(57)【要約】      （修正有）【課題】感光性材料を用いたストライプ状パターンの形成方法において、感光性材料層上もしくは感光性材料層中に存在する異物起因によるストライプ状パターンの断線を防止する。【解決手段】感光性材料層への光の入射角を変化させながらストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成する方法であって、該露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させる。もしくは、２回以上露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成する方法であって、該２回以上の露光において、全ての露光に用いる光を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直とし、かつ少なくとも１回の露光における該感光性材料層への光の入射角を、他の露光における該感光性材料層への光の入射角と異なるようにする。【選択図】図１
2009069744.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に感光性材料層を設け、該感光性材料層への光の入射角を変化させながらストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成するストライプ状パターンの形成方法であって、該露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させることを特徴とするストライプ状パターンの形成方法。
【請求項２】
基板上に感光性材料層を設け、ストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して２回以上露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成するストライプ状パターンの形成方法であって、該２回以上の露光において、全ての露光に用いる光を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直とし、かつ少なくとも１回の露光における該感光性材料層への光の入射角を、他の露光における該感光性材料層への光の入射角と異なるようにすることを特徴とするストライプ状パターンの形成方法。
【請求項３】
前記露光時の光の前記感光性材料層への入射角の最大値と最小値の差が、２°〜５０°であることを特徴とする請求項１または２に記載のストライプ状パターンの形成方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のストライプ状パターンの形成方法を用いて隔壁前駆体を形成し、該隔壁前駆体を焼成して隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ストライプ状パターンの形成方法に関するものであり、さらにこれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す）が注目されている。
【０００３】
ＰＤＰの背面板は、図３（ｂ）に示すように、光の３原色である赤・青・緑の画素を規則的に配置した構造を有しており、各画素の間をストライプ状の隔壁１５が形成された構造を有している。最近では、隔壁１５に直行するように横隔壁を有する背面板も存在する。
【０００４】
ＰＤＰの構成を図３（ａ）に示す。背面板２７のガラス基板１４上には、その内面に、ストライプ状のアドレス電極１６が複数本、前面板２１側のガラス基板１４上に形成されている表示電極１１と直交する方向に並走している。アドレス電極１６の上には誘電体層１７が全面に形成されており、更にその誘電体層１７の上の、それぞれのアドレス電極１６どうしの間の位置に、これもストライプ状の隔壁１５がそれぞれ１本ずつ、アドレス電極１６に略平行に設けられている。そして、誘電体層１７の上には、各隔壁１５の側面上も含めて、蛍光体膜１８〜２０が形成されている。この蛍光体膜は可視光発光のためのもので、カラー表示のプラズマディスプレイであれば、Ｒ（赤色）蛍光体膜１９、Ｇ（緑色）蛍光体膜２０、Ｂ（青色）蛍光体膜１８の３色の蛍光体膜が交互に規則的に形成されている。また、前面板２１のガラス基板１４上のプラズマディスプレイの縦方向の画素と画素の間には、画像表示時のコントラストを維持するためにブラックストライプ２６が形成される場合がある。さらに表示電極１１を被覆してガラスを主成分とする誘電体層１２が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層１２を被覆して保護層１３が形成されている。
【０００５】
ＰＤＰを構成する前面板および背面板のうち、電極層、誘電体層、隔壁層、蛍光体層においては、基板上に感光性ペーストを塗布または積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光、その後現像液を用いて現像することによりパターン形成する方法が知られている。
【０００６】
例えば基板上にセラミック粉末と紫外線硬化型樹脂からなる層を形成し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光・現像して隔壁前駆体を形成し、これを焼成することにより隔壁を形成する方法（特許文献１）や、基板上にガラスペーストを塗布・乾燥したのち感光性レジストを塗布し、該感光性レジストを所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光・現像し、次いでサンドブラストによりパターン加工して隔壁前駆体を形成し、これを焼成して隔壁を形成する方法（特許文献２）、また隔壁上に感光性蛍光体ペーストを全面塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像後に焼成することによって隔壁間にのみ蛍光体層を形成する方法などが提案されている（特許文献３）。
