(57)【要約】【課題】設計図面通りに精度よく再現された大型の高精度のディスプレイ用マスクが得られるエッチング性とエッチング精度が優れたエッチング液およびディスプレイ用マスクの製造方法を提供すること。【解決手段】少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムを含有するエッチング剤と、界面活性剤とを水中に含有してなり、上記の界面活性剤が直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩７０〜８０質量％と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩２０〜３０質量％との混合物であることを特徴とするディスプレイ用マスクエッチング液、および該エッチング液を使用してディスプレイ用マスク基板をエッチングすることを特徴とするディスプレイ用マスクの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムを含有するエッチング剤と、界面活性剤とを水中に含有してなり、上記の界面活性剤が直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩７０〜８０質量％と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩２０〜３０質量％との混合物であることを特徴とするディスプレイ用マスクエッチング液。
【請求項２】
前記の直鎖および分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数が、４、６、８である請求項１に記載のエッチング液。
【請求項３】
前記の直鎖のフッ化炭素基の炭素数（ｘ）と分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数（ｙ）が、ｘ＝ｙである請求項１または２に記載のエッチング液。
【請求項４】
前記のペルフルオロアルキルスルホン酸塩の塩基が、ナトリウム、カリウム、リチウム、またはアンモニウムである請求項１〜３のいずれか１項に記載のエッチング液。
【請求項５】
前記の混合物の濃度が、０．００１〜０．１質量％である請求項１〜４のいずれか１項に記載のエッチング液。
【請求項６】
さらに、過塩素酸、または過塩素酸および硝酸を含有する請求項１に記載のエッチング液。
【請求項７】
前記のエッチング剤の濃度が、１５〜４０質量％である請求項１または６に記載のエッチング液。
【請求項８】
前記エッチング剤が、硝酸第二セリウムアンモニウム（ｐ）と、過塩素酸（ｑ）または過塩素酸および硝酸（ｒ）との混合物であり、その配合割合が、ｑ／ｐ＝２５〜７５／１００（質量比）、ｒ／ｐ＝３０〜８０／１００（質量比）である請求項１に記載のエッチング液。
【請求項９】
過塩素酸（ｒ１）と硝酸（ｒ２）との配合割合が、ｒ２／ｒ１＝２０〜８０／１００（質量比）である請求項８に記載のエッチング液。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のエッチング液を使用してディスプレイ用マスク基板をエッチングすることを特徴とするディスプレイ用マスクの製造方法。
【請求項１１】
ディスプレイ用マスク基板が、透明基板上側からクロム／酸化クロムの複合体、クロム／窒化クロムの複合体、酸化クロム／クロム／酸化クロムの複合体、クロム／ニッケル（合金）／酸化ニッケル（合金）の複合体、またはニッケル（合金）／クロム／酸化クロムの複合体である請求項１０に記載のディスプレイ用マスクの製造方法。
【請求項１２】
前記のディスプレイ用マスクが、大型で画素数が多い液晶表示装置のカラーフィルター、配線または電極用、プラズマディスプレイ用およびエレクトロルミネセンスパネル用である請求項１０または１１に記載のディスプレイ用マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用マスクエッチング液に関し、詳しくは、液晶表示装置に使用するカラーフィルター、配線または電極、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネセンスパネルなどを製造するために使用する大型の高精度のディスプレイ用マスク（以下、単に「ディスプレイマスク」という場合がある）が得られる微細加工のエッチング性とエッチング精度（以下、これらの特性を纏めて「エッチング特性」という場合がある。）が優れたディスプレイ用マスクエッチング液（以下、単に「エッチング液」という場合がある）およびディスプレイマスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、上記の液晶表示装置のカラーフィルターやプラズマディスプレイパネルなどの表示パネルなどは、４０インチ、５０インチなどの大型化やハイビジョン化に伴い、それらの表示パネルや付随するそれらの配線または電極を製造する際に、その製造工程でそれらの設計図面のパターンを露光描画させるために使用されるディスプレイマスクは現寸大に大型化し、高画素数などに対応した高精度が要求されている。
