(57)【要約】【課題】容易にスタンパ溝の側面に勾配をつけることが可能となり、スタンパを用いた２Ｐ法によるホログラム素子の作製において、バリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができるスタンパの製造方法を提供する。【解決手段】レジスト８に、この表面に対して傾斜する側面を有するレジスト溝を、パターンとして形成するように、露光用光源からの露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも基板１側に、ずらして、この露光用光１３にて上記レジスト８を露光する。その後、上記レジスト８を現像し、上記レジスト８をマスクとして上記基板１をエッチングして、上記基板１の表面に、この表面に対して傾斜する側面を有するスタンパ溝を、形成する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面にレジストを塗布する工程と、
このレジストに、この表面に対して傾斜する側面を有するレジスト溝を、パターンとして形成するように、露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらして、この露光用光にて上記レジストを露光する工程と、
上記レジストを現像し、上記レジストをマスクとして上記基板をエッチングして、上記基板の表面に、この表面に対して傾斜する側面を有するスタンパ溝を、形成する工程と
を備えたことを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のスタンパの製造方法において、
上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズを、光軸方向に、移動して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらすことを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のスタンパの製造方法において、
上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間の光軸上に、レンズを、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらすことを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載のスタンパの製造方法において、
上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズと、上記レジストとの間の光軸上に、上記レンズと屈折率の異なる板を、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらすことを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載のスタンパの製造方法において、
上記レジストを露光する工程では、オートフォーカス用光源および上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズの位置を、上記オートフォーカス用光源からのオートフォーカス用光の焦点が、上記レジスト上に合うように、調整してから、上記オートフォーカス用光源と波長の異なる上記露光用光源から、上記露光用光を、上記レンズを介して、上記レジストに照射して、上記レジストを露光することを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載のスタンパの製造方法において、
上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジストの一部に設けられた膜厚の薄い薄膜部上に合わせてから、この露光用光にて上記レジストにおける上記薄膜部以外の部分を露光することを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項７】
請求項１から６の何れか一つに記載のスタンパの製造方法により製造したスタンパを用いて、フォトポリマー法により、製造されていることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば、ＣＤ（コンパクトディスク）、ＣＤ−ＲＯＭ（読み出し専用コンパクトディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＬＤ（レーザディスク）等の光ディスク用ピックアップ部品に使用される光学素子の製造に用いるスタンパの製造方法に関する。また、この製造方法により製造したスタンパを用いて製造されている光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、光ディスク用ピックアップ部品として使用されるホログラム素子は、通常数ｍｍ角の大きさであり、大量かつ安価に製造することを目的として、大型の光透過性基板上に一括して複数個の素子を形成した後、分断して製造される。ホログラム素子には、きわめて微細な回折格子が精密に形成されており、この回折格子を形成する方法として、図４Ａ〜図４Ｃおよび図５Ａ〜図５Ｄに示すようなフォトポリマー法（Photo Polymer；以下２Ｐ法と称す）と呼ばれる成形方法等が実施されている。
【０００３】
図４Ａ〜図４Ｃに示す２Ｐ法によるホログラム素子の製造方法では、まず、図４Ａに示すように、予め微細パターン１０１ａが形成されたスタンパ１０１（原盤）上に紫外線硬化型液状樹脂１０２を塗布し、この紫外線硬化型液状樹脂１０２を介してスタンパ１０１上に光透過性基板１０３を配置する。
【０００４】
次に、図４Ｂに示すように、紫外線硬化型樹脂１０２を光透過性基板１０３とスタンパ１０１とで形成される空間に必要であれば加圧しながら充分に押し広げる。
