(57)【要約】【課題】本発明は、大きな基板に対しても大型化することを小さく抑えつつ、かつ、精度よくレーザ光を照射できる転写装置を提供する。【解決手段】転写装置１０は、チャンバ２０と、ドナー１１と基板１２とが固定されてチャンバ２０内に収容される固定台３０と、レーザ照射装置５０と、固定台３０を移動し、チャンバ２０内でのドナー１１と基板１２との位置決めを行う移動機構４０とを備える。チャンバ２０は、内側にドナー１１と基板１２と固定台３０とを収容するともに固定台３０の移動方向に枠によって仕切られてレーザ光が通る複数の開口２７〜２９を有する本体２５と、開口２７〜２９を気密に覆うレーザ光が透過可能なガラス板２６とを備える。【選択図】      図２
2009301843.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドナーと当該ドナーが転写される被転写体とを収容するチャンバと、
前記チャンバ内に収容されるとともに、前記ドナーと前記被転写体とを互いに対向する姿勢で保持する固定台と、
前記チャンバ外に配置されるとともに、前記ドナーにレーザ光を照射するレーザ照射部と、
前記固定台を移動し、前記チャンバ内での前記ドナーと前記被転写体の位置決めを行う移動機構と
を具備し、
前記チャンバは、
内側に前記ドナーと前記被転写体と前記固定台とを収容するともに前記固定台の移動方向に枠によって仕切られて前記レーザ光が通る複数の開口を有する本体と、
前記開口を気密に覆う前記レーザ光が透過可能な透過体と
を具備することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
前記移動機構は、
前記チャンバ内に配置されて前記固定台を支持するとともに、一部が前記チャンバ外に露出する支持部と、
前記チャンバ外に配置されるとともに前記一部に連結され、前記支持部を前記固定台の移動方向にガイドするガイド部と
を具備することを特徴とする請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の転写装置により有機材料を転写してアレイ基板を形成する工程と、
前記有機材料が転写された表面を封止する工程と
を具備することを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機エレクトロルミネセンス膜などのドナーを基板に転写する転写装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルは、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）を発光可能とするために、１画素にＲ、Ｇ、Ｂのいずれかの色が塗布されている。液晶パネル上の各画素に上記Ｒ、Ｇ、Ｂの色を塗布するために、転写装置が用いられている。
【０００３】
転写装置は、当該液晶パネルを被転写基板として、ドナーである有機エレクトロルミネセンス膜にレーザ光を照射し、有機エレクトロルミネセンス膜の一部をレーザ光のエネルギによって昇華し、当該昇華したものを液晶パネルに付着させている。このことによって、液晶パネルの画素には、ＲＧＢのうちいずれかの色が転写される。
【０００４】
転写装置は、具体的には、チャンバと、レーザヘッドとを備えている。被転写基板としての液晶パネルと、ＲＧＢのいずれかの色を有する有機エレクトロルミネセンス膜とは、互いに向かい合う姿勢で固定され、チャンバ内に収容される。
【０００５】
有機エレクトロルミネッセンス膜は、大気中に置かれると、水分や酸素分や油などにより損傷してしまう。有機エレクトロルミネッセンス膜が損傷すると、液晶パネルの見栄えが低下してしまう。このため、チャンバ内は、真空になっている。
【０００６】
また、チャンバには、透過窓が形成されている。透過窓は、具体的には、チャンバにおいてレーザヘッドと対向する範囲に開口が形成されており、当該開口がレーザ光を透過可能な材質である例えばガラス板によって気密に覆われることによって形成されている。
【０００７】
有機エレクトロルミネッセンス膜と液晶パネルとは、透過窓と有機エレクトロルミネッセンス膜とが対向するように、チャンバ内に配置されている。レーザヘッドは、透過窓を通して、有機エレクトロルミネッセンス膜に向かってレーザ光を照射する。
【０００８】
このため、透過窓は、有機エレクトロルミネッセンス膜において、レーザ光が照射されるべき範囲を内側に配置できる大きさを有する必要がある。レーザヘッドは、有機エレクトロルミネッセンス膜においてレーザ光を照射すべき位置に位置決められると、有機エレクトロルミネッセンス膜に向かってレーザ光を照射する。そして、レーザヘッドは、つぎに照射すべき位置に合わせてその位置を移動し、レーザ光を照射する。この動作を繰り返すことによって、転写が行われる（例えば、特許文献１参照。）。
【０００９】
しかしながら、上記されたように、チャンバ内は真空である。このため、透過窓のガラス板には、大気圧が常に加わっている。透過窓を構成する開口が大きくなると、ガラス板が大きくなり、それゆえ、チャンバ内とチャンバ外との圧力差により、ガラス板に大きな荷重が作用することになる。大きな荷重に耐えられるガラス板を形成することは難しく、このため、転写できる液晶パネルの大きさが制限されてしまう。
【００１０】
一方、液晶パネルの大きさに対してチャンバを大きく形成し、チャンバ内で有機エレクトロルミネッセンス膜と液晶パネルを移動できるようにする転写装置がある。この種の転写装置では、レーザヘッドを固定しており、レーザヘッドに対して有機エレクトロルミネッセンス膜と液晶パネルとを移動させることによって、レーザヘッドと、有機エレクトロルミネッセンス膜および液晶パネルとの相対位置を変化させている。この転写装置では、透過窓を大きくすることがない（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特表２００７−５０４６２１号公報
