(57)【要約】      （修正有）【課題】コントローラを有する複数のアクチュエータまたはコントローラにより制御可能な複数のアクチュエータを制御する。【解決手段】アクチュエータ（２１）の少なくとも幾つかのグループがコントローラ（３０）により個別に制御可能であり、各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに、少なくとも１つの記憶素子（２４）が割り当てられており、この記憶素子が、１つ以上のアクチュエータを制御するための少なくとも１つのパラメータを記憶することができ、これにより、少なくとも２つのパラメータが、各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに割り当てられ、アクチュエータの１つの位置がそれぞれのパラメータに割り当てられる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コントローラ（３０，３１）により複数のアクチュエータ（２１）を制御するための装置を備えており、前記複数のアクチュエータ（２１）が、前記コントローラによって制御可能であり、該コントローラによって少なくとも幾つかのアクチュエータグループを個別に制御することができる、マイクロリソグラフィのための投影露出システムにおいて、第１組のアクチュエータの各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに、少なくとも１つの記憶素子（２４）が割り当てられており、該記憶素子（２４）が、１つ以上のアクチュエータを制御するための少なくとも１つのパラメータを記憶することができ、これにより、少なくとも２つのパラメータが、各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに割り当てられ、アクチュエータの１つの位置がそれぞれのパラメータに割り当てられることを特徴とする、マイクロリソグラフィのための投影露出システム。 
【請求項２】
前記投影露出システムに、第１組のアクチュエータとは異なる第２組のアクチュエータのうち、いずれのアクチュエータも配置されていないか、または第２組のアクチュエータの少なくとも１つのアクチュエータが、付加的に配置されている、請求項１記載の投影露出システム。 
【請求項３】
それぞれの前記アクチュエータ（２１）が、前記コントローラ（３０，３１）を介して個々に制御可能である、請求項１記載の投影露出システム。 
【請求項４】
前記第１組のアクチュエータの各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに、少なくとも１つの前記記憶素子（２４）が割り当てられており、該記憶素子（２４）が、アクチュエータを制御するための少なくとも２つのパラメータを記憶することができ、アクチュエータの１つの位置が、それぞれのパラメータに割り当てられる、請求項１から３までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項５】
前記第１組のアクチュエータの各アクチュエータ（２１）または各アクチュエータグループのために、２つ以上の前記記憶素子が割り当てられ、該記憶素子が、アクチュエータを制御するための１つ以上のパラメータを記憶することができ、アクチュエータの１つの位置が、それぞれのパラメータに割り当てられる、請求項１から４までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項６】
記憶された前記パラメータが、前記第１組のアクチュエータの前記アクチュエータ（２１）のための制御信号である、請求項１から５までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項７】
記憶された前記パラメータが、前記第１組のアクチュエータのアクチュエータに設けられた１つ以上の運動自由度のための制御信号を備える、請求項１から６までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項８】
前記記憶装置（３０，３１）が、複数のサブコントローラ（３２）を備えており、該サブコントローラが、特にその数において第１組のアクチュエータのアクチュエータまたはアクチュエータグループの数に対応している、請求項１から７までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項９】
前記コントローラ（３０，３１）および前記サブコントローラ（３２）が、調整ユニットとして形成されている、請求項１から８までのいずれか１項記載の投影露出システム。
【請求項１０】
