(57)【要約】【課題】物質の付着防止策としてヘッドスライダの媒体対向面に潤滑層を形成した際に起こる磁気スペーシングの増大を抑制することを課題とする。【解決手段】ヘッドスライダ１５は、撥水処理として、媒体対向面２３に、化学吸着層４０が、磁気ヘッド３３付近を露出して形成される。化学吸着層４０は、撥水性樹脂と媒体対向面２３との間に化学反応が起こった結果形成されたものである。なお、撥水性樹脂が媒体対向面２３と物理的に吸着して形成される物理吸着層であってもよい。【選択図】        図４
2009301624.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の先端に配置されて、記憶媒体の回転により発生する空気流で浮上するスライダと、
前記スライダの空気流出端側に配置されて、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドと、
を備え、
前記スライダは、媒体対向面に、撥水材料が、前記磁気ヘッド付近を露出して塗布されることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項２】
前記磁気ヘッド付近における空気流入端側の位置から前記スライダの空気流出端側までの距離は、前記撥水材料の膜の厚さを前記スライダの浮上時のピッチ角の正接で割った値であることを特徴とする請求項１に記載のヘッドスライダ。
【請求項３】
前記撥水材料は、撥水性樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載のヘッドスライダ。
【請求項４】
前記撥水材料は、撥水性樹脂と前記スライダの媒体対向面とを化学反応させた化学吸着層であることを特徴とする請求項１または２に記載のヘッドスライダ。
【請求項５】
記憶媒体と、
支持体の先端に配置されて、前記記憶媒体の回転により発生する空気流で浮上するスライダと、
前記スライダの空気流出端側に配置されて、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドと、
前記記憶媒体と前記磁気ヘッドとによる情報の再生信号と記録信号とを処理する信号処理基板と、
を備え、
前記スライダは、媒体対向面に、撥水材料が、前記磁気ヘッド付近を露出して塗布されることを特徴とする磁気記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドを備え、当該磁気ヘッドを記憶媒体上に浮上させるヘッドスライダおよび当該ヘッドスライダを備える磁気記憶装置に関し、特に、物質の付着を防止しつつ、磁気スペーシングの増大を抑制したヘッドスライダおよび当該ヘッドスライダを備える磁気記憶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記憶装置は、記録素子および再生素子が形成されたヘッドスライダによって、磁気ディスクに情報を記録する、あるいは、磁気ディスクから情報を再生する。その際、ヘッドスライダは、磁気ディスクとわずかな距離を保って磁気ディスク上を浮上する。浮上中のヘッドスライダにおける記録素子と磁気ディスク表面との距離、または、再生素子と磁気ディスク表面との距離は、磁気スペーシングと呼ばれている。
【０００３】
近年、磁気ディスクの記録密度が大幅に高くなり、それとともに、ヘッドスライダの浮上高が低く設定されてきている。記録密度の高い磁気ディスクでは、１ビットが記録される面積(ビット長)が小さい。この小面積の領域から発生する微弱な磁気から情報を再生するには、磁気スペーシングを小さくし、磁気ディスク表面に再生素子をより近づける必要がある。そのため、ヘッドスライダの浮上高が低く設定される。
【０００４】
ところで、磁気ディスク上には、揮発性有機物や塵埃いわゆるコンタミなどが存在し、ヘッドスライダに付着することがある。ヘッドスライダは、低い浮上高で浮上中に、このような物質が付着すると、磁気ディスク上を安定して浮上することができなくなり、磁気ディスクに接触するというヘッドクラッシュを起こしてしまう。そこで、ヘッドスライダの媒体対向面に潤滑層を形成して、物質の付着を防止する技術が知られている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１２３７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、媒体対向面に潤滑層が形成されたヘッドスライダは、潤滑層の厚さに相当する分だけ磁気スペーシングを増大させてしまう。物質の付着を防止する技術では、ヘッドスライダへの物質の付着が防止される反面、このような磁気スペーシングの増大により、記録密度の向上が限られてしまうという問題があった。そのため、ヘッドスライダの媒体対向面に潤滑層を形成することで、物質の付着防止の効果を得つつ、磁気スペーシングの増大については抑制させることが重要な課題となっていた。
