(57)【要約】      （修正有）【課題】基板縁部のネガレジストを取り除くために、基板縁部に光が当たらないように遮光体装置を有する投影露光装置を提供する。【解決手段】投影露光装置は、紫外線を含む光線をマスクに照射し、投影光学系を介してそのマスクを通過した光線をネガ型フォトレジストが塗布された基板ＣＢに露光する投影露光装置である。そして投影露光装置は、基板を吸着する吸着部６９を備えた基板テーブル６０と、露光光を遮光する第１遮光体３０と、第１遮光体を基板の縁部の一部に配置する第１遮光体配置部３２と、基板テーブルに載置され第１遮光体配置部を基板の周囲の任意の位置に移動させる移動部３１と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線を含む光線をマスクに照射し、投影光学系を介してそのマスクを通過した光線をネガ型フォトレジストが塗布された基板に露光する投影露光装置において、
前記基板を吸着する吸着部を備えた基板テーブルと、
前記露光光を遮光する第１遮光体と、
前記第１遮光体を前記基板の縁部の一部に配置する第１遮光体配置部と、
前記基板テーブルに載置され、前記第１遮光体配置部を前記基板の周囲の任意の位置に移動させる移動部と、
を備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
前記移動部は、前記吸着部の周囲に配置された円形ガイドレールを有することを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
【請求項３】
前記第１遮光体配置部は、前記第１遮光体を基板面に平行な軸で回転させることを特徴とする請求項１ないし請求項２に記載の投影露光装置。
【請求項４】
前記第１遮光体配置部は、前記第１遮光体を基板面と平行な方向に移動させることを特徴とする請求項１ないし請求項２に記載の投影露光装置。
【請求項５】
前記第１遮光体は、前記光線による熱又は紫外線により組成変化若しくは形状変化が少ない材料で形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の投影露光装置。
【請求項６】
さらに、前記第１遮光体とは形状の異なる第２遮光体を前記基板の縁部の一部に配置する第２遮光体配置部を備え、
前記移動部は、前記第２遮光体配置部を前記基板の周囲の任意の位置に移動させることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の投影露光装置。
【請求項７】
前記第２遮光体は、前記基板の直径方向の長さが前記第１遮光体と異なることを特徴とする請求項６に記載の投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンなどの基板の表面に所定のパターンを露光する際に、ネガ型フォトレジストが塗布された基板の縁部を遮光する遮光体を有する投影露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウェーハなどの半導体用基板、液晶やＰＤＰ用のガラス基板又は電子回路用の各種基板（以下、基板という）等に所定のパターンを露光するために、所定の波長の紫外線を照射する露光装置がいろいろと提案されている。基板にフォトレジストを塗布した場合に、基板の縁部ではフォトレジストが不均一に塗布されることがある。このためフォトレジストが除去されずに残り、後の工程でフォトレジストがごみの要因になることがある。そのため事前に基板の縁部のフォトレジストを除去しておくことが必要である。
【０００３】
特にＭＥＭＳの製造などではウェーハの段差が数μｍを超え、数百μｍにもおよぶものがある。このようなＭＥＭＳ生産にはウェーハ段差が大きいためネガ型フォトレジストが広く使用されている。基板の縁部のネガ型フォトレジストを取り除くために基板の縁部に光が当たらないように遮光板を備える露光装置が提案されている。感光しなかったネガ型フォトレジストは現像およびエッチングにより取り除かれるようになっている。
【０００４】