前記コントローラ（３０）が、集積回路または特定用途向け集積回路ＡＳＩＣ（２３）を備えているか、または、集積回路または特定用途向け集積回路ＡＳＩＣ（２３）のいずれかによって形成されており、該集積回路または特定用途向け集積回路ＡＳＩＣ（２３）が、個々の、または幾つかの、または全てのアクチュエータに制御信号を供給する、請求項１から９までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１１】
前記記憶素子（２４）が、集積回路または前記特定用途向け集積回路ＡＳＩＣ（２３）の部分である、請求項１から１０までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１２】
前記記憶素子内に記憶されたパラメータが、第１組のアクチュエータのアクチュエータ（２１）を制御するために直接に提供されている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１３】
前記記憶素子（２４）が、不揮発性の記憶素子によって形成されている、請求項１から１２までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１４】
前記記憶素子が、ＲＡＭ、ＳＲＡＭ、ＤＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、ＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、ＦＬＡＳＨメモリ素子を含むグループから選択される、請求項１から１３までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１５】
前記第１組のアクチュエータの前記アクチュエータ（２１）が、ＭＥＭＳ（微小電気機械システム）ユニットによって形成されている、請求項１から１４までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１６】
前記装置が、１ウェーハシステム、２ウェーハシステム、３ウェーハシステム、４ウェーハシステムまたはマルチウェーハシステムを備えている、請求項１から１５までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１７】
前記アクチュエータが、投影装置、マイクロリソグラフィのための投影露出システム、光変調器、空間光変調器（ＳＬＭｓ）、およびマルチミラーアレイ（ＭＭＡｓ）（２，１２，１７）からなるグループの装置に用いられる操作システムの部分である、請求項１から１６までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１８】
前記アクチュエータ（２１）が、ミラー素子（２２）を位置決めするための対応数だけ設けられている、請求項１から１７までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項１９】
前記アクチュエータ（２１）が、６百万個または４百万個までの、または４，０００〜１，０００，０００個のミラー（２２）を位置決めするための対応数だけ設けられており、それぞれのミラーが、少なくとも２つの回転軸を中心として好ましくは旋回可能である、請求項１から１８までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項２０】
前記装置が、照明光学系および／または投影レンズ内に設けられている、請求項１から１９までのいずれか１項記載の投影露出システム。 
【請求項２１】
好ましくは請求項１から２０までのいずれか１項記載の装置を用いて、コントローラ（３０，３１）によって投影露出システム内の複数のアクチュエータ（２１）を制御する方法において、前記コントローラによって少なくとも幾つかのアクチュエータグループを個別に制御できるようにし、第１組のアクチュエータの各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに、少なくとも１つの記憶素子（２４）を割り当て、第１組のアクチュエータの各アクチュエータまたは各アクチュエータグループのために、第１組のアクチュエータの１つ以上のアクチュエータを制御するための少なくとも１つのパラメータを、割り当てられた少なくとも１つの記憶素子に記憶し、これにより、第１組のアクチュエータの各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに少なくとも２つのパラメータを割り当て、前記アクチュエータの１つの位置をそれぞれのパラメータに割り当てる、投影露出システム内の複数のアクチュエータ（２１）を制御する方法。 
【請求項２２】
少なくとも２つのパラメータを記憶素子に記憶し、１つ以上のパラメータを、前記第１組のアクチュエータのアクチュエータまたはアクチュエータグループに割り当てられた幾つかの記憶素子にそれぞれ記憶する、請求項２１記載の方法。 
