(57)【要約】【課題】マスクの保管スペースや管理コストを低減させるとともに、描画データの作成にかかる負担も低減させることができるパターン描画装置のデータ管理装置および当該データ管理装置を含むパターン描画システムを提供する。【解決手段】データ管理装置３は、マスクＭ毎に付与された識別子ではなく、マスクＭのレイアウトパターン毎に付与された識別子ｉｄ２に基づいて複数枚のマスクＭを区別して管理する。このため、複数枚のマスクＭについてそれぞれ予備のマスクＭを用意しておく必要はなく、マスクの保管スペースや管理コストを低減させることができる。また、描画データＤ３中においても、同一のレイアウトパターンＰ２を有するマスクＭは同一の識別子ｉｄ２で指定されるため、描画データＤ３の作成にかかる負担も低減させることができる。【選択図】図１
2009134101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光部および遮光部により形成されたレイアウトパターンを有するマスクを複数枚搭載し、各マスクを介して基板の上面に光を照射することにより、基板上の感光材料にパターンを描画するパターン描画装置に接続されるデータ管理装置であって、
マスク上のレイアウトパターンを示すレイアウトデータを作成するレイアウトデータ作成部と、
前記レイアウトデータ作成部において作成されたレイアウトデータ毎に固有の第１識別子を発行する第１識別子発行手段と、
使用すべきマスクを指定する情報として前記第１識別子を保持する描画データを作成し、前記パターン描画装置に前記描画データを提供する描画データ作成部と、
を備えたことを特徴とするデータ管理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のデータ管理装置であって、
前記パターン描画装置に搭載される複数枚のマスクは、同一のレイアウトパターンを有することを特徴とするデータ管理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のデータ管理装置であって、
前記レイアウトパターンは複数の単位パターン群の集合であり、
前記描画データ作成部は、前記第１識別子と、前記第１識別子により指定されるレイアウトパターン中の所望の単位パターン群の位置を示す情報とを含む前記描画データを作成することを特徴とするデータ管理装置。
【請求項４】
請求項３に記載のデータ管理装置であって、
前記単位パターン群を構成する複数種類の単位パターンのデータを記憶するデータ記憶手段を更に備え、
前記レイアウトデータ作成部は、前記記憶手段から前記単位パターンのデータを読み出して前記レイアウトデータを作成することを特徴とするデータ管理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれかに記載のデータ管理装置と、前記パターン描画装置と、複数枚のマスクを作製するマスク作製装置とを備えたパターン描画システムであって、
前記マスク作製装置は、前記レイアウトデータ作成部から提供されるレイアウトデータに基づいて複数枚のマスクを作製し、
前記パターン描画装置は、前記描画データ作成部から提供される描画データに従って描画処理を行うことを特徴とするパターン描画システム。
【請求項６】
請求項５に記載のパターン描画システムであって、
前記マスク作製装置は、作製された複数枚のマスクに対して、前記第１識別子を含む第２識別子を記録し、
前記パターン描画装置は、
自身に搭載されるマスクに記録された第２識別子を読み取る読み取り部と、
前記読み取り部により読み取られた第２識別子から第１識別子を抽出し、描画データ中において指定された第１識別子と一致するかどうかを判定する判定部と、
を有することを特徴とするパターン描画システム。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載のパターン描画システムであって、
前記パターン描画装置は、
同一のレイアウトパターンを有する複数枚のマスクを収納するマスク収納部と、
前記マスク収納部から複数の光学ヘッドにそれぞれマスクを搬送するマスク搬送部と、
を有することを特徴とするパターン描画システム。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン描画システムであって、
前記マスク収納部は、前記複数枚のマスクと同一のレイアウトパターンを有する予備のマスクを更に収納可能であり、
前記マスク搬送部は、前記複数の光学ヘッドのいずれかにおいてマスクの異常が検知されると、当該光学ヘッドに搭載されたマスクと前記予備のマスクとを交換することを特徴とするパターン描画システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ用ガラス基板、フラットパネルディスプレイ（液晶表示装置，プラズマ表示装置等）用ガラス基板、半導体基板、プリント基板等の基板の上面に、マスクを介して光を照射することによりパターンを描画するパターン描画装置のデータ管理装置および当該データ管理装置を含むパターン描画システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の部品であるカラーフィルタの製造工程においては、マスクを介して基板の上面に光を照射することにより、基板上の感光材料にパターンを描画するパターン描画装置が使用されている。従来のパターン描画装置は、基板を水平姿勢で保持しつつ移動させるステージと、マスクを介して基板の上面に光を照射する複数の光学ヘッドとを備え、基板を移動させつつ複数の光学ヘッドからそれぞれ光照射を行うことにより、基板の上面に規則性パターンを描画する。
