(57)【要約】【課題】ホメオトロピック配向を固定化した液晶層を延伸することにより、Ｎｚ＜１を満たす位相差フィルムを低コストで作製することができ、しかも、このような位相差フィルムの３次元屈折率分布を精度よく制御でき、また延伸に際してもクラック等の不具合が生じることがない位相差フィルムを提供する。【解決手段】正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を延伸して得られる位相差フィルムであって、延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、とし、面内のリタデーションをＲｅ１、厚み方向のリタデーションをＲｔｈ１とした時、Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５で示されるＮｚ１が、Ｎｚ１＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を延伸して得られる位相差フィルムであって、延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、とし、面内のリタデーション（Ｒｅ１）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ１）をそれぞれ式（イ）および式（ウ）とした時、式（ア）で定義されるＮｚ１が、Ｎｚ１＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルム。
Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５                          （ア）
Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］                  （イ）
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］  （ウ）
【請求項２】
前記ホメオトロピック配向液晶層が、オキセタニル基を有する側鎖型の液晶性高分子から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項３】
前記ホメオトロピック配向液晶層が、反応性官能基を有する低分子液晶物質から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項４】
正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層が、熱可塑性高分子フィルムの上に配向膜あるいは接着剤を介して積層一体化された積層体を、延伸して得られる位相差フィルムであって、
延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、とし、延伸された液晶層の面内のリタデーション（Ｒｅ１）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ１）をそれぞれ式（キ）および式（ク）で定義し、
Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］                  （キ）
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］  （ク）
延伸された熱可塑性高分子フィルムの面内の主屈折率をｎｘ２、ｎｘ２と直交する方向の屈折率をｎｙ２（ただし、ｎｘ２≧ｎｙ２）、厚み方向の主屈折率をｎｚ２、厚みをｄ２、とし、延伸された熱可塑性高分子フィルムの面内のリタデーション（Ｒｅ２）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ２）をそれぞれ式（ケ）および式（コ）で定義し、
Ｒｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］                  （ケ）
Ｒｔｈ２＝{（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２}×ｄ２［ｎｍ］  （コ）
延伸された液晶層のＲｅ１およびＲｔｈ１と熱可塑性高分子フィルムのＲｅ２およびＲｔｈ２の合計値として定義される合計面内リタデーション（合計Ｒｅ）および合計厚み方向のリタデーション（合計Ｒｔｈ）をそれぞれ式（エ）および式（オ）とした時、式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルム。
合計Ｒｅ＝Ｒｅ１＋Ｒｅ２                （エ）
合計Ｒｔｈ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２          （オ）
合計Ｎｚ＝合計Ｒｔｈ／合計Ｒｅ＋０．５  （カ）
【請求項５】
前記熱可塑性高分子フィルムが、シクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする請求項４に記載の位相差フィルム。
【請求項６】
前記熱可塑性高分子フィルムが、セルロース系樹脂であることを特徴とする請求項４に記載の位相差フィルム。
【請求項７】
（１）熱可塑性高分子フィルムの上に、正の一軸性を示す液晶性組成物がホメオトロピック配向を形成するための配向層を形成する第１工程、
（２）配向層上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層フィルムを得る第２工程、
（３）前記の熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層フィルムを延伸して、位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【請求項８】
（１）配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記積層体（Ａ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を前記熱可塑性高分子フィルムに転写し、熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、
（３）前記の熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を延伸して、位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【請求項９】
（１）配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記の配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を延伸して、積層体（Ｃ）を得る第２工程、
（３）前記積層体（Ｃ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと接着せしめた後、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層を前記熱可塑性高分子フィルムに転写した後、配向基板を剥離して、熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記熱可塑性高分子フィルムが表面処理されていることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１１】
表面処理がコロナ放電処理であることを特徴とする請求項１０に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記ホメオトロピック配向液晶層が、オキセタニル基を有する側鎖型の液晶性高分子から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする請求項７〜１１のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記ホメオトロピック配向液晶層が、反応性官能基を有する低分子液晶物質から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする請求項７〜１１のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１４】
前記熱可塑性高分子フィルムがシクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする請求項７〜１３のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１５】
前記熱可塑性高分子フィルムがセルロース系樹脂であることを特徴とする請求項７〜１３のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜６のいずれかに記載の位相差フィルムと偏光素子とが積層されてなり、前記位相差フィルムの遅相軸と、前記偏光素子の吸収軸とが、平行又は直交に配されていることを特徴とする偏光板。
【請求項１７】
請求項１６に記載の偏光板が、液晶セルの少なくとも片側に配されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法および該位相差フィルムを備えた偏光板ならびに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
屈折率異方性を持つ光学フィルムは、液晶表示装置の画質向上に用いられるなど工業的に重要な役割を担っている。さらに、近年の液晶表示画面の大型化、駆動モードの多様化に伴い、位相差フィルムに要求される特性についても、３次元の屈折率分布の制御が非常に重要になっている。
位相差フィルムのフィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｘと直交する方向の屈折率をｎｙ（ただし、ｎｘ≧ｎｙ）、フィルム厚み方向の主屈折率をｎｚとし、フィルムの厚みをｄとし、面内のリタデーション（Ｒｅ）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ）をそれぞれ式（ａ２）および（ａ３）とした時、Ｎｚは式（ａ１）で定義される。
Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５                        （ａ１）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］                  （ａ２）
Ｒｔｈ＝{（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ}×ｄ［ｎｍ］    （ａ３）
また、Ｎｚはまた式（ａ４）のようにも書ける。
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）              （ａ４）
【０００３】
一般に、位相差フィルムは、安価に入手できる熱可塑性材料、例えばポリカーボネートやシクロオレフィンポリマーなどをキャスティング法や溶融押出法等によりフィルム化し、これら熱可塑性高分子フィルムを一般的な延伸方法として知られるロール延伸法やテンター延伸法などにより作製できるが、これら材料は全て固有屈折率が正であるため、延伸後に得られる位相差フィルムは、全てフィルム法線方向の屈折率がフィルム面内の屈折率よりも小さくなる。即ち、これらのフィルムはＮｚ≧１となる（３次元屈折率の関係は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚとなる）。逆に、フィルム厚み方向の屈折率が、フィルム面内の屈折率よりも大きい位相差フィルム、即ちＮｚ＜１を満たす位相差フィルムは、材料および製造の両面において困難であることが知られている。
【０００４】
Ｎｚ≦０を満たす位相差フィルムとして、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙとなる位相差フィルムは、固有屈折率が負である熱可塑性フィルムを延伸する、あるいは固有屈折率が負である液晶材料として、円盤状の液晶材料を円盤が基板に対し垂直に配向したフィルムを作製できることが提案されている（特許文献１、２）。
しかし、固有屈折率が負となる熱可塑性フィルムは非常に限られており、該材料としてポリスチレン等が知られているが、フィルムがもろいため延伸時に切れやすい等、製造面で課題が多い。また、円盤状の液晶材料は、合成が複雑で且つコストが高いほかに、基板に垂直配向しても、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙを満たす１軸性フィルムしか作製できず、２軸性フィルムの作製は出来ない。
