(57)【要約】【課題】優れた近赤外線遮断性を有し、向上した表示特性を示すディスプレイ用光学フィルタを提供すること。【解決手段】タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物を含む近赤外線遮蔽層、及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素を含むネオンカット層を有する請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項３】
タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素を含む近赤外線遮蔽層を有する請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項４】
近赤外線遮蔽層が粘着性を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項５】
近赤外線遮蔽層がアクリル樹脂を含む請求項２〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
ネオンカット層がアクリル樹脂を含む請求項２及び３〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物が微粒子状である請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
微粒子の平均粒径が４００ｎｍ以下である請求項７に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項９】
タングステン酸化物が、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表し、そして２.２≦ｚ／ｙ≦２.９９９である）で表され、そして
複合タングステン酸化物が、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表し、そして０.００１≦ｘ／ｙ≦１、２.２≦ｚ／ｙ≦３である）で表される請求項１〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
８００〜１１００ｎｍの波長領域における光の透過率の最小値が３０％以下である請求項１〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
５６０〜６１０ｎｍの波長領域における光の透過率の最小値が視感透過率に対して８０％以下である請求項１〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１２】
さらに硬化剤を含む請求項５〜１１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタがガラス基板に貼付されたディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタを備えたことを特徴とするディスプレイ。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線遮断機能を有するディスプレイ用光学フィルタ及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰには、通常、前面フィルタが使用される。この前面フィルタは、近赤外線カット、色再現性向上（発光色純度向上）、電磁波シールド、明所コントラスト向上（反射防止）、発光パネルの保護、発光パネルからの熱遮断等を目的として使用される。
【０００３】
ＰＤＰの発光パネルの発する近赤外線は、家庭用テレビやビデオ等に使用されるリモコンに誤作動を与えることを避けるために、これを低減することが必要である。またＰＤＰの発光パネルの発する電磁波は、人体や精密機器への悪影響を避けるためにこれを抑制することも必要である。またＰＤＰの発光パネルからの発光を、人間の視覚にとって自然な色に感じられるように、フィルタでの補正によって色再現性向上（発光色純度向上）の工夫も求められている。さらにディスプレイの表示は、明るい室内等の明所においても外部からの光の反射等によって妨げられることなく、十分なコントラストで視認されることが望ましい。加えて、ディスプレイ製品に直接に手で触れたような場合でも、使用者がその高温に驚かされるような事態を避けるために、ＰＤＰの発光パネルの発する熱が遮断されることも望ましい。
【０００４】
上記の目的に適宜沿うようにＰＤＰ用光学フィルタが設計されるが、一般に、反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタが用いられている。しかしながら、実際は、それぞれの機能を有する光学フィルタ及び２個の機能を有する光学フィルタを、適宜組み合わせて貼り合わせることによりＰＤＰ用光学フィルタとして使用されている。
【０００５】
前述のプラズマディスプレイから放射される近赤外線は、周辺の電子機器の誤動作の原因となるため、特に有効な遮断が求められている。
【０００６】
例えば、近赤外線遮断の機能を有する光学フィルタとして、特許文献１（特開２００１−１３３６２４号公報）に、透明樹脂フィルム層（１）と、近赤外線吸収剤としてジイモニウム系化合物を含有する透明近赤外線遮蔽層（２）と、透明樹脂フィルム層（３）と、前記透明近赤外線遮蔽層（２）の色調を補整する色材を含有する透明色調補整層（４）とを積層した多層構造を有することを特徴とする近赤外線遮蔽フィルムが開示されている。
そして、波長 ５６０〜５９０ｎｍの可視光線領域に選択的に吸収を有する色材を用いることにより、プラズマディスプレイからのネオンガスの発光による不要光を遮蔽して色純度を改善して画質を良くする機能を付加することが好ましいと記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１３３６２４号公報
【特許文献２】特開２００６−２８７２３６号公報（後述）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者の検討によれば、特許文献１に記載されているような、近赤外線吸収剤としてジイモニウム系化合物、及びネオンガスの発光をカットする色素を用いても、近赤外線の吸収機能及びネオンカット機能を長期に保持する、耐久性が十分と言えないことが明らかとなった。
【０００９】
最近、近赤外線の遮断性に優れた材料として、タングステン酸化物、複合タングステン酸化物（以下（複合）タングステン酸化物とも言う）が提案されている（例えば、特許文献２（特開２００６−２８７２３６号公報））。
【００１０】
従って、本発明の目的は、近赤外線遮断性及びその機能を長期に保持する耐久性に優れ、さらに向上した表示特性を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することにある。
【００１１】
また、本発明の目的は、近赤外線遮断性及びその機能を長期に保持する耐久性に優れ、さらに向上した表示特性を有するディスプレイパネルを提供することにある。
【００１２】
さらに、本発明の目的は、近赤外線遮断性及びその機能を長期に保持する耐久性に優れ、さらに向上した表示特性を有するプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者の検討によると、上記ネオンガス由来の発光をカットする色素（以下、ネオンカット色素とも言う）と（複合）タングステン酸化物とを併用した場合、近赤外線遮断機能とネオンカット機能が高いレベルで、両立し得ることが可能とることが明らかとなった。
【００１４】
本発明は、
タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
にある。
【００１５】
本発明の上記ディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物を含む近赤外線遮蔽層、及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素を含むネオンカット層を有する。それぞれの化合物と相溶性に優れた樹脂（特にアクリル樹脂）を用いることにより、それぞれの機能が効率よく発揮させることができるので、近赤外線遮断機能とネオンカット機能を高いレベルで、両立させることが可能である。
（２）タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素の両方を含む近赤外線遮蔽層を有する。両方の化合物と相溶性に優れた樹脂（特にアクリル樹脂）を用いることにより、近赤外線遮断機能とネオンカット機能を高いレベルで、両立させることが可能である。
（３）上記近赤外線遮蔽層が粘着性を有する。層数を低減でき生産性が向上する。
（４）近赤外線遮蔽層及びネオンカット層がアクリル樹脂を含む。粘着性を付与しやすい。タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物、ネオンカット色素を良好に分散させ得る。従って、両方の材料の特性を十分に発揮させることができる。
（５）タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物が微粒子状である。
（６）微粒子の平均粒径が４００ｎｍ以下である。良好な近赤外線遮断効果を示す。
（７）タングステン酸化物が、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表し、そして２.２≦ｚ／ｙ≦２.９９９である）で表され、
複合タングステン酸化物が、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表し、そして０.００１≦ｘ／ｙ≦１、２.２≦ｚ／ｙ≦３である）で表される。複合タングステン酸化物が近赤外線吸収性に優れており好ましい。
（８）８００〜１１００ｎｍの波長領域における近赤外線の光の透過率の最小値が３０％以下である。良好な近赤外線遮断効果を示す。
（９）５６０〜６１０ｎｍの波長領域における光の透過率の最小値が視感透過率に対して８０％以下である。
（１０）さらに硬化剤（好ましくは、イソシアネート硬化剤、エポキシ硬化剤）を含んでいる。粘着性を付与しやすい。
（１１）基板は、一般に透明基板（特に透明プラスチックフィルム）である。
（１２）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
（１３）前記（１）〜（１２）に記載の光学フィルタにおいて、表面に反射防止層を、そして裏面に近赤外線遮蔽層を有する基板と、表面に導電層及び裏面に粘着剤層を有する別の基板とが、近赤外線遮蔽層と導電層が対向した状態で接着された積層体を含む構成を有する。
