(57)【要約】【課題】  ウエハと補助板との隙間に落下した液体がステージ移動の際に溢れ出すことを低減し、良好な露光精度を実現できる露光装置を提供することができる露光装置を提供すること。【解決手段】  液体ＬＷを介して基板４０を露光する露光装置は、ステージを備える。ステージは、基板４０を保持し、移動する。またステージは、保持部８０２および補助部４３を有する。保持部８０２は、基板４０を保持する。補助部４３は、保持部８０２の周囲に配置されている。また補助部４３は、回収口１０９、空間１００、液体回収機構１０４および部材１０１を持つ。  回収口１０９は、保持部８０２に保持された基板４０と補助部４３との隙間を含み液体ＬＷを回収する。空間１００は、回収口１０９で回収された液体ＬＷを溜める。液体回収機構１０４は、空間１００の下部に溜まった液体ＬＷを排出する。部材１０１は、空間１００内に配置され、液体ＬＷの液面揺動を低減する。【選択図】  図１
2009260264.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持し、移動するステージを備え、
前記ステージは、前記基板を保持する保持部と、その保持部の周囲に配置されている補助部と、を有し、
前記補助部は、
前記保持部に保持された前記基板と前記補助部との隙間を含み、前記液体を回収する回収口と、
前記回収口で回収された前記液体を溜める空間と、
前記空間の下部に溜まった前記液体を排出する液体回収機構と、
前記空間に配置され、前記液体の液面揺動を低減する部材と、を持つ
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記補助部の表面は、親液性を持つ第一領域と、撥液性を持つ第二領域と、を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記液面揺動を低減する部材は、１０００［ｃｍ／ｓｅｃ］以下の透水係数を持つ多孔質体を有し、
前記多孔質体の体積は、前記空間の半分以上である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記液面揺動を低減する部材は、１０００［ｃｍ／ｓｅｃ］以下の透水係数を持つ多孔質体または多孔板を有し、
前記多孔質体または多孔板は、前記空間の高さの半分よりも上側に配置されている
ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記液面揺動を低減する部材は、開口を有する複数の板を有し、
前記複数の板は、層状に配置されている
ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液面揺動を低減する部材は、複数の仕切り板を有し、
複数の仕切り板は、前記空間を複数に分割する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項７】
前記液体回収機構は、前記基板を露光していない時にのみ前記液体を回収する
ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光し、
その露光された基板を現像する
ことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を介して基板を露光する露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図８（ａ），（ｂ）を用いて従来の液浸露光装置を説明する。
【０００３】
図８（ａ），（ｂ）は、ウエハ４０の周辺部を露光する際の様子を説明する概略断面図である。図８（ａ）において、ウエハ保持部８０２は、表面８０１でウエハ４０の裏面を支持し、真空吸着することで強固にウエハ４０を固定する。一方、補助板８４３は、ウエハ４０を囲むように配置されており、補助板の表面８４３ａの高さは、ウエハ４０の表面の高さと略等しい。
【０００４】
空間８００の下部には液体回収機構が設けられている。液体回収機構は、回収口８０４と回収管８０５と吸引装置８０６から構成される。回収口８０４は、図８（ｂ）に示したように空間８００に落下した液体ＬＷを排出するもので、回収管８０５を介して吸引装置８０６に接続されている。
【０００５】