【０００３】
このようなパターン描画装置において、従来では、使用される複数枚のマスクにそれぞれ固有の識別子が付与されており、当該識別子により複数枚のマスクの管理が行われていた。すなわち、従来のパターン描画装置は、描画処理を行うときに、各光学ヘッドに搭載されるマスクの識別子が描画データ中において指定された識別子に一致するかどうかを確認し、一致する場合にのみ描画処理を実行するようになっていた。
【０００４】
従来のパターン描画装置の構成については、例えば特許文献１に開示されている。また、複数枚のマスクに対してそれぞれ固有の識別子を付与する技術については、例えば特許文献２に開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３４５５８２号公報
【特許文献２】特開２００３−１２１９８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、従来のパターン描画装置では、マスク毎に付与された識別子に基づいて複数枚のマスクの管理が行われていた。このため、例えば、複数枚のマスクに同一のパターンが形成されている場合であっても、マスク毎に異なる識別子が付与され、それぞれ別個のマスクとして装置に認識されるようになっていた。
【０００７】
しかしながら、このような管理形態では、マスクの破損や劣化に備えて予備のマスクを用意しようとすると、各光学ヘッドに搭載されるマスクについて、それぞれ予備のマスクを用意しておかなければならず、マスクの保管スペースや管理コストが増大するという問題があった。また、描画データには、パターン描画装置に搭載されるマスクの数だけ識別子を組み込む必要があり、光学ヘッドに搭載されるマスクを識別子の異なるマスクに交換したときには、その都度描画データを再作成しなければならないという問題もあった。
【０００８】
特に、近年では、基板サイズの大型化に伴い、パターン描画装置における光学ヘッドの数も増加する傾向にある。このため、上記の問題はより深刻な問題となってきている。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、マスクの保管スペースや管理コストを低減させるとともに、描画データの作成にかかる負担も低減させることができるパターン描画装置のデータ管理装置および当該データ管理装置を含むパターン描画システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、透光部および遮光部により形成されたレイアウトパターンを有するマスクを複数枚搭載し、各マスクを介して基板の上面に光を照射することにより、基板上の感光材料にパターンを描画するパターン描画装置に接続されるデータ管理装置であって、マスク上のレイアウトパターンを示すレイアウトデータを作成するレイアウトデータ作成部と、前記レイアウトデータ作成部において作成されたレイアウトデータ毎に固有の第１識別子を発行する第１識別子発行手段と、使用すべきマスクを指定する情報として前記第１識別子を保持する描画データを作成し、前記パターン描画装置に前記描画データを提供する描画データ作成部と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載のデータ管理装置であって、前記パターン描画装置に搭載される複数枚のマスクは、同一のレイアウトパターンを有することを特徴とする。
【００１２】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載のデータ管理装置であって、前記レイアウトパターンは複数の単位パターン群の集合であり、前記描画データ作成部は、前記第１識別子と、前記第１識別子により指定されるレイアウトパターン中の所望の単位パターン群の位置を示す情報とを含む前記描画データを作成することを特徴とする。
【００１３】
請求項４に係る発明は、請求項３に記載のデータ管理装置であって、前記単位パターン群を構成する複数種類の単位パターンのデータを記憶するデータ記憶手段を更に備え、前記レイアウトデータ作成部は、前記記憶手段から前記単位パターンのデータを読み出して前記レイアウトデータを作成することを特徴とする。
【００１４】
請求項５に係る発明は、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のデータ管理装置と、前記パターン描画装置と、複数枚のマスクを作製するマスク作製装置とを備えたパターン描画システムであって、前記マスク作製装置は、前記レイアウトデータ作成部から提供されるレイアウトデータに基づいて複数枚のマスクを作製し、前記パターン描画装置は、前記描画データ作成部から提供される描画データに従って描画処理を行うことを特徴とする。
【００１５】
