(57)【要約】【課題】高い断熱能力を有する断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】熱源との間に所定の間隔を空けて設けられ、前記熱源の少なくとも一部を囲う枠部材と、前記枠部材のうち前記熱源とは反対側の表面上を含む当該表面よりも前記熱源側の領域に設けられ、前記枠部材の外側への放熱を規制する材料からなる放熱規制層とを具備する。【選択図】図５
2009027006.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱源との間に所定の間隔を空けて設けられ、前記熱源の少なくとも一部を囲う枠部材と、
前記枠部材のうち前記熱源とは反対側の表面上を含む当該表面よりも前記熱源側の領域に設けられ、前記枠部材の外側への放熱を規制する材料からなる放熱規制層と
を具備する断熱構造。
【請求項２】
前記放熱規制層は、前記熱源からの熱を当該熱源側に反射して前記枠部材の外側からの放熱を規制する請求項１に記載の断熱構造。
【請求項３】
前記放熱規制層が、前記熱源からの熱を吸収して前記枠部材の外側からの放熱を規制する
請求項１に記載の断熱構造。
【請求項４】
前記放熱規制層が、前記枠部材のうち前記熱源とは反対側の表面上に設けられている
請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の断熱構造。
【請求項５】
前記放熱規制層が、前記枠部材の内部に設けられている
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の断熱構造。
【請求項６】
前記放熱規制層が、前記枠部材のうち前記熱源に対向する表面上に設けられている
請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の断熱構造。
【請求項７】
前記放熱規制層が、前記枠部材と前記熱源との間の領域内に設けられている
請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の断熱構造。
【請求項８】
前記放熱規制層が、複数層積層されている
請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の断熱構造。
【請求項９】
前記枠部材と前記熱源との間の領域に設けられ、前記領域内を仕切る仕切り部材を更に具備し、
前記放熱規制層が、前記仕切り部材のうち前記熱源とは反対側の表面上に設けられている
請求項７に記載の断熱構造。
【請求項１０】
前記枠部材と前記熱源との間の領域に設けられ、前記領域内を仕切る仕切り部材を更に具備し、
前記放熱規制層が、前記仕切り部材の内部に設けられている
ことを特徴とする請求項７に記載の断熱構造。
【請求項１１】
前記枠部材と前記熱源との間の領域に設けられ、前記領域内を仕切る仕切り部材を更に具備し、
前記放熱規制層が、前記仕切り部材のうち前記熱源に対向する表面上に設けられている
請求項７に記載の断熱構造。
【請求項１２】
前記放熱規制層が、酸化チタンを主成分とする
請求項１または請求項２もしくは請求項４から請求項１１のうちいずれか一項に記載の断熱構造。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の断熱構造と、
前記断熱構造のうち前記熱源と前記枠部材との間に冷媒を供給する冷媒供給装置と
を具備する断熱装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の断熱装置を具備するヒートシンク。
【請求項１５】
固定部と移動部とのいずれか一方にコイルユニットが設けられ、前記固定部と前記移動部とのいずれか他方に発磁ユニットが設けられた駆動装置であって、
請求項１３に記載の断熱装置を前記コイルユニットの断熱に用いる駆動装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の駆動装置を具備するステージ装置。
【請求項１７】
パターンを有するマスクを介した露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記マスクを保持しながら移動するマスクステージを有するマスクステージ装置と、
前記基板を保持しながら移動する基板ステージを有する基板ステージ装置とを備え、
前記マスクステージ装置及び前記基板ステージ装置の少なくとも一方は、請求項１６に記載のステージ装置である露光装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ステージの駆動装置として、非接触で駆動できるリニアモータが多く使用されている。  
この種のリニアモータには通電によって発熱するコイル体が用いられているリニアモータからの発熱は、周囲の部材・装置を熱変形させたり、空気温度を変化させたりしてしまう。例えば、露光装置は温度が一定に制御された環境下で使用されており、リニアモータからの発熱量を抑制することが望まれている。前記熱変形の影響や、露光装置のステージの位置検出に用いられる干渉計の光路上の空気温度を変化させ測定値に誤差を生じさせたりする虞があるからである。そこで、従来は、例えばコイル体を冷却ジャケット内に収容し、この冷却ジャケット内に冷却液を流通させることによりコイル体から発生した熱を冷却液で吸収して排熱する技術が開示されている（例えば特許文献１参照）。  
【特許文献１】特開２００３−３３３８２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ステージ駆動には特に高速化、高加速化が求められている。高速、高加速の駆動を実現しようとする場合、コイル体に流す電流量が多くなり、リニアモータからの発熱量がその分増大することになる。このため、より断熱能力の高い構成が求められる。また、リニアモータの断熱構造に限らず、露光装置における他の部材（例えば鏡筒のフランジなど）においても、断熱能力の向上が同様に求められている。  
このような事情に鑑み、本発明の目的は、高い断熱能力を有する断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明に係る断熱構造では、上記課題を解決するために、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【０００５】
本発明に係る断熱構造（８３）は、熱源（Ｃ）との間に所定の間隔を空けて設けられ、前記熱源（Ｃ）の少なくとも一部を囲う枠部材（ＣＪ）と、前記枠部材（ＣＪ）のうち前記熱源（Ｃ）とは反対側の表面（１８２ｄ）上を含む当該表面（１８２ｄ）よりも前記熱源（Ｃ）側の領域に設けられ、前記枠部材（ＣＪ）の外側への放熱を規制する材料からなる放熱規制層（８２ｂ）とを具備することを特徴とする。
【０００６】
本発明によれば、枠部材のうち熱源とは反対側の表面上を含む当該表面よりも熱源側の領域に設けられた放熱規制層によって枠部材の外側への放熱が規制され、熱が枠部材の内部に閉じ込められることになる。このため、熱源で発生した熱は枠部材の外側へはほとんど放熱されることなく枠部材の内部に閉じ込められることになる。
【０００７】
本発明に係る断熱装置（８４）は、上記の断熱構造（８３）と、前記断熱構造（８３）のうち前記熱源（Ｃ）と前記枠部材（ＣＪ）との間に冷媒を供給する冷媒供給装置（２）とを具備することを特徴とする。  
本発明によれば、冷媒供給装置によって断熱構造のうち熱源と枠部材との間に供給される冷媒により、枠部材の内部に閉じ込められた熱が排熱されることになる。
【０００８】
本発明に係るヒートシンク（９００）は、上記の断熱装置（８４）を具備することを特徴とする。  
