(57)【要約】【課題】感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】多官能エポキシ化合物（Ａ）に不飽和一塩基酸（Ｂ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｘ）と、ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）にエポキシ化合物（Ｄ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｙ）とを、多塩基酸無水物（Ｅ）で架橋させて得られる構造を有する化合物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多官能エポキシ化合物（Ａ）に不飽和一塩基酸（Ｂ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｘ）と、ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）にエポキシ化合物（Ｄ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｙ）とを、多塩基酸無水物（Ｅ）で架橋させて得られる構造を有する化合物。
【請求項２】
上記多官能エポキシ化合物（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１記載の化合物。
【化１】
2009275148.tif 000034
（式中、Ｃｙは炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を示し、Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を示し、該フェニル基及びシクロアルキル基は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換されていてもよく、Ｙ及びＺは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又はハロゲン原子を示し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ｐは０〜４の数を示し、ｒは０〜４の数を表す。）
【請求項３】
上記ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）が、下記一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２記載の化合物。
【化２】
2009275148.tif 000035
（式中、Ｃｙ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ｐ及びｒは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
【請求項４】
上記一般式（Ｉ）及び／又は上記一般式（II）中、Ｃｙがシクロヘキシル基であり、Ｘがフェニル基であり、ｐ及びｒが０であることを特徴とする請求項２又は３記載の化合物。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかに記載の化合物を含有することを特徴とするアルカリ現像性樹脂組成物。
【請求項６】
上記化合物の含有量が１〜７０質量％であることを特徴とする請求項５記載のアルカリ現像性樹脂組成物。
【請求項７】
請求項５又は６記載のアルカリ現像性樹脂組成物に光重合開始剤（Ｆ）を含有させることを特徴とするアルカリ現像性感光性樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の構造を有する新規化合物、該化合物を含有するアルカリ現像性樹脂組成物及び該アルカリ現像性樹脂組成物に光重合開始剤を含有させてなるアルカリ現像性感光性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
アルカリ現像性感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有するアルカリ現像性樹脂組成物及び光重合開始剤を含有するものである。このアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、紫外線若しくは電子線を照射することによって重合硬化させることができるので、光硬化性インキ、感光性印刷版、プリント配線版、各種フォトレジスト等に用いられている。最近、電子機器の軽薄短小化や高機能化の進展に伴い、微細パターンを精度良く形成することができるアルカリ現像性感光性樹脂組成物が望まれている。
【０００３】
アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物に関し、下記特許文献１には、エチレン性不飽和結合を持つプレポリマーを含有する感光性樹脂組成物が提案されている。また、下記特許文献２には、不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を含有する感光性樹脂組成物が提案されている。しかし、これらの公知のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、感度や密着性が充分でなく、適切なパターン形状や微細パターンを得ることが困難であった。そのため、感度や密着性に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物が望まれていた。
【０００４】
また、下記特許文献３には、エポキシ基及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物とジヒドロキシ芳香族化合物をエーテル化反応させて得られる不飽和基含有化合物、及び該不飽和基含有化合物に多塩基酸無水物をエステル化させて得られる不飽和基含有化合物が開示されており、下記特許文献４には、エポキシアクリレートに多塩基酸無水物を反応させ、続いてエポキシ基含有ラジカル重合性不飽和単量体を反応させた構造を有する感光性樹脂が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２３５２６１号公報
【特許文献２】特開２０００−３５５６２１号公報
【特許文献３】特開２００１−９７９２９号公報
【特許文献４】特開２００１−２４７６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
解決しようとする問題点は、上述したように、感度及び密着性に優れ、適切なパターン形状や微細パターンを得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
【０００７】
従って、本発明の目的は、感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、多官能エポキシ化合物（Ａ）に不飽和一塩基酸（Ｂ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｘ）と、ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）にエポキシ化合物（Ｄ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｙ）とを、多塩基酸無水物（Ｅ）で架橋させて得られる構造を有する化合物（Ｚ）を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【０００９】
また、本発明は、上記化合物（Ｚ）を含有することを特徴とするアルカリ現像性樹脂組成物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【００１０】
また、本発明は、上記アルカリ現像性樹脂組成物に光重合開始剤（Ｆ）を含有させることを特徴とするアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の新規化合物（Ｚ）は、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用であり、該化合物（Ｚ）を原料にして得られるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性に優れ、微細パターンを精度良く形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の新規化合物（Ｚ）、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
【００１３】
本発明の新規化合物（Ｚ）は、多官能エポキシ化合物（Ａ）に不飽和一塩基酸（Ｂ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｘ）と、ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）にエポキシ化合物（Ｄ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｙ）とを、多塩基酸無水物（Ｅ）で架橋させることにより得られる。
【００１４】
上記多官能エポキシ化合物（Ａ）としては、例えば、多価アルコール又はそのアルキレンオキシド付加物のポリグリシジルエーテル、多塩基酸のポリグリシジルエステル、シクロヘキセン環或いはシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキシド或いはシクロペンテンオキシド含有化合物等を用いることができ、具体的には以下の化合物を挙げることができる。
