(57)【要約】【課題】本発明は、穏和な条件下で、アルデヒドを含むカルボニル化合物から、効率的にエステル化合物を製造する方法を提供する。さらに、本発明は、アルデヒドと他のカルボニル化合物から、クロスカップリングしたエステル化合物を高選択的に製造する方法を提供する。【解決手段】エステル化合物の製造方法であって、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体からなる触媒の存在下、アルデヒドを含むカルボニル化合物を反応させることを特徴とする製造方法に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
エステル化合物の製造方法であって、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体からなる触媒の存在下、アルデヒドを含むカルボニル化合物を反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
一般式（３）：
【化１】
2009280529.tif 000017
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ同一又は異なって、Ｈ、置換基を有してもよい脂肪族基、ペルフルオロアルキル基、又は置換基を有してもよい芳香族基を示し、或いはＲ１及びＲ２は結合していてもよい。）
で表されるエステル化合物の製造方法であって、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体からなる触媒の存在下、一般式（１）：
【化２】
2009280529.tif 000018
（式中、Ｒ１は前記に同じ。）。
で表される化合物、及び、一般式（２）：
【化３】
2009280529.tif 000019
（式中、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。）
で表される化合物を含むカルボニル化合物を反応させることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記触媒がホスフィン又はカルベンを配位子に有する０価のニッケル錯体である請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記触媒がホスフィンを配位子に有するニッケル錯体（ニッケル−ホスフィン錯体）である請求項１、２又は３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記ニッケル−ホスフィン錯体が、０価のニッケル錯体及びトリアルキルホスフィンから調製される錯体である請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記カルボニル化合物１モルに対し、前記０価のニッケル錯体を0.001〜0.1モル、及び前記トリアルキルホスフィンを0.001〜0.2モル用いる請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記０価のニッケル錯体がNi(COD)2、Ni(CDD)2、Ni(CDT)2、Ni(VCH)2、Ni(CO)4、及びNi(PPh3)4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、前記トリアルキルホスフィンがトリシクロヘキシルホスフィン、トリt-ブチルホスフィン、トリテキシルホスフィン、トリアダマンチルホスフィン、トリシクロペンチル、ジt-ブチルメチルホスフィン、トリビシクロ[2,2,2]オクチルホスフィン、及びトリノルボルニルホスフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項５に記載の製造方法。
【請求項８】
前記触媒がカルベンを配位子に有するニッケル錯体（ニッケル−カルベン錯体）である請求項１、２又は３に記載の製造方法。
【請求項９】
前記ニッケル−カルベン錯体が、０価のニッケル錯体及び窒素原子がカルベン炭素に結合した部分構造を有する含窒素カルベンから調製される錯体である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記カルボニル化合物１モルに対し、前記０価のニッケル錯体を0.001〜0.1モル、及び前記含窒素カルベンを0.001〜0.2モル用いる請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記０価のニッケル錯体がNi(COD)2、Ni(CDD)2、Ni(CDT)2、Ni(VCH)2、Ni(CO)4、及びNi(PPh3)4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、前記含窒素カルベンが、一般式（４）：
【化４】
2009280529.tif 000020
で表される部分構造を有する化合物である請求項９に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記含窒素カルベンが、一般式（４ｃ）：
【化５】
2009280529.tif 000021
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は同一又は異なって、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、Ｒ１３及びＲ１４は互いに結合して環を形成してもよい。）
で表される化合物である請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記含窒素カルベンが、一般式（４ｄ）：
【化６】
2009280529.tif 000022
（式中、Ｘ１はＮ又は式：Ｃ−Ｒ１６で示される基であり、Ｒ１５及びＲ１６は同一又は異なって、Ｈ、アルキル基又はアリール基であり、或いは互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ１１及びＲ１２は前記に同じ。）
で表される化合物である請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記含窒素カルベンが、一般式（４ｅ）：
【化７】
2009280529.tif 000023
（式中、Ｒ１７及びＲ１８は同一又は異なって、Ｈ又はアルキル基を示し、ｅ及びｆは同一又は異なって１〜５の整数を示す。）
で表される化合物である請求項１１に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ニッケル錯体を触媒に用いて、アルデヒドを含むカルボニル化合物から選択的にエステル化合物を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カルボニル化合物からカルボン酸エステルを製造する方法は種々知られており、このうちでティシチェンコ反応（Tishchenko reaction）は、触媒存在下にアルデヒドを２量化させてエステルを得る合成方法である。一般にはアルミニウムアルコキサイドやナトリウムアルコキシドなどが触媒として用いられてきている。
【０００３】
