(57)【要約】【課題】  エッジショットの露光を行っても、露光光及び液浸水に耐性のある露光装置を提供する。【解決手段】  液浸露光装置において、ウエハチャック２０の周囲に、表面に金属酸化物２２を設けたウエハ表面と略同一な高さの液体保持部２１を設けると共に、前記金属酸化物の表面を照射するための露光光と異なる波長の光源２３等の撥液性回復手段を備える。このような構成にすることで、液浸液と液体保持部の接触角の低下を制御でき、液体保持部の残存液滴を減少させたり無くすことができる。【選択図】  図１
2009010079.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を露光光により照明する第１の光源と、前記原版からの光を被露光体に投影する投影光学系と、前記投影光学系の最終面と前記被露光体の間隙に液体を供給する液体供給手段とを有し、前記投影光学系と前記被露光体との間隙を液体で満たした状態で前記被露光体を露光する露光装置であって、
前記被露光体の周囲に配置され前記被露光体の被露光面と略同一の高さに位置する金属酸化物面を有し、前記金属酸化物面において前記被露光体と共に前記液体を保持する液体保持部と、前記金属酸化物面の撥液性を回復する手段とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記撥液性回復手段は、前記金属酸化物面に前記露光光とは異なる波長の光を照射する第２の光源を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２の光源は、前記金属酸化物面に前記露光光が照射された後、前記金属酸化物に光を照射することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２の光源の波長は、可視光または可視光より長い波長の光であることを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記金属酸化物面は、前記液体保持部の表面に形成された金属酸化物膜の面であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体保持部は、前記第２の光源の光を透過する基材の表面に前記金属酸化物膜を形成してなり、前記第２の光源の光は、前記液体保持部の裏面から前記基材を介して前記金属酸化物膜に光を照射することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記撥液性回復手段は、前記金属酸化物面に送風する手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項８】
前記撥液性回復手段は、前記金属酸化物面を加熱する手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項９】
前記金属酸化物は、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＷＯ３の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１０】
前記被露光体と前記液体保持部を置くステージを有し、前記投影光学系と前記被露光体との間隙を液体で満たした状態で前記被露光体を露光するために前記ステージが配される露光ステーションと、前記被露光体の複数のショット領域に関しての位置の計測を行うために前記ステージが配される計測ステーションとがあり、前記撥液性回復手段は、前記露光ステーション、もしくは、前記計測ステーションと前記露光ステーションとの間、のいずれかに配されていることを特徴とする請求項２乃至９のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の露光装置を用いて基板を露光するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系の最終面と被露光体との間隙を液体で満たし、投影光学系及び液体を介して被露光体に露光するいわゆる液浸式の露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レチクル（マスク）に描画された回路パターンを投影光学系によってウエハ等に露光する投影露光装置は従来から使用されており、近年では、高解像度で高品位な露光装置がますます要求されている。高解像度の要請に応えるための一手段として液浸露光が注目されている（特許文献１）。液浸露光は、投影光学系のウエハ側の媒質を液体にすることによって投影光学系の開口数（ＮＡ）の増加を更に進めるものである。投影光学系のＮＡは媒質の屈折率をｎとすると、ＮＡ＝ｎ・ｓｉｎθであるので、空気の屈折率よりも高い屈折率（ｎ＞１）の媒質を満たすことでＮＡをｎまで大きくすることができる。この結果、プロセス定数ｋ１と光源の波長λによって表される露光装置の解像度Ｒ（Ｒ＝ｋ１（λ／ＮＡ））を小さくしようとするものである。
