(57)【要約】【課題】コストの増加および穿孔加工時間の増加を抑制しつつエネルギービームの照射により凹所が形成されることを防止するとともに、微小な複数の孔を被加工部材に高密度に形成することができるエネルギービーム穿孔加工方法を提供する。【解決手段】遮蔽部材４４を光路に挿脱させる遮蔽機構４３を用い、エネルギービームＬが被加工部材１１上に形成する照射領域４７を部分的に重複させるように、被加工部材１１における照射領域４７を貫通孔パターンにおける整列方向に移動させつつ被加工部材１１をエネルギービームＬで順次照射することにより深さ寸法を順次増加させて複数の貫通孔１５を形成することにともなって、遮蔽機構４３が、照射領域４７において貫通孔１５の形成に寄与しないエネルギービームＬの被加工部材１１への照射を防止するように、被加工部材１１における照射領域４７の移動に応じて遮蔽部材４４を光路に挿入する。【選択図】図２
2009190054.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の整列された貫通孔パターンが設けられたマスクを介してエネルギービームで被加工部材を照射することにより該被加工部材に前記貫通孔パターンと一致する位置関係とされた複数の貫通孔を形成するエネルギービーム穿孔加工方法であって、
前記エネルギービームの透過を阻止可能な遮蔽部材を前記エネルギービームが前記被加工部材に至る光路に挿脱させる遮蔽機構を用い、
前記エネルギービームが前記被加工部材上に形成する照射領域を部分的に重複させるように、前記被加工部材における前記照射領域を前記貫通孔パターンにおける整列方向に移動させつつ前記被加工部材を前記エネルギービームで順次照射することにより深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を形成することにともなって、
前記遮蔽機構が、前記照射領域において前記貫通孔の形成に寄与しない前記エネルギービームの前記被加工部材への照射を防止するように、該被加工部材における前記照射領域の移動に応じて前記遮蔽部材を前記光路に挿入することを特徴とするエネルギービーム穿孔加工方法。
【請求項２】
前記被加工部材を前記貫通孔として貫通させることのない前記エネルギービームの照射パルス数であって一定のパルス数のエネルギービームを照射する照射工程と、前記被加工部材における前記照射領域を前記整列方向に移動させる移動工程とを、交互に複数回繰り返すことにより、深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を前記被加工部材に形成し、
前記遮蔽機構は、前記移動工程において前記遮蔽部材を前記光路に挿脱させることを特徴とする請求項１に記載のエネルギービーム穿孔加工方法。
【請求項３】
前記照射領域は、前記整列方向に等分割されて複数の照射分割領域が形成され、
前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止可能な大きさ寸法とされ、
前記各貫通孔は、全ての前記照射分割領域での前記エネルギービームの照射により形成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のエネルギービーム穿孔加工方法。
【請求項４】
前記マスクは、前記エネルギービームの透過を阻止する部材に前記エネルギービームの透過を許す透過孔が２つ以上整列するように設けられて構成され、
前記各照射分割領域には、前記エネルギービームで前記マスクを照射することにより前記各透過孔を透過した複数の透過孔形ビームが均等に存在され、
前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域に存在する複数の透過孔形ビームのための前記透過孔を遮蔽可能な大きさ寸法とされていることを特徴とする請求項３に記載のエネルギービーム穿孔加工方法。
【請求項５】
最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの一方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とされるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの他方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とされるように設定され、
前記遮蔽機構は、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記一方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、２回目以降の前記照射工程では、前記一方の端から当該照射工程の回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記他方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、最後から２回目以前の前記照射工程では、前記他方の端から当該照射工程の最後から数えた回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させることを特徴とする請求項３または請求項４に記載のエネルギービーム穿孔加工方法。
【請求項６】
前記光路には、前記マスクと前記被加工部材との間に縮小レンズが設けられ、
前記遮蔽部材は、前記光路における前記マスクの近傍位置に設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のエネルギービーム穿孔加工方法。
【請求項７】
液滴を吐出するための複数のノズル孔と、該各ノズル孔に個別に対応して設けられた複数の液室と、該各液室に対応して設けられた吐出エネルギー発生体とを有し、該吐出エネルギー発生体により前記各液室の液体を前記各ノズル孔から液滴として吐出させる液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記各ノズル孔が、請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のエネルギービーム穿孔加工方法により形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記各ノズル孔は、樹脂材料からなるノズル板に設けられていることを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記液室は、前記各ノズル孔からの液滴の吐出方向に直交する方向に位置される側壁が金属材料で構成されていることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記液室は、前記各ノズル孔からの液滴の吐出方向に直交する方向に位置される側壁が樹脂材料で構成されていることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
請求項７ないし請求項１０のいずれか１項に記載の液滴吐出ヘッドが搭載されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１２】
請求項７ないし請求項１０のいずれか１項に記載の液滴吐出ヘッドが搭載されていることを特徴とする記録装置。
【請求項１３】
所定の整列された貫通孔パターンが設けられたマスクを介してエネルギービームで被加工部材を照射することにより該被加工部材に前記貫通孔パターンと一致する位置関係とされた複数の貫通孔を形成するエネルギービーム穿孔加工装置であって、
前記エネルギービームを出射する出射機構と、前記被加工部材を移動可能に保持する加工ステージと、前記エネルギービームの透過を阻止可能な遮蔽部材を前記エネルギービームが前記被加工部材に至る光路に挿脱させる遮蔽機構と、前記出射機構と前記加工ステージと前記遮蔽機構とを駆動制御する制御機構とを備え、
前記制御機構は、前記エネルギービームが前記被加工部材上に形成する照射領域を部分的に重複させるように、前記被加工部材における前記照射領域を前記貫通孔パターンにおける整列方向に移動させるべく前記加工ステージを制御しつつ前記被加工部材を前記エネルギービームで順次照射すべく前記出射機構を制御することにより深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を形成することにともなって、
前記照射領域において前記貫通孔の形成に寄与しない前記エネルギービームの前記被加工部材への照射を防止するように、該被加工部材における前記照射領域の移動に応じて前記遮蔽部材を前記光路に挿入すべく前記遮蔽機構を制御することを特徴とするエネルギービーム穿孔加工装置。
【請求項１４】
前記制御機構は、前記出射機構に前記被加工部材を前記貫通孔として貫通させることのない前記エネルギービームの照射パルス数であって一定のパルス数のエネルギービームを照射させる照射工程と、前記加工ステージに前記被加工部材における前記照射領域を前記整列方向に移動させる移動工程とを、交互に複数回繰り返すことにより、深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を前記被加工部材に形成し、
前記遮蔽機構は、前記移動工程において前記遮蔽部材を前記光路に挿脱させるように前記制御機構により制御されることを特徴とする請求項１３に記載のエネルギービーム穿孔加工装置。
【請求項１５】
前記照射領域は、前記整列方向に等分割されて複数の照射分割領域が形成され、
前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止可能な大きさ寸法とされ、
前記各貫通孔は、全ての前記照射分割領域での前記エネルギービームの照射により形成されることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載のエネルギービーム穿孔加工装置。