（１４）前記（１）〜（１２）に記載の光学フィルタにおいて、基板の一方の表面に、導電層及び反射防止層がこの順で設けられ、且つ基板の他方の表面に近赤外線遮蔽層が設けられた構成を有する。
【００１６】
本発明は、さらに、上記ディスプレイ用光学フィルタを備えたことを特徴とするディスプレイ；及び上記ディスプレイ用光学フィルタを備えたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、近赤外線を効率よくカットするタングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物を含み、且つ５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素（ネオンカット色素）を含有している。このため、優れた近赤外線遮断性を有し、且つ不要なネオンガス由来の光を有効にカットすることができるため優れた表示特性を示す。さらにこのような機能を長期に保持する耐久性にも優れている。従って、このようなディスプレイ用光学フィルタは、特にＰＤＰの光学フィルタとして使用した場合、得られるＰＤＰの表示画像は不要なネオンガス由来の光が有効にカットされているので優れたものであり、且つ近赤外線が有効にカットされているので周辺の電子機器の誤動作を顕著に防止する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例の概略断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な別の１例の概略断面図である。
【図３】本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の１例の概略断面図である。
【図４】本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の別の１例の概略断面図である。
【図５】本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の別の１例の概略断面図である。
【図６】本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の別の１例の概略断面図である。
【図７】本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の別の１例の概略断面図である。
【図８】本発明の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態の１例の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタについて図を用いて説明する。
【００２０】
図１は、本発明の光学フィルタにおける基本構成の１例の概略断面図である。
【００２１】
本発明の光学フィルタは、透明基板１１、透明基板１１の一方の表面に形成された反射防止層１２、及び透明基板１１の他方の表面に順に積層されたネオンカット層１３及び近赤外線遮蔽層１４から構成される。本発明では、近赤外線遮蔽層１４は、一般に、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及びこれを分散させるバインダ樹脂を含んでいる。近赤外線遮蔽層１４は、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物が微粒子状で均一に樹脂中に分散しているため、有害な近赤外線が効率よくカットされる。ネオンカット層１３は一般に５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素及びこれを分散させるバインダ樹脂を含んでいる。ネオンカット層１４は、上記色素が均一に樹脂中に溶解及び／又は分散しているため、有害なネオンガスによる光が効率よくカットされる。
【００２２】
このような光学フィルタは、一般に８００〜１１００ｎｍの波長領域の近赤外線の光の透過率の最小値が３０％以下である。そして、５６０〜６１０ｎｍの波長領域における光の透過率の最小値が視感透過率に対して８０％以下であることが一般的である。近赤外線遮蔽層１４に粘着性を持たせ、これを用いて、他の光学フィルム、或いはディスプレイ表面に接着することが好ましい。反射防止機能を必要としない用途では、反射防止層１２は無くても良い。
【００２３】
ネオンカット層１３及び粘着性を有する近赤外線遮蔽層１４は、図２に示すように、同一の層としても良い。即ち、上記光学フィルタは、透明基板２１、透明基板２１の一方の表面に形成された反射防止層２２、及び透明基板２１の他方の表面に形成された（ネオンカット機能付き）近赤外線遮蔽層２４から構成されている。近赤外線遮蔽層２４には、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素の両方を含んでいる。分散又は溶解させるバインダ樹脂が共通である必要があるため、各特性が図１の別層に比較して低下する傾向にあるが、両方の化合物に相溶性の良好な樹脂を用いることにより各特性を高いレベルに保持することができる。樹脂として、アクリル樹脂を使用することが好ましい。
【００２４】
近赤外線遮蔽層２４に粘着性を持たせてこれを用いて、他の光学フィルム、或いはディスプレイ表面に接着することが好ましい。反射防止機能を必要としない用途では、反射防止層２２は無くても良い。
【００２５】
図３に、本発明の光学フィルタにおける好適態様の１例の概略断面図を示す。この光学フィルタは、透明基板３１Ａ、透明基板３１Ａの一方の表面に形成された反射防止層３２、及び透明基板３１Ａの他方の表面に形成された（粘着性を有しても良い）ネオンカット層３３及び粘着性を有する近赤外線遮蔽層３４から構成される積層体（前図１と同じ態様）と、別の透明基板３１Ｂ、透明基板３１Ｂの一方の表面に形成されたメッシュ状導電層３５、及び透明基板２１Ｂの他方の表面に形成された粘着剤層３６から構成される別の積層体とが、粘着性を有する近赤外線遮蔽層３４を介して接着された構成を有する。
【００２６】
このような光学フィルタも、前述したように、一般に、８００〜１１００ｎｍの波長領域の近赤外線の光の透過率の最小値が３０％以下である。そして、５６０〜６１０ｎｍの波長領域における光の透過率の最小値も視感透過率に対して８０％以下であることが一般的である。このような光学フィルタは、粘着剤層３６を介してディスプレイ表面に接着されるか、粘着剤層３６を介してガラス板に接着されＰＤＰの前面に配置されるのが一般的である。
【００２７】
ネオンカット層３３及び粘着性を有する近赤外線遮蔽層３４は、図４に示すように、同一の層４４としても良い。上記光学フィルタは、透明基板４１Ａ、透明基板４１Ａの一方の表面に形成された反射防止層４２、及び透明基板４１Ａの他方の表面に形成された粘着性を有する（ネオンカット機能付き）近赤外線遮蔽層４４から構成される積層体（前図２と同じ態様）と、別の透明基板４１Ｂ、透明基板４１Ｂの一方の表面に形成されたメッシュ状導電層４５、及び透明基板４１Ｂの他方の表面に形成された粘着剤層４６から構成される別の積層体とが、粘着性を有する近赤外線遮蔽層４４を介して接着された構成を有する。
【００２８】
本発明の光学フィルタの別の好適態様の一例を図５に示す（透明基板を１枚使用した態様）。透明基板５１の一方の表面にメッシュ状の導電層（電磁波シールド層）５５が設けられ、さらに導電層５５の上に反射防止層５２が設けられ、透明基板５１の他方の表面に（粘着性を有しても良い）ネオンカット層５３及び粘着性を有する近赤外線遮蔽層５４が設けられている。ネオンカット層５３を設けず、ネオンカット色素を含む近赤外線遮蔽層だけでも良い。その上にさらに粘着剤層５６が設けられても良い。この光学フィルタでは、基板として透明基板５１を１枚のみ使用しており、図３、４の光学フィルタに比較して薄いものが得られる。或いは、メッシュ状の導電層（電磁波シールド層）５４の上に、粘着性を有する近赤外線遮蔽層５４及び粘着性を有するネオンカット層５３を設け、そしてネオンカット層５３及び近赤外線遮蔽層５４の代わりに反射防止層５２を設けても良い。
【００２９】
また、上述した通り、光学フィルタにおいて反射防止層は用途に応じて省略することができる。このような本発明の光学フィルタの好適態様の一例を図６に示す。この光学フィルタでは、透明基板６１Ａ、透明基板６１Ａの一方の表面に形成された（ネオンカット機能付き）近赤外線遮蔽層６４、及び透明基板６１Ａの他方の表面上に接着剤層６６を介して貼着されたメッシュ状の導電層６５を有する積層体と、透明基板６１Ｂとが、近赤外線遮蔽層６４を介して積層された構成を有する。光学フィルタは、反射防止層を有していないことから簡素化された構成を有し、製造が容易である。また、このような光学フィルタは、そのまま、ＰＤＰの前面に配置することができる。近赤外線遮蔽層６４は、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物、５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素、及びこれらを分散させるバインダ樹脂を含む。
【００３０】
本発明の光学フィルタのさらに別の好適態様の一例を図７に示す。この光学フィルタでは、透明基板７１Ａ、透明基板７１Ａの一方の表面上に接着剤層７６を介して貼着されたメッシュ状の導電層７５、及びメッシュ状の導電層７５上に形成された近赤外線遮蔽層７４を有する積層体と、透明基板７１Ｂとが、近赤外線遮蔽層７４を介して積層された構成を有する。光学フィルタは、反射防止層を有していないことから簡素化された構成を有し、製造が容易である。また、このような光学フィルタも、そのまま、ＰＤＰの前面に配置することができる。近赤外線遮蔽層７４は、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物、５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素、及びこれらを分散させるバインダ樹脂を含んでいる。
【００３１】
本発明の光学フィルタは、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物と、ネオンカット色素とを含んでいればどのような構成を有していても良く、図１〜７に示した以外の構成を有するもの、例えば、上記で示した層の位置は適宜変更したものであっても良い。
【００３２】
