(57)【要約】【課題】識別マークが形成されたウェハの主面側を樹脂で封止した場合においても識別マークを読み取り可能とする。【解決手段】ウェハ１の主面１ｃに形成されかつ樹脂層１ｈにより主面１ｃと共に封止された凹凸状の識別マーク２０を読み取るための装置であって、ウェハ１を支持するステージ２と、ステージ２の凹状部２ｈを通してウェハ１の裏面１ｂ側から主面１ｃに向けて赤外光線を照射する照明ユニット１３と、ウェハ１を透過して主面１ｃと樹脂層１ｈとの接合界面において反射した赤外光線の反射光を受光して接合界面を撮像する撮像ユニット１６とを備え、照明ユニット１３の先端に、識別マーク２０の形成位置を除く主面１ｃ領域からの反射光の受光を減少させる偏光板３０を設けた。【選択図】図１
2009010054.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハの主面に形成されかつ樹脂層によって前記主面と共に封止された凹凸状の識別マークを読み取るための装置であって、
前記ウェハを支持するステージと、該ステージにより支持されたウェハの裏面側から前記主面に向けて赤外光線を照射する照明ユニットと、前記ウェハを透過して前記主面と前記樹脂層との接合界面において反射した前記赤外光線の反射光を受光して前記接合界面を撮像する撮像ユニットとを備え、
前記ステージは前記ウェハの裏面への前記赤外光線の照射及び該裏面からの反射光の通過を可能とするものであり、
前記照明ユニットから前記ステージのウェハ支持部までの間、又は該ステージのウェハ支持部から前記撮像ユニットまでの間の少なくとも一方に、前記識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光の受光を減少させるように赤外光線の透過を制限する光透過制限手段を設けたことを特徴とする識別マークの読取装置。
【請求項２】
前記光透過制限手段は、赤外光線におけるＳ偏光成分の光を減少させる偏光板であることを特徴とする請求項１記載の識別マークの読取装置。
【請求項３】
前記偏光板は、前記照明ユニットから前記ステージのウェハ支持部までの間に設けられていることを特徴とする請求項２記載の識別マークの読取装置。
【請求項４】
前記偏光板は、前記ステージのウェハ支持部から前記撮像ユニットまでの間に設けられていることを特徴とする請求項２記載の識別マークの読取装置。
【請求項５】
前記ステージは赤外光線を透過する材料からなり、前記偏光板は、前記ステージに貼り付けられていることを特徴とする請求項２記載の識別マークの読取装置。
【請求項６】
前記光透過制限手段は、前記ステージのウェハ支持部から前記撮像ユニットまでの間に設けられたマイクロルーバーフィルムであることを特徴とする請求項１記載の識別マークの読取装置。
【請求項７】
前記照明ユニットは、前記主面に対して各々異なる方向に交差する赤外光線を照射するように複数設けられ、前記撮像ユニットは、前記接合界面において同一方向に反射した複数の赤外光線の反射光を受光するものであることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の識別マークの読取装置。
【請求項８】
ウェハの主面に形成されかつ樹脂層によって前記主面と共に封止された凹凸状の識別マークを読み取る方法であって、
前記ウェハの裏面側から前記主面に向けて赤外光線を照射してから、前記ウェハを透過して前記主面と前記樹脂層との接合界面において反射した赤外光線の反射光を受光するまでの間に、前記識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光の受光を減少させるように赤外光線の透過を制限し、
この制限された赤外光線を受光して前記接合界面を撮像し、撮像された画像により前記識別マークを読み取ることを特徴とする識別マークの読取方法。
【請求項９】
赤外光線におけるＳ偏光成分の光を減少させることにより、赤外光線の透過を制限することを特徴とする請求項８記載の識別マークの読取方法。
【請求項１０】
前記ウェハの裏面に到達する前の赤外光線におけるＳ偏光成分の光を減少させることを特徴とする請求項９記載の識別マークの読取方法。
【請求項１１】
赤外光線における前記反射光のＳ偏光成分の光を減少させた後に受光することを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の識別マークの読取方法。
【請求項１２】
前記主面に対して各々異なる方向に交差する複数の赤外光線を照射し、前記接合界面において同一方向に反射した複数の赤外光線の反射光を受光することを特徴とする請求項８から請求項１１のいずれか１項に記載の識別マークの読取方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハに形成されたウェハ番号やロット番号などの識別マークの読取装置及び識別マークの読取方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置を製造する現場では、単一の収納ケース内に納めた複数のウェハ（例えば１ロットのウェハ）が半導体装置を製造する工程間を移動している。一般に、ウェハごとに施すべき工程数が多いため、各ウェハには、製品の種類や型番、ロット番号やウェハ番号などの識別マークが表示され、工程の錯綜によるウェハの混同を防ぎ仕損じの発生の防止が図られている。
【０００３】
この種の識別マークは、例えばレーザーマーカーなどを用いてウェハに形成されており、ドット状の刻印の集合体によって文字や数字を表示するものとされている。また、この識別マークは、ウェハの裏面に形成すると、例えばウェハを搬送したり支持する目的でウェハの裏面を真空吸着保持した際に、識別マークの反対側に位置するウェハの主面に盛り上がりが生じてしまい、例えばフォトリソグラフィー工程におけるデフォーカスや、ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）工程におけるポリッシュ異常などが生じる場合がある。このため、通常、識別マークはウェハの主面に設けられている。
【０００４】
