５０℃以上が好ましく−３０℃以上がさらに好ましい。また該反応に用いる溶媒の沸点以下が好ましく、３０℃以下がさらに好ましい。
【０３００】
該脱保護反応としては、ヒドラジン、ヒドラジン水和物、メチルヒドラジン、フェニルヒドラジン、メチルアミン、又はメチルエチレンジアミン等のアミン、若しくは硫化ナトリウム等が挙げられる。
【０３０１】
該脱保護反応において用いられるアミン等の使用量は、一般式（２−９）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０３０２】
該脱保護反応において使用される溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、水、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、またこれら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒等が挙げられる。アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール、又は２−プロパノール等が挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例として水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、又はこれらの溶媒の任意の比率での混合溶媒等が挙げられる。
【０３０３】
該脱保護反応に際して、反応温度は０℃以上が好ましい。また該反応に用いる溶媒の沸点以下が好ましい。
【０３０４】
前記した製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、そのＹＡにおけるＶが酸素原子である一般式（Ｎ２−５）で示される化合物は、例えば製造方法Ｎ１反応工程式
【０３０５】
【化２６】
2009269819.tif 000022
（製造方法Ｎ１反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ｍ１、Ｌ２、及びＡは前記と同義であり、ＷＡ、ＴＡ、ＺＡは、各々、Ｗ、Ｔ、Ｚについて前記した意味を表し、ｎ１は１、もしくは２であり、Ｌ４は脱離しうる基を示す。）で示される方法で製造することができる。該脱離しうる基Ｌ４としては、臭素原子、又はヨウ素原子等が好ましい。
【０３０６】
一般式（Ｎ２−５）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２）で示される化合物とのアルキル化反応により製造することができる。
【０３０７】
該アルキル化反応としては、前記製造方法Ａ反応工程式に記載したアルキル化反応と同様の方法が例として挙げられる。
【０３０８】
上記方法の別法として一般式（Ｎ２−５）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１）で示される化合物と一般式（Ｎ２−３）で示される化合物との光延反応により製造することができる。
【０３０９】
該光延反応において用いられるアゾ化合物としてはアゾジカルボン酸エチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、Ｎ,Ｎ,Ｎ´,Ｎ´−テトラメチルアゾジカルボキサミド、Ｎ,Ｎ,Ｎ´,Ｎ´−テトライソプロピルアゾジカルボキサミド等が例示される。
【０３１０】
該光延反応において用いられるアゾ化合物の使用量は、一般式（Ｎ２−１）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０３１１】
該光延反応において用いられるホスフィン試薬としてはトリフェニルホスフィン、トリｎ−ブチルホスフィン等が例示される。
【０３１２】
該光延反応において用いられるホスフィン試薬の使用量は、一般式（Ｎ２−１）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０３１３】
該光延反応において使用される溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、またこれら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサンが挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタンが挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサンが挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、トルエン、及びこれらの溶媒の任意の比率での混合溶媒等が挙げられる。
【０３１４】
該光延反応に際して、反応温度は−５０℃以上が好ましく−３０℃以上がさらに好ましい。また該反応に用いる溶媒の沸点以下が好ましく、３０℃以下がさらに好ましい。
【０３１５】
該光延反応に際して、反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至６時間が例示される。
【０３１６】
また、別法として一般式（Ｎ２−４）で示される化合物と一般式（Ｎ２−３）で示される化合物とを塩基及び銅触媒存在下、無溶媒、もしくは不活性溶媒中でカップリング反応させることにより一般式（Ｎ２−５）で示される化合物を製造することもできる。
【０３１７】
該カップリング反応に使用される溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定されないが、エーテル系溶媒、又はピリジン系溶媒等が例示される。エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテル等が例示され、ピリジン系溶媒としては、ピリジン、ピコリン、ルチジン、又はコリジン等が例示されるが、好ましくは無溶媒である。該カップリング反応に使用される銅触媒としては、例えばヨウ化第一銅、臭化第一銅、酸化第一銅、酸化第二銅を挙げることができ、酸化第一銅が好ましい。
【０３１８】
該カップリング反応に使用される化合物（Ｎ２−３）のアルカリ金属塩は一般式（Ｎ２−３）とアルカリ金属若しくはアルカリ金属化合物から調製される。アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、又はカリウム等が挙げられ、アルカリ金属化合物としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウム、又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物が挙げられる。好適には水素化ナトリウムを用いて調製される。また添加物として、ヨウ化カリウムを使用することにより、収率を向上させることができる。
【０３１９】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類によって異なるが、通常、室温以上が好ましく、６０℃以上がさらに好ましい。また１５０℃以下が好ましく１２０℃以下がさらに好ましい。
【０３２０】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間以上が好ましく、３時間以上がさらに好ましい。また７日以下が好ましく、７２時間以下がさらに好ましい。
【０３２１】
前記の製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、そのＹＡにおけるＶが酸素原子であり、且つｎが０である一般式（Ｎ２−９）で示される化合物は、例えば製造方法Ｎ２反応工程式
【０３２２】
【化２７】
2009269819.tif 000023
［製造方法Ｎ２反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ａｒ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、及びＡは前記と同義であり、ＺＡ２はベンゼン、チオフェン、フラン、ベンゾチオフェン、イソキノリン、及びインダゾールからなる群から選ばれる化合物から水素原子を２つ除した２価基を表し、これらの基は、１−２個のＸ５（Ｘ５は前記と同義である。）で置換されていてもよく、さらにこのうちの１以上の基が保護されていてもよく、ＲＢ１、ＲＢ２は同一でも異なっていてもよく、水素原子、又はＣ１−４アルキル基を示すか、ＲＢ１、ＲＢ２は一緒になって、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基を形成しても良い。］で示される方法で製造することができる。
【０３２３】
（Ｎ２−９）で示される化合物は、塩基、及び酢酸銅の存在下、前記の（Ｎ２−１）で示される化合物と、（Ｎ２−７）で示される化合物とを作用させることによって製造することができる。塩基としては有機塩基が好ましく、有機塩基としては、トリエチルアミン、又はジイソプロピルエチルアミン等が好ましい。反応に用いられる溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定されないが、ハロゲン化炭化水素系溶媒等が好ましく、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては、ジクロロメタン、又はクロロホルム等が好ましい。また必要に応じてモレキュラーシーブスを添加することも好ましい。反応温度は、０℃以上が好ましく、また用いる溶媒の沸点以下の温度が好ましい。反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０３２４】
また、別法として、塩基存在下、一般式（Ｎ２−６）で示される化合物と（Ｎ２−８）で示される化合物を作用させることにより、（Ｎ２−９）で示される化合物を製造することもできる。塩基としては、無機塩基が好ましく、無機塩基としては、炭酸カリウム、又は炭酸ナトリウム等が好ましい。反応に用いられる溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましい。反応温度は０℃以上が好ましく、周囲温度以上がさらに好ましい。また、２００℃以下が好ましく１６０℃以下がさらに好ましい。反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０３２５】
前記した製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、そのＹＡにおけるＶが硫黄原子である一般式（Ｎ２−１１）、及び（Ｎ２−１６）で示される化合物は、例えば製造方法Ｎ３反応工程式
【０３２６】
【化２８】
2009269819.tif 000024
（製造方法Ｎ３反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＺＡ２、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ１、Ｌ２、Ｌ４、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０３２７】
一般式（Ｎ２−１１）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−４）で示される化合物と一般式（Ｎ２−１０）で示される化合物を塩基及び銅触媒存在下、無溶媒、もしくは不活性溶媒中でカップリング反応させることにより製造することができる。該カップリング反応としては製造方法Ｎ１反応工程式における、一般式（Ｎ２−４）で示される化合物と一般式（Ｎ２−３）で示される化合物とを塩基及び銅触媒存在下、無溶媒、もしくは不活性溶媒中でカップリング反応させることにより一般式（Ｎ２−５）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が挙げられる。
【０３２８】
また、上記の別法として、一般式（Ｎ２−１１）で示される化合物は一般式（Ｎ２−１２）を出発原料として製造することもできる。一般式（Ｎ２−１３）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１２）で示される化合物の酸化反応により製造することができる。該酸化反応に用いられる酸化剤としては、ヨウ素系酸化剤、又は有機過酸系酸化剤等が例示される。ヨウ素系酸化剤としてはメタ過ヨウ素酸ナトリウムが好ましく、有機過酸系酸化剤としては、メタクロロ過安息香酸等が好ましい。例えば、メタ過ヨウ素酸ナトリウムを用いた酸化反応に際して用いられる溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定されないが、水、アルコール系溶媒、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒が好ましく、アルコール系溶媒としては、メタノール、又はエタノール等が好ましい。またこれらの溶媒と水との任意の比率の混合溶媒も好ましい。該酸化反応において用いられるメタ過ヨウ素酸ナトリウムの量は、一般式（Ｎ２−１２）で示される化合物に対して、０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。反応温度は、−２０℃以上が好ましく、５０℃以下が好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間以上が好ましく、また２４時間以下が好ましい。
【０３２９】
一般式（Ｎ２−１４）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１３）で示される化合物にアセトニトリル等の不活性溶媒中、好ましくは−２０℃以上、０℃以下の温度で、例えば２，６−ルチジン等の塩基の存在下、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を作用させ、得られたＰｕｍｍｅｒｅｒ転位生成物を、好ましくは−２０℃以上、室温以下の温度で、大過剰のトリエチルアミン等の塩基存在下、メタノール等のアルコールで分解することにより製造することができる。
【０３３０】
一般式（Ｎ２−１１）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１４）で示される化合物と、一般式（Ｎ２−２）で示される化合物とのアルキル化反応により製造することができる。該アルキル化反応としては、前記製造方法Ａ反応工程式に記載したアルキル化反応と同様の方法が例として挙げられる。
【０３３１】
一方、上記の一般式（Ｎ２−１６）で示される化合物は、塩基存在下、一般式（Ｎ２−６）で示される化合物と（Ｎ２−１５）で示される化合物とを作用させることにより製造することができる。該反応としては、製造方法Ｎ２反応工程式において、塩基存在下、一般式（Ｎ２−６）で示される化合物と（Ｎ２−８）で示される化合物を作用させることにより、（Ｎ２−９）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が挙げられる。
【０３３２】
前記の製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、そのＹＡにおけるＶが−ＳＣＨ２−であり、且つｎが０である一般式（Ｎ２−２０）で示される化合物は、例えば製造方法Ｎ４反応工程式
【０３３３】
【化２９】
2009269819.tif 000025
（製造方法Ｎ４反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ａｒ、ＺＡ２、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、Ｌ２、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０３３４】
一般式（Ｎ２−１８）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１７）で示される化合物を、水、メタノール、エタノール、又はこれらの溶媒の任意の割合の混合溶媒中、塩酸等の鉱酸存在下、−１０℃ないし５℃の温度で、亜硝酸ナトリウムを作用させることによりジアゾニウム塩としたのち、室温乃至８０℃の温度で、ジチオ炭酸O-エチルカリウムを作用させることにより製造することができる。
【０３３５】
一般式（Ｎ２−１５）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１８）で示される化合物を水、メタノール、エタノール、又はこれらの溶媒の任意の割合の混合溶媒中、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウム等の塩基を用いて、室温乃至１００℃で加水分解反応を行うことにより得ることができる。
【０３３６】
一般式（Ｎ２−２０）で示される化合物は一般式（Ｎ２−１５）で示される化合物と、一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物とのアルキル化反応により製造することができる。該アルキル化反応としては、前記製造方法Ａ反応工程式に記載したアルキル化反応と同様の方法が例として挙げられる。
【０３３７】
また、例えば製造方法Ｎ５反応工程式
【０３３８】
【化３０】
2009269819.tif 000026
（製造方法Ｎ５反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＺＡ２、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ１、及びＡは前記と同義であり、ｎＶは１又は２を示す。）で示される方法で、一般式（Ｎ２−１１）、（Ｎ２−１６）、又は（Ｎ２−２０）で示される化合物を好適な酸化剤を用いて酸化することにより、それぞれ対応する一般式（Ｎ２−Ｓ１）、（Ｎ２−Ｓ２）；（Ｎ２−Ｓ３）、（Ｎ２−Ｓ４）；又は（Ｎ２−Ｓ５）、（Ｎ２−Ｓ６）で示される化合物を製造することもできる。
【０３３９】
一般式（Ｎ２−１１）、（Ｎ２−１６）、又は（Ｎ２−２０）で示される化合物を酸化することにより、それぞれ対応する一般式（Ｎ２−Ｓ１）、（Ｎ２−Ｓ３）、又は（Ｎ２−Ｓ５）で示される化合物を製造する反応としては、製造方法Ｎ３反応工程式において、一般式（Ｎ２−１２）で示される化合物を、一般式（Ｎ２−１３）で示される化合物に酸化する方法と同様な方法が例示される。
【０３４０】
一般式（Ｎ２−１１）、（Ｎ２−１６）、又は（Ｎ２−２０）で示される化合物を酸化することにより、それぞれ対応する一般式（Ｎ２−Ｓ２）、（Ｎ２−Ｓ４）、又は（Ｎ２−Ｓ６）で示される化合物を製造する反応に用いられる酸化剤としては、オキソン、又は有機過酸系酸化剤等が例示される。有機過酸系酸化剤としては、メタクロロ過安息香酸、又は過酢酸等が好ましい。例えば、オキソンを用いた酸化反応に際して用いられる溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定されないが、水、アルコール系溶媒、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒が好ましく、アルコール系溶媒としては、メタノール、又はエタノールが好ましい。またこれらの溶媒と水との任意の比率の混合溶媒も好ましい。該酸化反応において用いられるオキソンの量は、一般式（Ｎ２−１１）、（Ｎ２−１６）、又は（Ｎ２−２０）で示される化合物に対して、１倍モル量以上が好ましく２倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。反応温度は、−２０℃以上が好ましく、５０℃以下が好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間以上が好ましく３日以下が好ましい。
【０３４１】
前記した製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、そのＹＡにおけるＶが−ＮＨ−であり、且つｎが０である一般式（Ｎ２−２７）で示される化合物は、例えば製造方法Ｎ６反応工程式
【０３４２】
【化３１】
2009269819.tif 000027
［製造方法Ｎ６反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ａｒ、ＺＡ２、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、Ｌ３、ＲＢ１、ＲＢ２、及びＡは前記と同義である。］で示される方法で製造することができる。
【０３４３】
一般式（Ｎ２−２７）で示される化合物は、酸触媒の存在下、一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物に一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物を作用させることにより製造することができる。該反応に用いられる酸触媒としてはピリジニウムパラトルエンスルホン酸等が好ましい。該反応に使用される溶媒としては該反応において不活性であれば特に限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又は、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等が好ましく、また無溶媒で反応を行うことも好ましい。反応温度は０℃以上が好ましく、周囲温度以上がさらに好ましい。また、２００℃以下が好ましく１６０℃以下がさらに好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０３４４】
また、一般式（Ｎ２−２７）で示される化合物は、塩基、及び銅触媒の存在下、一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物に一般式（Ｎ２−７）で示される化合物を作用させることにより製造することができる。該反応に用いられる銅触媒としては、無水酢酸銅（ＩＩ）が好ましい。該反応に用いられる塩基としては有機塩基が好ましく、有機塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はピリジン等が好ましい。該反応に使用される溶媒としては該反応において不活性であれば特に限定されないが、ハロゲン化炭化水素系溶媒等が好ましく、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、又はクロロホルム等が好ましい。反応温度は−２０℃以上が好ましく、０℃以上がさらに好ましい。また、５０℃以下が好ましく、周囲温度以下がさらに好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０３４５】
前記した製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）で示される化合物において、そのＹＡにおけるＶが−ＣＯＮＲＶ−である一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物、及びＶが−ＮＲＶＣＯ−である一般式（Ｎ２−３３）で示される化合物は、例えば製造方法Ｎ７反応工程式
【０３４６】
【化３２】
2009269819.tif 000028
（製造方法Ｎ７反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、ＲＶ、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０３４７】
一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応に際しては、必要に応じ、１乃至１．５当量の１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）及び／又は触媒量ないし５当量の塩基の共存下に反応を行ってもよい。該脱水縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、又は１−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）等が挙げられる。なかでもＷＳＣが好ましい。該縮合反応に用いられる不活性溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、例えば、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、又はエーテル系溶媒等が挙げられる。これらは、二種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。ニトリル系溶媒としては、アセトニトリル等が好ましく、アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましく、エーテル系溶媒としては、テトラヒドロフラン等が好ましい。
【０３４８】
塩基としては、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のアミド類、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の低級アルコキシド等の強塩基、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸水素塩等の無機塩基、有機アミン類、或いは、塩基性複素環化合物等の有機塩基等が挙げられる。アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等が例示され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のアミド類としては、リチウムアミド、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、又はカリウムヘキサメチルジシラジド等が例示され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の低級アルコキシドとしては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、又はカリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等が例示され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、又は水酸化バリウム等が例示され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、又は炭酸セシウム等が例示され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸水素塩としては、炭酸水素ナトリウム、又は炭酸水素カリウム等が例示され、有機アミン類としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデス−７−エン）、又はＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕ノン−５−エン）等が例示され、塩基性複素環化合物等の有機塩基としては、ピリジン、イミダゾール、又は２，６−ルチジン等が挙げられる。上記の塩基のなかでも、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又は4−ジメチルアミノピリジン等が好ましい。反応温度は、０℃以上が好ましく、３０℃以下が好ましい。反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、１時間以上が好ましく、また２４時間以下が好ましい。
