(57)【要約】【課題】環境温度に追随し、局部的圧力に対して塑性変形しないスペーサでセルギャップを均一に保持するようにした液晶パネルを提供すること。【解決手段】第１の基板と対向配置される第の２基板とを備え、これらの第１、第２の基板のいずれか一方の基板にスペーサが形成されて第１、第２の基板間に空間Sが形成されるようにして貼り合わせた後に、空間内に液晶２１を封入した液晶パネルにおいて、スペーサ１８は、一方の基板１２の表面に固定された底面部と、この底面部から立設した所定の高さを有する立設部と、この立設部の頂部に形成された頂部辺と、を有し、この頂部辺には少なくとも２つの突起部１８１、１８２と１つの谷部１８０とを有する突起状スペーサ１８を形成して、この突起状スペーサの各突起部１８１、１８２が他の基板２に接触した状態で貼り合わされている。【選択図】図５
2009210970.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板とを貼り合せてなる液晶パネルの製造方法において、以下の工
程を含むことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
（１）前記第１の基板の表面に底面部を有し、前記底面部から立設した立設部の頂部辺に
少なくとも２つの突起部と１つの谷部とを有する突起状スペーサを形成する工程、
（２）前記突起状スペーサが形成された第１の基板に配向膜を塗布する工程、
（３）塗布された前記配向膜をラビング処理する工程、
（４）前記第１、第２基板のいずれか一方の基板の表示領域の周囲にシール材を塗布する
とともに両基板間に前記突起状スペーサを介在させて前記第１、第２基板間に空間を形成
して貼り合せる工程、
（５）前記空間に液晶を封入する工程。
【請求項２】
前記突起状スペーサは、前記突起部のコーナー部乃至角部を湾曲させることを特徴とす
る請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記突起状スペーサが形成された基板に、カラーフィルタ層を設け、前記突起状スペー
サは前記カラーフィルタ層で使用する色材を選んでこれらの色材を積層して形成すること
を特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
第１の基板と対向配置される第２の基板とを備え、前記第１、第２の基板のいずれか一
方の基板にスペーサが形成されて前記第１、第２の基板間に空間が形成されるようにして
貼り合わせた後に、前記空間内に液晶を封入した液晶パネルにおいて、
前記スペーサは、前記第１、第２の基板のいずれか一方の基板の表面に固定された底面
部と、前記底面部から立設した所定の高さを有する立設部と、前記立設部の頂部に形成さ
れた頂部辺と、を有し、前記頂部辺には少なくとも２つの突起部と１つの谷部とを有する
突起状スペーサを形成して、前記突起状スペーサの各突起部が他の基板に接触した状態で
貼り合わされていることを特徴とする液晶パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの製造方法および液晶パネルに係り、詳しくはフォトスペーサの
形状を工夫して、パネル製造工程における液晶配向膜の塗布工程およびラビング処理工程
をスムーズにした液晶パネルの製造方法および液晶パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータや携帯電話機等の携帯情報端末の電子機器は、その表示
装置として、液晶パネルが多く使用されている。この液晶パネルは、互いに対向する面に
それぞれ所定の電極パターンなどが形成された２枚の第１、第２基板を用いて、これらの
第１、第２基板を間にシール材を介して所定の間隔をあけて貼り合わせ、これらの間に所
定大きさの空間を形成して、この空間に液晶を封入した構成となっている。
【０００３】
この液晶パネルは、第１、第２基板間のギャップ、いわゆるセルギャップは小さな球状
のスペーサを介在させることで均一になるように制御されている。この球状スペーサは、
液晶パネルの製造工程において、第１、第２基板を貼り合わせる前に、いずれかの一方の
