(57)【要約】【課題】走査モジュールの位置調整を容易とする。【解決手段】レーザ光照射装置２２から照射された調整用光ビームＩＬは、筐体５０上に載置された走査モジュール１内のマイクロミラー２に照射される。調整用光ビームＩＬのビーム径はマイクロミラー２の外径よりも大きいため、その一部が通過して受光装置２５の４分割フォトダイオードに入射する。調整用光ビームＩＬの中心に対して、マイクロミラー２がＸＹ方向に変位している場合には、４分割フォトダイオードの各受光領域の受光量が異なるようになり、変位検出装置２６においてその受光量の違いに基づいてマイクロメータ２のＸＹ変位が検出されてモニタ２７に表示される。オペレータは、マイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＸＹ１、ＭＭＹ２を駆動して、筐体５０上の走査モジュール１のＸＹ位置を調整する。【選択図】図７
2009075171.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを走査するマイクロミラーを含み、前記マイクロミラーの形状が断面中心軸を対称軸として２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称となるように構成されている走査モジュールを筐体に取り付ける際に、前記筐体に対する前記走査モジュールの取り付け位置を調整する調整装置であって、
前記筐体を所定位置に位置決めし、かつ、その筐体上に前記走査モジュールを載置するためのステージと、
ビームの実効的に定められる径が、少なくとも前記ミラー形状に対し定められる最大の外接円の径より大きい調整用光ビームを、前記筐体上に載置された前記走査モジュール内のマイクロミラーに照射する光ビーム照射部と、
前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームに基づいて、前記調整用光ビームのビーム断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出する変位検出部と、
前記変位検出部によって検出された変位に基づいて、前記筐体上の前記走査モジュールの位置を調整する調整部と、を備える調整装置。
【請求項２】
前記変位検出部は、
前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームを受光し、その受光量に応じた電気信号を出力する光電変換手段を備え、
前記光電変換手段から出力される電気信号に基づいて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする請求項１に記載の調整装置。
【請求項３】
前記光電変換手段の受光面は、前記調整用光ビームの断面中心を中心として回転対称となる２ｎ（ｎは２以上の整数）個の領域に分割されており、
前記分割された各領域の受光量の違いに応じて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする請求項２に記載の調整装置。
【請求項４】
前記光電変換手段は、その受光面が、回転対称となる４個の領域に分割されていることを特徴とする請求項３に記載の調整装置。
【請求項５】
前記変位検出部は、
互いの受光面が前記調整用光ビームの断面中心を中心として２ｎ（ｎは１以上の整数）回回転対称に配置された２ｎ個の光電変換手段を備え、
前記各光電変換手段の受光量の違いに基づいて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする請求項２に記載の調整装置。
【請求項６】
前記光電変換手段は、
前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームを受光し、その受光結果に対応する画像データ信号を出力する撮像素子であり、
前記撮像素子から出力される画像データ信号に基づいて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする請求項２に記載の調整装置。
【請求項７】
前記光電変換手段は、フォトダイオードの表面に抵抗層が設けられた素子であることを特徴とする請求項２に記載の調整装置。
【請求項８】
前記調整部は、アクチュエータを有し、
前記アクチュエータを駆動して前記筐体上の前記走査モジュールを接触押圧することにより変位を与え、前記筐体上の前記走査モジュールの位置を調整することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の調整装置。
【請求項９】
前記調整部は、
前記マイクロミラーを変位する向きが互いに逆向きの２つのアクチュエータが対向して設けられていることを特徴とする請求項８に記載の調整装置。
【請求項１０】
前記アクチュエータを、圧電素子とすることを特徴とする請求項８又は９に記載の調整装置。
【請求項１１】
筐体と、光ビームを走査するマイクロミラーを含み、前記マイクロミラーの形状が断面中心軸を対称軸として２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称となるように構成されている走査モジュールとを有する光走査装置の製造方法であって、
所定位置に位置決めされた筐体上に載置された前記走査モジュール内のマイクロミラーに、ビームの実効的に定められる径が、少なくとも前記ミラー形状に対し定められる最大の外接円の径よりも大きい調整用光ビームを照射する照射工程と、
前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームに基づいて、前記調整用光ビームのビーム断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出する変位検出工程と、
前記変位検出工程によって検出された変位に基づいて、前記筐体上の前記走査モジュールの位置を、アクチュエータを用いて調整する調整工程と、を含む製造方法。
【請求項１２】
前記調整工程が行われた後、
前記筐体に前記走査モジュールを固定する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
形状が断面中心軸を対称軸として２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称となるように構成され、前記断面の反射により光ビームを走査するマイクロミラーと、
ビームの実効的に定められる径が少なくとも前記ミラー形状に対し定められる最大の外接円の径より大きい調整用光ビームが、前記マイクロミラーに入射したときに、前記調整用光ビームを前記マイクロミラーの外側から通過可能に、かつ、前記マイクロミラーを揺動可能に保持するフレームと、を備える光走査装置。
【請求項１４】
