(57)【要約】【課題】植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）2009196978.tif 000047〔式中、Ｒ1は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基または直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕で示されるアミド化合物は、植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2009196978.tif 000045
〔式中、Ｒ1は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基または直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
Ｒ1がフッ素原子である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項３】
Ｒ1が水素原子である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項４】
Ｒ2が直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項５】
Ｒ2が直鎖Ｃ１−Ｃ５アルキル基である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項６】
Ｒ2がメチル基又はエチル基である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項７】
Ｒ2がメチル基又はペンチル基である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項８】
Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ３−Ｃ４アルキル基である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項９】
請求項１〜８いずれか一項記載のアミド化合物と担体とを含有する植物病害防除剤。
【請求項１０】
請求項１〜８いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。
【請求項１１】
植物病害を防除するための請求項１〜８いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【請求項１２】
式（Ｖ）
2009196978.tif 000046
〔式中、Ｒ1は水素原子またはフッ素原子を表す。〕
で示されるアミド化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミド化合物とその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
植物病害防除剤の有効成分として多くの化合物が開発され、実用に供されている。しかしながら、これらの化合物は必ずしも十分な防除効力を示さない場合もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００５／０３３０７９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すべく検討の結果、下記式（Ｉ）
2009196978.tif 000002
〔式中、Ｒ1は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基または直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す場合もある。）が植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は以下の〔１〕〜〔１２〕の通りである。
〔１〕  式（Ｉ）
2009196978.tif 000003
〔式中、Ｒ1は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ2は直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基または直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
〔２〕  Ｒ1がフッ素原子である〔１〕記載のアミド化合物。
〔３〕  Ｒ1が水素原子である〔１〕記載のアミド化合物。
〔４〕  Ｒ2が直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔５〕  Ｒ2が直鎖Ｃ１−Ｃ５アルキル基である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔６〕  Ｒ2がメチル基又はエチル基である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔７〕  Ｒ2がメチル基又はペンチル基である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔８〕  Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ３−Ｃ４アルキル基である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔９〕  〔１〕〜〔８〕いずれか一項記載のアミド化合物と担体とを含有する植物病害防除剤（以下、本発明防除剤と記す場合もある。）。
〔１０〕  〔１〕〜〔８〕いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。（以下、本発明防除方法と記す場合もある。）
〔１１〕  植物病害を防除するための〔１〕〜〔８〕いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
〔１２〕  式（Ｖ）
2009196978.tif 000004
〔式中、Ｒ1は水素原子またはフッ素原子を表す。〕
で示されるアミド化合物。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、植物病害を防除することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明化合物において、Ｒ2で示される直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基とは、炭素鎖に枝分かれがない（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を意味する。
Ｒ2で示される直鎖Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ、
直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基としては、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、４−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、５−メトキシペンチル基及び５−エトキシペンチル基が挙げられる。
【０００８】
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2がメチル基又はエチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖Ｃ１−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がメチル基又はペンチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2が３−（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）プロピル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2が４−（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）ブチル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が３−（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）プロピル基であるアミド化合物；及び
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が４−（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）ブチル基であるアミド化合物。
【０００９】
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）、（製造法２）又は（製造法３）により製造することができる。
【００１０】
（製造法１）
本発明化合物は、化合物（ＩＩ）、化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
2009196978.tif 000005
〔式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す。）、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（以下、ＭＴＢＥと記す。）等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと記す。）等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド（以下、ＤＭＳＯと記す。）等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す。）及び１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（以下、ＢＯＰ試薬と記す。）等が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＩ）１モルに対して化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＩ）１モルに対して縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物をクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１１】
（製造法２）
本発明化合物は、化合物（ＩＶ）又はその塩酸塩と化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
2009196978.tif 000006
〔式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＶ）１モルに対して化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＶ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０℃〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１２】
（製造法３）
本発明化合物は、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
2009196978.tif 000007
〔式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表し、Ｌは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等の酸アミド類、ＤＭＳＯ等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等が挙げられる。
