(57)【要約】【課題】基板の四隅に設けたアライメントマークを同時に撮像できないパターン形成装置であっても、該アライメントマークに基づいて、基板に高精細なパターンを形成するパターン形成方法を提供する。【解決手段】キャリッジ３０の描画エリアを挟むように第１撮像装置６１と第２撮像装置６３とを設け、給排位置で第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢを第１撮像装置で撮像し、その第１及び第２画像データに基づいて各キャリッジ３０の配置位置を変更する。折返し位置まで移動させるときに所定のタイミングで液滴を吐出させ、折返し位置で第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤを第２撮像装置で撮像し、その第３及び第４画像データと第１及び第２画像データとに基づいて、液滴Ｆｂを吐出する吐出タイミング位置データを新たに生成し、以後、新たな吐出タイミング位置データで液滴を吐出する。【選択図】図７
2009175193.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主走査方向に離間した基板の給排位置と折返し位置の２位置間を往復移動する搬送テーブルと、
前記主走査方向と直交する副走査方向に独立して移動可能なキャリッジと、
を備え、
前記キャリッジを描画エリアに配置して、同キャリッジの直下を、前記基板が載置された前記搬送テーブルを往復移動させて、前記キャリッジに設けた液滴吐出ヘッドから機能液を液滴にして吐出し、前記基板にパターンを形成するパターン形成装置のパターン形成方法であって、
前記基板の給排位置側であって副走査方向に２つの給排位置側アライメントマークを設けるとともに、前記基板の折返し位置側であって副走査方向に、前記２つの給排位置側アライメントマークと主走査方向において相対向する２つの折返し位置側アライメントマークを設けるとともに、
前記給排位置にて、前記基板に設けられた２つの給排位置側アライメントマークを撮像する第１撮像装置と、
前記折返し位置にて、２つの折返し位置側アライメントマークを撮像する第２撮像装置と、を設け、
前記給排位置側アライメントマークまたは前記折返し位置側アライメントマークのいずれか一方のアライメントマークを、前記対応する撮像装置にて撮像する第１の撮像工程と、
前記第１の撮像工程で撮像して取得した第１の画像データに基づいて、前記キャリッジの配置位置を変更する配置位置変更工程と、
前記一方のアライメントマークに対する他方のアライメントマークを、前記対応する撮像装置にて撮像する第２の撮像工程と、
前記第２の撮像工程で撮像して取得した第２の画像データと、前記第１の撮像工程で取得した第１の画像データとに基づいて、前記液滴吐出ヘッドから前記液滴を吐出するタイミングを変更する吐出タイミング変更工程と、
前記変更したタイミングで前記液滴を吐出して、前記基板にパターンを描画する描画工程と、
を備えることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成方法において、
前記配置位置変更工程と第２の撮像工程との間であって、前記基板を撮像のために前記給排位置から前記折返し位置まで移動させるときに、同基板に対して所定のタイミングで液滴を吐出する工程をさらに備えることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン形成方法において、
前記配置位置変更工程は、前記第１の画像データから前記基板の前記副走査方向の伸縮率を算出し、同伸縮率に基づいて、前記キャリッジの配置位置を変更することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のパターン形成方法において、
前記吐出タイミング変更工程は、前記第１の画像データ及び前記第２の画像データから前記基板の前記主走査方向の伸縮率を算出し、同伸縮率に基づいて前記液滴を吐出するタイミングを変更することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のパターン形成方法において、
前記基板は、ガラス基板であることを特徴とするパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、機能液を基板上に所望のパターンを形成する装置として、機能液を液滴にして吐出するインクジェット装置、すなわち液滴吐出装置が知られている。液滴吐出装置は、ステージに載置された基板を搬送することによって、基板と機能液を液滴にして吐出する液滴吐出ヘッドとを２次元的に相対移動させ、液滴吐出ヘッドから吐出される機能液の液滴を基板上の任意の箇所に配置することによりパターンを形成する。
【０００３】
近年では、複数の液滴吐出ヘッドを１つのキャリッジに搭載し、さらに、このキャリッジを複数搭載した多キャリッジタイプの液滴吐出装置が知られている。このような液滴吐出装置は、大画面カラーフィルタの製造などに用いられ、四角枠状のガラス基板に対して、複数のキャリッジから同時に液滴を吐出することで、その描画速度を向上させている。
【０００４】
ところで、例えばカラーフィルタを製造に用いられる四角枠状のガラス基板には、赤、青、緑の各フィルタ用インクが吐出される配置領域が所定の位置にそれぞれ多数形成されている。そして、液滴吐出装置は、前記配置領域に液滴が配置されるように、ガラス基板の任意の箇所に液滴を配置するか否かを示した描画データ（ビットマップデータ）に基づいてパターンを形成する。
【０００５】
従って、キャリッジの直下を移動しているガラス基板に対して、キャリッジ（液滴吐出ヘッド）の位置、及び、液滴吐出ヘッドから液滴を吐出するタイミングが正確でなければ、描画データに即したパターンをガラス基板に形成することができない。しかも、ガラス基板は、周辺の温度などの影響を受けて伸縮することから、ステージに載置されたガラス基板の実寸法が全て同じということは皆無であった。
【０００６】
そこで、液滴吐出装置は、その時々のガラス基板の実寸法にあわせて、キャリッジ（液滴吐出ヘッド）の位置や液滴吐出ヘッドから液滴を吐出する吐出タイミングを調整して、パターンを形成している。詳述すると、基板にはアライメントマークを設けるとともに、液滴吐出装置には、基板がステージに載置されたときに、そのアライメントマークの直上付近から同アライメントマークを撮像する撮像装置が設けられている。そして、基板をステージに載置したときに、アライメントマークを撮像装置にて撮影し、撮像装置が撮像した画像データに基づいて、各キャリッジ（液滴吐出ヘッド）の位置や吐出タイミングなどを調整している。
【０００７】
また、ガラス基板上にアライメントマークを複数設けること（例えば、特許文献１）によって、ガラス基板の例えば伸縮量などを求めて、キャリッジ（液滴吐出ヘッド）の位置や液滴を吐出する吐出タイミングを、より正確に調整することができるようになる。