【請求項１６】
前記マスクは、前記エネルギービームの透過を阻止する部材に前記エネルギービームの透過を許す透過孔が２つ以上整列するように設けられて構成され、
前記各照射分割領域には、前記エネルギービームで前記マスクを照射することにより前記各透過孔を透過した複数の透過孔形ビームが均等に存在され、
前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域に存在する複数の透過孔形ビームのための前記透過孔を遮蔽可能な大きさ寸法とされていることを特徴とする請求項１５に記載のエネルギービーム穿孔加工装置。
【請求項１７】
最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの一方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とすべく前記加工ステージが制御されるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの他方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とすべく前記加工ステージが制御され、
前記遮蔽機構は、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記一方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、２回目以降の前記照射工程では、前記一方の端から当該照射工程の回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記他方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、最後から２回目以前の前記照射工程では、前記他方の端から当該照射工程の最後から数えた回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるべく制御されることを特徴とする請求項１５または請求項１６に記載のエネルギービーム穿孔加工装置。
【請求項１８】
前記光路には、前記マスクと前記被加工部材との間に縮小レンズが設けられ、
前記遮蔽部材は、前記光路における前記マスクの近傍位置に設けられていることを特徴とする請求項１３ないし請求項１７のいずれか１項に記載のエネルギービーム穿孔加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エネルギービームを用いて被加工部材に孔を形成するエネルギービーム穿孔加工方法に関し、特に、画像の記録のために液滴を吐出するための液滴吐出ヘッドの形成に好適なエネルギービーム穿孔加工方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、用紙上に向けてインク滴（液滴）を吐出することにより用紙上に印字するインクジェット方式の液滴吐出ヘッドを用いて画像を記録する記録装置（液滴吐出装置）、例えば、プリンタ、ファクシミリ、コピー機等が増えてきている。この液滴吐出ヘッドには、種々の構造のものが知られているが、インク滴を吐出するための複数のノズル孔が設けられたノズル板と、各ノズルに対応する液室を形成するための流路板と、液室のインクに吐出エネルギーを付与すべく各ノズルに対応して設けられたアクチュエータとを備え、各アクチュエータが選択的に駆動されることにより記録信号に応じたインク滴をノズル孔より吐出して、当該インク滴で画像を形成するものがある。このアクチュエータとしては、電気的なエネルギーを機械的な変位に変換する電気機械変換素子や、発熱抵抗体等が用いられる。
【０００３】
近年、このような液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置では記録画像の高画質化が進んでおり、現在では１２００ｄｐｉ相当の高精彩な画像が実用化されつつある。このような高精彩な画像を形成するためには、各ノズル孔から吐出されるインク液滴の微小化すなわち当該ノズル孔の微小化することや、この複数のノズル孔の設定位置をノズル板において高密度化することが要求されるとともに、このように設定された各ノズル孔からのインク液滴が設定された着弾位置に対して高い精度で着弾することが要求される。この設定着弾位置に対する着弾位置の精度を高めるためには、各ノズル孔の孔形状の精度を高める必要がある。
【０００４】
このような微小で高精度な複数のノズル孔をノズル板に高密度に形成する方法として、エキシマレーザ光を用いることが知られている（例えば、特許文献１参照）。このものでは、所定のノズル孔パターンが形成されたマスクにエキシマレーザ光を照射し、マスクを透過したノズル孔パターンの透過レーザ光で被加工部材（ノズル板）を照射して当該被加工部材を貫通させることにより、ノズル孔パターンと一致する位置関係とされた複数のノズル孔を被加工部材に一度に形成することができる。この方法では、マスクを経たエキシマレーザ光（透過レーザ光）と被加工部材との間に縮小光学系を設けることで、ノズル板における各ノズル孔の設定位置を高密度化することができる。
【０００５】
ところが、上記した方法では、照射されるエキシマレーザ光が所定の幅寸法を有しており、ホモジェナイザー等を用いてエキシマレーザ光をその領域において全体に均一化する必要があるが、完全に均一化することは困難であり、領域の端部ではビーム強度あるいは直進性が劣化してしまう。このため、上記した方法で微小な複数のノズル孔をノズル板に高密度に形成する場合、マスクを透過した透過レーザ光におけるビーム強度あるいは直進性の差異により、一度に形成される複数のノズル孔の孔形状にばらつきが生じる。このばらつきは大変微小なものであるが、高精彩な画像を形成する際には問題となってしまう。
【０００６】
このため、本出願人は、透過レーザ光におけるビーム強度あるいは直進性の差異に起因して、形成される複数のノズル孔の孔形状に生じ得るばらつきを抑制する方法を、既に出願した発明で提案した（特願2007-207326）。
【０００７】
この方法は、マスクを透過した透過レーザ光が被加工部材上に形成する照射領域が部分的に重複するように、この照射範囲をノズル孔パターンの整列方向に移動しつつ透過レーザ光で被加工部材を照射するもので、整列方向で見て透過レーザ光における異なる複数の部分で順次均等な時間だけ被加工部材を照射し深さ寸法を順次増加させることにより当該被加工部材を貫通させてノズル孔を形成するものである。この方法では、各ノズル孔の孔形状には、照射された透過レーザ光での異なる複数の部分におけるそれぞれのビーム強度あるいは直進性の影響が均等に反映されることとなるので、複数のノズル孔間に生じ得る孔形状のばらつきを抑制することができる。
【特許文献１】特開２００７−１１８５８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記した方法では、マスクを透過した透過レーザ光が被加工部材上に形成する照射領域が部分的に重複するように、この照射範囲をノズル孔パターンの整列方向にずらしつつ透過レーザ光で被加工部材を照射するものであることから、被加工部材には、照射し始めるときと照射し終えるときとで、透過レーザ光のうちノズル孔（貫通孔）の形成に寄与しない部分により被加工部材が照射されてしまうので、被加工部材上の各ノズル孔の整列方向で見た両端に透過レーザ光の照射による凹所（被加工部材を貫通してはいない中途のノズル孔）が形成されてしまう。この凹所は、ノズル板を他の部材（上記した例では流路板）に接合することの阻害要因となったり、接合された他の部材（上記した例では流路板）との間のシール性の阻害要因となったりする虞がある。このため、上記した方法では、穿孔加工を実施する毎に、各被加工部材における透過レーザ光のうちノズル孔の形成に寄与しない部分により照射されてしまう箇所にビーム遮蔽部材を貼り付けるとともに、穿孔加工を終えた後に各被加工部材からビーム遮蔽部材を剥がすことが考えられるが、穿孔加工に要するコストの増加の要因となるとともに穿孔加工に要する時間の増加を招いてしまう。
【０００９】
本発明は、上記の問題に鑑みて為されたもので、コストの増加および穿孔加工時間の増加を抑制しつつエネルギービームの照射により凹所が形成されることを防止するとともに、微小な複数の孔を被加工部材に高密度に形成することができるエネルギービーム穿孔加工方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、所定の整列された貫通孔パターンが設けられたマスクを介してエネルギービームで被加工部材を照射することにより該被加工部材に前記貫通孔パターンと一致する位置関係とされた複数の貫通孔を形成するエネルギービーム穿孔加工方法であって、前記エネルギービームの透過を阻止可能な遮蔽部材を前記エネルギービームが前記被加工部材に至る光路に挿脱させる遮蔽機構を用い、前記エネルギービームが前記被加工部材上に形成する照射領域を部分的に重複させるように、前記被加工部材における前記照射領域を前記貫通孔パターンにおける整列方向に移動させつつ前記被加工部材を前記エネルギービームで順次照射することにより深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を形成することにともなって、前記遮蔽機構が、前記照射領域において前記貫通孔の形成に寄与しない前記エネルギービームの前記被加工部材への照射を防止するように、該被加工部材における前記照射領域の移動に応じて前記遮蔽部材を前記光路に挿入することを特徴とする。
