(57)【要約】【課題】酸性ガス（ＣＯ２、Ｈ２Ｓおよびメルカプタン）を含む炭化水素フィードガス流を処理する方法を提供すること。【解決手段】ボトム区画で、ＣＯ２およびＨ２Ｓを数ｐｐｍの濃度まで除去するために再循環苛性溶液を用い、上部区画で、メルカプタンが激減したガス流を生成させるためにワンススルーでより強い苛性溶液を用いる多区画苛性塔に、フィードガス流を接触させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素含有ガス流から酸性成分を除去する方法であって、
（ａ）炭化水素、二酸化炭素、硫化水素およびメルカプタンを含むフィードガス流を、多段苛性塔における苛性再循環ゾーンに供給する工程であって、前記多段苛性塔は、少なくとも１つの前記苛性再循環ゾーン、および前記苛性再循環ゾーンの下流に位置する少なくとも１つのワンススルー苛性ゾーンを有する工程；
（ｂ）前記ガス流から、前記二酸化炭素および硫化水素の実質的に全てを除去し、炭化水素およびメルカプタンを含む部分的に処理されたガス流を得るために、前記少なくとも１つの苛性再循環ゾーンにおいて、前記フィードガス流を、前記塔を出て行き前記塔に再循環される苛性流に接触させる工程；
（ｃ）前記部分的に処理されたガス流を、前記少なくとも１つのワンススルー苛性ゾーンに送る工程；
（ｄ）前記部分的に処理されたガス流から実質的に全てのメルカプタンを除去し、二酸化炭素、硫化水素およびメルカプタンを実質的に含まない製品流を生成させるために、前記部分的に処理されたガス流を、前記少なくとも１つのワンススルー苛性ゾーンにおいて、苛性溶液にワンススルーで接触させる工程
を含む方法。
【請求項２】
前記フィードガス流がスチームクラッカーからの流出物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記多段苛性塔が、２つの苛性再循環ゾーンを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記フィードガス流から二酸化炭素および硫化水素の一部を除去して第１の部分的に処理されたガス流を生成させるために、前記フィードガス流を第１苛性再循環ゾーンにおいて第１再循環苛性流に接触させ、残っている二酸化炭素および硫化水素を実質的に除去し第２の部分的に処理されたガス流を生成させるために、前記第１の部分的に処理されたガス流を、第２再循環苛性流に接触させるために第２再循環苛性ゾーンに供給する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記苛性再循環ゾーンにおける前記苛性流が、前記ワンススルー苛性ゾーンにおける苛性強度より小さい苛性強度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記塔において用いられる前記苛性が、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１再循環苛性流が水酸化ナトリウムを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記第２再循環苛性流が水酸化ナトリウムを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第２再循環苛性の苛性強度が約２から約２０重量パーセントの範囲である、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２再循環苛性の苛性強度が約４から約１５重量パーセントの範囲である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１１】
