(57)【要約】【課題】電気光学物質の注入口において、シール材と封止剤との密着性を高め、且つ封止部の形状劣化を抑制する。【解決手段】電気光学装置は、一対の基板（１０、２０）と、該一対の基板間に狭持された電気光学物質（５０）と、基板上の画素領域（１０ａ）の周囲に位置するシール領域（５２ａ）に配置され、一対の基板を相互に貼り合わせ、且つ電気光学物質を一対の基板間に注入するための注入口（１６０）が設けられたシール材（５２）とを備える。シール材は、基板上で平面的に見て、シール領域の外周側から内周側に向かって、注入口の幅が小さくなるように形成された第１テーパ部（１６０ａ）と、前記外周側から前記内周側に向かって、前記幅が大きくなるように形成された第２テーパ部（１６０ｂ）とを有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
該一対の基板間に狭持された電気光学物質と、
前記基板上の画素領域の周囲に位置するシール領域に配置され、前記一対の基板を相互に貼り合わせ、且つ前記電気光学物質を前記一対の基板間に注入するための注入口が設けられたシール材と
を備え、
前記シール材は、前記基板上で平面的に見て、前記シール領域の外周側から内周側に向かって、前記注入口の幅が小さくなるように形成された第１テーパ部と、前記外周側から前記内周側に向かって、前記幅が大きくなるように形成された第２テーパ部とを有する
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１テーパ部は、前記第２テーパ部よりも前記外周側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記シール材は、前記基板上で平面的に見て、前記第１テーパ部及び前記第２テーパ部間に、前記幅が一定となるように形成された直線部を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第２テーパ部は、前記基板上で平面的に見て、前記シール材が延びる方向に交わる方向に対して４５度傾いていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１テーパ部は、前記基板上で平面的に見て、前記シール材が延びる方向に交わる方向に対して４５度傾いていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記基板上で平面的に見て、前記シール材が延びる方向に交わる方向の前記第２テーパ部の距離は、前記シール領域の幅の少なくとも５０％の距離であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
一対の基板と、該一対の基板間に狭持された電気光学物質と、前記基板上の画素領域の周囲に位置するシール領域に配置され、前記一対の基板を相互に貼り合わせ、且つ前記電気光学物質を前記一対の基板間に注入するための注入口が設けられたシール材とを備える電気光学装置の製造方法であって、
前記基板上で平面的に見て、前記シール領域の外周側から内周側に向かって、前記注入口の幅が小さくなるように、前記シール材に第１テーパ部を形成する第１テーパ部形成工程と、
前記基板上で平面的に見て、前記外周側から前記内周側に向かって、前記幅が大きくなるように、前記シール材に第２テーパ部を形成する第２テーパ部形成工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の基板間に電気光学物質を狭持してなる、例えば液晶装置等の電気光学装置及びその製造方法、並びに電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器に関し、特に、一対の基板間に電気光学物質を注入するための注入口の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置では、該電気光学装置を構成する一対の基板を貼り合わせるシール材に設けられた注入口から注入された電気光学物質を封止するための封止剤と、シール材との密着性の向上が図られる。例えば特許文献１には、注入口の外部側の幅を、その表示領域側の幅と等しいか或いは表示領域側の幅よりも大きく形成することによって、注入口に封止剤を注入する際、毛細管現象により封止剤が表示領域側へ引き込まれ易くして、封止剤とシールパターンとの密着性を向上する技術が記載されている。
【０００３】
【特許文献１】特開平９−１４６１０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら上述の背景技術によれば、封止剤を注入してから封止剤が硬化するまでの間に、封止剤がシールパターンから剥離してしまう等の形状劣化が生じる可能性があるという技術的問題点がある。
【０００５】