【特許文献１】特開平１１−２７４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、上述した大画面カラーフィルタのガラス基板の四隅にアライメントマークを設けて、それら全てを撮像した画像データに基づいて各キャリッジ（液滴吐出ヘッド）の位置や液滴を吐出するタイミングなどを調整し、ガラス基板にパターンを形成することが望ましい。しかしながら、上述した多キャリッジタイプの液滴吐出装置の場合、その構造や
省スペース化を考慮すると、基板の四隅に設けたアライメントマークを同時に撮像できるように撮像装置を配置することが困難であった。
【０００９】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板の四隅に設けたアライメントマークを同時に撮像できないパターン形成装置であっても、該アライメントマークに基づいて、基板に高精細なパターンを形成するパターン形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のパターン形成方法は、主走査方向に離間した基板の給排位置と折返し位置の２位置間を往復移動する搬送テーブルと、前記主走査方向と直交する副走査方向に独立して移動可能なキャリッジと、を備え、前記キャリッジを描画エリアに配置して、同キャリッジの直下を、前記基板が載置された前記搬送テーブルを往復移動させて、前記キャリッジに設けた液滴吐出ヘッドから機能液を液滴にして吐出し、前記基板にパターンを形成するパターン形成装置のパターン形成方法であって、前記基板の給排位置側であって副走査方向に２つの給排位置側アライメントマークを設けるとともに、前記基板の折返し位置側であって副走査方向に、前記２つの給排位置側アライメントマークと主走査方向において相対向する２つの折返し置側アライメントマークを設けるとともに、前記給排位置にて、前記基板に設けられた２つの給排位置側アライメントマークを撮像する第１撮像装置と、前記折返し位置にて、２つの折返し位置側アライメントマークを撮像する第２撮像装置と、を設け、前記給排位置側アライメントマークまたは前記折返し位置側アライメントマークのいずれか一方のアライメントマークを、前記対応する撮像装置にて撮像する第１の撮像工程と、前記第１の撮像工程で撮像して取得した第１の画像データに基づいて、前記キャリッジの配置位置を変更する配置位置変更工程と、前記一方のアライメントマークに対する他方のアライメントマークを、前記対応する撮像装置にて撮像する第２の撮像工程と、前記第２の撮像工程で撮像して取得した第２の画像データと、前記第１の撮像工程で取得した第１の画像データとに基づいて、前記液滴吐出ヘッドから前記液滴を吐出するタイミングを変更する吐出タイミング変更工程と、前記変更したタイミングで前記液滴を吐出して、前記基板にパターンを描画する描画工程と、を備えた。
【００１１】
本発明のパターン形成方法によれば、基板に設けた給排位置側アライメントマーク及び折返し位置側アライメントマーク、即ち、基板の四隅に設けたアライメントマークを、給排位置にて撮像可能な撮像装置が設置できないパターン形成装置であっても、搬送テーブルを折返し位置まで移動させることによって、基板の四隅に設けたアライメントマークを撮像することができる。従って、その画像データに基づいて基板の形状を正確に求めることができ、その求めた形状に基づいて液滴を吐出するタイミングを変更する。その結果、搬送テーブルに載置された基板が周辺の温度などによって伸縮しているときであっても、基板に対して高精細なパターンを形成することができる。
【００１２】
このパターン形成方法は、前記配置位置変更工程と第２の撮像工程の間であって、前記基板を撮像のために前記給排位置から前記折返し位置まで移動させるときに、同基板に対して所定のタイミングで液滴を吐出する工程をさらに備えてもよい。
【００１３】
このパターン形成方法によれば、給排位置から前記折返し位置まで初めて移動させるとき、基板に設けた液滴を配置する配置領域内に吐出することによって、パターン形成装置の稼働率の低下を回避することができる。
【００１４】
このパターン形成方法は、前記配置位置変更工程は、前記第１の画像データから前記基板の前記副走査方向の伸縮率を算出し、同伸縮率に基づいて、前記キャリッジの配置位置を変更することが好ましい。
【００１５】
このパターン形成方法によれば、第１の画像データから副走査方向における基板の伸縮率を算出し、その伸縮率に基づいて各キャリッジの配置位置を変更することから、各キャリッジの配置位置を精度よく補正することができる。
【００１６】
このパターン形成方法は、前記吐出タイミング変更工程は、前記第１の画像データ及び前記第２の画像データから前記基板の前記主走査方向の伸縮率を算出し、同伸縮率に基づいて前記液滴を吐出するタイミングを変更することが好ましい。
【００１７】
このパターン形成方法によれば、第１の画像データ及び第２の画像データから主走査方向における基板の伸縮率を算出し、その伸縮率に基づいて液滴を吐出するタイミングを変更する。すなわち、基板に設けたそれぞれ２つずつの給排位置側及び折返し位置側アライメントマークを撮像した画像データから主走査方向における基板の伸縮率を算出する。従って、主走査方向における基板の伸縮率を精度よく算出することから、液滴を吐出するタイミングを精度よく補正することができる。
【００１８】
このパターン形成方法は、前記基板は、ガラス基板であってもよい。
このパターン方法によれば、例えば、搬送テーブルに載置されたガラス基板の実寸法が、周辺の温度などの影響によって、設計寸法と誤差を生じている場合であっても高精細なパターンを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を実施したパターン形成装置の一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、ブラックマトリクスが形成されたガラス基板に赤、緑、青のカラーフィルタを形成するためのパターン形成装置としての液滴吐出装置１の概略構成を示している。液滴吐出装置１は、図１に示すように、床面に主走査方向（Ｘ軸方向）に延在した基台２が設置され、その上面に２ａに一対のＸ軸ガイドレール１１が主走査方向（Ｘ軸方向）に敷設され、その一対のＸ軸ガイドレール１１には搬送テーブルを構成するＸ軸移動テーブル１２が載置されている。Ｘ軸移動テーブル１２は、Ｘ軸ガイドレール１１に沿って主走査方向に移動可能に搭載されている。一対のＸ軸ガイドレール１１には、Ｘ軸リニアモータＭ１が備えられ、Ｘ軸リニアモータＭ１は、一対のＸ軸ガイドレール１１に載置されたＸ軸移動テーブル１２を、エアスライダ（図示省略）を介してＸ軸方向に往復移動させる。
【００２０】
尚、図１において、主走査方向をＸ軸方向、主走査方向（Ｘ軸方向）に直交する副走査方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向（上下方向）をＺ軸方向、Ｚ軸方向回りの回動方向をθ方向と表記する。
【００２１】
