(57)【要約】【課題】すべり性が良好で且つ良好な光学的特性を有する積層体を製造しうる、積層体の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】支持体及びその表面に形成された光学樹脂層を有する積層体の製造方法であって、前記支持体を連続的に送り出す工程（I）、送り出された前記支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布して、前記組成物の塗膜を設ける工程（II）、前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する工程（III）、前記第１の紫外線が照射された塗膜を加熱する工程（IV）、及び前記加熱工程の後に前記支持体の裏面に凹凸を設ける工程（V）を含むことを特徴とする積層体の製造方法；ならびに当該方法を行なう装置。【選択図】      図１
2009240994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体及びその表面に形成された光学樹脂層を有する積層体の製造方法であって、
前記支持体を連続的に送り出す工程（I）、
送り出された前記支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布して、前記組成物の塗膜を設ける工程（II）、
前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する工程（III）、
前記第１の紫外線が照射された塗膜を加熱する工程（IV）、及び
前記加熱工程の後に前記支持体の裏面に凹凸を設ける工程（V）
を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項２】
前記工程(II)の後に、前記工程(III)及び前記工程(IV)の組み合わせを２回以上行なう請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記工程（IV）の後に、
加熱された前記塗膜に対して、第２の紫外線を照射して前記塗膜を硬化させる工程（VI）
をさらに含む請求項１又は２に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記工程（VI）を、前記工程（V）の前に行なう請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
前記工程（VI）を、前記工程（V）の後に行なう請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
支持体及びその表面に設けられた光学樹脂層を有する積層体を製造する積層体製造装置であって、
前記支持体を連続的に送り出す繰り出し装置(i)と、
前記繰り出し装置(i)から送り出された支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布し、前記組成物の塗膜を設ける塗工ヘッド(ii)と、
前記塗工ヘッド(ii)により前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する選択紫外線照射装置(iii)と、
前記選択紫外線照射装置(iii)により第１の紫外線が照射された前記塗膜を加熱する加熱手段(iv)と、
前記加熱手段(iv)の下流に設けられた、前記支持体の裏面に凹凸を設けるエンボス装置(v)と
を備えることを特徴とする積層体製造装置。
【請求項７】
前記塗工ヘッド(ii)の下流に、前記選択紫外線照射装置(iii)及び前記加熱手段(iv)の組み合わせを２組以上有する請求項６に記載の積層体製造装置。
【請求項８】
前記加熱手段(iv)の下流に設けられた、
前記加熱手段(iv)により加熱された前記塗膜に対して、第２の紫外線を照射して前記塗膜を硬化させる硬化紫外線照射装置(vi)
をさらに備える請求項７に記載の積層体製造装置。
【請求項９】
前記硬化紫外線照射装置(vi)が、前記エンボス装置(v)の上流に設けられる請求項８に記載の積層体製造装置。
【請求項１０】
前記硬化紫外線照射装置(vi)が、前記エンボス装置(v)の下流に設けられる請求項８に記載の積層体製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体の製造方法及び製造装置に関し、特に各種光学フィルム等の製造に使用される積層体の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルムなどの各種の積層フィルム製品の製造において、支持体となるフィルムを製造ライン中に連続的に供給し、これに樹脂溶液などの液体を塗工ヘッド等の手段により塗布し、乾燥させ、硬化させることにより硬化塗膜を形成することは一般的に行われており、そのような工程を行うための積層体製造装置も広く知られている。
【０００３】
そのような態様で製造される光学フィルムの一例として、輝度向上フィルム及び視野角拡大フィルムがある。これらのフィルムは、例えば、コレステリック液晶相などの状態に配向しうる単量体を支持体の表面に塗布し、この単量体を配向させた状態で紫外線等の照射により重合させ、配向状態を固定させたポリマー塗膜層（コレステリック液晶層）を形成することにより製造されている。
