(57)【要約】【課題】周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる電気光学装置および電子機器を提供する。【解決手段】第一基板２０上に、電気光学装置１００の表示領域Ａ１の周囲に設けられた周辺遮光膜５３が形成され、表示領域Ａ１には異なる色の複数の色材層を有するカラーフィルタＣが形成され、表示領域Ａ１には、カラーフィルタＣを覆う第一オーバーコート層１６が形成され、第一オーバーコート層１６の外縁１６ａが、周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するかまたは内縁５３ａよりも内側に形成されていることを特徴とする。【選択図】図４
2009069615.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と第二基板との間に電気光学材料が封止された電気光学装置において、
前記第一基板上に、前記電気光学装置の表示領域の周囲に設けられた周辺遮光膜が形成され、
前記表示領域には異なる色の複数の色材層を有するカラーフィルタが形成され、
前記表示領域には、前記カラーフィルタを覆う第一オーバーコート層が形成され、
前記第一オーバーコート層の外縁が、前記周辺遮光膜の内縁に接するかまたは前記内縁よりも内側に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記周辺遮光膜の少なくとも一部は、前記色材層により形成されていることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第一基板の表面から前記周辺遮光膜の表面までの高さと前記第一オーバーコート層の表面までの高さが略等しいことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記周辺遮光膜は第二オーバーコート層によって覆われると共に、前記第一オーバーコート層上の少なくとも一部には前記第二オーバーコート層が形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記電気光学材料は液晶であり、
前記表示領域には透過表示領域と、反射表示領域と、が形成され、
前記透過表示領域の前記第二オーバーコート層には開口部が形成され、
前記反射表示領域の前記第二オーバーコート層が液晶層厚調整層として形成されていることを特徴とする請求項４記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記表示領域の前記第二オーバーコート層上には、前記第一基板と前記第二基板との間隔を規定するスペーサが形成されていることを特徴とする請求項４または請求項５記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶層を挟持する一対の基板と、基板の間隔を規定するスペーサを備え、基板上に遮光膜が設けられた液晶表示装置が知られている。このような液晶表示装置としては、表示ムラの発生を防止するものが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−６６０１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来の液晶表示装置では、表示部の周縁部に額縁状に形成された遮光膜（以下、周辺遮光膜という）と表示部との境界において、液晶層の層厚に急峻な変動が生じ、液晶パネルの点灯時に額縁状の表示ムラが発生するという課題がある。
従来の液晶表示装置の一例として図９に半透過反射型の液晶表示装置５００を示す。液晶表示装置５００は一対の対向する基板１０，２０を備え、基板１０，２０間に挟持された液晶層５０はシール材５２によって基板１０，２０間に封止されている。
【０００４】
この例では、一方の基板２０上には金属膜１７が形成され、金属膜１７と金属膜１７上に積層された３原色の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂにより周辺遮光膜５３が形成されている。周辺遮光膜５３の内側の領域が表示領域Ａ１であり、その外側の領域が非表示領域Ａ２となっている。基板２０上の表示領域Ａ１には、光散乱層２２が形成されている。光散乱層２２上の反射表示領域Ｒには反射膜１２が形成されている。光散乱層２２上には、反射膜１２を覆うよう反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔに亘って、色材層１１Ｂが設けられている。そして、これらを覆うように、オーバーコート層ＯＶが形成されている。オーバーコート層ＯＶ上の反射表示領域Ｒに対応する領域には液晶層厚調整層１９が形成され、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの間で所謂マルチギャップ構造が実現されている。
【０００５】
オーバーコート層ＯＶおよび液晶層厚調整層１９の表面には、走査線２１が形成され、さらに走査線２１上には配向膜２３が形成されている。配向膜２３の表面の液晶層厚調整層１９上には、他方の基板１０に当接して基板１０，２０間のギャップを保持するスペーサ２４が設けられている。他方の基板１０上には、画素電極９、ＴＦＤ１４等のスイッチング素子および配線等が設けられ、それらを覆うように略全面に配向膜１５が形成されている。このような従来の半透過反射型の液晶表示装置５００では、色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１ＢによりカラーフィルタＣを形成する工程と一括して周辺遮光膜５３の形成を行うことができ、製造コストを低下させることができる。
【０００６】
