(57)【要約】【課題】独立し、配列された複数の凸部の頂面上に磁性層を形成することにより、記録密度を向上させることができる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造を形成する凸構造形成工程と、凸部の頂面に、熱処理によって強磁性体になる複数の磁性微粒子を付着させる付着工程と、凸部の頂面に付着させた磁性微粒子を熱処理する熱処理工程と、を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造を形成する凸構造形成工程と、
前記凸部の頂面に、熱処理によって強磁性体になる複数の磁性微粒子を付着させる付着工程と、
前記凸部の頂面に付着させた前記磁性微粒子を熱処理する熱処理工程と、
を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記凸構造形成工程は、
独立し、配列された複数のピラーを基板に形成する基板形成工程と、
前記基板の表面に沿わせて軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記凸構造形成工程は、
基板上に軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程と、
前記軟磁性層上に中間層を形成し、前記凸構造のパターンが形成された転写用型を前記中間層に押し付けることにより、前記凸構造を形成する中間層形成工程と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記付着工程は、
前記磁性微粒子を平坦なプレート上に並べる配列工程と、
前記プレート上に並べられた磁性微粒子に前記凸構造の凸部を押し当てる押圧工程と、
を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
基板上に形成され、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造と、
前記凸部の頂面上に形成され、焼結された磁性層と、
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
独立し、配列された複数のピラーが形成された基板と、
前記基板の表面に沿うように形成された軟磁性層と、
前記軟磁性層上に形成され、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造が形成された中間層と、
前記凸部の頂面上に形成され、焼結された磁性層と、
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項７】
基板と、
前記基板上に形成された軟磁性層と、
前記軟磁性層上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造に形成された中間層と、
前記凸部の頂面上に形成され、焼結された磁性層と、
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク記録装置に用いられる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ）などの磁気記録装置の記録容量は大容量化される傾向にある。従来においては、多結晶の連続体の磁性膜を基板に成膜することで磁気記録媒体を作製している。結晶粒子を小さくすることで記録密度を向上させてきたが、連続膜によって記録密度を向上させることには限界がある。例えば、結晶粒径を小さくすることには限界があるため、記録密度を向上させることが困難になる。また、磁性体の結晶粒径が極めて小さくなると、保持できる磁気エネルギーが小さくなり、記録した磁化が周囲からの熱エネルギーによって消失しやすくなる現象が起こる。この熱揺らぎ（熱磁気緩和現象）によっても、記録密度を向上させることが困難になる。
【０００３】
そこで、磁性体を分離したパターンドメディアが提案されている。パターンドメディアによると、単一磁区の微粒子をアレイ状に配置し、個々の磁性体が他の磁性体から物理的に分離しているため、粒子を小さくしても隣の磁性体が他の磁性体から物理的に分離しているため、粒子を小さくしても隣の磁性体の影響を受けにくくなる。これにより、記録密度の向上を図ることができる。
【０００４】
磁性微粒子は、その合成後においては非磁性又は軟磁性の性質を有している。例えば、ＦｅＰｔは、その合成後においてはランダムなＦｃｃ構造を有する軟磁性体である。このＦｅＰｔを数百度で熱処理すると、ＦｅとＰｔとが規則的に配列したＦｃｔ構造になり、強磁性体になる。すなわち、熱処理によってＦｃｃ構造からｆｃｔ構造に構造転移することで、ＦｅＰｔは、強磁性体になる。なお、強磁性体を得るためには、３００℃以上の温度で熱処理を行う必要である。しかしながら、強磁性にするための熱処理に伴って、磁性微粒子同士が凝集する問題がある。そして、凝集した複数の磁性微粒子が溶融し、粒径が大きい粒子となる（粒子の肥大化）。このように、粒子の粒径が大きくなると、磁性微粒子によって、記録密度を向上させることが困難になる。
