(57)【要約】【課題】基材シートの溝にインクが充填されているパターンシートを、筋状、帯状のインクの掻き取り欠陥や余剰インクに関わる問題を生じさせず、インクの利用効率を向上させて製造する。【解決手段】表面に溝１５等の凹部が形成されている基材シート１０の該凹部にインク４０が充填されている光学シート１等のパターンシートを製造する方法において、表面に凹部が形成されている基材シート１０を、ロールナイフ３３とバックアップロール３２による押圧部３４に通し、かつ該押圧部３４に接する上流側領域にインク溜４２を形成することにより、基材シート１０の凹部にインクを充填する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹部が形成されている基材シートの該凹部にインク硬化物が充填されているパターンシートの製造方法であって、表面に凹部が形成されている基材シートを、ロールナイフとバックアップロールで該基材シートが押圧される押圧部に通すことにより基材シートの凹部にインクを充填することを特徴とするパターンシートの製造方法。
【請求項２】
押圧部に接する上流側領域にインク溜を形成する請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記押圧部の上流側のバックアップロール上にインク受け部材と一対のサイドダムを設け、これらで囲まれる領域にインク溜を形成する請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
ロールナイフのエッジを、前記押圧部よりも下流に位置させ、該押圧部からロールナイフのエッジまで、基材シートをロールナイフに沿わせて走行させる請求項１〜３のいずれかに記載の光学シートの製造方法。
【請求項５】
ロールナイフのエッジにおいて、ロールナイフの接線方向と基材シートの走行方向とのなす角度が０〜３０°である請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
ロールナイフの下流において、基材シート上のインクを補助掻き取り手段により掻き取る請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
基材シートが透光性であり、表面の凹部として、複数並設された断面Ｖ字形の溝を有し、パターンシートが光学シートである請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材シートの凹部にインクが充填された光学シート、特に、拡散性制御シート、覗き見防止シート、コントラスト改善シート等として有用な光学シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ディスプレイの前面に設置する視野角制御シートとして、透光層と遮光層を交互に積層し、積層方法に対して垂直にスライスすることにより、ストライプ状の透光部と遮光部を交互に配列させた光学シートが知られている（特許文献１）。しかしながら、この方法では、光学シートを大面積に製造することが難しく、生産効率も非常に低い。
【０００３】
また、断面Ｖ字形の溝を多数並列させた透明基材シートを作製し、溝の並列面に遮光材料としてインクを塗布して溝内にインクを充填し、次いで、余分なインクを掻き取ることによりストライプ状の透光部と遮光部を交互に配列させた光学シートを製造する方法が知られている（特許文献２）。この方法によれば、特許文献１の方法に比して大面積のシートを製造し易く、また、生産効率も高い。
【０００４】
このようなインクの掻き取り工程では、一般に、掻き取り具としてゴム製スキージや金属製の掻き取り刃が用いられている。しかしながら、ゴム製スキージは柔らかく、スキージ自体が傷つきやすいため、筋状、帯状の掻き取り欠陥が生じやすい。また、金属製の掻き取り刃は薄いため、シートへ十分に押し付けることができないことにより掻き取りが不十分になったり、掻き取り刃の取付部分でうねりが生じたりし、帯状の掻き取り欠陥が生じやすいという問題がある。
【０００５】
さらに、コーター等で基材シートにインクを塗布した状態では、図１７（ａ）に示すように、インク４０は基材シート１０の溝１５を完全には充填することなく、溝１５の上に乗っているだけの場合があり、その場合でも、掻き取り具は、同図（ｂ）に示すように基材シート１０上の余分なインク４０を掻き取るだけであるため、この方法で製造される光学シートでは遮光部の凹み量が多くなるという問題がある。
