(57)【要約】【課題】膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成することができる電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法を提供する。【解決手段】電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にマロン酸を添加し、且つｐＨを２．３〜２．７に調整し、このめっき浴を用いて電気めっきを行なう。凹凸部の凹部で生じる局部的なｐＨ低下を抑制することができ、凹部でのＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の薄膜化やＦｅ−Ｎｉ組成比の変化を抑制することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にマロン酸を添加し、且つｐＨを２．３〜２．７に調整し、このめっき浴を用いて電気めっきを行なうことを特徴とする電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法。
【請求項２】
電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴は、鉄とニッケルの少なくとも一方の塩化物が０．１〜１．０モル／リットルの濃度で含有されていることを特徴とする請求項１に記載の電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法。
【請求項３】
電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にエタノールを添加して成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法。
【請求項４】
陰極電流密度２０〜８０ｍＡ／ｃｍ２で電気めっきを行なうことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の方法で基材の表面にＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜が形成されたものであることを特徴とするＦｅ−Ｎｉ合金めっき構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を用いた電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法、及びこの電気めっき方法で得られたＦｅ−Ｎｉ合金めっき構造体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜は、その磁気に対する特性や機械的特性から、種々の磁性合金薄膜や、機械構造材料などとして用いられている。
【０００３】
このような電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成するために用いられる電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴としては、塩化物浴、硫酸浴、スルファミン酸浴などが従来から使用されている。例えば特許文献１には、塩化第一鉄及び塩化ニッケルを主成分とする塩化物浴を用い、ジカルボン酸イオンを共存させることによって、めっき中に水酸化第二鉄が沈殿することを抑制し、外観や電気的・機械的信頼性に優れたＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成できることが報告されている。
【特許文献１】特開平０７−１８００８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記のような電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を用いて、表面に凹凸を有する基材に電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっきを行なう場合、凹部の底面及びその近傍において、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が薄くなり、また凹部の底面及びその近傍と、凸部など他の部分とでＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜中の鉄とニッケルの組成比が変化するものであった。その結果、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の電気的特性、機械的強度が局部的に大きく異なることになり、めっき不良の原因となるものであった。
【０００５】
例えば、ブラインドビアホールを設けたプリント配線基板に電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっきを行なうと、ブラインドビアホールの底面でのＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が他の箇所よりも薄くなり、またＦｅ−Ｎｉの組成比も他の箇所と異なるものになり、ブラインドビアホールにおける導通信頼性が低下するという問題が生じるものであった。
【０００６】
そして、このような凹凸によってＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が不均一になり、またＦｅ−Ｎｉの組成比が変化する問題は、上記の特許文献１のようにジカルボン酸イオンを共存させた塩化物浴においても解決されていない。