前記塔が、１つのワンススルー苛性ゾーンを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記ワンススルー苛性ゾーンにおけるワンススルー苛性が、約１５から約５０重量パーセントの苛性強度を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ワンススルー苛性ゾーンにおけるワンススルー苛性が、約２０から約３０重量パーセントの苛性強度を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記ワンススルー苛性ゾーンからの消費苛性が、メルカプタンおよびメルカプタン塩を除去するために処理される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記消費苛性の処理が、ジアルキルジスルフィドオイルを生成させるために、前記消費苛性を、金属フタロシアニンまたはその誘導体を含む触媒上で酸化すること、および、次いで、前記ジアルキルジスルフィドオイルを前記苛性溶液から分離することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
同伴される苛性を除去し、水洗いされた製品流を生成させるために、前記ワンススルー苛性ゾーンからの製品流を水洗いすることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記製品流が、約５ｖｐｐｍ未満のＣＯ２、約１ｖｐｐｍ未満のＨ２Ｓ、および約５ｖｐｐｍ未満のメルカプチドを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記製品流が、約１ｖｐｐｍ未満のＣＯ２、約０．１ｖｐｐｍ未満のＨ２Ｓ、および約２ｖｐｐｍ未満のメルカプチドを含む、請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭化水素ガス流から酸性ガスおよび硫黄化合物を除去する方法に関する。より詳細には、本発明は、苛性塔において炭化水素ガス流から酸性ガスおよび硫黄化合物を除去する方法に関する。最も特定すると、本発明は、多段苛性塔において、スチームクラッカーガスおよび製油所ガスから、酸性ガスおよび硫黄化合物（メルカプタンを含めて）を除去することに関する。
【背景技術】
【０００２】
石油および石油化学産業では、多くの炭化水素流、例えば、これらに限らないが、スチームクラッカーガス、流動接触分解（ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ  ｃａｔａｌｙｔｉｃ  ｃｒａｃｋｉｎｇ、ＦＣＣ）ガスおよび製油所燃料ガスが、酸性ガス（ＣＯ２、Ｈ２Ｓおよびメルカプタンなどの化合物）を含み、様々な理由で酸性ガスを除去するための処理を必要とする。例えば、酸性ガスの除去は、製品仕様を満たすこと、下流の触媒床の被毒を防ぐこと、臭いの制御および／または燃料の発熱量のアップグレードのために必要なことがある。
【０００３】
酸性ガスの大部分の除去はアミン塔において実施され、次いで、苛性塔が、酸性化合物の除去を低ｐｐｍ濃度のレベルまで達成するために用いられる。炭化水素ガス流からのＣＯ２およびＨ２Ｓの除去は、塩基、例えば水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）の水溶液（これは苛性溶液である）との十分な接触により達成されることが知られている。苛性溶液の苛性、すなわちＮａＯＨとの反応により、酸性ガスの成分、例えば、硫化水素および二酸化炭素は、硫化ナトリウム（Ｎａ２Ｓ）、水硫化ナトリウム（ＮａＨＳ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）および炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）に変換され、これらは、苛性溶液に吸収され、こうして炭化水素ガス流から除去される。
【０００４】
水酸化ナトリウム水溶液が、ガス洗浄（ｓｃｒｕｂｂｉｎｇ）のために、ほとんど常に用いられる、石油化学における工程の１つのタイプは、エチレン製造設備またはプラントにある（本発明によって他のものも想定されているが、分かり易さのために、エチレン製造設備について説明する）。エチレンプラントでは、飽和脂肪族炭化水素フィード（例えば、エタン、プロパンまたは高級オイルなど）が、水蒸気の存在下に高温に加熱されて、飽和炭化水素分子を、低分子量の不飽和炭化水素（例えば、主に、エチレン、次にプロピレン、次いで様々な量のＣ４、Ｃ５およびＣ６のモノ−およびジ−オレフィン炭化水素、少量のＣ７とより高分子量の飽和および不飽和の脂肪族、環式および芳香族炭化水素）に分解する。
