(57)【要約】【課題】  回転するリトロリフレクターを有する光コヒーレンストモグラフィー装置において、参照光の長い発生時間を有効化し高速化と高ＳＮ化を実現する。【解決手段】  参照光１５路長と物体光１４路長との差を可変とする手段、例えば厚みの異なる透明体を複数個配置した回転体９を配備し、光路長差をリセットしつつ被測定物体４の深層分布を１個の回転するリトロリフレクター５ａの参照光の発生時間内で連続して検出し断層画像を得る。【選択図】  図１
2009139117.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）光源と、
（ｂ）該光源からの光を物体光と参照光に２分割する手段と、
（ｃ）前記物体光を被測定物体に走査して照射し、前記被測定物体の表面乃至深層からの反射光を回帰する手段と、
（ｄ）参照光路長を回転するリトロリフレクターで長短化する光遅延機構と、
（ｅ）物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段と、
（ｆ）前記参照光と前記回帰した物体光を合波し、干渉光を検出する光検出手段と、
（ｇ）該光検出手段からの各検出データを処理して、前記被測定物体の断層画像を形成し表示する手段とを具備することを特徴とする光コヒーレンストモグラフィー装置。
【請求項２】
請求項１記載の光コヒーレンストモグラフィー装置において、前記物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段は、厚みの異なる透明体を複数個配備した回転体で、該回転体を参照光路あるいは物体光路に具備したことを特徴とする光コヒーレンストモグラフィー装置。
【請求項３】
請求項１記載の光コヒーレンストモグラフィー装置において、前記物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段は、前記リトロリフレクターからの反射光が回転に伴い光軸に直交する方向にシフトする位置に、段差のある反射鏡を具備したことを特徴とする光コヒーレンストモグラフィー装置。
【請求項４】
請求項１記載の光コヒーレンストモグラフィー装置において、前記物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変とする手段は、前記リトロリフレクターからの反射光が回転に伴い光軸に直交する方向にシフトする位置に、段差のある透明体と反射鏡を具備したことを特徴とする光コヒーレンストモグラフィー装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転するリトロリフレクターを有する光コヒーレンストモグラフィー装置において、参照光路長と物体光路長との差を離散的に可変とする光コヒーレンストモグラフィー装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、広帯域でショートコヒーレンス特性を有する光源を用いた光コヒーレンストモグラフィー装置が発明され、既に実用化され諸分野で広く活用されている（例えば、下記特許文献１および非特許文献１参照）。これらの時間領域での光ヘテロダインビート信号の検出による断層画像化法では、被測定物体の深層（Ｚ軸にとる）方向の光遅延走査技術には、簡便で構成が容易な回転プリズムによる方法が使われている（例えば、下記特許文献２および３参照）。
【０００３】
図９は従来（下記特許文献３参照）の回転プリズムによるＺ軸走査技術の光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図、図１０は参照光強度と従来の干渉光信号波形の時間変化を説明する図である。
【０００４】
これらの図において、１０１は光源、１０２はビームスプリッター、１０３はＸ軸及びＹ軸方向の光ビーム走査ガルバノミラー、１０４は被測定物体、１０５は回転体１０６の回転に伴って回転するリトロリフレクター（例えば、９０度プリズム、コーナーキューブプリズムあるいは中空リトロリフレクター）、１０７は反射鏡、１０８は反射鏡１０７の位置決め駆動装置、１０９は光検出器、Ａ1 ，Ａ2 ，・・・，Ａn は被測定物体１０４への走査ビーム光をそれぞれ表す。
【０００５】
この構成では、リトロリフレクター１０５と回転体１０６および反射鏡１０７により参照光路長を長短化する光遅延機構を形成している。この走査ビーム光がＡ1 の位置にある間、１個のリトロリフレクター１０５が例えば反時計廻りに回転しつつ光路長を長くしていき、被測定物体１０４の深層からの反射光と合波干渉するごとにビート信号が観測され、その包絡線が物体のＺ軸方向の１次元分布を表す。図１０に示す干渉光信号の波形がそれを表している。Ｘ軸及びＹ軸方向の光ビーム走査ガルバノミラー１０３によりＸ軸（Ｙ軸）方向にＡ2 ，・・・，Ａn とビーム光を走査して２次元断層像の情報を取得する。このとき、リトロリフレクター１０５のＺ方向への掃引距離が充分に長いと、図１０に示すように、参照光強度は時間軸上でＴ時間発生し続けることになる。すなわち、被測定物体１０４の深層の厚みが掃引距離より相対的に短い場合は、干渉光信号の発生時間Ｔｓに対して遅延時間Ｔは充分長いものとなっている。
