(57)【要約】【課題】水蒸気透過率が低くて、層間の密着性が良好な有機無機積層型のガスバリアフィルムを提供する。【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層が、有機層、膜密度が１．７以上である第一無機層、および第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層から構成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層が有機層、膜密度が１．７以上である第一無機層、および第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層から構成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項２】
前記第一無機層が酸化ケイ素で構成され、前記第二無機層がケイ素またはアルミニウムの酸化物、ケイ素またはアルミニウム窒化物、あるいはケイ素またはアルミニウムの酸窒化物で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のガスバリアフィルム。
【請求項３】
前記バリア層を構成している第一無機層がポリシラザンを塗布し硬化させてなる酸化ケイ素からなることを特徴とする請求項１または２に記載のガスバリアフィルム。
【請求項４】
前記第一無機層の酸化ケイ素を構成するＳｉ−Ｏ結合とＳｉ−Ｎ結合の結合数比が２．０以上であることを特徴とする請求項３に記載のガスバリアフィルム。
【請求項５】
前記第二無機層の膜密度が４．０以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
【請求項６】
前記有機層がアクリレート、メタクリレートまたはその混合物を硬化させて得られたものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
【請求項７】
前記アクリレートまたは前記メタクリレートが、リン酸基、リン酸エステル基またはシランカップリング性官能基を少なくとも１種有することを特徴とする請求項６に記載のガスバリアフィルム。
【請求項８】
前記バリア層が、前記プラスチックフィルムに対して前記有機層、前記第一無機層、前記第二無機層の順に積層された構造を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
【請求項９】
前記バリア層が複数層形成されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
【請求項１０】
前記プラスチックフィルムの両面に前記バリア層を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムを用いた環境感受性デバイス。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムを用いた画像表示素子。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムを用いた有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガスバリアフィルムに関し、特に、バリア層の密着性に優れ、且つ、水蒸気透過率の低いガスバリアフィルムに関し、さらに、このガスバリアフィルムを用いた環境感受性デバイス、特に有機ＥＬ素子（有機電界発光素子）などの画像表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラスチックフィルムの表面に、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素等の金属酸化物薄膜を形成したガスバリア性のフィルムは、水蒸気や酸素など各種ガスの遮断を必要とする物品の包装や、食品、工業用品および医薬品等の変質を防止するための包装用途に広く用いられている。
【０００３】
近年、液晶表示素子や有機ＥＬ素子等の分野においては、重くて割れやすいガラス基板に代わって、プラスチックフィルム基板が採用され始めている。プラスチックフィルム基板はロールトゥロール（Roll to Roll）方式に適用可能であることから、コストの点でも有利である。しかし、プラスチックフィルム基板はガラス基板と比較して水蒸気バリア性に劣るという問題がある。このため、プラスチックフィルム基板を液晶表示素子に用いると、水蒸気が液晶セル内に侵入し、表示欠陥が発生する。
【０００４】
この問題を解決するために、プラスチックフィルム上に水蒸気バリア層を形成したガスバリアフィルムを用いることが知られている。ガスバリアフィルムとしては、プラスチックフィルム上に酸化珪素を蒸着したもの（例えば、特許文献１参照）や、酸化アルミニウムを蒸着したもの（例えば、特許文献２参照）が知られており、これらはいずれも水蒸気透過能が１ｇ／ｍ2／ｄａｙ程度となるバリア性を有する。
【０００５】
しかし、有機ＥＬ素子に用いるための基板にはさらに高い水蒸気バリア性が要求される。かかる要求に応えるための手段として、有機層と無機層の積層体をバリア層とすることにより、水蒸気透過率として０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ未満を実現する技術（例えば、特許文献３〜５参照）や、さらに優れたガスバリア性を実現する技術（特許文献６）が報告されている。しかしながら、ここで開示された有機無機積層型のガスバリアフィルムは、有機ＥＬ素子に用いるためにはバリア性が必ずしも十分ではないことや、有機層と無機層が力学的な応力によって剥離しやすいという問題点を有していた。
【０００６】
有機層と無機層が剥離しやすいという問題点に対処するために、プラスチックフィルム（基材）と無機層の間に有機下地層とポリシラザンの硬化物層を導入することにより、プラスチックフィルムとの密着性を向上させることが提案されている（特許文献７）。
【特許文献１】特公昭５３−１２９５３号公報（第１頁〜第３頁）
【特許文献２】特開昭５８−２１７３４４号公報（第１頁〜第４頁）
【特許文献３】特開２００３−３３５８８０号公報
【特許文献４】特開２００３−３３５８２０号公報
【特許文献５】特開２００３−３２７７１８号公報
【特許文献６】米国特許第６，４１３，６４５号明細書
【特許文献７】特開２００３−１１８０２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献７に記載される技術には、バリア層積層時の密着性に問題がある。また、有機ＥＬ素子に適用できるほどの高いバリア性は得られていないという問題もある。
