(57)【要約】【課題】耐久性に優れたガラス光学素子成形用金型を提供する。【解決手段】金型１は、タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金からなる母材１０と、母材１０に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素である第１成分を含む第１被膜層１２と、第１被膜層１２に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層１４とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金、又は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットからなる母材と、
前記母材に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素である第１成分を含む第１被膜層と、
前記第１被膜層に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層と
を含むことを特徴とするガラス光学素子成形用金型。
【請求項２】
前記第１被膜層と前記第２被膜層とは、少なくとも１種類の金属元素を共通に含むことを特徴とする請求項１に記載のガラス光学素子成形用金型。
【請求項３】
前記第１被膜層は、前記第１成分と、白金（Pt）、イリジウム（Ir）、レニウム（Re）、オスミウム（Os）、パラジウム（Pd）、ロジウム（Rh）、及びルテニウム（Ru）のうちの少なくとも一種の金属元素である第２成分との合金を含んで形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス光学素子成形用金型。
【請求項４】
前記第２被膜層は、白金（Pt）、イリジウム（Ir）、レニウム（Re）、オスミウム（Os）、パラジウム（Pd）、ロジウム（Rh）、及びルテニウム（Ru）のうちの少なくとも一種の金属元素を含んで形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス光学素子成形用金型。
【請求項５】
前記第１被膜層と前記第２被膜層との間に形成され、前記第１成分と前記第２成分とを含み、当該第１被膜層から離れるに従って当該第１成分の組成比が低くなる組成遷移被膜層を更に含むことを特徴とする請求項３に記載のガラス光学素子成形用金型。
【請求項６】
タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金、又は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットからなる母材と、当該母材に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素を含む第１被膜層と、当該第１被膜層に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層とを含むガラス光学素子成形用金型を用いて、軟化点が６００℃以下の超低融点ガラスをプレス成形により製造されたことを特徴とするガラス光学素子。
【請求項７】
タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金、又は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットからなる母材と、当該母材に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素を含む第１被膜層と、当該第１被膜層に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層とを含むガラス光学素子成形用金型を用いて、軟化点が６００℃以下の超低融点ガラスをプレス成形によりガラス光学素子を製造することを特徴とするガラス光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス光学素子を成形するための金型等に関する。
【背景技術】
【０００２】
光通信等に用いられるレンズや、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）のピックアップヘッドに搭載されるレンズ（光ピックアップ）及びデジタルカメラに用いられるレンズなどの光学素子は、高屈折率、低複屈折、低色収差及び耐高温性の観点からガラスレンズが用いられる。このガラスレンズの表面を非球面とすれば、単一レンズで収差をなくすことができるので、レンズを含むデバイスの軽量化が可能となる。
非球面ガラスレンズの製造は、従来の研磨による方法では加工精度および量産性に劣ることから、モールドプレス法が用いられる。モールドプレス法は、所望の精度に仕上げられた非球面成形表面を有する金型の上で加熱され軟化されたガラスをプレスすることにより光学素子を得る製造方法である。従って、モールドプレス法に用いられる金型の表面は、耐熱性に優れ、ガラスとの反応性が低く、膜硬度が高いことが要求される。
