(57)【要約】【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。【解決手段】透明基板３にブラックマトリクス１０を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ１２を形成する。両者がオーバーラップする部分に大きな突起を生じさせず、かつブラックマトリクスの端縁で遮光性が劣化したり膜剥がれが生じないようにブラックマトリクス１０の断面形状を調節する。この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地面に所定膜厚で形成された感光性着色樹脂組成物を７０〜１２０°Ｃでプリベークする第一工程と、
第一工程後に４０〜２００ｍＪの露光量のもとで前記感光性着色樹脂組成物に所定の平面パターンでパターン露光を与える第二工程と、
第二工程後に、濃度０．０４〜０．０５％のＫＯＨを主成分とする現像処理液を用い、現像時間４０〜７０秒、現像温度２３°Ｃ〜２７°Ｃ、現像液圧力０．０１〜０．２ＭＰａで現像処理して未露光の感光性着色組成物を除去する第三工程と、
ポストベークする第四工程と、
をこの順に行い、前記下地面に前記平面パターンをもつ樹脂製薄膜を形成することを特徴とする樹脂製薄膜の製造方法。
【請求項２】
前記第一工程におけるプリベーク温度が８０〜１００°Ｃ、前記第二工程における現像時間が５０〜６０秒、現像温度が２５°Ｃ〜２７°Ｃであることを特徴とする請求項１記載の樹脂製薄膜の製造方法。
【請求項３】
前記第三工程で下地表面上に残される感光性着色樹脂組成物が、その端縁から奥行き方向に向かって下地表面との間に隙間を生じさせるアンダーカット部を有することを特徴とする請求項１または２記載の樹脂製薄膜の製造方法。
【請求項４】
前記アンダーカット部の奥行き方向長さが、２．５μｍ〜８．０μｍであることを特徴とする請求項３記載の樹脂製薄膜の製造方法。
【請求項５】
前記第四工程で得られた樹脂製薄膜が、矩形状の開口を区画する遮光性の格子枠を構成するブラックマトリクスであることを特徴とする請求項１〜４記載の樹脂性薄膜の製造方法。
【請求項６】
前記矩形状の開口を覆い、かつ前記格子枠と部分的にオーバーラップするように、それぞれ透過色光が異なる複数種類の樹脂製カラーフィルタ膜を順次に色ごとに形成するフィルタ形成工程を含むことを特徴とする請求項５記載の樹脂性薄膜の製造方法。
【請求項７】
前記格子枠と前記樹脂製カラーフィルタ薄膜との部分的なオーバーラップ長が、１．０μｍ〜１２μｍであることを特徴とする請求項６記載の樹脂製薄膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッジ部分の断面形状に特徴をもつ樹脂製薄膜の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶用カラーフィルタは、透明基板上にそれぞれ青色光、緑色光、赤色光などの基本色光、さらには必要に応じて付加された黄色光や他の色光だけを透過する微小なマイクロカラーフィルタをマトリクス状あるいはストライプ状に配列したものである。マイクロカラーフィルタは、カラーレジストを用いたフォトリソグラフィ法や染色法、印刷法などのほか、インクジェット法などで形成することができる。
【０００３】
上記マイクロカラーフィルタの形成に先立ち、透明基板上には、液晶セルの画素配列に対応した格子状パターンをもつ遮光性のブラックマトリクスが形成される。ブラックマトリクスを構成している多数の格子枠は、マイクロカラーフィルタの個々の外周縁を取り囲むように区画し、カラー画像を表示するときに隣接画素間での色のにじみをなくしてコントラストを高める作用をもつ。ブラックマトリクスは、例えばクロムなどの遮光性に優れた金属薄膜を透明基板上に真空蒸着して形成することができるが、コストダウン要求や液晶表示素子の大画面化などの背景から、特許文献１，２で知られるように樹脂製のものが多く用いられてきている。
【特許文献１】特許第３２２８１３９号公報
【特許文献２】特開２００３−１６１８２６号公報
【０００４】
