(57)【要約】【課題】有機機能層の膜厚ばらつきを低減する。【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、基板上１００Ａに第１電極１１０を形成する工程と、基板１００Ａ上に第１電極１１０の少なくとも一部を露出する開口部１２１を備えた隔壁膜１２０を形成する工程と、開口部１２１の内壁と隔壁膜１２０の開口部１２１の周辺とを連続的に覆う絶縁膜１３０を形成する工程と、隔壁膜１２０の上面であって、平面視において絶縁膜１３０と重ならない領域１２４を液状の有機機能層形成材料に対して絶縁膜１３０よりも撥液性にする工程と、少なくとも開口部１２１の内側に有機発光層を含んだ有機機能層を形成する工程と、有機機能層上に第２電極を形成する工程と、をこの順番で有する。有機機能層を形成する工程では、絶縁膜上にわたって液状の有機機能層形成材料を配置しこれを固化して有機機能層を形成する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上に第１電極を形成する工程と、
前記基板上に前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を備えた隔壁膜を形成する工程と、
前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆う絶縁膜を形成する工程と、
前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域を前記液状の有機機能層形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性にする工程と、
少なくとも前記開口部の内側に有機発光層を含んだ有機機能層を形成する工程と、
前記有機機能層上に第２電極を形成する工程と、
をこの順番で有し、
前記有機機能層を形成する工程では、前記絶縁膜上にわたって液状の有機機能層形成材料を配置しこれを固化して前記有機機能層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記隔壁膜は、有機材料からなることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
前記絶縁膜は、無機材料からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
基板上に設けられた第１電極と、
基板上に設けられ、前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を有する隔壁膜と、
前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆って設けられた絶縁膜と、
前記開口部の内側における前記絶縁膜上と前記第１電極上とに少なくとも設けられ、有機発光層を含んだ有機機能層と、
前記有機機能層上に設けられた第２電極と、を有し、
前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域が前記有機機能層の形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性を有していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々を、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で製造するとともに、前記絶縁膜は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、互いに独立するように形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項６】
前記絶縁膜は、前記開口部の周辺における幅を、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を配置する第１方向において、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を前記第１方向よりも密に配置する第２方向よりも広くすることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項７】
前記所定の発光領域は、前記絶縁膜によって規定されており、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜間の間隔は、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の所定の発光領域間の間隔に対して１／１００以上にすることを特徴とする請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項８】
所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々が、請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子で構成されており、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、前記絶縁膜は隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜と分離して形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項９】
複数の発光画素を有し、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子のうちの１つが前記複数の発光画素のうちの２以上にわたって設けられていることを特徴とする請求項８に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称す）を用いた発光素子として、有機ＥＬ素子が知られている。有機ＥＬ素子は、正孔を供給する陽極と電子を供給する陰極との間に、有機ＥＬ材料からなる有機発光層を含んだ有機機能層を有するものである。供給された正孔と電子とが有機発光層内で結合して、光を生じるようになっている。有機機能層は、正孔注入層や正孔輸送層、有機発光層等の有機層からなっている。これら有機層の形成方法としては、液滴吐出法、スピンコート法等の液相法を用いる方法（例えば、特許文献１）や蒸着法等の気相法を用いる方法が知られている。
【０００３】
液相法を用いて有機ＥＬ素子を製造するには、まず画像信号をスイッチングする薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極を形成する。そして、画素電極の周囲に無機物隔壁層を形成し、画素電極を露出させて無機物隔壁層上に有機物隔壁層を形成する。そして、表面処理を行って、有機層の形成材料である液状体に対して無機物隔壁層を親液性にするとともに、有機物隔壁層を撥液性にする。そして、有機隔壁層の開口内側に液滴吐出法等で液状体を充填し、これを乾燥・焼成等により固化して有機層を形成する。液状体の充填・固化を繰り返すことにより有機層を積層して有機機能層を形成した後、この上に共通電極を形成すること等により、有機ＥＬ素子が得られる。
【０００４】
このように、有機物隔壁層等によって区画された領域に液状体を充填すれば、位置精度を高めることができる。また、有機物は無機物よりも厚く成膜することが容易であるため、有機物隔壁層の開口内側の容積を大きくすることが容易である。容積を大きくすればここに充填可能な液状体の体積が大きくなり、有機層の膜厚を確保することが容易になる。
