(57)【要約】【課題】電磁波シールド材の導電材料層の線を直線とするとともに導電材料層の線幅を均一に形成することができるグラビア版を提供する。【解決手段】本発明によるグラビア版３０は、電磁波シールド材２０を製造する際、透明基材２１上に所望形状の多数のドット２６をグラビア印刷により形成するものである。このグラビア版３０は、グラビア版本体３１と、グラビア版本体３１の表面に多数形成されたセル３２とを備えている。このうちセル３２は、グラビア版本体３１の表面のうち各ドット２６に対応する領域２６ａ内に、予め定められた所定数含まれるように形成されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波シールド材を製造するために透明基材上に所望形状の多数のドットをグラビア印刷する際に用いるグラビア版において、
グラビア版本体と、
グラビア版本体の表面に多数形成されたセルとを備え、
セルは、グラビア版本体の表面のうち各ドットに対応する領域内に、予め定められた所定数含まれるように形成されていることを特徴とするグラビア版。
【請求項２】
各ドットに対応するセル毎に、セルを囲むフレームが形成されていることを特徴とする請求項１に記載のグラビア版。
【請求項３】
フレームは、透明基材の送り方向後方において内方へ入り込む補正部分を有することを特徴とする請求項２に記載のグラビア版。
【請求項４】
グラビア版本体は、アルミニウム製の中空シリンダ部と、中空シリンダ部表面に形成された銅めっき部とを有し、各セルは、グラビア版本体の銅めっき部に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のグラビア版。
【請求項５】
グラビア版本体の銅めっき部上に、更に表面処理部が形成されていることを特徴とする請求項４に記載のグラビア版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールド材を製造するために透明基材上に所望形状の多数のドットをグラビア印刷する際に用いられるグラビア版に係り、とりわけ電磁波シールド材の導電材料層の線幅を直線かつ均一に形成することができるグラビア版に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特開２００３−２４３８８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特許文献１に記載された方法は、フレキソ印刷を用いて、フィルム面に溶剤に対して可溶な物質によりドットを形成し、次にフィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、その後フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することにより、導電材料パターンを形成するものである。
【０００４】
しかしながら、このようにフレキソ印刷を用いて電磁波シールド材を製造する場合、製造コストが高くなることや、導電材料層の線幅を細くすることに限界がある等の問題が存在する。したがって、このような問題を解消するため、グラビア印刷を用いて電磁波シールド材を製造することが考えられる。
【０００５】
通常、グラビア印刷用のシリンダ版（以下グラビア版ともいう）は、線数、土手幅、および版深等を設定することにより印刷結果を管理している。例えば、グラビア版の線数は５０〜５００線、版深は２０〜１００μｍ程度となるのが一般的である。ここで線数とは、１インチあたりに含まれる線（セル）の数で定義されるため、例えば線数が１００線である場合は、１インチ（２５．４ｍｍ）／１００線＝約０．２５４ｍｍ（２５４μｍ）間隔でセルが形成されることになる。
【０００６】
ところで従来、グラビア印刷は主に包装材料の印刷で用いられることが多いため、印刷後の絵柄や色が最も重視され、寸法精度や直線性は従来からあまり重要視されていない。一方、例えば電磁波シールド材等、ディスプレイ関係の光学用途においては、印刷後の寸法精度や直線性が非常に重要とされる。したがって、従来のグラビア印刷により電磁波シールド材を製造しても、電磁波シールド材の厳しい製造条件に適さないと考えられる。
【０００７】
例えば、電磁波シールド材の導電材料のメッシュ状パターンは、線幅（Ｌｉｎｅ）が１０μｍかつ線間隔（Ｐｉｔｃｈ）が３００μｍであるのが一般的であるが、このようなパターンを従来のグラビア印刷により精度良く作製することは難しい。すなわち、グラビア版の線数はインチにより定義されるため、電磁波シールド材の導電材料のメッシュ状パターンを作製した場合、各ドットに含まれるセルの位置が少しずつずれ、また１つのドットに含まれるセル数もバラバラとなって統一性がない（図１０参照）。例えば、導電材料の線間隔（ドットの幅）を３００μｍとする場合、この線幅に線数を合わせようとしても正確な線数とならない。これは、グラビア版の線数が２５．４ｍｍ／３００μｍ＝８４．６６６６…となって割り切れないためである。この場合、電磁波シールド材を通して見られる映像に明暗差が発生し、これがモアレとなって外観不良が生じる。この傾向はとりわけＰＤＰのサイズが大きくなるほど顕著に現れる。
