(57)【要約】【課題】本発明は、カッティング時（打抜き加工時）に異物として基材のガラス片の混入やクラックの発生がなく、また高温下において近赤外線反射膜にクラックが発生しない、透明性および近赤外線カット能に優れる近赤外線カットフィルターを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の近赤外線カットフィルターは、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を有することを特徴とするものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を有することを特徴とする近赤外線カットフィルター。
【請求項２】
上記（Ａ）環状オレフィン系樹脂が、下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位を有することを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルター。
【化１】
2009258362.tif 000006
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基またはその他の１価の有機基を表し、Ｒ1〜Ｒ4のうち任意の２つが互いに結合して、単環または多環構造を形成してもよく、ｍおよびｐは、それぞれ独立に、０または正の整数を表す。）
【請求項３】
上記（Ａ）環状オレフィン系樹脂が、上記式（１）で表される化合物を開環（共）重合した後、水素添加した重合体であることを特徴とする請求項１または２に記載の近赤外線カットフィルター。
【請求項４】
（Ｂ）ガラスフィラーが、ガラスクロスであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の近赤外線カットフィルター。
【請求項５】
上記誘電体層Ａが、シリカ（ＳｉＯ2）からなり、上記誘電体層Ｂが、チタニア（Ｔｉ
Ｏ2）からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の近赤外線カットフィル
ター。
【請求項６】
（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、真空蒸着法により形成する工程を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線カットフィルターに関する。さらに詳しくは、本発明は、環状オレフィン系樹脂とガラスフィラーとを含む透明基板に誘電体層を積層した構造を有し、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子用視感度補正フィルターとして好適な近赤外線カットフィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を搭載したテレビが商品化され、一般家庭にも広く普及するようになってきた。このＰＤＰは、プラズマ放電を利用して作動するディスプレイであるが、プラズマ放電の際に近赤外線（波長：８００〜１，０００ｎｍ）が発生することが知られている。
【０００３】
一方、家庭内においては、テレビ、ステレオまたはエアコンなどの家電製品のリモコン、さらには、パーソナルコンピュータによる情報のやり取りに近赤外線を利用することが多くなっており、ＰＤＰの発する近赤外線がこれら機器の誤作動の原因になる可能性が高いことが常々指摘されている。
【０００４】
そこで、市販されているＰＤＰの多くは、その前面板に、自らが発する近赤外線をカットするためのフィルター機能を備えるようになっている。
また、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などにはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサが用いられているが、これら固体撮像素子はその受光部において近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、近赤外線カットフィルターを用いることが多い。
【０００５】
近赤外線カットフィルターとしては、従来から各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、ガラス等の透明基材の表面に銀などの金属を蒸着して近赤外線を反射するようにしたもの、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の透明基材に近赤外線吸収色素を添加したものなどが実用に供されている。
【０００６】
しかしながら、ガラス基材に金属を蒸着した近赤外線カットフィルターは製造コストが掛かるだけでなく、カッティング時（打抜き加工時）に異物として基材のガラス片が混入したり、クラックが発生してしまうという問題があった。
【０００７】
一方、基材として線膨張係数の低い透明樹脂の一方の面に、近赤外線反射膜を積層し、他方の面に機能膜を積層させた近赤外線カットフィルターも知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかし、機能膜を積層させるため製造コストがかかるという問題があった。さらに、基材として透明樹脂を用いる場合、高温下ではガラス基板に比べて耐熱性に劣るため、基板が伸縮し、それにより近赤外線反射膜にクラックが発生するという問題があった。