請求項６に係る発明は、請求項５に記載のパターン描画システムであって、前記マスク作製装置は、作製された複数枚のマスクに対して、前記第１識別子を含む第２識別子を記録し、前記パターン描画装置は、自身に搭載されるマスクに記録された第２識別子を読み取る読み取り部と、前記読み取り部により読み取られた第２識別子から第１識別子を抽出し、描画データ中において指定された第１識別子と一致するかどうかを判定する判定部と、を有することを特徴とする。
【００１６】
請求項７に係る発明は、請求項５または請求項６に記載のパターン描画システムであって、前記パターン描画装置は、同一のレイアウトパターンを有する複数枚のマスクを収納するマスク収納部と、前記マスク収納部から複数の光学ヘッドにそれぞれマスクを搬送するマスク搬送部と、を有することを特徴とする。
【００１７】
請求項８に係る発明は、請求項７に記載のパターン描画システムであって、前記マスク収納部は、前記複数枚のマスクと同一のレイアウトパターンを有する予備のマスクを更に収納可能であり、前記マスク搬送部は、前記複数の光学ヘッドのいずれかにおいてマスクの異常が検知されると、当該光学ヘッドに搭載されたマスクと前記予備のマスクとを交換することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１〜８に記載の発明によれば、データ管理装置は、マスク上のレイアウトパターンを示すレイアウトデータを作成するレイアウトデータ作成部と、レイアウトデータ作成部において作成されたレイアウトデータ毎に固有の第１識別子を発行する第１識別子発行手段と、使用すべきマスクを指定する情報として第１識別子を保持する描画データを作成し、パターン描画装置に描画データを提供する描画データ作成部と、を備える。すなわち、本発明のデータ管理装置は、マスク毎に付与された識別子ではなく、レイアウトデータ毎に付与された識別子により複数枚のマスクを区別して管理する。このため、複数枚のマスクについてそれぞれ予備のマスクを用意しておく必要はなく、マスクの保管スペースや管理コストを低減させることができる。また、描画データ中においても、同一のレイアウトパターンを有するマスクは同一の識別子で指定されるため、描画データの作成にかかる負担も低減させることができる。
【００１９】
特に、請求項２に記載の発明によれば、パターン描画装置に搭載される複数枚のマスクは、同一のレイアウトパターンを有する。このため、パターン描画装置に搭載される複数枚のマスクを１つの識別子で管理することができる。
【００２０】
特に、請求項３に記載の発明によれば、レイアウトパターンは複数の単位パターン群の集合であり、描画データ作成部は、第１識別子と、第１識別子により指定されるレイアウトパターン中の所望の単位パターン群の位置を示す情報とを含む描画データを作成する。このため、マスク上に形成される複数の単位パターン群のうち、所望の単位パターン群を選択的に使用して描画処理を行うことができる。
【００２１】
特に、請求項４に記載の発明によれば、データ管理装置は、単位パターン群を構成する複数種類の単位パターンのデータを記憶するデータ記憶手段を更に備え、レイアウトデータ作成部は、記憶手段から単位パターンのデータを読み出してレイアウトデータを作成する。このため、所望の単位パターンを組み合わせてレイアウトパターンを作成することができる。
【００２２】
特に、請求項５に記載の発明によれば、パターン描画システムは、データ管理装置と、パターン描画装置と、複数枚のマスクを作製するマスク作製装置とを備え、マスク作製装置は、レイアウトデータ作成部から提供されるレイアウトデータに基づいて複数枚のマスクを作製し、パターン描画装置は、描画データ作成部から提供される描画データに従って描画処理を行う。このため、レイアウトデータに基づいて作製された複数枚のマスクと、レイアウトデータの第１識別子を含む描画データとを使用して、適切に描画処理を行うことができる。
【００２３】
特に、請求項６に記載の発明によれば、マスク作製装置は、作製された複数枚のマスクに対して、第１識別子を含む第２識別子を記録し、パターン描画装置は、自身に搭載されるマスクに記録された第２識別子を読み取る読み取り部と、読み取り部により読み取られた第２識別子から第１識別子を抽出し、描画データ中において指定された第１識別子と一致するかどうかを判定する判定部と、を有する。このため、パターン描画装置は、使用されるマスクのレイアウトパターンが正しいことを確認の上、描画処理を実行することができる。
【００２４】
特に、請求項７に記載の発明によれば、パターン描画装置は、同一のレイアウトパターンを有する複数枚のマスクを収納するマスク収納部と、マスク収納部から複数の光学ヘッドにそれぞれマスクを搬送するマスク搬送部と、を有する。このため、パターン描画装置は、同一のレイアウトパターンを有するマスクを各光学ヘッドに自動的に搭載することができる。
【００２５】
特に、請求項８に記載の発明によれば、マスク収納部は、複数枚のマスクと同一のレイアウトパターンを有する予備のマスクを更に収納可能であり、マスク搬送部は、複数の光学ヘッドのいずれかにおいてマスクの異常が検知されると、当該光学ヘッドに搭載されたマスクと予備のマスクとを交換する。このため、一部のマスクに異常が発生したときにも、当該マスクを予備のマスクに自動的に交換して描画処理を続行させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２７】