【０００７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成することができる電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法及びＦｅ−Ｎｉ合金めっき構造体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき方法は、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にマロン酸を添加し、且つｐＨを２．３〜２．７に調整し、このめっき浴を用いて電気めっきを行なうことを特徴とするものである。
【０００９】
このように、マロン酸を添加し、且つｐＨを２．３〜２．７に調整した電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を用いることによって、凹凸部の凹部で生じる局部的なｐＨ低下を抑制することができ、凹部においてＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が薄くなったり、Ｆｅ−Ｎｉ組成比が変化したりすることを抑制して、膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成することができるものである。
【００１０】
また本発明は、上記電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴は、鉄とニッケルの少なくとも一方の塩化物が０．１〜１．０モル／リットルの濃度で含有されていることを特徴とするものである。
【００１１】
この発明によれば、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚をより均一化することができるものである。
【００１２】
また本発明は、上記電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にエタノールを添加して成ることを特徴とするものである。
【００１３】
この発明によれば、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の被膜中にボイドが形成されることを抑制し、ボイドによるめっき不良を防ぐことができるものである。
【００１４】
また本発明は、陰極電流密度２０〜８０ｍＡ／ｃｍ２で電気めっきを行なうことを特徴とするものである。
【００１５】
この発明によれば、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚をより均一化することができるものである。
【００１６】
また本発明に係るＦｅ−Ｎｉ合金めっき構造体は、上記の方法で基材の表面にＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜が形成されたものであることを特徴とするものであり、膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成したＦｅ−Ｎｉ合金めっき構造体を得ることができるものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、マロン酸を添加し、且つｐＨを２．３〜２．７に調整した電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を用いて電気めっきを行なうことによって、凹凸の凹部で生じる局部的なｐＨ低下を抑制することができ、凹部においてＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が薄くなったり、Ｆｅ−Ｎｉ組成比が変化したりすることを抑制して、膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成することができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１９】
本発明において電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴の組成は特に限定されるものではないが、硫酸第一鉄及び硫酸ニッケルを主成分とするものが好ましい。この電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴には必要に応じて、ｐＨ緩衝剤としてホウ酸（Ｈ３ＢＯ３）などを、応力緩和剤としてサッカリン（Ｃ７Ｈ４ＮＮａＯ３Ｓ）などを添加することもできる。
【００２０】
本発明は、この電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にマロン酸（ＣＨ２（ＣＯＯＨ）２）を添加し、さらにｐＨを２．３〜２．７の範囲に調整して使用するようにしたものである。
【００２１】
そしてこのように、マロン酸を添加し、且つｐＨを２．３〜２．７に調整した電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を用い、基材を陰極にして電気めっきを行なうにあたって、ジカルボン酸イオンを有するマロン酸によって、浴中に三価の鉄イオンが生成されることを抑制できると共に生成された三価の鉄イオンを錯イオンとして安定化させることができ、基材の表面の凹凸部の凹部において局所的なｐＨの低下を抑制することができものであり、また浴のｐＨが２．３〜２．７であることによって、凹凸部の凹部と他の部分とのｐＨの変化を小さくすることができるものである。この結果、凹凸部の凹部の底面やその近傍に析出されるＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が薄くなることを防いで、凹部と他の部分に形成されるＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚を均一化することができるものであり、またＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜のＦｅ−Ｎｉの組成比も均一化することができるものである。従って、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の電気的特性や機械的強度が局部的に大きく異なることを防ぐことができ、めっき不良を防止することができるものである。
