(57)【要約】【課題】製造ラインの運転を再開する際の製造ロスを低減することのできる光学補償フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】  配向膜層が形成された透明な帯状フィルム上に液晶性化合物を含む硬化性の塗布液を塗布乾燥して形成した塗布層を、硬化ゾーン３６内で加熱手段により加熱しながら紫外線照射手段４０により紫外線を照射することにより所定の硬化温度で硬化させる光学補償フィルムの製造方法において、製造を中断する間は、紫外線照射手段４０を停止すると共に加熱手段の熱源温度を前記所定の硬化温度よりも高い温度に維持した状態で製造再開まで待機する待機工程と、紫外線照射手段４０を稼働すると共に前記待機工程時における加熱手段の熱源温度を定常運転時の熱源温度まで下げる運転再開工程と、を備える。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜層が形成された透明な帯状フィルム上に液晶性化合物を含む硬化性の塗布液を塗布乾燥して形成した塗布層を、硬化ゾーン内で加熱手段により加熱しながら紫外線照射手段により紫外線を照射することにより所定の硬化温度で硬化させる光学補償フィルムの製造方法において、
前記製造を中断する間は、前記紫外線照射手段を停止すると共に前記加熱手段の熱源温度を前記所定の硬化温度よりも高い温度に維持した状態で製造再開まで待機する待機工程と、
前記紫外線照射手段を稼働すると共に前記待機工程時における加熱手段の熱源温度を定常運転時の熱源温度まで下げる運転再開工程と、を備えたことを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記加熱手段の待機工程時における熱源温度は９０〜１３５℃であり、前記定常運転時における熱源温度は６０〜１１０℃であることを特徴とする請求項１の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記待機工程から前記運転再開工程への切り替えを検知し、検知された切り替え時から所定時間後に前記待機工程時における加熱手段の熱源温度を前記定常運転時の熱源温度に下げることを特徴とする請求項１又は２の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記加熱手段は、前記硬化ゾーン内に給気する熱風を熱源とすることを特徴とする請求項１〜３の何れか１の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記加熱手段は、前記硬化ゾーン内に設けられたヒータを熱源とすることを特徴とする請求項１〜３の何れか１の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記加熱手段は、前記硬化ゾーン内に設けられ、前記帯状フィルムの塗布層裏面を支持して搬送する加熱ローラを熱源とすることを特徴とする請求項１〜３の何れか１の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の光学補償フィルムの製造方法で製造されたことを特徴とする光学補償フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルムの製造方法及び光学補償フィルムに係り、特に、液晶表示装置に用いられる視野角を拡大するための補償フィルムであり、配向膜を積層した透明フィルム上に液晶性化合物を塗布してなる光学補償フィルムの製造方法及び光学補償フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶セルに位相差板として使用される光学フィルムの需要が増加しつつある。液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償フィルム（位相差板）で構成されており、光学補償フィルムは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられている。光学補償フィルムとしては、従来から延伸ポリマーフィルムが使用されていたが、近年では、延伸ポリマーフィルムに代えて、透明支持体上に液晶性分子から形成された光学異方性層を有する光学補償フィルムを使用することが提案されている。
【０００３】
このような光学補償フィルムの製造方法として、配向処理を施した長尺状のポリマーフィルムを長手方向に連続的に流す製造ラインにおいて、そのポリマーフィルム上に液晶性化合物を塗工し、この液晶性化合物中の液晶材料を紫外線（ＵＶ）と熱によって配向および硬化させて、基材上に光学補償層を形成することが知られている（例えば、特許文献１及び２）。そして、特許文献３では、製造する際の硬化時の幅方向の温度制御が光学特性の均質性に重要であることが記載されている。
【特許文献１】特開２００４−３１７６５１号公報
【特許文献２】特開２００７−８６２４８号公報
【特許文献３】特開２００７−１４８０９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、光学補償フィルムの製造において、塗布液の交換などによって製造ラインを一旦停止させることがあり、その際には液晶性化合物を配向および硬化させるために用いる紫外線ランプや熱給気も停止させる。
