(57)【要約】【課題】従来の液晶滴下方法によると液晶に斑点が発生して液晶表示装置の表示品質が低下し、ベーキング工程を行って斑点を除去するのでパネルの製造工程が複雑になる問題があった。【解決手段】液晶が吐き出されるノズルを基板に近接して位置させた状態で、液晶を滴状に滴下して塗布する方式でなく、基板に付ける形態で長い楕円形状に塗布して、液晶塗布時に発生する配向膜の損傷を防止し、斑点の発生などにより表示性能が低下する問題を解決して、より優れた表示性能を有するディスプレイパネルを製作する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を吐出するノズルを基板の上部に液晶を塗布できる高さで基板に近接して位置させる第１段階と、
前記ノズルを移動させながら基板に液晶を吐出して塗布するが、基板に塗布された液晶が長い楕円形状を有するようにノズルを移動させながら塗布する第２段階と、
を実施することを特徴とする液晶ディスプレイパネルの液晶塗布方法。
【請求項２】
前記第１段階で、ノズルの液晶塗布高さは、ノズルから吐出された液晶が基板に滴状に滴下されず、基板に付きながら塗布されることができる程度の高さであることを特徴とすることを特徴とする請求項１記載の液晶塗布方法。
【請求項３】
前記第２段階で、基板に塗布された楕円形状の液晶が所定間隔ごとに位置するように塗布することを特徴とする請求項１記載の液晶塗布方法。
【請求項４】
前記第２段階は、前記ノズルの移動方向の前方で液晶を塗布する前にイオン化装置を利用して静電気を除去しながら進行することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項記載の液晶塗布方法。
【請求項５】
基板の上部に位置されるディスペンサーヘッドと、
前記ディスペンサーヘッドに具備されており、基板に液晶を塗布するために液晶を吐出するノズルと、
前記ノズルから吐出された液晶が基板に滴状に滴下されず基板に付きながら長い楕円形状で塗布されるように前記ノズルの位置を制御する制御機構と、
を包含して構成されることを特徴とする液晶ディスプレイパネルの液晶塗布装置。
【請求項６】
前記ディスペンサーヘッドには、前記制御機構の制御信号によって前記基板からノズルの垂直高さを調節できるように構成された垂直移送機構が包含され、
前記制御機構は、前記垂直移送機構を制御して基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態によって前記ノズルの高さを調節できるように構成されていることを特徴とする請求項５記載の液晶塗布装置。
【請求項７】
前記制御機構は、
基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態のうち少なくとも一つに基づいて前記ノズルの塗布高さを決定できるように構成された高さ設定テーブルを有するデータ貯蔵部と、
作業者が基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態を選択して入力できるように構成された選択入力部と、
前記選択入力部の入力信号によって前記データ貯蔵部に貯蔵された高さ設定テーブルの情報を利用してノズルの高さを決定した後、前記垂直移送機構に信号を出力してノズルの高さを制御する出力制御部と、
を備えていることを特徴とする請求項６記載の液晶塗布装置。
【請求項８】
前記ディスペンサーヘッドには、前記ノズルが移動する方向の前方側に基板にイオン化空気を吹き出して静電気を除去するイオン化装置が設けられることを特徴とする請求項５乃至請求項７のうちいずれか一項に記載の液晶塗布装置。
【請求項９】
基板の上部に位置されるディスペンサーヘッドと、
前記ディスペンサーヘッドに具備されシリンジから液晶を供給されて吐出すノズルと、
前記ディスペンサーヘッドに具備されて前記ノズルが移動する方向の前方側から基板にイオン化空気を吹き出して静電気を除去するイオン化装置と、
を備えて構成されていることを特徴とする液晶ディスプレイパネルの液晶塗布装置。
【請求項１０】
前記ディスペンサーヘッドは、前記ノズルが取り付けられるノズル装着部を備え、
前記ノズル装着部には、前記イオン化装置のノズルが取り付けられるイオン化装置装着部が設けられていることを特徴とする請求項９記載の液晶塗布装置。