【請求項２３】
複数のアクチュエータの少なくとも幾つかの記憶素子に、アクチュエータによって駆動される素子の動作中にパラメータを供給する、請求項２１または２２記載の方法。 
【請求項２４】
アクチュエータが周期的または段階的に操作される場合に、アクチュエータの記憶素子に、少なくとも２つ以上の周期または段階のためのパラメータを供給する、請求項２１または２３記載の方法。
【請求項２５】
前記第１組のアクチュエータのアクチュエータまたはアクチュエータグループに割り当てられた前記記憶素子に、記憶された第１のパラメータ値を有するアクチュエータの動作中または切換周期中に、第１のパラメータとは異なる第２のパラメータを読み込む、請求項２１から２４までのいずれか１項記載の方法。 
【請求項２６】
前記記憶素子に、連続して一時的にパラメータを読み込む、請求項２１から２５までのいずれか１項記載の方法。 
【請求項２７】
パラメータを１つの周期で、または繰返し周期で、交換する、請求項２１から２６までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前提部分に記載の装置および対応する方法、ならびにこれらの装置および方法を使用する、特にリソグラフィのための投影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロ電子部品、例えば、集積回路およびマイクロメカニカルシステムなどの製造のためには、リソグラフィシステムが知られている。リソグラフィシステムでは、構造を生成する目的で基板上の感光性被覆層を露光する。このようなリソグラフィシステムは、本明細書では一般に画像形成装置として記載される装置を必要とし、この装置により、基板（ウェーハ）に設けられた、放射線感受性の層または感光性の層に微小構造を転写することが可能である。このような画像形成装置は、投影露出システムを含む。投影露出システムでは、光源からの光、例えばレーザが、照明システムを介してマスク、いわゆる「レチクル」に向けられ、マスクまたはレチクルを照射する。 マスクまたはレチクルの構造は、投影対物レンズ(projection objective)を介して、感光性の層を支持する基板に投影される。レチクルを適宜に照射する目的では、例えば、マルチミラーアレイ（ＭＭＡ）の形態の光変調設備を照明システムで使用することができ、これにより、例えば、光の所定の強度分布を照明システムの瞳孔平面で得ることもできる。このような投影露出システムが、例えば、独国特許出願公開第１０３４３３３３号明細書に記載されており、その開示内容は参照により本明細書にも完全に組み入れられる。同様の投影露出システムが、米国特許第７，０６１，５８２号明細書にも記載されており、このシステムでは同様にマルチミラーアレイが使用されている。 
【０００３】
米国特許第７，０６１，５８２号明細書は、一般に空間光変調装置、「空間光変調器ＳＬＭ」について記載している。これらの装置は、放射線の振幅分布、位相分布および／または分極分布を得るためにリソグラフィシステムで使用される。 
【０００４】
米国特許第７，０６１，５８２号明細書および米国特許第７，０５３，９８７号明細書の開示内容は、本発明に使用される可能性を有しているので、参照により本明細書に完全に組み入れられる。 
【０００５】
さらに、欧州特許第９１４６２６号明細書および国際公開第９８／０４９５９号パンフレットが、マスクなしのリソグラフィシステムを実施するための、マルチミラーアレイの形態の光変調装置を開示している。この場合、レチクルが対応するマイクロ構造を用いて照射される代わりに、投影される構造は、マルチミラーアレイのマイクロミラーの位置およびこれにより生じる強度分布により生成される。この技術内容もまた、本発明のための用途を構成しており、したがって、同様に本明細書に完全に組み入れられる。
【０００６】
光変調装置、特にマルチレベルミラー配列（ＭＭＡｓ）のためのこれらの用途には全て、光変調装置、例えばマイクロミラーなどの複数の部品を必要に応じて制御する必要があるという問題がある。このことは、ＳＬＭチップ制御のための大容量データ流のエラー防止を本質的に扱う米国特許出願公開第２００５／０１７７３２６号明細書に述べられている。
【０００７】
しかしながら、高いデータ速度時の信号質の問題はさておき、高いデータ速度は、ミラーの切換時間を短くするが、対応した急速な周期時間は、データ伝送時間によって制限されているので、もはや可能ではないことがさらなる問題である。例えば、１０ビットの設定誤差で２つの自由度で設定される４つのアクティブチャンネルをそれぞれ有している、４０，０００個のミラーからなるマルチミラーアレイは、１ミリ秒の設定時間のために少なくとも１６０メガビット／秒のデータ速度を必要とするであろう。ミラーの数、設定誤差またはプロトコルデータのための必要帯域幅が増大される場合には、この必要データ速度はさらに一層急激に上昇するであろう。