このような要求を満たす公報開示の技術として、例えば、特許文献１には、白金イリジウム（Pt-Ir）又は白金ロジウム（Pt-Rh）等の貴金属合金を被覆した光学素子製造金型の技術が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特公昭６３−１１２８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、モールドプレス法によりガラス光学素子を作成する場合、金型の表面は軟化されたガラス（軟化温度のガラス）に曝されるので、金型を長期間使用すれば金型表面の平滑性を維持することが困難になる場合がある。
本発明は、耐久性に優れたガラス光学素子成形用金型を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明にかかるガラス光学素子成形用金型は、タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金、又は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットからなる母材と、母材に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素である第１成分を含む第１被膜層と、第１被膜層に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層とを含むことを特徴とする。
【０００６】
ここで、第１被膜層と第２被膜層とは、少なくとも１種類の金属元素を共通に含むことを特徴とすれば、第１被膜層と第２被膜層との優れた密着性を確保できる点で好ましい。
また、第１被膜層は、第１成分と、白金（Pt）、イリジウム（Ir）、レニウム（Re）、オスミウム（Os）、パラジウム（Pd）、ロジウム（Rh）、及びルテニウム（Ru）のうちの少なくとも一種の金属元素である第２成分との合金を含んで形成されることを特徴とする。
更に、第２被膜層は、白金（Pt）、イリジウム（Ir）、レニウム（Re）、オスミウム（Os）、パラジウム（Pd）、ロジウム（Rh）、及びルテニウム（Ru）のうちの少なくとも一種の金属元素を含んで形成されることを特徴とする。
更にまた、第１被膜層と第２被膜層との間に形成され、第１成分と第２成分とを含み、第１被膜層から離れるに従って第１成分の組成比が低くなる組成遷移被膜層を更に含むことを特徴とすれば、第１被膜層と第２被膜層との密着性をより高めることができる点で優れている。
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明にかかるガラス光学素子は、タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金、又は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットからなる母材と、母材に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素を含む第１被膜層と、第１被膜層に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層とを含むガラス光学素子成形用金型を用いて、軟化点が６００℃以下の超低融点ガラスをプレス成形により製造されることを特徴とする。
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明にかかるガラス光学素子の製造方法は、タングステンカーバイト（WC）を主成分とする超硬合金、又は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットからなる母材と、母材に接触して形成され、タングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素を含む第１被膜層と、第１被膜層に接触して形成され、W、Ta、及びMoのいずれの金属元素も含まない第２被膜層とを含むガラス光学素子成形用金型を用いて、軟化点が６００℃以下の超低融点ガラスをプレス成形によりガラス光学素子を製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、耐久性に優れたガラス光学素子成形用金型を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態（実施の形態）について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態にかかるガラスレンズ成形用の金型の概略構成を示す図である。
図１に示されているように、金型１は、タングステンカーバイト（WC）を主成分とする母材１０と、第１被膜層の一例としての第１被膜層１２と、第２被膜層の一例としての第２被膜層１４とを有して構成される。ここで、第１被膜層１２は、母材１０に接触して母材１０に含まれる金属元素の拡散を防止する。第２被膜層１４は、ガラスレンズに対して化学的に安定な材料で形成される。
