(57)【要約】【課題】カラーフィルタの品質の低下を抑制できる液滴吐出装置を提供する。【解決手段】液滴吐出装置は、第１方向に第１ピッチで設けられた第１液滴吐出口を有する第１ヘッドと、第１ヘッドに対して第１方向と交差する第２方向に配置され、第１方向に第２ピッチで設けられた第２液滴吐出口を有する第２ヘッドと、第１、第２ヘッドと対向する位置に配置され、第１方向に第３ピッチで設けられた画素領域を有する基板を支持するステージと、第１、第２ヘッドとステージとを第２方向に相対移動する駆動装置と、を備え、第１、第２ピッチは第３ピッチより小さく、且つ第１ピッチと第２ピッチとは異なる。【選択図】図２
2009282220.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に第１ピッチで設けられた第１液滴吐出口を有する第１ヘッドと、
前記第１ヘッドに対して前記第１方向と交差する第２方向に配置され、前記第１方向に第２ピッチで設けられた第２液滴吐出口を有する第２ヘッドと、
前記第１、第２ヘッドと対向する位置に配置され、前記第１方向に第３ピッチで設けられた画素領域を有する基板を支持するステージと、
前記第１、第２ヘッドと前記ステージとを前記第２方向に相対移動する駆動装置と、を備え、
前記第１、第２ピッチは前記第３ピッチより小さく、且つ前記第１ピッチと前記第２ピッチとは異なる液滴吐出装置。
【請求項２】
前記第２ピッチは、前記第１ピッチの１／２より大きく、且つ前記第１ピッチより小さい請求項１記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記第１方向に関する前記画素領域の一方側のエッジと、前記画素領域と対向し、且つ前記エッジに最も近い第１、第２液滴吐出口との前記第１方向に関する距離は、画素領域毎に異なる請求項１又は２記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記第１、第２ヘッドと前記ステージとを前記第２方向に相対移動しながら、前記基板上の画素領域と対向する第１、第２液滴吐出口より液滴を吐出するように前記第１、第２ヘッドを制御する制御装置を備える請求項１〜３のいずれか一項記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項記載の液滴吐出装置を用いるカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
第１方向に第１ピッチで第１液滴吐出口が設けられた第１ヘッドと、前記第１方向に第２ピッチで第２液滴吐出口が設けられた第２ヘッドとを、前記第１方向と交差する第２方向に配置する動作と、
前記第１、第２ヘッドと対向する位置に、前記第１方向に第３ピッチで画素領域が設けられた基板を配置する動作と、
前記第１、第２ヘッドと前記基板とを前記第２方向に相対移動しながら、前記基板上の画素領域と対向する第１、第２液滴吐出口より液滴を吐出する動作と、を含み、
前記第１、第２ピッチは前記第３ピッチより小さく、且つ前記第１ピッチと前記第２ピッチとは異なり、
前記第２ピッチは、前記第１ピッチの１／２より大きく、且つ前記第１ピッチより小さいカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、及びカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタの製造方法の一つとして液滴吐出法が知られている。液滴吐出法は、液滴吐出装置の液滴吐出口より、カラーフィルタを形成するためのインクの滴（液滴）を基板上に供給する。下記特許文献には、カラーフィルタの製造方法に関する技術の一例が開示されている。
【特許文献１】特開２００４−０９４２１８号公報
【特許文献２】特開２００４−１０５９４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
カラーフィルタを製造するために基板上に液滴を供給する場合において、その液滴吐出口のピッチによっては、カラーフィルタに周期的なむら（すじむら、厚みむら）が発生する可能性がある。その結果、例えば特定ピッチのモアレ縞が発生する等、カラーフィルタの品質が低下する可能性がある。
【０００４】
本発明は、カラーフィルタの品質の低下を抑制できる液滴吐出装置、及びカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１態様に従えば、第１方向に第１ピッチで設けられた第１液滴吐出口を有する第１ヘッドと、前記第１ヘッドに対して前記第１方向と交差する第２方向に配置され、前記第１方向に第２ピッチで設けられた第２液滴吐出口を有する第２ヘッドと、前記第１、第２ヘッドと対向する位置に配置され、前記第１方向に第３ピッチで設けられた画素領域を有する基板を支持するステージと、前記第１、第２ヘッドと前記ステージとを前記第２方向に相対移動する駆動装置と、を備え、前記第１、第２ピッチは前記第３ピッチより小さく、且つ前記第１ピッチと前記第２ピッチとは異なる液滴吐出装置が提供される。