【０００５】
水蒸気分解の間に、炭化水素フィード流に添加され、かつ／または存在するどのような硫黄含有化合物も、硫化水素および／または有機結合硫黄化合物に変換され、また、水性ガスシフト反応によって二酸化炭素の含有も生じる。次いで、水蒸気分解により得られるガス混合物は、約７００から約１０００℃の範囲の温度から、約３５から約４０℃の範囲の低温に冷却され、この時に、その水およびＣ７＋の炭化水素含有物の主な部分は凝縮し混合物から分離される。冷却後、ガス混合物の残りの構成成分は、通常、ガス混合物を低温蒸留（ｃｒｙｏｇｅｎｉｃ  ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ）に向けて準備するために、ガス圧縮および冷却装置による冷却（ｒｅｆｒｉｇｅｒａｔｉｖｅ  ｃｏｏｌｉｎｇ）の様々なステップによって調整され、こうして、そのエチレン、プロピレンおよびブテン含有物は、最終的に、様々なポリマー（例えば、ポリエチレン、エチレンコポリマー、ポリプロピレンなど）の製造におけるモノマーとしての最終用途のために本質的に純粋な状態で回収されるであろう。
【０００６】
低温蒸留のためにガス混合物を適正に調整するのに必要とされる１つのステップは、分解されたガスを、どのような酸性成分（例えば、硫化水素および二酸化炭素）も本質的に含まないように洗浄する（ないしは不純物を除去する）ことである。通常、これは、多段ガス圧縮装置の段の間のどこかの位置で、圧縮後に実施され、この場合、分解ガス流は約１０から約２０気圧（ａｔｍ）の範囲の圧力にある。この圧縮されたガス流は、ガス−液体接触容器（業界では「吸収器」、「洗浄器」または「苛性塔」と呼ばれることが多い）において向流接触によって水酸化ナトリウム水溶液に接触する。このようなガス洗浄の後、水酸化ナトリウム水溶液（これは、この塔のボトムから排出される）は、いくらかの未反応水酸化ナトリウムに加えて、洗浄されるガス流から酸性ガス化合物を除去することにより生じる、硫化ナトリウム、水硫化ナトリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸水素ナトリウムを含む。
【０００７】
苛性塔においてこれらの成分の濃度が高まるのを防ぐために、また苛性塔における苛性の消費を補うために、また苛性塔に、ある量の新鮮でより強い苛性溶液を加えるための水圧上の余地をもたせるために、ある量の、この弱いまたは「塔で消費された」苛性溶液が、塔に再循環され戻されないで、取り出される。しかし、塔内での苛性溶液循環の適正な液体容積を保つように、この弱いまたは「塔で消費された」苛性溶液の一部は塔に再循環され戻される。この量の、塔から取り出される弱いまたは「塔で消費された」苛性溶液は、当技術分野では「消費苛性」と呼ばれている。次いで、消費苛性は、消費苛性処理設備において環境上問題のない廃棄物へと調整される。
【０００８】
スチームクラッカーへのいくつかのフィード原料もまた、比較的重質のメルカプタンを含めて、かなりの量のメルカプタンを含む。これらの比較的重質のメルカプタンは大部分、Ｈ２Ｓおよび炭化水素に分解し、分解されたガス、分解されなかった重質メルカプタンおよびより軽質のメルカプタンと共に炉を出て行くであろう。冷却塔において、大部分の比較的重質のメルカプタンは凝縮し、分離された燃料オイルと共に出て行くが、比較的軽質のメルカプタンは、圧縮およびさらなるオレフィンの精製のために水冷却塔を出て行く分解ガスに残るであろう。オレフィン製造施設において通常用いられるオレフィン精製ステップの１つは、アセチレンの水素化であり、これは通常パラジウム触媒を用いる。分解ガス流の中のメルカプタンは、パラジウム触媒の被毒を避けるために、十分に除去されなければならない。
【０００９】
