(57)【要約】【課題】耐久性の良好な防汚層を有する光学物品の製造方法を提供する。【解決手段】基材２００の上に反射防止層を形成することと、ペレット５９を用いた真空蒸着法により、反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する製造方法を提供する。ペレット５９は、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。反応活性が適当な状態となったフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレット内に固定することができ、拭き耐久性の高い防汚層を成膜できる。【選択図】図１
2009139530.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の上に有機または無機の反射防止層を形成することと、
ペレットを用いた真空蒸着法により、前記反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する光学物品の製造方法であって、
前記ペレットは、
フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態の前記フッ素含有有機ケイ素化合物を含む前記防汚溶液を含浸した後、
前記触媒の蒸発温度以上、前記フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである、光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記フッ素含有有機ケイ素化合物は、下記の一般式（１）〜（３）により表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物のうちの少なくとも１つを含む、光学物品の製造方法。
【化１】
2009139530.tif 000005
ただし、上記一般式（１）中において、Ｒｆ1は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｘは、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｙは、水素または低級アルキル基を表す。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ1は、水酸基または加水分解可能な基を表す。Ｒ2は、水素または１価の炭化水素基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、上記一般式（１）において限定されない。ｆは、０、１または２を表す。ｇは、１、２または３を表す。ｈは、１以上の整数を表す。
【化２】
2009139530.tif 000006
ただし、上記一般式（２）中において、Ｒｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（前記式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基を表す。Ｒ3は、炭素数１〜８の１価の炭化水素基を表す。Ｗは、加水分解性基またはハロゲンを表す。ｐは、０、１または２を表す。ｎは、１〜５の整数を表す。ｍおよびｒは、それぞれ独立して、２または３を表す。
Ｆ3Ｃ−（ＣＦ2）s−（ＣＨ2）t−Ｓｉ−（Ｒ）3-u（Ｏ−Ｒ）u    ・・・（３）
ただし、上記一般式（３）中において、Ｒは、炭素数１以上のアルキル基を表す。ｓは、１〜１１の整数を表す。ｔは、１〜４の整数を表す。ｕは、１〜３の整数を表す。
【請求項３】
請求項１または２において、前記フッ素含有有機ケイ素化合物を１００重量部としたときの前記触媒の添加量は、０．０１〜１０重量部である、光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記防汚溶液は、前記ペレットに含浸する前に、前記触媒の添加後、２時間〜１２時間攪拌したものである、光学物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスあるいはプラスチックなどの基材の上に、反射防止層および防汚層を備えた光学物品の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、真空蒸着によって基板表面に反射防止膜（反射防止層）を形成後、酸素もしくはアルゴンを導入してプラズマ処理を行い、その後、フッ素含有有機ケイ素化合物を真空蒸着して防汚層を形成する、防汚性光学物品の製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−３０１２０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
防汚剤（防汚溶液）を真空蒸着方式で基板に成膜して防汚層を形成する場合、基板表面（反射防止層の表面）と防汚剤（防汚剤分子）との間に化学結合が形成され、これにより、防汚剤分子は基板表面（反射防止層の表面）に固定される。しかしながら、反応性が低い防汚剤では、基板表面（反射防止層の表面）に防汚剤分子が十分に固定されず、防汚層の耐久性が劣る場合がある。
【０００４】
また、基板表面（反射防止層の表面）に防汚剤分子が配向しない、あるいは配向し難いため、良好な防汚性能が発現し難い場合もある。基板側では、プラズマ処理などの手法で活性基を生じさせることが可能であるが、このようにしても、反応相手側である防汚剤の反応性が劣る場合には、良好な効果が得られ難い。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様は、基材の上に有機または無機の反射防止層を形成することと、ペレットを用いた真空蒸着法により、反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する光学物品の製造方法である。この製造方法において、ペレットは、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。
【０００６】
この製造方法によれば、ペレットに含浸する防汚溶液（防汚剤、防汚剤溶液）には触媒を添加する。このため、防汚溶液に含まれるフッ素含有有機ケイ素化合物は活性状態となる、すなわち、フッ素含有有機ケイ素化合物の反応（加水分解）を進行させることができる。また、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレットに含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理する。このため、フッ素含有有機ケイ素化合物の反応活性が適当な状態で、触媒のみが除去される。したがって、反応活性が適当な状態となったフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレット内に固定することができる。防汚剤であるフッ素含有有機ケイ素化合物の分子を触媒作用により成膜に適した状態にし、その状態でペレット内に固定化できるため、そのペレットを用い、安定した、例えば、接触角が十分に大きく、拭き耐久性の高い防汚層を成膜できる。
【０００７】
