(57)【要約】【課題】耐久性の良好な防汚層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。【解決手段】光学基材上に、直にまたは他の層を挟んで反射防止層が形成され、その反射防止層の表面に防汚層が形成されたワークを酸性の液に浸漬する酸処理工程と、ワークを洗浄する工程と、洗浄されたワークをアニールする工程とを有する。酸性の液は塩酸の１規定の水溶液であることが好ましく、この場合、酸処理工程の浸漬時間は１から６０分であることが好ましい。さらに好ましくは、酸処理工程の浸漬時間は５から１５分である。【選択図】図１
2009258633.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基材上に、直にまたは他の層を挟んで反射防止層が形成され、その反射防止層の表
面に防汚層が形成されたワークを酸性の液に浸漬する酸処理工程と、
酸処理された前記ワークを洗浄する工程と、
洗浄された前記ワークをアニールする工程とを有する、光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記酸処理工程の、ワークを酸性の液に浸漬する時間ｔは、下記式
で定義される、光学物品の製造方法。
t＝ｋ／（Ｎ・α）
ただし、式中、Ｎは規定度、ｋは定数、αは電離度である。
【請求項３】
請求項１または２において、前記酸性の液は、塩酸、酢酸、硫酸、フッ酸、硝酸、蟻酸
、炭酸、亜硫酸、次亜塩素酸、シュウ酸のいずれかを含む、光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記酸性の液は塩酸を含む、光学物品の製造方
法。
【請求項５】
請求項４において、前記酸性の液は塩酸の１規定の水溶液であり、前記酸処理工程の浸
漬時間は１から６０分である、光学物品の製造方法。
【請求項６】
請求項５において、前記酸処理工程の浸漬時間は５から１５分である、光学物品の製造
方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかにおいて、前記反射防止層は、有機系の反射防止層である
、光学物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスあるいはプラスチックなどの光学基材の上に、反射防止層および防汚
層を備えた光学物品の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光学基材上に、直にまたは他の層を挟んで反射防止層が形成され、その反射防止層の表
面に防汚層が形成された光学物品が知られている。また、特許文献１には、有機系反射防
止層および有機系反射防止層上に設けられる防汚層を形成するコーティング組成物が開示
されている。有機系反射防止層を形成するコーティング組成物は、少なくとも、フッ素含
有シラン化合物、内部空洞を有するシリカ微粒子およびアルミニウムを中心金属とする金
属錯塩を含有する。防汚層を形成するコーティング組成物は、フッ素含有シラン化合物を
含有する。
【特許文献１】特開２００７−３１００５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
反射防止層と防汚層との間には、化学結合、例えば、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓ
ｉ−）が形成され、これが、防汚層が反射防止層の表面に固定される１つの要因である。
また、防汚層は、それを形成する分子同士が縮合反応することにより、層として形成され
る。
【０００４】
しかしながら、反射防止層と防汚層との間の反応性が低いと、防汚層が反射防止層の表
面に充分に固定されず、十分な耐久性が得られにくい場合がある。また、防汚層を形成す
る分子同士の反応性が低いと、十分な耐久性が得られにくい場合がある。このため、反射
防止層と防汚層との間の反応性や防汚層を形成する分子同士の反応性が低い場合であって
も、耐久性の良好な防汚層を形成できる光学物品の製造方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様は、光学物品の製造方法であって、以下の工程を含む。
・光学基材上に、直にまたは他の層を挟んで反射防止層が形成され、その反射防止層の表
面に防汚層が形成されたワークを酸性の液に浸漬する酸処理工程。
・酸処理されたワークを洗浄する工程。
・洗浄されたワークをアニールする工程。
【０００６】
反射防止層および防汚層が形成されたワークを酸性の液に浸漬して酸処理することによ
り、反射防止層表面および防汚層を形成する分子中に水酸基（例えば、−Ｓｉ−ＯＨ）を
形成することができる。このため、反射防止層と防汚層との間の反応が促進される。すな
わち、反射防止層と防汚層との間に化学結合（例えば、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−（シロキサン
結合））の形成が促進され、反射防止層の表面に防汚層が良好に固定される。また、防汚
層においては、防汚層を形成する分子の縮合反応（脱水縮合反応）が促進され、耐久性の
良好な防汚層が形成される。
【０００７】
この製造方法によれば、反射防止層と防汚層との間の反応が促進されるとともに、防汚
層を形成する分子間における縮合反応が促進される。このため、反射防止層の表面に耐久
性の良好な防汚層を形成することができる。したがって、耐久性の高い光学物品、たとえ
ば、眼鏡レンズなどを製造できる。
【０００８】
酸処理は、防汚層の形成後に行うことが好ましい。反射防止層の形成後、あるいは、ア
ニール後に酸処理することも考えられるが、以下のような不具合が生じるおそれがあるた
め、あまり好ましくない。すなわち、反射防止層の形成後に酸処理を行うと、表面に水跡
が付着して除去できなくなる場合がある。アニール後に酸処理を行うと、反射防止層と防
汚層との間の結合、および防汚層を形成する分子間の結合が、ある程度進行している状態
で酸処理が行われるため、逆に、これらの結合を切断してしまうおそれがある。
【０００９】
反射防止層の典型的なものは、有機ケイ素化合物を含有する組成物から形成される有機
系の反射防止層である。反射防止層は、無機系の単層の反射防止層や、無機系の高屈折率
層と無機系の低屈折率層とを複数層積層させた無機系の多層の反射防止層であってもよい
。
【００１０】
無機系の多層の反射防止層の場合、低屈折率層が最上層となる。また、低屈折率層は、
典型的には、ＳｉＯ2、ＳｉＯx等の酸化ケイ素により形成されている。したがって、無機
系の反射防止層の場合、表面の酸化ケイ素量が比較的多く、防汚層との反応性が高い。