【０００６】
加えて、図１８に示すように、多数の溝１５がストライプ状に並設された基材シート１０に、コーター３０を用いてインク４０を塗布し、次いで、従来の方法により、掻き取り具３１を用いて、溝１５内にインクが残るように基材シート１０上のインク４０を掻き取ると、掻き取り具３１の外側の基材シート１０面上に余剰インク４１が溜まる。そして、余剰インク４１が溜まった部分では、インク厚が厚いために硬化不良が起きやすいという問題がある。余剰インク４１の存在は、基材シート１０の積層や巻取工程でも問題となる。加えて、インク４０の利用効率が低下するという問題もある。
【０００７】
このような余剰インク４１に関わる問題のうち、厚みの問題は、掻き取り具３１の幅を基材シート１０の幅よりも大きくすることによって解消するが、掻き取り具３１の幅を基材シート１０の幅よりも大きくすると、基材シート１０の端部から余剰インク４１が垂れるので、基材シート１０の周囲を汚すという新たな問題が生じる。
【０００８】
【特許文献１】特開昭５０−０９２７５１号公報
【特許文献２】特開２００６−１７８０９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述の従来技術の課題に対し、本発明は、基材シートの凹部にインク硬化物が充填されているパターンシートを製造するにあたり、筋状、帯状のインクの掻き取り欠陥を生じにくくし、余剰インクに関わる問題も解消することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、ロールナイフを用いて基材シートへのインクの塗布と掻き取りを同時に行うと上述の目的を達成できることを見いだした。
【００１１】
即ち、本発明は、表面に凹部が形成されている基材シートの該凹部にインク硬化物が充填されているパターンシートの製造方法であって、表面に凹部が形成されている基材シートを、ロールナイフとバックアップロールで挟持される押圧部に通すことにより基材シートの凹部にインクを充填することを特徴とするパターンシートの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
ロールナイフは、ゴム製スキージや金属製の掻き取り刃に比して剛性が高く、また、そのエッジは曲面部と直線部を組み合わせた形状となっているため、ロールナイフを基材シートに十分な力で押し付けることができ、その場合にロールナイフのエッジにうねりが生じることもない。したがって、筋状、帯状の掻き取り欠陥が生じにくく、また、コーターで塗布するだけでは、溝の内部に完全にはインクが充填されていない状態となっていても、溝の奥まで完全にインクを充填することができる。したがって、インクを溝に充填した後の仕上がりが良好となる。
【００１３】
特に、本発明において、ロールナイフとバックアップロールで基材シートを押圧する押圧部の上流側領域を直ちにインク溜とする態様によれば、インクの塗布領域と掻き取り領域が一致し、余剰インクが発生しないことにより、余剰インクに関わる問題も解消する。さらにロールナイフのエッジで掻き取られたインクがインク溜に戻るのでインクの利用効率も向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照しつつ、本発明を詳細に説明する。なお、各図中、同一符号は、同一又は同等の構成要素を表している。
【００１５】
図１は、本発明の一実施例の方法を行う装置の説明図である。
【００１６】
本実施例は、表面に複数の凹部が形成されている基材シートとして、図２に示すように、その片面に断面略V字形の複数の溝１５がストライプ状に多数並設された透光性基材シートを使用し、その溝１５にインクを充填することにより、パターンシートとして、図３に示す光学シート１を製造する方法である。この光学シート１は、視野角制御フィルター、拡散性制御フィルター、コントラスト改善フィルター等として用いられる。
【００１７】
本実施例の方法では、図１に示すように、概略、まず、溝１５の延設方向と基材シート１０の走行方向を略一致させた状態で、溝１５の形成面を外側にして、基材シート１０をバックアップロール３２上で矢印のように約半周走行させ、インク溜４２に通し、バックアップロール３２とロールナイフ３３とで該基材シート１０が押圧される押圧部３４に通すことにより溝１５にインクを充填し、さらに下流の硬化手段５０でインクを硬化させ、光学シート１を得る。
