(57)【要約】【課題】記録層が２層以上である光記録媒体において、低価格の為に製造プロセスマージンを向上させる必要がある。【解決手段】少なくとも情報の記録あるいは再生を行う領域がミラー面である基板１の表面に高反射率金属層２を形成した多層光記録媒体を用い、スペーサー層上に形成された記録層の凹凸部の両方にカバー層９を介してビーム１０により記録あるいは再生を行う。すべての記録面においてオン・グルーブ記録となり、従来と同じ記録容量でありながら、記録層が半分でよく、スペーサー層の厚さも半分にでき、結果的には従来に比べて光記録媒体の低価格化が可能となる。また、各記録層における表面反射率及び裏面反射率の値をほぼ同じとし、各記録面の幅をｄ５＜ｄ４＜ｄ３＜ｄ２＜ｄ１＜ｄ０とすることにより、各記録面での検出光量をほぼ同じにすることができる。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビームが照射されることで情報の記録あるいは再生が可能な多層光記録媒体において、
上記高反射率金属層は、少なくとも情報の記録あるいは再生を行う領域に対応する場所にミラー面を有し、
上記高反射率金属層に一番近い記録層の表面反射率の値と裏面反射率の値とが略同一であることを特徴とする多層光記録媒体。
【請求項２】
請求項１記載の情報の多層光記録媒体において、各記録層における表面反射率及び裏面反射率の値とが略同一であることを特徴とする多層光記録媒体。
【請求項３】
ビームの進行方向にほぼ垂直面である記録面を一つの記録層に対して二つ以上有する多層光記録媒体において、少なくとも情報の記録あるいは再生を行う領域が高反射率金属層を形成したミラー面である基板を用い、さらに各記録層における情報の記録あるいは再生を行う領域は溝部を有し、少なくとも前記溝部の溝幅が隣同士の記録層で異なることを特徴とする情報の多層光記録媒体。
【請求項４】
請求項３記載の情報の多層光記録媒体において、少なくともビームの入射方向に対して一番手前側にある記録層の溝幅とそのすぐ奥側にある記録層の溝幅を比較した場合、前記一番手前側の記録層の溝幅が広いことを特徴とする情報の多層光記録媒体。
【請求項５】
請求項４記載の情報の多層光記録媒体において、前記記録層の溝幅がビームの入射側に近い方の記録層から奥側の記録層に向かって段々と狭くなっていることを特徴とする情報の多層光記録媒体。
【請求項６】
請求項５記載の情報の多層光記録媒体において、前記ビームの入射方向に対して一番奥側の記録層の溝幅が当該記録層の溝ピッチの半分よりも広いことを特徴とする情報の多層光記録媒体。
【請求項７】
ビームの進行方向にほぼ垂直面である記録面を一つの記録層に対して二つ以上有する光記録媒体において、少なくとも情報の記録あるいは再生を行う領域が高反射率金属層を形成したミラー面である基板を用い、さらに各記録面の幅がすべての記録面で異なっていることを特徴とする情報の多層光記録媒体。
【請求項８】
請求項７記載の情報の多層光記録媒体において、少なくともビームの入射方向に対して一番手前側にある記録面の幅とそのすぐ奥側にある記録面の幅を比較した場合、前記一番手前側の記録面の幅が狭いことを特徴とする情報の多層光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報の多層光記録媒体等に関し、より詳しくは、ほぼ同じ記録容量でありながら従来よりも安価な多層光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、マルチメディア（ｍｕｌｔｉ  ｍｅｄｉａ）化に対応して、大量のデータを高密度で記録し、かつ迅速に記録再生する情報記録媒体としての光記録媒体（光ディスクなど）が注目されている。
【０００３】
