(57)【要約】【課題】表示層側からの書き込みを可能とし、かつ、高い表示コントラストを得ることが可能な光書き込み型表示媒体及び該光書き込み型表示媒体を用いる光書き込み装置を提供することである。【解決手段】１対の基板と、前記１対の基板上に対向配置された１対の電極と、前記１対の電極の間に、書き込み側から少なくとも表示層、光機能層及び光導電層がこの順で積層されて構成され、前記機能層が可視光領域の光を吸収し、書き込み光を透過する光書き込み型表示媒体である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対の基板と、
前記１対の基板上に対向配置された１対の電極と、
前記１対の電極の間に、書き込み側から少なくとも表示層、光機能層及び光導電層がこの順で積層されて構成され、
前記機能層が可視光領域の光を吸収し、書き込み光を透過することを特徴とする光書き込み型表示媒体。
【請求項２】
前記書き込み光の波長領域が、７５０ｎｍ以上９００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光書き込み型表示媒体。
【請求項３】
前記１対の基板及び１対の電極のうち、前記書き込み側と反対側の基板及び電極の少なくとも一方が、少なくとも前記光導電層が吸収する波長領域の光を遮光することを特徴とする請求項１または２に記載の光書き込み型表示媒体。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光書き込み型表示媒体における１対の電極間に電圧を印加する電圧印加手段と、
該電圧印加手段により電圧を印加された前記光書き込み型表示媒体における表示層側からのみ画像データに応じてパターン化した書き込み光を照射して光書き込みを行う光書き込み手段と、
を有することを特徴とする光書き込み装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光書き込み型表示媒体及び光書き込み装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータの普及、インターネットを始めとする情報化社会の発達により、電子情報の一時的な閲覧を目的とする、いわゆる短寿命文書としての紙の消費は、益々増加する傾向にあり、森林資源保護などの地球環境保全や事務環境改善などの理由から、紙に代わる書き換え可能な表示媒体の実現が望まれている。
【０００３】
そこで、無電源でのメモリ性を有し、外部装置によって短時間で画像を書き換えることができる、フルカラー表示可能な表示記憶媒体とその画像書き込み方法および画像書き込み装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、１対の電極間にメモリ性を有し、かつ表示に必要な波長を選択的に反射する選択反射性または後方散乱性の液晶層と光導電層とを積層した光書き込み型表示媒体を用い、表示側から光書き込みを行う技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
従来、上記構成の光書込型表示媒体において、表示のコントラスト向上、表示色の調整などのために、液晶層と光導電層との間に遮光層 （あるいは、特定の波長領域のみの光を遮蔽するという意味から光フィルター層とも言う場合がある） を導入することがあった（例えば、特許文献３参照）。この場合、液晶の表示コントラストを高めるため、前記遮光層としてカーボンブラックを含む黒色の遮光層を設けることが一般的だった。
【特許文献１】特開２００１−１５４２１９号公報
【特許文献２】特開２００１−１００６６４号公報
【特許文献３】特開２００３−５２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、従来のカーボンブラックを用いる遮光層では、可視領域の光以外にも紫外領域から赤外領域まで広い波長範囲で透過率が低いため、液晶層及び光導電層を積層した構成で液晶層側からの光書き込みができなかった。また、液晶層側からの書き込みを可能とするには、前記構成で遮光層を光導電層よりも下側（液晶層とは反対側）にする必要があり、そうするとコントラストが低下してしまう問題があった。
【０００７】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、書き込み側から表示層及び光導電層を積層した光書き込み型表示媒体において、表示層側からの書き込みを可能とし、かつ、高い表示コントラストを得ることが可能な光書き込み型表示媒体及び該光書き込み型表示媒体を用いる光書き込み装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の本発明により達成される。
すなわち本発明の請求項１に係る発明は、１対の基板と、
前記１対の基板上に対向配置された１対の電極と、
前記１対の電極の間に、書き込み側から少なくとも表示層、光機能層及び光導電層がこの順で積層されて構成され、
前記機能層が可視光領域の光を吸収し、書き込み光を透過する光書き込み型表示媒体である。
【０００９】
請求項２に係る発明は、前記書き込み光の波長領域が、７５０ｎｍ以上９００ｎｍ以下である請求項１に記載の光書き込み型表示媒体である。
【００１０】
請求項３に係る発明は、前記１対の基板及び１対の電極のうち、前記書き込み側と反対側の基板及び電極の少なくとも一方が、少なくとも前記光導電層が吸収する波長領域の光を遮光する請求項１または２に記載の光書き込み型表示媒体である。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光書き込み型表示媒体における１対の電極間に電圧を印加する電圧印加手段と、
該電圧印加手段により電圧を印加された前記光書き込み型表示媒体における表示層側からのみ画像データに応じてパターン化した書き込み光を照射して光書き込みを行う光書き込み手段と、
を有する光書き込み装置である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明によれば、書き込み側から表示層及び光導電層を積層した光書き込み型表示媒体において、表示層側からの書き込みを可能とし、かつ、高い表示コントラストを得ることが可能な光書き込み型表示媒体が得られる。
請求項２に係る発明によれば、高い表示コントラストを維持しつつ、確実な光書き込みを行うことができる。
請求項３に係る発明によれば、さらに耐光性に優れた光書き込み型表示媒体が提供される。
請求項４に係る発明によれば、高い表示コントラストが得られる光書き込み型表示媒体に対し、表示層側から光書き込みを行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を実施形態により詳細に説明する。
