(57)【要約】【課題】ラビング処理時に塵などが表示領域に持込まれないようにして品質の向上を図った液晶パネルを提供すること。【解決手段】本発明は、表示領域ＤＡに配向膜が形成された一対の基板２、３を用いて、いずれか一方の基板の周縁にシール材４を塗布し、両基板間にフォトスペーサ５ａを介在して貼り合せて、内部に所定の大きさの空間を形成して、この空間に液晶を封入した液晶パネル１において、一対の基板のいずれか一方の基板は、表示領域の周囲の前記表示領域内の配向膜をラビング処理する方向と交差する方向に少なくとも２本の仮想線Ｙ１、Ｙ２を設定して、互いに隣接する一方の仮想線Ｙ１上に複数本の柱状スペーサ５１〜５４を所定間隔をおいて立設配列し、隣接する他の仮想線Ｙ２上に複数本の柱状スペーサ５１１〜５１４を前記一方の仮想線上の柱状スペーサ間に位置するように所定間隔をおいて配列した。【選択図】図３
2009093042.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域に配向膜が形成された一対の基板を用いて、いずれか一方の基板の周縁にシー
ル材を塗布し、両基板間にスペーサを介在して貼り合せて、内部に所定大きさの空間を形
成して、この空間に液晶を封入した液晶パネルにおいて、
前記一対の基板のいずれか一方の基板は、前記表示領域の周囲の前記表示領域内の配向
膜をラビング処理する方向と交差する方向に少なくとも２本の仮想線を設定して、互いに
隣接する一方の仮想線上に複数本の柱状スペーサを所定間隔をおいて立設配列し、隣接す
る他の仮想線上に複数本の柱状スペーサを前記一方の仮想線上の柱状スペーサ間に位置す
るように所定間隔をおいて配列したことを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
前記一方の仮想線上に配列される複数本の柱状スペーサの互いに隣接する柱状スペーサ
同士の中間に、前記隣接する他の仮想線上に配設される柱状スペーサが位置していること
を特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記柱状スペーサは、角柱型又は丸棒型に形成されていることを特徴とする請求項１に
記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記柱状スペーサは、前記ラビング方向に対する面の一部に窪みが形成されていること
を特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記一対の基板のいずれか一方の基板の表示領域にはフォトスペーサを配設し、前記柱
状スペーサを該フォトスペーサと同一材料を用いて同一工程で形成したことを特徴とする
請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項６】
以下の（ｉ）〜（iv）に示す工程を有することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
（ｉ）表示領域に配向膜が形成された一対の基板を用い、少なくともいずれか一方の基板
の表示領域の周囲に、該表示領域内の前記配向膜をラビング処理する方向と交差する方向
に互いに隣接する少なくとも２本の仮想線を設定して、該２本の下層線のうち、一方の仮
想線上に複数本の柱状スペーサを所定間隔をおいて立設配列し、隣接する他の仮想線上に
複数本の柱状スペーサを前記一方の仮想線上の柱状スペーサ間に位置するように配列する
工程。
（ii）前記柱状スペーサを形成した基板の前記配向膜にラビング処理を施す工程、
（iii）前記一対の基板のいずれか一方の基板の周縁部に、該周縁部の一部分を除いてシ
ール材を所定幅長に塗布して両基板を貼り合せて内部に所定大きさの空間を形成すると共
に該シール材を除いた箇所に液晶注入口を形成する工程、
（iv）前記液晶注入口から前記空間に液晶を注入し、該注入口を封止材で封止する工程。
【請求項７】
前記（ｉ）の工程において、前記一方の仮想線上に配列される複数本の柱状スペーサの
