(57)【要約】【課題】  ロールｔｏロール方式によるグラビア印刷法によって、高性能な電磁波遮蔽膜を製造する際に使用することができるポリエステルフィルムであって、印刷受容層に対する接着性が極めて良好で、安価な積層ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】  ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステル樹脂とポリスチレンスルホン酸またはその塩とを含有する塗布層を有することを特徴とする電磁波遮蔽膜製造用積層ポリエステルフィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステル樹脂とポリスチレンスルホン酸またはその塩とを含有する塗布層を有することを特徴とする電磁波遮蔽膜製造用積層ポリエステルフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロールｔｏロール方式等の印刷メッシュ法により電磁波遮蔽膜を製造する工程において使用される積層ポリエステルフィルムであり、例えば、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略記する）等のディスプレイ用として、印刷受容層に対する接着性良好な積層ポリエステルフィルムを提供するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＰＤＰの各種ディスプレイに使用されている電磁波遮蔽膜付き透明基材として、ポリエステルフィルム等の透明基材上にスパッタ法により電磁波遮蔽膜が形成された製品がある。当該電磁波遮蔽膜としては、スズ添加酸化インジウム（Indium Tin Oxide:ＩＴＯ）薄膜や銀薄膜等のスパッタ膜が用いられている。近年、ＰＤＰにおいては、さらに高度な電磁波遮蔽能が必要とされるため、主として透明フィルム上に形成された銅箔をフォトリソグラフィにより格子状としたエッチングメッシュ膜が使用される状況にある。
【０００３】
しかしながら、エッチングメッシュ膜においては、ディスプレイ搭載時に画像のコントラストが低下する、あるいはエッチングメッシュ膜が複数の製造工程を経て製造されるため、エッチング条件の生産管理が難しく、歩留まり低下に伴う製造コストＵＰが問題点として挙げられる。近年、ＰＤＰ等の各種ディスプレイを民生用に普及させるために、製品のコストダウンが強く要望され、当該製品を構成する電磁波遮蔽膜においても更なる低価格化が要求される傾向にある。
【０００４】
上述の問題点に対して、高性能な電磁波遮蔽膜を低コストで製造するための対応策として、透明フィルム基材上に、スクリーン印刷あるいはグラビア印刷等の印刷法により、貴金属触媒を含有したペーストを印刷して微細パターンの下地層とし、当該下地層の上に銅を無電解メッキする方法が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【０００５】
上述の印刷メッシュ膜に使用するポリエステルフィルムにおいては印刷層の下地に相当する、いわゆる印刷受容層とポリエステルフィルムとの接着性が良好であることが必要とされる。その際、通常の印刷受容層とは異なり、例えば、特許文献１に記載されているように、電磁波遮蔽膜製造工程においては、印刷受容層がポリエステルフィルム上に積層された後、アリカリ性の無電解メッキ液中に当該ポリエステルフィルムを浸漬する工程等を有するため、より厳しい使用環境下にポリエステルフィルムが晒される状況にある。そのため、ポリエステルフィルムにおいては、従来よりもさらに一段と良好な接着性が必要とされる。しかしながら、通常、汎用的に使用される、易接着層を設けたポリエステルフィルムでは対応困難な状況にあり、当該用途に対応可能なポリエステルフィルムが必要とされる状況にある。
【特許文献１】特開２００７−２８１２９０号公報
【特許文献２】特開２００３−１４５７０９号公報
【特許文献３】特開平１１−１７０４２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記実情に鑑みなされたものであって、その解決課題は、例えば、ロールｔｏロール方式によるグラビア印刷法により電磁波遮蔽膜を製造する際に使用する、印刷受容層に対する接着性良好な積層ポリエステルフィルムを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記実状に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなる積層ポリエステルフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステル樹脂とポリスチレンスルホン酸またはその塩とを含有する塗布層を有することを特徴とする電磁波遮蔽膜製造用積層ポリエステルフィルムに存する。
【０００９】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明における積層ポリエステルフィルムを構成するポリエステルフィルムは単層構成であっても積層構成であってもよく、例えば、２層、３層構成以外にも本発明の要旨を超えない限り、４層またはそれ以上の多層であってもよく、特に限定されるものではない。
【００１０】