【０３４９】
また、上記製造法の別法として、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。必要に応じ、１乃至１０当量、好ましくは１乃至３当量の塩基の共存下に反応を行ってもよい。一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体としては、例えば酸ハライド、混合酸無水物、又は活性エステル等が挙げられる。酸ハライドとしては、酸クロリド、又は酸ブロミド等が例示され、混合酸無水物としては、Ｃ１−６アルキル−カルボン酸、Ｃ６−１０アリール−カルボン酸、又はＣ１−６アルキル炭酸との酸無水物等が例示され、活性エステルとしては、置換基を有していてもよいフェノール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、又はＮ−ヒドロキシスクシンイミドとのエステル等が挙げられる。該置換基を有していてもよいフェノールにおける置換基としては、例えばハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素、又はヨウ素等）、ニトロ基、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル基、又はハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルコキシ基等が挙げられる。置換基を有していてもよいフェノールの具体例としては、例えばフェノール、ペンタクロロフェノール、ペンタフルオロフェノール、又はp−ニトロフェノール等が挙げられる。反応性誘導体は、好ましくは酸ハライドである。
【０３５０】
該反応に用いられる不活性溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、例えばエーテル系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、スルホキシド系溶媒、又は水等が挙げられる。これらは、二種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。なかでも、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、又はクロロホルム等が好ましい。塩基としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応を行う際に用いられる塩基と同様のものが用いられる。該塩基としては、好ましくは、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミン、又はピリジン等である。反応温度は、通常−２０℃以上が好ましく、また５０℃以下が好ましい。さらに好ましくは周囲温度である。反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分以上が好ましく、１時間以上がさらに好ましい。また４０時間以下が好ましく、１８時間以下がさらに好ましい。
【０３５１】
一般式（Ｎ２−３３）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３１）で示される化合物と一般式（Ｎ２−３２）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応を行う方法と同様な方法が例として挙げられる。
【０３５２】
また、上記製造法の別法として、一般式（Ｎ２−３３）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３１）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−３２）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。該反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させる方法と同様な方法が例として挙げられる。
【０３５３】
前記の製造方法Ｃ反応工程式中での一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶが−ＮＨ−であり、ｎが０、Ｚがチアゾールの２位、及び４位に結合する二個の水素原子を除した２価の基である一般式（Ｎ２−３７）で示される化合物は、製造方法Ｎ８反応工程式
【０３５４】
【化３３】
2009269819.tif 000029
（製造方法Ｎ８反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ａｒ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、Ｌ２、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０３５５】
一般式（Ｎ２−３４）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物にベンゾイルイソチオシアネートを作用させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒は、該反応において不活性であれば特に限定されないが、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等の飽和炭化水素系溶媒、アセトン等のケトン系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、又は１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又は１,４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等が例示され、アセトン、ジクロロメタン、クロロホルム、又はトルエン等が好ましい。該反応に用いられるベンゾイルイソチオシアネートの量は一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物に対して、０.５倍モル以上が好ましく、等モル以上が好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至室温が例示される。
【０３５６】
一般式（Ｎ２−３５）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３４）で示される化合物を加水分解することにより製造することができる。該加水分解反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウム等の金属水酸化物等が例示される。該反応に用いられる溶媒系としては、水、含水有機溶媒系、又は有機溶媒系が例示される。
【０３５７】
該溶媒系に用いられる有機溶媒としては、該加水分解反応において不活性であれば特に限定されないが、メタノール、エタノール、又は２−プロパノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、又は１,４−ジオキサン等のエーテル系溶媒等、或いはこれらの溶媒の任意の比率での混合溶媒が例示される。該反応に用いられる塩基の量は、一般式（Ｎ２−３４）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、５０倍モル以下が好ましく、１０倍モル以下がさらに好ましい。反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒等により異なるが、通常０℃乃至溶媒還流温度が例示される。
【０３５８】
一般式（Ｎ２−３７）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３５）で示される化合物に、不活性溶媒中、必要に応じて脱水剤存在下、一般式（Ｎ２−３６）を作用させることにより製造することができる。該反応において使用される脱水剤としては、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等が例示される。該反応に用いられる溶媒は、該反応において不活性であれば特に限定されないが、例えばアセトン、又はテトラヒドロフラン等が例示される。反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、室温乃至溶媒還流温度が例示される。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０３５９】
前記の製造方法Ｃ反応工程式中での一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶが−ＣＲＶ＝ＣＨ−である一般式（Ｏ２−３）で示される化合物は、製造方法Ｏ１反応工程式
【０３６０】
【化３４】
2009269819.tif 000030
（製造方法Ｏ１反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、ＲＶ、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ、及びＡは前記と同義であり、Ｌ５は脱離しうる基を示す。）で示される方法で製造することができる。該脱離しうる基Ｌ５としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が好ましい。
【０３６１】
一般式（Ｏ２−３）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１）で示される化合物と一般式（Ｏ２−２）で示される化合物とのＨｅｃｋ反応により製造することができる。該反応に用いられる触媒としては、例えば、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、又は酢酸パラジウム／トリｔ−ブチルホスフィン等が例示される。該反応に用いられる塩基としては、有機アミン塩基、又は無機塩基等が例示され、有機アミン塩基としては、トリエチルアミン、又はジイソプロピルエチルアミン等が例示され、無機塩基としては、炭酸カリウム等が例示される。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、又は１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒等が例示される。反応温度は、室温以上が好ましく、また用いる溶媒の沸点以下の温度が好ましい。反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間以上が好ましく、また３日間以下が好ましい。
【０３６２】
前記の製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶが−Ｃ≡Ｃ−である一般式（Ｏ２−５）で示される化合物、Ｖが−ＨＣ＝ＣＨ−である一般式（Ｏ２−６）で示される化合物、Ｖが−ＣＨ２ＣＨ２−である一般式（Ｏ２−７）で示される化合物、Ｖが−ＣＨ２ＣＯ−である一般式（Ｏ２−８）で示される化合物、及びＶが−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）−である一般式（Ｏ２−９）で示される化合物は、製造方法Ｏ２反応工程式
【０３６３】
【化３５】
2009269819.tif 000031
（製造方法Ｏ２反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ、Ｌ５及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０３６４】
一般式（Ｏ２−５）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−２）で示される化合物を不活性溶媒中、窒素雰囲気下、塩基及びパラジウム触媒の存在下、一般式（Ｏ２−４）で示される化合物とＳｏｎｏｇａｓｈｉｒａ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ反応させることにより製造することができる。
【０３６５】
該反応に使用される不活性溶媒としては、該反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素系溶媒、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、又は炭酸ジエチルのようなエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、又はシクロヘキサノンのようなケトン系溶媒、アセトニトリル、又はイソブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、又はヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド系溶媒、ジメチルスルホキシドようなスルホキシド系溶媒、或いはスルホランのようなスルホン系溶媒等が例示され、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、又はスルホキシド系溶媒等が好ましい。さらに、エ−テル系溶媒、又はアミド系溶媒が最も好ましい。また、反応溶媒中に少量の水を添加することで、反応の進行が促進されることがある。
【０３６６】
上記反応に使用される塩基としては、通常Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ反応に使用される塩基であれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、又は炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、又はカリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類、或いは、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機アミン類が挙げられる。中でも有機アミン類が好ましく、有機アミン類としてはトリエチルアミンが好ましい。
【０３６７】
上記反応に使用されるパラジウム触媒としては、通常Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、又は炭酸パラジウムのようなパラジウム塩類、配位子と錯体を形成しているジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム錯体のようなパラジウム塩錯体類、パラジウム−炭素等を挙げることができる。
【０３６８】
また、添加剤として、ヨウ化銅（Ｉ）、又は塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等を使用することにより、収率を向上させることができる。
【０３６９】
反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃が例示され、好ましくは０℃乃至１２０℃である。
【０３７０】
反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至４
８時間が例示され、１５分乃至２４時間が好ましい。
【０３７１】
また、一般式（Ｏ２−５）で示される化合物を還元（好ましくは、水素雰囲気下、接触還元）することによりＶが−ＣＨ＝ＣＨ−である一般式（Ｏ２−６）で示される化合物を製造することもできる。
【０３７２】
上記反応における接触還元に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、ベンゼン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、又は炭酸ジエチルのようなエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、又はメチルセロソルブのようなアルコ−ル系溶媒、酢酸、又は塩酸のような有機酸類、水、或いは上記溶媒と水との混合溶媒が例示され、エーテル系溶媒、又はアルコール系溶媒が好ましく、メタノールが最も好ましい。
【０３７３】
接触還元に使用される触媒としては、通常、三重結合を二重結合に還元する反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、パラジウム−炭酸カルシウム、パラジウム−酸化アルミニウム、パラジウム−炭素、又はパラジウム−硫酸バリウムのようなパラジウム類、或いははロジウム−酸化アルミニウムのようなロジウム類が好ましく、パラジウム−炭酸カルシウムがより好ましい。
【０３７４】
なお、本工程で、一般式（Ｏ２−５）で示される化合物の側鎖に含まれるエチニレン基を、ビニレン基に還元し、エチレン基にまで還元しないために、反応溶媒中に、ピリジン、又はキノリンのような塩基性芳香族化合物、或いは、アンモニア、又はトリエチルアミンのようなアミン類（好ましくは、キノリン）を添加して、触媒を不活性化してもよい。
【０３７５】
水素圧は特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行われ、１気圧が好ましい。
【０３７６】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃が例示され、０℃乃至１００℃が好ましい。
【０３７７】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９
６時間が例示され、１５分乃至７２時間が好ましい。
【０３７８】
さらに、一般式（Ｏ２−６）で示される化合物を還元（好ましくは、水素雰囲気下、接触還元）することによりＶが−ＣＨ２ＣＨ２−である一般式（Ｏ２−７）で示される化合物を製造することもできる。
【０３７９】
上記反応における接触還元に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、上記還元工程において使用されるものと同様のものを挙げることができ、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、又はアルコール系溶媒が好ましく、酢酸エチル、又はメタノールが最も好ましい。
【０３８０】
上記反応における接触還元に使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はなく、例えば、パラジウム−炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、又はパラジウム−硫酸バリウムのようなパラジウム類、酸化白金、又は白金黒のような白金類、ロジウム−酸化アルミニウム、又はトリフェニルホスフィン−塩化ロジウムのようなロジウム類、或いはラネーニッケルのようなニッケル類を挙げることができる。
【０３８１】
水素圧は特に限定はないが、通常１乃至１０気圧が例示され、１気圧が好ましい。
【０３８２】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃が例示され、０℃乃至１００℃が好ましい。
【０３８３】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９
６時間が例示され、１５分乃至７２時間が好ましい。
【０３８４】
また、一般式（Ｏ２−５）で示される化合物の三重結合に、酸触媒の存在下、水を付加させることにより、Ｖが−ＣＨ２ＣＯ−である一般式（Ｏ２−８）で示される化合物を得ることもできる。
【０３８５】
上記反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素系溶媒、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、又は炭酸ジエチルのようなエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ −プロパノール、イソプロパノール、ｎ −ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、又はメチルセロソルブのようなアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、又はシクロヘキサノンのようなケトン系溶媒、水、或いは上記溶媒の混合溶媒が挙げられ、アルコール系溶媒が好ましい。
【０３８６】
上記反応に使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、又はリン酸のような無機酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、又はトリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸、塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、又はボロントリブロミドのようなルイス酸、或いは、酸性イオン交換樹脂を挙げることができ、無機酸が好ましい。
【０３８７】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至２００℃が例示され、０℃乃至１００℃が好ましい。
【０３８８】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９６時間が例示され、１５分乃至７２時間が好ましい。
【０３８９】
さらに、一般式（Ｏ２−８）で示される化合物のカルボニル基を還元することにより一般式（Ｏ２−９）で示される化合物を製造することもできる。
【０３９０】
上記反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、又は四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、又はメチルセロソルブのようなアルコール系溶媒、或いは上記溶媒の混合溶媒が挙げられ、エーテル系溶媒、又はアルコール系溶媒が好ましく、メタノール、又はエタノールが最も好ましい。
【０３９１】
上記反応に使用される還元剤としては、−ＣＯ−基を−ＣＨ（ＯＨ）−基に還元できる還元剤であれば特に限定はされないが、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、又は水素化シアノホウ素ナトリウムのような水素化ホウ素アルカリ金属類、或いは、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、又は水素化トリエトキシアルミニウムリチウムのような水素化アルミニウム化合物が例示され、水素化ホウ素アルカリ金属類が好ましく、水素化ホウ素ナトリウムが最も好ましい。
【０３９２】
反応温度は、原料化合物、還元剤、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至１００℃が例示され、−１０℃乃至２０℃が好ましい。
【０３９３】
反応時間は、原料化合物、還元剤、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分間
乃至４８時間が例示され、３０分間乃至１２時間が好ましい。
【０３９４】
前記した製造方法Ｃ反応工程式中での一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶが−ＣＨ（ＯＨ）−である一般式（Ｏ２−１２）で示される化合物、及びＶが−ＣＯ−である一般式（Ｏ２−１３）で示される化合物は、製造方法Ｏ３反応工程式
【０３９５】
【化３６】
2009269819.tif 000032
（製造方法Ｏ３反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、Ｍ、ｍ１、ｎ、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０３９６】
一般式（Ｏ２−１２）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１０）で示される化合物と一般式（Ｏ２−１１）で示される化合物との付加反応により製造することができる。該付加反応に用いられる溶媒は該付加反応において不活性であれば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、或いはこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が例示され、ヘキサン、トルエン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフラン等が好ましい。
【０３９７】
該付加反応に用いられる一般式（Ｏ２−１１）で示される化合物の量は、一般式（Ｏ２−１０）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、当モル以上が好ましい。また２倍モル以下が好ましく１．５倍モル以下がさらに好ましい。
【０３９８】
反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−１００℃乃至室温が例示され、−８０℃乃至０℃が好ましい。
【０３９９】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分間乃至１２時間が例示され、１０分間乃至６時間が好ましい。
【０４００】
また、一般式（Ｏ２−１２）で示される化合物を酸化することにより、Ｖが−ＣＯ−である一般式（Ｏ２−１３）で示される化合物を製造することができる。
【０４０１】
該酸化反応としては、例えば、前記製造方法Ｃ反応工程式において、一般式（２−１Ａ−２）で示される化合物を酸化することにより、一般式（２−１）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０４０２】
前記製造方法Ｃ反応工程式中、一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶが−ＣＯ−である一般式（Ｏ２−１７）で示される化合物、及びＶが−ＣＨ２−である一般式（Ｏ２−１８）で示される化合物は、製造方法Ｏ４反応工程式
【０４０３】
【化３７】
2009269819.tif 000033
（製造方法Ｏ４反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、Ｌ３、ｍ１、ｎ、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０４０４】
