(57)【要約】【課題】より高い光透過性能が得られる液体光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】液体光学素子１は、以下のようにして形成される。まず、下部基板１１上の下部電極１２を覆うように疎水性絶縁膜１３を形成したのち、その表面を親水化する親水化処理を行う。そののち、親水化処理された疎水性絶縁膜の表面に、この絶縁膜上のセル領域を取り囲むように立設する隔壁１４を形成する。ここで、隔壁１４の表面を親水化する親水化処理を行う。さらに、下部電極１２と対向するように、上部電極１７が形成された上部基板１８を配置すると共に、疎水性絶縁膜１３と上部電極１７との間に、互いに分離された状態を保つ極性液体１６および無極性液体１５を封入する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極を用意し、その第１の電極を覆うように絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の表面を親水化する親水化処理を行う工程と、
親水化処理された前記絶縁膜の表面に、この絶縁膜上の領域を取り囲むように立設する壁構造体を形成する工程と、
前記第１の電極の、前記絶縁膜の側に第２の電極を対向配置する工程と、
前記絶縁膜と前記第２の電極との間に、互いに分離された状態を保つ、一方が透明で他方が不透明の極性液体および無極性液体を封入する工程と
を含むことを特徴とする液体光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記絶縁膜の表面のうち、前記壁構造体が配置される領域を選択的に親水化すると共に、前記絶縁膜の表面のうち前記親水化処理がなされた領域に、前記壁構造体を形成することを特徴とする請求項１記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記親水化処理として、前記絶縁膜の表面への紫外線照射、酸素プラズマ照射、またはレーザ照射を行うことを特徴とする請求項１記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項４】
高分子化合物を用いて前記絶縁膜を形成し、前記親水化処理として、Ｃ−Ｃ結合およびＣ−Ｆ結合を分解可能なエネルギーを前記絶縁膜の表面に付与することを特徴とする請求項１記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記壁構造体の表面を親水化する親水化処理を行う工程をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記親水化処理として、前記壁構造体の表面への紫外線照射、酸素プラズマ照射、またはレーザ照射を行うことを特徴とする請求項５記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項７】
高分子化合物を用いて前記壁構造体を形成し、前記親水化処理として、Ｃ−Ｃ結合およびＣ−Ｆ結合を分解することなくＣ−Ｏ結合およびＣ−Ｈ結合を分解することが可能なエネルギーを前記壁構造体の表面に付与することを特徴とする請求項５記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項８】
前記絶縁膜を、無電界下において前記極性液体よりも前記無極性液体に親和性を示す材料によって形成することを特徴とする請求項１記載の液体光学素子の製造方法。
【請求項９】
透明な前記極性液体と不透明な前記無極性液体とを、前記絶縁膜と前記第２の電極との間に封入することを特徴とする請求項１記載の液体光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の電極間に無極性液体および極性液体を封入し、一対の電極間に電圧を印加することで透過光量が変化する液体光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、静電的な濡れ性を制御することで液体の変形および変位を発生させ、その現象により所望の効果を得るエレクトロウェッティング技術が知られており、様々な分野での応用が検討されている。
【０００３】
エレクトロウェッティング技術を応用したものとしては、例えば、画像表示装置に搭載され、屈折率調整や光量制御などの光学的作用を発現する液体光学素子が挙げられる（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−２６７３８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般的に、このような液体光学素子では、疎水性の絶縁膜に覆われた一対の電極間に、極性液体（例えば水）と無極性液体（例えばシリコンオイル）とを挟み、それらに電圧を印加することで極性液体および無極性液体を変形させ、透過光量（透過光の強度）を制御するようにしている。
【０００５】
図２３に、従来の一般的な液体光学素子１１０の構成および動作を説明するための概略図を表す。液体光学素子１１０は、下部電極１１２が設けられた下部基板１１１と、上部電極１１７が設けられた上部基板１１８とが側壁１１９によって支持されて、無極性液体１１５および極性液体１１６を挟むように対向配置されたものである。下部電極１１２は疎水性絶縁膜１１３によって覆われており、その疎水性絶縁膜１１３に立設する隔壁１１４によってセル領域Ｚが画定されるようになっている。無極性液体１１５は、例えば黒色顔料を含むことで遮光性を有しており、セル領域Ｚの内部に収まっている。また、下部電極１１２および上部電極１１７は、スイッチ１２１および電源１２２を有する制御部１２０と接続されており、疎水性絶縁膜１１３に対して電圧を印加するようになっている。ここで、疎水性絶縁膜１１３は極性液体１１６よりも無極性液体１１５に対して親和性を呈するものである。一方、隔壁１１４は無極性液体１１５よりも極性液体１１６に対して親和性を呈するものが好ましい。このような液体光学素子１１０では、図２３（Ａ）に示したように、下部電極１１２と上部電極１１７との間に電圧を印加しない状態においては、無極性液体１１５がセル領域Ｚ全体に亘って広がるので入射光Ｌinがほとんど反対側に透過せず、射出光がほとんど射出されない状態（いわゆる黒表示状態）となる。一方、下部電極１１２と上部電極１１７との間に所定の電圧を印加した状態においては、図２３（Ｂ）に示したように、無極性液体１１５がセル領域Ｚの一部の領域αに集まるので、領域αへの入射光Ｌ１inが遮断されるもののそれ以外の領域βへ入射する入射光Ｌ２inは反対側に透過し、射出光Ｌ２outとして射出する状態（いわゆる白表示状態）となる。
