(57)【要約】【課題】  金属箔の表面にフッ化物、酸化物からなる膜の発生を防止し、活物質層と金属箔との間に生じる抵抗を低くした非水電解質電池用電極箔の製造方法を提供する。【解決手段】  金属箔30と、金属箔の箔表面31,32上に配置され、アモルファスカーボン膜41にグラファイト構造を有するカーボン粒子部42が散点状に分散して配置された被覆層40と、を備える非水電解質電池用電極箔20の製造方法は、表面及び内部に多数の空孔BHを分散して含むポーラスカーボンからなるターゲット110を用いて、スパッタ法により、金属箔の箔表面上に、アモルファスカーボン膜を成長させると共にカーボン粒子部を分散して配置して、被覆層を形成する被覆層形成工程を備える。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属箔と、
上記金属箔の箔表面上に配置され、アモルファスカーボン膜にグラファイト構造を有する粒子状のカーボン粒子部が散点状に分散して配置された被覆層と、を備える
非水電解質電池用電極箔の製造方法であって、
表面及び内部に多数の空孔を分散して含むとともに、グラファイト構造を有するポーラスカーボンからなるターゲットを用いて、スパッタ法により、上記金属箔の上記箔表面上に、上記アモルファスカーボン膜を成長させると共に上記カーボン粒子部を分散して配置して、上記被覆層を形成する被覆層形成工程を備える
非水電解質電池用電極箔の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の非水電解質電池用電極箔の製造方法であって、
前記カーボン粒子部は、黒鉛からなる黒鉛粒子部であり、
前記被覆層形成工程では、
前記ポーラスカーボンに、黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いる
非水電解質電池用電極箔の製造方法。
【請求項３】
金属箔と、上記金属箔の箔表面上に配置され、アモルファスカーボン膜にグラファイト構造を有する粒子状のカーボン粒子部が散点状に分散して配置された被覆層と、を有する非水電解質電池用電極箔、及び、
活物質を含み、上記被覆層上に担持されてなる活物質層、を備える
非水電解質電池用電極体の製造方法であって、
表面及び内部に多数の空孔を分散して含むとともに、グラファイト構造を有するポーラスカーボンからなるターゲットを用いて、スパッタ法により、上記金属箔の上記箔表面上に、上記アモルファスカーボン膜を成長させると共に上記カーボン粒子部を分散して配置して、上記被覆層を形成する被覆層形成工程と、
上記被覆層上に、上記活物質層を担持させる担持工程と、を備える
非水電解質電池用電極体の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の非水電解質電池用電極体の製造方法であって、
前記カーボン粒子部は、黒鉛からなる黒鉛粒子部であり、
前記被覆層形成工程では、
前記ポーラスカーボンに、黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いる
非水電解質電池用電極体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非水電解質電池用電極箔の製造方法、及び、この電極箔を用いた非水電解質電池用電極体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話、ノート型パソコン、ビデオカムコーダなどのポータブル電子機器やハイブリッド電気自動車等の車両の普及により、これらの駆動用電源に用いられる電池の需要は増大している。このような電池として、エネルギ密度の高い非水電解質電池が挙げられる。この非水電解質電池は、非水電解液を含浸させた状態のセパレータを介して正極及び負極を積層または捲回した発電要素を電池ケース内に収容した構造である。
【０００３】
ところで、この非水電解質電池の製造時や充放電時には、正極のまたは負極を構成している電極箔（例えば、アルミニウム箔や銅箔）と非水電解液とが反応して、例えば、フッ化物、酸化物等の膜が電極箔の表面上に生じてしまう。すると、電極箔とこの表面に配置した活物質層との間の抵抗が増大するため、この非水電解質電池の内部抵抗が増大してしまう虞がある。
