(57)【要約】【課題】ビームの重ね合わせ及び感光体ドラムへのビームの照射を精度良く行うことができると共に、製造工程の増加及び製造コストの高騰を抑制できる光源装置を提供する。【解決手段】光走査装置に用いられる光源装置１。ビームスプリッタ５は、レーザダイオード２が出射したビームＢ１とレーザダイオード３が出射したビームＢ２とを重ね合わせて略同一方向に進行させる。中間ホルダ３２及び光源ホルダ３６はそれぞれ、ビームスプリッタ５及びレーザダイオード３を保持する。ベース台３１は、中間ホルダ３２が位置調整可能に取り付けられる取り付け面３１ａ及びハウジング４２に取り付けられる取り付け面３１ｃを有する。取り付け面３１ａの法線方向であって中間ホルダ３２側に延びるベクトルαと、取り付け面３１ｂの法線方向であってハウジング４２側に延びるベクトルβとのなす角度は、０度以上９０度以下である。【選択図】図２
2009128760.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光走査装置に用いられる光源装置において、
第１の光源と、
第２の光源と、
前記第１の光源が出射したビームと前記第２の光源が出射したビームとを重ね合わせて略同一方向に進行させる第１の合成素子と、
前記第２の光源と前記第１の合成素子とを保持する第１のホルダと、
前記第１のホルダが位置調整可能に取り付けられる第１の取り付け面及び前記光走査装置に取り付けられる第２の取り付け面を有するベース部材と、
を備え、
前記第１の取り付け面の法線方向であって前記第１のホルダ側に延びる第１のベクトルと、前記第２の取り付け面の法線方向であって前記光走査装置側に延びる第２のベクトルとのなす角度は、０度以上９０度以下であること、
を特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとのなす角度は、０度であること、
を特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記第１の取り付け面と前記第２の取り付け面とは、同一平面上に位置していること、
を特徴とする請求項２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとのなす角度は、９０度であり、
前記第１の取り付け面と前記第２の取り付け面とは、前記ベース部材の内周面側に位置していること、
を特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項５】
前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとのなす角度は、９０度であり、
前記第１の取り付け面と前記第２の取り付け面とは、前記ベース部材の外周面側に位置していること、
を特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項６】
前記第１のホルダは、
前記第１の取り付け面に位置調整可能に取り付けられ、前記第１の合成素子を保持する第１の中間ホルダと、
前記第１の中間ホルダに位置調整可能に取り付けられ、前記第２の光源を保持する第１の光源ホルダと、
を含むこと、
を特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の光源装置。
【請求項７】
第３の光源と、
前記第１の光源が出射したビームと前記第２の光源が出射したビームと前記第３の光源が出射したビームとを重ね合わせて略同一方向に進行させる第２の合成素子と、
前記第１の取り付け面上に調整可能に取り付けられ、前記第３の光源と前記第２の合成素子とを保持する第２のホルダと、
を更に備えること、
を特徴とする請求項６に記載の光源装置。
【請求項８】
前記第２のホルダは、
前記第１の取り付け面に位置調整可能に取り付けられ、前記第２の合成素子を保持する第２の中間ホルダと、
前記第１の光源ホルダと同じ形状を有し、かつ、前記第２の中間ホルダに位置調整可能に取り付けられ、前記第３の光源を保持する第２の光源ホルダと、
を含むこと、
を特徴とする請求項７に記載の光源装置。
【請求項９】
前記第２のホルダは、
前記第１の中間ホルダと同じ形状を有し、前記第１の取り付け面に位置調整可能に取り付けられ、前記第２の合成素子を保持する第２の中間ホルダと、
前記第２の中間ホルダに位置調整可能に取り付けられ、前記第３の光源を保持する第２の光源ホルダと、
を含むこと、
を特徴とする請求項７に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記第２の合成素子を通過したビームを集光する集光手段を、
更に備え、