本発明に係る駆動装置（ＸＬＭ１）は、固定部（８０）と移動部（９０）とのいずれか一方にコイルユニット（ＣＵ）が設けられ、前記固定部（８０）と前記移動部（９０）とのいずれか他方に発磁ユニット（７６）が設けられた駆動装置（ＸＬＭ１）であって、上記の断熱装置（８４）を前記コイルユニット（ＣＵ）の断熱に用いることを特徴とする。  
本発明によれば、コイルユニット（ＣＵ）による熱を効果的に断熱又は排熱することができ、周囲の部材・装置の熱変形や、周囲の空気温度の変化を抑制することが可能になる。
【０００９】
本発明に係るステージ装置（ＲＳＴ、ＷＳＴ）は、上記の駆動装置を具備することを特徴とする。  
本発明に係る露光装置（ＥＸ）は、パターンを有するマスク（Ｒ）を介した露光光で基板（Ｗ）を露光する露光装置（ＥＸ）であって、前記マスク（Ｒ）を保持しながら移動するマスクステージを有するマスクステージ装置（ＲＳＴ）と、前記基板（Ｗ）を保持しながら移動する基板ステージを有する基板ステージ装置（ＷＳＴ）とを備え、前記マスクステージ装置（ＲＳＴ）及び前記基板ステージ装置（ＷＳＴ）の少なくとも一方は、上記のステージ装置（ＲＳＴ、ＷＳＴ）であることを特徴とする。  
本発明に係るデバイスの製造方法は、上記の露光装置（ＥＸ）を用いて基板（Ｗ）を露光することと、前記露光された基板（Ｗ）を現像することと、を含む。  
本発明によれば、効率的にデバイスを製造できる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、断熱能力を高めることができる。  
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明に係る断熱構造、断熱装置、駆動装置、ステージ装置及び露光装置の実施の形態を、図面を参照して説明する。以下の説明においては、必要に応じて図中にＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。このＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｙ軸が紙面に対して垂直となる方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。また、露光時におけるウエハＷ及びレチクルＲの同期移動方向（走査方向）はＹ方向に設定されているものとする。
【００１２】
［第１実施形態］  
図１は、本実施形態の露光装置ＥＸの概略構成を示す図である。図２は、露光装置ＥＸの制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【００１３】
図１に示すように、露光装置ＥＸは、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、即ちいわゆるスキャニング・ステッパである。この露光装置ＥＸは、照明系１０、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを有するステージ装置５０、及びこれらの制御系を備えている。ウエハステージＷＳＴ上には、基板としてのウエハＷが載置されている。また、図２に示すように、制御系は、装置全体を統括的に制御するマイクロコンピュータ（またはワークステーション）からなる主制御装置２０を中心として構成されている。。
【００１４】
図１に示すように、照明系１０は、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域をエネルギビームとしての照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１５】
レチクルステージＲＳＴ上には、回路パターン等がそのパターン面（図１における下面）に形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータを含むレチクルステージ駆動部によって、照明系１０の光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、所定の走査方向（ここでは図１における紙面内、左右方向であるＹ軸方向とする）に指定された走査速度で駆動可能となっている。
【００１６】
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置（Ｚ軸周りの回転を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、レチクル干渉計と称する）１１６によって、移動鏡１５（実際にはＹ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。このレチクル干渉計１１６の計測値は、主制御装置２０（図２参照）に送られ、主制御装置２０では、このレチクル干渉計１１６の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθＺ方向（Ｚ軸周りの回転方向）の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動部１１（図２参照）を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。
【００１７】
投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、該鏡筒４０内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子からなる投影光学系ＰＬとを含んで構成されている。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ軸方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）からなる屈折光学系が用いられている。
【００１８】
また、本実施形態の露光装置ＥＸでは、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子としてのレンズ（以下、先玉ともいう）９１の近傍には、液浸装置１３２を構成する液体供給ノズル５１Ａと、液体回収ノズル５１Ｂとが設けられている。
【００１９】
液体供給ノズル５１Ａには、その一端が液体供給装置２８８（図２参照）に接続された不図示の供給管の他端が接続されており、前記液体回収ノズル５１Ｂには、その一端が液体回収装置２９２（図２参照）に接続された不図示の回収管の他端が接続されている。
【００２０】
上記の液体としては、ここではＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。
【００２１】
水の屈折率ｎは、ほぼ１．４４である。この水の中では、照明光ＩＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００２２】
液体供給装置２８８は、主制御装置２０からの指示に応じ、供給管に接続されたバルブを所定開度で開き、液体供給ノズル５１Ａを介して先玉９１とウエハＷとの間に水を供給する。また、このとき、液体回収装置２９２は、主制御装置２０からの指示に応じ、回収管に接続されたバルブを所定開度で開き、液体回収ノズル５１Ｂを介して先玉９１とウエハＷとの間から液体回収装置２９２（液体のタンク）の内部に水を回収する。このとき、主制御装置２０は、先玉９１とウエハＷとの間に液体供給ノズル５１Ａから供給される水の量と、液体回収ノズル５１Ｂを介して回収される水の量とが常に等しくなるように、液体供給装置２８８及び液体回収装置２９２に対して指令を与える。従って、先玉９１とウエハＷとの間に、一定量の水Ｌｑ（図１参照）が保持される。この場合、先玉９１とウエハＷとの間に保持された水Ｌｑは、常に入れ替わることになる。
