(57)【要約】【課題】移動体の周囲の流体の流れを精度良く評価することができる流れ評価装置の提供。【解決手段】流れ評価装置は、供給口、排出口および光透過壁３３を有する槽３０と、トレーサ粒子が混入された流体を供給口から排出口へ流動させる流体循環装置と、移動試験体３６を槽３０の流体内で移動させる駆動部３７，３９と、平面状のシート光Ｌを、光透過壁３３を通して槽３０内の計測領域に入射する照明装置１０１〜１０３と、シート光Ｌにより照明されたトレーサ粒子を撮像する撮像装置１０４と、所定時間間隔で撮像装置１０４により撮像された複数の撮像データに基づいて、粒子画像流速測定法により移動試験体３６の周囲の流体の速度を演算する演算部１０７とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動試験体の周囲の空気の流れを評価する流れ評価装置であって、
供給口、排出口および光透過壁を有する槽と、
トレーサ粒子が混入された流体を前記供給口から前記排出口へ流動させる流体循環装置と、
前記移動試験体を前記槽の流体内で移動させる駆動部と、
平面状のシート光を、前記光透過壁を通して前記槽内の計測領域に入射する照明装置と、
前記シート光により照明された前記トレーサ粒子を撮像する撮像装置と、
所定時間間隔で前記撮像装置により撮像された複数の撮像データに基づいて、粒子画像流速測定法により前記移動試験体の周囲の流体の速度を演算する演算部とを備えることを特徴とする流れ評価装置。
【請求項２】
請求項１に記載の流れ評価装置において、
前記照明装置はパルス光源の光を平面状のシート光に変換して出射するものであり、
前記駆動部の駆動と前記パルス光源の発光と前記撮像装置の撮像とを同期制御する同期制御部を備えたことを特徴とする流れ評価装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の流れ評価装置において、
前記移動試験体は露光装置のステージを模擬して形成され、前記流体循環装置は前記流体を前記ステージの周囲空気の流れ条件に相当する流れ条件で流動させることを特徴とする流れ評価装置。
【請求項４】
露光装置のステージの周囲空気の流れを評価する流れ評価方法であって、
前記ステージを模擬して形成された移動試験体を収納する槽内に、トレーサ粒子が混入された流体を前記ステージの周囲空気の流れ条件に相当する流れ条件で流動させ、
前記移動試験体の周囲の流体を平面状のシート光で照明し、
前記シート光で照明されたトレーサ粒子を所定時間間隔で複数回撮像して、粒子画像流速測定法により前記移動試験体の周囲の流体の流れを計測することを特徴とする流れ評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体の周囲の流体の流れを評価する流れ評価装置および流れ評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスにおけるケミカル汚染対策として、ダウンフローという空調方式を採用した露光装置が知られている（例えば特許文献１参照）。ダウンフローとは、装置の上方から空気を吹き出し、装置下方から排気する空調方式であり、これにより露光装置内のウェハステージ上に搭載されたウェハの周囲の空間をクリーン度の高い状態に保つことができる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−６３９３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この種の露光装置では、ダウンフロー直下に高速で移動するウェハステージが存在するため、ウェハステージが移動した際にダウンフロー流れに乱れが生じる。ウェハステージの位置計測には一般的にレーザ干渉計が用いられるが、ステージ移動時のダウンフロー流れの乱れにより、レーザビーム光路内の空気の揺らぎに起因する局所的な屈折率変化が生じる場合がある。そのような局所的屈折率変化は干渉計の計測値のゆらぎの原因となり、ウェハステージの位置計測精度を損なうおそれがあった。
【０００５】