一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物を有機金属試薬等によりメタル化することより製造することができる。一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物における基Ａとしては、前記、一般式（２−１Ａ−３）で示される基が好ましい。一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物において、基Ａが、一般式（２−１Ａ−１）である化合物を、一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物において、基Ａが、一般式（２−１Ａ−３）である化合物に変換する方法としては、公知のアセタール化の方法、例えば、Ｐｒｏｒｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ  刊（１９９９）に記載の方法に準じて行うことができる。該メタル化反応においては必要に応じて、ＨＭＰＡ、又はＮ,Ｎ,Ｎ´,Ｎ´−テトラメチルエチレンジアミン等の添加剤を加えることも好ましい。該メタル化反応に用いられる有機金属試薬としては、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウムが好ましい。該メタル化反応に用いられる溶媒としては、該メタル化反応において不活性であれば、特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、或いはこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が例示され、ヘキサン、トルエン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフラン等が好ましい。反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−１００℃乃至室温が例示され、−８０℃乃至０℃が好ましい。
【０４０５】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分間乃至１２時間が例示され、３０分間乃至６時間が好ましい。
【０４０６】
一般式（Ｏ２−１７）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物に、一般式（Ｏ２−１６）で示される化合物を作用さることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、該反応において不活性であれば、特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が例示され、ヘキサン、トルエン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフラン等が好ましい。反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−２０℃乃至１２０℃が例示され、０℃乃至８０℃が好ましい。
【０４０７】
反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間乃至２４時間が例示され、１時間乃至１２時間が好ましい。
【０４０８】
一般式（Ｏ２−１８）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１７）で示される化合物を、金属触媒存在下、水素ガスにより還元することにより製造することができる。該還元反応において使用される金属触媒としては、パラジウム炭素、ラネーニッケル、又は酸化白金等が例示される。該還元反応に用いられる溶媒としては、該還元反応において不活性であれば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、ベンゼン、又はキシレンのような芳香族炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、又は炭酸ジエチルのようなエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、又はジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、又はメチルセロソルブのようなアルコ−ル系溶媒、酢酸、又は塩酸のような有機酸類、水、或いは上記溶媒と水との混合溶媒が例示され、メタノール、エタノール、酢酸エチル、又はヘキサン等が好ましい。
【０４０９】
反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−０℃乃至１２０℃が例示され、０℃乃至８０℃が好ましい。
【０４１０】
反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至９
６時間が例示され、１５分乃至７２時間が好ましい。
【０４１１】
前記の製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶがフェニレン基である一般式（Ｐ２−３）で示される化合物は、製造方法Ｐ１反応工程式
【０４１２】
【化３８】
2009269819.tif 000034
（製造方法Ｐ１反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ、Ｌ５、ＲＢ１、ＲＢ２及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。一般式（Ｐ２−３）で示される化合物は、パラジウム触媒存在下、一般式（Ｐ２−１）で示される化合物と一般式（Ｐ２−２）で示される化合物とのＳｕｚｕｋｉ反応により製造することができる。該Ｓｕｚｕｋｉ反応に用いられるパラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（メチルジフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリ−ｏ−トリルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリエチルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、塩化ビス（アセトニトリル）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、又は塩化ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）パラジウム等が例示される。また、酢酸パラジウムやトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム等と任意の配位子から調製した触媒を用いることもできる。パラジウムの価数としては０価であっても＋2価であってもよい。パラジウムの配位子としては、トリフリルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン、トリ（t−ブチル）ホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、１,１'−ビス（ジ−t−ブチルホスフィノ）フェロセン、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2'−ジメチルアミノ−1,1'−ビフェニル、又は2−（ジ−t−ブチルホスフィノ）ビフェニル等のホスフィン系配位子、或いはイミダゾル−2−イリデンカルベン類等の非ホスフィン配位子等が例示される。
【０４１３】
該Ｓｕｚｕｋｉ反応に用いられるパラジウム触媒の量は、０．０１〜２０mo1%が好ましく、０．１〜１０mo1%がより好ましい。該Ｓｕｚｕｋｉ反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、又はリチウムメトキシド等が例示される。
【０４１４】
該Ｓｕｚｕｋｉ反応に用いられる溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、トルエン、キシレン、又はヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、又はクロロホルム等のハロゲン系炭化水素溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジグライム等のエーテル系溶媒、メタノール、又はエタノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン、又はシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、或いはピリジン等の複素環系溶媒等が例示される。また、2種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。また、溶媒系としては、水−有機溶媒の二相系、含水有機溶媒あるいは有機溶媒の均一系いずれであってもよい。
【０４１５】
反応温度は、原料化合物、触媒、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至１５０℃が例示され、好ましくは室温乃至１２０℃である。反応時間は、原料化合物、触媒、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分乃至７２時間が例示され、１時間乃至４８時間が好ましい。
【０４１６】
また、上記の別法として、一般式（Ｐ２−３）で示される化合物は、パラジウム触媒存在下、一般式（Ｐ２−４）で示される化合物と一般式（Ｏ２−２）で示される化合物とのＳｕｚｕｋｉ反応により製造することができる。該Ｓｕｚｕｋｉ反応としては、上記と同様の方法が例としてあげられる。
【０４１７】
前記した製造方法Ｃ反応工程式中で、一般式（２−１Ａ）において、そのＹＡにおけるＶが１，２，４−オキサジアゾールの３位及び５位に結合する２個の水素原子を除した基である一般式（Ｐ２−７）で示される化合物は、製造方法Ｐ２反応工程式
【０４１８】
【化３９】
2009269819.tif 000035
（製造方法Ｐ２反応工程式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、ｍ１、ｎ、及びＡは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０４１９】
一般式（Ｐ２−６）で示される化合物は、一般式（Ｐ２−５）で示される化合物に、塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩を作用させることにより製造することができる。
【０４２０】
該反応に用いられる塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、或いは、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はピリジン等の有機塩基が例示される。
【０４２１】
該反応に用いられる有機溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、メタノール、又はエタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又は１,４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、或いはこれらの溶媒の任意の比率での混合溶媒等が例示される。
【０４２２】
反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常室温乃至１５０℃が例示され、好ましくは室温乃至１２０℃である。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分乃至７２時間が例示され、１時間乃至４８時間が好ましい。
一般式（Ｐ２−７）で示される化合物は、一般式（Ｐ２−６）で示される化合物を、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応としては、製造方法Ｎ７反応工程式において、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させることにより一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。また、上記製造法の別法として、一般式（Ｐ２−７）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｐ２−６）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。該反応としては、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させることにより一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０４２３】
前記した製造方法Ａ反応工程式中で、一般式（２−１）においてＲ２が水素原子であり、ｍ１が１であり、そのＹＡにおけるＶが１，３，４−チアジアゾールの２位及び５位に結合する２個の水素原子を除した基である一般式（Ｐ２−１５）で示される化合物、及び、一般式（２−１）においてＲ２が水素原子であり、ｍ１が１であり、ＹＡにおけるＶが１，３，４−オキサジアゾールの２位及び５位に結合する２個の水素原子を除した基である一般式（Ｐ２−１６）で示される化合物は、製造方法Ｐ３反応工程式
【０４２４】
【化４０】
2009269819.tif 000036
（製造方法Ｐ３反応工程式中、Ｒ６、Ｒ７、Ａｒ、ＺＡ、ＴＡ、ＷＡ、ｎ、及びＬ５とは前記と同義であり、Ｕは硫黄原子、又は酸素原子を示す。）で示される方法で製造することができる。
【０４２５】
一般式（Ｐ２−９）で示される化合物は、一般式（Ｐ２−８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応としては、製造方法Ｎ７反応工程式において、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させることにより一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。また、上記製造法の別法として、一般式（Ｐ２−９）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｐ２−８）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。該反応としては、同じく製造方法Ｎ７反応工程式において記載した一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させることにより一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０４２６】
一般式（Ｐ２−１０）で示される化合物は、一般式（Ｐ２−９）で示される化合物にイオウ化試薬を作用させ環化することにより製造することができる。該イオウ化試薬としては五硫化リン、又はローソン試薬等が好ましく、ローソン試薬がより好ましい。該反応において用いられる溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、ヘキサン、又はヘプタン等の飽和炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、又はピコリン等の複素環系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又は１,４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、或いは、塩化メチレン、クロロホルム、又はジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が例示され、トルエン、キシレン、又はピリジン等が好ましい。反応温度は、原料化合物、イオウ化試薬、溶媒等により異なるが、通常、室温以上が好ましく、用いる溶媒の沸点以下が好ましく、用いる溶媒の沸点において加熱還流下に行うのがさらに好ましい。反応時間は、原料化合物、イオウ化試薬、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０４２７】
一般式（Ｐ２−１１）で示される化合物は、一般式（Ｐ２−９）で示される化合物を脱水環化させることにより製造することができる。脱水試薬としてはホスフィン試薬と四塩化炭素、又は四臭化炭素等の組み合わせ、或いはオキシ塩化リン等が例示される。該環化反応に用いられる溶媒としては、該環化反応において不活性であれば特に限定されないが、アセトニトリル等のニトリル系溶媒が例示される。反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、室温乃至溶媒還流温度が例示され、溶媒還流温度で行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０４２８】
一般式（Ｐ２−１２）、又は（Ｐ２−１３）で示される化合物は、それぞれ一般式（Ｐ２−１０）、又は（Ｐ２−１１）で示される化合物とビニルトリブチルスズとのＳｔｉｌｌｅカップリング反応により製造することができる。該反応に用いられるパラジウム触媒の価数としては、０価、又は２価が例示され、パラジウム触媒としては、市販のパラジウム触媒、又は市販のパラジウム触媒と市販の配位子を反応系中で結合させたもの等が例示される。Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＢｎＰｄＣｌ（ＰＰｈ２）、〔Ｐｄ（ｄｂａ）２・ＰＰｈ３〕、Ｐｄ（ＣＨ３ＣＮ）２Ｃｌ２、〔Ｐｄ２（ｄｂａ）３〕／ＰｔＢｕ３、〔Ｐｄ２（ｄｂａ）３〕・ＣＨＣｌ３、又はＰｄＣｌ２／ＰｔＢｕ３が例示される。また、必要に応じて塩化リチウム、ヨウ化第一銅、又はフッ化セシウム等の金属ハロゲン化物等を添加剤として用いても良い。該反応に用いられるＰｄ触媒の量は、例えば１モル％乃至２０モル％が例示される。該反応において用いられる溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等の飽和炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、又はキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン、又は１,２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、或いはＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等が例示され、トルエン、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン、クロロホルム、アセトニトリル、又はＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましい。反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、室温乃至溶媒還流温度が例示される。反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０４２９】
一般式（Ｐ２−１４）、又は（Ｐ２−１５）で示される化合物は、それぞれ一般式（Ｐ２−１２）、又は（Ｐ２−１３）で示される化合物をＬｅｍｉｅｕｘ−Ｊｏｈｎｓｏｎ酸化することにより製造することができる。該酸化反応に用いられる酸化剤としては四酸化オスミウム−過ヨウ素酸ナトリウムの組み合わせ等が例示される。該酸化反応に用いられる四酸化オスミウムの量は、一般式（Ｐ２−１２）、又は（Ｐ２−１３）で示される化合物に対して、化学量論量もしくは触媒量が例示され、触媒量としては１モル％乃至２０モル％が例示される。該酸化反応に用いられる過ヨウ素酸ナトリウムの量は一般式（Ｐ２−１２）、又は（Ｐ２−１３）で示される化合物に対して、等モル以上が好ましく、２倍モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。該酸化反応に用いられる溶媒系は、水、水−有機溶媒の二相系、又は含水有機溶媒系等が例示される。該溶媒系に用いられる有機溶媒としては、該酸化反応において不活性であれば特に限定されないが、メタノール、エタノール、又は２−メチル−２−プロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又は１,４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン等のケトン系溶媒、或いはこれらの溶媒の任意の比率での混合溶媒等が例示される。反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至室温が例示される。反応時間は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、１時間乃至７２時間が例示される。
【０４３０】
前記した製造方法Ｎ１反応工程式中の一般式（Ｎ２−１）で示される化合物の多くは公知であり、例えば（Ｔａｂｌｅ１）〜（Ｔａｂｌｅ１６）に記載の会社等から購入するか、或いは、（Ｔａｂｌｅ１）〜（Ｔａｂｌｅ１６）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０４３１】
尚、特に断りのない限り、Ｔａｂｌｅ１乃至１６を含む以下の各Ｔａｂｌｅ中、「Ｎｏ．」は化合物番号を示し、「Ｓｕｐｐｌ．／Ｒｅｆ．」は入手先／文献を示し、「ＨＯ―ｐｏｓｉｔ.」は水酸基の置換位置を示し、「Ｂ(ＯＨ)２―ｐｏｓｉｔ.」―Ｂ(ＯＨ)２基の置換位置を示し、「ＮＯ２―ｐｏｓｉｔ.」はニトロ基の置換位置を示し、「Ｓｔｒｕｃｔ．」は化学構造式を示す。
【０４３２】
【化４１】
2009269819.tif 000037
【０４３３】
【表１】
2009269819.tif 000038
2009269819.tif 000039
2009269819.tif 000040
【０４３４】
【化４２】
2009269819.tif 000041
【０４３５】
【表２】
2009269819.tif 000042
【０４３６】
【化４３】
2009269819.tif 000043
【０４３７】
【表３】
2009269819.tif 000044
【０４３８】
【化４４】
2009269819.tif 000045
【０４３９】
【表４】
2009269819.tif 000046
【０４４０】
【化４５】
2009269819.tif 000047
【０４４１】
【表５】
2009269819.tif 000048
【０４４２】
【化４６】
2009269819.tif 000049
【０４４３】
【表６】
2009269819.tif 000050
【０４４４】
【化４７】
2009269819.tif 000051
【０４４５】
【表７】
2009269819.tif 000052
【０４４６】
【化４８】
2009269819.tif 000053
【０４４７】
【表８】
2009269819.tif 000054
【０４４８】
【化４９】
2009269819.tif 000055
【０４４９】
【表９】
2009269819.tif 000056
【０４５０】
【化５０】
2009269819.tif 000057
【０４５１】
【表１０】
2009269819.tif 000058
【０４５２】
【化５１】
2009269819.tif 000059
【０４５３】
【表１１】
2009269819.tif 000060
【０４５４】
【化５２】
2009269819.tif 000061
【０４５５】
【表１２】
2009269819.tif 000062
【０４５６】
【化５３】
2009269819.tif 000063
【０４５７】
【表１３】
2009269819.tif 000064
【０４５８】
【化５４】
2009269819.tif 000065
【０４５９】
【表１４】
2009269819.tif 000066
【０４６０】
【化５５】
2009269819.tif 000067
【０４６１】
【表１５】
2009269819.tif 000068
【０４６２】
【化５６】
2009269819.tif 000069
【０４６３】
【表１６】
2009269819.tif 000070
【０４６４】
また、一般式（Ｎ２−１）で示される化合物のうち、一般式（Ｎ２−１−４−１−１）で示される化合物は、例えば、ＡＢＣ  Ｂｌｏｃｋｓ社等より購入することができ、一般式（Ｎ２−１−６−３−１）、（Ｎ２−１−７−３−１）、及び（Ｎ２−１−８−１−１）で示される化合物は、それぞれ、例えばドイツ国特許ＤＥ５４０６１９、Ｓ．Ｊ．Ｍａｒｔｉｎｅｚ、ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ１，１７０５（１９８８）、及びＫａｒｌ−Ｈｅｉｎｚ  Ｂｕｃｈｈｅｉｔ，ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３８，２３３１（１９９５）に記載の方法等に従って、容易に製造することができる。
【０４６５】
【化５７】
2009269819.tif 000071
【０４６６】
前記した一般式（Ｎ２−４）、（Ｎ２−６）、（Ｏ２−２）、及び（Ｏ２−１４）を包含する一般式（Ｑ１）
【０４６７】
【化５８】
2009269819.tif 000072
（式中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、及びｍ１は前記と同義であり、Ｌ６は、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、又はフッ素原子を表し、Ｌ３、Ｌ４、及びＬ５は前記と同義である。）で示される化合物の多くは公知であり、このうちＬ６がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基でない化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ１７）〜（Ｔａｂｌｅ３０）に記載の会社等から購入するか、或いは、（Ｔａｂｌｅ１７）〜（Ｔａｂｌｅ３０）の脚注に記載の文献等に従って、容易に製造することができる。
【０４６８】
【化５９】
2009269819.tif 000073
【０４６９】
【表１７】
2009269819.tif 000074
2009269819.tif 000075
2009269819.tif 000076
2009269819.tif 000077
2009269819.tif 000078
【０４７０】
【化６０】
2009269819.tif 000079
【０４７１】
【表１８】
2009269819.tif 000080
【０４７２】
【化６１】
2009269819.tif 000081
【０４７３】
【表１９】
