(57)【要約】【課題】スペーサの位置ズレを緩和できギャップ均一性が良好で低コストかつ高歩留りな液晶表示素子を提供する。【解決手段】ＴＦＴアレイ基板４の着色層を構成する赤色着色層１２、緑色着色層１１、青色着色層１０がストライプ状に配置され、緑色着色層１１にはスルーホール２０を避けた位置にスペーサ配置用構造１を設けている。スペーサ配置用構造１の突起部分には、揮発する前のインク３が備える自身の表面張力によってインクが留まる。この表面張力によってスペーサ２もインク３が留まりさらに乾燥して収縮していく部分へ運ばれる。結果として、揮発により収縮していくインク３が液体として最後まで残留しているスペーサ配置用構造１へ向けて、スペーサ２が移動する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴアレイ基板と、このＴＦＴアレイ基板に対向配置された対向基板と、前記ＴＦＴ基板上に設けられたスイッチング素子と、このスイッチング素子上に設けられた絶縁膜と、この絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記ＴＦＴアレイ基板と対向基板を所定の間隔に維持するための球状スペーサと、前記ＴＦＴアレイ基板と対向基板に挟持された液晶層と、前記画素電極と前記スイッチング素子を電気的に接続するために前記絶縁膜に設けられたスルーホールと、このスルーホール付近に形成され前記球状スペーサを所定の位置に配置するためのスペーサ配置用構造と、を備えていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
インクジェット工法により所定位置に配置される球状スペーサを有するＴＦＴアレイ基板から構成された液晶表示素子において、
前記インクジェット工法においてインク中に含有されて吐出された前記球状スペーサを当該インクの乾燥による収縮と表面張力でもって所定場所に付着させるために前記ＴＦＴアレイ基板上の前記所定位置に形成されたスペーサ配置用構造と、
前記スペーサ配置用構造に前記乾燥によって収縮した前記インクによって前記所定位置に固定されて配置された前記球状スペーサと、
を備えていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項３】
前記スペーサ配置用構造は、
前記所定位置の表面より陥没された凹形状からなることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記スペーサ配置用構造は、
前記所定位置に穿孔されたピンホールからなることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示素子。
【請求項５】
前記スペーサ配置用構造は、
前記所定位置に突設された突起からなることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示素子。
【請求項６】
前記スペーサ配置用構造は、
前記所定位置に突設された枠体からなることを特徴とする請求項１また２に記載の液晶表示素子。
【請求項７】
前記スペーサ配置用構造は、
配線または遮光層の積層によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項８】
前記スペーサ配置用構造は、
有機膜によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項９】
前記スペーサ配置用構造は、
前記微小突起がＴＦＴアレイ基板上の着色層の積層によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１０】
前記スペーサ配置用構造は、
反射および半透過用の透明樹脂層によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１１】
前記スペーサ配置用構造は、
感光性樹脂または熱硬化型樹脂によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１２】
前記スペーサ配置用構造は、
前記ＴＦＴ基板上に代えて遮光レイヤー上に形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１３】
前記スペーサ配置用構造は、
単一色層で形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１４】
前記スペーサ配置用構造は、
カラーフィルタ層の中で最も解像度の高い層によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１５】
前記スペーサは、
