(57)【要約】【課題】ＰＳＡ方式の液晶表示装置において、プレチルト角のばらつきに起因した輝度むらの発生を抑制する。【解決手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、一対の基板をシール材を介して所定の間隔で貼り合わせる工程と、一対の基板およびシール材で包囲された空間内に、光重合性化合物を含む液晶材料を真空注入法により注入する工程と、液晶材料に光を照射することによって、光重合性化合物を重合して配向維持層を形成する工程とを包含する。液晶材料を注入する工程は、光重合性化合物を第１の濃度Ｃ1で含む液晶材料を注入する第１注入工程と、第１注入工程の後に、光重合性化合物を第１の濃度Ｃ1よりも高い第２の濃度Ｃ2で含む液晶材料を注入する第２注入工程と、を含む。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に設けられた液晶層と、
前記液晶層を介して互いに対向する一対の電極と、
前記一対の電極と前記液晶層との間にそれぞれ設けられた一対の配向膜と、
前記一対の配向膜の前記液晶層側の表面のそれぞれに形成された光重合物から構成された配向維持層であって、前記液晶層に電圧を印加していないとき、前記液晶層の液晶分子のプレチルト方位を規定する配向維持層と、を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の基板をシール材を介して所定の間隔で貼り合わせる工程と、
前記一対の基板および前記シール材で包囲された空間内に、光重合性化合物を含む液晶材料を真空注入法により注入する工程と、
前記液晶材料に光を照射することによって、前記光重合性化合物を重合して前記配向維持層を形成する工程と、
を包含し、
前記液晶材料を注入する工程は、
前記光重合性化合物を第１の濃度Ｃ1で含む前記液晶材料を注入する第１注入工程と、
前記第１注入工程の後に、前記光重合性化合物を前記第１の濃度Ｃ1よりも高い第２の濃度Ｃ2で含む前記液晶材料を注入する第２注入工程と、を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１の濃度Ｃ1および前記第２の濃度Ｃ2は、Ｃ2≧１．２Ｃ1の関係を満足する請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の濃度Ｃ1および前記第２の濃度Ｃ2は、Ｃ2≦６Ｃ1の関係を満足する請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記光重合性化合物は、光重合性モノマーである請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記一対の配向膜のそれぞれは、垂直配向膜であって、前記液晶層は、負の誘電異方性を有する液晶分子を含む、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に、ＰＳＡ方式の液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶層に印加される電圧の大きさに応じて液晶分子の配向方向が変化することを利用して表示を行う。液晶層に電圧が印加されていない状態における液晶分子の配向方向（「プレチルト方向」と呼ばれる。）は、従来、配向膜によって規定されていた。例えばＴＮ（ツイストネマチック）モードの液晶表示装置では、ラビング処理が施された水平配向膜によって、液晶分子のプレチルト方向が規定されていた。
【０００３】
プレチルト方向は、プレチルト方位とプレチルト角とによって表される。プレチルト方位は、電圧が印加されていない液晶層内における液晶分子の配向方向を示すベクトルのうち、液晶層面内（基板面内）における成分を指す。また、プレチルト角は、配向膜と液晶分子との成す角であり、主に配向膜材料と液晶材料との組み合わせによって決まる。ＴＮモードの液晶表示装置では、液晶層を介して対向する一対の配向膜によって規定されるプレチルト方位は互いに直交するように設定され、プレチルト角は１°〜５°程度である。
【０００４】