前記第２の光源から前記集光手段までの光路長と前記第３の光源から前記集光手段までの光路長とは等しいこと、
を特徴とする請求項８又は請求項９に記載の光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源装置に関し、より特定的には、プリンタ等の画像形成装置に搭載される光走査装置に用いられる光源装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビームの重ね合わせを集光レンズに入射する前に行い、しかも各光源の位置調整を簡素な構成で独立して行うことができる光源装置として、特許文献１に記載の光源装置が提案されている。以下に、該光源装置について図面を参照しながら説明する。図８は、特許文献１に記載の光源装置１０１の構成図である。
【０００３】
ビームスプリッタ１０５及びビームスプリッタ１０６をそれぞれ保持した可動保持台１３２及び可動保持台１３３と鏡胴１３８とは、ベース台１３１の光軸Ｂに対して平行な面１３１ａ上に、ｘ方向に位置調整可能に取り付けられている。レーザダイオード１０２を保持した光源ホルダ１３５は、ベース台１３１の光軸に対して垂直な面１３１ｂ上にｙ，ｚ方向に位置調整可能に取り付けられている。レーザダイオード１０３及びレーザダイオード１０４をそれぞれ保持した光源ホルダ１３６及び光源ホルダ１３７は、可動保持台１３２及び可動保持台１３３の光軸Ｂに対して平行な面１３２ａ，１３３ａ上にｘ，ｙ方向に移動可能に取り付けられている。
【０００４】
特許文献１に記載の光源装置では、可動保持台１３３を移動させてレーザダイオード１０４から照射されるビームのピント合わせを行う場合、可動保持台１３３に設置されたビームスプリッタ１０６を通過するレーザダイオード１０３のビームはピント状態も像面上での照射位置も影響を受けない。従って、適当な順序でレーザダイオードを調整することにより、各レーザダイオードは独立してピント合わせや像面上での照射位置が調整される。
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の光源装置１０１では、ビームの重ね合わせ及び感光体ドラムへのビームの照射を精度良く行うためには、ベース台１３１の両面に位置する面１３１ａ，１３１ｃを精度良く加工する必要がある。これは、ベース台１３１の面１３１ａには、可動保持台１３２、可動保持台１３３及び鏡胴１３８が配置され、ベース台１３１の面１３１ｃには、光源装置１０１が搭載される光走査装置のハウジング（図示せず）が配置されるからである。その結果、光源装置１０１は、製造工程が増加してしまったり、製造コストが高騰してしまったりするという問題を有する。
【特許文献１】特開平１１−７２７３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明の目的は、ビームの重ね合わせ及び感光体ドラムへのビームの照射を精度良く行うことができると共に、製造工程の増加及び製造コストの高騰を抑制できる光源装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、光走査装置に用いられる光源装置において、第１の光源と、第２の光源と、前記第１の光源が出射したビームと前記第２の光源が出射したビームとを重ね合わせて略同一方向に進行させる第１の合成素子と、前記第２の光源と前記第１の合成素子とを保持する第１のホルダと、前記第１のホルダが位置調整可能に取り付けられる第１の取り付け面及び前記光走査装置に取り付けられる第２の取り付け面を有するベース部材と、を備え、前記第１の取り付け面の法線方向であって前記第１のホルダ側に延びる第１のベクトルと、前記第２の取り付け面の法線方向であって前記光走査装置側に延びる第２のベクトルとのなす角度は、０度以上９０度以下であること、を特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、第１のベクトルと第２のベクトルとが０度以上９０度以下である場合には、精度良く加工しなければならない第１の取り付け面及び第２の取り付け面が９０度よりも大きな角度をなしている場合に比べて、第１の取り付け面及び第２の取り付け面を容易に精度良く加工できる。その結果、本発明は、ビームの重ね合わせ及び感光体ドラムへのビームの照射を精度良く行うことができると共に、光走査装置の製造コストの高騰を抑制できる。
【０００９】
本発明において、前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとのなす角度は、０度であってもよい。
【００１０】
本発明において、前記第１の取り付け面と前記第２の取り付け面とは、同一平面上に位置していてもよい。
【００１１】
