(57)【要約】【課題】周期的な配向処理ムラの発生をなくすことができるとともに、ラビング処理の処理時間を短縮することができる。【解決手段】本発明に係るラビング装置は、液晶表示用の基板１の表面に設けた配向膜をラビング布３でラビングするラビング装置である。ラビング布３は、ラビング処理方向に基板１の表面との距離が小から大に変化する平面に保持される。ラビング布３を保持する平面は、基板１の表面との距離が異なる第１の面９と、第２の面１０とを含む。【選択図】図４
2009069737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示用の基板の表面に設けた配向膜をラビング布でラビングするラビング装置であって、
前記ラビング布は、ラビング処理方向に前記基板の表面との距離が小から大に変化する平面に保持される、
ラビング装置。
【請求項２】
前記ラビング布を保持する前記平面は、
前記基板の表面との距離が異なる多段の平面を含む、
請求項１に記載のラビング装置。
【請求項３】
液晶表示用の基板の表面に設けた配向膜をラビング布でラビングするラビング装置であって、
前記ラビング布は、ラビング処理方向にパイルの長さの異なる領域を有し、該領域は平面に保持される、
ラビング装置。
【請求項４】
前記領域は、ラビング処理方向の前方よりも後方の方がパイルの長さが短い、
請求項３に記載のラビング装置。
【請求項５】
前記ラビング布の押し込み量は、ラビング処理方向の前方よりも後方の方が小さい、
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のラビング装置。
【請求項６】
液晶表示用の基板の表面に設けた配向膜をラビング布でラビングするラビング装置であって、
ラビング処理方向の前方にラビングローラと、後方に平面に保持された前記ラビング布とを備え、前記ラビングローラの配向膜に対する押し込み量よりも前記平面に保持された前記ラビング布の押し込み量が小さい、
ラビング装置。
【請求項７】
液晶表示用の基板の表面に設けた配向膜をラビング布でラビングするラビング方法であって、
前記ラビング布の押し込み量が大のラビング処理の後に、平面部を有する前記ラビング布によって押し込み量が小のラビング処理がなされる、
ラビング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルなどの基板に配設された配向膜の表面をラビング処理するラビング装置、および、ラビング方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、例えば、能動素子を形成したアレイ基板と、カラーフィルタなどを形成した対向基板のそれぞれの最上層に配向膜を設けた後、両基板間に液晶を挟持させて作製する。液晶表示パネルの製造時には、周知のように、円筒形のローラの表面に両面テープで貼り付けられたラビング布を用いて、上述の基板それぞれの最上層に配設された配向膜の表面を擦ることにより、液晶を一様の方向に揃える配向処理が行われている。この配向処理は、ラビング処理と呼ばれている。
【０００３】
ラビング処理は、液晶表示パネルの表示品位を左右する重要な工程であり、均一な強さで処理することが求められる。そのため、使用するラビング布の性能を維持する必要があり、その性能を維持するための適切な使用方法による運用が必要がある。
【０００４】
ラビング布原反から所定のサイズに裁断したラビング布を、円筒形のローラの表面に両面テープで貼り付けることにより、ラビングローラは形成される。このように形成されるラビングローラの表面には、ラビング布の端部において継ぎ目を有する。
【０００５】
この継ぎ目において、布原反からの切り出し時には、形状バラツキや変形が生じ、ローラへの貼り付け作業時には、ラビング布端部の浮き上がり変形とそのバラツキが生じていた。また、ラビング布の端部である裁断部は、元来、パイルが抜けやすくなっている。そのため、基板の段差部分をラビング処理して、裁断部に衝撃が加わると、裁断部においてパイルの抜け落ちが生じていた。
【０００６】
ラビング布の継ぎ目では、上述のバラツキおよびパイルの抜け落ちにより、一様に植毛されていたパイルの配列は乱れる。その乱れを反映して、配向膜表面では、周期的な配向処理ムラが発生する。そのため、従来のラビング装置によれば、均一なラビング処理ができなかった。この配向処理ムラは、液晶表示パネルの表示ムラに直結するため、液晶表示パネルには直線状の表示ムラが発生するという問題があった。このような問題を解決するため、様々な発明がなされている。
【０００７】
