(57)【要約】【課題】平面型画像表示装置の蛍光面の混色を防止して高輝度化と長寿命化を図る。【解決手段】スペーサの側面に二次電子放出係数の小さい材料からなる多数の細点状突起を配置した。【選択図】    図３
2009123634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向に延在してこの第１の方向と交差する第２の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第２の方向に延在して前記第１の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、
この背面基板と対向する内表面に複数のＢＭ窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のＢＭ窓部を覆って前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、
前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、
前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、
前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、
前記スペーサは、このスペーサ側面に多数の独立した細点状突起を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記スペーサはスペーサ基体とこのスペーサ基体の側面に被着された多数の独立した細点状突起とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記スペーサ基体は前記細点状突起と二次電子放出係数が異なることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記スペーサ基体は前記細点状突起と体積抵抗率が異なることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記スペーサは前記スペーサ基体の側面の３０％〜７０％を前記細点状突起で覆ってなることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記細点状突起の高さは０．５μｍ〜３μｍであることを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記スペーサ基体はタングステンとリンとを主成分として含むガラスからなり、前記細点状突起はバナジウムとリンとを主成分として含むガラスからなることを特徴とする請求項２乃至６の何れかに記載の画像表示装置。
【請求項８】
前記スペーサは前記スペーサ基体の前記側面と前記細点状突起が帯電防止膜で覆われた構成であることを特徴とする請求項２乃至７の何れかに記載の画像表示装置。
【請求項９】
第１の方向に延在してこの第１の方向と交差する第２の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第２の方向に延在して前記第１の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、
この背面基板と対向する内表面に複数のＢＭ窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のＢＭ窓部を覆って前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、
前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、
前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、
前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、
前記スペーサは、このスペーサ端面を多層導電膜及び接合部材を介して前記基板と接合してなることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
前記多層導電膜はスペーサ端面側の第１層にＣｒ膜、第２層にＡｌ膜の２層膜構造であることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置。
【請求項１１】
前記スペーサはスペーサ基体の側面を多数の独立した細点状突起で覆ってなることを特徴とする請求項９又は１０に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記電子源が、下部電極と上部電極及びこれら下部電極と上部電極との間に挟持される電子加速層を有し、前記下部電極と上部電極間に電圧を印加することで前記上部電極より電子を放出する薄膜型電子源アレイであることを特徴とする請求項１乃至１１の何れかに記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、自発光型フラットパネル型画像表示装置に係り、特に薄膜型電子源をマトリクス状に配列した画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