基板の内面に散布することにより配設される。しかし、このような球状のスペーサを使用
すると、その径が比較的大きく、また基板に散布することで配設されるために配設位置を
調整することができないためにパネルの開口率が低下してしまう。また、球状スペーサの
散布時にその配設位置が偏在して散布密度がバラつき、セルギャップに変動が生じてしま
うなどの課題がある。
【０００４】
そこで、このような球状スペーサに代えて、柱状スペーサ（フォトスペーサ）を用いて
、この柱状スペーサの基部を一方の基板に固定して、この基部から延びた先端部を他方の
基板に接触させて、両基板間のセルギャップを制御するようにした液晶パネルが提案され
ている（例えば、下記特許文献１、２参照）。
【０００５】
図８は下記特許文献１に開示された液晶パネルを構成するカラーフィルタ基板を示し、
図８Ａはカラーフィルタ基板の一部平面図、図８Ｂは図８Ａの一部を拡大した拡大図であ
る。以下、図８を参照して、下記特許文献１に開示された液晶パネルを説明する。
【０００６】
下記特許文献１に開示された液晶パネルは、画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ
）からなるスイッチング素子などが形成されたＴＦＴアレイ基板（図示省略）と、このア
レイ基板と対向する面にカラーフィルタなどが形成されたカラーフィルタ基板（以下、単
に「ＣＦ基板」という）３０とを備え、このＣＦ基板３０には、所定幅ａのブラックマト
リクス３１、３１が形成されて、これらのブラックマトリクス３１、３１が直交する直交
部３２に所定形状の柱状体スペーサ３３が形成されている。この柱状体スペーサ３３を上
方からみた平面の形状は、図８Ｂにみられるように、正方形、菱形、円形、楕円形となっ
ている。この柱状体スペーサ３３によって、これまでの球状スペーサが抱える課題が解決
されている。
【０００７】
また、下記特許文献２には、配向の乱れを低減する目的で、長手方向の長さおよびこの
長手方向と直交する幅長並びに高さを有し、長手方向の長さを幅長より大きくした直方体
からなるスペーサを用いた液晶パネルが開示されている。なお、このスペーサは長手方向
の長さが幅長より大きくなっていることから、異方形状のスペーサとも称されている。
【特許文献１】特開２０００−１３１７０１号公報（〔００１４〕〜〔００１８〕、図１、図３）
【特許文献２】特開平１０−３１９４１３号公報（〔００２１〕〜〔００２６〕、図８、図１１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記特許文献１および２の液晶パネルに形成されたスペーサによれば、球状スペーサが
抱える課題を解消することができると共に、セルギャップを均一に保持することができる
。
【０００９】
ところが、液晶パネルは、使用環境によって液晶が熱の影響を受けて熱膨張および熱収
縮し、或いは製造工程の基板の貼合わせ時に基板に局部的な大きな力が加わることがある
。特に、局部的な大きな圧力が掛かると柱状体からなるスペーサが弾性限界を超えて塑性
変形してしまい元の形状に復帰することができなくなり、その結果、所定のギャップを保
持できなくなることがある。そこで、スペーサは、このような熱的伸縮に対する耐性およ
び所定の機械的強度が必要となる。このような機械的強度を補強する方法としては、柱状
体からなるスペーサの本数や面積を増大させることが考えられるが、近年の液晶パネルは
、小型、高精細化の傾向にあり、これに伴って個々の画素領域が極小化されているのでス
ペーサの本数や面積を増大させることが極めて困難になってきている。すなわち、近年、
携帯端末などに使用される液晶パネルは、小型化に加えて高解像度、高輝度、低消費電力
が要求されていることから、スペーサを配置する場所（非開口部）が不足している。
【００１０】
また、パネルの製造工程の配向膜塗布工程およびラビング処理工程において、スペーサ
を柱状体にすると、配向膜の塗布時に配向膜材の流れを遮ってしまい塗布ムラが生じる恐
れがある。さらに、この配向膜をラビング処理するときにも、ラビングローラに巻回され