【００１８】
より詳細には、押圧部３４の上流には、図４に示すように、インク受け部材３５が基材シート１０を介してバックアップロール３２に押し当てられている。また、バックアップロール３２上には、インクの流出防止壁として、一対のサイドダム３６が、基材シート１０における溝１５の形成領域に応じて、略基材シート１０のシート幅と略同一、もしくはシート幅より狭い間隔で設けられている。このサイドダム３６は、インク受け部材３５及びロールナイフ３３に取り付けられ、さらにバックアップロール３２と当接し、バックアップロール３２の摺動を可能にしている。そしてこれらにより、押圧部３４に接する上流側領域、即ち、ロールナイフ３３、インク受け部材３５、サイドダム３６で囲まれた基材シート１０上の領域にインク溜４２が形成される。
【００１９】
そこで、基材シート１０をバックアップロール３２に沿って走行させ、インク溜４２に通すことにより、溝の形成面側の全面にインク４０が塗布されることとなり、次いで押圧部３４を通すことにより、ロールナイフのエッジ３３ａで溝内にインクを残して余分なインクが掻き取られることとなる。この場合、ロールナイフ３３によってインクの塗布と掻き取りとの双方が行われ、基材シート１０におけるインクの塗布領域と掻き取り領域が一致する。よって、従来技術のようにインクの塗布領域の両端部に余剰インクが溜まることはなく、また、ロールナイフ３３で掻き取られたインクは、インク溜４２のインクして再度使用されるため、インクの利用効率が向上する。
【００２０】
ここで、ロールナイフ３３は、図５に示すように、円柱ロールに、ロール幅方向に沿って溝を切り欠いた形状をしており、ロールナイフのエッジ３３ａとは、円柱ロールの切欠部の側面３３ｂの先端をいう。ロールナイフ３３のエッジ３３ａは、一般的な掻き取りブレードに比して剛性が高いため、基材シート１０への押し付け時に撓みにくく、掻き取りムラが発生しにくい。
【００２１】
ロールナイフ３３の断面形状は、図６に示すように、ロールナイフ３３の切欠部の側面３３ｂとロールナイフのエッジ３３ａにおける接線とのなす角度（エッジ角）θ1 が、好ましくは６０〜１３０°、より好ましくは８０〜１２０°、特に好ましくは８５〜１００°である。
【００２２】
ロールナイフ３３の円弧の好ましい半径は、３０〜３００ｍｍである。半径が小さすぎるとエッジ３３ａとエッジ３３ａに隣接する円弧部分でインク４０を基材シート１０の溝内に押し込む効果が不十分になる場合があり、またロールナイフ３３の剛性が不足する場合がある。反対に、ロールナイフ３３の半径が大きすぎても、それに応じてインクを基材シート１０の溝に押し込む効果が特に向上するわけではなく、ロールナイフ３３の重量が重くなりすぎるので好ましくない。
【００２３】
ロールナイフのエッジ３３ａにおける接線からの切欠部の側面３３ｂの高さＬr1は、３〜３０ｍｍとすることが好ましい。
【００２４】
ロールナイフ３３の製造方法としては、円柱ロールを製造した後、それを切り欠いてもよく、当初から切り欠いた形状に成型してもよい。
【００２５】
ロールナイフ３３の成形材料としては、ステンレス等の金属とすることができる。
【００２６】
ロールナイフ３３は、バックアップロール３２との間隙や、ロールナイフのエッジ３３ａの位置等を調整した後は、固定して使用されるが、ここで、バックアップロール３２とロールナイフ３３との間隙は、バックアップロール３２の素材等に応じて基材シート１０の厚みに対して０．９５倍〜１．２とすることが好ましい。
【００２７】
また、ロールナイフのエッジ３３ａの位置は、図７（ａ）に示すように、バックアップロール３２の軸心Ｐ1 とロールナイフ３３の軸心Ｐ2 とを結ぶ直線Ｑ1 上とすることが好ましい。エッジ３３ａの位置が直線Ｑ1 上にあれば、同図（ｂ）に示すように、ロールナイフ３３の切欠部の側面３３ｂが直線Ｑ1 よりも上流側に位置してもよく、同図（ｃ）に示すように、下流側に位置してもよい。
【００２８】