Ｘ軸移動テーブル１２の上面には、搬送テーブルを構成する基板ステージ１４が設けられている。基板ステージ１４は、真空吸着テーブルであって、その上面に略四角形状のガラス基板よりなるカラーフィルタ基板（ＣＦ基板という）Ｗを吸着固定し、同ＣＦ基板Ｗを搬送する。基板ステージ１４は、Ｘ軸移動テーブル１２と基板ステージ１４との間に設けた破線で示すステージ回動機構１６によって、Ｘ軸移動テーブル１２に対してθ方向に回動可能に支持固定されている。
【００２２】
従って、基板ステージ１４（ＣＦ基板Ｗ）は、Ｘ軸移動テーブル１２とともにＸ軸方向（主走査方向）に移動する。また、基板ステージ１４（ＣＦ基板Ｗ）は、Ｘ軸移動テーブル１２の平面（ＸＹ平面（水平面））に対して平行にθ方向に回動する。
【００２３】
尚、本実施形態では、図１に示すように一対のＸ軸ガイドレール１１の最も反Ｘ軸方向側に基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）を配置して、図示しない搬出入装置によ
るＣＦ基板Ｗの供給及び排出が行われる。そして、その位置を基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の給排位置としている。反対に、一対のＸ軸ガイドレール１１の最もＸ軸方向側に基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）を配置した位置であって、給排位置から予め定めた距離だけ移動させた位置を折返し位置としている。そして、液滴吐出装置１は、基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）を、給排位置と折返し位置との２位置間を往復移動させるようになっている。
【００２４】
また、本実施形態では、図２に示すように、ＣＦ基板Ｗの各隅部の所定位置には、即ち、ＣＦ基板Ｗの給排位置側には、給排位置側アライメントマークとしての円形状の第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢが設けられている。また、ＣＦ基板Ｗの折返し位置側には、折返し位置側アライメントマークとしての円形状の第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤがそれぞれ設けられている。そして、ＣＦ基板Ｗを基板ステージ１４に載置するときには、第１アライメントマークＷＡの中心位置は、基板ステージ１４の予め定めた位置に正確に配置されるとともに、第２アライメントマークＷＢの中心位置は、第１アライメントマークＷＡの中心位置に対してＹ軸方向に沿った位置に配置されるようになっている。
【００２５】
尚、図２は、周辺の温度などの影響を受けずに設計値どおりの寸法であるＣＦ基板（以下、これを他のＣＦ基板と区別するために基準ＣＦ基板という）を基板ステージ１４の所定の位置に載置したときの平面図である。図２に示すように、基準ＣＦ基板では、第１アライメントマークＷＡと第２アライメントマークＷＢとの中心位置間、及び、第３アライメントマークＷＣと第４アライメントマークＷＤとの中心位置間は、Ｙ軸方向に沿って、所定距離Ｄ１だけ離間するように設けられている。また、第１アライメントマークＷＡと第３アライメントマークＷＣとの中心位置間、及び、第２アライメントマークＷＢと第４アライメントマークＷＤとの中心位置間は、Ｘ軸方向に沿って、所定距離Ｄ２だけ離間するように設けられている。
【００２６】
つまり、基準ＣＦ基板を基板ステージ１４に載置したときには、第２〜第４アライメントマークＷＢ〜ＷＤは、第１アライメントマークＷＡに対して、それぞれ所定の位置に配置されるようになっている。
【００２７】
一方、前記Ｘ軸ガイドレール１１の上方向をＹ軸方向に跨ぐように、一対のＹ軸ガイドレール１８が配設されている。一対のＹ軸ガイドレール１８の一端の支柱１９ａは、基台２の上面２ａ一側に立設され、他端の支柱１９ｂは基台２から離間した床に立設されている。一対のＹ軸ガイドレール１８は、Ｘ軸方向に予め定めた間隔をおいて平行に配設されている。尚、本実施形態では、Ｙ軸方向に平行に延びた一対のＹ軸ガイドレール１８において、基台２の上方位置を描画エリア、基台２から離間した位置を待機エリアとしている。
【００２８】
一対のＹ軸ガイドレール１８の間に、複数（本実施形態では、６個）のキャリッジプレート２１が差し渡されるように配置されている。そして、各キャリッジプレート２１は、Ｙ軸ガイドレール１８に沿って副走査方向（Ｙ軸方向）に移動可能に載置されている。一対のＹ軸ガイドレール１８には、Ｙ軸リニアモータＭ２を備え、Ｙ軸リニアモータＭ２は、一対のＹ軸ガイドレール１８に載置された各キャリッジプレート２１を、それぞれエアスライダ（図示省略）を介してＹ軸方向に往復移動させる。つまり、各キャリッジプレート２１は、Ｙ軸ガイドレール１８上の描画エリアと待機エリアとの間を往復移動するようになっている。
【００２９】
各キャリッジプレート２１の上面には、機能液供給ユニット２２とヘッド用電装ユニット２３とが載置されている。機能液供給ユニット２２は、機能液Ｆ（図４（ｂ）参照）を
所定量貯蔵して、各液滴吐出ヘッド４０（図４（ａ），（ｂ）参照）に機能液Ｆを供給するための供給回路装置である。ヘッド用電装ユニット２３は、各液滴吐出ヘッド４０を駆動するための電気信号を供給するための電気回路装置である。
【００３０】
また、ここでいう機能液Ｆとは、ＣＦ基板Ｗに形成されたブラックマトリクスの枠内に配置される赤、緑、青のフィルタ用インクである。機能液Ｆは、ＣＦ基板Ｗに形成されたブラックマトリクスの枠内に配置された後に乾燥されると、赤、緑、青のフィルタとなる。
【００３１】
図３に示すように、各キャリッジプレート２１の下面の中央位置には、吊下機構２５が設けられ、その吊下機構２５の下端部にキャリッジ３０が取着されている。
吊下機構２５は、吊下基板２６と、吊下回動枠２７と、吊下支持枠２８とを有している。吊下基板２６は、キャリッジプレート２１の下面中央位置に連結固定され、その下端部に吊下回動枠２７を連結している。吊下回動枠２７は、その下端部に吊下支持枠２８をθ方向に回動可能に連結支持している。吊下回動枠２７には、θ軸回動モータ（図示省略）を有し、θ軸回動モータは吊下支持枠２８を吊下基板２６（キャリッジプレート２１）に対してθ方向に回動させるようになっている。吊下支持枠２８には、キャリッジ３０が支持固定され、吊下機構２５に垂設されたキャリッジ３０をθ方向に回動させる。
【００３２】
キャリッジ３０は、略直方体形状のキャリッジ枠３１を有している。キャリッジ枠３１には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれの両側面に開口部が設けられており（Ｘ軸方向の各開口部は図示省略）、キャリッジ枠３１の内側に対して、周囲の空気が流出入できるようになっている。また、キャリッジ３０の略直方体形状のキャリッジ枠３１の下端部には、ユニットプレート３４が図示しないネジ等により固設されている。ユニットプレート３４には、液滴吐出ヘッド４０が着脱可能に、かつ、精度よく位置決め固定されて取り付けられている。本実施形態では、Ｘ軸方向に沿って並設された３個の液滴吐出ヘッド４０が、Ｙ軸方向と平行に２列、すなわち合計６個の液滴吐出ヘッド４０が取り付けられている。尚、キャリッジ枠３１の内側は、配管や配線などが配設されているが、表示すると煩雑になるため図示を省略している。