マイクロカラーフィルタはブラックマトリクスの格子枠で区画された個々の開口を埋めるように形成されるが、格子枠の開口縁とマイクロカラーフィルタの外周縁との間から光洩れが生じないように、マイクロカラーフィルタは開口縁を越えて部分的に格子枠の一部とオーバーラップするように形成される。ところが、例えばマイクロカラーフィルタについても着色用の顔料を混合した合成樹脂材料を用い、ブラックマトリクスと同様にフォトリソグラフィを用いて形成する場合には、ブラックマトリクスの開口縁の断面形状が透明基板の表面から急峻に切り立った形状になっていると、マイクロカラーフィルタの外周縁をオーバーラップさせたときにその部分が盛り上がってカラーフィルタの平面性を著しく損ねる結果となる。上記特許文献でも知られるように、カラーフィルタの上層にはさらに配向膜、透明電極膜が形成されるが、カラーフィルタに許容範囲を越える凹凸がある場合には、配向膜や透明電極膜を形成する前にこれらの凹凸を埋める透明層を形成し、その表面を研磨して平坦化する工程が必要となってコストアップが避けられない。
【０００５】
この問題に対処するために、特許文献１，２記載の手法では、いずれもブラックマトリクスの開口縁の断面形状線を透明基板の表面から緩い角度で立ち上げ、マイクロカラーフィルタを積層したときのオーバーラップ部分が極端に盛り上がることを防いでいる。さらに特許文献２には、マイクロカラーフィルタを特にインクジェット法で形成する場合であっても、格子枠の開口縁の断面形状線を透明基板の表面から２０°〜５５°の範囲で緩く立ち上げておくことが、ブラックマトリクスとマイクロカラーフィルタとの境界部の段差をなくす上で効果的であることが記載されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ブラックマトリクスの開口を画定する開口縁の断面形状線を透明基板から緩い角度で立ち上げると、マイクロカラーフィルタとオーバーラップさせ得る許容幅を広げることはできるが、開口縁に近づくほど格子枠の膜厚が薄くなって遮光性が低下する。このため、マイクロカラーフィルタを形成するときのオーバーラップ量が不十分であるとマイクロカラーフィルタの周縁部で光洩れが生じ、カラー画像のコントラストを低下させる原因になる。したがってマイクロカラーフィルタの積層時には、上記光洩れが生じないように格子枠との間のオーバーラップ量を確保し、しかもマイクロカラーフィルタの外周縁が格子枠の上面で大きく盛り上がらないように管理しなければならない。さらに、開口縁部分で格子枠の膜厚が薄くなり過ぎると、透明基板との密着性が弱くなって剥がれ故障が出やすくなり、製造効率や歩留りの点で問題がある。
【０００７】
このような問題は、上記のように先に形成されたブラックマトリクスにマイクロカラーフィルタを部分的にオーバーラップさせる場合だけでなく、逆に透明基板上に各色のマイクロカラーフィルタを互いに一定間隔を開けて順次に形成した後、マイクロカラーフィルタ相互間の隙間を埋めるようにブラックマトリクスを形成する場合にも同様に生じる。すなわち、樹脂製の異種の薄膜を部分的にオーバーラップさせて積層する際には、一般に、オーバーラップした部分の盛り上がりをできるだけ抑え、かつ各々の薄膜がそのエッジ部分まで基板や下層の薄膜に強固に密着していることが要求される。
【０００８】
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、透明基板などの下地面に所定パターンをもつ樹脂製の第１薄膜層を形成した後、この第１の薄膜層に部分的にオーバーラップさせて第２の薄膜層を形成する場合に、第１の薄膜層のエッジ部分と下地面との密着性を強固に保ちながらも、第２の薄膜層とのオーバーラップ部分が大きく突出することがないような形態で第１の薄膜層を形成しておくための製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
液晶表示素子に用いられるカラーフィルタを製造する際には、透明基板に前記第１の薄膜層としてブラックマトリクスを形成し、このブラックマトリクスに前記第２の薄膜層としてマイクロカラーフィルタが部分的にオーバーラップするように形成されるが、本発明は上記ブラックマトリクスの製造時に効果的に適用することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、下地面に所定膜厚で形成された感光性着色樹脂組成物をフォトリソグラフィにより所定の平面パターンをもった樹脂製薄膜にするにあたり、下地面に所定膜厚で形成された感光性着色樹脂組成物を７０〜１２０°Ｃでプリベークする第一工程と、第一工程後に４０〜２００ｍＪの露光量のもとで前記感光性着色樹脂組成物に所定の平面パターンでパターン露光を与える第二工程と、第二工程後に、濃度０．０４〜０．０５％のＫＯＨを主成分とする現像処理液を用い、現像時間４０〜７０秒、現像温度２３°Ｃ〜２７°Ｃ、現像液圧力０．０１〜０．２ＭＰａで現像処理して未露光の感光性着色組成物を除去する第三工程と、ポストベークする第四工程とをこの順に行うことを特徴とする。