特許文献１に記載のラビング装置では、この継ぎ目が基板に接触しないようにするため、ローラの一部を面取りし、その面取りした部分に継ぎ目を配設している。特許文献２に記載のラビング装置では、ラビング貼り付け時に継ぎ目ができないように、ラビング布を貼り付けた後にパイルの長さを揃えている。特許文献３、および、特許文献４に記載のラビング装置では、継ぎ目のない部分においてラビング処理を行うように構成されている。特許文献５、および、特許文献６に記載のラビング装置では、ラビング布の継ぎ目の影響を小さくするために、ラビング布の裁断形状を螺旋状にする、あるいは、ランダムなノコギリ刃状にするなど、非直線形状としている。特許文献７に記載のラビング装置では、回転周期の異なるラビングローラで、２回ラビング処理するようにしている。
【０００８】
【特許文献１】特許第２７３１２８６号公報
【特許文献２】特開平５−８８１７９号公報
【特許文献３】特開平５−３４６５８３号公報
【特許文献４】特開平８−１６０４３０号公報
【特許文献５】特開２００２−２３１６６号公報
【特許文献６】特開２００３−２５５３５０号公報
【特許文献７】特開平５−２１０１０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載のラビング装置では、ラビング布が基板と接触しない領域が周期的に現れるため、従来と同様に、配向処理ムラが生じるという問題があった。特許文献５、および、特許文献６に記載のラビング装置では、継ぎ目の形状を直線以外の形状等とすることにより、継ぎ目の影響が周期的に発現し難くすることができるが、配向処理ムラは依然として生じるという問題があった。特許文献７に記載のラビング装置においても、ラビングローラで２回ラビング処理することにより、継ぎ目の影響が周期的に発現し難くすることができるが、配向処理ムラは依然として生じるという問題があった。
【００１０】
また、特許文献２に記載のラビング装置では、パイルの長さを揃えるためのランニングコストを含めた製造コストや、ラビング処理の安定性の観点から現実性に乏しい。さらに、ラビング布と基板との接地幅が小さいため、基板移動速度を早くすることができず、ラビング処理の処理時間を短縮できないという問題点があった。特許文献３、および、特許文献４に記載のラビング装置においても同様に、ラビング布と基板との接地幅が小さいため、基板移動速度を早くすることができず、ラビング処理に処理時間を短縮できないという問題点があった。
【００１１】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、周期的な配向処理ムラの発生をなくすとともに、ラビング処理の処理時間を短縮することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係るラビング装置は、液晶表示用の基板の表面に設けた配向膜をラビング布でラビングするラビング装置であって、前記ラビング布は、ラビング処理方向に前記基板の表面との距離が小から大に変化する平面に保持される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のラビング装置によれば、周期的な配向処理ムラの発生をなくすことができるとともに、ラビング処理の処理時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
＜実施の形態１＞
本実施の形態に係るラビング装置およびラビング方法は、液晶表示用の表面に設けた配向膜をラビング布でラビングする。本実施の形態では、ラビング処理が行われる液晶表示用の基板は、液晶表示パネルなどの基板であるものとして説明する。
【００１５】
まず、本実施の形態に係るラビング装置およびラビング方法について説明する前に、図６を用いて従来のラビング装置を説明する。図６に示すように、従来のラビング装置は、基板１を固定するステージ８と、ローラにラビング布３を貼り付けたラビングローラ１１とを備える。図に示すように、ラビングローラ１１には、ラビング布３の端部において継ぎ目１２を有する。
【００１６】
ラビングローラ１１の横幅は、ラビング処理を行う基板１の対角線よりも広くなるように形成されている。これにより、基板１に対するラビング角度がいずれの角度であっても、ラビングローラ１１両端におけるラビング布３の裁断部は、基板１の表面と接触しなくなる。そのため、配向処理ムラの発生を防ぐことができる。なお、ラビング角度とは、基板１の基準方向と、基板１においてラビング処理が行われる方向とがなす角度である。
【００１７】
従来のラビング装置では、配向膜を形成した基板１をステージ８に固定し、ラビングローラ１１を基板１の表面に接触させ回転させながら、ステージ８を図の矢印の方向に移動させていた。その結果、継ぎ目１２が原因で、基板１に周期的な配向処理ムラが生じていた。
【００１８】
次に、ラビングローラ１１によるラビング強度について説明する。このラビング強度Ｌは、式（１）のように表される。
【００１９】
【数１】
2009069737.tif 000003
【００２０】