【００１１】
これに対し、有機系の反射防止層の場合、表面の酸化ケイ素量が比較的少ない場合が多
く、したがって、無機系の多層の反射防止層と比べて、防汚層との反応性が低い場合が多
い。また、反射防止層と防汚層との界面にフッ素が存在すると、反射防止層と防汚層との
間の反応性をさらに低下させてしまうことがある。このように、有機系の反射防止層の表
面では、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）が充分に形成されにくい傾向がある。
【００１２】
この製造方法によれば、反射防止層と防汚層との間の反応を促進できるため、無機系の
反射防止層を有する光学物品を製造する場合にも耐久性を向上させる効果があり、特に、
反応性の低い有機系の反射防止層を有する光学物品を製造する場合に好適である。
【００１３】
この製造方法の酸処理工程において用いられる酸性の液は、塩酸、酢酸、硫酸、フッ酸
、硝酸、蟻酸、炭酸、亜硫酸、次亜塩素酸、シュウ酸のいずれかを含むことが好ましい。
酸性の液は、塩酸を含むことがさらに好ましい。
【００１４】
酸性の液が塩酸の１規定の水溶液である場合、酸処理工程の浸漬時間は１から６０分で
あることが好ましい。浸漬時間が１分未満であると、反射防止層と防汚層との間の反応、
および防汚層を形成する分子間の縮合反応を促進させる効果が低い。浸漬時間が６０分を
越えると、反射防止層において反射防止層を形成する分子の結合を切断したり、反射防止
層と防汚層との間に形成された結合を切断するおそれがある。さらに好ましくは、酸処理
工程の浸漬時間は５から１５分である。
【００１５】
すなわち、酸処理工程の、ワークを酸性の液に浸漬する時間ｔは、下記式で定義される
時間であることが好ましい。
t＝ｋ／（Ｎ・α）    ・・・（Ａ）
（Ａ）式のＮは規定度、ｋは定数、αは電離度である。酸性の液が強酸の場合の電離度
αは約１であり、弱酸の場合の電離度αは約０．１から約０．０１の間である。定数ｋの
望ましい範囲は１から６０（（分（ｍｉｎ））・規定度（Ｎ）・電離度）であり、より望
ましい範囲は５から１５であり、もっとも望ましい値は１０である。すなわち、浸漬時間
ｔと、酸性の液の規定度Ｎと、電離度αとの積が所定の範囲（定数ｋ）になるように酸処
理工程を行うことが望ましい。
【００１６】
アニールする工程は、反射防止層と防汚層との間の反応、および防汚層を形成する分子
間の縮合反応を促進させることを目的とするものである。アニールする工程における条件
の一例は、９０℃、相対湿度６０％である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
光学物品の一例は、眼鏡レンズである。眼鏡レンズを製造する際は、光学基材の表面に
、プライマー層を形成するとともに、このプライマー層の表面に、ハードコート層を形成
し、さらに、反射防止層および防汚層を形成する。プライマー層を省いてハードコート層
を形成しても良い。また、他の光学物品においては、光学基材の表面に直に反射防止層お
よび防汚層を形成しても良い。
【００１８】
反射防止層は、上述したように、無機でも有機でも良い。無機物からなる単層または多
層の反射防止層は、例えば、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリングなどのい
わゆるＰＶＤ法によって施すことができる。無機の反射防止層の一例としては、光学基材
または光学基材の上に形成された層（例えばハードコート層）などよりも低屈折率の無機
層と、この低屈折率の無機層よりも高屈折率の無機層とを複数積層させたものが挙げられ
る。無機系の反射防止層を形成する際に使用できる無機物としては、例えば、酸化ケイ素
（ＳｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタ
ン（ＴｉＯ2）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、フッ化マグネ
シウム（ＭｇＦ2）などの酸化物あるいはフッ化物などが挙げられる。無機物からなる多
層の反射防止層は、具体的には、ＳｉＯ2、ＳｉＯx、ＭｇＦ2などの材料から構成される
低屈折率層と、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｙ2Ｏ3などの材料から構成され
る高屈折率層とを積層させたものである。
【００１９】
有機系の反射防止層の一例は、（１）成分と、（２）成分とを含有する組成物から形成
されるものである。
（１）一般式：Ｒ4iＲ5jＳｉＸ24-i-jで表される有機ケイ素化合物
ただし、上記式中において、Ｒ4は重合可能な反応基を有する有機基を表す。Ｒ5は炭素数
１〜６の炭化水素基を表す。Ｘ2は加水分解性基を表す。ｉおよびｊは、少なくとも一方
は１であり、他方は０または１である。
（２）シリカ系微粒子
【００２０】
この有機系の反射防止層を形成する（１）成分の有機ケイ素化合物のＲ4は、重合可能
な反応基を有する有機基であり、例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル
基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基などが挙げられる。（１）成分の有
機ケイ素化合物のＲ5は、炭素数１〜６の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル
基、ブチル基、ビニル基、フェニル基などが挙げられる。（１）成分の有機ケイ素化合物
のＸ2は、加水分解可能な官能基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエ
トキシ基などのアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲン基、アシルオキシ基な
どが挙げられる。
【００２１】
（１）成分の有機ケイ素化合物の具体的な例は、以下のようなものである。テトラメト
キシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ（β−
メトキシ−エトシキ）シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルト
リアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキ
シプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−エチルトリアルコキシシラン、メルカプ
トプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（
アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、テトラアルコキシシラ
ン。
【００２２】
この有機系の反射防止層を形成する（２）成分のシリカ系微粒子の具体的な例は、平均
粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子のシリカを、例えば水、アルコール系溶剤、もしくはそ
の他の有機溶剤にコロイド状に分散させたシリカゾルである。このシリカ系微粒子は、内
部空洞を有するものが望ましい。内部空洞を有するシリカ系微粒子を用いることによって
、反射防止層の屈折率を低下させることができ、光学基材または光学基材の上に形成され
た層（例えばハードコート層）との屈折率の差を大きくして、反射防止効果を高めること
ができる。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶剤が包
含されることにより、空洞のないシリカ系微粒子よりも屈折率を低下させることができる
ため、反射防止層の低屈折率化を達成できる。
【００２３】
なお、有機系の反射防止層を形成するための組成物は、（１）成分および（２）成分の
他に、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、
ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂などの各種樹脂や、これらの樹脂
原料となるメタアクリレート類、アクリレート類、エポキシ類、ビニル類などの各種モノ
マーを含んでいてもよい。屈折率を下げる機能を有するものとしては、フッ素含有の各種
ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーが挙げられる。したがって、反射防止層を形
成するための組成物は、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーを
含んでいてもよい。フッ素含有ポリマーは、フッ素含有ビニルモノマーを重合して得られ
るポリマーが好ましく、さらに他の成分と共重合可能な官能基を有することが好ましい。
【００２４】
また、有機系の反射防止層を形成するための組成物は、溶剤を含んでいてもよい。すな
わち、有機系の反射防止層を形成するための組成物は、塗布液とするために、必要に応じ
、溶剤に希釈して用いることができる。溶剤としては、例えば、水、アルコール類、エス
テル類、ケトン類、エーテル類、芳香族類などの溶剤が挙げられる。さらに、有機系の反
射防止層を形成するための組成物には、必要に応じて、少量の硬化触媒、界面活性剤、帯
電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノールなどの
光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光染料・顔料などを添加してもよく、これにより、コ
ーティング液としての塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良することができる。
【００２５】
防汚層は、典型的には、撥水撥油機能を有する。防汚層を形成する組成物は、フッ素含
有有機ケイ素化合物（含フッ素シラン化合物）を含むことが好ましい。さらに好ましくは
、防汚層を形成する組成物は、下記の一般式（３）〜（６）（式（５）は化学式）により
表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物のうちの少なくとも１つを含むとよい。これらの
フッ素含有有機ケイ素化合物は、単体で使用してもよく、混合して使用してもよい。
【００２６】
【化１】
2009258633.tif 000003
ただし、上記一般式（３）中において、Ｒｆ1は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｘは
、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｙは、水素または低級アルキル基を表す。Ｚは、フッ
素またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ1は、水酸基または加水分解可能な基を表す。
Ｒ2は、水素または１価の炭化水素基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して
、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１であり、ａ、ｂ、
ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、上記一般式（３）において限定され
ない。ｆは、０、１または２を表す。ｇは、１、２または３を表す。ｈは、１以上の整数
を表す。
【００２７】
【化２】
2009258633.tif 000004
ただし、上記一般式（４）中において、Ｒｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（前記式中、ｋ
は１〜６の整数である）で表される単位を含み、これは分岐を有しない直鎖状のパーフル
オロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基を表す。Ｒ3は、炭素数１〜８の１価
の炭化水素基を表す。Ｗは、加水分解性基またはハロゲンを表す。ｐは、０、１または２
を表す。ｎは、１〜５の整数を表す。ｍおよびｒは、それぞれ独立して、２または３を表
す。
【００２８】
Ｆ17Ｃ8−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＮＨ）3/2    ・・・（５）
Ｆ3Ｃ−（ＣＦ2）s−（ＣＨ2）t−Ｓｉ（Ｏ−Ｒ）3    ・・・（６）
ただし、上記一般式（６）中において、Ｒは、炭素数１以上のアルキル基を表す。ｓは、
１〜１１の整数を表す。ｔは、１〜４の整数を表す。
【００２９】
上記一般式（３）中のＲｆ1は、通常、有機含フッ素ポリマーを構成するパーフルオロ
アルキル基であれば、特に限定されず、例えば、炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状の
パーフルオロアルキル基を挙げることができる。好ましくは、ＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−、Ｃ3Ｆ
7−である。
【００３０】
