(57)【要約】【課題】Ｒｅの絶対値が大きく、Ｒｔｈの絶対値が小さく、且つレターデーションの湿度依存性の小さなセルロースアシレートフィルムの提供。【解決手段】芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）を有し、且つ該置換基Ａの置換度が下記式（Ｉ）及び式（II）を満足するセルロースアシレートの少なくとも一種と、紫外線吸収剤の少なくとも一種とを含有する組成物からなり、延伸されていることを特徴とするセルロースアシレートフィルムである。  式（Ｉ）  ０．３０≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６  式（II）  ０．７５≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６  式中、ＤＳＡ２、ＤＳＡ３及びＤＳＡ６はそれぞれセルロースアシレートの２位、３位及び６位における置換基Ａの置換度を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）を有し、且つ該置換基Ａの置換度が下記式（Ｉ）及び式（II）を満足するセルロースアシレートの少なくとも一種と、紫外線吸収剤の少なくとも一種とを含有する組成物からなり、延伸されていることを特徴とするセルロースアシレートフィルム：
式（Ｉ）  ０．３０≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６
式（II）  ０．７５≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６
式中、ＤＳＡ２、ＤＳＡ３及びＤＳＡ６はそれぞれセルロースアシレートの２位、３位及び６位における置換基Ａの置換度を表す。
【請求項２】
前記セルロースアシレートが、下記式（III）を満たすことを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム：
式（III）  ２．５≦ＤＳ≦３．０
式（III）中、ＤＳは総置換度を表す。
【請求項３】
前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム：
【化１】
2009298950.tif 000026
式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の分岐又は直鎖のアルキル基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ互いに異なる。
【請求項４】
前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム：
【化２】
2009298950.tif 000027
式中、Ｒ21は総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基又はアリール基を表し；Ｒ22及びＲ23はそれぞれ独立に、水素原子又は総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基を表し；Ｙ2は電子吸引基を表し；Ｙ2はＲ21と結合して環を形成してもよい。
【請求項５】
前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム：
【化３】
2009298950.tif 000028
式中、Ｙ3は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよく；Ｒ3は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表し；ｍ及びｎはそれぞれ、１又は２を表す。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（４）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム：
【化４】
2009298950.tif 000029
式中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45及びＲ46はそれぞれ独立して、水素原子又はＣＯＲを表し；Ｒは、総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基、又は芳香族を含む基である。
【請求項７】
前記セルロースアシレートが、脂肪族アシル基（置換基Ｂ）をさらに有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項８】
前記置換基Ｂの置換度ＤＳＢが、下記式（ＩＶ）を満たすことを特徴とする請求項７に記載のセルロースアシレートフィルム：
式（ＩＶ）  ０．８０≦ＤＳＢ≦２．２５  。
【請求項９】
前記置換基Ｂが、炭素数２〜４の脂肪族アシル基であることを特徴とする請求項７又は８に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１０】
前記置換基Ｂが、アセチル基であることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１１】
前記置換基Ａが、ベンゾイル基であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１２】
位相差フィルムであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムと、反射防止層とを有する反射防止フィルム。
【請求項１４】
偏光膜と、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムとを有する偏光板。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置等の光学フィルムとして有用なセルロースアシレートフィルムに関し、ならびにその用途、具体的には、該セルロースアシレートフィルムを利用した、位相差フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の普及に伴い、表示性能や耐久性に対する要求がより高くなり、応答速度の向上や、表示画像に対して斜め方向から観察した場合のコントラストやカラーバランスといった視野角をより広範囲で補償することが課題となっている。これらの課題を解決すべく、各種液晶モードが開発されており、それに伴って各モードに対応して視野角を補償する目的で位相差フィルムを光学補償フィルムとして開発することが急務となっている。
例えば、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードでは、色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、面内レターデーション（Ｒｅ）が１９０ｎｍ〜３９０ｎｍで、Ｎｚ（＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５）値が０．３〜０．６５となる光学補償フィルムが提案されている（特許文献１参照）。このようなフィルム、即ち、Ｒｅが大きく、Ｒｔｈが小さく０程度のフィルムは、例えば、ポリマーフィルムに熱収縮性フィルムを接着して加熱延伸処理を行い、その後、熱収縮性フィルムを剥離して製造することができる（特許文献２及び３参照）。しかしながらこの方法は大量の熱収縮性フィルムを消費すること、製造方法が複雑であることなどといった問題がある。
セルロースアシレートフィルムはその透明性、強靭性から、液晶表示装置向けの偏光板保護フィルムとして広く利用されている。例えばセルロースアセテートベンゾエートなどの芳香族アシル基を置換したセルロースを製膜した光学フィルムも提案されている（特許文献４及び５参照）。しかしこれらのフィルムでは、ＩＰＳ液晶表示装置等の光学補償に寄与し得る光学特性、Ｒｅの絶対値が大きく、且つＲｔｈの絶対値が小さく０程度の光学性能は得られない。また最近では、セルロースアセテートプロピオネートを製膜した光学フィルムが提案されている（特許文献６参照）。しかしこれらのフィルムでは湿度によるレターデーションの変動が大きいといった問題がある。
【特許文献１】特開平１１−３０５２１７公報
【特許文献２】特開２０００−２３１０１６号公報
【特許文献３】特開平５−１５７９１１号公報
【特許文献４】特開２００６−３２８２９８号公報
【特許文献５】特開２００８−２０８５７号公報
【特許文献６】特開２０００−３５２６２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、面内レターデーション（Ｒｅ）の絶対値が大きく、Ｒｔｈの絶対値が小さく、且つレターデーションの湿度依存性の小さなセルロースアシレートフィルム、及びそれを用いた位相差フィルム、反射防止フィルム、偏光板、並び画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）を有し、且つ該置換基Ａの置換度が下記式（Ｉ）及び式（II）を満足するセルロースアシレートの少なくとも一種と、紫外線吸収剤の少なくとも一種とを含有する組成物からなり、延伸されていることを特徴とするセルロースアシレートフィルム：
式（Ｉ）  ０．３０≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６
式（II）  ０．７５≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６
式中、ＤＳＡ２、ＤＳＡ３及びＤＳＡ６はそれぞれセルロースアシレートの２位、３位及び６位における置換基Ａの置換度を表す。
［２］前記セルロースアシレートが、下記式（III）を満たすことを特徴とする［１］のセルロースアシレートフィルム：
式（III）  ２．５≦ＤＳ≦３．０
式（III）中、ＤＳは総置換度を表す。
【０００５】
［３］前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする［１］又は［２］のセルロースアシレートフィルム：
【化１】
2009298950.tif 000002
式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の分岐又は直鎖のアルキル基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ互いに異なる。
