(57)【要約】【課題】基板上方及び基板下方からの露光を行うことにより、均一な膜厚のレジストを形成して、色再現性に優れたカラーフィルタを得る。【解決手段】  基板上に複数色のカラーレジストを各色毎に形成する工程Ｓ２，Ｓ４，Ｓ６と、各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程Ｓ３，Ｓ５，Ｓ７とを具備し、前記露光してパターニングする工程は、前記複数色のうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、前記基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程Ｓ１１，Ｓ１２を含むことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数色のカラーレジストを各色毎に形成する工程と、
各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程とを具備し、
前記露光してパターニングする工程は、前記複数色のうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、前記基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
前記基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程は、前記基板の上方及び下方の一方ではフォトマスクを用いて露光を行い、他方では基板全面に露光を行う工程を含むことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
前記基板全面に露光を行う工程は、露光によって０よりも大きい残膜厚が生じる露光閾値よりも小さい露光量で行われることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
前記基板全面に露光を行う工程は、青色のカラーレジストに対して実施することを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
前記カラーレジストを各色毎に形成する工程の前に、前記基板上に遮光膜を形成する工程を具備したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
前記カラーレジストを形成する工程及び各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程において、複数色のうち緑色のカラーレジストを最初に露光してパターニングすることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
対向配置された第１及び第２の基板の間に電気光学物質を介在させて構成される電気光学装置の製造方法であって、
前記第１の基板上に複数色のカラーレジストを各色毎に形成する工程と、
各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程とを具備し、
前記露光してパターニングする工程は、前記複数色のうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、前記第１の基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーレジストにより構成されるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置、例えば、電気光学物質として液晶を用いた液晶装置は、陰極線管（ＣＲＴ）に代わるディスプレイデバイスとして、各種情報処理機器の表示部や液晶テレビ等に広く用いられている。
【０００３】
このような液晶装置は、例えば、マトリクス状に配列した画素電極と、この画素電極に電気的に接続されたＴＦＴ（Thin Filｍ Transistor : 薄膜トランジスタ）のようなスイッチング素子等が設けられた素子基板と、画素電極に対向する対向電極が形成された対向基板と、これら両基板との間に充填された電気光学物質たる液晶とによって構成される。
【０００４】
ＴＦＴは走査線（ゲート線）を介して供給される走査信号（ゲート信号）によって導通する。走査信号を印加してスイッチング素子を導通状態にした状態で、データ線（ソース線）を介して画素電極に、階調に応じた電圧の画像信号を印加する。そうすると、画素電極と対向電極に、画像信号の電圧に応じた電荷が蓄積される。電荷蓄積後、走査信号を取り去りＴＦＴを非導通状態にしても、各電極における電荷の蓄積状態は、液晶層の容量性や蓄積容量等によって維持される。
【０００５】
このように、各スイッチング素子を駆動させ、蓄積させる電荷量を階調に応じて制御すると、画素毎に液晶の配向状態が変化して光の透過率が変わり、画素毎に明るさを変化させることができる。こうして、階調表示することが可能となる。
【０００６】
ところで、液晶装置においては、カラー表示を可能とするために、対向基板と対向電極との間にカラーフィルタが形成されることもある。カラーフィルタ上には保護膜層が形成され、保護膜層上に対向電極及び配向膜が形成される。カラーフィルタは各画素に対応して赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）に着色されており、各画素を赤画素、緑画素及び青画素としてカラー表示を行う。
【０００７】
なお、特許文献１には、カラーレジストパターン形成後の平坦化膜の特性改善についての技術が開示されている。
