(57)【要約】   【課題】  応答性能が速く、コントラストに優れ、単純な構造で安定性に優れるとともに、高解像度で高品質な画像を長期にわたり安定的に表示できる画像表示装置を提供する。  【解決手段】  少なくとも１対の透明電極層と、前記1対の透明電極層間に形成された光シャッター層と、光吸収層から構成される可逆性の画像を形成する装置であり、前記光シャッター層が電気光学効果を有する素子、もしくは高分子分散型液晶から形成されることを特徴とする画像表示装置。前記光吸収層が黒色であること、もしくは少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させていることを特徴とする前記記載の白黒表示用、もしくはフルカラー表示用の画像表示装置。  【選択図】  図１
2009014798.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1対の透明電極層と、前記1対の透明電極層間に形成された光シャッター層と、光吸収層から構成される可逆性の画像を形成する装置であり、前記光シャッター層が電気光学効果を有する素子から形成されることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
少なくとも1対の透明電極層と、前記1対の透明電極層間に形成された光シャッター層と、光吸収層から構成される可逆性の画像を形成する装置であり、前記光シャッター層が高分子分散型液晶から形成されることを特徴とする画像表示装置。
【請求項３】
前記光吸収層が黒色であることを特徴とする請求項1、２記載の白黒表示用の画像表示装置。
【請求項４】
前記光吸収層が少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させていることを特徴とする請求項1、２記載のフルカラー表示用の画像表示装置。
【請求項５】
前記電気光学効果を有する素子がニオブ酸リチウム、ＰＬＺＴのいずれかであることを特徴とする請求項１記載のフルカラー表示用の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像表示媒体に関する。特に画像表示、画像消去を高速で繰り返し行うことができる画像表示媒体に関する。        
【背景技術】
【０００２】
現在、画像表示装置としては、いわゆる、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）が主流となりつつある。従来のＣＲＴディスプレイと比べ省スペース化において圧倒的に有利なためである。ＦＰＤとしては液晶（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイが現行の主力であり、さらに、有機ＥＬ、ＦＥＤなどの新方式も積極的に開発されつつある。これらは、いずれも、自発光方式である。
【０００３】
一方、ペーパーライクディスプレイ、電子ペーパーと呼ばれる反射光を利用した（反射光方式）画像表示装置も開発されている。自発光方式と異なり紙上に印刷された画像に近い状態を再現できるため眼に優しく、また、発光させるための電力が不要なため省エネルギー化において有利である。さらに、比較的単純な構造のため低コストで製造できるといった利点がある。しかし、応答速度が遅く動画対応が出来なかったり、フルカラー画像を表示する場合カラーフィルターを必要とするためコントラストが低下すると言った欠点も指摘されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで本発明は、次の利点をすべて満足する画像表示装置を提供することを課題とする。
【０００５】
（１）眼に優しく、低消費電力が期待できる反射光方式の平板薄型の画像表示装置を提供する。
（２）応答速度が速く動画対応可能な画像表示装置を提供する。
（３）カラーフィルターを用いることなくフルカラー画像を表示可能とする。結果、コントラストの高い画像表示が期待できる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）少なくとも1対の透明電極層と、前記1対の透明電極層間に形成された光シャッター層と、光吸収層から構成される可逆性の画像を形成する装置であり、前記光シャッター層が電気光学効果を有する素子から形成されることを特徴とする画像表示装置。
（２）少なくとも1対の透明電極層と、前記1対の透明電極層間に形成された光シャッター層と、光吸収層から構成される可逆性の画像を形成する装置であり、前記光シャッター層が高分子分散型液晶から形成されることを特徴とする画像表示装置。
（３）前記光吸収層が黒色であることを特徴とする前記記載の白黒表示用の画像表示装置。
（４）前記光吸収層が少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させていることを特徴とする前記記載のフルカラー表示用の画像表示装置。
（５）前記電気光学効果を有する素子がニオブ酸リチウム、ＰＬＺＴのいずれかであることを特徴とする前記記載の画像表示装置。
【０００７】
本発明における色再現は、光シャッターによる透過率制御及び光吸収層により反射された可視光において達成されるため、課題（１）の反射光方式、平板薄型の画像表示装置を提供することができる。
【０００８】
また、光シャッターとして電気光学効果を有する素子、例えば、ニオブ酸リチウム単結晶、ＰＬＺＴセラミックスを用いた場合、電圧印加による透過率制御が高速で実現可能なため、応答速度が速く動画対応可能な画像表示装置を提供することができる。
さらに、光吸収層が少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させている場合、カラーフィルターを用いずとも、ドット・スクリーン方式によりフルカラー画像を表示可能である。カラーフィルターを用いないため、反射光方式において従来から懸念されているコントラストの低下のない、鮮明性の高い画像を提供することができる。光吸収層が黒色単色の場合、電圧印加時は白色、電圧非印加時は黒色の白黒表示が可能となる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、眼に優しく、低消費電力が期待できる反射光方式の平板薄型の画像表示装置であるにも関らず、応答速度が速く動画対応可能であり、カラーフィルターを用いることなくフルカラー画像を表示可能とするため、コントラストの高い画像表示を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下本発明の実施の形態について説明する。本発明の好ましい実施形態の画像表示装置は基本的に次の構成のものである。
