(57)【要約】【課題】簡単かつ安価な構成で、長期的に安定した液除去（液切り）性能を享受する。【解決手段】基板処理装置は剥離処理室１を有する。剥離処理室１には、剥離処理後の基板表面にエアを吐出し、剥離液を除去する第１エアナイフ１４が配置される。このエアナイフ１４は、送経路を横切るように支持される円筒状の本体１５と、この本体１５に所定間隔で配列されてエアを吐出するノズル部１６とを備えている。各ノズル部１６は、本体１５の軸方向と平行な方向に所定の噴角を有し、かつそれと直交する方向に扁平な形状でエアを吐出し、そのエアの吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、本体１５に対して設けられ、かつ隣接するノズル部１６のエア吐出領域同士が基板上で前記軸方向に重複するように、ノズル部１６同士の間隔および各ノズル部１６から搬送基板Ｓまでの距離が設定されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送中の基板の表面に対して気体を吐出させることにより基板表面の処理液を除去する処理液除去装置において、
基板の搬送経路を横切るように支持される筒状の本体部と、この本体部においてその軸方向に並ぶ複数の位置にそれぞれ設けられ当該本体部の内側に供給される気体を搬送基板に向かって吐出する複数のノズル部とを備え、
前記各ノズル部は、前記軸方向と平行な方向に所定の噴角を有し、かつそれと直交する方向に扁平な形状で前記気体を吐出し、その気体の吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、前記本体部に対して設けられ、かつ隣接するノズル部の気体吐出領域同士が基板上で前記軸方向に重複するように、ノズル部同士の間隔および各ノズル部から搬送基板までの距離が設定されていることを特徴とする処理液除去装置。
【請求項２】
請求項１に記載の処理液除去装置において、
前記各ノズル部から搬送基板までの距離が１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲に設定され、かつ隣接する一対のノズル部に関して、一のノズル部の気体吐出領域に対する前記重複領域の比率が５％以上４０％以下の範囲にあるように各ノズル部同士の間隔が設定されていることを特徴とする処理液除去装置。
【請求項３】
請求項１に記載の処理液除去装置において、
前記各ノズル部から搬送基板までの距離が５０ｍｍを超え１００ｍｍ以下の範囲に設定され、かつ隣接する一対のノズル部に関して、一のノズル部の気体吐出領域に対する前記重複領域の比率が３０％以上６０％以下の範囲にあるように各ノズル部同士の間隔が設定されていることを特徴とする処理液除去装置。
【請求項４】
請求項１に記載の処理液除去装置において、
前記各ノズル部から搬送基板までの距離が１００ｍｍを超え１５０ｍｍ以下の範囲に設定され、かつ隣接する一対のノズル部に関して、一のノズル部の気体吐出領域に対する前記重複領域の比率が５０％以上８０％以下の範囲にあるように各ノズル部同士の間隔が設定されていることを特徴とする処理液除去装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の処理液除去装置を含む基板処理装置であって、
前記処理液として薬液を搬送基板に対して供給することにより当該基板に薬液処理を施す薬液処理室と、薬液処理後の基板に洗浄液を供給することにより基板に洗浄処理を施す洗浄処理室と、洗浄処理後の基板に気体を吹き付けて乾燥させる乾燥処理室とを備え、
前記薬液処理室に、薬液処理後の基板に気体を吐出してその表面の薬液を除去することにより当該薬液処理室から洗浄処理室への薬液の持ち出しを抑制する手段として前記処理液除去装置が設けられ、この処理液除去装置を第１処理液除去装置としたときに、これとは別に、前記乾燥処理室に、洗浄処理後の基板に気体を吐出してその表面の洗浄液を除去することにより基板を乾燥させる第２処理液除去装置が設けられ、
