(57)【要約】      （修正有）【課題】磁気ディスク装置の特に磁気ディスクの回転軸方向の耐衝撃性能を向上させる。【解決手段】ベースプレート３の裏面は、突起状の縁部１０Ａ、１０Ｂと、円形突起部１２と、少なくとも１つのリブ１３とを有する。リブ１３は、ベースプレート３の長手方向に沿って、スピンドルに対応した位置とアクチュエータに対応した位置の間に配置される。ベースプレート３の裏面には回路基板２０が装着される。回路基板２０は円形突起部１２の外径より僅かに大きい内径を有する円形孔２２を備える。【選択図】図２
2009301656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を記録することが可能な磁気ディスクと、
前記磁気ディスクを回転可能に支持するスピンドルと、
前記磁気ディスクに情報を記録し、または前記磁気ディスクから情報を再生するための磁気ヘッドを搭載したスライダと、
前記スライダを前記磁気ディスクの半径方向に移動するためのアクチュエータと、
前記スピンドル及び前記アクチュエータを支持するベースプレートと、
前記ベースプレートの前記磁気ディスクと反対側の面に装着された回路基板と、
を有し、
前記回路基板が装着された前記ベースプレートの面は、前記ベースプレートの周囲に沿って形成された突起状の縁部と、前記スピンドルに対応した位置に形成された円形突起部と、前記縁部から延びる少なくとも１つのリブとを有し、
前記リブは、前記円形突起部に隣接した位置、又は、前記円形突起部と前記アクチュエータに対応した位置の間に配置されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記ベースプレートの長手方向に沿って、前記リブと前記スピンドルに対応した位置の間の距離は、前記リブと前記アクチュエータに対応した位置の間の距離より小さいことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項３】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記リブと前記円形突起部は、共面を形成するように、同一の高さを有するように構成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項４】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記リブの高さは前突起状の縁部の高さより高く、前記リブと前記縁部の間に段差が形成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項５】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記リブは前記円形突起部の両側に前記円形突起部の直径方向に沿って延びる２つのリブを含むことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項６】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記リブは前記縁部から前記円形突起部まで延びていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項７】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記リブは前記縁部から前記円形突起部の手前まで延びていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項８】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記回路基板は、前記リブが挿入される溝又は切り欠きを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項９】
請求項８記載の磁気ディスク装置において、
前記回路基板に形成された前記溝又は切り欠きは貫通孔であり、前記回路基板は前記貫通孔を架橋する薄膜配線基板を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１０】
請求項１記載の磁気ディスク装置において、
前記回路基板は、並んで配置された２つの回路基板部分を有し、該２つの回路基板部分の間に前記円形突起部が挿入される円形孔が形成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の磁気ディスク装置において、
前記２つの回路基板部分の間に前記リブが挿入される溝が形成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の磁気ディスク装置において、
前記回路基板は、前記溝を架橋する薄膜配線基板を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１３】
情報を記録することが可能な磁気ディスクと、
