(57)【要約】【課題】主磁極とリターンコアとの層間接続部による不具合の発生を回避できる磁気ヘッド及びその磁気ヘッドを備えた磁気記録装置を提供する。【解決手段】主磁極４１の厚さ方向の上又は下に補助磁極４２ａを配置する。補助磁極４２ａは、その幅方向の両側に配置されたリターンコア４２ｂと一体的に形成されている。一方、主磁極４１の上側には絶縁膜を介して上層側リターンコアが形成されている。この上層側リターンコアはトレーリングシールド４７と磁気的に接続されており、かつ、主磁極４１の側方に配置されたリターンコア層間接続部５１を介してリターンコア４２ｂと磁気的に接続されている。従って、主磁極４１の後端側には、主磁極と上層側リターンコアとを磁気的に接続する層間接続部を有していない。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端が磁気記録媒体に向けて配置される主磁極と、
前記主磁極の厚さ方向の上側又は下側に配置されて前記主磁極と磁気的に接続された補助磁極と、
前記主磁極及び前記補助磁極の周囲に形成されたコイルと、
前記補助磁極と磁気的に接続した第１のリターンコアと、
前記主磁極の厚さ方向の上側又は下側に絶縁膜を介して配置された第２のリターンコアと、
前記第１のリターンコアと前記第２のリターンコアとを前記主磁極の幅方向の側方で磁気的に接続するリターンコア層間接続部と
を有することを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
前記補助磁極と前記第１のリターンコアとが一体的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記主磁極に沿って、前記主磁極を加熱するヒータが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
前記主磁極に沿って、前記磁気記録媒体に向けて放射されるレーザ光が通る光導波路が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体に情報を記録する磁気ヘッドとを有する磁気記録装置において、
前記磁気ヘッドが、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の磁気ヘッドであることを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体に情報を磁気的に記録する磁気ヘッド及び磁気記録装置に関し、特にヒータや光導波路等を内蔵するのに好適な構造の磁気ヘッド及びその磁気ヘッドを備えた磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録装置（ハードディスクドライブ）は、高速で回転する磁気ディスク（記録媒体）の表面を記録素子により磁化して情報を磁気的に記録する装置である。磁気ディスクに記録された情報は再生素子により読み取り、電気信号に変換して出力される。記録素子及び再生素子（以下、記録素子及び再生素子をまとめて「磁気ヘッド」という）は、通常、スライダと呼ばれるほぼ直方体形状の部材の端面に配置される。特許文献１には、垂直磁気記録用磁気ヘッドの構造の一例が開示されている。
【０００３】
ところで、スライダは板ばね状のサスペンションにより支持されており、磁気ディスクの回転によって生じる空気流により磁気ディスクから若干浮上する。磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔は、磁気ディスクの回転により生じる空気流の強さとスライダに対するサスペンションの付勢力とにより決定される。しかし、近年、磁気記録装置のより一層の高記録密度化が促進されており、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔のわずかな変動で書き込みエラー及び読み出しエラーが発生するようになった。そのため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔をより高精度に制御することが求められるようになった。
【０００４】
このような要求に応えるべく、スライダ内にヒータを形成し、熱膨張を利用して磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔を制御することが提案されている。
【０００５】
なお、従来から、主磁極の両側（磁気ディスクのトラック幅方向の両側）にリターンコアを配置した磁気ヘッドや、主磁極の周囲にコイルをらせん状に配置した構造の薄膜磁気ヘッド等が知られている（特許文献２〜４）。
【特許文献１】特開２００６−１２３９６号公報
【特許文献２】特開平５−９４６０３号公報
【特許文献３】特開平７−２２５９１８号公報
