(57)【要約】【課題】光電変換効率に優れた太陽電池を得るための太陽電池用基板を提供すること。【解決手段】ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が以下の条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足することを特徴とする太陽電池用基板。（Ａ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角の視野で電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察した際に、径が１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。（Ｂ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角で原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）観察した際に、凹凸の最大落差が０．３μｍ以下であること。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が以下の条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足することを特徴とする太陽電池用基板。
（Ａ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角の視野で電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察した際に、径が１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。
（Ｂ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角で原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）観察した際に、凹凸の最大落差が０．３μｍ以下であること。
【請求項２】
ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が以下の条件（Ｃ）を満足することを特徴とする太陽電池用基板。
（Ｃ）基板（ａ）の厚み方向の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、テクスチャ層［II］のガラス板［Ｉ］と反対面の凹凸形状を測定した際に、テクスチャ層［II］の凸部と凹部の断面積が一致するように引かれたガラス面に対する平行線がテクスチャ層［II］の凹凸面形状曲線と交わる凹部側の２点間の距離をＬとした場合に、かかる距離Ｌが任意の１０μｍ間において１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。
【請求項３】
（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）の硬化前後の体積収縮率が６〜８％であることを特徴とする請求項１または２記載の太陽電池用基板。
【請求項４】
（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）の２３℃における粘度が５〜１０００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の太陽電池用基板。
【請求項５】
テクスチャ層［II］のガラス転移温度が２００℃以上であることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の太陽電池用基板。
【請求項６】
テクスチャ層［II］の厚さが、０．３〜３０μｍであることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の太陽電池用基板。
【請求項７】
テクスチャ層［II］の凹凸面の、測定範囲２μｍ角で測定点数２５６点における原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）測定によるＲＭＳ表面粗さが１０〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜６いずれか記載の太陽電池用基板。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか記載の太陽電池用基板を用いてなることを特徴とする太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス板上に凹凸を有するテクスチャ層が形成されてなる太陽電池用基板及び太陽電池に関するものであり、更に詳しくは、太陽電池として光電変換効率に優れた太陽電池用基板及びそれを用いた太陽電池に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、地球温暖化防止などの環境対策や、化石燃料代替などのエネルギー対策として、太陽電池が注目されている。通常、太陽電池は、基板の上に、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムスズなどの金属酸化物などよりなる透明電極、アモルファスシリコン、結晶シリコン、金属化合物などより選ばれる光電変換層、金、銀、銅、白金、パラジウム、アルミニウム、チタニウムなどより選ばれる裏面反射電極が、この順（スーパーストレート型と呼ばれる）もしくは逆順（サブストレート型と呼ばれる）で形成された構成が一般的である。これらの中でも特に、光電変換層にアモルファスシリコンを用いた太陽電池が、シリコンの省資源化や低コスト化の点で注目されている。
【０００３】
アモルファスシリコンを用いた太陽電池の製造プロセスとしては、ドライプロセスが一般的である。例えば、ガラス基板上に透明電極をスパッタ法によって成膜し、透明電極付き基板を作成した後、アモルファスシリコンをＣＶＤ法（化学気相成長法）により成膜し、さらに裏面反射電極をスパッタ法によって成膜するプロセスが用いられる。なお、これらのプロセスは通常２００℃以上に加熱して行われる。
【０００４】
また、かかる太陽電池においては、光電変換効率が重要であり、光電変換材料や変換効率に優れる成膜法が重要であるのは言うまでもないが、変換効率向上のためには、基板の表面（透明電極側）に波長オーダーの微細な凹凸を有するテクスチャ層を形成する技術が有効であることが知られている（例えば、特許文献１参照。）。このようなテクスチャ層を形成することにより、基板と光電変換層との境界である透明電極表面の形状が光を散乱しやすい構造となり、光電変換層における光の光路長が長くなる（一般的に光閉じこめ効果と言われる）。その結果、光を有効に活用できるため、太陽電池の光電変換効率が優れたものになる。
【０００５】
テクスチャ層の凹凸の程度は、一般的に表面粗さ（ＲＭＳ）で規定され、適度な表面粗さ（ＲＭＳ）に制御されている必要がある。表面粗さが小さすぎると光電変換効率が向上せず、逆に大きすぎると光電変換層のクラックなどを招くため好ましくない。
【０００６】
表面粗さを制御する手法としては、ガラス基板上に形成された金属酸化物よりなる透明電極の表面を微細な凹凸状に粗面化する手法が一般的である。現在では、ガラス基板上に金属酸化物を高温成膜する時に、金属酸化物の結晶成長を制御したり、一旦ガラス基板上に金属酸化物を成膜した後、エッチングすることによって適度な表面粗さを有するテクスチャを形成する手法が用いられている。
しかしながら、金属酸化物の結晶成長やエッチングの程度を制御することは困難で、安定的に同形状のテクスチャを生産するのが困難であった。
【０００７】
一方、ガラスやプラスチック基板にエンボス加工やグラビア印刷によってテクスチャを転写する手法も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
しかしながらこれらの方法であると、転写時に凹凸が正確に転写されず、テクスチャの欠陥部が多数存在するという問題があった。
【０００８】
さらに、ガラスやプラスチック基板上に光硬化性樹脂を用いてフォトプロセスにて樹脂テクスチャを形成する方法も提案されている（例えば、特許文献３）。
しかしながらこの方法であると、テクスチャ形状が矩形であるため、光閉じ込め効果があまり期待できないばかりか、加工コストが増大するという問題があった。
【０００９】
また、シリコンを含有するアルミニウムターゲットを用い、ガラスやプラスチック基板を５０〜２００℃に昇温してスパッタすることにより、テクスチャ構造を有するアルミニウム膜を得るという提案もされている（例えば、特許文献４参照。）。
しかしながら、この方法であるとテクスチャが自然に成長するため、意図した形状にならず、光閉じ込め効果が不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−２９８０８５号公報
【特許文献２】特開２００３−２９８０８６号公報
【特許文献３】特開２００３−２９８０８４号公報
【特許文献４】特許第３７９２２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明では、このような背景下において、テクスチャ層付き太陽電池用基板において、効率的な光閉じ込め効果が可能で、製造が簡便で、さらに同一の形状が安定的に生産でき、更に光電変換効率が非常に向上した太陽電池を得るための太陽電池用基板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
