(57)【要約】【課題】微細パターンを有する蒸着マスクを用いて蒸着を行うと、微細パターンは、蒸着粒子により容易に目詰まりし、寸法再現性が乏しくなる。また、微細パターンを有する蒸着マスクの合わせ精度はかなり高度な精度を要求されるため、マスク合わせに若干のずれが発生しても不良品となってしまうという課題がある。【解決手段】蒸着マスク２００ａを蒸着物の付着による寸法変動を補正するよう位置をずらしながら蒸着する。そのため、蒸着物が蒸着マスク２００ａに付着しても寸法精度を保てる。また陰極２１５と蒸着マスク２００ａの開口部と一部が重なるように配置させて蒸着を行う場合、多少の合わせずれが生じても、わずかに色バランスが変動する程度の現象しか発生しない。色バランスは容易に調整可能な特性であるため、高い歩留まりを有する有機ＥＬパネルの製造方法を提供することができる。【選択図】図３
2009252539.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飛来粒子を遮断する遮断部と、前記飛来粒子を通す複数の開口部と、を含むマスクを用いる有機ＥＬパネルの製造方法であって、
（１）基板上に、第１マスクを用いて第１の色に対応する第１発光部を形成する工程と、
（２）前記第１マスクを用いて、前記第１発光部に重なる第１電極を形成する工程と、
（３）第２マスクを用いて、前記基板上に、第２の色に対応する第２発光部を、前記第１電極の少なくとも一部を覆い、前記第１発光部の横に形成する工程と、
（４）第３マスクを用いて、前記基板上に、第３の色に対応する第３発光部を、前記第１電極又は前記第２発光部の少なくとも一部を覆い、平面視にて前記第１電極を挟み、前記第２発光部と対向する位置に形成する工程と、
（５）第４マスクを用いて、前記第２発光部と、前記第３発光部と、に対応する領域に第２電極を形成する工程と、
（６）前記第１電極と前記第２電極をマスクとして、前記第１電極及び前記第２電極上に堆積された物質を除去する工程と、
を含むことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記（６）の工程後、前記第１電極と前記第２電極を覆うように導体層を重ねて形成することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１発光部、前記第２発光部及び前記第３発光部の平面視における形状は、各々長手方向と短手方向を有し、前記短手方向に前記第１発光部、第前記２発光部、前記第３発光部がそれぞれ配列されていることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記短手方向を幅方向として、前記第２発光部、前記第３発光部の両方の幅と比べ、前記第１発光部の幅が大きいことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１マスク、前記第２マスク、及び前記第３マスクは同一のマスク又は寸法を揃えて形成されるマスクであることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記短手方向を幅方向として、前記第１マスクと比べ前記第２マスク、又は前記第３マスクの少なくともいずれか一方は開口部の幅が大きいことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記（６）の堆積された物質を除去する工程は、希ガスを用いたアッシングにより行われることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第２マスク、前記第３マスクの少なくともいずれか一方は、マスクの端部に付着した物質による寸法変動を補正してアライメントを行うことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の有機ＥＬパネルの製造方法で形成されることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項１０】
請求項９に記載の有機ＥＬパネルを用いることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬパネルの製造方法及び有機ＥＬパネル並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬパネルは、液晶パネルと比べ広い視野角を有している。加えて有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子は自発光素子であるため、液晶パネルと比べ黒の表現力に優れており、次世代の表示パネルとして高く評価されている。有機ＥＬパネルは、有機機能層の構成を変えることでＲＧＢ（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青）の３原色を発光させることができるため、カラー表示用ディスプレイとして開発が進められてきている。