これに対し、同図（ｄ）に示すように、エッジ３３ａの位置が直線Ｑ1 よりも上流にあると筋ムラが生じる場合があるので好ましくない。これは、ロールナイフ３３の基材シート１０に対する押圧力が不足し、基材シート１０の溝１５にインク４０が十分に充填されないためと考えられる。また、同図（ｅ）に示すように、エッジ３３ａの位置が直線Ｑ1 より下流にあることも好ましくない。これは、基材シート１０が押圧部３４を通過後、基材シート１０の溝１５に充填されていたインク４０が毛管現象で基材シート１０の上面に持ち上がるためと考えられる。
【００２９】
エッジ３３ａの位置を直線Ｑ1 よりも下流側にした場合でも、図８に示すように、基材シート１０を、押圧部３４からエッジ３３ａまではロールナイフ３３に沿わせて走行させ、エッジ３３ａからは、エッジ３３ａにおけるロールナイフ３３の接線方向と、そのエッジ３３ａにおける基材シート１０の走行方向となす角度θ2 を０〜３０°とする場合には好ましく、特に、エッジ３３ａにおける基材シート１０の走行方向をエッジ３３ａにおけるロールナイフ３３の接線方向（θ2 ＝０°）とすることが好ましい。この態様によれば、図７（ｅ）の態様のように、基材シート１０の溝１５内に充填されていたインク４０が基材シート１０の表面に上がってくることはない。また、バックアップール３２の円弧部とロールナイフ３３の円弧部とで、基材シート１０に十分な圧力を、図７（ａ）の態様よりも広領域にかけることができるため、溝１５にはインク４０を充填しつつ、溝１５以外のインク４０を排除することができ、よって、充填不足も掻き取り不足も生じにくい。さらに、エッジ３３ａにおける基材シート１０への押圧力を比較的小さくすることができるため、基材シート１０を傷つけ難いという利点がある。
【００３０】
一方、バックアップロール３２は、インク４０を基材シート１０の溝１５に押し込む効果の点から、その半径をロールナイフ３３の円弧の半径と略同等とすることが好ましい。
【００３１】
バックアップロール３２の形成材料としては弾性材料が好ましく、特に、ゴム硬度（ＪＩＳ  Ｋ６２５３に準ずる）４０〜９０度のゴムが好ましい。これにより、ロールナイフ３３を基材シート１０に均一に押し当てることができる。
【００３２】
基材シート１０としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂を用いて押出成形により製造したものを使用することができる。また、押出成形に代えて、透明シートと成型用金型との間に紫外線硬化樹脂を充填し、転写成形する方法（２Ｐ成形法（Photo Polymerization process））により製造したものでもよい。
【００３３】
本発明において、基材シート表面の凹部の形状には特に制限はないが、本実施例の基材シート１０では、光学シート１に要求される視野角や成形性の点から、断面略Ｖ字形の溝１５の深さＬ1と溝１５の幅Ｌ2 の比Ｌ1／Ｌ2 を２〜１０程度とする。溝１５のピッチは、光学シートに要求される高精細化と基材シート１０の成型用金型の耐久性や成形性の点から、５０〜５００μｍとすることが好ましい。また、基材シート１０の厚さは、溝１５の深さＬ1 の１．５〜３．５倍とすることが好ましい。
【００３４】
本発明において、凹部の断面形状としては、上述した実施例の略Ｖ字形の溝１５の他、Ｕ字形、多角形等でもよい。また、凹部の配列は、直線状、点線状、波線状、格子状であってもよい。このほか、凹部は、ランダムあるいは特定のパターンに配列された穴でもよい。
【００３５】
インク４０としては、遮光性材料を含有した紫外線硬化性樹脂、溶剤系接着剤、熱硬化性樹脂等を使用できる。インク４０の粘度は、０．１〜２０Ｐａ・秒（２５℃、Ｅ型粘度計、０．５ｒｐｍ）が好ましい。これより低いとインク受け部材３５と基材シート１０との間隙、サイドダム３６とバックアップロール３２との間隙、バックアップロール３２とロールナイフ３３との間隙からインク４０が漏れ易くなる。反対に、インク４０の粘度がこれより高いと、基材シート１０の溝１５内に十分にインクを充填することが難しい。
【００３６】
インク４０中の遮光性材料としては、染料、カーボン粒子、有色顔料、白色顔料、光拡散材等を使用できる。基材シート１０の材料と遮光性材料との組み合わせによっては、基材シート１０が染色される場合があるので、遮光性材料としては、顔料やカーボン粒子が好ましい。遮光性材料が顔料やカーボン粒子である場合に、その好ましい粒径は１〜２０μｍである。これより小さいと遮光性が不十分となる場合があり、これより大きいと、粒子自身が異物のように働き、インク溜４２にインク４０を供給するインク供給手段（図示せず）やロールナイフのエッジ３３ａに詰まるなどの不具合を生じる場合がある。