なお、補助板の表面に親液領域を構成することで、液体の飛散及び液体の流れを制御することについては、特許文献１に記載がある。また、ウエハと補助板の隙間に落下した液体を回収する液体回収機構を設けることについては、特許文献２及び３に記載がある。    
【特許文献１】特開２００６／１８６１１２号公報
【特許文献２】国際公開第ＷＯ２００４／１１２１０８号パンフレット
【特許文献３】国際公開第ＷＯ２００６／０４９１３４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の液浸露光装置の第一の課題を図８（ａ）を用いて説明する。第一の課題は、ウエハ４０の周辺部を露光する際に、液体ＬＷが隙間ｇを跨ぐと液体が千切れる恐れがあり、この千切れた液体ｄがウエハステージの移動の際に露光装置内に飛散することである。液体の飛散は、周辺部材を腐食、または、ウォーターマークを形成して露光装置の汚れの原因となる。この課題の解決策として、補助板の表面８４３ａを親液性とし、液体ｄを表面８４３ａに留め、液体ｄが露光装置内に飛散することを抑止する方法がある。しかしながら、この方法では、液体ｄを親液性の表面８４３ａから回収することが困難になり、表面８４３ａ上にウォーターマークが形成される可能性がある。
【０００７】
第二の課題を図８（ｂ）を用いて説明する。ウエハ４０の周辺部を露光する際に、液体ＬＷがウエハ４０と補助板８４３との隙間ｇから空間８００に落下する。すると、ウエハステージの駆動により隙間ｇから液体ＬＷが溢れ出し、補助板８４３及びウエハ４０上に飛散して露光装置汚れを引き起こす。これが第二の課題である。この課題を解決するために、吸引装置８０６を用いて空間８００の液体ＬＷを回収して液体ＬＷの溢れ出しを抑止すると、液体ＬＷの気化が促進され、周辺部材の熱変形を引き起こしてしまう可能性がある。
【０００８】
以上、説明したように、隙間ｇで千切れた液体ｄを露光装置内に飛散させることなく速やかに回収すること、及び、空間８００に落下した液体ＬＷがステージ移動の際に溢れ出さないようにすることが重要である。
【０００９】
そこで、本発明は、第一の課題と第二の課題の少なくともいずれか一方を解決し、良好な露光精度を実現できる露光装置を提供することを例示的な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、液体を介して基板を露光する露光装置において、前記基板を保持し、移動するステージを備え、前記ステージは前記基板を保持する保持部とその保持部の周囲に配置されている補助部とを有し、前記補助部は、前記保持部に保持された前記基板と前記補助部との隙間を含み前記液体を回収する回収口と、前記回収口で回収された前記液体を溜める空間と、前記空間の下部に溜まった前記液体を排出する液体回収機構と、前記空間に配置され前記液体の液面揺動を低減する部材と、を持つことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ウエハと補助板との隙間に落下した液体がステージ移動の際に溢れ出すことを低減し、良好な露光精度を実現できる露光装置を提供することができる。
【００１２】
本発明の他の側面については、以下の実施の形態によって明らかにする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１４】
（実施形態１）
図２は、本実施形態の露光装置１の構成を示す概略断面図である。
【００１５】
露光装置１は、投影光学系３０の最終面３０ａとウエハ４０との間に供給される液体（浸液）ＬＷを介して、レチクル（マスク）２０のパターンをウエハ４０上に露光する液浸露光装置である。また、露光装置１はステップ・アンド・スキャン方式でウエハ４０を露光する。但し、ステップ・アンド・リピート方式でウエハ４０を露光する露光装置を使用することもできる。
【００１６】
露光装置１は、図２に示すように、照明装置１０と、レチクルステージ２１と、投影光学系３０と、ウエハステージ４１と、補助板（補助部）４３と、測距装置５０を有している。
【００１７】