略球形を備え該直径が２乃至６μｍに形成された粒状スペーサーであることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれかに記載の液晶表示素子。
【請求項１６】
前記インクジェット工法は、
配向膜成膜後のラビング工程後から貼り合せ工程までの間において実施されることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれかに記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット工法もしくは印刷法によってスペーサが所定の位置に配置された液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、配向膜を有するアレイ基板および対向基板を配向膜が対向するように配置し、２枚の基板間に液晶層を挟持している。この２枚の電極基板は周辺領域に配置されたシール材および封止材によって貼り合わさっており、この２枚の基板間には基板間距離を保持するために粒状スペーサまたはフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるスペーサ柱が配置されている。そして液晶表示素子をカラー表示する場合には、基板の一方に多くの場合赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層が配置されている。
【０００３】
また、大型モニターやテレビ用途等、従来ＣＲＴが使用されていたデバイス分野への液晶の応用展開に伴い、液晶表示素子には更なる性能向上及び低コストが要求されている。このような背景の元、製造原価を抑えるためにインクジェット工法の適応が注目を集めている。
【０００４】
このインクジェット工法を用いて、液晶幅を支持する柱を球形の粒状スペーサにて形成する際、アレイ基板側の遮光レイヤー上に粒状スペーサを着弾させている。さらに最近では配向膜や着色層だけでなく、スペーサの配置にもインクジェット工法を使用することが検討されており、また大型基板に対してはスペーサを印刷法により配置することも検討されている（特許文献１〜３参照）。
【特許文献１】特開２００６−２０８７２
【特許文献２】特開２００１−８３９０６
【特許文献３】特開２００５−３７７２１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、インクジェット工法における粒状スペーサの着弾位置が平坦な遮光レイヤー上であるため、着弾時の衝撃や着弾精度のブレ等の原因により密着力低下が生じたり、粒状スペーサの着弾後の位置ズレによるギャップ不良が生じ易く、結果として歩留り低下につながっていた。
【０００６】
たとえば図１１に示すように粒状スペーサ１００の着弾位置が定まらず、図１１（ａ）に示すように乾燥したインク１０１によって固定される粒状スペーサ１００の位置は、緑色着色層１１１の上に概ね配置されている。そして図１１（ｂ）は別の配置例であり、粒状スペーサ１００の着弾位置のズレにより互いに近接して粒状スペーサ１００が配置されてしまっていた。
【０００７】
また、粒状スペーサが有機溶剤などの溶媒と共に基板上に着弾した後に、その溶媒の揮発に伴い縮小する溶媒体積とその溶媒の表面張力の影響により引っ張られて場所の移動が生じる。通常は溶媒の最も乾燥の遅い場所に粒状スペーサが引き込まれて集まる傾向が多い。また平面基板上に粒状スペーサが着弾した場合は溶媒の中心に集まることも多く、特に凹凸のある基板の場合は溶媒の乾燥速度が場所によって均一でないため、場所による乾燥速度のばらつきに伴って粒状スペーサの位置にもばらつきが生じる。このためギャップ均一性悪化や粒状スペーサによるスペーサ周囲の配向不良領域に起因した画質低下等が発生し、歩留り低下につながっていた。
【０００８】
たとえば図１２（ａ）に示すように緑色着色層１１１の表面に粒状スペーサ１００がインク１０１と共に着弾したとしても、このインク１０１が着弾後の時間経過と共に乾燥し、その体積が減少する。この体積減少に伴い粒状スペーサ１００も当初の位置からたとえば矢印Ｆの方向へ移動してしまう。この移動は矢印Ｆの方向へインク１０１が乾燥して収縮する際に粒状スペーサ１００を引き連れていくことが原因である。