【０００６】
また、下記特許文献３には、リトロリフレクター１０５の回転体６による回転に伴う反射光のシフトを利用して、固定鏡を二重に配備したり、あるいは２個の回転プリズムを同時的に使用し、さらにビームスプリッターなども併用して固定鏡を増やし、被測定物体１０４の深層が厚く１個の回転プリズムの遅延時間Ｔでは観測しきれない場合に観測深度を上げるための多重連に参照光を発生する技術も開示されている。
【特許文献１】特開平４−１７４３４５号公報
【特許文献２】特開２００２−３１０８９９号公報
【特許文献３】特開２００３−３２９５７７号公報
【非特許文献１】光学, ２８巻３号, １９９９年  ｐｐ．１１６−１２５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような干渉光信号の発生時間Ｔｓに対して遅延時間Ｔが充分長い構成では、図１０に示すように時間Ｔｄが無駄時間となっており、各走査光Ａn 毎にこの現象を繰り返しているので、いわゆるデューティサイクルが悪いシステムとなっている。よって、所定の領域の一枚の断層像を観測するにも、光源と時間の無駄な消耗を生じていた。そのため、観測対象に対して余分な光照射を重ね、さらには観測時間が長いものとなり、被測定物体が擾乱を有しているときには観測が不可能になった。
【０００８】
また、多重連参照光の発生法では、二重連までは１個のプリズムで損失なく参照光を発生できるが、さらにビームスプリッターを併用して多重連にする場合では、参照光がビームスプリッターを経る毎に強度が半分に落ちて、一定強度の参照光を多重連に発生することは困難であった。さらに、複数の回転プリズムを同時的に利用するには複数の固定鏡を必要とし、各固定鏡には光軸調整のための傾斜機構と前後に駆動する機構をそれぞれ独立に設ける必要があり、部品点数と費用の増大を招き、また光軸調整も複雑となるという欠点があった。この上記特許文献３で開示された技術は、被測定物体の測定深度を上げるために開発されたもので、デューティサイクルの改善とはならなかった。
【０００９】
本発明は、上記状況に鑑みて、１個の回転リトロリフレクターにより発生する長時間の参照光を無駄にすることなく、総体的にデューティサイクルを改善し、従来と同一の一枚の断層像を取得するのに時間を短縮して高速化し、したがって光源の消耗を防ぎ、また参照光の強度低下を招くことなく、さらには光ヘテロダインビート（ドップラー）周波数の低減化と高ＳＮ化を実現する光コヒーレンストモグラフィー装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔１〕光コヒーレンストモグラフィー装置において、光源と、この光源からの光を物体光と参照光に２分割する手段と、前記物体光を被測定物体に走査して照射し、前記被測定物体の表面乃至深層からの反射光を回帰する手段と、参照光路長を回転するリトロリフレクターで長短化する光遅延機構と、物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段と、前記参照光と前記回帰した物体光を合波し、干渉光を検出する光検出手段と、この光検出手段からの各検出データを処理して前記被測定物体の断層画像を形成し表示する手段とを具備することを特徴とする。
【００１１】
〔２〕上記〔１〕記載の光コヒーレンストモグラフィー装置において、前記物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段は、厚みの異なる透明体を複数個配備した回転体で、この回転体を参照光路あるいは物体光路に具備したことを特徴とする。
【００１２】
〔３〕上記〔１〕記載の光コヒーレンストモグラフィー装置において、前記物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段は、前記リトロリフレクターからの反射光が回転に伴い光軸に直交する方向にシフトする位置に、段差のある反射鏡を具備したことを特徴とする。
【００１３】
〔４〕上記〔１〕記載の光コヒーレンストモグラフィー装置において、前記物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変とする手段は、前記リトロリフレクターからの反射光が回転に伴い光軸に直交する方向にシフトする位置に、段差のある透明体と反射鏡を具備したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、以下のような効果を奏することができる。