マトリクス状に配置した電子源を有する自発光型フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の一つとして、微少で集積可能な冷陰極を利用する電界放出型画像表示装置（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）や電子放出型画像表示装置が知られている。
この冷陰極には、スピント型電子源、表面伝導型電子源、カーボンナノチューブ型電子源、金属―絶縁体―金属を積層したＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ）型、金属―絶縁体―半導体を積層したＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）型、あるいは金属―絶縁体―半導体−金属型等の薄膜型電子源などがある。
【０００３】
一般的な自発光型ＦＰＤは、上記のような電子源をガラス板等の絶縁板上に備えた背面基板と、蛍光体層及びこの蛍光体層に前記電子源から放出される電子を射突させるための電界を形成する陽極とをガラスを好適とする光透過性の材料からなる板上に備えた前面基板と、両基板の対向する内部空間を所定の間隔に保持する枠体とを備え、前記両基板と枠体で形成される表示領域を含む内部空間を真空状態に保持する表示パネル構成とし、この表示パネルに駆動回路を組み合わせて構成される。
【０００４】
又、前記背面基板上には、一方向に延在し該一方向と直交する他方向に並設された複数の映像信号配線と、この映像信号配線を覆って形成された絶縁膜と、この絶縁膜上で前記他方向に延在し前記映像信号配線に交差する如く前記一方向に並設され走査信号が順次印加される複数の走査信号配線を備えている。加えて前記走査信号配線と映像信号配線の交差部付近に上記の電子源がそれぞれ設けられ、走査信号配線と電子源とは給電電極で接続され、走査信号配線から電子源に電流が供給される構成が一般的である。
【０００５】
更に、前記個々の電子源は前記前面基板上に配置された対応する蛍光体層と対になって単位画素を構成する。通常は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の単位画素で一つの画素（カラー画素、ピクセル）が構成される。なお、カラー画素の場合、単位画素は副画素（サブピクセル）とも呼ばれる。
【０００６】
上述の構成に加え、前述したような画像表示装置では、背面基板と前面基板間の前記枠体で囲繞された表示領域を含む真空領域内に複数の間隔保持部材（スペーサ）が配置固定され、前記両基板間の間隔を前記枠体と協働して所定間隔に保持している。このスペーサは、一般にはガラスやセラミックスなどの絶縁材あるいは幾分かの導電性を有する部材で形成した板状体からなり、通常、複数の画素ごとに画素の動作を妨げない位置に設置される。
【０００７】
又、封止枠となる枠体は背面基板と前面基板との内周縁にフリットガラスなどの封着部材で固着され、この固着部が気密封着され封止領域となっている。両基板と枠体とで形成される真空領域内部の真空度は、例えば１０-5〜１０-7Ｔｏｒｒ程度である。
【０００８】
更に、前記枠体と背面基板との封止領域には、背面基板に形成された走査信号配線につながる走査信号配線引出端子や画像信号配線につながる画像信号配線引出端子がそれぞれ貫通する。
【０００９】
前述したＭＩＭ型電子源については、例えば特許文献１に開示されている。ＭＩＭ型電子源の構造と動作の概要は以下のとおりである。
すなわち、上部電極と下部電極との間に絶縁層を介在させた構造を有し、上部電極と下部電極との間に電圧を印加することで、下部電極中のフェルミ準位近傍の電子がトンネル現象により障壁を透過し、電子加速層である絶縁層の伝導帯へ注入されホットエレクトロンとなり、上部電極の伝導帯へ流入する。これらのホットエレクトロンのうち、上部電極の仕事関数φ以上のエネルギーをもって上部電極表面に達したものが真空中に放出される。
【特許文献１】特開２００４−３６３０７５号公報
【特許文献２】特開平１０−３０２６７７号公報
【特許文献３】特開２００２−１５７９５９号公報
【特許文献４】特開２０００−３１１６３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
前記特許文献１に開示されたような構成の画像表示装置では、前面基板の蛍光体層に、背面基板側に配置された電子源から発射された電子ビームを加速して射突させ、励起することで当該蛍光体層の発光特性に応じた色光で発色する構成となっている。