（液滴吐出ヘッド４０）
次に、ユニットプレート３４に取着した液滴吐出ヘッド４０について図４を参照して説明する。図４（ａ）は、液滴吐出ヘッド４０を基板ステージ１４側から見た外観斜視図である。この液滴吐出ヘッド４０は、２つの接続針４２を有する液体導入部４１と、液体導入部４１の側方に連なるヘッド基板４３と、液体導入部４１に連なるポンプ部４４と、ポンプ部４４に連なるノズルプレート４５とを備えている。
【００３３】
液体導入部４１の接続針４２には、機能液供給ユニット２２に接続した図示しない配管接続部材が接続されている。ヘッド基板４３には、一対のヘッドコネクタ４３Ａが実装されており、当該ヘッドコネクタ４３Ａを介して、ヘッド用電装ユニット２３に接続された図示しないフレキシブルフラットケーブルが接続される。
【００３４】
一方、ポンプ部４４とノズルプレート４５とにより、方形のヘッド本体４０Ａが構成されている。
ノズルプレート４５のノズル形成面４５ａには、液滴Ｆｂを吐出する吐出ノズル４６からなる２本のノズル列４７が形成されている。２本のノズル列４７は相互に平行に列設されており、各ノズル列４７は、等ピッチで並設された１８０個（図示では模式的に表している）の吐出ノズル４６で構成されている。すなわち、ヘッド本体４０Ａのノズル形成面４５ａには、その中心線を挟んで２本のノズル列４７が対称に配設されている。
【００３５】
図４（ｂ）は、液滴吐出ヘッド４０のポンプ部４４の内部を示し、各吐出ノズル４６の
上側にそれぞれキャビティ５２、振動板５３及び圧電素子ＰＺを有している。各キャビティ５２は、図示しない配管接続部材を介して機能液供給ユニット２２にそれぞれ接続され、同機能液供給ユニット２２からの機能液Ｆ（フィルタ用インク）を収容し、そのフィルタ用インクを吐出ノズル４６に供給する。振動板５３は、各キャビティ５２に対向する領域をＺ方向に振動することによって、該キャビティ５２の容積を拡大及び縮小させて、これに伴って吐出ノズル４６のメニスカスを振動させる。各圧電素子ＰＺは、それぞれ所定の駆動波形信号を受けるとき、Ｚ方向に収縮して伸張することによって、振動板５３の各領域をＺ方向に振動させる。各キャビティ５２は、それぞれの振動板５３がＺ方向に振動するとき、収容するフィルタ用インクの一部を所定重量の液滴Ｆｂにして吐出ノズル４６から吐出させる。
【００３６】
ポンプ部４４の基部側、すなわちヘッド本体４０Ａの基部側は、液体導入部４１を受けるべく方形フランジ状にフランジ部４８が形成されている。このフランジ部４８は、抜け止めの役目を果たすとともに、ヘッド止めネジ（図示せず）でユニットプレート３４と連結固定される連結部の役目を果たす。フランジ部４８には、液滴吐出ヘッド４０をユニットプレート３４に固定する小ネジ用のネジ孔（雌ネジ）４９が一対形成されている。つまり、液滴吐出ヘッド４０は、ユニットプレート３４の所定の位置に形成された貫通穴（図示せず）に、ヘッド本体４０Ａを貫挿させて、ユニットプレート３４を貫挿してネジ孔４９と螺合するヘッド止めネジ（図示せず）によってユニットプレート３４に固定される。
【００３７】
図３及び図４に示したＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸は、図１に示したＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸と同一である。すなわち、ユニットプレート３４が液滴吐出装置１に取り付けられた状態では、液滴吐出ヘッド４０に形成されたノズル列４７（図４（ａ）参照）は、Ｙ軸方向に延在する構成になっている。
（撮像装置）
次に、基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の給排位置においてＣＦ基板Ｗの第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢを撮像する第１撮像装置６１と、折返し位置においてＣＦ基板Ｗの第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤを撮像する第２撮像装置６３について説明する。
【００３８】
第１撮像装置６１は、第１撮像カメラ６１Ａ及び第２撮像カメラ６１Ｂを備えている。第１及び第２撮像カメラ６１Ａ，６１Ｂは、図１に示すように、給排位置に位置している基板ステージ１４を跨ぐように設けられた支持部材６２にそれぞれ設けられている。
【００３９】
図５（ａ）に示すように、第１撮像カメラ６１Ａは、給排位置に位置している基板ステージ１４にＣＦ基板Ｗが載置されたときに、第１アライメントマークＷＡの直上に位置するように設けられている。又、第２撮像カメラ６１Ｂは、給排位置に位置している基板ステージ１４にＣＦ基板Ｗが載置されたときに、第２アライメントマークＷＢの直上に位置するように設けられている。
【００４０】
そして、第１撮像装置６１は、第１撮像カメラ６１Ａを用いて第１アライメントマークＷＡを撮像し、第１の画像データとしての第１画像データＰＤ１ａを取得する（図６参照）。また、第１撮像装置６１は、第２撮像カメラ６１Ｂを用いて第２アライメントマークＷＢを撮像し、第１の画像データとしての第２画像データＰＤ１ｂを取得する（図６参照）。
【００４１】
一方、第２撮像装置６３は、第３撮像カメラ６３Ｃ及び第４撮像カメラ６３Ｄを備えている。第３及び第４撮像カメラ６３Ｃ，６３Ｄは、図１に示すように、折返し位置に位置している基板ステージ１４を跨ぐように設けた支持部材６４にそれぞれ設けられている。
【００４２】
図５（ｂ）に示すように、第３撮像カメラ６３Ｃは、基板ステージ１４が折返し位置に移動配置されたときに、ＣＦ基板Ｗに設けた第３アライメントマークＷＣの直上に位置するように設けられている。又、第４撮像カメラ６３Ｄは、基板ステージ１４が折返し位置に移動配置されたときに、ＣＦ基板Ｗに設けた第４アライメントマークＷＤの直上に位置するように設けられている。
【００４３】
そして、第２撮像装置６３は、第３撮像カメラ６３Ｃを用いて第３アライメントマークＷＣを撮像し、第２の画像データとしての第３画像データＰＤ２ａを取得する（図６参照）。また、第２撮像装置６３は、第４撮像カメラ６３Ｄを用いて第４アライメントマークＷＤを撮像し、第２の画像データとしての第４画像データＰＤ２ｂを取得する（図６参照）。
（電気的構成）
次に、液滴吐出装置１の電気的構成を図６に従って説明する。図６は、液滴吐出装置１の電気的構成を示すブロック図である。
【００４４】
図６において、制御装置１００は、ＣＰＵ１０１、ＲＯＭ１０２、ＲＡＭ１０３等を有している。制御装置１００は、格納された各種データ及び各種制御プログラムに従って、Ｘ軸移動テーブル１２の搬送処理、各キャリッジプレート２１の搬送処理、各キャリッジ３０に設けた各液滴吐出ヘッド４０の液滴吐出処理などを実行する。また、制御装置１００は、各キャリッジ３０の配置位置補正処理、液滴吐出ヘッド４０の吐出タイミング補正処理などを実行する。
