(57)【要約】【課題】  電子線硬化の欠点である窒素置換を必要とせず、生産性に優れ、耐傷性、耐削れ性に優れた電子写真感光体の製造方法の提供。【解決手段】  導電性基体上の感光層上に、ラジカル反応により硬化する組成物から構成される層（１）と、該層（１）の上に酸素による阻害を受けることなく硬化する組成物から構成される層（２）とを設け、次いで電子線を照射することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも導電性基体上に感光層を有し、該感光層上にラジカル反応により硬化する組成物から構成される層（１）と、該層（１）の上に酸素による阻害を受けることなく硬化する組成物から構成される層（２）とを設け、次いで電子線を照射することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒素置換せずに大気中で電子線を照射した場合でも、良好に硬化して電子写真特性と膜物性に優れた表面層を得ることができる電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子線、紫外線等の活性エネルギー線硬化技術は、速硬化性であり、生産性が高く、エネルギーコストが低いという利点を有しており、塗料、接着剤等の用途に広く利用されている。しかし、特許文献１等に開示されているように、一般に工業的に利用されている活性エネルギー線硬化はラジカル重合系であり、電子線または紫外線の照射により発生したラジカルによる重合反応によってポリマーが形成され硬化が進行する。この場合、照射雰囲気下に酸素が存在していると、硬化物中の成長ラジカルと活性エネルギー線によって発生した酸素ラジカルとの反応により、ラジカル重合が阻害される。特にその影響が大きい電子線硬化においては、それを防ぐために、窒素等の不活性ガスを用いて、酸素濃度５００ｐｐｍ以下で照射しているのが現状であり、ランニングコストに大きな影響を与えている。
【０００３】
また、酸素雰囲気下でも硬化可能な方法として、例えば特許文献２に開示されているように、感光体の表面層を、塗布液を感光層上に塗布後に硬化する際に光によって硬化させる場合、表面層塗布液には光開始剤を添加する。また、硬化させる光としては、例えば、紫外線、Ｘ線又は電子線等の活性化学線が挙げられ、光開始剤は、このような光によりラジカルを発生するものであれば何れのものでもよいが、開始剤は多量に添加する必要があること、多量の開始剤添加によって電子写真特性の悪化、特に残留電位の上昇や、膜物性の悪化、特に硬度の低下などという弊害があり、耐傷性、耐削れ性の確保が難しく目的を達成するにはいたらなかった。
【特許文献１】特開２００１−７９４８１号公報
【特許文献２】特開２０００−１９４１７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
窒素置換せずに大気中で電子線を照射した場合でも、良好に硬化して電子写真特性が良好で、膜物性に優れた表面層により耐傷性、耐削れ性を得ることができる電子写真感光体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
すなわち、本発明は、少なくとも導電性基体上に感光層を有し、該感光層上にラジカル反応により硬化する組成物から構成される層（１）と、該層（１）の上に酸素による阻害を受けることなく硬化する組成物から構成される層（２）とを設け、次いで電子線を照射することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、窒素置換せずに大気中で電子線を照射した場合でも、良好に硬化して帯電、感度、残留電位等の電子写真特性が良好で、かつ、膜物性に優れた表面層により耐傷性、耐削れ性を得ることができ、長期間にわたって使用しても良好な画像を得ることができる低価格な電子写真感光体の製造方法を提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】
＜電子写真感光体について＞
本発明の電子写真感光体の構成について説明する。
【０００９】
電子写真感光体の支持体としては、導電性を示すものであって硬度の測定に影響を与えない範囲内のものであれば、特に制限なく使用することができる。例えばアルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレスなどの金属や合金をドラム状に成形したものなどが使用できる。
【００１０】