【００１１】
1対の透明電極層（１、３）の間に形成された光シャッター層（２）と光吸収層(４)から構成され、上（可視方向）から１、２、３、４の順番に積層させる。（図1）
【００１２】
光シャッター層が電気光学効果を有する（ＥＯ）素子で形成される場合
【００１３】
カラー表示の場合、光吸収層が少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させる。透明電極の電圧印加部位はＥＯ素子の屈折率変化に伴い透過率が低下し、可視光が遮蔽、反射され白色表示となる。電圧が印加されない部位はＥＯ素子が透明なため可視光が光吸収層まで届き、その反射光によりカラー表示される。（図２）
【００１４】
白黒表示の場合、光吸収層を黒色単色で形成させる。画像表示の機構はカラー表示の場合と同様で、透明電極の電圧非印加部位は可視光が黒色単色の光吸収層まで届き、全光線が吸収され黒色が表示される。（図３）
【００１５】
光シャッター層が高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）で形成される場合
【００１６】
カラー表示の場合、光吸収層が少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させる。透明電極の電圧印加部位はＰＤＬＣの規則的な配列に伴い可視光が透過し光吸収層まで届き、その反射光によりカラー表示される。電圧が印加されない部位はＰＤＬＣの配列が不規則となり可視光は散乱、反射するため透明電極−光シャッター層は白濁し、白色表示される。（図４）
【００１７】
白黒表示の場合、光吸収層を黒色単色で形成させる。画像表示の機構はカラー表示の場合と同様で、透明電極の電圧印加部位はＰＤＬＣの規則的な配列に伴い可視光が透過し黒色単色の光吸収層まで届き、全光線が吸収され黒色が表示される。（図５）
【００１８】
光シャッター層
【００１９】
光シャッター層が電気光学効果を有する（ＥＯ）素子の場合（非特許文献１参照）
【００２０】
電気光学効果を有する代表的な素子としては、ニオブ酸リチウム単結晶、ＰＬＺＴセラミックスがある。
【００２１】
ニオブ酸リチウム単結晶は融点約１２５０℃、キュリー温度約１１５０℃の強誘電体結晶で、通常大気中もしくは酸素を含む雰囲気中で白金坩堝を用い、融液からチョクラルスキー法により育成されている。育成された単結晶は多分域状態であるので、結晶温度をキュリー温度以上に保ち電界印加徐冷法により、結晶の単一分域化処理が行われる。この後、結晶はウエハ状に加工され、たとえば表面弾性波素子用の基板として大量に用いられている。近年、ニオブ酸リチウム結晶は光学的品質に優れ、比較的安価で大口径の結晶が育成可能で、しかも低損失な光導波路が容易に形成可能なことから、非線形光学効果及び電気光学効果等を用いた各種光学素子の基板材料としてよく用いられている。
【００２２】
ＰＬＺＴの製造方法としては、酸化物混合法、ＰＶＤ（物理蒸着）法、ＣＶＤ（化学気相成長法）法、ゾルゲル法、ＭＯＤ法（有機金属熱分解法）、ＡＤ（Ａｅｒｏｓｏｌ  Ｄｅｐｏｓｉｔｏｎ）法などがある。
【００２３】
酸化物混合法は、Ｌａ２Ｏ３，ＰｂＯ，ＺｒＯ２，ＴｉＯ２を湿式で混合し、乾燥後に乾式でペレット成形した後、バインダー、溶剤を加えてシートを成形し、これらを１１００〜１２００℃で焼成するか、または成形体を３００〜５００Ｋｇ／ｃｍ２の圧力下で１１００〜１２００℃、５〜１０時間酸素中でホットプレスする方法がある。
【００２４】
ＰＶＤ法としては、スパッタ法、ＥＢ蒸着法、イオンプレーティング法など、ＣＶＤ法としては、例えばプラズマＣＶＤ法、ＭＯＣＶＤ（有機金属化学気相成長）法などを用いる方法が知られている。
【００２５】
ゾルゲル法は、まず、成分元素を含む金属アルコキシド混合溶液を加熱し、複合アルコキシド溶液を作成する。次に、この複合アルコキシド溶液に水を加えて、加水分解、縮重合を起こさせ、前駆体溶液をつくる。次に、この前駆体溶液を基板上に塗布してポリマーゲル状の膜を得る。塗布する手法としては、前駆体溶液中に基板を浸した後に一定速度で引き上げるディッピング法、あるいは溶液を基板上にディスペンサーを用いて塗布し、基板を回転させることによって均一な膜を得るスピンコート法がある。最後に、膜が塗布された基板を１００〜３００℃で加熱乾燥させ、その後、６００℃以上で焼成することにより、ＰＬＺＴ膜を得ることができる。
【００２６】
ＭＯＤ法は、ゾルゲル法とは異なる金属アルコキシド溶液であるＭＯＤ法用の溶液を用いる。まず、このＭＯＤ法用の溶液を基板上に塗布する。塗布する手法としては、ゾルゲル法と同様に、溶液中に基板を浸した後、一定速度で引き上げるディッピング法や溶液を基板上にディスペンサーを用いて塗布し、回転させることによって均一な膜を得るスピンコート法がある。そして、膜が塗布された基板を１００〜３００℃で加熱乾燥させ、その後、６００℃以上で焼成することにより、ＰＬＺＴ膜を得ることができる。
【００２７】
【非特許文献１】誘電体材料の応用展開−材料開発からナノデバイスへの応用まで−，東レリサーチセンター（２００６）
【００２８】
光シャッター層が高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）の場合
【００２９】
ＰＤＬＣは、電圧が印加されない状態では、空隙中の液晶の屈折率とポリマーの屈折率の差により界面で入射光が屈折し、膜全体では多数のドロプレットを通過することになり、散乱状態となる。また、電圧が印加されると、液晶は基板と垂直に配向し、長軸方向の屈折率とポリマーの屈折率を一致させることにより透明となる。これらの３次元ポリマーの構造は、液晶が分布する空隙が互いに独立に存在したものや、連続的に分布したものがある。このような高分子分散型液晶の製造方法としては、大きく分けて下記の３方法が提案されている。
【００３０】
第１に、液晶をランダムに配向させることができる多孔質ポリマーに液晶を含浸させる方法。第２に、溶媒中でポリマーと液晶を混合して乳化させた後、溶媒を蒸発させることにより、ポリマーを硬化させる方法。第３に、モノマーやオリゴマーまたはそれらの混合物と液晶を混合した重合性組成物を、熱又は紫外線の照射などの手段を用いて重合させる過程を通して、重合したポリマーと液晶を相分離させる方法。
