(57)【要約】【課題】処理室内に付着した生成物等により変動する電極インピーダンスの変動を抑制でき、プラズマで消費される電力の変動を防止する装置、方法の提供。            【解決手段】高周波電力が印加される下部電極２と誘電体２１を間に挟んでコンデンサを形成する導電リング２０をインピーダンス制御器２２を介してＧＮＤに接続し、下部電極２に高周波電源５から高周波を印加し、次に切替スイッチ２４を切替え、下部電極２をインピーダンス測定器２３に接続し、このとき、切替スイッチ２５を介して上部電極３をＧＮＤから切り離し、下部電極２とＧＮＤ間のインピーダンスをインピーダンス測定器２３で測定し、制御装置２６は、インピーダンス測定結果に基づき、インピーダンス制御器２２のインピーダンスを可変制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波電力が印加される電極を一方の電極とするコンデンサを形成し、前記コンデンサの他方の電極はインピーダンス制御器を介してグランドに接続され、
前記高周波電力が印加される電極とグランド間の電極インピーダンスを可変制御する手段を備えている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記コンデンサの他方の電極として、前記高周波電力が印加される電極と誘電体を間に挟んで前記コンデンサを形成し、前記インピーダンス制御器を介してグランドに接続される導電部材を備え、
前記電極とグランド間のインピーダンスを測定するインピーダンス測定器と、
前記インピーダンスの測定結果に基づき、前記インピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する制御装置と、
を備えている、ことを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記高周波電力が印加される電極を、高周波電源又はインピーダンス測定器のいずれかに接続する第１の切替スイッチと、
前記高周波電力が印加される電極と対向する第２の電極を、グランドに接続するか又はグランドと切り離された状態に切り替える第２の切替スイッチと、
を備えている、ことを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記第１の切替スイッチが、前記高周波電力が印加される電極を前記高周波電源に接続する場合、前記第２の切替スイッチは前記第２の電極をグランドに接続し、
前記第１の切替スイッチが、前記高周波電力が印加される電極を前記インピーダンス測定器に接続する場合、前記第２の切替スイッチは前記第２の電極をグランドから切り離す、ことを特徴とする請求項３記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記高周波電力が印加される電極として、互いに対向する第１の電極と第２の電極を備え、
前記第１の電極と誘電体を間に挟んで第１のコンデンサを形成する第１の導電部材と、
前記第１の導電部材に一端が接続され、他端がグランドに接続された第１のインピーダンス制御器と、
前記第１の電極とグランド間のインピーダンスを測定する第１のインピーダンス測定器と、
前記第１のインピーダンス測定器での測定結果に基づき、前記第１のインピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する第１の制御装置と、
を備え、
前記第２の電極と誘電体を間に挟んで第２のコンデンサを形成する第２の導電部材と、
前記第２の導電部材に一端が接続され、他端がグランドに接続された第２のインピーダンス制御器と、
前記第２の電極とグランド間のインピーダンスを測定する第２のインピーダンス測定器と、
前記第２のインピーダンス測定器での測定結果に基づき、前記第２のインピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する第２の制御装置と、
を備えている、ことを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記第１の電極を、第１の高周波電源、又は、前記第１のインピーダンス測定器、又は、前記第１の高周波電源及び前記第１のインピーダンス測定器のどちらにも接続されない中間状態のいずれかに切り替える第１の切替スイッチと、
前記第２の電極を、第２の高周波電源、又は、前記第２のインピーダンス測定器、又は、前記第２の高周波電源及び前記第２のインピーダンス測定器のどちらにも接続されない中間状態のいずれかに切り替える第２の切替スイッチと、
