(57)【要約】【課題】耐湿性に優れ、高表示品位の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。【解決手段】ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の紫外線硬化性樹脂と、紫外線ラジカル重合開始剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の紫外線硬化性樹脂と、紫外線ラジカル重合開始剤とを含有することを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。
【請求項２】
請求項１記載の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。
【請求項３】
請求項１記載の液晶滴下工法用シール剤及び／又は請求項２記載の上下導通材料を用いてなることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐湿性に優れ、高表示品位の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示セル等の液晶表示素子は、２枚の電極付き透明基板を、所定の間隔をおいて対向させ、その周囲を硬化性樹脂組成物からなるシール剤で封着してセルを形成し、その一部に設けられた液晶注入口からセル内に液晶を注入し、その液晶注入口をシール剤又は封口剤を用いて封止することにより作製されていた。
【０００３】
この方法では、まず、２枚の電極付き透明基板のいずれか一方に、スクリーン印刷により熱硬化性シール剤を用いた液晶注入口を設けたシールパターンを形成し、６０〜１００℃でプリベイクを行いシール剤中の溶剤を乾燥させる。次いで、スペーサを挟んで２枚の基板を対向させてアライメントを行い貼り合わせ、１１０〜２２０℃で１０〜９０分間熱プレスを行いシール近傍のギャップを調整した後、オーブン中で１１０〜２２０℃で１０〜１２０分間加熱しシール剤を本硬化させる。次いで、液晶注入口から液晶を注入し、最後に封口剤を用いて液晶注入口を封止して、液晶表示素子を作製していた。
【０００４】
しかし、この作製方法によると、熱歪により位置ズレ、ギャップのバラツキ、シール剤と基板との密着性の低下等が発生したり、残留溶剤が熱膨張して気泡が発生しキャップのバラツキやシールパスが発生したり、シール硬化時間が長かったり、プリベイクプロセスが煩雑であったり、溶剤の揮発によりシール剤の使用可能時間が短かかったり、液晶の注入に時間がかかったりする等の問題があった。とりわけ、近年の大型の液晶表示装置にあっては、液晶の注入に非常に時間がかかることが大きな問題となっていた。
【０００５】
これに対して、硬化型の樹脂組成物からなるシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶表示素子の製造方法が検討されている。滴下工法では、まず、２枚の電極付き透明基板の一方に、スクリーン印刷等により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール剤に紫外線を照射して仮硬化を行う。その後、必要に応じて液晶アニール時に加熱して更に硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができる。今後はこの滴下工法が液晶表示装置の製造方法の主流となると期待されている。
【０００６】
滴下工法に用いる液晶滴下工法用シール剤としては、高い接着性が得られることから、熱硬化性成分としてエポキシ樹脂を用いるのが一般的である。しかし、滴下工法により製造した液晶表示素子においては、液晶の配向乱れによると思われる色むら等の表示不良が生じやすいという問題点があった。これは、滴下工法では、その工程上、未硬化の状態の液晶滴下工法用シール剤が液晶に直接触れてしまい、シール剤が完全に硬化する前にシール剤成分が液晶中へ溶出してしまうことに起因している。
【０００７】
このような問題を解決するため、例えば、特許文献１には、液晶に対する溶解性の低い成分として分子内に水酸基を有する樹脂を用いた液晶滴下工法用シール剤が開示されている。このようなシール剤は、成分が液晶に溶出しないため、液晶汚染を生じないとされている。
しかしながら、分子内に水酸基を有する樹脂を用いているため、このようなシール剤を用いてなる液晶表示素子の耐湿性が低く、色むらが発生し画像の品位が低下するという問題があった。
【特許文献１】特開２００１−１３３７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記現状に鑑み、耐湿性に優れ、高表示品位の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の紫外線硬化性樹脂と、紫外線ラジカル重合開始剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。
【００１０】
本発明者らは、液晶滴下工法用シール剤に用いる硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の紫外線硬化性樹脂を用いることにより、耐湿性に優れ、高表示品位の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
【００１１】
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート（以下、単に「三種の紫外線硬化性樹脂」ともいう。）は、いずれも水酸基を含有しない。これにより、本発明の液晶滴下工法用シール剤を用いれば、耐湿性に優れた液晶表示素子を製造することができる。また、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートの分子量は３５２（メタクリレートの場合３６６）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの分子量は５７８（メタクリレートの場合５９２）、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートの分子量は４６６（メタクリレートの場合４８０）であり、いずれも紫外線硬化性樹脂の中では比較的分子量が大きい。このような分子量の大きな紫外線硬化性樹脂は、液晶との親和性が低く、液晶を汚染し難い。また、一般にエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール又はカプロラクトン由来の骨格を有する紫外線硬化性樹脂は、未反応物が残り液晶を汚染することが知られているが、上記三種の紫外線硬化性樹脂は、これらの液晶汚染の原因となる骨格を有しない。更に、上記三種の紫外線硬化性樹脂は、分子内に（メタ）アクリル基を２以上有することから、その硬化物は高架橋となり、液晶中に樹脂成分が溶出し難い。
このように紫外線硬化性樹脂としてペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種を選択して用いる本発明の液晶滴下工法用シール剤は、高い紫外線硬化性能を有するとともに、高い耐湿性と低液晶汚染性とを両立することができる。
【００１２】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、紫外線ラジカル重合開始剤を含有する。