【０００４】
しかしながら、そのような方法により一層だけのコレステリック液晶層が形成された積層フィルムでは、選択反射の波長域が５０ｎｍ程度と狭くなる場合が多いため、可視光全域において反射することができず、そのままでは輝度向上フィルム等として用いるには不十分である。そこで、選択反射帯域を広げるための手段として、特許文献１には、コレステリック液晶層を硬化させるための紫外線照射に先立ち、微弱な紫外線を照射し、層を加熱するという工程により選択反射帯域を広げることが提案されている。
【０００５】
ところで、光学フィルムは、その製造工程における都合から、ロール状態の中間製品とすることが多いが、ハンドリング性、保存性の向上の観点から、中間製品はすべり性を有していることが好ましい。かかるすべり性を付与するためには、前記支持体フィルムとして、塗膜を形成しない側の面にエンボス加工を施されたものを用いることが一般的に行なわれている。ところが、特許文献１のように照射量を制御した紫外線を照射するにあたり、支持体がそのようなエンボス加工を施したものであると、照射量が不均一となり、その結果光学的な特性が不良になるという問題点がある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−０７５６８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、すべり性が良好で且つ良好な光学的特性を有する積層体を製造しうる、積層体の製造方法及び製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、下記〔１〕〜〔１０〕が提供される：
〔１〕  支持体及びその表面に形成された光学樹脂層を有する積層体の製造方法であって、前記支持体を連続的に送り出す工程（I）、送り出された前記支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布して、前記組成物の塗膜を設ける工程（II）、前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する工程（III）、前記第１の紫外線が照射された塗膜を加熱する工程（IV）、及び前記加熱工程の後に前記支持体の裏面に凹凸を設ける工程（V）を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
〔２〕  前記工程(II)の後に、前記工程(III)及び前記工程(IV)の組み合わせを２回以上行なう前記積層体の製造方法。
〔３〕  前記工程（IV）の後に、加熱された前記塗膜に対して、第２の紫外線を照射して前記塗膜を硬化させる工程（VI）をさらに含む前記積層体の製造方法。
〔４〕  前記工程（VI）を、前記工程（V）の前に行なう前記積層体の製造方法。
〔５〕  前記工程（VI）を、前記工程（V）の後に行なう前記積層体の製造方法。
〔６〕  支持体及びその表面に設けられた光学樹脂層を有する積層体を製造する積層体製造装置であって、前記支持体を連続的に送り出す繰り出し装置(i)と、前記繰り出し装置(i)から送り出された支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布し、前記組成物の塗膜を設ける塗工ヘッド(ii)と、前記塗工ヘッド(ii)により前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する選択紫外線照射装置(iii)と、前記選択紫外線照射装置(iii)により第１の紫外線が照射された前記塗膜を加熱する加熱手段(iv)と、前記加熱手段(iv)の下流に設けられた、前記支持体の裏面に凹凸を設けるエンボス装置(v)とを備えることを特徴とする積層体製造装置。
〔７〕  前記塗工ヘッド(ii)の下流に、前記選択紫外線照射装置(iii)及び前記加熱手段(iv)の組み合わせを２組以上有する前記積層体製造装置。
〔８〕  前記加熱手段(iv)の下流に設けられた、前記加熱手段(iv)により加熱された前記塗膜に対して、第２の紫外線を照射して前記塗膜を硬化させる硬化紫外線照射装置(vi)をさらに備える前記積層体製造装置。
〔９〕  前記硬化紫外線照射装置(vi)が、前記エンボス装置(v)の上流に設けられる前記積層体製造装置。
〔１０〕  前記硬化紫外線照射装置(vi)が、前記エンボス装置(v)の下流に設けられる前記積層体製造装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の積層体製造装置及び本発明の積層体の製造方法によれば、すべり性が良好で且つ良好な光学的特性を有する積層体を、効率的に製造しうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
１．積層体製造装置
本発明の積層体製造装置は、支持体及びその表面に設けられた光学樹脂層を有する積層体を製造する積層体製造装置であって、前記支持体を連続的に送り出す繰り出し装置(i)と、前記繰り出し装置(i)から送り出された支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布し、前記組成物の塗膜を設ける塗工ヘッド(ii)と、前記塗工ヘッド(ii)により前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する選択紫外線照射装置(iii)と、前記選択紫外線照射装置(iii)により第１の紫外線が照射された前記塗膜を加熱する加熱手段(iv)と、前記加熱手段(iv)の下流に設けられた、前記支持体の裏面に凹凸を設けるエンボス装置(v)とを必須の構成要件として備える。
