(57)【要約】【課題】スライダ等の垂直磁気記録媒体への接触により、垂直磁気記録媒体に微小傷が生じ磁気情報の破壊が発生する。【解決手段】垂直磁気記録媒体１は、ガラスまたはアルミを主とする基板２の上に、軟磁性層３、配向制御のための配向制御層４、第一の記録層５及び第二の記録層６、第一の記録層５より滑り変形を起こす変形層９、及び保護膜７から構成される。垂直磁気記録媒体１の表面に生じたせん断力を変形層９が滑り変形を起こすことにより吸収し、第一の記録層５に伝わるせん断力を低下させ第一の記録層５の滑り変形を防ぎ、第一の記録層５が保持する磁気情報の破壊を防ぐ構造を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に軟磁性下地層、配向制御層、磁気情報を記録する第一の記録層及び第二の記録層、保護膜層をこの順に設け、
前記第一の記録層より前記保護膜層側であって前記保護膜層表面より前記第一の記録層側に、前記第二の記録層より積層欠陥エネルギーが小さく面心立方構造である層を設けた、
垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
前記変形層を前記第二の記録層と前記保護膜との間に設ける、
請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
前記変形層と前記変形層に接する層との界面を酸化した
請求項２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
前記変形層はAl系、Ni系、Cu系、Pt系、Au系のいずれか１つの材料を含む、
請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
前記変形層を前記第一の記録層と前記第二の記録層との間に設ける、
請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項６】
基板上に軟磁性下地層、配向制御層、磁気情報を記録する第一の記録層及び第二の記録層、前記記録層を保護する保護膜層をこの順に設け、
前記第一の記録層と前記第二の記録層の接する面より前記保護膜層側であって前記第保護膜層表面より前記第一の記録層側に、前記第二の記録層より積層欠陥エネルギーが小さく六方稠密構造である変形層を設けた、
垂直磁気記録媒体。
【請求項７】
前記変形層を前記第二の記録層と前記保護膜との間に設ける、
請求項６に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項８】
前記変形層と接する層との界面が酸化している
請求項７に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項９】
前記変形層はTi系、Zn系、Mg系のいずれか１つの材料を含む、
請求項６に記載の垂直磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は垂直磁気記録媒体に関し、特にヘッド・スライダが媒体に接触した際に記録層の滑り変形を防止する垂直磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスク・ドライブ装置として、光ディスク、光磁気ディスク、あるいはフレキシブル磁気ディスクなどの様々な態様のディスクを使用する装置が知られているが、その中で、ハードディスク・ドライブ（ＨＤＤ）は、コンピュータの記憶装置として広く普及し、現在のコンピュータ・システムにおいて欠かすことができない記憶装置の一つとなっている。HDDは磁気ディスク装置である。
【０００３】
磁気ディスク装置は、磁気記録媒体上を浮上する記録再生ヘッドにより磁気記録媒体に磁気情報を書き込み、そして磁気記録媒体から磁気記録情報を読み出す。具体的には、記録再生ヘッドにより、磁気記録媒体内部の磁気情報を記録する層（以下、記録層と称す）に磁界をかけ、記録層の磁性粒子の磁化の方向を反転させることで磁気情報を記録する。そして、記録再生ヘッドにより記録層に記録された磁化の方向を読み取ることによって磁気情報を再生する。