そこで、例えば、特許文献１では、集電体（金属箔）の表面に導電助剤及び活物質を含む組成物層を配置した非水電解質電池用集電体（金属箔）が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２８６３４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の非水電解質電池用集電体（金属箔）では、導電助剤によって金属箔と組成物層との間の抵抗を低減させることができるが、この導電助剤は活物質と共に金属箔上に配置されているため、金属箔に非水電解液が接触することを防止できるわけではない。このため、非水電解液によって、フッ化物、酸化物等の膜が金属箔に発生する虞がある。このようにして発生した膜が金属箔と組成物層との間の導通における抵抗体となるため、両者間の導電性を低下させてしまう可能性がある。
【０００６】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであって、金属箔の表面にフッ化物、酸化物からなる膜の発生を防止し、活物質層と金属箔との間に生じる抵抗を低くした非水電解質電池用電極箔の製造方法を提供することを目的とする。また、このような電極箔を用いた非水電解質電池用電極体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そして、その解決手段は、金属箔と、上記金属箔の箔表面上に配置され、アモルファスカーボン膜にグラファイト構造を有する粒子状のカーボン粒子部が散点状に分散して配置された被覆層と、を備える非水電解質電池用電極箔の製造方法であって、表面及び内部に多数の空孔を分散して含むとともに、グラファイト構造を有するポーラスカーボンからなるターゲットを用いて、スパッタ法により、上記金属箔の上記箔表面上に、上記アモルファスカーボン膜を成長させると共に上記カーボン粒子部を分散して配置して、上記被覆層を形成する被覆層形成工程を備える非水電解質電池用電極箔の製造方法である。
【０００８】
本発明の非水電解質電池用電極箔の製造方法では、ポーラスカーボンからなるターゲットを用い、スパッタ法により、被覆層を形成する被覆層形成工程を備える。ターゲットであるポーラスカーボンに電圧を印加すると、このポーラスカーボンの周囲に形成される電界が、表面に開口する空孔の周囲で集中して、例えば、アルゴンイオン等のイオンが空孔の周囲のカーボンに衝突しやすい。すると、ターゲットから、炭素原子が放出されるほか、グラファイトの結晶状態を維持したカーボン粒子のドロップレットが多数放出され、これらが金属箔の箔表面上に堆積する。かくして、金属箔上には、炭素原子が堆積して成長したアモルファスカーボン膜のほか、カーボン粒子部が散点状に分散して配置された被覆層が形成される。
【０００９】
この被覆層のうち、アモルファスカーボン膜は、金属箔の箔表面が酸化したり、腐食したりするのを抑制する耐食膜として機能する。また、カーボン粒子部はグラファイト構造を有するカーボンからなるため、アモルファスカーボン膜に比して導電性が高く、被覆層の導電性を向上させることができる。かくして、金属箔の表面に酸化物あるいはフッ化物などの膜が生じるのを防止して、活物質層と金属箔との間に生じる抵抗の増大を抑制し、逆に両者間の導通をカーボン粒子部により良好とした非水電解質電池用電極箔を製造することができる。
【００１０】
なお、アモルファスカーボン膜とは、ｓｐ２混成軌道をなして結合する炭素と、ｓｐ３混成軌道をなして結合する炭素とが混在した、非晶質の炭素皮膜をいう。
また、スパッタ法としては、例えば、二極スパッタ法、三極（又は四極）スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、高周波スパッタ法、バイアススパッタ法が挙げられる。
【００１１】
また、ポーラスカーボンとしては、例えば、粒径１〜５ｍｍ程度の炭素粒子とスチレン粒子とを、炭素粒子：スチレン粒子＝２：１の体積比で混合した後に焼成して、グラファイト構造の結晶構造を有する部分が分散して形成されたものが挙げられる。
【００１２】
