(57)【要約】【課題】有機ＥＬ素子の部分的な輝度を均一にする。【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置１は、所定の発光領域Ａ１を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子１００を備えている。有機エレクトロルミネッセンス素子１００は、基板１００Ａ上に設けられた第１電極１１０と、基板１００Ａ上に設けられ、発光領域Ａ１が開口されてなる貫通孔１２１を有する隔壁１２０と、貫通孔１２１の内側における第１電極１１０上に設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料からなる有機発光層１４３を含んだ有機機能層１４０と、有機機能層１４０上に設けられた第２電極１５０と、を備えている。発光領域Ａ１における有機機能層１４０の最大膜厚部と第１電極１１０の形成領域Ａ２とが重ね合わされて配置されているとともに、発光領域Ａ１における有機機能層１４０の最小膜厚分部と第１電極１１０の非形成領域Ａ３とが重ね合わされて配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々が、
基板上に設けられた第１電極と、
前記基板上に設けられ、前記発光領域が開口されてなる貫通孔を有する隔壁と、
前記貫通孔の内側における前記第１電極上に設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料からなる有機発光層を含んだ有機機能層と、
前記有機機能層上に設けられた第２電極と、を有し、
前記第１電極が前記発光領域において選択的に設けられており、前記発光領域における前記有機機能層の最大膜厚部と前記第１電極の形成領域とが重ね合わされて配置されているとともに、前記発光領域における前記有機機能層の最小膜厚分部と前記第１電極の非形成領域とが重ね合わされて配置されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記発光領域の周縁に沿う部分の前記有機機能層が前記最大膜厚部となっていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
前記第１電極が前記発光領域を環状に囲んで設けられていることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項４】
前記第１電極において前記有機機能層と反対側に、前記有機機能層から発せられた光を第２電極側に反射させる反射層が設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項５】
前記有機機能層が該有機機能層の液状の形成材料を固化して形成されており、前記基板上の前記第１電極の非形成領域に、前記液状の形成材料に対して親液性を有する親液膜が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項６】
前記有機機能層が該有機機能層の液状の形成材料を固化して形成されており、前記隔壁と前記第１電極との間に、前記液状の形成材料に対して親液性を有する第２親液膜が設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項７】
前記有機機能層が前記第１電極に当接して設けられた有機中間層を有しており、前記有中間層は、ポリチオフェン誘導体に、グリコール系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒のうち少なくとも１つを添加してなる形成材料で形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項８】
前記有機機能層が前記第１電極に当接して設けられた有機中間層を有しており、前記有中間層は、ポリチオフェン誘導体に、Ｎ−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ(ＮＭＰ)、ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ(ＤＭＳＯ)、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅの少なくとも１つを溶媒として添加してなる形成材料で形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項９】
前記中間層の抵抗率が１．０×１０−２Ω・ｃｍ以上１．０×１０４Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項７または８に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称す）を用いた発光素子として、有機ＥＬ素子が知られている。有機ＥＬ素子は、正孔を供給する陽極と電子を供給する陰極との間に、有機ＥＬ材料からなる有機発光層を含んだ有機機能層を有するものである。供給された正孔と電子とが有機発光層内で結合して、光を生じるようになっている。
【０００３】
このように有機ＥＬ素子は自発光素子であるので、これを用いて表示装置等を構成するとバックライト等が不要となり薄型化が図られる。また、画像信号に対する応答性が液晶装置よりも優れており、動画の画質向上が図られる。有機ＥＬ素子を用いたトップエミッション型の表示装置において、陽極と陰極との間隔を調整することにより、色ごとに輝度や色度を調整する技術が知られている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
ところで、有機ＥＬ素子の有機機能層の形成には、液滴吐出法、スピンコート法等の液相法や蒸着法等の気相法が用いられている。液滴吐出法を用いる場合には、以下のようにして有機ＥＬ素子が製造されている。まず、基板上に画素電極を形成し、その周縁を覆って無機隔壁を形成する。そして無機隔壁上に有機隔壁を形成するとともに、有機隔壁に画素電極を露出させる開口部を形成する。そして、有機機能層の液状の形成材料であるインクに対して有機隔壁を撥液性とし無機隔壁を親液性とした状態で、開口部の内側にインクを充填する。有機隔壁が撥液性であるので、有機隔壁の開口部の内側にインクが選択的に配置される。また、無機隔壁が親液性であるので、画素電極の周縁における濡れ性を確保することができる。
【０００５】
液滴吐出法によれば選択的に形成材料を配置することができるので、パターニングが容易になるとともに材料のムダがなくなり、低コストで有機ＥＬ素子を製造することができる。一方、液滴吐出法によると蒸着法やスピンコート法に比べると平坦な膜を形成することが難しい。そのため、１つの有機ＥＬ素子で有機機能層に部分的な膜厚変化を生じることや、複数の有機ＥＬ素子で有機機能層の膜厚変化を生じることがある。特許文献１のように陽極と陰極との間隔を調整する技術を用いれば、色ごとに有機ＥＬ素子の発光特性を調整することが可能であるが、１つの有機ＥＬ素子における部分的な膜厚変化を解決することはできないと考えられる。
【０００６】
１つの有機ＥＬ素子における部分的な膜厚変化を低減する手法としては、特許文献２に開示されている技術を適用することが考えられる。特許文献２では、配置されたインクを乾燥させる条件を変化させ得る液滴吐出装置が提案されており、乾燥条件を最適化することにより膜厚が均一になるとされている。
【特許文献１】特開２００２−２５２０８７号公報