近年、液晶分子のプレチルト方向を制御する技術として、ＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment）方式が開発された。ＰＳＡ方式は、例えば特許文献１および２に開示されている。ＰＳＡ方式では、液晶材料中に少量の光重合性化合物（例えば光重合性モノマー）を混入しておき、液晶セルを組み立てた後、液晶層に所定の電圧を印加した状態で光重合性化合物に光（典型的には紫外線）を照射し、生成される重合体によって、液晶分子のプレチルト方向を制御する。重合体が生成されるときの液晶分子の配向状態が、電圧を取り去った後（電圧を印加しない状態）においても維持（記憶）される。従って、ＰＳＡ方式は、液晶層に形成される電界等を制御することによって、液晶分子のプレチルト方位およびプレチルト角を調整することができるという利点を有している。また、ＰＳＡ方式はラビング処理を必要としないので、特に、ラビング処理によってプレチルト方向を制御することが難しい垂直配向型の液晶層を形成するのに適している。
【０００５】
ＰＳＡ方式の液晶表示装置を製造する際には、光重合性化合物を含む液晶材料を液晶セルに充填する必要がある。液晶材料の充填が行われる前の液晶セル（「空セル」とも呼ぶ。）は、一対の基板をシール材を介して所定の間隔で貼り合わせたものである。シール材は、表示領域の周辺に略矩形状に形成されており、このシール材と一対の基板によって囲まれた空間内に液晶材料が注入される。シール材の一辺には、液晶材料の注入を行うための注入口（開口部）が形成されている。
【０００６】
液晶材料の注入は、典型的には、空セル内の空間を真空状態に減圧した状態で行われる。このように真空下で液晶材料の注入を行う手法は、真空注入法と呼ばれる。液晶材料の注入後、シール材の注入口に封止材（例えば紫外線硬化性樹脂）が塗布され、この封止材を硬化させることによって液晶材料が封止される。
【特許文献１】特開２００２−３５７８３０号公報
【特許文献２】特開２００３−３０７７２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、真空注入法により液晶材料を注入した場合、シール材の一辺、具体的には、注入口の形成されている辺に対向する辺の近傍においてプレチルト角が他の領域と異なってしまう。表示領域内でのこのようなプレチルト角のばらつきは、輝度むらの発生の原因となり、表示品位の低下をもたらす。図６に、真空注入法を用いて液晶材料が注入された液晶セルの中間調表示状態を示す。
【０００８】
図６の写真に示す液晶セルでは、シール材（表示領域を包囲するように形成されている）の右側の辺に注入口が２つ設けられている。図６に示すように、表示領域の左側端部で他の領域に比べて輝度の高い領域（輝度浮き）が観察され、輝度むらが発生していることがわかる。
【０００９】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＰＳＡ方式の液晶表示装置において、プレチルト角のばらつきに起因した輝度むらの発生を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた液晶層と、前記液晶層を介して互いに対向する一対の電極と、前記一対の電極と前記液晶層との間にそれぞれ設けられた一対の配向膜と、前記一対の配向膜の前記液晶層側の表面のそれぞれに形成された光重合物から構成された配向維持層であって、前記液晶層に電圧を印加していないとき、前記液晶層の液晶分子のプレチルト方位を規定する配向維持層と、を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記一対の基板をシール材を介して所定の間隔で貼り合わせる工程と、前記一対の基板および前記シール材で包囲された空間内に、光重合性化合物を含む液晶材料を真空注入法により注入する工程と、前記液晶材料に光を照射することによって、前記光重合性化合物を重合して前記配向維持層を形成する工程と、を包含し、前記液晶材料を注入する工程は、前記光重合性化合物を第１の濃度Ｃ1で含む前記液晶材料を注入する第１注入工程と、前記第１注入工程の後に、前記光重合性化合物を前記第１の濃度Ｃ1よりも高い第２の濃度Ｃ2で含む前記液晶材料を注入する第２注入工程と、を含む。
【００１１】
ある好適な実施形態において、前記第１の濃度Ｃ1および前記第２の濃度Ｃ2は、Ｃ2≧１．２Ｃ1の関係を満足する。
【００１２】
ある好適な実施形態において、前記第１の濃度Ｃ1および前記第２の濃度Ｃ2は、Ｃ2≦６Ｃ1の関係を満足する。
【００１３】
ある好適な実施形態において、前記光重合性化合物は、光重合性モノマーである。
【００１４】
ある好適な実施形態において、前記一対の配向膜のそれぞれは、垂直配向膜であって、前記液晶層は、負の誘電異方性を有する液晶分子を含む。