ティシチェンコ反応の工業化例にはアセトアルデヒドからの酢酸エチル製造などある。本反応の課題として、本質的に反応速度が遅いことがある。反応速度を上げる為に高温で実施する場合では、触媒の劣化の点と、アルドール反応が競争反応として発生する為に生成物の純度が下がることが課題となる。特に工業化においては、アルコキサイド触媒が水分により劣化するため、触媒の使用量削減や再使用化が困難な点が挙げられる。
【０００４】
これら課題を解決する為に、アルコキシドにルイス酸を添加する（特許文献１）、シラノールを添加する（特許文献２）、新たな配位子を有するアルミニウム錯体（非特許文献１、２）などが検討され、あるいはアルコキシド以外の触媒として、ホウ酸（非特許文献３）やアルカリ土類金属酸化物（非特許文献４）あるいは有機ランタニド錯体（非特許文献５）などが検討されてきている。しかしながら高収率の得られる触媒は限られており、また触媒量の削減には至っておらず、さらには高価な金属錯体では工業化には不向きである。このため、さらに効率的な新規触媒を開発する必要が有る。
【０００５】
一方で、反応機構から容易に類推できる様に、本反応においては１種類のアルデヒド化合物を用いてホモカップリング体を得る反応のみが実用的であって、複数のカルボニル化合物を反応に付した際に得られる生成物は、ホモカップリング体及びクロスカップリング体の混合物となってしまう（非特許文献６）。このため、異なったカルボニル化合物間でのクロスカップリング生成物を得る方法は、一方のアルデヒド体を過剰量用いて、さらに少量のアルデヒド体を非常に時間を掛けて滴下させることにより達成されたとの報告が有るだけである（非特許文献７）。ここにおいても、一方の基質を過剰量用いるために触媒の使用量は多く、またこのような手法を用いてさえ、得られる生成物の選択性は充分とは言えず、実用レベルでの選択的なクロスカップリング生成物を得ることは出来なかった。
【特許文献１】特開2004-174394号公報
【特許文献２】特開2004-174429号公報
【非特許文献１】丸岡ら、Tetrahedron Letters 40巻、7695頁、1999年
【非特許文献２】丸岡ら、Tetrahedron Letters 44巻、3191頁、2003年
【非特許文献３】Stapp, P. R., J. Org. Chem., 38巻, 1433頁, 1973年
【非特許文献４】服部ら、J. Catalyst, 204巻, 393頁, 2001年
【非特許文献５】Roesky, P. W.ら, Chem. Eur. J., 7巻, 3078頁, 2001年
【非特許文献６】服部ら、J. Catalyst, 204巻, 393頁, 2001年
【非特許文献７】Lin, I.; Day, A. R.ら, J. Am. Chem. Soc., 74巻, 5133頁, 1952年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上述べた技術背景を鑑みて、穏和な条件下で、アルデヒドを含むカルボニル化合物から、効率的にエステル化合物を製造する方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、アルデヒドと他のカルボニル化合物から、所定のクロスカップリングしたエステル化合物を高選択的に製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記の課題を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体を触媒に用いて、穏和な条件下で、アルデヒドから効率的にエステル化合物を製造できることを見いだした。特に、含窒素カルベン配位子を有するニッケル錯体を触媒に用いた場合には、極めて穏和な条件下でエステル化合物を製造できることを見いだした。また、アルデヒドと他のカルボニル化合物を原料に用いた場合、原料の反応性の違いにより、所定のクロスカップリングしたエステル化合物を高選択的に製造できることを見いだした。かかる知見に基づきさらに検討を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明は、以下のエステル化合物の製造方法を提供する。
【０００９】
項１  エステル化合物の製造方法であって、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体からなる触媒の存在下、アルデヒドを含むカルボニル化合物を反応させることを特徴とする製造方法。
【００１０】
項２  一般式（３）：
【００１１】
【化１】
2009280529.tif 000002
【００１２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ同一又は異なって、Ｈ、置換基を有してもよい脂肪族基、ペルフルオロアルキル基、又は置換基を有してもよい芳香族基を示し、或いはＲ１及びＲ２は結合していてもよい。）
で表されるエステル化合物の製造方法であって、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体からなる触媒の存在下、一般式（１）：
【００１３】
【化２】
2009280529.tif 000003
【００１４】
（式中、Ｒ１は前記に同じ。）。
で表される化合物、及び、一般式（２）：
【００１５】
【化３】
2009280529.tif 000004
【００１６】
（式中、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。）
で表される化合物を含むカルボニル化合物を反応させることを特徴とする項１に記載の製造方法。
【００１７】
項３  前記触媒がホスフィン又はカルベンを配位子に有する０価のニッケル錯体である項２に記載の製造方法。
【００１８】
項４  前記触媒がホスフィンを配位子に有するニッケル錯体（ニッケル−ホスフィン錯体）である項１、２又は３に記載の製造方法。
【００１９】
項５  前記ニッケル−ホスフィン錯体が、０価のニッケル錯体及びトリアルキルホスフィンから調製される錯体である項４に記載の製造方法。
【００２０】
項６  前記カルボニル化合物１モルに対し、前記０価のニッケル錯体を0.001〜0.1モル、及び前記トリアルキルホスフィンを0.001〜0.2モル用いる項５に記載の製造方法。
【００２１】
項７  前記０価のニッケル錯体がNi(COD)2、Ni(CDD)2、Ni(CDT)2、Ni(VCH)2、Ni(CO)4、及びNi(PPh3)4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、前記トリアルキルホスフィンがトリシクロヘキシルホスフィン、トリt-ブチルホスフィン、トリテキシルホスフィン、トリアダマンチルホスフィン、トリシクロペンチル、ジt-ブチルメチルホスフィン、トリビシクロ[2,2,2]オクチルホスフィン、及びトリノルボルニルホスフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種である項５に記載の製造方法。
【００２２】
項８  前記触媒がカルベンを配位子に有するニッケル錯体（ニッケル−カルベン錯体）である項１、２又は３に記載の製造方法。
【００２３】
項９  前記ニッケル−カルベン錯体が、０価のニッケル錯体及び窒素原子がカルベン炭素に結合した部分構造を有する含窒素カルベンから調製される錯体である項８に記載の製造方法。