この第２処理液除去装置は、基板の搬送経路を横切るように支持される本体部と、この本体部に設けられて前記搬送経路を横切る方向に連続的に延びるスリット状吐出口とを有し、このスリット状吐出口から洗浄処理後の基板に対して気体を吐出させることにより、基板表面の洗浄液を除去することを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１に記載の処理液除去装置の前記ノズル部の間隔設定方法であって、
前記軸方向に所定の間隔で各ノズル部が配列された前記本体部を、各ノズル部から搬送基板までの距離が予め設定された寸法となる所定の固定位置に固定する場合に、
この固定位置に応じて、前記予め設定された寸法が大きくなるに従い、隣接する一対のノズル部に関して、一のノズル部の気体吐出領域に対する前記重複領域の比率が大きくなるように、前記ノズル部同士の前記所定の間隔を設定することを特徴とするノズル間隔設定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、半導体基板等の基板に各種処理液を供給して処理を施す基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、複数の処理室を有し、ＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板等の基板を搬送しながら、各処理室内で基板に処理液を供給することにより予め定められたプロセス処理を基板に施す基板処理装置が知られている。また、この種の装置において、処理後の基板に付着した処理液を気体圧により除去する処理液除去装置を備えたものも知られており、例えば特許文献１には、処理室内における基板の搬出口近傍に、エアナイフを設置し、処理後の基板に対してエアを吐出させることにより、基板上に残った処理液を除去（液切り）、乾燥させるものが開示されている。
【０００３】
エアナイフは、スリット状の吐出口を有したノズルであって基板の幅方向全体に亘って連続的にエアを吐出し得るように構成されており、例えば特許文献１に開示されるように、概略的には、一対の長尺の板材を、シール部材等を介して互いに重ね合わせ、その一辺に沿ってスリット状の吐出口（隙間）を設けた構造となっている。
【特許文献１】特開平９−１３６０４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来のエアナイフは、吐出口の隙間精度がエアの吐出状態に影響するため、吐出口の隙間を精度よく管理することが要求される。
【０００５】
しかし、近年の基板の大型化に伴いエアナイフが長尺化の傾向にあり、これによって、撓みによる隙間寸法の変動や、異物の侵入（詰まり）による部分的な閉塞が生じ易くなっており、安定的に液除去（液切り）性能を保つことが難しくなっている。
【０００６】
そこで、ステンレス等の高強度の材料を適用し、さらに構成部材の厚み寸法を大きくする等してエアナイフの曲げ剛性を高めることや、メンテナンス頻度を増やすことが行われているが、これが、装置のコスト高や、生産性低下を招く原因となっている。
【０００７】
本発明は、上記のような事情に鑑みて成されたものであり、簡単かつ安価な構成で、長期的に安定した液除去（液切り）性能を享受し得るようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は、搬送中の基板の表面に対して気体を吐出させることにより基板表面の処理液を除去する処理液除去装置において、基板の搬送経路を横切るように支持される筒状の本体部と、この本体部においてその軸方向に並ぶ複数の位置にそれぞれ設けられ当該本体部の内側に供給される気体を搬送基板に向かって吐出する複数のノズル部とを備え、前記各ノズル部は、前記軸方向と平行な方向に所定の噴角を有し、かつそれと直交する方向に扁平な形状で前記気体を吐出し、その気体の吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、前記本体部に対して設けられ、かつ隣接するノズル部の気体吐出領域同士が基板上で前記軸方向に重複するように、ノズル部同士の間隔および各ノズル部から搬送基板までの距離が設定されているものである。