【０００６】
［４］前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする［１］又は［２］のセルロースアシレートフィルム：
【化２】
2009298950.tif 000003
式中、Ｒ21は総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基又はアリール基を表し；Ｒ22及びＲ23はそれぞれ独立に、水素原子又は総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基を表し；Ｙ2は電子吸引基を表し；Ｙ2はＲ21と結合して環を形成してもよい。
【０００７】
［５］前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする［１］又は［２］のセルロースアシレートフィルム：
【化３】
2009298950.tif 000004
式中、Ｙ3は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよく；Ｒ3は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表し；ｍ及びｎはそれぞれ、１又は２を表す。
【０００８】
［６］前記紫外線吸収剤の少なくとも一種が、下記一般式（４）で表される化合物であることを特徴とする［１］又は［２］のセルロースアシレートフィルム：
【化４】
2009298950.tif 000005
式中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45及びＲ46はそれぞれ独立して、水素原子又はＣＯＲを表し；Ｒは、総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基、又は芳香族を含む基である。
【０００９】
［７］前記セルロースアシレートが、脂肪族アシル基（置換基Ｂ）をさらに有することを特徴とする［１］〜［６］のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
［８］前記置換基Ｂの置換度ＤＳＢが、下記式（ＩＶ）を満たすことを特徴とする［７］のセルロースアシレートフィルム：
式（ＩＶ）  ０．８０≦ＤＳＢ≦２．２５  。
［９］前記置換基Ｂが、炭素数２〜４の脂肪族アシル基であることを特徴とする［７］又は［８］のセルロースアシレートフィルム。
［１０］前記置換基Ｂが、アセチル基であることを特徴とする［７］〜［９］のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
［１１］前記置換基Ａが、ベンゾイル基であることを特徴とする［１］〜［１０］のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
［１２］位相差フィルムであることを特徴とする［１］〜［１１］のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
［１３］［１］〜［１２］のいずれかのセルロースアシレートフィルムと、反射防止層とを有する反射防止フィルム。
［１４］偏光膜と、［１］〜［１３］のいずれかのセルロースアシレートフィルムとを有する偏光板。
［１５］［１］〜［１４］のいずれかのセルロースアシレートフィルムを少なくとも有する画像表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、面内レターデーション（Ｒｅ）の絶対値が大きく、Ｒｔｈの絶対値が小さく、且つレターデーションの湿度依存性の小さなセルロースアシレートフィルムを提供することができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、液晶表示装置の種々の部材として有用であり、液晶表示装置の光学補償用の位相差フィルム、反射防止フィルム、偏光板、並び画像表示装置を提供することを課題とする。
面内レターデーション（Ｒｅ）の絶対値が大きく、Ｒｔｈの絶対値が小さく、且つレターデーションの湿度依存性の小さなセルロースアシレートフィルム
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
［セルロースアシレートフィルム］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）を少なくとも有するセルロースアシレートの少なくとも一種と、紫外線吸収剤の少なくとも一種とを含有する組成物からなる延伸フィルムである。
・  セルロースアシレート
セルロースは、β−１，４結合しているグルコース単位当り、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有する。セルロースアシレートにおける置換基Ａの２位、３位及び６位における置換度をそれぞれ、ＤＳＡ２、ＤＳＡ３及びＤＳＡ６とした場合、本発明では、下記式（Ｉ）及び（II）を満足するセルロースアシレートを用いる。
式（Ｉ）  ０．３０≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６
式（II）  ０．７５≦ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６
本発明者が鋭意検討した結果、芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）が存在すること、及び置換基Ａの２位、３位及び６位における置換度が、それによって製造されるフィルムのＲｅ及びＲｔｈの値に大きく影響することを見出した。より具体的には、Ｒｔｈについては、２位及び３位に存在する置換基Ａは、Ｒｔｈを負に大きくする作用があり、６位に存在する置換基Ａは、Ｒｔｈを正に大きくする作用があり、一方、Ｒｅに関しては、２位、３位及び６位に存在する置換基Ａは、その位置のいかんにかかわわらず、延伸した際に、その絶対値を大きくする作用があることを見出した。但し、Ｒｅの絶対値を所望の範囲となるまで延伸処理を施すと、２位及び３位に存在する置換基Ａの作用によって、Ｒｔｈが負に顕著に高くなってしまい、Ｒｔｈの絶対値を小さく維持しつつ、Ｒｅの絶対値が大きな延伸フィルムとして得るのは困難である。本発明では、前記式（Ｉ）及び（II）を満足するセルロースアシレートとともに紫外線吸収剤を含有する組成物をフィルム成形し、さらに延伸処理を施すことにより、Ｒｔｈの絶対値が小さく、Ｒｅの絶対値が大きいセルロースアシレートフィルムを提供することを可能にしている。
【００１２】
上記したとおり、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）の値が前記範囲であると、２位及び３位に存在する置換基ＡによるＲｔｈを負に大きくする作用と、６位に存在する置換基ＡによるＲｔｈを正に大きくする作用とをバランスし、Ｒｔｈは負または絶対値の小さい延伸フィルムが得られる。（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）は、当然２以下になるが、製造容易性の観点では、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）は０．８程度以下が好ましい。一方、上記した通り、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６）の値が前記範囲であると、２位、３位及び６位に存在する置換基Ａの作用により、Ｒｅの絶対値が大きい延伸フィルムが得られる。（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６）は、当然、３以下になる。フィルム成形性の観点では、後述する置換基Ｂによっても置換されているのが好ましく、その観点では、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６）は、２程度以下であるのが好ましい。
【００１３】
用途に応じて、前記範囲でそれぞれの値を調整すること、紫外線吸収剤を選択すること、延伸倍率を調整することで、又はこれらの２種以上を組合せることで、所望の特性の延伸フィルムを得ることができる。
例えば、延伸倍率３０〜９０％程度で、Ｒｔｈが−３５〜３５ｎｍ程度で、Ｒｅが１５０〜３５０ｎｍ程度の延伸フィルムを得るためには、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）は、０．３〜０．８であり、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６）は、０．７５〜１．５であるセルロースアシレートを用いるのが好ましい。
【００１４】
なお、芳香族基を含むアシル基が複数種あってもよく、複数種ある場合には、上記置換度は合計である。合成上、芳香族基を含むアシル基は１種類であることが好ましい。
本発明において置換基の置換度及び置換度分布は、Cellulose Communication 6,73-79(1999)及びChirality 12(9),670-674に書かれている方法を用いて、1Ｈ−ＮＭＲあるいは13Ｃ−ＮＭＲにより、決定することができる。
【００１５】
また、前記セルロースアシレート中のアシル基による全置換度ＤＳ（置換基Ａによる置換度のみならず、後述する置換基Ｂによる置換度も含めた全置換度である）は、レターデーションの湿度依存性に影響する。延伸処理によって発現されたレターデーションの湿度依存性を小さくするという観点からは、アシル基による全置換度ＤＳは大きいほど好ましい（なお、全置換度の最大値は３である）。具体的には、全置換度ＤＳは、下記式（III）を満足しているのが好ましい。
式（III）  ２．５≦ＤＳ≦３．０
全置換度ＤＳは、２．５〜２．９５であるのがより好ましく、２．５〜２．９であることがより好ましい。