【００２３】
上記の説明から明らかなように、本実施形態の液浸装置１３２は、上記液体供給装置２８８、液体回収装置２９２、供給管、回収管、液体供給ノズル５１Ａ、及び液体回収ノズル５１Ｂ等を含んで構成された局所液浸装置である。
【００２４】
図３は、ステージ装置５０の外観斜視図である。  
ステージ装置５０は、フレームキャスタＦＣと、該フレームキャスタＦＣ上に設けられたベース盤（定盤）１２と、該ベース盤１２の上方に配置されベース盤１２の上面（移動面）１２ａに沿って移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴと、これらのステージＷＳＴ、ＭＳＴの位置を検出する干渉計１６、１８を含む干渉計システム１１８（図２参照）と、ステージＷＳＴ、ＭＳＴを駆動するステージ駆動部１２４（図２参照）とを備えている。ウエハステージＷＳＴ上には、基板としてのウエハＷが載置される。
【００２５】
フレームキャスタＦＣは、そのＸ軸方向の両端部近傍にＹ軸方向を長手方向とし上方に突出した突部ＦＣａ、ＦＣｂが一体的に形成された概略平板状からなっている。ベース盤（定盤）１２は、フレームキャスタＦＣの前記突部ＦＣａ、ＦＣｂに挟まれた領域上に配置されている。ベース盤１２の上面１２ａは平坦度が非常に高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのＸＹ平面に沿った移動の際のガイド面とされている。
【００２６】
ウエハステージＷＳＴは、ベース盤１２上に配置されたウエハステージ本体２８と、該ウエハステージ本体２８上に不図示のＺ・チルト駆動機構を介して搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えている。Ｚ・チルト駆動機構は、実際にはウエハステージ本体２８上でウエハテーブルＷＴＢを３点で支持する３つのアクチュエータ（例えば、ボイスコイルモータやＥＩコア）等を含んで構成され、各アクチュエータの駆動を調整することで、ウエハテーブルＷＴＢをＺ軸方向、θｘ方向（Ｘ軸周りの回転方向）、θｙ方向（Ｙ軸周りの回転方向）の３自由度方向に微小駆動する。
【００２７】
ウエハステージ本体２８は、断面矩形枠状でＸ軸方向に延びる中空部材によって構成されている。このウエハステージ本体２８の下面には、複数、例えば４つの気体静圧軸受（不図示）、例えばエアベアリングが設けられ、これらのエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴがガイド面１２ａの上方に数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で浮上支持されている。
【００２８】
フレームキャスタＦＣの突部ＦＣａ、ＦＣｂの上方には、Ｙ軸方向に延びるＹ軸用の固定子８６、８７が配設されている。これらのＹ軸用の固定子８６、８７は、それぞれの下面に設けられた不図示の気体静圧軸受、例えばエアベアリングによって突部ＦＣａ、ＦＣｂの上面に対して所定のクリアランスを介して浮上支持されている。これはウエハステージＷＳＴや計測ステージＭＳＴのＹ方向の移動により発生した反力により、固定子８６、８７がカウンタマスとして逆方向に移動して、この反力を運動量保存の法則により相殺するためである。Ｙ軸用の固定子８６、８７は、本実施形態では複数の永久磁石群からなる磁極ユニットとして構成されている。
【００２９】
ウエハステージ本体２８の内部には、Ｘ軸方向の可動子としての永久磁石群を有する磁石ユニット９０が設けられている。磁石ユニット９０の内部空間には、Ｘ軸方向に延びるＸガイドバーＸＧ１が挿入されている。そして、ＸガイドバーＸＧ１には、Ｘ軸用の固定子８０が設けられている。このＸ軸用の固定子８０は、Ｘ軸方向に沿って所定間隔で配置された複数のコイル体（熱源）Ｃを内蔵するコイルユニットＣＵによって構成されている。この場合、磁石ユニット９０と、コイルユニットＣＵからなるＸ軸用の固定子８０とによって、ウエハステージＷＳＴをＸ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ（リニアモータ）ＸＬＭ１が構成されている。
【００３０】
図４は固定子８０と可動子９０とが組み合わされたＸ軸リニアモータＸＬＭ１の平面構成を示す図である。図５は固定子８０をＹＺ面からみた断面構成を示す図である。  
これらの図に示すように、固定子８０は、固定子８０と可動子９０との相対移動方向であるＸ軸方向に複数並んで配置された平面視略小判状（０字状）のコイル体Ｃと、コイル体Ｃを囲って収容するコイルジャケット（枠部材）ＣＪとを有している。複数のコイル体Ｃは、エポキシ樹脂等の合成樹脂により一体的に成形されている。
【００３１】
枠部材としてのコイルジャケットＣＪは、コイル体Ｃを囲うように設けられている。コイルジャケットＣＪは、図５に示すように、側面部材８１と板状部材８２とで構成されている。
【００３２】
側面部材８１は、コイル体ＣのＹ方向上の側面に対向するように配置されている。側面部材８１の形成材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアセタール樹脂、ガラス繊維充填エポキシ樹脂、ガラス繊維強化熱硬化性プラスチック（ＧＦＲＰ）、炭素繊維強化熱硬化性プラスチック（ＣＦＲＰ）等の合成樹脂、またはセラミックス材料等の非導電性且つ非磁性材料、あるいはステンレス鋼やアルミニウム等の金属等が挙げられる。
【００３３】
板状部材８２は、側面部材８１の上端面及び下端面にそれぞれ密着するように設けられており、当該側面部材８１と板状部材８２とによって内部空間Ｓが形成されている。この板状部材８２は、側面部材８１の形成材料として挙げた上記各材料のいずれかからなる基材８２ａと、当該基材８２ａのうちコイル体Ｃ側の面８２ｃに形成された放熱規制層８２ｂとを有している。
【００３４】
放熱規制層８２ｂは、熱の移動を規制する材料からなる層であり、層厚が数十μｍ程度になっている。熱の移動を規制する材料として、例えば熱を反射する材料が挙げられる。熱を反射する材料としては、例えば酸化チタン、チタン合金、酸化アルミニウム、アルミニウム合金などの熱反射率の高い材料が挙げられる。勿論、熱反射率の高い材料であれば、他の材料であっても構わない。この放熱規制層８２ｂは、各板状部材８２においてそれぞれ基材８２ａのうちコイル体Ｃに対向する面８２ｃのほぼ全面に形成されている。放熱規制層８２ｂの平面視での形成領域としては、平面視で少なくともコイル体Ｃを含む領域に設けられていることが好ましい。この放熱規制層８２ｂは、例えばスパッタリングなどの手法によって形成される。
【００３５】
固定子８０の内部空間Ｓに対しては、固定子８０の＋Ｘ側端部に設けられた冷媒供給口（供給部）８０ａを介して冷却装置２（図２参照）から温度調整された冷媒が供給されるようになっている。コイル体Ｃから生じた熱を熱交換により回収した冷媒は、固定子８０の−Ｘ側端部に設けられた冷媒排出口８０ｂから排出され冷却装置２に戻される。冷却装置２の駆動は、主制御装置２０により制御される（図２参照）。
【００３６】
なお、使用される冷媒としては、液体又は気体であって特に不活性なものが好ましく適用できる。冷媒として、純粋等の水を用いてもよいし、ハイドロフルオロエーテル（例えば「ノベックＨＦＥ」：住友スリーエム株式会社製）や、フッ素系不活性液体（例えば「フロリナート」：住友スリーエム株式会社製）などを用いてもよい。
【００３７】
このように、側面部材８１と、板状部材８２（基材８２ａ及び放熱規制層８２ｂ）とによって本実施形態に係る断熱構造８３が構成されている。また、この断熱構造８３と、冷媒供給口８０ａを介して上記内部空間Ｓに冷媒を供給すると共に冷媒排出口８０ｂから冷媒を排出する冷媒供給装置としての冷却装置２とによって断熱装置８４が構成されている。