【０００３】
液浸露光では、投影光学系の最終面とウエハの表面との間に局所的に液体を充填するローカルフィル方式が提案されている（特許文献２）。ローカルフィル方式で投影光学系に対してウエハを移動させながら露光すると、投影光学系に液体が残って気泡や乱流が発生するおそれがある。気泡は、露光光の進行を妨げ、乱流は投影光学系の最終面に圧力を加えて微小変形させて収差をもたらす。このため、転写性能の劣化を防止するために、投影光学系の液体と接触する部分に、液体との親和性を調整する表面処理が施された露光装置が提案されている。また、液体保持部に液体が液滴として残存する場合がある。液滴が飛散すると装置を腐食するおそれがある。
また、ローカルフィル方式でウエハ端部のショットを露光する際に液体がこぼれないように、ウエハの周囲にウエハと略面一になるような液体保持部を配置することも既に提案されている（特許文献３及び４）。
【０００４】
しかし、ローカルフィル方式においてウエハを液体保持部と共に移動させながら露光する際に、液滴が液体保持部に残って液体保持部を酸化させ、コンタミネーションの原因を作ってしまい、ウエハを汚染してしまうおそれがある。また、液体保持部に残った液滴がウエハ及び液体保持部の移動時に飛散し、周辺の構成物を汚染または腐食させるという問題が生じる。液体が液滴として液体保持部に残る原因においては、液体保持部の接触角が関係している。
【特許文献１】米国特許第５１２１２５６号明細書
【特許文献２】国際公開第ＷＯ９９／４９５０４号パンフレット
【特許文献３】特開２００４−２０７６９６号公報
【特許文献４】特開２００４−２０７７１０号公報
【非特許文献１】Masahiro Miyauchi、Nobuo Kieda、Shunichi Hishita、Takefumi Mitsuhashi、Akira Nakajima、Toshiya Watanabe、Kazuhito Hashimoto、「Reversible wettabilitycontrol of TiO2 surface by light irradiation」、Surface Science、511、401-407頁、2002年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、本発明者らのこれまでの検討によれば、前述のローカルフィル方式液浸露光装置に着目したとき、前記の従来技術には以下に述べる問題が存在する。
ＫｒＦやＡｒＦレーザ等のエネルギーの高い露光光と液浸液、例えば純水、が液体保持部の部材表面に同時に作用すると、従来部材として使用されているＳｉＣ等のセラミックスやテフロン（登録商標）等の樹脂の表面状態が変化する。一般にセラミックスは、接触角が大きく低下し、例えばＳｉＣでは、初期値５０°程度から露光光照射後には１０°程度にまで低下する。また樹脂では、接触角の低下と共に、表面が削れる現象が生じる。
【０００６】
そして、液体保持部部材の重要な機能の一つである接触角（撥水性）が低下すると次のような問題が生じる。ウエハ上に塗布されているレジスト（感光性樹脂）と比べ液体保持部の表面に対する液体の接触角が小さいと、液体保持部からウエハ上に液膜４が移動する際に、液体が液体保持部に液滴となって残存する場合がある。液体保持部に液滴が残ってしまうと、コンタミネーションの原因となりウエハ汚染を引き起こすという問題が生じる。また、残存する液滴がステージ移動時に飛散し、ステージ周辺の構成物を汚染または腐食させるという問題が生じる。
【０００７】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、ローカルフィル方式の液浸露光装置において、例えば、ウエハ周辺部のエッジショットを露光した後にウエハ周辺の液体保持部における残存液滴を減少させたり無くすことができる液浸露光装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明の露光装置は、原版を露光光により照明する第１の光源と、前記原版からの光を被露光体に投影する投影光学系と、前記投影光学系の最終面と前記被露光体の間隙に液体を供給する液体供給手段とを有し、前記投影光学系と前記被露光体との間隙を液体で満たした状態で前記被露光体を露光する露光装置であって、前記被露光体の周囲に配置され前記被露光体の被露光面と略同一（同一の場合を含む）の高さに位置する金属酸化物面を有し、前記金属酸化物面において前記被露光体と共に前記液体を保持する液体保持部と、前記金属酸化物の撥液性を回復する手段と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、被露光体の周囲に設けられた、被露光体の表面と略同一のの高さになるように液体保持部の表面に金属酸化物（面）を設け、該金属酸化物に露光光とは異なる波長の光を照射するための第２の光源等の撥液性回復手段を設けている。