【特許文献１】特開２００６−３０９４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、カッティング時（打抜き加工時）に異物として基材のガラス片の混入やクラックの発生がなく、また高温下において近赤外線反射膜にクラックが発生しない、透明性および近赤外線カット能に優れる近赤外線
カットフィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記問題に鑑みて鋭意研究した結果、環状オレフィン系樹脂とガラスフィラーとを含む透明基板に誘電体層を積層した構造を有する近赤外線カットフィルターにより、上記問題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の近赤外線カットフィルターは、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を有することを特徴とするものである。
【００１１】
（Ａ）環状オレフィン系樹脂は、下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位を有することが好ましい。
【００１２】
【化１】
2009258362.tif 000002
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基またはその他の１価の有機基を表し、Ｒ1〜Ｒ4のうち任意の２つが互いに結合して、単環または多環構造を形成してもよく、ｍおよびｐは、それぞれ独立に、０または正の整数を表す。）
（Ａ）環状オレフィン系樹脂は、上記式（１）で表される化合物を開環（共）重合した後、水素添加した重合体であることが好ましい。
【００１３】
（Ｂ）ガラスフィラーは、ガラスクロスであることが好ましい。
上記誘電体層Ａが、シリカ（ＳｉＯ2）からなり、上記誘電体層Ｂが、チタニア（Ｔｉ
Ｏ2）からなることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の近赤外線カットフィルターの製造方法は、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、真空蒸着法により形成する工程を含むことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、高温下において近赤外線層にクラックが発生せず、また打抜き加工によってもクッラクが発生せず、透明性、近赤外線カット能に優れる近赤外線カットフィルターを提供することができる。さらに、本発明の近赤外線カットフィルターは、近赤外線をシャープにカットできることから、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子用視感度補正フィルターとして好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の近赤外線カットフィルターは、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を有することを特徴とするものである。
【００１７】
以下、本発明の近赤外線カットフィルターについて詳細に説明する。
＜透明基板＞
透明基板は、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含有するものである。
【００１８】
〔（Ａ）環状オレフィン系樹脂〕
（Ａ）環状オレフィン系樹脂としては、環状オレフィン系単量体を含む単量体（組成物）を開環（共）重合または付加（共）重合して得られるものであって、次のような（共）重合体が挙げられる。
【００１９】
（ｉ）下記式（１）で表される化合物の開環（共）重合体。
（ｉｉ）下記式（１）で表される化合物と共重合性単量体との開環共重合体。
【００２０】
（ｉｉｉ）（ｉ）または（ｉｉ）の開環（共）重合体の水素添加物。
（ｉｖ）（ｉ）または（ｉｉ）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化した後、水素添加した（共）重合体。
【００２１】
（ｖ）下記式（１）で表される化合物と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体。
（ｖｉ）下記式（１）で表される化合物、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体からなる群から選ばれる１種以上の単量体の付加（共）重合体およびその水素添加物。
【００２２】
（ｖｉｉ）下記式（１）で表される化合物とアクリレートとの交互共重合体。
【００２３】
【化２】
2009258362.tif 000003
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基またはその他の１価の有機基を表し、Ｒ1〜Ｒ4のうち任意の２つが互いに結合して、単環または多環構造を形成してもよく、ｍおよびｐは、それぞれ独立に、０または正の整数を表す。）
これらの中でも、（ｉｉｉ）が樹脂の耐熱性、耐候性、耐湿性、機械的強度、易成型性の観点から好適である。
【００２４】
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
トリシクロ［４．３．０．１2,5］−８−デセン、
トリシクロ［４．４．０．１2,5］−３−ウンデセン、
