(57)【要約】【課題】光学補償能を有するカラーフィルタを形成するための材料として使用できる着色光学異方性層を有する光学材料の提供。【解決手段】着色光学異方性層を含む光学材料であって、該着色光学異方性層は波長４３０乃至７００ｎｍの範囲に非偏光透過率が３０％以下の極大吸収波長を有し、該着色光学異方性層は該極大吸収波長において、吸光度が最大となる偏光における吸光度Ａｍａｘと吸光度が最小となる偏光における吸光度Ａｍｉｎとが下記式：１．０≦Ａｍａｘ／Ａｍｉｎ≦１．４を満たし、かつ該着色光学異方性層は正面レターデーションが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である光学材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色光学異方性層を含む光学材料であって、
該着色光学異方性層は波長４３０乃至７００ｎｍの範囲に非偏光透過率が３０％以下の極大吸収波長を少なくとも１つ有し、
該着色光学異方性層は該極大吸収波長において、吸光度が最大となる偏光における吸光度Ａｍａｘと吸光度が最小となる偏光における吸光度Ａｍｉｎとが下記式：
１．０≦Ａｍａｘ／Ａｍｉｎ≦１．４
を満たし、かつ
該着色光学異方性層は正面レターデーションが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である光学材料。
【請求項２】
着色光学異方性層が液晶性化合物を含む組成物から形成された層である請求項１に記載の光学材料。
【請求項３】
着色光学異方性層が分子内に重合性基を二つ以上有する液晶性化合物を含む組成物から形成された層である請求項２に記載の光学材料。
【請求項４】
着色光学異方性層が粒径２０ｎｍ以下の顔料もしくは溶媒に可溶な染料を含む組成物から形成された層である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項５】
着色光学異方性層が下記一般式（Ｄ１）、（Ｄ２）又は（Ｄ３）：
【化１】
2009271121.tif 000041
【化２】
2009271121.tif 000042
【化３】
2009271121.tif 000043
［一般式（Ｄ１）〜（Ｄ３）中、Ｑは互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい五〜七員環を表し；Ｒ1は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を表し、又は２つのＲ1が互いに結合して置換基を有していてもよい五〜七員環を形成していてもよく；Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物を表し；Ｚｃは、Ｚｃが結合する２つの炭素原子と共に６員環を形成するために必要な非金属原子群を表し；Ｒ3は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を表し；Ｘは置換基を表し；ｃｍは０、１、または２を表す。］
で表される化合物を含む組成物から形成された層である請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項６】
二軸性の屈折率異方性を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項７】
着色光学異方性層が液晶性化合物、ジアゾまたはトリスアゾの二色性を有する染料、およびカイラル剤を含み、かつコレステリック配向した層である請求項１に記載の光学材料。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学材料であって、着色光学異方性層が、２個以上の領域からなり、該領域間において極大吸収波長の少なくとも１つが互いに異なっている光学材料。
【請求項９】
前記各領域が、４３５±３０ｎｍ、５４５±３０ｎｍ、及び６１０±４０ｎｍからなる群より選択される１つの前記極大吸収波長を有し、各領域の極大吸収波長は互いに異なっている請求項８に記載の光学材料。
【請求項１０】
前記各領域が、４３５±３０ｎｍ、５４５±３０ｎｍ、及び６１０±４０ｎｍからなる群より選択される２つの前記極大吸収波長を有し、各領域の極大吸収波長の少なくとも１つは互いに異なっている請求項８に記載の光学材料。
【請求項１１】
前記各領域が、インクジェットプロセスによって形成されたものである請求項８〜１０のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか一項に記載の光学材料を光学異方性カラーフィルタとして有する液晶表示装置。
【請求項１３】
ＶＡまたはＩＰＳまたはＦＦＳモードであることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色光学異方性層を含む光学材料、及び該光学材料を用いて形成された光学異方性カラーフィルタ付き液晶表示装置用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型ＬＣＤでは、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学異方性層を有する光学補償シートを配置することもある。一方、反射型ＬＣＤでは、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、および偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型および反射型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。しかしながら、従来のＬＣＤで表示し得る色やコントラストは、ＬＣＤを見る時の角度によって変化する。そのため、ＬＣＤの視野角特性は、ＣＲＴの性能を越えるまでには至っていない。
【０００３】
この視野角特性を改良するために、視野角補償用位相差板（光学補償シート）が適用されてきた。これまでに上述の様々の表示モードに対して種々の光学特性を有する光学補償シートを用いることにより、優れたコントラスト視野角特性を有するＬＣＤが提案されている。特にＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳの３つのモードは広視野角モードとして全方位に渡り広いコントラスト視野角特性を有するようになり、テレビ用途として既に家庭に普及している。これら光学補償シートによる方法は、コントラスト視野角特性は有効に改良できるため、色視野角特性改良がＬＣＤの重要な課題となっている。
【０００４】
ＬＣＤの色視野角特性は、Ｒ、Ｇ、Ｂの代表的な３つの色において波長が異なるため、同じ位相差でも偏光の位相差による変化が異なってしまうことに由来する。これを最適化するには、光学異方性材料の複屈折の波長依存性、すなわち複屈折波長分散をＲ、Ｇ、Ｂに対して最適化してやることである。現在のＬＣＤではＯＮ、ＯＦＦ表示に用いられる液晶分子の複屈折波長分散や光学補償シートの複屈折波長分散が容易に制御できないため、未だ色視野角特性を十分改良するに至っていない。
【０００５】
色視野角特性のために複屈折波長分散を制御した光学補償シートとして、変性ポリカーボネートを用いた位相差板が提案されている（特許文献１）。これを反射型液晶表示装置におけるλ／４板や、ＶＡモードにおける光学補償シートに用いることにより、色視野角特性が改善できる。しかしながら、変性ポリカーボネートフィルムは原料自体が高価というだけでなく、その製造工程において用いられる延伸においてボウイングなどの光学特性の不均一性が発生するなどの理由から、未だ広くＬＣＤに用いられるに至っていない。
【０００６】
一方、光学補償シートによるコントラスト視野角補償と原理は同じだが、それをＲ、Ｇ、Ｂの３色に対して独立に補償する方式も提案されている（特許文献２）。これは主に液晶セル内にカラーフィルタなどと一緒にパターニングする方法により実現される。しかしながら、液晶セル内にパターニング可能な材料で、尚且つ光学的に均一な位相差特性を有する光学異方性層を形成することは困難であった。しかも、ＲＧＢ三色のカラーフィルタ層を３回のフォトリソグラフィ工程で形成した後、さらにＲＧＢ三色に対して最適な材料を３回のフォトリソグラフィ工程で位置あわせしながらパターニングする必要があるため、プロセス負荷が大きく、歩留まりが悪いという問題があった。
【０００７】
それらを解決できる可能性のある材料として、着色性と光学異方性を兼ね備えたc-plate機能付きカラーフィルタ材料が提案されている（特許文献３）。しかしながら、この材料は正面レターデーションを有しないため、ＶＡモードやＩＰＳモードのＬＣＤの視野角補償を行うためには、正面レターデーションを有する別の光学異方性層が必要となり、結局前述の多くの問題を解決できない。また、着色と正面レターデーションを備えた光学異方性を有する材料としては、古くからゲスト−ホスト型ＬＣＤで用いられている二色性色素と液晶の混合物からなる材料が挙げられるが（特許文献４）、ＬＣＤの表示特性は不十分であった。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−３７８３７号公報
【特許文献２】ＧＢ２３９４７１８号公報
【特許文献３】特開２００１-２９００２３号公報
【特許文献４】特開昭５３−３５５６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は液晶表示装置において光学補償能を有するカラーフィルタを形成するための材料として使用できる着色光学異方性層を有する光学材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
発明者らの鋭意検討の結果、偏光方向に対する光吸収性を精査しつつ光学異方性層に色を付与することによって、光学補償能を有するカラーフィルタ形成材料として有用な着色光学異方性層を有する光学材料が作製できることを見出し、この知見をもとに本発明を完成させた。
すなわち本発明は下記［１］〜［１３］を提供するものである。
【００１１】
［１］着色光学異方性層を含む光学材料であって、
該着色光学異方性層は波長４３０乃至７００ｎｍの範囲に非偏光透過率が３０％以下の極大吸収波長を少なくとも１つ有し、
該着色光学異方性層は該極大吸収波長において、吸光度が最大となる偏光における吸光度Ａｍａｘと吸光度が最小となる偏光における吸光度Ａｍｉｎとが下記式：
１．０≦Ａｍａｘ／Ａｍｉｎ≦１．４
を満たし、かつ
該着色光学異方性層は正面レターデーションが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である光学材料。
【００１２】
［２］着色光学異方性層が液晶性化合物を含む組成物から形成された層である［１］に記載の光学材料。
［３］着色光学異方性層が分子内に重合性基を二つ以上有する液晶性化合物を含む組成物から形成された層である［２］に記載の光学材料。
［４］着色光学異方性層が粒径２０ｎｍ以下の顔料もしくは溶媒に可溶な染料を含む組成物から形成された層である［１］〜［３］のいずれか一項に記載の光学材料。
【００１３】
［５］  着色光学異方性層が下記一般式（Ｄ１）、（Ｄ２）又は（Ｄ３）：
【化１】
2009271121.tif 000002
【００１４】
【化２】
2009271121.tif 000003
【００１５】
【化３】
2009271121.tif 000004
【００１６】
［一般式（Ｄ１）〜（Ｄ３）中、Ｑは互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい五〜七員環を表し；Ｒ1は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を表し、又は２つのＲ1が互いに結合して置換基を有していてもよい五〜七員環を形成していてもよく；Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物を表し；Ｚｃは、Ｚｃが結合する２つの炭素原子と共に６員環を形成するために必要な非金属原子群を表し；Ｒ3は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を表し；Ｘは置換基を表し；ｃｍは０、１、または２を表す。］
で表される化合物を含む組成物から形成された層である［１］〜［４］のいずれか一項に記載の光学材料。
【００１７】
［６］二軸性の屈折率異方性を有する［１］〜［５］のいずれか一項に記載の光学材料。
［７］着色光学異方性層が液晶性化合物、ジアゾまたはトリスアゾの二色性を有する染料、およびカイラル剤を含み、かつコレステリック配向した層である［１］に記載の光学材料。
［８］［１］〜［７］のいずれか一項に記載の光学材料であって、着色光学異方性層が、２個以上の領域からなり、該領域間において極大吸収波長の少なくとも１つが互いに異なっている光学材料。
【００１８】
［９］前記各領域が、４３５±３０ｎｍ、５４５±３０ｎｍ、及び６１０±４０ｎｍからなる群より選択される１つの前記極大吸収波長を有し、各領域の極大吸収波長は互いに異なっている［８］に記載の光学材料。
［１０］前記各領域が、４３５±３０ｎｍ、５４５±３０ｎｍ、及び６１０±４０ｎｍからなる群より選択される２つの前記極大吸収波長を有し、各領域の極大吸収波長の少なくとも１つは互いに異なっている［８］に記載の光学材料。
【００１９】
［１１］前記各領域が、インクジェットプロセスによって形成されたものである［８］〜［１０］のいずれか一項に記載の光学材料。