しかるに、本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、テクスチャ層［II］の凹凸面形状において特定形状の凹部が従来よりも少ないものとすることにより、光電変換効率に優れた太陽電池が得られることを見出し、本発明を完成した。
【００１３】
即ち、本発明の要旨は、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が以下の条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足する太陽電池用基板に関するものである。
（Ａ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角の視野で電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察した際に、径が１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。
（Ｂ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角で原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）観察した際に、凹凸の最大落差が０．３μｍ以下であること。
【００１４】
更に、本発明は、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が以下の条件（Ｃ）を満足する太陽電池用基板に関するものである。
（Ｃ）基板（ａ）の厚み方向の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、テクスチャ層［II］のガラス板［Ｉ］と反対面の凹凸形状を測定した際に、テクスチャ層［II］の凸部と凹部の断面積が一致するように引かれたガラス面に対する平行線がテクスチャ層［II］の凹凸面形状曲線と交わる凹部側の２点間の距離をＬとした場合に、かかる距離Ｌが任意の１０μｍ間において１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の太陽電池用基板は、精密に形状制御されたテクスチャ層を有し、光電変換効率に優れた効果を有するものであり、太陽電池用の基板として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の太陽電池用基板の原子間力顕微鏡観察を示す図である。
【図２】図２は、本発明の太陽電池用基板の断面の電子顕微鏡観察を示す図である。
【図３】図３は、本発明の太陽電池用基板の実施の形態の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明につき詳細に説明する。
なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称であり、「（メタ）アクリル」は、アクリルとメタクリルの総称である。
【００１８】
本発明の太陽電池用基板は、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板において、テクスチャ層［II］が、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成され、かつ、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が以下の条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足するものである。
（Ａ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角の視野で電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察した際に、径が１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。
（Ｂ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角で原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）観察した際に、凹凸の最大落差が０．３μｍ以下であること。
【００１９】
本発明で用いられるガラス板［Ｉ］としては、例えば、青板ガラス、白板強化ガラス、白板ガラスなどが挙げられる。これらの中でも、価格の点から青板ガラスがよく使われるが、透過率の点では白板ガラスの方が優れ、太陽電池最表層に用いられる場合は、強度の点から白板強化ガラスが主に用いられる。ガラス板［Ｉ］の厚さは、０．１〜１０ｍｍであることが好ましく、特には０．５〜８ｍｍ、更には１〜７ｍｍであることが好ましい。ガラス板［Ｉ］の厚みが薄すぎると、基板が破損する恐れがあり、厚すぎると太陽電池の軽量薄型化が困難となる傾向がある。
【００２０】
本発明におけるテクスチャ層［II］は、光電変換効率の点で、厚さが０．３〜３０μｍであることが好ましく、特には０．４〜２０μｍ、さらには０．５〜１０μｍであることが好ましい。かかるテクスチャ層［II］の厚みが薄すぎるとテクスチャ層の凹凸が十分に転写できず、光電変換効率の低下を招く傾向があり、厚すぎると太陽電池セル形成時にテクスチャ層からの揮発ガスが増加し、太陽電池の光電変換効率低下の原因となる傾向がある。
【００２１】
なお、本発明において、凹凸を有するテクスチャ層［II］の厚さとは、テクスチャ層［II］の厚さ方向における底面（ガラス面側）と凹凸面の凸部頂点との最大距離のことを意味するものである。
【００２２】
また、本発明におけるテクスチャ層［II］は、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を硬化してなる樹脂で形成されるものである。
（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）としては、例えば、多官能（メタ）アクリレート系化合物と光重合開始剤を含有するものであることが好ましく、必要に応じて更に単官能（メタ）アクリレート系化合物を含有するものであり、かかる光硬化性組成物を光硬化することによりテクスチャ層［II］が得られる。
【００２３】
かかる多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、２官能（メタ）アクリレート系化合物、３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。
【００２４】
２官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、エチレングリコール（２〜３０モル）変性ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール（２〜３０モル）変性ジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートジエステル等の脂肪族系化合物、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート、２，２−ビス[４−（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル]プロパン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）シクロヘキサン、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性水添ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性水添ビスフェノールＦ（２，２'−ジフェニルプロパン）型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性水添ビスフェノールＳ型ジ（メタ）アクリレート等の脂環式系化合物、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（２〜３０モル）変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性ビスフェノールＦ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性ビスフェノールＳ型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族系化合物が挙げられる。
【００２５】
３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（１〜３０モル）変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（１〜３０モル）変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の脂肪族系化合物、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン等の脂環式化合物が挙げられる。
【００２６】
更に、本発明では、多官能（メタ）アクリレート系化合物として、上記の他にも、多官能エポキシ（メタ）アクリレート系化合物、多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物、多官能ポリエステル（メタ）アクリレート系化合物、多官能ポリエーテル（メタ）アクリレート系化合物等も挙げられる。
【００２７】
