(57)【要約】【課題】速硬化性、透明性に優れるポリイソブチレン系光硬化性組成物を提供する。【解決手段】イソブチレン系重合体、アルケニル基を１つ有するアクリレート化合物、ヒドロシリル基を２つ以上有する化合物をヒドロシリル化反応させることによって新規イソブチレン系重合体組成物を得る。この重合体組成物に光ラジカル発生剤を混合した組成物は、紫外線などの放射光を照射することによって従来のポリイソブチレン系光硬化性組成物に比べて速硬化性、透明性に優れる硬化物となる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）〜（ｃ）成分をヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
（ａ）分子中にアルケニル基を少なくとも１つ有し、主鎖がイソブチレンを主体とする、数平均分子量５００〜１００，０００の重合体、（ｂ）一般式１で表されるアクリレート化合物。
【化１】
2009280680.tif 000005
（式１においてＲ１は水素、または炭素数１〜２０の有機基を表す。また、Ｒ２は少なくとも１つのアルケニル基を含む有機基である。）（ｃ）ヒドロシリル基を２つ以上有する化合物。
【請求項２】
（ａ）成分におけるアルケニル基が該化合物の分子末端に存在することを特徴とする、請求項１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【請求項３】
（ａ）成分におけるアルケニル基がアリル基であることを特徴とする、請求項１または２に記載の重合体を含有する組成物。
【請求項４】
（ａ）成分の主鎖構造がリビングカチオン重合によって製造される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【請求項５】
（ｂ）成分のＲ２に含まれるアルケニル基が（ｃ）成分とヒドロシリル化反応することによって製造される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【請求項６】
（ｃ）成分がヒドロシリル基を２つ以上有するシロキサン化合物であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【請求項７】
（ｃ）成分がヒドロシリル基を２つ以上有する環状シロキサン化合物であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【請求項８】
ヒドロシリル化反応触媒に用いる金属原子のモル数をＭ、反応系における全ヒドロシリル基のモル数をＮとした場合、Ｍ／Ｎ＝１０−４以下であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【請求項９】
以下の（ｉ）（ｉｉ）の手順を経て製造されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
（ｉ）（ａ）成分のアルケニル基の数（Ｘ）と（ｃ）成分のヒドロシリル基の数（Ｙ）の比が５０≧（Ｙ／Ｘ）＞１となる割合で各成分を仕込んでヒドロシリル化反応させた後、反応液から未反応の（ｃ）成分を除去する。
（ｉｉ）（ｉ）で得られた反応物に（ｂ）成分を、（ｂ）成分の分子数（Ｚ）が５０≧（Ｚ／Ｘ）＞０となる割合で仕込んでヒドロシリル化反応させた後、未反応の（ｂ）成分を除去する。
【請求項１０】
光ラジカル発生剤を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、速硬化性、透明性に優れるポリイソブチレン系の組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在硬化性ゴム材料は、建築、自動車、エレクトロニクス、化学、医療等様々な分野において、接着剤やシーリング剤、粘着剤、塗料、コーティング剤、レジスト等として利用されている。
【０００３】
イソブチレン系重合体より得られる硬化物は、高耐熱性のゴム弾性体となることが良く知られており、上記用途への適用可能性が考えられる。イソブチレン系重合体の硬化方法としては、湿気硬化、加熱硬化、紫外線、電子線などのエネルギー線硬化など様々なものが挙げられる。そのうち湿気硬化法は、加水分解性シリル基の加水分解およびシロキサン縮合による架橋反応によって硬化が進行するため、主鎖の耐熱性を損なわない優れた特徴を有する。加熱硬化法は湿気を必要とせずに数時間〜数十時間の加熱によって硬化物が得られる。
ところでエレクトロニクス分野では、製造プロセスにおける工程時間の短縮が望まれている、有機ＥＬや有機ＴＦＴなど製造工程内で高熱を与えることの困難なデバイスの製造検討が急増している、などといった背景があるため、上記で述べた硬化方法の適用は困難といえる。そこで硬化が速く、低温プロセスでの硬化が可能なエネルギー線硬化により得られる硬化性材料の需要がとりわけ高まっている。
【０００４】
イソブチレン系重合体を主成分をとしたエネルギー線硬化性材料としては、分子末端にエポキシ基またはオキセタニル基を有する光硬化性組成物が開示されている（例えば特許文献１および２参照）。また、分子末端にアルケニルエーテル基を有する光硬化性組成物も開示されている（例えば特許文献３および４参照）。
【０００５】
これらの文献における硬化物はいわゆる光カチオン重合による方法で硬化させられているが、光カチオン重合は逐次的な重合反応で架橋反応が進行するため反応速度が比較的小さい。また、光照射によって超強酸が発生するため、金属への塗布・接着などを行う際に腐食が懸念される。そのため、イソブチレン系重合体の新たな硬化方法、具体的に言うと（メタ）アクリロイル基の架橋反応による光硬化系（光ラジカル重合系）が期待される。光ラジカル重合系は速硬化性、透明性、安全性、コスト性などの観点から、前述したエポキシ基、オキセタニル基、アルケニルエーテル基などによる光カチオン重合系よりも優れていると考えられている。したがって、イソブチレン系重合体に（メタ）アクリロイル基を含有する材料が期待される。