＜１．パターン描画システムの全体構成＞
図１は、本発明の一実施形態に係るパターン描画システム１００の全体構成を示した図である。このパターン描画システム１００は、液晶表示装置の部品であるカラーフィルタを製造する工程において、カラーフィルタ用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）９の上面に規則性パターンを形成するために使用される製造システムである。図１に示したように、パターン描画システム１００は、基板９の上面に規則性パターンを描画するパターン描画装置１と、パターン描画装置１に搭載される複数枚のマスクＭを作製するマスク作製装置２と、パターン描画装置１およびマスク作製装置２に電気的に接続されたデータ管理装置３とを備えている。
【００２８】
データ管理装置３は、パターン描画装置１およびマスク作製装置２において使用される種々のデータを管理し、パターン描画装置１およびマスク作製装置２に対して、それぞれ必要なデータＤ２，Ｄ３を提供する。マスク作製装置２は、データ管理装置３から提供されたデータ（後述する「レイアウトデータ」）Ｄ２に基づいて複数枚のマスクＭを作製する。マスク作製装置２において作製された複数枚のマスクＭは、所定のカセットＣに収納され、パターン描画装置１にセットされる。また、パターン描画装置１は、カセットＣから複数枚のマスクＭを取り出して当該マスクを装置内の所定の位置に搭載し、データ管理装置３から提供されたデータ（後述する「描画データ」）Ｄ３に基づいて動作することにより、基板９の上面に規則性パターンを描画する。
【００２９】
＜２．パターン描画装置の構成＞
図２および図３は、パターン描画装置１の詳細な構成を示した側面図および上面図である。なお、図２および図３には、各部材の位置関係や動作方向を明確化するために、共通のＸＹＺ直交座標系が付されている。図２および図３に示したように、パターン描画装置１は、主として、基板９を保持するためのステージ１０と、ステージ１０に連結されたステージ移動機構２０と、マスクＭを介して基板９の上面にパルス光を照射するヘッド部３０とを備えている。
【００３０】
ステージ１０は、平板状の外形を有し、その上面に基板９を水平姿勢に載置して保持するための部位である。ステージ１０は、例えば、大理石等の石材により構成される。ステージ１０の上面には、複数の吸引孔（図示省略）が形成されている。このため、ステージ１０上に載置された基板９は、複数の吸引孔の吸引圧によりステージ１０の上面に固定保持される。なお、本実施形態において描画処理の対象となる基板９の上面には、フォトレジスト等の感光材料により構成された感光層が予め形成されている。
【００３１】
ステージ移動機構２０は、ステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）、および回転方向（Ｚ軸周りの回転方向）に移動させるための機構である。ステージ移動機構２０は、ステージ１０を回転させる回転機構２１と、ステージ１０を回転可能に支持する支持プレート２２と、支持プレート２２を副走査方向に移動させる副走査機構２３と、副走査機構２３を介して支持プレート２２を支持するベースプレート２４と、ベースプレート２４を主走査方向に移動させる主走査機構２５と、を有している。
【００３２】
回転機構２１は、ステージ１０の−Ｙ側の端部に取り付けられた移動子と、支持プレート２２の上面に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２１ａを有している。また、ステージ１０の下面中央部と支持プレート２２との間には回転軸２１ｂが設けられている。このため、リニアモータ２１ａを動作させると、固定子に沿って移動子が副走査方向に移動し、支持プレート２２上の回転軸２１ｂを中心としてステージ１０が所定角度の範囲内で回転する。
【００３３】
副走査機構２３は、支持プレート２２の下面に取り付けられた移動子とベースプレート２４の上面に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２３ａを有している。また、支持プレート２２とベースプレート２４との間には、副走査方向にのびる一対のガイド部２３ｂが設けられている。このため、リニアモータ２３ａを動作させると、ベースプレート２４上のガイド部２３ｂに沿って支持プレート２２が副走査方向に移動する。
【００３４】
主走査機構２５は、ベースプレート２４の下面に取り付けられた移動子と本装置１の基台２９上に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２５ａを有している。また、ベースプレート２４と基台２９との間には、主走査方向にのびる一対のガイド部２５ｂが設けられている。このため、リニアモータ２５ａを動作させると、基台２９上のガイド部２５ｂに沿ってベースプレート２４が主走査方向に移動する。
【００３５】
