(57)【要約】【課題】液晶セルの端部及び切断箇所近傍から気体が進入するのを効果的に防止することを可能とする表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】第１基板と、前記第１基板と対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール部材とを有する表示パネルの製造方法であって、前記パネルの端部と、上部及び下部の一部に有機物からなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層を覆って無機物からなるガスバリア層を形成する工程とを有することを特徴とする。【選択図】図５
2009103911.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板と対向して配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール部材とを有する表示パネルの製造方法であって、
前記パネルの端部と、上部及び下部の一部に平坦化層を形成する工程と、
前記平坦化層を覆ってガスバリア層を形成する工程とを有する表示パネルの製造方法。
【請求項２】
第１基板と、
前記第１基板と対向して配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール部材とを有する表示パネルの製造方法であって、
前記パネルの端部と、上部及び下部の一部にガスバリア層を形成する工程とを有する表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記ガスバリア層を形成する工程において、
複数の表示パネルをスペーサを介して積層して前記ガスバリア層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１または２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記スペーサの外形は前記パネルの外形よりも小さいことを特徴とする請求項３に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記スペーサは前記パネルの端部から２〜５ｍｍ内側に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記ガスバリア層の形成はスパッタ法によることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項７】
スパッタ成膜時に基板を回転することを特徴とする請求項６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記ガスバリア層を覆うようにして第２の平坦化層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記表示パネルは液晶表示パネルであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記表示パネルは有機エレクトロルミネッセンスパネルであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルの製造方法に関し、特に端部にガスバリア層を有する表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フィルム基板間に液晶が封入された液晶セルにおいて、液晶が封入された領域内へ気体が進入し、気泡が発生する場合がある。ここで液晶セルとは液晶パネルのうち偏光板を除いた構造をいう。
【０００３】
気泡の発生を抑制する方法として、液晶セルの端部にエポキシ接着剤をガスバリア層として設けて、液晶セルの端部からガスが液晶セル内に侵入しないようにする方法が知られている（例えば、特許文献１）。しかしながら、エポキシ接着剤等の有機材料では、気体の進入を完全に防止することはできず、依然として液晶セル内への気体の進入による気泡の発生が生じる場合があった。
【０００４】
また、２枚の基板間にエレクトロルミネセンス（ＥＬ：Electro Luminescence)が得られる発光材料からなる薄膜を配置し、その端面に、水蒸気の進入を防止するためにガスバリア層としてＤＬＣ（Diamond like Carbon)膜を形成することが知られている（例えば、特許文献２）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２２１９９８号公報（第２図）