【００１１】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載のエネルギービーム穿孔加工方法であって、前記被加工部材を前記貫通孔として貫通させることのない前記エネルギービームの照射パルス数であって一定のパルス数のエネルギービームを照射する照射工程と、前記被加工部材における前記照射領域を前記整列方向に移動させる移動工程とを、交互に複数回繰り返すことにより、深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を前記被加工部材に形成し、前記遮蔽機構は、前記移動工程において前記遮蔽部材を前記光路に挿脱させることを特徴とする。
【００１２】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載のエネルギービーム穿孔加工方法であって、前記照射領域は、前記整列方向に等分割されて複数の照射分割領域が形成され、前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止可能な大きさ寸法とされ、前記各貫通孔は、全ての前記照射分割領域での前記エネルギービームの照射により形成されることを特徴とする。
【００１３】
請求項４に係る発明は、請求項３に記載のエネルギービーム穿孔加工方法であって、前記マスクは、前記エネルギービームの透過を阻止する部材に前記エネルギービームの透過を許す透過孔が２つ以上整列するように設けられて構成され、前記各照射分割領域には、前記エネルギービームで前記マスクを照射することにより前記各透過孔を透過した複数の透過孔形ビームが均等に存在され、前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域に存在する複数の透過孔形ビームのための前記透過孔を遮蔽可能な大きさ寸法とされていることを特徴とする。
【００１４】
請求項５に係る発明は、請求項３または請求項４に記載のエネルギービーム穿孔加工方法であって、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの一方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とされるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの他方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とされるように設定され、前記遮蔽機構は、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記一方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、２回目以降の前記照射工程では、前記一方の端から当該照射工程の回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記他方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、最後から２回目以前の前記照射工程では、前記他方の端から当該照射工程の最後から数えた回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させることを特徴とする。
【００１５】
請求項６に係る発明は、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のエネルギービーム穿孔加工方法であって、前記光路には、前記マスクと前記被加工部材との間に縮小レンズが設けられ、前記遮蔽部材は、前記光路における前記マスクの近傍位置に設けられていることを特徴とする。
【００１６】
請求項７に係る発明は、液滴吐出ヘッドの製造方法であって、液滴を吐出するための複数のノズル孔と、該各ノズル孔に個別に対応して設けられた複数の液室と、該各液室に対応して設けられた吐出エネルギー発生体とを有し、該吐出エネルギー発生体により前記各液室の液体を前記各ノズル孔から液滴として吐出させる液滴吐出ヘッドの製造方法であって、前記各ノズル孔が、請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のエネルギービーム穿孔加工方法により形成されていることを特徴とする。
【００１７】
請求項８に係る発明は、請求項７に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法であって、前記各ノズル孔は、樹脂材料からなるノズル板に設けられていることを特徴とする。
【００１８】
請求項９に係る発明は、請求項７または請求項８に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法であって、前記液室は、前記各ノズル孔からの液滴の吐出方向に直交する方向に位置される側壁が金属材料で構成されていることを特徴とする。
【００１９】
請求項１０に係る発明は、請求項７または請求項８に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法であって、前記液室は、前記各ノズル孔からの液滴の吐出方向に直交する方向に位置される側壁が樹脂材料で構成されていることを特徴とする。
【００２０】
請求項１１に係る発明は、液滴吐出装置であって、請求項７ないし請求項１０のいずれか１項に記載の液滴吐出ヘッドが搭載されていることを特徴とする。
【００２１】
請求項１２に係る発明は、記録装置であって、請求項７ないし請求項１０のいずれか１項に記載の液滴吐出ヘッドが搭載されていることを特徴とする。
【００２２】
請求項１３に係る発明は、エネルギービーム穿孔加工装置であって、所定の整列された貫通孔パターンが設けられたマスクを介してエネルギービームで被加工部材を照射することにより該被加工部材に前記貫通孔パターンと一致する位置関係とされた複数の貫通孔を形成するエネルギービーム穿孔加工装置であって、前記エネルギービームを出射する出射機構と、前記被加工部材を移動可能に保持する加工ステージと、前記エネルギービームの透過を阻止可能な遮蔽部材を前記エネルギービームが前記被加工部材に至る光路に挿脱させる遮蔽機構と、前記出射機構と前記加工ステージと前記遮蔽機構とを駆動制御する制御機構とを備え、前記制御機構は、前記エネルギービームが前記被加工部材上に形成する照射領域を部分的に重複させるように、前記被加工部材における前記照射領域を前記貫通孔パターンにおける整列方向に移動させるべく前記加工ステージを制御しつつ前記被加工部材を前記エネルギービームで順次照射すべく前記出射機構を制御することにより深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を形成することにともなって、前記照射領域において前記貫通孔の形成に寄与しない前記エネルギービームの前記被加工部材への照射を防止するように、該被加工部材における前記照射領域の移動に応じて前記遮蔽部材を前記光路に挿入すべく前記遮蔽機構を制御することを特徴とする。
【００２３】
請求項１４に係る発明は、請求項１３に記載のエネルギービーム穿孔加工装置であって、前記制御機構は、前記出射機構に前記被加工部材を前記貫通孔として貫通させることのない前記エネルギービームの照射パルス数であって一定のパルス数のエネルギービームを照射させる照射工程と、前記加工ステージに前記被加工部材における前記照射領域を前記整列方向に移動させる移動工程とを、交互に複数回繰り返すことにより、深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を前記被加工部材に形成し、前記遮蔽機構は、前記移動工程において前記遮蔽部材を前記光路に挿脱させるように前記制御機構により制御されることを特徴とする。
【００２４】
請求項１５に係る発明は、請求項１３または請求項１４に記載のエネルギービーム穿孔加工装置であって、前記照射領域は、前記整列方向に等分割されて複数の照射分割領域が形成され、前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止可能な大きさ寸法とされ、前記各貫通孔は、全ての前記照射分割領域での前記エネルギービームの照射により形成されることを特徴とする。
【００２５】
請求項１６に係る発明は、請求項１５に記載のエネルギービーム穿孔加工装置であって、前記マスクは、前記エネルギービームの透過を阻止する部材に前記エネルギービームの透過を許す透過孔が２つ以上整列するように設けられて構成され、前記各照射分割領域には、前記エネルギービームで前記マスクを照射することにより前記各透過孔を透過した複数の透過孔形ビームが均等に存在され、前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域に存在する複数の透過孔形ビームのための前記透過孔を遮蔽可能な大きさ寸法とされていることを特徴とする。
【００２６】
請求項１７に係る発明は、請求項１５または請求項１６に記載のエネルギービーム穿孔加工装置であって、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの一方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とすべく前記加工ステージが制御されるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの他方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とすべく前記加工ステージが制御され、前記遮蔽機構は、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記一方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、２回目以降の前記照射工程では、前記一方の端から当該照射工程の回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記他方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、最後から２回目以前の前記照射工程では、前記他方の端から当該照射工程の最後から数えた回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるべく制御されることを特徴とする。