ヘッド部３０は、ステージ１０上に保持された基板９の上面に向けてパルス光を照射するための部位である。ヘッド部３０は、ステージ１０およびステージ移動機構２０を跨ぐようにして基台２９上に架設されたフレーム３１と、フレーム３１上に副走査方向に沿って等間隔に取り付けられた複数の光学ヘッド３２とを有している。複数の光学ヘッド３２には、照明光学系３３を介して１つのレーザ発振器３４が接続されている。また、レーザ発振器３４には、レーザ発振器３４のオンオフ駆動を行うレーザ駆動部３５が接続されている。レーザ駆動部３５を動作させると、レーザ発振器３４からパルス光が発振され、当該パルス光は照明光学系３３を介して各光学ヘッド３２の内部に導入される。
【００３６】
各光学ヘッド３２の内部には、照明光学系３３から導入されたパルス光を下方へ向けて出射する出射部３２１と、パルス光を部分的に遮光するマスクユニット３２２と、マスクユニット３２２を通過した光束を基板９の上面に照射する投影光学系３２３とが設けられている。マスクユニット３２２には、所定の透遮光パターンを有するガラス板であるマスクＭが搭載されている。出射部３２１から出射されたパルス光は、マスクユニット３２２を通過する際にマスクＭ上のパターンに応じて遮光され、所定のパターン形状に成形された光束として投影光学系３２３へ入射する。そして、投影光学系３２３を通過したパルス光が基板９の上面に照射され、基板９上の感光層を露光することにより、基板９の上面にパターンが描画される。
【００３７】
図４は、マスクユニット３２２に搭載されるマスクＭの例を示した図である。図４に示したように、マスクＭには複数（図４の例では５つ）のパターン群（以下、「スリットパターン群」という。）Ｐ１（単位パターン群）が形成されている。各スリットパターン群Ｐ１は、図中の破線囲み内において拡大して示したように、複数のスリットパターンｐ（単位パターン）を規則的に配列したパターン群となっている。そして、マスクＭ上に形成された複数のスリットパターン群Ｐ１の集合として、１つのレイアウトパターンＰ２が構成されている。また、マスクＭの隅部には、後述するマスク識別子ｉｄ３を示すバーコードＢが記録されている。マスクＭは、複数のスリットパターン群Ｐ１の配列方向が主走査方向と一致するように、マスクユニット３２２に搭載される。
【００３８】
図２中に概念的に示したように、パターン描画装置１は、マスクＭを主走査方向に移動させるマスク移動機構３２４を有している。マスク移動機構３２４は、例えば、マスクを保持する保持具をリニアモータ等の駆動手段により移動させる機構として構成することができる。パターン描画装置１は、マスク移動機構３２４を動作させて、マスクＭの主走査方向の位置を調整することにより、マスクＭ上に形成された複数のスリットパターン群Ｐ１のうちのいずれか１つをパルス光の照射領域に位置させる。そして、当該スリットパターン群Ｐ１を介してパルス光を照射することにより、基板９の上面にスリットパターン群Ｐ１を投影する。
【００３９】
また、図３に示したように、パターン描画装置１は、複数枚のマスクＭを収納可能なカセットＣを載置するカセット台３６を備えている。パターン描画装置１にマスクＭを搭載するときには、まず、複数枚のマスクＭを収納したカセットＣが、カセット台３６上に載置される。そして、マスク搬送機構３７によりカセットＣからマスクＭが１枚ずつ取り出され、取り出されたマスクＭが各マスクユニット３２２へ搬送される。また、使用済みのマスクＭを回収するときには、マスク搬送機構３７により各マスクユニット３２２からマスクＭが取り出され、当該マスクＭがカセット台３６上のカセットＣへ収納される。なお、カセット台３６には、カセットＣに収納された複数枚のマスクＭの各々に記録されたバーコードＢを読み取るバーコードリーダ３６１が設けられている。
【００４０】
複数の光学ヘッド３２は、副走査方向に沿って等間隔に（例えば２００ｍｍ間隔で）配列されている。ステージ１０を主走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２からパルス光を断続的に照射すると、マスクＭのスリットパターン群Ｐ１が基板９の上面に繰り返し投影され、図５に示したように、所定の露光幅Ｄ（例えば、５０ｍｍ幅）を有する複数本のパターン群が基板９の上面に描画される。パターン描画装置１は、１回の主走査方向への描画が完了すると、ステージ１０を副走査方向に露光幅Ｄ分だけ移動させ、ステージ１０を再び主走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２からパルス光を照射する。このように、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２の露光幅分ずつ基板９を副走査方向にずらしながら、主走査方向へのパターンの描画を所定回数（例えば４回）繰り返すことにより、図６に示したように、基板９の描画領域全面にカラーフィルタ用の規則性パターンを形成する。
【００４１】
また、このパターン描画装置１は、上記の構成に加えて制御部４０を備えている。図７は、パターン描画装置１の上記各部と制御部４０との間の接続構成を示したブロック図である。図７に示したように、制御部４０は、上記のリニアモータ２１ａ，２３ａ，２５ａ、照明光学系３３、レーザ駆動部３５、投影光学系３２３、マスク移動機構３２４、バーコードリーダ３６１、およびマスク搬送機構３７と電気的に接続されており、これらの動作を制御する。制御部４０は、例えば、ＣＰＵやメモリを有するコンピュータによって構成され、コンピュータにインストールされたプログラムに従ってコンピュータが動作することにより、上記各部の制御を行う。