【特許文献１】特開平８−３０４６１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来、カラーフィルタとして、ネガタイプのカラーレジスト（ネガレジスト）を採用するものがある。Ｒ，Ｇ，Ｂのネガレジストを所定の色配列となるように露光してパターニングすることにより、カラーフィルタを得るのである。
【０００９】
しかしながら、露光光の波長、ネガレジストの特性等によっては、露光時に均一なプロファイルが得られないことがある。例えば、Ｂのネガレジストの場合には、露光プロファイルは逆テーパ状となり、Ｂ色のネガレジストは、中央と周辺部とで露光後に残る膜の厚さ（残膜厚）が異なり、膜厚に差が生じる。
【００１０】
カラーフィルタの色度特性は、ネガレジストの膜厚に依存する。従って、不均一な膜厚のネガレジストによるカラーフィルタを用いると、色度にずれが生じ、色再現性に劣るという問題があった。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、基板の表面及び裏面の両方から露光を行うことで、レジストの膜厚を均一化することを可能にして、色むらがない高い色再現性を得ることができるカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に複数色のカラーレジストを各色毎に形成する工程と、各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程とを具備し、前記露光してパターニングする工程は、前記複数色のうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、前記基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程を含むことを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、基板上にカラーレジストを形成し、所定のパターンに露光する。各色毎にカラーレジストの形成及び露光を繰返すことで、所望の色配列のカラーフィルタ基板を得る。各色のカラーレジストのうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する。これにより、露光プロファイルを均一化することができ、露光によるレジストの残膜厚を均一化してフィルタ特性を均一化することができ、色むらがない色再現性に優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【００１４】
また、前記基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程は、前記基板の上方及び下方の一方ではフォトマスクを用いて露光を行い、他方では基板全面に露光を行う工程を含むことを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、他方からの露光光は、基板全面に対して行われるので、工程の管理が容易である。
【００１６】
また、前記基板全面に露光を行う工程は、露光によって０よりも大きい残膜厚が生じる露光閾値よりも小さい露光量で行われることを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、基板一方からの露光が行われていない領域については、基板他方からの露光だけでは、残膜が生じることはなく、確実なパターン形成が可能である。
【００１８】
また、前記基板全面に露光を行う工程は、青色のカラーレジストに対して実施することを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、基板の上方及び下方の両方から露光光を照射することにより、青色のカラーレジストを露光する場合の逆テーパ状の露光プロファイルを均一化することができ、色むらがない色再現性に優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【００２０】
また、前記カラーレジストを各色毎に形成する工程の前に、前記基板上に遮光膜を形成する工程を具備したことを特徴とする。
【００２１】
また、前記カラーレジストを形成する工程及び各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程において、複数色のうち緑色のカラーレジストを最初に露光してパターニングすることを特徴とする。
【００２２】
このような構成によれば、最初に行われるパターニングでは膜厚の管理が容易であり、緑色のレジストの膜厚を均一化しやすい。これにより、より色再現性に優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【００２３】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、対向配置された第１及び第２の基板の間に電気光学物質を介在させて構成される電気光学装置の製造方法であって、前記第１の基板上に複数色のカラーレジストを各色毎に形成する工程と、各色毎の前記カラーレジストを露光してパターニングする工程とを具備し、前記露光してパターニングする工程は、前記複数色のうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、前記第１の基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する工程を含むことを特徴とする。
【００２４】