たラビング布を傷める恐れがあるなどの課題がある。
特に特許文献2に記載されている異方形状のスペーサの場合、ある程度の強度を確保し
ようとすると、長手方向の長さと、長手方向と直交する方向の幅長との差が大きくなって
くる。そうすると、配向膜塗布の際に、この異方形状のスペーサが堤防のような役目を果
たしてしまい、配向膜を堰き止めてしまうことになる。またラビング処理の際にもラビン
グ布とスペーサとの接触面積が増加してしまうことになる。
【００１１】
本発明は、上述のような従来技術が抱える課題を解決するためになされたもので、本発
明の目的は、パネル製造工程の配向膜塗布工程およびラビング処理工程をスムーズに行え
るようにした液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の他の目的は、環境温度の変化による熱伸縮に追随し、しかも局部的圧力
に対しても塑性変形しないスペーサでセルギャップを均一に保持するようにした液晶パネ
ルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明の液晶パネルの製造方法は、第１の基板と第２の基
板とを貼り合せてなる液晶パネルの製造方法において、以下の工程を含むことを特徴とす
る液晶パネルの製造方法。
（１）前記第１の基板の表面に底面部を有し、前記底面部から立設した立設部の頂部辺に
少なくとも２つの突起部と１つの谷部とを有する突起状スペーサを形成する工程、
（２）前記突起状スペーサが形成された第１の基板に配向膜を塗布する工程、
（３）塗布された前記配向膜をラビング処理する工程、
（４）前記第１、第２基板のいずれか一方の基板の表示領域の周囲にシール材を塗布する
とともに両基板間に前記突起状スペーサを介在させて前記第１、第２基板間に空間を形成
して貼り合せる工程、
（５）前記空間に液晶を封入する工程。
【００１４】
上記液晶パネルの製造方法によれば、スペーサ形成工程（１）で、突起状スペーサの頂
部辺に少なくとも２つの突起部と１つ谷部とを形成した後に、次工程の配向膜塗布工程（
２）で配向膜を塗布すると、配向膜が突起状スペーサの谷部を通って基板面に拡散される
ので、配向膜がスペーサによって堰き止められることがなくなり、配向膜の塗布ムラが生
じることなくスムーズに成膜することができる。また、次のラビング処理工程（３）では
、ラビングローラとの接触面積が小さくなるので、ラビングローラに巻回されたラビング
布などがスペーサに引っ掛かることがなくなりラビング布などの損傷を防止できる。さら
に、このような構成を経て製造された液晶パネルは、頂部辺の突起部が他の基板と接触し
て均一なセルギャップを保持することができる。さらにまた、この突起状スペーサは、液
晶の熱膨張および収縮に対しては突起部が追随し、また、局部的な大きな力が加わったと
きは、突起部が圧縮されても谷部が基板に突き当たって過度の変形を阻止してスペーサの
塑性変形を防止できる。
【００１５】
上記液晶パネルの製造方法において、前記突起状スペーサは、前記突起部のコーナー部
乃至角部を湾曲させると好ましい。
【００１６】
上記好ましい態様によれば、ラビング処理時に、ラビングローラに巻回されたラビング
布などがスペーサに引っ掛かることがなく、ラビング布などの損傷を防止できる。
【００１７】
上記液晶パネルの製造方法において、前記突起状スペーサが形成された基板に、カラー
フィルタ層を設け、前記突起状スペーサは前記カラーフィルタ層で使用する色材を選んで
これらの色材を積層して形成すると好ましい。
【００１８】
上記好ましい態様によれば、カラーフィルタ基板を製造する際に、突起状スペーサに特
別な材料を用いることなく、カラーフィルタ層を形成する色材で簡単に作成できる。
【００１９】
本発明の液晶パネルは、第１の基板と対向配置される第２の基板とを備え、前記第１、
第２の基板のいずれか一方の基板にスペーサが形成されて前記第１、第２の基板間に空間
が形成されるようにして貼り合わせた後に、前記空間内に液晶を封入した液晶パネルにお
いて、前記スペーサは、前記第１、第２の基板のいずれか一方の基板の表面に固定された
