(57)【要約】【課題】光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明プラスチックフィルムと、透明プラスチックフィルム上に形成された多官能性モノマーと金属酸化物微粒子とを有する高屈折率層と、高屈折率層上に形成された有機ケイ素化合物及びその加水分解物と導電性金属酸化物微粒子および多孔質シリカ微粒子とを有する低屈折率層と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】図１
2009069317.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明プラスチックフィルムと、
前記透明プラスチックフィルム上に形成された多官能性モノマーと金属酸化物微粒子とを有する高屈折率層と、
前記高屈折率層上に形成された有機ケイ素化合物及びその加水分解物と導電性金属酸化物微粒子及び多孔質シリカ微粒子とを有する低屈折率層と、
を備えたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記高屈折率層は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する前記多官能性モノマーと粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の前記金属酸化物微粒子とを有し、
前記高屈折率層は前記多官能性モノマーと前記金属酸化物微粒子との合計１００重量部に対して前記多官能性モノマーは５０重量部以上９０重量部以下を含むことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記低屈折率層は、一般式（Ａ）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基、ｘは０以上４以下の整数である。）で示される有機ケイ素化合物及びその加水分解物と、
粒子径１ｎｍ〜１００ｎｍの前記導電性金属酸化物微粒子及び粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の前記多孔質シリカ微粒子と、を含み、
一般式（Ａ）で示される前記有機ケイ素化合物及びその加水分解物１００重量部に対し、前記導電性金属酸化物微粒子及び前記多孔質シリカ微粒子が４０重量部以上１５０重量部以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記低屈折率層の屈折率は１．４２以下であり、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける前記低屈折率層の最小反射率が１．２％以下であることを特徴とする請求項１又は３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記金属酸化物微粒子は、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯから選ばれる１種類以上の材料を含有することを特徴とする請求項１、２及び４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記導電性金属酸化物微粒子は、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子から選ばれる１種類以上の金属酸化物粒子を含有することを特徴とする請求項１、３及び４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関し、特に光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
視野性向上のため、画像表示用ディスプレイ装置の表示画面やそのカバー材料、ビデオ一体型カメラ、携帯用ハンディ端末表面などは、透明基材上への反射防止コートにより外光反射を抑えることが必須となっている。特に最近ではＯＡ機器の小型化に伴い屋外での利用が増える傾向にあり、反射防止フィルムへの要求が一層高まってきている。
【０００３】
プラスチックフィルムの利点として、その加工性、透明性、軽量さに加え、また安価であることなどが挙げられる。その一方でガラス等と比較して柔らかく、表面にキズが付きやすい等の欠点も有している。そこで、プラスチックフィルムの少なくとも一方にアクリル系ＵＶ硬化型樹脂等をコーティングし、ハードコート性を付帯させている。しかしながら、アクリル特有の絶縁特性に優れるため帯電しやすく、その結果、ほこりが付着しやすくなるのに加え、透明性の低下がおこるという問題を抱えていた。
【０００４】
そこで近年、これらの欠点を改善するために、ハードコート層に導電材を練り混むか、基材とハードコート層の間やハードコート層と低屈折率層との間に導電層を設ける手法が用いられている。
【０００５】
特許文献１に開示されているように、導電材として用いられる材料は、金属酸化物微粒子や、導電性ポリマー、各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物があげられる。この中で各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物を用いる方式は外気中の水分を媒体としてイオン伝導を行うために湿度依存性が大きく、さらには上層に反射防止層などの新たな層を形成する場合には、性能が安定しないという問題がある。
【０００６】
一方、湿度環境による影響のない電子伝導性の微粒子を使用する技術では、層間に導電層を設ける方式とハードコート練り混み方式とが用いられている。
【０００７】
特許文献２に開示されているように、基材とハードコート層間とに導電層を設ける方式では、導電層の上層に積層することにより、導電性を考慮して上層に特別な処理を行わなければ行けないことや、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。
【０００８】
特許文献３に開示されているように、ハードコート層と反射防止層間とに導電層を設ける方式でも同様に、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。また、層間に導電層を設ける方式とハードコート練り混み方式の両者において、ハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下することも問題となる。
【０００９】
さらに、特許文献４に開示されているように、最外層である反射防止層に多孔質導電性微粒子を添加する方式では、導電性を発現する為には微粒子の添加量を増やす必要があり、その弊害として表面硬度が低下してしまう。また導電層の屈折率が高く十分な反射防止性を得られないなどの問題があった。
