(57)【要約】【課題】本発明は擦動部材による基板の洗浄をより効率的かつ高精度に行うことができる基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供する。また、本発明は擦動部材の高密度なセルフクリーニングが可能な基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供する。【解決手段】本発明は、基板搬送手段により搬送される基板面を洗浄するために、前記基板面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材の洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受皿と、前記洗浄液受皿を移動させて前記擦動部材に接触させる洗浄液受皿駆動部を有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送手段により搬送される基板面を洗浄するために、前記基板面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材を洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受部材と、前記洗浄液受部材を移動させて前記擦動部材に接触させる洗浄液受部材駆動手段を有することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
基板搬送手段により搬送される基板上面を洗浄するために、前記基板上面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材を洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受部材と、前記洗浄液受部材を移動させて前記擦動部材に接触させる洗浄液受部材駆動手段を有することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄液受部材駆動手段は前記洗浄液受部材を上下に移動させる手段であることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄液受部材駆動手段は前記洗浄液受部材を左右に移動させる手段であることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記擦動部材を前記洗浄受皿に対して揺動可能な構成としたことを特徴とする請求項は２に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄液受部材を洗浄する洗浄液受部材洗浄手段をさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
基板搬送手段により搬送される基板面を洗浄するために、前記基板面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材を洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受部材と、前記洗浄液受部材を移動させて前記擦動部材に接近させる洗浄液受部材駆動手段を有することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】
搬送される基板面に接触し回転する擦動部材により前記基板面を洗浄する工程と、前記擦動部材を洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受部材を前記擦動部材に接近させる工程と、前記擦動部材を洗浄する工程を有する特徴とする基板洗浄方法。
【請求項９】
前記擦動部材を洗浄する工程の後に、洗浄液受部材を洗浄する工程を有することを特徴とする請求項８記載の基板洗浄方法。
【請求項１０】
前記搬送される基板が前記擦動部材を洗浄する工程の障害にならないことを判断する工程を有することを特徴とする請求項８記載の基板洗浄方法。
【請求項１１】
前記洗浄液受部材を前記擦動部材に接近させる工程の後に、前記洗浄液受部材を前記擦動部材に接触させる工程を有し、前記擦動部材を洗浄する工程は前記洗浄液受皿を前記擦動部材と接触させた状態で洗浄する工程であることを特徴とする請求項８記載の基板洗浄方法。
【請求項１２】