したがって、金属酸化物の撥液性により液体保持部上の残存液滴の発生が抑制でき、かつその抑制効果が低下または消失したときは撥液性回復手段により回復させることができる。すなわち、液体保持部上の残存液滴発生の抑制を安定に持続させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の好ましい実施の形態に係る露光装置は、被露光体の表面と、当該被露光体の表面に最も近い投影光学系の最終面との間に液体を満たし、前記投影光学系及び前記液体を介して前記被露光体を露光する露光装置である。そして、前記投影光学系の最終面と前記被露光体の間隙に液体（液浸液）を供給する液体供給手段を有する。また、前記被露光体の周囲に配置され、前記被露光体の表面（被露光面）と略同一の高さを有し、前記被露光体と共に前記液体を保持する液体保持部を有する。当該液体保持部の表面は、金属酸化物面となっている。この露光装置は更に、露光光源である第１の光源が照射する露光光とは異なる波長の光を照射するための第２の光源等の撥液性回復手段を有している。
ここで、当該第２の光源からの光の波長は、金属酸化物が親液化するエネルギーより小さなエネルギーに対応した波長であり、可視光の波長や可視光より長い波長が含まれる。また、前記原版は例えば回路パターンを形成されたレチクルであり、前記被露光体は例えば半導体ウエハである。
【００１１】
上記の構成によれば、液体保持部の表面に金属酸化物を設け、かつその金属酸化物に、露光光とは異なる波長の光を照射するための光源を設けている。これにより、液体保持部上への残存液滴の発生が抑制できる安定性の向上した装置を提供することが出来る。
【００１２】
例えば、金属酸化物の一種である酸化チタンは、水との接触角がおよそ８０°であり、残存水滴が発生し難い接触角を持っている。しかし、酸化チタンはバンドギャップ（３．２ｅＶ）以上の紫外線が照射され、その光エネルギーを吸収すると前記の撥水性が消滅する。ＫｒＦやＡｒＦレーザなどの露光光は、酸化チタンのバンドギャップより高いエネルギーを持つため、液体保持部の金属酸化物に照射されると、撥水性が失われる。しかし、失われた撥水性は、可視光や可視光より波長の長い光を照射する光源、という撥液性回復手段で再び回復させることが可能となる。
なお、酸化チタンに関する上記の特性は、例えば、非特許文献１に記載されている。
【００１３】
本実施形態において、第２の光源による光の照射は、液体保持部の金属酸化物に露光光が少なくとも一度照射された後に、必ず実施することが好ましい。これにより、液体保持部上に残存液滴の発生を抑制できる安定性の向上した装置を提供することが出来る。
上述したように、失われた撥液性は可視光等の照射により回復させることができる。出来るだけ安定した装置を提供するためには、一度露光光が照射され撥液性劣化の可能性が考えられる場合に、撥液性を出来る限り維持するための手段を備えた装置とすることが望ましい。
更に、撥液性回復手段としては、撥液性が消滅または減少した酸化チタン（金属酸化物）を加熱する熱源や、撥液性が消滅または減少した酸化チタン（金属酸化物）に気体を吹き付ける送風源も、使える。
これらの回復手段の場合も、金属酸化物に露光光がある量照射された後に、必ず加熱や送風を実施することが好ましい。これにより、液体保持部上の残存液滴を少なくでき安定性ある露光装置を提供することが出来る。
【実施例】
【００１４】
以下、上記の実施形態を実施例により説明する。以下の実施例に係る液浸露光装置は、レチクル上のパターンをウエハ上に露光転写する投影光学系と、前記投影光学系のウエハに最も近接したレンズ面と前記ウエハの間隙に液体（液浸液）を供給する液体供給装置を具備する。そして、前記間隙の少なくとも一部に液体を保持して露光を行う。また、前記ウエハを保持するウエハチャックの周囲に設けられた、ウエハ表面と略同一の高さにある液体保持部の表面に金属酸化物を設けている。さらに、液体保持部に設けた金属酸化物に露光光とは異なる波長の光を照射するための光源等の撥液性回復手段を設けている。