【特許文献２】特開２００２−２２２６９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献２に開示される転写装置では、チャンバは、内部で有機ルミネッセンス膜と基板とを移動できるだけの大きさ（動き代）を有している。有機エレクトロルミネッセンス膜全域にレーザ光を照射するためには、チャンバは、有機エレクトロルミネッセンス膜の略２倍の大きさを有さなければならない。
【００１２】
また、特許文献２に開示される転写装置では、チャンバ内で有機エレクトロルミネッセンス膜をスライド（移動する）するための移動機構を備えている。転写装置は、有機エレクトロルミネッセンス膜を、１画素単位で移動できる性能が求められる。このため、移動機構のスライドを高精度にするためには、移動機構をなるべく小さくすることが求められる。移動機構は、小さくなることにより、チャンバ内に収容されるようになる。
【００１３】
しかしながら、上記したように、有機エレクトロルミネッセンス膜は、油分によって損傷してしまう。移動機構のスライド精度を向上すべく当該移動機構を小さくし、それゆえ移動機構がチャンバ内に収容されると、移動機構を潤滑するための潤滑油が蒸発するなどして有機エレクトロルミネッセンス膜に付着してしまい、有機エレクトロルミネッセンス膜が損傷してしまう。
【００１４】
有機エレクトロルミネッセンス膜が損傷することを抑制するために、潤滑油の量を少なくするなどすると、移動機構のスライド精度が低下してしまう。
【００１５】
このように、スライド精度を向上するために移動機構を小型化すると、移動機構がチャンバ内に収容され、それゆえ、有機エレクトロルミネッセンス膜が損傷することが考えられ。
【００１６】
一方、有機エレクトロルミネッセンス膜の損傷を防ぐために移動機構をチャンバ外に配置すると、移動機構が大きくなり、当該移動機構のスライド精度が低下する。
【００１７】
したがって、本発明は、大きな基板に対しても大型化することを小さく抑えつつ、かつ、精度よくレーザ光を照射できる転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の転写装置は、ドナーと当該ドナーが転写される被転写体とを収容するチャンバと、前記チャンバ内に収容されるとともに、前記ドナーと前記被転写体とを互いに対向する姿勢で保持する固定台と、前記チャンバ外に配置されるとともに、前記ドナーにレーザ光を照射するレーザ照射部と、前記固定台を移動し、前記チャンバ内での前記ドナーと前記被転写体の位置決めを行う移動機構とを備える。前記チャンバは、内側に前記ドナーと前記被転写体と前記固定台とを収容するともに前記固定台の移動方向に枠によって仕切られて前記レーザ光が通る複数の開口を有する本体と、前記開口を気密に覆う前記レーザ光が透過可能な透過体とを備える。
【００１９】
本発明の好ましい形態では、前記移動機構は、前記チャンバ内に配置されて前記固定台を支持するとともに、一部が前記チャンバ外に露出する支持部と、前記チャンバ外に配置されるとともに前記一部に連結され、前記支持部を前記固定台の移動方向にガイドするガイド部とを備える。
【００２０】
他の発明の有機電界発光表示装置の製造方法は、上記された転写装置により有機材料を転写してアレイ基板を形成する工程と、前記有機材料が転写された表面を封止する工程とを備える。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、大きな基板に対しても大型化することを小さく抑えつつ、かつ、精度よくレーザ光を照射できる転写装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の一実施形態に係る転写装置を、図１〜１７を用いて説明する。図１は、転写装置１０を示す斜視図である。図２は、転写装置１０を断面して概略的に示す断面図である。
【００２３】
図１，２に示すように、転写装置１０は、熱転写性有機材料が成膜されたドナー１１の熱転写性有機材料２００を、基板１２に転写する装置である。熱転写性有機材料２００は、エレクトロルミネッセンス性質を有している。熱転写性有機材料２００は、有機エレクトロルミネッセンス材料（有機エレクトロルミネッセンス膜）である。熱転写性有機材料（有機エレクトロルミネッセンス材料）２００は、本発明で言う有機材料の一例である。
【００２４】
基板１２は、本発明で言う被転写体の一例である。基板１２は、ガラス基板である。基板１２上には、複数の画素が形成される。これら各画素には、走査線やデータ線などの線部材３２０が接続されている。
【００２５】
転写装置１０は、コモンベース１３上に配置されている。コモンベース１３において転写装置１０が配置される面は、平面である。なお、図１中、基板１２は、ドナー１１の下方に配置されているので、点線で示されている。
【００２６】
転写装置１０は、チャンバ２０と、固定台３０と、移動機構４０と、レーザ照射装置５０とを備えている。チャンバ２０は、内部にドナー１１と基板１２とを収容する箱型である。チャンバ２０は、後で詳細に説明される。
【００２７】
固定台３０は、チャンバ２０内に収容されている。固定台３０は、ドナー１１と基板１２とを、ドナー１１と基板１２とが互いに向かい合った姿勢となるように、固定し、保持する。
【００２８】
図２に示すように、移動機構４０は、スライドベース４１と、ベローズ４２と、ブラケット４３と、スライドガイド４４と、アクチュエータ４５とを備えている。
【００２９】
スライドベース４１は、固定台３０を下方から支持するとともに、固定台３０が固定されている。図１に示すように、スライドベース４１は、一方向に長い形状であるとともに、一対設けられており、互いに離間して平行に並んでいる。スライドベース４１は、本発明で言う支持部の一例である。