【０００４】
磁気情報を記録する磁気記録媒体として、面内磁気記録媒体（水平磁気記録媒体）と呼ばれる記録媒体が長く用いられてきた。面内磁気記録媒体はアルミあるいはガラスを含む基板、基板上の少なくとも１層の下地層、下地層上の磁気情報を記録するためのCo合金等による記録層、記録層上の記録媒体を腐食や傷から守る炭素等からなる保護膜、により構成される。面内磁気記録媒体では、記録層の磁化容易軸が磁気記録媒体表面と平行になるように配向されており、記録再生ヘッドにより発生する磁場により記録層の磁性粒子の磁化方向を反転させることで、磁気記録を実現している。
【０００５】
一方、記録再生ヘッドおよび記録再生ヘッドが配置されるスライダ（以下、ヘッド・スライダと称す）と記録層間のクリアランスは、高記録密度を実現するため年々狭少化し、９ｎｍ以下まで低下させることが実現されている。そして、高記録密度を更に実現するため、更にクリアランスは狭少化することが予想される。しかし、記録再生ヘッドが磁気記録媒体に近接した状態のため、ヘッド・スライダの浮上状態が外部的な衝撃などで不安定になると記録再生ヘッドが磁気記録媒体に接触し、磁気記録媒体表面に微小な傷（以下、微小傷と称す）を発生させる場合がある。そして、磁気記録媒体表面の微小傷ができた場所では、磁気情報が破壊され、記録再生ヘッドにより磁気情報を読み出せなくなる場合がある。このため、高記録密度の磁気ディスク装置を製造するためには、ヘッド・スライダが磁気記録媒体表面に微小傷を作成した場合に、記録層の磁気情報が破壊されない磁気記録媒体構造が不可欠となる。
【０００６】
ヘッド・スライダの接触により面内磁気記録媒体に記録されている磁気情報の破壊を防止するため、以下の面内記録媒体が開示されている。特許文献１に開示されている磁気記録媒体は、保護膜と記録層の間にクロム、バナジウム等からなる中間薄膜層を配置し、保護膜と中間薄膜層との界面を酸化もしくは窒化させることを特徴とする。そして、中間薄膜層を配置することにより中間薄膜層を介して保護膜と記録層とを強固に密着させ、磁気記録媒体の耐久性および耐食性を向上することができる。特許文献２に開示されている面内磁気記録媒体は、保護膜と記録層の間にヤング率の低い層を挟む、あるいは、保護膜をヤング率の低い層と高い層との多層構造にし、ヘッド押付け方向のヤング率がヘッド走行方向のヤング率に対し２倍以上とすることを特徴とする。そして、この構成により、磁気ディスクの耐久性を向上させることができる。
【０００７】
【特許文献１】特開昭６０−２５１５１９号公報
【特許文献２】ＷＯ９９／４６７６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年では磁気記録装置の大容量化が進展し、磁気ディスク装置では記録密度が２．５４ｃｍ平方（１インチ平方）当たり１Ｔｂｙｔｅを超える磁気記録媒体が盛んに研究されている。そして、記録密度を向上させるため、面内磁気記録媒体に代わり垂直磁気記録媒体と呼ばれる磁気記録媒体が用いられている。図１５に示す従来の垂直磁気記録媒体１１は、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板又はガラスやセラミック、シリコン等の非金属基板である基板１２、基板上に後述する記録層に垂直方向の強い磁界を印加するために形成されＦｅ系、Ｎｉ系、Ｃｏ系などからなる軟磁性下地層１３、軟磁性下地層上に記録層の磁化の方向を記録媒体表面に対して垂直向きに制御するため形成されＲｕ系合金、Ｐｔ系合金からなる配向制御層１４、配向制御層上に形成されＣｏを主成分とする層であり酸化物を含んだ材料からなる記録層１５、記録層上に記録層の磁化の反転を補助するために形成されＣｏを主成分とする材料からなるＣａｐ層１６、Ｃａｐ層上に記録媒体を腐食や傷から守るために形成され炭素からなる保護膜１７、により構成される。