本発明では、導電性支持体の上にバリアー機能と接着機能をもつ下引き層を設けるとよい。下引き層は感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体の保護、支持体上の欠陥の被覆、支持体からの電荷注入性改良、または感光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される。下引き層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化６ナイロン、共重合ナイロン、にかわおよびゼラチンなどを用いることができる。これらを適当な溶剤に溶解し、支持体上に塗布する。その際、下引き層の膜厚としては０．１〜２μｍが好ましい。膜厚はフィッシャースコープ・MMS（Fischer社製：マルチシステム膜厚計）にて渦電流方式で測定した。
【００１１】
次に下引き層の上に感光層を形成する。
【００１２】
電荷発生層と電荷輸送層とを機能分離し積層させた積層型感光層を形成する場合には、下引き層上に電荷発生層、電荷輸送層の順で積層する。
【００１３】
ここで、電荷発生層に用いる電荷発生物質としては、セレン−テルル、ピリリウム、チアピリリウム系染料、また各種の中心金属および結晶系、より具体的には例えばα、β、γ、εおよびＸ型などの結晶型を有するフタロシアニン化合物、アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、モノアゾ顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料、非対称キノシアニン顔料、キノシアニンおよび特開昭５４−１４３６４５号公報に記載のアモルファスシリコーンなどが挙げられる。
【００１４】
この積層型感光体の場合、電荷発生層は上記電荷発生物質を０．３〜４倍量の結着樹脂および溶剤とともにホモジナイザー、超音波分散、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライターおよびロールミルなどの方法を用いて分散させ、該分散液を下引き層上に塗布し乾燥させることにより形成させるか、または上記電荷発生物質の単独組成からなる膜を蒸着法などを用いることにより下引き層上に形成させる。電荷発生層の膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、特に０．１〜２μｍの範囲であることが好ましい。上記結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、などのビニル化合物の重合体および共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などを用いることができる。
【００１５】
本発明において表面層は、上述した連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合あるいは架橋させることにより形成することができる。表面層は、電荷発生層上に電荷輸送層として形成されているか、もしくは電荷発生層上に電荷輸送物質と結着樹脂からなる電荷輸送層を形成させた後にその上に第二の電荷輸送層として形成されている。いずれの場合も、正孔輸送性化合物を含有する溶液を製膜して、該正孔輸送性化合物を重合あるいは架橋し、膜を硬化させることにより表面層を形成することができる。溶液を製膜する方法としては、例えば浸漬コーティング法、スプレイコーティング法、カーテンコーティング法およびスピンコーティング法などの塗布法を用いて行うことができる。中でも効率性／生産性の点から、浸漬コーティング法が好ましい。また蒸着、プラズマその他の公知の製膜方法も適用できる。上記重合あるいは架橋は、熱や可視光、紫外線等の光、更に放射線等を用いて行うことができる。そこで、従来は不活性ガス雰囲気中で光や放射線を照射することにより表面層を形成するが、本発明では大気中で硬化させるために硬化前の表面層上に酸素を遮断する膜を形成する。この膜は硬化後いずれかの方法で除去されるが、残留しても電子写真特性を悪化させないよう電荷輸送能があるほうがよく、正孔輸送性化合物を含有させる方が好ましい。また、低分子の化合物を多く含有したほうが高分子の間に入り込み、結果、酸素遮断能が上がるため、重量平均分子量１０００前後の正孔輸送化合物を多量に含有させることがのぞましい。材料としては適当な正孔輸送性化合物、例えば、ピラゾリン、イミダゾール、オキサゾール、トリアゾール、カルバゾールなどの複素環化合物、トリフェニルメタンなどのトリアリールアルカン誘導体、トリフェニルアミンなどのトリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、Ｎ−フェニルカルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン誘導体などの低分子化合物などを適当な結着樹脂（上述した電荷発生層の箇所で説明したのと同様な樹脂が適用できる）とともに溶剤に分散／溶解し、該溶液を上述の公知の方法を用いて表面層上に塗布することにより形成する。