【０００５】
また、０＜Ｎｚ＜１を満たす２軸性フィルム（即ち、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙとなる）は、固有屈折率が正あるいは負の材料を単一材料として延伸しても作製できない領域であるが、Ｎｚ＝０．５を満たす２軸性フィルムは、位相差値が視野角によらずほぼ一定であり、このような位相差フィルムを用いることによって液晶表示装置の視野角特性が大幅に改善することが知られており、工業的に安価に製造できれば、非常に有益である。
【０００６】
ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たす２軸性フィルムを作製するための方法として、ポリカーボネートなどの樹脂フィルムに熱収縮性フィルムを貼り付けて積層体とし、該積層体を延伸し、その後、熱収縮フィルムを剥がすことによって得られるフィルムを位相差フィルムとして用いる方法が提案されている（特許文献３）。
しかしながら、特許文献３記載の方法では、ポリカーボネートフィルムの他に熱収縮フィルムや粘着剤などが必要であり、低コストで位相差フィルムを生産するのが難しいという問題がある。また、剥離された大量の熱収縮性フィルムが産業廃棄物になるという問題をも有している。
【０００７】
また、他の方法として、フィルム面内方向の屈折率ｎｘ、ｎｙおよび厚み方向の主屈折率ｎｚについて、ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙの関係を有する熱可塑性高分子フィルムを延伸することで得られるフィルムを位相差フィルムとして用いる方法が提案されている（特許文献４）。
しかしながら、特許文献４記載の方法では、キャスティング法や溶融押し出し法によりｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙの関係を有する熱可塑性高分子フィルムとなる高分子材料の種類は限られ、延伸して得られるフィルムのｎｘとｎｚおよび／またはｎｙとの屈折率の差も小さく、位相差フィルムの性能として重要なリタデーション値によっては膜厚が厚くなり、液晶表示装置の薄型化への要求を満たすことは困難である。
【０００８】
ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙを満たす材料としては、一般に棒状液晶をホメオトロピック配向させたホメオトロピック配向液晶フィルムが知られており、延伸時にクラック等の不具合が生じないような液晶材料を選び、ホメオトロピック配向液晶を固定化させたフィルムを延伸することが出来れば、これまで製造が困難であったＮｚ＜１を満たす位相差フィルムが安価に作製可能となる。
高分子液晶を延伸する方法は知られているが（特許文献５）、特許文献５は、配向処理を施されていないネマチック液晶を単純に延伸することで高配向度の材料が得られることを明記しているに過ぎず、ホメオトロピック配向液晶層の配向固定化方法およびホメオトロピック配向液晶層を延伸時にクラック等の不具合を生じさせないで延伸させるといった手法に関しては一切記載されていない。
【特許文献１】特開２００５−２７５１０４号公報
【特許文献２】特開２００６−３０１６１４号公報
【特許文献３】特開平５−１５７９１１号公報
【特許文献４】特開２００６−３７１５号公報
【特許文献５】特開平１−７０５８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来技術の問題点に鑑み、ホメオトロピック配向を固定化した液晶層を延伸することにより、Ｎｚ＜１を満たす位相差フィルムを低コストで作製することができ、しかも、このような位相差フィルムの３次元屈折率分布を精度よく制御でき、また延伸に際してもクラック等の不具合が生じることがない位相差フィルムとその製造方法、及び偏光板並びにそれを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、特定の配向を固定化した液晶層を延伸することにより前記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の通りである。
【００１１】
［１］正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を延伸して得られる位相差フィルムであって、延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、とし、面内のリタデーション（Ｒｅ１）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ１）をそれぞれ式（イ）および式（ウ）とした時、式（ア）で定義されるＮｚ１が、Ｎｚ１＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルム。
Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５                          （ア）
Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］                  （イ）
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］  （ウ）
【００１２】
［２］前記ホメオトロピック配向液晶層が、オキセタニル基を有する側鎖型の液晶性高分子から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする前記［１］に記載の位相差フィルム。
【００１３】
［３］前記ホメオトロピック配向液晶層が、反応性官能基を有する低分子液晶物質から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする前記［１］に記載の位相差フィルム。
【００１４】
［４］正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層が、熱可塑性高分子フィルムの上に配向膜あるいは接着剤を介して積層一体化された積層体を、延伸して得られる位相差フィルムであって、
延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、とし、延伸された液晶層の面内のリタデーション（Ｒｅ１）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ１）をそれぞれ式（キ）および式（ク）で定義し、
Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］                  （キ）
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］  （ク）
延伸された熱可塑性高分子フィルムの面内の主屈折率をｎｘ２、ｎｘ２と直交する方向の屈折率をｎｙ２（ただし、ｎｘ２≧ｎｙ２）、厚み方向の主屈折率をｎｚ２、厚みをｄ２、とし、延伸された熱可塑性高分子フィルムの面内のリタデーション（Ｒｅ２）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ２）をそれぞれ式（ケ）および式（コ）で定義し、
Ｒｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］                  （ケ）
Ｒｔｈ２＝{（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２}×ｄ２［ｎｍ］  （コ）
延伸された液晶層のＲｅ１およびＲｔｈ１と熱可塑性高分子フィルムのＲｅ２およびＲｔｈ２の合計値として定義される合計面内リタデーション（合計Ｒｅ）および合計厚み方向のリタデーション（合計Ｒｔｈ）をそれぞれ式（エ）および式（オ）とした時、式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルム。
合計Ｒｅ＝Ｒｅ１＋Ｒｅ２                （エ）
合計Ｒｔｈ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２          （オ）
合計Ｎｚ＝合計Ｒｔｈ／合計Ｒｅ＋０．５  （カ）
【００１５】
［５］前記熱可塑性高分子フィルムが、シクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする前記［４］に記載の位相差フィルム。
【００１６】
［６］前記熱可塑性高分子フィルムが、セルロース系樹脂であることを特徴とする前記［４］に記載の位相差フィルム。
【００１７】
［７］（１）熱可塑性高分子フィルムの上に、正の一軸性を示す液晶性組成物がホメオトロピック配向を形成するための配向層を形成する第１工程、
（２）配向層上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層フィルムを得る第２工程、
（３）前記の熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層フィルムを延伸して、位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【００１８】
［８］（１）配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記積層体（Ａ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を前記熱可塑性高分子フィルムに転写し、熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、
（３）前記の熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を延伸して、位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【００１９】
［９］（１）配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記の配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を延伸して、積層体（Ｃ）を得る第２工程、
（３）前記積層体（Ｃ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと接着せしめた後、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層を前記熱可塑性高分子フィルムに転写した後、配向基板を剥離して、熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【００２０】
［１０］前記熱可塑性高分子フィルムが表面処理されていることを特徴とする前記［７］〜[９]のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【００２１】
［１１］表面処理がコロナ放電処理であることを特徴とする前記［１０］に記載の位相差フィルムの製造方法。
【００２２】
［１２］前記ホメオトロピック配向液晶層が、オキセタニル基を有する側鎖型の液晶性高分子から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする前記［７］〜[１１]のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【００２３】
［１３］前記ホメオトロピック配向液晶層が、反応性官能基を有する低分子液晶物質から少なくともなる液晶性組成物からなることを特徴とする前記［７］〜[１１]のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【００２４】
［１４］前記熱可塑性高分子フィルムがシクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする前記［７］〜[１３]のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【００２５】
［１５］前記熱可塑性高分子フィルムがセルロース系樹脂であることを特徴とする前記［７］〜[１３]のいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。
【００２６】
［１６］前記［１］〜[６]のいずれかに記載の位相差フィルムと偏光素子とが積層されてなり、前記位相差フィルムの遅相軸と、前記偏光素子の吸収軸とが、平行又は直交に配されていることを特徴とする偏光板。
【００２７】