該反応では化合物（Ｖ）１モルに対して化合物（ＶＩ）が通常１〜１０モルの割合、化合物（Ｖ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０℃〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１３】
化合物（Ｖ）は例えば以下の（合成法１）又は（合成法２）により製造することができる。
【００１４】
（合成法１）
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＩ）、化合物（ＶＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
2009196978.tif 000008
〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等の酸アミド類、ＤＭＳＯ等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、ＷＳＣ及び１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、ＢＯＰ試薬等が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＩ）１モルに対して化合物（ＶＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＩ）１モルに対して縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０℃〜１４０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物（Ｖ）を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができる。単離された化合物（Ｖ）を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１５】
（合成法２）
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＶ）又はその塩酸塩と化合物（ＶＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することもできる。
2009196978.tif 000009
〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＶ）１モルに対して化合物（ＶＩＩ）が通常０．５〜１モルの割合、化合物（ＩＶ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０℃〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物（Ｖ）を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができる。単離された化合物（Ｖ）を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１６】
本発明化合物としては、具体的には以下の化合物が挙げられる。
Ｎ−（３−メトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−エトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−プロポキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−ブトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−ペンチルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−へキシルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−エトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（２−フルオロ−３−プロポキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（３−ブトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（２−フルオロ−３−ペンチルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（２−メトキシエトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［２−フルオロ−３−（２−メトキシエトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［２−フルオロ−３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（４−メトキシブトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［２−フルオロ−３−（４−メトキシブトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［２−フルオロ−３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（２−エトキシエトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（２−エトキシエトキシ）−２−フルオロフェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（３−エトキシプロポキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（３−エトキシプロポキシ）−２−フルオロフェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（４−エトキシブトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（４−エトキシブトキシ）−２−フルオロフェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、
Ｎ−［３−（５−エトキシペンチルオキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド、及び、
Ｎ−［３−（５−エトキシペンチルオキシ）−２−フルオロフェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド。
【００１７】
本発明防除剤は、本発明化合物と担体とを含有する。担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。本発明防除剤は通常さらに界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明防除剤には本発明化合物が重量比で通常０．１〜９９％、好ましくは０．２〜９０％含有される。
【００１８】
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、ろう石クレー、ベントナイト、酸性白土、タルク）、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられる。液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族又は脂環式炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルロニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、ＤＭＦ、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）が挙げられる。
【００１９】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
【００２０】
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤、分散剤、増粘剤、濡れ剤、増量剤、酸化防止剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【００２１】
植物病害を防除するために本発明防除剤を施用する方法としては、例えば茎葉散布等の生育した植物への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理、種子消毒等の種子への処理等が挙げられる。
【００２２】
また、本発明防除剤は他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混用又は併用することができる。
【００２３】
かかる他の殺菌剤としては、例えば、プロピコナゾール、プロチオコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等のアゾール系殺菌化合物；フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン等の環状アミン系殺菌化合物；カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等のベンズイミダゾール系殺菌化合物；プロシミドン；シプロディニル；ピリメタニル；ジエトフェンカルブ；チウラム；フルアジナム；マンコゼブ；イプロジオン；ビンクロゾリン；クロロタロニル；キャプタン；メパニピリム；フェンピクロニル；フルジオキソニル；ジクロフルアニド；フォルペット；クレソキシムメチル；アゾキシストロビン；トリフロキシストロビン；フルオキサストロビン；ピコキシストロビン；ピラクロストロビン；ジモキシストロビン；ピリベンカルブ；スピロキサミン；キノキシフェン；フェンヘキサミド；ファモキサドン；フェナミドン；ゾキサミド；エタボキサム；アミスルブロム；イプロヴァリカルブ；ベンチアバリカルブ；シアゾファミド；マンジプロパミド；ボスカリド；ペンチオピラド；メトラフェノン；フルオピラン；ビキサフェン；シフルフェナミド及びプロキナジドが挙げられる。
【００２４】
本発明防除方法は本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する。本発明防除方法は通常本発明防除剤を植物又は土壌に処理することで行われる。
【００２５】
本発明防除剤を本発明防除方法に使用する際の量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、本発明防除剤中の本発明化合物量で１０００ｍ2あたり、通常１〜５００ｇ、好ましくは２〜２００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明化合物濃度は、通常０．０００５〜２重量％、好ましくは０．００５〜１重量％である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、本発明防除剤中の本発明化合物量で種子１ｋｇあたり通常０.００１〜１００g、好ましくは０．０１〜５０gの範囲で施用される。
【００２６】
本発明防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明防除剤は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。
【００２７】
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。
【００２８】
