(57)【要約】【課題】高精度の光造形を容易に行う。【解決手段】ミラー８１は光源からの光ビームを偏向する。ミラー９１は、ミラー８１により偏向された光ビームをさらに偏向し、光硬化性樹脂に照射する。制御部８２は、光源からの光ビームの光軸と、ミラー８１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一面内に含まれるように、ミラー８１を回転させることにより、紫外線硬化樹脂６２に照射される光ビームをx方向に走査する。制御部９２は、ミラー８１による偏向の中心の光軸と、その光軸を通るミラー８１からの光のミラー９１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一面内に含まれるように、ミラー９１を回転させることにより、紫外線硬化樹脂６２に照射される光ビームをx方向に直交するz方向に走査する。本発明は、例えば、ビームスキャン露光を行う光造形装置に適用することができる。【選択図】図９
2009220292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源からの光を偏向する第１のミラーと、
前記第１のミラーにより偏向された光をさらに偏向し、光硬化性樹脂に照射する第２のミラーと、
前記光源からの光の光軸と、前記第１のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、前記第１のミラーを回転させることにより、前記光硬化性樹脂に照射される光を第１の方向に走査する第１の制御部と、
前記第１のミラーによる偏向の中心の光軸と、その光軸を通る前記第１のミラーからの光の前記第２のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、前記第２のミラーを回転させることにより、前記光硬化性樹脂に照射される光を前記第１の方向に直交する第２の方向に走査する第２の制御部と
を備える光造形装置。
【請求項２】
前記光源からの光を偏向して前記第１のミラーに照射する第３のミラー
をさらに備え、
前記第１の制御部は、前記光源から前記第３のミラーを介して照射される光の光軸と、前記第１のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、前記第１のミラーを回転させることにより、前記光硬化性樹脂に照射される光を前記第１の方向に走査する
請求項１に記載の光造形装置。
【請求項３】
前記第１のミラーと前記第２のミラーの間に配置されるリレーレンズ
をさらに備える
請求項１に記載の光造形装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光造形装置に関し、特に、高精度の光造形を容易に行うことができるようにした光造形装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、２つのガルバノミラーを用いて、互いに直交する２つの方向に光を走査する装置がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ガルバノミラーにより出射される光の軌跡は、入射光の光軸とガルバノミラーの回転軸の方向の関係によって変化する。例えば、図１Ｂに示すように、ガルバノミラー１１が、z方向を軸として所定の角度ずつ回転しながら、x方向から入射する入射光を偏向する場合、即ち、偏向後の全ての光の光線が入射光の光軸と同一のxy面内に含まれている場合、ガルバノミラー１１により出射され、xz面内にある照射面１２に照射される光の軌跡は、図１Ａに示すようにx方向に直線状に並ぶ。なお、図１において、x方向、y方向、およびz方向とは互いに直交する方向である。このことは、以下の全ての図においても同様である。
【０００４】
一方、図２Ｂに示すように、ガルバノミラー２１が、xy面内でx方向からy方向に45度傾いた方向を軸として所定の角度ずつ回転しながら、x方向から入射する入射光を偏向する場合、即ち、偏向後の全ての光の光線が入射光の光軸と同一の面内に含まれていない場合、ガルバノミラー２１により出射され、xz面内にある照射面２２に照射される光の軌跡は、図２Ａに示すようにz方向に曲線状に並ぶ。
【０００５】
従って、図３に示すように、ガルバノミラー１１とガルバノミラー２１を用いて、y方向から入射した光をx方向とz方向に走査する光学系３０では、xz面内にある照射面３２に照射される光の軌跡は、図４に示すように、x方向およびz方向に直線状に並ばず、歪んでしまう。
【０００６】
なお、図３の光学系３０では、ガルバノミラー１１とガルバノミラー２１の間にリレーレンズ３１が配置されている。このリレーレンズ３１は、1つまたは複数のレンズを有するレンズ群から構成される。リレーレンズ３１は、ガルバノミラー１１により光ビームがスキャンされるスキャン角度にわたり、平行入射光ビームを平行に出射し、ガルバノミラー１１で偏向された光ビームを、ガルバノミラー２１上に結像する。