【００１５】
露光光及び液浸液の一例として、露光光にＡｒＦレーザ光、液浸液に水（純水）を用いた例を示す。なお、本発明は、ＡｒＦレーザ光及び水に限らず、他の波長の光及びその波長で使用可能な他の液浸液を用いた液浸露光装置にも同様に適用できる。また、液浸液は、微量の添加物を加えた水を含む液体や炭化水素系の有機液体でも良い。
【００１６】
［第１の実施例］
図１は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の構成を示す模式図である。本実施例は本発明を走査型の液浸投影露光装置に適用した場合を示している。
同図において、１は照明系であり、原版としてのレチクル（マスク）２を照明している。照明系１はＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）と、公知の光学系等（不図示）から構成されている。３は屈折型またはカタジオプトリック系等の投影光学系であり、照明系１によって照明されたレチクル２の回路パターンを被露光体としてのウエハ５（基板）に投影している。１５は測距用レーザ干渉計であり、参照ミラー１４を介してレチクルステージ１２やウエハステージ１３の水平面内の二次元的な位置を計測している。この計測値に基づいてステージ制御装置１７がレチクル２やウエハ５の位置決めや同期制御を行う。
【００１７】
またウエハステージ１３は、ウエハステージ１３を固定するための定盤（不図示）に取り付けられて、ウエハ固定のためのチャック２０を備える。チャック２０は、ウエハの上下方向の位置や回転角、傾きを調節する機能を持ち、露光時にウエハ５の表面を投影光学系３の像面と合致させる。更に、チャック２０の周囲のエッジショットを露光する際に露光光が照射される範囲には、チャック２０上に固定したウエハの表面と同一の高さの表面を持つ金属酸化物膜２２を設けた環状の液体保持部２１を設ける。この金属酸化物膜２２の表面（金属酸化物面）により、液膜４がウエハ５上から流れ落ちたり、液滴が周囲に飛散しないように構成されている。
【００１８】
その外側の露光光が照射されない範囲には、図２−１に示すように、チャック２０上に固定したウエハの表面と略同一の高さで表面に撥水性膜２５を設けた液体保持部２４を設ける。
本実施例において、金属酸化物２２はＴｉＯ２である。
しかしながら、本発明においては、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＷＯ３の少なくとも１つを含む膜であれば、金属酸化物膜として使える。
【００１９】
本実施例では、液浸法を用いて等価的な露光波長を短くし、露光における解像度を向上させる。そのため、投影光学系３の最終面の周囲に供給口１０と回収口１１を配置し、投影光学系３の最終面とウエハ５の間隙に水を供給して液膜４を形成している。投影光学系３の最終面とウエハ５の間隔は、液膜４が安定に形成かつ除去できる程度に小さいことが望ましく、例えば、１．０ｍｍとすれば良い。
供給口１０は液浸液供給配管８により純水供給装置６と結ばれている。回収口１１は回収配管９により水回収装置７と結ばれている。純水供給装置６は、脱気装置１８及び温度制御装置１９をその一部として有する。脱気装置１８は、例えば公知の膜モジュール（不図示）と真空ポンプ（不図示）により構成される。投影光学系３の最終面及び供給口１０と回収口１１の外側の周囲に金属酸化物表面の撥水性制御のための光源２３を配置している。液浸制御装置１６は純水供給装置６及び水回収装置７、金属酸化物表面制御のための光源２３へ制御信号を送ると同時に、ステージ制御装置１７との間でデータの送受信を行う。これにより、液浸制御装置１６はウエハの移動方向や速度に応じて純水供給量と回収量を調節する。更にエッジショットが露光される時に応じて、制御装置１６は、光源２３の点灯を制御する。露光光が照射され撥水性の劣化した液体保持部２１の金属酸化物（膜）２２の表面に光源２３の光が照射されることで、金属酸化物２２の表面の撥水性が回復する。
【００２０】
図２−２は、液体保持部２１上の金属酸化物２２表面の撥水性を維持、回復させるための光源２３の配置の一例を示す。図は、ウエハ側、即ち下から投影系を見た模式図で、供給口１０、排水口（回収口）１１及び光源２３がそれぞれ投影系の周囲に円環状に配置されている。また、光源２３は６個の光源より構成され、露光光が照射された液体保持部に対応した部分の光源が点灯するように制御装置１６により制御される。このように光源２３を分割する構成にすれば、光の照射が必要な部分だけに光を照射することが出来、より安定した装置となる。なお、光源２３の分割数は適宜決めればよい。