特許文献１では、リング状の遮光体１３０を基板上に載せ、基板の縁部を一括して覆うような装置が提案されている。特許文献１に開示される遮光体１３０は、図８（ａ）に示すように基板の縁部の全体を覆うような形状である。図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ断面図である。このため基板の交換は、基板テーブルが遮光体１３０の取り外し待機位置まで移動して遮光体１３０を取り外し、次に基板テーブルが基板の交換位置まで移動して、基板を交換し、再び基板テーブルが遮光体１３０の取り外し待機位置まで移動して遮光体１３０を基板上に設置する。従って、基板テーブルの移動距離が長くなるため基板交換に時間がかかる。また余分な基板テーブルの移動が多くなりごみを巻き上げる可能性も高くなってくる。さらに、特許文献１に開示される遮光体１３０の直径は基板の直径よりもかなり大きくなるため、遮光体１３０の取り出し及び設置自体にも時間がかかっている。
【０００５】
また、特許文献２は図８（ｃ）に示すように別の方法で遮光体１３０を挿入する装置を提案している。特許文献２では、欠けショットの露光時において欠けショット露光の欠け部分を遮光するようにフォトマスクＦＭ１０に対して遮光体１３０を挿入し、欠けのない有効ショットの場合には遮光体１３０を退避させている。フォトマスクＦＭ１０側で遮光体１３０を挿入するため、欠けショットの大きさに合わせて欠けショット時に遮光体１３０を挿入する距離を調節しなければならない。つまり、あらかじめ全ての欠けショットについての挿入距離と角度とを求めておく必要がある。また、特許文献２は矩形遮光体１３１も用意しているが、矩形遮光体１３１も遮光体１３０と同様にフォトマスクＦＭ１０より光源側に設置されているため、挿入距離と角度とを求めておく必要がある。
【特許文献１】特表２００５−５０５１４７号
【特許文献２】特開２００５−０４５１６０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１のように基板の全面を覆うような遮光体は大型になるために取り扱いが難しく、基板の交換作業にも時間が掛かり、投影露光装置の処理能力を低下させていた。また、大型な遮光体は空気抵抗も大きく、ごみを巻き上げる問題があった。さらに、特許文献２においての遮光体は小さく取り扱いが簡単であるが、フォトマスクより光源側にあるために欠けショットごとに遮光体の挿入量と角度とをあらかじめ計算で求めて、基板上の縁部に遮光帯を形成するように調整する。このため、遮光体の制御部はフォトマスクに描かれるパターンに応じて複数の挿入距離と角度とをあらかじめ求める必要があり、処理が煩雑になる問題があった。
【０００７】
そこで本発明は、基板の交換に伴う遮光体の取り外しと再設置の所要時間が短く、またまた遮光体の挿入距離の計算処理を不要とする簡便な遮光体装置を有する投影露光装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第１の観点の投影露光装置は、紫外線を含む光線をマスクに照射し、投影光学系を介してそのマスクを通過した光線をネガ型フォトレジストが塗布された基板に露光する投影露光装置である。そして投影露光装置は、基板を吸着する吸着部を備えた基板テーブルと、露光光を遮光する第１遮光体と、第１遮光体を基板の縁部の一部に配置する第１遮光体配置部と、基板テーブルに載置され第１遮光体配置部を基板の周囲の任意の位置に移動させる移動部と、を備える。
この構成により、第１遮光体を基板の縁部の一部に配置するので第１遮光体を小型化することができる。また基板の交換時においても従来のような大きな遮光体を取り外す工程も不要であるため、露光工程全体としてスループットを向上させることができる。
【０００９】
第２の観点の投影露光装置の移動部は、吸着部の周囲に配置された円形ガイドレールを有する。
この構成により、回転機構の制御系ケーブル等をコンパクトにまとめることができ、装置の信頼性と上げ発塵を抑えることができる。
【００１０】
第３の観点の投影露光装置の第１遮光体配置部は第１遮光体を基板面に平行な軸で回転させる。
この構成により、遮光体は少ない動きで基板上に配置され、退避にかかる時間と設置にかかる時間とを短縮化できる。
【００１１】
第４の観点の投影露光装置の第１遮光体配置部は、第１遮光体を基板面と平行な方向に移動させる。
この構成により、遮光体は少ない動きで基板上に配置され退避にかかる時間と設置にかかる時間とを短縮化できる。
【００１２】
第５の観点の投影露光装置の第１遮光体は、低熱膨張材で形成されている。
この構成により、何度もの露光により第１遮光体が熱を帯びてしまっても、第１遮光体に低熱膨張材を使用することで遮光範囲を一定にすることができる。