【０００６】
こうした液体光学素子では、無極性液体１１５の形状や大きさを高精度かつ、再現性良く制御することが所望の透過光量を得るために重要な要素となる。しかしながら、隔壁１１４を構成する材料として一般的に使用されるものは、疎水性絶縁膜１１３を構成する材料との密着性が弱く、隔壁１１４を高精度に、かつ再現性良くパターニングすることが困難であり、結果として、形成された隔壁１１４の一部が欠けたり、セル領域Ｚを区画する輪郭に意図せぬ凹凸が生じたりすることが多かった。これは、疎水性絶縁膜１１３および隔壁１１４が、極性液体１１６および無極性液体１１５に対して互いに相反する親和性を示すことに起因すると考えられる。このため、製造工程における歩留まりの低下を招くうえ、仮に隔壁１１４の形成を行うことができたとしても、使用時において無極性液体１１５の形状や大きさが不安定となり、電圧印加操作に対する応答性の劣化や印加電圧に対する透過光量のばらつきが増大するなどの問題が生ずる可能性が高い。
【０００７】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡素な構成でありながら、より高い光透過性能が得られる液体光学素子を高精度かつ容易に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液体光学素子の製造方法は、以下の（１）〜（５）の各工程を全て含むようにしたものである。
（１）第１の電極を用意し、その第１の電極を覆うように絶縁膜を形成する工程
（２）絶縁膜の表面を親水化する親水化処理を行う工程
（３）親水化処理された絶縁膜の表面に、この絶縁膜上の領域を取り囲むように立設する壁構造体を形成する工程
（４）第１の電極の、前記絶縁膜の側に第２の電極を対向配置する工程
（５）絶縁膜と第２の電極との間に、互いに分離された状態を保つ、一方が透明で他方が不透明の極性液体および無極性液体を封入する工程
ここでいう親水化処理とは、絶縁膜における無電界下での壁構造体に対する親和性が高まるようにその表面を改質する処理をいい、例えば絶縁膜の表面への紫外線照射、酸素プラズマ照射、またはレーザ照射を行う処理である。
【０００９】
本発明の液体光学素子の製造方法では、壁構造体を形成する前に、絶縁膜の表面を親水化するようにしたので、親水化処理を行わない場合と比べて絶縁膜と壁構造体との密着性が高まる。特に、壁構造体が配置される領域のみを選択的に親水化すると共に、その親水化処理がなされた領域に壁構造体を形成するようにするとよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の液体光学素子の製造方法によれば、第１の電極を覆う絶縁膜の表面を親水化処理したのち、この絶縁膜上の領域を取り囲むように立設する壁構造体を形成するようにしたので、絶縁膜と強固な密着性を有し、かつ高精度なパターン形状を有する壁構造体を再現性良く形成することができる。したがって、第１および第２の電極間への印加電圧を調整することで高精度な透過光量の調整を行うことができる液体光学素子を、効率よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１２】
図１は、本発明における一実施の形態としての液体光学素子１０の全体構成を表す断面図であり、図２は、液体光学素子１０の全体構成を表す平面図である。なお、図１は、図２に示したＩ−Ｉ切断線に沿った矢視方向の断面を示している。また、図２では、後述する疎水性絶縁膜１３、無極性液体１５、極性液体１６、上部電極１７、上部基板１８、側壁１９などの各構成要素についての図示を省略している。液体光学素子１０は、制御部２０と接続され、静電的な濡れ性を制御することで内包する極性液体１６（後出）の変形および変位を発生させ、その現象によって自らを透過する透過光の光量を制御する、いわゆるエレクトロウェッティング素子である。液体光学素子１０は、複数のセル領域Ｚがアレイ状に配置されたものである。なお、図２では９つのセル領域Ｚを表しているが、その数はこれに限定されない。図２に示したように、各セル領域Ｚは、例えば正方形をなしている。
【００１３】
液体光学素子１０は、下部基板１１と、この下部基板１１に選択的に設けられた下部電極１２と、下部基板１１、下部電極１２を覆う疎水性絶縁膜１３と、隔壁１４と、無極性液体１５と、極性液体１６と、上部電極１７と、上部基板１８と、側壁１９とを有している。一方、制御部２０は、電源２１と、スイッチ部２２とを有している。
【００１４】
下部基板１１および上部基板１８は、側壁１９によって支持されて対向するように配置され、例えばガラスや透明な樹脂など、可視光を透過する透明な絶縁材料によって構成される。使用可能な樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン等の高分子材料が挙げられる。より具体的には、下部基板１１および上部基板１８として、ポリイミド基板（例えば、三菱ガス化学製商品名「ネオプリムＬ」、耐熱温度：２８５℃、光透過率９０％（厚さ１００μｍ））、フッ素樹脂基板（耐熱温度：２５０℃）、ポリエーテルスルホン基板（例えば、住友ベークライト株式会社製商品名「スミライトＦＳ」、耐熱温度：１８０℃、光透過率８８％（厚さ５５０ｎｍ））、ポリエチレンナフタレート基板（耐熱温度：１６０℃）、ポリエチレンテレフタレート基板（耐熱温度：１４０℃）を用いることができる。
【００１５】
下部基板１１には、各セル領域Ｚに駆動素子（薄膜トランジスタなど）４１が設けられていると共に、それらの駆動素子４１を個別に駆動させるための信号を伝達する、制御部２０と接続された図示しない信号線対（例えばゲート線およびデータ線）が設けられている。なお、駆動素子４１や信号線対は、下部基板１１とは別の基板に設けるようにしてもよい。
【００１６】
下部電極１２および上部電極１７は、例えば酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）や酸化亜鉛（ＳｎＯ2 ）、あるいは、Ｉｎ2 Ｏ3とＳｎＯ2との混合物である酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）などの透明な導電材料によって構成される。また、Ｉｎ2 Ｏ3 ，ＳｎＯ2もしくはＩＴＯからなる膜に、錫（Ｓｎ）、アンチモン（Ｓｂ）もしくはフッ素（Ｆ）などをドープしてもよい。その他、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）なども適用できる。さらには、ＺｎＯにアルミニウム（Ａｌ）をドープしたＡＺＯ膜、ＺｎＯにガリウム（Ｇａ）をドープしたＧＺＯ膜、ＺｎＯにインジウムをドープしたものなども適用可能である。
