(57)【要約】【課題】ステップごとに状態値を比較することが容易なグラフを表示するグラフ表示装置を提供する。【解決手段】レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸１６８及び温度を示す温度軸１７０が定義された描画領域１７２に、時系列データＴＳ１をあらわすグラフＧ１及び時系列データＴＳ２をあらわすグラフＧ２を時間軸方向に平行移動したグラフＧ２−Ｓｉ（ｉ＝１，２，３，４）を重ね合わせて描画する。レシピＲ１の実行時に発生したイベントＳｉ及びレシピＲ２の実行時に発生した対応するイベントＳｉ’の各々に着目し、グラフＧ１における着目したイベントＳｉの発生タイミングと、グラフＧ２における着目したイベントＳｉ’の発生タイミングとを時間軸上で一致させたグラフＧ２−Ｓｉを着目したイベントＳｉごとに１個ずつ描画する。【選択図】図３
2009271585.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示するグラフ表示装置であって、
画像を表示する表示部と、
レシピの第１の実行時に記録された第１の時系列データ及びレシピの第２の実行時に記録された第２の時系列データを取得する時系列データ取得手段と、
レシピの第１の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第１のイベント履歴データ及びレシピの第２の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第２のイベント履歴データを取得するイベント履歴データ取得手段と、
レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸及び状態値を示す状態値軸が定義された描画領域に、前記時系列データ取得部が取得した第１の時系列データをあらわす第１のグラフと、前記時系列データ取得部が取得した第２の時系列データをあらわすグラフを時間軸方向に平行移動した第２のグラフと、を重ね合わせて描画した画像を前記表示部に表示させる表示制御手段と、
を備え、
前記表示制御手段は、
第１のグラフを描画する第１の描画手段と、
レシピの第１の実行時に発生したイベント及びレシピの第２の実行時に発生した対応するイベントの対に着目し、前記イベント履歴データ取得手段が取得した第１のイベント履歴データ及び第２のイベント履歴データを参照して、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させた第２のグラフを着目したイベントの対ごとに描画する第２の描画手段と、
を備えるグラフ表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載のグラフ表示装置において、
前記第２の描画手段は、
第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと着目したイベントの直後のイベントの発生タイミングとの間の区間の表示態様と残余の区間の表示態様とを異ならせる、
グラフ表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載のグラフ表示装置において、
前記第２の描画手段は、
着目したイベントの発生タイミングと着目したイベントの直前のイベントの発生タイミングとの間の区間の表示態様と残余の区間の表示態様とを異ならせる、
グラフ表示装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のグラフ表示装置において、
前記表示制御手段は、
レシピの第１の実行時に発生したイベントの発生タイミングを示す線分を描画する第３の描画手段、
をさらに備えるグラフ表示装置。
【請求項５】
ステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示するグラフ表示方法であって、
(a)レシピの第１の実行時に記録された第１の時系列データ及びレシピの第２の実行時に記録された第２の時系列データを取得する工程と、
(b)レシピの第１の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第１のイベント履歴データ及びレシピの第２の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第２のイベント履歴データを取得する工程と、
(c)レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸及び状態値を示す状態値軸が定義された描画領域に、前記工程(a)において取得した第１の時系列データをあらわす第１のグラフと、前記工程(a)において取得した第２の時系列データをあらわすグラフを時間軸方向に平行移動した第２のグラフと、を重ね合わせて描画した画像を表示部に表示させる工程と、