防汚層を形成するフッ素含有有機ケイ素化合物（含フッ素シラン化合物）は、下記の一般式（１）〜（３）により表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物のうちの少なくとも１つを含むことが好ましい。
【０００８】
【化３】
2009139530.tif 000003
ただし、上記一般式（１）中において、Ｒｆ1は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｘは、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｙは、水素または低級アルキル基を表す。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ1は、水酸基または加水分解可能な基を表す。Ｒ2は、水素または１価の炭化水素基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、上記一般式（１）において限定されない。ｆは、０、１または２を表す。ｇは、１、２または３を表す。ｈは、１以上の整数を表す。
【０００９】
【化４】
2009139530.tif 000004
ただし、上記一般式（２）中において、Ｒｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（前記式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、これは分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基を表す。Ｒ3は、炭素数１〜８の１価の炭化水素基を表す。Ｗは、加水分解性基またはハロゲンを表す。ｐは、０、１または２を表す。ｎは、１〜５の整数を表す。ｍおよびｒは、それぞれ独立して、２または３を表す。
【００１０】
Ｆ3Ｃ−（ＣＦ2）s−（ＣＨ2）t−Ｓｉ−（Ｒ）3-u（Ｏ−Ｒ）u    ・・・（３）
ただし、上記一般式（３）中において、Ｒは、炭素数１以上のアルキル基を表す。ｓは、１〜１１の整数を表す。ｔは、１〜４の整数を表す。ｕは、１〜３の整数を表す。
【００１１】
なお、上記一般式（１）中のＲｆ1は、通常、有機含フッ素ポリマーを構成するパーフルオロアルキル基であれば、特に限定されず、例えば、炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基を挙げることができる。好ましくは、ＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−、Ｃ3Ｆ7−である。
【００１２】
上記一般式（１）中のＸが臭素またはヨウ素である場合には、上記一般式（１）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物のラジカル反応性が高くなるので、化学結合により他の化合物と結合させるのには好都合である。上記一般式（１）中のＹとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などを挙げることができる。これらは、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００１３】
上記一般式（１）中のＲ1が加水分解可能な置換基である場合、加水分解可能な置換基としては特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、ハロゲン、−ＯＲ11、−ＯＣＯＲ11、−ＯＣ（Ｒ11）＝Ｃ（Ｒ12）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ11）2、−ＯＮ＝ＣＲ13などを挙げることができる。ただし、Ｒ11は、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Ｒ12は、水素または炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ13は、炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。より好ましくは、上記一般式（１）中のＲ1は、塩素、−ＯＣＨ3、−ＯＣ2Ｈ5である。上記一般式（１）中のＲ2は、水素または１価の炭化水素基を表す。上記１価の炭化水素基としては、特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などを挙げることができる。上記１価の炭化水素基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００１４】
上記一般式（１）中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、フッ素含有有機ケイ素化合物の主骨格を構成するパーフルオロポリエーテル鎖の繰り返し単位数を表し、それぞれ独立して、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅが１以上であれば特に限定されないが、それぞれ独立して、０〜２００であることが好ましい。さらに、上記一般式（１）のフッ素含有有機ケイ素化合物の分子量を考慮すれば、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、より好ましくは、それぞれ独立して、０〜５０である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、好ましくは、１〜１００である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、一般式（１）中においてはこの順に記載したが、通常のパーフルオロポリエーテル鎖の構成によって、これらの各繰り返し単位の結合順序は、この順に限定されるものではない。
【００１５】
上記一般式（１）中のｆは、パーフルオロポリエーテル鎖を構成する炭素とこれに結合するケイ素との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、０、１または２である。上記一般式（１）中のｇは、ケイ素に結合する置換基Ｒ1の結合数を表し、１、２または３である。置換基Ｒ1が結合していない部分には、当該ケイ素にはＲ2が結合する。上記一般式（１）中のｈは、１以上の整数を表し、特に上限はないが、１〜１０の整数であることが好ましい。上記一般式（１）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物の分子量は、５×１０2〜１×１０5が好ましい。５×１０2未満では、防汚性能に関する効果を発揮し難く、１×１０5を超えると加工性に乏しくなる。より好ましくは、１×１０3〜１×１０4である。
【００１６】
上記一般式（２）中のＲｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造からなる２価の基である。なお、上記一般式（２）中のｐがそれぞれ０である場合、一般式（２）中の酸素（酸素原子）に結合するＲｆ2の末端は、酸素（酸素原子）ではない。上記一般式（２）中のＲｆ2としては、例えば、下記一般式で示されるものが挙げられる。ただし、Ｒｆ2は、下記に例示されるものに限定されない。