【００１７】
下部電極１２は駆動素子４１の一端と接続されると共に、上部電極１７は一定の電位に保たれている。すなわち、後述するように、制御部２０によって下部電極１２と上部電極１７との間にセル領域Ｚごとに電圧を印加することで、セル領域Ｚごとに外部からの入射光の透過量を制御することができるようになっている。下部電極１２はセル領域Ｚごとに複数に分割して配置され、互いに絶縁されている。下部電極１２はセル領域Ｚの全面に亘って延在していることが望ましい。
【００１８】
疎水性絶縁膜１３は、極性液体１６に対して疎水性（撥水性）を示す（例えば水に対する接触角が１０°以上であるとよい）、より厳密には無電界下において極性液体１６よりも無極性液体１５に対して親和性を示すと共に、電気的絶縁性に優れた性質を有する材料によって構成される。疎水性絶縁膜１３の膜厚は、絶縁強度の観点からは厚い方が好ましく、誘電率を大きくする観点からは薄い方が好ましい。疎水性絶縁膜１３を設けることで、無極性液体１５の移動（変位）に要する電圧が低くなると共に駆動速度が速まるうえ、上部電極１７と下部電極１２とが構造的に絶縁することにより高電圧をかけても極性液体１６の分解反応が生じないなどの利点が得られる。なお、下部電極１２と上部電極１７との電気的絶縁性をより高めることを目的として、下部電極１２と疎水性絶縁膜１３との間に例えばスピン・オン・グラス（ＳＯＧ）などからなる他の絶縁膜を設けるようにしてもよい。
【００１９】
疎水性絶縁膜１３の構成材料としては、フルオロアルキル系高分子によって形成されるものが好適である。フルオロアルキル系高分子の具体例としては、例えば化１に示した１，１，２，４，４，５，５，６，７，７−デカフルオロ−３−オキサ−１，６−ヘプタジエンのほか、化２および化３に示したビニリデンフッ素共重合体、化４に示したヘキサフルオロイソブチレン含有高分子、化５に示したエチレン共重合体、または化６に示したパーフルオロジメチルジオキソール共重合体が挙げられる。
【００２０】
【化１】
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【００２１】
【化２】
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【００２２】
【化３】
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【００２３】
【化４】
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【００２４】
【化５】
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【００２５】
【化６】
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【００２６】
疎水性絶縁膜１３は、その表面が親水化処理されたものである。親水化処理とは、疎水性絶縁膜１３における無電界下での極性液体１６に対する親和性が高まるようにその表面を改質する処理をいい、例えば疎水性絶縁膜１３の表面への紫外線照射、酸素プラズマ照射、またはレーザ照射を行う処理である。この親水化処理により、疎水性絶縁膜１３の表面では、例えば比較的結合エネルギーの高いＣ−Ｃ結合やＣ−Ｆ結合が分解され、親水的な官能基（Ｃ−ＯＨなど）が誘起された状態となっている。
【００２７】
隔壁１４は、光が透過する単位領域となるセル領域Ｚを画定する仕切部材であり、その平面形状が格子状（網目状）をなすように疎水性絶縁膜１３に立設したものである。隔壁１４は、その表面における極性液体１５に対する接触角が２０°〜９０°の範囲であるとよい。隔壁１４を構成する材料としては、無極性液体１５や極性液体１６に溶解せず、かつ、反応しないことが要求され、例えばＣＨ基を含有する分子からなるものが好適である。特に、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂などの高分子材料が好適である。具体的には、フォトレジスト処理によるパターニングが可能な、光硬化型のエポキシ樹脂（化薬マイクロケム株式会社製、ＳＵ−８  ３０３５など）が挙げられる。代表的には、化７に示した、エポキシ基を含有する分子を、化８に示した光酸発生剤によって光カチオン重合させたものが挙げられる。
【００２８】
【化７】
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【００２９】
【化８】
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【００３０】
隔壁１４は、その表面が親水化処理されたものである。親水化処理とは、隔壁１４における無電界下での極性液体１６に対する親和性が高まるようにその表面を改質する処理をいい、例えば隔壁１４の表面への紫外線照射、酸素プラズマ照射、またはレーザ照射を行う処理である。この親水化処理により、隔壁１４の表面では、例えばＣ−Ｃ結合やＣ−Ｆ結合よりも低い結合エネルギーを有するＣ−Ｈ結合やＣ−Ｏ結合が分解され、酸素含有官能基（−ＣＯ，−ＣＨＯ、−ＣＯＯ、−ＣＯＯＨなど）が形成された状態となっている。
【００３１】
隔壁１４によって区画されたセル領域Ｚには、無極性液体１５が保持されている。すなわち、無極性液体１５は、隔壁１４によって隣り合う他のセル領域Ｚへ移動（流出）しないようになっている。隔壁１４は、極性液体１６に対して親水性を示すと共に、無極性液体１５および極性液体１６に溶解等しない材料、例えば、エポキシ系樹脂やアクリル系樹脂などによって構成されることが望ましい。あるいは、隔壁１４の表面が、上記材料からなる被膜によって覆われたものとすることが望ましい。そうすることで、無極性液体１５の形状を安定化できるうえ、無極性液体１５の流出をより確実に回避することができるからである。
【００３２】