このように、従来は有機ＥＬ素子に適用できるほどの高いバリア性とバリア層の十分な密着性を両立させる技術が提供されるに至っておらず、これらを両立させたガスガスバリアフィルムを提供することが必要とされていた。
【０００８】
そこで本発明者らは、このような従来技術の課題を解決するために、水蒸気透過率が十分に低くて、有機層と無機層との間の密着性が良好な有機無機積層型のガスバリアフィルムを提供することを本発明の第１の目的として検討を進めた。また、前記ガスバリアフィルムを用いた耐久性の高い有機ＥＬ素子を提供することを第２の目的として検討を進めた。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムにおいて、有機層と無機層との間に前記無機層とは物性が異なる他の無機下地層を導入することにより、その上層に形成される無機層のバリア性が高まることを見出し、以下に記載される本発明を提供するに至った。
【００１０】
［１］  プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層が有機層、膜密度が１．７以上である第一無機層、および第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層から構成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。
［２］  前記第一無機層が酸化ケイ素で構成され、前記第二無機層がケイ素またはアルミニウムの酸化物、ケイ素またはアルミニウム窒化物、あるいはケイ素またはアルミニウムの酸窒化物で構成されていることを特徴とする［１］に記載のガスバリアフィルム。
［３］  前記バリア層を構成している第一無機層がポリシラザンを塗布し硬化させてなる酸化ケイ素からなることを特徴とする［１］または［２］に記載のガスバリアフィルム。
［４］  前記第一無機層の酸化ケイ素を構成するＳｉ−Ｏ結合とＳｉ−Ｎ結合の結合数比が２．０以上であることを特徴とする［３］に記載のガスバリアフィルム。
［５］  前記第二無機層の膜密度が４．０以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
［６］  前記有機層がアクリレート、メタクリレートまたはその混合物を硬化させて得られたものであることを特徴とする［１］〜［５］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
［７］  前記アクリレートまたは前記メタクリレートが、リン酸基、リン酸エステル基またはシランカップリング性官能基を少なくとも１種有することを特徴とする［６］に記載のガスバリアフィルム。
［８］  前記バリア層が、前記プラスチックフィルムに対して前記有機層、前記第一無機層、前記第二無機層の順に積層された構造を有することを特徴とする［１］〜［７］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
［９］  前記バリア層が複数層形成されていることを特徴とする［１］〜［８］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
［１０］  前記プラスチックフィルムの両面に前記バリア層を有することを特徴とする［１］〜［９］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムを用いた環境感受性デバイス。
［１２］  ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムを用いた画像表示素子。
［１３］  ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載のガスバリアフィルムを用いた有機ＥＬ素子。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のガスバリアフィルムは、有機ＥＬ素子に応用できるほど水蒸気透過率が十分に低くて、有機層と無機層との間の密着性が良好であるという特徴を有する。また、本発明の有機ＥＬ素子は、耐久性が高いという特徴を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下において、本発明のガスバリアフィルムについて詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
［ガスバリアフィルムの層構成］
本発明のガスバリアフィルムは、プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有する。バリア層は、少なくとも１層の有機層と少なくとも２層の無機層で構成される。２層以上の無機層のうちの１層は膜密度が１．７以上である第一無機層であり、２層以上の無機層のうちの別の１層は、第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層である。
本発明のガスバリアフィルムを構成する有機層、第一無機層および第二無機層の積層順序はいかなる順に構成されても良いが、プラスチックフィルムに対して、有機層、第一無機層、第二無機層の順で設けられるのが好ましい。このような特徴を有するバリア層をプラスチックフィルムの片面にだけ設けてもよいし、両面に設けてもよい。両面に設ける場合は、２つのバリア層が同一の構成を有するものであっても、異なる構成を有するものであってもよい。また、バリア層を更に積層しても良い。
以下において、ガスバリアフィルムを構成するプラスチックフィルムと各層について詳しく説明する。
【００１４】
［プラスチックフィルム］
本発明のガスバリアフィルムで用いられるプラスチックフィルムは、有機層と無機層からなるバリア層をその上に形成するための基材として機能するものである。本発明のガスバリアフィルムを後述する画像表示素子として使用可能にするため、プラスチックフィルムは耐熱性を有する素材からなることが好ましい。好ましくは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上および／または線熱膨張係数が４０ｐｐｍ／℃以下で耐熱性の高い透明なプラスチックフィルムを用いる態様である。Ｔｇや線膨張係数は、使用する添加剤の種類や量などを適宜調整することによって所望の範囲に制御することができる。
【００１５】
本発明のガスバリアフィルムを構成するプラスチックフィルムに用いられるポリマーは、熱可塑性ポリマーおよび熱硬化性ポリマーのいずれであってもよい。熱可塑性ポリマーは、ポリマー単体のＴｇが７０〜３００℃であるものが好ましく、１２０〜２５０℃であるものがさらに好ましい。また、光学的均一性を達成するためには、非晶性ポリマーであることが好ましい。このような熱可塑性樹脂として、以下のようなものが挙げられる（括弧内はＴｇを示す）。