【特許文献１】特開２００３−１８７９７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のように液相法を用いると低コストで有機ＥＬ素子を製造することが可能であるが、有機ＥＬ素子の品質を向上させる観点から改善すべき点もある。
前記のように、有機物隔壁層を形成することは、液相法を用いて有機ＥＬ素子を製造する上で極めて有効である。ところが、有機物隔壁層の開口内側に液状体を充填し固化すると、形成された有機層に膜厚のばらつきを生じることがある。これは、以下の理由による。
【０００６】
有機物隔壁層は、アクリル樹脂やポリイミド樹脂を成膜した後、この膜を露光・現像することにより形成されている。現像により形成された有機隔壁層は、その内壁が基板に対して傾斜面となっている。一般に、現像による加工精度はドライエッチング等に比べて低いため、有機物隔壁層の開口内壁の形状を高精度に制御することは困難である。そのため、通常は、開口内壁の基板に対する傾斜角が開口の周方向でばらつきを有している。一方、開口内側に充填された液状体は、有機隔壁層の撥液性により、その周縁において開口内壁と所定の接触角をなす形状となる。そのため、開口の周方向で開口内壁の傾斜角にばらつきを生じていると、液状体の形状がその周方向で変化して歪んでしまう。すると、液状体の乾燥時に液面の形状を反映して有機層が形成され、その表面が歪んでしまうことにより有機層の膜厚が部分的に変化してしまう。膜厚が不均一になると、有機ＥＬ素子の特性が低下してしまい、歩留りが損なわれてしまうこともある。
【０００７】
本発明は、前記事情に鑑み成されたものであって、良好な有機ＥＬ素子を低コストで製造する方法を提供することを目的の１つとする。また、良好な有機ＥＬ素子を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板上に第１電極を形成する工程と、前記基板上に前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を備えた隔壁膜を形成する工程と、前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆う絶縁膜を形成する工程と、前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域を前記液状の有機機能層形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性にする工程と、少なくとも前記開口部の内側に有機発光層を含んだ有機機能層を形成する工程と、前記有機機能層上に第２電極を形成する工程と、をこの順番で有し、前記有機機能層を形成する工程では、前記絶縁膜上にわたって液状の有機機能層形成材料を配置しこれを固化して前記有機機能層を形成することを特徴とする。
【０００９】
有機機能層を形成する工程で開口部の内側と隔壁膜上に形成された部分の絶縁膜上とにわたって液状の有機機能層形成材料を配置すると、絶縁膜を液状の有機機能層形成材料に対して親液性にしておりかつ隔壁膜の上面であって平面視において絶縁膜と重ならない領域を撥液性にしているので、液状の有機機能層形成材料（以下、液状体と称す）は開口部の内側と絶縁膜上とに保持される。この液状体を乾燥や焼成等により固化すると、以下の理由により有機機能層を均一な膜厚に形成することができる。
【００１０】
一般に、平坦面上に膜を形成する場合にその位置精度を高めることは、開口部を高精度な形状に形成することよりも容易である。基板上に隔壁膜を形成するとその上面が平坦になるので、開口部の周辺に絶縁膜を高い位置精度で形成することができる。隔壁膜の開口部の内壁を撥液性としてここに液状体を配置する方法では、乾燥過程における液状体の形状が、開口部の内壁の形状（傾斜角）と内壁に対する液状体の接触角により規定される。
【００１１】
本発明の方法では、乾燥処理において液状体の周縁部は絶縁膜との密着性により開口部周辺に保持されるので、乾燥過程における液状体の形状が絶縁膜の端の位置により規定される。前記のように絶縁膜は開口部内壁に比べて高精度で形成することができるので、乾燥過程における液状体の形状を高精度に制御することが可能になる。したがって、液状体の形状を反映させてこれを良好な形状に固化することができ、均一な膜厚の有機機能層を形成することができる。よって、有機機能層の特性が部分的にばらつくことが防止され、良好な有機機能層を備えた良好な有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することができる。
【００１２】
また、前記隔壁膜は、有機材料からなることが好ましい。
有機材料を厚く成膜することは無機材料よりも容易であるため、隔壁膜を厚く形成することが容易になる。隔壁膜を厚くすれば開口部の内側の容積が大きくなるので、有機機能層の膜厚を確保することが容易になる。また、塗布法等を用いて有機材料を成膜すれば隔壁膜の平坦性が向上するので、絶縁膜の位置精度を高めることができ、有機機能層の形状の高精度化が図られる。
【００１３】
また、前記絶縁膜は、無機材料からなることが好ましい。
このようにすれば、マスクパターンを用いた蒸着法により隔壁膜を部分的に覆うように無機材料を成膜して絶縁膜を形成することや、隔壁膜全体を覆って無機材料を成膜しこの膜をフォトリソグラフィ法及びドライエッチング法等を用いてパターニングして絶縁膜を形成することができる。このようなパターニング方法によれば絶縁膜の位置精度を高めることができ、有機機能層の形状の高精度化が図られる。
【００１４】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、基板上に設けられた第１電極と、基板上に設けられ、前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を有する隔壁膜と、前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆って設けられた絶縁膜と、前記開口部の内側における前記絶縁膜上と前記第１電極上とに少なくとも設けられ、有機発光層を含んだ有機機能層と、前記有機機能層上に設けられた第２電極と、を有し、前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域が前記有機機能層の形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性を有していることを特徴とする。
【００１５】
このような有機エレクトロルミネッセンス素子の製造には、前記した本発明の有機エレクトロルミネッセンスの製造方法を適用することが可能である。これにより、有機機能層に部分的な厚さばらつきを生じることが防止され、良好な有機機能層になる。したがって、発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止された良好な有機エレクトロルミネッセンス素子になる。
【００１６】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々を、前記の本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で製造するとともに、前記絶縁膜は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、互いに独立するように形成することを特徴とする。