この場合の正孔輸送性化合物と結着樹脂の比率は、両者の全重量を１００とした場合に正孔輸送性化合物の重量は５０〜８０であると好ましく、より好ましくは６０〜９０である。正孔輸送性化合物の量がそれ以下であると、電荷輸送能が低下し、残留電位の上昇などの問題が生ずる。この酸素遮断層は酸素遮断能が高く後に除去しやすいように０．５μｍ〜１０μｍの厚さがよく、好ましくは０．７μｍ〜５μｍがよく、更に好ましくは１μｍ〜３μｍが好ましい。また、例えばフッ素系樹脂粉末（ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなど）、シリコン系樹脂粉末、脂肪酸金属塩（ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウムなど）を含有させると初期ブレードめくれ対策となる。含有量は酸素遮断層全重量を１００としたとき０．１〜１０であると好ましく。より好ましくは０．３〜５である。この場合は硬化後の酸素遮断層の除去は行わない。そこで研磨剤として金属酸化物（チタン酸ストロンチウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化クロムなど）、窒化物（窒化ケイ素など）、炭化物（炭化ケイ素など）、金属塩（硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム）などを含有することで、プロセスカートリッジ内で初期数百枚程度でクリーニングブレード等との摩擦により、酸素遮断層が除去されるとともに表面層の粗面化も同時に行うことも可能である。研磨剤は電子線を通しにくい材質が多いので含有量は注意が必要であり、後述するように電子線の透過率を９０％以上確保するために、酸素遮断層全重量を１００としたとき０．１〜５であると好ましく。より好ましくは０．２〜３である。
【００１６】
この酸素遮断層の気体透過度試験方法ＪＩＳＫ７１２６による差圧検出式ガス透過試験（詳細は後述する）をおこなった結果、３．０×１０3ｃｍ3／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍであった。実験の結果、この酸素遮断層は酸素透過度が５．０×１０3ｃｍ3／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下であれば乾燥状態でも未乾燥状態でもよく、好ましくは乾燥状態の方がよい。また、表面層の硬化のためには十分な照射線量が必要となる。したがって酸素遮断層には照射線に対する透過率が大きいことが要求されるが、金属やセラミックなどのフィラーを多量に含有させない限り透過率に問題が発生することはなく、透過率が低い場合は加速電圧や処理時間、温度などで調整可能である。
【００１７】
ただし、加速電圧を上げるには大きな高圧電源が必要になり、電子線の吸収効率が悪い状態での製造となりコスト的に不利となる。また、処理時間や温度での調整もコスト的に不利となるため、できれば電子線の透過率は９０％以上が望ましい。
【００１８】
電子線の透過率は、酸素遮断層有りのときの照射線量と酸素遮断層無しの時の照射線量の割合で計算した。
【００１９】
次に、表面層を熱や可視光、紫外線等の光、更に放射線等を用いて硬化させるが、中でも放射線を用いるのがより好ましい。これにより非常に高純度な三次元マトリックスの表面層を作製することができ、良好な電子写真特性を示す感光体を得ることができるからである。上記放射線とは電子線又はγ線などである。電子線を照射する場合には、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型およびラミナー型などの加速器を用いて行うことができる。電気特性および機械的劣化に対する耐久性を向上させた本発明の感光体を得る上で、電子線の照射条件を考慮することは重要である。例えば、本発明において、加速電圧は２５０ＫＶ以下であると好ましく、より好ましくは１５０ＫＶ以下である。また照射線量は１×１０４〜１ＭＧｙの範囲であると好ましく、より好ましくは５×１０５Ｇｙ以下の範囲である。照射線量はチタン薄膜：１０μｍにてFar West Technology社製ラジオクロミック線量計（FWT-60）を用いて測定した。加速電圧が上記を越えると電気特性の劣化が起こる。また、照射線量が上記範囲よりも少ない場合には表面層の硬化が不十分となり、一方照射線量が多い場合には電気特性の劣化が起こる。