底面部と、前記底面部から立設した所定の高さを有する立設部と、前記立設部の頂部に形
成された頂部辺と、を有し、前記頂部辺には少なくとも２つの突起部と１つの谷部とを有
する突起状スペーサを形成して、前記突起状スペーサの各突起部が他の基板に接触した状
態で貼り合わされていることを特徴とする。
【００２０】
上記液晶パネルによれば、頂部辺の少なくとも２つの突起部が他の基板との間に接触し
た状態で貼り合わされるので、液晶の熱膨張および収縮に対しては、これらの突起が追随
して、両基板間のギャップが均一に保持される。また、局部的な大きな力が加わったとき
は、突起部が圧縮されても２つの突起部間の谷部が基板に突き当たって過度の変形を阻止
してスペーサの塑性変形を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶パネルの製造方法および液晶パネルを例示
するものであって、本発明をこれらに特定することを意図するものではなく、特許請求の
範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
【００２２】
図１はＴＦＴを搭載したＴＦＴアレイ基板の表示画素を示した平面図である。図１には
説明の便宜上カラーフィルタ基板に配置する突起状スペーサが示されている。図２はカラ
ーフィルタ基板上の突起状スペーサの配置を示した平面図、図３は図２の突起状スペーサ
の概略図、図４は図３の突起状スペーサの変形例を示した各種スペーサの概略図、図５は
図１のＶ−Ｖ線の断面図である。図６はマザー基板から個々のパネルを製造する工程図、
図７Ａは配向膜塗布装置、図７Ｂはラビング装置の概略図である。
【００２３】
本発明の実施形態に係る液晶パネル１は、図１および図５に示すように、マトリクス状
に配設されたゲート配線４とソース配線６とが交差する箇所にアクティブ素子としての薄
膜トランジスタ（以下、単に「ＴＦＴ」という）１０を設けた第１の基板としてのＴＦＴ
アレイ基板（以下、単に「アレイ基板」という）２と、このアレイ基板２と対向配置する
カラーフィルタ層１５を有する第２の基板としてのカラーフィルタ基板（以下、単に「Ｃ
Ｆ基板」という）１２とを有している。ＣＦ基板１２には突起状スペーサ１８が形成され
ている。この突起状スペーサ１８は、底辺に所定面積を有する底面部１８ａと、この底面
部１８ａから立設した立設部１８ｂとを有し、この立設部１８ｂの頂部辺は少なくとも２
つの山状の突起部１８１、１８２と、この山状の突起部１８１、１８２との間に形成され
た１つの谷部１８０とで形成されている（図３参照）。
【００２４】
この突起状スペーサ１８が形成されたＣＦ基板１２とアレイ基板２とは、いずれか一方
の基板の表示領域の周囲にシール材（図示省略）を塗布して、両基板間に空間Ｓが形成さ
れるようにして貼合わせ、このシール材を硬化させた後に、この空間Ｓに液晶２１が注入
された構成を有している。以下、具体的な構成を説明する。
【００２５】
アレイ基板２は、ガラス基板３上にゲート配線４とソース配線６（図１参照）とが所定
の間隔をあけて互いにマトリクス状に配設されており、このマトリクス状に配設されたゲ
ート配線４とソース配線６とで囲まれた複数の領域が表示画素Ｐとなっている。それぞれ
の表示画素Ｐは、外部駆動回路と接続されゲート電極を兼ねるゲート配線４、ソース配線
６、ＴＦＴ１０および画素電極１１などで構成されている。
【００２６】
図５において、アレイ基板２は、ガラス基板３上に、ゲート配線４が形成され、その上
にゲート絶縁膜５を成膜し、その上にソース配線６が形成されて、更に、両ゲート配線４
とソース配線６とが交差する交差部近傍にＴＦＴ１０（図１参照）が形成されている。ま
た、ＴＦＴ１０は、不図示のドレイン電極を介して画素電極１１に接続されており、これ
らは、保護絶縁膜７で被覆されて、さらにこの保護絶縁膜７の上に配向膜８が形成されて
いる。
【００２７】
ＣＦ基板１２は、ガラス基板１３上にアレイ基板２のゲート配線４、ソース配線６およ
びＴＦＴ１０を覆うようにブラックマトリクス１４がマトリクス状に形成されており、こ
のブラックマトリクス１４に囲まれた領域に所定色からなるカラーフィルタ層１５が形成