【０００９】
そして、垂直磁気記録媒体の記録層は、磁化容易軸が磁気記録媒体表面に対して垂直方向に配向される。したがって、磁性粒子の体積が垂直方向に大きいため熱的に安定化し、隣接記録磁区からの漏洩磁界が記録磁化を安定化する方向に作用するため、面内磁気記録媒体に比べ高記録密度を実現することができる。
【００１０】
垂直記録媒体の記録層は、六方稠密構造（ｈｅｘａｇｏｎａｌ ｃｌｏｓｅｄ ｐａｃｋｅｄ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，以下ｈｃｐ構造と称す）であり、磁化容易軸であるｃ軸が基板に対して垂直に向いており、粒子が柱状に配列したグラニュラ構造を持つ。また、ｈｃｐ構造は構造の特徴上{０００１}面で滑りやすい。従って、垂直磁気記録媒体では記録層の滑り変形を起こしやすい面とヘッド・スライダの進行方向が平行になる。したがって、ヘッド・スライダと媒体が接触すると、記録層のc軸に対し垂直方向の{０００１}面に沿ってせん断力が働き、記録磁化を担う磁性粒子は滑り変形を起こしｃ軸が傾き磁気情報が不安定になる。さらに大きく変形すると記録層の位置ずれが生じ、磁気情報が破壊される。
【００１１】
特許文献１は面内磁気記録媒体を対象にしている。垂直磁気記録媒体に特許文献１の密着性を高める層を挿入する構造を適用すると、保護膜から記録層まで強固に結合するため、保護膜表面のせん断力を記録層まで伝播させやすくなる。そして、せん断力が大きい場合には記録層の｛０００１｝面を滑らせ磁気情報を破壊してしまうことになる。
【００１２】
また、前述の特許文献２も面内磁気記録媒体を対象にしている。特許文献２に記載されている磁気記録媒体は、保護膜と記録層の間にヤング率が低い層を挿入する、あるいは保護膜をラミネート構造にする構造である。しかし、高記録密度実現のため記録ヘッドと記録層間の距離を短くしなければならないため、挿入する層の厚さを薄くすると、磁気記録媒体の耐久性を向上する効果が出ないことになる。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
そこで本発明は、ヘッド・スライダが垂直磁気記録媒体に接触するときに発生する記録層の破壊を防止するため、滑り変形しやすい層を記録層より上部に設ける垂直磁気記録媒体を提供する。
【００１４】
具体的には、基板上に軟磁性下地層、配向制御層、磁気情報を記録する第一の記録層及び第二の記録層、保護膜層をこの順に設け、前記第一の記録層より前記保護膜層側であって前記保護膜層表面より前記第一の記録層側に、前記第二の記録層より積層欠陥エネルギーが小さく面心立方格子構造（ｆａｃｅ ｃｅｎｔｅｒｅｄ ｃｕｂｉｃ ｌａｔｔｉｃｅ，以下ｆｃｃ構造と称す）である層を設けた、垂直磁気記録媒体である。
【００１５】
また、基板上に軟磁性下地層、配向制御層、磁気情報を記録する第一の記録層及び第二の記録層、前記記録層を保護する保護膜層をこの順に設け、前記第一の記録層と前記第二の記録層の接する面より前記保護膜層側であって前記第保護膜層表面より前記第一の記録層側に、前記第二の記録層より積層欠陥エネルギーが小さくｈｃｐ構造である変形層を設けた、垂直磁気記録媒体である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の垂直磁気記録媒体によれば、ヘッド・スライダが垂直磁気記録媒体へ接触したことにより生ずるせん断力を、第一の記録層上部に設けられた変形層により滑り変形を起こし吸収する。そして、せん断力を記録層に伝播させないことにより、せん断力による記録層の滑り変形を防止し、垂直磁気記録媒体に保持された磁気情報の破壊を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、図面を参照しつつ本発明の形態を説明する。説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、各図面において、同一要素には同一の符号が付されており、説明の明確化のため、必要に応じて重複説明は省略されている。