【特許文献２】特開２００２−１５１２５３号公報（第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図１は、液晶セルの製造工程の一部を説明するための図である。
【０００７】
図１（ａ）に示すように、第１の基板１１１、第１の透明電極パターン１１２、第１の配向層１１３、液晶層１１４、第２の配向層１１５、第２の透明電極パターン１１６、第２の基板１１７、複数の球スペーサ１１８及びシール材１１９等を有する液晶セル１１０が複数同時に形成され、その第１の基板１１１及び第２の基板１１７の外部には、気体の侵入を防止するための第２のガスバリア層１２１及び第３のガスバリア層１２２がプラズマコーティング方式によって形成されている。
【０００８】
その後、図１（ａ）において、矢印ａ及びｂに示す部分がカッター（不図示）によって切断され、液晶セル１１０が個々に切り出されることとなる。ここで、カッターによって切断されることによって、点線ｃ及びｄで示した第２のガスバリア層１２１の部分、及び点線ｅ及びｆで示した第３のガスバリア層１２２の部分等に割れが生じる場合がある。
【０００９】
また、図１（ｂ）は、カッターによって切断された液晶セル１１０の端面の一部拡大図であるが、図示するように、切断面には、深さ１μｍ程度の細かい溝ｇが多数形成される場合がある。この溝ｇは、微視的にみて、柔軟性のある基板を先端の丸い刃でひきちぎるように切断するために生じるものと考えられる。
【００１０】
したがって、溝ｇの深さが深い場合には、液晶セル１１０の端部に、そのまま無機ガスバリア層をコーティングしても、溝ｇの部分までコーティングすることができず、溝ｇの部分からの気体の進入を完全に防止することができないという不具合が生じる場合がある。
【００１１】
さらに、第１の基板１１１及び第２の基板１１７の切断箇所近傍（図１の点線ｃ〜ｆ）では、第２及び第３ガスバリア層１２１及び１２２に割れが生じる場合があり、液晶セル１１０の端部だけにガスバリア層を設けても、その割れの部分から気体が進入してしまうという不具合が生じる場合がある。また、第２及び第３のガスバリア層１２１及び１２２の上にはそれぞれ粘着層を介して偏光板が配置されることとなるが、粘着層から発生した気体が、上述した第２及び第３ガスバリア層１２１及び１２２の割れの部分から液晶セル内に進入してしまうという不具合も生じる可能性がある。
【００１２】
そこで、本発明は、液晶セルの端部及び切断箇所近傍から気体が進入するのを効果的に防止することを可能とする表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明に係る液晶パネルの製造方法では、第１基板と、前記第１基板と対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール部材とを有する表示パネルの製造方法であって、前記パネルの端部と、上部及び下部の一部に平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層を覆ってガスバリア層を形成する工程とを有することを特徴とする。さらに、本発明に係る他の液晶パネルの製造方法では、第１基板と、前記第１基板と対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール部材とを有する表示パネルの製造法であって、前記パネルの端部と、上部及び下部の一部にガスバリア層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る液晶パネルの製造方法にしたがって製造された表示パネルでは、表示パネルの端部及び切断箇所近傍からの気体の進入を防止することが可能となり、表示領域内に気泡が発生することを回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下図面を参照して、本発明に係る表示パネルの製造方法について説明する。実施例１では、表示パネルの一例として液晶パネルの端部に平坦化層、無機ガスバリア層及び有機ガスバリア層を形成する方法について説明し、実施例２では、液晶パネルの端部に平坦化層及び無機ガスバリア層を形成する方法について説明し、実施例３では、液晶パネルの端部に無機ガスバリア層のみを形成する方法について説明する。
【実施例１】
【００１６】
図２は、本発明の実施例１に係る液晶パネルの概略断面図である。
【００１７】