さらに、上述の非水電解質電池用電極箔の製造方法であって、前記カーボン粒子部は、黒鉛からなる黒鉛粒子部であり、前記被覆層形成工程では、前記ポーラスカーボンに、黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いる非水電解質電池用電極箔の製造方法とすると良い。
【００１３】
本発明の非水電解質電池用電極箔の製造方法では、ポーラスカーボンに黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いるので、金属箔上には、ポーラス黒鉛から多数放出された黒鉛粒子のドロップレットが堆積して、黒鉛粒子部が散点状に分散された被覆層が形成される。前述のカーボン粒子部の中でも黒鉛からなる黒鉛粒子部は、導電性が良好であるため、被覆層の導電性を確実に向上させることができる。
【００１４】
なお、ポーラス黒鉛としては、例えば、粒径１〜５ｍｍ程度の炭素粒子とスチレン粒子とを、炭素粒子：スチレン粒子＝２：１の体積比で混合した後に、２０００〜２５００℃の焼成温度で焼成した、多数の空孔を含む黒鉛が挙げられる。
【００１５】
さらに、他の解決手段は、金属箔と、上記金属箔の箔表面上に配置され、アモルファスカーボン膜にグラファイト構造を有する粒子状のカーボン粒子部が散点状に分散して配置された被覆層と、を有する非水電解質電池用電極箔、及び、活物質を含み、上記被覆層上に担持されてなる活物質層、を備える非水電解質電池用電極体の製造方法であって、表面及び内部に多数の空孔を分散して含むとともに、グラファイト構造を有するポーラスカーボンからなるターゲットを用いて、スパッタ法により、上記金属箔の上記箔表面上に、上記アモルファスカーボン膜を成長させると共に上記カーボン粒子部を分散して配置して、上記被覆層を形成する被覆層形成工程と、上記被覆層上に、上記活物質層を担持させる担持工程と、を備える非水電解質電池用電極体の製造方法である。
【００１６】
本発明の非水電解質電池用電極体の製造方法は、被覆層形成工程と担持工程とを備える。このうち、被覆層形成工程では、金属箔上に、炭素原子が堆積して成長したアモルファスカーボン膜のほか、グラファイト構造を有するカーボン粒子部が散点状に分散して配置された被覆層を形成する。このため、電極箔と担持工程で担持させた活物質層との間に生じる抵抗が低く、導通が良好となる。従って、この非水電解質電池用電極体を用いることで、内部抵抗の低い非水電解質電池を製造することができる。
【００１７】
さらに、上述の水電解質電池用電極体の製造方法であって、前記カーボン粒子部は、黒鉛からなる黒鉛粒子部であり、前記被覆層形成工程では、前記ポーラスカーボンに、黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いる水電解質電池用電極体の製造方法とすると良い。
【００１８】
本発明の水電解質電池用電極体の製造方法では、ポーラスカーボンに黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いるので、金属箔上には、ポーラス黒鉛から多数放出された黒鉛粒子のドロップレットが堆積して、黒鉛粒子部が散点状に分散された被覆層が形成される。前述のカーボン粒子部の中でも黒鉛からなる黒鉛粒子部は、導電性が良好であるため、被覆層の導電性を確実に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
（実施形態）
次に、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
まず、本実施形態にかかる正電極板１０について説明する。図１に正電極板１０の斜視図を、図２に正電極板１０の部分拡大断面図（図１中、Ａ部）を示す。
本実施形態にかかる正電極板１０は、非水電解液を有するリチウムイオン二次電池（図示しない）に用いられる。
【００２０】
この正電極板１０は、図１に示すように、長手方向ＤＡに延びた長尺帯板状であり、積層方向ＤＬに見て、正電極箔２０の両面に、第１正極活物質層５１及び第２正極活物質層５２が積層配置されている。詳細には、第１正極活物質層５１及び第２正極活物質層５２が、正電極箔２０の第１電極箔主面２１及び第２電極箔主面２２上に配置されている。
【００２１】