このような構成によれば、電気光学装置を構成する第１の基板上にカラーレジストを形成し、所定のパターンに露光する。各色毎にカラーレジストの形成及び露光を繰返すことで、所望の色配列のカラーフィルタ基板を得る。各色のカラーレジストのうちの少なくとも１つの色のカラーレジストについては、第１の基板の上方及び下方の両方から露光光を照射する。これにより、露光プロファイルを均一化することができ、露光によるレジストの残膜厚を均一化してフィルタ特性を均一化することができ、色むらがない色再現性に優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は本発明の一実施の形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャートであり、図２は図１中の露光・パターニング工程の具体的な手順を示すフローチャートである。また、図３は図１のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されるカラーフィルタ基板を対向基板として用いて構成された液晶装置を示す平面図である。また、図４は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図である。
【００２６】
先ず、図３及び図４を参照して、カラーフィルタ基板を用いて構成される液晶装置について説明する。図３及び図４に示すように、素子基板１０とカラーフィルタ基板である対向基板２０とは対向配置され、素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０が封入されている。素子基板１０上には画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置される。
【００２７】
画素領域においては、図示しない複数本の走査線と複数本のデータ線とが交差するように配線され、走査線とデータ線とで区画された領域に画素電極９ａがマトリクス状に配置される。そして、走査線とデータ線の各交差部分に対応してＴＦＴ（図示省略）が設けられ、このＴＦＴに画素電極９ａが電気的に接続される。
【００２８】
ＴＦＴは走査線のＯＮ信号によってオンとなり、これにより、データ線に供給された画像信号が画素電極９ａに供給される。この画素電極９ａと対向基板２０に設けられた対向電極２１との間の電圧が液晶５０に印加される。
【００２９】
一方、対向基板２０には、ＴＦＴアレイ基板のデータ線、走査線及びＴＦＴの形成領域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第１遮光膜２３が設けられている。この第１遮光膜２３によって、対向基板２０側からの入射光がＴＦＴのチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域に入射することが防止される。
【００３０】
第１遮光膜２３上にはカラーフィルタ層２４が設けられる。カラーフィルタ層２４上にはオーバーコート層２５が設けられる。オーバーコート層２５は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等により形成された層である。このオーバーコート層２５は、カラーフィルタ層２４及び第１遮光膜２３による凹凸を平坦化するとともに、カラーフィルタ層２５及び第１遮光膜２３から有機材料が染み出して液晶５０を劣化させるのを防ぐ役割を担っている。
【００３１】
オーバーコート層２５上に、対向電極（共通電極）２１が基板２０全面に亘って形成されている。対向電極２１上にポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜２２が積層され、所定方向にラビング処理されている。
【００３２】
また、対向基板２０には表示領域を区画する額縁としての遮光膜４２が設けられている。遮光膜４２は例えば遮光膜２３と同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【００３３】
遮光膜４２の外側の領域に液晶を封入するシール材４１が、素子基板１０と対向基板２０間に形成されている。シール材４１は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基板２０を相互に固着する。シール材４１は、素子基板１０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされた素子基板１０及び対向基板２０相互の間隙には、液晶５０を注入するための液晶注入口７８が形成される。液晶注入口７８より液晶が注入された後、液晶注入口７８を封止材７９で封止するようになっている。こうして、素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０が封入される。
【００３４】
素子基板１０のシール材４１の外側の領域には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が素子基板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられている。素子基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導通材６５が設けられている。
【００３５】
カラーフィルタ層２４は、カラーレジストを露光・パターニングすることによって構成されている。カラーレジストとしては例えばネガタイプが採用される。カラーレジストは、樹脂、顔料、感光剤が溶解したものである。ネガタイプのカラーレジストにおいては、露光することによって、感光剤が反応して露光された部分の樹脂と顔料とが固まる。Ｒ，Ｇ，Ｂの色配列に応じて、各色のカラーレジストを順次露光・パターニングすることによって、所定の色配列のカラーフィルタ層２４を構成することができる。