そして、上記に述べたような光学フィルタは、一般に８００〜１１００ｎｍの波長領域の近赤外線の光の透過率の最小値が３０％以下である。また、５６０〜６１０ｎｍの波長範囲の可視光線における視感透過率の最小値が、当該波長範囲において８０％以下、特に６０％以下である。
【００３３】
本発明では、一般に、反射防止層１２、２２、３２、４２、５２は、ハードコート層であるか；ハードコート層とハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなるか（この場合ハードコート層が金属導電層と接している）或いは、ハードコート層、ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層及びハードコート層より屈折率の低い低屈折率層からなる（この場合ハードコート層が金属導電層と接している）。層が多いほど、一般により良好な反射防止性が得られる。あるいは、反射防止層１２等が防眩層、又は防眩層と防眩層より屈折率の低い低屈折率層とからなる（防眩層が一般に金属導電層と接している）ことも好ましい。防眩層は、いわゆるアンチグレア層であり、一般に優れた反射防止効果を有し、低屈折率層等の反射防止層を設けなくて良い場合が多い。
【００３４】
上記導電層３５、４５、５５、６５、７５としては、上記ではメッシュ状の金属層又は金属含有層を示したが、そのほかに金属酸化物層（誘電体層）、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜でも勿論良い。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、粘着剤（或いは粘着性近赤外線遮蔽層）で埋められている。これにより透明性が向上する。粘着剤で埋めない場合は、他の層、例えばハードコート層等或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められていても良い。
【００３５】
上記近赤外線遮蔽層１４、３４、５４は、ＰＤＰからの不要な光を遮断する機能を有する。本発明では、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物（必要により３００〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物も）を含む層である。ネオンカット層１３、３３、５３は、一般に５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素及びこれを分散させるバインダ樹脂を含んでいる。ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層は両方の材料を含んでいる。
【００３６】
図１、３のように、近赤外線遮蔽機能とネオンカット機能を別層として設けた場合、それぞれの化合物と相溶性に優れた樹脂（特にアクリル樹脂）を用いることにより、それぞれの機能が効率よく発揮させることができるので、近赤外線遮断機能とネオンカット機能を高いレベルで、両立させることが可能である。図２、４、６及び７のように、近赤外線遮蔽機能とネオンカット機能を単一層として設けた場合であっても、両方の化合物と相溶性に優れた樹脂（特にアクリル樹脂）を用いることにより、近赤外線遮断機能とネオンカット機能をかなり高いレベルで、両立させることが可能である。
【００３７】
粘着剤層３６、４６は、ディスプレイへ容易に装着するために設けられている。ネオンカット色素を含んでも良い。透明粘着剤層３６、４６の上に剥離シートを設けても良い。
【００３８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、透明基板の表面の全域に、反射防止層を形成し、透明基板の裏面にネオンカット層及びその上に近赤外線遮蔽層を形成することにより得られる。また、例えば、透明基板の表面の全域に、メッシュ状の金属導電層を形成し、次いで、メッシュ状の金属導電層の全域に反射防止層を形成し、透明基板の裏面にネオンカット層及びその上に粘着性近赤外線遮蔽層を形成することによっても得られる。或いは、透明基板を２枚用いて、例えば、メッシュ状導電層を有する透明基板（一般に裏面に粘着剤層等有する）の導電層上に、表面に反射防止層及び裏面にネオンカット層及び粘着性の近赤外遮蔽層を有する透明基板を、近赤外線遮蔽層を介して積層、接着することによっても得られる。
【００３９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００４０】
基板は、一般に透明基板であり、特に透明なプラスチックフィルムであることが好ましい。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。この他、グリーンガラス、珪酸塩ガラス、無機ガラス板、無着色透明ガラス板などのガラス板も透明基板として好ましく挙げられる。
【００４１】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４２】
本発明の導電層（電磁波シールド層）は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。メッシュ（格子）状の導電層が好ましい。或いは、導電層は、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００４３】
メッシュ状の金属導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明基板上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明基板上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４４】
メッシュ状の金属導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線幅１μｍ〜１ｍｍ、開口率５０％以上のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０以上９５％以下である。メッシュ状の導電層において、線幅が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、５０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００４５】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００４６】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００４７】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００４８】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたものの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４９】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５０】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。さらに開口率５０％以上のものが好ましく、特に５０％以上９５％以下である。また線幅は１０〜５００μｍが好ましい。
【００５１】
上記の他に、メッシュ状の金属導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状金属導電層を用いても良い。
【００５２】
導電層は、基材上に直接設けられてもよく、粘着剤層又は接着剤層を介して設けられてもよい。この粘着剤層又は接着剤層としては、光学フィルムをディスプレイに接着するための接着剤層として後述するものと同じものが用いられる。
【００５３】
メッシュ状金属導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００５４】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００５５】
本発明の反射防止層は、一般に基板である透明基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明基板より屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００５６】
ハードコート層としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等の合成樹脂組成物を主成分とする層である。通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。合成樹脂組成物は、一般に熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂組成物であり、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れているので好ましい。
【００５７】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００５８】
ハードコート層としては、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性モノマー及び／又はオリゴマー（及び／又はポリマー）、光重合開始剤等からなる）を主成分とする層の硬化層が好ましく、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。
【００５９】
紫外線硬化性モノマー及び／又はオリゴマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００６０】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性モノマー、オリゴマーの内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００６１】
紫外線硬化性樹脂組成物の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００６２】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６３】
さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６４】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂組成物）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の金属酸化物微粒子が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００６５】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６６】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０質量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５以下が好ましい。この屈折率が１．４５超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００６７】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００６８】
ハードコート層は、可視光線透過率が７０％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００６９】
反射防止層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍ、低屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００７０】
反射防止層の、各層を形成するには、例えば、前記の通り、樹脂組成物（好ましくは紫外線硬化性樹脂組成物）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００７１】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂組成物をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００７２】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００７３】
前述のようにハードコート層の代わりに防眩層を設けることも好ましい。反射防止効果が大きいものが得られやすい。防眩層としては、例えば、ポリマー微粒子（例、アクリルビーズ）等の透明フィラー（好ましくは平均粒径１〜１０μｍ）をバインダに分散させた液を塗布、乾燥することにより得られる防眩層、或いは、前述のハードコート層形成用材料に透明フィラー（ポリマー微粒子；例、アクリルビーズ）を加えた液を塗布、硬化させた、ハードコート機能を有する防眩層を挙げることができ、好ましい。防眩層の層厚は、一般に０．０１〜２０μｍの範囲である。
【００７４】
本発明の光学フィルタは、一般に、近赤外線を効率よくカットするタングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及びこれを分散させる樹脂を含有する近赤外線遮蔽層と、５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素及びこれを溶解及び／又は分散させるバインダ樹脂を有すネオンカット層との両方の層を有するか、近赤外線を効率よくカットするタングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物及び５６０〜６１０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する色素及びこれらを溶解及び／又は分散させるバインダ樹脂を有すネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層を有する。
【００７５】
前者のように、近赤外線遮蔽機能とネオンカット機能を別層として設けた場合、それぞれの化合物と相溶性に優れた樹脂（特にアクリル樹脂系粘着剤）を用いることにより、それぞれの機能が効率よく発揮させることができるので、近赤外線遮断機能とネオンカット機能を高いレベルで、両立させることが可能である。後者のように、近赤外線遮蔽機能とネオンカット機能を単一層として設けた場合であっても、両方の化合物と相溶性に優れた樹脂（特にアクリル樹脂系粘着剤）を用いることにより、近赤外線遮断機能とネオンカット機能をかなり高いレベルで、両立させることが可能である。
【００７６】
上記タングステン酸化物は、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ／ｙ≦２.９９９）で表される酸化物であり、複合タングステン酸化物は、上記タングステン酸化物に、元素Ｍ（但し、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素）を添加した組成を有するものである。これにより、ｚ／ｙ＝３.０の場合も含めて、ＷｙＯｚ中に自由電子が生成され、近赤外線領域に自由電子由来の吸収特性が発現し、１０００ｎｍ付近の近赤外線吸収材料として有効となる。本発明では、複合タングステン酸化物が好ましい。
【００７７】
上述した一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ／ｙ≦２.９９９）で表記されるタングステン酸化物微粒子において、タングステンと酸素との好ましい組成範囲は、タングステンに対する酸素の組成比が３よりも少なく、さらには、当該赤外線遮蔽材料をＷｙＯｚと記載したとき、２.２≦ｚ／ｙ≦２.９９９である。このｚ／ｙの値が、２．２以上であれば、赤外線遮蔽材料中に目的以外であるＷＯ2の結晶相が現れるのを回避することが出来るとともに、材料としての化学的安定性を得ることが出来るので有効な赤外線遮蔽材料として適用できる。一方、このｚ／ｙの値が、２．９９９以下であれば必要とされる量の自由電子が生成され効率よい赤外線遮蔽材料となり得る。
【００７８】
複合タングステン酸化物の微粒子は、安定性の観点から、一般に、ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、（０.００１≦ｘ／ｙ≦１、２.２≦ｚ／ｙ≦３）で表される酸化物であることが好ましい。アルカリ金属は、水素を除く周期表第１族元素、アルカリ土類金属は周期表第２族元素、希土類元素は、Ｓｃ、Ｙ及びランタノイド元素である。
【００７９】
特に、赤外線遮蔽材料としての光学特性、耐候性を向上させる観点から、Ｍ元素が、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎのうちの１種類以上であるものが好ましい。また複合タングステン酸化物が、シランカップリング剤で処理されていることが好ましい。優れた分散性が得られ、優れた赤外線カット機能、透明性が得られる。
【００８０】
元素Ｍの添加量を示すｘ／ｙの値が０.００１より大きければ、十分な量の自由電子が生成され赤外線遮蔽効果を十分に得ることが出来る。元素Ｍの添加量が多いほど、自由電子の供給量が増加し、赤外線遮蔽効果も上昇するが、ｘ／ｙの値が１程度で飽和する。また、ｘ／ｙの値が１より小さければ、微粒子含有層中に不純物相が生成されるのを回避できるので好ましい。
【００８１】
酸素量の制御を示すｚ／ｙの値については、ＭｘＷｙＯｚで表記される複合タングステン酸化物においても、上述のＷｙＯｚで表記される赤外線遮蔽材料と同様の機構が働くことに加え、ｚ／ｙ＝３．０においても、上述した元素Ｍの添加量による自由電子の供給があるため、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０が好ましく、さらに好ましくは２．４５≦ｚ／ｙ≦３．０である。
【００８２】
さらに、複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有する場合、当該微粒子の可視光領域の透過が向上し、近赤外領域の吸収が向上する。
【００８３】
この六角形の空隙に元素Ｍの陽イオンが添加されて存在するとき、可視光領域の透過が向上し、近赤外領域の吸収が向上する。ここで、一般的には、イオン半径の大きな元素Ｍを添加したとき当該六方晶が形成され、具体的には、Ｃｓ、Ｋ、Ｒｂ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅを添加したとき六方晶が形成されやすい。勿論これら以外の元素でも、ＷＯ6単位で形成される六角形の空隙に添加元素Ｍが存在すれば良く、上記元素に限定される訳ではない。
【００８４】
六方晶の結晶構造を有する複合タングステン酸化物微粒子が均一な結晶構造を有するとき、添加元素Ｍの添加量は、ｘ／ｙの値で０．２以上０．５以下が好ましく、更に好ましくは０．３３である。ｘ／ｙの値が０．３３となることで、添加元素Ｍが、六角形の空隙の全てに配置されると考えられる。
【００８５】
また、六方晶以外では、正方晶、立方晶のタングステンブロンズも赤外線遮蔽効果がある。そして、これらの結晶構造によって、近赤外線領域の吸収位置が変化する傾向があり、立方晶＜正方晶＜六方晶の順に、吸収位置が長波長側に移動する傾向がある。また、それに付随して可視光線領域の吸収が少ないのは、六方晶＜正方晶＜立方晶の順である。このため、より可視光領域の光を透過して、より赤外線領域の光を遮蔽する用途には、六方晶のタングステンブロンズを用いることが好ましい。
【００８６】
本発明で使用される複合タングステン酸化物微粒子の粒径は、透明性を保持する観点から、８００ｎｍ以下の粒径（平均粒径）を有していることが好ましい。これは、８００ｎｍよりも小さい粒子は、散乱により光を完全に遮蔽することが無く、可視光線領域の視認性を保持し、同時に効率良く透明性を保持することができるからである。特に可視光領域の透明性を重視する場合は、さらに粒子による散乱を考慮することが好ましい。この粒子による散乱の低減を重視するとき、粒径は４００ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下が良い。
【００８７】
また、本発明の複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌの一種類以上を含有する酸化物で被覆されていることは、耐候性の向上の観点から好ましい。
【００８８】
本発明の複合タングステン酸化物微粒子は、例えば下記のようにして製造される。
【００８９】
上記一般式ＷｙＯｚで表記されるタングステン酸化物微粒子、または／及び、ＭｘＷｙＯｚで表記される複合タングステン酸化物微粒子は、タングステン化合物出発原料を不活性ガス雰囲気もしくは還元性ガス雰囲気中で熱処理して得ることができる。
【００９０】