そのため、露光装置等においては、ステージ移動に伴う空気の流れを予め評価しておき、その結果を装置設計に反映することが非常に重要となる。しかしながら、ダウンフロー環境内に設置された実機により流れ評価を行うのは、非常に困難であるという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明に係る流れ評価装置は、移動試験体の周囲の空気の流れを評価する流れ評価装置であって、供給口、排出口および光透過壁を有する槽と、トレーサ粒子が混入された流体を供給口から排出口へ流動させる流体循環装置と、移動試験体を槽の流体内で移動させる駆動部と、平面状のシート光を、光透過壁を通して槽内の計測領域に入射する照明装置と、シート光により照明されたトレーサ粒子を撮像する撮像装置と、所定時間間隔で撮像装置により撮像された複数の撮像データに基づいて、粒子画像流速測定法により移動試験体の周囲の流体の速度を演算する演算部とを備えることを特徴とする。
請求項２の発明は、請求項１に記載の流れ評価装置において、照明装置はパルス光源の光を平面状のシート光に変換して出射するものであり、駆動部の駆動とパルス光源の発光と撮像装置の撮像とを同期制御する同期制御部を備えたものである。
請求項３の発明は、請求項１または２に記載の流れ評価装置において、移動試験体は露光装置のステージを模擬して形成され、流体循環装置は流体をステージの周囲空気の流れ条件に相当する流れ条件で流動させるようにしたものである。
請求項４の発明に係る流れ評価方法は、露光装置のステージの周囲空気の流れを評価する流れ評価方法であって、ステージを模擬して形成された移動試験体を収納する槽内に、トレーサ粒子が混入された流体をステージの周囲空気の流れ条件に相当する流れ条件で流動させ、移動試験体の周囲の流体を平面状のシート光で照明し、シート光で照明されたトレーサ粒子を所定時間間隔で複数回撮像して、粒子画像流速測定法により移動試験体の周囲の流体の流れを計測することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、移動試験体の周囲の流体の流れを精度良く計測することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図１は、本発明による流れ評価装置の一実施の形態を示す図である。流れ評価装置は、疑似ダウンフロー装置２００とＰＩＶ計測系１００とを備えている。図１に示す流れ評価装置は、ダウンフロー空間に配置された露光装置（ステッパー装置）の流れ評価を行うものであり、疑似ダウンフロー装置２００は、ダウンフロー空間内に配置されたウェハステージを擬似的に再現する装置である。
【０００９】
図２は、露光装置の概略構成を示す図である。露光装置Ｓは、露光光によりレチクルＲを照明する照明系１３と、レチクルＲが載置されるレチクルステージ２と、ウェハＷが載置されるウェハステージ３と、レチクルＲに形成されたパターンをウェハＷに投影露光する投影光学系４を備える。これら構成部品は、ケース５によって覆われた露光室６内に収容されている。露光装置Ｓはクリーンルーム内に設置されている。
【００１０】
レチクルステージ２は支持台７上に支持され、水平面内の互いに直交する方向（例えば、ＸＹ方向）に移動可能な２次元ステージを構成している。ウェハステージ３は基台８上に支持され、ＸＹ方向に移動可能な２次元ステージを構成している。各ステージ２，３は、例えばリニアモータなどの駆動装置によってそれぞれＸＹ方向に駆動される。
【００１１】
レチクルステージ２のＸＹ方向位置およびウェハステージ３のＸＹ方向位置は、それぞれレーザ干渉計９ａ，１０ａにより計測される。レーザ干渉計９ａ，１０ａは、各ステージ２，３上に固定された移動鏡９ｂ、１０ｂに向かってレーザビームを照射し、移動鏡９ｂ、１０ｂからの反射光と基準面からの反射光との干渉によりレチクルステージ２およびウェハステージ３の位置をそれぞれ計測する。このステージ位置の計測結果に基づいて各ステージ２，３が駆動され、レチクルＲに形成されたパターンがウェハＷの所定位置に正確に投影露光される。なお、干渉計９ａ，１０ａと移動鏡９ｂ，１０ｂはＸ軸用およびＹ軸用にそれぞれ設けられるが、ここではいずれか一方のみ図示している。
【００１２】
ウェハステージ３の上方に配置された支持フレーム１１には、ダクト１２が設けられている。ダクト１２の下面に形成された複数の吹出口１２ａからは、不図示の空調装置で生成された所定温度の空気が下方に向けて吹き出される。この空調空気は、基台８の周囲に形成された排気口１２ｂを介して露光室６の外部に排気される。これにより、ウェハＷおよびウェハステージ３の周囲はダウンフロー空間とされる。