＜光書き込み型表示媒体＞
本実施形態の光書き込み型表示媒体は、１対の基板と、前記１対の基板上に対向配置された１対の電極と、前記１対の電極の間に、書き込み側から少なくとも表示層、機能層及び光導電層がこの順で積層されて構成され、前記機能層が可視光領域の光を吸収し、書き込み光を透過することを特徴とする。
【００１４】
前記のように、液晶層(表示層）及び光導電層を有する反射型の光書き込み型表示媒体においては、表示コントラストの向上等の観点から、液晶層及び光導電層間に遮光層を導入する必要がある。これを図を用いて説明する。
図２は、従来から用いられている光導電層と液晶層とを組み合わせた光書き込み型表示媒体の構成断面図である。図２に示す光書き込み型表示媒体は、フィルムなどの基板２１、２２上に形成された１対の電極２５、２６の間に、液晶層４０と、光導電層３０と、液晶層４０及び光導電層３０とに挟まれた位置に形成された遮光層４８とからなる。
【００１５】
この光書き込み型表示媒体では、電極２５、２６間に電圧が印加されると、液晶層４０、遮光層４８、および光導電層３０には、それぞれの分圧が印加される。その状態で光導電層３０に書き込み光（露光光）７１が照射されると、その照射された書き込み光７１に応じて光導電層３０の抵抗分布が変化するため、書き込み光７１に応じて液晶層４０に印加される分圧が高くなる。液晶層４０に印加される電圧分布が変化すると液晶の配向が変化するので、書き込み光７１に応じた情報が液晶層４０に表示・記録される。また、この配向分布の変化は、光変調層に透過率、吸収率、反射率などの光学的特性分布をもたらすため、書き込み情報に応じた読み出し光７２が得られ、光書き込み型表示媒体として機能することができる。
【００１６】
反射型の光書き込み型表示媒体の場合には、液晶層４０において特定の波長の可視光に対する反射率を制御することによって可視画像を表示する。たとえば、赤色の波長領域の可視光（Ｒ光）を選択反射する液晶層４０を用いた場合、オンの場合にはＲ光を反射し、オフの場合にはＲ光を透過して光導電層３０に到達する。青色光（Ｂ光）及び緑色光（Ｇ光）の領域の光は常に液晶層４０を透過して光導電層３０に到達する。よって、コントラストを向上させるためには光導電層３０に到達する光を吸収させる必要がある。
また、光導電層３０側から書き込み光７１を照射する場合には、基板２２としても透明導電性基板を使用する。このときは、光導電層３０における下部電荷発生層３３および上部電荷発生層３１（以下、両者を併せて「電荷発生層」という場合がある）は書き込み光７１を吸収するがそれ以外の波長領域の光は通常透過する。電荷輸送層３２も、書き込み光７１はもちろん他の波長領域の光に対してもほぼ透明である。そのため、基板２２を透過する光が液晶層４０まで届いてしまい、コントラストが低下する原因となってしまう。
【００１７】
従来は、光導電層３０側から書込光を照射する場合には、光導電層３０と液晶層４０との間に、また、液晶層４０側から書込光を照射する場合には、光導電層３０と基板２２との間に、たとえばカーボンブラックを樹脂中に分散させた黒色の遮光層を導入していた。図２においては、光導電層３０と液晶層４０との間に遮光層４８を導入している。そしてこれにより、前記の例では、Ｒ光のコントラストが良好になる。
【００１８】
この場合、前記液晶層４０側からの書き込みは、媒体の裏側（光導電層側）の基板を透明基板等にする必要がなく、媒体の設計の自由度等を含めて有効に利用できるメリットがある。しかし、前記黒色の遮光層４８を用いる場合には、液晶層４０側から書き込み可能とするために遮光層４８を図における光導電層３０より下側（例えば、図２における下部電荷発生層３３の下側）に配置しなければならない。この場合、液晶層４０側からの書き込みは問題なくなるが、読み出し光７２が光導電層３０側にも漏れることとなり、特に黒色表示を行うときに遮光層４８の黒色に光導電層３０の色が混色して青みがかった黒色等となってしまう。そしてこの黒色の色味変化は、表示全体のコントラストを低下させる。
【００１９】
そこで本発明者等は、図２における遮光層の配置を変更することなく、表示コントラストを維持できる方法について検討を行った。その結果、遮光層の材料として可視光領域での透過率が低く、かつ書き込み光の波長領域での透過率が高いものを使用することが有効であることがわかった。
すなわち本実施形態では、図２における遮光層４８の位置に、可視光領域の光を吸収し、書き込み光を透過する光機能層を導入し、液晶層側からの書き込みを可能とすると共に、読み出し光７２の波長領域である可視光領域の光を機能層で遮り、表示における光導電層の影響をなくして高い表示コントラストを得ることができることとした。
【００２０】
ここで、前記「光を吸収する」とは、全光線透過率で１０％以下、より好ましくは５％以下である状態を意味する。また、前記「光を透過する」とは、全光線透過率で３０％以上、より好ましくは５０％以上である状態を意味する。以下において同様である。
また、前記可視光領域とは、４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下、より好ましくは４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲をいう。
【００２１】
図１は、本実施形態の光書き込み型表示媒体の一例を示す構成断面図である。図１に示す構成では、光導電層３０と液晶層４０との間に、遮光層４８の代わりに前記光機能層５０が設けられている以外は、図２に示した従来の光書き込み型表示媒体の構成と同様である。
【００２２】
以下、本実施形態の光書き込み型表示媒体を各々の構成に沿って説明する。
本実施形態の光書き込み型表示媒体は、基板、電極、光導電層、液晶層を有して構成され、上記光導電層は、基本的には下部電荷発生層、電荷輸送層および上部電荷発生層から構成されるものである。（なお、以下においては「光透過性」という性質を「透明」と表現することがある。）
【００２３】
まず図１に示す、本実施形態の光書き込み型表示媒体における光導電層（デュアルＣＧＬ構造を有する光スイッチング素子）の構成を説明する。
基板２１、２２としては、ガラス、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）等の基板が用いられる。本実施形態では、光導電層（電荷発生層、電荷輸送層）に有機材料を用いるため、高温で熱処理をする工程がないので、フレキシブル基板が得られること、成形が容易なこと、コストの点などから光透過性のプラスチック基板を用いることが有利である。
基板２１、２２の厚みとしては、１００μｍ以上５００μｍ以下の範囲程度が好適である。
【００２４】