【００２２】
例えば、ブラインドビアホールを表面に設けたプリント配線基板に電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっきを行なうにあたって、ブラインドビアホールの底面においてもＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を他の箇所と同様な厚い膜厚で形成することができるものであり、またＦｅ−Ｎｉの組成比も他の箇所と均一のものになり、ブラインドビアホールにおける導通信頼性を高めることができるものである。
【００２３】
ここで、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴へのマロン酸の添加量は、浴中の第一鉄イオン１モルに対してマロン酸イオンが０．１〜０．２モルとなるように設定するのが好ましい。第一鉄イオン１モルに対してマロン酸イオンが０．１モル未満であると、上記のように三価の鉄イオンが生成されることを抑制し、また生成された三価の鉄イオンを錯イオンとして安定化させる作用が不十分になり、膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成する効果を十分に得ることができない。逆に第一鉄イオン１モルに対してマロン酸イオンが０．２モルを超えると、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜のＦｅ−Ｎｉ組成比の制御が困難になり、Ｆｅ−Ｎｉ組成比が設定した比率から大きく外れるおそれがある。
【００２４】
また、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴のｐＨが２．３〜２．７の範囲を外れると、ｐＨの変化を小さくする作用が不十分になり、膜厚やＦｅ−Ｎｉ組成比が均一なＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜を形成する効果を十分に得ることができない。ｐＨを調整する方法は特に限定されるものではなく、例えばマロン酸の添加量の調節によっても可能である。しかしマロン酸の添加量が上記の範囲から外れることになるおそれがあるので、酸あるいはアルカリを添加してｐＨ調整をするのが好ましい。例えば、硫酸や塩酸等を添加することによってｐＨを下げる調整を行なうことができる。アルカリを添加してｐＨを上げる調整を行なう場合は、水酸化ナトリウム等のアルカリ性物質はニッケルと水酸化物を形成するので、炭酸ニッケルなどを用いてｐＨを上げる調整を行なうのがよい。
【００２５】
また本発明において、電気Ｆｅ−Ｎｉめっき浴として、鉄あるいはニッケルの塩化物を０．１〜１．０モル／リットルの濃度で含有するものを用いるのが好ましい。鉄の塩化物としては、例えば塩化第一鉄を用いることができ、ニッケルの塩化物としては、例えば塩化ニッケルを用いることができる。このように鉄あるいはニッケルの塩化物を含有することによって、めっき時に一価のニッケルイオンを有する中間錯体が多く形成され、凹凸部の凹部と凸部でのＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚をより均一化することができるものである。塩化物濃度が０．１モル／リットル未満であると、膜厚の均一化を高める効果が不十分になり、逆に塩化物濃度が１．０モル／リットルを超えると、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の成膜時の応力が大きくなって、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜に剥がれやクラックなどのめっき不良が発生するおそれがある。
【００２６】
また本発明において、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にエタノールを添加するようにしてもよい。電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を用いて電気めっきを行なう際に、めっき浴中に生じる水素の気泡が原因となって、基材の凹凸部の凹部内にボイドが発生し、凹部内にめっき膜が形成されないなどのめっき不良が発生するおそれがある。特にプリント配線基板の表面に設けたブラインドビアホールはアスペクト比（凹深さ／内径）が２以上の高アスペクトに形成されることが多く、ブラインドビアホール内にめっき浴が浸透し難いことも相俟って、ブラインドビアホール内にはボイドが形成され易く、めっき不良が発生し易い。そこでめっき浴中にラウリル酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して、ボイド発生を防止することが行なわれているが、アスペクト比の高いブラインドビアホールに対してこの方法ではボイドを防ぐことは難しい。
【００２７】
一方、本発明のように電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にエタノールを添加することによって、基材の表面に対する電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴の濡れ性が向上し、基材の表面や凹部内に気泡が付着したり、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の被膜中にボイドが形成されたりすることを防ぐことができるものである。特にブラインドビアホールのような高アスペクトに形成される凹部内にも電気Ｆｅ−Ｎｉめっき浴を良好に浸透させることができ、ボイドのないめっきを行なうことが可能になり、めっき不良の発生を防ぐことができるものである。
【００２８】