本発明においてポリエステルフィルムに使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸（例えば、Ｐ−オキシ安息香酸など）等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。何れにしても本発明でいうポリエステルとは、通常６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレート等であるポリエステルを指す。
【００１１】
本発明において、ポリエステル層中には、易滑性付与を主たる目的として粒子を配合することが好ましい。配合する粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、具体例としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の粒子が挙げられる。また、特公昭５９−５２１６号公報、特開昭５９−２１７７５５号公報等に記載されている耐熱性有機粒子を用いてもよい。この他の耐熱性有機粒子の例として、熱硬化性尿素樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等が挙げられる。さらに、ポリエステル製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。
【００１２】
一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。
【００１３】
また、用いる粒子の平均粒径は、通常０．０１〜３μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍの範囲である。平均粒径が０．０１μｍ未満の場合には、粒子が凝集しやすく、分散性が不十分な場合があり、一方、３μｍを超える場合には、フィルムの表面粗度が粗くなりすぎて、後工程において離型層を塗設させる場合等に不具合が生じる場合がある。
【００１４】
さらに、ポリエステル層中の粒子含有量は、通常０．００１〜３重量％、好ましくは０．００５〜３重量％の範囲である。粒子含有量が０．００１重量％未満の場合には、フィルムの易滑性が不十分な場合があり、一方、２重量％を超えて添加する場合にはフィルムの透明性が不十分な場合がある。
【００１５】
ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。
【００１６】
また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。
【００１７】
なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。
【００１８】
本発明の積層ポリエステルフィルムを構成するポリエステルフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、通常、２５〜３５０μｍ、好ましくは３８〜２５０μｍの範囲である。
【００１９】
次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。
【００２０】
まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸倍率は通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常７０〜１７０℃であり、延伸倍率は通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍である。そして、引き続き１８０〜２７０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を２段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。
【００２１】
また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で４〜５０倍、好ましくは７〜３５倍、さらに好ましくは１０〜２５倍である。そして、引き続き、１７０〜２５０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来から公知の延伸方式を採用することができる。
【００２２】
さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法（インラインコーティング）を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。
【００２３】
次に本発明における積層ポリエステルフィルムを構成する塗布層の形成について説明する。塗布層に関しては上述の塗布延伸法（インラインコーティング）を用いるのが、好ましい。
【００２４】
本発明における積層ポリエステルフィルムにおいては例えば、ロールｔｏロール方式による、グラビア印刷法によりメッシュパターンを形成する際における、印刷受容層に対する接着性を良好とするため、塗布層中にポリエステル樹脂を含有することを必須の要件とするものである。
【００２５】