【００３８】
磁石ユニット９０は、複数の磁石（発磁ユニット）７６を有し、固定子８０を挟んで設けられた不図示のヨーク部を備えている。磁石７６のそれぞれは永久磁石であってヨーク部にＹ軸方向に複数並んで取り付けられており、異なる磁極の磁石が交互に並んで配置されている。更に、磁石７６は固定子８０を挟んで異なる磁極どうしが互いに対向して配置されている。
【００３９】
Ｘ軸用の固定子８０の長手方向両側端部には、例えばＹ軸方向に沿って所定間隔で配置された複数の電機子コイルを内蔵する電機子ユニットからなる可動子８８、８９がそれぞれ固定されている。これらの可動子８８、８９のそれぞれは、上述したＹ軸用の固定子８６、８７にそれぞれ内側から挿入されている。すなわち、本実施形態では、電気ユニットからなる可動子８８、８９と磁石ユニットからなるＹ軸用の固定子８６、８７とによって、ウエハステージＷＳＴをＹ軸方向に駆動するムービングコイル型のＹ軸リニアモータＹＬＭ１が構成されている。なお、Ｙ軸リニアモータＹＬＭ１として、ムービングコイル型のリニアモータに代えて、ムービングマグネット型のリニアモータを用いてもよい。本実施形態では、Ｙ軸リニアモータＹＬＭ１、Ｘ軸リニアモータＸＬＭ１、ウエハテーブルＷＴＢを駆動する不図示の微動機構は、図２に示されるステージ駆動部１２４の一部を構成している。このステージ駆動部１２４を構成する各種駆動機構が図２に示される主制御装置２０によって制御される。
【００４０】
ウエハテーブルＷＴＢ上には、ウエハＷを保持するウエハホルダ７０が設けられている。ウエハホルダ７０は、板状の本体部と、該本体部の上面に固定されその中央にウエハＷの直径よりも大きな円形開口が形成された撥液性（撥水性）を有する補助プレートとを備えている。この補助プレートの円形開口内部の本体部の領域には、多数（複数）のピンが配置されており、その多数のピンによってウエハＷが支持された状態で真空吸着されている。この場合、ウエハＷが真空吸着された状態では、そのウエハＷ表面と補助プレートの表面との高さがほぼ同一の高さとなるように形成されている。なお、補助プレートを設けずに、ウエハテーブルＷＴＢの表面に撥液性を付与してもよい。
【００４１】
また、図３に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢのＸ軸方向の一端（＋Ｘ側端）には、Ｘ軸方向に直交する反射面１７ＸがＹ軸方向に延設され、Ｙ軸方向の一端（＋Ｙ側端）には、Ｙ軸方向に直交する反射面１７ＹがＸ軸方向に延設されている。これら反射面１７Ｘ、１７Ｙには、干渉計システム１１８を構成するＸ軸干渉計４６、Ｙ軸干渉計１８からの干渉計ビーム（測長ビーム）がそれぞれ投射され、各干渉計４６、１８ではそれぞれの反射光を受光することで、各反射面の基準位置（一般的には後述する投影ユニットＰＵ側面や、オフアクシス・アライメント系ＡＬＧの側面に固定ミラーを配置し、そこを基準面とする）からの計測方向の変位を検出する。
【００４２】
上記の構成のステージ装置５０においては、ウエハステージＷＳＴは、Ｘ軸リニアモータＸＬＭ１の駆動により、Ｘ軸方向に駆動されるとともに、一対のＹ軸リニアモータＹＬＭ１の駆動によってＸ軸リニアモータＸＬＭ１及びＸガイドバーＸＧ１と一体でＹ軸方向に駆動される。また、ウエハステージＷＳＴは、Ｙ軸リニアモータＹＬＭ１が発生するＹ軸方向の駆動力を僅かに異ならせることにより、θｚ方向にも回転駆動される。従って、ウエハテーブルＷＴＢを支持する３つのアクチュエータ、Ｘ軸リニアモータＸＬＭ１及びＹ軸リニアモータＹＬＭ１の駆動により、ウエハテーブルＷＴＢは６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）に非接触で微小駆動可能とされている。
【００４３】
ここで、ウエハステージＷＳＴがＸガイドバーＸＧ１をガイドにして移動面１２ａに沿ってＸ軸方向に駆動する際には、コイル体Ｃに通電されることによりＸ軸リニアモータＸＬＭ１における可動子９０が固定子８０に対して相対移動する。このとき、コイル体Ｃは通電により発熱するが、放熱規制層８２ｂによってコイル体Ｃからの熱が内部空間Ｓ内に反射され、当該コイルジャケットＣＪの内部空間Ｓを循環する冷媒との熱交換によりその熱が回収される。
【００４４】
また、ステージ装置５０に設けられた計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴと同様に、図１に示されるように、ベース盤１２上に配置された計測ステージ本体５２と、該計測本体５２上に不図示のＺ・チルト駆動機構を介して搭載された計測テーブルＭＴＢとを備えている。Ｚ・チルト駆動機構は、計測ステージ本体５２上で計測テーブルＭＴＢを３点で支持する３つのアクチュエータ（例えば、ボイスコイルモータやＥＩコア）等を含んで構成され、各アクチュエータの駆動を調整することで、計測テーブルＭＴＢをＺ軸方向、θｘ方向、θｙ方向の３自由度方向に微小駆動する。
【００４５】
計測ステージ本体５２は、断面矩形枠状でＸ軸方向に延びる中空部材によって構成されている。この計測ステージ本体５２の下面には、複数、例えば４つの気体静圧軸受（不図示）、例えばエアベアリングが設けられ、これらのエアベアリングを介して計測ステージＭＳＴがガイド面１２ａの上方に数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で浮上支持されている。前記計測ステージ本体５２の内部には、Ｘ軸方向の可動子としての永久磁石群を有する磁石ユニット５４が設けられている。磁石ユニット５４の内部空間には、Ｘ軸方向に延びるＸ軸用のＸガイドバーＸＧ２が挿入されている。そして、ＸガイドバーＸＧ２には、Ｘ軸用の固定子８１が設けられている。このＸ軸用の固定子８１は、Ｘ軸方向に沿って所定間隔で配置された複数の電機子コイル（コイル体）を内蔵するコイルユニットによって構成されている。この場合、磁石ユニット５４とコイルユニットからなるＸ軸用の固定子８１とによって、計測ステージＭＳＴをＸ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＸ軸リニアモータＸＬＭ２が構成されている。なお、図示は省略するが、Ｘ軸リニアモータＸＬＭ２においても、上述したリニアモータＸＬＭ１と同様に、固定子８１を構成する板状部材に放熱規制層が設けられている。
【００４６】
この計測ステージＭＳＴは、Ｘ軸リニアモータＸＬＭ２により、Ｘ軸方向に駆動されるとともに、一対のＹ軸リニアモータＹＬＭ２によってＸ軸リニアモータＸＬＭ２と一体でＹ軸方向に駆動される。また、計測ステージＭＳＴは、Ｙ軸リニアモータＹＬＭ２が発生するＹ軸方向の駆動力を僅かに異ならせることにより、θｚ方向にも回転駆動される。従って、計測テーブルＭＴＢを支持する３つのアクチュエータ、Ｘ軸リニアモータＸＬＭ２及びＹ軸リニアモータＹＬＭ２の駆動により、計測テーブルＭＴＢは６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）に非接触で微小駆動可能とされている。
【００４７】
計測テーブルＭＴＢは、露光に関する各種計測を行うための計測器類をさらに備えている。これをさらに詳述すると、計測テーブルＭＴＢの上面には、石英ガラス等のガラス材料からなるプレート１０９が設けられている。このプレート１０９の表面には、その全面に亘ってクロムが塗布され、所定位置に計測器用の領域や、特開平５−２１３１４号公報（対応する米国特許５，２４３，１９５号）などに開示される複数の基準マークが形成された基準マーク領域ＦＭが設けられている。
