(57)【要約】【課題】高精度なウエハテーブルの位置計測及び駆動制御を実現する。【解決手段】  エンコーダシステムを構成する光源１６Ｘａ，１６Ｙａから、テーブルＷＴＢの一側面を介してその上面に設けられたグレーティングに計測光Ｌｘ１，Ｌｙ２を入射させ、これらの計測光に由来する回折光Ｌｘ２，Ｌｙ２を光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂを用いて受光して、テーブルＷＴＢの位置情報を計測する。それにより、テーブルＷＴＢの周辺雰囲気の揺らぎの影響が小さいため、高精度なテーブルの位置計測が可能になる。干渉計システムを用いてエンコーダシステムの計測誤差を補正する補正データを作成し、その補正データを用いてエンコーダシステムの計測結果を補正し、補正された計測結果に基づいてテーブルＷＴＢを駆動することができるので、高精度なテーブルの駆動制御が可能となる。【選択図】図２
2009252852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を保持して実質的に所定平面に沿って移動可能で、前記物体の裏面側で前記所定平面に実質的に平行な面に沿ってグレーティングが配置され、所定波長の光が内部を進行可能な移動体と；
前記所定平面と交差する前記移動体の一側面を介して前記移動体の外部から前記グレーティングに前記所定波長の計測光を入射させ、該計測光に由来する前記グレーティングからの回折光を受光し、前記所定平面内の計測方向に関する前記移動体の第１位置情報を計測する計測システムと；
前記移動体の少なくとも前記計測方向に関する基準位置からの変位である第２位置情報を計測する干渉計システムと；
前記第１、第２位置情報の少なくとも一方に基づいて、前記移動体を前記計測方向に駆動する駆動システムと；を備える移動体システム。
【請求項２】
前記駆動システムは、前記計測方向に関する複数の異なる位置で同時に取得した第１、第２位置情報の関係と、前記計測システムで計測された位置情報と、にさらに基づいて、前記移動体を前記計測方向に駆動する、請求項１に記載の移動体システム。
【請求項３】
前記駆動システムは、前記第１、第２位置情報の関係に基づいて前記計測システムで計測された前記位置情報を補正し、該補正後の位置情報に基づいて、前記移動体を駆動する、請求項２に記載の移動体システム。
【請求項４】
所定のタイミングで、前記移動体を前記所定平面内で移動させ、複数点で、前記計測システムで計測される前記第１位置情報と、前記干渉計システムで計測される前記第２位置情報とを、同時取得し、取得した情報に基づいて、前記第１、第２位置情報の関係を更新する制御装置をさらに備える請求項２又は３に記載の移動体システム。
【請求項５】
前記所定のタイミングとは、所定数の物体に対する処理が終了した直後に前記移動体上で実行される、処理済みの物体と処理前の物体との交換時毎である、請求項４に記載の移動体システム。
【請求項６】
前記所定数は１である請求項５に記載の移動体システム。
【請求項７】
前記所定のタイミングとは、前記移動体が待機状態となる装置のアイドル中を含む、請求項４に記載の移動体システム。
【請求項８】
前記移動体の前記一側面を介して前記移動体の外部から内部に入射する前記計測光の前記所定平面に対する正射影の延びる方向は、前記計測方向と前記所定平面内で交差する請求項１〜７のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項９】
前記移動体の前記一側面を介して前記移動体の外部から内部に入射する前記計測光は、側面視で前記一側面に直交する請求項１〜８のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項１０】
前記移動体の前記一側面は、前記所定平面に対して鋭角をなす傾斜面から成る請求項１〜９のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項１１】
前記計測システムは、前記計測光に由来する前記グレーティングからの回折光を、前記移動体の前記一側面とは異なる他の側面を介して受光する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項１２】
前記一側面は、前記所定平面に平行な一軸方向に延びる前記移動体の第１側面であり、
前記他の側面は、前記一側面と前記一軸方向に垂直な方向に関して反対側で前記一軸方向に延びる前記移動体の第２側面であり、
前記計測システムは、前記第１側面を介して少なくとも１つの第１計測光を前記移動体内部に入射させ、該第１計測光に由来する前記回折光を前記第２側面を介して受光する第１計測装置を含む、請求項１１に記載の移動体システム。
【請求項１３】
前記第１計測装置は、１つの前記第１計測光を照射し、少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項１２に記載の移動体システム。
【請求項１４】
前記第１計測装置は、２つの前記第１計測光を前記グレーティング上の同一点に照射し、同軸上に合成された少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項１２に記載の移動体システム。
【請求項１５】
前記グレーティングは、前記一軸方向を周期方向とする回折格子を含み、
前記第１計測装置は、前記移動体の前記一軸方向の位置情報を計測する請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項１６】
前記移動体は、前記所定平面内で前記一軸方向に垂直な方向に延びる第３、第４側面を有し、
前記計測システムは、前記第３、第４側面の一方を介して少なくとも１つの第２計測光を前記移動体内部に入射させ、該第２計測光に由来する前記回折光を前記第３、第４側面の他方を介して受光する第２計測装置をさらに含む、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項１７】
前記第２計測装置は、１つの前記第２計測光を照射し、少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項１６に記載の移動体システム。
【請求項１８】
前記第２計測装置は、２つの前記第２計測光を前記グレーティング上の同一点に照射し、同軸上に合成された少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項１６に記載の移動体システム。
【請求項１９】
前記グレーティングは、前記一軸方向に垂直な方向を周期方向とする回折格子を含み、
前記第２計測装置は、前記垂直な方向に関する前記ステージの位置情報を計測する、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２０】
前記第２計測装置は、前記第２計測光を、前記グレーティング上の前記第１計測光の照射点又は該照射点の近傍の前記グレーティング上の点に照射する、請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２１】
前記干渉計システムは、前記移動体に設けられた反射面に測定ビームを照射し、前記測定ビームの前記反射面からの反射ビームと所定の参照ビームとの干渉光を受光して、前記移動体の少なくとも前記計測方向に関する位置情報を計測する、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２２】
前記移動体は、前記物体を保持するとともに、その裏面に前記グレーティングが配置された保持部材と、該保持部材が搭載されかつ内部を前記計測光が透過するテーブルとを含む請求項１〜２１のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２３】
前記保持部材は、前記テーブルに対して着脱自在である請求項２２に記載の移動体システム。
【請求項２４】