−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）vＣＦ2ＣＦ2−
（式中、ｖは１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数である。）
−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）v’−（ＯＣＦ2）v’’−
（式中、ｖ’およびｖ’’は、それぞれ、１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数であり、かつｖ’とｖ’’との和は、１０〜１００、好ましくは２０〜９０、より好ましくは４０〜８０の整数であり、この式中の繰り返し単位の（ＯＣ2Ｆ4）、および（ＯＣＦ2）の配列はランダムである。）
【００１７】
上記一般式（２）中のＲ3は、炭素数１〜８、好ましくは１〜３の１価の炭化水素基であり、例えば、以下のようなものが挙げられる。メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基またはシクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基またはフェニル基、トリル基、キシリル基などのアリール基またはベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基またはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基などのアルケニル基。これらの中でもメチル基が好適である。
【００１８】
上記一般式（２）中のＷが加水分解性基である場合、例えば、以下のようなものが挙げられる。メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基などのアルコキシアルコキシ基またはアリロキシ基、イソプロペノキシなどのアルケニルオキシ基またはアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などのアシロキシ基またはジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンノキシム基、シクロヘキサノキシム基などのケトオキシム基またはＮ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基などのアミノ基またはＮ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基などのアミド基またはＮ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基などのアミノオキシ基。
【００１９】
また、上記一般式（２）中のＷがハロゲン（ハロゲン原子）である場合、例えば、以下のようなものが挙げられる。塩素（塩素原子）、臭素（臭素原子）、ヨウ素（ヨウ素原子）など。これらの中でも、Ｗとしては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基および塩素（塩素原子）が好適である。
【００２０】
上記の一般式（２）中のｐは０〜２の整数であり、１であることが好ましい。また、上記の一般式（２）中のｎは１〜５の整数であり、３であることが好ましい。上記の一般式（２）中のｍおよびｒは、それぞれ独立して２または３であり、加水分解及び縮合反応性および被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。
【００２１】
上記一般式（２）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性シラン（パーフルオロポリアルキレンエーテル変性シランの加水分解縮合物）の分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さなどの点から、数平均分子量で５×１０2〜２×１０4が好ましく、１×１０3〜１×１０4がさらに好ましい。
【００２２】
上記一般式（３）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、以下のようなパーフルオロアルキルアルキレンアルコキシシラン化合物が挙げられる。
ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3、
ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ2Ｈ5)2、
ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3、
ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ3Ｈ7)3、
ＣＦ3(ＣＦ2)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ3Ｈ7)3、
ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ3Ｈ7)2、
ＣＦ3(ＣＦ2)5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ3Ｈ7)2、
ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ3Ｈ7)2
【００２３】
本発明の製造方法においては、触媒を含む防汚溶液を含浸したペレットを触媒の蒸発温度以上、防汚剤であるフッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理する。このため、触媒作用の最適な地点で防汚剤分子をペレット内に固定化できる。例えば、ペレット内に触媒が残存していると、防汚剤分子同士が自己縮合を始めてしまい、そのような状態の防汚剤を基板に蒸着しても所定の性能が得られなくなってしまう。本発明の方法では、反応活性が最適な状態で防汚剤をペレット内に固定できるので、安定した成膜が可能である。例えば、本発明の一態様にかかる製造方法は、上記一般式（３）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物を用いる場合、一般式（３）のＲが炭素数２以上のアルキル基である場合に、特に好適である。これは、特に上記一般式（３）のＲの炭素数が増加するほど、反応性が低くなるためである。
【００２４】
防汚層を形成するための防汚溶液に含めることが可能な溶剤としては、フッ素含有有機化合物（含フッ素有機化合物）から成る溶剤で、例えば、以下のようなものが挙げられる。パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタンなどのフッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）などのフッ素変性エーテル系溶剤、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミンなどのフッ素変性アルキルアミン系溶剤、石油ベンジン。含フッ素有機化合物からなる溶剤は、これらのうちの１種を単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらのなかでも、変性シランの溶解性、塗布対象面の濡れ性などの点で、フッ素変性された溶剤が好ましく、特に、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、あるいはパーフルオロトリブチルアミンが好ましい。