【０００５】
磁性微粒子を平坦な基板上に均一に自己配列させることは困難であるが、仮に、磁性微粒子を平坦な基板上に均一に自己配列させ、磁性微粒子を熱処理すると、隣接する磁性微粒子同士が溶融して一体化し、粒子が肥大化するため、均一かつ独立した磁性層を基板上に形成することができず、記録密度を向上させることができない。
【０００６】
従来、平坦な基板上に均一かつ独立した磁性層を形成する方法としては、基板の表面全体に磁性層を形成する。製作されたスタンパを用いて、磁性層上のレジスト樹脂にパターンを転写する。転写された樹脂パターンをマスク材として、ドライエッジングを使って、樹脂層の表面に溝を加工形成することにより、基板上に均一かつ独立した磁性層を形成する第１の技術が存在する。
【０００７】
また、基板上にアルミニウム膜を形成し、アルミニウム膜の表面に鋳型を押しつける。鋳型の表面には突起が所定間隔で成形される。突起は、例えば、電子線描画によるパターン形成で形成される。突起の押しつけにより、アルミニウム膜の表面に微細な窪みが形成される。アルミニウム膜を所定の条件により酸化させ、窪みからナノホールを成長させることにより、得られたナノホール内に電鋳により磁性体を形成する第２の技術が存在する。
【０００８】
さらに、同様の方法で得られたナノホール内に、磁性粒子を埋め込む技術が存在する（例えば、特許文献１）。
【０００９】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００４／０７４１７０公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記従来の技術では、次の問題点があった。第１の技術では、ドライエッジングを使ったパターニングによる磁性体への損失が避けられないという問題点があった。
【００１１】
また、上記従来の第２の技術では、ナノホールに磁性体を埋め込む作業に手間がかかる上、磁性体が基板の表面から盛り上がる場合がある。その場合、盛り上がった部分を除去する研磨工程等が必要になる。また、ナノホールの下部に磁性体が埋め込まれずに、ナノホールの下部に空隙が生じる場合があるという問題点があった。
【００１２】
さらに、上記特許文献に記載された技術では、微小ホールを高密度で形成した場合、微小ホールに所定数の磁性微粒子が入らず、磁性層を形成できない場合が発生する。また、焼結した場合、粒子の高さ位置がばらつくため、記録及び読み出しが困難となるという問題点があった。
【００１３】
この発明は、上記の問題を解決するものであり、独立し、配列された複数の凸部の頂面上に磁性層を形成することにより、記録密度を向上させることができる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、この発明は、熱処理することにより、溶融して一体化する複数の磁性微粒子と、他の複数の磁性微粒子とを分離させておけば、均一かつ独立した磁性層を形成可能であることに着目した。
具体的に、この発明の第１の形態は、基板上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造を形成する凸構造形成工程と、前記凸部の頂面に、熱処理によって強磁性体になる複数の磁性微粒子を付着させる付着工程と、前記凸部の頂面に付着させた前記磁性微粒子を熱処理する熱処理工程と、を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
また、この発明の第２の形態は、第１の形態に係る磁気記録媒体の製造方法であって、前記凸構造形成工程は、独立し、配列された複数のピラーを基板に形成する基板形成工程と、前記基板の表面に沿わせて軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程ことを特徴とする。
さらに、この発明の第３の形態は、第１の形態に係る磁気記録媒体の製造方法であって、前記凸構造形成工程は、基板上に軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程と、前記軟磁性層上に中間層を形成し、前記凸構造のパターンが形成された転写用型を前記中間層に押し付けることにより、前記凸構造を形成する中間層形成工程と、を有することを特徴とする。