2009269819.tif 000082
【０４７４】
【化６２】
2009269819.tif 000083
【０４７５】
【表２０】
2009269819.tif 000084
【０４７６】
【化６３】
2009269819.tif 000085
【０４７７】
【表２１】
2009269819.tif 000086
【０４７８】
【化６４】
2009269819.tif 000087
【０４７９】
【表２２】
2009269819.tif 000088
【０４８０】
【化６５】
2009269819.tif 000089
【０４８１】
【表２３】
2009269819.tif 000090
【０４８２】
【化６６】
2009269819.tif 000091
【０４８３】
【表２４】
2009269819.tif 000092
【０４８４】
【化６７】
2009269819.tif 000093
【０４８５】
【表２５】
2009269819.tif 000094
【０４８６】
【化６８】
2009269819.tif 000095
【０４８７】
【表２６】
2009269819.tif 000096
【０４８８】
【化６９】
2009269819.tif 000097
【０４８９】
【表２７】
2009269819.tif 000098
【０４９０】
【化７０】
2009269819.tif 000099
【０４９１】
【表２８】
2009269819.tif 000100
【０４９２】
【化７１】
2009269819.tif 000101
【０４９３】
【表２９】
2009269819.tif 000102
【０４９４】
【化７２】
2009269819.tif 000103
【０４９５】
【表３０】
2009269819.tif 000104
【０４９６】
また、一般式（Ｑ１）で示される化合物のうち、一般式（Ｑ１−５−４−１）、（Ｑ１−７−２−１）、及び（Ｑ１−７−３−１）で示される化合物は、それぞれ、例えばＳ．Ｒ．Ｉｎｇｌｉｓ，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４７，５４０５（２００４）、Ｍ．Ｄ．Ｎａｉｒ，ｅｔ  ａｌ．，Ｉｎｄｉａｎ  Ｊ．Ｃｈｅｍ．，１０，３４１（１９７２）、及びＳｉｎｇ−Ｙｕｅｎ  Ｓｉｔ，ｅｔ  ａｌ．，Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１２，７１５（２００４）に記載の方法等に従って、容易に製造することができる。
【０４９７】
【化７３】
2009269819.tif 000105
【０４９８】
一般式（Ｑ１）で示される化合物において、Ｌ６がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基である一般式（Ｑ１−９）で示される化合物は、例えば製造方法Ｑ１反応工程式
【０４９９】
【化７４】
2009269819.tif 000106
（製造方法Ｑ１反応工程式中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、及びｍ１は前記と同義である。）に示すような方法で製造することができる。一般式（Ｑ１−９）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−１）で表される化合物を、不活性溶媒中、必要に応じて塩基存在下、トリフルオロメタンスルホニル化剤により、トリフルオロメタンスルホニル化することにより製造することができる。該トリフルオロメタンスルホン化剤としては、無水トリフルオロメタンスルホン酸等が例示される。該トリフルオロメタンスルホン化反応に際して用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はピリジン等が例示される。該トリフルオロメタンスルホン化反応に用いられる溶媒は該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタン等が挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又はトルエン等が挙げられる。
【０５００】
該トリフルオロメタンスルホン化反応に際して用いられるトリフルオロメタンスルホン化剤の量は、一般式（Ｎ２−１）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、２倍モル以下がさらに好ましい。該トリフルオロメタンスルホン化反応に際して用いられる塩基の量は、該トリフルオロメタンスルホン化剤に対して、等モル以上が好ましく、また、２倍モル以下が好ましい。反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃乃至室温で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１分乃至１２時間が例示される。
【０５０１】
更に前記製造方法Ｐ１反応工程式中の一般式（Ｐ２−２）で示される化合物の多くは公知、例えば、（Ｔａｂｌｅ３１）〜（Ｔａｂｌｅ３３）に記載の会社等から購入することができる。
【０５０２】
【化７５】
2009269819.tif 000107
【０５０３】
【表３１】
2009269819.tif 000108
【０５０４】
【化７６】
2009269819.tif 000109
【０５０５】
【表３２】
2009269819.tif 000110
【０５０６】
【化７７】
2009269819.tif 000111
【０５０７】
【表３３】
2009269819.tif 000112
【０５０８】
また、一般式（Ｐ２−２）で示される化合物は、例えば製造方法Ｑ２反応工程式
【０５０９】
【化７８】
2009269819.tif 000113
（製造方法Ｑ２反応工程中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、及びｍ１は前記と同義である。）に示すような確立された公知の製造法、例えば〔ケミカル・レビュー、１９９５ 年、９５ 巻、２４５７ 頁〕又は佐藤（Ｙ ．Ｓａｔｏｈ ）ら、シンセシス（ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ）、１９９４ 年、１１４６頁に記載の方法、或いはこれら文献記載の参考文献に準じた方法で製造することができる。例えば、一般式（Ｐ２−２）で示される化合物において、ＲＢ１、及びＲＢ２がＣ１−４アルキル基である場合、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物にトリアルキルボレートを作用させることにより製造することができる。該反応に用いられるトリアルキルボレートにおけるアルキル基としては、Ｃ１−Ｃ４アルキル基等が例示され、メチル基、エチル基、又はイソプロピル基等が例示される。該反応において用いられる溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、又はエーテル系溶媒等が例示される。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が例示され、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン、キシレン等が例示され、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、又は１，４−ジオキサン等が例示され、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、及びこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が好ましい。該反応において用いられるトリアルキルボレートの量は、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、１．５倍モル以下が好ましい。反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃乃至室温で反応を行うのが好ましい。反応時間は原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分乃至４８時間が例示される。該反応に用いられる、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物における基Ａとしては、一般式（２−１Ａ−３）で示される基等が好ましい。
【０５１０】
一般式（Ｐ２−２）で示される化合物において、ＲＢ１、及びＲＢ２が水素原子である場合、前記一般式（Ｐ２−２）で示される化合物において、ＲＢ１、及びＲＢ２がＣ１−４アルキル基である化合物を、鉱酸で加水分解することにより製造することができる。該加水分解反応に用いられる鉱酸としては、塩酸、硫酸、リン酸等が例示される。該加水分解反応において用いられる溶媒としては、前記一般式（Ｐ２−２）で示される化合物において、ＲＢ１、及びＲＢ２がＣ１−４アルキル基である化合物を製造する方法において用いられる溶媒と同様な溶媒が例示される。反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至室温で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１０分乃至２４時間が例示される。
【０５１１】
一般式（Ｐ２−２）で示される化合物において、ＲＢ１、及びＲＢ２が一緒になって、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基を形成する場合、その多くは市販されており、容易に入手することができる。また、パラジウム触媒存在下、一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物と、ホウ素化合物と反応することにより製造することもできる。該反応に用いられるパラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（メチルジフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリ−ｏ−トリルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリエチルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、塩化ビス（アセトニトリル）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、又は塩化ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）パラジウム等が例示される。また、酢酸パラジウムやトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム等と任意の配位子から調製した触媒を用いることもできる。パラジウムの価数としては０価であっても＋2価であってもよい。パラジウムの配位子としては、トリフリルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン、トリ（t−ブチル）ホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、１,１'−ビス（ジ−t−ブチルホスフィノ）フェロセン、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2'−ジメチルアミノ−1,1'−ビフェニル、又は2−（ジ−t−ブチルホスフィノ）ビフェニル等のホスフィン系配位子、或いはイミダゾル−2−イリデンカルベン類等の非ホスフィン配位子等が例示される。
【０５１２】
該反応に用いられるパラジウム触媒の量は、０．０１〜２０ｍｏｌ％が好ましく、０．１〜１０ｍｏｌ％がより好ましい。
【０５１３】
該反応に用いられるホウ素化合物としては、４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン、又はビス（ピナコラート）ジボロン等が例示される。
【０５１４】
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、又はリチウムメトキシド等が例示される。
【０５１５】
該反応に用いられる溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、トルエン、キシレン、又はヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、又はクロロホルム等のハロゲン系炭化水素溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジグライム等のエーテル系溶媒、メタノール、又はエタノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン、又はシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、或いはピリジン等の複素環系溶媒等が例示される。また、2種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。また、溶媒系としては、水−有機溶媒の二相系、含水有機溶媒あるいは有機溶媒の均一系いずれであってもよい。
【０５１６】
反応温度は、原料化合物、触媒、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、０℃乃至１５０℃が例示され、好ましくは室温乃至１２０℃である。反応時間は、原料化合物、触媒、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分乃至７２時間が例示され、１時間乃至４８時間が好ましい。
【０５１７】
それぞれ、前記の製造方法Ｎ６及びＮ７反応工程式において、一般式（Ｎ２−２５）、及び一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を用いるか、確立された公知の方法、例えば製造方法Ｑ３反応工程式
【０５１８】
【化７９】
2009269819.tif 000114
（製造方法Ｑ３反応工程中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、ＲＶ、及びｍ１は前記と同義である。）に示すような工程で容易に製造することができる。
一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物は、市販の、又は公知の方法、或いは公知の方法に準じて製造できる一般式（Ｑ２−１）で示される化合物を還元することにより製造することができる。該還元反応に際して使用される還元反応としては、水素雰囲気下、接触還元する方法等が例示される。該接触還元反応の方法としては、前記、一般式（Ｏ２−６）で示される化合物を還元（好ましくは、水素雰囲気下、接触還元）することによりＶが−ＣＨ２ＣＨ２−である一般式（Ｏ２−７）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。該接触還元反応に用いられる、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物における基Ａとしては、一般式（２−１Ａ−４）、（２−１Ａ−５）、又は（２−１Ａ−６）で示される基等が好ましい。
【０５１９】
また、上記別法として、一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物は、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物を、遷移金属触媒存在下、水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより製造することができる。該還元反応において用いられる溶媒は、アルコール系溶媒等が例示され、必要に応じてエーテル系溶媒等を添加しても良い。アルコール系溶媒としては、メタノール、又はエタノール等が例示され、必要に応じて添加しても良いエーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、又は１，４−ジオキサン等が例示される。該還元反応において用いられる遷移金属触媒としては、塩化ニッケル、塩化コバルト、又はこれらの水和物等が例示される。該還元反応に用いられる水素化ホウ素ナトリウムの量は、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物に対して、０．５倍モル乃至５倍モルが例示される。該還元反応に用いられる遷移金属触媒の量は、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物に対して、１ｍｏｌ％乃至２０ｍｏｌ％が例示される。反応温度は、原料化合物、溶媒、触媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至周囲温度が例示される。反応時間は、原料化合物、溶媒、触媒、反応時間等により異なるが、通常、１分乃至１２時間が例示される。該還元反応に用いられる、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物における基Ａとしては、一般式（２−１Ａ−３）、（２−１Ａ−４）、（２−１Ａ−５）、又は（２−１Ａ−６）で示される基等が好ましく、基Ａが、一般式（２−１Ａ−１）で示される基である場合、公知の方法、例えば、Ｐｒｏｒｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ  刊（１９９９）に記載の方法に準じてアセタール化し、基Ａを一般式（２−１Ａ−３）で示される基に変換後、該還元反応に供することが好ましい。
【０５２０】
製造方法Ｑ３反応工程式において、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物は、例えば、（Ｔａｂｌｅ３４）〜（Ｔａｂｌｅ４５）に記載の会社等から購入するか、或いは、（Ｔａｂｌｅ３４）〜（Ｔａｂｌｅ４５）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０５２１】
【化８０】
2009269819.tif 000115
【０５２２】
【表３４】
2009269819.tif 000116
【０５２３】
【化８１】
2009269819.tif 000117
【０５２４】
【表３５】
2009269819.tif 000118
【０５２５】
【化８２】
2009269819.tif 000119
【０５２６】
【表３６】
2009269819.tif 000120
【０５２７】
【化８３】
2009269819.tif 000121
【０５２８】
【表３７】
2009269819.tif 000122
【０５２９】
【化８４】
2009269819.tif 000123
【０５３０】
【表３８】
2009269819.tif 000124
【０５３１】
【化８５】
2009269819.tif 000125
【０５３２】
【表３９】
2009269819.tif 000126
【０５３３】
【化８６】
2009269819.tif 000127
【０５３４】
【表４０】
2009269819.tif 000128
【０５３５】
【化８７】
2009269819.tif 000129
【０５３６】
【表４１】
2009269819.tif 000130
【０５３７】
【化８８】
2009269819.tif 000131
【０５３８】
【表４２】
2009269819.tif 000132
【０５３９】
【化８９】
2009269819.tif 000133
【０５４０】
【表４３】
2009269819.tif 000134
【０５４１】
【化９０】
2009269819.tif 000135
【０５４２】
【表４４】
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【０５４３】
【化９１】
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【０５４４】
【表４５】
2009269819.tif 000138
【０５４５】
また、一般式（Ｑ２−１）で示される化合物のうち、一般式（Ｑ２−１−７−１−１）、及び（Ｑ２−１−７−２−１）で示される化合物は、例えば、ＳｙｎＣｈｅｍ社等より購入することができ、一般式（Ｑ２−１−４−５−１）、及び（Ｑ２−１−８−１−１）で示される化合物は、それぞれ、例えば、Ｒ．Ｋａｓｌｏｗ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７０，３９１２（１９４８）、及びＭ．Ｓｕｇｉｕｒａ，ｅｔ  ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，４０，２２６２（１９９２）に記載の方法等に従って、容易に製造することができる。
【０５４６】
【化９２】
2009269819.tif 000139
【０５４７】
一方、一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物の還元的アミノ化反応等により製造することができる。該還元的アミノ化反応としては、前記製造方法Ａ反応工程式中の一般式（２Ａ）で示される化合物のうち、Ｒ１がＣ１−４アルキル基である化合物を、一般式（２Ａ）で示される化合物において、Ｒ１が水素原子である化合物と公知のＣ１−４飽和アルデヒド又はＣ１−４飽和ケトンとの還元的アミノ化反応により製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５４８】
また上記別法として、一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２５）で示される化合物のアルキル化反応等により製造することもできる。該アルキル化反応としては、前記一般式（２Ａ）で示される化合物のうち、Ｒ１がＣ１−４アルキル基である化合物を、一般式（２Ａ）で示される化合物において、Ｒ１が水素原子である化合物と、公知のＲ１Ｌ１（式中、Ｒ１はＣ１−４アルキル基を示し、Ｌ１は脱離しうる基を示す。）で示される化合物とのアルキル化反応により製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５４９】
また、それぞれ製造方法Ｎ７及びＰ２反応工程式中での一般式（Ｎ２−３１）及び（Ｐ２−５）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を用いるか、確立された公知の方法、例えば製造方法Ｑ４反応工程式
【０５５０】
【化９３】
2009269819.tif 000140
（製造方法Ｑ４反応工程中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、及びｍ１は前記と同義である。）により容易に製造することができる。
【０５５１】
一般式（Ｎ２−３１）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物に二酸化炭素を作用させること等により製造することができる。該カルボキル化反応において使用される溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば前記、一般式（２−１−２）で示される化合物のリチオ体をホルミル化する反応において例示される溶媒と同様な溶媒が例示される。該カルボキシル化反応において用いられる二酸化炭素の態様としては、固体、又は気体等が例示される。該カルボキシル化反応において用いられる二酸化炭素の量としては、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物に対して０．５倍モル以上が例示され、等モル以上が好ましい。反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常−１００℃乃至周囲温度が例示される。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常１０分乃至６時間が例示される。該カルボキシル化反応に用いられる、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物における基Ａとしては、一般式（２−１Ａ−３）で示される基等が好ましい。
【０５５２】
一般式（Ｑ３−１）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３１）で示される化合物とアンモニアを脱水縮合剤存在下に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応に用いられるアンモニアの態様としては、気体、又は溶液が例示される。該溶液において用いられる溶媒としては、該反応において不活性であれば特にその種類は限定されないが、水、又は該反応に用いられる溶媒と同様な溶媒が例示される。該縮合反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させて、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５５３】
また、上記製造法の別法として、一般式（Ｑ３−１）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３１）で示される化合物の反応性誘導体とアンモニアを不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。該反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させ、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
一般式（Ｐ２−５）で示される化合物は、一般式（Ｑ３−１）で示される化合物を、脱水剤の存在下、必要に応じて塩基存在下、脱水することにより製造することができる。該脱水反応においては、溶媒非存在下、又は溶媒存在下に行う方法が例示される。該脱水反応において用いられる溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒等が例示され、例えばヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アセトニトリル、又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。該脱水反応において用いられる脱水剤としては、五酸化二リン、五塩化リン、塩化チオニル、パラトルエンスルホニルクロリド、メタンスルホニルクロリド、無水トリフルオロメタンスルホン酸、ピバロイルクロリド、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシルカルボジイミド、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素、トリフェニルホスフィン／トリホスゲン、トリフェニルホスフィン／Ｎ−クロロコハク酸イミド、又は塩化シアヌル酸等が例示される。該脱水反応に用いられる脱水剤の量は、一般式（Ｑ３−１）で示される化合物に対して０．１倍モル以上が好ましく１０倍モル以下が好ましい。該反応において必要に応じて用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等が例示される。該反応において必要に応じて用いられる塩基の量は、脱水剤に対して、０．５倍モル以上が好ましく、１０倍モル以下が好ましい。反応温度は、原料化合物、脱水剤、溶媒等により異なるが、−１００℃乃至溶媒還流温度が例示される。反応時間は、原料化合物、脱水剤、溶媒、反応温度等により異なるが、５分乃至４８時間が例示される。
