(57)【要約】【課題】シートの凸部の厚さが厚く、欠陥がなく高品質で、かつ、生産性よく製造することができるレンチキュラーシートの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】シートＷの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層１０形成する塗布工程と、塗布層１０に紫外線を照射して塗布層１０を硬化する露光工程と、塗布層１０の未硬化領域１２を選択的に溶解し、ストライプ状のパターン３０を形成する現像工程と、パターン３０を加熱することにより、パターン長さ方向より流動性を有するパターン幅方向に凸弧面３１を形成する凸弧面形成工程と、を有することを特徴とするレンチキュラーシートの製造方法である。【選択図】図１
2009288744.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層形成する塗布工程と、
前記塗布層に紫外線を照射して前記塗布層を硬化する露光工程と、
前記塗布層の未硬化領域を選択的に溶解し、ストライプ状のパターンを形成する現像工程と、
前記パターンを加熱することにより、該パターン長さ方向より流動性を有する該パターン幅方向に凸弧面を形成する凸弧面形成工程と、を有することを特徴とするレンチキュラーシートの製造方法。
【請求項２】
凸弧面の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍであることを特徴とする請求項１に記載のレンチキュラーシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレンチキュラーシートの製造方法に係り、特に紫外線照射により、凸弧面状のパターンを形成するレンチキュラーシートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶などの電子ディスプレイ、投写スクリーンにおいては、良好な画像を得るために、微細凹凸パターンが形成されたレンチキュラーシートが使用されている。このようなレンチキュラーシートの製造方法としては、各種の製造方法が知られている（特許文献１〜３参照）。
【０００３】
例えば、下記の特許文献１には、成形用ロール対を用いた転写により、凸シリンドリカルレンズのストライプ状の遮光パターンを形成し、紫外線を照射することにより紫外線硬化性物質を硬化させ、形成する方法が記載されている。また、例えばマイクロレンズのような凸部を有するシートの製造方法として、下記の特許文献２には、フィルム表面に設けられたレンズを、感光性樹脂を含有するコーティング材料を塗布し、露光、熱処理により形成されたレンズフィルムが記載されている。特許文献３には、透明基板表面に、インクジェット法により液状透明材料を付与し、付着・硬化させて凸形状の微小レンズを形成する方法が記載されている。また、特許文献４には、レジストを塗布し、パターンを形成した後、加熱することによりマイクロレンズを形成する方法が記載されている。
【特許文献１】特許３３０９８４９号公報
【特許文献２】特開２００２−２６７８０５号公報
【特許文献３】特開平１１−１４２６０８号公報
【特許文献４】特開平９−２２９９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、引用文献１に記載されている方法では、凸部の形状は成形用ロール対（型）を用いて行っているため、レンチキュラーシートを製造するにつれ、型の形状が劣化し、高品質なシートを製造することが困難であった。また、引用文献３に記載されている方法では、インクジェットを用いて凸形状を形成しているため、充分な厚みをとることができない。したがって、凸部を厚くしたい場合は複数回にわたり、乾燥、打滴を繰り返さなければならず、生産性が悪かった。また、引用文献３に記載されている方法では、凸部の形状は成形用ロール対（型）を用いて行っているため、レンチキュラーシートを製造するにつれ型の形状が劣化し、高品質なシートを製造することが困難であった。また、特許文献２に記載されている方法では、凸部の段差が０．０５〜１０μｍであり、厚みのある凸部形状を形成することが困難であった。また、特許文献４に記載されている方法は、マイクロレンズの製造方法であり、マイクロレンズの製造においては、矩形パターンがはみ出し、形状が崩れることが問題であったが、形状が正方形であるため、Ｘ−Ｙ方向の流動性については検討されていなかった。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、シートの凸部の厚さが厚く、欠陥がなく高品質で、かつ、生産性よく製造することができるレンチキュラーシートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層形成する塗布工程と、前記塗布層に紫外線を照射して前記塗布層を硬化する露光工程と、前記塗布層の未硬化領域を選択的に溶解し、ストライプ状のパターンを形成する現像工程と、前記パターンを加熱することにより、該パターン長さ方向より流動性を有する該パターン幅方向に凸弧面を形成する凸弧面形成工程と、を有することを特徴とするレンチキュラーシートの製造方法を提供する。
【０００７】
請求項１によれば、従来のように型による転写ではなく、紫外線照射によるリソグラフィー法および加熱により、シート状の凸弧面を形成しているため、型の劣化による品質不良を防止することができ、高品質なレンチキュラーシートを製造することができる。
【０００８】
また、紫外線硬化はマスクパターンの幅方向より長さ方向に支配的に重合が進行するため、ストライプ状のパターンの幅方向および長さ方向のそれぞれの流動性を制御することができ、精度良くパターンを形成することができる。
【０００９】
なお、本発明において「凸弧面」とは、パターンの幅方向の断面が半円または半楕円形であることをいう。
【００１０】
請求項２は請求項１において、凸弧面の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍであることを特徴とする。
【００１１】
本発明は、型を交換する必要がなく、紫外線硬化樹脂液の塗布層の厚みを調節することで、凸弧面の厚みを調整することができ、また、未硬化の紫外線硬化樹脂を除去することにより、パターンを形成しているので、凸弧面が厚いシートに対しても生産性よく製造することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のレンチキュラーシートの製造方法によれば、型を用いず、リソグラフィー法および加熱により、凸弧面を形成しているため、型の劣化による品質不良、型から剥離する際の品質不良を防止することができる。また、型を交換する必要もないので、生産性を向上させることができる。また、塗布層の厚みを調整することにより、凸弧面の厚みを調整することができ、露光後の未硬化の樹脂は現像工程で除去することができるので、凸弧面の厚みのあるシートに対しても生産性よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付図面に従って、本発明のレンチキュラーシートの製造方法の好ましい実施の形態について説明する。
【００１４】
本発明のレンチキュラーシートの製造方法は、シートの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層を形成する塗布工程と、塗布層に紫外線を照射して塗布層を硬化する露光工程と、現像液を用いて塗布層の未硬化領域を選択的に溶解し、所定のパターンを形成する現像工程と、パターンを加熱することにより、凸弧面を形成する凸弧面形成工程と、を有することを特徴とする。
【００１５】
≪塗布工程≫