【００２０】
さらに、表面層をより硬化させるために、電子線による重合反応時に熱を加えるとよい。熱を加えるタイミングとしてはラジカルが存在する間に感光体が一定の温度になっていれば良いため、電子線照射前、照射中、照射後、いずれの段階で加熱してもよい。加熱温度は、感光体の温度が室温〜２５０℃となるように調整すればよい。より好ましくは５０℃〜１５０℃である。温度が上記範囲よりも高い場合には、電子写真感光体の材料に劣化が生じるからである。加温する時間は、その温度にもよるが、おおよそ数秒から数十分程度であるとよい。
【００２１】
上記正孔輸送性化合物を電荷輸送層として用いた場合の膜厚は１〜５０μｍが好ましく、特には３〜３０μｍが好ましい。
【００２２】
また、上記正孔輸送性化合物を電荷発生層／電荷輸送層上に保護層として用いた場合、その下層に当たる電荷輸送層は以下のようにして形成する。
【００２３】
適当な電荷輸送物質、例えばポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリスチリルアントラセンなどの複素環や縮合多環芳香族を有する高分子化合物や、ピラゾリン、イミダゾール、オキサゾール、トリアゾール、カルバゾールなどの複素環化合物、トリフェニルメタンなどのトリアリールアルカン誘導体、トリフェニルアミンなどのトリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、Ｎ−フェニルカルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン誘導体などの低分子化合物などを適当な結着樹脂（上述した電荷発生層の箇所で説明したのと同様な樹脂が適用できる）とともに溶剤に分散／溶解し、該溶液を上述の公知の方法を用いて電荷発生層上に塗布し乾燥させることにより形成する。この場合の電荷輸送物質と結着樹脂の比率は、両者の全重量を１００とした場合に電荷輸送物質の重量は２０〜１００であると好ましく、より好ましくは３０〜１００である。電荷輸送物質の量がそれ以下であると、電荷輸送能が低下し、感度低下および残留電位の上昇などの問題が生ずる。保護層が形成された積層型感光体における電荷輸送層の膜厚は１〜５０μｍが好ましく、より好ましくは３〜３０μｍである。また、この時の保護層の膜厚は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜７μｍである。
【００２４】
次に、感光層が単一層からなる単層型感光体である場合は、上記正孔輸送性化合物を含む溶液中に同時に電荷発生物質を含ませ、この溶液を適当な下引き層を設けても良い導電性支持体上に塗布し、その後重合あるいは架橋させて形成させればよい。あるいは、導電性支持体上に電荷発生物質と電荷輸送物質からなる単一層を形成し、その上に保護層として上記正孔輸送性化合物を含有する溶液を塗布し、その後重合あるいは架橋させ形成させてもよい。
【００２５】
＜酸素透過度測定方法＞
プラスチックフィルム及びシートの気体透過度試験方法ＪＩＳＫ７１２６による差圧検出式ガス透過試験を下記条件で行った。
【００２６】
測定機      ガス透過率測定装置Ｍ−Ｃ３型（東洋精機製作所製）
使用ガス    ＪＩＳ  Ｋ１１０１相当の酸素
測定温度    ２３±０．５℃
試験圧力    ７６０ｍｍＨｇ
透過面積    ３８．４６ｃｍ2（φ７０ｍｍ）
サンプル厚  １．０μｍ
＜電子線の透過率測定方法＞
Far West Technology社製ラジオクロミック線量計（FWT-60）を用い、酸素遮断層のない状態での照射線量と、酸素遮断層を電子線照射装置の窓材（チタン薄膜：１０μｍ）に塗布した状態での照射線量を測定して、下記式（１）により計算した。
【００２７】
酸素遮断層有りでの照射線量÷酸素遮断層なしでの照射線量×１００  [%]
（１）
＜評価１：電子写真特性＞
評価機はキヤノン製デジタル複写機ｉＲ２８７０を用い、明部電位と残留電位を測定した。像露光光量は感度特性を合わせるためにｉＲ２８７０の標準設定である１０ｍＪ／ｍ２から４ｍＪ／ｍ２に変更してある。また、前露光も同じく感度特性に合わせて３０ルックスから１２ルックスに変更してある。プロセススピードは１３７ｍｍ／ｓｅｃである。本評価機のプロセスを簡単に説明する。まず直接帯電方式で一次帯電を行う。帯電が均一になるよう印加電圧は直流（−７２０V）に交流（１８４０Hz、２KVp-p、正弦波）を重畳させる。次にレーザー露光（４ｍJ/m2）により潜像形成を行い、ジャンピング現像で磁性一成分現像剤を用いて現像し、次いで転写ローラーを用いて像を転写紙に転写する。転写紙は定着器に送られて像が定着される。次のプロセスのためにクリーニングブレードで残留現像剤を除去し、最後に前露光（１２ルックス）で電子写真感光体表面を除電する。