このような光記録媒体のさらなる大容量化の方法として、複数の情報記録層を積層した多層光記録媒体を利用する方法が知られている。多層光記録媒体としては、２層再生専用型ディスク（２層ＤＶＤ−ＲＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ））や２層追記型ディスク（２層ＤＶＤ−Ｒ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ））等がすでに商品化されている。同様に、２層書き換え型ディスクも開発が進められている。さらに、次世代の光記録、例えば、追記型ブルーレイディスク（ＢＤ−Ｒ（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ））においては、レーザ光源の波長を４０５ｎｍ程度、ＮＡを０．８５とすることにより、より大きな記録密度を得ることができ、既に２層ＢＤ−Ｒも製品化されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来技術においては、チルトマージンや球面収差補正の観点から現状ではビームの入射側のカバー層表面から一番奥の記録層まで距離を１００μｍ程度にする必要がある為に各スペーサー層の厚みをそれぞれ薄くしており、更に層間クロストークを抑制する為にスペーサー層の厚みの差が最小で２μｍ程度と小さくなる場合がある。従って、多層光記録媒体の製造過程で各スペーサー層の厚みや一様性を正確にモニターし、最終的な製造マージンを高くする必要がある。
【０００５】
ここで、図７を用いて従来の６層光記録媒体の製造プロセスを説明する。まず、凹凸溝を有する厚さ１．１ｍｍのポリカーボネイト（ＰＣ）基板１００上にＬ０記録層１０１をスパッタ法により形成した。Ｌ０記録層１０１は、少なくとも記録膜の両側を誘電体層で挟んだ形態となっており、片側の誘電体層と基板１００の間に金属反射層を設けている。その後、Ｌ０記録層１０１の上にＴ０スペーサー層１０２を形成し、更にＴ０スペーサー層１０２の上にＬ１記録層１０３を形成した。スペーサー層は、紫外線硬化樹脂を使った２Ｐ法やシートを使ったナノプリント法を用いて１０〜３０μｍ程度形成している。以後、スペーサー層１０４、１０６、１０８、１１０と記録層１０５、１０７、１０９、１１１を交互に形成し、最後にＬ５記録層１１１の上にカバー層１１２を形成して６層光記録媒体が完成する。記録あるいは再生の時は、カバー層１１２側からビーム１１３を入射する。従来技術ではビーム１１３の入射方向に対して手前側の記録面に記録を行う。即ち、実際に記録を行う記録面は記録層数と同じ６面である（Ｓ０〜Ｓ５：ビームの入射方向に対して光学的に一番奥側にある記録面から手前側の記録面に向かって番号を順番につけた）。なお、凹凸部を有する記録層の場合には、ビームの進行方向に対して、手前側の記録面（ここでは凸部）にビームを集光して記録を行う場合をオン・グルーブ記録と呼び、奥側の記録面（ここでは凹部）にビームを集光して記録を行う場合をイン・グルーブ記録と呼ぶことにする。
【０００６】
この図に示すように、６層光記録媒体を作製する場合、少なくとも記録層作製プロセス数が６回、スペーサー層形成プロセス数が５回、カバー層形成プロセス数が１回の合計１２プロセスが必要となりそれに伴って材料費も高くなっていく。
【０００７】
更に、各プロセスにマージンを見込んで形成しているが、プロセス数が多い為に最終的に出来上がったディスクにおける各種パラメータがスペック外になる可能性があった。例えば、各記録層の膜厚や光学特性、各スペーサー層の膜厚や一様性、各記録層の半径方向における偏芯量などである。このようなことから各パラメータ値をスペック内に収めることができたとしてもディスク１枚あたりの価格が高くなってしまう問題もあった。
【０００８】
ここで、凹凸部を有する記録層の場合には、凸部と凹部の両方に記録を行う従来技術でいうランド・グルーブ記録方式を用いると、実質的に記録層数を半分に減らせる。しかし、この光記録媒体を用いて記録あるいは再生を行う場合、従来のようにカバー層側からビームを入射して凸部あるいは凹部にビームを集光すると、グルーブの影響でビームの集中度が異なるという問題がある。即ち、数値計算によるシミュレーションによると、オン・グルーブ記録ではビームがグルーブ内に集中するのに対して、イン・グルーブ記録ではビームがグルーブの外側まで広がるのである。
【０００９】
本発明は、このような従来技術における問題点を解決し、従来とほぼ同じ記録容量で比較した場合に製造プロセス数が少なくかつ製造マージンを確保した安価な多層光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