【００１６】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：８０℃）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：１２０℃）、ポリカーボネート（ＰＣ：１４０℃）、脂環式ポリオレフィン（例えば日本ゼオン(株)製 ゼオノア１６００：１６０℃）、ポリアリレート（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：２２０℃）、ポリスルホン（ＰＳＦ：１９０℃）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：特開２００１−１５０５８４号公報の化合物：１６２℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２０５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報の化合物：３００℃以上）。特に、透明性を求める場合には脂環式ポレオレフィン等を使用するのが好ましい。
【００１７】
熱硬化性ポリマーとしては、エポキシ系樹脂および放射線硬化性樹脂が挙げられる。エポキシ系樹脂は、ポリフェノ−ル型、ビスフェノール型、ハロゲン化ビスフェノール型、ノボラック型のものが挙げられる。エポキシ系樹脂を硬化させるための硬化剤は、公知の硬化剤を用いることができる。例えば、アミン系、ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が挙げられる。中でも、耐溶剤性、光学特性、熱特性等の観点から、酸無水物および酸無水物構造を含むポリマーまたは脂肪族アミン類が好ましく用いられ、特に好ましいのは、酸無水物および酸無水物構造を含むポリマーである。さらに、公知の第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒を適量加えることが好ましい。
【００１８】
これらのプラスチックフィルムの厚みは用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には１〜８００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。
これらのプラスチックフィルムは、片面もしくは両面に下塗り層を有していてもよい。下塗り層の例としては、透明導電層、プライマー層、マット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層等が挙げられる。本発明のプラスチックフィルムはこれらの下塗り層のうち、片面にマット剤層を有するのが好ましい。
【００１９】
本発明のガスバリアフィルムをディスプレイ等の画像表示素子に利用する場合は、透明なプラスチックフィルムを用いることが好ましい。具体的には、光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上であるプラスチックフィルムを用いることが好ましい。
【００２０】
ただし、ディスプレイ用途に用いる場合であっても本発明のガスバリアフィルムを観察側に設置しない場合や不透明包装材料に用いる場合などは、プラスチックフィルムには必ずしも透明性が要求されない。したがって、本発明のプラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えばポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。
【００２１】
なお、本明細書において透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引くことにより算出することができる。
【００２２】
［有機層］
本発明のガスバリアフィルムの有機層は、硬化性樹脂で構成されていることが好ましい。
硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の放射線を照射することにより硬化が進行する樹脂であり、具体的には分子または単体構造内にアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合、あるいはエポキシ基等の重合性官能基を含む。これらの中でも特に、アクリロイル基を含むアクリル系樹脂が好ましい。放射線硬化性樹脂は、一種類の樹脂を用いても、数種の樹脂を混合して用いてもよいが、分子または単位構造内に２個以上のアクリロイル基を有するアクリル系樹脂を用いることが好ましい。こうした多官能アクリレート樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられるが、これらに限定されるのではない。
【００２３】
紫外線硬化法を用いる場合には、前述の放射線硬化性樹脂に公知の光反応開始剤を適量添加する。
【００２４】
上記のエポキシ系樹脂および放射線硬化性樹脂には、さらにポリマー分子との相互作用を強めるために、アルコキシシランの加水分解物やシランカップリング剤を混合してもよい。シランカップリング剤としては、一方にメトキシ基、エトキシ基、アセトキシ基等の加水分解可能な反応基を持ち、もう一方にはエポキシ基、ビニル基、アミノ基、ハロゲン基、メルカプト基を有するものが好ましく、この場合、特に好ましくは主成分樹脂に固定するため、同じ反応基を持つビニル基を有するものが好ましく、例えば、信越化学工業（株）のＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−８０３、日本ユニカー（株）製のＡ−１８７などが用いられる。これらの添加量は、０．２〜３質量％であることが好ましい。
さらに、後述するポリシラザンの硬化物層および無機層との密着を向上させる目的で、リン酸基またはリン酸エステル基を有するアクリレートまたはメタクリレートを前記硬化性樹脂構成モノマーに混合することが望ましい。混合する量としては、１〜５０質量％であることが好ましく、５〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。リン酸基またはリン酸エステル基を有するアクリレートまたはメタクリレートの例としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ、ユニケミカル（株）製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ、共栄社化学（株）製のライトエステルＰ−１Ｍ、Ｐ−２Ｍなどが挙げられる。