【特許文献２】特開２００７−１８３６４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、実際に乾燥条件の最適化によって膜厚を均一にすることは、以下の理由により困難であると考えられる。
インクの乾燥速度は、インクの組成や温度等の多くのパラメータに依存している。均一な膜厚となる乾燥速度に乾燥条件を調整するためには、網羅的な実験を行うこと等により乾燥条件に対応した膜厚のプロファイルを調べておくことが必要である。一般に、有機機能層は正孔注入層や正孔輸送層、有機発光層等の複数の有機層で構成されており、各有機層の形成材料であるインクに対して、最適な乾燥条件を調査することは多大な労力を要すると考えられる。異なる複数の色光を発する有機ＥＬ素子で構成されたフルカラー表示装置を製造する場合には、色光ごとに有機発光層の形成材料が異なるため、前記の不都合が顕著になる。
【０００８】
また、製造効率を向上させる観点から製造装置を大型化すると、乾燥条件の高度な制御が可能である装置にするために、装置コストが大幅に増加してしまうおそれがある。また、広範囲にわたって乾燥条件を均一にすることができなくなり、結果的に膜厚が均一にならなくなるおそれもある。
【０００９】
本発明は、前記事情に鑑み成されたものであって、均一な輝度の発光が得られる良好な有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々が、基板上に設けられた第１電極と、前記基板上に設けられ、前記発光領域が開口されてなる貫通孔を有する隔壁と、前記貫通孔の内側における前記第１電極上に設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料からなる有機発光層を含んだ有機機能層と、前記有機機能層上に設けられた第２電極と、を有し、前記第１電極が前記発光領域において選択的に設けられており、前記発光領域における前記有機機能層の最大膜厚部と前記第１電極の形成領域とが重ね合わされて配置されているとともに、前記発光領域における前記有機機能層の最小膜厚分部と前記第１電極の非形成領域とが重ね合わされて配置されていることを特徴とする。
【００１１】
第１電極に電圧が印加されると第１電極から有機機能層にキャリアが注入される。キャリアは、有機機能層において面方向に運ばれるとともにこれに直交する厚さ方向に運ばれて、有機発光層に供給される。有機機能層の面方向に運ばれるキャリア数は、第１電極から近い部分ほど多くなり、同じキャリア数であれば有機機能層において膜厚が厚い部分ほど輝度が低くなる。発光領域における有機機能層の最大膜厚部と重なる部分に第１電極が配置され、かつ最小膜厚分部と重なる部分には第１電極が配置されてないので、最大膜厚部で最小膜厚部よりもキャリア数が多くなる。したがって、膜厚が厚い部分ほど多くのキャリアが供給されるので発光領域において輝度が均一になり、発光ムラが低減された良好な有機エレクトロルミネッセンス素子となる。また、最小膜厚部に重なる部分に第１電極が配置されていないので、成膜不良等でここに有機機能層が形成されなかった場合であっても、第１電極と第２電極と間に短絡を生じることが防止される。
【００１２】
また、前記発光領域の周縁に沿う部分の前記有機機能層が前記最大膜厚部となっていることが好ましく、この場合には、前記第１電極が、前記発光領域を環状に囲んで設けられていることが好ましい。
発光領域の周縁に沿う部分の有機機能層が前記最大膜厚部となっていれば、第１電極の形成領域が発光領域の周縁に沿うようになり、第１電極と導通する配線等を発光領域の外側に配置することが可能になる。これにより配線等を視認されなくすることができ、ボトムエミッション型、トップエミッション型のいずれの有機エレクトロルミネッセンス装置においても本発明を良好に適用することが可能になる。
【００１３】
第１電極が、前記発光領域を環状に囲んで設けられていれば、基板側の有機機能層の外周が第１電極によって環状に囲まれるようになり、有機機能層の外周の一部と当接して第１電極が設けられている場合に比べて、外周に沿う方向において有機機能層に供給されるキャリア数が均一になり、外周沿う方向における輝度ばらつきが低減される。
【００１４】
また、前記第１電極において前記有機機能層と反対側に、前記有機機能層から発せられた光を第２電極側に反射させる反射層が設けられていることが好ましい。
このようにすれば、有機機能層から発せられた光を第２電極側から取り出すことが可能なトップエミッション型になる。有機機能層から第２電極側に発せられた光がそのまま取り出されるので、ボトムエミッション型に比べて第１電極を通って取り出される光の割合が少なくなる。したがって、第１電極の形成領域と非形成領域との段差に起因する光の干渉影響を低減される。
【００１５】
前記有機機能層が、該有機機能層の液状の形成材料を固化して形成されており、前記基板上の前記第１電極の非形成領域に、前記液状の形成材料に対して親液性を有する親液膜が設けられていることが好ましい。
このようにすれば、液状の形成材料が基板上の第１電極の非形成領域に濡れ広がるようになる。第１電極の非形成領域は形成領域と接しておりここに液状の形成材料がぬれ広がるので、液状の形成材料を固化すると第１電極に良好に接触した有機機能層となる。
【００１６】
前記有機機能層が、該有機機能層の液状の形成材料を固化して形成されており、前記隔壁と前記第１電極との間に、前記液状の形成材料に対して親液性を有する第２親液膜が設けられていることが好ましい。
このようにすれば、液状の形成材料が隔壁と第１電極との間に濡れ広がるようになり、液状の形成材料を固化すると第１電極に良好に接触した有機機能層となる。
【００１７】
また、前記有機機能層が前記第１電極に当接して設けられた有機中間層を有しており、前記有中間層は、ポリチオフェン誘導体に、グリコール系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒のうち少なくとも１つを添加してなる形成材料で形成されていることが好ましい。
このようにすれば、前記の溶媒を添加する量を調整することにより有機中間層の面方向の抵抗率を調整することができ、有機中間層において面方向に運ばれるキャリア数を制御することができる。これにより、発光領域における輝度の均一化が図られる。
【００１８】
また、前記有機機能層が前記第１電極に当接して設けられた有機中間層を有しており、前記有中間層は、ポリチオフェン誘導体に、Ｎ−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ(ＮＭＰ)、ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ(ＤＭＳＯ)、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅの少なくとも１つを溶媒として添加してなる形成材料で形成されていることが好ましい。
このようにすれば、前記の溶媒を添加する量を調整することにより有機中間層の面方向の抵抗率を調整することができ、有機中間層において面方向に運ばれるキャリア数を制御することができる。これにより、発光領域における輝度の均一化が図られる。
【００１９】
また、前記中間層の抵抗率が１．０×１０−２Ω・ｃｍ以上１．０×１０４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。
