(57)【要約】【課題】ヘッド素子の寸法誤差の低減に大いに貢献することができる磁気ヘッドスライダの製造方法を提供する。【解決手段】表面でヘッド素子の配列を受け止めるウェハーから、ウェハーの表面に直交する相互に平行な切断面で切り出され、一方の切断面にヘッドスライダの媒体対向面を対応付けるバーに対して、ウェハーの裏面に対応する裏面対応平面から、バーの短手方向にこすられる砥面で研削処理を施す。バーの裏面対応平面の起伏は抑制される。こういった起伏の抑制によれば、ヘッド素子の読み出し素子および書き込み素子は高い寸法精度で形成されることができる。かかる製造方法は、ヘッド素子特に書き込み素子の寸法誤差の低減に大いに貢献する。【選択図】図２０
2009158070.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面でヘッド素子の配列を受け止めるウェハーから、ウェハーの表面に直交する相互に平行な切断面で切り出され、一方の切断面にヘッドスライダの媒体対向面を対応付けるバーに対して、ウェハーの裏面に対応する裏面対応平面から、バーの短手方向にこすられる砥面で研削処理を施すことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記砥面は、バーの長手方向に延びる回転軸回りで回転する砥石車の端面に形成されることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記研削処理の実施にあたって、支持治具上に確立される平坦な固定面に接着剤を塗布する工程と、前記固定面に、仮固定治具上で前記バーの前記裏面対応平面を受け止める平坦な仮固定面を向き合わせ、前記バーに確立されてウェハーの表面に対応する表面対応平面で前記固定面上の接着剤に前記バーを接触させる工程と、前記固定面に対して前記仮固定治具の姿勢を変化させ、前記固定面に対して前記裏面対応平面の姿勢を調整する工程とを備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記仮固定治具は所定の間隔で並列に複数本の前記バーを支持することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記姿勢の調整にあたって、前記仮固定治具上には前記仮固定面に対して所定の姿勢を確立する調整用反射面が形成されることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記バーの接触にあたって、前記固定面に直交する垂直方向に前記支持治具に対して前記仮固定治具の変位を案内するガイド部材が前記支持治具に連結されることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記研削処理に先立って、前記仮固定治具の前記仮固定面に前記バーの前記裏面対応平面を重ね合わせる工程と、前記仮固定面に対して前記バーの前記表面対応平面の姿勢を測定する工程とを備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記媒体対向面に対応付けられる前記切断面に研磨処理を施し、前記ヘッド素子に含まれる読み出し素子の寸法を所定値に合わせ込む工程をさらに備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）といった磁気記憶媒体駆動装置に組み込まれる磁気ヘッドスライダの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ヘッドスライダの製造方法は広く知られる。磁気ヘッドスライダの製造にあたってウェハーの表面には任意の行数および列数でヘッド素子が作り込まれる。その後、ウェハーの表面に直交する相互に平行な切断面でウェハーからバーが切り出される。こうして個々のバーごとに規定の行数および列数のヘッド素子が切り分けられる。一方の切断面にヘッドスライダの媒体対向面が対応付けられる。
【０００３】
媒体対向面に対応付けられる切断面に研磨処理すなわちラッピング処理が施される。ラッピング処理にあたって所定位置のヘッド素子から読み出し信号が読み出される。こうした読み出し信号に基づきラッピング処理の研磨量が調整される。その結果、ヘッド素子に含まれる読み出し素子の寸法は規定値に合わせ込まれることができる。
【０００４】
ラッピング処理にあたってバーは加工治具に接着される。接着にあたってバーは他方の切断面で加工治具の接着面に受け止められる。このとき、媒体対向面に対応付けられる切断面と接着面との間には正確に平行関係が確立されなければならない。こういった平行関係の確立にあたって位置決め治具が利用される。位置決め治具は、接着面に直交する平面を区画する。この位置決め治具の平面に、バー上でウェハーの裏面に対応する１平面が押し当てられる。
【特許文献１】特開２００１−６１４１号公報
【特許文献２】特開２０００−３３９６５４号公報
【特許文献３】特開２００４−２２３６５５号公報
【特許文献４】特開２００１−１０１６３５号公報