【０００５】
しかしながら、この場合、製造ラインを再度立ち上げ、紫外線ランプをオンしたり熱給気を開始させても、希望する配向や硬化を行う条件に達するのに長時間を要してしまい、均質な光学特性が求められる光学補償フィルムにおいては、ロスが大きいという問題があった。特に光学補償フィルムのように塗布液の付加価値が高いものについては、コスト的にロスの寄与は大きい。
【０００６】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、製造ラインを再立ち上げする際の製造ロス（製品ロス）を低減することのできる光学補償フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、配向膜層が形成された透明な帯状フィルム上に液晶性化合物を含む硬化性の塗布液を塗布乾燥して形成した塗布層を、硬化ゾーン内で加熱手段により加熱しながら紫外線照射手段により紫外線を照射することにより所定の硬化温度で硬化させる光学補償フィルムの製造方法において、前記製造を中断する間は、前記紫外線照射手段を停止すると共に前記加熱手段の熱源温度を前記所定の硬化温度よりも高い温度に維持した状態で製造再開まで待機する待機工程と、前記紫外線照射手段を稼働すると共に前記待機工程時における加熱手段の熱源温度を定常運転時の熱源温度まで下げる運転再開工程と、を備えたことを特徴とする光学補償フィルムの製造方法を提供する。
【０００８】
本願発明者は、製造を中断する際に、加熱手段の熱源温度を、製造時に塗布層を加熱しながら硬化させるときの所定の硬化温度より高い温度に設定することにより、ロスを低減できることを見出した。即ち、製造を中断しているときにも加熱を中断するのではなく、加熱手段の熱源温度を硬化させるときの所定の硬化温度より高い温度に設定することで、ゾーン内が製造開始時に紫外線照射手段による輻射熱で徐々に温度上昇して塗布層が予定の硬化温度になるまでの時間を短縮することができる。更に、加熱手段の熱源温度を硬化させるときの所定の硬化温度より高い温度で加熱することで、ゾーン内の雰囲気温度を高めて製造開始時の紫外線照射手段を温めておくことができ、通常紫外線照射手段をオンさせた後の不安定な紫外線の出力を早期に安定させることができる。従って、製造ラインの運転を再開する際に発生してしまう初期の製造ロスを大幅に抑制することができる。
【０００９】
尚、紫外線照射手段の出力が安定するように製造ラインを再立ち上げ前に紫外線照射手段をオンしてしまうと、帯状フィルムが劣化して切れてしまったり火事の原因となったりする。また、加熱手段の熱源温度を前記所定の硬化温度よりも高い温度に維持する上限温度は、塗布層の品質が劣化する温度であり、通常は帯状フィルムのガラス転移温度である。
【００１０】
請求項２は請求項１において、前記加熱手段の待機工程時における熱源温度は９０〜１３５℃であり、前記定常運転時における熱源温度は６０〜１１０℃であることを特徴とする。
【００１１】
請求項２によれば、加熱手段の待機工程時における熱源温度は９０〜１３５℃の範囲、定常運転時における熱源温度は６０〜１１０℃の範囲とすることが好ましい。尚、加熱手段の待機工程時における熱源温度は１１０〜１３０℃の範囲、定常運転時における熱源温度は７０〜１００℃の範囲とすることが更に好ましい。
【００１２】
請求項３は請求項１又は２において、前記待機工程から前記運転再開工程への切り替えを検知し、検知された切り替え時から所定時間後に前記待機工程時における加熱手段の熱源温度を前記定常運転時の熱源温度に下げることを特徴とする。
【００１３】
請求項３によれば、検知された切り替え時から所定時間後に待機工程時における加熱手段の熱源温度を定常運転時の熱源温度に下げることが好ましい。尚、所定時間後は０秒から３００秒の間が好ましく、０秒から６０秒の間が更に好ましい。
【００１４】
請求項４は請求項１〜３の何れか１において、前記加熱手段は、前記硬化ゾーン内に給気する熱風を熱源とすることを特徴とする。
【００１５】
即ち、硬化ゾーンにおいて、製造ライン停止時（待機工程時）に硬化ゾーン内を加熱する熱源を、塗布層を加熱する熱風とすることで、熱風の温度を製造時と停止時とで切り替えるのみで対応することができるので、効率的に本発明を適用することができる。
【００１６】
請求項５は請求項１〜３の何れか１において、前記加熱手段は、前記硬化ゾーン内に設けられたヒーターを熱源とすることを特徴とする。
【００１７】
即ち、製造ライン停止時の硬化ゾーン内を加熱する熱源を、硬化ゾーン内に設けられたヒーターで行うこともできる。
【００１８】
請求項６は請求項１〜３の何れか１において、前記加熱手段は、前記硬化ゾーン内に設けられ、前記帯状フィルムの塗布層裏面を支持して搬送する加熱ローラを熱源とすることを特徴とする。
【００１９】
即ち、製造ライン停止時の硬化ゾーン内を加熱する熱源を、硬化ゾーン内に設けられた加熱ローラを熱源とすることもできる。
【００２０】
請求項７は請求項１〜６の何れか１項に記載の光学補償フィルムの製造方法で製造されたことを特徴とする光学補償フィルムである。
【００２１】