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、複数のヘッドを用意し、それらヘッドに設けられる液滴吐出口のピッチを互いに異ならせることによって、周期的なむらの発生を抑制できる。したがって、製造されるカラーフィルタの品質の低下を抑制できる。
【０００７】
前記第２ピッチは、前記第１ピッチの１／２より大きく、且つ前記第１ピッチより小さいことが望ましい。これにより、周期的なむらの発生を抑制できる。
【０００８】
前記第１方向に関する前記画素領域の一方側のエッジと、前記画素領域と対向し、且つ前記エッジに最も近い第１、第２液滴吐出口との前記第１方向に関する距離は、画素領域毎に異なることが望ましい。これにより、周期的なむらの発生を抑制できる。
【０００９】
前記第１、第２ヘッドと前記ステージとを前記第２方向に相対移動しながら、前記基板上の画素領域と対向する第１、第２液滴吐出口より液滴を吐出するように前記第１、第２ヘッドを制御する制御装置を備えることにより、第１、第２液滴吐出口より画素領域に液滴を供給して、基板上にカラーフィルタを製造できる。
【００１０】
本発明の第２の態様に従えば、第１の態様の液滴吐出装置を用いるカラーフィルタの製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第２の態様によれば、品質の低下が抑制されたカラーフィルタを製造できる。
【００１２】
本発明の第３の態様に従えば、第１方向に第１ピッチで第１液滴吐出口が設けられた第１ヘッドと、前記第１方向に第２ピッチで第２液滴吐出口が設けられた第２ヘッドとを、前記第１方向と交差する第２方向に配置する動作と、前記第１、第２ヘッドと対向する位置に、前記第１方向に第３ピッチで画素領域が設けられた基板を配置する動作と、前記第１、第２ヘッドと前記基板とを前記第２方向に相対移動しながら、前記基板上の画素領域と対向する第１、第２液滴吐出口より液滴を吐出する動作と、を含み、前記第１、第２ピッチは前記第３ピッチより小さく、且つ前記第１ピッチと前記第２ピッチとは異なり、前記第２ピッチは、前記第１ピッチの１／２より大きく、且つ前記第１ピッチより小さいカラーフィルタの製造方法が提供される。
【００１３】
本発明の第３の態様によれば、周期的なむらの発生を抑制できる。したがって、製造されるカラーフィルタの品質の低下を抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。
【００１５】
図１は、本実施形態に係る液滴吐出装置１の一例を示す斜視図である。図１において、液滴吐出装置１は、液滴Ｄを供給可能な液滴吐出口２Ａを有する第１液滴吐出ヘッド３Ａと、液滴Ｄを供給可能な液滴吐出口２Ｂを有する第２液滴吐出ヘッド３Ｂと、第１、第２液滴吐出ヘッド３Ａ、３Ｂを支持するキャリッジ３０と、液滴Ｄが供給される基板Ｐを支持するステージ４と、キャリッジを移動する第１駆動ユニット５と、ステージ４を移動する第２駆動ユニット６と、液滴吐出装置１全体の動作を制御する制御装置７とを備えている。
【００１６】
以下の説明において、第１液滴吐出ヘッド３Ａを適宜、第１ヘッド３Ａ、と称し、第２液滴吐出ヘッド３Ｂを適宜、第２ヘッド３Ｂ、と称する。また、第１ヘッド３Ａの液滴吐出口２Ａを適宜、第１吐出口２Ａ、と称し、第２ヘッド３Ｂの液滴吐出口２Ｂを適宜、第２吐出口２Ｂ、と称する。
【００１７】
第１駆動ユニット５は、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂを支持するキャリッジ３０を移動可能である。第１駆動ユニット５は、キャリッジ３０を支持する支持機構５Ａと、支持機構５Ａに支持されたキャリッジ３０を移動可能なアクチュエータ５Ｂとを含む。第１駆動ユニット５は、キャリッジ３０を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂは、キャリッジ３０とともに、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００１８】
ステージ４は、液滴Ｄが供給される基板Ｐを支持して移動可能である。本実施形態において、ステージ４は、ベース部材１４上を移動可能な可動部材１５と、可動部材１５に搭載され、基板Ｐを保持するホルダ部材１６とを備えている。ホルダ部材１６は、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。