前記移動体は、前記光が入射しかつ前記所定平面と実質的に平行な一面に前記グレーティングが形成される透過部材と、前記物体を保持しかつ前記透過部材に対してその一面側に設けられる保持部材とを含む請求項１〜２１のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２５】
前記グレーティングは、前記所定平面内で互いに直交する２つの方向を周期方向とする２次元格子である、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２６】
前記計測システムは、前記計測光を、前記移動体の内部で反射させることなく前記グレーティングに照射する、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の移動体システム。
【請求項２７】
エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と；
エネルギビームが照射される前記物体が前記移動体に保持される請求項１〜２６のいずれか一項に記載の移動体システムと；を備える露光装置。
【請求項２８】
前記移動体は、前記計測システムからの光が内部を透過するテーブルと、前記物体を保持可能かつ前記テーブルに設けられる保持部材とを含み、前記グレーティングは、前記テーブル又は前記保持部材に形成される請求項２７に記載の露光装置。
【請求項２９】
前記移動体の内部に入射する光は、前記エネルギビームの照射領域内の所定点に照射される請求項２７又は２８に記載の露光装置。
【請求項３０】
前記移動体の内部に入射する光が照射される所定点は、前記パターニング装置の露光中心である請求項２７〜２９のいずれか一項に載の露光装置。
【請求項３１】
請求項２７〜３０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体として基板を露光することと；
前記露光された基板を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項３２】
エネルギビームを物体に照射して前記物体上に所定のパターンを形成する露光方法であって、
前記物体を保持するとともに、前記物体の裏面側で所定平面に実質的に平行な面に沿ってグレーティングが配置され、所定波長の光が内部を進行可能な移動体を、前記所定平面に沿って移動させ、前記所定平面と交差する前記移動体の一側面を介して前記移動体の外部から前記グレーティングに前記所定波長の計測光を入射させ、該計測光に由来する前記グレーティングからの回折光を受光して前記所定平面内の計測方向に関する前記移動体の第１位置情報を計測する工程と；
前記移動体の少なくとも前記計測方向に関する基準位置からの変位である第２位置情報を、干渉計システムを用いて計測する工程と；
前記第１、第２位置情報の少なくとも一方に基づいて、前記移動体を前記計測方向に駆動する駆動工程と；を含む露光方法。
【請求項３３】
前記駆動工程では、前記移動体の前記計測方向に関する複数の異なる位置で同時に取得した前記第１、第２位置情報の関係と、計測された前記第１位置情報とにさらに基づいて、前記移動体を前記計測方向に駆動する、請求項３２に記載の露光方法。
【請求項３４】
前記駆動工程では、前記第１、第２位置情報の関係に基づいて計測された前記第１位置情報を補正し、該補正後の第１位置情報に基づいて前記移動体を駆動する、請求項３３に記載の露光方法。
【請求項３５】
所定のタイミングで、前記移動体を前記所定平面内で移動させ、複数点で、前記第１情報と、前記干渉計システムで計測される前記第２位置情報とを、同時取得し、取得した情報に基づいて、前記第１、第２位置情報の関係を更新する工程をさらに含む請求項３３又は３４に記載の露光方法。
【請求項３６】
前記所定のタイミングとは、所定数の物体に対する露光が終了した直後に前記移動体上で実行される、露光済みの物体と露光前の物体との交換時毎である、請求項３５に記載の露光方法。
【請求項３７】
前記所定数は１である請求項３６に記載の露光方法。
【請求項３８】
前記所定のタイミングとは、前記移動体が待機状態となる装置のアイドル中を含む、請求項３５に記載の露光方法。
【請求項３９】
前記第１位置情報を計測する工程では、前記計測光を、該計測光の前記所定平面に対する正射影の延びる方向が前記計測方向と前記所定平面内で交差する所定方向から、前記移動体の前記一側面を介して外部から前記移動体の内部に入射させる請求項３２〜３８のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項４０】
前記第１位置情報を計測する工程では、側面視で前記一側面に直交する方向から、前記移動体の前記一側面を介して外部から前記移動体の内部に、前記計測光を入射させる請求項３２〜３９のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項４１】
前記移動体の前記一側面は、前記所定平面に対して鋭角をなす傾斜面から成る請求項３２〜４０のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項４２】
前記第１位置情報を計測する工程では、前記計測光に由来する前記グレーティングからの回折光を、前記移動体の前記一側面とは異なる他の側面を介して受光する請求項３２〜４１のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項４３】
前記一側面は、前記所定平面内で一軸方向に延びる前記移動体の第１側面であり、
前記他の側面は、前記一側面と前記一軸方向に垂直な方向に関して反対側で前記一軸方向に延びる前記移動体の第２側面であり、
前記第１位置情報を計測する工程は、前記第１側面を介して少なくとも１つの第１計測光を前記移動体内部に入射させ、該第１計測光に由来する前記回折光を前記第２側面を介して受光する第１計測工程を含む請求項４２に記載の露光方法。
【請求項４４】
前記第１計測工程では、１つの前記第１計測光を照射し、少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項４３に記載の露光方法。
【請求項４５】
前記第１計測工程では、２つの前記第１計測光を前記グレーティング上の同一点に照射し、同軸上に合成された少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項４３に記載の露光方法。
【請求項４６】
前記グレーティングは、前記一軸方向を周期方向とする回折格子を含み、
前記第１計測工程では、前記移動体の前記一軸方向の位置情報を計測する請求項４３〜４５のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項４７】
前記移動体は、前記所定平面内で前記一軸方向に垂直な方向に延びる第３、第４側面を有し、
前記第１位置情報を計測する工程は、前記第３、第４側面の一方を介して少なくとも１つの第２計測光を前記移動体内部に入射させ、該第２計測光に由来する前記回折光を前記第３、第４側面の他方を介して受光する第２計測工程をさらに含む、請求項４３〜４６のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項４８】
前記第２計測工程では、１つの前記第２計測光を照射し、少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項４７に記載の露光方法。
【請求項４９】
前記第２計測工程では、２つの前記第２計測光を前記グレーティング上の同一点に照射し、同軸上に合成された少なくとも２つの前記回折光を受光する、請求項４７に記載の露光方法。
【請求項５０】
前記グレーティングは、前記一軸方向に垂直な方向を周期方向とする回折格子を含み、
前記第２計測工程では、前記垂直な方向に関する前記移動体の位置情報を計測する、請求項４７〜４９のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項５１】
前記第２計測工程では、前記第２計測光を、前記グレーティング上の前記第１計測光の照射点又は該照射点の近傍の前記グレーティング上の点に照射する、請求項４７〜５０のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項５２】
