(57)【要約】【課題】優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及び耐擦傷性を有する塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物、及びその硬化物を提供する。【解決手段】（Ａ）平板状粒子、（Ｂ）分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び（Ｃ）有機溶剤、を含有する硬化性組成物。更に、（Ｄ）放射線重合開始剤を配合することもできる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）平板状粒子
（Ｂ）分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物
（Ｃ）有機溶剤
を含有する硬化性組成物。
【請求項２】
さらに、（Ｄ）放射線重合開始剤を含有する請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
前記平板状粒子が珪酸塩からなる請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化性組成物、及びその硬化物に関し、さらに詳しくは、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度な塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物及びその硬化膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等の各種基材表面の傷付き（擦傷）防止や汚染防止のための保護コ−ティング材及び反射防止膜用コート材として、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度な硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要請されている。
【０００３】
このような要請を満たすために、硬化膜を厚くすることが考えられるが、フィルムに塗工した場合にカールしてしまい、作業性が低下してしまうという問題がある。カールを防ぐために緩衝層を介して硬化膜を塗工する方法（例えば、特許文献１）が提案されているが、塗工回数が増えるため、コストの上昇、或いは歩留まりの低下の可能性が高くなってしまう。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３００８７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及び耐擦傷性を有する塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物、及びその硬化物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、上記目的を達成するため、鋭意研究した結果、平板状粒子を配合した組成物で、上記目的とする諸特性を満足し得る硬化物が得られることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
本発明によれば、以下の硬化性組成物及びその硬化物が提供される。
１．（Ａ）平板状粒子、（Ｂ）分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び（Ｃ）有機溶剤を含有する硬化性組成物。
２．前記平板状粒子が珪酸塩からなる１．に記載の硬化性組成物。
３．さらに、（Ｄ）放射線重合開始剤を含有する１又は２に記載の硬化性組成物。
４．１〜３のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、各種基材の表面に、優れた塗工性を有し、耐擦傷性と高い硬度を有する硬化物を与える硬化性組成物、及びその硬化物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の硬化性組成物及びその硬化物の実施形態について以下説明する。
【００１０】
１．硬化性組成物
本発明の硬化性組成物（以下、本発明の組成物という）は、下記の成分（Ａ）〜（Ｅ）を含み得る。これらの成分のうち、（Ａ）〜（Ｃ）は必須成分であり、（Ｄ）〜（Ｅ）は必要に応じて添加することのできる任意成分である。
（Ａ）平板状粒子
（Ｂ）分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物
（Ｃ）有機溶剤
（Ｄ）重合開始剤
（Ｅ）その他の添加剤
これらの成分について以下説明する。
【００１１】
（Ａ）平板状粒子
本発明で用いられる平板状粒子は、本発明の硬化性組成物の硬化膜の硬度を高めるために配合される。
平板状粒子の好ましい例としては、後述する（Ｂ）分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を含有化合物等との相溶性の観点から、層状の構造を有する珪酸塩が挙げられる。
平板状粒子は、他成分との相溶性を高めるために、親油性処理を施してなることも好ましい。
層状の構造を有する珪酸塩の例としては、合成スメクタイト、天然スメクタイト（例えば、モンモリロナイト等）、合成マイカ、天然マイカ、タルク、カオリン等が挙げられる。
中でも、親油性処理を施した合成スメクタイトは、他の成分（（Ｂ）成分、（Ｃ）有機溶剤等）との相溶性が良好で、かつ硬化膜に優れた硬度を付与することができる点で、好ましく用いられる。
【００１２】
