(57)【要約】【課題】回転ドラムの外周に設けた起毛が摩耗した場合、誰でも簡単に再生させることが可能で、再生時の作業性のよいラビングロールを提供する。【解決手段】ラビングロール２０４は、回転ドラム２０４ａと、回転ドラム２０４ａの外周に接着剤を塗布して形成した接着層２０４ｂと、接着層２０４ｂに植設された無数のフィラメントＦからなる起毛層２０４ｃとを備える。フィラメントＦは、接着層２０４ｂに対して静電気力の働きにより植設される。【選択図】図８
2009042503.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶用基板上に形成された配向膜にラビング処理を施すラビングロールであって、
回転ドラムと、
前記回転ドラムの外周に接着剤を塗布して形成した接着層と、
前記接着層に植設された無数のフィラメントからなる起毛層と
を備えることを特徴とするラビングロール。
【請求項２】
前記回転ドラムと前記接着層とが導電性を有していると共に、該回転ドラムがアースされている
ことを特徴とする請求項１記載のラビングロール。
【請求項３】
前記フィラメントが帯電性物質で形成されている
ことを特徴とする請求項１或いは２記載のラビングロール。
【請求項４】
液晶用基板上に形成された配向膜にラビング処理を施すラビングロールの製造方法であって、
回転ドラムの外周に接着層を形成する接着層形成工程と、
前記回転ドラムにプラス電荷を帯電させ、該回転ドラムの外周に形成された前記接着層に対し、マイナス電荷が帯電されたフィラメントを静電気力の働きにより植設して起毛層を形成する起毛層形成工程と
を備えることを特徴とするラビングロールの製造方法。
【請求項５】
前記接着層形成工程の前工程として、前記回転ドラムの外周に形成されている前記接着層を溶融して摩耗した前記起毛層を剥離する起毛層除去工程を有する
ことを特徴とする請求項４記載のラビングロールの製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載のラビングロールを用いて液晶用基板上に形成された配向膜にラビング処理を施す液晶装置の製造方法であって、
回転する前記回転ドラムと前記液晶用基板とを相対移動させて、該回転ドラムの外周に形成されている前記起毛層にて、前記配向膜の表面に溝を形成する
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転ドラムの外周に接着層を介して起毛層を形成したラビングロール、ラビングロールの製造方法、及びこのラビングロールを用いて配向膜にラビング処理を施す液晶装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶プロジェクタ等の投射型表示装置に搭載される光変調手段や、携帯電話等に搭載される直視型表示装置として用いられる液晶装置は、互いに対向する一対の基板を有し、この両基板間に液晶層が挟持されている。又、両基板には液晶層に対して電圧を印加するための電極が各々形成されている。
【０００３】
この一対の基板の対向面には、それぞれ、電圧無印加時において液晶層を構成する液晶分子を所定の配向状態とするための配向膜が形成されている。この配向膜は、ポリイミド樹脂等の配向性高分子からなり、その表面、すなわち、液晶層との界面にはラビング処理が予め施されている。
【０００４】
ラビング処理は、ラビングクロス材等のラビング布を回転ドラムに巻回してなるラビングロールを回転させながら、配向膜表面上を一定方向に摺動させることで、ラビング布の起毛部先端で配向膜の表面に溝を形成するものである。配向膜表面をラビング処理することで、液晶分子をラビング方向に配向させることができる。
【０００５】
ところで、ラビング処理を繰り返すと、ラビング布の起毛が摩耗するため、一定期間毎にラビング布を交換する必要がある。そのため、回転ドラムに対してラビング布を交換自在に貼付する技術が種々提案されている。
【０００６】