また、電極２５、２６としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）のほか、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕなどの金属膜、ＳｎＯ2、ＺｎＯなど酸化物、ポリピロールなどの導電性高分子の膜などの電気導電体を用いることができる。また、電極２５及び電極２６は、基板２１及び基板２２上にスパッタリングされて形成されているが、必ずしもスパッタリングによる必要はなく、印刷、ＣＶＤ、蒸着などにより形成することもできる。
【００２５】
なお、本実施形態の光書き込み型表示媒体では、後述するように液晶層４０側から書き込みが行われるが、光導電層３０側の基板２２及び電極２６は、必ずしも光透過性である必要はない。すなわち、液晶層４０側（表示側）から書き込みを行う場合には、基板２１及び電極２５が光透過性であれば液晶層４０側（表示側）から書込光を透過させて書き込むことができるので、基板２２あるいは電極２６は光透過性である必要はない。
【００２６】
この場合、基板２２あるいは電極２６が少なくとも光導電層が吸収する波長領域の光を遮光する（光導電層に対して不透明）であることが、光導電層の光劣化を防止する観点から望ましく、具体的には７００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の光を遮光することが望ましく、より好適には７００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下である。ここで、遮光とは光を吸収あるいは反射することによって透過させないことを意味し、透過率が５０％以下が好ましく、１０％以下がさらに好ましい。また、４５０ｎｍ以下の近紫外光および紫外光領域の光も、光導電層の光劣化を引き起こす可能性が高いため、基板２２あるいは電極２６で遮光することが望ましい。
あるいは、基板２２の電極２６と反対側の面に、他の不透明な基板等を別途接着することで同等の遮光機能を持たせることも可能である。接着する他の不透明基板等としては、任意の金属やプラスチック、ガラス、木、などの基板やフィルムを用いることができ、接着面の反対側に文字や画像などの情報が表示・印刷されているようなものを使用することもできる。
【００２７】
本実施形態における光導電層としては、所定の波長の光を吸収すると、光の強度に応じて抵抗値が小さくなるものであれば特に制限されないが、（ａ）無機半導体材料として、アモルファス・シリコンや、ＺｎＳｅ、ＣｄＳなどの化合物半導体から構成される層、（ｂ）有機半導体材料として、アントラセン、ポリビニルカルバゾールなどから構成される層、（ｃ）光照射によって電荷を発生する電荷発生材料及び電界によって電荷移動を生ずる電荷輸送材料の混合物や積層体から構成される層などが挙げられる。
【００２８】
特に、光導電層としては、交流駆動が可能であり、且つ照射された光に対して対称駆動が可能であるという観点から、図１に示すように、電荷輸送層（ＣＴＬ）３２を上下から挟むように上部電荷発生層（ＣＧＬ）３１及び下部電荷発生層３３が積層された３層構造であることが好ましい。
【００２９】
下部電荷発生層３３に含有させる電荷発生材料としては、セレン化合物およびセレン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電性材料や、アントアントロン系、アントラキノン系、ペリレン系、フタロシアニン系、ビスアゾ系、ピロロピロール系、スクワリリウム系、アズレニウム系、ピリリウム塩系、チアピリリウム塩系、など光照射により電荷が発生する有機材料が適用可能である。
【００３０】
光導電層３０としては、後述する光機能層５０との関係で書き込み光７３の波長が可視光領域以外となることから、５５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲に分光感度のピークを有するものを用いることが好ましく、その観点からは、電荷発生材料としてはヒドロキシガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料などを用いることが好ましい。
【００３１】
一方、逆に、上記フタロシアニン顔料を用いた光導電層３０に対して高感度を得ること、さらに後述する光機能層５０の光吸収波長領域との分離を明確にすることの観点からは、書き込み光７３の波長領域は７５０ｎｍ以上９００ｎｍ以下の近赤外光量域であることが望ましく、７５０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下であることがより好適である。
【００３２】
下部電荷発生層３３に得るバインダー樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂（ナイロン樹脂を含む）、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂などが適用可能である。特に、ポリビニルブチラール樹脂、およびポリアミド樹脂、メトキシメチル化６ナイロン等のナイロン系樹脂、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は、多くの電荷発生材料に対して分散性や成膜性が良好であること、下地への密着性が良好であること、などの理由から好ましいバインダー樹脂である。
なお、バインダー樹脂は必ずしも使用しなくてもよい。
【００３３】
下部電荷発生層３３における電荷発生材料等（電荷輸送材料を添加する場合はそれも含む）の低分子化合物とバインダー樹脂との混合比（低分子化合物／バインダー樹脂）は、１／１０乃至２０／１の範囲とすることが好ましく、１／１乃至１０／１の範囲とすることがより好ましい。
【００３４】
下部電荷発生層３３の作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法などが適用可能である。いずれの方式も、ａ−Ｓｉやフォトダイオード作製におけるような基板加熱や厳しい工程管理は不要である。ただし、前記電荷輸送材料を混合して用いる場合には、作製の容易性等から溶剤を用いる塗布により作製することが好ましい。この場合、溶剤としては水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００３５】
下部電荷発生層形成塗布液の調製については、前記溶剤（またはバインダー樹脂を溶解した溶液）中に、前記電荷発生材料と必要に応じて添加される電荷輸送材料とを前記好ましい混合比率で添加し混合、分散させる。混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる常法が適用される。分散の際、電荷発生材料の粒子サイズを０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