照明装置１０は、光源１１と、照明光学系１２とを有する。本実施形態では、光源１１として、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーを使用する。但し、光源として、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーや波長約１５７ｎｍのＦ２レーザーを使用することもできる。照明光学系１２は、レチクル２０を、光源１１からの光で照明する。
【００１８】
レチクルステージ２１は、レチクルステージ２１を固定するための定盤２２に取り付けられている。レチクルステージ２１は、レチクルチャックを介してレチクル２０を保持し、図示しない移動機構及び後述する制御部によって移動制御される。原版としてのレチクル２０は、石英製で、その表面上には回路パターンが形成されている。レチクル２０の回路パターンから発せられた回折光は、ウエハ４０上に投影光学系３０で投影される。
【００１９】
投影光学系３０は、レチクル２０のパターンをウエハ４０上に投影する。投影光学系３０としては、屈折系や反射屈折系を使用することができる。
【００２０】
ウエハステージ４１は、ウエハステージ４１を固定するための定盤４２に取り付けられて、ウエハ保持部を介してウエハ４０を保持する。ウエハステージ４１は、ウエハ４０の上下方向（鉛直方向）の位置や回転方向、傾きを調整する機能を有し、ステージ制御部によって制御される。ウエハ４０の露光時には、ステージ制御部により投影光学系３０の焦点面にウエハ４０の表面が常に高精度に合致するようにウエハステージ４１が制御される。ウエハ４０は、図示しないウエハ搬送系により露光装置１の外部から搬送され、ウエハステージ４１に支持及び駆動される。本実施形態では、基板としてウエハ４０を用いているが、基板としては液晶基板、その他を用いることもできる。また、ウエハ４０にはフォトレジストが塗布されている。
【００２１】
補助板４３は、ウエハ４０の周囲に配置され、その表面の高さはウエハ４０の表面と略同一の高さになるように調整されている。補助板４３は、ウエハ４０のエッジショットを露光する際に、ウエハ４０とともに液体ＬＷを支持する。
【００２２】
測距装置５０は、レチクルステージ２１の位置及びウエハステージ４１の三次元的な位置を、参照ミラー５１及び５２、レーザー干渉計５３及び５４を介してリアルタイムに計測する。測距装置５０による測距結果は、後述する制御部１３０に伝達される。そして、レチクルステージ２１及びウエハステージ４１は、制御部１３０の下で駆動され位置が決められる。
【００２３】
なお、液体ＬＷは、露光光の吸収が少ないものの中から選択され、更に、出来るだけ高い屈折率を有することが好ましい。具体的には、液体ＬＷは、純水、機能水、フッ化液（例えば、フルオロカーボン）、有機系液体などが使用される。また、液体ＬＷは、予め、脱気装置を用いて溶存ガスが十分に取り除かれたものが好ましい。また、液体ＬＷは、微量の添加物を加えた水を含む液体や炭化水素系の有機液体でも良い。
【００２４】
露光装置１は、供給回収装置１１０と、制御部１３０も有する。
【００２５】
供給回収装置１１０は、供給管１１１、回収管１１２、供給ノズル１１３、および回収ノズル１１４を介して、投影光学系３０の最終面３０ａとウエハ４０との間に液体ＬＷを供給および回収する。供給回収装置１１０は、液体ＬＷの供給と回収を兼用する構造を有し、制御部１３０によって制御されている。また、供給回収装置１１０は、ウエハステージ４１の移動の際にも液体ＬＷの供給及び回収を行う。これにより、供給回収装置１１０は、溶存ガス、或いは、不純物質の除去などが行えるので、液体ＬＷの状態を一定に維持することができる。
【００２６】
制御部１３０は、図示しないＣＰＵと、メモリとを有し、露光装置１の動作を制御する。制御部１３０は、照明装置１０と、レチクルステージ２１の図示しない移動機構と、ウエハステージ４１の図示しない移動機構と、供給回収装置１１０と電気的に接続されている。制御部１３０は、例えば、露光の際に、ウエハステージ４１に応じて、供給する液体ＬＷの流れる方向を切り替えて、液体ＬＷの供給及び回収を行うように制御してもよい。また、制御部１３０は、露光の際に、常に一定量の液体ＬＷを供給及び回収するように制御してもよい。
【００２７】
以下、図１を参照して本実施形態の千切れた液体ｄの回収方法、及び、空間１００に落下した液体ＬＷの溢れ出しを抑制する方法を説明する。ここで、図１（ａ）は実施形態１を説明するウエハ４０の周辺部の概略断面図である。