かかる課題を解決するために、本発明では、ビームの進行方向にほぼ垂直面である記録面を一つの記録層に対して二つ以上有する光記録媒体において、少なくとも情報の記録あるいは再生を行う領域が高反射率金属層を形成したミラー面である基板を用い、かつ前記光記録媒体にレンズを介してビームを入射し、その入射方向に対して一つの記録層における手前側にある記録面に記録あるいは再生を行った場合、もう一方の奥側にある記録面への記録あるいは再生をビームの入射方向に対して一番奥に形成されている高反射率金属層で一旦反射させて戻ってきたビームで行い、さらに前記高反射率金属層に一番近い記録層における表面反射率及び裏面反射率の値がほぼ同じであることを特徴としている。さらに記録層が２層以上ある場合には、各記録層とも表面反射率及び裏面反射率をほぼ同じとすることにより、各記録面への記録再生制御が容易になり好ましい。またこの時、各記録層の膜構造を同じにすると光記録媒体の製造プロセスが簡単になると共に製造プロセスマージンが広がり媒体の低価格化が可能となる。
【００１１】
更に、各記録層における情報の記録あるいは再生を行う領域は溝部を有し、少なくとも前記溝部の溝幅が隣同士の記録層で異なることを特徴としている。さらに、場合によってはビームの入射側に近い記録層から奥側の記録層に向かって段々と狭くなっている。この時、一番奥側の記録層の溝幅に関しては溝ピッチの半分よりも広くしている。
【００１２】
本発明に用いる多層光記録媒体は、各記録面の幅がすべての記録面で異なっていることを特徴としており、少なくともビームの入射方向に対して一番手前側にある記録面の幅とそのすぐ奥側にある記録面の幅を比較した場合、前記手前側の記録面の幅を狭くしている。要するに、集光したビームスポット内における記録面の占める面積の割合を奥側ほど大きくして検出光量を大きくするためである。
【００１３】
本発明では、前記多層光記録媒体にレンズを介してビームを入射し、任意の一つの記録層における一番外の両側の記録面に記録あるいは再生を行う場合、前記ビームの入射方向に対して、前記の二つの記録面においてビームの集光方向が逆である。例えば、各記録層の両側の記録面が凹凸部のそれぞれの表面に対応している場合、凹部と凸部でビームの集光方向が逆である。この時、二つの記録面への記録においては、両記録面共にビームの進行方向に対して手前側の記録面に記録を行うことが可能となる（オン・グルーブ記録）。
【００１４】
さらに、前記多層光記録媒体にレンズを介してビームを入射し、その入射方向に対して一つの記録層における手前側にある記録面に記録あるいは再生を行った場合、もう一方の奥側にある記録面への記録あるいは再生は、ビームの入射方向に対して一番奥に形成されている高反射率金属層で一旦反射させて戻ってきたビームで行うことを特徴としている。例えば、各記録層の両側の記録面が凹凸部のそれぞれの表面に対応している場合、その入射方向に対して一つの記録層における手前側にある凸部の記録面に記録あるいは再生を行った場合、もう一方の奥側にある凹部の記録面への記録あるいは再生は、ビームの入射方向に対して一番奥に形成されている高反射率金属層で一旦反射させて逆方向に戻ってきたビームで行う。
【００１５】
ここで用いた高反射率金属層は入射してきたビームの９０％以上反射することが可能な材質の金属を用いている（反射率９０％以上）。例えば、銀、アルミニウムなどの金属やそれらを含む合金である。また、各記録層は少なくとも情報を記録する記録膜及び保護膜で形成されており、これら各記録層には金属膜を設けていない。さらに、ビームの入射方向に対して一番奥にある高反射率金属層とその手前にある第１の記録層とは接しておらず、透明樹脂などのスペーサー層で隔てられている。ただ、一般的に記録層間の距離が１０μｍ以内と近い場合には、層間クロストークが急に大きくなることが知られている。そこで、層間クロストークの影響を少なくするために本発明における高反射率金属層とそれに一番近い記録層との距離は少なくとも５μｍ以上離れているのが好ましい（記録層間距離としては１０μｍ以上離れている）。