【０００５】
さらに、紫外線を照射することによって樹脂を硬化させた後、図４Ｃに示すように、光透過性基板１０３とスタンパ１０１を分離させる。上記紫外線硬化型液状樹脂１０２には、硬化後の光透過性基板１０３との接着性がスタンパ１０１とよりも優れるような材料を選択するか、光透過性基板１０３との接着性を前処理によって向上させておくことにより、光透過性基板１０３に、スタンパ１０１の微細パターン１０１ａの転写パターン１０７ａをもつ樹脂層１０７を形成する。
【０００６】
上記光透過性基板１０３の両面に同時に転写パターンを形成するには、まず、図５Ａに示すように、両面にプライマー層１０４をもつ透明基板１０５を、上下のスタンパ１０１の間に紫外線硬化型樹脂１０２を介して挟み込んで加圧する。
【０００７】
次に、図５Ｂに示すように、紫外線ＵＶを照射して樹脂１０２を硬化させた後、透明基板１０５からスタンパ１０１を分離する。
【０００８】
そして、図５Ｃに示すように、透明基板１０５の両面の樹脂層１０７の転写パターン１０７ａ上に反射防止膜１０６を蒸着する。最後に、図５Ｄに示すように、必要な形状の単体Ｈ２に分割する。
【０００９】
この製造方法は、透明基板１０５およびこれを挟むスタンパ１０１を共に光透過性のものにすることによって、透明基板１０５の両面に互いに位置決めされた微細パターンを同時に形成できるので、１つのホログラム素子の片面にトラッキングビーム生成機能を、もう片面に光分岐・誤差信号生成機能をもたせて高集積化が可能なうえ、製造効率を向上できるという利点がある。
【００１０】
上記２Ｐ法によるホログラム素子の製造歩留まりの向上および製造コストの低減には、良好な微細パターン１０１ａをもつスタンパ１０１を作製することが必須要件となる。そして、このスタンパは、図６および図７Ａ〜図７Ｅに示すような手順で作られる。
【００１１】
すなわち、図６のステップＳ１１、および、図７Ａに示すように、石英基板１００を洗浄した後、図６のステップＳ１２、および、図７Ｂに示すように、石英基板１００の表面にレジスト１０８を塗布し、図６のステップＳ１３で、石英基板１００をプリベークしてレジスト１０８中の溶剤を除去し、図６のステップＳ１４で、レジスト１０８にステッパーを用いてパターン像を投影して露光する。
【００１２】
次いで、図６のステップＳ１５、および、図７Ｃに示すように、レジスト１０８の感光した部分を現像により除去してパターン１０９を作り、図６のステップＳ１６で、ポストベークし、図６のステップＳ１７、および、図７Ｄに示すように、ドライエッチングの一種であるＲＩＥにより、レジスト１０８をマスクとして所定の深さに彫る。さらに、図６のステップＳ１８、および、図７Ｅに示すように、レジスト１０８を酸素ガスによる灰化またはリムーバーによって除去し、図６のステップＳ１９で、仕上げの洗浄を行う。
【００１３】
ところが、上記スタンパ１０１を用いた２Ｐ法によるホログラム素子の作製において、上記スタンパ１０１の溝の側面（側壁）が、上記スタンパ１０１の表面に対して、十分に傾いていないと、ホログラム素子に成形バリが発生して、不良発生率が増加し、量産性が低下することが明らかになっている。
【００１４】
この対策として、特開２０００−２３１０１１号公報（特許文献１）および特開２００３−６６２３４号公報（特許文献２）において、反応性イオンエッチング時のガス選定、エッチングレートを変えた複数段階エッチング、ウエットエッチによる前処理および後処理によりスタンパ溝の側壁に勾配を設ける方法が提案されている。
【特許文献１】特開２０００−２３１０１１号公報
【特許文献２】特開２００３−６６２３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、これらの方法では、複数段階のエッチングや複数のガスを使用する必要があり、生産上の手間がかかる。また、条件も複雑になり不安定な要素も増える。
【００１６】
そこで、この発明の課題は、容易にスタンパ溝の側面に勾配をつけることが可能となり、スタンパを用いた２Ｐ法によるホログラム素子の作製において、バリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができるスタンパの製造方法を提供することにある。また、この製造方法により製造したスタンパを用いて製造されている光学素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するため、この発明のスタンパの製造方法は、
基板の表面にレジストを塗布する工程と、
このレジストに、この表面に対して傾斜する側面を有するレジスト溝を、パターンとして形成するように、露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらして、この露光用光にて上記レジストを露光する工程と、
上記レジストを現像し、上記レジストをマスクとして上記基板をエッチングして、上記基板の表面に、この表面に対して傾斜する側面を有するスタンパ溝を、形成する工程と
を備えたことを特徴としている。
【００１８】
この発明のスタンパの製造方法によれば、上記レジストに、この表面に対して傾斜する側面を有するレジスト溝を、パターンとして形成するように、露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらして、この露光用光にて上記レジストを露光し、上記レジストを現像し、上記レジストをマスクとして上記基板をエッチングして、上記基板の表面に、この表面に対して傾斜する側面を有するスタンパ溝を、形成するので、上記レジストの露光の際に、光学的焦点をデフォーカスさせることで、上記レジスト溝の側面に勾配をつけることができる。そして、上記レジスト溝の側面に勾配がついているため、通常の反応性イオンエッチングで容易に上記スタンパ溝の側面に勾配をつけることができる。