［１７］前記［１６]に記載の偏光板が、液晶セルの少なくとも片側に配されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【００２８】
なお、上記の層構成の記載において、「／」は各層の界面を表すものであり、以下同様に表記する。
【発明の効果】
【００２９】
本発明により、Ｎｚ＜１を満たす位相差フィルムを低コストで作製することができ、しかも、このような位相差フィルムの３次元屈折率分布を精度よく制御でき、また延伸に際してもクラック等の不具合が生じることがない位相差フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の位相差フィルムは、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を延伸して得られる位相差フィルムであって、延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、とし、面内のリタデーション（Ｒｅ１）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ１）をそれぞれ式（イ）および式（ウ）とした時、式（ア）で定義されるＮｚ１が、Ｎｚ１＜１．０を満たすことを特徴とする位相差フィルムである。
Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５                          （ア）
Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］                  （イ）
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］  （ウ）
【００３１】
また、本発明の位相差フィルムが、前記ホメオトロピック配向液晶層と、熱可塑性高分子フィルムとを接着剤層あるいは配向膜を介して一体化した積層体を一体化したまま延伸したときに、延伸された液晶層と熱可塑性高分子フィルムの合計から算出される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たすことを特徴とする。
【００３２】
ここで定義する合計Ｎｚ値とは、延伸された液晶層の面内のリタデーション（Ｒｅ１）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ１）と延伸された熱可塑性高分子フィルムの面内のリタデーション（Ｒｅ２）および厚み方向のリタデーション（Ｒｔｈ２）の合計値として定義される合計面内リターデーション（合計Ｒｅ）、合計Ｒｔｈを、それぞれ式（エ）および式（オ）としたとき、式（カ）で定義される値である。
合計Ｒｅ＝Ｒｅ１＋Ｒｅ２                （エ）
合計Ｒｔｈ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２          （オ）
合計Ｎｚ＝合計Ｒｔｈ／合計Ｒｅ＋０．５  （カ）
【００３３】
ここで、延伸された液晶層のＲｅ１値、Ｒｔｈ１値は、延伸された液晶層の面内の主屈折率をｎｘ１、ｎｘ１と直交する方向の屈折率をｎｙ１（ただし、ｎｘ１≧ｎｙ１）、厚み方向の主屈折率をｎｚ１、厚みをｄ１、としたとき、それぞれ式（キ）および式（ク）で定義される。
Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］                  （キ）
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１}×ｄ１［ｎｍ］  （ク）
【００３４】
また、延伸された熱可塑性高分子フィルムのＲｅ２値、Ｒｔｈ２値は、延伸された熱可塑性高分子フィルムの面内の主屈折率をｎｘ２、ｎｘ２と直交する方向の屈折率をｎｙ２（ただし、ｎｘ２≧ｎｙ２）、厚み方向の主屈折率をｎｚ２、厚みをｄ２、としたとき、それぞれ式（ケ）および式（コ）で定義される。
Ｒｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］                  （ケ）
Ｒｔｈ２＝{（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２}×ｄ２［ｎｍ］  （コ）
【００３５】
本発明の位相差フィルムのＮｚ１または合計Ｎｚの値は、１．０未満である。
また、Ｎｚ値は前述の式（ａ４）で定義することもできるが、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙを満たすホメオトロピック配向液晶層を延伸するため、下限を定義できないが、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙを含まない下記範囲を満たすものであればよい。
０＜Ｎｚ＜１  ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ
Ｎｚ＝０      ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙ
Ｎｚ＜０      ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ
【００３６】
液晶層の面内のリタデーション（Ｒｅ１）および熱可塑性高分子フィルムと一体化した場合の合計面内リターデーション（合計Ｒｅ）は、通常１０ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ〜２００ｎｍ、さらに好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲である。Ｒｅ１値および合計Ｒｅ値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
【００３７】
液晶層の厚み方向リタデーション（Ｒｔｈ１）および熱可塑性高分子フィルムと一体化した場合の合計厚みリターデーション（合計Ｒｔｈ）は、通常−４００ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは−３００ｎｍ〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは−２００ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。Ｒｔｈ１値および合計Ｒｔｈ値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
【００３８】
以下に本発明に使用される各種材料等について説明する。
まず液晶性組成物について説明する。
本発明に用いられる液晶性組成物は、ホメオトロピック配向状態で該配向を固定化できる正の一軸性を示す液晶性組成物である。
配向状態にある液晶性組成物を固定化する手段としては、高分子液晶物質主体の組成物の場合は配向状態から急冷してガラス化状態にして固定する方法、反応性官能基を有する低分子液晶物質または高分子液晶物質を配向させた後、前記官能基を反応せしめ（硬化・架橋等）固定化する方法などが挙げられる。
前記反応性官能基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イソシアナート基、酸無水物基等が挙げられ、それぞれの基に適した方法で反応が行われる。
【００３９】
液晶性組成物に使用することのできる液晶物質は、本発明の位相差フィルムが目的とする用途やそれに要求される性能等により、低分子液晶物質、高分子液晶物質を問わず広い範囲から選定することができるが、高分子液晶物質が好ましい。
【００４０】
低分子液晶物質としては、飽和ベンゼンカルボン酸類、不飽和ベンゼンカルボン酸類、ビフェニルカルボン酸類、芳香族オキシカルボン酸類、シッフ塩基型類、ビスアゾメチン化合物類、アゾ化合物類、アゾキシ化合物類、シクロヘキサンエステル化合物類、ステロール化合物類などのメソゲン基となりうる基の末端に前記反応性官能基を導入した液晶性を示す化合物や前記化合物類のなかで液晶性を示す化合物に架橋性化合物を添加した組成物などが挙げられる。
【００４１】
低分子液晶物質をより具体的に説明すると、ＭＧで表されるメソゲン基を有する下記式（Ｘ）で表わされる化合物が好ましい。
Ｐ−（Ｓｐ−Ｘ）ｎ−ＭＧ−Ｒ    （Ｘ）
式（Ｘ）中、Ｐは、前記の反応性官能基であり、Ｐが複数個結合されている場合は、それらは同一でも異なっていてもよい。Ｓｐは、炭素原子１〜２０個を有するスペーサー基であり、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または単結合であり、ｎは、０、１、２のいずれかの整数であり、ＭＧは、メソゲン基またはメソゲン支持基であり、この基は好ましくは、下記式（Ｙ）で示される基から選択され、Ｒは、２５個までの炭素原子を有するアルキル基であり、この基は未置換であるか、あるいは１個または２個以上のハロゲンまたはシアノ基により置換されており、この基中に存在する１個のＣＨ２基または隣接していない２個以上のＣＨ２基はまたそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない様相で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−または−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていてもよく、あるいはＲはまた、ハロゲンまたはシアノ基であるか、あるいは独立して、Ｐ−（Ｓｐ−Ｘ）ｎ−について示されている意味の一つを有する。なお、式（Ｘ）で表される化合物が複数のＰを有する場合は、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００４２】
−（Ａ１−Ｚ１）ｍ−Ａ２−Ｚ２−Ａ３−      （Ｙ）
（式（Ｙ）中、Ａ１、Ａ２およびＡ３は相互に独立して、１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する１個または２個以上のＣＨ基はまた、Ｎにより置き換えられていてもよく、あるいは１，４−シクロヘキシレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ２基または隣接していない２個のＣＨ２基はまた、Ｏおよび（または）Ｓにより置き換えられていてもよく、あるいは１，４−シクロヘキセニレン基またはナフタレン−２，６−ジイル基であり、これらの基は全部が未置換であるか、あるいは１個または２個以上のハロゲン、シアノ基またはニトロ基により、あるいは炭素原子１〜７個を有するアルキル基、アルコキシ基またはアルカノイル基により置換されていてもよく、これらの基中の１個または２個以上のＨ原子はＦまたはＣｌにより置換されていてもよく、ＺｌおよびＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であり、ｍは、０、１または２である。）
【００４３】
高分子液晶物質としては、各種の主鎖型高分子液晶物質、側鎖型高分子液晶物質、またはこれらの混合物（組成物）を用いることができる。
主鎖型高分子液晶物質としては、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリベンズイミダゾール系、ポリベンズオキサゾール系、ポリベンズチアゾール系、ポリアゾメチン系、ポリエステルアミド系、ポリエステルカーボネート系、ポリエステルイミド系等の高分子液晶物質、またはこれらの混合物等が挙げられる。なかでも合成の容易さ、配向性、ガラス転移点などの面から前記の反応性官能基を結合した液晶性ポリエステルが好ましい。
【００４４】
前記の側鎖型高分子液晶物質としては、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリビニル系、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリマロネート系、ポリエステル系等の直鎖状または環状構造の骨格鎖を有する物質に側鎖としてメソゲン基が結合した高分子液晶物質、またはこれらの混合物が挙げられる。
より具体的には、下記一般式（１）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル部位を単独重合もしくは、他の（メタ）アクリル化合物と共重合して得られる側鎖型液晶性高分子物質を好ましく用いる。
【００４５】
【化１】
2009288440.tif 000002
【００４６】
上記式（１）中、Ｒ１は水素またはメチル基を表し、Ｒ２は水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ１およびＬ２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍは式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎおよびｍはそれぞれ０〜１０の整数を示す。