ここで、ａは接地幅、ｖは基板移動速度である。配向膜の任意の箇所に作用するラビング強度は、当該任意の箇所がラビング処理を受けている時間の経過に伴って累積的に大きくなり、ラビング強度が大きくなればなるほど、液晶の配向規制力は大きくなる。そのため、このラビング強度は、ある一定以上の大きさにする必要がある。
【００２１】
このラビング強度は、式（１）に示すように、基板１に対するラビングローラ１１の接地幅ａ（以下、ローラ接地幅ａ）が大きくなるほど、ラビング強度Ｌは大きくなる。ここで、ラビング強度Ｌをある値に定めた場合、ローラ接地幅ａが大きい場合には、基板移動速度ｖを大きくすることができる。つまり、ラビング処理の速度を向上させることができる。このローラ接地幅ａは、ラビングローラ１１の場合、式（２）のように表される。
【００２２】
【数２】
2009069737.tif 000004
【００２３】
この式において、Ｍは、ラビング布３のパイルが基板１の表面に対して押し込まれる長さ、つまり、押し込み量である。ローラ接地幅ａを大きくするためには、式（２）に示すように、押し込み量Ｍを大きくすればよい。しかしながら、画素内の微細なキズは、押し込み量Ｍに依存し、押し込み量Ｍを大きくすると、画素面内のキズの密度が増す。その結果、黒輝度が上昇してコントラストが低下する。このため、従来のラビング装置では、ラビング布３と基板１との接地幅を小さくせざるを得ず、その結果、基板移動速度を早くすることができず、ラビング処理の処理時間を短縮することができなかった。
【００２４】
次に、このような問題を解決する本実施の形態に係るラビング装置およびラビング方法について説明する。図１は、本実施の形態に係るラビング装置の構成を示す図である。図１に示すように、本実施の形態に係るラビング装置は、基板１に配設された配向膜表面をラビング処理する。本実施の形態に係るラビング装置は、支持板２と、ラビング布３と、ステージ８とを備える。
【００２５】
支持板２は、凹凸がない主面を有する。この支持板２の材質は、ラビング処理時に変形しない素材、例えば、金属、プラスチックを用いる。本実施の形態では、支持板２の一端である侵入端、および、他端である脱出端には、支持板２の主面に対して反対側に湾曲した湾曲部が設けられている。なお、図１では、右側が侵入端、左側が脱出端である。
【００２６】
支持板２の主面に貼り付けられた平面部分を有するラビング布３を準備する。こうして、ラビング布３は、支持板２の主面に貼り付けられ、平面部を有する。本実施の形態では、図１に示すように、ラビング布３の端部は、支持板２の湾曲部に配設されている。これにより、ラビング布３の裁断部は、支持板２の湾曲部に配設される。また、ラビング布３は、ラビング処理方向にパイルの長さの異なる領域を有し、該領域は平面に保持される。本実施の形態では、この平面は、支持板２の平面である。
【００２７】
ラビング布３の第１のパイル４は、支持板２の進入端側において設けられる。ラビング布３の第２のパイル５は、支持板２の脱出端側において設けられ、第１のパイル４よりも長さが短い。これら第１，第２のパイル４，５の材質には、配向膜に応じて、レーヨン材、コットン材、トリアセテート材などのセルロース骨格高分子、あるいは、ポリエステル材、ナイロン材、ビニロン材などの直鎖状合成高分子を用いる。なお、これらのパイルであれば、配向膜の材料とパイルの材料に固有の摩擦係数に依存して、結晶の配向規制力に影響を及ぼすことは、非特許文献１に記述されて周知である（非特許文献１：「液晶」、第１０巻、第１号、２００６）。
【００２８】
本実施の形態に係るラビング装置では、基板１をラビング布３の平面部分に面接触させながら、支持板２の侵入端から脱出端まで相対的に通過させる。図２は、本実施の形態に係るラビング装置の動作を示す図である。この図２では、図１と同様に、支持板２の侵入端を右側、脱出端を左側にして示されている。本実施の形態に係るラビング装置では、図２に示すように、配向膜を配設した基板１をステージ８に固定する。ステージ８を矢印の方向へ移動させることにより、基板１をラビング布３の平面部分に面接触させながら、基板１を支持板２の侵入端から脱出端まで通過させる。すなわち、ステージ８が基板１をラビング布３の平面部分に面接触させながら、支持板２の一端から他端まで相対的に通過させる移動機構となっている。逆にステージ８を固定して支持板２を移動させるような移動機構を用いてもよい。
【００２９】