【００３１】
以下、第１の多孔質ポリマーに液晶を含浸させる方法について説明する。
【００３２】
高分子分散型液晶表示素子に用いられる液晶含浸多孔質ポリマービーズを構成する単量体は、これを用いて得られるポリマービーズが上記屈折率の条件を満たし、使用する液晶に溶解しないものであれば、特に制限されるものではなく、例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、α−メチル−ｐ−ｔ−アミロキシスチレン、ｐ−ｔ−アミロキシスチレン等のスチレン系モノマー；アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ラウリル、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル系モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸系モノマー；ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル系モノマー；Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド等のＮ−アルキル置換（メタ）アクリルアミド；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル系モノマー；ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，４−ジビニロキシブタン等の多官能モノマーが挙げられ、これらの単量体は、上記条件を満たす範囲で単独又は２種以上混合して用いることができる。またその製造方法も通常の多孔質ポリマービーズの合成法、すなわち、単量体に重合不活性な疎水性有機溶剤、例えばトルエン、キシレン、ジエチルベンゼン、ｎ−ドデカン等を重合反応系に存在させ、懸濁重合、シード重合等、通常ポリマービーズの製造に用いられる方法により重合した後、液晶単独あるいは適当な溶媒で希釈した液晶中に浸漬し、引き上げて乾燥する事を数回繰り返し液晶を多孔質ポリマービーズに充填するか、あるいは減圧乾燥機中で多孔質ポリマービーズを液晶に浸漬する事により充填しても良い。また、単量体に直接液晶を溶解しこれを上記方法を用いて重合することもできる。しかし電圧の印加に対する液晶の応答性は、液晶の含浸している孔の径の大きさに大きく影響され、液晶ドメイン間の大きさに分布があると、各ドメイン間で応答性が異なり、結果としてコントラストが悪くなり、その為に駆動電圧を高くする必要がある。従って同一駆動電圧下でコントラストを上げるために、すなわち応答性を液晶ドメイン間で均一にするためには、孔径の大きさを単分散にする必要がある。多孔質ポリマービーズの孔径の大きさはそのポリマービーズの粒径に左右される。したがって多孔質ポリマービーズの粒径は１〜２００μｍであることが好ましい。またその粒径分布は単分散である事が好ましく、好適には粒径分布の標準偏差がその粒径の２０％以下、最適には１０％以下である事が好ましい。したがって、得られる多孔質ポリマービーズの粒径分布が��い場合には水簸法または風力法等により分級する事が好ましい。
【００３３】
また本発明において、液晶を充填する前の多孔質ポリマービーズの細孔容積は０．５〜５．０ｍｌ／ｇである事が好ましい。多孔質ポリマービーズの細孔容積が
０．５ｍｌ／ｇ未満であると液晶の含浸量が不十分となり、これを液晶表示素子に用いた場合コントラストが悪くなるため好ましくない。また、多孔質ポリマービーズの細孔容積が５．０ｍｌ／ｇを超えるとポリマービーズの強度が著しく低下し、液晶表示素子組立工程時にビーズの割れ等を生じるため好ましくない。
【００３４】
本発明において使用される液晶としてはネマチック液晶、スメクチック液晶等があり、これら液晶の単独あるいは混合物を用いても良いが、特に誘電率異方性が大きいネマチック液晶を使用することが、良好な特性を得るうえで好ましい。また、一般的に電界駆動型表示材料として使用されている種々の低分子液晶化合物を使用することもできる。このような低分子液晶化合物の具体的な例としては、ビフェニル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゼン系、アゾキシベンゼン系、アゾベンゼン系、ターフェニル系、ビフェニルベンゾエート系、シクロヘキシルビフェニル系、フェニルピリミジン系、シクロヘキシルピリミジン系等の各種低分子液晶化合物を挙げることができる。これらの低分子液晶化合物は、一般に使用されている低分子液晶材料と同様に、単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００３５】
次にこのようにして得られた液晶含浸多孔質ポリマービーズを、基盤間に挟持する。挟持方法としては、液晶含浸多孔質ポリマービーズを液晶に分散させて用いても良いが、適当な媒体を用いてフィルムとする事が特に好ましい。この媒体としては、上記屈折率の条件を満たせば特に制限されず、またフィルム形成の製造方法も単量体に液晶含浸多孔質ポリマービーズを分散させ、熱・光等により重合させる方法、あるいは媒体となるポリマーを適当な溶媒に溶解し、これに液晶含浸多孔質ポリマービーズを分散させた後溶媒を蒸発させる方法等、通常の方法により作製する事ができるが、特に製造工程の容易性から媒体として光硬化性樹脂を用いる事が好ましい。光硬化性樹脂は、プレポリマーとモノマー及び光開始剤、更に必要に応じて光増感剤を加えたものなどからなるが、その組成は上記屈折率の条件を満たせば特に制限されず、これらに用いられるものとしては、例えばプレポリマーとしてポリエステルアクリレート類、エポキシアクリレート類、ポリエステルウレタンアクリレート類、モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能モノマー；１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール(４００)
ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等の２官能性モノマー；トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリアリルイソシアヌレート等の３官能以上のモノマー、また光開始剤としてアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン（４，４'−ビスジメチルアミノベンゾフェノン）、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−ジメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート等が挙げられる。これらの光硬化性樹脂を用いた具体的な製造方法としては、液晶含浸多孔質ポリマービーズを光硬化性樹脂に分散させ、これを通常の液晶パネルに用いられているＩＴＯ（インジウム・チン・オキサイド）やＳｎＯ２等の蒸着膜を形成したガラス基盤あるいはプラスチックスフィルム基盤等の基盤上に塗布し、この上に別の基盤をかぶせ、光照射し樹脂を硬化する事により作製するか、あるいは通常の液晶パネルの製造方法と同様、あらかじめ２枚の基盤をシール剤と適当な大きさを有するスペーサーを用いて空のパネルを作製し、これに真空下で液晶含浸多孔質ポリマービーズを分散させた光硬化性樹脂を充填し、光反射し樹脂を硬化させても良い。
【００３６】
液晶含浸多孔質ポリマービーズを包含する光硬化性樹脂の量は、液晶含浸多孔質ポリマービーズ／光硬化性樹脂の重量比で５／９５〜７５／２５、好ましくは３０／７０〜７０／３０である。液晶含浸多孔質ポリマービーズを包含した光硬化性樹脂フィルムの厚さは１〜３００μｍ、特に１〜２００μｍが好ましい。この場合の基盤間の樹脂フィルムの厚さは、液晶含浸多孔質ポリマービーズでコントロールしても良いが、光硬化性樹脂に目的とする膜厚に相当する粒径を有する他の間隙保持剤を混入しても良い。
【００３７】
以下、ＰＤＬＣ素子の製造方法の一例を記す。（特許文献1参照）
【００３８】
（１）多孔質ポリマービーズの合成
【００３９】
スチレン５０部、エチレングリコールジメタクリレート５０部、過酸化ベンゾイル（ナイパーＢＷ、日本油脂（株）製）１部、酢酸イソアミル１５０部の混合溶液にポリビニルアルコール（ＧＨ−１７、日本合成化学工業（株）製；ケン化度８６．５〜８９ｍｏｌ％）の３％水溶液８００部を加え、攪拌しながら窒素気流下８０℃で１０時間重合を行なった。得られた架橋重合体微粒子について分級操作を施し、平均粒径５０μｍ
、標準偏差が４．５μｍ である架橋重合体微粒子を得た。この粒子の細孔容積を水銀圧入法で求めたところ、３．５ｍｌ／ｇであった。
【００４０】
（２）液晶の含浸処理
【００４１】
Ｌｏｇｉｃ社製液晶（ＳＴＮ−２０３)１００部と上記多孔質架橋ポリマービーズ１０部をそれぞれ減圧状態(０．１ｍｍＨｇ以下)
にて混合分散させ、常圧に戻す方法にて液晶を含浸させた。
【００４２】
（３）表示パネルの作製
【００４３】
以上の操作にて得られたポリマービーズを単離し、光硬化性樹脂であるフォトマー４０２８（芳香族系アクリレート樹脂、サンノプコ（株）製）１０部、光増感剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ  ６５１（チバガイギー製）０．３部と混合し充分に分散させた。この混合物をＩＴＯ電極付きガラス板（１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ１ｍｍ）上に供給し、ＩＴＯ電極付きガラス板を重ね合わせ、高圧ＵＶランプで硬化処理（ＵＶＬａｍｐ
１５０Ｗ／ｃｍ２、１５０ｓｅｃ  ）を行なった。得られた液晶表示パネル（セル厚５０μｍ)に交流電圧（ＡＣ１００Ｖ、２００Ｈｚ)を印加したところ、電圧の印加した部分は透明になるがそれ以外の部分は白濁状態となり、立ち上がり応答時間３０ｍｓで、コントラストも良好であることが確認できた。
【００４４】
【特許文献１】特許公報  第２９３４０７１号
【００４５】
透明電極層
【００４６】
図６にその模式図の一例を示す。この例では説明の都合上４×４のマトリックスを示す。各電極の数をｎ個とすることで、任意のｎ×ｎのマトリックスを構成することができる。
【００４７】
図６に示す例において、ほぼ平行に配置した表示電極（走査電極）1ａ〜１ｄと同じくほぼ平行に配置した対向電極（データ電極）3ａ〜３ｄとは、互いにほぼ直交した状態で、透明基板１上および対向する透明基板３上に設けられている。表示電極1ａ〜１ｄのそれぞれには、Ｘ電極ドライバ回路５を介してレンダリングバッファ（フレームバッファ）６が接続されている。同様に、対向電極3ａ〜３ｄのそれぞれには、Ｙ電極ドライバ回路７を介してレンダリングバッファ（フレームバッファ）８が接続されている。各ドライバ回路５、７は、図７に示すように、電圧発生回路９、電流／電圧変換回路１０、反転電流検出器１１、積分器１２、比較器１３を具備して成る。これらドライバ回路５、７は、電極間に印加する階調電圧の電圧値を調整する、単純な構造かつ安価な調整回路となる。
【００４８】
各電極ドライバ回路に接続されたレンダリングバッファ（フレームバッファ）６、８は、選択された電極の指示電圧を各電極ドライバ回路５、７に出力する機能を有しており、各電極ドライバ回路５、７は、入力された指示電圧に対応する電圧を当該電極に出力する機能を有している。これらＸ電極ドライバ回路５、Ｙ電極ドライバ回路７、レンダリングバッファ（フレームバッファ）６、８の全体がマトリックスドライブ回路を構成する。
【００４９】
上述した表示電極1ａ〜１ｄと対向電極３ａ〜３ｄとからなるマトリックス電極に対する駆動制御では、表示しようとする画像に応じて、図示しないシーケンサの制御によりＸ電極ドライバ回路５およびレンダリングバッファ（フレームバッファ）６、Ｙ電極ドライバ回路７およびレンダリングバッファ（フレームバッファ）８の動作を制御して、４×４個の画像表示素子を順に表示させる動作が実行される。この動作は、基本的には、従来から知られているものとほぼ同一の画像表示動作であり、マトリックス駆動方式と呼ばれている。マトリックス駆動方式としては、単純マトリックス、アクティブマトリックスが一般的に知られているが、本発明の画像表示装置にはいずれの方式も用いることが出来る。
【００５０】