−Ｐ１−Ｌ３−Ｐ２−Ｌ４−Ｐ３−       （２）  
−Ｐ１−Ｌ３−Ｐ３−                   （３）  
−Ｐ３−                               （４）
【００４７】
式（２）〜（４）中、Ｐ１およびＰ２はそれぞれ個別に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ３は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ３およびＬ４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。
【００４８】
【化２】
2009288440.tif 000003
【化３】
2009288440.tif 000004
【００４９】
式（５）において、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、ｎＢｕはノルマルブチル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基をそれぞれ表す。
【００５０】
これらオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の合成法は特に制限されるものではなく、通常の有機化学合成法で用いられる方法を適用することによって合成することができる。例えば、ウィリアムソンのエーテル合成や、縮合剤を用いたエステル合成などの手段でオキセタニル基を持つ部位と（メタ）アクリル基を持つ部位を結合することで、オキセタニル基と（メタ）アクリル基の２つの反応性官能基を持つオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物を合成することができる。ただし反応にあたっては、オキセタニル基がカチオン重合性を有するため、強い酸性条件下では、重合や開環などの副反応を起こすことを考慮して、反応条件を選ぶ必要がある。  
【００５１】
式（１）で表されるオキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル基を単独重合もしくは、他の（メタ）アクリル化合物と共重合することにより下記式（７）で表されるユニットを含む側鎖型液晶性高分子物質が得られる。重合条件は特に限定されるものではなく、通常のラジカル重合やアニオン重合の条件を採用することができる。
【００５２】
ラジカル重合の例としては、各成分に該当する（メタ）アクリル化合物をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどの溶媒に溶かし、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）や過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）などを開始剤として、６０〜１２０℃で数時間反応させる方法が挙げられる。また、液晶相を安定に出現させるために、臭化銅（Ｉ）／２，２’−ビピリジル系や２，２，６，６−テトラメチルピペリジノオキシ・フリーラジカル（ＴＥＭＰＯ）系などを開始剤としたリビングラジカル重合を行い、分子量分布を制御する方法も有効である。これらのラジカル重合は脱酸素条件下に行う必要がある。
【００５３】
アニオン重合の例としては、各成分に該当する（メタ）アクリル化合物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの溶媒に溶かし、有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、グリニャール試薬などの強塩基を開始剤として反応させる方法が挙げられる。また、開始剤や反応温度を最適化することでリビングアニオン重合とし、分子量分布を制御することもできる。これらのアニオン重合は、脱水かつ脱酸素条件で行う必要がある。
【００５４】
また、このとき共重合する（メタ）アクリル化合物は特に限定されるものではなく、合成される高分子物質が液晶性を示せば何でもよいが、合成される高分子物質の液晶性を高めるため、メソゲン基を有する（メタ）アクリル化合物が好ましい。例えば下記式で示されるような（メタ）アクリル化合物を好ましい化合物として例示することができる。
【００５５】
【化４】
2009288440.tif 000005
【００５６】
ここでＲは、Ｈ、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、またはシアノ基を表す。
【００５７】
側鎖型液晶性高分子物質は、式（７）で表されるユニットを５〜１００モル％含むものが好ましく、１０〜１００モル％含むものが特に好ましい。また、側鎖型液晶性高分子物質は、重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であるものが好ましく、５，０００〜５０，０００のものが特に好ましい。この範囲外では延伸時にクラックが発生したり、配向性が悪化したりして好ましくない。
【００５８】
【化５】
2009288440.tif 000006
【００５９】
本発明で用いる液晶性組成物においては、前記側鎖型液晶性高分子物質の他に、液晶性を損なわずに混和し得る種々の化合物を含有することができる。含有することができる化合物としては、オキセタニル基、エポキシ基、ビニルエーテル基などのカチオン重合性官能基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子物質、液晶性を示す各種の低分子液晶性化合物や高分子液晶性化合物などが挙げられる。前記の側鎖型液晶性高分子物質を組成物として用いる場合、組成物全体に占める前記の側鎖型液晶性高分子物質の割合は、１０質量％以上、好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上である。側鎖型液晶性高分子物質の含有量が１０質量％未満では組成物中に占める重合性基濃度が低くなり、配向の固定化が不十分となりやすく好ましくない。
【００６０】
さらに、液晶性組成物中に熱または光架橋反応等によって反応しうる官能基または部位を有している各種化合物を液晶性の発現を妨げない範囲で配合しても良い。架橋反応しうる官能基としては、前述の各種の反応性官能基などが挙げられる。
例えば、前記式（７）で表されるポリ（メタ）アクリレートを用いた場合は下記一般式（８）で表されるジオキセタン化合物を含有させることが好ましい。
【００６１】
【化６】
2009288440.tif 000007
【００６２】
式（８）において、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ３は、それぞれ独立に、単結合または−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは１〜１２の整数）を表し、Ｘ１は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｍ１は、式（９）または式（10）で表されるいずれかであり、式（９）および式（10）中のＰ１は、それぞれ独立に式（11）から選ばれる基を表し、Ｐ２は式（12）から選ばれる基を表し、Ｌ４は、それぞれ独立に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。
−Ｐ１−Ｌ４−Ｐ２−Ｌ４−Ｐ１−    （９）
−Ｐ１−Ｌ４−Ｐ１−                （10）
【００６３】
【化７】
2009288440.tif 000008
【化８】
2009288440.tif 000009
【００６４】
式（11）および式（12）において、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、ｎＢｕはノルマルブチル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基をそれぞれ表す。
【００６５】
より具体的には、Ｍ１基から見て左右のオキセタニル基を結合している連結基は異なっても（非対称型）同一でも（対称型）よく、特に２つのＬ３が異なる場合や他の連結基の構造によっては液晶性を示さないこともあるが、使用には制約とならない。
一般式（８）で表される化合物は、Ｍ１、Ｌ３およびＸ１の組み合わせから多くの化合物を例示することができるが、好ましくは、下記の化合物を挙げることができる。
【００６６】
【化９】
2009288440.tif 000010
【００６７】
これらの化合物は有機化学における通常の合成方法に従って合成することができ、合成方法は特に限定されるものではない。
合成にあたっては、オキセタニル基がカチオン重合性を有するため、強い酸性条件下では、重合や開環などの副反応を起こすことを考慮して、反応条件を選ぶ必要がある。なお、オキセタニル基は類似のカチオン重合性官能基であるオキシラニル基などと比べて、副反応を起こす可能性が低い。さらに、類似したアルコール、フェノール、カルボン酸などの各種化合物をつぎつぎに反応させることもあり、適宜保護基の活用を考慮してもよい。
【００６８】
より具体的な合成方法としては、例えば、ヒドロキシ安息香酸を出発化合物として、ウィリアムソンのエーテル合成法等によりオキセタニル基を結合させ、次いで得られた化合物と本発明に適したジオールとを、酸クロリド法やカルボジイミドによる縮合法等を用いて結合させる方法や、逆に予めヒドロキシ安息香酸の水酸基を適当な保護基で保護し、本発明に適したジオールと縮合後、保護基を脱離させ、適当なオキセタニル基を有する化合物（オキセタン化合物）、例えばハロアルキルオキセタン等と水酸基とを反応させる方法などが挙げられる。
【００６９】
オキセタン化合物と水酸基との反応は、用いられる化合物の形態や反応性により適した反応条件を選定すればよいが、通常、反応温度は−２０℃〜１８０℃、好ましくは１０℃〜１５０℃が選ばれ、反応時間は１０分〜４８時間、好ましくは３０分〜２４時間である。これらの範囲外では反応が充分に進行しなかったり、副反応が生じたりして好ましくない。また、両者の混合割合は、水酸基１当量につき、オキセタン化合物０．８〜１．２当量が好ましい。
【００７０】
反応は、無溶媒でも可能であるが、通常は適当な溶媒下で行われる。使用される溶媒は目的とする反応を妨害しなければ特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、安息香酸エチル等のエステル類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類やこれらの混合物が挙げられる。
【００７１】
本発明において用いられる液晶性組成物は前記の液晶性化合物単独であっても、種々の液晶性化合物の混合物や各種の活性化剤や添加剤を含む組成物であっても、全体が液晶性を示せばよい。これらの液晶性組成物は、前記の低分子液晶物質または高分子液晶物質を少なくとも１０質量％以上、好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上含み、液晶性を示す組成物である。低分子液晶物質または高分子液晶物質の含有量が１０質量％未満では組成物中に占める前記の液晶性を示す化合物の濃度が低くなり、組成物が液晶性を示さなくなる場合があり好ましくない。
【００７２】
本発明における液晶性組成物では、前述のように低分子液晶物質または高分子液晶物質の他に、液晶性を損なわずに混和し得る種々の化合物を含有することができる。含有することができる化合物としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のラジカル重合性基やオキセタニル基、オキシラニル基、ビニルオキシ基などのカチオン重合性基を有する各種の重合性化合物、カルボキシル基、アミノ基、イソシアナート基などの反応性基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子化合物などを配合することもできる。また、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを、さらに反応性の官能基を有する化合物や低分子または高分子液晶物質を用いた場合は、それぞれの官能基に適した反応開始剤や活性化剤、増感剤等を本発明の目的を逸脱しない範囲内で添加してもよい。
【００７３】
反応性基を有する液晶性組成物は、所望の配向を実現させた後、当該反応性基を反応させるに適した条件下で反応を行わせる。
前記の反応開始剤としては、一般のラジカル重合に使用される有機過酸化物類、アゾ化合物や各種の光重合開始剤などが例示される。