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13］−４−ペンタデセン、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデ
セン、
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデ
セン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセ
ン、
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］
−３−ドデセン、
【００２５】
５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
５−フルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリス（フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
【００２６】
５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロ−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−イソプロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−クロロ−５，６，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
【００２７】
８−フルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８，８−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ド
デセン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5
．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5
．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロイソプロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン。
【００２８】
これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。
上記Ｒ1およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜２の炭化水素基を表すのが望ましい。該炭化水素基がアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基、より好ましくは炭素原子数１〜２、特に好ましくはメチル基であることが望ましい。このようなアルキル基が、後述する下記式：−（ＣＨ2）nＣＯＯＲで表される極性基が結合した炭素原子に結合している場合、得られる（Ａ）環状オレフィン系樹脂の吸湿性を低くできるため好適である。
【００２９】
上記Ｒ2およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子または１価の極性基であるのが望ましい。
１価の極性基としては、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられる。これらの極性基は、メチレン基などの極性を有さない連結基を介して結合していてもよいし、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基などの極性を有する２価の有機基を介して結合していてもよい。これらの極性基のうち、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基およびアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基およびアリロキシカルボニル基が好ましい。
【００３０】
また、上記極性基が、式：−（ＣＨ2）nＣＯＯＲで表される場合、得られる（Ａ）環状オレフィン系樹脂が、高いガラス転移温度、低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなるため好ましい。
【００３１】
上記式：−（ＣＨ2）nＣＯＯＲにおいて、Ｒは、炭素原子数１〜１２、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２の炭化水素基、好ましくはアルキル基であることが望ましい。ｎは、通常０〜５を表すが、好ましくは０〜３を表す。ｎの値が小さいものほど、得られる（Ａ）環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにｎが０を表す場合は、その合成も容易である点で好ましい。
【００３２】
上記ｍおよびｐは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すのが望ましく、ｍ＋ｐ＝０〜４を満たすことが好ましく、ｍ＋ｐ＝０〜２がより好ましく、ｍ＝１のときｐ＝０であることが特に好ましい。ｍ＝１、ｐ＝０である場合は、得られる（Ａ）環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高く、かつ機械的強度も優れるため、好適である。
