(57)【要約】【課題】回転子及び固定子を内蔵する粉砕機において、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径で、且つ、微粉体の少ないシャープな粒度分布を有するトナー粒子を、効率良く、安定的に、トナー生産性良く得ることができる粉砕機を提供することである。【解決手段】回転子及び固定子を内蔵する粉砕機において、回転子３１４及び固定子３１０表面の凹凸部が、中心回転軸３１２に対して平行に設けられており、回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を特定の条件で具備し、回転子３１４と固定子３１０表面の凹凸部距離が粉砕ゾーンにより異なり、回転子３１４表面の凹凸部距離が粉砕ゾーンにより異なる。【選択図】図１
2009262003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、少なくとも中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、
該固定子は該回転子を内包しており、
該固定子表面と該回転子表面とは、所定の間隙を有するように該回転子は配置されて粉砕ゾーンを形成しており、
該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転に伴って被粉砕物が粉砕され、
該固定子表面及び回転子表面は、いずれも複数の凸部と凹部とを有する粉砕機において、
該凹凸部が、該中心回転軸に対して平行に設けられており、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、
該固定子表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、
該粉砕ゾーンにおいて、該Ｒａと該Ｌａが互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子及び固定子表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定し、
該回転子において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することを特徴とする粉砕機。
【請求項２】
該固定子は、該Ｌａが３．５ｍｍ未満であり、
該回転子の該Ｒａが３．５ｍｍ以上であるゾーンをＬＲａ、
該回転子の該Ｒａが３．５ｍｍ未満であるゾーンをＳＲａとしたとき、
ＬＲａ／ＳＲａが０．１以上７．０以下であることを特徴とする請求項１に記載の粉砕機。
【請求項３】
該粉砕機は、被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、少なくとも中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、
該固定子は該回転子を内包しており、
該固定子表面と該回転子表面とは、所定の間隙を有するように該回転子は配置されて粉砕ゾーンを形成しており、
該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転に伴って被粉砕物が粉砕され、
該固定子表面及び回転子表面は、いずれも複数の凸部と凹部とを有する粉砕機において、
該凹凸部が、該中心回転軸に対して平行に設けられており、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備することを特徴とする
請求項１または２に記載の粉砕機。
【請求項４】
結着樹脂及び着色剤を少なくとも含有する重量平均粒子径が４μｍ乃至１２μｍのトナー粒子を製造する方法に用いられるトナー製造装置において、
該トナー粒子は、少なくとも、溶融混練工程及び粗粉砕工程、微粉砕工程、分級工程を経て生成されたものであって、
該微粉砕工程に用いられる装置は、
被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、少なくとも中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、
該固定子は該回転子を内包しており、
該固定子表面と該回転子表面とは、所定の間隙を有するように該回転子は配置されて粉砕ゾーンを形成しており、
該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転に伴って被粉砕物が粉砕され、
該固定子表面及び回転子表面は、いずれも複数の凸部と凹部とを有する粉砕機であり、
該凹凸部が、該中心回転軸に沿うよう設けられており、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、
該固定子の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、
該粉砕ゾーンにおいて、該Ｒａと該Ｌａが互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子及び固定子表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定し、
該回転子において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することを特徴とするトナー製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真法、静電記録法、静電印刷法、またはトナージェット方式記録法の如き画像形成方法に用いられるトナーを製造する装置及びその装置を利用してトナーを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真法、静電写真法及び静電印刷法の如き画像形成方法では、静電荷像を現像するためのトナーが使用される。
【０００３】
トナーを製造する方法の一つに以下の方法がある。
【０００４】
まず、被転写材に定着させるための結着樹脂、トナーとしての色味を出させる各種着色剤、粒子に電荷を付与させるための荷電制御剤を原料とし、更に必要に応じて、例えば、離型剤及び流動性付与剤等の他の添加剤を加えて乾式混合を行う。
【０００５】
しかる後、ロールミル、エクストルーダー等の汎用混練装置にて溶融混練し、冷却固化した後、混練物を各種粉砕装置により微細化し、得られた粉砕物を各種風力分級機に導入して分級を行うことにより、トナーとして必要な粒径に揃えられた分級品を得る。
【０００６】
更に、得られた分級品に、必要に応じて、流動化剤や滑剤等を外添し、乾式混合して、画像形成に供するトナーとしている。
【０００７】
また、二成分現像方法に用いるトナーの場合には、各種磁性キャリアと上記トナーとを混ぜ合わせた後、画像形成に供される。
【０００８】
近年、複写機やプリンターの高画質化・高精細化に伴い、現像剤としてのトナーに要求される性能も一段と厳しくなっており、トナーとしては、粒子径は小さく（具体的には、重量平均粒径６μｍ以下）、粒度分布としては、粗大な粒子が含有されず、且つ、微粉体の少ないシャープなものが必要とされている。
【０００９】
上述した重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を得るために、従来、粉砕手段としては、図１１に示す粉砕機が用いられることが多い。
【００１０】
図１１に示す粉砕機は、ジェット気流の如き高圧気体で粉体原料を搬送し、加速管の出口より噴射し、加速管の出口の開口面に対向して設けた衝突部材の衝突面に衝突させて、その衝撃力により粉体原料を粉砕する。
【００１１】
例えば、図１１に示す粉砕機では、高圧気体供給ノズル４３５を接続した加速管出口に対向して衝突部材４３６を設け、加速管に供給した高圧気体により、加速管の中途に連通させた粉体原料供給口から加速管内に粉体原料を吸引し、粉体原料を高圧気体とともに噴出して衝突部材４３６の衝突面に衝突させ、その衝撃によって粉砕し、粉砕物を粉砕物排出口より排出させている。
【００１２】
図１１に示す粉砕機は、粉体原料を高圧気体とともに噴出して衝突部材４３６の衝突面に衝突させ、その衝撃によって粉砕するという構成のため、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径のトナー粒子を得ることは可能である。
【００１３】
しかしながら、図１１に示す粉砕機で、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径トナー粒子を生産するためには多量のエアーを必要とする。そのため電力消費が極めて多く、エネルギーコストという面において問題を抱えている。
【００１４】
また、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を得ようとして、図１１に示す粉砕機で粉砕すると、発生する微粉量が多くなり、後工程の分級工程において分級収率の低下を招き、トナー生産性上好ましくない。
【００１５】
これに対し、エネルギー的に図１１に示す粉砕機より効率的な粉砕機として、図１に示す粉砕機が用いられている。
【００１６】
例えば、図１に示す粉砕機では、定量供給機３１５から粉砕機の原料投入口３１１へ所定量の粉体原料が投入されると、原料は粉砕処理室内に導入され、該粉砕処理室内で高速回転する表面に多数の溝が設けられている回転子３１４と、表面に多数の溝が設けられている固定子３１０との間に発生する衝撃と、この背後に生じる多数の超高速渦流、並びにこれによって発生する高周波の圧力振動によって瞬間的に粉砕される。
【００１７】
上述した通り、図１に示す粉砕機は、高速回転する回転子３１４と、回転子の周囲に配置されている固定子３１０との間に形成された環状空間である粉砕ゾーンに粉体原料を導入することにより粉砕する。従って、粉砕の際、多量のエアーを必要としない。
【００１８】
そのため電力消費が極めて少なくてすみ、図１１に示す粉砕機より格段に省エネルギーで粉砕できる。しかも過粉砕されることが少ないため微粉の発生が少なく、後工程の分級工程において分級収率を向上させることが可能となる。
【００１９】
またこれらの粉砕機によって粉砕されたトナー粒子の形状に着目すると、図１１に示す粉砕機で粉砕されたトナー粒子は不定形で角張った形状であり、図１に示す粉砕機で粉砕されたトナー粒子は角が取れ、丸みを有する形状であることが知られている。
【００２０】
粉砕されたトナー粒子の形状の差は粉砕プロセスの相違によるものと考えられる。即ち、図１１に示す粉砕機においては、大部分の粉砕は、衝突部材との衝突によって行われるが、図１に示す粉砕機においては、大部分の粉砕は高速回転する回転子３１４及び固定子３１０の壁面に粒子が衝突して行われるためである。
【００２１】
また、図１に示す粉砕機においては、少なからず粉砕によって発熱が生じ、熱球形化による効果もあって、粉砕されたトナー粒子の形状は丸みを帯びるとも考えられる。
【００２２】
このため、図１に示す粉砕機で粉砕されたトナー粒子は、図１１に示す粉砕機で粉砕されたトナー粒子より比表面積が小さくなるため、流動性が良好になり、また空隙が小さくなるため、充填性に優れ、更に外添剤の添加量が少量で済むというメリットがある。
【００２３】
また、帯電性や転写性に優れるなど品質面のメリットも挙げられる。即ち、図１に示す粉砕機によれば、優れた品質のトナーを省エネルギー且つ高収率で生産することができる。
【００２４】
しかしながら、図１に示す粉砕機は、高速回転する回転子３１４と、回転子３１４の周囲に配置されている固定子３１０との間に形成された粉砕ゾーンに粉体原料を導入することにより粉砕するという構成のため、トナー粒子径を決める因子の大部分は、回転子３１４の回転数と、回転子３１４と固定子３１０の最小間隔で決まると考えられる。
【００２５】
そのため、図１に示す粉砕機で、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径のトナー粒子を得ようとすると、回転子３１４の高速化及び回転子３１４と固定子３１０の最小間隔の狭化が必要となる。
【００２６】
しかしながら、回転子３１４の回転数や、回転子３１４と固定子３１０の最小間隔は装置構成上おのずと限界点があり、そのため図１に示す粉砕機において、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径のトナー粒子を得るのは非常に困難であった。
【００２７】
図１に示す粉砕機において小粒径のトナー粒子を得る方法として、回転子３１４及び固定子３１０の少なくとも一方の表面において、当該表面の多数の溝の繰り返し周期を異ならせた粉砕機が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００２８】
また、表面に凹部と凸部を交互に周方向に連続させた回転子を２段以上に区画し、原料供給口側の最下段から製品排出口側の最上段に向かって凹部と凸部の数を順次増加した粉砕機が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【００２９】