階調表示（中間調の表示）は、本発明の画像表示装置においては、面積階調、濃度階調の両方の方式において再現できる。面積階調方式の場合は前記光シャッターを２値で制御（光シャッターのオンオフ制御）し、光吸収層のマトリックスパターンの各色の画素の表示数によって濃度制御を行う。濃度階調方式の場合は前記光シャッターの印加電圧を任意に変化させて光シャッターの透過率を多値で制御する。つまり、光吸収層のマトリックスパターンの各色の画素の反射率を変化させることで濃度制御を行う。
【００５１】
マトリックス電極を構成する各電極は、透明基板上（表示電極及び対向電極）に設けるため、透明かつパターン形成可能である導電材料で形成される。このような導電材料としては、アルミニウム、銀、ニッケル、銅、金等の金属やＩＴＯ、導電性酸化スズ、導電性酸化亜鉛等の透明導電金属酸化物をスパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、塗布法等で薄膜状に形成したもの、あるいは、導電剤を溶媒あるいは合成樹脂バインダーに混合して塗布したものが用いられる。
【００５２】
導電剤としては、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムパークロレート等のカチオン性高分子電解質、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩等のアニオン性高分子電解質や導電性の酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム微粉末等が用いられる。なお、電極の厚みは、導電性が確保でき光透過性に支障がなければどのような厚さでも良いが、３〜１０００ｎｍ、好ましくは５〜４００ｎｍが好適である。
【００５３】
以下、本発明の画像表示装置で用いる基板について述べる。基板は装置外側から光吸収層の色が確認できる透明基板であり、可視光の透過率が高くかつ耐熱性の良い材料が好適である。可撓性の有無は用途により適宜選択され、例えば、電子ペーパー等の用途には可撓性のある材料が好適であり、携帯電話、ＰＤＡ、ノートパソコン類の携帯機器の表示装置等の用途には可撓性のない材料が好適である。
【００５４】
基板の材料を例示すると、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、アクリル等のポリマーシートや、ガラス、石英等の無機シートが挙げられる。また、光シャッター層にＥＯ素子を用いる場合、ＥＯ素子の両面に直接マトリックスパターンを形成させることも出来る。つまり、ＥＯ素子も透明電極用基板に成りうる。基板の厚みは、１０〜１０００μｍが好ましく、特に２０〜５００μｍが好適である。厚みが薄すぎると、強度、基板間の間隔均一性を保ちにくくなり、厚みが厚すぎると、表示機能としての鮮明さ、コントラストの低下が発生し、特に、電子ペーパー用途の場合にはフレキシビリティー性に欠ける。
【００５５】
代表的な透明電極層としては、ＩＴＯ透明電極が一般的に知られている。ＩＴＯ透明電極は例えば、特許文献２、３、４記載の方法で得ることが出来る。本発明に用いるＩＴＯ透明電極の製造方法の一例を以下に記す。
【００５６】
ＩＴＯ透明電極の製造方法例
【００５７】
シリカコート（厚み１０００Å）されたソーダガラス基板にＩＴＯ膜をＩＴＯターゲットを使用して、マグネトロン方式の高周波スパッタリング装置で成膜を行なった。この時の成膜雰囲気は、５×１０−３Ｔｏｒｒのアルゴンガスであった。また基板加熱は行なわれなかったが、成膜時の基板温度は８０℃であった。ＩＴＯ膜の膜厚は２，０００Åであった。次に、石英ガラスを基材としたクロムマスクを用いて、ＩＴＯ膜に密着させてレーザー光を照射した。この時使用したレーザー光は、ＸｅＣｌエキシマレーザーであり、照射したレーザー光のエネルギーは３０ｍＪ／ｃｍ２であった。レーザー照射した基板を３体積％の塩酸水溶液に浸漬して化学エッチングを行なったところ、レーザー照射部のみを残してＩＴＯ膜を溶解除去でき、透明電極基板を完成した。
【００５８】
【特許文献２】特公平６−３０２０５
【００５９】
【特許文献３】特公平６−６４９４７
【００６０】
【特許文献４】特公平７−３１９５１
【００６１】
光吸収層
【００６２】
光吸収層とは、本発明の画像表示装置において白色以外のすべての色を表示するための基板である。白黒表示の場合は全面黒色の単色層から形成される。フルカラー表示の場合は少なくともシアン（Ｃ）、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）をライン状またはモザイク状に規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させる。（図８、９）
【００６３】
フルカラー表示用光吸収層のマトリックスパターンは前記透明電極層の表示電極と対向電極によって構成されるマトリックスパターンと同様の格子状の形態をとり、前記光吸収層の各ドット（一色のマス目）は前記1ドット当たりの光シャッター部位（表示電極1ラインと対向電極1ラインが交差して形成する1つの四辺形体）の真下に同一サイズか若干大きめのサイズにて構成される。若干大きめとは、表示及び対向電極の1ライン間のクリアランスを考慮している。このクリアランスの真下に当たる光吸収層部分にホワイトマトリックス層あるいは、ブラックマトリックス層を形成してもよい。
【００６４】
フルカラー表示用光吸収層の各ドット（一色のマス目）の大きさは、５μｍ(５０００ｄｐｉ)〜１００μｍ（２５０ｄｐｉ）が好ましく、特に１０μｍ(２４００ｄｐｉ)〜４０μｍ(６００ｄｐｉ)が好適である。５μｍより小さいと透明電極層及び光吸収層（フルカラー表示用）の加工精度が難しく、１００μｍより大きいと画素が粗くなり精細性が劣位となる。前記光吸収層の各ドットの形状は、前記透明電極層の各ドットと同様になるため、四辺形、特に正方形の構成をとる。
【００６５】
光吸収層は色材組成物を基板の上に塗布することで作製できる。また、予め作製したカラープレートを基板に貼り付けることでも作製できる。光吸収層に用いる基板は、色材組成物を塗布できるもの、あるいは、カラープレートを貼り付けることができるものであれば特に限定は無いが、ＳＵＳ、アルミ板などの金属プレート、各種プラスチックシート及びフィルム、ガラスなどが好ましく用いられる。光吸収層は全光線（可視光）から目的とする波長領域の光線を吸収し、色の三原色（シアン、イエロー、マゼンタ）を反射により発色させるため、透過性の基板は好ましくない。従って、反射率の比較的高い白色もしくは鏡面性の基板が好適である。なお、透明性の基板を用いる場合、色材組成物層を厚めに塗布することで可視光の透過を防ぎ、反射率を高め、発色性を高めることも出来る。白黒表示用光吸収層（黒色単色）については、表面塗布ではなく、基板の素材（プラスチック及びガラスなど）と黒色色材とを溶融法などで分散混合させて黒色の成型物としてもよい。カラープレートに用いる支持体（ベースプレート）は液晶用カラーフィルターに用いられている素材と同様のものを使用することができる。