前記フレームを搭載可能で、搭載された前記フレームに保持された前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームをさらに通過させる光通過部を有する筐体をさらに備えることを特徴とする請求項１３に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ビームを走査するマイクロミラーを含む走査モジュールを筐体に取り付ける際に、前記筐体に対する前記走査モジュールの取り付け位置を調整する調整装置、当該調整装置を用いた光走査装置の製造方法、及び当該マイクロミラーを含む走査モジュールを有する光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、画像信号により変調されたレーザ光（光ビーム）を走査して投映像を形成するための走査モジュールが知られている（例えば特許文献１参照）。この種の走査モジュールは、例えば、画像形成の分野や画像読取りの分野において使用される。画像形成の分野においては、網膜上で光束を走査し画像を直接表示する網膜走査型ディスプレイ装置、プロジェクタ、レーザプリンタ、レーザリソグラフィ等に用いられている。一方、画像読取りの分野においては、ファクシミリ、複写機、イメージスキャナ 、バーコードリーダ等に用いられている。
【０００３】
特許文献１に記載の走査モジュールは、小型のミラー（マイクロミラー）と、そのマイクロミラーをねじり振動させるための振動体とを備えている。この振動体によるマイクロミラーの揺動により、マイクロミラーの反射面で反射される光は、一方向に走査されるようになる。
【特許文献１】特開平１１−２０３３８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この種の走査モジュールでは、反射光の１次元走査が効率的に行われるために、光ビームがマイクロミラーの反射面の同じ位置に常に入射されるようにするのが望ましい。このためには、光ビームのビーム断面中心と、マイクロミラーの中心とが一致している必要がある。両中心を一致させるためには、走査モジュールが組み込まれる装置の製造工程において、その装置の筐体に走査モジュールを取り付ける際に、筐体上のマイクロミラーの位置調整を行う必要がある。
【０００５】
しかしながら、このようなマイクロミラーは非常に小さく、係る位置調整は非常に困難であり、時間を要する作業となる。また、走査モジュール内のマイクロミラーの向きには走査モジュールによってばらつきがあり、そのばらつきが、マイクロミラーの調整を困難にしている。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、光ビームの断面中心とその光ビームを走査するマイクロミラーの中心とを一致させる調整を、容易に実現することが可能な調整装置、当該調整装置を用いた光走査装置の製造方法及び当該調整装置及び製造方法に好適な光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の調整装置は、光ビームを走査するマイクロミラーを含み、前記マイクロミラーの形状が断面中心軸を対称軸として２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称となるように構成されている走査モジュールを筐体に取り付ける際に、前記筐体に対する前記走査モジュールの取り付け位置を調整する調整装置であって、前記筐体を所定位置に位置決めし、かつ、その筐体上に前記走査モジュールを載置するためのステージと、ビームの実効的に定められる径が、少なくとも前記ミラー形状に対し定められる最大の外接円の径より大きい調整用光ビームを、前記筐体上に載置された前記走査モジュール内のマイクロミラーに照射する光ビーム照射部と、前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームに基づいて、前記調整用光ビームのビーム断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出する変位検出部と、前記変位検出部によって検出された変位に基づいて、前記筐体上の前記走査モジュールの位置を調整する調整部と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、請求項２に記載の調整装置は、請求項１に記載の調整装置において、前記変位検出部が、前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームを受光し、その受光量に応じた電気信号を出力する光電変換手段を備え、前記光電変換手段から出力される電気信号に基づいて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする。
【０００９】
また、請求項３に記載の調整装置は、請求項２に記載の調整装置において、前記光電変換手段の受光面が、前記調整用光ビームの断面中心を中心として回転対称となる２ｎ（ｎは２以上の整数）個の領域に分割されており、前記分割された各領域の受光量の違いに応じて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項４に記載の調整装置は、請求項３に記載の調整装置において、前記光電変換手段の受光面が、回転対称となる４個の領域に分割されていることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項５に記載の調整装置は、請求項２に記載の調整装置において、前記変位検出部が、互いの受光面が前記調整用光ビームの断面中心を中心として２ｎ（ｎは１以上の整数）回回転対称に配置された２ｎ個の光電変換手段を備え、前記各光電変換手段の受光量の違いに基づいて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項６に記載の調整装置は、請求項２に記載の調整装置において、前記光電変換手段が、前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームを受光し、その受光結果に対応する画像データ信号を出力する撮像素子であり、前記撮像素子から出力される画像データ信号に基づいて、前記調整用光ビームの断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項７に記載の調整装置は、請求項２に記載の調整装置置において、前記光電変換手段が、フォトダイオードの表面に抵抗層が設けられた素子であることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項８に記載の調整装置は、請求項１〜７のいずれか一項に記載の調整装置において、前記調整部が、アクチュエータを有し、前記アクチュエータを駆動して前記筐体上の前記走査モジュールを接触押圧することにより変位を与え、前記筐体上の前記走査モジュールの位置を調整することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項９に記載の調整装置は、請求項８に記載の調整装置において、前記調整部には、前記マイクロミラーを変位する向きが互いに逆向きの２つのアクチュエータが対向して設けられていることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項１０に記載の調整装置は、請求項８又は９に記載の調整装置において、前記アクチュエータを、圧電素子とすることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項１１に記載の製造方法は、筐体と、光ビームを走査するマイクロミラーを含み、前記マイクロミラーの形状が断面中心軸を対称軸として２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称となるように構成されている走査モジュールとを有する光走査装置の製造方法であって、所定位置に位置決めされた筐体上に載置された前記走査モジュール内のマイクロミラーに、ビームの実効的に定められる径が、少なくとも前記ミラー形状に対し定められる最大の外接円の径よりも大きい調整用光ビームを照射する照射工程と、前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームに基づいて、前記調整用光ビームのビーム断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出する変位検出工程と、前記変位検出工程によって検出された変位に基づいて、前記筐体上の前記走査モジュールの位置を、アクチュエータを用いて調整する調整工程と、を含むことを特徴とする。
【００１８】
また、請求項１２に記載の製造方法は、請求項１１に記載の製造方法において、前記調整工程が行われた後、前記筐体に前記走査モジュールを固定する工程をさらに含むことを特徴とする。
【００１９】
また、請求項１３に記載の光走査装置は、形状が断面中心軸を対称軸として２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称となるように構成され、前記断面の反射により光ビームを走査するマイクロミラーと、ビームの実効的に定められる径が少なくとも前記ミラー形状に対し定められる最大の外接円の径より大きい調整用光ビームが、前記マイクロミラーに入射したときに、前記調整用光ビームを前記マイクロミラーの外側から通過可能に、かつ、前記マイクロミラーを揺動可能に保持するフレームと、を備えることを特徴とする。
【００２０】
また、請求項１４に記載の光走査装置は、請求項１３に記載の光走査装置において、  前記フレームを搭載可能で、搭載された前記フレームに保持された前記マイクロミラーの外側を通過した前記調整用光ビームをさらに通過させる光通過部を有する筐体をさらに備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１に記載の調整装置によれば、所定の位置に筐体が位置決めされ、その筐体上に走査モジュールが載置された状態で、その走査モジュールに含まれるマイクロミラーに対して、そのマイクロミラーの形状に対して定められる最大の外接円の径よりも、実行的に定められるビーム径が大きい調整用光ビームが照射される。変位検出部は、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームに基づいて、調整用光ビームのビーム断面中心に対する前記マイクロミラーの中心の変位を検出する。さらに、調整部が、検出された変位に基づいて筐体上の走査モジュールの位置を調整する。
【００２２】
すなわち、この調整装置では、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームに基づいて、調整用光ビームのビーム断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出するので、マイクロミラーの取り付け状態に関らず、マイクロミラーの中心の変位を精度良く検出することができる。また、検出された変位に基づいて筐体上の走査モジュールの位置を調整し、調整用光ビームの断面中心と、マイクロミラーの中心とを容易に一致させることができる。
【００２３】
また、請求項２に記載の調整装置によれば、変位検出部は、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームを受光し、その受光量に応じた電気信号を出力する光電変換手段を備えているので、光電変換手段から出力される電気信号に基づいて、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出することができる。
【００２４】
また、請求項３に記載の調整装置によれば、光電変換手段の受光面は、調整用光ビームの断面中心を中心として回転対称となる２ｎ（ｎは２以上の整数）個の領域に分割されているので、分割された各領域の受光量の違いが、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を表すようになる。したがって、分割された各領域の受光量の違いから、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出することができる。
【００２５】
また、請求項４に記載の調整装置によれば、光電変換手段の受光面は、調整用光ビームの断面中心を中心として回転対称となる４個の領域に分割されているので、変位検出部は、調整用光ビームの断面中心に対する直交２軸のマイクロミラーの中心の変位を検出することができる。
【００２６】
また、請求項５に記載の調整装置によれば、変位検出部は、互いの受光面が調整用光ビームの断面中心を中心として２ｎ（ｎは１以上の整数）回回転対称に配置された２ｎ個の光電変換手段を備えているので、各光電変換手段の受光量の違いが、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を表すようになる。各光電変換素子の受光量の違いから、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出することができる。
【００２７】
また、請求項６に記載の調整装置によれば、光電変換手段は、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームを受光し、その受光結果に対応する画像データ信号を出力する撮像素子であり、撮像素子から出力される画像データ信号に基づいて、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出する。この画像データ信号は、調整用光ビームによるマイクロミラーの像に相当する信号となっている。したがって、この画像データ信号から、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出することができる。
【００２８】
また、請求項７に記載の調整装置によれば、光電変換手段は、フォトダイオードの表面に抵抗層が設けられた素子であり、当該素子から出力される電気信号に基づいて、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出する。この電気信号は、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームの受光位置に応じた信号となっている。したがって、その電気信号から、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出することができる。
