(57)【要約】【課題】製造工程が簡単であり、安価に電磁波シールド材を製造することができる電磁波シールド材およびその製造方法、ならびに表示装置用フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明による電磁波シールド材２０は、透明基材２１と、メッシュ状の金属層２２と、金属めっき層２３とを備えている。この電磁波シールド材２０を製造する場合、まず透明基材２１を準備し、この透明基材２１上に、マスク蒸着により、一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層２２Ａを形成する。次に、透明基材２１上に、マスク蒸着により、一方向と異なる方向の他方向に並ぶ直線状の多数の第２直線状金属層２２Ｂを形成し、これら第１直線状金属層２２Ａと第２直線状金属層２２Ｂとによってメッシュ状金属層２２を形成する。【選択図】図３
2009027076.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、透明基材上に設けられたメッシュ状金属層とを有する表示装置用フィルタ用の電磁波シールド材を製造する電磁波シールド材の製造方法において、
透明基材を準備する工程と、
透明基材上に、マスク蒸着により、一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層を形成する工程と、
透明基材上に、マスク蒸着により、一方向と異なる方向の他方向に並ぶ直線状の多数の第２直線状金属層を形成し、第１直線状金属層と第２直線状金属層とによってメッシュ状金属層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２】
メッシュ状金属層上に、電解めっきにより金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３】
メッシュ状金属層を形成する工程において、第２直線状金属層は第１直線状金属層と直交して形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波シールド材の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波シールド材の製造方法によって電磁波シールド材を得る工程と、
電磁波シールド材上に近赤外線カット層を設ける工程と、
近赤外線カット層上に反射防止フィルムを設ける工程と、を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波シールド材の製造方法によって製造された電磁波シールド材。
【請求項６】
請求項４に記載の表示装置用フィルタの製造方法によって製造された表示装置用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置の前面に配置され、表示装置から発生される電磁波を遮蔽する機能（電磁波遮蔽機能）を有する電磁波シールド材の製造方法、およびこのような電磁波シールド材の製造方法によって製造された電磁波シールド材に関する。また本発明は、このような電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特開２００３−２５８４８５号公報
【特許文献２】特開２００３−２５８４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の電磁波シールド材の製造方法について、図７（ａ）〜（ｆ）を用いて述べる。まず図７（ａ）に示すように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる透明基材３１上に銅箔をラミネートすることにより、透明基材３１と銅層３２とを有する銅箔ラミネート基材３０を作成する。
【０００４】
次に、銅箔ラミネート基材３０の銅層３２上にレジスト樹脂を塗布して乾燥し、レジスト層３３を形成する（図７（ｂ））。次いでレジスト層３３上にフォトマスクを介して紫外線を照射して露光し（図７（ｃ））、これにより銅層３２上に所望のパターン状のレジスト層３３Ａを形成する（図７（ｄ））。
【０００５】
次にパターン状のレジスト層３３Ａをマスクとして、銅層３２をエッチング除去する（図７（ｅ））。その後レジスト層３３Ａを除去することにより、透明基材３１とパターン状の銅層３２Ａとからなる電磁波シールド材３４を作成する（図７（ｆ））。
【０００６】
しかしながら、このような方法で電磁波シールド材３４を製造する場合、レジスト層３３をマスク露光する工程（図７（ｃ））および銅層３２をエッチング除去する工程（図７（ｄ））が必要とされるため、プロセスが複雑であるとともに高い製造コストがかかっている。また銅箔ラミネート基材３０を作成する工程（図７（ａ））にも高い製造コストがかかるため、銅箔ラミネート基材３０自体の価格も高価である。このため電磁波シールド材３４の製造コストを引き下げることが望まれている。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、製造工程が簡単であり、安価に電磁波シールド材を製造することができる電磁波シールド材の製造方法およびこのような製造方法により製造された電磁波シールド材、ならびにこのような電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、透明基材と、透明基材上に設けられたメッシュ状金属層とを有する表示装置用フィルタ用の電磁波シールド材を製造する電磁波シールド材の製造方法において、透明基材を準備する工程と、透明基材上に、マスク蒸着により、一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層を形成する工程と、透明基材上に、マスク蒸着により、一方向と異なる方向の他方向に並ぶ直線状の多数の第２直線状金属層を形成し、第１直線状金属層と第２直線状金属層とによってメッシュ状金属層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【０００９】