【特許文献５】特開２００３−３１７４１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ラッピング処理に先立ってバーではウェハーの裏面に対応する１平面に研削処理が実施される。研削処理に基づきバーはヘッドスライダの規定寸法に合わせ込まれる。研削処理の加工精度が高められない限り、媒体対向面に対応付けられる切断面と接着面との間で高い精度で平行関係は確立されることができない。平行関係の精度が低下すると、ヘッド素子に含まれる書き込み素子の研磨量は読み出し素子の研磨量に一致しない。書き込み素子の寸法に誤差が生じてしまう。
【０００６】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、ヘッド素子の寸法誤差の低減に大いに貢献することができる磁気ヘッドスライダの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明によれば、表面でヘッド素子の配列を受け止めるウェハーから、ウェハーの表面に直交する相互に平行な切断面で切り出され、一方の切断面にヘッドスライダの媒体対向面を対応付けるバーに対して、ウェハーの裏面に対応する裏面対応平面から、バーの短手方向にこすられる砥面で研削処理を施すことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法が提供される。
【０００８】
かかる製造方法によれば、バーの裏面対応平面の起伏は抑制される。こういった起伏の抑制によれば、ヘッド素子の読み出し素子および書き込み素子は高い寸法精度で形成されることができる。かかる製造方法は、ヘッド素子特に書き込み素子の寸法誤差の低減に大いに貢献する。
【０００９】
読み出し素子および書き込み素子の形成にあたって、磁気ヘッドスライダの製造方法は、ヘッドスライダの媒体対向面に対応付けられる切断面に研磨処理を施し、ヘッド素子に含まれる読み出し素子の寸法を所定値に合わせ込む工程をさらに備える。研磨処理にあたってヘッド素子から読み出し信号が読み出される。こうした読み出し信号に基づき研磨処理の研磨量が調整される。このとき、バーは加工治具に接着される。接着にあたってバーは他方の切断面で加工治具の接着面に受け止められる。媒体対向面に対応付けられる切断面と加工治具の接着面との間には正確に平行関係が確立されなければならない。こういった平行関係の確立にあたって位置決め治具が利用される。位置決め治具は、接着面に直交する平面を区画する。この位置決め治具の平面に研削処理後の裏面対応平面が押し当てられる。前述のように裏面対応平面の起伏は抑制されることから、媒体対向面に対応付けられる切断面と加工治具の接着面との間には高い精度で平行関係が確立されることができる。その一方で、研削処理後に裏面対応平面の起伏が十分に抑制されないと、裏面対応平面が位置決め治具の平面に押し当てられた際に、媒体対向面に対応付けられる切断面と加工治具の接着面との間に十分に平行関係が確立されることができない。その結果、研磨処理に応じて読み出し素子の寸法がたとえ所定値に合わせ込まれても、書き込み素子の寸法は所定値からずれてしまう。
【００１０】
こういった磁気ヘッドスライダの製造方法では、砥面は、バーの長手方向に延びる回転軸回りで回転する砥石車の端面に形成されればよい。こういった砥面がバーの短手方向に送られると、バーの裏面対応平面は研削される。裏面対応平面の起伏は確実に抑制される。
【００１１】
研磨処理の実施にあたって、磁気ヘッドスライダの製造方法は、支持治具上に確立される平坦な固定面に接着剤を塗布する工程と、固定面に、仮固定治具上でバーの裏面対応平面を受け止める平坦な仮固定面を向き合わせ、バーに確立されてウェハーの表面に対応する表面対応平面で固定面上の接着剤にバーを接触させる工程と、固定面に対して仮固定治具の姿勢を変化させ、固定面に対して裏面対応平面の姿勢を調整する工程とを備えてもよい。
【００１２】
研削処理にあたってバーは支持治具に接着される。接着にあたって固定面に対して裏面対応平面の姿勢は調整される。その結果、固定面に対して高い精度で裏面対応平面の平行姿勢は確立されることができる。したがって、後工程の研削処理で高い精度で裏面対応平面は研削されることができる。こういった姿勢の調整にあたって、仮固定治具上には仮固定面に対して所定の姿勢を確立する調整用反射面が形成されればよい。
【００１３】
仮固定治具は所定の間隔で並列に複数本のバーを支持することが望まれる。例えば仮固定治具の仮固定面が固定面に向き合わせられる際に、特定のバーの表面対応平面と固定面との距離が広がっても、固定面に対して仮固定面の角度変化量は抑制されることができる。したがって、仮固定治具の姿勢の調整にあたって調整量はできる限り低減されることができる。その一方で、複数本のバー同士が隙間なく並列に並べられると、特定のバーの表面対応平面と固定面との距離の増大は固定面に対して仮固定面の角度変化量の増大を招く。したがって、仮固定治具の姿勢の調整にあたって調整量は増大してしまう。
【００１４】
