(57)【要約】 【課題】  大型の基板に対しても高精度なパターン膜を形成することができる画像形成装置、その装置によって形成されたパターン膜および画像形成方法を提供する。【解決手段】  ブランケット１５は、ベルト状のゴム材料によって構成され、複数のベルト支持胴１６に掛け渡され、その複数のベルト支持胴１６間を周回する。版１１に塗布されたインク８は、版１１からブランケット１５に転写され、ブランケット１５に転写されたインク８は、基板９に転写される。ブランケット１５の基板９への基板進入角度ｒｋｓ１は、４５度以下に設定され、ブランケット１５の基板９からの基板離脱角度ｒｋｒ１は、基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度に設定される。さらに、ブランケット１５の版１１への版進入角度ｒｈｓ１は、４５度以下に設定され、ブランケット１５の版１１からの版離脱角度ｒｈｒ１は、版進入角度ｒｈｓ１よりも大きい角度に設定される。【選択図】      図１
2009095986.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像パターンが形成される版と、
版に液体を塗布する塗布手段と、
複数の円筒状の支持体に掛け渡されるベルト状のブランケットと、
前記複数の支持体のうちのいずれかの支持体を回転させることによって、ブランケットを前記複数の支持体間で周回させる周回手段とを含み、
周回手段によって周回するブランケットが、塗布手段によって版に塗布された液体に接触することによって版から転写された液体を、基板に接触することによって基板に転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板に対する予め定める第１の角度は、４５度以下であり、かつ周回手段によって周回するブランケットが基板転写位置から離れる周回方向の基板に対する予め定める第２の角度は、第１の角度よりも大きい角度であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記周回手段によって周回するブランケットが、前記塗布手段によって前記版に塗布された液体に接触することによって、前記塗布された液体が前記版から転写される版転写位置に接近する周回方向の前記版に対する予め定める第３の角度は、４５度以下であり、かつ前記周回手段によって周回するブランケットが版転写位置から離れる周回方向の前記版に対する予め定める第４の角度は、第３の角度よりも大きい角度であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記第１の角度および前記第３の角度を５度以上かつ２０度以下とすることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第２の角度および前記第４の角度を４５度以上かつ９０度以下とすることを特徴とする請求項２または３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記版は、前記液体に対して撥性を有する撥樹脂層によって形成され、塗布された液体を前記ブランケットに転写する画像部と、前記液体に対して親性を有する親樹脂層によって形成され、塗布された液体を前記ブランケットに転写しない非画像部とから構成され、
前記画像パターンは、画像部によって形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記版のうち前記ブランケットに液体を転写する部分を移動させる版移動手段と、
前記基板のうち前記ブランケットから液体が転写される部分を移動させる基板移動手段とのうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記版転写位置は、前記複数の支持体のうちの少なくとも１つの支持体からなる第１の支持体に掛け渡される位置であり、
前記基板転写位置は、前記第１の支持体を除く残余の支持体のうちの少なくとも１つの支持体からなる第２の支持体に掛け渡される位置であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記第２の支持体は、隣接する２つの支持体から構成され、前記ブランケットの部分のうちその２つの支持体に掛け渡される部分で、その部分に転写された液体が前記基板に接触するように配置されることを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の画像形成装置によって基板に形成されたことを特徴とするパターン膜。
【請求項１０】
画像パターンが形成される版に液体を塗布する塗布工程と、
複数の円筒状の支持体に掛け渡され、前記複数の支持体間を周回するベルト状のブランケットに、塗布工程で版に塗布された液体をブランケットに接触させることによって、前記塗布された液体を転写する第１の転写工程と、
第１の転写工程で転写された液体を基板に接触させることによって、前記転写された液体を基板に転写する第２の転写工程とを含む画像形成方法であって、
第２の転写工程で周回するブランケットが基板に液体を転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板に対する予め定める第１の角度を、４５度以下とし、かつ第２の転写工程で周回するブランケットが基板転写位置から離れる周回方向の基板に対する予め定める第２の角度を、第１の角度よりも大きい角度とすることを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像を形成する画像形成装置、その装置によって形成されたパターン膜および画像形成方法に関し、より詳細には、ベルト状のブランケットを用いたオフセット印刷によってパターン膜を形成する画像形成装置、その装置によって形成されたパターン膜および画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示部材、光学部材および配線版などの電子部品を製造するために利用される微細パターン形成技術としては、一般的に、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィ技術が用いられる。たとえば、液晶パネルの製造において、配線パターンあるいは素子を形成するために、フォトリソグラフィ技術を用いて、フォトレジストの加工およびエッチングが行われる。
【０００３】
しかしながら、フォトリソグラフィ技術は、露光機および真空設備が必要であり、近年の基板大型化に対応するためには、これらの設備の大型化も必要になり、製造設備のコスト面で不利である。製造設備への投資コストの増加を避けるためには、真空設備を用いない微細パターン形成技術が求められる。
【０００４】
印刷技術の分野では、従来から真空設備を用いない技術として、オフセット印刷技術が用いられている。オフセット印刷は、印刷パターンが形成された版に付けられたインクを、一旦ブランケットなどの中間転写体にオフセットつまり転写した後、紙あるいは基板などの媒体に印刷する。オフセット印刷は、真空設備を用いる必要がないという利点はあるが、印刷精度が低く、精度向上が求められている。印刷精度向上のためには、インクの転写率が重要な要素であり、転写率を向上させるためにいろいろな改善が行われている。
【０００５】
第１の従来の技術である画像形成装置は、シリコンシートつまりブランケットにインクを塗布して塗布面を形成し、形成した塗布面に対して所定の形状で形成された凸版を押圧して凸版の凸部分にインクを転写して除去し、塗布面に残ったインクを基板に転写する（たとえば特許文献１参照）。
【０００６】