【００２５】
有機層の形成方法としては、通常の溶液塗布法や真空成膜法等を挙げることができる。溶液塗布法としては、例えばディップコ−ト法、エア−ナイフコ−ト法、カ−テンコ−ト法、ロ−ラ−コ−ト法、ワイヤ−バ−コ−ト法、グラビアコ−ト法、スライドコート法、或いは、米国特許第２，６８１，２９４号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストル−ジョンコ−ト法により塗布することができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、米国特許第４,８４２,８９３号、同第４,９５４,３７１号、同第５,０３２,４６１号等の各明細書に記載のフラッシュ蒸着法が好ましい。
【００２６】
モノマー重合法としては特に限定は無いが、加熱重合、光（紫外線、可視光線）重合、電子ビーム重合、プラズマ重合、あるいはこれらの組み合わせが好ましく用いられる。これらのうち、光重合が特に好ましい。光重合を行う場合は、光重合開始剤を併用する。光重合開始剤の例としてはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から市販されているイルガキュアー（Irgacure）シリーズ（例えばイルガキュアー６５１、イルガキュアー７５４、イルガキュアー１８４、イルガキュアー２９５９イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３７９、イルガキュアー８１９など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えばダロキュアＴＰＯ、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、サートマー(Sartomer）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えばエザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴなど）等が挙げられる。
【００２７】
照射する光は、通常、高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線である。照射エネルギーは０．５Ｊ／ｃｍ2以上が好ましく、２Ｊ／ｃｍ2以上がより好ましい。アクリレート、メタクリレートは、空気中の酸素によって重合阻害を受けるため、重合時の酸素濃度もしくは酸素分圧を低くすることが好ましい。窒素置換法によって重合時の酸素濃度を低下させる場合、酸素濃度は２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。減圧法により重合時の酸素分圧を低下させる場合、全圧が１０００Ｐａ以下であることが好ましく、１００Ｐａ以下であることがより好ましい。また、１００Ｐａ以下の減圧条件下で２Ｊ／ｃｍ2以上のエネルギーを照射して紫外線重合を行うのが特に好ましい。
有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難になるし、厚すぎると外力によりクラックを発生してバリア性が低下しやすくなる。かかる観点から、有機層の厚みは１０ｎｍ〜２０００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜１０００ｎｍがより好ましい。
【００２８】
［第一無機層］
本発明において、第一無機層は膜密度が１．７以上である無機物であれば特に限定されない。第一無機層は膜密度は１．７〜３．０であることが好ましく、１．８〜２．５であることがより好ましく、２．０〜２．２であることがさらに好ましい。第一無機層を構成する素材は、このような膜密度の条件を満たすものであればとくに制限されない。例えば、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素など挙げることができ、中でも酸化ケイ素が好ましい。
第一無機層の成膜法は、蒸着法、スパッタリング法若しくはイオンプレーティング法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）、種々の化学的気相成長法（ＣＶＤ）若しくはめっきやゾルゲル法等の液相成長法等を用いることができるが、製造工程の簡素化できる点で以下に示すポリシラザン硬化によるものが好ましい。
【００２９】
本発明における第一無機層として好ましく用いられるポリシラザン硬化膜層は、ポリシラザンを溶剤に溶解させてコーティング用組成物を調製し、これを塗布後、硬化させることにより得られる。ポリシラザンは、クラリアントジャパン（株）製ＡＬＣＥＤＡＲ  ＣＯＡＴなどの調製された市販品を使用してもよく、適宜、溶剤で希釈して用いてもよい。
【００３０】
溶剤としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類を使用することができ、溶液の濃度は固形分濃度で１〜５０重量％であることが好ましい。
【００３１】
塗布方法は、ディップコ−ト法、エア−ナイフコ−ト法、カ−テンコ−ト法、ロ−ラ−コ−ト法、ワイヤ−バ−コ−ト法、グラビアコ−ト法、スライドコート法などの一般的な溶液塗布法を用いることができる。
【００３２】
ポリシラザンの塗布後、加熱処理をすることにより硬化したシリカ膜が得られるが、加熱処理の温度は１２０℃以下であることが好ましい。加熱処理を１２０℃よりも高い温度で加熱処理を行うと、プラスチックフィルムが変形したり、その強度が劣化したりするなどのおそれがある。しかしながら、この加熱処理温度は、使用するプラスチックフィルムの耐熱性によって適宜設定することができる。加熱雰囲気は酸素中、空気中のいずれであってもよい。
【００３３】
また、上記ポリシラザンの硬化は湿熱雰囲気で行なうことが好ましい。湿度は特に限定されるものではないが、相対湿度で１０〜１００％が好ましく、５０〜９０％がさらに好ましく、６０〜８０％が特に好ましい。温度は室温以上で効果的であるが、室温〜１２０℃が好ましく、５０〜１００℃が特に好ましい。熱処理時間は特に限定されるものではないが、１０分〜６時間が好ましく、３０分〜４時間が特に好ましい。硬化が不十分であると、ポリシラザン中のＳｉ−Ｎ結合からＳｉ−Ｏ結合への転換が十分に進行せず、バリア性としての機能が低下する。この硬化膜中のＳｉ−Ｏ結合とＳｉ−Ｎ結合の結合数比（Ｓｉ−Ｏ／Ｓｉ−Ｎ）は２．０以上であることが好ましく、５．０以上であることがさらに好ましい。なお、硬化膜を構成する化学結合であるＳｉ−Ｏ結合およびＳｉ−Ｎ結合は赤外吸収スペクトルにより確認することができ、それぞれ１０８０ｃｍ-1および８６０ｃｍ-1付近に固有の吸収ピークがみられるので、それぞれのピーク強度比により計算することができる。