本発明は、例えば上記問題点に鑑みてなされたものであり、シール材と封止剤との密着性を高め、且つ形状劣化を抑制することができる電気光学装置及びその製造方法、並びに電気光学装置を備える電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の電気光学装置は、上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板間に狭持された電気光学物質と、前記基板上の画素領域の周囲に位置するシール領域に配置され、前記一対の基板を相互に貼り合わせ、且つ前記電気光学物質を前記一対の基板間に注入するための注入口が設けられたシール材とを備え、前記シール材は、前記基板上で平面的に見て、前記シール領域の外周側から内周側に向かって、前記注入口の幅が小さくなるように形成された第１テーパ部と、前記外周側から前記内周側に向かって、前記幅が大きくなるように形成された第２テーパ部とを有する。
【０００７】
本発明の電気光学装置によれば、例えば液晶等である電気光学物質は、一対の基板間に狭持されている。例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等であるシール材は、基板上の画素領域の周囲に位置するシール領域に配置されると共に、一対の基板を相互に貼り合わせる。シール材には、電気光学物質を一対の基板間に注入するための注入口が設けられている。言い換えれば、シール領域の一部にシール材を配置又は塗布しないことによって注入口を形成している。当該電気光学装置の製造プロセスにおいて、一対の基板間に電気光学物質が注入された後に、該注入された電気光学物質が漏れないように、封止剤を注入口に塗布し、硬化させることによって封止部を形成して注入口が封止される。尚、本発明に係る「画素領域」とは、個々の画素の領域を意味するのではなく、複数の画素がマトリックス状に配列されてなる領域の全体を意味し、典型的には「画像表示領域」となるべき領域を意味する。
【０００８】
シール材は、第１及び第２テーパ部を有している。第１テーパ部は、基板上で平面的に見て、シール領域の外周側から内周側に向かって、注入口の幅が小さくなるように形成されている。第２テーパ部は、基板上で平面的に見て、シール領域の外周側から内周側に向かって、注入口の幅が大きくなるように形成されている。
【０００９】
本願発明者の研究によれば、一般に、例えば液晶である電気光学物質を真空注入した後に、注入口を封止する際には、注入口に封止剤を塗布し、負圧を利用してシール領域の内周側に封止剤を引き込んでいる。例えば、この負圧は、画素領域の中央付近における基板を若干押し曲げた後に、曲げを開放することによる、セル内の体積増加によって発生可能である。更に、この負圧は、真空注入の際の負圧の残留成分を利用できる。この際に、毛細管現象によって、封止剤がシール領域の内周側に引き込まれ易くなるように、注入口の幅が内周側より外周側のほうが大きくなっている。
【００１０】
他方、封止剤が硬化するまでは、封止剤の復元力によってシール領域の外周側へ向かう力が封止剤に生じ、何らの対策も採らなければ封止部の形状が劣化する可能性があることが判明している。
【００１１】
しかるに本発明では、シール材が、基板上で平面的に見て、シール領域の外周側から内周側に向かって、注入口の幅が小さくなるように形成された第１テーパ部と、シール領域の外周側から内周側に向かって、注入口の幅が大きくなるように形成された第２テーパ部とを有している。第１テーパ部を、基板上で平面的に見て、第２テーパ部よりもシール領域の外周側に配置すれば、第１テーパ部の形状により、毛細管現象によって封止剤がシール領域の内周側に引き込まれ易くすることができ、シール材と封止剤との密着性を向上させることができる。加えて、当該電気光学装置の製造時間を短縮することが可能となる。
【００１２】
他方、第２テーパ部の形状により、封止剤と第２テーパ部との接触面積が比較的大きいので、封止剤にシール領域の外周側へ向かう力が働いたとしても、封止剤及び第２テーパ部の接触面における摩擦力によって、例えば封止剤の剥離等の形状劣化の発生を抑制することができ、歩留まりを向上させることが可能となる。
【００１３】
このような第１及び第２テーパ部を有するようにシール材をシール領域に配置又は塗布するには、例えばスクリーン印刷法を用いればよい、或いは、例えば針先からシール材を定量吐出するディスペンサによってディスペンスすればよい。
【００１４】
以上の結果、シール材と封止剤との密着性を高め、且つ形状劣化を抑制することができる。
【００１５】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記第１テーパ部は、前記第２テーパ部よりも前記外周側に配置されている。
【００１６】
この態様によれば、注入口は、外周側から内周側に向かって、先ず第1テーパの存在に応じて口径が狭まり、続いて、一定口径の部分を経て又はそのまま口径が広がり、液晶セルの内部に至る。よって、シール材と封止剤との密着性を高め、且つ封止部の劣化を抑制することができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材は、前記基板上で平面的に見て、前記第１テーパ部及び前記第２テーパ部間に、前記外周側から前記内周側に向かう方向に沿って延びる直線部を更に有する。
【００１８】
この態様によれば、注入口は、外周側から内周側に向かって、先ず第1テーパの存在に応じて口径が狭まり、続いて、一定口径の部分を経てから口径が広がり、液晶セルの内部に至る。即ち、中間点付近で口径が最も小さくなる。よって、この一定口径の部分に応じて、効果的に毛細管現象を利用することができ、封止剤がシール領域の内周側へ引き込まれ易くすることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第２テーパ部は、前記基板上で平面的に見て、前記シール材が延びる方向に交わる方向に対して４５度傾いている。