【０００８】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０３４３３３３号明細書
【特許文献２】米国特許第７，０６１，５８２号明細書
【特許文献３】米国特許第７，０５３，９８７号明細書
【特許文献４】欧州特許第９１４６２６号明細書
【特許文献５】国際公開第９８／０４９５９号パンフレット
【特許文献６】米国特許出願公開第２００５／０１７７３２６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明の課題は、例えば光変調装置の部品、特にマルチミラーアレイのマイクロミラーを作動するための複数のアクチュエータを制御するための装置および方法において、極めて多数の部品またはアクチュエータのために短い切換時間および速い周期時間が確保されるようにすることである。さらに、これらの装置および方法は、容易に実施することができるか、または実現可能であり、必要な費用が低く抑えられているべきである。さらに、装置および方法は、光変調装置、例えば、マイクロミラーなどの複数の部品を備えるマルチミラーアレイを異なるタスクのために柔軟に配備することができることを確保することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この課題は、請求項１の特徴を有する投影露出システムおよび請求項２１の特徴を有する方法により解決される。有利な実施形態が、従属請求項の対象である。 
【００１１】
本発明は、必要データ量が中央または外部制御ユニット（コントローラ）から光変調装置の個々の部品、またはマルチミラーアレイのミラーに伝送される必要があるという認識、または、アクチュエータを位置決めするための対応するパラメータが少なくとも１つの記憶素子に記憶されており、これにより、アクチュエータの対応した作動または位置決めを、メモリから記憶値を読み出すことにより行うことができる場合には、ミラーのアクチュエータを減じることができるという認識から出発している。アクチュエータの近傍にメモリが局所的に配置されることにより、さらに不要なデータ搬送が回避される。 
【００１２】
したがって、対応する制御信号を中央制御ユニットから複数のアクチュエータに伝送する代わりに、アクチュエータを作動し、ひいては関連光変調部品、例えばマイクロミラーを位置決めまたは整列するための対応パラメータが記憶されることより、大容量データを中央制御ユニットから複数のアクチュエータに搬送する必要が回避される。この関連では、ある程度は必要性及び要求に応じて、それぞれの個別のアクチュエータには、少なくとも２つのパラメータに対して異なる記憶場所を備える独自の記憶素子が割り当てられており、それぞれのパラメータがアクチュエータの位置に対応しているか、または、１つの記憶素子の代わりに複数の記憶素子がそれぞれのアクチュエータのために設けられていてもよく、この場合には、１つのパラメータがアクチュエータの位置に対応しているか、もしくは、記憶素子につき幾つかのパラメータが記憶されることが可能である。特に結果としてアクチュエータの複数のプリセット位置を、対応する記憶素子に記憶することが可能であり、これにより、これら個々のアクチュエータ位置の間で前後に切換を素早くかつ簡単に行うことができる。１つ以上の記憶素子を設け、それぞれの記憶素子が、それぞれ１つのパラメータに対して１つ以上の記憶場所を備えている代わりに、アクチュエータグループが形成されていてもよく、これらのアクチュエータグループにも１つ以上の記憶素子が割り当てられており、それぞれの記憶素子は、関連パラメータに対して１つ以上の記憶場所を備えている。対応して、アクチュエータはグループで制御されてもよい。しかしながら、それぞれのアクチュエータが個別に制御されることが好ましい。本発明によるアクチュエータは、投影露出システムまたは類似した装置の第１の組のアクチュエータを備えているものとし、本発明の特徴を示さない第２の組のアクチュエータとして他のアクチュエータが付加的に存在していてもよい。 
【００１３】
好ましくは、記憶されたこれらのパラメータは、アクチュエータのための制御信号によって形成され、これにより、記憶されたデータは、記憶素子から読み出された後に、時間のかかる操作にさらされることなしに、アクチュエータを制御するために直接に使用することができる。例えば、デジタルデータをアナログ制御信号に変換することのみが必要とされる。このことは、アクチュエータおよびアクチュエータにより操作される光変調部品の素早い作動を容易にする。
【００１４】