例えば、特許文献１（特開２００５−９１８９９号公報）には、ラビング布の裏面にクッション材を積層し、このクッション材の裏面を回転ドラムに貼付した技術が開示されている。
【０００７】
この文献に開示されている技術によれば、ラビング布の起毛が摩耗した場合、それを積層するクッション材を回転ドラムから剥離し、ラビング布の積層されている新たなクッション材を回転ドラムに貼付することで交換することができる。
【特許文献１】特開２００５−９１８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上述した文献に開示されている技術では、ラビング布をクッション材を介して回転ドラムに貼付するようにしているため、貼り付ける際にシワが発生しやすく、均一に貼り付けるには熟練が必要で、誰でも簡単に貼り付けることができない。
【０００９】
又、繰り返しラビング処理を行っている際に、クッション材にシワやヨレが発生し易く、ラビング不良の発生原因となる。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑み、回転ドラムの外周に設けた起毛が摩耗した場合、誰でも簡単に再生させることが可能で、再生時の作業性が良く、しかも、起毛を接着する接着層にシワやヨレが発生せず、ラビング不良の発生原因を低減させることのできるラビングロールの製造方法、ラビングロール、並びに液晶装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため第１発明は、液晶用基板上に形成された配向膜にラビング処理を施すラビングロールであって、回転ドラムと、前記回転ドラムの外周に接着剤を塗布して形成した接着層と、前記接着層に植設された無数のフィラメントからなる起毛層とを備えることを特徴とする。
【００１２】
このような構成では、回転ドラムの外周に接着剤を直接塗布することで接着層を形成し、この接着層に無数のフィラメントを植設して起毛層を形成したので、接着層、及びこの接着層を介して保持されている起毛層を回転ドラムに強固に保持させることができる。その結果、起毛層を接着する接着層にシワやヨレが発生せず、又、起毛層が抜け落ちることがなくなり、ラビング不良の発生原因を低減させることができる。又、回転ドラムの外周に設けた起毛層が摩耗した場合、この起毛層を保持する接着層を融解させることで、接着層と基層槽とを回転ドラムから簡単に除去することができ、再生時の作業性が良い。
【００１３】
第２発明は、第１発明において、前記回転ドラムと前記接着層とが導電性を有していると共に、該回転ドラムがアースされていることを特徴とする。
【００１４】
このような構成では、回転ドラムと接着層とが導電性を有し、更に回転ドラムをアースさせたので、ラビング処理中に発生する静電気は、回転ドラムを介して逃がされるため、ラビング処理中に、配向膜が形成されている基板に電荷が帯電することがなくなり、製品の品質が向上する。
【００１５】
第３発明は、第１或いは第２発明において、前記フィラメントが帯電性物質で形成されていることを特徴とする。
【００１６】
このような構成では、フィラメントを帯電性物質で形成したので、このフィラメントに静電誘導により電荷を帯電させることで、このフィラメントを接着層に対して静電気力の働きにより植設させることができ、起毛層の成形が容易となる。
【００１７】
第４発明は、液晶用基板上に形成された配向膜にラビング処理を施すラビングロールの製造方法であって、回転ドラムの外周に接着層を形成する接着層形成工程と、前記回転ドラムにプラス電荷を帯電させ、該回転ドラムの外周に形成された前記接着層に対し、マイナス電荷が帯電されたフィラメントを静電気力の働きにより植設して起毛層を形成する起毛層形成工程とを備えることを特徴とする。
【００１８】
このような構成では、接着層形成工程で回転ドラムの外周に接着層を形成した後、起毛層形成工程で、回転ドラムにプラス電荷を帯電させ、ブラス電荷の帯電された回転ドラムの外周に形成された接着層に対し、マイナス電荷が帯電されたフィラメントを静電気力の働きにより植設して起毛層を形成するようにしたので、フィラメントを接着層に対し簡単、且つ確実に植設させることができる。