即ち、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＢ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＣ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＭ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＰ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＺ型エポキシ樹脂等のアルキリデンビスフェノールポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記アルキリデンビスフェノールポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を水添して得られる水添ビスフェノール型ジグリシジルエーテル；エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，３−プロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，２−プロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、１，８−オクタンジオールジグリシジルエーテル、１，１０−デカンジオールジグリシジルエーテル、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、１，１，１−トリ（グリシジルオキシメチル）プロパン、１，１，１−トリ（グリシジルオキシメチル）エタン、１，１，１−トリ（グリシジルオキシメチル）メタン、１，１，１，１−テトラ（グリシジルオキシメチル）メタン、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサグリシジルエーテル等の脂肪族多価アルコールのグリシジルエーテル；プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の多価アルコールに２種以上のアルキレンオキシドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル；フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物；３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、イソプロピリデンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、１，２−エポキシ−２−エポキシエチルシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物；フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステルなどのニ塩基酸のグリシジルエステル；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルＰ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリンなどのグリシジルアミン類；１，３−ジグリシジル−５，５−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物；ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物；ナフタレン型エポキシ化合物、トリフェニルメタン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等が挙げられる。
【００１５】
上記多官能エポキシ化合物（Ａ）としては市販のものを用いることもでき、例えば、ＢＲＥＮ−Ｓ、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＰＰＮ−５０１Ｎ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＧＡＮ、ＧＯＴ（日本化薬社製）、アデカレジンＥＰ−４０００、アデカレジンＥＰ−４００３Ｓ、アデカレジンＥＰ−４０８０、アデカレジンＥＰ−４０８５、アデカレジンＥＰ−４０８８、アデカレジンＥＰ−４１００、アデカレジンＥＰ−４９００、アデカレジンＥＤ−５０５、アデカレジンＥＤ−５０６、アデカレジンＫＲＭ−２１１０、アデカレジンＫＲＭ−２１９９、アデカレジンＫＲＭ−２７２０（旭電化工業社製）、Ｒ−５０８、Ｒ−５３１、Ｒ−７１０（三井化学社製）、エピコート１９０Ｐ、エピコート１９１Ｐ、エピコート６０４、エピコート８０１、エピコート８２８、エピコート８７１、エピコート８７２、エピコート１０３１、エピコートＲＸＥ１５、エピコートＹＸ−４０００、エピコートＹＤＥ−２０５、エピコートＹＤＥ−３０５（ジャパンエポキシレジン社製）、スミエポキシＥＬＭ−１２０、スミエポキシＥＬＭ−４３４（住友化学社製）、デナコールＥＭ−１５０、デナコールＥＸ−２０１、デナコールＥＸ−２１１、デナコールＥＸ−２１２、デナコールＥＸ−３１３、デナコールＥＸ−３１４、デナコールＥＸ−３２２、デナコールＥＸ−４１１、デナコールＥＸ−４２１、デナコールＥＸ−５１２、デナコールＥＸ−５２１、デナコールＥＸ−６１４、デナコールＥＸ−７１１、デナコールＥＸ−７２１、デナコールＥＸ−７３１、デナコールＥＸ−８１１、デナコールＥＸ−８２１、デナコールＥＸ−８５０、デナコールＥＸ−８５１、デナコールＥＸ−９１１、（ナガセケムテックス社製）、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、エポライト４００Ｐ、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト８０ＭＦ、エポライト１００ＭＦ、エポライト１５００ＮＰ、エポライト１６００、エポライト３００２、エポライト４０００、エポライトＦＲ−１５００、エポライトＭ−１２３０、エポライトＥＨＤＧ−Ｌ（共栄社化学社製）、ＳＢ−２０（岡村製油社製）、エピクロン７２０（大日本インキ化学社製）、ＵＶＲ−６１００、ＵＶＲ−６１０５、ＵＶＲ−６１１０、ＵＶＲ−６２００、ＵＶＲ−６２２８（ユニオン・カーバイド社製）、セロキサイド２０００、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、セロキサイド３０００、サイクロマーＡ２００、サイクロマーＭ１００、サイクロマーＭ１０１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、エポリード４０１、エポリード４０３、エポリードＨＤ３００、ＥＨＰＥ−３１５０、ＥＴＨＢ、エポブレンド（ダイセル化学社製）、ＰＹ−３０６、０１６３、ＤＹ−０２２（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、サントートＳＴ００００、エポトートＹＤ−０１１、エポトートＹＤ−１１５、エポトートＹＤ−１２７、エポトートＹＤ−１３４、エポトートＹＤ−１７２、エポトートＹＤ−６０２０、エポトートＹＤ−７１６、エポトートＹＤ−７０１１Ｒ、エポトートＹＤ−９０１、エポトートＹＤＰＮ−６３８、エポトートＹＨ−３００、ネオトートＰＧ−２０２、ネオトートＰＧ−２０７（東都化成社製）、ブレンマーＧ（日本油脂社製）等が挙げられる。
【００１６】
上記多官能エポキシ化合物（Ａ）の中でも、下記一般式（Ｉ）で表される多官能エポキシ化合物が好ましい。
【００１７】
【化１】
2009275148.tif 000002
（式中、Ｃｙは炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を示し、Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を示し、該フェニル基及びシクロアルキル基は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換されていてもよく、Ｙ及びＺは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又はハロゲン原子を示し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ｐは０〜４の数を示し、ｒは０〜４の数を表す。）
【００１８】
上記一般式（Ｉ）中、Ｃｙで示される炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。
Ｘで表される炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、例えば、Ｃｙで示される炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基として例示したものが挙げられる。Ｘで示されるフェニル基又は炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を置換してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子としては、それぞれ、Ｙ及びＺで示されるものとして後に例示するものが挙げられる。
Ｙ及びＺで示される炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、へプチル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル等が挙げられる。Ｙ及びＺで示される炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、メトキシエチル、エトキシエチル、プロピロキシエチル、メトキシエトキシエチル、エトキシエトキシエチル、プロピロキシエトキシエチル、メトキシプロピル等が挙げられる。Ｙ及びＺで示される炭素原子数２〜１０のアルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、プロペニル等が挙げられる、Ｙ及びＺで示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