【００２０】
この態様によれば、第２テーパ部及び封止剤の接触面積を、実践上非常に効率良く大きくすることができると共に、第２テーパ部及び封止剤の接触面に生じる摩擦力の大きさを顕著に大きくすることができる。ここに「シール材が延びる方向に交わる方向」とは、例えばＸ方向に沿って延びるシール材に対して、例えばＹ方向に沿う方向を意味する。またここに「４５度傾いている」とは、厳密に４５度傾いている場合の他、テーパの形成方法や材料に応じたテーパの寸法精度からして４５度傾いている場合と同一視できる角度だけ傾いている場合も含む意味である。言い換えれば、４５度傾いている場合と同程度に第２テーパ部及び封止剤の接触面に生じる摩擦力を大きくできる限りにおいて、実質的に４５度傾いている場合も含む意味である。
【００２１】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１テーパ部は、前記基板上で平面的に見て、前記シール材が延びる方向に交わる方向に対して４５度傾いている。
【００２２】
この態様によれば、非常に効果的に毛細管現象により、封止剤をシール領域の内周側へ引き込むことができる。ここに「４５度傾いている」とは、厳密に４５度傾いている場合の他、テーパの形成方法や材料に応じたテーパの寸法精度からして４５度傾いている場合と同一視できる角度だけ傾いている場合も含む意味である。言い換えれば、４５度傾いている場合と同程度に毛細管現象を大きくできる限りにおいて、実質的に４５度傾いている場合も含む意味である。
【００２３】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記基板上で平面的に見て、前記シール材が延びる方向に交わる方向の前記第２テーパ部の距離は、前記シール領域の幅の少なくとも５０％の距離である。
【００２４】
この態様によれば、確実に、封止剤と第２テーパ部とを接触させることができ、形状劣化の発生を抑制できることが確認されている。仮に、第２テーパ部の距離が、シール領域の幅の５０％よりも小さい場合には、封止剤と第２テーパ部とを確実に接触させることが困難となり、形状劣化が無視し得ない程度に発生し得ることが確認されている。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板間に狭持された電気光学物質と、前記基板上の画素領域の周囲に位置するシール領域に配置され、前記一対の基板を相互に貼り合わせ、且つ前記電気光学物質を前記一対の基板間に注入するための注入口が設けられたシール材とを備える電気光学装置の製造方法であって、前記基板上で平面的に見て、前記シール領域の外周側から内周側に向かって、前記注入口の幅が小さくなるように、前記シール材に第１テーパ部を形成する第１テーパ部形成工程と、前記基板上で平面的に見て、前記外周側から前記内周側に向かって、前記幅が大きくなるように、前記シール材に第２テーパ部を形成する第２テーパ部形成工程とを備える。
【００２６】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、上述した本発明の電気光学装置と同様に、シール材と封止剤との密着性を高め、且つ封止部の劣化を抑制することができる。
【００２７】
尚、本発明の電気光学装置の製造方法においても、上述した本発明の電気光学装置における各種態様と同様の各種態様を採ることが可能である。
【００２８】
本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を備える。
【００２９】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を備えてなるので、シール材と封止剤との密着性を高め、且つ封止部の形状劣化を抑制することにより、高品質の投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００３０】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下図１乃至図７を参照しながら、本発明に係る電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器の各実施形態を説明する。尚、以下の図では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。また、本実施形態では、電気光学装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）アクティブマトリックス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。