【００３０】
各スライドベース４１は、チャンバ２０を貫通する長さを有しており、各スライドベース４１の一端部４６と他端部４７とは、チャンバ２０の外部へ出ている。このため、チャンバ２０には、各スライドベース４１の一端部４６側が通る第１の貫通孔２１が一対形成され、各スライドベース４１の他端部４７側が通る第２の貫通孔２２が一対形成されている。第１の貫通孔２１は、チャンバ２０の一端２３に形成されており、第２に貫通孔２２は、チャンバ２０の他端２４に形成されている。チャンバ２０の他端２４は、一端２３と向かい合う端である。
【００３１】
第１，２の貫通孔２１，２２は、内側をスライドベース４１が移動可能な大きさを有している。各スライドベース４１は、例えば長手方向を横切る断面が一定の形状である。第１，２の貫通孔２１，２２は、スライドベース４１を長手方向に横切る断面よりも大きい。
【００３２】
各スライドベース４１の一端部４６と他端部４７とは、周方向に広がるフランジ状に形成されている。第１，２の貫通孔２１，２２は、一端部４６と他端部４７とよりも小さく形成されている。
【００３３】
一端部４６と他端部４７とは、ブラケット４３に固定されている。ブラケット４３は、例えば、側面形状が略Ｌ字状である。ブラケット４３の一方の面部４３ａにスライドベースの一端部４６と他端部４７とが固定されている。ブラケット４３の他方の面部４３ｂは、スライドガイド４４に連結されている。
【００３４】
スライドガイド４４は、コモンベース１３上に固定されるレール部４４ａと、レール部４４ａ上をスライドするスライド部４４ｂとを備えている。図１，２に示すように、レール部４４ａは、スライドベース４１の延びる方向に平行に延びており、一対設けられている。スライド部４４ｂは、レール部４４ａ上を、レール部４４ａに沿ってスライド可能に、レール部４４ａに連結されている。
【００３５】
ブラケット４３の他方の面部４３ｂは、スライド部４４ｂに固定されている。このため、ブラケット４３とスライドベース４１とは、レール部４４ａに沿って、スライド可能となる。このことによって、スライドベース４１に固定された固定台３０は、チャンバ２０内を移動可能となる。スライドガイド４４は、本発明で言うガイド部の一例である。
【００３６】
なお、図２に示すように、レール部４４ａとスライド部４４ｂとブラケット４３の構造および、ブラケット４３とスライドベース４１との固定は、スライドベース４１と第１，２の貫通孔２１，２２の縁とが互いに接触しないように考慮されている。例えば、ブラケット４３とスライドベース４１との固定位置は、スライドベース４１が第１，２の貫通孔２１，２２の縁に当接しないように、考慮されている。
【００３７】
このことによって、スライドベース４１と第１，２の貫通孔２１，２２の縁とが接触することに起因してスライドベース４１の移動が妨げられることが抑制される。
【００３８】
図２に示すように、ベローズ４２は、例えば金属性であって、伸縮可能な蛇腹の筒状である。ベローズ４２は、チャンバ２０とスライドベース４１の一端部４６との間と、チャンバ２０とスライドベース４１の他端部４７との間に配置されており、内側にスライドベース４１を収容している。
【００３９】
ベローズ４２の一端は、チャンバ２０の外面に気密に固定されている。ベローズ４２の他端は、フランジ状に形成されるスライドベース４１の一端部４６、もしくは、他端部４７に気密に固定される。このため、各第１，２の貫通孔２１，２２は、ベローズ４２によって気密に塞がれており、それゆえ、チャンバ２０内は、第１，２の貫通孔２１，２２を通して外部に対しては、気密に塞がれる。ベローズ４２は、端部４６，４７以外の場所において、スライドベース４１に当接しない。
【００４０】
アクチュエータ４５は、例えば、スライドベース４１の一端部４６が固定されるブラケット４３の一方の面部４３ａを、スライドベース４１の延びる方向に沿って移動する機能を有している。このことによって、スライドベース４１は、アクチュエータ４５によって、その延びる方向に沿って移動される。
【００４１】
図１に示すように、レーザ照射装置５０は、レーザヘッド５１と、レーザヘッド移動機構５３とを備えている。レーザ照射装置５０は、本発明で言うレーザ照射部の一例である。レーザヘッド５１は、レンズ５２を備えている。レーザ光は、レンズ５２から照射される。レーザ光は、直線状に照射される。
【００４２】
レーザヘッド移動機構５３は、レーザヘッド５１を、固定台３０が移動可能な第１の方向Ｘ（スライドベース４１の延びる方向）と、第１の方向Ｘと垂直な第２の方向Ｙとに移動可能とする。なお、第１，２の方向Ｘ，Ｙで規定される平面は、基板１２の平面と平行となるように設定されている。
【００４３】
なお、本実施形態では、第１の方向Ｘと、第２の方向Ｙとを規定する。固定台３０は、第１の方向Ｘに沿ってチャンバ２０内を移動可能である。レーザヘッド５１は、第１,２の方向Ｘ，Ｙに沿って移動可能である。
【００４４】
レーザヘッド移動機構５３について具体的に説明する。図１に示すように、レーザヘッド移動機構５３は、レーザヘッドステージ５４と、ガイド部材５５と、リニアモータ５６とを備えている。
【００４５】
ガイド部材５５は、コモンベース１３上に設けられており、チャンバ２０を挟んで両側に１つずつ配置されている。各ガイド部材５５は、第１の方向Ｘに平行に延びている。
【００４６】
レーザヘッドステージ５４は、例えば、枠形状である。レーザヘッドステージ５４は、一対の脚部５４ａと、梁部５４ｂとを有している。一方の脚部５４ａは、一方のガイド部材５５によって、スライド可能に支持されている。他方の脚部５４ａは、他方のガイド部材５５によって、スライド可能に支持されている。
【００４７】