【００３３】
本発明において、（Ａ）環状オレフィン系樹脂は、公知の方法により得ることができ、例えば、特開平１−１３２６２６号公報、特開２００６−７７２５７号公報および特開２００８−９５５号公報に記載の方法により得ることができる。
【００３４】
（Ａ）環状オレフィン系樹脂の分子量としては、固有粘度〔η〕inhで、好ましくは０
．２〜５ｄＬ／ｇ、より好ましくは０．３〜３ｄＬ／ｇ、さらに好ましくは０．４〜１．
５ｄＬ／ｇである。テトラヒドロフランに溶解してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは８，０００〜１００，０００、より好ましくは１０，０００〜８０，０００、さらに好ましくは１２，０００〜５０，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは２０，０００〜３００，０００、より好ましくは３０，０００〜２５０，０００、さらに好ましくは４０，０００〜２００，０００の範囲のものが好適である。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは２．０〜４．０、より好ましくは２．５〜３．７であり、さらに好ましくは２．８〜３．５である。分子量分布の小さい樹脂を用いることにより、機械的強度に優れる成形体が得られるため好適である。
【００３５】
また、固有粘度〔η〕inh、数平均分子量および重量平均分子量が上記範囲内であるこ
とによっても機械的強度に優れた成形体が得られる。
〔（Ｂ）ガラスフィラー〕
（Ｂ）ガラスフィラーとしては、ガラス繊維、ガラスクロス、ガラス繊維布（ガラス不織布／織布）、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ミルドガラスなどが挙げられるが、特に、樹脂と複合する際に、機械的強度、耐熱性に優れる複合体が得られることにより、ガラスクロスおよびガラス繊維布が好ましい。
【００３６】
ガラスの種類としては、Ｅガラス、Ｃガラス、Ａガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス、Ｔガラス、低誘電率ガラス、高誘電率ガラスなどが挙げられるが、アルカリ金属などのイオン性不純物が少なく、入手が容易なＥガラス、ＳガラスおよびＮＥガラスが好ましい。
【００３７】
ガラスフィラーとしてガラスクロスを用いる場合、織り方には特に限定するものではなく、平織、綾織、朱子織、からみ織、模紗織などが適用でき、なかでも平織が好ましい。
ガラスクロスの厚さは、通常１５〜２００μｍであるのが好ましく、より好ましくは１５〜１００μｍである。ガラスクロスは１枚だけでもよく、複数枚を重ねて用いてもよい。
【００３８】
（Ｂ）ガラスフィラーと（Ａ）環状オレフィン系樹脂との密着性を高めるために、該ガラスフィラー表面をアミノシラン、スチリルシラン、エポキシシラン、メタクリロキシシラン、アクリロキシシラン、ビニルシラン等のシランカップリング剤やアルミキレート化合物等の金属キレート化合物で処理してもよい。このような表面処理が施されていると、（Ｂ）ガラスフィラーと（Ａ）環状オレフィン系樹脂との密着性が高くなるので、透明複合体からなるシートの透明性を高くすることが可能であり、さらにシートに繰り返し曲げを与えた場合に生じるガラスフィラー表面とポリマーとの界面剥離による透明性の低下を抑制することが可能である。
【００３９】
〔透明基板〕
透明基板は、上述したように（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとから構成される。
【００４０】
透明基板の波長４００ｎｍにおける光線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることが望ましい。このような光線透過率を有するものは透明性が高い。波長４００ｎｍにおける光線透過率８０％以上とするには（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとの屈折率差を０.０１以内に調整する必要があり、（Ａ）環状オレフィン系
樹脂の組成を変更して（Ｂ）ガラスフィラーの屈折率に合わせるか、（Ａ）環状オレフィン系樹脂の屈折率と一致した（Ｂ）ガラスフィラーを用いるかどちらかの調整方法を採ることができる。
【００４１】
（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとの屈折率差は０.０１以下が好
ましく、より好ましくは０.００５以下である。屈折率差が０.０１を超えると得られた透明基板の透明性が劣ることがある。
【００４２】
透明基板の５０〜１４０℃における平均線膨張係数は、６０ｐｐｍ／℃以下であることが望ましい。この範囲にあれば、温度による透明基板の寸法安定性が高く、また、光学異方性が少ないので、ガラス代替用途に好適となる。
【００４３】
透明基板中の（Ｂ）ガラスフィラーの含有量は１０〜７０重量％が好ましく、より好ましくは３０〜５０重量％である。（Ｂ）ガラスフィラーの含有量が上記下限値未満であると、複合化による低線膨張化の効果が認められず、上記上限値を超えると、力学的強度の大幅な低下が生じ、プラスチックス基板の重要な特長である曲げ強度が不足し、軽量化が図れなくなることがある。
【００４４】