【００３２】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００３３】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板等の透明基板からなり、対向基板２０は、例えば、石英基板、ガラス基板等の透明基板からなる。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に、本発明に係る「電気光学物質」の一例としての液晶を含んで成る液晶層５０が狭持されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、本発明に係る「画素領域」の一例としての画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００３４】
液晶層５０は、シール材５２及び封止部１５６によって封止されている。特に、シール材５２に設けられた液晶注入口１６０では、該液晶注入口１６０からＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に注入された液晶が漏れないように封止部１５６によって液晶注入口１６０が封止されている。
【００３５】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂、又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００３６】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａを規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００３７】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側にサンプリング回路７が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域５２ａの内側の額縁領域に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。
【００３８】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。更に、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００３９】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。
【００４０】
画素電極９ａは、後述する対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。
【００４１】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクタ用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００４２】
遮光膜２３上に、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して形成されている。遮光膜２３上に、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルタが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。
【００４３】
液晶層５０を構成する液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として液晶装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。
【００４４】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、サンプリング回路７等に加えて、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００４５】
次に、図３を参照して、本実施形態に係る液晶装置における液晶注入口１６０の形状について詳細に説明する。図３は、液晶注入口１６０近傍を拡大して示す拡大平面図である。尚、図３では、説明の便宜上、液晶注入口１６０と関係のある構成要素のみを表示し、それ以外の構成要素については省略している。また、図３の上側がシール領域５２ａの内周側であり、下側がシール領域５２ａの外周側である。
【００４６】
図３に示すように、シール材５２には、シール領域の外周側から内周側に向かって、液晶注入口１６０の幅がＷ２からＷ１に連続的に小さくなるように形成された、本発明に係る「第１テーパ部」の一例としてのテーパ部１６０ａと、液晶注入口１６０の幅がＷ１からＷ３に連続的に大きくなるように形成された、本発明に係る「第２テーパ部」の一例としてのテーパ部１６０ｂとが設けられている。シール材５２には、更に液晶注入口１６０の幅がＷ１で一定となるように形成された直線部１６０ｃが設けられている。
【００４７】
液晶注入口１６０近傍においてシール材５２が延びる方向（即ち、図３の左右方向）と交わる方向に対して、テーパ部１６０ａは角度Ｂ１だけ傾いており、テーパ部１６０ｂは角度Ｂ２だけ傾いている。ここで、角度Ｂ１は、平面的に見て、封止剤がシール領域５２ａの内周側に向かう力と液晶注入口１６０の中心線方向に向かう力とが等しくなる４５度であることが好ましい。角度Ｂ２は、テーパ部１６０ｂ及び封止剤の接触面における摩擦力が効果的に得られる４５度以上であればよいが、塗布される封止剤の量又は、引き込まれる封止剤の量が一定である場合に、接触面における摩擦力、並びにテーパ部１６０ｂ及び封止剤の接触面積の両者が、比較的大きくなる４５度であることが好ましい。尚、角度Ｂ１及びＢ２は、４５度に限らず、０度より大きく９０度未満であれば任意の値であってよい。