【００１１】
前記繰り出し装置(i)、塗工ヘッド(ii)、及び硬化紫外線照射装置(iv)としては、特に限定されず公知のもの等を用いることができる。
【００１２】
本発明の積層体製造装置は、必要に応じて、上記構成に加え、前記繰り出し装置(i)と前記塗工ヘッド(ii)との間に、塗膜形成用組成物中の分子を配向させる性質を前記支持体に与える手段を備えうる。塗膜形成用組成物中の分子とは、具体的には例えば、後述する、コレステリック液晶相などの液晶性を示し得る単量体をいう。このような性質を前記支持体に与える手段としては、具体的には例えば、ラビングロールなどのラビングを行う手段を用いることができる。さらにラビング手段は、前記支持体に配向膜をインラインで塗布・乾燥して設け、その配向膜をラビング処理するよう構成してもよい。また、支持体に既に配向膜が設けられている場合において、その配向膜をラビング処理するよう構成してもよい。
【００１３】
本発明の積層体製造装置は、必要に応じて、支持体の搬送ラインにおいて前記塗工ヘッド(ii)より下流で前記選択紫外線照射装置(iii)より上流に、塗膜を乾燥させるためのドライヤー等の任意の構成要素を備えることができる。
【００１４】
本発明の積層体製造装置において、前記選択紫外線照射装置(iii)は、支持体の、塗膜が形成された面側から紫外線を照射するよう構成されてもよく、支持体の、塗膜が形成された面の反対側から紫外線を照射するよう構成されてもよく、さらには両面から紫外線を照射するよう構成されてもよい。特に、支持体の、塗膜が形成された面の反対側から紫外線を照射するよう構成することが、選択反射帯域の広い塗膜を得る上で好ましい。
【００１５】
前記加熱手段(iv)は、支持体の搬送ラインの一部を囲筐する適切な筐体と、内部温度を所定の高温に保つための手段とを含むことができる。
【００１６】
本発明の積層体製造装置は、前記硬化紫外線照射装置(iii)及び前記加熱手段(iv)を少なくとも１組備えるが、２組以上備えてもよい。この場合、支持体の搬送ライン上に、紫外線照射装置(iii)−加熱手段(iv)−紫外線照射装置(iii)−加熱手段(iv)・・・というように、紫外線照射装置(iii)と加熱手段(iv)とを交互に有するよう配置することができる。かかる配置とすることにより、選択紫外線照射と加熱の操作を繰り返し、選択反射帯域のより広い積層体を得ることができる。
【００１７】
本発明の積層体製造装置が備えるエンボス装置(v)は、前記加熱手段(iv)の下流（加熱手段(iv)が複数存在する場合は、その最も下流のもののさらに下流とすることができる）に設けられ、支持体の裏面（即ち塗膜が形成された面と反対側の面）に凹凸を設けるものである。かかるエンボス装置(v)は、具体的には例えば、マット剤を支持体裏面に噴霧するスプレー装置及び噴霧されたマット剤を硬化させる硬化装置の組み合わせとして構成することができる。
【００１８】
マット剤を噴霧するスプレー装置としては、特に限定されず既知のものを適宜選択して用いることができる。また、硬化装置としては、用いるマット剤に適合するものを適宜選択しうる。例えば、マット剤が紫外線硬化性のものである場合は紫外線照射装置とすることができ、マット剤が加熱または溶媒の留去により硬化しうるものであれば加熱乾燥装置とすることができる。
【００１９】
本発明の積層体製造装置はさらに、前記加熱手段(iv)の下流に設けられた、前記加熱手段(iv)により加熱された前記塗膜に対して、第２の紫外線を照射して前記塗膜を硬化させる硬化紫外線照射装置(vi)を備えうる。かかる硬化紫外線照射装置(vi)を設けることにより、塗膜を硬化させ、最終的な光学樹脂層とすることができる。
【００２０】
支持体の搬送ライン上における硬化紫外線照射装置(vi)を設ける位置は、加熱手段(iv)の下流（加熱手段(iv)が複数存在する場合は、その最も下流のもののさらに下流とすることができる）である限りにおいて特に限定されず、前記エンボス装置(v)の上流であっても、下流であってもよい。また、マット剤として紫外線硬化性のものを用い、マット剤のスプレー装置より下流に硬化紫外線照射装置(vi)を設けることにより、かかるスプレー装置のみをエンボス装置(v)とし、その下流の硬化紫外線照射装置(vi)がマット剤の硬化をも併せて行なうよう構成することができる。
【００２１】
２．積層体の製造方法
本発明の製造方法は、支持体及びその表面に形成された光学樹脂層を有する積層体の製造方法であって、前記支持体を連続的に送り出す工程（I）、送り出された前記支持体の表面上に、前記光学樹脂層を形成するための組成物を塗布して、前記組成物の塗膜を設ける工程（II）、前記支持体上に設けられた前記塗膜に対して、波長範囲および／または照度が選択された第１の紫外線を照射する工程（III）、前記第１の紫外線が照射された塗膜を加熱する工程（IV）、及び前記加熱工程の後に前記支持体の裏面に凹凸を設ける工程（V）を含む。
【００２２】