本発明において、塗布層を構成するポリエステル樹脂とは、ジカルボン酸成分とグリコール成分とを構成成分とする線状ポリエステルと定義する。ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６ーナフタレンジカルボン酸、４，４−ジフェニルジカルボン酸、１，４ーシクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、フェニルインダンジカルボン酸、ダイマー酸等を例示することができる。これらの成分は二種以上を用いることができる。さらに、これらの成分とともにマレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のような不飽和多塩基酸やｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−（β−ヒドロキシエトキシ）安息香酸等のようなヒドロキシカルボン酸を少割合用いることができる。不飽和多塩基酸成分やヒドロキシカルボン酸成分の割合は高々１０モル％、好ましくは５モル％以下である。
【００２６】
また、グリコール成分としては、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシリレングリコール、ジメチロー
ルプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ポリ（エチレンオキシ）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシ）グリコール、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物等を例示することができる。これらは２種以上を用いることができる。
【００２７】
かかるポリオール成分の中でもエチレングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物やプロピレンオキサイド付加物、１，４−ブタンジオールが好ましく、さらにエチレングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物やプロピレンオキ
サイド付加物が好ましい。また、前記ポリエステル樹脂には、水性液化を容易にするために若干量の、スルホン酸塩基を有する化合物やカルボン酸塩基を有する化合物を共重合させることが可能であり、その方が好ましい。このスルホン酸塩基を有する化合物としては、例えば５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−アンモニウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−メチルアンモニウムスルホイソフタル酸、２−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、４−カリウムスルホイソフタル酸、２−カリウムスルホイソフタル酸、ナトリウムスルホコハク酸等のスルホン酸アルカリ金属塩系またはスルホン酸アミン塩系化合物等が好ましく挙げられる。
【００２８】
このカルボン酸塩基を有する化合物としては、例えば無水トリメリット酸、トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ピロメリット酸、トリメシン酸、シクロブタンテトラカルボン酸、ジメチロールプロピオン酸等、あるいはこれらのモノアルカリ金属塩等が挙げられ
る。なお、遊離カルボキシル基は共重合後にアルカリ金属化合物やアミン化合物を作用させてカルボン酸塩基とする。これらの化合物の中からそれぞれ適宜１つ以上選択して、常法の重縮合反応によって合成することによって得たポリエステルを用いることができる。
【００２９】
本発明における塗布層を構成するポリエステル樹脂において、ガラス転移温度（以下、Ｔｇと略記する。）は４０℃以上であるのが好ましく、さらに好ましくは６０℃以上がよい。Ｔｇが４０℃未満の場合、接着性向上を目的として、塗布層の塗布厚みを厚くした場合、ブロッキングしやすくなる等の不具合を生じる場合がある。
【００３０】
さらに本発明において、印刷受容層に対する接着性を良好とするため、塗布層中にポリエステル樹脂に加えて、ポリスチレンスルホン酸またはその塩を含有することを必須の要件とするものである。ポリスチレンスルホン酸の１種以上、その塩の１種以上、またはそれらの混合物であってもよい。
【００３１】
本発明において、塗布層に含有されるポリスチレンスルホン酸塩の具体例としては、ポリスチレンスルホン酸のアルカリ金属塩（リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩など）、アンモニウム塩等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。その中でも本発明の用途上、好ましくはアルカリ金属塩を用いるのが好ましく、その重量平均分子量（Ｍｗ）の範囲は５０００〜２０万、好ましくは５０００〜１０万である。また、これらは２種以上を併用することも可能である。
【００３２】
本発明において、塗布層を構成するポリスチレンスルホン酸およびその塩に関して、製造方法の観点より予めポリスチレンを重合した後にスルホン酸化あるいはスルホン酸塩としてもよく、特に限定されるわけではない。
【００３３】