電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴へのエタノールの添加量は、基材の凹凸形状にもよるために特に限定されるものではないが、ボイドによるめっき不良を防止するためには、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴にエタノールが５〜２０質量％の濃度となるように添加するのが好ましい。エタノールの添加は、エタノールの揮発を考慮すると、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴を使用する直前に行なうのが好ましい。
【００２９】
また、上記のように基材を陰極にして電気めっきを行なうにあたって、陰極電流密度２０〜８０ｍＡ／ｃｍ２の範囲に設定するのが好ましい。陰極電流密度が２０〜８０ｍＡ／ｃｍ２の範囲の条件で電気めっきを行なうことによって、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚をより均一化することができるものである。電流密度はＦｅ−Ｎｉ合金めっき膜のＦｅ−Ｎｉ組成比に影響を与えるものであり、陰極電流密度が２０ｍＡ／ｃｍ２未満であると、Ｆｅ−Ｎｉ組成比が設定した比率から大きく外れるおそれがある。また陰極電流密度が８０ｍＡ／ｃｍ２を超えると、Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚の均一化を高める効果を十分に得ることができない。
【実施例】
【００３０】
次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００３１】
（実施例１）
硫酸第一鉄（ＮｉＳＯ４・６Ｈ２Ｏ）及び硫酸ニッケル（ＦｅＳＯ４・７Ｈ２Ｏ）を主成分とする電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき浴に、マロン酸を添加し、さらに希硫酸によりｐＨを２．５に調整して、次の組成のめっき浴を調製した。尚、ホウ酸（Ｈ３ＢＯ３）はｐＨ緩衝剤として、サッカリン（Ｃ７Ｈ４ＮＮａＯ３Ｓ・２Ｈ２Ｏ）は応力緩衝剤として作用するものであり、めっき膜の膜厚や合金組成比に影響するものではない。
【００３２】
（めっき浴組成）
ＮｉＳＯ４・６Ｈ２Ｏ              ０．９５モル／リットル
ＦｅＳＯ４・７Ｈ２Ｏ              ０．３５モル／リットル
Ｈ３ＢＯ３                        ０．５０モル／リットル
Ｃ７Ｈ４ＮＮａＯ３Ｓ・２Ｈ２Ｏ      ０．００８モル／リットル
マロン酸                         ０．０５モル／リットル
ｐＨ                             ２．５
一方、圧延銅箔１の表面に紫外線感光性樹脂フィルム２を積層し、フォトリソグラフ法により紫外線感光性樹脂フィルム２にブラインドビアホールとして、孔径５０μｍ、深さ４０μｍの凹部３を形成した基材４を作製し、その表面の全面に導電層５として蒸着法で膜厚約１００ｎｍの金薄膜を形成した（図２参照）。
【００３３】
そして上記のめっき浴に基材４を浸漬し、導電層５を陰極、鉄を陽極として、めっき浴温度５０℃、陰極電流密度４０ｍＡ／ｃｍ２の条件で電気めっきを行ない、導電層５の上に目標平均膜厚が１０μｍになるように、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜６を形成した。
【００３４】
（実施例２）
実施例１のめっき浴組成に、塩化物としてＮｉＣｌ２・６Ｈ２Ｏを０．１７モル／リットルの濃度で加えた。そしてこのめっき浴を用いて、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００３５】
（実施例３）
実施例１のめっき浴組成に、塩化物としてＮｉＣｌ２・６Ｈ２Ｏを０．１７モル／リットルの濃度で加え、さらに希硫酸の添加量を調節してｐＨを２．３に調整した。そしてこのめっき浴を用いて、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００３６】
（実施例４）
実施例１のめっき浴組成に、塩化物としてＮｉＣｌ２・６Ｈ２Ｏを０．１７モル／リットルの濃度で加え、さらに希硫酸の添加量を調節してｐＨを２．７に調整した。そしてこのめっき浴を用いて、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００３７】
（実施例５）
実施例１のめっき浴組成に、塩化物としてＮｉＣｌ２・６Ｈ２Ｏを０．１７モル／リットルの濃度で加え、さらにエタノールを１０質量％の濃度となるように加えた。そしてこのめっき浴を用いて、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００３８】
（比較例１）
マロン酸を添加しない他は、実施例１と同様なめっき浴を用い、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００３９】
（比較例２）
希硫酸の添加量を調節してｐＨを２．２に調整するようにした他は、実施例２と同様なめっき浴を用い、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００４０】
（比較例３）
希硫酸の添加量を調節してｐＨを２．８に調整するようにした他は、実施例２と同様なめっき浴を用い、実施例１と同様にして電気めっきを行なった。
【００４１】
上記のようにして実施例１〜５及び比較例１〜３で電気めっきして得た電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜６について、膜厚均一性、めっき被膜の組成、ボイドの発生を測定して評価した。
【００４２】