【００１３】
第６の観点の投影露光装置は、さらに、第１遮光体とは形状の異なる第２遮光体を基板の縁部の一部に配置する第２遮光体配置部を備え、移動部は第２遮光体配置部を基板の周囲の任意の位置に移動させる。
この構成により、２つの遮光体を備えているため、異なる基板又は異なる切り欠き部に対してもそれぞれ適した遮光帯を使い分けることができる。
【００１４】
第７の観点の投影露光装置では、第６の観点において、第２遮光体が基板の直径方向の長さが第１遮光体と異なる。
この構成により、異なる直径の基板に対してそれぞれ第１遮光体又は第２遮光体とを使用することができる。
【発明の効果】
【００１５】
基板の縁部の一部だけを遮光し、基板の周囲にそって遮光体が移動するために遮光体を小型化でき、発塵の少ない遮光機構を実現できる。また、遮光体の退避と挿入とが簡便に、また短時間でできることで基板の交換作業が短時間で行うことができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
＜反射型露光装置１００の概略構成＞
図１は、反射型露光装置１００の概略側面図である。
反射型露光装置１００は、大別して、紫外線を含む波長域の光束を照射する光源１１と、光源１１からの光束を集光する照明光学系１０と、フォトマスクＦＭを保持するマスクステージ４０と、反射式投影光学系５０と、基板テーブル６０とを備えている。
【００１７】
反射型露光装置１００は、マスクステージ４０上においてＸＹ平面に平行に支持されたフォトマスクＦＭを均一に照明するための照明光学系１０を備えている。照明光学系１０は、例えば、点光源に近い水銀ショートアークランプからなる光源１１を備えている。光源１１は、楕円ミラーの第１焦点位置に配置されているため、光源１１から射出された照明光束は、ダイクロイックミラー１２を介して、楕円ミラーの第２焦点位置に光源像を形成する。ダイクロイックミラー１２は、ｇ線、ｈ線、ｉ線、及びｊ線を含む波長域以外、つまり、３００ｎｍ以下の波長成分及び４６０ｎｍ以上の波長成分を除去する。この光源１１は、下方から上方へ向けて光路が採られているが、上方から下方へ光路が採られていてもよい。
【００１８】
楕円ミラーの第２焦点位置には不図示のシャッタが配置されている。シャッタにより基板ＣＢに至る露光光をカットする。光源像からの発散光は、コリメートレンズ１４によって平行光束に変換されて、波長選択部１５に入射する。波長選択部１５は、光源１１とフォトマスクＦＭとの間の光路中に挿脱可能に構成されている。
【００１９】
波長選択部１５を通過した光束は、フライアイレンズ１７及びコンデンサレンズ１８を順に透過する。
図１に示すように、波長選択部１５を通過した光束は、フライアイレンズ１７に入射する。フライアイレンズ１７は、多数の正レンズエレメントをその中心軸線が光軸に沿って延びるように縦横に且つ緻密に配列されている。従って、フライアイレンズ１７に入射した光束は、多数のレンズエレメントにより波面分割され、その後側焦点面(即ち、射出面の近傍)にレンズエレメントの数と同数の光源からなる二次光源を形成する。即ち、フライアイレンズ１７の後側焦点面には、実質的な面光源が形成される。
【００２０】
フライアイレンズ１７の後側焦点面に形成された多数の二次光源からの光束は、コンデンサレンズ１８に入射する。コンデンサレンズ１８を介した光束は、パターンが形成されたフォトマスクＦＭを重畳的に照明する。露光光によって照明されフォトマスクＦＭを透過した光束は、オフナー型の反射型投影光学系５０に向かう。なお、照明光学系１０が備える光源１１としては、紫外線放射タイプのＬＥＤやＬＤであってもよい。
【００２１】
フォトマスクＦＭを透過した光束は、反射ミラーＭ１により鏡筒内に導かれ、凹面ミラーＭ２で反射される。凹面ミラーＭ２で反射された光束は、凸面ミラーＭ３により反射され、再び凹面ミラーＭ２に戻る。そして、凹面ミラーＭ２で反射された光束は、今度は反射ミラーＭ４に反射され、露光対象である基板ＣＢに照射される。
【００２２】
＜マスクステージ４０、反射式投影光学系５０、及び基板テーブル６０の概略構成＞
図２は、照明光学系１０を除く反射型露光装置１００の概略斜視図であり、マスクステージ４０、反射式投影光学系５０、及び基板テーブル６０をそれぞれ分解して示した図である。