【００２９】
また、請求項８に記載の調整装置によれば、調整部は、アクチュエータを有し、アクチュエータを駆動して筐体上の走査モジュールを押圧することにより、筐体上の走査モジュールの位置を調整する。したがって、調整用光ビームの断面中心とマイクロミラーの中心とを一致させることができる。
【００３０】
また、請求項９に記載の調整装置によれば、マイクロミラーを変位する向きが互いに逆向きの２つのアクチュエータが対向して設けられているので、＋側からも、−側からも、マイクロミラーの位置の調整が可能となり、より高速かつ正確な位置決めが可能となる。
【００３１】
また、請求項１０に記載の調整装置によれば、調整部のアクチュエータを圧電素子とし、圧電素子を駆動して筐体上の走査モジュールを押圧することにより、筐体上の走査モジュールの位置を調整する。圧電素子は、制御対象の微小駆動が可能なアクチュエータであるため、マイクロミラーの位置の微調整が可能となる。
【００３２】
また、請求項１１に記載の製造方法によれば、所定の位置に筐体を位置決めし、その筐体上に走査モジュールを載置する。そして、その走査モジュールに含まれるマイクロミラーに対して、そのマイクロミラーの形状に対して定められる最大の外接円の径より実効的に定められるビーム径が大きい調整用光ビームを照射する。次に、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームに基づいて、調整用光ビームのビーム断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出する。さらに、検出された変位に基づいて筐体上の走査モジュールの位置を調整する。この調整の結果、マイクロミラーの中心を、設計上の光ビームのビーム断面中心に一致させることができる。
【００３３】
また、請求項１２に記載の製造方法によれば、筐体上の走査モジュールの位置が調整された後、筐体に走査モジュールを固定するので、光ビームのビーム断面中心と、マイクロミラーの中心とを一致させた状態で、筐体に走査モジュールを固定することができる。
【００３４】
また、請求項１３に記載の光走査装置によれば、マイクロミラーを保持するフレームが、ビームの実効的に定められる径が少なくともマイクロミラーの形状に対して定められる最大の外接円の径よりも大きい調整用光ビームを、マイクロミラーの外側から通過させるので、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームをそのまま受光することができる。したがって、この光走査装置は、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出するのに好適である。
【００３５】
また、請求項１４に記載の光走査装置によれば、フレームに保持されたマイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームを筐体がさらに通過させるので、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームをそのまま受光することができる。したがって、この光走査装置は、調整用光ビームの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を検出するのに好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明の一実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。
【００３７】
本発明の一実施形態に係る調整装置により調整された光走査装置は、例えば、網膜走査型表示装置に用いられる。図１は、網膜走査型表示装置１００の概略構成を示す模式図である。この網膜走査型表示装置１００は、観察者の眼球Ｅの網膜Ｆ上に映像を直接結像する装置である。
【００３８】
図１に示すように、網膜走査型表示装置１００は、光源部１０と、光ファイバ１１と、コリメート光学系１２と、走査モジュール１と、第１のリレー光学系１３と、ガルバノミラー１４と、第２のリレー光学系１５と、水平走査駆動回路１６と、フォトセンサ１７と、垂直走査駆動回路１８とを備えている。ここで、走査モジュール１は、光走査装置の一例であり、後述する図３の調整装置２００により調整される。
【００３９】
図１において、光源部１０は、青色のレーザ光を発光するレーザと、緑色の光を発光するレーザと、赤色に光を発光するレーザと(いずれも不図示)を備えている。光源部１０は、入力する映像信号に基づいて、各レーザから出射したレーザ光を合成して、映像光を生成する。光源部１０は、生成した映像光を、光ファイバ１１を介して、コリメート光学系１２に向けて出射する。コリメート光学系１２は、光源部１０から光ファイバ１１を介して出射された映像光を平行光に変換する。
【００４０】
コリメート光学系１２からの映像光は、走査モジュール１のマイクロミラー２に照射される。マイクロミラー２は、一定周期で揺動しており、この揺動により、映像光を反射して水平方向に走査する。
【００４１】
水平走査された映像光は、第１のリレー光学系１３を介してガルバノミラー１４に照射される。ガルバノミラー１４は、磁界による鏡面の揺動により、映像光を反射して垂直方向に走査する。垂直走査された映像光は、第２のリレー光学系１５を介して眼球Ｅの網膜Ｆの上に結像される。
【００４２】
光源部１０は、水平走査駆動回路１６に水平同期信号を出力し、垂直走査駆動回路１８に垂直同期信号を出力する。水平走査駆動回路１６は、水平同期信号に基づいて、走査モジュール１に駆動信号を出力し、マイクロミラー２を揺動させる。この場合の揺動はマイクロミラー２の共振振動に基づく。垂直走査駆動回路１８は、垂直同期信号に基づいて、ガルバノミラー１４に磁界を供給し、ガルバノミラー１４を揺動させる。フォトセンサ１７は、水平走査駆動回路１６により水平走査された光の一部を受光して電気信号に変換し、光源部１０に出力する。光源部１０は、フォトセンサ１７から入力した電気信号を用いて水平走査のタイミングを検出し、検出したタイミングに基づいて、映像信号の開始タイミングを決定する。
【００４３】
なお、上記網膜走査型表示装置１００において、ガルバノミラー１４を用いて垂直走査を行ったが、これに代えて上記走査モジュール１を用いることもできる。垂直走査の周波数は例えば６０Ｈｚ程度となる。従って、ミラー部の揺動は、共振振動を利用しないで電気信号による捩れ角制御により行われる。
【００４４】
図２は、走査モジュール１の構成を示す分解斜視図である。図２に示すように、走査モジュール１は、反射面（断面）が略真円形状のマイクロミラー２を有するスキャナ９と、揺動空間を構成する台座５と、セラミック製の基板６とを備えている。スキャナ９は、揺動運動を行うマイクロミラー２、マイクロミラー２の揺動軸をなす支持部４、及び、マイククロミラー２が揺動できるように支持部４を介してマイクロミラー２を保持する枠部（フレーム）３を備えている。