このうち、第１正極活物質層５１および第２正極活物質層５２はいずれも、ＬｉＮｉＯ2からなる正極活物質Ｘ、アセチレンブラック（ＡＢ、図示しない）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、図示しない）およびカルボキシルメチルセルロース（ＣＭＣ、図示しない）を含む。なお、正極活物質層５１，５２内における、これらの重量比は、正極活物質Ｘ：ＡＢ：ＰＴＦＥ：ＣＭＣ＝１００：１０：３：１とした。
【００２２】
また、正電極箔２０は、図３に示すように、長手方向ＤＡに延びた長尺帯板状であり、厚み方向（積層方向ＤＬ）に見て、アルミニウムからなる箔本体３０の両面に、それぞれ箔本体３０を被覆してなる被覆層４０が積層されている。詳細には、この被覆層４０が、箔本体３０の第１箔表面３１及び第２箔表面３２上にそれぞれ配置されている。
【００２３】
このうち被覆層４０は、箔表面３１，３２を被覆してなるアモルファスカーボン膜４１と、このアモルファスカーボン膜４１に散点状に分散する黒鉛からなる粒子状の黒鉛粒子部４２とからなる（図４参照）。このうちアモルファスカーボン膜４１は、箔本体３０の箔表面３１，３２が酸化したり、腐食したりするのを抑制する耐食膜として機能する。即ち、この正電極箔２０が、例えば、リチウムイオン二次電池に用いる電解液に触れても、アモルファスカーボン膜４１が箔本体３０の箔表面３１，３２を覆うため、これら箔表面３１，３２上に酸化物やフッ化物等の膜が形成されるのを防止できる。
【００２４】
但し、アモルファスカーボン膜４１は、非晶質の炭素皮膜であり、例えば、同素体の黒鉛よりも導電性が低いことが多い。そこで、本実施形態では、黒鉛からなる多数の黒鉛粒子部４２をアモルファスカーボン膜４１に分散させて、被覆層４０の導電性を確実に向上させている。即ち、被覆層４０を介する箔本体３０と正極活物質層５１，５２との間の導電性が高くされている。
【００２５】
本実施形態の正電極板１０は、図２に示すように、上述の被覆層４０を第１正極活物質層５１と第１電極箔主面２１との間、及び、第２正極活物質層５２と第２電極箔主面２２との間にそれぞれ有する。従って、正電極箔２０と正極活物質層５１，５２との間に生じる抵抗が低い。
かくして、この正電極板１０をリチウムイオン二次電池に用いれば、この二次電池を内部抵抗の低い二次電池とすることができる。
【００２６】
次に、本実施形態にかかる正電極板１０の製造方法について、図面を参照しつつ説明する。
まず図５（ａ）に、正電極板１０の製造方法のうち、正電極箔２０の被覆層形成工程を担う二極スパッタ装置１００の概略図を示す。この二極スパッタ装置１００は、真空容器１２０内に、箔本体３０の巻出し部１０１、巻取り部１０２、ターゲット１１０、陽極端子１３１、陰極端子１３２、電源装置１５０、複数の補助ローラ１４０、及び導通補助ローラ１４０Ｎを備えている。
【００２７】
このうち、真空容器１２０は、図示しない真空排気ポンプにより容器内を真空に排気することができる。その後、この真空容器１２０内にはアルゴンガスを少量充填する。
また、箔本体３０は、真空装置１２０内で巻出し部１０１から巻き出され、複数の補助ローラ１４０及び導通補助ローラ１４０Ｎにより長手方向ＤＡに移動し、巻取り部１０２で巻き取られる。このうち、導通補助ローラ１４０Ｎは金属からなり、箔本体３０と導通可能とされている（図５参照）。この導通補助ローラ１４０Ｎには、電源装置１５０の正極端子１３１が電気的に接続してあるため、電源装置１５０を用いて電圧を印加すれば、箔本体３０全体が正電位となる。
【００２８】
また、ターゲット１１０は、表面及び内部に多数の空孔ＢＨを分散して含むポーラス黒鉛からなる。このポーラス黒鉛は、粒径１〜５ｍｍ程度の炭素粒子とスチレン粒子とを、炭素粒子：スチレン粒子＝２：１の体積比で混合した後、２０００〜２５００℃の焼成温度で焼成してできたものである。
このようなポーラス黒鉛をターゲット１１０に用いて、陰極端子１３２に接続して、電源装置１５０で電圧印加すれば、ターゲット１１０の表面に開口する空孔ＢＨの周縁において電界が集中して、アルゴンイオンが空孔ＢＨの周囲の黒鉛に衝突しやすく、ターゲット１１０から、炭素原子ＣＡのほか、黒鉛の結晶状態を維持した黒鉛粒子のドロップレットＣＤが多数放出される。
【００２９】
