(57)【要約】【課題】液滴吐出法を用いて有機ＥＬパネルの機能層を形成する場合に、第１溶媒を蒸散させ、一旦機能層を作成した後、第２溶媒をスプレーコーティング法により供給して機能層を再度形成する方法がある。この場合、有機ＥＬパネル全面に溶媒が同時に供給されるため、有機ＥＬパネルの中心部と外周部との間には、溶媒の揮発に伴う溶媒雰囲気の濃度に分布が生じ、有機ＥＬ素子の特性に大きな分布が発生するという課題がある。【解決手段】液滴吐出法を用いて、有機ＥＬパネル１の機能領域１１７内での蒸散速度を揃えるための吐出パターンとして、平面視にて市松模様状のパターンを描くように、機能領域１１７に第２溶媒２２３を吐出後蒸散させ、次に隣接する機能領域１１７Ａ内に第２溶媒２２３を吐出後蒸散させる。その結果として、第２溶媒２２３のガス雰囲気の分布を抑えることができ、均一な特性を有する有機ＥＬパネル１を提供可能となる。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素領域が隔壁を介して、マトリクス状に配置される有機ＥＬパネルの製造方法であって、
（１）有機機能層前駆体を第１溶媒に溶解又は分散させた第１機能液を、前記隔壁と離して、前記画素領域内に吐出させる工程と、
（２）前記第１機能液から前記第１溶媒を蒸散させ、前記隔壁と離れた前記有機機能層前駆体を形成する工程と、
（３）前記画素領域内に、第２溶媒を各々の前記画素領域内に別々に吐出し、前記有機機能層前駆体を再度溶解又は分散させて、第２機能液を形成させる工程と、
（４）前記第２機能液から順次前記第２溶媒を蒸散させて有機機能層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１溶媒の沸点と比べ、前記第２溶媒の沸点が低いことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１溶媒の沸点は１７０℃以上３００℃以下であり、前記第２溶媒の沸点は７０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１溶媒はシクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、又はシクロヘキシルベンゼンとテトラメチルベンゼンの混合液であり、前記第２溶媒は、トルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液であることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第２溶媒の吐出は、前記マトリクスの縦方向、及び前記マトリクスの横方向に位置する前記画素領域において、前記第２溶媒が未吐出状態又は蒸散した状態を持つ領域に行われることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項６】
複数の画素領域が隔壁を介して、マトリクス状に配置される有機ＥＬパネルの製造方法であって、
（１）有機機能層前駆体を第１溶媒に溶解又は分散させた第１機能液を、前記隔壁の一部を覆う状態で、前記画素領域内に吐出させる工程と、
（２）前記第１機能液から前記第１溶媒を蒸散させ、前記隔壁の一部を覆う層状の前記有機機能層前駆体を形成する工程と、
（３）前記画素領域内に、第２溶媒を各々の前記画素領域内に別々に吐出し、前記有機機能層前駆体を再度溶解又は分散させて、第２機能液を形成させる工程と、
（４）前記第２機能液から順次前記第２溶媒を蒸散させて有機機能層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１溶媒の沸点と比べ、前記第２溶媒の沸点が低いことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって前記第１溶媒の沸点は１７０℃以上３００℃以下であり、前記第２溶媒の沸点は７０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第１溶媒はシクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、又はシクロヘキシルベンゼンとテトラメチルベンゼンの混合液であり、前記第２溶媒は、トルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液であることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項６から９のいずれか一項に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記第２溶媒の吐出は、前記マトリクスの縦方向、及び前記マトリクスの横方向に位置する前記画素領域において、前記第２溶媒が未吐出状態又は蒸散した状態を持つ領域に行われることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記吐出を行う工程には、液滴吐出法を用いることを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の有機ＥＬパネルの製造方法を用いて形成されることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項１３】
