(57)【要約】【課題】磁気ディスク装置の製造ラインに組み込んだ磁気ディスク部品の洗浄工程の効率を向上させる。【解決手段】磁気ディスク装置を製造する製造ラインの一部として設けられた、磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリを洗浄するＨＳＡ洗浄ライン２を処理する磁気ディスク部品洗浄装置１０を、ヘッドスタックアセンブリを組み立てるＨＳＡ組立ライン１と、ヘッドスタックアセンブリを用いてヘッドディスクアセンブリを組み立てるＨＤＡ組立ライン３との間に、ＨＳＡ組立ライン１とＨＤＡ組立ライン３との少なくとも一方と直結して設けた。【選択図】図１
2009158004.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク装置の製造ラインの一部として設けられた、前記磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリを洗浄する磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置であって、
前記ヘッドスタックアセンブリを組み立てる第１の組立ラインと、前記ヘッドスタックアセンブリを用いてヘッドディスクアセンブリを組み立てる第２の組立ラインとの間に、前記第１及び第２の組立ラインの少なくとも一方と直結して設けられたことを特徴とする磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項２】
前記ヘッドスタックアセンブリを所定の洗浄液により洗浄する洗浄部と、
前記洗浄されたヘッドスタックアセンブリを乾燥する乾燥部と、
前記ヘッドスタックアセンブリを前記洗浄部及び前記乾燥部に搬送する搬送手段と、を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄部は、
前記ヘッドスタックアセンブリに所定の洗浄液を噴霧して洗浄する第１洗浄部と、
前記ヘッドスタックアセンブリを所定の洗浄液を貯めた洗浄槽に浸漬して洗浄する第２洗浄部と、を含み、
前記搬送手段は、前記ヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部に搬送する、
ことを特徴とする請求項２に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項４】
前記搬送手段による搬送の間に前記ヘッドスタックアセンブリを乾燥する、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項５】
前記第１の組立ラインから搬送されたヘッドスタックアセンブリをピックアップするとともに、前記ピックアップしたヘッドスタックアセンブリを垂直方向に移動させるアームをさらに含み、
前記第１洗浄部及び前記第２洗浄部は、それぞれ水平方向に近接して配置され、
前記搬送手段及び前記アームにより、前記ピックアップされたヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部及び前記第２洗浄部に移動させるとともに、乾燥後に前記ヘッドスタックアセンブリを前記第２の組立ラインに搬出する、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項６】
少なくとも１つの前記ヘッドスタックアセンブリを固定するとともに、前記固定したヘッドスタックアセンブリを所定の支点位置を中心として垂直方向に回転させる回転機構部を含み、
前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部は、前記回転機構部の回転軌道に沿って配置され、
前記搬送手段は、前記回転機構部を回転させることにより、前記ヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部に搬送する、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項７】
前記搬送手段は、前記ヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部に搬送するベルトコンベアを含み構成される、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項８】
複数の前記ヘッドスタックアセンブリを固定するとともに、前記固定した前記ヘッドスタックアセンブリを所定の位置を中心として所定方向に回転させる回転機構部を含み、
前記第２洗浄部は、前記回転機構部を回転させることにより、前記複数のヘッドスタックアセンブリを一体として洗浄し、
前記乾燥部は、前記回転機構部を回転させることにより、前記洗浄された前記複数のヘッドスタックアセンブリを一体として乾燥する、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項９】
前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部の搬送順路がループ状に構成される、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１０】