［１２］［８］〜［１１］のいずれか一項に記載の光学材料を光学異方性カラーフィルタとして有する液晶表示装置。
［１３］ＶＡまたはＩＰＳまたはＦＦＳモードであることを特徴とする［１２］に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明により液晶表示装置において光学補償能を有するカラーフィルタを形成するための材料として使用できる着色光学異方性層を有する光学材料が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００２２】
本明細書において、レターデーション又はＲｅは正面のレターデーションを表す。正面のレターデーション（Ｒｅ(λ)）はKOBRA  21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるレターデーション又はＲｅは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍの波長で測定されたものを意味し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍまたは５９０±５ｎｍの波長で測定されたものを意味する。
【００２３】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが実質的に０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４３０〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００２４】
本願明細書において、着色光学異方性層というときの「着色」は、該層に法線方向から光（非偏光）を照射して測定される波長４３０乃至７００ｎｍの範囲の分光スペクトルにおいて透過率３０％以下となる波長が存在することを意味する。透過率とは入射光に対する透過光の割合を百分率で表したものを意味する。本発明の光学材料の着色光学異方性層は、上記の分光スペクトルにおいて極大吸収波長を少なくとも１つ、好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つ有していればよい。前記極大吸収波長は、４３５±３０ｎｍ、５４５±３０ｎｍ、及び６１０±４０ｎｍからなる群より選択される波長であることが好ましい。
【００２５】
本発明の光学材料における着色光学異方性層は上記の着色性すなわち光吸収性が実質的に等方的であることを特徴とする。
光吸収性の等方性の評価は、偏光フィルタを備えた分光光度計により行うことができる。光源側に偏光フィルタを備えた状態でキャリブレーションを行った分光光度計中でサンプルを回転させ、極大吸収波長における吸光度が最大となる方向の吸光度Ａｍａｘおよび極大吸収波長における吸光度が最小となる方向（通常極大吸収波長における吸光度が最大となる方向と直交する方向）の吸光度Ａｍｉｎを測定し、その比Ａｍａｘ／Ａｍｉｎ（二色比）が１．０に近いほど等方的であると考えることができる。本発明者の研究により、後述の実施例で示すように、Ａｍａｘ／Ａｍｉｎが１．４以下であれば、液晶表示装置のカラーフィルタへの適用において、実質的に等方的であると考えられることがわかった。
なお、吸光度Ａは光学異方性層への法線方向から入射した光の光強度をI0、透過光強度をIとしたときに  log10(I0/I)で表される数値を意味する。
【００２６】
例えば、着色と正面レターデーションを備えた光学異方性を有する材料として古くから知られるゲスト−ホスト型ＬＣＤに用いられるような二色性色素と液晶の混合物では少なくともＡｍａｘ／Ａｍｉｎが１０以上となる。そのような二色性を有するカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、カラー表示のために、カラーフィルタの二色性吸収軸を、液晶表示装置においてカラーフィルタを透過する光の偏光方向（透過軸方向）に合わせて調整する必要が生じるという問題がある。しかしながら、カラーフィルタに入射する光の偏光状態は、白と黒あるいは全ての中間調で異なる。そのため、二色性吸収軸が固定されていると、暗表示で色が付かないという問題や、色毎の二色性（Ａｍａｘ／Ａｍｉｎ）の差異によって暗表示から明るい表示にかけて色が変化してしまうという問題がある。本発明の光学材料においては上述のように光学異方性層のＡｍａｘ／Ａｍｉｎが１．０以上１．４以下となっているため、通常のカラーフィルタ又は光学異方性層と同様に、光学異方性層兼カラーフィルタとして液晶表示装置に設けることが可能である。
【００２７】
［吸収性材料］
本発明に用いられる吸収性材料、すなわち、光学異方性層を着色させるための材料としては、上述の理由から、光学異方性層内において、二色性を有しない、すなわち吸収が等方的である材料を用いることが好ましい。従って、吸収性材料として用いられる化合物の個々の分子において吸収が等方的である場合ばかりではなく、光学異方性層内においてランダムに配向し、材料全体として吸収が等方的である場合も含まれる。特に液晶性化合物を含む組成物から光学異方性層が形成される場合、液晶性化合物と共に一定方向に配向しない化合物からなる材料を用いることが好ましい。
【００２８】
吸収性材料としては特に制限はないがフルカラーＬＣＤへの適用のため、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、シアン、マゼンタ、イエローの表示が可能である吸収性を有する化合物を吸収性材料として一種または二種以上組み合わせて用いることが好ましい。
【００２９】
また、液晶性化合物を光学異方性発現材料として共存させる場合には、その液晶配向性に影響がないように、吸収性材料として粒径２０ｎｍ以下の顔料もしくは溶媒に可溶な染料を用いることが好ましい。顔料の粒径は特に１０ｎｍ以下であることが好ましい。顔料に形状異方性がある場合は針状の場合は短軸が２０ｎｍ以下、板状の場合は長軸が２０ｎｍ以下であればよい。また、吸収性材料は耐熱性が高いことが好ましく、２３０℃１時間の加熱処理を行っても吸収スペクトルに変化のないナノ顔料もしくは高耐熱性染料を用いることが好ましい。
【００３０】
そのようなナノ顔料としては「有機結晶材料の最新技術」（シーエムシー出版）に記載のナノ結晶成長を用いて作製された有機系顔料や、金、銀、白金などの金属や無機酸化物のナノ粒子が挙げられ、具体的には特開平１０−３３０６３８号公報、特開２００１−３３５８０４号公報、特開２００４−１５１３１３号公報、特開２００７−２３１６８号公報、特開２００７−１１２８７６号公報、特開２００７−１６９５７５号公報、特開２００７−２６２３７８号公報に記載されているようなナノ顔料を用いることができる。また、高耐熱性染料としてはジアリールメタン系染料、トリアリールメタン系染料、チアゾール系染料、メロシアニン系染料、ピラゾロンメチン等のメチン系染料、インドアニリン系染料、アセトフェノンアゾメチン、ピラゾロアゾメチン、イミダゾルアゾメチン、イミダゾアゾメチン、ピリドンアゾメチンに代表されるアゾメチン系染料、キサンテン系染料、オキサジン系染料、ジシアノスチレン、トリシアノスチレンに代表されるシアノスチレン系染料、チアジン系染料、アジン系染料、アクリジン系染料、ベンゼンアゾ系染料、ピリドンアゾ、チオフェンアゾ、イソチアゾールアゾ、ピロールアゾ、ピラールアゾ、イミダゾールアゾ、チアジアゾールアゾ、トリアゾールアゾ、ジズアゾ等のアゾ系染料、スピロピラン系染料、インドリノスピロピラン系染料、フルオラン系染料、ローダミンラクタム系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、キノフタロン系染料が挙げられ、具体的には特開２００５−１８９８０２号公報、特開２００６−４７４９７号公報、特開２００６−４７５８１号公報、特開２００６−４７５８２号公報、特開２００６−４７６７６号公報、特開２００６−４７７５２号公報、特開２００６−５８７００号公報、特開２００６−７１８２２号公報、特開２００６−９１１９０号公報、特開２００６−３３０７１７号公報、特開２００６−３３０７１８号公報、特開２００６−４７７５２号公報、特開２００７−９４１８８号公報に記載されているような染料を用いることができる。
【００３１】
上記高耐熱性染料としては、特に制限なく使用することができ、従来カラーフィルタ用途として公知の染料などから選択することができる。染料のうち、有機溶剤に溶解性を有する有機溶剤可溶性染料が好ましい。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報等に記載の染料が挙げられる。
【００３２】
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、アリールアゾ、ピラゾロトリアゾールアゾ、ピリドンアゾ等のアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、等の染料が使用できる。特に好ましくは、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、アントラキノン系、アンスラピリドン系の染料である。
【００３３】
本発明に用いられる吸収性材料として好ましい例としては下記一般式（Ｄ１）、（Ｄ２）または（Ｄ３）で表されるいずれかの化合物が挙げられる。
【化４】
2009271121.tif 000005
【化５】
2009271121.tif 000006
【化６】
2009271121.tif 000007
一般式（Ｄ１）〜（Ｄ３）中、Ｑは互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい五〜七員環を表し；Ｒ1は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を表し、又は２つのＲ1が互いに結合して置換基を有していてもよい五〜七員環を形成していてもよく；Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物を表し；Ｚｃは、Ｚｃが結合する２つの炭素原子と共に６員環を形成するために必要な非金属原子群を表し；Ｒ3は互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を表し；Ｘは置換基を表し；ｃｍは０、１、または２を表す。
【００３４】
（Ｄ１）のうち好ましい構造としては、下記一般式（Ｄ１１）、（Ｄ１２）又は（Ｄ１３）が挙げられる。
【００３５】
【化７】
2009271121.tif 000008
【００３６】
一般式（Ｄ１１）中、Ｒ11はヘテロ環基を表し、Ｒ12は、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1は−Ｎ＝、又は−Ｃ（Ｒ13）＝を表し、Ｒ13は水素原子又は置換基を表し、Ｘ1が−Ｃ（Ｒ13）＝の場合、Ｒ12とＲ13とが互いに結合して五〜七員環を形成していてもよく、Ｒ14は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を表し、Ｒ15は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基を表し、互いに結合して五〜七員環を形成していてもよい。
【００３７】
【化８】
2009271121.tif 000009
【００３８】
一般式（Ｄ１２）中、Ｚ1は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子求引性基を表し、Ｘ2は互いに同一でも異なっていてもよく、−ＣＲ16＝または窒素原子を表し、Ｒ16は水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基もしくはアリール基もしくは複素環基で置換された置換アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、または複素環チオ基を表し、Ｘ2が−ＣＲ16＝を示す場合、２つのＲ16は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ17およびＲ18は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表し、二つのＲ18が共に水素原子を表すことはなく、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は互いに結合して五員もしくは六員環を形成していてもよく、Ｚ2は、単環５員複素環基を表す。
【００３９】
【化９】
2009271121.tif 000010
【００４０】
一般式（Ｄ１３）中、Ｒ19は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または置換基を表し、Ｒ20は水素原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、これらは更に置換基によって置換されていてもよく、Ｑ1はジアゾ成分残基を表す。一般式（Ｄ１３）で表される染料は、任意の位置で二量体以上の多量体を形成してもよい。
【００４１】