前記磁気ディスクを回転可能に支持するスピンドルと、
前記磁気ディスクに情報を記録し、または前記磁気ディスクから情報を再生するための磁気ヘッドを搭載したスライダと、
前記スライダを前記磁気ディスクの半径方向に移動するためのアクチュエータと、
前記スピンドル及び前記アクチュエータを支持するベースプレートと、
前記ベースプレートの前記磁気ディスクと反対側の面に装着された回路基板と、
を有し、
前記回路基板が装着された前記ベースプレートの面は、前記ベースプレートの周囲に沿って形成された突起状の縁部と、前記スピンドルに対応した位置に形成された円形突起部と、前記縁部から延びる少なくとも１つのリブとを有し、
前記リブは、前記円形突起部の周囲であって、且つ、前記ベースプレートの重心位置に近接して配置されることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１４】
請求項１３記載の磁気ディスク装置において、
前記リブと前記円形突起部は、共面を形成するように、同一の高さを有するように構成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１５】
請求項１３記載の磁気ディスク装置において、
前記リブは前記円形突起部から放射状に前記縁部まで延びていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１６】
請求項１３記載の磁気ディスク装置において、
前記回路基板は、前記リブが挿入される溝又は切り欠きを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気ディスク装置に関し、より詳細には磁気ディスク装置のベースプレートと回路基板の形状に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置は、典型的には、記録媒体である磁気ディスクと、磁気ディスクに情報を記録し、又は、磁気ディスクより情報を再生するための磁気ヘッドを搭載したスライダと、スライダを磁気ディスクの半径方向に移動させるために回転可能に設けたアクチュエータと、ベースプレートを備えている。磁気ディスク装置は、更に、アクチュエータと磁気ディスクの動作を制御する電子回路を備えた回路基板を有する。ベースプレートの一方の面に、磁気ディスクが装着され、他方の面に回路基板が装着されている。
【０００３】
小型の磁気ディスク装置では、回路基板に干渉しないようにベースプレートの形状が設計されている。特開2006-179116号公報には、回路基板を用いてベースプレートの振動を効果的に低減する構造を備えた磁気ディスク装置が記載されている。
【特許文献１】特開2006-179116号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気ディスク装置は、耐衝撃性能を備えることが必要である。特に、磁気ディスクの回転軸方向の耐衝撃性能が重要である。磁気ディスク装置に、磁気ディスクの回転軸方向の衝撃が加わると、スピンドルとそこに搭載された磁気ディスクが回転軸方向に沿って振動する。このような振動によって、磁気ディスク装置が故障する可能性があることが知られている。
【０００５】
本発明の目的は、磁気ディスク装置の耐衝撃性能を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の磁気ディスク装置によると、ベースプレートの裏面は、突起状の縁部と、円形突起部と、少なくとも１つのリブとを有する。リブは、円形突起部に隣接した位置、又は、円形突起部とアクチュエータに対応した位置の間に配置される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、磁気ディスク装置の耐衝撃性能を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、磁気ディスク装置に本発明を適用した実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。図１は、本発明による磁気ディスク装置の平面構成を示す。本例の磁気ディスク装置は、情報を記録する記録媒体である磁気ディスク1と、磁気ディスク1に情報を記録し、又は、磁気ディスク１より情報を再生する磁気ヘッドを備えたスライダ4と、スライダ４を磁気ディスク１の半径方向に移動させるように回転可能に設けたアクチュエータ5を備える。磁気ディスク1はスピンドル2を介してベースプレート3に装着されている。また、アクチュエータ5はピボット6を介してベースプレート3に装着されている。尚、アクチュエータ5は、１又は複数のアームを有してよい。ここで、磁気ディスク１が装着されている側を、上面と称し、上面と反対側の面を裏面と称することとする。磁気ディスク装置及びベースプレート３は、磁気ディスク１が装着された上面とその反対側の裏面を有する。
【０００９】