【０００７】
しかしながら、このような方法では、フォトマスクに異物が付着した場合、あるいはキズがあった場合、さらには、感光性材料の上や感光材料中に異物が存在した場合、パターン不良が発生する。これは、異物や傷が存在する場合、異物により光が遮断されたり、また光が屈折したりするため、感光性材料が十分に露光されず、その後の現像によって、断線あるいは短絡等の欠陥が発生し、歩留まりが低下するという問題があった。
【０００８】
これに対し、フォトマスク上に異物が付着する問題に対しては、基板上に設けられた感光性材料層を、ストライプ状パターンを有するフォトマスクを介して露光する際、フォトマスクまたは基板を動かしながら露光する方法、あるいは一回の露光動作後、一度フォトマスクまたは基板を動かし、再度露光する方法が提案されている（特許文献４）。しかしながら、これらの方法によっては、感光性材料中に異物やゴミを含有している、または感光性材料層上に異物やゴミが付着すると隔壁の断線を防ぐことができないという問題があった。
【特許文献１】特開平２−１６５５３８号公報
【特許文献２】特開平７−３２０６４１号公報
【特許文献３】特開２０００−１１３６１４号公報
【特許文献４】ＷＯ  ２００６／０２５２６６  Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで本発明は、感光性材料を用いたストライプ状パターンの形成方法において、感光性材料層上もしくは感光性材料層中に存在する異物起因によるストライプ状パターンの断線を防止することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するための手段として、本発明は、基板上に感光性材料層を設け、該感光性材料層への光の入射角を変化させながらストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成するストライプ状パターンの形成方法であって、該露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させる。もしくは、基板上に感光性材料層を設け、ストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して２回以上露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成するストライプ状パターンの形成方法であって、該２回以上の露光において、全ての露光に用いる光を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直とし、かつ少なくとも１回の露光における該感光性材料層への光の入射角を、他の露光における該感光性材料層への光の入射角と異なるようにする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、感光性材料を用いたストライプ状パターンの形成方法において、感光性材料層上もしくは感光性材料層中に存在する異物起因によるストライプ状パターンの断線を防止することができる。さらに、例えば、高歩留まりでのプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、基板上に感光性材料層を設け、ストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成するストライプ状パターンの形成方法において、該感光性材料層への光の入射角を変化させながらストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して露光し、該露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させるか、２回以上露光し、全ての露光に用いる光を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直とし、かつ少なくとも１回の露光における該感光性材料層への光の入射角を、他の露光における該感光性材料層への光の入射角と異なるようにすることを特徴とする。
【００１３】
本発明における露光方法を図１を用いて説明する。図１（ａ）は、感光性材料層を設けた基板９に、ストライプ状の光透過部を有するフォトマスク８を介して露光する際、感光性材料層の表面に対し、露光時の光が垂直に入射する状態を示す。図１（ｂ）は、感光性材料層を設けた基板９に、ストライプ状の光透過部を有するフォトマスク８を介して露光する際、感光性材料層の表面に対し垂直ではないが、ストライプ状パターンの長手方向Ａに対しては略垂直に入射する状態を示す。本発明は、例えば図１（ａ）および図１（ｂ）に示す両方の状態を含むように、光の入射角を変化させながら露光するか、もしくは２回以上の露光を行うことによって、光が入射する方向はストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直であるが、入射角の異なる光で露光を行うことを特徴とする。
【００１４】