例えば、マイクロミラーなどの光変調部品を作動するために２つのアクチュエータが設けられている場合には、パラメータを、これらの２つのアクチュエータのための２つの制御信号から構成することができる。例えば、４つのアクチュエータが、独立した２つの回転軸を中心としてマイクロミラーを回転または旋回させるために設けられている場合には、１つのパラメータが４つのアクチュエータのための４つの制御信号を対応して備えていることができる。対応して、これらの４つのアクチュエータは、１つのグループに組み合わされ、このグループに対して記憶素子が読み出され、割り当てられてもよい。本発明による装置は、例えば、記憶素子からのいずれのパラメータが使用されるのかを制御する制御ユニット（コントローラ）をさらに備えている。しかしながら、必要データ量は、著しく減じられる。 
【００１５】
光変調装置のコントローラ、または、例えば、マルチミラーアレイのマイクロミラーを作動するために設けられた複数のアクチュエータを制御するための装置は、複数のサブコントローラを有することができ、これらのサブコントローラは、マスタコントローラによって調整されるが、サブコントローラに割り当てられた個々のアクチュエータまたは幾つかのアクチュエータに対する制御を独立して担う。特に、コントローラおよび／またはサブコントローラが、調整ユニットとして形成されている場合には、サブコントローラは、アクチュエータの位置に対して独立した制御を担うことができ、これにより、必要なデータ搬送は、結果としてさらに減じられる。コントローラおよび／またはサブコントローラが調整ユニットとして形成されている場合には、装置は、制御ループのために必要な入力パラメータを捕捉するための対応する測定装置またはセンサを有している。コントローラおよび／またはサブコントローラは、公知のいずれかの形態の調整ユニット、例えばＰＩＤコントローラとして実施されていてもよい。 
【００１６】
コントローラは、集積回路、特に特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）を有していることができる。この特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）は、記憶素子および／または対応する電子部品を備えており、これにより、個々の、または幾つかの、または全てのアクチュエータに対応した制御信号が供給される。 
【００１７】
したがって、記憶素子を、集積回路またはＡＳＩＣに直接に組み込むこともでき、これにより、アクチュエータの直接制御が可能となる。この場合には、パラメータが制御信号を有しており、読取直後に、おそらくはアナログ‐デジタル変換器を介してのみ、作動目的でアクチュエータに利用可能になってもよい。 
【００１８】
記憶素子は、好ましくは不揮発性の記憶素子によって形成されていることができ、それゆえ、記憶素子はエネルギ供給が提供されていない場合にも記憶内容を保存する。このことは、装置が短時間で遮断される必要がある場合、または電力供給が短時間で中断される場合には特に有利である。
【００１９】
適宜な記憶素子は、ＲＡＭ、ＳＲＡＭ、ＤＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、ＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、ＦＬＡＳＨメモリ素子、および他の適宜なあらゆるメモリチップである。
【００２０】
アクチュエータは、リソグラフィ工程により形成することができるＭＥＭＳ（微小電気機械システム）ユニットによって形成されていてもよい。したがって、アクチュエータは、例えば、マイクロミラーなどの光変調装置の部品と一緒に１つのユニットとして１つのウェーハに形成することが可能である。コントローラの対応回路、好ましくはＡＳＩＣが、同一のウェーハの反対側に設けられていてもよい。このような構成は、１ウェーハシステムと呼ばれる。また、例えば、アクチュエータおよび光変調装置の部品を備えたＭＥＭＳユニットが第１のウェーハに設けられており、コントローラの対応する集積回路が第２のウェーハに設けられている、２ウェーハシステムも可能である。２つのウェーハは、ＡＳＩＣを介してアクチュエータを制御することができるように機能的に互いに接続されている。同様に、３ウェーハ、４ウェーハまたはマルチウェーハシステムを実施することもでき、これらのシステムでは、異なる部品を備えた対応数のウェーハが１つの機能ユニットの形に組み合わされる。 
【００２１】
