(57)【要約】【課題】優れたワイヤグリッド特性を示すワイヤグリッド偏光フィルム及び該ワイヤグリッド偏光フィルムを用いた画像表示性能に優れる液晶ディスプレイを提供する。【解決手段】フィルム状の透明な基板１１と、該基板１１上に設けられ一次元格子状の凹凸を有するグリッド構造層１２と、該グリッド構造層１２の凸部１２ａに設けられる金属膜１３と、を備えるワイヤグリッド偏光フィルム１０であって、前記基板１１は、吸水率がＰＥＮよりも小さい非晶性ポリオレフィンからなる高分子プラスチックフィルム１１ａであることを特徴とする。【選択図】図１
2009139457.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム状の透明な基板と、該基板上に設けられ一次元格子状の凹凸を有するグリッド構造層と、該グリッド構造層の凸部に設けられる金属膜と、を備えるワイヤグリッド偏光フィルムであって、
前記基板は、吸水率がポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりも小さい非晶性ポリオレフィンからなる高分子プラスチックフィルム（高分子プラスチックフィルムＡ）であることを特徴とするワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項２】
前記高分子プラスチックフィルムＡは、吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ５７０規格、４０℃，９０％ＲＨ）が０．０１％未満であることを特徴とする請求項１に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項３】
前記グリッド構造層は、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂を用いて成型されてなることを特徴とする請求項１に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項４】
前記グリッド構造層は、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンのいずれかの樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項５】
前記グリッド構造層の凹凸形状は矩形であることを特徴とする請求項１に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項６】
フィルム状の透明な基板と、該基板上に設けられ一次元格子状の凹凸を有するグリッド構造層と、該グリッド構造層の凸部に設けられる金属膜と、を備えるワイヤグリッド偏光フィルムであって、
前記基板は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）,ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）,ポリカーボネート（ＰＣ）,ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）,トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のいずれかからなる高分子プラスチックフィルム（高分子プラスチックフィルムＢ）と該高分子プラスチックフィルムＢの表面に設けられる透明無機薄膜とからなることを特徴とするワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項７】
前記透明無機薄膜は、ＳｉＯ2,ＳｉＯＮ,Ｉｎ−Ｓｎ酸化物（ＩＴＯ）のいずれかからなることを特徴とする請求項６に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のワイヤグリッド偏光フィルムと、液晶セルと、バックライトユニットと、を備えることを特徴とする液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワイヤグリッド構造により偏光特性を有するワイヤグリッド偏光フィルム及び液晶ディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（液晶ディスプレイ）は従来の陰極線管（ＣＲＴ）を用いた表示装置に比べて、低消費電力、低電圧動作、軽量、薄型といった特徴を有しており、テレビ、コンピューター、携帯をはじめとする様々な表示装置として急速に普及してきている。
【０００３】
しかしながら、液晶ディスプレイの問題点として、光の利用効率の悪さが指摘されている。これを改善すべく、利用効率向上技術として、アメリカ３Ｍ社製のＤＢＥＦ（Ｄｕａｌ  Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ｆｉｌｍ）と呼ばれる反射型偏光フィルムが上市されているが、光学的に異方性である高分子膜と、等方性である高分子膜を交差させることによって多層構造に製造されるのでそのコストが高く、製造工程が煩雑であった。
【０００４】