【０５５４】
前記製造方法Ｏ３及びＮ４反応工程式中で、一般式（Ｏ２−１０）及び（Ｎ２−１９）で示される化合物化合物の多くは公知であり、市販品を用いるか、確立された公知の方法、例えば製造方法Ｑ５反応工程式
【０５５５】
【化９４】
2009269819.tif 000141
（製造方法Ｑ５反応工程中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、Ｌ２及びｍ１は前記と同義である。）により容易に製造することができる。
【０５５６】
一般式（Ｏ２−１０）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを作用させること等により製造することができる。該ホルミル化反応としては、前記、一般式（２−１−２）で示される化合物のリチオ体をホルミル化する反応と同様な方法が例示される。該ホルミル化反応に用いられる、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物における基Ａとしては、一般式（２−１Ａ−３）で示される基等が好ましい。
【０５５７】
一般式（Ｑ４−１）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１０）で示される化合物を水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより製造することができる。該還元反応に用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒等が例示され、必要に応じてエーテル系溶媒等を添加しても良い。アルコール系溶媒としては、メタノール、又はエタノール等が例示され、必要に応じて添加しても良いエーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、又は１，４−ジオキサン等が例示される。該還元反応に用いられる水素化ホウ素ナトリウムの量は、一般式（Ｏ２−１０）で示される化合物に対して、０．５倍モル乃至５倍モルが例示される。反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至周囲温度が例示される。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応時間等により異なるが、通常、１分乃至６時間が例示される。
【０５５８】
一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物において、Ｌ２が、アシルオキシ基である場合、例えば一般式（Ｑ４−１）で示される化合物に、必要に応じて塩基存在下、アシルハライド、又は酸無水物等のアシル化剤を作用させることにより一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物を製造することができる。該アシル化反応において用いられるアシルハライドとしては、メタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、又はパラトルエンスルホニルクロリド等が例示される。該アシル化反応において用いられる酸無水物としては、無水トリフルオロメタンスルホン酸等が例示される。該アシル化反応に際して用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はピリジン等が例示される。該アシル化反応に用いられる溶媒は該アシル化反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これら溶媒の単一、あるいは任意の比率の混合溶媒が挙げられる。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が挙げられ、ハロゲン化炭化水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、又は１，２−ジクロロエタン等が挙げられる。エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン又はキシレン等が挙げられる。好ましい例としてジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又はトルエン等が挙げられる。
【０５５９】
該アシル化反応に際して用いられるアシル化剤の量は、一般式（Ｑ４−１）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、等モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、２倍モル以下がさらに好ましい。該アシル化反応に際して用いられる塩基の量は、アシル化剤に対して、等モル以上が好ましく、また、２倍モル以下が好ましい。反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃乃至室温で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１分乃至１２時間が例示される。
【０５６０】
一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物において、Ｌ２がハロゲン原子である場合、例えば一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物において、Ｌ２が、アシルオキシ基である化合物に、金属ハライド等を作用させることにより一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物を製造することができる。該反応において用いられる溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、又はスルホキシド系溶媒等が例示される。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、又は２−プロパノール等が例示される。エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、又は１，２−ジメトキシエタン等が例示される。ケトン系溶媒としては、アセトン等が例示される。アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、又はＮ−メチルピロリドン等が例示される。スルホキシド系溶媒としては、ジメチルスルホキシド等が例示される。該反応に用いられる金属ハライドとしては、アルカリ金属ハライド、又はアルカリ土類金属ハライドが例示され、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化マグネシウム、臭化カルシウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化マグネシウム、又はヨウ化カルシウム等が好ましい。該反応に用いられる金属ハライドの量は、一般式（Ｎ２−１９）で示される化合物において、Ｌ２がアシルオキシ基である化合物に対して等モル以上が好ましく、また１００倍モル以下が好ましい。反応温度は原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、周囲温度乃至溶媒還流温度が例示される。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至４８時間が例示される。
【０５６１】
製造方法Ｎ３反応工程式中、一般式（Ｎ２−１２）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を用いるか、確立された公知の方法、例えば製造方法Ｑ６反応工程式
【０５６２】
【化９５】
2009269819.tif 000142
（製造方法Ｑ６反応工程中、Ａｒ、Ａ、Ｒ２、Ｒ３、及びｍ１は前記と同義である。）により容易に製造することができる。
【０５６３】
一般式（Ｎ２−１２）で示される化合物は、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物をメチルチオ化剤によりメチルチオ化することにより製造することができる。該メチルチオ化反応において用いられる溶媒は、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば前記、一般式（２−１−２）で示される化合物のリチオ体をホルミル化する反応において例示される溶媒と同様な溶媒が例示される。該メチルチオ化反応において用いられるメチルチオ化剤としては、Ｓ−メチル  メタンスルホノチオエート等が例示される。該メチルチオ化反応において用いられるメチルチオ化剤の量は、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく５倍モル以下が好ましい。反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃乃至周囲温度が例示される。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。該メチルチオ化反応に用いられる、一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物における基Ａとしては、一般式（２−１Ａ−３）で示される基等が好ましい。
また、製造方法Ｐ３反応工程式中において、一般式（Ｐ２−８）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を用いるか、確立された公知の方法、例えば製造方法Ｑ７反応工程式
【０５６４】
【化９６】
2009269819.tif 000143
（製造方法Ｑ７反応工程中、Ａｒ、及びＬ５は前記と同義であり、ＲＡｒは、Ｃ１−４アルキル基を示す。）により容易に製造することができる。
【０５６５】
一般式（Ｐ２−８）で示される化合物において、Ｌ５が塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である化合物は、例えば、市販品か、又は確立された公知の方法、或いは公知の方法に準じた方法で製造できる一般式（Ｑ５−３）で示される化合物において、Ｌ５が塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である化合物とヒドラジンを脱水縮合剤存在下に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させて、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５６６】
また、上記製造法の別法として、一般式（Ｐ２−８）において、Ｌ５が塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である化合物は、一般式（Ｑ５−３）において、Ｌ５が塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である化合物の反応性誘導体とヒドラジンを不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。該反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させ、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５６７】
一般式（Ｑ５−２）で示される化合物は、一般式（Ｑ５−１）で示される化合物をトリフルオロメタンスルホニル化することにより製造することができる。該トリフルオロメタンスルホニル化反応としては、前記、一般式（Ｎ２−１）で表される化合物を、不活性溶媒中、必要に応じて塩基存在下、トリフルオロメタンスルホニル化剤により、トリフルオロメタンスルホニル化することにより一般式（Ｑ１−９）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５６８】
一般式（Ｑ５−３）で示される化合物において、Ｌ５がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基である化合物は、一般式（Ｑ５−２）で示される化合物を、公知の方法、例えば、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｅｓｉｓ、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ刊（１９９９）などに記載の方法でＲＡｒを水素原子に変換することにより製造することができる。ＲＡｒとしては、メチル基、エチル基、又はｔｅｒｔ−ブチル基などが例示される。
【０５６９】
一般式（Ｐ２−８）において、Ｌ５がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基である化合物は、一般式（Ｑ５−３）において、Ｌ５がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基である化合物とヒドラジンを脱水縮合剤存在下に縮合反応させることにより製造することができる。該縮合反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応させて、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５７０】
また、上記製造法の別法として、一般式（Ｐ２−８）において、Ｌ５がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基である化合物は、一般式（Ｑ５−３）において、Ｌ５がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基である化合物の反応性誘導体とヒドラジンを不活性溶媒中で反応させることにより製造することもできる。該反応としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物の反応性誘導体と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を不活性溶媒中で反応させ、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０５７１】
一般式（Ｑ５−１）で示される化合物は、例えば、（Ｔａｂｌｅ４６）〜（Ｔａｂｌｅ５３）に記載の会社等から購入するか、或いは、（Ｔａｂｌｅ４６）〜（Ｔａｂｌｅ５３）の脚注に記載の文献等に準じて容易に製造することができる。
【０５７２】
【化９７】
2009269819.tif 000144
【０５７３】
【表４６】
2009269819.tif 000145
【０５７４】
【化９８】
2009269819.tif 000146
【０５７５】
【表４７】
2009269819.tif 000147
【０５７６】
【化９９】
2009269819.tif 000148
【０５７７】
【表４８】
2009269819.tif 000149
【０５７８】
【化１００】
2009269819.tif 000150
【０５７９】
【表４９】
2009269819.tif 000151
【０５８０】
【化１０１】
2009269819.tif 000152
【０５８１】
【表５０】
2009269819.tif 000153
【０５８２】
【化１０２】
2009269819.tif 000154
【０５８３】
【表５１】
2009269819.tif 000155
【０５８４】
【化１０３】
2009269819.tif 000156
【０５８５】
【表５２】
2009269819.tif 000157
【０５８６】
【化１０４】
2009269819.tif 000158
【０５８７】
【表５３】
2009269819.tif 000159
【０５８８】
また、一般式（Ｑ５−１）で示される化合物のうち、一般式（Ｑ５−１−５−１−１）、（Ｑ５−１−５−２−１）、（Ｑ５−１−５−３−１）、（Ｑ５−１−７−１−１）、及び（Ｑ５−１−７−２−１）で示される化合物は、それぞれ、例えばK. A. Parker, et al., Org. Lett., 4, 4265(2002)、E. Angeles, Molecules, 6, 683(2001)、v. Niementowski, et al., Chem. Ber., 49, 16(1916)、V. Georgian, et al., J. Org. Chem., 27, 4571(1962)、及びDieckmann, et al., Chem. Ber., 41, 3259(1908)に記載の方法等に従って、容易に製造することができる。
【０５８９】
【化１０５】
2009269819.tif 000160
【０５９０】
また、製造方法Ｎ１反応工程式中の一般式（Ｎ２−３）、（Ｎ２−２）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を入手するか、又は確立された公知の方法、例えば製造方法Ｒ１反応工程式
【０５９１】
【化１０６】
2009269819.tif 000161
（製造方法Ｒ１反応工程式中、ＷＡ、ＴＡ、ＺＡ、Ｒ６、Ｒ７及びＬ２は前記と同義であり、ｎ１は１、もしくは２である。）で示される方法で製造することができる。
【０５９２】
一般式（Ｎ２−３）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ５４）に記載の会社等から購入するか、或いは（Ｔａｂｌｅ５４）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０５９３】
【化１０７】
2009269819.tif 000162
【０５９４】
【表５４】
2009269819.tif 000163
【０５９５】
一般式（Ｎ２−２）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ５５）に記載の会社等から購入することができる。
【０５９６】
【化１０８】
2009269819.tif 000164
【０５９７】
【表５５】
2009269819.tif 000165
【０５９８】
また一般式（Ｎ２−２）で示される化合物においてＬ２がアシルオキシ基、あるいは臭素原子である場合、一般式（Ｎ２−３）で示される化合物から製造することができる。例えば前述一般式（２−９）で示される化合物から一般式（２−７）で示される化合物を製造する場合と同様の方法が例示される。
【０５９９】
前記製造方法Ｏ３反応工程式中で用いる一般式（Ｏ２−１１）並びに製造方法Ｎ７反応工程式中で用いる一般式（Ｎ２−３２）で示される化合物は、下記一般式（Ｎ２−３８）、（Ｎ２−３９）、或いは（Ｎ２−４０）で示される化合物から調製でき、且つそれら一般式（Ｎ２−３８）、（Ｎ２−３９）、（Ｎ２−４０）は、一般式（Ｏ２−１１）や（Ｎ２−３２）と同じく、その多くが公知であり、市販品を入手するか、又は確立された公知の方法、例えば製造方法Ｒ２反応工程式
【０６００】
【化１０９】
2009269819.tif 000166
（製造方法Ｒ２反応工程式中、ＷＡ、ＴＡ、ＺＡ、Ｒ６、Ｒ７、ＲＶ、Ｌ２、Ｍ、及びｎは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
例えば、一般式（Ｎ２−３８）で示される化合物は、（Ｔａｂｌｅ５６）に記載の会社等から購入するか、或いは（Ｔａｂｌｅ５６）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０６０１】
【化１１０】
2009269819.tif 000167
【０６０２】
【表５６】
2009269819.tif 000168
【０６０３】
一般式（Ｎ２−３９）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ５７）に記載の会社等から購入することができる。
【０６０４】
【化１１１】
2009269819.tif 000169
【０６０５】
【表５７】
2009269819.tif 000170
【０６０６】
また一般式（Ｎ２−３９）で示される化合物においてＬ２がアシルオキシ基、あるいは臭素原子である場合、一般式（Ｎ２−３８）で示される化合物から製造することができる。例えば、製造方法Ｄ反応工程式に関して前述したような一般式（２−９）で示される化合物から一般式（２−７）で示される化合物を製造する場合と同様の方法が例示される。一般式（Ｏ２−１１）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３９）で示される化合物から製造することができる。この反応における金属原子又はハロゲン化された金属原子Ｍとしては、アルカリ金属原子、又はハロゲン化アルカリ土類金属原子が例示される。アルカリ金属原子としてはＬｉが好ましく、ハロゲン化アルカリ土類金属原子としては、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、又はＭｇＩが好ましい。
【０６０７】
該反応に際して使用される金属試薬は、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム、あるいはマグネシウムが例示される。
【０６０８】
使用される溶媒、金属試薬量、反応温度、反応時間は例えば、一般式（２−１）で示される化合物において末端のＲ２がＣ１−４アルキル基である化合物を金属試薬との反応により製造する例と同様の条件が例示される。
【０６０９】
また、一般式（Ｎ２−３２）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ５８）に記載の会社等から購入するか、例えば、一般式（Ｎ２−３８）で示される化合物から、酸化反応により、一般式（Ｎ２−４０）で示される化合物に変換した後、還元アミノ化反応することにより製造することができる。これら２つの反応に関しては、一般式（２−１Ａ）で示される化合物においてＡが基（２−１Ａ−２）である化合物から、一般式（２−１）で示される化合物を経て、一般式（２Ａ）で示される化合物を得るための方法に準じて行うことができる。また、一般式（２−９）で示される化合物とイミド化合物を用いる光延反応及び脱保護反応により一般式（２−４）で示される化合物を得る工程に示したような別法も例示される。
【０６１０】
【化１１２】
2009269819.tif 000171
【０６１１】
【表５８】
2009269819.tif 000172
【０６１２】
一般式（Ｎ２−３２）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−３９）で示される化合物から製造することもできる。例えば、前述一般式（２−７）で示される化合物から一般式（２−４）で示される化合物を製造する場合と同様の方法が例示される。
【０６１３】
また、一般式（Ｎ２−４０）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ５９）に記載の会社等からの購入により入手することもできる。
【０６１４】
【化１１３】
2009269819.tif 000173
【０６１５】
【表５９】
2009269819.tif 000174
【０６１６】
それぞれ、前記製造方法Ｎ７及びＯ４反応工程式中での一般式（Ｎ２−２８）及び（Ｏ２−１６）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を入手するか、又は確立された公知の方法、例えば製造方法Ｒ３反応工程式
【０６１７】
【化１１４】
2009269819.tif 000175
（製造方法Ｒ３反応工程式中、ＷＡ、ＴＡ、ＺＡ、Ｒ６、Ｒ７、及びｎは前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。
【０６１８】
一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ６０）に記載の会社等から購入することができる。
【０６１９】
【化１１５】
2009269819.tif 000176
【０６２０】
【表６０】
2009269819.tif 000177
【０６２１】
一般式（Ｏ２−１６）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と、Ｎ、Ｏ-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩との縮合反応により製造することができる。該反応に関しては、一般式（Ｎ２−３０）で示される化合物を、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物より製造する場合と同様に行うことができる。Ｎ、Ｏ-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩は、一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物に対して０．５倍モル量以上が好ましく１倍モル量以上がさらに好ましい。また、２０倍モル量以下が好ましく、１０倍モル量以下がさらに好ましい。
【０６２２】
また、それぞれ、前記の製造方法Ｎ２、Ｎ４及びＮ６反応工程式中で用いる一般式（Ｎ２−７）、（Ｎ２−８）、（Ｎ２−１５）、（Ｎ２−１７）、（Ｎ２−２６）で示される化合物の多くは公知であり、市販品を入手するか、又は確立された公知の方法、例えば製造方法Ｒ４反応工程式
【０６２３】
【化１１６】
2009269819.tif 000178
（製造方法Ｒ４反応工程式中、ＷＡ、ＴＡ、ＺＡ２、Ｌ３、ＲＢ１、及びＲＢ２は前記と同義である。）で示される方法で製造することができる。一般式（Ｎ２−８）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ６１）に記載の会社等から購入することができる。
【０６２４】
【化１１７】
2009269819.tif 000179
【０６２５】
【表６１】
2009269819.tif 000180
【０６２６】
一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ６２）に記載の会社等から購入することもできる。
【０６２７】
【化１１８】
2009269819.tif 000181
【０６２８】
【表６２】
2009269819.tif 000182
【０６２９】