【特許文献１】国際公開第２００３／０８５０２４号パンフレット
【特許文献２】国際公開第２００５／０２８５３７号パンフレット
【特許文献３】特開２０００−１５９８４８号
【特許文献４】特開２０００−１９１７２２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者は、上記問題を解決するために検討を重ねた結果、イソブチレン系重合体の分子構造設計およびヒドロシリル化反応条件を工夫することによって、（メタ）アクリロイル基を分子末端に有するポリイソブチレン系重合体組成物の製造法を見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、速硬化性、透明性に優れるポリイソブチレン系光硬化性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は前記課題を解決するため、イソブチレン重合体の分子構造を新規に設計し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、以下の構成によるものである。
１）．（ａ）〜（ｃ）成分をヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
（ａ）分子中にアルケニル基を少なくとも１つ有し、主鎖がイソブチレンを主体とする、数平均分子量５００〜１００，０００の重合体、（ｂ）一般式１で表されるアクリレート化合物。
【０００８】
【化１】
2009280680.tif 000002
【０００９】
（式１においてＲ１は水素、または炭素数１〜２０の有機基を表す。また、Ｒ２は少なくとも１つのアルケニル基を含む有機基である。）（ｃ）ヒドロシリル基を２つ以上有する化合物。
【００１０】
２）．（ａ）成分におけるアルケニル基が該化合物の分子末端に存在することを特徴とする、１）に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１１】
３）．（ａ）成分におけるアルケニル基がアリル基であることを特徴とする、１）または２）に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１２】
４）．（ａ）成分の主鎖構造がリビングカチオン重合によって製造される、１）〜３）のいずれか１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１３】
５）．（ｂ）成分のＲ２に含まれるアルケニル基が（ｃ）成分とヒドロシリル化反応することによって製造される、１）〜４）のいずれか１項に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１４】
６）．（ｃ）成分がヒドロシリル基を２つ以上有するシロキサン化合物であることを特徴とする、１）〜５）のいずれか１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１５】
７）．（ｃ）成分がヒドロシリル基を２つ以上有する環状シロキサン化合物であることを特徴とする、１）〜６）のいずれか１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１６】
８）．ヒドロシリル化反応触媒に用いる金属原子のモル数をＭ、反応系における全ヒドロシリル基のモル数をＮとした場合、Ｍ／Ｎ＝１０−４以下であることを特徴とする、１）〜７）のいずれか１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【００１７】
９）．以下の（ｉ）（ｉｉ）の手順を経て製造されることを特徴とする、１）〜８）のいずれか１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
（ｉ）（ａ）成分のアルケニル基の数（Ｘ）と（ｃ）成分のヒドロシリル基の数（Ｙ）の比が５０≧（Ｙ／Ｘ）＞１となる割合で各成分を仕込んでヒドロシリル化反応させた後、反応液から未反応の（ｃ）成分を除去する。
（ｉｉ）（ｉ）で得られた反応物に（ｂ）成分を、（ｂ）成分の分子数（Ｚ）が５０≧（Ｚ／Ｘ）＞０となる割合で仕込んでヒドロシリル化反応させた後、未反応の（ｂ）成分を除去する。
【００１８】
１０）．光ラジカル発生剤を含むことを特徴とする１）〜９）のいずれか１に記載のヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする重合体を含有する組成物。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、速硬化性、透明性に優れるポリイソブチレン系光硬化性組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明について詳細に説明する。
【００２１】
＜（ａ）成分＞
本発明における（ａ）成分は、分子中にアルケニル基を少なくとも１つ有し、主鎖がイソブチレンを主体とする、数平均分子量５００〜１００，０００の重合体である。
（ａ）成分におけるアルケニル基は、ヒドロシリル化反応活性を有しているものであれば特に限定は無く、例えばビニル基、アリル基、プロペニル基などの脂肪族不飽和炭化水素基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基などの環式不飽和炭化水素基、メタクリル基などが挙げられる。