【請求項１１】
前記イオン化装置装着部に、イオン化装置ノズルを固定する固定装置が設けられていることを特徴とする請求項１０記載の液晶塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイパネルに液晶を塗布する方法及び液晶塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置中の一つである液晶表示装置(ＬＣＤ）は、ＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に対向するカラーフィルター基板、そしてこれら二つの基板間に介在されて電気的信号が印加されると光の透過可否を決定する液晶を有する液晶表示パネルと、を備える。
【０００３】
液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板とカラーフィルター基板間に液晶を介在する方法としては、液晶注入方法と液晶滴下方法がある。
【０００４】
液晶注入方法は、液晶表示パネルのＴＦＴ基板とカラーフィルター基板間にシール材の厚さほど形成されたセルギャップに真空圧を形成して液晶を注入する。
【０００５】
ところが、このような液晶注入方法は、セルギャップの内部に所望の液晶量よりも多量の液晶が供給されたり、液晶表示パネルの外部面に付いた液晶を洗浄する工程が必要となり、このような問題を解決するための液晶介在方法が液晶滴下方法である。
【０００６】
液晶滴下方法は、図１に示すように、ディスペンサーヘッドに備えられたノズル３を利用してＴＦＴ基板１又はカラーフィルター基板１に液晶５を滴状に滴下させ、液晶が滴下されたカラーフィルター基板とＴＦＴ基板を整列した後、紫外線を利用して硬化させると、二つの基板間のシールライン（seal line）が硬化されてＴＦＴ基板とカラーフィルター基板が堅固に結合される。
【０００７】
すなわち、液晶滴下方法は、ＴＦＴ基板又はカラーフィルター基板上にシールラインを形成した後、このシールラインにより定義された表示領域内に液晶を所定サイズの滴状に順次滴下するものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、従来の液晶滴下方法により二つの基板間に液晶が介在される場合、図２に示したように斑点５ａが発生する。
【０００９】
基板１に斑点が発生する理由を仮定すると、第一に、基板に液晶を吐き出す過程で、基板内の静電気の影響でパネルを合着した後液晶の染みのような残像が発生する。第二に、配向膜上に滴下された液晶がフローされながら配向膜が損傷を受けてプレチルト（Pretilt）などが変化されることに伴った斑点が発生する。
【００１０】
このような仮定に基づいて、液晶滴下工程で発生する斑点は、液晶が滴下された領域と滴下された液晶がリフローされた領域との輝度差によって発生することが分かる。
【００１１】
すなわち、液晶がＴＦＴ基板又はカラーフィルター基板上で均一に滴下されず、所定の滴下位置にだけ滴下されて斑点が発生するものである。
【００１２】
その結果、前記したような斑点により液晶表示装置の表示品質が低下する問題が発生され、このような斑点を除去するためには別途の工程、すなわち、ベーキング（Baking）工程を行うべきであるので、全体的にパネル製造工程が複雑になるとい不都合な点があった。
【００１３】
本発明は、このような問題点を解決するために鑑みたもので、液晶を滴状に基板に滴下する方式でなく、液晶を基板に付けながら長い楕円形状に塗布する近接塗布方式により液晶を基板に塗布するように構成することで、液晶塗布時に発生する配向膜の損傷を防止して斑点発生などによる表示性能低下の問題を解決することができる、液晶ディスプレイパネルの液晶塗布方法及び液晶塗布装置を提供することを目的とする。
【００１４】
また、本発明は、液晶塗布前に液晶が吐き出されるノズルと近接した位置にイオン化装置を設けて基板の静電気を除去することで斑点現状の残像を予め防止し得る、液晶ディスプレイパネルの液晶塗布方法及び液晶塗布装置を提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上述の課題を実現するための本発明に係る液晶ディスプレイパネルの液晶塗布方法は、 液晶が吐き出されるノズルを基板上部に液晶を塗布できる高さで基板に近接して位置させる第１段階と、前記ノズルを移動させながら基板に液晶を吐出して塗布するが、基板に塗布された液晶が長い楕円形状を有するようにノズルを移動させながら塗布する第２段階と、を行うことを特徴とする。