分解ガス流からメルカプタンおよび他の硫黄化合物を除去する従来の方法は、ＢＡＳＦにより供給されるＳｅｌｅｘｓｏｒｂ  ＣＯＳ、Ｓｅｌｅｘｓｏｒｂ  ＣＤおよびＳｅｌｅｘｓｏｒｂ  ＣＤＸなどの吸収剤を用いる再生可能な活性アルミナ吸収剤床の使用を、あるいは、再生できない触媒、例えば、酸化亜鉛、酸化銅または酸化鉛（それぞれ、硫化亜鉛、硫化銅または硫化鉛を生成する）の使用を伴っていた。しかし、これらの工業的に利用できる方法は、非常に費用が掛かることが分かっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
したがって、先行技術により教示される方法よりも経済的であり、苛性洗浄以外の別の工程ステップを付け加える必要がないと思われる、メルカプタンを除去する方法が開発できれば、注目に値する、現況技術の前進となるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この目的で、本発明者等は、今や、苛性洗浄塔においてメルカプタンを除去する独特の方法を見出したが、この方法は経済的であり、メルカプタン（および他の硫黄含有化合物）を、下流の触媒の被毒を実質的に防ぐのに十分な低レベルまで除去する。
【００１２】
前記に鑑みて、改善された消費苛性除去方法を提供することが本発明の１つの目的である。
【００１３】
酸性ガスおよび硫黄化合物を炭化水素ガス流から除去する改善された方法を提供することが、本発明のさらなる目的である。
【００１４】
経済的である酸性ガス除去方法を提供することが本発明の別の目的である。
【００１５】
これらおよび当業者には明白な他の目的が、本明細書において下に詳細に論じられる本発明によって提供される。
【００１６】
本発明は、酸性ガスおよび他の硫黄化合物を炭化水素ガス流から、例えば苛性塔において除去する改善された方法を提供する。本発明の方法は、炭化水素ガス流からの酸性ガスおよび硫黄化合物の除去を必要とする様々な異なるプロセスにおいて用いられ得るが、理解し易いように、本発明は、分解ガス流の処理に関して、より詳細に説明される。しかし、この詳細な説明は添付の特許請求の範囲を当然少しも限定しない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１を参照すると、本発明の好ましい実施形態は、ライン１０におけるフィード炭化水素ガス流を処理するプロセスを含み、このガス流は、炭化水素以外に、酸性化合物、例えば、これらに限らないが、ＣＯ２、Ｈ２Ｓおよびメルカプタンを含む。フィード炭化水素ガス流には、それから酸性化合物を除去することが望ましい、炭化水素および酸性化合物を含む任意のガス流が含まれ得る。本発明の実施において用いられると想定されるこのようなフィード炭化水素ガス流の非限定的例として、スチームクラッカーガス、流動接触分解（ＦＣＣ）ガス、製油所燃料ガス、深度接触分解（ｄｅｅｐ  ｃａｔａｌｙｔｉｃ  ｃｒａｃｋｉｎｇ、ＤＣＣ）ガスおよび他の分解ガスまたは製油所ガスがある。
【００１８】
図１に戻って、フィード炭化水素ガス流１０は、水冷熱交換器１２において、好ましくは、利用できる冷却水出口温度の２〜３℃内の温度に冷却される。次いで、流れ１４の冷却されたガスは、流れ１８に除去される凝縮した液体（水による冷却の間に生成する）を蒸気から分離するために、ノックアウトドラム１６に供給され、蒸気は流れ２０に取り出される。流れ２０の蒸気は、それがノックアウトドラム１６から出る温度で、水および炭化水素により飽和しているであろう。次に、この蒸気は、ノックアウトドラム１６からの温度より少なくとも約５℃高い温度、好ましくは約４５から約６０℃の範囲の温度に、熱交換器２２で過熱される。次いで、ライン２４の過熱蒸気は、苛性塔２６に供給される。
【００１９】
本発明のこの好ましい実施形態の苛性塔（ｃａｕｓｔｉｃ  ｔｏｗｅｒ）は、４つの別個の区画、すなわち、ボトム再循環苛性区画２８、中間再循環苛性区画３０、上部ワンススルー苛性区画３２および水洗い（ｗａｔｅｒ  ｗａｓｈ）区画３４を備える。本発明者等は、多段苛性塔（この塔は、少なくとも１つの下部再循環苛性区画、およびこの再循環苛性区画の上（または下流）に位置する少なくとも１つのワンススルー苛性区画を有する）の使用が本発明の方法にとって決定的に重要であることを見出した。本発明者等は如何なる理論にも拘束されることを望むものではないが、本発明者等は、メルカプタン（ＲＳＨ）とＮａＯＨとの間の反応、
ＲＳＨ＋ＮａＯＨ←→ＲＳＮａ＋Ｈ２Ｏ