しかし、複数の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂを重ねる構造のため、周辺遮光膜５３の膜厚が表示領域Ａ１のカラーフィルタＣの膜厚よりも厚くなる。このため、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界において、オーバーコート層ＯＶが平坦でなくなり、スペーサ２４の高さＨ３にばらつきを生じる。これにより、周辺遮光膜５３側のスペーサ２４が圧縮されたり、基板１０が湾曲されたりする。そして、基板１０，２０間の間隔Ｄが変動し、液晶層５０の層厚が変動することで表示不良が発生し、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に額縁状の表示ムラを発生させる要因となっていた。
【０００７】
そこで、この発明は、周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる電気光学装置および電子機器を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の電気光学装置は、第一基板と第二基板との間に電気光学材料が封止された電気光学装置において、前記第一基板上に、前記電気光学装置の表示領域の周囲に設けられた周辺遮光膜が形成され、前記表示領域には異なる色の複数の色材層を有するカラーフィルタが形成され、前記表示領域には、前記カラーフィルタを覆う第一オーバーコート層が形成され、前記第一オーバーコート層の外縁が、前記周辺遮光膜の内縁に接するかまたは前記内縁よりも内側に形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、周辺遮光膜の層厚と、表示領域のカラーフィルタの層厚との差異を、第一オーバーコート層によって埋めることができる。また、第一オーバーコート層の外縁が周辺遮光膜上に乗り上げることが防止される。このため、周辺遮光膜の表面と第一オーバーコート層の表面とを従来よりも平坦に形成できる。これにより、第一基板の第二基板に対向する面を平坦にすることができ、第一基板と第二基板との間隔を均一にすることができる。
したがって、本発明の電気光学装置によれば、周辺遮光膜と表示領域との境界における電気光学材料層の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜の少なくとも一部は、前記色材層により形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、カラーフィルタの形成と一括して周辺遮光膜を形成することができ、生産性を向上させることができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置は、前記第一基板の表面から前記周辺遮光膜の表面までの高さと前記第一オーバーコート層の表面までの高さが略等しいことを特徴とする。
このように構成することで、第一基板の第二基板に対向する面をより平坦にすることができ、第一基板と第二基板との間隔をより均一にすることができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜は第二オーバーコート層によって覆われると共に、前記第一オーバーコート層上の少なくとも一部には前記第二オーバーコート層が形成されていることを特徴とする。
第二オーバーコート層は、平坦に形成された周辺遮光膜および第一オーバーコート層上に形成されるので、周辺遮光膜の内側の表示領域と周辺遮光膜が形成された非表示領域に亘って平坦に形成される。これにより、第一基板の第二基板に対向する面をより平坦にすることができ、第一基板と第二基板との間隔をより均一にすることができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置は、前記電気光学材料は液晶であり、前記表示領域には透過表示領域と、反射表示領域と、が形成され、前記透過表示領域の前記第二オーバーコート層には開口部が形成され、前記反射表示領域の前記第二オーバーコート層が液晶層厚調整層として形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、反射表示領域の液晶層に視認側から入射して液晶層を透過した光は、反射膜によって反射され、再び液晶層を透過して視認側に射出される。また、透過表示領域の液晶層に視認側とは逆側から入射した光は、液晶層を透過して視認側に射出される。このとき、反射表示領域に入射した光が液晶層を透過する距離は、液晶層厚調整層の層厚によって調整される。これにより、反射表示領域の反射膜に反射されて視認側に射出される光と、透過表示領域から視認側に射出される光との位相差を調整することができる。したがって、リタデーションを最適化するため、透過表示領域と反射表示領域の光学設計をそれぞれ最適化することができる。また、液晶層厚調整層を別個に形成する必要が無いので、電気光学装置の生産性を向上させることができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置は、前記表示領域の前記第二オーバーコート層上には、前記第一基板と前記第二基板との間隔を規定するスペーサが形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、平坦な第二オーバーコート層上にスペーサを配置し、スペーサの高さを均一にすることができる。これにより、周辺遮光膜と表示領域との境界における液晶層の層厚の変動を防止して、周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる。