梁部５４ｂは、両脚部５４ａにおいてガイド部材５５と反対側の端部どうしを連結している。梁部５４ｂは、第２の方向Ｙに平行に延びている。チャンバ２０は、レーザヘッドステージ５４の各脚部５４ａと、梁部５４ｂとによって規定される内側の空間Ｓ１内に配置される。
【００４８】
各脚部５４ａは、ガイド部材５５に沿って第１の方向Ｘに平行に移動可能である。このことによって、レーザヘッドステージ５４は、第１の方向Ｘに移動可能となる。なお、ガイド部材５５の配置される位置と、各脚部５４ａの長さは、レーザヘッドステージ５４がチャンバ２０と接触することがないように考慮されている。このため、レーザヘッドステージ５４がガイド部材５５に沿って第１の方向Ｘに移動する際に、チャンバ２０とレーザヘッドステージ５４とが互いに接触することがない。
【００４９】
各ガイド部材５５の両側（チャンバ２０とは反対側）には、リニアモータ５６が設けられている。リニアモータ５６は、ガイド部材５５に沿って延びており、レーザヘッドステージ５４を、ガイド部材５５に沿って移動する機能を有している。
【００５０】
レーザヘッド５１は、ヘッド固定ブラケット５７によって、梁部５４ｂに連結されている。なお、梁部５４ｂの内側（チャンバ２０と向かい合う側）には、ヘッド固定ブラケット５７を第２の方向Ｙに移動可能とするガイドレール５８（点線で示す）と、レーザヘッド５１を第２の方向Ｙに移動させるアクチュエータ５９（点線で示す）が設けられている。レーザヘッド５１は、アクチュエータ５９によって、ガイドレール５８に沿って、第２の方向Ｙに平行に移動可能となる。
【００５１】
上記のように構成されるレーザヘッド移動機構５３によって、レーザヘッド５１は、第１，２の方向Ｘ，Ｙに平行に移動可能となる。なお、ガイド部材５５とガイドレール５８とは、レーザヘッド５１がチャンバ２０においてレーザヘッド５１と対向する側の領域を略全域移動できるようになっている。具体的には、ガイド部材５５は、レーザヘッド５１がチャンバ２０の第１の方向Ｘの一端から他端まで移動できる長さを有している。ガイドレール５８は、レーザヘッド５１がチャンバ２０の第２の方向Ｙの一端から他端まで移動できる長さを有している。
【００５２】
ついで、チャンバ２０について詳細に説明する。チャンバ２０は、チャンバ本体２５と、複数のガラス板２６とを備えている。チャンバ本体２５は、チャンバ２０の外観を規定しており、内側に、ドナー１１と基板１２と固定台３０とスライドベース４１となどを収容している。チャンバ本体２５は、本発明で言う本体の一例である。
【００５３】
チャンバ本体２５は、例えば、第１の方向Ｘに長い直方体である。チャンバ２０においてレーザヘッド５１と対向する面（本実施形態では、図中上面に相当）には、３つの開口２７，２８，２９が形成されている。開口２７は、チャンバ２０の一端２３側に配置されている。開口２８は、チャンバ２０の他端２４側に配置されている。開口２９は、開口２７，２８の間に配置されている。
【００５４】
開口２７は、チャンバ本体２５の周縁部２５ａと枠部２５ｂとによって規定されている。具体的には、開口２７は、チャンバ本体２５の縦壁部の上面と枠部２５ｂとによって、規定されている。枠部２５ｂは、チャンバ本体２５の周縁部（縦壁部の上面）において第２の方向Ｙの一端から他端まで、第２の方向Ｙと平行に延びている。開口２７は、平面形状が第２の方向Ｙに長い長方形である。
【００５５】
開口２８は、チャンバ本体２５の周縁部２５ａと枠部２５ｃとによって規定されている。具体的には、開口２７は、チャンバ本体２５の周縦壁部の上面と枠部２５ｃとによって、規定されている。枠部２５ｃは、チャンバ本体２５の周縁部（縦壁部の上面）において第２の方向Ｙの一端から他端まで、第２の方向Ｙと平行に延びている。開口２７は、平面形状が第２の方向Ｙに長い長方形である。
【００５６】
開口２９は、チャンバ本体２５の周縁部２５ａと枠部２５ｂ，２５ｃとによって規定されている。開口２７〜２９は、互いに同じ形状でかつ同じ大きさである。各枠部２５ｂ，２５ｃは、第１の方向Ｘを横切る幅が第２の方向Ｙに沿って一定であり、かつ各々同じ形状である。
【００５７】
ガラス板２６は、開口２７〜２９を覆う大きさを有するとともに、レーザ光を透過可能な材質で形成されている。ガラス板２６は、本発明で言う透過体の一例である。
【００５８】
ガラス板２６は、各開口２７〜２９を覆うように、チャンバ本体２５の周縁部２５ａの上面および枠部２５ｂ，２５ｃの上面に当接し固定され、各開口２７〜２９を気密に塞いでいる。レーザヘッド５１のレンズ５２から照射されたレーザ光は、開口２７〜２９を覆うガラス板２６を通してドナー１１まで達する。
【００５９】
なお、本実施形態では、一例として、３つの開口が形成される場合を示している。しかしながら、これに限定されない。各開口の大きさは、当該開口を覆うガラス板の大きさによって決定される。
【００６０】
転写装置１０の動作中では、チャンバ２０内は、真空状態になる。このため、ガラス板には、チャンバ２０内外の圧力差に起因して、大きな荷重が作用する。ガラス板が大きくなると、当該形状の大型化に伴って、ガラス板への負担が大きくなる。
【００６１】
開口は、ガラス板が、上記負担に起因して破損しない大きさである。このため、チャンバ２０の大きさによっては、開口は、例えば４つや、５つ形成されてもよい。
【００６２】
また、開口を気密に塞ぐ部材は、ガラス板に限定されない。要するに、開口を気密に塞ぎつつ、レーザヘッドから照射されるレーザ光を透過できる材料であればよい。
【００６３】
チャンバ本体２５は、固定台３０の大きさよりも第１の方向Ｘに長さＬ動ける動き代Ｓ２を有している。動き代Ｓ２について、説明する。
【００６４】
図３は、枠部２５ｂ，２５ｃとドナー１１と基板１２とレーザヘッド５１とを、概略的に示す断面図である。図３は、第１の方向Ｘに沿って転写装置１０を断面している。図３に示すように、レーザヘッド５１から照射されたレーザ光Ｌがガラス板２６を透過してドナー１１に照射される。ドナー１１においてレーザ光Ｌが照射された範囲の有機材料が昇華する。