【発明の効果】
【００１５】
本発明による液晶表示装置の製造方法では、液晶材料を注入する工程が、光重合性化合物の濃度が相対的に低い液晶材料を注入する第１注入工程と、第１注入工程の後に光重合性化合物の濃度が相対的に高い液晶材料を注入する第２注入工程とを含む。従って、注入のタイミング差（つまり酸素濃度の差）に起因した重合性の差を、光重合性化合物の濃度差によって相殺することができる。そのため、表示領域内のプレチルト角を均一化することができ、輝度むらの発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本願発明者は、上述したプレチルト角のばらつきの原因を究明した。その結果、プレチルト角のばらつきの原因は、真空注入法のプロセスに由来する重合性のばらつきにあることがわかった。
【００１７】
真空注入法では、空セルに注入される液晶材料のうち、最初に注入される分は、後から注入される分に比べ、セル内の真空部分との接触時間が長い。また、光重合性化合物の重合は、酸素が存在することによって阻害される。つまり、光重合性化合物の重合性は、酸素濃度が高いほど低く、酸素濃度が低いほど高い。従って、空セル内に注入される液晶材料のうちの最初に注入される分に含まれる光重合性化合物は、後から注入される分に含まれる光重合性化合物よりも重合し易い状態であるといえる。そのため、最初に注入された分の液晶材料が最終的に位置する領域（つまりシール材の、注入口が形成されている辺に対向する辺の近傍）でプレチルト角が小さく、すなわち、電圧無印加状態における液晶分子の垂直方向（表示面法線方向）からの傾斜角度が大きくなってしまう。
【００１８】
そこで、本願発明者は、液晶材料に含まれる光重合性化合物の濃度が高いほどプレチルト角が小さくなることに着目し、その結果、本発明に想到した。本発明による液晶表示装置の製造方法では、光重合性化合物のこの特性を利用して、プレチルト角のばらつきの発生を抑制する。具体的には、本発明の製造方法では、液晶材料を注入する工程を、光重合性化合物の濃度が相対的に低い液晶材料を注入する工程と、その後に光重合性化合物の濃度が相対的に高い液晶材料を注入する工程とを含む複数段階で行う。従って、注入のタイミング差（酸素濃度の差）に起因した重合性の差を、光重合性化合物の濃度差によって相殺することができる。そのため、表示領域内のプレチルト角を均一化することができ、輝度むらの発生を抑制することができる。
【００１９】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２０】
［ＰＳＡ方式の液晶表示装置の基本的な構成・動作原理］
まず、図１を参照しながら、ＰＳＡ方式の液晶表示装置の基本的な構成および動作原理を説明する。図１は、本実施形態における液晶表示装置１００が有する１つの画素の構造を模式的に示す断面図であり、図１（ａ）は黒表示状態（電圧無印加時）、図１（ｂ）は白表示状態（電圧印加時）における液晶分子の配向状態を併せて示している。なお、ここでは、ノーマリブラック方式で表示を行う垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置１００を例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２１】
液晶表示装置１００は、互いに対向する一対の基板（例えばガラス基板）１１および２１と、これらの外側に設けられクロスニコルに配置された一対の偏光板（不図示）とを有し、ノーマリブラック方式で表示を行う液晶表示装置である。液晶表示装置１００の各画素は、一対の基板１１および２１の間に設けられた液晶層４２と、液晶層４２を介して互いに対向する画素電極１２および対向電極２２とを有している。液晶層４２は、負の誘電異方性を有する液晶分子４２ａを含んでいる。
【００２２】
画素電極１２と液晶層４２との間および対向電極２２と液晶層４２との間には、一対の垂直配向膜（不図示）が設けられている。垂直配向膜の液晶層４２側の表面のそれぞれには、光重合物から構成された一対の配向維持層３４ａおよび３４ｂが形成されている。配向維持層３４ａおよび３４ｂは、液晶材料に予め混合しておいた光重合性化合物を、液晶セルを作製した後、液晶層４２に電圧を印加した状態で重合することによって形成されたものである。
【００２３】