【００６６】
光吸収層（カラー基板あるいはカラープレート）の製造方法は液晶用カラーフィルターの製造方法と同様の方法で作製することが出来る。具体的には、染色法、顔料分散法および印刷法などを用いることが出来る。（非特許文献２、３参照）
【００６７】
まず、染色法について以下に説明する。最初に、天然高分子材料のゼラチン、グリュウ、カゼイン、あるいは、合成高分子材料のＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）、アクリルなどをベースとした感光性の材料を基板あるいはフィルム上に塗布・乾燥する。つぎに、フォトマスクを用いて紫外線で露光、現像すること(フォトリソグラフィー法)によりパターン化する。
【００６８】
次に、基板あるいはプレートを染色液に浸漬させることによって、パターン化によって形成された可染領域に染料が吸着・拡散し、色を呈する。以上の工程を繰り返すことによりＫ，Ｃ，Ｍ，Ｙを順に構成することによって、フルカラー表示用光吸収層（カラー基板あるいはプレート）を製造する。
【００６９】
顔料分散法は、あらかじめ顔料により調色された感光性のレジストを用いる。この種のレジストのべースポリマーとしては、重合型のアクリル樹脂と架橋型のＰＶＡが挙げられる。このレジストを基板あるいはプレート上に塗布し、染色法と同様に、フォトリソグラフィー法によりパターン化する。以上の工程を繰り返すことによりＫ，Ｃ，Ｍ，Ｙを構成し、フルカラー表示用光吸収層（カラー基板あるいはプレート）を製造する。
【００７０】
印刷法は、種々の方式があるが、いずれも基板あるいはプレート上に粘度の高いインクをオフセット印刷する工程をＫ，Ｃ，Ｍ，Ｙの色毎に繰り返すだけであり、比較的製造工程は簡単である。上記方法以外に、インクジェット方式、電子写真方式を用いることもできる。  
【００７１】
着色剤としては、以下に示すような、有機又は無機の各種、各色の顔料、染料が使用可能である。
【００７２】
黒色顔料としては、カーボンブラック、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、活性炭などがある。
【００７３】
黄色顔料としては、黄鉛、亜鉛黄、カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、ミネラルフアストイエロー、ニッケルチタンエロー、ネーブルスエロー、ナフトールエローＳ、バンザーイエローＧ、バンザーイエロー１０Ｇ、ベンジジンエローＧ、ベンジジンエローＧＲ、キノリンエローレーキ、パーマネントエローＮＣＧ、タートラジンレーキなどがある。
【００７４】
橙色顔料としては、赤色黄鉛、モリブデンオレンジ、パーマネントオレンジＧＴＲ、ピラゾロンオレンジ、バルカンオレンジ、インダスレンブリリアントオレンジＲＫ、ベンジジンオレンジＧ、インダスレンブリリアントオレンジＧＫなどがある。
【００７５】
赤色顔料としては、ベンガラ、カドミウムレッド、鉛丹、硫化水銀、カドミウム、パーマネントレッド４Ｒ、リソールレッド、ピラゾロンレッド、ウォッチングレツド、カルシウム塩、レーキレッドＤ、ブリリアントカーミン６Ｂ、エオシンレーキ、ローダミンレーキＢ、アリザリンレーキ、ブリリアントカーミン３Ｂなどがある。
【００７６】
紫色顔料としては、マンガン紫、フアストバイオレットＢ、メチルバイオレットレーキなどがある。
【００７７】
青色顔料としては、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルー部分塩素化物、ファーストスカイブルー、インダスレンブルーＢＣなどがある。
【００７８】
緑色教科としては、クロムグリーン、酸化クロム、ピグメントグリーンＢ、マラカイトグリーンレーキ、ファイナルイエローグリーンＧなどがある。
【００７９】
また塩基性、酸性、分散、直接染料などの各種染料として、ニグロシン、メチレンブルー、ローズベンガル、キノリンイエロー、ウルトラマリンブルーなどがある。
【００８０】
これらの着色剤は、単独で或いは複数組合せて用いることができる。特に黒色着色剤としてカーボンブラックが好ましい。
【００８１】
フォトリソグラフィー用の感光性樹脂組成物を調製するには、樹脂成分としては、透明な、好ましくは、可視光透過率が５０％以上である、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂（実際には、電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂であって、後者であることが多い。）を使用することができ、フォトレジスト用として市販されているものを使用することもできる。このような樹脂成分中に着色剤を５〜５０％含有されるように配合し、塗布用の感光性樹脂組成物を調製する。
【００８２】
感光性ではない通常の塗料組成物等の組成物を調製するには、樹脂成分としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の透明樹脂が使用される。これらの樹脂は、溶剤、および必要に応じて希釈剤と共に用いられ、上記と同様に着色剤を５〜５０％含有されるように、配合し、塗布用の（非感光性の）樹脂組成物を調製する。
【００８３】
上記の感光性もしくは非感光性の組成物は、公知の塗布方法、例えば、スピンナーコーティングのような回転塗布方法や、ロールコーティング、かけ流し、スプレー塗装、もしくはシルクスクリーン印刷等の適宜な方法により、対象面に適用することができる。
【００８４】
本発明に用いるカラープレートの顔料分散法による製造方法の一例を以下に記す。
【００８５】
顔料分散法によるカラープレートの製造方法例
【００８６】
図１０ａ)に示したように、ナトリウムイオン溶出防止のためのＳｉＯ２膜を形成したソーダガラス基板９０上に、下記の遮光用の感光性組成物９１を約１μｍ厚に塗着した。
感光性組成物９１
バインダー：ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体          ６０ｇ