前記の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法によれば、膜厚が均一な有機機能層を備えた良好な有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することができるので、これを適用すれば、良好な有機エレクトロルミネッセンス装置を製造することが可能になる。
【００１７】
また、前記絶縁膜は、前記開口部の周辺における幅を、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を配置する第１方向において、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を前記第１方向よりも密に配置する第２方向よりも広くすることもできる。
有機機能層を形成する工程で液状の有機機能層形成材料を配置しこれを乾燥や焼成等により固化する際には、乾燥等により雰囲気中の溶媒成分が増加する。この増加の度合いは、有機エレクトロルミネッセンス素子を疎に配置する領域では密に配置する領域に比べて緩やかである。雰囲気中の溶媒成分の濃度が低くなるほど液状の有機機能層形成材料の乾燥速度が高くなるため、疎に配置する方向においては密に配置する方向に比べて液状の有機機能層形成材料の乾燥速度が高くなる。
【００１８】
前記のように発光周辺領域の所定幅を、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を疎に配置する方向において密に配置する方向よりも広くすれば、配置された液状体の平面視した状態での中心位置が、発光領域の中心位置よりも有機エレクトロルミネッセンス素子を疎に配置する方向側になる。したがって、この方向側に保持される液状の有機機能層形成材料の量が多くなり、疎に配置する方向における乾燥速度が低くなる。よって、密に配置する方向と疎に配置する方向とで乾燥速度が均一になり、有機機能層の膜厚が均一になる。
【００１９】
また、前記所定の発光領域は、前記絶縁膜によって規定されており、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜間の間隔は、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の所定の発光領域間の間隔に対して１／１００以上にすることが好ましい。
このようにすれば、有機機能層を形成する工程で隔壁膜上における絶縁膜に液状の有機機能層形成材料を配置した際に、異なる絶縁膜に配置された液状の有機機能層形成材料が絶縁膜の間において互いに吸着することが防止される。したがって、各隔壁膜の内側及び開口部周辺に配置された液状の有機機能層形成材料を良好な形状にすることができ、各有機エレクトロルミネッセンスにおいて有機機能層の膜厚を均一にすることができる。
【００２０】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々が、前記の本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子で構成されており、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、前記絶縁膜は隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜と分離して形成されていることを特徴とする。
前記のように本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、良好な有機エレクトロルミネッセンスとなっているので、これにより構成された有機エレクトロルミネッセンス装置も良好なものとなる。
【００２１】
また、複数の発光画素を有し、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子のうちの１つが前記複数の発光画素のうちの２以上にわたって設けられている構成としてもよい。
このようにすれば、有機エレクトロルミネッセンス素子において発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止されているので、１つの有機エレクトロルミネッセンス素子を共有した複数の発光画素において特性が均一になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態を説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。以降の説明では図面を用いて各種の構造を例示するが、構造の特徴的な部分を分かりやすく示すために、図面中の構造はその寸法や縮尺を実際の構造に対して異ならせて示す場合がある。［第１実施形態］では、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を多数備えた有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）の構成について説明する。続く［第２実施形態］では、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を有機ＥＬ装置の製造方法に基づいて説明する。［変形例］では、第１実施形態と異なる様態の有機エレクトロルミネッセンス装置について説明する。［電子機器］では、本発明による有機エレクトロルミネッセンス装置を備えた電子機器について説明する。
【００２３】
［第１実施形態］
第１実施形態の有機ＥＬ装置は、複数の画素を備えたフルカラーの画像表示装置であり、画素の発光素子として機能する有機ＥＬ素子を有している。各有機ＥＬ素子は、本発明を適用したものである。
【００２４】
図１（ａ）は、本実施形態の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
図１（ａ）に示すように有機ＥＬ装置１は、複数の発光領域Ａ１と各発光領域Ａ１の周を所定幅で環状に囲む発光周辺領域Ａ２とを有している。複数の発光領域Ａ１は行列状に整列配置されており、１つの発光領域Ａ１が、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの１つと対応している。
【００２５】
サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂはいずれも同様の構成となっているが、有機発光層（後述する）の形成材料の違いにより、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を射出するようになっている。３つのサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂから射出された３色の色光により、フルカラー表示の最小単位である１画素が構成される。本実施形態のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂは、いずれも平面視略長円形状になっている。長円形状とは、一方向に延びる帯形状を有しその両端が円弧状になっている形状のことである。ここでは、前記一方向を長軸とし、長軸の直交方向を短軸とする長円形状になっている。
【００２６】
以下、図１に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、これに基づいて部材の位置関係を説明する。このＸＹＺ直交座標系において、Ｘ方向はサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの短軸方向、Ｙ方向は長軸方向、Ｚ方向は有機ＥＬ装置１の厚さ方向となっている。
【００２７】