前記接触させた状態で前記擦動部材を洗浄する工程は、前記擦動部材を揺動する工程を有していることを特徴とする請求項１１記載の基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置及び基板洗浄装置の洗浄方法に関し、特に液晶基板等の基板を基板搬送手段で搬送する間に、その基板面を洗浄するための基板洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶基板を構成するＴＦＴ基板は、種々の工程を経て製造されるが、基板の表面に回路パターンを形成するには、現像液やレジスト膜の塗布及びその剥離等のプロセス処理が複数回繰り返し行われる。また、このプロセス処理工程に導入される際や、処理工程を行っている間にも、繰り返し基板の洗浄が行われる。前述したプロセス処理を行うに当っては、基板を基板搬送手段により搬送するようにし、この搬送中に種々の処理が行われる関係から、基板の搬送中に、この基板に洗浄液を供給しながら、擦動部材で表面を擦動するようにして基板表面が洗浄される。ここで、洗浄液としては、純水、特に超音波加振した純水が好適に用いられる。
基板搬送手段によって搬送される基板の表面を洗浄するには、基板搬送手段による搬送ライン上に回転軸を設けて、この回転軸にナイロン毛等からなるブラシやスポンジ等の擦動部材を装着して、回転軸を回転駆動することによって、基板の表面を擦動するように構成される。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−３３７５４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板の洗浄精度は擦動部材本体の洗浄度が大きく影響する。ＴＦＴ基板のように表面側に回路パターンが形成されるものにあっては、表面側の洗浄精度は高く保たなければならないが、基板を繰り返し洗浄すると、擦動部材にごみが付着することになるために、基板へのごみ再付着が問題となる。既存の多くの装置では、この問題に対応する為に擦動部材の定期的な交換を行い、高洗浄度の確保に努めているが、原価や労力を考慮すると非常に効率が悪い。また、擦動部材を定期的にクリーニングする場合も、一旦擦動部材を取り外してクリーニングしなければならないから、洗浄装置を停止させる必要がある。このため製品の生産性が低くなり、また、このクリーニング作業が面倒であるという問題点がある。特開平１０−３３７５４１号では、この問題を解決するために、基板の上下に配置された擦動部材を上下に移動させて互いにクリーニングしている。
しかしながら、上記に記載の装置では、擦動部材同士で洗浄しているために洗浄効率がまだ十分でない。また、記載の装置では、擦動部材が基板の表裏面のうち一方のみに配置されている場合は上記問題点を解決できない。
【０００５】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、擦動部材による基板の洗浄をより効率的かつ高精度に行うことができる基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、擦動部材の高密度なセルフクリーニングが可能な基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供することである。
更に、本発明の他の目的は、擦動部材が基板の表裏面一方のみに配置されている装置においても、高精度にセルフクリーニングが可能な基板洗浄装置及び、基板洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前述した目的を達成するために、本発明は、基板搬送手段により搬送される基板面を洗浄するために、前記基板面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材の洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受皿と、前記洗浄液受皿を移動させて前記擦動部材に接触させる洗浄液受皿駆動部を有することを特徴とする。
また、本発明は、基板搬送手段により搬送される基板上面を洗浄するために、前記基板上面に接触し擦動部材が回転する擦動部材ユニットと、前記擦動部材の洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受皿と、前記洗浄液受皿を移動させて前記擦動部材に接触させる洗浄液受皿駆動部を有することを特徴とする。
【０００７】
さらに、本発明は、搬送される基板面を接触し回転により擦動部材の前記基板面を洗浄する工程と、前記擦動部材の洗浄する洗浄液の受皿となる洗浄液受皿を前記擦動部材に接触させる工程と、前記接触させた状態で前記擦動部材を洗浄する工程を有する特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の基板洗浄装置及び、基板洗浄方法によれば、擦動部材による基板面の洗浄をより効率的かつ高精度に保つことできる。また、本発明の基板洗浄装置及び、基板洗浄方法によれば、擦動部材をセルフクリーニングすることできる。特に、擦動部材が基板の表裏面一方のみに配置されている装置においても擦動部材をセルフクリーニングすることできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の一形態について図面を参照して詳細に説明する。基板Ｓは、ローラ３上を搬送されるので、その裏面側はローラ３の転動等によりごみ等が付着しているおそれがある。しかしながら、所定のプロセス処理が順次行われる表面側の洗浄精度の要求は裏面側に比べて高い。図１は、基板の表面側を洗浄する場合の実施例である。