【００１６】
また、凹凸部の両方に記録を行うので、隣の記録トラックからのクロストークやクロスイレーズの影響が考えられる。そこで本発明に用いた多層光記録媒体においては、溝深さを従来よりも深くして溝断面における記録層の厚さを薄くしている。場合によっては、段差部で記録膜を断絶させても良い。
【００１７】
更に、ＢＣＡ（Ｂｕｒｓｔ  Ｃｕｔｔｉｎｇ  Ａｒｅａ）を高反射率金属層のみに設けることにより、確実なＢＣＡ記録再生が可能となり好ましい。
【００１８】
本発明によれば、記録層数が多くなればなるほど従来技術に比べて製造マージンの確保ができ、低価格化の効果が大きい。
【発明の効果】
【００１９】
かくして本発明によれば、ほぼ同じ記録容量であるにもかかわらず、製造プロセス数が少ないために安価な多層光記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面に基づき、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
（実施例）
図１は、本実施例における３層光記録媒体の構造断面図を示したものである。記録層は３層であるが実際に記録を行う記録面は６面ある。
【００２１】
厚さ１．１ｍｍのポリカーボネイト（ＰＣ）基板１上に高反射率金属層２をスパッタ法により形成した。少なくとも、情報の記録あるいは再生を行う領域においては、基板１の表面がミラー面（平坦部：凹凸溝やピット列ではない）であることが本実施例の特徴である。次に、この高反射率金属層２上に表面が凹凸溝であるＴ０スペーサー層３を８μｍ程度形成した。その上にＬ０記録層４をスパッタ法により形成した。Ｌ０記録層４は、少なくとも記録膜の両側を誘電体層で挟んだ形態となっており、金属反射層は設けていない。本実施例では高反射率金属層２とＬ０記録層４との間が入射ビームの焦点深度以上隔てていることも特徴の一つである。その後、Ｌ０記録層４の上にＴ１スペーサー層５を８μｍ程度形成し、更にＴ１スペーサー層５の上にＬ１記録層６を形成した。そして、Ｌ１記録層６の上にＴ２スペーサー層７を１４μｍ形成し、更にＴ２スペーサー層７の上にＬ２記録層８を形成した。各スペーサー層は、紫外線硬化樹脂を使った２Ｐ法やシート状のナノプリント法を用いて形成している。最後にＬ２記録層８の上にカバー層９を４５μｍ程度形成してディスクが完成する。記録あるいは再生の時は、カバー層９側から絞り込みレンズにより集光された波長４０５ｎｍのビーム１０を入射させる。また、本実施例で用いる高反射率金属層２としては、ビーム１０の波長において、入射してきたビームの９０％以上ミラー面で反射することが可能な材質の金属を用いている（反射率９０％以上）。例えば、銀、アルミニウムなどの金属やそれらを含む合金である。また、記録膜としては高透過率が必要であるために、窒化物系あるいは酸化物系の材料を必要に応じて使い分けた。
【００２２】
図１に示すように、従来と同じ記録面が６面（Ｓ０〜Ｓ５）であり記録容量としては従来の６層光記録媒体とほぼ同じであるが、記録層作製プロセス数が３回、スペーサー層形成プロセス数が３回、カバー層形成プロセス数が１回の合計で７プロセスとなり、従来に比べて、記録層作製プロセス数が０．５倍、スペーサー層形成が０．６倍と各プロセス数を少なくすることができる。即ち、従来に比べてプロセス数が大幅に減ることにより最終的な製造マージンが広くなり、更に、カバー層９の表面と基板１の表面とのトータル厚さが薄くすることもできる為に材料費が抑えられ、結果的に多層光記録媒体の低価格化が可能となる。
【００２３】
なお、本実施例では、各記録層の記録面の呼び名として、次のように規定した。即ち、カバー層９側からビーム１０を入射し、一番手前のＬ２記録層８における記録面としては、Ｌ２記録層８の手前側の記録面（凸部）をＳ５、奥側の記録面（凹部）をＳ０とした。同様に、Ｌ１記録層６における記録面としては、Ｌ１記録層６の手前側の記録面（凸部）をＳ４、奥側の記録面（凹部）をＳ１とした。同様に、Ｌ０記録層４における記録面としては、Ｌ０記録層４の手前側の記録面（凸部）をＳ３、奥側の記録面（凹部）をＳ２とした。
【００２４】