【００１５】
１個のリトロリフレクターの掃引する長時間の参照光の発生中に、参照光路長と物体光路長との差を離散的にリセットして、被測定物体の表面乃至深層を繰り返し測定可能とするもので、参照光の長い発生時間を無駄にすることなく有効に利用できる。その結果、総体的にデューティサイクルを改善し、従来と同一の一枚の断層像を取得するのに時間を短縮して高速化することができる。したがって光源の消耗を防ぎ、また参照光の強度低下を招くことなく、さらには光ヘテロダインビート（この場合はドップラー）周波数の低減化と高ＳＮ化を実現する。
【００１６】
また、光路長差を離散的にリセットできることにより等価的に多重連の参照光を発生できるにもかかわらず、調整機構付きの複数の固定鏡を必要とせず、光軸調整も容易な技術を提供するものである。
【００１７】
このような発明により従来に比し２次元断層像のみならず３次元断層像の観測時間を短縮することができ、被測定物体の擾乱による影響を軽減して映像化できるものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の光コヒーレンストモグラフィー装置は、光源と、この光源からの光を物体光と参照光に２分割する手段と、前記物体光を被測定物体に走査して照射し、前記被測定物体の表面乃至深層からの反射光を回帰する手段と、参照光路長を回転するリトロリフレクターで長短化する光遅延機構と、物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段と、前記参照光と前記回帰した物体光を合波し、干渉光を検出する光検出手段と、この光検出手段からの各検出データを処理して前記被測定物体の断層画像を形成し表示する手段とを具備する。
【実施例】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
〔第１実施例〕
図１は本発明の第１実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【００２０】
この図において、１は光源（例えば、スーパー・ルミネッセント・ダイオード：ＳＬＤ）、２はビームスプリッター、３はＸ軸及びＹ軸方向の光ビーム走査ガルバノミラー、４は被測定物体、５は回転体６の回転に伴って回転するリトロリフレクター（例えば、９０度プリズム、コーナーキューブプリズムあるいは中空リトロリフレクター）、７は反射鏡、８は光検出器、８ａは検出データ処理器、８ｂはパーソナルコンピュータ、９は厚みの異なる透明体（例えば、ガラスなど）を複数配置した回転体（後述図２参照）、１０は回転体９を回転させるモーター、１４は物体光、１５は参照光、Ａ1 ，Ａ2 ，・・・，Ａn は被測定物体４への走査ビーム光をそれぞれ表す。７０は反射鏡７の位置決め駆動装置である。
【００２１】
また、図２は、本発明の第１実施例に係る厚みの異なる透明体（例えば、ガラスなど）を複数配置した回転体の構成図である。ここで、図２（ａ）と図２（ｂ）はそれぞれ透明体を異なる数だけ配備した例である。
【００２２】
これらの図において、９ａ，９ｂはそれぞれ回転体９に相当し、１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，…は厚みの異なる透明体、１２は参照光あるいは物体光の軌跡を表す。
【００２３】
図３は、本発明に係る各走査点における参照光強度と干渉光信号波形の時間変化を示す図である。
【００２４】
これらの図を参照しつつ、以下に本実施例の動作原理を詳述する。
【００２５】
この実施例では、光源１からの光を物体光１４と参照光１５に２分割する手段としてビームスプリッター２を用いている。物体光１４を被測定物体４に走査して照射し、この被測定物体４の表面乃至深層からの反射光を回帰する手段にはＸ軸及びＹ軸方向の光ビーム走査ガルバノミラー３を、参照光路長を長短化する光遅延機構にはリトロリフレクター５と回転体６および反射鏡７を用いている。また、物体光路長と参照光路長との差を離散的に可変にする手段には厚みの異なる透明体（例えば、ガラスなど）を複数配置した回転体９を、参照光１５と回帰した物体光１４を合波し、干渉光を検出する手段にはビームスプリッター２と光検出器８を、この光検出器８からの各検出データを処理して被測定物体４の断層画像を形成し表示する手段には検出データ処理器８ａとパーソナルコンピュータ８ｂを用いている。
【００２６】