【００３６】
次に、図１に示すカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。図３及び図４の対向基板２０は図１のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されたものである。
【００３７】
ステップＳ１においては、基板２０上にブラックマトリクス（ＢＭ）としても機能する第１遮光膜２３を形成する。次に、ステップＳ２において、緑（Ｇ）用のネガレジスト（Ｇレジスト）を第１遮光膜２３上及び基板２０上の全面に形成する。次にステップＳ３において、露光・パターニングを行う。
【００３８】
同様に、ステップＳ４，Ｓ５においては、赤（Ｒ）用のネガレジスト（Ｒレジスト）を第１遮光膜２３上及び基板２０上の全面に形成し、露光・パターニングを行う。
【００３９】
同様に、ステップＳ６，Ｓ７においては、青（Ｂ）用のネガレジスト（Ｂレジスト）を第１遮光膜２３上及び基板２０上の全面に形成し、露光・パターニングを行う。
【００４０】
このように、カラーフィルタ層２４は、Ｇレジスト、Ｒレジスト及びＢレジストが所定の色配列に従ってパターニングされて構成される。Ｇレジストにより構成されるＧフィルタ部、Ｒレジストにより構成されるＲフィルタ部、Ｂレジストにより構成されるＢフィルタ部は、所定の色配列に従って配列され、夫々緑色光、赤色光又は緑色光を透過する。
【００４１】
なお、カラーフィルタ層２４を構成するＧフィルタ部は、他の色フィルタ部よりも感度が高い。従って、Ｇレジストの膜厚を均一に構成することで、より色再現性に優れたカラーフィルタを得ることができる。ネガレジストを用いたカラーフィルタは、各色のレジストを順次露光・パターニングすることによって所望の色配列を構成することができる。各色のレジストが順次パターニングされるので、２色目以降のパターニングでは、既に形成されているレジストによる段差の影響によって、膜厚の管理が困難となる。従って、色再現性に最も影響を与えるＧレジストを膜厚の管理が容易である最初に形成することによって、色再現性に優れたカラーフィルタを構成することができる。
【００４２】
本実施の形態においては、各色レジストのうちの少なくとも１つの色レジストについては、基板２０の上方からの露光だけでなく、基板２０の下方からの露光も行ってパターニングすることにより、膜厚の均一化を図っている。特にＢレジストについては、露光プロファイルが逆テーパ状になるので、両方からの露光を行った方がよい。
【００４３】
図５は本実施の形態におけるＢレジストの露光・パターニングを説明するための説明図である。また、図６は基板下方からの露光を行わない場合における露光を説明するための説明図である。
【００４４】
図５（ａ）及び図６（ａ）に示すように、Ｂレジスト７０が形成された基板２０の上方に、Ｂフィルタ部以外の部分にフォトマスク７２が形成されたレチクル７１を配置し、下向き矢印に示すように、レチクル７１を介して基板上方から所定波長の露光光をＢレジスト７０に照射する。
【００４５】
図６（ａ）のように、基板上方のみから露光を行うと、露光プロファイルは逆テーパ状になる。これにより、特にＢレジストに対する露光によって、図６（ｂ）に示すように、残ったレジストの中央と周辺部とで膜厚に差が生じる。
【００４６】
そこで、本実施の形態においては、図２のステップＳ１１において基板上方から露光するだけでなく、更に、基板２０の下方側にランプ７３を配置して、上向き矢印に示すように、ランプ７３から基板２０の全面に露光光を照射する（ステップＳ１２）。
【００４７】
図７は横軸に露光量をとり縦軸に残膜厚をとって、露光量と残膜厚との関係を示すグラフである。いま、露光量に対する残膜厚が０よりも大きくなる露光量を露光閾値Ｅｔｈとする。図７に示すように、露光量が露光閾値Ｅｔｈを超えることによって残膜厚が生じ、露光量が所定値を超えると、残膜厚の変化は小さくなる。
【００４８】
本実施の形態においては、基板上方からの露光量と基板下方からの露光量とを合わせた露光量が、他の色レジストの領域については、露光閾値Ｅｔｈを超えないように露光制御を行うようになっている。
【００４９】
図８はこの制御による残膜厚を説明するための説明図である。図８の右上がり斜線部は基板上方からの露光（上方露光）によって影響を受ける領域を示している。この露光プロファイルは、図８に示すように逆テーパ状となり、基板表面側ではレジスト７０は十分に露光されない。
【００５０】
一方、図８の右下がり斜線部は、基板下方からの露光（下方露光）の露光領域を示している。図８の例では基板全域に下方露光を行っている。下方露光の露光量は露光閾値Ｅｔｈよりも小さい。従って、当該露光によってレジストを残すパターン範囲以外の部分、即ち、下方露光光のみが照射される部分においては、レジストの残膜厚は０となる。
【００５１】
一方、パターン範囲では、上方露光光及び下方露光光が照射される。上方露光光は逆テーパ状の露光プロファイルを有し、下方露光光は、その露光プロファイルと逆の露光プロファイルを有する。従って、上方露光光の露光量と下方露光光の露光量とを適宜設定することで、上方及び下方露光が行われる領域については、露光量を露光閾値Ｅｔｈよりも大きくすることができ、露光プロファイルを均一にすることができる。こうして、図５（ｂ）に示すように、均一な膜厚のＢレジストを形成することができる。
【００５２】