なお、Ｒｅの湿度依存性、つまり、ΔＲｅ/Ｒｅは、ＤＳの値のみならず、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）の値によっても影響を受ける。例えば、ＤＳの値が式（III）を満足していても、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）の値を満足していない、即ち、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）が上記式（Ｉ）を満足せず、０より小さい値であると、レターデーションの湿度依存性が顕著になる。これはΔＲｅは、大きくは置換位置に影響されないが、Ｒｅは、（ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６）の値が大きいほど大きくなり、結果としてΔＲｅ/Ｒｅが小さくなるためである。
【００１６】
（芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ））
本発明では、芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）は、エステル結合部と直接結合しても、連結基を介して結合してもよい。直接結合しているのが好ましい。ここでいう連結基とはアルキレン基、アルケニレン基、あるいはアルキニレン基を表し、連結基は置換基を有していてもよい。連結基として好ましくは１〜１０のアルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基、より好ましくは原子数が１〜６のアルキレン基及びアルケニレン基、最も好ましくは原子数が１〜４のアルキレン及びアルケニレン基である。
【００１７】
また芳香族は置換基を有してもよく、芳香族に置換されている置換基及び前述の連結基に置換されている置換基は、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００１８】
芳香族とは理化学辞典（岩波書店）第４版１２０８頁に芳香族化合物として定義されており、本発明における芳香族基としては芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。
芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがより好ましく、６〜１０のものがもっとも好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられ、より好ましくはフェニル基である。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。そのヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジル基、トリアジニル基、キノリル基が特に好ましい。
【００１９】
芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）として好ましいものはフェニルアセチル基、ヒドロシンナモイル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンジロキシアセチル基、Ｏ−アセチルマンデリル基、３−メトキシフェニルアセチル基、４−メトキシフェニルアセチル基、２，５−ジメトキシフェニルアセチル基、３，４−ジメトキシフェニルアセチル基、９−フルオレニルメチルアセチル基、シンナモイル基、４−メトキシ−シンナモイル基、ベンゾイル基、オルト−トルオイル基、メタ−トルオイル基、パラ−トルオイル基、ｍ−アニソイル基、ｐ−アニソイル基、フェニルベンゾイル基、４−エチルベンゾイル基、４−プロピルベンゾイル基、４−ｔ−ブチルベンゾイル基、４−ブチルベンゾイル基、４−ペンチルベンゾイル基、４−ヘキシルベンゾイル基、４−ヘプチルベンゾイル基、４−オクチルベンゾイル基、４−ビニルベンゾイル基、４−エトキシベンゾイル基、４−ブトキシベンゾイル基、４−ヘキシロキシベンゾイル基、４−ヘプチロキシベンゾイル基、４−ペンチロキシベンゾイル基、４−オクチロキシベンゾイル基、４−ノニロキシベンゾイル基、４−デシロキシベンゾイル基、４−ウンデシロキシベンゾイル基、４−ドデシロキシベンゾイル基、４−イソプロピオキシベンゾイル基、２，３−ジメトキシベンゾイル基、２，５−ジメトキシベンゾイル基、３，４−ジメトキシベンゾイル基、２，６−ジメトキシベンゾイル基、２，４−ジメトキシベンゾイル基、３，５−ジメトキシベンゾイル基、３，４，５−トリメトキシベンゾイル基、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、２−ビフェニルカルボニル基、４−ビフェニルカルボニル基、４’−エチル−４−ビフェニルカルボニル基、４’−オクチロキシ−４−ビフェニルカルボニル基、ピペロニロイル基、ジフェニルアセチル基、トリフェニルアセチル基、フェニルプロピオニル基、ヒドロシンナモイル基、α−メチルヒドロシンナモイル基、２，２−ジフェニルプロピオニル基、３，３−ジフェニルプロピオニル基、３，３，３−トリフェニルプロピオニル基、２−フェニルブチリル基、３−フェニルブチリル基、４−フェニルブチリル基、５−フェニルバレリル基、３−メチル−２−フェニルバレリル基、６−フェニルヘキサノイル基、α−メトキシフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、３−フェノキシプロピオニル基、２−フェノキシプロピオニル基、１１−フェノキシデカノイル基、２−フェノキシブチリル基、２−メトキシアセチル基、３−（２−メトキシフェニル）プロピオニル基、３−（ｐ−トルイル）プロピオニル基、（４−メチルフェノキシ）アセチル基、４−イソブチル−α−メチルフェニルアセチル基、４−（４−メトキシフェニル）ブチリル基、（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）−アセチル基、４−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）−ブチリル基、（３，４−ジメトキシフェニル）アセチル基、３，４−（メチレンジオキシ）フェニルアセチル基、３−（３，４−ジメトキシフェニル）プロピオニル基、４−（３，４−ジメトキシフェニル）ブチリル基、（２，５−ジメトキシフェニル）アセチル基、（３，５−ジメトキシフェニル）アセチル基、３，４，５−トリメトキシフェニルアセチル基、３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−プロピオニル基、アセチル基、１−ナフチルアセチル基、２−ナフチルアセチル基、α−トリチル−２−ナフタレン−プロピオニル基、（１−ナフトキシ）アセチル基、（２−ナフトキシ）アセチル基、６−メトキシ−α−メチル−２−ナフタレンアセチル基、９−フルオレンアセチル基、１−ピレンアセチル基、１−ピレンブチリル基、γ−オキソ−ピレンブチリル基、スチレンアセチル基、α−メチルシンナモイル基、α−フェニルシンナモイル基、２−メチルシンナモイル基、２−メトキシシンナモイル基、３−メトキシシンナモイル基、２，３−ジメトキシシンナモイル基、２，４−ジメトキシシンナモイル基、２，５−ジメトキシシンナモイル基、３，４−ジメトキシシンナモイル基、３，５−ジメトキシシンナモイル基、３，４−（メチレンジオキシ）シンナモイル基、３，４，５−トリメトキシシンナモイル基、２，４，５−トリメトキシシンナモイル基、３−メチリデン−２−カルボニル基、４−（２−シクロヘキシロキシ）ベンゾイル基、２，３−ジメチルベンゾイル基、２，６−ジメチルベンゾイル基、２，４−ジメチルベンゾイル基、２，５−ジメチルベンゾイル基、３−メトキシ−４−メチルベンゾイル基、３，４−ジエトキシベンゾイル基、α−フェニル−O−トルイル基、２−フェノキシベンゾイル基、２−ベンゾイルベンゾイル基、３−ベンゾイルベンゾイル基、４−ベンゾイルベンゾイル基、２−エトキシ−１−ナフトイル基、９−フルオレンカルボニル基、１−フルオレンカルボニル基、４−フルオレンカルボニル基、９−アントラセンカルボニル基、１−ピレンカルボニル基などが挙げられる。
【００２０】
さらに好ましくは、置換基Ａは、フェニルアセチル基、ヒドロシンナモイル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンジロキシアセチル基、Ｏ−アセチルマンデリル基、３−メトキシフェニルアセチル基、４−メトキシフェニルアセチル基、２，５−ジメトキシフェニルアセチル基、３，４−ジメトキシフェニルアセチル基、９−フルオレニルメチルアセチル基、シンナモイル基、４−メトキシ−シンナモイル基、ベンゾイル基、オルト−トルオイル基、メタ−トルオイル基、パラ−トルオイル基、ｍ−アニソイル基、ｐ−アニソイル基、フェニルベンゾイル基、４−エチルベンゾイル基、４−プロピルベンゾイル基、４−ｔ−ブチルベンゾイル基、４−ブチルベンゾイル基、４−ペンチルベンゾイル基、４−ヘキシルベンゾイル基、４−ヘプチルベンゾイル基、４−オクチルベンゾイル基、４−ビニルベンゾイル基、４−エトキシベンゾイル基、４−ブトキシベンゾイル基、４−ヘキシロキシベンゾイル基、４−ヘプチロキシベンゾイル基、４−ペンチロキシベンゾイル基、４−オクチロキシベンゾイル基、４−ノニロキシベンゾイル基、４−デシロキシベンゾイル基、４−ウンデシロキシベンゾイル基、４−ドデシロキシベンゾイル基、４−イソプロピオキシベンゾイル基、２，３−ジメトキシベンゾイル基、２，５−ジメトキシベンゾイル基、３，４−ジメトキシベンゾイル基、２，６−ジメトキシベンゾイル基、２，４−ジメトキシベンゾイル基、３，５−ジメトキシベンゾイル基、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基、３，４，５−トリメトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、２−ビフェニルカルボニル基、４−ビフェニルカルボニル基、又は４’−エチル−４−ビフェニルカルボニル基、４’−オクチロキシ−４−ビフェニルカルボニル基である。
【００２１】
より好ましくは、置換基Ａは、フェニルアセチル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、シンナモイル基、４−メトキシ−シンナモイル基、ベンゾイル基、フェニルベンゾイル基、４−エチルベンゾイル基、４−プロピルベンゾイル基、４−ｔ−ブチルベンゾイル基、４−ブチルベンゾイル基、４−ペンチルベンゾイル基、４−ヘキシルベンゾイル基、４−ヘプチルベンゾイル基、３，４−ジメトキシベンゾイル基、２，６−ジメトキシベンゾイル基、２，４−ジメトキシベンゾイル基、３，５−ジメトキシベンゾイル基、３，４，５−トリメトキシベンゾイル基、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、２−ビフェニルカルボニル基、又は４−ビフェニルカルボニル基である。
