(57)【要約】【課題】カセットポートの数を減少させ、製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、建設及び運用コストの増大を回避する、カセットの供給に起因する処理ラインの一時停止が発生しないカラーフィルタ製造ラインシステム。【解決手段】基板判定装置ＲＢ−２は基板仮置き装置ＢＦを備え、基板回収装置の時間当たりのガラス基板の処理能力をプロセス装置Ｐ−２の処理能力より大とし、基板回収装置に２個のカセットポートＣＳＰを設け、カセットＣＳが満たされた際に、該カセットポートと収納判定されたガラス基板を待機・蓄積ＢＦさせ、空のカセットが供給された際に、待機・蓄積させたガラス基板を優先してカセットポート上のカセットに収納させる、ガラス基板の管理システムが備えられている。【選択図】図３
2009282100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板投入装置、プロセス装置、及び基板回収装置で構成される処理ラインの複数が配置されたカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、
Ａ）１）前記プロセス装置内の基板判定装置は、ガラス基板を待機・蓄積させる基板仮置き装置を備え、
２）基板回収装置の時間当たりのガラス基板の処理能力を、基板判定装置より前段にあるプロセス装置の処理能力より大きなものとし、
３）基板回収装置に２個のカセットポートを設け、
Ｂ）基板判定装置には、１）カセットポート上のカセットがガラス基板で満たされる際に、当該カセットポート上のカセットに収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置に待機・蓄積させ、
２）該カセットがカセットポート上から回収され、空のカセットが当該カセットポート上に供給されると、基板仮置き装置に待機・蓄積させていたガラス基板を優先して当該カセットポート上のカセットに収納させる、ガラス基板の管理システムが備えられていることを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステム。
【請求項２】
前記基板判定装置に備えられているガラス基板の管理システムは、
１）基板回収装置のカセットポート上に供給されたカセットの収納可能な現在枚数を確認し、
２）搬送されてきたガラス基板を判定して収納するカセットポートを決定し、
３）当該カセットポートにガラス基板の収納予約を行い、該ガラス基板を基板判定装置から当該カセットポート上のカセットに収納させ、
４）上記１）〜３）を繰り返し行い、
５）当該カセットポートへの収納予約の累計枚数が収納限界枚数になった段階で、当該カセットポートに収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置に待機・蓄積させ、
６）当該カセットポート上の、ガラス基板で満たされたカセットを当該カセットポートから回収させ、また、空のカセットを当該カセットポート上に供給させ、
７）当該カセットポート上に供給させたカセットの収納可能な現在枚数を確認し、
８）当該カセットポートにガラス基板の収納予約を行い、上記基板仮置き装置に待機・蓄積させたガラス基板を、待機・蓄積させた順に基板仮置き装置から当該カセットポート上のカセットに収納させ、
９）上記７）〜８）を繰り返し行い、基板仮置き装置内での当該ガラス基板の全てを当該カセットポート上のカセットに収納させた段階で、当該カセットポートに収納すると判定された以降のガラス基板を、基板判定装置から当該カセットポート上のカセットに収納させることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ製造ラインシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペース比率の低減、並びにガラス基板を収納するカセットの供給に関するものであり、特に、カセットポートの数を１個減少させ、クリーンルームの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避したカラーフィルタ製造ラインシステム、並びにカセットポートの数を１個減少させても、カセットの供給に起因するラインの一時停止を発生させないカラーフィルタ製造ラインシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜、フォトスペーサー、配向制御用突起、を順次に位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
【０００３】
ブラックマトリックスは遮光性を有し、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックスの形成は、例えば、ブラックマトリックスの処理ラインにより黒色感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。
【０００４】
また、着色画素は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、着色画素の処理ラインを用いて、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜の形成は、透明導電膜の処理ラインを用いて、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００５】