本発明において、前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとのなす角度は、９０度であり、前記第１の取り付け面と前記第２の取り付け面とは、前記ベース部材の内周面側に位置していてもよい。
【００１２】
本発明において、前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとのなす角度は、９０度であり、前記第１の取り付け面と前記第２の取り付け面とは、前記ベース部材の外周面側に位置していてもよい。
【００１３】
本発明において、前記第１のホルダは、前記第１の取り付け面に位置調整可能に取り付けられ、前記第１の合成素子を保持する第１の中間ホルダと、前記第１の中間ホルダに位置調整可能に取り付けられ、前記第２の光源を保持する第１の光源ホルダと、を含んでいてもよい。
【００１４】
本発明において、第３の光源と、前記第１の光源が出射したビームと前記第２の光源が出射したビームと前記第３の光源が出射したビームとを重ね合わせて略同一方向に進行させる第２の合成素子と、前記第１の取り付け面上に調整可能に取り付けられ、前記第３の光源と前記第２の合成素子とを保持する第２のホルダと、を更に備えていてもよい。
【００１５】
本発明において、前記第２のホルダは、前記第１の取り付け面に位置調整可能に取り付けられ、前記第２の合成素子を保持する第２の中間ホルダと、前記第１の光源ホルダと同じ形状を有し、かつ、前記第２の中間ホルダに位置調整可能に取り付けられ、前記第３の光源を保持する第２の光源ホルダと、を含んでいてもよい。
【００１６】
本発明において、前記第２のホルダは、前記第１の中間ホルダと同じ形状を有し、前記第１の取り付け面に位置調整可能に取り付けられ、前記第２の合成素子を保持する第２の中間ホルダと、前記第２の中間ホルダに位置調整可能に取り付けられ、前記第３の光源を保持する第２の光源ホルダと、を含んでいてもよい。
【００１７】
本発明において、前記第２の合成素子を通過したビームを集光する集光手段を、更に備え、前記第２の光源から前記集光手段までの光路長と前記第３の光源から前記集光手段までの光路長とは等しくてもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明に係る光源装置の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【００１９】
（光走査装置の概要）
まず、本発明に係る光源装置が適用された光走査装置の概要について図面を参照しながら説明する。図１は、光走査装置の概要を示した構成図である。図１において、光走査装置は、概略、光源装置１と、シリンドリカルレンズ１１とポリゴンミラー１２と３枚のｆθレンズ１３，１４，１５及びシリンドリカルレンズ１６と、平面ミラー１７とで構成される。
【００２０】
光源装置１は、ビームＢ１，Ｂ２，Ｂ３を照射するレーザダイオード２，３，４と、二つの三角プリズムをフィルタミラー膜を介して接合したキューブ型のビームスプリッタ５，６と、集光手段としてのコリメータレンズ７とからなる。照射されたビームＢ１は、ビームスプリッタ５，６のフィルタミラー膜を透過して直進し、コリメータレンズ７によって平行光（又は収束光）とされる。レーザダイオード３から照射されたビームＢ２は、ビームスプリッタ５のフィルタミラー膜で９０度に反射された後、ビームスプリッタ６のフィルタミラー膜を透過して、コリメータレンズ７によって平行光（又は収束光）とされる。レーザダイオード４から照射されたビームＢ３は、ビームスプリッタ６のフィルタミラー膜で９０度に反射され、コリメータレンズ７によって平行光（又は収束光）とされる。ビームＢ１，Ｂ２は、ビームスプリッタ５で略同一方向に進行するように重ね合わされる。更に、ビームＢ１，Ｂ２は、ビームスプリッタ６でビームＢ３と略同一方向に進行するように重ね合わされる。これらのビームＢ１〜Ｂ３は、光束の大部分を殆ど重なり合わせつつ、光束の中心を互いに副走査方向に僅かに異ならせた状態で進行する。
【００２１】
コリメータレンズ７から出射されたビームＢ１〜Ｂ３は、シリンドリカルレンズ１１を介してポリゴンミラー１２に到達する。シリンドリカルレンズ１１はビームＢ１〜Ｂ３をポリゴンミラー１２の反射面近傍に主走査方向に長い線状に集光する。ポリゴンミラー１２は矢印ａ方向に一定角速度で回転駆動される。ビームＢ１〜Ｂ３はポリゴンミラー１２の回転に基づいて各反射面で等角速度に偏向走査され、ｆθレンズ１３，１４，１５及びシリンドリカルレンズ１６を透過し、平面ミラー１７で下方に反射される。その後、ビームＢ１〜Ｂ３は感光体ドラム２５上で結像すると共に、矢印ｂ方向に走査する。即ち、この光学系では１回の走査で３ラインを同時に書き込む。