【００４２】
＜３．データ管理装置の構成＞
図８は、データ管理装置３の構成を示したブロック図である。データ管理装置３は、例えば、ＣＰＵやメモリを有するコンピュータにより構成することができるが、複数台のコンピュータを互いに接続したシステムとして構成されていてもよい。データ管理装置３は、コンピュータが所定のプログラムに従って動作することにより実現されるデータ処理部として、パターンデータ管理部５０と、描画データ作成部６０とを備えている。また、データ管理装置３は、パターンデータ管理部５０および描画データ作成部６０との間で情報の入出力を行うユーザインタフェイス部７０（例えば、液晶ディスプレイとキーボード）を備えている。
【００４３】
パターンデータ管理部５０は、マスクＭの上面に形成される透遮光パターンに関するデータを管理するとともに、マスク作製装置２に対してマスクＭの作製に必要なデータを与えるためのデータ処理部である。図８に示したように、パターンデータ管理部５０は、主として、データ記憶部５１と、レイアウトデータ作成部５２とを有している。
【００４４】
データ記憶部５１は、マスクＭ上に形成される個々のスリットパターンｐ（図４参照）の形状を示すスリット形状データＤ１を記憶した記憶部である。データ記憶部５１は、具体的には、メモリやハードディスク等の記憶装置により構成される。データ記憶部５１には、スリットパターンｐとして使用され得る多数種類のスリット形状データＤ１が記憶されている。なお、これらのスリット形状データＤ１は、例えば、ＣＡＤデータとして外部装置から予め与えられ、データ記憶部５１に蓄積されている。図９は、データ記憶部５１に蓄積されたスリット形状データＤ１の例を示した図である。図９に示したように、複数のスリット形状データＤ１には、形状毎に固有のスリット形状識別子ｉｄ１（０００１，０００２，０００３，…）が付与されている。
【００４５】
レイアウトデータ作成部５２は、データ記憶部５１からスリット形状データＤ１を読み出し、マスクＭ上に形成すべきレイアウトパターンＰ２（図４参照）を示すレイアウトデータＤ２を作成する処理部である。使用されるスリット形状データＤ１やそれらの配列は、ユーザインタフェイス部７０からの操作入力により指定される。図１０は、レイアウトデータ作成部５２において作成されるレイアウトデータＤ２の例を示した図である。図１０の例では、レイアウトデータＤ２は、スリット形状識別子ｉｄ１が０００１，０００２，０００９，００１１，００１２の５つのスリット形状データＤ１をそれぞれ配列することによりスリットパターン群Ｐ１に相当するデータが構成され、それらが、それぞれ１〜５段目に配列されていることを表すデータとなっている。
【００４６】
レイアウトデータ作成部５２は、作成されたレイアウトデータＤ２に対して、固有のレイアウト識別子ｉｄ（第１識別子）２を発行する。図１０の例では、作成されたレイアウトデータＤ２に対して、レイアウト識別子ｉｄ２として「０００１」が付与されている。レイアウトデータ作成部５２は、作成されたレイアウトデータＤ２を、当該レイアウトデータＤ２に付与されたレイアウト識別子ｉｄ２とともに、マスク作製装置２に提供する。
【００４７】
また、レイアウトデータ作成部５２は、作成されたレイアウトデータＤ２について、レイアウトパターンＰ２中の位置（レイアウト位置）と、当該位置に配置されるスリットパターンｐのスリット形状識別子ｉｄ１との対応関係を示したレイアウト管理ファイルＦ１を作成する。図１１は、図１０のレイアウトデータＤ２について作成されたレイアウト管理ファイルＦ１の例を示した図である。図１１のレイアウト管理ファイルＦ１は、レイアウト識別子ｉｄ２が「０００１」であるレイアウトパターンＰ２の１〜５段目に、それぞれスリット形状識別子ｉｄ１が「０００１」，「０００２」，「０００９」，「００１１」，「００１２」のスリットパターンｐが配列されることを示す。レイアウト管理ファイルＦ１は、データ記憶部５１に保存され、ユーザインタフェイス部７０を介して作業者が適宜に参照可能な状態とされる。
【００４８】
一方、描画データ作成部６０は、パターン描画装置１を動作させるための描画データＤ３を作成する。描画データＤ３は、描画対象となるレイアウトパターンＰ２のレイアウト識別子ｉｄ２と、当該レイアウトパターンＰ２中の描画対象となるスリットパターン群Ｐ１のレイアウト位置を示す情報とを保持している。描画データＤ３に組み込まれるレイアウト識別子ｉｄ２やレイアウト位置の情報は、作業者が、ユーザインタフェイス部７０を介して上記のレイアウト管理ファイルＦ１を参照しつつ、操作入力を行うことにより指定される。
【００４９】
＜４．処理手順＞