ここで、置換基Ｚ1に関連して、本明細書中で用いられるハメットの置換基定数σｐ値について説明する。ハメット則はベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために、１９３５年にＬ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσｐ値とσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編、「Ｌａｎｇｅ’ｓ ａｎｄ ｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版、１９７９年（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊、１２２号、９６〜１０３頁、１９７９年（南光堂）に詳しい。なお、本発明において各置換基をハメットの置換基定数σｐにより限定したり、説明したりするが、これは上記の成書で見出せる文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲内に包まれるであろう置換基をも含むものである。また、前記一般式（Ｄ１２）の中には、ベンゼン誘導体ではないものも含まれるが、置換基の電子効果を示す尺度として置換位置に関係なくσｐ値を使用する。本発明においてはσｐ値をこのような意味で使用する。
【００４２】
ハメット置換基定数σｐ値が０．６０以上の電子吸引性基としては、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基）を例として挙げることができる。
ハメットσｐ値が０．４５以上の電子吸引性基としては、上記に加え、アシル基（例えばアセチル基）、アルコキシカルボニル基（例えばドデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばｍ−クロロフェノキシカルボニル基）、アルキルスルフィニル基（例えばｎ−プロピルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（例えばフェニルスルフィニル基）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ハロゲン化アルキル基（例えばトリフロロメチル基）を挙げることができる。
【００４３】
ハメット置換基定数σｐ値が０．３０以上の電子吸引性基としては、上記に加え、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基）、ハロゲン化アルコキシ基（例えばトリフロロメチルオキシ基）、ハロゲン化アリールオキシ基（例えばペンタフロロフェニルオキシ基）、スルホニルオキシ基（例えばメチルスルホニルオキシ基）、ハロゲン化アルキルチオ基（例えばジフロロメチルチオ基）、２つ以上のσｐ値が０．１５以上の電子吸引性基で置換されたアリール基（例えば、２，４−ジニトロフェニル基、ペンタクロロフェニル基）、および複素環基（例えば、２−ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、１−フェニル−２−ベンズイミダゾリル基）を挙げることができる。
【００４４】
σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基の具体例としては、上記に加え、ハロゲン原子などが挙げられる。
【００４５】
一般式（Ｄ１１）のより好ましい態様は下記一般式（Ｄ１１１）で表される。
【００４６】
【化１０】
2009271121.tif 000011
【００４７】
一般式（Ｄ１１１）において、Ｒ11が３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、５−イミダゾリル基、２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、２−ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−キノリニル基、４−キノリニル基、１−イソキノリニル基、３−イソキノリニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、２−プリニル基、６−プリニル基、８−プリニル基、３−トリアゾリル基、５−トリアゾリル基、３−オキサジアゾリル基、５−オキサジアゾリル基、３−チアジアゾリル基、又は、５−チアジアゾリル基；
Ｒ12が、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シアノ基、アリール基、アシルオキシ基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アルケニルスルホニルオキシ基、又はアルキニルスルホニルオキシ基；
Ｒ15が、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基；
であることが好ましい。
【００４８】
一般式（Ｄ１２）のより好ましい態様は下記一般式（Ｄ１２１）で表される。
【００４９】
【化１１】
2009271121.tif 000012
【００５０】
それぞれの置換基の好ましい範囲は以下の通りである。
（イ）Ｒ17はそれぞれ独立に、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基であり、最も好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基である。
【００５１】
（ロ）Ｒ18はそれぞれ独立に、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基であり、最も好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基である。但し、二つのＲ18が共に水素原子を表すことはない。
（ハ）Ｒ161としては、水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、特に好ましくは、水素原子又は炭素数が１〜８のアルキル基である。
（ニ）Ｘ21としては、−ＣＨ＝、−Ｃ（ＣmＨ2m+1）＝、−Ｃ（ＣＮ）＝、−Ｎ＝が好ましく、特に好ましくは−ＣＨ＝、−Ｃ（ＣＮ）＝、−Ｎ＝である。但し、ｍは１〜２０の整数であり、好ましくはｍ＝１〜３である。
【００５２】
（ホ）Ｘ22としては、−ＣＨ＝、−Ｃ（ＣmＨ2m+1）＝、−Ｃ（ＣＮ）＝が好ましく、特に好ましくは−ＣＨ＝、−Ｃ（ＣmＨ2m+1）＝である。但し、ｍは１〜２０の整数であり、好ましくはｍ＝１〜３である。
（ヘ）Ｚ1としては、シアノ基が好ましい。
（ト）Ｚ2としてはＣ、Ｎ、Ｓ、Ｏ原子から選ばれる複数の原子からなる単環の五員複素環が好ましく、特に好ましくは１，２，４−チアゾール環、１，３，４−チアゾール環、１，２，５−チアゾール環である。
【００５３】
前記一般式（Ｄ１２１）で表される化合物における好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記（イ）〜（ト）に示す好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記（イ）〜（ト）に示す好ましい基である化合物がより好ましく、前記（イ）〜（ト）の全ての置換基が上記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
【００５４】
前記一般式（Ｄ１２）で表される化合物は、いずれかの基を連結基として多量体（二量体、三量体、四量体など）を形成していていてもよい。
【００５５】
一般式（Ｄ１３）のより好ましい態様は下記一般式（Ｄ１３１）で表される。
【００５６】
【化１２】
2009271121.tif 000013
【００５７】
Ｒ19はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、イミド基またはヘテロ環チオ基が好ましく、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基がさらに好ましい。各基は更に置換されていてもよい。
【００５８】
Ｒ19およびＲ20で表される脂肪族基は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基および置換アラルキル基等が挙げられる。前記脂肪族基の総炭素数は、１〜３０であることが好ましく、１〜１６であることがさらに好ましい。前記脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、トリフルオロメチル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、およびアリル基等を挙げることができる。
【００５９】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリール基は、置換基を有していてもよく、総炭素数は６〜３０のアリール基が好ましく、６〜１６のアリール基がさらに好ましい。例えば、フェニル基、４−トリル基、４−メトキシフェニル基、２−クロロフェニル基、３−（３−スルホプロピルアミノ）フェニル基、４−スルファモイル基、４−エトキシエチルスルファモイルおよび３−ジメチルカルバモイル基等が挙げられる。
【００６０】
Ｒ19およびＲ20で表されるヘテロ環基としては、飽和であっても不飽和であってもよく、以下の芳香族ヘテロ環基を含み、環内に窒素原子、イオウ原子、酸素原子等のヘテロ原子のいずれかを含むものが挙げられ、更に置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のヘテロ環基であることが好ましく、１〜１５のヘテロ環基であることは更に好ましい。例えば、２−ピリジル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ベンゾオキサゾリル基および２−フリル基等が挙げられる。芳香族ヘテロ環基とは、環内に窒素原子、イオウ原子、酸素原子等のヘテロ原子のいずれかを含む芳香族環であって、５〜６員環が好ましい。芳香族ヘテロ環基の炭素原子数としては、１〜２５が好ましく、１〜１５が更に好ましい。芳香族ヘテロ環としては、ピラゾール基、１，２，４−トリアゾール基、イソチアゾール基、ベンゾイソチアゾール基、チアゾール基、ベンゾチアゾール基、オキサゾール基、１，２，４チアジアゾール基等が挙げられる。
【００６１】
Ｒ19およびＲ20で表されるカルバモイル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０のカルバモイル基が好ましく、炭素原子数１〜１６のカルバモイル基であることが更に好ましい。例えば、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニルカルバモイルおよびＮ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
【００６２】
Ｒ19およびＲ20で表される脂肪族オキシカルボニル基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数２〜３０の脂肪族オキシカルボニル基が好ましく、総炭素数２〜１６脂肪族オキシカルボニル基であることが更に好ましい。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基および２−メトキシエトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６３】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールオキシカルボニル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基が好ましく、炭素原子数７〜１６のアリールオキシカルボニル基が更に好ましい。例えば、フェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基および３−クロルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６４】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールオキシカルボニル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基が好ましく、炭素原子数７〜１６のアリールオキシカルボニル基が更に好ましい。例えば、フェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基および３−クロルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６５】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールオキシカルボニル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基が好ましく、炭素原子数７〜１６のアリールオキシカルボニル基が更に好ましい。例えば、フェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基および３−クロルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６６】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０のアリールオキシ基である態様が好ましく、総炭素数６〜１６のアリールオキシ基である態様が更に好ましい。例えば、フェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基およびｏ−メトキシフェノキシ基等が挙げられる。