【０００８】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、グラビア印刷を用いて電磁波シールド材を作製する場合、導電材料層の線を直線に形成するとともに、導電材料層の線幅を均一に形成することが可能なグラビア版を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、電磁波シールド材を製造するために透明基材上に所望形状の多数のドットをグラビア印刷する際に用いるグラビア版において、グラビア版本体と、グラビア版本体の表面に多数形成されたセルとを備え、セルは、グラビア版本体の表面のうち各ドットに対応する領域内に、予め定められた所定数含まれるように形成されていることを特徴とするグラビア版である。
【００１０】
本発明は、各ドットに対応するセル毎に、セルを囲むフレームが形成されていることを特徴とするグラビア版である。
【００１１】
本発明は、フレームは、透明基材の送り方向後方において内方へ入り込む補正部分を有することを特徴とするグラビア版である。
【００１２】
本発明は、グラビア版本体は、アルミニウム製の中空シリンダ部と、中空シリンダ部表面に形成された銅めっき部とを有し、各セルは、グラビア版本体の銅めっき部に形成されていることを特徴とするグラビア版である。
【００１３】
本発明は、グラビア版本体の銅めっき部上に、更に表面処理部が形成されていることを特徴とするグラビア版である。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように本発明によれば、セルは、グラビア版本体の表面のうち各ドットに対応する領域内に、予め定められた所定数含まれるように形成されているので、透明基材上のドットの形状を均一にし、電磁波シールド材の導電材料層の線幅および線間隔を均一に形成することができる。
【００１５】
また本発明によれば、各ドットに対応するセル毎に、セルを囲むフレームが形成されているので、電磁波シールド材の導電材料層の各線を直線状に形成することができる。また、フレームは、透明基材の送り方向後方において内方へ入り込む補正部分を有するので、透明基材上のドットの形状を、透明基材の送り方向の前方と後方とで対称なものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１は、グラビア印刷機を示す概略図であり、図２は、本発明の一実施の形態によるグラビア版を示す斜視図であり、図３は、本発明の一実施の形態によるグラビア版の表面を示す図（図２のＡ部拡大図）である。図４は、本発明の一実施の形態によるグラビア版の断面図（図２のＢ−Ｂ線断面図）であり、図５は、電磁波シールド材を示す構成図であり、図６は、本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図である。図７は、電磁波シールド材の製造工程において透明基材上に印刷された可溶性樹脂層を示す平面図であり、図８は、グラビア版の製造工程を示す図であり、図９は、本発明の具体的実施例を示す図である。
【００１７】
グラビア印刷機の構成
まず、図１によりグラビア印刷機の概略について説明する。
【００１８】
グラビア印刷機４０は、グラビア版本体３１とグラビア版本体３１の表面に多数形成されたセル３２とを有するグラビア版３０と、グラビア版３０の下方に配設され、グラビアインキ４２が充填されたインキパン４１とを有している。このうちインキパン４１内に、グラビア版３０にグラビアインキ４２を供給するファニッシャーロール４６が設けられている。
【００１９】
インキパン４１の周囲には、グラビアインキ４２が充填されたインキタンク４８と、グラビアインキ４２を循環させるインキ循環ポンプ４７とが配置されている。一方、グラビア版３０の側部には、グラビアインキ４２を掻き取るためのドクターブレード４３が設けられている。このドクターブレード４３としては、表面にセラミックスめっきが施されているもの（例えば株式会社東京製作所製セラメッキドクターブレード）が好ましい。このようなドクターブレード４３を用いることにより、グラビア版３０表面でグラビアインキ４２をムラ無く均一に掻き取ることができる。
【００２０】
また、グラビア版３０の上方に、グラビア版３０との間で透明基材２１を押圧することによりグラビアインキ４２を透明基材２１に転写するための圧胴４４が設けられている。さらに、透明基材２１の進行方向下流側に、圧胴４４からの透明基材２１を乾燥させる乾燥装置４９が設置されている。