前記所定の洗浄液は、有機溶剤である、
ことを特徴とする請求項２に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１１】
前記有機溶剤は、フッ素系溶剤である、
ことを特徴とする請求項１０に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１２】
前記第１洗浄部は、前記所定の洗浄液を加圧するとともに、前記加圧した洗浄液を前記ヘッドスタックアセンブリの所定部位に噴霧して洗浄する、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１３】
前記洗浄槽は、超音波振動子を含み、
前記第２洗浄部は、前記ヘッドスタックアセンブリを前記超音波振動子により超音波洗浄する、
ことを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１４】
前記洗浄部は、上部が開放され、
前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置は、開放構造を有する、
ことを特徴とする請求項２に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１５】
前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置内に蒸発した前記所定の洗浄液を回収するとともに、前記回収した所定の洗浄液を前記洗浄部に補充する手段をさらに含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置。
【請求項１６】
洗浄部にヘッドスタックアセンブリを搬入するとともに、前記洗浄部を密閉する工程と、
前記密閉した洗浄部を減圧する工程と、
前記減圧された洗浄部において有機溶剤を含む所定の洗浄液により前記ヘッドスタックアセンブリを洗浄する工程と、
前記洗浄した前記ヘッドスタックアセンブリを乾燥部に搬入するとともに、前記乾燥部を密閉する工程と、
前記密閉した乾燥部を減圧する工程と、
前記減圧された乾燥部において前記ヘッドスタックアセンブリを乾燥する工程と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置、及び磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクのような精密機器の部品を洗浄する技術として、従来では、例えば下記の特許文献１及び２に示されるように、溶剤を貯めた洗浄槽の中で部品を超音波洗浄する技術がある。
【特許文献１】特開平６−１２０１９７号公報
【特許文献２】特開平７−１７１５２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年では、磁気ディスク装置の低コスト化の要請もあり、高い効率で生産を行うことが求められている。そこで、磁気ディスク装置の製造工程の一部である磁気ディスク部品の洗浄工程を製造工程の全体の中で効率よく行うとともに、洗浄工程の所要時間を短縮させることが課題となってきている。
【０００４】
しかしながら、従来の技術では、ヘッドスタックアセンブリ等の磁気ディスク部品を洗浄する工程のラインは、製造ラインと直結して設けられておらず、洗浄工程のラインを製造ラインに組み込んだ場合に効率的な設計がされているとはいえなかった。
【０００５】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、磁気ディスク装置の製造ラインに磁気ディスク部品の洗浄工程を組み込んだ場合に効率の良い磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置、及び磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置は、磁気ディスク装置を製造する製造ラインの一部として設けられた、前記磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリを洗浄する磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置であって、前記ヘッドスタックアセンブリを組み立てる第１の組立ラインと、前記ヘッドスタックアセンブリを用いてヘッドディスクアセンブリを組み立てる第２の組立ラインとの間に、前記第１及び第２の組立ラインの少なくとも一方と直結して設けられたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記ヘッドスタックアセンブリを所定の洗浄液により洗浄する洗浄部と、前記洗浄されたヘッドスタックアセンブリを乾燥する乾燥部と、前記ヘッドスタックアセンブリを前記洗浄部及び前記乾燥部に搬送する搬送手段と、を含むことを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記洗浄部は、前記ヘッドスタックアセンブリに所定の洗浄液を噴霧して洗浄する第１洗浄部と、前記ヘッドスタックアセンブリを所定の洗浄液を貯めた洗浄槽に浸漬して洗浄する第２洗浄部と、を含み、前記搬送手段は、前記ヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部に搬送する、ことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記搬送手段による搬送の間に前記ヘッドスタックアセンブリを乾燥する、ことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記第１の組立ラインから搬送されたヘッドスタックアセンブリをピックアップするとともに、前記ピックアップしたヘッドスタックアセンブリを垂直方向に移動させるアームをさらに含み、前記第１洗浄部及び前記第２洗浄部は、それぞれ水平方向に近接して配置され、前記搬送手段及び前記アームにより、前記ピックアップされたヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部及び前記第２洗浄部に移動させるとともに、乾燥後に前記ヘッドスタックアセンブリを前記第２の組立ラインに搬出する、ことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、少なくとも１つの前記ヘッドスタックアセンブリを固定するとともに、前記固定したヘッドスタックアセンブリを所定の支点位置を中心として垂直方向に回転させる回転機構部を含み、前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部は、前記回転機構部の回転軌道に沿って配置され、前記搬送手段は、前記回転機構部を回転させることにより、前記ヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部に搬送する、ことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記搬送手段は、前記ヘッドスタックアセンブリを前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部に搬送するベルトコンベアを含み構成される、ことを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、複数の前記ヘッドスタックアセンブリを固定するとともに、前記固定した前記ヘッドスタックアセンブリを所定の位置を中心として所定方向に回転させる回転機構部を含み、前記第２洗浄部は、前記回転機構部を回転させることにより、前記複数のヘッドスタックアセンブリを一体として洗浄し、前記乾燥部は、前記回転機構部を回転させることにより、前記洗浄された前記複数のヘッドスタックアセンブリを一体として乾燥する、ことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記第１洗浄部、前記第２洗浄部、及び前記乾燥部の搬送順路がループ状に構成される、ことを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記所定の洗浄液は、有機溶剤である、ことを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記有機溶剤は、フッ素系溶剤である、ことを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記第１洗浄部は、前記所定の洗浄液を加圧するとともに、前記加圧した洗浄液を前記ヘッドスタックアセンブリの所定部位に噴霧して洗浄する、ことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記洗浄槽は、超音波振動子を含み、前記第２洗浄部は、前記ヘッドスタックアセンブリを前記超音波振動子により超音波洗浄する、ことを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記洗浄部は、上部が開放され、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置は、開放構造を有する、ことを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の他の一態様では、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置において、前記磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置内に蒸発した前記所定の洗浄液を回収するとともに、前記回収した所定の洗浄液を前記洗浄部に補充する手段をさらに含む、ことを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の一態様に係る磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄方法は、洗浄部にヘッドスタックアセンブリを搬入するとともに、前記洗浄部を密閉する工程と、前記密閉した洗浄部を減圧する工程と、前記減圧された洗浄部において有機溶剤を含む所定の洗浄液により前記ヘッドスタックアセンブリを洗浄する工程と、前記洗浄した前記ヘッドスタックアセンブリを乾燥部に搬入するとともに、前記乾燥部を密閉する工程と、前記密閉した乾燥部を減圧する工程と、前記減圧された乾燥部において前記ヘッドスタックアセンブリを乾燥する工程と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の一態様によれば、磁気ディスク装置の製造ラインに磁気ディスク部品（ヘッドスタックアセンブリ）の洗浄工程を組み込み、生産効率を向上させることができる。