【００１８】
まず、図１に、垂直磁気記録磁気ディスク装置の概略図を示す。図１は、本実施例の垂直磁気記録磁気ディスク装置１０１の概略図である。垂直磁気記録磁気ディスク装置１０１は、筐体１０２に固定されたスピンドル１０３とピボット１０５と、スピンドル１０３に回転可能に支持された垂直磁気記録媒体１０４と、ピボット１０５を中心に回転する移動機構１０６と、移動機構１０６に固定されたサスペンション１０７と、サスペンション１０７に支持されたスライダ１０８とを含む。そして、記録再生ヘッドはスライダ１０８に配置される。
【００１９】
図２に、垂直磁気記録磁気ディスク装置のスライダと磁気記録媒体間の概略図を示す。ｘ方向は磁気記録媒体の表面に対して水平方向を示し、ｚ方向は磁気記録媒体の表面に対して垂直方向を示す。以下の図においてもｘ方向及びｚ方向の意味は同様である。磁気記録媒体１０４はスピンドル１０３によって回転する。そして、磁気ディスクの回転によって発生する空気流によって、ディンプル１０９を介してサスペンション１０７に支持されるスライダ１０８は磁気ディスク１０４上を一定の間隔を持って浮上する。この間隔をクリアランスと呼ぶ。この浮上高さはもっとも低い部分で１０ｎｍを超えない量であり３ｎｍ以下のものも研究されている。外部からの衝撃などによりスライダ１０８の浮上状態が不安定になると、スライダ１０８が磁気記録媒体表面にわずかに接触し、磁気ディスク媒体１０４の表面に微小傷が発生する。
【００２０】
そして図３に本実施例の垂直記録媒体および実験図を示す。図３に示す垂直磁気記録媒体１は、基板２の上に、軟磁性層３、配向制御のための配向制御層４、磁気情報を保持する第一の記録層５、第一の記録層５の書き換えを補助する第二の記録層６、保護膜７が、スパッタ装置によりこの順に設けらている構造である。そして、本発明の特徴である変形層９は第二の記録層より積層欠陥エネルギーが小さくｆｃｃ構造であって、変形層９は第一の記録層５と第二の記録層６との間に形成される。また、第二の記録層よりも降伏せん断応力が小さいと規定することもできる。変形層９をｆｃｃ構造としたのは、構造上組成変形しやすい面が多く存在し変形層として好適なためである。また、変形層９を第一の記録層５と第二の記録層６との間に形成したのは、第一の記録層５上であって保護膜表面から最も深い部分である第一の記録層５と第二の記録層６の間に変形層９を配置すると、垂直荷重を十分に吸収しつつ、せん断力を吸収することができるため変形層としての効果を最も得ることができるためである。特許文献３（特開２００４−３１０９１０号公報）には、第２の記録層を多層構造とした垂直磁気記録媒体が開示されているが、これらの磁気記録媒体とは解決しようとする課題が全く異なるため変形層の構造や膜厚等が異なる。
【００２１】
（シミュレーション実験）以下、本実施例の効果を、図３に示した垂直磁気記録媒体のモデルを用いてシミュレーション実験により確認した結果を示す。シミュレーション実験は、針８を保護膜７に押し込み、Wの荷重でせん断力を与える。針８は径０．５μｍのダイヤモンドによる針であり、針８の押し込み深さは、従来の垂直磁気記録媒体で磁気情報破壊が観察される２ｎｍとする。微小傷に伴う変位の大きさは、記録磁区の磁性粒子の直径が１０ｎｍ程度であるため、５ｎｍとする。隣接記録磁区の磁化の方向が反対の場合、５ｎｍのずれにより、記録情報は破壊されうる。また、変位にともなう媒体全体のひずみは、垂直磁気記録媒体全体の大きさから十分小さいものであるため無視する。さらに、各層のヤング率、降伏せん断応力は、ナノインデンターを用いた試験により求めた実際の垂直磁気記録媒体の値とする。
【００２２】