本発明の製造方法は、さらに任意の工程として、前記工程（IV）の後に、加熱された前記塗膜に対して、第２の紫外線を照射して前記塗膜を硬化させる工程（VI）をさらに含みうる。
【００２３】
工程(I)〜(VI)は、好ましくは上に述べた本発明の積層体の製造装置において、それぞれ繰り出し装置(i)、塗工ヘッド(ii)、選択紫外線照射装置(iii)、加熱手段(iv)、エンボス装置(v)、及び硬化紫外線照射装置(vi)により行なうことができる。
【００２４】
本発明の製造方法において、塗膜をその上に形成する支持体としては、特に限定されないが、各種の光学積層フィルムを形成するのに通常用いられる樹脂フィルムを用いることができる。特に、上に述べたラビング手段等により、塗膜形成用組成物中の単量体等の分子を配向させる性質を与えうるものを好ましく用いることができる。支持体の形状は、特に限定されないが、連続した帯状のフィルムの形状とすることができる。また、支持体は、単層の樹脂フィルムとしてもよいし本発明の積層体製造装置による塗膜形成に供する前に樹脂フィルム状に他の層を形成した積層フィルムとしてもよい。当該他の層としては、具体的には例えば、ラビングによる配向をより有効なものとするための配向膜を挙げることができる。当該配向膜の形成は、例えば、支持体上に、配向膜形成用の材料を塗布し、乾燥し、硬化させることにより行うことができる。
【００２５】
工程(II)において塗布される前記塗膜形成用組成物としては、溶媒と、当該溶媒に溶解された、液晶性を示し得る、重合可能な単量体とを含む溶液を用いることができる。当該単量体が示しうる液晶性としては、具体的には、コレステリック液晶相を好ましく挙げることができる。そのような単量体としては、各種の有機系の、重合性の液晶物質を用いることができる。
前記重合性の液晶物質としては、例えば、下記式（１）で表される化合物を挙げることができる。
Ｒ3−Ｃ3−Ｄ3−Ｃ5−Ｍ−Ｃ6−Ｄ4−Ｃ4−Ｒ4          （１）
式（１）中、Ｒ3及びＲ4は反応性基であり、それぞれ独立してアクリル基、メタアクリル基、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、ビニル基、アリル基、フマレート基、シンナモイル基、オキサゾリン基、メルカプト基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される基を表す。Ｄ3及びＤ4は単結合、炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、及び炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレンオキサイド基からなる群より選択される基を表す。Ｃ3〜Ｃ6は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、及び−ＣＨ2ＯＣＯ−からなる群より選択される基を表す。Ｍはメソゲン基を表し、具体的には、非置換又は置換基を有していてもよい、アゾメチン類、アゾキシ類、フェニル類、ビフェニル類、ターフェニル類、ナフタレン類、アントラセン類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類の群から選択された２〜４個の骨格を、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、及び−ＣＨ2ＯＣＯ−等の結合基によって結合されて形成される。）
前記、メソゲン基Ｍが有しうる置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｒ5、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ5、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ5、−ＮＲ5−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ5Ｒ7、または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ5Ｒ７を表す。ここで、Ｒ5及びＲ７は、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、アルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ6−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ6−、−ＮＲ6−、または−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ6は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。前記「置換基を有してもよい炭素数１〜１０個のアルキル基」における置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、炭素原子数２〜８個のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数３〜１５個のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素原子数２〜７個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７個のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数２〜７個のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