まず、塗布工程について説明する。塗布工程は、図１（ａ）に示すように、シートＷの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層１０を形成する工程である。
【００１６】
本発明に用いられるシートＷとしては、その形態が平坦であることが好ましい。基板が平坦（平滑）性を有しないと、良好な塗布層を形成することができず、微細な表面凸部形状を形成することが困難となる。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。これらのシートの厚みは、２０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１５０μｍであることがより好ましい。
【００１７】
これらのシートは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。また、あらかじめ接着層などの下地層を設け、乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、などを用いてもよい。同様に、シートとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００１８】
シートに紫外線硬化樹脂液を塗布する方法としては、均一な厚さに塗布できれば、特に限定されるものではないが、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーターなどを用いて、通常の方法により行うことができる。
【００１９】
塗布工程により塗布され、シート上に形成された塗布層１０の厚みは、形成されるレンチキュラーシートの凸弧面の厚みに応じて、適宜設定することができるが、１０〜２００μｍが好ましく、さらに２０〜１５０μｍとすることが好ましい。本発明においては、リソグラフィー法により、塗布層を露光、現像することにより凸弧面を形成することができるので、凸弧面の厚みがある場合においても、容易に形成することができる。
【００２０】
塗布層１０の形成に用いられる紫外線硬化樹脂液に含まれる紫外線硬化樹脂としては、（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００２１】
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００２２】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２３】
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２４】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００２５】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００２６】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２７】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００２８】
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００２９】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００３０】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００３１】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００３２】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００３３】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００３４】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００３５】
光ラジカル重合開始剤は紫外線硬化樹脂液中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００３６】
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂液中には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００３７】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００３８】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上  ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上、大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００３９】
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００４０】
≪乾燥工程≫
塗布工程の後、シート上に形成された塗布層の乾燥を行う。乾燥は、４０〜１５０℃の温度条件下、３０〜１２０秒間行い、塗布層中の有機溶媒を蒸発させることにより行う。乾燥方法としては、ヒーター、ホットプレート、熱風を供給することなどにより行うことができる。乾燥工程により、塗布層の面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により、組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったりするため、紫外線硬化樹脂液中に含まれる有機溶剤は、含有量、沸点等に留意して選択する必要がある。
【００４１】
≪露光工程≫
次に、塗布層１０に紫外線を照射して塗布層の硬化を行う（図１（ｂ））。露光工程は、塗布層上に形成すべきパターンに応じたフォトマスク２０を使用して、露光を行う工程である。塗布層１０は紫外線硬化樹脂を用いているため、紫外線が照射された部分が硬化領域１１、紫外線が照射されなかった部分が未硬化領域１２となる。
【００４２】
露光工程に用いられる光源としては、平行光学系を具備する光源を用いることが好ましい。平行光学系を用いることにより、フォトマスクに垂直に紫外線を照射することができ、他方向から光が照射されることを防止することができるので、精度良く所望の厚みに紫外線硬化樹脂を硬化させることができる。平行光学系を具備する光源としては、特に限定されず、アライナーやステッパ-露光機を用いることができる。
【００４３】
≪現像工程≫
現像工程は、露光工程により塗布層１０を所定のパターンに硬化させた後、硬化しなかった未硬化領域１２を選択的に溶解し、除去することにより所定のパターン３０を形成する工程である（図１（ｃ））。未硬化領域１２の除去方法としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することが可能であり、例えば、現像液を用いて除去する方法を挙げることができる。
【００４４】
現像液としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、有機溶剤などを挙げることができる。
【００４５】