【００１９】
第５発明は、第４発明において、前記接着層形成工程の前工程として、回転ドラムの外周に形成されている前記接着層を溶融して摩耗した前記起毛層を剥離する起毛層除去工程を有することを特徴とする。
【００２０】
このような構成では、接着層形成工程の前工程として起毛層除去工程を有し、この起毛層除去工程では、回転ドラムの外周に形成されている接着層を溶融して起毛層を除去するようにしたので、起毛層を簡単に除去することができ、作業性がよい。
【００２１】
第６発明は、第１の発明のラビングロールを用いて液晶用基板上に形成された配向膜にラビング処理を施す液晶装置の製造方法であって、回転する前記回転ドラムと前記液晶用基板とを相対移動させて、該回転ドラムの外周に形成されている前記起毛層にて、前記配向膜の表面に溝を形成することを特徴とする。
【００２２】
このような構成では、回転する回転ドラムと液晶用基板とを相対移動させて、回転ドラムの外周に形成されている起毛層にて、液晶基板上に形成されている配向膜の表面に溝を形成する。この場合、回転ドラムの外周に接着層が直接形成されており、この接着層に起毛層が形成されているので、回転ドラムの中心から起毛層までの距離がほぼ一定となり、従って、配向膜の表面に対して起毛層をほぼ一定の圧力で接触させることができ、ラビング精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面に基づいて本発明の一実施形態を説明する。図１は液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図、図２はＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置であって、図１のＨ−Ｈ'断面図、図３はラビング装置の斜視図である。
【００２４】
先ず、図１、図２を参照して本実施形態で採用する液晶装置１００の全体構成について説明する。液晶装置１００は、ＴＦＴ基板１０と、これに対向配置される対向基板２０とを有し、両基板１０，２０の対向面間の画像表示領域１０ａの周囲に設けたシール領域が、シール材５２を介して貼り合わされている。更に、この両基板１０，２０の対向面間とシール材５２とで囲まれた領域内に液晶５０が挟持されている。この液晶５０は、シール材５２に切欠き形成された液晶注入口１０８からセル注入方式で注入される。尚、この液晶注入口１０８は液晶注入後、封止材１０９で封止される。又、液晶５０を注入する方式としては、セル注入方式以外に液晶滴下方式が知られている。この液晶滴下方式では、両基板１０，２０を貼り合わせる前に、液晶５０をシール材５２で囲まれた領域に予め滴下しておくため、シール材５２に液晶注入口１０８を形成する必要はない。
【００２５】
又、対向基板２０の４隅には、上下導通材１０６が設けられており、ＴＦＴ基板１０に設けられた上下導通端子１０７と対向基板２０に設けられた対向電極２１との間で電気的に導通されている。又、シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａを規定する遮光性の周辺遮光膜５３が対向基板２０側に設けられている。又、画像表示領域の周辺に広がる周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側部分には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴ基板１０の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路１０４が、この一辺に隣接する２辺に沿って設けられている。更に、ＴＦＴ基板１０の残る一辺には、画像表示領域１０ａの両側に設けられた走査線駆動回路１０４間を電気的に接続するための複数の配線１０５が設けられている。尚、走査線駆動回路１０４、及び配線１０５は、シール材５２の内側の周辺遮光膜５３に対向する位置に配設されている。