かかる観点より、本発明におけるポリスチレンスルホン酸およびその塩においては、本発明の主旨を損なわない範囲において、他の共重合成分が共重合されていてもよい。他の共重合成分の具体例としては、ポリスチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基など）、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどのヒドロキシル基含有化合物、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミドなどのアミド基含有化合物、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレートなどのアミノ基含有化合物、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのエポキシ基含有化合物、アクリル酸、メタクリル酸およびそれらの塩（リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩など）などのカルボキシル基またはその塩を含有する化合物、アリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基含有化合物、ビニルスルホン酸およびその塩（リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩など）、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸およびそれらの塩（リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩など）などのカルボキシル基またはその塩を含有する化合物、無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物を含有する化合物、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマル酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等が例示される。また、これらの化合物は１種もしくは２種以上を用いて共重合されるが、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
【００３４】
本発明において、積層ポリエステルフィルムを構成する塗布層に関して、ポリエステル樹脂が５０重量％〜９５重量％と、ポリスチレンスルホン酸およびその塩から選ばれる化合物の総量が１〜３０重量％の範囲を満足するのが好ましい。さらに好ましくは、ポリエステル樹脂は６０重量％〜９０重量％、ポリスチレンスルホン酸およびその塩から選ばれる化合物の総量は１〜２０重量％の範囲がよい。当該範囲を外れる場合には塗布層の密着性が低下する、あるいは塗布層の耐ブロッキング性が低下する場合がある。
【００３５】
また、塗布層中には本発明の主旨を損なわない範囲において、架橋剤を併用してもよく、具体例としてはメチロール化またはアルキロール化した尿素系、メラミン系、グアナミン系、アクリルアミド系、ポリアミド系化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、ブロックポリイソシアネート、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコ−アルミネートカップリング剤等が挙げられる。
【００３６】
本発明において、架橋剤の配合比率としては、１５重量％以下の範囲が好ましい。当該範囲を超える場合、印刷受容層に対する接着性が低下する場合がある。
【００３７】
さらに塗布層の固着性、滑り性改良を目的として、無機系粒子を含有してもよく、具体例としてはシリカ、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、酸化チタン、バリウム塩等が挙げられる。
【００３８】
また、必要に応じて消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、有機系高分子粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤発泡剤、染料等が含有されてもよい。
【００３９】
本発明において、塗布延伸法（インラインコーティング）により、ポリエステルフィルム上に塗布層を設ける場合、上述の一連の化合物について、固型分濃度を０．１重量％〜５０重量％程度を目安に調整した塗布液をポリエステルフィルム上に塗布する要領にて積層ポリエステルフィルムを製造するのが好ましい。
【００４０】
本発明において、ポリエステルフィルム上に設けられる塗布層の塗布量（乾燥後）は通常０．０１〜０．５ｇ／ｍ２の範囲である。好ましくは０．０３〜０．２ｇ／ｍ２、さらに好ましくは０．０３〜０．２ｇ／ｍ２の範囲がよい。塗布量が０．０１ｇ／ｍ２未満の場合には、接着性が不十分となる場合がある。一方、０．５ｇ／ｍ２を超えて塗布する場合には、耐ブロッキング性が低下する等の不具合を生じる場合がある。
【００４１】
本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店  原崎勇次著１９７９年発行に記載例がある。
【００４２】
本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法（インラインコーティング）により塗布層を設ける場合、通常、１７０〜２４０℃で２〜３０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。また、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。
【００４３】
本発明における積層ポリエステルフィルムを構成するポリエステルフィルムには予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。