アクチュエータを切り換えるためのパラメータの記憶を有する装置の本発明による構成により、複数の制御データが中央コントローラから伝送される必要なしに、アクチュエータの２つの切換状態の間で前後に単純に切り換えることが可能になる。好ましくは制御信号の形態で設けられた、対応するアクチュエータのためのパラメータのみが、記憶素子から読み出され、アクチュエータに伝送される必要があり、このことは、アクチュエータの近傍に記憶素子を局所的に配置することにより極めて簡単に行うことができる。得られたアクチュエータの素早い切換に加えて、少なくとも２つの位置パラメータが記憶されていることにより、対応する装置、特に対応して作動することができる部品、例えばマイクロミラーを備えた光変調装置の特に柔軟な配備をさらに達成することが可能である。したがって、アクチュエータを作動または位置決めするための新しいパラメータをいずれか１つの記憶場所に読み込むことができ、アクチュエータは、別の記憶場所のパラメータに従って作動または操作される。それぞれのアクチュエータに割り当てられた複数の記憶素子のためには、対応する記憶場所を読み込むか、または続いて変更することができるので、低いデータ流量を有する将来の切換工程のための対応するパラメータを操作中に既に読み込むことができる。これによりは、配備が特に柔軟になる。 
【００２２】
特にこの読み込みプロセスは、例えば装置が周期動作している場合には、長期間に、例えば幾つかの周期にわたることができる。
【００２３】
記憶素子から記憶素子への、または、記憶場所から記憶場所への新しい記憶データまたは変更された記憶データを対応して周期的に読み込むプロセスを繰返し実施することができ、これにより、あらゆる種類の複数のアクチュエータ位置を、操作を中断することなしに連続的に設定することができる。したがって、例えば、本発明による装置を備えるリソグラフィシステムまたは投影露出システムは、将来の露出操作のために個別に設定することができ、これにより、究極的には個別の単一露出が可能になる。 
【００２４】
複数のアクチュエータを制御するための装置および方法のための本発明は、有利にはマイクロリソグラフィのための投影装置または一般に対応リソグラフィ装置で実施することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、リソグラフィシステムのごく概略的な第１実施例を示している。このリソグラフィシステムでは、光もしくは放射線または一般に光源もしくは放射源１の放射線が光学軸９に沿って、マルチミラーアレイ２（ＭＭＡ）の形態の光変調装置に到達し、これにより、構造またはパターンが生成され、この構造またはパターンは、投影レンズ３を介して、一般に放射線感応性の層を備えるウェーハ４または基板に投影される。
【００２６】
マルチミラーアレイ２は、複数のマイクロミラーを有しており、これらのマイクロミラーは、配向および位置がアクチュエータにより設定されてもよいように、コントローラ３０を介して制御される。マルチミラーアレイ２のマイクロミラーの位置を変更することにより、異なったパターンを生成することができ、これらのパターンは、投影レンズ３を介してウェーハ４に投影される。
【００２７】
図２は、リソグラフィシステムの別の用途を示しており、この場合、投影露出システムが示されており、このシステムでは、一般には放射源または光源１０の光または放射線が、照明設備１１ａ、１１ｂ、１２を介してレチクル１５に向けられ、レチクルの構造は、投影レンズ１３を介してウェーハ１４に投影される。 
【００２８】
照明装置は、光学軸１９に沿って２つの照明光学系１１ａおよび１１ｂを有しており、これらの照明光学系１１ａおよび１１ｂの間には、光変調装置が、例えば、再びマルチミラーアレイ（ＭＭＡ）１２の形態で、設けられている。この実施形態のマルチミラーアレイ１２は、照明装置１１ａ，１１ｂ，１２の瞳孔平面に、さまざまに調節可能な放射線強度分布を生じさせるために用いられる。この場合にも、マルチミラーアレイ１２は、コントローラ３０を介して制御され、これにより、マルチミラーアレイのマイクロミラーは、対応した配向および位置決めにより、瞳孔平面の放射線の望ましい強度分布に貢献する。
【００２９】
図２の実施形態には、再びマイクロミラー配列１７の形態で形成された光変調装置の第３の構成が示されている。この場合、補助光源または放射源からの光または放射線は、光学軸１８と一致して投影対物レンズ１３の光学素子に向けられ、これにより、例えば、補助放射線が、例えば、投影対物レンズ１３の対応する光学素子を横断する一様でない放射線分布に起因して放射線により誘発された投影誤差を補償してもよい。このような用途が、例えば、独国特許出願第１０２００７０１４６９９．１号に開示されており、その開示内容は参照により本明細書に完全に組み入れられる。光変調装置の別の２つの用途が、例えば、独国特許第１０３４３３３３号明細書および欧州特許第９１４６２６号明細書または国際公開第９８／０４９５０号パンフレットにそれぞれ開示されており、その開示内容は同様に参照により本明細書に完全に組み入れられる。
【００３０】
マルチミラーアレイの形態の光変調装置１７も同様に制御装置３１を介して制御され、この制御装置３１は、入射補正光の必要に応じてマイクロミラーの位置を決定する。 
【００３１】