本実施形態の二極スパッタ装置１００において、電源装置１５０を用いて電圧を印加する。すると、箔本体３０は正電荷に、ターゲット１１０は負電荷にそれぞれ帯電し、箔本体３０の第１箔表面３１（あるいは第２箔表面３２）上には、上述の炭素原子ＣＡ及びドロップレットＣＤが堆積して、被覆層４０が形成される。この被覆層４０では、ドロップレットＣＤがそのまま黒鉛粒子部４２となる。
【００３０】
箔本体３０の第１箔表面３１（あるいは第２箔表面３２）に被覆層４０が形成された後、箔本体３０の第２箔表面３２にも同様に被覆層４０を形成する。かくして、箔本体３０の両箔表面３１，３２に被覆層４０を積層配置した、正電極箔２０が作製される。
【００３１】
次いで、この正電極板１０の製造方法のうち、塗工装置２００を用いた担持工程について説明する。
この塗工装置２００は、図６に示すように、巻出し部２０１、ダイ２１０、乾燥炉２２０、巻取り部２０２、及び複数の補助ローラ２４０を備えている。
このうち、ダイ２１０は、活物質ペーストＡＰを内部に保持してなる金属製のペースト保持部２１１と、このペースト保持部２１１に保持した活物質ペーストＡＰを正電極箔２０の第１電極箔主面２１あるいは第２電極箔主面２２に向かって活物質ペーストＡＰを連続的に吐出する吐出口２１２とを有する。
この吐出口２１２はスリット状で、長手方向ＤＡに移動する正電極箔２０の箔主面（第１電極箔主面２１あるいは第２電極箔主面２２）上に、帯状に活物質ペーストＡＰを吐出するよう、正電極箔２０の幅方向（図６中、奥行き方向）に平行に開口している。
【００３２】
なお、ダイ２１０が保持する活物質ペーストＡＰは、ＬｉＮｉＯ2からなる正極活物質Ｘのほか、アセチレンブラック（ＡＢ、図示しない）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、図示しない）およびカルボキシルメチルセルロース（ＣＭＣ、図示しない）をイオン交換水ＡＱに分散させて混練してなる流動体である。また、この活物質ペーストＡＰに含まれる、正極活物質Ｘ、ＡＢ、ＰＴＦＥおよびＣＭＣの重量比は、前述の通り、正極活物質Ｘ：ＡＢ：ＰＴＦＥ：ＣＭＣ＝１００：１０：３：１である。
【００３３】
また、乾燥炉２２０では、正電極箔２０に塗布された活物質ペーストＡＰに向けて、熱風を送る。これにより、正電極箔２０に塗布された活物質ペーストＡＰは、この乾燥炉２２０内を移動している間に、徐々に乾燥が進み、乾燥炉２２０を通過時には、活物質ペーストＡＰは全乾燥、すなわち、活物質ペーストＡＰ内の水分（イオン交換水ＡＱ）は全て蒸発する。
また、帯状の正電極箔２０は、複数の補助ローラ２４０により、その長手方向ＤＡに移動する。
【００３４】
この塗工装置２００では、まず、巻出し部２０１に捲回した帯状の正電極箔２０を長手方向ＤＡに移動させ、その正電極箔２０の第１電極箔主面２１に、ダイ２１０により活物質ペーストＡＰを塗布する。その後は、乾燥炉２２０で正電極箔２０と共に活物質ペーストＡＰを乾燥させて、第１電極箔主面２１に未圧縮活物質層（図示しない）を担持させた片面担持電極箔２０Ｋを、巻取り部２０２に一旦巻き取る。
【００３５】
次に、この塗工装置２００を再度用いて、上述の片面担持電極箔２０Ｋにおいて、正電極箔２０の第２電極箔主面２２にも活物質ペーストＡＰを塗布する。そして、この活物質ペーストＡＰを乾燥炉２２０で全乾燥させる。かくして、正電極箔２０の両電極箔主面２１，２２に未圧縮正極活物質層（図示しない）を積層配置した、プレス前の正電極板１０Ｂが作製される。
【００３６】
次いで、図７に、正電極板１０の製造方法の担持工程のうち、プレス装置３００を用いたプレス切断工程を示す。
プレス装置３００は、巻出し部３０１、プレスローラ３１０、巻取り部３０２、切断刃３３０および複数の補助ローラ３２０を備えている。そして、このプレス装置３００では、巻出し部３０１から上述のプレス前正電極板１０Ｂを、２つのプレスローラ３１０の間に通すことで、厚み方向に圧縮された上述の正電極板１０を得ることができる。その後、切断刃３３０で中央を切断して２つに分けた後、２つの巻取り部３０２で正電極板１０を巻き取る。かくして、正電極板１０の製造ができた（図１，２参照）。
【００３７】