【００４４】
また、本発明における積層ポリエステルフィルムの全光線透過率（ＴＬ）は８５％以上が好ましく、さらに好ましくは９０％以上であることが電磁波遮蔽膜製造用等、特に視認性を重視する光学用途など、特に高い透明性が必要とされる用途に対応可能となる。ＴＬが８５％未満の場合、透明性が不十分となる傾向があり、例えば、光学的評価を伴う検査工程においては異物の混入等の欠陥を見落としやすくなる等の不具合を生じる場合がある。
【発明の効果】
【００４５】
本発明の積層ポリエステルフィルムによれば、特に印刷メッシュ法により、電磁波遮蔽膜を製造する工程において、接着性良好な積層ポリエステルフィルムを提供することができ、その工業的価値は高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。
【００４７】
（１）ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル１ｇを精秤し、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌを加えて溶解させ、３０℃で測定した。
【００４８】
（２）平均粒径（ｄ５０：μｍ）の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置（株式会社島津製作所社製ＳＡ−ＣＰ３型）を使用して測定した等価球形分布における積算（重量基準）５０％の値を平均粒径とした。
【００４９】
（３）ポリエステル層の厚み測定
フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形した後、ミクロトームで切断し、フィルムの断面を透過型電子顕微鏡写真にて観察した。その断面のうちフィルム表面とほぼ平行に２本、明暗によって界面が観察される。その２本の界面とフィルム表面までの距離を１０枚の写真から測定し、平均値を層厚さとした。
【００５０】
（４）ポリエステル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）測定
パーキンエルマー社製ＤＳＣ−ＩＩ型測定装置を用い、サンプル重量１０ｍｇ、窒素気流下で、昇温速度１０℃／分で昇温し、ベースラインの偏起開始温度をＴｇとした。
【００５１】
（５）積層ポリエステルフィルムの接着性評価１（実用特性代用評価）
試料フィルムにおいて、塗布層上に下記塗布剤組成から構成される印刷受容層を下記塗布条件により、塗布厚み（ＤＲＹ）が１ｇ／ｍ２になるように塗布した。次に印刷受容層表面に１ｍｍ２のクロスカットを１００個入れ、ニチバン社製セロハンテープ（登録商標）を該印刷受容層上に貼り付けた後、９０度方向に急速剥離し、残存した個数を用いて、下記範囲基準により、判定を行った。
【００５２】
《印刷受容層塗布剤組成》
・バインダー：エチルセルロース  １００部
・溶剤：トルエン／メチルエチルケトン混合溶媒  １０００部（混合比率＝１：１）
【００５３】
《塗布条件》
・使用バー：♯８バー
・乾燥温度：１２０℃
・乾燥時間：２分
【００５４】
《判定基準》
○：１００／１００（残存個数／測定個数）  （実用上、問題ないレベル）
△：８０／１００ 以上、１００／１００未満（実用上、問題になる場合があるレベル）
×：８０／１００未満（実用上、問題あるレベル）
【００５５】
（６）積層ポリエステルフィルムの接着性評価２（実用特性代用評価）
（５）項で得られた印刷受容層上に下記印刷インキ組成から構成される印刷層をグラビア印刷により積層し、８０℃、５分間乾燥させた後にメッシュ印刷層（メッシュパターン：Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍ）付き積層ポリエステルフィルムを得た。次に前記フィルムを市販の無電解銅メッキ液（奥野製薬製：ＴＳＰ−８１０）に３０分間浸漬させた。その後、フィルムを取り出し、乾燥した後、光学顕微鏡により、外観変化の有無を確認し、下記判定基準により、判定を行った。
《判定基準》
○：外観上、変化なし（実用上、問題ないレベル）
△：外観上、ごく僅かに変化（浮き発生）あり（実用上、問題になる場合があるレベル）
×：外観上、明らかに変化（浮き発生）あり（実用上、問題あるレベル）
【００５６】
（７）積層ポリエステルフィルムの耐ブロッキング性評価
試料フィルムの易接着樹脂層面を重ね、温度４０℃、湿度８０％ＲＨ、荷重１０ｋｇ／ｃｍ２で２０時間プレス処理を行い、ＡＳＴＭ Ｄ １８９３により決められているプラスチックフィルム間のブロッキング度を測定して定量化する手法に準拠し、プレスしたフィルム面をはがす際にかかる荷重からブロッキング度を求め、下記判定基準により、判定を行った。
【００５７】
《判定基準》
○：５０ｇ以上１００ｇ未満（実用上、問題ないレベル）
△：１００ｇ以上２５０ｇ未満（実用上、問題になる場合があるレベル）
×：２５０ｇ以上（実用上、問題あるレベル）
【００５８】
（８）積層ポリエステルフィルムの全光線透過率（ＴＬ）の測定
ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じて日本電色工業社製積分球式濁度計「ＮＤＨ−３００Ａ」により、積層ポリエステルフィルムの全光線透過率（％）を測定した。
【００５９】
（９）総合評価
試料フィルムにつき、下記判定基準により、総合評価を行った。
《判定基準》