また、本発明の一態様によれば、磁気ディスク部品の洗浄工程を製造ラインに組み込んだ場合に、洗浄工程の効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための好適な実施の形態（以下、実施形態という）を、図面に従って説明する。
【００２４】
図１には、本実施形態に係る磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄装置（以下、磁気ディスク部品洗浄装置）を含む、磁気ディスク装置の製造ラインの一部を示す。図１に示される磁気ディスク装置の製造ラインは、ヘッドスタックアセンブリ（以下、ＨＳＡ）を組み立てるＨＳＡ組立ライン１と、組み立てられたＨＳＡを洗浄するＨＳＡ洗浄ライン２と、洗浄されたＨＳＡを用いてヘッドディスクアセンブリ（以下、ＨＤＡ）を組み立てるＨＤＡ組立ライン３と、により構成されるラインである。
【００２５】
ＨＳＡ組立ライン１は、ＶＣＭコイル、ヘッド・ジンバル・アセンブリ、軸受けユニット、ＦＰＣ等のＨＳＡの構成部品によりＨＳＡを組み立てる組立ラインである。
【００２６】
ＨＳＡ洗浄ライン２は、ＨＳＡ組立ライン１で組み立てられたＨＳＡを洗浄する洗浄ラインである。ＨＳＡ洗浄ライン２は、ＨＳＡ組立ライン１と直結しＨＳＡ組立ライン１で組み立てられたＨＳＡが搬送されるとともに、ＨＤＡ組立ライン３とも直結しＨＳＡ洗浄ライン２で洗浄されたＨＳＡをＨＤＡ組立ライン３に搬送する。なお、ＨＳＡの洗浄は、本実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置により行われるものであり、その洗浄工程及び磁気ディスク部品洗浄装置の詳細については後述する。
【００２７】
ＨＤＡ組立ライン３は、洗浄されたＨＳＡ、磁気ディスク、ディスク固定機構、ボイス・コイル・モータ、ストッパ等の構成部品によりＨＤＡを組み立てる組立ラインである。
【００２８】
図２には、第１の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１０の構成図を示す。図２に示されるように、磁気ディスク部品洗浄装置１０は、ＨＳＡ組立ライン１とＨＤＡ組立ライン３と直結し、ＨＳＡ組立ライン１から搬送されたＨＳＡをＨＤＡ組立ライン３へと向けて自装置の内部で搬送しながら洗浄する洗浄装置である。以下、磁気ディスク部品洗浄装置１０により行われるＨＳＡの洗浄工程を詳細に説明する。
【００２９】
まず、ＨＳＡ組立ライン１により組み立てられたＨＳＡは、搬送ベルト４上に載せられた状態で磁気ディスク部品洗浄装置１０に向かって搬送される。ここで、搬送されたＨＳＡが搬入部１２に到達すると、搬入部１２の両側に設けられた二重扉１２Ａ，Ｂのうち、ＨＳＡ組立ライン１側の扉１２Ａを開け、ＨＳＡを搬入部１２の中に格納する。その後、扉１２Ａを閉じ、磁気ディスク部品洗浄装置１０側の扉１２Ｂを開けて、ＨＳＡを磁気ディスク部品洗浄装置１０の内部へと搬入する。
【００３０】
磁気ディスク部品洗浄装置１０の内部に搬入されたＨＳＡは、アーム１６によりピックアップされる。アーム１６は、伸縮する機構を有するとともに、アーム１６が備え付けられるベースの搬送機構１８により、垂直方向並びに水平方向への移動が可能となっている。そして、アーム１６は、ピックアップしたＨＳＡを、まずスプレー洗浄槽２０の上方へと水平移動した後に、アーム１６を伸張して加圧スプレー部２２の配置された所定位置に移動させる。
【００３１】
加圧スプレー部２２は、アーム１６により固定されたＨＳＡに対して、加圧した洗浄液を噴霧して局所洗浄を行う。洗浄する箇所は、例えばＨＳＡの金型部やハンダ付け部等としてよい。洗浄液には、揮発性の高い有機溶剤、例えばハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）を用いることとしてよい。このように洗浄液に揮発性の高い有機溶剤を用いることで、ＨＳＡを乾燥させる工程に要する時間を短縮できる。なお、洗浄液には数種の有機溶剤を混合させたものを用いてもよいし、有機溶剤に水系洗浄液を混合させたものを用いてもよい。
【００３２】
アーム１６は、加圧スプレー部２２によりスプレー洗浄されたＨＳＡを、加圧スプレー部２２の上方に配置された温風乾燥部２４に移動させる。温風乾燥部２４は、ＨＳＡに温めた圧縮乾燥空気を吹き付けることにより、ＨＳＡに付着した洗浄液の除去とＨＳＡの乾燥とを行う。ここで、温風乾燥部２４は、ＨＳＡに温めた圧縮乾燥空気を吹き付けるとしたが、圧縮乾燥空気の温度は特に限定されない。温風乾燥部２４において乾燥を終えると、ＨＳＡはアーム１６及び搬送機構１８により超音波洗浄槽３０に移される。ここで、アーム１６によりＨＳＡが搬送される間を、ＨＳＡを乾燥させる時間として利用することができる。