また、一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物において、Ｌ３がアシルオキシ基である場合、一般式（Ｎ２−８）で示される化合物から製造することができる。例えば前記一般式（２−９）で示される化合物から一般式（２−７）で示される化合物を製造する場合と同様の方法が例示される。
【０６３０】
一般式（Ｎ２−７）で示される化合物の場合、例えば（Ｔａｂｌｅ６３）に記載の市販されている試薬を用いるか、又は、一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物とホウ素化合物との反応により製造することができる。該反応としては、前記一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物、又は一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物とホウ素化合物を反応させて、一般式（Ｐ２−２）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０６３１】
【化１１９】
2009269819.tif 000183
【０６３２】
【表６３】
2009269819.tif 000184
【０６３３】
一般式（Ｎ２−１７）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ６４）に記載の会社等から購入するか、或いは（Ｔａｂｌｅ６４）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０６３４】
【化１２０】
2009269819.tif 000185
【０６３５】
【表６４】
2009269819.tif 000186
【０６３６】
また、一般式（Ｎ２−１７）で示される化合物は、一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物と有機リチウム化合物との金属−ハロゲン交換により得られる有機金属化合物溶液に、トリメチルシリルメチルアジド等を作用させることにより製造することができる。該金属−ハロゲン交換反応に用いられる有機リチウム化合物としては、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が例示される。
【０６３７】
該反応に際して用いられる溶媒としては、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、又はエーテル系溶媒等が例示される。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が例示され、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン、キシレン等が例示され、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、又は１，４−ジオキサン等が例示され、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が好ましい。
【０６３８】
該交換反応において使用される有機金属試薬の量は、一般式（２−２６）で示される化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、０．５倍モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。
【０６３９】
該反応において使用されるトリメチルシリルメチルアジド等の量は、一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、１倍モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。
【０６４０】
該交換反応において、反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃以上で反応を行うことが好ましく、また０℃以下で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。
【０６４１】
一般式（Ｎ２−１５）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ６５）に記載の会社等から購入することができる。
【０６４２】
【化１２１】
2009269819.tif 000187
【０６４３】
【表６５】
2009269819.tif 000188
【０６４４】
また、一般式（Ｎ２−１５）で示される化合物は、例えば一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物から、有機リチウム化合物の金属−ハロゲン交換、或いはマグネシウム添加により得られる有機金属化合物溶液に、硫黄を作用させることにより製造することができる。該金属−ハロゲン交換反応に用いられる有機リチウム化合物としては、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が例示される。該反応に際して用いられる溶媒としては、該反応において不活性であればその種類は特に限定されないが、例えば、飽和炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、又はエーテル系溶媒等が例示される。飽和炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はシクロヘキサン等が例示され、芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン、キシレン等が例示され、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、又は１，４−ジオキサン等が例示され、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が好ましい。
【０６４５】
該反応において使用される有機金属試薬の量は、一般式（Ｎ２−２６）で示される化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、０．５倍モル以上がさらに好ましい。また、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がさらに好ましい。
【０６４６】
該反応において、反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、−１００℃以上で反応を行うことが好ましく、また０℃以下で反応を行うのが好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。
【０６４７】
【化１２２】
2009269819.tif 000189
【０６４８】
前記製造方法Ｎ８反応工程式中の一般式（Ｎ２−３６）で示される化合物においてＴＡが単結合である場合、例えばアセトフェノン、４−アセチルピリジン（いずれもＴＣＩ社製）のようなアセチル基を持つ化合物のハロゲン化により製造することができる。また、一般式（Ｎ２−３６）で示される化合物においてＴＡがアルキレン基である場合も同様である。該反応に用いられるハロゲン化剤としては、臭素、臭化水素酸、又はテトラブチルアンモニウムトリブロミド等のテトラアルキルアンモニウムトリブロミドが例示される。
【０６４９】
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン系炭化水素溶媒、エーテル系溶媒、又は酢酸等が例示される。芳香族炭化水素系溶媒としてはトルエン、キシレン等が例示され、ハロゲン系炭化水素溶媒としては、ジクロロメタン、又はクロロホルム等が例示され、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又は１，４−ジオキサン等が例示され、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルムテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、酢酸又はこれらの溶媒の任意の比率の混合溶媒等が好ましい。
【０６５０】
該反応の該反応において使用されるハロゲン化試薬の量は、等モル以上が好ましい。該反応において、反応温度は、原料化合物、溶媒等により異なるが、通常、０℃以上で反応を行うことが好ましく、室温以上がさらに好ましい。反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分乃至１２時間が例示される。
【０６５１】
一方、一般式（Ｎ２−３６）で示される化合物においてＴＡが−ＮＲＷ−である場合、例えば４−アミノピリジン（ＴＣＩ社製）のようなアミン化合物とハロゲン化酢酸ハライドとの縮合反応により製造することができる。該反応に用いられるハロゲン化酢酸ハライドはブロモ酢酸クロリド、ブロモ酢酸ブロミド、クロロ酢酸クロリド等が例示される。必要に応じ、１乃至１０当量、好ましくは１乃至３当量の塩基の共存下に反応を行ってもよい。該反応に用いられる不活性溶媒としては、該反応において不活性であれば特に限定されないが、例えばエーテル系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、スルホキシド系溶媒、又は水等が挙げられる。これらは、二種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。なかでも、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、又はクロロホルム等が好ましい。塩基としては、前記一般式（Ｎ２−２８）で示される化合物と一般式（Ｎ２−２９）で示される化合物を脱水縮合剤の存在下に縮合反応を行う際に用いられる塩基と同様のものが用いられる。該塩基としては、好ましくは、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミン、又はピリジン等である。反応温度は、通常−２０℃以上が好ましく、また５０℃以下が好ましい。さらに好ましくは周囲温度である。反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、５分以上が好ましく、１時間以上がさらに好ましい。また４０時間以下が好ましく、１８時間以下がさらに好ましい。
【０６５２】
更に、前記製造方法Ｐ１反応工程式等に記載のような一般式（Ｐ２−１）で示される化合物の多くは公知であり、例えば（Ｔａｂｌｅ６６）に記載の会社等から購入するか、或いは（Ｔａｂｌｅ６６）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０６５３】
【化１２３】
2009269819.tif 000190
【０６５４】
【表６６】
2009269819.tif 000191
【０６５５】
同じく、製造方法Ｐ１反応工程式中、一般式（Ｐ２−４）で示される化合物は、例えば（Ｔａｂｌｅ６７）に記載の市販されている試薬を用いるか、或いは（Ｔａｂｌｅ６７）の脚注に記載の文献等に従って容易に製造することができる。
【０６５６】
【化１２４】
2009269819.tif 000192
【０６５７】
【表６７】
2009269819.tif 000193
【０６５８】
また、一般式（Ｐ２−４）で示される化合物は、例えば製造方法Ｒ５反応工程式
【０６５９】
【化１２５】
2009269819.tif 000194
（製造方法Ｒ５反応工程式中、ＷＡ、ＴＡ、ＺＡ、Ｒ６、Ｒ７、Ｌ５、ＲＢ１、ＲＢ２、及びｎは前記と同義である。）で示されるように、一般式（Ｐ２−１）で示される化合物とホウ素化合物を反応させることにより製造することができる。
該反応としては、前記一般式（Ｏ２−１５）で示される化合物、又は一般式（Ｏ２−１４）で示される化合物とホウ素化合物を反応させて、一般式（Ｐ２−２）で示される化合物を製造する方法と同様な方法が例示される。
【０６６０】
【化１２６】
2009269819.tif 000195
【０６６１】
上記一般式（Ｏ２−１）で示される化合物は、製造方法Ｏ１反応工程式中で用いられるが、例えば（Ｔａｂｌｅ６８）に記載の会社等から購入することができる。
【０６６２】
【化１２７】
2009269819.tif 000196
【０６６３】
【表６８】
2009269819.tif 000197
【０６６４】
また、一般式（Ｏ２−１）で示される化合物は、例えば一般式（Ｎ２−４０）で示される化合物とリン化合物とのＷｉｔｔｉｇ反応、又はＨｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍｏｎｓ反応により製造することができる。リン化合物としてはメチルホスホン酸ジメチル、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド等が例示される。該反応に用いられる条件としては、前述の成書（第４版実験化学講座、第１９巻、丸善）等に記載されている公知の方法に準じて行うことができる。同書には多くの公知である別法が記載されており、これらに準じて製造することができる。
【０６６５】
一般式（Ｏ２−４）で示される化合物は、製造方法Ｏ２反応工程式中で用いられるが、例えば（Ｔａｂｌｅ６９）に記載の会社等から購入するか、或いは前述の成書（第４版実験化学講座、第１９巻、丸善）等に記載されている公知の方法に準じて製造することができる。
【０６６６】
【化１２８】
2009269819.tif 000198
【０６６７】
【表６９】
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【０６６８】
前記の製造方法Ｂ反応工程式中、一般式（２−２）で示される化合物の多くは公知であり、例えば（Ｔａｂｌｅ７０）に記載の会社等から購入することができる。
【０６６９】
【表７０】
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2009269819.tif 000201
【０６７０】
本発明化合物（１）の製造方法はここに記載された方法に限定されるものではない。例えば本発明化合物は、その前駆体となる化合物の置換基を通常の化学文献等に記載の反応を一つ又は複数を組み合わせ、修飾・変換することにより製造することができる。
【０６７１】
本発明化合物（１）のうち不斉炭素を含む化合物の製造法の例としては、先にあげた不斉還元による製造方法以外に、不斉炭素にあたる部分があらかじめ光学活性である市販の（あるいは公知の方法又は公知の方法に準じて調製可能な）原料化合物を用いる方法が挙げられる。また本発明化合物又はその前駆体を常法により光学的に活性な異性体として分離する方法もある。その方法としては、例えば光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によるもの、光学活性な試薬と塩を形成して分別結晶化等を用いて分離した後、該塩の形成を解除する古典的な光学分別結晶法、又は光学活性な試薬と縮合し生成するジアステレオマーを分離精製した後、再び分解する方法などがある。前駆体を分離し光学活性体とした場合、その後に先に示した製造法を実施することにより光学的に活性な本発明化合物（１）を製造することができる。
【０６７２】
本発明化合物（１）のうち、化合物中にカルボキシル基、フェノール性水酸基、あるいはテトラゾール環などの酸性官能基を含む場合、公知の手段によって薬学上許容される塩（例えばナトリウム、アンモニア等との無機塩又はトリエチルアミン等との有機塩）とすることも可能である。例えば、無機塩を得る場合、本発明化合物（１）を所望の無機塩に対応する少なくとも１当量の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩などを含有する水中に溶解することが好ましい。該反応には、メタノール、エタノール、アセトン、又はジオキサンなどの水混和性の不活性有機溶媒を混和してもよい。例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム又は重炭酸ナトリウムを用いることによりナトリウム塩の溶液が得られる。
【０６７３】
また、本発明化合物（１）のうち、化合物中にアミノ基を含む場合、あるいはそれ以外に塩基性官能基を含む場合、又はそれ自体塩基性の性質を持つ芳香環（例えばピリジン環など）を含む場合、それらを公知の手段によって薬学上許容される塩（例えば塩酸、硫酸等の無機酸との塩又は酢酸、クエン酸等の有機酸との塩）とすることも可能である。例えば、無機塩を得る場合、本発明化合物（１）を所望の少なくとも１当量の無機酸を含有する水溶液に溶解することが好ましい。該反応には、メタノール、エタノール、アセトン、又はジオキサンなどの水混和性の不活性有機溶媒を混合してもよい。例えば、塩酸を用いることにより塩酸塩の溶液が得られる。
【０６７４】
本発明における一般式（１）の化合物のプロドラッグとしては特に限定されないが、例えば、一般式（１）で示される化合物の水酸基、アミノ基、及びカルボキシル基から選択される１以上の任意の基にプロドラッグを構成する基が導入された化合物が挙げられる。水酸基及びアミノ基についてプロドラッグを構成する基としては、例えばアシル基、アルコキシカルボニル基が例示される。好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、又はエトキシカルボニル基等が挙げられ、エトキシカルボニル基が特に好ましい。又、アセチル基が好ましい態様もあり、プロピオニル基が好ましい態様もあり、メトキシカルボニル基が好ましい別の態様もある。又、カルボキシル基についてプロドラッグを構成する基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、又はジエチルアミノ基が例示される。好ましい例としては、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等が挙げられ、エチル基が特に好ましい。又、n-プロピル基が特に好ましい別の態様もある。さらに又、イソプロピル基が好ましい別の態様もある。
【０６７５】
Ｓ１Ｐ１アゴニスト活性によって、本発明の化合物は、自己免疫疾患または慢性炎症性疾患を処置または防止するために有用な免疫調節剤として作用し得る。本発明の化合物は、免疫抑制が正常な状態にある場合において、例えば、骨髄、臓器または移植片の拒絶において、また、全身性エリテマトーデス、慢性リウマチ様関節炎、Ｉ 型糖尿病、炎症性腸疾患、胆汁性肝硬変、ブドウ膜炎、多発性硬化症、クローン病、潰瘍性大腸炎、水疱性天疱瘡、類肉腫症、乾癬、自己免疫筋炎、ヴェーゲナー肉芽腫症、魚鱗癬、グレーブズ眼症、又は喘息を含む自己免疫疾患或いは慢性炎症性疾患などにおいて、免疫系を抑制するために有用である。
【０６７６】
より詳細には、本発明の化合物は、臓器または組織の移植、移植によりもたらされる移植片対宿主病、自己免疫症候群、（リウマチ様関節炎を含む）、全身性エリテマトーデス、橋本甲状腺炎、多発性硬化症、重症筋無力症、Ｉ型糖尿病、ブドウ膜炎、後ブドウ膜炎、アレルギー性脳脊髄炎、糸球体腎炎、感染後自己免疫疾患（リウマチ熱および感染後糸球体腎炎を含む）、炎症性および過増殖性の皮膚疾患、乾癬、アトピー性皮膚炎、接触性皮膚炎、湿疹性皮膚炎、脂漏性皮膚炎、扁平苔癬、天疱瘡、水疱性天疱瘡、表皮水疱症、じんま疹、血管浮腫、脈管炎、紅斑、皮膚好酸球増加症、エリテマトーデス、座瘡、円形脱毛症、角結膜炎、春季結膜炎、ベーチェット病に関連するブドウ膜炎、角膜炎、ヘルペス性角膜炎、円錐角膜、角膜上皮変性症、角膜白斑、眼性天疱瘡、モーレン潰瘍、強膜炎、グレーブズ眼症、フォークト−小柳−原田症候群、類肉腫症、花粉アレルギー、可逆性閉塞性気道疾患、気管支喘息、アレルギー性喘息、内因性喘息、外因性喘息、ダスト喘息、慢性的または常習性の喘息、晩発性喘息および気道過剰応答性気管支炎、胃潰瘍、虚血性疾患および血栓症により生じる血管損傷、虚血性腸疾患、炎症性腸疾患、壊死性腸炎、火傷に関連する腸障害、セリアック病、直腸炎、好酸球性胃腸炎、脂肪細胞過剰増殖、クローン病、潰瘍性大腸炎、片頭痛、鼻炎、湿疹、間質性腎炎、グッドパスチャー症候群、溶血性尿毒症症候群、糖尿病性腎症、多発性筋炎、ギラン−バレー症候群、メニエール病、多発神経炎、多発性神経炎、単神経炎、神経根障害、甲状腺機能亢進症、バセドウ病、真性赤血球系無形成症、再生不良性貧血、低形成貧血、特発性血小板減少性紫斑症、自己免疫溶血性貧血、無顆粒球症、悪性貧血、巨赤芽球性貧血、赤血球生成欠如、骨粗鬆症、類肉腫症、線維化肺、特発性間質肺炎、皮膚筋炎、尋常性白斑、尋常性魚鱗癬、光アレルギー過敏性、皮膚型Ｔ 細胞リンパ腫、動脈硬化、アテローム性動脈硬化、大動脈炎症候群、結節性動脈周囲炎、心筋症、強皮症、ヴェーゲナー肉芽腫症、シェーグレン症候群、脂肪症、好酸球性筋膜炎、歯肉の障害、歯周の障害、歯槽骨の障害、セメント質の障害、糸球体腎炎、脱毛を妨げるか或いは発毛の提供ならびに／または発毛および毛髪成長の促進を妨げることによる男性型脱毛症または老年性脱毛症、筋ジストロフィー、膿疱性皮膚症およびセザリー症候群、アジソン病、保存または移植または虚血性疾患のときに生じる臓器の虚血−再潅流傷害、エンドトキシンショック、偽膜性大腸炎、薬物または放射線により生じる大腸炎、虚血性急性腎不全、慢性腎不全、肺− 酸素または薬物により生じる中毒症、肺ガン、肺気腫、白内障、鉄症、色素性網膜炎、老年性黄斑変性、硝子体瘢痕形成、角膜アルカリ火傷、多形滲出性紅斑皮膚炎、線状ＩｇＡバロウス（ｂａｌｌｏｕｓ）皮膚炎およびセメント皮膚炎、歯肉炎、歯周炎、敗血症、膵炎、環境汚染により生じる疾患、老化により生じる疾患、発ガン性により生じる疾患、ガン腫の転移により生じる疾患、高山病により生じる疾患、ヒスタミンまたはロイコトリエン−Ｃ４の放出により生じる疾患、ベーチェット病、自己免疫肝炎、原発性胆汁性肝硬変、硬化性胆管炎、部分的肝臓切除、急性肝臓���死、毒素またはウイルス性肝炎またはショックまたは無酸素症により生じる壊死、Ｂ型ウイルス肝炎、非Ａ／非Ｂ肝炎、肝硬変、アルコール性肝硬変、肝不全、劇症肝不全、遅発型肝不全、「急性型慢性」肝不全、化学療法作用の増強、サイトメガロウイルス感染、ＨＣＭＶ感染、ＡＩＤＳ、ガン、老年性痴呆、外傷、および慢性細菌感染からなる群から選択される疾患または状態を処置または防止するために有用である。
【０６７７】
本発明は、また、その必要性のある哺乳動物患者における臓器または組織の移植に対する抵抗性または移植拒絶を防止または処置する方法であって、式（１）の化合物の治療上有効な量を投与することを含む前記方法が包含される。
【０６７８】
必要性のある哺乳動物患者における免疫系を抑制する方法であって、式（１）の化合物の免疫系抑制量を前記患者に投与することを含む前記方法はさらに別の実施態様である。
【０６７９】
最も具体的には、本明細書中に記載される方法には、骨髄移植片拒絶または臓器移植片拒絶を処置または防止する方法であって、そのような処置または防止を必要としている哺乳動物患者に、式（１）の化合物またはその医薬適合性の塩もしくは水和物を、骨髄移植片拒絶または臓器移植片拒絶を処置または防止するために有効である量で投与することから構成される前記方法が包含される。
【０６８０】
本発明の化合物はまた、喘息、慢性気管支炎、慢性閉塞性肺疾患、成人呼吸窮迫性症候群、乳児呼吸窮迫性症候群、咳、好酸球性肉芽腫、呼吸器合胞体ウイルス細気管支炎、気管支拡張症、特発性肺線維症、急性肺傷害および閉塞性細気管支炎、器質化肺炎などの呼吸器の疾患または状態を処置するために有用である。
【０６８１】
本発明の化合物は、その塩および水和物を含めて、骨髄移植片の拒絶、外来臓器移植片および／または関連した苦痛、疾患および病気を防止することを含む、自己免疫疾患の処置において有用である。
【０６８２】
さらに、本発明の化合物は、Ｓ１Ｐ３受容体を上回る選択性を有する、Ｓ１Ｐ１受容体の選択的アゴニストである。Ｓ１Ｐ１受容体選択的アゴニストは、現在の治療法を上回る様々な利点を有しており、また、リンパ球隔離剤の治療範囲を広げ、これにより、より大きい服薬に関してより良好な寛容性を可能にし、従って、単独療法としての効力を改善する。
【０６８３】
本発明の化合物はまた、徐脈の点で改善することによって現在の治療法を上回る様々な利点を有しており、また、リンパ球隔離剤の治療範囲を広げ、これにより、より大きい服薬に関してより良好な寛容性を可能にし、従って、単独療法としての効力を改善する。
【０６８４】
また本発明化合物（１）を有効成分とする医薬は哺乳動物、好ましくは人、イヌやネコなどのペット又はコンパニオンアニマルあるいは家畜における上記症状又は疾患に対して他の一種類以上の予防又は治療薬と併用又は組み合わせて使用することができる。
併用または組み合わせることができる薬剤としては、たとえば以下のようなものが例示できる。免疫抑制剤として、アザチオプリン、ブレキナルナトリウム、デオキシスペルグアリン、ミザリビン、ミコフェノール酸モルホリノエステル、タクロリムス、シクロスポリン、ラパマイシンおよびＦＴＹ７２０等やそれらを含む製剤；慢性関節リウマチの治療薬として使われる免疫修飾型抗リウマチ薬や代謝拮抗薬、具体的には金製剤、ブシラミン、ロベンザリット、サラゾスルファピリジン、メトトレキセート、アザチオプリン、ミゾリビン、レフルノミド、タクロリムス、シクロスポリン等やそれらを含む製剤；生物学的製剤であるインターロイキン（ＩＬ）−１、ＩＬ−６または腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）−αなどのサイトカインに対する抗サイトカイン抗体製剤、若しくはそれらサイトカインに対する可溶性受容体製剤、具体的にはインフリキシマブやエタネルセプト等やそれらを含む製剤；ステロイド製剤、具体的にはデキサメタゾン、ベタメタゾン、プレドニゾロン、フルチカゾンやベクロメタゾン等やそれらを含む製剤；慢性気管支喘息の治療薬として使われる気管支拡張薬、具体的にはアドレナリンβ２刺激薬であるサルメテロールやサルブタモール、抗コリン薬であるイプラトロピウム等やそれらを含む製剤；アレルギー性疾患の治療薬、例えばキサンチン類縁薬であるテオフィリン等、抗アレルギー薬であるフェキソキナジン、エピナスタチン、セチリジン、ケトチフェン、クロモグリク酸ナトリウム、ペミロラスト等、あるいは抗ヒスタミン薬であるフェキソキナジンやセチリジン等やそれらを含む製剤；抗腫瘍薬であるイリノテカン、５−フルオロウラシル等やそれらを含む製剤。また放射線療法と併用または組み合わせて本発明化合物（１）を有効成分とする医薬を使用することも例示される。
【０６８５】
本発明の各化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体は、安全性（各種毒性や安全性薬理）や薬物動態性能等に優れており、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６８６】