【０００９】
このような構成によれば、本体部に沿ってその軸方向に並んだ各ノズル部から気体を吐出させるので、気体の吐出口（ノズル部）面積を低減させることができる。しかも、隣接するノズル部の気体吐出領域同士が基板上で前記軸方向に重複するように各ノズル部の間隔等が設定されているので、異物の侵入（詰まり）を抑制しつつ基板を横切る方向に亘って連続的に気体を吐出させることができる。その上、筒状の本体部を主体としてこれにノズル部が設けられた、全体として曲げ剛性の高い構造であるため、比較的簡単、かつ安価な構成で高い撓み防止効果を享受することができる。
【００１０】
なお、このような構成においては、ノズル部から搬送基板までの距離との関係で、気体吐出領域における重複部分（重複領域）の比率が以下の範囲となるように、各ノズル部同士の間隔が設定されているのが好適である。具体的には、前記各ノズル部から搬送基板までの距離が１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲に設定され、かつ隣接する一対のノズル部に関して、一のノズル部の気体吐出領域に対する前記重複領域の比率が５％以上４０％以下の範囲にあるように各ノズル部同士の間隔が設定されているのが好適である。また、各ノズル部から搬送基板まで間隔が５０ｍｍを超え１００ｍｍ以下の範囲に設定される場合には、前記重複領域の比率が３０％以上６０％以下の範囲にあるように、さらに、各ノズル部から搬送基板まで間隔が１００ｍｍを超え１５０ｍｍ以下の範囲に設定される場合には、前記重複領域の比率が５０％以上８０％以下の範囲にあるように各ノズル部同士の間隔が設定されているのが好適である。
【００１１】
このような構成によれば、ノズル部から搬送基板までの距離との関係で、基板全体に亘ってむらなく連続的に、かつ良好に気体圧を作用させることができ、高度な液切り性能を享受することが可能となる。
【００１２】
一方、本発明に係る基板処理装置は、上記のような処理液除去装置を含む基板処理装置であって、前記処理液として薬液を搬送基板に対して供給することにより当該基板に薬液処理を施す薬液処理室と、薬液処理後の基板に洗浄液を供給することにより基板に洗浄処理を施す洗浄処理室と、洗浄処理後の基板に気体を吹き付けて乾燥させる乾燥処理室とを備え、前記薬液処理室に、薬液処理後の基板に気体を吐出してその表面の薬液を除去することにより当該薬液処理室から洗浄処理室への薬液の持ち出しを抑制する手段として前記処理液除去装置が設けられ、この処理液除去装置を第１処理液除去装置としたときに、これとは別に、前記乾燥処理室に、洗浄処理後の基板に気体を吐出してその表面の洗浄液を除去することにより基板を乾燥させる第２処理液除去装置が設けられ、この第２処理液除去装置は、基板の搬送経路を横切るように支持される本体部と、この本体部に設けられて前記搬送経路を横切る方向に連続的に延びるスリット状吐出口とを有し、このスリット状吐出口から洗浄処理後の基板に対して気体を吐出させることにより、基板表面の洗浄液を除去するように構成されているものである。
【００１３】
この基板処理装置は、処理液除去装置として、本体部に沿って並んだ複数のノズル部から気体を吐出させるもの（第１処理液除去装置）と、スリット状吐出口から気体を吐出させるもの（第２処理液除去装置）とを併用した構成である。つまり、スリット状吐出口から気体を吐出させる処理液除去装置は、その撓みを管理する等してスリット状吐出口の隙間精度を確保すれば、スリット状吐出口の全体に亘って一定圧力の気体を均一に吐出させることが可能なため、基板全体に亘って途切れなく連続的に気体を吐出させる上では依然信頼性が高い。従って、上記の基板処理装置のように、気体の吹き付けが主に薬液のも持ち出し抑制を目的とするものであり、多少基板上に薬液が残っても影響の少ない薬液処理室については、上記のように本体部に複数のノズル部が並んだ、簡単、かつ安価な構成の処理液除去装置（第１処理液除去装置）を配置し、他方、基板上の液体を完全に除去して乾燥させることが求められる乾燥処理室については、気体の吐出連続性を確保する上でより有利な、スリット状吐出口を有する処理液除去装置（第２処理液除去装置）を配置する構成とすれば、薬液処理室及び乾燥処理室でそれぞれ求められる液除去（液切り）性能を充足する一方で、２つの処理液除去装置のうち一方側についてはその低廉化を図り、装置コストを抑えることが可能となる。