ここで、侵入端側の第１のパイル４は、脱出端側の第２のパイル５よりも長さが長くなっている。つまり、領域は、ラビング処理方向の前方よりも後方の方がパイルの長さが短くなっている。パイルが長い場合には、ラビング布３の基板１への押し込み量が大きくなる。本実施の形態では、基板１は、図１の矢印の方向に通過するため、基板１表面の任意の箇所は、押し込み量が大きい「大押し込み量部６」を通過後、押し込み量が小さい「小押し込み量部７」を通過する。このように、本実施の形態に係るラビング装置では、基板１の通過に伴い、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量が、大から小へ変化することになる。つまり、本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法では、ラビング布３の押し込み量は、ラビング処理方向の前方よりも後方の方が小さい。
【００３０】
以上の構成からなる本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法の効果を確認するため、以上の本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法でラビング処理した基板１の配向処理ムラの有無を確認した。
【００３１】
ここで、液晶表示パネルの工程を説明すると、まず、薄膜プロセスにより、周知のＴＦＴ（Thin Film Transistor）、画素電極、配線が形成されたアレイ基板上に、配向膜を配設する。それとは別に、薄膜プロセスにより、色材、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明共通電極が形成されたカラーフィルタ基板上に、配向膜を配設する。これら基板に配設された配向膜それぞれをラビング処理した後、それらの基板を貼り合せて液晶表示パネルを作成し、その液晶表示パネルの配向処理ムラの有無を確認する。
【００３２】
本来であれば、基板１の配向処理ムラの有無には、製造品と同じ上述の液晶表示パネルを用いて確認すればよい。しかしながら、上述の製造品と同じ液晶表示パネルを作成すると、多くの労力と時間が必要になる。そのため、本実施の形態では、液晶表示パネルの代わりにテストパネルを作成し、テストパネルの配向処理ムラの有無を確認した。次に、テストパネルを作成した手順を具体的に説明する。
【００３３】
＜テストパネルの作成＞
まず、ＩＴＯが形成されたガラス基板上に配向膜を形成し、テスト基板を作成した。そして、本実施の形態に係るラビング装置により、テスト基板を基板１としてラビング処理を行った。ここで、ラビング角度を０度、つまり、テスト基板の基準方向と、基板１においてラビング処理が行われる方向とを平行にしてラビング処理を行った。また、第１，第２のパイル４，５として、レーヨン材のパイルを用いた。
【００３４】
ラビング処理を行ったテスト基板を水洗した後、液晶を挟持する間隔を規定するために、一方のテスト基板には、約５μｍ径のスペーサを均一な密度で散布した。本実施の形態では、スペーサに、微粒子形のプラスチックを用い、２００個／ｍｍ2の密度で散布した。なお、スペーサは、この形状、材料、サイズに限ったものではなく、ポストスペーサと呼ばれる、アクリル樹脂からなる柱状のものを用いてもよい。
【００３５】
他方のテスト基板には、両テスト基板を固定するために、直径約５．３μｍのガラスファイバを混ぜ込んだシール材をディスペンサーにより塗布形成した。シール材には、エポキシ系熱硬化型のシール材を用いた。本実施の形態では、シール材に、エポキシ系熱硬化型のものを用いたが、両テスト基板を固定できればよく、特にシール材の材料や形成方法などを限定するものではない。シール材に混合させるガラスファイバについても、特に材料、形状、サイズなどを限定するものではない。
【００３６】
そして、各テスト基板のラビング方向が、互いに平行となるように、上述の両テスト基板を貼り合せた。この貼り合わせ後には、シール材を硬化させるため、テスト基板に均一な圧力を掛けながら、１５０℃で３０分間焼成を行った。
【００３７】
テスト基板を焼成した後、テスト基板をパネルサイズに切断し、液晶を真空法などにより注入した。テスト基板の一方には、ラビング方向と平行方向に偏光板を貼り付けた。テスト基板の他方には、ラビング方向と直行方向に偏光板を貼り付けて、テストパネルを完成させた。なお、注入法、および、液晶の種類については、所望の機能を満足する特性であればよく、特に限定するものではない。また、使用する偏光板についても偏光機能を備えていればよく、特に限定するものではない。
【００３８】
上述のようにして形成されるテストパネルでは、ラビング強度が、従来ラビング強度と同程度になるようにラビング処理を行った。つまり、本実施の形態に係るラビング装置によってラビング処理されたテストパネルの配向規制力が、従来の配向規制力と同じ程度になるようにラビング処理を行った。この配向規制力に関しては、周知のトルクバランス法を用いることにより評価可能である。
【００３９】