タングステン化合物出発原料には、３酸化タングステン粉末、もしくは酸化タングステンの水和物、もしくは、６塩化タングステン粉末、もしくはタングステン酸アンモニウム粉末、もしくは、６塩化タングステンをアルコール中に溶解させた後乾燥して得られるタングステン酸化物の水和物粉末、もしくは、６塩化タングステンをアルコール中に溶解させたのち水を添加して沈殿させこれを乾燥して得られるタングステン酸化物の水和物粉末、もしくはタングステン酸アンモニウム水溶液を乾燥して得られるタングステン化合物粉末、金属タングステン粉末から選ばれたいずれか一種類以上であることが好ましい。
【００９１】
ここで、タングステン酸化物微粒子を製造する場合には製造工程の容易さの観点より、タングステン酸化物の水和物粉末、もしくはタングステン酸アンモニウム水溶液を乾燥して得られるタングステン化合物粉末、を用いることがさらに好ましく、複合タングステン酸化物微粒子を製造する場合には、出発原料が溶液であると各元素を容易に均一混合可能となる観点より、タングステン酸アンモニウム水溶液や、６塩化タングステン溶液を用いることがさらに好ましい。これら原料を用い、これを不活性ガス雰囲気もしくは還元性ガス雰囲気中で熱処理して、上述した粒径のタングステン酸化物微粒子、または／及び、複合タングステン酸化物微粒子を得ることができる。
【００９２】
また、上記元素Ｍを含む一般式ＭｘＷｙＯｚで表される複合タングステン酸化物微粒子は、上述した一般式ＷｙＯｚで表されるタングステン酸化物微粒子のタングステン化合物出発原料と同様であり、さらに元素Ｍを、元素単体または化合物の形で含有するタングステン化合物を出発原料とする。ここで、各成分が分子レベルで均一混合した出発原料を製造するためには各原料を溶液で混合することが好ましく、元素Ｍを含むタングステン化合物出発原料が、水や有機溶媒等の溶媒に溶解可能なものであることが好ましい。例えば、元素Ｍを含有するタングステン酸塩、塩化物塩、硝酸塩、硫酸塩、シュウ酸塩、酸化物、等が挙げられるが、これらに限定されず、溶液状になるものであれば好ましい。
【００９３】
ここで、不活性雰囲気中における熱処理条件としては、６５０℃以上が好ましい。６５０℃以上で熱処理された出発原料は、十分な着色力を有し赤外線遮蔽微粒子として効率が良い。不活性ガスとしてはＡｒ、Ｎ2等の不活性ガスを用いることが良い。また、還元性雰囲気中の熱処理条件としては、まず出発原料を還元性ガス雰囲気中にて１００〜６５０℃で熱処理し、次いで不活性ガス雰囲気中で６５０〜１２００℃の温度で熱処理することが良い。この時の還元性ガスは、特に限定されないがＨ2が好ましい。また還元性ガスとしてＨ2を用いる場合は、還元雰囲気の組成として、Ｈ2が体積比で０．１％以上が好ましく、さらに好ましくは２％以上が良い。０．１％以上であれば効率よく還元を進めることができる。
【００９４】
水素で還元された原料粉末はマグネリ相を含み、良好な赤外線遮蔽特性を示し、この状態で赤外線遮蔽微粒子として使用可能である。しかし、酸化タングステン中に含まれる水素が不安定であるため、耐候性の面で応用が限定される可能性がある。そこで、この水素を含む酸化タングステン化合物を、不活性雰囲気中、６５０℃以上で熱処理することで、さらに安定な赤外線遮蔽微粒子を得ることができる。この６５０℃以上の熱処理時の雰囲気は特に限定されないが、工業的観点から、Ｎ2、Ａｒが好ましい。当該６５０℃以上の熱処理により、赤外線遮蔽微粒子中にマグネリ相が得られ耐候性が向上する。
【００９５】
本発明の複合タングステン酸化物微粒子は、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等のカップリング剤で表面処理されていることが好ましい。シランカップリング剤が好ましい。これにより中間層、ハードコート層、熱線カット層等のバインダとの親和性が良好となり、透明性、熱線カット性の他、各種物性が向上する。
【００９６】
シランカップリング剤の例として、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシアクリルシランを挙げることができる。ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、トリメトキシアクリルシランが好ましい。これらシランカップリング剤は、単独で使用しても、又は２種以上組み合わせて使用しても良い。また上記化合物の含有量は、微粒子１００質量部に対して５〜２０質量部で使用することが好ましい。
【００９７】
（複合）タングステン酸化物微粒子は、前述のように、一般に分散液（特に水性分散液）の状態で市販されている。
【００９８】
本発明の近赤外線遮蔽層或いはネオンカット層に使用される樹脂は、例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等の合成樹脂を挙げることができる。またこれらの樹脂は、硬化剤と組み合わせて使用することが好ましい。
【００９９】
このような樹脂は、粘着性を有することが好ましく、この点からアクリル樹脂（特にアクリル樹脂系粘着剤）が好ましい。
【０１００】
上記好ましいアクリル樹脂の構成成分（モノマー）として、下記の化合物を挙げることができる。
【０１０１】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルの好ましい例として；炭素数１〜１２の分岐していてもよいアルキル基を分子内に有する（メタ）アクリレート、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートを挙げることができる（（メタ）アクリレートはアクリレートとメタクリレートの両方を意味する）。特に、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１０２】
（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの特に好ましい例として；メトキシエチル（メタ）アクリレート及びエトキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【０１０３】
芳香環含有モノマー（分子構造中に芳香族基を含む共重合可能な化合物）の好ましい例としては；フェニルアクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル化β−ナフトールアクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン等を挙げることができる。特に、フェニルアクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１０４】
水酸基含有モノマーの例としては；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、クロロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、アリルアルコール等を挙げることができる。特に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１０５】
更に、分子内にカルボキシル基を有するモノマーの好ましい例としては、（メタ）アクリル酸、２−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、３−カルボキシプロピル（メタ）アクリレート、４−カルボキシブチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸及び無水マレイン酸等を挙げることができる。特に、（メタ）アクリル酸が好ましい。
【０１０６】
また、アミノ基含有モノマーの好ましい例としては、アミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ビニルピリジン等を挙げることができる。特に、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１０７】
上記モノマー成分は、所望する物性に合わせて適宜採用されるが、本発明では、近赤外線遮蔽層のアクリル樹脂はカルボキシル基を有するモノマーが用いられており、ネオンカット層のアクリル樹脂はカルボキシル基を有するモノマーが用いられていないことが好ましい。ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層のアクリル樹脂はカルボキシル基を有するモノマーが少し用いられている。
【０１０８】
好ましい本発明のアクリル樹脂の単量体混合物の配合量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び／又は(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル：４．５〜８９質量％（特に２２．７〜６９質量％）、芳香環含有モノマー１０〜８５質量％（特に３０〜７０質量％）、水酸基含有モノマー：１〜１０質量％（特に０．０５〜０．５質量％）、カルボキシル基を有するモノマー：適宜、アミノ基含有モノマー：適宜である。
【０１０９】
好ましい近赤外線遮蔽層のアクリル樹脂の単量体混合物の配合量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び／又は(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル：４．５〜８９質量％（特に２２．７〜６９質量％）、芳香環含有モノマー１０〜８５質量％（特に３０〜７０質量％）、水酸基含有モノマー：１〜１０質量％（特に０．０５〜０．５質量％）、カルボキシル基を有するモノマー：０．０５〜１０質量％（特に０．０５〜５質量％）、アミノ基含有モノマー０〜０．５質量％（特に０〜０．３質量％）である。
【０１１０】
好ましいネオンカット層のアクリル樹脂の単量体混合物の配合量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び／又は(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル：４．５〜８９質量％（特に２２．７〜６９質量％）、芳香環含有モノマー１０〜８５質量％（特に３０〜７０質量％）、水酸基含有モノマー：１〜１０質量％（特に０．０５〜０．５質量％）、カルボキシル基を有するモノマー：０．００〜１０質量％（特に０．００〜５質量％）、アミノ基含有モノマー０〜０．５質量％（特に０〜０．３質量％）である。
【０１１１】
好ましいネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層のアクリル樹脂の単量体混合物の配合量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び／又は(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル：４．５〜８９質量％（特に２２．７〜６９質量％）、芳香環含有モノマー１０〜８５質量％（特に３０〜７０質量％）、水酸基含有モノマー：１〜１０質量％（特に０．０５〜０．５質量％）、カルボキシル基を有するモノマー：０．０１〜２質量％（特に０．０１〜１質量％）、アミノ基含有モノマー０〜０．５質量％（特に０〜０．３質量％）である。
【０１１２】
前記単量体混合物には、必要に応じて、その他の単量体を混合させても良い。その他の単量体の例としては、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレート；アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート等のアセトアセチル基含有（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、塩化ビニル並びに（メタ）アクリロニトリル等を挙げることができる。その他の単量体の混合比は、０〜１０質量％の割合で含ませることができる。
【０１１３】
上記アクリル樹脂は、溶液重合法、塊状重合法、乳化重合法及び懸濁重合法等の従来公知の重合法により製造することができるが、乳化剤や懸濁剤等の重合安定剤を含まない溶液重合法及び塊状重合法により製造したものが好ましい。また、前記アクリル系ポリマーのゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による重量平均分子量（Ｍｗ）は、８０万〜１６０万であり、好ましくは８０万〜１５０万である。Ｍｗが、８０万未満であると、硬化剤配合を好適な範囲に調製しても、熱時の粘着剤の凝集力が十分でなく、高温条件下での発泡が生じやすく、１６０万を超えると、粘着剤の応力緩和性が低下しやすい。重量平均分子量と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１０〜５０であることが好ましい。さらに２０〜５０であるのが好適である。前記比（Ｍｗ／Ｍｎ）が大きくなりすぎると、低分子量ポリマーが増加し、発泡が生じやすくなるり、逆に前記比（Ｍｗ／Ｍｎ）が小さくなりすぎると、応力緩和性が低下しやすくなる。
【０１１４】
上記アクリル樹脂は、硬化剤と共に使用することが好ましい。硬化剤としては、エポキシ化合物系架橋剤、イソシアネート化合物系架橋剤、金属キレート化合物系架橋剤、アジリジン化合物系架橋剤及びアミノ樹脂系架橋剤を挙げることができる。中でも、分子内に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物系架橋剤、分子内に２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物系架橋剤、及びアジリジン化合物系架橋剤が好ましく、特に、エポキシ化合物系架橋剤が好ましい。
【０１１５】
分子内に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物系架橋剤としては、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリジル−ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリジルアミノフェニルメタン、トリグリシジルイソシアヌレート、ｍ−Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノフェニルグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトルイジン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル等のエポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。
【０１１６】
イソシアネート化合物の例としては、トリレンジイソシアネート、クロルフェニレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添されたジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートモノマー及びこれらイソシアネートモノマーをトリメチロールプロパンなどと付加したイソシアネート化合物やイソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、さらにはポリエーテルポリオールやポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオールなど付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート等を挙げることができる。
【０１１７】
さらに、アジリジン化合物系架橋剤の例としては、トリメチロールプロパントリ-β-アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリ-β-（2-メチルアジリジン）プロピオネート、テトラメチロールメタントリ-β-アジリジニルプロピオネート、トリエチレンメラミン等を挙げることができる。
【０１１８】
上記架橋剤の配合量は、アクリル樹脂１００重量部に対して０．０００１〜２．０重量部であるが、前記エポキシ化合物系架橋剤を使用した場合には、０．０００１〜０．１重量部が好ましく、０．００１〜０．０５重量部が特に好ましい。
【０１１９】
本発明で好ましく使用されるアクリル樹脂を含む粘着剤組成物は、透明性、視認性及び本発明の効果を損なわない範囲で有れば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、防黴剤、粘着付与樹脂、可塑剤、消泡剤及び濡れ性調製剤等を配合しても良い。
【０１２０】
近赤外線遮蔽層は、一般に、上記タングステン酸化物又は複合タングステン酸化物及びバインダ樹脂（好ましくは上記アクリル樹脂）を主成分とする層である。近赤外線遮蔽層は、例えば上記（複合）タングステン酸化物及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記（複合）タングステン酸化物及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば（複合）タングステン酸化物を含有するフィルムである。また、ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層も上記と同様に、例えば上記（複合）タングステン酸化物、ネオンカット色素（後述）及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。
【０１２１】
（複合）タングステン酸化物以外に必要により色素を使用することもできる。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。近赤外線遮蔽層は粘着剤層であることが好ましく、粘着剤用樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【０１２２】
近赤外線遮蔽層は、上記（複合）タングステン酸化物をバインダ樹脂１００質量部に対して、０．１〜２０質量部、さらに１〜２０質量部、特に１〜１０質量部含有することが好ましい。また近赤外線遮蔽層の厚さは、一般に１〜５０μｍ、好ましくは５〜５０μｍである。
【０１２３】
本発明では、近赤外線遮蔽層と共にネオンカット層が設けられる。あるいは、近赤外線遮蔽層にネオンカット色素（ネオン発光の吸収機能を付与することのできる色素）を含有させ、ネオン発光の吸収機能を持たせても良い。
【０１２４】
本発明の５６０〜６１０ｎｍの波長範囲に極大吸収を有する色素｛ネオンカット色素（ネオン発光の選択吸収色素）｝としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、ポリフィリン環構造を有する色素を挙げることができる。ポルフィン環構造を有する色素が好ましい（特にポルフィン環がＦｅ、Ｍｇ等の金属に配位した構造）。ポリフィリン環構造を有する色素としては、例えば、山田化学工業（株）からＴＡＰ−２、ＴＡＰ−１８、ＴＡＰ−４５等の商品名で市販されている。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５６０〜６１０ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。上記極大吸収は、例えば分光光度計ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所（株）製）を用いて測定することができる。
【０１２５】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１２６】
ネオンカット層は、一般に、上記ネオンカット色素及びバインダ樹脂（好ましくは上記アクリル樹脂）を主成分とする層である。ネオンカット層は、例えば上記ネオンカット及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記ネオンカット及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。
【０１２７】
上記化合物（染料又は顔料）を含む層（近赤外線遮蔽層、ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層）は、上記化合物をバインダ樹脂（粘着剤用樹脂）１００質量部に対して、０．１〜２０質量部、さらに１〜２０質量部、特に１〜１０質量部含有することが好ましい。またこのような層の厚さは、一般に１〜５０μｍ、好ましくは５〜５０μｍ、特に好ましくは１０〜５０μｍである。
【０１２８】
但し、ネオンカット層の場合、上記ネオンカット色素をバインダ樹脂（粘着剤用樹脂）１００質量部に対して、０．１〜５質量部、さらに０．１〜２質量部含有することが好ましい。また層の厚さは、一般に１〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、特に好ましくは２〜８μｍである。
【０１２９】
上記或いは通常の粘着剤層は、主として本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤（前述アクリル樹脂を含む）、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１３０】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することによる装備することができる。