無極性液体１５は、ほとんど極性を有さず、かつ、電気絶縁性を示す非極性溶媒に染料または顔料を含有させたものである。非極性溶媒として、ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン、ｎ−ドデカン、ｎ−ヘキサデカン、ウンデカン、キシレン、メシチレン、ブチルベンゼン、１，１−ジフェニルエチレンなどの炭化水素系材料、あるいはシリコーンオイルなどが挙げられる。また、これらの非極性溶媒の２種以上を混合して使用してもよい。さらに、無極性液体１５として上記以外の液体材料を用いるようにしてもよいが、低粘度であり、かつ、極性液体１６と交じり合わないことが条件となる。この無極性液体１５に対して電圧を印加した場合、その直接の影響が疎水性絶縁膜１３に対する濡れ性に及ぶことはほとんどない。この無極性液体１５は、下部電極１２と上部電極１７との間に電圧を印加しない場合において、各セル領域Ｚにおける疎水性絶縁膜１３の表面を全て覆う程度に十分な容量を有していることが望ましい。無極性液体１５は所定の波長光（例えば可視光）を吸収する顔料や染料によって着色されて不透明となっている。染料または顔料は、非極性溶媒への溶解性（あるいは分散性）が高いものが好ましい。黒色の染料としては、例えば化９に示したものが好適である。また、黒色の染料または顔料として、４５０ｎｍ付近に吸収帯を有する材料と５５０ｎｍ付近に吸収帯を有する材料と６５０ｎｍ付近に吸収帯を有する材料とを組み合わせたものを用いてもよい。
【００３３】
【化９】
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【００３４】
一方、極性液体１６は、極性を有する透明な液体材料であり、例えば水のほか、塩化カリウムや塩化ナトリウムなどの電解質を溶解させた水溶液が好適である。あるいは、分子量の小さなアルコール（メチルアルコール、エチルアルコール）などを用いてもよい。さらに、極性液体１６として上記以外の液体材料を用いるようにしてもよいが、低粘度であり、かつ、無極性液体１５と交じり合わないことが条件となる。この極性液体１６に電圧を印加すると、疎水性絶縁膜１３に対する濡れ性（極性液体１６と疎水性絶縁膜１３との接触角）が比較的大きく変化する。
【００３５】
無極性液体１５および極性液体１６は疎水性絶縁膜１３と上部電極１７との間に封入され、互いに混在することなく分離して２つの層を形成する。
【００３６】
側壁１９は、下部基板１１および上部基板１８と共に無極性液体１５および極性液体１６を密封するシール部材であり、例えばシリコーンなどが好適である。光硬化型樹脂や熱硬化型樹脂を併用するようにしてもよい。
【００３７】
制御部２０は、液体光学素子１０に対する駆動制御をおこなうものである。制御部２０には、スイッチ２１と電源２２とが設けられている。スイッチ２１は、その一方の端子が金属配線によって上部電極１７と接続され、他方の端子が金属配線によって電源２２および駆動素子４１を介して下部電極１２と接続されている。スイッチ２１は、両端子の間を電気的に接続する投入状態と、両端子の間を電気的に切断する切断状態との２つの状態が選択可能なものである。電源２２は、電圧の大きさを所定範囲内で変化させることができ、かつ、任意に設定可能なものである。したがって、制御部２０は、スイッチ２１の操作（投入状態および切断状態を選択する操作）と、電源２２の電圧制御とにより、下部電極１２と上部電極１７との間に所定の電圧を印加することができるようになっている。その際、図示しないゲートドライバによって特定のセル領域Ｚの駆動素子４１を選択して駆動することもできるようになっている。
【００３８】
次に、図３を参照して、上記のように構成された液体光学素子１０の動作について説明する。図３は、液体光学素子１０における任意のセル領域Ｚを拡大して表したものである。なお、ここでは、無極性溶媒１５としてｎ−ドデカンなどの直鎖型炭化水素を用いた場合を例として動作を説明する。
【００３９】
まず、制御部２０においてスイッチ２１を切断状態とし、下部電極１２と上部電極１７との間に電圧を印加しない場合には、例えば図３（Ａ）に示したように、無極性液体１５が各セル領域Ｚの全体を覆うように広がった状態となる。そのため、着色された無極性液体１５によって、例えば下部基板１１の側から照射された外部からの入射光Ｌinが遮断される。一方、制御部２０においてスイッチ２１を投入状態とし、下部電極１２と上部電極１７との間に電圧を印加した場合には、例えば図３（Ｂ）に示したように、極性液体１６が疎水性絶縁膜１３と接触するようになり、無極性液体１５が各セル領域Ｚの任意の領域αに集まった状態となる。そのため、例えば下部基板１１の側から照射された外部からの光Ｌinのうち、領域αに入射する一部の光Ｌ１inが無極性液体１５によって進行を遮断される一方、領域βに入射する残りの光Ｌ２inは反対側（上部基板１８側）に透過し、透過光Ｌ２outとして射出することとなる。なお、このよう無極性液体１５の挙動は、電圧印加により、極性液体１６と疎水性絶縁膜１３との濡れ性が変化することに起因する。詳細には、下部電極１２と上部電極１７との間に電圧を印加した場合、疎水性絶縁膜１３の表面に電荷が蓄積されるので、その電荷のクーロン力によって、極性を有する極性液体１６が疎水性絶縁膜１３へ引き寄せられる。そのため、無極性液体１５は、極性液体１６によって疎水性絶縁膜１３の表面から排除されるように移動（変形）し、結果として任意の領域αに集まることとなると考えられる。
【００４０】
本実施の形態では、疎水性絶縁膜１３の表面が親水化処理されたものであるため、その上に立設する隔壁１４は疎水性絶縁膜１３との密着性に優れており、高精度なパターン形状を有するように形成されたものである。したがって、電圧を印加しない状態（図３（Ａ））から電圧を印加した状態（図３（Ｂ））へ変化させる操作、あるいは逆の操作の際、無極性液体１１５における形状の変化や大きさの変化が安定したものとなり、電圧印加操作に対する応答性が向上するうえ、印加電圧に対する透過光量のばらつきも低減される。さらに、本実施の形態では、隔壁１４の表面も親水化処理されたものであるので、電圧印加操作に対する無極性液体１５および極性液体１６の移動（変位）速度が高まり、応答性の向上が期待される。
【００４１】
なお、図３（Ｂ）では、最大の透過率（最大の開口率）が得られる状態を表しているが、印加電圧を調整することで無極性液体１５の大きさを制御し、任意の透過光強度（透過率）を得ることも可能である。
【００４２】