されている。また、このカラーフィルタ層１５の上には絶縁保護膜１６および共通電極１
７が順に積層されている。
【００２８】
この共通電極１７上には、アレイ基板２に向けて突起状スペーサ１８が立設される。こ
の突起状スペーサ１８は、ブラックマトリクス１４上にあって、図１に示すように、それ
ぞれの表示画素Ｐ毎に形成されている。個々の突起状スペーサ１８は、図３に示すように
、ＣＦ基板１２面に固定される長手方向の長さＸおよびこの長手方向と直交する幅長Ｙと
を有する底面部１８ａと、この底面部１８ａから立設した高さＺの立設部１８ｂとを有し
、立設部１８ｂの頂部辺１８ｃは、図３に示すように、左右対称の山状の突起部１８１、
１８２と、両突起部１８１、１８２の間に所定深さの谷部１８０とを有した形状に形成さ
れている。つまり長手方向の長さＸおよびこの長手方向と直交する幅長Ｙとを有する異方
形状のスペーサに谷部１８０を設けた形状に形成されている。谷部１８０の深さは、突起
部１８１、１８２の頂点からΔＺだけ窪んだ深さに設定されている。この突起状スペーサ
１８は、アクリル系透明感光剤で形成されている。なお、この突起状スペーサ１８は感光
剤で形成されるのでフォトスペーサとも言われている。また、この突起状スペーサ１８は
、その立設部１８ｂおよび頂部辺１８ｃのコーナー部乃至角部を湾曲させて丸みを付け、
全体を曲面からなる形状とするのが好ましい。このように丸みを付けると、ラビング時に
コーナー部乃至角部にラビング布などが引っ掛かって損傷することがなくなる。
【００２９】
このＣＦ基板１２は、突起状スペーサ１８が形成された後に、アレイ基板２と対向する
表面に配向膜１９が形成される。これらのアレイ基板２とＣＦ基板１２とは、アレイ基板
２の表示領域の周囲に、シール材（図示省略）を塗布し、更に、突起状スペーサ１８の各
突起部１８１、１８２をアレイ基板２の表面に接触させて、両基板２、１２間に所定大き
さの空間Ｓが形成されるように貼り合わされる。両基板２、１２が貼り合わされた後には
、空間Ｓ内に液晶２１が注入される。ガラス基板３、１３の外表面には、入射光を偏光す
る偏光板９、２０が配置されて液晶パネル１の組立が完了する。
【００３０】
この実施形態の液晶パネル１によれば、ＣＦ基板１２側に設けた突起状スペーサ１８の
頂部辺１８ｃのそれぞれの突起部１８１、１８２がアレイ基板２と接触した状態で貼り合
わされることにより、均一なセルギャップが保持される。また、突起状スペーサ１８は、
液晶２１の熱膨張および収縮に対しては各突起部１８１、１８２が追随し、また、局部的
な大きな力が加わったときは、それぞれの突起部が圧縮されても谷部１８０がアレイ基板
２に突き当たって過度の変形を阻止してスペーサの塑性変形が防止される。
【００３１】
この突起状スペーサ１８は、上記の形状に限定されず、種々の形状に変更してもよい。
例えば、断面視での形状が台形状となる台形型スペーサ１８Ａ（図４Ａ参照）、３つの山
状突起１８１〜１８３および２つの谷部１８０、１８０を有する台形型スペーサ１８Ｂ（
図４Ｂ参照）等にしてもよい。これらの突起状スペーサ１８Ａ、１８Ｂは、遮光する遮光
部材の形状に合わせて、所定の形状のスペーサを選択できるので、基板設計が容易になる
。また、機械的強度も高くなる。さらに、突起状スペーサ１８は、アレイ基板側２に設け
てもよい。さらにまた、本実施形態における突起状スペーサ１８は、図１に示すように、
それぞれの表示画素Ｐに設けた例を説明したが、複数画素をグループにして、このグルー
プ毎に１つずつ配置してもよい。
【００３２】
次に、図６を中心に図１〜図３、図５、図７を参照して、上記構成の液晶パネル１の製
造方法を説明する。
【００３３】
液晶パネル１は、一度に複数枚のパネルを形成できる大判のマザー基板を用いて作製さ
れる。まず、２枚の大判のガラスからなるマザー基板、すなわちアレイ基板用のＴＦＴマ
ザー基板およびＣＦ基板用のＣＦマザー基板が用意される（ステップＳ１、Ｓ７）。
【００３４】
ＴＦＴマザー基板は、その表面が個々の液晶セル分に区分されて、この区分された個々
の表示領域に複数本のゲート配線４およびソース配線６がマトリクス状に配設され、各ゲ