請求項６によれば、製造ラインの運転を再開する時に硬化ゾーンの条件を素早く安定化させることができるので、物性の安定した光学補償フィルムを得ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、製造ラインの運転を再開する際のロスを低減することのできる光学補償フィルムの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、添付図面により本発明の光学補償フィルムの製造方法及び光学補償フィルムの好ましい実施の形態について詳説する。
【００２４】
図１は、本発明を実施するための光学補償フィルムの製造装置１０の概略構成を示す模式図である。
【００２５】
図１に示すように、予め配向膜形成用の透明樹脂層が形成されたウエブ１４が、送り出し機１２から送り出される。ウエブ１４は、ガイドローラ１６によってガイドされながら下流側に配されたラビング処理装置１８に送りこまれ、ラビングローラ２０によって透明樹脂層がラビング処理される。これにより、配向膜が形成される。なお、ウエブ１４の搬送速度は、５〜２００ｍ/分が好ましい。
【００２６】
ラビング処理装置１８では、ラビングロール２０、２０がウエブ１４の連続搬送工程内にある２つの搬送用ロール間に配されている。そして、ウエブ１４が回転するラビングロール２０、２０にラップされて搬送されることにより、連続的にラビング処理される。この場合、ラビングロール２０、２０は、その回転軸がウエブ１４の搬送方向に対して傾くように配されてもよい。
【００２７】
ラビング処理装置１８の下流側には除塵機２２が配されており、ウエブ１４表面に付着した塵が取り除かれる。さらに、除塵機２２の下流側にはグラビア塗布装置２４が配され、液晶性化合物を含む塗布液がウエブ１４の配向膜上に塗布される。液晶性化合物としては、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物が好ましく用いられる。
【００２８】
グラビア塗布装置２４は、グラビアローラ２６と、該グラビアローラ２６の下方に配され、液晶性化合物を含む塗布液が満たされた液受けパン２８と、を備えており、グラビアローラ２６の約下半分は塗布液に浸漬されている。また、グラビアローラ２６の約１０時の位置にブレード２９が配されている。これにより、グラビアローラ２６表面のセルに塗布液が供給され、ブレード２９で余分な塗布液が掻き落とされた後、ウエブ１４表面に塗布される。
【００２９】
上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、グラビアローラ２６と略平行な状態で配されている。また、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、その両端部が図示しない軸受部材（ボール軸受等）により回動自在に支持され、駆動機構を有していないことが好ましい。グラビア塗布装置２４は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設けられることが好ましい。清浄度は、クラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【００３０】
塗布装置としては、図１では、グラビア塗布装置２４の例を示したが、これに限定されない。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法等の方法を適宜使用することができる。なお、塗布液の塗布量は、１０ｍＬ/ｍ２以下であることが好ましい。また、ウエブ１４に形成される塗布層の幅は、０．５〜３ｍであることが好ましい。
【００３１】
液晶性化合物を含む塗布層が形成されたウエブ１４は、すぐ下流側に設けられた初期乾燥ゾーン３０により乾燥される。
【００３２】
さらに、初期乾燥ゾーン３０の下流側には乾燥ゾーン３２が設けられ、乾燥されたウエブ１４の塗布層が更に乾燥される。そして、下流側の硬化ゾーン３６に到達するまでに、塗布層中の固形分濃度が８０％以上になるよう乾燥される。
【００３３】
乾燥ゾーン３２を出たウエブ１４は、その下流側に設けられた硬化ゾーン３６を通過することにより、連続的に光照射されてディスコティック液晶が硬化される。そして、配向膜上に液晶性化合物を含む塗布層が形成されたウエブ１４は、巻取り機３８に巻き取られる。
【００３４】
次に、本発明に係る硬化ゾーン３６について説明する。乾燥ゾーン３２の下流側に設けられた硬化ゾーン３６は、紫外線照射室３９と、該紫外線照射室３９の上部に設けられ、搬送されるウエブ１４の塗布層に紫外線を照射する紫外線照射手段４０と、を備えている（図２（Ａ）参照）。紫外線照射室３９は、ウエブ１４の非塗布面側（同図ではウエブ１４の下側）に、熱風を紫外線照射室３９の内部に吹き出す吹出部４２と、熱風を紫外線照射室３９の外部に排出する排出部４６と、をそれぞれ備えている。この熱風により、紫外線照射室３９内を適度な温度とすることで、熱硬化を促進する。
【００３５】
紫外線照射手段４０は、公知のものが使用でき、例えば紫外線ランプ等が使用できる。図１では、１つの紫外線照射手段４０が配設された例を示したが、設置形態や数は特に限定されない。
【００３６】