このような構成において、前記両基板間に強電界が印加されるため、前記スペーサと基板間等での放電の発生及びスペーサの帯電に伴う電子軌道の曲がりの発生等により、色純度の低下及び輝度低下を招く等表示品位を損なう問題があった。
【００１１】
この問題解決の一つの手段として、前記特許文献２ではスペーサの基材表面全面を酸化物サーメット膜で被覆する発明が開示されている。又、特許文献３では前記特許文献２の酸化物サーメット膜等の被膜の形成方法の発明が開示されている。更に、特許文献４ではスペーサの固定構造の発明が開示されている。
【００１２】
本発明の目的は、混色及び放電の発生を防止し、色純度の確保と高輝度化を可能とし、表示品位の優れた信頼性の高い長寿命の平面型画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため本発明は、第１の方向に延在してこの第１の方向と交差する第２の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第２の方向に延在して前記第１の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、この背面基板と対向する内表面に複数のＢＭ窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のＢＭ窓部を覆って前記前面基板の前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、前記スペーサは、このスペーサ側面に多数の独立した細点状突起を備えた構成とした。
【００１４】
又、本発明は、第１の方向に延在してこの第１の方向と交差する第２の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第２の方向に延在して前記第１の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、この背面基板と対向する内表面に複数のＢＭ窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のＢＭ窓部を覆って前記前面基板の前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、前記スペーサは、このスペーサ端面を多層の導電膜及び接合部材を介して前記基板と接合した構成とした。
これらの構成とした平面型画像表示装置に、画像信号駆動回路、走査信号駆動回路、その他の周辺回路を組み込んで自発光平面表示装置を構成する。
【発明の効果】
【００１５】
放電及び混色の発生を防止し、色純度の確保と高輝度化を可能とし、表示品位の優れた信頼性の高い長寿命の平面型画像表示装置を得ることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００１７】
図１乃至図４は本発明の平面型画像表示装置の一実施例を説明するための図で、図１（ａ）は前面基板側から見た模式平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の模式側面図、図２は図１（ｂ）のＡ−Ａ線に沿った模式平面図、図３は図２のＢ−Ｂ線に沿った背面基板の模式断面図とその背面基板と対応する部分の前面基板の模式断面図、図４は図２の一部の模式側面図及び模式拡大図である。
【００１８】
図１乃至図４において、参照符号１は背面基板、２は前面基板、３は枠体、４は排気管、５は封着部材、６は表示領域を含む真空領域、７は貫通孔、８は映像信号配線、９は走査信号配線、１０は電子源、１１は接続配線、１２はスペーサ、１３は接着部材、１４は層間絶縁膜、１５は蛍光体層、１６は遮光用のＢＭ（ブラックマトリクス）膜、１７は金属薄膜からなるメタルバック（陽極電極）である。
【００１９】
参照符号１で示す背面基板と前面基板２は略矩形状を呈し、厚さ数ｍｍ、例えば１〜１０ｍｍ程度のガラス板からそれぞれ構成されている。
３は枠状を呈する枠体で、この枠体３は例えばフリットガラスの燒結体或いはガラス板等から構成され、単体で若しくは複数部材の組み合わせで略矩形状とされ、前記両基板１、２間に介挿されている。
この枠体３は、前記両基板１、２間の周縁部に介挿され、両端面が両基板１、２と気密接合されている。この枠体３の厚さは数ｍｍ〜数十ｍｍ、その高さは両基板１、２間の前記間隔に略等しい寸法に設定されている。
４は排気管で、この排気管４は前記背面基板１に固着されている。
５は封着部材で、この封着部材５は例えば低融点フリットガラス、例えばＰｂＯ：７５〜８０ｗｔ％、Ｂ２  Ｏ３  ：約１０ｗｔ％、その他：１０〜１５ｗｔ％等の組成からなり、かつ非晶質タイプのフリットガラスを含むガラス材料からなるもの等が知られており、前記枠体３と両基板１、２間を接合して気密封着している。
【００２０】
前記枠体３と両基板１、２及び封着部材５で囲まれた表示領域を含む真空領域６は前記排気管４を介して排気され、例えば１０-5〜１０-7Ｔｏｒｒの真空度を保持している。又、前記排気管４は前述のように前記背面基板１の外表面に取り付けられ、この背面基板１を貫通して穿設された貫通孔７に連通しており、排気完了後前記排気管４は封止される。