互いに隣接する柱状スペーサ同士の中間に、前記隣接する他の仮想線上に配設される柱状
スペーサを位置させたことを特徴とする請求項６に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項８】
前記（ｉ）の工程において、前記柱状スペーサを角柱型又は丸棒型に形成したことを特
徴とする請求項６に記載の液晶パネル。
【請求項９】
前記（ｉ）の工程において、前記柱状スペーサに前記ラビング処理方向に対する面の一
部に窪みを形成したことを特徴とする請求項６に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記（ｉ）の工程において、前記一対の基板のいずれか一方の基板の表示領域にフォト
スペーサを配設し、前記柱状スペーサを該表示領域内のフォトスペーサと同一材料を用い
て同一工程で形成したことを特徴とする請求項６に記載の液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパネル製造工程の配向膜ラビング処理時に残渣塵などが表示領域へ持込まれな
いようにして表示品質を向上させた液晶パネル及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ、携帯電話機やその他の携帯情報端末などの電子機器の
表示装置として、液晶パネルが多く使用されている。この液晶パネルは、通常、薄膜トラ
ンジスタ（ＴＦＴ）等からなるスイッチング素子及び画素電極などが形成されたＴＦＴア
レイ基板（以下、ＡＲ基板という）と、このＡＲ基板と略同じ大きさを有し、対向電極及
びカラーフィルタなどが形成されたカラーフィルタ基板（以下、ＣＦ基板という）とを間
にシール材を介在して貼り合せて、これらのＡＲ基板、ＣＦ基板及びシール材で囲まれた
空間中に液晶を封入した構成となっている。
【０００３】
この液晶パネルは、通常、複数枚の小型パネル（以下、液晶セルともいう）を纏めて形
成できる大きさの大判の基板、すなわち一方をＡＲ基板用マザー基板、他方をＣＦ基板用
マザー基板とした２枚の基板を用いて、種々の処理工程を経て製造される。ところが、こ
の製造工程においてパネル内部に塵などが混入して液晶の抵抗値が低下し表示不良を起こ
すことがある。そこで、この課題を解決するための構成を有する液晶パネルの製造方法が
提案されている（例えば、下記特許文献１参照）。
【０００４】
図６Ａは下記特許文献１に開示された液晶パネル製造工程の工程図、図６Ｂは１個の液
晶セルの平面図である。以下には、図６を参照して下記特許文献１に開示された液晶パネ
ルの製造工程について説明する。
【０００５】
まず、ステップＳ１、Ｓ６において、それぞれ上下２枚の大判のマザー基板、すなわち
ＡＲ基板用のＩＴＯ付基板（上板）及びＣＦ基板用のＩＴＯ付基板（下板）が用意される
。そして、ＩＴＯ付基板（上板）は、その表面が個々の液晶セル分（以下、セルともいう
）に区分されて、この区分された個々のセル領域に各種電極のパターニングが行われる（
ステップＳ２）。その上に順に電極保護膜及び配向膜が形成されて、その後に、表示領域
の周囲にシール材１０が塗布される（ステップＳ２〜Ｓ５）。ステップＳ５では、液晶封
入口１１となる箇所を開口させることなく閉塞した状態でシール材１０が塗布される（図
６Ｂ参照）。
【０００６】
一方、ＩＴＯ付基板（下板）も、その表面が個々のセルに区分されて、その区分された
個々のセル領域に所定の電極のパターニングが行われて、その上に順に電極保護膜及び配
向膜が形成される（ステップＳ６）。
【０００７】
これらの上下板基板は、互いに対向配置して貼り合せてシール材１０が硬化される（ス
テップＳ７）。貼り合せた上下板基板は個々のセルＰに分断し、分断されたセルはそれぞ
れ洗浄される（ステップＳ８及びＳ９）。次いで、この洗浄されたセルは、図６Ｂに示す
Ｚ−Ｚ線で切断して液晶封入口１１を開口させる。このとき、初めて液晶封入口１１が開
口される。続いて、この開口から液晶が充填されて、その後、封入口が封止材で閉塞され
る。封入口が閉塞されたセルは洗浄されて、このセル表面に付着した液晶などを除去して