また、Ｘで示されるフェニル基及び炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を置換してもよい上記のアルキル基及びアルコキシ基、並びにＹ及びＺで示される上記のアルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。例えば、フッ素原子で置換された炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、パーフルオロエチル等が挙げられる。
【００１９】
上記一般式（Ｉ）で表される多官能エポキシ化合物は、トリアリールモノシクロアルキルメタン骨格を有することにより、該多官能エポキシ化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性、加工性、強度等が優れるため、非硬化部を現像除去する際に、微細パターンであっても鮮明な画像を精度良く形成できるものと考えられる。
【００２０】
上記一般式（Ｉ）で表される多官能エポキシ化合物の具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．９の化合物が挙げられる。但し、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。
【００２１】
【化２】
2009275148.tif 000003
【００２２】
【化３】
2009275148.tif 000004
【００２３】
【化４】
2009275148.tif 000005
【００２４】
【化５】
2009275148.tif 000006
【００２５】
【化６】
2009275148.tif 000007
【００２６】
【化７】
2009275148.tif 000008
【００２７】
【化８】
2009275148.tif 000009
【００２８】
【化９】
2009275148.tif 000010
【００２９】
【化１０】
2009275148.tif 000011
【００３０】
上記一般式（Ｉ）で表される多官能エポキシ化合物の中でも、Ｃｙがシクロヘキシルであり、Ｘがフェニル基であり、ｐ及びｒが０である化合物が、該多官能エポキシ化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性及び原料入手の観点から好ましい。
【００３１】
上記不飽和一塩基酸（Ｂ）としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシエチルアクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３２】
上記１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレートは、例えば１分子中に１個のヒドロキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレートと二塩基酸無水物又はカルボン酸とを反応させることによって得ることができる。
【００３３】
上記１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレートとしては、下記化合物Ｎｏ．１０〜Ｎｏ．１４を挙げることができる。
【００３４】
【化１１】
2009275148.tif 000012
【００３５】
【化１２】
2009275148.tif 000013
【００３６】
【化１３】
2009275148.tif 000014
【００３７】
【化１４】
2009275148.tif 000015
【００３８】
【化１５】
2009275148.tif 000016
【００３９】
上記ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）としては、例えば、４，４−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４’−（１−α―メチルベンジリデン）ビスフェノール、４，４’−（１−α―エチルベンジリデン）ビスフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、α、α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、水添ビスフェノール化合物、レソルシノール、ヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、２−［ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル］ベンジルアルコール、サリチル酸等が挙げられる。
【００４０】
上記ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）としては、その他、前記多官能エポキシ化合物（Ａ）及び上記でポリヒドロキシ芳香族化合物として例示した化合物との付加物を用いることもできる。
【００４１】
上記ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）の中でも、下記一般式(II)で表されるビスフェノール化合物が、エポキシ化合物（Ｄ）との反応性、該ポリヒドロキシ化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性の観点から好ましい。
【００４２】
【化１６】
2009275148.tif 000017
（式中、Ｃｙ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ｐ及びｒは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
【００４３】
上記一般式(II)で表されるビスフェノール化合物の具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．１５〜Ｎｏ．２３の化合物が挙げられる。但し、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。
【００４４】
【化１７】
2009275148.tif 000018
【００４５】
【化１８】
2009275148.tif 000019
【００４６】
【化１９】
2009275148.tif 000020
【００４７】
【化２０】
2009275148.tif 000021
【００４８】
【化２１】
2009275148.tif 000022
【００４９】
【化２２】
2009275148.tif 000023
【００５０】
【化２３】
2009275148.tif 000024
【００５１】
【化２４】
2009275148.tif 000025
【００５２】
【化２５】
2009275148.tif 000026
【００５３】
上記一般式(II)で表されるビスフェノール化合物の中でもＣｙがシクロヘキシルであり、Ｘがフェニル基であり、ｐ及びｒが０である化合物が、該ビスフェノール化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性及び原料入手の観点から好ましい。
【００５４】
上記エポキシ化合物（Ｄ）としては、単官能又は多官能エポキシ化合物が挙げられる。上記単官能エポキシ化合物としては、例えば、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、ｔ−ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プロパルギルグリシジルエーテル、ｐ−メトキシエチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−メトキシグリシジルエーテル、ｐ−ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、２−メチルクレジルグリシジルエーテル、４−ノニルフェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、ｐ−クミルフェニルグリシジルエーテル、トリチルグリシジルエーテル、２，３−エポキシプロピルメタクリレート、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、グリシジルブチレート、ビニルシクロヘキサンモノオキシド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、スチレンオキシド、ピネンオキシド、メチルスチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、プロピレンオキシド、下記化合物Ｎｏ．２４〜Ｎｏ．２６等が挙げられる。中でも、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル及び下記化合物Ｎｏ．２４〜Ｎｏ．２６は、末端に二重結合を持ち、感度を向上させることができるので好ましい。
【００５５】
【化２６】
2009275148.tif 000027
【００５６】
【化２７】
2009275148.tif 000028
【００５７】
【化２８】
2009275148.tif 000029
【００５８】
上記多官能エポキシ化合物としては、前記多官能エポキシ化合物（Ａ）として例示した化合物を用いることができる。
【００５９】