【００６５】
ドナー１１に対して向かい合う位置に配置される基板１２には、一画素を規定する突起状の仕切り部１４が形成されている。上記昇華した有機材料２００は、仕切り部１４によって囲まれて規定される１画素中に付着し、この結果、転写される。このように、レーザ光Ｌは、一回の照射で、基板１２の１画素分の転写が行えるように調整されている。
【００６６】
図中に示すように、枠部２５ｂ，２５ｃの縁は、基板１２の大きさによっては、レーザ光の照射方向に必ずしも各画素の仕切り部１４に重なる大きさを有しない。図中、ドナー１１と基板１２とにおいて、枠部２５ｂ，２５ｃとレーザ光の照射方向に重なる範囲の端の延長線を一点鎖線で示している。
【００６７】
図に示すように、本実施形態では、第１の方向Ｘに沿う枠部２５ｂ，２５ｃの両端が画素１５，１６，１７，１８の内側部分と重なる状態を、一例として示している。このような状態では、両端と重なる画素１５〜１８（図中わかりやすいように、これら４つの画素に１５〜１８の符号を付す）およびこれら画素１５，１６および画素１７，１８の内側に配置される画素には、レーザ光Ｌが照射されない（枠部２５ｂ，２５ｃによって、レーザ光が届かない）。
【００６８】
図中、基板１２においてチャンバ２０の一端２３側に配置される枠部２５ｂと少なくとも一部が重なる画素の集まりの第１の方向に沿う長さをＬ１とし、チャンバ２０の他端２４側に配置される枠部２５ｃと少なくとも一部が重なる画素の集まりの第１の方向Ｘに沿う長さをＬ２とすると、Ｌ１とＬ２とのうち、長いほうをＬとする。例えばＬ１＞Ｌ２の場合では、Ｌ１をＬとする。長さＬは、枠部２５ｂ，２５ｃの第１の方向Ｘに沿う長さ（幅）Ｓより大きくなる。
【００６９】
動き代Ｓ２は、もともと、枠部２５ｂ，２５ｃの第１の方向Ｘにそう長さＳより大きく設けられている。長さＬは、長さＳよりも若干（重なる画素１４〜１８を考慮した大きさ分）大きくなる。１画素の大きさは、比較的小さいものである。このため、動き代Ｓ２として、Ｓよりも大きな長さを予め設けておくと、動き代Ｓ２内で長さＬを確保することができる。
【００７０】
このように、チャンバ２０が複数の枠部（本実施形態では、枠部２５ｂ、２５ｃ）を備える場合、これら各枠部２５ｂ，２５ｃによって少なくとも一部が覆われる画素の集まりの第１の方向Ｘに沿う長さのうち、最も長い長さをＬとすることによって、固定台３０を第１の方向Ｘに長さＬ移動すると、画素において枠部と少なくとも一部が重なる範囲が、開口２７〜２９を通してレーザ光の照射方向にレーザヘッド５１（レンズ５２）と対向できるようになる。枠部２５ｂ，２５ｃによって覆われていた範囲が開口２７〜２９を通してレンズ５２と対向できるようになるので、当該覆われていた範囲を、レーザ光Ｌを用いて転写できるようになる。
【００７１】
なお、制御装置６０は、固定台３０のチャンバ２０内での初期位置Ｐ１と、基板１２の１画素の大きさ、固定台３０上での基板１２の位置などの各種の情報が、入力されている。このため、制御装置６０は、枠部２５ｂ，２５ｃと基板１２との相対位置関係を把握しており、それゆえ、長さＬ１，Ｌ２，Ｌを検出することができる。
【００７２】
なお、固定台３０は、長さＬ１，Ｌ２のうち大きい方の長さだけ動くことに限定されない。例えば、長さＬ１，Ｌ２のうち大きい方の長さ以上動いてもよい。例えば、長さＬ１，Ｌ２のうち長い方の長さに加えて、さらに複数の画素分の長さを加えた長さをＬとし、当該Ｌ移動してもよい。このように、余裕を持って移動することによって、固定台３０の移動誤差や画素の大きさの誤差などによる転写ミスが抑制される。
【００７３】
図２に示すように、チャンバ２０の第１の方向Ｘに沿う他端部（アクチュエータ４５と反対側）には、ゲートバルブ７０が設けられている。具体的には、チャンバ２０の他端２４側は、搬入・搬出用開口７１が形成されている。ドナー１１と基板１２とは、搬入・搬出用開口７１を通ってチャンバ２０内に搬入、および、チャンバ２０内から搬出される。
【００７４】
ゲートバルブ７０は、搬入・搬出用開口７１を開閉する。ゲートバルブ７０は、搬入・搬出用開口７１を覆う際には、搬入・搬出用開口７１を気密に塞ぐ。
【００７５】
ドナー１１と基板１２とは、例えば搬入・搬出用ロボット７２によって、チャンバ２０内に搬入され、および、チャンバ２０内から搬出される。
【００７６】
チャンバ２０において例えばコモンベース１３より下方の位置には、ポンプ８０が設けられている。具体的には、チャンバ本体２５においてコモンベース１３より下方には、チャンバ本体２５と連通するポンプ室８１が形成されている。ポンプ８０は、ポンプ室８１内に収容されている。ポンプ８０は、チャンバ２０内を真空にする際に用いられる。
【００７７】
上記したように、第１，２の貫通孔２１，２２はベローズ４２によって気密に塞がれ、開口２７〜２９はガラス板２６によって気密に塞がれ、搬入・搬出用開口７１はゲートバルブ７０によって気密に塞がれる。このため、転写装置１０の動作中（転写作業中）では、チャンバ２０内は、ポンプ８０によって、真空にされる。
【００７８】
制御装置６０は、上記された、レーザヘッド５１と、アクチュエータ４５，５９と、ゲートバルブ７０と、ポンプ８０と、リニアモータ５６となどの動作を制御することによって、基板１２に対するレーザ光の照射位置を制御する。
【００７９】
つぎに、転写装置１０の動作の一例を説明する。まず、図２に２点鎖線で示すように、ゲートバルブ７０が開く。ついで、搬入・搬出用ロボット７２によって、ドナー１１と基板１２とが、固定台３０上に配置され、固定される。
【００８０】