具体的な実施例の各層の材料及び膜厚は以下のように構成される。基板２はSiO2からなる層で構成される。軟磁性層３はＣｏを含む層で構成される。配向制御層４はＣｒとＮｉとＲｕを含む複数の層で構成される。第一の記録層５はＣｏとＣｒとＰｔとSiO2を含むグラニュラ層であって膜厚はおよそ１３ ｎｍである。第二の記録層６はＣｏと Ｃｒを含む層であって膜厚はおよそ５ ｎｍである。保護膜７はＣとＮを含む層であって膜厚はおよそ４ ｎｍである。変形層は膜厚がおよそ１ｎｍのＣｕを用いる。変形層をＣuとしたのは、第一の記録層と第二の記録層の間に変形層を配置したとしても磁気記録特性の劣化を小さく抑える事ができるためである。
【００２３】
比較例として図１５に示すような、基板１２の上に、軟磁性層１３、配向制御のための配向制御層１４、磁気情報を保持する第一の記録層１５、第一の記録層１５の書き換えを補助する第二の記録層１６、保護膜１７が、スパッタ装置により順に形成されている構造である従来の垂直記録媒体を用いる。具体的には、基板１２はSiO2からなる層で構成される。軟磁性層１３はＣｏを含む層で構成される。配向制御層１４はＣｒとＮｉとＲｕを含む複数の層で構成される。第一の記録層１５はＣｏとＣｒとＰｔとSiO2を含むグラニュラ層であって膜厚はおよそ１３ ｎｍである。第二の記録層１６はＣｏと Ｃｒを含む層であって膜厚はおよそ５ ｎｍである。そして、保護膜１７はＣとＮを含む層であって膜厚はおよそ４ ｎｍである。
【００２４】
（比較結果）本発明の特徴である変形層により、記録層の滑り変形量を抑えられることを数値計算で確認した結果を図４を用いて説明する。図４に、実施例と比較例の記録層〜保護膜のひずみ量の計算結果を示す。縦軸が垂直磁気記録媒体表面からの深さであり、横軸が各深さでの変位量である。従来の垂直磁気記録媒体１１のモデルで計算した結果（点線）と、本発明の変形層９を用いた垂直磁気記録媒体１のモデルで計算した結果（実線）を比較すると、本発明により第一の記録層５の滑り変形量を抑えられることが確認できる。したがって、第一の記録層５の記録磁区が隣接記録磁区と混合し磁気情報が破壊される可能性が小さくなるため、ヘッド・スライダが媒体表面に接触した場合でも記録磁化を保持することができる。
【００２５】
（実際に媒体を用いた実験結果）以下に本発明により、記録層の滑り変形量を抑られることを実際の実験により磁気記録媒体を作成し確認した結果を図を用いて説明する。実験は垂直磁気記録媒体表面に、先端径は０．５μｍのダイヤモンド針８にて微小傷を作成する。微小傷作成時のダイヤモンド針８の押し込み量は２ｎｍであり、送り速度は０．１mm／s、長さは１００μｍである。
【００２６】
シミュレーション実験と同様、実施例は図３の垂直磁気記録媒体を用いる。具体的な層の材料及び膜厚は以下の通りである。基板２はSiO2からなる層で構成される。軟磁性層３はCoを含む層で構成される。配向制御層４はCr と、Niと、Ｒｕを含む層で構成される。第一の記録層５はCoと Crと Ptと SiO2を含む層で構成されるグラニュラ層であって膜厚はおよそ13 nmである。第二の記録層６はCoと Crと Ptとを含む層で構成され、膜厚はおよそ8 nmである。そして、保護膜７はCとNを含む層で構成され、膜厚はおよそ4 nmである。そして、変形層は第二の記録層より積層欠陥エネルギーの小さくｆｃｃ構造であるNi Taを用い、およそ膜厚１nmである。変形層をNi系としたのは、第一の記録層と第二の記録層の間に変形層を配置したとしても磁気記録特性の劣化を小さく抑える事ができるためである。
【００２７】