【００１１】
母材１０は、例えば、タングステンカーバイト（WC）を主成分とし他の軽金属元素をバインダ成分として含んだ超硬合金により形成される。母材１０は、他の軽金属元素として、例えば、コバルト（Co）、ニッケル（Ni）やクロム（Cr）を含む。母材１０は、ガラスレンズの成形に足るだけの強度を有する。母材１０は、ガラスレンズの形状に合わせた形状を有する。母材１０は、平均表面粗さＲａが例えば２ｎｍ以下に研削され研磨されている。尚、母材１０は、タンタルカーバイト（TaC）、チタンカーバイト（TiC）、タンタルナイトライド（TaN）、及びチタンナイトライド（TiN）のうちいずれかひとつを主成分とするサーメットで構成されてもよい。
第１被膜層１２は、例えば、白金（Pt）、イリジウム（Ir）、レニウム（Re）、オスミウム（Os）、パラジウム（Pd）、ロジウム（Rh）、及びルテニウム（Ru）のうちの少なくとも一種の金属元素とタングステン（W）、タンタル（Ta）、及びモリブデン（Mo）のうちの少なくとも一種の金属元素との合金で形成される。第１被膜層１２は、母材１０に接触して、耐熱性に優れた緻密な膜を形成する。そして、第１被膜層１２は、母材１０に含まれるバインダ成分を構成する軽金属元素や、主成分中の遊離金属成分（例えばW, Ta, Co）の拡散を防止する機能を果たしている。第１被膜層１２は、膜厚が例えば０．０５〜３μｍであり、平均表面粗さＲａが例えば４ｎｍ以下に製作されている。
【００１２】
第２被膜層１４は、例えば、白金（Pt）、イリジウム（Ir）、レニウム（Re）、オスミウム（Os）、パラジウム（Pd）、ロジウム（Rh）、及びルテニウム（Ru）のうちの少なくとも一種の金属元素で形成される。第２被膜層１４は、金型１に載置されて軟化されるガラス１２２（図３参照）に直接接触するので、ガラスの軟化温度において酸化しにくく化学的に安定な材料で形成されている。ガラスの軟化温度は後述する。第２被膜層１４は、膜厚が例えば０．０５〜３μｍであり、平均表面粗さＲａが例えば４ｎｍ以下に製作されている。これにより、成形されて固化したガラスレンズ（図示省略）と金型１との離型を容易にしている。第２被膜層１４は、第１被膜層１２の組成元素と同じ金属元素を少なくとも１種類は含み、第１被膜層１２との良好な密着性を確保している。尚、第１被膜層１２と第２被膜層１４とは、接合に関して相性のよい金属元素を含んでいてもよい。
【００１３】
（成膜装置）
以上に説明した金型１を製作する際に使用される成膜装置３０と、この成膜装置３０を用いた金型１の製造方法について説明する。
図２は、本実施の形態にかかる金型１を製作する際に使用される成膜装置３０の構成を示した図である。
図２に示されているように、成膜装置３０は、前述した母材１０が搭載される金型保持台３２と、前述した第１被膜層１２又は第２被膜層１４の素材となる合金ターゲット３４と、金型１の成膜環境を制御するＡｒガス流量調整器３６とを備えている。
【００１４】
また、成膜装置３０は、金型１と合金ターゲット３４の周囲を真空環境にする真空排気装置３８と、合金ターゲット３４上の磁場を水平にするマグネット４０と、金型１と合金ターゲット３４の周囲環境の真空度を測定する真空度測定装置４２とを備えている。更に、成膜装置３０は、合金ターゲット３４を真空槽４８と絶縁する絶縁体４４と、合金ターゲット３４に高周波電圧を印加する高周波電源４６とを備えている。更にまた、成膜装置３０は、金型１と合金ターゲット３４とを収容し真空環境を維持する真空槽４８と、合金ターゲット３４が載置されるカソード５０とを有して構成される。
【００１５】
図２に示した成膜装置３０を用いて、金型形状に加工された母材１０に対して、第１被膜層１２がスパッタ法により成膜される。
より詳しく述べれば、成膜対象である母材１０と合金ターゲット３４とを対向して配置し、真空排気装置３８により周囲環境を真空状態にする。高周波電源４６を用いて母材１０と合金ターゲット３４との間に高周波電圧を印加する。
【００１６】
高周波電圧が印加されて合金ターゲット３４から飛び出した電子が真空環境を高速移動し、真空環境中にわずかにある気体分子に衝突し、気体分子の電子をはじき飛ばし、イオンを生成する。高速移動する電子やイオンは、マグネット４０により作られた磁場の影響を受けて、合金ターゲット３４に衝突する。そして、合金ターゲット３４に衝突したイオンは、合金ターゲット３４の粒子（金属元素）をはじき飛ばす（スパッタリング現象）。はじき飛ばされた合金ターゲット３４の粒子が母材１０に衝突、付着し、第１被膜層１２を形成する。
第１被膜層１２が形成された後、カソード５０に載置された第１被膜層１２用の合金ターゲット３４は第２被膜層１４用の合金ターゲットに置き換えられた後、同じくスパッタ法により、第１被膜層１２上に第２被膜層１４が成膜される。
【００１７】
（ガラスレンズ成形装置）
以上に説明した製造方法により製造された金型１を用いて、ガラスレンズがプレス成形される方法を以下に説明する。
図３は、本実施の形態にかかる金型１を用いた、ガラスレンズ成形装置１００を示す構成図である。