【０００７】
図５は、図４の光学系３０を備えた光造形装置５０の構成例を示している。
【０００８】
図５の光造形装置５０は、光源５１、コリメータレンズ５２、アナモルフィックレンズ５３、ビームエキスパンダ５４、ビームスプリッタ５５、シャッタ５６、照射部５７、反射光モニタ部５８、および駆動部５９から構成される。
【０００９】
光造形装置５０は、後述する照射部５７の光硬化性樹脂としての紫外線硬化樹脂６２の液面に対して、レーザの光ビームを走査してビームスキャン露光を行うことにより硬化層を形成し、その硬化層を積層することにより立体モデルを造形する。
【００１０】
詳細には、光源５１は、例えば、青から紫外域程度の比較的波長の短い紫外光のレーザを放射する半導体レーザにより構成される。光源５１は、ビームスキャン露光を行うための紫外光のレーザの光ビームを放射する。なお、光源５１としては、半導体レーザ以外に、ガスレーザなどを用いてもよい。
【００１１】
コリメータレンズ５２は、光源５１から放射される光ビームの発散角を変換して略平行光とする。アナモルフィックレンズ５３は、コリメータレンズ５２により略平行光とされた楕円形状の光ビームを整形して略円形状にする。
【００１２】
ビームエキスパンダ５４は、複数のレンズを有しており、アナモルフィックレンズ５３により略円形状にされた光ビームの直径であるビーム径を、後述する照射部５７の対物レンズ６１の開口、ＮＡ（開口数）等に適した所望のビーム径に変換してビーム径のサイズ調整を行う。
【００１３】
ビームスプリッタ５５は、光源５１から照射される光ビームを透過させて、紫外線硬化樹脂６２に向かわせるとともに、紫外線硬化樹脂６２で反射され、各光学系を通過してくる戻り光を、反射光モニタ部５８に向かって反射する。
【００１４】
シャッタ５６は、ビームスプリッタ５５を透過した光ビームの通過または遮蔽を制御し、ビームスキャン露光のオン／オフを制御する。なお、シャッタ５６を設けて、光ビームの通過または遮断を制御して、ビームスキャン露光のオン/オフを制御するのではなく、光源５１における光ビームの放射の直接変調を制御して、ビームスキャン露光のオン/オフを制御するようにしてもよい。
【００１５】
照射部５７は、光学系３０、対物レンズ６１、および、収容容器に収容された紫外線硬化樹脂６２により構成される。
【００１６】
シャッタ５６を透過してy方向から入射された光ビームは、光学系３０のガルバノミラー１１に入射されて偏向され、ガルバノミラー１１により紫外線硬化樹脂６２の液面でx方向に走査される。ガルバノミラー１１により偏向された光ビームは、リレーレンズ３１を通って、ガルバノミラー２１に入射される。ガルバノミラー２１は、入射された光ビームを偏向し、光ビームを紫外線硬化樹脂６２の液面でz方向に走査する。
【００１７】
対物レンズ６１は、1または複数のレンズを有するレンズ群からなり、ガルバノミラー２１からの光ビームを集光する。また、対物レンズ６１は、ガルバノミラー１１および２１により偏光された光ビームが、紫外線硬化樹脂６２の液面において等速度で走査されるように、即ち、紫外線硬化樹脂６２の液面において均一な走査速度で走査されるように構成されている。
【００１８】
例えば、対物レンズ６１としては、入射角θに比例した像高Yを有し、焦点距離fと入射角θとの積が像高Yとなるような関係（Y=f×θ）を有する、いわゆるfθレンズが用いられる。この場合、光ビームの走査速度が、対物レンズ６１への入射位置によらず常に一定となるため、走査速度がばらつくことにより設計形状と実際の硬化層の形状とに違いが発生することを防止し、高精度の造形を行うことができる。
【００１９】
反射光モニタ部５８は、紫外線硬化樹脂６２の液面で反射された戻り光を、例えば、非点収差法や三角測量法を用いて検出する。
【００２０】
駆動部５９は、反射光モニタ部５８により検出された戻り光に基づいて、対物レンズ６１をy方向に駆動し、対物レンズ６１から紫外線硬化樹脂６２の液面に照射される光ビームのフォーカスを調整する。具体的には、駆動部５９は、対物レンズ６１の後側焦点位置が、紫外線硬化樹脂６２の液面に一致するように、対物レンズ６１を光軸方向（図５ではy方向）に駆動する。
【００２１】
なお、光造形装置においては、１つの反射鏡を用いて、光ビームを互いに直交する２つの方向に走査するものもある（例えば、特許文献２参照）。
【００２２】
【特許文献１】特開平６−２４６４７０号公報
【特許文献２】特開平５−２３７９４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