【０００３】
有機機能層を基板上に形成する方法として、耐熱性が高い低分子系の材料を用いる場合には、蒸着法を用いて蒸着マスクを用い、蒸着マスクの開口部と同じ形状を基板上に転写する技術が知られている。
【０００４】
一方、有機ＥＬパネルを、より高精細な画質となるように構成するには、単位画素を小さく収めることが必要となる。そのため、単位画素中のサブ画素としてのＲＧＢ画素を微細化する技術が検討されている。具体的には、特許文献１に示すように、微細化を可能とした蒸着マスクを用いて、高精細な画質を得るための微細パターンを有する蒸着マスクを得ることが可能となっている。
【０００５】
また、有機ＥＬパネルの明るさを向上させるためには、各サブ画素から、より高い輝度で発光させることが必要となってきており、高い駆動電流を用いて駆動させ、輝度を向上させる技術が用いられている。
【０００６】
高い駆動電流を用いて駆動させた場合のＲＧＢ画素の劣化特性は色によって異なっており、現時点では、特にＢ（青）の画素寿命が短くなっている。この欠点を補うべく、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の画素寸法よりもＢの画素寸法を大きくとり、単位面積辺りの輝度を落とすことで、有機ＥＬパネルの寿命を延ばす技術が知られている。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−１３３４４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、微細パターンを有する蒸着マスクを形成することは高度な技術を必要とし、蒸着マスクを歩留まり良く提供することは困難である。また、微細な開口部を形成した場合、蒸着工程で斜め方向から飛来する蒸着粒子は蒸着マスクに捉えられてしまい、蒸着効率が低下するという課題がある。また斜め方向から飛来する蒸着粒子を活用すべく、蒸着マスクの厚さを薄くすると、蒸着マスクの強度が低下するという問題が発生する。
【０００９】
また、微細パターンを有する蒸着マスクの合わせ精度はかなり高度な精度を要求されるため、マスク合わせに若干のずれが発生しても不良品となってしまうという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【００１１】
［適用例１］本適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法は、飛来粒子を遮断する遮断部と、前記飛来粒子を通す複数の開口部と、を含むマスクを用いる有機ＥＬパネルの製造方法であって、（１）基板上に、第１マスクを用いて第１の色に対応する第１発光部を形成する工程と、（２）前記第１マスクを用いて、前記第１発光部に重なる第１電極を形成する工程と、（３）第２マスクを用いて、前記基板上に、第２の色に対応する第２発光部を、前記第１電極の少なくとも一部を覆い、前記第１発光部の横に形成する工程と、（４）第３マスクを用いて、前記基板上に、第３の色に対応する第３発光部を、前記第１電極又は前記第２発光部の少なくとも一部を覆い、平面視にて前記第１電極を挟み、前記第２発光部と対向する位置に形成する工程と、（５）第４マスクを用いて、前記第２発光部と、前記第３発光部と、に対応する領域に第２電極を形成する工程と、（６）前記第１電極と前記第２電極をマスクとして、前記第１電極及び前記第２電極上に堆積された物質を除去する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
これによれば、第２発光部の少なくとも一部の領域が平面視にて第１電極上に乗り上げた形で形成される。そのため、第２発光部における発光領域の面積を第２マスクよりも小さくすることができる。即ち、第２発光部よりも第２マスクの開口部を大きくすることが可能となる。開口部が大きいマスクを用いることで、斜め方向から飛来する飛来粒子を効率良く成層に関与させることが可能となる。
【００１３】
また、合わせずれが発生しても、第２発光部の寸法と第３発光部の寸法変化で済むため、製造後に行う色度の調整で修正が可能であり、合わせずれの影響を緩和しうる製造方法を提供することが可能となる。
【００１４】
［適用例２］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、上記（６）の工程後、前記第１電極と前記第２電極を覆うように導体層を重ねて形成することを特徴とする。