【００１４】
一方、本発明に係るノズル間隔設定方法は、複数のノズル部が並ぶ上記処理液除去装置のノズル部の間隔設定方法であって、前記軸方向に所定の間隔で各ノズル部が配列された前記本体部を、各ノズル部から搬送基板までの距離が予め設定された寸法となる所定の固定位置に固定する場合に、この固定位置に応じて、前記予め設定された寸法が大きくなるに従い、隣接する一対のノズル部に関して、一のノズル部の気体吐出領域に対する前記重複領域の比率が大きくなるように、前記ノズル部同士の前記所定の間隔を設定するようにしたものである。
【００１５】
このような方法に基づいてノズル部同士の間隔を設定すれば、ノズル部から搬送基板までの距離との関係で、基板全体に亘ってむらなく連続的に、かつ良好に気体圧を作用させることができ、高度な液切り性能を享受することが可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の基板処理装置によると、基板に対してこれを横切る方向に亘って連続的に気体を吐出させることができる一方で、異物の侵入や、撓みの発生を簡単、かつ安価な構成で防止することができる。そのため、安価な構成で、長期的に安定した液除去（液切り）性能を享受することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は、本発明に係る基板処理装置（本発明に係る処理液除去装置が適用される基板処理装置）を示す概略図である。同図に示す基板処理装置は、レジスト被膜が形成されたＬＣＤ用ガラス基板等のガラス基板Ｓ（以下、基板Ｓという）の表面（上面）に剥離液を供給することにより、基板Ｓの表面に形成されている前記被膜を剥離する剥離処理を施し、さらに剥離処理後の基板Ｓに対して洗浄処理、及び乾燥処理を施すもので、同図に示すように、互いに隔壁を隔てて一列に設けられる剥離処理室１、洗浄処理室２及び乾燥処理室３を備えている。
【００１９】
各処理室１〜３には、それぞれ複数の搬送ローラ１０が所定間隔で配備されており、基板Ｓがこれら搬送ローラ１０により支持された状態で、当該搬送ローラ１０の駆動により図中左側から右側に向かって搬送される構成となっている。搬送ローラ１０は、基板Ｓの搬送方向と直交する方向に傾いており、これによって基板Ｓが水平面に対して所定角度だけ傾斜した状態で搬送されるようになっている。なお、以下の説明において「上流側」「下流側」と言うときには、基板Ｓの搬送方向に基づくものとする。
【００２０】
剥離処理室１は、本発明に係る薬液処理室であり、この剥離処理室１の天井近傍には、基板Ｓに対して剥離液（薬液）を供給するための複数のシャワーノズル１２が配備されている。剥離液の給排系統（図示省略）は、タンクに貯溜された剥離液をポンプの駆動によりシャワーノズル１２に供給し、当該ノズル１２から基板Ｓに供給した後、剥離処理室１の内底部から導出して再度上記タンクに戻すように構成されている。このように剥離液を循環させることで、剥離液の大量消費を抑え、剥離液を有効活用するようになっている。
【００２１】
剥離処理室１には、さらに洗浄処理室側の隔壁の近傍位置（前記シャワーノズル１２による剥離液の吐出領域よりも下流側の位置）にエアナイフ１４が配置されている。
【００２２】
このエアナイフ１４（第１エアナイフ１４という；第１処理液除去装置に相当する）は、基板Ｓにエアを吐出することにより基板上に残った剥離液を除去するものである。
【００２３】
第１エアナイフ１４は、搬送ローラ１０により構成される基板Ｓの搬送路の上方において当該搬送路を横切るように配置されている。このエアナイフ１４は、図２（ａ）に示すように、基板Ｓの搬送方向と直交する方向（以下、基板Ｓの幅方向という）に延びる円筒状の本体１５の周面上に、当該本体１５の軸方向に沿って複数のノズル部１６が一列に設けられたもので、図外のエア供給源から前記本体１５内に供給されるエア、詳しくは、清浄度及び温湿度が所定レベルに調整された所謂ＣＤＡ（Clean Dry Air；以下、単にエアという）を各ノズル部１６から吐出させるように構成されている。