【００３７】
硬化手段５０としては、インク４０の種類に応じて、紫外線照射、乾燥、加熱等によりインク４０を硬化させる装置を使用する。
【００３８】
本発明において、好ましいラインスピードは、インク４０の種類や、基材シート１０の凹部の形状やピッチ等に応じて定めるが、インク４０が紫外線硬化性樹脂からなり、基材シート１０が、凹部として、拡散性制御シート、覗き見防止シート、コントラスト改善シート等の光学シート用の溝１５を有する場合、０．３〜２０ｍ／分である。ラインスピードがこの範囲よりも小さいと生産性が低くなり、反対にラインスピードがこの範囲よりも大きいと溝中のインクに泡が発生したり、インクを塗布した後の基材シートに筋状のムラが多発したりする等の不具合が生じやすくなる。
【００３９】
本発明は、上述の他、種々の態様をとることができる。例えば、インク溜４２を形成するにあたり、図４に示したインク受け部材３５を使用することなく、図９に示すように、バックアップロール３２とロールナイフ３３とを水平に並べ、バックアップロール３２の両端部に、インクの流出防止壁として一対のサイドダム３６を設け、押圧部３４上にインク溜４２が形成されるようにしてもよい。
【００４０】
また、図１１に示すように、基材シート１０を、バックアップロール３２とロールナイフ３３による押圧部３４に通した後、硬化手段５０に通す前に補助掻き取り手段６０に通すことができる。即ち、押圧部３４において、ロールナイフ３３の基材シート１０に対する押圧力が大きすぎると図１０（ａ）に示すように、溝１５内のインク４０の表面に凹みが生じ、逆に押圧力が小さすぎると、同図（ｂ）に示すように、基材シート１０の表面の溝１５以外の部分にインク４０が残ってしまう。これに対し、押圧部３４における押圧力を適宜設定することにより、基材シート１０を押圧部３４に通した後には同図（ｃ）に示すように基材シート１０の表面の溝１５以外の部分に僅かにインク４０が残るようにし、補助掻き取り手段６０によって溝１５以外の部分のインク４０を掻き取る。これにより、同図（ｄ）に示すように、理想的な充填状態に近づけることができるので好ましい。なお、補助掻き取り手段６０を使用すると、それにより掻き取られたインクが余剰インクとなるが、補助掻き取り手段６０で掻き取られるインクの量は少ないため、従来技術のような余剰インクに関る問題は生じない。また、インクの利用効率も、従来技術のように低下することはない。
【００４１】
補助掻き取り手段６０の具体的構成としては、金属製ブレード、ゴムスキージ等を使用することができる。
【００４２】
また、インクの基材が紫外線硬化性樹脂等のように、空気中の酸素により硬化阻害を受けやすく、基材シート１０を硬化手段５０に通した後に、なお未硬化のインクが残存する場合には、図１２に示すように、硬化手段５０の下流に、未硬化のインクを掻き取る補助掻き取り手段６１を設けても良い。この場合、図１０（ａ）に示したように、溝１５内のインク４０の表面に凹みが生じることのないように、押圧部３４では、ロールナイフ３３の押圧力を小さくして、溝１５以外の部分にインクが僅かに残った状態で硬化手段５０に通し、補助掻き取り手段６１で、溝１５以外の部分に残っている硬化不足のインクを除去する。これによっても、同図（ｄ）に示す理想的な充填状態に近づけることができるので好ましい。
【００４３】
この補助掻き取り手段６１の具体的構成としては、前述の補助掻き取り手段６０と同様のものを使用することができる。
【００４４】
さらに、図１３に示すように、硬化手段５０の上流と下流の双方に補助掻き取り手段６０、６１を設けてもよい。これにより硬化手段５０とその上流の補助掻き取り手段６０によって、溝１５以外の部分に遮光性材料（例えばカーボン粒子）が残らないようにすることができ、硬化手段５０の通過後に溝１５以外の部分に、インク４０の基材である紫外線硬化樹脂が酸素による硬化阻害により未硬化で残った場合でも、下流の補助掻き取り手段６１により、その未硬化の紫外線硬化樹脂を除去することができる。
【００４５】