【００１５】
上記した適用例によれば、導体層を重ねることで、全面に電極金属が配置される構造を取ることができる。そのため、配線パターンを作成する状態で、通常のパターンレイアウトを用いることが可能となる。
【００１６】
［適用例３］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１発光部、前記第２発光部及び前記第３発光部の平面視における形状は、各々長手方向と短手方向を有し、前記短手方向に前記第１発光部、第前記２発光部、前記第３発光部がそれぞれ配列されていることを特徴とする。
【００１７】
上記した適用例によれば、第１発光部、第２発光部、第３発光部で構成される画素の形状をより矩形に近く配置することが可能となり、縦横方向の画像歪みが小さい有機ＥＬパネルの製造方法を提供することが可能となる。
【００１８】
［適用例４］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記短手方向を幅方向として、前記第２発光部、前記第３発光部の両方の幅と比べ、前記第１発光部の幅が大きいことを特徴とする。
【００１９】
上記した適用例によれば、現状では有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子は、発光色によって寿命特性が異なっている。そのため、最も寿命が短い有機ＥＬ素子が劣化した時点で有機ＥＬパネルの寿命が尽きる。一方、有機ＥＬ素子の寿命は単位面積辺りの光出力に強く依存し、単位面積辺りの光出力を低下させることで、寿命を延ばすことが可能となる。そこで、最も寿命の短い色にあたる発光部を有する素子の幅を大きく取ることで、光出力を低下させることなく単位面積辺りの光強度を低下させることができ、有機ＥＬパネルの寿命を延ばすことが可能となる。
【００２０】
［適用例５］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１マスク、前記第２マスク、及び前記第３マスクは同一のマスク又は寸法を揃えて形成されるマスクであることを特徴とする。
【００２１】
上記した適用例によれば、マスクを複数の工程に用いることで、マスクの稼動率が高くなり、マスクの原価償却を速やかに行うことができる。また、マスクの予備を少ない種類について確保しておけば良いため、マスクの在庫管理が容易となる。
【００２２】
［適用例６］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記短手方向を幅方向として、前記第１マスクと比べ前記第２マスク、又は前記第３マスクの少なくともいずれか一方は開口部の幅が大きいことを特徴とする。
【００２３】
上記した適用例によれば、第２マスク、第３マスクの少なくとも一方は、第１マスクと比べ、開口部の幅が大きい。そのため、第１マスクのパターン幅と近い幅を形成する場合に、アライメントを容易にすることが可能となる。
【００２４】
［適用例７］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記（６）の堆積された物質を除去する工程は、希ガスを用いたアッシングにより行われることを特徴とする。
【００２５】
上記した適用例によれば、希ガス雰囲気でのアッシングを行うことで電極層との選択比を向上させることができる。また、電極層が受ける損傷を抑えることが可能となる。
【００２６】
［適用例８］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第２マスク、前記第３マスクの少なくともいずれか一方は、マスクの端部に付着した物質による寸法変動を補正してアライメントを行うことを特徴とする。
【００２７】
上記した適用例では、成層物の付着による寸法変動を補正するよう位置をずらしながら成層する工程を用いている。そのため、成層粒子が蒸着マスクに付着しても寸法精度を保てるため、マスクの洗浄工程を行う頻度を低減できる。従って、マスクの稼働率を向上させることができる。
【００２８】
［適用例９］本適用例にかかる有機ＥＬパネルは、上記記載の有機ＥＬパネルの製造方法で形成されることを特徴とする。
【００２９】
これによれば、上記製造方法を用いることで、微細パターンを形成することが可能となり、高精細な表示品位を有する有機ＥＬパネルを提供することが可能となる。
【００３０】
［適用例１０］本適用例にかかる電子機器は、上記記載の有機ＥＬパネルを用いることを特徴とする。
【００３１】
これによれば、上記した有機ＥＬ素子を用いるため、従来技術と比べ高精細な表示品位を有する電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