【００２２】
ｆθレンズ１３，１４，１５はポリゴンミラー１２で等角速度に偏向されたビームＢ１〜Ｂ３を感光体ドラム２５上での主走査速度を等速に補正（歪曲収差補正）機能を有している。シリンドリカルレンズ１６は前記シリンドリカルレンズ１１と同様に副走査方向にのみパワーを有し、二つのシリンドリカルレンズ１１，１６が協働してポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
【００２３】
感光体ドラム２５は矢印ｃ方向に一定速度で回転駆動され、ポリゴンミラー１２及びｆθレンズ１３，１４，１５による矢印ｂ方向への主走査と、感光体ドラム２５の矢印ｃ方向への副走査によって感光体ドラム２５上に画像（静電潜像）が書き込まれる。
【００２４】
（第１例の光源装置）
次に、第１例の光源装置１の構造について図面を参照しながら説明する。図２は、第１例の光源装置１の構成図である。なお、以下の説明でｘ方向とはビームスプリッタ６から出射される光軸Ｂに対して平行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交する方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をいう。
【００２５】
この光源装置１は、ベース台３１、ビームスプリッタ５を保持する中間ホルダ３２、ビームスプリッタ６を保持する中間ホルダ３３、レーザダイオード２を保持する光源ホルダ３５、レーザダイオード３を保持する光源ホルダ３６、レーザダイオード４を保持する光源ホルダ３７、コリメータレンズ７を保持する鏡胴３８、位置合わせピン３９ａ，３９ｂ，４０ａ，４０ｂ，４１ａ，４１ｂ、及び、制御基板４３，４４，４５で構成されている。また、中間ホルダ３２及び光源ホルダ３５は、第１のホルダを構成し、中間ホルダ３３及び光源ホルダ３６は、第２のホルダを構成する。更に、図２（ａ）には、光走査装置の一部として、ハウジング４２が記載されている。
【００２６】
レーザダイオード２〜４は同一の性能のものであり、各レーザダイオード２〜４から照射されるビームＢ１〜Ｂ３の波長と光量は略等しい。また、レーザダイオード２〜４は、ビームスプリッタ６から出射したビームＢ１〜Ｂ３のそれぞれの偏光方向が同じ方向になるように、かつ、ビームＢ１〜Ｂ３がビームスプリッタ５，６の入射面に対して縦波となるように配置されている。
【００２７】
制御基板４３〜４５は、レーザダイオード２〜４のそれぞれに接続されており、これらの動作を制御する。
【００２８】
ビームスプリッタ５のフィルタミラー膜５ａは、入射ビームの約５０％を透過させ、約５０％を反射させる。ビームスプリッタ６のフィルタミラー膜６ａは、入射ビームの約６７％を透過させ、約３３％を反射させる。フィルタミラー膜５ａ，６ａの透過と反射の特性をこのように設定することにより、ビームスプリッタ６から出射したビームＢ１〜Ｂ３のそれぞれの光量を均一にすることができる。ビームスプリッタ５，６は相互に平行な状態で光路に沿ってレーザダイオード２〜４とコリメータレンズ７の間に配置され、フィルタミラー膜５ａ，６ａはビームＢ１〜Ｂ３の進行方向に対して４５度傾斜している。なお、各ビームスプリッタ５，６において、コリメータレンズ７側に進行しなかったビームは、ビームスプリッタ５，６の底面に設けられている遮光板５ｂ，６ｂによって遮光される。
【００２９】
ベース台３１は、取り付け面３１ａ，３１ｂ，３１ｃを含む。ベース台３１は、位置合わせピン４１ａ，４１ｂによってハウジング４２に位置決めされた状態で取り付けられる。具体的には、図２（ｂ）の光源装置１の下視図に示すように、ベース台３１には、丸孔と長孔とが形成されている。位置合わせピン４１ａは、丸孔に挿入される。これにより、ベース台３１は、ｘｙ平面内において位置決めされる。更に、位置合わせピン４１ｂは、長孔に挿入される。これにより、ｘｙ平面内において、位置合わせピン４１ａを中心としてベース台３１が回転することが規制される。
【００３０】
また、中間ホルダ３２，３３は、このベース台３１の光軸Ｂに対して平行な取り付け面３１ａ上に、ｘ方向に位置調整可能に位置合わせピン３９ａ，３９ｂ，４０ａ，４０ｂで取り付けられている。すなわち、ビームスプリッタ５，６は、ビームスプリッタ５，６によって重ね合わされたビームＢ１〜Ｂ３の進行方向と平行な方向に位置調整可能に設置されている。具体的には、図２（ｃ）の光源装置１の下視図に示すように、ベース台３１には、ｘ方向に延びる４つの長孔がｘ方向に並ぶように形成されている。位置合わせピン３９ａ，３９ｂ、４０ａ，４０ｂは、これらの長孔に挿入される。これにより、ｘｙ平面内において、位置合わせピン３９ａ，３９ｂ，４０ａ，４０ｂを中心として中間ホルダ３２，３３が回転することが規制される。更に、位置合わせピン３９ａ，３９ｂ，４０ａ，４０ｂは、ｘ方向に延びる長孔に挿入されているので、中間ホルダ３２，３３は、ベース台３１に対してｘ方向に移動可能である。すなわち、長孔内の位置合わせピン３９ａ，３９ｂ，４０ａ，４０ｂの位置を調整することにより、中間ホルダ３２，３３のｘ方向における位置を調整できる。