さらに、この発明の第４の形態は、第１の形態から第３の形態のいずれかに係る磁気記録媒体の製造方法であって、前記付着工程は、前記磁性微粒子を平坦なプレート上に並べる配列工程と、前記プレート上に並べられた磁性微粒子に前記凸構造の凸部を押し当てる押圧工程と、を有することを特徴とする。
さらに、この発明の第５の形態は、基板上に形成され、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造と、前記凸部の頂面上に形成され、焼結された磁性層と、を有することを特徴とする磁気記録媒体である。
さらに、この発明の第６の形態は、独立し、配列された複数のピラーが形成された基板と、前記基板の表面に沿うように形成された軟磁性層と、前記軟磁性層上に形成され、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造が形成された中間層と、前記凸部の頂面上に形成され、焼結された磁性層と、を有することを特徴とする磁気記録媒体である。
さらに、この発明の第７の形態は、基板と、前記基板上に形成された軟磁性層と、前記軟磁性層上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造に形成された中間層と、前記凸部の頂面上に形成され、焼結された磁性層と、を有することを特徴とする磁気記録媒体である。
【発明の効果】
【００１５】
この発明の第１の形態および第５の形態によると、凸部を高密度で規則正しく並べて形成することができ、その凸部の頂面に磁性層を形成したので、磁気記録媒体の記録密度を向上させることができる。
【００１６】
また、この発明の第２の形態および第６の形態によると、ピラーが形成された基板の表面に軟磁性層を沿わせて形成したので、予め軟磁性層を形成しなくとも垂直磁気記録を可能にすることができる。
【００１７】
さらに、この発明の第３の形態および第７の形態によると、中間層に転写用型を押し付けることにより、凸構造を容易に形成することができる。
【００１８】
さらに、この発明の第４の形態によると、簡単な方法を用いて、凸部の頂面に複数の磁性微粒子を確実に付着させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
［第１の実施の形態］
この発明の第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、磁気記録媒体の製造方法において各工程を示す断面図である。図２は、磁気記録媒体の製造方法において各工程を示す斜視図である。
【００２０】
第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、基板上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造を形成する凸構造形成工程と、凸部の頂面に複数の磁性微粒子を付着させる付着工程と、凸部の頂面上に付着させた磁性微粒子を熱処理する熱処理工程を有する。
【００２１】
（凸構造形成工程）
次に、凸構造形成工程について、図１（ａ）〜（ｃ）並びに図２（ａ）及び（ｂ）を参照にして説明する。凸構造形成工程は、独立し、配列された複数のピラー１１を基板１０に形成する基板形成工程と、基板１０の表面に沿わせて軟磁性層２０を形成する軟磁性層形成工程と、軟磁性層２０上に中間層３０を形成する中間層形成工程とを有する。
【００２２】
基板１０には、ガラス基板、金属製の基板、又は樹脂製の基板が用いられる。ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラス基板、結晶化ガラス基板、又は化学強化ガラス基板を用いることができる。なお、ガラス基板上に加工が容易な材料を皮膜しても良い。金属製の基板としては、例えばアルミニウム基板を用いることができる。また、樹脂製の基板には、例えば、耐熱性樹脂を材料として用いることができる。
【００２３】
基板成形工程を図１（ａ）及び図２（ａ）に示す。基板１０の表面をエッチング加工することにより、基板１０上に、独立し、配列された複数のピラー１１が形成される。
【００２４】
軟磁性層成形工程を図１（ｂ）及び図２（ｂ）に示す。軟磁性層（ＳＵＬ層）２０は、スパッタリングにより基板１０の表面全体に形成され、全体としてつながった形となる。すなわち、軟磁性層２０は、ピラー１１の頂面及び周面に形成され、ピラー１１の形成されていない基板１０の表面にも形成される。
【００２５】
中間層成形工程を図１（ｃ）に示す。中間層３０は、軟磁性層２０の表面にＳＯＧ（Ｓｐｉｎ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）をスピンコートで塗布することにより、形成される。なお、中間層３０としては、ＳＯＧに限らず、例えば、非磁性体であって、磁性微粒子４０が付着する性質を有する材料であれば良い。
【００２６】