【００２８】
感光体表面２３℃、雰囲気湿度５０％RHのときの暗部電位を−７２０Ｖに合わせたときのベタ黒出力時の現像器位置の明部電位と残留電位を測定した。
【００２９】
＜評価２：膜強度特性＞
本発明における膜の強度を示す指標としては、下記に示す弾性変形率を用いる。弾性弾性変形率は粗面化前／酸素遮断層剥離後の感光体表面層を感光体上から測定した。
【００３０】
ここで弾性変形率Wo％は、微小硬さ測定装置フィシャースコープＨ１００Ｖ（Ｆｉｓｃｈｅｒ社製）を用いて２５℃、湿度５０％ＲＨの環境下で対面角１３６°のビッカース四角錐ダイヤモンド圧子に連続的に６ｍＮの荷重をかけ、荷重下での押し込み深さを直読することにより測定した値である。具体的には、最終荷重６ｍＮまで段階的に（各点０．１Ｓの保持時間で２７３点）測定する。フィシャースコープＨ１００Ｖ（Ｆｉｓｃｈｅｒ社製）の出力チャートの概略を図１に示す。図１中、縦軸は荷重（Ｆ（ｍＮ））を、横軸は押し込み深さ（ｈ（μｍ））を示す。
【００３１】
弾性変形率は、圧子が膜に対して行った仕事量（エネルギー）、即ち圧子の膜に対する荷重の増減によるエネルギーの変化より求めることができ、具体的には下記式（２）により求めることができる。
【００３２】
弾性変形率＝Wo／Ｗｔ      （２）
上記式中、全仕事量Ｗｔ（ｎＪ）は図１中のＡ−Ｂ−Ｄ−Ａで囲まれる面積を示し、弾性変形仕事量Wo（ｎＪ）はＣ−Ｂ−Ｄ−Ｃで囲まれる面積を示している。
【００３３】
本発明において、弾性変形率Wo％は４０％以上が好ましく、更に４５％以上が好ましく、６５％以下が好ましい。感光体表面の弾性変形率が４０％を下回ると、繰り返し使用後の表面形状の変化が大きくなり、粗面化を適切にしてもその面形状を長く維持できないため粗面化の効果が長続きしなくなる。また、耐傷性、耐削れ性も低下する。
【００３４】
＜評価３：膜表面特性＞
ブレードクリーニングを行うプロセスを考慮したときに懸念されるブレードめくれを評価した。評価機は先の電子写真特性の評価機と同じｉＲ２８７０で前述のとおり像露光量は調整してある。これを感光体表面温度５５℃、雰囲気湿度９０％RHで通紙耐久してブレードめくれの発生枚数を評価した。
【００３５】
通常感光体表面温度が４５℃を上回ることはなく、５５℃で１００００枚発生がなければ通常使用では問題ないことを確認している。
【００３６】
以下、本発明を実施例にしたがってより詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例１】
【００３７】
実施例１に用いる電子写真感光体を以下の通りに作製した。まず、長さ３７０ｍｍ、外径３０ｍｍ、肉厚０．７ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ  Ａ３００３アルミニウムの合金）を切削加工により作製した。このシリンダーを洗剤（商品名：ケミコールＣＴ、常盤化学（株）製）を含む純水中で超音波洗浄を行い、続いて洗剤を洗い流し工程を経た後、更に純水中で超音波洗浄を行って脱脂処理した。
【００３８】
アンチモンをドープした酸化スズの被覆膜を有する酸化チタン粉体（商品名：クロノス（登録商標）ＥＣＴ−６２、チタン工業（株）製）６０質量部、酸化チタン粉体（商品名：ｔｉｔｏｎｅ（登録商標）  ＳＲ−１Ｔ、堺化学（株）製）６０質量部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト（登録商標）  Ｊ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、固形分７０％）７０質量部、２−メトキシ−１−プロパノール５０質量部、メタノール５０質量部とからなる溶液を約２０時間ボールミルで分散させた。この分散液に含有するフィラーの平均粒径は、０．２５μｍであった。
【００３９】
このようにして調合した分散液を、前記アルミニウムシリンダー上に浸漬法によって塗布し、１５０℃に調整された熱風乾燥機中で４８分間加熱乾燥、硬化することにより膜厚１５μｍの導電層を形成した。
【００４０】
次に、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミラン（登録商標）ＣＭ８０００、東レ（株）製）１０質量部およびメトキシメチル化ナイロン樹脂（商品名：トレジン（登録商標）ＥＦ３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）３０質量部をメタノール５００質量部およびブタノール２５０質量部の混合液に溶解した溶液を、前記導電層の上に浸漬塗布し、１００℃に調整された熱風乾燥機中に２２分間投入し加熱乾燥して、膜厚み０．４５μｍの下引き層を形成した。