上記一般式（３）中のＸが臭素またはヨウ素である場合には、上記一般式（３）で表さ
れるフッ素含有有機ケイ素化合物のラジカル反応性が高くなるので、化学結合により他の
化合物と結合させるのには好都合である。上記一般式（３）中のＹとしては、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などを挙げることができる。これらは、直鎖状
であっても分岐状であってもよい。
【００３１】
上記一般式（３）中のＲ1が加水分解可能な置換基である場合、加水分解可能な置換基
としては特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、ハロゲン、−ＯＲ11、−ＯＣ
ＯＲ11、−ＯＣ（Ｒ11）＝Ｃ（Ｒ12）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ11）2、−ＯＮ＝ＣＲ13などを挙
げることができる。ただし、Ｒ11は、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、
Ｒ12は、水素または炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ13は、炭素数３〜６の２
価の脂肪族炭化水素基を表す。より好ましくは、上記一般式（３）中のＲ1は、塩素、−
ＯＣＨ3、−ＯＣ2Ｈ5である。上記一般式（３）中のＲ2は、水素または１価の炭化水素基
を表す。上記１価の炭化水素基としては、特に限定されず、好ましいものとしては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などを挙げることができる。上記１価の
炭化水素基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００３２】
上記一般式（３）中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、フッ素含有有機ケイ素化合物の主骨格を
構成するパーフルオロポリエーテル鎖の繰り返し単位数を表し、それぞれ独立して、０ま
たは１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅが１以上であれば特に限定されないが、そ
れぞれ独立して、０〜２００であることが好ましい。さらに、上記一般式（３）のフッ素
含有有機ケイ素化合物の分子量を考慮すれば、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、より好ましくは、
それぞれ独立して、０〜５０である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、好ましくは、１〜１００で
ある。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、一般式（３）
中においてはこの順に記載したが、通常のパーフルオロポリエーテル鎖の構成によって、
これらの各繰り返し単位の結合順序は、この順に限定されるものではない。
【００３３】
上記一般式（３）中のｆは、パーフルオロポリエーテル鎖を構成する炭素とこれに結合
するケイ素との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、０、１または２である。上記
一般式（３）中のｇは、ケイ素に結合する置換基Ｒ1の結合数を表し、１、２または３で
ある。置換基Ｒ1が結合していない部分には、当該ケイ素にはＲ2が結合する。上記一般式
（３）中のｈは、１以上の整数を表し、特に上限はないが、１〜１０の整数であることが
好ましい。上記一般式（３）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物の分子量は、５×１
０2〜１×１０5が好ましい。５×１０2未満では、防汚性能に関する効果を発揮し難く、
１×１０5を超えると加工性に乏しくなる。より好ましくは、１×１０3〜１×１０4であ
る。
【００３４】
上記一般式（４）中のＲｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（式中、ｋは１〜６、好ましく
は１〜４の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポ
リアルキレンエーテル構造からなる２価の基である。なお、上記一般式（４）中のｐがそ
れぞれ０である場合、一般式（４）中の酸素（酸素原子）に結合するＲｆ2の末端は、酸
素（酸素原子）ではない。上記一般式（４）中のＲｆ2としては、例えば、下記一般式で
示されるものが挙げられる。ただし、Ｒｆ2は、下記に例示されるものに限定されない。
−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）vＣＦ2ＣＦ2−
（式中、ｖは１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数である。）
−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）v’−（ＯＣＦ2）v’’−
（式中、ｖ’およびｖ’’は、それぞれ、１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは
１０〜４０の整数であり、かつｖ’とｖ’’との和は、１０〜１００、好ましくは２０〜
９０、より好ましくは４０〜８０の整数であり、この式中の繰り返し単位の（ＯＣ2Ｆ4）
、および（ＯＣＦ2）の配列はランダムである。）
【００３５】
上記一般式（４）中のＲ3は、炭素数１〜８、好ましくは１〜３の１価の炭化水素基で
あり、例えば、以下のようなものが挙げられる。メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基またはシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基またはフェニル基、トリル基、キ
シリル基などのアリール基またはベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基またはビ
ニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基などのアルケニル基。これ
らの中でもメチル基が好適である。
【００３６】
上記一般式（４）中のＷが加水分解性基である場合、例えば、以下のようなものが挙げ
られる。メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、メト
キシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基などのアルコキシアルコキシ
基またはアリロキシ基、イソプロペノキシなどのアルケニルオキシ基またはアセトキシ基
、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などのアシロ
キシ基またはジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキ
シム基、シクロペンノキシム基、シクロヘキサノキシム基などのケトオキシム基またはＮ
−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基な
どのアミノ基またはＮ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチル
ベンズアミド基などのアミド基またはＮ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノオキシ基などのアミノオキシ基。
【００３７】
また、上記一般式（４）中のＷがハロゲン（ハロゲン原子）である場合、例えば、以下
のようなものが挙げられる。塩素（塩素原子）、臭素（臭素原子）、ヨウ素（ヨウ素原子
）など。これらの中でも、Ｗとしては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基お
よび塩素（塩素原子）が好適である。
【００３８】
上記の一般式（４）中のｐは０〜２の整数であり、１であることが好ましい。また、上
記の一般式（４）中のｎは１〜５の整数であり、３であることが好ましい。上記の一般式
（４）中のｍおよびｒは、それぞれ独立して２または３であり、加水分解及び縮合反応性
および被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。
【００３９】
上記一般式（４）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性シラン（パーフ
ルオロポリアルキレンエーテル変性シランの加水分解縮合物）の分子量は、特に制限され
ないが、安定性、取扱い易さなどの点から、数平均分子量で５×１０2〜２×１０4が好ま
しく、１×１０3〜１×１０4がさらに好ましい。
【００４０】
上記一般式（６）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、以下のよ
うなパーフルオロアルキルアルキレンアルコキシシラン化合物が挙げられる。
ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3
ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ2Ｈ5)2
ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3
ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ3Ｈ7)3
ＣＦ3(ＣＦ2)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ(ＯＣ3Ｈ7)3
ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ3Ｈ7)2
ＣＦ3(ＣＦ2)5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ3Ｈ7)2
ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3(ＯＣ3Ｈ7)2
【００４１】
防汚層を形成するための組成物は溶剤を含んでいても良い。含めることが可能な溶剤と
しては、フッ素含有有機化合物（含フッ素有機化合物）から成る溶剤で、例えば、以下の
ようなものが挙げられる。パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタンなどのフッ素変
性脂肪族炭化水素系溶剤、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリフルオロメ
チルベンゼンなどのフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテ
ル、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）などのフッ素変性エーテル系溶剤、
パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミンなどのフッ素変性アル
キルアミン系溶剤、石油ベンジン。含フッ素有機化合物からなる溶剤は、これらのうちの
１種を単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用することもできる。こ
れらのなかでも、変性シランの溶解性、塗布対象面の濡れ性などの点で、フッ素変性され
た溶剤が好ましく、特に、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロ（
２−ブチルテトラヒドロフラン）、あるいはパーフルオロトリブチルアミンが好ましい。
【００４２】
防汚層を形成するための組成物には、触媒を含めることも可能である。含めることが可
能な触媒としては、例えば、硬化の促進に用いられる硬化触媒と呼ばれる触媒が挙げられ
る。具体的には、防汚層を形成するための組成物に含めることが可能な触媒としては、エ
ステル交換触媒を用いることができる。エステル交換触媒の具体例としては、例えば、チ
タン化合物、スズ化合物、鉛化合物、ジルコニウム化合物、モリブデン化合物、およびイ
ッテルビウム化合物から選ばれる少なくとも１つの化合物が挙げられる。
【００４３】
触媒として機能するチタン化合物の例としては、ＴｉＸ13、Ｔｉ（ＯＡｃ）3、Ｔｉ（
ＯＭｅ）3、Ｔｉ（ＯＥｔ）3、Ｔｉ（ＯＢｕ）3、Ｔｉ（ＯＰｈ）3、ＴｉＸ14、Ｔｉ（Ｏ
Ａｃ）4、Ｔｉ（ＯＭｅ）4、Ｔｉ（ＯＥｔ）4、Ｔｉ（ＯＢｕ）4、Ｔｉ（ＯＰｈ）4など
が挙げられる。ただし、Ａｃはアセチル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブ
チル基、Ｐｈはフェニル基、Ｘ1はハロゲン（ハロゲン原子）を表す。
【００４４】
触媒として機能するスズ化合物の例としては、Ｐｈ4Ｓｎ、Ｓｎ（ＯＡｃ）4、Ｂｕ2Ｓ
ｎ（ＯＡｃ）2、Ｍｅ3ＳｎＯＡｃ、Ｅｔ3ＳｎＯＡｃ、Ｂｕ3ＳｎＯＡｃ、Ｐｈ3ＳｎＯＡ
ｃなどのスズのアセトキシ錯体、Ｓｎ（ＯＭｅ）4、Ｓｎ（ＯＥｔ）4、Ｓｎ（ＯＰｈ）4