請求項１２に記載の有機ＥＬパネルを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬパネルの製造方法、有機ＥＬパネル並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬパネルは、液晶パネルと比べ広い視野角を有している。加えて有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子は自発光素子であるため、液晶パネルと比べ黒の表現力に優れており、次世代の表示パネルとして高く評価されている。有機ＥＬパネルは、有機機能層の構成を変えることでＲＧＢ（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青）の３原色を発光させることができるため、カラー表示用ディスプレイとして開発が進められてきている。
【０００３】
有機ＥＬ素子をＲＧＢ表示素子として用いる場合、各色に対応した液状の有機機能層前駆体を液滴吐出法を用いて各画素に吐出し、乾燥を行うことで有機機能層を形成する技術が知られている。液滴吐出法を用いて有機機能層を形成することで、有機機能層を形成すべき領域にのみ有機機能層前駆体を供給することができる。そのため、スピンコート法等、基板全面に有機機能層前駆体を塗布した後、有機機能層が不要な領域をエッチングして除去する方法と比べ、廃棄物の量を抑制できるという長所がある。そのため、環境負荷を削減し、かつ、エッチング工程の省略や、高価な有機機能層前駆体の使用量を削減できることからＴＡＴの短縮、製造コストの低減化が可能となる。液滴吐出法を用いて有機ＥＬパネル内で均質性の高い有機ＥＬ素子を形成している例としては、例えば特許文献１や特許文献２を挙げることができる。
【０００４】
特許文献１では、一旦液滴吐出法により、有機ＥＬ素子内に有機機能層前駆体を吐出、乾燥させ有機機能層を形成した後、改めて溶媒をスプレーコーティング法により塗布し、この有機機能層を再溶解させて、有機ＥＬパネル内での層質の均一性を向上させる技術が示されている。また特許文献２では、有機ＥＬ素子内に有機機能層前駆体を吐出する前に溶媒を有機ＥＬ素子内に吐出し、続けて有機機能層前駆体を吐出することで、インクの乾燥時間を制御し、層質を均一化する技術が示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１４２２６１号公報
【特許文献２】特開２００４−３１０７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の技術を用いた場合、溶媒は、スプレーコーティング法により有機ＥＬパネルに供給されている。そのため、有機ＥＬパネル全面に溶媒が同時に供給される。この場合、有機ＥＬパネルの中心部と外周部との間には、溶媒の揮発に伴う溶媒雰囲気の濃度が有機ＥＬパネル内で異なってくる。具体的には、有機ＥＬパネルの中心部は溶媒雰囲気の濃度が高く、外周部では溶媒雰囲気の濃度が低くなる。そのため、溶媒の乾燥に必要となる時間が有機ＥＬパネル内で分布を持ち、有機ＥＬ素子の特性に大きな分布が発生するという課題がある。
【０００７】
また、特許文献２の技術を用いた場合、溶媒の乾燥に必要な時間が長くなるため、有機ＥＬ素子毎の乾燥時間差そのものは大きくなる。そのため、有機ＥＬパネル内で有機機能層の層質に大きな分布が発生するという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例１］本適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法は、複数の画素領域が隔壁を介して、マトリクス状に配置される有機ＥＬパネルの製造方法であって、（１）有機機能層前駆体を第１溶媒に溶解又は分散させた第１機能液を、前記隔壁と離して、前記画素領域内に吐出させる工程と、（２）前記第１機能液から前記第１溶媒を蒸散させ、前記隔壁と離れた前記有機機能層前駆体を形成する工程と、（３）前記画素領域内に、第２溶媒を各々の前記画素領域内に別々に吐出し、前記有機機能層前駆体を再度溶解又は分散させて、第２機能液を形成させる工程と、（４）前記第２機能液から順次前記第２溶媒を蒸散させて有機機能層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
これによれば、隔壁と離れた有機機能層前駆体を形成し、その後、再度有機機能層前駆体を第２溶媒を用いて再度溶解又は分散させて層形成することで、成層履歴（特に隔壁部）に付随する層形状の変化を抑制することができる。そのため、一旦成層してから再度溶解して成層し直す方法と比べ均一な層を成層することが可能となる。また、第２溶媒は各画素領域に対して独立に吐出される。そのため、各画素領域近傍の第２溶媒雰囲気濃度を揃えて第２溶媒を除去させることが可能となり、均一な層を成層することが可能となる。
【００１１】
［適用例２］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１溶媒の沸点と比べ、前記第２溶媒の沸点が低いことを特徴とする。
【００１２】
上記した適用例によれば、第１溶媒の沸点を高くすることで、吐出工程を行う場合に、吐出部での第１機能液の乾燥固着に伴う吐出不良を抑えることができる。そして、第１溶媒の沸点と比べ、沸点を下げた第２溶媒を用いることで、有機ＥＬパネル全面で、第２溶媒は速やかに時間差なく揮発される。従って、第２溶媒の乾燥時間の面内分布に起因する有機機能層の層厚変動が抑制される。そのため、有機ＥＬパネル全面で均一な層厚を有する有機機能層を得ることが可能となる。
【００１３】
［適用例３］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１溶媒の沸点は１７０℃以上３００℃以下であり、前記第２溶媒の沸点は７０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする。
【００１４】
上記した適用例によれば、実験結果として、１７０℃以上の沸点を有する第１溶媒を用いることで、吐出部での第１機能液の乾燥固着に伴う吐出不良を抑えることに成功している。また、３００℃以下の沸点を有する第１溶媒を用いることで吐出した後での真空乾燥が容易に行える。