このようにすれば、第１電極の形成領域と非形成領域とでキャリア数が異なるようにキャリアの移動度が設定される。これにより、発光領域における輝度の均一化が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態を説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。以降の説明では図面を用いて各種の構造を例示するが、構造の特徴的な部分を分かりやすく示すために、図面中の構造はその寸法や縮尺を実際の構造に対して異ならせて示す場合がある。
【００２１】
［第１実施形態］
第１実施形態の有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置と称す）は、複数の画素を備えたフルカラーの画像表示装置であり、画素ごとに発光素子として機能する有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称す）が設けられている。
【００２２】
図１（ａ）は、第１実施形態の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。図１（ａ）に示すように、有機ＥＬ装置１は、行列状に整列配置された複数の発光領域Ａ１を有しており、１つの発光領域Ａ１がサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの１つと対応している。複数の発光領域Ａ１は隔壁１２０によって区画されている。
【００２３】
サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂはいずれも同様の構成となっているが、有機発光層（後述する）の形成材料の違いにより、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を射出するようになっている。３つのサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂから射出された３色の色光により、フルカラー表示の最小単位である１画素が構成される。本実施形態のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂは、いずれも平面視略長円形状になっている。長円形状とは、一方向に延びる帯形状を有しその両端が円弧状になっている形状のことである。ここでは、前記一方向を長軸とし、長軸の直交方向を短軸とする長円形状になっている。
【００２４】
以下、図１に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、これに基づいて部材の位置関係を説明する。このＸＹＺ直交座標系において、Ｘ方向はサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの短軸方向、Ｙ方向は長軸方向、Ｚ方向は有機ＥＬ装置１の厚さ方向となっている。
【００２５】
本実施形態では、Ｘ方向に色光が異なる３種類のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが周期的に並んで配置されており、Ｙ方向にサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが色ごとに並んで配置されている。ここではサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々に、有機ＥＬ素子が配置されている。各有機ＥＬ素子は、発光領域Ａ１の周辺と周縁とにわたってその外周を環状に囲んで設けられた画素電極（第１電極）１１０と、画素電極１１０に対向して設けられたベタ状の共通電極（第２電極）１５０を有している。発光領域Ａ１において隔壁１２０を貫通する貫通孔１２１（図１（ｂ）参照）が設けられており、貫通孔１２１の内側における画素電極１１０と共通電極１５０との間に有機機能層１４０が設けられている。
【００２６】
図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子１００は、素子基板（基板）１００Ａの上方に設けられた画素電極１１０、有機機能層１４０、共通電極１５０を備えている。素子基板１００Ａ上には、平坦化層１０６が設けられており、平坦化層１０６上に環状の画素電極１１０が設けられている。画素電極１１０の外周側の周縁部を覆って隔壁１２０が設けられており、発光領域Ａ１と重なる部分の隔壁１２０を貫通して貫通孔１２１が設けられている。発光領域Ａ１の外周に沿う環状の周縁領域は、画素電極１１０の形成領域Ａ２となっており、形成領域Ａ２に囲まれる領域が画素電極１１０の非形成領域Ａ３となっている。画素電極１１０の形成領域Ａ２は、有機機能層１４０の最大膜厚部（後述する）と重なるようになっており、画素電極１１０の非形成領域Ａ３は、有機機能層１４０の最小膜厚部（後述する）と重なるようになっている。画素電極１１０は、発光領域Ａ１のうち形成領域Ａ２に選択的に形成されている。貫通孔１２１の内側には、画素電極１１０に当接して有機機能層１４０が設けられており、有機機能層１４０上と隔壁１２０上とにわたって、ベタ状の共通電極１５０が設けられている。
【００２７】
素子基板１００Ａは、その詳細な構成を図示しないが、Ｘ方向に延設された複数の走査線、Ｙ方向に延設された複数の信号線、各信号線と並んで延設された電源線等の各種配線を備えている。各走査線は、走査信号を供給する走査線駆動回路に接続されており、各信号線は、画像信号を供給する信号線駆動回路に接続されている。走査線及び信号線により区画される領域に、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂのうちの１つが配置されている。サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々に対応して、スイッチング素子（ＴＦＴ）１０５が設けられている。ＴＦＴ１０５は、平坦化層１０６に覆われており、平坦化層１０６を貫通して、画素電極１１０と電気的に接続されている。ＴＦＴ１０５は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングするとともに、スイッチングされた画像信号に基づいて、電源線を介して画素電極１１０に所定の電圧を印加するようになっている。
【００２８】
平坦化層１０６は、アクリル樹脂等の絶縁性の有機材料、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）やシリコン窒化物（ＳｉＮ）等の絶縁性の無機材料からなるものである。本実施形態では、画素電極１１０の非形成領域Ａ３において平坦化層１０６と有機機能層１４０とが当接しており、この部分の平坦化層１０６表面は、有機機能層１４０の液状の形成材料に対して親液性となっている。すなわち、本実施形態では平坦化層１０６が親液膜として機能するようになっている。
【００２９】
本実施形態では、画素電極１１０が陽極として機能するようになっており、共通電極１５０が陰極として機能するようになっている。
画素電極１１０は、仕事関数が高い（例えば５ｅＶ以上）導電材料、ここではインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）からなっている。