固定台３０またはチャンバ２０内には、固定台３０上でのドナー１１と基板１２との位置を位置決める位置決め機構が設けられている。この位置決め機構によって、ドナー１１と基板１２とは、固定台３０上において位置が整えられる。このとき、基板１２は、各画素が並ぶ方向が、第１の方向Ｘと第２の方向Ｙとに平行になるように、姿勢が整えられる。
【００８１】
ついで、制御装置６０は、固定台３０を初期位置Ｐ１に位置決める。なお、固定台３０は、ドナー１１と基板１２とが設置される前に初期位置Ｐ１に位置決めされてもよい。図４は、チャンバ２０内をレーザヘッド５１側から見た状態を概略的に示す平面図である。本実施形態では、図４に示すように、固定台３０が初期位置Ｐ１にある状態において、ドナー１１と基板１２とは、５つの範囲に分けられる。なお、図４中では、説明のため、ガラス板２６は、省略されている。
【００８２】
なお、図４中、基板１２に設けられる各画素は、点線で示されている。また、各画素は、説明のため、大きく描かれている。各画素は、実際には、小さいものである。
【００８３】
範囲Ａ２は、レーザ光の照射方向に枠部２５ｂと少なくとも一部が重なる画素の集まりである。範囲Ａ４は、レーザ光の照射方向にもう一方の枠部２５ｃと少なくとも一部が重なる画素の集まりである。範囲Ａ１は、ドナー１１の一端から範囲Ａ２までの画素の集まりの範囲である。範囲Ａ１内の画素は、一部も枠部２５ｂに重ならない。
【００８４】
範囲Ａ５は、ドナー１１の他端から範囲Ａ４までの画素の集まりの範囲である。範囲Ａ５内の画素は、レーザ光の照射方向に一部も枠部２５ｃに重ならない。範囲Ａ３は、範囲Ａ２と範囲Ａ４との間の範囲である。範囲Ａ３は、枠部２５ｂ，２５ｃと、レーザ光の照射方向に一部も重ならない画素の集まりである。
【００８５】
まず、レーザヘッド５１は、範囲Ａ１，Ａ３，Ａ５の順番でレーザ光を照射する。具体的には、レーザヘッド５１は、固定台３０が初期位置Ｐ１にある状態において、図２に示すように、範囲Ａ１において、第１の方向Ｘおよび第２の方向Ｙの端の位置Ｐ３の画素１００を照射すべく、位置決められる。
【００８６】
ついで、レーザヘッド５１から、レーザ光が照射される。一回の照射が行われると、レーザヘッド５１は、第２の方向Ｙに、一画素分移動される。ついで、レーザヘッド５１は、レーザ光を照射する。このことによって、位置Ｐ３の画素から第２の方向Ｙに沿って隣の画素の転写が行われる。
【００８７】
このように、第２の方向Ｙに沿って他端の位置Ｐ４にある画素１０１までレーザ光が順次照射される。
【００８８】
位置Ｐ４の画素１０１までレーザ光が照射されると、制御装置６０は、画素１０１に対して第１の方向Ｘに１画素分移動した位置Ｐ５の画素１０２にレーザ光を照射すべく、レーザヘッド５１を位置Ｐ４から第１の方向Ｘに沿って１画素分移動させる。以降、レーザヘッド５１は、第２の方向Ｙに他端の位置Ｐ６にある画素１０３まで、第２の方向Ｙに１画素分ずつ移動しながら、そのつど、対向する画素に向かってレーザ光を１回照射する。
【００８９】
本実施形態では、一例として、上記のように、第２の方向Ｙ一端から他端までレーザ光を照射し、他端に達すると第１の方向Ｘに一画素分移動し、再び、第２の方向Ｙに沿ってレーザ光を照射するとう動作を繰り返す。
【００９０】
図５に示すように、上記の移動とレーザ光の照射を繰り返して範囲Ａ１の内の全ての画素への転写が完了する。なお、範囲Ａ１内でのレーザ光の照射される順番の軌跡を、図４中に矢印で示す。
【００９１】
ついで、図６に示すように、範囲Ａ３内の画素にレーザ光を照射すべく、レーザヘッド５１の位置が移動される。具体的には、図４に示すように、制御装置６０の制御によって、レーザヘッド５１が、範囲Ａ３中の第１，２の方向Ｘ，Ｙに沿う端の位置Ｐ７の画素１０４にレーザ光を照射すべく、移動される。レーザヘッド５１が、範囲Ａ３内の画素を照射できる位置に移動されると、範囲Ａ１内の画素に対する移動と同様に、レーザヘッド５１は、第２の方向に他端の位置Ｐ８まで１画素ずつ移動されながら、対向する画素にレーザ光を照射する。位置Ｐ７に対して第２の方向Ｙに反対の位置Ｐ８の画素１０５までレーザ光が照射されると、レーザヘッド５１は、１画素分第１の方向Ｘに移動される。ついで、位置Ｐ８に対して第２の方向Ｙに反対端の位置Ｐ１０の画素１０６まで、１画素分ずつ移動されながら、そのつど対向する画素に向かってレーザ光が照射される。上記の移動とレーザ光の照射が繰り返されることによって、範囲Ａ３内の全ての画素への転写が完了する。なお、範囲Ａ３内でのレーザ光の照射される順番の軌跡を、図４中に矢印で示す。
【００９２】
図７に示すように、範囲Ａ３内の画素へのレーザ光の照射が完了すると、ついで、図８に示すように、範囲Ａ５内の画素にレーザ光を照射すべく、レーザヘッド５１が移動される。
【００９３】
具体的には、図４に示すように、範囲Ａ５内において第１，２の方向Ｘ，Ｙに沿う一端の位置Ｐ１１の画素１０７にレーザ光を照射すべく、レーザヘッド５１が移動される。範囲Ａ５内の画素に対しも、範囲Ａ１，Ａ３内の画素へのレーザ照射と同様に、位置Ｐ１１から第２の方向Ｙに反対端の位置Ｐ１２まで、レーザヘッド５１は、１画素ずつ第２の方向Ｙに移動されながらそのつど対向する画素にレーザ光が照射する。
【００９４】
レーザヘッド５１は、他端の位置Ｐ１２まで移動されて、対向する画素１０８に対してのレーザ照射が完了すると、第１の方向Ｘに１画素分移動されて位置Ｐ１４に移動する。ついで、第２の方向Ｙに反対端の位置Ｐ１５まで、第２の方向Ｙに沿って１画素分ずつ移動しながら、そのつど対向する画素にレーザ光を照射する。なお、範囲Ａ５内でのレーザ光の照射される順番の軌跡を、図４中に矢印で示す。
【００９５】
図９に示すように、範囲Ａ５内の全ての画素へのレーザ光の照射が完了すると、図１０に示すように、アクチュエータ４５が駆動されて、固定台３０が第２の位置Ｐ１６に移動される。
【００９６】