以上に説明した基板形成工程、軟磁性層形成工程及び中間層形成工程により、凸構造が形成される。また、第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、凸部３１の頂面３３に、熱処理によって強磁性体になる複数の磁性微粒子４０を付着させる付着工程を有する。さらに、第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、凸部３１の頂面３３に付着した複数の磁性微粒子４０を熱処理する熱処理工程を有する。
【００２７】
（付着工程）
次に、付着工程について説明する。付着工程は、磁性微粒子４０を平坦なプレートＰ上に並べる配列工程と、プレートＰ上に並べられた磁性微粒子４０に凸構造の凸部３１を押し当てる押圧工程とを有する。
【００２８】
磁性微粒子４０は、磁性材料であれば特に限定はされず、例えば、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｓｍ、Ｎｄ、Ｐｒ、又はＰｔのうちいずれかを含む単体、二元合金、又は三元合金を用いることができる。例えば、ＦｅＰｔ（鉄白金）、ＦｅＰｄ（鉄パラジウム合金）、ＣｏＰｔ（コバルト白金）、又はＦｅＰｔＣｕ（鉄白金銅合金）を用いることが好ましい。また、磁性微粒子４０は、略球体の形状を有している。磁性微粒子４０の径は、１〜２５ｎｍであり、好ましくは、２〜６ｎｍである。
【００２９】
配列工程は、磁性微粒子４０を含む溶液をディップコートやスピンコートによって平坦なプレートＰの表面に塗布し、溶媒を揮発させることで、プレートＰの表面に磁性微粒子４０を配置することができる。配置された磁性微粒子４０は１個から数個の層状を成している。プレートＰ上に磁性微粒子４０が３個の層状を成した状態、及び凸部３１をプレートＰに押し当てる前の状態を図１（ｄ）に示す。
【００３０】
押圧工程は、頂面３３を下にして凸構造の凸部３１をプレートＰに押し当てる。押圧時の圧力により、凸部３１の頂面３３に形成された中間層３０のＳＯＧが磁性微粒子４０の隙間に半ば入り込むことで、凸部３１の頂面３３にのみ磁性微粒子４０を付着させることができる。凸構造の凹部３２に磁性微粒子４０を付着せず、凸部３１の頂面３３に複数の磁性微粒子４０を付着し、他の複数の磁性微粒子４０から独立している状態を図１（ｅ）及び図２（ｃ）に示す。凸部３１の頂面３３に付着する磁性微粒子４０の数は、頂面３３の広さ及び磁性微粒子４０の径の大きさによるが、好ましくは、数個から９個程度である。
【００３１】
（熱処理工程）
次に、熱処理工程を説明する。磁性微粒子４０にＦｅＰｔ微粒子を用いた場合、６００℃程度で熱処理を施すことで、ＦｅＰｔ微粒子の構造は、ｆｃｃ構造からｆｃｔ構造に構造転移し、強磁性の特性を有する磁性層４１となる。また、熱処理を施すことで、凸部３１の頂面３３に付着させた複数のＦｅＰｔ微粒子が、凸部３１の頂面３３毎に溶融し一体化（焼結）する。それにより、凸部３１の頂面３３上に焼結された磁性層４１が形成される。また、熱処理を施すことで、中間層３０であるＳＯＧに含有された水酸基やアルキル基が除去される。凸部３１の頂面３３上に形成され、焼結された磁性層４１を図１（ｆ）及び図２（ｄ）に示す。
【００３２】
なお、磁気記録媒体が垂直磁気記録方式である場合は、第１実施形態に係る凸構造形成工程は軟磁性層形成工程を有する必要があるが、磁気記録媒体が垂直磁気記録方式でない場合は、凸構造形成工程は、軟磁性層形成工程を有する必要がない。
【００３３】
また、第１実施形態では、凸構造形成工程が中間層形成工程を有するものを示したが、これに限らない。例えば、軟磁性層２０に磁性微粒子４０を付着させることが可能であれば、凸構造形成工程は中間層形成工程を有しなくても良い。
【００３４】
さらに、第１実施形態では、凸部３１の頂面３３に形成した磁性層４１につき１ビットの記録が可能なパターンメディアの製造方法を説明したが、この発明は、ディスクリートトラックメディアの製造方法にも適用することができる。この場合、凸部３１をデータトラックとして形成する。
【００３５】
｛第１実施例｝
次に、磁気記録媒体の製造方法の第１実施例を説明する。
【００３６】
（基板の作製）
先ず、基板の作製について説明する。ガラス基板にＵＶ硬化樹脂（東洋合成株式会社製のＰＡＫ０１）をスピンコートで塗布する。次に、金型を押し当ててガラス基板側からＵＶ照射する。次に、金型を離型することで、ＵＶ硬化樹脂の凹凸パターンを得る。次に、得られた凹凸パターンをマスクにドライエッチング加工をする。最後に、ＵＶ硬化樹脂を酸素アッシングにて除去する。それにより、基板にピラーが形成される。ピラーは、高さ１００ｎｍ、外径１３〜１４ｎｍの円柱形状に形成される。マトリックス状に配されたピラーの間隔は２５ｎｍである。２５ｎｍの間隔は、記録密度１Ｔ（テラ）ｂｉｔ／ｉｎ２に相当している。