平板状粒子の市販品としては、例えば、ルーセンタイトＳＰＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ（以上、コープケミカル社製）、エスベン、エスベンＣ、ＮＯ１２、ＮＯ１２Ｓ、ＷＸ、オルガノライトＴ（以上、ホージュン社製）等が挙げられる。これらの市販品はそのまま使用してもよいが、ビーズミル等でさらに粉砕してから使用することも好ましい。
本発明の硬化性組成物中に配合される平板状粒子の配合量は、（Ｃ）有機溶剤を除いた成分の合計を１００質量％としたときに１０〜７０質量％が好ましく、３０〜６０質量％がさらに好ましい。該配合割合が１０質量％未満では、配合した効果が現れず高い硬度の硬化膜が得られない可能性があり、該配合割合が７０質量％を超えると、（Ｂ）成分の配合割合が低下し、フィラーの隙間を埋めきれないために、かえって硬化後の機械的強度が低下するおそれがある。
【００１３】
（Ｂ）分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物
分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（以下、多官能（メタ）アクリレート化合物という）は、硬化性組成物を硬化して得られる硬化物の硬度及び耐擦傷性を高めるために用いられる。
【００１４】
成分（Ｂ）としては、分子内に少なくとも３個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物であれば特に制限されるものではない。（メタ）アクリロイル基が３個以上の化合物としては、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（以下「ＥＯ」という。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド（以下「ＰＯ」という。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、フェノールノボラックポリグリシジルエーテルの（メタ）アクリレート等を例示することができる。
【００１５】
これらの多官能性モノマーの市販品としては、例えば、ＳＡ１００２（以上、三菱化学（株）製）、ビスコート１９５、ビスコート２３０、ビスコート２６０、ビスコート２１５、ビスコート３１０、ビスコート２１４ＨＰ、ビスコート２９５、ビスコート３００、ビスコート３６０、ビスコートＧＰＴ、ビスコート４００、ビスコート７００、ビスコート５４０、ビスコート３０００、ビスコート３７００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、カヤラッドＲ−５２６、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＭＡＮＤＡ、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ−３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＨＡ−２Ｈ、ＤＰＨＡ−２Ｃ、ＤＰＨＡ−２Ｉ、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＮ−００７５、ＤＮ−２４７５、Ｔ−１４２０、Ｔ−２０２０、Ｔ−２０４０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、ＲＰ−１０４０、ＲＰ−２０４０、Ｒ−０１１、Ｒ−３００、Ｒ−２０５（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ−２１０、Ｍ−２２０、Ｍ−２３３、Ｍ−２４０、Ｍ−２１５、Ｍ−３０５、Ｍ−３０９、Ｍ−３１０、Ｍ−３１５、Ｍ−３２５、Ｍ−４００、Ｍ−６２００、Ｍ−６４００（以上、東亞合成（株）製）、ライトアクリレートＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、ＢＰ−２ＥＡ、ＢＰ−２ＰＡ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＢＰＥ−４、ＢＲ−４２Ｍ、ＧＸ−８３４５（以上、第一工業製薬（株）製）、ＡＳＦ−４００（以上、新日鐵化学（株）製）、リポキシＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＶＲ−７７、ＳＰ−４０１０、ＳＰ−４０６０（以上、昭和高分子（株）製）、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学工業（株）製）等を挙げることができる。上記の化合物は、各々１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１６】
（Ｂ）成分の添加量については、特に制限されるものではないが、本発明の組成物中の有機溶剤を除く成分の合計を１００質量％としたときに、通常３０〜９０質量％である。この理由は、添加量が３０質量％未満となると、硬化性組成物を硬化させてなる硬化物の耐擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、添加量が９０質量％を超えると、硬化性組成物の硬化物の硬度が低下するおそれがある。
また、このような理由から、（Ｂ）成分の添加量を４０〜７０質量％とするのがより好ましい。
【００１７】
（Ｃ）有機溶剤
本発明の組成物は、塗工性を向上させるために有機溶剤を含有する。
【００１８】