光重合開始剤には、適当な光により開裂してラジカルを発生する光ラジカル開始剤、適当な光により開裂してカチオンを発生する光カチオン発生剤を挙げることができる。また必要によっては適当な温度に加熱されることによりカチオンを発生できる熱カチオン発生剤なども使用することができる。
【００７４】
光ラジカル開始剤としては、一般に公知の紫外線（ＵＶ）硬化型塗料、ＵＶ硬化型接着剤、ネガ型レジスト等に使用される市販のベンゾインエーテル類、アシルホスフィンオキシド類、トリアジン誘導体類、ビイミダゾール誘導体類等が挙げられる。
光カチオン発生剤としては、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系などを例示することが出来る。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、ボレートなどが好ましく用いられる。具体的な化合物としては、Ａｒ３Ｓ＋ＳｂＦ６−、Ａｒ３Ｐ＋ＢＦ４−、Ａｒ２Ｉ＋ＰＦ６−（ただし、Ａｒはフェニル基または置換フェニル基を示す。）などが挙げられる。また、スルホン酸エステル類、トリアジン類、ジアゾメタン類、β−ケトスルホン、イミノスルホナート、ベンゾインスルホナートなども用いることができる。
また、熱カチオン発生剤としては、例えば、ベンジルスルホニウム塩類、ベンジルアンモニウム塩類、ベンジルピリジニウム塩類、ベンジルホスホニウム塩類、ヒドラジニウム塩類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、アミンイミド類、五塩化アンチモン−塩化アセチル錯体、ジアリールヨードニウム塩−ジベンジルオキシ銅、ハロゲン化ホウ素−三級アミン付加物などを挙げることができる。
【００７５】
これらの反応開始剤の液晶性組成物中への添加量は、用いる液晶化合物を構成するメソゲン部分やスペーサ部分の構造、分子量、液晶の配向条件などにより異なるため一概には言えないが、液晶化合物に対し、通常１００質量ｐｐｍ〜２０質量％、好ましくは１０００質量ｐｐｍ〜１０質量％、より好ましくは０．５質量％〜７質量％の範囲である。１００質量ｐｐｍよりも少ない場合には、反応開始剤から発生する活性種の量が十分でなく反応が進行しないおそれがあり、また２０質量％よりも多い場合には、液晶性組成物中に残存する反応開始剤の分解残存物等が多くなり着色したり、耐光性などが悪化するおそれがあるため好ましくない。
【００７６】
次に本発明で用いられる熱可塑性高分子フィルムについて説明する。
本発明で用いられる熱可塑性高分子フィルムとしては、透明性に優れるものが好ましく、たとえば、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂等が挙げられる。
【００７７】
また、従来公知の光学フィルムを使用することもできる。具体的には、富士フイルム（株）製の商品名「フジタック」や日本ゼオン（株）製の商品名「ゼオノア」、ＪＳＲ（株）製の商品名「アートン」、積水化学（株）製の商品名「エスシーナ」などが挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報に記載のポリマーフィルムが挙げられる。このポリマー材料として、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。
【００７８】
また、これら熱可塑性高分子フィルムの厚みは、通常１２〜２００μｍであり、好ましくは２０〜１５０μｍ、より好ましくは２５〜１００μｍである。厚みを１２μｍ以上とすれば、後述する塗工工程における塗工精度がより一層優れたものとなり、また厚みを２００μｍ以下とすれば、例えば、液晶セルに実装した際の外観をより一層向上させることができる。
なお、熱可塑性高分子フィルムの光学特性については特に限定されず、既に延伸および／または収縮処理を行い、光学的に異方性を有するものであっても良いし、そのような光学特性を有しないものであっても良い。また、市販のものをそのまま用いても良い。延伸する前の該熱可塑性フィルムの位相差値については、特に限定は無い。
【００７９】
熱可塑性フィルムが延伸後位相差を発現する場合の熱可塑性フィルムの面内のリタデーション（Ｒｅ２）は、通常１０ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ〜２００ｎｍ、さらに好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲である。Ｒｅ２値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
熱可塑性フィルムが延伸後位相差を発現する場合の熱可塑性フィルムの厚み方向リタデーション（Ｒｔｈ２）は、通常−３００ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは−２００ｎｍ〜２００ｎｍ、さらに好ましくは−１５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲である。Ｒｔｈ２値が上記範囲を外れた場合には、十分な視野角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。
【００８０】
ホメオトロピック配向液晶層の形成に用いる配向基板としては、平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板などを挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子からなる材料を用いることが好ましい。有機高分子材料の例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース等が例示できる。前述の液晶性組成物を用い、安定してホメオトロピック配向を得るためには、これらの基板を構成する材料が長鎖(通常炭素数４以上、好ましくは８以上)のアルキル基を有していることがより好ましい。中でも長鎖アルキル基を有するポリビニルアルコールが最も好ましい。なお、これら有機高分子材料は単独で基板として用いても良いし、他の基板の上に薄膜として形成させていても良い。
【００８１】
本発明に使用される配向層について説明する。
本発明においては、液晶性組成物の配向はホメオトロピック配向であるため、前記の熱可塑性高分子フィルム上や配向基板上に形成される液晶性組成物層が液晶状態でホメオトロピック配向を形成できる配向層が必要である。かかる配向層の形成は、液晶性組成物がホメオトロピック配向できるものであれば特に制限はない。熱可塑性高分子フィルムや配向基板の中には、改めて配向能を発現させるための処理を行わなくとも本発明に使用される液晶性組成物に対して十分なホメオトロピック配向能を示すものもあるが、該配向能が不十分、または配向能を示さない等の場合には、様々な物理的処理や化学的処理あるいはこれらを組み合わせた処理を用いることができる。
【００８２】
物理的処理としては、適度な加熱下に延伸する、フィルム面をレーヨン布等で一方向に擦るいわゆるラビング処理を行う、ラングミュア−ブロジェット膜の形成などを挙げることができる。化学的処理としては、フィルム上に好ましくは長鎖アルキル基（通常炭素数４以上、好ましくは８以上）を結合したポリイミド、ポリビニルアルコールやシランカップリング剤などの界面活性剤等の公知の配向剤からなる配向膜を設ける、酸化珪素等の蒸着処理などを挙げることができる。あるいはこれらを適宜組み合わせるなどしてホメオトロピック配向能を発現させてもよい。
【００８３】
液晶の分野においては、基板に対して布等でこするラビング処理を行うことが一般的であるが、本発明のホメオトロピック配向液晶層は、面内の異方性が基本的に生じない配向構造であるため、必ずしもラビング処理を必要としない。しかしながら、液晶性組成物を塗布したときのはじき抑制の観点からは弱いラビング処理を施すことがより好ましい。ラビング条件を規定する重要な設定値としては周速比がある。これはラビング布をロールに巻きつけて回転させつつ基板を擦る場合の、布の移動速度と基板の移動速度の比を表す。  本発明においては弱いラビング処理とは、通常周速比が５０以下、より好ましくは２５以下、特に好ましくは１０以下である。周速比が５０より大きい場合、ラビングの効果が強すぎて液晶性組成物が完全に垂直に配向しきれず、垂直方向より面内方向に倒れた配向となる恐れがある。
【００８４】
液晶性組成物を前記熱可塑性高分子フィルムや配向基板上に展開して液晶性組成物層を形成する方法としては、液晶性組成物を溶融状態で熱可塑性高分子フィルムや配向基板上に塗布する方法や、液晶性組成物の溶液を熱可塑性高分子フィルムや配向基板上に塗布後、塗膜を乾燥して溶媒を留去させる方法が挙げられる。
溶液の調製に用いる溶媒に関しては、本発明に使用される液晶性組成物を溶解でき適当な条件で留去できる溶媒であれば特に制限はなく、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、熱可塑性高分子フィルムや配向基板上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。
【００８５】
液晶性組成物を直接塗布する方法でも、溶液を塗布する方法でも、塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、各種のダイコート法、バーコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法、スピンコート法などが挙げられる。
液晶性組成物の溶液を塗布する方法では、塗布後に溶媒を除去するための乾燥工程を入れることが好ましい。この乾燥工程は、塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけなどの方法が挙げられる。
【００８６】
続いて、熱可塑性高分子フィルム上に形成された液晶性組成物層を、熱処理などの方法で液晶配向を形成し、用いた液晶性組成物に適した方法、例えば光照射および／または加熱処理で反応させ固定化する。最初の熱処理では、使用した液晶性組成物の液晶相発現温度範囲に加熱することで、該液晶性組成物が本来有する自己配向能により液晶を配向させる。熱処理の条件としては、用いる液晶性組成物の液晶相挙動温度（転移温度）により最適条件や限界値が異なるため一概には言えないが、通常１０〜２５０℃、好ましくは３０℃〜１６０℃の範囲であり、該液晶性組成物のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度、さらに好ましくはＴｇより１０℃以上高い温度で熱処理するのが好ましい。あまり低温では、液晶配向が充分に進行しないおそれがあり、また高温では液晶性組成物中の反応性官能基や、熱可塑性高分子フィルムや配向基板に悪影響を与えるおそれがある。また、熱処理時間については、通常３秒〜３０分、好ましくは１０秒〜１０分の範囲である。３秒より短い熱処理時間では、液晶配向が充分に完成しないおそれがあり、また３０分を超える熱処理時間では、生産性が悪くなるため、どちらの場合も好ましくない。
【００８７】
該液晶性組成物層を熱処理などの方法でホメオトロピック配向を形成したのち、配向状態を保ったまま液晶性組成物を組成物中の反応性官能基の反応により硬化させる。硬化工程は、完成した液晶配向を硬化（架橋）反応により液晶配向状態を固定化することを目的にしている。
【００８８】
本発明の液晶性組成物は、反応性官能基を有するので該反応性官能基の反応性にあわせた反応条件を設定して反応させることが必要である。
例えば、前記の式（７）で表される側鎖型液晶性高分子物質を用いた液晶性組成物の場合は、重合性のオキセタニル基を持つため、その反応基の重合（架橋）には、カチオン重合開始剤（光カチオン発生剤および／または熱カチオン発生剤）を用いるのが好ましいことは前述のとおりである。また、重合開始剤としては、熱カチオン発生剤より光カチオン発生剤の使用が好ましい。
【００８９】
光カチオン発生剤を用いた場合、光カチオン発生剤の添加後、液晶の配向のための熱処理までの工程を暗条件（光カチオン発生剤が解離しない程度の光遮断条件）で行えば、液晶性組成物は配向段階までは硬化することなく、充分な流動性をもって配向することができる。この後、適当な波長の光を発する光源からの光を照射することによりカチオンを発生させ、液晶性組成物層を硬化させる。
【００９０】
光照射の方法としては、用いる光カチオン発生剤の吸収波長領域にスペクトルを有するようなメタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなどの光源からの光を照射し、光カチオン発生剤を開裂させる。１平方センチメートルあたりの照射量としては、積算照射量として通常１〜２０００ｍＪ、好ましくは１０〜１０００ｍＪの範囲である。ただし、光カチオン発生剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、液晶性組成物を構成する液晶性高分子に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の光カチオン発生剤を混合して用いるなどの方法を採ることもできる。