上記多塩基酸無水物（Ｅ）としては、例えば、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、２，２’−３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、３，３’−４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。これらの中でも、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【００６０】
本発明の化合物（Ｚ）は、上述の（Ａ）〜（Ｅ）成分から、例えば、下記〔化２９〕の反応式で示される方法によって製造することができる。該方法について、〔化２９〕を参照しながら以下に詳述する。
先ず、多官能エポキシ化合物（Ａ）に不飽和一塩基酸（Ｂ）をエステル化反応させて化合物（Ｘ）を得る。このエステル化反応は、常法に従って行うことができるが、好ましくは、４０〜１５０℃で５〜１５時間反応させる。これとは別に、ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）にエポキシ化合物（Ｄ）をエーテル化反応させて化合物（Ｙ）を得る。このエーテル化反応は、常法に従って行うことができるが、好ましくは、８０〜１５０℃で５〜３０時間反応させる。得られた化合物（Ｘ）と化合物（Ｙ）とを多塩基酸無水物（Ｅ）を用いて架橋反応させて化合物（Ｚ）を得る。この架橋反応は、常法に従って行うことができるが、好ましくは、８０〜１３０℃で１〜１０時間反応させる。
【００６１】
上記エステル化反応において、上記多官能エポキシ化合物（Ａ）のエポキシ基１個に対する上記不飽和一塩基酸（Ｂ）のカルボキシル基の比率は、好ましくは０．３〜１．０個である。また、上記エーテル化反応において、上記ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）の水酸基１個に対する上記エポキシ化合物（Ｄ）のエポキシ基の比率は、好ましくは０．３〜０．９個である。また、上記架橋反応において、上記化合物（Ｘ）及び化合物（Ｙ）の水酸基の合計１個に対する上記多塩基酸無水物（Ｅ）の酸無水物構造の比率は、好ましくは０．３〜０．９５個である。
【００６２】
【化２９】
2009275148.tif 000030
【００６３】
上記化合物（Ｚ）には、さらにエポキシ化合物（Ｄ）を付加させ、続いて多塩基酸無水物（Ｅ）をエステル化させることを繰り返してもよく、また、化合物（Ｚ）に、さらにエポキシ化合物（Ｄ）を付加させた後、多塩基酸無水物（Ｅ）に代えてラクトン化合物をエステル化させてもよい。
【００６４】
本発明の新規化合物（Ｚ）は、以下に説明するようにアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として好適に用いられる他、三次元立体像形成用光造形材の原料や電子部品、表示部品、建築用部品等におけるシール材、封口材、封止材、保護膜材、コート材の原料等に用いられる。
【００６５】
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物は、上記化合物（Ｚ）を含有する。該化合物（Ｚ）の含有量は、本発明のアルカリ現像性樹脂組成物中、１〜７０質量％、特に３〜３０質量％が好ましく、固形分の酸価が３５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に５０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であるのが好ましい。
【００６６】
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物には、上記化合物（Ｚ）の他に溶媒を含有させてもよく、例えば、化合物（Ｚ）の含有量を上記の好ましい範囲とする場合、化合物（Ｚ）以外の残部には溶媒を用いることができる。該溶媒の具体例としては、後述のアルカリ現像性感光性樹脂組成物に用いられる溶媒として例示するものが挙げられる。また、化合物（Ｚ）を合成する際に用いた溶媒を除去せず、そのまま本発明のアルカリ現像性樹脂組成物に含有させてもよい。
【００６７】
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物は、主として、光重合開始剤（Ｆ）及び溶媒と混合され、アルカリ現像性感光性樹脂組成物として用いられる。
以下に、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物（以下、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物ともいう）について、好ましい実施形態に基づき説明する。
【００６８】
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、少なくとも、上記化合物（Ｚ）を含有する本発明のアルカリ現像性樹脂組成物に、光重合開始剤（Ｆ）及び溶媒を含有させたものである。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物において、上記化合物（Ｚ）の含有量は、アルカリ現像性感光性樹脂組成物から溶媒を除く全固形分の合計質量に占める割合で５０〜９０質量％、特に６０〜８０質量％が好ましい。
【００６９】
上記光重合開始剤（Ｆ）としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、１−ヒドロキシ−１−ベンゾイルシクロヘキサン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、１−ベンジル−１−ジメチルアミノ−１−（４’−モルホリノベンゾイル）プロパン、２−モルホリル−２−（４’−メチルメルカプト）ベンゾイルプロパン、チオキサントン、１−クロル−４−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、２−ヒドロキシ−２−ベンゾイルプロパン、２−ヒドロキシ−２−（４’−イソプロピル）ベンゾイルプロパン、４−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、４−フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、１，７−ビス（９’−アクリジニル）ヘプタン、９−ｎ−ブチル−３，６−ビス（２’−モルホリノイソブチロイル）カルバゾール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、下記化合物Ｎｏ．２７、Ｎｏ．２８等が挙げられる。これらの中でも、ベンゾフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンが好ましい。
【００７０】
【化３０】
2009275148.tif 000031
（式中、Ｘ1はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｒ1はＲ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲＲ’又はＣＮを表し、Ｒ2はＲ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ又はＮＲＲ’を表し、Ｒ3はＲ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ又はＮＲＲ’を表し、Ｒ及びＲ’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び／又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合又はエステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ’は一緒になって環を形成していてもよく、ｍは０〜５である。）
【００７１】
【化３１】
2009275148.tif 000032
（式中、Ｘ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ及びＲ’は上記化合物Ｎｏ．２７と同様であり、Ｘ1’はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｚは酸素原子又は硫黄原子を表し、ｓ及びｔはそれぞれ１〜４の数を表し、Ｒ1’はＲ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲＲ’又はＣＮを表し、Ｒ2’はＲ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ又はＮＲＲ’を表し、Ｒ3’はＲ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ又はＮＲＲ’を表し、Ｒ4はジオール残基又はジチオール残基を表す。）
【００７２】
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物において、上記光重合開始剤（Ｆ）の含有量は、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物中、０．１〜３０質量％、特に０．５〜５質量％が好ましい。
【００７３】
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物に含まれる溶媒としては、通常、前記の各成分を溶解又は分散しえる溶媒であれば特に制限はないが、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセルソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ−又はｎ−プロパノール、イソ−又はｎ−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油（株））、ソルベッソ＃１００（エクソン化学（株））等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられ、中でも、ケトン類或いはセロソルブ系溶媒が好ましい。これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物において、上記溶媒の含有量は、アルカリ現像性感光性樹脂組成物に占める全固形分濃度が５〜４０質量％、特に１５〜３０質量％となるように調整するとよい。