下部電荷発生層形成塗布液の固形分含有量の濃度は、１質量％以上３０質量％以下の範囲とすることが好ましい。１質量％未満では膜厚が薄すぎて電気特性が得られない場合があり、３０質量％を超えると粘度が高すぎて膜形成が困難になる場合がある。また、１質量％未満、あるいは３０質量％を超えると、電荷発生材料微粒子の分散安定性が悪く、保存安定性や成膜性が悪化するといった問題が現れる場合がある。
【００３６】
下部電荷発生層３３の膜厚は、１０ｎｍ以上１μｍ以下の範囲が好ましく、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲がより好ましい。１０ｎｍより薄いと、光感度が不足しかつ均一な膜の作製が難しくなる場合があり、また、１μｍより厚くなると、光感度は飽和し、膜内応力によって剥離が生じ易くなる場合がある。
【００３７】
電荷輸送層３２に含まれる電荷輸送材料としては、ベンジジン系、トリニトロフルオレン系、ポリビニルカルバゾール系、オキサジアゾール系、ピラリゾン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系などが適用可能である。また、ＬｉＣｌＯ4を添加したポリビニルアルコールやポリエチレンオキシドのようなイオン導電性材料の適用も可能である。
また、これら電荷輸送性材料の分子構造を主鎖あるいは側鎖に有する電荷輸送性高分子を用いることもできる。特に、特開２００７−２７９３７１号公報に例示されるような、主鎖に電荷輸送性の分子構造を有するものが好ましい。電荷輸送性高分子を電荷輸送性材料として使用する場合には、後で述べるバインダー樹脂は必ずしも使用しなくても良い。
【００３８】
電荷輸送層３２に含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が適用可能である。
特に、ポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層のバインダーとした場合、電荷輸送特性が良好である上に、強度や柔軟性、透明性のバランスに優れているため、好ましいものである。
【００３９】
電荷輸送層３２における電荷輸送材料とバインダー樹脂との混合比（電荷輸送材料／バインダー樹脂）は１／１０乃至１０／１の範囲が好ましく、３／７乃至７／３の範囲がより好ましい。
【００４０】
電荷輸送層３２の作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法などが適用可能である。溶剤塗布法の場合には、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００４１】
電荷輸送層３２の膜厚は、０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲とすることが好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下の範囲とすることがより好ましい。０．１μｍより薄いと、耐電圧が低くなって信頼性確保が困難となる場合があり、また、１００μｍより厚くなると、機能素子とのインピーダンスマッチングが困難となって設計が難しくなる場合がある。
【００４２】
上部電荷発生層３１に含有させる電荷発生材料としては、前記下部電荷発生層３３において例示した電荷発生材料を同様に用いることができる。
上部電荷発生層３１と下部電荷発生層３３とは、キャリア発生量が同程度であることが望ましいため、波長、光量、電圧に対し同程度の感度が必要であり、その観点からは上下とも同じ電荷発生材料であることが望ましいが、同程度の感度であるなら材料が異なっていても問題ない。
【００４３】
また、上部電荷発生層３１には、前記下部電荷発生層３３に用い得るバインダー樹脂を同様に使用することができる。
上部電荷発生層３１における電荷発生材料とバインダー樹脂との混合比、塗布液の調製、形成方法、膜厚等は、前記下部電荷発生層３３で述べた内容に準ずるが、上部電荷発生層３１を、少なくとも電荷輸送層３２に損傷（電荷輸送層の膨潤やクラックの発生等）を与えない溶媒を含む上部電荷発生層形成塗布液から作製することが望ましい。このため、上部電荷発生層３１の形成溶剤として用いられる溶媒としては、電荷輸送層３２を構成する材料にもよるが、一般に、アルコール系、ケトン系、エーテル系、エステル系などの溶媒が有効である。中でも、アルコール等の分子中に水酸基を有する溶媒は、ポリカーボネート系樹脂をバインダーとした電荷輸送層上に作製する上部電荷発生層形成塗布液の溶媒として最適である。
【００４４】
なお、前記下部電荷発生層３３も含めて電荷発生層の膜厚に関しては、電荷発生層の膜厚に対する書き込み光の吸収率変化、及び電荷輸送層による吸収率を測定しておき、上部電荷発生層３１及び下部電荷発生層３３での吸光量が等しくなるようにそれぞれの電荷発生層膜厚を設定することが好ましい（特開２００５−０１７７２６号公報参照）。ただし、電荷輸送材料の添加量、膜厚を含めた最終的な処方調整は、実際に素子を作製してその交流駆動時の波形対称性の評価により行われることがさらに好ましい。
【００４５】
本実施形態の光書き込み型表示媒体においては、前記のように電荷輸送層の上下に形成された電荷発生層の光導電特性をほぼ同一にすること好適であるが、さらに必要により、特開２０００−１８０８８８号公報に記載のごとき、直流成分除去可能な容量成分をもつ機能膜、すなわち直流成分除去用機能膜を光導電層３０に設けてもよい。これにより、さらに微小な実効直流バイアスを除去することができる場合がある。
【００４６】
また、上記直流成分除去用機能膜の他に、他の機能膜を設けることも可能である。たとえば、電極と電荷発生層との間に暗キャリアの注入を防ぐ層や、接着性を向上させる層を形成することができるし、これらの複数の機能を兼ねた機能膜でも良い。このような機能層は電流の流れを著しく妨げない範囲で適用可能である。
【００４７】
さらに、本実施形態における光導電層の構造としては、電荷輸送層間に電荷発生層を作製し、電荷発生層（１）／電荷輸送層／電荷発生層（２）／電荷輸送層／電荷発生層（３）等のような構成とすることも可能である。
この場合、電荷発生層（３）を下部電荷発生層としたとき、電荷発生層（１）、（２）が前記上部電荷発生層に相当することとなる。
【００４８】
本実施形態において、光機能層５０は光導電層３０より表示層側に設けられる。すなわち、本実施形態では、図１に示すように、液晶層４０、光機能層５０、光導電層３０は、書き込み側（図における上側）からこの順に積層されて構成される。ただし、これらの層が上記の順で積層されていればよく、これらの層間に他の層が設けられていても良い。