（有機ＥＬパネルの構成）
以下、本実施形態にかかる有機ＥＬパネルについて、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態の有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図である。この有機ＥＬパネル１は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下ＴＦＴと称する。）を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線１０１と、各走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とからなる配線構成を有すると共に、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近には、画素（サブ画素４０）が設けられている。
【００３３】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００３４】
サブ画素４０の各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用のＴＦＴ１２２と、スイッチング用のＴＦＴ１２２を介して信号線１０２から共有される画素信号を保持する保持容量１１３と、を含んでいる。更に、保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用のＴＦＴ１２３と、駆動用のＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続した場合に当該電源線１０３から駆動電流が与えられる画素電極２３と、画素電極２３と対向する対向電極５０との間に挟み込まれた有機ＥＬ素子１７（Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青））とを含んでいる。
【００３５】
次に、本実施形態の有機ＥＬパネル１の具体的な態様を、図２を参照して説明する。ここで、図２は、有機ＥＬパネル１の構成を模式的に示す平面図である。
【００３６】
図２に示すように、基板２０上の実表示領域４には、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色に対応して設けられたサブ画素４０がマトリクス状に規則的に配置されている。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色のサブ画素４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は一つの基本単位となって表示単位画素４１を構成している。また、サブ画素４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の各々は、ＴＦＴ１２２，１２３（図１参照）の動作に伴って、赤色発光（Ｒ）、緑色発光（Ｇ）、及び青色発光（Ｂ）に対応する有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を備える構成を有している。そして、有機ＥＬ素子１７Ｂは、現状では寿命が短いため、有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ）と比べ２倍程度の幅を与えている。ここで、「幅」という言葉について定義を行う。有機ＥＬ素子１７の平面形状は長手方向と短手方向を有しており、この短手方向を幅方向として定義する。有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が輝度を揃えて発光する場合に、有機ＥＬ素子１７Ｂの単位面積あたりの負担を約半分に抑えることができ、寿命特性を向上させることが可能となる。
【００３７】
なお、本実施形態において画素部３（図中一点鎖線）は、中央部分の実表示領域４（図中二点鎖線枠内）と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５（一点鎖線及び二点鎖線の間の領域）とに区画されている。そして、実表示領域４の図２中両側には、走査線駆動回路８０が配置されている。この走査線駆動回路８０は、ダミー領域５の下層側に位置して設けられている。
【００３８】
また、実表示領域４の図２中上方側には検査回路９０が配置されており、この検査回路９０はダミー領域５の下層側に配置されて設けられている。この検査回路９０は、有機ＥＬパネル１の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（図示せず）を備え、製造途中や出荷時における有機ＥＬパネルの品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