【０００３】
上記のディスプレイマスクは、その設計図面などを精度よく露光描画させるために、マスクと基板間での光反射の影響を極力抑える必要があり、また、遮光力をより高める必要から、従来のクロム金属薄膜単体から、複数の金属薄膜からなる複合体の金属薄膜により構成されている。
【０００４】
一般に、ディスプレイマスクの製造に使用されるエッチング液は、下記の製造例のように使用されている。例えば、低膨張ガラスや、合成石英などの大型透明ガラス基板に、適当な金属を蒸着やスパッタリング等の方法で金属薄膜を形成した後、感光性樹脂組成物をスピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、スプレイ法等の公知の方法にて上記金属薄膜に均一にコーティングした後、所望のパターンを活性エネルギー線で露光描画させた後、有機溶剤やアルカリ水溶液等の現像液にて現像する。現像後、必要に応じてレジスト膜の耐エッチング性を向上させるためのベーキング工程を経て、酸性エッチング液にてエッチングマスクで覆われていない金属薄膜をスプレイ法、浸漬法などの方法でエッチングした後、レジスト膜を剥離することによりディスプレイマスクを得る。
【０００５】
上記のエッチング液には、大型の高精度のディスプレイマスクが得られるエッチング特性が要求される。すなわち、マスクの全体にばらつきなく均一にエッチングできる濡れ性を有し、設計図面通りに再現された高精度のディスプレイマスクが得られるエッチング特性が要求される。
【０００６】
しかしながら、従来のエッチング液を使用して大型のディスプレイマスクを製造した場合、とくに、ディスプレイ用マスク基板の面内全体をばらつきなく、均一にエッチングできるエッチング精度が劣るために、設計図面通りに再現された高精度のディスプレイマスクが得られない。
【０００７】
前記の酸性エッチング液は、単体であるいは濡れ性の向上を目的として界面活性剤を添加して使用されている。しかしながら、従来の炭化水素系の界面活性剤を添加したエッチング液は、上記の界面活性剤がその強酸化性のエッチング剤に対しての耐酸化性等の化学安定性、およびエッチング基材やレジストに対する濡れ性等の性能において充分な性能を発揮できないために、満足したエッチング特性が得られず、高精度のディスプレイマスクが得られない。
【０００８】
上記の炭化水素系の界面活性剤の換わりに、ある種のフッ素系の界面活性剤を使用したエッチング組成物（特許文献１）が提案されている。しかしながら、上記の特許文献１に開示の界面活性剤は、前記のエッチング液に対する溶解性や相溶性などが充分でないために、ディスプレイ用マスク基板やレジストパターンに対する充分な濡れ性やエッチングスピードに悪影響を及ぼし、エッチング後、得られるディスプレイマスクに形状欠陥を生じるなど、充分なエッチング特性が得られない。
【０００９】
上記のことから、高精度のディスプレイマスクが得られるエッチング特性が優れたエッチング液およびディスプレイマスクの製造方法が要望されている。
【００１０】
【特許文献１】特公昭６３−４５４６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って、本発明の目的は、設計図面通りに精度よく再現された大型の高精度のディスプレイマスクが得られるエッチング特性が優れたエッチング液およびディスプレイマスクの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、前記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記のエッチング剤と特定の界面活性剤とを水中に含有してなるエッチング液が、大型の高精度のディスプレイマスクが得られるエッチング特性が優れたエッチング液であることを見出した。すなわち、本発明は、少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムを含有するエッチング剤と、界面活性剤とを水中に含有してなり、上記の界面活性剤が直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩７０〜８０質量％と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩２０〜３０質量％との混合物（以下、単に［Ｅ成分］という場合がある）であることを特徴とするエッチング液を提供する。
【００１３】