前記グレーティングとして、前記所定平面内で互いに直交する２つの方向を周期方向とする２次元格子が用いられている請求項３２〜５１のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項５３】
前記第１位置情報を計測する工程では、前記計測光を、前記移動体の内部で反射させることなく前記グレーティングに照射する、請求項３２〜５２のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項５４】
前記移動体の内部に入射する光は、前記エネルギビームの照射領域内の所定点に照射される請求項３２〜５３のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項５５】
前記移動体の内部に入射する光が照射される所定点は、露光中心である請求項５４に載の露光方法。
【請求項５６】
請求項３２〜５５のいずれか一項に記載の露光方法を用いて前記物体として基板を露光することと；
前記露光された基板を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体システム、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、物体を保持して移動する移動体を備える移動体システム、該移動体システムを備える露光装置及びエネルギビームを物体に照射して前記物体上に所定のパターンを形成する露光方法、並びに前記露光装置又は露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子、液晶表示素子等のマイクロデバイス（電子デバイスなど）を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）又はステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが比較的多く用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、ウエハ又はガラスプレート等の被露光物体（以下、ウエハと総称する）上の複数のショット領域にレチクル（又はマスク）のパターンを転写するために、ウエハを保持するウエハステージはＸＹ２次元方向に例えばリニアモータ等により駆動される。このウエハステージの位置計測は、長期に渡って計測の安定性が良好で、高分解能なレーザ干渉計を用いて行われるのが、一般的であった。
【０００４】
しかるに、半導体素子の高集積化に伴う、パターンの微細化により、より高精度なステージの位置制御が要求されるようになり、今や、レーザ干渉計のビーム路上の雰囲気の温度変化及び／又は温度勾配の影響で発生する空気揺らぎに起因する計測値の短期的な変動がオーバレイバジェット中の大きなウエイトを占めるようになっている。
【０００５】
一方、ステージの位置計測に使用されるレーザ干渉計以外の計測装置として、エンコーダがあるが、エンコーダは、計測においてスケール（グレーティングなど）を使用するため、格子ピッチのドリフト、固定位置ドリフト、あるいは熱膨張等などによりそのスケールの機械的な長期安定性に欠ける。このため、エンコーダは、レーザ干渉計に比べて計測値のリニアリティに欠け、長期安定性に劣るという欠点を有している。
【０００６】
上述のレーザ干渉計とエンコーダとの欠点に鑑みて、レーザ干渉計とエンコーダ（回折格子を用いる位置検出センサ）とを併用して、ステージの位置を計測する装置が、種々提案されている（例えば特許文献１、２等参照）。特に、最近では、計測分解能が、レーザ干渉計と同程度以上のエンコーダが出現しており（例えば、特許文献３等参照）、上述のレーザ干渉計とエンコーダとを組み合わせる技術が注目されるようになってきた。
【０００７】
しかるに、干渉計のミラー又はエンコーダのスケール（グレーティングなど）は、ステージの外面、例えば側面などに設けられた場合、そのステージが加速した際のステージの微小変形に伴い、ステージ上の位置（ステージ上の所定点との位置関係）が変化してしまい、これがステージの位置計測精度を低下させる蓋然性が高い。また、たとえば、スループットを向上させる観点から、スキャニング・ステッパにおいてウエハステージの加速中に露光を開始するという新技術が提案されたとしても、上記のステージの加速に伴うミラー又はスケールのステージ上での位置の変化が、上記新技術の実施のための障害要因となるおそれがある。
【０００８】
【特許文献１】米国特許第６，８１９，４２５号明細書
【特許文献２】特開２００４−１０１３６２号公報
【特許文献３】米国特許第７，２３８，９３１号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、物体を保持して実質的に所定平面に沿って移動可能で、前記物体の裏面側で前記所定平面に実質的に平行な面に沿ってグレーティングが配置され、所定波長の光が内部を進行可能な移動体と；前記所定平面と交差する前記移動体の一側面を介して前記移動体の外部から前記グレーティングに前記所定波長の計測光を入射させ、該計測光に由来する前記グレーティングからの回折光を受光し、前記所定平面内の計測方向に関する前記移動体の第１位置情報を計測する計測システムと；前記移動体の少なくとも前記計測方向に関する基準位置からの変位である第２位置情報を計測する干渉計システムと；前記第１、第２位置情報の少なくとも一方に基づいて、前記移動体を前記計測方向に駆動する駆動システムと；を備える移動体システムである。
【００１０】
これによれば、移動体の第１位置情報の計測において、回折光が移動体内を通過する光路上では、移動体の周辺雰囲気の揺らぎの影響を受けることがない。さらに、移動体の外部についても、回折光の光路は近接し、ほぼ同じ雰囲気中を伝播するので、周辺雰囲気の揺らぎの影響は小さい。そのため、移動体の第１位置情報を高精度に計測することができる。さらに、駆動システムは、第１、第２位置情報の少なくとも一方に基づいて、移動体を計測方向に駆動する。ここで、干渉計システムによって計測される第２位置情報を用いて、計測システムによって計測される第１位置情報に含まれる誤差を補正することもできる。従って、高精度な移動体の駆動制御が可能となる。
【００１１】
本発明は、第２の観点からすると、エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と；エネルギビームが照射される前記物体が前記移動体に保持される本発明の移動体システムと；を備える露光装置である。
【００１２】
これによれば、パターニング装置により物体にパターンを高精度に形成することが可能となる。
【００１３】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の露光装置を用いて基板を露光することと；
前記露光された基板を現像することと；を含むデバイス製造方法である。
【００１４】
本発明は、第４の観点からすると、エネルギビームを物体に照射して前記物体上に所定のパターンを形成する露光方法であって、前記物体を保持するとともに、前記物体の裏面側で所定平面に実質的に平行な面に沿ってグレーティングが配置され、所定波長の光が内部を進行可能な移動体を、前記所定平面に沿って移動させ、前記所定平面と交差する前記移動体の一側面を介して前記移動体の外部から前記グレーティングに前記所定波長の計測光を入射させ、該計測光に由来する前記グレーティングからの回折光を受光して前記所定平面内の計測方向に関する前記移動体の第１位置情報を計測する工程と；前記移動体の少なくとも前記計測方向に関する基準位置からの変位である第２位置情報を、干渉計システムを用いて計測する工程と；前記第１、第２位置情報の少なくとも一方に基づいて、前記移動体を前記計測方向に駆動する駆動工程と；を含む露光方法である。
【００１５】