【００１６】
ここで、前記第１段階で、ノズルの液晶塗布高さは、ノズルから吐き出された液晶が基板に滴状に滴下されず、基板に付きながら塗布されることができる程度の高さに設定されることが好ましい。
【００１７】
そして、前記第２段階で、基板に塗布された楕円形状の液晶が所定間隔ごとに位置するように塗布することが好ましい。
【００１８】
また、前記第２段階は、前記ノズルの移動方向の前方で液晶を塗布する前にイオン化装置を利用して静電気を除去しながら進行することが好ましい。
【００１９】
更に、上述の課題を実現するための本発明に係る液晶ディスプレイパネルの液晶塗布装置は、基板の上部に位置されるディスペンサーヘッドと、前記ディスペンサーヘッドに具備されて基板に液晶を塗布できるように液晶が吐き出されるノズルと、前記ノズルから吐き出された液晶が基板に滴状に滴下されず基板に付きながら長い楕円形状で塗布されるように前記ノズルの位置を制御する制御機構と、を包含して構成されることを特徴とする。
【００２０】
ここで、前記ディスペンサーヘッドには、前記制御機構の制御信号によって前記基板からノズルの垂直高さを調節できるように構成された垂直移送機構が包含され構成される。
【００２１】
そして、前記制御機構は、前記垂直移送機構を制御して基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態によって前記ノズルの高さを調節できるように構成されることが好ましい。
【００２２】
この時、前記制御機構は、基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態中少なくとも何れ一つに基づいて前記ノズルの塗布高さを決定できるように構成された高さ設定テーブルを有するデータ貯蔵部と、作業者が基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態を選択して入力できるように構成された選択入力部と、前記選択入力部の入力信号によって前記データ貯蔵部に貯蔵された高さ設定テーブルの情報を利用してノズルの高さを決定した後、前記垂直移送機構に信号を出力してノズルの高さを制御する出力制御部と、を備える構成されることができる。
【００２３】
また、前記課題を実現するための本発明に係る液晶ディスプレイパネルの液晶塗布装置は、基板の上部に位置されるディスペンサーヘッドと、前記ディスペンサーヘッドに具備されシリンジから液晶を供給されて吐出すノズルと、前記ディスペンサーヘッドに具備されて前記ノズルが移動する方向の前方側から基板にイオン化空気を吹き出して静電気を除去するイオン化装置と、を備えて構成されることを特徴とする。
【００２４】
ここで、前記ディスペンサーヘッドは、前記ノズルが取り付けられるノズル装着部を備え、前記ノズル装着部には、前記イオン化装置のノズルが取り付けられるイオン化装置装着部が設けられたことが好ましい。
【００２５】
この時、前記イオン化装置装着部には、イオン化装置ノズルを固定する固定装置が具備されることが好ましい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る液晶ディスプレイパネルの液晶塗布方法及び液晶塗布装置は、次のような効果を有する。
【００２７】
本発明は、液晶を基板に塗布する時、ノズルを基板に近接して位置させた状態で、液晶を滴状に滴下して塗布する方式でなく、基板に付ける形態で長い楕円形状に塗布するため、液晶塗布時に発生する配向膜の損傷を防止して、斑点の発生などにより表示性能が低下する問題を解決して、より優れた表示性能を有するディスプレイパネルを製作することができるという効果がある。
【００２８】
また、本発明は、イオン化装置を利用して液晶塗布前に基板にイオン化された空気を吹き出すように構成されるので基板に発生する静電気を除去することが可能で、従って、液晶を塗布した後発生する斑点現状の残像を事前に防止して、液晶表示パネルの製造工程の信頼性を向上し得るという効果がある。