透明基板は、折り曲げ性、易成形性などの点で、厚さが５０〜２００μｍのシートの場合に好適である。
透明基板は、通常フィルム、シート等の形状を有する。透明基板の成形方法としては、（Ａ）環状オレフィン系樹脂が溶解した溶液中に、（Ｂ）ガラスフィラー、好ましくはガラスクロスを浸漬し取り出した後、例えば、室温〜２００℃にて乾燥し、得られたガラスフィラーを、（Ａ）環状オレフィン系樹脂からなる、通常、厚さが２０〜１，０００μｍの２枚のシート間に挟持して加熱圧縮成形する方法が望ましい。
【００４５】
上記浸漬の好ましい条件として、浸漬時間：１〜６０分間、より好ましくは５〜３０分間であり、浸漬温度：室温〜４０℃が望ましい。浸漬時間が１分間未満であると含浸不足となる場合があり、また浸漬温度が４０℃を超えると溶媒揮発により溶液中樹脂量が上昇することから含浸不良となる場合がある。
【００４６】
上記加熱圧縮成形の好ましい条件として、温度：２００〜３００℃、真空度：１００〜１ｔｏｒｒ、圧力：５〜１５ＭＰａおよび時間：５〜２０分間が望ましい。加熱圧縮成形の温度、圧力および時間が上記下限値未満であると、シートと（Ｂ）ガラスフィラーとが密着不良となり、基板の透明性が低下する場合がある。また、加熱圧縮成形の温度、時間が上記上限値を超える、または真空度が上記下限値未満であると、（Ａ）環状オレフィン系樹脂が熱劣化および／または酸化劣化するため、基板の着色原因となる場合がある。さらに、加熱圧縮成形の圧力が上記上限値を超えると、（Ｂ）ガラスフィラーの形状が変形し、均一な基板が得られない場合がある。
【００４７】
または、（Ｂ）ガラスフィラーを、（Ａ）環状オレフィン系樹脂が溶解した溶液中に浸漬し、金属ロール間で圧延し、例えば、１５０〜３００℃で乾燥しても、透明基板を得ることは可能であり、さらに、そのシートの片面または両面に、（Ａ）環状オレフィン系樹脂が溶解した溶液を塗布した後、例えば、１５０〜３００℃で乾燥して透明シートを製造する方法なども採用することができる。
【００４８】
さらに、必要に応じて、（Ｂ）ガラスフィラーを、（Ａ）環状オレフィン系樹脂が溶解した溶液中に浸漬、金属ロール間で圧延した後、乾燥する操作を複数回、繰り返してもよい。
【００４９】
上述のような、透明基板の製造に用いられる（Ａ）環状オレフィン系樹脂が溶解した溶液の固形分濃度は、通常３〜５０重量％にあることが望ましく、より好適には、３〜３０重量％にある。溶液濃度が低すぎると、含浸樹脂不足となり基板の透明性が低下する場合があり、また逆に溶液濃度が高いと、溶液粘度が高くなるため含浸不良となる場合がある
。
【００５０】
（Ａ）環状オレフィン系樹脂を溶解させる好ましい溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等のアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素；クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロホルム、テトラクロロエチレン等のハロゲン化アルカン；クロロベンゼン等のハロゲン化アリール化合物；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタン等の飽和カルボン酸エステル類；ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類などが挙げられる。これらは１種単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００５１】
（Ｂ）ガラスフィラーは、上述したように、あらかじめ、アミノシラン、スチリルシラン、エポキシシラン、メタクリロキシシラン、アクリロキシシラン、ビニルシラン等のシランカップリング剤または金属キレート化合物と、（Ａ）環状オレフィン系樹脂とを含む溶液で処理されていてもよい。このような処理としては、該溶液中に（Ｂ）ガラスフィラーを浸漬した後、１５０〜３００℃の温度で乾燥すればよい。このときの濃度としては、特に制限されるものではないが、シランカップリング剤または金属キレート化合物の場合は１〜５０重量％、（Ａ）環状オレフィン系樹脂を含む場合は、３〜５０重量％とすることが、処理条件、処理効率などの点で好適である。
【００５２】
＜近赤外線反射膜＞
本発明の近赤外線カットフィルターは、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を有する。このような誘電体多層膜を少なくとも透明基板の一方の面に有することにより、近赤外線を反射する能力に優れた近赤外線カットフィルターとすることができる。また、誘電体層Ａと誘電体層Ｂの屈折率差は０．５以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましい。屈折率差が１．０以上であると、カット可能な近赤外線領域の波長幅が広くなり、より近赤外線カット性能に優れたフィルターが得られる。
【００５３】
〔誘電体層Ａ〕
誘電体層Ａを構成する材料の屈折率としては、通常、１．６以下であり、１．２〜１．６が好ましい。このような材料としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ2）、アルミナ、フッ
化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウムなどが挙げられる。
【００５４】
〔誘電体層Ｂ〕