【００２６】
更に、ＴＦＴ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に配向膜１６が形成され、他方、対向基板２０の最上層部分に配向膜２２が形成されており、この両配向膜１６，２２間で、所定の配向状態が設定される。配向膜１６，２２は、ポリイミド樹脂等の配向性高分子からなり、印刷等により塗布されて形成されている。
【００２７】
又、外部回路接続端子１０２には、図示しないフレキシブル配線基板（ＦＰＣ）が電気的に接続されており、このフレキシブル基板から外部回路接続端子１０２を介して供給される画像信号に基づいて画像表示領域１０ａに画像が表示される。
【００２８】
両基板１０，２０の対向面に形成されている配向膜１６，２２の表面は、液晶分子を一定方向に配向させるためのラビング処理が施されている。このラビング処理は、いわゆる前工程に設けられているラビング処理工程で行われる。前工程では、多数のＴＦＴ基板１０と対向基板２０とが、大型基板の状態で個別に製造される。
【００２９】
ラビング処理工程では、ラビング装置を用いてラビング処理が行われる。図３に本実施形態で採用するラビング装置の斜視図を示す。尚、大型基板に対するラビング処理は、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とで同じであるため、これらを統括し、１枚の大型基板２００として説明する。
【００３０】
大型基板２００には、ＴＦＴ基板１０或いは対向基板２０となる基板領域２００ａが複数形成されている。この大型基板２００は、ラビング装置２０１に設けられたパレット２０２上に、所定に位置決めされた状態で載置固定されている。このパレット２０２が、基台２０３上に形成されている移動ステージ２０３ａに、図の矢印で示す方向へスライド自在に支持されている。
【００３１】
パレット２０２の移動方向にラビングロール２０４が、パレット２０２の移動方向に対して直交する方向へ横設されている。図３、図４に示すように、ラビングロール２０４は、少なくとも大型基板２００の最大幅（直径）よりも長い幅を有する回転ドラム２０４ａを有し、この回転ドラム２０４ａの外周に接着層２０４ｂを介して起毛層２０４ｃが形成されている。回転ドラム２０４ａはアルミニウム等の導電性金属、或いはカーボン等の導電物質が混合された導電性樹脂を素材に形成されている。又、起毛層２０４ｃは、接着層２０４ｂに植設された多数のフィラメントＦ（図８参照）で構成されている。このフィラメントＦは、ナイロン等の化学繊維を代表とする帯電性物質で形成されている。尚、接着層２０４ｂは導電性接着剤にて形成されている。
【００３２】
更に、回転ドラム２０４ａの両端に支持軸２０４ｄが突設されており、この支持軸２０４ｄが、基台２０３に立設されているブラケット２０５に回動自在に支持されている。尚、図示しないが、ブラケット２０５には、支持軸２０４ｄの支持高さを調整する高さ調整機構が設けられており、両支持軸２０４ｄのパレット２０２に対する平行度、及び起毛層２０４ｃと大型基板２００との間の接触位置を調整することができる。又、回転ドラム２０４ａは支持軸２０４ｄを介してアースされている。
【００３３】
更に、一方の支持軸２０４ｄにサーボモータ等の駆動源（図示せず）が減速機構２０６を介して連設されている。
【００３４】
このように構成されたラビング装置２０１では、予め表面に配向膜が塗布された大型基板２００をパレット２０２上に載置すると、パレット２０２が移動ステージ２０３ａに沿って、図４の矢印で示すように、ラビングロール２０４の方向へ移動される。尚、ラビングロール２０４は、駆動源からの回転力が減速機構２０６により所定に減速されて伝達され、図４に矢印で示すように、パレット２０２の進入方向と逆の方向へ定速回転している。
【００３５】