【００１０】
これまで反射防止フィルムに帯電防止性を持たせる場合、ハードコート層に導電材を練り混むか、基材とハードコート層との間やハードコート層と低屈折率層との間に導電層を設ける手法が多く用いられてきた。しかしながら、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちる点やハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下することが問題となっていた。
【特許文献１】特開２００２−４０２０９号公報
【特許文献２】特開平１１−３２６６０２号公報
【特許文献３】特開２００１−３３０７０２号公報
【特許文献４】特開２００７−１０８７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明は、透明プラスチックフィルムと、透明プラスチックフィルム上に形成された多官能性モノマーと金属酸化物微粒子とを有する高屈折率層と、高屈折率層上に形成された有機ケイ素化合物及びその加水分解物と導電性金属酸化物微粒子及び多孔質シリカ微粒子とを有する低屈折率層と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルムとしたものである。
【００１３】
本発明の請求項２に係る発明は、高屈折率層は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能性モノマーと粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子とを有し、高屈折率層は多官能性モノマーと金属酸化物微粒子との合計１００重量部に対して多官能性モノマーは５０重量部以上９０重量部以下を含むことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１４】
本発明の請求項３に係る発明は、低屈折率層は、一般式（Ａ）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基、ｘは０以上４以下の整数である。）で示される有機ケイ素化合物及びその加水分解物と、粒子径１ｎｍ〜１００ｎｍの導電性金属酸化物微粒子及び粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の多孔質シリカ微粒子と、を含み、一般式（Ａ）で示される有機ケイ素化合物及びその加水分解物１００重量部に対し、導電性金属酸化物微粒子及び多孔質シリカ微粒子が４０重量部以上１５０重量部以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１５】
本発明の請求項４に係る発明は、低屈折率層の屈折率は１．４２以下であり、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける前記低屈折率層の最小反射率が１．２％以下であることを特徴とする請求項１又は３に記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１６】
本発明の請求項５に係る発明は、金属酸化物微粒子は、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯから選ばれる１種類以上の材料を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１７】
本発明の請求項６に係る発明は、導電性金属酸化物微粒子は、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子から選ばれる１種類以上の金属酸化物粒子を含有することを特徴とする請求項１、３及び４のいずれかに記載の反射防止フィルムとしたものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、実施の形態の間において重複する説明は省略する。
【００２０】
反射防止フィルム１０においては、（１）外光の映り込みを十分に抑制することができ、（２）光の干渉によりムラを抑制することができ、（３）帯電防止性を高め反射防止フィルム１０の表面についたほこりを容易に拭き取ることができ、且つ（４）耐擦傷性が高いことが要求されている。
【００２１】
本発明者は、これら（１）〜（４）の特性を満たすためには、反射防止フィルム１０において以下の特性条件を満たすことが必要であることを見出した。
【００２２】
（１）外光の映り込みの抑制
反射防止フィルム１０の外光の映り込みを十分に抑制するためには、反射防止フィルム１０の最小反射率を１．２％以下とする必要がある。
（２）光の干渉によるムラの抑制
透明プラスチックフィルム１上に形成された高屈折率層２と、高屈折率層２上に形成された低屈折率層３を含む本発明に係る反射防止フィルム１０においては、光の干渉によりムラを抑制するためには、高屈折率層２の屈折率と透明プラスチックフィルム１の屈折率との屈折率差を０．０３以下とする必要がある。
（３）帯電防止性の向上
反射防止フィルム１０の表面についたほこりを容易に拭き取るためには、反射防止フィルム１０の帯電防止性を高め、表面抵抗値を１．０×１０１２（Ω／□）以下とする必要がある。
（４）耐擦傷性の向上
反射防止フィルム１０の耐擦傷性が低いと、反射防止フィルム１０表面に傷が発生しやすくなり、表面に発生した傷により反射防止フィルム１０の機能が発揮できなくなる。よって、反射防止フィルム１０には高い耐擦傷性が要求される。
【００２３】
本発明者は、上述した（１）〜（４）の特性条件の全てを満たす反射防止フィルム１０を見出した。以下、本発明の反射防止フィルム１０について説明する。
【００２４】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム１０は、透明プラスチック基板１と、高屈折率層２と、高屈折率層２に添加させた金属酸化物微粒子５と、高屈折率層２に添加させた多官能性モノマー（図示せず）と、低屈折率層３と、低屈折率層３に添加させた導電性金属酸化物微粒子６と、低屈折率層３に添加させた多孔質シリカ微粒子７と、を備えている。
【００２５】
本発明の実施の形態に係る透明プラスチックフィルム１としては、種々の有機高分子からなる基材をあげることができる。光学部材として使用される基材は、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点から選択することができる。例えば、ポリオレフィン系としてはポリエチレン、ポリプロピレン等を用いることができ、ポリエステル系としてはポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート等を用いることができ、ポリアミド系としてはナイロン−６、ナイロン６６を用いることができ、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース系としてはトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。あるいはこれらの有機高分子の共重合体などを用いることができる。これらの有機高分子の中から単層、あるいは複数の有機高分子を積層したものを使用することができる。