上述した正電極箔２０及び正電極板１０において、被覆層４０のうちのアモルファスカーボン膜４１は、箔本体３０の箔表面３１，３２が酸化したり、腐食したりするのを抑制する耐食膜として機能する。また、黒鉛粒子部４２は黒鉛からなるため、アモルファスカーボン膜４１に比して導電性が高く、被覆層４０の導電性を確実に向上させることができる。具体的には、正電極箔２０において、この被覆層４０を介する箔本体３０と正極活物質層５１，５２間の導電性を向上できる。かくして、正電極箔２０を用いることで、箔本体３０の箔表面３１，３２に酸化物あるいはフッ化物などの膜が生じるのを防止して、正極活物質層５１，５２と箔本体３０との間に生じる抵抗を低くした正電極板１０を製造することができる。
また、この正電極箔２０を用いた正電極板１０を用いることで、内部抵抗の低いリチウムイオン二次電池を製造することができる。
【００３８】
以上において、本発明を実施形態に即して説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更して適用できることは言うまでもない。
例えば、実施形態では、正電極箔２０に、正極活物質層を担持させて正電極板１０を形成したが、電極箔に負極活物質層を担持させた負電極板に適用しても良い。その場合、負極活物質層としては、例えば、グラファイトからなる負極活物質、結着剤、導電剤等を混合したものが、負電極板としては、例えば、銅からなる箔本体の両面に前述の被覆層を形成したものが挙げられる。
また、正極活物質層内の正極活物質ＸをＬｉＮｉＯ2としたが、例えば、ＬｉＣｏＯ2、ＬｉＭｎ2Ｏ4、ＬｉＦｅＯ2、Ｌｉ5ＦｅＯ4、Ｌｉ2ＭｎＯ3、ＬｉＦｅＰＯ4、ＬｉＶ2Ｏ4、および、これらの混合物としても良い。さらに、金属箔の材質をアルミニウムとしたが、例えば、タンタル、ニオブ、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、亜鉛、タングステン、ビスマス、アンチモン等としても良い。
【００３９】
また、被覆層形成工程では、スパッタ法として二極スパッタ装置による二極スパッタ法を用いたが、例えば、三極（又は四極）スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、高周波スパッタ法、バイアススパッタ法でも良い。
さらに、被覆層形成工程においてターゲット１１０として、全体が黒鉛からなるポーラス黒鉛を用いた。しかし、全体が黒鉛でなくとも、表面及び内部に多数の空孔を分散して含むとともに、一部にグラファイト構造の結晶構造を有する部位を分散して含むポーラスカーボンをターゲット１１０に用いて、アモルファスカーボン膜４１のほか、黒鉛粒子部４２に代えてグラファイト構造を有するカーボン粒子を分散した被覆層を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】実施形態にかかる正電極板の斜視図である。
【図２】実施形態にかかる正電極板の部分拡大端面図（図１のＡ部）である。
【図３】実施形態にかかる正電極箔の斜視図である。
【図４】実施形態にかかる正電極箔の部分拡大端面図（図３のＢ部）である。
【図５】実施形態の被覆層形成工程の説明図であり、（ａ）は二極スパッタ装置の概要図、（ｂ）はターゲットの部分拡大図である。
【図６】実施形態の担持工程のうち、塗工工程の説明図である。
【図７】実施形態の担持工程のうち、プレス切断工程の説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１０  正電極板（非水電解質電池用電極体）
２０  正電極箔（非水電解質電池用電極箔）
３０  箔本体（金属箔）
３１  第１箔表面（箔表面）
３２  第２箔表面（箔表面）
４０  被覆層
４１  アモルファスカーボン膜
４２  黒鉛粒子部
５１  第１正極活物質層
５２  第２正極活物質層
１１０  ターゲット
ＢＨ  空孔
Ｘ  正極活物質（活物質）
【図１】
2009187772.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2009187772.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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