上記紫外線ラジカル重合開始剤は特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チオキサントン等が挙げられる。これらの紫外線ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１３】
上記紫外線ラジカル重合開始剤で市販されているものとしては、例えば、イルガキュア１８４、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア８１９、イルガキュア６５１、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９（以上、いずれもチバ・スペシャリティーケミカルズ社製）、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ  Ｊａｐａｎ社製）等が挙げられる。
【００１４】
本発明の液晶滴下工法用シール剤における上記紫外線ラジカル重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記紫外線硬化性樹脂（後述するその他の硬化性樹脂を配合する場合には、上記紫外線硬化性樹脂とその他の硬化性樹脂との合計量）１００重量部に対する好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記紫外線ラジカル重合開始剤の含有量が０．１重量部未満であると、本発明の液晶滴下工法用シール剤を充分に硬化させることができないことがあり、１０重量部を超えると、本発明の液晶滴下工法用シール剤に光を照射したときに、液晶滴下工法用シール剤の表面が先に硬化してしまい、内部を充分に硬化させることができず、また、貯蔵安定性が低下することがある。
【００１５】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、液晶を汚染したり、硬化物の耐湿性を損ねたりしない範囲において、上記紫外線硬化性樹脂以外のその他の硬化性樹脂を含有してもよい。
上記その他の硬化性樹脂は、例えば、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の紫外線硬化性樹脂や、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。
【００１６】
上記エポキシ（メタ）アクリレートは、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるもの等が挙げられる。
【００１７】
上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物は特に限定されず、市販されているものとしては、例えば、エピコート８２８ＥＬ、エピコート１００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂や、エピコート８０６、エピコート４００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂や、エピクロンＥＸＡ１５１４（大日本インキ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂や、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等の２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂や、エピクロンＥＸＡ７０１５（大日本インキ社製）等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂や、ＥＰ−４０００Ｓ（旭電化社製）等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂や、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等のレゾルシノール型エポキシ樹脂や、エピコートＹＸ−４０００Ｈ（ジャパンエポキシレジン社製）等のビフェニル型エポキシ樹脂や、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（東都化成社製）等のスルフィド型エポキシ樹脂や、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（東都化成社製）等のエーテル型エポキシ樹脂や、ＥＰ−４０８８Ｓ（旭電化社製）等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂や、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれも大日本インキ社製）等のナフタレン型エポキシ樹脂や、エピクロンＮ−７７０（大日本インキ社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂や、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（大日本インキ社製）等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂や、エピクロンＨＰ７２００（大日本インキ社製）等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂や、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂や、ＥＳＮ−１６５Ｓ（東都化成社製）等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂や、エピコート６３０（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン４３０（大日本インキ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂や、ＺＸ−１５４２（東都化成社製）、エピクロン７２６（大日本インキ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１、（ナガセケムテックス社製）等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂や、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも東都化成社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学社製）等のゴム変性型エポキシ樹脂や、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等のグリシジルエステル化合物や、エピコートＹＬ−７０００（ジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂や、その他ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも東都化成社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、エピコート１０３１、エピコート１０３２（いずれもジャパンエポキシレジン社製）、ＥＸＡ−７１２０（大日本インキ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。
【００１８】