【００２９】
且つ、本発明は、液晶が吐き出されるノズルと隣接した位置にイオン化装置のノズルが設けられるので、静電気を除去した後直ちに液晶を塗布して、液晶塗布不良を最小化して液晶塗布工程の効率を向上し得る効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明に係る実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図面において同一の参照符号を付した構成は、同一の構成であることを示すので、その説明を省略する。
【００３１】
図３は、本発明に係る液晶ディスプレイパネルの液晶塗布方法を実施するためのディスペンサーを示した概略斜視図である。
【００３２】
液晶ディスプレイパネルを製造するためのディスペンサーは、液晶ディスプレイパネルを構成する基板にシール材パターン又は液晶層を形成し得るように構成されており、基板Ｓを支持するステージ１２がフレーム１０の上側に設けられている。
【００３３】
この場合には、ステージ１２は、Ｘ軸又はＹ軸方向に滑動可能に移動するように構成されている。
【００３４】
また、フレーム１０の上側には、ヘッド支持台１４がステージ１２の上部に配置されている。このヘッド支持台１４は、自身の両側がフレーム１０に対して前後方向に並進移動するように支持されている。
【００３５】
ヘッド支持台１４には、ステージ１２に配置された基板Ｓにシール材又は液晶を塗布するためのディスペンサーヘッドが設けられている。ディスペンサーヘッドは、シール材を塗布するためのシール材塗布用ディスペンサーヘッド１６と液晶を塗布するための液晶塗布用ディスペンサーヘッド２０とに分かれて構成されている。
【００３６】
図３は、シール材塗布用ディスペンサーヘッド１６と液晶塗布用ディスペンサーヘッド２０とがそれぞれ一つのヘッド支持台１４の一側及び他側に取り付けられた構造を表わす。
【００３７】
ディスペンサーヘッド１６、２０は、シール材又は液晶が吐出されるノズルと基板との相対位置を変化させるために、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向において位置調整可能なように構成されていることが望ましい。図３では、ヘッド支持台１４がＹ軸方向において移動可能であるので、ディスペンサーヘッドはＸ軸方向及びＺ軸方向において位置調整可能なように構成されている。
【００３８】
２つのディスペンサーヘッド１６、２０の装着個数及び設置位置は、基板のサイズや塗布方法などを考慮して適切に変更することができる。
【００３９】
前記液晶塗布用ディスペンサーヘッドの構成に関して、図４乃至図６を参照して以下に説明する。
【００４０】
図４は、本発明に係る液晶塗布装置の主要部を示した斜視図である。図５は、本発明に係る液晶塗布装置を利用した場合における液晶の塗布状態を表わす。図６は、図５の断面Ａ−Ａの断面図である。
【００４１】
図４を参照すると、液晶塗布用ディスペンサーヘッド２０は、液晶が格納されたシリンジ３０と、液晶を吐出するノズルが取り付けられたノズル装着部２１とから構成されており、ノズル装着部２１は、垂直移送機構２５によって上下方向、すなわちＺ軸方向において移動可能に構成されている。
【００４２】
ここで、シリンジ３０は、所定量の液晶を格納可能であれば、液晶ノズル３５がシリンジ３０の下端部と一体に構成されていたり、必要に応じて液晶ポンプなど別途の連結手段を介して連結しているように構成されていても良い。
【００４３】
図面では、液晶ノズル３５がノズル装着部２１に挿入された状態でシリンジ３０と液晶ノズル３５とが一体構造になっている構成を示している。
【００４４】
ここで、ノズル装着部２１は、液晶ノズル３５の位置を固定するための手段であって、液晶ノズル３５が直接取り付けられた構成ではなく、液晶ノズルが結合又は連結された構造物、すなわちシリンジやノズルホルダーなどが取り付けられるように構成された部品であっても良い。
【００４５】
このようなノズル装着部２１は、液晶ノズル３５が挿入される装着ブロック２３と、垂直方向に位置されて前記装着ブロック２３を支持する支持プレート２２と、により構成されている。支持プレート２２は、垂直移送機構２５に連結されて上下移動できるように構成されている。
【００４６】