また、フォトスペーサー、及び配向制御用突起の形成は、上記ブラックマトリックス、或いは着色画素の処理ラインと同様な処理ラインを用い、フォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。
【０００６】
図１は、前記各種の処理ラインの内、着色画素の処理ラインの一例を示す説明図である。図１に例示する着色画素の処理ラインは、塗布装置（１１）、露光装置（１２）、現像装置（１３）、焼成装置（１４）、検査装置（１５）、基板判定装置（ＲＢ）などのプロセス装置（Ｐ）と、基板投入装置（ＬＤ）及び基板回収装置（ＵＬＤ）で構成されている。
尚、ガラス基板は図示していないが、ガラス基板の動線を実線矢印で表している。
【０００７】
図１に示すように、ガラス基板は、基板投入装置（ＬＤ）から投入され搬送装置により塗布装置（１１）へ搬送され、塗布装置にてフォトレジストが塗布される。続いて、露光装置（１２）での露光、現像装置（１３）での現像、焼成装置（１４）での焼成、検査装置（１５）での検査が施され、パターンが形成されたガラス基板は、基板判定装置（ＲＢ）から基板回収装置（ＵＬＤ）へと回収される。
【０００８】
図２は、図１に示す、着色画素の処理ラインの一例における基板投入装置（ＬＤ）と基板回収装置（ＵＬＤ）の配置を説明する平面図である。図２に示すように、処理ラインの基板投入装置（ＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、カセット（ＣＳ）からガラス基板をプロセス装置（Ｐ）へ投入するロボット（Ｒ１）で構成されている。
カセットポート（ＣＳＰ）は、ガラス基板をプロセス装置（Ｐ）へ連続して投入できるように、２個設けられており、各々にカセット（ＣＳ）が載置された状態が示されている。
【０００９】
基板投入装置（ＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）には、着色画素の形成処理を行うガラス基板が収納されたカセット（ＣＳ）が供給され、また、カセットポート（ＣＳＰ）からは、ガラス基板がプロセス装置（Ｐ）へ投入されて空となったカセット（ＣＳ）が回収される。
【００１０】
また、処理ラインの基板回収装置（ＵＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、処理が施されたガラス基板をカセット（ＣＳ）に収納するロボット（Ｒ２）で構成されている。
カセットポート（ＣＳＰ）は３個設けられている。第１カセットポート（ＣＳＰ１）には、処理が施されたガラス基板の内、良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）が載置され、第２カセットポート（ＣＳＰ２）には、処理が施されたガラス基板の内、不良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）が載置されている状態である。また、第３カセットポート（ＣＳＰ３）には、予備のカセット（ＣＳ）が載置されている。
【００１１】
処理が施されたガラス基板は、基板判定装置（ＲＢ）によって判定され、第１カセットポート（ＣＳＰ１）上に載置された、良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）に収納するか、或いは、第２カセットポート（ＣＳＰ２）上に載置された、不良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）に収納するかが振り分けられる。
基板判定装置（ＲＢ）は、ガラス基板を、その収納するカセット（ＣＳ）に振り分け、基板回収装置（ＵＬＤ）へと引き渡す、基板判定機能を備えた装置（ロボット）である。
【００１２】
第１カセットポート（ＣＳＰ１）上のカセット（ＣＳ）が、良品のガラス基板の収納で満たされた際には、第３カセットポート（ＣＳＰ３）上に載置されている予備のカセット（ＣＳ）が良品のガラス基板の収納するカセット（ＣＳ）と設定され、良品のガラス基板は連続して第３カセットポート（ＣＳＰ３）上のカセット（ＣＳ）に収納されるようになっている。
或いは、第２カセットポート（ＣＳＰ２）上のカセット（ＣＳ）が、不良品のガラス基板の収納で満たされた際には、第３カセットポート（ＣＳＰ３）上に載置されている予備のカセット（ＣＳ）が不良品のガラス基板の収納するカセット（ＣＳ）と設定され、不良品のガラス基板は連続して第３カセットポート（ＣＳＰ３）上のカセット（ＣＳ）に収納されるようになっている。
【００１３】
基板回収装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）には、処理が施されたガラス基板を収納する空のカセット（ＣＳ）が供給され、また、カセットポート（ＣＳＰ）からは、処理が施されたガラス基板が収納されたカセット（ＣＳ）が回収される。
【００１４】
上述したような、処理ラインの複数を配置したカラーフィルタ製造ラインにおいては、図２に示すように、プロセス装置（Ｐ）の幅（Ｂ）よりも、基板投入装置（ＬＤ）及び基板回収装置（ＵＬＤ）の幅（Ａ１、Ａ２）の方が大きくなるために、基板投入装置（ＬＤ）及び基板回収装置（ＵＬＤ）とプロセス装置（Ｐ）の間に空スペース（Ｃ１、Ｃ２）が生じる。
これにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率