これによれば、回折光が移動体内を通過する光路上において、移動体の周辺雰囲気の揺らぎの影響を受けることがない。さらに、移動体の外部においても、回折光の光路は近接し、ほぼ同じ雰囲気中を伝播するので、周辺雰囲気の揺らぎの影響は小さい。そのため、高精度に移動体の第１位置情報を計測することができる。さらに、駆動する工程では、第１、第２位置情報の少なくとも一方に基づいて、移動体を計測方向に駆動する。ここで、干渉計システムを用いて計測される第２位置情報を用いて、計測する工程で計測される第１位置情報に含まれる誤差を補正することもできる。従って、高精度な移動体の駆動制御が可能となる。
【００１６】
本発明は、第５の観点からすると、本発明の露光方法を用いて前記物体として基板を露光することと；前記露光された基板を現像することと；を含むデバイス製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の一実施形態について、図１〜図４に基づいて説明する。
【００１８】
図１には、一実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の縮小投影露光装置である。露光装置１００は、光源及び照明光学系を含み、照明光ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１２、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ、及び装置全体を統括制御する主制御装置２０（図１では不図示、図４参照）等を備えている。以下においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルＲとウエハＷとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１９】
照明系１２は、レチクルブラインド（不図示）で規定されたレチクルＲ上でＸ軸方向に延びるスリット状の照明領域を照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２０】
レチクルステージＲＳＴ上には、回路パターン等が描かれたレチクルＲが、例えば真空吸着により、固定されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲの位置制御のため、レチクルステージ駆動系１３（図１では不図示、図４参照）により、照明系１２の光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微少駆動可能であるとともに、所定の走査方向（図１における紙面内左右方向、すなわちＹ軸方向）に所定の走査速度で駆動可能となっている。
【００２１】
レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１１によって、レチクルステージＲＳＴの側面（鏡面加工された端面）を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で、常時検出される。レチクル干渉計１１からのレチクルステージＲＳＴの位置情報は、主制御装置２０（図４参照）に送られている。主制御装置２０は、レチクルステージＲＳＴの位置情報に基づいてレチクルステージ駆動系１３を介してレチクルステージＲＳＴを駆動する。
【００２２】
投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ軸方向と平行な光軸ＡＸに沿って配列される複数のレンズ（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで所定の投影倍率（例えば１／４倍又は１／５倍）を有する。このため、照明系１２からの照明光ＩＬによって照明領域が照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、その第２面（像面側）に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域に共役な領域（露光領域ＩＡ）に形成される。そしてレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動することで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルのパターンが形成される。すなわち、本実施形態では、照明系１２、レチクルＲ及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００２３】
ウエハステージＷＳＴは、その上面にて静電チャック機構（不図示）によりウエハホルダＷＨを吸着保持している。また、ウエハホルダＷＨは、該ウエハホルダＷＨが有する静電チャック機構により、ウエハＷを吸着保持する。ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ステージ本体１４と、その上に固定されたウエハテーブルＷＴＢと、静電チャック機構（不図示）によってウエハテーブルＷＴＢに対して着脱自在のウエハホルダＷＨと、を含んでいる。なお、ウエハホルダＷＨをウエハテーブルＷＴＢに固定する保持機構は静電チャック機構に限らず、例えば真空チャック機構あるいはクランプ機構などでも良い。また、ウエハホルダＷＨは、ウエハテーブルＷＴＢと一体に形成されても良いし、静電チャック機構と異なる機構、例えば真空チャック機構などによってウエハＷを保持しても良い。
【００２４】
ステージ本体１４（ウエハステージＷＳＴ）は、例えばリニアモータ及びボイスコイルモータ（ＶＣＭ）などを含むステージ駆動系２７（図４参照）により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向の６自由度方向に駆動される。これにより、ウエハＷは６自由度方向に移動可能である。なお、ステージ本体１４はＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に駆動可能とし、かつウエハテーブルＷＴＢを少なくともＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向に微動可能としても良い。この場合、ウエハテーブルＷＴＢを６自由度方向に微動可能としても良い。
【００２５】
ウエハテーブルＷＴＢは、透明な部材（例えば、ガラス等）から成る、平面視（上方から見て）、略正方形の板状部材である。ウエハテーブルＷＴＢの上面の中央部にウエハホルダＷＨが保持されている。ウエハテーブルＷＴＢは、その内部を後述するエンコーダシステムの計測光が進行するので、少なくともこの計測光に対して透明な透明部材で構成される。また、ウエハテーブルＷＴＢは、ＸＹ平面と実質的に平行な第１面（上面）及び第２面（下面）と、Ｘ軸方向にそれぞれ延びる一対の側面及びＹ軸方向にそれぞれ延びる一対の側面とを有する。本実施形態では、後述するように、４つの側面（以下では、端面とも呼ぶ）から、計測用のレーザ光（計測光）がウエハテーブルＷＴＢの内部に入射する又は外部に射出される。なお、透明部材は、低熱膨張率の材料であることが好ましく、本実施形態では一例として合成石英などが用いられる。また、ウエハテーブルＷＴＢはその全体が透明部材で構成されても良いが、計測用のレーザ光が通るウエハテーブルＷＴＢの一部のみを透明部材で構成しても良い。
【００２６】
ウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ側端面及び＋Ｙ側端面は、図３（Ａ）に示されるように、Ｘ軸方向に延び、かつＸＺ平面に対して所定角度（θ（０°＜θ＜９０°））傾斜している。すなわち、両端面は、ウエハテーブルＷＴＢの上面に対して鋭角（９０°−θ）をなす。同様に、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｘ側端面及び＋Ｘ側端面は、Ｙ軸方向に延び、かつＹＺ平面に対して所定角度（θ）傾斜している。
【００２７】