本実施形態では、Ｘ方向に色光が異なる３種類のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが周期的に並んで配置されており、Ｙ方向に３種類のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが色ごとに並んで配置されている。ここではサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々に、図２（ｂ）に示すような有機ＥＬ素子１００が配置されている。
【００２８】
図２（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子１００は、素子基板（基板）１００Ａ上に設けられた画素電極（第１電極）１１０、有機機能層１４０、共通電極（第２電極）１５０を備えている。画素電極１１０は島状に形成されており、画素電極１１０の外周を環状に囲んで隔壁膜１２０が設けられている。隔壁膜１２０には、発光領域Ａ１における画素電極１１０を露出させる開口部１２１が設けられており、有機機能層１４０は開口部１２１の内側の画素電極１１０上に配置されている。発光周辺領域Ａ２において、隔壁膜１２０の開口部内壁１２２と隔壁膜１２０上の開口部周辺１２３とにわたって絶縁膜１３０が設けられている。ここでは、絶縁膜１３０が画素電極１１０において開口部１２１の内側に露出した部分の周縁部にも設けられている。
【００２９】
素子基板１００Ａは、その詳細な構成を図示しないが、Ｘ方向に延設された複数の走査線、Ｙ方向に延設された複数の信号線、各信号線と並んで延設された電源線等の各種配線を備えている。各走査線は、走査信号を供給する走査線駆動回路に接続されており、各信号線は、画像信号を供給する信号線駆動回路に接続されている。走査線及び信号線により区画される領域に、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂのうちの１つが配置されている。サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々には各種スイッチング素子が設けられている。各種スイッチング素子は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングするとともに、スイッチングされた画像信号に基づいて、電源線を介して画素電極１１０に所定の電圧を印加するようになっている。
【００３０】
本実施形態では、画素電極１１０が陽極として機能するようになっており、共通電極１５０が陰極として機能するようになっている。
画素電極１１０は、仕事関数が高い（例えば５ｅＶ以上）導電材料、具体的にはＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等からなっており、画素電極１１０から有機機能層１４０に正孔が効率的に供給されるようになっている。ＩＴＯは透光性を有する材料であり、有機機能層１４０から発せられた光を画素電極１１０側から取り出すことが可能となっている。
【００３１】
共通電極１５０は、仕事関数が低い（例えば５ｅＶ以下）材料からなっている。仕事関数が低い材料としては、カルシウムやマグネシウム、ナトリウム、リチウム金属、又はこれらの金属化合物であるフッ化カルシウム等の金属フッ化物や酸化リチウム等の金属酸化物、アセチルアセトナトカルシウム等の有機金属錯体等が挙げられる。ここでは、有機機能層１４０上に図示略のカルシウム層、及びアルミニウム層が順次形成された多層構造となっている。カルシウム層は、有機機能層１４０に電子を注入する電子注入層、あるいは有機機能層１４０に電子を輸送する電子輸送層等として機能するようになっており、アルミニウム層は共通電極１５０を低抵抗化するとともに有機機能層１４０から発せられた光を画素電極１１０側に反射する反射層としても機能するようになっている。
【００３２】
有機機能層は、有機ＥＬ材料からなる有機発光層を含んで構成されている。有機機能層の構造としては、陽極側から正孔注入層、有機発光層が順に積層された構造や、正孔注入層と有機発光層との間に正孔輸送層を設けた構造、正孔注入層に替えて正孔注入輸送層を設けた構造、さらに有機発光層の陰極側に電子注入（輸送）層を設けた構造等が挙げられる。本実施形態では、画素電極１１０側から順に配置された正孔注入層１４１、正孔輸送層１４２、及び有機発光層１４３の３層の有機層で構成された有機機能層１４０を採用している。３層の有機層の各々は、各有機層の液状の形成材料を液相法で配置し、これを乾燥・焼成等により固化して形成されている。
【００３３】
有機機能層の形成材料としては、公知のものを用いることができ、具体的には以下のようなものがある。
正孔注入層の形成材料として、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体等が挙げられる。
正孔輸送層の形成材料としては、ＴＡＰＣ、ＴＰＤ、α‐ＮＰＤ、ｍ‐ＭＴＤＡＴＡ、２‐ＴＮＡＴＡ、ＴＣＴＡ、スピロ‐ＴＡＤ、（ＤＴＰ）ＤＰＰＤ、ＨＴＭ１、ＴＰＴＥ１、ＮＴＰＡ、ＴＦＬＴＦ、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）やポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系有機高分子材料等が挙げられる。
【００３４】
有機発光層の形成材料としては、前記した正孔輸送層の形成材料の他、ペニレン系色素や、クマリン系色素、ローダミン系色素などの有機高分子材料、あるいはこれら有機高分子材料に例えばルブレン、ペリレン、９，１０‐ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどの低分子有機材料をドープしたもの、ＣＢＰ（４．４．‐ジカルバゾール‐４，４‐ビフェニル）誘導体、ＰｔＯＥＰ（白金ポルフィリン錯体）誘導体、Ｉｒ（ｐｐｙ）３（イリジウム錯体）誘導体、ＦＩｒｐｉｃ（イリジウム錯体）誘導体等の燐光材料等が挙げられる。
有機発光層の形成材料の具体例としては、（ポリ［（９，９‐ジオクチルフルオレニル‐２，７‐ジビニレンフルオレニレン‐ａｌｔ‐ｃｏ‐（９， １０‐アントラセン））］や、（ポリ［｛９，９ジヘキシル‐２，７‐ビス（１‐シアノビニレン）フルオレニル-エン｝‐ａｌｔ‐ｃｏ‐｛２，５‐ビス（Ｎ，Ｎ’ ‐ジフェニルアミノ）‐１，４‐フェニレン｝］、（ポリ［｛２‐メトキシ‐５‐（２‐エチルヘキシロキシ）‐１，４‐（１‐シアノビニレンフェニレン）｝‐ｃｏ‐｛２，５‐ビス（Ｎ，Ｎ’‐ジフェニルアミノ）‐１，４‐フェニレン｝］）等の赤色発光材料や、Ｆ８ＢＴ（ジオクチルフルオレン／ベンゾチアジアゾール共重合体）等の緑色発光材料、ＰＦ８（ポリジオクチルフルオレン）等の青色発光材料等が挙げられる。
【００３５】
なお、電子輸送層を設ける場合にその形成材料としては、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体等を用いるとよい。
【００３６】
隔壁膜１２０は、絶縁性のアクリル系樹脂やポリイミド系樹脂、これらにフッ素等を添加した含フッ素樹脂等の樹脂材料（有機材料）からなっており、絶縁膜１３０は、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）やシリコン窒化物（ＳｉＮ）等からなっている。隣り合う絶縁膜１３０の隔壁膜１２０上における間隔Ｘ２が、隣り合う一方の絶縁膜１３０の開口部１２１側の端と他方の絶縁膜１３０の開口部１２１側の端との間の距離Ｘ１に対して１／１００以上になっている。つまり、幅Ｘ１と間隔Ｘ２との関係は、以下の式（１）で記述される。