本発明化合物は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地又は非農耕地用における有害生物防除剤として使用することができる。本発明化合物は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、該作物等に対して薬害を与えることなく、当該農耕地の害虫を防除することができる場合がある。
【００２９】
農作物：トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。
野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。
果樹：仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木：チャ、クワ、花木類、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）、ヤトロファ等。
芝生：シバ類（ノシバ、コウライシバ等）、バミューダグラス類（ギョウギシバ等）、ベントグラス類（コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等）、ブルーグラス類（ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等）、フェスク類（オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等）、ライグラス類（ネズミムギ、ホソムギ等）、カモガヤ、オオアワガエリ等。
その他：花卉、観葉植物等。
【００３０】
上記「植物」とは、イソキサフルトール等のＨＰＰＤ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のＡＬＳ阻害剤、グリホサート等のＥＰＳＰ合成酵素阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、フルミオキサジン等のＰＰＯ阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ、２，４−Ｄ等の除草剤に対する耐性を古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
【００３１】
古典的な育種法により耐性を付与された「植物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネがありＣｌｅａｒｆｉｅｌｄ（登録商標）の商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によるチフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のダイズがあり、ＳＴＳダイズの商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物の例としてＳＲコーン等がある。アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ（Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ）８７巻、７１７５〜７１７９頁（１９９０年）等に記載されている。またアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼがウィード・サイエンス（Ｗｅｅｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）５３巻、７２８〜７４６頁（２００５年）等に報告されており、こうした変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により植物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を植物アセチルＣｏＡカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術（Ｇｕｒａ  Ｔ．  １９９９．  Ｒｅｐａｉｒｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｇｅｎｏｍｅ’ｓ  Ｓｐｅｌｌｉｎｇ  Ｍｉｓｔａｋｅｓ．  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ２８５：  ３１６−３１８．）に代表される塩基置換変異導入核酸を植物細胞内に導入して植物のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ遺伝子またはＡＬＳ遺伝子等に部位特異的アミノ酸置換変異を導入することにより、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤またはＡＬＳ阻害剤等に耐性の植物を作出することができる。
【００３２】
遺伝子組換え技術により耐性を付与された植物の例として、グリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種があり、ラウンドアップアップレディ（ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ（登録商標））、ＡｇｒｉｓｕｒｅＧＴ等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種があり、リバティーリンク（ＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋ（登録商標））等の商品名ですでに販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタはＢＸＮの商品名で既に販売されている。
【００３３】
上記「植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった植物も含まれる。
【００３４】
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウスやバチルス・ポピリエ由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１またはＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３またはＶＩＰ３Ａ等の殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
【００３５】
またこの様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１、Ｃｒｙ９Ｃ、Ｃｒｙ３４ＡｂまたはＣｒｙ３５Ａｂ等のδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３またはＶＩＰ３Ａ等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の１つまたは複数が置換されている。
【００３６】
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３７４７５３、ＷＯ９３／０７２７８、ＷＯ９５／３４６５６、ＥＰ−Ａ−０４２７５２９、ＥＰ−Ａ−４５１８７８、ＷＯ０３／０５２０７３等に記載されている。
【００３７】
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、半翅目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫、線虫類への耐性を植物へ付与する。
【００３８】
また、１つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つまたは複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｂ毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｒｏｏｔｗｏｒｍ（登録商標）（Ｃｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｐｌｕｓ（登録商標）（Ｃｒｙ１ＡｂとＣｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、Ｈｅｒｃｕｌｅｘ  Ｉ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ｆａ２毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン  Ｎ−アセチルトランスフェラーゼ（ＰＡＴ）を発現するトウモロコシ品種）、ＮｕＣＯＴＮ３３Ｂ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、Ｂｏｌｌｇａｒｄ  Ｉ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、Ｂｏｌｌｇａｒｄ  ＩＩ（登録商標）（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２Ａｂ毒素とを発現するワタ品種）、ＶＩＰＣＯＴ（登録商標）（ＶＩＰ毒素を発現するワタ品種）、ＮｅｗＬｅａｆ（登録商標）（Ｃｒｙ３Ａ毒素を発現するジャガイモ品種）、ＮａｔｕｒｅＧａｒｄ（登録商標）Ａｇｒｉｓｕｒｅ（登録商標）ＧＴ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ（ＧＡ２１  グリホサート耐性形質）、Ａｇｒｉｓｕｒｅ（登録商標）  ＣＢ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ（Ｂｔ１１コーンボーラー（ＣＢ）形質）、Ｐｒｏｔｅｃｔａ（登録商標）等が挙げられる。
【００３９】
上記「植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質の例として、ＰＲタンパク等が知られている（ＰＲＰｓ、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５、ＷＯ９５／３３８１８、ＥＰ−Ａ−０３５３１９１等に記載されている。
【００４０】
こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ＰＲタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、ＷＯ０３／０００９０６に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５、ＷＯ９５／３３８１８、ＥＰ−Ａ−０３５３１９１等に記載されている。
【００４１】
上記「植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した植物も含まれる。例として、ＶＩＳＴＩＶＥ（登録商標）（リノレン含量を低減させた低リノレン大豆）あるいは、ｈｉｇｈ−ｌｙｓｉｎｅ（ｈｉｇｈ−ｏｉｌ）  ｃｏｒｎ（リジンあるいはオイル含有量を増量したコーン）等が挙げられる。
【００４２】
さらに、上記の古典的な除草剤形質あるいは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
【００４３】
本発明化合物により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌類病害が挙げられる。具体的には以下の植物病害を挙げることができる。
【００４４】
イネのいもち病（Magnaporthe grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）；