【００２４】
項１０  前記カルボニル化合物１モルに対し、前記０価のニッケル錯体を0.001〜0.1モル、及び前記含窒素カルベンを0.001〜0.2モル用いる項９に記載の製造方法。
【００２５】
項１１  前記０価のニッケル錯体がNi(COD)2、Ni(CDD)2、Ni(CDT)2、Ni(VCH)2、Ni(CO)4、及びNi(PPh3)4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、前記含窒素カルベンが、一般式（４）：
【００２６】
【化４】
2009280529.tif 000005
【００２７】
で表される部分構造を有する化合物である項９に記載の製造方法。
【００２８】
項１２  前記含窒素カルベンが、一般式（４ｃ）：
【００２９】
【化５】
2009280529.tif 000006
【００３０】
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は同一又は異なって、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、Ｒ１３及びＲ１４は互いに結合して環を形成してもよい。）
で表される化合物である項１１に記載の製造方法。
【００３１】
項１３  前記含窒素カルベンが、一般式（４ｄ）：
【００３２】
【化６】
2009280529.tif 000007
【００３３】
（式中、Ｘ１はＮ又は式：Ｃ−Ｒ１６で示される基であり、Ｒ１５及びＲ１６は同一又は異なって、Ｈ、アルキル基又はアリール基であり、或いは互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ１１及びＲ１２は前記に同じ。）
で表される化合物である項１１に記載の製造方法。
【００３４】
項１４  前記含窒素カルベンが、一般式（４ｅ）：
【００３５】
【化７】
2009280529.tif 000008
【００３６】
（式中、Ｒ１７及びＲ１８は同一又は異なって、Ｈ又はアルキル基を示し、ｅ及びｆは同一又は異なって１〜５の整数を示す。）
で表される化合物である項１１に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００３７】
本発明の方法によれば、アルデヒドを含むカルボニル化合物を、穏和な条件下でティシチェンコ反応させて、効率的にエステル化合物を製造することができる。さらに、アルデヒドと他のカルボニル化合物との反応では、両化合物の反応性の違いにより、高選択的にクロスカップリングした所定のエステル化合物を製造することができる。そのため、有機合成上極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
本発明は、アルデヒドを含むカルボニル化合物を原料として、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体の存在下、ティシチェンコ反応によりエステル化合物を製造する方法である。ティシチェンコ反応とは、原料のカルボニル化合物のカルボニル基が酸化−還元されつつカップリングしてエステル化合物を与える反応である。本発明は、上記のニッケル錯体を触媒として用いることにより、酸や塩基を用いた過酷な条件下で反応させることなく、極めて穏和な条件下で反応が進行し、高収率でエステル化合物を与えることを特徴とする。
【００３９】
本発明の原料であるアルデヒドを含むカルボニル化合物（基質）は、アルデヒド基（−ＣＨＯ）を有する化合物を含むものであれば特に限定はない。例えば、１種類のアルデヒドのみならず、複数（特に２種類）のアルデヒドの混合物、又はアルデヒドとケトンの混合物などが挙げられる。
【００４０】
本発明の製造方法は、典型的には次のスキームで表すことができる。
【００４１】
【化８】
2009280529.tif 000009
【００４２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ同一又は異なって、Ｈ、置換基を有してもよい脂肪族基、ペルフルオロアルキル基、又は置換基を有してもよい芳香族基を示し、或いはＲ１及びＲ２は結合していてもよい。Ｌはカルベン又はホスフィンを示す。）
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で示される置換基を有してもよい脂肪族基における脂肪族基としては、特に限定はなく、直鎖状、分岐状又は環状、或いは、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。具体例として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、アダマンチルなどの炭素数１〜１８の飽和の脂肪族基、ビニル、アリル、１−プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、エチニル、プロパルギルなどの炭素数２〜１８の不飽和の脂肪族基が挙げられる。そのうち、典型的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。
【００４３】
脂肪族基は置換基を有していてもよく、該置換基は反応に悪影響を与えないものであれば特に限定はない。例えば、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等の炭素数１〜１０のアルコキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基等）、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル等の単環、２環又は３環のアリール基等）、保護された水酸基（例えば、アセチル基、トリアルキルシリル基等で保護された水酸基等）、トリアルキルシリル基、トリアルキルスズ基、ジアルキルホウ素基等が挙げられる。脂肪族基は、上記置換基から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよい。
【００４４】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で示されるペルフルオロアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、また該ペルフルオロアルキル基にエーテル結合（-O-）を有していてもよい。具体的には、CF3-、CF3CF2-、CF3(CF2)n- (n=2〜7)、(CF3)2CF(CF2)2-、F-(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)-、CF3O(CF2CF2O)oCF2-、F(CF2CF2CF2O)pCF2CF2- (m, o, 及びp=0〜4)等の炭素数１〜15のペルフルオロアルキル基が挙げられる。
【００４５】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で示される置換基を有してもよい芳香族基における芳香族基としては、特に限定はなく、例えば、フェニル、ナフチル、アンスリル、フェナンスリル等の単環、２環又は３環のアリール基、フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、ベンゾフラン等のヘテロアリール基等が挙げられる。そのうち、典型的には、フェニル、ナフチル等が挙げられる。