【特許文献４】特開平６−１８０８１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示されているように、一般的な磁気ヘッドでは、主磁極と、リターンコアと、渦巻き状コイルとにより記録素子が形成されており、主磁極とリターンコアとは渦巻き状コイルの中心近傍で接続されている。このように異なる層に形成された主磁極とリターンコアとを磁気的に接続する層間接続部を主磁極の後方に配置した構造の磁気ヘッドにヒータを内蔵する場合、層間接続部を迂回させるようにヒータを形成することが必要になる。そのため、ヒータの長さが長くなり、不要な部分を加熱することになって消費電力が増大する。
【０００７】
また、近年、高記録密度化に伴って記録素子のコイルに供給される信号の周波数が高くなっている。そのため、コイルに供給される高周波信号によりコイルの中心部に位置する層間接続部が発熱し、その結果主磁極が熱膨張して磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔が変化してしまうおそれがある。
【０００８】
本発明は、主磁極とリターンコアとの層間接続部による不具合の発生を回避できる磁気ヘッド及びその磁気ヘッドを備えた磁気記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一観点によれば、先端が磁気記録媒体に向けて配置される主磁極と、前記主磁極の厚さ方向の上側又は下側に配置されて前記主磁極と磁気的に接続された補助磁極と、前記主磁極及び前記補助磁極の周囲に形成されたコイルと、前記補助磁極と磁気的に接続した第１のリターンコアと、前記主磁極の厚さ方向の上側又は下側に絶縁膜を介して配置された第２のリターンコアと、前記第１のリターンコアと前記第２のリターンコアとを前
記主磁極の幅方向の側方で磁気的に接続するリターンコア層間接続部とを有する磁気ヘッドが提供される。
【００１０】
本発明においては、主磁極の上側又は下側に補助磁極を配置し、この補助磁極に接続された第１のリターンコアと、主磁極の上側又は下側に絶縁膜を介して配置された第２のリターンコアとを、主磁極の幅方向の側方に配置されたリターンコア層間接続部を介して磁気的に接続している。すなわち、本発明においては、主磁極とその上側又は下側に配置されたリターンコア（第２のリターンコア）とが主磁極の側方で磁気的に接続され、主磁極の後端側には主磁極とリターンコアとを磁気的に接続する層間接続部がない。これにより、例えば主磁極に沿ってヒータを最短距離で配置することができ、主磁極の後端側の層間接続部を迂回するようにヒータを配置する場合に比べて、ヒータの消費電力が低減されるとともに、主磁極の熱膨張を良好な精度で制御することができる。
【００１１】
また、磁気記録装置に上述の磁気ヘッドを採用することにより、書き込みエラー及び読み出しエラーが回避され、より一層の高記録密度化に対応できるとともに信頼性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して説明する。
【００１３】
１．第１の実施形態
（磁気ヘッドの構造）
図１，図２は本発明の第１の実施形態に係る磁気ヘッドの断面図、図３は同じくその磁気ヘッドを磁気ディスク（磁気記録媒体）１０側から見た平面図である。図１は磁気ディスク１０の表面に垂直かつトラック（磁気ディスクのトラック：以下、同じ）の伸びる方向に平行な面における磁気ヘッド２０の断面を示し、図２は磁気ディスク１０の表面に垂直かつトラック幅方向に平行な面における磁気ヘッド２０の断面を示している。なお、説明の便宜上、磁気ヘッド２０を構成する部材について磁気ディスク１０に近い側を先端側、その反対側を後端側と呼ぶ。また、図２に矢印Ａで示す方向がトラック幅方向であり、図２の紙面に垂直な方向（図１に矢印Ｂで示す方向）がトラックの伸びる方向である。
【００１４】
本実施形態に係る磁気ヘッド２０は、基板（スライダ）２１の端面上に、磁気ディスク１０から情報を読み出す再生素子（リードヘッド）３０と、磁気ディスク１０に情報を書き込む記録素子（ライトヘッド）４０とを積層した構造を有している。
【００１５】
再生素子３０は、ＭＲ（Magneto Resistive）素子、ＧＭＲ（Giant Magneto Resistive）素子又はＴＭＲ（Tunnel Magneto Resistive）素子等の磁気抵抗効果素子３２と、この磁気抵抗効果素子３２を挟んで配置された下層側磁気シールド層３１及び上層側磁気シールド層３３とを有している。磁気抵抗効果素子３２のトラック幅方向の両側にはそれぞれ引き出し電極（図示せず）が接続されており、これらの引き出し電極を介して磁気抵抗効果素子３２から電気信号を取り出すようになっている。
【００１６】