そして、パレット２０２がラビングロール２０４を通過する際に、大型基板２００の表面全体がラビングロール２０４の外周に設けられている起毛層２０４ｃに擦られ、この大型基板２００の表面に、移動方向（ラビング方向）に沿って無数の溝が形成される。その際、導電性を有する回転ドラム２０４ａがアースされているため、大型基板２００と起毛層２０４ｃとの間の摩擦により生じる静電気が、導電性接着剤で形成された接着層２０４ｂ、回転ドラム２０４ａを介して逃がされる。その結果、大型基板２００に電荷が帯電することがなくなる。
【００３６】
更に、回転ドラム２０４ａの外周に接着層２０４ｂが直接形成されており、この接着層２０４ｂに起毛層２０４ｃが形成されているので、回転ドラム２０４ａの中心から起毛層２０４ｃまでの距離がほぼ一定となり、従って、大型基板２００の表面に形成されている配向膜の表面に対して、起毛層２０４ｃをほぼ一定の圧力で接触させることができ、ラビング精度を向上させることができる。
【００３７】
そして、パレット２０２がラビングロール２０４を通過してラビング処理が終了する。
【００３８】
ところで、ラビング処理を繰り返すと、ラビングロール２０４に設けられている起毛層２０４ｃが次第に摩耗する。そして、再生時期に達した場合は、ラビングロール２０４をラビング装置２０１から取り外し、起毛層除去工程へ移送する。
【００３９】
起毛層除去工程には、図６に示すような起毛層除去装置２１１が設けられている。この起毛層除去装置２１１は、溶剤貯留槽２１２を有し、この溶剤貯留槽２１２に、回転ドラム２０４ａの外表面に形成されている接着層２０４ｂを溶解する溶剤液２１３が貯留されている。この溶剤貯留槽２１２の上部に、回転ドラム２０４ａの両端に突設されている支持軸２０４ｄを支持するブラケット（図示せず）が設けられており、更に、回転ドラム２０４ａの外周に摺接する剥離パッド２１４が設けられている。この剥離パッド２１４には溶剤液２１３が含浸されている。
【００４０】
起毛層除去工程では、先ず、起毛層除去装置２１１を用いて、ラビングロール２０４に形成されている起毛層２０４ｃを除去する。すなわち、ラビングロール２０４を構成する回転ドラム２０４ａの両端に突設されている支持軸２０４ｄを、ブラケット（図示せず）に支持させる。すると、回転ドラム２０４ａの下面が溶剤貯留槽２１２に貯留されている溶剤液２１３に浸漬される。この状態で、回転ドラム２０４ａを、手動により、或いは電動モータを用いてゆっくりと回転させると、溶剤液２１３中に没入された接着層２０４ｂが溶解される。
【００４１】
回転ドラム２０４ａの回転方向であって、溶剤液２１３の液面から露呈されている側面には、溶剤液２１３を含浸する剥離パッド２１４が摺接されている。この剥離パッド２１４にて、溶剤液２１３の液面から露呈されて接着層２０４ｂ上に形成されている起毛層２０４ｃが、接着層２０４ｂと共に回転ドラム２０４ａの表面から除去される。尚、剥離パッド２１４の回転ドラム２０４ａに対する圧接力を弱くし、回転ドラム２０４ａを繰り返し回転させることで、起毛層２０４ｃを接着層２０４ｂと共に、回転ドラム２０４ａから徐々に除去するようにしても良い。
【００４２】
回転ドラム２０４ａから起毛層２０４ｃが接着層２０４ｂと共に除去されると、起毛層２０４ｃを構成するフィラメントＦが溶剤貯留槽２１２内に堆積される。
【００４３】
このように、本実施形態では、接着層２０４ｂを溶解させるだけで起毛層２０４ｃを簡単に除去することができるため除去作業を効率よく行うことができる。又、剥離パッド２１４を用いて強制的に除去させるようにしているので、より効率よく起毛層２０４ｃを除去させることができる。
【００４４】
そして、回転ドラム２０４ａから接着層２０４ｂ及び起毛層２０４ｃを所定に除去した後、この回転ドラム２０４ａを乾燥させる。その後、所定に乾燥した回転ドラム２０４ａを、接着層形成工程へ移送する。
【００４５】
接着層形成工程には、図７に示すような接着剤塗布装置２２１が設けられている。この接着剤塗布装置２２１は、接着液貯留槽２２２を有し、この接着液貯留槽２２２に、回転ドラム２０４ａの外表面に塗布する導電性接着剤を溶剤で所定濃度に希釈した接着液２２３が貯留されている。この接着液２２３に塗布ローラ２２４が、回転自在に横設されている。この塗布ローラ２２４は、回転ドラム２０４ａの外周に、接着液２２３を含浸する接着剤塗布パッド２２４ｂが貼り付けられている。