（Ｘ２／Ｘ１）＞（１／１００）                                  ・・・式（１）
【００３７】
隔壁膜１２０の上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４は、有機機能層１４０の形成に用いる液状の形成材料（液状の有機機能層形成材料）に対して撥液性になっており、絶縁膜１３０はこの液状の形成材料に対して親液性になっている。このような構成にすることで、有機機能層１４０に部分的な膜厚ばらつきを生じることが防止されており、その詳細については［第２実施形態］で説明する。なお、本実施形態の隔壁膜１２０や絶縁膜１３０には、プラズマ処理（表面処理）により撥液性や親液性が付与されている。この他にも形成材料を選択することや撥液性あるいは親液性を付与する添加剤を含有した形成材料を用いることにより、撥液性あるいは親液性を発現させるようにしてもよい。
【００３８】
以上のような有機ＥＬ素子１００の画素電極１１０には、走査信号や画像信号により所定のタイミングで所定の電圧が印加されるようになっている。これにより、画素電極１１０から正孔注入層１４１に正孔が供給され、共通電極１５０から有機発光層１４３に電子が供給される。画素電極１１０側から供給された正孔は、正孔注入層１４１及び正孔輸送層１４２を通って有機発光層１４３に運ばれ、共通電極１５０側から供給された電子と結合することにより光を発する。画素電極１１０側に発せられた光は、素子基板１００Ａ側から射出され、共通電極１５０側に発せられた光は共通電極１５０で反射し素子基板１００Ａ側から射出される。３つのサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂから射出された３色の色光によりフルカラーの１画素が構成される。このような画素が多数設けられていることにより、画像を表示することが可能になっている。
【００３９】
本実施形態の有機ＥＬ素子１００においては、前記のように有機機能層１４０に部分的な膜厚ばらつきを生じることが防止されており、開口部１２１の内側における画素電極１１０上で有機機能層１４０の膜厚が均一になっている。そのため、所定の電圧により有機機能層１４０が均一に機能し、良好な発光特性の有機機能層１４０になっている。また、有機機能層１４０の膜厚が均一になっているので、その抵抗値が均一になり電圧印加時に有機機能層１４０を流れる電流値が均一になる。これにより、有機機能層１４０に部分的に大電流が流れること等の不都合を生じることが防止され、良好な電気特性の有機ＥＬ素子１００となっている。また、前記の不都合により有機機能層１４０が劣化することが防止され、長寿命の有機ＥＬ素子１００になっている。
【００４０】
［第２実施形態］
次に、有機ＥＬ装置の製造方法の一実施形態を前記有機ＥＬ装置１に基づいて説明する。図２（ａ）〜（ｃ）、図３（ａ）〜（ｃ）、図４（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を示す断面工程図である。
【００４１】
まず、図２（ａ）に示すように、素子基板１００Ａを用意し、素子基板１００Ａ上の所定領域に島状の画素電極１１０を形成する。これらは、公知の形成方法、形成材料を用いて形成することができる。例えば、ガラスや石英、プラスチック等の透光性を有する基体に、走査線、信号線、電源線等の各種配線や各種スイッチング素子等を形成して素子基板１００Ａを形成する。そして、素子基板１００Ａ上にＩＴＯ等の導電材料を成膜した後、この膜をフォトリソグラフィ法及びエッチング技術を用いてパターニングすることにより画素電極１１０を形成する。
【００４２】
次いで、図２（ｂ）に示すように、素子基板１００Ａ上に隔壁膜１２０を形成するとともに、隔壁膜１２０に発光領域Ａ１における画素電極１１０を露出させる開口部１２１を形成する。これらは、公知の形成方法、形成材料を用いて形成することができる。例えば、画素電極１１０を含んだ素子基板１００Ａの全面を覆って、絶縁性のポジ型感光性樹脂を塗布法で塗布する。ポジ型感光性樹脂の具体例としては、アクリル系樹脂やポリイミド系樹脂が挙げられる。そして、この膜を乾燥・焼成等により固化することによって、ポジ型感光性樹脂からなる膜が得られる。一般に、ポジ型感光性樹脂等の有機材料は、無機材料よりも厚く成膜することが容易であり、厚く成膜することにより膜の平坦性を高めることができる。そして、例えばフォトマスク等を素子基板１００Ａに対して位置合わせし、ポジ型感光性樹脂からなる膜を露光・現像することによりパターニングして、開口部１２１を有する隔壁膜１２０を形成する。
【００４３】
隔壁膜１２０の上面１２５は、通常と同様に平坦になっている。また、露光・現像によりパターニングすると、開口部内壁１２２は素子基板１００Ａに対して傾いた傾斜面となりその傾斜角にばらつきを生じる。そのため、１つの開口部１２１の周方向で開口部内壁１２２の傾斜角が変化してしまうこともある。
【００４４】
次いで、図２（ｃ）に示すように、開口部内壁１２２、開口部周辺１２３、及び開口部１２１の内側に露出した部分の画素電極１１０の周縁部を覆って、絶縁膜１３０を形成する。例えば、画素電極１１０や隔壁膜１２０を含んだ素子基板１００Ａ全面にシリコン酸化物を成膜しこの膜をフォトリソグラフィ法及びエッチング法を用いてパターニングすることにより、絶縁膜１３０が得られる。なお、素子基板１００Ａとメタルマスク等のマスクパターンとを位置合わせした状態で、シリコン酸化物を蒸着法でパターン成膜して絶縁膜１３０を形成してもよい。
【００４５】
前記のように隔壁膜１２０が平坦になっているので、上面１２５におけるパターニングの精度を確保することができ、上面１２５における絶縁膜１３０の端の位置を高精度とすることができる。また、画素電極１１０上における絶縁膜１３０の端の位置精度も同様の理由により高精度とすることができる。本実施形態では、絶縁膜１３０の隔壁膜１２０上における間隔Ｘ２が、平面視した状態での開口部１２１の周方向における幅Ｘ１に対して１／１００以上になるようにパターニングする（図１（ｂ）参照）。素子基板１００Ａに対して位置合わせを行ってパターニングすれば、開口部１２１も素子基板１００Ａに対して位置合わせしているので絶縁膜１３０と開口部１２１とのＸＹ面における相対位置を高精度とすることができる。ここでは、絶縁膜１３０及び画素電極１１０の各々のＸＹ面における中心位置が略一致するように絶縁膜１３０を形成する。
【００４６】
有機機能層１４０の形成に先立ち、開口部１２１の内側に露出した画素電極１１０、及び絶縁膜１３０を後述する有機機能層１４０の液状の形成材料に対して親液性にしておく。また、隔壁膜１２０上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４を有機機能層１４０の液状の形成材料に対して撥液性にしておく。撥液性材料（例えば、含フッ素樹脂）で隔壁膜を形成した場合には、撥液性を付与する表面処理が不要となる。親液性の樹脂材料、あるいは撥液性が十分でない樹脂材料で隔壁膜を形成した場合には、その表面にＣＦ４などの有機フッ化物を用いたプラズマ処理を行うことにより、撥液性を付与することができる。また、ＩＴＯからなる画素電極１１０やシリコン酸化物からなる絶縁膜１３０は親液性を有しているが、その表面に有機物が付着すること等により親液性が損なわれている場合がある。このような場合には、酸素プラズマ処理や紫外線照射処理を行うことにより、親液性を良好に発現させることができる。
【００４７】