液晶パネル１００は、液晶セル１１０、液晶セル１１０の上面ｘ上に配置された第１の偏光板１３０、第１の偏光板１３０を固定するための第１の粘着層１３２、液晶セル１１０の下面ｙ上に配置された第２の偏光板１３１、第２の偏光板１３１を固定するための第２の粘着層１３３、液晶セル１１０の上面ｘの一部（切断箇所近傍）、下面ｙの一部（切断箇所近傍）、及び端部ｚ（切断面）を覆うように配置された第１ガスバリア層１４０等から構成される。
【００１８】
液晶セル１１０は、第１の基板１１１、第２基板１１７、シール材１１９、第１及び第２の基板１１１及び１１７の間隔を保持するために複数配置された球スペーサ１１８、第１及び第２の基板１１１及び１１７とシール材１１９との間に封入された液晶層１１４、第１の基板１１１の上に配置された第２のガスバリア層１２１、第２の基板１１７の上に配置された第３のガスバリア層１２２等を有している。また、第１の基板１１１上には、第１の透明電極パターン１１２及び第１の配向膜１１３が形成され、第２の基板１１７上には、第１の透明電極パターン１１２に対向した第２の透明電極パターン１１６及び第２の配向膜１１５が形成されている。なお、説明のために、図２における縮尺は実際と異なる場合がある点に留意されたい。
【００１９】
液晶１１４には、一般的に用いられているＴＮ（ツイステッドネマティック）液晶等が用いられる。
【００２０】
第１及び第２の基板１１１及び１１７は、可撓性であって、厚さ１００μｍのポリカードネイト樹脂によって形成されている。しかしながら、第１及び第２の基板１１１及び１１７は、これに限定されるものではなく、変性アクリル樹脂、ポリメタクリル樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリエチレンレテフタレート樹脂、ノルボルテン樹脂、ガラス等であっても良く、厚さを５０〜２５０μｍとすることができる。
【００２１】
第１及び第２の透明電極パターン１１２及び１１６は、第１及び第２の基板１１１及び１１７上に、それぞれスパッタリング法によって、厚さ約０．０３μｍのＩＴＯから構成された透明導電膜を形成し、その後エッチングによって不要な部分を除去することによってパターン化されている。第１及び第２の透明電極パターンへは、所定の配線が施され、液晶パネル１００の表示駆動制御部（不図示）から所定の電圧が印加されるように構成されている。液晶パネル１００の表示駆動制御部は、第１及び第２の透明電極パターン１１２及び１１６間に、所定の電圧を印加することによって、液晶層１１４を透過モードと非透過モードとの間で、切り換えを行うことができるように構成される。
【００２２】
第２及び第３のガスバリア層１２１及び１２２は、二酸化シリコンから構成され、液晶セルの製造時にスパッタリング法によって、第１及び第２の基板１１１及び１１７上に成膜される。
【００２３】
第１のガスバリア層１４０は、平坦化層１４１、無機物からなる無機ガスバリア層１４２及び有機保護層１４３から構成される。なお、図２では、液晶パネル１００の一部の断面図のみを示しているが、ガスバリア層１４０は、液晶セル１１０の周囲のほぼ全てに配置されているものとする。
【００２４】
平坦化層１４１として、有機物であるエポキシ樹脂を主成分とするガスバリア性樹脂である「マクシーブ」（登録商標）を用い、乾燥時の膜厚が約５〜１０μｍとなるように塗布する。上述したように、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍では、切断時に発生した割れが生じている場合があり、そのままでは割れの部分から気体が進入してしまう恐れがある。さらに、その割れの部分にさらに無機ガスバリアをスパッタリング等によってコーティングしようとしても、割れの部分が無機ガスバリア層で確実にカバーされず、気体の進入を防ぐことができない。同様に、液晶セル１１０の端部ｚには、切断時に形成される細かい溝が形成され（図１（ｂ）参照）、そのまま無機ガスバリア層をスパッタリング等によってコーティングしようとしても、溝が無機ガスバリア層で確実にカバーされず、気体の進入を防ぐことができない。そこで、割れや溝を埋めるために、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍と、端部ｚを覆うように、最初に、平坦化層１４１を設けた。なお、本実施例では、平坦化層１４１として、ガスバリア性能も兼ね備えるエポキシ樹脂を主成分とする樹脂を利用するため、更にガスバリア性能を向上させることができる。
【００２５】