【０００７】
この発明は、上述した従来技術の課題を解決するためになされたものであり、物質の付着を防止しつつ、磁気スペーシングの増大を抑制したヘッドスライダおよび当該ヘッドスライダを備える磁気記憶装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、この用品は、支持体の先端に配置されて、記憶媒体の回転により発生する空気流で浮上するスライダと、前記スライダの空気流出端側に配置されて、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドと、を備え、前記スライダは、媒体対向面に、撥水材料が、前記磁気ヘッド付近を露出して塗布されることを要件とする。
【０００９】
また、この装置は、記憶媒体と、支持体の先端に配置されて、前記記憶媒体の回転により発生する空気流で浮上するスライダと、前記スライダの空気流出端側に配置されて、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドと、前記記憶媒体と前記磁気ヘッドとによる情報の再生信号と記録信号とを処理する信号処理基板と、を備え、前記スライダは、媒体対向面に、撥水材料が、前記磁気ヘッド付近を露出して塗布されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
媒体対向面に塗布された撥水材料で物質の付着を防止しつつ、磁気ヘッド付近を露出するという塗布のしかたで、撥水材料が塗布されない場合と同様の磁気スペーシングを保つことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に添付図面を参照して、本発明に係るヘッドスライダおよび当該ヘッドスライダを備える磁気記憶装置の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【実施例】
【００１２】
まず、図１を用いて本実施例に係る磁気記憶装置の構成を説明する。図１は、本実施例に係る磁気記憶装置の構成を説明するための図である。図１に示すように、磁気記憶装置１０は、ディスク１１と、スピンドルモータ１２と、ヘッドスタックアッセンブリ１３と、ボイスコイルモータ１４と、ヘッドスライダ１５とを備える。
【００１３】
ディスク１１は、情報が記録される記憶媒体であり、スピンドルモータ１２によって駆動され、回転する。ヘッドスタックアッセンブリ１３は、ボイスコイルモータ１４によって駆動され、先端が弧を描くように動く。ヘッドスライダ１５は、ヘッドスタックアッセンブリ１３の先端に配置される。以下、ヘッドスライダ１５について説明する。
【００１４】
図２は、ヘッドスライダがディスク上を浮上する様子を模式的に示した図である。図２に示すように、ディスク１１は、方向２０の向きに回転している。ディスク１１が回転することで、ディスク表面２１には方向２２の向きの空気流が発生し、ヘッドスライダ１５は、その空気流により媒体対向面２３から圧力を受ける。また、ヘッドスライダ１５は、図１に示したヘッドスタックアッセンブリ１３の一部であるサスペンション２５から、ジンバル２４を介してディスク表面２１に押し付けられる力を受ける。
【００１５】
ヘッドスライダ１５は、上記した圧力と押し付けられる力により、ディスク表面２１とわずかな距離を保ってディスク１１上を浮上する。このとき、ヘッドスライダ１５は、ディスク表面２１から空気流入端２６までの距離が、ディスク表面２１から空気流出端２７までの距離より長い状態でディスク表面２１を浮上する。ディスク表面２１と媒体対向面２３とがなす角度を、以下ではピッチ角と呼称する。
【００１６】