第２の従来の技術である画像形成法は、樹脂に対して撥樹脂性である撥樹脂層による画線部と、樹脂に対して親樹脂性である親樹脂層による非画線部とが形成される画像形成版を用いる。画像形成版の全面に、樹脂たとえばインクを塗布した後、撥樹脂層上のインクのみを、別の撥樹脂層が設けられた画像転写シートつまりブランケット上に転写し、さらに画像転写シート上に転写されたインクを基板上に転写して画像形成を行う（たとえば特許文献２参照）。
【０００７】
ブランケットは、円筒状が一般的であるが、連続印刷あるいは基板の大型化に対応するためにブランケットをベルト状にして利用するものがある。第３の従来の技術である画像形成装置は、２個以上の円筒状のブランケット胴に対してベルトを取り付け、そのベルトにブランケットを貼り付けた構造である（たとえば特許文献３参照）。第４の従来の技術であるオフセット印刷機は、ベルト状のブランケットが複数のブランケットローラにループ状に掛け渡された構造である（たとえば特許文献４参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−５８９２１号公報
【特許文献２】特開２００４−２４９６９６号公報
【特許文献３】特開平１１−３１４３４１号公報
【特許文献４】特開２００３−３３４９１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
まず、版、ブランケットおよび基板の形状に応じて、ブランケットと版または基板との進入角度および離脱角度を定義する。図１１は、ベルト状のブランケットと平板状の版または基板との進入角度および離脱角度を示す図である。ブランケット９１５は、ベルト支持胴９１６に掛け渡され、ブランケット９１５に付した矢印の方向に周回し、基板９０９および版９１１は、それぞれに付した矢印の方向、すなわち版または基板の平面に平行な平面上を矢印の方向に搬送される。
【００１０】
図１１（ａ）は、ブランケット９１５に付着しているインク９０８を基板９０９に転写し始める状態を示している。基板進入角度ｒｋｓ１は、基板９０９の平面に平行な平面と、ベルト支持胴９１６に接近するブランケット９１５の周回方向との角度である。図１１（ｂ）は、ブランケット９１５に付着しているインク９０８を基板９０９に転写している状態を示している。基板離脱角度ｒｋｒ１は、基板９０９の平面に平行な平面と、ベルト支持胴９１６から離れるブランケット９１５の周回方向との角度である。
【００１１】
図１１（ｃ）は、版９１１に付着しているインク９０８をブランケット９１５に転写し始める状態を示している。版進入角度ｒｈｓ１は、版９１１の平面に平行な平面と、ベルト支持胴９１６に接近するブランケット９１５の周回方向との角度である。図１１（ｄ）は、版９１１に付着しているインク９０８をブランケット９１５に転写し終わる状態を示している。版離脱角度ｒｈｒ１は、版９１１の平面に平行な平面と、ベルト支持胴９１６から離れるブランケット９１５の周回方向との角度である。
【００１２】
図１２は、円筒状のブランケットと平板状の版または基板との進入角度および離脱角度を示す図である。ブランケット９２５は、ブランケット９２５に付した矢印の方向に回転し、基板９０９および版９２１は、それぞれに付した矢印の方向、すなわち平板上の平面に平行な平面上を矢印の方向に搬送される。円筒状の場合は、予め定める長さのインクパターンに対応する円弧の弦と、基板９０９あるいは版９２１版の平面との角度によって進入角度および離脱角度を定義する。
【００１３】
図１２（ａ）は、ブランケット９２５に付着しているインク９０８を基板９０９に転写し始める状態を示している。基板進入角度ｒｋｓ２は、基板９０９の平面に平行な平面と弦ｇ１との角度である。図１２（ｂ）は、ブランケット９２５に付着しているインク９０８を基板９０９に転写し終わる状態を示している。基板離脱角度ｒｋｒ２は、基板９０９の平面に平行な平面と弦ｇ２との角度である。図１２（ｃ）は、版９２１に付着しているインク９０８をブランケット９２５に転写し始める状態を示している。版進入角度ｒｈｓ２は、版９２１の平面に平行な平面と弦ｇ３との角度である。図１２（ｄ）は、版９２１に付着しているインク９０８をブランケット９２５に転写し終わる状態を示している。版離脱角度ｒｈｒ２は、版９２１の平面に平行な平面と弦ｇ４との角度である。
【００１４】
図１３は、ベルト状のブランケットと円筒状の版との離脱角度を示す図である。ブランケット９３５は、ブランケット９３５に付した矢印の方向に周回し、版９３１は、版９３１に付した矢印の方向に回転する。ブランケット９３５は、ベルト支持胴９３６によって、周回方向の角度が版９３１の接線方向から離れる方向に変化している。この場合、版離脱角度ｒｈｒ３は、ベルト支持胴９３６から離れるブランケット９３５の周回方向と弦ｇ５との角度で定義され、図１２（ｄ）に示した離脱角度ｒｈｒ２に相当する角度ｒｈｒ３２と、図１１（ｄ）に示した離脱角度ｒｈｒ１に相当する角度ｒｈｒ３１との和である。
【００１５】
図１４は、円筒状のブランケットと円筒状の版との進入角度および離脱角度を示す図である。円筒状の版９４１は、版９４１に付した矢印の方向に回転し、ブランケット９４５は、ブランケット９４５に付した矢印の方向に回転する。この場合も、図１２の場合と同様に、予め定める長さのインクパターンに対応する円弧の弦を用いて、進入角度および離脱角度を定義する。
【００１６】
図１４（ａ）は、版９４１に付着しているインク９０８をブランケット９４５に転写し始める状態を示している。版進入角度ｒｈｓ４は、インク９０８が版９４１から離脱し始める版９４１の接点において、版９４１の接線と弦ｇ６との角度ｒｈｓ４１の２倍の角度である。図１４（ｂ）は、版９４１に付着しているインク９０８をブランケット９４５に転写し終わる状態を示している。版離脱角度ｒｈｒ４は、インク９０８がブランケット９４５に転写し終わるブランケット９４５の接点において、ブランケット９４５の接線と弦ｇ７との角度ｒｈｒ４１の２倍の角度である。
【００１７】
第１および第２の従来の技術は、ブランケットが円筒であるために、基板の大型化への対応が困難であるという問題がある。基板の大型化に対応するために、ベルト状のブランケットを採用した第３の従来の技術は、ブランケットと基板との接触部で、ブランケットが円筒状の曲面であり、基板が平面であるので、基板進入角度と基板離脱角度とは、円筒のブランケットの場合と同様に、同じ角度である。
【００１８】
しかしながら、基板進入角度と基板離脱角度を同じ角度に設定して、ある表面からインク溶媒の接触角の異なる別の表面にインクを転写する場合、インクの転写時にインクに働く表面張力が変化するために、転写位置のずれ、および転写後のインク形状の変化が起こる。位置ずれおよびインク形状の変化がると、高精度なパターン膜を形成することができないという問題がある。
【００１９】
ベルト状のブランケットを採用した第４の従来の技術は、周回するブランケットと版ベルトつまり版との接触部では、基板進入角度がよりも基板離脱角度大きく設定されている。
【００２０】
図１５は、ベルト状のブランケットの版進入角度が大きい場合のインクへの影響を示す図である。図１５に示すブランケット９５５の版進入角度は、４５度以上の角度である。図１５（ａ）は、版９５１に付着するインク９０８をブランケット５５５に転写し始める状態を示している。図１５（ｂ）は、版９５１に付着するインク９０８をブランケット５５５に転写している途中の状態を示しており、インク分断が生じている。
【００２１】