無機ガスバリア層１４２として、二酸化シリコンを用い、スパッタリング法によって、膜厚が１００ｎｍとなるように成膜する。なお、無機ガスバリア層は、二酸化シリコンによるものに限定されることなく、例えば、窒化シリコン、ＤＬＣ、アルミ箔、銅箔等によって構成しても良い。また膜厚は１０ｎｍ以上あれば、所望のガスバリア特性を得ることが可能である。無機ガスバリア層１４２は、平坦化層１４１によって平滑化された表面上に成膜されるので、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍と、端部ｚを確実に覆うことができる。
【００２６】
有機保護層として、エポキシ樹脂を主成分とするガスバリア製樹脂である「マクシーブ」（登録商標）を用い、乾燥時の膜厚が約５〜１０μｍとなるように有機保護層１４３を塗布する。ガスバリア特性を有する平坦化層１４１と無機ガスバリア層１４２によって、ガスバリア機能は充分であるので、必ずしも有機保護層１４３を設ける必要は無い。しかしながら、無機ガスバリア層１４２は、硬質であるので、成膜時のピンポールに加え、キズ、クラック等が発生する可能性があり、有機保護層１４３は、そのようなピンポール、キズ、クラック等によるガスバリア特性の不備を補うことを目的としている。したがって、有機保護層１４３を設けることによって、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍と、端部ｚのガスバリア特性を強固に維持することができる。
【００２７】
図３は、液晶パネルの製造工程を説明するための図である。
【００２８】
図３（ａ）は、複数同時に形成された液晶セル１１０が、カッターによって切断されて、１つの液晶セル１１０が切り出された状態を示している（即ち図１の工程の後の状態）。
【００２９】
図３（ａ）に示す状態で液晶セル１１０は、第１の基板１１１、第１の透明電極パターン１１２、第１の配向膜１１３、液晶層１１４、第２の配向膜１１５、第２の透明電極パターン１１６、第２基板１１７、球スペーサ１１８、シール材１１９、第２のガスバリア層１２１、第３のガスバリア層１２２等を有している。さらに、前述したように、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍ｃ及びｅでは、切断時に発生した割れがあり、端部ｚには、切断時に形成される細かい溝が形成されている（図１（ｂ）参照）。
【００３０】
図３（ｂ）は、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍ｃ及びｅと、端部ｚを覆うように平坦化層１４１を塗布した状態を示した図である。
【００３１】
平坦化層１４１の塗布は、図４に示すような治具を利用して行う。即ち、土台２００上に配置された金属板２０１とマグネット２０２との間に、図３（ａ）に示す液晶セル１１０を挟み込み、液晶セル１１０の周囲の端部が塗布され易いように固定する。マグネット２０２と金属板２０１との間の磁力によって液晶セル１１０が固定されているので、液晶セル１１０を傷つけず、さらに特別な接着剤等も利用することなく、簡単に平坦化層１４１の塗布を行うことができる。
【００３２】
液晶セル１１０を固定後、メラミン樹脂製スポンジ２１０の先端部にエポキシ樹脂を主成分とするガスバリア製樹脂である「マクシーブ」（登録商標）と溶剤を混ぜた溶液２１２を付け、液晶セル１１０の所定の領域に塗布するように作業する。なお、平坦化層１４１の塗布には、メラミン樹脂製スポンジ２１０以外に、高密度のスポンジや高精細繊維の布等を利用することもできる。溶液２１２の塗布後、液晶セル１１０を、６０〜８０℃で約１時間焼成を行って、溶剤を飛ばし、平坦化層１４１の塗布を完了する。なお、平坦化層１４１は、複数回に分けて溶液の塗布を繰り返すことによって、成膜するようにしても良い。
【００３３】
図３（ｃ）は、平坦化層１４１の上に無機ガスバリア層１４２を成膜した状態を示した図である。
【００３４】
無機ガスバリア層１４２は、スパッタ法により形成する。液晶セル１００を回転させながらアルゴンと酸素の混合雰囲気中で、ターゲット２２１から飛び出してきたシリコンと酸素とを反応させ成膜する。図５（ａ）に示すように、液晶セル１００を多数積み重ねた積層体２３０を小型ターンテーブル２２３上に載せる。積層体２３０の小型ターンテーブルへの固定は、スペーサの一部に設けた支持部（図示せず）によって行なう。小型ターンテーブル２２３は、ｋ方向に自転し、さらに容器２２０内でｊ方向に公転する大型ターンテーブル２２２上に配置される。図５（ｂ）は、基板端部に開口部を設けた液晶パネルの積層体２３０の開口部を通った部分の断面図である。積層体２３０は、図５（ｂ）に示すように、３０枚程度の液晶セル１００と液晶セル１１０より１回り小さいスペーサ２３１とを交互に積み重ねたものであり、液晶セル１１０の端部付近が露出するように配置されている。スペーサは、例えばアルミニウムを用いて形成することができる。二酸化シリコン分子２４１は、アルゴン分子２４０と衝突してランダムに移動するので、液晶セル１１０の端部付近に満遍なく所定の厚さ（例えば、１００ｎｍ）の無機ガスバリア層１４２を成膜することが可能となる。ここで、液晶パネル端部からスペーサ端部までの距離は２〜５ｍｍ程度が好ましい。