また、識別マークは、例えば製造工程内でウェハもしくはロットの特定を必要とする際に、例えばＣＣＤカメラなどを備えるウェハの識別マークの読取装置を用いて認識されている。さらに、この種の識別マークの読取装置には、ウェハを収納ケースから出し入れする搬送ロボットを備えたものもあり、識別マークを読取り特定された複数のウェハを、例えば識別マークの数字が昇順や降順となるように収納ケースに整列しなおすことが可能とされている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平５−１４７７２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記のウェハに形成された識別マークの読取装置では、製造工程が進みウェハの主面に樹脂封止が施されて樹脂層が形成された場合に、主面に形成した識別マークが樹脂で被覆され、識別マークを認識できなくなるという問題があった。すなわち、半導体装置の製造は、主面側に複数のＩＣ（集積回路）が形成されたウェハを用意し、パッド電極を介してＩＣと電気的に接続される再配線を形成し、さらに再配線上に例えば銅製で柱状の電極端子（メタルポスト）を形成した段階で、主面側を樹脂で封止する。このため、ＩＣや再配線、メタルポストを樹脂で封止する前段では、ウェハの主面に形成された識別マークが露出されているため目視でも読み取ることが可能であるが、樹脂封止後では識別マークが樹脂で隠れてしまいウェハやロットを特定できなくなるという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記事情を鑑み、識別マークが形成されたウェハの主面側を樹脂で封止した場合においても識別マークを読取可能な識別マークの読取装置及び識別マークの読取方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の識別マークの読取装置は、ウェハの主面に形成されかつ樹脂層によって前記主面と共に封止された凹凸状の識別マークを読み取るための装置であって、前記ウェハを支持するステージと、該ステージにより支持されたウェハの裏面側から前記主面に向けて赤外光線を照射する照明ユニットと、前記ウェハを透過して前記主面と前記樹脂層との接合界面において反射した前記赤外光線の反射光を受光して前記接合界面を撮像する撮像ユニットとを備え、前記ステージは前記ウェハの裏面への前記赤外光線の照射及び該裏面からの反射光の通過を可能とするものであり、前記照明ユニットから前記ステージのウェハ支持部までの間、又は該ステージのウェハ支持部から前記撮像ユニットまでの間の少なくとも一方に、前記識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光の受光を減少させるように赤外光線の透過を制限する光透過制限手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の識別マークの読取方法は、ウェハの主面に形成されかつ樹脂層によって前記主面と共に封止された凹凸状の識別マークを読み取る方法であって、前記ウェハの裏面側から前記主面に向けて赤外光線を照射してから、前記ウェハを透過して前記主面と前記樹脂層との接合界面において反射した赤外光線の反射光を受光するまでの間に、前記識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光の受光を減少させるように赤外光線の透過を制限し、この制限された赤外光線を受光して前記接合界面を撮像し、撮像された画像により前記識別マークを読み取ることを特徴とする。
【０００９】
上述したように、ウェハを透過する赤外光線を用いて接合界面を撮像することで、識別マークを含む接合界面の画像を取得することができる。すなわち、識別マークを形成したウェハの主面が樹脂層によって被覆されていても、識別マークを読み取ることができる。
この場合、識別マークの形成位置を除くウェハの主面領域は略平坦面を呈するため、赤外光線はこの主面領域においてほぼ正反射（主面に対する赤外光線の入射角度と同一角度で反射）する。一方、識別マークを形成した主面領域は凹凸状に形成されているため、同赤外光線はこの識別マークの形成位置において乱反射する。
【００１０】
したがって、この識別マークの形成位置を除くウェハの主面領域からの反射光の受光を減少させることにより、識別マークを形成した主面領域からの反射光の受光が相対的に大きくなり、これにより、いわゆるＳ／Ｎ比（Signal to Noise ratio）を高くした状態で撮像することができ、識別マークとその形成位置を除く主面領域とのコントラストが大きくなって識別マークを容易に読み取ることが可能となる。
【００１１】
また、本発明の識別マークの読取装置において、光透過制限手段は、赤外光線におけるＳ偏光成分の光を減少させる偏光板である構成とするとよく、また、本発明の識別マークの読取方法は、赤外光線におけるＳ偏光成分の光を減少させることにより、赤外光線の透過を制限する構成とするとよい。
一般に、識別マークの形成位置を除く主面領域やウェハの裏面のように平坦面での反射光は、その反射面に対して平行なＳ偏光成分の光が強くなる。これに対して、識別マークにおいては乱反射することからＰ偏光成分が相対的に多くなる。偏光板によってＳ偏光成分の光を減少させることにより、主面や裏面からのＳ偏光成分の光が多い反射光とは異なる偏光方向（つまりＰ偏光）の反射光を選択して受光することになる。したがって、識別マークの形成位置を除く主面領域及び裏面からの反射光の受光が少なく、かつ識別マークからの反射光をより多く受光することがき、Ｓ／Ｎ比を高くした状態で撮像することができる。
なお、ウェハ主面における赤外線の入射角も、Ｓ偏光成分の光とＰ偏光成分の光との差が大きくなる角度から照射されるようにすると、そのＳ偏光成分の光に対する偏光板のフィルター効果をより有効に発揮させることができ、コントラストをさらに高くすることができる。例えば、識別マークの形成位置を除く主面領域及び裏面からの反射光でＰ偏光成分が少なくＳ偏光成分が多くなる入射角としては、５０〜８５度、好ましくは６０〜８０度、より好ましくは６５〜７５度とされる。
【００１２】
この場合、偏光板が前記照明ユニットから前記ステージのウェハ支持部までの間に設けられている構成とすることができる。また、読取方法においては、ウェハの裏面に到達する前の赤外光線のＳ偏光成分の光を減少させるようにすることができる。このような構成とすることにより、Ｓ偏光成分の光を少なくした状態でウェハに到達することになり、その結果、識別マークの形成位置を除く主面領域での反射が少なくなり、識別マークからの反射光による結像を相対的に強くすることができる。