また、本発明の好ましい実施形態では、前記の直鎖および分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数が、４、６、８であり、前記の直鎖のフッ化炭素基の炭素数（ｘ）と分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数（ｙ）が、ｘ＝ｙであり、前記のペルフルオロアルキルスルホン酸塩の塩基が、ナトリウム、カリウム、リチウム、またはアンモニウムであり、前記の混合物の濃度が、０．００１〜０．１質量％であり、さらに、過塩素酸、または過塩素酸および硝酸を含有しており、前記のエッチング剤の濃度が、１５〜４０質量％であり、前記エッチング剤が、硝酸第二セリウムアンモニウム（ｐ）と、過塩素酸（ｑ）または過塩素酸および硝酸（ｒ）との混合物であり、その配合割合が、ｑ／ｐ＝２５〜７５／１００（質量比）、ｒ／ｐ＝３０〜８０／１００（質量比）であり、および過塩素酸（ｒ１）と硝酸（ｒ２）との配合割合が、ｒ２／ｒ１＝２０〜８０／１００（質量比）であるエッチング液を提供する。
【００１４】
また、本発明の好ましい実施形態では、前記のエッチング液を使用してディスプレイ用マスク基板をエッチングすることを特徴とするディスプレイ用マスクの製造方法を提供する。この製造方法においては、ディスプレイ用マスク基板が、透明基板上側からクロム／酸化クロムの複合体、クロム／窒化クロムの複合体、酸化クロム／クロム／酸化クロムの複合体、クロム／ニッケル（合金）／酸化ニッケル（合金）の複合体、またはニッケル（合金）／クロム／酸化クロムの複合体であること、および前記のディスプレイ用マスクが、大型で画素数が多い液晶表示装置のカラーフィルター、配線または電極用、プラズマディスプレイ用およびエレクトロルミネセンスパネル用であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、設計図面通りの高精度の大型のディスプレイマスクが得られるエッチング特性が優れたエッチング液およびディスプレイマスクの製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。本発明を主として特徴づけるＥ成分であるペルフルオロアルキルスルホン酸塩は、下記の一般式（１）で表される直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩７０〜８０質量％と一般式（２）で表される分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩２０〜３０質量％との混合物である。
Ｒｆ1ＳＯ3Ｍ      （１）
Ｒｆ2ＳＯ3Ｍ      （２）
（上記式中のＲｆ1およびＲｆ2は、炭素数が４〜８のアルキル基のＨの全部をＦで置き換えたフッ化炭素基であり、Ｒｆ1は直鎖のフッ化炭素基であり、Ｒｆ2は分岐鎖のフッ化炭素基であり、また、Ｍはアルカリ金属、または第四級アンモニウム基である。）
【００１７】
上記の直鎖または分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩の各々を上記の配合割合に混合して使用することによりエッチング特性に優れた効果を発揮するエッチング液が得られる。
【００１８】
前記Ｅ成分中の直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩は、界面活性能は高いもののエッチング液のようなイオン性物質が多く含まれる溶液には非常に溶けにくい。一方、分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩は、溶解性は良いが、界面活性能は直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩と比較して劣る。
【００１９】
上記の直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩に適度な分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩を前記の混合割合になるように混入させることにより、固体のＥ成分の結晶化度を下げ、エッチング液中にＥ成分を高濃度に溶解でき、表面張力を充分に低下させることができる。
【００２０】
前記Ｅ成分中の直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩の割合が、前記上限を超えると、エッチング液への溶解性が低く、また温度変化による当該スルホン酸塩が析出しやすくなり、表面張力は高くなってしまう。一方、上記のペルフルオロアルキルスルホン酸塩の割合が、前記下限未満であると、これも表面張力が高くなり、充分なエッチング特性が得られない。
【００２１】
前記の直鎖および分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩は、それらを構成するフッ化炭素基の炭素数が４〜８であり、好ましくはその炭素数が４、６、８であるもの、特に好ましくはその炭素数が８のものが使用される。上記の炭素数が、上記上限を超える場合には、エッチング液に対する溶解性が悪くなり、また、上記下限未満の場合には、エッチング液に溶解しやすくなるが、界面活性剤としての性能が低下する。
【００２２】