【００４５】
制御装置１００には、各種操作スイッチとディスプレイを有した入出力装置１０４が接続されている。入出力装置１０４は、液滴吐出装置１が実行する各種処理の処理状況を表示する。入出力装置１０４は、ＣＦ基板Ｗに液滴Ｆｂでパターンを形成するための描画データ（ビットマップデータＢＤ）を生成し、そのビットマップデータＢＤを制御装置１００に入力する。また、制御装置１００は、入力されたビットマップデータＢＤをＲＡＭ１０３に記憶する。
【００４６】
ビットマップデータＢＤは、各ビットの値（０あるいは１）に応じて各圧電素子ＰＺのオンあるいはオフを規定したデータである。ビットマップデータＢＤは、液滴吐出ヘッド４０（各吐出ノズル４６）の直下を通過するＣＦ基板Ｗの各位置に液滴Ｆｂを吐出するか否かを規定したデータである。すなわち、ビットマップデータＢＤは、ＣＦ基板Ｗに予め定めた配置パターンを形成させるための目標形成位置に液滴Ｆｂを吐出させるためのデータである。
【００４７】
そして、本実施形態では、このＣＦ基板Ｗに描画するパターンは、予め設計等で求め、その求めたパターンからビットマップデータＢＤが作成される。また、本実施形態では、ビットマップデータＢＤは、ＣＦ基板Ｗに形成されたブラックマトリクスの枠内に複数の液滴Ｆｂが吐出されるようになっている。
【００４８】
また、入出力装置１０４は、ＣＦ基板ＷにビットマップデータＢＤに基づいたパターンを形成する際の基準データＳＤを制御装置１００に入力する。また、制御装置１００は、入力された基準データＳＤをＲＡＭ１０３に記憶する。
【００４９】
基準データＳＤは、基板ステージ１４の所定の位置に載置された基準ＣＦ基板に対して、前記ビットマップデータＢＤに基づいたパターンを形成する場合の各種データを保存したデータである。
【００５０】
詳述すると、基準データＳＤには、基板ステージ１４の所定の位置に載置された基準Ｃ
Ｆ基板にパターンを形成するときにおける、各キャリッジ３０（各キャリッジプレート２１）のそれぞれの配置位置を規定したキャリッジ配置位置データが保存されている。
【００５１】
また、基準データＳＤには、各キャリッジ３０の直下を通過している基準ＣＦ基板に対して液滴吐出ヘッド４０から液滴Ｆｂを吐出するときの、基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の位置を規定した吐出タイミング位置データが保存されている。尚、吐出タイミング位置データは、基準ＣＦ基板を給除材位置と折返し位置との間を往復移動させるときの各往動及び各復動毎に規定されている。また、基準ＣＦ基板を給排位置から折返し位置まで初めて移動させるときは、基準ＣＦ基板に設けたブラックマトリクスの枠内の中央位置に液滴Ｆｂが吐出されるようになっている。尚、本実施形態において、周辺の温度などによるＣＦ基板Ｗの伸縮量は微小であるため、伸縮したＣＦ基板Ｗに対して基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて液滴Ｆｂを吐出しても、ブラックマトリクスの枠内に液滴Ｆｂが確実に吐出されるようになっている。
【００５２】
つまり、基準データＳＤのキャリッジ配置位置データに基づいて、各キャリッジ３０（各キャリッジプレート２１）をそれぞれ配置する。そして、基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて、各液滴吐出ヘッド４０から液滴Ｆｂを吐出させることによって、基準ＣＦ基板の予め定めた各位置に液滴Ｆｂが吐出され、基準ＣＦ基板に高精細なパターンが形成されるようになっている。
【００５３】
また、基準データＳＤには、基準ＣＦ基板を基板ステージ１４の所定の位置に載置したときに、給排位置における第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢのそれぞれの基準中心位置と、折返し位置における第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤのそれぞれの基準中心位置とが規定された基準中心位置データが保存されている。
【００５４】
制御装置１００には、Ｘ軸リニアモータ駆動回路１０５が接続されている。制御装置１００は、駆動制御信号をＸ軸リニアモータ駆動回路１０５に出力する。Ｘ軸リニアモータ駆動回路１０５には、基板ステージ１４（ＣＦ基板Ｗ）を移動させるためのＸ軸リニアモータＭ１と、基板ステージ１４（Ｘ軸移動テーブル１２）の位置を検出するＸ軸エンコーダＥＸとが接続されている。Ｘ軸リニアモータ駆動回路１０５は、制御装置１００からの駆動制御信号に応答して、Ｘ軸移動テーブル１２を移動させるためのＸ軸リニアモータＭ１を駆動させる。また、Ｘ軸リニアモータ駆動回路１０５は、Ｘ軸エンコーダＥＸからの検出信号を受けて基板ステージ１４（Ｘ軸移動テーブル１２）の位置を算出して制御装置１００に出力する。
【００５５】
制御装置１００には、Ｙ軸リニアモータ駆動回路１０６が接続されている。制御装置１００は、駆動制御信号をＹ軸リニアモータ駆動回路１０６に出力する。Ｙ軸リニアモータ駆動回路１０６には、各キャリッジプレート２１を移動させるためのＹ軸リニアモータＭ２と、各キャリッジプレート２１の位置をそれぞれ検出するＹ軸エンコーダＥＹとが接続されている。Ｙ軸リニアモータ駆動回路１０６は、制御装置１００からの駆動制御信号に応答して、各キャリッジプレート２１を移動させるためのＹ軸リニアモータＭ２を駆動させる。また、Ｙ軸リニアモータ駆動回路１０６は、Ｙ軸エンコーダＥＹからの検出信号を受けて各キャリッジプレート２１の位置をそれぞれ算出して制御装置１００に出力する。
【００５６】
制御装置１００には、第１撮像装置駆動回路１０９が接続されている。制御装置１００は、駆動制御信号を第１撮像装置駆動回路１０９に出力する。第１撮像装置駆動回路１０９は、制御装置１００からの駆動制御信号に応答して、第１撮像装置６１（第１及び第２撮像カメラ６１Ａ，６１Ｂ）を駆動制御して、給排位置に位置する基板ステージ１４に載置されたＣＦ基板Ｗの対応する第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢをそれぞれ撮像する。第１撮像装置駆動回路１０９は、第１及び第２撮像カメラ６１Ａ，６１Ｂがそれ
ぞれ撮像した第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢの第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂを制御装置１００に出力する。
【００５７】
制御装置１００は、入力された第１画像データＰＤ１ａに基づいて、基板ステージ１４に載置されたＣＦ基板Ｗの第１アライメントマークＷＡの中心位置を算出する。制御装置１００は、第１アライメントマークＷＡの中心位置と基準データＳＤの基準中心位置データとを比較し、算出した第１アライメントマークＷＡの中心位置の基準中心位置に対するＸ軸方向及びＹ軸方向の位置ずれ量をそれぞれ検出する。尚、本実施形態では、第１アライメントマークＷＡの中心位置が所定の位置に正確に配置されることから、第１アライメントマークＷＡの中心位置と基準中心位置とは一致するようになっている。