また、逆に、偏光板が前記ステージのウェハ支持部から前記撮像ユニットまでの間に設けられている構成としてもよく、読取方法においては、赤外光線の前記反射光のＳ偏光成分の光を減少させた後に受光するようにしてもよい。この場合は、識別マークの形成位置を除く主面領域での反射は多いが、その反射光のうちのＳ偏光成分の光の透過を制限してＰ偏光成分の光を選択して透過させるものである。
【００１３】
さらに、前記ステージは赤外線を透過する材料からなり、前記偏光板は、前記ステージに貼り付けられている構成とすると、複数の偏光板を設ける場合に比べて、その位置や向き等の調整を全ての偏光板について行う必要がなくなり、作業性が良い。また、照明ユニットや撮像ユニットの配置の制約が少なくなるとともに、識別マークがウェハのいずれの位置に形成されていたとしても、これを読み取ることが可能になる。
【００１４】
なお、光透過制限手段として、前記ステージと前記撮像ユニットとの間に設けられたマイクロルーバーである構成としてもよく、識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光をマイクロルーバーにより遮断し、識別マークからの反射光をマイクロルーバーに選択して通過させ、これにより識別マークのコントラストを強くすることができる。
【００１５】
また、前記照明ユニットは、前記主面に対して各々異なる方向に交差する赤外光線を照射するように複数設けられ、前記撮像ユニットは、前記接合界面において同一方向に反射した複数の赤外光線の反射光を受光するものである構成としてもよい。
読取方法としては、前記主面に対して各々異なる方向に交差する複数の赤外光線を照射し、前記接合界面において同一方向に反射した複数の赤外光線の反射光を受光するようにしてもよい。
この場合は、異なる方向から赤外光線を照射するので、識別マークが明瞭になり、特に識別マークが線状部分を有する場合にその線状部分の識別を容易にすることができる。また、複数の照明ユニットからの入射角や波長等を照明ユニット毎に変えることにより、様々な凹凸形状の識別マークに対応させることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、識別マークを形成したウェハの主面が樹脂層によって被覆されていても、赤外光線によって識別マークを容易に読み取ることができるとともに、識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光の受光を減少させるように赤外光線の透過を制限するようにしたから、識別マークのコントラストを高めることができ、その認識を容易にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態に係る識別マークの読取装置及び読取方法について説明する。
本発明の第１実施形態に係る識別マークの読取装置及び読取方法について図１から図８を参照しながら説明する。なお、本実施形態は、以下に述べるウェハの主面に形成された識別マークを読み取る方法及び読取装置に関するものである。
図６及び図７に示すように、ウェハ１は、例えば多結晶または単結晶のシリコンを円板状に形成したものであり、その主面１ｃには、ＩＣ（集積回路）１ｄと、パッド電極１ｅを介してＩＣ１ｄに電気接続される再配線１ｆと、再配線１ｆ上に形成された例えば銅製で柱状の電極端子（メタルポスト）１ｇとが設けられている。また、主面１ｃには樹脂層（封止樹脂）１ｈが形成されており、この樹脂層１ｈによってＩＣ１ｄや再配線１ｆ、メタルポスト１ｇが封止されている。樹脂層１ｈは、ウェハ１の主面１ｃに接合する一面に対して他面１ｉが平行するように形成されており、メタルポスト１ｇの上面が他面１ｉと共に同一平面上をなして露出している。
【００１８】
一方、ウェハ１には、その外周縁側の一部をＶ字状に切り欠いたノッチ１ａがあり、この１ａはウェハ１の位置を特定する目印をなしている。なお、ウェハ１の主面１ｃの格子状部分は、ウェハ１をダイシングし半導体装置２２を個片化する際のダイシングライン２３を示すものであり、このダイシングライン２３で囲まれた矩形部分が１つの半導体装置２２をなしている。
【００１９】
また、ウェハ１には、ノッチ １ａと反対に位置する外周縁側の主面１ｃの一部に、例えば図２、図３、図６から図８に示すような、ロット番号やウェハ番号などの識別マーク２０が形成されている。この識別マーク２０は、例えば複数の文字や数字によって構成され、主面１ｃから凹む形状で形成されている。また、主面１ｃに形成された凹み形状のドット２０ａの集合体によって構成されていてもよい。以下、この図８に基づいて説明する。これら多数のドット２０ａは相互に微小な間隔をあけて配されているため、識別マーク２０が主面１ｃにおいて凹凸状に形成されることになる。また、各ドット２０ａは例えばレーザーマーカーを用いて形成することができ、その径は、例えば２０〜５００μｍ程度とされている。
【００２０】
このようにウェハ１の主面１ｃに形成された識別マーク２０は、図２、図３及び図７に示すように、主面１ｃを樹脂層１ｈにより封止することで、樹脂層１ｈが識別マーク２０を構成する凹み形状のドット２０ａ内に入り込み、樹脂層１ｈによって完全に被覆されてしまう。すなわち、この状態においては、識別マーク２０を目視で読み取ることはできず、可視光線を照射しこの反射光を受光することで撮像するＣＣＤカメラなどで読み取ることもできない状態とされる。
【００２１】
そして、本実施形態の識別マークの読取装置Ａ（以下、読取装置Ａという）は、図４及び図５に示すように、上面２ａに前述のウェハ１を載置するステージ部２と、ステージ部２の上方に配置されてウェハ１の外観画像を撮像する第１撮像部３と、ステージ部２の下方に配置されてウェハ１の識別マーク２０を読み取るための第２撮像部４と、内部に複数のウェハ１を収納する第１収納ケース５と、第１収納ケース５を載置する第１収納ケース載置台６と、内部に複数のウェハ１を収納可能な第２収納ケース７と、第２収納ケース７を載置する第２収納ケース載置台８と、第１収納ケース５や第２収納ケース７とステージ部２との間でウェハ１の受け渡しを行なう搬送部９とから構成されている。ここで、ステージ部２は、搬送部９を間にして、第１収納ケース載置台６及び第２収納ケース載置台８と対向配置されている。
【００２２】