しかしながら、いずれにおいても重量平均粒径６μｍ以下の小粒径のトナー粒子を得ることは可能ではあるものの、原料投入口から投入される粉体原料の所定量を低く設定しなければならず、トナー生産性との両立という点において未だ不十分であった。
【００３０】
また、ＣＯ2排出量削減への配慮から、小粒径で、且つ、シャープな粒度分布を有するトナー粒子を、低エネルギーで、効率良く、安定的に作り出すことが必要であり、更にトナー生産性を十分満足させることが必要である。
【００３１】
【特許文献１】特開平６−２７７５４５号公報
【特許文献２】特開２０００−５６１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３２】
本発明の目的は、こうした問題点を解消して、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径で、且つ、微粉体の少ないシャープな粒度分布を有するトナー粒子を、効率良く、安定的に、トナー生産性良く得られる粉砕機を提供することにある。
【００３３】
更に本発明の目的は、粉砕室内温度上昇による品質弊害や機内融着を防止でき、且つ、単位時間当りの処理量を向上させることができるトナー製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
本発明者等は、上記した従来技術の課題を解決すべく鋭意検討の結果、図１に示す粉砕機に内蔵される回転子３１４外周面の歯の構成と、該回転子３１４の外周に設置されている固定子３１０内周面の歯の構成に着目し、本発明に至った。
【００３５】
即ち、本発明は、被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口３１１と、固定子３１０と、少なくとも中心回転軸３１２に取り付けられた回転子３１４と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口３０２とを少なくとも有し、
該固定子３１０は該回転子３１４を内包しており、
該固定子３１０表面と該回転子３１４表面とは、所定の間隙を有するように該回転子３１４は配置されて粉砕ゾーンを形成しており、
該粉砕ゾーンにおいて、該回転子３１４の回転に伴って被粉砕物が粉砕され、
該固定子３１０表面及び回転子３１４表面は、いずれも複数の凸部と凹部とを有する粉砕機において、
該凹凸部が、該中心回転軸３１２に対して平行に設けられており、
該回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、
該固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、
該粉砕ゾーンにおいて、該Ｒａと該Ｌａが互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定し、
該回転子３１４において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することを特徴とする粉砕機に関する。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、重量平均粒径６μｍ以下の小粒径で、且つ、微粉体の少ないシャープな粒度分布を有するトナー粒子を、効率良く、安定的に、トナー生産性良く得ることができる粉砕機を提供することができる。
【００３７】
更に本発明によれば、粉砕室内温度上昇による品質弊害や機内融着を防止でき、且つ、単位時間当りの処理量を向上させることができるトナー製造装置を提供することができる。
【００３８】
更には、良好な現像性、転写性並びにクリーニング性、及び安定した帯電性を有する、長寿命のトナーを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、好ましい実施の形態を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
【００４０】
本発明者は、上記した従来技術の課題を解決すべく、図１に示す粉砕機で、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量がより高い状態で得るべく鋭意検討した結果、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離と、該固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離に着目した。
【００４１】
つまり、図１に示す粉砕機おける粉砕性は、該回転子３１４の周速と、該回転子３１４と、該固定子３１０の最小間隔が最も影響していると考えられるが、それ以外にも該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離も影響していると考えた。
【００４２】
本発明において上述した目的を達成するために好ましい装置の構成を、図１から図３を用いて説明する。
【００４３】
図１は、本発明において使用される一例の粉砕機の概略的断面図であり、図２及び図３は、本発明において使用される一例の該回転子３１４及び固定子３１０の概略的断面図である。
【００４４】
本発明の粉砕機は、被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口３１１と、固定子３１０と、少なくとも中心回転軸３１２に取り付けられた回転子３１４と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口３０２とを少なくとも有し、
該固定子３１０は該回転子３１４を内包しており、
該固定子３１０表面と該回転子３１４表面とは、所定の間隙を有するように該回転子３１４は配置されて粉砕ゾーンを形成しており、
該粉砕ゾーンにおいて、該回転子３１４の回転に伴って被粉砕物が粉砕され、
該固定子３１０表面及び回転子３１４表面は、いずれも複数の凸部と凹部とを有する粉砕機において、
該凹凸部が、該中心回転軸３１２に対して平行に設けられており、
該回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、
該固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、
該粉砕ゾーンにおいて、該Ｒａと該Ｌａが互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定し、
該回転子３１４において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することを特徴とする。
【００４５】
本発明の粉砕機の特徴は、図２に示す通り、該回転子３１４表面の凹凸部が、該中心回転軸３１２に対して平行に設けられていることにある。
【００４６】
更に、本発明の粉砕機の特徴は、図３に示す、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離ａを、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、該固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、該粉砕ゾーンにおいて、該ＲａとＬａとが異なる範囲が存在するよう回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することにある。
【００４７】
更に、本発明の粉砕機の特徴は、図４から図６に示す通り、該回転子３１４において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することにある。
【００４８】
前述した通り、本発明者は、図１に示す粉砕機で、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量がより高い状態で得るべく鋭意検討した結果、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離と、該固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離に着目した。
【００４９】
本発明者等が検討した結果、該回転子３１４及び固定子３１０表面における凸部と凸部との繰り返し距離を狭くすることで、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子が得られることが分かった。
【００５０】
上記の理由は定かではないが、該回転子３１４及び固定子３１０表面における凸部と凸部との繰り返し距離を狭くすることで、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凹凸部数を増加する。凹凸部数が増加することにより、トナー粒子に対する衝撃力の数を多くすることができ、更に、該回転子３１４と該固定子３１０との間に発生する超高速の渦流の数を多くすることができるためと考えている。
【００５１】
しかしながら、更に検討した結果、ただ単に、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離を狭くし、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凹凸部数を増加させるだけでは、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量をより高い状態で得ることは困難であることが分かった。
【００５２】
本発明者等は、更に検討した結果、
該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、
該固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、
該粉砕ゾーンにおいて、該Ｒａと該Ｌａが互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４及び固定子３１０表面の該凸部と該凸部との繰り返し距離を設定し、
該回転子３１４において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４表面の該凸部と該凸部との繰り返し距離を設定することにより、
図１に示す粉砕機おいて、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量をより高い状態で得られることが分かった。
【００５３】
更に本発明者等が検討した結果、
該Ｌａが３．５ｍｍ未満の範囲をＳＬａとしたとき、
該固定子３１０表面の該凸部と該凸部との繰り返し距離を、全てＳＬａとし、且つ、
該回転子３１４表面の該Ｒａが３．５ｍｍ以上の範囲をＬＲａとし、
該回転子３１４表面の該Ｒａが３．５ｍｍ未満の範囲をＳＲａとしたとき、
ＬＲａ／ＳＲａを０．１以上７．０以下とすることにより、
図１に示す粉砕機おいて、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量をより高い状態で得られることが分かった。
【００５４】
上記の理由は定かではないが、該ＬａをＳＬａとし、ＬＲａ／ＳＲａを０．１以上７．０以下とすることにより、該粉砕ゾーンにおける回転子３１４と固定子３１０で、該凸部と該凸部との繰り返し距離が同じであるＳＲａとＳＬａが構成される。
【００５５】
更に、上述の構成と同時に、該凸部と該凸部との繰り返し距離が異なる該ＬＲａとＳＬａが構成される。更に、該回転子３１４において、該凸部と該凸部との繰り返し距離が異なる該ＬＲａとＳＲａが構成される。
【００５６】
上述した該ＬＲａとＳＬａ、該ＬＲａとＳＲａという、２つの異なる該凸部と該凸部との繰り返し距離により、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量をより高い状態で得ることができると本発明者等は考えている。
【００５７】
つまり、該ＬＲａとＳＬａにより、粉砕粒径の細分化と処理量の向上が図られ、該ＬＲａとＳＲａにより、トナー粒子の段階的粉砕が図られるため、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を、単位時間当りの処理量をより高い状態で得ることができると本発明者等は考えている。
【００５８】
また、本発明者が検討した結果、該回転子のＬＲａ／ＳＲａが０．１未満及び７．０を超える場合、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子を得るためには、単位時間当りの処理量を低く設定しなければならずトナー生産性という点から十分満足できるものではない。
【００５９】
また、本発明者が検討した結果、材料組成の違いにより、便宜該回転子３１４及び固定子３１０、及び回転子３１４表面の凸部と凸部の繰り返し距離を変更することにより、材料構成の変更による材料組成の変化に対応できる。
【００６０】