これら上記の多官能（メタ）アクリレート系化合物の中でも、テクスチャ層［II］の耐熱性及び線膨張係数の点で、多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物や、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートが好ましく、更に、テクスチャ層［II］の硬化収縮が抑えられ、うねりが低減される点で、脂環式構造を有する多官能（メタ）アクリレート系化合物が好ましく、中でも特に、脂環式構造を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物やビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレートが好ましく、これらを併用することが特に好ましい。
【００２８】
本発明で好適に使用される多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ポリイソシアネート系化合物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物を、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させて得られるものであることが好ましい。
【００２９】
ポリイソシアネート系化合物の具体例としては、例えば、エチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族系ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン、ノルボルナンイソシアナトメチル、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）プロパン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの３量体化合物などの脂環構造を有するポリイソシアネート系化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香環を有するポリイソシアネート系化合物などが挙げられる。
【００３０】
水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００３１】
ポリイソシアネート系化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物との反応により得られる多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物は、２種以上混合して用いても良い。これらの反応物の中では、吸水率の点から、脂環骨格を有することが好ましく、また硬化速度の点からアクリレート系化合物がさらに好ましく、特に耐熱性と曲げ弾性率の観点から２〜９官能、特には２〜６官能が好ましい。
【００３２】
また本発明におけるテクスチャ層［II］を形成する光硬化性組成物は、硬化性を阻害しない程度に、単官能（メタ）アクリレート系化合物を添加しても良い。
【００３３】
単官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）クリレート、グリシジル（メタ）クリレート等の脂肪族系化合物、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、トリシクロデシルオキシメチル（メタ）アクリレート、トリシクロデシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシメチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート等の脂環式系化合物、ベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系化合物、単官能エポキシ（メタ）アクリレート系化合物、単官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物、単官能ポリエステル（メタ）アクリレート系化合物、単官能ポリエーテル（メタ）アクリレート系化合物等が挙げられる。
これらの単官能（メタ）アクリレート系化合物は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
これらの単官能（メタ）アクリレート系化合物は、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）１００重量部に対して、通常５０重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には３０重量部以下、特には２０重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、得られる成形体の耐熱性が低下する傾向がある。
【００３５】
本発明における（メタ）アクリル系光硬化性組成物を硬化させるに当たっては、光重合開始剤を用いることが好ましく、かかる光重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によってラジカルを発生し得るものであれば特に制限されず、各種の光重合開始剤を使用することができる。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュア６５１）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ダロキュア１１７３）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュア８１９）等が挙げられる。これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュア６５１）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ダロキュア１１７３）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュア８１９）などの光重合開始剤が特に好ましい。これらの光重合開始剤は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
これらの光重合開始剤は、（メタ）アクリレート系化合物（単官能（メタ）アクリレート系化合物を含有させる場合は多官能（メタ）アクリレート系化合物と単官能（メタ）アクリレート系化合物の合計）１００重量部に対して、通常０．１〜１０重量部の割合で使用されることが好ましく、更には０．２〜５重量部、特には０．２〜３重量部が好ましい。かかる使用量が少なすぎると重合速度が低下し、重合が十分に進行しない傾向があり、多すぎると得られるテクスチャ層［II］の光線透過率が低下（黄変）する傾向があり、また、機械強度が低下する傾向がある。
【００３７】
また、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用しても良い。
熱重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができ、例えば、ハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、ジｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等のパーオキシエステル、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。
【００３８】
また、本発明で用いられる（メタ）アクリル系光硬化性組成物には、上記の（メタ）アクリレート系化合物及び光重合開始剤の他に、適宜、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤、増粘剤、帯電防止剤、難燃剤、消泡剤、着色剤、離型剤、各種フィラーなどの補助成分を含有していても良い。
【００３９】
酸化防止剤は、高温工程中において、基板の色変化や機械強度の低下などの劣化を防ぐのに有用である。かかる酸化防止剤の具体例としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｓ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、ｎ−オクタデシル−β−（４'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、４，４−メチレン−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４'−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロキシヒドロシンナミド、Ｎ，Ｎ'−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、カルシウム（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）モノエチルフォスフォネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−２［３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアネート、テトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスファイト−ジエチルエステル等の化合物が挙げられ、これらの化合物は、単独または２種以上併用してもよい。これらの中でも、テトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンが、色相を抑制する効果が大きくなる点から特に好ましい。