【００４８】
本実施の形態では、投影光学系ＰＬと水とを介して露光光（照明光）ＩＬによりウエハＷを露光する液浸露光が行われるのに対応して、照明光ＩＬを用いる計測に使用される上記の照度モニタ、照度むら計測器、空間像計測器、波面収差計測器などでは、投影光学系ＰＬ及び水を介して照明光ＩＬを受光することになる。そのため、プレート１０９の表面には撥水コートが施されている。
【００４９】
計測テーブルＭＴＢ（プレート１０９）のＹ軸方向の一端（−Ｙ側端）には、Ｙ軸方向に直交する（Ｘ軸方向に延在する）反射面１１７Ｙが鏡面加工により形成されている。また、計測テーブルＭＴＢのＸ軸方向の一端（＋Ｘ側端）には、Ｘ軸方向に直交する（Ｙ軸方向に延在する）反射面１１７Ｘが鏡面加工により形成されている。
【００５０】
反射面１１７Ｙには、図１に示されるように、干渉計システム１１８を構成するＹ軸干渉計１６からの干渉計ビーム（測長ビーム）が投射され、干渉計１６ではその反射光を受光することにより、反射面１１７Ｙの基準位置からの変位を検出する。
【００５１】
また、反射面１１７Ｘには、干渉系システム１１８を構成するＸ軸干渉計４６からの干渉計ビームが投射され、干渉計４６ではその反射光を受光することにより、反射面１１７Ｘの基準位置からの変位を検出する。
【００５２】
また、本実施の形態の露光装置ＥＸでは、投影ユニットＰＵを保持する保持部材には、オフアクシス・アライメント系（以下、アライメント系と称する）ＡＬＧが設けられている。このアライメント系ＡＬＧとしては、例えばウエハ上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標（アライメント系ＡＬＧ内に設けられた指標板上の指標パターン）の像とを撮像素子（ＣＣＤ等）を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のセンサが用いられている。アライメント系ＡＬＧからの撮像信号は、図２に示す主制御装置２０に供給される。
【００５３】
本実施の形態の露光装置ＥＸでは、図１では図示が省略されているが、照射系９０ａ、受光系９０ｂ（図２参照）からなる、例えば特開平６−２８３４０３号公報（対応米国特許第５，４４８，３３２号）等に開示されるものと同様の斜入射方式の多点焦点位置検出系が設けられている。
【００５４】
次に、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを用いた並行処理動作について、簡単に説明する。  
この並行処理動作中、主制御装置２０によって、液浸装置１３２の液体供給装置２８８及び液体回収装置２９２の各バルブの開閉制御が前述したようにして行われ、投影光学系ＰＬの先玉９１の直下には常時水が満たされている。
【００５５】
ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷに対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われている際には、計測ステージＭＳＴはウエハステージＷＳＴと衝突（接触）しない所定の待機位置にて待機している。
【００５６】
上記の露光動作は、主制御装置２０により、事前に行われた例えばエンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）などのウエハアライメントの結果及び最新のアライメント系ＡＬＧのベースライン計測結果等に基づいて、ウエハＷ上の各ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）へウエハステージＷＳＴが移動されるショット間移動動作と、各ショット領域に対するレチクルＲに形成されたパターンを走査露光方式で転写する走査露光動作とを繰り返すことにより行われる。なお、上記の露光動作は、先玉９１とウエハＷとの間に水を保持した状態で行われる。
【００５７】
そして、ウエハステージＷＳＴ側で、ウエハＷに対する露光が終了した段階で、主制御装置２０は、Ｙ軸リニアモータＹＬＭ２及びＸ軸リニアモータＸＬＭ２を制御して、計測ステージＭＳＴ（計測テーブルＭＴＢ）を、計測テーブルＭＴＢの＋Ｙ側面とウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ側面とが接触する位置に移動させる。なお、計測テーブルＭＴＢとウエハテーブルＷＴＢとがＹ軸方向に、例えば３００μｍ程度（水が表面張力により漏出しない隙間）離間させて非接触状態を維持してもよい。
【００５８】
次いで、主制御装置２０は、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢとのＹ軸方向の位置関係を保持しつつ、両ステージＷＳＴ、ＭＳＴを＋Ｙ方向に駆動し、投影ユニットＰＵの先玉９１とウエハＷとの間に保持されていた水を、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴの＋Ｙ側への移動に伴って、ウエハＷ→ウエハホルダ７０→計測テーブルＭＴＢ上を順次移動させる。これにより、計測ステージＭＳＴと先玉９１との間に水が保持された状態となる。
【００５９】
この後、主制御装置２０は、リニアモータＸＬＭ１、ＹＬＭ１の駆動を制御して、所定のウエハ交換位置にウエハステージＷＳＴを移動させるとともに、ウエハ交換を行い、これと並行して、計測ステージＭＳＴを用いた所定の計測（例えばレチクルステージＲＳＴ上のレチクル交換後に行われるアライメント系ＡＬＧのベースライン計測）を必要に応じて実行する。
【００６０】
その後、主制御装置２０では、先程とは逆にウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとのＹ軸方向の位置関係を保ちつつ、両ステージＷＳＴ、ＭＳＴを−Ｙ方向に同時に駆動して、ウエハステージＷＳＴ（ウエハ）を投影光学系ＰＬの下方に移動させた後に、計測ステージＭＳＴを所定の位置に退避させる。
【００６１】
そして、主制御装置２０では、上記と同様に新たなウエハに対してステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を実行し、ウエハ上の複数のショット領域にレチクルパターンを順次転写させる。
【００６２】
本実施形態では、コイルジャケットＣＪを構成する板状部材８２の面８２ｃ上に設けられた放熱規制層８２ｂによってコイルジャケットＣＪの外側への放熱が規制され、熱がコイルジャケットＣＪの内部に閉じ込められることになる。例えば、放熱規制層８２ｂが熱を反射する材料からなる場合、コイル体Ｃからの熱は内部空間Ｓへと反射されることになる。そのため、コイル体Ｃで発生した熱はコイルジャケットＣＪの外側へはほとんど放熱されることなくコイルジャケットＣＪの内部に閉じ込められることになる。また、冷却装置２によって断熱構造８３のうちコイル体ＣとコイルジャケットＣＪとの間の内部空間Ｓに冷媒を供給することで、コイルジャケットＣＪの内部に閉じ込められた熱は当該冷媒によって排熱されることになる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造８３及び断熱装置８４を得ることができる。
【００６３】
［第２実施形態］  
次に、本発明の第２実施形態について図６を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００６４】
図６は本実施形態に係る固定子１８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図５に対応している。  