ムギ類のうどんこ病（Erysiphe graminis）、赤かび病（Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale）、さび病（Puccinia striiformis， P. graminis, P. recondita, P. hordei）、雪腐病（Typhula sp.,Micronectriella nivalis）、裸黒穂病（Ustilago tritici, U. nuda）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、網斑病（Pyrenophora teres Drechsler）、立枯れ病（Gaeumannomyces graminis）；
カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、そうか病（Elsinoe fawcetti）、果実腐敗病（Penicillium digitatum, P. italicum）；
リンゴのモニリア病（Monilinia mali）、腐らん病（Valsa ceratosperma）、うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、斑点落葉病（Alternaria alternata apple pathotype）、黒星病（Venturia inaequalis）、炭そ病（Glomerella cingulata）；
ナシの黒星病（Venturia nashicola, V. pirina）、黒斑病（Alternaria alternata Japanese pear pathotype）、赤星病（Gymnosporangium haraeanum）；
モモの灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、フォモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）；
【００４５】
ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina）、晩腐病（Glomerella cingulata）、うどんこ病（Uncinula necator）、さび病（Phakopsora ampelopsidis）、ブラックロット病（Guignardia bidwellii）、べと病（Plasmopara viticola）；
カキの炭そ病（Gloeosporium kaki）、落葉病（Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae）；
ウリ類の炭そ病（Colletotrichum lagenarium）、うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、疫病（Phytophthora sp.）、苗立枯病（Pythium sp.）；
トマトの輪紋病（Alternaria solani）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）；
ナスの褐紋病（Phomopsis vexans）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）；
アブラナ科野菜の黒斑病（Alternaria japonica）、白斑病（Cercosporella brassicae）；
ネギのさび病（Puccinia allii）、ダイズの紫斑病（Cercospora kikuchii）、黒とう病（Elsinoe glycines）、黒点病（Diaporthe phaseolorum var. sojae）、さび病( Phakopsora pachyrhizi)
インゲンの炭そ病（Colletotrichum lindemthianum）
ラッカセイの黒渋病（Cercospora personata）、褐斑病（Cercospora arachidicola）、白絹病（Sclerotium rolfsii）；
エンドウのうどんこ病（Erysiphe pisi）；
ジャガイモの夏疫病（Alternaria solani）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens）；
イチゴのうどんこ病（Sphaerotheca humuli）；
チャの網もち病（Exobasidium reticulatum）；白星病（Elsinoe leucospila）、輪斑病（Pestalotiopsis sp.）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）
タバコの赤星病（Alternaria longipes）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、炭そ病（Colletotrichum tabacum）、べと病（Peronospora tabacina）、疫病（Phytophthora nicotianae）；
【００４６】
テンサイの褐斑病（Cercospora beticola）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）；
バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、うどんこ病（Sphaerotheca pannosa）；
キクの褐斑病（Septoria chrysanthemi−indici）、白さび病（Puccinia horiana）；
タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病（Botrytis alli）、小菌核性腐敗病（Botrytis squamosa）；
種々の作物の灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）；ダイコンの黒すす病（Alternaria brassicicola）；
シバのダラースポット病（Sclerotinia homeocarpa）、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病（Rhizoctonia solani）；並びに
バナナのシガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola、Pseudocercospora musae）。
【実施例】
【００４７】
次に、製造例、製剤例及び試験例等の実施例を示す。なお、部は重量部を表す。
【００４８】
製造例１
[１，５]ナフチリジン−２−カルボン酸０．５０ｇ、３−メトキシベンジルアミン０．３９ｇ、トリエチルアミン０．５８ｇ、ＤＭＦ１１ｍｌの混合物にＢＯＰ試薬１．５２ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−（３−メトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１）と記す。）０．８２ｇを得た。
本発明化合物（１）
2009196978.tif 000010
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.81 (3H, s), 4.73 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.85 (1H, ddd, J = 8.3, 2.6, 0.8 Hz), 6.95-6.96 (1H, m), 6.99-7.02 (1H, m), 7.29 (1H, dd, J = 8.1, 7.7 Hz), 7.68 (1H, dd, J = 8.7, 4.0 Hz), 8.37 (1H, ddd, J = 8.7, 1.7, 0.7 Hz), 8.51 (1H, br s), 8.55 (1H, dd, J = 8.7, 0.7 Hz), 8.59 (1H, d, J = 8.7 Hz), 9.05 (1H, dd, J = 4.0, 1.7 Hz).
【００４９】
製造例２
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、ヨードエタン０．１ｇ及び炭酸セシウム０．１９ｇを順次加えて室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−（３−エトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（２）と記す。）０．１５ｇを得た。
本発明化合物（２）
2009196978.tif 000011
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.40 (3H, t, J = 7.3 Hz), 4.03 (2H, q, J = 7.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.84 (1H, dd, J = 8.1, 2.1 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.25-7.30 (1H, m), 7.68 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.36-8.41 (1H, m), 8.44-8.65 (3H, m), 9.04-9.05 (1H, m).
【００５０】
製造例３
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１７ｇ、１−ヨードプロパン０．１３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２３ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（３−プロポキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（３）と記す。）０．０５ｇを得た。
本発明化合物（３）
2009196978.tif 000012
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.02 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.75-1.84 (2H, m), 3.92 (2H, t, J = 6.4 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.96-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 2.2 Hz).
【００５１】
製造例４
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１７ｇ、１−ブロモブタン０．１ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２３ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（３−ブトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（４）と記す。）０．０５ｇを得た。
本発明化合物（４）
2009196978.tif 000013
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.96 (3H, t, J = 7.4 Hz), 1.44-1.52 (2H, m), 1.71-1.79 (2H, m), 3.97 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.85 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.6, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 2.7 Hz).