【００１３】
（疑似ダウンフロー装置２００の説明）
図１に示すような露光装置において、ウェハステージ移動時のエアフローの乱れを、実機を用いて計測するのは困難なため、本実施の形態では上述したように疑似ダウンフロー装置２００を用いてダウンフロー空間における空気の乱れを再現し、ＰＩＶ計測系１００により流れを計測するようにしている。
【００１４】
図３は疑似ダウンフロー装置２００の一例を示す図であり、（ａ）は疑似ダウンフロー装置２００の全体構成を示し、（ｂ）は（ａ）のｂ矢視図である。疑似ダウンフロー装置２００は、水が循環するダクト２０と、ダクト２０の途中に設けられた略直方体形状の水槽３０とを有する回流水槽として構成される。ダクト２０は、水平方向に延在する上下一対の水平ダクト部２１，２２と、水平ダクト部２１，２２の両端部にて立設する一対の鉛直ダクト部２３，２４とを有し、水平ダクト部２１，２２と鉛直ダクト部２３，２４は互いに連通している。
【００１５】
水槽３０の両側面部には互いに同一高さに給水口３１と排水口３２とが開口され、給水口３１と排水口３２とを介して水槽内が水平ダクト部２２に連通している。水平ダクト部２２には、水を循環させるためのインペラ２５が配設されている。インペラ２５を駆動すると、ダクト内の水は給水口３１を介して水槽３０内に流入し、水槽３０内を図示右側から左側へと流れ、排水口３２からダクト側へと流出する。インペラ２５の回転数は変更可能であり、インペラ２５の回転数を調整することで、水槽内を流れる水の流速を調整できる。水槽３０は、外部から水槽内の状態を観察できるように、ガラスやアクリル等の透明板３３によって全体が形成されている。
【００１６】
水槽３０の内壁には排水口３２に面して整流装置３４が取り付けられ、整流装置３４を介して水槽内に擬似床３５が固定されている。擬似床３５の給水口３１に対向する面には、給水口３１とほぼ同一高さに試験体３６が設けられている。試験体３６は、ストラット３７により擬似床３５の表面上をスライド可能に支持されている。ストラット３７の上端部は水槽３０の上面を貫通し、水槽上方の支持台３８に設けられたアクチュエータ３９に連結されている。アクチュエータ３９を駆動することにより、試験体３６は、擬似床３５の表面に沿って図３（ｂ）の矢印で示す各方向（上下左右方向および斜め方向）に移動可能である。
【００１７】
図４は整流装置３４を示す図であり、（ａ）は排水口３２側から見た斜視図、（ｂ）は給水口３１側から見た斜視図である。整流装置３４は、略Ｘ字状に交差して形成されたクロスプレート３４１と、クロスプレート３４１の一端面に固定されたベースプレート３４２とを有し、クロスプレート３４１の他端面に擬似床３５が固定されている。ベースプレート３４２の中央部には排水口３２が開口されている。図４（ｂ）に示すようにベースプレート３４２および擬似床３５はともに略矩形状であるが、擬似床３５の縦方向および横方向の長さはベースプレート３４２の縦方向および横方向の長さよりも短い。擬似床３５の周囲には、流水回収部３４３が設けられている。
【００１８】
図５は水槽３０内の水の流れを示す図である。水槽３０に流入した水は、図の矢印で示すように擬似床３５の表面に向けて略垂直に流れた後、擬似床３５の外側の流水回収部３４３を通って擬似床３５の裏側へと迂回し、中央の排水口３２から流出する。これにより排水口近傍の流れが整流され、排水口３２の吸い込みの影響による偏流の発生を防止でき、試験体３６の周囲を均一な流れとすることができる。
【００１９】
図３に示す疑似ダウンフロー装置２００は露光装置内と等価なダウンフロー流れを再現する装置であって、実機をスケールダウンしたものである。水槽３０は露光装置１００に対応し、試験体３６はウェハステージ３に対応し、擬似床３５は基台８に対応する。また、給水口３１は吹出口１２ａに対応し、流水回収部３４３および排水口３２は排気口１２ｂに対応する。
【００２０】