を備え、
前記工程(c)は、
(c-1)第１のグラフを描画する工程と、
(c-2)レシピの第１の実行時に発生したイベント及び第２の実行時に発生した対応するイベントの対に着目し、前記工程(ｂ)において取得した第１のイベント履歴データ及び第２のイベント履歴データを参照して、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させた第２のグラフを着目したイベントの対ごとに描画する工程と、
を備えるグラフ表示方法。
【請求項６】
コンピュータに実行されることによりステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示するグラフ表示プログラムであって、前記グラフ表示プログラムは、ＣＰＵとメモリとを備えたコンピュータに、
(a)レシピの第１の実行時に記録された第１の時系列データ及びレシピの第２の実行時に記録された第２の時系列データを取得する工程と、
(b)レシピの第１の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第１のイベント履歴データ及びレシピの第２の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第２のイベント履歴データを取得する工程と、
(c)レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸及び状態値を示す状態値軸が定義された描画領域に、前記工程(a)において取得した第１の時系列データをあらわす第１のグラフと、前記工程(a)において取得した第２の時系列データをあらわすグラフを時間軸方向に平行移動した第２のグラフと、を重ね合わせて描画した画像を表示部に表示させる工程と、
を実行させ、
前記工程(c)は、
(c-1)第１のグラフを描画する工程と、
(c-2)レシピの第１の実行時に発生したイベント及び第２の実行時に発生した対応するイベントの対に着目し、前記工程(ｂ)において取得した第１のイベント履歴データ及び第２のイベント履歴データを参照して、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させた第２のグラフを着目したイベントの対ごとに描画する工程と、
を実行させるグラフ表示プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化をグラフ表示するグラフ表示装置、グラフ表示方法及びグラフ表示プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置に半導体ウエハを処理させる場合、ステップごとに処理の内容を定めたレシピを半導体製造装置に入力し、当該レシピを半導体製造装置に実行させることが一般的に行われている。
【０００３】
一方、半導体製造装置の状態を解析するため、半導体製造装置の状態を示す状態値、例えば、処理チャンバの内部の温度や処理のために供給した薬液の濃度等の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示することも一般的に行われている。さらに、正常時と異常時との比較等を行うため、レシピの実行時に記録された時系列データをあらわす２個のグラフを重ね合わせて表示することも一般的に行われている。
【０００４】
特許文献１は、本願発明と関連する文献公知発明が記載された先行技術文献である。特許文献１には、時系列データをあらわす２個のグラフを重ね合わせて表示することが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２９８２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、半導体製造装置がレシピを実行する場合、薬液の交換等のレシピの実行時の個別の事情や個々の半導体製造装置の能力差に起因してステップの進行すなわちイベントの発生タイミングは異なる。このため、時系列データをあらわす２個のグラフを単に重ね合わせたのでは、ステップごとに状態値を比較することは困難である。
【０００７】