この他、本発明の方法としては、ロールナイフ３３とバックアップロール３２による押圧部に接する上流領域にインク溜を設けることなく、公知のコーターを用いて基材シート１０にインク４０を塗布した後、その基材シート１０をロールナイフ３３とバックアップロール３２による押圧部に通してもよい。これによっても余剰インクの問題を解消することができ、また、図１７(a)に示したように、溝１５上に乗っていたインク４０を基材シート１０の溝内に完全に押し込み、その上で溝以外の余分なインクを除去することができるので、インク４０を溝１５に充填した後のシートの仕上がりが良好となる。
【００４６】
本発明の方法は、光学シートを始め、インクの充填パターンを有する種々のパターンシートの製造に適用することができる。また、本発明の方法により製造した光学シートには、必要に応じて、その片面又は両面に、光拡散性粒子を分散させた光学シート、着色シート、防眩シート等を配置してもよい。
【００４７】
本発明の方法により得られた光学シートは、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ等のディスプレイパネルの前面に装着して、あるいは背面投写型スクリーンとして、用いることができる。その場合、光学シートの装着方向は、外光コントラストの向上、視野角制御などの目的に応じて、インクを充填した溝を、観察者側に向けたり映像光源側に向けたりすればよい。また、光学シートは、液晶ディスプレイ等のバックライトの拡散性制御シートとして用いることができる。
【実施例】
【００４８】
実施例１
透明な０．１５ｍｍ厚ポリエチレンテレフタレート製フィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）と成形用金型との間に、ウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂（以下、２Ｐ樹脂という）を充填し、紫外線照射で硬化させることにより金型の凹凸を２Ｐ樹脂に転写成形する方法（２Ｐ成形法）によって、図１４に示すように、断面略Ｖ字形の溝１５が複数並列している２Ｐ樹脂層１１とＰＥＴフィルム１２との積層体からなる基材シート１０を作製した。
【００４９】
ここで、基材シート１０の表面形状の寸法は次の通りである。
【００５０】
溝１５の深さＬ1 ：０．１５ｍｍ
溝１５の幅Ｌ2 ：０．０３ｍｍ
溝１５の底幅Ｌ3 ：０．００５ｍｍ
溝のピッチＬ4 ：０．１０ｍｍ
溝１５の底面とＰＥＴフィルムとの距離Ｌ5 ：０．０５ｍｍ
ＰＥＴフィルム１２の厚さＬ6 ：０．１５ｍｍ
【００５１】
次いで、図１３に示した方法で、基材シート１０の溝１５の形成面側にインクの塗布と掻き取りを行い、溝１５のみに黒色インクを充填し、紫外線照射によりインクを硬化させて視野角制御シート１を得た。
【００５２】
ここで、黒色インクとしては、基材シート１０に用いたものとは異なる２Ｐ樹脂に平均粒径５μｍのカーボン粒子を５ｗｔ％分散させたものを使用し、ロールナイフ３３とバックアップロール３２の仕様は次の通りとした。
【００５３】
ロールナイフ３３の仕様
鉄ロール（表面クロムメッキ）
半径：１２５ｍｍ
エッジ形状：図７（ａ）
エッジ角θ1＝９０°、切欠部の側面３３ｂの高さＬr1＝５ｍｍ
【００５４】
バックアップロール３２の仕様
ゴムロール
ゴム硬度：８０度
半径：１５０ｍｍ
【００５５】
基材シート１０に対するロールナイフ３３の掻き取り圧力：１０００Ｎ／ｍ
【００５６】
補助掻き取り手段６０，６１
ステンレスブレード
ステンレスブレード本体の厚み：０．２ｍｍ
ブレード先端角：３０°
ブレード傾き角：７０°
押し圧：１００Ｎ／ｍ
【００５７】
ライン速度：３ｍ／分
【００５８】
比較例１，２ 
実施例１と同様の基材シート１０を作製した。
【００５９】
次いでロールコータにより基材シート１０の溝１５を有する面の全面に、実施例１と同様の黒色インクを約０．２ｍｍ厚みで塗布し、図１５に示すように、以下の仕様のゴムスキージ６３を使用して溝１５の延在方向に沿って黒色インク４０を掻き取り、溝１５上にない黒色インク４０を除去した後、基材シート１０の両面から紫外線を照射して黒色インク４０を硬化し、視野角制御シートを作製した。ゴムスキージ６３の押し圧は１３００Ｎ／ｍ（比較例１）と８００Ｎ／ｍ（比較例２）の二水準とした。
【００６０】
ゴムスキージ６３の仕様
厚み：１０ｍｍ
ゴム硬度：８０度
スキージ先端角θ3 ：９０°
スキージ傾き角θ4 ：７０°
押し圧：比較例１＝１３００Ｎ／ｍ、比較例２＝８００Ｎ／ｍ
ライン速度：３ｍ／分