【００４６】
芳香族基は置換基を有していてもよく、該置換基は反応に悪影響を与えないものであれば特に限定はない。例えば、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等の炭素数１〜１０のアルコキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基等）、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基等）、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル等の単環、２環又は３環のアリール基等）、保護された水酸基（例えば、アセチル基、トリアルキルシリル基等で保護された水酸基等）、トリアルキルシリル基、トリアルキルスズ基、ジアルキルホウ素基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、上記置換基から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよい。
【００４７】
さらに、上記のＲ１及びＲ２は結合していてもよく、Ｒ１及びＲ２が結合した基として、例えば、式；−（ＣＨ２）ａ−で表される基（式中、ａは２〜５の整数を示す。）が例示される。
【００４８】
一般式（１）で表されるアルデヒドは、一般式（２）で表されるカルボニル化合物と同一でも異なっていてもよい。両化合物が異なる場合、一般式（１）で表されるアルデヒドと一般式（２）で表されるカルボニル化合物とのモル比は、通常、１：０．１〜１：１０、好ましくは1：0.2〜1：5の範囲から選択することができ、典型的には１：１である。一般式（２）で表されるカルボニル化合物としてケトンを用いる場合には、該ケトンは一般に該アルデヒドに対し活性が低いため、該ケトンを該アルデヒドに対し過剰量用いることが収率の面では望ましい。
【００４９】
本発明で用いられるホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体は、０価のニッケルとホスフィン又はカルベンとからなる錯体であり、本発明においてティシチェンコ反応の触媒として有効に働く。該錯体は、通常反応系中で、０価のニッケル錯体（以下、「ニッケル（０）錯体」とも記載する。）とホスフィン又はカルベンとを反応させて調製される。そのため、ニッケル（０）錯体に対しホスフィン又はカルベンがいくつ配位しているかは必ずしも明らかではない。
【００５０】
ニッケル（０）錯体としては、例えば、Ni(COD)2、Ni(CDD)2、Ni(CDT)2、Ni(VCH)2、のニッケルオレフィン錯体、Ni(CO)4等のニッケルカルボニル錯体、Ni(PPh3)4等のニッケルホスフィン錯体等が挙げられる。そのうち、入手の容易さと触媒調整の容易さの点で、Ni(COD)2が好適である。ここで、CODはシクロオクタ-1,5-ジエン（Cycloocta-1,5-diene）、CDDはシクロデカ-5-ジエン（Cyclodeca-1,5-diene）、CDTはシクロドデカ-1,5,9-トリエン（Cyclododeca-1,5,9-triene）、VCHは4-ビニルシクロヘキセン（4-Vinylcyclohexene）を意味する。
【００５１】
ホスフィンとしては、電子供与性で嵩高いトリアルキルホスフィンが好ましく、例えばトリシクロヘキシルホスフィン、トリt-ブチルホスフィン、トリテキシルホスフィン、トリアダマンチルホスフィン、トリシクロペンチル、ジt-ブチルメチルホスフィン、トリビシクロ[2,2,2]オクチルホスフィン、トリノルボルニルホスフィン等のトリ（炭素数４〜７のアルキル）ホスフィンが挙げられる。該トリアルキルホスフィンは、コーンアングルが、170°以上（特に170〜190°）或いは、pKaが９以上（特に９〜１２）のホスフィンが好適である。
【００５２】
カルベンとしては、カルベン炭素に窒素原子などのヘテロ原子が結合した部分構造を有する含窒素カルベンが高い触媒活性の点で好適である。即ち、カルベンとして、一般式（４）：
【００５３】
【化９】
2009280529.tif 000010
【００５４】
で表される部分構造を有する化合物が好適なものとして挙げられる。
【００５５】
かかるカルベンの具体例としては、例えば、一般式（４ａ）：
【００５６】
【化１０】
2009280529.tif 000011
【００５７】
（式中、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なってアルキル基を示し、Ｒ６及びＲ７は同一又は異なってアルコキシ基を示し、ｂ及びｃは同一又は異なって０〜３の整数を示す。）
で表される化合物が挙げられる。該化合物は、例えば、Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47, 2271-2274の記載に準じて製造することができる。
【００５８】
Ｒ４及びＲ５で示されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル等の炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。好ましくはイソプロピルである。
【００５９】
Ｒ６及びＲ７で示されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。
【００６０】
一般式（４ａ）で表されるカルベン配位子のうち、ｂが０であり、ｃが２であり２’位及び６’位に２つのメトキシ基が結合したものが好適である。
【００６１】
カルベンの他の具体例としては、例えば、一般式（４ｂ）：
【００６２】
【化１１】
2009280529.tif 000012
【００６３】
（式中、Ｒ８及びＲ９は同一又は異なってアルキル基を示し、Ｒ１０はアルコキシ基を示し、ｄは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物が挙げられる。該化合物は、例えば、Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47, 2271-2274の記載に準じて製造することができる。
【００６４】
Ｒ８及びＲ９で示されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル等の炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。好ましくはイソプロピルである。
【００６５】
Ｒ１０で示されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。
【００６６】
一般式（４ｂ）で表されるカルベン配位子のうち、ｄが１であり２’位にメトキシ基が結合したものが好適である。
【００６７】
カルベンの他の具体例としては、例えば、一般式（４ｃ）：
【００６８】
【化１２】
2009280529.tif 000013
【００６９】
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は同一又は異なって、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、Ｒ１３及びＲ１４は互いに結合して環を形成してもよい。）