【００１１】
上記工程中、第一工程におけるプリベーク温度を８０〜１００°Ｃ、前記第二工程における現像時間を５０〜６０秒、現像温度を２５°Ｃ〜２７°Ｃにすることが製造条件としてより好ましい。また、上記第一〜第三工程の適用により、下地表面上に残される感光性着色樹脂組成物が、その端縁から奥行き方向に向かって下地表面との間に隙間を生じさせるアンダーカット部をもつようになることが本発明方法の特徴の一つである。こうして形成されるアンダーカット部は、好ましくはその奥行き方向長さが、２．５μｍ〜８．０μｍの範囲である。
【００１２】
上記第一〜第四工程は、液晶用カラーフィルタに必須のブラックマトリクスの製造に好適に用いられる。ブラックマトリクスは、その平面パターンが、矩形状の開口を区画する遮光性の格子枠を構成するもので、さらに前記矩形状の開口を覆い、かつ前記格子枠と部分的にオーバーラップするように、それぞれ透過色光が異なる複数種類の樹脂製カラーフィルタ膜を順次に色ごとに形成するフィルタ形成工程を加えることにより、本発明は複数種類の樹脂製薄膜が組み合わされた液晶用カラーフィルタの効率的な製造方法としても効果的に用いることができる。この場合、前記格子枠と前記樹脂製カラーフィルタ薄膜との部分的なオーバーラップ長は、１．０μｍ〜１２μｍの範囲にするのが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、液晶用カラーフィルタのブラックスマトリクスの開口縁近傍の断面形状線が改善され、開口縁部分で透明基板との密着性が損なわれたり、またマイクロカラーフィルタを開口縁付近でオーバーラップするように積層しても、極端な凹凸を生じさせたりすることがない。また、液晶用カラーフィルタのブラックマトリクスに限らず、第２の薄膜層が部分的に積層される第１の薄膜層を下地面に形成する際には、本発明を用いることによって、下地面と第１の薄膜層のエッジ部分との密着性を強固に保ちつつ、双方の薄膜層がオーバーラップする領域で極端な凹凸を生じさせないという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明を用いた液晶表示素子の基本的な構造を図５に模式的に示す。支持体となる光学ガラス製の透明基板２，３の表面側には、それぞれ偏光子となる偏光板４と、検光子となる偏光板５が接合されている。透明基板２の内面を下地面として複数の透明電極８が一定のパターンで配列形成され、これらの透明電極８を覆うように配向膜９が形成されている。透明電極８はマトリクス状に配列され、その各々は液晶層６内の液晶分子を画素単位で駆動するために用いられる。
【００１５】
他方の透明基板３の内面を下地面として、ブラックマトリクス１０、マイクロカラーフィルタ１２が形成され、さらにその上を覆うように透明電極１３、配向膜１４が形成されている。ブラックマトリクス１０は、画素単位に設けられた透明電極８の個々に対面するエリアが開口となるような格子状パターンをもち、そしてマイクロカラーフィルタ１２はその開口を塞ぐように形成される。マイクロカラーフィルタ１２には、青色光透過フィルタ、緑色光透過フィルタ、赤色光透過フィルタの３種類があり、そのいずれか1種類のマイクロカラーフィルタで一つの開口が塞がれる。
【００１６】
図５の模式図ではブラックマトリクス１０とマイクロカラーフィルタ１２との境界が直線的に図示しているが、実際には図１に拡大して示すように、ブラックマトリクス１０とマイクロカラーフィルタ１２とは部分的に重なり合うように形成される。図１には、透明基板３にブラックマトリクス１０を形成した後、さらにマイクロカラーフィルタ１２を積層させた液晶用カラーフィルタの１画素分を拡大図示されているが、上述のように部分的に重なり合わせることによって、ブラックマトリクス１０の開口縁１０ａとマイクロカラーフィルタ１２の先端部１２ａとの間に隙間が生じることがなくなる。
【００１７】