液晶分子４２ａは、光重合性化合物を重合するまでは垂直配向膜（不図示）によって配向規制されており、基板面に対して垂直に配向している。白表示電圧を印加すると、図１（ｂ）に示すように、画素電極１２のエッジ部に生じる斜め電界と、対向電極２２の開口部２２ａ近傍に生じる斜め電界とに従って所定の方向に傾斜した配向状態をとる。白表示電圧を印加した状態で形成された配向維持層３４ａおよび３４ｂは、図１（ａ）に示すように、液晶層４２に白表示電圧を印加した状態の液晶分子４２ａの配向を、電圧を取り去った後（電圧を印加しない状態）においても維持（記憶）するように作用する。
【００２４】
なお、垂直配向膜に最近接している液晶分子４２ａは強いアンカリング作用を受けているので、電圧を印加した状態であっても、垂直配向膜の表面に対して略垂直に配向している。従って、垂直配向膜上に形成される配向維持層３４ａおよび３４ｂによって固定される液晶分子４２ａは、図１（ａ）に模式的に示したように垂直方向から僅か（１°〜５°）に傾いた程度（プレチルト角で表現すると８５°〜８９°）であり、図１（ａ）と図１（ｂ）とを比較すればわかるように、配向維持層３４ａおよび３４ｂによって固定される液晶分子４２ａの配向は電圧を印加してもほとんど変化することがない。
【００２５】
本実施形態における液晶表示装置１００は、配向維持層３４ａおよび３４ｂを有するので、図１（ａ）に示すように、電圧無印加時においても、所定の方向にプレチルトした配向状態を呈する。このときの配向状態は、図１（ｂ）に示す白表示状態（電圧印加時）の液晶分子４２ａの配向状態と整合するものである。その結果、配向の安定性や応答特性が向上する。
【００２６】
ここでは、液晶分子４２ａの配向方向を制御するために対向電極２２に開口部（導電層が存在しない部分）２２ａを形成した例を示したが、配向維持層３４ａおよび３４ｂを形成するときの液晶分子４２ａの配向方向を制御する方法はこれに限定されるものではない。例えば、開口部２２ａに代えて対向電極２２上に突起を設けてもよい。画素電極１２にエッジ部に形成される斜め電界による配向規制力と、対向電極２２に形成された開口部２２ａまたは対向電極２２上に設けられた突起による配向規制力とを組み合わせて用いることにより、例えば軸対称配向（放射状傾斜配向）を呈する液晶ドメインを形成することができる。軸対称配向の液晶ドメインが形成される垂直配向モードは、ＣＰＡ（Continuous Pinwheel Alignment）モードと呼ばれる。ＣＰＡモードは、例えば特開２００２−２０２５１１号公報に開示されている。また、垂直配向モードとしては、特許文献１に記載されているようなＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モードも知られており、ＭＶＡモードに用いられる配向規制構造（電極上に設けた突起や電極に形成されたスリットなど）を用いてもよい。ＭＶＡモードでは、液晶分子４２ａの配向方位が異なる４つの液晶ドメインが形成される。
【００２７】
［液晶表示装置の製造方法］
次に、図２および図３を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置１００の製造方法を説明する。
【００２８】
まず、画素電極１２および垂直配向膜が設けられた基板１１と、対向電極２２および垂直配向膜が設けられた基板２１とを用意する。これらの基板１１および２１は、公知の種々の方法により作製することができる。
【００２９】
次に、図２（ａ）に示すように、一対の基板１１および２１をシール材５０を介して所定の間隔で貼り合わせ、空セル７０’を作製する。シール材５０は、典型的には、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂から形成されている。シール材５０は、貼り合わせを行う前に基板１１および２１の一方上に塗布されており、貼り合わせ後に硬化される。また、シール材５０は、図３に示すように、略矩形状に形成されており、その一辺に液晶材料を注入するための複数の注入口５１を含んでいる。なお、ここでは２つの注入口５１を例示しているが、注入口５１の数はこれに限定されるものではない。
【００３０】