つまり、材料組成の違いにより、便宜該回転子３１４のＲａと、該固定子３１０のＬａを異なる範囲が存在するよう該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部の繰り返し距離を設定し、且つ、該回転子３１４のＬＲａ／ＳＲａを変化させるよう該回転子３１４表面の凸部と凸部の繰り返し距離を設定することにより、材料構成の変更による材料組成の変化に対応できる。
【００６１】
例えば、図４（ａ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を原料供給側と微粉砕物排出側とに２分割し、原料供給側における回転子３１４のＬａをＬＲａとし、微粉砕物排出側における回転子３１４のＬａをＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝１．０）。
【００６２】
また、図４（ｂ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を４分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４とした場合、Ｒ１〜Ｒ３までをＬＲａ、Ｒ４をＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝３．０）。
【００６３】
また、図４（ｃ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を４分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４とした場合、Ｒ１をＬＲａ、Ｒ２〜Ｒ４をＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝０．３）。
【００６４】
また、図４（ｄ）においては、該該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を８分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４／Ｒ５／Ｒ６／Ｒ７／Ｒ８とした場合、Ｒ１〜Ｒ７をＬＲａ、Ｒ８をＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝７．０）。
【００６５】
また、図４（ｅ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を８分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４／Ｒ５／Ｒ６／Ｒ７／Ｒ８とした場合、Ｒ１をＬＲａ、Ｒ２〜Ｒ８をＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝０．１４）。
【００６６】
また、図５（ａ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を原料供給側と微粉砕物排出側とに２分割し、原料供給側における回転子３１４のＬａをＳＲａとし、微粉砕物排出側における回転子３１４のＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝１．０）。
【００６７】
また、図５（ｂ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を４分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４とした場合、Ｒ１〜Ｒ３をＳＲａ、Ｒ４をＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝０．３）。
【００６８】
また、図５（ｃ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を４分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４とした場合、Ｒ１をＳＲａ、Ｒ２〜Ｒ４をＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝３．０）。
【００６９】
また、図５（ｄ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を８分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４／Ｒ５／Ｒ６／Ｒ７／Ｒ８とした場合、Ｒ１〜Ｒ７をＳＲａ、Ｒ８をＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝０．１４）。
【００７０】
また、図５（ｅ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４を８分割し、原料供給側から微粉砕物排出側にかけて、夫々回転子３１４の番号をＲ１／Ｒ２／Ｒ３／Ｒ４／Ｒ５／Ｒ６／Ｒ７／Ｒ８とした場合、Ｒ１をＳＲａ、Ｒ２〜Ｒ８をＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝７．０）。
【００７１】
また、図６（ａ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４のＲ１／Ｒ４をＬＲａ、該回転子３１４のＲ２／Ｒ３をＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝１．０）。
【００７２】
また、図６（ｂ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４のＲ１／Ｒ４をＳＲａ、該回転子３１４のＲ２／Ｒ３をＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝１．０）。
【００７３】
また、図６（ｃ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４のＲ１／Ｒ３をＬＲａ、該回転子３１４のＲ２／Ｒ４をＳＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝１．０）。
【００７４】
また、図６（ｄ）においては、該固定子３１０におけるＬａをＳＬａとし、且つ該回転子３１４のＲ１／Ｒ３をＳＲａ、該回転子３１４のＲ２／Ｒ４をＬＲａとしている（従って、ＬＲａ／ＳＲａ＝１．０）。
【００７５】
更に、本発明の効果をより発揮する構成としては、回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備することが好ましい。
【００７６】
この理由としては、本発明の固定子及び回転子の構成を取る事で、粉砕性は飛躍的に改良され、この結果、単位時間あたりの処理量を増加させる事が可能となった。その反面、被粉砕物の粉砕機内における充満率は上昇し、装置内の昇温は厳しい方向となる。この対応として、装置内へ導入する冷風の温度を低下させる事も可能であるが、生産時エネルギーの増加と言った問題が生じる。そこで、回転子自体を直接内部から冷却する構成とする事で、生産性向上を低エネルギーで達成する事が可能となる。
【００７７】
更に、本発明の粉砕機に用いる回転子３１４は、図９に示す通り、独立した複数個のディスク３２２を繋ぎ合せた回転子から構成され、該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備することが好ましい。
【００７８】
この理由としては、本発明の回転子は表面の凸部と凸部との繰り返し距離が異なる範囲を有する為、通常の冷却水の入れ方ではバランス取りが難しく、特に高速回転領域での安定性に問題が生じる場合がある。
【００７９】
更に、本発明の回転子３１４内部における該冷媒流路は、図９に示す通り、
粉体投入口３１１側或いは、粉体排出口３０２側の一方向から、中心回転軸３１２を介して、冷媒を導入するための冷媒流路Ｌ、
該回転子３１４において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Ｍ、
該回転子３１４外層部を中心回転軸３１２と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路Ｎ、
該回転子３１４外層部から中心回転軸３１２に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Ｐ、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路Ｑ、
の構成であることが好ましい。
【００８０】
つまり、本発明の回転子３１４は、該各ディスク３２２内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Ｍを、該ディスク３２２の枚数に合せて独立して設け、該ディスク３２２の枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Ｍに、該冷媒流路Ｌから冷媒を別々に導入することが可能な構成となっている。
【００８１】
更に、本発明の回転子３１４は、該各ディスク３２２外層部から中心回転軸３１２に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Ｐを、該ディスク３２２の枚数に合せて独立して設け、該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Ｐから、冷媒流路Ｑに冷媒を別々に戻すことが可能な構成となっている。
【００８２】
本発明者等が検討した結果、該回転子３１４を上述した構成とすることにより、該回転子３１４の高速回転に伴う、粉砕室内温度の昇温や本体振動値の増大、及び冷却効率の低下を低減でき、粉砕室内温度上昇による品質弊害や機内融着を防止することができる。
【００８３】
更に、本発明者等が検討した結果、該回転子３１４を上述した冷媒流路を具備する回転子とし、合せて、該回転子３１４のＲａと、該固定子３１０Ｌａが、互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部の繰り返し距離を設定し、更に、該回転子３１４において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４表面の凸部と凸部の繰り返し距離を設定することが好ましい。
【００８４】
該回転子３１４を上述した構成とすることにより、単位時間当りの処理量をより向上させることができ、重量平均粒径６μｍ以下で、且つ、シャープな粒度分布を有するトナー粒子を、効率良く、安定的に、トナー生産性上良好に得ることができる。
【００８５】
該回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備する構成とすることにより、単位時間当りの処理量を向上させることができる理由は定かではないが、トナー粒子粉砕時における発熱を、該冷媒流路に冷媒を通水することより、ある程度除熱できるためと考えている。
【００８６】
尚、本発明の回転子３１４は、該各ディスク３２２内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Ｍ及び／または、該各ディスク３２２外層部から中心回転軸３１２に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Ｐは、独立した複数個のディスク３２２毎に、複数本から構成されることが好ましい。
【００８７】
更に、本発明の回転子３１４は、該各ディスク３２２内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Ｍにおける流路の数と、各ディスク３２２外層部から中心回転軸３１２に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Ｐにおける流路の数が、同数であることが好ましい。
【００８８】
更に、上記流路Ｍ、及び上記流路Ｐのサイズは、各々の径と長さを等しくする事で遠心力による抵抗を相殺し、回転子３１４の回転数に影響されることなく安定した冷媒流量を得ることができる。
【００８９】
更に本発明の粉砕機は、図８に示す通り、
該回転子３１４は、外周面に複数の凹部を有し、
該回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子３１４の中心点ｐから該回転子の凹部底面ｒまでを直線で結んだ長さをＤｐｒとし、
該回転子３１４の中心点ｐから該冷媒流路の最外殻ｑまでを直線で結んだ長さをＤｐｑとした場合、
以下の式（１）となるように、冷却用の冷媒流路を設けることが好ましい。
式（１）  １．０ｍｍ≦Ｄｐｒ−Ｄｐｑ≦２５．０ｍｍ
【００９０】
更に本発明の粉砕機における該冷媒流路は、図８に示す通り、該中心回転軸３１２に対して並行に設けられた冷却孔Ｎであり、該冷却孔Ｎは、該中心回転軸方向と垂直な断面において、該回転子円周方向に、一定間隔に配置されていることが好ましい。
【００９１】
更に本発明の粉砕機における該冷却孔Ｎは、図８に示す、該中心回転軸方向と垂直な断面における断面積Ｄが、１８ｍｍ2以上２０００ｍｍ2以下の範囲であることが好ましい。
【００９２】