露光装置内および水槽内の流れ条件を比較すると、露光装置内には温調空気が流れるのに対し、水槽内には水が流れる点で異なる。このため、同一の流れ場として評価するためには、流れの状態を表す指標であるレイノルズ数Ｒｅ（Ｒｅ＝Ｕｄ／ν）をほぼ一致させる必要がある。なお、Ｕは代表速度、ｄは代表長さ、νは流体の動粘性係数であり、例えば、水槽３０内の流体の速度を代表速度Ｕに、試験体３６の寸法を代表長さｄに選ぶ。水の動粘性係数と空気の動粘性係数との比は、例えば２０℃のときには約１／１５なので、分子＝Ｕｄの値も約１／１５となって、試験体３６や水槽３０を小型化することができる。なお、代表速度Ｕである水の流速は、インペラ２５の回転数を変更することで調整可能である。
【００２１】
ダウンフロー流れをＰＩＶ計測系１００で計測する際には、水槽内の水の流れを可視化するためトレーサを混入する。トレーサは、例えばポリスチレン粒子等、比重が水に近いものを用いることが好ましい。ポリアミド系の粉末や蛍光粒子などを用いることもできる。トレーサを混入後、所定回転数でインペラ２５を駆動して水槽内に水を供給する。給水口３１を介して流入した水は、試験体３６の周囲を流れ、排水口３２から流出する。流体の流れに沿ってトレーサが移動するので、そのトレーサの位置をＰＩＶ計測系１００で計測することにより、試験体３６を移動させた際の流体の流れの変化を計測することが可能となる。
【００２２】
（ＰＩＶ計測系の説明）
図６はＰＩＶ（Particle Image Velocimetry：粒子画像流速測定法）の原理を説明する図である。ＰＩＶとは、水や空気等の流体の速度計測法の一種である。一例としては、図６に示すように、微細なトレーサ粒子６０を流れの中に混入させて、その流れに対してレーザ光等によるシート状の光Ｌ（以下ではシート光と呼ぶことにする）を照射する。シート光が照射されたトレーサ粒子６０をＣＣＤカメラ等により撮像し、連続した２時刻（時刻ｔ０，ｔ１）の画像を取得する。流れ空間のトレーサ粒子６０は局所の流れとともに移動すると仮定すると、流れ空間の局所の流速Ｕは、画像上におけるトレーサ粒子６０の移動量ΔＸと２時刻の時間間隔ΔＴ（＝ｔ１−ｔ０）とから式（１）により求まる。式（１）においてαは画像の変換係数であり、撮像系の横倍率Ｍと単位換算計数βとから、α＝β／Ｍで与えられる。
Ｕ＝α・ΔＸ／ΔＴ    …（１）
【００２３】
図１に示すように、本実施の形態のＰＩＶ計測系１００は、レーザ光源１０１，シート光学系１０２，反射ミラー１０３，カメラ１０４，同期装置１０５，信号入出力ユニット１０６，制御用ＰＣ（パーソナルコンピュータ）１０７および解析用ＰＣ１０８を備えている。レーザ光源１０１からパルスレーザ光が出射されると、そのレーザ光はシート光学系１０２によりシート光Ｌとされる。シート光Ｌは反射ミラー１０３により反射され、水槽３０の底面から上方に向けてほぼ垂直に入射する。その際、シート光Ｌは、シート光Ｌの面が流れに対してほぼ平行に入射するとともに、試験体３６を横切るように入射する。なお、反射ミラー１０３の傾き角度を変えて、シート光Ｌの入射角を変更して計測を行うようにしても良い。
【００２４】
カメラ１０４は、流体中に混入されたトレーサ粒子（不図示）からの散乱光を撮像する。本実施の形態では、カメラ１０４には固体撮像素子（ＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等）を用いたデジタルカメラが用いられ、微小時間間隔（例えば１ミリ秒間隔）で複数枚の画像を撮像することができる。なお、ダブルパルスレーザ光源を用いる場合には、瞬間的に２時刻連続して照明される。
【００２５】
カメラ１０４により撮像された画像のデータは信号入出力ユニット１０６に入力され、信号入出力ユニット１０６を介して解析用ＰＣ１０８へと送られ、ＰＣ１０８の記録媒体に記録される。トレーサ粒子画像は解析用ＰＣ１０８により画像処理され、２時刻画像から速度分布が求められる。得られた速度ベクトルは、後処理の後に誤ベクトルが除去され、最終的な瞬時の速度分布として修正される。なお、２台のカメラを用いて異なる方向から撮像することで、３次元の速度ベクトルを求めることもできる。
【００２６】