工程が終了する（ステップＳ１０〜Ｓ１３）。
【特許文献１】特開平５−１６５０４０号公報（段落〔００２２〕〜〔００３５〕、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記特許文献１に開示された液晶パネルの製造方法によれば、ステップＳ５において基
板上にシール材１０を塗布する際に、液晶封入口１１を閉塞しておき、ステップＳ１０、
すなわち個々のセルＰに分断し、こられのセルＰを洗浄した後に液晶封入口１１が開口さ
れてこのタイミングで液晶が封入される。したがって、液晶を封入時点では前工程のステ
ップまでにセルＰに付着した塵或いはイオン性物質などは洗浄されて除去されているので
、これらの塵などがセルＰへの液晶充填時に液晶へ混入されることがなくなる。ところが
、このような塵の液晶への混入は、液晶封入口１１からだけでなく、配向膜を形成した後
のラビング処理時に、貼り合せ前の基板内部へ持込まれて基板表面に付着し、そのまま後
工程へ送られて加工処理された後に液晶に混入することがある。一方、ラビング処理は、
配向膜を形成した後に行われるが、このラビング処理は、基板にポリイミド系樹脂等の有
機高分子膜を成膜し、この樹脂膜の表面にフェルトや木綿などの繊維からなるラビング布
などを所定の荷重下で一定方向に擦りつけることによって配向膜の表面が液晶分子を所定
方向へ向くように配向される。そして、このラビング処理時に、基板に処理中に生じた残
渣塵などが残っていると、基板の表示領域内に持込まれてしまうことがある。勿論、ラビ
ング布などに付着した塵なども持込まれることがある。このような残渣を含む塵が表示領
域内に持込まれると、次工程で液晶に混入されてしまい表示不良の原因となることがある
。
【０００９】
本発明はこの課題を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、表示品質
の向上を図った液晶パネルを提供することにある。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、ラビング処理時に残渣塵などが表示領域に持込まれないよ
うにして表示品質の向上を図った液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本願の液晶パネルに係る発明は、表示領域に配向膜が形成
された一対の基板を用いて、いずれか一方の基板の周縁にシール材を塗布し、両基板間に
スペーサを介在して貼り合せて、内部に所定大きさの空間を形成して、この空間に液晶を
封入した液晶パネルにおいて、
前記一対の基板のいずれか一方の基板は、前記表示領域の周囲の前記表示領域内の配向
膜をラビング処理する方向と交差する方向に少なくとも２本の仮想線を設定して、互いに
隣接する一方の仮想線上に複数本の柱状スペーサを所定間隔をおいて立設配列し、隣接す
る他の仮想線上に複数本の柱状スペーサを前記一方の仮想線上の柱状スペーサ間に位置す
るように所定間隔をおいて配列したことを特徴とする。
【００１２】
上記液晶パネルに係る発明においては、互いに隣接する少なくとも２本の仮想線の一方
の仮想線上に、複数本の柱状スペーサを所定間隔をおいて立設配列し、この一方の仮想線
に隣接する他の仮想線上に複数本の柱状スペーサを一方の仮想線上の柱状スペーサ間にそ
れぞれ配列したので、ラビング処理時に、基板処理の際に発生した残渣塵などがこの配列
の柱状スペーサに捕獲されて表示領域へ持込まれることがなくなるので表示品質を向上さ
せることができる。
【００１３】
また、上記液晶パネルに係る発明においては、前記一方の仮想線上に配列される複数本
の柱状スペーサの互いに隣接する柱状スペーサ同士の中間に、前記隣接する他の仮想線上
に配設される柱状スペーサが位置していると好ましい。
【００１４】
上記液晶パネルに係る発明の好ましい態様によれば、一方の仮想線上の隣接するスペー
サの中間に他の仮想線上のスペーサがそれぞれ規則性を持って配列され、スペーサ同士の
間隔が狭くなるので残渣塵などの捕獲が確実になる。
