(57)【要約】【課題】  高密度に電子部品が実装される基板上で、光ファイバ等のケーブルの効率的な余長処理構造を提供することを目的とする。【解決手段】  ファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部４は、支持部としてのうで４ｉの両端に、ファイバ配線溝４ａとファイバ配線溝４ｂが平行となるように設けられ、うで４ｉの下には基板に所定距離Ａを置いて固定するための固定部としてのあし４ｃを有し、ねじ５によって基板１上に固定されている。光ファイバ３は、ファイバ配線溝４ａとファイバ配線溝４ｂを通って長円形状に巻回して余長処理される。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に立設した固定部と、
この固定部の先端に取り付けられた支持部と、
巻回したファイバの曲げ反力を抑止する前記支持部に設けられ互いに平行な一対の壁部とを備えたファイバ余長処理構造。
【請求項２】
支持部は、基板に略平行に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のファイバ余長処理構造。
【請求項３】
支持部は、基板に略垂直に設けられていることを請求項１に記載のファイバ余長処理構造。
【請求項４】
壁部は、溝形状の一部であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のファイバ余長処理構造。
【請求項５】
溝形状は、ファイバの曲げ反力と反対方向に開口部を有することを特徴とする請求項４に記載のファイバ余長処理構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ファイバ余長処理構造に関し、特に光部品等の電子部品を実装する基板上における好適なファイバ余長処理構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板上に光部品を実装する場合、通常は基板上にて光ファイバの余長処理が必要である。余長処理とは、光部品に光ファイバを接続する製造過程において生ずる、光ファイバの長さ、及びその長さのバラツキを吸収する処理のことである。
【０００３】
従来においては、光ファイバを円状に周回して余長を処理するため、基板上には押さえ部材を円周状に９０度間隔で４個配置する（例えば、特許文献１参照）。押さえ部材には１０ｍｍ程度の幅があり、この幅内をファイバは自由に動くことができる。
【０００４】
円状に配線される光ファイバは、この配線直径の変化を利用して余長処理が行われている。光ファイバは、直径の差分に対応する円周長の差により余長を吸収し収容される。より多くの余長を吸収するためには、ファイバ配線直径差を拡大するか、光ファイバ周回数を多くする必要がある。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２８１４６８号公報（００１５〜００１９段、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光部品と光ファイバを融着あるいは機械的に接続するという製造上の問題により、ある程度の光ファイバの長さが必要であり、かつ、完成した光部品における光ファイバ長さには大きなばらつきが生じる。したがって、余長処理部はその長さのばらつきを吸収できる構造を必要とする。
【０００７】
しかしながら、上記従来の光ファイバ余長処理構造では、余長処理量を十分に確保するために、配線する光ファイバ個々に、その長さに適切でかつ大きな直径で自由度を持つ押さえ部材および配置位置を設計しなければならないという問題があった。また、設計した余長処理部に収容しきれない光ファイバの部品は使用できないという歩留まりの問題点もあった。
【０００８】
基板上に押さえ部材を直接配置して基板上に余長処理部を設置するため、その部分に電子部品を配置することが困難であり、電子部品の実装面積が光ファイバの余長処理部の設置面積分、狭められていたという問題点があった。
【０００９】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、高密度に電子部品が実装される基板上で、光ファイバ等のケーブルの効率的な余長処理構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係るファイバ余長処理構造は、基板上に立設した固定部と、固定部の先端に取り付けられた支持部と、巻回したファイバの曲げ反力を抑止する支持部に設けられ互いに平行な一対の壁部とを備えたものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、平行に設けた一対の壁部を用いてファイバを長円形状に巻回して配線することにより、長円の長手方向の寸法を制御してより多くの光ファイバの余長部分を収容することができ、光ファイバの長さのばらつきを抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係るファイバ余長処理構造の各種実施の形態について、図面に基づいて説明する。