記録素子４０は、磁性材料からなる主磁極４１、補助磁極４２ａ、補助磁極一体型リターンコア（第１のリターンコア）４２ｂ、下層側リターンコア４３及び上層側リターンコア（第２のリターンコア）４４と、記録すべき情報に応じた電気信号が供給されるコイル４５とを有している。主磁極４１は、図２に示すように、その先端側が極めて細く形成されており、磁気ディスク１０に向けて高密度の磁束を発生できるようになっている。補助磁極４２ａは、主磁極４１よりも厚くかつ幅広に形成されており、主磁極４１の先端側を除く部分の上に密着して配置され、主磁極４１と磁気的に接続している。補助磁極一体型リターンコア４２ｂは補助磁極４２ａと一体的に形成されており、補助磁極４２ａの幅方向の両側に配置されて、補助磁極４２ａの後端側と磁気的に接続されている。この補助磁極一体型リターンコア４２ｂは、主磁極４１の両側に配置されたリターンコア層間接続部５１を介して上層側リターンコア４４と磁気的に接続されている。
【００１７】
コイル４５は、図２，図３に示すように、主磁極４１及び補助磁極４２ａの周囲にらせん状に巻回して配置されている。また、磁気ヘッド２０の磁気ディスク１０側には、図３に示すように、主磁極４１の先端部を三方から囲むようにトレーリングシールド４７が形成されている。このトレーリングシールド４７は、トレーリングシールド接続部４６を介
して上層側リターンコア４４の磁気ディスク側先端部に磁気的に接続されている。
【００１８】
更に、本実施形態においては、補助磁極４２ａの先端側近傍にヒータ４８が形成されている。このヒータ４８は、図４に示すように、主磁極４１の側部の辺に沿って後端側に引き出され、電極５２に接続されている。この電極５２を介してヒータ４８に電力を供給することにより、主磁極４１及び補助磁極４２ａが加熱されて熱膨張し、主磁極４１の先端が磁気ディスク１０に向けて突出して、両者の間の距離が短縮される。
【００１９】
本実施形態においては、主磁極４１の側方に配置されたリターンコア層間接続部５１を介して主磁極４１と上層側リターンコア４４とが磁気的に接続されており、主磁極４１の後端側には主磁極４１と上層側リターンコア４４（又は下層側リターンコア４３）とを磁気的に接続する層間接続部を有していない。このため、図４のようにヒータ４８を主磁極４１の側部の辺に沿って最短距離で配置することができる。これにより、主磁極４１及びその近傍のみを加熱することができ、ヒータ４８の消費電力が少なくてすむとともに、主磁極の熱膨張を良好な精度で制御することができる。
【００２０】
また、主磁極４１と上層側リターンコア４４とを磁気的に接続する層間接続部５１がコイル４５の外側にある（図２参照）ので、コイル４５に高周波信号が供給されても層間接続部５１の温度上昇が抑制され、更に層間接続部５１が主磁極４１から離れているので、リターンコア層間接続部５１の温度上昇による磁気ヘッド２０（記録素子４０）と磁気ディスク１０との間隔の変動が回避される。これにより、ヒータ４８に供給する信号（電力）によって磁気ヘッド２０（記録素子４０）と磁気ディスク１０との間隔を高精度に制御することができる。
【００２１】
（磁気ヘッドの製造方法）
以下、本実施形態の磁気ヘッドの製造方法について、図５を参照して説明する。
【００２２】
まず、アルチック（ＡｌＴｉＣ）等からなる基板２１を用意する。そして、例えばスパッタ法により、この基板２１の上にアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の絶縁材料からなる下地膜（図示せず）を２５０〜３００ｎｍの厚さに形成する。その後、この下地膜の上に厚さが約１μｍのＦｅＮｉ合金（パーマロイ）等の磁性材料からなる下層側磁気シールド層３１を形成する。例えば、下地膜の上にスパッタ法又はめっき法により所望の厚さの磁性膜を形成した後、フォトリソグラフィ法及びエッチング法を用いて磁性膜を所望の形状にパターニングして、下層側磁気シールド層３１を形成する。
【００２３】
また、以下の方法により下層側磁気シールド層３１を形成してもよい。すなわち、下地膜の上にめっきシード層を形成し、その上にフォトレジスト膜を形成する。その後、フォトレジスト膜を露光及び現像処理して、めっきシード層が露出する所望の形状の開口部を形成する。次いで、めっきシード層を電源に接続し、電解めっき法により開口部内に磁性材料を充填して下層側磁気シールド層３１を形成する。その後、フォトレジスト膜を除去し、更にめっきシード層（但し、下層側磁気シールド層３１の下側部分を除く）を除去する。
【００２４】
このようにして下層側磁気シールド層３１を形成した後、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料からなる絶縁膜６１を形成し、この絶縁膜６１により下層側磁気シールド層３１を覆う。そして、ＣＭＰ(Chemical Mechanical Polishing)法により下層側磁気シールド層３１が露出するまで絶縁膜６１を研磨し、表面を平坦化する。