図１６は、ベルト状のブランケットの基板進入角度が大きい場合のインクへの影響を示す図である。図１６に示すブランケット９５５の基板９０９への進入角度も、４５度以上の角度である。図１６（ａ）は、ブランケット９５５に付着するインク９０８を基板９０９に転写し始める状態を示している。図１６（ｂ）は、ブランケット９５５に付着するインク９０８を基板９０９に転写している途中の状態を示しており、インク分断が生じている。図１６（ｃ）も、ブランケット９５５に付着するインク９０８を基板９０９に転写している途中の状態を示しており、インク位置ずれが生じている。
【００２２】
図１７は、ブランケットの版または基板からの離脱角度が小さい場合のインクへの影響を示す図である。図１７に示すブランケット９６５の版９６１または基板９０９への進入角度は、１０度以下の角度である。図１７（ａ）は、版９６１に付着するインク９０８をブランケット９６５に転写し終わる状態を示している。ブランケット９６５に転写されたインク９０８にインク位置ずれが生じている。図１７（ａ）は、ブランケット９６５に付着するインク９０８を基板９０９に転写し終わる直前の状態を示している。基板９０９に転写されたインク９０８にインク位置ずれが生じている。
【００２３】
このように、１つの表面から他の表面にインクを転写する場合、ブランケットの版または基板への進入角度が大きいと、インクへの負荷が大きく、インクが変形し、インク分断あるいはインク位置ずれが生じする。さらに、ブランケットの版または基板からの離脱角度が小さいと、ブランケットとインクと界面でのインクの離脱が効率的に行われず、インク位置ずれが生じる。
【００２４】
すなわち、ブランケットの版または基板への進入角度が大きいと、あるいはブランケットの版または基板からの離脱角度が小さいと、インク分断あるいはインク位置ずれが生じるので、高精度なパターン膜を形成することができないという問題がある。
【００２５】
本発明の目的は、大型の基板に対しても高精度なパターン膜を形成することができる画像形成装置、その装置によって形成されたパターン膜および画像形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明は、画像パターンが形成される版と、
版に液体を塗布する塗布手段と、
複数の円筒状の支持体に掛け渡されるベルト状のブランケットと、
前記複数の支持体のうちのいずれかの支持体を回転させることによって、ブランケットを前記複数の支持体間で周回させる周回手段とを含み、
周回手段によって周回するブランケットが、塗布手段によって版に塗布された液体に接触することによって版から転写された液体を、基板に接触することによって基板に転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板に対する予め定める第１の角度は、４５度以下であり、かつ周回手段によって周回するブランケットが基板転写位置から離れる周回方向の基板に対する予め定める第２の角度は、第１の角度よりも大きい角度であることを特徴とする画像形成装置である。
【００２７】
また本発明は、前記周回手段によって周回するブランケットが、前記塗布手段によって前記版に塗布された液体に接触することによって、前記塗布された液体が前記版から転写される版転写位置に接近する周回方向の前記版に対する予め定める第３の角度は、４５度以下であり、かつ前記周回手段によって周回するブランケットが版転写位置から離れる周回方向の前記版に対する予め定める第４の角度は、第３の角度よりも大きい角度であることを特徴とする。
【００２８】
また本発明は、前記第１の角度および前記第３の角度を５度以上かつ２０度以下とすることを特徴とする。
【００２９】
また本発明は、前記第２の角度および前記第４の角度を４５度以上かつ９０度以下とすることを特徴とする。
【００３０】
また本発明は、前記版は、前記液体に対して撥性を有する撥樹脂層によって形成され、塗布された液体を前記ブランケットに転写する画像部と、前記液体に対して親性を有する親樹脂層によって形成され、塗布された液体を前記ブランケットに転写しない非画像部とから構成され、
前記画像パターンは、画像部によって形成されることを特徴とする。
【００３１】
また本発明は、前記版のうち前記ブランケットに液体を転写する部分を移動させる版移動手段と、
前記基板のうち前記ブランケットから液体が転写される部分を移動させる基板移動手段とのうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする。
【００３２】
また本発明は、前記版転写位置は、前記複数の支持体のうちの少なくとも１つの支持体からなる第１の支持体に掛け渡される位置であり、
前記基板転写位置は、前記第１の支持体を除く残余の支持体のうちの少なくとも１つの支持体からなる第２の支持体に掛け渡される位置であることを特徴とする。
【００３３】
また本発明は、前記第２の支持体は、隣接する２つの支持体から構成され、前記ブランケットの部分のうちその２つの支持体に掛け渡される部分で、その部分に転写された液体が前記基板に接触するように配置されることを特徴とする。
【００３４】
また本発明は、前記画像形成装置によって基板に形成されたことを特徴とするパターン膜である。
【００３５】
また本発明は、画像パターンが形成される版に液体を塗布する塗布工程と、
複数の円筒状の支持体に掛け渡され、前記複数の支持体間を周回するベルト状のブランケットに、塗布工程で版に塗布された液体をブランケットに接触させることによって、前記塗布された液体を転写する第１の転写工程と、
第１の転写工程で転写された液体を基板に接触させることによって、前記転写された液体を基板に転写する第２の転写工程とを含む画像形成方法であって、
第２の転写工程で周回するブランケットが基板に液体を転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板に対する予め定める第１の角度を、４５度以下とし、かつ第２の転写工程で周回するブランケットが基板転写位置から離れる周回方向の基板に対する予め定める第２の角度を、第１の角度よりも大きい角度とすることを特徴とする画像形成方法である。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、塗布手段によって、画像パターンが形成される版に液体が塗布され、複数の円筒状の支持体に掛け渡されるベルト状のブランケットが、周回手段によって、前記複数の支持体のうちのいずれかの支持体が回転されることによって、前記複数の支持体間で周回される。
【００３７】
そして、周回手段によって周回するブランケットが、塗布手段によって版に塗布された液体に接触することによって版から転写された液体を、基板に接触することによって基板に転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板に対する予め定める第１の角度は、４５度以下であり、かつ周回手段によって周回するブランケットが基板転写位置から離れる周回方向の基板に対する予め定める第２の角度は、第１の角度よりも大きい角度である。
【００３８】
すなわち、第１の角度が４５度以下であるので、液体たとえばインクに対する負荷が軽減し、インクの変形を防止することができ、さらに第２の角度が第１の角度よりも大きいので、インクにせん断力を与え、境界面でインクを効率的に離脱させることができる。したがって、転写されるインクの分断および位置ずれを少なくすることができ、大型の基板に対しても高精度なパターン膜を形成することができる。
【００３９】
また本発明によれば、前記画像形成装置によって基板に形成されるので、大型の基板に対しても高精度に形成されたパターン膜とすることができる。
【００４０】
また本発明によれば、塗布工程では、画像パターンが形成される版に液体を塗布する。第１の転写工程では、複数の円筒状の支持体に掛け渡され、前記複数の支持体間を周回するベルト状のブランケットに、塗布工程で版に塗布された液体をブランケットに接触させることによって、前記塗布された液体を転写する。