また、表示領域の外側にはスペーサが設けられていないので、万一、周辺遮光膜と表示領域との境界において段差が発生した場合であっても、表示領域の均一な高さのスペーサによって第一基板と第二基板との間隔を均一に規定し、表示領域に表示不良が発生することを防止することができる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜は、赤、緑、青の三色の異なる色の前記色材層のうちのいずれか二層が積層されて形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、従来の三層が積層された周辺遮光膜と比較して、周辺遮光膜の膜厚を薄くし、表示領域のカラーフィルタの層厚との差異を小さくすることができる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜は、赤および青の二色の前記色材層が積層されて形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、明度の高い緑色の色材層を用いる場合と比較して周辺遮光膜をより暗色に近づけることができ、周辺遮光膜の遮光性を向上させることができる。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜と前記カラーフィルタとの間に間隙が形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、第一オーバーコート層は、カラーフィルタと周辺遮光膜との間隙によって形成された第一基板上の凹部に入り込む。このため、第一オーバーコート層の表面は、第一基板側に下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層が周辺遮光膜上に乗り上げることを防止することができる。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置は、前記カラーフィルタの前記第一基板側には光散乱層が設けられていることを特徴とする。
このように構成することで、電気光学装置の視認側に射出される光を光散乱層によって散乱させ、電気光学装置の視野角を拡大することができる。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜と前記光散乱層との間に間隙が形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、カラーフィルタ層および第一オーバーコート層は、周辺遮光膜と光散乱層との間隙によって形成された第一基板上の凹部に入り込む。このため、第一オーバーコート層の表面は、第一基板側に下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層が周辺遮光膜上に乗り上げることを防止することができる。
また、周辺遮光膜とカラーフィルタ層との間に間隙が形成されている場合には、第一オーバーコート層は、周辺遮光膜、カラーフィルタおよび光散乱層の非形成領域である第一基板上の凹部に入り込む。このため、第一オーバーコート層の表面は、第一基板側により下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層が周辺遮光膜上に乗り上げることをより確実に防止することができる。
【００１９】
また、本発明の電子機器は、上記のいずれかの電気光学装置を備えることを特徴とする。
このように構成することで、電子機器には表示領域に表示不良が発生することが防止された電気光学装置が搭載される。したがって、本発明の電子機器によれば、表示不良が防止され、表示品質が改善された電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
＜第一実施形態＞
以下、本発明の第一実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態では、アクティブマトリクス方式の液晶装置の例を挙げて説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。
図１は本実施形態の液晶装置１００を各構成要素とともに対向基板２０の側から見た平面図、図２は図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【００２１】
本実施形態の液晶装置１００は、図１、図２に示すように、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０とがシール材５２によって貼り合わされ、このシール材５２によって区画された領域内に液晶層５０が封入されている。シール材５２の形成領域の内側の領域には、周辺遮光膜５３が形成されている。周辺遮光膜５３が形成された領域よりも内側の領域を表示領域Ａ１、周辺遮光膜５３の形成領域とその外側の領域を非表示領域Ａ２と称する。
【００２２】
シール材５２の外側の周辺回路領域には、第一駆動回路２０１および外部回路実装端子２０２がＴＦＤアレイ基板１０の１辺に沿って形成されており、この１辺に隣接する２辺に沿って第二駆動回路１０４が形成されている。ＴＦＤアレイ基板１０の残る一辺には、表示領域Ａ１の両側に設けられた第二駆動回路１０４間を接続するための複数の配線１０５が設けられている。また、対向基板２０の角部においては、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通材１０６が配設されている。
ＴＦＤアレイ基板１０の液晶層５０側の面には画素電極９が形成される一方、対向基板２０の液晶層５０側の面には走査線２１が形成されている。
【００２３】
図３は、図１の点線Ａ３によって囲まれた部分の平面図である。図４は、図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。