膜厚均一性の測定・評価は、基材４の凹部３の箇所を図３のように厚み方向に切断し、切断断面を顕微鏡観察して、紫外線感光性樹脂フィルム２の表面に形成された電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜６の厚みａと、凹部３の底面に形成された電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜６の厚みｂを測定して、図３（ａ）のようにｂ≧ａの場合をレベル「Ａ］、図３（ｂ）のようにａ／２≦ｂ＜ａの場合をレベル「Ｂ」、図３（ｃ）のようにｂ＜ａ／２の場合をレベル「Ｃ」と判定して評価した。結果を表１に示す。尚、ボイドが発生した凹部３については膜厚測定の対象から外した。
【００４３】
めっき被膜の組成の評価は、紫外線感光性樹脂フィルム２の表面と凹部３の底面に形成された電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜６について、ＥＤＳ分析装置（日本電子（株）製「ＪＥＤ−２３００」）を用いて鉄濃度を測定して行なった。そして表１において、紫外線感光性樹脂フィルム２の表面のめっき膜の被膜組成の鉄濃度を分子に、凹部３の底面のめっき膜の被膜組成の鉄濃度を分母に表示した。
【００４４】
ボイドの発生の測定は、めっき後の凹部３の内部を顕微鏡観察して行なった。図４に示すように凹部３内にボイド７が発生していると、凹部３の底面には電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜６が形成されないので、凹部３の底面に導電層５を形成する金薄膜の金色が観察される。そこで、金色が観察される凹部３の数を、ボイド発生によるめっき不良としてカウントした。結果を表１に、凹部３の全孔数１００に対する不良孔数として示した。
【００４５】
【表１】
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【００４６】
表１にみられるように、マロン酸を添加し、ｐＨを２．３〜２．７の範囲に調整しためっき浴を用いた実施例１，３，４のものは、膜厚均一レベルは「Ｂ」であり、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚均一性が高いものであった。またこれらの実施例１，３，４においてめっき膜の被膜組成は、凹部の底面と紫外線感光性樹脂フィルムの表面との間で差が小さく、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜のＦｅ−Ｎｉ組成比の均一性も高いものであった。尚、めっき膜の被膜組成は、めっき膜の機械的強度を考慮すると、鉄濃度のばらつきとして、６０±２質量％の範囲内であることが必要であるが、各実施例のものはいずれもこの範囲を満足するものであった。
【００４７】
一方、マロン酸を添加しないめっき浴を用いた比較例１のものは、膜厚均一レベルが「Ｃ」であり、凹部の底面の電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が非常に薄く、膜厚の均一性を得ることができないものであった。まためっき膜の被膜組成も、凹部の底面では鉄濃度が８質量％と非常に低く、均一なＦｅ−Ｎｉ組成比を得ることができないものであった。
【００４８】
またｐＨが２．３〜２．７の範囲から外れる比較例２，３のものは、凹部の底面のめっき膜の皮膜組成の鉄濃度が、紫外線感光性樹脂フィルムの表面のめっき膜よりも低くなり、均一なＦｅ−Ｎｉ組成比を得ることができないものであった。
【００４９】
また、実施例２のように、０．１７モル／リットルの濃度で塩化物を添加することによって、膜厚均一レベルは「Ａ」になり、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚均一性がさらに向上することが確認された。
【００５０】
さらに実施例５のように、エタノールを添加することによって、膜厚均一レベルは「Ａ」になり、またボイドの発生数は０になって、ボイド発生によるめっき不良をなくすことができることが確認された。
【００５１】
次に、図１（ａ）（ｂ）は基材の凹部を厚み方向に切断した箇所の顕微鏡写真であり、
図１（ａ）は実施例２を、図１（ｂ）は比較例１を示す。図１（ａ）（ｂ）にみられるように、図１（ａ）の実施例２では凹部の底面に電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜が厚い膜厚で形成されており、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚は均一である。これに対して図１（ｂ）の比較例１では凹部の底面の電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚は非常に薄く、電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜の膜厚が不均一であることが観察された。また図１（ｃ）は、図１（ａ）や図１（ｂ）に「１」〜「５」で示した測定点での、めっき膜の鉄濃度を示すものである。図１（ｃ）にみられるように、実施例２ではめっき膜の鉄濃度にばらつきがなく、均一なＦｅ−Ｎｉ組成比であるのに対して、比較例１では凹部の底部においてめっき膜の鉄濃度が減少しており、Ｆｅ−Ｎｉ組成比にばらつきがあることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】（ａ）は実施例２の顕微鏡写真、（ｂ）は比較例１の顕微鏡写真、（ｃ）は実施例２と比較例１のめっき膜の鉄濃度を示すグラフである。
【図２】実施例及び比較例で用いた基材の断面図である。
【図３】実施例及び比較例における、膜厚均一性の測定・評価の基準を示す断面図である。
【図４】実施例及び比較例における、ボイドが発生した状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
３  凹部
４  基材
６  電気Ｆｅ−Ｎｉ合金めっき膜
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図１】
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