【００４１】
第２の転写工程では、第１の転写工程で転写された液体を基板に接触させることによって、前記転写された液体を基板に転写する。そして、第２の転写工程で周回するブランケットが基板に液体を転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板に対する予め定める第１の角度を、４５度以下とし、かつ第２の転写工程で周回するブランケットが基板転写位置から離れる周回方向の基板に対する予め定める第２の角度を、第１の角度よりも大きい角度とする。
【００４２】
すなわち、本発明に係る画像形成方法を適用すれば、第１の角度が４５度以下であるので、液体たとえばインクに対する負荷が軽減し、インクの変形を防止することができ、さらに第２の角度が第１の角度よりも大きいので、インクにせん断力を与え、境界面でインクを効率的に離脱させることができる。したがって、転写されるインクの分断および位置ずれを少なくすることができ、大型の基板に対しても高精度なパターン膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
図１は、本発明の実施の第１の形態である印刷装置１の構成を模式的に示す図である。画像形成装置である印刷装置１は、版１１、図示しないインク供給部、ドクターブレード１３、版洗浄装置１４、ブランケット１５、ベルト支持胴１６、ブランケット洗浄装置１７、基板搬送部１８、版搬送部１９、リフト２０および図示しない駆動装置を含んで構成される。本発明に係る画像形成方法は、印刷装置１で処理される。
【００４４】
版１１は、画像パターン２１が形成されている版であり、形状は、平板上、円筒状およびベルト状のいずれでもよく、たとえば東レ社製水なし平板（以下「ＰＳ（Pre-        sensitized）版」という）によって構成される。塗布手段である図示しないインク供給部は、液体であるインク８を版１１に塗布する。ドクターブレード１３は、塗布されたインク８の層厚を所定の層厚にする。版洗浄装置１４は、版１１の表面を洗浄し、版１１に残留するインク８を洗い流す。
【００４５】
インク８は、用途によって、主成分が、たとえば配線用インク材料、透明電極用インク材料、絶縁用インク材料、あるいはレジストであり、目的の表面張力および粘度になるように調整されたものである。たとえば沸点の異なる複数の溶媒を混合することによって、版１１からブランケット１５への転写時、およびブランケット１５から基板９への転写時のインク８の特性を調整する。あるいはインク材料に感光材料もしくは感熱材料を混合することによって、転写後のインクの硬化を促進させることができる。
【００４６】
ブランケット１５は、ベルト状のゴム材料によって構成され、複数の支持体であるベルト支持胴１６に掛け渡される。ゴム材料は、たとえばシリコン系ゴム、または、ジメチルシロキサン、メチルビニルシロキサン、メチルフルオロビニルシロキサンもしくはメチルフェニルビニルシロキサン等のポリマー、または、これらのポリマーとニトリルブタジエンゴム（以下「ＮＢＲ」という）、エチレンプロピレンジエンモノマー（以下「ＥＰＤＭという）もしくはスチレンブタジエンゴム（以下「ＳＢＲ」という）とのブレンドおよび共重合系、または、フッ素ゴム、または、ＮＢＲ、ＥＰＤＭもしくはＳＢＲ等にシリコンオイル等を混ぜ込んだもの、または、ＮＢＲ、ＥＰＤＭもしくはＳＢＲをシロキサン雰囲気中において１００〜２００℃で１時間程度ベーキングし、インク溶媒の接触角が大きいコート層を形成したものである。
【００４７】
版１１上でのインク８の接触角をＡ、ブランケット１５上でのインク８の接触角をＢ、および基板８上でのインク８の接触角をＣとしたときに、Ａ＞Ｂ＞Ｃの関係が成立するように、インク８、版１１およびブランケット１５の材料を選択することによって、インク８の転写を効率よく行うことができる。
【００４８】
複数のベルト支持胴１６は、いずれも円筒状の支持体であり、複数のベルト支持胴１６のうちのいずれかが周回手段である図示しない駆動装置によって駆動されて回転する。回転するベルト支持胴１６によって、ベルト状のブランケット１５は、複数のベルト支持胴１６間を周回する。
【００４９】
ブランケット１５は、版１１に塗布されたインク８が、周回するブランケット１５に接触することによって、版１１からブランケット１５に転写される版転写位置に配置され、かつブランケット１５に転写されたインク８が、基板９に接触することによって、ブランケット１５から基板９に転写される基板転写位置に配置される。
【００５０】
ブランケット洗浄装置１７は、ブランケット１５の表面を洗浄し、ブランケット１５に残留するインク８を洗い流す。基板移動手段である基板搬送部１８は、基板９を搬送する。版移動手段である版搬送部１９は、版１１を搬送する。リフト２０は、複数の版搬送部１９を支持し、ブランケット１５にインク８を転写する版１１を入れ換える。
【００５１】
図２は、ブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度を示す図である。ブランケット１５の基板９への進入角度（以下「基板進入角度」という）ｒｋｓ１は、ブランケット１５からインクが転写される基板９の平面と、ベルト支持胴１６ａからベルト支持胴１６ｂまでの間を周回するブランケット１５の周回方向との角度であり、４５度以下に設定される。
【００５２】
ブランケット１５の基板９からの離脱角度（以下「基板離脱角度」という）ｒｋｒ１は、ブランケット１５からインクが転写される基板９の平面と、ベルト支持胴１６ｂからベルト支持胴１６ｃまでの間を周回するブランケット１５の周回方向との角度であり、基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度に設定される。
【００５３】
ブランケット１５の版１１への進入角度（以下「版進入角度」という）ｒｈｓ１および版１１からの離脱角度（以下「版離脱角度」という）ｒｈｒ１については、図示していないが、それぞれ図２に示した基板９を版１１に置き換えた場合の角度と同じである。すなわち、版進入角度ｒｈｓ１は、４５度以下に設定され、版離脱角度ｒｈｒ１は、版進入角度ｒｈｓ１よりも大きい角度に設定される。
【００５４】
基板進入角度は、第１の角度であり、基板離脱角度は、第２の角度であり、版進入角度は、第３の角度であり、版離脱角度は、第４の角度である。ベルト支持胴１６のうちブランケット１５が版１１からインクを転写される版転写位置にあるベルト支持胴１６は、第１の支持体であり、ベルト支持胴１６のうちブランケット１５が基板９にインクを転写する基板転写位置にあるベルト支持胴１６は、第２の支持体である。
【００５５】
このように、版転写位置は、複数のベルト支持胴１６のうちの少なくとも１つのベルト支持胴１６からなる第１のベルト支持胴１６に掛け渡される位置であり、基板転写位置は、前記第１のベルト支持胴１６を除く残余のベルト支持胴１６のうちの少なくとも１つのベルト支持胴１６からなる第２のベルト支持胴１６に掛け渡される位置であるので、ベルト状のブランケット１５を第１および第２のベルト支持胴１６に掛け渡す角度を変化させることによって、版進入角度、版離脱角度、基板進入角度および基板離脱角度を調節することができる。
【００５６】
図３は、版１１からブランケット１５へのインク８の転写を示す図である。図３（ａ）は、版１１に塗布されたインク８が、ブランケット１５へ転写され始める直前の進入側の状態を示している。図３（ｂ）は、版１１に塗布されたインク８が、ブランケット１５へ転写され始めた直後の進入側の状態を示している。版進入角度ｒｈｓ１が４５度以下であるので、インク分断が生じることなく、ブランケット１５に転写されて始めている。