図２を参照して本発明による磁気ディスク装置の第１の例を説明する。図２は、本例の磁気ディスク装置の裏面構成を示す。ベースプレート３の裏面は、周囲に沿って設けられた突起状の縁部１０Ａ、１０Ｂと、４つの固定用の突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄと、円形突起部１２と、少なくとも１つのリブ１３を、有する。突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄは縁部１０Ａ、１０Ｂに沿って設けられている。突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄには、それぞれネジ穴部１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄが設けられている。ネジ穴部１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄの位置は規格によって決まっている。磁気ディスク装置を、フレーム等に装着する場合には、このネジ穴にネジを挿入することによって、磁気ディスク装置を、フレーム等に固定する。円形突起部１２は、スピンドル2の位置に対応して設けられている。円形突起部１２は、スピンドル２の軸受けを収容するために必要な凹部を設けるために必要である。
【００１０】
これらの縁部１０Ａ、１０Ｂ、突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ、円形突起部１２、及び、リブ１３は、それぞれ頂点に平坦面を有する。突起部１１Ａ〜１１Ｄの平坦面は縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。突起部１１Ａ〜１１Ｄと縁部１０Ａ、１０Ｂの間に段差が形成されている。リブ１３は縁部１０Ａ、１０Ｂから円形突起部１２まで延びている。即ち、リブ１３は、縁部１０Ａ、１０Ｂと円形突起部１２の間を接続するように延びている。リブ１３の平坦面は、縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面と同一の高さを有する。即ち、リブ１３の平坦面は、縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面と共面を形成している。一方、リブ１３の平坦面の高さは、円形突起部１２の平坦面の高さより小さい。即ち、リブ１３と円形突起部１２の間には段差が形成されている。突起部１１Ａ〜１１Ｄと円形突起部１２は同一の高さを有し、両者は共面を形成している。図２では、１つのリブ１３が描かれているが、これ以外にリブを設けてもよい。
【００１１】
ここで、ベースプレート３の裏面におけるリブ１３の位置を説明する。ベースプレート３の裏面において、スピンドル2の中心に相当する位置１５と、ピボット6の中心に相当する位置１６を想定する。位置１５は、円形突起部１２の中心にある。リブ１３は、長手方向に延びる２つの縁部１０Ａ、１０Ｂの一方から円形突起部１２まで延びるように設けられる。即ち、２つの縁部１０Ａ、１０Ｂのうち、位置１６に近い側の縁部１０Ａから延びるように設けられる。
【００１２】
２つの位置１５、１６の間の領域をＬ１と呼ぶ。領域Ｌ１を２つの部分に等分し、それぞれＬ２、Ｌ３と呼ぶ。領域Ｌ２は、位置１５に近い側の領域であり、領域Ｌ３は、位置１６に近い側の領域である。
【００１３】
本発明によると、リブ１３は、好ましくは、円形突起部１２に隣接した位置に設けられる。ベースプレート３の長手方向に沿ったリブ１３の位置は、少なくとも、２つの位置１５、１６の間に配置される。より好ましくは、リブ１３は、２つの位置１５、１６の中間の位置より、位置１５により近い領域に配置される。即ち、リブ１３は、円形突起部１２に隣接した位置、又は、領域Ｌ２に配置される。
【００１４】
図２の例では、リブ１３は、円形突起部１２の中心より放射状に延びている。即ち、リブ１３は、円形突起部１２の半径方向に沿って直線的に伸びている。しかしながら、リブ１３は、必ずしも、円形突起部１２の半径方向に沿って伸びている必要はなく、また、必ずしも、直線的に延びている必要はない。
【００１５】
ベースプレート３の裏面には、回路基板２０が装着される。回路基板２０は、アクチュエータ5および磁気ディスク1を制御する電子回路を有する。回路基板２０は、円形孔２２と、３つの切り欠き２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃを有する。円形孔２２は、円形突起部１２を収容するように形成されており、円形孔２２の内径は、円形突起部１２の外径より、僅かに大きい。３つの切り欠きは、回路基板２０の縁に形成されている。３つの切り欠きは、突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃを収容するように形成されており、切り欠きの寸法は、突起部の寸法より僅かに大きい。
【００１６】