本発明は、メッシュ状金属層上に、電解めっきにより金属めっき層を形成する工程を更に備えたことを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１０】
本発明は、メッシュ状金属層を形成する工程において、第２直線状金属層は第１直線状金属層と直交して形成されることを特徴とする電磁波シールド材の製造方法である。
【００１１】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法によって電磁波シールド材を得る工程と、電磁波シールド材上に近赤外線カット層を設ける工程と、近赤外線カット層上に反射防止フィルムを設ける工程と、を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法である。
【００１２】
本発明は、電磁波シールド材の製造方法によって製造された電磁波シールド材である。
【００１３】
本発明は、表示装置用フィルタの製造方法によって製造された表示装置用フィルタである。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように本発明によれば、電磁波シールド材を製造する際、マスク露光する工程や銅層をエッチング除去する工程が必要ない。また、予め銅箔ラミネート基材を準備する必要もない。このため電磁波シールド材を製造する工程を簡略化することができ、電磁波シールド材およびこのような電磁波シールド材を有する表示装置用フィルタの製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１は、本発明の一実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図であり、図２は、本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタを示す構成図である。図３は、本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図であり、図４は、真空蒸着装置を示す図である。図５は、真空蒸着に用いられるマスクを示す図であり、図６は、本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタの製造方法を示す構成図である。
【００１６】
電磁波シールド材の構成
まず、図１により本実施の形態による電磁波シールド材について説明する。
【００１７】
図１に示すように、電磁波シールド材２０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものである。この電磁波シールド材２０は、透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の金属層２２と、金属層２２上に設けられた金属めっき層２３とを備えている。
【００１８】
このうち透明基材２１としては、ＰＥＴ製フィルムのほか、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいはガラス板等を用いることができる。透明基材２１を構成するプラスチックフィルムは、高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが望ましい。
【００１９】
一方、メッシュ状の金属層２２を構成する金属の材質としては例えば、銅、アルミニウム、錫、ニッケル、クロム、銀、モリブデン、タングステンなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００２０】
また金属層２２は、厚さが０．５μｍ乃至２μｍとなっている。金属層２２の厚さが薄すぎると金属層２２の導電性が不足し、電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果が低くなるので好ましくない。他方、金属層２２は、蒸着により形成されるので概ね２μｍ以上の厚さにすることはむずかしい。なお、金属層２２の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様形状であってもよい。
【００２１】
金属めっき層２３を構成する金属の材質としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、錫、クロム、銀、モリブデン、タングステンなどが挙げられ、金属層２２上に電解めっきにより形成することができる金属であれば良い。
【００２２】
この金属めっき層２３は、厚さが１μｍ乃至１００μｍとなっている。金属めっき層２３は、金属層２２の厚さが薄いために金属層２２の導電性が不十分となる場合に設けられる。したがって、必要とされる電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果に応じてその厚さを設定すれば良い。金属層２２のみで電磁波シールド材２０の電磁波遮蔽効果が十分に得られる場合は、金属めっき層２３を設けなくても良い。
【００２３】
表示装置用フィルタの構成
次に、図２により本実施の形態による表示装置用フィルタについて説明する。
【００２４】
図２に示すように、本実施の形態による表示装置用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）２５等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００２５】
このような表示装置用フィルタ１０は、電磁波シールド材２０と、電磁波シールド材２０上に設けられた粘着材層１３と、粘着材層１３上に設けられた近赤外線カット層１５と、近赤外線カット層１５上に設けられた反射防止フィルム１７とを備えている。
【００２６】
このうち粘着材層１３は、ＰＤＰ２５から放出されるネオン光をカットする機能（ネオンカット機能）を有している。この粘着材層１３は、粘着性を有するアクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれたネオン吸収色素とを有している。このうちネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。このようなネオン吸収色素としては、シアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００２７】