本実施形態では、開口部１２１の内側に露出した画素電極１１０、及び絶縁膜１３０を含んだ素子基板１００Ａ全面に酸素プラズマ処理を行って画素電極１１０、及び絶縁膜１３０に親液性を付与する。次いで、非形成領域１２４を含んだ素子基板１００Ａ全面にＣＦ４を用いたプラズマ処理を行って、隔壁膜１２０の上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４に撥液性を付与する。
【００４８】
次いで、図３（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド２００によって正孔注入層１４１の液状の形成材料を吐出して、これを隔壁膜１２０の開口部１２１の内側に配置（充填）するとともに、液状の形成材料を開口部１２１の外側に溢れさせて開口部周辺１２３に設けられた絶縁膜１３０上に配置する。
例えば、正孔注入層１４１の液状の形成材料として、ポリチオフェン誘導体である３，４‐ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）をポリスチレンスルフォン酸（ＰＳＳ）に分散させ、さらにこれを水に分散させたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ溶液に溶媒を添加して粘度を調整した溶液を調製する。溶媒としては、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ‐ブチロラクトン、Ｎ‐メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ヘキサメチルホスソルアミド（ＨＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３‐ジメチル‐２‐イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト‐ルアセテート、ブチルカルビト‐ルアセテート等のグリコールエーテル類の高沸点溶媒等を用いることができる。溶液の粘度を、１〜３ｗｔ％の溶液において２〜２０ｃｐｓ程度とすること好ましく、７〜１０ｃｐｓ程度とすることがより好ましい。このようにすれば、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルに詰まりを生じることなく溶液を安定に吐出することができる。
【００４９】
このようにして配置された液状の形成材料は、絶縁膜１３０が親液性になっているので絶縁膜１３０上に濡れ広がるとともに、隔壁膜１２０の上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４が撥液性になっているのでここに濡れ広がることがない。このようにして、開口部１２１の内側と隔壁膜１２０上の絶縁膜１３０に液状体１４１ａが配置される。間隔Ｘ２を幅Ｘ１に対して１／１００以上にしているので、隣り合う２つの絶縁膜１３０間で各々に配置された液状体１４１ａが互いの吸着力等により接触してしまうことが防止される。
【００５０】
配置された液状体１４１ａの端の位置は、隔壁膜１２０上の絶縁膜１３０の端の位置とほぼ一致しており、その形状は液状体１４１ａの両端側が互いに対称になる。絶縁膜１３０は、その両端の位置が高精度となっており、かつ画素電極１１０と絶縁膜１３０とでＸＹ面における中心位置がほぼ一致しているので、液状体１４１ａは画素電極１１０の中心位置周りに点対称な形状となる。
【００５１】
次いで、液状体１４１ａに例えば１５０℃の加熱処理を行って、これに含まれる溶媒を揮発させる。これにより液状体１４１ａの体積が減少し、図３（ｂ）に示すように隔壁膜１２０の上面よりも低い位置に液面を有する液状体１４１ｂとなる。液状体１４１ｂの周縁部は、絶縁膜１３０との親和力により開口部周辺１２３上の絶縁膜１３０に保持されている。開口部１２１の内側における液状体１４１ｂは、液状体１４１ｂの周縁部から引張力を受けることによりその形状が定まる。前記のように画素電極１１０と絶縁膜１３０とでＸＹ面における中心位置がほぼ一致しているので、乾燥過程における液状体１４１ｂも画素電極１１０の中心位置周りに点対称な形状となる。
さらに液状体１４１ｂに含まれる溶媒等を揮発させてこれを固形状の膜とし、図３（ｃ）に示すように、正孔注入層１４１を形成する。正孔注入層１４１は、絶縁膜１３０との親和力により開口部周辺１２３上の絶縁膜１３０上にも保持されている。乾燥過程において液状の形成材料の形状が歪むことがないので、画素電極１１０上において平坦な正孔注入層１４１となり、この部分の膜厚が均一になる。
【００５２】
次いで、図４（ａ）に示すように、開口部１２１の内側における正孔注入層１４１上に正孔輸送層１４２を形成する。具体的には、正孔輸送層１４２の液状の形成材料として例えばＴＦＢを０．１ｗｔ％トリメチルベンゼン溶液とし、これを液滴吐出法で開口部１２１の内側及び開口部周辺１２３の正孔注入層１４１上に配置する。ここでも溶液の粘度を調整することにより溶液を安定に吐出することができる。そして、配置した溶液を窒素雰囲気において１８０℃程度の温度で１時間程度加熱して乾燥させる。そして、その表面をトリメチルベンゼン溶媒で洗浄し、トリメチルベンゼン溶媒に対して可溶な表層を除去するとともに不溶な層を残して、膜厚が１０ｎｍ程度の正孔輸送層１４２を形成する。正孔輸送層１４２も、正孔注入層１４１と同様の理由により画素電極１１０上において平坦になり、この部分の膜厚が均一になる。
【００５３】
次いで、図４（ｂ）に示すように、開口部１２１の内側における正孔輸送層１４２上に有機発光層１４３を形成する。具体的には、有機発光層１４３の液状の形成材料として例えば前記赤色発光材料を０．８ｗｔ％のトリメチルベンゼン溶液とし、これを液滴吐出法で開口部１２１の内側及び開口部周辺１２３の正孔輸送層１４２上に配置する。ここでも、溶液の粘度を調整することにより溶液を安定に吐出することができる。そして、配置した溶液を窒素雰囲気において１３０℃程度の温度で３０分程度加熱して焼成し、膜厚が６０〜８０ｎｍ程度の有機発光層１４３を形成する。有機発光層１４３も、正孔注入層１４１と同様の理由により画素電極１１０上において平坦になり、この部分の膜厚が均一になる。
【００５４】
以上のようにして、開口部１２１の内側に正孔注入層１４１、正孔輸送層１４２、有機発光層１４３から構成された有機機能層１４０が得られる。画素電極１１０上において有機機能層１４０は、平坦になっており、その膜厚が均一になっている。
【００５５】
次いで、図４（ｃ）に示すように有機機能層１４０上に共通電極１５０を形成する。例えば、真空度が１０−６Ｔｏｒｒ（１．３３×１０−４Ｐａ）の雰囲気でカルシウムを真空蒸着法により１０ｎｍ程度の膜厚に成膜した後、同様の条件下でアルミニウム（Ａｌ）を２００ｎｍ程度の膜厚に成膜して、カルシウム膜とアルミニウム膜とからなる共通電極１５０を形成する。
以上のようにして、図１（ｂ）に示した有機ＥＬ素子１００が得られる。また、素子基板１００Ａ上に設けられた複数の有機ＥＬ素子１００を適宜封止し、信号線駆動回路や走査線駆動回路、周辺回路等を設けることにより有機ＥＬ装置１が得られる。
【００５６】
以上のような本発明の有機ＥＬ装置の製造方法によれば、絶縁膜１３０の一部を隔壁膜１２０上に形成しているので、開口部周辺１２３における絶縁膜１３０の周（端）の位置を高精度にすることができる。これにより、発光領域Ａ１に対して所望の相対位置に周が位置する絶縁膜１３０とすることができ、液状体１４１ａは、その周が所定の位置になるように配置される。液状体１４１ａの形状はその周の位置によって規定されるので、液状体１４１ａを所望の形状にすることができる。
【００５７】