【００２７】
請求項１８に係る発明は、請求項１３ないし請求項１７のいずれか１項に記載のエネルギービーム穿孔加工装置であって、前記光路には、前記マスクと前記被加工部材との間に縮小レンズが設けられ、前記遮蔽部材は、前記光路における前記マスクの近傍位置に設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明に係る液滴吐出ヘッドでは、貫通孔とは関係のない凹所がエネルギービームの照射により形成されてしまうことを防止しつつ、各ノズル孔の孔形状に、照射された透過レーザ光での異なる複数の部分におけるそれぞれのビーム強度あるいは直進性の影響を均等に反映させることができるので、複数のノズル孔間に生じ得る孔形状のばらつきを抑制することができる。このため、被加工部材が、例えば、液滴吐出ヘッドのノズル板であって、貫通孔がノズル孔である場合、ノズル板と他の部材（上記した例では流路板）とを適切に接合することができるとともに、接合された他の部材（上記した例では流路板）との間のシール性を適切なものとすることができる。
【００２９】
また、穿孔加工を実施する毎に、各被加工部材における透過レーザ光のうちノズル孔の形成に寄与しない部分により照射されてしまう箇所にビーム遮蔽部材を貼り付けるとともに、穿孔加工を終えた後に各被加工部材からビーム遮蔽部材を剥がす作業を行うことなく、貫通孔とは関係のない凹所がエネルギービームの照射により形成されてしまうことを防止することができるので、コストの増加および穿孔加工時間の増加を抑制することができる。
【００３０】
上記した構成に加えて、前記被加工部材を前記貫通孔として貫通させることのない前記エネルギービームの照射パルス数であって一定のパルス数のエネルギービームを照射する照射工程と、前記被加工部材における前記照射領域を前記整列方向に移動させる移動工程とを、交互に複数回繰り返すことにより、深さ寸法を順次増加させて複数の前記貫通孔を前記被加工部材に形成し、前記遮蔽機構は、前記移動工程において前記遮蔽部材を前記光路に挿脱させることとすると、複数のノズル孔の孔形状の均一化と意図しない凹所の形成の防止とを確実に行うことができる。
【００３１】
上記した構成に加えて、前記照射領域は、前記整列方向に等分割されて複数の照射分割領域が形成され、前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止可能な大きさ寸法とされ、前記各貫通孔は、全ての前記照射分割領域での前記エネルギービームの照射により形成されることとすると、意図しない凹所が形成されることを容易にかつ確実に防止することができる。
【００３２】
上記した構成に加えて、前記マスクは、前記エネルギービームの透過を阻止する部材に前記エネルギービームの透過を許す透過孔が２つ以上整列するように設けられて構成され、前記各照射分割領域には、前記エネルギービームで前記マスクを照射することにより前記各透過孔を透過した複数の透過孔形ビームが均等に存在され、前記遮蔽部材は、複数の前記照射分割領域のうち、分割数より１つ少ない数の前記照射分割領域に存在する複数の透過孔形ビームのための前記透過孔を遮蔽可能な大きさ寸法とされていることとすると、遮蔽部材でマスクの各透過孔を適宜遮蔽すればよいことから、意図しない凹所が形成されることをより容易にかつより確実に防止することができる。換言すると、遮蔽機構による遮蔽部材の位置設定をより容易なものとすることができる。
【００３３】
上記した構成に加えて、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの一方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とされるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの他方の端の１つだけが前記貫通孔の形成に寄与する前記被加工部材への前記エネルギービームの照射とされるように設定され、前記遮蔽機構は、最初の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記一方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、２回目以降の前記照射工程では、前記一方の端から当該照射工程の回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させるとともに、最後の前記照射工程では、複数の前記照射分割領域のうちの前記他方の端以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させ、最後から２回目以前の前記照射工程では、前記他方の端から当該照射工程の最後から数えた回数と同数の前記照射分割領域以外の全ての前記照射分割領域への前記エネルギービームの照射を防止するように前記遮蔽部材を位置させることとすると、遮蔽機構による遮蔽部材の移動量が少ないものとしながら、意図しない凹所が形成されることをより容易にかつより確実に防止することができる。
【００３４】
上記した構成に加えて、前記光路には、前記マスクと前記被加工部材との間に縮小レンズが設けられ、前記遮蔽部材は、前記光路における前記マスクの近傍位置に設けられていることとすると、マスクの貫通孔パターンに合わせて遮蔽部材を移動させればよいので、意図しない凹所が形成されることをより容易にかつより確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下に、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法の実施例を図面を参照しつつ説明する。
【実施例】
【００３６】
図１は、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法を用いて製造される液滴吐出ヘッド１０の要部の構造を概略的に示す説明図であり、図２は、液滴吐出ヘッド１０の説明のための概略的な分解斜視図である。また、図３は、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工装置３０の構成を模式的に示す説明図であり、図４は、エネルギービーム穿孔加工装置３０の要部の様子を模式的に示す説明図である。なお、図４では、マスク４０および縮小レンズ４１を経て被加工部材（ノズル板１１）に至る様子を説明するものであるが、理解容易のため反射ミラー３５および反射ミラー３６を省略して示している。図５は、エネルギービーム穿孔加工装置３０における穿孔加工の様子を説明するための説明図であり、（ａ）は１回目の照射工程を示し、（ｂ）は２回目の照射工程を示し、（ｃ）は３回目の照射工程を示し、（ｄ）は最後から数えて３回目の照射工程を示し、（ｅ）は最後から数えて２回目の照射工程を示し、（ｆ）は最後の照射工程を示している。なお、図５では、理解容易のため縮小レンズ４１、反射ミラー３５および反射ミラー３６を省略して示している。
【００３７】
本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法を用いて製造される液滴吐出ヘッド１０は、本実施例では、ＰＺＴ方式印字ヘッドであり、ノズル板１１と流路板１２と振動基板１３とアクチュエータ基板１４（図２参照）とが積層されて構成されている。
【００３８】
ノズル板１１は、図２に示すように、ポリイミドシートより形成されて長尺の板状を呈しており、複数のノズル孔１５が長尺方向に沿って整列されて設けられている。本実施例では、ノズル板１１は、厚さ２５μｍのポリイミドシートで形成されており、上層にフッ素系のコーティング膜で形成された厚さ０．０１μｍの撥水層２０（図１参照）が形成されている。ノズル孔１５は、本実施例では、ノズル板１１の長尺方向に沿って１列に整列されている。また、ノズル孔１５は、吐出面（図１を正面視して上側）より流路側（流路板１２側）に向けてテーパー状に広がる形状とされており、開口径（吐出面側の口径）が２１μｍとされている。このノズル板１１に流路板１２が接合されている。
【００３９】
流路板１２は、シリコン基板より形成されて長尺の板状を呈しており、複数の連通孔１６と複数のインク液室１７とが形成されている。各連通孔１６は、それぞれが対応するノズル孔１５とインク液室１７とを連通している。この各インク液室１７は、共通液室２１（図１参照）に連通されており、この共通液室２１からインクが供給されて貯留される。この流路板１２に振動基板１３が接合されている。なお、流路板１２は、樹脂材料から形成されていてもよく、金属材料から形成されていてもよい。
【００４０】
振動基板１３は、Ｎｉ材より形成されて長尺の板状を呈しており、複数の振動板１８が形成されている。複数の振動板１８は、ダイヤフラム状とされており、各インク液室１７の一面を形成するようにインク液室１７に個別に対応して設けられている。この振動基板１３にアクチュエータ基板１４が接合されている。
【００４１】
アクチュエータ基板１４は、長尺の板状を呈し、図示は略すが振動板１８に個別に対応して電極が設けられ、この電極に対応してアクチュエータ（吐出エネルギー発生体）としての圧電素子１９が設けられている。
【００４２】
このように構成された液滴吐出ヘッド１０では、アクチュエータ基板１４に設けられた図示を略す電極を介して外部の電気回路（図示しない）から供給される駆動信号により、各圧電素子１９が電気機械変換作用によって選択的に適宜収縮され、この圧電素子１９に対応した振動板１８が適宜変位される。これにより、液滴吐出ヘッド１０では、各振動板１８に対応されたインク液室１７に貯留されたインクに圧力が作用し、連通孔１６を介してインク液室１７に連通されたノズル孔１５からインク液滴が吐出される。なお、本実施例では、ＰＺＴ方式印字ヘッドである液滴吐出ヘッド１０のため、アクチュエータとして圧電素子１４が用いられているが、液滴吐出ヘッドのアクチュエータとしては他の電気機械変換素子や、発熱抵抗体などの電気熱変換素子を用いることもできる。