ここでいう露光動作とは、エネルギー線を、所望のパターンを有するフォトマスクを介して連続して照射する動作をいう。従って、１回の露光動作とは、エネルギー線の照射を開始してから照射を終了するまでの動作をいう。また、フォトマスクとは、前記エネルギー線を透光する部分と遮光する部分が所望のパターンで配設されたものをいう。露光される感光性を有する層がネガ型の場合は、フォトマスクからエネルギー線が透光した部分が硬化し、またポジ型の場合はその部分が分解され、所望の現像液により不要部分を溶解除去することにより目的のパターンが形成される。
【００１５】
本発明で形成されるストライプ状パターンは、フォトリソグラフィー法で形成されるものであり、例えば、半導体製造工程、ハードディスク製造工程、プリント基板製造工程、印刷板製造工程、太陽電池製造工程などの各種ストライプパターン形成行程で用いることができる。中でもＰＤＰや液晶ディスプレイなどフラットパネルディスプレイの製造工程で好適に用いられる。とりわけ、上述のＰＤＰの前面板や背面板の電極層、誘電体層、隔壁層、蛍光体層の形成に特に好適である。これらの中でも、感光性ガラスペーストを用いたＰＤＰ背面板の隔壁パターンの形成に特に好適に用いることができる。なお、本発明は、図３のようにストライプ状の隔壁１５を有する背面板にも用いることができるが、隔壁１５および隔壁１５に直交するストライプ状の補助隔壁からなる格子状隔壁を有する背面板にも好適に適用することができる。
【００１６】
本発明は、特に感光性材料中に異物やゴミを含有している場合や、感光性材料層上に、異物が付着した場合や、キズ、気泡があった場合などに好適に用いられる。ここでいう異物とは、特に限定はされないが、金属や樹脂など感光性材料に本来含有されない成分である。
【００１７】
感光性材料層中に異物が存在した場合、露光時の光が異物により遮断される状態を図４に模式的に示す。金属異物など遮光性の異物が感光性材料層２２に存在した場合、異物２４の下側には光が届かず、本来露光されるべき領域に未露光部２５が発生する。ネガ型の感光性材料の場合、この未露光部２５が原因でパターンの欠けや断線が発生する。また、ポジ型の感光性材料の場合はパターン太りや短絡の原因となる。ここでいうパターンの欠けとは、隔壁の一部分が欠けている状態のとこをいい、断線とは隔壁が底部から頂部にわたり欠けている状態をいう。
【００１８】
そこで本発明では、上述のよう露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させて露光する。これにより、異物が存在した場合も、異物の下に露光の光を照射することが可能であり、欠け、断線や太り、短絡の発生を防止することができる。
【００１９】
本発明における露光を行うための露光機の構成を図２に模式的に示す。ランプ２から出た光は、集光鏡１によって反射され、第一の平面ミラー３に反射しインテグレータレンズ６を通過することで、光源の輝度ムラを低減し、次いで、第二の平面ミラー４、コリメータミラー７、反射板５、最後にフォトマスク８を通過して感光性材料層を設けた基板９へ露光される。
図２（ａ）では、フォトマスク８を介して感光性材料層を設けた基板９に、光が感光性材料層に対して垂直に入射しているが、本発明においては必ずしも図２（ａ）のように光が感光性材料層に垂直に入射する状態での露光を行わなくても良い。
【００２０】
本発明においては、露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させて露光することを特徴とする。このときの入射角を変更する方法としては、特に限定はされないが、たとえば図２（ｂ）に示すようにフォトマスク８および感光性材料層を設けた基板９とからなる被露光体を回転軸１０を中心に回転させながら露光する、あるいは回転させて複数回露光する方法や、図２（ｃ）に示すように露光の光路を決定する反射板５の角度を回転軸１０を中心に回転させながら露光する、あるいは回転させて複数回露光する方法により、入射角を変更することができる。ここで回転軸１０の位置は、被露光体や反射板の中心としたが、場所は特には限定されず、露光時の光が入射する方向を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、入射角を変化させることができるならばどこでもよい。
【００２１】
入射角の変更範囲は、最大値と最小値の範囲が２°〜５０°が好ましい。これは回転角度が２°以下では、感光性材料層上に付着した異物、キズなどによる隔壁パターン欠陥の発生を抑制する効果が低くなるためである。一方で、回転角度が５０°を超えると露光動作時間がかかり、タクトタイムが長くなるため生産性が低下する。
【００２２】
また、入射角度を変更する際の、変化の速度は０．０５π  ｒａｄ／ｓ〜０．００５π  ｒａｄ／ｓが好ましい。０．００５π  ｒａｄ／ｓより遅いとタクトタイムが長くなるため生産性が低下し、０．０５π  ｒａｄ／ｓより早いと十分な露光量を得ることができないためである。
【００２３】
一方で、本発明では、ストライプ状の光透過部を有するフォトマスクを介して２回以上露光し、現像することによってストライプ状パターンを形成するストライプ状パターンの形成方法であって、該２回以上の露光において、全ての露光に用いる光を該ストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直とし、かつ少なくとも１回の露光における該感光性材料層への光の入射角を、他の露光における該感光性材料層への光の入射角と異なるようにすることで、断線の発生を防止することができる。
【００２４】
このときの１回目と２回目の入射角度の差は、特に限定されないが２°〜５０°が好ましい。もちろん、３回、４回と複数回入射角度を変更して、露光することは、より本発明の効果を発揮できるため、好ましい。
【００２５】
本発明は感光性材料の厚みよりも、異物のサイズが小さい場合に特に効果的である。
【００２６】