【００１５】
また、同様に７０℃以上の沸点を有する第２溶媒を用いることで、吐出を行う際に生じる蒸散が抑えられるため、再度溶解又は分散させる時間が確保される。結果として有機ＥＬパネル全面での有機機能層の状態を揃えることに成功している。また、１５０℃以下の沸点を有する第２溶媒を用いることで吐出された第２溶媒は、速やかに蒸散し、乾燥に伴うムラの発生が抑制される。
【００１６】
［適用例４］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１溶媒はシクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、又はシクロヘキシルベンゼンとテトラメチルベンゼンの混合液であり、前記第２溶媒は、トルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液であることを特徴とする。
【００１７】
上記した適用例によれば、実験結果として、第１溶媒として、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、又はシクロヘキシルベンゼンとテトラメチルベンゼンの混合液を用いることで、吐出部での第１機能液の乾燥固着に伴う吐出不良を抑えることに成功している。また、吐出した後での乾燥が容易に行えている。又、第２溶媒として、トルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液を用いることで、有機ＥＬパネル全面での有機機能層の状態を揃えることを実現している。
【００１８】
［適用例５］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第２溶媒の吐出は、前記マトリクスの縦方向、及び前記マトリクスの横方向に位置する前記画素領域において、前記第２溶媒が未吐出状態又は蒸散した状態を持つ領域に行われることを特徴とする。
【００１９】
上記した適用例によれば、隣接画素に第２溶媒が未吐出状態又は蒸散した状態となる条件を満たす画素へ第２溶媒を吐出することで、隣接画素で発生する第２溶媒の揮発ガス雰囲気による蒸散速度の影響を抑えることが可能となる。そのため、第２溶媒の蒸散速度を均一性高く揃えることが可能となり、有機ＥＬパネル全面で均一な層厚を有する有機機能層を得ることが可能となる。
【００２０】
［適用例６］本適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法は、複数の画素領域が隔壁を介して、マトリクス状に配置される有機ＥＬパネルの製造方法であって、（１）有機機能層前駆体を第１溶媒に溶解又は分散させた第１機能液を、前記隔壁の一部を覆う状態で、前記画素領域内に吐出させる工程と、（２）前記第１機能液から前記第１溶媒を蒸散させ、前記隔壁の一部を覆う層状の前記有機機能層前駆体を形成する工程と、（３）前記画素領域内に、第２溶媒を各々の前記画素領域内に別々に吐出し、前記有機機能層前駆体を再度溶解又は分散させて、第２機能液を形成させる工程と、（４）前記第２機能液から順次前記第２溶媒を蒸散させて有機機能層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００２１】
これによれば、第２溶媒は各画素領域に対して独立に吐出される。そのため、各画素領域近傍の第２溶媒雰囲気濃度を揃えて第２溶媒を除去させることが可能となり、均一な層を成層することが可能となる。
【００２２】
［適用例７］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１溶媒の沸点と比べ、前記第２溶媒の沸点が低いことを特徴とする。
【００２３】
上記した適用例によれば、第１溶媒の沸点を高くすることで、吐出工程を行う場合に、吐出部での第１機能液の乾燥固着に伴う吐出不良を抑えることができる。そして、第１溶媒の沸点と比べ、沸点を下げた第２溶媒を用いることで、有機ＥＬパネル全面で、第２溶媒は速やかに時間差なく揮発される。従って、第２溶媒の乾燥時間の面内分布に起因する有機機能層の層厚変動が抑制される。そのため、有機ＥＬパネル全面で均一な層厚を有する有機機能層を得ることが可能となる。
【００２４】
［適用例８］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１溶媒の沸点は１７０℃以上３００℃以下であり、前記第２溶媒の沸点は７０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする。
【００２５】
上記した適用例によれば、実験結果として、１７０℃以上の沸点を有する第１溶媒を用いることで、吐出部での第１機能液の乾燥固着に伴う吐出不良を抑えることに成功している。また、３００℃以下の沸点を有する第１溶媒を用いることで吐出した後での真空乾燥が容易に行える。また、同様に７０℃以上の沸点を有する第２溶媒を用いることで、吐出を行う際に生じる蒸散が抑えられるため、再度溶解又は分散させる時間が確保される。結果として有機ＥＬパネル全面での有機機能層の状態を揃えることに成功している。また、１５０℃以下の沸点を有する第２溶媒を用いることで吐出された第２溶媒は、速やかに蒸散し、乾燥に伴うムラの発生が抑制される。
【００２６】
［適用例９］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第１溶媒はシクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、又はシクロヘキシルベンゼンとテトラメチルベンゼンの混合液であり、前記第２溶媒は、トルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液であることを特徴とする。