誘電体層Ｂを構成する材料の屈折率としては、通常、１．７以上であり、１．７〜２．５が好ましい。このような材料としては、例えば、酸化チタン（チタニア（ＴｉＯ2））
、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン（チタニア（ＴｉＯ2））、酸化錫、酸化セリウム等を少量含有させたものなどが挙げられる。
【００５５】
〔積層方法〕
誘電体層Ａと誘電体層Ｂとを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はないが、例えば、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、誘電体層Ａと誘電体層Ｂとを交互に積層することにより誘電体多層膜を形成することができる。
【００５６】
誘電体層Ａおよび誘電体層Ｂの各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長λ
（ｎｍ）の０．１λ〜０．５λの厚さである。厚さが上記範囲外であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）が、λ／４で算出される光学的膜厚と大きく異なって反射・屈折の光学的特性の関係が崩れてしまい、特定波長の遮断・透過をするコントロールができなくなってしまう傾向になる。
【００５７】
誘電体層Ａおよび誘電体層Ｂの積層数は、透明基板の一方の面にのみ誘電体多層膜を有する場合は、通常１０〜８０層、好ましくは２５〜５０層である。一方、透明基板の両面に誘電体多層膜を有する場合の積層数は、基板両面の積層数全体として、通常１０〜８０層、好ましくは２５〜５０層である。
【００５８】
また、近赤外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂を透明基板として用いる場合は、透明基板の一方の面にのみ誘電体多層膜を有する場合の積層数は、通常５〜４０層、好ましくは１０〜３０層であり、透明基板の両面に誘電体層膜を有する場合の積層数は、基板両面の積層数全体として、通常５〜４０層、好ましくは１０〜３０層である。
【００５９】
＜近赤外線カットフィルター＞
本発明の近赤外線カットフィルターは、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を有することを特徴とするものであって、該誘電体層Ａがシリカ（ＳｉＯ2
）からなり、該誘電体層Ｂがチタニア（ＴｉＯ2）からなることが、近赤外線カット性能
に優れるため好ましい。
【００６０】
＜近赤外線カットフィルターの製造方法＞
本発明の近赤外線カットフィルターの製造方法は、（Ａ）環状オレフィン系樹脂と（Ｂ）ガラスフィラーとを含む透明基板の少なくとも一方の面に、誘電体層Ａと、該誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、真空蒸着法により形成する工程を含むことを特徴とするものである。
【００６１】
また、本発明の近赤外線カットフィルターの製造方法として、上記工程の代わりに、上記透明基板上に上記近赤外線反射膜を、接着剤により張り合わす工程を含んでもよい。
このようにして近赤外線カットフィルターを形成することにより、高温下において近赤外線反射膜にクラックが発生せず、透明性、近赤外線カット能に優れる近赤外線カットフィルターを得ることができる。
【実施例】
【００６２】
次に、本発明について実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、「部」は断りがない限り「重量部」を表す。
各種物性の測定は、下記（１）〜（９）に記載の方法に従った。
【００６３】
（１）水素添加率
核磁気共鳴分光計（ＮＭＲ）はＢｒｕｋｅｒ社製ＡＶＡＮＣＥ５００を用い、ｄ−クロロホルムを測定溶媒とし、1Ｈ−ＮＭＲを測定した。５．１〜５．８ｐｐｍのビニレン基
、３．７ｐｐｍのメトキシ基、０．６〜２．８ｐｐｍの脂肪族プロトンの積分値より、単量体の組成を算出後、水素添加率（％）を算出した。
【００６４】
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００を用いて、昇温速度を毎分２０℃、窒素気流下で測定を行った。Ｔｇ（℃）は、微分示差走査熱量の最大ピーク温度（Ａ点）およ
び最大ピーク温度（Ａ点）より−２０℃の温度（Ｂ点）を示差走査熱量曲線上にプロットし、Ｂ点を起点とするベースライン上の接線とＡ点を起点とする接線との交点として求めた。
【００６５】
（３）数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（東ソー（株）製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ、カラム：東ソー（株）製ガードカラムＨXL−Ｈ、ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ７０００ＨXL、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨXL２本、ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ２０００ＨXLを順次連結、溶媒：テトラヒドロフラン、流速：１ｍＬ／ｍｉｎ、サンプル濃度：０．７〜０．８重量％、注入量：７０μＬ、測定温度：４０℃とし、検出器：ＲＩ（４０℃）、標準物質：東ソー（株）製ＴＳＫスタンダードポリスチレン）を用い、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定した。