【００２１】
グラビア版の構成
次に、図２乃至図４により本実施の形態によるグラビア版について説明する。
【００２２】
図２および図３に示すグラビア版３０は、後述するように、電磁波シールド材２０を製造するために透明基材２１上に所望形状（例えば正方形状）の多数のドット２６をグラビア印刷する際に用いられるものである。
【００２３】
このグラビア版３０は、グラビア版本体３１と、グラビア版本体３１の表面に多数形成された凹部からなるセル３２とを備えている。このうちセル３２は、グラビア版本体３１の表面のうち各ドット２６に対応する領域（図３の符号２６ａで示す正方形領域）内に、予め定められた所定数（図３においては９個）含まれるように形成されている。また各ドット２６内における複数のセル３２の位置は、各領域２６ａ間で互いに同一となっている。
【００２４】
図３に示すように、各ドット２６に対応するセル３２（すなわち領域２６ａ内にある複数のセル３２）毎に、セル３２を囲むフレーム３３が形成されている。各フレーム３３は、グラビア版本体３１に形成され、対応する各ドット２６に対応する形状（例えば略正方形状）の凹部からなっている。また各フレーム３３は、透明基材２１の送り方向（グラビア版３０の進行方向）後方においてわずかに内方へ入り込む補正部分３４を有している。なお、各フレーム３３の形状および各フレーム３３の補正部分３４の形状は、各領域２６ａ間で互いに同一となっている。
【００２５】
なお図３において、各フレーム３３の幅ｗaは１５μｍ乃至２５μｍとすることが好ましい。フレーム３３の幅ｗaが小さすぎると、電磁波シールド材２０の導電材料層２２の線を直線状に形成することが難しくなるので好ましくない。他方、フレーム３３の幅ｗaが大きすぎると、電磁波シールド材２０の導電材料層２２の線が細くなりすぎるので好ましくない。
【００２６】
また図３において、補正部分３４のうち透明基材２１の送り方向に対して最後方の部分における補正幅ｗbは、７μｍ乃至１０μｍとすることが好ましい。この補正幅ｗbがこの範囲外であると、印刷後にドット２６の形状が透明基材２１の送り方向の前方と後方とで対称にならない（すなわちドット２６が正方形状とならない）ので好ましくない。
【００２７】
一方、図４に示すように、グラビア版３０のグラビア版本体３１は、アルミニウム製の中空シリンダ部３１ａと、中空シリンダ部３１ａ表面に形成された銅めっき部３１ｂとを有している。各セル３２は、グラビア版本体３１の銅めっき部３１ｂに形成されている。また、グラビア版本体３１の銅めっき部３１ｂ上に、更に表面処理部３１ｃが形成されている。
【００２８】
グラビア版本体３１の中空シリンダ部３１ａは、容易で軽量なアルミニウム製軸無し中空シリンダからなることが好ましいが、印刷の際、グラビア版３０と圧胴４４との間に高い印圧が付加される場合には、グラビア版３０のたわみを防止するため、鉄製のシリンダを用いても良い。
【００２９】
またグラビア版本体３１の表面処理部３１ｃは、表面を硬くするためにＣｒめっき層からなることが好ましい。このほか、グラビア版３０の表面を硬膜化したい場合やグラビア版３０からのインキ転写量を増やしたい場合には、表面処理部３１ｃを窒化チタン（ＴｉＮ）のスパッタリング層やＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）のスパッタリング層から構成しても良い。
【００３０】
電磁波シールド材の構成
次に、図５により電磁波シールド材の概略について説明する。
【００３１】
図５に示す電磁波シールド材２０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものである。この電磁波シールド材２０は、ＰＥＴ製の透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の導電材料層２２と、導電材料層２２上に設けられた金属めっき層２３とを備えている。
【００３２】
このうち透明基材２１としては、ＰＥＴ製フィルムのほか、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。透明基材２１を構成するプラスチックフィルムは、高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが最も望ましい。
【００３３】
一方、メッシュ状の導電材料層２２を構成する金属の材質としては例えば、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯ（酸化インジウム錫）など電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００３４】