【０１３１】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８００〜１１００ｎｍの波長範囲の近赤外線における透過率の最小値が、当該波長範囲において３０％以下であることが好ましく、特に２０％以下が好ましい。これにより、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、特に、５６０〜６１０ｎｍの波長範囲の可視光線における視感透過率の最小値が、当該波長範囲において８０％以下、より好ましくは６０％以下、特に４０％以下とすることにより、上記効果に加えて、５６０〜６１０ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１３２】
またフィルタの透過光のＬ*ａ*ｂ*表示系のｂ*が−１５以上であることが好ましい。
【０１３３】
本発明において透明基板２枚を使用する場合、これらの接着（粘着剤層）には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を使用することができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１３４】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１３５】
前記粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０質量％、好ましくは１５〜４０質量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５質量％より少ないと透明性に問題があり、また４０質量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１３６】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１３７】
上記接着のための粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１３８】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１３９】
粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１４０】
本発明の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態の１例を図８に示す。ディスプレイパネル８０の表示面の表面に粘着性近赤外線遮蔽層層８４を介して光学フィルタが接着されている。即ち、透明基板８１の一方の表面に、メッシュ状導電層８５、ハードコート層８２Ａ、低屈折率層８２Ｂがこの順で設けられ、透明基板８１の他方の表面にはネオンカット層８３及び粘着性近赤外線遮蔽層層８４が設けられた光学フィルタが表示面に設けられている。そしてフィルタの縁部（側縁部）に、メッシュ状導電層８５'が露出している（例えば、端部の各層をレーザにより除去することにより得られる）。この露出したメッシュ状導電層８５'にプラズマディスプレイパネル９０の周囲に設けられた金属カバー８９にシールドフィンガー（板バネ状金属部品）８８を介して接触状態にされている。シールドフィンガー（板バネ状金属部品）の代わりに、導電性ガスケット等が用いても良い。これにより、光学フィルタと金属カバー８９が導通し、アースが達成される。金属カバー８９は金属枠、フレームでも良い。図８から明らかなように、メッシュ状導電層８５は、視聴者側を向いている。
【０１４１】
本発明のＰＤＰディスプレイは、一般に透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、上記のように本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【実施例】
【０１４２】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１４３】
［実施例１］
＜反射防止層及び近赤外線遮蔽層付きフィルムの作製＞
ＰＥＴフィルム（厚さ１８８μｍ、Ａ４３００；（株）東洋紡製）上に、下記組成を有するハードコート層形成用塗布液（固形分濃度：４０質量％；粘度：２５℃、１００ｃＰ）を、バーコータを用いて厚さが約１２μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で１分間乾燥させた後、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射させて硬化させた。これにより積層体上にハードコート層（厚さ６．９μｍ）を有するディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４４】
（ハードコート層形成用塗布液の組成）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                      １００質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ）                              １０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製）  ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                                ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                  １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ）                                    ２５質量部
次いで、下記の組成：
【０１４５】
（低屈折率層形成用塗布液の組成）
オプスターＪＮ−７２１２（日本合成ゴム（株）製）            １００質量部
メチルエチルケトン                                          １１７質量部
メチルイソブチルケトン                                      １１７質量部
を混合して得た塗布液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、１２０℃のオーブン中で３０分間乾燥、硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４０）を形成した。
【０１４６】
ハードコート層及び低屈折率層からなる反射防止層が設けられたＰＥＴフィルムの裏面に、下記の組成：
【０１４７】
（ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層形成用塗布液）
アクリル樹脂系粘着剤（商品名ＳＫダイン１５０１ＢＳ４、綜研化学（株）製、
固形分２０質量％、酢酸エチル溶液）                          １００質量部
エポキシ硬化剤（商品名Ｌ−４５、綜研化学（株）製）                １質量部
Ｃｓ0.33ＷＯ3
（平均粒径８０ｎｍ、固形分２０質量％、ＭＩＢＫ溶液）              ５質量部
ネオンカット色素（５６０〜６１０ｎｍの極大吸収：５９２ｎｍ）
商品名ＴＡＰ−２、山田化学工業（株）製）                        ０．５質量部
を混合して得た塗布液を、アプリケータを用いて乾燥後厚さが２５μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で２分間乾燥させた。これにより積層体上に粘着性のネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層（厚さ２５μｍ）を有するディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４８】
これにより反射防止層及びネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層を有するフィルムを得た。
【０１４９】
＜粘着剤層付きメッシュ状導電層フィルムの作製＞
ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、Ａ４３０３；（株）東洋紡製）上に、平均高さが３．３μｍ、ピッチが１６５μｍの銅からなるメッシュ状導電層フィルム（開口率８５％）を用意した。
【０１５０】
上記メッシュ状導電層フィルムの裏面に、下記組成：
【０１５１】
（粘着剤層形成用塗布液）
アクリル樹脂系粘着剤（商品名ＳＫダイン１８１１Ｌ、綜研化学（株）製、
固形分２０質量％、酢酸エチル溶液）                            １００質量部
エポキシ硬化剤（商品名Ｌ−４５、綜研化学（株）製）                  １質量部
を混合して得た塗工液を、バーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、メッシュ状導電層フィルムの裏面に厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。
【０１５２】
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
ガラス板上に、上記で得た粘着剤層付きメッシュ状導電層フィルムを、粘着剤層とガラス板表面が対向するように載置し、さらにメッシュ状導電層フィルムの導電層の上に、反射防止層及びネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層付きフィルムを、導電層と近赤外線遮蔽層が接触するように載置し、これらを圧着した。
【０１５３】
これにより、ディスプレイ用光学フィルタ（図４参照）を得た。
【０１５４】
［実施例２］
＜反射防止層及び近赤外線遮蔽層付きフィルムの作製＞
実施例１と同様にして得られたハードコート層及び低屈折率層からなる反射防止層が設けられたＰＥＴフィルムの裏面に、下記の組成：
【０１５５】
（ネオンカット層形成用塗布液）