次に、ヘッドスライダ１５の媒体対向面２３について説明する。図３は、ヘッドスライダの媒体対向面の一例を示す図である。図３に示すように、ヘッドスライダ１５の媒体対向面は、平坦ではなく、ＡＢＳ（Air  Bearing  Surface）３０と、段差面３１と、底面３２とが存在し、底面３２を基準に、段差面３１、ＡＢＳ３０の順に高くなる。磁気ヘッド３３は、ＡＢＳ３０のうち、空気流出端２７側の中央のＡＢＳ３０内に形成され、図示しない記録素子および再生素子を有する。このようなＡＢＳ３０、段差面３１および底面３２で発生する正圧と負圧が合成されて、ヘッドスライダ１５は、ディスク上を安定して浮上する。
【００１７】
続いて、図３におけるＡ−Ａ線の断面図を用いてヘッドスライダ１５を説明する。図４は、ヘッドスライダのＡ−Ａ線断面図である。図４に示すように、ヘッドスライダ１５は、撥水処理として、媒体対向面２３に、化学吸着層４０が、磁気ヘッド３３付近を露出して形成される。化学吸着層４０は、撥水性樹脂と媒体対向面２３との間に化学反応が起こった結果形成されたものである。なお、撥水性樹脂が媒体対向面２３と物理的に吸着して形成される物理吸着層であってもよい。化学吸着層４０は、物理吸着層と比較して、飛散が抑えられる。撥水性樹脂としては、例えば、ＣＦ３基が官能基として末端に備えられるＰＦＰＥ（Perfluoropolyether）を用いる。
【００１８】
なお、化学吸着層４０の形成は、撥水処理の一例であり、磁気ヘッド３３付近が露出していれば、いかなる撥水処理を行ってもよい。例えば、撥水処理として、ヘッドスライダ１５の媒体対向面２３にフッ素化されたカーボン膜が形成されてもよい。また、例えば、撥水処理として、ヘッドスライダ１５の媒体対向面２３にシラン基を有するフッ化アルキル化合物が付着されていてもよい。
【００１９】
図５は、媒体対向面において露出される範囲を説明するための図である。図５に示すように、媒体対向面２３に形成された化学吸着層４０の膜厚５０がＸであり、ヘッドスライダ１５の浮上時にピッチ角５１がθである場合に、媒体対向面２３のうち、空気流出端２７から空気流入端２６側に距離Ｘ／ｔａｎθだけ離れた範囲には、化学吸着層４０が形成されずに媒体対向面２３が露出されることが望ましい。例えば、膜厚５０が１ｎｍ、ピッチ角５１が１５０μｒａｄのとき、磁気ヘッド３３から空気流入端２６側に７μｍ程度の間隔を設けた位置から化学吸着層４０が形成される。その場合、化学吸着層４０の膜厚５０に影響されず、磁気ヘッド３３とディスク表面２１との距離である磁気スペーシングが最小となる。以下に図６および図７を用いて磁気スペーシングが最小となることを説明する。
【００２０】
図６は、磁気スペーシングロスについて説明するための図である。図６に示すように、大きさや形、媒体対向面の形状等が同一であるヘッドスライダ６０およびヘッドスライダ６４がある。ヘッドスライダ６０は、媒体対向面６１に潤滑層が形成されない。ヘッドスライダ６４は、媒体対向面６５に、所定の厚さの潤滑層６６が形成される。ヘッドスライダ６０がディスク表面２１を浮上した際の、磁気ヘッド６２からディスク表面２１までの離である磁気スペーシング６３を基準値とする。この基準値と、ヘッドスライダ６４の磁気ヘッド６７からディスク表面２１までの距離である磁気スペーシング６８との差が磁気スペーシングロス６９である。磁気スペーシングロス６９は、磁気ヘッド６２からの再生信号の強度を基準に、磁気ヘッド６７からの再生信号の強度を実験的に求め、再生信号の減衰度をＷａｌｌａｃｅの式で換算することによって算出される。
【００２１】
図７は、磁気スペーシングロスと媒体対向面に形成された潤滑層の膜の厚さの関係を示す図である。図７に示すように、媒体対向面に形成された潤滑膜が厚ければ厚いほど磁気スペーシングロスが大きな値となる。つまり、ヘッドスライダの媒体対向面に潤滑層が形成されると、磁気スペーシングが増大する。ここで、媒体対向面に潤滑膜が形成されない場合には、磁気スペーシングロスがほとんど発生していない。本実施例に係るヘッドスライダの磁気スペーシングロスを同様の手法で求めると、媒体対向面に潤滑膜が形成されない場合と同じ値を得ることができた。つまり、図５において、ヘッドスライダ１５の磁気スペーシングは、化学吸着層４０の膜厚５０に影響されず、最小値をとることができる。また、化学吸着層４０により物質の付着防止の効果を得ることができる結果、ヘッドクラッシュを防ぐことが可能となる。
【００２２】