ウエハテーブルＷＴＢの上面中央部（ウエハホルダＷＨよりも一回り大きい部分）には、図１に示されるように、Ｘ軸方向を周期方向とするグレーティングと、Ｙ軸方向を周期方向とするグレーティングと、を組み合わせた２次元グレーティング（以降、単にグレーティングと呼ぶ）２４が水平に設置されている。グレーティング２４の上面は、保護部材としてのカバーガラス５１によって覆われている。本実施形態では、カバーガラス５１の上面に、ウエハホルダＷＨを吸着保持する前述の静電チャック機構が設けられている。なお、本実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢの上面のほぼ全面を覆うようにカバーガラス５１を設けているが、グレーティング２４を含む上面の一部のみを覆うようにカバーガラス５１を設けても良い。また、本実施形態では、カバーガラス５１をウエハテーブルＷＴＢと同一の材料で構成するが、他の材料、例えば金属、セラミックス、あるいは薄膜などで構成しても良い。
【００２８】
なお、ウエハテーブルＷＴＢはカバーガラス５１を含むものとしても良い。この場合、グレーティング２４の形成面がウエハテーブルＷＴＢの最上面ではなくその内部に配置されることになる。また、グレーティング２４を、ウエハホルダの裏面に設けても良い。さらに、カバーガラスなどの保護部材を設ける代わりに、例えばウエハホルダなどで代用しても良い。
【００２９】
ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内における、すなわちＸ及びＹ軸方向に関する位置情報は、後述するエンコーダシステムにより、グレーティング２４を用いて、常時検出されている。検出されるウエハステージＷＳＴの位置情報は主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、この位置情報に基づいて、前述したリニアモータ及びボイスコイルモータを駆動して、ウエハステージＷＳＴの位置を制御する。
【００３０】
また、露光装置１００では、上述のエンコーダシステムとは独立に、ウエハテーブルＷＴＢに固定された移動鏡１７を介して、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）の全６自由度（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）方向に関する位置情報を計測するためのレーザ干渉計システム１８（以下、適宜、干渉計システムと略述する）が設けられている。ここで、実際には、ウエハテーブルＷＴＢ上には、Ｘ軸に垂直な反射面を有し、Ｙ軸方向に延びるＸ移動鏡と、Ｙ軸に垂直な反射面を有し、Ｘ軸方向に延びるＹ移動鏡とが設けられ、これに対応して、Ｘ移動鏡、Ｙ移動鏡にそれぞれ測長ビームを照射するＸ干渉計、Ｙ干渉計が、それぞれ設けられる。Ｘ干渉計、Ｙ干渉計としては、測長軸を複数有する多軸干渉計が用いられており、主制御装置２０は、Ｘ干渉計及びＹ干渉計の計測値に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）のＸ軸方向の位置及びＹ軸方向の位置に加え、θｘ、θｙ、及びθｚ方向の位置情報（回転情報）をも計測することができる。また、干渉計システム１８は、ウエハテーブルＷＴＢに固定されたＸＹ平面に対して４５度傾斜した不図示の反射面、及び投影光学系ＰＬを保持する不図示のメインフレームに固定された反射面を介してウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）のＺ位置を計測する、Ｚ干渉計をも備えている。
【００３１】
主制御装置２０は、上述の干渉計システム１８又は後述するエンコーダシステムの計測結果の少なくとも一方に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の位置を制御することができる。本実施形態では、後述するエンコーダシステムの計測結果に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の位置制御を行うこととし、干渉計システム１８は補助的に用いることとする。すなわち、エンコーダシステムの計測結果を較正するために用いることとする。詳細は、後述する。
【００３２】
また、図１では図示が省略されているが、本実施形態の露光装置１００には、投影光学系ＰＬの−Ｙ側に、例えば画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系から構成されるアライメント系ＡＬＧ（図４参照）が設けられている。
【００３３】
さらに、露光装置１００には、投影光学系ＰＬの直下でウエハＷの面位置（Ｚ軸方向の位置）を検出するための、例えば特開平６−２８３４０３号公報（対応する米国特許第５，４４８，３３２号明細書）等に開示される多点焦点位置検出系から成るフォーカスセンサＡＦ（図４参照）が設けられている。このフォーカスセンサＡＦの出力が主制御装置２０に供給され、主制御装置２０はウエハステージＷＳＴをＺ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に微動していわゆるフォーカスレベリング制御を行う。
【００３４】
図４には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。制御系は、主制御装置２０を中心として構成されている。制御装置２０（図４参照）は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、上記検出系など、露光装置１００の構成各部を統括制御する。
【００３５】
次に、ウエハステージＷＳＴの位置計測に用いられるエンコーダシステム１６（図４参照）の構成について説明する。本実施形態のエンコーダシステム１６は、前述のグレーティング２４と、グレーティング２４に計測用のレーザ光（計測光）Ｌｘ１，Ｌｙ１をそれぞれ照射する光源１６Ｘａ，１６Ｙａ（光源１６Ｙａは、図１及び図３（Ａ）〜図３（Ｃ）では不図示、図２（Ａ）参照）と、グレーティング２４からの複数の回折光Ｌｘ２，Ｌｙ２をそれぞれ受光する光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂ（光検出器１６Ｙｂは、図１及び図３（Ａ）〜図３（Ｃ）では不図示、図２（Ａ）参照）と、を備えている。光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂは、複数の回折光Ｌｘ２又はＬｙ２を集光して干渉光を生成するための回折格子と、生成された干渉光を受光するための受光素子、例えばＣＣＤと、を含む。
【００３６】
図２（Ａ）には、露光領域ＩＡと、光源１６Ｘａ，１６Ｙａと、光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂと、の位置関係が、斜視図にて示されている。光源１６Ｘａと光検出器１６Ｘｂは、露光領域ＩＡの中心から−Ｙ側及び＋Ｙ側にほぼ等間隔離れた位置に配置されている。光源１６Ｙａと光検出器１６Ｙｂは、露光領域ＩＡの中心から＋Ｘ側及び−Ｘ側にほぼ等間隔離れた位置に配置されている。なお、本実施形態では、露光領域ＩＡの中心はＸＹ平面内で投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致している。
【００３７】
グレーティング２４と光源１６Ｘａと受光系１６Ｘｂとを用いることにより、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）のＸ軸方向に関する位置情報を検出することができる。これらの要素を含んで構成されるエンコーダを、Ｘエンコーダ１６Ｘと呼ぶ。図２（Ａ）及び図３（Ａ）に示されるように、光源１６Ｘａは計測光Ｌｘ１を、ＸＹ平面内においてＹ軸に平行に、ＹＺ平面においてＹ軸に対して角θを成す方向に射出する。計測光Ｌｘ１は、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ側の端面に垂直に入射し、ウエハテーブルＷＴＢの内部に進入する。進入した計測光Ｌｘ１は、ウエハテーブルＷＴＢの内部を伝播し、グレーティング２４にＹＺ平面内において入射角（９０°−θ）で入射する。ここで、図２（Ｂ）に示されるように、計測光Ｌｘ１のグレーティング２４上での照射点が、常に、露光領域ＩＡの中心の直下の点ＩＡａに位置するように、光源１６Ｘａの設置位置、計測光Ｌｘ１の射出角、及びウエハテーブルＷＴＢの端面の傾斜角θ、が定められている。