、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＭｅ）2、Ｐｈ2Ｓｎ（ＯＭｅ）2、Ｂｕ2Ｓｎ（ＯＥｔ）2、Ｐｈ2Ｓｎ（
ＯＰｈ）2、Ｅｔ3ＳｎＯＭｅ、Ｐｈ3ＳｎＯＭｅなどのスズのアルコキシまたはアリール
オキシ錯体、Ｍｅ3Ｓｎ（ＯＣＯＰｈ）、Ｂｕ2ＳｎＯ、ＢｕＳｎＯ（ＯＨ）、Ｅｔ3Ｓｎ
ＯＨ、Ｐｈ3ＳｎＯＨ、Ｂｕ2ＳｎＣｌ2などが挙げられる。ただし、Ａｃはアセチル基、
Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
【００４５】
防汚層を形成する方法は、蒸着などの乾式であっても、ディップやスピンコートなどの
湿式であってもよい。湿式の場合、溶媒除去のために、酸処理工程の前に、加熱工程を設
けてもよい。
【００４６】
（実施例１）
光学基材として、屈折率１．６７のプラスチック眼鏡レンズ（セイコーエプソン（株）
製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用意し、その表面に、プライマー
層を形成するとともに、このプライマー層の表面に、ハードコート層を形成した。
【００４７】
１．有機系反射防止層の形成
化学式 （ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ−Ｃ2Ｈ4−Ｃ6Ｆ12−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で表されるフ
ッ素含有シラン化合物４７．８重量部（０．０８モル）に、有機溶剤としてメタノール３
１２．４重量部、フッ素を含有しないシラン化合物であるγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン４．７重量部（０．０２モル）加え、さらに０．１規定の塩酸水溶液３６
重量部を加えて混合した。その後、設定温度が２５℃の恒温槽内で２時間攪拌して、固形
分比率が１０重量％のシリコーンレジンを上述した（１）成分として得た。
【００４８】
このシリコーンレジンに、上述した（２）成分である、内部に空洞を有するシリカ微粒
子として、中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分比率
：２０重量％、平均粒子径：３５ｎｍ、外殻厚み：８ｎｍ）を、シリコーンレジンと中空
シリカの固形分比率が７０：３０となるように配合した。さらに、分散媒として、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル９３５重量部を加えて希釈し、固形分が３重量％の組
成物を得た。
【００４９】
そして、この組成物に、アルミニウム（Ａｌ（III））を中心金属とする金属錯塩とし
て、アルミニウムのアセチルアセトン（Ａｌ（ａｃａｃ）3）を、最終組成物（有機系反
射防止層を形成するコーティング組成物）に対する固形分比率が３重量％となるように加
えた後、４時間攪拌した。これにより、有機系反射防止層を形成するコーティング組成物
としての反射防止処理液を得た。
【００５０】
上記で準備した、プライマー層およびハードコート層が形成された眼鏡レンズを、大気
プラズマによりプラズマ処理した。その後、上記で得られた反射防止処理液を、ハードコ
ート層の表面に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるように、スピナー法を用いて塗布した。そ
して、温度１２５℃に保たれた恒温槽内に２時間投入して、塗布された反射防止処理液の
硬化を行った。これにより、プライマー層、ハードコート層、および有機系反射防止層が
形成された眼鏡レンズを得た。
【００５１】
２．防汚層の形成
フッ素含有シラン化合物Ａ（高分子量、すなわち、分子量が１０００〜１００００の範
囲のフッ素含有シラン化合物）として、「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）
製）を用意するとともに、フッ素含有シラン化合物Ｂ（低分子量、すなわち、分子量が１
００〜７００の範囲のフッ素含有シラン化合物）として、「ＫＰ−８０１Ｍ」（商品名、
信越化学工業（株）製）を用意した。「ＫＹ−１３０」は上述した一般式（４）で表わさ
れるフッ素含有有機ケイ素化合物を含むものである。フッ素含有シラン化合物Ａとフッ素
含有シラン化合物Ｂとを、固形分重量比が８０：２０となるように配合した。これを多孔
質セラミックス製のペレットに含浸させ、乾燥後の固形分重量を３０ｍｇとしたものを蒸
着源として用意した。
【００５２】
プライマー層、ハードコート層、および有機系反射防止層が形成された眼鏡レンズを真
空蒸着装置に投入し、圧力が２×１０-2Ｐａになるように排気した。その後、上記で準備
した蒸着源を６００℃に加熱し、蒸着を行った。蒸着源の加熱は、ハロゲンランプを用い
て行った。なお、蒸着源の加熱は、その他の方法、例えば、電子銃、抵抗加熱ヒータ等を
用いて行ってもよい。蒸着時間は、３分間とした。蒸着終了後、真空蒸着装置から眼鏡レ
ンズを取り出し、反転して再び投入し、同じ手順で蒸着を行った。その後、眼鏡レンズを
真空蒸着装置から取り出した。これにより、眼鏡レンズの両面に防汚層（撥水撥油膜）が
形成された。すなわち、これにより、プライマー層、ハードコート層、有機系反射防止層
、および防汚層が形成された眼鏡レンズ（ワーク）が形成された。
【００５３】
３．塩酸処理および洗浄処理
ワークを、１Ｎの塩酸水溶液に浸漬した（酸処理工程）。浸漬時間ｔは１分とした。浸
漬後、酸処理されたワークを純水洗浄して塩酸を充分に除去し（洗浄する工程）、その後
、乾燥させた。
【００５４】
４．アニール処理
洗浄したワークを、９０℃、相対湿度６０％に設定した恒温恒湿槽に投入し、２時間保
持した（アニールする工程）。これにより、光学物品（眼鏡用のレンズ）が形成された。
【００５５】
（実施例２）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、３．および４．の処理を行
った。ただし、塩酸を用いた酸処理工程の浸漬時間ｔを５分に設定した。
【００５６】
（実施例３）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、３．および４．の処理を行
った。ただし、塩酸を用いた酸処理工程の浸漬時間ｔを１０分に設定した。
【００５７】
（実施例４）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、３．および４．の処理を行
った。ただし、塩酸を用いた酸処理工程の浸漬時間ｔを６０分に設定した。