共通電極１５０は、仕事関数が低い（例えば５ｅＶ以下）材料からなっている。仕事関数が低い材料としては、カルシウムやマグネシウム、ナトリウム、リチウム金属、又はこれらの金属化合物であるフッ化カルシウム等の金属フッ化物や酸化リチウム等の金属酸化物、アセチルアセトナトカルシウム等の有機金属錯体等が挙げられる。ここでは、有機機能層１４０上に図示略のカルシウム層、及びアルミニウム層が順次形成された多層構造となっている。カルシウム層は、有機機能層１４０に電子を注入する電子注入層、あるいは有機機能層１４０に電子を輸送する電子輸送層等として機能するようになっており、アルミニウム層は共通電極１５０を低抵抗化するとともに有機機能層１４０から発せられた光を画素電極１１０側に反射させる反射層としても機能するようになっている。
【００３０】
有機機能層は、有機ＥＬ材料からなる有機発光層を含んで構成されている。有機機能層の構造としては、陽極側から正孔注入層、有機発光層が順に積層された構造や、正孔注入層と有機発光層との間に正孔輸送層を設けた構造、正孔注入層に替えて正孔注入輸送層を設けた構造、さらに有機発光層の陰極側に電子注入（輸送）層を設けた構造等が挙げられる。
【００３１】
本実施形態では、画素電極１１０側から順に配置された正孔注入層（有機中間層）１４１、正孔輸送層１４２、及び有機発光層１４３の３層の有機層で構成された有機機能層１４０を採用している。正孔注入層１４１は、平坦化層１０６に当接しているとともに、画素電極１１０にも当接している。３層の有機層の各々は、各有機層の液状の形成材料を液相法で配置し、これを乾燥・焼成等により固化して形成されている。この乾燥条件によって有機機能層１４０の表面形状が定まり、ここでは共通電極１５０側（Ｚ正方向側）の表面が素子基板１００Ａ側（Ｚ負方向側）に向かって凸となる湾曲面になっている。素子基板１００Ａの表面から有機機能層１４０のＺ正方向側の表面までの距離を有機機能層１４０の膜厚と定義すると、有機機能層１４０は、発光領域Ａ１の中心で最小膜厚部となっており、発光領域Ａ１の外周で最大膜厚部になっている。
【００３２】
有機機能層１４０の最大膜厚部や最小膜厚部は、有機ＥＬ装置の製造前に実験等により調べておくことができる。例えば、実験用の有機ＥＬ装置を製造する工程で、実際の有機ＥＬ装置と同じ液状の形成材料を用いてこれを配置した後、所定の乾燥条件で乾燥・焼成して固化する。そして、実験用の有機ＥＬ装置において有機ＥＬ素子の断面を調べることにより、有機機能層の膜厚プロファイルを知ることができる。最適な乾燥条件を調べるためには乾燥条件を変化させつつ膜厚プロファイルを調べる必要があるため、実験回数が極めて多くなり多大の労力を要すると考えられる。一方、実際の有機ＥＬ装置と同じ条件で製造された膜厚プロパイルを調べるためには、端的には１回の実験を行えばよいので、実験に要する労力が格段に低減される。
【００３３】
本実施形態の正孔注入層１４１は、ポリチオフェン誘導体にジエチレングリコール等のグリコール系溶媒を添加してなる液状の形成材料を用いて形成されている。グリコール系溶媒の添加量を調整することにより、正孔注入層１４１は、その面方向の抵抗率が１．０×１０−２Ω・ｃｍ以上１．０×１０４Ω・ｃｍ以下の範囲内になるように調整されている。本実施形態では、前記のようにして得られた膜厚プロファイルを統計処理した結果、及び正孔注入層１４１の面方向の抵抗率に基づいて、画素電極１１０の形成領域Ａ２が定められている。ここでは、画素電極１１０の電圧印加時に、有機機能層１４０の部分ごとにその膜厚に応じた数のキャリアが供給されるように、画素電極１１０の形成領域Ａ２が定められている。
【００３４】
有機機能層の形成材料としては、公知のものを用いることができ、具体的には以下のようなものがある。
正孔注入層の形成材料として、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体等が挙げられる。
正孔輸送層の形成材料としては、ＴＡＰＣ、ＴＰＤ、α‐ＮＰＤ、ｍ‐ＭＴＤＡＴＡ、２‐ＴＮＡＴＡ、ＴＣＴＡ、スピロ‐ＴＡＤ、（ＤＴＰ）ＤＰＰＤ、ＨＴＭ１、ＴＰＴＥ１、ＮＴＰＡ、ＴＦＬＴＦ、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）やポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系有機高分子材料等が挙げられる。
【００３５】
有機発光層の形成材料としては、前記した正孔輸送層の形成材料の他、ペニレン系色素や、クマリン系色素、ローダミン系色素などの有機高分子材料、あるいはこれら有機高分子材料に例えばルブレン、ペリレン、９，１０‐ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどの低分子有機材料をドープしたもの、ＣＢＰ（４．４．‐ジカルバゾール‐４，４‐ビフェニル）誘導体、ＰｔＯＥＰ（白金ポルフィリン錯体）誘導体、Ｉｒ（ｐｐｙ）３（イリジウム錯体）誘導体、ＦＩｒｐｉｃ（イリジウム錯体）誘導体等の燐光材料等が挙げられる。
有機発光層の形成材料の具体例としては、（ポリ［（９，９‐ジオクチルフルオレニル‐２，７‐ジビニレンフルオレニレン‐ａｌｔ‐ｃｏ‐（９， １０‐アントラセン））］や、（ポリ［｛９，９ジヘキシル‐２，７‐ビス（１‐シアノビニレン）フルオレニル-エン｝‐ａｌｔ‐ｃｏ‐｛２，５‐ビス（Ｎ，Ｎ’ ‐ジフェニルアミノ）‐１，４‐フェニレン｝］、（ポリ［｛２‐メトキシ‐５‐（２‐エチルヘキシロキシ）‐１，４‐（１‐シアノビニレンフェニレン）｝‐ｃｏ‐｛２，５‐ビス（Ｎ，Ｎ’‐ジフェニルアミノ）‐１，４‐フェニレン｝］）等の赤色発光材料や、Ｆ８ＢＴ（ジオクチルフルオレン／ベンゾチアジアゾール共重合体）等の緑色発光材料、ＰＦ８（ポリジオクチルフルオレン）等の青色発光材料等が挙げられる。
【００３６】
なお、電子輸送層を設ける場合にその形成材料としては、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体等を用いるとよい。
【００３７】
隔壁１２０は、絶縁性のアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、これにフッ素等を添加した含フッ素樹脂等の樹脂材料（有機材料）からなっている。隔壁１２０は、有機機能層１４０の形成に用いる液状の形成材料に対して撥液性になっている。平坦化層１０６として無機材料からなるものを採用すれば、ＣＦ４プラズマ処理等の撥液処理を行っても平坦化層１０６に撥液性が付与されない。したがって、撥液処理によって隔壁１２０に撥液性を付与するとともに平坦化層１０６の親液性を保持することができる。また、平坦化層１０６として親液性の有機材料からなるものを採用する場合には、含フッ素樹脂で隔壁１２０を形成することにより、撥液処理が不要になり平坦化層１０６の親液性を保持することができる。
【００３８】
以上のような有機ＥＬ素子１００の画素電極１１０には、走査信号や画像信号により所定のタイミングで所定の電圧が印加されるようになっている。これにより、画素電極１１０から正孔注入層１４１に正孔が供給され、共通電極１５０から有機発光層１４３に電子が供給される。画素電極１１０側から供給された正孔（キャリア）は、正孔注入層１４１及び正孔輸送層１４２において、ＸＹ面方向に運ばれるとともにこれに直交する厚さ方向（Ｚ方向）に運ばれて、有機発光層１４３に供給される。有機発光層１４３において共通電極１５０側から供給された電子と結合することにより光を発する。
【００３９】