【００４９】
本実施形態では、前記特性を有する光機能層５０が設けられるため、書き込み光７３が照射されると、書き込み光７３の波長領域の光のみが光機能層５０を透過して光導電層３０に到達し、書き込み光７３の波長領域以外の波長領域の外部光は、光機能層５０において吸収されて、光導電層３０に到達することを抑制される。
【００５０】
光機能層５０の電気抵抗は、光機能層５０内の電流によって解像度の低下を引き起こさないように、少なくとも体積抵抗率で１０8Ω・ｃｍ以上とすることが望ましい。さらに、液晶層４０に加わる分圧の変化分を大きくするためには、光機能層５０の静電容量が大きい程よいので、誘電率が大きく層厚ができる限り薄く形成されることが好ましい。
【００５１】
光機能層５０としては、バインダー樹脂中に、前記可視光領域の波長の光の吸収もしくは散乱を生じさせる物質や可視光領域に散乱を有するような光散乱性の顔料を分散させたものを使用することができる。具体的には、４００ｎｍ乃至７００ｎｍ近傍の波長領域に吸収を有する、１種若しくは複数種の材料の組み合わせによる染料、顔料を用いることができる。
【００５２】
具体的には、可視光領域において光の吸収があり近赤外領域で光透過性の染料の例としては、単独材料の場合には、日本化薬製のカヤセットカラーＢｌａｃｋＡ−Ｎ、同ＢｌａｃｋＧ、同ＢｌａｃｋＢ；三菱化学社製のＤｉａｒｅｓｉｎ  ＢｌａｃｋＢなどの黒色染料を例示することができる。
【００５３】
また、可視光領域の少なくとも一部の光を吸収し可視光以外の波長領域の光のみを透過する顔料としては、黒色ペリレン系顔料が挙げられる。
この黒色ペリレン系顔料は、赤外領域の光を透過すると共に、可視光領域の光を吸収する特性を有している。光機能層５０を構成する材料に含まれるこの黒色ペリレン系顔料含有量は、上記特性を満たすために、含有量は５質量％以上５０質量％以下であることが必須であり、１５質量％以上３５質量％以下であることが好ましい。
【００５４】
黒色ペリレン系顔料としては、具体的には、ペリレンテトラカルボン酸のジイミド誘導体、ペリレンジイミノジカルボン酸のジイミド誘導体、ペリレンテトラカルボン酸の酸無水物を挙げることができる。
【００５５】
複数の染料または顔料を組み合わせる場合、例えば４００ｎｍから５５０ｎｍ程度の波長領域に吸収を有する赤色の染料・顔料と、５５０ｎｍから７００ｎｍ程度の波長領域に吸収を有する青色の染料・顔料とを組み合わせることにより、４００ｎｍから７００ｎｍの可視光領域全体に吸収を有し、かつ７５０ｎｍから９００ｎｍ程度の波長領域に吸収を有さないような光機能層としてもよい。
そのように用いる青色の染料・顔料としては、フタロシアニン系やトリフェニルメタン系、アゾ系の染料・顔料などが好ましく用いられる。また、赤色の染料・顔料としては、アゾ系、アントラキノン系、ピロロピロール系の染料・顔料などが好ましく用いられる。
同様にして、３種以上の染料・顔料を組み合わせて同様の機能を実現することも可能である。
【００５６】
本実施の形態における光機能層５０用の樹脂（バインダー）としては、水溶性樹脂を用いることが好ましく、具体的にはカルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基、ポリエチレングリコール骨格、アミド基、メチロールアミン基などの親水基を有する樹脂で、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキシド、アクリルアミド、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂などが利用できる。グリオキザールやポリイソシアナートなどの架橋剤を添加してもよい。ただし、液晶中に不純物を溶出させないという観点から、これらの材料は非イオン性を有するものであることが好ましい。
【００５７】
なお、本実施形態における光機能層中の顔料等と樹脂との質量比（顔料等／樹脂）は、２０／８０〜４０／６０の範囲とすることが好ましく、２５／７５〜３５／６５の範囲とすることがより好ましい。
【００５８】
光機能層５０は、前記顔料等及び樹脂を水性インキの形態にして、ロールコート、スピンコート、バーコート、ディップコート、ダイコート、グラビア印刷、フレクソ印刷、スクリーン印刷などの塗布法で形成させることができる。 
【００５９】
光機能層５０に必要な光学特性としては、波長４００ｎｍ乃至８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ乃至７００ｎｍの範囲における全光線透過率として、１０％以下とすることが好ましく、５％以下とすることがさらに好ましい。また、透過率の波長依存性が波長に対して均一でないと何らかの色目がついてしまうため、できるかぎり平坦であることが好ましい。
【００６０】
このようにして形成した光機能層５０の層厚は、０．５μｍ以上５．０μｍ以下の範囲とすることが好ましく、０．７μｍ以上３．０μｍ以下の範囲とすることがより好ましい。
【００６１】
本実施形態における表示層としては、特に制限されないが、液晶素子は光書き込み型表示媒体として好適に使用することが可能である。特に、液晶素子は、交流駆動が基本であり直流成分を嫌うため、前記３層構成の光導電層の適用が効果的である。使用できる液晶は、ネマチック、スメクチック、ディスコチック、コレステリック系などである。
【００６２】
また、表示層としては、メモリ性を有することが好ましく、メモリ性のある表示層としては、例えば、前記液晶素子のうちメモリ性のある液晶表示層を挙げることができる。メモリ性のある液晶とは、液晶を電圧印加により配向制御した後、電圧印加を解除した後も、一定時間、液晶の配向が保たれる特徴を持った液晶である。たとえば、カイラルスメクチックＣ相等の強誘電性液晶、あるいはコレステリック液晶等である。また、これらの液晶をポリマー分散型液晶（ＰＤＬＣ、Polymer Dispersed Liquid Crystal）としたものやカプセル化した液晶層でも適用可能である。メモリ性を有する液晶はそのメモリ性ゆえに、画像表示保持のための電力を必要とせず、また、表示媒体を光書き込み装置から分離して使用することが可能とすることができる。
なお、メモリ性のある表示層を含む表示素子としては、上記液晶表示素子の他、エレクトロクロミック素子、電気泳動素子、電界回転素子を挙げることができる。
【００６３】
図１に示す光書き込み型表示媒体は、表示層として液晶層４０を有している。