【００３９】
（有機ＥＬパネルの製造方法）
以下、本実施形態にかかる有機ＥＬパネルについて、図面を参照して説明する。図３（ａ）から（ｃ）及び、図４（ａ）から（ｃ）及び図５は、図２に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造工程を示す模式断面図である。以下、図面を用いて製造方法について説明する。
【００４０】
まず、図３（ａ）に示すように基板本体２０Ａ（図２参照）に、ＴＦＴ１２２，１２３（図１参照）等を形成した基板２０上に、ＩＴＯ等を用いて、透明な陽極２１２を形成する。形成方法としては、蒸着法を用い、蒸着マスクによりパターン形成を行う。なお、この工程に代えて、基板２０に一旦全面蒸着した後、フォトリソグラフ工程を用いてパターン形成して陽極２１２を形成しても良い。また、蒸着法に代えてスパッタ法等を用いることも好適である。陽極２１２の厚さは、例えば１００ｎｍ程度が電気抵抗、光透過性を考慮した場合好適である。続けて、ホール注入層２１９、ホール輸送層２１３を全面蒸着法を用いて成層する。ホール注入層２１９はＨＩ４０６（出光興産製）で構成され、層厚は３０ｎｍ程度に制御される。そして、ホール輸送層２１３はＨＴ３２０（出光興産製）で構成され、層厚は２０ｎｍ程度に制御される。
【００４１】
次に、図３（ｂ）に示すように、まず第１の色として青の有機ＥＬ素子１７Ｂ（図１参照）を形成する。具体的には、有機ＥＬ素子１７Ｂのパターンが開口された蒸着マスク２００ａを用いて、層厚３０ｎｍ程度で、ＡＤＮ＋ＢＤ０５２（５％）（共に出光興産製）を含む物質を蒸着する。続けて、蒸着マスク２００ａを外さずに、Ａｌｑ３を用いて２０ｎｍ程度の層厚で蒸着することでＡＤＮ＋ＢＤ０５２とＡｌｑ３を用いてなる第１発光部２１４を形成する。続けて、有機ＥＬ素子１７Ｂ（後述する）の陰極２１５を構成するフッ化リチウム（ＬｉＦ）／アルミニウム（Ａｌ）を共に層厚０．５ｎｍ／２００ｎｍ程度で形成する。
【００４２】
次に、図３（ｃ）に示すように、蒸着マスク２００ａの位置をずらして陰極２１５と蒸着マスク２００ａの開口部と一部が重なるように配置し、基板２０上に所望の幅をなすよう蒸着マスク２００ａを配置する。この場合、蒸着物の付着により、蒸着マスク２００ａの幅にずれが生じる場合があるが、このずれ幅分を補正してアライメントを行うことで、幅方向での再現精度を向上させることができ、第２発光部２１６の発光量を再現性良く形成することができる。そしてＡｌｑ３＋キナドクリン（１％）を層厚３０ｎｍ程度となるようマスク蒸着する。続けて、蒸着マスク２００ａを外さずに、Ａｌｑ３を用いて２０ｎｍ程度の層厚で蒸着することで、第２の色としてＡｌｑ３＋キナドクリンとＡｌｑ３を含む、緑色を発光する第２発光部２１６を形成する。なお、この工程を行うことで陰極２１５上に有機機能層２１６Ｋが付随的に発生する。
【００４３】
ここで、開口部の幅の狭い蒸着マスク２００ｃを用いる場合と、本実施形態に示す蒸着マスク２００ａの一部を横の電極に重ねて形成する場合とを図６を用いて比較する。図６（ａ）は、幅の狭い蒸着マスク２００ｃの断面図、（ｂ）は幅の狭い蒸着マスク２００ｃをマスクとして使用した後の状態を示す断面図、（ｃ）は、幅の広い蒸着マスク２００ａをマスクとして使用した後の状態を示す断面図である。
【００４４】
一般的に蒸着マスクを形成する場合には、斜め方向からの飛来粒子の侵入を妨げぬ形状を有することが好ましい。具体的には、蒸着すべき基板が位置する方向に向かって狭くなるテーパ形状を有していることが好ましい。このような形状は、色々な解決手段が提唱されているが、基本的には、単結晶シリコン基板にＫＯＨ水溶液を用いて異方性ウェットエッチングを用いる工程を主たる製造工程としているものが多い。
【００４５】
このテーパ形状をマスクパターンの幅が小さい蒸着マスク２００ｃに当てはめた場合、未開口の状態となってしまったり、開口過剰となる状態となってしまう場合が頻発する。蒸着マスク２００ｃを形成すべくウェットエッチングを行う場合には、未開口の状態でのエッチング時間と、開口後のエッチング時間との和に対する時間管理が必要となる。未開口の状態でのエッチング時間（ｔ１）に対し開口後のエッチング時間（ｔ２）が短い場合に、エッチング速度がδだけ大きくなると、エッチング量は、δ（ｔ１＋ｔ２）だけ変動する。ｔ２の時間に対応して形成されるマスクパターン幅の変動に比べ、δｔ１分の誤差が追加される。そのため、マスクパターンの幅制御がより困難となる。