次に、本実施例に係るヘッドスライダの製造方法を説明する。まず、図８〜図９を用いて第１の製造方法を説明し、図１０〜図１１を用いて第２の製造方法を説明する。
【００２３】
図８は、本実施例に係るヘッドスライダの第１の製造工程を示すフローチャートである。図８に示すように、まず、潤滑剤の溶液にヘッドスライダを浸す（ステップＳ１１０）。図９−１を用いて具体的に説明すると、ＨＧＡ（Head  Gimbal  Assembly）８０の先端が、溶液８１に浸される。ＨＧＡ８０は、ヘッドスライダ８２と、ヘッドスライダ８２を保持するサスペンションが一体化された部品である。溶液８１は、ＰＦＰＥ等の潤滑剤を希釈溶媒で所定の濃度に希釈したものである。
【００２４】
次に、所定の速度でヘッドスライダを引き上げ（ステップＳ１１１）、自然乾燥させる（ステップＳ１１２）。図９−２を用いて具体的に説明すると、溶液８１に浸されたＨＧＡ８０が所定の速度で溶液８１から引き上げられる。その後、ＨＧＡ８０を放置しておけば、希釈溶媒が蒸発するので、ヘッドスライダ８２の媒体対向面には、所定の潤滑剤からなる潤滑層が形成される。潤滑層の膜厚は、溶液８１の濃度や引き上げ速度によって決定される。
【００２５】
次に、潤滑層のうち磁気ヘッド近傍部分の媒体対向面にレジストを形成する（ステップＳ１１３）。図９−３を用いて具体的に説明すると、ヘッドスライダ８２の媒体対向面８４には、潤滑層８５が所定の膜厚で形成されており、磁気ヘッド８３付近に形成された潤滑層８５の媒体対向面８７にレジスト８６が形成される。
【００２６】
次に、潤滑層に紫外線を照射する（ステップＳ１１４）。図９−４を用いて具体的に説明すると、ヘッドスライダ８２の媒体対向面８４に対し、紫外線を照射する。こうすることによって、媒体対向面８４と、レジスト８６が形成された部分を除く潤滑層８５との間に化学反応が起こる。なお、紫外線に限らず、例えば、Ｘ線、電子線、集束イオンビーム、赤外線のレーザ光などを高エネルギー線として照射してもよい。
【００２７】
次に、レジストを除去する（ステップＳ１１５）。図９−５を用いて具体的に説明すると、潤滑層８９の媒体対向面８７に形成されたレジストが除去される。ここで、潤滑層８８は、紫外線によって、ヘッドスライダ８２の媒体対向面８４との間に化学反応が起こり、物理吸着層から化学吸着層となっている。一方、潤滑層８９は、除去されたレジストによって紫外線が遮られたことにより、媒体対向面８４との間に化学反応が起こらず、物理吸着層のままである。
【００２８】
次に、希釈溶媒で洗浄し（ステップＳ１１６）、自然乾燥させ（ステップＳ１１７）、工程が終了する。図９−６を用いて具体的に説明すると、図９−１〜図９−５で説明した工程を経て、ＨＧＡ８０が溶液９０に浸される。溶液９０は、ＰＦＰＥ等の潤滑剤の希釈に用いる、純粋な希釈溶媒である。こうすることによって、ヘッドスライダ８２に形成された潤滑層のうち、物理吸着層として残る潤滑層が除去される。その後、ＨＧＡ８０を放置しておけば、希釈溶媒が蒸発し、図４に示したヘッドスライダ１５が完成する。
【００２９】
なお、図８〜図９を用いて説明した製造方法の変形例として、潤滑層のうち磁気ヘッド近傍部分の媒体対向面にレジストを形成せずに、化学吸着層を形成する箇所のみに紫外線を照射するようにしてもよい。
【００３０】
続いて、本実施例に係るヘッドスライダの第２の製造方法を図１０〜図１１を用いて説明する。図１０は、本実施例に係るヘッドスライダの第２の製造工程を示すフローチャートである。図１０に示すように、まず、磁気ヘッド近傍にレジストを形成する（ステップＳ２１０）。図１１−１を用いて具体的に説明すると、ヘッドスライダ１００の媒体対向面１０１における磁気ヘッド１０２付近にレジスト１０３が形成される。
【００３１】
次に、ヘッドスライダの媒体対向面に潤滑剤を蒸着させる（ステップＳ２１１）。図１１−２を用いて具体的に説明すると、所定の潤滑剤が加熱蒸発させられ、その蒸気がヘッドスライダ１００の媒体対向面１０１に付くことで潤滑層１０４が形成される。ここで、磁気ヘッド１０２付近の媒体対向面１０１には、レジスト１０３が形成されているので、蒸気が付かず、潤滑層が形成されない。
【００３２】
次に、レジストを除去する（ステップＳ２１２）。図１１−３を用いて具体的に説明すると、ヘッドスライダ１００の媒体対向面１０１に形成されたレジストが除去される。こうすることによって、潤滑層１０４が、磁気ヘッド１０２付近を露出して形成される。