【００５７】
図３（ｃ）は、版１１に塗布されたインク８のブランケット１５への転写が行われているときの離脱側の状態を示している。版離脱角度ｒｈｒ１が版進入角度ｒｈｓ１よりも大きい角度であるので、インク８にせん断力が与えられ、版１１とインク８との境界面でインク８がスムーズに分離され、インク８がブランケット１５に転写されている。
【００５８】
図４は、ブランケット１５から基板９へのインク８の転写を示す図である。図４（ａ）は、ブランケット１５に転写されたインク８が、基板９へ転写され始める直前の進入側の状態を示している。図４（ｂ）は、ブランケット１５に転写されたインク８が、基板９へ転写され始めた直後の進入側の状態を示している。基板進入角度ｒｋｓ１が４５度以下であるので、インク分断およびインク位置ずれが生じることなく、基板９に転写されている。
【００５９】
図４（ｃ）は、ブランケット１５に転写されたインク８の基板９への転写が行われているときの離脱側の状態を示している。基板離脱角度ｒｋｒ１が基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度であるので、インク８にせん断力が与えられ、基板９とインク８との境界面でインク８がスムーズに分離され、インク８が基板９に転写されている。
【００６０】
図５は、印刷装置１の変形例を示す図である。図５に示した印刷装置１の変形例は、ブランケット１５に転写されたインク８を基板９に転写しているときに、インク８の硬化を早めるために、ブランケット１５と基板９とが所定の距離インク８を介して接触するようにした例である。具体的には、図２に示したベルト支持胴１６ｂの代わりに、２個のベルト支持胴１６ｂ１，１６ｂ２を用い、ベルト支持胴１６ｂ１からベルト支持胴１６ｂ２までの区間Ｌの間、ブランケット１５と基板９とをインク８を介して接触させる。
【００６１】
このように、第２のベルト支持胴１６は、隣接する２つのベルト支持胴１６から構成され、ブランケット１５の部分のうちその２つのベルト支持胴１６に掛け渡される部分で、その部分に転写されたインク８が基板９に接触するように配置されるので、粘度が高いインクの転写を容易にし、さらに転写したインクを早く硬化あるいは半硬化させることができる。
【００６２】
上述した実施の形態では、版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１ともに４５度以下に設定し、版離脱角度ｒｈｒ１を版進入角度ｒｈｓ１よりも大きい角度に設定し、かつ基板離脱角度ｒｋｒ１を基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度に設定したが、インク８の形状の変化をより小さくするには、基板進入角度ｒｋｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１をより小さい角度に設定し、さらに、より大きなせん断力をインク８に与えるには、版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１をより大きい角度に設定するほうがよい。
【００６３】
具体的には、版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１ともに５度以上かつ２０度以下に設定し、版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１ともに４５度以上かつ９０度以下に設定する。５度未満および９０度より大きい角度は、装置の構成上実現することができない。
【００６４】
このように、版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１を５度以上かつ２０度以下とするので、転写されるインクの分断および位置ずれをより少なくすることができ、大型の基板に対してもより高精度なパターン膜を形成することができる。
【００６５】
さらに、版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１を４５度以上かつ９０度以下とするので、転写されるインクの分断および位置ずれをより少なくすることができ、大型の基板に対してもより高精度なパターン膜を形成することができる。
【００６６】
さらに、上述した実施の形態では、ブランケット１５の版１１への進入角度および版１１からの離脱角度、ならびにブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度のいずれについても、進入角度を４５度以下に設定し、かつ離脱角度を進入角度よりも大きい角度に設定したが、ブランケット１５の版１１への進入角度および版１１からの離脱角度についてのみ、またはブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度についてのみ、進入角度を４５度以下に設定し、かつ離脱角度を進入角度よりも大きい角度に設定してもよい。
【００６７】
ブランケット１５の版１１への進入角度および版１１からの離脱角度についてのみ、またはブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度についてのみ、進入角度を４５度以下に設定し、かつ離脱角度を進入角度よりも大きい角度に設定すれば、ブランケット１５の版１１への進入角度および版１１からの離脱角度、ならびにブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度のいずれにも、進入角度を４５度以下に設定せず、または離脱角度を進入角度よりも大きい角度に設定しないばあいよりも、高精度なパターン画像を形成することができる。
【００６８】
さらに、ブランケット１５の版１１への進入角度および版１１からの離脱角度、ならびにブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度のいずれについても、進入角度を４５度以下に設定し、かつ離脱角度を進入角度よりも大きい角度に設定すれば、より高精度なパターン画像を形成することができる。
【００６９】
版１１として、Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ＝１００μｍ／１００μｍのパターンを形成した東レ社製ＰＳ板を用い、インク８として、ノボラック系樹脂系のポジ型レジストを含み、かつ粘度１００ｍＰａ.ｓ、および表面張力２５ｍＮ/Ｎとなるようにバインダ、界面活性剤および溶媒等で調整したインクを用い、基板９として、ガラス基板を用いて、ブランケット１５を１００ｍｍ／秒で周回させ、レジストパターン膜を基板９に形成し、形成されたレジストパターン膜の位置精度および膜厚精度を実測した。
【００７０】
版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１をともに２０度、かつ版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１をともに４５度に設定した第１の組み合わせの場合、光学顕微鏡による位置精度の観察では、１００μｍ±４μｍのレジストパターン膜が±６μｍの位置精度で形成されていることが確認され、段差計による膜厚測定では、２μｍ±０．０２μｍの膜厚であることが確認された。高い位置精度で、かつ膜むらの小さい均一なレジストパターン膜が形成されている。
【００７１】
第１の組み合わせ以外に、版進入角度ｒｈｓ１、基板進入角度ｒｋｓ１、版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１の各角度の１８種類の組み合わせについて実測し、その実測結果について、３つの評価項目について評価した評価結果を表１〜表３に示す。進入角度および離脱角度を除く測定条件は、第１の組み合わせの場合と同じである。