【０００９】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、スペーサの位置ズレを緩和できギャップ均一性が良好で低コストかつ高歩留りな液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の本発明の液晶表示素子は、ＴＦＴアレイ基板と、このＴＦＴアレイ基板に対向配置された対向基板と、前記ＴＦＴ基板上に設けられたスイッチング素子と、このスイッチング素子上に設けられた絶縁膜と、この絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記ＴＦＴアレイ基板と対向基板を所定の間隔に維持するための球状スペーサと、前記ＴＦＴアレイ基板と対向基板に挟持された液晶層と、前記画素電極と前記スイッチング素子を電気的に接続するために前記絶縁膜に設けられたスルーホールと、このスルーホール付近に形成され前記球状スペーサを所定の位置に配置するためのスペーサ配置用構造と、を備えていることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項２に記載の本発明の液晶表示素子は、インクジェット工法により所定位置に配置される球状スペーサを有するＴＦＴアレイ基板から構成された液晶表示素子において、前記インクジェット工法においてインク中に含有されて吐出された前記球状スペーサを当該インクの乾燥による収縮と表面張力でもって所定場所に付着させるために前記ＴＦＴアレイ基板上の前記所定位置に形成されたスペーサ配置用構造と、前記スペーサ配置用構造に前記乾燥によって収縮した前記インクによって前記所定位置に固定されて配置された前記球状スペーサと、を備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、スペーサの位置ズレを緩和できギャップ均一性が良好で低コストかつ高歩留りな液晶表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
＜第１の実施の形態＞
図１は、本発明の第１の液晶表示素子の実施の形態に係る断面図を示している。この図１には、液晶表示素子の構成を説明するための概略の断面図を示しており、スペーサ配置用構造１と、粒状スペーサ２と、インク３と、絶縁膜からなる青色着色層１０、緑色着色層１１、赤色着色層１２と、遮光層１３（以下、ＢＭ層と記す）と、シール１４と、画素電極１５と、対向基板１６と、ＴＦＴアレイ基板４と、スルーホール２０と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）であるスイッチング素子２１と、が示されている。そして、図示しないが、ＴＦＴアレイ基板４上には、信号線と走査線が互いに直交するように配線され、この直交する付近に薄膜トランジスタが設けられる。薄膜トランジスタは、これら信号線と走査線に接続されている。
【００１４】
この図１に示すように、液晶表示素子は青色着色層１０と緑色着色層１１および赤色着色層１２からなる着色層と、この着色層を有するＴＦＴアレイ基板４と、およびこのＴＦＴアレイ基板４と対向基板１６との間に液晶層２２を挟持している。これらのＴＦＴアレイ基板４と対向基板１６との基板間距離は、たとえば樹脂からなるスペーサ２によって所定距離に規制されている。このスペーサ２は球形に形成されており、インクジェット工法において、インクにこの球形のスペーサ２が混ぜ込まれて、インクと共に吐出されて印刷される。このスペーサ２は、たとえば直径が２〜６μｍに形成された球状であることが好ましい。
【００１５】
また、対向基板１６とＴＦＴアレイ基板４のそれぞれの基板外周部分は、その外周部分を取り囲むように配置されたシール１４によって互いに接着されている。
【００１６】
ＴＦＴアレイ基板４の構成は、着色層と、その着色層の下に配置され形成されるスイッチング素子２１を有している。着色層を構成する赤色着色層１２、緑色着色層１１、青色着色層１０は図２に示すようにストライプ状に配置されている。このうち、緑色着色層１１にはスルーホール２０を避けた位置にスペーサ配置用構造１が設けられている。赤色着色層１２と緑色着色層１１および青色着色層１０からなる着色層の上には図示しない画素電極形成されており、スルーホール２０によってスイッチング素子２１と接続されている。
【００１７】
また、着色層が配置された表示領域の外周には着色層と同時に形成されたＢＭ層１３が形成されており、その上に図示しない配向膜が配置されている。対向基板１６は透明基板上にＩＴＯからなる透明な画素電極１５や配向膜が所定順序で配置されている。
【００１８】
次に、本実施の形態の液晶表示素子の製造工程について説明する。
【００１９】
透明基板上にスイッチング素子２１を形成し、その上に赤色レジスト液をスピンナ塗布し、約９０℃で約５分間プリベークし、所定のマスクパターンを用いて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線により露光する。
【００２０】
続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約４０秒間現像し、さらに水洗い後、約２００℃で１時間ほどポストベークをすることによって、赤色着色層１２を形成する。