光照射時の温度は、該液晶性組成物が液晶相をとる温度範囲である必要がある。また、硬化の効果を充分にあげるためには、該液晶性組成物のＴｇ以上の温度で光照射を行うのが好ましい。
【００９１】
本発明の位相差フィルムの製造方法は後述するが、上記熱可塑性高分子フィルム上にホメオトロピック配向液晶層を形成させ、延伸する方法の他に、別途、配向基板上にホメオトロピック配向液晶層が形成された形態から、熱可塑性高分子フィルムに該液晶層を転写した形態からも製造することができる。
【００９２】
転写方法としては公知の方法を採用することができる。例えば、特開平４−５７０１７号公報や特開平５−３３３３１３号公報に記載されているように、配向基板上に形成したホメオトロピック配向液晶層を接着剤を介して、熱可塑性高分子フィルムと積層した後に、必要により接着剤に硬化処理を施し、該積層体から配向基板を剥離することで液晶層のみを熱可塑性高分子フィルムに転写する方法等を挙げることができる。
転写に使用する接着剤は、光学グレードのものであれば特に制限はなく、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系など一般に用いられているものを用いることができる。なお、接着剤に替えてその性能により粘着剤を使用することもできる。
【００９３】
次いで、本発明に使用することができる接着剤層について説明する。
配向基板上のホメオトロピック配向液晶層を熱可塑性高分子フィルムに転写するために使用される接着剤としては、当該液晶層および熱可塑性高分子フィルムに対して十分な接着力を有し、前記液晶層の光学的特性を損なわないものであれば、特に制限はなく、例えば、アクリル樹脂系、メタクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系、ゴム系、ウレタン系、ポリビニルエーテル系およびこれらの混合物系や、熱硬化型および／または光硬化型、電子線硬化型等の各種反応性のものを挙げることができる。
【００９４】
前記反応性のものの反応（硬化）条件は、構成する成分、粘度や反応温度等の条件により変化するため、それぞれに適した条件を選択して行えばよい。例えば、光硬化型の場合は、好ましくは各種の公知の光開始剤を添加し、メタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザー、シンクロトロン放射光源などの光源からの光を照射し、反応を行わせればよい。単位面積（１平方センチメートル）当たりの照射量としては、積算照射量として通常１〜２０００ｍＪ、好ましくは１０〜１０００ｍＪの範囲である。ただし、光開始剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、あるいは反応性の化合物自身に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、あるいは吸収波長の異なる２種以上の光開始剤を混合して用いるなどの方法を採ることも出来る。電子線硬化型の場合の加速電圧は、通常１０ｋＶ〜２００ｋＶ、好ましくは５０ｋＶ〜１００ｋＶである。
【００９５】
接着剤層の形成は、前記の液晶層の形成と同様に行ってもよく、またシリコーン等の易剥離層を設けた適当な基板上に前記の接着剤層を形成したいわゆるノンキャリア型接着剤を用いてもよい。ホメオトロピック配向液晶層と熱可塑性高分子フィルムとの接着は強度を向上させる、接着界面に空気の残存による泡の発生を防止する、などのためにラミネーター、ロール、加圧器等を用いて加圧、加熱等を加えてもよい。
【００９６】
接着剤層の厚さは、構成成分や強度や使用温度などにより異なるが、通常１〜５０μｍ、好ましくは２〜３０μｍ、さらに好ましくは３〜１０μｍである。この範囲外では接着強度が不足したり、端部よりの滲み出しなどがあったりして好ましくない。
【００９７】
また、液晶層と熱可塑性高分子フィルムの接着性を改善するために、液晶層もしくは熱可塑性高分子フィルムに表面処理を施しても良い。また、熱可塑性高分子液晶フィルム上に易接着層を設けても良い。
【００９８】
本発明に使用される熱可塑性高分子フィルムは、単独で、または後述する製造方法（II）における積層体（Ａ）の形態で表面処理を施しておくのが好ましい。
表面処理は、熱可塑性高分子フィルムに適した方法を用いればよく、かかる方法としては、コロナ放電処理、火炎処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理等を挙げることができ、より好ましくは、シクロオレフィン系ポリマーを用いた場合は、コロナ放電処理が好ましい。
【００９９】
前記のコロナ放電処理も通常の条件でよく、例えば、接着剤と接する面に施す。処理条件としては、粘・接着剤と接する面の性情やコロナ処理装置等により異なるが、例えばエネルギー密度として１〜３００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２が好適である。コロナ放電処理を施すことによって表面張力は増大するが、４０ｄｙｎ／ｃｍ以上に高くしておくことが望ましい。
【０１００】
次に本発明の位相差フィルムの製造方法について詳細に説明する。
本発明で得られる位相差フィルムの製造方法は、以下の製造方法（Ｉ）〜（III）の３通りから選ばれる。
［Ａ］製造方法（Ｉ）
（１）熱可塑性高分子フィルムの上に、正の一軸性を示す液晶性組成物がホメオトロピック配向を形成するための配向層を形成する第１工程、
（２）配向層上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層フィルムを得る第２工程、
（３）前記の熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層フィルムを延伸して、位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たす位相差フィルムの製造方法。
【０１０１】
［Ｂ］製造方法（II）
（１）配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記積層体（Ａ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を前記熱可塑性高分子フィルムに転写し、熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、
（３）前記の熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を延伸して、位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たす位相差フィルムの製造方法。
【０１０２】
［Ｃ］製造方法（III）
（１）配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を塗布し、該層をホメオトロピック配向させた後、配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を形成させて、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記の配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を延伸して、積層体（Ｃ）を得る第２工程、
（３）前記積層体（Ｃ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと接着せしめた後、配向基板／ホメオトロピック配向液晶層を前記熱可塑性高分子フィルムに転写した後、配向基板を剥離して、熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる位相差フィルムを得る第３工程、
の各工程から少なくともなり、前記式（カ）で定義される合計Ｎｚ値が、合計Ｎｚ＜１．０を満たす位相差フィルムの製造方法。
【０１０３】
製造方法（Ｉ）について説明する。
まず、第１工程について説明する。
前述した熱可塑性高分子フィルム上に、液晶性組成物がホメオトロピック配向を形成する配向層を形成すればよく、かかる形成方法として前述の物理的処理や化学的処理等から用いる熱可塑性高分子フィルムに適した処理を行えばよい。
次いで、第２工程の製造方法について説明する。
第１工程で製造した配向層上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の塗膜を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、加熱等により液晶性組成物の配向を完成せしめ、用いた液晶性組成物に適した手段により液晶性組成物のホメオトロピック配向を固定化する。かくして、熱可塑性高分子フィルム／配向層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体が得られる。
次いで第３工程として、前記積層体を延伸することで本発明の位相差フィルムを得ることが出来る。
【０１０４】
得られた位相差フィルムは、表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性オーバーコートとしては、前述の接着剤から適宜選定することも出来る。
【０１０５】
延伸方法としては、例えば、前記積層体を長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で幅方向に延伸する固定端横延伸、長手方向及び幅方向の両方向に延伸を逐次または同時に行う二軸延伸などの方法が挙げられる。
延伸は、通常加熱しながら行われ、加熱温度は一般的に１００〜２５０℃であるが、好ましくは１２０〜２５０℃、より好ましくは１３０〜２００℃である。加熱温度が１００℃以下の場合は、延伸の際にフィルムにクラックが入る虞があり、また２５０℃以上の場合は所望の位相差が得られない虞があり好ましくない。
【０１０６】
前記一軸あるいは二軸延伸を行う場合、延伸倍率は通常１．０１倍以上３．０倍以下、好ましくは１．０３倍以上２．０倍以下、さらに好ましくは１．０５倍以上１．６倍以下とすることができる。延伸倍率が１．０１倍未満であると延伸による効果が十分でなくフィルムのホメオトロピック配向液晶層の屈折率構造に近い構造にしかならないおそれがあるため好ましくない。延伸倍率が３．０倍より大きい時は、延伸むらのために不均一な屈折率構造となってしまうか液晶層にクラックが入るおそれがある。
【０１０７】
次に、製造方法（II）について説明する。
まず、第１工程である積層体（Ａ）の製造方法について説明する。
適宜な処理等によりホメオトロピック配向能を有する配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の塗膜を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、液晶性組成物層をホメオトロピック配向させ、用いた液晶性組成物に適した手段で該配向を固定化する。かくして配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ａ）を得ることが出来る。
次いで、第２工程の製造方法について説明する。
前記積層体（Ａ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと密着した後、必要により接着剤層１を反応（硬化）させた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を熱可塑性高分子フィルムに転写する。かくして熱可塑性高分子フィルム／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｂ）を得ることが出来る。
次いで第３工程として、前記積層体（Ｂ）を延伸することで本発明の位相差フィルムを得ることが出来る。なお、延伸条件は製造方法（Ｉ）と同様でよい。
かくして、本発明の位相差フィルムを得ることができる。
【０１０８】
また、得られた位相差フィルムは、表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性オーバーコートとしては、前述の接着剤から選定することも出来る。
また本発明では、ホメオトロピック配向液晶層を接着剤層を介して繰り返し積層することにより、ホメオトロピック配向液晶層の層を複数、積層することも可能である。
【０１０９】
次に、製造方法（III）について説明する。
まず、第１工程である積層体（Ａ）の製造方法については、製造方法（II）と同様である。