磁気ヘッドスライダの製造方法では、バーの接触にあたって、固定面に直交する垂直方向に支持治具に対して仮固定治具の変位を案内するガイド部材が支持治具に連結されてもよい。接着剤の硬化にあたって仮固定治具には固定面に向かって押し付け力が加えられる。こういった押し付け力の働きでバーは接着剤に馴染む。ガイド部材の働きで仮固定治具の変位は固定面に直交する垂直方向に拘束されることから、バーには均一に押し付け力が作用することができる。
【００１５】
磁気ヘッドスライダの製造方法は、研削処理に先立って、仮固定治具の仮固定面にバーの裏面対応平面を重ね合わせる工程と、仮固定面に対してバーの表面対応平面の姿勢を測定する工程とを備えてもよい。前述のように、支持治具の固定面に接着される。接着にあたって固定面に仮固定治具の仮固定面が向き合わせられる。この仮固定面にバーが支持されることから、バーの表面対応平面が仮固定面に平行に配置されれば、前述の姿勢の調整に相俟って、固定面に対して高い精度で裏面対応平面の平行姿勢は確立されることができる。例えば、仮固定面に対して表面対応平面の傾斜が確認されると、バーは仮固定面から取り外される。仮固定面の清掃後、再びバーは仮固定面に重ね合わせられる。ウェハーの寸法精度並びに仮固定面の平面度は極めて高く設定されることから、清掃に応じて微小な塵埃が仮固定面から除去されると、表面対応平面および仮固定面の平行関係は比較的に簡単に確立されることができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように本発明によれば、ヘッド素子の寸法誤差の低減に大いに貢献することができる磁気ヘッドスライダの製造方法は提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。
【００１８】
図１は記憶媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の内部構造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は筐体すなわちハウジング１２を備える。ハウジング１２は箱形のベース１３およびカバー（図示されず）から構成される。ベース１３は例えば平たい直方体の内部空間すなわち収容空間を区画する。ベース１３は例えばアルミニウムといった金属材料から鋳造に基づき成形されればよい。カバーはベース１３の開口に結合される。カバーとベース１３との間で収容空間は密閉される。カバーは例えばプレス加工に基づき１枚の板材から成形されればよい。
【００１９】
収容空間には、記憶媒体としての１枚以上の磁気ディスク１４が収容される。磁気ディスク１４はスピンドルモータ１５の駆動軸に装着される。スピンドルモータ１５は例えば３６００ｒｐｍや４２００ｒｐｍ、５４００ｒｐｍ、７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍ、１５０００ｒｐｍといった高速度で磁気ディスク１４を回転させることができる。ここでは、例えば磁気ディスク１４は垂直磁気記録ディスクに構成される。すなわち、磁気ディスク１４上の記録用磁性膜では磁化容易軸は磁気ディスク１４の表面に直交する垂直方向に設定される。
【００２０】
収容空間にはキャリッジ１６がさらに収容される。キャリッジ１６はキャリッジブロック１７を備える。キャリッジブロック１７は、垂直方向に延びる支軸１８に回転自在に連結される。キャリッジブロック１７には支軸１８から水平方向に延びる複数のキャリッジアーム１９が区画される。キャリッジブロック１７は例えば押し出し成型に基づきアルミニウムから成型されればよい。
【００２１】
個々のキャリッジアーム１９の先端にはヘッドサスペンション２１が取り付けられる。ヘッドサスペンション２１はキャリッジアーム１９の先端から前方に延びる。ヘッドサスペンション２１にはフレキシャが貼り付けられる。ヘッドサスペンション２１の先端でフレキシャにはジンバルが区画される。ジンバルに磁気ヘッドスライダすなわち浮上ヘッドスライダ２２が搭載される。ジンバルの働きで浮上ヘッドスライダ２２はヘッドサスペンション２１に対して姿勢を変化させることができる。浮上ヘッドスライダ２２には磁気ヘッドすなわち電磁変換素子が搭載される。
【００２２】
磁気ディスク１４の回転に基づき磁気ディスク１４の表面で気流が生成されると、気流の働きで浮上ヘッドスライダ２２には正圧すなわち浮力および負圧が作用する。浮力および負圧とヘッドサスペンション２１の押し付け力とが釣り合うことで磁気ディスク１４の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスライダ２２は浮上し続けることができる。
【００２３】
キャリッジブロック１７には例えばボイスコイルモータ（ＶＣＭ）２３といった動力源が接続される。このボイスコイルモータ２３の働きでキャリッジブロック１７は支軸１８回りで回転することができる。こうしたキャリッジブロック１７の回転に基づきキャリッジアーム１９およびヘッドサスペンション２１の揺動は実現される。浮上ヘッドスライダ２２の浮上中にキャリッジアーム１９が支軸１８回りで揺動すると、浮上ヘッドスライダ２２は磁気ディスク１４の半径線に沿って移動することができる。その結果、浮上ヘッドスライダ２２上の電磁変換素子は最内周記録トラックと最外周記録トラックとの間でデータゾーンを横切ることができる。こうして浮上ヘッドスライダ２２上の電磁変換素子は目標の記録トラック上に位置決めされる。