【００４６】
このエッチングを微細な幅を有する状態で止めるには、エッチング液の濃度、温度、エッチング時間等を精密に管理する必要がある。従って、微細幅を有する蒸着マスク２００ｃを形成するのは歩留まりが低下するため好ましくない。
【００４７】
一方、図６（ｃ）に示すように、開口部の幅の広い蒸着マスク２００ａを形成する場合には、δｔ１分の誤差は全体の誤差に対して無視できる量となる。そのため、開口部の幅の狭い蒸着マスク２００ｃを形成する場合と比べ、幅の相対誤差が小さく抑えられる。従って、エッチング条件の若干のぶれに対して安定した開口幅を有する蒸着マスク２００ａを得ることができる。
【００４８】
また、図６（ｂ）に示すように、蒸着マスク２００ｃをマスクとして使用した後では、飛来粒子２００ｄの付着により開口部３０２が塞がれてしまうことがある。この場合、蒸着マスク２００ｃは再度洗浄して用いる必要がある。頻繁な洗浄を行うと、蒸着マスク２００ｃの稼働率が低下し、コストアップを引き起こす要因となる。また、蒸着マスクの洗浄薬液に起因する廃液が多量に発生するため、その処理に資源、エネルギーが必要となる課題もある。
【００４９】
これに対して、図６（ｃ）に示すように、開口部の幅が広い蒸着マスク２００ａを用いた場合には、飛来粒子２００ｄの付着を受けて開口部が狭くなる現象には大きな差はないが、蒸着マスク２００ａを平行移動させ、蒸着すべき領域に対してアライメントを行うことで、飛来粒子２００ｄの付着に伴う開口率の低下を補正することを可能としている。
ここで、再び有機ＥＬパネルの製造方法についての説明に戻る。
【００５０】
次に、図４（ａ）に示すように、蒸着マスク２００ａの位置を第２発光部２１６に対して反対側にずらして陰極２１５と蒸着マスク２００ａの開口部と一部が重なるように配置する。この場合、蒸着物の付着により、蒸着マスク２００ａの幅にずれが生じる場合があるが、このずれ幅分を補正してアライメントを行うことで、幅方向での再現精度を向上させることができる。そして、Ａｌｑ３＋ＤＣＪＴ（１％）（出光興産製）を層厚３０ｎｍ程度となるようマスク蒸着する。続けて、蒸着マスク２００ａを外さずに、Ａｌｑ３を２０ｎｍ程度の層厚で蒸着し、第３の色として赤色を発光する、Ａｌｑ３＋ＤＣＪＴとＡｌｑ３を含む第３発光部２１７を形成する。なお、この工程を行うことで陰極２１５上に有機機能層２１７Ｋが付随的に発生する。
【００５１】
ここまでの工程では、蒸着マスク２００ａを蒸着物の付着による寸法変動を補正するよう位置をずらしながら蒸着する工程を用いている。そのため、蒸着物が蒸着マスク２００ａに付着しても寸法精度を保てるため、蒸着マスク２００ａの洗浄工程を行う頻度を低減させることができる。そのため、蒸着マスク２００ａの稼働率を向上させることができる。また、蒸着マスク２００ａを複数の工程に用いることで、蒸着マスク２００ａの稼動率は更に高くなり、蒸着マスク２００ａの原価償却を速やかに行うことができる。
【００５２】
また、第２発光部２１６、第３発光部２１７の開口径に合わせたパターンを用いる場合と比べ飛来粒子の付着による寸法変動に起因する不良発生を抑制することが可能となる。
【００５３】
また、第２発光部２１６、第３発光部２１７は微細なパターン寸法を有しているため、従来技術となる開口部が狭いマスクを用いた場合、位置合わせ（アライメント）を正確に行う必要があり、位置合わせが不十分な場合、特性の変動が大きくなる。この場合と比べ、陰極２１５と蒸着マスク２００ａの開口部と一部が重なるように配置させて蒸着を行う場合、多少の合わせずれが生じても、わずかに色バランスが変動する程度の現象しか発生しない。色バランスは容易に調整可能な特性であるため、結果として高い歩留まりを有する有機ＥＬパネル１（図１参照）の製造方法を提供することができる。
【００５４】
なお、上記した実施形態では、蒸着マスク２００ａを第１発光部２１４、第２発光部２１６、第３発光部２１７の製造に際しても使用したが、これは、第２発光部２１６、第３発光部２１７を形成する蒸着マスクのうち、少なくとも一つの蒸着マスクに対して開口部を大きく取っても良い。
【００５５】
次に、図４（ｂ）に示すように、蒸着マスク２００ｂを用いて、第２発光部２１６と第３発光部２１７とを覆う陰極２１８を構成するＬｉＦ／Ａｌを層厚０．５ｎｍ／２００ｎｍ程度で形成する。
【００５６】
次に、図４（ｃ）に示すように、陰極２１５、陰極２１８とをマスクとしてＡｒアッシングを行い、陰極２１５上に、付随的に発生した有機機能層２１６Ｋ、有機機能層２１７Ｋを除去する。Ａｒ雰囲気でのアッシングを行うことで酸素等の雰囲気を用いる場合と比べ陰極２１５、陰極２１８に与える損傷を抑えることができる。
【００５７】