【００４０】
紫外線吸収剤は、屋外での直射日光による太陽電池の劣化を防ぐのに有用である。かかる紫外線吸収剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系化合物に溶解するものであれば特に限定されず、各種紫外線吸収剤を使用することができる。具体的には、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、トリアゾール系、ヒドロキシベンゾエート系、シアノアクリレート系などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、（メタ）アクリレート系化合物との相溶性の点で、ベンゾフェノン系またはトリアゾール系、具体的には、（２−ヒドロキシ−４−オクチロキシ−フェニル）−フェニル−メタノン、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェノール等の紫外線吸収剤が好ましい。
【００４１】
紫外線吸収剤の含有割合は、（メタ）アクリレート系化合物（単官能（メタ）アクリレート系化合物を含有させる場合は多官能（メタ）アクリレート系化合物と単官能（メタ）アクリレート系化合物の合計）１００重量部に対して、通常０．００１〜１重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１重量部である。かかる紫外線吸収剤が少なすぎると太陽電池の耐光性が低下する傾向があり、多すぎると光硬化性組成物の硬化に時間がかかったり、十分な硬化ができない可能性がある。
【００４２】
レベリング剤は、凹凸を転写する際の転写精度の向上に有用である。かかるレベリング剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系化合物に溶解するものであればよく、各種レベリング剤を使用することができる。具体的には、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アクリル系重合物、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。これらのレベリング剤を複数組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、レベリング性の点でポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが好ましい。
【００４３】
レベリング剤の含有割合は、（メタ）アクリレート系化合物（単官能（メタ）アクリレート系化合物を含有させる場合は多官能（メタ）アクリレート系化合物と単官能（メタ）アクリレート系化合物の合計）１００重量部に対して、通常０．００１〜１重量部、好ましくは０．０１〜０．５重量部、特に好ましくは０．０５〜０．３重量部である。かかるレベリング剤が少なすぎるとレベリング性が得られない傾向があり、多すぎると光硬化性組成物の硬化が不十分になる傾向がある。
【００４４】
かくして得られる上記の（メタ）アクリル系光硬化性組成物に活性エネルギー線、好ましくは紫外線を照射することにより、光硬化して、テクスチャ層［II］を得るのである。
【００４５】
本発明においては、ガラス板［Ｉ］の上に、上記の（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を光硬化してなる凹凸を有するテクスチャ層［II］を形成し、ガラス板［Ｉ］及び凹凸を有するテクスチャ層［II］からなる積層体を形成する。
【００４６】
そして、本発明においては、積層体を有する太陽電池用基板において、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が、以下の条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足することが必要である。
（Ａ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角の視野で電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察した際に、径が１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。
（Ｂ）基板（ａ）のテクスチャ層［II］の凹凸面を１０μｍ角で原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）観察した際に、凹凸の最大落差が０．３μｍ以下であること。
【００４７】
本発明の太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）とは、太陽電池モジュールを構成する基板において、面方向の対角線の交点を中心に、面方向が１ｃｍ角の正方形となるように太陽電池用基板を切り出したものである。
そして、その切り出した基板の任意の凹凸面をＳＥＭとＡＦＭで、また切り出した基板の任意の断面をＳＥＭで観察する。ただし、切断によって太陽電池セルのテクスチャ層が欠落している基板の端部は観察の対象から除外される。
【００４８】
テクスチャ層［II］の凹凸面をＳＥＭにて観察する際は、テクスチャ層［II］に導電性を付与するために金属（例えば金）を蒸着した後、ＳＥＭステージに太陽電池用基板を載せ、ＳＥＭのステージを水平状態から４５度傾けた状態で真上から観察する。観察は真空中で行い、条件は、拡大倍率１万倍、加速電圧は通常１５ｋＶである。
【００４９】
得られたＳＥＭ画像において、任意の１０μｍ角を見た際に、通常ならば０．１〜１μｍ程度のピッチで凹凸が観察できるが、一部分にテクスチャの凹凸を有しない径が１．５μｍを超える凹状の欠陥部分（凹部）が観察されることがある。ここで言う径とは、凹部の長径と短径の平均の長さのことである。
この径が１．５μｍを超える凹部が２個以下であることが、光電変換効率向上の観点から必要であり、更には１．５μｍを超える凹部が１個以下であることが好ましく、特には０個であることが好ましい。
【００５０】
テクスチャ層［II］の凹凸面をＡＦＭにて観察する際は、任意の１０μｍ角を観察し、得られた凹凸面形状のうち、任意の１０μｍ間における凹凸の最大落差Ｈが０．３μｍ以下であることが、光電変換効率向上の観点から必要であり、更には０．２μｍ以下であることが好ましい（図１参照）。なお、凹凸の最大落差Ｈとは、凹凸面における隣り合う凹部の最下点と凸部の最頂点との最大高さのことである（図１のＨに相当する）。
【００５１】
また、本発明においては、積層体を有する太陽電池用基板において、太陽電池用基板の中央部の１ｃｍ角の基板（ａ）が、以下の条件（Ｃ）を満足することが好ましい。
（Ｃ）基板（ａ）の厚み方向の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、テクスチャ層［II］のガラス板［Ｉ］と反対面の凹凸形状を測定した際に、テクスチャ層［II］の凸部と凹部の断面積が一致するように引かれたガラス面に対する平行線がテクスチャ層［II］の凹凸面形状曲線と交わる凹部側の２点間の距離をＬとした場合に、かかる距離Ｌが任意の１０μｍ間において１．５μｍを超える凹部が２個以下であること。かかる凹部の個数は好ましくは１個以下、更に好ましくは０個である。
【００５２】
ここで、テクスチャ層［II］の凸部と凹部の断面積が一致するように引かれたガラス表面に対する平行線とは、図２に示すような平行線のことである。テクスチャ層［II］の凹凸面形状曲線(図２参照)と交わる凹部側の２点間の距離Ｌとは、図２に示すような距離Ｌのことである。
【００５３】
上記の特定形状の凹部が２個以下であるというのは、テクスチャ層が欠陥無く、均一に形成されており、光閉じ込めの効果が全面にわたって優れていると言うことを意味するものである。
上記の特定形状の凹部が多すぎると、光閉じ込めの性能が劣る傾向があり、光電変換効率が下がる原因となる傾向がある。
【００５４】
本発明において、上記条件（Ａ）を満足させる方法としては、例えば、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）における硬化前後の体積収縮率を６〜８％とする方法や、テクスチャ層［II］の厚みを薄くする方法等が挙げられる。中でも（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）における硬化前後の体積収縮率を６〜８％とする方法がテクスチャ層［II］とガラス板［Ｉ］との密着性の点で好ましい。体積収縮率の特に好ましい範囲は６．１〜７．５％、より好ましい範囲は６．２〜７％である。体積収縮率が大きすぎても、また小さすぎても、母型の微細な凹凸を再現性よく転写できない傾向にある。
【００５５】
以下その理由を説明する。
一般的に、液状の光硬化性組成物を用いて、支持体（母型）の凹凸形状を転写する場合には、硬化前後の体積収縮率ができるだけ小さい組成物を使用する。体積収縮率が大きい場合、組成物は硬化前には液体状態で支持体に接しているが、硬化中に収縮して支持体から剥離するため、形状の転写性に劣る傾向にあるためである。
【００５６】