マスクステージ４０は、フォトマスクＦＭを走査方向であるＹ軸方向に沿って移動させるためのＹステージ４１を有している。Ｙステージ４１は、長いストロークを有しており、ステップ・アンド・スキャン方式の露光方法が可能になっている。Ｙステージ４１はその両側に配置されたリニアモーター４２により高速に且つ高精度に駆動される。Ｙステージ４１は、Ｘ軸方向、Ｚ軸に対してθ回転方向に移動するＸθステージ４５を搭載している。Ｘθステージ４５はボールネジ及び駆動モーターによって駆動される。そして、Ｘθステージ４５は移動鏡４８を有しており、フォトマスクＦＭの位置座標が移動鏡４８を用いたレーザー干渉計によって計測され且つ位置制御されるように構成されている。さらにＸθステージ４５は、Ｚ軸方向の位置が可変に構成されている。
【００２３】
反射式投影光学系５０は、オフナー型と呼ばれる光学系である。反射式投影光学系５０には、反射ミラーのほかレーザー干渉計によって計測するための固定ミラーが搭載されるだけで、振動が生じる部材とは直接つながっていない。
【００２４】
基板テーブル６０は、基板を載置する。そして、基板テーブル６０は、走査方向であるＹ軸方向に沿って移動させるための長いストロークを有するＹステージ６１と、Ｙステージ６１を走査直交方向であるＸ軸方向に沿って移動させるとＸステージ６５とを有している。そして、基板テーブル６０の位置座標は、移動鏡６７を用いたレーザー干渉計（不図示）によって計測され、位置制御される。基板テーブル６０もマスクステージ４０と同様にＺ軸方向に移動可能に構成されている。Ｙステージ６１及びＸステージ６５はそれぞれ、その両側に配置されたリニアモーター６２及びリニアモーター６６により高速に且つ高精度に駆動される。
【００２５】
基板テーブル６０は、基板ＣＢを吸着するための真空チャック６９を備え、真空吸着により基板ＣＢを吸着保持し、不図示の基板テーブル駆動回路によりＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向及びθ方向に移動することができる。また、基板テーブル６０は遮光体を配置するためのガイドレール３１を載置する。また、不図示の焦点検出装置により、基板ＣＢの合焦点位置を検出して基板テーブル６０はＺ軸方向にも移動する。このようにして、オフナー型の反射式投影光学系５０で反射された光束は、基板ＣＢに入射し基板ＣＢ上で結像する。すなわち、フォトマスクＦＭのパターン像が基板ＣＢ上で結像し、基板ＣＢ上に塗布されたフォトレジストによってこの像は基板ＣＢ上に転写される。
【００２６】
反射型露光装置１００は、露光精度を向上させるためすべての部材が防振マウント７１に載置されている。まず４本の防振マウント７１には、石定盤やアルミナセラミック又は金属で構成される基台７２が搭載される。基台７２の上には、基板テーブル６０が搭載される。さらに、基台７２の上には、基板テーブル６０の移動範囲を避けて鏡筒支持台７３が搭載される。鏡筒支持台７３には、反射式投影光学系５０が搭載される。また、鏡筒支持台７３には、マスクステージ支持台７５が搭載される。マスクステージ支持台７５上にはマスクステージ４０が搭載される。
【００２７】
反射式投影光学系５０とマスクステージ支持台７５とは、フランジで接合される。フランジで接合されるマスクステージ支持台７５の部材はＺ方向の加重及びＸＹ方向の振動ができるだけ反射式投影光学系５０に伝わらない構造となっている。このため、マスクステージ４０の粗動ステージ４１又は微動ステージ４５が移動することによって生じる振動は、反射式投影光学系５０にほとんど伝達されることがない。また、反射式投影光学系５０と基板テーブル６０との間に鏡筒支持台７３が存在するため、基板テーブル６０の移動による振動も直接伝達されない。
【００２８】
＜＜実施例１＞＞
本発明の反射型露光装置１００はネガ型フォトレジストを塗布した基板の縁部を未露光とするために、扇状の第1遮光体３０を固定した第１遮光体配置部３２が基板ＣＢの外周を移動することで、基板の縁部にフォトマスクＦＭのパターン像を形成しない遮光帯３９を形成する。
【００２９】
扇状の第1遮光体３０は光源の光が照射されることで熱を持つ。紫外線や熱の発生は第1遮光体３０の変形を起こすおそれがあるため、露光領域ＥＡを必要以上に遮光するおそれがある。このため第1遮光体３０の材料には耐熱コートを施したチタン合金や、低い熱膨張係数のＦｅ−３６Ｎｉからなるインバー合金や、Ｆｅ２９Ｎｉ−１７Ｃｏからなるコバール合金やセラミックを用いる。つまり第1遮光体３０は光源からの光による熱又は紫外線により組成変化若しくは形状変化が少ない材料が使用される。