【００７２】
第１の評価項目である評価１は、光学顕微鏡を用いてパターン幅１００μｍに対する幅のぶれを評価する。幅のぶれが、±１０μｍよりも大きければ不良と判定し、±１０μｍ以下であれば良と判定し、±６μｍ以下であれば最良と判定する。第２の評価項目である評価２は、光学顕微鏡を用いてパターン幅１００μｍの中心位置の位置精度を評価する。位置精度が±１０μｍよりも大きければ不良と判定し、±１０μｍ以下であれば良と判定し、±４μｍ以下であれば最良と判定する。
【００７３】
第３の評価項目である評価３は、段差計を用いて膜厚むらを評価する。膜厚２μｍに対して、膜厚むらが±０．０４μｍよりも大きければ不良と判定し、±０．０４μｍ以下であれば良と判定し、±０．０２μｍ以下であれば最良と判定する。表では、不良を「×」で表し、良を「○」で表し、最良を「◎」で表す。
【００７４】
【表１】
2009095986.tif 000003
【００７５】
【表２】
2009095986.tif 000004
【００７６】
【表３】
2009095986.tif 000005
【００７７】
以下、第１の条件を、版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１ともに５度以上かつ２０度以下であり、かつ版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１ともに４５度以上かつ９０度以下であるとする。第２の条件を、版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１ともに４５度以下であり、版離脱角度ｒｈｒ１が版進入角度ｒｈｓ１よりも大きく、かつ基板離脱角度ｒｋｒ１が基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きいことであるとする。第３の条件を、版進入角度ｒｈｓ１が４５度以下であり、かつ版離脱角度ｒｈｒ１が版進入角度ｒｈｓ１よりも大きいことであり、または基板進入角度ｒｋｓ１が４５度以下であり、かつ基板離脱角度ｒｋｒ１が基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きいことであるとする。
【００７８】
第１の条件を満たす組み合わせ１，３，５は、評価１〜３のいずれも最良である。第２の条件を満たす組み合わせ２、４、６〜８は、評価１〜３は、最良または良である。第３の条件を満たす組み合わせ９〜１３は、評価１〜３のいずれも良である。第１〜３の条件のいずれをも満たさない組み合わせ１４〜１９は、評価１〜３のいずれも不良である。
【００７９】
第１〜３の条件のいずれをも満たさない組み合わせ１４〜１９が、評価１〜３のいずれも不良となったのは、評価１のパターン幅に対する幅ぶれおよび評価３の膜厚むらについては、ブランケット１５の版１１および基板９への進入角度が大きいと、粘度が比較的小さいインクに対して適用した場合、ブランケット１５または基板９にインク８が接触した時に、インク８がインク８自身の自重によって圧縮されることが原因である。評価２の位置精度については、基板９からブランケット１５が離脱する際に、圧縮されたインク８の圧力が緩和されることが原因である。
【００８０】
図６は、従来の技術による版、ブランケットおよび基板でのインクの転写を示す図である。図６（ａ）は、平板上の版５１１から円筒状のブランケット５１５にインク８を転写している状態を示している。図６（ｂ）は、ブランケット５１５から基板９にインク８を転写している状態を示している。
【００８１】
図６に示した従来の技術による構成について、インクおよびブランケット材料として、第１の組み合わせの場合と同じものを用いて、同様の測定条件で実測を行った。実測結果は、パターン幅が８５μｍ〜１１０μｍの範囲でばらついており、位置精度が±１４μｍである。位置精度が著しく悪くなった原因は、大きな円筒状のブランケットを用いているので、ブランケット５１５の基板進入角度および基板離脱角度が小さくなり、インク８が基板９に転写され、ブランケット５１５が基板９から離脱する時に、インク８に十分な応力を与えることができず、ブランケット５１５の汚れ等にインク８の一部が残ることが原因である。
【００８２】
本発明を適用した印刷装置１は、第１の組み合わせでの実測結果および表１および表２の実測結果に示したように、たとえばパターン幅１００μｍおよび膜厚２μｍレベルのレジストパターン膜であれば、パターン幅の幅ぶれおよび位置精度を±１０μｍ以下、膜厚むらを±０．０４μｍ以下に抑えることができ、糸引きおよび膜むらの少ない高精細さでパターン膜を形成することができる。
【００８３】
次に、版１１を、インクに対して撥性である撥樹脂層によって形成され、塗布されたインクをブランケットに転写する画像部と、インクに対して親性である親樹脂層によって形成され、塗布されたインクをブランケットに転写しない非画像部とによって構成した例について説明する。
【００８４】
版１１として、Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ＝５０μｍ／５０μｍのパターンを形成した東レ社製ＰＳ板を用い、インク８として、無機系ＳＯＧ（Spin On Glass）材料を含み、かつ粘度１０ｍＰａ.ｓ、および表面張力２５ｍＮ/Ｎとなるようにバインダ、界面活性剤および溶媒等で調整したインクを用い、基板９として、ガラス基板を用いて、ブランケット１５を１００ｍｍ／秒で周回させ、層間絶縁用材料のパターン膜を基板９に形成し、形成された層間絶縁用材料のパターン膜の位置精度および膜厚精度を実測した。
【００８５】
版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１をともに２０度、かつ版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１をともに４５度に設定した第２１の組み合わせの場合、光学顕微鏡による位置精度の観察では、５０μｍ±２μｍの層間絶縁用材料のパターン膜が±３μｍの位置精度で形成されていることが確認され、段差計による膜厚測定では、１μｍ±０．０１μｍの膜厚であることが確認された。
【００８６】
第２１の組み合わせ以外に、版進入角度ｒｈｓ１、基板進入角度ｒｋｓ１、版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１の各角度の７種類の組み合わせについて実測した結果を、３つの評価項目について評価した評価結果を表４に示す。進入角度および離脱角度を除く測定条件、第２１の組み合わせの場合と同じである。表４では、進入角度は版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１を表し、離脱角度は版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１を表す。
【００８７】
３つの評価項目は、基板９にレジストパターン膜を形成した場合、つまり表１〜表３での３つの評価項目と同じであるが、良不良の判定基準については、表１〜表３の場合と異なる。評価１の幅のぶれについては、±５μｍよりも大きければ不良と判定し、±５μｍ以下であれば良と判定し、±４μｍ以下であれば最良と判定する。評価２の位置精度については、±５μｍよりも大きければ不良と判定し、±５μｍ以下であれば良と判定し、±２μｍ以下であれば最良と判定する。評価３の膜厚むらについては、±０．０２μｍよりも大きければ不良と判定し、±０．０２μｍ以下であれば良と判定し、±０．０１μｍ以下であれば最良と判定する。