【００３８】
計測光Ｌｘ１が、グレーティング２４に入射し、そのＸ軸方向を周期方向とするグレーティングによって反射・回折されることにより、複数の回折光が発生する。図２（Ａ）及び図２（Ｂ）には、±１次の回折光Ｌｘ２が図示されている。これら±１次の回折光Ｌｘ２は、グレーティング２４から、図３（Ａ）に示されるように、ＹＺ平面内において射出角（９０°−θ）を成し、且つ、図２（Ｂ）に示されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸に平行な中心軸に関して互いに絶対値が等しい（ただし符号が異なる）回折角を成す方向へ射出される。なお、これらの回折光は、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）では、紙面垂直方向に重なっている。
【００３９】
回折光Ｌｘ２は、ウエハテーブルＷＴＢの＋Ｙ側の端面から外部に射出され、光検出器１６Ｘｂによって受光される。光検出器１６Ｘｂは、その内部に設けられた回折格子を用いて、回折光Ｌｘ２を集光、合成して干渉光を発生させ、その強度を検出する。検出結果は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、受信した検出結果から、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）のＸ軸方向に関する位置情報を算出する。ここで、Ｘエンコーダ１６Ｘの計測光Ｌｘ１の光路は、図２（Ｂ）からもわかるように、Ｚ軸方向から見て（ＸＹ平面内において）その計測方向（Ｘ軸方向）と直交している。
【００４０】
同様に、グレーティング２４と光源１６Ｙａと受光系１６Ｙｂとを用いることにより、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）のＹ軸方向に関する位置情報を検出することができる。これらの要素を含んで構成されるエンコーダを、Ｙエンコーダ１６Ｙと呼ぶ。図２（Ａ）に示されるように、光源１６Ｙａは、計測光Ｌｙ１を、ＸＹ平面内においてＸ軸に平行に、ＸＺ平面においてＸ軸に対して角θを成す方向に射出する。計測光Ｌｙ１は、ウエハテーブルＷＴＢの＋Ｘ側の端面に垂直に入射し、ウエハテーブルＷＴＢの内部に進入する。進入した計測光Ｌｙ１は、ウエハテーブルＷＴＢの内部を伝播し、グレーティング２４にＸＺ平面内において入射角（９０°−θ）で入射する。ここで、図２（Ｂ）に示されるように、計測光Ｌｙ１のグレーティング２４上での照射点が、常に、露光領域ＩＡの中心の直下の点ＩＡａに位置するように、光源１６Ｙａの設置位置、計測光Ｌｙ１の射出角、及びウエハテーブルＷＴＢの端面の傾斜角θ、が定められている。
【００４１】
計測光Ｌｙ１が、グレーティング２４に入射し、そのＹ軸方向を周期方向とするグレーティングによって反射・回折されることにより、複数の回折光が発生する。図２（Ａ）及び図２（Ｂ）には、±１次の回折光Ｌｙ２が図示されている。これら±１次の回折光Ｌｙ２は、グレーティング２４から、ＸＺ平面内において射出角（９０°−θ）を成し、且つ、図２（Ｂ）に示されるように、ＸＹ平面内においてＸ軸に平行な中心軸に関して互いに絶対値が等しい（ただし符号が異なる）回折角を成す方向へ射出される。
【００４２】
回折光Ｌｙ２は、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｘ側の端面から外部に射出され、光検出器１６Ｙｂによって受光される。光検出器１６Ｙｂは、その内部に設けられた回折格子を用いて、回折光Ｌｙ２を集光・合成して干渉光を発生させ、その強度を検出する。検出結果は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、受信した検出結果から、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）のＹ軸方向に関する位置情報を算出する。なお、Ｙエンコーダ１６Ｙの計測光Ｌｙ１の光路は、図２（Ｂ）からもわかるように、Ｚ軸方向から見て（ＸＹ平面内において）その計測方向（Ｙ軸方向）と直交している。
【００４３】
図３（Ａ）〜図３（Ｃ）に示されるように、光源１６Ｘａから射出される計測光Ｌｘ１は、少なくともウエハＷ上に露光領域ＩＡが存在する領域内では、必ず、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ側の端面に入射する。そのため、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）に示される領域内をウエハテーブルＷＴＢが移動する際には、Ｘエンコーダ１６Ｘを用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＸ軸方向に関する位置情報を計測することができる。同様に、光源１６Ｙａから射出される計測光Ｌｙ１は、少なくともウエハＷ上に露光領域ＩＡが存在する領域内では、必ず、ウエハテーブルＷＴＢの＋Ｘ側の端面に入射する。そのため、露光時移動領域内をウエハテーブルＷＴＢが移動する際には、Ｙエンコーダ１６Ｙを用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向に関する位置情報を計測することができる。
【００４４】
上述のように、本実施形態のエンコーダシステム１６は、計測光を、ウエハテーブルＷＴＢの側面を介してその上面に設けられたグレーティング２４に照射し、それによって発生する回折光を受光することによって、グレーティング２４、すなわちウエハテーブルＷＴＢの位置情報を計測する。ここで、グレーティング２４は、長時間の使用において、機械的あるいは熱的な力が加えられて歪むことがある。また、カバーガラスなど保護部材を設けない場合には、機械的に損傷することも起こり得る。グレーティング２４の歪みや損傷は、本実施形態の露光装置１００において要求される計測精度に対し、必ずしも無視できない計測誤差を生じ得る。そこで、本実施形態では、主制御装置２０が、以下のようにして、干渉計システム１８を用いて、エンコーダシステム１６の計測誤差を補正する補正データを作成し、該補正データを用いてエンコーダシステム１６の計測値を補正することで、エンコーダシステム１６の計測精度を保証する。
【００４５】
まず、主制御装置２０は、干渉計システム１８を用いてウエハテーブルＷＴＢの位置情報を監視しつつステージ駆動系２７を制御して、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を基準姿勢（所定のＺ位置及びθｘ＝θｙ＝θｚ＝０）に設定した後、ＸＹ平面内で駆動してエンコーダシステム１６の計測領域内に位置させる。
【００４６】
次に、主制御装置２０は、干渉計システム１８の位置計測結果に従ってステージ駆動系２７を制御して、基準姿勢を維持したまま、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）をエンコーダシステム１６の計測領域内で移動させる。それと同時に、主制御装置２０は、干渉計システム１８とエンコーダシステム１６とを用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＸ，Ｙ軸方向に関する位置情報（Ｘ，Ｙ位置情報）を計測する。得られた両システム１８，１６の位置情報について差をとり、Ｘ，Ｙ位置の関数ΔＸ（Ｘ，Ｙ），ΔＹ（Ｘ，Ｙ）として、メモリ内に記憶する。これらの関数を、エンコーダシステム１６の計測誤差を補正する補正データとして使用する。
【００４７】
ここで、干渉計システム１８の各干渉計を用いた計測では、測長ビームの光路上の雰囲気の温度変化と温度勾配とによって発生する空気の揺らぎにより、計測誤差が発生し得る。そこで、上述の位置計測では、揺らぎによる計測誤差が発生しないように十分低速度でウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を駆動することが望ましい。