次に、カラーフィルタ層２３を覆うようにアクリル樹脂やエポキシ樹脂等を塗布し、オーバーコート層２５を形成する。次に、オーバーコート層２５の表面にＩＴＯを用いて対向電極２１を形成するとともに、ポリイミド等の配向膜２２を形成してラビング処理を施す。
【００５３】
このように本実施の形態においては、各色レジストのうち少なくとも１つの色レジストについては、基板上方から露光するだけでなく、基板下方からも露光する。これにより、露光プロファイルを均一化して、レジストの残膜厚を均一化することができる。レジストの膜厚を均一にすることができるので、カラーフィルタの特性を向上させることができ、色むらがない良好な色再現性を得ることができる。また、基板下方からの露光量は、露光閾値Ｅｔｈよりも小さく設定されているので、下方からの露光によって他の色フィルタ部が悪影響を受けることはない。また、下方からの露光は基板全面に対して行えばよく、工程の管理が容易である。
【００５４】
なお、上記実施の形態においては、基板下方からの露光量を露光閾値Ｅｔｈよりも小さくすることで、他の色フィルタ部への影響を回避するようになっているが、基板下方からの露光についてもレチクルを使用し、必要な部分のみに露光を行うようにしてもよい。この場合には、基板下方からの露光量を特に制限する必要はない。
【００５５】
また、図２においては、最初に基板上方からの露光を行い、次いで基板下方からの露光を行う例について説明したが、基板下方からの露光を先に行い、次いで基板上方からの露光を行ってもよく、更に、基板上方及び下方からの露光を同時に行うようにしてもよい。
【００５６】
また、本実施の形態は、Ｒ，Ｇ，Ｂフィルタ部を重ねることでブラックマトリクスを構成する重ねＢＭにも適用可能である。重ねＢＭにおいては、Ｒ，Ｇ，Ｂレジストの露光時に、ブラックマトリクス部分にＲ，Ｇ，Ｂレジストを残すようにパターニングを行うようになっている。これにより、所定の色配列に応じたカラーフィルタ層が形成可能であると共に、Ｒ，Ｇ，Ｂレジストが重なった部分をブラックマトリクスとして機能させることが可能である。この重ねＢＭにおいては、Ｂフィルタ部の膜厚が黒に与える影響が大きいことを考慮して、最も膜厚の管理が容易な１色目の工程で、Ｂレジストの露光及びパターニングを行う。
【００５７】
また、上記各実施の形態においては、ネガタイプのレジストを用いる例について説明したが、ポジ型のレジストを用いる場合にも同様に適用することができることは明らかである。
【００５８】
なお、上記実施の形態においては、カラーフィルタ基板を対向基板として用いる例について説明したが、素子基板をカラーフィルタ基板とすることも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
また、本発明のカラーフィルタ基板は、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけでなく、アクティブマトリクス型の液晶パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様に適用することが可能である。更に、素子基板にカラーフィルタを形成したオンザチップカラーフィルタ（ＯＣＣＦ）にも同様に適用可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出を用いた装置（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）、ＤＬＰ（Digital Light Processing）（別名ＤＭＤ：Digital Micromirror Device）等の各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。また、本発明は、半導体基板に素子を形成する表示用デバイス、例えばＬＣＯＳ（Liquid Crystal On Silicon）等にも適用可能である。ＬＣＯＳでは素子基板として単結晶シリコン基板を用い、画素や周辺回路に用いるスイッチング素子としてトランジスタを単結晶シリコン基板に形成する。また、画素には反射型の画素電極を用い、画素電極の下層に画素の各素子を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の一実施の形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャート。
【図２】図１中の露光・パターニング工程の具体的な手順を示すフローチャート。
【図３】図１のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されるカラーフィルタ基板を対向基板として用いて構成された液晶装置を示す平面図。
【図４】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図。
【図５】本実施の形態におけるＢレジストの露光・パターニングを説明するための説明図。
【図６】基板下方からの露光を行わない場合における露光を説明するための説明図。
【図７】横軸に露光量をとり縦軸に残膜厚をとって、露光量と残膜厚との関係を示すグラフ。
【図８】本実施の形態の露光制御による残膜厚を説明するための説明図。
【符号の説明】
【００６１】
Ｓ１…ＢＭ形成工程、Ｓ２，Ｓ４，Ｓ６…レジスト形成工程、Ｓ３，Ｓ５，Ｓ７…露光・パターニング工程、Ｓ１１…上方露光、Ｓ１２…下方露光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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