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート（固形分１００質量％）                  ３０質量部
メチルエチルケトン                                            １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                        １８２質量部
ネオンカット色素（商品名ＴＡＰ−２、山田化学工業（株）製）        ０．３質量部
を混合して得た塗布液を、バーコータを用いて乾燥後厚さが５μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で２分間乾燥させ、ネオンカット層を形成した。
【０１５６】
（近赤外線遮蔽層形成用塗布液）
下記の配合：
アクリル樹脂系粘着剤（商品名ＳＫダイン１５０１ＢＳ４、綜研化学（株）製、
固形分２０質量％、酢酸エチル溶液）                          １００質量部
エポキシ硬化剤（商品名Ｌ−４５、綜研化学（株）製）                  １質量部
Ｃｓ0.33ＷＯ3
（平均粒径８０ｎｍ、固形分２０質量％、ＭＩＢＫ溶液）                ５質量部
を混合して得た塗布液を、上記ネオンカット層上にアプリケータを用いて乾燥後厚さが２５μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で２分間乾燥させた。
【０１５７】
これにより積層体上に粘着性のネオンカット層及び近赤外線遮蔽層（厚さ２５μｍ）を有するディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１５８】
これにより反射防止層、ネオンカット層及び近赤外線遮蔽層を有するフィルムを得た。
＜粘着剤層付きメッシュ状導電層フィルムの作製＞
ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、Ａ４３０３；（株）東洋紡製）上に、平均高さが３．３μｍ、ピッチが１６５μｍの銅からなるメッシュ状導電層フィルム（開口率８５％）を用意した。
【０１５９】
上記メッシュ状導電層フィルムの裏面に、下記組成：
（粘着剤層形成用塗布液）
アクリル樹脂系粘着剤（商品名ＳＫダイン１８１１Ｌ、綜研化学（株）製、
固形分２０質量％、酢酸エチル溶液）                            １００質量部
エポキシ硬化剤（商品名Ｌ−４５、綜研化学（株）製）                  １質量部
を混合して得た塗工液を、バーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、メッシュ状導電層フィルムの裏面に厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。
【０１６０】
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
ガラス板上に、上記で得た粘着剤層付きメッシュ状導電層フィルムを、粘着剤層とガラス板表面が対向するように載置し、さらにメッシュ状導電層フィルムの導電層の上に、反射防止層及び近赤外線遮蔽層付きフィルムを、導電層と近赤外線遮蔽層が接触するように載置し、これらを圧着した。
【０１６１】
これにより、ディスプレイ用光学フィルタ（図３参照）を得た。
［比較例１］
実施例１において、ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層形成用塗布液として、ネオンカット色素を含まないものを用いた以外同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１６２】
［実施例３］
＜メッシュ状導電層付きフィルムの作製＞
ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）の一方の表面上に、接着剤層を介して銅箔を積層した後、前記銅箔をフォトリソグラフィー法によってエッチングした。これにより、メッシュ状の導電層（平均高さ１０μｍ、平均幅２０μｍ、ピッチ２５０μｍ、開口率８５％）を有するＰＥＴフィルムを得た。
【０１６３】
＜近赤外線遮蔽層付き基板の作製＞
前記ＰＥＴフィルムの他方の面上に、下記の組成を有するネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層形成用塗布液を、アプリケータを用いて乾燥後厚さが２５μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で２分間乾燥させた。これにより、一方の表面上に接着剤層を介して積層されたメッシュ状の導電層を有し、他方の表面上に粘着性のネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層（厚さ２５μｍ）を有する前記ＰＥＴフィルム（図６）を作製した。
【０１６４】
（ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層形成用塗布液）
アクリル樹脂系粘着剤（商品名ＳＫダイン１５０１ＢＳ４、綜研化学（株）製、
固形分２０質量％、酢酸エチル溶液）                      １００質量部
エポキシ硬化剤（商品名Ｌ−４５、綜研化学（株）製）            １質量部
Ｃｓ0.33ＷＯ3
（平均粒径８０ｎｍ、固形分２０質量％、ＭＩＢＫ溶液）        ５質量部
ネオンカット色素（５６０〜６１０ｎｍの極大吸収：５９２ｎｍ）
商品名ＴＡＰ−２、山田化学工業（株）製）                        ０．５質量部
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
フロートガラス（厚さ２．５ｍｍ）上に、上前記ＰＥＴフィルムを、近赤外線遮蔽層とフロートガラスとが対向するように載置し、これらを圧着した。これにより、ディスプレイ用光学フィルタ（図６参照）を得た。
【０１６５】
［実施例４］
＜メッシュ状導電層付きフィルムの作製＞
実施例３と同様にして、メッシュ状の導電層（平均高さ１０μｍ、平均幅２０μｍ、ピッチ２５０μｍ、開口率８５％）を有するフィルムを得た。
【０１６６】
＜近赤外線遮蔽層付き基板の作製＞
粘着性近赤外線遮蔽層形成用塗布液を、上記で作製したメッシュ状の導電層上に塗布した以外は、実施例３と同様にして、ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層（厚さ２５μｍ）を作製した。これにより、一方の表面上に接着剤層を介して積層されたメッシュ状の導電層、及び前記メッシュ状の導電層上に積層された粘着性のネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層（厚さ２５μｍ）を有する前記ＰＥＴフィルム（図７）を作製した。
【０１６７】
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
フロートガラス（厚さ２．５ｍｍ）上に、上前記ＰＥＴフィルムを、近赤外線遮蔽層とフロートガラスとが対向するように載置し、これらを圧着した。これにより、ディスプレイ用光学フィルタ（図７参照）を得た。
【０１６８】
［比較例２］
実施例３において、ネオンカット機能付き近赤外線遮蔽層形成用塗布液として、ネオンカット色素を含まないものを用いた以外同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１６９】
［光学フィルタの評価］
（１）視感透過率
実施例、比較例で得られた光学フィルタについて、視感透過率（ＪＩＳ−Ｚ−８１０５−１９８２年）を分光光度計ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所（株）製）により測定した。
（２）５６０〜６１０ｎｍの波長領域における可視光の、視感透過率に対する最小値
実施例、比較例で得られたで得られた光学フィルタについて、視感透過率（定義ＪＩＳ Ｚ８１０５−１９８２）を分光光度計ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所（株）製）により測定したフィルタの透過スペクトルを用い、ＸＹＺ表色系の三刺激値のＹを計算し、視感透過率（Ｙ）を得た。計算方法は、Ｃ光源２°（ＪＩＳ Ｚ８７２２−２０００）にて計算した。
（３）８００〜１１００ｎｍの波長領域における近赤外線光の透過率の最小値
実施例、比較例で得られた光学フィルタについて、上記近赤外線光の透過率の最小値を分光光度計ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所（株）製）により測定した。
【０１７０】
上記結果を表１及び表２に示す。
【０１７１】
【表１】
2009271514.tif 000003
【０１７２】
【表２】
2009271514.tif 000004
【０１７３】
実施例１、２で得られたディスプレイ用光学フィルタは、５６０〜６１０ｎｍの可視光の視感透過率が低く、ネオンガス由来の光が十分にカットされており、それと共に８００−１１００ｎｍ透過率の最小値が低いので優れたな近赤外線カット機能も示している。これはＣｓ0.33ＷＯ3とネオンカット色素を同時に使用した顕著な効果と言える。また、実施例３及び４、比較例２においても同様の結果が得られている。
【符号の説明】
【０１７４】
１１、２１、３１Ａ、３１Ｂ、４１Ａ、４１Ｂ、５１  透明基板
６１Ａ、６１Ｂ、７１Ａ、７１Ｂ、８１              透明基板
１２、２２、３２、４２、５２  反射防止層
１３、３３、５３、８３  ネオンカット層
２４、４４、６４、７４  （ネオンカット機能付き）近赤外線遮蔽層
１４、３４、５４、８４  近赤外線遮蔽層
３５、３４、５５、６５、７５、８５  導電層
３６、４６、７６  粘着剤層
８２Ａ  ハードコート層
８２Ｂ  低屈折率層
８５'  メッシュ状導電層
８８  シールドフィンガー
８９  金属カバー
９０  プラズマディスプレイパネル
【図１】
2009271514.tif 000005
【図２】
2009271514.tif 000006
【図３】
2009271514.tif 000007
【図４】
2009271514.tif 000008
【図５】
2009271514.tif 000009
【図６】
2009271514.tif 000010
【図７】
2009271514.tif 000011
【図８】
2009271514.tif 000012