【００４８】
テーパ部１６０ｂのシール材５２が延びる方向と交わる方向の距離ｄ´は、シール材５２の幅Ｄの少なくとも５０％である。これにより、シール領域５２ａの内周側に引き込まれた封止剤が、確実にテーパ部１６０ｂと接することができる。
【００４９】
当該液晶装置の製造プロセスにおいて、封止剤によって液晶注入口１６０を封止する際には、テーパ部１６０ａによって、比較的容易にして封止剤をシール領域５２ａの内周側に引き込むことができる。一方、封止剤が硬化するまでの間に、封止剤の復元力によって図３中の矢印ａ１方向の力が生じても、テーパ部１６０ｂと封止剤との接触面における摩擦力によって、例えば封止剤がシール材５２から剥離する等の形状劣化の発生を抑制することができる。
【００５０】
次に、以上のように構成された本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図４を参照して説明する。図４は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法における主要な工程を示したフローチャートである。
【００５１】
図４において、ＴＦＴアレイ基板１０の本体に画素回路部及び配向膜１６等を形成されることによってＴＦＴアレイ基板１０が形成される（ステップＳ１０１）。これと相前後して、或いは並行して、対向基板２０の本体に対向電極２１及び配向膜２２等を形成されることによって対向基板２０が形成される（ステップＳ１０２）。
【００５２】
尚、このようなＴＦＴアレイ基板１０の形成は、ＴＦＴアレイ基板１０を例えば数枚から数十枚或いは数百枚含む、大型のマザー基板上で行われてもよく、対向基板２０についても同様に大型のマザー基板上で行われてもよい。
【００５３】
次に、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域５２ａに未硬化のシール材５２を塗布する（ステップＳ１０３）。この際に、例えばスクリーン印刷法、或いはディスペンスによって、テーパ部１６０ａ及び１６０ｂ、並びに直線部１６０ｃを形成する。
【００５４】
次に、未硬化のシール材５２を介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせる（ステップＳ１０４）。尚、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせる基板貼り合わせ工程は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の相対的な位置合わせを精度良く行うアライメント工程を含んでいる。ここで、シール材５２の塗布工程と、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合せる基板貼り合せ工程とは、好ましくは真空中で行われている。このように真空中で行えば、後述する硬化工程の前段階の工程で、シール材５２に空気が触れることない。したがって、塗布されたシール材５２に空気が含まれることがなく、且つ空気に含まれる酸素によってシール材が変質することをなくすことができる。また、真空注入の工程まで真空雰囲気を壊すことなく、実施することも可能となる。
【００５５】
次に、シール材５２を硬化させ、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を硬化したシール材５２を介して相互に接着する（ステップＳ１０５）。シール材５２は、紫外線（ＵＶ光）等が照射されることによって硬化されていてもよいし、熱を加える熱硬化によって硬化されてもよい。また、ＵＶ硬化及び熱硬化を順次連続して行うことによって、硬化されてもよい。
【００５６】
次に、シール材５２が部分的に形成されなった領域に位置する液晶注入口１６０からＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を注入する（ステップＳ１０６）。典型的には、液晶の真空注入が行われる。即ち、シール材の塗布工程（ステップＳ１０３）から連続する又は固有の真空雰囲気中において、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の中央付近（即ち、画素領域の中心付近）を両側から圧縮することで凹ませる。この状態で、液晶注入口１６０の外側に液晶を滴下し、圧縮を解くことでセル内の体積膨張により発生する負圧によって、滴下された液晶がセル内部に引き込まれるようにする。
【００５７】
次に、液晶注入口１６０に未硬化の例えばＵＶ硬化樹脂である封止剤を充填する。ここでの充填は、液晶を真空注入するのと同様の原理で、圧縮された両基板の復元力によるセル内の体積膨張で発生する負圧によって、更に液晶注入口１６０における毛細管現象によって、未硬化の封止剤を引き込むことにより実施される。続いて、充填された封止剤に対して、ＵＶ光を照射することによって、硬化させる。これらにより、封止部１５６によって液晶注入口１６０が封止され（ステップＳ１０７）、液晶装置が組み上がる。その後、必要に応じて、スクライビングやダイシングにより、個々の液晶装置が完成される。