有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メタノール、エタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族類等から選択される一種又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの内、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メタノール、エタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類が好ましく、より好ましくはメチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン、ｔ−ブタノールの一種単独又は二種以上の組み合わせである。
【００１９】
（Ｃ）有機溶剤の合計の添加量については特に制限されるものではないが、有機溶剤以外の成分の合計１００質量部に対し、５０〜１００,０００質量部とするのが好ましい。この理由は、添加量が５０質量部未満となると、硬化性組成物の粘度調整が困難となる場合があるためであり、一方、添加量が１００,０００質量部を超えると、硬化性組成物の保存安定性が低下したり、あるいは粘度が低下しすぎて取り扱いが困難となる場合があるためである。
【００２０】
（Ｄ）放射線重合開始剤
本発明で用いる放射線（光）重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等を挙げることができる。
【００２１】
放射線（光）重合開始剤の市販品としては、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア  １８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、ダロキュア  １１１６、１１７３、ＢＡＳＦ社製ルシリン  ＴＰＯ、８８９３ＵＣＢ社製ユベクリル  Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製エザキュアーＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等を挙げることができる。
【００２２】
本発明において必要に応じて用いられる放射線（光）重合開始剤（Ｄ）の含有量は、組成物中の溶剤を除く成分の合計量を１００質量％としたときに、０．０１〜２０質量％配合することが好ましく、０．１〜１０質量％がさらに好ましい。０．０１質量％未満であると、硬化物としたときの硬度が不十分となることがあり、２０質量％を超えると、硬化物としたときに内部（下層）まで硬化しないことがある。
【００２３】
本発明の組成物を硬化させる場合、必要に応じて放射線（光）重合開始剤と熱重合開始剤とを併用することができる。好ましい熱重合開始剤としては、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。
【００２４】
（Ｅ）添加剤
本発明の組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、シリカ粒子等の無機粒子、光増感剤、熱重合開始剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、顔料、染料、スリップ剤等の添加剤をさらに含有させることも好ましい。
特に無機粒子は塗膜強度を改善するために有効であり、添加する場合は数平均粒子径１〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。また、これらの無機粒子の表面は任意の有機基で表面変性されていてもよい。例えば特開平９−１００１１１号公報に記載の方法により（メタ）アクリル基を有する変性剤で変性することにより、硬化性組成物との相溶性が向上し、かつ硬化時に他の硬化性組成物と共架橋することが可能となり、硬化膜の耐擦傷性を改良することが可能である。
【００２５】
熱重合開始剤は、熱により活性種を発生する化合物であり、活性種としてラジカルを発生する熱ラジカル発生剤等が挙げられる。熱ラジカル発生剤の例としては、ベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。
【００２６】
本発明の組成物は反射防止膜や被覆材の用途に好適であり、反射防止や被覆の対象となる基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよく、コーティング方法は、通常のコーティング方法、例えばディッピングコート、スプレーコ−ト、フローコ−ト、シャワーコート、ロールコート、スピンコート、刷毛塗り等を挙げることができる。これらコーティングにおける塗膜の厚さは、乾燥、硬化後、通常０．１〜４００μｍであり、好ましくは、１〜２００μｍである。
【００２７】
本発明の組成物は、（Ｃ）有機溶剤を含有し、塗膜の厚さを調節するために、有機溶剤の添加量を調整することにより、組成物の粘度を調節することができる。例えば、反射防止膜や被覆材として用いる場合の粘度は、通常０．１〜５０，０００ｍＰａ・秒／２５℃であり、好ましくは、０．５〜１０，０００ｍＰａ・秒／２５℃である。
【００２８】