【００２５】
次に、下層側磁気シールド層３１の上に磁気シールド間絶縁膜６２の下層側となる第１の絶縁膜を例えばアルミナ等により形成した後、この第１の絶縁膜の上に磁気抵抗効果素子３２を形成する。
【００２６】
磁気抵抗効果素子３２としてＭＲ素子を使用する場合は、例えば厚さが２０ｎｍのＮｉＦｅ合金からなるＳＡＬ（Soft Adjacent Layer）層と、厚さが１０ｎｍのＴａ等からなる非磁性層と、厚さが２０ｎｍのＮｉＦｅ等からなるＭＲ層とを積層して構成される。これらのＳＡＬ層、非磁性層及びＭＲ層はスパッタ法により形成され、フォトリソグラフィ法及びエッチング法により所定の形状にパターニングされて磁気抵抗素子３３となる。なお、磁気抵抗効果素子３２は、図１に示すようにヘッド先端側（磁気ディスク１０側）の端部に配置される。磁気抵抗効果素子３２として、ＧＭＲ素子又はＴＭＲ素子を採用して
もよい。
【００２７】
次に、磁気抵抗効果素子３２に接続する引き出し電極（図示せず）を形成する。例えば、基板２１の上側全面にフォトレジスト膜を形成する。その後、フォトレジスト膜を露光及び現像処理して、所定の領域に開口部を形成する。次いで、スパッタ法等により基板２１の上側全面に例えばアルミニウム合金からなる金属膜を形成した後、フォトレジスト膜をその上の金属膜とともに除去する。これにより、フォトレジスト膜の開口部に対応する部分に金属膜が残り、磁気抵抗効果素子３２の両端にそれぞれ接続した一対の引き出し電極が形成される。
【００２８】
次に、基板２１の上側全面に、磁気シールド間絶縁膜６２の上層側となる第２の絶縁膜を例えばアルミナ等により形成し、この第２の絶縁膜により磁気抵抗効果素子３２及び引き出し電極等を覆う。
【００２９】
次に、磁気シールド間絶縁膜６２（第２の絶縁膜）の上に、例えばＦｅＮｉ合金等の磁性材料からなる上層側磁気シールド層３３を例えば０．５〜１μｍの厚さに形成する。上層側磁気シールド３３は、下層側磁気シールド層３１と同様にフォトリソグラフィ法及びめっき法等を使用して形成される。
【００３０】
次に、基板２１の上側全面に例えばアルミナ等の絶縁材料からなる絶縁膜６３を形成し、この絶縁膜６３により上層側磁気シールド層３３を覆う。そして、ＣＭＰ法により上層側磁気シールド層３３が露出するまで絶縁膜６３を研磨し、表面を平坦化する。
【００３１】
次に、スパッタ法により、上層側磁気シールド層３３及び絶縁膜６３の上にアルミナ等の絶縁材料からなる絶縁膜６４を形成する。そして、この絶縁膜６４の上に、下層側リターンコア４３を形成する。下層側リターンコア４３も、下層側磁気シールド層３１と同様にフォトリソグラフィ法及びめっき法等を使用して形成される。
【００３２】
下層側リターンコア４３を形成した後、基板２１の上側全面にスパッタ法によりアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜６５を形成し、この絶縁膜６５により下層側リターンコア４３を覆う。その後、ＣＭＰ法により下層側リターンコア４３が露出するまで絶縁膜６５を研磨し、表面を平坦化する。
【００３３】
次に、下層側リターンコア４３及び絶縁膜６５の上にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜６６を形成する。その後、絶縁膜６６の上にめっきシード膜を形成し、その上にフォトレジスト膜を形成する。そして、露光及び現像工程を実施してフォトレジスト膜の所定の位置に開口部を形成し、電解めっき法により開口部内に銅等の金属を充填して、コイル４５の下側部分となる金属膜４５ａを形成する。その後、フォトレジスト膜を除去する。
【００３４】
次に、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて、金属膜４５ａを覆う絶縁膜６７を形成する。その後、ＣＭＰ法等により金属膜４５ａが露出するまで絶縁膜６７を研磨し、表面を平坦化する。そして、更に全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜６８を形成する。
【００３５】
次に、絶縁膜６８の上に、めっき法又はスパッタ法によりＣｏＮｉＦｅ合金等の磁性金属膜を例えば２００ｎｍの厚さに形成し、この磁性金属膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングして、所定の形状の主磁極４１を形成する。その後、スパッタ法等により、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料からなる絶縁膜６９を形成する。この絶縁膜６９は、主磁極４１とトレーリングシールド４７との間隔を決定するギャップ層としての機能を有する。