次いで第２工程として、前記積層体（Ａ）を延伸することで、延伸した配向基板／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体（Ｃ）を得ることが出来る。なお、延伸条件は製造方法（Ｉ）と同様でよい。
次いで第３工程として、前記積層体（Ｃ）のホメオトロピック配向液晶層側を、接着剤層１を介して、熱可塑性高分子フィルムと密着した後、必要により接着剤層１を反応（硬化）させた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を熱可塑性高分子フィルムに転写する。
かくして、本発明の位相差フィルムを得ることができる。
【０１１０】
また、得られた位相差フィルムは、表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性オーバーコートとしては、前述の接着剤から選定することも出来る。
【０１１１】
上記の製造方法において形成される延伸前のホメオトロピック配向液晶層は、該液晶層の厚さをｄ３、液晶層面内の主屈折率をｎｘ３，ｎｙ３、厚さ方向の主屈折率をｎｚ３、かつ、ｎｘ３≧ｎｙ３とした場合、面内の位相差値（Ｒｅ３）を、Ｒｅ３＝（ｎｘ３−ｎｙ３）×ｄ３［ｎｍ］、厚さ方向の位相差値（Ｒｔｈ３）を、Ｒｔｈ３＝（ｎｘ３−ｎｚ３）×ｄ３［ｎｍ］としたとき、Ｒｅ３およびＲｔｈ３は、使用する用途や、また液晶表示装置の視角改良フィルムとして使用する場合においても液晶表示装置の方式や種々の光学パラメーターに依存することから一概には言えないが、５５０ｎｍの単色光に対して、Ｒｅ３は、通常０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは０ｎｍ〜３０ｎｍ、さらに好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲であり、かつ、Ｒｔｈ３は、通常−６００〜−３０ｎｍ、好ましくは−４００〜−５０ｎｍ、さらに好ましくは−４００〜−１００ｎｍに制御されたものである。
【０１１２】
前述のＲｅ３およびＲｔｈ３は、当該液晶層の光学位相差を垂直入射から傾けた角度で測定することによって定量化することができる。ホメオトロピック配向液晶層の場合、この位相差値は垂直入射について対称的である。光学位相差の測定には数種の方法を利用することができ、例えば自動複屈折測定装置（王子計測機器（株）製）および偏光顕微鏡を利用することができる。このホメオトロピック配向液晶層はクロスニコル偏光子間で黒色に見える。このようにしてホメオトロピック配向性を評価した。
【０１１３】
本発明の位相差フィルムの構成は、上記のようなＮｚ＜１を満たす位相差フィルムを備えていれば特に限定されず、各種光学用途に応じて、前記位相差フィルムのみからなるものを単独で使用しても良いし、他の光学部材と組み合わせた構成のものを使用しても良い
【０１１４】
本発明の偏光板は、前記位相差フィルムと偏光素子とが積層されたものである。位相差フィルムと偏光素子とを備えていれば、その他の構成については特に制限は無い。位相差フィルムと偏光素子とは、直接貼り合わされてもよく、他の部材を介して積層されても良い。
【０１１５】
本発明に使用できる偏光素子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光素子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させたもの、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光素子の厚さも特に制限されないが、５〜８０μｍ程度が一般的である。
【０１１６】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光素子は、たとえば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０１１７】
偏光素子の一方の面に設けられる透光性保護フィルムとしては、光学的に等方な基板が好ましく、例えばフジタック（富士フイルム社製品）やコニカタック（コニカミノルタオプト社製品）などのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、アートンフィルム（ＪＳＲ社製品）やゼオノアフィルム、ゼオネックスフィルム（日本ゼオン社製品）などのシクロオレフィン系ポリマー、ＴＰＸフィルム（三井化学社製品）、アクリプレンフィルム（三菱レーヨン社製品）が挙げられるが、偏光板とした場合の平面性、耐熱性や耐湿性などからトリアセチルセルロース、シクロオレフィン系ポリマーが好ましい。透光性保護フィルムの厚さは、一般には２００μｍ以下であり、１〜１００μｍが好ましい。特に５〜５０μｍとするのが好ましい。
【０１１８】
透光性保護フィルムとしては、表面にハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、光拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものを用いることができる。
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を当該保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【０１１９】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜５０重量部程度であり、５〜２５重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための光拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
【０１２０】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、光拡散層やアンチグレア層等は、透光性保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透光性保護フィルム層とは別体のものとして設けることもできる。
【０１２１】
次に、本発明の位相差フィルムを適用する液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は、前記位相差フィルムを少なくとも有する。本発明の位相差フィルムを液晶セルに配置する場合には、位相差フィルムを偏光素子層と液晶セルの間に配置する、または少なくとも一方の偏光板を本発明の偏光板と置換することが必要である。
【０１２２】
液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、および位相差補償板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材から構成されるが、本発明においては前記位相差フィルムを使用する点を除いて特に制限は無い。また位相差フィルムの使用位置は特に制限はなく、１カ所でも複数カ所でも良い。また、他の位相差板と組み合わせて使用することも出来る。
【０１２３】
液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。
液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。
【０１２４】
前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶物質、高分子液晶物質およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性物質等を添加することもできる。
【０１２５】
前記液晶セルは、前記電極基板および液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。
前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Twisted Nematic）方式，ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式，ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式，ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式，ＶＡ（Vertical Alignment）方式，ＯＣＢ（Optically Compensated Birefringence）方式，ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）方式、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）方式，ハーフトーングレイスケール方式，ドメイン分割方式，あるいは強誘電性液晶，反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。
また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ(Thin Film Transistor)電極、ＴＦＤ(Thin Film Diode)電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。
【０１２６】
前記液晶表示装置に用いる位相差補償板としては、透明性と均一性に優れたものであれば特に制限されないが、高分子延伸フィルムや、液晶からなる光学補償フィルムが好ましく使用できる。高分子延伸フィルムとしては、セルロース系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルフォン系、ポリアクリル系、ポリエーテルスルフォン系、シクロオレフィン系ポリマー等からなる１軸又は２軸位相差フィルムを例示することができる。中でもポリカーボネート系やシクロオレフィン系ポリマーがコスト面およびフィルムの均一性から好ましい。
また、ここで言う液晶からなる光学補償フィルムとは、液晶を配向させてその配向状態から生じる光学異方性を利用できるフィルムであれば特に制限されるものではない。例えばネマチック液晶やディスコチック液晶、スメクチック液晶等を利用した各種光学機能性フィルム等、公知のものを使用することができる。
ここに例示した位相差補償板は、液晶表示装置を構成するにあたり、１枚のみの使用でも良いし、複数枚使用しても良い。また、高分子延伸フィルムと、液晶からなる光学補償フィルムの両方を使用することもできる。
【０１２７】
前記反射層としては、特に制限されず、アルミニウム、銀、金、クロム、白金等の金属やそれらを含む合金、酸化マグネシウム等の酸化物、誘電体の多層膜、選択反射を示す液晶又は、これらの組み合わせ等を例示することができる。これら反射層は平面であっても良く、また曲面であっても良い。さらに反射層は、凹凸形状など表面形状に加工を施して拡散反射性を持たせたもの、液晶セルの観察者側と反対側の前記電極基板上の電極を兼備させたもの、反射層の厚みを薄くしたり、穴をあける等の加工を施すことで光を一部透過させるようにした半透過反射層であっても良く、またそれらを組み合わせたものであっても良い。
【０１２８】
前記光拡散層は、入射光を等方的あるいは異方的に拡散させる性質を有するものであれば、特に制限はない。例えば２種以上の領域からなり、その領域間に屈折率差をもつものや、表面形状に凹凸を付けたものが挙げられる。前記２種以上の領域からなり、その領域間に屈折率差をもつものとしては、マトリックス中にマトリックスとは異なる屈折率を有する粒子を分散させたものが例示される。前記拡散層はそれ自身が粘接着性を有するものであっても良い。
前記光拡散層の膜厚は、特に制限されるものではないが、通常１０μｍ以上５００μｍ以下であることが望ましい。
また光拡散層の全光線透過率は、５０％以上であることが好ましく、特に７０％以上であることが好ましい。さらに当該光拡散層のヘイズ値は、通常１０〜９５％であり、好ましくは４０〜９０％であり、さらに好ましくは６０〜９０％であることが望ましい。
【０１２９】
前記バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシートとしては、特に制限されず公知のものを使用することができる。
【０１３０】
本発明の液晶表示装置は、前記した構成部材以外にも他の構成部材を付設することができる。例えば、カラーフィルターを本発明の液晶表示装置に付設することにより、色純度の高いマルチカラー又はフルカラー表示を行うことができるカラー液晶表示装置を作製することができる。
【実施例】
【０１３１】
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである。
（１）ＧＰＣの測定