図３は、図２に示した磁気ディスク装置の断面構成を示す。図２のリブ１３を直交する面で切断した、ベースプレート３と回路基板２０構造を示す。図示のように、リブ１３と回路基板２０は間には空間が設けられている。
【００１７】
図４を参照して本発明による磁気ディスク装置の第２の例を説明する。図４は、本例の磁気ディスク装置の裏面構成を示す。ベースプレート３の裏面は、周囲に沿って設けられた突起状の縁部１０Ａ、１０Ｂと、４つの固定用の突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄと、円形突起部１２と、少なくとも１つのリブ１３を、有する。突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄは縁部１０Ａ、１０Ｂに沿って設けられている。これらの縁部１０Ａ、１０Ｂ、突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ、円形突起部１２、及び、リブ１３は、それぞれ頂点に平坦面を有する。突起部１１Ａ〜１１Ｄの平坦面は縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。従って、突起部１１Ａ〜１１Ｄと縁部１０Ａ、１０Ｂの間に段差が形成される。リブ１３は一方の縁部１０Ａから円形突起部１２まで延びている。
【００１８】
本例では、リブ１３の平坦面は、縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。従って、リブ１３の平坦面と縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面の間に段差が形成されている。一方、リブ１３の平坦面の高さは、円形突起部１２の平坦面の高さと同一である。即ち、リブ１３の平坦面と円形突起部１２の平坦面は共面を形成している。突起部１１Ａ〜１１Ｄと円形突起部１２は同一の高さを有し、両者は共面を形成している。
【００１９】
ベースプレート３の裏面には、回路基板２０が装着される。回路基板２０は、アクチュエータ5および磁気ディスク1を制御する電子回路を有する。回路基板２０は、円形孔２２と、細長い溝２３と、３つの切り欠き２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃと、を有する。細長い溝２３は円形孔２２から回路基板２０の縁まで延びており、切り欠きを形成している。即ち、円形孔２２と細長い溝２３は、接続されており、１つの大きな切り欠きを形成している。円形孔２２は、円形突起部１２を収容するように形成されている。細長い溝２３はリブ１３を収容するように形成されている。
【００２０】
本例の磁気ディスク装置は、図２に示した例と比較して、ベースプレート３のリブ１３の高さが円形突起部１２と同一高さであること、回路基板２０に細長い溝２３が形成されている点が異なり、それ以外の構造は、図２に示した第１の例と同様であってよい。
【００２１】
図５は、図４に示した磁気ディスク装置の断面構成を示す。図４のリブ１３を直交する面で切断した、ベースプレート３と回路基板２０構造を示す。図示のように、リブ１３は回路基板２０の細長い溝２３内に収納されている。図示のように、リブ１３の平坦面１３ａは、回路基板２０の外面と同一の高さであってよい。円形突起部１２の高さは規格によって決められている。従って、リブ１３の高さは規格に決められている高さの制限内にある。
【００２２】
図６は、本発明の磁気ディスク装置の衝撃応答を解析した結果を示す。図６の横軸は時間（秒）、縦軸は変位（μｍ）である。破線の曲線６０１は図２の第１の例の解析結果を示す曲線であり、実線の曲線６０２は、図４の第２の例の解析結果を示す曲線である。第２の例は、第１の例より衝撃応答が改善していることが判る。即ち、第２の例では、第１の例と比較して、磁気ディスクの衝撃応答の最大振幅を約5%低減することができる。従って、リブ１３の高さは、縁部１０Ａ、１０Ｂの高さと同一にするよりも、円形突起部１２の高さと同一とすることが好ましい。
【００２３】
ここで本発明の磁気ディスク装置において、ベースプレート３に設けたリブ１３の機能を説明する。磁気ディスク装置では、磁気ディスクを支持するスピンドルの軸線方向の振動が特に好ましくない。ベースプレートは一体的な構造を有し、その周縁には、肉厚のフレーム状の構造が形成されている。そこで、本願の発明者は、ベースプレートに衝撃が加えられると、ベースプレートは、太鼓の膜のような振動を生成すると考えた。このような膜振動によって、磁気ディスクはスピンドルの軸線方向に振動する。そこで、本願の発明者は、ベースプレートの膜振動を低減させることが必要であると考えた。本願の発明者は、この振動を減衰させるために、ベースプレートの裏面にリブを設けることを考えた。
【００２４】