【００２１】
参照符号８はストライプ状の映像信号配線で、この映像信号配線８は例えばアルミニウム（Ａｌ）膜、アルミニウムとネオジムの合金（Ａｌ−Ｎｄ）膜等からなり、前記背面基板１の内面に第１の方向（Ｙ方向）に延在し第２の方向（Ｘ方向）に並設されている。
この映像信号配線８の上面には後述する電子源に対応する位置にそれぞれトンネル絶縁膜８２を備え、残部は図示しないフィールド絶縁膜で覆われている。又、この映像信号配線８は真空領域６から枠体３と背面基板１との接合領域を気密に貫通し、背面基板１の長辺側の端部まで延在し、その先端部を映像信号配線引出端子８１としている。
【００２２】
参照符号９はストライプ状の走査信号配線で、この走査信号配線９は前記映像信号配線８上でこれと交差する前記第２の方向（Ｘ方向）に延在し前記第１の方向（Ｙ方向）に並設されている。この走査信号配線９はアルミニウム膜或はアルミニウムを主成分とするアルミニウム合金膜等から構成されている。又、この走査信号配線９は真空領域６から枠体３と背面基板１との接合領域を気密に貫通し、背面基板１の短辺側の端部まで延在し、その先端部を走査信号配線引出端子９１としている。
【００２３】
又、前記映像信号配線８と、前記走査信号配線９間には層間絶縁膜１４が配置されている。この層間絶縁膜１４としては、例えばシリコン酸化物やシリコン窒化物、シリコンなどを用いることができる。この層間絶縁膜１４は、前記映像信号配線８表面に陽極酸化で形成するフィールド絶縁膜にピンホールがあった場合、その欠陥を埋め、映像信号配線８と走査信号配線９間の絶縁を保つ役割を果たす。
【００２４】
次に、参照符号１０は電子源で、この電子源１０は例えば特許文献１に開示された電子源の一種のＭＩＭ型電子源で、この電子源１０は前記走査信号配線９と映像信号配線８の交差部近傍で、前記映像信号配線８の前記トンネル絶縁膜８２に設けられている。この電子源１０は前記走査信号配線９と接続配線１１で接続されている。
【００２５】
次に、参照符号１２はスペーサで、このスペーサ１２は略長方形の薄板形状に整形されたスペーサ基体１２１と、このスペーサ基体１２１の側面に配置されたそれぞれ独立した多数の細点状突起１２２との組み合わせから構成され、スペーサ１２の表面は多数の凹凸が形成された構成となっている。
【００２６】
この様な構成で、前記それぞれ独立した多数の細点状突起１２２の被覆総面積は、被着される前記スペーサ基体１２１の側面面積の３０％〜７０％が望ましい。
この比率が３０％未満では電子ビームのエミッション電流依存性が残存して電子軌道の曲がりの発生が見られ、一方７０％を超えると熱暴走によるスペーサ基体１２１の損傷の恐れがある。４０％〜５０％が最も好ましい。
又、前記細点状突起１２２の高さＨは０．５μｍ〜３μｍが望ましい。
この高さＨが０．５μｍ未満ではホッピング伝導抑制効果を期待できない恐れがあり、又３μｍを超えると剥離の恐れがある。１μｍ〜２μｍが最も好ましい。
【００２７】
このような構成において、前記スペーサ基体１２１は例えばガラス材料、例えばＷＯ3：３０ｗｔ％、Ｖ2Ｏ5：１５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5：３０ｗｔ％、ＢａＯ：１５ｗｔ％、ＭｏＯ3：１０ｗｔ％の組成からなり体積抵抗率が１０8Ω・ｃｍ〜１０10Ω・ｃｍのガラス材料から構成されている。
一方、前記細点状突起１２２は前記スペーサ基体１２１と同様にガラス材から構成されるが、その組成は例えばＶ2Ｏ5：５５ｗｔ％、Ｐ2Ｏ5：２０ｗｔ％、ＢａＯ：５ｗｔ％、Ｓｂ2Ｏ3：２０ｗｔ％の基本組成を有し、これに更にＹ2Ｏ3とＺｎＯを加え、その比率を基本組成：５０ｗｔ％、Ｙ2Ｏ3：３３ｗｔ％、ＺｎＯ：１７ｗｔ％とし、前記体積抵抗率が１０2Ω・ｃｍ〜１０7Ω・ｃｍのガラス材料からなっている。
【００２８】
又、前述のような構成からなる前記細点状突起１２２は前記スペーサ基体１２１に比べ二次電子放出係数が約２０％程度低くなっている。
前記細点状突起１２２は吹き付け、印刷等により形成できる。又、各細点状突起１２２の面積及び高さは略均一が望ましい。
【００２９】
前述の様な構成からなるスペーサ１２は、前記枠体３と略平行で走査信号配線９上に１本おきに直立配置され、接着部材１３で両基板１、２と接着固定している。
このスペーサ１２の基板との接着固定は一端側のみでも良く、更にその配置は通常、複数の画素毎に画素の動作を妨げない位置に設置される。
【００３０】
このスペーサ１２の寸法は基板寸法、枠体３の高さ、基板素材、スペーサの配置間隔、スペーサ素材等により設定されるが、一般的には高さは前述した枠体３と略同一寸法、厚さは数十μｍ〜数ｍｍ以下、長さは２０ｍｍ乃至１０００ｍｍ程度、更にはそれ以上の長尺も可能であるが、好ましくは８０ｍｍ乃至３００ｍｍ程度が実用的な値となる。
【００３１】