ブラックマトリクス１０とマイクロカラーフィルタ１２とを部分的に重なり合わせ、しかもマイクロカラーフィルタ１２の上方への突出量を抑えるために、ブラックマトリクス１０は、透明電極８に対面する開口を画定する開口縁１０ａから略一定の膜厚となる平坦部１０ｂに向かうエッジ部分が、図示のように徐々に膜厚が漸増する断面形状線となっている。このような断面形状線を得るために、ブラックマトリクス１０に合成樹脂製のものが用いられ、透明基板３を上方から見たときの平面パターンとして格子状パターンがフォトリソグラフィを用いて付与される。
【００１８】
ブラックマトリクス１０を構成する樹脂製の薄膜材料は、例えば光硬化性が付与されたアルカリ可溶性の合成樹脂基材に遮光用の着色剤としてカーボンブラックなどの黒色顔料が混合され、また有機溶剤の添加により流動性が与えられている。また、薄膜材料としては、物性的には、現像温度２５°Ｃ、濃度０．０４％〜０．０５％のＫＯＨを主成分とする現像液中で未露光のままでディップ現像を行ったときに、３０〜４５秒で溶解する性質のものが用いられる。
【００１９】
透明基板３をクリーニング処理した後、この薄膜材料を例えばスリットコータを用いて１．０〜２．０μｍの範囲内の略一定の膜厚で下地面に均一に塗布する。なお、塗布の方法としては、インクジェット法やスクリーン印刷法などを用いることも可能である。薄膜材料の塗布の後に真空乾燥処理が行われ、過分な有機溶剤の一部を揮発させる。
【００２０】
次いでプリベーク処理を行ってさらに有機溶剤を蒸発させるが、このときのプリベーク温度は有機溶剤が完全に蒸発してしまうことがないように低めに抑えられる。一般に、通常のプリベーク処理は下地面に薄膜材料を密着させることを目的に行われるのに対し、本発明ではプリベーク温度を７０°Ｃ〜１２０°Ｃ、より好ましくは８０°Ｃ〜１００°Ｃと低めに抑え、薄膜材料の表面側からは充分に有機溶剤を蒸発させながらも、下地面側には有機溶剤を一部残留させる目的で行われる。なお、プリベーク温度やプリベーク時間を制御することによって、薄膜材料の下地面側に残存させる有機溶剤の量を調節することができる。
【００２１】
次いで、ブラックマトリクス１０に格子状の平面パターンを付与するために、格子状の光透過パターンをもつ露光マスクを用いて薄膜材料の表面側からパターン露光が行われる。パターン露光用の光源には高圧水銀ランプが用いられ、一般のパターン露光に用いられるｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）のほかに、通常ではフィルタリングによってカットされるｊ線（３１３ｎｍ）、Ｋ線（３９３ｎｍ）も積極的に用いられる。パターン露光では、薄膜材料に対して４０〜２００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光が行われ、露光された部分の薄膜材料が硬化する。このようなパターン露光処理により、もともと黒色顔料の混合により遮光性が高い薄膜材料に対しても下地面近傍まで光エネルギーを与えることができ、深さ方向で充分な硬化作用が得られるようになる。ただし、下地面近傍の薄膜材料には有機溶剤が残っているのでその硬化作用は抑えられることになる。
【００２２】
次いで濃度０．０４〜０．０５％のＫＯＨを主成分とするアルカリ水溶液を用いて現像処理が行われる。これにより、上記パターン露光に際して露光が与えられなかった部分がアルカリ水溶液中に溶出する。この現像処理は、薄膜材料をアルカリ水溶液でシャワー洗浄する形で行われるが、現像処理時間、シャワー圧、単位時間あたりのアルカリ水溶液の供給量、環境温度の調整により現像の強さを制御することができる。この薄膜材料に対しては、現像時間は４０〜７０秒が好ましく、より好ましくは５０〜６０秒であり、現像温度は２３°Ｃ〜２７°Ｃ、より好ましくは２５°Ｃ〜２７°Ｃであり、現像液圧力（シャワー圧）は０．０１〜０．２ＭＰａが好ましい。
【００２３】
このような現像条件のもとで現像処理を行うことによって、図２（Ａ）に示すパターン露光後の薄膜材料層２０には同図（Ｂ）に示すように、その端部から奥に向かうアンダーカット部分２１が生じる。このアンダーカット部分２１の高さ及び奥行き長さは、現像条件だけではなく、先のプリベーク条件の設定及びパターン露光条件の設定に応じて調節することができる。特に、上述したプリベーク処理により下地面側には有機溶剤が残存していることから、現像処理時のシャワー圧を低めに調節しておいても、残渣をほとんど残すことなくアンダーカット部分２１を形成することができる。なお、図２にはその一部しか表されていないが、アンダーカット部分２１はブラックマトリクス１０の矩形状の開口を取り囲む格子枠の各辺にほぼ同時に同程度形成される。