ＸＹ面方向において画素電極１１０から離れた部分の正孔注入層１４１や正孔輸送層１４２には、画素電極１１０から近い部分に比べて正孔が運ばれにくいため、発光領域Ａ１の中央における有機発光層１４３に運ばれる正孔数（キャリア数）は、周縁よりも少なくなる。同じキャリア数で比較すると有機機能層１４０において膜厚が厚い部分、ここでは発光領域Ａ１の周縁ほど輝度が低くなるが、発光領域Ａ１の外周に近い周縁であるほど運ばれるキャリア数が多くなるので、発光領域Ａ１において均一な輝度の発光が得られる。
【００４０】
素子基板１００Ａ側に発せられた光はそのまま射出され、共通電極１５０側に発せられた光は共通電極１５０で反射し素子基板１００Ａ側から射出される。３つのサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂから射出された３色の色光によりフルカラーの１画素が構成される。このような画素が多数設けられていることにより、画像を表示することが可能になっている。
【００４１】
以上のような有機ＥＬ素子にあっては、有機機能層１４０の部分的な膜厚に応じて画素電極１１０を発光領域Ａ１に選択的（部分的）に配置しているので、発光領域Ａ１において均一な輝度の発光が得られるようになっている。したがって、このような有機ＥＬ素子１００を備えた本発明の有機ＥＬ装置にあっては高品質な画像を表示、形成することが可能となっており、画像表示装置や画像形成装置として良好に機能するようになっている。
【００４２】
発光領域で均一な膜厚の有機機能層とすれば画素内の輝度が均一になると考えられるが、均一な膜厚とすることは実現困難である。例えば、乾燥条件により膜厚制御を行おうとすれば、最適な乾燥条件を調査するために多大な労力を要し、しかも乾燥時の雰囲気を高精度に制御する必要も生じる。本発明によれば膜厚が部分的に変化している有機機能層においても均一な輝度が得られるため、膜厚を均一にする手間を省くことができ、実現容易な手法で良好な有機ＥＬ装置を提供することが可能になるのである。
【００４３】
なお、第１実施形態では、サブ画素の形状が長円状である場合について説明したが、矩形状、矩形の角を丸めた形状、楕円状であってもよい。発光領域Ａ１の外周を環状に囲むのではなく、外周の一部に沿う湾曲した帯状であってもよい。発光領域Ａ１の外周に沿う画素電極１１０の形成領域Ａ２の幅を、１つの有機ＥＬ素子において部分的に変化させてもよいし、複数の有機ＥＬ素子で異ならせるようにしてもよい。例えば、複数の有機ＥＬ素子が配置される領域において、周縁側と中央側とで有機機能層の膜厚が変化する場合がある。これは、有機機能層の形成時に液状の形成材料の乾燥速度が周縁側で高くなること等によると考えられる。このような場合には、予め周縁側と中央側とで膜厚プロファイルを調べておき、これに基づいて有機ＥＬ素子の配置位置ごとにその画素電極の形成領域を定めればよい。
【００４４】
また、第１実施形態では、有機発光層１４３の形成材料を異ならせることにより、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々に設けられた有機ＥＬ素子１００が、互いに異なる色光を発するようになっているが、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂで同じ色光を発するようにしてもよい。この場合には、カラーフィルタ等を併用することによりフルカラーの画像表示や画像形成が可能な有機ＥＬ装置にすることができる。
【００４５】
［第２実施形態］
図２（ａ）は、第２実施形態の有機ＥＬ装置の要部を示す断面構成図である。第２実施形態が第１実施形態と異なる点は、画素電極１１０と隔壁１２０との間に、画素電極１１０のＺ方向側に当接しかつ隔壁１２０のＺ負方向側に当接して、第２親液膜１３０が設けられている点である。ここでは、第２親液膜１３０の端が、発光領域Ａ１内に張出すように、かつ画素電極１１０の内周よりも外側に位置するようになっている。
【００４６】
第２親液膜１３０は、絶縁性の有機材料あるいは無機材料からなるものであり、有機機能層１４０の形成に用いられる液状の形成材料に対して親液性を有している。第２親液膜１３０の形成材料としては、前記した平坦化層１０６の形成材料のいずれかを用いることができるが、平坦化層１０６との間で選択比をとれるものを用いることが好ましい。例えば、平坦化層１０６として、シリコン酸化物からなる膜を用いた場合には、第２親液膜１３０としてはシリコン窒化物からなる膜を用いるとよい。このようにすれば、第２親液膜１３０のパターニングが容易になる。
【００４７】
第２実施形態の有機ＥＬ装置にあっては、第１実施形態と同様に発光領域Ａ１で均一な輝度の発光が得られる有機ＥＬ素子１００となっている。また、親液性の画素電極１１０と撥液性の隔壁１２０との間に第２親液膜１３０が設けられているので、正孔注入層１４１の形成材料が画素電極１１０のＺ正方向側に良好に濡れ広がるようになる。したがって、画素電極１１０と良好に接触した正孔注入層１４１となるので、画素電極１１０から正孔注入層１４１に良好にキャリアが供給されるようになる。
【００４８】
［第３実施形態］
図２（ｂ）は、第３実施形態の有機ＥＬ装置の要部を示す断面構成図である。第３実施形態が第２実施形態と異なる点は、有機機能層１４０から発せられた光を共通電極１５０側に反射させる反射層１０７が設けられている点である。すなわち、第３実施形態の有機ＥＬ装置は、共通電極１５０側から発光を取り出すトップエミッション型になっている。
【００４９】
本実施形態の反射層１０７は、発光領域Ａ１において平坦化層１０６を覆って設けられており、平坦化層１０６及び反射層１０７を覆ってパッシベーション膜１０８が設けられている。パッシベーション膜１０８上に画素電極１１０が設けられており、画素電極１１０の一部は、平坦化層１０６及びパッシベーション膜１０８を貫通して設けられており、ＴＦＴ１０５と電気的に接続されている。反射層１０７は、画素電極１１０とＴＦＴ１０５との接続部分と接触しないようにパターニングされている。反射層１０７の形成材料としては、アルミニウム（Ａｌ）、あるいはＮｄ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｎｉから選択される１以上とアルミニウムとからなる合金等が挙げられる。本実施形態ではパッシベーション膜１０８が親液膜として機能するようになっている。その形成材料としては、第１実施形態で説明した平坦化層１０６の形成材料のいずれかを用いることができる。
【００５０】
第３実施形態の有機ＥＬ装置にあっては、第１実施形態と同様に発光領域Ａ１で均一な輝度の発光が得られる有機ＥＬ素子１００となっている。また、有機機能層１４０から発せられた光のうち画素電極１１０を介して取り出される光の割合が、ボトムエミッション型よりも少なくなるので、画素電極１１０とパッシベーション膜１０８との段差等に起因する光の干渉影響を減らすことができる。素子基板１００Ａ側から光を取り出さないので、ＴＦＴ１０５や各種配線等を発光領域Ａ１と重ねて配置することが可能になり、設計自由度が高くなる。
【００５１】
［第４実施形態］
図３（ａ）は、第４実施形態の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。第４実施形態が第１〜第３実施形態と異なる点は、発光領域Ａ１の中心側の有機機能層１４０が、最大膜厚部となっており、発光領域Ａ１の周縁側が最小膜厚部となっている点である。
【００５２】
発光領域Ａ１の外周に沿う環状の周縁領域は、画素電極１１０の非形成領域Ａ３となっており、非形成領域Ａ３に囲まれる領域が画素電極１１０の形成領域Ａ２となっている。画素電極１１０の形成領域Ａ２は、有機機能層１４０の最大膜厚部と重なるようになっており、画素電極１１０の非形成領域Ａ３は、有機機能層１４０の最小膜厚部と重なるようになっている。