【００５２】
製造例５
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１５ｇ、１−ヨードペンタン０．２ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（３−ペンチルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（５）と記す。）０．０７ｇを得た。
本発明化合物（５）
2009196978.tif 000014
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.90-0.94 (3H, m), 1.34-1.46 (4H, m), 1.74-1.81 (2H, m), 3.94-3.98 (2H, m), 4.71-4.72 (2H, m), 6.83-7.02 (3H, m), 7.25-7.29 (1H, m), 7.68-7.72 (1H, m), 8.39 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.55-8.61 (2H, m), 9.04-9.07 (1H, m).
【００５３】
製造例６
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１５ｇ、１−ヨードヘキサン０．１６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（６）と記す。）０．０７ｇを得た。
本発明化合物（６）
2009196978.tif 000015
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (3H, t, J = 6.5 Hz), 1.32-1.48 (6H, m), 1.75-1.80 (2H, m), 3.96 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.27-7.29 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.56-8.59 (2H, m), 9.04-9.06 (1H, m).
【００５４】
製造例７
[１，５]ナフチリジン−２−カルボン酸０．５０ｇ、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩０．５５ｇ、トリエチルアミン０．５８ｇ、ＤＭＦ１２ｍｌの混合物にＢＯＰ試薬１．５２ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（７）と記す。）０．８０ｇを得た。
本発明化合物（７）
2009196978.tif 000016
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 4.80 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.90-6.96 (1H, m), 7.04-7.08 (2H, m), 7.69 (1H, dd, J= 8.1, 4.0 Hz), 8.40 (1H, d, J= 8.1 Hz), 8.53-8.58 (1H, brs), 8.55 (2H, s), 9.05 (1H, d, J = 4.0 Hz).
【００５５】
製造例８
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１５ｇ、ヨードエタン０．１ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．１９ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−（３−エトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（８）と記す。）０．１５ｇを得た。
本発明化合物（８）
2009196978.tif 000017
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 6.9 Hz), 4.12 (2H, q, J = 6.9 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.89-6.94 (1H, m), 7.00-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.6, 4.2 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz), 8.52-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
【００５６】
製造例９
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２０ｇ、１−ヨードプロパン０．１５ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（２−フルオロ−３−プロポキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（９）と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物（９）
2009196978.tif 000018
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.06 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.83-1.88 (2H, m), 4.00 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 7.01-7.04 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.53-8.56 (3H, m), 9.04-9.06 (1H, m).
【００５７】
製造例１０
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモブタン０．１１ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（３−ブトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１０）と記す。）０．０９０ｇを得た。
本発明化合物（１０）
2009196978.tif 000019
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.99 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.47-1.55 (2H, m), 1.78-1.85 (2H, m), 4.04 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.1 Hz), 8.51-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.4 Hz).
【００５８】
製造例１１
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２０ｇ、１−ヨードペンタン０．１７ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（２−フルオロ−３−ペンチルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１１）と記す。）０．１４ｇを得た。
本発明化合物（１１）
2009196978.tif 000020
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.94 (3H, t, J = 5.4 Hz), 1.38-1.59 (4H, m), 1.80-1.87 (2H, m), 4.04 (2H, t, J = 5.2 Hz), 4.78-4.81(2H, m), 6.91-6.95 (1H, m), 7.01-7.05 (2H, m), 7.67-7.72 (1H, m), 8.41 (1H, d, J = 7.2 Hz), 8.51-8.60 (3H, m), 9.03-9.07 (1H, m).
【００５９】
製造例１２
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．１７ｇ、１−ヨードヘキサン０．１８ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、１５％水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してＮ−（２−フルオロ−３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１２）と記す。）０．０５ｇを得た。
本発明化合物（１２）
2009196978.tif 000021
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (3H, t, J = 6.5 Hz), 1.32-1.48 (6H, m), 1.75-1.80 (2H, m), 3.96 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.27-7.29 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.2 Hz)
【００６０】
製造例１３
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、１−ブロモ−３−メトキシプロパン０．１５ｇ及びＤＭＦ２ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１３）と記す。）０．１１ｇを得た。
本発明化合物（１３）
2009196978.tif 000022
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.07 (2H, m), 3.34 (3H, s), 3.55 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.85 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.5, 1.0 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
【００６１】
製造例１４
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、１−ブロモ−３−メトキシプロパン０．１３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［２−フルオロ−３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１４）と記す。）０．１７ｇを得た。
本発明化合物（１４）
2009196978.tif 000023
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.06-2.12 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.58 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.14 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.79 (2H, dd, J = 6.3, 1.2 Hz), 6.92-6.96 (1H, m), 7.02-7.05 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.7, 1.7 Hz), 8.54-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
【００６２】
製造例１５
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、４−メトキシブチル メタンスルホネート０．１８ｇ及びＤＭＦ２ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（４−メトキシブトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１５）と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物（１５）
2009196978.tif 000024
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.68-1.77 (2H, m), 1.82-1.86 (2H, m), 3.33 (3H, s), 3.40-3.45 (2H, m), 3.96-4.00 (2H, m), 4.71 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.82-6.85 (1H, m), 6.93-7.00 (2H, m), 7.24-7.30 (1H, m), 7.66-7.71 (1H, m), 8.36-8.40 (1H, m), 8.50 (1H, br s), 8.54-8.60 (2H, m), 9.03-9.06 (1H, m).