上記エポキシ（メタ）アクリレートの製造方法は、具体的には例えば、レゾルシノール型エポキシ樹脂（ＥＸ−２０１、ナガセケムテックス社製）３６０重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、アクリル酸２１０重量部を空気を送り込みながら、９０℃で還流攪拌しながら５時間反応させる方法等が挙げられる。
【００１９】
上記エポキシ（メタ）アクリレートの市販品は、例えば、エベクリル３７００、エベクリル３６００、エベクリル３７０１、エベクリル３７０３、エベクリル３２００、エベクリル３２０１、エベクリル３６００、エベクリル３７０２、エベクリル３４１２、エベクリル８６０、エベクリルＲＤＸ６３１８２、エベクリル６０４０、エベクリル３８００（いずれもダイセルサイテック社製）、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−１０１０、ＥＡ−５５２０、ＥＡ−５３２３、ＥＡ−ＣＨＤ、ＥＭＡ−１０２０（いずれも新中村化学工業社製）、エポキシエステルＭ−６００Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル１６００Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル２００ＥＡ、エポキシエステル４００ＥＡ（いずれも共栄社化学社製）、デナコールアクリレートＤＡ−１４１、デナコールアクリレートＤＡ−３１４、デナコールアクリレートＤＡ−９１１（いずれもナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
【００２０】
上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂が好ましく、例えば、上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物が挙げられる。
【００２１】
上記その他の硬化性樹脂は、例えば、１分子中に紫外線硬化性官能基と熱硬化性官能基とを有する化合物であってもよい。このような化合物は、例えば、１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とをそれぞれ１以上有する化合物等が挙げられる。
【００２２】
上記１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とをそれぞれ１以上有する化合物は、例えば、２以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物等が挙げられる。
【００２３】
上記２以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物は、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られる。
【００２４】
上記２以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物の原料となるエポキシ化合物は、例えば、上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物が挙げられる。
【００２５】
上記２つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物は、具体的には例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂Ｎ−７７０（大日本インキ社製）１９０ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加え、均一な溶液とし、この溶液にアクリル酸３５ｇを還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を６時間行い。次に、トルエンを除去することによって５０ｍｏｌ％のエポキシ基が（メタ）アクリル酸と反応したノボラック型固形変性エポキシ樹脂を得ることができる（この場合５０％部分アクリル化されている）。
【００２６】
上記２つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物のうち、市販品としては、例えば、エベクリル１５６１（ダイセルサイテック社製）が挙げられる。
【００２７】
本発明の液晶滴下工法用シール剤が上記その他の硬化性樹脂を含有する場合、硬化性樹脂の全体に占める上記三種の紫外線硬化性樹脂の含有量の好ましい下限は１０重量％、好ましい上限は８０重量％である。上記三種の紫外線硬化性樹脂の含有量が１０重量％未満であると、耐湿性と液晶非汚染性との両立が困難となることがあり、８０重量％を超えると、本発明の液晶滴下工法用シール剤による接着強度が低下することがある。
本発明の液晶滴下工法用シール剤が上記その他の硬化性樹脂を含有する場合、接着強度を発揮するため、硬化性樹脂中の５〜５０重量％が上記熱硬化性樹脂であることが好ましく、５〜３０重量％であることがより好ましい。
【００２８】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、熱硬化剤を含有してもよい。
上記熱硬化剤は特に限定はされず、例えば、１，３−ビス［ヒドラジノカルボノエチル−５−イソプロピルヒダントイン］等のヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、グアニジン誘導体、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、Ｎ−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］尿素、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−メチル−１−イミダゾリルエチル）尿素、Ｎ，Ｎ’−（２−メチル−１−イミダゾリルエチル）−アジポアミド、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、変性脂肪族ポリアミン、テトラヒドロ無水フタル酸、エチレングリコールービス（アンヒドロトリメリテート）等の酸無水物、各種アミンとエポキシ樹脂との付加生成物等が挙げられる。これらの熱硬化剤は単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。なかでも、ヒドラジド化合物が好ましく、固形の有機酸ヒドラジドがより好ましい。
上記固形の有機酸ヒドラジドとしては特に限定されず、例えば、セバチン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、その他アミキュアＶＤＨ、アミキュアＵＤＨ（いずれも、味の素ファインテクノ社製）、ＡＤＨ（大塚化学社製）等が挙げられる。
【００２９】
本発明の液晶滴下工法用シール剤には、上記固形の有機酸ヒドラジド以外の熱硬化剤が含有されていてもよく、例えば、熱硬化剤として、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が含有されていてもよい。
【００３０】
上記熱硬化剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂の総量を１００重量部に対して好ましい下限は０．５重量部、好ましい上限は５０重量部である。０．５重量部未満であると、熱硬化剤を含有させる効果がほとんど得られず、５０重量部を超えると、本発明の液晶滴下工法用シール剤の粘度が高くなり、ハンドリング性を損ねる場合がある。より好ましい上限は３０重量部である。