ステージ部２は、平面視で略矩形盤状に形成されており、その略中央には上面から下面に貫通する開口部２ｃが形成されている。開口部２ｃには、例えば円筒状の吸着本体部２ｄと吸着本体部２ｄの先端にウェハ１を吸着保持する吸着パッド２ｅとを備える吸着部２ｆが、出没可能に且つ軸線Ｏ１回りに回転可能に挿通されている。また、吸着本体部２ｄの内孔は、例えば真空ポンプ等の真空吸引手段に接続されている。したがって、吸着パッド２ｅをウェハ１の裏面１ｂに当接させて真空吸引手段を駆動した際には、吸着パッド２ｅが吸盤として振る舞うことになる。すなわち、吸着部２ｆは、ウェハ１を吸着保持して軸線Ｏ１周りに回転させたり、軸線Ｏ１方向に移動させたりする役割を果たす。
【００２３】
また、ステージ部２のうち搬送部９に対向する一側面２ｂの反対側に位置する他側面２ｇ側には、他側面２ｇからその直交方向に窪む凹状部２ｈが形成されている。この凹状部２ｈは、ステージ部２の上面２ａに載置されたウェハ１の外周縁側の一部がこの凹状部２ｈと重なる位置に設けられている。
なお、以上のように構成されたステージ部２の上面２ａには、ウェハ１の裏面１ｂが接触するようにウェハ１が載置されることになる。
【００２４】
第１撮像部３は、図５に示すように、例えばＣＣＤカメラ等の撮像部３ａと、これに接続されたウェハ位置認識装置３ｂとから構成されている。撮像部３ａは、その光軸がステージ部２の上面２ａに直交するように設置されている。また、ウェハ位置認識装置３ｂは、撮像部３ａからの撮像信号に基づいてウェハ１の外周縁やウェハ１の外周縁側に切り欠かれた図６に示すノッチ１ａの位置などを検知してウェハ１の位置を特定することが可能とされている。なお、ウェハ位置認識装置３ｂには、例えばモニターなどの表示部３ｃが接続されており、この表示部３ｃでは撮像部３ａにおいて取得したウェハ１の画像を表示できるようになっている。
【００２５】
第２撮像部４は、図１及び図５に示すように、ウェハ１の主面１ｃに向けて赤外光線を照射する照明ユニット１３と、赤外光線を受光して撮像するＩＲカメラ（撮像ユニット）１６とを備えている。
照明ユニット１３は、ウェハ１を透過する波長の赤外光線を出射可能なＩＲ（Infra−red）光源（光源）１０と、ＩＲ光源１０から出射する赤外光線の光路を規定するファイバー束１１とを備えている。このＩＲ光源１０は、矩形箱状の筐体内部に納められている。
【００２６】
ファイバー束１１の一端は、筐体内部に配されておりＩＲ光源１０から出射した赤外光線を受光可能とされている。また、ファイバー束１１の他端は、筐体外部に延出して配されている。そして、このファイバー束１１は、その一端において受光した赤外光線を他端（以下、先端ともいう）まで導くと共に、他端（先端）から外方の所定方向（図１の符号Ｒ１で示す赤外光線の光軸の方向）に出射するように構成されている。
そして、ファイバー束１１は、一端に対して他端の向きや位置を自由に変えることが可能な柔軟構造体をなしており、他端から出射する赤外光線の光軸Ｒ１の方向を自由に変更することができるようになっている。
【００２７】
そして、本実施形態においては、図１に示すように、ファイバー束１１の他端（先端）がステージ部２の凹状部２ｈに向かうように配されており、照明ユニット１３のファイバー束１１の先端から出射する赤外光線の光軸Ｒ１（照明ユニット１３の光軸Ｒ１）が凹状部２ｈ内を通過してステージ部２に載置されたウェハ１の裏面１ｂに到達するようになっている。なお、この赤外光線は前述したようにウェハ１を透過するため、実際には裏面１ｂ側から樹脂層１ｈとの接合界面をなすウェハ１の主面１ｃまで向かうことになる。ここで、ウェハ１は、赤外光線の波長が１０００ｎｍよりも小さく、９０００ｎｍよりも大きいと赤外光線を吸収し始めるため、ＩＲ光源１０から出射する赤外光線の波長は、例えば１１００ｎｍ以上、８０００ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２８】
照明ユニット１３のファイバー束１１の先端と、ステージ２上に載置状態のウェハ１との間、図１に示す例ではファイバー束１１の先端には、赤外光線の透過を制限する光透過制限手段として、赤外光線の光軸Ｒ１と直角に偏光板３０が設けられている。この偏光板３０は、赤外光線の中から、Ｐ偏光成分の光のみを透過させ、その他の成分の光を遮断する性質を有するものである。
また、ウェハ１の主面１ｃに対する赤外光線の入射角（主面１ｃの垂線と入射光の光軸とのなす角度）は、識別マーク２０の形成位置を除く主面１ｃ領域及び裏面からの反射光でＰ偏光成分が少なくＳ偏光成分が多くなる入射角に設定され、例えば５０〜８５度、好ましくは６０〜８０度、より好ましくは６５〜７５度とされる。
【００２９】
ＩＲカメラ１６は、図１等に示すように、例えば円筒状に形成された筐体１６ａ内部に、レンズ１４及びこのレンズ１４よりも下方に配された撮像素子１５を設けて構成されている。すなわち、レンズ１４及び撮像素子１５は、ＩＲカメラ１６の光学系の光軸の方向に並べて配されており、ＩＲカメラ１６の光軸Ｒ２方向から筐体１６ａ内部に入り込んだ赤外光線はレンズ１４を通過して撮像素子１５に到達することになる。また、撮像素子１５に接続された配線は、筐体１６ａの下端側から外方に延出されて例えばモニターなどの表示部１６ｂに接続されている。
【００３０】
図４及び図５に示すように、第１収納ケース５は、略矩形箱状に形成されており、第１収納ケース載置台６の上面６ａに載置された状態において搬送部９側を向く一側面５ａが開口するように構成されている。一方、第２収納ケース７も、第１収納ケース５と同様に略矩形箱状に形成されており、第２収納ケース載置台８の上面８ａに載置された状態において搬送部９側を向く一側面７ａが開口するように構成されている。
これら第１収納ケース５及び第２収納ケース７の各内部には、多数段のスロットが列設されており、各スロット内には１枚ずつのウェハ１を挿入できるようになっている。そして、これら第１収納ケース５及び第２収納ケース７においては、それぞれ多数段のスロット内に複数のウェハ１を規則的に１つのロットとして整列するようになっている。
【００３１】
第１収納ケース載置台６及び第２収納ケース載置台８には、例えば第１収納ケース５及び第２収納ケース７を昇降可能とする不図示の駆動手段が設けられている。また、この駆動手段には例えば不図示の制御手段が接続されている。このように構成することで、制御手段は、第１収納ケース５及び第２収納ケース７のそれぞれを適宜１スロット分ずつ昇降させるように駆動手段を制御することができる。
【００３２】