【００５３】
素子基板１００Ａ上における画素電極１１０の形成領域Ａ２にＴＦＴ１０５が設けられており、素子基板１００Ａ及びＴＦＴ１０５を覆って平坦化層１０６が設けられている。平坦化層１０６上には、画素電極１１０の非形成領域Ａ３全体と形成領域Ａ２の周縁にわたって反射層１０７が設けられている。平坦化層１０６及び反射層１０７を覆ってパッシベーション膜１０８が設けられており、パッシベーション膜１０８上の形成領域Ａ２に画素電極１１０が設けられている。画素電極１１０の一部は、パッシベーション膜１０８及び平坦化層１０６を貫通して設けられており、ＴＦＴ１０５と電気的に接続されている。本実施形態の画素電極１１０は、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、金（Ａｕ）等の導電材料からなっており、有機機能層１４０から発せられた光が画素電極１１０で反射して共通電極１５０側に向かうようになっている。
【００５４】
第４実施形態の有機ＥＬ装置にあっては、第１実施形態と同様に発光領域Ａ１で均一な輝度の発光が得られる有機ＥＬ素子１００となっている。また、トップエミッション型になっているので、第３実施形態と同様に画素電極１１０とパッシベーション膜１０８との段差等に起因する光の干渉影響を減らすことができる。また、素子基板１００Ａ側から光を取り出さないので、ＴＦＴ１０５や各種配線等を発光領域Ａ１と重ねて配置することが可能になり、設計自由度が高くなる。
【００５５】
［第５実施形態］
図４（ａ）は、第５実施形態の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）のＤ−Ｄ線に沿う断面図である。第５実施形態が第１〜第３実施形態と異なる点は、発光領域Ａ１の中心を環状に囲む部分が有機機能層１４０の最大膜厚部となっており、発光領域Ａ１の中心及び周縁が最小膜厚部となっている点である。
【００５６】
本実施形態の有機ＥＬ装置１はトップエミッション型となっており、図４（ｂ）に示すようにパッシベーション膜１０８の下層側（Ｚ負方向側）の構成が第４実施形態と同様になっている。環状の最大膜厚部と重なる領域が画素電極１１０の形成領域Ａ２になっており、パッシベーション膜１０８上の形成領域Ａ２に環状の画素電極１１０が形成されている。画素電極１１０は、第４実施形態と同様の形成材料からなるものであり、有機機能層１４０から発せられた光が画素電極１１０で反射して共通電極１５０側に向かうようになっている。
第４実施形態の有機ＥＬ装置にあっては、第１実施形態と同様に発光領域Ａ１で均一な輝度の発光が得られる有機ＥＬ素子１００となっている。
【００５７】
［製造方法］
次に、本発明の有機ＥＬ装置に係る製造方法の一例を、第３実施形態の有機ＥＬ装置に基づいて説明する。
【００５８】
有機ＥＬ装置の製造に先立ち、有機機能層１４０を構成する各種有機層の液状の形成材料を選択し、適宜乾燥条件等を設定する。そして、この液状の形成材料及び乾燥条件を用いて、製造する有機ＥＬ装置における有機ＥＬ素子１００の有機機能層１４０の膜厚プロファイルを調査する。例えば、実験用基板に実際の有機ＥＬ装置と同様のパッシベーション膜１０８や隔壁１２０（図２（ｂ）参照）を形成し、その貫通孔１２１の内側の親液性や撥液性を実際の有機ＥＬ装置と同様にする。なお、実験用基板に各種配線やＴＦＴ１０５を形成しなくてもよいし、画素電極１１０の有機機能層１４０の膜厚に対する影響が小さい場合には、画素電極１１０の形成も省くことができる。一般に、画素電極１１０の膜厚は有機機能層１４０に比べて格段に薄いため、パッシベーション膜１０８と画素電極１１０との段差による有機機能層１４０の膜厚に対する影響は小さいと考えられる。いずれの場合であっても、貫通孔１２１の内側の状態が実際の有機ＥＬ装置と同様になっていればよい。
【００５９】
そして、貫通孔１２１の内側に、液状の形成材料を液滴吐出法等で配置して、前記乾燥条件でこれを乾燥させる。そして、例えばレーザー切削等により有機機能層１４０の断面を露出させて、有機機能層１４０の膜厚プロファイルを調べる。有機ＥＬ装置において複数の有機ＥＬ素子１００が配置される領域の周縁と中央とでは、有機機能層１４０の膜厚プロファイルが異なることがある。このような場合には、有機ＥＬ素子１００が配置される領域ごとに膜厚プロファイルを調べることが好ましい。そして、得られた膜厚プロファイルに基づいて、画素電極１１０の形成領域Ａ２及び非形成領域Ａ３を定める。
【００６０】
例えば、パッシベーション膜１０８のＺ正方向側の表面から有機機能層１４０のＺ正方向側の表面までの距離を有機機能層１４０の部分的な膜厚とし、これをＸ方向の位置やＹ方向の位置の関数で近似する。そして、この関数を用いるとともに正孔注入層１４１等のＸＹ面方向の抵抗率を加味して、正孔注入層１４１を通る部分ごとキャリア（正孔）数を評価し、これが均一となるように画素電極１１０の形成領域Ａ２を定める。これにより最大膜厚部と重なる形成領域Ａ２、及び最小膜厚部と重なる非形成領域Ａ３が定まるとともに、それぞれの領域の最適化を図ることができる。
【００６１】
この他に、膜厚の基準値を算出してこれに基づいて画素電極１１０の形成領域Ａ２を定める手法もある。例えば、得られた膜厚プロファイルに含まれる乾燥条件の誤差や計測誤差等による影響を適宜除去した後、膜厚の平均値を求めて、平均値よりも所定の割合で膜厚が厚い部分と重なる領域を形成領域Ａ２とし、平均値よりも所定の割合で膜厚が薄いい部分と重なる領域を非形成領域Ａ３とする。
【００６２】
以上のように、有機機能層１４０の少なくとも最大膜厚部と重なる形成領域Ａ２と最小膜厚部と重なる非形成領域Ａ３とを定めれば、輝度のばらつきを低減する効果を得ることができる。第５実施形態のように発光領域Ａ１に膜厚が極大値となる部分が複数ある場合には、適宜、膜厚最大部を含んだ２以上の部分に対して形成領域Ａ２を設定してもよい。
【００６３】
有機ＥＬ装置を製造するには、図５（ａ）に示すように、例えばガラスや石英、プラスチック等の透光性を有する基体に、走査線、信号線、電源線等の各種配線や各種スイッチング素子等を形成してＴＦＴ１０５を有する素子基板１００Ａを形成する。
【００６４】
次いで、図５（ｂ）に示すように、ＴＦＴ１０５及び素子基板１００Ａを覆って、平坦化層１０６を形成するともに、平坦化層１０６の所定領域を開口してここにＴＦＴ１０５を露出させる。例えば、平坦化層１０６の形成材料に感光性のアクリル樹脂を用いて、これをＴＦＴ１０５及び素子基板１００Ａを覆って成膜する。そして、この膜を露光・現像することにより、所定領域を開口する。
【００６５】
次いで、図５（ｃ）に示すように、平坦化層１０６上の発光領域Ａを含んだ所定領域に反射層１０７を形成する。例えば、開口内を含んだ平坦化層１０６上に反射層１０７の形成材料を成膜し、この膜をフォトリソグラフィ法及びエッチング技術によりパターニングして反射層１０７を形成する。
【００６６】
次いで、図５（ｄ）に示すように、反射層１０７を覆ってパッシベーション膜（親液膜）１０８を形成するとともに、平坦化層１０６の開口を通してＴＦＴ１０５を露出させる開口を形成する。パッシベーション膜１０８の形成材料を選択することにより、画素電極１１０や第２親液膜１３０のパターニングにおいて反射層１０７を保護し、かつ有機機能層１４０の形成に用いる液状の形成材料に対して親液性を有するパッシベーション膜１０８を形成する。ここでは、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）でパッシベーション膜１０８を形成する。