【００４３】
この液滴吐出ヘッド１０では、高精彩な画像を形成すべくインク滴を適切に吐出させるために、ノズル板１１の各ノズル孔１５が微小で高精度に、かつノズル板１１上で高密度に形成されている。次に、このノズル板１１に各ノズル孔１５を形成する方法について説明する。
【００４４】
本実施例では、ノズル板１１に各ノズル孔１５を形成するために、図３に示すエネルギービーム穿孔加工装置３０を用いる。このエネルギービーム穿孔加工装置３０は、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法を実行可能な装置であり、基本的には、マスクに設けられたパターンの像を被加工部材に結像して加工するマスクイメージ法と呼ばれる加工方法を実行するものである。
【００４５】
エネルギービーム穿孔加工装置３０では、エネルギービームとしてエキシマレーザが用いられており、このエキシマレーザの生成のためにレーザ発振機３１が設けられている。レーザ発振機３１は、本実施例では、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザを発振して出射可能とされている。
【００４６】
エネルギービーム穿孔加工装置３０では、レーザ発振機３１から出射されたエキシマレーザ光Ｌが、反射ミラー３２、反射ミラー３３、反射ミラー３４、反射ミラー３５および反射ミラー３６により反射されて加工ステージ３７上に導かれる光路が構成されている。この光路上には、ホモジェナイザー３８と、フィールドレンズ３９と、マスク４０（選択透過部材）と、縮小レンズ４１とが設けられている。
【００４７】
ホモジェナイザー３８は、光路上における反射ミラー３３と反射ミラー３４との間に設けられている。このホモジェナイザー３８は、入射されたエキシマレーザ光Ｌを全領域においてエネルギーを均一化させて出射する。
【００４８】
フィールドレンズ３９およびマスク４０は、光路上における反射ミラー３４と反射ミラー３５との間に設けられている。フィールドレンズ３９は、ホモジェナイザー３８および縮小レンズ４１と協働して、レーザ発振機３１からのエキシマレーザ光Ｌを加工ステージ３７上に適切に到達させる。マスク４０は、フィールドレンズ３９を経たエキシマレーザ光Ｌの透過を阻む部材から形成されており、所望のノズル孔パターンが設けられている。この所望のノズル孔パターンは、エキシマレーザ光Ｌの透過を許す複数の透過孔４２（図４参照）で構成されている。各透過孔４２は、図４に示すように、ノズル孔１５を形成するための所望の大きさ寸法とされ、所望の間隔で整列されている。本実施例では、マスク４０には、１２個の透過孔４２が一直線上に等間隔で整列されている。
【００４９】
縮小レンズ４１は、光路上における反射ミラー３６と加工ステージ３７との間に設けられている（図３参照）。縮小レンズ４１は、マスク４０（そこに設けられたノズル孔パターン）の像を加工ステージ３７上に載置された被加工部材（本実施例ではノズル板１１）の加工面上に縮小して結像する。
【００５０】
この加工ステージ３７（図３参照）は、光路の軸線方向（エキシマレーザ光Ｌの光軸方向）に対して直交する面に沿って平行移動可能に被加工部材を保持することができる。
【００５１】
このエネルギービーム穿孔加工装置３０では、マスク４０を経たエキシマレーザ光Ｌは、各透過孔４２を透過した複数の透過孔形レーザ光Ｌｄのみが縮小レンズ４１に到達することとなるので、縮小レンズ４１によりマスク４０の像が縮小されて結像される被加工部材としてのノズル板１１を、大きさ寸法および間隔寸法が縮小された複数の透過孔形レーザ光Ｌｄで穿孔加工することができる。このときのノズル板１１上においてエキシマレーザ光Ｌにより照射される領域すなわち全ての透過孔形レーザ光Ｌｄにより照射される領域を照射領域４７（図５参照）という。
【００５２】
本発明に係るエネルギービーム穿孔加工装置３０では、さらに、遮蔽機構４３が設けられている。遮蔽機構４３は、エキシマレーザ光Ｌの透過を阻む遮蔽部材４４と、この遮蔽部材４４を移動させるための駆動部４５とを有する。遮蔽部材４４は、本実施例では、前端遮蔽部分４４ａと後端遮蔽部分４４ｂとが連結された構成とされており、両遮蔽部分４４ａ、４４ｂは、照射領域４７が等分割されて形成される複数の照射分割領域４８（図５の符号４８ａ、４８ｂ、４８ｃ参照）のうち、分割数から１を引いた数の照射分割領域４８を形成する複数の透過孔形レーザ光Ｌｄに対応する複数の透過孔４２を遮蔽可能な大きさ寸法とされている。具体的には、本実施例では、上述したように、マスク４０には直線上に整列された１２個の透過孔４２が設けられており、また、本実施例では、後述するように照射領域４７が３分割されて３つの照射分割領域４８が形成されるので（図５参照）、両遮蔽部分４４ａ、４４ｂは、８個の透過孔４２を遮蔽可能な大きさ寸法とされている。また、遮蔽部材４４は、本実施例では、両遮蔽部分４４ａ、４４ｂの間隔がマスク４０に設けられた全て（１２個）の透過孔４２を介在させることが可能な大きさ寸法とされている（図５参照）。
【００５３】
駆動部４５は、図３に示すように、マスク４０の近傍位置で当該マスク４０の延在方向に沿うように遮蔽部材４４を移動可能に保持しており、光路上において両遮蔽部分４４ａ、４４ｂで任意の透過孔４２を遮蔽すべく適宜遮蔽部材４４を移動する。本実施例のエネルギービーム穿孔加工装置３０では、加工ステージ３７およびレーザ発振機３１に接続された制御機構４６が設けられており、制御機構４６に駆動部４５も接続されている。制御機構４６は、加工ステージ３７、レーザ発振機３１および駆動部４５を統括的に駆動制御する。
【００５４】
次に、このエネルギービーム穿孔加工装置３０によるノズル板１１に各ノズル孔１５を形成する方法、すなわち本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法について説明する。なお、図５では正面視した左右方向がノズル孔１５の整列方向となるが、以下では、この整列方向の左側、右側を用いて説明する。
【００５５】
ノズル板１１の穿孔加工に先立って、照射領域４７を等分割する。この等分割とは、照射領域４７をノズル配列方向すなわち複数の透過孔形レーザ光Ｌｄ（透過孔４２）の整列方向で見て、互いに等しい数の透過孔形レーザ光Ｌｄ（透過孔４２）が存在するように分割することをいう。本実施例では、整列方向で見て照射領域４７を３分割して３つの照射分割領域４８を形成しており、各照射分割領域４８には、４つの透過孔形レーザ光Ｌｄ（透過孔４２）が存在することとなる。これを、整列方向の右側から、第１照射分割領域４８ａ、第２照射分割領域４８ｂ、第３照射分割領域４８ｃとする。
【００５６】
加工ステージ３７（図３参照）にノズル板１１を載置する。このとき、ノズル板１１は、第１照射分割領域４８ａのみがノズル孔１５を整列させて形成したい所望の位置に合致するように、加工ステージ３７を介して位置設定する（図５（ａ）参照）。
【００５７】
すると、エネルギービーム穿孔加工装置３０では、図５（ａ）に示すように、第２照射分割領域４８ｂおよび第３照射分割領域４８ｃに相当する８つの透過孔４２を前端遮蔽部分４４ａで遮蔽するように遮蔽部材４４が駆動部４５により位置される。
【００５８】
この後、１回目のエキシマレーザ光Ｌの照射が行われる。このとき、第２照射分割領域４８ｂおよび第３照射分割領域４８ｃに相当する８つの透過孔４２が前端遮蔽部分４４ａにより遮蔽されているので、第２照射分割領域４８ｂおよび第３照射分割領域４８ｃでは二点鎖線で示す８つの透過孔形レーザ光Ｌｄがノズル板１１を照射することが防止されている。これが１回目の照射工程となる。この１回目の照射工程では、エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）が６０パルス照射される。これは、当該エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）は、ノズル板１１の同一箇所を１８０パルス照射すると、当該ノズル板１１を貫通する強度に設定されており、かつ照射領域４７が３分割されていることから、１８０パルスの１／３の６０パルスとしたものである。この１回目の照射工程では、ノズル板１１に、その厚さ寸法の略１／３に相当する深さ寸法の凹所４９ａが４つ形成される。
【００５９】
１回目の照射工程が終わると、図５（ｂ）に示すように、加工ステージ３７によりノズル板１１が、各照射分割領域４８の長さ寸法に等しい量だけ整列方向の左側に移動される（矢印Ａ１参照）。これにより、ノズル板１１は、４つの凹所４９ａが、第２照射分割領域４８ｂの４つの透過孔形レーザ光Ｌｄの照射位置に合致される。これが１回目の移動工程となる。この１回目の移動工程では、第３照射分割領域４８ｃに相当する４つの透過孔４２を前端遮蔽部分４４ａで遮蔽するように遮蔽部材４４が駆動部４５により位置される（矢印Ａ２参照）。
【００６０】
この後、２回目のエキシマレーザ光Ｌの照射が行われる。このとき、第３照射分割領域４８ｃに相当する４つの透過孔４２が前端遮蔽部分４４ａにより遮蔽されているので、第３照射分割領域４８ｃでは二点鎖線で示す４つの透過孔形レーザ光Ｌｄがノズル板１１を照射することが防止されている。これが２回目の照射工程となる。この２回目の照射工程でも、エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）が６０パルス照射される。この２回目の照射工程では、ノズル板１１に、既に形成されていた４つの凹所４９ａがノズル板１１の厚さ寸法の略２／３に相当する深さ寸法とされるとともに、厚さ寸法の略１／３に相当する深さ寸法の凹所４９ｂが新たに４つ形成される。