同図に示すように、固定子１８０は、コイルユニットＣＵを構成するコイル体Ｃと、このコイル体Ｃを収容するコイルジャケットＣＪとを有しており、コイルジャケットＣＪが、コイル体Ｃを囲うように設けられている。第１実施形態と同様、コイルジャケットＣＪは、側面部材１８１と板状部材１８２とで構成されている。
【００６５】
本実施形態の放熱規制層１８２ｂは、熱を反射する材料からなる層である。この放熱規制層１８２ｂの材料としては、第１実施形態と同様の熱反射材料（例えば酸化チタンなど）が挙げられる。この放熱規制層１８２ｂは、各板状部材１８２の基材１８２ａのうちコイル体Ｃとは反対側の面１８２ｄのほぼ全面に亘って形成されている。
【００６６】
本実施形態では、側面部材１８１と、板状部材１８２（基材１８２ａ及び放熱規制層１８２ｂ）とによって断熱構造１８３が構成されている。また、この断熱構造１８３と、内部空間Ｓに冷媒を供給する冷却装置１０２とによって断熱装置１８４が構成されている。
【００６７】
本実施形態によれば、基材１８２ａのうちコイル体Ｃとは反対側の面１８２ｄ上に設けられた放熱規制層１８２ｂによってコイル体Ｃからの熱をコイルジャケットＣＪの内部空間Ｓ側に反射するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造１８３及び断熱装置１８４を得ることができる。
【００６８】
［第３実施形態］  
次に、本発明の第３実施形態について図７を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００６９】
図７は本実施形態に係る固定子２８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図５に対応している。  
同図に示すように、本実施形態の板状部材２８２は、板状の基材２８２ａの内部に放熱規制層２８２ｂが形成された構成になっており、コイル体Ｃからの熱が当該基材２８２ａの内部で規制されるようになっている。この放熱規制層２８２ｂは、熱を反射する材料からなる。放熱規制層２８２ｂの具体的な材料としては、第１実施形態と同様の熱反射材料が挙げられる。
【００７０】
本実施形態では、側面部材２８１と、板状部材２８２（基材２８２ａ及び放熱規制層２８２ｂ）とによって断熱構造２８３が構成されている。また、この断熱構造２８３と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置２１２とによって断熱装置２８４が構成されている。
【００７１】
本実施形態によれば、基材２８２ａの内部に設けられた放熱規制層２８２ｂによってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造２８３及び断熱装置２８４を得ることができる。
【００７２】
なお、本実施形態では、放熱規制層２８２ｂが基材２８２ａによって完全に覆われている板状部材２８２の構成を説明したが、これに限られることは無い。例えば板状部材２８２が２枚の基材２８２ａを有し、放熱規制層２８２ｂを当該２枚の基材２８２ａによって挟まれた構成としても構わない。この構成によれば、本実施形態の構成の板状部材２８２を容易に形成することができる。
【００７３】
［第４実施形態］  
次に、本発明の第４実施形態について図８を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００７４】
図８は本実施形態に係る固定子３８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図５に対応している。  
同図に示すように、本実施形態の放熱規制層３８３は、側面部材３８１と板状部材３８２とで形成される内部空間Ｓ内に設けられている。図８に示す例では、放熱規制層３８３がコイル体Ｃの上面、下面及び側面に対向するように４箇所に設けられており、内部空間Ｓ内で放熱が規制されるようになっている。この放熱規制層３８３は、上述の実施形態のように熱を反射する材料からなる構成を用いることができる。また、放熱規制層３８３が、熱を吸収する材料を用いて構成するようにしてもよい。放熱規制層３８３の具体的な材料としては、熱を反射する材料からなる構成では第１実施形態と同様の熱反射材料を用いることができる。これに対して、熱を吸収する材料を用いて構成する場合には、炭素繊維強化熱硬化性プラスチック（ＣＦＲＰ）等、熱吸収率の高い材料を用いることができる。
【００７５】
本実施形態では、側面部材３８１と、板状部材３８２と、放熱規制層３８３とによって断熱構造３８４が構成されている。また、この断熱構造３８４と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置３０２とによって断熱装置３８５が構成されている。
【００７６】
本実施形態によれば、内部空間Ｓ内に設けられた放熱規制層３８３によってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造３８４及び断熱装置３８５を得ることができる。
【００７７】
［第５実施形態］  
次に、本発明の第５実施形態について図９を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００７８】
図９は本実施形態に係る固定子４８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図５に対応している。  
本実施形態では、側面部材４８１と、板状部材４８２（基材４８２ａ、放熱規制層４８２ｂ及び放熱規制層４８２ｃ）とによって断熱構造４８３が構成されている。また、この断熱構造４８３と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置４０２とによって断熱装置４８４が構成されている。
【００７９】
本実施形態によれば、基材４８２ａの面４８２ｄ上に設けられた２層の放熱規制層４８２ｂ及び放熱規制層４８２ｃによってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造４８３及び断熱装置４８４を得ることができる。なお、本実施形態では、放熱規制層が２層形成された例を説明したが、これに限られることは無く、例えば放熱規制層を３層以上設けた構成であっても構わない。
【００８０】
［第６実施形態］  
次に、本発明の第６実施形態について図１０を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００８１】
図１０は本実施形態に係る固定子５８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図４においてＸＺ面からみた断面に対応している。  
同図に示すように、本実施形態では、内部空間Ｓ内を仕切る仕切り板５８３が設けられている。仕切り板５８３は、コイル体Ｃの上方及び下方に１つずつ設けられている。これらの仕切り板５８３により、内部空間ＳのうちコイルユニットＣＵの上方の空間及びコイルユニットＣＵの下方の空間がそれぞれ仕切られている。この場合、冷却装置５０２によって内部空間Ｓ内に供給される冷媒は、仕切り板５８３によって仕切られたそれぞれの空間内を循環することになる。
【００８２】
また、本実施形態では、各仕切り板５８３のうちコイル体Ｃとは反対側の表面５８３ａ上に放熱規制層５８４がそれぞれ設けられている。放熱規制層５８４は、仕切り板５８３のうちコイル体Ｃとは反対側の面５８３ａ上にほぼ全面に亘って設けられており、コイル体Ｃからの熱は仕切り板５８３に設けられた放熱規制層５８４によって規制されるようになっている。放熱規制層５８４は、それぞれ熱を反射する材料からなる構成であっても良いし、熱を吸収する材料からなる構成であっても良い。
【００８３】