【００１９】
図２は、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂを下側から見た平面図である。図２に示すように、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂは、インクの液滴Ｄを吐出する第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂが形成された吐出面（ノズル形成面）８Ａ、８Ｂをそれぞれ有する。本実施形態において、吐出面８Ａ、８Ｂは、ＸＹ平面とほぼ平行である。また、本実施形態においては、吐出面８Ａ、８Ｂの外形は、Ｘ軸方向に長いほぼ長方形である。
【００２０】
第１吐出口２Ａは、第１ヘッド３Ａの吐出面８Ａにおいて、Ｘ軸方向に第１ピッチｐ１で複数設けられている。第２吐出口２Ｂは、第２ヘッド３Ｂの吐出面８Ｂにおいて、Ｘ軸方向に第２ピッチｐ２で複数設けられている。第２ヘッド３Ｂは、第１ヘッド３Ａに対してＹ軸方向に配置されている。本実施形態においては、第２ヘッド３Ｂは、第１ヘッド３Ａの＋Ｙ側に配置されている。
【００２１】
図３は、第１ヘッド３Ａの構造の一例を説明するための断面図である。第１ヘッド３Ａの構造と第２ヘッド３Ｂの構造とはほぼ同等である。図３を用いる以下の説明においては、主に第１ヘッド３Ａについて説明し、第２ヘッド３Ｂの説明は簡略若しくは省略する。
【００２２】
図３に示すように、第１ヘッド３Ａは、ヘッド本体９と、ヘッド本体９の下端に配置されたプレート部材（ノズルプレート）１０とを有する。第１吐出口２Ａは、プレート部材１０に形成されている。プレート部材１０は、上下方向に貫通する孔を複数有する。第１吐出口２Ａは、その孔の下端に配置されている。吐出面８Ａは、プレート部材１０に配置されている。
【００２３】
また、第１ヘッド３Ａは、プレート部材１０（第１吐出口２Ａ）の上方に形成されたキャビティ１１と、キャビティ１１の上方に配置された可撓性の振動板（膜）１２と、振動板１２の上方に配置されたピエゾ素子１３とを有する。キャビティ１１は、複数の第１吐出口２Ａのそれぞれに対応するように複数形成されている。すなわち、キャビティ１１は、第１吐出口２Ａ毎に配置されている。キャビティ１１は、流路を介してインク供給源（不図示）と接続される。キャビティ１１は、インク供給源からのインクを収容し、第１吐出口２Ａに供給する。振動板１２は、上下方向に振動することによって、キャビティ１１の圧力（容積）を変動可能である。ピエゾ素子１３は、振動板１２を上下方向に振動可能である。ピエゾ素子１３は、複数の第１吐出口２Ａのそれぞれに対応するように複数配置されている。すなわち、ピエゾ素子１３は、第１吐出口２Ａ毎に配置されている。ピエゾ素子１３は、制御装置７からの駆動信号に基づいて振動板１２を振動させ、キャビティ１１の圧力を変動させることによって、第１吐出口２Ａよりインクの液滴Ｄを吐出させる。
【００２４】
すなわち、本実施形態の第１ヘッド３Ａは、ピエゾ素子（圧電素子）１３に所定の駆動信号を供給して、そのピエゾ素子１３を変形させることによって、インクを収容したキャビディ（空間）１１の圧力を可撓性の振動板１２を介して変動させ、その圧力の変動を利用して、第１吐出口２Ａよりインクの液滴Ｄを吐出する、いわゆる電気機械変換方式の吐出ヘッドである。第２ヘッド３Ｂも、第１ヘッド３Ａと同等の構成を有する。
【００２５】
本実施形態においては、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂは、下側（−Ｚ側）に向いている。第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂからの液滴Ｄが吐出（供給）される基板Ｐの表面は、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂと対向するように、上側（＋Ｚ側）に向いている。ステージ４は、基板Ｐの表面と第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂとが対向するように、基板Ｐを保持する。
【００２６】
図４は、ステージ４の側面図である。図１及び図４に示すように、ベース部材１４の支持面１４Ｇと対向する可動部材１５の下面には、エアベアリングが形成されている。可動部材１５は、エアベアリングにより、支持面１４Ｇに非接触で支持される。支持面１４Ｇには、可動部材１５の移動をガイドするガイド部材１７が配置されている。本実施形態において、ガイド部材１７は、Ｙ軸方向に長い。可動部材１５の下面には、ガイド部材１７を配置可能な凹部１８が形成されている。可動部材１５の凹部１８の内面は、ガイド部材１７と対向する。