【００３７】
（軟磁性層の形成）
次に、軟磁性層の形成について説明する。軟磁性層は、膜厚２００ｎｍ程度のＦｅＴａＣ膜から構成されている。ＦｅＴａＣ膜に限らず、例えば、ＮｉＦｅ膜等の他の軟磁性体膜であっても良い。
【００３８】
（ＳＯＧの塗布）
次に、ＳＯＧの塗布について説明する。東京応化工業社製のＳＯＧ（型番ＯＣＤＴ１２）を使用した。ＳＯＧは、ＨＳＱ（ハイドロシルセスキオキサン）が、メチルイソブチルケトンやトルエンなどの溶剤に溶解しているものであり、スピンコート後、乾燥や低温加熱することにより、薄膜状のＳＯＧ層を得ることができる。
【００３９】
第１実施例では、ＳＯＧを溶剤によって濃度調整し、回転数７０００ｒｐｍで、軟磁性層２０上にスピンコートする。それにより、ＳＯＧを軟磁性層２０の表面に４０ｎｍ塗布した。
【００４０】
以上に説明した基板の作製、軟磁性層の形成、及びＳＯＧの塗布により、凸構造を形成した。
【００４１】
（磁性微粒子の合成）
第１実施例において、磁性微粒子は、ＦｅＰｔ磁性微粒子である。以下、ＦｅＰｔ磁性微粒子の合成について説明する。
【００４２】
Ｆｅ（ａｃａｃ）３、Ｐｔ（ａｃａｃ）２、（ａｃａｃ＝アセチルアセトナート：Ｃ５Ｈ７Ｏ２）及びアミン化合物、溶剤としてエチレングリコールを用いて、ポリオール還元法によりＦｅＰｔ微粒子（磁性微粒子４０）を合成した。合成条件は、それぞれの濃度が１０ｍＭ（ｍｍｏｌ／Ｌ）で、１４０℃以上に加熱して調整したＦｅ含有溶液とＰｔ含有溶液とを混合して、２００℃にて還流させた。反応は全て不活性ガス中で実施した。この方法により、粒径が約５ｎｍのＦｅＰｔ粒子を得た。この段階においては、ＦｅＰｔ微粒子は、Ｆｃｃ構造を有し、軟磁性の性質を有している。
【００４３】
（磁性微粒子の配列）
次に、プレート上への磁性微粒子の配列について説明する。上記合成されたＦｅＰｔ磁性微粒子をガラス製転写用のプレート上に塗布し、溶媒を揮発させることで、プレート上に磁性微粒子を層状に並べた。プレート上に並べた磁性微粒子の層は、磁性微粒子１個から数個分の層となった。
【００４４】
（磁性微粒子の転写）
磁性微粒子を並べたプレートに凸構造を１５Ｍｐａで押し付ける。その後、プレートから凸構造を離間させる。それにより、凸構造の凸部の頂面に複数の磁性微粒子を付着させた。
【００４５】
（熱処理）
凸部の頂面に磁性微粒子を付着させた後、凸構造を、５％Ｈ２／９５％Ａｒの還元雰囲気中、６００°Ｃ、１時間熱処理した。この条件で強磁性を示すｆｃｔ結晶構造のＦｅＰｔを得た。以上の工程で磁性微粒子を溶融させて一体化させた。それにより、均一かつ独立した磁性層を形成することができた。
【００４６】
｛第２実施例｝
次に、磁気記録媒体の製造方法の第２実施例を説明する。なお、第２実施例においても、第１実施例と同様に、基板の作製、軟磁性層の形成、及び中間層の塗布により、凸構造を形成し、磁性微粒子の合成、磁性微粒子の配列、磁性微粒子の転写、及び、磁性微粒子の熱処理をした。ただし、第２実施例に係る中間層の形成は、第１実施例と異なる。
【００４７】
第１実施例では、ＳＯＧを軟磁性層２０の表面に塗布することにより中間層３０を形成した。これに対し、第２実施例では、ＵＶ硬化樹脂を軟磁性層２０の表面に塗布することにより中間層３０を形成する。
【００４８】
第２実施例においても、第１実施形態と同様に、磁性微粒子の転写が行われる。ただし、第２実施例に係る磁性微粒子の転写は、第１実施例異なる。第１実施例では、中間層３０としてＳＯＧを使用したため、プレートは、どのような材質のものであっても良かった。これに対し、第２実施例では、中間層として紫外線硬化樹脂を使用したため、プレートは、紫外線透過性を有している必要がある。このプレートに凸構造を０．２５ＭＰａで押し当る。
【００４９】
次に、紫外線をプレートに対し凸構造とは反対側（図１（ｄ）において下方）から照射する。その後、凸構造をプレートから離型し、紫外線オゾン洗浄で、樹脂のみを除去する。紫外線オゾン洗浄は、紫外線による有機化合物の分解とオゾンの生成及び分解の過程における強力な酸化作用により樹脂を除去する。
【００５０】
｛第３実施例｝
次に、磁気記録媒体の製造方法の第３実施例を説明する。なお、第３実施例においても、第１実施例と同様に、基板の作製、軟磁性層の形成、及び中間層の塗布により、凸構造を形成し、磁性微粒子の合成、磁性微粒子の配列、磁性微粒子の転写、及び磁性微粒子の熱処理をした。ただし、第３実施例に係る中間層の形成は、第１実施例と異なる。
【００５１】
第３実施例では、フォトレジストや電子線レジストを軟磁性層２０の表面に塗布することにより中間層３０を形成する。プレート側、基板側のいずれか一方もしくは両方を加熱し、プレートに基板の凸構造を数ＭＰａで押し当る。
【００５２】