【００６３】
製造例１６
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、４−メトキシブチル メタンスルホネート０．１５ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［２−フルオロ−３−（４−メトキシブトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１６）と記す。）０．１１ｇを得た。
本発明化合物（１６）
2009196978.tif 000025
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.80 (2H, m), 1.87-1.93 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.46 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.89-6.94 (1H, m), 6.99-7.04 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.51-8.55 (3H, m), 9.03-9.06 (1H, m).
【００６４】
製造例１７
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、１−ブロモ−５−メトキシペンタン０．１８ｇ及びＤＭＦ２ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１７）と記す。）０．２ｇを得た。
本発明化合物（１７）
2009196978.tif 000026
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.49-1.69 (4H, m), 1.76-1.83 (2H, m), 3.32 (3H, s), 3.39 (2H, t, J = 6.5 Hz), 3.96 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.84 (1H, ddd, J = 8.2, 2.6, 0.7 Hz), 6.94-6.95 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.37-8.40 (1H, m), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
【００６５】
製造例１８
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、３−エトキシプロピル メタンスルホネート０．１９ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（３−エトキシプロポキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１８）と記す。）０．２５ｇを得た。
本発明化合物（１８）
2009196978.tif 000027
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.16-1.22 (3H, m), 1.98-2.07 (2H, m), 3.45-3.54 (2H, m), 3.58 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.07 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.84-6.86 (1H, m), 6.96-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 3.7 Hz), 8.38 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.50 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 4.1 Hz).
【００６６】
製造例１９
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、３−エトキシプロピル メタンスルホネート０．１５ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（３−エトキシプロポキシ）−２−フルオロフェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（１９）と記す。）０．１３ｇを得た。
本発明化合物（１９）
2009196978.tif 000028
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.20 (3H, t, J = 7.0 Hz), 2.06-2.12 (2H, m), 3.50 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.62 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.15 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.79 (2H, dd, J = 6.3, 1.0 Hz), 6.92-6.98 (1H, m), 6.99-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 8.52-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
【００６７】
製造例２０
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、４−エトキシブチル−ｐ−トルエンスルホネート０．２４ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（４−エトキシブトキシ）フェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（２０）と記す。）０．２５ｇを得た。
本発明化合物（２０）
2009196978.tif 000029
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.19 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.70-1.78 (2H, m), 1.81-1.89 (2H, m), 3.44-3.50 (4H, m), 3.99 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.84 (1H, dd, J = 8.2, 2.2 Hz), 6.94-6.95 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
【００６８】
製造例２１
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２ｇ、４−エトキシブチル−ｐ−トルエンスルホネート０．２３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２７ｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−［３−（４−エトキシブトキシ）−２−フルオロフェニル］メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、本発明化合物（２１）と記す。）０．２ｇを得た。
本発明化合物（２１）
2009196978.tif 000030
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.20 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.74-1.81 (2H, m), 1.88-1.95 (2H, m), 3.46-3.51 (4H, m), 4.07 (2H, t, J = 6.4 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.90-6.95 (1H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.1 Hz), 8.53-8.57 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.4 Hz).
【００６９】
次に、本発明化合物の中間体の製造を参考製造例として示す。
【００７０】
参考製造例１
［１，５］ナフチリジン−２−カルボン酸０．３０ｇ、２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩０．４６ｇ、ピリジン０．５ｍｌおよびDMF５ｍｌの混合物にＷＳＣ０．４３ｇを加え、室温で８時間攪拌した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してＮ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２５ｇを得た。
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド
2009196978.tif 000031
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.80 (2H, d, J = 6.6 Hz), 5.47 (1H, s), 6.94-7.04 (3H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.7, 1.6 Hz), 8.51 (1H, s), 8.57 (2H, s), 9.06 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
【００７１】
参考製造例２
３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩０．４２ｇ、［１，５］ナフチリジン−２−カルボン酸０．３ｇ、ＷＳＣ０．４３ｇ、ピリジン０．５ｍｌ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物を室温で３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してＮ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド０．２９ｇを得た。
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド
2009196978.tif 000032
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.70 (2H, d, J = 6.3 Hz), 5.19 (1H, s), 6.79 (1H, dd, J = 7.8, 2.5 Hz), 6.92 (1H, s), 6.97 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.25 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 8.51 (1H, s), 8.55 (2H, s), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
【００７２】
参考製造例３
３−ヒドロキシベンズアルデヒド２０g、２−プロパノール２００ｍｌ、ピリジン１６ｇ及びヒドロキシルアミン塩酸塩１５ｇの混合物を室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮し、３−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム２６ｇを得た。
３−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム２５ｇ、５％パラジウム炭素１．３ｇ及びエタノール３００ｍｌの混合物を約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣、アセトニトリル２００ｍｌ及び濃塩酸２８ｇを０℃で混合し、生成した固体を濾過により集めた。その固体をアセトニトリルで洗浄し、減圧下で乾燥して３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩２０ｇを得た。
３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩
2009196978.tif 000033
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.89 (2H, q, J = 5.6 Hz), 6.79-6.82 (1H, m), 6.88-6.91 (2H, m), 7.18 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.51 (3H, s), 9.72 (1H, s).