【００２２】
さらに好ましくは、置換基Ａは、ベンゾイル基、フェニルベンゾイル基、４−ヘプチルベンゾイル基、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基、又は３，４，５−トリメトキシベンゾイル基である。
前記セルロースアシレートが有する置換基Ａは、一種であっても二種以上であってもよい。
【００２３】
前記セルロースアシレートは、芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）以外のアシル基、具体的には脂肪族アシル基（置換基Ｂ）をさらに有していてもよい。
（脂肪族アシル基（置換基Ｂ）
本発明では、脂肪族アシル基（置換基Ｂ）は、直鎖状、分岐状あるいは環状構造の脂肪族アシル基のいずれであってもよく、また不飽和結合を含む脂肪族アシル基であってもよい。好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜４の脂肪族アシル基である。置換基Ｂの好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、及びブチリル基であり、中でもアセチル基が好ましい。置換基Ｂをアセチル基とすることで、適度なガラス転移点（Ｔｇ）、弾性率などを有するフィルムが得られる。アセチル基等の炭素数が小さい脂肪族アシル基を有することにより、Ｔｇおよび弾性率などを低下させずに、フィルムとして適切な強度を得ることができる。
前記置換基Ｂの置換度ＤＳＢは下記式（ＩＶ）を満たすことが好ましい
式（ＩＶ）  ０．８０≦ＤＳＢ≦２．２５  。
ＤＳＢは、１．０〜２．２５が好ましく、更に好ましくは１．２〜２．２５である。当該範囲とすることにより、原料となるジアセチルセルロースの溶解性を高く保つことができ、合成が容易となり好ましい。
【００２４】
以下に、本発明に使用可能なセルロースアシレートの具体例を示すが、以下の例に限定されるものではない。
【００２５】
【表１】
2009298950.tif 000006
【００２６】
前記セルロースアシレートは、セルロースを原料として生物的あるいは化学的に、少なくとも芳香族基を含むアシル基（置換基Ａ）を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物である。
セルロースアシレートの原料綿は、綿花リンタ、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などの天然セルロースはもとより、微結晶セルロースなど木材パルプを酸加水分解して得られる重合度の低い（重合度１００〜３００）セルロースでも使用することができ、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）及び「セルロースの事典（５２３頁）」（セルロース学会編、朝倉書店、２０００年発行）に記載のセルロースを用いることができ、特に限定されるものではない。
【００２７】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、例えはダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．１９（商品名：ＦＬ−７０））、１．７６（商品名：ＬＬ−１０））を出発原料として、対応する酸クロリドとの反応により得ることができる。通常、一部の水酸基がアセチル基で置換されたセルロースアセテートを出発原料として、塩化ベンゾイル等の酸クロリドを反応させて、置換基Ａを導入すると、６位に優先的に導入される。２位及び３位に優先的に置換基Ａが置換したセルロースアシレートを得るためには、一旦、セルロースアセテートを塩基条件下で脱アセチル化処理し、２位及び３位のアセチル基を優先的に脱離させ、その後、酸クロリドでアシル化すると、置換基Ａが２位及び３位に優先的に導入され、且つ置換基Ｂとしてアセチル基を主に６位に有するセルロースアシレートが得られる。脱アセチル化は、例えば、アミンと水の存在下で進行させることができる。出発原料であるセルロースアセテートのアセチル置換度や、脱アセチル化処理の条件、及び置換基Ａの導入条件を調整することで、前記式（Ｉ）及び（II）を満足するセルロースアシレートを製造することができる。
【００２８】
前記セルロースアシレートの粘度平均重合度については特に制限はないが、８０〜７００が好ましく、９０〜５００が更に好ましく、１００〜５００がより更に好ましい。平均重合度を５００以下とすることにより、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり過ぎず、流延によるフィルム製造が容易になる傾向にある。また、重合度を１４０以上とすることにより、作製したフィルムの強度がより向上する傾向にあり好ましい。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫著、「繊維学会誌」、第１８巻、第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。具体的には、特開平９−９５５３８号公報に記載の方法に従って測定することができる。
【００２９】
・  紫外線吸収剤
本発明では、紫外線吸収剤の少なくとも一種を用いる。前記紫外線吸収剤は、波長２５０ｎｍ以上の波長域に少なくとも１つの吸収極大を有することが好ましく、２５０ｎｍ〜３６０ｎｍの波長域に少なくとも１つの吸収極大を有することがより好ましく、３００ｎｍ〜３５５ｎｍの波長域に少なくとも１つの吸収極大を有することが更に好ましい。このようにすることで、６３０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び４５０ｎｍの各波長におけるＲｔｈの値の差が大きくなり、色味変化が抑えられる。
【００３０】
フィルム成形時には、加熱下に曝される（例えば、溶液製膜法ではドープ流延時、及び乾燥の工程、及び延伸工程等）ことがあるので、本発明に用いられる紫外線吸収剤は、揮散し難い剤であるのが好ましく、この観点から、分子量が２５０〜１０００程度であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００程度であり、更に好ましくは２７０〜８００程度であり、特に好ましくは３００〜８００程度である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【００３１】
紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
またこれら紫外線吸収剤を添加する時期について制限はない。溶液製膜法を例に挙げれば、ドープ調製工程中のいずれの段階であってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００３２】
本発明に使用可能な紫外線吸収剤の例には、下記式（１）〜（４）で表される化合物が含まれる。これらの化合物は、セルロースアシレートに添加した時にＲｔｈのみを低下し、Ｒｅをほとんど変化させない点で好ましい。但し、これらに限定されるものではない。
【００３３】
【化５】
2009298950.tif 000007
【００３４】
式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の分岐又は直鎖のアルキル基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ互いに異なる。
【００３５】
前記式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の分岐又は直鎖のアルキル基を表し；Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ互いに異なる。
有機基の例には、以下の置換基群Ｇから選ばれる基が含まれる。
置換基群Ｇ：
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、
【００３６】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、
アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【００３７】
また、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ、同じでも異なってもよく、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよいが、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の無置換の分岐又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ互いに異なる。
【００３８】
Ｒ11及びＲ13として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００３９】
Ｒ12として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００４０】
Ｒ14及びＲ15として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００４１】
以下に、前記一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されるものではない。
【００４２】
【化６】
2009298950.tif 000008
【００４３】
次に、下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤について詳しく説明する。
【００４４】
【化７】
2009298950.tif 000009
【００４５】
前記一般式（２）中、Ｒ21は総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基又はアリール基を表し；Ｒ22及びＲ23はそれぞれ独立に、水素原子又は総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基を表し；Ｙ2は電子吸引基を表す。Ｙ2はＲ21と結合して環を形成してもよい。