周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１においては、図３に示すように、カラーフィルタＣの赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが配置されている。また、反射表示領域Ｒには反射膜１２が形成されている。反射膜１２は、例えば、Ａｌ等の反射性に優れた金属膜により形成されている。反射膜１２はカラーフィルタＣによって覆われている。反射膜１２の非形成領域は、透過表示領域Ｔとなっている。各色の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが形成された隣接する透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとによってサブ画素が構成されている。そして、異なる色の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂを備えた三つのサブ画素によって一つの画素が形成され、複数の画素がマトリクス状に配列されている。カラーフィルタＣ（色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ）および反射膜１２と周辺遮光膜５３との間には、間隙Ｓが形成されている。
【００２４】
図４に示すように、ＴＦＤアレイ基板１０の液晶層５０側の面には、画素電極９、画素スイッチング用のＴＦＤ１４等が形成されている。また、図示は省略するが、複数のデータ線がストライプ状に形成され、各データ線に複数のＴＦＤ１４および画素電極９が接続されている。各画素電極９はデータ線とデータ配線との間に形成され、ＴＦＤ１４を介してデータ線に接続されている。複数の画素電極９はマトリクス状に配列されている。ＴＦＤアレイ基板１０の液晶層５０側の略全面に配向膜１５が形成されている。
【００２５】
画素電極９は、例えば、多結晶化されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成される。また、配向膜１５は、例えば、ポリイミド溶液を塗布及び焼成して形成したり、オフセット印刷によって形成したりする。この配向膜１５は、ラビング処理等といった配向処理を受け、この配向処理により配向膜１５の近傍の液晶分子の配向が決められる。
【００２６】
一方、対向基板２０の液晶層５０側の面には、表示領域Ａ１において、光散乱層２２が形成されている。光散乱層２２は、例えば、樹脂材料等により形成され入射した光を散乱させるように構成されている。光散乱層は、例えば、約１．３μｍ程度の層厚に形成されている。光散乱層２２上には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが設けられ（図３参照）、カラーフィルタＣを構成している。ここで、各色材層の層厚は、それぞれ、例えば約０．５μｍ〜１．５μｍ程度に形成されている。また、反射表示領域Ｒに形成された反射膜１２の膜厚は、例えば、約０．１５μｍ程度に形成されている。反射膜１２およびカラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成されている。第一オーバーコート層１６は、例えば、アクリル等の樹脂材料により形成されている。
【００２７】
非表示領域Ａ２においては、周辺遮光膜５３が設けられている。周辺遮光膜５３は、例えば、Ａｌ等によって形成された金属膜１７上に、２種類の色材層（例えばＲ，Ｂの色材層１１Ｒ，１１Ｂ）が積層されて構成されている。周辺遮光膜５３と、光散乱層２２およびカラーフィルタＣとの間には間隙Ｓが形成されている。第一オーバーコート層１６は、その外縁１６ａが周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するように形成されている。対向基板２０表面の第一オーバーコート層１６の表面までの高さＨ１は、周辺遮光膜５３の表面までの高さＨ２と略等しくなるように形成されている。
【００２８】
周辺遮光膜５３は第二オーバーコート層１８によって覆われている。第二オーバーコート層１８は、例えば、第一オーバーコート層１６と同様の樹脂材料により形成されている。第一オーバーコート層１６上の一部にも第二オーバーコート層１８が形成され、透過表示領域Ｔに対応する領域には開口部１８ａが形成されている。これにより、第一オーバーコート層１６上の反射表示領域Ｒに第二オーバーコート層１８が液晶層厚調整層１９として形成されている。また、周辺遮光膜５３上の第二オーバーコート層１８は、周辺遮光膜５３の内縁５３ａよりも内側の第一オーバーコート層１８上にやや被さるように形成されている。
【００２９】
第二オーバーコート層１８の表面（液晶層厚調整層１９の表面を含む）と開口部１８ａによって露出された第一オーバーコート層１６の表面に沿って、走査線２１が形成されている。走査線２１は、データ線と同様にストライプ状に形成され、データ線と交差する方向に形成されている。走査線２１上には、配向膜２３が形成されている。
また、液晶層厚調整層１９上には、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間隔Ｄを規定するスペーサ２４が形成されている。スペーサ２４は、例えば、感光性樹脂によって形成され、感光性樹脂膜を成膜した後、フォトリソグラフィー、エッチング技術でパターニングして形成されている。なお、非表示領域Ａ２には、スペーサ２４は配置されていない。
【００３０】
次に、この実施の形態の作用について説明する。