図４に示したように、ガルバノミラー１１およびガルバノミラー２１を用いて走査される光ビームの軌跡には歪みが発生するので、図５の光造形装置５０において紫外線硬化樹脂６２の液面における光の走査ラインは歪んでしまう。従って、高精度な光造形を行うためには、走査ラインの歪みを電気的またはソフトウェア的に補正する必要があり、高精度な光造形を行うことは困難であった。
【００２４】
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、高精度の光造形を容易に行うことができるようにするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
本発明の一側面の光造形装置は、光源と、前記光源からの光を偏向する第１のミラーと、前記第１のミラーにより偏向された光をさらに偏向し、光硬化性樹脂に照射する第２のミラーと、前記光源からの光の光軸と、前記第１のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、前記第１のミラーを回転させることにより、前記光硬化性樹脂に照射される光を第１の方向に走査する第１の制御部と、前記第１のミラーによる偏向の中心の光軸と、その光軸を通る前記第１のミラーからの光の前記第２のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、前記第２のミラーを回転させることにより、前記光硬化性樹脂に照射される光を前記第１の方向に直交する第２の方向に走査する第２の制御部とを備える。
【００２６】
本発明の一側面の光造形装置は、前記光源からの光を偏向して前記第１のミラーに照射する第３のミラーをさらに備え、前記第１の制御部は、前記光源から前記第３のミラーを介して照射される光の光軸と、前記第１のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、前記第１のミラーを回転させることにより、前記光硬化性樹脂に照射される光を前記第１の方向に走査することができる。
【００２７】
本発明の一側面の光造形装置は、前記第１のミラーと前記第２のミラーの間に配置されるリレーレンズをさらに備えることができる。
【００２８】
本発明の一側面においては、光源からの光の光軸と、第１のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、第１のミラーが回転することにより、光硬化性樹脂に照射される光が第１の方向に走査され、第１のミラーによる偏向の中心の光軸と、その光軸を通る第１のミラーからの光の第２のミラーによる偏向後の全ての光の光線が同一面内に含まれるように、第２のミラーが回転することにより、光硬化性樹脂に照射される光が第１の方向に直交する第２の方向に走査される。
【発明の効果】
【００２９】
以上のように、本発明の一側面によれば、高精度の光造形を容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
まず最初に、図６と図７を参照して、本発明を適用した光造形装置で用いられる２つのガルバノミラーの回転について説明する。図６Ａは、x方向から見た２つのガルバノミラーの構成を示しており、図６Ｂは、y方向から見た２つのガルバノミラーの構成を示している。なお、図６において、図３と同一のものには同一の符号を付してあり、説明は繰り返しになるので省略する。
【００３１】
図６に示すように、ガルバノミラー７１は、所定の方向に回転可能とされたミラー８１（第１のミラー）と、ミラー８１の回転を制御する制御部８２（第１の制御部）とを備えている。ミラー８１は、x方向から入射される光ビームを偏向する。制御部８２は、入射される光ビームの光軸と、ミラー８１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一面内に含まれるように、ミラー８１の回転を制御する。
【００３２】
具体的には、制御部８２は、入射される光ビームの光軸であるx方向の軸と、ミラー８１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一のxz面内に含まれるように、入射される光ビームの光軸と交わるy方向の軸を回転軸として、ミラー８１を回転させる。これにより、後述するガルバノミラー７２から出射される光ビームはx方向（第１の方向）に走査される。ガルバノミラー７１のミラー８１により偏向された光ビームは、リレーレンズ３１を通ってガルバノミラー７２に入射する。
【００３３】