搬送部９は、ＸＹテーブル９ｃと、このＸＹテーブル９ｃ上に垂直方向上向きに搭載されたロータリーアクチュエータ９ｄと、ロータリーアクチュエータ９ｄの回転軸９ｅの上端に接続された多関節アーム１７とから構成されている。
多関節アーム１７は、それぞれ水平方向に平行配置された第１アーム１７ａと第２アーム１７ｂと第３アーム１７ｃとからなり、第１アーム１７ａは、一端が回転軸９ｅの上端に接続されて回転軸９ｅの回転に従動するものである。また、第２アーム１７ｂは、一端が第１アーム１７ａの他端に回転自在に軸支され、内蔵されたベルト伝動装置１７ｄによって第１アーム１７ａの他端を中心に回転可能となっている。第３アーム１７ｃは、一端が第２アーム１７ｂの他端に回転自在に軸支され、内蔵されたベルト伝動装置１７ｅによって第２アーム１７ｂの他端を中心に回転可能となっている。さらに、第３アーム１７ｃは、その他端側が二股状に形成されており、分岐した他端側のそれぞれの上面に凸状の支持部１８が設けられている。この支持部１８には、図示せぬ真空吸着口が形成されており、この真空吸着口が第３アーム１７ｃの内部に設けられた図示せぬ吸引路と連通している。また、吸引路には例えば真空ポンプなどの真空吸引手段が接続されている。
【００３３】
次に、上記構成の読取装置Ａを用いてウェハ１に形成された識別マーク２０を読み取る方法について説明する。
はじめに、複数のウェハ１を収納した第１収納ケース５を第１収納ケース載置台６上に載置し、空の第２収納ケース７を第２収納ケース載置台８上に載置する。ついで、搬送部９を駆動して、第３アーム１７ｃの二股状の先端部分を第１収納ケース５内に挿入し、搬送する１枚のウェハ１の裏面１ｂに支持部１８を当接させて支持部１８にウェハ１を吸着保持させる。
【００３４】
そして、吸着保持したウェハ１を第１収納ケース５から取り出すとともに、ステージ部２上に搬送する。次いで、ステージ部２の開口部２ｃから吸着部２ｆを突出させ、第３アーム１７ｃで保持したウェハ１の略中央位置に吸着パッド２ｅを当接させるとともに吸着本体部２ｄと繋がる真空吸引手段を駆動してウェハ１を吸着保持する。その後、第３アーム１７ｃの支持部１８の吸着を解除し、搬送部９を元の位置に戻す。以上により、第１収納ケース５からステージ部２へのウェハ１の受け渡しが完了する。
【００３５】
一方、吸着部２ｆで保持されたウェハ１は、識別マーク２０がどの位置にあるのか不明の状態である。このため、第１撮像部３でウェハ１の外観画像を撮像し、この外観画像に写し出されたウェハ１の外周やノッチ１ａの位置情報に基づいてウェハ位置認識装置３ｂによりウェハ１の位置を特定する。このようにウェハ１の現在位置が特定された段階で、吸着部２ｆを軸線Ｏ１回りに回転させ、ノッチ１ａが所定の位置に配されるようにウェハ１を移動する。そして、吸着パッド２ｅの吸着を解除すると共に吸着部２ｆをステージ部２の上面２ａの下方に没入させることで、ウェハ１をステージ部２の上面２ａに載置する。このように載置されたウェハ１は、識別マーク２０の形成位置がステージ部２の凹状部２ｈと重なるように載置される。
【００３６】
次いで、ステージ部２に載置されたウェハ１の識別マーク２０を第２撮像部４により読み取る。
この際には、図１及び図２に示すように、照明ユニット１３のＩＲ光源１０から赤外光線を出射することで、赤外光線がファイバー束１１を通じてその先端からステージ部２の凹状部２ｈを介してウェハ１の裏面１ｂに照射される。
【００３７】
ウェハ１の裏面１ｂに照射された赤外光線は、その波長が１１００ｎｍ以上、８０００ｎｍ以下とされていることで、ウェハ１を透過する。透過した赤外光線は、この波長領域において樹脂層１ｈに吸収されたり、樹脂層１ｈを透過したりする割合が小さく、ウェハ１の主面１ｃと樹脂層１ｈとの接合界面で多くが反射する。
反射した赤外光線（反射光）は、再度ウェハ１を透過してウェハ１の外部に出射され、ＩＲカメラ１６のレンズ１４に受光されるとともに集光されて撮像素子１５で結像される。これにより、ウェハ１の主面１ｃに形成された識別マーク２０の画像が取得され、撮像素子１５に配線を介して接続された表示部１６ｂに表示される。この表示画像を確認することで樹脂層１ｈが形成された後のウェハ１の識別マーク２０を読み取ることが可能とされる。
【００３８】
ここで、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域は略平坦面を呈しているが、一般に平坦面での反射光は、その反射面に平行な方向に振動するＳ偏光成分の光が強く、これと直角の方向に振動するＰ偏光成分の光が少なくなっている。特に、その入射角が前述した５０〜８５度の付近、その中でも６０〜８０度、さらには６５〜７５度の範囲においてその傾向が最も顕著になる。逆に言えば、その入射角においてはＰ偏光成分の光の反射率が最も小さくなる。
【００３９】
本実施形態の読取装置Ａにおいては、照明ユニット１３からの赤外光線の入射角を、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射でＰ偏光成分の光が少なくＳ偏光成分の光が多くなることで、これらＰ偏光成分の光とＳ偏光成分の光との差が大きくなる入射角（５０〜８５度、好ましくは６０〜８０度、より好ましくは６５〜７５度）に設定し、その上でファイバー束１１の先端に、Ｐ偏光成分の光のみを透過させる偏光板３０を設けたことにより、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域においては、このＰ偏光成分の光の反射が小さくなり、特に６５〜７５度の入射角では極端に小さくなる。これに対して、識別マーク２０の部分では、様々な方向に乱反射するため、前述のＰ偏光成分の光とＳ偏光成分の光との差が大きくなる入射角とは異なる入射角での反射となる度合いが高くなり、Ｐ偏光成分の光の反射が多く現れる。図２には、照明ユニット１３からの赤外光線を実線矢印、偏光板を経由したＰ偏光成分の光を黒塗り矢印で模式的に示している。
そして、これら識別マーク２０（図２には一部のドット２０ａのみ示している）の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射光と、識別マーク２０の部分での反射光とが混在してＩＲカメラ１６に受光されることになるが、前者の反射光は極めて少なくなっていることから、相対的に後者の反射光が多くなっており、もって、識別マーク２０からの反射光をより多く受光して、Ｓ／Ｎ比を高くした状態で撮像することができ、識別マーク２０の結像を強くすることができるものである。