【００２１】
以上のような構成の液浸露光装置によれば、液体保持部の液滴残りが抑制された、安定性が高く、高精度なパターン形成の可能な露光装置が提供される。
【００２２】
［第２の実施例］
図３は、本発明の第２の実施例に係る液浸露光装置のローカルフィル部分の投影光学系の中心から約半分の部分を示した模式図を示している。本実施例は、特に液体保持部２１の金属酸化物２２表面で撥水性を維持、回復させるための光源２３の構成において、供給、回収口を挟み込む形でその両側に２つの光源２３を配置したものである。このような配置にすることで、より多くの光を金属酸化物２２表面に照射することが可能となり、金属酸化物の撥水性の維持、回復の性能を高めることができる。なお、２つの光源２３の波長は、異なってもよく、用いる金属酸化物との組み合わせにより適宜最適な波長とすればよい。
第２の実施例は、液体保持部の金属酸化物表面が撥水性の機能を維持、回復するための光源２３を２つ有することのみが第１の実施例と異なっており、その他は第１の実施例と全く同じである。
【００２３】
［第３の実施例］
図４は、本発明の第３の実施例に係る液体保持部２１及び光源２３部分の断面図である。本実施例は、液体保持部２１の金属酸化物２２が撥水性の機能を維持、回復するための光源２３を液体保持部２１の下部に設けたものである。液体保持部２１は、光源２３の波長を透過する材質からなる基材で構成され、光源２３は液体保持部２１の裏面に光を照射する。光源２３から照射され液体保持部２１を透過した光は、金属酸化物２２に照射される。ここで金属酸化物の膜厚は１００ｎｍ以下であることが望ましい。また、液体保持部２１の材質は、光源２３の波長による変質や熱による変形の少ない材質、例えばＺＥＲＯＤＵＲ（ショットガラステクノロジー社）や合成石英を用いればよい。
第３の実施例は、液体保持部の金属酸化物表面が撥水性の機能を維持、回復するための光源２３を液体保持部２１の下部に有することのみが第１の実施例と異なっており、その他は第１の実施例と全く同じである。
【００２４】
［第４の実施例］
図５は、本発明の第４の実施例に係るウエハステージを示す平面図である。本実施例は、ステージ定盤２８上にウエハステージ１３を２つ配したツインステージ方式の露光装置である。ステージ定盤２８上には、ウエハ５を露光するためにウエハステージ１３が配される露光ステーション２６と、ウエハ５の複数のショット領域に関しての位置の計測を行うためにウエハステージ１３が配される計測ステーション２７が設けられている。
本実施例では、液体保持部の金属酸化物２２が撥水性の機能を維持、回復するための光源２３を露光ステーション２６と計測ステーション２７の間に設けた例を示す。
光源２３は、２つのウエハステージ１３が露光ステーション２６から計測ステーション２７に移動する際や計測ステーション２７から露光ステーションに移動する際に点灯する。この点灯によって液体保持部２１上の金属酸化物２２に光を照射する。
なお、光源２３は、計測ステーションに設けても良い。
また、撥水性（撥液性）回復手段として後述する送風源を、露光ステーション２６と計測ステーション２７の間に設けたり、どちらかのステーションに設ける形態もある。
【００２５】
［第５の実施例］
図６は、本発明の第５の実施例に係る液体保持部付近の構造を示す断面図である。本実施例は、液体保持部の金属酸化物２２が撥水性の機能を維持、回復するために、光源を用いず、熱源２９を用いる。本実施例は、熱源２９を、液体保持部２１の上部であって金属酸化物２２の直下に配置し、この熱源２９によって金属酸化物２２を加熱することにより、金属酸化物２２の撥水機能を回復させ、同機能を維持する。熱源２９からの熱は、金属酸化物２２に直接伝達される為、撥水性回復のために加える熱量も少なくすることが出来る。
熱源２９は、薄膜形状のヒータを用いればよく、例えば半導体プロセスを用いた薄膜抵抗形成方法により作製すると良い。この方法によれば、薄膜形状のヒータを、均一で薄くかつ平坦性よく作ることが出来るためである。
本実施例は、撥液性回復手段として光源の代わりに熱源２９を用いることが第１の実施例と異なっており、その他は第１の実施例と全く同じである。
【００２６】
［第６の実施例］
図７は、本発明の第６の実施例に係る液体保持部付近の構造を示す断面図である。本実施例は、液体保持部の金属酸化物２２が撥水性の機能を維持、回復するために、光源や熱源を用いず、送風源３０を用いる。