【００２１】
その後、緑色着色層１１、青色着色層１０も同様な工程にて形成した。ただし青色着色層１０を形成する際には、形成済みの緑色着色層１１上の所定の場所（ダミー着色層上）に青色着色層１０を用いてスペーサ配置用構造１を同時に形成している。青色着色層１０を形成するためのマスクにおいて、スペーサ配置用構造１を形成するために穿孔したマスクを用いることにより、スペーサ配置用構造１となる微小な突起を形成した。その後、着色層上にスパッタリング法によりイリジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）を堆積し、パターンニングすることにより画素電極１５を形成した。
【００２２】
さらに前記着色層形成と同様な手法により、黒色樹脂を用いてＢＭ層１３を形成した。その後ポリイミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布、配向処理を施して配向膜を形成した。その後インクジェット装置により４箇所のスペーサ配置用構造１で包囲された範囲内に５μｍ径のスペーサ２をインクと共に吐出して配置し、インク３の溶媒を乾燥させてスペーサ２を固定し、ＴＦＴアレイ基板４を得た。
【００２３】
なお、図３（ａ）に示すようにスペーサ配置用構造１に包囲された範囲にスペーサ２が吐出されて着弾している。スペーサ２はインク３と共に吐出されるので、緑色着色層１１上で乾燥していないインク３の溶剤中に包まれている。この溶剤は揮発性を備えており、溶剤が揮発してその体積が減少するにつれて図３（ｂ）に示すようにスペーサ２も移動する。そして図３（ｃ）に示すように、インク３の溶剤が完全に揮発して乾燥した後には、スペーサ２はスペーサ配置用構造１の近傍付近か若しくは接して配置される。
【００２４】
すなわち、スペーサ配置用構造１の突起部分には、揮発する前のインク３が備える自身の表面張力によってインクが留まる。この表面張力によってスペーサ２もインク３が留まりさらに乾燥して収縮していく部分へ運ばれる。結果として、揮発により収縮していくインク３が液体として最後まで残留しているスペーサ配置用構造１へ向けて、スペーサ２が移動する。
【００２５】
次に、対向基板１６の製造工程について説明する。透明基板２５上にスパッタリング法によりインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）を堆積し、透明な画素電極１５を形成した。その後ポリイミドからなる図示しない配向膜材料を基板全面に塗布、配向処理を施して配向膜を形成し、対向基板１６を得た。
【００２６】
対向基板１６の外周周辺部にシール１４を、液晶注入用の図示しない注入口を除いて塗布した。このＴＦＴアレイ基板４と対向基板１６をシール１４により貼り合わせ、枚葉方式の封着治具に入れて排気を行い、約１７０℃の硬化温度にて３０分焼成することにより空状態のセルが完成する。
【００２７】
次に、カイラル材が添加されたネマティック液晶材料を、図示しない注入口からセル内に真空注入し、注入後に注入口を紫外線硬化樹脂からなる封止材を用いて封止し、液晶層２２を形成する。その後、セルの両側にそれぞれ偏光板を配置することにより液晶表示素子を完成させる。
【００２８】
こうして作製した液晶表示素子は、スペーサ２の位置ズレによるギャップ不良やスペーサ周囲の配向不良領域による画質低下もなかった。また低コストで高歩留りも達成することができた。
【００２９】
なお、本実施の形態ではカラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板を用いたが、この限りではない。すなわちカラーフィルタ基板上でも可能であり、また反射／半透過用の透明樹脂を用いた基板でも可能である。
【００３０】
また、本実施の形態ではカラーフィルタ膜の色材料としてアクリル樹脂系のネガ型感光性材料を用いたが、これに限定されない。すなわち、ポジ型、ネガ型あるいはアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系に限らず、すくなくとも露光プロセスを用いてパターニングできる感光性樹脂であれば使用可能である。
【００３１】
また、本実施の形態ではスペーサ２の位置を規制する構造として図２および図３に示すように着色層上に突起を形成したが、これに限定されない。たとえば図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、緑色着色層１１上にスペーサ配置用構造１に代えて凹み３０を形成し、この凹み３０にスペーサ２が配置されるようにしてもよい。
【００３２】