また前記溶媒としては、特に限定されず、有機系及び／無機系の物質を含む溶媒を使用することができ、特に前記単量体の配向を妨げずに揮発しうる溶媒を好ましく使用することができる。
【００２６】
また、塗膜形成用組成物は、紫外線の照射によって前記単量体が硬化しうるよう調製することができる。具体的には、単量体自体として紫外線の照射により硬化しうるものを用いる、及び／又は紫外線の照射により前記単量体を硬化せしめ得る重合開始剤を含むものとすることができる。なお、本明細書においては便宜上、特に断らない限り、支持体上に塗膜形成用組成物を塗布した後の塗膜から、最終的な硬化の工程を経て硬化した塗膜となったものまでをも含めて、単に「塗膜」と呼ぶ。工程(II)において、塗膜の厚さは、特に限定されないが、最終的な積層体中の乾燥膜厚として３．０〜１０．０μｍの範囲とすることができる。
【００２７】
工程(II)により支持体上に塗膜を設けた後、必要に応じて前記ドライヤー等による乾燥工程を行った後、次の工程(III)に進むことができる。
【００２８】
工程(III)において照射する第１の紫外線の照度は、０．１〜１５ｍＷ／ｃｍ２、照射時間０．１〜５秒間とすることができる。また、第１の紫外線の波長範囲は、２００〜４００ｎｍとすることができる。工程(III)において、紫外線は、支持体の、塗膜が形成された面の反対側から紫外線を照射することが、選択反射帯域の広い塗膜を得る上で好ましい。特定の理論に拘束されるものではないが、多くの場合、塗膜形成用組成物が外気に接触する側と反対側の面に微弱な紫外線を照射することにより、塗膜の厚さ方向に勾配のある重合度での重合を達成することができ、その結果広い選択反射帯域を有する光学樹脂層を得ることができると推測される。
【００２９】
工程(IV)における加熱条件は、６０〜１００℃で１０〜１２０秒間とすることができる。
【００３０】
本発明の製造方法では、工程(III)及びそれに続く工程(IV)を少なくとも１回ずつ行なうが、工程(III)及び工程(IV)の組み合わせを２回以上行なってもよい。即ち、工程(III)−工程(IV)−工程(III)−工程(IV)・・・というようにこれらを交互に行なうことができる。複数の工程(III)及び工程(IV)を行なう場合において、それぞれの紫外線の照射条件及び加熱の条件は、同一であっても異なっていてもよい。このように工程(III)及び工程(IV)の組み合わせを２回以上行なうことにより、選択反射帯域のより広い積層体を得ることができる。
【００３１】
工程(V)における凹凸の形成は、工程(IV)の後（工程(IV)を複数回行なう場合は、その最後のものの後とすることができる）に行なわれ、支持体の裏面（即ち塗膜が形成された面と反対側の面）に凹凸を設けるものである。かかる工程は、具体的には例えば、マット剤を支持体裏面に噴霧する工程、及び噴霧されたマット剤を硬化させる工程の組み合わせとして行うことができる。
【００３２】
本発明において凹凸を設けるために用いるマット剤は、特に限定されないが、支持体表面に噴霧することにより凹凸を有する層を形成することができ、且つ紫外線等の光照射、加熱、または溶媒の留去等により硬化しうる樹脂組成物であって、製品たる積層体の光学的性能を大きく損ねないものを適宜選択しうる。かかるマット剤用の樹脂組成物に含まれる樹脂としては、具体的には例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリエーテルイミド、ゼラチン、ポリウレタンアクリレート等を挙げることができる。かかるマット剤用の樹脂組成物には、無機粒子が含まれていてもよい。具体的には、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＳｉＯ２等が挙げられ、中でもＳｉＯ２が好ましい。無機粒子の粒径は、平均粒子径で０．０５〜１．０μｍのものが使用可能である。また、マット剤の噴霧量は、得られるマット層の凹凸が表面粗さＲｚ（十点平均高さ）で０．１〜１．０μｍとなる範囲で設定すればよく、具体的には０．１〜１０．０ｇ／ｍ２とすることができる。
【００３３】
工程(VI)は、工程(IV)（工程(IV)を複数回行なう場合は、その最後のものの後とすることができる）の任意の段階で行なうことができ、工程(V)の前であっても後であってもよい。工程(VI)における硬化紫外線の照射量は、特に限定されないが、０．３〜１０Ｊ／ｃｍ２とすることができる。また、マット剤として紫外線硬化性のものを用い、工程(V)より後に工程(VI)を行なうことにより、工程(V)においてマット剤の噴霧のみを行い、その下流の工程(VI)においてマット剤の硬化をも併せて行なうこともできる。
【００３４】
次に、図面を参照して本発明の製造装置及び製造方法をより具体的に説明する。
【００３５】