なお、液晶セル１１０の端部付近が露出するように配置されていることから、例えば液晶セル１１０が図５（ｂ）に示す開口部１５０を有していた場合にも開口部１５０の部分も良好に無機ガスバリア層を形成することができる。
【００３５】
図３（ｄ）は、無機ガスバリア層１４２の上に、有機保護層１４３を塗布した状態を示した図である。
【００３６】
有機保護層１４３の塗布は、平坦化層１４１の塗布と同様に、図４に示すような治具を利用し、メラミン樹脂製スポンジ２１０の先端部にエポキシ樹脂を主成分とするガスバリア製樹脂である「マクシーブ」（登録商標）と溶剤を混ぜた溶液２１２を付け、液晶セル１１０の所定の領域に塗布するように作業する。溶液２１２の塗布後、液晶セル１１０を、６０〜８０℃で約１時間焼成を行って、溶剤を飛ばし、有機保護層１４３の塗布の塗布を完了する。
【００３７】
上述したように、図３（ａ）〜（ｄ）による製造工程によって、液晶セル１１０の端部とその近傍に、第１のガスバリア層１４０が形成される。なお、図３（ｄ）に示す様に、第１ガスバリア層１４０は、液晶セル１１０の切断箇所から距離ｗの範囲まで液晶セル１１０の端部部分を覆うようにすることが望ましい。本実施例では、距離ｗは０．５ｍｍである。
【００３８】
第１のガスバリア層１４０の形成後、第１のガスバリア層１４０を避けるようにして、液晶セル１１０の上面ｘ上に第１の粘着層１３２及び第１の偏光板を配置し、液晶セル１１０の下面ｙ上に第２の粘着層１３２及び第１の偏光板を配置して、液晶パネル１００を完成させる。
【００３９】
ところで、無機ガスバリア層１４２として、アルミ箔を利用する場合には、平坦化層１４１の塗布後、塗布面を覆うようにアルミ箔を接着させ、オートクレープ加圧装置で加圧して、気泡を消滅させた後、アルミ箔の端部にも接着剤を塗布して、アルミ箔の配置を完了する。なお、アルミ箔の接着には、平坦化層１４１に利用した樹脂を用いることが好ましい。
【実施例２】
【００４０】
実施例２においては、無機ガスバリア層１４２上には有機ガスバリア層を形成しない点で実施例１と相違している。実施例２の液晶パネルの断面構造を図６に示す。
【００４１】
液晶パネル１００の構造は実施例１と同様である。本実施例では、第１のガスバリア層１４０は、平坦化層１４１及び無機ガスバリア層１４２から構成される。なお、図６では、液晶パネル１００の一部の断面図のみを示しているが、ガスバリア層１４０は、液晶セル１１０の周囲のほぼ全てに配置されているものとする。
【００４２】
平坦化層１４１の形成方法及び無機ガスバリア層１４２の形成方法は実施例１と同様である。ガスバリア特性を有する平坦化層１４１と無機ガスバリア層１４２によって、ガスバリア機能は充分である場合には、無機ガスバリア層１４２上に有機保護層を設ける必要はない。
【００４３】
図７は、実施例２における液晶パネルの製造工程を説明するための図である。
【００４４】
図７（ａ）は、複数同時に形成された液晶セル１１０が、カッターによって切断されて、１つの液晶セル１１０が切り出された状態を示している（即ち図１の工程の後の状態）。
【００４５】
図７（ａ）に示す状態で液晶セル１１０は、第１の基板１１１、第１の透明電極パターン１１２、第１の配向膜１１３、液晶層１１４、第２の配向膜１１５、第２の透明電極パターン１１６、第２基板１１７、球スペーサ１１８、シール材１１９、第２のガスバリア層１２１、第３のガスバリア層１２２等を有している。さらに、前述したように、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍ｃ及びｅでは、切断時に発生した割れがあり、端部ｚには、切断時に形成される細かい溝が形成されている（図１（ｂ）参照）。
【００４６】
図７（ｂ）は、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍ｃ及びｅと、端部ｚを覆うように平坦化層１４１を塗布した状態を示した図である。
【００４７】
平坦化層１４１の塗布方法は、実施例１と同様である。
【００４８】