を備えている、ことを特徴とする請求項５記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記第１の切替スイッチが前記第１の電極を前記第１のインピーダンス測定器に接続する場合、前記第２の切替スイッチは前記第２の電極を前記中間状態に切替え、
前記第２の切替スイッチが前記第２の電極を前記第２のインピーダンス測定器に接続する場合、前記第１の切替スイッチは前記第１の電極を前記中間状態に切替える、ことを特徴とする請求項６記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記高周波電力が印加される電極と誘電体を間に挟んでコンデンサを形成する導電部材が、前記誘電体を間に挟んで前記高周波電力が印加される電極の外周を囲む、ことを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
高周波電力が印加される電極を一方の電極とするコンデンサを形成し、
前記コンデンサの他方の電極をインピーダンス制御器を介してグランドに接続し、
前記高周波電力が印加される電極とグランド間の電極インピーダンスを可変制御する、ことを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項１０】
前記高周波電力が印加される電極と誘電体を間に挟んでコンデンサを形成する導電部材を前記インピーダンス制御器を介してグランドに接続し、
前記高周波電力が印加される電極に高周波電源から高周波を印加し、
前記高周波電力が印加される電極とグランド間の電極インピーダンスを測定し、
前記インピーダンスの測定結果に基づき、前記インピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する、ことを特徴とする請求項９記載のプラズマ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体製造装置に関し、特に、プラズマにて加工処理を行う装置のインピーダンス制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマにて加工処理する装置（「プラズマ処理装置」という）において、処理時のプラズマ放電はウエハの加工を左右する重要なパラメータの一つである。
【０００３】
しかしながら、処理中に生じる反応生成物が処理室内へ堆積していくことや、処理室内部品の個体差により処理室内のプラズマインピーダンスに変動が生じ、プラズマで消費される電力が一定とならず、加工状態が安定しない問題がある。
【０００４】
半導体回路素子の微細化に伴い、処理時のプラズマ放電による加工の安定性を向上することが益々重要となってきている。
【０００５】
インピーダンス制御の関連技術として、特許文献１（特開昭６０−２０６０２８号公報）には、プラズマ処理中に変化するプラズマインピーダンスを常時モニターし、ガス供給系にフィードバックすることでプラズマインピーダンスを一定にさせてプラズマ放電を安定化させるプラズマ制御装置の構成が開示されている。
【０００６】
また、特許文献２（特開２００３−１４２４５５号公報）には、電極にインピーダンス測定装置を備え、プラズマ放電中の電極から真空プロセスチャンバまでのインピーダンス及び位相値を測定し、プラズマの状態や電力損失状況の推定及び判断を行い、推定結果をもとにガス流量、圧力、温度といったプロセス条件パラメータを、プロセス処理条件を逸脱しない範囲で微調整し、電極間の距離をモータにより変更してチャンバ内の誘電率を変化させ、容量性のインピーダンスに調整し、より安定なプラズマを得ることを可能にする。電力損失も最小限に抑えるようにしたプラズマ処理装置及び処理方法が開示されている。
【０００７】
さらに特許文献３（特開２００２−３１６０４０号公報）には、プラズマ放電中の負荷側の電極とインピーダンス整合器間の電送経路におけるインピーダンスを測定可能なインピーダンス測定装置を備え、その測定結果をインピーダンス制御装置にフィードバックすることで電送経路に生じたインダクタンス成分による電力損失を最小限に抑え、電力損失を最小限に抑えるプラズマ処理装置及び処理方法が開示されている。
【０００８】
【特許文献１】特開昭６０−２０６０２８号公報
【特許文献２】特開２００３−１４２４５５号公報
【特許文献３】特開２００２−３１６０４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
以下に本発明による上記関連技術の分析を与える。
【００１０】