また、本発明で使用するフォトマスクに配設されたパターン長さは、前述した塗布幅より長いことが好ましい。具体的には、感光性ペーストの塗布幅Ｌに対し、１〜２０ｍｍ、さらには１〜１０ｍｍ長いことが好ましい。前記範囲未満では、露光動作中の反射板または被露光面（平行に保たれたフォトマスクと基板）の回転により、隔壁パターン終端部に相当する部位の露光不足が起こり、パターンの細りやハガレが発生しやすくなり、前記範囲を超えると、エネルギー線の光漏れにより不要な部分が硬化してしまう懸念があるため好ましくない。
【００２７】
また、パターン終端部での露光量不足を防止する目的で、感光性ペースト塗布膜の厚みが、隔壁パターンの長手方向の終端部に向かうにしたがい薄くなる形状（端部テーパー形状）であることが好ましい。本発明において、終端部をテーパー形状とする場合は、その長さは塗布膜終端部から１〜１０ｍｍが好ましく、さらには１．２〜８ｍｍであることが好ましい。テーパー部分が前記範囲未満では露光不足を抑制する効果が低く、また前記範囲を超える場合は標準部のパターン長さが短くなるため好ましくない。
【００２８】
さらに、このような端部での露光不足を低減するために、隔壁長手方向パターン終端部に相当する部位のみ、フォトマスクに配設されたストライプ状パターンの幅を太くしたり、円形にしたりする方法も本発明では好ましく適用される。例えば隔壁長手方向パターン終端部のパターンの幅を太くする場合は、フォトマスクと基板とを相対移動させる距離により異なるが、パターン長手方向終端部から通常相対移動距離の１．２倍〜３倍に相当する長さ分、標準（中央部）の幅の１．１〜５倍太くすることが好ましい。尚、ここでいう終端部とは、連続した直線状のパターンの始点および終点のことをいい、標準部とはＰＤＰとして実際に映像を表示するエリアのことを言う。
【００２９】
本発明で用いる基板としては、特に限定されないが、ＰＤＰに用いられる場合は光線透過率が高く、機械的強度、寸法安定性が優れたガラスが好適である。ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどが好適である。他にポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などのプラスチック板や、ロール状に巻き上げられたフィルムなどが使用することができる。さらに隔壁パターンが形成され蛍光体が塗布されたＰＤＰ背面板に使用される場合、ガラスまたはプラスチック、フィルムの上にＰＤＰ背面板の要求特性を満足させる各種の電極、隔壁、誘電体が形成されたりするものが使用される。
【００３０】
例えば、ＰＤＰに使用されるガラス基板については、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の耐熱ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”などが挙げられる。
【００３１】
本発明で露光動作時に使用されるエネルギー線は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。
【００３２】
ここで、フォトマスクと感光性材料層表面との距離、すなわちギャップ量は５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップ量を５０μｍ以上さらには７０μｍ以上とすることにより、ギャップ調整時での感光性材料層とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下さらには４００μｍ以下とすることにより、適度にシャープなパターニングが可能となる。
【００３３】
本発明で用いられる感光性材料は、限定はされないが、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を添加することが好ましい。
【００３４】
これら感光性材料は、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。次いで上記のような感光性材料の塗布後、乾燥、露光、現像、焼成を行う。
【００３５】
これらの一連の形成工程において、感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【００３６】
露光後実施される現像は、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。
【００３７】
現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分が溶解可能である溶液を用いる。たとえば感光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
【実施例】
【００３８】
以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。なお、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。
【００３９】
（実施例１）
ガラス基板ＰＤ２００（サイズ：９６４×５７０ｍｍ）上に感光性銀ペーストを用いてアドレス電極を作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼成工程を経て、線幅１００μｍ、厚み３μｍ、ピッチ３００μｍのアドレス電極を形成した。
【００４０】