【００２２】
（ａ）成分の主鎖構造はイソブチレン系重合体であり、重合体の骨格をなす単量体単位が主としてイソブチレンからなる主鎖構造を意味する。この場合、単量体単位のすべてがイソブチレン単位から形成されていても良く、イソブチレンと共重合性を有する単量体単位を重合体中に好ましくは５０％（ 重量％、以下同様）未満、さらに好ましくは３０％以下、特に好ましくは２０％以下の範囲で含有していても良い。
【００２３】
但し、これら重合体骨格において、耐湿性、耐候性、耐熱性の観点から、芳香環以外の炭素− 炭素不飽和結合を実質的に含有せず、前記アルケニル基を除く主鎖を構成する繰り返し単位が飽和炭化水素から構成されることが特に好ましい。前記イソブチレンと共重合性を有する単量体単位としては、例えば炭素数４〜１２のオレフィン、ビニルエーテル、芳香族ビニル化合物、ビニルシラン類、アリルシラン類などが挙げられる。
【００２４】
それらの具体例としては、例えば１−ブテン、２−ブテン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、ヘキセン、ビニルシクロヘキサン、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ジメチルスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−ヘキセニルオキシスチレン、ｐ−アリロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、β−ピネン、インデン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリメチルシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジメチルシラン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、トリビニルメチルシラン、テトラビニルシラン、アリルジメチルメトキシシラン、アリルトリメチルシラン、ジアリルジメトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。
【００２５】
前記イソブチレン系重合体の数平均分子量（ＧＰＣ法、ポリスチレン換算）は、その取り扱いやすさ、硬化後のゴム弾性の点から５００〜１００，０００である。好ましくは６００〜８０,０００、さらには７００〜６０,０００が好ましい。（ａ）成分の飽和炭化水素系重合体の分子量が５００より小さいと架橋点が多すぎるため硬化物が脆くなり好ましくない。また分子量が１００，０００より大きいと粘度が高くなるため、作業性が悪くなるため好ましくない。
【００２６】
本発明における（ａ）成分の製造方法としては、例えば、共有結合性ハロゲン、好ましくは共有結合性塩素基を有するイソブチレン系重合体にアルケニル基を導入する方法が挙げられる。共有結合性ハロゲン基を有するイソブチレン系重合体にアルケニル基を導入する具体的方法に特に制限はないが、例えば、アルケニルフェニルエーテル類とイソブチレン系重合体のハロゲン基との間でフリーデルクラフツ反応を行う方法、アリルトリメチルシランなどとイソブチレン系重合体のハロゲン基とをルイス酸存在下で置換反応させる方法、および種々のフェノール類とイソブチレン系重合体のハロゲン基とのフリーデルクラフツ反応を行い水酸基を導入した後に、さらに前記のアルケニル基導入方法を行う方法などが挙げられる。
【００２７】
また、（ａ）成分のアルケニル基含有イソブチレン系重合体を製造する他の方法としては、重合体の重合中にアルケニル基を導入する方法が挙げられる。重合体の重合中にアルケニル基を導入する方法としては、例えば、開始剤、連鎖移動剤、触媒の存在下で、イソブチレンを含むカチオン重合性単量体をカチオン重合させる反応系にアリルトリメチルシランを添加して、アリル末端を有するイソブチレン系重合体を製造する方法がある。ここで、例えば、開始剤兼連鎖移動剤として、ハロゲン原子および芳香環炭素に結合している炭素原子を有する化合物または第３ 級炭素原子に結合しているハロゲン原子を有する化合物を使用することができる。
【００２８】
触媒としてはルイス酸を使用することができる。同様に、１，９−デカジエンのような非共役ジエン類もしくはｐ−ヘキセニルオキシスチレンのようなアルケニルオキシスチレン類を重合反応系に添加する方法も可能である。ここで、カチオン重合触媒として用いられ得るルイス酸としては、一般式ＭＸ’ｎ（Ｍは金属原子、Ｘ’はハロゲン原子）で表される化合物（例えば、ＢＣｌ３、Ｅｔ２ＡｌＣｌ、ＥｔＡｌＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＴｉＣｌ４、ＶＣｌ５、ＦｅＣｌ３、およびＢＦ３など）が挙げられるが、これらに限定されない。これらのルイス酸のうち、ＢＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＢＦ３などが好ましく、さらに好ましくは、ＴｉＣｌ４である。ルイス酸の使用量は開始剤兼連鎖移動剤のモル数に対し０．１〜１０倍が好ましく、さらに好ましくは２〜５倍である。
【００２９】
＜（ｂ）成分＞
本発明における（ｂ）成分は、次式で表される化合物である。
【００３０】
【化２】
2009280680.tif 000003
【００３１】
上式において、Ｒ１は水素、または炭素数１〜２０の有機基を表す。具体的な例としては、−Ｈ、メチル基、イソプロピル基、−（ＣＨ２）ｎＣＨ３（ｎは１〜１９の整数を表す）などの直鎖アルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの環状アルキル基；フェニル基、トルイル基のアリール基などが挙げられる。これらの中では光硬化反応性の観点より−Ｈ、メチル基が好ましい。また、Ｒ２は１つのアルケニル基を含む有機基である。Ｒ２はアルケニル基を含んでいれば、炭素・水素以外の元素を構成成分として含んでいてもよい。