また、無極性溶媒１５としてｎ−ドデカンなどの直鎖型炭化水素に加えてｐ−キシレンなどの芳香族炭化水素を用いた場合には、芳香族炭化水素が直鎖型炭化水素と比べて凝集力が比較的弱いので、図４（Ａ）および図４（Ｂ）に示したような挙動を示す。すなわち、まず、制御部２０においてスイッチ２１を切断状態とし、下部電極１２と上部電極１７との間に電圧を印加しない場合には、例えば図４（Ａ）に示したように、無極性液体１５が各セル領域Ｚの全体を覆うように広がった状態となる。但し、無極性溶媒１５が芳香族炭化水素を含む場合には直鎖型炭化水素のみを含む場合よりも隔壁１４との親和性が強いので、無極性溶媒１５の液面が中央部よりも隔壁１４に近い周辺部において高くなり、隔壁１４と無極性液体１５との接触面積が大きくなる。一方、制御部２０においてスイッチ２１を投入状態とし、下部電極１２と上部電極１７との間に電圧を印加した場合には、例えば図４（Ｂ）に示したように、極性液体１６が疎水性絶縁膜１３と接触するようになり、無極性液体１５が隔壁１４と接するように複数に分離し、各セル領域Ｚのうちの領域βに集まった状態となる。これは、無極性溶媒１５が芳香族炭化水素を含むことで直鎖型炭化水素のみを含む場合よりも隔壁１４との親和性が強く、かつ、凝集力が比較的弱いためである。その結果、例えば下部基板１１の側から照射された外部からの光Ｌinのうち、領域βに入射する一部の光Ｌ２inは無極性液体１５によって進行を遮断される一方、領域αに入射する残りの光Ｌ１inは反対側（上部基板１８側）に透過し、透過光Ｌ２outとして射出することとなる。
【００４３】
このように、本実施の形態の液体光学素子１０では、疎水性絶縁膜１３の表面が親水化処理されたものであるので、隔壁１４の寸法形状が高精度なものとなりやすい。そのため、電圧印加操作前後における無極性液体１５の形状や大きさがそれぞれ安定化する結果、電圧印加操作に対する高い応答性を発揮し、かつ、高精度な透過光量制御が可能となる。
【００４４】
次に、液体光学素子１０の製造方法について、図５に表したフローチャートと共に図６〜図９，図１２，図１３，図１５，図１６に表した断面模式図を参照して説明する。
説明する。
【００４５】
まず、図６に示したように所定の材料からなる透明な下部基板１１を用意し、ＩＴＯなどを用いて、その下部基板１１の上に選択的に複数の下部電極１２を形成する（ステップＳ１０１）。具体的には、下部基板１１を全面に亘ってＩＴＯ膜で覆ったのち、例えばフォトリソグラフィ法によりＩＴＯ膜のパターニングを行うことで、セル領域Ｚごとに隙間１２Ｖを形成するようにする。その一方で、図７に示したように上部基板１８の上に上部電極１７を形成する（ステップＳ１０２）。但し、上部電極１７には間隙を設ける必要はない。
【００４６】
続いて、スピンコーティング法やディップコーティング法などの湿式法、あるいは蒸着法などの乾式法により、図８に示したように下部基板１１および下部電極１２を覆うように疎水性絶縁膜１３を形成する（ステップＳ１０３）。この際、疎水性絶縁膜１３の表面が平坦になるような厚みとすることが望ましい。そののち、図９に示したように、酸素が存在する減圧下で酸素プラズマＰを疎水性絶縁膜１３の表面に照射するなどして、疎水性絶縁膜１３の表面処理（親水化処理）を行う（ステップＳ１０４）。具体的には、例えば酸素プラズマアッシング装置を用いて酸素プラズマＰを照射することで、比較的結合エネルギーの高いＣ−Ｃ結合やＣ−Ｆ結合を分解し、親水的な官能基（Ｃ−ＯＨなど）が誘起された状態とする。より詳細には、疎水性絶縁膜１３の表面に酸素プラズマＰを照射することで、電子と酸素分子との衝突による解離反応により、化１０および化１１に示したように直接的に一重項励起酸素原子Ｏ（１Ｄ）を形成する。この場合、全ての反応において一重項励起酸素原子Ｏ（１Ｄ）を生成するため、高濃度な励起酸素原子雰囲気を形成できる。特に、減圧下で酸素プラズマＰを照射すれば、優先的に疎水性絶縁膜１３の最表面と励起酸素原子を反応させることができるので好ましい。励起酸素原子雰囲気の形成によって疎水性絶縁膜１３の表面におけるＣ−Ｃ結合、Ｃ−Ｆ結合もしくはＣ−Ｏ結合などの解離反応を誘起させ、親水的な官能基（Ｃ−ＯＨなど）を誘起させるようにする。酸素プラズマＰを照射することにより、例えば図１０に示したように、疎水性絶縁膜１３の表面において、酸素プラズマＰの照射時間に応じてフッ素原子に対する酸素原子の含有量比が増加する。また、酸素プラズマＰを照射することにより、例えば図１１に示したように、酸素プラズマＰの照射時間に応じて疎水性絶縁膜１３の表面の粗度が低下し、平坦化される。このため、疎水性絶縁膜１３の厚みを低減しつつ、十分な絶縁性を保つことができる。なお、疎水性絶縁膜１３の親水化処理としては、酸素プラズマＰを照射するほか、紫外線を照射したり、１５７ｎｍ以下の波長を有するＦ2 レーザやＡｒ2 レーザを照射したりしてもよい。
【００４７】
【化１０】
2009210738.tif 000012
【００４８】
【化１１】
2009210738.tif 000013
【００４９】
また、疎水性絶縁膜１３の親水化処理は、その表面の全てに亘って行うのではなく、隔壁１４が形成されることとなる領域のみを選択的に行うようにしてもよい。具体的には、複数の短冊状のスリットが平行に配置されたマスクを用いて１回目の酸素プラズマ照射をおこなったのち、そのマスクを平面内で９０°回転させてから２回目の酸素プラズマ照射をおこなうようにすることで、格子状のパターンを有する被照射領域（被親水化処理領域）を形成することができる。このようにすれば、疎水性絶縁膜１３上の、親水化処理がなされた領域に隔壁１４を設けることで疎水性絶縁膜１３と隔壁１４との密着性を高めることができる一方で、セル領域Ｚにおける疎水性絶縁膜１３に対する極性液体１６の濡れ性に影響を与えなくて済む。
【００５０】
疎水性絶縁膜１３の親水化処理を終えたのち、図１２に示したように、疎水性絶縁膜１３の上の、下部電極１２同士の隙間１２Ｖに対応する位置に立設するように隔壁１４を形成する（ステップＳ１０５）。具体的には、例えばスピンコーティング法により、所定の樹脂を疎水性絶縁膜１３の上に均一に塗布したのち、図２に示したパターン形状となるようにパターニングする。隔壁１４を形成したのち、図１３に示したように、酸素が存在する減圧下で酸素プラズマＰを隔壁１４の表面に照射するなどして、隔壁１４の表面処理（親水化処理）を行う（ステップＳ１０６）。具体的には、比較的結合エネルギーの低いＣ−Ｈ結合やＣ−Ｏ結合のみを解離させることができ、かつ、比較的結合エネルギーの高いＣ−Ｃ結合やＣ−Ｆ結合を解離することのないエネルギーを隔壁１４の表面に付与する。例えば、１８５ｎｍと２５４ｎｍの両方の波長光を照射可能な低圧水銀灯を用いることが好ましい。低圧水銀灯によって１８５ｎｍおよび２５４ｎｍの輝線を有する紫外光を照射すると、化１２に示したように酸素分子の解離反応が波長１８５ｎｍ（＜２４０ｎｍ) の紫外光によって生じる。さらに、化１３に示したように生成した三重項基底酸素原子が酸素分子と反応して、オゾンを生成する。オゾンは、波長２６０ｎｍ付近に吸収帯を有し、波長２５４ｎｍの紫外光により解離反応が生じる。化１４に示したように、この解離反応によって一重項励起酸素原子が生成する。この励起酸素原子が紫外光により励起された隔壁１４の表面のＣ−Ｈ結合を酸化し、酸素含有官能基（−ＣＯ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ、−ＣＯＯＨなど）を形成することとなる。酸素プラズマＰを照射することにより、例えば図１４に示したように、隔壁１４の表面において、酸素プラズマＰの照射時間に応じて炭素原子に対する酸素原子の含有量比が増加する。なお、隔壁１４の表面に、所定のエネルギーを有するレーザ光を照射するようにしてもよい。