（モル比７０／３０、重量平均分子量２０，０００）
モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート                     
４０ｇ
光重合開始剤：２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチアゾリン  ５ｇ
カーボンブラック：Ｂｌａｃｋ  Ｐｅａｒｌｓ  Ｌ（キャボット社製）     
２０ｇ
溶剤：セロソルブ  アセテート                                        ６００ｇ
【００８７】
上記感光性組成物９１をウルトラターラックス（ＩＫＡ社製）で３０分混合、分散させた後更にアイガーモーターミル（アイガージャパン社製）で６０ＨＺ、３０分混合、分散し均一混合分散液を得た。
【００８８】
この分散液をスピンコーターにより塗着後８０℃で１０分程度乾燥した。次に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）膜９２を感光層９１上に形成した。これは感光層９１の露光の際に酸素を遮断するためのものである。ＰＶＡ膜９２に用いるＰＶＡはケン化度８２％、重合度約５００の５％水溶液であり、スピンコーターにより塗着後８０℃で１０分程度乾燥した。
【００８９】
次いで図１０ｂ）に示すように形成すべき光吸収層９４の格子状パターンに対応するネガマスク９３をＰＶＡ膜９２上に配して２Ｋｗのメタルハイドランプにて１分間程度露光した。
【００９０】
露光後直ちに７０℃で５分加熱した。これにより現像の際の水洗時にパターンが流出する恐れがなくなる。なお、このような露光後の加熱工程に替えて加熱しながら露光しても同じ効果を奏するし、更に露光時間を５分間と長くした場合も同じ効果を奏する。最後に炭酸ナトリウムの１％水溶液を用いて感光層９１を現像した。露光された部分が不溶となっているので、この部分が残って格子状の光吸収層９４が形成された。（図１０ｃ））
【００９１】
次に、図１０ｄ）に示すように該表面に下記の組成からなる感光性組成物９５をスピンコーターにより約１μｍ厚に塗布した。
感光性組成物９５
バインダー：ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体          ６０ｇ
〔モル比７０／３０、重量平均分子量２０，０００〕
モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート                     
４０ｇ
光重合開始剤：２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチアゾリン  ５ｇ
シアン顔料：ＫＥＴ  ＢＬＵＥ  １１１（ 大日本インキ化学工業社製）     ２０ｇ
溶剤：セロソルブ  アセテート                                       ６００ｇ
【００９２】
上記感光性組成物９５を組成物９１と同様の方法にて均一混合分散液を得た。この分散液をスピンコーターにより塗着後８０℃で１０分程度乾燥した。次にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の５％水溶液を該感光層表面に塗布し再度８０℃、１０分乾燥した。ネガマスク９３を通して、透明基板の裏面から２Ｋｗメタルハライドランプにて１分間露光し、直ちに７０℃５分加熱した後、炭酸ナトリウム１％水溶液で現像した。図１０ｅ)。パターンを露光後、加熱なしで現像したサンプルは、その後の水洗で、パターンのほとんどが流出したが、露光量を５倍の５分にアップしたものは、加熱なしでもパターンを形成した。
【００９３】
次に該感光層の顔料をＦＵＪＩ  ＣＡＲＭＩＮＥ  ６Ｂ  Ｎｏ．２７（マゼンタ：富士色素社製）２０gに変えたものを同様に調整、塗布し、感光性組成物９１の方法と同様にしてパターンを形成した。さらに顔料をＦａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ７４１１−Ａ（イエロー：山陽色素社製）２０gに変えたものを同様に調整、塗布し、上記の方法と同様にして裏面から露光してパターンを形成した。（図１０ｆ)）
【００９４】
続いて２００℃で１０分加熱し、冷却後ポリビニルアルコール製の保護膜９７を塗布し、乾燥後３００℃で３０分間加熱し、保護膜を形成しカラープレートを製造した。（図１０ｇ)
【００９５】
【非特許文献２】電子ペーパーとフレキシブルＦＰＤ−ハードコピーの表示性能に近づく電子ペーパー表示技術と新材料開発−，東レリサーチセンター（２００３）
【００９６】
【非特許文献３】フラットパネルディスプレイの最新動向，東レリサーチセンター（２００４）
【実施例】
【００９７】
実施例１
【００９８】
光シャッター層（２）
チョクラルスキー法によって作製された強誘電体であるＦｅを１％ドープしたニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）単結晶を分極方向が厚み方向になるように０．５ｍｍの厚みで切り出し、光学研磨処理を両面に施した。
【００９９】
透明電極層（１、３）
前記記載の方法にて1ラインの幅４０μm、ライン間隔４０μmのＩＴＯ透明電極を２枚作製した。
【０１００】
光吸収層（４）
前記記載の方法にて前記ＩＴＯ透明電極と同一のマトリックスパターン（1ラインの幅４０μm、ライン間隔４０μm）のカラープレートを作製し、白色ＰＥＴシートと貼り合わせ、フルカラー表示用光吸収層を作製した。（図１１）
【０１０１】
前記光シャッター層（２）の上下面に前記透明電極層（１、３）を直交するように貼り合わせ、さらに、前記光吸収層（４）を(３）の電極層裏面と貼り合わせることでフルカラー用画像表示装置を作製した。（図１２）
【０１０２】
貼り合わせは絶縁性エポキシ系接着剤（例えば、スリーボンド２２０２Ｆ）を使用し、各層の四辺端部（画像表示領域外）に接着剤を塗布し、接着部をクリップなどで固定し、オーブンで所定温度及び時間（例えば、１２０℃×６０分）熱硬化させた。
【０１０３】
得られた画像表示装置に交流電圧（ＡＣ１００Ｖ、２００Ｈｚ）を印加したところ、電圧の印加した部分は白濁状態になるがそれ以外の部分はカラー表示となり、立ち上がり応答時間１０ｍｓでコントラストも良好であることが確認できた。