垂直移送機構２５は、ノズル装着部２１を上下方向、すなわちＺ軸方向において移動可能に構成された構成部品である。しかしながら、垂直移送機構２５は、これに限定される訳ではなく、実施条件に基づいてノズル装着部２１をＹ軸方向又はＸ軸方向において移動可能なように構成することもできる。
【００４７】
垂直移送機構２５は、図１０に表わす制御機構７０の制御信号の経路に従って、液晶ノズルの基板からの垂直方向高さを調節するために利用される。
【００４８】
シリンジ３０に格納された液晶が液晶ノズル３５を通じて基板Ｓに吐出されることによって、液晶塗布用ディスペンサーヘッド２０は、基板Ｓに液晶を塗布するように構成されている。
【００４９】
特に、本発明の液晶塗布用ディスペンサーヘッド２０には、イオン化空気を噴射するイオン化装置（ionizer）５０が、基板に液晶を塗布する前に基板上で発生する静電気を除去するために設けられている。この場合には、イオン化装置５０はエアーファジー方式を利用することができる。
【００５０】
ノズル装着部２１には、イオン化装置装着部４０が、イオン化装置ノズル５５を取り付けるために設けられている。
【００５１】
イオン化装置装着部４０は装着ブロック２３に設けられている。このイオン化装置装着部は、装着ブロック２３の前面、裏面、又は両側面の適切な位置に設けることができる。イオン化装置装着部４０の位置は、液晶ノズル３５に近接し、且つ液晶ノズル３５の移動方向における前方の位置に取り付けられていることが望ましいが、液晶の塗布方向の設定によってその位置を変更することができる。
【００５２】
本発明の実施例では、イオン化装置装着部４０が装着ブロック２３の前面に設けられている。
【００５３】
イオン化装置装着部４０は、イオン化装置ノズル５５の終端部を固定可能な構成であれば、いかなる構成であっても良い。本実施例では、装着ブロック２３の前面にノズル挿入孔４２（図６参照）を有するブロック４１を付加的に設け、イオン化装置ノズル５５をノズル挿入孔４２に挿入して取り付けるように構成されている。
【００５４】
また、イオン化装置装着部４０には、イオン化装置ノズル５５がイオン化装置装着部４０に挿入された状態でイオン化装置ノズル５５を安定的に固定する固定装置が構成されている。固定装置として、例えば図６に示すような戻り止め式固定装置を利用することができる。
【００５５】
具体的には、イオン化装置ブロック４１の側面に形成された孔４３には、戻り止めボール４５及び該戻り止めボールを付勢する戻り止めスプリング４６が挿入されており、イオン化装置ノズル５５の側面には、戻り止めボール４５を係止する戻り止め溝５５ａが形成されている。従って、イオン化装置ノズル５５をイオン化装置装着部４０に取り付ける場合には、戻り止めボール４５が戻り止め溝５５ａに係止された状態でイオン化装置ノズル５５を安定的に固定することができる。一方、イオン化装置ノズル５５をイオン化装置装着部４０から分離する場合には、イオン化装置ノズル５５を上側から引き上げさえすればイオン化装置装着部４０からイオン化装置ノズル５５を容易に分離することができる。
【００５６】
戻り止めスプリング４６は、その後方側に設けられたプラグボルト４７によって付勢されていることは言うまでもない。
【００５７】
上述の本発明に係る液晶ディスプレイパネルの液晶塗布装置を利用して液晶を塗布する方法に関して、以下に説明する。
【００５８】
先ず、図３を参照すると、基板Ｓがステージ１２にローディングされた状態で液晶を塗布する位置にヘッド支持台１４を移動させる。この状態でディスペンサーヘッド２０の液晶ノズル３５を下降させ、基板Ｓに近接するように配置する。
【００５９】
この場合、液晶ノズル３５の液晶吐出高さが、液晶ノズルから吐出された液晶が基板に滴状に滴下せず、図７に示すように基板に接触した状態で塗布される高さとなるように、液晶ノズル３５は基板Ｓに近接して配置される。
【００６０】
従来では、液晶ノズル３５から液晶を基板に滴状に滴下させる滴下方式を利用していた。しかしながら、本発明では、従来の滴下方式とは異なり、液晶ノズル３５を基板Ｓに最大限近接配置した状態で液晶ノズル３５から吐出された液晶が、基板に接触しつつノズルの移動方向に沿って延在する状態で塗布されるように、基板Ｓからの液晶ノズル３５の高さが設定され配置される。
【００６１】