【００２５】
触媒としては、例えば、硬化の促進に用いられる硬化触媒と呼ばれる触媒を用いることができる。具体的には、触媒としては、エステル交換触媒を用いることができる。エステル交換触媒の具体例としては、例えば、チタン化合物、スズ化合物、鉛化合物、ジルコニウム化合物、モリブデン化合物、およびイッテルビウム化合物から選ばれる少なくとも１つの化合物が挙げられる。
【００２６】
触媒として機能するチタン化合物の例としては、ＴｉＸ13、Ｔｉ（ＯＡｃ）3、Ｔｉ（ＯＭｅ）3、Ｔｉ（ＯＥｔ）3、Ｔｉ（ＯＢｕ）3、Ｔｉ（ＯＰｈ）3、ＴｉＸ14、Ｔｉ（ＯＡｃ）4、Ｔｉ（ＯＭｅ）4、Ｔｉ（ＯＥｔ）4、Ｔｉ（ＯＢｕ）4、Ｔｉ（ＯＰｈ）4などが挙げられる。ただし、Ａｃはアセチル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｘ1はハロゲン（ハロゲン原子）を表す。
【００２７】
触媒として機能するスズ化合物の例としては、Ｐｈ4Ｓｎ、Ｓｎ（ＯＡｃ）4、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＡｃ）2、Ｍｅ3ＳｎＯＡｃ、Ｅｔ3ＳｎＯＡｃ、Ｂｕ3ＳｎＯＡｃ、Ｐｈ3ＳｎＯＡｃなどのスズのアセトキシ錯体、Ｓｎ（ＯＭｅ）4、Ｓｎ（ＯＥｔ）4、Ｓｎ（ＯＰｈ）4、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＭｅ）2、Ｐｈ2Ｓｎ（ＯＭｅ）2、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＥｔ）2、Ｐｈ2Ｓｎ（ＯＰｈ）2、Ｅｔ3ＳｎＯＭｅ、Ｐｈ3ＳｎＯＭｅなどのスズのアルコキシまたはアリールオキシ錯体、Ｍｅ3Ｓｎ（ＯＣＯＰｈ）、Ｂｕ2ＳｎＯ、ＢｕＳｎＯ（ＯＨ）、Ｅｔ3ＳｎＯＨ、Ｐｈ3ＳｎＯＨ、Ｂｕ2ＳｎＣｌ2などが挙げられる。ただし、Ａｃはアセチル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
【００２８】
この製造方法において、フッ素含有有機ケイ素化合物を１００重量部としたときの触媒の添加量は０．０１〜１０重量部であることが好ましい。より好ましくは、フッ素含有有機ケイ素化合物を１００重量部としたときの触媒の添加量は０．１〜５重量部であり、特に好ましくは、０．２〜４重量部である。
【００２９】
また、この製造方法において、防汚溶液は、ペレットに含浸する前に、触媒の添加後、２時間〜１６時間攪拌したものであることが望ましい。攪拌時間が２時間未満、例えば０．５時間程度であると、形成される防汚層は、初期の時点において十分な接触角が得られるという効果が得られ難い。これは、フッ素含有有機ケイ素化合物の加水分解が不足しているためであると考えられる。攪拌時間が１６時間を超えると、例えば、２０時間では、初期接触角の向上が得られ難いことが認められる。
【００３０】
この製造方法において、防汚溶液は、ペレットに含浸する前に、触媒の添加後、２時間〜１２時間攪拌したものであることがさらに好ましい。攪拌時間が１２時間を超えると、例えば、１６時間程度であると、形成される防汚層の初期の時点において、十分な接触角が得られるという効果はあるが、耐久性の向上という効果は若干不足し易い。これは、フッ素含有有機ケイ素化合物の自己縮合が進み、反射防止層とフッ素含有有機ケイ素化合物との間に化学結合が阻害されるためであると考えられる。
【００３１】
この製造方法では、反射防止層の上に耐久性の良好な防汚層を形成することができる。有機系の反射防止層の一例は、（４）成分と、（５）成分とを含有する組成物から形成されるものである。
（４）一般式：Ｒ4iＲ5jＳｉＸ24-i-jで表される有機ケイ素化合物
（ただし、上記式（４）中において、Ｒ4は重合可能な反応基を有する有機基を表す。Ｒ5は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。Ｘ2は加水分解性基を表す。ｉおよびｊは、少なくとも一方は１であり、他方は０または１である。）
（５）シリカ系微粒子
【００３２】
この有機系の反射防止層を形成する（４）成分の有機ケイ素化合物のＲ4は、重合可能な反応基を有する有機基であり、例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基などが挙げられる。（４）成分の有機ケイ素化合物のＲ5は、炭素数１〜６の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基などが挙げられる。（４）成分の有機ケイ素化合物のＸ2は、加水分解可能な官能基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基などのアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲン基、アシルオキシ基などが挙げられる。
【００３３】
（４）成分の有機ケイ素化合物の具体的な例は、以下のようなものである。テトラメトキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ（β−メトキシ−エトシキ）シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン。
【００３４】
この有機系の反射防止層を形成する（５）成分のシリカ系微粒子の具体的な例は、平均粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子のシリカを、例えば水、アルコール系溶剤、もしくはその他の有機溶剤にコロイド状に分散させたシリカゾルである。このシリカ系微粒子は、内部空洞（隙間）を有するものが望ましい。内部空洞を有するシリカ系微粒子を用いることによって、反射防止層の屈折率を低下させることができ、基材または基材の上に形成された層（例えばハードコート層）との屈折率の差を大きくして、反射防止効果を高めることができる。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶剤が包含されることにより、空洞のないシリカ系微粒子よりも屈折率が低減されるため、反射防止層の低屈折率化が達成される。
【００３５】
なお、有機系の反射防止層を形成するための組成物は、（４）成分および（５）成分の他に、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂などの各種樹脂や、これらの樹脂原料となるメタアクリレート類、アクリレート類、エポキシ類、ビニル類などの各種モノマーを含んでいてもよい。屈折率を低減する機能を有するものとしては、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーが挙げられる。したがって、反射防止層を形成するための組成物は、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーを含んでいてもよい。フッ素含有ポリマーは、フッ素含有ビニルモノマーを重合して得られるポリマーが好ましく、さらに他の成分と共重合可能な官能基を有することが好ましい。