図７（ｃ）は、平坦化層１４１の上に無機ガスバリア層１４２を成膜した状態を示した図である。
【００４９】
無機ガスバリア層１４２は、スパッタ法により形成する。液晶セル１００を回転させながらアルゴンと酸素の混合雰囲気中で、ターゲット２２１から飛び出してきたシリコンと酸素とを反応させて成膜する。図５（ａ）に示すように、液晶セル１００を多数積み重ねた積層体２３０は、容器２２０内に配置された、ｊ方向に公転する大型ターンテーブル２２２上に配置された、ｋ方向に自転する小型ターンテーブル２２３上に載せられる。積層体２３０の小型ターンテーブルへの固定は、スペーサの一部に設けた支持部（図示せず）によって行なう。図５（ｂ）は、基板端部に開口部を設けた液晶パネルの積層体２３０の開口部を通った部分の断面図である。積層体２３０は、図５（ｂ）に示すように、３０枚程度の液晶セル１００と液晶セル１１０より１回り小さいスペーサ２３１とを交互に積み重ねたものであり、液晶セル１１０の端部付近が露出するように配置されている。スペーサは、例えばアルミニウムを用いて形成することができる。二酸化シリコン分子２４１は、アルゴン分子２４０と衝突してランダムに移動するので、液晶セル１１０の端部付近に満遍なく所定の厚さ（例えば、１００ｎｍ）の無機ガスバリア層１４２を成膜することが可能となる。ここで、液晶パネル端部からスペーサ端部までの距離は２〜５ｍｍ程度が好ましい。
なお、液晶セル１１０の端部付近が露出するように配置されていることから、例えば液晶セル１１０が図５（ｂ）に示す開口部１５０を有していた場合であっても、開口部１５０の部分にも良好に無機ガスバリア層を形成することができる。
【００５０】
上述したように、図７（ａ）〜（ｃ）に示した製造工程によって、液晶セル１１０の端部とその近傍に、第１のガスバリア層１４０が形成される。なお、図７（ｃ）に示すように、第１ガスバリア層１４０は、液晶セル１１０の切断箇所から距離ｗの範囲まで液晶セル１１０の端部部分を覆うようにすることが望ましい。本実施例では、距離ｗは０．５ｍｍである。
【００５１】
第１のガスバリア層１４０の形成後、第１のガスバリア層１４０を避けるようにして、液晶セル１１０の上面ｘ上に第１の粘着層１３２及び第１の偏光板を配置し、液晶セル１１０の下面ｙ上に第２の粘着層１３２及び第１の偏光板を配置して、液晶パネル１００を完成させる。
【００５２】
ところで、無機ガスバリア層１４２として、アルミ箔を利用する場合には、平坦化層１４１の塗布後、塗布面を覆うようにアルミ箔を接着させ、オートクレープ加圧装置で加圧して、気泡を消滅させた後、アルミ箔の端部にも接着剤を塗布して、アルミ箔の配置を完了する。なお、アルミ箔の接着には、平坦化層１４１に利用した樹脂を用いることが好ましい。
【実施例３】
【００５３】
実施例３においては、平坦化層を形成せずに液晶パネル端部に直接無機ガスバリア層１４２を形成する点を特徴とする。実施例３の液晶パネルの断面構造を図８に示す。
【００５４】
液晶パネル１００の構造は実施例１と同様である。本実施例では、第１のガスバリア層１４０は、無機ガスバリア層１４２のみで構成される。なお、図８では、液晶パネル１００の一部の断面図のみを示しているが、ガスバリア層１４０は、液晶セル１１０の周囲のほぼ全てに配置されているものとする。
【００５５】
本実施例では、ガスバリア層を無機ガスバリア層１４２のみで形成しているが、基板切断時の亀裂の深さが浅い場合で無機バリア層のみで十分に気泡の発生が抑制できる場合は、平坦化層は不要となる。
【００５６】
図９は、実施例３における液晶パネルの製造工程を説明するための図である。
【００５７】
図９（ａ）は、複数同時に形成された液晶セル１１０が、カッターによって切断されて、１つの液晶セル１１０が切り出された状態を示している（即ち図１の工程の後の状態）。
【００５８】
図９（ａ）に示す状態で液晶セル１１０は、第１の基板１１１、第１の透明電極パターン１１２、第１の配向膜１１３、液晶層１１４、第２の配向膜１１５、第２の透明電極パターン１１６、第２基板１１７、球スペーサ１１８、シール材１１９、第２のガスバリア層１２１、第３のガスバリア層１２２等を有している。ここで、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍ｃ及びｅにおいて、切断時に割れが発生せず、端部ｚに形成される溝が浅い場合に本実施例は有効である。
【００５９】
図９（ｂ）は、液晶セル１１０の上面ｘ及び下面ｙの切断箇所近傍ｃ及びｅと、端部ｚを覆うように無機ガスバリア層１４２を形成した状態を示した図である。