この導電材料層２２は、厚さが０．０１μｍ乃至０．５μｍとなっている。導電材料層２２の厚さが薄すぎると導電材料層２２の電気抵抗にムラが生じ、金属めっき層２３を作製する際にめっきムラが生じるので好ましくない。他方、導電材料層２２の厚さが厚すぎると、後述するようにドット２６を水または溶剤により溶解して除去することが困難となるおそれがある。
【００３５】
導電材料層２２の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様形状であってもよい。導電材料層２２の形状がメッシュ状である場合、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果および光透過率に応じて、導電材料層２２を構成する各線の幅を１μｍ乃至１００μｍとし、かつ各線の間隔を５０μｍ乃至５００μｍとすることができる。
【００３６】
金属めっき層２３を構成する金属の材質としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、クロム、銀、モリブデン、タングステンなどが挙げられ、導電材料層２２上に電解めっき法により形成することができる金属であれば良い。
【００３７】
この金属めっき層２３は、厚さが１μｍ乃至１００μｍとなっている。金属めっき層２３は、導電材料層２２の厚さが薄く、導電材料層２２の導電性が不十分となる場合に設けられる。したがって、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果に応じてその厚さを設定すれば良い。
【００３８】
電磁波シールド材の製造方法
次に、図５に示す電磁波シールド材２０の製造方法について、図６（ａ）〜（ｅ）、図７により説明する。
【００３９】
まず図６（ａ）に示すように、透明基材２１を準備する。透明基材２１の厚さは、５０μｍ乃至２５０μｍとなることが好ましく、７５μｍ乃至１００μｍとなることが更に好ましい。
【００４０】
次に、透明基材２１上にグラビア印刷（凹版印刷）により、細線状の隙間２１ａを残して多角状、例えば正方形状の多数のドット２６を形成する（図６（ｂ））。この場合、水または溶剤に対して可溶な物質（グラビアインキ４２）を用いて、グラビア印刷機４０により透明基材２１上にグラビア印刷を施し、更にグラビアインキ４２を乾燥させることにより、透明基材２１上に多数のドット２６が形成される。なお、このようにグラビア印刷により透明基材２１上に多数のドット２６を形成する方法については後述する（図１参照）。
【００４１】
なお、グラビア印刷により形成されるドット２６の厚さｔ2は、約０．５μｍ乃至１．０μｍとすることが好ましい。この厚さｔ2が薄すぎると、後述するドット２６の溶解除去工程（図６（ｄ））で、ドット２６を水または溶剤により溶解してドット２６上の導電材料層２２を除去することが困難となる。
【００４２】
グラビア印刷により形成されるドット２６のパターンは、透明基材２１上に設けられる導電材料層２２の形状と正反対の形状となる。例えば導電材料層２２をメッシュ状に形成する場合、透明基材２１上に形成されるドット２６のパターンは、多数の正方形を互いに等間隔に並べた形状となる（図７参照）。図７において、各ドット２６間の間隔ｄ2を１μｍ乃至１００μｍとし、かつドット２６の一辺の長さｄ1を５０μｍ乃至５００μｍとすることが好ましい。
【００４３】
なお、ドット２６を構成するグラビアインキ４２は、後述するドット２６の溶解除去工程（図６（ｄ））で用いられる液体（水または有機溶剤）に溶解する材料から選択される。例えば溶解除去工程で水が用いられる場合、グラビアインキ４２は水溶性である。このようなグラビアインキ４２としては、例えばポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニルマレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらのうち２種類以上の混合物を含むもの等が挙げられる。一方ドット２６の溶解除去工程で有機溶剤が用いられる場合、グラビアインキ４２は有機溶剤可溶性であり、このようなグラビアインキ４２として、例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート、溶剤可溶型フッ素樹脂等を含むものを使用することができる。
【００４４】
次いで、透明基材２１上のドット２６上、ドット２６側部、およびドット２６間の隙間２１ａに、銅、アルミニウム、クロム、ニッケルクロム、銀、またはＩＴＯ等の導電材料からなる導電材料層２２を形成する（図６（ｃ））。
【００４５】
導電材料層２２を形成する方法としては、導電材料を塗布するほか、気相めっき（スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着等）または液相めっき（電解めっき、無電解めっき等）等の手法を用いることができる。