液晶層４０としては、本実施形態では、カイラルネマチック液晶（コレステリック液晶）をゼラチンバインダー中に分散させたＰＤＬＣ構造を採用しているが、この構造に限ることなく、コレステリック液晶をリブを介し電極間距離を固定したセルに配置する方式やカプセル液晶化することにより実現してもよい。また、液晶もコレステリック液晶に限ることなく、スメクチックＡ液晶、ネマチック液晶、ディスコティック液晶などが利用できる。また、カイラルネマチック液晶、表面安定化カイラルスメクチックＣ液晶、双安定ねじれネマチック液晶、微粒子分散液晶などのメモリ性液晶を用いることにより、本実施形態の光書き込み型表示媒体として有効に利用することができる。
【００６４】
液晶層４０の反射波長域（表示色波長域）は、例えば液晶としてコレステリック液晶を用いる場合には、該コレステリック液晶の螺旋ピッチにより調整する。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、ネマチック液晶に対するカイラル剤の添加量で調整することができ、例えば、表示色を青、緑、赤とする場合には、それぞれ選択反射の中心波長が、４００ｎｍ乃至５００ｎｍ、５００ｎｍ乃至６００ｎｍ、６００ｎｍ乃至７００ｎｍの範囲になるようにする。また、コレステリック液晶の螺旋ピッチの温度依存性を補償するために、 捩じれ方向が異なる、または逆の温度依存性を示す複数のカイラル剤を添加する公知の手法を用いてもよい。
【００６５】
なお、液晶の光学的特性変化を補助する補助部材として、偏光板、位相差板、反射板などの受動光学部品と併用したり、液晶中に２色性色素を添加したりしてもよい。
液晶層４０の膜厚は、通常１μｍ以上１００μｍ以下の範囲で用いられることが好ましい。
【００６６】
液晶材料としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知の液晶組成物が利用できる。液晶材料には２色性色素などの色素、微粒子などの添加剤を加えてもよく、高分子マトリクス中に分散したものや、高分子ゲル化したものや、マイクロカプセル化したものでもよい。また、液晶は高分子、中分子、低分子のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。
【００６７】
以上、本実施形態の光書き込み型表示媒体について、図１に示す構成のものを例に挙げて説明したが、本実施形態の光書き込み型表示媒体はこれ以外の構成であってもよい。
【００６８】
＜光書き込み装置＞
次に、本実施形態の光書き込み型表示媒体を用いた光書き込み、表示の具体例について、光書き込み装置とともに簡単に説明する。
図３は、本実施形態の光書き込み型表示媒体を用いた光書き込み及び表示状態の一例を示す概略図である。ここで 、図３に示す表示媒体部１にセットされた光書き込み型表示媒体１６Ａは、図１に示した構成に相当するものである。
【００６９】
光書き込み型表示媒体１６Ａは、それぞれ透明電極５Ａ、６Ａが内面に形成された基板３Ａ、４Ａの間に、読出し光１２Ａを反射する液晶層８Ａ、光導電層１３Ａが積層されている。また、液晶層８Ａ及び光導電層１３Ａ間には、光機能層７Ａが設けられている。なお、光導電層１３ＡはデュアルＣＧＬ構造であるがその構成を省略している（以下同様である）。
【００７０】
また、以下の説明においては、電荷発生層はフタロシアニン系のような近赤外光領域の書き込み光１５Ａを吸収して電荷発生するものであり、光機能層７Ａは可視光領域の光を吸収するものであることを前提にして説明する。すなわち、光機能層全体としては、ＲＧＢ全ての波長領域の光を吸収し、光導電層としてはそれ以外の波長領域に感度を有するものを想定している。
【００７１】
この光書き込み型表示媒体に用いる光書き込み装置（書き込み部）２は、光書き込み型表示媒体１６Ａの電極５Ａ、６Ａ間にバイアス電圧１１Ａを印加する電圧印加部（電圧印加手段）１０と、光書き込み型表示媒体１６Ａの光導電層１３Ａに書き込み光（露光光）１５Ａを照射する光照射部（光書き込み手段）１４と、電圧印加部１０および光照射部１４を制御し同調させる制御部９とにより構成されている。
【００７２】
光照射部１４は、光機能層５０が光吸収する可視光領域以外で、光導電層１３Ａが感度を有する波長範囲で任意の強度の書き込み光１５Ａを光変調部１に照射できるものであればよく、レーザービームスキャン装置、ＬＥＤアレイ、ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどの自発光素子や、液晶シャッターなどの調光素子と蛍光管、キセノンランプ、ハロゲンランプ、水銀ランプ、ＬＥＤランプ等の光源との組み合わせなどの、液晶プロジェクター、ＤＬＰプロジェクター等でもよく、特に限定されるものではない。
なお、前述のように書き込み光の波長領域は７５０ｎｍ以上９００ｎｍ以下であることが望ましいことから、光源としてはこの波長領域に主発光波長領域を有するレーザービームスキャン装置、ＬＥＤアレイ、などを用いることが望ましい。
【００７３】
図３に示した光書き込み型表示媒体の駆動は、書き込み部２の電圧印加部１０から、液晶層８Ａの動作しきい値電圧を考慮したバイアス電圧１１Ａを印加するとともに、光照射部１４から、光導電層１３Ａの光感度を考慮した強度の書き込み光１５Ａを照射して液晶層の光学状態を変化させることにより、読み出し光１２Ａの反射状態を変化させることにより行う。バイアス電圧１１Ａを印加するタイミング、および書き込み光１５Ａを照射するタイミングは、各光書き込み型表示媒体１６Ａが動作するのに必要なバイアス電圧と書き込み光の強度の組合せ１１Ａおよび１５Ａが少なくとも一部で重なるように、制御部９で調整される。
【００７４】
図３に示す光書き込み型表示媒体においては、書き込み光１５Ａは表面側（液晶層側）から入射されて画像が書き込まれ、画像が書き込まれた後に画像読み出し用の読み出し光１２Ａが表面側から入射されてその表面側で画像が読み出される。したがって、光書き込み型表示媒体１６Ａの光導電層側の基板４Ａについては、コストも含めた選択の自由度が高く、有効に利用することができる。
【００７５】
光導電層１３Ａに書き込み光が照射され、抵抗値が低下するのに伴って、液晶層８Ａに印加される分圧が増加し、液晶層８Ａの反射波長域に対する反射率が高くなる。例えば、液晶層８Ａの反射波長域がＢ光である場合、読み出し光（外光）１２Ａは、光書き込み型表示媒体の基板３Ａ側から入射され、光書き込み型表示媒体１６Ａのうち、書き込み光１５Ａの照射により、Ｂ光の波長域の反射率が高くなった液晶層８Ａで反射し、再び基板３Ａを透過し青色に表示される。
なお、図３では図示の都合上、書き込み光１５Ａと読み出し光１２Ａとは異なる位置に照射されているが、上記に関しては同一の位置に照射されたとして説明している。
【００７６】