【００３６】
有機系の反射防止層を形成するための組成物は、溶剤を含んでいてもよい。すなわち、反射防止層を形成するための組成物は、塗布液とするために、必要に応じ、溶剤に希釈して用いることができる。溶剤としては、例えば、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類、芳香族類などの溶剤が挙げられる。さらに、反射防止層を形成するための組成物は、必要に応じて、少量の硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノールなどの光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光染料・顔料などを添加し、コーティング液としての塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良することもできる。
【００３７】
無機物からなる単層または多層の反射防止層は、例えば、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリングなどのいわゆるＰＶＤ法によって施すことができる。無機の反射防止層の一例としては、基材または基材の上に形成された層（例えばハードコート層）などよりも低屈折率の無機層と、低屈折率の無機層よりも高屈折率の無機層とを複数積層させたものが挙げられる。無機系の反射防止層を形成する際に使用できる無機物としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）などの酸化物あるいはフッ化物などが挙げられる。無機物からなる多層の反射防止層は、具体的には、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2などの材料から構成される低屈折率層と、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｙ2Ｏ3などの材料から構成される高屈折率層とを積層させたものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
（実施例１）
図１は、成膜装置５０の概略構成を示している。この成膜装置５０は、支持装置８０に搭載された基材（ワーク）２００の表面に真空蒸着法により無機の多層構成の反射防止層を形成するとともに、反射防止層に重ねて真空蒸着法により防汚層を形成することができる。
【００３９】
図２は、本発明の製造方法で得られる光学物品の一例を模式的に示している。以下では、光学物品１００ａとして、例えば、メガネ用のレンズを形成するための基材２００ａを例として説明する。
【００４０】
支持装置８０は、上方に凸に湾曲した円盤状のドーム８１を備えており、このドーム８１には、同心円状に複数の基材２００ａが配列できるようになっている。この成膜装置５０では、ドーム８１を回転させながら、反射防止層１０５ａを成膜し、プラズマ処理を行い、その後、防汚層１０６を成膜する。本例では、基材２００ａは、プラスチック製のレンズ本体（レンズ基材、レンズ、プラスチックレンズ）１０１の上にハードコート層１０３が形成されたものである。レンズ本体１０１がガラス製の場合には、ハードコート層１０３が省略される場合もある。この場合には、ガラス製のレンズ本体１０１が基材２００ａとなる。レンズ本体１０１とハードコート層１０３との間には、プライマー層１０２（図９参照）を形成してもよい。
【００４１】
成膜装置５０は、支持装置８０が内部を通過可能な３つのチャンバーＣＨ１、ＣＨ２およびＣＨ３を備えている。各々のチャンバーＣＨ１〜ＣＨ３は相互に密封できるようになっており、各チャンバーＣＨ１〜ＣＨ３の内圧は、真空生成装置５２、５３および５４によりそれぞれ制御されるようになっている。
【００４２】
チャンバーＣＨ１は、エントランス（ゲートチャンバー、第１のチャンバー）であり、外部から支持装置８０を導入した後、一定の時間、一定の圧力以下にチャンバーＣＨ１の内部を保持することにより、脱ガスを行うことができる。チャンバーＣＨ１には、ロータリポンプ５２ａ、ルーツポンプ５２ｂおよびクライオポンプ５２ｃを備えた真空生成装置５２が設けられている。
【００４３】
チャンバーＣＨ２は、反射防止層（ＡＲ層）１０５ａを成膜するための第２のチャンバーである。このため、このチャンバーＣＨ２の内部には、ＡＲ蒸着源５５ａおよび５５ｂと、ＡＲ蒸着源５５ａおよび５５ｂを蒸着させる電子銃５６と、蒸着量を調整するための開閉可能なシャッタ５７とが設けられている。反射防止層１０５ａは、例えば、二酸化ケイ素ＳｉＯ2を主成分とする低屈折率のサブレイヤと、他の組成からなる高屈折率のサブレイヤ、例えば、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2の１つまたは複数が積層された構造が採用される。このため、チャンバーＣＨ２内には、少なくとも２つの蒸着源５５ａおよび５５ｂと、それらを加熱溶融するための少なくとも２つの電子銃５６とが用意されている。チャンバーＣＨ２は、ロータリポンプ５３ａ、ルーツポンプ５３ｂおよびクライオポンプ５３ｃを備えた真空生成装置５３により適当な圧力に保持される。
【００４４】
また、チャンバーＣＨ２には、高周波プラズマ発生装置６９が設けられている。詳しくは、チャンバーＣＨ２には、高周波プラズマを発生するためのＲＦコイル６０が収納されている。ＲＦコイル６０を、マッチングボックス６１を介して高周波発振器６２と接続することにより、チャンバーＣＨ２内に、所定の周波数で、所定の出力のプラズマを発生させることができるようになっている。さらに、チャンバーＣＨ２は、このチャンバーＣＨ２内の雰囲気を制御するオートプレッシャーコントローラ６５とマスフローコントローラ６６とが接続されている。マスフローコントローラ６６には、酸素ガス６３とアルゴンガス６４の供給源が接続されており、チャンバーＣＨ２内の雰囲気をそれらのガスが１００％または適当な比率となるように制御できる。
【００４５】
チャンバーＣＨ３は、反射防止層１０５ａの上にフッ素含有有機ケイ素化合物を蒸着することにより、防汚層１０６を成膜するための第３のチャンバーである。このため、このチャンバーＣＨ３の内部には、フッ素含有有機ケイ素化合物が含浸された蒸着源（ペレット）５９と、加熱ヒータ（ハロゲンランプ）６８と、補正板６７とが設けられている。チャンバーＣＨ３は、ロータリポンプ５４ａ、ルーツポンプ５４ｂおよびターボ分子ポンプ５４ｃを備えた真空生成装置５４により適当な圧力に保持される。
【００４６】
次に、本発明の第１の実施形態にかかるレンズ１００ａの製造方法について説明する。
【００４７】
まず、基材２００ａとして、プラスチックレンズ（セイコーエプソン株式会社製：商品名「セイコースーパーソブリン」）１０１にハードコート層１０３が形成されたものを用意した。
【００４８】