【００４６】
なお、ドット２６の溶解除去工程において（図６（ｄ））、ドット２６を溶解してドット２６上の導電材料層２２を除去できるようにするため、導電材料層２２の厚さｔ1は、０．０１μｍ乃至０．５μｍとすることが好ましい。
【００４７】
次に、多数のドット２６を水または有機溶剤により溶解することにより、ドット２６と、ドット２６上およびドット２６側部の導電材料層２２とを除去するとともに、隙間２１ａ上の導電材料層２２のみを残存させる（図６（ｄ））。すなわち、水または有機溶剤を導電材料層２２に供給して導電材料層２２内に浸透させ、ドット２６を溶解させる。このようにしてドット２６が溶解されることにより、ドット２６上およびドット２６側部の導電材料層２２も取り除かれる。他方、隙間２１ａ上の導電材料層２２は残存する。なお、このような有機溶剤として、例えばトルエン、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、アセトン、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）等を使用することができる。
【００４８】
その後、透明基材２１の隙間２１ａ上の導電材料層２２上に、電解めっき法により例えば銅、アルミニウム、錫、ニッケル等からなる金属めっき層２３を形成する（図６（ｅ））。このようにして、図５に示す電磁波シールド材２０が作製される。
【００４９】
グラビア印刷方法
次に、グラビア版３０を用いるグラビア印刷により、透明基材２１上に多数のドット２６を形成する方法（図６（ｂ））について、図１、図４、および図８（ａ）〜（ｄ）により説明する。
【００５０】
初めにグラビア版３０を作製する。この際、まずアルミニウム製の中空シリンダ部３１ａを準備し（図８（ａ））、この中空シリンダ部３１ａ表面に銅めっき加工を施して銅めっき部３１ｂを形成する（図８（ｂ））。次に銅めっき部３１ｂを腐食方式または切削方式により製版加工し、さらにエッチング加工することにより、銅めっき部３１ｂにセル３２とフレーム３３とを形成する（図８（ｃ））。その後、銅めっき部３１ｂ上にＣｒめっき加工を施し、Ｃｒめっき層からなる表面処理部３１ｃを形成する（図８（ｄ））。このようにして、グラビア版本体３１と、グラビア版本体３１の表面に多数形成されたセル３２と、セル３２を囲むフレーム３３とを有するグラビア版３０が作製される（図４参照）。
【００５１】
次に、図１に示すように、このグラビア版３０をグラビア印刷機４０内に設置する。
【００５２】
次いで、このグラビア印刷機４０を運転することにより、透明基材２１上にグラビアインキ４２が転写され、さらにこのグラビアインキ４２を乾燥させることにより多数のドット２６が形成される。
【００５３】
この間、まずファニッシャーロール４６により、グラビア版３０の版面の凹部（セル３２およびフレーム３３）がグラビアインキ４２で満たされる。
【００５４】
次に、グラビア版３０が回転することによりグラビアインキ４２は圧胴４４側へ引き上げられる。この間、ドクターブレード４３によりグラビア版３０表面が擦られ、グラビア版３０の凹部（セル３２およびフレーム３３）以外に付着したグラビアインキ４２が掻き取られる。
【００５５】
次いで、グラビア版３０と圧胴４４との間で透明基材２１が挟まれて押圧され、この際グラビアインキ４２は、グラビア版３０の凹部（セル３２およびフレーム３３）から透明基材２１上に転写される。この際、グラビア版３０および圧胴４４によって押圧されることにより、グラビア版３０のセル３２およびフレーム３３からのグラビアインキ４２は、透明基材２１上でドット２６の形状（例えば正方形状）に広がる。
【００５６】
その後、透明基材２１上のグラビアインキ４２は乾燥装置４９内で乾燥されて硬化され、透明基材２１上に多数のドット２６が形成される。
【００５７】
本実施の形態において、セル３２は、グラビア版本体３１の表面のうち各ドット２６に対応する領域２６ａ内に、予め定められた所定数含まれるように形成されている。したがって、従来のグラビア版と比較して、透明基材２１上にグラビア印刷された各ドット２６の形状を互いに均一にすることができる。これにより電磁波シールド材２０を作成した後、導電材料層２２の線幅および線間隔を均一に形成することができる。
【００５８】
また本実施の形態によれば、各ドット２６に対応するセル３２毎に、セル３２を囲むフレーム３３が形成されているので、電磁波シールド材２０の導電材料層２２の各線を直線状に形成することができる。
【００５９】
ところで一般に、透明基材２１上のグラビアインキ４２が乾燥装置４９内で乾燥されるまでの間、グラビアインキ４２が透明基材２１上で流れることが考えられる。この場合、グラビアインキ４２が乾燥した後、透明基材２１上のドット２６の形状が、透明基材２１の送り方向の前方と後方とで対称にならない（すなわちドット２６が正方形状とならない）おそれがある。