【００３３】
ＨＳＡは、アーム１６により超音波洗浄槽３０の中に貯めた洗浄液の中に浸漬され、その状態で超音波洗浄される。洗浄液には、上述したように、ＨＦＥ等の有機溶剤を用いることとしてよい。超音波洗浄は、超音波洗浄槽３０に備えられた超音波振動子３２を振動させることにより行われる。超音波洗浄を終えると、ＨＳＡはアーム１６により超音波洗浄槽３０の上方に位置する温風乾燥部３４に移される。
【００３４】
温風乾燥部３４は、ＨＳＡに温めた圧縮乾燥空気を吹き付けることにより、ＨＳＡに付着した洗浄液の除去とＨＳＡの乾燥とを行う。超音波洗浄槽３０内に気化して存在している洗浄液は、冷却コイル３６により液化されて回収される。ＨＳＡの乾燥を終えると、ＨＳＡはアーム１６によりＨＤＡ組立ライン３へと接続された搬送ベルト６上に移される。
【００３５】
搬送ベルト６上に乗せられたＨＳＡが搬出部１４に到達すると、搬出部１４の両側に設けられた二重扉１４Ａ，Ｂのうち、磁気ディスク部品洗浄装置１０側の扉１４Ａを開け、ＨＳＡを搬出部１４内に格納する。そして、ＨＳＡを搬出部１４内に格納した後に扉１４Ａを閉じ、ＨＤＡ組立ライン３側の扉１４Ｂを開けて、ＨＳＡをＨＤＡ組立ライン３へと搬出する。
【００３６】
また、スプレー洗浄槽２０と超音波洗浄槽３０とのそれぞれの上部は、ＨＳＡを導入する開放部が設けられており、ここから揮発した有機溶剤が漏れ出すのを冷却コイル２６，３６により揮発した有機溶剤を液化することで防ぐ構造としている。ただし、これらの構造によっても有機溶剤の漏れ出しを完全には防ぐことはできない。そこで、磁気ディスク部品洗浄装置１０において、搬入部１２、搬出部１４、スプレー洗浄槽２０、超音波洗浄槽３０、及び磁気ディスク部品洗浄装置１０のカバー３８にはそれぞれ、蒸発した有機溶剤を吸引し回収するポンプが備え付けられている。備え付けられたポンプにより吸引された有機溶剤は、蒸留タンク４０に一旦貯められる。蒸留タンク４０に貯められた有機溶剤は、加圧スプレー部２２や超音波洗浄槽３０に補給され再利用される。
【００３７】
以上説明した実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１０によれば、ＨＳＡの洗浄工程をＨＳＡ組立工程とＨＤＡ組立工程との間に直結して設けることで、磁気ディスク装置の生産効率を向上させることができる。また、上述した磁気ディスク部品洗浄装置１０によれば、ＨＳＡの搬送を行いながら洗浄及び乾燥を行うとともに、洗浄液に揮発性の高い有機溶剤を用いることにより、ＨＳＡ洗浄工程のタクトの所要時間を目標時間（５秒程度）以下にすることができる。また、ＨＳＡの特定部位を加圧スプレーにより、より精密な洗浄が必要な箇所や洗浄がし難い箇所を局所的に洗浄することで洗浄の精度を向上させることができる。また、磁気ディスク部品洗浄装置１０を気密性の高い構造にするとともに、蒸発した有機溶剤を回収して内部循環させることにより、揮発性の高い有機溶剤を効率よく使用することができ、有機溶剤の消耗量を抑制することができる。
【００３８】
次に、本発明の第２の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１１０について図３を参照しながら説明する。図３には、第２の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１１０の構成図を示す。なお、図３においては、磁気ディスク部品洗浄装置１１０と、ＨＳＡ組立ライン１とＨＤＡ組立ライン３とのそれぞれの接続部分については省略しているが、第２の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１１０についても各組立ラインと直結した構成を有するものとしてよい。
【００３９】
図３に示されるように、第２の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１１０は、垂直方向に回転可能な回転機構部１１２を有し、この回転機構部１１２の両端には、ＨＳＡ組立ライン１から搬送されたＨＳＡが固定される。回転機構部１１２の両端間の距離は、例えば６００ｍｍ程度としてよい。回転機構部１１２を支持する支持部１１４が垂直方向に駆動して所定の位置１１６まで下降すると、回転機構部１１２はその所定の位置１１６を回転中心としてＨＳＡを固定した状態で回転を開始する。
【００４０】
ここで、磁気ディスク部品洗浄装置１１０内には、回転機構部１１２の回転軌道に沿って、反時計回りに、冷却コイル１２０、加圧スプレー部１２２、超音波洗浄槽１２４、温風乾燥部１２６、及び冷却コイル１２８が順に配置されている。そして、回転機構部１１２がＨＳＡを固定した状態で所定位置１１６を中心として反時計回りに回転することにより、加圧スプレー部１２２によるＨＳＡの局所洗浄、超音波洗浄槽１２４によるＨＳＡの全体洗浄を行い、その後に温風乾燥部１２６によりＨＳＡを乾燥するという処理を一連の流れで行うことができる。また、開放部に配置された冷却コイル１２０，１２８により、冷却コイルにより磁気ディスク部品洗浄装置１１０内に気化して存在している洗浄液を液化して回収して、有機溶剤の揮発による損失を防いでいる。