本発明は、この問題を解決するためになされたもので、ステップごとに状態値を比較することが容易なグラフを表示するグラフ表示装置、グラフ表示方法及びグラフ表示プログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、ステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示するグラフ表示装置であって、画像を表示する表示部と、レシピの第１の実行時に記録された第１の時系列データ及びレシピの第２の実行時に記録された第２の時系列データを取得する時系列データ取得手段と、レシピの第１の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第１のイベント履歴データ及びレシピの第２の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第２のイベント履歴データを取得するイベント履歴データ取得手段と、レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸及び状態値を示す状態値軸が定義された描画領域に、前記時系列データ取得部が取得した第１の時系列データをあらわす第１のグラフと、前記時系列データ取得部が取得した第２の時系列データをあらわすグラフを時間軸方向に平行移動した第２のグラフと、を重ね合わせて描画した画像を前記表示部に表示させる表示制御手段と、を備え、前記表示制御手段は、第１のグラフを描画する第１の描画手段と、レシピの第１の実行時に発生したイベント及びレシピの第２の実行時に発生した対応するイベントに着目し、前記イベント履歴データ取得手段が取得した第１のイベント履歴データ及び第２のイベント履歴データを参照して、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させた第２のグラフを着目したイベントの対ごとに描画する第２の描画手段と、を備える。
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１に記載のグラフ表示装置において、前記第２の描画手段は、第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと着目したイベントの直後のイベントの発生タイミングとの間の区間の表示態様と残余の区間の表示態様とを異ならせる。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１に記載のグラフ表示装置において、前記第２の描画手段は、着目したイベントの発生タイミングと着目したイベントの直前のイベントの発生タイミングとの間の区間の表示態様と残余の区間の表示態様とを異ならせる。
【００１１】
請求項４の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のグラフ表示装置において、前記表示制御手段は、レシピの第１の実行時に発生したイベントの発生タイミングを示す線分を描画する第３の描画手段、をさらに備える。
【００１２】
請求項５の発明は、ステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示するグラフ表示方法であって、(a)レシピの第１の実行時に記録された第１の時系列データ及びレシピの第２の実行時に記録された第２の時系列データを取得する工程と、(b)レシピの第１の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第１のイベント履歴データ及びレシピの第２の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第２のイベント履歴データを取得する工程と、(c)レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸及び状態値を示す状態値軸が定義された描画領域に、前記工程(a)において取得した第１の時系列データをあらわす第１のグラフと、前記工程(a)において取得した第２の時系列データをあらわすグラフを時間軸方向に平行移動した第２のグラフと、を重ね合わせて描画した画像を表示部に表示させる工程と、を備え、前記工程(c)は、(c-1)第１のグラフを描画する工程と、(c-2)レシピの第１の実行時に発生したイベント及び第２の実行時に発生した対応するイベントの対に着目し、前記工程(ｂ)において取得した第１のイベント履歴データ及び第２のイベント履歴データを参照して、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させた第２のグラフを着目したイベントの対ごとに描画する工程と、を備える。
【００１３】
請求項６の発明は、コンピュータに実行されることによりステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態を示す状態値の時間変化を記録した時系列データをグラフ表示するグラフ表示プログラムであって、前記グラフ表示プログラムは、ＣＰＵとメモリとを備えたコンピュータに、(a)レシピの第１の実行時に記録された第１の時系列データ及びレシピの第２の実行時に記録された第２の時系列データを取得する工程と、(b)レシピの第１の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第１のイベント履歴データ及びレシピの第２の実行時のステップの進行を示すイベントの発生タイミングが記録された第２のイベント履歴データを取得する工程と、(c)レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸及び状態値を示す状態値軸が定義された描画領域に、前記工程(a)において取得した第１の時系列データをあらわす第１のグラフと、前記工程(a)において取得した第２の時系列データをあらわすグラフを時間軸方向に平行移動した第２のグラフと、を重ね合わせて描画した画像を表示部に表示させる工程と、を実行させ、前記工程(c)は、(c-1) 