【００２４】
続いてポストベーク処理が行われる。ポストベーク処理は、薄膜材料中に残像する有機溶剤を蒸発させて薄膜材料を充分に硬化させるための加熱処理で、２００〜２４０°Ｃの温度で２０〜４０分間行われる。このポストベーク処理を行うことにより、アンダーカット部分２１の上方に庇状に張り出している薄膜材料は熱変形し、図２（Ｃ）に示すように透明基板３に接して密着した状態となる。この結果、図１に示す断面線形状をもったブラックマトリクス１０が得られる。
【００２５】
図２（Ｃ）に示すように、ブラックマトリクス１０は開口縁１０ａから平坦部１０ｂに向かって膜厚が漸増するだけでなく、その断面形状線は上凸曲線部分Ｐ１、下凸曲線部分Ｐ２、上凸曲線部分Ｐ３を含む形状となり、下凸曲線部分Ｐ２の両側に少なくとも２つの変曲点を含む。また、図示した断面形状には、上凸曲線部分Ｐ１と下凸曲線部分Ｐ２との間に厚みが略均一な直線部分が含まれ、マイクロカラーフィルタ１２との重ね合わせのラチチュードＳ、すなわち図３に示すように、マイクロカラーフィルタ１２と開口縁１０ａとの間に隙間を生じさせることがない最小のオーバーラップ幅Ｔを確保した上で、ブラックマトリクス１０との重ね合わせ部分でマイクロカラーフィルタ１２を大きく盛り上げずに済むオーバーラップ許容幅Ｓを広げる上で有利となる。
【００２６】
オーバーラップ許容幅Ｓを広げるためには、ブラックマトリクス１０の開口縁１０ａから平坦部１０ｂまでの膜厚漸増領域において、その断面形状線が接線Ｑを越えないような膜厚にすることが有効である。上述したポストベーク処理時の加熱変形により、開口縁１０ｂ近傍及び、平坦部１０ｂとの境界部には上凸の曲線部分Ｐ１，Ｐ３が生じるが、前記接線Ｑはこれらの曲線部分Ｐ１，Ｐ３に共通に接する接線である。そして、膜厚漸増領域の断面形状線がこの接線Ｑを越えない形状に保たれていれば、マイクロカラーフィルタ１２を積層するときのオーバーラップ許容幅Ｓが広く保たれるようになる。
【００２７】
上記のように、ブラックマトリクス１０が膜厚を漸増させる領域の断面形状線に独特の形状を与えるためには、図４に模式的に示すように、現像処理の後、ポストベーク処理を行う前の段階で薄膜材料層２０にアンダーカット部分２１を形成することにある。このアンダーカット部分２１の奥行き長さＬは、基本的には現像処理の強弱によって調節することが可能である。現像処理を強くかけるほどアンダーカット長Ｌが長く、また薄膜材料層２０の端縁（図中の左端）の厚みは薄くなる。
【００２８】
図４に実線で示す薄膜材料層２０のアンダーカット長Ｌ１は最も強く現像処理を行った場合のもので、二点鎖線で示す薄膜材料層のアンダーカット長Ｌ２，Ｌ３は、その順に相対的に現像処理を弱くした場合のものである。そして、アンダーカット長Ｌ１のものでは薄膜材料層２０の端縁の膜厚が薄くなり過ぎ、ブラックマトリクスに要求される遮光性の点で問題が生じやすく、逆にアンダーカット長Ｌ３の薄膜材料層ではマイクロカラーフィルタを部分的にオーバーラップさせたときにその部分にツノ状の突出部が生じる。
【００２９】
これらのことから、ポストベーク前の状態で薄膜材料層２０のアンダーカット長には適切な範囲があり、平坦部におけるブラックマトリクス１０の厚みを１．５μｍ〜２．０μｍの範囲にする場合、薄膜材料層２０に形成されるアンダーカット長Ｌは２．５μｍ〜８．０μｍの範囲が好ましく、この範囲にすることによってマイクロカラーフィルタをオーバーラップさせたときのツノ高さを０．５μｍ以内に抑え、かつオーバーラップ許容幅Ｓを少なくとも３μｍ程度に広げることが可能となる。
【００３０】
薄膜材料層２０に形成されるアンダーカット長Ｌが、ポストベーク温度及び、現像処理条件によってどの程度変化するかを確認した結果を表１、表２、表３に示す。現像処理条件は、現像温度を２５°Ｃ、２３°Ｃ、２７°Ｃと三段階に変化させ、また現像処理時間については３０秒から８０秒まで１０秒間隔で変化させた。プリベーク温度は７０°Ｃ、８０°Ｃ、９０°Ｃ、１００°Ｃ、１２０°Ｃと５段階に変化させ、これらの条件の組み合わせによってアンダーカット長Ｌの変化を測定した。