ガルバノミラー７２は、所定の方向に回転可能とされたミラー９１（第２のミラー）と、ミラー９１の回転を制御する制御部９２（第２の制御部）とを備えている。ミラー９１は、ガルバノミラー７１からリレーレンズ３１を介して入射される光ビームを偏向する。制御部９２は、ミラー８１による偏向の中心の光軸と、その光軸を通るミラー８１からの光のミラー９１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一面内に含まれるように、ミラー９１の回転を制御する。
【００３４】
具体的には、制御部９２は、ミラー８１による偏向の中心の光軸であるz方向の軸と、そのz方向の軸を通るミラー８１からの光のミラー９１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一のyz面内に含まれるように、ミラー８１による偏向の中心の光軸と交わるx方向の軸を回転軸として、ミラー９１を回転させる。これにより、ガルバノミラー７２のミラー９１から出射される光ビームは、z方向（第２の方向）に走査される。
【００３５】
以上のようにしてガルバノミラー７２からy方向に出射される光ビームの軌跡は、図７に示すように、x方向とz方向に略直線状に並ぶ。即ち、ガルバノミラー７１および７２により走査される光の走査ラインの歪みは、図４で示したガルバノミラー１１および２１を用いた場合の走査ラインに比べて大変小さくなる。
【００３６】
次に、図８乃至図１０を参照して、本発明を適用した光造形装置の第１の実施の形態の構成について説明する。なお、図８乃至図１０において、図５や図６と同一のものには同一の符号を付してあり、説明は繰り返しになるので適宜省略する。
【００３７】
図８に示すように、光造形装置１１０は、光源５１、コリメータレンズ５２、アナモルフィックレンズ５３、ビームエキスパンダ５４、ビームスプリッタ５５、シャッタ５６、反射光モニタ部５８、駆動部５９、および照射部１１１により構成される。光造形装置１１０は、紫外線硬化樹脂６２の液面に対して、光源５１からの光ビームを走査してビームスキャン露光を行うことにより硬化層を形成し、その硬化層を積層することにより立体モデルを造形する。
【００３８】
次に、照射部１１１の詳細な構成について、図９と図１０を参照して説明する。図９Ａは、図８のx方向から見た照射部１１１の構成を示しており、図９Ｂは、図８のz方向から見た照射部１１１の構成を示している。また、図１０は、照射部１１１の斜視図である。
【００３９】
図９と図１０に示すように、照射部１１１は、リレーレンズ３１、対物レンズ６１、紫外線硬化樹脂６２、ガルバノミラー７１および７２、並びに反射ミラー１２１により構成される。
【００４０】
シャッタ５６から入射されるy方向に進む光ビームは、反射ミラー１２１（第３のミラー）に入射され、x方向に偏向される。反射ミラー１２１により偏向されたx方向に進む光ビームは、ガルバノミラー７１のミラー８１に入射される。
【００４１】
ミラー８１は、制御部８２の制御により、入射される光ビームの光軸と交わるy方向の軸を回転軸として回転しながら、入射される光ビームを偏向する。これにより、紫外線硬化樹脂６２の液面に照射される光ビームがx方向に走査される。
【００４２】
ミラー８１により偏向されたxz面内を進む光ビームは、ガルバノミラー７１と７２の間に配置されるリレーレンズ３１を通って、ガルバノミラー７２のミラー９１に入射される。ミラー９１は、制御部９２の制御により、ミラー８１による偏向の中心の光軸と交わるx方向の軸を回転軸として回転しながら、入射される光ビームを偏向する。これにより、紫外線硬化樹脂６２の液面に照射される光ビームがz方向に走査される。
【００４３】
ガルバノミラー７２により偏向された略yz面内を進む光ビームは、対物レンズ６１により集光され、紫外線硬化樹脂６２の液面上で焦点を結ぶ。これにより、紫外線硬化樹脂６２の所定の領域が露光され、その結果、硬化層が形成される。光造形装置１１０は、この硬化層の形成を繰り返し行い、複数の硬化層を積層することにより、立体モデルを造形する。
【００４４】
以上のように、照射部１１１では、制御部８２が、ミラー８１に入射される光ビームの光軸であるx方向の軸と、ミラー８１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一のxz面内に含まれるようにミラー８１を回転させ、制御部９２が、ミラー８１による偏向の中心の光軸であるz方向の軸と、そのz方向の軸を通るミラー８１からの光のミラー９１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一のyz面内に含まれるようにミラー９１を回転させるので、図７で示したように歪みの小さい走査ラインを、紫外線硬化樹脂６２の液面に形成することができる。その結果、光造形装置１１０は、走査ラインの歪みの電気的またはソフトウェア的な補正を行わずに、高精度な光造形を容易に行うことができる。
【００４５】