【００２４】
各ノズル部１６は、前記軸方向と平行な方向に所定の噴角θ１を有し、かつそれと直交する方向に扁平な形状でエアを吐出する（要するに膜状にエアを吐出する）ように構成されると共に、図２（ｂ）に示すように、隣接するノズル部１６の基板上におけるエア吐出領域Ｅ同士が前記軸方向（つまり、基板Ｓの幅方向）に一部重複するように当該方向に所定の間隔で配列されている。
【００２５】
また、各ノズル部１６は、図３に示すように、エアの吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、搬送基板Ｓの上面に対して所定角度θ２だけ傾くように設けられている。この構成により、剥離処理後の搬送基板Ｓの表面に対してその幅方向全体に亘って連続的に、かつ下流側から上流側に向かってエアを吐出し得るようになっている。
【００２６】
洗浄処理室２には、図１に示すように、基板Ｓに対して洗浄液（当例では純水）を供給するための複数のシャワーノズル２０が前記搬送路を挟んで上下両側に配備されている。洗浄液の給排系統（図示省略）は、タンクに貯溜された洗浄液をポンプの駆動によりシャワーノズル２０に供給し、当該ノズル２０から基板Ｓに供給した後、剥離処理室１の内底部から導出して廃棄するように構成されている。
【００２７】
乾燥処理室３には、一対のエアナイフ２２，２２（第２エアナイフという；第２処理液除去装置に相当する）が配置されている。第２エアナイフ２２，２２は、前記搬送路を挟んで上下に配置されており、搬送基板Ｓの上下各面に対してエアを吐出することにより基板Ｓに残った洗浄液を除去し、基板Ｓを乾燥させるものである。
【００２８】
第２エアナイフ２２，２２は、基板Ｓの搬送路を横切るようにそれぞれ配置されている。各エアナイフ２２は、本体部にその長手方向に延びるスリット状吐出口を備えたいわゆるスリットノズルからなり、前記スリット状吐出口からその長手方向に沿って膜状にエアを吐出するように構成されている。また、各エアナイフ２２，２２は、図４に示すように、エアの吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、搬送基板Ｓの上面に対して所定角度θ３だけ傾くように設けられている。この構成により、洗浄処理後の搬送基板Ｓの表面に対してその幅方向全体に亘って連続的に、かつ下流側から上流側に向かってエアを吐出し得るようになっている。
【００２９】
上記のように構成された基板処理装置において、基板Ｓは、まず剥離処理室１に搬入される。剥離処理室１では、まずシャワーノズル１２により基板Ｓの先端側から順にその上面に剥離液が供給される。このように基板Ｓに剥離液が供給され、これが基板表面に沿って流下することによって基板表面に形成されているレジスト被膜が剥離されることとなる。そして、基板Ｓの搬送に伴い、第１エアナイフ１４によるエア吐出位置に基板先端が達すると、第１エアナイフ１４から基板Ｓに対してエアが吐出される。具体的には、上記の通り、基板Ｓの幅方向全体に亘って連続的に、かつ下流側から上流側に向かってエアが吐出される。これにより基板Ｓ上の剥離液が基板先端側から順に除去される。このように剥離液が除去されることで、剥離処理室１から洗浄処理室２への剥離液の持ち出しが防止され、剥離処理室１において循環使用される剥離液の消費が抑制されることとなる。
【００３０】
次いで、基板Ｓは、洗浄処理室２に搬入される。洗浄処理室２では、シャワーノズル２０により基板Ｓの先端側から順にその上下各面に対して洗浄液が供給され、これにより基板全体が洗浄されることとなる。洗浄処理後の基板Ｓは、さらに乾燥処理室３に搬入される。乾燥処理室３では、第２エアナイフ２２，２２から基板Ｓの上下各面に対してエアが吐出される。この場合も、上記の通り、基板Ｓの幅方向全体に亘って連続的に、かつ下流側から上流側に向かってエアが吐出され、これによって基板Ｓに付着した洗浄液がその先端側から順に除去されることとなる。