【００４５】
上記走査モジュール１のスキャナ９において、マイクロミラー２と、支持部４と、枠部３とは一体的に形成されている。例えば、これらは、半導体基板をフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を通して一括形成される。枠部３は、マイクロミラー２の周囲を囲むように形成して台座５の上面に固定される。なお、枠状の台座５には段差部８が形成され、この段差部８に対応する領域が梁部７となっており、マイクロミラー２は、この梁部４により支持部４を介して保持されている。
【００４６】
枠部３における梁部７とそれ以外の箇所との間の境界（図２に示す点線を参照）には、図示しない圧電体が接着固定されており、この圧電体に交番電圧を印加して振動させることにより梁部７が振動する。この梁部７の振動が支持部４に伝達され、支持部４を揺動軸（Ｘ軸）としてマイクロミラー２の揺動運動が行われる。
【００４７】
基板６は、スキャナ９及び台座５を保持するためのベースであり、枠状となっている。
【００４８】
上述のように、マイクロミラー２は、略真円形状の反射面を所定角度の範囲内で揺動させて、映像光を１次元走査する。高精度な映像光の１次元走査を行うには、マイクロミラー２が揺動しても、投影光が、常に、マイクロミラー２の反射面内の同じ位置に入射するようになっていることが望ましい。そうしなければ、反射面が面形状であることから、映像光の走査方向が微妙に変化するようになるからである。投影光を、常に、マイクロミラー２の反射面内の同じ位置に入射させるためには、揺動中のマイクロミラー２の反射面に入射される映像光のビーム断面中心と、マイクロミラー２の反射面の中心とが一致している必要がある。映像光のビーム断面中心と、マイクロミラー２の反射面の中心とを一致させるためには、走査モジュール１が、網膜走査型表示装置１００の筐体上に固定される前に筐体上の走査モジュール１の位置を調整する必要がある。
【００４９】
図３は、筐体に走査モジュール１を取り付ける際に、筐体上の走査モジュール１を調整するための本発明の一実施形態に係る調整装置２００の構成を示す図である。図３に示すように、調整装置２００は、ＬＤ制御回路２１と、レーザ光照射装置２２と、ステージＳＴと、４つのマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２と、受光装置２５と、変位検出装置２６と、モニタ２７とを備えている。なお、受光装置２５及び変位検出装置２６によって、変位検出部が構成され、４つのマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２によって調整部が構成される。
【００５０】
ＬＤ制御回路２１は、レーザ光照射装置２２の発光ダイオード２３を駆動して、発光ダイオード２３からレーザ光を−Ｚ方向に出射させる。このレーザ光は、レーザ光照射装置２２のコリメートレンズ２４により、所定の断面形状を有する平行光に変換され、−Ｚ方向に出射される。この平行光（以下、「調整用光ビームＩＬ」と称する）のビーム断面は略真円形状となっており、その径は、マイクロミラー２の反射面の径よりも大きくなっている。
【００５１】
ステージＳＴは、枠状となっており、調整装置の機体（不図示）上に設置されている。ステージＳＴの枠内を、レーザ光照射装置２２から出射された調整用光ビームＩＬが通過可能となっている。また、そのステージＳＴの上方には、Ｘ軸方向に沿って２つのマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、及びＹ軸方向に沿って２つのマイクロメータＭＭＹ１、ＭＭＹ２がそれぞれ調整装置２００の機体に取り付けられている。
【００５２】
受光装置２５の受光面は、＋Ｚ方向を向いており、ステージＳＴの枠内を通過した調整用光ビームＩＬを受光可能に設けられている。受光装置２５の受光面には、フォトダイオードが設けられている。レーザ光照射装置２２から照射されたレーザ光は、このフォトダイオードに入射する。このフォトダイオードは、受光領域が４分割されている。４分割された受光領域は、受光面に入射された調整用光ビームＩＬの断面中心を中心としてそれぞれ回転対称となるように配置されている。
【００５３】
受光装置２５は、４つの受光領域における受光量に応じた４つの電気信号を、変位検出装置２６に出力している。変位検出装置２６は、各電気信号に基づいて、受光装置２５の各受光領域の受光量の違いを検出し、その受光量の違いに基づいて、ステージＳＴ上に載置された対象物（本実施形態では、後述するマイクロミラー２）の変位を検出する。モニタＭＴは、その検出結果（マイクロミラー２のＸＹ変位）を表示する。
【００５４】
マイクロメータＭＭＸ１は、そのヘッドが＋Ｘ方向を向いている。マイクロメータＭＭＸ１をオペレータが操作すれば、そのヘッドに当接する対象物を、＋Ｘ方向に押圧することができるようになっている。マイクロメータＭＭＸ２は、そのヘッドが−Ｘ方向を向いている。マイクロメータＭＭＸ２をオペレータが操作すれば、そのヘッドに当接する対象物を、−Ｘ方向に押圧することができるようになっている。マイクロメータＭＭＹ１は、そのヘッドが＋Ｙ方向を向いている。マイクロメータＭＭＹ１をオペレータが操作すれば、そのヘッドに当接する対象物を、＋Ｙ方向に押圧することができるようになっている。マイクロメータＭＭＹ２は、そのヘッドが−Ｙ方向を向いている。マイクロメータＭＭＹ２をオペレータが操作すれば、そのヘッドに当接する対象物を、−Ｙ方向に押圧することができるようになっている。
【００５５】
なお、レーザ光照射装置２２、ステージＳＴ、受光装置２５は、マイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２を保持する機体に固定されており、これらの位置関係は固定となっている。
【００５６】
次に、この調整装置２００を用いた本発明の一実施形態に係る光走査装置の製造方法について説明する。ここで、光走査装置は、上記の走査モジュール１、後述する筐体及び固定金具を備えている。図４は、この製造方法を示すフローチャートである。
【００５７】
図４に示すように、まず、ステップＳ１において、筐体の位置決めを行う。ここで、図５に示すように、ステージＳＴ上に網膜走査型表示装置１００の筐体５０が設置される。この筐体５０は、一部が折れ曲がっており、ステージＳＴの＋Ｘ側端部に、その折曲がった部分が当接するように設置される。これにより、筐体５０は、所定の位置に位置決めされるようになる。この位置に筐体５０が位置決めされると、筐体５０と調整用光ビームＩＬとの位置関係が定まるようになる。調整用光ビームＩＬは、網膜走査型表示装置１００組立て後の投影光の入射位置に相当する位置を通過するように設定されており、この筐体５０上に走査モジュール１を取り付けるための基準となる。
【００５８】