第１のグラフを描画する工程と、(c-2)レシピの第１の実行時に発生したイベント及び第２の実行時に発生した対応するイベントの対に着目し、前記工程(ｂ)において取得した第１のイベント履歴データ及び第２のイベント履歴データを参照して、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させた第２のグラフを着目したイベントの対ごとに描画する工程と、を実行させる。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１ないし請求項６の発明によれば、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングとが時間軸上で一致するので、着目したイベントの前後のステップにおける状態値の比較が容易になり、ステップごとに状態値を比較することが容易になる。
【００１５】
請求項２の発明によれば、第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと着目したイベントの直後のイベントの発生タイミングと間の区間を視覚的に認識しやすくなるので、着目したイベントの直後のステップにおける状態値の比較が容易になる。
【００１６】
請求項３の発明によれば、第２のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと着目したイベントの直前のイベントの発生タイミングと間の区間を視覚的に認識しやすくなるので、着目したイベントの直前のステップにおける状態値の比較が容易になる。
【００１７】
請求項４の発明によれば、イベントの発生タイミングを認識することが容易になるので、ステップごとに状態値を比較することがさらに容易になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
＜１  はじめに＞
｛概略｝
以下では、ステップごとに処理の内容を定めたレシピを実行する産業用装置の状態値の時間変化を記録した複数の時系列データを重ね合わせてグラフ表示するのにあたって、第１のグラフにおける着目したイベントの発生タイミングと第２のグラフにおける着目した対応するイベントの発生タイミングとを時間軸上で一致させる技術について説明する。
【００１９】
｛産業用装置｝
「産業用装置」とは、事業に用いる装置、特に、製品の製造に用いる製造装置をいう。「製造装置」は、対象物を加工する装置を含むことは当然であるが、対象物を加工しないが製品の製造に必要な装置、例えば、検査装置、搬送装置、環境管理装置等も含む。第１実施形態〜第３実施形態の欄では、半導体ウエハを処理する半導体製造装置を産業用装置の具体例として実施の形態を説明するが、このことは、本発明でいう「産業用装置」が半導体製造装置に限られることを意味しない。「半導体製造装置」は、例えば、洗浄装置、熱処理装置、不純物導入装置、薄膜形成装置、リソグラフィ装置、平坦化装置等を含む。
【００２０】
｛状態値｝
「状態値」とは、産業用装置の状態を示す値である。グラフ表示の対象とする状態値は、処理を行う処理チャンバの内部の温度・湿度・圧力等、処理のために供給する処理液・処理ガスの濃度・供給量等、処理のために供給する電力の電圧・電流等のような産業用装置による処理の結果に影響を与える値であることが望ましい。第１実施形態〜第３実施形態の欄では、半導体ウエハを処理する半導体製造装置の処理チャンバの内部の温度を「状態値」の具体例として実施の形態を説明するが、このことは、本発明でいう「状態値」が処理チャンバの内部の温度に限られることを意味しない。また、１種類の状態値だけでなく、２種類以上の状態値をグラフ表示するようにしてもよい。
【００２１】
＜２  第１実施形態＞
＜２−１  半導体製造システム１０２の概略構成＞
｛半導体製造システム１０２の全体｝
図１は、本発明の第１実施形態に係る半導体製造システム１０２の概略構成を示すブロック図である。
【００２２】
図１に示すように、半導体製造システム１０２は、半導体製造装置１０４、監視制御データ記録サーバ１２０及び監視制御データ閲覧クライアント１３４を備える。半導体製造装置１０４、監視制御データ記録サーバ１２０及び監視制御データ閲覧クライアント１３４は、通信回線１４８によって接続され、相互間でデータを送受信することができる。