【００４８】
なお、補正データは、Ｘ位置とＹ位置の各計測点における離散データからなるテーブルデータの形で、メモリ内に記憶しても良い。あるいは、エンコーダシステム１６の計測誤差を表すＸ，Ｙ位置の試行関数を与え、試行関数の未定乗数を、上述の計測結果を用いて最小二乗法により決定する。そして、得られた試行関数を、補正データとして用いても良い。
【００４９】
主制御装置２０は、以上の処理を、露光装置１００の起動時、アイドル中、所定枚数、例えば単位数のウエハ交換時、などに実行して、補正データΔＸ（Ｘ，Ｙ），ΔＹ（Ｘ，Ｙ）を作成しておく。そして、主制御装置２０は、露光装置の稼働中は、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）のＸ，Ｙ位置を監視し、これらの計測結果を用いて、補正データからエンコーダシステム１６の誤差補正量ΔＸ，ΔＹを求める。そして、これらの補正量を、エンコーダシステム１６の実の計測結果に加えて、補正する。あるいは、これらの補正量を、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を駆動するための目標位置に加えて補正しても良い。この取り扱いにおいても、エンコーダシステム１６の計測結果を補正する場合と同等の効果が得られる。
【００５０】
本実施形態の露光装置１００では、グレーティング２４は、ウエハＷを保持するウエハホルダＷＨと接触するウエハテーブルＷＴＢの上面に設けられている。従って、露光されたウエハＷが持つ熱がウエハホルダＷＨを介してウエハテーブルＷＴＢに伝わり、グレーティング２４を歪ませてしまうことも考えられる。また、この場合、時間の経過とともにグレーティング２４の歪みが拡大し得る。そこで、主制御装置２０は、例えば、所定数のウエハの露光が終了し、最後のウエハを交換する毎に、上述の手順に従って補正データを適宜、更新する。なお、所定数として、例えば１、あるいは２５（１ロットの枚数）と定める。このように、適宜補正データを更新することにより、エンコーダシステム１６の計測誤差、さらに時間とともに拡大するような計測誤差でさえも解消することができる。これにより、高精度且つ安定なウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の駆動制御が可能となる。
【００５１】
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るエンコーダシステム１６は、光源１６Ｘａ，１６Ｙａから射出される計測光Ｌｘ１，Ｌｙ１を、ウエハテーブルＷＴＢの外部からその一側面を介して、露光領域ＩＡの直下に位置する点ＩＡａにてグレーティング２４に照射する。それにより、複数の回折光が発生する。そして、計測光Ｌｘ１，Ｌｙ１のそれぞれに由来する回折光Ｌｘ２，Ｌｙ２を、光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂを用いて受光することにより、ウエハテーブルＷＴＢの位置情報を計測することができる。従って、ウエハテーブルＷＴＢの位置情報の計測において、回折光がウエハテーブルＷＴＢ内を通過する光路上では、ウエハテーブルＷＴＢの周辺雰囲気の揺らぎの影響を受けることがない。さらに、ウエハテーブルＷＴＢの外部についても、回折光の光路は近接し、ほぼ同じ雰囲気中を伝播するので、周辺雰囲気の揺らぎの影響は小さい。従って、高精度なウエハテーブルＷＴＢの位置計測を行うことが可能となる。
【００５２】
さらに、本実施形態では、主制御装置２０が、干渉計システム１８とエンコーダシステム１６とのそれぞれのウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の位置計測結果の関係から得られる補正データと、エンコーダシステム１６を用いて計測されるウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を駆動制御する。ここで、補正データは、所定のタイミングで適宜作成又は更新される。従って、補正データを用いてエンコーダシステム１６の位置情報の計測結果を補正し、補正された計測結果に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を駆動することができるので、高精度なウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の駆動制御が可能となる。
【００５３】
また、本実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ及びこれに保持されるウエハＷの位置計測を高精度に行うことが可能なエンコーダシステム１６を備えているので、その計測結果に基づいて、レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）とウエハステージＷＳＴ（ウエハＷ）とを投影光学系ＰＬの投影倍率に応じた速度比で相対移動させることにより、ウエハ上にレチクルＲのパターンを高精度に転写、形成することが可能となる。
【００５４】
また、本実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢのウエハホルダＷＨの裏面部分にグレーティング２４が設けられていることから、ウエハテーブルＷＴＢの加速により、ウエハテーブルＷＴＢ上でのグレーティング２４の位置が微小に変化することが無い。このため、ウエハテーブルＷＴＢを加速している間にも高精度な位置計測を行うことができる。したがって、例えば加速している間に露光を開始することも可能となり、高スループットが期待できる。
【００５５】
また、本実施形態では、露光領域ＩＡの中心の直下の点ＩＡａにてウエハテーブルＷＴＢの位置を計測しているので、アッベ誤差無く、高精度な位置計測を行うことができ、該計測結果を用いて、露光の際のウエハの位置制御を行うことで、高精度な露光を行うことが可能である。
【００５６】
また、本実施形態では、計測光をウエハテーブルＷＴＢの端面から、その内部を伝播させて、グレーティング２４に入射させている。この構成の場合、例えば計測光をウエハテーブルＷＴＢの上面から入射し、そして底面にて反射させて、グレーティング２４に入射させる構成と比べて、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向及びＸ軸方向のサイズを小さくすることができる。また、計測光とグレーティング２４とのなす角θを小さくすることにより、ウエハテーブルＷＴＢのＺ軸方向のサイズ（高さ又は厚さ）も小さくすることができる。従って、本実施形態のエンコーダシステムの構成を採用することにより、ウエハテーブルＷＴＢを小型化することができる。
【００５７】
なお、上記実施形態において、図２（Ａ）に示されるエンコーダシステム１６の各光源に代えて、２つの計測光を射出する光源を用いても良い。２つの計測光は、光源の内部において、例えば半導体レーザから射出されるレーザ光を回折格子を介して分岐することによって、生成される。射出される２つの計測光は、ウエハテーブルＷＴＢの側面を介してテーブル内部に進入し、テーブル内部を伝播し、グレーティング２４に入射する。そして、グレーティング２４にて発生する複数の回折光のうち、２つの計測光のそれぞれに由来する少なくとも各１つの回折光が同軸上に合成される。その合成光の強度を、光検出器を用いて検出する。ここで、２つの計測光がグレーティング２４上の同一点（例えば点ＩＡａ又はその近傍）に入射し、それぞれの計測光に由来する少なくとも各１つの回折光が同軸上に合成されるように、ウエハテーブルＷＴＢの側面に入射する際の屈折を考慮して、光源の設置位置、２つの計測光の射出角、及びウエハテーブルＷＴＢの端面の傾斜角θ、グレーティング２４のピッチが定められているものとする。この光源を導入したエンコーダシステムを採用した場合も、図２（Ａ）に示される構成のエンコーダシステム１６を用いた場合と同等の効果が得られる。