ところで、光学補償フィルムの製造において、塗布液の交換などによって製造ラインを一旦停止させることがあり、その際には液晶性化合物を配向および硬化させるために用いる紫外線照射や熱風の給気も停止させる。しかしながら、この場合、製造ラインを再度立ち上げて、紫外線照射を開始し熱風の給気を開始しても、塗布層を希望する配向や硬化を行う条件に達するのに時間を要してしまい、均質な光学特性が求められる光学補償フィルムにおいては、ロスが大きいという問題があった。特に光学補償フィルムのように塗布液の付加価値が高いものについては、コスト的にロスの寄与は大きい。
【００３７】
そこで、本発明では、製造を中断する間は、紫外線照射手段を停止すると共に加熱手段の熱源温度を所定の硬化温度よりも高い温度に維持した状態で製造再開まで待機する待機工程と、紫外線照射手段を稼働すると共に待機工程時における加熱手段の熱源温度を定常運転時の熱源温度まで下げる運転再開工程と、を備えるようにした。
【００３８】
このように、製造を中断する間は、熱源温度を、製造時に塗布層を加熱しながら硬化させるときの所定の硬化温度より高い温度で加熱することにより、製造ロスを低減できる。即ち、製造を中断しているときにも加熱を中断するのではなく、硬化させるときの所定の硬化温度より高い温度で加熱しておくことで、ゾーン内が製造開始時に紫外線照射手段による輻射熱で徐々に温度上昇して一定温度になるまでの時間を短縮することができる。更に、硬化ゾーン内を硬化させるときの所定の硬化温度より高い温度で加熱することで、ゾーン内の雰囲気温度を高めて製造開始時の紫外線照射手段を温めておくことができ、通常紫外線照射手段をオンさせた後の不安定な紫外線の出力を早期に安定させることができる。従って、製造ラインを再立ち上げする際に発生してしまう初期の製造ロスを大幅に抑制することができる。
【００３９】
図３は、本発明の方法と従来の方法での紫外線照射室３９内の塗布層温度を経過時間で示したグラフである。なお、製造ラインの運転を再開する時刻を０分としている。
【００４０】
先ず、従来例について説明する。従来においては、製造を中断する間は、紫外線照射手段４０と熱風の供給を停止する。従って、紫外線照射室３９内の塗布層温度は徐々に下がって行き、図３の例では６０℃以下に下がっている。ここで、製造ラインの運転を再開した。紫外線照射手段４０により放射線照射と熱風の供給が再開される。熱風の温度は７０℃である。その際、製造ラインは稼動しており、ウエブは送られ塗布液も塗布されている。紫外線照射室３９内の塗布層温度は徐々に上がって行くが、この従来の方法では、希望する物性を示す光学補償フィルムを得るのに２５分を要した。
【００４１】
一方、本発明の方法では、製造を中断している間、硬化ゾーン３６内を１００℃の熱風で加熱した。紫外線照射室３９内の温度は紫外線照射手段４０を停止したことで下がっては行くが、図３の例では７５℃程度を維持している。ここで、製造ラインの運転を再開した。紫外線照射が再開されるとともに熱風の温度を定常運転時である７０℃に下げた。この本発明の方法では、希望する物性を示す光学補償フィルムを得るのに８分しか掛からなかった。尚、図３において、所定の硬化温度は概ね８９℃である。
【００４２】
即ち、本発明により希望する物性の光学補償フィルムを得るのに、３分の１以下の時間で済むようになり、製品ロスを３分の１以下に抑えることができる。従って、本発明によって、製造ラインを再立ち上げする際の製造ロスを低減することのできる光学補償フィルムの製造方法を提供することができる。特に、光学補償フィルムのように塗布液の付加価値が高いものについては、コスト的にロスの寄与は大きいので、本発明は有効である。
【００４３】
ここで、加熱手段の待機工程時における熱源温度は９０〜１３５℃であり、定常運転時における熱源温度は６０〜１１０℃であることが好ましい。その製造を中断する間の加熱方法としては、熱風を吹きつけることで行なうことが好ましい。そうすることで、製造ライン停止時に硬化ゾーン内を加熱する熱源を、製造時に塗布層を加熱する熱風と同じにすることで、熱源である熱風の温度を定常運転時と待機工程時とで切り替えるのみで対応することができるので、効率的に本発明を適用することができる。
【００４４】
尚、待機工程時の硬化ゾーン内の加熱は、紫外線照射室３９内に設けたヒーター４８で行なうことも好ましい（図２（Ｂ）参照）。ヒーターとしては、例えば近赤外パネルが考えられ、紫外線照射室３９の壁面に設けたり、ウエブ１４に対して紫外線照射手段４０の反対面側に設けたりすることが考えられる。また、待機工程時の硬化ゾーン内の加熱は、帯状フィルムの塗布層裏面を支持して搬送する加熱ローラ５０を熱源とすることも好ましい（図２（Ｃ）参照）。
【００４５】
また、待機工程時における加熱手段の熱源温度を定常運転時の熱源温度に所定時間後に下げることが好ましい（図３において所定時間後は６０秒）。尚、所定時間後は０秒から３００秒の間が好ましく、０秒から６０秒の間が更に好ましい。
【００４６】
以上、本発明に係る光学補償フィルムの製造方法の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００４７】
たとえば、上記実施形態では、これに限定されず、帯状フィルム上に塗布液を塗布した後、乾燥、紫外線硬化する工程を含み、高精度の面質が要求される各種光学フィルム、例えば、防眩フィルム、反射防止フィルム等の製造方法にも適用できる。
【００４８】
次に、本発明に使用される各種材料について説明する。
【００４９】