読み出し光（外光）のうちＢ以外のＧ、Ｒ光は液晶層を透過して光機能層７Ａに到達するが、これらは光機能層７Ａで吸収されるため、表示側には帰ってこない。読み出し時には電圧が印加されておらず、光導電層にも光が到達しないため光導電は起こらず、液晶に書込まれた情報が変化することはない。また、書き込み光が照射されてない箇所では、液晶層８Ａは全ての波長範囲で透過状態となり、読出し光１２Ａは液晶層８Ａを透過するが、同様にして光機能層層７Ａで吸収されるため、読み出し側には帰ってこない（黒く表示される）。すなわち、青と黒とのモノクロ表示が可能となる。同様にして、液晶層がＲＧＢ全ての波長領域の光を反射する白色表示モードである場合には、白と黒とのモノクロ表示が可能である。
【００７７】
本実施形態の光書き込み型表示媒体では、図に示すように光機能層７Ａが光導電層１３Ａの上側（表示側）に配置され、光機能層７Ａが可視光領域の光を吸収するので特に黒色表示の色調に優れる。このため、黒色と他の色との表示コントラストに優れることとなることから、前記モノクロ表示用として適している。
【００７８】
このように、１対の電極間に表示側から液晶層、光機能層、光導電層をこの順に積層した構造であって、前記光機能層として可視光領域の光を吸収する層を有する光書き込み型表示媒体と、書き込み光の波長領域が可視光領域以外である書き込み装置との組合せによって、表示層側からの光書き込みと高い表示コントラストとの両立を図ることができる。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
＜実施例１＞
（光導電層の形成）
−下部電荷発生層−
ポリビニルブチラール（積水化学社製、エスレックＢＨ−３）：２質量部を、１−ブタノール：２４５質量部に溶解させた溶液に、電荷発生材料として、Ｘ線回析によるブラッグ角度（２θ±０．２°）が７．０°、７．５°、１０．５°、１１．７°、１２．７°、１７．３°、１８．１°、２４．５°、２６．２°及び２７．１°にピークをもつ結晶構造のヒドロキシガリウムフタロシアニン：３質量部、及び分散媒体としてガラスビーズ（直径：１ｍｍ）：５００質量部を添加し、ガラス容器内でペイントシェーカーにより２時間分散させ、下部電荷発生層形成塗布液を調製した。この塗布液をスピンコート法により１２５μｍ厚のＩＴＯ付きＰＥＴフィルム（東レハイビーム）のＩＴＯ面上に塗布後、１００℃の送風乾燥機内で１時間乾燥させ、下部電荷発生層を約０．１５μｍ厚に形成した。
【００８０】
−電荷輸送層−
電荷輸送材料として下記式（ＣＴ−１）で示される化合物：６質量部、及びバインダー樹脂としてポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニレンカーボネート）（重量平均分子量：３万）：４質量部を、モノクロロベンゼン：４０質量部に溶解させて電荷輸送層形成塗布液を作製した。この塗布液を用い、ブレードコートにより前記下部電荷発生層上に塗布し、３０分間風乾した後、１００℃の送風乾燥機内で１時間乾燥させ、約９μｍ厚の電荷輸送層を形成した。
【００８１】
【化１】
2009175326.tif 000003
【００８２】
−上部電荷発生層−
ポリビニルブチラール（積水化学社製、エスレックＢＨ−３）：５質量部、及び１−ブタノール：２３８質量部、を混合して溶解させた溶液に、電荷発生材料として前記下部電荷発生層に用いたヒドロキシガリウムフタロシアニン：７．５質量部、及びガラスビーズ（直径１ｍｍ）：５００質量部を添加し、ガラス容器内でペイントシェーカーにより２時間分散させ、上部電荷発生層形成塗布液を作製した。この塗布液をスピンコート法により前記電荷輸送層上に塗布後、１２０℃の送風乾燥機内で１時間乾燥させ、上部電荷発生層を約０．２５μｍ厚に形成した。
【００８３】
−隔離層−
形成した上部電荷発生層の上に、スピンコート法によりポリビニルアルコールの３質量％水溶液を塗布し、膜厚約１μｍの隔離層を形成した。
【００８４】
（液晶層の作製）
正の誘電率異方性を有するネマチック液晶Ｅ８（メルク社製）７４．８質量部に、カイラル剤ＣＢ１５（ＢＤＨ社製）２１質量部とカイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）４．２質量部とを加熱溶解し、その後、室温に戻して、ブルーグリーンの色光を選択反射するカイラルネマチック液晶を得た。
【００８５】
このブルーグリーンカイラルネマチック液晶１０質量部に、キシレンジイソシアネート３モルとトリメチロールプロパン１モルとの付加物（武田薬品工業製、Ｄ−１１０）３質量部と酢酸エチル１００質量部とを加えて均一溶液とし、油相となる液を調製した。一方、ポリビニルアルコール（クラレ社製、ポバール２１７ＥＥ）１０質量部を、熱したイオン交換水１０００質量部に加えて攪拌後、放置冷却することによって、水相となる液を調製した。
【００８６】
次に、スライダックで３０Ｖの交流を与えた家庭用ミキサーによって、前記油相１０質量部を前記水相１００質量部中に１分間乳化分散処理して、水相中に油相液滴が分散した水中油エマルジョンを調製した。この水中油エマルジョンを６０℃のウォーターバスで加熱しながら２時間攪拌し、界面重合を行わせ、液晶マイクロカプセルを形成した。得られた液晶マイクロカプセルの平均粒径をレーザー粒度分布計によって測定したところ、約１２μｍと見積もられた。
【００８７】
得られた液晶マイクロカプセル分散液を、網目３８μｍのステンレスメッシュを通して濾過後、一昼夜放置し，乳白色の上澄みを取り除くことにより、液晶マイクロカプセルからなる固形成分約４０質量％のスラリーを得た。得られたスラリーに、その固形成分の質量に対して２／３となる量のポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール１０質量％の水溶液を加えることにより塗布液Ｃを調製した。
ＩＴＯ膜付きのＰＥＴフィルムのＩＴＯ膜面の上に、上記塗布液Ｃをワイヤーバー法にて塗布することにより、液晶層を形成した。
【００８８】
さらに、この液晶層の上に、フタロシアニン系青色顔料とポリビニルアルコールを主成分とする水性コーティング剤（サカタインクス、ＰＢ１５６）と、ピロロピロール系赤色顔料とポリビニルアルコールを主成分とする水性コーティング剤（サカタインクス、ＰＲ２５４）を１／１で混合したものをスピンコート法により塗布し、膜厚１．５μｍの光機能膜を形成した。この光機能膜は、目視上は黒色を呈していた。
なお、上記黒色染料を含む同じ膜厚の膜をガラス基板上に形成し、分光光度計（Ｕ−４０００、日立社製）により吸光度を測定したところ、４００ｎｍから７００ｎｍでの透過率は最大値で７％以下であり、７８０ｎｍにおける透過率は５２％であった。
【００８９】
（光書き込み型表示媒体の作製）