【００３０】
ネガ型フォトレジストに遮光帯３９を形成することでフォトレジストの残渣など、パーティクルの原因をなくすことができる。以下は遮光帯３９を形成するための第１遮光体配置部３２と第１遮光体との構造または動作を示す。
【００３１】
＜可倒方式の遮光体＞
図３（ａ）は図２の基板テーブル６０部分を拡大し上部より見た図である。図３（ａ）で示すように基板テーブル６０に基板ＣＢが真空吸着されており、その周りを取り囲むようにリング状のガイドレール３１が載置されている。ガイドレール３１には第１遮光体配置部３２が載置され、基板ＣＢの外周を自由に移動することができる。つまり、第１遮光体配置部３２はガイドレール３１上を３６０°方向に移動することができる。このため、露光位置が基板ＣＢの縁部に近づくにつれ、基板テーブル６０の座標位置情報より第１遮光体の配置位置が求まり、あらかじめ所定の位置で待機することができる。
【００３２】
基板テーブル６０の位置制御は基板テーブル６０のＸ方向とＹ方向に移動鏡６７を搭載し、レーザー干渉計を用いることで精密な位置を制御する。レーザー干渉計のレーザー光６８はＸ方向及びＹ方向より照射される。なおＹ方向にレーザー光を２箇所照射することにより基板テーブル６０のＺ軸を中心とした回転方向も位置制御する。
【００３３】
図３（ｂ）は第１遮光体配置部３２の近傍をさらに拡大した図である。第１遮光体配置部３２は第1遮光体３０と、ロータリーシリンダー３３と、リニアモーター３５と、それらを支える支柱とから構成されている。
【００３４】
図３（ｃ）は図３（ｂ）を側面方向（ＹＺ面）から見た第１遮光体配置部３２の近傍の断面図である。ロータリーシリンダー３３は回転軸３４を中心として垂直方向に１８０°回転することで第1遮光体３０を基板テーブル６０上の基板ＣＢにかぶせることで遮光する。また、基板ＣＢの交換時は第1遮光体３０を点線で示した退避位置に移動することができ迅速にまた安全に交換作業をすることができる。
【００３５】
図４は基板テーブル６０における露光処理の第１フローチャートを示している。
ステップＳ１１では、第１遮光体配置部３２に付帯する第1遮光体３０をロータリーシリンダー３３で回転させ退避位置である初期状態に持って行く。本実施例では第1遮光体３０の移動手段としてロータリーシリンダー３３を用いているが他の方法で回転させてもよい。
【００３６】
ステップＳ１２では、基板テーブル６０が基板ＣＢの交換位置まで移動し、不図示のローダーが基板ＣＢを基板テーブル６０の中心に置く。そして真空チャック６９が基板ＣＢを真空吸着する。
ステップＳ１３では、Ｙステージ６１とＸステージ６５とによって基板テーブル６０が露光位置に移動される。基板テーブル６０の正確な位置はレーザー干渉計を用いて制御する。
【００３７】
ステップＳ１４では、露光位置に連動して第１遮光体配置部３２をガイドレール３１上で移動させる。そして付属する第1遮光体３０が露光位置の近傍の退避位置で待機する。
ステップＳ１５では、真空吸着された基板ＣＢの一部を覆うように第1遮光体３０をロータリーシリンダー３３で回転させ設置する。
【００３８】
ステップＳ１６では、基板ＣＢ上に塗布されたフォトレジストにフォトマスクＦＭのパターンを露光する。第1遮光体３０は露光されない遮光帯３９の一部を形成する。
ステップＳ１７では、１つの露光領域ＥＡの露光が終了したため、再び別の露光領域ＥＡに移動できるように第1遮光体３０が退避位置に退避する。
【００３９】
ステップＳ１８では基板ＣＢの全面にフォトマスクＦＭのパターンを転写したかを判断する。全面に転写されていなければステップＳ１３に戻り露光処理を繰り返す。基板ＣＢの全面を露光するとステップＳ１８の終了処理に移る。すべての露光領域ＥＡが終わった状態で、第1遮光体３０はネガ型フォトレジストを塗布した基板の縁部を未露光とする遮光帯３９を形成する。
【００４０】
第1遮光体３０は短時間で退避及び設置を繰り返すことができるので、基板ＣＢの取り外しを安全且つ短時間で行うことができる。反射型露光装置１００は新しい基板ＣＢを基板テーブル６０に載置する準備が整う。露光処理は、再びステップＳ１２へ移ることで、迅速に処理することができる。
【００４１】