また、前記のペルフルオロアルキルスルホン酸塩は、その直鎖のフッ化炭素基の炭素数（ｘ）と分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数（ｙ）が、ｘ＝ｙであるものが好ましく使用される。上記のペルフルオロアルキルスルホン酸塩としては、例えば、直鎖および分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数が８であるペルフルオロアルキルスルホン酸塩などが挙げられる。上記の直鎖および分岐鎖のフッ化炭素基の炭素数が同数のペルフルオロアルキルスルホン酸塩からなるＥ成分を使用したエッチング液は、より優れたエッチング特性を発揮し、高精度のディスプレイマスクが得られる。
【００２３】
前記のペルフルオロアルキルスルホン酸塩は、その塩基が、アルカリ金属、第四級アンモニウム基であり、好ましくはナトリウム、カリウム、リチウムまたはアンモニウムであり、より好ましくはカリウムまたはナトリウムである。他の金属塩はエッチング液に対する溶解性がよくないために、使用するには好ましくない。
【００２４】
前記のＥ成分は、その濃度がエッチング液中で０．００１質量％〜０．１質量％であるのが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜０．０７質量％で使用する。上記Ｅ成分の濃度が、上限質量％を超えると、エッチング液に溶け残るようになり、一方、その濃度が下限質量％未満であると、エッチング液の表面張力が低下せず、良好な湿潤濡れ性の効果が得られないために、得られるエッチング液のエッチング特性が低下する。
【００２５】
本発明のエッチング液を構成するエッチング剤としては、少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムを必須成分として含有するものであり、好ましくはさらに、過塩素酸、または過塩素酸および硝酸を含有して使用する。上記のエッチング剤は、エッチング液としての優れたエッチング特性を得るためには、エッチング液中の上記エッチング剤濃度が１５質量％〜４０質量％であることが好ましい。上記のエッチング剤濃度が、上限濃度を超えると、エッチング剤の溶解性が悪くなり、一方、エッチング剤の濃度が、上記下限未満であると、エッチング速度が遅くなる問題がある。
【００２６】
上記のエッチング剤を構成する硝酸第二セリウムアンモニウム（ｐ）と、過塩素酸（ｑ）、または過塩素酸および硝酸（ｒ）との好ましい配合割合は、ｑ／ｐ＝２５〜７５／１００（質量比）、ｒ／ｐ＝３０〜８０／１００（質量比）である。上記の過塩素酸（ｑ）、または過塩素酸および硝酸（ｒ）の割合が、上記上限を超えるとエッチング液中の硝酸第二セリウムアンモニウムの溶解性が低下して析出する問題があり、一方、上記下限未満であるとエッチング液が経時的に不安定になる。
【００２７】
また、上記のエッチング剤である過塩素酸および硝酸（ｒ）における、過塩素酸（ｒ１）と硝酸（ｒ２）との配合割合は、ｒ２／ｒ１＝２０〜８０／１００（質量比）であることが好ましい。上記の過塩素酸と併用される硝酸は、過塩素酸のエッチングスピードを調整するのに有効である。上記の硝酸の割合が、多過ぎると得られるエッチング液のエッチングスピードが遅くなりすぎ、一方、硝酸の割合が、少な過ぎるとエッチングスピードが速くなり、上記範囲内が、高精度のディスプレイマスクを得るのに適している。
【００２８】
本発明のエッチング液は、前記の硝酸第二セリウムアンモニウムを含有するエッチング剤と、Ｅ成分とを水に適宜に配合し、好ましくは上記の各成分が前記数値範囲内になるように配合して均一に混合溶解して調製する。なお、上記の成分以外の添加剤等は、エッチング後、得られるディスプレイマスク上に残留物として残る危険性があり、ディスプレイマスクの解像度などへの影響から、添加しない方が好ましい。
【００２９】
上記のエッチング液の調製に使用される水としては、イオン交換水、軟水、蒸留水など、好ましくはイオン交換水が挙げられる。硬水のように２価の金属イオンを含有するものは、フルオロアルキルスルホン酸塩と反応しやすく界面活性剤としての効果を低下させる場合があるので好ましくない。
【００３０】
本発明のエッチング液は、液晶表示装置に使用するカラーフィルター、配線または電極、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネセンスパネルなどを製造するために使用する高精度のディスプレイマスクを製造するのに使用することができる。とくに、原寸大の大型のディスプレイマスクを製造するのに有効である。
【００３１】