ート配線４とソース配線６の交点にはＴＦＴ１０が設けられる。これらは各種の電極のパ
ターニングで形成される（ステップＳ２）。これらの電極上には保護絶縁膜７が形成され
、その上には配向膜８が成膜される。
【００３５】
この配向膜８はラビング処理される（ステップＳ３〜Ｓ５）。このラビング処理は、Ｔ
ＦＴマザー基板にポリイミド系樹脂等の有機高分子材からなる配向膜８が成膜されて、こ
の樹脂からなる配向膜８の表面にフェルトや木綿などの繊維からなるラビング布などを所
定の荷重下で一定方向に擦りつけることによってなされる。次のステップＳ６において、
個々のセル区分の表示領域周縁に、シール材が塗布される。このシール材には、エポキシ
系接着剤等の熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂等の公知のものを用い、ディスペンサ方式
或いはスクリーン印刷方式などで塗布される。
【００３６】
他方のＣＦマザー基板は、その表面が個々の液晶セル分に区分されて、その区分された
個々の領域に、ブラックマトリクス１４が形成されると共にカラーフィルタ１５が形成さ
れ、さらにこれらの上に絶縁保護膜１６および共通電極１７が形成される（ステップＳ８
、Ｓ９）。
【００３７】
次に、ステップＳ１０において、共通電極１７上に突起状スペーサ１８が形成される。
この突起状スペーサ１８は、図３に示すように、ＣＦ基板１２面に固定される長手方向の
長さＸおよびこの長手方向と直交する幅長Ｙとを有する底面部１８ａと、この底面部１８
ａから立設した高さＺの立設部１８ｂと、この立設部１８ｂの頂部に形成された頂部辺１
８ｃとを有している。なお、図３Ｂおよび図３Ｃに記載されている符号１８ｂ'、１８ｂ'
は側壁面を示している。頂部辺１８ｃは、図３に示すように、左右対称の山状の突起部１
８１、１８２と、両突起部１８１、１８２の間に位置する所定深さの谷部１８０とを有し
ている。谷部１８０の深さは、突起部１８１、１８２の頂部からΔＺだけ窪んだ深さに設
定されており、アレイ基板２と貼り合わされたときには、谷部１８０とアレイ基板２表面
との間にギャップｇが形成される（図５参照）。長さＸと幅長Ｙとの関係は、Ｘ>Ｙに設
定されている。また、高さＺはセルギャップを形成する高さに設定される。この突起状ス
ペーサ１８は、これらの寸法を有することにより、異方性形状となっている。この突起状
スペーサ１８は、例えば、共通電極１７の上側にアクリル系透明感光剤をスピンコート法
により所望の膜厚にして形成し活性化パターン露光を行い、アルカリ現像液での現像、水
洗い、および熱処理を行って、フォトスペーサとして形成される。また、アクリル系透明
感光剤に代えて、カラーフィルタ層１５として使用される赤、青、緑等の各色からなる樹
脂材のうち、いずれか２つの色層を選択して、選択した樹脂材を積層させてスペーサを形
成する方式を採用してもよい。
【００３８】
ＣＦマザー基板は、この突起状スペーサ１８が形成された後に、基板面に配向膜１９が
成膜される（ステップＳ１１）。この配向膜１９の成膜は、既に公知の例えば、図７Ａに
示すような配向膜塗布装置２２を使用して行われる。この塗布装置２２は、版胴２３を備
えており、この版胴２３にＣＦマザー基板を走行、すなわち、図２のガラス基板１３を矢
印Ａ方向から送って成膜される。この成膜では、配向膜材が突起状スペーサ１８の谷部１
８０を通って基板面に拡散されるので、配向膜材が印刷ムラを生じることなくスムーズに
塗布される。
【００３９】
その後、この配向膜１９はラビング処理される（ステップＳ１２）。このラビング処理
は、例えば図７Ｂに示すようなラビング装置２４を使用して行われる。このラビング装置
２４は、公知のもので、フェルトや木綿などの繊維からなるラビング布２５が巻回された
回転ロール２６を備えており、この回転ロール２６にＣＦマザー基板を走行、すなわち、
図２のガラス基板１３を矢印Ｂ方向から送って、この配向膜材の表面にラビング布を所定
の荷重下で一定方向に擦りつけることによって配向膜１９の表面が配向処理される。この
ラビング処理時に、突起状スペーサ１８は、上記のように谷部１８０を有している形状と