図１１は、チャンバ２０内をレーザヘッド５１側から見た状態を概略的に示す平面図である。図１１は、固定台３０が第２の位置Ｐ１６に移動された状態を示している。第２の位置１６は、固定台３０が、初期位置Ｐ１に対して、第１の方向Ｘに長さＬ移動された位置である。このため、範囲Ａ２，Ａ４は、レーザ光の照射方向に、枠部２５ｂ，２５ｃと重ならなくなる。
【００９７】
ついで、図１２に示すように、レーザヘッド５１は、範囲Ａ２内の画素にレーザ光を照射すべく、移動される。具体的には、レーザヘッド５１は、図１１に示すように、範囲Ａ２内の画素において第１，２の方向Ｘ，Ｙに沿う一端の位置Ｐ１７の画素１１０にレーザ光を照射すべく、レンズ５２が画素１１０に対向する位置に移動される。
【００９８】
範囲Ａ２内の画素へのレーザ光の照射は、範囲Ａ１，Ａ３，Ａ５と同様であって、レーザヘッド５１が位置Ｐ１７から第２の方向Ｙに１画素分ずつ移動しながら、そのつど対向する画素にレーザ光を照射する。ついで、他端に達すると、１画素分第１の方向Ｘに移動する。図中、範囲Ａ２内の画素へのレーザ照射の軌跡を矢印で示す。
【００９９】
ついで、図１３に示すように、範囲Ａ２内の画素へのレーザ光の照射が完了すると、図１４に示すように、レーザヘッド５１は、範囲Ａ４内の画素へレーザ光を照射すべく、移動される。
【０１００】
具体的には、図１１に示すように、範囲Ａ４内の画素において第１，２の方向Ｘ，Ｙに沿う一端の位置Ｐ１８の画素１１１へレーザ光を照射すべく、画素１１１とレンズ５２とが対向する位置に、レーザヘッド５１が移動される。
【０１０１】
範囲Ａ４内への画素へのレーザ照射は、範囲Ａ１〜Ａ３，Ａ５と同様である。図１１中、範囲Ａ４内へのレーザ照射の軌跡を、矢印で示す。
【０１０２】
図１５に示すように、範囲Ａ４内の画素へのレーザ光の照射が完了すると、転写作業が完了する。全ての画素へのレーザ光の照射が完了すると、基板１２とドナー１１とが、チャンバ２０内より取り出される。
【０１０３】
ついで、有機電界発光表示装置４００の製造方法を説明する。有機電界発光表示装置４００は、基板１２と、封止基板３００と、ガラス枠３１０と、基板１２に設けられる各画素に信号を送付して当該画素の発光を調整する線部材３２０と備えている。例えば、線部材３２０は、有機エレクトロルミネッセンス材料２００が転写される前の状態で基板１２に設けられている。なお、線部材３２０は、その一部を省略して示している。
【０１０４】
まず、上記したように、転写装置１０によって、基板１２にドナー１１が有する有機エレクトロルミネッセンス材料２００が転写される。有機エレクトロルミネッセンス材料２００が転写された基板１２は、本発明で言うアレイ基板の一例である。この工程は、本発明で言う、アレイ基板を形成する工程の一例である。
【０１０５】
ついで、有機エレクトロルミネッセンス材料である熱転写性有機材料２００の転写が完了した基板１２において当該有機エレクトロルミネッセンス材料２００が転写された面２１０に、当該有機エレクトロルミネッセンス材料２００が劣化することを防止すべく封止基板３００を重ねる。図１６，１７は、この工程を示している。なお、封止基板３００は、有機エレクトロルミネッセンス材料２００が転写された領域を封止できる大きさを有していればよい。
【０１０６】
図１６に示すように、基板１２の有機ルミネッセンス材料２００が転写された面２１０において、有機ルミネッセンス材料２００が転写された領域（画素が形成される範囲）に、封止基板３００が重ねられる。
【０１０７】
封止基板３００と基板１２との間には、封止材が介装されている。封止材の一例としては、ガラス枠３１０が用いられる。ガラス枠３１０は、封止基板３００の例えば周縁全周にわたって設けられている。ガラス枠３１０がレーザ溶着によって基板１２と封止基板３００とに固定されることによって、ガラス枠３１０を介して基板１２が封止基板３００に固定される。
【０１０８】
基板１２に封止基板３００が固定されることによって、基板１２において有機エレクトロルミネッセンス材料２００が転写された領域が封止され、それゆえ、画素に転写された有機エレクトロルミネッセンス材料２００が劣化することが抑制される。この工程は、本発明で言う封止する工程の一例である。なお、封止基板３００が取り付けられる工程は、転写装置１０内で行われてもよい。または、別途に用意される装置を用いて、封止基板３００が取り付けられてもよい。
【０１０９】
図１７は、封止基板３００が基板１２に固定された状態を示している。図１７に示すように、封止基板３００が基板１２に固定されると、各画素に設けられる線部材３２０が連結される駆動部３５０が基板１２に取り付けられる。駆動部３５０は、各線部材に信号を供給する。各画素は、線部材からの信号によって光を発光し、それゆえ、有機電界発光表示装置４００は、映像を表示する。駆動部３５０を取り付ける工程は、転写装置１０内で行われてもよい。または、別途に用意される装置を用いて、駆動部３５０が取り付けられてもよい。
【０１１０】
このように、転写装置１０によってドナー１１が有する有機エレクトロルミネッセンス材料である熱転写性有機材料２００が基板１２に転写される工程と、有機ルミネッセンス材料である熱転写性有機材料２００が転写された基板１２を封止する工程とを経て、有機電界発光表示装置４００が製造される。
【０１１１】
このように構成される転写装置では、チャンバ２０は、チャンバ２０内外の圧力差に起因するガラス板２６への負担を考慮して、枠部２５ｂ、２５ｃによって規定される開口２７〜２９を形成している。
【０１１２】
このように、チャンバ２０に形成される開口として、１つの大きな開口を形成するのではなく、ガラス板２６の強度を考慮した（ガラス板２６が破損しないように）大きさに分けて形成することによって、チャンバ２０の大きさは、チャンバ２０内での固定台３０の動き代Ｓ２が確保される大きさでよい。