更に、本発明者等が検討した結果、図８に示す、回転子３１４の中心点ｐから回転子３１４の凹部底面ｒまでを直線で結んだ長さをＤｐｒ、回転子３１４の中心点ｐから該冷媒流路の最外殻ｑまでを直線で結んだ長さをＤｐｑとした場合、以下の式（１）となるように、冷却用の冷媒流路を設けることにより、該回転子３１４の高速回転においても、振動値を低減でき、高い冷却効率を得ることができることが分かった。
式（１）  １．０ｍｍ≦Ｄｐｒ−Ｄｐｑ≦２５．０ｍｍ
【００９３】
本発明者等が検討した結果、式（１）において、Ｄｐｒ−Ｄｐｑが１．０ｍｍ未満の場合、該回転子３１４の高速回転に伴う振動値が高くなり、該回転子３１４の高速回転時の安定運転という点から十分満足できるものではない。
【００９４】
更に、本発明者等が検討した結果、Ｄｐｒ−Ｄｐｑが２５．０ｍｍを超える場合、今度は充分な冷却効果が得られないことから、単位時間当りの処理量を向上させることができず、トナー生産性という点から十分満足できるものではない。
【００９５】
更に、本発明者等が検討した結果、図８に示す通り、回転子３１４内部に具備する冷却用の冷媒流路を、冷却孔Ｈとし、更に該冷却孔Ｈを一定間隔に配置することにより、該回転子３１４の高速回転に伴う、振動値を低減でき、高い冷却効率を得ることができることが分かった。
【００９６】
本発明者等が検討した結果、冷媒流路を冷却孔Ｈとすることで、機械的強度を確保した上で冷却孔Ｈを回転子３１４表層近傍に近付けることができる。更に、冷却孔Ｈとすることで、必要最小限の冷媒でムラの少ない効率的な冷却を得ることができる。
【００９７】
更に、冷却孔Ｈの配置は、中心回転軸３１２と並行する複数の冷却孔を一定間隔に配置することで、極めて大きな冷却面積を得ることができる。
【００９８】
また、冷却孔Ｈの形状は、加工性や容積精度の面から円筒状のドリルホールが好ましいが、放電加工法やレーザー加工法等により三角形四角形或いは星形の様な多角形でも同様の効果が得られる。また、それらの組合せでも良い。
【００９９】
更に、冷却孔Ｈの配置は、二列三列と複数の列を成すことで、更に冷却効率を向上することができる。更に、冷却孔Ｎを中心回転軸３１２と並行に配置することで冷媒の揺動を抑え、回転子３１４を安定して高速回転させることができる。
【０１００】
また、複数個の冷却孔Ｈは各々の容積を統一し等間隔に配置することで、冷媒の有無によるアンバランスを解消し冷媒の有無に影響されることなく、回転子３１４を安定して高速回転させることができる。
【０１０１】
尚、冷却孔Ｈの両端面は、複数個の冷却孔Ｈを連結する空間を設けた上で、胴淵を溶接、またはプレートをＯリング等のシール材によって密閉する。
【０１０２】
更に、本発明者等が検討した結果、図８に示す、該冷却孔Ｈの該中心回転軸方向と垂直な断面における断面積Ｄが、１８ｍｍ2以上２０００ｍｍ2以下の範囲とすることにより、該回転子３１４の高速回転においても、振動値を低減でき、高い冷却効率を得ることができることが分かった。
【０１０３】
本発明者等が検討した結果、該冷却孔Ｈの該中心回転軸方向と垂直な断面における断面積Ｄが、１８ｍｍ2未満の場合、該冷却孔Ｈを製作するための加工工数が増加し、イニシャルコストの面から十分満足できるものではない。
【０１０４】
更に、本発明者等が検討した結果、該冷却孔Ｈの該中心回転軸方向と垂直な断面における断面積Ｄが、２０００ｍｍ2を超える場合、充分な冷却効果が得られず、また該回転子３１４の重量増加が伴うため、該回転子３１４の高速回転時の安定運転という点から十分満足できるものではない。
【０１０５】
更に本発明は、結着樹脂及び着色剤を少なくとも含有する重量平均粒子径が４μｍ乃至１２μｍのトナー製造方法に用いられるトナー製造装置において、
該トナー粒子は、少なくとも、溶融混練工程及び粗粉砕工程、微粉砕工程、分級工程を経て生成されたものであって、
該微粉砕工程に用いられる装置は、被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口３１１と、固定子３１０と、少なくとも中心回転軸３１２に取り付けられた回転子３１４と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口３０２とを少なくとも有し、
該固定子３１０は該回転子３１４を内包しており、
該固定子３１０表面と該回転子３１４表面とは、所定の間隙を有するように該回転子３１４は配置されて粉砕ゾーンを形成しており、
該粉砕ゾーンにおいて、該回転子３１４の回転に伴って被粉砕物が粉砕され、
該固定子３１０表面及び回転子３１４表面は、いずれも複数の凸部と凹部とを有する粉砕機であり、
該凹凸部が、該中心回転軸３１２に沿うよう設けられており、
該回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＲａ、
該固定子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離をＬａとしたとき、
該粉砕ゾーンにおいて、該Ｒａと該Ｌａが互いに異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４及び固定子３１０表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定し、
該回転子３１４において、該Ｒａが異なる範囲が存在するよう、該回転子３１４表面の凸部と凸部との繰り返し距離を設定することを特徴とする。
【０１０６】
該粉砕機を上述した構成とすることにより、単位時間当りの処理量をより向上させることができ、重量平均粒径６μｍ以下で、且つ、シャープな粒度分布を有するトナー粒子を、効率良く、安定的に、トナー生産性上良好に得ることができる。
【０１０７】
また、本発明のトナー製造装置においては、該粉砕機内の回転子３１４表面と固定子３１０表面との間の最小間隔は０．５乃至５．０ｍｍであることが好ましく、０．５乃至２．０ｍｍとすることが更に好ましい。
【０１０８】
該粉砕機内の回転子３１４と固定子３１０との間の最小間隔が０．５ｍｍ未満の場合、装置自体の負荷が大きくなるのと同時に、粉砕時に過粉砕され、トナーの熱変質や機内融着を起こしやすいのでこちらもトナー生産性という点から十分満足できるものではない。
【０１０９】
また、該粉砕機内の回転子３１４と固定子３１０との間の最小間隔が５．０ｍｍを超える場合、粉砕されずにショートパスを起こしてしまいトナー生産性という点から十分満足できるものではない。
【０１１０】
更に、本発明のトナー製造装置においては、該回転子３１４の回転周速は３０ｍ／ｓｅｃ乃至１８０ｍ／ｓｅｃとすることが好ましく、更には、４０ｍ／ｓｅｃ乃至１７０ｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。
【０１１１】
本発明者が検討した結果、該回転子３１４の回転周速を３０ｍ／ｓｅｃ未満とすると、小粒径のトナーを得るためには単位時間当りの処理量を落とさなければならず、トナー生産性上十分満足できるものではない。
【０１１２】
また、該回転子３１４の回転周速を１８０ｍ／ｓｅｃを超えるものとすると、装置自体の負荷が大きくなるのと同時に、粉砕時に被粉砕物が過粉砕されると同時に、熱による表面変質や機内融着を起こしやすいので、こちらもトナー生産性という点から十分満足できるものではない。
【０１１３】
次に、本発明のトナー製造装置を用いて、トナーを製造する手順について説明する。
【０１１４】
まず、原料混合工程では、トナー内添剤として、少なくとも樹脂、着色剤を所定量秤量して配合し、混合する。混合装置の一例としては、ヘンシェルミキサー（三井鉱山社製）；スーパーミキサー（カワタ社製）；リボコーン（大川原製作所社製）；ナウターミキサー、タービュライザー、サイクロミックス（ホソカワミクロン社製）；スパイラルピンミキサー（太平洋機工社製）；レーディゲミキサー（マツボー社製）等がある。
【０１１５】
更に、上記で配合し、混合したトナー原料を溶融混練工程にて、溶融混練して、樹脂類を溶融し、その中の着色剤等を分散させる。混練装置の一例としては、ＴＥＭ型押し出し機（東芝機械社製）；ＴＥＸ二軸混練機（日本製鋼所社製）；ＰＣＭ混練機（池貝鉄工所社製）；ニーデックス（三井鉱山社製）等が挙げられるが、連続生産できる等の優位性から、バッチ式練り機よりも、１軸または２軸押出機といった連続式の練り機が好ましい。
【０１１６】
更に、トナー原料を溶融混練することによって得られる着色樹脂組成物は、溶融混練後、２本ロール等で圧延され、水冷等で冷却する冷却工程を経て冷却される。
【０１１７】
上記で得られた着色樹脂組成物の冷却物は、次いで、粉砕工程で所望の粒径にまで粉砕される。粉砕工程では、まず、クラッシャー、ハンマーミル、フェザーミル等で粗粉砕され、更に、上述した本発明の粉砕機で微粉砕される。
【０１１８】
粉砕工程で得られた微粉砕物を、分級工程にて、所望の粒径を有するトナー粒子に分級される。分級機としては、ターボプレックス、ＴＳＰセパレータ、ＴＴＳＰセパレータ（ホソカワミクロン社製）；エルボージェット（日鉄鉱業社製）等がある。
【０１１９】
更に必要に応じて、表面改質工程で表面改質＝球形化処理を行ない、表面改質粒子とすることもできる。表面改質機の一例としては、ハイブリタイゼーションシステム（奈良機械製作所製）；ノビルタ（ホソカワミクロン社製）等がある。
【０１２０】
表面改質後、必要に応じて、粗粒等を篩い分けるために、例えば、ウルトラソニック（晃栄産業社製）；レゾナシーブ、ジャイロシフター（徳寿工作所社）；ターボスクリーナー（ターボ工業社製）；ハイボルター（東洋ハイテック社製）等の篩分機を用いても良い。
【０１２１】
得られたトナー粒子に、必要に応じて無機微粒子等の外添剤を外添することでトナーを得る。トナー粒子に外添剤を外添処理する方法としては、トナー粒子と公知の各種外添剤を所定量配合し、ヘンシェルミキサー、メカノハイブリッド（三井鉱山社製）；スーパーミキサー等の粉体にせん断力を与える高速撹拌機を外添機として用いて、撹拌・混合する。
【０１２２】
尚、本発明者が検討した結果、前述した該粉砕工程の後工程、或いは該分級工程で得られたトナー粒子を表面改質処理することにより、良好な現像性、転写性並びにクリーニング性、及び安定した帯電性を有する、長寿命のトナーを得られること分かった。
【０１２３】
本発明のトナーの製造方法に好適に用いられる回分式の表面改質装置について図１０を用いて説明する。
【０１２４】
図１０に示す回分式の表面改質装置は、円筒形状の本体ケーシング３０、本体ケーシングの上部に開閉可能なよう設置された天板４３；微粉排出ケーシングと微粉排出管とを有する微粉排出部４４；冷却水或いは不凍液を通水できる冷却ジャケット３１を有している。
【０１２５】
更に、図１０に示す回分式の表面改質装置は、表面改質手段としての、本体ケーシング３０内にあって中心回転軸に取り付けられた、上面に角型ディスクである分散ハンマー３３を複数個有し、所定方向に高速に回転する円盤状の回転体である分散ローター３２；分散ローター３２の周囲に一定間隔を保持して固定配置された、分散ローター３２に対向する表面に多数の溝が設けられているライナー３４を有している。
【０１２６】
更に、図１０に示す回分式の表面改質装置は、粉体粒子中の所定粒径以下の微粉を連続的に除去するための分級ローター３５；本体ケーシング３０内に冷風を導入するための冷風導入口４６；粉体粒子（原料）を導入するために本体ケーシング３０の側面に形成された原料投入口３７及び原料供給口３９を有する投入管を有している。
【０１２７】
更に、図１０に示す回分式の表面改質装置は、表面改質処理後のトナー粒子を本体ケーシング３０外に排出するための製品排出口４０及び製品抜取口４２を有する製品排出管；表面改質時間を自在に調整できるように、原料投入口３７と原料供給口３９との間に設置された開閉可能な原料供給弁３８；及び製品排出口４０と製品抜取口４２との間に設置された製品排出弁４１を有している。
【０１２８】
更に、図１０に示す回分式の表面改質装置は、天板４３に対して垂直な軸を有する円筒状の案内手段としてのガイドリング３６を本体ケーシング３０内に有している。このガイドリング３６は、先述した通り、該ガイドリングの上端部分が天板内面と密着しており、分級ローター３６がその円筒に覆われた状態で設置されている。
【０１２９】
また、ガイドリング３６の下端は分散ローター３２の円盤部または角形ディスクである分散ハンマー３３から所定距離離間して設けられる。このガイドリング３６によって装置内において分級ローター３５と分散ローター３２−ライナー３４との間の空間が、ガイドリング外側の第一の空間４７と、ガイドリング内側の第二の空間４８とに二分される。
【０１３０】
ここで、第一の空間４７は粉体粒子を分級ローター３５へ導入するための空間であり、第二の空間は粉体粒子を分散ローターに導入するための空間である。
【０１３１】
分散ローター３２上に複数個設置された角型のディスクである分散ハンマー３３と、ライナー３４との間隙部分が表面改質ゾーン４９であり、分級ローター３５及び該ローター周辺部分が分級ゾーン５０である。
【０１３２】