【００７４】
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物には、さらに不飽和結合を有するモノマー、連鎖移動剤、界面活性剤等を併用することができる。
【００７５】
上記不飽和結合を有するモノマーとしては、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸Ｎ−オクチル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸亜鉛、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート等が挙げられる。
上記不飽和結合を有するモノマーの含有量は、アルカリ現像性樹脂組成物又はアルカリ現像性感光性樹脂組成物から溶媒を除く全固形分の合計質量に占める割合で０．０１〜２０質量％、特に０．１〜１０質量％が好ましい。
【００７６】
上記連鎖移動剤としては、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプト酪酸、Ｎ−（２−メルカプトプロピオニル）グリシン、２−メルカプトニコチン酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）カルバモイル〕プロピオン酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）アミノ〕プロピオン酸、Ｎ−（３−メルカプトプロピオニル）アラニン、２−メルカプトエタンスルホン酸、３−メルカプトプロパンスルホン酸、４−メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル（４−メチルチオ）フェニルエーテル、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、１−メルカプト−２−プロパノール、３−メルカプト−２−ブタノール、メルカプトフェノール、２−メルカプトエチルアミン、２−メルカプトイミダゾール、２−メルカプト−３−ピリジノール、２−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２−ヨードエタノール、２−ヨードエタンスルホン酸、３−ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物が挙げられる。
【００７７】
上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物には、さらに熱可塑性有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該熱可塑性有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸、スチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸−メチルメタクリレート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル等が挙げられる。
【００７９】
また、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物には、必要に応じて、アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、第三ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；分散剤；レベリング剤；シランカップリング剤；難燃剤等の慣用の添加物を加えることができる。
【００８０】
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、ロールコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用される。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。
【００８１】
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、主として、上記光重合開始剤（Ｆ）及び上記溶媒と混合され、アルカリ現像性感光性樹脂組成物として用いられるもので、該アルカリ現像性感光性樹脂組成物は、その用途に特に制限はなく、光硬化性塗料、光硬化性接着剤、印刷版、印刷配線板用フォトレジスト等の各種の用途に使用することができる。
【００８２】
また、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物を硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波長３００〜４５０ｎｍの光を発光するものを用いることができ、例えば、超高圧水銀、水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンアーク等を用いることができる。
【実施例】
【００８３】
以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、下記実施例等において、「％」は、質量％を意味する。
製造例１〜３は、化合物（Ｘ）の製造例を示し、製造例４〜１３は、化合物（Ｙ）の製造例を示し、実施例１〜１２は、本発明の化合物（Ｚ）を含有するアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２の製造例を示し、実施例１３〜２４は、実施例１〜１２で得られたアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２に、光重合開始剤（Ｆ）及び溶媒を混合して得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２の調製例を示す。
【００８４】
〔製造例１〕化合物（Ｘ）−１の製造
水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（エポキシ当量２１５、商品名デナコールＥＸ−２５２、ナガセケムテックス社製、以下、化合物ａ−１ともいう）４１７ｇ、アクリル酸（以下、化合物ｂともいう）１４２ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．５ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール２．５ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート６８４ｇを仕込み、１２０℃で１８時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｘ）−１を得た。
尚、化合物（Ｘ）−１は、（Ａ）成分である化合物ａ−１のエポキシ基１個に対し、（Ｂ）成分である化合物ｂのカルボキシル基が１個の比率でエステル化させて得られる構造を有する。
【００８５】
〔製造例２〕化合物（Ｘ）−２の製造
ビス〔４−（２，３−エポキシプロピルオキシ）フェニル〕−４−ビフェニリル（シクロヘキシル）メタン（エポキシ当量２７７、ｎ＝０、以下、化合物ａ−２ともいう）１０９０ｇ、アクリル酸（化合物ｂ）２９０ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート７．１ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール８．４ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート９２６ｇを加えて１２０℃で１４時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｘ）−２を得た。
尚、化合物（Ｘ）−２は、（Ａ）成分である化合物ａ−２のエポキシ基１個に対し、（Ｂ）成分である化合物ｂのカルボキシル基が１個の比率でエステル化させて得られる構造を有する。
【００８６】
〔製造例３〕化合物（Ｘ）−３の製造
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（エポキシ当量１８７、商品名アデカレジンＥＰ−４１００Ｅ、ＡＤＥＫＡ社製、以下化合物ａ−３ともいう）３３４ｇ、アクリル酸（化合物ｂ）１３１ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．２ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール２．５ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート５６９ｇを加えて１２０℃で１５時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｘ）−３を得た。
尚、化合物（Ｘ）−３は、（Ａ）成分である化合物ａ−３のエポキシ基１個に対し、（Ｂ）成分である化合物ｂのカルボキシル基が１個の比率でエステル化させて得られる構造を有する。
【００８７】
〔製造例４〕化合物（Ｙ）−１の製造