【００２７】
第２駆動ユニット６は、ベース部材１４に対して可動部材１５を移動可能な第１駆動装置６Ａと、可動部材１５に対してホルダ部材１６を移動可能な第２駆動装置６Ｂとを含む。本実施形態において、第１駆動装置６Ａは、リニアモータを含み、ガイド部材１７に配置された固定子１９と、凹部１８の内面に配置された可動子２０とを有する。固定子１９及び可動子２０を含む第１駆動装置６Ａは、可動部材１５をＹ軸方向に移動可能である。また、可動部材１５のＹ軸方向への移動に伴って、その可動部材１５に搭載されているホルダ部材１６（基板Ｐ）も、可動部材１５と一緒にＹ軸方向に移動する。
【００２８】
第２駆動装置６Ｂは、可動部材１５とホルダ部材１６との間に配置された複数のアクチュエータ２１を含む。アクチュエータ２１は、例えばピエゾ素子を含む。制御装置７は、複数のアクチュエータ２１を含む第２駆動装置６Ｂを制御することによって、可動部材１５上で、基板Ｐを保持したホルダ部材１６を移動（微動）可能である。本実施形態においては、基板Ｐを保持したホルダ部材１６は、第２駆動装置６Ｂによって、可動部材１５上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動（微動）可能である。
【００２９】
ステージ４は、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂと対向する位置に移動可能である。ステージ４は、基板Ｐを、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂと対向する位置に配置可能である。
【００３０】
本実施形態においては、制御装置７は、ステージ４に保持された基板Ｐを第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂに対してＹ軸方向に移動しながら、基板Ｐと対向する第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂより液滴を吐出するように、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂを制御する。第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂより吐出された液滴Ｄは、基板Ｐに供給される。
【００３１】
次に、図５を参照して、基板Ｐについて説明する。図５（Ａ）は、基板Ｐを示す平面図、図５（Ｂ）は、基板Ｐの一部を示す側断面図であり、図５（Ａ）のＡ−Ａ線断面図に相当する。基板Ｐは、カラーフィルタを製造するための基板である。基板Ｐに液滴Ｄが供給されることにより、カラーフィルタが製造される。
【００３２】
図５に示すように、基板Ｐ上には、隔壁（バンク）２２によって規定される凹部２３が設けられている。凹部２３は、その上端に開口２４を有する。
【００３３】
本実施形態において、基板Ｐは、例えばガラス基板である。なお、基板Ｐが、プラスチック等で形成されてもよい。隔壁２２は、合成樹脂製である。本実施形態において、隔壁２２は、カラーフィルタのブラックマトリクスとして機能する。
【００３４】
隔壁２２は、例えば基板Ｐ上に合成樹脂の膜を形成するコーティング処理と、露光処理、現像処理、及びエッチング処理を含むフォトリソグラフィ処理とを含む工程により形成可能である。
【００３５】
隔壁２２によって規定される凹部２３は、基板Ｐの表面と平行なＸＹ平面内において、マトリクス状に配置されている。また、本実施においては、凹部２３の開口２４は、ＸＹ平面内において、長辺エッジ２４Ｘ及び短辺エッジ２４Ｙを有する略長方形である。本実施形態において、長辺エッジ２４Ｘは、Ｘ軸方向とほぼ平行であり、短辺エッジ２４Ｙは、Ｙ軸方向とほぼ平行である。
【００３６】
カラーフィルタは、例えば液晶表示装置に用いられる。凹部２３は、液晶表示装置の画素領域に対応する部分に配置される。本実施形態において、ＸＹ平面内における凹部２３の大きさと、画素領域の大きさとは、ほぼ同じである。例えば、ＸＹ平面内における凹部２３の底面の大きさ、あるいはＸＹ平面内における開口２４の大きさは、画素領域の大きさとほぼ等しい。以下の説明において、凹部２３の底面を適宜、画素領域２５、と称する。本実施形態において、画素領域２５は、Ｘ軸方向に長い長方形である。なお、画素領域２５は、開口２４を含む概念でもよい。基板Ｐ上において、画素領域２５は、Ｘ軸方向に第３ピッチｐ３で設けられている。
【００３７】