特許文献１に記載のプラズマ処理装置では、高周波電源から処理室へ供給する高周波電力のインピーダンス整合を行う整合回路は高周波電源への反射波を防止するため、処理室と整合回路の合成インピーダンスが常に一定値となるよう制御している。実際の処理室内は多様な部品で構成されているため、処理室のインピーダンスは、プラズマが形成される範囲のインピーダンス（プラズマインピーダンス）と、それ以外のプラズマが形成されない範囲の下部電極とＧＮＤ間のインピーダンス（電極インピーダンス）を考慮する必要がある。プラズマ処理により反応生成物が下部電極近傍に堆積していくと、生成物自体が持っている固有の誘電率により電極インピーダンス（主に静電容量成分）が刻々と変動する。また、処理室のメンテナンス時に部品（主に下部電極の周辺部品）の交換を行った場合、部品自体が持っているインピーダンス個体差による影響で電極インピーダンスは変動する。さらに、部品交換を行わない場合でも上記部品の組み付け状態による影響でも変動する、という問題がある。
【００１１】
特許文献１、特許文献２に記載の発明においては、ガス種、ガス流量、圧力、放電電力、温度、電極間距離といったプラズマ加工プロセスにおいて重要なプロセスパラメータをインピーダンスの変動量に応じて変える必要がある、このため、エッチレート、形状等加工状態に与える影響は大きく、製品品質に対して、悪影響を及ぼす可能性が大きくなる。
【００１２】
また特許文献３に記載の発明は、インピーダンス整合器の出力側と処理室内電極間の電送経路におけるインピーダンスの制御のため、変動する電極インピーダンスを防止することには対応できず、プラズマで消費される電力の安定化にはならない。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本願で開示される発明は、前記課題を解決するため概略以下の構成とされる。
【００１４】
本発明の１つの側面（アスペクト）によれば、高周波電力が印加される電極を一方の電極とするコンデンサを形成し、前記コンデンサの他方の電極はインピーダンス制御器を介してグランドに接続され、前記高周波電力が印加される電極とグランド間の電極インピーダンスを可変制御するプラズマ処理装置が提供される。
【００１５】
本発明に係る装置において、前記コンデンサの他方の電極として、前記高周波電力が印加される電極と誘電体を間に挟んで前記コンデンサを形成し、前記インピーダンス制御器を介してグランドに接続される導電部材を備え、前記電極とグランド間のインピーダンスを測定するインピーダンス測定器と、前記インピーダンスの測定結果に基づき、前記インピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する制御装置と、を備えている。
【００１６】
本発明に係る装置において、前記高周波電力が印加される電極を、高周波電源又はインピーダンス測定器のいずれかに接続する第１の切替スイッチと、前記高周波電力が印加される電極と対向する第２の電極を、グランドに接続するか又はグランドと切り離された状態に切り替える第２の切替スイッチと、を備えている。
【００１７】
本発明に係る装置において、前記第１の切替スイッチが、前記高周波電力が印加される電極を前記高周波電源に接続する場合、前記第２の切替スイッチは前記第２の電極をグランドに接続し、前記第１の切替スイッチが、前記高周波電力が印加される電極を前記インピーダンス測定器に接続する場合、前記第２の切替スイッチは前記第２の電極をグランドから切り離す。
【００１８】
本発明の他の側面に係る装置においては、前記高周波電力が印加される電極として、互いに対向する第１の電極と第２の電極を備え、前記第１の電極と誘電体を間に挟んで第１のコンデンサを形成する第１の導電部材と、前記第１の導電部材に一端が接続され、他端がグランドに接続された第１のインピーダンス制御器と、前記第１の電極とグランド間のインピーダンスを測定する第１のインピーダンス測定器と、前記第１のインピーダンス測定器での測定結果に基づき、前記第１のインピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する第１の制御装置と、前記第２の電極と誘電体を間に挟んで第２のコンデンサを形成する第２の導電部材と、前記第２の導電部材に一端が接続され、他端がグランドに接続された第２のインピーダンス制御器と、前記第２の電極とグランド間のインピーダンスを測定する第２のインピーダンス測定器と、前記第２のインピーダンス測定器での測定結果に基づき、前記第２のインピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する第２の制御装置と、を備えている。
【００１９】