トルクバランス法について説明すると、ラビング方向を平行にした２枚の基板に、自発的な捩れ力を付与するカイラル剤を添加したネマチック液晶を挟み込み、上述のテストパネルを作成する。このとき、カイラル剤による自発的な捩れは、その種類を同一にすれば一定となるため、ラビング処理による配向規制力の強弱を確認することができる。すなわち、ラビング処理による配向規制力が弱いとカイラル剤による自発的な捩れ力が支配的となり、ラビング方向から外れて液晶が配向する。一方で、ラビングによる配向規制力が十分であれば、ラビング方向に沿って液晶が配向する。このようなトルクバランス法を用いて、配向規制力の強弱を確認することにより、従来と同じ程度の配向規制力となるようにした。
【００４０】
＜配向処理ムラの有無の評価＞
以上のようにして作成したテストパネルについての配向処理ムラの有無を評価した。ここでは、バックライトからの光を、ＮＤ（Neutral Density）フィルタ、および、作成したテストパネルに透過させ、透過させた光が視認できた場合に、配向処理ムラが有るとして評価した。
【００４１】
ここで、ＮＤフィルタは、中灰色のフィルタであり、光量を減らす働きがある。このＮＤフィルタには、様々な透過量のフィルタが市販されており、所望の透過量のＮＤフィルタを用いることにより、所望の透過量を選択することができる。
【００４２】
このＮＤフィルタの透過量が小さければ、透過させた光量も視認され難くなる。そのため、配向処理ムラが強い場合には、ＮＤフィルタの透過量が小さくても、配向処理ムラを光によって視認できる。逆に、配向処理ムラが弱い場合には、ＮＤフィルタの透過量を大きくしなければ、配向処理ムラを光によって視認することができない。つまり、ＮＤフィルタの透過量を大きくしなければ、光を視認できないテストパネルは、配向処理ムラが弱く、良好なテストパネルであるといえる。
【００４３】
上述の手順により作成したテストパネルを５枚用意し、配向処理ムラが視認できたテストパネルの数を調べた。その結果を、図３の「実施の形態１」に示す。ここでは、市販されている可視領域での透過量１％、５％、１０％、２０％、３０％、５０％、７０％のＮＤフィルタを用い、光が視認された場合に、配向処理ムラが有るとした。なお、評価に用いるバックライトは、全て同じものを用いた。
【００４４】
図３に示すように、本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法によれば、ＮＤフィルタの透過量が１〜３０％であれば、配向処理ムラは視認されなかった。
【００４５】
＜比較例＞
比較例として、従来のラビング装置を用いてテスト基板をラビング処理した。そして、ラビング処理後のテスト基板を用いて、ラビング角度を０度にするなどして上述と同様に一組のテスト基板を貼り合わせてテストパネルを作成した。ここで、従来のラビング装置には、上述した図６と同じものを用い、ラビングローラ回転数は、本実施の形態に係るラビング装置によるラビング強度と同じになるように合わせた。このようなラビング処理により、５枚のテストパネルを作成し、上述と同じ方法で配向処理ムラを評価した。その結果を、図３の「比較例」に示す。
【００４６】
図３に示すように、従来のラビング装置によれば、本実施の形態に係るラビング装置とは異なり、透過量が１〜３０％であるＮＤフィルタを用いた場合、つまり、大きく減光した場合においても、配向処理ムラが視認された。
【００４７】
以上のように、本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法によれば、従来のものに比べ、配向処理ムラの発生をなくすことができた。これは、ラビング布３の継ぎ目１２を、周期的に基板１の表面に接触させないようにして、周期的な配向処理ムラの発生をなくすことができたためである。さらに、式（２）において、接地幅ａを、従来のラビングローラ１１の接地幅よりも大きくすることができるため、ラビング処理の処理時間を短縮することができる。
【００４８】
また、本実施の形態では、ラビング布３の端部、つまり、裁断部を支持板２の湾曲部に配設したものとしている。このようにすれば、ラビング布３の裁断部が、基板１と接触しないため、衝撃がラビング布３の裁断部に伝わらない。そのため、ラビング布３の裁断部から、パイルが抜けることを防ぐことができる。
【００４９】
また、本実施の形態では、侵入端側の第１のパイル４を、脱出端側の第２のパイル５よりも長さを長くしたため、基板１の通過に伴い、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量が大から小へ変化する。これにより、押し込み量が大きい時に生じた微細のキズを、押し込み量が小さい時に修復することができる。このようにすることにより、微細なキズの発生を抑え、コントラストの高い液晶表示パネルを作成することができる。また、押し込み量を連続して変化させるため、ラビング処理を高速にすることができる。
【００５０】