コントローラ３０およびコントローラ３１は両方とも、ある程度は、例えばセンサなどからの読み取りに応じて、マイクロミラーの設定位置を既知の制御値と一致する測定位置の関数として調整する制御装置として使用することができる。同様に、測定装置およびセンサなど（図示していない）が設けられていてもよい。
【００３２】
図３および図４は、図１および図２のリソグラフィシステムまたは投影露光システムで使用することができる本発明による装置の２つの実施形態を概略的な側面図で示している。さらに、対応した装置は、投影装置内に設けられていてもよい付加的な操作機、例えば、レンズなどの光学素子を整列するための操作機がある場合にも使用することができ、これにより、複数の操作機が制御または調整される必要がある場合には、特に有利である。
【００３３】
図３は、本発明による装置の「１ウェーハの実施形態」を示しており、この場合、アクチュエータ２１およびマイクロミラー２２は、「ＭＥＭＳ(微小電気機械システム)技術」で製造される。この技術によって、機械および／または電気機械的な部品、例えば集積回路の電子部品が、リソグラフィによる構造化によって生成され、機械的および／または電子的および電気機械的な部品を単一のウェーハ２０上に簡単に作製することができるという利点が生じる。同様に、図３のＭＥＭＳシステムのマイクロミラー２２およびアクチュエータ２１は、ウェーハ２０の反対側に提供されている特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）２３と一緒に、シリコン基板などの同じウェーハ２０に直接に形成することができる。ＡＳＩＣ２３とＭＥＭＳ部品２１，２２との間の機能的接続は、ウェーハ２０または対応する端面を介して提供されている。 
【００３４】
本発明によれば、ＡＳＩＣ２３は、複数の記憶素子２４を含んでおり、これらの記憶素子２４はそれぞれ１つのアクチュエータ２１に割り当てられている。それぞれの記憶素子２４は、マイクロミラー２２の位置または整列に対応するパラメータのために少なくとも２つの記憶場所を有している。好ましくは、１つのパラメータは、マルチミラーアレイに設けられたマイクロミラー２２のアクチュエータのための制御信号を備えており、これにより、パラメータの読取中に制御信号をアクチュエータ２１に直接に伝達することができる。したがって、マイクロミラー２２が極めて短い切換時間を有することが可能である。使用される記憶素子２４は、好ましくは不揮発性の記憶素子である。このことは、恒久的なエネルギ供給が、記憶状態を保持するために、すなわち、記憶された情報を保持するために必要とされないことを意味する。その代わりに、記憶素子は、シャットダウン時または電力供給遮断中でさえも、少なくとも所定時間にわたって記憶情報を保持する。
【００３５】
ＡＳＩＣ２３には、サブコントローラ３２が接続されており、このサブコントローラ３２は、例えばデータバスを介してマスタコントローラ３０に接続されている。全体としてマルチミラーアレイのためのコントローラが形成される。サブコントローラは、各アクチュエータ２１またはアクチュエータグループのために別個に設けられていてもよい。コントローラ３０および／またはサブコントローラ３２は、ＡＳＩＣ２３内に組み込まれていてもよい。 
【００３６】
対応パラメータを有する記憶素子２４の読取は、個々のマイクロミラーまたはアクチュエータに割り当てられたコントローラ３０またはサブコントローラによって行われる。例えば、中央コントローラ３０は、バスシステムを介して種々異なるマイクロミラー２２を整列するための指令をサブコントローラ３２に伝達することができ、これに応じてサブコントローラ３２は、記憶素子２４に事前に記憶された制御信号を選択し、アクチュエータ２１のためのメモリ２４からの直接供給により、ミラー２２の極めて素早い切換を容易にする。個々のミラーの位置に対するパラメータが局所的に記憶されることにより、複数のデータが中央コントローラ３０からサブコントローラ３２に伝送されることが防止され、かつ／またはサブコントローラ３２内の処理が減じられる。
【００３７】
特に、サブコントローラ３２は完全に省略することもできる。このことは、図４の実施形態で達成されるが、図３の実施形態においても可能である。図４は、本発明による装置の第２の実施形態を示している。図４の装置は、以下に説明する幾つかの相違を除いては図３の実施形態と同一であり、同一の参照符号が同一の部品に対して用いられる。
【００３８】
図４の実施形態は、１ウェーハ設計の代わりに２ウェーハ設計が実施されているという事実において図３の実施形態とは本質的に異なっている。この関連では、ウェーハ２０は、複数のマイクロミラー２２を備えたマルチミラーアレイに対応しており、これらのマイクロミラー２２は、マイクロミラーに割り当てられた複数のアクチュエータによって作動することができる。しかしながら、図３の実施形態とは対照的に、特定用途向け集積回路ＡＳＩＣ２３は、ウェーハ２０には設けられていないが、例えば、同様にシリコンから形成することができる第２の別個のウェーハ２５に設けられている。この場合、２つのウェーハ２０および２５は、対応する動作接続を形成するように互いに直接に接続されており、これにより、この接続は、直接ワイヤボンディングまたは接着結合によって達成される。