【００４０】
以上のように、識別マーク２０を写し出した画像取得が完了すると、ウェハ１は、吸着部２ｆの吸着パッド２ｅに当接されて再度吸着保持されるとともに、搬送部９に受け渡される。そして、搬送部９により第２収納ケース載置台８に載置された第２収納ケース７のスロットに収納される。このとき、ウェハ１は、読取られた識別マーク２０に応じた所定のスロットに収納される。そして、第１収納ケース５の複数のウェハ１に対して上記と同様の操作を繰り返し行なうことによって、複数のウェハ１は、例えば識別マーク２０の数字が昇順あるいは降順となるように整列されて第２収納ケース７に収納される。
【００４１】
上記のウェハ１に形成された識別マーク２０の読取装置Ａにおいては、赤外光線を出射可能な照明ユニット１３が備えられていることによって、赤外光線をウェハ１に照射して、照射した赤外光線をウェハ１に透過させることができ、且つ樹脂層１ｈのウェハ１の主面１ｃとの接合界面で反射させることができる。また、赤外光線の反射光を受光しつつ撮像可能なＩＲカメラ（撮像ユニット）１６が備えられていることにより、反射した赤外光線を受光して結像することができる。これにより、ウェハ１の裏面１ｂ側から赤外光線を照射してウェハ１の主面１ｃの画像を取得することが可能となり、主面１ｃに形成された識別マーク２０を読み取ることが可能となる。よって、樹脂封止が施されたウェハ１に対しても識別マーク２０を読取って、そのウェハ１やロットを特定することが可能となる。
【００４２】
そして、この実施形態の場合、Ｐ偏光成分の光のみを照射し、しかも、その入射角を識別マーク２０の形成位置を除く主面１ｃ領域からの反射光が最も少なくなる角度に設定したことにより、識別マーク２０からの反射光が相対的に多くなり、識別マーク２０を鮮明に映し出した画像を容易に取得することができ、識別マーク２０が読み取り易くなるものである。
【００４３】
以上の実施形態では、照明ユニット１３のファイバー束１１の先端に、Ｐ偏光成分の光のみを透過する偏光板３０を設けたが、ＩＲカメラ１６と、ステージ２上に載置状態のウェハ１との間、例えば図１に鎖線で示したようにＩＲカメラ１６の前面に、Ｐ偏光成分の光のみを透過する偏光板３０を設けた構成としてもよい。この場合、照明ユニット１３からの入射角は前記実施形態と同様、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射でＰ偏光成分の光とＳ偏光成分の光との差が大きくなる入射角（５０〜８５度、好ましくは６０〜８０度、より好ましくは６５〜７５度）に設定される。
この場合は、図３に示すように、照明ユニット１３からは赤外光線が特に制限されることなく照射され、その赤外光線がウェハ１の主面１ｃにおいて反射されるが、この反射光は、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からはＳ偏光成分の光が強くなっている。これに対して識別マーク２０の部分からの反射光は、様々な方向に乱反射するため、Ｐ偏光成分の光とＳ偏光成分の光との差が大きくなる入射角とは異なる入射角での反射となる度合いが高くなり、Ｐ偏光成分の光の反射が多く現れる。図３には、照明ユニット１３からの赤外光線を実線矢印、偏光板を経由したＰ偏光成分の光を黒塗り矢印、Ｓ偏光成分の光を白抜き矢印で模式的に示している。
これらの反射光の中から偏光板３０によってＰ偏光成分の光のみを透過させてＩＲカメラ１６に受光させることにより、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射光は少なく、識別マーク２０の部分からの反射光が相対的に多く受光されることになる。したがって、Ｓ／Ｎ比を高くした状態で撮像され、識別マーク２０を鮮明に映し出した画像を容易に取得することができ、識別マーク２０が読み取り易くなるのである。
【００４４】
このように、偏光板３０を照明ユニット側に設けた図２に示す例では、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域での反射を少なくするようにしており、一方、偏光板をＩＲカメラ１６側に設けた図３に示す例では、その主面１ｃ領域からの反射は多くなるものの、その反射光のＩＲカメラ１６での受光を少なくするようにしたものであり、いずれの場合も、当該主面１ｃ領域よりも識別マーク２０の結像を強くして、該識別マーク２０を鮮明に映し出すことができる。
【００４５】
さらに、照明ユニット１３とＩＲカメラ１６との両方に偏光板３０を設置してもよく、その場合は、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域での反射自体を少なくしつつ、その主面１ｃ領域からの受光をも少なくすることができ、より鮮明に識別マーク２０を映し出すことができる。
この場合、照射ユニット１３に設置される偏光板と、ＩＲカメラ１６に設置される偏光板とは、前者の偏光板が、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域での反射を少なくし、後者の偏光板が、その主面１ｃ領域からの受光を少なくするという、それぞれの機能を発揮することができるものであれば、必ずしも同じ偏光特性のものでなくてもよく、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射光の偏光方向とは異なる偏光方向で、識別マーク２０の部分からの反射光の偏光方向の光を選択して受光できる組み合わせであればよい。
【００４６】
図９は第２実施形態の読取装置を示している。この実施形態の読取装置Ｂは、照明ユニットが二つ設置されている。この実施形態の読取装置Ｂの場合も、二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂのそれぞれに偏光板３０を設置してもよいし、ＩＲカメラに偏光板を設置してもよい。また、そのすべてに偏光板を設置してもよい。