以上のように構成してなる回分式の表面改質装置では、製品排出弁３９を閉とした状態で、原料供給弁３８を開とし、原料投入口３７から被表面改質粒子を投入し、一定時間経過後原料供給弁３８を閉とする。
【０１３３】
原料供給口３９より装置内に投入された粉体粒子は、まずブロワ３６４により吸引され、分級ローター３５で分級される。その際、分級された所定粒径以下の微粉は、微粉排出ケーシング４４、微粉排出口４５を通り装置外へ連続的に排出除去される。
【０１３４】
所定粒径以上の粉体粒子は遠心力によりガイドリング３６の内周（第二の空間４８）に沿い、旋回しながら、分散ローター３２により発生する循環流にのり表面改質ゾーン４９へ導かれる。
【０１３５】
表面改質ゾーン４９に導かれた粉体粒子は、分散ローター３２上に複数個設置された角型のディスクである分散ハンマー３３と、ライナー３４との間で機械式衝撃力を受け、表面改質される。
【０１３６】
表面改質された粉体粒子は、機内を通過する冷風及びブロワ吸引流にのって、ガイドリング３６の外周（第一の空間４７）に沿い、旋回しながら分級ゾーン５０に導かれ、分級ローター３５により、再度微粉は微粉排出ケーシング４４、微粉排出口４５を通り機外へ排出され、粗粉体は、循環流にのり、再度表面改質ゾーン４９に戻され、繰り返し表面改質作用を受ける。
【０１３７】
一定時間経過後、製品排出弁４１を開とし、製品抜取口４２より表面改質粒子を回収する。
【０１３８】
尚、該回分式の表面改質装置で発生した微粉体は、サイクロン、バグ等の捕集機器により回収し、トナー原料の配合工程に戻して再利用することがトナー生産性上好ましい。
【０１３９】
以上説明したように、本発明の粉砕機でトナー粒子を微粉砕し、得られた微粉砕物を図１０に示す回分式の表面改質機で表面改質処理することにより、良好な現像性、転写性並びにクリーニング性、及び安定した帯電性を有する、長寿命のトナーを得ることができる。
【０１４０】
次に、本発明においてその目的を達成するに好ましいトナーの構成を以下に詳述する。
【０１４１】
本発明に用いられる結着樹脂としては、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。中でもビニル系樹脂とポリエステル系樹脂が帯電性や定着性でより好ましい。特にポリエステル系樹脂を用いた場合には本装置の導入による効果は大きい。
【０１４２】
本発明において、ビニル系モノマーの単重合体または共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ロジン、変性ロジン、テルペン樹脂、フェノール樹脂、脂肪族または脂環族炭化水素樹脂、芳香族系石油樹脂等を、必要に応じて前述した結着樹脂に混合して用いることができる。
【０１４３】
２種以上の樹脂を混合して、結着樹脂として用いる場合、より好ましい形態としては分子量の異なるものを適当な割合で混合するのが好ましい。
【０１４４】
結着樹脂のガラス転移温度は好ましくは４５〜８０℃、より好ましくは５５〜７０℃であり、数平均分子量（Ｍｎ）は２，５００〜５０，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１０，０００〜１，０００，０００であることが好ましい。
【０１４５】
結着樹脂としては以下に示すポリエステル樹脂も好ましい。ポリエステル樹脂は、全成分中４５〜５５ｍｏｌ％がアルコール成分であり、５５〜４５ｍｏｌ％が酸成分である。
【０１４６】
ポリエステル樹脂の酸価は好ましくは９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、ＯＨ価は好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが良い。これは、分子鎖の末端基数が増えるとトナーの帯電特性において環境依存性が大きくなる為である。
【０１４７】
ポリエステル樹脂のガラス転移温度は好ましくは５０〜７５℃、より好ましくは５５〜６５℃であることが良い。さらに数平均分子量（Ｍｎ）は好ましくは１，５００〜５０，０００、より好ましくは２，０００〜２０，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は好ましくは６，０００〜１００，０００、より好ましくは１０，０００〜９０，０００であることが良い。
【０１４８】
本発明のトナーを磁性トナーとして用いる場合、磁性トナーに含まれる磁性材料としては、マグネタイト、マグヘマイト、フェライトの如き酸化鉄、及び他の金属酸化物を含む酸化鉄；Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉのような金属、あるいは、これらの金属とＡｌ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｍｇ，Ｎｉ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｓｂ，Ｂｅ，Ｂｉ，Ｃｄ，Ｃａ，Ｍｎ，Ｓｅ，Ｔｉ，Ｗ，Ｖのような金属との合金、およびこれらの混合物等が挙げられる。
【０１４９】
具体的には、磁性材料としては、四三酸化鉄（Ｆｅ3Ｏ4）、三二酸化鉄（γ−Ｆｅ2Ｏ3）、酸化鉄亜鉛（ＺｎＦｅ2Ｏ4）、酸化鉄イットリウム（Ｙ3Ｆｅ5Ｏ12）、酸化鉄カドミウム（ＣｄＦｅ2Ｏ4）、酸化鉄ガドリニウム（Ｇｄ3Ｆｅ5Ｏ12）、酸化鉄銅（ＣｕＦｅ2Ｏ4）、酸化鉄鉛（ＰｂＦｅ12Ｏ19）、酸化鉄ニッケル（ＮｉＦｅ2Ｏ4）、酸化鉄ネオジム（ＮｄＦｅ2Ｏ3）、酸化鉄バリウム（ＢａＦｅ12Ｏ19）、酸化鉄マグネシウム（ＭｇＦｅ2Ｏ4）、酸化鉄マンガン（ＭｎＦｅ2Ｏ4）、酸化鉄ランタン（ＬａＦｅＯ3）、鉄粉（Ｆｅ）、コバルト粉（Ｃｏ）、ニッケル粉（Ｎｉ）等が挙げられる。
【０１５０】
上述した磁性材料を単独で或いは２種以上の組合せて使用する。特に好適な磁性材料は、四三酸化鉄またはγ−三二酸化鉄の微粉末である。
【０１５１】
これらは結着樹脂１００質量部に対して、磁性体２０〜１５０質量部、好ましくは５０〜１３０質量部、更に好ましくは６０〜１２０質量部使用するのが良い。
【０１５２】
本発明のトナーに使用できる非磁性の着色剤としては、任意の適当な顔料または染料が挙げられる。
【０１５３】
例えば顔料として、カーボンブラック、アニリンブラック、アセチレンブラック、ナフトールイエロー、ハンザイエロー、ローダミンレーキ、アリザリンレーキ、ベンガラ、フタロシアニンブルー、インダンスレンブルー等がある。
【０１５４】
これらは結着樹脂１００質量部に対し０．１〜２０質量部、好ましくは１〜１０質量部の添加量が良い。また、同様に染料が用いられ、例えば、アントラキノン系染料、キサンテン系染料、メチン系染料があり、結着樹脂１００質量部に対し０．１〜２０質量部、好ましくは０．３〜１０質量部の添加量が良い。
【０１５５】
本発明のトナーは、その帯電性をさらに安定化させる為に必要に応じて荷電制御剤を用いることができる。荷電制御剤は、結着樹脂１００質量部当り０．５〜１０質量部使用するのが好ましい。
【０１５６】
０．５質量部未満となる場合には、十分な帯電特性が得られない場合があり好ましくなく、１０質量部を超える場合には、他材料との相溶性が悪化したり、低湿下において帯電過剰になったりする場合があり好ましくない。
【０１５７】
荷電制御剤としては、以下のものが挙げられる。
【０１５８】
トナーを負荷電性に制御する負荷電性制御剤として、例えば有機金属錯体またはキレート化合物が有効である。モノアゾ金属錯体、芳香族ヒドロキシカルボン酸の金属錯体、芳香族ジカルボン酸系の金属錯体が挙げられる。他には、芳香族ハイドロキシカルボン酸、芳香族モノ及びポリカルボン酸及びその金属塩、その無水物、またはそのエステル類、または、ビスフェノールのフェノール誘導体類が挙げられる。
【０１５９】
トナーを正荷電性に制御する正荷電性制御剤としては、ニグロシン及び脂肪酸金属塩等による変性物、トリブチルベンジルアンモニウム−１−ヒドロキシ−４−ナフトスルホン酸塩、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート等の４級アンモニウム塩、及びこれらの類似体であるホスホニウム塩等のオニウム塩及びこれらのキレート顔料として、トリフェニルメタン染料及びこれらのレーキ顔料（レーキ化剤としては、燐タングステン酸、燐モリブデン酸、燐タングステンモリブデン酸、タンニン酸、ラウリン酸、没食子酸、フェリシアン酸、フェロシアン化合物等）、高級脂肪酸の金属塩として、ジブチルスズオキサイド、ジオクチルスズオキサイド、ジシクロヘキシルスズオキシド等のジオルガノスズオキサイドやジブチルスズボレート、ジオクチルスズボレート、ジシクロヘキシルスズボレート等のジオルガノスズボレートが挙げられる。
【０１６０】
本発明において、必要に応じて一種または二種以上の離型剤を、トナー粒子中に含有させてもかまわない。離型剤としては次のものが挙げられる。
【０１６１】
即ち、低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックスなどの脂肪族炭化水素系ワックス、また、酸化ポリエチレンワックスなどの脂肪族炭化水素系ワックスの酸化物、または、それらのブロック共重合物；
カルナバワックス、サゾールワックス、モンタン酸エステルワックスなどの脂肪酸エステルを主成分とするワックス類；及び脱酸カルナバワックスなどの脂肪酸エステル類を一部または全部を脱酸化したものなどが挙げられる。
【０１６２】
更に、パルミチン酸、ステアリン酸、モンタン酸などの飽和直鎖脂肪酸類；ブラシジン酸、エレオステアリン酸、バリナリン酸などの不飽和脂肪酸類；
ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールなどの飽和アルコール類；長鎖アルキルアルコール類；ソルビトールなどの多価アルコール類；
リノール酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミドなどの脂肪酸アミド類；メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミドなどの飽和脂肪酸ビスアミド類；
エチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジオレイルアジピン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジオレイルセバシン酸アミドなどの不飽和脂肪酸アミド類；ｍ−キシレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジステアリルイソフタル酸アミドなどの芳香族系ビスアミド類；
ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどの脂肪酸金属塩（一般に金属石けんといわれているもの）、また、脂肪族炭化水素系ワックスにスチレンやアクリル酸などのビニル系モノマーを用いてグラフト化させたワックス類；
また、ベヘニン酸モノグリセリドなどの脂肪酸と多価アルコールの部分エステル化物、また、植物性油脂の水素添加などによって得られるヒドロキシル基を有するメチルエステル化合物などが挙げられる。
【０１６３】
離型剤の量は、結着樹脂１００質量部あたり０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部が好ましい。
【０１６４】
また本発明においては、該離型剤の示差走査型熱量計（ＤＳＣ）で測定される昇温時の最大吸熱ピーク温度で規定される融点は、６０乃至１３０℃（より好ましくは８０乃至１２５℃）であることが好ましい。融点が６０℃未満の場合は、トナーの粘度が低下し、感光体へのトナー付着が発生しやすくなり、融点が１３０℃超の場合は、低温定着性が悪化してしまう場合があり好ましくない。
【０１６５】
本発明のトナーには、トナー粒子に外添することにより、流動性が添加前後を比較すると増加し得る微粉体を流動性向上剤として用いてもかまわない。
【０１６６】
例えば、フッ化ビニリデン微粉末、ポリテトラフルオロエチレン微粉末の如きフッ素系樹脂粉末；湿式製法シリカ、乾式製法シリカの如き微粉末シリカ、微粉末酸化チタン、微粉末アルミナ等をシランカップリング剤、チタンカップリング剤、シリコーンオイルにより表面処理を施し、疎水化処理したものである。メタノール滴定試験によって測定された疎水化度が３０〜８０の範囲の値を示すように処理したものが特に好ましい。
【０１６７】
流動化剤は、ＢＥＴ法で測定した窒素吸着による比表面積が３０ｍ2／ｇ以上、好ましくは５０ｍ2／ｇ以上のものが良好な結果を与える。
【０１６８】
本発明のトナーには、研摩効果に加え、帯電性付与性及び流動性付与、クリーニング助剤として、上述以外の無機微粉体を添加しても良い。無機微粉体は、トナー粒子に外添することにより、添加前後を比較するとより効果が増加し得るものである。
【０１６９】
本発明に用いられる無機微粉体としては、マグネシウム、亜鉛、コバルト、マンガン、ストロンチウム、セリウム、カルシウム、バリウム等のチタン酸塩及び／またはケイ酸塩が挙げられる。
【０１７０】
本発明における無機微粒子は、トナー１００質量部に対して、０．１〜１０質量部、好ましくは０．２〜８質量部用いるのが良い。