【００３６】
次に、フォトリソグラフィ法により絶縁膜６９をパターニングして、主磁極４１が露出する開口部を形成する。その後、全面にフォトレジスト膜を形成し、露光及び現像処理を実施して、トレーリングシールド４７、補助磁極４２ａ及び補助磁極一体型リターンコア４２ｂに対応する部分に開口部を形成する。そして、この開口部内にＦｅＮｉ合金等の磁性材料を埋め込んで、トレーリングシールド４７、補助磁極４２ａ及び補助磁極一体型リターンコア４２ｂを例えば０．５〜１μｍの厚さに形成する。その後、フォトレジスト膜を除去する。
【００３７】
次に、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜７０を形成し、
この絶縁膜７０によりトレーリングシールド４７、補助磁極４２ａ及び補助磁極一体型リターンコア４２ｂを覆う。その後、ＣＭＰ法によりトレーリングシールド４７、補助磁極４２ａ及び補助磁極一体型リターンコア４２ｂが露出するまで絶縁膜７０を研磨し、表面を平坦化する。
【００３８】
次に、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜７１を形成する。その後、絶縁膜７１の上に、タングステンやニッケルクロムなどの電熱材料からなる金属膜を形成し、この金属膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングして、ヒータ４８を形成する。次いで、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料からなる絶縁膜７２を形成し、この絶縁膜７２によりヒータ４８を覆う。
【００３９】
次に、フォトリソグラフィ法により絶縁膜７２をパターニングして、金属膜４５ａ及びヒータ４８に通じる開口部をそれぞれ形成する。また、絶縁膜７２の上にフォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜をパターニングして、コイル４５の上部及びヒータ４８の引き出し電極となる部分に開口部を形成する。その後、めっき法又はスパッタ法等により開口部内に銅等の金属を充填して、コイル４５及び引き出し電極５２を完成させる。
【００４０】
次に、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜７３を形成した後、ＣＭＰ法によりコイル４５及び引き出し電極５２が露出するまで絶縁膜７３を研磨し、表面を平坦化する。
【００４１】
次に、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜７４を形成する。そして、フォトリソグラフィ法により絶縁膜７４，７３，７２，７１をパターニングして、トレーリングシールド４７が露出する開口部及び補助磁極一体型リターンコア４２ｂが露出する開口部をそれぞれ形成する。そして、めっき法又はスパッタ法等によりこれらの開口部内にＦｅＮｉ合金等の磁性材料を充填して、トレーリングシールド接続部４６及びリターンコア層間接続部５１（図２参照）を形成する。
【００４２】
次に、絶縁層７４の上に上層側リターンコア４４を形成する。上層側リターンコア４４も、下層側磁気シールド層３１と同様にフォトリソグラフィ法及びめっき法等を使用して形成される。
【００４３】
次に、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料からなる絶縁膜７５を形成し、この絶縁膜７５により上層側リターンコア４４を覆う。その後、ＣＭＰ法により上層側リターンコア４４が露出するまで絶縁膜７５を研磨し、表面を平坦化する。次いで、基板２１の上側全面にアルミナ等の絶縁材料を堆積させて絶縁膜７６を形成する。このようにして、本実施形態に係る磁気ヘッドが完成する。
【００４４】
（磁気記録装置の構造）
図６は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッドを用いた磁気記録装置の構造を示す平面図である。
【００４５】
図６に示すように、本実施形態に係る磁気記録装置は、金属製の筐体８０と、この筐体８０内に収納された円盤状の磁気ディスク（磁気記録媒体）８１と、磁気ディスク８１を回転させるスピンドルモータ（図示せず）と、磁気ヘッド（記録素子及び再生素子）が設けられたスライダ８３と、スライダ８３を支持するサスペンションアーム８４と、電磁アクチュエータ（ボイスコイルモータ）８５と、磁気ヘッドを介して磁気ディスク８１に対し情報の記録及び再生を行う電子回路８６とにより構成されている。
【００４６】
磁気ディスク８１は、スピンドルモータの回転軸８２ａに固定され、スピンドルモータにより高速で回転する。サスペンションアーム８４は、基端側のキャリッジアームと先端側の板ばね状のサスペンションとにより構成される。このサスペンションアーム８４は電磁アクチュエータ８５により駆動制御され、スライダ８３（磁気ヘッド２０）を磁気ディスク８１の半径方向に移動する。