図６は、第１吐出口２Ａと第２吐出口２Ｂと画素領域２５との関係を説明するための模式図である。本実施形態において、第１吐出口２Ａの第１ピッチｐ１、及び第２吐出口２Ｂの第２ピッチｐ２は、画素領域２５の第３ピッチｐ３より小さい。また、第１吐出口２Ａの第１ピッチｐ１と第２吐出口２Ｂの第２ピッチｐ２とは異なる。
【００３８】
本実施形態において、第２ピッチｐ２は、第１ピッチｐ１の１／２より大きく、且つ第１ピッチｐ１より小さい。一例として、第１ピッチｐ１は、０．０７０５５ｍｍである。第２ピッチｐ２は、０．０５ｍｍである。第３ピッチｐ３は、０．５１７ｍｍである。
【００３９】
図６に示すように、画素領域２５の−Ｘ側のエッジ（短辺エッジ）２５Ｙと、その画素領域２５と対向する複数の第１吐出口２Ａのうち、そのエッジ２５Ｙに最も近い第１吐出口２Ａとの距離（Ｘ軸方向に関する距離）Ｄ１は、Ｘ軸方向に隣接する画素領域２５毎に異なる。距離Ｄ１は、第１ピッチｐ１及び第３ピッチｐ３に応じて、画素領域２５毎に異なる。
【００４０】
図６に示す例では、画素領域２５Ａの−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５Ａと対向する複数の第１吐出口２Ａのうち、その画素領域２５Ａの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い第１吐出口２Ａとの距離Ｄ１は、ほぼゼロである。画素領域２５Ｂの−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５Ｂと対向する複数の第１吐出口２Ａのうち、その画素領域２５Ｂの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い第１吐出口２Ａとの距離Ｄ１は、例えば０．０２３１５ｍｍである。画素領域２５Ｈの−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５Ｈと対向する複数の第１吐出口２Ａのうち、その画素領域２５Ｈの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い第１吐出口２Ａとの距離Ｄ１は、例えば０．０２０９５ｍｍである。
【００４１】
また、図６に示すように、画素領域２５の−Ｘ側のエッジ（短辺エッジ）２５Ｙと、その画素領域２５と対向する複数の第２吐出口２Ｂのうち、そのエッジ２５Ｙに最も近い第２吐出口２Ｂとの距離（Ｘ軸方向に関する距離）Ｄ２は、Ｘ軸方向に隣接する画素領域２５毎に異なる。距離Ｄ２は、第２ピッチｐ２及び第３ピッチｐ３に応じて、画素領域２５毎に異なる。
【００４２】
図６に示す例では、画素領域２５Ａの−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５Ａと対向する複数の第２吐出口２Ｂのうち、その画素領域２５Ａの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い第２吐出口２Ｂとの距離Ｄ２は、ほぼゼロである。画素領域２５Ｂの−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５Ｂと対向する複数の第２吐出口２Ｂのうち、その画素領域２５Ｂの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い第２吐出口２Ｂとの距離Ｄ２は、例えば０．０１７ｍｍである。画素領域２５Ｈの−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５Ｈと対向する複数の第２吐出口２Ｂのうち、その画素領域２５Ｈの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い第２吐出口２Ｂとの距離Ｄ２は、例えば０．０１９ｍｍである。
【００４３】
また、本実施形態において、Ｘ軸方向に関する画素領域２５の−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、画素領域２５と対向し、エッジ２５Ｙに最も近い第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂとの距離は、画素領域２５毎に異なる。例えば、図６中、画素領域２５Ｂと対向する複数の吐出口２Ａ、２Ｂのうち、画素領域２５Ｂの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い吐出口は、第２吐出口２Ｂである。また、図６中、画素領域２５Ｈと対向する複数の吐出口２Ａ、２Ｂのうち、画素領域２５Ｈの−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い吐出口は、第１吐出口２Ａである。
【００４４】