【００２７】
上記した適用例によれば、実験結果として、第１溶媒として、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、又はシクロヘキシルベンゼンとテトラメチルベンゼンの混合液を用いることで、吐出部での第１機能液の乾燥固着に伴う吐出不良を抑えることに成功している。また、吐出した後での乾燥が容易に行えている。又、第２溶媒として、トルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液を用いることで、有機ＥＬパネル全面での有機機能層の状態を揃えることを実現している。
【００２８】
［適用例１０］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記第２溶媒の吐出は、前記マトリクスの縦方向、及び前記マトリクスの横方向に位置する前記画素領域において、前記第２溶媒が未吐出状態又は蒸散した状態を持つ領域に行われることを特徴とする。
【００２９】
上記した適用例によれば、隣接画素に第２溶媒が未吐出状態又は蒸散した状態となる条件を満たす画素へ第２溶媒を吐出することで、隣接画素で発生する第２溶媒の揮発ガス雰囲気による蒸散速度の影響を抑えることが可能となる。そのため、第２溶媒の蒸散速度を均一性高く揃えることが可能となり、有機ＥＬパネル全面で均一な層厚を有する有機機能層を得ることが可能となる。
【００３０】
［適用例１１］上記適用例にかかる有機ＥＬパネルの製造方法において、前記吐出を行う工程には、液滴吐出法を用いることを特徴とする。
【００３１】
上記した適用例によれば、必要とする部分にのみ液滴を提供することが可能となるため、廃棄物の発生量を抑えることが可能となる。また、吐出量を精密に制御することが可能となるため、有機ＥＬパネル全面で均一な層厚を有する有機機能層を得ることが可能となる。
【００３２】
［適用例１２］本適用例にかかる有機ＥＬパネルは、上記した有機ＥＬパネルの製造方法を用いて形成されることを特徴とする。
【００３３】
これによれば、有機ＥＬパネルは上記した製造方法を含めて製造される。そのため、従来技術を用いた場合と比べ、高い表示品質を有する有機ＥＬパネルを提供することが可能となる。
【００３４】
［適用例１３］本適用例にかかる電子機器は、上記した有機ＥＬパネルを有することを特徴とする。
【００３５】
これによれば、上記した有機ＥＬパネルを含む電子機器を提供できるため、従来技術を用いた場合と比べ、高い表示品質を有する電子機器を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
（有機ＥＬパネルの構成）
以下、有機ＥＬ素子の製造方法を用いて得られる有機ＥＬ素子を含む、有機ＥＬパネルの構成について、図面を参照して説明する。
【００３７】
図１は、有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図である。この有機ＥＬパネル１は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｂｓｉｓｔｏｒ、以下ＴＦＴと称する）を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線１０１と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とからなる配線構成を有すると共に、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、画素（サブ画素４０）が設けられている。
【００３８】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００３９】
サブ画素４０の各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用のＴＦＴ１２２と、このスイッチング用のＴＦＴ１２２を介して信号線１０２とを共有してなる、画素信号を保持する保持容量１１３と、保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用のＴＦＴ１２３と、ＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が与えられる画素電極（陽極）２３と、画素電極（陽極）２３と向き合う位置にある対向電極（陰極）５０と、画素電極（陽極）２３と対向電極（陰極）５０との間に挟み込まれる位置にある有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）（Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色））と、が設けられている。
【００４０】
次に、本実施形態の有機ＥＬパネル１の具体的な態様を、図２を参照して説明する。ここで、図２は有機ＥＬパネル１の構成を模式的に示す平面図である。
図２に示すように、基板２０Ａ上の実表示領域４には、Ｒ，Ｇ，Ｂに対応して設けられたサブ画素４０がマトリクス状に規則的に配置されている。ここで、基板２０Ａは、基板本体２０、及び基板本体２０上に設けられた、例えばＴＦＴ１２２，１２３（図１参照）を含む。
【００４１】