【００５８】
同様に、制御装置１００は、入力された第２画像データＰＤ１ｂに基づいて、基板ステージ１４に載置されたＣＦ基板Ｗの第２アライメントマークＷＢの中心位置を算出する。
制御装置１００は、第２アライメントマークＷＢの中心位置と基準データＳＤの基準中心位置データとを比較し、算出した第２アライメントマークＷＢの中心位置における基準中心位置（基準データＳＤ）に対するＸ軸方向及びＹ軸方向の位置ずれ量を検出する。尚、本実施形態では、第２アライメントマークＷＢの中心位置は、第１アライメントマークＷＡの中心位置に対してＹ軸方向に沿った位置に配置されることから、第２アライメントマークＷＢの中心位置におけるＹ軸方向の位置ずれ量のみが検出されるようになっている。
【００５９】
制御装置１００は、検出した位置ずれ量からＣＦ基板ＷのＹ軸方向の伸縮量ΔＹを算出し、ＣＦ基板ＷのＹ軸方向の伸縮率ＳＹを算出する。Ｙ軸方向の伸縮率ＳＹは、基準ＣＦ基板における第１アライメントマークＷＡと第２アライメントマークＷＢとの中心位置間をＤ１、伸縮量ΔＹをＣＦ基板Ｗが伸張しているときを正、反対に、収縮しているときを負としたときに、例えば、伸縮率ＳＹ＝（Ｄ１＋ΔＹ）／Ｄ１と表すことができる。
【００６０】
そして、制御装置１００は、図１において最も反Ｙ軸方向に位置しているキャリッジ３０を基準にして、求めた伸縮率ＳＹに基づいた、各キャリッジ３０（各キャリッジプレート２１）の配置位置を算出する。
【００６１】
制御装置１００には、第２撮像装置駆動回路１１０が接続されている。制御装置１００は、駆動制御信号を第２撮像装置駆動回路１１０に出力する。第２撮像装置駆動回路１１０は、制御装置１００からの駆動制御信号に応答して、第２撮像装置６３（第３及び第４撮像カメラ６３Ｃ，６３Ｄ）を駆動制御して、折返し位置に移動配置された基板ステージ１４に載置してあるＣＦ基板Ｗの対応する第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤをそれぞれ撮像する。第２撮像装置駆動回路１１０は、第３及び第４撮像カメラ６３Ｃ，６３Ｄがそれぞれ撮像した第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂを制御装置１００に出力する。
【００６２】
制御装置１００は、入力された第３画像データＰＤ２ａに基づいて、折返し位置に移動配置された基板ステージ１４に載置してあるＣＦ基板Ｗの第３アライメントマークＷＣの中心位置を算出する。制御装置１００は、算出した第３アライメントマークＷＣの中心位置と基準データＳＤの基準中心位置データとを比較して、算出した第３アライメントマークＷＣの中心位置における基準中心位置（基準データＳＤ）に対するＸ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれの位置ずれ量を検出する。
【００６３】
制御装置１００は、位置ずれ量を検出すると、第１画像データＰＤ１ａと第３画像データＰＤ２ａとに基づいて、ＣＦ基板ＷのＸ軸方向の伸縮量ΔＸを算出し、ＣＦ基板ＷのＸ軸方向の伸縮率ＳＸａを算出する。Ｘ軸方向の伸縮率ＳＸａは、基準ＣＦ基板における第
１アライメントマークＷＡと第３アライメントマークＷＣとの中心位置間をＤ２、伸縮量ΔＸをＣＦ基板Ｗが伸張しているときを正、反対に、収縮しているときを負としたときに、例えば、伸縮率ＳＸａ＝（Ｄ２＋ΔＸ）／Ｄ２と表すことができる。
【００６４】
同様に、制御装置１００は、第４画像データＰＤ２ｂに基づいて第４アライメントマークＷＤの位置ずれ量を検出し、第２画像データＰＤ１ｂと第４画像データＰＤ２ｂとに基づいて、ＣＦ基板ＷのＸ軸方向の伸縮率ＳＸｂを算出する。制御装置１００は、求めた２つの伸縮率ＳＸａ，ＳＸｂに基づいて平均伸縮率ＳＸを算出する。
【００６５】
制御装置１００は、ＣＦ基板Ｗの予め定めた各位置に液滴Ｆｂが吐出されるように、基準データＳＤの吐出タイミング位置データを求めた平均伸縮率ＳＸに基づいて算出して、新たな吐出タイミング位置データを生成し、ＲＡＭ１０３に記憶する。制御装置１００は、新たな吐出タイミング位置データをＲＡＭ１０３に記憶すると、以後、新たな吐出タイミング位置データに基づいて、液滴ＦｂをＣＦ基板Ｗに吐出する。
【００６６】
制御装置１００には、液滴吐出ヘッド４０毎に設けられたヘッド駆動回路１０８が接続されている。制御装置１００は、Ｘ軸エンコーダＥＸの検出信号から算出した基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の位置と吐出タイミング位置データとに基づいて、吐出タイミング信号ＬＴをヘッド駆動回路１０８に出力する。制御装置１００は、各圧電素子ＰＺを駆動するための駆動電圧ＣＯＭを吐出タイミング信号ＬＴに同期させて、それぞれ対応するヘッド駆動回路１０８に出力する。
【００６７】
制御装置１００は、ビットマップデータＢＤを利用して、パターン形成用制御信号ＳＩを生成し、パターン形成用制御信号ＳＩをヘッド駆動回路１０８にシリアル転送する。ヘッド駆動回路１０８は、制御装置１００からのパターン形成用制御信号ＳＩを各圧電素子ＰＺに対応させて順次シリアル／パラレル変換する。ヘッド駆動回路１０８は、制御装置１００からの吐出タイミング信号ＬＴを受けるたびに、シリアル／パラレル変換したパターン形成用制御信号ＳＩをラッチし、パターン形成用制御信号ＳＩによって選択される圧電素子ＰＺにそれぞれ駆動電圧ＣＯＭを供給する。
【００６８】
次に上記のように構成した液滴吐出装置１の液滴吐出方法について図７に用いて説明する。
いま、給排位置に位置している基板ステージ１４にＣＦ基板Ｗが載置されている。このとき、ＣＦ基板Ｗの第１アライメントマークＷＡの中心位置は、基板ステージ１４の所定の位置に正確に配置されている。すなわち、第１アライメントマークＷＡの中心位置は、基準データＳＤの基準中心位置データに記憶した第１アライメントマークＷＡの中心位置と一致するようになっている。さらに、第２アライメントマークＷＢの中心位置は、第１アライメントマークＷＡの中心位置に対してＹ軸方向に沿った位置に配置されている（ステップＳ１１）。
【００６９】
制御装置１００は、第１撮像装置６１（第１及び第２撮像カメラ６１Ａ，６１Ｂ）を駆動制御して、ＣＦ基板Ｗに設けた第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢを撮像し、その第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂを取得する（第１の撮像工程：ステップＳ１２）。
【００７０】