光源１からの光ビームは、ビームスプリッター２で２分割され、物体光１４はガルバノミラー３で被測定物体４に照射されて、例えばＸ軸方向にＡ1 ，Ａ2 ，・・・，Ａn と走査される。他方、参照光１５は、厚みの異なる透明体（例えば、ガラスなど）を複数配置した回転体９を通過して回転体６の回転に伴って回転するリトロリフレクター５に至る。この回転体９は、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、回転体９ａ，９ｂに穴を穿ち、厚みの異なる複数の透明体１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，・・・が嵌め込まれている構成となっている。例えば、回転体９ａを図１に示すように参照光路１５中に配置し、モーター１０で回転させる。
【００２７】
参照光路長が、被測定物体４の表面位置ｚ＝０からの物体光路長と一致するとき、すなわち光路長差が零のとき干渉光信号が検出される。例えば、リトロリフレクター５を回転体６により反時計回りに回転させることにより、光路長が進捗し、光路長差が零の点も物体深度方向に向かい深層からの反射がある点ごとに干渉光信号が発生し、被測定物体４の深層の分布が観測される。この被測定物体４の深層がなくなる時点では、干渉光信号は発生せず、参照光のみ発生し続けるが、回転するリトロリフレクター５が光軸からはずれるため、一個のリトロリフレクターからの参照光の発生は図３および図１０に示すようにＴ時間で消滅する。
【００２８】
このＴ時間の間、最初に物体光１４を走査位置Ａ1 に走査し、参照光１５を透明体１１ａを通過させる。その時、図３に示す干渉光信号が発生しＡ1 で示す波形が観測され、物体深層ｚ＝０〜ｚの分布がＴｓ時間で観測される。参照光１５のビーム径より透明体１１ａ等の直径を大きくして、Ｔｓ時間の間は、回転体９が回転しつつも参照光１５が図２（ａ）に示す軌跡１２を描いて透過し続けるように回転速度と回転体９ａの直径を決める。さらに、回転体９ａが回転することにより、次の透明体１１ｂに参照光が入る。このとき、透明体１１ｂの透過光路長（透明体の厚み×屈折率）を、参照光路長がリトロリフレクター５の回転体６による回転により進捗した分を補償して、光路長差を再度零となるようにとる。すなわち、異なる厚みの透明体を配備して離散的に光路長を可変として、このリセット作用を順次発生させる。同時に上記走査光をＡ2 の位置に走査する。その結果、図３に示すように、走査点Ａ2 における波形がＴ時間内でＡ1 の波形に引き続き連続して観測できることになる。すなわち、従来の図９及び図１０に示す次の回転リトロリフレクターによる観測波形Ａ2 が、本発明の実施例では、同一のリトロリフレクター５の参照光時間Ｔ内で走査光の数点にわたり観測できる。さらに、参照光１５が透明体１１ｃの位置にくれば、再度リセット作用が発生し、図３に示すように、走査光Ａ3 における観測波形が同一のリトロリフレクター５の内の参照光時間Ｔ内で観測でき、無駄時間Ｔｄを無くすことが実現される。図３に示す参照光強度がＴｓ時間毎に分断されているのは、回転体９ａにおける透明体１１ａ，１１ｂ，１１ｃの無い部分で遮られるためで、リトロリフレクター５ａからの参照光の戻り光はＴ時間連続して生じていることに変わりはない。
【００２９】
上記の説明では、図２（ａ）に示す３個の透明体１１ａ，１１ｂ，１１ｃを配備する例について述べたが、時間ＴとＴｓの按分でさらに複数個の透明体を配置しても良く、また最後の透明体１１ｃは空気でもよい。また、図２（ｂ）に示すように透明体１３ａ，１３ｂ，１３ｃを同一円板に連続して複数配備して、１回転当たりの走査時間の短縮を図ってもよい。
【００３０】
また、本実施例では、透明体が３個で３倍速になる例を示したが、一般にｎ倍速が実現できる。その結果、従来と同一の断層画像観測では、観測時間をｎ分の１にでき、さらに光源の消耗時間を短縮できる。この効果を時間短縮にではなく、リトロリフレクターの回転速度の低減にすれば、ドップラービート周波数の低減になり、回転に伴うこのビート周波数の変位幅の縮小につながり高ＳＮ化が実現できる。例えば、ｎを６個として、２個分を観測時間の低減に使い、２個分を回転速度の低減に使い、さらに２個を同じ走査点での２度の観測に使い信号の集積化によるＳＮ改善に寄与することなども可能である。あるいは、集積化の２度の観測の代わりに、リトロリフレクターの回転体当たりの個数を半減してもよく、コストパフォーマンスが図れる。その結果、ｎ倍速をどの機能に按分するか等をオプションにして、ニーズに応じた装置の高機能化を図ることができる。
【００３１】
以上のように、本実施例は総体的にデューティサイクルを改善し、さらには光ヘテロダインビート（この場合はドップラー）周波数の低減化と断層画像信号の高ＳＮ化を実現し、２次元断層像のみならずＸ−Ｙ軸走査による３次元断層像の高速化で、被測定物体の擾乱による影響を軽減して映像化できることとなる。