また粘着材層１３を構成する樹脂としては、アクリル樹脂のほか、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、またはポリウレタンエステル系等の接着剤、あるいは、主成分としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、または２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された樹脂が挙げられる。なお、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタアクリレートの双方を意味する。粘着材層１３を形成するにあたっては、必要に応じて、その原料にイソシアネート系、ポリチオール系、イミド系等の硬化剤を含有させることができる。
【００２８】
また粘着材層１３に色調補正色素または色調補正顔料を更に添加しても良い。これにより、ＰＤＰ２５からの映像光の色再現範囲を増加させ、画面の鮮明度を向上させることができる。なお、このような色調補正色素または色調補正顔料としては、例えばアントラキノン系、シアニン系、アゾ系、ストリル系、フタロシアニン系、メチン系などの有機色素を含むものを用いることができる。
【００２９】
近赤外線カット層１５は、ＰＤＰ２５から放出される近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）をカットする機能（近赤外線カット機能）を有している。この近赤外線カット層１５は、アクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれた近赤外線吸収色素を有している。このうち近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。このような近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物が挙げられる。
【００３０】
また近赤外線カット層１５を構成する樹脂としては、アクリル樹脂のほか、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。
【００３１】
他方、反射防止フィルム１７は、外部からの紫外線を吸収して近赤外線カット層１５を保護する紫外線カット基材１６と、紫外線カット基材１６上に設けられた反射防止層１４とを有している。
【００３２】
このうち紫外線カット基材１６としては、透明基材中に紫外線吸収剤を含有したものが用いられる。透明基材としては、上述した透明基材２１の材料として列挙したものと同様のものを用いることができる。また紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、ベンゾエート系等の有機系紫外線吸収剤や、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等の無機系紫外線吸収剤が挙げられる。あるいは、紫外線カット基材１６は、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エチレンービニルアルコール系共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル系共重合樹脂等のバインダー樹脂に上述した紫外線吸収剤を含有させたものを、透明基材上に塗布することにより形成しても良い。
【００３３】
また、反射防止層１４は空気と表示装置用フィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ２５表面の反射を防止するものである。この反射防止層１４は光学薄膜を積層することにより構成される。なお、反射防止層１４の代わりに、表面に凹凸をつけて外光を散乱させるぎらつき防止層を設けてもよい。
【００３４】
なお、表示装置用フィルタ１０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ２５からの映像のコントラストを高める光学機能層（ＣＲＦ層）を任意的に有していても良い。
【００３５】
また図１において、電磁波シールド材２０上に粘着性をもつアクリル樹脂等からなる粘着材層２４が設けられている。この粘着材層２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００３６】
なお、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ２５の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を粘着材層２４を介してＰＤＰ２５の前面に接着させる方法のほか、ガラス、フィルム等からなる支持用基材を有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材とＰＤＰ２５とを接着させても良い。また支持用基材を有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材がＰＤＰ２５側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ２５に固定しても良い。さらにまた支持用基材を有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ２５との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ２５に固定しても良い。
【００３７】
電磁波シールド材の製造方法
次に、図１に示す電磁波シールド材２０の製造方法について、図３（ａ）〜（ｄ）、図４、および図５（ａ）（ｂ）により説明する。
【００３８】
まず図３（ａ）に示すように、透明基材２１を準備する。次に、透明基材２１上に、マスク蒸着により、一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層２２Ａを形成する（図３（ｂ））。