【００３２】
Ｒ２のアルケニル基は、後述する（ｃ）成分のヒドロシリル基とヒドロシリル化反応を行わせるために必要な基であるが、（ｂ）成分にはＲ２のアルケニル基以外にもヒドロシリル基と反応可能な（メタ）アクリロイル基を有する。つまりＲ２のアルケニル基と（ｃ）成分のヒドロシリル化反応と、（メタ）アクリロイル基と（ｃ）成分のヒドロシリル化反応は競争反応となる。もし、（メタ）アクリロイル基が優先的に（ｃ）成分のヒドロシリル基と反応した場合、分子末端に光重合性がなくなる場合があるため、Ｒ２のアルケニル基は（メタ）アクリロイル基よりも反応性の高い基であることが好ましい。
【００３３】
（メタ）アクリロイル基よりも反応性の高い基としては例えばビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ｔｅｒｔ−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基およびこれらのアルケニル基を含む有機基を挙げることができる。これらの中でも特に、ビニル基、アリル基、ビニル基またはアリル基を含む有機基が好ましい。Ｒ２にアクリロイル基、メタクリロイル基などを用いた場合、反応性が（メタ）アクリロイル基と同等になる上、（ｂ）成分単独で連鎖的に重合反応が進行する可能性があるため好ましくない。
【００３４】
（ｂ）成分はアクリル酸と水酸基およびアルケニル基を含有する化合物を前駆体として、エステル化反応させることによって合成することが可能である。また商業的に入手することも可能であり、例えばアリルメタクリレート、ビニルメタクリレート（以上Ａｌｄｒｉｃｈ製）、ＤＡ−１１１（ナガセケムテックス製）、ＦＡ−５１１ＡＳ、ＦＡ−５１２ＡＳ、ＦＡ−５１２Ｍ、ＦＡ−５１２ＭＴ（以上、日立化成製）などが挙げられる。
【００３５】
＜（ｃ）成分＞
本発明における（ｃ）成分は、ヒドロシリル基を２つ以上有する化合物である。（ｃ）成分は、含まれるヒドロシリル基が（ａ）成分および（ｂ）成分のアルケニル基とヒドロシリル化反応を起こすものであれば特に限定は無いが、中でもシロキサン化合物が耐熱性の観点から好ましく、これらの例としては、
【００３６】
【化３】
2009280680.tif 000004
【００３７】
（Ｒ４〜Ｒ４０は炭素数１〜８のアルキル基、またはアリール基を表し、Ｒ４〜Ｒ４０はそれぞれ同じでもよいし、異なっていてもよい。またｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｕは０〜１０００の整数、ｓ、ｔは２〜１０００の整数、ｖは３〜１０の整数、ｗは０〜１０の整数である。）が挙げられる。Ｒ４〜Ｒ４０としてはメチル基、エチル基、あるいはフェニル基であることが耐熱性等の観点より好ましい。化３で示した化合物の中でも、特に環状シロキサン化合物を用いることが耐熱性、反応性、製造における除去のしやすさ等の観点より好ましい。
【００３８】
＜製造方法＞
本発明の重合体は、（ａ）成分および（ｂ）成分のアルケニル基と（ｃ）成分のヒドロシリル基がヒドロシリル化により結合することで形成される。化合物の製造方法に特に限定は無いが、好ましい方法として以下（ｉ）（ｉｉ）のような方法が考えられる。
【００３９】
（ｉ）（ａ）成分のアルケニル基の数（Ｘ）と（ｃ）成分のヒドロシリル基の数（Ｙ）の比が５０≧（Ｙ／Ｘ）＞１となる割合で各成分を仕込んでヒドロシリル化反応させた後、反応液から未反応の（ｃ）成分を除去する。
【００４０】
（ｉｉ）（ｉ）で得られた反応物に（ｂ）成分を、（ｂ）成分の分子数（Ｚ）が５０≧（Ｚ／Ｘ）＞０となる割合で仕込んでヒドロシリル化反応させた後、未反応の（ｂ）成分を除去する。
【００４１】
反応温度は３０〜１５０℃で行うことが好ましく、より好ましくは５０〜１２０℃である。反応温度が低すぎるとヒドロシリル化反応が進行しにくいため好ましくない。一方、反応温度が高すぎるとヒドロシリル化反応の制御が難しく、また反応溶媒が蒸発し、反応溶液が高粘度化し、反応が不均一になるため好ましくない。さらに、反応温度が高すぎると（メタ）アクリロイル基と（ｃ）成分のヒドロシリル化反応もかなりの割合で進行する。すると（ｂ）成分が架橋剤のように働き、反応溶液がゲル化する可能性があるため、好ましくない。
Ｙ／Ｘの値は、４０以下、２以上であることが好ましく、さらには３０以下、３以上であることがより好ましい。また、Ｚ／Ｘの値は、４５以下、１以上であることが好ましく、さらには４０以下、２以上であることがより好ましい。
【００４２】
本発明の化合物の製造において、必要に応じて（ａ）〜（ｃ）成分を有機溶媒に溶解させて使用してもよい。溶媒としては、使用する組成物を均一に溶解させ、大気圧下における沸点が３０℃から２５０℃であるものが好ましい。
【００４３】