【００５８】
（実施例５）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、３．および４．の処理を行
った。ただし、酸処理工程において０．５Ｎ(０．５規定)の塩酸を用い、浸漬時間ｔを６
０分に設定した。
【００５９】
（実施例６）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、３．および４．の処理を行
った。ただし、酸処理工程において２Ｎ(２規定)の塩酸を用い、浸漬時間ｔを５分に設定
した。
【００６０】
（実施例７）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、３．および４．の処理を行
った。ただし、酸処理工程において１Ｎ(１規定)の硫酸を用い、浸漬時間ｔを１０分に設
定した。
【００６１】
（実施例８）
実施例１の１．（有機系反射防止層の形成）において有機系反射防止層が形成された眼
鏡レンズを得た後、２．（防汚層の形成）においてフッ素含有シラン化合物Ａ（高分子量
、すなわち、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素含有シラン化合物）として、
「オプツールＤＳＸ」（商品名、ダイキン化学工業（株）製）を用い、その他は実施例１
と同様にしてワークを形成した。さらに、そのワークを用い実施例１と同様に３．および
４．の処理を行った。ただし、酸処理工程において１Ｎ(１規定)の塩酸を用い、浸漬時間
ｔを１０分に設定した。
【００６２】
（比較例１）
実施例１の１．および２．において形成したワークを用い、４．の処理を行った。すな
わち、３．の塩酸による酸処理を行わなかった。
【００６３】
（比較例２）
実施例１の１．（有機系反射防止層の形成）において有機系反射防止層が形成された眼
鏡レンズを得た後、２．（防汚層の形成）においてフッ素含有シラン化合物Ａとフッ素含
有シラン化合物Ｂとを実施例１と同じ比率で混合した処理液に、さらに、塩酸を１重量％
添加し１０分間攪拌した。その後、処理液をペレットに含浸させ、実施例１と同様に防汚
層を形成した。このようにして形成したワークを用い、４．（ア二ール処理）を行った。
すなわち、３．（酸処理）は行わなかった。
【００６４】
（比較例３）
比較例２と同様にワークを形成した。ただし、フッ素含有シラン化合物の処理液に塩酸
を１重量％添加した後６０分攪拌してからペレットに含浸させ、有機系反射防止層上に処
理し、防汚層を形成した。
【００６５】
（評価）
実施例１〜８および比較例１〜３で得られた光学物品（眼鏡用のレンズ）について、ス
チールウールによる払拭試験を行った。＃００００スチールウールに２００ｇの荷重を加
え、５００往復払拭した。その時の傷の発生程度を反射で観察した。また、キセノン（Ｘ
ｅ）ウェザーメーターに１００時間投入後に上記と同様な手順で試験を行った。これらの
結果を以下のレベル０〜レベル５の６段階で評価した。ここで、傷の面積割合とは、払拭
面積に対する傷発生面積の割合である。
レベル５    傷の面積割合が１０％未満
レベル４    傷の面積割合が１０％以上２０％未満
レベル３    傷の面積割合が２０％以上３０％未満
レベル２    傷の面積割合が３０％以上４０％未満
レベル１    傷の面積割合が４０％以上５０％未満
レベル０    傷の面積割合が５０％以上
【００６６】
図１に、実施例１〜８および比較例１〜３で得られた光学物品（眼鏡用のレンズ）のス
チールウールによる払拭試験結果を纏めて示してある。
【００６７】
比較例１で得られた眼鏡用のレンズ（酸処理なし）は、初期の払拭試験ではレベル２、
キセノンウェザーメーターに１００時間投入後の払拭試験ではレベル０であった。
【００６８】
実施例１で得られた眼鏡用のレンズ（酸処理（浸漬時間ｔ）が１分）は、初期の払拭試
験ではレベル３、キセノンウェザーメーターに１００時間投入後の払拭試験ではレベル２
であった。比較例１および３と比べて、初期およびキセノンウェザーメーター１００時間
投入後の耐久性が向上したことがわかる。また、比較例２と比べて、初期においては同等
の結果であったが、キセノンウェザーメーター１００時間投入後の耐久性が向上したこと
がわかる。
【００６９】
実施例２で得られた眼鏡用のレンズ（浸漬時間ｔが５分）は、初期の払拭試験ではレベ
ル４、キセノンウェザーメーターに１００時間投入後の払拭試験ではレベル３であった。
比較例１〜３と比べて、初期およびキセノンウェザーメーター１００時間投入後の耐久性
が向上したことがわかる。さらに、実施例１と比べても、初期およびキセノンウェザーメ
ーター１００時間投入後の耐久性が向上したことがわかる。
【００７０】
実施例３で得られた眼鏡用のレンズ（浸漬時間ｔが１０分）は、初期の払拭試験ではレ
ベル５、キセノンウェザーメーターに１００時間投入後の払拭試験ではレベル４であった
。比較例１〜３と比べて、初期およびキセノンウェザーメーター１００時間投入後の耐久
性が向上したことがわかる。さらに、他の実施例と比べても、初期およびキセノンウェザ
ーメーター１００時間投入後の耐久性が向上したことがわかる。本実施形態の中では、実
施例３で得られた眼鏡用のレンズ（酸処理１０分）が最も耐久性が高い。
【００７１】
実施例４で得られた眼鏡用のレンズ（浸漬時間ｔが６０分）は、初期の払拭試験ではレ
ベル３、キセノンウェザーメーターに１００時間投入後の払拭試験ではレベル２であった
。比較例１、比較例３と比べて、初期およびキセノンウェザーメーター１００時間投入後
の耐久性が向上したことがわかる。そして、比較例２と比べて、初期においては同等の結
果であったが、キセノンウェザーメーター１００時間投入後の耐久性が向上したことがわ
かる。実施例２および３と比べると若干耐久性が劣るが、実施例１と同程度に耐久性の向
上が図れることがわかる。
【００７２】
実施例５から８においては、酸処理に用いる酸性の液の規定度Ｎと、種類と、さらに、
防汚層の形成に用いるフッ素含有シラン化合物とを変えて実験を繰り返した。それらの結
果においても、酸処理を行うことにより、酸処理を行っていない比較例１〜３と比べて、
初期およびキセノンウェザーメーター１００時間投入後の耐久性が向上したことがわかっ
た。
【００７３】
防汚層を形成するための処理液に塩酸を追加した比較例２で得られた眼鏡用のレンズは
、初期の払拭試験ではレベル３、キセノンウェザーメーター（Ｘｅ）に１００時間投入後
の払拭試験ではレベル１であった。比較例１と比べて、初期およびＸｅ１００時間後の試
験の結果は向上しているものの、酸処理を行った実施例のサンプル（ワーク）に対してＸ
ｅ１００時間後の耐久性は大幅に低下している。