【０１７１】
次に、以下の実施例中で測定した各種物性データの測定方法に関して以下に説明する。
【０１７２】
＜重量平均粒径（Ｄ４）、個数平均粒径（Ｄ１）の測定方法＞
トナーの重量平均粒径（Ｄ４）および個数平均粒径（Ｄ１）は、１００μｍのアパーチャーチューブを備えた細孔電気抵抗法による精密粒度分布測定装置「コールター・カウンター  Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ  ３」（登録商標、ベックマン・コールター社製）と、測定条件設定及び測定データ解析をするための付属の専用ソフト「ベックマン・コールター  Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ  ３  Ｖｅｒｓｉｏｎ３．５１」（ベックマン・コールター社製）を用いて、実効測定チャンネル数２万５千チャンネルで測定し、測定データの解析を行ない、算出した。
【０１７３】
測定に使用する電解水溶液は、特級塩化ナトリウムをイオン交換水に溶解して濃度が約１質量％となるようにしたもの、例えば、「ＩＳＯＴＯＮ  ＩＩ」（ベックマン・コールター社製）が使用できる。
【０１７４】
尚、測定、解析を行う前に、以下のように専用ソフトの設定を行った。
【０１７５】
専用ソフトの「標準測定方法（ＳＯＭ）を変更画面」において、コントロールモードの総カウント数を５００００粒子に設定し、測定回数を１回、Ｋｄ値は「標準粒子１０．０μｍ」（ベックマン・コールター社製）を用いて得られた値を設定する。閾値／ノイズレベルの測定ボタンを押すことで、閾値とノイズレベルを自動設定する。また、カレントを１６００μＡに、ゲインを２に、電解液をＩＳＯＴＯＮ  ＩＩに設定し、測定後のアパーチャーチューブのフラッシュにチェックを入れる。
【０１７６】
専用ソフトの「パルスから粒径への変換設定画面」において、ビン間隔を対数粒径に、粒径ビンを２５６粒径ビンに、粒径範囲を２μｍから６０μｍまでに設定する。
【０１７７】
具体的な測定法は以下の通りである。
【０１７８】
（１）Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ  ３専用のガラス製２５０ｍｌ丸底ビーカーに前記電解水溶液約２００ｍｌを入れ、サンプルスタンドにセットし、スターラーロッドの撹拌を反時計回りで２４回転／秒にて行う。そして、解析ソフトの「アパーチャーのフラッシュ」機能により、アパーチャーチューブ内の汚れと気泡を除去しておく。
【０１７９】
（２）ガラス製の１００ｍｌ平底ビーカーに前記電解水溶液約３０ｍｌを入れ、この中に分散剤として「コンタミノンＮ」（非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるｐＨ７の精密測定器洗浄用中性洗剤の１０質量％水溶液、和光純薬工業社製）をイオン交換水で３質量倍に希釈した希釈液を約０．３ｍｌ加える。
【０１８０】
（３）発振周波数５０ｋＨｚの発振器２個の位相を１８０度ずらした状態で内蔵し、電気的出力１２０Ｗの超音波分散器「Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  Ｄｉｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｔｅｔｏｒａ１５０」（日科機バイオス社製）の水槽内に所定量のイオン交換水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンＮを約２ｍｌ添加する。
【０１８１】
（４）前記（２）のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
【０１８２】
（５）前記（４）のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー約１０ｍｇを少量ずつ前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに６０秒間超音波分散処理を継続する。尚、超音波分散にあたっては、水槽の水温が１０℃以上４０℃以下となる様に適宜調節する。
【０１８３】
（６）サンプルスタンド内に設置した前記（１）の丸底ビーカーに、ピペットを用いてトナーを分散した前記（５）の電解質水溶液を滴下し、測定濃度が約５％となるように調整する。そして、測定粒子数が５００００個になるまで測定を行なう。
【０１８４】
（７）測定データを装置付属の前記専用ソフトにて解析を行ない、重量平均粒径（Ｄ４）および個数平均粒径（Ｄ１）を算出する。尚、専用ソフトでグラフ／体積％と設定したときの、分析／体積統計値（算術平均）画面の「平均径」が重量平均粒径（Ｄ４）であり、専用ソフトでグラフ／個数％と設定したときの、分析／個数統計値（算術平均）画面の「平均径」が個数平均粒径（Ｄ１）である。
【０１８５】
＜微粉量の算出方法＞
トナー中の個数基準の微粉量（個数％）は、以下のようにして算出する。
【０１８６】
例えば、トナー中における４．０μｍ以下の粒子の個数％は、前記のＭｕｌｔｉｓｉｚｅｒ  ３の測定を行った後、
（１）専用ソフトでグラフ／個数％に設定して測定結果のチャートを個数％表示とし、
（２）書式／粒径／粒径統計画面における粒径設定部分の「＜」にチェック、その下の粒径入力部に「４」を入力する。そして、
（３）分析／個数統計値（算術平均）画面を表示したときの「＜４μｍ」表示部の数値が、トナー中における４．０μｍ以下の粒子の個数％である。
【０１８７】
＜粗粉量の算出方法＞
トナー中の体積基準の粗粉量（体積％）は、以下のようにして算出する。
【０１８８】
例えば、トナー中における１０．０μｍ以上の粒子の体積％は、前記のＭｕｌｔｉｓｉｚｅｒ  ３の測定を行った後、
（１）専用ソフトでグラフ／体積％に設定して測定結果のチャートを体積％表示とし、
（２）書式／粒径／粒径統計画面における粒径設定部分の「＞」にチェック、その下の粒径入力部に「１０」を入力する。そして、
（３）分析／体積統計値（算術平均）画面を表示したときの「＞１０μｍ」表示部の数値が、トナー中における１０．０μｍ以上の粒子の体積％である。
【０１８９】
＜ワックスの融点測定＞
示差熱分析測定装置（ＤＳＣ測定装置），ＤＳＣ−７（パーキンエルマー社製）を用い測定する。測定はＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−８２に準じて行う。測定試料２〜１０ｍｇを精秤してアルミパン中に入れ、リファレンスとして空のアルミパンを用い、測定温度範囲３０〜２００℃の間で、昇温速度１０℃／ｍｉｎで常温常湿下で測定を行う。
【０１９０】
この昇温過程で、温度３０〜２００℃の範囲におけるメインピークの吸熱ピークが得られる。この吸熱メインピークの温度をもってワックスの融点とする。
【０１９１】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定＞
示差走査熱量計（ＤＳＣ測定装置），ＤＳＣ−７（パーキンエルマー社製）を用いてＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−８２に準じて測定する。
【０１９２】
測定試料は５〜２０ｍｇ、好ましくは１０ｍｇを精密に秤量する。
【０１９３】
これをアルミパン中に入れ、リファレンスとして空のアルミパンを用い、測定温度範囲３０〜２００℃の間で、昇温速度１０℃／ｍｉｎで常温常湿下で測定を行う。
【０１９４】
この昇温過程で、温度４０〜１００℃の範囲におけるメインピークの吸熱ピークが得られる。
【０１９５】
このときの吸熱ピークが出る前と出た後のベースラインの中間点の線と示差熱曲線との交点を本発明におけるガラス転移温度Ｔｇとする。
【０１９６】
＜結着樹脂及の分子量分布の測定＞
ＧＰＣによるクロマトグラムの分子量は次の条件で測定される。
【０１９７】
４０℃のヒートチャンバー中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を毎分１ｍｌの流速で流す。試料をＴＨＦに溶解後０．２μｍフィルターで濾過し、その濾液を試料として用いる。試料濃度として０．０５〜０．６質量％に調整した樹脂のＴＨＦ試料溶液を５０〜２００μｌ注入して測定する。
【０１９８】
試料の分子量測定にあたっては、試料の有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作製された検量線の対数値とカウント数との関係から算出する。
【０１９９】
検量線作成用の標準ポリスチレン試料としては、例えば、Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．製あるいは、東洋ソーダ工業社製の分子量が６×１０2，２．１×１０3，４×１０3，１．７５×１０4，５．１×１０4，１．１×１０5，３．９×１０5，８．６×１０5，２×１０6，４．４８×１０6のものを用い、少なくとも１０点程度の標準ポリスチレン試料を用いるのが適当である。検出器にはＲＩ（屈折率）検出器を用いる。
【０２００】
カラムとしては、１０3〜２×１０6の分子量領域を適確に測定するために、市販のポリスチレンゲルカラムを複数組合せるのが良い。例えば、Ｗａｔｅｒｓ社製のμ−ｓｔｙｒａｇｅｌ  ５００，１０3，１０4，１０5の組合せや、昭和電工社製のｓｈｏｄｅｘ  ＫＡ−８０１，８０２，８０３，８０４，８０５，８０６，８０７の組合せが好ましい。
【０２０１】
＜樹脂の酸価の測定＞
結着樹脂の「酸価」は以下のように求められる。基本操作は、ＪＩＳ−Ｋ００７０に準ずる。
【０２０２】
試料１ｇ中に含有されている遊離脂肪酸、樹脂酸などを中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数を酸価といい、次によって試験を行う。
【０２０３】
（１）試薬
（ａ）溶剤エチルエーテル−エチルアルコール混液（１＋１または２＋１）またはベンゼン−エチルアルコール混液（１＋１または２＋１）で、これらの溶液は使用直前にフェノールフタレインを指示薬としてＮ／１０水酸化カリウムエチルアルコール溶液で中和しておく。
（ｂ）フェノールフタレイン溶液  フェノールフタレイン１ｇをエチルアルコール（９５ｖ／ｖ％）１００ｍｌに溶かす。
（ｃ）Ｎ／１０水酸化カリウム−エチルアルコール溶液  水酸化カリウム７．０ｇをできるだけ少量の水に溶かしエチルアルコール（９５ｖ／ｖ％）を加えて１リットルとし、２〜３日放置後ろ過する。標定はＪＩＳ  Ｋ  ８００６（試薬の含量試験中滴定に関する基本事項）に準じて行う。
【０２０４】
（２）操作  試料１〜２０ｇを正しくはかりとり、これに溶剤１００ｍｌおよび指示薬としてフェノールフタレイン溶液数滴を加え、試料が完全に溶けるまで十分に振る。固体試料の場合は水浴上で加温して溶かす。冷却後これをＮ／１０水酸化カリウムエチルアルコール溶液で滴定し、指示薬の微紅色が３０秒間続いたときを中和の終点とする。
【０２０５】
（３）計算式  つぎの式によって酸価を算出する。
【０２０６】
【数１】
2009262003.tif 000003
［Ａ：酸価
Ｂ：Ｎ／１０水酸化カリウムエチルアルコール溶液の使用量（ｍｌ）
ｆ：Ｎ／１０水酸化カリウムエチルアルコール溶液のファクター
Ｓ：試料（ｇ）］
【０２０７】
＜結着樹脂の水酸基価の測定＞
結着樹脂の「水酸基価」は以下のように求められる。基本操作は、ＪＩＳ＝Ｋ００７０に準ずる。
【０２０８】
試料１ｇを規定の方法によってアセチル化するとき水酸基と結合した酢酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数を水酸基価といい、つぎの試薬、操作および計算式によって試験を行う。
【０２０９】
（１）試薬
（ａ）アセチル化試薬  無水酢酸２５ｇをメスフラスコ１００ｍｌに入れ、ピリジンを加えて全量を１００ｍｌにし、十分に振りまぜる（場合によっては、ピリジンを追加しても良い）。アセチル化試薬は、湿気、炭酸ガスおよび酸の蒸気に触れないようにし、褐色びんに保存する。
（ｂ）フェノールフタレイン溶液  フェノールフタレイン１ｇをエチルアルコール（９５ｖ／ｖ％）１００ｍｌに溶かす。
（ｃ）Ｎ／２水酸化カリウム−エチルアルコール溶液  水酸化カリウム３５ｇをできるだけ少量の水に溶かし、エチルアルコール（９５ｖ／ｖ％）を加えて１リットルとし、２〜３日間放置後ろ過する。標定はＪＩＳ  Ｋ  ８００６によって行う。
【０２１０】
（２）操作
試料０．５〜２．０ｇを丸底フラスコに正しくはかりとり、これにアセチル化試薬５ｍｌを正しく加える。フラスコの口に小さな漏斗をかけ、９５〜１００℃のグリセリン浴中に底部約１ｃｍを浸して加熱する。このときフラスコの首が浴の熱をうけて温度が上がるのを防ぐために、中に丸い穴をあけた厚紙の円盤をフラスコの首の付根にかぶせる。
【０２１１】
１時間後フラスコを浴から取り出し、放冷後漏斗から水１ｍｌを加えて振り動かして無水酢酸を分解する。さらに分解を完全にするため、再びフラスコをグリセリン浴中で１０分間加熱し、放冷後エチルアルコール５ｍｌで漏斗およびフラスコの壁を洗い、フェノールフタレイン溶液を指示薬としてＮ／２水酸化カリウムエチルアルコール溶液で滴定する。