【００２４】
図２は一具体例に係る浮上ヘッドスライダ２２を示す。この浮上ヘッドスライダ２２は、例えば平たい直方体に形成される基材すなわちスライダ本体２５を備える。スライダ本体２５の空気流出側端面には絶縁性の非磁性膜すなわち素子内蔵膜２６が積層される。この素子内蔵膜２６に電磁変換素子２７が組み込まれる。電磁変換素子２７の詳細は後述される。
【００２５】
スライダ本体２５は例えばＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ（アルチック）といった硬質の非磁性材料から形成される。素子内蔵膜２６は例えばＡｌ２Ｏ３（アルミナ）といった比較的に軟質の絶縁非磁性材料から形成される。スライダ本体２５は媒体対向面２８で磁気ディスク１４に向き合う。媒体対向面２８には平坦なベース面２９すなわち基準面が規定される。磁気ディスク１４が回転すると、スライダ本体２５の前端から後端に向かって媒体対向面２８には気流３１が作用する。
【００２６】
媒体対向面２８には、前述の気流３１の上流側すなわち空気流入側でベース面２９から立ち上がる１筋のフロントレール３２が形成される。フロントレール３２はベース面２９の空気流入端に沿ってスライダ幅方向に延びる。同様に、媒体対向面２８には、気流３１の下流側すなわち空気流出側でベース面２９から立ち上がるリアセンターレール３３が形成される。リアセンターレール３３はスライダ幅方向の中央位置に配置される。リアセンターレール３３は素子内蔵膜２６に至る。媒体対向面２８には左右１対のリアサイドレール３４、３４がさらに形成される。リアサイドレール３４は空気流出側でスライダ本体２５の側端に沿ってベース面２９から立ち上がる。リアサイドレール３４、３４同士の間にリアセンターレール３３は配置される。
【００２７】
フロントレール３２、リアセンターレール３３およびリアサイドレール３４、３４の頂上面にはいわゆる空気軸受け面（ＡＢＳ）３５、３６、３７、３７が規定される。空気軸受け面３５、３６、３７の空気流入端は段差でフロントレール３２、リアセンターレール３３およびリアサイドレール３４の頂上面にそれぞれ接続される。気流３１が媒体対向面２８に受け止められると、段差の働きで空気軸受け面３５、３６、３７には比較的に大きな正圧すなわち浮力が生成される。しかも、フロントレール３２の後方すなわち背後には大きな負圧が生成される。これら浮力および負圧のバランスに基づき浮上ヘッドスライダ２２の浮上姿勢は確立される。なお、浮上ヘッドスライダ２２の形態はこういった形態に限られるものではない。
【００２８】
空気軸受け面３６の空気流出側でリアセンターレール３３には電磁変換素子２７が埋め込まれる。電磁変換素子２７は例えば読み出し素子と書き込み素子とを備える。読み出し素子にはトンネル接合磁気抵抗効果（ＴＭＲ）素子が用いられる。ＴＭＲ素子では磁気ディスク１４から作用する磁界の向きに応じてトンネル接合膜の抵抗変化が引き起こされる。こういった抵抗変化に基づき磁気ディスク１４から情報は読み出される。書き込み素子にはいわゆる単磁極ヘッドが用いられる。単磁極ヘッドは薄膜コイルパターンの働きで磁界を生成する。この磁界の働きで磁気ディスク１４に情報は書き込まれる。電磁変換素子２７は素子内蔵膜２６の表面に読み出し素子の読み出しギャップや書き込み素子の書き込みギャップを臨ませる。ただし、空気軸受け面３７の空気流出側で素子内蔵膜２６の表面には硬質の保護膜が形成されてもよい。こういった硬質の保護膜は素子内蔵膜２６の表面で露出する読み出しギャップや書き込みギャップを覆う。保護膜には例えばＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜が用いられればよい。
【００２９】
図３に示されるように、読み出し素子４２では、上下１対の導電層すなわち下側電極層４３および上側電極層４４にトンネル接合磁気抵抗効果膜４５が挟み込まれる。下側電極層４３および上側電極層４４は例えばＦｅＮやＮｉＦｅといった磁性材料から構成されればよい。こうして下側電極層４３および上側電極層４４は下部シールド層および上部シールド層として機能することができる。その結果、下側電極層４３および上側電極層４４の間隔は磁気ディスク１４上で記録トラックの線方向に磁気記録の分解能を決定する。なお、読み出し素子４２にはＴＭＲ素子に代えていわゆるＣＩＰ構造巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）素子やＣＰＰ構造巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）素子が用いられてもよい。ＣＩＰ構造ＧＭＲ素子やＣＰＰ構造ＧＭＲ素子では磁気抵抗効果膜にスピンバルブ膜が用いられればよい。
【００３０】