具体的には、例えばｎ−ペンタン、ｉ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｉ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｉ−ヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−オクタン、ｉ−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メチルエチルベンゼン、ｎ−プロピルベンセン、ｉ−プロピルベンセン、ジエチルベンゼン、ｉ−ブチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ジ−ｉ−プロピルベンセン、ｎ−アミルナフタレン、トリメチルベンゼン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘプタノール−３、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサノール、ｓｅｃ−オクタノール、ｎ−ノニルアルコール、２，６−ジメチルヘプタノール−４、ｎ−デカノール、ｓｅｃ−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、ｓｅｃ−テトラデシルアルコール、ｓｅｃ−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フェニルメチルカルビノール、ジアセトンアルコール、クレゾール、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ペンタンジオール−２，４、２−メチルペンタンジオール−２，４、ヘキサンジオール−２，５、ヘプタンジオール−２，４、２−エチルヘキサンジオール−１，３、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ペンチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｉ−ブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンチョン、エチルエーテル、ｉ−プロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル、ｎ−ヘキシルエーテル、２−エチルヘキシルエーテル、エチレンオキシド、１，２−プロピレンオキシド、ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エトキシトリグリコール、テトラエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルカーボネート、酢酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ｎ−ノニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−アミル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン、硫化ジメチル、硫化ジエチル、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、１，３−プロパンスルトン等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよいし２種以上を併用することもできる。
【００４４】
この中で特に好ましいものとしては、ｎ−ペンタン、ｉ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｉ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｉ−ヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−オクタン、ｉ−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メチルエチルベンゼン、ｎ−プロピルベンセン、ｉ−プロピルベンセン、ジエチルベンゼン、ｉ−ブチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ジ−ｉ−プロピルベンセン、ｎ−アミルナフタレン、トリメチルベンゼンが挙げられる。
【００４５】
ヒドロシリル化反応の際は、遷移金属触媒が通常用いられる。遷移金属触媒としては、例えば、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの；白金−ビニルシロキサン錯体、例えば、Ｐｔn（ＶｉＭｅ２ＳｉＯＳｉＭｅ２Ｖｉ）ｎ、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）４〕ｍ；白金−ホスフィン錯体、例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ３）４、Ｐｔ（ＰＢｕ３）４；白金−ホスファイト錯体、例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）３〕４、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）３〕４（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｍ、ｎは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）2、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【００４６】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３、ＲｈＣｌ３、Ｒｈ／Ａl２Ｏ３、ＲｕＣｌ３、ＩｒＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＡｌＣｌ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、ＮｉＣｌ２、ＴｉＣｌ４、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）２等が好ましい。
【００４７】