しかし、太陽電池用のテクスチャ層の場合は、凹凸サイズが波長オーダーと非常に微細であるため、ある程度体積収縮率が大きくなければ、支持体から硬化物を脱型できない。脱型できても、支持体に硬化物が残って再使用が不可能となったり、基板側にテクスチャの欠損部が生じることとなる傾向がある。これらの現象は、界面（支持体／硬化物）の表面積が大きいため、支持体と硬化物の密着性が強固になるためと推測される。
【００５７】
脱型性を改良する手法として、支持体に凹凸形状を埋めない程度の剥離層を形成する手法が考えられるが、転写を繰り返した場合に剥離層が脱落するため、転写を繰り返すほど脱型性が低下する問題がある。また、光硬化性組成物に離型剤を添加する手法も考えられるが、硬化物とガラス基板の密着性が低下するため好ましくない。
【００５８】
上述した転写性と脱型性を両立させるために、光硬化性組成物の硬化前後の体積収縮率を適度な範囲に制御することが好ましい。本発明は、体積収縮率の制御により、精密かつ生産性よくテクスチャの転写成形を可能にすることができるのである。
【００５９】
本発明における体積収縮率（％）は、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）の比重（Ｄ１）と、その硬化物の比重（Ｄ２）を用いて、次式（１）により算出することができる。
体積収縮率（％）＝（１−Ｄ１／Ｄ２）×１００      ・・・・・（１）
なお、本発明における硬化物とは、（メタ）アクリロイル基の反応率が７０％以上の硬化物を意味する。
【００６０】
本発明において、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）の硬化前後の体積収縮率を６〜８％に制御する手法としては、体積収縮率が６〜８％である単一の（メタ）アクリル系化合物を用いる手法、複数の（メタ）アクリル系化合物を組み合わせる手法、フィラーを添加する手法、硬化する際の反応率を制御する手法などが挙げられる。これらの中でも、透明性の維持や耐熱性の維持の点から、硬化収縮率が６〜８％である単一の（メタ）アクリル系化合物を用いる手法や、複数の（メタ）アクリル系化合物を組み合わせる手法が好ましい。特に好ましくは、粘度の調整や耐熱性などの物性を調整できる点から、複数の（メタ）アクリル系化合物を組み合わせる手法である。
【００６１】
体積収縮率が６〜８％である単一の（メタ）アクリル系化合物としては、例えば、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜４モル）変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（１４モル）ジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、テクスチャ層の耐熱性の点から、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜４モル）変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートが好ましく、特には、粘度の点から、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６２】
複数の（メタ）アクリル系化合物を組み合わせる手法により体積収縮率を６〜８％に制御する場合に使用される（メタ）アクリル系化合物としては、例えば、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物などが挙げられる。これらの中でも、テクスチャ層の耐熱性の点から、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート、ウレタンジ（メタ）アクリレート系化合物が好ましく、特に、粘度の点から、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（２〜３０モル）変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６３】
複数の（メタ）アクリル系化合物を組み合わせる場合、各化合物の配合比は、組成物全体の硬化前後の体積収縮率が６〜８％になるように調整すればよい。
例えば、２つの化合物Ａ（硬化前後の体積収縮率Ｘａ、配合比Ｙａ）とＢ（硬化前後の体積収縮率Ｘｂ、配合比Ｙｂ）を組み合わせた場合、組成物全体の硬化前後の体積収縮率Ｘｔはほぼ次式（２）で計算される。
Ｘｔ＝Ｘａ×Ｙａ＋Ｘｂ×Ｙｂ  （Ｙａ＋Ｙｂ＝１）      ・・・・・（２）
化合物Ａの硬化前後の体積収縮率が３％、化合物Ｂの硬化前後の体積収縮率が１１％で、５０重量％ずつ配合すれば、約７％の体積収縮率を有する光硬化性組成物が得られる。
【００６４】
本発明における（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）の２３℃における粘度は、５〜１０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは、１０〜５００ｍＰａ・ｓ、更に好ましくは２０〜３００ｍＰａ・ｓである。かかる粘度が低すぎると脱型性が低下する傾向にあり、高すぎると転写性に劣る傾向がある。
【００６５】
かくして得られた上記の（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）に活性エネルギー線、好ましくは紫外線を照射することにより、光硬化して、テクスチャ層［II］を得るのである。
【００６６】
本発明においては、ガラス板［Ｉ］の上に、上記の（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を光硬化してなる樹脂よりなるテクスチャ層［II］を形成し、ガラス板［Ｉ］及びテクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板を製造する。
【００６７】
ここで、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を光硬化してテクスチャ層［II］を形成することにより、溶液を用いるグラビア印刷方式やフォトプロセスによる矩形パターン形成のような転写欠陥を生ずる懸念もない。光硬化でテクスチャ層［II］を形成することで、極めて高い精度でテクスチャ層を形成できるだけでなく、工程が単純化されるのである。
【００６８】
上記ガラス板［Ｉ］及びテクスチャ層［II］からなる積層体を有する基板を得るに当たっては、測定範囲２μｍ角で測定点数２５６点における原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）測定による表面粗さ（ＲＭＳ）として１０〜３００ｎｍの微細な凹凸を有する支持体（母型）上に、上記の（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を投入し、その上から当該ガラス板［Ｉ］を積層し、ガラス板［Ｉ］及び／または支持体（母型）を通して、該（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）に活性エネルギー線を照射して光硬化性組成物を硬化させ、次いで、支持体（母型）をテクスチャ層［II］から除去することにより、ガラス板［Ｉ］及びテクスチャ層［II］からなる積層体を有する基板を製造することができる。ガラス板［Ｉ］上には、テクスチャ層［II］との密着性向上の為に、予めシランカップリング剤などの各種コート剤を塗布しておいてもよい。
【００６９】
このとき支持体が、微細な凹凸を有していることが必要で、かかる微細な凹凸としては、測定範囲２μｍ角で測定点数２５６点における原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）測定による表面粗さ（ＲＭＳ）が１０〜３００ｎｍであることが好ましく、特には１０〜２００ｎｍ、更には１５〜１００ｎｍであることが好ましい。かかる表面粗さ（ＲＭＳ）が小さすぎるても大きすぎても光電変換効率が下がる傾向がある。
【００７０】
上記の支持体は、例えば、強度、耐熱性などの点から、ガラス製、金属製が好ましく、透光性の点からガラス製が特に好ましい。
かかる支持体の具体例としては、例えば、市販品ではガラス上に微細な凹凸を有する金属酸化物を積層した旭硝子社製、「Ａ１８０Ｕ８０」、「Ａ１１０Ｕ８０」、日本板硝子製テクスチャガラスなどが挙げられるが、ガラスをフッ酸等で処理したり、サンドブラスト法によって粉体を吹き付けたりしてガラス表面を荒らすことで作製することもできる。また、光閉じ込め性能に優れたパターンを母型として、金属や樹脂に電鋳などの方法により転写して支持体を作ることでも作成できる。これらの中でも、市販品の旭硝子社製「Ａ１８０Ｕ８０」が、可視光領域の光閉じ込め性能の高さから好適である。また、かかる支持体は、板状であることが作業性の点から好ましいが、生産性の点からロール状でも差し支えない。
【００７１】
本発明では、テクスチャ層［II］の形成に用いる上記の支持体は、光硬化性組成物を光硬化してなる硬化物の脱型性を向上させるため、光硬化物と接する表面にあらかじめ離型剤を塗布してもよい。離型剤は、特に限定されないが、離型性の点からフッ素系離型剤が好ましい。より好ましい離型剤としては、繰り返し耐久性の点からフッ素化アルキル基を含有するシランカップリング剤が挙げられる。
【００７２】
（メタ）アクリル系光硬化性組成物を硬化するに当たっては、例えば、紫外線照射については、照度２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2、特には５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2、光量１〜２０Ｊ／ｃｍ2、特には２〜１０Ｊ／ｃｍ2にて行うことが好ましい。