【００７３】
参考製造例４
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアルコール４．５ｇと塩化メタンスルホニル２．９ｍｌ及びＴＨＦ５０ｍｌを混合し、０℃で攪拌した。その混合物にトリエチルアミン６．０ｍｌを加え、０℃で３０分間、次いで室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた後、セライト（登録商標）を通して濾過した。ろ液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮し、（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート６．９ｇを得た。
（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート
2009196978.tif 000034
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.00 (3H, s), 3.91 (3H, s), 5.30 (2H, s), 6.96-7.14 (3H, m).
【００７４】
参考製造例５
（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート６．７ｇ及びフタルイミドカリウム５．３ｇ及びＤＭＦ６０ｍｌを混合し、７０℃で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄してＮ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド５．８ｇを得た。
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド
2009196978.tif 000035
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.87 (3H, s), 4.94 (2H, s), 6.86-6.90 (2H, m), 6.98-7.02 (1H, m), 7.73 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz), 7.86 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz).
【００７５】
参考製造例６
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド７．７ｇとエタノール３０ｍｌとの混合物にヒドラジン１水和物１．６３ｇを滴下し、４時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。残渣に希塩酸を加え、濾過した。得られた濾液に酢酸エチルを加え、該混合液の水層のｐＨが１１になるまで１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、２層に分液した。有機層に濃塩酸を加え、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩４．５ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩
2009196978.tif 000036
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.85 (3H, s), 4.03 (2H, q, J = 5.3 Hz), 7.13-7.23 (3H, m), 8.60 (3H, br s).
【００７６】
参考製造例７
２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒド１５．４ｇ、ＴＨＦ３０ｍｌ及び水３ｍｌの混合溶液に、ピリジン２４ｍｌを滴下し、氷冷下でヒドロキシルアミン塩酸塩１３．８を加えた。室温で３０分間撹拌した。反応混合物を全体の容量が半分程度となるまで減圧下濃縮した。この混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム１６ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム
2009196978.tif 000037
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 6.96-7.00 (1H, m), 7.03-7.12 (1H, m), 7.30-7.33 (1H, m), 7.64-7.78 (1H, m), 8.39 (1H, s).
【００７７】
参考製造例８
１０％パラジウム炭素２．４ｇ、１０Ｎ塩酸８．３ｍｌ及びエタノール２００ｍｌの混合溶液に、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム１２．８ｇを加え、約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩８．２ｇを得た。
【００７８】
参考製造例９
１０％パラジウム炭素１．８ｇ、水１０ｍｌ、１０Ｎ塩酸６．５ｍｌ及びエタノール５０ｍｌの混合溶液に、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒド１０ｇ及びエタノール８０ｍｌの混合溶液を加え、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩５．４ｇを加えた。室温で２時間攪拌した。この混合物を約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣に水を加えて、クロロホルムで抽出した。得られた水層のｐＨが１１になるまで１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン８．０ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン
2009196978.tif 000038
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.55 (2H, br s), 3.89 (3H, s), 3.90 (2H, br s), 6.86-6.91 (2H, m), 7.02-7.06 (1H, m).
【００７９】
参考製造例１０
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミンの塩酸塩４ｇに４８％臭化水素酸１５ｍｌを加え、５時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩４．０ｇを得た。
２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩
2009196978.tif 000039
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.04 (2H, q, J = 5.5 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 6.97-7.06 (2H, m), 8.23 (3H, br s), 10.05 (1H, br s).
【００８０】
参考製造例１１
［１，５］ナフチリジン６９．４ｇを７００ｍｌのクロロホルムに溶解し、１２０ｇのｍ−クロロ過安息香酸を室温で加え、２時間攪拌した。この混合物に１２ｇのｍ−クロロ過安息香酸を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［１，５］ナフチリジン Ｎ−オキサイド７３ｇを得た。
［１，５］ナフチリジン Ｎ−オキサイド
2009196978.tif 000040
1H-NMR  (CDCl3) δ：7.53-7.57（1H, m）, 7.68-7.71 (1H, m), 8.03 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.57 (1H, d, J = 8.0Hz), 9.05-9.06 (2H, m).