【００４１】
以上説明した第２の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１１０によれば、ＨＳＡ洗浄工程を少タクト化するとともに、洗浄効率を向上させることができ、また、磁気ディスク部品洗浄装置１１０の設置面積を小さくすることができる。
【００４２】
次に、本発明の第３の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置２１０について図４を参照しながら説明する。図４には、第３の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置２１０の構成図を示す。なお、図４においては、磁気ディスク部品洗浄装置２１０と、ＨＳＡ組立ライン１とＨＤＡ組立ライン３とのそれぞれの接続部分については省略しているが、第３の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置２１０についても各組立ラインと直結した構成を有するものとしてよい。
【００４３】
図４に示されるように、第３の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置２１０は、超音波洗浄槽２１２、スプレー洗浄槽２１４、及び温風乾燥槽２１６を順路として構成されたベルトコンベア２２０を備えている。ベルトコンベア２２０のベルト２２２は時計回りに進み、ベルト２２２上に置かれたＨＳＡを、超音波洗浄槽２１２、スプレー洗浄槽２１４、及び温風乾燥槽２１６に順に搬送する。また、ベルトコンベア２２０の上方には冷却コイル２３０が設けられており、磁気ディスク部品洗浄装置２１０内に気化して存在している洗浄液を液化して回収して、有機溶剤の揮発による損失を防いでいる。
【００４４】
以上説明した第３の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置２１０によれば、磁気ディスク部品洗浄装置２１０の構造を簡素化することができ、また、ＨＳＡを連続的に洗浄することが容易なため洗浄工程の処理効率を向上させることができる。
【００４５】
次に、本発明の第４の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置３１０について図５を参照しながら説明する。図５には、第４の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置３１０に特徴的な構成を模式的に描いている。
【００４６】
図５に示されるように、第４の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置３１０は、複数のＨＳＡを取り付けられる環状の回転部材３１２を備える。図５（Ａ）に示されるように、有機溶剤を貯めた洗浄槽の中に、ＨＳＡを複数取り付けた環状の回転部材３１２を浸漬させた後に、環状の回転部材３１２を支持する支持部３１４を軸として回転させることにより、取り付けられた複数のＨＳＡを一体として回転洗浄する。回転洗浄を終えると、図５（Ｂ）に示されるように、環状の回転部材３１２を洗浄槽の中から引き上げ、そこで再び回転部材３１２を回転させて取り付けられた複数のＨＳＡを一体として回転乾燥を行う。
【００４７】
以上説明した第４の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置３１０によれば、複数のＨＳＡを一度に洗浄しまた乾燥させることができるため、洗浄工程の処理効率を向上させることができる。また、温風乾燥に依らずとも回転乾燥により効率的な乾燥を行うことができる。
【００４８】
次に、本発明の第５の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置について図６を参照しながら説明する。図６には、第５の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置において特徴的な構成である洗浄工程４００の搬送路を模式的に示している。
【００４９】
例えば上述した第１の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置１０では、ＨＳＡの搬入部から搬出部まで直線的に搬送され、搬入部１２と搬出部１４とは位置的に離れた構成となっているが、第５の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置では、図６に示されるように、洗浄工程４００の搬送路がループ状になっており、搬入部と搬出部とが同じ配置もしくは近接した配置となっている。こうすることにより、磁気ディスク部品洗浄装置の設置面積を狭小化することができるとともに、磁気ディスク部品洗浄装置の製造ラインの配置の柔軟性を向上させることができる。
【００５０】
次に、本発明の第６の実施形態に係るＨＳＡの洗浄工程について、図７及び図８を参照しつつ説明する。本洗浄工程は、各処理槽を密閉して分離した状態で洗浄及び乾燥を行うことにより、洗浄工程の効率化を図ったものである。図７は、上記洗浄工程のフローを表した図であり、図８は、上記洗浄工程のフローに基づいてＨＳＡを洗浄する磁気ディスク部品洗浄装置５１０の構成を示した図である。