触媒量は、ヒドロシリル化反応触媒に用いる金属原子のモル数をＭ、反応系における全ヒドロシリル基のモル数をＮとした場合、Ｍ／Ｎ＝１０−４以下で用いることが好ましい。Ｍ／Ｎ＝１０−４よりも割合が多いと、反応温度を高くした場合同様、（メタ）アクリロイル基のヒドロシリル化反応が進行して、反応制御が困難となったり、反応溶液がゲル化したりするので好ましくない。また触媒量はＭ／Ｎ＝１０−４以下であればよいが、Ｍ／Ｎ＝１０−６より少ないと、ヒドロシリル化反応が非常に起こりにくくなるため好ましくない。そのため、より好ましくはＭ／Ｎ＝１０−６〜１０−４である。
【００４８】
＜光ラジカル発生剤＞
次に光ラジカル発生剤について説明する。光ラジカル発生剤とは活性エネルギー線、例えば可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を照射することにより、ラジカル活性物質を放出する化合物であり、光ラジカル開始剤、光ラジカル重合開始剤と呼ばれることもある。光ラジカル発生剤を、ラジカル重合性官能基を有する化合物中に添加し、活性エネルギー線を照射すると即座に重合反応が起こることがよく知られている。本発明の組成物には、公知の光ラジカル発生剤を使用することができる。
【００４９】
特に、紫外線によって活性化される光ラジカル発生剤が最も一般的で、例えば、ベンゾフェノン、アセトフェノン、プロピオフェノン、キサントール、フルオレイン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、カンファーキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−メチルアセトフェノン、３−ペンチルアセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、３−ブロモアセトフェノン、４−アリルアセトフェノン、ｐ−ジアセチルベンゼン、３−メトキシベンゾフェノン、４−クロロ−４−ベンジルベンゾフェノン、３−クロロキサントン、３,９−ジクロロキサントン、３−クロロ−８−ノニルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ベンゾイル、ベンゾインメチルエーテル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、ベンジルメトキシケタール、２−クロロチオキサントン、２，４,６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。また、光ラジカル発生剤は商業的にも入手可能で、代表的なものとしてはＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（２，２−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン）、Ｄａｒｏｃｕｒ１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９（１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７（２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン）、Ｄａｒｏｃｕｒ  ＭＢＦ（フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９（２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）ブタン−１−オン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド）、Ｄａｒｏｃｕｒ  ＴＰＯ（２，４,６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド）（以上、チバスペシャリティケミカルズ製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＢＭＳ（［４−（チルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ２−ＥＡＱ（エチルアントラキノン）（以上日本化薬製）、ＢＩＰＥ（ベンゾインイソプロピルエーテル）、ＢＩＢＥ（ベンゾインイソブチルエーテル）、ＮＢＣＡ（１０−ブチル−２−クロロアクリドン）（以上黒金化成製）、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ１５０シリーズ（オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝およびその混合物）（Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）などが挙げられる。
【００５０】
本発明の組成物は用途に応じて、効果を損なわない範囲で有機溶媒に溶解させて使用してもよい。使用する組成物を均一に溶解させ、大気圧下における沸点が３０℃から２５０℃であるものが好ましく、本発明の化合物の製造の際に用いることができる前記の溶媒の中から適宜選択して用いることができる。
【００５１】
本発明の硬化性組成物には、流動性を改善する目的で一般的に使用されている可塑剤を使用することができる。但し、使用に当たっては、本発明の組成物の光重合反応への阻害の有無、（Ａ）成分との相溶性を考慮する必要がある。これらの点から、例えばポリブテン、水添ポリブテン、α−メチルスチレンオリゴマー、液状ポリブタジエン、水添液状ポリブタジエン、パラフィン油、ナフテン油、アタクチックポリプロピレン、ポリ（α−オレフィン）等の炭化水素系可塑剤が好適なものとして挙げられる。