【０２１２】
尚、本試験と並行して空試験を行う。場合によっては、指示薬としてＫＯＨ−ＴＨＦ溶液にしても構わない。
【０２１３】
（３）計算式  つぎの式によって水酸基価を算出する。
【０２１４】
【数２】
2009262003.tif 000004
［Ａ：水酸基価
Ｂ：空試験のＮ／２水酸化カリウムエチルアルコール溶液の使用量（ｍｌ）
Ｃ：本試験のＮ／２水酸化カリウムエチルアルコール溶液の使用量（ｍｌ）
ｆ：Ｎ／２水酸化カリウムエチルアルコール溶液のファクター
Ｓ：試料（ｇ）
Ｄ：酸価］
【０２１５】
＜磁性酸化鉄粒子の分析方法＞
（ａ）平均粒子径
走査型電子顕微鏡（３００００倍）の写真を撮影し、フェレ径にて算出した。
（ｂ）磁気特性
東英工業製振動試料型磁力計ＶＳＭ−Ｐ７を使用して、外部磁場７９６ｋＡ／ｍにて測定した。
【実施例】
【０２１６】
次に、本発明の実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
【０２１７】
［実施例１］
・ハイブリッド樹脂：１００質量部
（スチレン、２−エチルヘキシルアクリレート、α−メチルスチレン、ポリオキシプロピレン（２．２）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ポリオキシエチレン（２．２）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、コハク酸、無水トリメリット酸、フマル酸からなるハイブリッド樹脂  重量平均分子量（Ｍｗ）８１３００、数平均分子量（Ｍｎ）３０００、ピーク分子量（Ｍｐ）１５４００、Ｔｇ６０℃）
・銅フタロシアニン顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメンブルー１５：３）：４質量部
・パラフィンワックス（最大吸熱ピーク６７℃）：５質量部
・荷電制御剤（１，４−ジ−ｔ−ブチルサリチル酸アルムニウム化合物）：１質量部
上記の処方の材料を、ヘンシェルミキサーでよく混合した後、温度１３０℃に設定した２軸混練機にて混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて２ｍｍ以下に粗粉砕し、粗粉砕物を得た。
【０２１８】
得られた粗粉砕物を本実施例においては、図１に示す粉砕機を用いて粉砕を行い、下記の条件で粉砕を行った。
【０２１９】
本実施例では、図４（ａ）に示す粉砕機において、該回転子３１４の外径及び全長、ディスク３２２段数、該回転子３１４及び固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離を、夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●回転子３１４外径：７５０ｍｍ，全長：４４０ｍｍ，ディスク３２２段数：２段
●固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離Ｌａ：ＳＬａ
●回転子３１４、１段目の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＬＲａ
●回転子３１４、２段目の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＳＲａ
●従って、ＬＲａ／ＳＬａ＝１．０
【０２２０】
更に、回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、該冷媒流路を夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●冷媒流路形状：冷却孔，冷却孔断面積Ｄ：７９ｍｍ2，冷却孔配列：等間隔・一列
●              冷却流路本数  ７５本
●系統数：２系統（ディスク３２２の段数合せ）
●回転子３１４中心点Ｐから、回転子３１４表面凹部底面ｒまでの距離であるＤｐｒ：３７３ｍｍ
●回転子３１４中心点Ｐから、冷媒流路Ｎの最外殻ｑまでの距離であるＤｐｑ：３５７ｍｍ
●従って、Ｄｐｒ−Ｄｐｑ＝１６ｍｍ
【０２２１】
また粉砕条件を以下のように設定した。
●冷風温度：−１５℃，吸引ブロワ２２４流量：２４ｍ3／ｍｉｎ
●定量供給機３１５からの被粉砕物の供給量：２５０ｋｇ／ｈｒ
●回転子３１４と固定子３１０の間隙：１．０ｍｍ
●冷媒温度及び図９に示す冷媒流路に通す冷媒温度：−１０℃
●ジャケット３１６に通す冷媒流量及び冷媒流路に通す冷媒流量：１０ｌ／ｍｉｎ
【０２２２】
上述した粉砕機構成及び粉砕条件で被粉砕物を粉砕し、以下の項目で粉砕機の粉砕状態を評価した。
【０２２３】
尚、上述した冷風温度とは、図１に示す粉体投入口３１１の口内温度を示し、粉砕室内温度とは、同じく図１に示す粉体排出口３０２の口内温度を示す。
【０２２４】
（評価−１：本体振動値評価）
回転子３１４の回転周速１０ｍ／ｓｅｃにおける振動値（Ｓ−０）を測定する。次に回転周速２５ｍ／ｓｅｃ、５０ｍ／ｓｅｃ、１００ｍ／ｓｅｃ、１２５ｍ／ｓｅｃ、１５０ｍ／ｓｅｃにおける各振動値（Ｓ−１）を測定する。各回転周速におけるＳ−１とＳ−０との振動差を確認し、以下の基準で評価した。
Ａ：２５μｍ未満
Ｂ：２５μｍ以上、５０μｍ未満
Ｃ：５０μｍ以上、７５μｍ未満
Ｄ：７５μｍ以上、１００μｍ未満
Ｅ：１００μｍ以上
【０２２５】
尚、振動測定は、ＩＭＶ社製ポータバイブロ（型式ＶＭ−３００４ＳＩ）を用いて行った。結果を表２に示すが、本実施例における振動差の評価はＡであった。
【０２２６】
（評価−２：粉砕室内温度評価）
粉砕物の所望の重量平均径を５．５±０．２μｍとし、該粒径が得られる回転周速を確認する。その際、被粉砕物の投入を停止した状態での粉砕室内温度（Ｔ−ＯＦＦ）を確認する。
【０２２７】
その後６０分間のロングラン運転を行い、安定した状態での粉砕室内温度（Ｔ−ＯＮ）を確認する。Ｔ−ＯＮとＴ−ＯＦＦの温度差を確認し、以下の基準で評価した。
Ａ：１５℃未満
Ｂ：１５℃以上、２０℃未満
Ｃ：２０℃以上、２５℃未満
Ｄ：２５℃以上、３０℃未満
Ｅ：３０℃以上
【０２２８】
結果を表２に示すが、本実施例においては回転子３１４の回転周速を１３０ｍ／ｓｅｃで、重量平均径が５．５μｍのトナー粒子を得られ、（Ｔ−ＯＦＦ）が２０℃、（Ｔ−ＯＮ）が３４℃となり、温度差の評価はＡであった。
【０２２９】
得られた微粉砕を、図１０に示す回分式の表面改質装置で表面改質した。得られた表面改質粒子の粒度分布及び円形度（ＦＰＩＡ２１００測定、円相当径２μｍ以上４００μｍ以下における）を測定した結果、重量平均粒径が５．８μｍであり、粒径４．００μｍ以下の粒子が３０個数％であり、円形度は０．９４８であった。
【０２３０】
次に、得られた表面改質粒子１００質量部に対して、ＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ２／ｇである疎水性シリカを１．８質量部外添混合し、トナーを得た。このトナー５質量部に対し、アクリルコートされたフェライトキャリア９５質量部を混合し、現像剤とした。
【０２３１】
この現像剤を用いて、キヤノン製フルカラー複写機ＣＬＣ１０００改造機（定着ユニットのオイル塗布機構を取り外した）を用いて常温常湿（２３℃，６０％ＲＨ）下で、画出し評価を行った。
【０２３２】
（評価−３：転写性評価）
転写性は、４万枚耐久前後の画像を現像，転写し、感光体上の転写前のトナー量（単位面積あたり）と、転写材上のトナー量（単位面積あたり）をそれぞれ測定し、下式により求めた。評価基準は次の通りである。
転写率（％）＝（転写材上のトナー量）／（感光体上の転写前のトナー量）×１００
Ａ：９０％以上
Ｂ：８８％以上、９０％未満
Ｃ：８６％以上、８８％未満
Ｄ：８５％以下
【０２３３】
（評価−４：カブリ評価）
カブリは白地部分の白色度をリフレクトメーター（東京電色社製）により測定し、その白色度と転写紙の白色度の差からカブリ濃度（％）を算出し、評価した。評価基準は次の通りである。
Ａ：非常に良好（０．５％未満）
Ｂ：良好（０．５％〜１．５％）
Ｃ：普通（１．５％〜２．５％）
Ｄ：やや悪い（２．５％〜３．５％）
Ｅ：悪い（３．５％以上）
【０２３４】
（評価−５：ドット再現性評価）
ドット再現性は、潜像電界によって電界が閉じ易く、再現しにくい小径（４０μｍ）の孤立ドットパターンの画像をプリントアウトし、ドット１００個に対するドット再現性を評価した。
Ａ：非常に良好  １００個中の欠損が２個以下
Ｂ：良好        １００個中の欠損が３〜５個
Ｃ：実用可      １００個中の欠損が６〜１０個
Ｄ：実用不可    １００個中の欠損が１１個以上
【０２３５】
結果を表２に示す。評価の結果、本実施例における現像剤は、４万枚後の画像形成においても非常に良好な転写性を示し、カブリを生じなかった。また、ドット再現性も良好であった。
【０２３６】
［実施例２］
実施例１で得られた粗粉砕物を本実施例においては、回転子に冷媒を通さず、冷風温度を−２５℃と変更した以外は実施例１同様に評価した。結果を表−２に示す。
【０２３７】
［実施例３，４，５，６］
実施例１で得られた粗粉砕物を本実施例においては、回転子を表−１の構成に変更した以外は実施例１同様に評価した。結果を表−２に示す。。
【０２３８】
［実施例７］
・ポリエステル樹脂：１００質量部
（Ｔｇ５８℃、酸化２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２３ｍｇＫＯＨ／ｇ、分子量：Ｍｐ６０００、Ｍｎ３０００、Ｍｗ５５２００）
・銅フタロシアニン顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメンブルー１５：３）：４質量部
・パラフィンワックス（最大吸熱ピーク６７℃）：５質量部
・荷電制御剤（１，４−ジ−ｔ−ブチルサリチル酸アルムニウム化合物）：１質量部
上記の処方の材料を、ヘンシェルミキサーでよく混合した後、温度１３０℃に設定した２軸混練機にて混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて２ｍｍ以下に粗粉砕し、粗粉砕物を得た。
【０２３９】
得られた粗粉砕物を本実施例においては、図１に示す粉砕機を用いて粉砕を行い、下記の条件で粉砕を行った。
【０２４０】
本実施例では、図４（ｃ）に示す粉砕機において、該回転子３１４の外径及び全長、ディスク３２２段数、該回転子３１４及び固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離を、夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●回転子３１４外径：７５０ｍｍ，全長：４４０ｍｍ，ディスク３２２段数：４段
●固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離Ｌａ：ＳＬａ
●回転子３１４、１段目の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＬＲａ
●回転子３１４、２段目〜４段目の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＳＲａ
●従って、ＬＲａ／ＳＬａ＝０．３
【０２４１】
更に、回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、該冷媒流路を夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●冷媒流路形状：冷却孔，冷却孔断面積Ｄ：７９ｍｍ2，冷却孔配列：等間隔・一列
●              冷却流路本数  ７５本
●系統数：４系統（ディスク３２２の段数合せ）
●回転子３１４中心点Ｐから、回転子３１４表面凹部底面ｒまでの距離であるＤｐｒ：３７３ｍｍ
●回転子３１４中心点Ｐから、冷媒流路Ｎの最外殻ｑまでの距離であるＤｐｑ：３５７ｍｍ
●従って、Ｄｐｒ−Ｄｐｑ＝１６ｍｍ
【０２４２】
尚、粉砕条件は実施例１と同様とした。
【０２４３】
結果を表２に示すが、本実施例においては回転子３１４の回転周速を１３８ｍ／ｓｅｃで、重量平均径が５．５μｍのトナー粒子を得られ、（Ｔ−ＯＦＦ）が２１℃、（Ｔ−ＯＮ）が３８℃となり、温度差の評価はＢであった。
【０２４４】
上述した粉砕機構成及び粉砕条件で被粉砕物を粉砕し、実施例１と同様に粉砕機の粉砕状態を評価した。結果を表２に示す。
【０２４５】
次に、得られた微粉砕を、図１０に示す回分式の表面改質装置で表面改質し、得られた表面改質粒子１００質量部に対して、ＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ2／ｇである疎水性シリカを１．８質量部外添混合し、トナーを得た。このトナー５質量部に対し、アクリルコートされたフェライトキャリア９５質量部を混合し、現像剤とした。
【０２４６】
この現像剤を用いて、キヤノン製フルカラー複写機ＣＬＣ１０００改造機（定着ユニットのオイル塗布機構を取り外した）を用いて、実施例１と同様に画出し評価を行った。結果を表２に示す。