安全性に関連する試験とは、例えば以下に列記するものを含むが、この例示に限定されるものではない。細胞毒性試験（HL60細胞や肝細胞を使った試験など）、遺伝毒性試験（Ames試験、マウスリンフォーマTK試験、染色体異常試験、小核試験など）、皮膚感作性試験（ビューラー法、GPMT法、APT法、LLNA試験など）、皮膚光感作性試験（Adjuvant and Strip法など）、眼刺激性試験（単回点眼、短期連続点眼、反復点眼など）、心血管系に対する安全性薬理試験（テレメトリー法、APD法、hERG阻害評価法など）、中枢神経系に対する安全性薬理試験（FOB法、Irwinの変法など）、呼吸系に対する安全性薬理試験（呼吸機能測定装置による測定法、血液ガス分析装置による測定法など）、一般毒性試験などが含まれる。
【０６８７】
また、薬物動態性能に関する試験とは、例えば以下に列記するものを含むが、この例示に限定されるものではない。チトクロームP450酵素の阻害あるいは誘導試験、細胞透過性試験（CaCO-2細胞やMDCK細胞などを使った試験）、薬物トランスポーター ATPase assay、経口吸収性試験、血中濃度推移測定試験、代謝試験（安定性試験、代謝分子種試験、反応性試験など）、溶解性試験（濁度法による溶解度試験など）などが含まれる。
【０６８８】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば細胞毒性試験を行うことにより確認できる。細胞毒性試験には、各種培養細胞例えばヒト前白血病細胞であるHL-60細胞、肝臓細胞の初代単離培養細胞やヒト末梢血から調製した好中球画分などを用いる方法がある。以下に述べる方法により本試験を実施できるが、この記載にのみ限定されるものではない。細胞を105個から107個／ｍｌの細胞懸濁液として調製し、０．０１ｍLから１ｍLの懸濁液をマイクロチューブあるいはマイクロプレートなどに分注する。そこに化合物を溶解させた溶液を細胞懸濁液の1/100倍量から１倍量添加し、３７℃、５％CO２下で３０分から数日間培養する。培養終了後、細胞の生存率をMTT法あるいはWST-1法(Ishiyama, M., et al., In Vitro Toxicology, 8, p.187, 1995)などを使い評価する。細胞に対する化合物の細胞毒性を測定することで、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６８９】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば遺伝毒性試験を行うことにより確認できる。遺伝毒性試験には、Ames試験、マウスリンフォーマTK試験、染色体異常試験や小核試験などがある。Ames試験とは、指定された菌種のサルモネラ菌や大腸菌を用いて、化合物を混入させた培養皿上などで菌を培養することにより、突然復帰変異を判定する方法（１９９９年 医薬審第1604号 「遺伝毒性試験ガイドライン」よりII-1.遺伝毒性試験）である。また、マウスリンフォーマTK試験とは、マウスリンパ種L5178Y細胞のチミジンキナーゼ遺伝子を標的とした遺伝子突然変異能検出試験（１９９９年 医薬審第1604号 「遺伝毒性試験ガイドライン」より II-3. マウスリンフォーマTK試験；Clive, D. et al., Mutat. Res., 31, pp.17-29, 1975；Cole, J., et al.,  Mutat.Res., 111, pp.371-386, 1983 ）である。また、染色体異常試験とは、哺乳類培養細胞と化合物を共存培養したのち、細胞を固定化し、染色体の染色、観察を行うことで、染色体の異常をおこす活性を判定する方法（１９９９年 医薬審第1604号 「遺伝毒性試験ガイドライン」より II-2. ほ乳類培養細胞を用いる染色体異常試験）である。さらにまた、小核試験とは染色体異常に起因する小核形成能を評価するもので、げっ歯類を用いる方法（in vivo 試験）（１９９９年 医薬審第1604号 「遺伝毒性試験ガイドライン」より  II-4. げっ歯類を用いる小核試験；Hayashi,M. et al., Mutat. Res., 312, pp.293-304, 1994；Hayashi,M. et al.,  Environ. Mol. Mutagen., 35, pp.234-252, 2000）や培養細胞を用いる方法（in vitro試験）（Fenech, M. et al., Mutat.Res., 147, pp.29-36, 1985；Miller,B., et al., Mutat. Res., 392, pp.45-59, 1997）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の遺伝毒性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９０】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば皮膚感作性試験を行うことにより確認できる。皮膚感作性試験には、モルモットを用いた皮膚感作性試験として、ビューラー法（Buehler, E. V.  Arch.Dermatol., 91, pp.171-177, 1965）、GPMT法（マキシマイゼーション法（Magnusson, B. et al.,  J. Invest. Dermatol.,  52, pp.268-276, 1969））あるいはAPT法（アジュバント＆パッチ法（Sato, Y. et al.,  Contact Dermatitis, 7, pp.225-237, 1981））などがある。さらにまた、マウスを使った皮膚感作性試験としてLLNA（Local Lymph node assay）法（OECD Guideline for the testing of chemicals 429, skin sensitization 2002；Takeyoshi, M. et al., Toxicol. Lett., 119(3), pp.203-8, 2001；Takeyoshi, M. et al.,  J. Appl. Toxicol., 25(2), pp.129-34, 2005）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の皮膚感作性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９１】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば皮膚光感作性試験を行うことにより確認できる。皮膚光感作性試験には、モルモットを用いた皮膚光感作性試験（「医薬品  非臨床試験ガイドライン解説 2002」 薬事日報社  ２００２年刊  1-9:皮膚光感作性試験）があり、その方法としてはAdjuvant and Strip 法（Ichikawa, H. et al., J. Invest. Dermatol., 76, pp.498-501, 1981）、Harber 法（Harber, L.C., Arch. Dermatol.,96, pp.646-653, 1967）、horio 法（Horio, T., J. Invest. Dermatol., 67, pp.591-593, 1976）、Jordan 法（Jordan, W.P., Contact Dermatitis, 8, pp.109-116, 1982）、Kochever 法（Kochever, I.E. et al., J. Invest. Dermatol., 73, pp.144-146, 1979）、Maurer法（Maurer,T. et al., Br. J. Dermatol., 63, pp.593-605, 1980）、Morikawa 法（Morikawa,F. et al.,  "Sunlight and man", Tokyo Univ. Press, Tokyo, pp.529-557, 1974）、Vinson 法（Vinson,L.J., J. Soc. Cosm. Chem., 17, pp.123-130, 1966）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の皮膚光感作性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９２】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば眼刺激性試験を行うことにより確認できる。眼刺激性試験には、ウサギ眼、サル眼などを用いた単回点眼試験法（１度だけ点眼）、短期連続点眼試験法（短時間に複数回一定間隔で点眼）や反復点眼試験法（数日から数十日間にわたり断続的に繰り返し点眼）などがあり、点眼後の一定時間の眼刺激症状を改良ドレイズスコア（Fukui,N. et al., Gendai no Rinsho, 4 (7), pp.277-289, 1970）などに従い評価する方法がある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の眼刺激性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９３】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば心血管系に対する安全性薬理試験を行うことにより確認できる。心血管系に対する安全性薬理試験には、テレメトリー法（無麻酔下での化合物投与による心電図、心拍数、血圧、血流量などへの影響を測定する方法（菅野茂、局博一、中田義禮  編    基礎と臨床のための動物の心電図・心エコー・血圧・病理学検査  平成15年刊  丸善（株）））、APD法（心筋細胞活動電位持続時間を測定する方法（Muraki, K. et al., AM. J. Physiol., 269, H524-532,1995；Ducic, I. et al., J. Cardiovasc. Pharmacol., 30(1), pp.42-54, 1997））、hERG阻害評価法（パッチクランプ法（Chachin, M. et al., Nippon Yakurigaku Zasshi, 119, pp.345-351, 2002）、Binding assay 法（Gilbert, J.D. et al., J. Pharm. Tox. Methods, 50, pp.187-199, 2004）、Rb+ efflex assay 法（Cheng, C.S. et al., Drug Develop. Indust. Pharm., 28, pp.177-191, 2002）、Membrane potential assay 法（Dorn, A. et al., J. Biomol. Screen., 10, pp.339-347, 2005）など）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上方法を用いて、化合物の心血管系に対する作用を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９４】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば中枢神経系に対する安全性薬理試験を行うことにより確認できる。中枢神経系に対する安全性薬理試験には、FOB法（機能観察総合評価法（Mattson,J. L . et al., J. American College of Technology, 15 (3), pp.239-254, 1996））、Irwinの変法（一般症状および行動観察を評価する方法（Irwin, S.  Comprehensive Observational Assessment (Berl.) 13, pp.222-257, 1968）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の中枢神経系に対する作用を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９５】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば呼吸系に対する安全性薬理試験を行うことにより確認できる。呼吸系に対する安全性薬理試験には、呼吸機能測定装置による測定法（呼吸数、１回換気量、分時換気量等を測定）（Drorbaugh,J.E. et al., Pediatrics, 16, pp.81-87, 1955；Epstein,M.A. et al., Respir.Physiol., 32, pp.105-120, 1978）や血液ガス分析装置による測定法（血液ガス、ヘモグロビン酸素飽和度などを測定）（Matsuo, S. Medicina, 40, pp.188- , 2003）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の呼吸系に対する作用を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９６】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば一般毒性試験を行うことにより確認できる。一般毒性試験とは、ラットやマウスなどのげっ歯類あるいはサル、イヌ等非げっ歯類を用いて、適当な溶媒に溶解あるいは懸濁した化合物を単回あるいは反復（複数日間）で経口投与あるいは静脈内投与などすることにより、投与動物の一般状態の観察、臨床化学的変化や病理学的な組織変化などを評価する方法である。これらの方法を用いて、化合物の一般毒性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９７】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えばチトクロームP450酵素の阻害あるいは誘導試験（Gomez-Lechon,M.J. et al., Curr. Drug Metab. 5(5), pp.443-462, 2004）を行うことにより確認できる。例えば、細胞から精製あるいは遺伝子組み換え体を用いて調製した各分子種のチトクロームP450酵素またはヒトP450発現系ミクロソームを用いて、試験管内でその酵素活性を化合物が阻害するかを測定する方法（Miller, V.P. et al., Ann.N.Y.Acad.Sci., 919, pp.26-32, 2000）、ヒト肝ミクロゾームや細胞破砕液を用いて各分子種のチトクロームP450酵素の発現や酵素活性の変化を測定する方法（Hengstler, J.G. et al., Drug Metab. Rev., 32, pp.81-118, 2000）、あるいは化合物を曝露したヒト肝細胞からRNAを抽出し、mRNA発現量をコントロールと比較して化合物の酵素誘導能を調べる方法（Kato,M. et al., Drug Metab. Pharmacokinet., 20(4), pp.236-243, 2005）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物のチトクロームP450の酵素阻害や酵素誘導に対する作用を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９８】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば細胞透過性試験を行うことにより確認できる。CaCO-2細胞を用いて試験管内細胞培養系で化合物の細胞膜透過能を測定する方法（Delie, F. et al., Crit.Rev.Ther.Drug Carrier Syst., 14,pp. 221-286, 1997；Yamashita, S. et al.,  Eur. J. Pham. Sci., 10, pp.195-204, 2000；Ingels, F.M. et al., J. Pham. Sci., 92, pp.1545-1558, 2003）、あるいはMDCK細胞を用いて試験管内細胞培養系で化合物の細胞膜透過能を測定する方法（Irvine, J.D. et al., J. Pham. Sci., 88, pp.28-33, 1999）などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の細胞透過性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０６９９】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば薬物トランスポーター ATPase assayを行うことにより確認できる。薬物トランスポーター ATPase assayには、P-glycoprotein (P-gp) バキュロウィルス発現系を用いて化合物がP-gpの基質か否かを調べる方法（Germann, U. A., Methods Enzymol., 292, pp.427-41, 1998）などがある。これらの方法を用いて、化合物のP-gpに対する作用を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０７００】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば経口吸収性試験を行うことにより確認できる。経口吸収性試験には、げっ歯類、サル、あるいはイヌなどを用い、一定量の化合物を適当な溶媒に溶解あるいは懸濁し、経口投与後の血中濃度を経時的に測定し、化合物の経口投与による血中移行性をＬＣ−ＭＳ／ＭＳ法（原田健一ら  編  「生命科学のための最新マススペクトロメトリー」  講談社サイエンティフィク  2002年刊）などを使い評価する方法などがある。これらの方法を用いて、化合物の経口吸収性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０７０１】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば血中濃度推移測定試験を行うことにより確認できる。血中濃度推移測定試験には、げっ歯類、サル、あるいはイヌなどに化合物を投与した後の化合物の血中での濃度の推移をＬＣ−ＭＳ／ＭＳ法（原田健一ら  編  「生命科学のための最新マススペクトロメトリー」  講談社サイエンティフィク  2002年刊）などを使い測定する方法などがある。これらの方法を用いて、化合物の血中濃度推移を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０７０２】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば代謝試験を行うことにより確認できる。代謝試験には、血中安定性試験法（ヒトあるいは他の動物種の肝ミクロソーム中での化合物の代謝速度からin vivo での代謝クリアランスを予測する方法（Shou, W. Z. et al., J. Mass Spectrom., 40(10), pp.1347-1356, 2005；Li, C. et al., Drug Metab. Dispos., 34(6), 901-905, 2006））、代謝分子種試験法、反応性代謝物試験法などがある。これらのいずれか１つ又は２つ以上の方法を用いて、化合物の代謝プロファイルを明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０７０３】
上記一般式（１）で表される本発明の化合物又はその塩、あるいはプロドラッグとして有用なそれらの誘導体が医薬の有効成分として有用であることは、例えば溶解性試験を行うことにより確認できる。溶解性試験には、濁度法による溶解度試験法（Lipinski, C.A. et al.,  Adv.Drug Deliv. Rev., 23, pp.3-26, 1997；Bevan, C.D. et al.,  Anal.Chem., 72, pp.1781-1787, 2000）などがある。これらの方法を用いて、化合物の溶解性を明らかにすることにより、医薬の有効成分としての有用性を確認できる。
【０７０４】
本発明の医薬としては、一般式（１）で示される化合物又はその薬理学的に許容される塩の１種又は２種以上の混合物をそのまま用いてもよいが、一般式（１）で示される化合物又はその薬理学的に許容される塩の１種又は２種以上の混合物に１種又は２種以上の薬理学的に許容される担体を添加して医薬組成物を調製して投与することが好ましい。薬理学的に許容される担体の種類は特に限定はされないが、例えば、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、又は添加剤などが例示される。賦形剤としては、例えばＤ−マンニトールなどが挙げられる。結合剤としては、例えばカルボキシメチルセルロースなどが挙げられる。崩壊剤としては、例えばトウモロコシデンプンなどが挙げられる。滑沢剤としては、例えばグリセリンなどが挙げられる。添加剤としては、例えばパラオキシ安息香酸エステル類などが挙げられる。さらに添加剤としては、Ｐｏｌｙｏｘｙｅｔｈｙｌｅｎｅｓｏｒｂｉｔａｎ  ｍｏｎｏｏｌｅａｔｅ（ｔｗｅｅｎ８０）やＨＣ６０などの界面活性剤が挙げられる。
【０７０５】
本発明の医薬をヒトに投与する際は、錠剤、粉末、顆粒、カプセル、糖衣錠、液剤、又はシロップ剤等の形態で経口投与することができ、あるいは注射剤、点滴剤、坐剤、経皮又は吸収剤などの形態で非経口投与することも可能である。また、エアロゾル、ドライパウダー等の噴霧剤の形態で吸入することも好ましい投与形態として挙げられる。
【０７０６】
本発明の医薬の投与期間は特に限定されないが、治療目的に投与する場合には、各疾患の臨床症状が発現していると判断される期間を原則として投与期間として選択することができる。通常は投与を数週間から１年間継続することが一般的であるが、病態に応じてさらに継続して投与することが可能であり、あるいは臨床症状の回復後に継続投与することも可能である。さらに臨床症状が発現していなくても臨床医の判断で予防的に投与することもできる。本発明の医薬の投与量は特に限定されないが、例えば、一般的には成人１日あたり０．０１〜２０００ｍｇの有効成分を１回から数回に分けて投与することができる。投与頻度は月１回から連日投与が可能であり、好ましくは１回／週から３回／週、又は５回／週、若しくは連日投与である。１日投与量、投与期間、及び投与頻度も患者の年齢、体重、身体的健康度、及び治療すべき疾患やその重症度などにより、共に適宜増減させてよい。
【０７０７】
本発明の医薬は、本発明の医薬の予防及び／又は治療の目的以外の種々の異常や疾患に対する予防薬又は治療薬とともに投与できることは言うまでもない。
【実施例】
【０７０８】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は以下の実施例に限定されることはない。
【０７０９】
以下の実施例において、種々の分析は下記のようにして行った。
（１）高速原子衝撃質量スペクトル（ＦＡＢ−ＭＳ）
日本電子株式会社製ＪＭＳ−ＡＸ５００型質量分析装置又は同社製ＪＭＳ−ＳＸ１０２型質量分析装置を用いて測定した。マトリックスは３−ニトロベンジルアルコールを使用した。
（２）液体クロマトグラフ質量分析スペクトル（ＬＣ−ＭＳ）
質量分析装置として、イギリス国Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ社製Ｐｌａｔｆｏｒｍ−ＬＣ型質量分析装置（イオン化はエレクトロスプレー（ＥＳＩ）法を使用）を用いた。液体クロマト装置はフランス国ＧＩＬＳＯＮ社製の装置を使用した。分離カラムは、日本国関東化学株式会社製ＭｉｇｈｔｙｓｉｌＲＰ−１８  ＧＰ  ５０−４．６（製品番号２５４６８−９６）を用いた。溶出条件を以下に記す。
流速：２ｍｌ／分
溶媒：Ａ液＝水、０．１％(ｖ/ｖ)酢酸含有
Ｂ液＝アセトニトリル、０．１％(ｖ/ｖ)酢酸含有
０分から５分までＢ液を５〜１００％(ｖ/ｖ)直線グラジェント
溶出時間を分（ｍｉｎ）で示した。
（３）核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）
ＡＬ−３００（ＦＴ−ＮＭＲ 、ＪＥＯＬ社製）を用いて測定した。溶媒は重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）または重ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６）を用い、特記しない限りＣＤＣｌ３を用いて測定した。化学シフトはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準として用い、δ（ｐｐｍ）で、また結合定数はＪ（Ｈｚ）で示した。なおスプリッティングパターンの記号は、ｓ；ｓｉｎｇｌｅｔ 、ｄ；ｄｏｕｂｌｅｔ、ｔ；ｔｒｉｐｌｅｔ、ｑ；ｑｕａｒｔｅｔ 、ｑｕ；ｑｕｉｎｔｅｔ、ｄｄ ；ｄｏｕｂｌｅｔ ｄｏｕｂｌｅｔ、ｔｄ；ｔｒｉｐｌｅｔ ｄｏｕｂｌｅｔ、ｍ；ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ、ｂｒ；ｂｒｏａｄで表した。
（４）薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）
ドイツ国Ｍｅｒｃｋ社製ＴＬＣプレート（シリカゲル６０  Ｆ２５４、製品番号１,０５７１５）を用いた。展開後のＴＬＣプレートを波長２５４ｎｍの紫外線を照射すること等、一般的な検出方法により化合物の検出を行った。
（５）精製クロマトグラフィー
原則として、下記の2方法のいずれかを用いて行った。
（精製法１）「Ｆｌａｓｈカラムシステム」（Ｂｉｏｔａｇｅ社製）を用い、Ｂｉｏｔａｇｅ社製ＫＰ−Ｓｉｌ−１２Ｍ、４０Ｓまたは４０Ｍのいずれかのカートリッジカラムを試料の量に応じて一本または数本使用した。
（精製法２）通常のカラムクロマトグラフィーをシリカゲル６０Ｎ（球状、中性、４０〜１００μｍ、関東化学社製）をサンプル量に応じて使用して行った。
【０７１０】
以下、実施例において、「ＬＣＭＳ」は液体クロマトグラフ質量分析スペクトルであり、「ＲＴｉｍｅ」は液体クロマトの保持時間であり、ＬＣＭＳのマススペクトルのデータを、Ｔａｂｌｅ中では「Ｍａｓｓ」、Ｔａｂｌｅ以外では「ＥＳＩ−Ｍｓ」として記載した。「ＦＡＢ−Ｍｓ」は高速原子衝撃質量スペクトルで測定したマススペクトルのデータである。
【０７１１】
また、各Ｔａｂｌｅ中の記号の意味については以下に示すとおりである。「Ｅｘｐ．」；実施例化合物番号、「Ｓｙｎ．」；製造方法、「ＳＭ」；原料化合物、「Ｓｕｐ．」；ＳＭの入手先、「Ｓｔｒｕｃｔ.」；実施例化合物の構造。なお、「Ｓｕｐ．」の欄に記した記号はそれぞれの試薬の製造元を表す。「ＴＣＩ」； 東京化成社製、「ＫＡＮ」；関東化学社製、「Ａｌｄ」； アルドリッチ社製、「ＷＡＫＯ」； 和光純薬社製、「ＡＣＲ」； アクロス社製、「ＳＩＧ」；シグマ社製、「ＡＭＲＩ」；ＡＭＲＩ社製、「Ｐｅｐ」；Ｐｅｐｔｅｃｈ社製、「Ｃｈｅ」；ＣｈｅｍＩｍｐｅｘ社製。
【０７１２】
［参考例１］（１Ｒ,４Ｓ）−４−アミノシクロペンタン―２―エンカルボン酸塩酸塩の合成
（１Ｒ,４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノシクロペンタン―２―エンカルボン酸（５０ｍｇ、Ｆｌｕｋａ社製）に４規定塩酸ジオキサン溶液２ｍＬを加え室温で２時間攪拌し、溶媒を減圧下、留去することで標題化合物を得た。