図１は、かかる本発明の積層体の製造装置の構成及びそれを用いた本発明の製造方法の実施の一例を示す概略図である。図１に示す装置は、支持体１０２上に塗膜を設けて硬化させて光学樹脂層を形成し、積層体を製造する装置であって、繰り出し装置１０１、ラビングロール１０３、塗工ヘッド１０４、ドライヤー１０５、選択紫外線照射装置１２１及び１２３、加熱手段１２２及び１２４、硬化紫外線照射装置１０９、エンボス装置としてのスプレー装置１３１及び硬化装置１３２、並びに巻取り装置１１０を備える。
【００３６】
本発明の積層体製造装置による積層体の製造に先立ち、支持体１０２は、基材となる樹脂フィルムに予め配向膜を設けた後、本発明の装置による塗膜形成に供される。配向膜の形成は、そのための別の装置を用いて行ってもよく、本発明の装置を利用して予め配向膜を設けてもよい。即ち、支持体を繰り出し装置１０１から送り出し、塗工ヘッド１０４又は別の塗工ヘッドを用いて配向膜形成用の液体を塗布し、必要に応じてドライヤー１０５及び硬化紫外線照射装置１０９などを用いて乾燥・硬化させ、巻き取り装置１１０で巻き取ることにより、予め配向膜を形成した支持体のロールを調製し、これを、以下に述べる本発明の積層体製造装置による塗膜の形成に、第１の支持体として使用することができる。
【００３７】
積層体の製造方法においては、まず、配向膜を有する支持体１０２が繰り出し装置１０１より送り出され（工程(I)）、その配向膜側の表面は、ラビングロール１０３にてラビング処理がなされる。図１に示す装置においては、ラビング処理は、支持体１０２の進行方向と逆方向に接して回転する（即ち図１中の矢印Ａ２の方向に回転する）ようラビングロール１０３を回転させて行っている。ただし、ラビング処理の態様はこれに限定されず、必要に応じて支持体１０２の進行方向に対して任意の方向へのラビング処理を行うこととしてもよい。
【００３８】
続いて、ラビング処理がなされた配向膜を有する支持体１０２の面上に、塗工ヘッド１０４より塗膜形成用組成物が吐出され塗布され、塗膜が形成される（工程(II)）。塗膜形成用組成物は、ラビング処理が施された面上に好ましく塗布され、それにより、塗膜形成用組成物中の分子を所望の方向に配向させることができる。本実施形態の例において、塗膜形成用組成物としては、コレステリック液晶相を示す重合性の単量体化合物、重合開始剤及び溶媒を含む溶液が用いられる。
【００３９】
支持体１０２上に塗布された塗膜は、ドライヤー１０５により乾燥され、複数の選択紫外線照射装置のうちの一つめである照射装置１２１に導かれる。
【００４０】
続いて、照射装置１２１から、波長範囲および／または照度が選択された紫外線が照射され（工程(III)）、続いて加熱装置１２２が支持体上の塗膜を加熱する（工程(IV)）ことにより、塗膜の選択反射帯域の広帯域化がなされる。工程(III)及び(IV)の組み合わせは、さらに照射装置１２３及び加熱装置１２４によりもう１回繰り返され、さらなる広帯域化がなされる。
【００４１】
広帯域化がなされた支持体１０２上の塗膜は、続いて硬化紫外線照射装置１０９による紫外線の照射を受ける（工程(VI)）。硬化紫外線照射装置９による紫外線の照射は、塗膜全体が硬化するのに十分な波長範囲及び照度により行うことができる。本実施形態の例においては、硬化紫外線照射装置１０９は塗膜の表面側から紫外線を照射しているが、裏面側若しくは両面側から照射することもできる。
【００４２】
硬化紫外線照射装置１０９により塗膜を硬化し光学樹脂層を得た後、続いて支持体の裏面（塗膜の設けられた面の反対側の面）にスプレー装置１３１でマット剤を噴霧し、さらに硬化装置１３２でマット剤を硬化させ、マット層の凹凸を形成し（工程(V)）、積層体が完成する。得られた積層体は、巻き取り装置１０により巻き取ることができる。
【００４３】
続いて、図２を参照して、本発明の製造装置及び製造方法の別の一例を説明する。図２に示す装置は、工程(V)を行なうエンボス装置として、加熱装置１２４の直後に置かれたスプレー装置２３１及び硬化装置２３２が設けられ、さらにその後に工程(VI)を行なうための硬化紫外線照射装置２０９が設けられている点において、図１に示す装置と相違している。このように、工程(V)は工程(VI)に先立って行なうこともできる。さらに、マット剤として紫外線硬化性のものを用いる場合は、硬化装置２３２を省略し、硬化紫外線照射装置２０９により、塗膜の硬化とマット剤の硬化を同時に行なってもよい。
【００４４】
本発明の積層体の製造方法及び製造装置には、上記に具体的に説明したもののみならず、本願の特許請求の範囲内及びその均等の範囲に属するものも含まれる。例えば、上記に具体的に説明した装置においては、液晶性化合物の塗膜を１層のみ設ける装置について説明したが、製造ライン上において、例えば塗工ヘッドから硬化紫外線照射装置までの構成をもう一組以上設け、第１の支持体の片面に２層以上の液晶性化合物等の塗膜を設ける装置とすることもできる。塗工ヘッドは、通常のダイ式のものに加えて、ワイヤーバー、刷毛等、液体を支持体表面に塗布することができる任意の構成とすることができる。２層以上の液晶性化合物等の塗膜を設ける場合、同一種類の材質の塗膜を設けることもでき、異なる材質の塗膜を設けることもできる。
【００４５】