前記作製した光導電層上の隔離層の上に、ドライラミネート接着剤であるディックドライＷＳ−３２１Ａ／ＬＤ−５５（大日本インキ化学工業）を塗布し、乾燥させて厚さ４μｍの接着層を形成した。
この接着層上に、前記作製した液晶層が形成されたＰＥＴフィルムを、液晶層が接するように密着させ、７０℃でラミネートを行い、モノクロ表示の反射型の液晶表示媒体（光書き込み型表示媒体）を得た。
【００９０】
（評価）
作製した液晶表示媒体を以下のように評価し、光書込み型表示媒体として有効に機能することを検証した。
−最大コントラスト、駆動マージン−
書き込み用の光照射は、７８０ｎｍにピークを持つＬＥＤ光源を用い、照射光量は、５００μＷ／ｃｍ２として液晶層側の基板から行った。書き込み用の駆動電圧は１０Ｈｚの交流矩形波で、立ち上がりの極性を負極性とした。ここで、光導電層側の電極を正に印加した場合を正極性と定義した。サンプルはまず、書き込み光を照射すると同時に駆動電圧７００Ｖを５００ｍｓ間印加することにより、高反射状態（明状態）にリセットした。続いて、書き込み光と駆動電圧を切った状態で２００ｍｓ間保持した。さらに引き続き、書込光を照射しながら所定の駆動電圧を２００ｍｓ間印加して書き込みを行なって１回の書き込みシークエンスを終了とし、表示媒体の反射率を測定した。ここで、前記所定の駆動電圧を０Ｖから６５０Ｖまで１０Ｖおきに変化させながら前記の操作を繰り返して各駆動電圧における反射率の変化を測定し、「明時」の駆動電圧−反射率特性を得た。同様にして、リセット後の書き込み時に書き込み光を照射せず駆動電圧のみを印加したこと以外は全く同様にして、「暗時」の駆動電圧−反射率特性を得た。なお、反射率は、反射光学濃度としてＸ−ｒｉｔｅ４０４（Ｘ−ｒｉｔｅ社製）により測定した。
【００９１】
その結果、最大コントラスト（駆動電圧を固定した状態での表示層反射率の明暗比の最大値）が１０、駆動マージン（最大明暗比の５０％以上のコントラストが得られる電圧幅）が２５０Ｖという良好な値が得られた。
【００９２】
次に、前記光書き込み型媒体の光導電層側を、蛍光灯からの照射照度が２万ルクスになるように近接させて１時間照射した。その後、前記と同様にして最大コントラスト及び駆動マージンを測定したところ、最大コントラストは７、駆動マージンは１５０Ｖとなり、表示性能が低下した。これは、光導電層が光劣化したことにより、明時における光導電性が低下してしまったことが原因と考えられる。
【００９３】
−黒色表示の色合い−
前記評価において、最大コントラストが得られる条件で暗状態（黒）に書き込んだ表示媒体に対し、オフィスの蛍光灯の下で表示の色合いを目視観察したところ、暗時書き込み部分が通常の黒色としてきれいに確認できた。
【００９４】
＜実施例２＞
実施例１の光書き込み型表示媒体の作製における光導電層の形成において、下部電荷発生層を形成する基板として表面にアルミニウムを蒸着したＰＥＴフィルム（東レ、メタルミー、４００ｎｍ乃至９００ｎｍにおける透過率が５％以下）を使用した以外は、実施例１と同様にして光書き込み型表示媒体を作製した。
【００９５】
上記作製した光書き込み型表示媒体を用いて、実施例１と同様にして最大コントラスト等の評価を行った。
その結果、初期の最大コントラスト１０、駆動マージン２５０Ｖに対し、光照射後の最大コントラストも１０、駆動マージンは２５０Ｖと全く変化がなく、耐光性にも優れることがわかった。なお、黒色表示の色合いについては、実施例１と同様の通常の黒色がきれいに確認された。
【００９６】
＜比較例１＞
実施例１の光書き込み型表示媒体の作製において、液晶層の上に形成する光機能層の代わりに、ＰＶＡ及びブラックポリイミドＢＫＲ−１０５（日本化薬製）の水溶液を塗布し、膜厚１．５μｍの遮光膜を形成した以外は、実施例１と同様にして光書き込み型表示媒体を作製した。
なお、上記ＢＫＲ−１０５を含む同じ膜厚の膜をガラス基板上に形成し、分光光度計（Ｕ−４０００、日立社製）により吸光度を測定したところ、４００ｎｍから７００ｎｍでの透過率は５％以下であり、７８０ｎｍにおける透過率は３％であった。
【００９７】
上記作製した光書き込み型表示媒体を用いて、実施例１と同様にして最大コントラスト等の評価を行おうとしたが、遮光層が７８０ｎｍの光をほとんど吸収してしまうため、明時の光書き込みができなかった。
【００９８】
＜比較例２＞
１２５μｍ厚のＩＴＯ付きＰＥＴフィルム（東レハイビーム）のＩＴＯ面上に、実施例１における光機能層の形成で使用した塗布液と全く同じものを塗布し、乾燥して、膜厚１．５μｍの光機能膜を形成した。
この上に、実施例１と同様にして下部電荷発生層、電荷輸送層、上部電荷発生層及び隔離層を形成し、さらにその上に、同様の接着層を形成した。
【００９９】
一方、実施例１と同様にして、ＩＴＯ膜付きのＰＥＴフィルムのＩＴＯ膜面の上に、前記実施例１で用いた塗布液Ｃをワイヤーバー法にて塗布することにより、液晶層を形成した。
これらを実施例１と同様にしてラミネートすることにより、光機能層が光導電層側の基板上に形成された光書き込み型表示媒体を作製した。
【０１００】
上記作製した光書き込み型表示媒体を用いて、実施例１と同様にして最大コントラスト等の評価を行った。
その結果、初期の最大コントラスト１０、駆動マージン２５０Ｖに対し、光照射後の最大コントラストは１０、駆動マージンは２５０Ｖであった。しかし、黒色表示の色合いについては、液晶層と光機能層との間に光導電層が存在するため、若干青みがかった黒色が確認された。
【０１０１】
このように、書き込み側から液晶層、可視光領域の光を吸収する光機能層、及び光導電層をこの順に積層した実施例の表示媒体においては、液晶層側からの書き込みが可能であり、しかも高い表示コントラストと良好な黒色表示性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本実施形態の光書き込み型表示媒体の一例を示す構成断面図である。
【図２】従来の光書き込み型表示媒体の一例を示す構成断面図である。
【図３】本実施形態の光書き込み型表示媒体及び光書き込み装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１ 表示媒体部
２ 書き込み部（光書き込み装置）
３，４，２１，２２，２３  基板
５，６，２５，２６  電極
７，５０  光機能層
８，４０  液晶層
９  制御部
１０  電圧印加部
１１  バイアス電圧
１２，７２，７４  読み出し光
１３，３０  光導電層
１４  光照射部
１５，７１，７３  書き込み光
１６  光書き込み型表示媒体
３１  上部電荷発生層
３２  電荷輸送層
３３  下部電荷発生層
４８  遮光層
【図１】
2009175326.tif 000004
【図２】
2009175326.tif 000005
【図３】
2009175326.tif 000006