が増え、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストが増大するといった問題を引き起こしている。
【００１５】
また、例えば、基板回収装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）への予備のカセット（ＣＳ）の供給が間に合わず、処理ラインが一時停止することもあり得るといった状況にある。
【特許文献１】特開２００４−５４０１４号公報
【特許文献２】特開２００４−１０３９４７号公報
【特許文献３】特開２００４−１０９９６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、上述したカラーフィルタ製造ラインにおいて、基板回収装置（ＵＬＤ）に３個設けられているカセットポート（ＣＳＰ）の数を２個に減少させることにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避することのできるカラーフィルタ製造ラインシステムを提供することを課題とするものである。
【００１７】
また、本発明は、基板回収装置（ＵＬＤ）に３個設けられているカセットポート（ＣＳＰ）の数を２個に減少させても、良品のガラス基板の収納するカセット（ＣＳ）に、良品のガラス基板を連続して収納することができ、また、不良品のガラス基板の収納するカセット（ＣＳ）に、不良品のガラス基板を連続して収納することができる、すなわち、カセットポート（ＣＳＰ）へのカセット（ＣＳ）の供給に起因する処理ラインの一時停止が発生することのないカラーフィルタ製造ラインシステムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は、基板投入装置、プロセス装置、及び基板回収装置で構成される処理ラインの複数が配置されたカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、
Ａ）１）前記プロセス装置内の基板判定装置は、ガラス基板を待機・蓄積させる基板仮置き装置を備え、
２）基板回収装置の時間当たりのガラス基板の処理能力を、基板判定装置より前段にあるプロセス装置の処理能力より大きなものとし、
３）基板回収装置に２個のカセットポートを設け、
Ｂ）基板判定装置には、１）カセットポート上のカセットがガラス基板で満たされる際に、当該カセットポート上のカセットに収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置に待機・蓄積させ、
２）該カセットがカセットポート上から回収され、空のカセットが当該カセットポート上に供給されると、基板仮置き装置に待機・蓄積させていたガラス基板を優先して当該カセットポート上のカセットに収納させる、ガラス基板の管理システムが備えられていることを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステムである。
【００１９】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、前記基板判定装置に備えられているガラス基板の管理システムは、
１）基板回収装置のカセットポート上に供給されたカセットの収納可能な現在枚数を確認し、
２）搬送されてきたガラス基板を判定して収納するカセットポートを決定し、
３）当該カセットポートにガラス基板の収納予約を行い、該ガラス基板を基板判定装置から当該カセットポート上のカセットに収納させ、
４）上記１）〜３）を繰り返し行い、
５）当該カセットポートへの収納予約の累計枚数が収納限界枚数になった段階で、当該カセットポートに収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置に待機・蓄積させ、
６）当該カセットポート上の、ガラス基板で満たされたカセットを当該カセットポートから回収させ、また、空のカセットを当該カセットポート上に供給させ、
７）当該カセットポート上に供給させたカセットの収納可能な現在枚数を確認し、
８）当該カセットポートにガラス基板の収納予約を行い、上記基板仮置き装置に待機・蓄積させたガラス基板を、待機・蓄積させた順に基板仮置き装置から当該カセットポート上のカセットに収納させ、
９）上記７）〜８）を繰り返し行い、基板仮置き装置内での当該ガラス基板の全てを当該カセットポート上のカセットに収納させた段階で、当該カセットポートに収納すると判定された以降のガラス基板を、基板判定装置から当該カセットポート上のカセットに収納させることを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステムである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、プロセス装置内の基板判定装置は、ガラス基板を待機・蓄積させる基板仮置き装置を備え、基板回収装置の時間当たりのガラス基板の処理能力を基板判定装置より前段にあるプロセス装置の処理能力より大きなものとし、基板回収装置に２個のカセットポートを設けた処理ラインの複数が配置されたカラーフィルタ製造ラインシステムであるので、クリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避することのできるカラーフィルタ製造ラインシステムとなる。
【００２１】