上記の本発明のエッチング液を使用したディスプレイマスクの製造方法としては、例えば、次の第一〜第六工程よりなっている。すなわち、洗浄処理されたソーダライムガラス、ホワイトクラウン、ホウケイ酸ガラスおよび無アルカリガラスなどの低膨張ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどの高軟化点ガラス、石英ガラスなどの透明基板表面に酸化クロムなどの複数のディスプレイマスクを構成する金属をスパッタリングあるいは真空蒸着などにより、厚み１００〜１５０ｎｍ、好ましくは１２０ｎｍ〜１３０ｎｍの金属薄膜複合体を形成し、ディスプレイ用マスク基板とする第一工程であり、上記のディスプレイ用マスク基板上に、ナフトキノンジアジドタイプなどのポジ型感光性樹脂組成物を０．６μｍ〜１．２μｍ（乾燥膜厚）になるように公知の方法で塗布、乾燥して感光性樹脂の塗膜を形成する第二工程、該感光性樹脂塗膜に所望のパターンを紫外線で露光描画させる第三工程、露光後、アルカリ現像液にて現像処理してエッチング用レジストマスクを形成する第四工程、現像後、必要に応じてレジスト膜の耐エッチング性を向上させるためのベーキング工程を経た後、本発明のエッチング液を使用してスプレイ法あるいは浸漬法によって４０秒間〜６０秒間エッチングを行い、レジストマスクで覆われていない金属薄膜複合体をエッチング除去する第五工程、および、エッチング後、レジストマスクをアルカリ性剥離液または有機溶剤系剥離液により除去し、洗浄してディスプレイマスクを得る第六工程からなる。
【００３２】
上記のディスプレイ用マスク基板としては、好ましくは前記の透明基板上側からクロム／酸化クロムの複合体、クロム／窒化クロムの複合体、酸化クロム／クロム／酸化クロムの複合体、クロム／ニッケル（合金）／酸化ニッケル（合金）の複合体、またはニッケル（合金）／クロム／酸化クロムの複合体などの金属薄膜複合体を形成したものが使用される。上記の酸化クロムは、得られるディスプレイマスクを使用して、所望の設計図面などを精度よく露光描画させるために、マスクと基板間での光反射の影響を極力抑えるのに有効である。なお、上記複合体の内で、ニッケル（合金）、酸化ニッケル（合金）とは、各々の金属と、バナジウム、モリブテン、タングステンから選ばれる少なくとも１種との合金である。
【００３３】
上記の透明基板としては、公知の寸法安定性のある１０ｍｍ程度の厚みを有する透明のディスプレイ用マスク基板として使用できるものであればいずれのものでもよく、例えば、洗浄処理されたソーダライムガラス、ホワイトクラウン、ホウケイ酸ガラス、および無アルカリガラスなどの低膨張ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどの高軟化点ガラス、石英ガラスなど、好ましくは石英ガラスが挙げられる。
【００３４】
上記の製造方法で得られたディスプレイマスクは、とくに、サイズ４０インチ以上の画素数が多い液晶表示装置のカラーフィルター、配線および電極、プラズマディスプレイ用およびエレクトロルミネセンスパネル用の製造に好ましく使用される。
【００３５】
上記の本発明のディスプレイマスクを使用したカラーフィルターの製造例として、例えば、カラーフィルター用ガラスに遮光層がパターン形成されたガラス基板に、公知の方法でネガ型の感光性着色組成物（着色レジスト）を塗布し、加熱乾燥して１〜３μｍ（乾燥厚み）の塗膜を得る。得られた塗膜に所望の画素を形成するため、その設計図面の通りに作成された本発明のディスプレイマスクを介して露光ギャップ１５０μｍ、高圧水銀灯あるいは超高圧水銀灯などにより紫外線を照射して露光描画する。露光後、光硬化した塗膜をアルカリ現像液を使用してスプレイ法や浸漬法にて現像し、未露光部分を溶解除去して所望の画素を得る。上記の画素を得る工程をカラーフィルターに必要とされる色の数だけ繰り返すことによって所望とするカラーフィルターが得られる。
【実施例】
【００３６】
次に本発明のエッチング液Ｋ１〜Ｋ５と比較例のエッチング液Ｌ１〜Ｌ４を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。文中「部」または「％」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。なお、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。
【００３７】
［実施例１〜５］（エッチング液Ｋ１〜Ｋ５）
エッチング剤とＥ成分、およびイオン交換水を使用して表１に示すように各々の成分を配合し、均一に撹拌混合して本発明のエッチング液Ｋ１〜Ｋ５を調製した。なお、上記のＥ成分は、下記の通りである。
・Ｅ成分
Ｅ１：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）８０部と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）２０部との混合物
Ｅ２：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）７０部と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）３０部との混合物
Ｅ３：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｎａ）７０部と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｎａ）３０部との混合物