【００４６】
Ｒ21で表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２５のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基）が好適に挙げられ、これらは分岐していてもよい。
Ｒ21で表されるアリール基としては、好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１５のアリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基、α−ナフチル基、又はβ−ナフチル基）が好適に挙げられる。
【００４７】
Ｒ22及びＲ23で表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基）が好適に挙げられる。
また、Ｒ22とＲ23は互いに結合して環を形成してもよい。該環は５〜８員環（好ましくは５〜６員環）が好ましく、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、イソインドリン環などが挙げられ、該環は置換基で置換されていてもよく、他の環（例えばベンセン環）で縮合していてもよい。
【００４８】
Ｙで表される電子吸引基としては、アルカン又はアリーレンスルホニル基、アシル基、アリールカルボニル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基などが挙げられる。これらの基をさらに説明すると、好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１５のアレーンスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基）：好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜５のアシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基）；好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１５のアリールカルボニル基；ニトリル基；好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜９のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）；好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基、ｐ−ニトロフェノキシカルボニル基）；が好適に挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは、炭素数６〜１５のアレーンスルホニル基であり、さらに好ましくはベンゼンスルホニル基である。また、これら電子吸引基は、Ｒ21と共に環を形成してもよい。
【００４９】
以下に一般式（２）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されるものではない。
【００５０】
【化８】
2009298950.tif 000010
【００５１】
次に、一般式（３）で表される紫外線吸収剤について詳しく説明する。
【００５２】
【化９】
2009298950.tif 000011
【００５３】
式中、Ｙ3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、又はフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１又は２を表す。
【００５４】
前記式（３）中、アルキル基の例には、炭素数１〜２４の直鎖もしくは分岐の脂肪族基が含まれ；アルコキシ基の例には、炭素数１〜１８のアルコキシ基が含まれ；アルケニル基の例には、炭素数１〜１６のアルケニル基が含まれ、より具体的には、アリル基、２−ブテニル基などが含まれる。又、アルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換されていてもよく、その置換基の例には、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子など）、ヒドロキシ基、フェニル基、(このフェニル基にはアルキル基又はハロゲン原子などが置換していてもよい）などが挙げられる。
【００５５】
以下に、前記一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されるものではない。
【００５６】
【化１０】
2009298950.tif 000012
【００５７】
【化１１】
2009298950.tif 000013
【００５８】
【化１２】
2009298950.tif 000014
【００５９】
次に一般式（４）で表される紫外線吸収剤について詳しく説明する。
【００６０】
【化１３】
2009298950.tif 000015
【００６１】
式中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46は水素原子又はＣＯＲであり、Ｒは総炭素数１〜２０の分岐もしくは直鎖のアルキル基、又は芳香族を含む基である。
アルキル基としては、好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のアルキル基であり、より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などである。最も好ましくはメチル基である。
【００６２】
Ｒが芳香族を含む基の場合、芳香族は−ＣＯと直接結合しても、連結基を介して結合してもよい。ここでいう連結基とはアルキレン基、アルケニレン基、あるいはアルキニレン基を表し、連結基は置換基を有していても良い。連結基として好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基、より好ましくは炭素原子数が１〜６のアルキレン基及びアルケニレン基、さらに好ましくは炭素原子数が１〜４のアルキレン及びアルケニレン基である。また芳香族は置換基を有してもよく、芳香族に置換されている置換基及び前述の連結基に置換されている置換基の例には、上述の置換基群Ｇから選ばれる置換基が含まれる。
【００６３】
芳香族とは理化学辞典（岩波書店）第４版１２０８頁に芳香族化合物として定義されており、芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがより好ましく、６〜１０のものがもっとも好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。そのヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジル基、トリアジニル基、キノリル基が特に好ましい。
【００６４】
以下に、前記一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されるものではない。
【００６５】
【化１４】
2009298950.tif 000016
【００６６】
【化１５】
2009298950.tif 000017
【００６７】
【化１６】
2009298950.tif 000018
【００６８】
【化１７】
2009298950.tif 000019
【００６９】
【化１８】
2009298950.tif 000020
【００７０】
【化１９】
2009298950.tif 000021
【００７１】
【化２０】
2009298950.tif 000022
【００７２】
本発明に利用する紫外線吸収剤は、上記一般式（１）〜（４）の化合物に限定されるものではなく、種々の化合物を利用できる。一方、紫外線吸収剤の中には、上記式（Ｉ）及び（II）を満足するセルロースアシレートとともに使用して延伸フィルムを作製しても、得られる延伸フィルムのＲｔｈが無添加のものと比較して低減せず、負に大きいままである剤も存在する。例えば、トリチルアルコールなどがその例であり、その理由は、セルロースアシレートの側鎖が膜厚方向に配向することによって生じる負のＲｔｈを十分に打ち消せるほど面内に配向しないため、又はセルロースアシレートの側鎖が膜厚方向に配向するのを十分に阻害しないためであると推測される。当該特性の紫外線吸収剤を利用して作製されたフィルムは、Ｒｔｈが負に大きく（例えば、絶対値が１００ｎｍ以上）、且つＲｅが大きい延伸フィルムになるので、用途によっては、当該特性の紫外線吸収剤の使用は制限されるであろう。
【００７３】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレートの少なくとも一種と、前記紫外線吸収剤の少なくとも一種とを含有する組成物（以下、「セルロースアシレート組成物」という場合がある）から作製することができる。
前記セルロースアシレートを組成物全体の７０質量％以上含むことが好ましく、より好ましくは８０質量％以上含み、さらに好ましくは９０質量％以上含む。
また、前記紫外線吸収剤は、組成物全体の１質量％〜３０質量％含むことが好ましく、より好ましくは３質量％〜３０質量％含み、さらに好ましくは３質量％〜２０質量％含む。
【００７４】
本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法は、特に限定されるものではないが、溶融製膜法又は溶液製膜法により製造することが好ましい。溶液製膜法による製造がより好ましい。溶融製膜法および溶液製膜法ともに、一般的に行われている方法と同様に、本発明のセルロースアシレートフィルムを製造することができる。例えば、溶融製膜に関しては、特開２００６−３４８１２３号公報を、溶液製膜に関しては、特開２００６−２４１４３３号公報を参照し、製造することができる。
【００７５】
本発明のセルロースアシレートフィルムを溶液製膜法により製造する方法の一例について説明する。