【００２３】
｛半導体製造装置１０４｝
半導体製造装置１０４は、処理チャンバ１０６及び制御コンピュータ１０８を備える。
【００２４】
処理チャンバ１０６は、半導体ウエハを処理する。
【００２５】
制御コンピュータ１０８は、ＣＰＵ１１０、主記憶装置であるメモリ１１２及び副記憶装置であるハードディスクドライブ１１４を備える。ハードディスクドライブ１１４には、制御プログラム１１６がインストールされている。また、ハードディクスドライブ１１４には、ステップごとに処理の内容を定めたレシピ１１８が記憶されている。制御コンピュータ１０８は、制御プログラム１１６をメモリ１１２にロードして実行することにより、レシピ１１８に従った処理が処理チャンバ１０６において行われるように処理チャンバ１０６を制御する。これにより、半導体製造装置１０４は、レシピ１１８をステップごとに順を追って実行する。
【００２６】
また、制御コンピュータ１０８は、処理チャンバ１０６の内部の温度の計測結果を処理チャンバ１０６から取得し、レシピ１１８の実行時の温度の時間変化を記録した時系列データを監視制御データ記録サーバ１２０へ送信する。監視制御データ記録サーバ１２０への時系列データの送信は、レシピ１１８の実行を終了してからまとめて行ってもよいし、温度の計測結果を取得する都度行ってもよい。
【００２７】
さらに、制御コンピュータ１０８は、レシピ１１８の実行時のステップの進行を示すイベント（レシピステップイベント）の発生タイミングを記録したイベント履歴データを監視制御データ記録サーバ１２０へ送信する。監視制御データ記録サーバ１２０へのイベント履歴データの送信は、レシピの実行を終了してからまとめて行ってもよいし、イベントが発生する都度行ってもよい。
【００２８】
｛監視制御データ記録サーバ１２０｝
監視制御データ記録サーバ１２０は、ＣＰＵ１２２、主記憶装置であるメモリ１２４及び副記憶装置であるハードディスクドライブ１２６を備えるコンピュータである。ハードディスクドライブ１２６には、監視制御データ記録プログラム１２８がインストールされている。監視制御データ記録サーバ１２０は、監視制御データ記録プログラム１２８をメモリにロードして実行することにより、時系列データを格納する時系列データベース１３０及びイベント履歴データを格納するイベント履歴データベース１３２をハードディスクドライブ１２６に構築する。監視制御データ記録サーバ１２０は、半導体製造装置１０４が送信した時系列データを受信して時系列データベース１３０に書き込むとともに、半導体製造装置１０４が送信したイベント履歴データを受信してイベント履歴データベース１３２に書き込む。また、監視制御データ記録サーバ１２０は、監視制御データ閲覧クライアント１３４が送信したリクエストを受信し、リクエストに応じた時系列データを時系列データベース１３０から読み出して監視制御データ閲覧クライアント１３４へ送信するとともに、リクエストに応じたイベント履歴データをイベント履歴データベース１３２から読み出して監視制御データ閲覧クライアント１３４へ送信する。
【００２９】
｛監視制御データ閲覧クライアント１３４｝
監視制御データ閲覧クライアント１３４は、ＣＰＵ１３６、主記憶装置であるメモリ１３８及び副記憶装置であるハードディスクドライブ１４０を備えるコンピュータであって、画像を表示する表示部１４４及び操作者の操作を受け付ける操作部１４６を備える。ハードディスクドライブ１４０には、監視制御データ閲覧プログラム１４２がインストールされている。監視制御データ閲覧クライアント１３４は、監視制御データ閲覧プログラム１４２をメモリ１３８にロードして実行することにより、操作者が選択した２個のレシピＲ１，Ｒ２の実行時に記録された時系列データＴＳ１，ＴＳ２を重ね合わせて表示するグラフ表示装置として機能する。表示部１４４としては、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイを採用することができる。
【００３０】
｛その他｝
図１には、半導体製造システム１０２が、半導体製造装置１０４、監視制御データ記録サーバ１２０及び監視制御データ閲覧クライアント１３４を各々１台ずつ備える場合が示されているが、半導体製造システム１０２が備える半導体製造装置１０４、監視制御データ記録サーバ１２０及び監視制御データ閲覧クライアント１３４の台数を各々２台以上としてもよい。また、図１には、半導体製造装置１０４、監視制御データ記録サーバ１２０及び監視制御データ閲覧クライアント１３４を別体の装置として構成する場合が示されているが、これらのうちの任意の２台又は３台を一体の装置として構成してもよい。
【００３１】
＜２−２  監視制御データ閲覧クライアント１３４の詳細構成＞
｛監視制御データ閲覧クライアント１３４の全体｝