【００１５】
また、上記液晶パネルに係る発明においては、前記柱状スペーサは、角柱型又は丸棒型
に形成されていると好ましい。
【００１６】
上記液晶パネルに係る発明の好ましい態様によれば、柱状スペーサを角柱型又は丸棒型
に形成することにより、形状が簡単で作成が容易になる。
【００１７】
また、上記液晶パネルに係る発明においては、前記柱状スペーサは、前記ラビング方向
に対する面の一部に窪みが形成されていると好ましい。
【００１８】
上記液晶パネルに係る発明の好ましい態様によれば、柱状スペーサのラビング方向に対
する面に窪みを設けたので、ラビング処理時に、残渣塵等がこの窪み内に効率よく捕獲す
ることが可能になる。
【００１９】
また、上記液晶パネルに係る発明においては、前記一対の基板のいずれか一方の基板の
表示領域にはフォトスペーサを配設し、前記柱状スペーサを該フォトスペーサと同一材料
を用いて同一工程で形成すると好ましい。
【００２０】
上記液晶パネルに係る発明の好ましい態様によれば、製造工程を増やすことなく、簡単
に表示領域周囲部の柱状スペーサを形成できる。
【００２１】
本願の液晶パネルの製造方法に係る発明は、以下の（ｉ）〜（iv）に示す工程を有する
ことを特徴とする。
（ｉ）表示領域に配向膜が形成された一対の基板を用い、少なくともいずれか一方の基板
の表示領域の周囲に、該表示領域内の前記配向膜をラビング処理する方向と交差する方向
に互いに隣接する少なくとも２本の仮想線を設定して、該２本の下層線のうち、一方の仮
想線上に複数本の柱状スペーサを所定間隔をおいて立設配列し、隣接する他の仮想線上に
複数本の柱状スペーサを前記一方の仮想線上の柱状スペーサ間に位置するように配列する
工程。
（ii）前記柱状スペーサを形成した基板の前記配向膜にラビング処理を施す工程、
（iii）前記一対の基板のいずれか一方の基板の周縁部に、該周縁部の一部分を除いてシ
ール材を所定幅長に塗布して両基板を貼り合せて内部に所定大きさの空間を形成すると共
に該シール材を除いた箇所に液晶注入口を形成する工程、
（iv）前記液晶注入口から前記空間に液晶を注入し、該注入口を封止材で封止する工程。
【００２２】
上記液晶パネルの製造方法に係る発明によれば、互いに隣接する少なくとも２本の仮想
線の一方の仮想線上に、複数本の柱状スペーサを所定間隔をおいて立設配列し、この一方
の仮想線に隣接する他の仮想線上に複数本の柱状スペーサを一方の仮想線上の柱状スペー
サ間に位置するようにそれぞれ配列したので、ラビング処理時に、基板処理の際に発生し
た残渣塵等は上述の配列で形成された柱状スペーサに捕獲される。これにより、残渣塵等
の表示領域への持込をなくすことができる。
【００２３】
また、上記液晶パネルの製造方法に係る発明においては、前記（ｉ）の工程において、
前記一方の仮想線上に配列される複数本の柱状スペーサの互いに隣接する柱状スペーサ同
士の中間に、前記隣接する他の仮想線上に配設される柱状スペーサを位置させると好まし
い。
【００２４】
上記液晶パネルの製造方法に係る発明の好ましい態様によれば、一方の仮想線上の隣接
するスペーサの中間に他の仮想線上のスペーサがそれぞれ規則性を持って配列されるので
、残渣塵などの捕獲が確実になる。
【００２５】
また、上記液晶パネルの製造方法に係る発明においては、前記（ｉ）の工程において、
前記柱状スペーサを角柱型又は丸棒型に形成すると好ましい。
【００２６】
上記液晶パネルの製造方法に係る発明の好ましい態様によれば、柱状スペーサを角柱型
又は丸棒型に形成することにより、形状が簡単で作成が容易になる。
【００２７】
また、上記液晶パネルの製造方法に係る発明においては、前記（ｉ）の工程において、
前記柱状スペーサに前記ラビング処理方向に対する面の一部に窪みを形成すると好ましい
。
【００２８】
上記液晶パネルの製造方法に係る発明の好ましい態様によれば、柱状スペーサのラビン
グ方向に対する面に窪みを設けたので、ラビング処理時に、残渣塵等がこの窪み内に効率
よく捕獲することが可能になる。
【００２９】
また、上記液晶パネルの製造方法に係る発明においては、前記（ｉ）の工程において、