また、本発明は、基板判定装置には、カセットポート上のカセットがガラス基板で満たされる際に、当該カセットポート上のカセットに収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置に待機・蓄積させ、該カセットがカセットポート上から回収され、空のカセットが当該カセットポート上に供給されると、基板仮置き装置に待機・蓄積させていたガラス基板を優先して当該カセットポート上のカセットに収納させる、ガラス基板の管理システムが備えられているので、良品のガラス基板の収納するカセットに、良品のガラス基板を、処理ラインの処理能力を低下させることなく、連続して収納することができ、また、不良品のガラス基板の収納するカセットに、不良品のガラス基板を連続して収納することができるものとなる。これにより、予備のカセットの個数を削減することが可能となり、また、ストッカーの容積を縮小することができる。
更には、カセットポートへのカセットの供給に起因する処理ラインの一時停止が発生することのないカラーフィルタ製造ラインシステムとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図３は、本発明による処理ラインの一例における基板投入装置（ＬＤ）と基板回収装置（ＵＬＤ−２）の配置を説明する平面図である。図３に示すように、処理ラインの基板投入装置（ＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、カセット（ＣＳ）からガラス基板をプロセス装置（Ｐ−２）へ投入するロボット（Ｒ１）で構成されている。
カセットポート（ＣＳＰ）は、ガラス基板をプロセス装置（Ｐ−２）へ連続して投入できるように、２個設けられており、各々にカセット（ＣＳ）が載置された状態が示されている。
【００２３】
基板投入装置（ＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）には、当該処理を行うガラス基板が収納されたカセット（ＣＳ）が供給され、また、カセットポート（ＣＳＰ）からは、ガラス基板がプロセス装置（Ｐ−２）へ投入されて空となったカセット（ＣＳ）が回収される。
【００２４】
処理ラインの基板回収装置（ＵＬＤ−２）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、処理が施されたガラス基板をカセット（ＣＳ）に収納するロボット（Ｒ２）で構成されている。
カセットポート（ＣＳＰ）は２個設けられている。第１カセットポート（ＣＳＰ１）には、処理が施されたガラス基板の内、良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）が載置され、第２カセットポート（ＣＳＰ２）には、処理が施されたガラス基板の内、不良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）が載置されている状態である。本発明における基板回収装置（ＵＬＤ−２）には、予備のカセット（ＣＳ）を載置するためのカセットポートは設けられていない。
【００２５】
本発明における基板判定装置（ＲＢ−２）は、ガラス基板を待機・蓄積させる基板仮置き装置（ＢＦ）を備えている。本発明においては、基板回収装置（ＵＬＤ−２）には予備のカセット（ＣＳ）を載置するカセットポートは設けずに、ガラス基板で満たされたカセット（ＣＳ）をカセットポートから回収し、空のカセットをカセットポート上に供給するまでの間に、収納が予定されるガラス基板の待機・蓄積のための基板仮置き装置（ＢＦ）を基板判定装置（ＲＢ−２）に設けたものである。
【００２６】
図３に示すように、本発明における処理ラインの基板回収装置（ＵＬＤ−２）は、カセットポートの個数を２個としたために、基板回収装置（ＵＬＤ−２）の幅（Ａ２’）は、図２に示す基板回収装置（ＵＬＤ）の幅（Ａ２）よりも小さくなり、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率が減少し、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストを低減させることができる。
【００２７】
また、本発明においては、基板仮置き装置（ＢＦ）にガラス基板を待機・蓄積させるといった手法を採用しても、処理ラインの処理能力を低下させず、維持させるために、基板回収装置（ＵＬＤ−２）の時間当たりのガラス基板の処理能力を、基板判定装置（ＲＢ−２）より前段にあるプロセス装置（Ｐ−２）の処理能力より大きなものとしている。
【００２８】
これにより、空のカセットをカセットポート上に供給するまでの間、基板仮置き装置（ＢＦ）内に待機・蓄積させたガラス基板は、空のカセットが供給された際に、基板判定装置（ＲＢ−２）に搬送されてくるガラス基板よりも、短い時間でカセット（ＣＳ）に収納され、基板仮置き装置（ＢＦ）内の全てのガラス基板がカセット（ＣＳ）に収納される、相応の所要時間後には、継続して基板判定装置（ＲＢ−２）に搬送されてくるガラス基板が直接にカセット（ＣＳ）に収納されるようにしている。
【００２９】
処理が施されたガラス基板は、基板判定装置（ＲＢ−２）によって判定され、第１カセットポート（ＣＳＰ１）上に載置された、良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）に収納するか、或いは、第２カセットポート（ＣＳＰ２）上に載置された、不良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）に収納するかが振り分けられる。