【００３４】
ポリシラザン硬化膜の厚さとしては、０．１〜２μｍが好ましく、０．２〜１μｍがさらに好ましい。硬化膜が厚すぎると、クラックが発生しやすくなるため好ましくない。
【００３５】
［第二無機層］
本発明における第二無機層は、膜密度が第一無機層の膜密度よりも高い無機物で構成されている。膜密度が低いと十分なバリア性が得られない。膜密度を高くすることで膜が緻密になりバリア性が向上する。第二無機層の無機素材は前記膜密度の条件を満たす膜であれば特に限定されない。例えば、ケイ素またはアルミニウムの酸化物、ケイ素またはアルミニウム窒化物、ケイ素またはアルミニウムの酸窒化物などを挙げることができる。この中では、成膜性や透明性の点で酸化アルミニウムを用いるのが好ましい。第一無機層と第二無機層の膜密度差は０．５〜１．５であり、１．０〜１．５であることが好ましい。膜密度差が小さすぎると無機層自身のバリア性が十分に得られない可能性があり、逆に膜密度差が大きすぎると、無機層間での剥離やクラックが生じやすくなる。第二無機層の膜密度は４．０以下であることが好ましく、３．８以下であることがより好ましく、３．６以下であることがさらに好ましい。なお、ここで言う膜密度は、Ｘ線反射率測定法により測定することができる。無機層の形成法としては、蒸着法、スパッタリング法若しくはイオンプレーティング法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）、種々の化学的気相成長法（ＣＶＤ）若しくはめっきやゾルゲル法等の液相成長法がある。このうち、無機層形成時のプラスチックフィルムへの熱の影響を回避し、生産速度が速く、均一な薄膜層を得やすい点で、化学的気相成長法（ＣＶＤ）や物理的気相成長法（ＰＶＤ）が好ましい。また、厚めの膜が得やすいという観点からゾルゲル法により無機層を形成することも好ましい。厚めの膜とは、ここでは１００ｎｍ〜１μｍの範囲の膜を示す。
【００３６】
第二無機層の厚みは、１０ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。無機層の厚みが５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であれば、欠陥部分や結晶間の密度の低い部分による影響を受けにくく、高ガスバリア性が得られる。また変形した場合においても無機層の破壊を少なくすることができ、実用上好ましい。
【００３７】
［機能層］
さらに本発明のガスバリアフィルムは、無機層および有機層以外に、種々の機能層を設置してもよい。該機能層の例としては、反射防止層、偏光層、カラーフィルター、および光取出効率向上層等の光学機能層；ハードコート層や応力緩和層等の力学的機能層；帯電防止層や導電層などの電気的機能層；防曇層；防汚層；被印刷層などが挙げられる。これらの機能層は、プラスチックフィルム、無機層、有機層のいずれの間、または無機層が設置されたプラスチックフィルムの反対側の面に設置してもよく、有機層と同様に成膜硬化前の加熱処理工程を含んでもよい。
さらに、本発明の条件を満たすバリア層を形成した面とは反対側のプラスチックフィルム面には、少なくとも無機層と有機層と無機層とがこの順に積層されたガスバリア性ラミネート層を設けることもできる。ガスバリア性ラミネート層は、フィルム反対面からの水分子の侵入を防ぐことでガスバリアフィルムの寸法変化を抑制することによりバリア層への応力集中や破壊を防止し、結果として耐久性を高めることができるという特徴を有する。
【００３８】
上述した有機層、第一無機層、第二無機層、機能層やその他の厚みは、いずれも塗布液濃度や塗布速度を調節することにより任意に調節することができる。
【００３９】
［ガスバリアフィルムの性能］
本発明のガスバリアフィルムは、優れたガスバリア性を示す。本発明のガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下を達成することができ、好ましくは０．００５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、より好ましくは０．００３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、さらに好ましくは０．００１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。また、本発明のガスバリアフィルムは、バリア層が優れた密着性を示す。すなわち、バリア層を構成する有機層と無機層との間の密着性が優れている。このような優れた水蒸気透過率や密着性は、ガスバリアフィルムを複数回屈曲した後であっても維持される。したがって、本発明のガスバリアフィルムは、フレキシブルな画像表示素子などに好適に利用される。
【００４０】
［環境感受性デバイス］
（ガスバリアフィルムの用途）
本発明のガスバリアフィルムはさまざまな用途に供することができる。なかでも、環境感受性デバイスに好ましく用いることができる。
本発明における環境感受性デバイスとは、環境中に存在する物質、たとえば酸素、水分による影響をうけて性能が変化するデバイスをいい、例えば、画像表示素子、有機メモリー、有機電池、有機太陽電池等が挙げられる。本発明における画像表示素子とは、円偏光板・液晶表示素子、タッチパネル、有機ＥＬ素子などを意味する。以下において、各環境感受性デバイスの詳細について説明する。
【００４１】
（円偏光板）
本発明のガスバリアフィルムを基板としλ／４板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ／４板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが４５°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向（ＭＤ）に対し４５°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開２００２−８６５５５４号公報に記載のものを好適に用いることができる。
【００４２】
（液晶表示素子）