また、照射部１１１では、反射ミラー１２１が設けられているので、光源５１を照射部１１１に対して任意の位置に設けることができる。
【００４６】
次に、図１１乃至図１３を参照して、本発明を適用した光造形装置の第２の実施の形態の構成について説明する。なお、図１１乃至図１３において、図５や図９と同一のものには同一の符号を付してあり、説明は繰り返しになるので適宜省略する。
【００４７】
図１１の光造形装置２００では、ビームスキャン露光だけでなく、紫外線硬化樹脂６２の液面を一括して露光する一括露光が可能になっている。光造形装置２００は、ビームスキャン露光および一括露光の少なくとも一方を用いて、紫外線硬化樹脂６２の液面を露光することにより硬化層を形成し、その硬化層を積層することにより立体モデルを造形する。
【００４８】
具体的には、図１１に示すように、光造形装置２００は、光源５１、コリメータレンズ５２、アナモルフィックレンズ５３、ビームエキスパンダ５４、ビームスプリッタ５５、シャッタ５６、反射光モニタ部５８、駆動部５９、光源２１１、シャッタ２１２、偏光板２１３、ビームインテグレータ２１４、ミラー２１５、空間光変調器２１６、集光レンズ２１７、駆動部２１８、および照射部２１９により構成される。
【００４９】
光源２１１、シャッタ２１２、偏光板２１３、ビームインテグレータ２１４、ミラー２１５、空間光変調器２１６、集光レンズ２１７、および駆動部２１８は、一括露光を行うための光学系である。
【００５０】
光源２１１としては、例えば、高出力な青色LED（Light Emitting Diode）をアレイ状に配置したものを用いることができる。なお、光源２１１としては、ビームスキャン用の光源５１と異なり、コヒーレントなレーザ光源を用いる必要はない。光源２１１は、一括露光を行うための紫外光を放射する。
【００５１】
シャッタ２１２は、光源２１１から放射される紫外光の通過または遮蔽を制御することにより、一括露光のオン／オフを制御する。偏光板２１３は、シャッタ２１２を通過した紫外光を所定の偏光光とする。即ち、偏光板２１３は、空間光変調器２１６が光源２１１からの紫外光を空間変調することができるように、その光を偏光する。
【００５２】
ビームインテグレータ２１４は、偏光板２１３により偏光された紫外光を均一化する。ビームインテグレータ２１４としては、複数のレンズエレメントを配列してなるフライアイタイプや、四角柱等の柱状のロッドレンズの内部を全反射させるライトロッドタイプなどの一般的なものが用いられる。
【００５３】
ミラー２１５は、ビームインテグレータ２１４により均一化された紫外光を空間光変調器２１６に向かって反射させる。空間光変調器２１６は、例えば、透過型の液晶パネルからなり、ミラー２１５により反射された紫外光が、造形する立体モデルの断面形状データに応じた形状で紫外線硬化樹脂６２の液面に投影されるように、その紫外光の一部を空間変調する。
【００５４】
即ち、空間光変調器２１６は、液晶パネルの各画素を制御する駆動信号に基づいて、投影しようとする断面形状データに応じた形状の画像に対応して、画素ごとに液晶の分子の配列を変えて透過する偏光方向を変化させることで通過する紫外光を空間変調する。
【００５５】
その結果、紫外線硬化樹脂６２の液面への紫外光の照射が、断面形状データに応じた形状に対応して、液晶パネルの1画素に対応する矩形の領域（以下、露光単位領域という）ごとにオン/オフされ、紫外光の照射がオンとされる露光単位領域に一括して紫外光が照射される。これにより、紫外線硬化樹脂６２の液面に、断面形状データに応じた形状の紫外光が照射される。
【００５６】
なお、空間光変調器２１６は、透過型の液晶パネルではなく、入力信号に応じて傾き角度が変化する微小な反射ミラーが画素ごとに配列されることにより構成されるDMD、反射型液晶素子（LCOS（Liquid crystal on silicon））などにより構成されるようにしてもよい。
【００５７】
集光レンズ２１７は、空間光変調器２１６と後述する照射部２１９の偏光ビームスプリッタ２２２との間に設けられ、対物レンズ６１とともに、空間光変調器２１６で空間変調された紫外光を紫外線硬化樹脂６２上に結像するための投影光学系として機能する。
【００５８】
また、集光レンズ２１７は、空間光変調器２１６により空間変調された紫外光が対物レンズ６１を通過する際のディストーションを補正するためのレンズ群により構成され、投影光学系として機能するとともに、ディストーションを低減させることができる。
【００５９】
例えば、集光レンズ２１７は、集光レンズ２１７と対物レンズ６１とが対称光学系となるように、それぞれのレンズ群を構成することで、空間光変調器２１６により空間変調された紫外光を、偏光ビームスプリッタ２２２の反射透過面上の対物レンズ６１の前側焦点位置に集光し、これによりディストーションを低減する。