書き込み素子４６すなわち単磁極ヘッドは、リアセンターレール３３の表面で露出する主磁極４７および補助磁極４８を備える。主磁極４７および補助磁極４８は例えばＦｅＮやＮｉＦｅといった磁性材料から構成されればよい。図４を併せて参照し、補助磁極４８の後端は主磁極４７に磁性連結片４９で接続される。磁性連結片４９周りで磁気コイルすなわち薄膜コイルパターン５１が形成される。こうして主磁極４７、補助磁極４８および磁性連結片４９は、薄膜コイルパターン５１の中心位置を貫通する磁性コアを形成する。なお、書き込み素子にはいわゆる薄膜磁気ヘッドが用いられてもよい。
【００３１】
次に浮上ヘッドスライダ２２の製造方法を詳述する。図５に示されるように、例えばアルチック製のウェハー５２が用意される。ウェハー５２の表面には、任意の行数および列数で複数個の電磁変換素子２７を含む電磁変換素子群５３が作り込まれる。ウェハー５２の表面で電磁変換素子群５３はアルミナ膜５４に埋め込まれる。その後、図６に示されるように、ウェハー５２の表面に直交する相互に平行な切断面でウェハー５２からバー５５が切り出される。こうして個々のバー５５ごとに規定の行数および列数の電磁変換素子２７が切り分けられる。一方の切断面５５ａに浮上ヘッドスライダ２２の媒体対向面２８が対応付けられる。
【００３２】
バー５５の切断面５５ａには研磨処理すなわちラッピング処理が施される。その結果、切断面５５ａで露出する最前列の電磁変換素子２７は研磨処理に曝される。このとき、所定位置の電磁変換素子２７の読み出し素子から読み出し信号が読み出される。こういった電磁変換素子２７には例えば１列の両端の電磁変換素子２７が採用されればよい。こうした読み出し信号に基づきラッピング処理の研磨量が調整される。その結果、最前列の電磁変換素子２７に含まれる読み出し素子の寸法は規定値に合わせ込まれることができる。ラッピング処理の詳細は後述される。
【００３３】
切断面５５ａには例えば炭素製保護膜すなわちダイヤモンドライクカーボンの硬質膜が積層される。その後、切断面５５ａで個々の浮上ヘッドスライダ２２に対応する区画ごとに媒体対向面２８が形作られる。例えばフォトリソグラフィ法に基づきフロントレール３２、リアセンターレール３３、リアサイドレール３４、３４、空気軸受け面３５、３６、３７、３７が形成される。こうして媒体対向面２８が形成されると、図７に示されるように、最前列の電磁変換素子２７を含むバー５６がバー５５から切り出される。続いて、図８に示されるように、バー５６から個々の浮上ヘッドスライダ２２は切り出される。
【００３４】
ここで、ラッピング処理を詳述する。まず、図９に示されるように、仮固定治具５７が用意される。この仮固定治具５７は治具本体５７ａを備える。治具本体５７ａには、相互に分断される平坦な仮固定面５８、５８…が形成される。仮固定面５８は１仮想平面内で規定される。分断にあたって仮固定面５８、５８同士の間にはブロック体５９が配置される。ブロック体５９の働きで個々の仮固定面５８上には溝６１が区画される。溝６１は相互に平行に延びる。溝６１の幅はバー５５の切断面同士の間隔に対応付けられる。溝６１の深さは、バー５５でウェハー５２の表面に対応する平面（以下、「表面対応平面」という。）と、ウェハー５２の裏面に対応する平面（以下、「裏面対応平面」という）との間隔、すなわち、ウェハー５２およびアルミナ膜５４の総厚みよりも小さく設定される。ここでは、表面対応平面はアルミナ膜５４の表面に相当する。
【００３５】
仮固定面５８には吸気口６２、６２…が区画される。治具本体５７ａの側面にはニップル６３が取り付けられる。ニップル６３の中空空間は個々の吸気口６２、６２…に接続される。ニップル６３には例えば負圧ポンプ（図示されず）の配管が接続される。負圧ポンプが作動すると、吸気口６２、６２…から空気は吸い込まれる。
【００３６】
治具本体５７ａの両側面には前述の仮想平面に直交する垂直方向に延びるガイド溝６４ａ、６４ｂが区画される。ガイド溝６４ａ、６４ｂは直方体の空間を区画する。当該空間の稜線は、仮固定面５８を含む仮想平面に直交する垂直方向に１直線に延びる。ガイド溝６４ａ、６４ｂの幅は相互に異なる。ガイド溝６４ａ、６４ｂの詳細は後述される。
【００３７】
図１０に示されるように、個々の溝６１には１つのバー５５が差し込まれる。バー５５の裏面対応平面は仮固定面５８に受け止められる。このとき、負圧ポンプが作動すると、個々の吸気口６２、６２…で負圧が発生する。バー５５は個々の溝６１ごとに仮固定面５８に吸着される。こうしてバー５５は仮固定面５８上に仮固定される。バー５５の表面対応平面はブロック体５９、５９同士の間でブロック体５９の表面から突き出る。
【００３８】
いま、溝６１の本数に対してバー５５の本数が足りない場面を想定する。両外側の溝６１から順番に溝６１にはバー５５が差し込まれる。全てのバー５５が差し込まれると、残りの溝６１にはダミーバーが差し込まれる。ダミーバーはバー５５の形状に形成される。ただし、ダミーバーは、バー５５の表面対応平面および裏面対応平面の間隔よりも狭い間隔で１対の平面を有する。ダミーバーは、一方の平面で仮固定面５８に受け止められる。こうしてバー５５およびダミーバーで全ての溝６１は塞がる。負圧ポンプが作動すると、バー５５およびダミーバーは個々の溝６１ごとに仮固定面５８に吸着される。こうしてバー５５およびダミーバーは仮固定面５８上に仮固定される。
【００３９】