反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ／４板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明のガスバリアフィルムは、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ／４板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ／４板および偏光膜からなる構成を有する。このうち本発明の基板は、前記上透明電極および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはＴＮ（Twisted Nematic）型、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型またはＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）型、ＶＡ(Vertically Alignment)型、ＥＣＢ型（Electrically Controlled Birefringence）、ＯＣＢ型（Optically Compensated Bend）、ＣＰＡ型(Continuous Pinwheel Alignment)であることが好ましい。
【００４３】
（タッチパネル）
タッチパネルは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されたものに応用することができる。
【００４４】
（有機ＥＬ素子）
有機ＥＬ素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本発明のガスバリアフィルムは、有機ＥＬ素子の封止フィルムとして有用である。有機ＥＬ素子は、基板上に陰極と陽極を有し、両電極の間に発光層を含む有機化合物層を有する。発光素子の性質上、陽極および陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明である。
【００４５】
本発明における有機化合物層の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、または、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。また、発光層としては一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層、第三発光層等に発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
【００４６】
次に、有機ＥＬ素子を構成する各要素について、詳細に説明する。
（１）基板
本発明における有機ＥＬ素子に用いられる基板は、公知の有機ＥＬ素子に用いられる基板が広く採用できる。有機ＥＬ基板は、樹脂フィルムであってもよいし、ガスバリアフィルムであってもよい。ガスバリアフィルムの場合、上述した封止フィルムにおけるガスバリアフィルムのほか、特開２００４−１３６４６６号公報、特開２００４−１４８５６６号公報、特開２００５−２４６７１６号公報、特開２００５−２６２５２９号公報等に記載のガスバリアフィルムも好ましく用いることができる。
【００４７】
本発明で用いる基板の厚みは、特に規定されないが３０μｍ〜７００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは５０μｍ〜１５０μｍである。さらにいずれの場合もヘイズは３％以下が好ましく、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下、全光透過率は７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００４８】
（２）陽極
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。上述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９）に詳述がある。基板として耐熱性の低いプラスチック基材を用いる場合は、ＩＴＯまたはＩＺＯを使用し、１５０℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。
【００４９】
（３）陰極
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
【００５０】
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としては２属金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
【００５１】
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１〜１０質量％のアルカリ金属または２属金属との合金（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。なお、陰極の材料については、特開平２−１５５９５号公報、特開平５−１２１１７２号公報に詳述されている。また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属または２属金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を０．１〜５ｎｍの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。
【００５２】
陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０ｎｍ〜５μｍ程度であり、５０ｎｍ〜１μｍが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を１〜１０ｎｍの厚みに薄く成膜し、さらにＩＴＯやＩＺＯ等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
【００５３】
（４）発光層
有機ＥＬ素子は、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を有しており、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、電荷ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
【００５４】
−有機発光層−
有機発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、または正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、または電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は、発光材料のみで構成されていてもよく、ホスト材料と発光材料の混合層とした構成でもよい。発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、ドーパントは１種であっても２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料とを混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