これに対して、特許文献１には、ワイヤグリッド反射型偏光フィルムに関する技術が提案されている。これには、偏光フィルムを、基板層と、グリッド構造層と、グリッド構造層の一側面に積層される金属膜とから構成されるものとすることにより、大面積の偏光フィルムの大量高速製造を可能にするとしている。しかしながら、特許文献１のワイヤグリッド反射型偏光フィルムでは、目標とするワイヤグリッド特性が得られない問題があった。
【０００５】
なお、特許文献２には、基板よりも低い屈折率を有する領域を配置する記述があるが、ＭｇＦ２等を配置することで共鳴波長を低い波長にシフトさせることが主目的であり、膜質の悪化を防ぐためのバリア性に関する記載はない。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２０１７８２号公報
【特許文献２】特表２００３−５０２７０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上の従来技術における問題に鑑みてなされたものであり、優れたワイヤグリッド特性を示すワイヤグリッド偏光フィルム及び該ワイヤグリッド偏光フィルムを用いた画像表示性能に優れる液晶ディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
発明者らが、特許文献１のワイヤグリッド偏光フィルムの問題について検証したところ、金属膜の成膜を行う過程において、基板として使用しているＰＥＴフィルムから発生する水蒸気と金属膜とが反応し、成膜初期の金属膜の膜質が非常に悪くなり、ワイヤグリッド特性が悪化していることを突き止めた。そこで、発明者らは、その問題を解決すべく鋭意検討を行い、本発明を成すに至った。
【０００９】
すなわち、前記課題を解決するために提供する本発明は、フィルム状の透明な基板（基板１１）と、該基板上に設けられ一次元格子状の凹凸を有するグリッド構造層（グリッド構造層１２）と、該グリッド構造層の凸部（凸部１２ａ）に設けられる金属膜（金属膜１３）と、を備えるワイヤグリッド偏光フィルムであって、前記基板は、吸水率がポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりも小さい非晶性ポリオレフィンからなる高分子プラスチックフィルムＡ（高分子プラスチックフィルム１１ａ）であることを特徴とするワイヤグリッド偏光フィルム（ワイヤグリッド偏光フィルム１０）である（図１）。
ここで、前記高分子プラスチックフィルムＡは、吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ５７０規格、４０℃，９０％ＲＨ）が０．０１％未満であることが好ましい。
また、前記グリッド構造層は、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂を用いて成型されてなることが好ましく、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンのいずれかの樹脂からなることが好適である。
また、前記グリッド構造層の凹凸形状は矩形であるとよい。
【００１０】
また、前記課題を解決するために提供する本発明は、フィルム状の透明な基板（基板２１）と、該基板上に設けられ一次元格子状の凹凸を有するグリッド構造層（グリッド構造層１２）と、該グリッド構造層の凸部（凸部１２ａ）に設けられる金属膜（金属膜１３）と、を備えるワイヤグリッド偏光フィルムであって、前記基板は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）,ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）,ポリカーボネート（ＰＣ）,ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）,トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のいずれかからなる高分子プラスチックフィルムＢ（高分子プラスチックフィルム２１ａ）と該高分子プラスチックフィルムＢの表面に設けられる透明無機薄膜（透明無機薄膜２１ｂ）とからなることを特徴とするワイヤグリッド偏光フィルム（ワイヤグリッド偏光フィルム２０）である（図３）。
ここで、前記透明無機薄膜は、ＳｉＯ2,ＳｉＯＮ,Ｉｎ−Ｓｎ酸化物（ＩＴＯ）のいずれかからなることが好ましい。
【００１１】
また、前記課題を解決するために提供する本発明は、上述した本発明のワイヤグリッド偏光フィルム（ワイヤグリッド偏光フィルム１０，２０）と、液晶セル（液晶セル４０）と、バックライトユニット（バックライトユニット５０）と、を備えることを特徴とする液晶ディスプレイ（液晶ディスプレイ１００）である（図５）。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のワイヤグリッド偏光フィルムによれば、吸水率の小さい高分子プラスチックフィルムＡを用いることにより、該高分子プラスチックフィルムＡから水分が発生することがないので、グリッド構造層上に形成される金属膜が水分と反応することはなく、所期のワイヤグリッド特性を得ることができる。あるいは、透明無機薄膜を高分子プラスチックフィルムＢとグリッド構造層との間に設けることにより、透明無機薄膜が高分子プラスチックフィルムＢから発生する水分の透過を防ぐバリア層として機能するので、この水分とグリッド構造層上に形成される金属膜とが接触することを防ぎ、ワイヤグリッド特性の悪化を防ぐことができる。