【００３３】
次に、潤滑層に紫外線を照射する（ステップＳ２１３）。図１１−４を用いて具体的に説明すると、ヘッドスライダ１００の媒体対向面１０１に対し、紫外線を照射する。こうすることによって、媒体対向面１０１と潤滑層１０４との間に化学反応が起こる。なお、紫外線に限らず、例えば、Ｘ線、電子線、集束イオンビーム、赤外線のレーザ光などを高エネルギー線として照射してもよい。
【００３４】
次に、希釈溶媒で洗浄し（ステップＳ２１４）、自然乾燥させ（ステップＳ２１５）、工程が終了する。こうすることによって、ヘッドスライダに形成された潤滑層のうち、化学反応が起こらず、物理吸着層として残る潤滑層が除去される。その後、ヘッドスライダを放置しておけば、希釈溶媒が蒸発するので、図４に示したヘッドスライダ１５が完成する。
【００３５】
なお、図１０〜図１１を用いて説明した製造方法の変形例として、ヘッドスライダの媒体対向面における磁気ヘッド近傍にレジストを形成せずに、媒体対向面全体に潤滑剤を蒸着させ、化学吸着層を形成する箇所のみに紫外線を照射するようにしてもよい。
【００３６】
以上の実施例を含む実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００３７】
（付記１）支持体の先端に配置されて、記憶媒体の回転により発生する空気流で浮上するスライダと、
前記スライダの空気流出端側に配置されて、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドと、
を備え、
前記スライダは、媒体対向面に、撥水材料が、前記磁気ヘッド付近を露出して塗布されることを特徴とするヘッドスライダ。
【００３８】
（付記２）前記磁気ヘッド付近における空気流入端側の位置から前記スライダの空気流出端側までの距離は、前記撥水材料の膜の厚さを前記スライダの浮上時のピッチ角の正接で割った値であることを特徴とする付記１に記載のヘッドスライダ。
【００３９】
（付記３）前記撥水材料は、撥水性樹脂であることを特徴とする付記１または２に記載のヘッドスライダ。
【００４０】
（付記４）前記撥水材料は、撥水性樹脂と前記スライダの媒体対向面とを化学反応させた化学吸着層であることを特徴とする付記１または２に記載のヘッドスライダ。
【００４１】
（付記５）記憶媒体と、
支持体の先端に配置されて、前記記憶媒体の回転により発生する空気流で浮上するスライダと、
前記スライダの空気流出端側に配置されて、記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドと、
前記記憶媒体と前記磁気ヘッドとによる情報の再生信号と記録信号とを処理する信号処理基板と、
を備え、
前記スライダは、媒体対向面に、撥水材料が、前記磁気ヘッド付近を露出して塗布されることを特徴とする磁気記憶装置。
【００４２】
（付記６）記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドを備え、当該磁気ヘッドを記憶媒体上に浮上させるヘッドスライダの製造方法であって、
当該ヘッドスライダの媒体対向面に潤滑層を形成する潤滑層形成工程と、
前記潤滑層形成工程によって形成された潤滑層のうち前記磁気ヘッド近傍部分を除いた部分に高エネルギー線を照射させる高エネルギー線照射工程と、
前記高エネルギー線照射工程によって高エネルギー線が照射された潤滑層を、当該潤滑層を形成する潤滑剤が可溶な溶媒を用いて洗浄する洗浄工程と、
を含んだことを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【００４３】
（付記７）前記高エネルギー線照射工程は、前記潤滑層のうち前記磁気ヘッド近傍部分の媒体対向面にレジストを形成した後、前記潤滑層に高エネルギー線を照射し、
前記高エネルギー線照射工程後に、前記レジストを除去するレジスト除去工程と、
をさらに含んだことを特徴とする付記６に記載のヘッドスライダの製造方法。
【００４４】
（付記８）前記高エネルギー線照射工程は、前記潤滑層形成工程によって形成された潤滑層のうち前記磁気ヘッド近傍部分を除いた部分にのみ高エネルギー線を照射することを特徴とする付記６に記載のヘッドスライダの製造方法。
【００４５】
（付記９）記録素子と再生素子とを有する磁気ヘッドを備え、当該磁気ヘッドを記憶媒体上に浮上させるヘッドスライダの製造方法であって、