【００６７】
Ｒ19およびＲ20で表されるアシルオキシ基には、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、および、ヘテロ環カルボニル基が含まれ、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、アセトキシ基、ニコチノイル基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【００６８】
Ｒ19およびＲ20で表されるカルバモイルオキシ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ基、ジメチルカルバモイルオキシ基およびフェニルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。
【００６９】
Ｒ19およびＲ20で表されるヘテロ環オキシ基において、ヘテロ環は飽和であってもよく不飽和であってもよい。また、置換基を有していてもよく、ヘテロ環オキシ基としての総炭素数は１〜３０であることが好ましく、１〜１５であることが更に好ましい。例えば、２−ピリジルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−チアゾリルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基、２−ベンゾオキサゾリルオキシ基および２−フリルオキシ基等が挙げられる。
【００７０】
Ｒ19およびＲ20で表される脂肪族アミノ基は、更に置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。また、脂肪族アミノ基の総炭素数は、１〜３０である態様が好ましく、１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ビス２−エトキシエチルアミノ基およびＮ−メチル−Ｎ−２−メトキシエチルアミノ基等が挙げられる。
【００７１】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールアミノ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０である態様が好ましく、総炭素数６〜１６である態様が更に好ましい。例えば、アニリノおよび４−メトキシフェニルアミノ基等が挙げられる。
【００７２】
Ｒ19およびＲ20で表されるヘテロ環アミノ基は、更に置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。また、ヘテロ環アミノ基の総炭素数は、１〜３０である態様が好ましく、１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、２−ピリジルアミノ基、２−チエニルアミノ基、２−チアゾリルアミノおよび２−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げられる。
【００７３】
ＲＲ19およびＲ20で表されるアシルアミノ基は、脂肪族カルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、および、ヘテロ環カルボニルアミノ基が含まれる。アシルアミノ基の総炭素数は、２〜３０である態様が好ましく、２〜１６である態様が更に好ましい。例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、Ｎ−フェニルアセチルアミノ基および３，５−ジスルホベンゾイルアミノ基等が挙げられる。
【００７４】
Ｒ19およびＲ20で表されるカルバモイルアミノ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、総炭素数１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、ジメチルカルバモイルアミノ基およびフェニルカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
【００７５】
Ｒ19およびＲ20で表されるカルバモイルアミノ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、総炭素数１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、ジメチルカルバモイルアミノ基およびフェニルカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
【００７６】
Ｒ19およびＲ20で表されるカルバモイルアミノ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、総炭素数１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、ジメチルカルバモイルアミノ基およびフェニルカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
【００７７】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数７〜３０である態様が好ましく、７〜１８である態様が更に好ましく、例えばフェノキシカルボニルアミノおよび３−クロルフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００７８】
Ｒ19およびＲ20で表される脂肪族スルホニルアミノ基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、総炭素数１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、メタンスルホニルアミノ基、Ｎ−フェニルメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基、および３−カルボキシベンゼンスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【００７９】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールスルホニルアミノ基としては、置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０である態様が好ましく、６〜１８である態様が更に好ましく、例えばベンゼンスルホニルアミノおよびトルエンスルホンアミノ基等が挙げられる。
【００８０】
Ｒ19およびＲ20で表される脂肪族チオ基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、総炭素数１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、メチルチオ基、（ｔ）ブチルチオ基およびエトキシエチルチオ基等が挙げられる。
【００８１】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールチオ基は、置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０である態様が好ましく、総炭素数６〜１８である態様が更に好ましい。例えば、フェニルチオおよび４−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【００８２】
Ｒ19およびＲ20で表されるヘテロ環チオ基において、ヘテロ環は飽和であっても不飽和であってもよく、置換基を有していてもよい。ヘテロ環オキシ基としての総炭素数は１〜３０であることが好ましく、１〜１５であることが更に好ましい。例えば、２−ピリジルチオ基、２−チエニルチオ基、２−チアゾリルチオ基、２−ベンゾチアゾリルチオ基、２−ベンゾオキサゾリルチオ基および２−フリルチオ基等が挙げられる。
【００８３】
Ｒ19およびＲ20で表される脂肪族スルホニル基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数１〜３０である態様が好ましく、総炭素数１〜１６である態様が更に好ましい。例えば、メタンスルホニル基、メトキシメタンスルホニルおよびエトキシエタンスルホニル基等が挙げられる。
【００８４】
Ｒ19およびＲ20で表されるアリールスルホニルは、置換基を有していてもよく、総炭素数６〜３０である態様が好ましく、総炭素数６〜１８である態様が更に好ましい。例えば、ベンゼンスルホニルおよびトルエンスルホニル基等が挙げられる。
【００８５】
Ｒ19およびＲ20で表されるスルファモイル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数０〜３０である態様が好ましく、総炭素数０〜１６である態様が更に好ましい。例えば、スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基およびジ−（２−ヒドロキシエチル）スルファモイル基等が挙げられる。
【００８６】
Ｒ19およびＲ20で表されるイミド基は、置換基を有していてもよく、５〜６員環のイミド基が好ましい。また、イミド基の総炭素数は４〜３０である態様が好ましく、４〜２０である態様が更に好ましい。例えば、コハク酸イミドおよびフタル酸イミド基等が挙げられる。
【００８７】
ＲQ1で表される置換基としては置換可能な基であればよく、好ましくは、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、イミド基またはヘテロ環チオ基であり、更に好ましくは、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、シアノ基、カルバモイル基、ヘテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ニトロ基、脂肪族チオ基である。各基は更に置換されていてもよい。ｎは０〜５の整数を表し、０〜３が好ましく、０〜２がさらに好ましい。
【００８８】
（Ｄ２）のうち好ましい構造としては、下記一般式（Ｄ２１）又は（Ｄ２２）が挙げられる。
【００８９】
【化１３】
2009271121.tif 000014
【００９０】
一般式（Ｄ２１）、（Ｄ２２）中、Ｒ21は水素原子または置換基を表し、Ｒ22は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ23は、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｘ3は、それぞれ独立に、−Ｎ＝、または−Ｃ（Ｒ25）＝を表し、Ｒ25は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ22とＲ23は互いに結合して五〜七員環を形成してもよい。
【００９１】
中でも下記一般式（Ｄ２３）の態様が好ましい。
【００９２】
【化１４】
2009271121.tif 000015
【００９３】
一般式（Ｄ２３）において、Ｒ21がアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、カルバモイルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスホニル基、またはホスフィノイルアミノ基であって、Ｒ22がそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスホニル基、またはホスフィノイルアミノ基であって、Ｒ23がアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基であって、Ｒ24がそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基であって、Ｒ25が水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基であるアゾメチン系色素が好ましい。
【００９４】
最も好ましくは、Ｒ21が三級アルキル基であって、Ｒ22がそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基であって、Ｒ23がアルキル基であって、Ｒ24水素原子またはアルキル基であって、Ｒ25がアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基であるアゾメチン系色素である。
【００９５】
（Ｄ３）のうち好ましい構造としては、下記一般式（Ｄ３１）又は（Ｄ３２）が挙げられる。
【００９６】
【化１５】
2009271121.tif 000016
【００９７】
一般式（Ｄ３１）中、Ｒｃ1は、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、イミド基、またはヘテロ環チオ基を表す。Ｚｃ1は、Ｚｃ1が結合する炭素原子と共に６員環を形成するために必要な非金属原子群を表し、４つのＺｃ1は同一でも異なっていてもよい。Ｍは、２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物を表す。ｃｍは、０、１または２を表し、ｃｎは０または１〜５の整数を表す。Ｒ31におけるｃｎは同一でも異なってもよい。但し、ｃｎの１つは１〜５の整数を表し、分子中の複数のＲｃ1は同一でも異なっていてもよい。ｃｒは０または１を表し、分子中の４つのＲ31のうち、少なくとも一つのｃｒは１である。