図４に示すように、カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６を形成することで、周辺遮光膜５３の層厚と、表示領域Ａ１のカラーフィルタＣの層厚との差異を、第一オーバーコート層１６によって埋めることができる。また、カラーフィルタＣを覆う第一オーバーコート層１６の外縁１６ａが、周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するように形成されているので、第一オーバーコート層１６の外縁１６ａが周辺遮光膜５３上に乗り上げることが防止される。これにより、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面とを従来と比較して段差なく平坦に形成できる。
【００３１】
また周辺遮光膜５３とカラーフィルタＣとの間には間隙Ｓが形成されている。同様に、周辺遮光膜５３と光散乱層２２との間にも間隙Ｓが形成されている。これにより、第一オーバーコート層１６は、周辺遮光膜５３、カラーフィルタＣおよび光散乱層２２の非形成領域である対向基板２０上の凹部に入り込む。このため、この間隙Ｓにおいて、第一オーバーコート層１６の表面は、対向基板２０側に下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層１６が周辺遮光膜５３上に乗り上げることを確実に防止し、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面とをより平坦に形成できる。
【００３２】
また、周辺遮光膜５３は、色材層１１Ｒ，１１Ｂが二層積層されて形成されているので、従来の三層が積層された周辺遮光膜５３と比較して、周辺遮光膜５３の膜厚を薄くし、表示領域Ａ１のカラーフィルタＣの層厚との差異を小さくすることができる。これにより、第一オーバーコート層１６をカラーフィルタＣ上に形成して第一オーバーコート層１６の表面と周辺遮光膜５３の表面とを平坦に形成することが容易になる。
【００３３】
また、平坦に形成された周辺遮光膜５３および第一オーバーコート層１６上に、さらに第二オーバーコート層１８を形成することで、第二オーバーコート層１８を周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１と周辺遮光膜５３が形成された非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成することができる。また、周辺遮光膜５３を第二オーバーコート層１６によって覆うことで、周辺遮光膜１６から顔料が流出することを防止できる。
また、対向基板２０上の周辺遮光膜５３の表面までの高さＨ１と第一オーバーコート層１６の表面までの高さＨ２が略等しくなるように形成されているので、周辺遮光膜５３上および第一オーバーコート層１６上に第二オーバーコート層１８をより平坦に形成することができる。
【００３４】
また、第二オーバーコート層１８には開口部１８ａが形成され、反射表示領域Ｒに対応する領域の第二オーバーコート層１８が液晶層厚調整層１９として形成されている。このように、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、平坦な液晶層厚調整層１９上にスペーサ２４を配置し、スペーサ２４の高さＨ３を均一にすることができる。これにより、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間隔Ｄを、表示領域Ａ１から非表示領域Ａ２に亘って均一にすることができ、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動を防止することができる。
【００３５】
また、非表示領域Ａ２にはスペーサ２４が配置されていないので、万一、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界において段差が発生した場合であっても、表示領域Ａ１の均一な高さＨ３のスペーサ２４によってＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間隔Ｄを均一に規定し、表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止することができる。
したがって、本実施形態の液晶装置１００によれば、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。
【００３６】
また、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、反射表示領域Ｒの液晶層５０に視認側（ＴＦＤアレイ基板１０側）から入射して液晶層５０を透過した光は、反射膜１２によって反射され、再び液晶層５０を透過して視認側に射出される。また、透過表示領域Ｔの液晶層５０に視認側とは逆側（対向基板２０側）から入射した光は、液晶層５０を透過して視認側に射出される。このとき、反射表示領域Ｒに入射した光が液晶層５０を透過する距離は、液晶層厚調整層１９の層厚によって調整される。これにより、反射表示領域Ｒの反射膜１２に反射されて視認側に射出される光と、透過表示領域Ｔを透過して視認側に射出される光との位相差を調整することができる。したがって、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、液晶層厚調整層１８を別個に形成する場合と比較して、製造工程を簡略化し、生産性を向上させることができる。
【００３７】
また、周辺遮光膜５３は、赤および青の二色の色材層１１Ｒ，１１Ｂが積層されて形成されているので、明度の高い緑色の色材層１１Ｇを用いる場合と比較して周辺遮光膜５３をより暗色に近づけることができ、周辺遮光膜５３の遮光性を向上させることができる。