個々のバー５５が対応の仮固定面５８に受け止められると、図１１に示されるように、個々のバー５５ごとに表面対応平面５５ｂの姿勢が測定される。姿勢の測定にあたってオートコリメーター６５が利用される。ここでは、表面対応平面５５ｂは、仮固定面５８を含む仮想平面６６に平行に配置されなければならない。したがって、オートコリメーター６５の光軸は仮想平面６６に直交する。仮固定面５８を含む仮想平面６６に対して表面対応平面５５ｂの傾斜が確認されると、バー５５は溝６１から取り外される。溝６１の清掃後、再びバー５５は溝６１に差し込まれる。ウェハー５２およびアルミナ膜５４の寸法精度並びに仮固定面５８の平面度は極めて高く設定されることから、清掃に応じて微小な塵埃が溝６１から排除されると、表面対応平面５５ｂおよび仮固定面５８の平行関係は比較的に簡単に確立されることができる。
【００４０】
次に、図１２に示されるように、支持治具６７が用意される。支持治具６７には平坦な固定面６７ａが規定される。固定面６７ａの外周には途切れなく溝６７ｂが形成される。固定面６７ａには熱可塑性接着剤が塗布される。支持治具６７は加熱されることから、接着剤は流動性を有する。溝６７ｂの周囲には平坦な装着面６８が規定される。装着面６８には少なくとも２つのガイド孔６８ａおよび２つのネジ穴６８ｂが形成される。装着面６８は固定面６７ａに平行に規定される仮想平面内で広がる。支持治具６７の加熱にあたって支持治具６７は例えば加熱ユニット（図示されず）上に設置されればよい。加熱ユニットでは例えば電熱線の働きで電気エネルギーが熱エネルギーに変換されればよい。
【００４１】
続いて、図１３に示されるように、支持治具６７には枠型のガイド治具６９が重ね合わせられる。ガイド治具６９は支持治具６７の装着面６８に受け止められる。ガイド治具６９の重ね合わせにあたって、支持治具６７のガイド孔６８ａにはガイド治具６９の位置決めピン（図示されず）が差し込まれる。こうしてガイド治具６９の窓孔７１は支持治具６７の固定面６７ａに位置合わせされる。窓孔７１の周縁から内側に向かってガイド片７２ａ、７２ｂが突き出る。個々のガイド片７２ａ、７２ｂは、固定面６７ａに直交する垂直方向に延びる稜線を備える。ガイド治具６９は支持治具６７に固定される。固定にあたってガイド治具６９のネジ７３は支持治具６７のネジ穴６８ｂにねじ込まれる。こういったガイド治具６９の装着にあたって支持治具６７の加熱は維持される。接着剤の流動性は維持される。
【００４２】
続いて、図１４に示されるように、支持治具６７上でガイド治具６９に前述の仮固定治具５７が装着される。装着にあたって仮固定面５８は固定面６７ａに向き合わせられる。その結果、仮固定面５８上のバー５５（またはダミーバー）は表面対応平面で固定面６７ａ上の接着剤に向き合わせられる。仮固定治具５７の治具本体５７ａはガイド治具６９の窓孔７１に差し込まれる。ガイド片７２ａはガイド溝６４ａに進入する。ガイド片７２ｂはガイド溝６４ｂに進入する。こうして仮固定治具５７の変位は固定面６７ａに直交する垂直方向に案内される。バー５５の表面対応平面は固定面６７ａ上の接着剤に接触する。こういったガイド治具６９の装着にあたって支持治具６７の加熱は維持される。接着剤の流動性は維持される。
【００４３】
このとき、仮固定治具５７では例えば治具本体５７ａに対して仮固定面５８を含む仮想平面６６の姿勢変化が許容される。仮想平面６６の姿勢変化にあたって例えば４本のネジ７４が利用される。個々のネジ７４の軸心は固定面６７ａに直交する垂直方向に延びる。個々のネジ７４は回転自在かつ進退不能に治具本体５７ａに連結される。個々のネジ７４のネジ山は仮想平面６６（すなわち仮想平面６６を区画する部材）にねじ込まれる。こうして個々のネジ７４の回転に基づきネジ７４の軸心に沿って仮想平面６６の進退移動が実現される。
【００４４】
仮固定治具５７には調整用反射面７５が形成される。この調整用反射面７５は仮固定面５８を含む仮想平面６６に対して所定の姿勢を維持する。ここでは、調整用反射面７５は仮想平面６６に平行に広がる。仮想平面６６の姿勢変化は調整用反射面７５の姿勢変化に現れる。
【００４５】
個々のバー５５が固定面６７ａ上の接着剤に接触すると、図１５に示されるように、調整用反射面７５の姿勢が測定される。姿勢の測定にあたってオートコリメーター６５が利用される。ここでは、仮固定面５８を含む仮想平面６６は固定面６７ａに平行に配置されなければならない。したがって、オートコリメーター６５の光軸は固定面６７ａに直交する。固定面６７ａに対して調整用反射面７５すなわち仮想平面６６の傾斜が確認されると、ネジ７４の回転に基づき仮固定治具５７の姿勢は調整される。こうして固定面６７ａおよび仮想平面６６すなわち仮固定面５８の間で平行関係は確立される。こういった平行関係の確立にあたって支持治具６７の加熱は維持される。接着剤の流動性は維持される。
【００４６】