図５は基板テーブル６０における露光処理の第２フローチャートを示している。この第２フローチャートでは基板ＣＢを載置した後、第1遮光体３０を基板ＣＢの縁部に設置したまますべての露光領域ＥＡの露光を行い、基板ＣＢの交換前に第1遮光体３０を退避させる。
【００４２】
ステップＳ３１では、第１遮光体配置部３２に付帯する第1遮光体３０をロータリーシリンダー３３で回転させ退避位置に持って行く。
ステップＳ３２では、基板ＣＢが基板テーブル６０の吸着部６９に載置され、真空吸着させることで固定される。
ステップＳ３３では真空吸着された基板ＣＢの縁部の一部を覆うように第1遮光体３０をロータリーシリンダー３３で回転させ設置する。
【００４３】
ステップＳ３４では、露光領域ＥＡが反射式投影光学系５０の下にくるように基板テーブル６０を配置する。露光位置の正確な位置はレーザー干渉計を用いて制御する。
ステップＳ３５では基板テーブル６０の移動に連動して第１遮光体配置部３２を移動させて第1遮光体３０を所定の位置へ移動させる。第1遮光体３０は露光しない遮光帯３９の一部を形成する。
【００４４】
ステップＳ３６では、基板ＣＢ上に塗布されたフォトレジストにフォトマスクＦＭのパターンを露光し転写する。
ステップＳ３７では基板ＣＢの全面にフォトマスクＦＭのパターンを転写したかを判断する。全面に転写されていなければステップＳ３４に戻り露光処理を繰り返す。基板ＣＢの全面を露光するとステップＳ３８の終了処理に移る。
【００４５】
ステップＳ３８では、第1遮光体３０を退避する。そしてすべての露光領域ＥＡが露光された基板ＣＢを交換する。
第1遮光体３０は短時間で退避することができるので、反射型露光装置１００は新しい基板を基板テーブル６０に載置する準備が整う。したがって、露光処理は再びステップＳ３２へ移ることで迅速に処理することができる。
【００４６】
＜＜実施例２＞＞
＜水平移動方式の遮光体＞
実施例１では第１遮光体配置部３２の第1遮光体３０が垂直方向に回転することで第1遮光体３０の設置と退避とを行っていた。実施例２では第1遮光体３０が水平方向に動くことで第1遮光体３０の設置と退避とを行う。
【００４７】
また、図６（ａ）は第1遮光体３０がＸＹ平面を水平移動する第１遮光体配置部３２−２近傍の断面図を示している。図６（ｂ）は第１遮光体配置部３２−２の近傍を上部（Ｚ方向）から見た図である。
【００４８】
水平方向に移動する第1遮光体３０は退避位置（点線で示す）から設置位置（実線で示す）まで、ロータリーシリンダー３３−２などを用いて回転軸３４−２を中心に水平移動させることで基板ＣＢを遮光する。第1遮光体３０の大きさを変えることで遮光帯３９の幅を調節することができ、露光領域ＥＡを有効に使えるような位置に調節することができる。また、水平方向に移動するときは、第1遮光体３０が垂直方向に回転するときよりも空気抵抗がより少ないために、ごみを巻き上げるおそれが少ない。
【００４９】
図６（ｂ）で示す水平に回転移動する第1遮光体３０は、ロータリーシリンダー３３−２を用いることで９０°回転して退避位置に移動しているが、第1遮光体３０が基板ＣＢに干渉しない位置に移動すれば良いため、１８０°回転しても良い。また、移動手段はロータリーシリンダー３３−２以外にステッピングモーターを使用しても差し支えない。
【００５０】
なお、実施例２の露光処理に関しても、図４で説明したフローチャートと同様な処理をすることができる。
【００５１】
＜＜実施例３＞＞
実施例１または実施例２では、１箇所の遮光体配置部を設置したが、２箇所以上の遮光体配置部を設置することができる。以下はその具体例を図示する。実施例１又は実施例２と同じ部材には同じ符号を付している。
【００５２】
例えば、図７は２箇所の遮光体配置部を載置した基板テーブル６０を示す。第１遮光体配置部３２と第２遮光体配置部３７とはガイドレール３１上を自由に移動できるため、お互いが衝突しない位置に配置する必要がある。図７では第１遮光体配置部の対称位置に第２遮光体配置部を設置した場合を示すが、隣り合う位置でもよい。
【００５３】
２箇所の遮光体配置部はそれぞれ異なる大きさの遮光体を固定する。例えば、第１遮光体配置部３２は基板サイズＡ用の第1遮光体３０を設置し、第２遮光体配置部３２は直径の小さい基板サイズＢ用の第２遮光体３６を設置する。また、第1遮光体３０は基板サイズＡに最適な遮光帯３９を形成し、第２遮光体３６は基板サイズＢに適した扇状になっており、基板サイズＢに最適な遮光帯３９を形成する。
【００５４】