また、本発明の積層体製造装置は、上記の各構成要素に加え、必要に応じて任意の構成要素を含むことができる。具体的には例えば、塗膜形成用組成物の塗布性を向上させるために支持体にコロナ放電処理を施す装置を塗工ヘッド１０４の前に設けることができる。また例えば、ラビングによって生じる静電気や粉塵を支持体から取り除くための除電装置や除塵装置を、ラビング手段１０３と塗工ヘッド１０４との間に設けることができる。また、繰り出し装置１０１とラビングロール１０３との間に、支持体１０２から、当該支持体１０２に設けられた保護フィルムをはがすラミ巻き取り装置を設けることができる。また、硬化紫外線装置１０９と巻き取り装置１１０との間に、保護フィルムを装着するためのラミ繰り出し装置を設けることができる。
【００４６】
本発明の製造方法により得られた積層体は、円偏光分離シートなどの光学フィルムとして好ましく用いることができる。
【実施例】
【００４７】
以下に、本発明を実施例及び比較例を参照してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００４８】
（製造例１：コレステリック液晶組成物の調製）
重合性液晶性化合物（Δｎ（＝ｎｅ−ｎｏ）＝０．１８を有する棒状液晶化合物）９３．０重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製イルガキュア９０７）３．１重量部、界面活性剤（セイミケミカル株式会社製、ＫＨ−４０）０．１１重量部及びカイラル剤（ＢＡＳＦ社製、ＬＣ７５６）６．７重量部を、メチルエチルケトン１５４．８重量部に溶解し、コレステリック液晶組成物を調製した。
【００４９】
（製造例２：マット層用組成物の調製）
（２−１：組成物その１）
紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂（日本合成化学工業株式会社製、商品名「紫光  ＵＶ７６４０Ｂ」）１００重量部、光重合開始剤（商品名「イルガキュア９０７」）１．０重量部、ＳｉＯ２微粒子スラリー（商品名「アドマファイン」、アドマテックス製、ＳＣＭ２０５０ＭＭ、ＳｉＯ２粒子の平均粒子径０．５μｍの７０重量％のメチルエチルケトンのスラリー）１．６重量部及びメチルエチルケトン２３７．７重量部を混合して、マット層用の組成物（２−１）を調製した。
【００５０】
（２−２：組成物その２）
ポリビニルブチラール樹脂（電気化学工業株式会社製、商品名「デンカブチラール」、ガラス転移温度６５℃）１００重量部、ＳｉＯ２微粒子スラリー１．１重量部及び溶剤（メチルエチルケトン／シクロペンタノン＝９５／５（重量比））２４０重量部を混合して、マット層用の組成物（２−２）を調製した。
【００５１】
（製造例３：配向膜を有するフィルムの調製）
長尺で厚さ１００μｍの、脂環式オレフィンポリマーからなる基材フィルム（株式会社オプテス製；商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」）を、走行速度１０ｍ／ｍｉｎで走行させながら、その両面にコロナ放電処理を施し、片面に配向膜形成用塗布液（５％の変性ポリアミド（ＦＲ１０５／ＣＭ４０００の７０／３０混合物、ＦＲ１０５：株式会社鉛市製  メトキシメチル化ナイロン  ＣＭ４０００：東レ株式会社製  共重合ポリアミド）の水溶液を当該フィルムの片面に♯２のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚０．１μｍの配向膜を形成した。フィルムを巻き取り、配向膜を有する支持体１０２のロールを得た。
【００５２】
（実施例１）
製造例３で得た配向膜を有する支持体に、図１に示す本発明の装置を用いて、本発明の製造方法を実施し、硬化塗膜及びマット層を有する積層体を製造し、評価した。
【００５３】
（１−１：コレステリック液晶組成物の塗布）
製造例３で得た配向膜を有する支持体１０２のロールを、繰り出し装置１０１に装着した。繰り出し装置１０１より、配向膜を有する面が硬化塗膜の被塗布面となるように、走行速度１０ｍ／ｍｉｎで支持体１０２を送り出した。配向膜を、矢印Ａ２方向に回転させたラビングロール１０３でラビングした。ラビングされた配向膜上に、塗工ヘッド１０４より、製造例１で得たコレステリック液晶組成物を吐出して塗布し、塗膜を設けた。塗膜をドライヤー１０５により１００℃で５分間乾燥させ、組成物中の液晶性の分子を配向させた。
【００５４】
（１−２：広帯域化処理）
続いて、当該塗膜に対して、選択紫外線照射装置１２１を用いて、２５℃の空気雰囲気下で、支持体の裏面（塗膜の設けられた面の反対側の面）から４．５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１．０秒間照射し、続いて及び加温装置１２２を用いて、空気雰囲気下で２．８℃／秒の昇温速度で７５℃まで昇温させ、さらに７５℃で４２秒間加温した。その後選択紫外線照射装置１２３を用いて、２５℃の窒素雰囲気下で、支持体の裏面から１１．０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３．３秒間照射し、続いて及び加温装置１２４を用いて、空気雰囲気下で２．８℃／秒の昇温速度で１００℃まで昇温させ、さらに１００℃で３３秒間加温した。これらの紫外線照射に際しては、３１３ｎｍのバンドパスフィルターを使用した。なお、３１３ｎｍバンドパスフィルターにおける光線透過領域は２９９〜３４５ｎｍであり、帯域幅（半値幅）は４６ｎｍである。
【００５５】
（１−３：硬化紫外線照射）