実施の形態１．
図１は、本実施の形態１におけるファイバ余長処理構造の構成を示す概略図である。図１（ａ）は側断面図を示し、図１（ｂ）は上面図を示す。
【００１３】
図１に示すように、１は基板、２は光部品、そして３は光ファイバである。基板１上には、光部品２を含め電子部品が多数実装される。破線で示す形状の光ファイバ３は、光部品２に接続される。
【００１４】
本実施の形態１のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部４は、支持部としてのうで４ｉの両端に、それぞれ断面がコ字状で長方形の溝が設けられたファイバ配線溝４ａ、４ｂを有する。また、光ファイバ保持部４は、うで４ｉの中央下には基板に所定距離Ａを置いて固定するための固定部としてのあし４ｃを有し、ねじ５によって基板１上に固定されている。
【００１５】
ファイバ配線溝４ａとファイバ配線溝４ｂは、平行になるように配設され、いずれも適当な直線部を有している。ファイバ配線溝４ａ、４ｂの溝開口部４ｄ、４ｅにはツメ４ｆ、４ｇが３箇所ずつ溝の一部を塞ぐように互い違いに内側方向に設けられている。
【００１６】
次に、図２にしたがって本実施の形態１におけるファイバ余長処理構造の動作を説明する。図２に示すように、まず、光部品２からの光ファイバ３は、ファイバ配線溝４ａの溝開口部４ｄからツメ４ｆを避けてファイバ配線溝４ａ内に収容される。
【００１７】
続いて、ファイバ配線溝４ａ内を通った光ファイバ３は、湾曲して反対側に位置するファイバ配線溝４ｂを通り、ファイバ配線溝４ａの場合と同様にファイバ配線溝４ｂの溝開口部４ｅからツメ４ｇを避けてファイバ配線溝４ｂ内に収容される。
【００１８】
次いで、ファイバ配線溝４ｂ内を通った光ファイバ３は、湾曲してもとの側に位置するファイバ配線溝４ａを通る。これを繰り返し、長円形状に数回転させて光ファイバ３をファイバ配線溝４ａとファイバ配線溝４ｂに収容していく。
【００１９】
光ファイバ３が収容されたファイバ配線溝４ａの断面状態を図３に示す。光ファイバ３は、曲げ反力により、ファイバ配線溝４ａの壁部としての内壁４ｈに直線的に密着するように配線される。
【００２０】
また、ツメ４ｆが溝開口部４ｄに互い違いに配置されているため、ファイバ配線溝４ａに収容された光ファイバ３はファイバ配線溝から自然に脱落することなく確実に収容される。このようにして、光ファイバ３の曲げ反力を利用することにより所要の配線形状である長円形状にて光ファイバ３を周回させて収容することができる。
【００２１】
さらに、図４に示すとおり、光ファイバ３の配線形状は長円であるが、この長円形状は長円の長手方向にフリーであるため、拡張させることが可能である。たとえば、長円の直線部を寸法Ｂから寸法Ｃまで任意に長円形状を変形可能である。この寸法差、つまり、（Ｃ−Ｂ）×２×周回数、という光ファイバ長さの変化可能量を利用して、光ファイバ３の長さのばらつきを吸収して収容可能となっている。
【００２２】
光ファイバ３は、上述のように余長量に応じて長円形状を任意で拡張されるが、ファイバ配線溝４ａ、４ｂは基板面から所定距離Ａだけ離れているため（図１）、配線形状の拡張により配線領域が変化しても、基板上の部品の実装には影響しない。
【００２３】
以上のように、本実施の形態１では、二つの直線状のファイバ配線溝４ａ、４ｂを平行になるように配設し、光ファイバ３の余長部分をファイバ配線溝４ａ、４ｂに通して長円形状に配線するようにしたので、長円の長手方向の寸法を制御してより多くの光ファイバの余長部分を収容することができ、光ファイバの長さのばらつきを抑制できる。また、光ファイバ個々に合わせた余長処理部を設計する必要も無く、汎用的に光ファイバの余長処理に利用できる。
【００２４】
また、ファイバ配線溝４ａ、４ｂを基板面から所定距離を置いて設置するようにしたので、基板面との間の空間を利用して基板上に電子部品をより多く実装できる。
【００２５】
実施の形態２．
実施の形態１のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部４においては、ファイバ配線溝４ａ、４ｂの溝開口部４ｄ、４ｅにツメ４ｆ、４ｇを設けた場合について示した。実施の形態２では、溝開口部にツメを設けない場合について示す。
【００２６】
図５は、本実施の形態２におけるファイバ余長処理構造の構成を示す概略図である。図５（ａ）は側断面図を示し、図５（ｂ）は上面図を示す。図５において、本実施の形態２のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部６は、ファイバ配線溝６ａ、６ｂの溝開口部６ｄ、６ｅが光ファイバ３の長円形状の中心方向を向くように設けられている。図５（ｃ）に、ファイバ配線溝６ａの断面拡大図を示す。
【００２７】
光ファイバ３を配線する場合は、この溝開口部６ｄ、６ｅからファイバ配線溝６ａ、６ｂに収容する。実施の形態１にて説明したとおり、光ファイバ３には外向きに反力が生じているため、このファイバ配線溝６ａ、６ｂの溝開口部６ｄ、６ｅとは反対側の内面に押し付けられて、自然に脱落することはなく、収容可能である。