【００３１】
そして、最終的に基板Ｓが乾燥処理室３から搬出されると、当該基板Ｓに対する剥離、洗浄及び乾燥の一連の処理が終了することとなる。
【００３２】
このような基板処理装置によると、特に、剥離処理室１では、上述したような第１エアナイフ１４が設けられているため、従来のこの種の装置に比べて簡単、かつ安価な構成で、長期的に、かつ安定的に剥離液の持ち出しを抑制できるという効果がある。
【００３３】
すなわち、上記第１エアナイフ１４によれば、本体１５に沿ってその軸方向に並んだ各ノズル部１６から気体を吐出させるので、エアの吐出口（ノズル部）面積を少なく抑えることができる。しかも、隣接するノズル部１６のエア吐出領域Ｅ同士が基板上で前記軸方向に重複するように各ノズル部１６の間隔が設定されているので、異物の侵入（詰まり）を抑制しつつ搬送基板Ｓの幅方向全体に亘って連続的に気体を吐出させることができる。その上、筒状の本体１５を主体としてこれにノズル部１６が設けられた、全体として曲げ剛性の高い構造であるため、樹脂等の軽量、かつ安価な材料を適用した場合でも高い撓み防止効果を得ることができる。従って、簡単、かつ安価な構成で、長期的に、かつ安定的に基板Ｓの幅方向全体に亘って良好にエアを吐出させて高度な液除去（液切り）性能を享受することができ、その結果、剥離液の持ち出しを良好に抑制できる。
【００３４】
なお、上記第１エアナイフ１４については、基板Ｓの幅方向に亘って連続的にかつ適切にエア圧を作用させることが液切り性能を確保する上で重要であるが、本願出願人は、図５の試験結果に示すように、隣接するノズル部１６のエア吐出領域Ｅ同士の重複率を、当該ノズル部１６から基板Ｓまでの距離（間隔）に応じて一定の範囲内に設定することで、良好な液切り性能を得ることができることを確認した。
【００３５】
同図に示す試験結果は、一定の吐出圧、噴角θ１、吐出角度θ２の下で、ノズル部１６から基板Ｓまでの距離（間隔ｈ）と、隣接する一対のノズル部１６の基板上におけるエア吐出領域Ｅ同士の重複率（オーバラップ率）Ｒとを変数として液切り性能を評価した結果である。評価は、基板上の処理液の残存状況を目視確認することにより行った。ここで、上記間隔ｈは、図１，図３に示すように、基板表面に直交する方向に沿った当該基板表面とノズル部先端との直線距離であり、重複率Ｒは、エア吐出領域（全幅Ｗａ）に対する重複領域（幅Ｗｂ）の比率（（Ｗｂ／Ｗａ）×１００）である。なお、試験は、エアの吐出圧０．１〜０．３ＭＰａ、噴角（θ１）９０°，１１０°、吐出角度（θ２）４０°〜７０°の範囲内で、複数種類の処理液について行ったが、ほぼ共通の結果を得られたため、図５ではその一結果だけを示している。
【００３６】
この試験結果から、
・ノズル部１６と基板Ｓとの間隔ｈが１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲では、重複率Ｒを５％以上４０％以下の範囲内で、
・ノズル部１６と基板Ｓとの間隔ｈが５０ｍｍを超え１００ｍｍ以下の範囲では重複率Ｒを３０％以上６０％以下の範囲内で、
・ノズル部１６と基板Ｓとの間隔ｈが１００ｍｍを超え１５０ｍｍ以下の範囲では、重複率Ｒを５０％以上８０％以下の範囲内で、それぞれ設定することによって良好な液切り性能を得ることが考察できる。
【００３７】
また、各ノズル部１６から搬送基板Ｓまでの距離（間隔ｈ）が大きくなるに伴い、エア吐出領域Ｅの重複率Ｒを大きくすることが、良好な液切り性能を得る上で有効であることが考察できる。従って、第１エアナイフ１４の固定位置が予め定められている場合には、その固定位置におけるノズル部１６から搬送基板Ｓまでの距離（間隔ｈ）に応じて、この距離が大きくなるに従い、上記重複率Ｒが大きくなるように、第１エアナイフ１４におけるノズル部１６同士の配列間隔を予め設定することが良好な液切り性能を得る上で有効となる。
【００３８】