前記一対の基板のいずれか一方の基板の表示領域にフォトスペーサを配設し、前記柱状ス
ペーサを該表示領域内のフォトスペーサと同一材料を用いて同一工程で形成すると好まし
い。
【００３０】
上記液晶パネルの製造方法に係る発明の好ましい態様によれば、製造工程を増やすこと
なく、簡単に表示領域周囲部の柱状スペーサを形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶パネル及びその製造方法を例示するもので
あって、本発明をこの液晶パネル及びその製造方法に特定することを意図するものではな
く、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
【００３２】
図１は本発明の実施例１に係る液晶パネルの平面図である。図２は図１の液晶パネルを
構成するＣＦ基板の裏面図である。図３は図２のIII部分の拡大平面図である。図４は図
３のIV−IV線の断面図である。図５は実施例２の液晶パネルを構成するＣＦ基板の一部拡
大平面図である。なお、図５に示す拡大平面図は、図３に示す拡大平面図に対応したもの
である。また、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各
部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて
表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。
【実施例１】
【００３３】
初めに、図１を参照して、本発明の実施例に係る液晶パネルの概要及びＡＲ基板を説明
する。
本実施例に係る液晶パネル１は、アクティブマトリクス型の液晶表示パネルからなり、
画素電極及び液晶を駆動するスイッチング素子などが形成されたＡＲ基板２と、このＡＲ
基板２と対向する面にカラーフィルタ及び対向電極が形成されたＣＦ基板３とを有する。
また、これらの基板は間にシール材４を介在させて貼り合わせられて、内部に所定の大き
さの空間を形成し、この空間に液晶を注入した後に、注入口４ａを封止材で封止した構造
を有している。ＡＲ基板２とＣＦ基板３とは、シール材４で囲まれた内部に、所定形状の
スペーサが配設されて両基板間のギャップ、いわゆる液晶セルギャップが均一に保持され
ている。
【００３４】
これらのＡＲ基板２及びＣＦ基板３は、それぞれ複数枚の基板を纏めて形成できる大き
さの大判のＡＲ基板用マザー基板及びＣＦ基板用マザー基板を用いて、種々の処理工程を
経て製造される。これらの工程には、ＡＲ基板及びＣＦ基板の各表示領域に配向膜を形成
した後に、この配向膜を配向するラビング処理工程が含まれている。
【００３５】
ＡＲ基板２は、短辺２ａ、２ｂ及び長辺２ｃ、２ｄを有する矩形状の電気絶縁性の透明
基板、例えばガラス基板で形成されている。そして、この基板表面の表示領域ＤＡには、
複数本のゲート線とソース線とがマトリクス状に配線されて、これらの線が交差する箇所
に液晶を駆動するスイッチング素子が形成されている。このスイッチング素子には、例え
ば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が使用される。また、このＡＲ基板２には、ＴＦＴの他に
画素電極などが形成されて、これらの各種配線等の上にトップコート層が形成されている
。トップコート層は、保護絶縁膜及び配向膜等からなり、最上層が配向膜となっている。
この配向膜は例えばポリイミドで形成されている。そして、このＡＲ基板２は、製造工程
において、例えば一方の長辺２ｄ側からラビング処理が開始される。
【００３６】
このＡＲ基板２は、ＣＦ基板３より若干大判であって、両基板を貼り合せたときに張り
出す張り出し部２ａ'が形成される大きさの基板を使用し、この張り出し部２ａ'に液晶駆
動用のＩＣチップＤｒが搭載されている。ＡＲ基板２の表示領域ＤＡの周囲には、シール
材４が一部を途切れさせて塗布される。このシール材の途切れた箇所４ａは、ＣＦ基板と
貼り合せたときに液晶注入口となる。
【００３７】