【００２６】
これらの透明プラスチックフィルム１の基材を構成する有機高分子に添加剤として、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができる。
【００２７】
また、この透明プラスチックフィルム１の膜厚は、特に限定されるものではないが２０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【００２８】
高屈折率層２は、ウェットコーティング法としてディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等により透明プラスチックフィルム１の少なくとも片面に塗工させることができる。
【００２９】
高屈折率層２を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の有電極ランプの他、フュージョンランプに代表される無電極ランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
【００３０】
高屈折率層２の膜厚は、塗工精度、取扱いの点で、膜厚は２０μｍ以下が好ましく、特に３μｍ〜１２μｍの範囲が好ましい。
【００３１】
本発明の実施の形態に係る低屈折率層３に含まれる有機ケイ素化合物は、一般式（Ａ）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘを満たすものである。式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である。例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらは単独で使用しても良いし、２種類以上を併用することができる。
【００３２】
さらに、一般式（Ｂ）Ｒ’ｙＳｉ（ＯＲ）４-ｙを満たす有機ケイ素化合物を添加することができる。式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である。例えば、オクチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、３、３、３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ−パープルオロヘキシルトリメトキシシラン、１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ−パープルオロデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロビルトリメトキシシラン、３−アミノプロビルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらは単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【００３３】
低屈折率層３の膜厚は、一般式（Ｃ）ｎｄ＝λ／４（但し、ｎは層の屈折率、ｄは層厚を示し、λは光の波長を示し、４５０≦λ≦６５０を満たす整数である）を満たすことが望ましい。
【００３４】
上記一般式（Ａ）または一般式（Ｂ）で表される有機ケイ素化合物を用いて重合体を作製する方法は限定されないが、加水分解によって作製する際の触媒としては、塩酸、シュウ酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３５】
低屈折率層３は、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、高屈折率層４に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００３６】
低屈折率層３は、高屈折率層２と同様に前述したウェットコーティング法により塗布され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等により塗膜を硬化させることができる。
【００３７】
本発明の実施の形態に係る多官能性モノマーは、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。多官能性モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５.２.１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。多官能性モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００３８】
高屈折率層２において、前述した多官能性モノマーは、多官能性モノマーと金属酸化物微粒子５との合計１００重量部に対し、５０重量部以上９０重量部以下含まれていることが好ましく、特に７０重量部以上８５重量部以下が好ましい。多官能性モノマーが５０重量部より少ないと硬度低下や面性悪化、９０重量部より多いと密着性の低下や屈折率低下が生じる。
【００３９】
更に光重合開始剤として、例えば、２、２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００４０】
また、光増感剤としてトリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系を挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することができる。
【００４１】
さらに、性能改良のため、泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することができる。
【００４２】
また、前記多官能性モノマーの希釈溶媒としては、非重合性のものであれば特に限定されるものではないが、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル類のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール類のアルコール類等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらは高屈折率剤に対し、１０重量部以上７０重量部以下が望ましく、特に３０重量部以上５０重量部以下が好ましい。