一方、前記スペーサ１２の一端側が固定された前面基板２の内面には、赤色、緑色、青色用の蛍光体層１５が遮光用のＢＭ（ブラックマトリクス）膜１６で区画されたＢＭ窓部１６１に配置され、これらを覆うように金属薄膜からなるメタルバック（陽極電極）１７が例えば蒸着方法で設けられて、蛍光面を形成している。
このメタルバック１７は前面基板２と反対側、つまり背面基板１側への発光を前面基板２側へ向け反射させ、発光の取り出し効率を上げる為の光反射膜であると共に蛍光体粒子の表面の帯電を防ぐ機能も合わせ持っている。
又、このメタルバック１７は面電極として示してあるが、走査信号配線９と交差して画素列ごとに分割されたストライプ状電極とすることもできる。
【００３２】
前記蛍光体としては、例えば赤色用としてＹ2Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕを、又、緑色用としてＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｔｂ、更に、青色用としてＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ等を用いることができる。この蛍光体層１５は蛍光体粒子の平均粒径は例えば４μｍ〜９μｍ、膜厚は例えば１０μｍ〜２０μｍ程度となっている。
【００３３】
この蛍光面構成を更に詳細に説明すると、前面基板２の内面にブラックマトリクス膜１６が複数のＢＭ窓部１６１を備えて被着形成されている。
このブラックマトリクス膜１６のＢＭ窓部１６１は、前記映像信号配線８の延在方向に長辺、前記走査信号配線９の延在方向に短辺を持つ略矩形状に形成されており、この矩形状を呈するＢＭ窓部１６１の中心点を重心とし、この重心位置を前記走査信号配線９の延在方向に揃えて順次配置されている。
このブラックマトリクス膜１６のＢＭ窓部１６１を塞ぎ、かつ背面の一部まで延在して蛍光体層１５がそれぞれ前記所定のＢＭ窓部に配置されている。
このＢＭ窓部１６１と、これに対向して背面基板１側に配置された前記電子源１０との相対位置は、電子源重心位置を前記ＢＭ窓部１６１の重心位置に合致させた配置としている。
【００３４】
この実施例１の構成では、スペーサ１２がスペーサ基体１２１の側面にそれぞれ独立した多数の細点状突起１２２を配置して表面に凹凸を形成したことにより、表面の凹凸処理を行うとホッピング伝導を抑制する効果があることから、凹凸処理を行っていないスペーサに比べ帯電量が小さく、電子ビーム偏向量も小さく出来る。
更に、これに加えてスペーサ表面の平滑部と凸部における二次電子放出係数δが平滑部＞凸部の関係で約２０％程度凸部が低くなることから、エミッション電流による電子ビーム偏向への依存性を抑えることが可能となる。
【００３５】
ここで、この実施例１ではスペーサ基体１２１と細点状突起１２２とを異なる特性を持つガラス材料で構成したが、スペーサ基体１２１と細点状突起１２２の二次電子放出係数δが略同一材料でも凹凸効果によるホッピング伝導抑制効果は期待できる。この場合、二次電子放出係数δが小さいことが望ましい。
【実施例２】
【００３６】
図５は本発明の画像表示装置の他の実施例を説明する図３に対応する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。
図５において、スペーサ１２はスペーサ基体１２１の外面と細点状突起１２２を覆う帯電防止膜１２３を備え、この帯電防止膜１２３は上記独立した多数の細点状突起１２２による表面の凹凸形状に沿った構成である。その他の構成は実施例１と略同一である。
このような構成で、前記帯電防止膜１２３は例えば酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）と酸化ガリウム（Ｇａ2Ｏ3）の混合材料から形成され、その被覆厚さは５０ｎｍ程度となっている。
【００３７】
この実施例２の構成では、実施例１の構成に加えて帯電防止膜１２３を配置したことにより、スペーサの帯電量を更に小さく出来る。
【実施例３】
【００３８】
図６は本発明の画像表示装置の更に他の実施例を説明する図３に対応する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。
図６において、スペーサ１２は両基板１、２との接合部に多層、この例では２層の導電膜２３を配置し、この多層導電膜２３を接合部材１３と接合する構成として両基板１，２と接合固定する構成としたものである。
この多層導電膜２３は、スペーサ基体１２１の端面に接して例えば膜厚１００ｎｍのＣｒ（クロム）膜２３１を配置し、その上側を例えば膜厚２００ｎｍのＡｌ（アルミニウム）膜で覆う構成としたものである。これら各膜は例えばスパッタリングにより成膜することが出来る。
【００３９】
この実施例３の構成では、前述のようにＣｒ膜をＡｌ膜で覆う構成とした。
一方、スペーサを使用するこの種の画像表示装置では、スペーサと両基板との接着、接続状態を安定にし、スペーサ近傍での電子ビーム偏向量の低減を図る目的でスペーサの端面と接合部材間に単層Ｃｒ膜を配置することが提案されている。