【００７４】
同様に、防汚層を形成するための処理液に塩酸を追加した比較例３で得られた眼鏡用の
レンズは、初期およびＸｅ１００時間後の払拭試験ではレベル０であり、耐久性は低いこ
とがわかった。
【００７５】
これら比較例２および３の結果は、防汚層を形成するための処理液に塩酸などの酸を添
加する方法では、縮合をコントロールすることが困難であることを示していると考えられ
る。すなわち、処理液に酸を添加した場合、処理液内での縮合は促進され初期の耐久性が
向上する可能性はあるものの、基材表面（たとえば、反射防止層）との縮合にはほとんど
影響せず長期間の耐久性の向上は得られないことが示された。さらに、比較例３より、塩
酸などの酸を、防汚層を形成する前の処理液に添加する方法では、塩酸添加後、ある限度
を超えて長時間にわたり保管すると、処理液内での縮合が進みすぎて、基材との反応が阻
害される場合があることが示された。
【００７６】
これらの実施例および比較例より、酸処理を行うことによって耐久性が向上した眼鏡レ
ンズを製造できることがわかる。さらに、耐久性の改善された眼鏡レンズを得るためには
、１Ｎ（１規定）の塩酸水溶液に浸漬する酸処理を行うのであれば、浸漬時間は１から６
０分であることが望ましい。さらに耐久性の改善された眼鏡レンズを得るためには、酸処
理の浸漬時間は５から１５分であることが望ましい。
【００７７】
一方、塩酸に浸漬した場合は、浸漬時間を調整することで、容易に縮合の度合いをコン
トロール可能であることが示された。また、防汚層と有機反射防止層とを、一緒に活性化
可能であり、防汚層と反射防止層との界面における反応も促進される。このため、初期の
耐久性を向上できるだけではなく、長期間経過後の耐久性も向上できる。
【００７８】
反射防止層を活性化する手法としては、他にプラズマ処理などが考えられる。しかしな
がら、有機系の反射防止層の場合、素材が有機物であるためプラズマ処理などの物理的な
活性化方法ではダメージの方が大きく、長期間の耐久性が返って低下する可能性がある。
これに対し、上記の酸処理工程においてワークを浸漬することにより長期間の耐久性も向
上できており、本発明の酸処理工程により、防汚層および反射防止層の界面にダメージを
与えずに活性化することが可能であり長期間の耐久性が向上できることが分かった。
【００７９】
また、上記の各実施例においては、浸漬時間の変更に加え、塩酸濃度を変更したり、酸
の種類を変更した場合においても効果が確認できた。濃度と浸漬時間の効果には相関性が
あり、低濃度では長時間、高濃度では短時間で効果が得られる。また、実施例７より硫酸
でも効果が確認できた。硫酸は２価の酸であるが、水素濃度を塩酸と同等にすれば同様な
効果が得られる。実際には、酸の価数（規定度）と電離度とを考慮して、適切な濃度と浸
漬時間を設定すれば良い。
【００８０】
図２は、酸処理工程における浸漬時間ｔと光学物品の耐久性との関係を模式的に示して
いる。酸処理を行うと、反射防止層表面と防汚層を形成する分子中の−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−
（シロキサン結合）や−Ｓｉ−Ｏ−Ｃ−などの結合が切断される。このため、酸処理にお
ける浸漬時間ｔがある程度の時間までの間は、反射防止層との反応が促進されて反射防止
層の表面に防汚層が良好に固定されるとともに、防汚層を形成する分子同士の反応が促進
されて、防汚層が良好に形成される。したがって、光学物品の耐久性は右肩上がりに向上
する。ただし、酸処理における浸漬時間ｔをさらに長くすると、光学物品の耐久性は徐々
に低下する。これは、酸が反射防止層において反射防止層を形成する分子の結合を切断し
たり、反射防止層と防汚層もしくは防汚層同士との間に形成された結合を切断するのが支
配的になるためであると考えられる。
【００８１】
図２は、酸濃度（規定度）を幾つかに固定し、浸漬時間ｔを変化させた場合を模式的に
示している。上記の実施例で示したように、浸漬時間ｔを固定し、酸濃度を変化させた場
合も同様の傾向がみられる。また、塩酸に限らず他の酸、酢酸、硫酸、フッ酸を用いた処
理においても同様の傾向がみられると考えられ、硫酸については上記の実施例に示してい
る。酸濃度がある程度の濃度までの間は、光学物品の耐久性は右肩上がりに向上すると考
えられる。ただし、酸濃度をさらに高めると、光学物品の耐久性は徐々に低下すると考え
られる。適正な酸濃度および酸処理時間で酸処理を行うことにより、光学物品の耐久性（
防汚層の耐久性）の向上を図ることができる。
【００８２】
これらの結果より最適な浸漬時間ｔは、酸処理に用いられる酸の規定度および電離度に
反比例することがわかり、以下の式（Ａ）で定義できる。
ｔ＝ｋ／(Ｎ・α）    ・・・（Ａ）
式中、Ｎは酸の規定度、ｋは定数、αは電離度である。
【００８３】
酸処理に用いられる酸が、強酸、例えば塩酸、硫酸、硝酸などの場合において、酸濃度
がおよそ１〜２Ｎ（規定）もしくはそれ以下の場合に、電離度αは約１である。一方、弱
酸、例えば、酢酸、蟻酸、炭酸、亜硫酸、次亜塩素酸、シュウ酸などを用いる場合、同様
に酸濃度がおよそ１〜２Ｎ（規定）もしくはそれ以下の場合に、電離度αは約０．１〜約
０．０１の間となる。具体例として、酢酸のαは０．０１３である。定数ｋは、浸漬時間
ｔが分（ｍｉｎ）の場合は、望ましくは、１〜６０であり、より望ましくは５〜１５、も
っとも望ましくは１０である。例えば、酸処理の酸性の液に塩酸などの電離度αが１とな
る強酸を用いた場合、酸性の液の規定度が０．５Ｎ(０．５規定）では、好ましい浸漬時
間ｔは２〜１２０分、さらに好ましい浸漬時間ｔは１０〜３０分である。また、酸性の液
の規定度が１Ｎ（１規定）では、好ましい浸漬時間ｔは１〜６０分、さらに好適な浸漬時
間ｔは５〜１５分であり、最も好ましい浸漬時間ｔは１０分である。また、酸性の液の規
定度が２Ｎ（２規定）では、好ましい浸漬時間ｔは１〜３０分、さらに好適な浸漬時間ｔ
は３〜８分であり、最も好ましい浸漬時間ｔは５分である。
【００８４】
なお、本発明の製造方法を適用できる光学物品は、眼鏡用のレンズに限定されない。例
えば、他の光学機器用レンズ、液晶などの表示板、ＤＶＤなどの光記録媒体、光が透過ま
たは反射する他の物品が含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】実施例１〜８および比較例１〜３で得られた光学物品のスチールウール払拭試験結果を纏めて示す図。
【図２】酸処理工程における浸漬時間と光学物品の耐久性との関係を模式的に示す図。
【図１】
2009258633.tif 000005
【図２】
2009258633.tif 000006