２、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下、化合物ｃ−１ともいう）２２９ｇ、スチレンオキシド（以下、化合物ｄ−１ともいう）２４８ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．６ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１２６ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−１を得た。
尚、化合物（Ｙ）−１は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−１の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−１のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００８８】
〔製造例５〕化合物（Ｙ）−２の製造
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下、化合物ｃ−２ともいう）３５１ｇ、スチレンオキシド（化合物ｄ−１）２４８ｇ、トリフェニルフォスフィン１．８ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、化合物（Ｙ）−２を得た。
尚、化合物（Ｙ）−２は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−２の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−１のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００８９】
〔製造例６〕化合物（Ｙ）−３の製造
２、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（以下、化合物ｃ−３ともいう）２６９ｇ、スチレンオキシド（化合物ｄ−１）２４８ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．７ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１３０ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−３を得た。
尚、化合物（Ｙ）−３は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−３の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−１のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９０】
〔製造例７〕化合物（Ｙ）−４の製造
ビス〔４−ヒドロキシフェニル〕−４−ビフェニリル（シクロヘキシル）メタン（以下、化合物ｃ−４ともいう）４３４ｇ、スチレンオキシド（化合物ｄ−１）２４８ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．７ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１７１ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−４を得た。
尚、化合物（Ｙ）−４は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−４の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−１のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９１】
〔製造例８〕化合物（Ｙ）−５の製造
ビス〔４−ヒドロキシフェニル〕−４−ビフェニリル（シクロヘキシル）メタン（化合物ｃ−４）４３４ｇ、ブチルグリシジルエーテル（以下、化合物ｄ−２ともいう）２６６ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．６ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１７５ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−５を得た。
尚、化合物（Ｙ）−５は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−４の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−２のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９２】
〔製造例９〕化合物（Ｙ）−６の製造
２、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（化合物ｃ−１）１７２ｇ、３−（２−キセニロキシ）−１，２−エポキシプロパン（商品名ＯＰＰ−Ｇ、三光社製、以下、化合物ｄ−３ともいう）３４７ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート１．９ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１３２ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−６を得た。
尚、化合物（Ｙ）−６は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−１の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−３のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９３】
〔製造例１０〕化合物（Ｙ）−７の製造
２、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（化合物ｃ−１）２２９ｇ、化合物ｄ−３の２３２ｇ、アリルグリシジルエーテル（以下、化合物ｄ−４ともいう）１１７ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．７ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１４５ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−７を得た。
尚、化合物（Ｙ）−７は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−１の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−３と化合物ｄ−４の合計のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９４】
〔製造例１１〕化合物（Ｙ）−８の製造
２、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（化合物ｃ−１）３４３ｇ、フェニルグリシジルエーテル（エポキシ当量１５３、商品名デナコールＥＸ−１４１、ナガセケムテックス社製、以下、化合物ｄ−５ともいう）４６９ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート３．８ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１４９ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−８を得た。
尚、化合物（Ｙ）−８は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−１の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−５のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９５】
〔製造例１２〕化合物（Ｙ）−９の製造
化合物ｃ−１の２２８ｇ、４―ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル（エポキシ当量２２７、商品名デナコールＥＸ−１４６、ナガセケムテックス社製、以下、化合物ｄ−６ともいう）４６４ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート２．５ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１３０ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−９を得た。
尚、化合物（Ｙ）−９は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−１の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−６のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９６】
〔製造例１３〕化合物（Ｙ）−１０の製造
２、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン（以下、化合物ｃ−５ともいう）２２２ｇ、化合物ｄ−６の４６４ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート２．６ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１２１ｇを仕込み、９０℃で１時間撹拌し、さらに１２０℃で９時間撹拌し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として化合物（Ｙ）−１０を得た。