これら二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂの光軸Ｒ１，Ｒ２は、図８に矢印で示したように、ウェハ１の主面１ｃに沿う面内において互いに鈍角若しくは直角に交差していればよい。具体的には、ウェハ１の主面１ｃに沿う面内において互いに交差する二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂの光軸Ｒ１，Ｒ２の光軸間角度φ１を、９０〜１７０度、好ましくは１２０〜１６０度、より好ましくは１５０度とする。すなわち、二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂの光軸Ｒ１，Ｒ２は、ウェハ１の主面１ｃに沿う面内において互いに鈍角に交差することがより好ましい。ＩＲカメラ１６は、二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂからの正反射光を受光しないように設置すればよく、例えばウェハ１の主面１ｃに垂直方向となるように向けて設置される。
【００４７】
この実施形態の読取装置Ｂにおいては、二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂから異なる方向で赤外光線を出射するので、例えば図８に示すように、識別マーク２０が細長い線状部分を有している場合などに、その線状部分の認識を容易にすることができる。
すなわち、主面１ｃに沿う面内において、線状部分の長手方向と一の照明ユニットから照射される一の赤外光線の光軸方向とが一致している場合、または、これらの傾斜角度が小さい（例えば４５度以下）場合には、線状部分のうち一の赤外光線に照射されないドットの数が多くなる。このため、一の赤外光線だけでは、線状部分の一部が画像に写し出されなくなり、線状部分の撮像が不十分となる。
【００４８】
しかしながら、この読取装置Ｂにおいては、他の照射ユニットから照射される他の赤外光線の光軸が、ウェハ１の主面１ｃに沿う面内において一の赤外光線に対して直角もしくは鈍角に交差するため、主面１ｃに沿う面内においては、線状部分の長手方向と他の赤外光線の光軸方向とが直交する、若しくは、これらの傾斜角度が大きく（例えば４５度以上と）なる。したがって、線状部分のうち赤外光線が照射しないドットの数を少なくできるため、線状部分全体を鮮明に画像に写し出すことが可能となる。
これら二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂからの入射角は、同一でもよいし異なっていてもよいが、異なっていた方が、凹凸の深さ、形状、表面の反射率、粗さや荒れ具合等が異なる様々な識別マークに対応することが可能である。
また、これら二つの照明ユニット１３Ａ，１３Ｂからの出射光の波長も同一でもよいし異なっていてもよいが、入射角の場合と同様、異なっていた方が、凹凸の深さ、形状、表面の反射率、粗さや荒れ具合等が異なる様々な識別マークに対応することが可能である。
そして、この読取装置Ｂにおいても、偏光板３０によって識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射光の偏光方向とは異なる偏光方向で、識別マーク２０の部分からの反射光の偏光方向の光を選択して受光することにより、この識別マーク２０が読み取り易くなるものである。
【００４９】
図１０は第３実施形態の読取装置を示している。この実施形態の読取装置Ｃでは、照明ユニットを三つ設置している。
この読取装置Ｃのように、照明ユニット１３Ａ〜１３Ｃを三つ設置する場合、少なくとも二つの照明ユニットの光軸間角度（例えば照明ユニット１３Ａ，１３Ｂの光軸Ｒ１，Ｒ２間の角度）が上記実施形態と同様に鈍角若しく直角となっていればよく、この二つの照明ユニットを除く他の照明ユニットの光軸（例えば照明ユニット１３Ｃの光軸Ｒ３）については、自身以外の照明ユニットに対する光軸間角度を鋭角若しくは０度としてもよい。なお、例えば三つの照明ユニットの各光軸間角度がそれぞれ鈍角となっていてもよい。
この読取装置Ｃにおいても、三つの照明ユニット１３Ａ〜１３Ｃのそれぞれに偏光板３０を設置してもよいし、ＩＲカメラ１６に偏光板３０を設置してもよい。また、そのすべてに偏光板３０を設置してもよい。
【００５０】
図１１は第４実施形態の読取装置を示している。
この実施形態の読取装置Ｄでは、今までの実施形態のように照明ユニット又はＩＲカメラに偏光板を設けるのではなく、ウェハ１を支持するステージ４０を石英ガラス等の透明材料によって構成し、このステージ４０の裏面に偏光板３１を貼り付けた構成とされている。
したがって、照明ユニット１３Ａ，１３Ｂからの赤外光線は偏光板３１を経由してウェハ１の主面１ｃに到達し、その反射光も再度同一の偏光板３１を経由した後にＩＲカメラ１６に受光されることになり、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域での反射を少なくしつつ、その主面１ｃ領域からの受光も少なくして、識別マーク２０を鮮明に映し出すことができる。
そして、この図１１に示すように複数の照明ユニット１３Ａ，１３Ｂを有する場合、第２実施形態から第３実施形態のように各照明ユニット１３Ａ，１３Ｂに偏光板を設置する場合に比べて偏光板の位置や向き等の調整をする必要がなく、作業性が良い。
【００５１】
なお、ステージ４０を透明材料によって構成したことから、第１〜第３実施形態の場合には必要であった凹状部２ｈは不要になる。もちろん、これら各実施形態においても、透明材料のステージに代えてもよい。このように透明材料のステージ４０を用いたことにより、凹状部２ｈが不要となるため、ウェハ１の主面１ｃに対する各照明ユニット１３Ａ，１３Ｂの光軸Ｒ１，Ｒ２の角度やＩＲカメラ１６の光学系の光軸の角度が凹状部２ｈによって規制されることがなく、これらの光軸を幅広い角度範囲にわたって設定可能となり、その設計の自由度が向上する。また、透明材料のステージ４０であるから、識別マーク２０がウェハ１の主面１ｃのいずれの位置に形成されていたとしても、これを読み取ることが可能となる。
【００５２】
図１２は第５実施形態の読取装置を示している。
この実施形態の読取装置Ｅは、ステージ２、照明ユニット１３、撮像ユニット（ＩＲカメラ）１６は図１に示す実施形態の読取装置Ａと同様であるが、赤外光線の透過を制限する光透過制限手段として、偏光板ではなくマイクロルーバーフィルム３２を用い、これをＩＲカメラ１６の前面に配置した構成とされている。マイクロルーバーフィルム３２は、微細なルーバーを有するフィルムをカバーフィルムでラミネートしてなるものであり、そのルーバーの角度、間隔、フィルムの厚みによって透過光の方向を制御することができるものである。
【００５３】