【００１０】
図1に本発明の基板洗浄装置の概略構成を示す。この図から明らかなように、基板Sは、ローラ搬送体１により搬送される。このローラ搬送体１は駆動軸２の軸方向に所定の間隔を置いて複数のローラ３を装着している。ローラ搬送体１は、基板Ｓの搬送方向ｄに所定のピッチ間隔をもって配設されて、モータと伝達ベルト等からなる回転駆動手段（図示せず）により、駆動軸２が同時に同じ方向で等速回転する。基板Ｓはローラ３上に載置されて、その回転により搬送され、この間に所定の洗浄処理が行われることになる。
【００１１】
図２は、本実施例における基板洗浄装置の基板洗浄部の概略構成図である。擦動部材ユニットは、回転軸１０と、回転軸１０に円筒形状に形成された擦動部材とで構成される。図２に示す基板洗浄装置では、回転軸１０に擦動部材としてナイロン毛等ブラシ１１を植設したブラシユニット１２を用いる。このブラシユニット１２における回転軸１０に設けたブラシ１１を設けた部位は、図1に示すように基板Ｓの幅寸法より広くなっており、基板搬送手段に沿って搬送される基板Ｓにブラシ１１を押し当てて接触させ、ブラシ駆動モータ１4により回転駆動することによって、基板Ｓの移動中にその全体がブラシ１１により擦動されることになる。なお、擦動部材としては、ブラシに限らず、スポンジ等で構成することもできる。
【００１２】
ブラシユニット１２は基板搬送手段により搬送される基板Ｓの表面にブラシ１１を押し当てて接触させ擦動することにより洗浄される。洗浄は、ブラシユニット１２上部の設けられた複数の噴射ノズル３１（後述する図４に示すように１列4ノズルで構成）から洗浄液を噴射して行われる。ブラシユニット１２の基板Sへの押し当て強さの調節は、制御部２３により、カム駆動モータ２１制御しブラシユニットを上下動させて行う。このとき、連結軸20の両側に設けられたカム板１９を回転させると、カムフォロア１８、それに連接された支持アーム17、軸受けブロック１３が上下動する。１６は、軸受けブロックをガイドするリニアガイドである。
基板Ｓに対する洗浄を繰り返し行うと、ブラシ１１にごみ等が付着して汚損されて、次に搬送される基板Ｓにごみが再付着するおそれがある。このために、ブラシ１１のクリーニングを行う必要がある。
【００１３】
そこで、ブラシ洗浄部４の概略構成を、図1のAから見た側面図である図３と、ブラシ洗浄部４をBから見た側面図である図４を用いて説明する。
洗浄部４は、ブラシのクリーニングの際、その洗浄液を受け皿となる洗浄液受部材である洗浄液受皿４１、洗浄液受皿４１を上下動しブラシユニット１２に近接離間させる洗浄液受部材駆動手段である受皿駆動モータ４２、洗浄液受皿４１の上下動をガイドするガイドレール４３、受皿駆動モータ４２の回転により矢印Cの方向に回転しガイドレール４３に沿って洗浄液受皿４１の上下動させるリンクバー４４、洗浄液受皿４１をクリーニングするためのクリーニングノズル４５、次の基板の接近を検出する基板挿入側センサ４６、及び基板の払出し完了を検出する基板出口側センサ４７等からなる。
【００１４】
次に、図３から図６を用いて本実施例におけるブラシユニット１２のクリーニング方法を説明する。図５は、ブラシクリーニング時におけるブラシ洗浄部４をＡから見た側面図であり、図６は、ブラシクリーニング時におけるブラシ洗浄部４をＢから見た側面図である。
制御部２３が作業者又は上位制御装置（図示せず）から、ブラシユニット１２の洗浄指令を受ける。上位制御装置では、洗浄指令を基板Ｓを供給する前の段階や、ロットの交換等で基板Ｓの搬送が所定の間隔だけ中断した時、あるいは基板搬送手段で基板Ｓが搬送されるピッチ間隔の間のある時などに出力する。
【００１５】
制御部２３は、洗浄指令を受けると、まずブラシユニット１２の上流側に設置された基板挿入側センサ４６及び、ブラシユニット１２の下流側に設置された基板出口側センサ４７によりブラシユニット１２の下側には基板Sが存在しないこと、即ちブラシクリーニング時において障害となるものがないことを判断する。
基板Ｓが存在しなければ、受皿駆動モータ４２を駆動し、リンクバー４４が図３に示すように破線を経て洗浄受皿４１を上昇させ、図５、図6に示すようにブラシユニット１２に近接させる。その結果、ブラシ１１の毛先は、洗浄液受皿に接触し、ブラシ駆動モータ１４によりブラシ１１を回転しながら噴射ノズル３１にて洗浄液を継続して噴射して、ブラシ１１に付着しているごみの払い出しを行う。供給される洗浄液は洗浄液受皿４１で一旦うける。
【００１６】