【００８８】
【表４】
2009095986.tif 000006
【００８９】
第１の条件を満たす組み合わせ２１，２３，２５は、評価１〜３のいずれについても最良であり、第２の条件を満たす組み合わせ２２，２４，２６〜〜２８は、評価１〜３は最良または良である。
【００９０】
撥樹脂層からなる画像部と親樹脂層からなる非画像部とによって構成された版１１を用いる本発明を適用した印刷装置１は、第２１の組み合わせでの実測結果および表４の実測結果に示したように、たとえばパターン幅５０μｍおよび膜厚１μｍレベルの層間絶縁用材料のパターン膜であれば、パターン幅の幅ぶれおよび位置精度を±５μｍ以下、膜厚むらを±０．０２μｍ以下に抑えることができ、糸引きおよび膜むらの少ない高精細さでパターン膜を形成することができる。
【００９１】
このように、版１１は、インク８に対して撥性を有する撥樹脂層によって形成され、塗布されたインク８をブランケット１５に転写する画像部と、インク８に対して親性を有する親樹脂層によって形成され、塗布されたインク８をブランケット１５に転写しない非画像部とから構成され、画像パターンは、画像部によって形成されるので、膜むらのない均一なパターン膜を形成することができる。
【００９２】
次に、カラーフィルタを形成する例について説明する。版１１として、ブラックマトリクス用および３色のカラーフィルタ用の４種類のＰＳ版を用い、いずれの版１１も、撥樹脂層からなる画像部と親樹脂層からなる非画像部とによって構成する。インク８は、それぞれブラックレジストおよび各色の顔料を含むインクである。インクを版１１に塗布した後、数分間で溶媒の一部を蒸発させ、各版１１に塗布されたインク８を順次、ブランケット１５に転写する。さらに、ブランケット１５に転写された４種類のインクを順次基板９に転写することによって、基板９にブラックマトリクスおよび３色のカラーフィルタのパターン膜を形成する。
【００９３】
版進入角度ｒｈｓ１および基板進入角度ｒｋｓ１をともに１０度、かつ版離脱角度ｒｈｒ１および基板離脱角度ｒｋｒ１をともに４５度に設定して、印刷装置１によって形成したパターン膜を実測した結果、膜むらが少なく、ピンホールのない均一なパターン膜が形成されたことを確認することができた。位置精度も±２μｍ以下であり、印刷装置１によって、カラーフィルタについても、高精細なパターン膜を形成することができる。
【００９４】
上述した実施の形態では、印刷装置１によって、レジストパターン、層間絶縁用材料のパターン膜およびカラーフィルタのパターン膜の形成に適用した例を示したが、適用範囲は、これらに限定されるものではなく、インクの主成分として透明電極用インク材料、あるいは配線用インク材料等を含むインク材料を用いることによって、透明導電膜あるいは金属配線等のパターン膜の形成にも利用することができる。
【００９５】
このように、図示しないインク供給部によって、画像パターンが形成される版１１にインク８が塗布され、複数の円筒状のベルト支持胴１６に掛け渡されるベルト状のブランケット１５が、図示しない駆動装置によって、前記複数のベルト支持胴１６のうちのいずれかのベルト支持胴１６が回転されることによって、前記複数のベルト支持胴１６間で周回される。
【００９６】
そして、図示しない駆動装置によって周回するブランケット１５が、図示しないインク供給部によって版１１に塗布されたインク８に接触することによって版１１から転写されたインク８を、基板９に接触することによって基板９に転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板９に対する基板進入角度ｒｋｓ１は、４５度以下であり、かつ図示しない駆動装置によって周回するブランケット１５が基板転写位置から離れる周回方向の基板９に対する基板離脱角度ｒｋｒ１は、基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度である。
【００９７】
すなわち、基板進入角度が４５度以下であるので、液体たとえばインクに対する負荷が軽減し、インクの変形を防止することができ、さらに基板離脱角度が基板進入角度よりも大きいので、インクにせん断力を与え、境界面でインクを効率的に離脱させることができる。したがって、転写されるインクの分断および位置ずれを少なくすることができ、大型の基板に対しても高精度なパターン膜を形成することができる。
【００９８】
さらに、図示しない駆動装置によって周回するブランケット１５が、図示しないインク供給部によって版１１に塗布されたインク８に接触することによって、前記塗布されたインク８が版１１から転写される版転写位置に接近する周回方向の版１１に対する版進入角度ｒｈｓ１は、４５度以下であり、かつ、図示しない駆動装置によって周回するブランケット１５が版転写位置から離れる周回方向の版１１に対する版離脱角度ｒｈｒ１は、版進入角度ｒｈｓ１よりも大きい角度であるので、版からブランケットへのインクの転写時にも、転写されるインクの分断および位置ずれを少なくすることができ、大型の基板に対してより高精度なパターン膜を形成することができる。
【００９９】
さらに、版１１のうちブランケット１５にインク８を転写する部分を移動させる版搬送部１９と、基板９のうちブランケット１５からインク８が転写される部分を移動させる基板搬送部１８とのうちの少なくとも１つを含むので、ブランケット１５に対して版１１を移動させること、およびブランケット１５に対して基板９を移動させることのうちのいずれか１つあるいは両方を行うことができる。
【０１００】
さらに、印刷装置１によって基板９に形成されるパターン膜であるので、大型の基板に対しても高精度に形成されたパターン膜とすることができる。
【０１０１】
図７は、本発明の実施の第２の形態である印刷装置２の構成を模式的に示す図である。画像形成装置である印刷装置２は、版２１１、図示しないインク供給部、図示しないドクターブレード、図示しない版洗浄装置、ブランケット２１５、ベルト支持胴２１６、ブランケット洗浄装置２１７、図示しない基板搬送部、版搬送部２１９および図示しない駆動装置を含んで構成される。図１に示した部位と同じ機能の部位の説明は、重複を避けるために省略する。本発明に係る画像形成方法は、印刷装置２で処理される。
【０１０２】
版２１１は、ブランケット２１５に対して下側に配置され、版搬送部２１９によって搬送される。ブランケット２１５は、互いに接触する４個のベルト支持胴に掛け渡され、周回する。長軸ｄ１方向と版２１１および基板９との角度を調整することによって、版進入角度および基板進入角度を所定の角度に設定する。基板９は、ブランケット２１５に対して上側に配置され、基板ステージ２２２によって吸着され搬送される。印刷装置２の版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度は、印刷装置１の版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度と同様に設定される。
【０１０３】
印刷装置２は、ブランケット２１５を介して、下側の版２１１から上側の基板９にインク８を転写するので、インク８の粘度が高い場合、およびインク８をブランケット２１５上で硬化あるいは半硬化させる場合に適している。印刷装置１および２は、基板の大型化に対応するために平板上の版を用いたが、円筒状の版で構成してもよい。
【０１０４】
図８は、本発明の実施の第３の形態である印刷装置３の構成を模式的に示す図である。画像形成装置である印刷装置３は、版３１１、インク供給部３１２、ドクターブレード３１３、版洗浄装置３１４、ブランケット３１５、ベルト支持胴３１６、ブランケット洗浄装置３１７、基板搬送部３１８、図示しない版搬送部および図示しない駆動装置を含んで構成される。図１に示した部位と同じ機能の部位の説明は、重複を避けるために省略する。本発明に係る画像形成方法は、印刷装置３で処理される。