本実施形態では、側面部材５８１と、板状部材５８２と、仕切り板５８３と、放熱規制層５８４とによって断熱構造５８５が構成されている。また、この断熱構造５８５と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置５０２とによって断熱装置５８６が構成されている。なお、図示を省略しているが、冷却装置５０２は、コイルユニットＣＵの下側の内部空間Ｓにも接続されている。
【００８４】
本実施形態によれば、内部空間Ｓが仕切り板５８３によって仕切られており、冷却装置５０２によって冷媒が仕切られた空間内を循環するようになっているので、コイル体Ｃからの熱が固定子５８０の外部に放熱されるのを防ぐことができる。また、仕切り板５８３のうちコイル体Ｃとは反対側の表面５８３ａ上に設けられた放熱規制層５８４によってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのをより確実に防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造５８５及び断熱装置５８６を得ることができる。
【００８５】
［第７実施形態］  
次に、本発明の第７実施形態について図１１を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００８６】
図１１は本実施形態に係る固定子６８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図４におけるＸ方向の断面に対応している。  
同図に示すように、本実施形態では、第６実施形態と同様の位置に内部空間Ｓ内を仕切る仕切り板６８３が設けられている。また、本実施形態では、各仕切り板６８３の内部に放熱規制層６８４がそれぞれ設けられている。したがって、コイル体Ｃからの熱は仕切り板６８３の内部に設けられた放熱規制層６８４によって規制されるようになっている。放熱規制層６８４は、それぞれ熱を反射する材料からなる構成であっても良いし、熱を吸収する材料からなる構成であっても良い。
【００８７】
本実施形態では、側面部材６８１と、板状部材６８２と、仕切り板６８３と、放熱規制層６８４とによって断熱構造６８５が構成されている。また、この断熱構造６８５と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置６０２とによって断熱装置６８６が構成されている。なお、図示を省略しているが、冷却装置６０２は、コイルユニットＣＵの下側の内部空間Ｓにも接続されている。
【００８８】
本実施形態によれば、内部空間Ｓが仕切り板６８３によって仕切られており、冷却装置６０２によって冷媒が仕切られた空間内を循環するようになっているので、コイル体Ｃからの熱が固定子６８０の外部に放熱されるのを防ぐことができる。また、仕切り板６８３の内部に設けられた放熱規制層６８４によってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造６８５及び断熱装置６８６を得ることができる。
【００８９】
なお、本実施形態では、放熱規制層６８４が仕切り板６８３によって完全に覆われている構成を説明したが、これに限られることは無い。例えば仕切り板６８３が２枚の基材を貼り付けた構成になっており、放熱規制層６８４が当該２枚の基材によって挟まれた構成としても構わない。この構成によれば、本実施形態の構成の仕切り板６８４を容易に形成することができる。
【００９０】
［第８実施形態］  
次に、本発明の第８実施形態について図１２を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００９１】
図１２は本実施形態に係る固定子７８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図４におけるＸ方向の断面に対応している。  
同図に示すように、本実施形態では、上記第６実施形態及び第７実施形態と同様の位置に、内部空間Ｓ内を仕切る仕切り板７８３が設けられている。また、本実施形態では、仕切り板７８３のうちコイル体Ｃ側の表面７８３ａ上に放熱規制層７８４がそれぞれ設けられている。放熱規制層７８４は、仕切り板７８３の面７８３ａ上のほぼ全面に設けられている。したがって、コイル体Ｃからの熱は仕切り板７８３に設けられた放熱規制層７８４によって規制されるようになっている。放熱規制層７８４は、それぞれ熱を反射する材料からなる構成であっても良いし、熱を吸収する材料からなる構成であっても良い。
【００９２】
本実施形態では、側面部材７８１と、板状部材７８２と、仕切り板７８３と、放熱規制層７８４とによって断熱構造７８５が構成されている。また、この断熱構造７８５と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置７０２とによって断熱装置７８６が構成されている。なお、図示を省略しているが、冷却装置７０２は、コイルユニットＣＵの下側の内部空間Ｓにも接続されている。
【００９３】
本実施形態によれば、内部空間Ｓが仕切り板７８３によって仕切られており、冷却装置７０２によって冷媒が仕切られた空間内を循環するようになっているので、コイル体Ｃからの熱が固定子７８０の外部に放熱されるのを防ぐことができる。また、仕切り板７８３のうちコイル体Ｃに対向する面７８３ａ上に設けられた放熱規制層７８４によってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造７８５及び断熱装置７８６を得ることができる。
【００９４】
なお、第６〜８実施形態において、放熱規制層５８４、６８４、７８４として熱を吸収する材料を用いて構成した場合、放熱規制層５８４、６８４、７８４が吸収した熱が側面部材５８１、６８１、７８１および板状部材５８２、６８２、７８２に伝わってコイルジャケットＣＪの外部に放熱されないように構成しておく必要がある。
［第９実施形態］  
次に、本発明の第９実施形態について図１３を参照して説明する。  
本実施形態においては、上述した第１実施形態の構成要素と同一の要素についてはその説明を簡略化または省略する。
【００９５】
図１３は本実施形態に係る固定子８８０の断面構成を示す図であり、第１実施形態の図５に対応している。  
同図に示すように、側面部材８８１は、基材８８１ａと放熱規制層８８１ｂとを有している。放熱規制層８８１ｂは、例えば基材８８１ａのうちコイル体Ｃに対向する面８８１ｃ上のほぼ全面に設けられている。したがって、コイル体Ｃからの熱は側面部材８８１の基材８８１ａの表面８８１ｃで規制されるようになっている。放熱規制層８８１ｂは、それぞれ熱を反射する材料を用いた構成になっている。。
【００９６】
本実施形態では、側面部材８８１（基材８８１ａ及び放熱規制層８８１ｂ）と、板状部材８８２とによって断熱構造８８３が構成されている。また、この断熱構造８８３と、内部空間Ｓに冷媒を供給すると冷却装置８０２とによって断熱装置８８４が構成されている。
【００９７】
本実施形態によれば、側面部材８８１のうちコイル体Ｃに対向する面８８１ｃ上に設けられた放熱規制層８８１ｂによってコイル体Ｃからの熱の移動を規制するので、コイル体Ｃからの熱がコイルジャケットＣＪの外部に放熱されるのを防ぐことができる。このように、高い断熱能力を有する断熱構造８８３及び断熱装置８８４を得ることができる。
【００９８】
なお、本実施形態では、放熱規制層８８１ｂを基材８８１ａの面８８１ｃ上に設けた構成としたが、これに限られることは無い。例えば、図中破線で示すように、基材８８１ａの内部に設けても構わない。また、基材８８１ａのうちコイル体Ｃとは反対側の面８８１ｄ上に設けても構わない。また、図５から図９の何れか１つまたは複数の構成を組み合わせるようにしてもよい。例えば、側面部材８８１と板状部材８８２が放熱規制層を有する構成にしてコイル体Cを四方から囲むようにしてもよい。