【００４１】
次に、ＣｕＫ(特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．４°および２８．２°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料４質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレック（登録商標）ＢＸ−１、積水化学工業（株）製）２質量部、シクロヘキサノン９０質量部からなる混合溶液を直径１ｍｍガラスビーズを用いてサンドミルで１０時間分散させた後、酢酸エチル１１０質量部を加えて電荷発生層用塗工液を調製した。この塗工液を上記の下引き層上に浸漬塗布し、８０℃に調整された熱風乾燥機中に２２分間投入し加熱乾燥して、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【００４２】
次に、下記構造式（１１）で示されるトリアリールアミン系化合物３５質量部
【００４３】
【化１】
2009069770.tif 000002
【００４４】
およびビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータ（登録商標）Ｚ４００、三菱瓦斯化学（株）製）５０質量部を、モノクロロベンゼン３２０質量部およびジメトキシメタン５０質量部に溶解して調製した電荷輸送層用塗工液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布し、１００℃に調整された熱風乾燥機中に４０分間投入し加熱乾燥して、膜厚１８μｍの第一の電荷輸送層を形成した。
【００４５】
次いで、下記構造式（１２）で示される重合性官能基を有する正孔輸送性化合物２７質量部、
【００４６】
【化２】
2009069770.tif 000003
【００４７】
分散剤としてフッ素原子含有樹脂（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）製）０．４５質量部を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラ（登録商標）Ｈ、日本ゼオン（株）製）３５質量部と１−プロパノール３５質量部に溶解した後、潤滑剤として四フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロン（登録商標）Ｌ−２、ダイキン工業（株）製）３質量部を加え、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で５８８０Ｎ／ｃｍ２（６００ｋｇｆ／ｃｍ２）の圧力で３回の処理を施し均一に分散させた。これを１０μｍのＰＴＦＥメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い潤滑剤分散液を調製した。その後、前記式（１２）で示される正孔輸送性化合物２７質量部を潤滑剤分散液に加え、ＰＴＦＥ製の５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過を行い、硬化型表面層としての第二の電荷輸送層用塗工液を調整した。この塗工液を用いて前記第一の電荷輸送層上に硬化型表面層として第二の電荷輸送層を浸漬塗布法により塗工した。
【００４８】
その後、酸素遮断層として、下記構造式（１１）で示されるトリアリールアミン系化合物６０質量部
【００４９】
【化３】
2009069770.tif 000004
【００５０】
およびビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータPCZ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）２５質量部とビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータPCＺ−０５０、三菱瓦斯化学（株）製）２５質量部を、モノクロロベンゼン３９００質量部に溶解して調製した酸素遮断層用塗工液を、上記未硬化の第二の電荷輸送層上に浸漬塗布し、未乾燥の酸素遮断層を形成した。
【００５１】
その後、大気中において加速電圧１５０ｋＶ、線量１．５ｋＧｙの条件で電子線を照射した。このときの大気中の酸素濃度は２１％であった。引き続いて感光体の温度が１２０℃になる条件で９０秒間加熱処理を行った。更に、感光体を大気中で１００℃に調整された熱風乾燥機中で２０分間加熱処理を行って、膜厚５μｍの硬化型表面層と膜厚１．０μｍの酸素遮断層を形成した。