そして、比較例として図１５に示すような、基板１２の上に、軟磁性層１３、配向制御のための配向制御層１４、磁気情報を保持する第一の記録層１５、第一の記録層１５の書き換えを補助する第二の記録層１６、保護膜１７が、スパッタ装置により順に形成されている構造である従来の垂直記録媒体を用いる。具体的には、以下の材料および膜厚で構成される。基板１２はSiO2からなる層で構成される。軟磁性層１３はCoを含む層で構成される。配向制御層１４はCr と、Niと、Ｒｕを含む層で構成される。第一の記録層１５はCoと Crと Ptと SiO2を含む層で構成されるグラニュラ層であって膜厚はおよそ13 nmである。第二の記録層１６はCoと Crと Ptとを含む層で構成され、膜厚はおよそ8 nmである。そして、保護膜１７はCとNを含む層で構成され、膜厚はおよそ4 nmである。
【００２８】
（比較結果）図５に従来の垂直磁気記録媒体に作成した微小傷を原子間力顕微鏡を用いて測定した結果を、図６に磁気力顕微鏡を用いて測定した結果をそれぞれ示す。媒体に対して垂直方向上部から各層を測定した結果である。図５は媒体表面であって、正常な媒体表面１８と微小傷１９を示す。図６は図５と同一位置の第一の記録層を計測した結果である。図６より、正常な媒体表面１８と同一位置の磁区像２０と微小傷１９と同一位置の磁区像２１が観察された。磁区像２０は、規則正しいパターンが並んでおり、磁気情報が保持されている。一方、微小傷１９と同一位置の第一の記録層の磁区像２１は、規則正しいパターンで並んでおらず、微小傷１９により磁気情報が破壊されていることが確認された。
【００２９】
図７に透過型電子顕微鏡を用いて、従来の磁気記録媒体に微小傷１９が作成されたときの磁気記録媒体内部を観察した結果を示す。媒体に対して水平方向から観察した結果である。結果は、配向制御層１４、第一の記録層１５、第二の記録層１６、保護膜１７を示す。結果より、磁気情報を保持している第一の記録層１５が滑り変形をおこしていることが観察される。第一の記録層１５が滑り変形をおこすことにより、第一の記録層１５の記録磁区が隣接記録磁区と混合し、磁区像２１で示す記録磁化の破壊すなわち磁気情報の破壊を生じることが確認された。
【００３０】
図８に実施例の垂直磁気記録媒体に作成した微小傷を原子間力顕微鏡を用いて測定した結果を、図９に磁気力顕微鏡を用いて測定した結果をそれぞれ示す。図８は垂直記録媒体表面であり、図９は図８と同一位置の第一の記録層を観察した結果である。図８において正常な媒体表面２２と微小傷２３が確認された。一方、図９から媒体表面２２と同一位置の第一の記録層の磁区像２４と微小傷２３と同一位置の第一の記録層の磁区像２５が確認された。磁区像２４では、規則正しいパターンが並んでおり、磁気情報が保持されていることが確認された。一方、微小傷２３の部分の磁区像２５でも規則正しいパターンが見られ、媒体表面には微小傷があるにもかかわらず第一の記録層には微小傷がなく、磁気情報が破壊されていないことが確認された。
【００３１】
図１０に透過型電子顕微鏡を用いて、実施例の垂直磁気記録媒体に微小傷２３が作成されたときの磁気記録媒体内部を観察した結果を示す。それぞれ、配向制御層４、第一の記録層５、第二の記録層６、変形層９、保護膜７を示す。変形層９の部分で滑り変形が生じ、第一の記録層５の部分で滑り変形が抑えられている事が観察できる。第一の記録層５が滑り変形しなかったため、第一の記録層５の記録磁区が隣接記録磁区と混合することが無く、磁気情報の破壊は生じなかった。
【００３２】
従来の垂直磁気記録媒体の実験結果と、実施例の変形層９を用いた垂直磁気記録媒体の実験結果から、本発明の効果を示した。結果より、図１１に示すように従来の垂直磁気記録媒体では記録層を滑り変形させ磁気情報を破壊するせん断力であっても、実施例の垂直磁気記録媒体を用いることによりせん断力を変形層の滑り変形により吸収し、第一の記録層の滑り変形を防止でき磁気情報を保持できることが確認された。
【００３３】
以上、本実施例では垂直磁気記録媒体、本発明の特徴である変形層をｆｃｃ構造のうちCu系とNi系の材料を用い、第一の記録層と第二の記録層との間に配置したが、本発明は本実施例に限定されるものではない。第一の記録層上部に配置したとしても記録特性の劣化が小さいｆｃｃ構造の変形層の材料としてＡｌ系、Ｐｔ系、Ａｕ系が挙げられる。そして、Ａｌ系としてＡｌ、ＡｌＴｉ、Ｎｉ系としてＮｉＣｒ、ＮｉＴａ、Pt系としてＰｔ、Ａｕ系としてＡｕを用いるとよい。