続いて、図２（ｂ）に示すように、一対の基板１１および２１とシール材５０で包囲された空間（図２（ａ）および図３中に示した空間Ｓ）内に真空注入法により液晶材料を注入することによって、液晶層４２を含む液晶セル７０が得られる。この工程において注入される液晶材料は、光重合性化合物を含んでいる。光重合性化合物としては、アクリレート基、メタクリレート基やビニル基などのラジカル重合が可能な官能基を有するモノマーまたはオリゴマーを用いることが好ましい。反応性の観点から、アクリレート基またはメタクリレート基を有するものがさらに好ましく、そのなかでも多官能のものが好ましい。また、光重合性化合物として液晶骨格を有するものを用いることによって液晶分子４２ａの配向をより安定に維持することができる。特に、特許文献２に記載されている環構造または縮環構造にアクリレート基またはメタクリレート基が直接結合したものが好ましい。また、この注入工程は、後に詳述するように、複数段階（二段階）で行われる。なお、ここでは図示しないが、シール材５０の注入口５１は、液晶材料の注入後に封止材（例えば光硬化性樹脂）によって封止される。
【００３１】
次に、図２（ｃ）に示すように、液晶材料（液晶層４２）に光（典型的には紫外線）を照射することによって、光重合性化合物を重合して配向維持層３４ａおよび３４ｂを形成する。液晶層４２への光の照射は、液晶層４２に所定の電圧（典型的には白表示電圧以上の電圧）が印加された状態で行われる。電圧印加により対向電極２２と画素電極１２との間に生成される電界によって、液晶分子４２ａは所定の配向状態をとる。この状態で光の照射により光重合性化合物が重合することによって、垂直配向膜上に、液晶分子４２ａの配向状態を固定する配向維持層３４ａおよび３４ｂが形成される。配向維持層３４ａおよび３４ｂを形成するための上述した一連の工程を「ＰＳＡ処理」と呼ぶことがある。
【００３２】
その後、液晶セル７０に、一対の偏光板や必要に応じて位相差板を貼り付けることにより、液晶表示装置１００が完成する。
【００３３】
［液晶材料注入工程］
続いて、液晶材料の注入工程をより具体的に説明する。
【００３４】
本実施形態における製造方法では、液晶材料の注入工程は、光重合性化合物を所定の濃度（以下では第１の濃度と呼ぶ。）で含む液晶材料を注入する第１注入工程と、第１注入工程の後に、光重合性化合物を第１の濃度よりも高い濃度（以下では第２の濃度と呼ぶ。）で含む液晶材料を注入する第２注入工程とを含んでいる。
【００３５】
図４および図５を参照しながら、第１注入工程および第２注入工程の具体例を説明する。
【００３６】
液晶材料の注入に先立って、図４（ａ）に示すように、それぞれ液晶材料４１Ａおよび４１Ｂを収容する２つの液晶皿８１Ａおよび８１Ｂと、空セル７０’とをチャンバ８０内に配置し、チャンバ８０内を排気して真空状態にする。一方の液晶皿８１Ａに収容されている液晶材料４１Ａは、相対的に低い第１の濃度で光重合性モノマーを含み、他方の液晶皿８１Ｂに収容されている液晶材料４１Ｂは、相対的に高い第２の濃度で光重合性モノマーを含んでいる。ここでは、空セル７０’として、１２．１型ＷＸＧＡのサイズのものを用いる。なお、図示していないが、チャンバ８０内には、空セル７０’および／または液晶皿８１Ａ、８１Ｂを移動させるための機構が設けられている。
【００３７】
まず、図４（ｂ）に示すように、モノマー濃度の低い液晶材料４１Ａ（左側の液晶皿８１Ａに収容されている液晶材料）に空セル７０’の端部を浸漬し、シール材５０の注入口５１から液晶材料４１Ａを注入する。ここでは、モノマー濃度（第１の濃度）を０．１重量％とする。
【００３８】
次に、チャンバ８０内を大気圧状態に戻した後（所要時間は３分程度）、図５（ａ）に示すように、モノマー濃度の高い液晶材料４１Ｂ（右側の液晶皿８１Ｂに収容されている液晶材料）に空セル７０’の端部を浸漬し、シール材５０の注入口５１から液晶材料４１Ｂを注入する。ここでは、モノマー濃度（第２の濃度）を０．３重量％とする。
【００３９】
引き続いて、図５（ｂ）に示すように液晶材料４１Ｂの注入を継続し、空セル７０’内全面に液晶材料が充填されるまで注入を行う。このようにして、２段階の液晶材料の注入が完了する。
【００４０】
上述したように、本実施形態における製造方法では、液晶材料を注入する工程が、光重合性化合物を第１の濃度で含む液晶材料４１Ａを注入する第１注入工程と、第１注入工程の後に光重合性化合物を第１の濃度よりも高い第２の濃度で含む液晶材料４１Ｂを注入する第２注入工程とを含んでいる。図５（ｂ）に示すように、空セル７０’に最初に注入される液晶材料４１Ａは、光重合性化合物の濃度（モノマー濃度）が相対的に低く、また、空セル７０’内の真空部分に接触する時間が長いために酸素濃度も相対的に低い。これに対し、後続して注入される液晶材料４１Ｂは、光重合性化合物の濃度（モノマー濃度）が相対的に高く、また、空セル７０’内の真空部分にほとんど接触しないために酸素濃度も相対的に高い。従って、注入のタイミング差（酸素濃度の差）に起因した重合性の差が、光重合性化合物の濃度差によって相殺される。そのため、表示領域内のプレチルト角を均一化することができ、輝度むらの発生を抑制することができる。