照射後は、支持体を除去し、得られた基板を、揮発ガス低減のために、通常５０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃の真空オーブン中で通常１０分〜６時間、好ましくは２０分〜１時間加熱することが好ましい。
かくして、ガラス板［Ｉ］の表面に凹凸を有するテクスチャ層［II］が形成された積層体が得られ、これより太陽電池用基板が得られる。
【００７３】
また、テクスチャ層［II］の凹凸については、測定範囲２μｍ角で測定点数２５６点における原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）測定による表面粗さ（ＲＭＳ）が１０〜３００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜２００ｎｍ、特に好ましくは１５〜１００ｎｍである。かかる表面粗さが小さすぎても大きすぎても、太陽電池の光電変換効率が低下する傾向がある。
【００７４】
更に、テクスチャ層［II］のガラス転移温度は、１００℃以上であることが好ましく、特には１５０℃以上、更には２００℃以上であることが好ましい。かかるガラス転移温度が低すぎると形成したテクスチャ層が、太陽電池セル形成時に凹凸が失われる傾向がある。なお、かかるガラス転移温度の上限としては通常５００℃である。
【００７５】
本発明においては、上記で得られたガラス板［Ｉ］及び凹凸を有するテクスチャ層［II］からなる積層体のテクスチャ層［II］上に、金属酸化物よりなる膜を形成して電極基板とすることができる。
【００７６】
本発明に用いられる金属酸化物としては、例えば、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタンなどの単一金属酸化物、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムチタン、酸化スズカドミウムなどの多種金属酸化物、ガリウム添加酸化亜鉛、アルミニウム添加酸化亜鉛、硼素添加酸化亜鉛、チタン添加酸化亜鉛、チタン添加酸化インジウム、ジルコニウム添加酸化インジウム、フッ素添加酸化スズなどのドーピング型金属酸化物などが挙げられる。これらの中でも、ガリウム添加酸化亜鉛、アルミニウム添加酸化亜鉛、または硼素添加酸化亜鉛が成膜性の観点から好ましい。
【００７７】
かかる金属酸化物よりなる膜を形成する方法としては、例えば、１５０℃以上のドライプロセスにより金属酸化物よりなる膜を形成することが好ましい。かかる温度が低すぎると、ガリウム、アルミニウム、硼素などの添加物が活性化し難い上に、結晶性が悪くなり、シート抵抗が増大する傾向がある。なお、シート抵抗は、５０Ω／□以下が好ましく、より好ましくは４０Ω／□以下、特には３０Ω／□以下が好ましい。
【００７８】
なお、ここで言うドライプロセスとしては、スパッタ法、ＣＶＤ法、蒸着法などが挙げられる。本発明の金属酸化物の形成においてはスパッタ法を用いることが、テクスチャ層［II］との密着性の点で好ましい。
【００７９】
かかる金属酸化物よりなる膜の厚さは、通常１００〜１０００ｎｍであり、好ましくは１３０〜７００ｎｍ、特に好ましくは１５０〜５００ｎｍである。かかる厚さが薄すぎるとシート抵抗が高くなってしまう傾向があり、厚すぎると成膜に時間がかかる上に、光線透過率が下がることとなり、光電変換効率が低下する傾向がある。
【００８０】
また、本発明においては、上記の如く、ガラス板［Ｉ］及び凹凸を有するテクスチャ層［II］からなる積層体のテクスチャ層［II］上に、金属酸化物よりなる膜を形成する方法以外にも、例えば、（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を用いて、まず微細な凹凸を有する板状支持体上に（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ）を投入し、対向面に平滑な板状支持体を設置し、活性エネルギー線により光硬化して一旦テクスチャ層［II］を形成した後、両側の板状支持体を除去し、かかるテクスチャ層［II］上に金属酸化物よりなる膜を形成して、テクスチャ層［II］／金属酸化物よりなる膜からなる積層体を得、かかる積層体のテクスチャ層［II］の金属酸化物膜と反対面側にガラス板［Ｉ］を積層する方法なども挙げられる。ガラス板［Ｉ］を積層するに際しては、熱圧着したり、接着剤などでラミネートしたりする方法がある。
【００８１】
また、本発明においては、上記のガラス板［Ｉ］及びテクスチャ層［II］からなる積層体を有する太陽電池用基板のテクスチャ層［II］上に、更にガスバリア膜を形成することができる。
【００８２】
ここでいうガスバリア膜とは、酸素や水分を遮断する膜のことである。ガスバリア膜としては、酸化珪素、または窒化珪素を主成分とするガスバリア膜が好ましい。成膜の手法は特に限定されないが、蒸着やスパッタなどの手法が好ましい。またガスバリア膜は多層にしても差し支えない。
【００８３】
ガスバリア膜の膜厚は５〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜１００ｎｍ、更に好ましくは１５〜５０ｎｍである。膜厚が薄すぎるとガスバリア性が十分でない傾向があり、逆に、厚すぎると基板を曲げた際にクラックが入りやすくなる傾向にある。
【００８４】
ガスバリア性の能力としては、好ましくは、水蒸気透過率が１ｇ／ｄａｙ・ａｔｍ・ｍ2以下、より好ましくは０．５ｇ／ｄａｙ・ａｔｍ・ｍ2以下、更に好ましくは０．１ｇ／ｄａｙ・ａｔｍ・ｍ2以下である。水蒸気透過率が大きすぎると太陽電池の信頼性が低下する傾向にある。なお、水蒸気透過率の下限値としては通常０．０００１ｇ／ｄａｙ・ａｔｍ・ｍ2である。
【００８５】
本発明のガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］の層構成を有する基板には、更に、ガラス板［Ｉ］のテクスチャ層［II］と反対面に防汚膜や反射防止膜を形成することができる。
【００８６】
反射防止膜は、ガラス板［Ｉ］と大気との界面に形成されることが好ましい。反射防止膜としては、低屈折率なフッ素系樹脂膜や、酸化珪素膜と酸化チタン膜を積層した誘電体多層膜などが挙げられる。これらの中では、安価であり、かつ防汚機能を有するフッ素系樹脂膜が好ましい。成膜の手法は特に限定されないが、スピンコートやダイコートなどのウェットプロセスが好ましい。
【００８７】
以下、本発明の透明電極基板を用いた太陽電池および太陽電池の製造方法の実施の形態に関して、図１を参照して説明する。本実施の形態では、薄膜シリコン系太陽電池の一つであるスーパーストレート型太陽電池について説明するが、サブストレート型等、他の薄膜シリコン系太陽電池に適用することも可能である。
【００８８】
まず、本発明の太陽電池の構成について説明する。
図３は、本発明の太陽電池の実施の形態の構成を示す断面図である。太陽電池は、スーパーストレート型太陽電池である。太陽電池は、ガラス板１、テクスチャ２、金属酸化物膜３、光電変換層４、及び裏面反射電極層５を具備する。光ｈνは、太陽電池に対してガラス板１側から入射し、太陽電池内で光電変換される。
【００８９】
光電変換層４は、ｐ型層４１、ｉ型層４２、ｎ型層４３を備える。なお、ｎ型層４３を必要としないこともある。
【００９０】
ｐ型層４１は、金属酸化物膜３上に形成されている太陽電池の窓層である。ｐ型層４１の材料には、ボロンなどのIII属元素を不純物として含むアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）、アモルファスシリコンカーバイド（ａ−ＳｉＣ）、微結晶シリコン、微結晶シリコンカーバイドなどがあげられる。その膜厚は、０．５〜１００ｎｍの範囲である。大気圧または減圧プラズマＣＶＤ法、加熱触媒体を用いたＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法や反応性スパッタリング法の中から選ばれる少なくとも一つの手法で製膜される。
【００９１】
ｉ型層４２は、ｐ型層４１上に形成されている。ｉ型層４２の材料としては、不純物を添加しないａ−Ｓｉ、微結晶シリコン、アモルファスシリコンゲルマニウム、微結晶シリコンゲルマニウムなどが挙げられる。その膜厚は、１００〜１００００ｎｍの範囲である。大気圧または減圧プラズマＣＶＤ法、加熱触媒体を用いたＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法や反応性スパッタリング法の中から選ばれる少なくとも一つの手法で製膜される。
【００９２】
ｎ型層４３は、ｉ型層４２上に形成されている。ｎ型層４３の材料としては、リンなどのＶ属元素を不純物として含むａ−Ｓｉ、ａ−ＳｉＣ、微結晶シリコン、微結晶シリコンカーバイドなどがあげられる。ｎ型層４３が形成される場合には、その膜厚は、０．５〜５００ｎｍの範囲である。大気圧または減圧プラズマＣＶＤ法、加熱触媒体を用いたＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法や反応性スパッタリング法の中から選ばれる少なくとも一つの手法で製膜される。
【００９３】
以上のシリコン系薄膜の製膜工程を経てｐ−ｉ−ｎ型シリコン系の光電変換層４が形成される。光電変換層４は単一でも良いが、上記の各種シリコン系材料をｉ型層に用いた光電変換層を、ｐ−ｉ−ｎ／ｐ−ｉ−ｎやｐ−ｉ−ｎ／ｐ−ｉ−ｎ／ｐ−ｉ−ｎのように積層することにより、より高い変換効率が得られる。
【００９４】