【００９８】
一般式（Ｄ３２）中、Ｚｃ2は、それぞれ独立に、炭素原子と共にベンゼン環またはピリジン環を形成しており、Ｚｃ2のうち少なくとも１つはピリジン環を形成している。Ｍは、２個の水素原子、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、または２価の金属塩化物を表す。Ｒ33およびＲ34はそれぞれ独立に、水素原子または、置換もしくは無置換のアルキル基を表すが、Ｒ33とＲ34とが同時に水素原子を表すことはない。ｃｘは１〜８の整数を表し、−（Ｂｒ）はＲ３２で示されるいずれかの位置に置換しているものとする。ｃｙは１〜４の整数を表し−（ＳＯ2ＮＲ33Ｒ34）はＲ32で示されるいずれかの位置に置換しているものとする。なお、Ｒ32は１つのＺｃ2に二つ以上置換していてもよいが、１つのＺｃ2に置換するＲ32は１つであることが好ましい。
【００９９】
一般式（Ｄ３１）で表される染料のうち、好ましい態様は下記一般式（Ｄ３１１）で表される。
【０１００】
【化１６】
2009271121.tif 000017
【０１０１】
Ｒｃ1は、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、イミド基、またはヘテロ環チオ基を表す。
【０１０２】
一般式（Ｄ３１）または（Ｄ３１１）におけるＲｃ1で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
【０１０３】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数１〜１５の脂肪族基が好ましい。例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、イソプロペニル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
【０１０４】
前記Ｒｃ1で表されるアリール基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜１６のアリール基が好ましく、総炭素数６〜１２のアリール基がより好ましい。例えば、フェニル基、４−ニトロフェニル基、２−ニトロフェニル基、２−クロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−メトキシカルボニル−４−ニトロフェニル基等が挙げられる。
【０１０５】
前記Ｒｃ1で表されるヘテロ環基としては、飽和であっても不飽和であってもよく、総炭素数１〜１５のヘテロ環基が好ましく、総炭素数３〜１０のヘテロ環基がより好ましい。例えば、３−ピリジル基、２−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、１−ピペリジル基等が挙げられる。また、さらに置換基を有していてもよい。
【０１０６】
前記Ｒｃ1で表されるカルバモイル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜１６のカルバモイル基が好ましく、総炭素数１〜１２のカルバモイル基がより好ましい。例えば、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、ジメトキシエチルカルバモイル基等が挙げられる。
【０１０７】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族オキシカルボニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数２〜１６の脂肪族オキシカルボニル基が好ましく、更には総炭素数２〜１０の脂肪族オキシカルボニル基がより好ましい。例えば、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１０８】
前記Ｒｃ1で表されるアリールオキシカルボニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数７〜１７のアリールオキシカルボニル基が好ましく、総炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニル基がより好ましい。例えば、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１０９】
前記Ｒｃ1で表されるアシル基は、脂肪族カルボニル基であってもアリールカルボニル基であってもよく、脂肪族カルボニル基を表す場合は更に置換基を有していてもよく、アリールカルボニル基を表す場合は更に置換基を有していてもよく、飽和または不飽和のいずれでもよく、環状であってもよい。該アシル基としては、総炭素数２〜１５のアシル基が好ましく、総炭素数２〜１０のアシル基がより好ましい。例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等が挙げられる。また、さらに置換基を有していてもよい。
【０１１０】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族オキシ基は、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。脂肪族オキシ基としては、総炭素数１〜１２の脂肪族オキシ基が好ましく、総炭素数１〜１０の脂肪族オキシ基がより好ましい。例えば、メトキシ基、エトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、チオフェノキシエトキシ基等が挙げられる。
【０１１１】
前記Ｒｃ1で表されるアリールオキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜１８のアリールオキシ基が好ましく、総炭素数６〜１４のアリールオキシ基がより好ましい。例えば、フェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
【０１１２】
前記Ｒｃ1で表されるアシルオキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数２〜１４のアシルオキシ基が好ましく、総炭素数２〜１０のアシルオキシ基がより好ましい。例えば、アセトキシ基、メトキシアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【０１１３】
前記Ｒｃ1で表されるカルバモイルオキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜１６のカルバモイルオキシ基が好ましく、総炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基がより好ましい。例えば、ジメチルカルバモイルオキシ基、ジイソプロピルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。
【０１１４】
前記Ｒｃ1で表されるヘテロ環オキシ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜１５のヘテロ環オキシ基が好ましく、総炭素数３〜１０のヘテロ環オキシ基がより好ましい。例えば、３−フリルオキシ基、３−ピリジルオキシ基、Ｎ−メチル−２−ピペリジルオキシ基等が挙げられる。
【０１１５】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族オキシカルボニルオキシ基は、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。脂肪族オキシカルボニルオキシ基としては、総炭素数２〜１６の脂肪族オキシカルボニルオキシ基が好ましく、総炭素数２〜１０の脂肪族オキシカルボニルオキシ基がより好ましい。例えば、メトキシカルボニルオキシ基、（ｔ）ブトキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【０１１６】
前記Ｒｃ1で表されるＮ−アルキルアシルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数３〜１５のＮ−アルキルアシルアミノ基が好ましく、総炭素数３〜１２のＮ−アルキルアシルアミノ基がより好ましい。例えば、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、Ｎ−エトキシエチルベンゾイルアミノ基、Ｎ−メチルメトキシアセチルアミノ基等が挙げられる。
【０１１７】
前記Ｒｃ1で表されるカルバモイルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜１６のカルバモイルアミノ基が好ましく、総炭素数１〜１２のカルバモイルアミノ基がより好ましい。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシエチルカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
【０１１８】
前記Ｒｃ1で表されるスルファモイルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数０〜１６のスファモイルアミノ基が好ましく、総炭素数０〜１２のスルファモイルアミノ基がより好ましい。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基等が挙げられる。
【０１１９】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族オキシカルボニルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数２〜１５の脂肪族オキシカルボニルアミノ基が好ましく、総炭素数２〜１０の脂肪族オキシカルボニルアミノ基がより好ましい。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【０１２０】
前記Ｒｃ1で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数７〜１７のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましく、総炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニルアミノ基がより好ましい。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、４−メトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【０１２１】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族スルホニルアミノ基は、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。脂肪族スルホニルアミノ基としては、総炭素数１〜１２の脂肪族スルホニルアミノ基が好ましく、総炭素数１〜８の脂肪族スルホニルアミノ基がより好ましい。例えば、メタンスルホニルアミノ基、ブタンスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【０１２２】
前記Ｒｃ1で表されるアリールスルホニルアミノ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜１５のアリールスルホニルアミノ基が好ましく、総炭素数６〜１２のアリールスルホニルアミノ基がより好ましい。例えば、ベンゼンスルホニルアミノ基、４−トルエンスルホニルアミノ基等が挙げられる。
【０１２３】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族チオ基は、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。脂肪族チオ基としては、総炭素数１〜１６の脂肪族チオ基が好ましく、総炭素数１〜１０の脂肪族チオ基がより好ましい。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、エトキシエチルチオ基等が挙げられる。
【０１２４】
前記Ｒｃ1で表されるアリールチオ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜２２のアリールチオ基が好ましく、総炭素数６〜１４のアリールチオ基が好ましい。例えば、フェニルチオ基、２−ｔ−ブチルチオ基等が挙げられる。
【０１２５】
前記Ｒｃ1で表される脂肪族スルホニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数１〜１５の脂肪族スルホニル基が好ましく、総炭素数１〜８の脂肪族スルホニル基がより好ましい。例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、メトキシエタンスルホニル基等が挙げられる。
【０１２６】
前記Ｒｃ1で表されるアリールスルホニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数６〜１６のアリールスルホニル基が好ましく、総炭素数６〜１２のアリールスルホニル基がより好ましい。例えば、ベンゼンスルホニル基、４−ｔ−ブチルベンゼンスルホニル基、４−トルエンスルホニル基、２−トルエンスルホニル基等が挙げられる。