【００８１】
参考製造例１２
［１，５］ナフチリジン Ｎ−オキサイド７３ｇ、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン７６ｇを７００ｍｌのＴＨＦに溶解し、５２ｇのトリメチルシリルシアニドを氷冷下で１時間かけて滴下した。約２時間かけて室温に戻し、１５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−シアノ［１，５］ナフチリジン３８ｇを得た。
２−シアノ［１，５］ナフチリジン
2009196978.tif 000041
1H-NMR (CDCl3) δ：7.80 (1H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz), 7.96 (1H, d, J = 8.0  Hz), 8.49 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.58 (1H, d, J = 8.0 Hz), 9.14 (1H, d, J = 4.0 Hz).
【００８２】
参考製造例１３
２−シアノ［１，５］ナフチリジン１．６ｇを４０ｍｌの５０％硫酸水溶液に溶解し、加熱還流下で４時間攪拌した。反応混合物を氷冷してから、反応混合物に５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を少しづつ加えたところ、結晶が析出した。この結晶を濾過により集め、減圧下乾燥して、［１，５］ナフチリジン−２−カルボン酸１．５ｇを得た。
［１，５］ナフチリジン−２−カルボン酸
2009196978.tif 000042
1H-NMR (DMSO-d6) δ：7.92 (1H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz), 8.36 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.60 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.61 (1H, d, J = 8.0 Hz), 9.14 (1H, d, J = 8.0 Hz), 13.65 (1H, br s).
【００８３】
次に製剤例を示す。
【００８４】
製剤例１
本発明化合物（１）〜（２１）のいずれか１種 ５０部、リグニンスルホン酸カルシウム ３部、ラウリル硫酸マグネシウム ２部及び合成含水酸化珪素 ４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００８５】
製剤例２
本発明化合物（１）〜（２１）のいずれか１種 ２０部とソルビタントリオレエ−ト １．５部とを、ポリビニルアルコ−ル ２部を含む水溶液 ２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム ０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト ０．１部を含む水溶液 ４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル １０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
【００８６】
製剤例３
本発明化合物（１）〜（２１）のいずれか１種 ２部、カオリンクレー ８８部及びタルク １０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００８７】
製剤例４
本発明化合物（１）〜（２１）のいずれか１種 ５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル １４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ６部及びキシレン ７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
【００８８】
製剤例５
本発明化合物（１）〜（２１）のいずれか１種 ２部、合成含水酸化珪素 １部、リグニンスルホン酸カルシウム ２部、ベントナイト ３０部及びカオリンクレー ６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００８９】
製剤例６
本発明化合物（１）〜（２１）のいずれか１種 １０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 ５０部を含むホワイトカーボン ３５部及び水 ５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。
【００９０】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
【００９１】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。本発明化合物（１）、（２）、（５）〜（９）、（１１）、（１３）〜（１６）及び（１８）〜（２１）の各々を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ  ｃｉｎｅｒｅａ）の胞子含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１２℃、多湿下に５日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（２）、（５）〜（９）、（１１）、（１３）〜（１６）及び（１８）〜（２１）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００９２】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。本発明化合物（１）、（２）、（５）〜（９）、（１１）及び（１３）〜（２１）の各々を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）の菌糸含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１８℃、多湿下に４日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（２）、（５）〜（９）、（１１）及び（１３）〜（２１）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
また、本発明化合物の代わりにBioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 9, p.2583(1999)に記載されたＮ−（２−メトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、比較化合物（Ａ）と記す。）を用いて同じ試験を行った。その結果、比較化合物（Ａ）を処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の７６％以上であった。
Ｎ−（２−メトキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミドとは、下記式（Ａ）で示される化合物である。
2009196978.tif 000043
【００９３】
試験例３
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。その後、キュウリ灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ  ｃｉｎｅｒｅａ）の胞子含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に接種した後、本発明化合物（１）、（２）、（７）、（８）及び（１３）〜（２１）の水和剤をそれぞれ水で２００ｐｐｍの濃度に希釈し、該散布液を前記キュウリの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、１２℃、多湿下に２日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（２）、（７）、（８）及び（１３）〜（２１）を処理した植物の病斑面積は、それぞれ無処理区の病斑面積の３０％以下であった。
また、本発明化合物の代わりに国際公開第２００５／０３３０７９号パンフレットに記載されたＮ−（３−フェノキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミド（以下、比較化合物（Ｂ）と記す。）を用いて同じ試験を行った。その結果、比較化合物（Ｂ）を処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の５０％以上であった。
Ｎ−（３−フェノキシフェニル）メチル−２−［１，５］ナフチリジンカルボキサミドとは、下記式（Ｂ）で示される化合物である。
2009196978.tif 000044
【００９４】
試験例４
プラスチックポットに床土を詰め、イネ（品種；日本晴）を播種し、温室内で１２日間育成させた。本発明化合物（１）、（５）〜（７）、（９）、（１３）及び（１８）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(５００ppm)にし、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、散布した植物の周囲にイネいもち病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ  ｇｒｉｓｅａ）罹病葉を有するポットを静置した。全てのイネは夜間のみ多湿下におき、接種５日後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物（１）、（５）〜（７）、（９）、（１３）及び（１８）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。