【００３１】
更に、中間ホルダ３３は、中間ホルダ３２よりも短く形成されている。これにより、後述するように、レーザダイオード３からコリメータレンズ７までの光路長とレーザダイオード４からコリメータレンズ７までの光路長とが等しくなっている。
【００３２】
光源ホルダ３５は、ベース台３１の光軸Ｂに対して垂直な取り付け面３１ｂ上にｙ，ｚ方向に位置調整可能にねじ等によって取り付けられている。すなわち、レーザダイオード２は、このレーザダイオード２のビームＢ１の照射方向と直交する面内での位置を調整可能に設置されている。光源ホルダ３６，３７は、平行な面３２ａ，３３ａ上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能にねじ等によって取り付けられている。すなわち、レーザダイオード３，４は、それぞれレーザダイオード３，４のビームＢ２，Ｂ３の照射方向と直交する面内での位置を調整可能に設置されている。光源ホルダ３６と光源ホルダ３７とは、同じ形状及び同じ構造を有する部材である。
【００３３】
次に、取り付け面３１ａ，３１ｃの位置関係について説明する。取り付け面３１ａの法線方向であって中間ホルダ３２側に延びるベクトルをベクトルαと定義し、取り付け面３１ｃの法線方向であってハウジング４２側に延びるベクトルをベクトルβと定義する。第１例の光源装置１において、該ベクトルαと該ベクトルβとのなす角度は、０度である。特に、第１例の光源装置１では、取り付け面３１ａと取り付け面３１ｃとは、同一平面に位置している。
【００３４】
以上のような第１例の光源装置１によれば、取り付け面３１ａと取り付け面３１ｃとが同一平面に位置しているので、ベース台３１を安価に製造できるようになり、第１例の光源装置１を安価に製造することが可能となる。以下に、説明する。
【００３５】
図８に示す光源装置１０１では、ビームの重ね合わせ及び感光体ドラムへのビームの照射を精度良く行うためには、ベース台１３１の両面に位置する面１３１ａ，１３１ｃを精度良く加工する必要があった。その結果、光源装置１０１は、製造コストの高騰を招来していた。
【００３６】
そこで、第１例の光源装置１では、中間ホルダ３２，３３が取り付けられる取り付け面３１ａ、及び、ハウジング４２に取り付けられる取り付け面３１ｃは、同一平面上に位置している。これにより、第１例の光源装置１において、精度良く加工しなければならない取り付け面３１ａ，３１ｃを１つの平面上に位置させることができる。その結果、図８に示すように、上下面に面１３１ａ，１３１ｂが位置するベース台１３１に比べて、図２に示すベース台３１の方が安価に製造可能となる。
【００３７】
また、中間ホルダ３３は、中間ホルダ３２よりも長く形成されているので、光源ホルダ３６，３７を共通の部品で構成することが可能となる。以下に説明する。
【００３８】
ビームＢ２，Ｂ３のピント合わせを行う場合には、コリメータレンズ７からレーザダイオード４までの光路長（Ｌ１＋Ｌ２）とコリメータレンズ７からレーザダイオード３までの光路長（Ｌ１＋Ｌ３＋Ｌ４）とを等しくする必要がある。レーザダイオード３は、ビームスプリッタ５からビームスプリッタ６までの光路長（Ｌ３）の分だけ、レーザダイオード４よりもコリメータレンズ７から離れた位置に配置されている。従って、ビームスプリッタ５からレーザダイオード３までの光路長（Ｌ２）は、ビームスプリッタ６からレーザダイオード４までの光路長（Ｌ４）よりもＬ３だけ短い必要がある。
【００３９】
そこで、第１例の光源装置１では、中間ホルダ３２の長さを中間ホルダ３３よりも短くしている。これにより、光源ホルダ３６と光源ホルダ３７とを同じ構成としても、ビームスプリッタ５からレーザダイオード３までの光路長（Ｌ２）を、ビームスプリッタ６からレーザダイオード４までの光路長（Ｌ４）よりもＬ３だけ短くできる。
【００４０】
次に、第１例の光源ユニット１の各部の位置調整について説明する。以下の調整作業は専用の調整治具上で行われ、レーザダイオード２〜４から照射されたビームＢ１〜Ｂ３は調整治具の像面上に照射される。まず、レーザダイオード４からビームＢ３を照射させ、光源ホルダ３７をｘ，ｙ方向に２次元的に移動させ、レーザダイオード４のビーム照射位置を決める。更に、鏡胴３８をｘ方向に１次元的に移動させ、ビームＢ３のピント合わせを行って、レーザダイオード４に対するコリメータレンズ７の位置を決める。