Ｃｒ膜はパネル製造工程中における加熱プロセスにて表面酸化皮膜を形成し膜ムラが生じてしまう。これによりＣｒ膜の抵抗も増大し、１枚のスペーサ内での抵抗均一性が無くなり、電子ビーム偏向にも影響を与える問題がある。
この実施例３では前述のようにＣｒ膜をＡｌ膜で覆うことでＣｒ膜の酸化を防ぎ、抵抗の均一性を図っている。具体例として前述した各膜厚で単層Ｃｒ膜と実施例の２層膜とをそれぞれ４６０℃、３０分間加熱後の抵抗値変化を確認した結果、単層Ｃｒ膜では抵抗値の変動幅が３倍を超える大きなばらつきを示したのに対し、実施例の構成では抵抗値のばらつきは発生せず安定した性状を保持出来た。
ここで、実施例３ではスペーサの両端共に多層膜を配置したが、電位勾配を考慮して背面基板１側を省略することも可能で、この構成ではスペーサ近傍での電子ビーム偏向量低減にも効果を奏するが、スペーサ接続に起因する電界集中が防止でき、ストレーエミッション発生を抑制することが可能となる。
【実施例４】
【００４０】
図７は本発明の画像表示装置の更に他の実施例を説明する図３に対応する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。
図７において、スペーサ１２はスペーサ基体１２１とこのスペーサ基体１２１の側面に配置されたそれぞれ独立した多数の細点状突起１２２との組み合わせから構成され、更に、このスペーサ１２は両基板１、２との接合部に多層、この例では２層の導電膜２３を配置し、この多層導電膜２３を接合部材１３と接合する構成として両基板１，２と接合固定する構成としたものである。その他の構成は実施例１、３と略同一である。
【００４１】
図８は、本発明の構成を適用した平面型画像表示装置の等価回路例の説明図である。図８中に破線で示した領域は表示領域を含む真空領域６であり、この真空領域６にｎ本の映像信号配線８とｍ本の走査信号配線９が互いに交差して配置されてｎ×ｍのマトリクスが形成されている。マトリクスの各交差部は副画素を構成し、図中の３つの単位画素（あるいは、副画素）"Ｒ"，"Ｇ"，"Ｂ"の１グループでカラー１画素を構成する。なお、電子源の構成は図示を省いた。映像信号配線８は、映像信号配線引出端子８１で映像信号駆動回路ＤＤＲに接続され、走査信号配線９は走査信号配線引出端子９１で走査信号駆動回路ＳＤＲに接続されている。映像信号駆動回路ＤＤＲには外部信号源から映像信号ＮＳが入力され、走査信号駆動回路ＳＤＲには同様に走査信号ＳＳが入力される。
【００４２】
これにより、順次選択される走査信号配線９に交差する映像信号配線８に映像信号を供給することで、二次元のフルカラー画像を表示することができる。
【００４３】
以上の実施例では、電子源にＭＩＭ型を用いた構造を例としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、前記した各種の電子源を用いた自発光型ＦＰＤに対しても同様に適用できるものである。
又、細点状突起の平面形状を円形としたが、他の形状でも同様に適用できるものである。
更に、多層導電膜もＣｒ、Ａｌに限定されないことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の平面型画像表示装置の一実施例を説明するための図で、図１（ａ）は前      面基板側から見た模式平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の模式側面図である。
【図２】図１（ｂ）のＡ―Ａ線に沿った模式平面図である。
【図３】図２のＢ−Ｂ線に沿った背面基板の模式断面図とその背面基板と対応する部分の      前面基板の模式断面図である。
【図４】図２の一部の模式側面図及び模式拡大図である。
【図５】本発明の平面型画像表示装置の他の実施例の図３に対応する模式断面図である。
【図６】本発明の平面型画像表示装置の更に他の実施例の図３に対応する模式断面図であ      る。
【図７】本発明の平面型画像表示装置の更に他の実施例の図３に対応する模式断面図であ      る。
【図８】本発明の構成を適用した平面型画像表示装置の等価回路例の説明図である。
【符号の説明】
【００４５】
１・・・背面基板、２・・・前面基板、３・・・枠体、４・・・排気管、５・・・封着部材、６・・・表示領域を含む真空領域、７・・・貫通孔、８・・・映像信号配線、８２・・・トンネル絶縁層、９・・・走査信号配線、１０・・・電子源、１１・・・接続配線、１２・・・スペーサ、１２１・・・スペーサ基体、１２２・・・細点状突起、１２３・・・帯電防止膜、１３・・・接着部材、１４・・・層間絶縁膜、１５・・・蛍光体層、１６・・・遮光用のＢＭ（ブラックマトリクス）膜、１７・・・金属薄膜からなるメタルバック（陽極電極）、２３・・・多層導電膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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