【０１２７】
前記Ｒｃ1で表されるスルファモイル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、総炭素数０〜１６のスルファモイル基が好ましく、総炭素数０〜１２のスルファモイル基がより好ましい。例えば、スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等が挙げられる。
【０１２８】
前記Ｒｃ1で表されるイミド基としては、更に縮環していてもよく、総炭素数３〜２２のイミド基が好ましく、総炭素数３〜１５のイミド基がより好ましい。例えば、コハク酸イミド基、フタル酸イミド基等が挙げられる。
【０１２９】
前記Ｒｃ1で表されるヘテロ環チオ基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、５〜７員環であって、総炭素数１〜２０のヘテロ環チオ基が好ましく、総炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基が好ましい。例えば、３−フリルチオ基、３−ピリジルチオ基等が挙げられる。
【０１３０】
一般式（Ｄ３１）または（Ｄ３１１）におけるＭとしては、例えば、ＶＯ、ＴｉＯ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ2、ＳｎＣｌ2、ＳｉＣｌ2、ＧｅＣｌ2、Ｓｉ(ＯＨ) 2、Ｈ2等が挙げられ、ＶＯ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏが好ましい。
【０１３１】
一般式（Ｄ３１１）におけるＲｃ2は置換基を表し、好ましくは、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、脂肪族基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、脂肪族オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、スルホ基、カルボキシル基、ハロゲン原子である。
【０１３２】
一般式（Ｄ３１）または（Ｄ３１１）において、ｃｍは０が好ましく、ｃｎは０または１が好ましい。分子中の４つのＲ31が有するｃｒの和は３または４が好ましい。
【０１３３】
一般式（Ｄ３２）で表される染料のうち、Ｒ33またはＲ34で表される無置換のアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルへキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基等の直鎖または分岐アルキル基が挙げられ、中でも炭素数４〜１２の直鎖または分岐アルキル基が好ましい。
【０１３４】
Ｒ33またはＲ34で表される置換アルキル基としては、酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で含む置換アルキル基が好ましく、特に酸素原子を前記少なくとも１つの形態で１〜４個含む炭素数２〜１２の直鎖、分岐、もしくは環状の置換アルキル基が好ましい。例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、３−メキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、メトキシエトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、アセチルメチル基、アセチルエチル基、プロピオニルメチル基、プロピオニルエチル基、テトラヒドロフルフリルオキシメチル基、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メトキシメチル基、２−（１，３−ジオキソラン）エトキシメチル基、２−（１，３−ジオキサン）エトキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルエチル基、
【０１３５】
プロポキシカルボニルエチル基、ブトキシカルボニルエチル基、ペントキシカルボニルブチル基、１−（ブトキシメチル）エチル基、１−（メトキシメチル）プロピル基、１−（エトキシメチル）プロピル基、１−（ブトキシメチル）プロピル基、１−（２−メトキシ−エトキシ−メチル）プロピル基、１−（２−エトキシ−エトキシ−メチル）プロピル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）エチル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）エチル基、１−（２−ブトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）エチル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）プロピル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）プロピル基、１−（２−プロポキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）プロピル基、１−（２−ブトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）プロピル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）ブチル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）ブチル基、１−（２−プロポキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）ブチル基、
【０１３６】
１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）ペンチル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）ペンチル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）エチル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）エチル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）プロピル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）プロピル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシメチル）ブチル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシエチル）エチル基、１−（２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシエチル）エチル基、１−（２−メトキシ−２−エトキシ−２−エトキシ−２−エトキシエチル）プロピル基、１，１−ジ（メトキシメチル）メチル基、１，１−ジ（エトキシメチル）メチル基、１，１−ジ（プロポキシメチル）メチル基、１，１−ジ（ブトキシメチル）メチル基、１，１−ジ（２−メトキシ−エトキシメチル）メチル基、１，１−ジ（２−エトキシ−エトキシメチル）メチル基、１，１−ジ（２−プロポキシ−エトキシメチル）メチル基、１，１−ジ（２−ブトキシ−エトキシメチル）メチル基が挙げられる。
【０１３７】
前記Ｒ33およびＲ34としては、それぞれ独立に、水素原子（但し、Ｒ33およびＲ34が同時に水素原子を表すことはない。）、無置換のアルキル基、または「酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で含む置換アルキル基」である態様が好ましい。
【０１３８】
上記のうち、Ｒ33およびＲ34が、それぞれ独立に、水素原子（但し、Ｒ33およびＲ34が同時に水素原子を表すことはない。）、炭素数１〜１２の無置換のアルキル基、または「酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で１〜４個含む炭素数２〜１２の置換アルキル基」である態様が特に好ましく、更に中でも、Ｒ33およびＲ34の少なくとも一方が、「酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で１〜４個含む炭素数２〜１２の置換アルキル基」である態様が、極性有機溶剤に対する溶解性が高い点で好ましい。
【０１３９】
更には、Ｒ33およびＲ34の少なくとも一方が、酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で１〜４個含む炭素数２〜１２の置換アルキル基である態様が好ましく、特にＲ33およびＲ34の少なくとも一方が、下記式（Ａ）で表される置換アルキル基である場合が好ましい。
【０１４０】
【化１７】
2009271121.tif 000018
【０１４１】
前記式（Ａ）中、Ｒ36およびＲ37は、それぞれ独立に、水素原子、無置換のアルキル基、「酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で含むアルキル基」、アルキルカルボニル基、またはアルコキシカルボニル基を表す。但し、Ｒ36およびＲ37の少なくとも一方は、「酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で含むアルキル基」、アルキルカルボニル基、またはアルコキシカルボニル基を表す。
【０１４２】
Ｒ36およびＲ37で表される無置換のアルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられる。
【０１４３】
Ｒ36およびＲ37で表される「酸素原子をエーテル結合、カルボニル結合、およびエステル結合の少なくとも１つの形態で含む置換アルキル基」としては、酸素原子を１〜４個含む炭素数２〜１０の置換アルキル基が好ましい。例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシメチル基、プロポキシエトキシメチル基、ブトキシエトキシメチル基、メトキシエトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエトキシメチル基、プロポキシエトキシエトキシメチル基、ブトキシエトキシエトキシメチル基、メトキシエトキシエトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエトキシエトキシメチル基、プロポキシエトキシエトキシエトキシメチル基、ブトキシエトキシエトキシエトキシメチル基、アセチルメチル基、プロピオニルメチル基、テトラヒドロフルフリルオキシメチル基、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メトキシメチル基、２−（１，３−ジオキソラン）エトキシメチル基、２−（１，３−ジオキサン）エトキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、ペントキシカルボニルメチル基等が挙げられる。
【０１４４】
Ｒ36およびＲ37で表されるアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基としては、総炭素数２〜１０のアルキルカルボニル基、総炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基が好ましい。例えば、アセチル基、プロピオニル基、プロピルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１４５】
前記一般式（Ｄ３２）において、ｃｘは１〜８の整数を表し、中でも１〜６の整数が好ましく、吸光度が高い点で１〜４の整数が特に好ましい。また、ｃｙは１〜４の整数を表し、中でも２または３が好ましく、２が特に好ましい。
【０１４６】
選択された吸収性材料は、この吸収性材料を含む光学異方性層が極大吸収波長において上記透過率が３０％以下となるように加えればよい。光学異方性層を、液晶性化合物を含む組成物から形成する場合、一般的には吸収性材料は着色光学異方性層を形成する材料全体に対し５質量％〜５０質量％の量、好ましくは１０質量％〜３５質量％の量で含まれていればよい。
それぞれＲ、Ｇ、Ｂの着色となるように吸収性材料を用いた領域を有する光学材料、またはそれぞれシアン、マゼンタ、イエローの着色となるように吸収性材料を用いた領域を有する光学材料を用いて、液晶表示装置に好ましく用いることができるカラーフィルタの作製が可能である。
上記領域の作製のためには、例えば小林駿介編著「カラー液晶ディスプレイ」産業図書，１９９０年，ｐ．２４１−２４３に記載されているようなマスクによるパターニング露光工程を有する現像工程を用いるフォトリソグラフィ法、またはスクリーン印刷やインクジェット法などの現像工程のない印刷法を用いることができる。
【０１４７】
フォトリソグラフィ法によるカラーフィルタの作製は一般に次のようにして行われるが、本発明のカラーフィルタ作製方法は必ずしも以下に限定されない。
１．ガラスやプラスチックフィルムなどの透明基板を洗浄する。
２．ブラックマトリクス用レジスト液をスピンコートまたはスリットコートなどにより透明基板上に均一に塗布する。
３．フォトマスクを用いて紫外線などの電離放射線をパターン露光する。