ここでは、バー５５同士の間には所定の間隔が設定されることから、例えば仮固定治具５７の仮固定面５８が固定面６７ａに向き合わせられる際に特定のバー５５と固定面６７ａとの間にコンタミネーションが挟まれても、固定面６７ａに対して仮固定面５８の角度変化量は抑制されることができる。したがって、仮固定治具５７の姿勢の調整にあたって調整量はできる限り低減されることができる。その結果、調整の作業の負担は軽減されることができる。しかも、ガイド片７２ａ、７２ｂとガイド溝６４ａ、６４ｂとの間で遊びは極力縮小されることができる。その一方で、複数本のバー５５同士が隙間なく並列に並べられる場合には、特定のバー５５と固定面６７ａとの間にコンタミネーションが挟み込まれると、固定面６７ａに対して仮固定面５８の角度変化量は増大する。したがって、仮固定治具５７の姿勢の調整にあたって調整量は増大してしまう。
【００４７】
固定面６７ａおよび仮固定面５８の間で平行関係が確立されると、支持治具６７は冷却される。接着剤の硬化が促される。冷却にあたって、図１６に示されるように、仮固定治具５７には仮固定面５８に向かって押し付け力７６が加えられる。こうして個々のバー５５は接着剤に馴染むことができる。押し付け力７６はバー５５の本数に応じて調整される。ガイド片７２ａ、７２ｂおよびガイド溝６４ａ、６４ｂの働きで仮固定治具５７の変位は固定面に直交する垂直方向に拘束されることから、個々のバー５５には均等に押し付け力７６が分配される。押し付け力７６の適用にあたっていわゆる加圧ユニット（図示される）が用いられる。加圧ユニットでは例えば電動モーターの働きで押し付け力が生成されればよい。
【００４８】
例えば図１７に示されるように、接着剤の硬化にあたってガイド治具６９の表面には複数枚の放熱フィン７７が取り付けられてもよい。放熱フィン７７は例えば銅といった高い熱伝導性を有する材料から形成されればよい。放熱フィン７７は固定面５８の冷却を促進することができる。接着剤の硬化時間は短縮されることができる。放熱フィン７７は例えばガイド治具６９の表面から垂直方向に立ち上がればよい。放熱フィン７７は窓孔７１から外側に向かって延びればよい。
【００４９】
接着剤が硬化すると、負圧ポンプの動作は止められる。個々のバー５５は吸気口６２、６２…の負圧から解放される。続いて、図１８に示されるように、支持治具６７からガイド治具６９が取り外される。ガイド治具６９とともに仮固定治具５７は取り外される。固定面６７ａには接着剤の働きでバー５５が固定される。
【００５０】
支持治具６７は研削加工機（図示されず）の研削ステージに搭載される。搭載にあたって例えば支持治具６７のガイド孔６８ａには研削ステージ上の位置決めピン（図示されず）が差し込まれる。位置決めピンは研削ステージの水平面から垂直方向に立ち上がればよい。こうして研削ステージ上で支持治具６７は位置合わせられる。このとき、図１９に示されるように、研削ステージ７８の水平面７８ａ上でバー５５の傾きが測定される。傾きの測定にあたってオートコリメーター６５が利用される。ここでは、少なくともバー５５の長手方向にバー５５の傾きは解消されなければならない。すなわち、個々のバー５５ごとに仮想水平面７９に平行な水平姿勢が確立されなければならない。したがって、オートコリメーター６５の光軸は研削加工機内の仮想水平面７９に直交する。仮想水平面７９に対してバー５５の傾きが確認されると、ネジ８１の回転に基づき支持治具６７の傾きすなわちバー５５の傾きは解消される。ネジ８１は例えばバー５５の長手方向延長線上に配置される。個々のネジ８１の軸心は水平面に直交する垂直方向に延びる。ネジ８１は支持治具６７のネジ孔６８ｂにねじ込まれる。ネジ８１の先端は研削ステージ７８上の水平面７８ａに突き当てられる。こうしてネジ８１の回転に基づき支持治具６７の傾きは解消されることができる。
【００５１】
その後、図２０に示されるように、個々のバー５５に裏面対応平面５５ｃから研削処理が実施される。研削にあたって砥石車８２が用いられる。砥石車８２はバー５５の長手方向に延びる回転軸８３回りで回転する。砥石車８２の端面には砥面８２ａが形成される。砥面８２ａはバー５５の短手方向にこすられる。同時に、砥石車８２はバー５５の短手方向に送られる。こうしてバー５５の短手方向に砥石車８２が送られると、バー５５の短手方向に形状の起伏が抑制される。砥石車８２の送りにあたって研削ステージ７８に対して砥石車８２が移動してもよく砥石車８２に対して研削ステージ７８が移動してもよい。砥石車８２の送りに基づきバー５５の短手方向に一連のバー５５に研削処理が完了すると、砥石車８２の位置はバー５５の長手方向に移動する。こうして再びバー５５の短手方向に砥石車８２の送りが実施される。こういった送りおよび移動が繰り返されると、個々のバー５５ごとにその長手方向に研削は完了する。研削完了後、バー５５の取り外しに先立ってバー５５の裏面対応平面５５ｃはラップ定盤上でラッピングされることが望まれる。
【００５２】
その後、図２１に示されるように、個々のバー５５は支持治具６７から取り外される。取り外しにあたって支持治具６７は加熱される。加熱に基づき接着剤は軟化する。こうしてバー５５は支持治具６７の固定面６７ａから取り外される。
【００５３】
その後、図２２に示されるように、バー５５は個別にラッピング処理用の加工治具８４に接着される。接着にあたってバー５５は他の切断面（切断面５５ａの裏面）で加工治具８４の接着面８４ａに受け止められる。接着面８４ａには例えば熱可塑性接着剤８５が塗布される。加工治具８４は加熱される。熱可塑性接着剤８５の流動性は維持される。