【００４３】
本発明の実施の形態に係る金属酸化物微粒子５は、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯのうち少なくとも１種類以上の材料を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００４４】
金属酸化物微粒子５の添加により高屈折率層２の表面に微細な凹凸が生じ、表面積が増大する。よって高屈折率層２と低屈折率層３との間で物理的吸着力が増大し、密着性が向上する。その結果、低屈折率層の耐擦傷性を向上させることができる。
【００４５】
これらの金属酸化物微粒子５の粒径は１００ｎｍ以下であることが望ましく、１００ｎｍより大きくなるとヘイズが高くなり反射防止フィルムの透過率が低下してしまう。
【００４６】
高屈折率層２において、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと金属酸化物微粒子５との合計１００重量部に対し、金属酸化物微粒子５は１０重量部以上５０重量部以下が望ましく、特に１５重量部以上３０重量部以下が好ましい。金属酸化物微粒子５が１０重量部より少ないと密着性の低下や屈折率低下、５０重量部より多いと硬度低下や面性悪化が生じる。
【００４７】
本発明の実施の形態に係る導電性金属酸化物微粒子６はＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。その中でも白色で透明性の優れたＳｂ２Ｏ５の使用が望ましい。
【００４８】
これらの導電性金属酸化物微粒子６の粒径は１００ｎｍ以下であることが望ましく、１００ｎｍより大きくなるとヘイズが高くなり、反射防止フィルム１０の透過率が低下する。
【００４９】
本発明の実施の形態に係る多孔質シリカ微粒子７は、内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は通常のシリカの屈折率が１．４６と比較して著しく低い屈折率が１．２０以上１．３０以下である。また、この多孔質シリカ微粒子７をマトリックス中に添加した場合、多孔質シリカ微粒子７は多孔質であるため、マトリックスがシリカ微粒子内部に浸漬することが無く、屈折率の上昇を防ぐことができる。
【００５０】
多孔質シリカ微粒子７の平均粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内であれば良い。この平均粒径が１００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層３の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が１ｎｍ未満であると、多孔質シリカ微粒子７が凝集しやすくなってしまう。
【００５１】
導電性金属酸化物微粒子６及び多孔質シリカ微粒子７は、低屈折率層３のバインダーに１００重量部に対し４０重量部以上１５０重量部以下が望ましく、特に１００重量部に対し４０重量部以上１００重量部以下が好ましい。１５０重量部より多すぎると低屈折率層３の耐擦傷性が低下し、４０重量部より少なすぎると導電性が得られなくなる。
【００５２】
また、低屈折率層３において、導電性金属酸化物微粒子６及び多孔質シリカ微粒子７の配合比によって、低屈折率層３の屈折率を制御することができる。導電性金属酸化物微粒子６と多孔質シリカ微粒子７の合計１００重量部に対し、多孔質シリカ微粒子７の６０重量部以上８０重量部以下が好ましく、特に６５重量部以上７５重量部以下が望ましい。
【００５３】
上述したとおり、本発明の反射防止フィルム１０にあっては、高屈折率層２と低屈折率層３とを設けた側の波長３６０ｎｍ〜８００ｎｍにおける最小反射率を１．２％以下とする必要がある。最小反射率が１．２％を超えるような場合、得られる反射防止フィルム１０は外光の映り込みを十分に抑制することができず、反射防止機能が不十分となる。なお、さらには最小反射率が１．０％以下であることが好ましい。
【００５４】
また、上述したとおり、本発明の低屈折率層３の屈折率は、１．４２以下とすることが好ましい。また、本発明の高屈折率層２は、低屈折率層３の屈折率と比較して０．２０以上高い屈折率を有することが好ましい。本発明の低屈折率層３の屈折率を１．４２以下とし、高屈折率層２の屈折率を低屈折率層３の屈折率よりも０．２０以上大きくすることにより、得られる反射防止フィルム１０の最小反射率を１．２％以下とすることができる。
【００５５】
また、上述したとおり、高屈折率層２の屈折率と透明プラスチックフィルム１の屈折率との屈折率差は光の干渉を低減するために０．０３以下とすることが好ましい。両者の屈折率差が０．０３を超える場合には、得られる反射防止フィルム１０は光の干渉によりムラが発生する傾向にある。本発明にあっては、高屈折率層２の屈折率との屈折率差が小さいポリエチレンテレフタラートフィルムを好適に用いることができる。
【００５６】
また、上述したとおり、本発明の反射防止フィルム１０にあっては、高屈折率層２と低屈折率層３とを設けた側の表面抵抗値が１．０×１０１２（Ω／□）以下とすることが好ましい。表面抵抗値が１．０×１０１２（Ω／□）以下とすることにより、反射防止フィルム１０表面についたほこりを容易に拭き取ることができる。表面抵抗値が１．０×１０１２（Ω／□）を超えるような場合、反射防止フィルム１０表面に付着したほこりを容易に拭き取ることが困難となる。なお、さらには、表面抵抗値が１．０×１０１１（Ω／□）以下とすることが好ましい。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明の実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００５８】
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０の性能を下記の方法に従って評価した。
【００５９】
（ａ）光学特性
（１）反射率測定
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０をフィルム面に艶消しの黒色塗料を塗布した後、波長３６０ｎｍ〜８００ｎｍの光を入射角５゜とした場合の片面の反射率を測定した。
【００６０】
（２）ヘイズ値
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０を日本電色工業（株）製、製品名「ＮＤＨ−２０００」の写像性測定器を使用して測定した。
【００６１】
（３）干渉ムラ
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０をフィルム面に艶消しの黒色塗料を塗布した後、片面の干渉ムラの有無を目視判定した。判定基準を以下に示す。