【００６１】
２回目の照射工程が終わると、図５（ｃ）に示すように、加工ステージ３７によりノズル板１１が、各照射分割領域４８の長さ寸法に等しい量だけ整列方向の左側に移動される（矢印Ａ３参照）。これにより、ノズル板１１は、４つの凹所４９ａが、第３照射分割領域４８ｃの４つの透過孔形レーザ光Ｌｄの照射位置に合致されるとともに、４つの凹所４９ｂが、第２照射分割領域４８ｂの４つの透過孔形レーザ光Ｌｄの照射位置に合致される。これが２回目の移動工程となる。この２回目の移動工程では、遮蔽部材４４（前端遮蔽部分４４ａ）が、駆動部４５によりいずれの透過孔４２も遮蔽しない位置とされる（矢印Ａ４参照）。換言すると、全ての透過孔４２が、前端遮蔽部分４４ａと後端遮蔽部分４４ｂとの間に位置されることとなる。
【００６２】
この後、３回目のエキシマレーザ光Ｌの照射が行われる。このとき、いずれの透過孔４２も遮蔽部材４４により遮蔽されていないので、１２の透過孔形レーザ光Ｌｄがノズル板１１を照射することとなる。これが３回目の照射工程となる。この３回目の照射工程でも、エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）が６０パルス照射される。この３回目の照射工程では、ノズル板１１に、既に形成されていた４つの凹所４９ａがノズル板１１を貫通されるとともに、既に形成されていた４つの凹所４９ｂがノズル板１１の厚さ寸法の略２／３に相当する深さ寸法とされ、かつ厚さ寸法の略１／３に相当する深さ寸法の凹所４９ｃが新たに４つ形成される。このノズル板１１を貫通する４つの凹所４９ａがノズル孔１５となる。
【００６３】
この後のｎ回目の移動工程（直後は３回目）とｎ回目の照射工程では、遮蔽部材４４がいずれの透過孔４２も遮蔽する位置とされることはなく、上記した動作が繰り返されるので説明は省略する。これにより、順次、４つの凹所４９ｂが貫通されてノズル孔１５となり、４つの凹所４９ｃが貫通されてノズル孔１５となることとなる。
【００６４】
次に、最後の照射工程をｎｆ回目として、ｎｆ−２回目の照射工程について説明する。これは、本実施例では、照射領域４７が３分割されていることから、整列方向で見て両端部（１つ照射分割領域４８に相当する領域）に位置されるノズル孔１５を形成するには、２つ分の照射分割領域４８で不必要な照射が行われることによる。
【００６５】
ｎｆ−２回目の照射工程では、図５（ｄ）に示すように、遮蔽部材４４（前端遮蔽部分４４ａ）が、駆動部４５によりいずれの透過孔４２も遮蔽しない位置とされている。このとき、いずれの透過孔４２も遮蔽部材４４により遮蔽されていないので、１２の透過孔形レーザ光Ｌｄがノズル板１１を照射することとなる。このｎｆ−２回目の照射工程でも、エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）が６０パルス照射される。このｎｆ−２回目の照射工程では、ノズル板１１に、既に形成されていた４つの凹所４９ｄがノズル板１１を貫通されてノズル孔１５となるとともに、既に形成されていた４つの凹所４９ｅがノズル板１１の厚さ寸法の略２／３に相当する深さ寸法とされ、かつ厚さ寸法の略１／３に相当する深さ寸法の凹所４９ｆが新たに４つ形成される。
【００６６】
ｎｆ−２回目の照射工程が終わると、図５（ｅ）に示すように、加工ステージ３７によりノズル板１１が、各照射分割領域４８の長さ寸法に等しい量だけ整列方向の左側に移動される（矢印Ａ５参照）。これにより、ノズル板１１は、４つの凹所４９ｅが、第３照射分割領域４８ｃの４つの透過孔形レーザ光Ｌｄの照射位置に合致されるとともに、４つの凹所４９ｆが、第２照射分割領域４８ｂの４つの透過孔形レーザ光Ｌｄの照射位置に合致される。これがｎｆ−２回目の移動工程となる。このｎｆ−２回目の移動工程では、後端遮蔽部分４４ｂが第１照射分割領域４８ａに相当する４つの透過孔４２を後端遮蔽部分４４ｂで遮蔽するように遮蔽部材４４が駆動部４５により位置される（矢印Ａ６参照）。
【００６７】
この後、ｎｆ−１回目のエキシマレーザ光Ｌの照射が行われる。このとき、第１照射分割領域４８ａに相当する４つの透過孔４２が後端遮蔽部分４４ｂにより遮蔽されているので、第１照射分割領域４８ａでは二点鎖線で示す４つの透過孔形レーザ光Ｌｄがノズル板１１を照射することが防止されている。これがｎｆ−１回目の照射工程となる。このｎｆ−１回目の照射工程でも、エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）が６０パルス照射される。このｎｆ−１回目の照射工程では、ノズル板１１に、既に形成されていた４つの凹所４９ｅがノズル板１１を貫通されてノズル孔１５となるとともに、既に形成されていた４つの凹所４９ｆがノズル板１１の厚さ寸法の略２／３に相当する深さ寸法とされる。
【００６８】
ｎｆ−１回目の照射工程が終わると、図５（ｆ）に示すように、加工ステージ３７によりノズル板１１が、各照射分割領域４８の長さ寸法に等しい量だけ整列方向の左側に移動される（矢印Ａ７参照）。これにより、ノズル板１１は、４つの凹所４９ｆが、第３照射分割領域４８ｃの４つの透過孔形レーザ光Ｌｄの照射位置に合致される。これがｎｆ−１回目の移動工程となる。このｎｆ−１回目の移動工程では、後端遮蔽部分４４ｂが第１照射分割領域４８ａおよび第２照射分割領域４８ｂに相当する８つの透過孔４２を後端遮蔽部分４４ｂで遮蔽するように遮蔽部材４４が駆動部４５により位置される（矢印Ａ８参照）。
【００６９】
この後、ｎｆ回目（最後）のエキシマレーザ光Ｌの照射が行われる。このとき、第１照射分割領域４８ａおよび第２照射分割領域４８ｂに相当する８つの透過孔４２が後端遮蔽部分４４ｂにより遮蔽されているので、第１照射分割領域４８ａおよび第２照射分割領域４８ｂでは二点鎖線で示す８つの透過孔形レーザ光Ｌｄがノズル板１１を照射することが防止されている。これがｎｆ回目の照射工程となる。このｎｆ回目の照射工程でも、エキシマレーザ光Ｌ（各透過孔形レーザ光Ｌｄ）が６０パルス照射される。このｎｆ回目の照射工程では、ノズル板１１に、既に形成されていた４つの凹所４９ｆがノズル板１１を貫通されてノズル孔１５となる。
【００７０】
このように、エネルギービーム穿孔加工装置３０では、ノズル板１１に等間隔で整列された複数のノズル孔１５を形成することができる。
【００７１】
このエネルギービーム穿孔加工装置３０では、マスク４０に複数の透過孔４２が１列に形成されてノズル孔パターンが形成されている場合、整列された透過孔４２の数をＸとし、被加工部材（ノズル板１１）の１つの列に形成したい貫通孔（ノズル孔１５）の数をＫとし、照射領域４７の分割数をｍとすると、照射工程の回数ｎは次式（１）で求めることができる。
【００７２】
ｎ＝Ｋ／Ｘ＋（ｍ−１）                          （１）
このことから、例えば、ノズル板１１に、２列で１９２個の孔のノズル孔１５を形成する場合、１列につき１０回（合計２０回）の照射工程を行えばよいこととなる。
【００７３】
以上のように、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法では、照射領域４７を等分割して複数の照射分割領域４８を形成し、各照射分割領域４８で順次照射することにより貫通孔（ノズル孔１５）を形成するものにおいて、貫通孔の形成に寄与しない照射分割領域４８では、エネルギービーム（エキシマレーザ光Ｌ）が被加工部材（ノズル板１１）に到達することを遮蔽部材４４が防止するので、貫通孔の形成に寄与しないエネルギービーム（エキシマレーザ光Ｌ）により被加工部材（ノズル板１１）に凹所が形成されることを防止することができる。このため、例えば、このエネルギービーム穿孔加工方法により形成されたノズル板１１が用いられた液滴吐出ヘッド１０では、上記凹所に起因するノズル板１１と流路板１２との接合不良や、上記凹所に起因するノズル板１１と流路板１２との間でのシール性の低下が防止されている。
【００７４】
また、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法では、貫通孔の形成に寄与しないエネルギービーム（エキシマレーザ光Ｌ）は、マスク４０の近傍に位置される遮蔽部材４４により被加工部材（ノズル板１１）を照射することを防止するものであることから、従来のように被加工部材ごとにビーム遮蔽部材を貼り付けたり剥がしたりする手間が不要である。このため、従来に比較して、穿孔加工に要するコストを低減することができる。特に、上記したエネルギービーム穿孔加工装置３０では、遮蔽部材４４が、加工ステージ３７やレーザ発振機３１とともに制御機構４６により統括的に駆動制御される駆動部４５により自動的に位置設定されることから、遮蔽部材４４の位置設定を行う必要がなく、穿孔加工に要するコストをより低減することができる。
【００７５】
さらに、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法では、各ノズル孔１５が、互いに異なる複数の照射分割領域での照射により形成されている（上記した実施例では、各ノズル孔１５が第１照射分割領域４８ａの透過孔形レーザ光Ｌｄと、第２照射分割領域４８ｂの透過孔形レーザ光Ｌｄと、第３照射分割領域４８ｃの透過孔形レーザ光Ｌｄとが順次照射されて形成されている）ことから、各ノズル孔１５の孔形状には、各照射分割領域４８の３種類の透過孔形レーザ光Ｌｄにおける互いのビーム強度あるいは互いの直進性の差異の影響が均等に反映されているので、複数のノズル孔１５間に生じ得る孔形状のばらつきを抑制することができる。
【００７６】
上記したエネルギービーム穿孔加工装置３０では、遮蔽部材４４がマスク４０の近傍位置でそこに設けられた複数の透過孔４２を遮蔽する構成であることから、遮蔽部材４４の移動制御が容易である。これは、縮小レンズ４１と加工ステージ３７との間では、縮小された度合いに応じて微小な移動量とする必要があるとともに、マスク４０の近傍位置では単に透過孔４２に重ねればよいことによる。このことから、遮蔽部材４４は、マスク４０と反射ミラー３４（図３参照）との間で当該マスク４０の近傍位置であっても同様の効果を得ることができる。