さらに、硬化紫外線照射装置１０９を用いて、窒素雰囲気下で、塗膜側の面から５０００ｍＷ/ｃｍ2の紫外線を３秒間照射して、塗膜を完全に硬化させ、乾燥膜厚５μｍのコレステリック樹脂層を形成した。これらの紫外線照射に際しては、前記（１−２）で用いたものと同じバンドパスフィルターを使用した。
【００５６】
（１−４：マット層の形成）
さらに、スプレー装置１３１で、製造例２（２−２）で得たマット層用組成物を吹き付け、続いて乾燥装置（硬化装置１３２）にて空気雰囲気下６０℃で２０秒間乾燥させ、マット層を得た。マット層の膜厚は０．６μｍであり、その表面粗さＲｚ（十点平均高さ）は０．４μｍであった。
【００５７】
（１−５：巻取り）
以上の通りコレステリック樹脂層及びマット層が形成された積層体を、巻き取り装置１１０で巻き取った。
【００５８】
（１−６：評価）
以上の通り得られた積層体を矩形に切り出し、円偏光分離シートを得た。
光反射板(東レ社製、「Ｅ６５Ｖ」)、極細冷陰極管、拡散板（恵和商工社製、「ＰＣ−０３」）、拡散シート（株式会社きもと社製、「１００ＰＢＳ」）、及びプリズムシート（住友スリーエム社製、「ＢＥＦＩＩＩ−１０Ｔ」）を用いてバックライト装置を作製した。このバックライト装置の光出射面上に、上記円偏光分離シート及び偏光板(サンリッツ製、「ＨＬＣ２−５６１８」)を、この順に位置決めして置き、偏光光源装置を構成した。偏光光源装置を構成するに際して、円偏光分離シートはプリズムシート及び偏光板との滑り性が良好であり、位置決めが容易であった。
得られた偏光光源装置について、エルゴスコープ（Ａｕｔｒｏｎｉｃ  Ｍｅｌｃｈｅｒｓ社製）により正面輝度を測定したところ、９０００ｃｄ／ｍ２であった。
【００５９】
（実施例２）
積層体製造装置として、図１に示す装置に代えて図２に示す装置を用いた他は、実施例１と同様に操作し、積層体を得た。即ち、実施例１における工程１−１及び１−２の後、工程１−４を行い、その後工程１−３を行ない、さらに工程１−５を行い、積層体を得た。
得られた積層体を矩形に切り出し円偏光分離シートを得、これを用いて実施例１と同様に偏光光源装置を作製した。偏光光源装置を構成するに際して、円偏光分離シートはプリズムシート及び偏光板との滑り性が良好であり、位置決めが容易であった。また、正面輝度の測定結果は、８９００ｃｄ／ｍ２であった。
【００６０】
（比較例１）
工程１−４を行なわないほかは、実施例１と同様に操作し、積層体を得た。
得られた積層体を矩形に切り出し円偏光分離シートを得、これを用いて実施例１と同様に偏光光源装置を作製した。偏光光源装置を構成するに際して、円偏光分離シートはプリズムシート及び偏光板との滑り性が不良であり、これらに密着させた後に滑らせることが困難であり、したがって位置決めが困難であった。また、正面輝度の測定結果は、９０００ｃｄ／ｍ２であった。
【００６１】
（比較例２）
製造例３で得た配向膜を有する支持体の裏面（塗膜の設けられた面の反対側の面）に、実施例１の工程１−４と同様にマット層を形成した。この配向膜及びマット層を有する支持体を、実施例１に用いた装置と同じ装置を用い（ただしスプレー装置１３１及び硬化装置１３２は不使用）、実施例１の工程１−１、工程１−２、工程１−３及び工程１−５を順次実施して、積層体を得た。
得られた積層体を矩形に切り出し円偏光分離シートを得、これを用いて実施例１と同様に偏光光源装置を作製した。偏光光源装置を構成するに際して、円偏光分離シートはプリズムシート及び偏光板との滑り性が良好であり、位置決めが容易であった。また、正面輝度の測定結果は、８１００ｃｄ／ｍ２であった。
【００６２】
（実施例３）
工程１−４で、マット層用組成物として製造例２（２−２）で得たものに代えて製造例２（２−１）で得たものを用い、硬化装置１３２として乾燥装置に代えて紫外線照射装置を用い、窒素雰囲気下で、裏面（塗膜側の面と反対側の面）から３６５ｎｍ、１０００ｍＷ／ｃｍ２の紫外光を１０００ｍＪ／ｃｍ２照射してマット層の硬化を行なった他は、実施例１と同様に操作し、積層体を得た。マット層の膜厚は０．４μｍであり、その表面粗さＲｚ（十点平均高さ）は０．３３μｍであった。
得られた積層体を矩形に切り出し円偏光分離シートを得、これを用いて実施例１と同様に偏光光源装置を作製した。偏光光源装置を構成するに際して、円偏光分離シートはプリズムシート及び偏光板との滑り性が良好であり、位置決めが容易であった。また、正面輝度の測定結果は、８９００ｃｄ／ｍ２であった。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の積層体製造装置の構成及びその動作の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の積層体製造装置の構成及びその動作の別の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６４】
１０１：繰り出し装置
１０２：支持体
１０３：ラビングロール
１０４：塗工ヘッド
１０５：ドライヤー
１０９：硬化紫外線照射装置
１１０：巻き取り装置
１２１、１２３：選択紫外線照射装置
１２２、１２４：加温装置
１３１、２３１  スプレー装置
１３２、２３２  硬化装置
Ａ２：ラビングロール回転方向
【図１】
2009240994.tif 000003
【図２】
2009240994.tif 000004