【００４６】
この塗布ローラ２２４の上部が、接着液２２３の液面から露呈されており、この露呈されている部分に、回転ドラム２０４ａが圧接される。回転ドラム２０４ａは、その両端から突設されている支持軸２０４ｄが接着剤塗布装置２２１に設けられているブラケット（図示せず）に回転自在に支持される。
【００４７】
接着層形成工程では、先ず、接着剤塗布装置２２１を用いて回転ドラム２０４ａの外周に接着層２０４ｂを形成する。すなわち、所定にセットされた回転ドラム２０４ａを、手動により、或いは電動モータを用いてゆっくりと回転させると、この回転ドラム２０４ａに圧接されている塗布ローラ２２４が回転し、接着剤塗布パッド２２４ｂに含浸されている接着液２２３が、回転ドラム２０４ａに転写される。そして、回転ドラム２０４ａを繰り返し回転させて、回転ドラム２０４ａの外周に所定厚さの接着層２０４ｂを形成する。
【００４８】
その後、この回転ドラム２０４ａを接着液貯留槽２２２から取り外し、所定に乾燥させて接着粘度を高めた後、起毛層形成工程へ移送する。
【００４９】
起毛層形成工程には、図８に示すようなフィラメント植設装置２３１が設けられている。このフィラメント植設装置２３１は、フィラメント集積槽２３２を有し、このフィラメント集積槽２３２に、回転ドラム２０４ａの外周に形成した接着層２０４ｂに植設されるフィラメントＦが集積されている。尚、上述したように、このフィラメントＦは、ナイロン等の化学繊維を代表とする帯電性物質で形成されている。
【００５０】
又、フィラメント集積槽２３２の底面２３２ａは前後側壁（紙面の左右側面）の上部から下方へ傾斜されて、中央部で収束されると共に、収束部分に電極板２３４が配設されている。この底面２３２ａ、及び電極板２３４がフィラメント集積槽２３２の幅方向（紙面手前から奥の方向）へ延出されている。このフィラメント集積槽２３２の幅方向は、回転ドラム２０４ａの長さよりもやや長く形成されている。
【００５１】
更に、フィラメント集積槽２３２の上面が遮蔽板２３３で閉塞されている。この遮蔽板２３３の、電極板２３４のほぼ中央部の直上にスリット２３３ａが形成されている。このスリット２３３ａは少なくとも回転ドラム２０４ａの長さとほぼ同じ長さに亘って形成されている。更に、このスリット２３３ａの幅ｗは、フィラメントＦを１本ずつに通過させることの可能なサイズに形成され、更に、スリット２３３ａの対向端面がフィラメントＦとの接触を最小限とするためにナイフエッジ状に形成されている。
【００５２】
又、フィラメント植設装置２３１には、回転ドラム２０４ａの両端に突設されている支持軸２０４ｄを回動自在に支持するブラケット（図示せず）が設けられている。両支持軸２０４ｄをブラケットに回動自在に支持させると、回転ドラム２０４ａの中心軸がスリット２３３ａの直上で、且つ、このスリット２３３ａに沿って平行に配設されると共に、回転ドラム２０４ａの下面がスリット２３３ａに近接される。
【００５３】
又、回転ドラム２０４ａはアース接続されてプラス電荷が帯電され、電極板２３４には電源２３５からの電位によりマイナス電荷が帯電されて、この回転ドラム２０４ａと電極板２３４との間に静電界が形成される。又、電極板２３４に接触されているフィラメントＦにマイナ電荷が帯電される。
【００５４】
起毛層形成工程では、先ず、フィラメント植設装置２３１を用いて、回転ドラム２０４ａの外周に形成された接着層２０４ｂにフィラメントＦを植設する。すなわち、フィラメント集積槽２３２の上方に所定にセットされた回転ドラム２０４ａを手動により、或いは電動モータを用いてゆっくりと回転させる。
【００５５】