【００４１】
なお、第１注入工程における光重合性化合物の濃度（第１の濃度）および第２注入工程における光重合性化合物の濃度（第２の濃度）は、ここで例示した数値に限定されるものではなく、第１の濃度に比べて第２の濃度が高ければよい。ただし、プレチルト角のばらつきを十分に抑制するためには、第１の濃度と第２の濃度との差がある程度以上大きいことが好ましい。具体的には、第１の濃度をＣ1（重量％）、第２の濃度をＣ2（重量％）とすると、第１の濃度Ｃ1および第２の濃度Ｃ2は、Ｃ2≧１．２Ｃ1の関係を満足することが好ましい。つまり、第２の濃度Ｃ2は、第１の濃度Ｃ1の１．２倍以上であることが好ましい。ただし、光重合性化合物の濃度差がプレチルト角に与える影響が、酸素濃度差がプレチルト角に与える影響を上回ってしまうことを避ける観点からは、第１の濃度Ｃ1と第２の濃度Ｃ2との差は大きすぎないことが好ましく、具体的には、第１の濃度Ｃ1および第２の濃度Ｃ2は、Ｃ2≦６Ｃ1の関係を満足することが好ましい。つまり、第２の濃度Ｃ2は、第１の濃度Ｃ1の６倍以下であることが好ましい。
【００４２】
また、第１注入工程において注入される液晶材料４１Ａの量Ｑ1が空セル７０’に注入される液晶材料の総量Ｑに占める割合Ｑ1／Ｑは、特に限定されるものではない。ただし、表示領域端部での輝度浮きを十分に抑制するためには、Ｑ1／Ｑ≧０．０１であることが好ましい。ただし、Ｑ1／Ｑが大きすぎると、真空部分にほとんど接触しないにもかかわらず光重合性化合物の濃度が低い領域が存在することになり、その領域ではプレチルト角が大きくなりすぎてしまう（つまり液晶分子４２ａの垂直方向に対する傾斜角度が十分に大きくない）ことがあるので、Ｑ1／Ｑ≦０．０５であることが好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明によると、ＰＳＡ方式の液晶表示装置において、プレチルト角のばらつきに起因した輝度むらの発生を抑制することができる。本発明は、種々の表示モードの液晶表示装置の製造に好適に用いられ、ＣＰＡモードやＭＶＡモードなどの垂直配向モードの液晶表示装置の製造に特に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００の１つの画素の構造を模式的に示す断面図であり、（ａ）は黒表示状態（電圧無印加時）、（ｂ）は白表示状態（電圧印加時）における液晶分子の配向状態を示す図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、液晶表示装置１００の製造工程を模式的に示す断面図である。
【図３】液晶表示装置１００の製造に用いられる空セルを模式的に示す平面図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）は、空セル内への液晶材料の注入工程を模式的に示す図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は、空セル内への液晶材料の注入工程を模式的に示す図である。
【図６】輝度むらが発生している液晶セルを示す写真である。
【符号の説明】
【００４５】
１１、２１    基板
１２    画素電極
２２    対向電極
２２ａ    開口部
３４ａ、３４ｂ    配向維持層
４１Ａ、４１Ｂ    液晶材料
４２    液晶層
４２ａ    液晶分子
５０    シール材
５１    注入口
７０    液晶セル
７０’    空セル
８０    チャンバ
８１Ａ、８１Ｂ    液晶皿
１００    液晶表示装置
【図１】
2009258425.tif 000003
【図２】
2009258425.tif 000004
【図３】
2009258425.tif 000005
【図４】
2009258425.tif 000006
【図５】
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【図６】
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