本発明の組成物は、熱及び／又は放射線（光）によって硬化させることができる。熱による場合、その熱源としては、例えば、電気ヒーター、赤外線ランプ、熱風等を用いることができる。放射線（光）による場合、その線源としては、組成物をコーティング後短時間で硬化させることができるものである限り特に制限はないが、例えば、赤外線の線源として、ランプ、抵抗加熱板、レーザー等を、また可視光線の線源として、日光、ランプ、蛍光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として、水銀ランプ、ハライドランプ、レーザー等を、また電子線の線源として、市販されているタングステンフィラメントから発生する熱電子を利用する方式、金属に高電圧パルスを通じて発生させる冷陰極方式及びイオン化したガス状分子と金属電極との衝突により発生する２次電子を利用する２次電子方式を挙げることができる。また、アルファ線、ベータ線及びガンマ線の線源として、例えば、60Ｃｏ等の核分裂物質を挙げることができ、ガンマ線については加速電子を陽極へ衝突させる真空管等を利用することができる。これら放射線は１種単独で又は２種以上を同時に又は一定期間をおいて照射することができる。
【００２９】
本発明の硬化物は、前記硬化性組成物を種々の基材、例えば、プラスチック基材にコーティングして硬化させることにより得ることができる。具体的には、組成物をコーティングし、好ましくは、２０〜２００℃で揮発成分を乾燥させた後、熱及び／又は放射線で硬化処理を行うことにより被覆成形体として得ることができる。熱による場合の好ましい硬化条件は２０〜１５０℃であり、１０秒〜２４時間の範囲内で行われる。放射線による場合、紫外線又は電子線を用いることが好ましい。そのような場合、好ましい紫外線の照射光量は０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であり、より好ましくは、０．１〜２Ｊ／ｃｍ2である。また、好ましい電子線の照射条件は、加速電圧は１０〜３００ｋＶ、電子密度は０．０２〜０．３０ｍＡ／ｃｍ2であり、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄである。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。「部」及び「％」は、特に断らない限り、「質量部」及び「質量％」を意味する。また、本発明において「固形分」とは、組成物から溶剤等の揮発成分を除いた部分を意味し、具体的には、組成物を所定温度のホットプレート上で１時間乾燥して得られる残渣物（不揮発成分）を意味する。
【００３１】
（実施例１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）３５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）１部、平板状粒子（コープケミカル社製ルーセンタイトＳＰＮ）１５部、及びメチルエチルケトン３５部をフラスコに入れ室温で３０分間攪拌した。さらに、メチルイソブチルケトンを１５部添加し１時間攪拌し、実施例１の組成物を得た。
【００３２】
（実施例２〜６）
下記表１に示す組成とした他は、実施例１と同様にして各硬化性組成物を得た。
【００３３】
（比較例１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１部、シリカ粒子（日産化学工業社製ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、シリカ濃度３５％）７１．４部をフラスコに入れ室温で３０分間攪拌した。均一になったことを目視で確認した後、真空エバポレーターを用いて８０ｈＰａの減圧度で重量が８６部になるまで減圧濃縮し、さらにメチルイソブチルケトンを１５部添加し１時間攪拌し、比較例１の組成物を得た。
【００３４】
硬化膜の製造
実施例１で製造した組成物を８０μｍ厚のＴＡＣ基材上に３０ミルのバーコーターを用いて塗工し、これを８０℃のオーブンに１分間入れ、乾燥を行った。この後フィルムを高圧水銀ランプコンベアに４回通し合計２００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化を行った。得られた硬化膜は１２μｍの膜厚を有していた。
【００３５】
得られた各硬化膜について、鉛筆硬度の評価を行った。
評価方法は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準拠し、ガラス基板上で硬化させた被膜を評価した。評価は、４Ｈの硬度でそれぞれ５回実施し、４回以上合格となった場合をＡ、それ以下の場合をＢとした。
【００３６】
【表１】
2009298977.tif 000002
【００３７】
表１中の商品名は次のものを表す。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４：1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
【００３８】
表１の結果から、平板状粒子を配合することで、高い硬度の硬化膜が得られることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明の硬化物は、高硬度を有するので、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＯ等の記録用ディスク、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理石等の傷付き（擦傷）防止や汚染防止のための保護コーティング材、又は、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜等として特に好適に用いることができる。