化合物をテトラヒドロフランに溶解し、東ソー社製８０２０ＧＰＣシステムで、ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＳｕｐｅｒＨ１０００、ＳｕｐｅｒＨ２０００、ＳｕｐｅｒＨ３０００、ＳｕｐｅｒＨ４０００を直列につなぎ、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて測定した。分子量の較正にはポリスチレンスタンダードを用いた。
（２）顕微鏡観察
オリンパス光学社製ＢＨ２偏光顕微鏡で液晶の配向状態を観察した。
（３）光学パラメータの測定
王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いた。
（４）膜厚測定法
ＳＬＯＡＮ製ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＥＸＴＵＲＥ  ＡＮＡＬＹＳＩＳ  ＳＹＳＴＥＭ  Ｄｅｋｔａｋ  ３０３０ＳＴを用いた。また、干渉波測定（日本分光（株）製  紫外・可視・近赤外分光光度計Ｖ−５７０）と屈折率のデータから膜厚を求める方法も併用した。
【０１３２】
［実施例１］
下記式（13）の液晶性ポリマーを合成した。分子量はポリスチレン換算で、Ｍｎ＝８０００、Ｍｗ＝１５０００であった。なお、式（13）はブロック重合体の構造で表記しているがモノマーの構成比を表すものである。
式（13）のポリマー１．０ｇを、９ｍｌのシクロヘキサノンに溶かし、暗所でトリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート５０％プロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬）０．１ｇを加えた後、孔径０．４５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して液晶性組成物の溶液を調製した。
【０１３３】
【化１０】
2009288440.tif 000011
【０１３４】
配向基板は以下のようにして調製した。厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ，東レ（株）製）を１５ｃｍ角に切り出し、アルキル変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ，（株）クラレ製、ＭＰ−２０３）の５質量％溶液（溶媒は、水とイソプロピルアルコールの質量比１：１の混合溶媒）をスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１２０℃のオーブンで１０分間加熱した。
【０１３５】
このようにして得られた配向基板に、前述の液晶性組成物溶液をスピンコート法により塗布した。次いで６０℃のホットプレートで１０分乾燥し、１５０℃のオーブンで２分間熱処理し、液晶性組成物を配向させた。次いで、６０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を照射して、液晶性組成物を硬化させ、ＰＥＴフィルム／ＰＶＡ層／液晶性組成物層からなる積層体Ａを得た。
【０１３６】
配向基板として用いたＰＥＴフィルムは大きな複屈折を有するため、積層体Ａの形態では液晶性組成物層（ホメオトロピック配向液晶層）の光学パラメータ（Ｒｅ３、Ｒｔｈ３等）の測定が困難なため、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に次のようにして液晶性組成物層（ホメオトロピック配向液晶層）を転写した。
すなわち、ＰＥＴフィルム上の液晶性組成物層（ホメオトロピック配向液晶層）上に、接着剤層１として紫外線硬化型接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、ＴＡＣフィルム（４０μｍ厚）でラミネートして、ＴＡＣフィルム側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、ＰＶＡ層およびＰＥＴフィルムを剥離し、積層体Ｂ（液晶性組成物層（ホメオトロピック配向液晶層）／接着剤層１／ＴＡＣフィルム）を得た。
【０１３７】
得られた積層体Ｂを偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向で、コノスコープ観察から正の一軸性屈折率構造を有するホメオトロピック配向であることがわかった。ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定した積層体Ｂの面内方向の位相差値（Ｒｅ）は０．５ｎｍ、厚さ方向の位相差値(Ｒｔｈ)は−１６０ｎｍであった。なお、用いたＴＡＣフィルム単体は負の一軸性でＲｅが−０.５ｎｍ、Ｒｔｈは＋４０ｎｍであったことから、ホメオトロピック配向液晶層単独のＲｅ３は０ｎｍ、またＲｔｈ３は−２００ｎｍと見積もられた。なお、ＴＡＣフィルムのＲｅおよびＲｔｈは、Ｒｅ３およびＲｔｈ３と同様の定義である。
【０１３８】
積層体Ａのホメオトロピック配向液晶層に市販のＵＶ硬化型接着剤（ＵＶ−３４００、東亞合成（株）製）を５μｍの厚さに接着剤層２として塗布し、この上に、２５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ処理を施したゼオノアフィルム（膜厚１００μｍ、日本ゼオン製）を、そのコロナ処理後３０秒以内にそのコロナ処理面でラミネートし、約６００ｍＪのＵＶ照射により該接着剤層２を硬化させた。ＰＥＴフィルム／ＰＶＡ層／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／ゼオノアフィルムが一体となった積層体からＰＥＴフィルムおよびＰＶＡ層を剥離することにより、ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／ゼオノアフィルムからなる積層体Ｃを得た。積層体Ｃの総厚みは、１１０μｍであった。
【０１３９】
その後、積層体Ｃを１４０℃に加熱しながら長手方向に２０％延伸し、位相差フィルムＤを得た。
また、ゼオノアフィルム単体（膜厚１００μｍ、日本ゼオン（株）製）を積層体Ｃと同じく、１４０℃に加熱しながら、長手方向に２０％延伸した位相差フィルムＥを得た。
【０１４０】
位相差フィルムＥの斜め方向の位相差値を自動複屈折計を用いて測定したところ、Ｒｅ２＝１６１ｎｍ、Ｒｔｈ２＝８５ｎｍであった。
同様に、積層体Ｄの斜め方向の位相差値を測定したところ、合計Ｒｅ＝２２２ｎｍ、合計Ｒｔｈ＝３４ｎｍであった。
前記式（エ）、（オ）、（カ）より、
合計Ｒｅ＝Ｒｅ１＋Ｒｅ２                （エ）
合計Ｒｔｈ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２          （オ）
合計Ｎｚ＝合計Ｒｔｈ／合計Ｒｅ＋０．５  （カ）
液晶層のみのＲｅ１、Ｒｔｈ１は、
Ｒｅ１＝２２２−１６１＝６１ｎｍ
Ｒｔｈ１＝３４−８５＝−５１ｎｍ
であり、液晶層のＮｚ１値は、
Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５
＝−５１／６１＋０．５＝−０．３４（＜１．０）
であった。また、合計Ｎｚ値は、前記式（カ）より
合計Ｎｚ＝３４／２２２＋０．５＝０．６５（＜１．０）であった。
【０１４１】
［実施例２］
厚さ１００μｍのゼオノアフィルム（日本ゼオン（株）製）を１５ｃｍ角に切り出し、アルキル変性ポリビニルアルコール（（株）クラレ製、ＭＰ−２０３）の５質量％溶液（溶媒は、水とイソプロピルアルコールの質量比１：１の混合溶媒）をスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１２０℃のオーブンで１０分間加熱した。
このようにして得られた基板上に、実施例１で作製した液晶性組成物溶液をスピンコート法により塗布した。次いで６０℃のホットプレートで１０分乾燥し、１５０℃のオーブンで２分間熱処理し、液晶性組成物層を配向させた。次いで、６０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光を照射して、液晶性組成物層を硬化させ、ゼオノアフィルム／ＰＶＡ層／ホメオトロピック配向液晶層からなる積層体Ｆを得た。
その後、積層体Ｆを１４０℃に加熱しながら長手方向に２０％延伸し、位相差フィルムＧを得た。
また、ゼオノアフィルム単体（膜厚１００μｍ、日本ゼオン（株）製）を積層体Ｆと同じく、１４０℃に加熱しながら、長手方向に２０％延伸した位相差フィルムＨを得た。
位相差フィルムＨの斜め方向の位相差値を自動複屈折計を用いて測定したところ、Ｒｅ２＝１６１ｎｍ、Ｒｔｈ２＝８５ｎｍであった。
同様に、位相差フィルムＧ（ゼオノアフィルムと液晶層の積層体）の斜め方向の位相差値を測定したところ、合計Ｒｅ＝２２３ｎｍ、合計Ｒｔｈ＝３１ｎｍであった。
実施例１と同様に計算することにより、液晶層のみのＲｅ１、Ｒｔｈ１は、
Ｒｅ１＝２２３−１６１＝６０ｎｍ
Ｒｔｈ１＝３１−８５＝−５４ｎｍ
であり、液晶層のＮｚ１値は、
Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５
＝−５４／６０＋０．５＝−０．３９（＜１．０）
であった。また、合計Ｎｚ値は、前記式（カ）より
合計Ｎｚ＝３１／２２３＋０．５＝０．６４（＜１．０）であった。
【０１４２】
［実施例３］
実施例２にて、積層体Ｆを１４０℃に加熱しながら長手方向に２０％延伸した得た位相差フィルムＧのホメオトロピック配向液晶層に市販のＵＶ硬化型接着剤（ＵＶ−３４００、東亞合成（株）製）を５μｍの厚さに接着剤層２として塗布し、この上に、２５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ処理を施したゼオノアフィルム２（膜厚１００μｍ、日本ゼオン（株）製）を、そのコロナ処理後３０秒以内にそのコロナ処理面でラミネートし、約６００ｍＪのＵＶ照射により該接着剤層２を硬化させた。ゼオノアフィルム／ＰＶＡ層／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／ゼオノアフィルム２が一体となった積層体からゼオノアフィルムおよびＰＶＡ層を剥離することにより、ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／ゼオノアフィルム２からなる位相差フィルムＩを得た。
位相差フィルムＩの斜め方向の位相差値を自動複屈折計を用いて測定したところ、Ｒｅ２＝６０ｎｍ、Ｒｔｈ２＝−５４ｎｍであった。
ゼオノアフィルム単体２の位相差値は、無延伸フィルムであるため、正面および斜め方向ともほぼ０ｎｍであった。実施例１と同様に計算することにより、液晶層のみのＲｅ１、Ｒｔｈ１は、
Ｒｅ１＝６０−０＝６０ｎｍ
Ｒｔｈ１＝-５４−０＝−５４ｎｍ
であり、液晶層のＮｚ１値は、
Ｎｚ１＝Ｒｔｈ１／Ｒｅ１＋０．５
＝−５４／６０＋０．５＝−０．３８（＜１．０）
であった。
【０１４３】
［実施例４］
実施例１で作製した位相差フィルムＤ（Ｒｅ＝２２２ｎｍ、Ｎｚ＝０．６５）を用いて、図１に示すように、バックライト、下偏光板、ＩＰＳ型液晶セル、上偏光板の順で配置された市販のＩＰＳ型の液晶テレビの、上偏光板と液晶セルの間に該位相差フィルムを配置した。その結果、実施例１で作製した位相差フィルムを搭載した場合、偏光板のみの場合に比べ、視野角が拡大し、斜めから見ても良好な画像が得られることがわかった。
【０１４４】
［比較例１］
ホメオトロピック液晶層を積層していないゼオノアフィルム単体（膜厚１００μｍ、日本ゼオン（株）製）を、１４０℃に加熱しながら、長手方向に２５％延伸して位相差フィルムＪを得た。位相差フィルムＪの斜め方向の位相差値を自動複屈折計を用いて測定したところ、Ｒｅ２＝２２０ｎｍ、Ｒｔｈ２＝１１５ｎｍであった。位相差フィルムＥのＮｚ２は、
Ｎｚ２＝Ｒｔｈ２／Ｒｅ２＋０．５
＝１１５／２２０＋０．５＝１．０２（＞１．０）
となり、ほぼ正の一軸性であった。
【０１４５】
［比較例２］
比較例１で作製した位相差フィルムＪ（Ｒｅ＝２２０ｎｍ、Ｎｚ＝１．０２）を用いて、実施例４と同様に、図１に示す市販のＩＰＳ型の液晶テレビの、上偏光板と液晶セルの間に該位相差フィルムを配置した。その結果、実施例１で作製した位相差フィルムＤでは、偏光板のみの場合とほとんど、視野角特性が変わらないことがわかった。Ｎｚ値がほぼ１であることにより、視野角改善効果が見られなかったためとわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１４６】
【図１】実施例３で用いた液晶ディスプレイの概念図である。
【符号の説明】
【０１４７】
１  偏光板
２  位相差フィルム
３  ＩＰＳ液晶パネル 
４  偏光板
５  バックライト 
【図１】
2009288440.tif 000012