で表される化合物が挙げられる。該化合物は、例えば、Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 1290-1309の記載に準じて製造することができる。
【００７０】
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４で示される置換基を有してもよいアルキル基におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。具体例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ラウリル、ステアリル、ビシクロ[2,2,2]オクチル、ノルボルニルなどの炭素数１〜１８のアルキル基が挙げられる。該アルキル基は、アリール基（例えばフェニル基等）で置換されていてもよい。
【００７１】
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４で示される置換基を有してもよいアリール基におけるアリール基としては特に限定はなく、例えば、フェニル、ナフチル、アンスリル、フェナンスリル等の単環、２環又は３環のアリール基が挙げられる。そのうち、典型的には、フェニル、ナフチルなどが挙げられる。該アリール基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数１〜６（好ましくは１〜３）のアルキル基で１〜５個置換されていてもよい。
【００７２】
Ｒ１３及びＲ１４は互いに結合して環を形成する場合、５員環又は６員環の環状構造を有するものが挙げられ、そのうち５員環の環状構造をもつものが好ましい。該環状構造には硫黄原子（Ｓ）、窒素原子（Ｎ）、酸素原子（Ｏ）等のヘテロ原子を含んでいてもよく、不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）を有していてもよい。また、環上にはアルキル基、アリール基等の置換基を有していてもよい。Ｒ１３及びＲ１４が互いに結合して環を形成する場合、Ｒ１１及びＲ１２は立体的に嵩高くかつ電子供与性の高い置換基が好ましく、例えば2,6-ビス（イソプロピル）フェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、ビシクロ[2,2,2]オクチル基、ノルボルニル基、t-ブチル基などが挙げられる。
【００７３】
一般式（４ｃ）で表されるカルベンのうち、一般式（４ｄ）：
【００７４】
【化１３】
2009280529.tif 000014
【００７５】
（式中、Ｘ１はＮ又は式：Ｃ−Ｒ１６で示される基であり、Ｒ１５及びＲ１６は同一又は異なって、Ｈ、アルキル基又はアリール基であり、或いは互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ１１及びＲ１２は前記に同じ。）
で表される化合物が挙げられる。該化合物は、例えば、Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 1290-1309の記載に準じて製造することができる。
【００７６】
Ｒ１５及びＲ１６で示されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。具体例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ビシクロ[2,2,2]オクチル、ノルボルニル、ラウリル、ステアリルなどの炭素数１〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００７７】
Ｒ１５及びＲ１６で示されるアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アンスリル、フェナンスリル等の単環、２環又は３環のアリール基が挙げられる。
【００７８】
Ｒ１５及びＲ１６は互いに結合して環を形成してもよく、互いに隣接する二重結合を含んでベンゼン環を形成していてもよい。
【００７９】
さらに、一般式（４ｄ）で表されるカルベンのうち、一般式（４ｅ）：
【００８０】
【化１４】
2009280529.tif 000015
【００８１】
（式中、Ｒ１７及びＲ１８は同一又は異なって、Ｈ又はアルキル基を示し、ｅ及びｆは同一又は異なって１〜５の整数を示す。）
で表される化合物が挙げられる。該化合物は、市販されているか、或いは、Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 1290-1309、Tetrahedron 55 (1999) 14523-14534等の記載に準じて製造することができる。
【００８２】
Ｒ１７及びＲ１８で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル等の炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。好ましくはメチル又はイソプロピルである。
【００８３】
ｅ及びｆは同一又は異なって１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数である。
【００８４】
一般式（４ｅ）で表されるカルベン配位子のうち、２位、４位、６位、２’位、４’位及び６’位に６つのメチル基を有するもの、或いは、３位、５位、３’位、５’位に４つのイソプロピル基を有するものが好適である。即ち、1,3-ビス（2,4,6-トリメチルフェニル）イミダゾール-2-イリデン、1,3-ビス（2,6-ジイソプロピルフェニル）イミダゾール-2-イリデンが好適である。
【００８５】
カルベンの他の具体例としては、例えば、一般式（４ｆ）：
【００８６】
【化１５】
2009280529.tif 000016
【００８７】
（式中、Ｘ２はＯ又はＳを示し、Ｒ１２、Ｒ１５及びＲ１６は前記に同じ。）
で表される化合物が挙げられる。該化合物は、例えば、有機合成化学協会誌Vol.66 No.4 2008 p377-386の記載に準じて製造することができる。
【００８８】
上記の一般式（４ａ）〜（４ｆ）で表される化合物のうち、一般式（４ｄ）、（４ｅ）で表される化合物において嵩高く電子供与性の高い置換基が窒素に結合したカルベンが好ましく、特に、一般式（４ｅ）で窒素に置換芳香環を有する1,3-ビス（2,4,6-トリメチルフェニル）イミダゾール-2-イリデン、1,3-ビス（2,6-ジイソプロピルフェニル）イミダゾール-2-イリデンがより好ましい。
【００８９】
本発明の製造方法は、ニッケル（０）錯体とホスフィン又はカルベンから調製されるホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体からなる触媒の存在下、アルデヒドを含むカルボニル化合物（以下「基質」とも呼ぶ）をティシチェンコ反応させて行う。反応操作としては、基質、ニッケル（０）錯体及びホスフィン又はカルベンをまとめて混合して反応させることもできるし、或いは、ニッケル（０）錯体とホスフィン又はカルベンから一旦ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体を調製し、これに基質を反応させて行うこともできる。ここで、基質としては、例えば、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物を含むカルボニル化合物が挙げられる。