本実施形態で用いられるディスコティック化合物（液晶性化合物）としては、特開平７−２６７９０２号、特開平７−２８１０２８号、特開平７−３０６３１７号の各公報に記載のものが使用できる。これらによると、光学異方層（液晶性化合物を含む塗布層）は、ディスコティック構造単位を有する化合物から形成される層である。すなわち、光学異方層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物層、又は重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマー層である。
【００５０】
ディスコティック（円盤状）化合物としては、例えば、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられる。
【００５１】
上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、前記公報において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。さらに、ディスコティックネマティック相又は一軸性の柱状相を形成し得る、円盤状化合物の少なくとも一種を含有し、かつ光学異方性を有する化合物を用いることが好ましい。また、円盤状化合物がトリフェニレン誘導体であることが好ましい。ここで、トリフェニレン誘導体が、特開平７−３０６３１７号公報に記載の（化２）で表される化合物であることが好ましい。
【００５２】
配向膜層の支持体となるウエブ１４としては、セルロースアシレートフイルムが好ましく用いられる。具体的には、特開平９−１５２５０９号公報に詳細に記載されているものが使用できる。すなわち、配向膜はセルロースアシレートフイルム上又はそのセルロースアシレートフイルム上に塗設された下塗層上に設けられる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。ここで配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。
【００５３】
配向膜の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、更にω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、或いは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【００５４】
配向膜用の有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールが挙げられる。
【００５５】
中でも、アルキル変性のポリビニルアルコールは特に好ましく、液晶性ディスコティック化合物を均一に配向させる能力に優れている。これは、配向膜表面のアルキル鎖とディスコティック液晶のアルキル側鎖との強い相互作用のためと推察される。また、アルキル基は、炭素原子数６〜１４が好ましく、更に、−Ｓ−、−（ＣＨ3）Ｃ（ＣＮ）−又は−（
Ｃ2Ｈ5 ）Ｎ−ＣＳ−Ｓ−を介してポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。上記アルキル変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有するものであり、ケン化度８０％以上、重合度２００以上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポリビニルアルコールは、クラレ（株）製のＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０などの市販品を利用することができる。
【００５６】
また、液晶表示装置（ＬＣＤ）の配向膜として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向膜として好ましい。これは、ポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）をウエブ面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００５７】
さらに、セルロースアシレートフイルムに適用される配向膜は、上記ポリマーに反応性基を導入することにより、或いは上記ポリマーをイソシアネート化合物及びエポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、これらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜であることが好ましい。
【００５８】
配向膜に用いられるポリマーと、光学異方層の液晶性化合物とが、これらの層の界面を介して化学的に結合していることが好ましい。配向膜のポリマーが、ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基で、少なくとも１個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールから形成されていることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基が、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合又はエステル結合を介してポリビニルアルコール誘導体のポリマー鎖に結合していることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基が、芳香族環を持たないことが好ましい。上記ポリビニルアルコールが、特開平９−１５２５０９号公報に記載の（化２２）であることが好ましい。