該アルカリ性の水溶液は、特に制約はなく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３のアルカリ性物質０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知のアルカリ性物質の希薄水溶液を使用するか、さらに、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものを用いてもよい。前記アルカリ性物質としては、例えば、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド）、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノナン又は燐酸三ナトリウムを挙げることができる。
【００４６】
また、上記の水と混和性のある適当な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０質量％が一般的である。
【００４７】
現像液には、更に公知のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００４８】
また、現像液として用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類等のエステル類などが挙げられる。更に、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。これらは１種を単独使用してもよく、２種類以上を併用しても構わない。
【００４９】
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５〜４０℃が好ましい。
【００５０】
現像方法は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することが可能である。例えば、シャワー現像を挙げることができ、露光後の塗布層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化領域を除去することができる。その他の方法としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像などを挙げることができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
【００５１】
≪凸弧面形成工程≫
凸弧面形成工程は、現像工程により形成されたパターン３０を加熱することにより、凸弧面３１を形成する工程である（図１（ｄ））。加熱方法としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどを挙げることができる。また、加熱温度は８０℃以上２５０℃以下が好ましく、より好ましくは１２０℃以上２００℃以下である。
【００５２】
また、本発明においては、マスクパターンによるＵＶ硬化によりレンチキュラーシートを製造する構成にしたため、ストライプ状のパターンの幅方向にのみ流動を持たせ、凸弧面を形成することが可能である。
【００５３】
≪硬化処理工程≫
凸弧面形成工程の後に、シート上に形成された凸弧面の硬化を完全に行う、硬化処理工程を備えることが好ましい。硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、全面露光処理、全面加熱処理などを好適に用いることができる。
【００５４】
全面露光処理の方法としては、シートＷ上に形成された凸弧面３１の全面を露光する方法が挙げられる。全面露光により、凸弧面３１を形成する紫外線硬化樹脂の硬化が促進され、凸弧面３１の表面が硬化される。全面露光を行う装置としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機を用いることができる。
【００５５】
また、全面加熱処理の方法としては、シートＷ上に形成された凸弧面３１の全面を加熱する方法が挙げられる。全面加熱により、凸弧面３１の表面の膜強度を高めることができる。
【００５６】
全面加熱による加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。また、加熱時間としては、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
【００５７】
全面加熱を行う装置としては、特に限定されず、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどを挙げることができる。
【００５８】
図２に、本発明の製造方法により製造されたレンチキュラーシートの斜視図を示す。図２に示すように、レンチキュラーシートは、凸弧面３１を有するストライプ状のパターンを有する。本発明の製造方法によれば、型を用いずに、リソグラフィー法により製造しているため、凸弧面の厚みＬ１が５〜１５０μｍ、シート全体の厚みＬ２が４０〜２５０μｍおよびピッチの幅Ｐが１０〜３００μｍのサイズのレンチキュラーシートを型の劣化よる品質の低下、型からの剥離不良による品質不良を生じることなく製造することができる。
【実施例】
【００５９】
以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６０】
＜紫外線硬化樹脂液の組成＞
下記表１に示す組成の紫外線硬化樹脂液を用いた。
【００６１】
【表１】
2009288744.tif 000003
【００６２】
＜紫外線硬化樹脂液の調整＞
紫外線硬化樹脂液は、まず表１に記載の量のベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合体、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合し、１５０ｒｐｍ３０分間攪拌した。次いで、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ、イルガキュア１８４をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ６０分間攪拌することによって紫外線硬化樹脂液を得た。
【００６３】
＜紫外線硬化樹脂層の形成＞
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に紫外線硬化樹脂液を塗布、乾燥させて、乾燥膜厚が１２０μｍの紫外線硬化樹脂層を設け、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、Ｌ／Ｓ＝９０／１５０μｍパターンを有するマスクを設置し、さらに露光マスク面と該紫外線硬化樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【００６４】
＜未硬化部の除去＞
露光後のサンプルを１％トリエタノールアミン水溶液で３０℃３０秒間現像し、さらに、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液にて洗浄し、未硬化部を除去しレジストパターンを得た。
【００６５】
＜凸弧面形成工程＞
前記レジストパターンをクリーンオーブン（エスペック株式会社、ＰＶＨＣ−３３１）で２２０℃、６０分加熱し凸弧面を形成した。
【００６６】
作製したサンプルの断面を切断し、マイクロスコープ（（株）ＫＥＹＥＮＣＥ  製）で観察したところ、厚み１００μｍ、ピッチ２４０μｍであった。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明のレンチキュラーシートの製造方法を説明する図である。
【図２】本発明の製造方法により製造されたレンチキュラーシートの斜視図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０…塗布層、１１…未硬化領域、１２…硬化領域（凸部）、２０…フォトマスク、３０…パターン、３１…凸弧面、Ｗ…シート
【図１】
2009288744.tif 000004
【図２】
2009288744.tif 000005