【０１０５】
版３１１は、円筒状の版であり、図示しない版搬送部によって回転される。印刷装置３の版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度は、印刷装置１の版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度と同様に設定される。
【０１０６】
図９は、本発明の実施の第４の形態である印刷装置４の構成を模式的に示す図である。画像形成装置である印刷装置４は、版４１１、インク供給部４１２、ドクターブレード４１３、版洗浄装置４１４、ブランケット４１５、ベルト支持胴４１６、ブランケット洗浄装置４１７、基板搬送部４１８、図示しない版搬送部および図示しない駆動装置を含んで構成される。図１に示した部位と同じ機能の部位の説明は、重複を避けるために省略する。本発明に係る画像形成方法は、印刷装置４で処理される。
【０１０７】
版４１１は、円筒状の版であり、図示しない版搬送部によって回転される。印刷装置４の版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度は、印刷装置１の版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度と同様に設定される。
【０１０８】
印刷装置４について、印刷装置１の場合と同じ測定条件で、基板９にレジストパターン膜を形成し、形成されたレジストパターン膜について実測した。光学顕微鏡による位置精度の観察では、１００μｍ±１０μｍのレジストパターン膜が±９μｍの位置精度で形成されていることが確認され、段差計による膜厚測定では、２μｍ±０．０４μｍの膜厚であることが確認された。３つの評価項目である評価１〜３は、いずれも良であり、印刷装置４は、膜むらの少ない均一なパターン膜を形成することができる。
【０１０９】
図１０は、印刷装置１が実行する画像形成処理の処理手順を示すフローチャートである。版１１および基板９が印刷装置１にセットされ、図示しない操作部によって操作の開始が指示されると、ステップＡ１に移る。
【０１１０】
ステップＡ１では、図示しないインク供給部は、画像パターンが形成された版１１にインク８を塗布する。ステップＡ２では、版１１は、版１１に塗布されたインク８をブランケット１５に接触させることによって、版１１に塗布されたインク８をブランケット１５に転写する。インク８を版１１からブランケット１５に転写するとき、版進入角度ｒｈｓ１を４５度以下とし、かつ版離脱角度ｒｈｒ１を版進入角度ｒｈｓ１よりも大きい角度とする。
【０１１１】
ステップＡ３では、ブランケット１５は、ブランケット１５に転写されたインク８を基板９に接触させることによって、ブランケット１５に転写されたインク８を基板９に転写して、基板９上に画像を形成し、画像形成処理を終了する。インク８をブランケット１５から基板９に転写するとき、基板進入角度ｒｋｓ１を４５度以下とし、かつ基板離脱角度ｒｋｒ１を基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度とする。
【０１１２】
このように、ステップＡ１では、画像パターンが形成される版１１にインク８を塗布する。ステップＡ２では、複数の円筒状のベルト支持胴１６に掛け渡され、前記複数のベルト支持胴１６を周回するベルト状のブランケット１５に、ステップＡ１で版１１に塗布されたインク８をブランケット１５に接触させることによって、前記塗布されたインク８を転写する。
【０１１３】
ステップＡ３では、ステップＡ２で転写されたインク８を基板９に接触させることによって、前記転写されたインク８を基板９に転写する。そして、ステップＡ３で周回するブランケット１５が基板９にインク８を転写する基板転写位置に接近する周回方向の基板９に対する基板進入角度ｒｋｓ１を、４５度以下とし、かつステップＡ３で周回するブランケット１５が基板転写位置から離れる周回方向の基板９に対する基板離脱角度ｒｋｒ１を、基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きい角度とする。
【０１１４】
すなわち、本発明に係る画像形成方法を適用すれば、基板進入角度ｒｋｓ１が４５度以下であるので、液体たとえばインクに対する負荷が軽減し、インクの変形を防止することができ、さらに基板離脱角度ｒｋｒ１が基板進入角度ｒｋｓ１よりも大きいので、インクにせん断力を与え、境界面でインクを効率的に離脱させることができる。したがって、転写されるインクの分断および位置ずれを少なくすることができ、大型の基板に対しても高精度なパターン膜を形成することができる。
【０１１５】
図１０では、印刷装置１についての画像形成処理の処理手順を説明したが、印刷装置２〜４の画像形成処理の処理手順は、印刷装置１の画像形成処理の処理手順と共通であり、重複を意避けるため説明は省略する。
【０１１６】
印刷装置２〜４は、印刷装置１と同様に、版進入角度、基板進入角度、版離脱角度および基板離脱角度が設定されるので、印刷装置１と同様の効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明の実施の第１の形態である印刷装置１の構成を模式的に示す図である。
【図２】ブランケット１５の基板９への進入角度および基板９からの離脱角度を示す図である。
【図３】版１１からブランケット１５へのインク８の転写を示す図である。
【図４】ブランケット１５から基板９へのインク８の転写を示す図である。
【図５】印刷装置１の変形例を示す図である。
【図６】従来の技術による版、ブランケットおよび基板でのインクの転写を示す図である。
【図７】本発明の実施の第２の形態である印刷装置２の構成を模式的に示す図である。
【図８】本発明の実施の第３の形態である印刷装置３の構成を模式的に示す図である。
【図９】本発明の実施の第４の形態である印刷装置４の構成を模式的に示す図である。
【図１０】印刷装置１が実行する画像形成処理の処理手順を示すフローチャートである。
【図１１】ベルト状のブランケットと平板状の版または基板との進入角度および離脱角度を示す図である。
【図１２】円筒状のブランケットと平板状の版または基板との進入角度および離脱角度を示す図である。
【図１３】ベルト状のブランケットと円筒状の版との離脱角度を示す図である。
【図１４】円筒状のブランケットと円筒状の版との進入角度および離脱角度を示す図である。
【図１５】ベルト状のブランケットの版進入角度が大きい場合のインクへの影響を示す図である。
【図１６】ベルト状のブランケットの基板進入角度が大きい場合のインクへの影響を示す図である。
【図１７】ブランケットの版または基板からの離脱角度が小さい場合のインクへの影響
【符号の説明】
【０１１８】
１〜４  印刷装置
８  インク
９  基板
１１，２１１，３１１，４１１  版
１２，３１２，４１２  インク供給部
１３，３１３，４１３  ドクターブレード
１４，３１４，４１４  版洗浄装置
１５，２１５，３１５，４１５  ブランケット
１６，２１６，３１６，４１６  ベルト支持胴
１７，２１７，３１７，４１７  ブランケット洗浄装置
１８，３１８，４１８  基板搬送部
１９，２１９  版搬送部
２０  リフト
２１  画像パターン
２２２  基板ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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