【００３２】
また、光路長差を離散的にリセットできることによる多重連の参照光の発生を可能とするにもかかわらず、調整機構付きの複数の固定鏡を必要とせず、光軸調整も容易な技術が実現できる。
〔第２実施例〕
図４は本発明の第２実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。なお、構成部品の図番は第１実施例と同じであるので説明は省略する。
【００３３】
この実施例では、厚みの異なる透明体（例えば、ガラスなど）を複数配置した回転体９を物体光１４の光路に配備した例を示している。回転体９を物体光路に配備しても、同様に光路長差を離散的にリセットできるので、第１実施例と同じ効果が得られる。
〔第３実施例〕
図５は、本発明の第３実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【００３４】
この図において、５ａは回転するリトロリフレクター、５ｂは回転するリトロリフレクター５ａの移動位置、７ａ，７ｂは段差ミラー、１５ａ，１５ｂ，１５ｃは反射光である。他の部品は第１実施例と同じであるから説明は省略する。
【００３５】
回転するリトロリフレクター５ａは、回転体６による回転と共に位置５ｂに移動して行く。
【００３６】
入射する参照光１５の位置は動かないが、リトロリフレクター５ａからの反射光はこの移動に従い、参照光１５に直交する方向に１５ａ〜１５ｂ〜１５ｃと連続的に平行にシフトして行くことに注目する。この平行移動の間、参照光が発生し続けＴ時間継続する。参照光を回帰させる反射鏡７に例えば図５に示すように、段差ミラー７ａ，７ｂを２段分設けておくと、回帰する反射光毎に離散的に光路長を変化させることができる。したがって、上記第１実施例と同じように、光路長差をリセットするように段差ミラー７ａ，７ｂの厚みを決めて配備すれば、同じ効果が実現できる。参照光のビーム直径は有限であるから、段差ミラーの境界で戻り光にいわゆるケラレが生じるが、予め生じる時間範囲は特定できるので、検出データの処理によってそのケラレ部分のデータは除去できる。
【００３７】
本実施例では、第１実施例の厚みの異なる透明体を配備した回転体９の役目を段差ミラー７ａ，７ｂが担っているが、本実施例の利点はモーター１０をつけて回転体９を回転させる機構を必要とせずに、段差ミラー７ａ，７ｂを静置するのみで同じ効果が実現できることである。
〔第４実施例〕
図６は、本発明の第４実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【００３８】
この図において、７ｃ，７ｄは反射ミラー７に固着させた厚みの異なる透明体であり、段差のある透明体を形成している。他の構成要素は、第１実施例および第３実施例と同じであるから説明は省略する。
【００３９】
上記第３実施例において説明したように平行移動して行く反射光１５ａ，１５ｂ，１５ｃに上記段差ミラー７ａ，７ｂの代わりに光路長が異なるように厚みの異なる透明体（例えば、ガラス）７ｃ，７ｄを段差付きで配備する。反射光１５ａ，１５ｂが透過する時、〔透明体の厚み×屈折率〕だけの光遅延すなわち光路長が長くなる。この長光路分を第１及び第３実施例で説明したように光路長差のリセットが出来るように設定して、反射鏡７と段差透明体７ｃ，７ｄを一体に静置すれば、第３実施例と同様の効果が実現できる。この実施例では、この段差透明体７ｃ，７ｄを平行平面なガラス板などで構成でき、ミラーのように金属や誘電体を蒸着する必要がないので安価になる点で有利である。
〔第５実施例〕
図７は、本発明の第５実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の部分構成図である。
【００４０】
この図において、１６は反射鏡、１６ａ，１６ｂは段差ミラーで、１７，１８は反射光である。他の構成要素は第３実施例と同じであるから説明は省略する。
【００４１】
この実施例は、回転するリトロリフレクター５ａに９０度プリズムを用いた場合に、平行移動する反射光がプリズムの稜線を境に１７，１８のように対称に生じることを利用する例である。反射光１７に対しては段差ミラー７ａ，７ｂを配備し、反射光１８に対しては反射鏡１６と段差ミラー１６ａ，１６ｂを配備することで６倍速の断層像測定を実現するものである。段差ミラーの替わりに第４実施例に示した段差透明体を用いても良いことは明らかである。
〔第６実施例〕
図８は、本発明の第６実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の部分構成図である。
【００４２】
この図において、１９ａ，１９ｂ、１９ｃ、１９ｄ、１９ｅは段差ミラーである。他の構成要素は第５実施例と同じであるので説明は省略する。