【００６０】
これに対して本実施の形態によれば、上述したようにフレーム３３は、透明基材２１の送り方向後方において内方へ入り込む補正部分３４を有している。したがって、グラビア版３０により透明基材２１上に形成されるドット２６の形状を、透明基材２１の送り方向の前方と後方とで対称（すなわちドット２６を正方形状）に形成することができる。
【００６１】
（実施例）
次に、本発明の具体的実施例を図９を用いて説明する。
【００６２】
本実施例において、作製する電磁波シールド材２０の導電材料層２２のパターンをメッシュ形状とし、かつ導電材料層２２の線幅（Ｌｉｎｅ）および線間隔（Ｐｉｔｃｈ）をＬｉｎｅ／Ｐｉｔｃｈ＝１０μｍ／３００μｍに設定した。
【００６３】
このような電磁波シールド材２０を製造する場合、グラビア版３０の製版パターンの条件は、Ｌｉｎｅ／Ｐｉｔｃｈ＝２５μｍ／３００μｍとするのが最適である。したがって、パターン寸法がＬｉｎｅ／Ｐｉｔｃｈ＝２５μｍ／３００μｍであるとともに、グラビア版３０の面の長さが７００ｍｍ幅（５０インチ相当）となる図面データを作成した（図９参照）。この際、補正部分３４のうち、透明基材２１の送り方向に対して最後方の部分における補正幅ｗbを８μｍとした。
【００６４】
グラビア版本体３１としては、加工が容易で軽量なアルミニウム製の軸無し中空シリンダ部３１ａに銅めっき部３１ｂを形成したものを用いた。また、銅めっき部３１ｂに対する製版加工は、レーザースポット径８μｍの一般的なレーザー加工装置を搭載した製版装置を用いた。
【００６５】
製版後に外観検査を行なった際モアレを発生させにくくするため、グラビア版３０の線数（すなわち１インチあたりのセル３２の数）を７５０線乃至１０００線程度とすることが好ましい。しかしながら、グラビア版３０の線数を増加するとグラビア版３０の版深を深くすることが難しくなる。一方、グラビア版３０の版深が浅いと、透明基材２１上に載るグラビアインキ４２の量が減少する。この場合、インク抜けが発生しやすくなり、電磁波シールド材２０を製造する際に不良が発生しやすい。
【００６６】
したがって、グラビア版３０の最適な条件として、線数を７６０線、セル幅（セル３２の幅）を２９μｍ、土手幅（セル３２の同士の間隔）を５μｍ、および版深（セル３２の深さ）を２０μｍにそれぞれ設定した。このような条件を製版装置のプログラムに入力し、セル３２が、各ドット２６に対応する領域２６ａ内にそれぞれ所定数（７×７＝４９個）含まれるようにして、レーザー製版を行なった。
【００６７】
このようにしてレーザー製版を行なった後、グラビア版本体３１の銅めっき部３１ｂに対してエッチングを行い、さらに銅めっき部３１ｂの最表面にＣｒめっきを施すことにより表面処理部３１ｃを形成した。このようにして所望のグラビア版３０を作製することができた。
【００６８】
このグラビア版３０を用いて、グラビア印刷により透明基材２１上に多数のドット２６を形成し、更に上述した方法により電磁波シールド材２０を作製した。この電磁波シールド材２０は、導電材料層２２の線幅が均一であり、かつ線幅の直線性も良好であった。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】グラビア印刷機を示す概略図。
【図２】本発明の一実施の形態によるグラビア版を示す斜視図。
【図３】本発明の一実施の形態によるグラビア版の表面を示す図（図２のＡ部拡大図）。
【図４】本発明の一実施の形態によるグラビア版の断面図（図２のＢ−Ｂ線断面図）。
【図５】電磁波シールド材を示す構成図。
【図６】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【図７】電磁波シールド材の製造工程において透明基材上に印刷された可溶性樹脂層を示す平面図。
【図８】グラビア版の製造工程を示す図。
【図９】本発明の具体的実施例を示す図。
【図１０】セルとドットとのずれを示す概略図。
【符号の説明】
【００７０】
２０    電磁波シールド材
２１    透明基材
２２    導電材料層
２３    金属めっき層
２６    ドット
３０    グラビア版
３１    グラビア版本体
３１ａ  中空シリンダ部
３１ｂ  銅めっき部
３１ｃ  表面処理部
３２    セル
３３    フレーム
３４    補正部分
４０    グラビア印刷機
４２    グラビアインキ
４３    ドクターブレード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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