【０２４７】
［実施例８］
・結着樹脂：１００質量部
（スチレン−アクリル酸ブチル−マレイン酸ブチルハーフエステル共重合体）
（Ｔｇ６２℃、分子量：Ｍｐ１３０００、Ｍｗ６０００００、分子量１０００〜３００００の成分の存在比：６０％）
・磁性酸化鉄：９０質量部
（平均粒子径０．２２μｍ、７９５．８ｋＡ／ｍ磁場での特性Ｈｃ５．１ｋＡ／ｍ、σｓ８５．１Ａｍ2／ｋｇ、σｒ５．１Ａｍ2／ｋｇ）
・モノアゾ金属錯体（負荷電制御剤、オリエント社製Ｅ−８８）：２質量部
・低分子量エチレン−プロピレン共重合体：３質量部
上記の処方の材料を、ヘンシェルミキサーでよく混合した後、温度１３０℃に設定した２軸混練機にて混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて２ｍｍ以下に粗粉砕し、トナー製造用粉体原料である粉体原料（粗粉砕物）を得た。
【０２４８】
実施例１で得られた粗粉砕物を本実施例においては、図１に示す粉砕機を用いて粉砕を行い、下記の条件で粉砕を行った。
【０２４９】
本実施例では、図４（ａ）に示す粉砕機において、該回転子３１４の外径及び全長、ディスク３２２段数、該回転子３１４及び固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離を、夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●回転子３１４外径：７５０ｍｍ，全長：４４０ｍｍ，ディスク３２２段数：２段
●固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離Ｌａ：ＳＬａ
●回転子３１４、１段目の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＬＲａ
●回転子３１４、２段目の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＳＲａ
●従って、ＬＲａ／ＳＬａ＝１．０
【０２５０】
更に、回転子３１４は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、該冷媒流路を夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●冷媒流路形状：冷却孔，冷却孔断面積Ｄ：７９ｍｍ2，冷却孔配列：等間隔・一列
●              冷却流路本数  ７５本
●系統数：４系統（ディスク３２２の段数合せ）
●回転子３１４中心点Ｐから、回転子３１４表面凹部底面ｒまでの距離であるＤｐｒ：３７３ｍｍ
●回転子３１４中心点Ｐから、冷媒流路Ｎの最外殻ｑまでの距離であるＤｐｑ：３５７ｍｍ
従って、Ｄｐｒ−Ｄｐｑ＝１６ｍｍ
【０２５１】
また粉砕条件を以下のように設定した。
●冷風温度：−１５℃，吸引ブロワ２２４流量：２４ｍ3／ｍｉｎ
●定量供給機３１５からの被粉砕物の供給量：２５０ｋｇ／ｈｒ
●回転子３１４と固定子３１０の間隙：１．０ｍｍ
●冷媒温度及び図９に示す冷媒流路に通す冷媒温度：−１０℃
●ジャケット３１６に通す冷媒流量及び冷媒流路に通す冷媒流量：１５ｌ／ｍｉｎ
【０２５２】
結果を表２に示すが、本実施例においては回転子３１４の回転周速を１２５ｍ／ｓｅｃで、重量平均径が５．５μｍのトナー粒子を得られ、（Ｔ−ＯＦＦ）が２０℃、（Ｔ−ＯＮ）が３４℃となり、温度差の評価はＡであった。
【０２５３】
次に、得られた微粉砕を、図１０に示す回分式の表面改質装置で表面改質し、得られた表面改質粒子１００質量部に、ヘキサメチルジシラザンとシリコーンオイルで疎水化処理された一次粒径１２ｎｍの乾式シリカを１．０質量部添加し、ヘンシェルミキサーにて外添混合して評価用トナーとした。
【０２５４】
このトナーを用いて、キヤノン製のＬＢＰ−９３０改造機（２３５ｍｍ／ｓｅｃに相当する１．５倍のプリントスピードに改造）に搭載して画出し試験を行い、以下の項目でトナーの画像特性を評価した。
【０２５５】
（評価−３：転写性評価）
評価用トナーを現像器中に入れ、高温高湿室（３２．５℃、８５％）に一晩（１２時間）放置する。現像器の質量を測定後、現像器を設置し、現像スリーブを３分間から回転させた。この時、本体内のクリーナー部及び廃トナー回収部は事前に一旦取外し、質量を測定しておく。印字比率６％のテストチャートを用いて、５００枚画出しを行い、転写率を評価した（尚、転写率計算式及び評価基準は実施例１と同様である）。結果を表２に示す。
【０２５６】
（評価−４：カブリ評価）
評価用トナーを現像器中に３３０ｇ入れ、低温低湿室（１５℃，５０％）に一晩（１２時間以上）放置する。濃度評価用チャートを使用して２００枚の画出しを行う。この前後でベタ白画像におけるカブリを測定した。（尚、カブリ計算式及び評価基準は実施例１と同様である）。結果を表２に示す。
【０２５７】
［比較例１］
実施例１で得られた粗粉砕物を本実施例においては、図１に示す粉砕機を用いて粉砕を行い、下記の条件で粉砕を行った。
【０２５８】
本比較例では、図７（ａ）に示す粉砕機において、該回転子３１４の外径及び全長、ディスク３２２段数、該回転子３１４及び固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離を、夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●回転子３１４外径：７５０ｍｍ，全長：４４０ｍｍ，ディスク３２２段数：４段
●固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離Ｌａ：ＳＬａ
●回転子３１４の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＳＲａ
【０２５９】
尚、本比較例においては、回転子３１４内部の冷却用冷媒流路に冷媒を通水せずに、微粉砕した。
【０２６０】
また粉砕条件を以下のように設定した。
●冷風温度：−２５℃，吸引ブロワ２２４流量：２４ｍ3／ｍｉｎ
●定量供給機３１５からの被粉砕物の供給量：２５０ｋｇ／ｈｒ
●回転子３１４周速：１５０ｍ／ｓｅｃ，回転子３１４と固定子３１０の間隙：１．０ｍｍ
●ジャケット３１６に通す冷媒温度：−１０℃
●ジャケット３１６に通す冷媒流量：１０ｌ／ｍｉｎ
【０２６１】
粉砕条件を表−３、結果を表４に示すが、本比較例においては回転子３１４の回転周速を１７６ｍ／ｓｅｃで、重量平均径が５．５μｍのトナー粒子を得られ、（Ｔ−ＯＦＦ）が２３℃、（Ｔ−ＯＮ）が４８℃となり、温度差の評価はＤであった。
【０２６２】
次に、得られた微粉砕を、図１０に示す回分式の表面改質装置で表面改質し、得られた表面改質粒子１００質量部に対して、ＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ2／ｇである疎水性シリカを１．８質量部外添混合し、トナーを得た。このトナー５質量部に対し、アクリルコートされたフェライトキャリア９５質量部を混合し、現像剤とした。
【０２６３】
この現像剤を用いて、キヤノン製フルカラー複写機ＣＬＣ１０００改造機（定着ユニットのオイル塗布機構を取り外した）を用いて、実施例１と同様に画出し評価を行った。結果を表４に示す。
【０２６４】
［比較例２］
実施例１で得られた粗粉砕物を本実施例においては、図１に示す粉砕機を用いて粉砕を行い、下記の条件で粉砕を行った。
【０２６５】
本比較例では、図７（ｂ）に示す粉砕機において、該回転子３１４の外径及び全長、ディスク３２２段数、該回転子３１４及び固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離を、夫々以下のように設定した粉砕機を用いて微粉砕した。
●回転子３１４外径：７５０ｍｍ，全長：４４０ｍｍ，ディスク３２２段数：４段
●固定子３１０の凸部と凸部との繰り返し距離Ｌａ：ＬＬａ
●回転子３１４の凸部と凸部との繰り返し距離Ｒａ：ＬＲａ
【０２６６】
尚、本比較例においては、回転子３１４内部の冷却用冷媒流路に冷媒を通水せずに、を微粉砕した。
【０２６７】
また粉砕条件を以下のように設定した。
●冷風温度：−２５℃，吸引ブロワ２２４流量：２６ｍ3／ｍｉｎ
●定量供給機３１５からの被粉砕物の供給量：２５０ｋｇ／ｈｒ
●回転子３１４周速：１５０ｍ／ｓｅｃ，回転子３１４と固定子３１０の間隙：１．０ｍｍ
●ジャケット３１６に通す冷媒温度：−１０℃
●ジャケット３１６に通す冷媒流量：１０ｌ／ｍｉｎ
【０２６８】
粉砕条件を表−３、結果を表４に示すが、本比較例においては回転子３１４の回転周速を１８０ｍ／ｓｅｃで、重量平均径が５．５μｍのトナー粒子を得られなかった。更に（Ｔ−ＯＦＦ）が２２℃、（Ｔ−ＯＮ）が５３℃となり、温度差の評価はＥであった。
【０２６９】
そこで、供給量を１２０ｋｇ／ｈｒまで減少し、回転子３１４の回転周速を１８０ｍ／ｓｅｃで、重量平均径が５．５μｍのトナー粒子を得た。この時、（Ｔ−ＯＦＦ）が２２℃、（Ｔ−ＯＮ）が４９℃となり、温度差の評価はＤであった。
【０２７０】
次に、得られた微粉砕を、図１０に示す回分式の表面改質装置で表面改質し、得られた表面改質粒子１００質量部に対して、ＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ2／ｇである疎水性シリカを１．８質量部外添混合し、トナーを得た。このトナー５質量部に対し、アクリルコートされたフェライトキャリア９５質量部を混合し、現像剤とした。
【０２７１】
この現像剤を用いて、キヤノン製フルカラー複写機ＣＬＣ１０００改造機（定着ユニットのオイル塗布機構を取り外した）を用いて、実施例１と同様に画出し評価を行った。結果を表４に示す。
【０２７２】
【表１】
2009262003.tif 000005
【０２７３】
【表２】
2009262003.tif 000006
【０２７４】
【表３】
2009262003.tif 000007
【０２７５】
【表４】
2009262003.tif 000008
【図面の簡単な説明】
【０２７６】
【図１】本発明において使用される一例の粉砕機の概略的断面図である。
【図２】本発明において使用される一例の回転子及び固定子の概略的断面図である。
【図３】本発明において使用される一例の回転子及び固定子の概略的断面図である。
【図４】本発明において使用される別の粉砕機の概略的断面図である。
【図５】本発明において使用される更に別の粉砕機の概略的断面図である。
【図６】本発明において使用される更に別の粉砕機の概略的断面図である。
【図７】比較例の粉砕工程において使用される粉砕機の概略的断面図である。
【図８】本発明において使用される一例の回転子の概略的断面図である。
【図９】本発明において使用される一例の回転子の概略的断面図である。
【図１０】本発明の表面改質工程において使用される一例の表面改質装置の概略的断面図である。
【図１１】従来の粉砕工程において使用される一例の装置の概略的断面図である。
【符号の説明】
【０２７７】
３０  本体ケーシング
３１  冷却ジャケット
３２  分散ローター
３３  角型ディスク
３４  ライナー
３５  分級ローター
３６  ガイドリング
３７  原料投入口
３８  原料供給弁
３９  原料供給口
４０  製品排出口
４１  製品排出弁
４２  製品抜取口
４３  天板
４４  微粉排出ケーシング
４５  微粉排出口
４６  冷風導入口
４７  第一の空間
４８  第二の空間
４９  表面改質ゾーン
５０  分級ゾーン
２２２  バグフィルター
２２４  ブロワ
２２９  捕集サイクロン
２４０  ホッパー
３０１  粉砕機
３０２  粉体排出口
３１０  固定子
３１１  粉体投入口
３１２  中心回転軸
３１３  ケーシング
３１４  回転子
３１５  定量供給機
３１６  ジャケット
３１７  冷却水供給口
３１８  冷却水排出口
３１９  冷風発生装置
３２０  ブラインチラー
３２２  ストッパーリング
３２３  ブラインチラー
３２４  ＬＲａ
３２５  ＳＲａ
３２６  ＳＬａ
３２７  ＬＬａ
３６２  バグフィルター
３６４  ブロワ
３６９  捕集サイクロン
３８０  原料ホッパー
４３１  粉砕機
４３２  分級機
４３３  原料供給機
４３４  搬送管
４３５  ノズル
４３６  衝突板
４３７  粉砕室
４３８  コレクター
４３９  本体ホッパー部
４４０  センターコア
４４１  セパレートコア
４４２  排出管
４４３  二次エアー供給口
【図１】
2009262003.tif 000009
【図２】
2009262003.tif 000010
【図３】
2009262003.tif 000011
【図４】
2009262003.tif 000012
【図５】
2009262003.tif 000013
【図６】
2009262003.tif 000014
【図７】
2009262003.tif 000015
【図８】
2009262003.tif 000016
【図９】
2009262003.tif 000017
【図１０】
2009262003.tif 000018
【図１１】
2009262003.tif 000019