【００６１】
比較例３、４ 
実施例１と同様の基材シート１０を作製した。
【００６２】
次いでゴムスキージに変えて以下の仕様のステンレスブレードを使用した以外は比較例１、２と同様に、押し圧を２水準に変えて視野角制御シートを作製した。
【００６３】
ステンレスブレードの仕様
厚み：２ｍｍ
ブレード先端角θ3 ：３０°
ブレード傾き角θ4 ：７０°
押し付け圧：比較例３＝１３００Ｎ／ｍ、比較例４＝８００Ｎ／ｍ
ライン速度：３ｍ／分
【００６４】
評価
実施例１及び比較例１〜４で作製した視野角制御シートのインクの凹み量を測定し、外観観察を行った。図１６に示すように、インクの凹み量Ｌ7 は、視野角制御シート１の上面と、溝に充填されたインク４０の表面で最も凹んでいる部分との距離である。
【００６５】
結果を表１に示す。
【００６６】
【表１】
2009210936.tif 000003
【００６７】
表１の結果について、比較例１の筋状ムラは、掻き取り幅にムラが生じる事によると推定される。
【００６８】
比較例３の帯状ムラはステンレスブレードの取付部のうねりに起因する押し付け圧力のムラによるものと推定される。
【００６９】
またいずれの比較例でも基材シート端部の余剰インクが硬化不十分で、得られた視野角制御シートの取り扱い時に、掻き取った面を汚す問題が有った。
【００７０】
さらに、溝におけるインクの充填状態について、実施例１によれば、掻き取りムラが少なく、また掻き取り残りも無く、インクの凹み量が少なかった。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明は、ディスプレイやスクリーンの視野角制御シート、拡散制御シート、コントラスト改善シート等の光学シートの製造技術として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】実施例の方法を行う装置の説明図である。
【図２】基材シートの斜視図である。
【図３】光学シートの斜視図である。
【図４】インク溜の斜視図である。
【図５】ロールナイフの斜視図である。
【図６】ロールナイフの断面図である。
【図７】ロールナイフの断面図である。
【図８】ロールナイフの断面図である。
【図９】インク溜の形成方法の説明図である。
【図１０】インクを充填し、掻き取った後の基材シートの断面図である。
【図１１】他の実施例の製造方法の説明図である。
【図１２】他の実施例の製造方法の説明図である。
【図１３】他の実施例の製造方法の説明図である。
【図１４】実施例で用いた基材シートの断面図である。
【図１５】比較例の塗布方法の説明図である。
【図１６】インクの凹み量の説明図である。
【図１７】基材シートの溝にインクを充填する従来の方法の問題点の説明図である。
【図１８】基材シートの溝にインクを充填する従来の方法の説明図である。
【符号の説明】
【００７３】
１    光学シート（視野角制御シート）
１０    基材シート
１１    ２Ｐ樹脂層
１２    ＰＥＴフィルム
１５    溝
３０    コーター
３１    掻き取り具
３２    バックアップロール
３３    ロールナイフ
３３ａ  エッジ
３３ｂ  切欠部の側面
３４    押圧部
３５    インク受け部材
３６    サイドダム
４０    インク又はインク硬化物
４１    余剰インク
４２    インク溜
５０    硬化手段
６０    補助掻き取り手段
６１    補助掻き取り手段
６３    ゴムスキージ
Ｌ1   溝の深さ
Ｌ2   溝の幅
Ｌ3   溝の底幅
Ｌ4   溝のピッチ
Ｌ5   溝の底面とＰＥＴフィルムとの距離
Ｌ6   ＰＥＴフィルムの厚さ
Ｌ7   インクの凹み量
Ｌr1  ロールナイフの切欠部の側面の高さ
Ｑ1   バックアップロールの軸心とロールナイフの軸心とを結ぶ直線
Ｐ1   バックアップロールの軸心
Ｐ2   ロールナイフの軸心
θ1   エッジ角
θ2   ロールナイフのエッジにおけるロールナイフの接線方向と、そのエッジにおける基材シートの走行方向とのなす角度
θ3   スキージ先端角
θ4   スキージ傾き角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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