なお、本実施の形態で説明したラビング装置、および、ラビング方法は、液晶モード、例えば、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In Plane Switching）、ＥＣＢ（Electrically Controled Birefringence）、ＯＣＢ（Optical Compensated Birefringence）を限定するものではない。また、液晶表示パネルでの表示方法、例えば、透過型、反射型、半透過型、を限定するものではない。
【００５１】
また、本実施の形態では、ラビング処理を行う基板１は、液晶表示パネルであるものとして説明した。しかし、これに限ったものではなく、光学フィルムなどのフィルム状の基板であってもよい。この場合も、上述と同様のラビング処理により、上述と同様の効果を得ることができる。また、本実施の形態では、支持板２、および、第１，第２のパイル４，５について具体的な材質を示したが、ここで示したものに限ったものではない。
【００５２】
また、本実施の形態では、支持板２の侵入端側において設けられた第１のパイル４と、支持板２の脱出端側において設けられた第２のパイル５によって、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量を、大から小の二段階で変化させた。しかし、これに限ったものではなく、支持板２の侵入端側から脱出端側にむかうにつれて、パイルの長さを徐々に短くすることにより、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量を、大から小へ徐々に変化させるものであってもよい。
【００５３】
＜実施の形態２＞
本実施の形態に係るラビング装置を図４に示す。以下、本実施の形態に係るラビング装置の構成のうち、実施の形態１と同一の構成については、同一の符号を付すものとし、新たに説明しない構成については、実施の形態１と同じであるものとする。
【００５４】
図４は、図１と同様、右側が支持板２の侵入端、左側が支持板２の脱出端となるように示している。この図４に示すように、ラビング布３は、ラビング処理方向に基板１の表面との距離が小から大に変化する平面に保持される。本実施の形態では、ラビング布３を保持する平面は、基板１の表面との距離が異なる多段の平面から構成される。ここでいう平面は、本実施の形態では、支持板２の主面であり、第１の面９と、第２の面１０との２段の平面である。また、基板１と支持板２とを相対的に移動させるステージ８も実施の形態１と同様に備えている。
【００５５】
第１の面９は、侵入端側において設けられる。第２の面１０は、第１の面９と段差を形成し、脱出端側において設けられる。図４に示すように、基板１が第１の面９の近傍を通過しているときの第１の面９と基板１との距離が、基板１が第２の面１０の近傍を通過しているときの第２の面１０と基板１との距離よりも小さくなっている。なお、本実施の形態では、侵入端側の第１のパイル４の長さと、脱出端側の第２のパイル５の長さは、同じであるものとする。
【００５６】
このように、第１の面９は、第２の面１０よりも基板１との距離が短くなる。この距離が短い場合には、押し込み量が大きくなる。本実施の形態では、基板１は、図１の矢印の方向に通過するため、基板１表面の任意の箇所は、押し込み量が大きい「大押し込み量部６」を通過後、押し込み量が小さい「小押し込み量部７」を通過する。このように、本実施の形態に係るラビング装置では、基板１の通過に伴い、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量が、大から小へ変化することになる。つまり、本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング処理方法では、ラビング布３の押し込み量は、ラビング処理方向の前方よりも後方の方が小さい。
【００５７】
以上のようなラビング処理により、５枚のテストパネルを作成し、実施の形態１と同じ方法で配向処理ムラを評価した。その結果を、図３の「実施の形態２」に示す。図３に示すように、本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法によれば、ＮＤフィルタの透過量が１〜２０％であれば、配向処理ムラは視認されなかった。
【００５８】
以上のような本実施の形態に係るラビング装置では、実施の形態１と同様に、周期的な配向処理ムラの発生をなくすことができるとともに、ラビング処理の処理時間を短縮することができる。
【００５９】
また、本実施の形態に係るラビング装置では、侵入端側の第１の面９と基板１との距離を、脱出端側の第２の面１０と基板１との距離よりも短くしたため、基板１の通過に伴い、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量が大から小へ変化する。これにより、押し込み量が大きい時に生じた微細のキズを、押し込み量が小さい時に修復することができる。このようにすることにより、微細なキズの発生を抑え、コントラストの高い液晶表示パネルを作成することができる。また、押し込み量を連続して変化させるため、ラビング処理を高速にすることができる。