【００４７】
電子回路８６は、例えば磁気ヘッド（再生素子）から出力される信号の大きさにより磁気ヘッドの浮上量を判定し、その結果に応じてヒータ４８に供給する電力を制御する。これにより、磁気ヘッドと磁気ディスク８１との間隔をほぼ一定に維持することができ、書き込みエラー及び読み出しエラーを抑制することができる。
【００４８】
２．第２の実施形態
図７，図８は、本発明の第２の実施形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。図７は磁気ディスク１０の表面に垂直かつトラックの伸びる方向に平行な面における磁気ヘッド２０の断面を示し、図８は磁気ディスク１０の表面に垂直かつトラック幅方向に平行な面における磁気ヘッド２０の断面を示している。なお、図７，図８において、図１，図２，図４と同一物には同一符号を付してその詳しい説明を省略する。
【００４９】
第１の実施形態においてはヒータ４８が主磁極４１及び補助磁極４２ａの先端側に配置されているのに対し、本実施形態においてはヒータ４８ａが主磁極４１及び補助磁極４２ａの後端側に配置されている。この第２の実施形態においても、図１，図２に示す第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５０】
なお、第１及び第２の実施形態ではいずれもヒータ４８（又は、ヒータ４８ａ）を主磁極４１の近傍に配置して主磁極４１と磁気ディスク１０との間隔を調整する場合について説明したが、例えば図９に示すように再生素子３０の近傍にヒータ４８ｂを配置して再生素子３０と磁気ディスク１０との間隔を調整できるようにしてもよい。また、主磁極４１の近傍と再生素子４０の近傍との両方にヒータを配置してもよい。
【００５１】
３．第３の実施形態
近年、磁気記録装置の高記録密度化の要求にともなって磁気ディスクの記録層を構成する磁性粒子が微細化される傾向にある。しかし、磁性粒子を微細化すると熱安定性が低下し、熱揺らぎといわれる現象が発生して記録層に記録された情報が消失しやすくなるという問題がある。熱安定性を向上するためには、保磁力の高い磁性材料を使用すればよいことが知られている。しかし、磁気ディスクの記録層を保磁力の高い磁性材料により形成すると、情報の書き込みが困難になる。
【００５２】
そこで、磁気ディスクの記録層をレーザにより局所的に加熱して保磁力を低減し、その状態で磁界を印加して情報を記録する熱アシスト方式の磁気記録装置が提案されている。本実施形態は、本発明を熱アシスト方式の磁気記録装置の磁気ヘッドに適用した例を示している。
【００５３】
図１０は、本発明の第３の実施形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。図１において、図１と同一物には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
【００５４】
本実施形態においては、図１０に示すように、補助磁極４２ａ及びヒータ４８ｃを主磁極４１の下側（下層側リターンコア４３側）に配置している。補助磁極４２ａは、第１の実施形態と同様に、主磁極４１の両側（トラック幅方向の両側）に配置された補助磁極一体型リターンコア（図２参照））に接続されており、この補助磁極一体型リターンコアはリターンコア層間接続部（図２参照）を介して上層側リターンコア４４と磁気的に接続されている。
【００５５】
主磁極４１の上側には光導波路４９が配置されている。この光導波路４９は、コアと、コアの周囲に配置されたクラッドとにより形成されており、磁気ヘッド２０の外側に引き出されてレーザ発振器（図示せず）に光学的に接続されている。
【００５６】
レーザ発振器で発生したレーザ光は、コアとクラッドとの屈折率の差によりコア内に閉じ込められ、光導波路４９の伸びる方向に進行して、主磁極４１とトレーリングシールド４７との間から磁気ディスク１０に向けて出射される。このレーザ光により磁気ディスク１０の表面の記録層の保磁力が低下する。その状態で主磁極４１から発生する磁界により記録層を磁化して、情報を記録する。
【００５７】
本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、主磁極４１の後端側には主磁極４１と上層側リターンコア４４（又は下層側リターンコア４３）とを磁気的に接続する層間接続部を有していない。このため、図１０に示すように光導波路４９を主磁極４１の中心に沿って最短距離で配置することができる。
【００５８】
以下、本発明の諸態様を、付記としてまとめて記載する。
【００５９】
（付記１）先端が磁気記録媒体に向けて配置される主磁極と、