また、本発明の液晶ディスプレイによれば、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムを用いるので画像表示性能に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルム及び液晶ディスプレイについて説明する。なお、本発明を図面に示した実施形態をもって説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、実施の態様に応じて適宜変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用・効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。
【００１４】
図１は、本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルムの第１の実施の形態における構成を示す断面図である。
図１に示すように、本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルム１０は、フィルム状の透明な基板１１と、基板１１上に設けられる一次元格子状（微細ストライプパターン）の凹凸を有するグリッド構造層１２と、グリッド構造層１２の凸部１２ａに設けられる金属膜１３と、を備えるワイヤグリッド偏光フィルムであって、基板１１は、吸水率がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）,ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）,ポリカーボネート（ＰＣ）,ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）,トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）よりも小さい非晶性ポリオレフィンからなる高分子プラスチックフィルム１１ａからなるものである。
【００１５】
ここで、非晶性ポリオレフィンとは、脂環族構造を入れて耐熱性を高め非晶性にしたポリオレフィンであり、透明性が高くまた吸水率が低い。また、非晶性ポリオレフィンは、構造上大きく２つに分類することができ、一つは環状オレフィンを開環重合した後、生成した主鎖の二重結合を水素添加することにより得られるもので、日本ゼオン（株）製の商品名「ＺＥＯＮＥＸ」、「ＺＥＯＮＯＲ」、ＪＳＲ（株）製の商品名「ＡＲＴＯＮ」等の樹脂がある。もう一つは環状オレフィンをエチレンとビニル型共重合させて得られるものであり、商業化されているものとして三井化学（株）製の商品名「ＡＰＥＬ」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「ＴＯＰＡＳ」等がある。
【００１６】
本発明では、これらのうち、とくに吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ５７０規格、４０℃，９０％ＲＨ）がＰＥＴ；０．４％、ＰＥＮ；０．３％、ＰＣ；０．４％、ＰＥＳ；１．４％、ＴＡＣ；２．６％よりも小さくなるように改善された材料を用いる。すなわち高分子プラスチックフィルム１１ａは、吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ５７０規格、４０℃，９０％ＲＨ）が０．０１％未満であることが好ましく、日本ゼオン（株）製の商品名「ＺＥＯＮＯＲ」が好適である。
【００１７】
グリッド構造層１２は、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂を用いてその表面に一次元格子状の凹凸形状が成型されてなるものであり、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンのいずれかの樹脂からなることが好ましい。熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂は、微細パターンの成型が可能な樹脂が好ましく、例えば東洋合成製ＰＡＫ−０１（紫外線硬化性アクリル樹脂）が挙げられる。
【００１８】
グリッド構造層１２の凹凸形状は、基板１１の主面と平行な一方向（吸収軸Ｙ方向）に延びるように基板１１の主面上に形成された断面形状が矩形の凸部１２ａが、基板１１の吸収軸Ｙ方向と直交する方向（透過軸Ｘ方向）に可視光域の波長よりも小さいピッチで周期的に形成されてなるものである。また、この凹凸形状は、金属膜１３をワイヤグリッド状に形成するために設けられるものであり、凹凸の加工サイズやパターン形状によって金属膜１３のワイヤグリッド構造が決定され、ワイヤグリッド偏光フィルム１０の所期の偏光特性を得るために重要である。すなわち、凹凸形状の加工サイズ、パターン形状は、目的とする偏光特性（消光比）や対象とする可視光波長領域に応じて適宜設定される。ここでは、グリッド構造層１２の凹凸形状は四角形や台形などの矩形状、あるいは鋸歯形状、三角形状に形成することができるが、このうち四角形が好ましい。