Ｅ４：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｎａ）７５部と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｎａ）２５部との混合物
Ｅ５：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｌｉ）７５部と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｌｉ）２５部との混合物
【００３８】
［比較例１〜４］（エッチング液Ｌ１〜Ｌ４）
エッチング剤と界面活性剤Ｇ、およびイオン交換水を使用して表２に示すように各々の成分を配合し、均一に撹拌混合して比較例のエッチング液Ｌ１〜Ｌ４を調製した。なお、上記の界面活性剤Ｇは下記の通りである。
・界面活性剤Ｇ
Ｇ１：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）９０部と分岐鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）１０部との混合物
Ｇ２：直鎖のフッ化炭素基を有するペルフルオロアルキルスルホン酸塩（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｋ）単体
【００３９】
2009108352.tif 000002
上記表中の数値は配合部数を表す。
【００４０】
2009108352.tif 000003
上記表中の数値は配合部数を表す。
【００４１】
［実施例６〜１０および比較例５〜８］（ディスプレイマスクの製造例）
２５４ｍｍ角の洗浄処理された石英ガラス面上にスパッタ法によりガラス面側からクロム（９０ｎｍ）／酸化クロム（３０ｎｍ）とからなる総厚み１２０ｎｍの金属薄膜の複合体を形成したディスプレイ用マスク基板を作成し、該基板の金属薄膜面にナフトキノンジアジドタイプのポジ型レジスト（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製、ＡＺ−１５００）を１μｍ（乾燥膜厚）になるように公知の方法でコーティングし、乾燥後、ホール：スペースのピッチ比が１：１〜１：１．９の１．０μｍ、１．５μｍ、２．０μｍ、２．５μｍ、３．０μｍ角の各々のホールパターンおよび１μｍ〜５０μｍの複数のラインパターンからなるテストパターンを超高圧水銀灯により紫外線露光し、アルカリ現像液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製、ＡＺ３００ＭＩＦまたは東京応化工業製、ＮＭＤ−３［２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液］）にてスプレイ現像し、エッチング用レジストマスクを形成した。次に、上記のエッチング用レジストマスクを、２３℃に調整された前記の実施例または比較例のエッチング液を使用してスプレイにて５０秒間エッチングして、レジストマスクで覆われていない金属薄膜複合体をエッチング除去し、その後、レジストマスクをアルカリ性剥離液または有機溶剤により除去、洗浄してディスプレイマスクを得た。
【００４２】
上記の製造例により得られたディスプレイマスクについて、その精度に関し、ホールパターンの解像限界および面内ばらつきを、下記の測定方法により評価した。評価結果を表３に示す。
【００４３】
（ホールパターンの解像限界）
前記のホールパターンより、完全にエッチングされていないホールをカウントし、ホールパターンの解像限界値を測定する。上記の測定結果より微細加工のエッチング性を評価する。
【００４４】
（面内ばらつき）
前記の製造例により得られたディスプレイマスクの１０μｍのライン幅を選びその線幅をレーザ顕微鏡（オリンパス（株）製、ＯＬＳＩ１００）にて測定し、面内のばらつきを評価した。上記の測定結果よりエッチング精度を評価する。
【００４５】
2009108352.tif 000004
【００４６】
上記の評価結果より、本発明のエッチング液は、微細加工のエッチング性と、面内を均一にばらつきなくエッチングすることができるエッチング精度が優れており、設計図面通りの高精度のディスプレイマスクが得られることが実証された。一方、比較例のエッチング液は、特に、ホールパターンでは、ピッチの狭い（１：１で、エッチングすべく金属薄膜の多い）場合に抜け残りが多く見られた。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明のエッチング液は、エッチング特性が優れていることから、画素数が多い液晶表示装置のカラーフィルター、配線または電極、プラズマディスプレイ用およびエレクトロルミネセンスパネル用の製造に使用される大型のディスプレイマスクが得られるエッチング液として有効に使用することができる。