【００５５】
前記蛍光発光材料の例としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。
【００５６】
前記燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子またはランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。
前記遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、および白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、および白金である。
前記ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、およびガドリニウムが好ましい。
【００５７】
錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著，Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社１９８７年発行、H.Yersin著，「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
【００５８】
また、発光層に含有されるホスト材料としては、例えば、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するものおよびアリールシラン骨格を有するものや、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料が挙げられる。
【００５９】
−正孔注入層、正孔輸送層−
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極または陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
【００６０】
−電子注入層、電子輸送層−
電子注入層、電子輸送層は、陰極または陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
【００６１】
−正孔ブロック層−
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。また、電子輸送層・電子注入層が正孔ブロック層の機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
また、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層を、発光層と陽極側で隣接する位置に設けることもできる。正孔輸送層・正孔注入層がこの機能を兼ねていてもよい。
【００６２】
（ＴＦＴ表示素子）
本発明のガスバリアフィルムは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）画像表示素子用基板として用いることができる。ＴＦＴアレイの作製方法としては、特表平１０−５１２１０４号公報に記載されている方法等が挙げられる。さらにこの基板はカラー表示のためのカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターはいかなる方法を用いて作製されてもよいが、好ましくはフォトリソグラフィー手法を用いることが好ましい。
【実施例】
【００６３】
以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００６４】
（実施例１）ガスバリアフィルムの作製
下記（１）にしたがって基材を調製し、下記（２−１）〜（４−３）にしたがって有機層と無機層を表１に記載される層構成で形成することにより、１５種類のガスバリアフィルムを作製した（試料１〜１４）。作製した各試料について、下記（５−１）〜（５−４）にしたがって試験を行った。
【００６５】
（１）基材の調製
ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人デュポン社製、商品名：テオネックスＱ６５ＦＡ）を２０ｃｍ角に裁断した。以下において基材の片面にだけバリア層を形成する場合は、ポリエチレンナフタレートフィルムの平滑面側にバリア層を形成した。
【００６６】
（２）有機層の形成
２−ブチル−２−エチル−プロパンジオールジアクリレート（共栄社化学（株）製、ライトアクリレートＢＥＰＧ−Ａ）１５ｇ、カプロラクトン２−ヒドロキシエチルメタクリレートのフォスフェート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＭＥＲ  ＰＭ−２１）４．５ｇ、シランカップリング剤（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ−５０３）０．５ｇ、紫外線重合開始剤（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、商品名：Ｃｉｂａイルガキュアー９０７）０．６ｇ、２−ブタノン１９０ｇの混合溶液を液厚が５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した。室温にて２時間乾燥した後、窒素置換法により酸素濃度が０．４５％となったチャンバー内にて高圧水銀ランプの紫外線を照射（積算照射量約２Ｊ／ｃｍ2）して有機層を硬化させ、ガスバリアフィルムを作製した。このとき膜厚はいずれも５００ｎｍ±５０ｎｍであった。
【００６７】
（３−１）第一無機層１ａの形成
ポリシラザン塗布液（クラリアントジャパン（株）製、Ｌ１１０）をワイヤーバーにて塗布し、１２０℃で１時間、９５℃・相対湿度８０％で３時間硬化処理を行うことにより、膜厚２００ｎｍのシリカ膜を形成した。赤外吸収スペクトルの強度比から求めたＳｉ−Ｏ結合数／Ｓｉ−Ｎ結合数の比は８．５であった。
【００６８】
（３−２）第一無機層１ｂの形成
（３−１）の第一無機層１ａの形成において、ポリシラザン塗布膜の硬化処理条件を５０℃で１時間とした点だけを変更して第一無機層１ｂを形成した。赤外吸収スペクトルの強度比から求めたＳｉ−Ｏ結合数／Ｓｉ−Ｎ結合数の比は１．６であった。
【００６９】
（３−３）第一無機層１ｃの形成