【００５２】
その中でも特に、不飽和結合を含まない水添ポリブテン、水添液状ポリブタジエン、パラフィン油、ナフテン油、アタクチックポリプロピレン、ポリ（α−オレフィン）が好ましい。
【００５３】
本発明の硬化性組成物には、光反応性を保ちつつ流動性を改善する目的で、反応性希釈剤を用いることができる。反応性希釈剤としては、単官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
【００５４】
具体的には、例えば、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、イミドアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ペンタメチルピペリジニルメタクリレート、テトラメチルピペリジニルメタクリレートなどが挙げられる。
【００５５】
本発明に用いる硬化性組成物には、任意成分として効果を損なわない範囲でシランカップリング剤を添加してもよい。シランカップリング剤としては、例えば次式に示される化合物が好適に用いられる。
Ｒ４１−Ｓｉ（ＯＲ４２）３ 
（上式においてＲ４１は、炭素数１〜３０の炭化水素基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアナート基、カルボキシル基、炭素数１〜３０のアミノアルキル基、アミノ基、メルカプト基あるいはハロゲン基等を表す。Ｒ４２は炭素数１〜８のアルキル基、またはアリール基を表す。）Ｒ４２のアリール基はフェニル基またはトリル基が好ましい。
【００５６】
本発明に用いる硬化性組成物には、任意成分として本発明の効果を妨げない範囲で、必要に応じ重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としてはハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、パラターシャリーブチルカテコール、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。
【００５７】
本発明に用いる硬化性組成物には、任意成分として本発明の効果を妨げない範囲で、必要に応じ老化防止剤を添加してもよい。老化防止剤としては、ＭＡＲＫ  ＰＥＰ−３６、ＭＡＲＫ  ＡＯ−２３（以上、いずれも旭電化（株）製）等のチオエーテル系；Ｉｒｇａｆｏｓ３８、Ｉｒｇａｆｏｓ１６８、ＩｒｇａｆｏｓＰ−ＥＰＱ（以上、いずれもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）等のリン系酸化防止剤；ヒンダードフェノール系化合物、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン塩化合物等が挙げられる。 
【００５８】
本発明に用いる硬化性組成物には、任意成分として本発明の効果を妨げない範囲で、必要に応じ増量剤として粉砕石英、炭酸カルシウム、カーボンなどの充填剤を添加してもよい。
【００５９】
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて着色剤、耐熱性向上剤などの各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤などを任意で添加することができる。この充填剤用分散剤としては、例えば、ジフェニルシランジオール、各種アルコキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子量シロキサンなどが挙げられる。
【００６０】
本発明の硬化性組成物を難燃性、耐火性にするために二酸化チタン、炭酸マンガン、Ｆｅ２Ｏ３、フェライト、マイカ、ガラス繊維、ガラスフレークなどの公知の添加剤を添加してもよい。なお、これら任意成分は、本発明の効果を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ましい。
【００６１】
本発明に用いる硬化性組成物は、上記した成分をロール、バンバリーミキサー、ニーダーなどの混練機を用いたり、遊星式攪拌脱泡機を用いて均一に混合し、必要に応じ加熱処理を施したりすることにより得ることができる。
【００６２】
本発明の硬化性組成物は、成形体として使用することができる。成形方法としては、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、カレンダー成形、真空成形、発泡成形、射出成形、液状射出成形、注型成形などの任意の方法を使用することができる。
【００６３】
本発明による硬化性組成物から得られる成形体は、主鎖構造が耐熱性、透湿性、耐候性、可とう性に優れている。また結合部分は加水分解性シリル基の加水分解および縮合によりシロキサン結合を形成しており、一般的な光硬化性材料に比べて結合部分の耐熱性が高い。
【実施例】
【００６４】
次に本発明の組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６５】
本実施例における光硬化時の紫外光源には紫外線照射装置（フュージョン製、ＬＣ−６Ｂ）を用いた。透過率は紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製Ｖ−５６０）を用い、測定した。
【００６６】
（アルケニル基を有する主鎖がイソブチレンを主体とする重合体の合成）
（合成例１）
２Ｌの耐圧ガラス製容器に、三方コックを取り付け、容器内を窒素置換した後、注射器を用いて容器内に、エチルシクロヘキサン（モレキュラーシーブス３Ａとともに１夜間以上放置することにより乾燥したもの）１３８ｍｌおよびトルエン（モレキュラーシーブス３Ａとともに１夜間以上放置することにより乾燥したもの）１０１２ｍｌ、１，４−ビス（α−クロロイソプロピル）ベンゼン８．１４ｇ（３５．２ｍｍｏｌ）を加えた。