本発明に係る装置において、前記第１の電極を、第１の高周波電源、又は、前記第１のインピーダンス測定器、又は、前記第１の高周波電源及び前記第１のインピーダンス測定器のどちらにも接続されない中間状態のいずれかに切り替える第１の切替スイッチと、前記第２の電極を、第２の高周波電源、又は、前記第２のインピーダンス測定器、又は、前記第２の高周波電源及び前記第２のインピーダンス測定器のどちらにも接続されない中間状態のいずれかに切り替える第２の切替スイッチと、を備えている。
【００２０】
本発明に係る装置において、前記第１の切替スイッチが前記第１の電極を前記第１のインピーダンス測定器に接続する場合、前記第２の切替スイッチは前記第２の電極を前記中間状態に切替え、前記第２の切替スイッチが前記第２の電極を前記第２のインピーダンス測定器に接続する場合、前記第１の切替スイッチは前記第１の電極を前記中間状態に切替える。
【００２１】
本発明に係る装置において、前記高周波電力が印加される電極と誘電体を間に挟んでコンデンサを形成する前記導電部材が、前記誘電体を間に挟んで前記高周波電力が印加される電極の外周を囲む。
【００２２】
本発明によれば、高周波電力が印加される電極を一方の電極とするコンデンサを形成し、前記コンデンサの他方の電極をインピーダンス制御器を介してグランドに接続し、前記高周波電力が印加される電極とグランド間の電極インピーダンスを可変制御する、プラズマ処理方法が提供される。
【００２３】
本発明に係る方法においては、前記高周波電力が印加される電極と誘電体を間に挟んでコンデンサを形成する導電部材を前記インピーダンス制御器を介してグランドに接続し、
前記高周波電力が印加される電極に高周波電源から高周波を印加し、
前記高周波電力が印加される電極とグランド間の電極インピーダンスを測定し、
前記インピーダンスの測定結果に基づき、前記インピーダンス制御器のインピーダンスを可変制御する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、処理室内に付着した生成物等により変動する電極インピーダンスの変動を抑制でき、プラズマで消費される電力（プラズマとして消費されずＧＮＤ側に抜けていく電力（ロス電力））の変動を防止することができる。その結果、プラズマで消費される電力を安定させ、プラズマ処理中のプロセス加工状態を安定させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の実施形態について図面を参照して以下に説明する。図１は、本発明の第１実施例によるプラズマ処理装置の概略構成を示す図である。図１において、１はウエハ、２はウエハ１を載置する下部電極（カソード）、３は接地された上部電極（アノード）、４は処理室、５は高周波電源（高周波電力供給回路）、６はインピーダンス整合器、２０は導電リング、２１は誘電体、２２はインピーダンス制御器、２３はインピーダンス測定器、２４、２５は切替スイッチ、２６は制御装置である。
【００２６】
図１に示すように、本実施例においては、下部電極２の外周部近傍には導電性材料からなる導電リング２０を設置し、導電リング２０と下部電極２との間には、絶縁体材料からなる誘電体２１を設置する。導電リング２０と下部電極２の間ではコンデンサが形成されている。すなわち、誘電体２１は、下部電極２と導電リング２０との間で形成されるコンデンサの誘電体として作用する。
【００２７】
なお、下部電極２、導電リング２０のどちらか又は両方に陽極酸化等の絶縁膜の表面処理を施す場合、この表面処理が誘電体２１の役割を果たすため、誘電体２１を別途設けなくても良い。
【００２８】
導電リング２０はインピーダンス制御器２２の一端に接続され、インピーダンス制御器２２の他端は接地されている。
【００２９】
下部電極２へ高周波電力を供給する経路中には、下部電極２をインピーダンス整合器６から切り離し、インピーダンス測定器２３側に切り替えることができる切替スイッチ２４が設置されている。
【００３０】
上部電極３側には上部電極３をＧＮＤと切り離すための切替スイッチ２５が設置されている。
【００３１】
制御装置２６は、インピーダンス測定器２３でモニターした値を基に、インピーダンス制御器２２を制御する。
【００３２】
図３（Ａ）は下部電極２及び導電リング２０、誘電体２１をウエハ１載置面側からみた平面図、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のＡ−Ａ線に沿った断面図である。下部電極２、導電リング２０の間隙に誘電体２１が配設されており、コンデンサが形成される。
【００３３】
再び図１を参照すると、処理室４には、不図示の配管を通してプロセス材料ガスが供給され、不図示の排気系によって一定圧力になるように制御されている。
【００３４】