【００６６】
（４）対数粘度
ウベローデ型粘度計を用いて、クロロホルム中（試料濃度：０．５ｇ/ｄＬ）、３０℃
で対数粘度（ｄＬ／ｇ）を測定した。
【００６７】
（５）残留溶媒量
製造例１で得られた環状オレフィン系樹脂シート（ａ１）を塩化メチレンに溶解し、得られた溶液をガスクロマトグラフィー（島津製作所製ＧＣ−７Ａ）を用いて残留溶媒量（％）を分析した。
【００６８】
（６）全光線透過率
Ｇａｒｄｎｅｒ社製ヘイズ−光線透過率測定機（Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓ型）を使用して全光線透過率（％）を測定した。
【００６９】
（７）近赤外線カット能の評価
実施例１、２および比較例１で得られた積層フィルムを１ｃｍ×２ｃｍに裁断し、日本分光（株）社製ＵＶ−ｖｉｓスペクトル測定装置（Ｖ−５７０）で、４５０ｎｍ〜１，０００ｎｍの領域で積層フィルムの吸収スペクトルを測定した。
【００７０】
（８）耐熱クラック性の評価
実施例１、２および比較例１で得られた積層フィルムを３ｃｍ角に裁断し、ガラスエポキシ基板に４辺をイミドテープで固定した。この積層フィルム固定基板を循環式恒温機（ヤマト科学（株）製ＤＫ−４３型）にいれ、１００℃×３０分間または１３０℃×３０分間加熱した。その後、恒温機から取り出し、４０倍率の顕微鏡で積層フィルムの近赤外線カット層を観察し、クラックの有無を確認した。クラックが０個の場合を「○」、クラックが１個以上観察された場合を「×」とする。
【００７１】
（９）打抜き性の評価
実施例１、２および比較例１で得られた積層フィルムを（株）ダンベル製サンプルカッターにより１０ｍｍΦで５個打抜いた。それぞれ打抜いた積層フィルムを４０倍率の顕微鏡で観察し、積層フィルム全体にわたりクラックの発生個数を数えた。
【００７２】
［合成例１］
下記式（２）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン（ＤＭＮ）７１部と、下記式（３）で表されるジシ
クロペンタジエン（ＤＣＰ）１５部と、下記式（４）で表されるビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ＮＢ）１部と、１−へキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（
開環重合反応用溶媒）２００部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、１００℃に加熱した。
【００７３】
【化３】
2009258362.tif 000004
これにトリエチルアルミニウム０．００５部、メタノール変性ＷＣｌ6（無水メタノー
ル：ＰｈＰＯＣｌ2：ＷＣｌ6＝１０３：６３０：４２７（重量比））０．００５部を加えて１分間反応させ、次いで、ＤＣＰ１０部とＮＢ３部を５分間かけて追加添加して、さらに４５分間反応させることにより、ＤＮＭ／ＤＣＰ／ＮＢ＝６９．７７／２６．０１／４．２３（重量％）の共重合体を得た。
【００７４】
次いで、得られた共重合体の溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを２００部加えた。次に、反応調整剤としてオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを１部と水素添加触媒であるＲｕＨＣｌ(ＣＯ)[Ｐ(Ｃ6Ｈ5)]3を０．００６部添加し、１５５℃まで過熱した後、水素ガスを反応器へ投入し、
圧力を１０ＭＰａとした。その後、圧力を１０ＭＰａに保ったまま、１６５℃、３時間の反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体を得た。
【００７５】
得られた水素添加重合体を環状オレフィン系樹脂（Ａ１）とし、該樹脂（Ａ１）の1Ｈ
−ＮＭＲにより測定した水素添加率は９９．９％、ＤＳＣ法により測定したＴｇは１３１℃、ＧＰＣ法により測定したポリスチレン換算によるＭｎは１６，０００、Ｍｗは６１，０００およびＭｗ／Ｍｎは３．８１、３０℃におけるクロロホルム中での対数粘度は０．５２ｄＬ／ｇであった。
【００７６】
[製造例１]
環状オレフィン系樹脂（Ａ１）１００重量部に対し、酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−(３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)］プロピオネート０．５重量部を加え、塩化メチレン４００重量部に溶解し、その樹脂溶液をＡＤＶＡＮＴＥＣ製の孔径５μｍのメンブレンフィルターを用い濾過した。得られた樹脂溶液を、乾燥後の厚さが８０μｍとなるようアプリケーターを用いて２５℃でキャストし、室温で
１２時間静置し溶剤を蒸発させ、続いて真空下１００℃にて１２０分間保持し、環状オレフィン系樹脂シート（ａ１）を得た。得られたシート（ａ１）の残留溶媒量の残留溶媒量は０．１％以下であった。
【００７７】
［製造例２］