また、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色のサブ画素４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は一つの基本単位となって表示単位画素４１を構成している。また、サブ画素４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の各々は、ＴＦＴ１２２，１２３の動作に伴って、赤色発光（Ｒ）、緑色発光（Ｇ）、及び青色発光（Ｂ）に対応する有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）（図１参照）を備える構成を有している。これによって表示単位画素４１は、Ｒ，Ｇ，Ｂの発光を混色させてフルカラー表示を行う構成を有している。
【００４２】
なお、本実施形態において画素部３は、中央部分の実表示領域４（図中二点鎖線枠内）と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５（一点鎖線及び二点鎖線の間の領域）とに区画されている。そして、実表示領域４の図２中両側には、走査線駆動回路８０が配置されている。この走査線駆動回路８０は、ダミー領域５の下層側に位置して設けられている。
【００４３】
また、実表示領域４の図２中上方側には検査回路９０が配置されており、この検査回路９０はダミー領域５の下層側に配置されて設けられている。この検査回路９０は、有機ＥＬパネル１の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（図示せず）を備え、製造途中や出荷時における有機ＥＬパネルの品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
【００４４】
（有機ＥＬ素子の製造方法−１：隔壁と離して有機機能層前駆体を形成する方法）
以下、有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の製造方法について図面を用いて説明する。図３（ａ），（ｂ）、図４（ａ），（ｂ）、図５（ａ），（ｂ）は、本実施形態に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造方法を説明するための工程断面図である。以下、この図面に沿って説明を行う。なお、説明の便宜上、図面上側を「上」と定義する。
【００４５】
まず、工程１として、ガラス等の透明部材を用いた基板本体２０（図２参照）上にＴＦＴ１２２，ＴＦＴ１２３（図１参照）等を形成してなる基板２０Ａを洗浄し、層間絶縁層２０２となる窒化珪素層をＣＶＤ法（化学気相堆積法）等を用いて４００ｎｍ程度堆積する。
【００４６】
次に、工程２として、ＩＴＯを５０ｎｍ程度の厚さとなるようスパッタ法を用いて積層する。そして不要な部分をエッチング除去することで光透過性を有する陽極２０４を形成する。
【００４７】
次に、工程３として、酸化珪素層を５０ｎｍ程度層形成し、発光領域２１１が形成される領域をエッチング除去することで第１隔壁２０５を形成する。
【００４８】
次に、工程４として、感光性アクリル樹脂を２μｍ程度の厚さに塗布し、露光・現像することで第２隔壁２０６を形成する。第２隔壁２０６内部である機能領域１１７（図６参照）の平面寸法は例えば１５０μｍ×５０μｍ程度の形状を持つ略長方形の形状を有している。
【００４９】
次に、工程５として、酸素プラズマ処理、四弗化炭素ガスでのプラズマ処理等を行い、陽極２０４と第１隔壁２０５に親液性を与え、第２隔壁２０６に撥液性を与える。
【００５０】
次に、工程６として、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液を液滴吐出法を用いて第２隔壁２０６内に吐出する。この場合において、第２隔壁２０６に撥液性を与えているため、第２隔壁２０６ではＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液は弾かれ、第１隔壁２０５、陽極２０４上に流入するため、液滴吐出位置の若干のずれは補正され、液滴は第１隔壁２０５、陽極２０４上に再現性高く配置される。
【００５１】
次に、工程７として、乾燥工程等を行うことで、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いたキャリア注入層としての正孔注入層２０７が形成される。この工程を終了した状態での断面図を図３（ａ）に示す。正孔注入層２０７の厚さとしては、例えば２０ｎｍ程度が好適である。
【００５２】
次に、工程８として、有機機能層前駆体液２２０を液滴吐出法を用いて第２隔壁２０６内に、かつ第２隔壁２０６に触れぬよう吐出する。この場合、有機機能層前駆体液２２０を構成する第１溶媒２２２としては、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン等、沸点が１７０℃以上３００℃以下の溶媒を用いることが好適である。また、有機機能層２２４（図５（ａ）参照）を構成する材質としては、ポリフルオレン系高分子誘導体にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープした物質を用いることが可能であり、これらのドーパントを一つ、あるいは複数を混ぜて用いることでＲＧＢ３原色を得ることが可能となる。
【００５３】
ここで、第１溶媒２２２の沸点が１７０℃以上の値を有することで、液滴吐出を行う際に、吐出ヘッド近傍で溶媒が蒸発することで生じる射出ムラを抑制した状態で液滴吐出を行うことが可能となる。また、３００℃以下の沸点を有することで、真空乾燥法を用いて第１溶媒２２２を蒸散させることが可能となる。
【００５４】
そして、第１溶媒２２２に、有機機能層２２４（図５（ａ）参照）を構成すべく添加される材質の濃度は３ｗｔ％程度が望ましい。この程度の濃度を用いることで、有機機能層２２４の層厚を確保でき、また吐出を容易に行える程度の粘性に抑えることができる。この工程を終了し、有機機能層前駆体液２２０を吐出した後での断面図を図３（ｂ）に示す。