【００６０】
無機ガスバリア層１４２は、スパッタ法により形成する。液晶セル１００を回転させながらアルゴンと酸素の混合雰囲気中で、ターゲット２２１から飛び出してきたシリコンと酸素を反応させ成膜する。図１０（ａ）に示すように、液晶セル１００を多数積み重ねた積層体２３０は、容器２２０内に配置された、ｊ方向に公転する大型ターンテーブル２２２上に配置された、ｋ方向に自転する小型ターンテーブル２２３上に載せられる。積層体２３０の小型ターンテーブルへの固定は、スペーサの一部に設けた支持部（図示せず）によって行なう。図１０（ｂ）は、基板端部に開口部を設けた液晶パネルの積層体２３０の開口部を通った部分の断面図である。積層体２３０は、図１０（ｂ）に示すように、３０枚程度の液晶セル１００と液晶セル１１０より１回り小さいスペーサ２３１とを交互に積み重ねたものであり、液晶セル１１０の端部付近が露出するように配置されている。スペーサは、例えばアルミニウムを用いて形成することができる。二酸化シリコン分子２４１は、アルゴン分子２４０と衝突してランダムに移動するので、液晶セル１１０の端部付近に満遍なく所定の厚さ（例えば、１００ｎｍ）の無機ガスバリア層１４２を成膜することが可能となる。ここで、液晶パネル端部からスペーサ端部までの距離は２〜５ｍｍ程度が好ましい。
なお、液晶セル１１０の端部付近が露出するように配置されていることから、例えば液晶セル１１０が図１０（ｂ）に示す開口部１５０を有していた場合にも開口部１５０の部分も良好に無機ガスバリア層を形成することができる。
【００６１】
上述したように、図９（ａ）、（ｂ）に示した製造工程によって、液晶セル１１０の端部とその近傍に、第１のガスバリア層１４０が形成される。なお、図９（ｂ）に示すように、第１ガスバリア層１４０は、液晶セル１１０の切断箇所から距離ｗの範囲まで液晶セル１１０の端部部分を覆うようにすることが望ましい。本実施例では、距離ｗは０．５ｍｍである。
【００６２】
第１のガスバリア層１４０の形成後、第１のガスバリア層１４０を避けるようにして、液晶セル１１０の上面ｘ上に第１の粘着層１３２及び第１の偏光板を配置し、液晶セル１１０の下面ｙ上に第２の粘着層１３２及び第１の偏光板を配置して、液晶パネル１００を完成させる。
【００６３】
ところで、無機ガスバリア層１４２として、アルミ箔を利用する場合には、平坦化層１４１の塗布後、塗布面を覆うようにアルミ箔を接着させ、オートクレープ加圧装置で加圧して、気泡を消滅させた後、アルミ箔の端部にも接着剤を塗布して、アルミ箔の配置を完了する。なお、アルミ箔の接着には、平坦化層１４１に利用した樹脂を用いることが好ましい。
また、無機ガスバリア層の外側に樹脂ガスバリア層を形成するとなお良い。
【００６４】
なお、本実施例においては、液晶パネルを例にとって記載したが、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイや、電気泳動型表示パネル等の他の方式の表示パネルにおいても、同様に水蒸気等の侵入を防止するガスバリア層を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】液晶セルの製造工程の一部を説明するための図である。
【図２】本発明の実施例１に係る液晶パネルの概略断面図である。
【図３】本発明の実施例１に係る液晶パネルの製造工程を説明するための図である。
【図４】平坦化層の塗布のための治具を示す図である。
【図５】本発明の実施例１に係る無機ガスバリア層の成膜方法を説明するための図である。
【図６】本発明の実施例２に係る液晶パネルの概略断面図である。
【図７】本発明の実施例２に係る液晶パネルの製造工程を説明するための図である。
【図８】本発明の実施例３に係る液晶パネルの概略断面図である。
【図９】本発明の実施例３に係る液晶パネルの製造工程を説明するための図である。
【図１０】本発明の実施例３に係る無機ガスバリア層の成膜方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６６】
１００    液晶パネル
１１０    液晶セル
１１１    第１の基板
１１４    液晶層
１１７    第２の基板
１１９    シール部材
１４０    第１ガスバリア層
１４１    平坦化層
１４２    無機ガスバリア層
１４３    有機保護層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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