【００６７】
次いで、図６（ａ）に示すように、画素電極１１０の形成領域Ａ２と、発光領域Ａ１の外側とパッシベーション膜１０８の開口内とにわたって、ＴＦＴ１０５と導通接触する画素電極１１０を形成する。例えば、開口内を含んだ平坦化層を覆って５０〜３００ｎｍ程度の膜厚にＩＴＯ等の導電材料を成膜した後、この膜をフォトリソグラフィ法及びエッチング技術を用いてパターニングすることにより画素電極１１０を形成する。ここでは、通常と同様に王水等をエッチャントに用いてＩＴＯからなる膜をウエットエッチングする。
【００６８】
次いで、図６（ｂ）に示すように、発光領域Ａ１の周辺及び周縁の画素電極１１０を覆う第２親液膜１３０を形成する。本例では、シリコン窒化物（ＳｉＮ）を画素電極１１０及び平坦化層１０６を覆って成膜する。そして、フォトリソグラフィ法及びエッチング技術を用いてパターニングすることにより第２親液膜１３０を形成する。発光領域Ａ１の中心側における、第２親液膜１３０における端が画素電極１１０の端よりも発光領域Ａ１の外周側に位置するようにパターニングする。
一般に、ＩＴＯやＳｉＯ２、ＳｉＮ等の無機材料からなる膜は、有機機能層１４０の液状の形成材料に対して親液性を有しており、画素電極１１０やパッシベーション膜１０８、第２親液膜１３０も通常と同様に親液性になる。
【００６９】
次いで、図６（ｃ）に示すように、第２親液膜１３０上に隔壁１２０を形成するとともに、隔壁１２０の発光領域Ａ１を開口して貫通孔１２１を形成する。具体的には、隔壁１２０の形成材料として感光性のアクリル樹脂にフッ素を添加した含フッ素樹脂材料を用いて、これを第２親液膜１３０、画素電極１１０、及び平坦化層１０６を覆って成膜する。そして、この膜を露光・現像することにより、その発光領域Ａ１と重なる部分を除去して貫通孔１２１を形成する。含フッ素樹脂材料を用いることにより、隔壁１２０は、有機機能層１４０の液状の形成材料に対して撥液性になる。なお、隔壁１２０を、フッ素を含有しないアクリル樹脂で形成した後に、表面処理（撥液処理）により撥液性を付与するようにしてもよい。この場合には、撥液処理の前に親液処理により画素電極１１０やパッシベーション膜１０８、第２親液膜１３０の親液性を良好に発現させるようにしてもよい。
【００７０】
次いで、図７（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド２００によって正孔注入層１４１の液状の形成材料を吐出して、これを隔壁１２０の貫通孔１２１の内側に配置する。例えば、正孔注入層１４１の液状の形成材料として、ポリチオフェン誘導体である３，４‐ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）をポリスチレンスルフォン酸（ＰＳＳ）に分散させ、さらにこれを水に分散させたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ溶液に溶媒を添加して粘度を調整した溶液を調製する。溶媒としては、グリコール系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒等が挙げられる。具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ‐ブチロラクトン、Ｎ‐メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ヘキサメチルホスソルアミド（ＨＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３‐ジメチル‐２‐イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト‐ルアセテート、ブチルカルビト‐ルアセテート等のグリコールエーテル類の高沸点溶媒等を用いることができる。これら溶媒の添加量を調整することにより、正孔注入層１４１の面方向の抵抗率を１．０×１０−２〜１．０×１０４Ω・ｃｍの範囲内に調整することができる。また、溶液の粘度を、１〜３ｗｔ％の溶液において２〜２０ｃｐｓ程度とすること好ましく、７〜１０ｃｐｓ程度とすることがより好ましい。このようにすれば、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルに詰まりを生じることなく溶液を安定に吐出することができる。
【００７１】
本例では、前記のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ溶液にジエチレングリコールを溶媒として添加した溶液を正孔注入層１４１の液状の形成材料として用いる。前記のようにパッシベーション膜１０８、画素電極１１０、及び第２親液膜１３０が親液性となっているので、ここに液状の形成材料が良好に濡れ広がる。隔壁１２０が撥液性となっているのでその上面に液状の形成材料が濡れ広がることがない。このようにして、液状体１４１ａが貫通孔１２１の内側に高い位置精度で配置される。
【００７２】
次いで、図７（ｂ）に示すように、液状体１４１ａに例えば１５０℃の加熱処理を行って、液状体１４１ａを乾燥させて固形状の膜とし、正孔注入層１４１を形成する。正孔注入層１４１は、液状の形成材料の組成や加熱温度、雰囲気の組成、乾燥時間等、これらの分布に応じた形状となる。このように、正孔注入層１４１は、その形状が多くのパラメータに依存するので、これを平坦にする目的で形成材料や乾燥条件を最適化することは非常に困難である。一方、本発明においては正孔注入層１４１の部分的な膜厚変化に依存せずに均一な発光が得られるので、最適化を行う手間が格段に低減される。
【００７３】
次いで、図７（ｃ）に示すように、正孔注入層１４１上に、正孔輸送層１４２、有機発光層１４３を順に形成して、これら３層の有機層からなる有機機能層１４０を形成する。
具体的には、正孔輸送層１４２の液状の形成材料として例えばＴＦＢを０．５ｗｔ％トリメチルベンゼン溶液とし、これを液滴吐出法で貫通孔１２１の内側及に配置する。そして、配置した溶液を窒素雰囲気において１８０℃程度の温度で１時間程度加熱して乾燥させる。そして、その表面をトリメチルベンゼン溶媒で洗浄し、トリメチルベンゼン溶媒に対して可溶な表層を除去するとともに不溶な層を残して、膜厚が５０ｎｍ程度の正孔輸送層１４２を形成する。
そして、有機発光層１４３の液状の形成材料として例えば前記赤色発光材料を０．８ｗｔ％のトリメチルベンゼン溶液とし、これを液滴吐出法で貫通孔１２１の内側に配置する。そして、配置した溶液を窒素雰囲気において１３０℃程度の温度で３０分程度加熱して焼成し、膜厚が６０〜８０ｎｍ程度の有機発光層１４３を形成する。
【００７４】
次いで、有機機能層１４０上に共通電極１５０を形成する。例えば、真空度が１０−６Ｔｏｒｒ（１．３３×１０−４Ｐａ）の雰囲気でカルシウムを真空蒸着法により１０ｎｍ程度の膜厚に成膜した後、同様の条件下でアルミニウム（Ａｌ）を２００ｎｍ程度の膜厚に成膜して、カルシウム膜とアルミニウム膜とからなる共通電極１５０を形成する。
以上のようにして、図２（ｂ）に示した有機ＥＬ素子１００が得られる。また、素子基板１００Ａ上に設けられた複数の有機ＥＬ素子１００を適宜封止し、信号線駆動回路や走査線駆動回路、周辺回路等を設けることにより有機ＥＬ装置が得られる。
【００７５】
［電子機器］