尚、化合物（Ｙ）−１０は、（Ｃ）成分である化合物ｃ−５の水酸基１個に対し、（Ｄ）成分である化合物ｄ−６のエポキシ基が１個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
【００９７】
〔実施例１〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１２５ｇ、製造例４で得られた｛化合物（Ｙ）−１｝６０．５ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（以下、化合物ｅともいう）３４．７ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート３２．９ｇを仕込み、１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１４．３ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１を得た（Ｍｗ＝３３００、Ｍｎ＝１６００、酸価（固形分）１０７ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−１の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【００９８】
〔実施例２〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．２の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１４８ｇ、製造例５で得られた｛化合物（Ｙ）−２｝６０．０ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）３７．９ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート５３．２ｇを仕込み、１２０℃で７時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１７．１ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．２を得た（Ｍｗ＝３５００、Ｍｎ＝１７００、酸価（固形分）９６ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．２が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−２の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【００９９】
〔実施例３〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．３の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１３２ｇ、製造例６で得られた｛化合物（Ｙ）−３｝６５．０ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）３５．８ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート３４．５ｇを仕込み、１２０℃で７時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１５．２ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．３を得た（Ｍｗ＝３４００、Ｍｎ＝１６００、酸価（固形分）１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．３が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−３の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１００】
〔実施例４〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．４の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１６６ｇ、製造例７で得られた｛化合物（Ｙ）−４｝８６．８ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）４０．４ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート４２．１ｇを仕込み、１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１９．１ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．４を得た（Ｍｗ＝３４００、Ｍｎ＝１７００、酸価（固形分）９３ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．４が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−４の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０１】
〔実施例５〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．５の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１６６ｇ、製造例８で得られた｛化合物（Ｙ）−５｝８７．７ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）４０．４ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート４２．１ｇを仕込み、１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１９．２ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．５を得た（Ｍｗ＝３４００、Ｍｎ＝１６００、酸価（固形分）９０ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．５が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−５の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０２】
〔実施例６〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．６の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１２５ｇ、製造例９で得られた｛化合物（Ｙ）−６｝６５．１ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）３０．３ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート３１．５ｇを仕込み、１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１４．３ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．６を得た（Ｍｗ＝３８００、Ｍｎ＝１７００、酸価（固形分）８９ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．６が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−６の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０３】
〔実施例７〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．７の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１４４ｇ、製造例１０で得られた｛化合物（Ｙ）−７｝６８．９ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）３７．３ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート３７．８ｇを仕込み、１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１６．６ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．７を得た（Ｍｗ＝３３００、Ｍｎ＝１７００、酸価（固形分）１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．７が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−７の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０４】