【００２８】
まず、本実施形態のウエハ４０の周辺部の構成について説明する。補助板４３の表面は、親液性を有する第一領域４３ａと、撥液性を有する第二領域４３ｂとを有する。第一領域４３ａは、親液性材料（例えば、ＳｉＯ２やＳｉＣあるいは酸化チタンなどの金属酸化物）で構成される。このとき、第一領域の側面もまた親液性を有する。また、第一領域は、ウエハ４０の周辺に配置されており、その幅ｗは数ミリから数十ミリである。ウエハ４０と第一領域４３ａとの隙間ｇは０．１ｍｍから２ｍｍ程度になるように調整されている。一方、第二領域は、第一領域を囲むように配置されている。このとき、隙間ｇ２が第一領域と第二領域との間に形成される。第二領域の表面には、テフロン（登録商標）コーティングあるいはＰＦＡなどの撥液処理が施されている。
【００２９】
隙間ｇ２は、隙間ｇと伴に液体ｄを回収する回収口１０９を形成し、補助板４３の表面の液体ｄを空間１００に回収する。また、補助板の側面４３ｃは親液性を有しており、液体ｄを空間１００に滑らかに回収する。例えば、親液処理としては酸化チタンコーティングなどを施せばよい。さらに、ウエハ４０の側面、及び、ウエハ保持部の側面８０２ａを親液性としてもよい。また、第一領域４３ａ内に液体ｄを回収する回収口を設けることで、さらに効果的に液体ｄを回収できる。例えば、第一領域４３ａの内部にスリット、ピンホール、あるいは多孔質体を形成することができる。
【００３０】
空間１００は、ウエハ４０を囲むように補助板４３に環状に形成されており、回収口１０９で回収された液体を一時的に溜めておくことができる。
【００３１】
液面揺動低減部材としての多孔質体１０１は、ウエハ４０を囲むように環状に形成されており、空間１００の半分以上の体積を占める。本実施形態では、多孔質体１０１は、空間の下部１００ａから第一領域４３ａの近傍まで占める。多孔質体１０１としては、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＣ、あるいは、ＳＵＳ、チタンなどの金属の焼結体を用いればよい。多孔質体の透水性の指標として透水係数がある。透水係数は、以下の数式１で示されるダルシーの法則で定義される係数である。ここで、ｖは見かけの浸透流速［ｃｍ／ｓｅｃ］、ｋは透水係数［ｃｍ／ｓｅｃ］、ｉは動水勾配である。
【００３２】
【数１】
2009260264.tif 000003
【００３３】
本実施形態の多孔質体は、透水係数が１０００［ｃｍ／ｓｅｃ］以下である。透水係数が１０００［ｃｍ／ｓｅｃ］以下である理由を後述する。
【００３４】
液体回収機構１０４は、空間１００に溜まった液体を排出する機構である。本実施形態において、液体回収機構１０４は、空間１００の下部において、溝１０２とピンホール１０３で構成される。溝１０２は、空間の下部１００ａにウエハ４０を囲むように環状に形成されており、多孔質体１０１に透水した液体ＬＷをピンホール１０３に導く。ピンホール１０３の直径は、数百ミクロンメータから数十ミリメータ程度の大きさであり、溝１０２内に複数個配置される。本実施形態では、ピンホール１０３は、ウエハ４０の円周方向に沿って等間隔に配置されている。なお、多くのピンホール１０３を配置すると、多孔質体１０１に透水した液体ＬＷはピンホール１０３に排出され易くなるので、溝１０２はなくてもよい。液体回収機構１０４は、空間の下部１００ａの真中付近あるいは回収口１０９の下部に設けられる。また、液体ＬＷの排出を効果的に行うために、空間の下部１００ａに、液体回収機構１０４に向けて傾斜を付けても良い。
【００３５】
また、液体回収機構１０４は、図１（ｂ）に示すように補助板の側面４３ｃに設けてもよい。液体ＬＷは、重力作用で空間の下部１００ａに溜まるので、図１（ａ）の形態と同様に液体ＬＷを排出できる。
【００３６】
回収管１０５は、液体回収機構１０４から吸引装置１０８に液体を導くものである。吸引装置１０８は、気液分離装置１０６と減圧源１０７から構成される。
【００３７】
次に、本実施形態の効果について説明する。
【００３８】
ウエハ４０の周辺部（エッジショット）を露光するときに、液浸領域が隙間ｇを跨ると液体が千切れる恐れがある。しかしながら、本実施形態においては、千切れた液体ｄは親液性の第一領域４３ａ上に留まり飛散を低減できる。したがって、液体ｄの飛散による周辺部材の腐食、および、ウォーターマークの形成を低減することができる。