【００１９】
なお、グリッド構造層１２の凹凸形状のピッチ、ライン幅／ピッチ、凹部１２ｂ深さ（凸部１２ａ高さ）、凸部１２ａ長さ、上部ライン幅／底部ライン幅は、それぞれ以下の範囲とするのが好ましい。
０．０５μｍ＜ピッチ＜０．８μｍ、
０．１＜（ライン幅／ピッチ）＜０．９、
０．０１μｍ＜凹部１２ｂ深さ＜０．２μｍ、
０．０５μｍ＜凸部１２ａ長さ、
１．０≦（上部ライン幅／底部ライン幅）
【００２０】
金属膜１３は、グリッド構造層１２の凸部１２ａの頂部または少なくとも一方の側壁部に金属をスパッタや真空蒸着などのドライプロセスによって付着させることにより、基板１１の主面と平行な一方向（吸収軸Ｙ方向）に該金属膜が線状（あるいは帯状）に配列されてなるものである。グリッド構造層１２において一定間隔で規則的に設けられた複数の凸部１２ａそれぞれに金属膜１３が形成されることにより、金属膜１３の形成パターンが縞状（一次格子状）となりワイヤグリッド構造を呈する。金属膜１３の形成パターン（微細ストライプパターン）としては、可視光領域を４００ｎｍ〜７００ｎｍとすると、金属膜１３の線あるいは帯（グリッド）の周期が少なくとも２００ｎｍ以下であるときに、ある程度の偏光特性を期待することができる。このとき、既存の偏光フィルムと同一、あるいはより優秀な性能を得るためには、１００ｎｍ台（１００〜１９９ｎｍ）の周期を有する金属グリッドであることが望ましい。
【００２１】
また、金属膜１３を構成する材料としては、ワイヤグリッド偏光フィルム１０として使用帯域に応じて適切な材料が選択される必要がある。すなわち、金属材料がこれを満たす材料であり、具体的には金属材料として、Ａｌ,Ａｇ,Ｃｕ,Ａｕ,Ｍｏ,Ｃｒ,Ｔｉ,Ｗ,Ｎｉ,Ｆｅ,Ｓｉ,Ｇｅ,Ｔｅ,Ｓｎ単体もしくはこれらを含む合金が挙げられる。このうち、ＡｌやＡｇなど、可視光の全波長領域にわたって反射率の優れる金属材料が望ましい。
【００２２】
以上の構成とすることにより、ワイヤグリッド偏光フィルム１０は、可視光域で所望のワイヤグリッド特性を従来よりも安定して示すものとなる。
【００２３】
このようなワイヤグリッド偏光フィルム１０は、例えばつぎのようにして製造する（図２）。ここでは、高分子プラスチックフィルム１１ａとして日本ゼオン（株）製「ＺＥＯＮＯＲ」のフィルムを用いる場合を説明する。
（Ｓ１１）高分子プラスチックフィルム１１ａの表面をコロナ放電で処理し、ついでその表面に易接着剤としてポリエステルウレタン樹脂（東洋紡績（株）製バイロンＵＲ−１４４０）を１０μｍ程度塗布して基板１１とする（図２（ａ））。
（Ｓ１２）ステップＳ１１の処理済みの基板１１の表面上に、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂を塗布する。塗膜１２ｊの厚みに特に制約はないが、例えば５００ｎｍ〜１０μｍ程度の厚みとする（図２（ｂ））。
（Ｓ１３）一次格子状の凹凸を有するモールドｍをステップＳ１２の塗膜１２ｊに押し当てる（図２（ｃ））。
（Ｓ１４）ステップＳ１３の塗膜１２ｊについて、加熱または紫外線照射して硬化させ、モールドｍの凹凸を転写する。これにより、表面に一次格子状の凹凸を有するワイヤグリッド構造層１２となる（図２（ｄ））。
（Ｓ１５）ワイヤグリッド構造層１２の凹凸面に対して、金属粒子が斜めに入射する斜めスパッタ成膜あるいは真空蒸着を行い（図２（ｅ）））、金属膜１３を形成する。これにより、ワイヤグリッド構造層１２の凸部１２ａに金属膜１３が形成されることになり、ワイヤグリッド構造の金属膜１３となる（ワイヤグリッド偏光フィルム１０の完成（図２（ｆ）））。
【００２４】
つぎに、本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルムの第２の実施の形態について説明する。
図３は、本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルムの第２の実施の形態における構成を示す断面図である。
ワイヤグリッド偏光フィルム２０は、本発明の第１の実施の形態であるワイヤグリッド偏光フィルム１０において、基板１１に代えて、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）,ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）,ポリカーボネート（ＰＣ）,ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）,トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のいずれかからなる高分子プラスチックフィルム２１ａと該高分子プラスチックフィルムＢの表面に設けられる透明無機薄膜２１ｂとからなる基板２１としたものであり、それ以外の構成は第１の実施の形態と同じである。