【００４１】
次に、レーザダイオード２からビームＢ１を照射させ、光源ホルダ３５をｙ，ｚ方向に２次元的に移動させ、レーザダイオード２のビーム照射位置を決める。この後、中間ホルダ３３をｘ方向に１次元的に移動させ、ビームＢ１のピント合わせを行う。このとき、レーザダイオード４はビームスプリッタ６と共にｘ方向に移動するため、調整治具の像面上でのビームＢ３の照射位置は変化しない。更に、レーザダイオード４はコリメータレンズ７と共にｘ方向に移動するため、レーザダイオード４とコリメータレンズ７との相対的な位置関係は変化しない。そのため、レーザダイオード２のピント合わせ作業は、レーザダイオード４のピント状態には殆ど影響を与えない。
【００４２】
次に、レーザダイオード３からビームＢ２を照射させ、光源ホルダ３６をｘ，ｙ方向に２次元的に移動させ、レーザダイオード３のビーム照射位置を決める。この後、中間ホルダ３２をｘ方向に１次元的に移動させ、ビームＢ２のピント合わせを行う。このとき、レーザダイオード３はビームスプリッタ５と共にｘ方向に移動するため、調整治具の像面上での光ビームＢ２の照射位置は変化しない。
【００４３】
更に、レーザダイオード３のピント合わせ作業は、レーザダイオード２のピント状態や像面上での光ビームＢ１の照射位置には殆ど影響を与えない。なぜならば、レーザダイオード２から照射される光ビームＢ１に対して、ビームスプリッタ５は平行平板であり、ｘ方向に移動してその位置を変えても光学的には等価だからである。
【００４４】
次に、光源ホルダ３６，３７をｘ，ｙ方向に２次元的に移動させ、レーザダイオード２から照射されたビームＢ１の像面上での照射位置を基準にして、レーザダイオード３，４から照射されたビームＢ２，Ｂ３の像面上での照射位置を調整し、レーザダイオード３，４のビーム照射位置を微調整する。このときのレーザダイオード３，４の移動量は僅かであり、ピント状態が崩れる心配はない。このように、ピント合わせの前にレーザダイオードのビーム照射位置を決めているにも関わらず、再び微調整する必要があるのは、複数ビームで同時に書き込む場合、ビーム間の相対位置が高精度でなければならないからである。
【００４５】
第１例の光源装置１によれば、中間ホルダ３３を移動させてレーザダイオード２から照射されるビームＢ１のピント合わせをしても、ビームＢ３の像面上でのピント状態や照射位置には殆ど影響を与えない。更に、中間ホルダ３２を移動させてレーザダイオード３から照射されるビームＢ２のピント合わせをしても、その中間ホルダ３２に固定されたビームスプリッタ５を通過するビームＢ１の像面上でのピント状態や照射位置には殆ど影響を与えない。従って、レーザダイオード４、レーザダイオード２、レーザダイオード３の順でピント合わせや照射位置を決めることにより、各レーザダイオード２〜４を独立して調整することができる。
【００４６】
（第２例の光源装置）
次に、第２例の光源装置１の構造について図面を参照しながら説明する。図３は、第２例の光源装置１の構成図である。なお、以下の説明でｘ方向とはビームスプリッタ６から出射される光軸Ｂに対して平行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交する方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をいう。更に、第２例の光源装置１において、第１例の光源装置１と同じ構成には同じ符号を付した。
【００４７】
以下に、第１例の光源装置１と第２例の光源装置１との相違点を中心に説明する。図１に示すように、第１例の光源装置１では、取り付け面３１ａ及び取り付け面３１ｃは、ベース台３１の上面に形成されていると共に、中間ホルダ３２，３３は、取り付け面３１ａに接触するように、ベース台３１の上側に取り付けられている。一方、図３に示すように、第２例の光源装置１では、取り付け面３１ａ及び取り付け面３１ｃは、ベース台３１の上面に形成されていると共に、中間ホルダ３２，３３は、取り付け面３１ａに接触するように、ベース台３１の下側に取り付けられている。第２例の光源装置１が以上のような構成を有するので、以下に示す理由により、制御基板４４，４５が中間ホルダ３２，３３よりも大きい場合であっても、中間ホルダ３２，３３の位置を容易に調整することができる。
【００４８】
第１例の光源装置１において、制御基板４４，４５が中間ホルダ３２，３３よりも大きい場合には、中間ホルダ３２，３３は、制御基板４４，４５の影に隠れてしまう。そのため、第１例の光源装置１では、レーザダイオード３，４のリード線や制御基板４４，４５に負荷をかけることなく、中間ホルダ３２，３３を移動させることが困難であった。