［実施例１］（１Ｒ,４Ｓ）−４−（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンジルアミノ）シクロペンタン−２−エンカルボン酸
参考例１で得られた（１Ｒ,４Ｓ）−４−アミノシクロペンタン―２―エンカルボン酸塩酸塩（５０ｍｇ）、４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンズアルデヒド（７２ｍｇ、合成品１）のジクロロメタン溶液（４ｍＬ）に、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（８３．９ｍｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を加え室温で６時間攪拌した。攪拌終了後、反応混合物を減圧下濃縮した。
【０７１３】
次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍカートリッジを用いたクロマトグラフィー（溶出液として、１０：１：０．１（ｖ／ｖ）のジクロロメタン／メタノール／２５％アンモニア水溶液を用いた。）を行い、３０．５ｍｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：４７４（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ４．０９ｍｉｎ．
前記「合成品１」の化合物は、文献Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ.４７、ｐ．６２２２（２００４）に記載の方法に基づいて合成した。以下、同様である。
【０７１４】
［実施例２〜２９］
実施例１の手順に従い、（１Ｒ,４Ｓ）−４−アミノシクロペンタン―２―エンカルボン酸塩酸塩の代わりに（Ｔａｂｌｅ７１）に示す原料化合物のいずれかを用いる以外は同様に行い、（Ｔａｂｌｅ７１）に記載した実施例２〜実施例２９の化合物を得た。
【０７１５】
【表７１】
2009269819.tif 000202
2009269819.tif 000203
2009269819.tif 000204
2009269819.tif 000205
【０７１６】
［参考例２］（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）フェニル）メタノールの合成
４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンズアルデヒド（１９８.６ｍｇ、合成品１）のメタノール溶液（５ｍＬ）に水素化ホウ素ナトリウム（２０.７ｍｇ）を加え０℃で２０分間攪拌した。攪拌終了後、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後固体を取り除き減圧下濃縮することで標題化合物２２４.３ｍｇを無色油状物質として得た。得られた残渣はそのまま次の反応に用いた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：７．８９−７．６９（９Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｓ）５．１９（１Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｓ），３．０１（２Ｈ，ｓ）。
【０７１７】
［参考例３］２−（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンジル）イソインドリン−１，３−ジオンの合成
参考例２で得られた（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）フェニル）メタノール（６０８.５ｍｇ）の脱水テトラヒドロフラン溶液（２０ｍＬ）に氷冷下、フタルイミド（７３７．１ｍｇ、関東化学社製）、トリノルマルブチルホスフィン（６２５．６μＬ、関東化学社製）、１，１’―アゾビス（N、NＮ，Ｎ’―ジメチルホルムアミド）（４３２．２ｍｇ、みどり化学社製）を加え、窒素雰囲気下、室温で２時間攪拌した。攪拌終了後、固体を濾過で取り除き、濾液を減圧下濃縮した。残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ４０Ｓカートリッジを用いたクロマトグラフィー（溶出液として、３：１（ｖ／ｖ）のヘキサン／酢酸エチルを用いた。）により１．０２ｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：４９４（Ｍ＋Ｈ）。
【０７１８】
［参考例４］（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）フェニル）メタンアミンの合成
参考例３で得られた２−（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンジル）イソインドリン−１，３−ジオン（１．０２ｇ）をエタノール（２０ｍL）に溶かし、これにヒドラジン１水和物（１６０μＬ、東京化成社製）を加え、室温で７２時間攪拌した。攪拌終了後、固体を濾過で取り除き、濾液を減圧下濃縮した。残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ４０Ｓカートリッジを用いたクロマトグラフィー（溶出液として、９：１（ｖ／ｖ）のクロロホルム／メタノールを用いた）により６２９．２ｍｇの標題化合物を無色油状物質として得た。ＥＳＩ−ＭＳ：３６４（Ｍ＋Ｈ）、Ｒｔｉｍｅ３．７２ｍｉｎ。
【０７１９】
［実施例３０］（Ｅ）−４−（４−（（フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンジルアミノ）−２−ブテン酸メチルエステルの合成
参考例４で得られた（４−（（４−フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）フェニル）メタンアミン（５１．３ｍｇ）とフマルアルデヒドメチルエステル（１５．９ｍｇ、東京化成社製）のジクロロメタン溶液（３ｍＬ）に酢酸（１０μＬ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（５９．３ｍｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を加え室温で７２時間攪拌した。攪拌終了後、反応混合物を減圧下濃縮した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍカートリッジを用いたクロマトグラフィー（溶出液として、９：１（ｖ／ｖ）のクロロホルム／メタノールを用いた）を行い２５．９ｍｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：４６２（Ｍ＋Ｈ）。
【０７２０】
［実施例３１］（Ｅ）−４−（４−（（フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンジルアミノ）−２−ブテン酸の合成
実施例３０で得られた（Ｅ）−４−（４−（（フェニル−５−（トリフルオロメチル）チオフェン−２−イル）メトキシ）ベンジルアミノ）−２−ブテン酸メチル（８７．６ｍｇ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）に水酸化リチウム水溶液（１０ｗｔ％、１ｍＬ）を加え４５℃で７２時間攪拌した。攪拌終了後、反応混合物を減圧下濃縮した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍのカートリッジでのクロマトグラフィー（溶出液として、４０：１０：１（ｖ／ｖ／ｖ）のジクロロメタン／メタノール／２５%アンモニア水溶液を用いた）を行い５７．６ｍｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：４４８（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ３．８３ｍｉｎ。
【０７２１】
［実施例３２〜３４］
下記の（Ｔａｂｌｅ７２）に記載した実施例は実施例３０の手順に従い、フマルアルデヒドメチルエステルの代わりに（Ｔａｂｌｅ７２）に示す原料化合物のいずれかを用いる以外は同様に行い、それぞれ対応する実施例化合物を得た。
【０７２２】
【表７２】
2009269819.tif 000206
【０７２３】
［参考例５］（１Ｈ−インダゾール−６−イル）メタノールの合成
文献Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ.４３、ｐ．４１（２０００）に記載の方法に基づいて合成したメチル  インダゾール−６−カルボキシレート（２０．０ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（１．１４Ｌ）に０℃にてリチウムアルミニウムヒドリド（８．６２ｇ、和光純薬社製）を加え、室温で２．５時間攪拌した。攪拌終了後、０℃にて２規定水酸化ナトリウム水溶液（１１４ｍＬ、和光純薬社製）を加え、セライトろ過し、ろ液を乾燥後、減圧下溶媒を留去した。次いで、残渣にクロロホルムを加え、ろ過し、乾燥を行い１２．８ｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：１４９（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ３.０１ｍｉｎ。
【０７２４】
［参考例６］１Ｈ−インダゾール−６−カルボアルデヒドの合成
参考例５で得られた（１Ｈ−インダゾール−６−イル）メタノール（８．６１ｇ）の酢酸エチル溶液（８６１ｍＬ）にＩＢＸ（１７．１ｇ、合成品２）を加え、９０℃で１７時間攪拌した。攪拌終了後、ろ過し、ろ液を減圧下溶媒を留去した。次いで、シリカゲル６０Ｎを用いたカラムクロマトグラフィーを行い、（溶出液として、１００：０から９６：４（ｖ／ｖ）のクロロホルム／メタノールを用いた）を行い７．６９ｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：１４７（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ３.３４ｍｉｎ．
「合成品２」と記載したものについては、文献Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ.６４、ｐ．４５３７（１９９９）に記載の方法に基づいて合成した。
【０７２５】
［参考例７］１−（４−フェニルベンジル）−１Ｈ−インダゾール−６−カルボアルデヒドの合成
参考例６で得られた１Ｈ−インダゾール−６−カルボアルデヒド（４８．４ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（３．３ｍＬ）に炭酸カリウム（９１．２ｍｇ）、４−ブロモメチルビフェニル（１０６ｍｇ、東京化成社製）を加え５０℃で２２時間攪拌した。攪拌終了後、反応混合液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を注ぎ、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）にて抽出した。有機層を食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍのカートリッジでのクロマトグラフィー（溶出液として、３：１（ｖ／ｖ）のヘキサン／酢酸エチルを用いた）を行い４９．２ｍｇの標題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：５．７１（２Ｈ，ｓ），７．２８−７．４５（５Ｈ，ｍ），７．４９−７．５６（４Ｈ，ｍ），７．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．９３（１Ｈ，ｓ），８．１５（１Ｈ，ｓ），１０．１３（１Ｈ，ｓ）。
【０７２６】
［実施例３５］（１Ｒ、３Ｓ）−３−Ｎ−（｛１−（４−フェニルベンジル）−１Ｈ−インダゾール−６−イル｝メチル）アミノシクロペンタンカルボン酸の合成
参考例７で得られた１−（４−フェニルベンジル）−１Ｈ−インダゾール−６−カルボアルデヒド（４９．２ｍｇ）の１，２−ジクロロエタン溶液（１．６ｍＬ）に酢酸（３７.９μＬ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（６７．０ｍｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を加え室温で１４時間攪拌した。攪拌終了後、反応混合液に食塩水（３ｍＬ）を加え、ジクロロメタン（１０ｍＬ×２）にて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍのカートリッジでのクロマトグラフィー（溶出液として、１００：１０：１（ｖ／ｖ／ｖ）のジクロロメタン／メタノール／２５%アンモニア水溶液を用いた）を行い３５．３ｍｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：４２６（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ３．６２ｍｉｎ。
【０７２７】
［実施例３６］
下記の（Ｔａｂｌｅ７３）に記載した実施例は実施例３５の手順に従い、１−（４−フェニルベンジル）−１Ｈ−インダゾール−６−カルボアルデヒドの代わりに、２Ｈ−インダゾール−６−カルボアルデヒドを用いる以外は同様に行い、実施例３６の化合物を得た。
【０７２８】
【表７３】
2009269819.tif 000207
【０７２９】
［参考例８］（１Ｈ−インダゾール−５−イル）メタノールの合成
文献Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ.４３、ｐ．４１（２０００）に記載の方法に基づいて合成したメチル  インダゾール−５−カルボキシレートメチルエステル（６．９１ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（１．００Ｌ）に０℃にてリチウムアルミニウムヒドリド（２．９８ｇ、和光純薬社製）を加え、室温で２．５時間攪拌した。攪拌終了後、０℃にて２規定水酸化ナトリウム水溶液（３９．２２ｍＬ、和光純薬社製）を加え、セライトろ過し、ろ液を乾燥後、減圧下溶媒を留去した。次いで、残渣にクロロホルムを加え、ろ過し、乾燥を行い４．１２ｇの標題化合物を得た。
【０７３０】
［参考例９］１Ｈ−インダゾール−５−カルボアルデヒドの合成
参考例８で得られた（１Ｈ−インダゾール−５−イル）メタノール（６．００ｇ）の酢酸エチル溶液（６００ｍＬ）にＩＢＸ（１１．９ｇ、合成品２）を加え、９０℃で１７時間攪拌した。攪拌終了後、ろ過し、ろ液を減圧下溶媒を留去した。次いで、シリカゲル６０Ｎを用いたカラムクロマトグラフィーを行い、（溶出液として、１００：０から９４：６（ｖ／ｖ）のクロロホルム／メタノールを用いた）を行い５．７４ｇの標題化合物を得た。
【０７３１】
「合成品２」と記載したものについては、文献Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ.６４、ｐ．４５３７（１９９９）に記載の方法に基づいて合成した。
【０７３２】
［参考例１０］１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−カルボアルデヒドの合成
参考例９で得られた１Ｈ−インダゾール−５−カルボアルデヒド（２００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（３．０ｍＬ）に炭酸カリウム（３７９．０ｍｇ）、ベンジルブロミド（３２５μＬ、和光純薬社製）を加え室温で５時間攪拌した。攪拌終了後、反応混合液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を注ぎ、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）にて抽出した。有機層を食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍのカートリッジでのクロマトグラフィー（溶出液として、３：１（ｖ／ｖ）のヘキサン／酢酸エチルを用いた）を行い２０４．９ｍｇの標題化合物を得た。ＥＳＩ−ＭＳ：２３７（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ４．４８ｍｉｎ。
【０７３３】
［参考例１１］（１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−イル）メタノールの合成
参考例１０で得られた１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−カルボアルデヒド（２０４．９ｍｇ）のメタノール溶液（２ｍＬ）にポリスチレン担持−水素化ホウ素（２００ｍｇ、ＮｏｖａｂｉｏＣｈｅｍ社製）を加え室温で２時間攪拌した。攪拌終了後、反応液をろ過した。減圧下溶媒を留去し、表題化合物１９１．１ｍｇを得た。ＥＳＩ−ＭＳ：２３９（Ｍ＋Ｈ）、ＲＴｉｍｅ４．００ｍｉｎ。
【０７３４】
[参考例１２]３−（４−アセトキシベンジルアミノ）プロパン酸ｔ−ブチルエステルの合成
４−アセトキシベンズアルデヒド（６６７μＬ、東京化成社製）、β−アラニンｔ−ブチルエステル塩酸塩（９０５．４ｍｇ、ＳＩＧＭＡ社製）のジクロロメタン溶液（３０ｍＬ）に、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（１．２１ｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を加え、室温で１２時間攪拌した。攪拌終了後、反応溶液を飽和食塩水に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出し、乾燥後、減圧下溶媒を留去した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：７．３４−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９．５），４．１６（２Ｈ，ｓ），３．５５−３．８３（２Ｈ，ｍ），２．５１−２．２４（２Ｈ，ｍ），２．１０（３Ｈ，ｓ），１．４３（９Ｈ，ｓ）。
【０７３５】
[参考例１３]３−（４−アセトキシベンジル―ｔ―ブトキシカルボニルアミノ）プロパン酸ｔ−ブチルエステルの合成
参考例１２で得られた３−（４−アセトキシベンジルアミノ）プロパン酸ｔ−ブチルエステルのジクロロメタン溶液（５０ｍＬ）にトリエチルアミン（７５９μＬ、和光純薬社製）、炭酸ジ−ｔ−ブチル（１．１４ｇ、東京化成社製）を加え、室温で２時間攪拌した。攪拌終了後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ４０Ｓのカートリッジでのクロマトグラフィー（溶出液として、７：１（ｖ／ｖ）のヘキサン／酢酸エチルを用いた）を行い１．２３ｇの標題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：７．３５−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９．５），４．１６（２Ｈ，ｓ），３．５５−３．８３（２Ｈ，ｍ），２．５１−２．２４（２Ｈ，ｍ），２．１０（３Ｈ，ｓ），１．４３（１８Ｈ，ｓ）。
【０７３６】
[参考例１４]３−（４−ヒドロキシベンジル―ｔ―ブトキシカルボニルアミノ）プロパン酸−ｔ−ブチルエステルの合成
参考例１３で得られた３−（４−アセトキシベンジル―ｔ―ブトキシカルボニルアミノ）プロパン酸−ｔ−ブチルエステル（１．２２ｇ）のメタノール溶液（３０ｍＬ）に炭酸カリウム（４７１ｍｇ、国産化学社製）を加え室温で３０分攪拌した。攪拌終了後、反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮することで表題化合物１．０８ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：７．２６（２Ｈ，ｍ），６．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７），５．０７（１Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｓ），３．３４（２Ｈ，ｍ），２．４２（２Ｈ，ｍ），１．４３（１８Ｈ，ｓ）。
【０７３７】
[参考例１５] ３−（４−（１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−イル）メトキシ）ベンジル−ｔ−ブトキシカルボニルアミノプロパン酸−ｔ−ブチルエステルの合成
参考例１４で得られた３−（４−ヒドロキシベンジル―ｔ―ブトキシカルボニルアミノ）プロパン酸ｔ−ブチルエステル（３５．０ｍｇ）と参考例１１で得られた（１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−イル）メタノール（４７．７ｍｇ）のテトラヒドロフラン溶液（２ｍＬ）にトリノルマルブチルホスフィン（５０．０μＬ、関東化学社製）、１，１’―アゾビス（Ｎ，Ｎ’―ジメチルホルムアミド）（３４．４ｍｇ、みどり化学社製）を加え、窒素雰囲気下、室温で１２時間攪拌した。攪拌終了後、固体を濾過で取り除き、濾液を減圧下濃縮した。次いで、Ｂｉｏｔａｇｅ１２Ｍのカートリッジでのクロマトグラフィー（溶出液として、５：１（ｖ／ｖ）のヘキサン／酢酸エチルを用いた）を行い５０．４ｍｇの標題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：８．０４（１Ｈ，ｓ），７．９２（１Ｈ，ｓ），７．７９−７．１８（１０Ｈ，ｍ），５．６０（２Ｈ，ｓ），５．１２（２Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｓ），３．４９−３．４４（２Ｈ，ｍ），２．４４（２Ｈ，ｍ），１．５５（１８Ｈ，ｓ）。
【０７３８】
[実施例３７] ３−（４−（１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−イル）メトキシ）ベンジルアミノプロパン酸の合成
参考例１５で得られた３−（４−（１−ベンジル−１Ｈ−インダゾール−５−イル）メトキシ）ベンジル−ｔ−ブトキシカルボニルアミノプロパン酸−ｔ−ブチルエステル（５０．４ｍｇ）に４規定塩酸ジオキサン溶液（２ｍＬ）を加え室温で２４時間攪拌した。攪拌終了後、溶媒を減圧下留去し表題化合物５０．０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：９．１８（１Ｈ，ｓ），８．１２（１Ｈ，ｓ），７．８５（１Ｈ，ｓ），７．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７），７．４５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７），７．３３−７．２２（５Ｈ，ｍ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７），５．６４（２Ｈ，ｓ），５．１８（２Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｓ），３．０４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７），２．７１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７）。
【０７３９】
［試験例１］
Ｓ１Ｐ１ 受容体を安定発現するＣＨＯ細胞の膜調製物を用いた３５Ｓ −ＧＴＰγＳ 結合アッセイ
リガンドを介するＧタンパク質へのＧＴＰγＳ結合試験は、安定的にＳ１Ｐ１受容体を過剰発現させたＣＨＯ細胞からの膜調製物を用いて行った。９６ ウエルマイクロタイターディッシュ中で、調製した膜タンパク質と様々な濃度のスフィンゴシン−１ −リン酸またはＤＭＳＯなどの溶媒に希釈された化合物を、２０ｍＭのＴｒｉｓ−Ｃｌ（ｐＨ７ ．５）、１００ｍＭのＮａＣｌ 、１０ｍＭ のＭｇＣｌ２、５μＭのＧＤＰ 、０．１ ％のＢＳＡ、および１２５ｐＭ の３５Ｓ−ＧＴＰ γＳ (比活性、１２５０Ｃｉ／ｍｍｏｌ)を含む溶液中でインキュベーションした。室温で１時間以上結合を行わせ、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅマルチスクリーンセパレーションシステムを用いて膜をＧＦ ／Ｂ フィルタープレート上に集めることによって停止させた。フィルタープレートを３０分間以上乾燥させた後、２５μｌ のＭｉｃｒｏＳｃｉｎｔ-２０を各ウエルに加えて、結合をトップカウントで測定した。
化合物のアゴニスト活性は溶媒を添加したウェルの値をコントロール値として評価化合物添加ウェルでの上昇分と比較して、化合物の各濃度での上昇率を求めた。ＥＣ50値はそれ自身の最大上昇率の50％をもたらす為に必要なアゴニスト濃度であると定義し、算出した。
Ｔａｂｌｅ７４に結果を示した。
【０７４０】
尚、試験例２に示したＳ１Ｐ３受容体に対するＥＣ50値との比（Ｓ１Ｐ１／Ｓ１Ｐ３）を算出することもできる。
【０７４１】
【表７４】
2009269819.tif 000208
【０７４２】
［試験例２］
Ｓ１Ｐ３ 受容体を一時的に発現させたＣＨＯ細胞の膜調製物を用いた３５Ｓ −ＧＴＰγＳ 結合アッセイ
Ｓ１Ｐ３受容体を介するＧＴＰγＳ結合試験は、Ｓ１Ｐ１受容体を介するＧＴＰγＳ結合試験と同様の方法で行った。この試験ではＳ１Ｐ３遺伝子を一時的にトランスフェクションしたＣＨＯ細胞から膜タンパク質を調製して使用した。
【０７４３】
化合物のアゴニスト活性は溶媒を添加したウェルの値をコントロール値として評価化合物添加ウェルでの上昇分と比較して、化合物の各濃度での上昇率を求めた。ＥＣ50値はそれ自身の最大上昇率の50％をもたらす為に必要なアゴニスト濃度であると定義し、算出した。Ｔａｂｌｅ７５に結果を示した。
【０７４４】
【表７５】
2009269819.tif 000209
【０７４５】
［試験例３］
末梢血リンパ球減少の評価
化合物またはビヒクルをラットに経口投与する。薬物投与後３、６、２４、４８および７２時間後に尾の血液を採取する。全血サンプルに対して血液学的分析を行う。自動分析装置（Ｓｙｓｍｅｘ  ２０００Ｘｉ）を用いて末梢リンパ球総数を求める。化合物投与によるリンパ球数の減少はビヒクル投与群ラットと比較することで行う。
【０７４６】
［産業上の利用可能性］
本発明の化合物、その可能な立体異性体若しくはラセミ体、或いはそれらの薬理学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、又はこれらのプロドラッグは、Ｓ１Ｐ１／Ｅｄｇ１受容体アゴニスト作用を有するので、免疫抑制活性を示す医薬の有効成分として有用であり、当該医薬産業分野において利用することができる。