【００５１】
【化１２】
2009210738.tif 000014
【００５２】
【化１３】
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【００５３】
【化１４】
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【００５４】
続いて図１５に示したように、無極性液体１５を、隔壁１４で仕切られた各セル領域Ｚにおける疎水性絶縁膜１３の表面に塗布する（ステップＳ１０７）。さらに、図１６に示したように、ステップＳ１０３で作製した上部基板１８に上部電極１７が設けられたものを洗浄したのち、下部基板１１と上部基板１８とが一定の間隔となるように側壁１９を介して対向配置する。そののち、疎水性絶縁膜１３、側壁１９、上部電極１７で囲まれた空間に所定の注入口（図示せず）から極性液体１６を充填し、注入口を封止する（ステップＳ１０８）。以上の手順により、応答性に優れた液体光学素子１０を簡便に製造することができる。
【００５５】
このように本実施の形態によれば、隔壁１４を形成する前に、疎水性絶縁膜１３の表面を親水化する親水化処理を行うようにしたので、疎水性絶縁膜１３と、その上に立設する隔壁１４との密着性を高めることができ、高精度なパターン形状を有する隔壁１４を容易にかつ効率的に形成することができる。したがって、電圧を印加しない状態（図３（Ａ）または図４（Ａ））から電圧を印加した状態（図３（Ｂ）または図４（Ｂ））へ変化させる操作、あるいは逆の操作の際、無極性液体１１５における形状の変化や大きさの変化が安定したものとなり、電圧印加操作に対する応答性が向上するうえ、印加電圧に対する透過光量のばらつきも低減される。
【００５６】
さらに、本実施の形態では、隔壁１４の表面についても親水化するようにしたので、電圧印加操作に対する無極性液体１５および極性液体１６の移動（変位）速度を高めることができ、応答性のさらなる向上が期待できる。
【００５７】
次に、上記した本実施の形態における液体光学素子１０の具体的な利用例について説明する。
【００５８】
図１７は、本実施の形態における液体光学素子１０を搭載した画像表示装置３０の概略構成を表すブロック図である。
【００５９】
画像表示装置３０は、画像表示がなされる画像表示部３１と、画像表示のための光を画像表示部３１に向けて照射する光源部３２と、画像表示部３１の駆動制御を行う駆動部３３とを備えており、光源部３２から射出された光が画像表示部３１を透過して視聴者に届くように構成された透過型のディスプレイである。
【００６０】
光源部３２は、いわゆるバックライトと称される画像表示のための光を発する機構であり、例えば、熱陰極管や冷陰極管、あるいは発光ダイオード等を有するものである。
【００６１】
駆動部３３は、外部から供給される画像情報（例えば映像信号）Ｊに基づいて画像表示部３１の動作を制御する機構である。
【００６２】
画像表示部３１は、複数のセル領域Ｚがアレイ状に配置された液体光学素子１０を含むものであり、光源部３２と対向して配置されている。画像表示部３１は、駆動部３３からの制御信号Ｓに基づいて、光源部３２からの入射光の透過量を制御する（射出光の強度を制御する）ことにより映像表示を行うようになっている。ここで、光源部３２からの入射光が例えば下部基板１１の側から入射するように、画像表示部３１と光源部３２との配置がなされている。
【００６３】
このような液体光学素子１０を含む画像表示装置３０では、駆動部３３に所定の画像情報Ｊを入力し、駆動部３３から制御信号Ｓを画像表示部３１に送信することで、セル領域Ｚごとに電圧の印加が行われる。例えば図１８に示したように、３つのセル領域Ｚ１〜Ｚ３のうちセル領域Ｚ１，Ｚ３に対応する上部電極１７および下部電極１２の間にのみ電圧を印加し、無極性液体１５を変形させることで、光源部３２から入射光Ｌinを照射するとセル領域Ｚ１，Ｚ３（のうちの領域β）のみから透過光Ｌoutを取り出すことができる。その結果、例えば光源部３２が白色光を射出する場合、セル領域Ｚ１，Ｚ３に対応する部分が白色として表現され、一方、セル領域Ｚ２に対応する部分が黒色として表現される。したがって、液体光学素子４０全体として２値画像が表示されることとなる。なお、図１８では、無極性溶媒１５としてｎ−ドデカンなどの直鎖型炭化水素を用いた場合を例として動作を説明する。
【００６４】
また、画像表示装置３０では、上部電極１７と下部電極１２との間に印加する電圧の大きさを任意もしくは多段階に制御するなどして、各セル領域Ｚの透過光の強度を任意もしくは多段階に制御することで階調表現を行うこともできる。
【００６５】
さらに、各セル領域Ｚにおける無極性液体１５を、黒色ではなく、それぞれ赤色（Ｒ），緑色（Ｇ）または青色（Ｂ）のいずれかに着色し、光源部３２からの入射光のうち、それぞれ同色の色のみを透過するようにすることで、カラー画像を画像表示部３１に表示させることもできる。あるいは、例えば上部基板１８と上部電極１７との間にカラーフィルタを設けることでカラー画像の表示をおこなうようにしてもよい。
【００６６】
本実施の形態の画像表示装置３０では、液体光学素子１０における疎水性絶縁膜１３の表面が親水化処理されたものであるので、隔壁１４の寸法形状が高精度なものとなっている。そのため、電圧印加操作前後における無極性液体１５の形状や大きさがそれぞれ安定化する結果、電圧印加操作に対する高い応答性を発揮し、かつ、高精度な透過光量制御が可能となる。したがって、透過光の高精度な制御が可能となり、より高精細な階調表現が可能となる。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００６８】
（実施例１）
実施例１として、図１などに示した液体光学素子１０を以下のようにして作製した。まず、厚さ０．７ｍｍの無アルカリ性ガラス板を下部基板１１として用意し、その上に、下部電極１２として１００Ω／□の面積抵抗を有するＩＴＯ膜を形成した。同様に、厚さ０．７ｍｍの無アルカリ性ガラス板を上部基板１８として用意し、その上に、上部電極１７として１００Ω／□の面積抵抗を有するＩＴＯ膜を形成した。
【００６９】