ここで、図２を用いて、３層光記録媒体における製造プロセスの一例を説明する。
【００２５】
まず少なくとも情報の記録あるいは再生を行う領域がミラー面である基板１を用い、その表面に高反射率金属層２を形成する。そしてその上にＴ０スペーサー層３となる紫外線硬化樹脂を塗布し、少なくとも表面に凹凸溝を有する透明スタンパ１１を押し当てる（図２（Ａ））。そして透明スタンパ１１を介してＴ０スペーサー層３に紫外線露光機１２により紫外線を適度に露光し、透明スタンパ１１の凹凸部をＴ０スペーサー層３に転写する（図２（Ｂ））。透明スタンパ１１を剥がした後、Ｔ０スペーサー層３の表面にＬ０記録層４をスパッタ法により形成する（図２（Ｃ））。続けて、Ｌ０記録層４上にＴ１スペーサー層５となる紫外線硬化樹脂を塗布し、少なくとも表面に凹凸部を有する透明スタンパ１３を押し当てる（図２（Ｄ））。そして透明スタンパ１３を介してＴ１スペーサー層５に紫外線露光機１４により紫外線を適度に露光し、透明スタンパ１３の凹凸部をＴ１スペーサー層５に転写する（図２（Ｅ））。透明スタンパ１３を剥がした後、Ｔ１スペーサー層５の表面にＬ１記録層６をスパッタ法により形成する（図２（Ｆ））。続けて、Ｌ１記録層６上にＴ２スペーサー層７となる紫外線硬化樹脂を塗布し、表面の凹凸部にＬ２記録層８を形成した透明なカバーシート層９を押し当てる（図２（Ｇ））。そして透明なカバーシート層９を介してＴ２スペーサー層７に紫外線露光機１５により紫外線を適度に露光し両者を接着する（図２（Ｈ））。これらのプロセスを経て本実施例で用いる３層光記録媒体が完成する（図２（Ｉ））。なお、本実施例ではナノプリント法で形成したカバーシート層９を用いたが、２Ｐ法を用いてＬ２記録層の凹凸部を形成しても良い。各スペーサー層の形成に２Ｐ法を用いた場合には、前記の透明スタンパの使用枚数も従来に比べて半分の数ですむ為、低価格化に有利である。
【００２６】
図３は、本実施例における各記録面へ記録あるいは再生を行った時のビームの集光状態を示したものである。まず、記録面Ｓ５に記録あるいは再生を行う場合には、図３（Ａ）のようにカバー層９を介して記録面Ｓ５にビーム１０を集光してやればよい。また、記録面Ｓ４においては図３（Ｂ）に示すように、更にビーム１０の焦点位置を奥側に移動させ、Ｔ２スペーサー層７も介して記録面Ｓ４にビーム１０を集光してやればよい。更に、一番奥に位置するＬ０記録層４の手前側の記録面Ｓ３おいては図３（Ｃ）に示すように、更にビーム１０の焦点位置を奥側に移動させ、Ｔ１スペーサー層５も介して記録面Ｓ３にビーム１０を集光してやればよい。ここまでの各記録層の手前側の記録面（Ｓ５〜Ｓ３）においては、すべてオン・グルーブ記録である。そして、記録面Ｓ３よりも更に焦点位置を奥側に移動させると、ＰＣ基板１上に形成した高反射率金属層２にビーム１０は焦点が合い、更にビーム１０の焦点を移動すると高反射率金属層２によりカバー層９側に９０％以上反射され、そして更に焦点を移動すると図３（Ｄ）に示すように記録面Ｓ２にビーム１０の焦点を合わせることができる。即ち、Ｌ０記録層４の記録面Ｓ３の反対側にある記録面Ｓ２にも記録あるいは再生が可能となるのである。従来技術ではこの記録面Ｓ２への記録あるいは再生時はカバー層９側からビーム１０を集光させて行っていた（イン・グルーブ記録）が、本実施例ではカバー層９側とは反対方向からビーム１０を記録面Ｓ２に集光させることができる（オン・グルーブ記録）のである。同様にして、更にビーム１０の焦点位置をカバー層側へ移動させて記録面Ｓ１への記録あるいは再生（図３（Ｅ））、更に記録面Ｓ０への記録あるいは再生（図３（Ｆ））が可能となる。このように各記録層の奥側の記録面（Ｓ２〜Ｓ０）においても、すべてオン・グルーブ記録となる。
【００２７】
図３においては、記録面Ｓ５から順番に記録面Ｓ０までビームを集光させる例を示したが、実際の記録あるいは再生時には、逆の記録面Ｓ０から記録面Ｓ５まで順に行っても良い。高反射率金属層２を基準とした場合には、記録面Ｓ３から記録面Ｓ５に、記録面Ｓ２から記録面Ｓ０の順に、もしくはＬ０記録層からＬ２記録層の順に両面ずつ記録あるいは再生を行った方が好ましい。もちろん、順不同で記録あるいは再生をするなど必要に応じて記録面の順番を決めてよい。