次に、本発明の有機ＥＬ素子を有するラインヘッド（有機ＥＬ装置）を備えた画像形成装置（電子機器）について説明する。図８は、画像形成装置４００を示す概略構成図である。
【００７６】
画像形成装置４００は、転写媒体４２２の走行経路の近傍に、像担持体としての感光体ドラム４１６を備えている。感光体ドラム４１６の周囲には、感光体ドラム４１６の回転方向（図中に矢印で示す）に沿って、露光装置４１５、現像装置４１８及び転写ローラ４２１が順次配設されている。感光体ドラム４１６は、回転軸４１７の周りに回転可能に設けられており、その外周面には、回転軸方向中央部に感光面４１６Ａが形成されている。露光装置４１５及び現像装置４１８は感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って長軸状に配置されており、その長軸方向の幅は、感光面４１６Ａの幅と概ね一致している。
【００７７】
この画像形成装置４００では、まず、感光体ドラム４１６が回転する過程において、露光装置４１５の上流側に設けられた図示略の帯電装置により感光体ドラム４１６の表面（感光面４１６Ａ）が例えば正に帯電され、次いで露光装置４１５により感光体ドラム４１６の表面が露光されて表面に静電潜像ＬＡが形成される。さらに、現像装置４１８の現像ローラ４１９により、トナー（現像剤）４３０が感光体ドラム４１６の表面に付与され、静電潜像ＬＡの電気的吸着力によって静電潜像ＬＡに対応したトナー像が形成される。なお、トナー粒子は正に帯電されている。
【００７８】
現像装置４１８によるトナー像の形成後は、感光体ドラム４１６の更なる回転によりトナー像が転写媒体４２２に接触し、転写ローラ４２１により転写媒体４２２の背面からトナー像のトナー粒子とは逆極性の電荷（ここでは負電荷）が付与され、これに応じて、トナー像を形成するトナー粒子が感光体ドラム４１６の表面から転写媒体４２２に吸引され、トナー像が転写媒体４２２の表面に転写される。
【００７９】
露光装置４１５は、複数の発光素子４５０を有するラインヘッド４１０と、ラインヘッド４１０から放射された光Ｌを正立等倍結像させる複数のレンズ素子４１３を有する結像光学素子４１２とを備えている。ラインヘッド４１０と結像光学素子４１２とは、互いにアライメントされた状態で図示略のヘッドケースによって保持され、感光体ドラム４１６上に固定されている。
【００８０】
ラインヘッド４１０は、複数の発光素子４５０を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って配列してなる発光素子列４２０と、発光素子４５０を駆動させる図示略の駆動素子からなる駆動素子群と、これら駆動素子（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群４１１とを備えている。発光素子４５０、駆動素子群及び制御回路群４１１は長細い矩形の素子基板（基体）４１０Ａ上に一体形成されている。
【００８１】
結像光学素子４１２は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるレンズ素子４１３を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って千鳥状に２列配列（配置）してなるレンズ素子列４１４を備えている。
この画像形成装置４００は、ラインヘッド４１０が本発明の有機ＥＬ装置で構成されており、その有機ＥＬ素子は発光領域において均一な輝度の発光が得られるようになっている。したがって、感光体ドラムを良好に感光させることができ、高精細な画像を形成することが可能な画像形成装置となっている。
【００８２】
次に、本発明の有機ＥＬ素子を有する画像表示装置（有機ＥＬ装置）を表示部に用いた電子機器について説明する。
【００８３】
図９（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。携帯電話５００は表示部５１０を備えており、表示部５１０は本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。
図９（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。情報処理装置６００は、キーボードなどの入力部６１０、表示部６２０、筐体６３０等を備えている。また、表示部６２０は、本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。  
図９（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。時計７００は表示部７１０を備えている。表示部７１０は、本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。
【００８４】
図９（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器はいずれも、その表示部が本発明の有機ＥＬ装置により構成されているので、良好な表示が可能となっている。
【００８５】
なお、電子機器としては、前記電子機器に限られることなく、種々の電子機器に適用することができる。例えば、ディスクトップ型コンピュータ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）及びエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】（ａ）、（ｂ）は第１実施形態の平面外略図、Ｂ−Ｂ線断面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、それぞれ第２、第３実施形態の要部断面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は第４実施形態の平面外略図、Ｃ−Ｃ線断面図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は第５実施形態の平面外略図、Ｄ−Ｄ線断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、製造方法を示す断面工程図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、図５（ｄ）から続く断面工程図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、図６（ｃ）から続く断面工程図である。
【図８】電子機器の一例であるラインヘッドを概略して示す概略構成図である。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、図７と異なる電子機器の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８７】
１・・・有機ＥＬ装置、１００・・・有機ＥＬ素子、１０６・・・平坦化層、１０７・・・反射層、１１０・・・画素電極（第１電極）、１２０・・・隔壁、１２１・・・貫通孔、１３０・・・第２親液膜、１４０・・・有機機能層、１４１・・・正孔注入層（有機中間層）、１４２・・・正孔輸送層、１４３・・・有機発光層、１５０・・・共通電極（第２電極）、Ａ１・・・発光領域、Ａ２・・・画素電極の形成領域、Ａ３・・・画素電極の非形成領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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