【００７７】
上記したエネルギービーム穿孔加工装置３０により各ノズル孔１５が形成されたノズル板１を有する液滴吐出ヘッド１０では、微細化された場合であっても高密度に高品質な液滴を、設定着弾位置に対して高精度に着弾させることができる。
【００７８】
したがって、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法によれば、コストの増加および穿孔加工時間の増加を抑制しつつエネルギービームの照射により凹所が形成されることを防止するとともに、微小な複数の孔を被加工部材に高密度に形成することができる。
【００７９】
なお、上記した実施例では、加工ステージ３７上に被加工部材としてノズル板１１が載置されていたが、ノズル板１１に流路板１２が接合されたものであってもよく、複数のノズル板１１として切り出し可能な１枚の板部材であってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。換言すると、被加工部材は、穿孔加工を施したいものであればよい。
【００８０】
また、上記した実施例では、遮蔽部材４４が、前端遮蔽部分４４ａと後端遮蔽部分４４ｂとが連結されて構成されていたが、照射領域４７が等分割されて形成された複数の照射分割領域４８のうちの（分割数−１）個分の照射分割領域４８に相当する複数の透過孔４２を遮蔽することができるものであれば、例えば、前端遮蔽部分４４ａと後端遮蔽部分４４ｂとが別体であってもよく、いずれか一方のみであってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【００８１】
さらに、上記した実施例では、照射領域４７が３つに等分割されて３つの照射分割領域４８が形成されていたが、照射領域４７の区分数はいくつであってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。ここで、照射領域４７の区分数を増やすほど形成される貫通孔（ノズル孔１５）の精度及び形状の均一化を図ることが可能であるが、スループット（単位時間辺りの生産数）の低下を招くことから、照射領域４７の区分数は、これらを勘案して適宜設定すればよい。
【００８２】
上記した実施例では、マスク４０には１列に整列された１２個の透過孔４２が形成されていたが、少なくとも配列方向に照射領域４７の区分数以上であり当該区分数で割り切れる数の透過孔４２が設けられていればよく、上記した実施例に限定されるものではない。いずれの場合であっても、マスクおよび被加工部材に形成する貫通孔の位置および数に合わせて、制御機構４６により加工ステージ３７および遮蔽部材４４の位置と、レーザ発振機３１から出射されるエキシマレーザ光Ｌのパルス数を駆動制御すればよい。
【００８３】
上記した実施例では、エキシマレーザを用いていたが、被加工部材（上記した実施例ではノズル板１１）に貫通孔を形成することができるものであれば、例えば、ＹＡＧレーザやＣＯ２レーザであってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。しかしながら、エキシマレーザであれば、高分子有機材料の分子間化学結合を切断する現象を利用するアブレーション加工となることから、高精度の加工が可能であるため、エキシマレーザであることが望ましい。
【００８４】
次に、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法を用いて製造される液滴吐出ヘッド１０を搭載した画像記録装置の一例について、図６ないし図８を用いて説明する。図６は、液滴吐出ヘッド１０を搭載した画像記録装置としてのインクジェット記録装置６０を示す模式的な斜視図であり、図７は、インクジェット記録装置６０の内部構成を説明するために当該内部を後述する主走査方向で見た概略的な説明図であり、図８は、図７に示す矢印Ａ９に沿って見た概略的な説明図である。
【００８５】
インクジェット記録装置６０は、装置本体６１に給紙トレイ６２が装着され、かつ排紙トレイ６３が着脱自在に装着されて構成されている。給紙トレイ６２は、装置本体６１に記録媒体としての記録紙Ｓ（図７および図８参照）を装填するものであり、排紙トレイ６３は、画像が記録（形成）された記録紙Ｓが積載される（ストックする）ものである。
【００８６】
この装置本体６１は、図６を正面視した前面の一端部側（給紙トレイ６２および排紙トレイ６３の側方）が前方側に突き出された箇所にカートリッジ装填部６４を有する。このカートリッジ装填部６４の上面（６５）は、装置本体６１の上面よりも低く設定されており、操作ボタンや表示器などが設けられて操作／表示部６５とされている。
【００８７】
この操作／表示部６５には、後述する各色のインクカートリッジ６６ｋ、６６ｃ、６６ｍ、６６ｙの装着位置（配置位置）に対応する配置位置で、各色のインクカートリッジ６６ｋ、６６ｃ、６６ｍ、６６ｙの残量がニアーエンド及びエンドになったことを表示するための各色の残量表示部６５ｋ、６５ｃ、６５ｍ、６５ｙが配置されている。更に、この操作／表示部６５には、電源ボタン６５ａ、用紙送り／印刷再開ボタン６５ｂ、キャンセルボタン６５ｃも配置されている。
【００８８】
カートリッジ装填部６４は、インクカートリッジ６６が装填される箇所であり、装置本体６１の前面側の開口から後方側に向って挿入して装填可能とされている。カートリッジ装填部６４には、そのインクカートリッジ６６の装填のための前面側の開口を開閉すべく前カバー（カートリッジカバー）６７が設けられている。カートリッジ装填部６４は、色の異なる液体（インク）を収容した複数のインクカートリッジ６６が、それぞれ装置本体６１の前面側から後方側に向って挿入して装填される。本実施例では、黒（Ｋ）インクを収容したインクカートリッジ６６ｋ、シアン（Ｃ）インクを収容したインクカートリッジ６６ｃ、マゼンタ（Ｍ）インクを収容したインクカートリッジ６６ｍ、インクカートリッジ６６として、イエロー（Ｙ）インクを収容したインクカートリッジ６６ｙ（以下、色を区別しないときはインクカートリッジ６６という。）が用いられている。このインクカートリッジ６６ｋ、６６ｃ、６６ｍ、６６ｙは縦置き状態で横方向（主走査方向）に並べて装填する構成となっている。
【００８９】
このインクジェット記録装置６０（装置本体６１）は、図７および図８に示すように、上述してきた各液滴吐出ヘッド１０が搭載されたキャリッジ６８と、それを支持する主ガイドロッド６９とを有する。この主ガイドロッド６９は、装置本体６１の外形形状を形成するフレーム７１のうちのメイン側板７１ａ、７１ｂ（図８参照）を架け渡して設けられている。この主ガイドロッド６９の延在方向に沿って摺動可能にキャリッジ６８が支持されている。
【００９０】
キャリッジ６８は、図示は略すがタイミングベルトを介して受ける主走査モータからの駆動力により、主ガイドロッド６９上をその延在方向（図８の矢印Ａ１０参照）に沿って移動可能とされている。この移動方向が、インクジェット記録装置６０における主走査方向となる。
【００９１】
このキャリッジ６８には、色の異なる液体（インク）を収容した複数の液滴吐出ヘッド１０が、下向き姿勢となる（各ノズル孔１５が後述する搬送ベルト８３と対向する）ように、主走査方向に並列されて搭載されている。本実施例では、液滴吐出ヘッド１０として、ブラック（Ｋ）の液滴を吐出するための液滴吐出ヘッド１０Ｋ、シアン（Ｃ）の液滴を吐出するための液滴吐出ヘッド１０Ｃ、マゼンタ（Ｍ）の液滴を吐出するための液滴吐出ヘッド１０Ｍ、イエロー（Ｙ）の液滴を吐出するための液滴吐出ヘッド１０Ｙ（以下では、色を区別しないときは液滴吐出ヘッド１０という。）が用いられている。この液滴吐出ヘッド１０には、図示は略すがドライバＩＣが搭載されており、インクジェット記録装置６０の制御部（図示せず）との間でハーネス（フレキシブルプリントケーブル）７０を介して接続されている。
【００９２】
本実施例では、キャリッジ６８には、各液体吐出ヘッド１０に個別に対応して、それらの共通液室２１（図１参照）に通じる４つの液体タンク７２が設けられている。この各液体タンク７２は、可撓性を有する供給チューブ７３を介してカートリッジ装填部６４に装着された対応するインクカートリッジ６６に接続されており、当該各インクカートリッジ６６から各色のインクが補充供給可能とされている。このインクの補充供給のために、カートリッジ装填部６４には、インクカートリッジ６６内の液体を送液するための送液手段である供給ポンプユニット７４が設けられている。なお、供給チューブ７３は、図示の例では各色に対応する４つの管が１つに束ねられて構成されており（図８参照）、その中間箇所が保持部材７３ａを介してフレーム７１を構成する後板７１ｃに固定されている。この液体吐出ヘッド１０から吐出された液滴は、記録紙Ｓ上に画像として記録（形成）される。この記録紙Ｓは、給紙トレイ６２に設けられた用紙積載部（圧板）７６上に積載されており、この記録紙Ｓを給紙トレイ６２から給紙するために、装置本体６１には給紙部が設けられている。
【００９３】
この給紙部は、給紙コロ（半月コロ）７７と分離パッド７８とを有する。給紙コロ７７は、半月状とされた円柱部材であり、この給紙コロ７７に対向して分離パッド７８が設けられている。分離パッド７８は、摩擦係数の大きな材質からなり給紙コロ７７側に付勢されている。この給紙部では、給紙コロ７７と分離パッド７８とにより、用紙積載部７６から記録紙Ｓを１枚ずつ分離給送することが可能とされている。この給紙部から給紙された記録紙Ｓを液体吐出ヘッド１０の下方側に送り込むために、装置本体６１には、給送部が設けられている。
【００９４】
この給送部は、記録紙Ｓを案内する案内部材７９と、カウンタローラ８０と、搬送ガイド部材８１と、先端加圧コロ８２ａを有する押さえ部材８２とを有し、記録紙Ｓを搬送手段である搬送ベルト８３に給送する。