以下の説明において、画素領域２５と対向し、且つ−Ｘ側のエッジ２５Ｙに最も近い吐出口を適宜、吐出口２ｓ、と表し、画素領域２５の−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、吐出口２ｓとの距離を適宜、距離Ｄｓ、と表す。したがって、図６に示すように、画素領域２５Ｂに関しては、吐出口２ｓは、第２吐出口２Ｂであり、距離Ｄｓは、距離Ｄ２である。また、画素領域２５Ｈに関しては、吐出口２ｓは、第１吐出口２Ａであり、距離Ｄｓは、距離Ｄ１である。
【００４５】
また、以下の説明においては、画素領域２５の−Ｘ側のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５と対向し、エッジ２５Ｙに最も近い第１吐出口２Ａとの距離Ｄ１と、その画素領域２５のエッジ２５Ｙと、その画素領域２５と対向し、エッジ２５Ｙに最も近い第２吐出口２Ｂとの距離Ｄ２との平均値を適宜、平均値Ｄｖ、と表す。図６に示す例では、画素領域２５Ｂに関しては、距離Ｄ１は、０．０２３１５ｍｍであり、距離Ｄ２は、０．０１７ｍｍなので、画素領域２５Ｂに関する平均値Ｄｖは、０．０２００７５ｍｍである。また、画素領域２５Ｈに関しては、距離Ｄ１は、０．０２０９５ｍｍであり、距離Ｄ２は、０．０１９ｍｍなので、画素領域２５Ｈに関する平均値Ｄｖは、０．０１９９７５ｍｍである。
【００４６】
次に、上述の液滴吐出装置１を用いて、カラーフィルタを製造する方法の一例について説明する。本実施形態においては、基板Ｐ上の凹部２３に、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂより、カラーフィルタを製造するためのインクの液滴Ｄを供給して、カラーフィルタを製造する。
【００４７】
第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂから吐出された液滴Ｄを基板Ｐ上の凹部２３に供給するために、制御装置７は、第２駆動ユニット６を制御してステージ４を移動して、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂと対向する位置に、ステージ４に保持されている基板ＰのＹ軸方向に関する端部を配置する。また、制御装置７は、第１駆動ユニット５及び第２駆動ユニット６の少なくとも一方を用いて、吐出面８Ａ、８Ｂの第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂから吐出された液滴Ｄが基板Ｐの凹部２３に供給されるように、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂとステージ４に保持されている基板Ｐの表面との間の距離（プラテンギャップ）、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂとステージ４に保持されている基板Ｐの表面との傾斜方向（θＸ、θＹ方向）の位置関係、及び回転方向（θＺ方向）の位置関係を調整する。制御装置７は、第１駆動ユニット５及び第２駆動ユニット６の少なくとも一方を用いて、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂと基板Ｐの表面とがほぼ平行となるように、且つ、プラテンギャップが所定の値になるように、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの吐出面８Ａ、８Ｂとステージ４に保持されている基板Ｐの表面との位置関係を調整する。
【００４８】
そして、制御装置７は、第２駆動ユニット６を制御して、ステージ４に保持された基板Ｐを第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂに対してＹ軸方向に移動しつつ、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂの第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂより、基板Ｐ上の凹部２３（画素領域２５）に液滴Ｄを吐出（供給）する。制御装置７は、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂとステージ４とをＹ軸方向に相対移動しながら、基板Ｐ上の画素領域２５と対向する第１、第２吐出口２Ａ、２Ｂより液滴Ｄを吐出するように第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂを制御する。
【００４９】