このような液晶ノズル３５の高さ設定は、液晶の種類、状態（粘度など）、塗布量又は塗布形態（塗布長さ又は幅）などを考慮して適切に設定することができる。このような制御構造に関しては、図１０を参照して後述する。
【００６２】
このように液晶ノズル３５を基板に近接した高さに配置した状態で基板Ｓに液晶を吐出する場合に、基板Ｓに塗布された液晶を上から見ると、塗布された液晶は楕円形状になっている。
【００６３】
そして、図７及び図８に示したように、基板Ｓに楕円形状に塗布された液晶が一定間隔で離間して配置されるように、液晶を順次塗布することが好ましい。
【００６４】
本発明では、上述のように基板に液晶を滴状に滴下する滴下方式を利用せず、基板に液晶を接触させた状態で液晶ノズル３５が一定距離だけ移動しつつ液晶を塗布するので、液晶を塗布する際に、基板に形成された配向膜が損傷して、表示品質が低下するなどの問題が解消され、より優れた表示性能を有するディスプレイパネルの製造が可能となる。
【００６５】
一方、図９は、図４乃至図６に表わすイオン化装置５０を利用して液晶を塗布している状態を表わす。図９では、液晶を塗布する前にイオン化装置５０を利用して基板の静電気を除去した状態で、上述のように楕円形状の液晶を基板に塗布する。
【００６６】
このように液晶を塗布する前の位置でイオン化装置５０を利用して基板にイオン化空気を噴射すると、基板の静電気が除去されて液晶塗布の不良が発生するという問題が解消されると共に、斑点現象の残像が発生することを防止することができる。
【００６７】
図１０は、上述の本発明に係る液晶塗布方法を実現するための液晶塗布装置の制御構造を示したブロック図である。
【００６８】
本発明に係る液晶塗布装置の制御構造に関して、図１０を参照して以下に説明する。
【００６９】
本発明に係る液晶塗布装置は、液晶ノズル３５から吐出された液晶が基板に滴状に滴下されず、基板に接触した状態で楕円形状に塗布されるように、制御機構７０によって液晶ノズル３５の高さが適切に設定された状態で基板に液晶を塗布するように構成されている。
【００７０】
制御機構７０は、図４に表わす垂直移送機構２５を制御することによって液晶ノズルの高さを適切に調節可能なように構成されている。すなわち、制御機構７０は、垂直移送機構２５を制御し、基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、又は塗布形態に基づいて液晶ノズル３５から吐出された液晶が基板に接触した状態で楕円形状に塗布されるように、液晶ノズル３５の塗布高さを調節可能なように構成されている。
【００７１】
このような制御機構７０は、基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態のうち少なくとも一つに基づいて液晶ノズル３５の塗布高さを決定するように構成された高さ設定テーブルを有するデータ貯蔵部７３と、作業者が基板に塗布する液晶の種類、状態、塗布量、及び塗布形態を選択して入力するように構成された選択入力部７１と、選択入力部７１の入力信号によってデータ貯蔵部７３に貯蔵された高さ設定テーブルの情報を利用して液晶ノズル３５の高さを決定した後に、垂直移送機構２５に信号を出力して液晶ノズル３５の高さを制御する出力制御部７５とを備えている。
【００７２】
ここで、データ貯蔵部７３の高さ設定テーブルは、液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態などが変化すると、それに応じて液晶が基板に滴状に滴下されず、基板に接触した状態で楕円形状に塗布される程度の高さに液晶ノズル３５を配置するように構成された制御プログラムである。
【００７３】
すなわち、上述したように液晶が滴状に滴下されず、液晶を基板に付ける方式に塗布するためには、液晶ノズル３５の高さが基板に最大限近接した位置で液晶を吐出すべきである。一方、液晶ノズル３５が基板にあまりに近接して位置すると、液晶塗布状態が悪化し、液晶ノズル３５の移動が円滑にならず、最悪の場合には基板に損傷を与えることになる。従って、液晶ノズル３５が基板から十分に離間して配置されていても、液晶を基板に接触させた状態で塗布可能な最適な高さを設定することが要求される。
【００７４】