ハードコート層１０３は、例えば、以下のように形成した。まず、ハードコート層を塗布により形成するためのコーティング液ＨＣ１を調製する。メタノール７８ｇと、ブチルセロソルブ１００．３ｇと、メタノール分散ルチル型酸化チタン複合ゾル（触媒化成工業株式会社製、固形分濃度２０重量％、商品名「オプトレイク１１２０Ｚ」）１３８０．９ｇと、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２８９．９ｇとを混合した。この混合液に、０．０５Ｎ塩酸水溶液８０．１ｇを攪拌しながら滴下し、さらに４時間攪拌後一昼夜熟成させた。この液に、過塩素酸マグネシウム４．４ｇと、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー株式会社）製、商品名「Ｌ−７００１」）０．６ｇと、ヒンダードアミン系光安定剤（三共株式会社製、商品名「サノールＬＳ−７７０」）２．３ｇとを添加した。さらに、４時間攪拌した後、一昼夜熟成させて、コーティング液ＨＣ１とした。
【００４９】
このコーティング液ＨＣ１を、浸漬法（引き上げ速度２５ｃｍ／分）により、プラスチックレンズ１０１に塗布し、さらに、８０℃で３０分間、加熱・硬化処理し、さらに、１２０℃で１８０分間、加熱・硬化処理した。このようにして、膜厚２．２μｍ、屈折率１．６７のハードコート層１０３を形成した。
【００５０】
基材２００ａ（プラスチックレンズ１０１にハードコート層１０３が形成されたもの）を支持装置８０にセットし、チャンバーＣＨ１において脱ガスした。その後、支持装置８０をチャンバーＣＨ２に移動させ、チャンバーＣＨ２において、ＳｉＯ2層１０４ａ、１０４ｃおよび１０４ｅと、ＺｒＯ2層１０４ｂおよび１０４ｄとを交互に蒸着し、これらの層１０４ａ〜１０４ｅからなる無機系の反射防止層１０５ａを形成した。この反射防止層１０５ａの最上層１０４ｅは、ＳｉＯ2層である。
【００５１】
引き続き、チャンバーＣＨ２内に酸素ガス（１００％）を導入し、圧力を４．０×１０-2Ｐａに制御しつつ、高周波プラズマ発生装置６９を用いてプラズマを発生させた。プラズマの発生条件は、１３．５６ＭＨｚ、０．４ｋＷであり、０．５分間処理を行った。このようにすることにより、反射防止層１０５ａの表面（最上層１０４ｅの表面）には、シラノール基が生成される。
【００５２】
その後、支持装置８０をチャンバーＣＨ３に移動させ、蒸着源（ペレット）５９を用いた真空蒸着法により、反射防止層１０５ａに重ねて防汚層１０６を形成した。蒸着源（ペレット）５９としては、フッ素含有有機ケイ素化合物である、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3が含浸されたものを用いた。
【００５３】
ここでペレット５９の製造方法について詳しく説明する。まず、フッ素含有有機ケイ素化合物、本例では、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3に、触媒として、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＡｃ）2を、対固形分で０．２％となるように添加した。さらに、フッ素系溶剤（住友スリーエム株式会社製：商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）により希釈して、固形部分濃度が３％の防汚溶液ＴＬを調製した。その後（触媒添加後）、この防汚溶液ＴＬを、ペレット５９に含浸する前に、常温で２時間攪拌した。攪拌後、多孔質セラミック製のペレット５９に防汚溶液ＴＬを１ｇ含浸（滴下）した。この際、目的とする固形分量が得られるように滴下量を設定する。防汚溶液ＴＬを含浸させたペレット５９をオーブンに投入して、９０℃で２０分加熱処理（乾燥）させた。これにより、触媒と溶媒とが蒸発するため、触媒効果も停止する。触媒が残っていると、フッ素含有有機ケイ素化合物同士の自己縮合が始まってしまい、反射防止層１０５ａの上に蒸着しても、所定の性能が得られなくなるおそれがある。このような方法により生成したペレット５９をチャンバーＣＨ３にセットして減圧する。減圧後、ペレット５９を加熱して、真空蒸着法により、反射防止層１０５ａに重ねて防汚層１０６を形成（蒸着）した。
【００５４】
防汚層１０６の成膜中は、加熱ヒータ（ハロゲンランプ）６８を使用し、蒸着源であるペレット５９を６００℃に加熱して、フッ素含有有機ケイ素化合物を蒸発させた、蒸着時間は３分とした。防汚層１０６を形成した後、支持装置８０をチャンバーＣＨ３から取り出し、片面に反射防止層１０５ａおよび防汚層１０６が形成された基材（ワーク）２００ａを反転させて、支持装置８０にセットした。上記と同様の処理を行うことにより、もう一方の面にも、反射防止層１０５ａおよび防汚層１０６を成膜した。これにより、光学物品（メガネ用のレンズ）１００ａが形成された。
【００５５】
図３は、防汚溶液ＴＬに添加した触媒Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＡｃ3）2の熱分析結果を示す図である。上述したように、Ａｃはアセチル基である。図４は、防汚溶液ＴＬに含有するフッ素含有有機ケイ素化合物（一般式（３）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物の一種）であるＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3の熱分析結果を示す図である。図５は、同様に防汚溶液ＴＬに含有することができるフッ素含有有機ケイ素化合物（一般式（２）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＹ−１３０」））の熱分析結果を示す図である。
【００５６】
フッ素含有有機ケイ素化合物を活性状態とする触媒は、一般に、フッ素含有有機ケイ素化合物よりも蒸発温度が低い。例えば、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＡｃ）2は、９０℃程度あるいはそれ以下の温度で蒸発する。この温度に対し、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度は十分に高く、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3は、２５０℃程度で蒸発し、一般式（２）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＹ−１３０」）は、４５０℃程度で蒸発する。したがって、防汚溶液ＴＬを９０℃程度の温度で熱処理することは、防汚溶液ＴＬに含まれる触媒に対しては蒸発温度以上の温度で熱処理し、防汚溶液ＴＬに含まれるフッ素含有有機ケイ素化合物については蒸発温度未満の温度で熱処理することになる。防汚溶液（防汚剤溶液）ＴＬに触媒を添加して一定時間放置して（攪拌して）反応を進行させ、ペレットに滴下後、触媒の蒸発温度以上で、防汚剤であるフッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度より低い温度である９０℃程度で加熱処理することにより、溶媒と触媒とを選択的に除去でき、ペレットに、反応活性が最適な状態の防汚剤を固定できる。
【００５７】