【００４９】
これに対して、第２例の光源装置１では、ベース台３１上に中間ホルダ３２，３３の一部がはみ出している。従って、これら中間ホルダ３２，３３の一部を持って移動させることにより、中間ホルダ３２，３３の位置を調整することができる。
【００５０】
（第３例の光源装置）
次に、第３例の光源装置１の構造について図面を参照しながら説明する。図４は、第３例の光源装置１の構成図である。なお、以下の説明でｘ方向とはビームスプリッタ６から出射される光軸Ｂに対して平行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交する方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をいう。更に、第３例の光源装置１において、第１例の光源装置１と同じ構成には同じ符号を付した。
【００５１】
以下に、第１例の光源装置１と第３例の光源装置１との相違点を中心に説明する。第１例の光源装置１では、図２に示すように、中間ホルダ３３は、中間ホルダ３２よりも長く形成されていた。これに対して、第２例の光源装置１では、図４に示すように、中間ホルダ３２と中間ホルダ３３とは、同じ長さに形成されている。その代わり、第２例の光源装置１では、光源ホルダ３６は、光源ホルダ３７よりも長く形成されている。これにより、中間ホルダ３２，３３を共通の部品で構成することが可能となる。
【００５２】
また、第１例の光源装置１では、鏡胴３８は、中間ホルダ３３上に取り付けられていたのに対して、第３例の光源装置１では、鏡胴３８は、ベース台３１上に取り付けられている。そのため、第３例の光源装置１では、中間ホルダ３３と鏡胴３８とを別々に移動させることができるので、レーザダイオード４、レーザダイオード２、レーザダイオード３の順でピント合わせや照射位置を必ずしも決める必要がない。第３例の光源装置１では、例えば、レーザダイオード２、レーザダイオード３、レーザダイオード４の順でピント合わせや照射位置を決めることができる。
【００５３】
（第４例の光源装置）
次に、第４例の光源装置１の構造について図面を参照しながら説明する。図５は、第４例の光源装置１の構成図である。なお、以下の説明でｘ方向とはビームスプリッタ６から出射される光軸Ｂに対して平行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交する方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をいう。更に、第４例の光源装置１において、第１例の光源装置１と同じ構成には同じ符号を付した。
【００５４】
以下に、第１例の光源装置１と第４例の光源装置１との相違点を中心に説明する。第１例の光源装置１では、図２に示すように、コリメータレンズ７は、１つだけ設けられていたが、第４例の光源装置１では、図５に示すように、３つのコリメータレンズ７ａ，７ｂ，７ｃが設けられている。以下に説明する。
【００５５】
第４の光源装置１は、図５に示すように、３つのコリメータレンズ７ａ，７ｂ，７ｃを備えている。コリメータレンズ７ａは、レーザダイオード２が照射したビームＢ１を集光し、レーザダイオード２とビームスプリッタ５との間に配置される。コリメータレンズ７ｂは、レーザダイオード３が照射したビームＢ２を集光し、レーザダイオード３とビームスプリッタ５との間であってかつ中間ホルダ３２内に配置される。コリメータレンズ７ｃは、レーザダイオード４が照射したビームＢ３を集光し、レーザダイオード４とビームスプリッタ６との間であってかつ中間ホルダ３３内に配置される。
【００５６】
コリメータレンズ７ａ，７ｂ，７ｃに共通の部品を用いた場合には、コリメータレンズ７ａ，７ｂ，７ｃの焦点距離も等しくなる。そこで、図５に示すように、コリメータレンズ７ａとレーザダイオード２との間の光路長、コリメータレンズ７ｂとレーザダイオード３との間の光路長、及び、コリメータレンズ７ｃとレーザダイオード４との間の光路長を、等しくしている。これにより、レーザダイオード２，３，４のピント合わせの作業を簡素化できる。
【００５７】
（第５例の光源装置）
次に、第５例の光源装置１の構造について図面を参照しながら説明する。図６は、第５例の光源装置１の構成図である。なお、以下の説明でｘ方向とはビームスプリッタ６から出射される光軸Ｂに対して平行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交する方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をいう。更に、第５例の光源装置１において、第１例の光源装置１と同じ構成には同じ符号を付した。
【００５８】