続いて、下部電極１２の上に、化１に示した１，１，２，４，４，５，５，６，７，７−デカフルオロ−３−オキサ−１，６−ヘプタジエンを６重量％含有したパーフルオロトリブチルアミン溶液をスピンコート法により塗布することで、膜厚５００ｎｍの疎水性絶縁膜１３を形成した。
【００７０】
さらに、疎水性絶縁膜１３の表面を酸素プラズマアッシング装置（ダイレクトプラズマモード、対向電極方式、出力：１３０Ｗ）により、３０秒間に亘って親水化処理（表面改質処理）を行った。親水化処理の際、酸素プラズマアッシング装置における処理室内へ一定流量の酸素ガスを導入し、真空ポンプにより処理室内の圧力を１３３Ｐａに調節した。
【００７１】
疎水性絶縁膜１３の表面の親水化処理をおこなったのち、その表面に立設するように隔壁１４を形成した。具体的には、化７に示したエポキシ基を含有する分子と、シクロペンタノンと、化８に示した光酸発生剤としてのスルホニウム塩と、プロピレンカーボネートとを９：１６：１：１の重量比で混合した混合溶液を塗布したのち、選択的な露光処理、加熱処理およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートによる現像処理を順次行うことで格子状にパターン化された隔壁１４を得た。
【００７２】
さらに、処理室内を１０分間に亘って窒素置換したのち、隔壁１４の表面を、低圧水銀灯によって１８５ｎｍおよび２５４ｎｍの輝線を有する紫外光を２４０秒間に亘って照射することで親水化処理をおこなった。
【００７３】
隔壁１４の表面処理をおこなったのち、手動または機械により、ｎ−ドデカンとｐ−キシレンとの混合液へ化９に示した黒色の染料を溶解させ、無極性液体１５を作製した。この無極性液体１５を、隔壁１４によって取り囲まれたセル領域Ｚにおける疎水性絶縁膜１３の表面に滴下したのち、上部電極１７が設けられた上部基板１８を、側壁１９を介して下部基板１１と対向するように配置し、極性液体１６としての水を封入した。以上により、実施例１の液体光学素子を得た。
【００７４】
（実施例２）
疎水性絶縁膜１３の表面の親水化処理を６００秒間に亘っておこなうようにしたことを除き、他は実施例１と同様にして実施例２〜５の液体光学素子を得た。
【００７５】
（実施例３）
隔壁１４の表面の親水化処理を６００秒間に亘っておこなうようにしたことを除き、他は実施例１と同様にして実施例３の液体光学素子を得た。
【００７６】
（実施例４）
隔壁１４の表面の親水化処理を実施しなかったことを除き、他は実施例１と同様にして実施例３の液体光学素子を得た。
【００７７】
このようにして作製した実施例１〜４の液体光学素子では、図１９の電子顕微鏡写真に示したように、隔壁１４は、寸法精度が高く、欠陥もないものとなった。これは、図２０に示したように、疎水性絶縁膜１３が親水化されたためであると考えられる。図２０は、実施例１の条件で疎水性絶縁膜１３の表面の親水化を行う場合の、処理時間と、疎水性絶縁膜１３の表面における水およびｎ−ドデカンの濡れ性との関係を表したものである。詳細には、図２０（Ａ）が処理時間（ｓ）と、疎水性絶縁膜１３の表面における水に対する空気中での接触角（°）との関係を示し、図２０（Ｂ）が処理時間（ｓ）と、疎水性絶縁膜１３の表面におけるｎ−ドデカンに対する空気中での接触角（°）との関係を示し、図２０（Ｃ）が処理時間（ｓ）と、疎水性絶縁膜１３の表面におけるｎ−ドデカンに対する水中での接触角（°）との関係を示す。図２０（Ａ）〜２０（Ｃ）の結果から、少なくとも３０秒間の親水化処理を行うことで、空気中では大きな差が見られないものの、水中ではｎ−ドデカンの接触角が大幅に上昇しており、親水化されていることがわかる。すなわち、酸素プラズマから生成した励起酸素原子によって疎水性絶縁膜１３の表面が親水化されたことで、精度良く隔壁１４を形成できたものと考えられる。
【００７８】
また、図２１に示したように、隔壁１４の表面処理の際、低圧水銀灯による照射によって疎水性絶縁膜１３における水およびｎ−ドデカンの濡れ性は変化しないことが確認できた。一方、低圧水銀灯による照射に伴って、図２２（Ａ）に示したように、隔壁１４の表面では、水に対する接触角およびｎ−ドデカンに対する接触角が低下することが確認できた。また、低圧水銀灯による照射に伴って、図２２（Ｂ）に示したように、隔壁１４の表面における水中でのｎ−ドデカンに対する接触角は、処理時間に応じて上昇し、親水化されることが確認できた。
【００７９】
実施例１については、無極性液体１５がセル領域Ｚにおける疎水性絶縁膜１３の表面を薄く全面に覆っていることが観測された。これは、適度な紫外光の照射により隔壁１４の表面が親水化され、無極性液体１５の存在状態を最適化することができたためと考える。実施例１の液体光学素子について透過率分布を測定したところ、実用上十分な透過率が得られた。さらに、実施例１の液体光学素子において、下部電極１２および上部電極１７との間に矩形波の電圧を印加したところ、電圧印加前には無極性液体１５によってセル領域Ｚの全面が覆われているのに対し、電圧印加後には直ちに無極性液体１５がセル領域Ｚのうちの所定の領域へ移動することが確認された。また、この変化は可逆的変化であることもわかった。さらに、その変化に要する時間は５ｍｓ以下であり、実用上充分な応答速度であった。さらに、電圧のオンとオフとを１Ｈｚで５万回繰返したところ、応答速度や透過率などが初期の状態と殆ど変化せず、実用上充分に優れた耐久性を有していることが確認された。
【００８０】
なお、実施例２では、疎水性絶縁膜１３の表面の親水化処理時間が実施例１よりも長かったので、疎水性絶縁膜１３と極性液体１６である水との結合力が強まり、水中におけるｎ−ドデカンの接触角がやや大きくなった。このため、電圧を印加しない状態において、セル領域Ｚのうち無極性液体１５によって覆われない領域が生じ、コントラストがやや低下した。
【００８１】
また、実施例３では、隔壁１４の表面の親水化処理時間が実施例１よりも長かったので、隔壁１４と極性液体１６である水との結合力が強まり、電圧を印加しない状態においてセル領域Ｚのうち無極性液体１５によって覆われない領域が生じ、コントラストがやや低下した。
【００８２】
また、実施例４では、隔壁１４の表面の親水化処理を行わなかったので、実施例１と比較した場合、電圧印加時における無極性液体１５の移動が遅く、応答速度がやや低下した。
【００８３】
（比較例）
比較例として、疎水性絶縁膜１３の表面の親水化処理を実施しなかったことを除き、他は実施例１と同様にして隔壁１４を形成するまでの工程を実施した。しかしながら、この場合、エポキシ樹脂を含む混合溶液を塗布した段階で細かい膜の欠陥がみられ、良好な寸法精度を有する隔壁１４を形成できなかった。これは、図２０（Ｃ）に示したように、疎水性絶縁膜１３の表面におけるｎ−ドデカンに対する水中での接触角が５°以下であることからもわかるように、疎水性絶縁膜１３の表面へ上記の混合溶液がなじみにくいためと考える。