図４に戻り、次のステップＳ２において、固定金具を載置する。ここで、図６に示すように、筐体５０上に固定金具５１を載置する。固定金具５１は、枠状のフレームである。固定金具５１は、そのＸ軸方向両端が＋Ｚ側に折り曲げられており、そのＹ軸方向両端が−Ｚ側に折り曲げられている。筐体５０のＹ軸方向の幅と、固定金具５１のＹ軸方向の幅は同じである。固定金具５１は、筐体５０上に載置されると、固定金具５１のＹ軸方向両端部５１Ｙが凸形状をしていることから、Ｙ軸方向両端部５１Ｙがストッパーとなって、Ｙ軸方向の移動が完全に制限される。これにより、固定金具５１は、筐体５０上をＸ軸方向のみに摺動可能となる。
【００５９】
図４に戻り、次のステップＳ３において、走査モジュールを載置する。ここで、図６に示すように、筐体５０上に搭載された固定金具５１上に、走査モジュール１を載置する。固定金具５１のＸ軸方向の幅と、走査モジュール１のＸ軸方向の幅は同じである。走査モジュール１は、固定金具５１上に載置されると、固定金具５１のＸ軸方向両端部５１Ｘが凸形状をしていることから、Ｘ軸方向両端部５１Ｘがストッパーとなって、Ｘ軸方向の移動が完全に制限される。これにより、走査モジュール１は、固定金具５１上をＹ軸方向のみに摺動可能となる。
【００６０】
図４に戻り、次のステップＳ４において、マイクロメータの調整を行う。ここで、図７に示すように、マイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２のヘッド部分が、固定金具５１のＸ軸方向両端部５１Ｘに当接するようにマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２の設置位置を調整し、マイクロメータＭＭＹ１、ＭＭＹ２のヘッド部分が、走査モジュール１のＹ軸方向両端部に当接するように、マイクロメータＭＭＹ１、ＭＭＹ２の設置位置を調整する。これにより、マイクロメータＭＭＸ１を駆動すると、固定金具５１及び走査用モジュール１が＋Ｘ方向に押圧され移動するようになり、マイクロメータＭＭＸ２を駆動すると、固定金具５１及び走査用モジュール１が−Ｘ方向に押圧され移動するようになる。一方、マイクロメータＭＭＹ１を駆動すると、走査用モジュール１が＋Ｙ方向に押圧され移動するようになり、マイクロメータＭＭＹ２を駆動すると、走査用モジュール１が＋Ｙ方向に押圧され移動するようになる。
【００６１】
なお、固定金具５１及び走査モジュール１は、走査モジュール１内のマイクロミラー２にレーザ光照射装置２２から出射されるレーザ光が当たるようにラフに位置決めされた状態で、載置されるようにする必要がある。
【００６２】
図４に戻り、次のステップＳ５において、変位検出を行う。まず、ＬＤ制御回路２１を介してレーザ光照射装置２２から調整用光ビームＩＬを照射する。調整用光ビームＩＬは、筐体５０上に載置された走査モジュール１内のマイクロミラー２に照射されるようになる。調整用光ビームＩＬの断面の径は、マイクロミラー２の反射面の径よりも大きいため、マイクロミラー２の外周よりも外側を通る調整用光ビームＩＬの光束はそのまま通過し、受光装置２５の４分割フォトダイオードに入射するようになる。
【００６３】
図８（Ａ）は、調整用光ビームＩＬが受光装置２５の４分割フォトダイオードへ入射する状態の一例を示す図である。ここで、受光装置２５の４分割フォトダイオードにおいて、その４つの分割領域のうち、＋Ｘ側に配置されている領域を受光領域Ａとし、−Ｘ側に配置されている領域を受光領域Ｃとし、＋Ｙ側に配置されている領域を受光領域Ｂとし、−Ｙ側に配置されている領域を受光領域Ｄとする。
【００６４】
図８（Ａ）に示すように、調整用光ビームＩＬの光路上にマイクロミラー２が存在しているため、４分割フォトダイオードに入射する調整用光ビームＩＬの断面形状は、ほぼ環状となる。ここで、説明を簡単にするため、マイクロミラー２の揺動軸をなす支持部４は十分に細く、受光装置２５における調整用光ビームＩＬの受光状態に影響を与えないものとする。図８（Ａ）では、調整用光ビームＩＬの断面中心とマイクロミラー２の中心とが一致しており、４分割フォトダイオードに入射する断面形状が環状となっている調整用光ビームＩＬのリングの厚みは全周でほぼ均一となり、受光領域Ａ、Ｃにおける受光量は同じとなり、受光領域Ｂ、Ｄの受光量は同じとなる。
【００６５】
図８（Ｂ）は、調整用光ビームＩＬの断面中心に対して、マイクロミラー２の中心が＋Ｘ方向及び＋Ｙ方向に変位している状態の一例を示す図である。図８（Ｂ）に示すように、マイクロミラー２の位置が、＋Ｘ側に変位している場合には、＋Ｘ側に位置する受光領域Ａの受光量が小さくなり、−Ｘ側に位置する受光領域Ｃの受光量が大きくなる。また、マイクロミラー２の位置が、＋Ｙ側に変位している場合には、＋Ｙ側に位置する受光領域Ｂの受光量が小さくなり、−Ｙ側に位置する受光領域Ｄの受光量が大きくなる。
【００６６】
変位検出装置２６は、各受光領域Ａ〜Ｄの受光量に相当する電気信号を入力する。そして、変位検出装置２６は、受光領域Ａの受光量に相当する電気信号と、受光領域Ｃの受光量に相当する電気信号とに基づいて、それぞれの受光量の違いを求め、その違いに基づいて、マイクロミラー２のＸ変位、すなわち走査モジュール１のＸ変位を検出する。また、受光領域Ｂの受光量に相当する電気信号と、受光領域Ｄの受光量に相当する電気信号とに基づいて、それぞれの受光量の違いを求め、その違いに基づいて、マイクロミラー２のＹ変位、すなわち走査モジュール１のＹ変位を検出する。走査モジュール１のＸ変位及びＹ変位は、モニタＭＴに表示される。
【００６７】
なお、マイクロミラー２の製造誤差などにより、マイクロミラー２の外形基準での中心と、ビーム断面中心と一致させるべき点との間に誤差がある場合には、その誤差を考慮して、走査モジュール１のＸ変位及びＹ変位を算出するようにしてもよい。
【００６８】
図４に戻り、次のステップＳ６において、走査モジュールの位置調整を行う。オペレータは、このモニタ２７を見て、マイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２を操作し、走査モジュールのＸＹ位置を調整する。例えば、図８（Ｂ）に示されるように、受光領域Ａの受光量が小さくなり、受光領域Ｃの受光量が大きくなっている場合には、＋Ｘ方向の変位量が表示されている。オペレータは、マイクロメータＭＭＸ２を操作して、走査モジュール１を−Ｘ方向にずらす。また、受光領域Ｂの受光量が小さくなり、受光領域Ｄの受光量が大きくなっている場合には、＋Ｙ方向の変位量が表示されている。オペレータは、マイクロメータＭＭＹ２を操作して、走査モジュール１を−Ｙ方向にその変位量分だけ移動させる。このようにすれば、図８（Ａ）に示される状態となり、マイクロミラー２の中心が、調整用光ビームＩＬの断面中心と合致するようになる。
【００６９】