【００３９】
さらに、第一領域４３ａ上の液体ｄは、回収口１０９を介して空間１００に排出される。したがって、第一領域４３ａ上での液体ｄの蒸発を低減でき、ウォーターマークの生成を低減できる。
【００４０】
本実施形態においては、第一領域４３ａは親液性としたが、液体の千切れが発生しない場合、あるいは、千切れる液体の量が少量の場合は、第一領域は撥水性としてもよい。このとき、第一領域４３ａの液体に対する接触角と第二領域４３ｂの液体に対する接触角は等しい。さらに、隙間ｇ２をなくして補助板４３の表面を単一領域のみから構成することも可能である。
【００４１】
また、千切れる液体の量が少量の場合には、図１（ｃ）に示されるように親液性を有する第一領域４３ａと撥液性を有する第二領域４３ｂを連続的に形成してもよい。このとき、隙間ｇ２はなくなるが、親液性の第一領域４３ａ上の液体ｄは少量なので、隙間ｇ１から十分に回収することできる。例えば、補助板４３の第一領域４３ａと第二領域４３ｂをＳｉＣなどの親液性材料で一体形成して、第二領域４３ｂにのみテフロン（登録商標）などの撥液処理を行えばよい。第一領域４３ａと第二領域４３ｂを一体で構成することにより、第一領域４３ａと第二領域４３ｂとの間の高さのズレや間隙を無くすことができるため、ウエハステージ４１がさらに高速で移動した場合でも、液体ＬＷの状態を一定に維持することができる。
【００４２】
次に、回収口１０９から流入した液体ＬＷは、多孔質体１０１を透水して空間１００に溜められる。多孔質体１０１は、十分に透水性のよいものが選択される。
【００４３】
空間１００に溜められた液体ＬＷは、ウエハステージ４１の移動の際に、回収口１０９から溢れ出す恐れがある。しかしながら、本実施形態においては、空間１００には多孔質体１０１が設けられているので、液体ＬＷの液面揺動が低減される。その結果、回収口１０９から液体ＬＷが溢れ出すの低減することができる。実際、透水係数が１０００［ｃｍ／ｓｅｃ］以下のとき、液体ＬＷの溢れ出しは低減できる。特に、本実施形態では、第一領域４３ａを親液性としたために液体が空間１００に落ち込み易いので、液体ＬＷの溢れ出しを低減することがより重要となる。
【００４４】
次に、液体ＬＷの溢れ出しの低減について数式２〜５、図３および図４を用いて説明する。
【００４５】
図３に示したようにＺ座標をとると、透水係数を用いた液体ＬＷの運動方程式は下記の数式２のようにおくことができ、この運動方程式の解は下記の数式３のようになる。
【００４６】
【数２】
2009260264.tif 000004
【００４７】
【数３】
2009260264.tif 000005
【００４８】
ここで、Ｚの最大値は、下記の数式４のように表すことができる。また、ステージ４１の移動に伴う液面揺動により生じる液体ＬＷの最大の上昇値Δｚは、下記の数式５のように表すことができる。
【００４９】
【数４】
2009260264.tif 000006
【００５０】
【数５】
2009260264.tif 000007
【００５１】
透水係数ｋと液体の上昇値Δｚの関係を図示すると図４のグラフのようになる。なお、Δｚは、液体ＬＷの上昇値（ｚの最大値―ｚの初期値）［ｍ］を多孔質体１０１がないとき（ｋ＝∞に対応）の液体ＬＷの上昇値（ｚの最大値―ｚの初期値）＝ｖ０２／（２ｇ）［ｍ］で規格化した値である。このとき、液体ＬＷの初速ｖ０は高々ステージ４１の移動速度程度であるので１ｍ／ｓとした。図４から、多孔質体の透水係数が１０００［ｃｍ／ｓ］以下のとき、液体ＬＷの上昇を低減する効果があるのが分かる。
【００５２】
本実施形態においては、空間１００に溜まった液体ＬＷは溢れ出すことがないので、液体回収機構１０４を介して常時液体ＬＷを吸引回収する必要がない。例えば、ウエハ４０露光時には、図１のバルブ１０５ａを閉めることで吸引回収を止めて、露光後（非露光時）にバルブ１０５ａを開けて吸引回収してもよい。あるいは、露光時には吸引回収力を弱め、露光後（非露光時）に吸引回収力を強めてもよい。その結果、露光時には吸引回収に伴う気化熱の影響を低減することができる。
【００５３】