【００４３】
リトロリフレクター５ａとして、９０度プリズムの代わりにコーナーキューブプリズムや中空リトロリフレクターを用いた場合には、入射参照光に対し反射光は中心対称な位置に生じるので、例えば図８に示すように、入射参照光１５をリトロリフレクターの垂直下方の中心に入射するようにすれば、反射光１７，１８は上方の位置の一定方向に連続して生じるので段差ミラー１９ａ〜１９ｅを連続して配備してリセット作用を行うように構成する。
【００４４】
本実施例では反射鏡の位置決め駆動機構７０を一つ配置すればよいので、構成も容易となる。図８に示す段差ミラー１９ａ〜１９ｅの代わりに第４実施例で示した段差透明体を配備しても良いことは明らかである。
【００４５】
本発明における各実施例において、光路や分割・合波素子を適宜光ファイバー、光ファイバー結合素子に替えても良いことは明らかで、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【００４６】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明の光コヒーレンストモグラフィー装置は、構成が容易で高ＳＮの２次元、３次元断層画像化が従来に比し数倍高速で実現できるので、生体計測、材料分析、非破壊検査などの被測定物体のミクロ構造の断層画像を非接触で迅速に観測する必要のある分野で広く利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の第１実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【図２】本発明に係る厚みの異なる透明体（例えば、ガラスなど）を複数配置した回転体の構成図である。
【図３】本発明に係る走査点における参照光強度と干渉光信号波形の時間変化を示す図である。
【図４】本発明の第２実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【図５】本発明の第３実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【図６】本発明の第４実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【図７】本発明の第５実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の部分構成図である。
【図８】本発明の第６実施例を示す光コヒーレンストモグラフィー装置の部分構成図である。
【図９】従来の回転プリズムによるＺ軸走査技術の光コヒーレンストモグラフィー装置の構成図である。
【図１０】参照光強度と従来の干渉光信号波形の時間変化を示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
１    光源
２    ビームスプリッター
３    Ｘ軸及びＹ軸方向の光ビーム走査ガルバノミラー
４    被測定物体
５，５ａ    リトロリフレクター
６    回転体
７，１６    反射鏡
７ａ，７ｂ，１６ａ，１６ｂ，１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ，１９ｅ        段差ミラー
７ｃ，７ｄ    段差透明体
７０    反射鏡の位置決め駆動装置
８    光検出器
８ａ    検出データ処理器
８ｂ    パーソナルコンピュータ
９，９ａ，９ｂ    厚みの異なる透明体を複数配置した回転体
１０    モーター
１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１３ａ，１３ｂ，１３ｃ    厚みの異なる透明体
１２    参照光あるいは物体光の軌跡
１４    物体光
１５    参照光
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１７，１８    反射光
Ａ1 ，Ａ2 ，・・・ ，Ａn     被測定物体への走査ビーム光
【図１】
2009139117.tif 000003
【図２】
2009139117.tif 000004
【図３】
2009139117.tif 000005
【図４】
2009139117.tif 000006
【図５】
2009139117.tif 000007
【図６】
2009139117.tif 000008
【図７】
2009139117.tif 000009
【図８】
2009139117.tif 000010
【図９】
2009139117.tif 000011
【図１０】
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