たとえば、ペレット内に触媒が残存していると、防汚剤分子同士が自己縮合を始めてしまい、基板に蒸着しても所定の性能が得られなくなってしまう。したがって、触媒を添加したフッ素含有有機ケイ素化合物を含み、触媒を添加した防汚溶液ＴＬを常温で２時間程度攪拌することによりフッ素含有有機ケイ素化合物を活性化し、その後、９０℃程度で加熱することにより触媒を除去する。
【００５８】
さらに、本例の製造方法においては、触媒を含む防汚溶液ＴＬをペレット５９に含浸させ、その後、ペレット５９の状態で、９０℃程度で加熱する。したがって、防汚溶液ＴＬを、ペレット５９に含浸させた少量の溶液単位で温度管理し、溶液ＴＬに含まれるフッ素含有有機ケイ素化合物の反応活性を制御できる。このため、ペレット５９に含浸させた防汚溶液ＴＬを比較的短時間で精度良く加熱でき、所望の状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含んだペレット５９を提供できる。
【００５９】
（比較例１）
上記実施例１において製造されたメガネ用のレンズ１００ａと比較するため、比較用のレンズを製造した。製造に際しては、上記実施例１とほぼ同様の方法を採用し、ペレット５９に含浸する防汚溶液に触媒を添加しなかった。その他は、上記実施例１と同様の方法で、プラスチックレンズ１０１の上に、ハードコート層１０３、反射防止層１０５ａ、防汚層１０６を形成した。
【００６０】
図６は、実施例１において製造されたメガネ用レンズと、比較例１において製造されたメガネ用レンズとにおける接触角の測定結果を示している。接触角の測定には、接触角計（協和科学株式会社製：商品名「ＣＡ−Ｄ型」）を使用し、液滴法による純水の接触角を測定した。
【００６１】
図６に示すように、実施例１において製造されたメガネ用レンズのサンプル１−１および１−２では、接触角が１００°を越えており、十分な撥水性が得られることがわかった。これは、ペレット５９内のフッ素含有有機ケイ素化合物の反応（加水分解）が適度に進行しており、反射防止層１０５ａの表面に、フッ素含有有機ケイ素化合物が良好に固定されたためであると考えられる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物分子（防汚剤分子）が表面で十分に配向しているためであると考えられる。
【００６２】
これに対し、比較例１において製造されたメガネ用レンズのサンプル２−１および２−２では、接触角が１００°以下であり、サンプル１−１および１−２は撥水性が向上していることがわかった。サンプル２−１および２−２においては、ペレット５９内のフッ素含有有機ケイ素化合物の反応（加水分解）が良好に進んでいないとともに、フッ素含有有機ケイ素化合物分子が表面で十分に配向していないため、サンプル１−１および１−２のような撥水性が得られないと考えられる。
【００６３】
反射防止層１０５ａの表面に防汚層１０６を形成する場合、良好な接触角を得るためには、防汚剤分子（フッ素含有有機ケイ素化合物）の−ＣＦ3が表面に位置する垂直配向が理想的である。実施例１のサンプル１−１および１−２では、垂直配向あるいはそれに近い配向状態になり、接触角が向上したと考えられる。それに対し、比較例１のサンプル２−１および２−２では、−ＣＦ2−や−（ＯＣ2Ｈ5）3が表面にランダムに出ている結果、接触角の向上が見られなかったと考えられる。
【００６４】
図７は、実施例１において製造されたメガネ用レンズのサンプル１−３および比較例１において製造されたメガネ用レンズのサンプル２−３おける拭き耐久試験結果を示している。この拭き耐久試験では、木綿布を用い、レンズ１００ａの凸面を、荷重をかけながら５０００往復させた。所定の往復回数毎に、接触角を測定した。接触角の測定方法は、上述の通りである。
【００６５】
実施例１のサンプル１−３では、拭き回数による接触角の低下幅が小さく、良好な拭き耐久性があることがわかった。これに対し、比較例１のサンプル２−３では、拭き回数による接触角の低下幅が大きく、サンプル１−３では拭き耐久性が向上していることがわかった。これは、サンプル２−３では、反射防止層１０５ａの表面と防汚層１０６との間の化学結合が、サンプル１−３に比較し十分ではなく、実施例１の製造方法により反射防止層１０５ａの表面と防汚層１０６との間の化学結合が向上することを示唆している。
【００６６】
図８は、実施例１において製造されたメガネ用レンズのサンプル１−４から１−９における触媒の添加後の攪拌時間と、初期および払拭後の接触角の測定結果とを示している。
【００６７】
図８の純水接触角の測定結果から、攪拌時間は２時間〜１６時間が特に有効であることがわかった。さらに、攪拌時間は２時間〜１２時間がいっそう有効であることがわかった。作業性（製造時間）を考慮した場合、攪拌時間は２時間が最も有効である。サンプル１−４より、攪拌時間が０．５時間あるいはそれ以下の場合、フッ素含有有機ケイ素化合物の加水分解の進行が不十分になり易く、初期の時点での接触角の向上が見られない。また、攪拌時間が２０時間あるいはそれ以上の場合、フッ素含有有機ケイ素化合物の自己縮合が過剰に発生し易くなり、初期の時点での接触角の向上が得られにくい。また、攪拌時間が１６時間以上のサンプル１−８では、初期接触角が向上するという効果は得られるが、攪拌時間が１２時間以下のサンプルと比較し拭き耐久性が向上するという効果は得られにくい。なお、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3の場合、攪拌時間は２時間〜１６時間が好ましいが、他のフッ素含有有機ケイ素化合物の場合、適当な攪拌時間は、多少前後する可能性がある。
【００６８】
このように、触媒により適度に活性化された防汚剤を蒸着源であるペレット５９に固定して蒸着により防汚層を成膜することにより、反射防止層１０５ａの表面と防汚層１０６との間の化学結合を向上でき、拭き耐久性の高い防汚層１０６を備えた光学物品を提供できる。そして、触媒による防汚剤の活性化度は、攪拌時間（放置時間）と、その後の加熱処理により制御できる。
【００６９】
（実施例２）
図９は、本発明の製造方法で得られる光学物品の他の例を模式的に示している。ここでは、光学物品１００ｂとして、例えば、メガネ用のレンズを形成する場合を例にとって説明する。本発明の製造方法は、有機系の反射防止層１０５ｂを用いた場合にも有効である。実施例１は、反射防止層として無機系の反射防止層１０５ａを形成している基材２００ａを用いたが、以下では、有機系の反射防止層１０５ｂを形成している基材２００ｂを用いた場合を例にとって説明する。すなわち、この例では、基材（ワーク）２００ｂとして、プラスチックレンズ（セイコーエプソン株式会社製：商品名「セイコースーパーソブリン」）１０１の表面にプライマー層１０２が形成され、このプライマー層１０２の上にハードコート層１０３が形成されたものを用意した。
【００７０】
プライマー層は、例えば、以下のように形成した。まず、プライマー層１０２を塗布により形成するためのコーティング液Ｐ１を調製した。まず、メタノール６２６．２ｇと、市販の水性エマルジョンポリウレタン（日華化学株式会社製、商品名「ネオステッカー７００」、固形分濃度３７重量％）２２１．８ｇとを混合した。その後、メタノール分散二酸化チタン−五酸化アンチモン−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル（触媒化成工業株式会社製、固形分濃度２０重量％）３０９．６ｇと、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー株式会社製、商品名「Ｌ−７６０４」）０．２５ｇとを混合した。そして十分に攪拌して、プライマー層用の塗布液Ｐ１とした。