以上、説明したように、本実施形態の露光装置では、補助板４３の表面に親液性の第一領域４３ａと回収口１０９を設けたため、液体ｄを露光装置内に飛散させることなく空間１００に回収することができる。また、空間１００に多孔質体１０１を設けることで、ステージ移動に伴い空間１００から液体ＬＷを溢れ出すのを抑止することができる。その結果、ウエハ周辺の部品の腐食、及び、ウォーターマークの形成を抑止して露光装置の汚れを低減できる。また、空間１００に溜まった液体を常時吸引する必要がないので気化熱を低減でき、気化熱に起因する露光精度の劣化を抑制することができる。
【００５４】
（実施形態２）
以下、図５を参照して、本発明の別の実施形態について説明する。ここで、図５は、図１に相当するウエハ４０の周辺部の概略断面図である。以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
【００５５】
図５において、空間１００の上部には厚さ数ミリメートルの多孔質体５０１が液面揺動低減部材として設けられている。特に、本実施例においては、多孔質体５０１は空間１００の半分よりも上側に設けられる。このとき、回収口１０９から排出された液体ｄは、多孔質体５０１を透水して空間の下部１００ａに回収される。一方、ウエハステージ４１の移動の際に生じる液体ＬＷの液面揺動は、多孔質体５０１によって低減される。その結果、液体ＬＷは、回収口１０９からの溢れ出すことがない。このときの多孔質体５０１の透水係数は、上述の理由から１０００［ｃｍ／ｓｅｃ］以下であることが必要である。また、空間の下部１００ａに溜まった液体ＬＷは、液体回収機構１０４で回収管１０５に回収される。
【００５６】
以上の説明において、液面揺動低減部材を多孔質体５０１としたが、複数のピンホールが設けられた多孔板でもよい。多孔板の厚さは数ミリメートルであり、ピンホールの直径は数百ミクロンメートルから数ミリメートルである。また、多孔板を親液処理することで液体はピンホールを介して、空間１００に排出され易くなる。
【００５７】
以上、説明したように、本実施形態の露光装置では、空間１００の上部に液面揺動低減部材として多孔質体、あるいは、多孔板を用いることとで、回収口１０９から液体ｄを回収すると伴に、空間１００の液体ＬＷの液面揺動を低減することができる。その結果、液体ＬＷが回収口１０４から溢れ出すことがなく、露光装置内に液体が飛散することを抑止できる。
【００５８】
（実施形態３）
以下、図６を参照して、本発明の別の実施形態ついて説明する。ここで、図６は、図１に相当する本発明の概略断面図である。以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
【００５９】
図６（ａ）に示される本実施形態においては、ピンホール６０１を有した板６０２が空間１００に層状に液面揺動低減部材として配置される。ピンホール６０１の直径は、数百ミクロンメートルから数ミリメートルである。本実施形態では、板６０２は３層であるが、ピンホール６０１の直径を小さくすることで、板６０２の枚数を減らすことができる。板６０２の枚数は、ピンホール６０１の直径に合わせて適宜決めればよい。液体ｄは、回収口１０９から回収されて多層の板６０２のピンホール６０１を介して空間１００に溜まる。一方、ウエハステージ４１の移動の際には、多層の板６０２により液面揺動が抑止され、回収口１０９から液体が溢れ出すのを抑止できる。また、このとき、上下に隣接する板６０２のピンホール６０２の位置を互い違いすることで、効果的に液体ＬＷの液面揺動を抑止できる。また、ピンホール６０１の直径を上層の板から下層の板に向かって小さくしてもよい。
【００６０】
以上において、液面揺動を低減する多層の板として、ピンホール６０１を有する板６０２を用いたが、図６（ｂ）のように板６０２と補助板４３との隙間、あるいは、板６０２とウエハ保持部８０２との隙間で開口６０３を形成してもよい。このとき、上下に隣接する板６０２が形成する開口６０３の位置が互い違いになることで、効果的に液体ＬＷの液面揺動を抑止できる。
【００６１】
また、本実施形態においては、板６０２は親液性を有してもよい。そうすることで、回収口１０９から回収された液体ｄを、速やかに空間１００の下部に排出することができる。
【００６２】