クリーニングが終了すると、受皿駆動モータ４２を動作させ、図３、図４に示すように洗浄液受皿４１を元の待機位置に退避させる。洗浄後の退避した洗浄液受皿４１には、ごみが多く付着した状態である。この洗浄液受皿４１を本状態のまま再使用すると、ごみが擦動部材に再付着してしまうため、洗浄液受皿４１が退避している間、クリーニングノズル４５にて洗浄液を噴射して浄液受皿４１を洗浄する。
【００１７】
上記のブラシ１１の洗浄時おいて、洗浄効率を高めるためには、ブラシ１１と浄液受皿４１が適切な接触圧を持って行うことがよい。そのためには、図２に示すカム駆動モータ２１を制御し、ブラシユニット１２を上下動させて行うか、又は、受皿駆動モータ４２を制御し、洗浄液受皿４１を上下動させて行う。
また、ブラシ１１の洗浄時において、ブラシ１１の洗浄受皿４１に対する移動量が大きい程洗浄効率も高いので、回転軸１０を揺動する機構を設けても良い。
【００１８】
さらに、基板挿入側センサ３２及び基板出口側センサ３３は、クリ−ニング開始の可否判断に使用したが、万が一クリーニング中に基板Ｓが搬送されたとしても、これらのセンサの検出結果により、洗浄液受皿４１を退避させたり、ローラ搬送体１の回転を停止さ基板Sの搬送を停止させたりすることができる。これによって、搬送中の基板Ｓと洗浄液受皿４１が接触を回避できる。
【００１９】
以上説明したように、本実施の形態の基板洗浄装置及び、基板洗浄方法によれば、擦動部材が基板の表裏面一方のみに配置されている装置において、擦動部材による基板の洗浄をより効率的かつ高精度に保つことできる。また、本実施例の基板洗浄装置及び、基板洗浄方法によれば、擦動部材をセルフクリーニングすることができる。
【００２０】
本実施の形態では、基板搬送手段の下側から洗浄液受皿４１を上下動に移動させたが、洗浄液受皿４１を基板搬送手段の上側において基板搬送方向または基板搬送方向と直交する方向に水平に移動させてもよい。その場合、ブラシユニット１２自体も上下動する必要が出てくる場合がある。その場合は、図２に示すカム板１９の形状を変更し、ブラシユニット１２の可動範囲を広くする。
【００２１】
さらに、他の実施の形態として、洗浄液受皿４１を水平移動させる前記移動機構を基板搬送手段の上側及び下側に設けることで、基板Ｓの表裏面を洗浄するために基板搬送手段の上下側に設けられたブラシユニットを共に洗浄することができる。
【００２２】
この実施の形態によれば、基板の表裏面を洗浄する装置においても、擦動部材による基板の洗浄をより効率的かつ高精度に保つことでき、擦動部材をセルフクリーニングすることできる。
【００２３】
以上の説明した実施の形態においては、セルフクリーニング時に擦動部材を洗浄液受皿に接触させて洗浄する例について説明したが、洗浄液受皿に予め洗浄液を入れておき、この洗浄液中で擦動部材を回転させてクリーニングするようにしてもよい。
【００２４】
以上のように本発明の実施態様について説明したが、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替例、修正又は変形が可能であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包含するものである。
【００２５】
以上説明したように、本実施例の基板洗浄装置及び、基板洗浄方法によれば、擦動部材が基板の表裏面一方のみに配置されている装置において、擦動部材による基板の洗浄をより効率的かつ高精度に保つことできる。また、本実施例の基板洗浄装置及び、基板洗浄方法によれば、擦動部材をセルフクリーニングすることできる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の基板洗浄装置の概略構成図である。
【図２】本実施例における基板洗浄装置の基板洗浄部の概略構成図である。
【図３】ブラシ洗浄部４を図1のAから見た側面図である。
【図４】ブラシ洗浄部４を図1のBから見た側面図である。
【図５】ブラシクリーニング時におけるブラシ洗浄部４を図1のAから見た側面図である。
【図６】ブラシクリーニング時におけるブラシ洗浄部４を図1のBから見た側面図である。
【符号の説明】
【００２７】
1  ローラ搬送体
2  駆動軸
3  ローラ
4  ブラシ洗浄部
10  ブラシユニットにおける回転軸
11  ブラシ
12  ブラシユニット
13  軸受けブロック
14  ブラシ駆動モータ
16  軸受けブロックをガイドするリニアガイド
17  カムフォロアに連接された支持アーム
18  カムフォロア
19  カム板
20  連結棒
21  カム駆動モータ
23  制御部
31  噴射ノズル
41  洗浄部受皿
42  受皿駆動モータ
43  ガイドレール
44  リンクバー
45  クリーニングノズル
46  基板挿入側センサ
47  基板出口側センサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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