最後に、ステップＳ７において、走査モジュールを固定する。ここで、走査モジュール１と固定金具５１との間や、固定金具５１と筐体５０との間に、接着剤、例えばＵＶ硬化剤などが注入され、紫外線が照射されるなどして走査モジュール１が筐体５０上に固定される。これにより、最終的に網膜走査型表示装置１００の組立てが完成した後、投影光のビーム断面中心は、走査モジュール１内のマイクロミラーの中心と一致するようになるので、マイクロミラー２が振動しても投影光がその反射面上の同じ位置に入射するようになり、反射光の１次元走査が、マイクロミラー２の面形状の影響を受けないようになり、高精度な投影光の走査が実現される。
【００７０】
以上詳細に説明したように、本実施形態によれば、ステージＳＴ上の所定の位置に筐体５０が位置決めされ、その筐体５０上に走査モジュール１が載置された状態で、その走査モジュール１に含まれるマイクロミラー２に対して、ビーム径がそのマイクロミラー２の略真円形状の反射面の径より大きい、略真円形状の断面を有する調整用光ビームＩＬが照射される。変位検出装置２６は、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬの受光量に基づいて、調整用光ビームＩＬのビーム断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出する。さらに、検出されたＸＹ変位に基づいて、マイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２を用いて、筐体５０に対する走査モジュールの位置が調整される。この結果、マイクロミラー２の中心を、投影光のビーム断面中心に一致させることができるようになる。
【００７１】
マイクロミラー２はＸ軸を基軸にした回りに揺動するため、マイクロミラー２の反射面がＸＹ面に平行でない状態となっている可能性がある。本実施形態によれば、マイクロミラー２の反射面が多少傾斜していたとしても、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬに基づいて、調整用光ビームＩＬのビーム断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を精度良く検出することができる。
【００７２】
なお、マイクロミラー２の反射面の形状は、略真円形状でなくてもよく、その反射面の中心軸を対称軸として、２ｍ（ｍは２以上の整数）回略回転対称であればよい。例えば、正方形、正六角形または正八角形であってもよい。
【００７３】
また、調整用光ビームＩＬの実効的に定められる径は、マイクロミラー２の反射面の形状に対して定められる最大の外接円の径よりも大きくなっていればよい。例えば、マイクロミラー２の反射面の形状が４回略回転対称の場合（ｍ＝２、マイクロミラー２の反射面の形状が正方形の場合）、調整用光ビームＩＬの実効的に定められる径は、正方形のマイクロミラー２における４つの頂点を円周上に含む外接円を形成したときに、その外接円の径よりも大きくなっていればよい。
【００７４】
また、調整用光ビームＩＬの断面形状は、略真円形状でなくてもよく、２ｐ（ｐは１以上の整数）回回転対称であればよい。例えば、調整用光ビームＩＬの断面形状が、２回回転対称であっても、Ｘ軸方向かＹ軸方向かいずれか一方向の調整が可能となる。一方向の調整であっても、その調整により、投影光のビーム断面中心を、走査モジュール１内のマイクロミラー２の揺動軸上に入射させるようにすれば、投影光がマイクロミラー２の反射面上の同じ位置に常に入射するようになり、反射光の１次元走査がマイクロミラー２の面形状の影響を受けなくて済むようになる。
【００７５】
また、本実施形態によれば、受光装置２５は、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬを受光し、その受光量に応じた電気信号を出力し、変位検出装置２６において、その電気信号に基づいて、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出する。
【００７６】
受光装置２５の受光面は、調整用光ビームＩＬの断面中心を中心としてそれぞれ回転対称となる４個の領域に分割されている。分割された各領域の受光量の違いは、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を表すようになる。したがって、分割された各領域の受光量の違いから、調整用光ビームＩＬの断面中心に対する少なくとも一方向のマイクロミラー２の中心の変位を検出することができるようになる。変位検出装置２６は、分割された各領域の受光量の違いに応じて、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出する。このようにすれば、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するＸＹ直交２軸のマイクロミラー２の中心の変位を検出することができるようになる。
【００７７】
なお、受光装置２５の受光面のフォトダイオードの分割数は４個に限定されず、調整用光ビームＩＬの断面中心を中心として回転対称となる２ｎ（ｎは２以上の整数）個の領域に分割されていればよい。
【００７８】
なお、受光装置２５の代わりに、互いの受光面が、調整用光ビームＩＬの断面中心を中心として２ｎ（ｎは１以上の整数）回回転対称に配置された２ｎ個のフォトダイオード等の光電変換手段を用いるようにしてもよい。各光電変換手段の受光量の違いは、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラーの中心の変位を表すようになる。この場合、変位検出装置２６には、各光電変換手段の受光量に相当する電気信号が入力される。変位検出装置２６は、各光電変換手段の受光量の違いに基づいて、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出する。このようにしても、調整用光ビームＩＬの断面中心に対する少なくとも一方向のマイクロミラー２の中心を一致させることができるようになる。
【００７９】
なお、受光装置２５の受光面には、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬを受光し、その受光結果に対応する画像データ信号を出力するＣＣＤ（電荷結合素子）などの撮像素子が設けられていてもよい。この画像データ信号は、調整用光ビームＩＬによるマイクロミラーの像に相当する信号となっている。この場合、変位検出装置２６には、この撮像素子から出力される画像データ信号が送られる。変位検出装置２６は、この画像データ信号に対し、画像処理を行って、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラーの中心のＸＹ変位を検出する。このようにしても、調整用光ビームＩＬの断面中心に対する少なくとも一方向のマイクロミラー２の中心を一致させることができるようになる。また、受光装置２５の受光面には、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬを受光し、その受光結果に対応する電気信号を出力する２次元ＰＳＤ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）素子が設けられていてもよい。このＰＳＤ素子は、例えば、フォトダイオードの表面に抵抗層が設けられた素子である。