次に、図２〜図４を参照して、ＣＦ基板３の構造を説明する。
ＣＦ基板３は、短辺３ａ、３ｂ及び長辺３ｃ、３ｄを有する矩形状の電気絶縁性及び光
透過性を有する透明基板、例えばガラス基板からなり、ＡＲ基板２より若干小型になって
いる。このＣＦ基板３は、その表面に表示領域ＤＡとこの表示領域ＤＡの周囲を囲む周辺
領域ＰＡとを有しており、周辺領域ＰＡは非表示領域となっている。なお、表示領域ＤＡ
はシール材４で囲まれた内部の領域となっている。
【００３８】
この表示領域ＤＡには、図３及び図４に示すように、ＣＦ基板３の表面にＡＲ基板２の
各画素に対応してブラックマトリクスＢＭが配設され、このブラックマトリクスＢＭに囲
まれた領域にカラーフィルタ、例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）カラーフィル
タが配設され、さらに、これらのカラーフィルタ上にトップコート層７が形成されている
。トップコート層７は、保護絶縁膜及び配向膜等からなり、最上層が配向膜となっている
。この配向膜は例えばポリイミドで形成されている。このＣＦ基板３は、製造工程におい
て、一方の長辺３ｄ側からラビング処理が開始される。すなわち、ラビング処理方向は、
図３に示す矢印ＲＤ方向となっている。
【００３９】
このＣＦ基板３は、ＡＲ基板２との間で均一なセルギャップを保持するために、ＣＦ基
板３の表示領域ＤＡ及び非表示領域ＰＡにそれぞれ柱状のフォトスペーサ５ａが配設され
る。表示領域ＤＡ内のフォトスペーサ５ａは、配向膜の上に配設される。また、このフォ
トスペーサ５ａは、所定太さ及び高さを有する丸棒型或いは角型の柱状体からなり、アク
リル系感光ポリマー、ポリイミド系感光ポリマーで形成される。そして、このフォトスペ
ーサ５ａは、公知のフォトリソグラフィー法で形成される。具体的には、配向膜上にフォ
トレジストを塗布し、フォトマスクを使用して露光し、その後で現像することにより形成
される。この表示領域ＤＡ内のフォトスペーサ５ａは、例えば青色（Ｂ）カラーフィルタ
の上に所定の間隔で設けるのが好ましい。これは、青色（Ｂ）カラーフィルタが視認しに
くく、フォトスペーサ５ａ周辺部の配向が多少乱れても、配向不良として視認されにくい
からである。なお、このフォトスペーサ５ａは、柱状体に限定されるものでなく、他の形
状のスペーサでもよい。
【００４０】
ＣＦ基板４の非表示領域ＰＡに形成される柱状スペーサ５１〜５４、５１１〜５１４は
、表示領域ＤＡ内の配向膜のラビング方向ＲＤと交差（直交）する方向に少なくとも２本
の第１、第２仮想線Ｙ１、Ｙ２を設定して、互いに隣接する一方の仮想線Ｙ１上に複数本
（４本）の柱状スペーサ５１〜５４を所定間隔毎に立設配列され、隣接する他の仮想線Ｙ
２上に複数本（４本）の柱状スペーサ５１１〜５１４を所定間隔毎に立設配列される。こ
れらの柱状スペーサ５１〜５４及び５１１〜５１４は隣接するもの同士がそれぞれ隙間Ｌ
１をあけて設けられており、第２仮想線Ｙ２上の各柱状スペーサ５１１〜５１４が第１仮
想線Ｙ１の各柱状スペーサ５１〜５４の間に位置するように配設されている。第１、第２
仮想線Ｙ１、Ｙ２の間隔は隙間Ｌ１と同じかこれより短くなっている。この配列により、
第１仮想線Ｙ１に隣接する柱状スペーサ（５１、５２）の間隔をＬ１とすると、この間隔
Ｌ１のほぼ中間に第２仮想線Ｙ２の柱状スペーサ（５１１）が形成されている。第２仮想
線Ｙ２の柱状スペーサ（５１１）と第１仮想線Ｙ１の各スペーサ（５１、５２）間の距離
Ｌ２は、（１／２）Ｌ１に設定されている。
【００４１】
この配列にすると、ラビング処理時に、図３の矢印方向ＲＤからラビング処理がされる
と、ＣＦ基板３に残渣塵等が残っていても、これらは、第１、第２仮想線Ｙ１、Ｙ２上の
柱状スペーサ５１〜５４、５１１〜５１４に衝突して、大きな残渣塵等は第１仮想線Ｙ１
上の柱状スペーサの隙間Ｌ１を通過しにくく、そこである程度の残渣塵等の移動が阻止さ
れる。また、この隙間Ｌ１より小さい残渣塵等は、第１仮想線Ｙ１上の柱状スペーサと第
２仮想線Ｙ２上の柱状スペーサとの間で移動が阻止される。したがって、残渣塵等は非表