次に、酸化ビスマスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０重量％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５重量％、テルピネオール１５重量％を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように２０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘電体層を形成した。
【００４１】
誘電体層上に、感光性ペーストを塗布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を含む有機成分から構成され、ガラス粉末としては、酸化リチウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３０重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重量％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラスを粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末を用いた。感光性成分を含む有機成分としては、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー３０重量％、トリメチロールプロパントリアクリレート３０重量％、光重合開始剤である“イルガキュア３６９”（チバガイギー社製）１０重量％、γ−ブチロラクトン３０重量％からなるものを用いた。
【００４２】
感光性ペーストは、これらのガラス粉末と感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量比率で混合したものに平均粒径３０μｍのＳＵＳ粉末を１００ｐｐｍ含ませた後に、ロールミルで混練して作製した。
【００４３】
次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて塗布幅が５３０ｍｍ、乾燥後厚み２００μｍになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。乾燥後、ピッチ３００μｍ、幅５０μｍ、長さ５３６ｍｍのストライプ状パターンが配設されたフォトマスクを準備し、露光照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光時間２０秒、フォトマスクと基板上の塗布膜間距離（ギャップ量）を２００μｍで、基板とフォトマスクの位置を合わせた後、露光に用いる光が入射する方向をストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、角速度０．０１πｒａｄ／ｓ、被露光面への入射角を０°〜３５°で変化させながら露光動作を実施した。
【００４４】
露光後、０．５重量％のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、５８０℃で１５分間焼成することにより、隔壁パターンを得た。
【００４５】
得られた隔壁パターンを画像検査装置（Ｖテクノロジー製  スーパーネプチューン９０００）にて欠陥検査を実施した。検査の結果、得られた隔壁パターンに完全に隔壁が途切れた状態である断線、特異的に隔壁幅が広くなった状態である太り、特異的に一部だけが細くなっている状態である短絡などの欠陥はないものであった。
【００４６】
（比較例１）
実施例１において、露光動作時の露光光の入射角の変化を実施しなかった（反射板も被露光面も静止状態）他は同一手法にて隔壁パターンを得た後、画像検査を実施した。検査の結果、得られた隔壁パターンは感光性材料層に含有しているＳＵＳ粉末が原因の断線が無数に発生したものであった。
【００４７】
（実施例２）
実施例１の露光動作において、基板とフォトマスクの位置を合わせた後、一度１０秒間露光動作を実施し、その後露光に用いる光が入射する方向をストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、被露光面（平行を保持したフォトマスクと基板）を、角速度０．０１ｒａｄ／ｓ、被露光面への入射角を０°〜３５°で変化させながら露光動作を実施した。他は同一手法にて隔壁パターンを得た。得られた隔壁パターンを画像検査装置にて欠陥検査を実施した。検査の結果、断線、太り、短絡などの欠陥はないものであった。
【００４８】
（実施例３）
ガラス基板ＰＤ２００（サイズ：９６４×５７０ｍｍ）上に感光性銀ペースト用いてアドレス電極を作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼成工程を経て、線幅１００μｍ、厚み３μｍ、ピッチ３００μｍのアドレス電極を形成した。
【００４９】
次に、酸化ビスマスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５％、テルピネオール１５％を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように２０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘電体層を形成した。
【００５０】