また、カラーフィルタＣの下層側には光散乱層２２が設けられているので、液晶装置の視認側に射出される光を光散乱層２２によって散乱させ、液晶装置１００の視野角を拡大することができる。
【００３８】
＜第二実施形態＞
次に、本発明の第二実施形態について、図１〜図３を援用し、図５を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した液晶装置１００と、画素電極９のスイッチング素子としてＴＦＴ１４Ａが用いられ、画素電極９Ａが透明電極９ａと反射電極１２Ａとによって形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
【００３９】
図５に示すように、本実施形態の液晶装置１００Ａは、画素電極９Ａのスイッチング素子として、ＴＦＤ１４の代わりにＴＦＴ１４Ａを用いたＴＦＴアレイ基板１０Ａを備えている。図示は省略するが、複数のデータ線と複数の走査線とが互いに交差して形成され、隣接する２本のデータ線と２本の走査線とに囲まれた領域が１つのサブ画素となり、領域毎にＴＦＴ１４Ａおよび画素電極９が形成されている。画像信号を供給するデータ線がＴＦＴ１４Ａのソース領域に電気的に接続され、画素電極９ＡがＴＦＴ１４Ａのドレイン領域に電気的に接続されている。
【００４０】
また、画素電極９Ａの反射表示領域Ｒには反射電極１２Ａが形成されている。反射電極１２Ａは、反射性に優れたＡｌ等の金属膜により形成され、表面が凹凸状に形成されている。反射電極１２Ａと透明電極９ａは電気的に接続されている。一方、対向基板２０Ａ上には光散乱層２２および反射膜１２は形成されていない。
【００４１】
また、第一実施形態と同様に、カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成され、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面が従来よりも段差なく平坦に形成されている。そして、第二オーバーコート層１８が表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成されている。第二オーバーコート層上には、表示領域Ａ１の略全面に亘って共通電極２１Ａが形成され、共通電極２１Ａ上には配向膜２３が形成されている。また、液晶層厚調整層１９として形成された平坦な第二オーバーコート層１８上にスペーサ２４が配置されている。
したがって、本実施形態の液晶装置１００Ａによれば、第一実施形態と同様に、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。
【００４２】
また、反射表示領域Ｒの液晶層５０に視認側（対向基板２０Ａ側）から入射して液晶層５０を透過した光は、反射電極１２Ａによって反射され、再び液晶層５０を透過して視認側に射出される。透過表示領域Ｔの液晶層５０に視認側とは逆側（ＴＦＴアレイ基板１０Ａ）から入射した光は、液晶層５０を透過して視認側に射出される。このとき、反射表示領域Ｒに入射した光が液晶層５０を透過する距離は、液晶層厚調整層１９の層厚によって調整される。これにより、第一実施形態と同様に、反射表示領域Ｒの反射電極１２Ａに反射されて視認側に射出される光と、透過表示領域Ｔを透過して視認側に射出される光との位相差を調整することができる。したがって、第一実施形態と同様に、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、生産性を向上させることができる。
【００４３】
＜第三実施形態＞
次に、本発明の第三実施形態について、図１〜図３を援用し、図６を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射半透過型の液晶装置１００と、反射膜１２、光散乱層２２および液晶層厚調整層１９が形成されていない透過型である点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
【００４４】
図６に示すように、液晶装置１００Ｂの対向基板２０Ｂ上の表示領域Ａ１には、ストライプ状にＲ，Ｇ，Ｂの各色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが設けられ（図３参照）、カラーフィルタＣを構成している。カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成されている。
非表示領域Ａ２においては、第一実施形態と同様に周辺遮光膜５３が設けられている。第一オーバーコート層１６は、その外縁１６ａが周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するように形成されている。対向基板２０Ｂ上の第一オーバーコート層１６の表面まで高さＨ１は、周辺遮光膜５３の表面までの高さＨ２と略等しくなるように形成されている。
【００４５】
周辺遮光膜５３は第二オーバーコート層１８によって覆われている。第一オーバーコート層１６上にも全面に第二オーバーコート層１８が形成されている。第二オーバーコート層１８の表面に沿って、走査線２１が形成されている。走査線２１上には、配向膜２３が形成されている。配向膜２３上には、第一実施形態と同様のスペーサ２４が形成されている。
【００４６】
このように、本実施形態の液晶装置１００Ｂでは、第一実施形態と同様に、カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成され、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面が平坦に形成されている。そして、第二オーバーコート層１８が表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成されている。また、平坦な第二オーバーコート層１８上にスペーサ２４が配置されている。