【００５８】
尚、シール材５２の塗布以降の工程（即ちステップＳ１０３以降）は、ＴＦＴアレイ基板１０を複数含む大型のマザー基板上で、複数のＴＦＴアレイ基板１０に対してまとめて実施されてもよい。この場合、個々に分断された対向基板２０を、マザー基板に含まれるＴＦＴアレイ基板１０に対して夫々貼り合わせれば、個々のＴＦＴアレイ基板１０に係る液晶注入口１６０の外側近傍にて、液晶を滴下し、更に封止剤を配置することが可能となる。
【００５９】
＜変形例＞
次に、図５を参照して、本実施形態に係る液晶装置における液晶注入口１６０の形状の変形例について説明する。図５は、図３と同趣旨の、液晶注入口１６０の変形例を拡大して示す拡大平面図である。尚、図５の上側がシール領域５２ａの内周側であり、下側がシール領域５２ａの外周側である。
【００６０】
図５に示すように、テーパ部１６０ａ及び直線部１６０ｃの接点等が曲率を有している。このように構成すれば、例えばディスペンス等によって、比較的容易にして比較例に係る液晶注入口１６０を形成することができる。
【００６１】
＜比較例＞
次に、図６を参照して、本実施形態に係る液晶装置における液晶注入口１６０の形状の比較例について説明する。図６は、図３と同趣旨の、液晶注入口１６０の比較例を拡大して示す拡大平面図である。尚、図６の上側がシール領域５２ａの内周側であり、下側がシール領域５２ａの外周側である。
【００６２】
図６（ａ）に示すように、シール材５２にテーパ部が設けられていない場合、封止剤の復元力に対する抵抗力（例えば、摩擦力等）が小さく、封止剤がシール材から剥離し、封止部の形状劣化が発生する可能性がある。
【００６３】
図６（ｂ）に示すように、液晶注入口１６０の幅が、シール領域５２ａの内周側ほど大きくなっている場合、毛細管現象を利用して封止剤をシール領域５２ａの内周側へ引き込み難く、また、シール材５２の角部５２１の抵抗によって、封止剤とシール材５２との密着性が低下する。
【００６４】
図６（ｃ）に示すように、液晶注入口１６０の幅が、シール領域５２ａの内周側ほど小さくなっている場合、封止剤をシール領域５２ａの内周側へ引き込み易くはあるが、封止剤の復元力に対する抵抗力が小さく、封止剤がシール材から剥離し、封止部の形状劣化が発生する可能性がある。
【００６５】
＜電子機器＞
次に、図７を参照しながら、上述した液晶装置を電子機器の一例であるプロジェクタに適用した場合を説明する。上述した液晶装置における液晶パネル１００は、プロジェクタのライトバルブとして用いられている。図７は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。
【００６６】
図７に示すように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【００６７】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等の構成を有しており、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００６８】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００６９】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【００７０】
尚、図７を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７１】
尚、本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨、或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及びその製造方法、並びに電気光学装置を具備してなる電子機器もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液晶装置の液晶注入口を拡大して示す拡大平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る液晶装置の製造方法における主要な工程を示したフローチャートである。
【図５】本発明の実施形態に係る液晶装置の液晶注入口の変形例を拡大して示す拡大平面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る液晶装置の液晶注入口の比較例を拡大して示す拡大平面図である。
【図７】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、５０…液晶層、５２…シール材、５２ａ…シール領域、１５６…封止部、１６０…液晶注入口、１６０ａ、１６０ｂ…テーパ部、１６０ｃ…直線部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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