この場合、図４（ａ）に示すようにインクジェット工法でもってスペーサ２を含んだインク３を凹み３０へ吐出させる。この時点ではインク３の溶剤は揮発していないが、時間経過とともに溶剤が徐々に揮発し始める。この揮発に伴い図４（ｂ）に示すようにスペーサ２がインク３の表面張力に引かれて凹み３０へ引き込まれる。そして、最終的にはインク３の溶剤がすべて揮発し、スペーサ２は凹み３０の中央近傍へ配置される。
【００３３】
また、図５に示すように、スペーサ配置用構造１に代えて微小な突起３１を形成することによってもスペーサを所定の位置に配置することができる。この図５（ａ）に示すように、突起３１へスペーサ２を含んだインク３を吐出して付着させる。インク３の溶剤が揮発し始めると図５（ｂ）に示すようにインク３の表面張力に引かれてスペーサ２が突起３１に向けて移動する。そして図５（ｃ）に示すようにスペーサ２が突起３１に接した状態で配置される。
【００３４】
また、図６（ａ）に示すようにスペーサ配置用構造１に代えて凹み３２を形成することによってもスペーサを所定の位置に配置することができる。この構成はすでに説明した図４（ａ）に示す凹み３０と似通っているが、凹み３０に比して凹み３２は吐出されるインク３の着弾精度がブレ他場合においても、十分に凹み３２の中に着弾する程度に大きく形成されている。インク３は凹み３２が十分に大きいため、その中へ確実に着弾し図６（ｂ）に示すようにスペーサ２を含んで揮発し始める。そして、図６（ｃ）に示すように揮発が完了した時点でスペーサ２は凹み３２のほぼ中央付近に配置される。
【００３５】
また、図７に示すように、スペーサ配置用構造１に代えてピンホール３３あるいはスリットでもスペーサを所定の位置に配置することができる。たとえば図７（ａ）に示す断面のピンホール３３を緑色着色層１１に設ける。ピンホール３３に図７（ｂ）に示すようにスペーサ２を含んだインク３が着弾する。そして図７（ｃ）に示すように、インク３の溶媒が揮発するに連れて、スペーサ２はさらにピンホール３３へ向けて移動し、最終的にはピンホール３３上にて乾燥して配置される。
【００３６】
また、図８にはスペーサ配置用構造１の変形例を図８（ａ）〜（ｄ）に示している。図８（ａ）は緑色着色層１１の表面に突起３７を設ける。この突起３７を設けるために、透明基板４上に突起３５を予め設けておき、緑色着色層１１を均一な厚さで形成することにより突起３７も同時に形成している。
【００３７】
また、図８（ｂ）は緑色着色層１１を形成した後に、青色着色層１０を形成する工程において、青色着色層１０を形成するマスクパターンにスペーサ配置用構造３８を形成するための孔を設けて、青色着色層１０と同時に同一の材料で形成する。この方法と同様に、図８（ｃ）に示すようにＢＭ層１３を形成する工程において、スペーサ配置用構造３９を緑色着色層１１上へ同時に形成する。
【００３８】
また、図８（ｄ）に示すように緑色着色層１１上に画素電極１５を形成する際に、この画素電極１５の形成と同時に同一の材料でスペーサ配置用構造３６を形成してもよい。
【００３９】
なお、スペーサ配置用構造の形成方法として本実施の形態ではインクジェット工法への適用例を説明のために用いたが、たとえば印刷法の場合にも同様の効果を得ることができる。
【００４０】
＜第２の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態においてスペーサ配置用構造１を緑色着色層１１上に設けたが、第２の実施の形態においては緑色着色層１１上にスペーサ２を含んだインク３を所定位置に保持するためのインク溜４０を設けている。
【００４１】
このインク溜４０は図９示すようにスルーホール２０を避けて、たとえば線幅１５μｍで口（四角）形状の枠体を作成した。このインク溜４０に向けてスペーサ２を含んだインク３が吐出される。図９に示す例では、インク溜４０内にスペーサ２が２個着弾した例を示している。
【００４２】
また、図１０には緑色着色層１１上にインク溜４０の変形例としてインク溜４１の略断面図を示している。このインク溜４１はインク溜４０に比して小さく形成され、着弾したスペーサ２が１個のみ入る大きさに形成されている。そしてインク３の溶媒が揮発し乾燥することによって、スペーサ２がインク溜４１内に配置される。
【００４３】
以上のように、ＴＦＴアレイ基板を有する液晶表示素子の製造において、インクジェット工法を用いて液晶幅を支持するスペーサに粒状スペーサを用いて実現する際、ＴＦＴアレイ基板側もしくは対向基板の所定の位置に樹脂層を用いて囲い枠を形成し、その中に粒状スペーサを着弾させ粒状スペーサの位置ズレ範囲を規制し、もって低コストで高歩留りな液晶表示素子を形成することができる。
【００４４】
また、本実施の形態ではカラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板を用いたが、この限りではない。すなわちカラーフィルタ基板上でも可能であり、また、反射、半透明の透明樹脂を用いた基板でも可能である。