ターゲットとしてケイ素（Ｓｉ）を、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いて、スパッタリング装置により膜厚２００ｎｍの第１無機層（酸化ケイ素）を形成した。成膜圧力は０．１Ｐａとした。
【００７０】
（４−１）第二無機層２ａの形成
ターゲットとしてアルミニウム（Ａｌ）を、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いて、スパッタリング装置により膜厚５０ｎｍの酸化アルミニウム層を形成した。成膜圧力は０．１Ｐａとした。
【００７１】
（４−２）第二無機層２ｂの形成
ターゲットとしてケイ素（Ｓｉ）を、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いて、スパッタリング装置により膜厚５０ｎｍの酸化ケイ素層を形成した。成膜圧力は０．１Ｐａとした。
【００７２】
（４−３）第二無機層２ｃの形成
ターゲットとしてアルミニウム（Ａｌ）を、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして窒素を用いて、スパッタリング装置により膜厚５０ｎｍの窒化アルミニウム層を形成した。成膜圧力は０．１Ｐａとした。
【００７３】
（５−１）無機層の膜密度の測定
各試料の第一無機層および第二無機層の膜密度をＸ線反射率測定法により測定した結果を表１に示した。
【００７４】
（５−２）屈曲試験
各試料のバリア層を形成した側を外側にして両端を貼り合せることにより円柱状にした後、直径１２ｍｍの搬送ローラー２本を両ローラー間に約１Ｎの張力をかけて積層フィルムとローラー部が完全に接触し、かつ積層フィルムが滑らぬよう注意しながら３０ｃｍ/分で積層フィルムを回転搬送させた。
【００７５】
（５−３）密着性の測定
ＪＩＳ（日本工業規格）Ｋ５６００-５-６（ＩＳＯ２４０９）に準拠したクロスカット剥離法で、（５−２）で示した屈曲試験後のバリア層の密着性を調べた。評価値は膜破壊の起きなかった面積の比率（百分率）で表し、表１に示した。評価値が大きいほど密着性が高いことを表す。
【００７６】
（５−４）水蒸気透過率の測定
水蒸気透過率測定器（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１）を用いて、（５−２）で示した屈曲試験後のバリアフィルム基板の４０℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率を各試料について測定した。この測定器の検出限界値は０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙである。また、前記ＭＯＣＯＮ装置の測定限界である０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙ未満の値は、次の方法を用いて補完した。まず、ガスバリアフィルム上に直に金属Ｃａを蒸着し、蒸着Ｃａが内側になるよう該フィルムとガラス基板を市販の有機ＥＬ用封止材で封止して測定試料を作成した。次に該測定試料を前記の温湿度条件に保持し、ガスバリアフィルム上の金属Ｃａの光学濃度変化（水酸化あるいは酸化により金属光沢が減少）から水蒸気透過率を求めた。結果を表１に示した。
【００７７】
【表１】
2009095989.tif 000002
【００７８】
（評価結果）
表１より、本発明により作製したガスバリアフィルムと比較例について、それぞれの密着性とバリア性について評価した結果、バリア層に有機層、ポリシラザン硬化膜層、無機層を含むバリアフィルムの水蒸気透過率が、比較例にくらべて向上していることがわかった。さらに試料１のように基材／有機層／ポリシラザン硬化膜層／無機層とすることでポリシラザン硬化膜層上の無機層が緻密になりバリア性がさらに向上することがわかった。また、有機層にリン酸メタクリレートおよびシランカップリング性メタクリレートを混合することにより、積層バリアの構成時においても密着性が保持されることがわかった。また、第二無機層が酸化ケイ素にくらべて膜密度の高い酸化アルミニウムの方が水蒸気透過率が低減しており、バリア性が向上していることがわかった。
ポリシラザンの硬化膜において、膜中に存在するＳｉ−Ｎ結合の割合が多い場合はバリア性が低く、また第一無機層と第二無機層の膜密度差が大きい場合や、逆に小さい場合は、バリア性の低下や密着性の低下がみられた。
【００７９】
（実施例２）有機ＥＬ素子の作製と評価
（１）有機ＥＬ素子の作製
ＩＴＯ膜を有する導電性のガラス基板（表面抵抗値１０Ω／□）を２−プロパノールで洗浄した後、１０分間ＵＶ−オゾン処理を行った。この基板（陽極）上に真空蒸着法にて以下の有機化合物層を順次蒸着した。
（第１正孔輸送層）
銅フタロシアニン：膜厚１０ｎｍ
（第２正孔輸送層）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチルベンジジン：膜厚４０ｎｍ
（発光層兼電子輸送層）
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム：膜厚６０ｎｍ
最後にフッ化リチウムを１ｎｍ、金属アルミニウムを１００ｎｍ順次蒸着して陰極とし、その上に厚さ５μｍの窒化珪素膜を平行平板ＣＶＤ法によって付け、有機ＥＬ素子（ＯＥＬ−１、２）を作製した。
【００８０】
（２）有機ＥＬ素子上へのガスバリアフィルムの貼り合わせ
熱硬化型の接着剤（エポテック３１０、ダイゾーニチモリ（株））を用いて試料８のガスバリアフィルムと貼り合せ、６５℃で３時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機ＥＬ素子を得た。
【００８１】
（３）有機ＥＬ素子発光面状の評価
作製直後の有機ＥＬ素子を電流電圧発生器（Ｋｅｉｔｈｌｅｙ社製、ＳＭＵ２４００型ソースメジャーユニット）を用いて７Ｖの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。
次に各素子を４０℃／相対湿度９０％の暗い室内に６０日間静置した後、発光面状を観察した。保存前の発光面積に対する保存後の発光面積の割合９６％であり、ダークスポットの発生は見られなかった。
【００８２】
本発明のガスバリアフィルムを用いて封止した有機ＥＬ素子は湿熱耐久性に優れていることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明のガスバリアフィルムは、バリア層の密着性が高くて、水蒸気透過率が低い。また、屈曲しても良好な密着性と低い水蒸気透過率を維持しうる。このため、本発明のガスバリアフィルムは、従来のガラス基板の代替品として有用であり、有機ＥＬ素子を始めとする幅広い工業製品に応用しうる。