回転ドラム２０４ａはプラス電荷が帯電されており、一方、フィラメント集積槽２３２内に集積されているフィラメントＦは静電誘導によりマイナス電荷が帯電される。その結果、マイナス電荷が帯電されているフィラメントＦが電気力線に沿って飛翔し、フィラメント集積槽２３２の上面を閉塞する遮蔽板２３３に形成されているスリット２３３ａを通り、回転ドラム２０４ａの外周に形成されている接着層２０４ｂに先端から植設される。このとき、回転ドラム２０４ａの中心軸がスリット２３３ａに沿い、このスリット２３３ａと平行に配設されているため、フィラメントＦは接着層２０４ｂに対しほぼ法線方向に植設される。
【００５６】
そして、回転ドラム２０４ａを繰り返し回転させることで、この回転ドラム２０４ａの外周にほぼ均一に無数のフィラメントＦを植設し、この無数のフィラメントＦにより、回転ドラム２０４ａの外周に起毛層２０４ｃを形成する。
【００５７】
その後、この回転ドラム２０４ａをフィラメント植設装置２３１から取り外し、所定に乾燥させて接着層２０４ｂを硬化させて、ラビングロール２０４を再生させる。
【００５８】
このように、本実施形態では、回転ドラム２０４ａの外周に接着層２０４ｂを直接形成し、この接着層２０４ｂにフィラメントＦを植設させることで起毛層２０４ｃを形成するようにしたので、従来のようなクッション材が不要となり、構成の簡素化を実現することができる。
【００５９】
又、回転ドラム２０４ａの外周に接着層２０４ｂを直接形成することで、この接着層２０４ｂを回転ドラム２０４ａに強固に接着させることができる。更に、この接着層２０４ｂに無数のフィラメントＦを植設して起毛層２０４ｃを形成したので、フィラメントＦを高い粘着性で保持させることができる。従って、ラビング処理の際に接着層２０４ｂにシワやヨレが発生せず、又、フィラメントＦが接着層２０４ｂから抜け落ち難くなり、ラビング不良の発生原因を低減させることができる。
【００６０】
更に、接着層２０４ｂは回転ドラム２０４ａを回転させながら、その外周に接着液を被着させることで形成したので、接着層２０４ｂをほぼ均一に形成することができる。又、フィラメントＦは静電界を利用して、接着層２０４ｂに植設させるようにしたので、起毛層２０４ｃの形成が容易となり、作業性が良い。又、回転ドラム２０４ａを定速回転させるとで、フィラメントＦを回転ドラム２０４ａにほぼ均一に植設させることができ、常に、一定品質の起毛層２０４ｃを形成することができる。更に、摩耗した起毛層２０４ｃは、接着層２０４ｂを溶解させることで除去するようにしたので、起毛層２０４ｃを効率よく、しかも確実に除去することができる。
【００６１】
本発明は、上述した実施形態に限るものではなく、例えばラビング処理は、大型基板から切り出したＴＦＴ基板１０、或いは対向基板２０等のチッブ状の基板に対して行うようにしても良い。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、アクティブマトリクス方式の液晶パネルや単純マトリクス方式の液晶パネルの製造において採用するラビングロールに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】液晶装置の平面図
【図２】図１のＨ−Ｈ'断面図
【図３】ラビング装置の斜視図
【図４】ラビング装置の側面図
【図５】ラビング装置の状態別の側面図
【図６】起毛層除去装置の概略図
【図７】接着剤塗布装置の概略図
【図８】フィラメント植設装置の概略図
【符号の説明】
【００６４】
２００…大型基板、２０１…ラビング装置、２０４…ラビングロール、２０４ａ…回転ドラム、２０４ｂ…接着層、２０４ｃ…起毛層、２０４ｄ…支持軸、２０５…ブラケット、２１１…起毛層除去装置、２１２…溶剤貯留槽、２１３…溶剤液、２１４…剥離パッド、２２１…接着剤塗布装置、２２２…接着液貯留槽、２２３…接着液、２２４…塗布ローラ、２２４ｂ…接着剤塗布パッド、２３１…フィラメント植設装置、２３２…フィラメント集積槽、２３３…遮蔽板、２３３ａ…スリット、２３４…電極板、Ｆ…フィラメント
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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