図２は、表示部１４４及び操作部１４６に加えて、監視制御データ閲覧クライアント１３４が監視制御データ閲覧プログラム１４２を実行することにより実現される機能を時系列データ取得部１５０、イベント履歴データ取得部１５２及び表示制御部１５４（第１グラフ描画部１５６、第２グラフ描画部１５８、平行移動量決定部１６０、イベントタイミングライン描画部１６２、軸描画部１６４）として示したブロック部である。なお、これらの機能の全部又は一部を専用のハードウエアによる処理によって実現してもよいし、ハードウエアによる処理とソフトウエアによる処理との協働によって実現してもよい。
【００３２】
対比対象となるレシピＲ１，Ｒ２は、１台の半導体製造装置１０４において時を異にして実行された同種のレシピであるが、半導体製造システム１０２が２台以上の半導体製造装置１０４を備える場合には、２台の半導体製造装置１０４において別々に実行された同種のレシピであってもよい。「同種のレシピ」とは、個々の半導体製造装置１０４の能力差に応じて処理時間がカスタマイズされていてもよいが、ステップの数やステップの各々について定められた処理の内容が同じであるレシピをいう。ただし、同種のレシピを実行したとしても、薬液の交換等のレシピの実行時の個別の事情や個々の半導体製造装置１０４の能力差に起因してステップの進行すなわちイベントの発生タイミングは異なる。
【００３３】
｛時系列データ取得部１５０｝
図２に示すように、時系列データ取得部１５０は、操作部１４６を用いて操作者が選択したレシピＲ１，Ｒ２の実行時に記録された時系列データＴＳ１，ＴＳ２の送信を監視制御データ記録サーバ１２０にリクエストし、取得した時系列データＴＳ１，ＴＳ２を表示制御部１５４へ与える。
【００３４】
｛イベント履歴データ取得部１５２｝
イベント履歴データ取得部１５２は、操作部１４６を用いて操作者が選択したレシピＲ１，Ｒ２の実行時に記録されたイベント履歴データＥＨ１，ＥＨ２の送信を監視制御データ記録サーバ１２０にリクエストし、取得したイベント履歴データＥＨ１，ＥＨ２を表示制御部１５４へ与える。
【００３５】
｛表示制御部１５４｝
図３は、表示制御部１５４が表示部１４４に表示させる画像１６６を示す図である。図３に示すように、表示制御部１５４は、レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸１６８及び温度を示す温度軸１７０が定義された描画領域１７２に、時系列データＴＳ１をあらわすグラフＧ１及び時系列データＴＳ２をあらわすグラフＧ２（図６を参照）を時間軸方向に平行移動したグラフＧ２−Ｓ１，Ｇ２−Ｓ２，Ｇ２−Ｓ３，Ｇ２−Ｓ４を重ね合わせて描画した画像１６６を表示部１４４に表示させる。
【００３６】
また、表示制御部１５４は、時間軸１６８、温度軸１７０及びイベントタイミングライン１７４を描画領域１７２に描画する。イベントタイミングライン１７４は、時間軸１６８に垂直な線分であって、レシピＲ１の実行時のイベントＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４の発生タイミングを示している。
【００３７】
｛第１グラフ描画部１５６｝
図４は、表示制御部１５４の機能の一部を示す第１グラフ描画部１５６が描画するグラフＧ１を説明する図である。図４に示すように、第１グラフ描画部１５６は、時系列データＴＳ１をあらわすグラフＧ１を描画領域１７２に描画する。
【００３８】
｛第２グラフ描画部１５８｝
図５は、表示制御部１５４の機能の一部を示す第２グラフ描画部１５８が描画するグラフＧ２−Ｓ１，Ｇ２−Ｓ２，Ｇ２−Ｓ３，Ｇ２−Ｓ４を説明する図である。また、図６は、グラフＧ２−Ｓ１，Ｇ２−Ｓ２，Ｇ２−Ｓ３，Ｇ２−Ｓ４の基礎となった時系列データＴＳ２をあらわすグラフＧ２を示す図である。図５に示すように、第２グラフ描画部１５８は、レシピＲ１の実行時に発生したイベントＳｉ及びレシピＲ２の実行時に発生した対応するイベントＳｉ’（ｉ＝１，２，３，４）の対の各々に着目し、グラフＧ１における着目したイベントＳｉの発生タイミングと、グラフＧ２における着目したイベントＳｉ’の発生タイミングとを時間軸上で一致させたグラフＧ２−Ｓｉを着目したイベントＳｉ，Ｓｉ’の対ごとに１個ずつ描画する。グラフＧ２−Ｓｉは、着目したイベントＳｉ，Ｓｉ’の前後におけるグラフＧ１との対比を容易にするために描画されている。したがって、グラフＧ２を時間軸方向に移動したグラフＧ２−Ｓｉの数はイベントの数に応じて増減され，必ずしも４個であるとは限らない。
【００３９】
｛平行移動量決定部１６０｝
表示制御部１５４の機能の一部を示す平行移動量決定部１６０は、第２グラフ描画部１５８がグラフＧ２−Ｓｉを描画するときのグラフＧ２からの平行移動量Ｐｉをイベント履歴データＥＨ１，ＥＨ２を参照して決定する。平行移動量Ｐｉは、イベントＳｉの発生タイミングＴＭｉと、イベントＳｉ’の発生タイミングＴＭｉ’から、算出式Ｐｉ＝ＴＭｉ−ＴＭｉ’で算出する。ここで、イベントＳｉの発生タイミングＴＭｉよりもイベントＳｉ’の発生タイミングＴＭｉ’の方が先であって平行移動量Ｐｉが正である場合は、時間が進行する方向（図３では右方）にグラフＧ２を平行移動し、イベントＳｉの発生タイミングＴＭｉよりもイベントＳｉ’の発生タイミングＴＭｉ’の方が後であって平行移動量Ｐｉが負である場合は、時間が進行する方向とは逆の方向（図３では左方）にグラフＧ２を平行移動する。