本実施例は、送風源３０を供給口１０と回収口１１の外側の周囲に配置し、送風源３０から乾燥した清浄空気や窒素等の不活性ガスを金属酸化物２２に吹き付けることにより、金属酸化物２２の撥水機能を回復させ、同機能を維持する。送風源３０は、例えば、微細な孔を並べた構成にする。このような構成にすることで少ない流量でも高い流速が得られ、効率よく金属酸化物２２の表面の撥水性に回復させることが出来る。
本実施例は、撥液性回復手段として光源の代わりに送風源３０を用いることが第１の実施例と異なっており、その他は第１の実施例と全く同じである。
【００２７】
［第７の実施例］
以上説明した各実施例は、チャック２０上に固定したウエハの表面と略同一な高さの金属酸化物膜２２面を設けた環状の液体保持部２１を設けている。
本発明の第７実施例として示したいのは、ウエハ周囲同様、ウエハステージ上に置かれる基準マーク板や照度計ユニットの周囲にも、金属酸化物面を有する環状の液体保持部を設ける形態である。
この形態も、例えば基準マーク板表面や照度計ユニット表面と液体保持部表面とにより液体を保持することができる。
本実施例でも、計測動作において露光光を照射した金属酸化物膜は、撥液性回復手段により撥液性を回復し維持する。この撥液性回復手段は、各実施例で示した光源、熱源、または送風源である。
【００２８】
［デバイス製造方法の実施例］
次に、図８および図９を参照して、上述の液浸露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図８は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスク（原版またはレチクルともいう）を製作する。ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハ（基板ともいう）を製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組立）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップ７）される。
【００２９】
図９は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００３０】
以上説明したように本発明によれば、信頼性の高い液浸露光装置を提供及びデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の一実施例に係る液浸露光装置の構成を示す模式図である。
【図２−１】本発明の第１の実施例に係るローカルフィル方式を説明する模式図である。
【図２−２】図２−１における投影光学系及び可視光源部分をウエハ側から見た光源配置例の模式図である。
【図３】本発明に係る第２の実施例の詳細模式図である。
【図４】本発明に係る第３の実施例の模式図である。
【図５】本発明に係る第４の実施例の模式図である。
【図６】本発明に係る第５の実施例の模式図である。
【図７】本発明に係る第６の実施例の模式図である。
【図８】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
【図９】図８に示すフローチャートにおけるステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【００３２】
１：照明系、２：レチクル（マスク）、３：投影光学系、４：液膜、５：ウエハ（基板）、６：液浸液供給装置、７：液浸液回収装置、８：液浸液供給配管、９：液浸液回収配管、１０：供給口、１１：回収口、１２：レチクルステージ、１３：ウエハステージ、１４：ミラー、１５：測距用レーザ干渉計、１６：液浸制御装置、１７：ステージ制御装置、１８：脱気装置、１９：温度制御装置、２０：チャック、２１、２４：液体保持部、２２：金属酸化物（膜）、２３：光源、２５：撥水性膜、２６：露光ステーション、２７：計測ステーション、２８：ステージ定盤、２９：熱源、３０：送風源。
【図１】
2009010079.tif 000003
【図２−１】
2009010079.tif 000004
【図２−２】
2009010079.tif 000005
【図３】
2009010079.tif 000006
【図４】
2009010079.tif 000007
【図５】
2009010079.tif 000008
【図６】
2009010079.tif 000009
【図７】
2009010079.tif 000010
【図８】
2009010079.tif 000011
【図９】
2009010079.tif 000012