高周波電源５から下部電極２に高周波電力を印加する際は、切替スイッチ２４を下部電極２がインピーダンス整合器６に接続するように切替え、また切替スイッチ２５を上部電極３が接地されるよう切り替える。高周波電源５からの高周波をインピーダンス整合器６を通して処理室４の下部電極２に印加し、下部電極２と上部電極３の間にプラズマを形成する。
【００３５】
インピーダンス整合器６は、高周波電力が効率よく処理室４に供給されるようにインピーダンス整合を行う。
【００３６】
また、切替スイッチ２４は任意のタイミングで下部電極２をインピーダンス測定器２３側に切り替え自在とされ、該切替タイミングと同時に（同期して）、切替スイッチ２５が上部電極３とＧＮＤを切り離す。
【００３７】
切替スイッチ２４を、プラズマ処理中以外のタイミングで切り替えることで、インピーダンス測定器２３は、上部電極３や高周波電源５、及びインピーダンス整合器６のインピーダンス値を含まない処理室４の電極インピーダンスを測定することが可能となる。
【００３８】
インピーダンス測定器２３での測定結果に基づいて、制御装置２６は、測定値が予め設定した値になるように、インピーダンス制御器２２（例として可変コンデンサ）のインピーダンスを変化させ、電極インピーダンスが一定の値となるように制御する。
【００３９】
図２は、図１の処理室４内の等価回路を示す図である。切替スイッチ２５が上部電極３とＧＮＤを切り離し下部電極２はインピーダンス測定器２３に接続され、さらに、下部電極２は誘電体２１を間に挟む導電リング２０とともにコンデンサの電極を形成し、インピーダンス制御器２２（可変コンデンサ）の一端に接続され、インピーダンス制御器２２（可変コンデンサ）の他端はＧＮＤに接続されている。図２に示すように、電極インピーダンスは、コンデンサ（下部電極２、誘電体２１、導電リング２０）とインピーダンス制御器２２（可変コンデンサ）の直列回路で表され、この電極インピーダンスがインピーダンス測定器２３によるインピーダンス測定範囲となる。
【００４０】
本実施例によれば、刻々と変化する電極インピーダンス（下部電極２−ＧＮＤ間）の値を、予め決められた値に一定に保つことで、下部電極２に供給された高周波電力の内、プラズマとして消費されずにＧＮＤ側に抜けていく高周波電力の変動を防止することが可能となる。これにより、プラズマで消費される電力の変動を防止することになり、プロセス加工状態を常に安定させることが可能となる。
【００４１】
図４は、本発明の第２実施例による２周波型プラズマ処理装置の概略構成を示す図である。本発明の第２実施例は、前記実施例１で説明した下部電極２の電極インピーダンス制御機構と同様の構成を、上部電極３の電極インピーダンスに用いたものである。図４において、１はウエハ、２はウエハ１を載置する下部電極、３は上部電極、４は処理室であり、下部電極２は、イオンエネルギー制御用の電極、上部電極３はプラズマ密度制御用の高周波印加電極として用いる。
【００４２】
本実施例においては、下部電極２、及び上部電極３には、高周波電源５ａ、５ｂ、インピーダンス制御器２２ａ、２２ｂ、インピーダンス測定器２３ａ、２３ｂ、電極インピーダンスの制御装置２６ａ、２６ｂがそれぞれ配設されている。
【００４３】
下部電極２は、前記実施例１と同様、誘電体２１ａ、導電リング２０ａを備え、下部電極２は切替スイッチ２４’を介して、インピーダンス整合器６ａ、インピーダンス整合器６ａ及びインピーダンス測定器２３ａのどちらからも切り離す中間位置、インピーダンス測定器２３ａのいずれかの切替接続される。導電リング２０ａはインピーダンス制御器２２ａの一端に接続され、インピーダンス制御器２２ａの他端はＧＮＤに接続されている。
【００４４】
上部電極３は、下部電極２と同様、誘電体２１ｂ、導電リング２０ｂを備え、上部電極３は切替スイッチ２５’を介して、インピーダンス整合器６ｂ、インピーダンス整合器６ｂ及びインピーダンス測定器２３ｂのどちらからも切り離す中間位置、インピーダンス測定器２３ｂのいずれかの切替接続される。導電リング２０ｂはインピーダンス制御器２２ｂの一端に接続され、インピーダンス制御器２２ｂの他端はＧＮＤに接続されている。
【００４５】
本実施例において、電極インピーダンス測定時の切替スイッチ２４’、切替スイッチ２５’の動作について説明する。
【００４６】
下部電極２の電極インピーダンス測定時、切替スイッチ２４’をインピーダンス測定器２３ａ側に切り替える。またこの切替と同一タイミングで、上部電極３がインピーダンス整合器６ｂ、及びインピーダンス測定器２３ｂのどちらからも切り離す中間位置に切替スイッチ２５’を切り替える。その状態で、インピーダンス測定器２３ａは、下部電極２の電極インピーダンスを測定する。
【００４７】