【００１９】
したがって、容易に上記スタンパ溝の側面に勾配をつけることが可能となり、上記スタンパを用いたフォトポリマー法（２Ｐ法）によるホログラム素子等の光学素子の作製において、バリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができる。
【００２０】
また、一実施形態のスタンパの製造方法では、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズを、光軸方向に、移動して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらす。
【００２１】
この実施形態のスタンパの製造方法によれば、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズを、光軸方向に、移動して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらすので、上記露光用光の焦点を容易にずらすことができる。
【００２２】
また、一実施形態のスタンパの製造方法では、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間の光軸上に、レンズを、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらす。
【００２３】
この実施形態のスタンパの製造方法によれば、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間の光軸上に、レンズを、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらすので、上記露光用光の焦点を容易にずらすことができる。
【００２４】
また、一実施形態のスタンパの製造方法では、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズと、上記レジストとの間の光軸上に、上記レンズと屈折率の異なる板を、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらす。
【００２５】
この実施形態のスタンパの製造方法によれば、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズと、上記レジストとの間の光軸上に、上記レンズと屈折率の異なる板を、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらすので、上記露光用光の焦点を容易にずらすことができる。
【００２６】
また、一実施形態のスタンパの製造方法では、上記レジストを露光する工程では、オートフォーカス用光源および上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズの位置を、上記オートフォーカス用光源からのオートフォーカス用光の焦点が、上記レジスト上に合うように、調整してから、上記オートフォーカス用光源と波長の異なる上記露光用光源から、上記露光用光を、上記レンズを介して、上記レジストに照射して、上記レジストを露光する。
【００２７】
この実施形態のスタンパの製造方法によれば、上記レジストを露光する工程では、オートフォーカス用光源および上記露光用光源と上記レジストとの間に設けられたレンズの位置を、上記オートフォーカス用光源からのオートフォーカス用光の焦点が、上記レジスト上に合うように、調整してから、上記オートフォーカス用光源と波長の異なる上記露光用光源から、上記露光用光を、上記レンズを介して、上記レジストに照射して、上記レジストを露光するので、波長により焦点の位置が異なることを利用して、上記露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、容易にずらすことができる。
【００２８】
また、一実施形態のスタンパの製造方法では、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジストの一部に設けられた膜厚の薄い薄膜部上に合わせてから、この露光用光にて上記レジストにおける上記薄膜部以外の部分を露光する。
【００２９】
この実施形態のスタンパの製造方法によれば、上記レジストを露光する工程では、上記露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジストの一部に設けられた膜厚の薄い薄膜部上に合わせてから、この露光用光にて上記レジストにおける上記薄膜部以外の部分を露光するので、上記露光用光の焦点を、上記レジストにおける上記薄膜部以外の部分上よりも上記基板側に、容易にずらすことができる。
【００３０】
また、この発明の光学素子は、上記スタンパの製造方法により製造したスタンパを用いて、フォトポリマー法により、製造されていることを特徴としている。
【００３１】
この発明の光学素子によれば、上記スタンパの製造方法により製造したスタンパを用いて、フォトポリマー法により、製造されているので、光学素子のバリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができる。
【発明の効果】
【００３２】
この発明のスタンパの製造方法によれば、上記レジストに、この表面に対して傾斜する側面を有するレジスト溝を、パターンとして形成するように、露光用光源からの露光用光の焦点を、上記レジスト上よりも上記基板側に、ずらして、この露光用光にて上記レジストを露光し、上記レジストを現像し、上記レジストをマスクとして上記基板をエッチングして、上記基板の表面に、この表面に対して傾斜する側面を有するスタンパ溝を、形成するので、容易に上記スタンパ溝の側面に勾配をつけることが可能となり、上記スタンパを用いた２Ｐ法によるホログラム素子等の光学素子の作製において、バリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができる。