○：干渉ムラを確認することが出来ない。
×：干渉ムラが確認できる。
【００６２】
（ｂ）表面抵抗値
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０をＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して行った。
【００６３】
（ｃ）機械強度
（１）耐擦傷性
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０の表面をスチールウール、日本スチールウール（株）製、製品名「ボンスター＃００００」により２５０ｇ／ｃｍ２で１０回擦り、傷の有無を目視判定した（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。
【００６４】
（２）密着性
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０の表面を１ｍｍ角１００点カット後、粘着セロハンテープ、ニチバン（株）製、工業用２４ｍｍ巾セロテープ（登録商標）による剥離の有無を目視判定した（クロスカットテープピール試験）。
【００６５】
［実施例１］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ８０重量部
ＺｒＯ２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）                      ２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００６６】
上記材料を撹拌混合して作製した高屈折率剤を厚み１００μｍ、屈折率ｎ＝１．６６のポリエチレンテレフタレート（全光線透過率：８８％、ヘイズ値：０．５％）上にバーコーターを用いて塗布し、５０度で１分間乾燥後、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）製、「無電極Ｈバルブランプ」を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。硬化後の高屈折率層２の厚みは約５μｍであった。
【００６７】
＜低屈折率層３の形成＞  屈折率＝１．４１９
Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４を９５ｍｏｌ％、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３を５ｍｏｌ％混合したマトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が６５重量部となるように添加し、１．０Ｎ−ＨＣｌを触媒に用いた低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は、以下の割合とした。
【００６８】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）        ６５重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）            ３５重量部
【００６９】
これらを上記で作製した高屈折率層２へバーコーターを用いて乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるよう塗布し、１２０℃で１分間乾燥し、低屈折率層３を形成した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００７０】
［実施例２］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．６６７
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ８５重量部
ＴｉＯ２（屈折率ｎ＝２．５、東洋インキ（株）製）                      １５重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００７１】
＜低屈折率層の形成＞  屈折率＝１．４０２
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が１００重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。
【００７２】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）        ７０重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）            ３０重量部
【００７３】
上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１０を作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００７４】
［比較例１］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．５５
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ９５重量部
ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９、東洋インキ（株）製）                        ５重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００７５】
＜低屈折率層３の形成＞  屈折率＝１．３９１
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が１００重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。
【００７６】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）        ７５重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）            ２５重量部
【００７７】
上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１０を作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００７８】
［比較例２］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ８０重量部