溶液製膜法では、セルロースアシレートの溶液（ドープ）を調製し、該溶液を支持体表面に流延し、製膜する。前記セルロースアシレート溶液の調製に用いる溶媒については、特に限定されない。好ましい溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエチレンなどの塩素系有機溶剤、ならびに非塩素系有機溶媒を挙げることができる。前記非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例としては、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ペンチルが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが挙げられる。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例としては、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが挙げられる。
【００７６】
前記セルロースアシレート溶液の調製時には、セルロースアシレートは、有機溶媒に１０〜３５質量％溶解させることが好ましい。より好ましくは１３〜３０質量％であり、特に好ましくは１５〜２８質量％である。このような濃度のセルロースアシレート溶液は、セルロースアシレートを溶媒に溶解する際に所定の濃度になるようにして調製してもよいし、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）を調製した後に、濃縮工程により上記濃度の溶液として調製してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液を調製した後に、種々の添加物を添加することで上記濃度のセルロースアシレート溶液として調製してもよい。
【００７７】
前記セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製については、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよく、さらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施してもよい。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号等の各公報にセルロースアシレート溶液の調製法、が記載されていて、本発明においてもこれらの技術を利用することができる。これらの詳細は、特に非塩素系溶媒系の溶媒を用いた調製方法については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）２２頁〜２５頁に詳細に記載されている。さらに、セルロースアシレート溶液の調製の過程で、溶液濃縮，ろ過等の処理が行われてもよく、それらについては、同様に発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【００７８】
本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備として、従来セルロースアシレートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置を用いることができる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。ハロゲン化銀写真感光材料や電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらの各製造工程については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）２５頁〜３０頁に詳細に記載され、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離，延伸などに分類される。
【００７９】
本発明では、溶融製膜法あるいは溶液製膜法等によって製造したフィルムに、さらに延伸処理を施す。
延伸は製膜工程中、オン−ラインで実施してもよく、製膜完了後、一度巻き取った後オフ−ラインで実施してもよい。すなわち、溶融製膜の場合、延伸は製膜中の冷却が完了しない実施してもよく、冷却終了後に実施してもよい。
延伸はＴｇ〜（Ｔｇ＋５０℃）で実施するのが好ましく、より好ましくは（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋４０℃）、特に好ましくは（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋３０℃）である。好ましい延伸倍率は０．１％〜３００％、さらに好ましくは１０％〜２００％、特に好ましくは３０％〜１００％である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。ここでいう延伸倍率は、以下の式を用いて求めたものである。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／延伸前の長さ
【００８０】
このような延伸は縦延伸、横延伸、及びこれらの組み合わせによって実施される。縦延伸は、（１）ロール延伸（出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸、自由端延伸ともいう）、（２）固定端延伸（フィルムの両端を把持し、これを長手方向に次第に早く搬送し長手方向に延伸）、等を用いることができる。さらに横延伸は、テンター延伸（フィルムの両端をチャックで把持しこれを横方向（長手方向と直角方向）に広げて延伸）、等を使用することができる。これらの縦延伸、横延伸は、それだけで行なってもよく（１軸延伸）、組み合わせて行ってもよい（２軸延伸）。２軸延伸の場合、縦、横逐次で実施してもよく（逐次延伸）、同時に実施してもよい（同時延伸）。
縦延伸、横延伸の延伸速度は１０％／分〜１００００％／分が好ましく、より好ましくは２０％／分〜１０００％／分、特に好ましくは３０％／分〜８００％／分である。多段延伸の場合、各段の延伸速度の平均値を指す。
【００８１】
このような延伸に引き続き、縦又は横方向に０％〜１０％緩和することも好ましい。さらに、延伸に引き続き、１５０℃〜２５０℃で１秒〜３分熱固定することも好ましい。
このようにして延伸した後の膜厚は１０〜３００μｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍがより好ましく、３０μｍ〜１００μｍが特に好ましい。
【００８２】
また製膜方向（長手方向）と、フィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。即ち、縦延伸の場合は０°に近いほどよく、０±３°が好ましく、より好ましくは０±２°、特に好ましくは０±１°である。横延伸の場合は、９０±３°又は−９０±３°が好ましく、より好ましくは９０±２°又は−９０±２°、特に好ましくは９０±１°又は−９０±１°である。
【００８３】
流延から剥取までの間にフィルムの長手方向にかかったテンションによりＲｅが生じた場合、テンターで幅方向に延伸を行なうことでＲｅを０に近づけることもできる。この場合、好ましい延伸倍率は０．１％〜２０％、さらに好ましくは０．５％〜１０％、特に好ましくは１％〜５％である。
また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。
【００８４】
乾燥後得られる、セルロースアシレートフィルムの厚さは、使用目的によって異なり、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、２０〜３００μｍの範囲であることがより好ましく、３０〜１５０μｍの範囲であることがさらに好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
【００８５】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、長尺状に製膜してもよい。例えば、幅０．５〜３ｍ（好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍ）、長さ１ロール当たり１００〜１００００ｍ（好ましくは５００〜７０００ｍ、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍ）で巻き取られた長尺状のフィルムとして製造することができる。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【００８６】
上述の延伸セルロースアシレートフィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板を組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用してもよい。
【００８７】
［セルロースアシレートフィルムの光学特性］
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００８８】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１１）及び式（１２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００８９】
【数１】
2009298950.tif 000023
【００９０】
注記：
式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００９１】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
【００９２】
ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示すると、セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）などが挙げられる。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨによりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出することができる。
【００９３】