【００７１】
このコーティング液Ｐ１を、プラスチックレンズ（セイコーエプソン株式会社製：商品名「セイコースーパーソブリン」）１０１上に、浸漬法（引き上げ速度１５ｃｍ／分）にて塗布し、１００℃で２０分間、加熱・硬化処理して、プラスチックレンズ１０１上に膜厚１．０μｍ、屈折率１．６７のプライマー層１０２を形成した。ハードコート層１０３の形成方法は、実施例１と同じである。
【００７２】
次に、ハードコート層１０３の上に、有機系の反射防止層１０５ｂを形成した。（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ−Ｃ2Ｈ4−Ｃ6Ｈ12−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で表される構造のフッ素含有有機ケイ素化合物（フッ素含有シラン化合物）４７．８重量部（０．０８モル）に、有機溶剤としてメタノール３１２．４重量部と、フッ素を含有しない有機ケイ素化合物（シラン化合物）であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７重量部（０．０２モル）を加えた。さらに、０．１規定の塩酸水溶液３６重量部を加えて混合した後、設定温度が２５℃の恒温槽内で２時間攪拌して、固形分比率が１０重量％のシリコーンレジンを得た。
【００７３】
このシリコーンレジンに、内部に空洞を有するシリカ微粒子としての中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業株式会社製：固形分比率２０重量％、平均粒子径３５ｎｍ、外郭厚み８ｎｍ）を加えた。このとき、シリコーンレジンと中空シリカの固形分比率が７０：３０となるように配合した。分散媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９３５重量部を加えて希釈し、固形分が３重量％の組成物を得た。
【００７４】
この組成物に、アルミニウム（Ａｌ（III））を中心金属とする金属錯塩としてのアルミニウムのアセチルアセトン（Ａｌ（ａｃａｃ）3）を固形分比率が３重量％となるように加えた後、４時間攪拌した。これにより、有機系の反射防止層を形成するためのコーティング組成物（反射防止処理液）を得た。
【００７５】
上記において準備しておいた基材２００ｂ（プラスチックレンズ１０１の表面にプライマー層１０２およびハードコート層１０３が形成されたもの）にプラズマ処理を行った。その後、得られた反射防止処理液をハードコート層１０３の表面に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるように、スピナー法を用いて塗布した。さらに、１２５℃に保たれた恒温槽内に２時間投入して、塗布された反射防止処理液の硬化を行い、反射防止層１０５ｂが形成された基材２００ｂを得た。
【００７６】
反射防止層１０５ｂが形成された基材２００ｂを、図１の成膜装置５０を用いて、防汚止層１０６を形成した。すなわち、成膜装置５０の支持装置８０に基材２００ｂをセットし、チャンバーＣＨ１で脱ガスした後、チャンバーＣＨ３に移動して、防汚層１０６を形成した。防汚層１０６を形成する方法は、実施例１において説明した方法と同じである。このようにして製造されたメガネ用レンズ１００ｂのサンプルは、実施例１において製造されたサンプルと同様の接触角と、拭き耐久性とを示すことが確認された。したがって、有機系の反射防止膜（反射防止層）を備えた光学物品に対しても、本発明は有効であり、耐久性の良好な防汚層を有する光学物品を提供できる。
【００７７】
このように、防汚溶液ＴＬに触媒を添加して一定時間放置して（攪拌して）反応を進行させ、ペレット５９に滴下後、触媒の蒸発温度以上に加熱することによって溶媒と触媒を除去する。これにより、反応活性が最適な状態で防汚剤をペレット５９に固定し、そのペレット５９を蒸着源とし、防汚層を蒸着することにより、下地層である反射防止層と化学結合の高い防汚層を形成できる。したがって、耐久性および防汚能力の高い防汚層を備えた光学物品を提供できる。
【００７８】
本発明は、また、下地層と結合力の高い防汚層を形成できるので、防汚層を安定して成膜するために有効である。特に炭素数の大きな防汚剤、例えば、上記一般式（３）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物においてＲが炭素数２以上のアルキル基である場合に、反応性が低くなることを補完し、結合力の高く、防汚性能の高い層を形成できる。
【００７９】
本発明が適用できる光学物品は、メガネ用レンズに限定されない。たとえば、他の光学機器用レンズ、液晶などの表示板、ＤＶＤなどの光記録媒体、光が透過または反射する他の物品が含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】反射防止層および防汚層を成膜する装置の概略構成を示す図。
【図２】本発明の製造方法で得られるレンズの一例を模式的に示す図。
【図３】触媒の一種であるＢｕ2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ3）2の熱分析結果を示す図。
【図４】一般式（３）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物の一種であるＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3の熱分析結果を示す図。
【図５】一般式（２）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物の一種である商品名ＫＹ−１３０の熱分析結果を示す図。
【図６】実施例１および比較例１における接触角の測定結果を示す図。
【図７】実施例１および比較例１における拭き耐久試験結果を示す図。
【図８】実施例１における触媒の添加後の攪拌時間と、初期および払拭後の接触角の測定結果とを示す図。
【図９】本発明の製造方法で得られるレンズの他の例を模式的に示す図。
【符号の説明】
【００８１】
５９    防汚層蒸着源（ペレット）、  １００ａ、１００ｂ    レンズ（光学物品）
１０１    レンズ本体、  １０５ａ、１０５ｂ    反射防止層
１０６    防汚層、  ２００ａ、２００ｂ    基材
【図１】
2009139530.tif 000007
【図２】
2009139530.tif 000008
【図３】
2009139530.tif 000009
【図４】
2009139530.tif 000010
【図５】
2009139530.tif 000011
【図６】
2009139530.tif 000012
【図７】
2009139530.tif 000013
【図８】
2009139530.tif 000014
【図９】
2009139530.tif 000015