〔実施例８〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．８の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝２０５ｇ、製造例１１で得られた｛化合物（Ｙ）−８｝９６．３ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）５４．６ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート５８．４ｇを加えて１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート２３７ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．８を得た（Ｍｗ＝３５００、Ｍｎ＝１８００、酸価（固形分）１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．８が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−８の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０５】
〔実施例９〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．９の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１６５ｇ、製造例１２で得られた｛化合物（Ｙ）−９｝８２．３ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）４０．４ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート４７．３ｇを加えて１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１９１ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．９を得た（Ｍｗ＝３８００、Ｍｎ＝２１００、酸価（固形分）９１ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．９が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−９の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０６】
〔実施例１０〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１０の製造
製造例１で得られた｛化合物（Ｘ）−１｝１６５ｇ、製造例１３で得られた｛化合物（Ｙ）−１０｝８０．８ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）４０．２ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート４７．１ｇを加えて１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１９０ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１０を得た（Ｍｗ＝４８００、Ｍｎ＝２４００、酸価（固形分）８１ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１０が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−１及び化合物（Ｙ）−１０の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０７】
〔実施例１１〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１１の製造
製造例２で得られた｛化合物（Ｘ）−２｝２３２ｇ、製造例４で得られた｛化合物（Ｙ）−１｝９６．２ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）６１．２ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１２３ｇを仕込み、１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１１４ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１１を得た（Ｍｗ＝３５００、Ｍｎ＝１７００、酸価（固形分）９３ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１１が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−２及び化合物（Ｙ）−１の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０８】
〔実施例１２〕アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１２の製造
製造例３で得られた｛化合物（Ｘ）−３｝１０４ｇ、製造例４で得られた｛化合物（Ｙ）−１｝６０．５ｇ、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（化合物ｅ）３３．４ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート３５．４ｇを加えて１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１３３ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１２を得た（Ｍｗ＝３４００、Ｍｎ＝１５００、酸価（固形分）１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１２が含有する化合物（Ｚ）は、化合物（Ｘ）−３及び化合物（Ｙ）−１の水酸基の合計１個に対して、（Ｅ）成分である化合物ｅの酸無水物構造が０．６個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
【０１０９】
〔実施例１３〜２４〕アルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２の調製
実施例１〜１２で得られたアルカリ現像性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２の１４ｇに対し、トリメチロールプロパントリアクリレート６．３ｇ、光重合開始剤（Ｆ）としてベンゾフェノン２．１ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート７８ｇを加えてよく撹拌し、アルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２を得た。
【０１１０】
上記実施例１３〜２４で調製したアルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１２の評価を以下のようにして行った。
即ち、基板上にγ−グリシドキシプロピルメチルエトキシシランをスピンコートして良くスピン乾燥させた後、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート（１３００ｒ．ｐ．ｍ、５０秒間）し乾燥させた。７０℃で２０分間プリベークを行った後、ポリビニルアルコール５％溶液をコートして酸素遮断膜とした。７０℃２０分間の乾燥後、所定のマスクを用い、光源として超高圧水銀ランプを用いて露光後、２．５％炭酸ナトリウム溶液に２５℃で３０秒間浸漬して現像し、良く水洗した。水洗乾燥後、２３０℃で１時間ベークしてパターンを定着させた。得られたパターンについて、以下の評価を行った。結果を〔表１〕に示す。
【０１１１】
＜感度＞
露光時に、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2で十分だったものをａ、１００ｍＪ／ｃｍ2では不十分で、１３０ｍＪ／ｃｍ2で露光したものをｂ、１３０ｍＪ／ｃｍ2では不十分で、１６０ｍＪ／ｃｍ2で露光したものをｃとした。
＜解像度＞
露光現像時に、線幅１０μｍ以下でも良好にパターン形成できたものをＡ、線幅１０〜１５μｍであれば良好にパターン形成できたものをＢ、線幅１５μｍ以上のものでないと良好なパターン形成ができなかったものをＣと評価した。
＜密着性＞
現像して得られたパターンのはがれを目視により観察し、パターンはがれが全く観察されなかったものを○、パターンはがれが一部に観察されたものを△、パターンはがれが全面に観察されるものを×とした。
＜耐アルカリ性＞
加熱処理後の塗膜をａ）５％ＮａＯＨａｑ．中２４時間、ｂ）４％ＫＯＨａｑ．中５０℃で１０分間、ｃ）１％ＮａＯＨａｑ．中８０℃で５分間の条件で浸漬し、浸漬後の外観を目視により評価した。外観変化もなくレジストの剥離も全くなかったものを○、レジストの浮きが見られたりレジストの剥離が認められたものを×とした。
【０１１２】
また、以下の方法に従って、パターン形状の評価を行った。
即ち、ガラス基板上に上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート（６００ｒｐｍ、７秒間）して１０分間風乾させた後、９０℃で２分間ホットプレートにより加熱した。次いで、画素サイズ３０μｍ×１００μｍのマスクを用い、光源として超高圧水銀ランプを用いて露光し、２．５％炭酸ナトリウム水溶液で現像した後、良く水洗し、２３０℃で３０分焼成してパターンを定着させた。得られたパターンについて走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてパターン形状の観察を行なった。パターン形状が順テーパーであるものを○、垂直形状であるものを△、オーバーハング（逆テーパー）であるものを×とした。結果を〔表１〕に示す。
【０１１３】
【表１】
2009275148.tif 000033
【０１１４】
実施例１３〜２４のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、感度、解像度、密着性及び体アルカリ性に優れ、良好なパターン形状を持つものであった。