【００５８】
また、上記実施形態では、光源からの計測光を、ウエハテーブルのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の一側の端面から入射させ、その計測光に由来するグレーティングで発生する回折光をウエハテーブルのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の他側の端面を介して光検出器で受光する構成のエンコーダが用いられる場合について説明した。しかし、本発明がこれに限定されるものではない。例えば、ウエハテーブルのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の一側の端面をビームスプリッタにより構成し、該ビームスプリッタを介して光源からの計測光の一部をウエハテーブルの内部に入射させ、その計測光に由来するウエハテーブルの天井部に設けられたグレーティングからの回折光を、ビームスプリッタ（前記端面）で反射された計測光の一部と同軸に合成し、この合成された２つの光の干渉光の強度を光検出器で検出する構成のエンコーダを用いる、移動体システム又は露光装置などにも本発明は好適に適用することができる。
【００５９】
なお、上記実施形態及び変形例では、ウエハテーブルＷＴＢの少なくとも一部を、エンコーダシステムの計測用レーザ光が透過可能な材料（合成石英など）で構成するものとしたが、これに限らず、例えば中空の枠部材などで構成しても良い。この場合、枠部材の開口部に透過部材を設けてその内部を密封しても良いし、その内部の温度を調整可能としても良い。ウエハテーブルを中空の枠部材などで構成する場合を含み、上記実施形態では、エンコーダ本体の構成部分のうち、熱源となる部分（光源、ディテクタなど）と、熱源と成らない部分（光学系など）とを分離し、両者を光ファイバで接続するような構成を採用しても良い。
【００６０】
なお、上記実施形態では露光装置が単一のウエハステージを備える場合について説明したが、これに限らず、例えば米国特許第６，５９０，６３４号明細書、米国特許第５，９６９，４４１号明細書、米国特許第６，２０８，４０７号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを備える露光装置にも、本発明を適用することが可能である。また、例えば、米国特許第６,８９７,９６３号明細書に開示されるように、ウエハステージと、ウエハステージとは独立して移動可能な計測ステージとを含むステージ装置を備える露光装置に本発明を適用することも可能である。
【００６１】
なお、例えば国際公開第２００４／０５３９５５号パンフレット及びこれに対応する米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書などに開示される液浸露光装置に、本発明を適用することも可能である。この場合、移動鏡１７に代えて、ウエハテーブルＷＴＢの側面に反射面を形成することで、ウエハテーブルＷＴＢの上面が、ウエハＷを含め、全体としてフルフラットな同一面となるようにすることが望ましい。
【００６２】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。さらに、前述の露光領域ＩＡは、投影光学系ＰＬの視野内で光軸ＡＸを含むオンアクシス領域であるが、例えば国際公開第２００４／１０７０１１号パンフレットに開示されるインライン型の反射屈折系と同様に、光軸ＡＸを含まないオフアクシス領域でも良い。また、露光領域ＩＡの形状は矩形に限らず、例えば円弧、台形、あるいは平行四辺形などでも良い。
【００６３】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光、あるいはＦ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書などに開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外域に波長変換した高調波を用いても良い。
【００６４】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことは言うまでもない。例えば、ＳＯＲ又はプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射光学系、及び反射型マスクを用いるＥＵＶ露光装置にも本発明を好適に適用することができる。このほか、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、本発明は適用できる。
【００６５】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターンまたは反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。
【００６６】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００６７】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。
【００６８】
また、物体上にパターンを形成する装置は、前述の露光装置（リソグラフィシステム）に限られず、例えばインクジェット方式にて物体上にパターンを形成する装置にも本発明を適用することができる。
【００６９】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【００７０】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写形成する液晶用の露光装置、あるいは有機ＥＬ、薄型磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【００７１】
なお、本発明の移動体システムは、露光装置に限らず、その他の基板の処理装置（例えば、レーザリペア装置、基板検査装置その他）、あるいはその他の精密機械における試料の位置決め装置、ワイヤーボンディング装置等の２次元面内で移動するステージ等の移動体を備えた装置にも広く適用できる。
【００７２】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
以上説明したように、本発明の移動体システムは、物体を保持して移動するのに適している。また、本発明の露光装置及び露光方法は、エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、高集積度のデバイスの製造に適している。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】一実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
【図２】図２（Ａ）は図１のウエハテーブルとエンコーダシステムの構成各部の位置関係を示す斜視図、図２（Ｂ）はエンコーダシステムが発する計測光の光路を示す射影図である。
【図３】図３（Ａ）〜図３（Ｃ）は、エンコーダシステム及び干渉計システムを用いたウエハテーブルの位置計測を説明するための図である。
【図４】露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００７５】
１２…照明系（パターニング装置の一部）、１６…エンコーダシステム、１６Ｘ…Ｘエンコーダ、１６Ｙ…Ｙエンコーダ、１６Ｘａ，１６Ｙａ…光源、１６Ｘｂ，１６Ｙｂ…光検出器、１８…干渉計システム、２４…２次元グレーティング、１００…露光装置（パターン形成装置）、ＩＡａ…所定点、ＩＬ…照明光（エネルギビーム）、ＰＬ…投影光学系（パターニング装置の一部）、Ｌｘ１，Ｌｙ１…計測光、Ｌｘ２，Ｌｙ２…回折光、Ｗ…ウエハ（物体）、ＷＴＢ…ウエハテーブル（移動体、テーブル）。
【図１】
2009252852.tif 000003
【図２】
2009252852.tif 000004
【図３】
2009252852.tif 000005
【図４】
2009252852.tif 000006