【０１０４】
実施例２
光シャッター層に酸化物混合−ホットプレス法によって作製された強誘電体であるＰＬＺＴセラミックスを用いる以外は実施例1と同様に実施した。得られた画像表示装置に交流電圧（ＡＣ１００Ｖ、２００Ｈｚ)を印加したところ、電圧の印加した部分は白濁状態になるがそれ以外の部分はカラー表示となり、立ち上がり応答時間１０ｍｓでコントラストも良好であることが確認できた。
【０１０５】
実施例３
光シャッター層及び透明電極層に前記多孔質ポリマーに液晶を含浸させる方法にて作製された高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）及びＩＴＯ電極を具備した表示パネルを用いた。光吸収層を貼り合わせ画像表示装置を作製する方法は実施例1と同様に実施した。得られた画像表示装置に交流電圧（ＡＣ１００Ｖ、２００Ｈｚ)を印加したところ、電圧の印加した部分はカラー表示になるがそれ以外の部分は白濁状態となり、立ち上がり応答時間３０ｍｓで、コントラストも良好であることが確認できた。
【０１０６】
実施例４
光吸収層にカーボンブラックのみで着色された黒色プレートを用いる以外は実施例1と同様に実施した。得られた画像表示装置に交流電圧（ＡＣ１００Ｖ、２００Ｈｚ)を印加したところ、電圧の印加した部分は白濁状態になるがそれ以外の部分は黒表示となり、立ち上がり応答時間１０ｍｓでコントラストも良好であることが確認できた。
【０１０７】
実施例５
光吸収層にカーボンブラックのみで着色された黒色プレートを用いる以外は実施例3と同様に実施した。得られた画像表示装置に交流電圧（ＡＣ１００Ｖ、２００Ｈｚ)を印加したところ、電圧の印加した部分は黒表示になるがそれ以外の部分は白濁状態となり、立ち上がり応答時間３０ｍｓで、コントラストも良好であることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明の画像表示装置は、ノートパソコン、ＰＤＡ、携帯電話等のモバイル機器の画像表示部、電子ブック、電子新聞等の電子ペーパー、看板、ポスター、黒板等の掲示板、電卓、家電製品、自動車用品等の画像表示部等に好適に用いることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本発明の画像表示装置の基本構成の模式図
【図２】本発明の画像表示装置に用いる光シャッター層がＥＯ（電気光学効果を有する）素子の場合のフルカラー表示原理を説明した模式図。（電圧印加部位）透明電極により電圧が印加された部位は屈折率変化に伴い透過率が低下。可視光が遮蔽、反射し白色表示される。（電圧非印加部位）透明電極、光シャッター層は透明なため、可視光が光吸収層まで届き、その反射光によりカラー表示される。
【図３】本発明の画像表示装置に用いる光シャッター層がＥＯ（電気光学効果を有する）素子の場合の白黒表示原理を説明した模式図。（電圧印加部位）透明電極により電圧が印加された部位は屈折率変化に伴い透過率が低下。可視光が遮光、反射し白色表示される。（電圧非印加部位）透明電極、光シャッター層は透明なため、可視光が光吸収層まで届き、全吸収され黒表示される。
【図４】本発明の画像表示装置に用いる光シャッター層がＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）の場合のフルカラー表示原理を説明した模式図。（電圧印加部位）ＰＤＬＣは規則的に配列し透明電極、光シャッター層は透明なため、可視光は光吸収層まで届きその反射光により、カラー表示される。（電圧非印加部位）ＰＤＬＣは不規則に配列し透明電極、光シャッター層は散乱、反射により白濁。白色表示される。
【図５】本発明の画像表示装置に用いる光シャッター層がＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）の場合の白黒表示原理を説明した模式図。（電圧印加部位）ＰＤＬＣは規則的に配列し透明電極、光シャッター層は透明なため、可視光は光吸収層まで届き全吸収され、黒表示される。（電圧非印加部位）ＰＤＬＣは不規則に配列し透明電極、光シャッター層は散乱、反射により白濁。白色表示される。
【図６】本発明の画像表示装置に用いる透明電極及びその駆動原理を説明した模式図
【図７】本発明の画像表示装置に用いる透明電極ドライバ回路を説明した模式図
【図８】本発明の画像表示装置に用いるフルカラー表示用光吸収層のマトリックスパターンの一例
【図９】本発明の画像表示装置に用いるフルカラー表示用光吸収層のマトリックスパターンの一例
【図１０】本発明の画像表示装置に用いるフルカラー表示用光吸収層において、顔料分散法によるカラープレートの製造方法の一例
【図１１】本発明の画像表示装置に用いるフルカラー表示用光吸収層の模式図
【図１２】本発明のフルカラー用画像表示装置の模式図
【符号の説明】
【０１１０】
図１〜５における符号の説明
１：透明電極層（表示電極）    
２：光シャッター層      
３：透明電極層（対向電極）
４：光吸収層
図６、７における符号の説明
１ａ〜１ｄ：透明電極（表示電極）
３ａ〜３ｄ：透明電極（対向電極）
５：Ｘ電極ドライバ回路
６：レタリングバッファ（フレームバッファ）
７：Ｙ電極ドライバ回路
８：レタリングバッファ（フレームバッファ）
９：電圧発生回路
１０：電流/電圧変換回路
１１：反転電流検出器
１２：積分器
１３：比較器
図８、９における符号の説明
Ｋ  ブラック
Ｙ  イエロー
Ｍ  マゼンタ
Ｃ  シアン
図１０における符号の説明
９０：ソーダガラス基板
９１：感光層（ブラック）
９２：ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）膜
９３：ネガマスク
９４：光吸収層（ブラック）
９５：感光層（シアン）
９６：光吸収層（シアン）
９７：保護膜
図１１における符号の説明
１０１：カラープレート
１０２：白色ＰＥＴシート
図１２における符号の説明
１：透明電極層（表示電極）    
２：光シャッター層      
３：透明電極層（対向電極）
４：光吸収層
１１１：絶縁性接着層
１１２：ＩＴＯ電極
【図１】
2009014798.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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