続いて、上記のパターン描画システム１００における処理の流れについて、図１２のフローチャートを参照しつつ説明する。このパターン描画システム１００において基板９の上面にパターンを描画するときには、まず、データ管理装置３のレイアウトデータ作成部５２において、レイアウトデータＤ２を作成する（ステップＳ１）。具体的には、作業者が、ユーザインタフェイス部７０において操作入力を行うことにより、複数のスリット形状データＤ１とそれらのレイアウト位置とを指定する。レイアウトデータ作成部５２は、指定されたスリット形状データＤ１を指定されたレイアウト位置に配列して、レイアウトデータＤ２を作成する。また、レイアウトデータ作成部５２は、作成されたレイアウトデータＤ２に対して固有のレイアウト識別子ｉｄ２を発行する。そして、レイアウトデータ作成部５２は、レイアウトデータＤ２を、発行されたレイアウト識別子ｉｄ２とともに、マスク作製装置２へ提供する。また、レイアウトデータ作成部５２は、作成されたレイアウトデータＤ２についてレイアウト管理ファイルＦ１を作成し、データ記憶部５１にレイアウト管理ファイルＦ１を保存する。
【００５０】
次に、描画データ作成部６０は、パターン描画装置１を動作させるための描画データＤ３を作成する（ステップＳ２）。具体的には、作業者が、ユーザインタフェイス部７０を介してレイアウト管理ファイルＦ１を参照し、所望のレイアウト識別子ｉｄ２と所望のスリットパターン群Ｐ１のレイアウト位置とを操作入力により指定する。描画データ作成部６０は、指定されたレイアウト識別子ｉｄ２とレイアウト位置の情報とを含む描画データＤ３を作成する。作成された描画データＤは、描画データ作成部６０からパターン描画装置１の制御部４０へ送信される。
【００５１】
一方、マスク作製装置２は、データ管理装置３から提供されたレイアウトデータＤ２に基づいて複数枚のマスクＭを作製する（ステップＳ３）。具体的には、マスク作製装置２は、取得したレイアウトデータＤ２に基づいてガラス板の上面にレイアウトパターンＰ２を形成することにより、マスクＭを作成する。
【００５２】
マスク作製装置２は、作製された複数枚のマスクＭに対して、それぞれマスク識別子ｉｄ３（第２識別子）を発行する。図１３は、マスク識別子ｉｄ３の例を示した図である。図１３に示したように、マスク識別子ｉｄ３は、当該マスクＭのレイアウトパターンＰ２に対応するレイアウト識別子ｉｄ２と、マスクＭに固有のシリアルナンバとにより構成されている。このため、マスク識別子ｉｄ３からレイアウト識別子ｉｄ２が容易に抽出できるようになっている。但し、マスク識別子ｉｄ３は、必ずしも図１３のような形態である必要はなく、所定の演算処理によりレイアウト識別子ｉｄ２が算出あるいは抽出できるものであればよい。マスク作製装置２は、各マスクＭの隅部に、発行されたマスク識別子ｉｄ３を示すバーコードＢを記録する（図４参照）。
【００５３】
マスク作製装置２において作製された複数のマスクＭは、作業者あるいは所定の搬送機構により、カセットＣに収納される（ステップＳ４）。そして、複数枚のマスクＭを収納したカセットＣが、パターン描画装置１のカセット台３６上に載置される（ステップＳ５）。
【００５４】
カセット台３６上にカセットＣが載置されると、カセット台３６に設けられたバーコードリーダ３６１が、カセットＣ内の各マスクＭの隅部に記録されたバーコードＢを読み取り、各マスクＭのマスク識別子ｉｄ３を取得する（ステップＳ６）。バーコードリーダ３６１は、マスクＭ毎に取得されたマスク識別子ｉｄ３を、パターン描画装置１の制御部４０へ転送する。
【００５５】
制御部４０は、各マスクＭのマスク識別子ｉｄ３を受信すると、各マスク識別子ｉｄ３からそれぞれレイアウト識別子ｉｄ２を抽出する。そして、抽出された各レイアウト識別子ｉｄ２が、描画データＤ３中において指定されたレイアウト識別子ｉｄ２と一致しているかどうかを確認する（ステップＳ７）。
【００５６】
制御部４０は、全てのマスク識別子ｉｄ３から抽出されたレイアウト識別子ｉｄ２が、描画データＤ３中において指定されたレイアウト識別子ｉｄ２と一致していた場合には、カセットＣに収納された複数枚のマスクＭが全て正しいと判断し、描画処理を実行する（ステップＳ８）。すなわち、パターン描画装置１は、マスク搬送機構３７を動作させてカセットＣからマスクＭを取り出し、各マスクＭを各マスクユニット３２２へ搬送する。そして、パターン描画装置１は、描画データＤ３に従ってステージ移動機構２０とヘッド部３０とを動作させることにより、基板９の上面に規則性パターンを形成する。
【００５７】
一方、制御部４０は、１つ以上のマスク識別子ｉｄ３から抽出されたレイアウト識別子ｉｄ２が、描画データＤ３中において指定されたレイアウト識別子ｉｄ２と一致しなかった場合には、カセットＣ内に不適切なマスクＭが含まれていると判断し、描画処理を中止する（ステップＳ９）。このとき、制御部４０は、付属のディスプレイ（図示省略）に警告表示を行う。
【００５８】
このように、本実施形態のパターン描画システム１００は、レイアウトデータ毎に付与されたレイアウト識別子ｉｄ２を使用して複数枚のマスクＭを管理し、描画データＤ３には、マスクＭの適否を判定するための情報としてレイアウト識別子ｉｄ２を組み込む。このため、マスクＭのレイアウトパターンＰ２さえ一致していれば、当該マスクＭを使用して描画処理を実行することができる。したがって、マスクＭの互換性が向上する。また、予備のマスクＭを用意する場合にも、複数枚のマスクＭについて各々予備のマスクＭを用意しておく必要はなく、レイアウトパターンＰ２毎に予備のマスクＭを用意しておけばよい。
【００５９】