【００２５】
ここで、高分子プラスチックフィルム２１ａは、使用帯域の光（可視光域）に対して透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）,ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）,ポリカーボネート（ＰＣ）,ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）,トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のいずれかの樹脂からなる。ただし、吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ５７０規格、４０℃，９０％ＲＨ）がＰＥＴ；０．４％、ＰＥＮ；０．３％、ＰＣ；０．４％、ＰＥＳ；１．４％、ＴＡＣ；２．６％と大きく金属膜１３の膜質を劣化させるため、いずれの樹脂の場合もフィルム表面に透明無機薄膜２１ｂが必要となる。
【００２６】
透明無機薄膜２１ｂは、高分子プラスチックフィルム２１ａから金属膜１３への水分の移動を防ぐバリア膜となる、水蒸気の透過性の低い透明膜であり、例えば、ＳｉＯ2,ＳｉＯＮ,Ｉｎ−Ｓｎ酸化物（ＩＴＯ）のいずれかからなることが好ましい。また、透明無機薄膜１１ｂの膜厚は、水分の透過を防止できる程度の厚みがあればよく、５０〜１００ｎｍ程度でよい。
【００２７】
以上の構成とすることにより、ワイヤグリッド偏光フィルム２０は、可視光域で所望のワイヤグリッド特性を従来よりも安定して示すものとなる。
【００２８】
このようなワイヤグリッド偏光フィルム２０は、例えばつぎのようにして製造する（図４）。
（Ｓ２１）高分子プラスチックフィルム２１ａの一主面に、スパッタリング法等により、ＳｉＯ2,ＳｉＯＮ,Ｉｎ−Ｓｎ酸化物（ＩＴＯ）のいずれかからなる透明無機薄膜２１ｂを形成する（図４（ａ））。
（Ｓ２２）基板２１の透明無機薄膜２１ｂ上に、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂を塗布する。塗膜１２ｊの厚みに特に制約はないが、例えば５００ｎｍ〜１０μｍ程度の厚みとする（図４（ｂ））。
（Ｓ２３）一次格子状の凹凸を有するモールドｍをステップＳ２２の塗膜１２ｊに押し当てる（図４（ｃ））。
（Ｓ２４）ステップＳ２３の塗膜１２ｊについて、加熱または紫外線照射して硬化させ、モールドｍの凹凸を転写する。これにより、表面に一次格子状の凹凸を有するワイヤグリッド構造層１２となる（図４（ｄ））。
（Ｓ２５）ワイヤグリッド構造層１２の凹凸面に対して、金属粒子が斜めに入射する斜めスパッタ成膜あるいは真空蒸着を行い（図４（ｅ））、金属膜１３を形成する。これにより、ワイヤグリッド構造層１２の凸部１２ａに金属膜１３が形成されることになり、ワイヤグリッド構造の金属膜１３となる（ワイヤグリッド偏光フィルム２０の完成（図４（ｆ）））。
【００２９】
次に、本発明に係る液晶ディスプレイについて以下に説明する。
図５は、本発明に係る液晶ディスプレイの構成を示す概略断面図である。
図５に示すように、液晶ディスプレイ１００は、構造は従来公知のものであり、偏光フィルムとして２つの本発明のワイヤグリッド偏光フィルム１０（または２０）を用いるものである。すなわち、第１のワイヤグリッド偏光フィルム１０（または２０）と、液晶セル４０と、第２のワイヤグリッド偏光フィルム１０（または２０）と、バックライトユニット５０と、をこの順番で配置したものである。
【００３０】
ここで、液晶セル４０は、液晶シャッターとして機能するものであれば特に限定されず、使用可能なものを適宜用いる。例えば、対向配置された少なくとも一方の内面に透明電極を有する一対の基板と該基板間に挟持された液晶層とからなるものが挙げられる。液晶層としては例えばツイストネマチック液晶やスーパーツイストネマチック液晶を用いうるが、非ツイスト系の液晶や二色性染料を液晶中に分散させたゲストホスト系の液晶あるいは強誘電性液晶を用いてもよい。また、液晶の駆動方式については特に限定しない。
【００３１】
バックライトユニット５０は、液晶ディスプレイの光源として従来公知のものでよく、Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ（ＬＥＤ）やＣｏｌｄ Ｃａｔｈｏｄｅ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ Ｌａｍｐｓ（ＣＣＦＬ）の光源５１と拡散板５２を組み合わせたもの、あるいは導光板を用いたサイドライトやＥＬランプなどの面光源となる照明装置であればよい。
【００３２】
液晶ディスプレイ１００では、ワイヤグリッド特性に優れるワイヤグリッド偏光フィルム１０（または２０）を用いているので、画像表示性能に優れる。
【実施例】
【００３３】
以下、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムに関して試験した例を以下に説明する。
（試験例１）