【００３９】
図４の実施形態のＡＳＩＣ２３は、図３の実施形態のＡＳＩＣに本質的に対応しており、相違点は、コントローラ３０がサブコントローラ３２を有しておらず、指令が中央コントローラ３０から記憶素子２４に直接に伝達されることである。
【００４０】
図５および図６は、本発明による装置の４ウェーハの実施形態を斜視図および側面図で示している。ウェーハ４０および４３は、別個のウェーハ、例えばシリコン基板または共通のウェーハからなる層であってよい。
【００４１】
図５および図６に見ることができるように、第１層すなわち第１ウェーハ４０は、マイクロミラー２２を備えており、下位の層すなわち下位のウェーハ４１には、例えばミラーを作動する電極の形態のアクチュエータが設けられている。第３層すなわち第３ウェーハ４２は、アクチュエータ層すなわちアクチュエータウェーハ４１のアクチュエータと、下位のＡＳＩＣウェーハすなわち対応するＡＳＩＣ層４３との間の対応する接続を供給する、いわゆるケーブル層すなわち経路指示層すなわち配線層を備えている。記憶素子２４を備える集積回路すなわち電子装置２３がＡＳＩＣ層すなわちＡＳＩＣウェーハ４３に設けられている。
【００４２】
ミラー層すなわちミラーウェーハ４０は、実際のマイクロミラー２２を含む第１の副層と、対応する結合構造を有するミラー架台を備える第２の副層とにさらに分割されてもよい。
【００４３】
全く同じように、配線ウェーハ４２の形態の第３機能レベルが、幾つかの副層に再分割されていてもよく、これにより、複雑配線（幾つかのものは極めて複雑である）が容易になる場合がある。したがって、全体の構造が、複合層で、または幾つかのウェーハにわたって付加的に達成されてもよい。
【００４４】
記憶素子２４に、これらの記憶素子によって作動されるアクチュエータまたは光変調装置の部品を設定するために予め記憶されたパラメータを設け、割り当てることにより、光変調装置の部品、例えばマルチミラーアレイのマイクロミラー２２の極めて素早い切換を保障することが可能であるだけでなく、光変調装置の柔軟な配備を容易にすることも可能である。なぜならば、記憶されたパラメータに対して動作中に連続的に変更を行うことができるからである。したがって、例えば、１つのアクチュエータまたはアクチュエータグループそれぞれのために少なくとも２つのパラメータが記憶されている場合には、所定の時点で使用されていないパラメータは、将来、例えば次のステップで使用されるべき別のパラメータによって置き換えられてもよい。
【００４５】
本発明は、図示の実施形態では、１つのアクチュエータが光変調装置のそれぞれの部品、例えば、マルチミラーアレイのマイクロミラーのために設けられている形で記載されているが、幾つかのアクチュエータが、光変調装置の１つの部品、例えばマルチミラーアレイのマイクロミラーのために設けられていてもよい。個々の記憶素子または幾つかのアクチュエータのグループに設けられた共通の記憶素子が、対応する光変調部品の複合アクチュエータそれぞれに割り当てられていてもよい。 
【００４６】
本発明は、ＭＥＭＳ技術のマルチミラーアレイの実施形態を用いて記載されているが、本発明が、他の光変調装置または同様に従来のマイクロ技術で形成されたマイクロメカニカルまたは電気機械部品にも適用可能であることは明らかである。 
【００４７】
本発明は、実施形態に詳細に記載されているが、添付の特許請求の範囲の保護範囲を逸脱することなしに、特に個々の特徴の組み合わせまたは個々の特徴の削除に関して改良または変更が可能であることが当業者には明らかである。特に請求項の保護範囲は、実施形態に制限されるべきものではない。 
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明による装置を備えた、マスクなしのリソグラフィシステムを示す図である。
【図２】レチクルの照明システム内に光変調装置を備える投影露出システムを示す図である。
【図３】本発明による装置の１ウェーハの実施形態を示す側面図である。
【図４】本発明による装置の２ウェーハの実施形態を示す側面図である。
【図５】本発明による装置の４ウェーハの実施形態を示す側面図である。
【図６】図５の実施形態の側面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【外国語明細書】
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