以上、説明したように、本実施形態の露光装置では、空間１００に液面揺動低減部材として、開口を有した多層の板６０２を用いることで、回収口１０９を介して液体ｄを回収すると伴に、空間１００の液体ＬＷの液面揺動を低減することができる。その結果、液体ＬＷが回収口１０９から溢れ出すことを抑止でき、露光装置内に液体ＬＷが飛散することを抑止できる。
【００６３】
（実施形態４）
以下、図７を参照して、本発明の別の実施形態ついて説明する。ここで、図７は、図１に相当する本発明の概略斜視図である。以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
【００６４】
本実施形態においては、液面揺動低減部材である仕切り板７０１が空間１００を複数の空間７０２に分割する。図７においては、仕切り板７０１は動径方向と円周方向に配置される。このとき、仕切り板７０１の枚数は、液体ＬＷの粘性、ウエハステージ４１、および、空間１００の大きさに合わせて適宜決めればよい。また、仕切り板７０１は、空間の下部１００ａとの間に隙間７０３を形成する。隙間７０３は、数百ミクロンメートルから数ミリメートルである。これにより、回収口１０９から回収された液体ｄは、分割された空間７０２を介して空間１００に溜まり、空間１００の下部の全体に広がることができる。その結果、液体回収機構１０４は、溝１０２を介して空間１００に在る液体ｄを全て回収することができる。また、仕切り板７０１は、親液性を有しており、液体ｄを速やかに回収することができる。
【００６５】
一方、ウエハステージ４１の移動の際には、仕切り板７０１は液体の揺動を低減する役割を果たし、液体が回収口１０９から溢れ出すのを抑止できる。
【００６６】
本実施形態においては、仕切り板７０１は、ウエハ４０の動径方向と円周方向に配置されているが、どちらか一方向のみでもよい。また、必ずしも動径方向と円周方向に配置される必要はなく、空間１００を複数の空間に分割できればよい。
【００６７】
以上、説明したように、本実施形態の露光装置では、空間１００に液面揺動低減部材として、仕切り板７０１を用いることで、回収口１０９を介して液体ｄを回収すると伴に、空間１００の液体ＬＷの液面揺動を低減することができる。その結果、液体ＬＷが回収口１０９から溢れ出すことを抑止でき、露光装置内に液体ＬＷが飛散することを抑止できる。
【００６８】
（実施形態５）
つぎに、本発明の別の実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。ここでは、半導体デバイスの製造方法を例に説明する。
【００６９】
半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板を露光する工程と、その基板を現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。
【００７０】
本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００７１】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】実施形態１を説明するためのウエハ周辺部の概略断面図である。
【図２】露光装置を示す概略断面図である。
【図３】液体ＬＷの運動方程式を説明する図である。
【図４】透水係数と液体の上昇値の関係を表すグラフである。
【図５】実施形態２を説明するためのウエハ周辺部の概略断面図である。
【図６】実施形態３を説明するためのウエハ周辺部の概略断面図である。
【図７】実施形態４を説明するためのウエハ周辺部の概略斜視図である。
【図８】従来例を説明するためのウエハ周辺部の概略断面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１  露光装置
４０  ウエハ（基板）
４１  ステージ
４３  補助部（補助板）
１０９  回収口
１００  空間
１０１  部材（液面揺動低減部材）
１０４  液体回収機構
８０２  保持部
ＬＷ  液体（浸液）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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