裏面反射電極層５は、高い導電性と高い反射率を有し、透明導電膜５１、裏面金属電極５２及び金属酸化膜５３を備える。透明導電膜５１は、光電変換層４の最表面のｎ型層４３の上に形成されている。赤外光の反射率の改善および裏面金属電極５２の光電変換層４への拡散を防ぐ。たとえば、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウムなどを主成分とすることが好ましい。
【００９５】
裏面金属電極５２は、透明導電膜５１の上に形成されている。可視から赤外域で高い反射率を有し、高い導電性を有する。Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、ＣｕおよびＰｔから選択される１種の金属、またはこれらを含む合金で形成されることが好ましい。
金属酸化膜５３は、裏面金属電極５２の上に形成されている。裏面金属電極５２を被覆し、裏面金属電極５２が空気に露出して腐食されることを防止する。たとえば、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウムなどを主成分とすることが好ましい。
【実施例】
【００９６】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
尚、例中「部」、「％」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
各物性の測定方法は以下の通りである。
【００９７】
（１）原子間力顕微鏡観察、表面粗さ（ＲＭＳ）（ｎｍ）、凹凸の最大落差（Ｈ）
試料を１ｃｍ角の大きさに切り取って、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製「Ｎａｎｏｐｉｃｓ２１００」を用いてコンタクトモードで測定した。試料を水平な試料台にセットし、表面（凹凸面）の１０μｍ角を観察し、任意の１０μｍ間における表面粗さＲＭＳと凹凸の最大落差Ｈ（図１参照）を測定した。
【００９８】
（２）電子顕微鏡観察
太陽電池用基板の面方向の対角線を結んだ点を中心に、面方向が１ｃｍ角の正方形となるように厚み方向に太陽電池用基板を切り出したサンプルの断面を、ブロードイオンビーム法により平滑な断面とした。この断面を、日本電子製電子顕微鏡「ＪＳＭ−６６００」により４万倍にて観察した（図２参照）。そして、テクスチャ層［II］の凹凸面の凹凸形状を測定した際に、テクスチャ層［II］の凸部と凹部の断面積が一致するように引かれたガラス面に対する平行線がテクスチャ層［II］の凹凸面形状曲線と交わる凹部側の２点間の距離をＬとして、かかる距離Ｌが任意の１０μｍ間において１．５μｍを超える凹部の個数を測定した。
【００９９】
（３）光硬化性樹脂組成物の硬化前後の体積収縮率（％）
光硬化性組成物の比重（Ｄ１）と、その硬化物の比重（Ｄ２）を用いて、次式（１）により算出した。
体積収縮率（％）＝（１−Ｄ１／Ｄ２）×１００      ・・・・・（１）
【０１００】
（４）粘度（ｍＰａ・ｓ）
芝浦システム社製Ｂ型粘度計、「ビスメトロンＶＳ−Ａ１」を用いて、２３℃、回転数６０ｒｐｍ（Ｎｏ．３回転子）で測定した。
【０１０１】
（５）ガラス転移温度
長さ３０ｍｍ×幅３ｍｍの試験片を用い、セイコー電子社製、「ＴＭＡ１２０」で、引っ張り法ＴＭＡ（支点間距離２０ｍｍ、加重１００g、昇温速度５℃／分、窒素フロー１４０ｍｌ／分）にて測定した。
【０１０２】
（６）光電変換効率
０．５ｃｍ×０．５ｃｍ（０．２５ｃｍ2）の太陽電池セルにおいて、ソーラーシミュレータを用いたＡＭ（エアマス）１．５、１００ｍＷ／ｃｍ2の光照射下で電流電圧測定を行い、短絡電流、開放端電圧、曲線因子の測定結果から光電変換効率（％）を求めた。
【０１０３】
＜実施例１＞
［（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ−１）の調製］
エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジメタクリレート（エチレンオキサイド変性量５モル）（新中村化学社製、「ＢＰＥ−５００」）５０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学社製、「Ａ−ＴＭＰＴ」）５０部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．５部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物（ｉ−１）を得た。得られた組成物の粘度は３００ｍＰａ・ｓ、体積収縮率は７．８％であった。
【０１０４】
［テクスチャ形成用支持体の調製］
片面に酸化錫よりなる凹凸（テクスチャ）が形成されたガラス（旭硝子社製、「Ａ１８０Ｕ８０」、サイズ３５０ｍｍ×３００ｍｍ）のテクスチャ面に、膜厚１０ｎｍの酸化珪素膜をスパッタ法で形成し、更に、フッ素系離型剤（ダイキン工業社製、「オプツールＤＳＸ」）を均一に塗布し、風乾した。その後、６０℃、９０％ＲＨの環境下で３時間放置した後、フッ素系溶剤（ダイキン工業社製「デムナムソルベント」）に浸漬して２３℃で１０分間超音波洗浄し、テクスチャ形成用支持体を得た。このテクスチャ面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１０５】
［ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体の作製］
上記のテクスチャ形成用支持体のテクスチャ面を上側に向けて、上記光硬化性組成物（ｉ−１）２ｇを２３℃で、支持体の一辺の端部から２ｃｍ内側に線状に均一に滴下し、その上からガラス板［Ｉ］として青板ガラス（サイズ３５０ｍｍ×３００ｍｍ、１．１ｍｍ厚）を、ラミネート機でガラス板［Ｉ］を全面に行き渡らせつつラミネートした。ラミネート速度は０．５ｍ／ｍｉｎであった。その後、メタルハライドランプを用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2、光量５Ｊ／ｃｍ2で紫外線を照射し、支持体を除去することで、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を得た。
テクスチャ層［II］の厚みは２μｍであり、テクスチャ層［II］の凹凸面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１０６】
［太陽電池セルの作製］
次に、積層体を５ｃｍ角にカットして、１−メトキシ−２−アセトキシプロパンにより超音波洗浄し、風乾した後、スパッタ用のサンプルホルダーに固定してスパッタ機に投入した。スパッタ機内を圧力１０-5Ｐａになるまで真空排気し、基板ホルダー温度を１５０℃に設定した。その後、アルゴンガスを流量１００ｓｃｃｍでスパッタ機内に導入し、圧力５ｍＴｏｒｒに調整した後、酸化ガリウム（Ｇａ2Ｏ3）を５．７ｗｔ％添加した酸化亜鉛（ＺｎＯ）ターゲットに直流電力４００Ｗを供給した。これにより、厚さ２００ｎｍのガリウム添加酸化亜鉛からなる薄膜（図３中の３）が積層体（図３中の１及び２）上にスパッタ形成された透明電極基板を得た。
【０１０７】
次に、上記の透明電極基板試料を３層分離型シリコン成膜装置（ＣＶＤ）にセットし、次の手順で光電変換層（図３中の４）を形成した。
【０１０８】
（ｐ型層形成）
試料をｐ型シリコン製膜室に輸送した後、シラン（ＳｉＨ4）、水素（Ｈ2）、ジボラン（Ｂ2Ｈ6）、メタン（ＣＨ4）等の高純度半導体ガスをｐ型シリコン製膜室へ一定流量で導入し、基板温度１５０℃、圧力０．５Ｔｏｒｒに保った後、放電を開始し、１分間の製膜で厚さ１０ｎｍのボロンドープａ−Ｓｉ合金膜（図１中のｐ型層４１）を得た。その後、同室で上記条件のジボラン（Ｂ2Ｈ6）ガスの導入のみを停止して、ノンドープａ−ＳｉＣ合金膜を太陽電池バッファー層として厚さ５ｎｍの成膜をした。製膜が終了した後再び高真空に排気した。
【０１０９】
（ｉ型層形成）
次に試料をｉ型シリコン製膜室に輸送した後、ＳｉＨ4とＨ2をｉ型シリコン製膜室へ一定流量で導入し、基板温度１５０℃、高圧力１．０Ｔｏｒｒに保った後、放電を開始し、２５分間の製膜で厚さ０．３５μｍのノンドープａ−Ｓｉ（図３中のｉ型層４２）を得た。製膜が終了した後、再び高真空に排気した。
【０１１０】
（ｎ型層形成）
次に試料をｎ型シリコン製膜室に輸送し、ＳｉＨ4、Ｈ2、フォスフィン（ＰＨ3）をｎ型シリコン製膜室へ一定流量で導入し、基板温度１５０℃、圧力０．２Ｔｏｒｒに保った。放電を開始し、６分間の製膜で厚さ３０ｎｍのリンドープａ−Ｓｉ（図３中のｎ型層４３）を得た。製膜が終了した後再び高真空に排気した。
【０１１１】
（裏面反射電極層形成）
以上のｐ−ｉ−ｎ３層光電変換ユニットを成膜後、試料を室温まで冷却し、大気中に取り出した後、試料を再びスパッタ真空装置に設置し、次の手順で裏面反射電極層（図３中の５）を形成した。
室温でガリウム添加酸化亜鉛層（図３中の５１）２０ｎｍ、銀層（図３中の５２）２００ｎｍ、ガリウム添加酸化亜鉛層（図３中の５３）２０ｎｍを順に積層した。試料を真空装置から取り出した後、裏面電極のパターニングにより面積０．２５ｃｍ2の太陽電池を得た。その後１５０℃のポストアニーリングを２時間行った。
以上の工程により得られたアモルファスシリコン太陽電池の光電変換効率を測定したところ、８％であった。
【０１１２】
＜実施例２＞
［（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ−２）の調製］
ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジアクリレート（新中村化学社製、「Ａ−ＤＣＰ」）１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．５部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物（ｉ−２）を得た。得られた組成物の粘度は１３０ｍＰａ・ｓであり、体積収縮率は６．４％であった。
【０１１３】
［テクスチャ形成用支持体の調製］
実施例１と同様にテクスチャ形成用支持体を得た。このテクスチャ面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１１４】
［ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体の作製］
実施例１と同様に、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を得た。
テクスチャ層［II］の厚みは２μｍであり、テクスチャ層［II］の凹凸面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１１５】
［太陽電池セルの作製］
上記で得られた透明電極基板を用いて、実施例１と同様にアモルファスシリコン太陽電池を作製した。得られた太陽電池の光電変換効率を測定したところ、８％であった。
【０１１６】
＜実施例３＞
［ウレタンアクリレートの調製］
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート５３．３４ｇ（０．２４モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート５５．７３ｇ（０．４８モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル０．０２ｇ、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇ、メチルエチルケトン５００ｇを仕込み、６０℃で３時間反応させ、残存イソシアネート基が０．３％となった時点で反応を終了し、溶剤を留去して２官能ウレタンアクリレートを得た。
【０１１７】
［（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ−３）の調製］
上記２官能ウレタンアクリレート２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学社製、「Ａ−ＴＭＰＴ」）８０部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．５部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物（ｉ−３）を得た。得られた組成物の粘度は７００ｍＰａ・ｓであり、体積収縮率は６．１％であった。
【０１１８】
［テクスチャ形成用支持体の調製］
実施例１と同様にテクスチャ形成用支持体を得た。このテクスチャ面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１１９】
［ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体の作製］
実施例１と同様に、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］の積層体を得た。
テクスチャ層［II］の厚みは２μｍであり、テクスチャ層［II］の凹凸面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１２０】
［太陽電池セルの作製］
上記で得られた透明電極基板を用いて、実施例１と同様にアモルファスシリコン太陽電池を作製した。得られた太陽電池の光電変換効率を測定したところ、７％であった。
【０１２１】
＜比較例１＞
［（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ−４）の調製］
ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジアクリレート（新中村化学社製、「Ａ−ＤＣＰ」）２０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学社製「Ａ−ＴＭＭＴ」）８０部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．５部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物（ｉ−４）を得た。得られた組成物の粘度は２００ｍＰａ・ｓであり、体積収縮率は１２．５％であった。
【０１２２】
［テクスチャ形成用支持体の調製］
実施例１と同様にテクスチャ形成用支持体を得た。このテクスチャ面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１２３】
［ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体の作製］
実施例１と同様に、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を得た。
テクスチャ層［II］の厚みは２μｍであり、テクスチャ層［II］の凹凸面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１２４】
［太陽電池セルの作製］
上記で得られた透明電極基板を用いて、実施例１と同様にアモルファスシリコン太陽電池を作製した。得られた太陽電池の光電変換効率を測定したところ、５％であった。
【０１２５】
＜比較例２＞
［ウレタンアクリレートの調製］
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート５３．３４ｇ（０．２４モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート５５．７３ｇ（０．４８モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル０．０２ｇ、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇ、メチルエチルケトン５００ｇを仕込み、６０℃で３時間反応させ、残存イソシアネート基が０．３％となった時点で反応を終了し、溶剤を留去して２官能ウレタンアクリレートを得た。
【０１２６】
［（メタ）アクリル系光硬化性組成物（ｉ−５）の調製］
上記２官能ウレタンアクリレート１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（チバガイギー社製、「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．５部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物（ｉ−５）を得た。得られた組成物の粘度は２００，０００ｍＰａ・ｓであり、体積収縮率は３．０％であった。
【０１２７】
［テクスチャ形成用支持体の調製］
実施例１と同様にテクスチャ形成用支持体を得た。このテクスチャ面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１２８】
［ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体の作製］
実施例１と同様に、ガラス板［Ｉ］／テクスチャ層［II］からなる積層体を得た。
テクスチャ層［II］の厚みは２μｍであり、テクスチャ層［II］の凹凸面の表面粗さ（ＲＭＳ）は３０ｎｍであった。
【０１２９】
［太陽電池セルの作製］
上記で得られた透明電極基板を用いて、実施例１と同様にアモルファスシリコン太陽電池を作製した。得られた太陽電池の光電変換効率を測定したところ、５％であった。
【０１３０】
実施例及び比較例のそれぞれの評価結果を表１に示す。
【０１３１】
【表１】
2009260270.tif 000002
【０１３２】
上記の表１からも分かるように、条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足する実施例においては、光電変換効率に優れた太陽電池が得られるのに対して、条件（Ａ）及び／または（Ｂ）を満足しない比較例では充分な光電変換効率は得られなかった。
なお、光電変換効率の数値としては、実施例では「７〜８」であるのに対して、比較例では「５」であり、大差がないように思われるが、かかる数値の差は太陽電池を設置した際に、比較例に対して実施例は４０％以上の発電量の向上が期待できる点から非常に大きな差であると言える。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
本発明の太陽電池用基板は、光電変換効率に優れた効果を有するものであり、太陽電池の基板として有用である。
【符号の説明】
【０１３４】
１：ガラス板
２：テクスチャ層
３：金属酸化物膜（ガリウム添加酸化亜鉛）
４：光電変換層
５：裏面反射電極層
４１：ｐ型層
４２：ｉ型層
４３：ｎ型層
５１：透明導電膜（ガリウム添加酸化亜鉛）
５２：裏面金属電極（銀）
５３：金属酸化膜（ガリウム添加酸化亜鉛）
Ｈ：凹凸の最大落差
Ｌ：テクスチャ層［II］の凸部と凹部の断面積が一致するように引かれたガラス面に対する平行線がテクスチャ層［II］の凹凸面形状曲線と交わる凹部側の２点間の距離
【図１】
2009260270.tif 000003
【図２】
2009260270.tif 000004
【図３】
2009260270.tif 000005