ガラスレンズ成形装置１００は、ガラスレンズをプレス成形する下金型１１０及び上金型１１２と、下金型１１０及び上金型１１２を所定の温度に維持する下均熱プレート１１４及び上均熱プレート１１６と、下金型１１０及び上金型１１２を昇温する下加熱ヒーター１１８及び上加熱ヒーター１２０とを有して構成される。また、ガラスレンズ成形装置１００は、上金型１１２を可動させる加圧シリンダー１２４と、ガラスレンズの成形環境を制御する窒素導入口１２６及び窒素排気口１２８と、下金型１１０及び上金型１１２等を収容するガラスレンズ成形器１３０と、上金型１１２の動作を規制するスリーブ１３２とを有して構成される。
【００１８】
下金型１１０と上金型１１２とは共に、上記したガラスレンズ成形用の金型１の製造方法により製作された金型である。下金型１１０と上金型１１２とが、載置されて軟化されたガラス１２２をモールドプレス法により成形してガラスレンズを製作する。
下均熱プレート１１４と上均熱プレート１１６は、それぞれ下加熱ヒーター１１８と上加熱ヒーター１２０に搭載される。下均熱プレート１１４と上均熱プレート１１６は、サーマルバッファ（熱的緩衝体）の役割を果たし、下加熱ヒーター１１８と上加熱ヒーター１２０から受ける熱を、ガラスレンズの製作に支障がない程度に均一な状態にして下金型１１０と上金型１１２とに伝える。ここで、下加熱ヒーター１１８と上加熱ヒーター１２０とは、図示しない制御手段を用いて、下金型１１０と上金型１１２の表面がプレス成形に適した温度になるように制御されている。
【００１９】
ガラス１２２は、シリカを主成分とし、例えば、アルミナ、ナトリウム、フッ化ランタン等が添加された低融点ガラスにより構成される。ガラス１２２は、例えば、軟化温度が約６００℃以下の低融点ガラスであっても、軟化温度が約４００℃以下の超低融点ガラスであってもよい。
加圧シリンダー１２４は、上加熱ヒーター１２０及び上均熱プレート１１６に固定された上金型１１２を上下動させる駆動系である。図示しない制御手段により動作が制御される。
窒素導入口１２６及び窒素排気口１２８は、成形時の金型の雰囲気を窒素として、高温下での酸化を防止している。
【実施例】
【００２０】
（実施例１）
タングステンカーバイトを主成分として軽金属元素のニッケル及びクロムの合計が１０質量％含有される母材１０で図１に示された金型１を形成し、プレス面の平均表面粗さＲａを２ｎｍ以下に研削・研磨した。図２に示す成膜装置３０を用いてマグネトロンＲＦスパッタ法で金型１のプレス面に第１被膜層１２のＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｗ0.4合金膜を３００ｎｍ形成した。このときのスパッタ条件は、Ａｒガス圧０．７５Ｐａで、ターゲット印加電力は周波数１３．５６ＭＨｚで５００Ｗ、金型−ターゲット間距離を５５ｍｍとした。更に第１被膜層１２の上に第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を第１被膜層１２と同一のスパッタ条件で２００ｎｍ積層し金型１を作製した。
（実施例２）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＲｕ0.3Ｉｒ0.1Ｒｅ0.1Ｗ0.5合金膜を３００ｎｍ形成し、その上に第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を２００ｎｍ積層し金型１を作製した。
【００２１】
（実施例３）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｔａ0.4合金膜を３００ｎｍ形成し、その上に第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を２００ｎｍ積層し金型１を作製した。
（実施例４）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＲｕ0.3Ｉｒ0.1Ｒｅ0.1Ｔａ0.5合金膜を３００ｎｍ形成し、その上に第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を２００ｎｍ積層し金型１を作製した。
【００２２】
（実施例５）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｍｏ0.4合金膜を３００ｎｍ形成し、その上に第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を２００ｎｍ積層し金型１を作製した。
（実施例６）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＲｕ0.3Ｉｒ0.1Ｒｅ0.1Ｍｏ0.5合金膜を３００ｎｍ形成し、その上に第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を２００ｎｍ積層し金型１を作製した。
（実施例７）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。このときマルチカソード・マグネトロンＲＦスパッタ法に使用した成膜装置６０の概略図を図４に示す。図４は、成膜装置６０の構成を示す図である。