【００４５】
また、本実施の形態ではカラーフィルタ膜の色材料としてアクリル樹脂系のネガ型感光性材料を用いたが、これに限定されない。すなわち、ポジ型、ネガ型あるいはアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系に限らず、少なくとも露光プロセスを用いてパターニングできる感光性樹脂であれば使用可能である。
【００４６】
また、本実施の形態では感光性樹脂を用いたが、これに限定されない。すなわち熱硬化型樹脂を用いても可能である。
【００４７】
また、本実施の形態では囲い枠を単一層で形成したが、これに限定されない。すなわち囲い枠の各辺を２層目以降の別色層で形成し用いても可能である。
【００４８】
また、本発明の実施の形態に限定されることなく、たとえばスペーサ配置用構造を配線または遮光層の積層によって形成してもよい。
【００４９】
また、本発明の実施の形態に限定されることなく、たとえばスペーサ配置用構造を有機膜によって形成してもよい。
【００５０】
また、本発明の実施の形態に限定されることなく、たとえばスペーサ配置用構造を反射および半透過用の透明樹脂層によって形成してもよい。
【００５１】
また、本発明の実施の形態に限定されることなく、たとえばスペーサ配置用構造を感光性樹脂または熱硬化型樹脂によって形成してもよい。
【００５２】
また、本発明の実施の形態に限定されることなく、たとえばスペーサ配置用構造をＴＦＴ基板上に代えて遮光レイヤー上に形成してもよい。
【００５３】
また、本発明の実施の形態に限定されることなく、たとえばスペーサ配置用構造をカラーフィルタ層の中で最も解像度の高い層によって形成してもよい。
【００５４】
また、本発明を実施する際に用いるインクジェット工法は、配向膜成膜後のラビング工程後から貼り合せ工程までの間において実施されることが好ましい。
【００５５】
また、本実施の形態では囲い枠を線幅１５μｍで形成したがこれに限定されない。すなわち線幅は各材料による限界残し幅（解像度）から、如何ようにも作成可能であり細くも太くも可能である。また囲い枠の大きさは遮光レイヤー上であればどのような大きさでも可能であり限定されない。
【００５６】
また、本実施の形態では囲い枠を口（四角）形状に作成したがこれに限定されない。すなわち○（丸）形状でも幾何学形状でも可能であり、また各辺は繋がっている必要が無いので棒状で囲い作成しても可能である。
【００５７】
以上説明した本発明の第１と第２の実施の形態によれば、スペーサの位置ズレを緩和できギャップ均一性が良好で低コストかつ高歩留りな液晶表示素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の液晶表示素子の第１の実施の形態を説明するための断面図を示す。
【図２】本発明の液晶表示素子の第１の実施の形態におけるスペーサの配置を説明するための平面図を示す。
【図３】スペーサ配置用構造とスペーサの位置関係を説明するための説明図を示す。
【図４】スペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図５】スペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図６】スペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図７】スペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図８】スペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図９】本発明の第２の実施の形態によるスペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図１０】本発明の第２の実施の形態によるスペーサ配置用構造の変形例を説明するための説明図を示す。
【図１１】従来のスペーサの配置を説明するための説明図を示す。
【図１２】従来のスペーサの配置を説明するための説明図を示す。
【符号の説明】
【００５９】
１…スペーサ配置用構造
２…スペーサ
３…インク  
４…ＴＦＴアレイ基板
１０…青色着色層
１１…緑色着色層
１２…赤色着色層
１３…ＢＭ層
１４…シール
１５…画素電極
１６…対向基板
２０…スルーホール
２１…スイッチング素子
２２…液晶層
４０、４１…インク溜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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