また、パターン描画装置１において使用されるマスクを、マスク識別子ｉｄ３の異なるマスクＭに交換したときにも、レイアウト識別子ｉｄ２さえ一致していれば、描画データＤ３を再作成する必要はない。このため、描画データＤ３の作成にかかる負担も低減する。
【００６０】
＜５．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、上記の実施形態では、マスクＭ上の複数のレイアウト位置には、それぞれ異なるスリットパターンｐにより構成されたスリットパターン群Ｐ１が形成されていたが、マスクＭ上の複数のレイアウト位置に、同一のスリットパターンｐが異なる配列形態で配列された複数のスリットパターン群Ｐ１が形成されていてもよい。
【００６１】
また、上記の実施形態では、マスクＭの隅部にマスク識別子ｉｄ３を示すバーコードＢを記録していたが、バーコードＢに代えて他の読み取り可能な図形や文字を使用してもよい。また、上記の実施形態では、カセット台３６にカセットＣを載置したときにマスクＭのバーコードＢを読み取るようにしていが、マスクＭが各光学ヘッド３２に搭載された後に、所定のカメラやバーコードリーダによって各マスクＭのバーコードＢを読み取るようにしてもよい。
【００６２】
また、複数枚のマスクＭが収納されたカセットＣに対して固有のカセット識別子ｉｄ４を付与し、カセット識別子ｉｄ４と当該カセットＣに収納されたマスクＭのマスク識別子ｉｄ３とを関連づけて管理するようにしてもよい。カセット識別子ｉｄ４は、例えば、カセットＣのフレームや天板に記録し、パターン描画装置１において読み取れるようにすればよい。また、図１４に示したように、カセット識別子ｉｄ４と、当該カセットＣの各段に収納されるマスクＭのマスク識別子ｉｄ３とを示したカセット管理ファイルＦ２を作成し、作業者が参照できるようにしてもよい。このようにすれば、基板処理装置１において各光学ヘッド３２に搭載されるマスクＭを容易に確認することができる。
【００６３】
更に、マスクＭ毎に描画処理や洗浄処理等の履歴を記録した履歴ファイルを作成し、作業者が参照できるようにしてもよい。このようにすれば、作業者は、マスクＭの寿命や汚染の程度を履歴ファイルを手掛かりとして判断することができる。
【００６４】
また、レイアウトパターンＰ２毎に用意された予備のマスクＭを、予めカセットＣに収納しておくようにしてもよい。また、各光学ヘッド３２にマスクＭの異常を検知するセンサを設け、複数の光学ヘッド３２のいずれかにおいてセンサがマスクＭの異常を検知すると、マスク搬送機構３７が当該光学ヘッドに搭載されたマスクＭと予備のマスクＭとを自動的に交換するようにしてもよい。このようにすれば、一部のマスクＭに異常が発生したときにも、当該マスクＭを予備のマスクＭに自動的に交換して描画処理を続行させることができる。
【００６５】
また、上記の実施形態では、カラーフィルタ用のガラス基板９を処理対象としていたが、本発明は、半導体基板、プリント基板、プラズマ表示装置用ガラス基板等の他の基板に対して描画処理を行うものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】パターン描画システムの全体構成を示した図である。
【図２】パターン描画装置の側面図である。
【図３】パターン描画装置の上面図である。
【図４】マスクの例を示した図である。
【図５】基板に対する描画処理の様子を示した図である。
【図６】基板に対する描画処理の様子を示した図である。
【図７】パターン描画装置の各部と制御部との間の接続構成を示したブロック図である。
【図８】データ管理装置の構成を示したブロック図である。
【図９】スリット形状データの例を示した図である。
【図１０】レイアウトデータの例を示した図である。
【図１１】レイアウト管理ファイルの例を示した図である。
【図１２】パターン描画システムにおける処理の流れを示したフローチャートである。
【図１３】マスク識別子の例を示した図である。
【図１４】カセット管理ファイルの例を示した図である。
【符号の説明】
【００６７】
１  パターン描画装置
２  マスク作製装置
３  データ管理装置
９  基板
１０  ステージ
２０  ステージ移動機構
３０  ヘッド部
３２  光学ヘッド
３２２  マスクユニット
３２４  マスク移動機構
３６  カセット台
３６１  バーコードリーダ
３７  マスク搬送機構
４０  制御部
５０  パターンデータ管理部
５１  データ記憶部
５２  レイアウトデータ作成部
６０  描画データ作成部
７０  ユーザインタフェイス部
１００  パターン描画システム
Ｂ  バーコード
Ｃ  カセット
Ｍ  マスク
Ｄ１  スリット形状データ
Ｄ２  レイアウトデータ
Ｄ３  描画データ
Ｆ１  レイアウト管理ファイル
Ｆ２  カセット管理ファイル
ｐ  スリットパターン
Ｐ１  スリットパターン群
Ｐ２  レイアウトパターン
ｉｄ１  スリット形状識別子
ｉｄ２  レイアウト識別子
ｉｄ３  マスク識別子
ｉｄ４  カセット識別子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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