【００４０】
｛イベントタイミングライン描画部１６２｝
表示制御部１５４の機能の一部を示すイベントタイミングライン描画部１６２は、イベント履歴データＥＨ１を参照してイベントタイミングライン１７４を描画する。ただし、イベントタイミングライン１７４を描画することは必須ではなく、イベントタイミングライン１７４の描画を省略してもよい。
【００４１】
｛軸描画部１６４｝
表示制御部１５４の機能の一部を示す軸描画部１６４は、時間軸１６８及び温度軸１７０を描画する。なお、図３に示すように時間軸１６８及び温度軸１７０の両方を描画することは必須ではなく、時間軸１６８及び温度軸１７０の両方又は片方の描画を省略してもよい。
【００４２】
＜２−３  監視制御データ閲覧クライアント１３４の動作＞
図７は、時系列データＴＳ１，ＴＳ２を重ね合わせてグラフ表示するときの監視制御データ閲覧クライアント１３４の動作を示すフローチャートである。
【００４３】
図７に示すように、時系列データＴＳ１，ＴＳ２を重ね合わせてグラフ表示する場合、まず、対比の対象となるレシピＲ１，Ｒ２を操作部１４６を用いて操作者に特定させる（ステップＳ１０１）。
【００４４】
続いて、時系列データ取得部１５０がレシピＲ１，Ｒ２の実行時に記録された時系列データＴＳ１，ＴＳ２を監視制御データ記録サーバ１２０から取得するとともに（ステップＳ１０２）、イベント履歴データ取得部１５２がレシピＲ１，Ｒ２の実行時に記録されたイベント履歴データＥＨ１，ＥＨ２を監視制御データ記録サーバ１２０から取得する（ステップＳ１０３）。
【００４５】
さらに続いて、表示制御部１５４は、グラフ表示のための処理を行う。すなわち、軸描画部１６４が時間軸１６８及び温度軸１７０を描画し（ステップＳ１０４）、イベントタイミングライン描画部１６２がイベントタイミングライン１７４を描画する（ステップＳ１０５）。また、第１グラフ描画部１５６が時系列データＴＳ１をあらわすグラフＧ１を描画する（ステップＳ１０６）。さらに、平行移動量決定部１６０が平行移動量Ｐｉを算出し（ステップＳ１０７）、それに基づいて第２グラフ描画部１５８が時系列データＴＳ２をあらわすグラフＧ２を平行移動したグラフＧ２−Ｓｉを描画する（ステップＳ１０８）。
【００４６】
なお、時間軸１６８及び温度軸１７０の描画（ステップＳ１０４）、イベントタイミングライン１７４の描画（ステップＳ１０５）、グラフＧ１の描画（ステップＳ１０６）、グラフＧ２−Ｓｉの描画（ステップＳ１０８）の実行順序を変更してもよいし、これらの描画を同時に行ってもよい。また、平行移動量Ｐｉの算出（ステップＳ１０７）は、グラフＧ２−Ｓｉの描画（ステップＳ１０８）の前に実行すれば足りる。時系列データＴＳ１の取得（ステップＳ１０２）は、グラフＧ１の描画（ステップ１０６）の前、時系列データＴＳ２の取得（ステップＳ１０２）は、グラフＧ２−Ｓｉの描画の前（ステップ１０８）に実行すれば足りる。イベント履歴データＥＨ１の取得（Ｓ１０３）は、イベントタイミングライン１７４の描画（ステップ（Ｓ１０５）及び平行移動量Ｐｉの算出（ステップＳ１０７）の前、イベント履歴データＥＨ２の取得（Ｓ１０３）は、平行移動量Ｐｉの算出（ステップＳ１０７）の前に実行すれば足りる。
【００４７】
このようにしてグラフＧ１及びグラフＧ２−Ｓｉを重ね合わせて描画した画像１６６を参照すれば、グラフＧ１における着目したイベントＳｉの発生タイミングとグラフＧ２−Ｓｉにおける着目したイベントＳｉ’の発生タイミングとが時間軸上で一致するので、着目したイベントＳｉ，Ｓｉ’の前後のステップにおけるグラフＧ１とグラフＧ２−Ｓｉとの対比が容易になり、着目したイベントＳｉ，Ｓｉ’の前後のステップにおける温度の比較が容易になり、ステップごとに温度を比較することが容易になる。
【００４８】
また、イベントタイミングライン１７４により、イベントＳｉの発生タイミングを認識することが容易になるので、ステップごとに温度を比較することがさらに容易になる。
【００４９】
＜３  第２実施形態＞
第２実施形態は、第１実施形態に係る画像１６６に代わる画像２６６に関する。図８は、画像２６６を示す図である。
【００５０】