示領域ＰＡで移動が阻止されて、表示領域ＤＡへ持込まれることがなくなる。なお、この
非表示領域ＰＡの柱状スペーサ５１〜５４、５１１〜５１４は、表示領域ＤＡのフォトス
ペーサ５ａと同一材料及び同じ工程で作成されると好ましい。これにより、特別の工程を
増やすことなく簡単に形成できる。また、本実施例１では、フォトスペーサ５ａをＣＦ基
板３に設けたが、ＡＲ基板２側に設けてもよい。
【実施例２】
【００４２】
次に、図５を参照して、実施例２の液晶パネルを説明する。
実施例２に係る液晶パネル１Ａは、ＣＦ基板３Ａの構成が上記実施例１の液晶パネル１
と異なり、他の構成は同じになっている。そこで、共通する構成要素には同じ符号を付し
て説明を省略し、以下には、異なる構成についてのみ詳述する。
【００４３】
本実施例２の液晶パネル１ＡのＣＦ基板３Ａは、上記実施例１に示すＣＦ基板３と同じ
配列で柱状スペーサが設けられている。すなわち、ＣＦ基板３Ａの非表示領域ＰＡには、
図５に示すように、第１仮想線Ｙ'１上に複数本（４本）の柱状スペーサ６１〜６４が、
第１仮想線Ｙ'１に対して所定の隙間をあけてこの第１仮想線Ｙ'１と隣接する第２仮想線
Ｙ'２上に複数本（４本）の柱状スペーサ６１１〜６１４がそれぞれ隙間Ｌ１をあけて形
成されている。また、第２仮想線Ｙ'２上の柱状スペーサ６１１〜６１４が第１仮想線Ｙ'
１上の柱状スペーサ６１〜６４の間に位置するように配設されている。そして、各柱状ス
ペーサ６１〜６４及び６１１〜６１４は、ラビング処理をする方向ＲＤに対する長手方向
の外壁面の一部に所定形状の窪みが形成されている。
【００４４】
このように、複数本の柱状スペーサ６１〜６４、６１１〜６１４を所定の規則性を持た
せて配列するとともに、それぞれの柱状スペーサ６１〜６４、６１１〜６１４のラビング
方向ＲＤに対する位置に窪みを形成することにより、ラビング処理時に残渣塵等がこの窪
み部分に効率よく捕獲される。したがって、残渣塵等が表示領域ＤＡ内に更に持ち込まれ
難くなり、表示不良をより低減できる。
【００４５】
また、非表示領域ＰＡに形成される柱状スペーサ６１〜６４、６１１〜６１４を表示領
域ＤＡ内の柱状のフォトスペーサ６ａと同一材料を用いて同一工程で形成することにより
、製造工程を増やすことなく、簡単に非表示領域ＰＡの柱状スペーサ６１〜６４、６１１
〜６１４を形成することができる。
【００４６】
また実施例１，実施例２には、ラビング方向ＲＤはフォトスペーサ５１〜５４、５１１
〜５１４、６１〜６４、６１１〜６１４に対して垂直方向にラビングするように記載され
ているが、ラビング方向は各機種の仕様に合わせて変更可能である。例えば、ラビング方
向が斜め方向の角度からラビングされていたとしても、仮想線Ｙ１、仮想線Ｙ２には交差
する。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】図１は本発明の実施例１に係る液晶パネルの平面図である。
【図２】図２は図１の液晶パネルを構成するＣＦ基板の裏面図である。
【図３】図３は図２のIII部分の拡大平面図である。
【図４】図４は図３のIV−IV線の断面図である。
【図５】図５は実施例２の液晶パネルを構成するＣＦ基板の一部拡大平面図である。
【図６】図６Ａは公知技術の液晶パネル製造工程のフロー図、図６Ｂはマザー基板の平面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１、１Ａ：液晶パネル  ２：ＡＲ基板  ３、３Ａ：ＣＦ基板  ４：シール材  ５ａ、６ａ
：（表示領域内の）フォトスペーサ  ５１〜５４、５１１〜５１４、６１〜６４、６１１
〜６１４：（非表示領域内の）柱状スペーサ  ＢＭ：ブラックマトリクス  ＤＡ：表示領
域  ＰＡ：周辺領域（非表示領域）Ｙ１、Ｙ２、Ｙ'１、Ｙ'２：第１、第２仮想線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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