リブは、ベースプレートの裏面のうち最も振動が大きい領域を延びるように設ける。リブは、ベースプレートの重心位置に可能な限り近い位置に設けることが好ましい。一般に、ベースプレートの重心は、円形突起部の中心ではなく、円形突起部の中心より偏奇した、且つ、円形突起部に近接した位置にある。通常、ベースプレートの重心は、円形突起部の中心よりアクチュエータ側に偏奇した位置にある。従って、リブは、円形突起部に隣接し、円形突起部よりアクチュエータ側に偏奇した位置に設けることが好ましい。ベースプレートの重心位置が、円形突起部上にあるとしても、円形突起部の上に更にリブを設けることはできない。円形突起部の高さは規格で決まっており、円形突起部の上に更にリブを形成すると、その高さは規格で決まった制限を超えるからである。
【００２５】
リブの形状は特に限定されないが、円形突起部より放射状に延びるように形成する。
尚、一般に、ベースプレートの裏面には、円形突起部以外に様々な突起部、即ち、リブが設けられることがある。しかし、そのようなリブは、本発明によるリブの位置とは異なる位置に設けられる。
【００２６】
図７を参照して本発明による磁気ディスク装置の第３の例を説明する。図７は、本例の磁気ディスク装置の裏面構成を示す。ベースプレート３の裏面は、周囲に沿って設けられた突起状の縁部１０Ａ、１０Ｂと、４つの固定用の突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄと、円形突起部１２と、少なくとも１つのリブ１３を、有する。突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄは縁部１０Ａ、１０Ｂに沿って設けられている。これらの縁部１０Ａ、１０Ｂ、突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ、円形突起部１２、及び、リブ１３は、それぞれ頂点に平坦面を有する。突起部１１Ａ〜１１Ｄの平坦面は縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。リブ１３は一方の縁部１０Ａから円形突起部１２に向けて延びているが、円形突起部１２の手前で途切れている。即ち、リブ１３は縁部１０Ａと円形突起部１２を接続していない。このようなリブ１３でも、磁気ディスクの衝撃特性を向上させることができる。
【００２７】
本例では、リブ１３の平坦面は、縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。従って、リブ１３の平坦面と縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面の間に段差が形成されている。一方、リブ１３の平坦面の高さは、円形突起部１２の平坦面の高さと同一である。即ち、リブ１３の平坦面と円形突起部１２の平坦面は共面を形成している。突起部１１Ａ〜１１Ｄと円形突起部１２は同一の高さを有し、両者は共面を形成している。
【００２８】
回路基板２０は、円形孔２２と、細長い切り欠き２４と、３つの切り欠き２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃと、を有する。細長い切り欠き２４は、リブ１３を収容することができるように、リブ１３の形状及び位置に対応して形成されている。即ち、細長い切り欠き２４は、回路基板２０の縁から円形孔２２の方向に延びているが、円形孔２２の手前で途切れている。
【００２９】
本例の磁気ディスク装置は、図４に示した例と比較して、リブ１３が円形突起部１２まで延びていないこと、及び、細長い溝の代わりに、細長い切り欠き２４が形成されていることが異なる。それ以外の構造は、図４に示した例と同様であってよい。
【００３０】
図８を参照して本発明による磁気ディスク装置の第４の例を説明する。図８は、本例の磁気ディスク装置の裏面構成を示す。本例の磁気ディスク装置を、図７の例と比較すると、本例では、回路基板２０に薄膜配線基板３１が設けられている点が異なり、それ以外の構成は、図７の例と同様であってよい。薄膜配線基板３１は、細長い切り欠き２４を架橋するように配置される。回路基板２２に細長い切り欠き２４を形成することによって、細長い切り欠き２４の両側を接続する配線を設ける余地が少なくなる。そこで、薄膜配線基板３１を設けて、細長い切り欠き２４の両側を架橋する配線を配置することができる。即ち、薄膜配線基板３１を設けることによって、配線を迂回させる必要がなくなる。
【００３１】
図９を参照して本発明による磁気ディスク装置の第５の例を説明する。図９は、本例の磁気ディスク装置の裏面構成を示す。ベースプレート３の裏面は、周囲に沿って設けられた突起状の縁部１０Ａ、１０Ｂと、４つの固定用の突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄと、円形突起部１２と、少なくとも２つのリブ１３Ａ、１３Ｂを、有する。突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄは縁部１０Ａ、１０Ｂに沿って設けられている。
【００３２】