【００５１】
まず、洗浄槽５１２にＨＳＡを搬入して、密閉シャッター５１４を閉じて洗浄槽５１２を密閉する（Ｓ１０１）。ここで、洗浄槽５１２を減圧（０．１〜１０ｋＰａ）した後に（Ｓ１０２）、超音波洗浄並びにスプレー洗浄を行う（Ｓ１０３）。洗浄液に乾燥効率の高い有機溶剤を用いるのは、上述した各実施形態と同様である。次に、密閉シャッター５１４を開き、洗浄したＨＳＡを乾燥槽５１６に移動させるとともに、密閉シャッター５１４，５１８を閉じて乾燥槽を密閉する（Ｓ１０４）。そして、乾燥槽５１６を減圧（０．１〜１０ｋＰａ）して（Ｓ１０５）、ＨＳＡを高速に乾燥させる（Ｓ１０６）。なお、乾燥槽５１６において、ＨＳＡに乾燥した圧縮空気を吹き付けることでさらに乾燥処理を高速化させることとしてもよい。乾燥槽５１６における乾燥を終えると、密閉シャッター５１８を開けて大気圧に戻した後、ＨＳＡを冷却コイル５２０に移動させて、磁気ディスク部品洗浄装置５１０内に気化して存在している洗浄液を液化して回収する（Ｓ１０７）。なお、大気圧に戻す際の加圧ガスには、空気、窒素、Ｈｅ，Ａｒ等の不活性ガスを用いることとしてよい。
【００５２】
以上説明した第６の実施形態に係る磁気ディスク装置に使われる部品の洗浄方法及び磁気ディスク部品洗浄装置５１０によれば、各処理槽を密閉して分離した状態とすることで、各処理槽において同時処理を可能とし、また、揮発性の高い有機溶剤を用いた際にも液の揮発による損失を少なくすることができる。そして、密閉した乾燥槽５１６を減圧してＨＳＡを減圧乾燥することにより高速に乾燥処理を行うことができる。さらには、磁気ディスク部品洗浄装置５１０において垂直方向に処理槽を設けたことで、磁気ディスク部品洗浄装置５１０の設置スペースを小さくすることができる。
【００５３】
なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、例えば上記実施形態では、磁気ディスク部品洗浄装置はＨＳＡ組立ライン１とＨＤＡ組立ライン３とのそれぞれと直結していることとしたが、どちらか一方と直結した構造としてもよいし、磁気ディスク部品洗浄装置は開放構造を有することとしてもよい。また、本発明の実施形態は、この分野の通常の知識を有する当業者によって多様な変更、変形又は置換が可能であることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置を含む磁気ディスク装置の製造ラインの一部を示す図である。
【図２】第１の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置の構成図である。
【図３】第２の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置の構成図である。
【図４】第３の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置の構成図である。
【図５】第４の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置を説明する図である。
【図６】第５の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置を説明する図である。
【図７】第６の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄工程のフロー図である。
【図８】第６の実施形態に係る磁気ディスク部品洗浄装置の構成図である。
【符号の説明】
【００５５】
１  ＨＳＡ組立ライン、２  ＨＳＡ洗浄ライン、３  ＨＤＡ組立ライン、４  搬送ベルト、６  搬送ベルト、１０  磁気ディスク部品洗浄装置、１２  搬入部、１２Ａ，Ｂ  扉、１４  搬出部、１４Ａ，Ｂ  扉、１６  アーム、１８  搬送機構、２０  スプレー洗浄槽、２２  加圧スプレー部、２４  温風乾燥部、２６  冷却コイル、３０  超音波洗浄槽、３２  超音波振動子、３４  温風乾燥部、３６  冷却コイル、３８  カバー、４０  蒸留タンク、１１０  磁気ディスク部品洗浄装置、１１２  回転機構部、１１４  支持部、１１６  位置、１２０  冷却コイル、１２２  加圧スプレー部、１２４  超音波洗浄槽、１２６  温風乾燥部、１２８  冷却コイル、２１０  磁気ディスク部品洗浄装置、２１２  超音波洗浄槽、２１４  スプレー洗浄槽、２１６  温風乾燥槽、２２０  ベルトコンベア、２２２  ベルト、２３０  冷却コイル、３１０  磁気ディスク部品洗浄装置、３１２  回転部材、３１４  支持部、４００  搬送路、５１０  磁気ディスク部品洗浄装置、５１２  洗浄槽、５１４  密閉シャッター、５１６  乾燥槽、５１８  密閉シャッター、５２０  冷却コイル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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