誘電体層上に、感光性ペーストを塗布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を含む有機成分から構成され、ガラス粉末としては、酸化リチウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３０重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重量％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラスを粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末を用いた。感光性成分を含む有機成分としては、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー３０重量％、トリメチロールプロパントリアクリレート３０重量％、光重合開始剤である“イルガキュア３６９”（チバガイギー社製）１０重量％、γ−ブチロラクトン３０重量％からなるものを用いた。
【００５１】
感光性ペーストは、これらのガラス粉末と感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量比率で混合したものに平均粒径３０μｍのＳＵＳ粉末を１００ｐｐｍ含ませた後に、ロールミルで混練して作製した。  
【００５２】
次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて塗布幅が５３０ｍｍ、乾燥後厚み１７０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。
【００５３】
乾燥後、ピッチ７００μｍ、幅５０μｍ、長さ９３０．６ｍｍのストライプ状パターン（補助隔壁用）が配設されたフォトマスクを準備し、露光照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光時間２０秒、フォトマスクと基板上の塗布膜間距離（ギャップ量）を２００μｍで、基板とフォトマスクの位置を合わせた後、露光に用いる光が入射する方向をストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、角速度１．１×１０−２π  ｒａｄ／ｓ、被露光面への入射角を０°〜４０°で変化させながら露光動作を実施した。
【００５４】
その上にさらに平均粒径３０μｍのＳＵＳ粉末１００ｐｐｍを含む感光性ペーストをダイコーターを用いて塗布幅が５２５ｍｍ、乾燥後厚み４０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。
【００５５】
乾燥後、ピッチ３００ｍｍ、幅５０μｍ、一番左右のライン幅は４００μｍ、長さ５３６ｍｍのストライプ状パターン（隔壁用）が配設されたフォトマスクを準備し、露光照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光時間２０秒、フォトマスクと基板上の塗布膜間距離（ギャップ量）を２００μｍで、基板とフォトマスクの位置を合わせた後、露光に用いる光が入射する方向をストライプ状パターンの幅方向に対し略垂直に保ちながら、角速度０．０１π  ｒａｄ／ｓ、被露光面への入射角を０°〜３５°で変化させながら露光動作を実施した。
【００５６】
露光後、０．５重量％のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、５８０℃で１５分間焼成することにより、隔壁と補助隔壁に段差を有する井桁形状の隔壁パターンを得た。
得られた隔壁パターンを画像検査装置（Ｖテクノロジー製  スーパーネプチューン９０００）にて欠陥検査を実施した。検査の結果、得られた隔壁パターンに断線、太り、短絡などの欠陥はないものであった。
【００５７】
（比較例２）
実施例３において、露光動作時の露光光の入射角の変化を実施しなかった（反射板も被露光面も静止状態）他は同一手法にて井桁形状の隔壁パターンを得た後、画像検査を実施した。検査の結果、得られた補助隔壁および隔壁パターンは感光性材料層に含有しているＳＵＳ粉末が原因の断線が無数に発生したものであった。  
【００５８】
（実施例４）
実施例１において、感光性ペーストの塗布膜の露光に用いたフォトマスク（終端部幅および標準部幅が５０μｍ）を、ストライプ状パターン長さ５３０ｍｍ、ストライプ状パターン長手方向終端部から内側に０．８ｍｍの範囲の幅（終端部幅）を８０μｍに変更した他は同一手法により隔壁パターンを得た。すなわち、このフォトマスクの終端部幅は標準部幅の１．６倍である。
【００５９】
得られた隔壁パターンを画像検査装置にて欠陥検査を実施した。検査の結果、得られた隔壁パターンに断線、太り、短絡などの欠陥はないものであった。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明における露光方法を模式的に示した図である。
【図２】本発明における露光を行うための露光機の構成を模式的に示す図である。
【図３】プラズマディスプレイの構成を模式的に示す図である。
【図４】光が異物により遮断される状態を示す図である。
【符号の説明】
【００６１】
１  集光鏡
２  ランプ
３  第一の平面ミラー
４  第二の平面ミラー
５  反射板
６  インテグレータレンズ
７  コリメータミラー
８  フォトマスク
９  感光性材料層を設けた基板
１０  回転軸
１１  表示電極
１２  誘電体層
１３  保護層
１４  ガラス基板
１５  隔壁
１６  アドレス電極
１７  誘電体層
１８  Ｂ（青色）蛍光体膜
１９  Ｒ（赤色）蛍光体膜
２０  Ｇ（緑色）蛍光体膜
２１  前面板
２２  感光性材料層
２３  光が入射する方向
２４  異物
２５  未露光部
２６  ブラックストライプ
２７  背面板
Ａ  ストライプ状パターンの長手方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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