【００９０】
本製造方法は、反応系中で発生させたホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体の活性を考慮して、通常アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行われる。例えば、不活性ガスが充填されたグローブボックス等を用いて行うことができる。
【００９１】
ニッケル（０）錯体の使用量は、基質１モルに対し、通常0.0001〜1モルの範囲であり、コストと触媒能力の両面から鑑みて0.001〜0.1モル、さらには0.01〜0.1モルの範囲が望ましい。
【００９２】
ホスフィン又はカルベンの使用量は、基質１モルに対し、通常0.0001〜1モルの範囲であり、コストと触媒能力の両面から鑑みて0.001〜0.2モル、さらには0.01〜0.2モルの範囲が望ましい。
【００９３】
ニッケル（０）錯体とホスフィン又はカルベンのモル比は、通常0.2:1〜1:1、好ましくは0.5:1〜1:1の範囲で使用することができる。
【００９４】
具体的には、ホスフィンを配位子に有するニッケル錯体（ニッケル−ホスフィン錯体）の場合、ニッケル（０）錯体の使用量は、基質１モルに対し、0.0001〜1モル、特に0.001〜0.1モルが好ましい。ホスフィンの使用量は、基質１モルに対し、通常0.0001〜1モル、特に0.001〜0.2モルが好ましい。ニッケル（０）錯体とホスフィンのモル比は、0.2:1〜1:1、特に0.5:1〜1:1が好ましい。
【００９５】
具体的には、カルベンを配位子に有するニッケル錯体（ニッケル−カルベン錯体）の場合、ニッケル（０）錯体の使用量は、基質１モルに対し、0.0001〜1モル、特に0.001〜0.1モルが好ましい。カルベンの使用量は、基質１モルに対し、通常0.0001〜1モル、特に0.001〜0.2モルが好ましい。ニッケル（０）錯体とカルベンのモル比は、0.2:1〜1:1、特に0.5:1〜1:1が好ましい。
【００９６】
反応は通常、溶媒の存在下に、0〜120℃の温度で、0.1〜48時間程度で行うことができる。溶媒は、本反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば種々の有機溶媒が使用可能である。具体的には、トルエン、キシレン、メシチレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどの含ハロゲン化合物などが好ましく使用できる。特にトルエンなどの芳香族炭化水素が好ましい。
【００９７】
基質とニッケル（０）錯体とホスフィン又はカルベンをまとめて混合し反応させる場合、0〜25℃の温度で、0.1〜10時間程度で行うことができる。反応は溶媒の存在下又は非存在下で行うことができ、溶媒を用いる場合、上記と同様の溶媒を採用することができる。また、溶媒が存在しない場合でも反応が進行するのは、アルデヒドを含むカルボニル化合物が触媒に対し過剰に存在するため、これが溶媒の働きをするからである。
【００９８】
ニッケル（０）錯体とホスフィン又はカルベンからホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体を一旦調製した後、これと基質を混合して反応させる場合、ホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体の調製は、溶媒の存在下に、0〜25℃の温度で、0.1〜10時間程度で行うことができる。溶媒は、本反応に悪影響を及ぼさない上記で示した溶媒を好適に選択することができる。次いで、調製されたホスフィン又はカルベンを配位子に有するニッケル錯体の溶液に基質を混合してティシチェンコ反応を行う。反応は、0〜120℃の温度で、0.1〜48時間程度で進行し目的のエステル化合物を得る。
【００９９】
複数種（特に２種）の基質を反応させる場合には、背景技術の項でも述べたように従来はホモカップリング及びクロスカップリングの両方が起きてしまい、クロスカップリング体を選択的に得ることが難しかった。これに対し、本発明の製造方法では、２種の基質を一度にまとめて反応させても、クロスカップリングしたエステル化合物を選択的に製造することができる。さらに、反応性の低い基質を先に加えて反応性の高い基質を滴下する方法を採用すれば、異なる基質を一度にまとめて反応させた場合に比べて、クロスカップリングしたエステル化合物をより選択的に製造することができる。
【０１００】
上記のように本発明の方法では、アルデヒドを含むカルボニル化合物を、穏和な条件下で、効率的にエステル化合物に変換することができる。加えて、アルデヒドと他のカルボニル化合物との反応では、両化合物の反応性の違いにより、高選択的にクロスカップリングしたエステル化合物を製造することができる。
【０１０１】
２種の基質を用いてクロスカップリング体を製造する典型例としては、次のようなものが挙げられる。
【０１０２】
例えば、アルデヒドとケトンを原料に用いた場合、アルデヒドの方がケトンより酸化されやすいため、アルデヒドが酸化されカルボン酸部分となりケトンが還元されてアルコール部分となったクロスカップリングしたエステル化合物を選択的に与える。
【０１０３】
また、２種類のアルデヒド、例えば脂肪族アルデヒドと芳香族アルデヒドを原料に用いた場合、脂肪族アルデヒドの方が芳香族アルデヒドより酸化されやすいため、脂肪族アルデヒドが酸化されカルボン酸部分となり芳香族アルデヒドが還元されてアルコール部分となったクロスカップリングしたエステル化合物を選択的に与える。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はここに挙げた実施例に限定されるものではない。
【０１０５】
実施例１
テトラへドロン(Tetrahedron) 55 (1999) 14523-14534の記載に従い、1,3-ビス(2, 6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾリウム・塩酸塩とtert-ブトキシカリウムから、カルベン配位子（1,3-ビス-(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン）を調製した。
【０１０６】
得られたカルベン配位子(0.04mmol)とNi(COD)2(0.04mmol)をNMRチューブ内の重ベンゼン(1mL)に加え、カルベン配位子−ニッケル錯体からなる触媒を調製した。これに、アセトアルデヒド(0.4mmol)を加えて、常圧下、室温で1時間撹拌した。反応液中に生成したエステル体（酢酸エチル）をNMRにより定量したところ、収率１００％であった（内部標準として、用いたニッケル触媒由来の配位子CODを用い、オレフィン領域のＨを基準にして収率を算出した。以下同じ）。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 1.25 (t, J=7.1Hz, 3H), 2.10 (s, 3H), 4.12 (q, J=7.1Hz, 2H).