次に、冷却後、凸構造をプレートから離型し、紫外線オゾン洗浄で、樹脂のみを除去する。
【００５３】
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法について、図３を参照して説明する。図３は、磁気記録媒体の製造方法において各工程を示す断面図である。
【００５４】
第２実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法が、第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法と異なる点は凸構造形成工程にある。図３（ｄ）及び（ｅ）に示す付着工程、並びに図３（ｆ）に示す熱処理工程は第１実施形態と同じであり、その説明を省略する。
【００５５】
以下、凸構造形成工程について説明する。凸構造形成工程は、基板１０上に軟磁性層２０を形成する軟磁性層形成工程と、軟磁性層２０上に中間層３０を塗布し、凸構造のパターンが形成された転写用型５０を中間層３０に押し付ける中間層形成工程とを有する。
【００５６】
第１実施形態では、基板１０にピラー１１を形成したが、第２実施形態では、基板１０にピラー１１を形成しない。基板１０としては、第１実施形態と同様に、耐熱性を有する樹脂製基板、アルミ製基板であっても良い。平坦な表面の基板１０を図３（ａ）に示す。軟磁性層形成工程では、軟磁性層２０は、基板１０の平坦な表面上に形成される。
【００５７】
中間層形成工程では、軟磁性層２０上にスピンコートにより中間層３０を塗布する。塗布された中間層３０を形成するために転写用型５０を使用する。
【００５８】
転写用型５０の製法を以下に示す。先ず、型材表面に電子線レジストを形成した後、電子線描画及び現像によりレジストにパターンを形成する。得られたレジストパターンをマスクとしてドライエッチングを行い、レジストを除去する。
【００５９】
転写用型５０を中間層３０に押し付ける。それにより、独立し、配列された複数の凸部３１を有する凸構造が形成される。転写用型５０を中間層３０に押し付けた後の状態を図３（ｂ）に示す。また、凸構造が形成された状態を図３（ｃ）に示す。第２実施形態においても、凸構造は、基板１０、軟磁性層２０及び中間層３０により構成される。なお、凸部３１の高さは、軟磁性層２０との距離を広くとれないという理由により、第１実施形態に係る凸部３１の高さより低くなっている。
【００６０】
｛実施例｝
次に、第２実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法の実施例について説明する。なお、磁性微粒子の合成、磁性微粒子の配列、磁性微粒子の転写、及び磁性微粒子の熱処理については、第１実施例と同様であり、その説明を省略する。
【００６１】
（基板の作製、軟磁性層の形成）
平坦なガラス基板上に軟磁性層を塗布する。軟磁性層は、膜厚２００ｎｍ程度のＦｅＴａＣ膜から構成されている。
【００６２】
（ＳＯＧの塗布）
第２実施形態においては、第１実施形態と同様に、ＳＯＧを溶剤によって濃度調整し、回転数７０００ｒｐｍで、軟磁性層２０上にスピンコートする。それにより、ＳＯＧを軟磁性層２０の表面に３０ｎｍ塗布し、その後自然乾燥する。
【００６３】
次に、転写用型５０をＳＯＧに押し当てる。それにより、独立し、配列された複数の凸部３１を得た。凸部３１の厚さは５０ｎｍ、凹部３２の厚さは１０ｎｍである。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】この発明の第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法において、各工程を示す断面図である。
【図２】この発明の第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法において、各工程を示す斜視図である。
【図３】この発明の第２実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法において、各工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
Ｐ  プレート    １０  基板    １１  ピラー    ２０  軟磁性層    ３０  中間層
３１  凸部    ３２  凹部    ３３  頂面    ４０  磁性微粒子    ５０  転写用型
【図１】
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【図２】
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【図３】
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