○：接着性評価１、接着性評価２、耐ブロッキング性評価の全てが「○」（極めて良好）
△：接着性評価１、接着性評価２、耐ブロッキング性評価の少なくとも１項目が「△」（良好）
×：接着性評価１、接着性評価２、耐ブロッキング性評価の少なくとも１項目が「×」（不良）
【００６０】
実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。
〈ポリエステルの製造〉
製造例１（ポリエチレンテレフタレートＡ）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子を０．００４部添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートＡを得た。
【００６１】
製造例２（ポリエチレンテレフタレートＢ）
製造例１においてシリカ粒子を添加しない以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＢを得た。
【００６２】
製造例３（ポリエチレンテレフタレートＣ）
製造例１において平均粒径１．５μｍのシリカ粒子を０．００４部添加する代わりに平均粒径１．５μｍのシリカ粒子を０．０４部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＣを得た。
【００６３】
実施例１：
上記各ポリエステル原料を下記表１に記載したとおり、所定量配合し、３台のベント式二軸押出機に各々供給し、各々２９０℃で溶融した後、Ａ層を最外層（表層）、Ｂ層を中間層として、４０℃に冷却したキャスティングドラム上に、２種３層（Ａ／Ｂ／Ａ）の層構成で共押出し冷却固化させて未延伸積層シートを得た。得られた未延伸積層シートをまず、８３℃でＭＤ方向に３．７倍延伸した後、下記塗布剤組成からなる塗布剤をリバースグラビアコート方式により、Ａ層表面に塗布した後、テンターに導き、ＴＤ方向に４．３倍の逐次二軸延伸を行った。その後、２２０℃にて３秒間熱固定し、塗布量（乾燥後）が０．１ｇ／ｍ２の塗布層が設けられた、層構成（Ａ／Ｂ／Ａ）が５／１１５／５（μｍ）である、厚み１２５μｍの積層ポリエステルフィルムを得た。
【００６４】
塗布層を構成する化合物例は以下のとおりである。
（化合物例）
ポリエステル樹脂（Ａ１）  Ｔｇ＝６３℃
・酸成分：テレフタル酸  ５０モル％；イソフタル酸  ４８モル％；５−Ｎａスルホイソフタル酸  ２モル％
・ジオール成分：エチレングリコール  ５０モル％；ネオペンチルグリコール  ５０モル％
【００６５】
ポリエステル樹脂（Ａ２）  Ｔｇ＝４５℃
・酸成分：テレフタル酸  ５５モル％；イソフタル酸  ４０モル％；５−Ｎａスルホイソフタル酸  ５モル％
・ジオール成分：エチレングリコール  ６０モル％；１，４ブタンジオ−ル  ４０モル％
【００６６】
ポリエステル樹脂（Ａ３）  Ｔｇ＝２５℃
・酸成分：テレフタル酸  ６０モル％；イソフタル酸  ３０モル％；５−ナトリウムスルホイソフタル酸  １０モル％
・ジオール成分：エチレングリコール  ５０モル％；ジエチレングリコール  ５０モル％
【００６７】
ポリスチレンスルホン酸（Ｂ１）：日本ＮＳＣ社製（バーサＴＬ−７２）
ポリスチレンスルホン酸アンモニウム塩（Ｂ２）：日本ＮＳＣ社製（バーサＹＥ９１５）
架橋剤（Ｃ）：メラミン架橋剤（大日本インキ社製：ベッカミン「Ｊ１０１」））
粒子（Ｄ）：コロイダルシリカ（日産化学製：スノーテックス「ＹＬ」（平均粒径：７０ｎｍ））
【００６８】
《塗布剤組成》
ポリエステル樹脂（Ａ１）：８５重量％
ポリエステル樹脂（Ａ２）：０重量％
ポリエステル樹脂（Ａ３）：０重量％
ポリスチレンスルホン酸（Ｂ）：１０重量％
架橋剤（Ｃ）：０重量％
粒子（Ｄ）：５重量％
上記塗布剤を水希釈し、濃度１０重量％の塗布液を作製した。
【００６９】
実施例２〜８：
実施例１において、塗布剤組成を下記表２に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。
【００７０】
実施例９：
実施例１において、ポリエステル原料を表１記載のとおりに変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。
【００７１】
比較例１：
実施例１において、塗布剤組成を下記表２に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。
【００７２】
比較例２：
実施例１において、塗布剤組成を下記表２に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。しかしながら、塗布性が不十分のため、接着性評価あるいは耐ブロッキング評価困難なレベルであった。
【００７３】
上記実施例および比較例で得られた各積層ポリエステルフィルムの特性を下記表２および３にまとめて示す。
【００７４】
【表１】
2009190214.tif 000002
【００７５】
【表２】
2009190214.tif 000003
【００７６】
【表３】
2009190214.tif 000004
上記表中、「−」は塗布性不十分のため、評価困難であったことを示す。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明の積層ポリエステルフィルムはメッシュ印刷法により電磁波遮蔽膜製造する工程において、印刷受容層に対する接着性良好であり、例えば、ＰＤＰ等のディスプレイ用として、好適に使用することができる。