【００３１】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、シランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤は、主に液晶滴下工法用シール剤と液晶表示素子基板とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。
【００３２】
上記シランカップリング剤は特に限定されないが、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【００３３】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善等の目的にフィラーを含有してもよい。
上記フィラーは特に限定されず、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、珪藻土、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム等の無機フィラーや、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機フィラーが挙げられる。
【００３４】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、チクソ性を調整する揺変剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、３−Ｐ−クロロフェニル−１，１−ジメチル尿素等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、その他添加剤等を含有してもよい。
【００３５】
本発明の液晶滴下工法用シール剤を製造する方法としては特に限定されず、上記紫外線硬化性樹脂、紫外線ラジカル重合開始剤、及び、必要に応じて配合される上記熱硬化剤、シランカップリング剤等の所定量とを、従来公知の方法により混合する方法等が挙げられる。この際、含有するイオン性不純物を除去するために、イオン吸着性固体と接触させてもよい。
【００３６】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、紫外線を照射して硬化させた硬化物を１２１℃２気圧飽和水蒸気下で２時間放置させたときの吸水率の上限が３％であることが好ましい。吸水率が３％を超えると、得られる液晶表示用素子に色むらを生じることがある。
【００３７】
本発明の液晶滴下工法用シール剤に、導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような、本発明の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の１つである。
【００３８】
上記導電性微粒子としては特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。
【００３９】
本発明の液晶滴下工法用シール剤及び／又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の１つである。
【００４０】
本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、例えば、ＩＴＯ薄膜等の２枚の電極付き透明基板の一方に、本発明の液晶滴下工法用シール剤等をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する工程、本発明の液晶滴下工法用シール剤等が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせる工程、及び、本発明の液晶滴下工法用シール剤等のシールパターン部分に紫外線等の光を照射して仮硬化させる工程、及び、仮硬化させたシールパターンを加熱して本発明の液晶滴下工法用シール剤等からなるシールパターンを本硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。
このような本発明の液晶滴下工法用シール剤及び／又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子また、本発明の１つである。
【発明の効果】
【００４１】
本発明によれば、耐湿性に優れ、高表示品位の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００４３】
（液晶滴下工法用シール剤の調製）
表１及び表２に示した配合比に従い、各原材料を遊星式撹拌機（あわとり練太郎、シンキー社製）を用いて混合後、さらに３本ロールを用いて混合させることにより実施例１〜８、及び、比較例１〜７の液晶滴下工法用シール剤を調製した。
【００４４】
＜評価＞
実施例１〜８、及び、比較例１〜７で得られた液晶滴下工法用シール剤について以下の評価を行った。結果を表１及び表２に示した。
【００４５】
（１）硬化物の吸水率の測定
ＰＥＴフィルムにテープで縦横が５０ｍｍ×１００ｍｍ、厚み１００μｍになるように枠を作り、その中に得られた液晶滴下工法用シール剤を入れ、さらにＰＥＴフィルムを重ね、これに紫外線を１００ｍＷ／ｃｍ２で３０秒間裏表面照射、その後１２０℃１時間の加熱により５０ｍｍ×１００ｍｍ×（厚み）１００μｍ程度の大きさのシートを作製した。得られたシートの重量を測定後、１２１℃２気圧飽和水蒸気下で２時間放置後、ただちに表面の付着水を拭き取り再び重量を測定し、前後の重量変化から吸水率を算出した。
【００４６】
（２）接着強度測定
得られた液晶滴下工法用シール剤１００重量部に対して平均粒径５μｍのポリマービーズ（積水化学工業社製、ミクロパールＳＰ）３重量部を遊星式撹拌装置によって分散させ均一な液とし、極微量をコーニングガラス１７３７（２０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍｔ）の中央部に取り、同型のガラスをその上に重ね合わせてシール剤を押し広げ、紫外線を１００ｍＷ／ｃｍ２で３０秒照射した。その後１２０℃１時間の加熱を行い、接着試験片を得た。この試験片についてテンションゲージを用いて接着強度を測定した（比較単位はＮ／ｃｍ２）。
【００４７】
（３）パネル表示の評価
（液晶表示用素子の作製）
透明電極付き基板に、得られた液晶滴下工法用シール剤を長方形の枠を描くようにディスペンサーで塗布した。続いて液晶（チッソ社製、５００１ＬＡ）の微小滴を透明基盤の枠内全面に滴下塗布し、すぐに別の透明電極付き基盤を重ね合わせて、シール部に紫外線を１００ｍＷ／ｃｍ２で３０秒照射した。その後液晶アニールを１２０℃、１時間行い、同時に液晶滴下工法用シール剤を熱硬化させて液晶表示用素子を得た。
【００４８】
（色むらの有無）
得られた液晶表示用素子について、基板作製直後及び６０℃９５％ＲＨの環境下１０００時間放置後にシール部周辺の液晶に生じる色むらを目視にて観察し、◎（色むらが全くない）、○（色むらがほとんどない）、△（少し色むらがある）、×（色むらがかなりある）の４段階で評価を行った。
【００４９】
【表１】
2009134293.tif 000002
【００５０】
【表２】
2009134293.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明によれば、耐湿性に優れ、高表示品位の液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。