乾燥過程における液状体１４１ｂの液面の形状は、絶縁膜１３０が親液性を有しているので絶縁膜１３０の周の位置によって定まり、ここが撥液性である場合と異なり開口部内壁１２２の形状、特にその傾斜角の影響を受けにくくなる。したがって、開口部内壁１２２の形状のばらつきにより液面の形状が歪んでしまうことが防止され、乾燥過程における液状体１４１ｂを開口部１２１の内側に良好な形状に保持することができる。よって、液状体１４１ｂをさらに乾燥させて膜化すると、その液面の歪みによる膜厚ばらつきが低減された良好な膜（ここでは正孔注入層１４１）を形成することができる。例えば第２実施形態のように、平面視した状態で絶縁膜１３０と発光領域Ａ１とで中心位置を揃えることにより、この中心位置回りに点対称な形状の正孔注入層１４１を形成することができる。同様にして正孔輸送層１４２や有機発光層１４３を形成することにより、良好な形状の有機機能層１４０を形成することができる。
【００５８】
このようにして得られた本発明の有機ＥＬ素子にあっては、有機機能層１４０の形成過程における表面形状の歪みに起因する膜厚ばらつきが低減されており、発光領域Ａ１において有機機能層１４０の膜厚が均一になっている。したがって、発光領域Ａ１で有機機能層１４０が均一に機能するようになり、発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止された良好な有機ＥＬ素子となっている。
また、本発明の有機ＥＬ装置は、発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止された複数の有機ＥＬ素子を備えているので、これを発光素子として良好に機能させることが可能になっており、良好なものとなっている。
【００５９】
なお、１つの有機ＥＬ素子において、発光領域の周に沿う発光周辺領域の幅を変化させてもよいし、複数の有機ＥＬ素子で発光周辺領域の幅を異ならせてもよい。複数の発光領域わたって１つの有機ＥＬ素子が配置されていてもよい。
また、第１実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬ装置の構成例を説明したが、トップエミッション型の有機ＥＬ装置を採用することもでき、この場合にも本発明の効果を得ることができる。また、複数の異なる色光を発する有機ＥＬ素子を用いるのではなく、単色光を発する有機ＥＬ素子とカラーフィルタ等を用いてフルカラーの画像表示装置や画像形成装置を構成してもよいし、単色光を発する照明装置等に適用することも可能である。
【００６０】
［変形例］
図５（ａ）は、変形例１の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図５（ｂ）は、変形例２における画素の構成を示す平面図である。変形例１の有機ＥＬ装置１は、第１実施形態と同様の画像表示装置であり、変形例２の有機ＥＬ装置１は画像形成装置等に用いられるラインヘッドである。変形例１、２が第１実施形態と異なる点は、発光周辺領域Ａ２の幅が発光領域Ａ１の周に沿って変化している点である。発光周辺領域Ａ２の幅は、有機ＥＬ素子が疎に配置される方向おいて密に配置される方向よりも広くなっている。
【００６１】
図５（ａ）に示す変形例１の有機ＥＬ装置１には、画像表示領域Ａに多数の発光領域Ａ１が行列状に整列配置されている。各発光領域Ａ１の周を環状に囲んで発光周辺領域Ａ２が設けられている。第１実施形態と同様に、発光領域Ａ１には画素電極１１０、有機機能層１４０、共通電極１５０等が設けられており、発光周辺領域Ａ２には絶縁膜１３０が設けられている。画像表示領域Ａの周縁に配置された発光領域Ａ１の周辺の発光周辺領域Ａ２において、その幅が画像表示領域Ａの周縁側で中央側よりも広くなっている。
【００６２】
このようにすれば、以下の理由により有機機能層１４０の膜厚を均一にすることができる。発光周辺領域Ａ２に絶縁膜１３０を形成すると、絶縁膜１３０は、その中心位置が平面視した状態で発光領域Ａ１の中心位置よりも有機ＥＬ素子が疎に配置される方向（以下、画像表示領域Ａの外側と称す）にずれて配置される。そして、開口部１２１の内側に有機機能層の液状の形成材料を配置すると、配置された液状体１４１ａは、その中心位置が発光領域Ａ１の中心位置よりも画像表示領域Ａの外側にずれて配置される。画像表示領域Ａの外側には液状体が配置されないため、画像表示領域Ａの中央側から周縁側に向うにつれて、揮発した溶媒成分の雰囲気中の濃度が小さくなる。これにより、画像表示領域Ａの中央側から周縁側に向うにつれて、溶媒の乾燥速度が高くなる。一方、前記のように液状体１４１ａの中心位置がずれていれば、その体積は発光領域Ａ１の中心位置に対して画像表示領域Ａの外側で内側よりも多くなる。そのため、外側と内側とで乾燥時間が均一になり、有機機能層の膜厚が均一になる。
なお、変形例１では、画像表示領域Ａの一番外側に配置される発光領域Ａ１について、その周辺の発光周辺領域Ａ２の幅を変化させているが、画像表示領域Ａの中央側の発光領域Ａ１についても発光周辺領域Ａ２の幅を変化させてもよい。例えば、画像表示領域の中心位置から離れるにつれて発光周辺領域の幅を広くするようにしてもよい。
【００６３】
図５（ｂ）に示す変形例２の有機ＥＬ装置１には、画像形成領域Ａに多数の発光領域Ａ１が列状（ここでは１列）に配置されている。第１実施形態と同様に、発光領域Ａ１には画素電極１１０、有機機能層１４０、共通電極１５０等が設けられており、発光周辺領域Ａ２には絶縁膜１３０が設けられている。発光周辺領域Ａ２の幅は、発光領域Ａ１が近接しない方向、すなわち発光領域Ａ１の配列方向に直交する方向において配列方向よりも広くなっている。変形例２においても、変形例１と同様の理由により有機機能層１４０の膜厚が均一になる。
【００６４】
図６（ａ）は、変形例３の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。変形例３が、第１実施形態と異なる点は、複数の発光画素にわたって１つの有機ＥＬ素子が配置されている点である。
図６（ａ）に示すように、変形例３の有機ＥＬ装置１にも第１実施形態と同様に、多数の発光領域Ａ１が行列状に整列配置されている。多数の発光領域Ａ１の各々が発光画素（サブ画素）となっており、Ｙ方向に並ぶ複数の発光領域Ａ１の周囲を環状に囲む領域と、複数の発光領域Ａ１の間の領域とが、１つの発光周辺領域Ａ２になっている。ここでは、発光周辺領域Ａ２が同じ色光を発する３つの発光領域Ａ１を囲んで配置されている。
【００６５】
図６（ｂ）に示すように、発光領域Ａ１ごとに独立した画素電極１１０が設けられており、画素電極１１０の間には絶縁膜１３０が設けられている。１つの発光周辺領域Ａ２に囲まれる３つの画素電極１１０上には、共通の有機機能層１４０、共通電極１５０が設けられている。３つの画素電極１１０は、それぞれ独立したスイッチング素子と電気的に接続されている。各画素電極１１０上に位置する部分の有機機能層１４０に独立して電圧を印加することにより、発光領域Ａ１ごとに、独立した階調の光を射出することが可能になっている。
【００６６】
変形例３の有機ＥＬ装置１にあっては、１つの発光周辺領域Ａ２に囲まれる複数の発光領域Ａ１において有機機能層１４０の膜厚が均一になる。これにより、これら複数の発光領域Ａ１に対応した発光画素において発光特性や電気特性が均一になり、良好な有機ＥＬ装置となる。
なお、１つの発光周辺領域が２又は４以上の発光領域を囲んで配置されていてもよい。また、単色光を発する有機ＥＬ素子とカラーフィルタ等を用いてフルカラーの画像表示装置や画像形成装置を構成する場合等には、異なる色光を発する複数の発光画素を囲む領域を発光周辺領域としてもよい。例えば、図１（ａ）においてＸ方向に並ぶ赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ発するサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂを囲んで、すなわちフルカラー表示の１画素を囲んで発光周辺領域を設定してもよい。