【００９５】
搬送ベルト８３は、無端状ベルトであり、搬送ローラ８４とテンションローラ８５との間に掛け渡されて、ベルト搬送方向（副走査方向（図８に示す矢印Ａ１１参照））に周回可能とされている。この搬送ベルト８３は、給送された記録紙Ｓを静電吸着して液体吐出ヘッド１０の各ノズル孔１５（図１および図２等参照）に対向する位置へと搬送する。この搬送ベルト８３の表面を帯電させるために、装置本体６１には、帯電手段である帯電ローラ８６が設けられている。帯電ローラ８６は、搬送ベルト８３の表面に接触するように配置され、搬送ベルト８３の回動に従動して回転する。また、装置本体６１には、搬送ベルト８３の裏側にガイド板８７が設けられている。ガイド板８７は、記録紙Ｓの平面性を保持するものである。このガイド板８７は、搬送ベルト８３を介在させて、各液体吐出ヘッド１０による印写領域に対応するように各液体吐出ヘッド１０の各ノズル孔１５（図１および図２等参照）に対向する位置に設けられている。
【００９６】
搬送ベルト８３は、図示は略すがタイミングベルトを介して副走査モータからの駆動力を受けた搬送ローラ８４が回転駆動されることにより、ベルト搬送方向（副走査方向）に周回移動すなわち循環される。この装置本体６１には、循環方向で見て、液体吐出ヘッド１０による印写領域の下流側に排紙部が設けられている。
【００９７】
この排紙部は、分離爪８８、排紙ローラ８９および排紙コロ９０を有する。分離爪８８は、搬送ベルト８３から記録紙Ｓを分離するものである。この排紙部により排紙された記録紙Ｓが積載される排紙トレイ６３は、排紙ローラ８９の下方に位置されている。
【００９８】
このインクジェット記録装置６０では、装置本体６１の背面側に両面ユニット９１が着脱自在に装着されている。両面ユニット９１は、排紙部において搬送ベルト８３から分離させずに搬送ベルト８３の循環により戻された記録紙Ｓを取り込み、当該記録紙Ｓを反転させて再度カウンタローラ８０と搬送ベルト８３との間に給紙するものである。この両面ユニット９１の上面には、手差しトレイ９２が設けられている。
【００９９】
インクジェット記録装置６０では、図８に示すように、キャリッジ６８の移動方向である主走査方向（主ガイドロッド６９の延在方向）で見て、中間部分が上記した液体吐出ヘッド１０による印写領域とされ、その両端が非印写領域とされている。この両非印写領域では、一方に維持回復機構９３が設けられ、他方に空吐出受け９４が設けられている。
【０１００】
この維持回復機構９３には、液体吐出ヘッド１０の各ノズル面をキャピングするための各キャップ部材（以下「キャップ」という。）９６ａ〜９６ｄ（区別しないときはキャップ９６という。）と、ノズル面をワイピングするためのブレード部材であるワイパーブレード９７と、増粘した記録液を排出するために記録に寄与しない液滴を吐出させる空吐出を行うときの液滴を受ける空吐出受け９８などを備えている。ここでは、キャップ９６ａを吸引及び保湿用キャップとし、他のキャップ９６ｂ〜９６ｄは保湿用キャップとしている。
【０１０１】
空吐出受け９４は、記録中などに増粘した液体を排出するために記録に寄与しない液滴を吐出させる空吐出を行うときの液滴を受けるものであり、液体吐出ヘッド１０のノズル列方向に沿った開口部９４ａが設けられている。この開口部９４ａは、図示は略すが廃液タンクに通じる構成とされている。
【０１０２】
そして、この維持回復機構９３による維持回復動作で生じる記録液の廃液、キャップ９６に排出されたインク、あるいはワイパーブレード９７に付着して図示を略すワイパークリーナで除去されたインク、空吐出受け９４に空吐出されたインクは図示しない廃液タンクに排出されて収容される。
【０１０３】
インクジェット記録装置６０では、上記した給紙部により記録紙Ｓが１枚ずつ給紙トレイ６２から給送部へと分離給紙される。この記録紙Ｓは、案内部材７９の案内により略鉛直上方に給紙され、搬送ベルト８３とカウンタローラ８０との間に挟まれて搬送され、先端を搬送ガイド部材８１で案内され、先端加圧コロ８２ａで搬送ベルト８３に押し付けられる。
【０１０４】
このとき、帯電ローラ８６には、図示を略す制御部のＡＣバイアス供給部から、プラス出力とマイナス出力とが交互に繰り返すような所謂交番する電圧が印加され、搬送ベルト８３は、交番する帯電電圧パターンに帯電、すなわち循環（周回）方向である副走査方向にプラスとマイナスが所定の幅で帯状に交互に帯電されている。このプラス、マイナス交互に帯電した搬送ベルト８３上に記録紙Ｓが給送されると、記録紙Ｓは、搬送ベルト８３に吸着される。このため、記録紙Ｓは、上記した各部材による案内および押し付けと帯電による吸着力とにより適切な状態で搬送ベルト８３に吸着され、搬送ベルト８３の循環（周回移動）により搬送ベルト８３の循環方向に沿って略９０°搬送方向を転換され、副走査方向に搬送されて、記録領域に送られる。
【０１０５】
この記録領域では、図示を略す制御部が、リニアエンコーダ９９による主走査位置情報に基づいてキャリッジ６８を主走査方向に移動させながら画像信号に応じて各液体吐出ヘッド１０を駆動させることにより、停止している記録紙Ｓに液滴が吐出されて１行分の画像が記録される。この後、図示を略す制御部は、記録紙Ｓを副走査方向に所定量搬送し、次の行の記録を行う。図示を略す制御部は、この記録動作を繰り返し行い、記録終了信号又は当該記録紙Ｓの後端が記録領域に到達した信号を受けると記録動作を終了して、当該記録紙Ｓを搬送ベルト８３の循環（周回）移動により排紙トレイ６３に排紙する。これにより、所望の画像を、所望の記録媒体（給紙された記録紙Ｓ）に記録することができる。
【０１０６】
このインクジェット記録装置６０では、記録開始前、記録途中等に、キャリッジ６８が空吐出受け９４の上方または維持回復機構９３の空吐出受け部９８の上方へと適宜待避され、記録とは関係なく各液体吐出ヘッド１０が駆動されてインクを吐出する空吐出動作が行われる。これにより、各液体吐出ヘッド１０の安定した吐出性能が維持される。
【０１０７】
また、インクジェット記録装置６０では、印字（記録）待機中には、キャリッジ６８を維持回復機構９３の上方に移動させ、その各キャップ１９で各液体吐出ヘッド１０のノズル面１６ａをキャッピングし、その各ノズル孔１５（図１および図２等参照）を湿潤状態に保つことにより、その各ノズル孔１５に液体乾燥による吐出不良が生じることを防止している。
【０１０８】
さらに、インクジェット記録装置６０では、キャップ９６で液体吐出ヘッド１０をキャッピングした状態で図示しない吸引ポンプによってノズルから記録液を吸引し（「ノズル吸引」又は「ヘッド吸引」という。）し、増粘した記録液や気泡を排出する回復動作を行う。これにより、液体吐出ヘッド１０の安定した吐出性能が維持される。
【０１０９】
なお、本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法を用いて製造される液滴吐出ヘッドは、画像記録装置としての、プリンタ、ファクシミリ装置、複写装置、これらの複合機などにも搭載することができ、インク以外の液体、例えばＤＮＡ試料やレジスト、パターン材料などを吐出するための液滴吐出ヘッド、それを搭載した液滴吐出装置、あるいはこれらを備える画像形成装置にも適用することができる。
【０１１０】
以上、本発明を実施例に基づき詳述してきたが、この具体的な構成に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない程度の設計的変更は、本発明の技術的範囲に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】本発明に係るエネルギービーム穿孔加工方法を用いて製造される液滴吐出ヘッドの要部の構造を概略的に示す説明図である。
【図２】液滴吐出ヘッドの説明のための概略的な分解斜視図である。
【図３】本発明に係るエネルギービーム穿孔加工装置の構成を模式的に示す説明図である。
【図４】エネルギービーム穿孔加工装置の要部の様子を模式的に示す説明図である。
【図５】エネルギービーム穿孔加工装置における穿孔加工の様子を説明するための説明図であり、（ａ）は１回目の照射工程を示し、（ｂ）は２回目の照射工程を示し、（ｃ）は３回目の照射工程を示し、（ｄ）は最後から数えて３回目の照射工程を示し、（ｅ）は最後から数えて２回目の照射工程を示し、（ｆ）は最後の照射工程を示している。
【図６】エネルギービーム穿孔加工方法を用いて製造される液滴吐出ヘッドが搭載された液滴吐出記録装置を示す模式的な斜視図である。
【図７】本発明に係る液滴吐出記録装置の内部構成を説明するために当該内部を主走査方向で見た概略的な説明図である。
【図８】図７に示す矢印Ａ９に沿って見た概略的な説明図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１０  液滴吐出ヘッド
１１  （被加工部材としての）ノズル板
１５  （貫通孔としての）ノズル孔
１７  インク液室
１９  （吐出エネルギー発生体としての）圧電素子
３０  エネルギービーム穿孔加工装置
４０  マスク
４１  縮小レンズ
４２  （貫通孔パターンとしての）透過孔
４３  遮蔽機構
４４  遮蔽部材
４７  照射領域
４８  照射分割領域
６０  （記録装置としての）インクジェット記録装置
Ｌ  （エネルギービームとしての）エキシマレーザ光
Ｌｄ  （透過孔形ビーム）透過孔形レーザ光
【図１】
2009190054.tif 000003
【図２】
2009190054.tif 000004
【図３】
2009190054.tif 000005
【図４】
2009190054.tif 000006
【図５】
2009190054.tif 000007
【図６】
2009190054.tif 000008
【図７】
2009190054.tif 000009
【図８】
2009190054.tif 000010