ところで、この試験結果では、例えばノズル部１６と基板Ｓとの間隔ｈが５０ｍｍ以下の範囲では、重複率Ｒが５％未満の場合、及び４０％を超える場合にそれぞれ液切り性能が低下しているが、これは次の理由によるものと考えられる。すなわち、エアは本体１５の軸方向に沿って噴角θ１の広がりを持ってノズル部１６から吐出されるため、エア吐出領域の端部で打力（基板Ｓに作用するエア圧）が低下し易い。上記第１エアナイフ１４では、エア吐出領域Ｅ同士が重複するように各ノズル部１６が設けられることで、このような打力低下が補われるが、重複率Ｒが５％未満の場合には、当該打力低下が十分には補われず、その結果、処理液が十分に除去されず基板上に残存し易くなるものと考えられる。逆に重複率Ｒが４０％を超えると、隣接するノズル部１６から吐出されたエア同士が重複部分で強く干渉し、その結果、打力にむらが生じ、打力の弱い部分で基板上に洗浄液が残存するものと考えられる。このようなメカニズムは、ノズル部１６と基板Ｓとの間隔ｈが５０ｍｍを超える場合も同様と考えられる。
【００３９】
なお、この実施形態では、エアナイフが設置される剥離処理室１及び乾燥処理室３のうち、剥離処理室１についてのみ上記のような構造（便宜上、パイプノズル構造という）の第１エアナイフ１４を設置し、乾燥処理室３についてはスリット状開口部を有するいわゆるスリットノズル構造の第２エアナイフ２２を採用しているが、勿論、乾燥処理室３の第２エアナイフ２２として、第１エアナイフ１４と同様のパイプノズル構造のものを適用することも可能である。但し、スリットノズル構造は、精密な隙間調整等、運用上、手間を要するものの、この点を除けば、スリット状吐出口からその長手方向に亘って一定圧力のエアを均一に吐出させることが可能なため、基板Ｓの幅方向に、連続的に気体を吐出させる上での信頼性は高い。従って、エアの吹き付けが、主に剥離液の持ち出し抑制を目的とするものであり、多少基板上に剥離液が残っても後に洗浄されるために影響の少ない剥離処理室１の第１エアナイフ１４としてはパイプノズル構造のものを適用し、他方、基板上の洗浄液を完全に除去して乾燥させる必要がある乾燥処理室３の第２エアナイフ２２としてはスリットノズル構造のものを適用する上記実施形態の基板処理装置の構成によれば、剥離処理室１及び乾燥処理室３でそれぞれ求められる液除去性能を良好に確保した上で、全体として見れば、２つのエアナイフのうち一方側のエアナイフとしてパイプノズル構造の第１エアナイフ１４を設けていることで装置コストを抑えることができるという利点がある。
【００４０】
なお、上記実施形態では、洗浄処理室２及び乾燥処理室３において、それぞれ基板Ｓにエアを吹き付けることによって剥離液等を除去するようにしているが、勿論、エア以外の気体、例えば窒素（Ｎ２）等の不活性ガスを吹き付けるようにしてもよい。
【００４１】
また、上記実施形態では、基板Ｓを傾斜姿勢（搬送方向と直交する方向においてその一方側から他方側に傾斜する姿勢）で搬送しながら当該基板Ｓに処理を施す場合について説明したが、勿論、水平姿勢で基板Ｓを搬送しながら当該基板Ｓに処理を施す装置についても、本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る基板処理装置の実施形態の一例を示す概略図である。
【図２】（ａ）剥離処理室に配置される第１エアナイフの構成を示す図１のII−II線断面図で、（ｂ）は、基板上における各ノズル部のエア吐出領域を示す概略図である。
【図３】第１エアナイフの構成を示す側面略図である。
【図４】乾燥処理室に配置される第２エアナイフの構成を示す側面略図である。
【図５】第１エアナイフの評価試験の結果を示す表である。
【符号の説明】
【００４３】
１  剥離処理室
２  洗浄処理室
３  乾燥処理室
１０  搬送ローラ
１２，２０  シャワーノズル
１４  第１エアナイフ
１５  本体
１６  ノズル部
２２  第２エアナイフ
Ｓ  基板
【図１】
2009279477.tif 000003
【図２】
2009279477.tif 000004
【図３】
2009279477.tif 000005
【図４】
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【図５】
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