ＺｒＯ２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）                      ２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００７９】
＜低屈折率層３の形成＞  屈折率＝１．４４６
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が３５重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。
【００８０】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）        ５０重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）            ５０重量部
【００８１】
上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１０を作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００８２】
［比較例３］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ８０重量部
ＺｒＯ２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）                      ２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００８３】
＜低屈折率層３の形成＞  屈折率＝１．３６
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７が４０重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７は以下の割合とした。
【００８４】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）        １００重量部
【００８５】
上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００８６】
［比較例４］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ８０重量部
ＺｒＯ２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）                      ２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００８７】
＜低屈折率層３の形成＞  屈折率＝１．４２
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が３０重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。
【００８８】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）          ７５重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）              ２５重量部
【００８９】
上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００９０】
［比較例５］
＜高屈折率層２の形成＞  屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）                                      ８０重量部
ＺｒＯ２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）                      ２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）        ５重量部
メチルエチルケトン                                                    １００重量部
【００９１】
＜低屈折率層３の形成＞  屈折率＝１．３８０
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が１５０重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。
【００９２】
多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）        ７５重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）            ２５重量部
【００９３】
上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１０を作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。
【００９４】
実施例１及び２に係る本発明の反射防止フィルム１０並びに比較例１乃至５に係る反射防止フィルム１０の物性値などをまとめた表を図２に示す。図２の評価結果より、実施例１及び２に係る本発明の反射防止フィルム１０は、反射防止フィルム１０に必要とされる特性条件（１）外光の映り込みの抑制、（２）光の干渉によるムラの抑制、（３）帯電防止性の向上、（４）耐擦傷性の向上の全ての特性条件を満たしていることがわかる。
【００９５】
一方、比較例１乃至５に係る反射防止フィルム１０においては、反射防止フィルム１０に必要とされる特性条件（１）外光の映り込みの抑制、（２）光の干渉によるムラの抑制、（３）帯電防止性の向上、（４）耐擦傷性の向上の特性条件の全てを満たしているものは無かった。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明の実施の形態に係る反射防止フィルムを示す概略断面図である。
【図２】実施例１及び２に係る本発明の反射防止フィルム並びに比較例１乃至５に係る反射防止フィルムの物性値などをまとめた表である。
【符号の説明】
【００９７】
１  透明プラスチックフィルム
２  高屈折率層
３  低屈折率層
５  金属酸化物微粒子
６  導電性金属酸化物微粒子
７  多孔質シリカ微粒子
１０  反射防止フィルム
【図１】
2009069317.tif 000003
【図２】
2009069317.tif 000004