本実施形態においては、第１、第２ヘッド３Ａ、３Ｂが設けられ、第１ヘッド３Ａに設けられる第１吐出口２Ａの第１ピッチｐ１と、第２ヘッド３Ｂに設けられている第２吐出口２Ｂの第２ピッチｐ２とが異なるので、基板Ｐ上に形成されるカラーフィルタにおいて周期的なむらが発生することを抑制できる。
【００５０】
図７は、複数の画素領域２５のそれぞれにおける距離Ｄｓを示す図である。図７のグラフにおいて、横軸は、画素領域２５（画素番号）を示し、縦軸は、距離Ｄｓを示す。本実施形態において、画素領域２５は、Ｘ軸方向に関して、基板Ｐ上に１３０個存在する。
【００５１】
本実施形態において、距離Ｄｓは、１３０個の画素領域２５毎に異なる。本実施形態においては、距離Ｄｓが基板Ｐ上の画素領域２５毎に異なるように、第３ピッチｐ３に応じて、第１、第２ピッチｐ１、ｐ２が定められている。したがって、図７に示すように、Ｘ軸方向に１３０個並ぶ基板Ｐ上の画素領域２５のそれぞれに関して、距離Ｄｓが一致するものは、ほぼ存在しない。
【００５２】
図８は、複数の画素領域２５のそれぞれにおける、平均値Ｄｖを示す図である。図８のグラフにおいて、横軸は、画素領域２５（画素番号）を示し、縦軸は、平均値Ｄｖを示す。本実施形態において、平均値Ｄｖは、１３０個の画素領域２５毎に異なる。本実施形態においては、平均値Ｄｖが基板Ｐ上の画素領域２５毎に異なるように、第３ピッチｐ３に応じて、第１、第２ピッチｐ１、ｐ２が定められている。したがって、図８に示すように、Ｘ軸方向に１３０個並ぶ基板Ｐ上の画素領域２５のそれぞれに関して、平均値Ｄｖが一致するものは、ほぼ存在しない。
【００５３】
図９は、比較例の一例を示す図であって、複数の画素領域２５のそれぞれにおける、距離Ｄ１、Ｄ２を示す図である。図９のグラフにおいて、横軸は、画素領域２５（画素番号）を示し、縦軸は、距離Ｄ１、Ｄ２を示す。図９に示すように、距離Ｄ１及び距離Ｄ２のそれぞれは、Ｘ軸方向に関して、周期的に変化する。換言すれば、Ｘ軸方向に１３０個並ぶ基板Ｐ上の画素領域２５のそれぞれに関して、距離Ｄ１が一致するものが複数存在し、距離Ｄ２が一致するものが複数存在する。
【００５４】
例えば第１ヘッド３Ａのみを用いて液滴を吐出してカラーフィルタを製造する場合、距離Ｄ１が周期的に変化し、その結果、カラーフィルタに周期的なむら（すじむら、厚みむら）が発生する可能性がある。その結果、例えば特定ピッチのモアレ縞が発生する等、カラーフィルタの品質が低下する可能性がある。第２ヘッド３Ｂのみを用いて液滴を吐出してカラーフィルタを製造する場合も同様である。
【００５５】
本実施形態においては、第１ヘッド３Ａと第２ヘッド３Ｂとの両方から液滴を吐出することにより、距離Ｄｓ、平均値Ｄｖをランダムにすることができる。すなわち、基板Ｐ上において、距離Ｄｓ、平均値Ｄｖにばらつきを持たせることができる。したがって、カラーフィルタに周期的なむら（すじむら、厚みむら）が発生することを抑制できる。
【００５６】
以上説明したように、本実施形態によれば、カラーフィルタに周期的なむら（すじむら、厚みむら）が発生することを抑制できるので、カラーフィルタの品質が低下することを抑制することができる。
【００５７】
なお、上述の実施形態においては、デバイスとしてカラーフィルタを製造する場合を例にして説明したが、隔壁によって規定される凹部に液滴を供給することによってデバイスを製造する際に、上述の各実施形態で説明した装置及び方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本実施形態に係る液滴吐出装置の一例を示す斜視図である。
【図２】本実施形態に係る液滴吐出ヘッドを下側から見た平面図である。
【図３】本実施形態に係る液滴吐出ヘッドの構造の一例を説明するための断面図である。
【図４】本実施形態に係るステージの側面図である。
【図５】本実施形態に係る基板の一例を示す図である。
【図６】本実施形態に係る第１、第２吐出口と画素領域との関係を説明するための模式図である。
【図７】本実施形態に係る第１、第２吐出口と画素領域との関係を説明するための図である。
【図８】本実施形態に係る第１、第２吐出口と画素領域との関係を説明するための図である。
【図９】比較例に係る第１、第２吐出口と画素領域との関係を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５９】
１…液滴吐出装置、２Ａ…第１吐出口、２Ｂ…第２吐出口、３Ａ…第１ヘッド、３Ｂ…第２ヘッド、４…ステージ、５…第１駆動ユニット、６…第２駆動ユニット、２２…隔壁、２３…凹部、２４…開口、２５…画素領域、Ｄ…液滴、Ｐ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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