【００６０】
駆動部２１８は、反射光モニタ部５８により検出される戻り光に基づいて、空間光変調器２１６を光軸方向であるx方向に駆動し、光源２１１から紫外線硬化樹脂６２の液面に照射される紫外光のフォーカスを調整する。
【００６１】
次に、照射部２１９の詳細な構成について、図１２と図１３を参照して説明する。図１２Ａは、図１１のx方向から見た照射部２１９の構成を示しており、図１２Ｂは、図１１のz方向から見た照射部２１９の構成を示している。また、図１３は、照射部２１９の斜視図である。
【００６２】
図１２と図１３に示すように、照射部２１９では、図９と図１０に示した照射部１１１と異なり、ガルバノミラー７２と対物レンズ６１の間に、リレーレンズ２２１および偏光ビームスプリッタ２２２が配置されている。
【００６３】
即ち、照射部２１９では、シャッタ５６から入射され、反射ミラー１２１、ガルバノミラー７１、リレーレンズ３１、およびガルバノミラー７２を介して出射された光ビームは、リレーレンズ３１と同様に構成されるリレーレンズ２２１を通って、偏光ビームスプリッタ２２２に入射される。これにより、ガルバノミラー７２で偏向された光ビームが、偏光ビームスプリッタ２２２上に結像される。
【００６４】
偏光ビームスプリッタ２２２は、光源２１１からの一括露光用の紫外光と、光源５１からのビームスキャン露光用の光ビームとを合成し、それらの光を紫外線硬化樹脂６２に導く。なお、偏光ビームスプリッタ２２２は、その反射透過面が、対物レンズ６１の前側焦点位置に一致するように配置される。
【００６５】
以上のように、光造形装置２００では、光造形装置１１０と同様に、ガルバノミラー７１および７２が設けられるので、図７で示したように歪みの小さい走査ラインを、紫外線硬化樹脂６２の液面に形成することができる。その結果、光造形装置２００は、走査ラインの歪みの電気的またはソフトウェア的な補正を行わずに、高精度な光造形を容易に行うことができる。
【００６６】
また、光造形装置２００では、ビームスキャン露光と一括露光の両方を行うことができるので、例えば、一括露光を行った後に、造形する立体モデルの断面形状の輪郭線に沿ってビームスキャン露光を行うことにより、短時間で、輪郭がきれいな立体モデルを造形することができる。
【００６７】
なお、光造形装置１１０および２００は、走査ラインの歪みの電気的またはソフトウェア的な補正を行い、さらに高精度な光造形を行うようにしてもよい。この場合、補正前の歪みが小さいため、補正前の歪みが大きい場合に比べて、精度良く補正することができる。
【００６８】
また、本発明は、紫外線硬化樹脂の上から光を照射し、液面で紫外線硬化樹脂６２を硬化させる自由液面法で光造形を行う光造形装置だけでなく、底面が透明の収容容器に入った紫外線硬化樹脂を収容容器の下側から光を照射し、収容容器の底面で紫外線硬化樹脂を硬化させる規制液面法で光造形を行う光造形装置にも適用することができる。
【００６９】
さらに、本発明の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】ガルバノミラーにより出射される光の軌跡を説明する図である。
【図２】ガルバノミラーにより出射される光の軌跡を説明する図である。
【図３】x方向とz方向に走査する光学系の構成例を示す図である。
【図４】図３の光学系により照射される光の軌跡を示す図である。
【図５】図４の光学系を備えた光造形装置の構成例を示す図である。
【図６】本発明を適用した光造形装置で用いられる２つのガルバノミラーの回転について説明する図である。
【図７】本発明を適用した光造形装置で用いられる２つのガルバノミラーの回転について説明する図である。
【図８】本発明を適用した光造形装置の第１の実施の形態の構成を示す図である。
【図９】本発明を適用した光造形装置の第１の実施の形態の構成を示す図である。
【図１０】本発明を適用した光造形装置の第１の実施の形態の構成を示す斜視図である。
【図１１】本発明を適用した光造形装置の第２の実施の形態の構成を示す図である。
【図１２】本発明を適用した光造形装置の第２の実施の形態の構成を示す図である。
【図１３】本発明を適用した光造形装置の第２の実施の形態の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００７１】
３１  リレーレンズ，  ７１，７２  ガルバノミラー，  ８１  ミラー，  ８２  制御部，  ９１  ミラー，  ９２  制御部，  １１０  光造形装置，  １２１  反射ミラー，  ２００  光造形装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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