４．アルカリ水溶液またはアルコールなどの有機溶剤を現像液として現像する。レジスト液がネガ型の場合は未露光部が現像液に溶解し、ポジ型の場合は露光部が現像液に溶解してパターンが形成される。
５．基板ごとベークし、十分硬化させる。
６．Ｒ、Ｇ、Ｂなど必要な色の回数だけ、カラーフィルタ用レジスト液をブラックマトリクス用レジスト液と同様に塗布、パターン露光、現像、ベークする。
７．最後にポストベークし、未重合成分や低分子成分を除去する。
【０１４８】
本発明において、フォトリソグラフィ法で用いるレジスト液としては、以下のような組成が好ましい。（％は質量％を示す）
１．重合性液晶化合物：５〜５０％（好ましくは１０〜４０％）
２．非液晶性モノマー：０〜３０％（好ましくは２〜１０％）
３．上記吸収性材料：５〜５０％（好ましくは１０〜４０％）
４．アクリル酸などを共重合組成に含むアルカリ可溶性ポリマー：３〜４０％
（好ましくは５〜３０％）
５．光重合開始剤：０．１〜２０％（好ましくは１〜８％）
６．界面活性剤：０．０００１〜３％（好ましくは０．００１〜２％）
７．溶媒：３０〜９０％（好ましくは５０〜８０％）
【０１４９】
インクジェット法によるカラーフィルタの作製は一般に次のようにして行われるが、本発明のカラーフィルタ作製方法は必ずしも以下に限定されない。
１．ガラスやプラスチックフィルムなどの透明基板を洗浄する。
２．ブラックマトリクス用レジスト液をスピンコートまたはスリットコートなどにより透明基板上に均一に塗布する。
３．フォトマスクを用いて紫外線などの電離放射線をパターン露光する。
４．アルカリ水溶液またはアルコールなどの有機溶剤を現像液として現像する。レジスト液がネガ型の場合は未露光部が現像液に溶解し、ポジ型の場合は露光部が現像液に溶解してパターンが形成される。
５．基板ごとベークし、十分硬化させる。
６．ブラックマトリクス表面をフッ素プラズマなどにより撥水処理する。このとき、ブラックマトリクスのないガラス表面は撥水処理されないようにする。
７．Ｒ、Ｇ、Ｂのインクジェット用レインクをインクジェット装置により描画する。通常、一画素当たり５〜２０回打滴することにより、一滴当たりの量のバラつきを軽減する。
８．インクが光硬化性の場合は必要に応じて全面露光する。
９．最後にポストベークし、未重合成分や低分子成分を除去する。
【０１５０】
本発明において、インクジェット法で用いるインクとしては、以下のような組成が好ましい。（％は質量％を示す）
１．重合性液晶化合物：５〜５０％（好ましくは１０〜４０％）
２．非液晶性モノマー：０〜３０％（好ましくは２〜１０％）
３．上記吸収性材料：５〜５０％（好ましくは１０〜４０％）
４．アクリル酸などを共重合組成に含むアルカリ可溶性ポリマー：３〜４０％
（好ましくは５〜３０％）
５．光重合開始剤：０〜２０％（好ましくは０．５〜３％）
６．界面活性剤：０．０００１〜３％（好ましくは０．００１〜２％）
７．溶媒：３０〜９０％（好ましくは５０〜８０％）
インクの射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓであることが好ましく、８〜２２ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、１０〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。インクの射出時の表面張力は１５〜４０ｍＮ／ｍであることが、画素の平坦性向上の観点から好ましい。
【０１５１】
インクジェット法としては、帯電したインクジェットインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。インクジェットインクの射出条件としては、インクジェットインクを３０〜６０℃に加熱し、インク粘度を下げて射出することが射出安定性の点で好ましい。インクジェットインクは、概して水性インクより粘度が高いため、温度変動による粘度変動幅が大きい。粘度変動はそのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、画質劣化を起こしやすいため、インクジェットインク温度をできるだけ一定に保つことが重要である。
【０１５２】
インクジェットヘッド（以下、単にヘッドともいう。）には、公知のものを適用でき、コンティニアスタイプ、ドットオンデマンドタイプが使用可能である。ドットオンデマンドタイプのうち、サーマルヘッドでは、吐出のため、特開平９−３２３４２０号に記載されているような稼動弁を持つタイプが好ましい。ピエゾヘッドでは、例えば、欧州特許Ａ２７７，７０３号、欧州特許Ａ２７８，５９０号などに記載されているヘッドを使うことができる。これらの中で、インクジェットインクに対する熱の影響を少なくすることができ使用可能な有機溶剤の選択が広いことから、ピエゾヘッドの方がより好ましい。ヘッドはインクの温度が管理できるよう温調機能を持つものが好ましい。射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓとなるよう射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるようインク温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、1〜５００ｋＨｚで稼動することが好ましい。ノズルの形状は必ずしも円形である必要はなく、楕円形、矩形等、形にはこだわらない。ノズル径は１０〜１００μｍの範囲であることが好ましい。尚、ノズルの開口部自身必ずしも真円とは限らないが、その場合にノズル径とは該開口部の面積と同等の円を仮定しその径とする。
【０１５３】
本発明の光学材料における着色光学異方性層は、液晶表示装置への適用のため、ヘイズが５．０％以下であることが好ましい。ヘイズは、ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて測定することができる。ヘイズが５．０％以下である着色光学異方性層とするために、吸収性材料の場合には液晶性化合物との相溶性を高めること、ナノ顔料の場合には粒径を十分小さくすることが必要である。具体的には、吸収性材料と液晶性化合物の混合比を変え、相転移挙動から最適な混合比を決定することができる。また、液晶性を損なわない方法として、二色性色素を用いて液晶をコレステリック配向させる方法もある。その場合は、コレステリック配向層を例えば特開２００６−１７１３８２に記載のような方法でコレステリック構造を歪ませて正面レターデーションを発現させる方法を用いることができる。
【０１５４】
また、本発明の光学材料における着色光学異方性層は、製造工程に高温でのベーク工程などを含む液晶表示装置に適用されるため、耐熱性を有することが好ましい。具体的には２３０℃で１時間加熱処理した後の正面レターデーションが、処理前の正面レターデーションの７５％以上となるように着色光学異方性層が形成されていることが好ましい。また、２３０℃で１時間加熱処理した後の４３０乃至７００ｎｍの極大吸収波長における非偏光透過率が、処理前の同非偏光透過率の６０％以上となるように着色光学異方性層が形成されていることが好ましい。このような耐熱性のある着色光学異方性層とするためには、耐熱性を有する骨格の染料を用いるか、もしくは分子内にエチレン性不飽和二重結合を有した染料の重合体とする方法、染料の重合体からなる有機ナノ粒子を用いる方法、無機着色ナノ粒子を用いる方法が挙げられる。中でもアゾメチン系またはフタロシアニン系骨格の有機染料を用いることが好ましく、それらの重合体とすることがより好ましい。
【０１５５】
本発明の着色光学異方性層は正面レターデーションが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満であることを特徴とする。
このような正面レターデーションを有する光学異方性層としては特に限定されないが、液晶性化合物を含む組成物から形成された層であることが好ましい。液晶性化合物は少なくとも１つの反応性基を有することが好ましく、このような液晶性化合物を配向させたあとに重合させた高分子からなるそうであることが好ましい。このような光学異方性層の作成方法としては、液晶性化合物を含んでなる溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製する方法が挙げられる。
前記光学異方性層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましく、１．５〜４μｍであることがさらに好ましい。
【０１５６】
［液晶性化合物を含有する組成物を重合固定化してなる光学異方性層］
光学異方性層の製法として少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含んでなる溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製する場合について以下に説明する。
【０１５７】
［液晶性化合物］
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。
【０１５８】
液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。前記ラジカル性の反応性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
【０１５９】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【０１６０】
【化１８】
2009271121.tif 000019
【０１６１】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【０１６２】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２のアルキレン基、アルケニレン基、およびアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【０１６３】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【０１６４】
【化１９】
2009271121.tif 000020
【０１６５】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法で合成することができる。
【０１６６】
【化２０】
2009271121.tif 000021
【０１６７】
【化２１】
2009271121.tif 000022
【０１６８】
【化２２】
2009271121.tif 000023
【０１６９】
【化２３】
2009271121.tif 000024
【０１７０】
【化２４】
2009271121.tif 000025
【０１７１】
【化２５】
2009271121.tif 000026
【０１７２】
本発明の他の態様として、前記光学異方性層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【０１７３】
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（III）：  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【０１７４】
【化２６】
2009271121.tif 000027
【０１７５】
【化２７】
2009271121.tif 000028
【０１７６】
【化２８】
2009271121.tif 000029
【０１７７】
【化２９】
2009271121.tif 000030
【０１７８】
【化３０】
2009271121.tif 000031
【０１７９】
【化３１】
2009271121.tif 000032
【０１８０】
光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、支持体、好ましくは支持体上に設けられた後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【０１８１】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１８２】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
【０１８３】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１８４】
［偏光照射による光配向］
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向で正面のレターデーションが発現あるいは増加した層であってもよい。この偏光照射は上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねてもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよいが、偏光照射のみを行うか先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行うことが望ましい。偏光照射が上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねる場合であってかつ重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合、偏光照射は酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【０１８５】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射してもよい。最初の偏光照射の後に偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良し、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は不活性ガス置換してもしなくてもよいが、特に重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合は酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【０１８６】