アクチュエータ３９はステッピングモータで構成され、制御用ＰＣ１０７により移動速度の制御を容易に行うことができる。制御用ＰＣ１０７によりアクチュエータ３９の動作指令が発せられると、パルス電圧（トリガ信号）が信号入出力ユニット１０６に入力され、そのパルス電圧をカメラ１０４への撮影開始のトリガとして使用する。このようにして、カメラ撮影と試験体３６の移動とを同期させることで、移動に伴う流れの変化を詳細に計測することができる。レーザ光源１０１はパルスレーザ光を発するので、シート光Ｌの発光とカメラ撮影との同期を取るために、シンクロナイザ等の同期装置１０５が用いられる。図２では、パルス電圧（トリガ信号）が制御用ＰＣ１０８から信号入出力ユニット１０６に入力されているが、破線で示すようにトリガ信号を同期装置１０５に直接入力して、同期装置１０５によりレーザ光源１０１とカメラ１０４とを同期させるようにしても良い。
【００２７】
図１に示す例では、レーザ光にパルス光を用いているので同期装置１０５を用いて発光タイミングを撮影と同期させたが、連続光を発生するレーザ光源を用いる場合には同期装置１０５は必要ない。また、解析用ＰＣ１０７と制御用ＰＣ１０８とを同一のＰＣで構成するようにしても良い。ここでは、カメラ１０４のデジタル画像データを解析用ＰＣ１０７に取り込んで、流速を求めるようにしたが、フィルム式のハイスピードカメラで撮影した画像上のトレーサ粒子位置から流速を求めることも、原理的には可能である。
【００２８】
上述したように、本実施の形態の流れ評価装置においては、疑似ダウンフロー装置２００にＰＩＶ計測系を適用することにより、ウェハステージのように移動から停止までの時間が非常に短く、かつ、高速で移動する試験体３６に関して、その移動による短時間内における流れの変化を高精度に評価することができる。
【００２９】
例えば、ステッパー装置のウェハステージの場合、ＩＣ製造の１ショットは一般的に２５ｍｍ角前後であって、その移動距離２５ｍｍを０．２秒程度で移動停止させなければならない。その間の速度は最高で５００ｍｍ／ｓにも達し、仮に２Ｇの加速度が要求される場合には、最高速５００ｍｍに達するための加速時間は約０．０２６秒となる。このような短時間内の流れの変化を精度良く計測するためには、この加速時間内に複数回の計測を行う必要がある。例えば、計測を５回行うとした場合、少なくとも２００Ｈｚ程度の計測分解能が必要となる。上述したＰＩＶ計測であれば、このような計測が可能である。
【００３０】
前述したように、ウェハステージは前述したようにレーザ干渉計の計測結果に基づいて位置制御が行われるが、ビーム光路内の空気のゆらぎによって局所的に屈折率が変化すると計測値も変化する。例えば、干渉計の微小分解能が０．０１μｍであるとすると、温度差を有する気体がビーム光路内をゆっくり横切ったときのゆらぎ量は、最悪で±０．１μｍ程度におよぶことがある。これは、ゆらぎ量として０．２μｍであるので、０．５μｍ程度の線幅のパターンを露光する装置としては実用に耐えない。
【００３１】
従来は、ステッパー装置のウェハステージ移動に伴う空気の流れを実測するのは困難であった。しかし、本実施の形態のように、疑似ダウンフロー装置２００において試験体３６を移動させることでウェハステージ周囲の空気の流れを疑似的に再現し、その流速分布をＰＩＶ計測系により計測することにより、実際の流れの変化を計測することが可能となる。このようにして得られた計測結果をウェハステージ設計の際の流れシミュレーションに活用することで、より高精度な設計を行うことが可能となり、ウェハステージ移動による流れの乱れによるステージ位置計測系への影響を小さくすることができる。
【００３２】
なお、ウェハステージの移動を再現するための疑似ダウンフロー装置２００としては、図２に示す構造の他に、図７に示すような構造を採用しても良い。図７は流れ評価装置２００の全体構成を示したものであり、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のｂ矢視図である。なお、図３と同一の箇所には同一の符号を付し、以下では異なる部分を中心に説明する。
【００３３】
図７（ａ）に示す装置では、水平ダクト部２１と鉛直ダクト部２４の交差部に水槽３０が設けられている。水槽３０の底面中央部には鉛直ダクト部２４に連通して給水口３１が開口され、水槽３０の側面には水平ダクト部２１に連通して排水口３２が開口されている。水槽３０内には、水槽３０の内壁面から複数のストラット４１を介して略水平に擬似床３５が固定支持され、各ストラット４１の間の流水通路４２を通過して水槽内を下方から上方へと水が流れるようになっている。なお、図７（ａ）では擬似床３５の下流に整流装置３４は設けられておらず、排水口３２による吸い込みが擬似床３６の下方における水の流れに影響を与えないように擬似床３５から排水口３２までの長さが設定されている。