【００５５】
次に、工程９として、真空乾燥を行う。真空乾燥工程を行うことで、第１溶媒２２２は蒸散し、有機機能層前駆体２２１が形成される。有機機能層前駆体２２１は第２隔壁２０６に触れない構造をもって形成される。この工程を終了した状態での断面図を図４（ａ）に示す。
【００５６】
このように、有機機能層前駆体２２１を形成することで、有機機能層前駆体２２１が第２隔壁２０６に触れることで発生する表面状態の変化（履歴）は発生しない。そのため、より均一性が高い有機機能層２２４（図５（ａ）参照）を形成することが可能となる。
【００５７】
次に、工程１０として、沸点が７０℃以上１５０℃以下の第２溶媒２２３を第２隔壁２０６内に吐出する。ここで用いる第２溶媒２２３としては、例えばトルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液を用いることが好適である。この吐出工程で、有機機能層前駆体２２１は再度溶解又は分散し、一旦液状となって第２隔壁２０６内に膜状に広がる。この工程を終了した状態での断面図を図４（ｂ）に示す。
【００５８】
そして、第２溶媒２２３を蒸散させることで有機機能層２２４が形成される。この工程は大気圧中で容易に進行し、真空乾燥法等の技法を用いることなく膜状の有機機能層２２４を形成することができる。この工程を終了した状態での断面図を図５（ａ）に示す。
【００５９】
ここで、工程１０について更に詳細な説明を行う。図６（ａ）は、第２隔壁２０６によりマトリクス状に区切られた機能領域１１７内に、有機機能層前駆体２２１が配置されている状態を示す平面図、図６（ｂ）は、第２溶媒２２３を吐出した直後の状態を示す平面図である。
【００６０】
図６（ａ）に示すように、有機機能層前駆体２２１は第２溶媒２２３を第２隔壁２０６に区切られた領域内に吐出する場合において、縦横方向に隣接する機能領域１１７Ａ内に第２溶媒２２３が残留していない機能領域１１７内に第２溶媒２２３を吐出し、第２溶媒２２３を蒸散させて有機機能層２２４を形成することが好ましい。この条件で第２溶媒２２３を吐出することで、機能領域１１７Ａからの第２溶媒２２３雰囲気の発生は抑えられる。そのため、機能領域１１７内での蒸散速度を、有機ＥＬパネル１（図２参照）内で揃えることが可能となる。そのため、蒸散工程を行うことで発生する有機機能層２２４の乾燥ムラを抑え、均一性が高い有機ＥＬパネル１を形成することが可能となる。
【００６１】
また、有機機能層前駆体２２１は第２隔壁２０６に触れないよう形成されている。そのため、有機機能層前駆体２２１が第２隔壁２０６に触れることで発生する第２隔壁２０６における表面状態の変化（履歴）は発生しない。そのため、より均一性が高い有機機能層２２４を形成することが可能となる。また、この工程を行うことで、機能領域１１７内においても均一性を向上させることが可能となり、機能領域１１７内に有機機能層２２４（図５（ａ）参照）が部分的に配置されない状態（所謂膜抜け）の発生を抑制することが可能となる。
【００６２】
このように、機能領域１１７内での蒸散速度を揃えるための吐出パターンとしては、図６（ａ）でハッチングした機能領域１１７に図６（ｂ）に示すように第２溶媒２２３を吐出し、この機能領域１１７に含まれる第２溶媒２２３を蒸散させた後、ハッチングのない機能領域１１７Ａ内に第２溶媒２２３を吐出する等の工程を用いても良い。なお、ここでは市松模様状に第２溶媒２２３を吐出する例について説明したが、これは、２つ以上間を開けて第２溶媒２２３を吐出する等の工程を用いても良い。また、蒸散速度が吐出速度よりも速い場合には、隣接する機能領域１１７Ａに続けて吐出工程を行っても良い（この場合でも、隣接する機能領域１１７Ａには第２溶媒２２３は残っていないこととなる）。ここで、有機機能層２２４の層厚としては、例えば２０〜３０ｎｍ程度とすることが好ましい。
【００６３】
次に、工程１１として、５ｎｍ程度の厚さを有するカルシウムを用いた陰極２２５を形成する。そして、陰極２２５を覆うように２００ｎｍ以上の層厚を有する、アルミニウムを用いた光反射層２２６を形成することで、図５（ｂ）に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が形成される。
【００６４】
ここでは、透明な基板２０Ａを通過させて光を取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造方法について説明したが、これは容易にトップエミッション型の製造工程に変更することが可能である。即ち、透明な基板２０Ａと層間絶縁層２０２との間に例えば２００ｎｍ以上の厚みを有するアルミニウム等の反射層を形成する工程を加えることで基板２０Ａ側の反射率を高くし、光透過性を有する陰極として酸化に強いＭｇ／Ａｇを用い、光反射層２２６の製造工程を除くことでトップエミッション型の構造が得られる工程を得ることができる。また、光反射層２２６を形成する工程を省略し、別の反射層を形成する工程を行わないことで、両面で視認可能な構造を得ることも可能である。
【００６５】
（有機ＥＬ素子の製造方法−２：隔壁と接触する有機機能層前駆体を形成する方法）
以下、有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の製造方法について図面を用いて説明する。この製造方法は、前述した（有機ＥＬ素子の製造方法−１）と共通する部分が多いため、共通する部分については適宜引用し、重複を避ける。図７（ａ），（ｂ）、図８（ａ），（ｂ）、図９（ａ），（ｂ）は本実施形態に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造方法を説明するための工程断面図である。以下、この図面に沿って説明を行う。なお、説明の便宜上、図面上側を「上」と定義する。