【００５９】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００６０】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯを代表とし、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２等の金属酸化物、又はＭｇＦ２等のフッ化物、Ａｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。なお、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として使用でき、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。ウエブを固定して蒸着するか、又は長尺ウエブを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成できる。配向膜を使用せずに光学異方層を配向させる方法として、ウエブ上の光学異方層を、ディスコティック液晶層を形成し得る温度に加熱しながら、電場又は磁場を付与する方法が挙げられる。
【００６１】
セルロースアシレートフイルム上に光学異方層が形成された光学補償フィルムの液晶表示装置への適用方法としては、偏光板の片側に上記光学補償フィルムを粘着剤を介して貼り合わせる、もしくは、偏光素子の片側に保護フィルムとして、上記光学補償フィルムを接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。光学異方素子は、少なくともディスコティック構造単位（ディスコティック液晶が好ましい）を有することが好ましい。
【００６２】
また、上記ディスコティック構造単位の円盤面が、セルロースアシレートフイルム面に対して傾いており、且つディスコティック構造単位の円盤面とセルロースアシレートフイルムとのなす角度が光学異方層の深さ方向において変化していることが好ましい。
【００６３】
光学補償フィルムの好ましい態様は下記のとおりである。
（ａ１）角度の平均値が、光学異方層の深さ方向において光学異方層の底面からの距離の増加と共に増加している。
（ａ２）上記角度が、５〜８５°の範囲で変化する。
（ａ３）上記角度の最小値が、０〜８５°の範囲（好ましくは０〜４０°）にあり、その最大値が５〜９０°の範囲（好ましくは５０〜８５°）にある。
（ａ４）上記角度の最小値と最大値との差が、５〜７０°の範囲（好ましくは１０〜６０°）にある。
（ａ５）上記角度が、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面からの距離の増加と共に連続的に変化（好ましくは増加）している。
（ａ６）光学異方層が、さらにセルロースアシレートを含んでいる。
（ａ７）光学異方層が、さらにセルロースアセテートブチレートを含んでいる。
（ａ８）光学異方層と透明なウエブ１４との間に、配向膜（好ましくはポリマーの硬化膜）が形成されている。
（ａ９）光学異方層が、光学補償フィルムの法線方向から傾いた方向に、０以外のレターデーションの絶対値の最小値を有する。
（ａ１０）上記配向膜が、ラビング処理されたポリマー層である上記（ａ８）記載の光学補償フィルム。
【００６４】
上記光学異方層へ添加することで、該光学異方層の配向温度を変えることのできる有機化合物を含むことが好ましい。また、有機化合物は、重合性基を有するモノマーであることが好ましい。
【００６５】
また、上記光学補償フィルムは、特に透過型液晶表示装置に好ましく用いられる。透過型液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。光学補償フィルムは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置される。液晶セルのモードは、ＶＡモード、ＴＮモード、又はＯＣＢモードであることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係る光学補償フィルムの製造装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】本発明に係る硬化ゾーンの熱源の例を示す概略図である。
【図３】本発明の効果を説明するグラフである。
【符号の説明】
【００６７】
１０…光学補償フィルムの製造装置、１４…ウエブ、３２…乾燥ゾーン、３６…硬化ゾーン、３９…紫外線照射室、４０…紫外線照射手段、４２…吹出部、４６…排出部、４８…ヒーター、５０…加熱ローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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