図８に示すように、画像２６６には、時間軸２６８、温度軸２７０、イベントタイミングライン２７４及びグラフＧ１ｂ，Ｇ２−Ｓ１ｂ，Ｇ２−Ｓ２ｂ，Ｇ２−Ｓ３ｂ，Ｇ２−Ｓ４ｂが描画されている。これらのうち、時間軸２６８、温度軸２７０、イベントタイミングライン２７４及びグラフＧ１ｂは、画像１６６に描画された時間軸１６８、温度軸１７０、イベントタイミングライン１７４及びグラフＧ１と同様のものである。また、グラフＧ２−Ｓｉｂ（ｉ＝１，２，３，４）は、グラフＧ２−ＳｉにおけるイベントＳｉ’の発生タイミングとイベントＳｉ’の直後のイベントＳｉ＋１’の発生タイミングとの間の区間、すなわち、時間軸上でいえばイベントＳｉの発生タイミングとイベントＳｉの直後のイベントＳｉ＋１の発生タイミングとの間の区間（以下では、「後続区間」という）を相対的に目立ちやすい実線で描画し、残余の区間を相対的に目立ちにくい点線で描画する。このように、後続区間と残余の区間とで表示態様を異ならせると、後続区間を視覚的に認識しやすくなるので、着目したイベントＳｉ，Ｓｉ’の直後のステップにおける温度の比較が容易になる。もちろん、後続区間と残余の区間とで線種を異ならせることにより表示態様を異ならせることは必須でななく、他の方法で表示態様を異ならせてもよい。例えば、後続区間と残余の区間とで線幅を異ならせ、後続区間を相対的に目立ちやすい太線で描画し、残余の区間を相対的に目立ちにくい細線で描画してもよい。又は、後続区間と残余の区間とで線色を異ならせ、後続区間を相対的に目立ちやすい濃色で描画し、残余の区間を相対的に目立ちにくい淡色で描画してもよい。
【００５１】
＜４  第３実施形態＞
第３実施形態は、第１実施形態に係る画像１６６に代わる画像３６６に関する。図９は、画像３６６を示す図である。
【００５２】
図９に示すように、画像３６６には、時間軸３６８、温度軸３７０、イベントタイミングライン３７４及びグラフＧ１ｃ，Ｇ２−Ｓ１ｃ，Ｇ２−Ｓ２ｃ，Ｇ２−Ｓ３ｃ，Ｇ２−Ｓ４ｃが描画されている。これらのうち、時間軸３６８、温度軸３７０、イベントタイミングライン３７４及びグラフＧ１ｃは、画像１６６に描画された時間軸１６８、温度軸１７０、イベントタイミングライン１７４及びグラフＧ１と同様のものである。また、グラフＧ２−Ｓｉｃ（ｉ＝１，２，３，４）は、グラフＧ２−ＳｉにおけるイベントＳｉ’の発生タイミングとイベントＳｉ’の直前のイベントＳｉ−１’の発生タイミングとの間の区間、すなわち、時間軸上でいえばイベントＳｉの発生タイミングとイベントＳｉの直前のイベントＳｉ−１の発生タイミングとの間の区間（以下では、「先行区間」という）を実線で描画し、残余の区間を点線で描画する。このように、先行区間と残余の区間とで表示態様を異ならせると、先行区間を視覚的に認識しやすくなるので、着目したイベントＳｉ，Ｓｉ’の直前のステップにおける温度の比較が容易になる。もちろん、線種ではなく線幅、線色等により表示態様を異ならせてもよいことは、第２実施形態の場合と同様である。
【００５３】
＜５  その他＞
第１実施形態〜第３実施形態では、それぞれ、画像１６６，２６６，３６６のうちのいずれか１つのみを表示する実施形態について説明したが、これらのうちの２つ以上を同時に又は切り替えて表示してもよい。
【００５４】
この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】第１実施形態に係る半導体製造システムの概略構成を示すブロック図である。
【図２】監視制御データ閲覧クライアントの詳細構成を示すブロック図である。
【図３】表示制御部が表示部に表示させる画像を示す図である。
【図４】第１グラフ描画部が描画するグラフを説明する図である。
【図５】第２グラフ描画部が描画するグラフを説明する図である。
【図６】時系列データをあらわすグラフを示す図である。
【図７】監視制御データ閲覧クライアントの動作を説明するフローチャートである。
【図８】表示制御部が表示部に表示させる画像を示す図である。
【図９】表示制御部が表示部に表示させる画像を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０２  半導体製造システム
１０４  半導体製造装置
１２０  監視制御データ記録サーバ
１３４  監視制御データ閲覧クライアント
１４４  表示部
１４６  操作部
１４８  通信回線
１５０  時系列データ取得部
１５２  イベント履歴データ取得部
１５４  表示制御部
１５６  第１グラフ描画部
１５８  第２グラフ描画部
１６０  平行移動量決定部
１６２  イベントタイミングライン描画部
１６６，２６６，３６６  画像
１６８，２６８，３６８  時間軸
１７０，２７０，３７０  温度軸
１７２  描画領域
１７４，２７４，３７４  イベントタイミングライン
Ｇ１，Ｇ２−Ｓ１，Ｇ２−Ｓ２，Ｇ２−Ｓ３，Ｇ２−Ｓ４，Ｇ１ｂ，Ｇ２−Ｓ１ｂ，Ｇ２−Ｓ２ｂ，Ｇ２−Ｓ３ｂ，Ｇ２−Ｓ４ｂ，Ｇ１ｃ，Ｇ２−Ｓ１ｃ，Ｇ２−Ｓ２ｃ，Ｇ２−Ｓ３ｃ，Ｇ２−Ｓ４ｃ  グラフ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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