【００６７】
［電子機器］
次に、本発明の有機ＥＬ素子を有するラインヘッド（有機ＥＬ装置）を備えた画像形成装置（電子機器）について説明する。図７は、画像形成装置４００を示す概略構成図である。
【００６８】
画像形成装置４００は、転写媒体４２２の走行経路の近傍に、像担持体としての感光体ドラム４１６を備えている。感光体ドラム４１６の周囲には、感光体ドラム４１６の回転方向（図中に矢印で示す）に沿って、露光装置４１５、現像装置４１８及び転写ローラ４２１が順次配設されている。感光体ドラム４１６は、回転軸４１７の周りに回転可能に設けられており、その外周面には、回転軸方向中央部に感光面４１６Ａが形成されている。露光装置４１５及び現像装置４１８は感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って長軸状に配置されており、その長軸方向の幅は、感光面４１６Ａの幅と概ね一致している。
【００６９】
この画像形成装置４００では、まず、感光体ドラム４１６が回転する過程において、露光装置４１５の上流側に設けられた図示略の帯電装置により感光体ドラム４１６の表面（感光面４１６Ａ）が例えば正に帯電され、次いで露光装置４１５により感光体ドラム４１６の表面が露光されて表面に静電潜像ＬＡが形成される。さらに、現像装置４１８の現像ローラ４１９により、トナー（現像剤）４３０が感光体ドラム４１６の表面に付与され、静電潜像ＬＡの電気的吸着力によって静電潜像ＬＡに対応したトナー像が形成される。なお、トナー粒子は正に帯電されている。
【００７０】
現像装置４１８によるトナー像の形成後は、感光体ドラム４１６の更なる回転によりトナー像が転写媒体４２２に接触し、転写ローラ４２１により転写媒体４２２の背面からトナー像のトナー粒子とは逆極性の電荷（ここでは負電荷）が付与され、これに応じて、トナー像を形成するトナー粒子が感光体ドラム４１６の表面から転写媒体４２２に吸引され、トナー像が転写媒体１２２の表面に転写される。
【００７１】
露光装置４１５は、複数の発光素子４５０を有するラインヘッド４１０と、ラインヘッド４１０から放射された光Ｌを正立等倍結像させる複数のレンズ素子４１３を有する結像光学素子４１２とを備えている。ラインヘッド４１０と結像光学素子４１２とは、互いにアライメントされた状態で図示略のヘッドケースによって保持され、感光体ドラム４１６上に固定されている。
【００７２】
ラインヘッド４１０は、複数の発光素子４５０を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って配列してなる発光素子列４２０と、発光素子４５０を駆動させる図示略の駆動素子からなる駆動素子群と、これら駆動素子（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群４１１とを備えている。発光素子４５０、駆動素子群及び制御回路群４１１は長細い矩形の素子基板（基体）４１０Ａ上に一体形成されている。
【００７３】
結像光学素子４１２は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるレンズ素子４１３を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って千鳥状に２列配列（配置）してなるレンズ素子列４１４を備えている。
この画像形成装置４００は、ラインヘッド４１０が本発明の有機ＥＬ素子で構成されている。本発明の有機ＥＬ素子は、有機機能層の膜厚が均一になっておりその発光特性や電気特性が良好になっているので、感光体ドラムを良好に感光させることができ、高精細な画像を形成することが可能な画像形成装置となっている。
【００７４】
次に、本発明の有機ＥＬ素子を有する画像表示装置（有機ＥＬ装置）を表示部に用いた電子機器について説明する。
【００７５】
図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。携帯電話５００は表示部５１０を備えており、表示部５１０は本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。
図８（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。情報処理装置６００は、キーボードなどの入力部６１０、表示部６２０、筐体６３０等を備えている。また、表示部６２０は、本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。  
図８（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。時計７００は表示部７１０を備えている。表示部７１０は、本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。
【００７６】
図８（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器はいずれも、その表示部が本発明の有機ＥＬ装置により構成されているので、良好な表示が可能なものとなっている。
【００７７】
なお、電子機器としては、前記電子機器に限られることなく、種々の電子機器に適用することができる。例えば、ディスクトップ型コンピュータ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）及びエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】（ａ）は画素構成の平面概略図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、製造方法を示す断面工程図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、図２（ｃ）から続く断面工程図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、図３（ｃ）から続く断面工程図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ変形例１、２の画素構成の平面図外略図である。
【図６】（ａ）は変形例３の平面概略図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【図７】電子機器の一例であるラインヘッドを示す概略構成図である。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、図７と異なる電子機器の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００７９】
１・・・有機ＥＬ装置、１００・・・有機ＥＬ素子、１１０・・・画素電極（第１電極）
１２０・・・隔壁膜、１２１・・・開口部、１２２・・・開口部内壁、１２３・・・開口部周辺、１２４・・・絶縁膜の非形成領域、１３０・・・絶縁膜、１４０・・・有機機能層、１４１・・・正孔注入層、１４２・・・正孔輸送層、１４３・・・有機発光層、１５０・・・共通電極（第２電極）、Ａ１・・・発光領域、Ａ２・・・発光周辺領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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