【００２８】
なお、２層光記録媒体においては説明しなかったが記録媒体の製造方法、記録あるいは再生時の集光状態などは本実施例と同様である。要するに、記録層は２層であるが実際に記録を行う記録面は４面あり、従来の４層光記録媒体とほぼ同じ記録容量であるが、記録層作製プロセス数が２回、スペーサー層形成プロセス数が２回、カバー層形成プロセス数が１回の合計で５プロセスとなり、従来に比べて、記録層作製プロセス数が０．５倍、スペーサー層形成が０．６７倍と各プロセス数を少なくすることができる。即ち、従来に比べてプロセス数が大幅に減ることにより最終的な製造マージンが広くなり、更に、カバー層の表面と基板の表面とのトータル厚さが薄くなる為に材料費が抑えられ、結果的に多層光記録媒体の低価格化が可能となる。以下、他の層数の多層光記録媒体も同様である。
【００２９】
本発明のように従来技術に比べて同じ記録容量で比較して記録層の層数を減らすことができるが、実際に記録及び再生を行うと各記録層の光学特性により検出光量や吸収光量が大きく異なる。そこで、例として、３層光記録媒体（記録面は６面）について光学シミュレーションを実施した。なお、本実施例では高反射率金属層Ｒで実質的にビームの９０％程度反射され、その後記録面Ｓ２⇒Ｓ１⇒Ｓ０とビームが進行するので、シミュレーションでは図４に示すように、ちょうど記録面Ｓ３と記録面Ｓ２との間に反射率が０％で透過率が９０％で吸収率が１０％の仮想膜Ｒ’を形成していると仮定して計算を実施した。また、グルーブ（案内溝）による透過率減少０％、反射率減少２５％とする。グルーブ幅は各記録層で同じとした。ここでは、記録膜として、屈折率（ｎ）が２．５で消衰係数（ｋ）が０．２５の酸化物系の材料を用いた。また記録膜の両側をＺｎＳ−ＳｉＯ２誘電体層で挟んだ形態の記録層とした。また本実施例では、記録層に注目すると、記録面Ｓ５〜記録面Ｓ３が表面反射率で、記録面Ｓ２〜記録面Ｓ０が裏面反射率であるが、記録面に注目するとすべてにおいて表面反射率となる。以下の表において、「表面反射率」とは、単層での各記録面においてビームが入射する表面側の反射率を言い、「透過率」とは、単層での各記録面の透過率を言い、「検出光量」とは、各記録面からの見かけ上の反射率（記録再生装置で検出される各記録層からの反射率）を言い、「吸収光量」とは、各記録面での吸収量をいう。
【００３０】
この時、各記録層の膜構造を考慮することにより以下の４つのパターンが考えられる。
・パターンＡ：３層すべての記録層の膜構造が同じで各記録面の表面反射率も同じ場合
・パターンＢ：３層すべての記録層の膜構造が同じで各記録面の表面反射率が二つに分かれる場合
・パターンＣ：３層すべての記録層の膜構造が異なり各記録面の表面反射率も異なる場合（検出光量が各記録面でほぼ一定）
・パターンＤ：３層すべての記録層の膜構造が異なり各記録面の表面反射率も異なる場合（吸収光量が各記録面でほぼ一定）
このうち、記録再生装置にも負担が少なく媒体が安くできるパターンＡが好ましい。
【００３１】
一例として、パターンＡの「３層すべての記録層の膜構造が同じで各記録面の表面反射率も同じ場合」についての具体的なシミュレーション結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
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【００３３】
この膜構造は、Ｌ０記録層〜Ｌ２記録層の３層すべてにおいて表面反射率と裏面反射率が同じことを意味している。上記の各記録面の表面反射率及び透過率を得るには、３層の記録層とも、記録膜の膜厚が５ｎｍ、両側のＺｎＳ−ＳｉＯ２誘電体層の厚さを共に３４ｎｍとすれば良い。この結果を図５に示した。本実施例においては、各記録層の両側の記録面において透過率は同じである（Ｓ５＝Ｓ０、Ｓ４＝Ｓ１、Ｓ３＝Ｓ２）。その為に、従来の膜構造で可能であった、各記録面の検出光量と吸収光量を同じにすることはできない。しかし、パターンＡの場合には表面反射率も透過率もすべての記録面で同じにしているので、計算式により各記録面での検出光量と吸収光量を予想することは可能であり、記録面間の数値の差は小さい。したがって、記録再生装置で各記録面への記録時あるいは再生時のレーザパワーを制御することにより安定に記録再生が可能となる。場合によっては、各記録面でのＯＰＣ（Ｏｐｔｉｍｕｍ  Ｐｏｗｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）処理を行って最適なレーザパワーを求めても良い。