以下に、第１例の光源装置１と第５例の光源装置１との相違点を中心に説明する。第１例の光源装置１では、図２に示すように、取り付け面３１ａと取り付け面３１ｃとは、同一平面上に位置しているのに対して、第５例の光源装置１では、図６に示すように、取り付け面３１ａと取り付け面３１ｃとは、同一平面上に位置していない。より詳細には、ベクトルαとベクトルβとのなす角度は、９０度であり、かつ、取り付け面３１ａと取り付け面３１ｃとは、「コ」字状の断面形状を有するベース台３１の外周面側に位置している。以上のような構成を有する第５例の光源装置１においても、第１例の光源装置１と同様に、ベース台３１を安価に製造できるようになる。以下に説明する。
【００５９】
ベース台３１を製造する方法としては、ダイカスト方式が挙げられる。ダイカスト方式によりベース台３１を製造する場合には、図２に示すように、ベクトルαとベクトルβとが０度の角度をなしているか、又は、図５に示すように、ベクトルαとベクトルβとが９０度の角度をなしている場合に、精度良く取り付け面３１ａ，３１ｃを加工することができる。これは、ダイカスト方式の場合には、基準面と該基準面に対して９０度傾いた面に対しては、その他の角度の面よりも、比較的容易に金型の面を加工できるからである。
【００６０】
なお、第５例の光源装置１では、「コ」字状の断面形状を有するベース台３１の外周面側に、取り付け面３１ａ，３１ｃが形成されているが、取り付け面３１ａ，３１ｃは、ベース台３１の内周面側に形成されていてもよい。
【００６１】
（第６例の光源装置）
次に、第６例の光源装置１の構造について図面を参照しながら説明する。図７は、第６例の光源装置１の構成図である。なお、以下の説明でｘ方向とはビームスプリッタ６から出射される光軸Ｂに対して平行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交する方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をいう。更に、第６例の光源装置１において、第１例の光源装置１と同じ構成には同じ符号を付した。
【００６２】
以下に、第５例の光源装置１と第６例の光源装置１との相違点を中心に説明する。第５例の光源装置１では、図６に示すように、２箇所の取り付け面３１ｃが設けられ、ベース台３１が「コ」事情の断面形状を有している。一方、第６例の光源装置１では、図７（ａ）に示すように、取り付け面３１ｃが一つのみ設けられている。取り付け面３１ｃには、図７（ｂ）に示す取り付け面３１ｃの拡大図のように、丸孔と長孔とが設けられている。位置合わせピン４１ａは、丸孔に挿入される。これにより、ベース台３１は、ｙｚ平面内において位置決めされる。更に、位置合わせピン４１ｂは、長孔に挿入される。これにより、ｙｚ平面内において、位置合わせピン４１ａを中心としてベース台３１が回転することが規制される。
【００６３】
また、第１例の光源装置１ないし第４例の光源装置１では、ベクトルαとベクトルβとは０度の角度をなし、第５例の光源装置１及び第６例の光源装置１では、ベクトルαとベクトルβとは９０度の角度をなしている。しかしながら、ベクトルαとベクトルβとのなす角度がとりうる値は、これに限らない。ベクトルαとベクトルβとのなす角度は、０度以上９０度以下であればよい。これは、切削加工によりベース台３１を製造する場合には、ベクトルαとベクトルβとのなす角度が０度より大きく９０度より小さくても、取り付け面３１ａ，３１ｂを精度良く加工できるからである。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】光走査装置の概要を示した構成図である。
【図２】第１例の光源装置の構成図である。
【図３】第２例の光源装置の構成図である。
【図４】第３例の光源装置の構成図である。
【図５】第４例の光源装置の構成図である。
【図６】第５例の光源装置の構成図である。
【図７】第６例の光源装置の構成図である。
【図８】特許文献１に記載の光源装置の構成図である。
【符号の説明】
【００６５】
１  光源装置
２，３，４  レーザダイオード
５，６  ビームスプリッタ
７，７ａ，７ｂ，７ｃ  コリメータレンズ
３１  ベース台
３１ａ，３１ｂ，３１ｃ  取り付け面
３２，３３  中間ホルダ
３５，３６，３７  光源ホルダ
４２  ハウジング
Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３  ビーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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