図４に示されているように、成膜装置６０は、第１カソード５０ａと第２カソード５０ｂとを有し、第１被膜層１２及び第２被膜層１４の素材である合金ターゲット３４ａ，３４ｂを同時に載置できる点で、図２に示す成膜装置３０と相違する。
【００２３】
図４に示す成膜装置６０を用いてマルチカソード・マグネトロンＲＦスパッタ法により第１被膜層１２のＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｗ0.4と第２被膜層１４のＲｕ0.40Ｉｒ0.60の間にＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｗ0.4とＲｕ0.40Ｉｒ0.60の組成遷移被膜層を形成した。
具体的には、図４中の第１カソード５０ａにＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｗ0.4合金ターゲット３４ａを取り付け、第２カソード５０ｂにＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金ターゲット３４ｂを取り付けた。このときのスパッタ条件は、Ａｒガス圧は、０．７５Ｐａ、ターゲット印加電力は周波数１３．５６ＭＨｚで第１カソード５０ａに５００Ｗを印加しＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｗ0.4合金膜を２５０ｎｍ形成し、その後連続して、第１カソード５０ａの印加電力を１０Ｗ／ｓｅｃで減少させると同時に第２カソード５０ｂの印加電力を１０Ｗ／ｓｅｃで増加させ５０ｎｍの組成遷移被膜層を形成し、第２カソード５０ｂに５００Ｗを印加したまま５０ｎｍのＲｕ0.40Ｉｒ0.60合金膜を形成して光学素子製造金型を作製した。図５は、形成した被膜層をオージェ電子分光法により深さ方向に分析した結果である。
【００２４】
（比較例１）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＰｔ0.70Ｉｒ0.30合金膜のみ５００ｎｍ形成し金型１を作製した。
（比較例２）
実施例１と同様にして、母材１０を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、第１被膜層１２のＲｕ0.2Ｉｒ0.2Ｒｅ0.2Ｗ0.4合金膜のみ５００ｎｍ形成し金型１を作製した。
【００２５】
以上のようにして得られた各実施例及び各比較例の金型１を用い、図３に示したガラスレンズ成形装置１００にて両凸レンズの連続成形を実施した。金型１の表面に球状加工した硼珪酸光学ガラスＶＣ８０（住田光学ガラス社製）を設置し、金型１を窒素雰囲気中で６００℃に加熱し、ガラス１２２を軟化させるため均熱時間６０秒を設け、その後２．９４×１０６Ｐａ（３０ｋｇｆ／ｃｍ２）のプレス圧で６０秒間保持した後に９．８×１０５Ｐａ（１０ｋｇｆ／ｃｍ２）で保圧したまま５４０℃まで冷却し、それ以後の冷却では金型１を離型させて２００℃で成形されたレンズを取り出した。以上の成形工程を各合計１０００回繰り返し、連続成形試験とした。連続成形試験のクラック発生率、試験前後の金型１の平均表面粗さＲａをＡＦＭ（原子間力顕微鏡）及び試験終了後のニッケル及びクロムの軽金属元素の表面拡散状態をＡＥＳ（オージェ電子分光法）で分析を行った。また、透過光を用い、曇り具合を良品と比較判定した。連続成形試験の結果を表１に示す。
【００２６】
【表１】
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【００２７】
表１から判るように、各実施例で得られた金型１は、良好な結果を得た。従来の比較例１では、１０００回成形で、クラック発生率が高い上にレンズの曇りが発生することが判った。また比較例２では、クラック発生率が高いという問題が発生した。
【００２８】
本実施の形態によれば、金型１の表面に第１被膜層１２と第２被膜層１４とが形成されているので、金型１の耐久性を維持できる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本実施の形態にかかるガラスレンズ成形用の金型の概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す金型を製作する際に使用される成膜装置の構成を示す図である。
【図３】図１に示す金型を用いた、ガラスレンズ成形装置を示す構成図である。
【図４】実施例４においてマルチカソード・マグネトロンＲＦスパッタ法に使用した成膜装置の構成を示す図である。
【図５】図４に示す成膜装置を使って形成した被膜層を深さ方向に分析した結果である。
【符号の説明】
【００３０】
１…金型、１０…母材、１２…第１被膜層、１４…第２被膜層、３０…成膜装置、１００…ガラスレンズ成形装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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