【００３４】
更に、上記のシミュレーションでは各記録層の溝幅を同じにしたが、実際には溝幅を変える事により各記録面の検出光量を制御することもできる。例えば、図６に示すように記録面Ｓ５から記録面Ｓ０に記録面幅を広くすれば良い。ここで、記録面Ｓ５の記録面幅をｄ５、記録面Ｓ４の記録面幅をｄ４、記録面Ｓ３の記録面幅をｄ３、記録面Ｓ２の記録面幅をｄ２、記録面Ｓ１の記録面幅をｄ１、記録面Ｓ０の記録面幅をｄ０とすると、ｄ５＜ｄ４＜ｄ３＜ｄ２＜ｄ１＜ｄ０である（溝ピッチＴｐ＝ｄ５＋ｄ０＝ｄ４＋ｄ１＝ｄ３＋ｄ２）。要するに、集光したビームスポット内における記録面の占める面積の割合が大きいほど検出光量は大きくなるため、図５で示したようなパターンＡにおいては検出光量の傾向とは反対の傾向を示すので、結果的に各記録面における検出光量をほぼ同じにすることも可能である。更に、記録面の幅を広くすることにより吸収光量も多くできる傾向なので好ましい。別な言い方をすれば、各記録層の溝幅をカバー層９側からみて手前側の記録層から奥側の記録層に向かって段々と狭くしていけばよい（図６では、ｄ０＞ｄ１＞ｄ２）。この時、一番奥側の記録層の溝幅（ここではｄ２）に関しては溝ピッチの半分よりも広くした方が各記録層の検出光量の大きさをほぼ同じにしやすい。もちろん、溝幅の変え方は記録層数の数や膜構造の違いによりその都度決めればよい。
【００３５】
以上のように、本発明の多層光記録媒体およびそれに適した情報の記録再生方法を用いることにより、従来技術の多層光記録媒体に比べて安価な多層光記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】実施例における３層光記録媒体の構造断面図
【図２】実施例における３層光記録媒体の製造プロセス説明図
【図３】実施例における３層光記録媒体の各記録面でのビームの集光状態説明図
【図４】実施例におけるシミュレーションで用いた仮想膜Ｒ’の位置関係
【図５】実施例における各記録面での検出光量＆吸収光量（一例）
【図６】実施例における各記録面の幅の大小関係を示した図
【図７】従来例における６層光記録媒体の構造断面図
【符号の説明】
【００３７】
１、１００  ポリカーボネイト基板
２  高反射率金属層
３、１０２  Ｔ０スペーサー層
４、１０１  Ｌ０記録層
５、１０４  Ｔ１スペーサー層
６、１０３  Ｌ１記録層
７、１０６  Ｔ２スペーサー層
８、１０５  Ｌ２記録層
９、１１２  カバー層
１０、１１３  ビーム
１１、１３  透明スタンパ
１２、１４、１５  紫外線露光機
１０７  Ｌ３記録層
１０８  Ｔ３スペーサー層
１０９  Ｌ４記録層
１１０  Ｔ４スペーサー層
１１１  Ｌ５記録層
Ｓ０、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５  記録面
Ｒ’  仮想膜
ｄ０、ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５  記録面の幅
Ｔｐ  溝ピッチ
【図１】
2009123263.tif 000004
【図２】
2009123263.tif 000005
【図３】
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【図４】
2009123263.tif 000007
【図５】
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【図６】
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【図７】
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