図７は基板サイズＢに第２遮光体３６で遮光した場合の遮光帯３９を示している。この時、第1遮光体３０は必要が無いため、図７で示すように第1遮光体３０を退避位置に配置する。また、基板交換時は第1遮光体３０と第２遮光体３６とが退避位置に移動する。
【００５５】
遮光体が退避する機構は、実施例１の可倒方式、または実施例２の水平移動方式でもよい。また、露光処理は図４に示したフローチャートと同様に処理することができる。また第２遮光体３６の材料も耐熱コートを施したチタン合金や、低い熱膨張係数のＦｅ−３６Ｎｉからなるインバー合金や、Ｆｅ２９Ｎｉ−１７Ｃｏからなるコバール合金又はセラミックを用いる。
【００５６】
以上のように複数の遮光体配置部を設置することで、複数のサイズの基板に適応した遮光帯３９を形成することができ、汎用性のある反射型露光装置１００を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
実施例１及び実施例２に関して、ひとつのリング状のガイドレール３１上にひとつの遮光体配置部３２が移動するようにしたが、リング状を２つ又は３つに分割して、それぞれのガイドレールに遮光体配置部を配置するようにしてもよい。次の露光領域ＥＡが基板ＣＢの正反対の縁部になるような場合には、別の遮光体配置部がすばやく次の露光領域ＥＡへ移動することができる。
また、基板ＣＢはノッチ又はオリエンテーションフラットと呼ばれる基板ＣＢの一部の縁部を切り欠いた切り欠け部を形成している。実施例３では第1遮光体３０とは基板ＣＢの半径方向に大きさの異なる及び第２遮光体３６を配置したが、第２遮光体３６がその切り欠け部に対応した形状であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】反射型露光装置１００の概略側面図である。
【図２】照明光学系１０を除く反射型露光装置１００の概略斜視図であり、マスクステージ４０、反射式投影光学系５０、及び基板テーブル６０をそれぞれ分解して示した図である。
【図３】（ａ）は、基板テーブル６０を上部より見た図である。  （ｂ）は、第１遮光体配置部３２をさらに拡大した図である。  （ｃ）は、第１遮光体配置部３２近傍を側面方向より見た断面図である。
【図４】基板テーブル６０における露光処理の第１フローチャートである。
【図５】基板テーブル６０における露光処理の第２フローチャートである。
【図６】水平方向に動く第２遮光体配置部３２−２近傍の断面図である。
【図７】２箇所の遮光体配置部を載置した基板テーブル６０を示す。
【図８】（ａ）は、従来の基板の全面を覆う遮光体を示す図である。  （ｂ）は、（ａ）のＡ断面図である。  （ｃ）は、従来の可動する遮光体の配置を示す図である。
【符号の説明】
【００５９】
１０    …  照明光学系
１１    …  光源
１２    …  ダイクロイックミラー
１４    …  コリメートレンズ
１５    …  波長選択部
１７    …  フライアイレンズ
１８    …  コンデンサレンズ
３０    …  第1遮光体
３１    …  リング状レール
３２    …  第１遮光体配置部
３３    …  ロータリーシリンダー
３４    …  回転軸
３５    …  リニアモーター
３６    …  第２遮光体
３７    …  第２遮光体配置部
３９    …  遮光帯
４０    …  マスクステージ（４１…Ｙステージ，４５…Ｘθステージ）
４２    …  リニアモーター
４８    …  移動鏡
５０  …  反射式投影光学系
６０    …  基板テーブル（６１…Ｙステージ，６５…Ｘステージ）
６２，６６  …  リニアモーター
６７    …  移動鏡
６８    …  レーザー光
６９    …  真空チャック
７１    …  防振マウント
７２    …  基台
７３    …  鏡筒支持台
７５    …  マスクステージ支持台
１００  …  反射型露光装置
ＦＭ    …  フォトマスク
Ｍ１，Ｍ４  …  反射ミラー
Ｍ２    …  凹面ミラー
Ｍ３    …  凸面ミラー
ＣＢ    …  基板
ＥＡ    …  露光領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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