【００６６】
工程１から工程７までは、（有機ＥＬ素子の製造方法−１）と同様の製造工程を用いる。
【００６７】
そして、工程８として、有機機能層前駆体液２２０を液滴吐出法を用いて第２隔壁２０６内に正孔注入層２０７を覆う膜状形状を形成するよう吐出する。この場合、有機機能層前駆体液２２０を構成する第１溶媒２２２としては、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン等、沸点が１７０℃以上３００℃以下の溶媒を用いることが好適である。また、有機機能層２２４（図８（ｂ）参照）を構成する材質としては、ポリフルオレン系高分子誘導体にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープした物質を用いることが可能であり、これらのドーパントを一つ、あるいは複数を混ぜてＲＧＢ３原色を得ることが可能となる。
【００６８】
ここで、第１溶媒２２２の沸点が１７０℃以上の値を有することで、液滴吐出を行う際に、吐出ヘッド近傍で溶媒が蒸発することで生じる射出ムラを抑制した状態で液滴吐出を行うことが可能となる。また、３００℃以下の沸点を有することで、次工程で行われる真空乾燥法を用いて第１溶媒２２２を蒸散させることが可能となる。そして、第１溶媒２２２に、有機機能層２２４（図８（ｂ）参照）を構成すべく添加される材質の濃度は０．５〜１．５ｗｔ％程度が望ましい。この程度の濃度を用いることで、吐出を容易に行える粘性に抑えることができ、高い吐出量再現性を得ることが可能となる。この工程を終了した状態での断面図を図７（ａ）に示す。
【００６９】
次に、工程９として、真空乾燥工程を行うことで、有機機能層前駆体２２１が形成される。有機機能層前駆体２２１は図示したように第２隔壁２０６に触れる膜状構造をもって形成される。この工程を終了した状態での断面図を図７（ｂ）に示す。
【００７０】
このように、有機機能層前駆体２２１を形成することで、次工程における第２溶媒２２３（図８（ａ）参照）と正孔注入層２０７との接触を抑制することができる。そのため、正孔注入層２０７の特性に与える影響を抑制して、均一性が高い有機機能層２２４（図８（ｂ）参照）を形成することが可能となる。
【００７１】
次に、工程１０として、沸点が７０℃以上１５０℃以下の第２溶媒２２３を第２隔壁２０６内に吐出する。ここで用いる第２溶媒２２３としては、例えばトルエン、キシレン、又はトルエンとキシレンとの混合液を用いることが好適である。この吐出工程で、有機機能層前駆体２２１は再度溶解又は分散し、一旦液状となって第２隔壁２０６内に膜状に広がる。この工程を終了した状態での断面図を図８（ａ）に示す。
【００７２】
そして、第２溶媒２２３を蒸散させることで有機機能層２２４が形成される。この工程は大気圧中で容易に進行し、真空乾燥法等の技法を用いることなく膜状の有機機能層２２４を形成することができる。この工程を終了した状態での断面図を図８（ｂ）に示す。
【００７３】
ここで、工程１０について更に詳細な説明を行う。図１０（ａ）は、第２隔壁２０６によりマトリクス状に区切られた機能領域１１７内に、有機機能層前駆体２２１が配置されている状態を示す平面図である。図１０（ｂ）は、第２溶媒を吐出した直後の状態を示す平面図である。図１０（ｂ）に示すように、第２溶媒２２３を第２隔壁２０６に区切られた領域内に吐出する場合において、縦横方向に隣接する機能領域１１７Ａ内に第２溶媒２２３が残留していない状態で機能領域１１７内に第２溶媒２２３を吐出し、第２溶媒２２３を蒸散させて有機機能層２２４（図８（ｂ）参照）を形成することが好ましい。この条件で第２溶媒２２３を吐出することで、機能領域１１７Ａからの第２溶媒２２３雰囲気による蒸散時間の変動は抑えられる。そのため、機能領域１１７内での蒸散速度を、有機ＥＬパネル１内で揃えることが可能となる。そのため、蒸散工程を行うことで発生する有機機能層２２４（図８（ｂ）参照）の乾燥ムラを抑え、均一性が高い有機ＥＬパネル１を形成することが可能となる。
【００７４】
このように、機能領域１１７内での蒸散速度を揃えるための吐出パターンとしては、図１０（ａ）でハッチングした機能領域１１７に第２溶媒２２３を吐出し、この機能領域１１７に含まれる第２溶媒２２３を除去した後、ハッチングのない機能領域１１７Ａ内に第２溶媒２２３を吐出する等の工程を用いても良い。なお、ここでは市松模様状に第２溶媒２２３を吐出する例について説明したが、これは、２つ以上間を開けて第２溶媒２２３を吐出する等の工程を用いても良い。また、蒸散速度が吐出速度よりも速い場合には、隣接する機能領域１１７Ａに続けて吐出工程を行っても良い（この場合でも、隣接する機能領域１１７Ａには第２溶媒２２３は残っていないこととなる）。ここで、有機機能層２２４の層厚としては、例えば２０〜３０ｎｍ程度とすることが好ましい。
【００７５】
次に、工程１１として、５ｎｍ程度の厚さを有するカルシウムを用いた陰極２２５を形成する。そして、陰極２２５を覆うように２００ｎｍ以上の層厚を有する、アルミニウムを用いた光反射層２２６を形成することで、図９に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が形成される。
【００７６】
ここでは、透明な基板２０Ａを通過させて光を取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造方法について説明したが、これは容易にトップエミッション型の製造工程に変更することが可能である。即ち、透明な基板２０Ａと層間絶縁層２０２との間に例えば２００ｎｍ以上の厚みを有するアルミニウム等の反射層を形成する工程を加えることで基板２０Ａ側の反射率を高くし、光透過性を有する陰極として酸化に強いＭｇ／Ａｇを用い、光反射層２２６の製造工程を除くことでトップエミッション型の構造が得られる工程を得ることができる。また、光反射層２２６を形成する工程を省略し、別の反射層を形成する工程を行わないことで、両面で視認可能な構造を得ることも可能である。