［水平配向剤］
前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物および一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式（１）〜（４）について、順に説明する。
【０１８７】
【化３２】
2009271121.tif 000033
【０１８８】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−およびＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【０１８９】
【化３３】
2009271121.tif 000034
【０１９０】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【０１９１】
【化３４】
2009271121.tif 000035
【０１９２】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（１）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報の段落番号［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【０１９３】
【化３５】
2009271121.tif 000036
【０１９４】
式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８および特開２００６−９１２０５に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【０１９５】
［支持体］
本発明の光学材料は力学的な安定性を保つ目的で支持体（または仮支持体）を有してもよい。支持体には特に限定はなく、剛直なものでもフレキシブルなものでもよい。剛直な支持体としては特に限定はないが表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、樹脂板、セラミック板、などが挙げられる。フレキシブルな支持体としては特に限定はないがセルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。取扱いの容易さから、剛直な支持体の膜厚としては、１００〜３０００μｍが好ましく、３００〜１５００μｍがより好ましい。フレキシブルな支持体の膜厚としては、３〜５００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましい。
【０１９６】
［配向層］
上記した様に、光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に支持体もしくは仮支持体上又は支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【０１９７】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルピロリドン、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【０１９８】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。
【０１９９】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成工業（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【０２００】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０２０１】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【実施例】
【０２０２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０２０３】
（実施例１：等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＲ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＲ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＲ−１組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）１６．９６
光重合開始剤（ＯＸＥ−０１、チバスペシャルティケミカルズ（株）社製）
１．００
水平配向剤（Ａ−１）                                            ０．０１
染料（Ｍ−１）                                                  ２．８２
染料（Ｙ−１）                                                  １．２１
シクロヘキサノン                                              ７８．００
─────────────────────────────――――───
【０２０４】
【化３６】
2009271121.tif 000037
【０２０５】
（実施例２：等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＧ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＧ−１として用いた。
─────────────────────────────―――――──
等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＧ−１組成（％）
─────────────────────────────――――───
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）１７．３６
光重合開始剤（ＯＸＥ−０１、チバスペシャルティケミカルズ（株）社製）
０．７８
水平配向剤（Ａ−１）                                            ０．０１
染料（Ｃ−１）                                                  ２．３７
染料（Ｙ−２）                                                  １．１１
Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン                            ０．３７
シクロヘキサノン                                              ７８．００
─────────────────────────────――――───
【０２０６】
【化３７】
2009271121.tif 000038
【０２０７】
（実施例３：等方性吸収カラーフィルタ兼位相差層用塗布液ＡＢ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＢ−１として用いた。
────────────────────────────────────
等方性吸収カラーフィルタ兼光学異方性層用塗布液ＡＢ−１組成（％）
──────────────────────────────────―─
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）１７．７３
光重合開始剤（ＯＸＥ−０１、チバスペシャルティケミカルズ（株）社製）
１．３３                                                                        
水平配向剤（Ａ−１）                                            ０．０１
染料（Ｃ−２）                                                  ２．０８
染料（Ｍ−２）                                                  ０．８５
シクロヘキサノン  和光純薬工業（株）社製                      ７８．００
─────────────────────────────────────
【０２０８】
【化３８】
2009271121.tif 000039
【０２０９】
（ＵＶ照射装置）
ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から５４ｍｍ離れた位置に、ＵＶ照射装置を作製した。この装置の最大照度は５．０Ｗ／ｃｍ2であった。
【０２１０】
（実施例の着色光学異方性層の作製）
厚さ１．１ｍｍのガラス支持体の上に配向膜（ＳＥ−１３０、日産化学（株）製）をスピンコート、焼成して配向膜付きガラス基板を得た。この配向膜付きガラス基板をラビングした後、基板表面を除塵した。さらにその上にスピンコーターを用いてＡＲ−１を塗布した。膜面温度５７℃で９０秒間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にてＵＶ照射装置を用いて、照度２．０Ｗ／ｃｍ2、照射量１．０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、実施例１の厚さ１．２０μｍの着色光学異方性層を作製した。ＡＲ−１の代わりにＡＧ−１、ＡＢ−１を用いた以外は同様にして、それぞれ実施例２、３の着色光学異方性層を作製した。いずれの実施例も極大吸収波長λmaxにおいて透過率３０％以下であった。また、全ての実施例を空気下で２３０℃、１時間熱処理したところ、吸収スペクトルの全波長域で５％以上の透過率の変化は見られなかった。
【０２１１】
（位相差測定）
日本分光（株）製エリプソメータ（Ｍ−２２０）により、青は４３５ｎｍ、緑は５４５ｎｍ、赤は６１０ｎｍの波長における正面レターデーションＲｅ（０）を測定した。
（ヘイズ測定）
ヘイズは、ヘイズメーターＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）によりによりＪＩＳＫ７１３６測定方法３の方法で測定した。
（二色性測定）
光学系に偏光子を備えた島津製積分球付分光光度計（ＵＶ−２５５０）により極大吸収波長における吸光度を測定し、二色性を計算した。二色性は、サンプルを回して極大吸収波長における透過率の最大値と最小値から計算した。
測定結果を表３に示す。
【０２１２】
【表１】
2009271121.tif 000040
【０２１３】
（実施例４：カラーフィルタ基板の作製）
実施例１〜３の可視域吸収性光学異方性層用塗布液をインクジェット用インクとして用いてカラーフィルタ基板を作製した。本実施例ではあらかじめ高さ３μｍのブラックマトリクスを前記フォトリソグラフィ法によりガラス基板上に形成したものを用い、前記インクジェット法によってカラーフィルタを作製した。インクジェット法にはＡｐｏｌｌｏ  ＩＩおよびＳＥ−１２８（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製）を用いた。
作製したカラーフィルタ基板は、散乱などによる彩度の低下が見られず、良好なコントラスト特性を有していた。
【０２１４】
（実施例５）
市販のＬＣＤ視野角特性シミュレーションソフト（ＬＣＤマスター、シンテック製）により、着色光学異方性層を有する図１に示す構成のＶＡ−ＬＣＤにおいて、着色光学異方性層の二色比を変化させたときの、電圧印加（黒：無印加、白：最大印加）による黒から白への色変化の二色比依存性を計算した。結果を図２に示す。二色比の増大に伴ってｘｙ色度図上の色は大きく変化し、二色比５を超えたところで０．１５以上、二色比１０を超えたところで０．２以上の変化を示した。色変化は白および黒におけるｘｙ座標の距離（Δｘｙ）で定義した。観察者にとっては色変化が０．０２以下程度であれば差をはっきりと認識できないことから、二色比１．４を許容できる二色比の上限と決定した。
【図面の簡単な説明】
【０２１５】
【図１】実施例５のシミュレーションで用いたＶＡ−ＬＣＤの構成図である。
【図２】着色光学異方性層を有するＶＡ−ＬＣＤにおいて、着色光学異方性層の二色比を変化させたときの、電圧印加（黒：無印加、白：最大印加）による黒から白への色変化の二色比依存性を計算した結果を示す図である。
【図１】
2009271121.tif 000044
【図２】
2009271121.tif 000045