【００３３】
この発明の光学素子によれば、上記スタンパの製造方法により製造したスタンパを用いてフォトポリマー法により製造されているので、光学素子のバリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００３５】
図１Ａ〜図１Ｅは、本発明のスタンパの製造方法の一実施形態である断面図を示している。本発明のスタンパの製造方法では、図１Ａに示すように、石英基板１を洗浄した後、図１Ｂに示すように、石英基板１の表面にレジスト８を塗布し、石英基板１をプリベークしてレジスト８中の溶剤を除去し、レジスト８にステッパーを用いてパターン像を投影して露光する。
【００３６】
次いで、図１Ｃに示すように、レジスト８の感光した部分を現像により除去して、パターン９を作り、ポストベークし、図１Ｄに示すように、ドライエッチングの一種であるＲＩＥにより、レジスト８をマスクとして所定の深さに彫る。さらに、図１Ｅに示すように、レジスト８を酸素ガスによる灰化またはリムーバーによって除去し、仕上げの洗浄を行って、スタンパ２を製造する。
【００３７】
上記レジスト８を露光する工程では、図２に示すように、ステッパー１０の露光用光源をレンズ１１を通して集光し、パターンレチクル１２をレジスト８に投影することで、パターンニングを行う。
【００３８】
このとき、上記レジスト８上の露光用光１３のフォーカスがジャストフォーカスより光源側になるように調整することで、レジスト８が傾斜を持って露光され、図１Ｃに示すように、レジスト溝８０の側面（側壁）８０ａに傾斜を持たせることができる。
【００３９】
言い換えると、上記レジスト８に、この表面に対して傾斜する側面８０ａを有するレジスト溝８０を、パターン９として形成するように、露光用光源からの露光用光１３の焦点１３ａを、レジスト８上よりも上記基板１側に、ずらして（デフォーカスさせて）、この露光用光１３にて上記レジスト８を露光している。
【００４０】
そして、上記レジスト８を現像し、上記レジスト８をマスクとして上記基板１をエッチングして、図１Ｄに示すように、上記基板１の表面に、この表面に対して傾斜する側面２０ａを有するスタンパ溝２０を、形成する。
【００４１】
これに対して、従来のレジストの露光では、図３に示すように、露光用光１３の焦点１３ａを、レジスト１０８上に、合わせている（ジャストフォーカスさせている）ので、図７Ｃに示すように、レジスト１０８溝の側面が垂直になって、図７Ｅに示すように、スタンパ１０１溝の側面が垂直になる。
【００４２】
本発明のスタンパの製造方法によれば、上記レジスト８に、この表面に対して傾斜する側面８０ａを有するレジスト溝８０を、パターン９として形成するように、露光用光源からの露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも上記基板１側に、ずらして、この露光用光１３にて上記レジスト８を露光し、上記レジスト８を現像し、上記レジスト８をマスクとして上記基板１をエッチングして、上記基板１の表面に、この表面に対して傾斜する側面２０ａを有するスタンパ溝２０を、形成するので、上記レジスト８の露光の際に、光学的焦点１３ａをデフォーカスさせることで、上記レジスト溝８０の側面８０ａに勾配をつけることができる。そして、上記レジスト溝８０の側面８０ａに勾配がついているため、通常の反応性イオンエッチングで容易に上記スタンパ溝２０の側面２０ａに勾配をつけることができる。
【００４３】
したがって、容易に上記スタンパ溝２０の側面２０ａに勾配をつけることが可能となり、上記スタンパ２を用いたフォトポリマー法（２Ｐ法）によるホログラム素子等の光学素子の作製において、バリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができる。
【００４４】
ここで、本発明のように、レジスト８への露光用光１３のフォーカス位置を、ジャストフォーカスより光源側に移動させるための方法としては、例えば、以下の３つの方法があり、何れの方法も、上記露光用光１３の焦点１３ａを容易にずらすことができる。
【００４５】
第１の方法として、上記レジスト８を露光する工程では、上記露光用光源と上記レジスト８との間に設けられたレンズ１１を、光軸方向に、移動して、上記露光用光源からの上記露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも上記基板１側に、ずらす。つまり、上記レンズ１１を、上記露光用光１３の焦点１３ａが上記レジスト８上となるジャストフォーカスの位置から一定距離移動させる。
【００４６】
第２の方法として、上記レジスト８を露光する工程では、上記露光用光源と上記レジスト８との間の光軸上に、他のレンズを、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも上記基板１側に、ずらす。
【００４７】
第３の方法として、上記レジスト８を露光する工程では、上記露光用光源と上記レジスト８との間に設けられたレンズ１１と、上記レジスト８との間の光軸上に、上記レンズ１１と屈折率の異なる板を、挿入して、上記露光用光源からの上記露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも上記基板１側に、ずらす。
【００４８】
ここで、露光に用いる光学系はオートフォーカス用光により、レジスト８のところでジャストフォーカスになるようレンズ１１の位置が調整されるため、これを一定量シフトさせる制御方法が必要である。この方法としては、例えば、以下の２つの方法がある。
【００４９】