前記主磁極の厚さ方向の上側又は下側に配置されて前記主磁極と磁気的に接続された補助磁極と、
前記主磁極及び前記補助磁極の周囲に形成されたコイルと、
前記補助磁極と磁気的に接続した第１のリターンコアと、
前記主磁極の厚さ方向の上側又は下側に絶縁膜を介して配置された第２のリターンコアと、
前記第１のリターンコアと前記第２のリターンコアとを前記主磁極の幅方向の側方で磁気的に接続するリターンコア層間接続部と
を有することを特徴とする磁気ヘッド。
【００６０】
（付記２）前記補助磁極と前記第１のリターンコアとが一体的に形成されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。
【００６１】
（付記３）前記主磁極に沿って、前記主磁極を加熱するヒータが形成されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。
【００６２】
（付記４）更に、前記磁気記録媒体から情報を読み出す再生素子を有し、前記再生素子を加熱するヒータが形成されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。
【００６３】
（付記５）前記主磁極に沿って、前記磁気記録媒体に向けて放射されるレーザ光が通る光導波路が形成されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。
【００６４】
（付記６）前記第１のリターンコア及び前記リターンコア層間接続部がそれぞれ前記主磁極の幅方向の両側に形成されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。
【００６５】
（付記７）前記リターンコア層間接続部が前記コイルの外側に配置されていることを特徴とする付記１に記載の磁気ヘッド。
【００６６】
（付記８）磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体に情報を記録する磁気ヘッドとを有する磁気記録装置において、
前記磁気ヘッドが、付記１乃至５のいずれか１項に記載の磁気ヘッドであることを特徴とする磁気記録装置。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態に係る磁気ヘッドの断面図（その１）であり、磁気ディスクの表面に垂直かつトラックの伸びる方向に平行な面における磁気ヘッドの断面を示している。
【図２】図２は、本発明の第１の実施形態に係る磁気ヘッドの断面図（その２）であり、磁気ディスクの表面に垂直かつトラック幅方向に平行な面における磁気ヘッドの断面を示している。
【図３】図３は、第１の実施形態に係る磁気ヘッドを磁気ディスク（磁気記録媒体）側から見た平面図である。
【図４】図４は、磁気ヘッドに内蔵されたヒータを示す模式図である。
【図５】図５は、第１の実施形態の磁気ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図６】図６は、第１の実施形態に係る磁気ヘッドを用いた磁気記録装置の構造を示す平面図である。
【図７】図７は、本発明の第２の実施形態に係る磁気ヘッドを示す断面図（その１）であり、磁気ディスクの表面に垂直かつトラックの伸びる方向に平行な面における磁気ヘッドの断面を示している。
【図８】図８は、本発明の第２の実施形態に係る磁気ヘッドを示す断面図（その２）であり、磁気ディスクの表面に垂直かつトラック幅方向に平行な面における磁気ヘッドの断面を示している。
【図９】図９は、再生素子の近傍にヒータを配置した例を示す磁気ヘッドの断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の第３の実施形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０…磁気ディスク、
２０…磁気ヘッド、
２１…基板（スライダ）、
３０…再生素子、
３１…下層側磁気シールド層、
３２…磁気抵抗効果素子、
３３…上層側磁気シールド層、
４０…記録素子、
４１…主磁極、
４２ａ…補助磁極、
４２ｂ…補助磁極一体型リターンコア、
４３…下層側リターンコア、
４４…上層側リターンコア、
４５…コイル、
４６…トレーリングシールド接続部、
４７…トレーリングシールド、
４８，４８ａ，４８ｂ，４８ｃ…ヒータ、
４９…光導波路、
５１…リターンコア層間接続部、
６１〜７６…絶縁膜、
８０…筐体、
８１…磁気ディスク、
８３…スライダ、
８４…サスペンションアーム、
８５…電磁アクチュエータ、
８６…電子回路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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