【００３４】
図７（ｂ）に示すように擬似床３５の中央部には貫通孔３５ａが開口され、試験体３６は貫通孔３５ａを貫通したストラット３７を介して擬似床３５の底面に沿ってスライド可能に支持されている。ストラット３７の上端部は水槽３０の上方の支持台３８を貫通し、アクチュエータ３９に連結されている。アクチュエータ３９を駆動することにより、試験体３６を擬似床３５の底面に沿って図７（ｂ）の矢印に示す各方向（前後左右方向および斜め方向）に移動させることができる。ここでは、試験体３６を擬似床３５の底面に設け、下方から上方に水を流すようにしたので、水の位置エネルギーの影響が小さくなり、精度良くダウンフロー流れを実現できる。
【００３５】
上述した説明では、ステッパー装置のウェハステージを例に疑似ダウンフロー装置２００を構成し、ウェハステージを想定した試験体３６の移動による流れの変化をＰＩＶ計測系１００により計測するようにした。しかしながら、疑似ダウンフロー装置２００とＰＩＶ計測系１００とを用いた移動体周囲の流速分布測定は、様々な移動体についても適用することができる。その場合、装置構成に応じて水槽３０内に配置される試験体３６等を構成すればよい。例えば、図８に示すように、移動体に相当する試験体３６のみを水槽３０内に設けるようにしても良い。図８に示す場合も、試験体３６は流体に対して垂直な面内で移動するような構成となっているが、必ずしも垂直面内に限るものではない。
【００３６】
上述した本実施の形態は、ステッパー装置のウェハステージを想定したので流体の流れをダウンフローとしたが、ダウンフローに限らず適用することができる。すなわち、本実施の形態によれば、ダウンフローに限らず一方向に流れる流体中を物体が素早く移動したときの流れの変化を、精度良く計測することができる。また、ダウンフロー装置２００内を循環させる流体として水を用いたが、水でなくても良く、等価な流れ状態を実現できるように流体の種類を選定すれば良い。
【００３７】
なお、上述した実施の形態では、ステッパー装置のウェハステージを例に説明したがレチクルステージの周囲流体の流れ計測にも適用することができる。ステッパー装置では縮小投影を行うのでレチクルステージの移動速度はウェハステージよりも高速となり、例えば、最高速でウェハステージの４倍となることもある。そのため、温空調の要求精度はウェハステージの方が高いとはいえ、レチクルステージ周囲の流体の方がより複雑となる。また、本発明の特徴を損なわない限り、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明による流れ評価装置の一実施の形態を示す図である。
【図２】露光装置の概略構成を示す図である。
【図３】疑似ダウンフロー装置２００を示したものであり、（ａ）は全体構成を示す正面図、（ｂ）は（ａ）のｂ矢視図である。
【図４】整流装置３４を示す図であり、（ａ）は排水口３２側から見た斜視図、（ｂ）は給水口３１側から見た斜視図である。
【図５】水槽３０内の水の流れを示す図である。
【図６】ＰＩＶ（Particle Image Velocimetry）の原理を説明する図である。
【図７】流れ評価装置２００の他の例を示す図であり、（ａ）は全体構成を示す正面図、（ｂ）は（ａ）のｂ矢視図である。
【図８】移動体に相当する試験体３６のみを水槽３０内に設けた場合の流れ評価装置２００を示す図である。
【符号の説明】
【００３９】
３：ウェハステージ、２０：ダクト、２５：インペラ、３０：水槽、３１：給水口、３２：排水口、３３：透明板、３６：試験体、３９：アクチュエータ、６０：トレーサ粒子、１００：ＰＩＶ計測系、１０１：レーザ光源、１０２：シート光学系、１０３：ミラー、１０４：カメラ、１０５：同期装置、１０６：信号入出力ユニット、１０７：制御用ＰＣ、１０８：分析用ＰＣ、２００：疑似ダウンフロー装置、Ｌ：シート光、Ｓ：露光装置、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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