【００５２】
次に、研磨シート（商品名：レフライトGC2000、槌屋製）を用いて酸素遮断層の研磨・除去と硬化型表面層の表面処理（粗面化）を同時に行った。
【００５３】
この感光体を用いて電子写真特性、膜強度特性、膜表面特性を評価した結果を表１に示す。
【００５４】
また、この酸素遮断層単独の酸素透過度と電子線の透過率を評価した結果も表１に示す。
【実施例２】
【００５５】
実施例１の酸素者断層用塗工液を、下記構造式（１１）で示されるトリアリールアミン系化合物６０質量部
【００５６】
【化４】
2009069770.tif 000005
【００５７】
およびビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータPCZ-200、三菱瓦斯化学（株）製）２５質量部とビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータPCZ-050、三菱瓦斯化学（株）製）２５質量部と、潤滑材として櫛型シリコーン（商品名：アロンＧＳ１０１ＣＰ、東亜合成化学工業（株）製）を０．４重量部と、チタン酸ストロンチウム微粒子（商品名：ST（一般グレード）、富士チタン工業（株）製）０．３重量部を、モノクロロベンゼン３９００質量部に溶解して調製したことと、研磨シートによる酸素遮断層の除去を行わなかった以外は実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて電子写真特性、膜強度特性、膜表面特性を評価した結果を表１に示す。また、この酸素遮断層単独の酸素透過度と電子線の透過率を評価した結果も表１に示す。
【実施例３】
【００５８】
実施例２の酸素者断層用塗工液を、下記構造式（１１）で示されるトリアリールアミン系化合物６０質量部
【００５９】
【化５】
2009069770.tif 000006
【００６０】
およびビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータPCZ-200、三菱瓦斯化学（株）製）２５質量部とビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（商品名：ユピゼータPCZ-050、三菱瓦斯化学（株）製）２５質量部と、潤滑材としてステアリン酸亜鉛（商品名：ＳＺ２０００  堺化学工業（株）社製）を０．４重量部と、チタン酸ストロンチウム微粒子（商品名：ST（一般グレード）、富士チタン工業（株）製）０．３重量部を、モノクロロベンゼン３９００質量部に溶解／分散して調製したことと、研磨シートによる酸素遮断層の除去を行わなかった以外は実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて電子写真特性、膜強度特性、膜表面特性を評価した結果を表１に示す。
【００６１】
また、この酸素遮断層単独の酸素透過度と電子線の透過率を評価した結果も表１に示す。
【００６２】
［比較例１］
酸素遮断層を形成しなかった以外は実施例１と同じ感光体を作成した。この感光体を用いて電子写真特性、膜強度特性、膜表面特性を評価した結果を表１に示す。
【００６３】
【表１】
2009069770.tif 000007
【００６４】
実施例はいずれも良好な電子写真特性と膜特性を得た。特に実施例２と実施例３は潤滑材の影響で粗面化工程を必要とせず、安価な製造方法を提供可能となっている。これに対し、比較例１は表面層が硬化しなかったため、評価不可能であった。
【００６５】
なお、図２は本発明の電子写真感光体の層構成の図、
図３は本発明の電子写真装置の概略図である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】微小硬さ測定装置フィッシャースコープＨ１００Ｖ（Ｈ．Ｆｉｓｃｈｅｒ社製）の測定チャート概略図。
【図２】本発明の電子写真感光体の層構成。
【図３】本発明の電子写真装置の概略図。
【符号の説明】
【００６７】
１  像担持体（本発明の円筒状感光体）
１ａ  軸
２  帯電手段
３  現像手段
３−１  現像スリーブ
４  転写手段
５  クリーニング手段
６  前露光手段
７  転写材
８  像定着手段
Ｌ  像露光手段
11  導電性基体
12  導電層
13  下引き層
14  電荷発生層
15  電荷輸送層
16  第二の電荷輸送層
17  酸素遮断層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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