【００８０】
なお、本実施形態では、走査モジュール１のＸＹ位置を調整するものとして、４つのマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２を採用したが、これらの代わりに、圧電素子を採用するようにしてもよい。すなわち、圧電素子をマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２の代わりに設置し、それらを電圧駆動して筐体５０上の走査モジュール１を押圧することにより、筐体５０上の走査モジュール１の位置を調整するようにしてもよい。このようにしても、マイクロミラー２の位置の微調整が可能となる。また、マイクロミラー２を押下する向きが逆向きの２つの圧電素子が対向して設けるようにすれば、本実施形態と同様に、＋側からも、−側からも、マイクロミラー２の位置の調整が可能となる。
【００８１】
なお、本実施形態では、オペレータの操作によりマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２を駆動して、走査モジュール１の位置を調整したが、変位検出装置２６によって検出された走査モジュール１のＸＹ変位に基づいてマイクロメータＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ１、ＭＭＹ２を駆動し、走査モジュール１のＸＹ位置を自動的に調整するようにしてもよい。
【００８２】
また、本実施形態では、各軸の変位調整用の一対のアクチュエータを一列に並べるようにしたが、Ｘ軸方向又はＹ軸方向では、アクチュエータを２列並べるようにしてもよい。このようにすれば、走査モジュール１のＺ軸回りの回転ずれも調整することが可能となる。
【００８３】
また、本実施形態に係る光走査装置の製造方法によれば、所定の位置に筐体５０を位置決めし、その筐体５０上に走査モジュール１を載置する。そして、その走査モジュール１に含まれるマイクロミラー２に対して、ビーム径がそのマイクロミラー２の反射面の径より大きい、略真円状の断面形状を有する調整用光ビームＩＬを照射する。次に、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬに基づいて、調整用光ビームＩＬのビーム断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出する。さらに、検出された変位に基づいて筐体５０上の走査モジュール１の位置を調整する。この調整の結果、マイクロミラー２の中心を、設計上の光ビームのビーム断面中心に一致させることが容易となる。
【００８４】
また、本実施形態に係る製造方法によれば、筐体５０上の走査モジュール１の位置が調整された後、筐体５０に走査モジュール１を固定するので、投影光のビーム断面中心と、マイクロミラー２の中心とを一致させた状態で、筐体５０に走査モジュール１を固定することができるようになる。
【００８５】
また、本実施形態に係る走査モジュール１によれば、マイクロミラー２を含むスキャナ９、台座５及び基板６が、調整用光ビームＩＬをマイクロミラー２の外側から通過させる構造となっているので、マイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬを調整装置２００の受光装置２５でそのまま受光することができるようになる。したがって、この走査モジュール１は、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出するのに好適である。
【００８６】
また、本実施形態に係る光走査装置によれば、支持部４を介して枠部３に保持されたマイクロミラー２の外側を通過した調整用光ビームＩＬを、固定金具５１、筐体５０及びステージＳＴがさらに通過させるので、調整用光ビームＩＬを調整装置２００の受光装置２５でそのまま受光することができるようになる。したがって、この網膜走査型表示装置１００は、調整用光ビームＩＬの断面中心に対するマイクロミラー２の中心の変位を検出するのに好適である。
【００８７】
なお、本発明に係る走査モジュール１は、網膜走査型表示装置１００だけでなく、投影スクリーンあるいは建物の壁などに走査光を投射する投射型の光走査型表示装置、プロジェクタ、レーザプリンタ、レーザリソグラフィ装置、ファクシミリ、複写機、イメージスキャナ 、バーコードリーダなど他の装置に適用することが可能なのは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の一実施形態に係る調整装置により調整された走査モジュールを用いた網膜走査型表示装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】走査モジュールの構成を示す分解斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る調整装置の構成を示す図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る光走査装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図５】製造工程（その１）を説明する図である。
【図６】製造工程（その２）を説明する図である。
【図７】製造工程（その３）を説明する図である。
【図８】図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、マイクロミラーの外側を通過した調整用光ビームとマイクロミラーの変位との関係を説明する図である。
【符号の説明】
【００８９】
１  走査モジュール
２  マイクロミラー
３  枠部
４  支持部
５  台座
６  基板
７  梁部
８  段差部
９  スキャナ
１０  光源部
１１  光ファイバ
１２  コリメート光学系
１３  第１のリレー光学系
１４  ガルバノミラー
１５  第２のリレー光学系
１６  水平走査同期回路
１７  フォトセンサ
１８  垂直走査同期回路
２１  ＬＤ制御回路
２２  レーザ光照射装置
２３  発光ダイオード
２４  コリメートレンズ
２５  受光装置
２６  変位検出装置
２７  モニタ
５０  筐体
５１  固定金具
１００  網膜走査型表示装置
２００  調整装置
Ｅ  眼球
Ｆ  網膜
ＩＬ  調整用光ビーム
ＭＭＸ１、ＭＭＸ２、ＭＭＹ２、ＭＭＹ３  マイクロメータ
ＳＴ  ステージ
【図１】
2009075171.tif 000003
【図２】
2009075171.tif 000004
【図３】
2009075171.tif 000005
【図４】
2009075171.tif 000006
【図５】
2009075171.tif 000007
【図６】
2009075171.tif 000008
【図７】
2009075171.tif 000009
【図８】
2009075171.tif 000010