【００６７】
次にイソブチレンモノマー２５４ｍｌ（２．９９ｍｏｌ）が入っているニードルバルブ付耐圧ガラス製液化採取管を、三方コックに接続して、重合容器を−７０℃のドライアイス／エタノールバス中につけて冷却した後、真空ポンプを用いて容器内を減圧にした。ニードルバルブを開け、イソブチレンモノマーを液化ガス採取管から重合容器内に導入した後、三方コック内の一方から窒素を導入することにより容器内を常圧に戻した。次に、２−メチルピリジン０．３８７ｇ（４．１５ｍｍｏｌ）を加えた。次に、四塩化チタン４．９０ｍｌ（４４．７ｍｍｏｌ）を加えて重合を開始した。反応時間７０分後に、アリルトリメチルシラン９．６５ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を加えてポリマー末端にアリル基の導入反応を行った。反応時間１２０分後に、反応溶液を水２００ｍｌで４回洗浄した後、溶剤を留去することによりアリル末端イソブチレン系重合体（Ｐ−１）を得た。
【００６８】
こうして得られたポリマ−の収量より収率を算出するとともに、Ｍｎ及びＭｗ／ＭｎをＧＰＣ法により、また末端構造を３００ＭＨｚ1Ｈ−ＮＭＲ分析により各構造に帰属するプロトン（開始剤由来のプロトン：６．５〜７．５ｐｐｍ、ポリマ−末端由来のアリル基のピーク（４．９７ｐｐｍ：＝ＣＨ2、５．７９ｐｐｍ：−ＣＨ＝Ｃ））の共鳴信号の強度を測定、比較することにより求めた。1Ｈ−ＮＭＲは、Ｖａｒｉａｎ  Ｇｅｍｉｎｉ３００（３００ＭＨｚ  ｆｏｒ  1Ｈ）を用い、四塩化炭素／重アセトン中で測定した。
【００６９】
なお、ＧＰＣは送液システムとしてＷａｔｅｒｓ  ＬＣ  Ｍｏｄｕｌｅ１、カラムはＳｈｏｄｅｘ  Ｋ−８０４を用いて行った。分子量はポリスチレンスタンダードに対する相対分子量で与えられる。ポリマーの分析値は、Ｍｎ＝５８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３９、
Ｆｎ（ｖ）＝１．８８（ＮＭＲ分析において、１分子当たりに対するアリル基の数）であった。
【００７０】
（実施例１）
１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン４．５ｇ（１９ｍｍｏｌ、ヒドロシリル基当量７６ｍｅｑ）を反応器に加え、イソブチレン重合体（Ｐ−１）１０ｇ（１．７ｍｍｏｌ、アルケニル基当量３．２ｍｅｑ）、エチルシクロヘキサン２０ｇ、白金ビニルシロキサン錯体（エヌ・イー・ケムキャット製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３．０Ｘ）１０％キシレン溶液１０μＬの混合溶液をその反応液にゆっくり滴下した。滴下終了後、９０℃で２時間反応させた。反応終了後、溶媒および未反応成分を留去し残った反応物を再びエチルシクロヘキサン３０ｇに溶解させた。この溶液をアリルメタクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ製）１２．８ｇ（１０２ｍｍｏｌ）、エチルシクロヘキサン１０ｇ、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３．０Ｘ１０％溶液３８．５μＬの混合溶液中に滴下し、全量滴下後９０度で７時間反応させた。
【００７１】
反応終了後、溶媒および未反応成分を留去し、目的重合体を得た。得られた重合体５ｇに光ラジカル発生剤（チバ・スペシャリティケミカルズ製、Ｄａｒｏｃｕｒ１１７３）０．０５ｇを加え目的組成物を得た。この組成物を脱泡処理した後、型枠に流し込み、積算光量５００ｍＪ/ｃｍ２の紫外光を照射したところ、厚さ１．０ｍｍの硬化物が得られた。この硬化物は外観が無色透明で、波長４００ｎｍにおける光線透過率は７５％であった。
【００７２】
（比較例１）
１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン４．５ｇ（１９ｍｍｏｌ）を反応器に加え、イソブチレン重合体（Ｐ−１）１０ｇ（２ｍｍｏｌ）、エチルシクロヘキサン２０ｇ、白金ビニルシロキサン錯体（エヌ・イー・ケムキャット製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３．０Ｘ）１０％キシレン溶液１０μＬの混合溶液をその反応液にゆっくり滴下した。滴下終了後、９０℃で２時間反応させた。反応終了後、溶媒および未反応成分を留去し残った反応物を再びエチルシクロヘキサン３０ｇに溶解させた。この溶液をビニルシクロヘキセンオキサイド（セロキサイド２０００、ダイセル化学製）０．７５ｇ（６ｍｍｏｌ）、エチルシクロヘキサン１０ｇ、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３．０Ｘ１０％溶液１０μＬの混合溶液中に滴下し、８０℃で７時間反応させた。
【００７３】
反応終了後、溶媒および未反応成分を留去し、重合体を得た。得られた重合体５ｇに光酸発生剤和光純薬製、ＷＰＩ−１１６）０．０５ｇを加え、光硬化性組成物を得た。この組成物を脱泡処理した後、型枠に流し込み、積算光量５００ｍＪ/ｃｍ２の紫外光を照射したところ、組成物は表面こそ硬化したものの、深部は硬化しなかった。また、光照射後の組成物は褐色に濁っていた。これは光酸発生剤のヨウ素による影響が強いと考えられる。
【００７４】
以上の結果より、本発明の構造からなる重合体を含む組成物は、従来のポリイソブチレン系光硬化性組成物に比べて速硬化性および透明性に優れていることが明らかとなった。