なっているので、突起状スペーサ１８と直接接する部分が減少し、また回転ロール２６に
巻回されたラビング布２５などが突起状スペーサ１８に引っ掛かることがなく、ラビング
布などの損傷を防止できる。
【００４０】
その後、ステップＳ１３において、ＴＦＴマザー基板とＣＦマザー基板とを貼り合わせ
て、シール材を硬化させる。このシール材の硬化は、その使用する材料に合わせて熱を加
えて行われる。この両基板は、間に突起状スペーサ１８が介在されるので、両基板間に均
一なセルギャップｇが保持される。両基板を貼り合せた後に、貼り合わせた両マザー基板
は個別セルに分断される（ステップＳ１４）。この分断は、例えば、スクライブ方式とブ
レーク方式とを組み合わせにより行われる。その後、個別セルには、予め形成された注入
口（図示省略）から液晶２１が注入され、その後、この注入口が封止材で封止されて液晶
パネル１が完成する（ステップＳ１５〜Ｓ１７）。
【００４１】
この製造方法によれば、スペーサ形成工程（Ｓ１０）において、突起状スペーサ１８の
頂部辺１８ｃに少なくとも２つの山状突起部１８１、１８２と１つの谷部１８０とを連ね
た凹凸を形成した後、次工程の配向膜１９の塗布工程（ステップＳ１１）で配向膜材を塗
布する際に、配向膜１９が突起状スペーサ１８の谷部１８０を通って基板面に拡散される
ので、配向膜１９が印刷ムラを生じることなくスムーズに印刷されて、表示品質が向上す
る。また、次のラビング処理工程（ステップＳ１２）では、ラビングローラに巻回された
ラビング布などが突起状スペーサ１８に引っ掛かることがなく、布などの損傷を防止でき
る。さらに、製造された液晶パネル１は、頂部辺１８ｃの山状の突起部１８１、１８２が
アレイ基板２と接触して均一なセルギャップが保持されて、液晶２１の熱膨張および収縮
に追随し、また、局部的な大きな力が加わったときは、突起部１８１、１８２が圧縮され
ても谷部１８０がアレイ基板２に突き当たって過度の変形が阻止されて突起状スペーサ１
８の塑性変形が防止される。
【００４２】
なお、本実施形態においては突起状スペーサの突起が２本の場合について説明したが、
この突起が１本の場合であっても、実施形態で示したものと同様の効果を奏することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１はＴＦＴを搭載したＴＦＴアレイ基板の表示画素を示した平面図である。
【図２】図２はカラーフィルタ基板上のスペーサの配置を示した平面図である。
【図３】図３は図２のスペーサの概要図である。
【図４】図４は突起状スペーサの変形例を示す概略図である。
【図５】図５は図１のＶ−Ｖ線の断面図である。
【図６】図６はマザー基板から個々のパネルを製造する工程図である。
【図７】図７Ａは配向膜塗布装置、７Ｂはラビング処理装置の概要図である。
【図８】図８は従来技術の液晶パネルを示し、図８Ａは液晶パネルの平面図、図８Ｂは液晶パネルのゲートバスラインを通る一部断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１：液晶パネル  ２：ＴＦＴアレイ基板  ３：ガラス基板  ４：ゲート配線  ５：ゲート
絶縁膜  ６：ソース配線  ７：保護絶縁膜  ８：配向膜  ９：偏光板  １０：薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）  １１：画素電極  １２：カラーフィルタ基板  １３：ガラス基板  １
４：ブラックマトリクス  １５：カラーフィルタ  １６：絶縁保護膜  １７：共通電極、
１８：突起状スペーサ  １８ａ：底面部  １８ｂ  立設部  １８ｃ：頂部辺  １８１、１
８２：突起部  １８０：谷部  １９：配向膜  ２０：偏光板  ２１：液晶  ２２：配向膜
塗布装置  ２３：版胴  ２４：ラビング処理装置  ２５：ラビング布  ２６：回転ロール
Ｐ：表示画素  Ｓ：空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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