【００３１】
【表１】
2009069223.tif 000003
【００３２】
【表２】
2009069223.tif 000004
【００３３】
【表３】
2009069223.tif 000005
【００３４】
なお、薄膜材料層２０の具体的な樹脂材料としては、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製の「ＣＫ−９９１０Ｌ（商品名）」が用いられ、この樹脂材料は現像温度２５°Ｃ、濃度０．０４％〜０．０５％のＫＯＨを主成分とする現像液中で未露光のままでディップ現像を行ったときに、３０〜４５秒で溶解する物性を示すものである。また、パターン露光は前述のように４０〜２００ｍＪの露光量で行っている。現像処理液には、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製の「ＣＤＫ−１（商品名）」を使用し、この現像処理液は濃度０．０４〜０．０５％であるＫＯＨを主成分とするものの一例である。
【００３５】
以上の結果から、プリベーク温度、現像処理液温度及び現像時間がアンダーカット長Ｌの長さを調節する要素になっていることが確認され、現像温度を２３°Ｃ〜２７°Ｃにして現像処理を行うことを前提とした場合、プリベーク温度は７０°Ｃ〜１２０°Ｃ、好ましくは８０°Ｃ〜１００°Ｃの範囲がよく、現像時間としては４０〜７０秒の範囲で調節することが、量産に適した条件として適切であることがわかった。
【００３６】
上述のように、本発明によれば、現像処理液の劣化を防ぐために現像温度を２３°Ｃ〜２７°Ｃの範囲に抑えながらも、現像時間とプリベーク温度を調節することによって、ポストベーク前の薄膜材料層２０に適切な範囲のアンダーカット長をもつアンダーカット部分を形成することができるようになる。このため、ブラックマトリクス１０を形成した後、樹脂製薄膜を用いてフォトリソグラフィでマイクロカラーフィルタ１２を積層するにあたり、その積層工程やパターン露光工程においてどの程度の精度が確保できるかに応じてブラックマトリクス１０のエッジ部分の形状を調節することが可能となるから、液晶用カラーフィルタの製造が容易になり歩留りも大幅に向上させることができるようになる。
【００３７】
以上、液晶用カラーフィルタに用いるブラックマトリクス１０をもとにして本発明について説明してきたが、本発明はブラックマトリクスに限らず、他の樹脂製薄膜についても適用することができる。例えば、樹脂製薄膜を用いてフォトリソグラフィによりマイクロカラーフィルタを形成する場合には、マイクロカラーフィルタとブラックマトリクスとの違いは、技術的には合成樹脂基材に遮光性の顔料を混合するか着色用の顔料を混合するかということだけである。したがって、透明基板に最初に３種類のマイクロカラーフィルタをマトリクス状に離散的に配列形成し、その後でマイクロカラーフィルタ相互間の隙間をブラックマトリクスで埋める場合には、マイクロカラーフィルタの形成時に本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】液晶用カラーフィルタの部分拡大断面図である。
【図２】ブラックマトリクスの製造工程を示す説明図である。
【図３】ブラックマトリクスとマイクロカラーフィルタとの境界部分を示す部分拡大断面図である。
【図４】薄膜材料層に形成されるアンダーカット部分の概念図である。
【図５】液晶表示素子の構成の概略を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３９】
３  透明基板
６  液晶層
１０  ブラックマトリクス
１２  マイクロカラーフィルタ
２０  薄膜材料層
２１  アンダーカット部分
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３  曲線部分
【図１】
2009069223.tif 000006
【図２】
2009069223.tif 000007
【図３】
2009069223.tif 000008
【図４】
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【図５】
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