次に、図５に示すように、陰極２１５と陰極２１８とを接続させるように陰極２２２を蒸着することで、有機ＥＬ素子１７Ｂ、有機ＥＬ素子１７Ｇ、有機ＥＬ素子１７Ｒを形成する。
【００５８】
これらの工程を終えた後、通常の工程によりパネル化することで、図２に示す有機ＥＬパネル１を得ることが可能となる。なお、本実施形態では、蒸着法を用いて積層する方法について説明したが、これは飛来粒子の発生にプラズマを用いる等、蒸着以外の方法により飛来粒子を発生させても良い。
【００５９】
（電子機器）
以下、図７を参照して、上述した有機ＥＬパネル１を含む電子機器について説明する。図７（ａ）に、有機ＥＬパネル１を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、有機ＥＬパネル１と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。
【００６０】
図７（ｂ）に、有機ＥＬパネル１を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての有機ＥＬパネル１を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、有機ＥＬパネル１に表示される画面がスクロールされる。
【００６１】
図７（ｃ）に、有機ＥＬパネル１を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての有機ＥＬパネル１を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機ＥＬパネル１に表示される。
【００６２】
なお、有機ＥＬパネル１が搭載される電子機器としては、図７に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した有機ＥＬパネル１が適用可能である。また、有機ＥＬパネル１の視野角の広さ、画質の高さ、画像の動きに対する追従性の高さを活用して車載用のカーナビゲーションシステムやインパネにも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図。
【図２】有機ＥＬパネルの構成を模式的に示す平面図。
【図３】（ａ）から（ｃ）は、有機ＥＬ素子（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造工程を示す模式断面図。
【図４】（ａ）から（ｃ）は、有機ＥＬ素子（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造工程を示す模式断面図。
【図５】有機ＥＬ素子（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造工程を示す模式断面図。
【図６】（ａ）は、幅の狭い蒸着マスクの断面図、（ｂ）は、当該蒸着マスクを使用した後の状態を示す断面図、（ｃ）は、幅の広い蒸着マスクを使用した後の状態を示す断面図。
【図７】（ａ）は、有機ＥＬパネルを備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの模式図、（ｂ）は、携帯電話機の模式図、（ｃ）は、情報携帯端末の模式図。
【符号の説明】
【００６４】
１…有機ＥＬパネル、３…画素部、４…実表示領域、５…ダミー領域、１７…有機ＥＬ素子、１７Ｂ…有機ＥＬ素子、２０…基板、２０Ａ…基板本体、２３…画素電極、４０…サブ画素、４１…表示単位画素、５０…対向電極、８０…走査線駆動回路、９０…検査回路、１００…データ線駆動回路、１０１…走査線、１０２…信号線、１０３…電源線、１１３…保持容量、１２２…ＴＦＴ、１２３…ＴＦＴ、２００ａ…蒸着マスク、２００ｂ…蒸着マスク、２００ｄ…飛来粒子、２１２…陽極、２１３…ホール輸送層、２１４…第１発光部、２１５…陰極、２１６…第２発光部、２１６Ｋ…有機機能層、２１７…第３発光部、２１７Ｋ…有機機能層、２１８…陰極、２１９…ホール注入層、２２２…陰極、３０２…開口部、２０００…パーソナルコンピュータ、２００１…電源スイッチ、２００２…キーボード、２０１０…本体部、３０００…携帯電話機、３００１…操作ボタン、３００２…スクロールボタン、４０００…情報携帯端末、４００１…操作ボタン、４００２…電源スイッチ。
【図１】
2009252539.tif 000003
【図２】
2009252539.tif 000004
【図３】
2009252539.tif 000005
【図４】
2009252539.tif 000006
【図５】
2009252539.tif 000007
【図６】
2009252539.tif 000008
【図７】
2009252539.tif 000009