が可逆的であるために、先行技術において実施されているような無処理再循環苛性溶液によるメルカプタンの除去は、下流のプロセス上の問題を、例えば触媒の被毒を防ぐのに十分な量のメルカプタンを効果的に除去できないことを認めた。先行技術のプロセスのボトム再循環区画において、生成したＲＳＮａは、ボトム区画の上部に再循環された時、ＲＳＨ汚染物質がより低濃度であるガスと出会うであろうが、このことが、今度は、反応の逆転を引き起こし、ＲＳＨが放出され炭化水素ガスに戻されるであろう。こうして、驚くべきことに、本発明者等は、多段苛性塔におけるワンススルー苛性区画（ｃｏｎｃｅ−ｔｈｒｏｕｇｈ  ｃａｕｓｔｉｃ  ｓｅｃｔｉｏｎ）の使用が、この問題に簡単で経済的な解決策（先行技術による、下流での再生可能な活性アルミナ吸収剤床、または再生できない金属酸化物触媒の使用とは対照的な）をもたらし、これにより、当技術分野において長く意識されていた必要性が満たされることを見出した。
【００２０】
図１に戻ると、ライン２４における過熱フィードガスは、苛性塔２６のボトム再循環苛性区画２８に供給される。ライン３６の弱いまたはボトム再循環の苛性溶液は、フィードガスと、好ましくは向流方式で接触する。トレイ３８またはパッキングもまた、苛性／フィードガスの接触および物質移動を向上させるために、ボトム再循環苛性区画２８に備えられてもよい。苛性溶液は、ライン４０に、当業者に知られている処理に向かう消費苛性（ｓｐｅｎｔ  ｃａｕｓｔｉｃ）として、あるいは、ライン４２に、ポンプ４４および再循環ライン３６による無処理再循環のために取り出される。このようにして、ライン２４からのフィードガス流（これは、最初に、酸性ガス（ＣＯ２およびＨ２Ｓ）成分のその最高濃度を有する）によって、ボトム苛性再循環ゾーン２８における比較的弱い苛性溶液の残留強度の利用が最大化される。
【００２１】
苛性溶液は、フィード流から酸性成分およびメルカプタンを抽出できる任意の塩基性反応剤を含み得る。好ましい塩基性反応剤には、アンモニアまたはアルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化ナトリウムもしくはカリウム）の水溶液が含まれる。水酸化ナトリウム溶液が特に好ましい。
【００２２】
この部分的に処理されたガスは、ボトム苛性再循環区画２８からベント４６を通って、中間再循環苛性区画３０（これにも、また、トレイ３８またはパッキングが装備され得る）に上昇する。この中間再循環苛性区画において、この部分的に処理されたガスは、ライン４８からの比較的強い苛性溶液（取り出された無処理苛性流５０、補給苛性流５２およびポンプ５４により生成される）に接触する。中間再循環苛性区画において用いられるこの比較的強い苛性溶液は、通常、約２から約２０ｗｔ％、好ましくは約４から約１５ｗｔ％、より好ましくは約４から約１２ｗｔ％の範囲の苛性濃度を有するであろう。やはり、ＮａＯＨが好ましい苛性剤である。ライン５２による新鮮な補給苛性の追加は、最終的に処理された流れ５６（これは、塔２６の上部から出て行く）における所望のレベルまでＣＯ２およびＨ２Ｓの酸性化合物を除去するのに十分な苛性を供給する。
【００２３】
中間苛性再循環区画３０からのガスは、ベント５８を通って上部ワンススルー苛性区画３２に上昇する。上部ワンススルー苛性区画３２もまた、トレイまたはパッキングを含み得る。上部ワンススルー苛性区画３２の苛性は、他の区画と異なり、無処理再循環苛性ではない（すなわち、この無処理再循環苛性は依然として硫黄化合物を含む）。代わりに、約１５から約５０ｗｔ％の苛性（好ましくはＮａＯＨ）、好ましくは約２０から約４０ｗｔ％、より好ましくは約２０から約３０ｗｔ％の苛性を含む、供給源ライン６０の強い苛性溶液が、ライン６４を通して上部ワンススルー苛性区画３２の上側部分にポンプ６２により送られ、その結果、この強い苛性溶液が、上部区画において向流方式でガスと接触して、メルカプタン（ＲＳＨ）の少なくとも約９０％をメルカプチド塩（ＲＳＮａ）に変換し、この塩はライン６６を通して上部区画３２を出て行く。
【００２４】