環状オレフィン系樹脂（Ａ１）１００重量部に対し、酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−(３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)］プロピオネート０．５重量部を加え、トルエン９００重量部に溶解し、その樹脂溶液をＡＤＶＡＮＴＥＣ製の孔径５μｍのメンブレンフィルターを用い濾過した。得られた樹脂溶液をステンレス製バットに入れ、そこにガラスフィラー（Ｂ１）として、日東紡製ガラスクロスＮＥ２１１６（厚さ９５μｍ）を１５ｃｍ×２２ｃｍにカットしたものを１０分間浸漬し、ガラスフィラー（Ｂ１）に環状オレフィン系樹脂（Ａ１）を含浸させた。その後、環状オレフィン系樹脂（Ａ１）が含浸されたガラスフィラー（Ｂ１）を取り出し、１時間風乾し、さらに真空下１００℃で２時間乾燥した。このようにして得られたものを透明基板（ｂ１）とする。
【００７８】
透明基板（ｂ１）を、１８ｃｍ×２５ｃｍにカットした２枚の環状オレフィン系樹脂シート（ａ１）の間に挟み入れ、さらに保護フィルムとして東レデュポン（株）製ポリイミドフィルムで挟み、名機製作所（株）製真空プレス（Ｊ２００８０１０ＭＨＰＣＶ７５０型）で、温度２６０℃、真空度１４ｔｏｒｒ、圧力７．５ＭＰａで１０分間プレスした。その後、保護フィルムを剥離し、その結果、透明なガラスクロス複合フィルムを得た。得られたガラスクロス複合フィルムを、複合フィルム（ｃ１）とする。
【００７９】
複合フィルム（ｃ１）の厚さは１５０μｍ、全光線透過率は９４％であった。
［製造例３］
環状オレフィン系樹脂（Ａ１）１００重量部に対し、酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−(３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)］プロピオネート０．５重量部を加え、トルエン９００重量部に溶解し、その樹脂溶液をＡＤＶＡＮＴＥＣ製の孔径５μｍのメンブレンフィルターを用い濾過した。得られた樹脂溶液をステンレス製バットに入れ、そこにガラスフィラー（Ｂ２）として、日東紡製ガラスクロス（ＷＴＸ１０８０）（厚さ５５μｍ）を１５ｃｍ×２２ｃｍにカットしたものを１０分間浸漬し、ガラスフィラー（Ｂ２）に環状オレフィン系樹脂（Ａ１）を含浸させた。その後、環状オレフィン系樹脂（Ａ１）が含浸されたガラスフィラー（Ｂ２）を取り出し、１時間風乾し、さらに真空下１００℃で２時間乾燥した。このようにして得られたものを透明基板（ｂ２）とする。
【００８０】
透明基板（ｂ２）を、１８ｃｍ×２５ｃｍにカットした２枚の環状オレフィン系樹脂シート（ａ１）の間に挟み入れ、さらに保護フィルムとして東レデュポン（株）製ポリイミドフィルムで挟み、名機製作所（株）製真空プレス（Ｊ２００８０１０ＭＨＰＣＶ７５０型）で、温度２６０℃、真空度１４ｔｏｒｒ、圧力７．５ＭＰａで１０分間プレスした。その後、保護フィルムを剥離し、その結果、透明なガラスクロス複合フィルムを得た。得られたガラスクロス複合フィルムを、複合フィルム（ｃ２）とする。
【００８１】
複合フィルム（ｃ２）の厚さは１２０μｍ、全光線透過率は９３％であった。
［製造例４］
１８ｃｍ×２５ｃｍにカットした環状オレフィン系樹脂シート（ａ１）を２枚重ね、保護フィルムとして東レデュポン（株）製ポリイミドフィルムで挟み、名機製作所（株）製真空プレス（Ｊ２００８０１０ＭＨＰＣＶ７５０型）で、温度２６０℃、真空度１４ｔｏｒｒ、圧力７．５ＭＰａで１０分間プレスした。その結果、透明なフィルムを得た。得られたフィルムを、フィルム（ｃ３）とする。
【００８２】
フィルム（ｃ３）の厚さは８０μｍ、全光線透過率は９５％であった。
[実施例１]
真空蒸着装置を用い、複合フィルム（ｃ１）の両面に、蒸着温度１００℃で、誘電体層Ａとしてシリカ（ＳｉＯ2）と、誘電体層Ｂとしてチタニア（ＴｉＯ2）とを交互に、片面に２０層ずつ合計４０層を積層させた。１層分の膜厚は、それぞれ１２０〜１８０ｎｍ、７０〜１２０ｎｍであった。誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜が積層されたクロス複合フィルム（ａ１）が得られた。このフィルムを積層フィルム（ｉ）とする。積層フィルム（ｉ）の近赤外線カット能、耐熱クラック性および打抜き性の評価を下表に示す。
【００８３】
［実施例２］
実施例１において、複合フィルム（ｃ１）の代わりに複合フィルム（ｃ２）を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム（ｉｉ）を得た。積層フィルムの評価を下表に示す。
【００８４】
［比較例１］
実施例１において、複合フィルム（ｃ１）の代わりにフィルム（ｃ３）を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム（ｉｉｉ）を得た。積層フィルムの評価を下表に示す。
【００８５】
【表１】
2009258362.tif 000005
表１から、積層フィルムの透明基板として、ガラスクロスを複合させた透明基板を用いた実施例１、２は、近赤外線カット層の加熱クラック発生を抑制し、耐熱性が向上することが明らかになった。また、同時に打抜き時のクラック発生を防止することも明らかになった。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明の近赤外線カットフィルターは、ＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子用視感度補正フィルターとして好適である。