本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｅ及びＲｔｈは、置換基Ａの２位、３位、及び６位の置換度分布、延伸倍率、及び併用する紫外線吸収剤の種類によって調整することができる。本発明では、置換基Ａの置換度が前記式（Ｉ）及び（II）を満足するセルロースアシレート、及び紫外線吸収剤を含んでいるので、延伸処理を施すことにより、Ｒｅの絶対値を大きく、Ｒｔｈの絶対値を小さくすることができる。具体的には、本発明のセルロースアシレートフィルムは、Ｒｅが１２０〜４００ｎｍ程度、Ｒｔｈが−４０〜３０ｎｍ程度、及びＮｚ値が０．５程度（具体的には０．２５〜０．６５）の特性を示すフィルムとなり得る。但し、本発明のセルロースアシレートフィルムの光学特性は、この範囲に限定されるものではない。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記式（Ｉ）及び（II）を満足するセルロースアシレート、及び紫外線吸収剤を用いるので、上記光学特性を満足するとともに、Ｒｅの湿度依存性が小さいフィルムとなる。具体的には、下記式で算出されるＲｅの湿度依存性の指標となるΔＲｅ／Ｒｅが、０．０１〜０．１３程度を達成可能である。
【数２】
2009298950.tif 000024
なお、上記式中、Ｒｅ１０％（５９０）及びＲｅ８０％（５９０）はそれぞれ、２５℃１０％ＲＨにおける波長５９０ｎｍの光に対するＲｅ及び２５℃８０％ＲＨにおける波長５９０ｎｍの光に対するＲｅである。ΔＲｅ／Ｒｅが小さいほど、Ｒｅの湿度依存性が小さいと言える。上記範囲程度のΔＲｅ／Ｒｅであれば、通常の環境湿度によっては、例えば画像表示装置の部材として利用した場合に、その表示特性に影響を与えるほどのＲｅの変動はほとんどないと言えるであろう。
【００９４】
また、フィルムの幅方向のＲｅ（５９０）値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることがより好ましい。また幅方向のＲｔｈ（５９０）値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることがより好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
【００９５】
本発明のセルロースアシレートフィルムを延伸してなるフィルムの一例は、面内の遅相軸が延伸方向と垂直な方向にあるフィルムである。延伸後の面内遅相軸の方向は、そのセルロースアシレートフィルムの作製に利用したセルロースアシレートのＤＳ、及びＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６の値に影響され、具体的には、セルロースアシレートのＤＳが高く、且つＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６が大きい（即ち、ＤＳＡ６が小さい）と、作製されたセルロースアシレートフィルムを延伸すると、その延伸フィルムの面内遅相軸は、延伸方向と垂直な方向になる傾向がある。従って、本発明のセルロースアシレートフィルムを延伸すると、延伸後のフィルムの面内遅相軸は、延伸方向と直交する方向になるであろう。但し、この態様に限定されるものではない。なおフィルムの面内の遅相軸の方向は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨによって検出することができる。
【００９６】
平衡含水率：
含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（アクアカウンターＡＱ−２００、ＬＥ−２０Ｓ、共に平沼産業（株））にてカールフィッシャー法で測定する。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。
【００９７】
本発明のセルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が０〜１０％であることが好ましい。０．１〜７％であることがより好ましく、０．３〜５％であることが特に好ましい。１０％以上の平衡含水率であると、光学補償フィルムの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きく、光学補償性能が低下するため好ましくない。
【００９８】
ヘイズ：
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）社製）を用いて測定した値が０．１以上０．８以下であることが好ましく、０．１以上０．７以下であることがより好ましく、０．１以上０．６０以下であることが特に好ましい。前記範囲にヘイズを制御することにより、光学補償フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に高コントラスの画像が得られる。
【００９９】
光弾性係数：
本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板保護フィルム、又は位相差板として使用されることが好ましい。偏光板保護フィルム、又は位相差板として使用した場合には、吸湿による伸張、収縮による応力により複屈折（Ｒｅ，Ｒｔｈ）が変化する場合がある。このような応力に伴う複屈折の変化は光弾性係数として測定できるが、その範囲は、５×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）〜３０×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）が好ましく、６×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）〜２５×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）がより好ましく、７×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）〜２０×１０-7（ｃｍ2／ｋｇｆ）であることが特に好ましい。
【０１００】
ガラス転移温度：
セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度の測定はＪＩＳ規格Ｋ７１２１記載の方法により行うことができる。なお、本明細書において、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ規格Ｋ７１２１記載の方法により測定された値のことを表す。
本発明のセルロースアシレートフィルムのガラス転移温度は８０℃以上３００℃以下が好ましく、１００℃以上２５０℃以下がさらに好ましい。ガラス転移温度は可塑剤、溶剤等の低分子化合物を含有させることにより低下させることが可能である。
【０１０１】
表面処理：
未延伸、又は、延伸後のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。
【０１０２】
［位相差フィルム］
本発明のセルロースアシレートフィルムは位相差フィルムとして用いることができる。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与（偏光板の形成）、液晶組成物からなる光学補償層の付与（光学補償フィルム）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。
［光学補償フィルム］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、液晶表示装置の光学補償に利用することができる。本発明のセルロースアシレートフィルムが、光学補償に必要な光学特性を満足する場合は、そのまま光学補償フィルムとして利用することができる。また、光学補償に必要な光学特性を満足するために、他の一以上の層、例えば液晶組成物を硬化して形成した光学異方性層、又は他の複屈折性ポリマーフィルムからなる層と積層してから、光学補償フィルムとして利用することもできる。
【０１０３】
［反射防止フィルム］
また、本発明は、本発明のセルロースアシレートフィルムと、反射防止層とを有する反射防止フィルムにも関する。反射防止フィルムは通常の製造方法に基づき製造することができ、例えば、特開２００６−２４１４３３号公報を参照し、製造することができる。
【０１０４】
［偏光板］
本発明は、偏光膜と該偏光膜を挟持する２枚の保護フィルムとからなる偏光板であって、２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、本発明のセルロースアシレートフィルムである偏光板にも関する。該セルロースアシレートフィルムは、光学異方性層を有する光学補償フィルムの一部として、また反射防止層を有する反射防止フィルムの一部として、偏光膜に貼り合せられていてもよい。他の層を有する場合も、本発明のセルロースアシレートフィルムの表面が、偏光膜の表面に貼り合せられているのが好ましい。例えば、特開２００６−２４１４３３号公報を参照し、製造することができる。
【０１０５】
［画像表示装置］
本発明は、本発明のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１枚含む画像表示装置にも関する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、位相差フィルム又は光学補償フィルムとして、又は偏光板、光学補償フィルム及び反射防止フィルム等の一部として、表示装置に用いられる。
【０１０６】
＜液晶表示装置＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは位相差フィルムとして、又はセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板、光学補償フィルムもしくは反射防止フィルムとして、液晶表示装置に組み込むことができる。液晶表示装置としては、ＴＮ型、ＩＰＳ型、ＦＬＣ型、ＡＦＬＣ型、ＯＣＢ型、ＳＴＮ型、ＥＣＢ型、ＶＡ型及びＨＡＮ型の表示装置が挙げられ、好ましくはＩＰＳ型である。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置にも用いることができる。
【０１０７】