続いて、制御装置１００は、取得した第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂから第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢのそれぞれの中心位置を算出する。制御装置１００は、算出した第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢの中心位置と基準データＳＤの基準中心位置データとを比較して、ＣＦ基板ＷのＹ軸方向の伸縮量ΔＹを算出し、そのＹ軸方向の伸縮率ＳＹを算出する（ステップＳ１３）。
【００７１】
次に、制御装置１００は、図１において最も反Ｙ軸方向に位置しているキャリッジプレート２１を基準に、ＣＦ基板ＷのＹ軸方向における伸縮率ＳＹに基づいた、各キャリッジプレート２１の配置位置を算出する。そして、制御装置１００は、Ｙ軸リニアモータ駆動回路１０６を介してＹ軸リニアモータＭ２を駆動制御し、各キャリッジ３０（各キャリッジプレート２１）を算出した配置位置にそれぞれ移動配置する（配置位置変更工程：ステップＳ１４）。
【００７２】
制御装置１００は、各キャリッジ３０（各キャリッジプレート２１）を移動配置すると、Ｘ軸リニアモータ駆動回路１０５を介してＸ軸リニアモータＭ１を駆動制御して、基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）を給排位置から折返し位置に向かって移動させる（ステップＳ１５）。
【００７３】
そして、制御装置１００は、Ｘ軸エンコーダＥＸからの検出信号に基づいて基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の位置を算出し、基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて液滴吐出ヘッド４０から液滴Ｆｂを吐出する。すなわち、制御装置１００は、ＣＦ基板Ｗを給排位置から折返し位置まで初めて移動させるときは、ＣＦ基板Ｗが基準ＣＦ基板であるとして、液滴Ｆｂを吐出する（ステップＳ１６）。
【００７４】
制御装置１００は、基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）を折返し位置まで移動させる（ステップＳ１７）と、第２撮像装置駆動回路１１０を介して第２撮像装置６３（第３及び第４撮像カメラ６３Ｃ，６３Ｄ）を駆動制御して、第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤを撮像し、その第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂを取得する（第２の撮像工程：ステップＳ１８）。
【００７５】
続いて、制御装置１００は、取得した第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂから第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤのそれぞれの中心位置を算出する。制御装置１００は、算出した第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤの中心位置と基準データＳＤの基準中心位置データとを比較して、その比較した結果と第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂとに基づいて、ＣＦ基板ＷにおけるＸ軸方向の平均伸縮率ＳＸを算出する（ステップＳ１９）。
【００７６】
制御装置１００は、Ｘ軸方向（主走査方向）の平均伸縮率ＳＸと基準データＳＤの吐出タイミング位置データとに基づいて、液滴吐出ヘッド４０から液滴Ｆｂを吐出させる基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の位置を新たに算出する。制御装置１００は、算出した基板ステージ１４（Ｘ軸移動プレート１２）の位置に基づいた新たな吐出タイミング位置データを生成する（吐出タイミング変更工程：ステップＳ２０）。
【００７７】
そして、制御装置１００は、以後、新たな吐出タイミング位置データに基づいて液滴ＦｂをＣＦ基板Ｗに吐出する（描画工程：ステップＳ２１）。
上記実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
【００７８】
（１）上記実施形態によれば、ＣＦ基板Ｗの四隅に第１〜第４アライメントマークＷＡ〜ＷＤをそれぞれ設けた。また、基板ステージ１４にＣＦ基板Ｗを載置したときに、第１撮像装置６１（第１及び第２撮像カメラ６１Ａ，６１Ｂ）で給排位置側の第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢをそれぞれ撮像し、その第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂを取得した。そして、基準データＳＤの基準中心位置データと比較し、その比較した結果に基づいてＹ軸方向の伸縮率ＳＹを算出した。
【００７９】
また、基板ステージ１４を折返し位置に移動配置したときに、第２撮像装置６３（第３
及び第４撮像カメラ６３Ｃ，６３Ｄ）で折返し位置側の第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤをそれぞれ撮像し、その第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂを取得した。そして、基準データＳＤの基準中心位置データと比較し、その比較した結果と第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂとに基づいてＸ軸方向の平均伸縮率ＳＸを算出した。そして、Ｘ軸方向の平均伸縮率ＳＸに基づいて新たな吐出タイミング位置データを生成し、以後、新たな吐出タイミング位置データに基づいて液滴ＦｂをＣＦ基板Ｗに吐出させた。
【００８０】
従って、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂに基づいて、算出したＣＦ基板ＷのＹ軸方向の伸縮率ＳＹに基づいて、各キャリッジ３０の配置位置を変更することで、各キャリッジ３０の配置位置を精度よく変更することができる。
【００８１】
また、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂと第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂとに基づいて、ＣＦ基板ＷのＸ軸方向の平均伸縮率ＳＸを算出することができる。
【００８２】
すなわち、ＣＦ基板Ｗの四隅に設けた第１〜第４アライメントマークＷＡ〜ＷＤを撮像した第１〜第４画像データＰＤ１ａ〜ＰＤ２ｂに基づいて、Ｘ軸方向におけるＣＦ基板Ｗの平均伸縮率ＳＸを算出することで、より正確な平均伸縮率ＳＸを算出することができる。つまり、吐出タイミング位置データを精度よく補正することができる。
【００８３】
その結果、ＣＦ基板Ｗに予め定めた各位置に液滴Ｆｂを正確に吐出させ、高精細なパターンを形成することができる。