好ましい実施形態において、ライン６６のメルカプチド塩含有流は、ＲＳＮａをアルキルジスルフィドオイル（ＲＳＳＲ）およびＮａＯＨに酸化するための通常の苛性再生設備（示されていない）で処理できる。通常、このメルカプチド塩の酸化反応は、メルカプチド塩を適切な触媒上で空気と接触させることによって実施される。適切な触媒には、これらに限らないが、当業者に知られているような金属フタロシアニン触媒が含まれる。好ましくは、触媒は、コバルトフタロシアニンまたはバナジウムフタロシアニンを含む。金属フタロシアニン触媒のスルホン化（モノスルホ、ジスルホ、トリスルホおよびテトラスルホ）またはカルボキシル化誘導体が、触媒活性をより高くし、また酸化速度を上げるために使用され得る。特に好ましい触媒は、コバルトフタロシアニンジスルホネートを含む。触媒の濃度は、当業者により理解されるように、一部は、アルカリ性の流れにおけるメルカプチドのレベルに応じて変わるであろう。しかし、通常、コバルトフタロシアニンジスルホネートの量は、アルカリ溶液の約１０から約１，０００重量ｐｐｍの範囲であろう。酸化条件は当業者に知られている手順に合わせて変わり得るが、通常、約７０から約１０００ｐｓｉｇの範囲の圧力、および、ほぼ雰囲気温度から約１００℃の温度が用いられるであろう。
【００２５】
アルキルジスルフィドオイル（ＲＳＳＲ）は、水性苛性相から有機相として分離でき、次いで、この処理された苛性水溶液はライン６０を通して塔２６にリサイクルして戻すことができる。この分離は、当業者に理解される通りに実施できるが、通常、大気圧から約３００ｐｓｉｇ、またはそれ以上の範囲の圧力、および約１０から約１２０℃の範囲の温度で運転される、重力による相分離ゾーンで十分であろう。この分離は、当業者には理解されるように、望まれる場合、そのゾーンに置かれた塊状集積（ｃｏａｌｅｓｃｉｎｇ）手段によって補助されてもよい。
【００２６】
酸性ガスであるＣＯ２、Ｈ２ＳおよびＲＳＨが激減した処理後のガスは、ベント６８を通して上部ワンススルーゾーン３２を出て行き、水洗い区画３４に入る。水洗い区画３４では、同伴される苛性をガスから除去するために、処理されたガスが、ライン７０を通して入る水により向流方式で洗われる。ポンプ７２は、循環のためにライン７４を通って水洗い区画を出て行く水を循環させる。ライン７４からの抜取りライン７６、および水再循環ライン７０に補給水を追加するための補給水ライン７８もまた装備され得る。
【００２７】
完全に処理されたガスは、酸性成分を実質的に含まない、ライン５６のオーバーヘッド流として塔２６を出て行く。こうして、苛性塔２６は、フィードガス流１０から酸性ガス成分を所望のレベルまで、例えば、約５ｖｐｐｍ未満（蒸気百万分率）で好ましくは約１ｖｐｐｍ未満のＣＯ２、約１ｖｐｐｍ未満で好ましくは約０．１ｖｐｐｍ未満のＨ２Ｓ、および約５ｖｐｐｍ未満で好ましくは２ｖｐｐｍ未満のメルカプチド（ＲＳＨ）まで除去する。
【００２８】
本発明の多くの変形形態が、上の詳細な説明に照らして、当業者に示唆されるであろう。例えば、様々なフィード流および苛性剤が使用され得る。このような明白な変更の全ては、添付の特許請求の範囲の意図される広い範囲内にある。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の好ましい実施形態を示す図である。
【符号の説明】
【００３０】
１０  フィード炭化水素ガス流
１２  水冷熱交換器
１４  流れ
１６  ノックアウトドラム
１８  流れ
２０  流れ
２２  熱交換器
２４  ライン
２６  苛性塔
２８  ボトム再循環苛性区画
３０  中間再循環苛性区画
３２  上部ワンススルー苛性区画
３４  水洗い区画
３６  再循環ライン
３８  トレイ
４０  ライン
４２  ライン
４４  ポンプ
４６  ベント
４８  ライン
５０  取り出された無処理苛性流
５２  補給苛性流
５４  ポンプ
５６  最終的に処理された流れ
５８  ベント
６０  供給源ライン
６２  ポンプ
６４  ライン
６６  ライン
６８  ベント
７０  水再循環ライン
７２  ポンプ
７４  ライン
７６  抜取りライン
７８  補給水ライン
【図１】
2009067990.tif 000003
【外国語明細書】
2009067990000001.pdf