実施例２
アセトアルデヒド(0.4mmol)に代えてブタナール(0.4mmol)を用い、実施例１と同様にして3時間撹拌した。反応液中に生成したエステル体（ブタン酸ブチル）をNMRにより定量したところ、収率１００％であった。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 0.80 - 1.10 (m, 6H), 1.10 - 1.80 (m, 6H), 2.17 (t, J=7.0Hz, 2H), 4.07 (t, J=6.5Hz, 2H).
実施例３
アセトアルデヒド(0.4mmol)に代えてイソブタナール(0.4mmol)を用い、実施例１と同様にして０．５時間撹拌した。反応液中に生成したエステル体（イソブタン酸イソブチル）をNMRにより定量したところ、収率１００％であった。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 0.93 (d, J=6.6Hz, 3H), 1.17 (d, J=6.8Hz, 3H), 1.70 - 2.20 (m, 1H), 2.30 - 2.80 (m, 1H), 3.90 (d, J=6.6Hz, 2H).
実施例４
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、シクロヘキシルアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で０．５時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留によりシクロヘキシルカルボン酸シクロヘキシルメチルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (400MHz, CDCl3, TMS) δ: 0.91 - 0.97 (m, 2H), 1.19 - 1.30 (m, 6H), 1.38 - 1.47 (m, 2H), 1.57 - 1.80 (m, 9H), 1.87 - 1.92 (m, 2H), 2.28 (dddd, J=3.6, 3.6, 11.3, 11.3 Hz, 1H), 3.86 (d, J=6.5, 2H).
実施例５
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のベンゼン（10mL）溶液に、ピバルアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留によりピバル酸ネオペンチルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (400MHz, CDCl3, TMS) δ: 0.85 (s, 9H), 1.12 (s, 9H), 3.64 (2, 2H).
実施例６
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、ベンズアルデヒド (4mmol)を加えて、常圧下、60℃で２時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留により安息香酸ベンジルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 5.13 (s, 2H), 7.10 - 7.50 (m, 8H), 8.05 (dd, J=8.3, 1.5Hz, 2H).
実施例７
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、4-メトキシベンズアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で４時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留により4-メトキシ安息香酸4-メトキシベンジルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 3.11 (s, 3H), 3.23 (s, 3H), 5.18 (s, 2H), 6.59 (d, J=6.8Hz, 2H), 6.69 (d, J=6.8Hz, 2H), 7.30 (d, J=7.5Hz, 2H), 8.12 (d, J=7.5Hz, 2H).
実施例８
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、4-トリフルオロメチルベンズアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で４時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留により4-トリフルオロメチル安息香酸4-トリフルオロメチルシベンジルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 4.93 (s, 2H), 6.97 (d, J=8.3Hz, 2H), 7.00 - 7.40 (m, 4H), 7.86 (d, J=8.1Hz, 2H).
実施例９
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、2-ナフトアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で４時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留により2-ナフトエ酸2-ナフチルメチルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 5.72 (s, 2H), 7.00 - 8.10 (m, 12H), 8.12 (d, J=7.3Hz, 1H), 9.45 (d, J=8.9Hz, 1H).
実施例１０
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、１-ナフトアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で７時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留により1-ナフトエ酸1-ナフチルメチルエステルを単離した（収率１００％）。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 5.41 (s, 2H), 7.10 - 7.70 (m, 12H), 8.30 (d, J=8.9Hz, 1H), 8.77 (s, 1H).
実施例１１
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)のトルエン（1mL）溶液に、シクロヘキシルアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１２時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留によりシクロヘキシルカルボン酸シクロヘキシルメチルエステルを単離した（収率１００％）。
【０１０７】
実施例１２
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)の重ベンゼン（1mL）溶液に、アセトアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１２時間撹拌した。反応液をNMRにより分析し、生成物（酢酸エチル）の構造と収率を決定した（収率１００％）。
【０１０８】
実施例１３
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)のトルエン（1mL）溶液に、ベンズアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１２時間撹拌した。反応液をエーテル抽出し、溶媒を溜去後、減圧蒸留により安息香酸ベンジルエステルを単離した（収率１００％）。
【０１０９】
以上、触媒としてニッケル−カルベン錯体を用いた場合に、アルデヒドのホモカップリング体であるエステルがほぼ定量的に得られることが分かった。
【０１１０】
実施例１４
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)の重ベンゼン（1mL）溶液に、アセトアルデヒド(0.4mmol)とベンズアルデヒド(0.4mmol)を加えて、常圧下、室温で３時間撹拌した。反応液中に生成したエステル体をNMRにより定量したところ、酢酸ベンジルエステル（収率９８％）と安息香酸ベンジルエステル（収率１％）を確認した。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 2.00 (s, 3H), 5.01 (s, 2H), 7.00 - 7.30 (m, 5H).
実施例１５
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)の重ベンゼン（1mL）溶液に、ブタナール(0.4mmol)とベンズアルデヒド(0.4mmol)を加えて、常圧下、室温で３時間撹拌した。反応液中に生成したエステル体をNMRにより定量したところ、ブチル酸ベンジルエステル（収率９６％）と安息香酸ベンジルエステル（収率４％）を確認した。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 0.73 (t, J=7.3Hz, 3H), 1.40 - 1.60 (m, 2H), 2.06 (t, J=7.3Hz, 2H), 4.99 (s, 2H), 6.90 - 7.30 (m, 5H).