（２）上記実施形態では、折返し位置側の第３及び第４アライメントマークＷＣ，ＷＤの撮像のために、給除材位置から折返し位置まで初めて移動させるときに、ＣＦ基板Ｗに対して、基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて液滴Ｆｂを吐出させた。
【００８４】
従って、例えば、ＣＦ基板Ｗの伸縮量が微小であって、基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて液滴Ｆｂを吐出させても、ＣＦ基板Ｗに設けたブラックマトリクスの枠内に液滴Ｆｂが吐出される場合には、液滴吐出装置１の稼働率を低下することを回避することができる。
【００８５】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド４０に具体化した。これに限らず、抵抗加熱方式や静電駆動方式の液滴吐出ヘッドに具体化してもよい。
【００８６】
・上記実施形態では、給排位置から折返し位置に基板ステージ１４（ＣＦ基板Ｗ）を移動配置する際に、基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて、液滴Ｆｂを吐出した。これに限らず、給排位置から折返し位置に移動配置するときに、液滴Ｆｂを吐出せずに移動配置してもよい。
【００８７】
・上記実施形態では、給排位置から折返し位置に基板ステージ１４（ＣＦ基板Ｗ）を移動配置する際に、基準データＳＤの吐出タイミング位置データに基づいて、液滴Ｆｂを吐出した。これに限らず、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂに基づいて基準データＳＤの吐出タイミング位置データを補正して給排位置から折返し位置に移動配置してもよい。
【００８８】
これによれば、例えば、Ｙ軸方向の伸縮率ＳＹとＸ軸方向の伸縮率とが同一であると仮定したときに、Ｙ軸方向の伸縮率ＳＹに基づいて吐出タイミング位置データを補正することによって、より高精細なパターンを形成することができる。また、例えば、ＣＦ基板Ｗ
がＸ軸方向に位置ずれしているときに、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂに基づいてその位置ずれ量を算出し、その算出した位置ずれ量を考慮した吐出タイミング位置データを生成することによって、より高精細なパターンを形成することができる。
【００８９】
・上記実施形態では、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂに基づいて、キャリッジ３０の配置位置を調整した。これに限らず、第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂを取得した後に、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂと第３及び第４画像データＰＤ２ａ，ＰＤ２ｂとに基づいて、再度、キャリッジ３０の配置位置を変更してもよい。
【００９０】
・上記実施形態では、各キャリッジ３０の配置位置を変更するときに、図１において最も反Ｙ軸方向に位置しているキャリッジ３０を基準に各キャリッジ３０の配置位置を変更した。これに限らず、例えば、第１及び第２画像データＰＤ１ａ，ＰＤ１ｂに基づいて、第１及び第２アライメントマークＷＡ，ＷＢの中心位置間における中点位置を算出し、その算出した中点位置を基準に各キャリッジ３０の配置位置を変更するようにしてもよい。
【００９１】
・上記実施形態では、フィルタ用インクを液滴にして吐出させてＣＦ基板Ｗにカラーフィルタを形成する液滴吐出装置に具体化した。これに限らず、金属配線を形成する液滴吐出装置、絶縁層を形成する液滴吐出装置、液晶層や配向膜を形成する液滴吐出装置等に応用してもよい。
【００９２】
・上記実施形態では、液滴吐出ヘッド４０を６個搭載したキャリッジを６個搭載した液滴吐出装置１に具体化した。これに限らず、キャリッジに搭載される液滴吐出ヘッドの数、及び、液滴吐出装置に搭載されるキャリッジの数は、適宜変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】基準ＣＦ基板を基板ステージに載置したときの平面図。
【図３】キャリッジプレートとキャリッジの関係を表す平面図。
【図４】（ａ）液滴吐出ヘッドを基板ステージ側から見た斜視図、（ｂ）液滴吐出ヘッドのポンプ部断面図。
【図５】（ａ）給排位置に基板ステージを配置したときの模式図、（ｂ）折返し位置に基板ステージを配置したときの模式図。
【図６】液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【図７】液滴吐出装置の描画方法を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００９４】
ＢＤ…ビットマップデータ、ＣＯＭ…駆動波形信号、Ｄ１…距離、Ｄ２…距離、ＥＸ…Ｘ軸エンコーダ、ＥＹ…Ｙ軸エンコーダ、Ｆ…機能液、Ｆｂ…液滴、ＬＴ…吐出タイミング信号、Ｍ１…Ｘ軸リニアモータ、Ｍ２…Ｙ軸リニアモータ、ＰＤ１ａ…第１画像データ、ＰＤ１ｂ…第２画像データ、ＰＤ２ａ…第３画像データ、ＰＤ２ｂ…第４画像データ、ＰＺ…圧電素子、ＳＤ…基準データ、ＳＩ…パターン形成用制御信号、Ｗ…ＣＦ基板、ＷＡ…第１アライメントマーク、ＷＢ…第２アライメントマーク、ＷＣ…第３アライメントマーク、ＷＤ…第４アライメントマーク、ΔＸ…伸縮量、ΔＹ…伸縮量、ＳＹ…伸縮率、ＳＸ…平均伸縮率、ＳＸａ…伸縮率、ＳＸｂ…伸縮率、１…液滴吐出装置、２…基台、２ａ…上面、１１…Ｘ軸ガイドレール、１２…Ｘ軸移動プレート、１４…基板ステージ、１６…ステージ回動機構、１８…Ｙ軸ガイドレール、１９ａ…支柱、１９ｂ…支柱、２１…キャリッジプレート、２２…機能液供給ユニット、２３…ヘッド用電装ユニット、２５…吊下機構、２６…吊下基板、２７…吊下回動枠、２８…吊下支持枠、３０…キャリッジ、３１…キャリッジ枠、３４…ユニットプレート、４０…液滴吐出ヘッド、４０Ａ…ヘッド
本体、４１…液体導入部、４２…接続針、４３…ヘッド基板、４３Ａ…ヘッドコネクタ、４４…ポンプ部、４５…ノズルプレート、４５ａ…ノズル形成面、４６…吐出ノズル、４７…ノズル列、４８…フランジ部、４９…ネジ孔、５２…キャビティ、５３…振動板、６１…第１撮像装置、６１Ａ…第１撮像カメラ、６１Ｂ…第２撮像カメラ、６２…支持部材、６３…第２撮像装置、６３Ｃ…第３撮像カメラ、６３Ｄ…第４撮像カメラ、６４…支持部材、１００…制御装置、１０１…ＣＰＵ、１０２…ＲＯＭ、１０３…ＲＡＭ、１０４…入出力装置、１０５…Ｘ軸リニアモータ駆動回路、１０６…Ｙ軸リニアモータ駆動回路、１０８…ヘッド駆動回路、１０９…第１撮像装置駆動回路、１１０…第２撮像装置駆動回路。
【図１】
2009175193.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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