【００２８】
その他の構成及び動作に関しては、実施の形態１と同様であり、相当部分には図１と同一符号を付して説明を省略する。ファイバ配線溝６ａ、６ｂの溝開口部６ｄ、６ｅには、実施の形態１と異なり、脱落を防ぐためのツメ等を設けていないので容易に配線が可能となる。
【００２９】
以上のように、本実施の形態２では、ファイバ配線溝６ａ、６ｂの溝開口部６ｄ、６ｅが光ファイバ３の長円形状の中心方向を向くように設けたので、光ファイバの外向きの反力により脱落を防ぐためのツメ等を設ける必要がなく、光ファイバの余長部分の配線の際に、容易に収納することができる。
【００３０】
実施の形態３．
実施の形態１のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部４においては、ファイバ配線溝４ａ、４ｂの基板面からの高さ、及びファイバ配線溝４ａとファイバ配線溝４ｂとの間隔距離を固定して設けた場合について示した。実施の形態３では、伸縮可能に設けた場合について示す。
【００３１】
図６は、本実施の形態３におけるファイバ余長処理構造の構成を示す概略図である。図６（ａ）は側断面図を示し、図６（ｂ）は上面図を示す。図６において、本実施の形態３のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部７は、ファイバ配線溝７ａ、７ｂの基板面からの高さ、及びファイバ配線溝７ａとファイバ配線溝７ｂとの間隔距離が、伸縮可能になっている。
【００３２】
その他の構成及び動作に関しては、実施の形態１と同様であり、相当部分には図１と同一符号を付して説明を省略する。
【００３３】
伸縮可能とする構造には、例えば、２重のシリンダ形状をスライドさせるなどの方法がある。うで７ｉを伸縮させることにより、ファイバ配線溝７ａとファイバ配線溝７ｂとの間隔ＤがＤ＋αまで変化する。また、あし７ｃを伸縮させることによって、基板面からの高さＡ寸法がＡ＋αまで変化する。
【００３４】
以上のように、本実施の形態３では、光ファイバ保持部７のうで７ｉ及びあし７ｃを伸縮可能に設けたので、基板面上により高さの高い部品を実装でき、かつ、より大きな光ファイバ長さのばらつきに対しても同一の構造にて対応できる。
【００３５】
実施の形態４．
実施の形態１のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部４においては、ファイバ配線溝４ａ、４ｂを設けたうで７ｉを基板面に対して水平方向に設けた場合について示した。実施の形態４では、垂直方向に設けた場合について示す。
【００３６】
図７は、本実施の形態４におけるファイバ余長処理構造の構成を示す概略図である。図７（ａ）は側断面図を示し、図７（ｂ）は上面図を示す。図７において、本実施の形態４のファイバ余長処理構造としての光ファイバ保持部８は、ファイバ配線溝８ａ、８ｂを両端に有するうで８ｉが、基板面に対して垂直になるようにあし８ｃに固定されている。
【００３７】
その他の構成及び動作に関しては、実施の形態１と同様であり、相当部分には図１と同一符号を付して説明を省略する。
【００３８】
以上のように、本実施の形態４では、光ファイバ保持部８のうで８ｉを基板面に対して垂直になるように設けたので、基板面上により高さの高い部品を実装できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態１の構成を示す概略図である。
【図２】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態１の動作を示す概略図である。
【図３】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態１のファイバ配線溝の構成を示す断面拡大図である。
【図４】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態１の動作を説明するための概略図である。
【図５】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態２の構成を示す概略図である。
【図６】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態３の構成を示す概略図である。
【図７】本発明に係るファイバ余長処理構造の実施の形態４の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４０】
４、６、７、８  光ファイバ保持部
４ａ、４ｂ、６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂ  ファイバ配線溝
４ｃ、６ｃ、７ｃ、８ｃ  あし
４ｄ、４ｅ、６ｄ、６ｅ、７ｄ、７ｅ、８ｄ、８ｅ  溝開口部
４ｉ、６ｉ、７ｉ、８ｉ  うで
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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