したがって、本実施形態の液晶装置１００Ｂによれば、第一実施形態と同様に、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。
【００４７】
＜第四実施形態＞
次に、本発明の第四実施形態について、図１〜図３を援用し、図７を用いて説明する。本実施形態では、上述の第三実施形態で説明した液晶装置１００Ｂと、第二オーバーコート層１８がスペーサとして形成されている点で異なっている。その他の点は第三実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
【００４８】
図７に示すように、液晶装置１００Ｃには、平坦に形成された周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面に沿って走査線２１が形成されている。走査線２１上には、配向膜２３が形成されている。配向膜２３上には、第二オーバーコート層１８が表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成されている。表示領域Ａ１の第二オーバーコート層１８には開口部１８ａが形成され、第二オーバーコート層１８がＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０Ｃとの間隔Ｄを規定するスペーサとして形成されている。
【００４９】
このように表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成された第二オーバーコート層１８をスペーサとして形成することで、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０Ｃとの間隔Ｄを、非表示領域Ａ２から表示領域Ａ１に亘って均一にすることができる。
したがって、本実施形態によれば、第三実施形態と同様に、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。
【００５０】
（電子機器）
次に、上述の実施形態において説明した液晶装置１００〜１００Ｃを備えた電子機器の具体例について説明する。
図８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８において、２００は携帯電話本体を示し、２０１は上記実施形態の液晶装置１００〜１００Ｃのいずれかを備えた液晶表示部を示している。
図８に示す携帯電話本体２００は、表示領域に表示不良が発生することが防止された液晶装置１００〜１００Ｃが搭載されている。したがって、上述の携帯電話本体２００によれば、表示不良が防止され、表示品質が改善された電子機器を提供することができる。
【００５１】
尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本実施形態では遮光層、周辺遮光膜を２層の色材層の重ね合わせで構成したが、Ｒ，Ｇ，Ｂの３層の色材層の重ね合わせで構成してもよい。また、周辺遮光膜は、上述の実施の形態で説明した赤色および青色以外の組み合わせであってもよい。
【００５２】
また、第一オーバーコート層は、その外縁が周辺遮光膜の内縁に接することなく、内縁よりも内側に形成されていてもよい。
また、第二オーバーコート層は第一オーバーコート層と異なる材料により形成してもよい。
また、上述の実施形態では、電気光学装置として液晶装置を例に挙げて説明したが、電気光学装置は液晶装置に限られない。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の第一実施形態における液晶装置の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図３】本発明の第一実施形態における液晶装置の部分拡大平面図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。
【図５】本発明の第二実施形態における液晶装置の図４に相当する断面図である。
【図６】本発明の第三実施形態における液晶装置の図４に相当する断面図である。
【図７】本発明の第四実施形態における液晶装置の図４に相当する断面図である。
【図８】本発明の実施形態における電子機器の概略構成を示す斜視図である。
【図９】従来の液晶装置の図４に相当する断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０  ＴＦＤアレイ基板（第二基板）、１０Ａ  ＴＦＴアレイ基板（第二基板）、１１Ｂ，１１Ｇ，１１Ｒ  色材層、１２  反射膜、１２Ａ  反射電極（反射膜）、１６  第一オーバーコート層、１６ａ  外縁、１８  第二オーバーコート層、１８ａ  開口部、１９  液晶層厚調整層、２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ  対向基板（第一基板）、２２  光散乱層、２４  スペーサ、５０  液晶層（電気光学材料）５３  周辺遮光膜、５３ａ  内縁、１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ  液晶装置（電気光学装置）、２００  携帯電話本体（電子機器）、Ａ１  表示領域、Ｃ  カラーフィルタ、Ｄ  間隔、Ｈ１，Ｈ２  高さ、Ｒ  反射表示領域、Ｓ  間隙、Ｔ  透過表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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