【００３４】
また、変形層として構造上、滑り変形しやすい面が１面あり、記録特性を保持することができるｈｃｐ構造であってもよい。ｈｃｐ構造の場合、第一の記録層も第二の記録層も通常ｈｃｐ構造であるため第一の記録層と第二の記録層の間に形成したとしても、記録特性の劣化を小さく抑えることができる。特に、配置したとしても記録特性の劣化が小さいｈｃｐ構造の変形層の材料としてＴｉ系、Ｚｎ系、Ｍｇ系が挙げられる。但し、Ｚｎ系とＭｇ系は製造時に薄膜化することが困難であるためＴｉ系を用いるとよい。そして、Ｔｉ系としてＴｉ、ＣｒＴｉを用いるとよい。
【００３５】
また、変形層は第一の記録層の上に配置されれば効果があり、具体的には図１２に示される第二の記録層の間や、図１３に示される第二の記録層と保護膜の間や、図１４に示される保護膜の間であってもよい。特に、図１３に示されるように、変形層を第二の記録層と保護膜の間に配置すると、第一の記録層と第二の記録層を分けないように配置するため、記録特性の劣化を小さく抑えることができる。
【００３６】
また、変形層と他の層の接する界面を酸化してもよい。界面を酸化することにより、変形層の内部だけでなく接する界面においても滑り変形しやすくなるため、せん断力をさらに吸収することができ、微小傷が形成された場合であっても、第一の記録層の滑り変形を防止でき磁気情報を保持できる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】垂直磁気ディスク装置の一例の概略図である。
【図２】垂直磁気ディスク装置のスライダとディスク間の概略図である。
【図３】本実施形態の垂直磁気記録媒体の一例の概略図である。
【図４】本実施形態の垂直磁気記録媒体のひずみ量の計算結果の一例である。
【図５】従来の垂直磁気記録媒体につけた微小傷周辺の原子間力顕微鏡像である。
【図６】従来の垂直磁気記録媒体につけた微小傷周辺の磁気力顕微鏡像である。
【図７】従来の垂直磁気記録媒体につけた微小傷内部の透過型電子顕微鏡像である。
【図８】本実施形態の一例の垂直磁気記録媒体につけた微小傷周辺の原子間力顕微鏡像である。
【図９】本実施形態の一例の垂直磁気記録媒体につけた微小傷周辺の磁気力顕微鏡像である。
【図１０】本実施形態の一例の垂直磁気記録媒体につけた微小傷内部の透過型電子顕微鏡像である。
【図１１】従来の垂直磁気記録媒体と本実施例の一例の垂直磁気記録媒体である。
【図１２】本実施形態の垂直磁気記録媒体の一例の概略図である。
【図１３】本実施形態の垂直磁気記録媒体の一例の概略図である。
【図１４】本実施形態の垂直磁気記録媒体の一例の概略図である。
【図１５】従来の垂直磁気記録媒体の概略図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０１…垂直磁気記録磁気ディスク装置、１０２…筐体、１０３…スピンドル、１０４…磁気ディスク、１０５…ピボット、１０６…ヘッドアセンブリ、１０７…サスペンション、１０８…スライダ、１０９…ディンプル、１…垂直磁気記録媒体、２…基板、３…軟磁性層、４…配向制御層、５…第一の記録層、６…第二の記録層、７…保護膜、８…ダイヤモンド針、９…変位容易層、１０…垂直磁気記録媒体、１１…垂直磁気記録媒体、１２…基板、１３…軟磁性層、１４…配向制御層、１５…第一の記録層、１６…第二の記録層、１７…保護膜、１８…正常な媒体表面、１９…微小傷、２０…正常な媒体表面１８部分の磁区像、２１…微小傷１９部分の磁区像、２２…正常な媒体表面、２３…微小傷、２４…正常な媒体表面２２部分の磁区像、２５…微小傷２３部分の磁区像。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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