【００３９】
この一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層２２Ａは、図４に示すような真空蒸着装置４０により形成される。この際、まず巻出し軸４２とこの巻出し軸４２に巻装された透明基材２１とからなる巻出しロール４４を準備し、この巻出しロール４４を真空蒸着装置４０の容器４１内に設置する。また透明基材２１の一端を巻取り軸４３に固定する。
【００４０】
次に、容器４１内を真空状態（圧力が１０-2Ｐａ以下）とし、例えば、銅、アルミニウム、錫、ニッケル、クロム、銀、モリブデン、タングステン等からなる金属（蒸発材料）４５を加熱して気化させる。この場合、金属４５を加熱する方法として、抵抗加熱、高周波誘導加熱、エレクトロンビーム加熱等の方法を用いることができる。次に、気化された金属４５は、マスク４６の孔４６ａ内を通過して透明基材２１に達し、このようにして透明基材２１上で孔４６ａに対応する形状からなる第１直線状金属層２２Ａが形成される。なお、このようなマスク４６としては、図５（ａ）に示すように、一方向に並ぶ直線状の多数の孔４６ａが形成されたものが用いられる。
【００４１】
その後、透明基材２１は、巻取り軸４３により一定量だけ巻取られ、巻出しロール４４から透明基材２１が繰り出される。次に、上述した方法と同様にして、この透明基材２１上にマスク蒸着により第１直線状金属層２２Ａが形成される。このようにして透明基材２１が間欠送りされ、順次透明基材２１上に金属４５が蒸着されることにより、帯状の透明基材２１全体上に第１直線状金属層２２Ａが形成される。
【００４２】
次いで、透明基材２１上に、マスク蒸着により、第１直線状金属層２２Ａの方向（一方向）と異なる方向（他方向）に並ぶ直線状の多数の第２直線状金属層２２Ｂを形成する。これにより、第１直線状金属層２２Ａと第２直線状金属層２２Ｂとからなるメッシュ状金属層２２が形成される（図３（ｃ））。なお、このようにして透明基材２１上に第２直線状金属層２２Ｂを形成する方法は、上述したように透明基材２１上に第１直線状金属層２２Ａを形成する方法と同様であり、図４に示す真空蒸着装置４０が用いられる。この場合、マスク４６としては、図５（ｂ）に示すように、第１直線状金属層２２Ａの方向（一方向）と異なる方向（他方向）に並ぶ直線状の多数の孔４６ａが形成されたものが用いられる。
【００４３】
なお、この際メッシュ状金属層２２を構成する第２直線状金属層２２Ｂと第１直線状金属層２２Ａとは、互いに直交するように形成されることが好ましい。
【００４４】
その後、メッシュ状金属層２２上に、電解めっきにより例えば銅、アルミニウム、錫、ニッケル等からなる金属めっき層２３を形成する（図３（ｄ））。なお、このようにして金属めっき層２３を形成する工程は、上述したように、金属層２２の厚さが薄いために金属層２２の導電性が不十分である場合に行なえば良い。
【００４５】
表示装置用フィルタの製造方法
次に表示装置用フィルタの製造方法について、図３（ａ）〜（ｄ）、図６（ａ）〜（ｃ）により説明する。
【００４６】
はじめに図３（ａ）〜（ｄ）に示す工程により、透明基材２１と、透明基材２１上に設けられたメッシュ状の金属層２２と、金属層２２上に設けられた金属めっき層２３とを有する電磁波シールド材２０を作成する（図６（ａ））。
【００４７】
次に、電磁波シールド材２０上に粘着材層１３を介して近赤外線カット層１５を設ける（図６（ｂ））。この場合、近赤外線カット層１５はスピンコート、ディップコート、ダイコート等の湿式法、あるいは蒸着等の乾式法により設けられる。
【００４８】
次いで、近赤外線カット層１５上に、紫外線カット基材１６と反射防止層１４とを有する反射防止フィルム１７を設け、電磁波シールド材２０上に粘着材層２４を設けることにより、図２に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図６（ｃ））。
【００４９】
その後、表示装置用フィルタ１０は、粘着材層２４を介してＰＤＰ２５の前面に接着される。
【００５０】
なお、各層間のいずれかに、ＰＤＰ２５からの映像のコントラストを高める光学機能層を更に設けても良い。
【００５１】
このように本実施の形態によれば、電磁波シールド材２０を製造する際、マスク露光する工程や銅層をエッチング除去する工程が必要ない。また、予め銅箔ラミネート基材を準備する必要もない。このため電磁波シールド材２０を製造する工程を簡略化することができ、電磁波シールド材２０およびこのような電磁波シールド材２０を有する表示装置用フィルタ１０の製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材を示す構成図。
【図２】本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタを示す構成図。
【図３】本発明の一実施の形態による電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【図４】真空蒸着装置を示す図。
【図５】真空蒸着に用いられるマスクを示す図。
【図６】本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタの製造方法を示す構成図。
【図７】従来の電磁波シールド材の製造方法を示す構成図。
【符号の説明】
【００５３】
１０    表示装置用フィルタ
１３    粘着材層
１４    反射防止層
１５    近赤外線カット層
１６    紫外線カット基材
１７    反射防止フィルム
２０    電磁波シールド材
２１    透明基材
２２    金属層
２３    金属めっき層
２４    粘着材層
２５    ＰＤＰ
４０    真空蒸着装置
【図１】
2009027076.tif 000003
【図２】
2009027076.tif 000004
【図３】
2009027076.tif 000005
【図４】
2009027076.tif 000006
【図５】
2009027076.tif 000007
【図６】
2009027076.tif 000008
【図７】
2009027076.tif 000009