高さ設定テーブルは、液晶の状態などが変化すると、それに合わせて液晶ノズル３５の最適高さを設定することができるように構成されている。
【００７５】
高さ設定テーブルは、液晶の種類、状態、塗布量、塗布形態などが変化した場合の液晶の吐出状態及び塗布状態を数回繰り返した実験を通じて確認し、その実験結果に基づいた最適値で設定されている。ここで、液晶の組成物、粘度、又は周辺温度などによって基板に塗布される液晶の状態は変化するので、液晶の種類及び状態はテーブルの設定変数として考慮される。塗布量及び塗布形態は、ノズルの吐出口のサイズ又は吐出圧力、液晶塗布長さなどが変更されることによって、基板に塗布される液晶の状態も変化するので、テーブルの設定変数として考慮される。この他にも、液晶が基板に滴状に滴下されず基板に付きながら長い楕円形状に塗布される程度の高さに液晶ノズル３５を位置させるときの変数となる他の要因も共に考慮して高さ設定テーブルを構成可能なことは言うまでもない。
【００７６】
そして、選択入力部７１は、作業者が液晶の種類、液晶の粘度、又は吐出温度、液晶ノズルの吐出口のサイズなどを直接入力する部分であって、テーブル設定変数によって上記条件以外に他の条件も入力可能に構成することができる。
【００７７】
一方、基板に塗布する液晶の状態などを自動測定できるように構成した場合には、選択入力部７１又はデータ貯蔵部７３は必ずしも必要な構成ではなく、この場合には自動測定部で直ちに前記出力制御部７５に信号を入力し、液晶ノズル３５の高さを決定するように構成することができる。
【００７８】
自動測定部の一例としては、液晶ノズル３５から吐出される液晶の吐出状態をフォトセンサーなどにより観察し、吐出された液晶が継続して基板に接触した状態で塗布される、液晶ノズル３５の基板からの最大高さ又は適正高さを探索した後に、それをデータ化して液晶ノズル３５の高さを決定して制御する方法を適用することもできる。
【００７９】
また、上述の方法の他に、作業者による受動測定を行うように構成することも可能である。すなわち、作業者が液晶ノズル３５から液晶が吐出される状態を直接見て、液晶ノズル３５の吐出高さを適切に設定することも可能である。
【００８０】
一方、液晶ノズル３５の高さ設定時にフィードバック制御ができるように、基板から液晶ノズル３５の高さを感知して出力制御部７５に入力するノズル位置感知機構６０が設けられることが好ましい。
【００８１】
このようなノズル位置感知機構６０は、図４に示した装着ブロック２３などに構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】従来技術の液晶塗布構造を示した概略図である。
【図２】従来技術の液晶塗布状態を示した平面図である。
【図３】本発明に係る液晶塗布装置を備えたディスペンサーを示した斜視図である。
【図４】本発明に係る液晶塗布装置の主要部を示した斜視図である。
【図５】本発明に係る液晶塗布装置を利用して液晶を塗布する状態を示した図である。
【図６】図５のＡ−Ａ線方向を示した断面図である。
【図７】本発明に係る液晶塗布方法を説明するための概略図である。
【図８】本発明に係る液晶塗布方法により塗布された基板を示した平面図である。
【図９】本発明の他の実施例に係る液晶塗布方法を説明するための概略図である。
【図１０】本発明に係る液晶塗布装置に構成される制御機構を示したブロック図である。
【符号の説明】
【００８３】
１０  フレーム
１２  ステージ
１４  ヘッド支持台
１６  シール材塗布用ディスペンサーヘッド
２０  液晶塗布用ディスペンサーヘッド
２１  ノズル装着部
２３  装着ブロック
２５  垂直移送機構
３０  シリンジ
３５  液晶ノズル
４０  イオン化装置装着部
４１  イオン化装置ブロック
４２  ノズル挿入孔
４３  孔
４５  戻り止めボール
４６  戻り止めスプリング
４７  プラグボルト
５０  イオン化装置
５５  イオン化装置ノズル
５５ａ  戻り止め溝
７０  制御機構
【図１】
2009175681.tif 000003
【図２】
2009175681.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図３】
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