【００６０】
なお、本実施の形態では、侵入端側の第１のパイル４の長さと、脱出端側の第２のパイル５の長さを同じとした。しかし、これに限ったものではなく、第１の面９におけるラビング布３の押し込み量が、第２の面１０におけるラビング布の押し込み量よりも大きくなるのであれば、これらパイルの長さは異なっていてもよい。
【００６１】
また、本実施の形態では、支持板２の侵入端側において設けられた第１の面９と、支持板２の脱出端側において設けられた第２の面１０によって、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量を、大から小の二段階で変化させた。しかし、これに限ったものではなく、支持板２の主面を、支持板２の侵入端側から脱出端側にむかうにつれて、支持板２の主面と基板１との距離が徐々に大きくなる形状にすることにより、基板１の任意の箇所に作用するラビング布３からの押し込み量を、大から小へ徐々に変化させるものであってもよい。支持板２の主面はラビング処理方向に基板１との距離が徐々に大きくなるように基板１の表面に対して傾斜した面であってもよい。
【００６２】
＜実施の形態３＞
本実施の形態に係るラビング装置を図５に示す。以下、本実施の形態に係るラビング装置の構成のうち、実施の形態１と同一の構成については、同一の符号を付すものとし、新たに説明しない構成については、実施の形態１と同じであるものとする。
【００６３】
本実施の形態に係るラビング装置では、ラビングブラシ１３と、ラビングブラシ１３の侵入端側に設けられたラビングローラ１１を備える。このように、本実施の形態に係るラビング装置では、ラビング処理方向の前方にラビングローラ１１と、後方に平面に保持されたラビング布３とを備える。ラビングローラ１１には、第１のパイル４を有するラビング布３が貼り付けられている。ラビングブラシ１３の支持板２には、第２のパイル５を有するラビング布３が貼り付けられている。基板１を支持板２の侵入端から侵入させる前に、支持板２上のラビング布３による基板１への押し込み量よりも大きい押し込み量で、ラビングローラ１１により基板１をラビング処理する。つまり、本実施の形態に係るラビング装置では、ラビングローラ１１の配向膜に対する押し込み量よりも平面に保持されたラビング布３の押し込み量が小さくなっている。
【００６４】
以上のようなラビング処理により、５枚のテストパネルを作成し、実施の形態１と同じ方法で配向処理ムラを評価した。その結果を、図３の「実施の形態３」に示す。図３に示すように、本実施の形態に係るラビング装置、および、ラビング方法によれば、ＮＤフィルタの透過量が１〜２０％であれば、配向処理ムラは視認されなかった。
【００６５】
以上のような本実施の形態に係るラビング装置では、ラビングローラ１１によるローララビングの後に、ラビングブラシ１３による平面ラビングを行うため、配向処理ムラの発生を低減させることができるとともに、ラビング処理の処理時間を短縮することができる。
【００６６】
また、ラビングローラ１１による大きい押し込み量のラビング処理を行った後に、小さい押し込み量の平面ラビングを行うことにより、押し込み量が大きい時に生じた微細のキズを、押し込み量が小さい時に修復することができる。このようにすることにより、微細なキズの発生を抑え、コントラストの高い液晶表示パネルを作成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】実施の形態１に係るラビング装置、および、ラビング処理を説明する図である。
【図２】実施の形態１に係るラビング装置、および、ラビング処理を説明する図である。
【図３】本発明に係るラビング装置、および、ラビング処理による効果を示す図である。
【図４】実施の形態２に係るラビング装置の構成を示す図である。
【図５】実施の形態３に係るラビング装置の構成を示す図である。
【図６】従来のラビング装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１  基板、２  支持板、３  ラビング布、４  第１のパイル、５  第２のパイル、６  大押し込み量部、７  小押し込み量部、８  ステージ、９  第１の面、１０  第２の面、１１  ラビングローラ、１２  継ぎ目、１３  ラビングブラシ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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