【００９９】
［第１０実施形態］  
次に、本発明の第１０実施形態について、図１４をもとにして説明する。  
図１４に示すように、ヒートシンク９００は略直方体状であり、鏡筒４０のフランジ部などに取り付けられている。本実施形態では、鏡筒４０のフランジ部が熱源となる。ヒートシンク９００は、鉄やアルミニウムあるいはステンレス鋼などの金属によって形成され内部空間を有する箱状部材９０１と、この箱状部材９０１の内部空間Ｓに配置されアルミニウム等によって構成された軽石状の中空部材９０２とを有している。中空部材９０２は箱状部材９０１の内壁にロウ付けされている。箱状部材９０１には、温調用の液体を流通させる例えばチューブなどの流路９０４が取り付けられている。
【０１００】
箱状部材９０１には、フランジ部に接続するための接続部９０１ａが設けられている。当該接続部９０１ａとフランジ部とは、熱伝導ゴムシートやサーマルシリコンコンパウンドなどの熱伝導率の良い材料９０３を挟み込んで接続されている。この接続により、鏡筒４０からヒートシンク９００へ熱が伝達される際の熱抵抗が減少させることができるようになっている。
【０１０１】
また、本実施形態では、箱状部材９０１の内面のうち鏡筒４０のフランジ部とは反対側の面９０１ｂに放熱規制層９０５が形成されている。この放熱規制層９０５は、面９０１ｂのほぼ全面に亘って形成されており、上記第１実施形態で説明した熱反射材料によって構成されている。したがって、鏡筒４０からの熱は箱状部材９０１の面９０１ｂ上で規制されるようになっている。
【０１０２】
本実施形態によれば、箱状部材９０１の面９０１ｂ上に放熱規制層９０５が設けられているので、鏡筒４０のフランジ部からの熱をヒートシンク９００の外部に放熱するのを防ぐことができる。なお、放熱規制層９０５を設ける位置として、箱状部材９０１の面９０１上に限られず、例えば箱状部材９０１の内面のうち上記以外の部分や内部空間Ｓ内、箱状部材９０１の外表面などに放熱規制層９０５を設けても構わない。
【０１０３】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。  
例えば、放熱規制層は、上記実施形態に記載したそれぞれの位置の中から適宜組み合わせて複数の位置に配置しても構わない。また、一対の板状部材のうち一方のみに放熱規制層を設けて、他方には放熱規制層を設けない構成であっても構わない。側面部材についても同様であり、一側の側面部材にのみ放熱規制層を設けて、他側の側面部材には放熱規制層を設けない構成であっても構わない。
【０１０４】
また、上記実施形態では、断熱構造及び断熱装置をコイルユニット又は鏡筒４０のフランジ部に適用した例を説明したが、この他に、例えば光学式センサの発熱部においても適用可能である。
【０１０５】
また、上記実施形態では、三相モータの例を用いて説明したが、設置スペースを確保できれば単相モータであっても適用可能である。  
また、上記各実施の形態では、いずれの場合もコイルユニットを収容するコイルジャケット内を冷媒が流動する構成としたが、これに限定されるものではなく、冷媒を用いずに自然放熱させる構成のリニアモータに対しても適用可能である。
【０１０６】
上記実施形態では、ステージ装置５０がウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの両方を備える構成であったが、ウエハステージＷＳＴのみが設けられる構成としてもよい。また、上記実施形態では、露光装置ＥＸにおいて、ウエハＷ側のステージ装置５０に本発明を適用する構成としたが、レチクルＲ側のレチクルステージＲＳＴのリニアモータにも適用可能である。
【０１０７】
また、本発明は、ウエハステージが複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）あるいは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。さらに、本発明を本願出願人が先に出願した特願２００４−１６８４８１号のウエハステージに適用してもよい。
【０１０８】
なお、上記各実施形態で移動ステージに保持される基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【０１０９】
露光装置ＥＸとしては、液浸法を用いない走査型露光装置やレチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。さらに、本発明は、マスクＭを用いることなく、スポット光を投影光学系ＰＬにより投影してウエハＷ上にパターンを露光する露光装置にも適用できる。
【０１１０】
露光装置ＥＸの種類としては、ウエハＷに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１１１】
各ステージＷＳＴ、ＲＳＴの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージＷＳＴ、ＲＳＴを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージＷＳＴ、ＲＳＴに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージＷＳＴ、ＲＳＴの移動面側に設ければよい。
【０１１２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１５に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係るステージ装置の構成を示す斜視図である。
【図３】本発明に係るＸ軸リニアモータの概略構成を示す平面図である。
【図４】同Ｘ軸リニアモータの断面図である。
【図５】同Ｘ軸リニアモータの固定子の断面平面図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図８】本発明の第４実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図９】本発明の第５実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図１０】本発明の第６実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図１１】本発明の第７実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図１２】本発明の第８実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図１３】本発明の第９実施形態に係る露光装置の固定子の構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の第１０実施形態に係るヒートシンクの構成を示す図である。
【図１５】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【０１１４】
Ｃ…コイル体、ＣＪ…コイルジャケット（枠部材）、ＥＸ…露光装置、Ｒ…レチクル（マスク）、ＸＬＭ１…Ｘ軸リニアモータ（駆動装置）、Ｗ…ウエハ（基板）、５０…ステージ装置、７６…磁石（発磁ユニット）、ＣＵ…コイルユニット、Ｃ…コイル、８２ｂ…放熱規制層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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