【００８４】
このように、本実施例では、疎水性絶縁膜１３の表面の親水化処理を実施したのち、隔壁１４を形成するようにしたので、良好な寸法精度を有する隔壁１４を得ることができ、無極性液体１５の素早く安定した変形が可能な液体光学素子を作製することができた。
【００８５】
さらに、上記の実施例１および比較例１と同様にして隔壁１４を形成するまでの工程を実施して得たサンプルについて、密着性の評価をおこなった。
【００８６】
ここでは、各サンプルについて、以下の３種類のテープ１〜３を隔壁１４に接着したのち剥がすことにより、隔壁１４の状態を観察するようにした。
テープ１：ポリプロピレンテープ「ザ・テープＮｏ．８６超透明包装用テープ（大創産業株式会社製）」
テープ２：ポリイミド上にシリコーン系の接着剤を塗布したテープ「カプトンテープＮｏ．６５０Ｓ，厚さ♯１２（株式会社タカハシ製）」
テープ３：「養生用ポリエチレンクロス粘着テープＰ−カットテープ建築・塗装Ｎｏ．４１４０若葉（株式会社寺岡製作所製）」
【００８７】
なお、洗浄なしのソーダガラス「マイクロスライドガラス Ｓ−１１１１（松浪ガラス工業株式会社）」の表面に貼り付けたのち垂直方向に剥がす際に要する力は、テープ１が２６５ｇ／ｃｍ２であり、テープ２が１３５ｇ／ｃｍ２であり、テープ３が２０５ｇ／ｃｍ２であった。
【００８８】
その結果、実施例１のサンプルにおいては、図２３に示したように、テープ１〜３のいずれによっても隔壁１４が剥がれることはなかった。これに対し、比較例のサンプルにおいては、図２４（Ａ）に示したように、テープ１を貼り付けて剥がした箇所（矢印２４Ａで示した箇所）において全面的に隔壁１４が除去されたり、図２４（Ｂ）に示したように、テープ１を貼り付けて剥がした箇所（矢印２４Ｂで示した箇所）において部分的に隔壁が除去されたりする結果となった。この結果、隔壁１４を形成する前に疎水性絶縁膜１３の表面の親水化処理を実施することで、良好な密着性が得られることが確認できた。
【００８９】
以上、いくつかの実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はこれらの実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、液体光学素子を画像表示装置に適用した場合について説明したが、本発明の用途はこれに限定されるものではない。例えば光学絞りなど、他のデバイスにも応用可能である。
【００９０】
また、上記実施の形態では、液体光学素子が複数のセル領域を有するようにしたが、これに限定されるものはなく、単一のセル領域を有するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明の一実施の形態に係る液体光学素子の全体構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した液体光学素子の全体構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した液体光学素子の動作を説明するための概略図である。
【図４】図１に示した液体光学素子の動作を説明するための他の概略図である。
【図５】図１に示した液体光学素子の製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図６】図１の液体光学素子の製造方法を説明するための断面模式図である。
【図７】図６に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図８】図７に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図９】図８に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図１０】図１に示した液体光学素子の疎水性絶縁膜の表面における、酸素プラズマの照射時間と、フッ素原子に対する酸素原子の含有量比との関係を表す特性図である。
【図１１】図１に示した液体光学素子の疎水性絶縁膜における、酸素プラズマの照射時間と、表面粗度との関係を表す特性図である。
【図１２】図９に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図１３】図１２に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図１４】図１に示した液体光学素子の隔壁の表面における、酸素プラズマの照射時間と、炭素原子に対する酸素原子の含有量比との関係を表す特性図である。
【図１５】図１３に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図１６】図１５に続く工程を説明するための断面模式図である。
【図１７】本発明の一実施の形態に係る液体光学素子を有する画像表示装置の全体構成を表すブロック図である。
【図１８】図１７に示した画像表示装置に搭載される液体光学素子の動作を説明するための概略図である。
【図１９】実施例１としての液体光学素子における隔壁の平面形状を表す電子顕微鏡写真である。
【図２０】実施例１における、疎水性絶縁膜の親水化処理時間と、疎水性絶縁膜の表面における水およびｎ−ドデカンの濡れ性との関係を表す特性図である。
【図２１】実施例１における、隔壁の親水化処理時間と、疎水性絶縁膜の表面における水およびｎ−ドデカンの濡れ性との関係を表す特性図である。
【図２２】実施例１における、隔壁の親水化処理時間と、隔壁の表面における水およびｎ−ドデカンの濡れ性との関係を表す特性図である。
【図２３】実施例１における密着性試験の結果を表す説明図である。
【図２４】比較例１における密着性試験の結果を表す説明図である。
【符号の説明】
【００９２】
１０…液体光学素子、１１…下部基板、１２…下部電極、１３…疎水性絶縁膜、１４…隔壁、１５…無極性液体、１６…極性液体、１７…上部電極、１８…上部基板、１９…側壁、２０…制御部、２１…スイッチ、２２…電源、３０…画像表示装置、３１…画像表示部、３２…光源部、３３…駆動部、４１…駆動素子、Ｚ…セル領域。
【図１】
2009210738.tif 000017
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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