当該ヘッドスライダの媒体対向面における前記磁気ヘッド付近にレジストを形成するレジスト形成工程と、
前記レジスト形成工程によってレジストが形成された媒体対向面に潤滑層を形成する潤滑層形成工程と、
前記潤滑層形成工程によって形成された潤滑層に高エネルギー線を照射する高エネルギー線照射工程と、
前記高エネルギー線照射工程によって高エネルギー線を照射された潤滑層を、潤滑剤が可溶な溶媒を用いて洗浄する洗浄工程と、
を含んだことを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本実施例に係る磁気記憶装置の構成を示す図である。
【図２】ヘッドスライダがディスク上を浮上する様子を模式的に示した図である。
【図３】ヘッドスライダの媒体対向面の一例を示す図である。
【図４】ヘッドスライダのＡ−Ａ線断面図である。
【図５】媒体対向面において露出される範囲を説明するための図である。
【図６】磁気スペーシングロスについて説明するための図である。
【図７】磁気スペーシングロスと媒体対向面に形成された潤滑層の膜の厚さの関係を示す図である。
【図８】本実施例に係るヘッドスライダの第１の製造工程を示すフローチャートである。
【図９−１】潤滑剤の溶液にヘッドスライダを漬からせる工程を説明するための図である。
【図９−２】所定の速度でヘッドスライダを引き上げる工程を説明するための図である。
【図９−３】ヘッド近傍にレジストを形成する工程を説明するための図である。
【図９−４】潤滑層に紫外線を照射する工程を説明するための図である。
【図９−５】レジストを除去する工程を説明するための図である。
【図９−６】希釈溶媒で洗浄する工程を説明するための図である。
【図１０】本実施例に係るヘッドスライダの第２の製造工程を示すフローチャートである。
【図１１−１】ヘッド近傍にレジストを形成する工程を説明するための図である。
【図１１−２】ヘッドスライダの媒体対向面に潤滑剤を蒸着させる工程を説明するための図である。
【図１１−３】レジストを除去する工程を説明するための図である。
【図１１−４】潤滑層に紫外線を照射する工程を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０  磁気記憶装置
１１  ディスク
１２  スピンドルモータ
１３  ヘッドスタックアッセンブリ
１４  ボイスコイルモータ
１５、６０、６４、８２、１００  ヘッドスライダ
２０、２２  方向
２１  ディスク表面
２３、６１、６５、８４、８７、１０１  媒体対向面
２４  ジンバル
２５  サスペンション
２６  空気流入端
２７  空気流出端
３０  ＡＢＳ
３１  段差面
３２  底面
３３、６２、６７、８３、１０２  磁気ヘッド
４０  化学吸着層
５０  膜厚
５１  ピッチ角
６３、６８  磁気スペーシング
６６、８５、８８、８９、１０４  潤滑層
６９  磁気スペーシングロス
８０  ＨＧＡ
８１、９０  溶液
８６、１０３  レジスト
【図１】
2009301624.tif 000003
【図２】
2009301624.tif 000004
【図３】
2009301624.tif 000005
【図４】
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【図５】
2009301624.tif 000007
【図６】
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【図７】
2009301624.tif 000009
【図８】
2009301624.tif 000010
【図９−１】
2009301624.tif 000011
【図９−２】
2009301624.tif 000012
【図９−３】
2009301624.tif 000013
【図９−４】
2009301624.tif 000014
【図９−５】
2009301624.tif 000015
【図９−６】
2009301624.tif 000016
【図１０】
2009301624.tif 000017
【図１１−１】
2009301624.tif 000018
【図１１−２】
2009301624.tif 000019
【図１１−３】
2009301624.tif 000020
【図１１−４】
2009301624.tif 000021