また上部電極３の電極インピーダンス測定時は、切替スイッチ２４’、切替スイッチ２５’の位置を、下部電極２の電極インピーダンス測定時と逆位置にして測定する。切替スイッチ２５’をインピーダンス測定器２３ｂ側に切り替え、この切替と同一タイミングで、下部電極２がインピーダンス整合器６ａ、及びインピーダンス測定器２３ａのどちらからも切り離す中間位置に切替スイッチ２４’を切り替える。その状態で、インピーダンス測定器２３ｂは、上部電極３の電極インピーダンスを測定する。
【００４８】
ガス種、ガス流量、圧力、放電電力、温度、電極間距離といったパラメータによるプラズマインピーダンス調整（関連技術）では、上部電極及び下部電極に対して、同時にそれぞれの電極インピーダンスを調整することは不可能であるが、本実施例では、インピーダンスを独立して制御することが可能となる。
【００４９】
２周波を同時に印加する構成を有する装置の場合、それぞれの電極に独立した高周波電力を印加し、プラズマ密度、及びイオンエネルギーを制御している。プラズマ密度、イオンエネルギーそれぞれを常に安定した状態に保つことは、加工状態の安定性を向上するために重要となる。
【００５０】
本実施例の作用効果について以下に説明する。
【００５１】
処理室内に付着した生成物等により刻々と変動する電極インピーダンスを抑制でき、それによりプラズマで消費される電力の変動が防止されるため、プラズマ処理中のプロセス加工状態を常に安定させることができ、製造品質を向上させることが可能となる。
【００５２】
また生成物により変動した電極インピーダンスを元の値に戻すためのメンテナンス時間を短縮でき、生産性も向上する。
【００５３】
処理室内のメンテナンス時に交換する部品（主に電極周辺部品）の部品個体差によるインピーダンスの違いよる影響、及び、上記部品脱着時の組み付け状態による影響で変動する電極インピーダンスを抑制でき、それによりプラズマで消費される電力の変動が防止されるため、プロセス加工状態を常に安定させることができ、製造品質を向上させることが可能となる。
【００５４】
また、メンテナンス前後で電極インピーダンスの変動を抑制できるため、メンテナンス時間を短縮することができ、生産性も向上する。
【００５５】
なお、上記の特許文献１乃至３の各開示を、本書に引用をもって繰り込むものとする。本発明の全開示（請求の範囲を含む）の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態ないし実施例の変更・調整が可能である。また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素の多様な組み合わせないし選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の第１の実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１実施例による処理室内の等価回路を示す図である。
【図３】（Ａ）は図１の下部電極、導電リング、誘電体をウエハ載置面側からみた上面図、（Ｂ）は（Ａ）のＡ−Ａ矢線に沿った断面図である。
【図４】本発明の第２の実施例の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  ウエハ
２  下部電極（カソード）
３  上部電極（アノード）
４  処理室
５  高周波電源（高周波電力供給回路）
５ａ  高周波電源（下部電極高周波電力供給回路）
５ｂ  高周波電源（上部電極高周波電力供給回路）
６  インピーダンス整合器
６ａ  インピーダンス整合器（下部電極）
６ｂ  インピーダンス整合器（上部電極）
２０  導電リング
２０ａ  導電リング（下部電極）
２０ｂ  導電リング（上部電極）
２１  誘電体
２１ａ  誘電体（下部電極）
２１ｂ  誘電体（上部電極）
２２  インピーダンス制御器
２２ａ  インピーダンス制御器（下部電極）
２２ｂ  インピーダンス制御器（上部電極）
２３  インピーダンス測定器
２３ａ  インピーダンス測定器（下部電極）
２３ｂ  インピーダンス測定器（上部電極）
２４  切替スイッチ（カソード側）
２５  切替スイッチ（アノード側）
２４’  切替スイッチ（下部電極）
２５’  切替スイッチ（上部電極）
２６  制御装置
２６ａ  制御装置（下部電極）
２６ｂ  制御装置（上部電極）
【図１】
2009187673.tif 000003
【図２】
2009187673.tif 000004
【図３】
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【図４】
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