この実施形態の場合、マイクロルーバーフィルム３２は、ほぼ厚さ方向に入射する光を透過し、これよりずれた角度で入射する光を遮断する構成とされている。また、照明ユニット１３からの赤外光線の光軸は、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域、つまり主面１ｃの平坦面に対して傾斜させられている。つまり入射角が大きく設定されている。そして、その主面１ｃの平坦面からの正反射方向からずれた位置、この実施形態の場合は主面１ｃの平坦面に垂直方向に向かう位置にＩＲカメラ１６が設置され、そのＩＲカメラ１６の前面にマイクロルーバーフィルム３２が設けられている。
すなわち、照明ユニット１３から照射された赤外光線は、ウェハ１の主面１ｃにおいて反射し、その反射光のうちマイクロルーバーフィルム３２を透過した光がＩＲカメラ１６に受光される。このとき、主面１ｃの平坦面からの正反射光からずれた位置にＩＲカメラ１６が設置されているので、この正反射光を受光することはなく、しかも主面１ｃから垂直方向に反射する光がマイクロルーバーフィルム３２を透過してＩＲカメラ１６に受光される。したがって、識別マーク２０の形成位置を除くウェハ１の主面１ｃ領域からの反射光は少なく、識別マーク２０の部分からの反射光が相対的に多く受光されることになる。したがって、識別マーク２０を鮮明に映し出した画像を容易に取得することができ、識別マーク２０が読み取り易くなるのである。
【００５４】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
例えば、本発明の光透過制限手段としての偏光板やマイクロルーバーフィルムの設置位置は、各実施形態の例に限らず、ステージの厚さ方向の途中位置に設けてもよい。照明側に設置する場合は、照明ユニットからステージのウェハ支持部までの間のいずれかの位置に設置すればよく、受光側に設置する場合は、ステージのウェハ支持部から撮像ユニットまでの間のいずれかの位置に設置すればよい。
また、光透過制限手段として偏光板とマイクロルーバーフィルムの例を個別に示したが、これらを組み合わせて用いてもよく、例えば、照明ユニット側に偏光板を設けて、ＩＲカメラにマイクロルーバーフィルムを設ける構成としてもよい。その場合、さらにＩＲカメラにマイクロルーバーフィルムと偏光板との両方を設ける構成としてもよい。
【００５５】
また、読取装置は、ステージ部２と第１撮像部３と第２撮像部４と第１収納ケース載置台６と第２収納ケース載置台８と搬送部９とから構成されるとしたが、少なくとも第２撮像部４を備えていればよい。すなわち、半導体装置の製造工程内に設けられた例えば外観検査装置など他の装置に第２撮像部４を設け、外観検査装置などの既存のステージ部や搬送部、収納ケース載置台を利用しつつ外観検査などを行う際にウェハ１の識別マーク２０の読み取りが行われてもよい。
【００５６】
また、第１撮像部３は、ウェハ１の位置を特定するとしたが、例えば取得した画像を外観検査に用いたり、樹脂層１ｈが形成される前のウェハ１の識別マーク２０を読み取るために使用してもよい。
さらに、ＩＲ光源１０から出射される赤外光線の波長が１１００ｎｍ以上、８０００ｎｍ以下であるものとして説明を行なったが、赤外領域の光線であればその波長が限定される必要はない。
さらに、ウェハ１は、多結晶や単結晶のシリコンで形成されているものとしたが、ウェハ１はシリコンに限定される必要のないものである。
【００５７】
また、本発明は、例えばウェハ１の裏面１ｂにダイシングテープが貼り付けられていたり、ダイシング後のウェハ１がダイシングテープで保持されているウェハ１に対しても、複数の照明ユニットから出射した赤外光線を、ダイシングテープを透過させて主面１ｃに形成された識別マーク２０を読み取ることも可能である。
さらに、ウェハ１に形成された識別マーク２０の各ドットの径が２０〜５００μｍ程度のものであるとしたが、本発明は、このドット径よりも小さい径で形成された識別マーク２０を読み取ることも充分に可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】この発明の一実施形態に係る識別マークの読取装置を構成する照明ユニット及びＩＲカメラとウェハとの位置関係を示す図である。
【図２】図１に示す読取装置において、照明ユニットに偏光板を設置した状態でウェハに向けて照射した赤外光線とその反射光との関係を示す図である。
【図３】図１に示す読取装置において、ＩＲカメラに偏光板を設置した状態で照明ユニットからウェハに向けて照射した赤外光線とその反射光の受光との関係を示す図である。
【図４】図１の照明ユニット及びＩＲカメラを備える識別マークの読取装置の全体構成を示す図である。
【図５】図４の側面図である。
【図６】図４の識別マークの読取装置に使用するウェハの一例を示す図である。
【図７】図６のウェハの拡大断面図である。
【図８】図６のウェハに形成されている識別マークの一部を示す拡大平面図である。
【図９】この発明の第２実施形態に係る識別マークの読取装置を構成する照明ユニット及びＩＲカメラとウェハとの位置関係を示す図である。
【図１０】この発明の第３実施形態に係る識別マークの読取装置を構成する照明ユニット及びＩＲカメラとウェハとの位置関係を示す図である。
【図１１】この発明の第４実施形態に係る識別マークの読取装置を構成する照明ユニット及びＩＲカメラとウェハとの位置関係を示す図である。
【図１２】この発明の第５実施形態に係る識別マークの読取装置を構成する照明ユニット及びＩＲカメラとウェハとの位置関係を示す図である。
【符号の説明】
【００５９】
１…ウェハ、１ｂ…裏面、１ｃ…主面、１ｈ…樹脂層、２…ステージ部、４…第２撮像部、１０…ＩＲ光源（光源）、１１…ファイバー束、１３Ａ〜１３Ｅ…照明ユニット、１４…レンズ、１５…撮像素子、１６…ＩＲカメラ（撮像ユニット）、２０…識別マーク、３０，３１…偏光板（光透過制限手段）、３２…マイクロルーバーフィルム（光透過制限手段）、４０…ステージ、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ…識別マークの読取装置、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３…照明ユニットの光軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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