【００５４】
このとき、媒体対向面２８に対応付けられる切断面５５ａと加工治具８４の接着面８４ａとの間には正確に平行関係が確立されなければならない。こういった平行関係の確立にあたって位置決め治具８６が利用される。位置決め治具８６は、接着面８４ａに直交する平面８６ａを区画する。この位置決め治具８６の平面８６ａにバー５５の裏面対応平面５５ｃが押し当てられる。押し当てが維持されつつ熱可塑性接着剤８５は冷却される。熱可塑性接着剤８５は硬化する。
【００５５】
図２３に示されるように、バー５５の切断面５５ａはラップ定盤８７に押し付けられる。ラップ定盤８７は回転軸回りで回転する。こうしてバー５５の切断面５５ａにはラッピング処理が施される。電磁変換素子２７は研磨処理に曝される。前述のように、研磨処理にあたって電磁変換素子２７の読み出し素子４２から読み出し信号が読み出される。読み出し信号に基づき読み出し素子４２の寸法は規定値に合わせ込まれる。このとき、バー５５の切断面５５ａは加工治具８４の接着面８４ａに対して正確に平行関係を確立することから、読み出し素子４２の研磨量と書き込み素子４６の研磨量は一致する。書き込み素子４６の寸法は同時に規定値に合わせ込まれることができる。
【００５６】
本発明者は前述の研削処理の効果を検証した。砥石車８２はバー５５の長手方向に延びる回転軸８３回りで回転すると同時に砥石車８２はバー５５の短手方向に送られた。その結果、図２４に示されるように、表面の起伏は抑制された。バー５５の短手方向に接着面８４ａおよび切断面５５ａの間で角度の精度は±０．０２度程度に収まった。本発明者は比較例に係る研削処理を検証した。この比較例では砥石車はバー５５の短手方向に延びる回転軸で回転すると同時に砥石車はバー５５の長手方向に送られた。その結果、図２５に示されるように、前述の研削処理に係るバー５５に比べて３倍程度の起伏が確認された。バー５５の短手方向に接着面８４ａおよび切断面５５ａの間で角度の精度は±０．１度程度に留まった。なお、図２４および図２５では縦軸の１目盛りは２［μｍ］を規定する。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】記憶媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の内部構造を概略的に示す平面図である。
【図２】一具体例に係る浮上ヘッドスライダを概略的に示す拡大斜視図である。
【図３】媒体対向面から観察される電磁変換素子を概略的に示す電磁変換素子の正面図である。
【図４】図３の４−４線に沿った断面図である。
【図５】ウェハー上に形成された電磁変換素子群を概略的に示すウェハーの斜視図である。
【図６】ウェハーから切り出されるバーを概略的に示す拡大斜視図である。
【図７】バーから切り出されるバーを概略的に示す拡大斜視図である。
【図８】バーから切り出される浮上ヘッドスライダを概略的に示す拡大斜視図である。
【図９】仮固定治具の斜視図である。
【図１０】バーを受け止める仮固定治具を概略的に示す斜視図である。
【図１１】個々のバーごとに表面対応平面の姿勢を測定する工程を概略的に示す側面図である。
【図１２】支持治具の斜視図である。
【図１３】支持治具に装着されたガイド治具の斜視図である。
【図１４】支持治具上のガイド治具に装着された仮固定治具の斜視図である。
【図１５】仮固定治具の姿勢を調整する工程を概略的に示す部分断面側面図である。
【図１６】固定面上の接着剤を冷却する工程を概略的に示す部分断面側面図である。
【図１７】ガイド治具に取り付けられる放熱フィンを概略的に示す部分断面側面図である。
【図１８】固定面上に接着されたバーを支持する支持治具の斜視図である。
【図１９】研削ステージ上で支持治具の姿勢を調整する工程を概略的に示す部分断面側面図である。
【図２０】支持治具上のバーに施される研削処理を概略的に示す斜視図である。
【図２１】支持治具から取り外されたバーを示す斜視図である。
【図２２】ラッピング処理用の加工治具に接着されるバーを示す斜視図である。
【図２３】バーのラッピング処理を概略的に示す側面図である。
【図２４】本発明の一具体例に係る研削処理の検証結果を示すグラフである。
【図２５】比較例に係る研削処理の検証結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５８】
２２  ヘッドスライダ、２７  ヘッド素子（電磁変換素子）、２８  媒体対向面、４２  読み出し素子、５２  ウェハー、５３  ヘッド素子（電磁変換素子群）、５５  バー、５５ａ  一方の切断面、５５ｃ  裏面対応平面、５７  仮固定治具、５８  仮固定面、６７  支持治具、６７ａ  固定面、６９  ガイド治具、７５  調整用反射面、８２  砥石車、８２ａ  砥面、８３  回転軸。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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