【０１１３】
この結果、大きな基板への転写を目的とした転写装置であっても、チャンバ２０の大型化を小さく抑えることができる。
【０１１４】
さらに、チャンバ２０内での固定台３０の必要な移動長さを、枠部２５ｂ，２５ｃより若干大きい値とすることができるので、結果的にチャンバ２０内での固定台３０の移動長さを小さくすることができる。
【０１１５】
固定台３０の移動長さを小さくできることによって、移動機構４０の動作誤差を小さく抑えることができるので、当該移動機構４０の動作に起因するレーザ光の照射精度の低下を抑制することができる。このため、精度よくレーザ光が照射されるようになる。
【０１１６】
また、移動機構４０のスライドガイド４４を構成するレール部４４ａとスライド部４４ｂとは、チャンバ２０外に配置されている。
【０１１７】
このため、レール部４４ａとスライド部４４ｂとのスライドを潤滑する潤滑油がドナー１１および基板１２を汚染することがない。つまり、レール部４４ａとスライド部４４ｂとを十分に潤滑して移動機構４０の動作精度を向上することができる。
【０１１８】
なお、本実施形態で説明された画素へのレーザ光の照射は、一例である。範囲Ａ１，Ａ３，Ａ５，Ａ２，Ａ４の順番でレーザ照射されたが、例えば、先に、範囲Ａ２，Ａ４に対してレーザ光を照射し、ついで、固定台３０を移動して、範囲Ａ１，Ａ３，Ａ５に対してレーザ光を照射してもよい。
【０１１９】
また、各範囲Ａ１〜Ａ５内では、第２の方向Ｙに沿って一端から他端までレーザ光が照射されると、第１の方向Ｘに１画素分移動することが繰り返されたが、これに限定されない。各範囲Ａ１〜Ａ５において、先に第１の方向Ｘに沿って一端から他端までレーザ光を照射し、ついで、第２の方向Ｙに１画素分移動するようにしてもよい。
【０１２０】
また、図５〜１５に示される転写装置１０では、アクチュエータ４５と、搬入・搬送用ロボット７２と、制御装置６０とが省略されており、これらは、図２にのみ図示されている。しかしながら、図５〜１５に示される転写装置１０であっても、図２と同様に、搬入・搬送用ロボット７２とアクチュエータ４５と制御装置６０とを備えている。
【０１２１】
また、本実施形態では、ドナー１１を入れかえることなく、同じドナー１１を用いて基板１２の全ての画素にレーザ光を照射している例を説明しているが、これに限定されない。  例えば、ドナーから基板１２へＲ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）のいずれかの色を転写する場合では、Ｒ、Ｇ、Ｂの３種類のドナーが用いられる。そして、基板１２が備える画素のうち一部にＲが転写され、残りの一部にＧが転写され、残りの部分にＢが転写される。
【０１２２】
Ｒを有するドナーから転写される場合は、基板１２においてＲが転写されるべき画素のみ転写されるように、レーザヘッド５１の移動が制御される。Ｇ、Ｂであっても同様である。
【０１２３】
このように、制御装置６０は、基板１２の画素において転写すべき画素の位置の情報を有しており、それゆえ、転写されるべき画素のみに転写作業が行われるようなる。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明の一実施形態に係る転写装置を示す斜視図。
【図２】図１に示された転写装置を断面して概略的に示す断面図。
【図３】図２に示された枠部とドナーと基板とレーザヘッドとを、概略的に示す断面図。
【図４】図１に示されたチャンバ内を、レーザヘッド側から見た状態を概略的に示す平面図。
【図５】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図６】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図７】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図８】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図９】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図１０】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図１１】図１に示されたチャンバ内を、レーザヘッド側から見た状態を概略的に示す平面図。
【図１２】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図１３】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図１４】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図１５】図１に示された転写装置の動作を示す断面図。
【図１６】図１に示された転写装置によって転写が完了した基板に封止基板を取り付ける様子を示す斜視図。
【図１７】図１６に示された基板に封止基板を取り付けられて形成された有機電界発光表示装置を示す斜視図。
【符号の説明】
【０１２５】
１０…転写装置、１１…ドナー、１２…基板（被転写体）、２０…チャンバ、２５…チャンバ本体（本体）、２５ｂ…枠部（枠）、２５ｃ…枠部（枠）、２６…ガラス板（透過体）、２７…開口、２８…開口、２９…開口、３０…固定台、４０…移動機構、４１…スライドベース（支持部）、４４…スライドガイド（ガイド部）、５０…レーザ照射装置（レーザ照射部）、４００…有機電界発光表示装置。
【図１】
2009301843.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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