【００７７】
（電子機器への搭載例）
次に、上記した製造方法を用いた電子機器について説明する。図１１（ａ）〜（ｃ）は、上記した図５（ｂ）や図９に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を用いた有機ＥＬパネル１を含む電子機器の搭載例について説明する。図１１（ａ）に、有機ＥＬパネル１を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータ２０００の構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、有機ＥＬパネル１と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。図１１（ｂ）には、有機ＥＬパネル１を備えた携帯電話機３０００の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての有機ＥＬパネル１を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、有機ＥＬパネル１に表示される画面がスクロールされる。図１１（ｃ）に、有機ＥＬパネル１を適用した情報携帯端末ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓａｔｎｔｓ）４０００の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての有機ＥＬパネル１を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機ＥＬパネル１に表示される。
【００７８】
なお、有機ＥＬパネル１が搭載される電子機器としては、図１１に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した有機ＥＬパネル１が適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図。
【図２】有機ＥＬパネルの構成を模式的に示す平面図。
【図３】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程断面図。
【図４】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程断面図。
【図５】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程断面図。
【図６】（ａ）は、第２隔壁によりマトリクス状に区切られた機能領域内に、有機機能層前駆体が配置されている状態を示す平面図、（ｂ）は、第２溶媒を吐出した直後の状態を示す平面図。
【図７】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程断面図。
【図８】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程断面図。
【図９】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程断面図。
【図１０】（ａ）は、第２隔壁によりマトリクス状に区切られた機能領域内に、有機機能層前駆体が配置されている状態を示す平面図、（ｂ）は、第２溶媒を吐出した直後の状態を示す平面図。
【図１１】（ａ）は、有機ＥＬパネルを備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの模式図、（ｂ）は、携帯電話機の模式図、（ｃ）は、情報携帯端末の模式図。
【符号の説明】
【００８０】
１…有機ＥＬパネル、３…画素部、４…実表示領域、５…ダミー領域、１７…有機ＥＬ素子、２０…基板本体、２０Ａ…基板、４０…サブ画素、４１…表示単位画素、８０…走査線駆動回路、９０…検査回路、１００…データ線駆動回路、１０１…走査線、１０２…信号線、１０３…電源線、１１３…保持容量、１１７…機能領域、１１７Ａ…機能領域、１２２…ＴＦＴ、１２３…ＴＦＴ、２０２…層間絶縁層、２０４…陽極、２０５…第１隔壁、２０６…第２隔壁、２０７…正孔注入層、２１１…発光領域、２２０…有機機能層前駆体液、２２１…有機機能層前駆体、２２２…第１溶媒、２２３…第２溶媒、２２４…有機機能層、２２５…陰極、２２６…光反射層、２０００…パーソナルコンピュータ、２００１…電源スイッチ、２００２…キーボード、２０１０…本体部、３０００…携帯電話機、３００１…操作ボタン、３００２…スクロールボタン、４０００…情報携帯端末、４００１…操作ボタン、４００２…電源スイッチ。
【図１】
2009252613.tif 000003
【図２】
2009252613.tif 000004
【図３】
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【図４】
2009252613.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2009252613.tif 000009
【図８】
2009252613.tif 000010
【図９】
2009252613.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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