基板として、帝人デュポンフィルム（株）製１８８μｍ厚のＰＥＴフィルム、日本ゼオン（株）製１８８μｍ厚のＺＥＯＮＯＲフィルム、アメリカコーニング社製１．１ｍｍ厚のコーニング１７３７ガラスの３種類の基板を用い、それぞれの基板の主面上にスパッタリング法により膜厚１００ｎｍのＡｌを金属膜として成膜して、サンプルとした。
得られたサンプルについて、基板のＡｌ反射層形成面側をおもて（ＦＲＯＮＴ）、その反対面側をうら（ＢＡＣＫ）として、それぞれの面に可視光を入射させてその反射率を測定した（図６）。その測定結果を図７に示す。
ＰＥＴフィルムでは、おもて面（ＦＲＯＮＴ）、うら面（ＢＡＣＫ）の可視光波長領域の平均反射率がそれぞれ６７％、５０％と両者とも低い値となり、かつおもて面よりもうら面の反射率が低い結果となった（図７（ａ））。これは、スパッタ成膜時に基板であるＰＥＴフィルムから発生する水分とＡｌが反応し、基板との界面側に中間生成物が発生したためと考えられる。これに対し、吸水率の小さいＺＥＯＮＯＲフィルムでは、おもて面、うら面の可視光波長領域の平均反射率がそれぞれ８３％、７８％と両者とも同じ程度に高い値を示した（図７（ｂ））。これは、ガラス基板の反射率；８７％（おもて面）、８０％（うら面）（図７（ｃ））と同じレベルにあり、ＰＥＴフィルムの場合のような中間生成物の発生を防ぐことができていると考えられる。
【００３４】
（試験例２）
以下の条件で、図２に示す手順に従い図１に示す構成のワイヤグリッド偏光フィルム１０（実施例サンプル１）を作製した。
・高分子プラスチックフィルム１１ａ：日本ゼオン（株）製、ＺＥＯＮＯＲフィルム（１８８μｍ厚）
・ワイヤグリッド構造層１２の材料：東洋合成製ＰＡＫ−０１（紫外線硬化性アクリル樹脂）
・金属膜１３の組成：Ａｌ−１ｗｔ％Ｓｉ−０．５ｗｔ％Ｃｕ
また、基板１１を帝人デュポンフィルム（株）製、１８８μｍ厚のＰＥＴフィルムとし、それ以外は本試験例の条件としてワイヤグリッド偏光フィルムの比較例サンプル１を作製した。
可視光波長領域の平均透過光透過率を測定したところ、実施例サンプル１の値は比較例サンプル１の約４倍となっていた。
【００３５】
（試験例３）
試験例２の条件のうち、金属膜１３の組成をＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉとし、それ以外は同じ条件として、ワイヤグリッド偏光フィルム１０（実施例サンプル２）及びワイヤグリッド偏光フィルムの比較例サンプル２を作製した。
可視光波長領域の平均透過光透過率を測定したところ、実施例サンプル２の値は比較例サンプル２の約２．５倍となっていた。
【００３６】
（試験例４）
以下の条件で、図４に示す手順に従い図３に示す構成のワイヤグリッド偏光フィルム２０（実施例サンプル３）を作製した。
・高分子プラスチックフィルム２１ａ：帝人デュポンフィルム（株）製、ＰＥＴフィルム（１８８μｍ厚）
・透明無機薄膜２１ｂ：ＳｉＯ2（膜厚１００ｎｍ）
・ワイヤグリッド構造層１２の材料：東洋合成製ＰＡＫ−０１（紫外線硬化性アクリル樹脂）
・金属膜１３の組成：Ａｌ−１ｗｔ％Ｓｉ
また、基板２１を帝人デュポンフィルム（株）製、１８８μｍ厚のＰＥＴフィルムとし、それ以外は本試験例の条件としてワイヤグリッド偏光フィルムの比較例サンプル３を作製した。
可視光波長領域の平均透過光透過率を測定したところ、実施例サンプル３の値は比較例サンプル３の約２倍となっていた。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルムの第１の実施の形態における構成を示す断面概略図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態のワイヤグリッド偏光フィルムの製造手順を示す工程図である。
【図３】本発明に係るワイヤグリッド偏光フィルムの第２の実施の形態における構成を示す断面概略図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態のワイヤグリッド偏光フィルムの製造手順を示す工程図である。
【図５】本発明に係る液晶ディスプレイの構成を示す断面概略図である。
【図６】試験サンプルの反射率測定方法を示す概略図である。
【図７】試験例１の反射率測定結果を示す図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０，２０・・・ワイヤグリッド偏光フィルム、１１，２１・・・基板、１１ａ，２１ａ・・・高分子プラスチックフィルム、１２・・・グリッド構造層、１２ｊ・・・塗膜、１２ａ・・・凸部、１２ｂ・・・凹部、１３・・・金属膜、２１ｂ・・・透明無機薄膜、４０・・・液晶セル、５０・・・バックライトユニット、５１・・・光源、５２・・・拡散板、１００・・・液晶ディスプレイ、ｍ・・・モールド
【図１】
2009139457.tif 000003
【図２】
2009139457.tif 000004
【図３】
2009139457.tif 000005
【図４】
2009139457.tif 000006
【図５】
2009139457.tif 000007
【図６】
2009139457.tif 000008
【図７】
2009139457.tif 000009