ＩＰＳモードの液晶表示装置に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いる場合は、液晶セルと表示面側偏光板もしくはバックライト側偏光板との間に一枚配置するのが好ましい。また、表示面側偏光板もしくはバックライト側偏光板の保護フィルムとしても機能させ、偏光板の一部材として液晶表示装置内に組み込み、液晶セルと偏光膜との間に配置してもよい。本発明のセルロースアシレートフィルムを一枚上記位置に配置することで、ＩＰＳモードの液晶表示装置の表示特性を改善、特に、黒表示時の斜め方向をカラーシフト軽減、することができる。ＩＰＳモード液晶表示装置の光学補償に利用する態様では、本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｔｈは、−４０ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、Ｒｅは１２０ｎｍ〜４００ｎｍであることが好ましい。また、Ｎｚ値は０．５程度であるのが好ましく、具体的には、Ｎｚ値は０．２５〜０．６５であるのが好ましい。本態様では、本発明のセルロースアシレートフィルムを、その面内遅相軸を表示面側偏光膜（又はバックライト側偏光膜）の吸収軸と平行もしくは直交にして配置するのが好ましい。
【０１０８】
本態様では、表示面側偏光膜及びバックライト側偏光膜と液晶セルとの間には、前記セルロースアシレートフィルム以外の位相差層が存在していないのが好ましい。従って、例えば、表示面側偏光板又はバックライト側偏光板が、前記セルロースアシレートフィルム以外の偏光膜用保護フィルムを有し、該保護フィルムが、液晶セルと表示面側偏光膜又はバックライト側偏光膜との間に配置される場合は、該保護フィルムには、Ｒｅ及びＲｔｈの双方がほとんど０である等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましく、その様なポリマーフィルムとしては、特開２００６−０３０９３７号公報等に記載のセルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。
【実施例】
【０１０９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１１０】
（合成例1：例示化合物Ａ−１の合成）
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５Ｌの三ツ口フラスコに置換度１．７６のアセチルセルロースを１００ｇ、ピリジン１０００ｍＬを量り取り、室温で攪拌した。ここに塩化ベンゾイル６０ｍＬをゆっくりと滴下し、滴下後さらに６０℃にて５時間攪拌した。反応後、室温に戻るまで放冷し、反応溶液をメタノール１０Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより、目的の例示化合物Ａ−１を白色粉体として１１５ｇ得た。平均重合度は１１９であった。
【０１１１】
（合成例２：比較化合物Ｂ−１の合成）
先の例示化合物Ａ−１の製造において、塩化ベンゾイル６０ｍＬを４０ｍＬに変更する以外は同様にして、目的のＢ−１を白色粉体として１０９ｇ得た。平均重合度は１１０であった。
【０１１２】
（合成例３：比較化合物Ｂ−２の合成）
特開２００６−３２８２９８号公報に記載の方法で合成した。メカニカルスターラーをつけた５Ｌの三ツ口フラスコに、セルロースを１００ｇ、水１００ｍＬを量り取り、一晩攪拌し、水を減圧濾過した。得られたスラリーに４００ｍＬのメタノール（和光純薬）を加え、室温で１時間攪拌後、減圧濾過する操作を２回行った。さらに得られたスラリーに４００ｍＬのジメチルアセトアミド（和光純薬）を加え、室温で１時間攪拌後、減圧濾過する操作を３回行い、活性化されたセルロースを得た。メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５Ｌの三ツ口フラスコに、ジメチルアセトアミド１０００ｍＬ、塩化リチウム（和光純薬）を量り取り、８０℃で溶解後した。４０℃に冷却後、活性化されたセルロースを加え、１時間攪拌した。室温まで冷却し、酢酸（和光純薬）９３ｇ、安息香酸（和光純薬）３８ｇ、ジシクロへキシルカルボジイミド（和光純薬）３８０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン（和光純薬）１３０ｇ、ジメチルアミノピリジウム  ｐ−トルエンスルホン酸塩（東京化成）１３０ｇを加え、２４時間攪拌した。反応後、室温に戻るまで放冷し、反応溶液を水５Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的の比較化合物Ｂ−２を白色粉体として９０ｇ得た。平均重合度は２５０であった。
【０１１３】
［実施例１：セルロースアシレートフィルムの作製］
以下の方法により下記表に示すセルロースアシレートフィルムをそれぞれ作製した。
紫外線吸収剤としてはそれぞれ、ＵＶ１−１、ＵＶ２−１、ＵＶ３−５、あるいはＵＶ４−１及びトリチルアルコールを用いた。
１）  セルロースアシレート溶液の調製
下記の原料をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、溶解し、セルロースアシレート溶液を有する溶液を調製した。
セルロースアシレート（下記表に記載）                  ８５質量部
紫外線吸収剤（下記表に記載）                          １５質量部
メチレンクロライド                                  ４００質量部
【０１１４】
２）  セルロースアシレートフィルム試料の作製
セルロースアシレート溶液組成の溶液５００質量部を、バンド流延機を用いて流延したフィルムを、ガラス転移温度＋３０℃の温度で、下記表に示す延伸倍率で、固定端一軸延伸して、下記表に示すセルロースアシレートフィルムのそれぞれを作製した。以下、特に断りがなければ、作製したフィルムの厚さはすべて８０μｍである。
【０１１５】
３）  セルロースアシレートフィルム試料の評価
フィルム試料の評価については、上記で得られた各フィルム試料の一部（１２０ｍｍ×１２０ｍｍ）を準備し、レターデーション値については“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”（王子計測機器（株）社製）により、波長５５０ｎｍの光に対するＲｅ及びＲｔｈを測定した。結果を下記表に示す。
【０１１６】
【表２】
2009298950.tif 000025
【０１１７】
上記表に記載の結果から、本発明の実施例のセルロースアシレートフィルム（ＳＡ−１〜４）は、Ｒｅの絶対値が大きく、Ｒｔｈの絶対値が小さく、且つＲｅの湿度依存性（ΔＲｅ/Ｒｅ）が小さいことが理解できる。
ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６の値が本発明の範囲内であるが、ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６が本発明の範囲外である、即ち、前記式（Ｉ）を満足しない、セルロースアシレートを用いて作製した比較例のフィルム（ＳＢ−１）は、レターデーションの湿度依存性が大きかった。
ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３−ＤＳＡ６及び、ＤＳＡ２＋ＤＳＡ３＋ＤＳＡ６の値が本発明の範囲外である、即ち、前記式（Ｉ）及び（II）を満足しない、セルロースアシレートを用いて作製した比較例のフィルム（ＳＢ−２）は、Ｒｔｈの絶対値が大きく、レターデーションの湿度依存性が大きくなった。
また、延伸処理を施していない比較例のフィルム（ＳＢ−３）は、Ｒｅの絶対値が小さかった。
紫外線吸収剤を含まない比較例のフィルム（ＳＢ−４）は、Ｒｔｈの絶対値が大きかった。
【０１１８】
［参考例］
紫外線吸収剤ＵＶ１−１を、トリチルアルコールに代えた以外は、実施例のフィルム（ＳＡ−１）と同様にして、フィルム（ＳＣ−１）を作製した。
このフィルム（ＳＣ−１）のＲｔｈは−１３６ｎｍであり、Ｒｅは２６１ｎｍであった。即ち、トリチルアルコールを紫外線吸収剤として利用すると、無添加のものと比較して、Ｒｔｈの低減効果がほとんど得られないことがわかった。
また、ΔＲｅ／Ｒｅは０．１であり、上記実施例よりもＲｅの湿度依存性が顕著であり、無添加のものと比較しても顕著であった。
【０１１９】
［実施例２：ＩＰＳモード液晶表示装置の作製］
１）フィルムの鹸化
実施例および比較例で作製したＳＡ-１、ＳＡ-２、ＳＡ-３およびＳＢ-２、ＳＢ-３、ＳＢ-４フィルム、フジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製：以下「タックＡ」という）を５５℃に調温した１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（けん化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴を通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
【０１２０】
２）偏光膜の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み２０μｍの偏光膜を作製した。
【０１２１】
３）貼り合わせ
このようにして得た偏光膜の一方の面に鹸化処理したＳＡ−１〜ＳＡ−３、ＳＢ−２〜ＳＢ−４のいずれかを、及び他方の面にタックＡを、それぞれの鹸化面を偏光膜側にして配置し、偏光膜を挟み、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として貼り合わせて、偏光板をそれぞれ作製した。
【０１２２】
４）  ＩＰＳモード液晶表示装置への実装評価
実施例のＳＡ-１、ＳＡ-２、及びＳＡ-３をそれぞれ利用して作製した偏光板を、ＩＰＳ型液晶表示装置（３７型ハイビジョン液晶テレビモニター（３７Ｚ２０００）、（株）東芝製）に組み込まれていた視認側偏光板の代わりに液晶セル側になるように組み込み、視認性を確認した。これらの偏光板を利用することで、十分な視野角補償が達成され、良好な視認性を確保できたことが確認できた。
一方、比較例のＳＢ-２、ＳＢ-３、及びＳＢ-４をそれぞれ用いて作製した偏光板に代えた以外は、上記と同様にして、ＩＰＳモード液晶表示装置に組み込み、視認性を確認した。これらの偏光板を利用しても、視野角補償が不十分であり、特に斜めから視認した際の光漏れが強く観測された。