第１の方法として、上記レジスト８を露光する工程では、オートフォーカス用光源および上記露光用光源と上記レジスト８との間に設けられたレンズ１１の位置を、上記オートフォーカス用光源からのオートフォーカス用光の焦点が、上記レジスト８上に合うように、調整してから、上記オートフォーカス用光源と波長の異なる上記露光用光源から、上記露光用光１３を、上記レンズ１１を介して、上記レジスト８に照射して、上記レジスト８を露光する。
【００５０】
したがって、波長により焦点の位置が異なることを利用して、上記露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも上記基板１側に、容易にずらすことができる。
【００５１】
第２の方法として、上記レジスト８を露光する工程では、上記露光用光源からの露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８の一部に設けられた膜厚の薄い薄膜部上に合わせてから、この露光用光１３にて上記レジスト８における上記薄膜部以外の部分を露光する。
【００５２】
したがって、上記露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８における上記薄膜部以外の部分上よりも上記基板１側に、容易にずらすことができる。
【００５３】
次に、本発明の光学素子では、本発明のスタンパの製造方法により製造したスタンパ２を用いて、フォトポリマー法（２Ｐ法）により、製造されている。この光学素子は、例えば、ホログラム素子である。フォトポリマー法は、例えば、図４Ａ〜図４Ｃや、図５Ａ〜図５Ｄに示すような方法である。したがって、光学素子のバリの発生をなくし、不良率の増加を防ぐことができる。
【００５４】
なお、本発明は、上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１Ａ】本発明のスタンパの製造方法の第１工程を示す断面図である。
【図１Ｂ】本発明のスタンパの製造方法の第２工程を示す断面図である。
【図１Ｃ】本発明のスタンパの製造方法の第３工程を示す断面図である。
【図１Ｄ】本発明のスタンパの製造方法の第４工程を示す断面図である。
【図１Ｅ】本発明のスタンパの製造方法の第５工程を示す断面図である。
【図２】本発明のレジストの露光を示す概略図である。
【図３】従来のレジストの露光を示す概略図である。
【図４Ａ】従来の２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第１工程を示す断面図である。
【図４Ｂ】従来の２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第２工程を示す断面図である。
【図４Ｃ】従来の２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第３工程を示す断面図である。
【図５Ａ】従来の両面２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第１工程を示す断面図である。
【図５Ｂ】従来の両面２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第２工程を示す断面図である。
【図５Ｃ】従来の両面２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第３工程を示す断面図である。
【図５Ｄ】従来の両面２Ｐ成形法によるホログラム素子の製造方法の第４工程を示す断面図である。
【図６】従来のスタンパの製造工程を示すフローチャートである。
【図７Ａ】従来のスタンパの製造方法の第１工程を示す断面図である。
【図７Ｂ】従来のスタンパの製造方法の第２工程を示す断面図である。
【図７Ｃ】従来のスタンパの製造方法の第３工程を示す断面図である。
【図７Ｄ】従来のスタンパの製造方法の第４工程を示す断面図である。
【図７Ｅ】従来のスタンパの製造方法の第５工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  基板
２  スタンパ
２０  スタンパ溝
２０ａ  側面
８  レジスト
８０  レジスト溝
８０ａ  側面
９  パターン
１０  ステッパー
１１  レンズ
１２  レチクル
１３  露光用光
１３ａ  焦点
１００  基板
１０１  スタンパ（原盤）
１０１ａ  パターン
１０２  紫外線硬化型液状樹脂
１０３  光透過性基板 
１０４  プライマー層
１０５  透明基板
１０６  反射防止膜
１０７  樹脂層
１０７ａ  転写パターン 
１０８  レジスト
１０９  パターン
【図１Ａ】
2009051173.tif 000003
【図１Ｂ】
2009051173.tif 000004
【図１Ｃ】
2009051173.tif 000005
【図１Ｄ】
2009051173.tif 000006
【図１Ｅ】
2009051173.tif 000007
【図２】
2009051173.tif 000008
【図３】
2009051173.tif 000009
【図４Ａ】
2009051173.tif 000010
【図４Ｂ】
2009051173.tif 000011
【図４Ｃ】
2009051173.tif 000012
【図５Ａ】
2009051173.tif 000013
【図５Ｂ】
2009051173.tif 000014
【図５Ｃ】
2009051173.tif 000015
【図５Ｄ】
2009051173.tif 000016
【図６】
2009051173.tif 000017
【図７Ａ】
2009051173.tif 000018
【図７Ｂ】
2009051173.tif 000019
【図７Ｃ】
2009051173.tif 000020
【図７Ｄ】
2009051173.tif 000021
【図７Ｅ】
2009051173.tif 000022