実施例１６
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、シクロヘキシルアルデヒド(4mmol)とベンズアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１２時間撹拌した。反応液をエーテルで抽出してから、減圧蒸留により生成物を単離し、シクロヘキシルカルボン酸ベンジルエステル（収率９６％）が得られた。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 1.15 - 1.35 (m, 3H), 1.35 - 1.55 (m, 2H), 1.60 - 1.80 (m, 3H), 1.90 - 2.00 (m, 2H), 2.30 - 2.41 (m, 1H), 5.10 (s, 2H), 7.25 - 7.45 (m, 5H). 
実施例１７
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、ピバルアルデヒド(4mmol)とベンズアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１８時間撹拌した。反応液をエーテルで抽出してから、減圧蒸留により生成物を単離し、ピバル酸ベンジルエステル（収率７５％）が得られた。反応液のNMR分析から安息香酸ベンジルエステルが２５％副生していた。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 1.14 (s, 9H), 4.99 (s, 2H), 6.90 - 7.20 (m, 5H). 
実施例１８
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.4mmol)のトルエン（10mL）溶液に、4-メトキシベンズアルデヒド(4mmol)と4-トリフルオロメチルベンズアルデヒド(4mmol)を加えて、常圧下、室温で１８時間撹拌した。反応液をエーテルで抽出してから、減圧蒸留により生成物を単離し、4-メトキシ安息香酸4-トリフルオロメチルベンジルエステル（収率８０％）が得られた。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 4.90 (s, 2H), 6.90 - 7.20 (m, 4H), 7.20 (d, J=7.6Hz, 2H), 8.12 (d, J=7.6Hz, 2H).
以上、実施例１２〜１８で示した様に、２種類のアルデヒドを等しいモル比で用いて反応を実施しても、クロスカップリングした１種類のエステルが選択的に得られることが分かった。
【０１１１】
実施例１９
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)の重ベンゼン（1mL）溶液に、シクロヘキシルアルデヒド(0.4mmol)とトリフルオロメチルフェニルケトン(0.4mmol)を加えて、常圧下、室温で１２時間撹拌した。反応液のNMR解析により、シクロヘキシルカルボン酸2,2,2-トリフルオロ-1-フェニルエチルエステルを５５％生成していることを確認した。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 1.15 - 1.55 (m, 5H), 1.60 - 2.00 (m, 5H), 2.30 - 2.41 (m, 1H), 5.00 (s, 2H), 7.30 - 7.50 (m, 5H).
実施例２０
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)の重ベンゼン（1mL）溶液に、ピバルアルデヒド(0.4mmol)とトリフルオロメチルフェニルケトン(0.4mmol)を加えて、常圧下、室温で７２時間撹拌した。反応液のNMR解析により、ピバル酸2,2,2-トリフルオロ-1-フェニルエチルエステルを４９％生成していることを確認した。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 1.15 (s, 9H), 5.10 (s, 2H), 7.30 - 7.45 (m, 5H).
以上、実施例１９、２０で示した様に、アルデヒドとケトンで構成される２種類のカルボニル化合物間の反応でも、選択的にクロスカップリング生成物が得られることが判った。
【０１１２】
実施例２１
実施例１と同じカルベン配位子−ニッケル錯体(0.04mmol)の重ベンゼン（1mL）溶液に、C6F13(CH2)5CHO(0.4mmol)を加えて、常圧下、室温で１時間撹拌した。反応液のNMR分析により原料の消失を確認し、さらに生成物の構造（C6F13(CH2)5COO(CH2)6C6F13）と収率を決定した（収率９０％）。
【０１１３】
反応中の転化率および構造確認は、1H-NMRにより9.6ppmのアルデヒドHの消失、4.19ppmのエステル由来のHの発現により行った。また収率は、金属配位子由来のＨ積分値を基準として算出した。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 1.35 - 1.50 (m, 6H), 1.50 - 1.78 (m, 8H), 1.90 - 2.23 (m, 6H), 4.19 (t, J=6.6Hz, 2H).
実施例２２
Ni(COD)2錯体（5.5mg, 0.02mmol）、ベンズアルデヒド(0.02g, 0.2mmol)、およびトリシクロヘキシルホスフィン(11.2mg, 0.04mmol)のトルエン溶液を100℃で1日撹拌した。反応物をＮＭＲにより定量したところ、100％で安息香酸ベンジルエステルが生成していた。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ: 5.13 (s, 2H), 7.10 - 7.50 (m, 8H), 8.05 (dd, J=8.3, 1.5Hz, 2H).
実施例２３
Ni(COD) 2錯体（5.5mg, 0.02mmol）とベンズアルデヒド(0.02g, 0.2mmol)の混合物に、トリシクロヘキシルホスフィン(11.2mg, 0.04mmol)を室温で加えた。ここで調整した反応混合物を、100℃で１日間撹拌した。反応物をＮＭＲにより定量したところ、90％で安息香酸ベンジルエステルが生成していた。
【０１１４】
実施例２４
トリシクロヘキシルホスフィン(20.7mg, 0.30mmol)とピバルアルデヒド(0.64g, 7.4mmol)の混合物に、Ni(COD)2錯体（10.2mg, 0.15mmol）を室温で加えた。ここで調整した反応混合物を、室温で２日間撹拌した。反応物をＮＭＲにより定量したところ、ピバル酸ネオペンチルエステルの収率は41％であった。
1H-NMR (270MHz, C6D6, TMS) δ:0.80 (s, 9H), 1.18 (s, 9H), 3.76 (s, 2H).
以上、実施例２２〜２４で示した様に、触媒としてニッケル−トリアルキルホスフィン錯体を用いた場合も、アルデヒドのホモカップリング体であるエステルが収率良く得られることが判った。