これらの縁部１０Ａ、１０Ｂ、突起部１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ、円形突起部１２、及び、リブ１３Ａ、１３Ｂは、それぞれ頂点に平坦面を有する。突起部１１Ａ〜１１Ｄの平坦面は縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。
【００３３】
２つのリブ１３Ａ、１３Ｂは、円形突起部１２の両側に、即ち、円形突起部１２の直径方向に沿って延びている。２つのリブ１３Ａ、１３Ｂは、それぞれ縁部１０Ａ、１０Ｂから円形突起部１２まで延びている。
【００３４】
本例では、リブ１３Ａ、１３Ｂの平坦面は、縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面より高い。従って、リブ１３Ａ、１３Ｂの平坦面と縁部１０Ａ、１０Ｂの平坦面の間に段差が形成されている。一方、リブ１３Ａ、１３Ｂの平坦面の高さは、円形突起部１２の平坦面の高さと同一である。即ち、リブ１３Ａ、１３Ｂの平坦面と円形突起部１２の平坦面は共面を形成している。突起部１１Ａ〜１１Ｄと円形突起部１２は同一の高さを有し、両者は共面を形成している。
【００３５】
ベースプレート３の裏面には、回路基板が装着される。本例の回路基板は、２つの回路基板２０Ａ、２０Ｂからなる。回路基板２０Ａ、２０Ｂは、それぞれ、半円形の切り欠き２２Ａ、２２Ｂをそれぞれ有する。一方の回路基板２０Ａは、切り欠き２１Ａ、２１Ｃを有し、他方の回路基板２０Ｂは、切り欠き２１Ｂを有する。
【００３６】
２つの回路基板２０Ａ、２０Ｂを、ベースプレート３の裏面に装着する。このとき、回路基板２０Ａの切り欠き２１Ａ、２１Ｃに、ベースプレート３の突起部１１Ａ、１１Ｃが挿入され、回路基板２０Ｂの切り欠き２１Ｂに、ベースプレート３の突起部１１Ｂが挿入される。こうして、２つの回路基板２０Ａ、２０Ｂを、ベースプレート３の裏面に装着すると、半円形の切り欠き２２Ａ、２２Ｂによって円形孔が形成される。この円形孔に、ベースプレート３の円形突起部１２が挿入される。更に、２つの回路基板２０Ａ、２０Ｂを、ベースプレート３の裏面に装着すると、回路基板の縁から、円形孔まで延びる溝２５が形成される。この溝に、リブ１３Ａ、１３Ｂが挿入される。
【００３７】
図１０を参照して本発明による磁気ディスク装置の第６の例を説明する。図１０は、本例の磁気ディスク装置の裏面構成を示す。本例の磁気ディスク装置を、図９の例と比較すると、本例では、回路基板に、２つの薄膜配線基板３２、３３が設けられている点が異なり、それ以外の構成は、図９の例と同様であってよい。２つの薄膜配線基板３２、３３は、円形孔２２の両側に、細長い溝２５Ａ、２５Ｂを架橋するように設けられる。薄膜配線基板３２、３３を設けることにより、一方の回路基板２０Ａと他方の回路基板２０Ｂの間を架橋する配線を配置することができる。
【００３８】
以上本発明の例を説明したが、本発明は上述の例に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲にて様々な変更が可能であることは当業者によって容易に理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の磁気ディスク装置の上面構成を示す図である。
【図２】本発明の磁気ディスク装置の第１の例の裏面構成を示す図である。
【図３】本発明の磁気ディスク装置の第１の例の一部の断面構成を示す図である。
【図４】本発明の磁気ディスク装置の第２の例の裏面構成を示す図である。
【図５】本発明の磁気ディスク装置の第２の例の一部の断面構成を示す図である。
【図６】本発明の磁気ディスク装置の衝撃応答の時間変化図である。
【図７】本発明の磁気ディスク装置の第３の例の裏面構成を示す図である。
【図８】本発明の磁気ディスク装置の第４の例の裏面構成を示す図である。
【図９】本発明の磁気ディスク装置の第５の例の裏面構成を示す図である。
【図１０】本発明の磁気ディスク装置の第６の例の裏面構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１・・・磁気ディスク、２・・・スピンドル、３・・・ベースプレート、４・・・スライダ、５・・・アクチュエータ、６・・・ピボット、１０Ａ、１０Ｂ…縁部、１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ…突起部、１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ…ネジ穴、１２…円形突起部、１３、１３Ａ、１３Ｂ・・・リブ、１３ａ…平坦部、２０、２０Ａ、２０Ｂ…回路基板、２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄ…切り欠き、２２・・・円形孔、２３…溝、２４…細長い切り欠き、３１、３２、３３…薄膜配線基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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