基板判定装置（ＲＢ−２）は、ガラス基板を、その収納するカセット（ＣＳ）に振り分け、基板回収装置（ＵＬＤ）へと引き渡す、基板判定機能を備えた装置（ロボット）であるが、基板判定装置（ＲＢ−２）には基板仮置き装置（ＢＦ）が備えられ、更に、基板判定装置（ＲＢ−２）にはガラス基板の管理システムが備えられている。
【００３０】
ガラス基板の管理システムは、カセットポート上のカセットがガラス基板で満たされた
際に、当該カセットポート上のカセットに収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置に待機・蓄積させ、また、該カセットがカセットポート上から回収され、空のカセットが当該カセットポート上に供給されると、基板仮置き装置に待機・蓄積させていたガラス基板を優先して当該カセットポート上のカセットに収納させるシステムである。
【００３１】
図４は、図３に例示する基板判定装置（ＲＢ−２）の側面図である。図４中、符号（ＣＶ１）は、基板判定装置（ＲＢ−２）より前段にあるプロセス装置と基板判定装置（ＲＢ−２）との間の基板搬送装置を表し、また、符号（ＣＶ２）は、基板判定装置（ＲＢ−２）と基板回収装置（ＵＬＤ−２）との間の基板搬送装置を表している。
【００３２】
図４（ａ）は、搬送されてきたガラス基板（Ｇ（ｉ））を基板判定装置（ＲＢ−２）で判定して収納するカセットポートが決定され、ガラス基板（Ｇ（ｉ））は当該カセットポートへと搬送されている状態を示したものである。
また、図４（ｂ）は、カセットポート上のカセットがガラス基板で満たされた際に、当該カセットポート上のカセットに収納すると判定された、以降のガラス基板（Ｇ（ｉ＋１）〜）を基板仮置き装置（ＢＦ）内に待機・蓄積させている状態を示したものである。
【００３３】
空のカセットが当該カセットポート上に供給されると、この基板仮置き装置（ＢＦ）内に待機・蓄積させたガラス基板（Ｇ（ｉ＋１）〜）は、待機・蓄積させた順に基板仮置き装置（ＢＦ）から当該カセットポート上のカセットに収納される。
【００３４】
基板回収装置（ＵＬＤ−２）の第１カセットポート（ＣＳＰ１）には、処理が施されたガラス基板を収納する空のカセット（ＣＳ）が供給され、また、このカセット（ＣＳ）が良品のガラス基板の収納で満たされた際には、第１カセットポート（ＣＳＰ１）から、処理が施されたガラス基板が収納されたカセット（ＣＳ）が回収される。
第２カセットポート（ＣＳＰ２）には、処理が施されたガラス基板を収納する空のカセット（ＣＳ）が供給され、また、このカセット（ＣＳ）が不良品のガラス基板の収納で満たされた際には、第２カセットポート（ＣＳＰ２）から、処理が施されたガラス基板が収納されたカセット（ＣＳ）が回収される。
【００３５】
本発明における基板判定装置（ＲＢ−２）に備えられているガラス基板の管理システムは、基板回収装置（ＵＬＤ−２）のカセットポート上に供給されたカセットの収納可能な現在枚数を確認する。カセットポートが第１カセットポート（ＣＳＰ１）の場合、搬送されてきたガラス基板を良品と判定した際に、収納するカセットポートを第１カセットポート（ＣＳＰ１）と決定し、第１カセットポート（ＣＳＰ１）にガラス基板の収納予約を行い、このガラス基板を基板判定装置から第１カセットポート（ＣＳＰ１）上のカセット（ＣＳ）に収納させる。
【００３６】
第１カセットポート（ＣＳＰ１）への収納予約の累計枚数が収納限界枚数になった段階で、第１カセットポート（ＣＳＰ１）に収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置（ＢＦ）に待機・蓄積させる。
第１カセットポート（ＣＳＰ１）上の、ガラス基板で満たされたカセットを第１カセットポート（ＣＳＰ１）から回収させ、また、空のカセットを第１カセットポート（ＣＳＰ１）上に供給させる。
【００３７】
第１カセットポート（ＣＳＰ１）上に供給させたカセットの収納可能な現在枚数を確認し、第１カセットポート（ＣＳＰ１）にガラス基板の収納予約を行い、上記基板仮置き装置に待機・蓄積させたガラス基板を、待機・蓄積させた順に基板仮置き装置から当該カセットポート上のカセットに収納させる。
【００３８】
基板仮置き装置（ＢＦ）内での当該ガラス基板の全てを第１カセットポート（ＣＳＰ１）上のカセットに収納させた段階で、継続して、第１カセットポート（ＣＳＰ１）に収納すると判定された以降のガラス基板を、基板判定装置（ＲＢ−２）から第１カセットポート（ＣＳＰ１）上のカセットに収納させる管理システムである。
【００３９】
また、カセットポートが第２カセットポート（ＣＳＰ２）の場合、搬送されてきたガラス基板を不良品と判定した際に、収納するカセットポートを第２カセットポート（ＣＳＰ２）と決定し、第２カセットポート（ＣＳＰ２）にガラス基板の収納予約を行い、このガラス基板を基板判定装置から第２カセットポート（ＣＳＰ２）上のカセット（ＣＳ）に収納させる。
【００４０】
第２カセットポート（ＣＳＰ２）への収納予約の累計枚数が収納限界枚数になった段階で、第２カセットポート（ＣＳＰ２）に収納すると判定された以降のガラス基板を基板仮置き装置（ＢＦ）に待機・蓄積させる。
第２カセットポート（ＣＳＰ２）上の、ガラス基板で満たされたカセットを第２カセットポート（ＣＳＰ２）から回収させ、また、空のカセットを第２カセットポート（ＣＳＰ２）上に供給させる。
以降、カセットポートが第１カセットポート（ＣＳＰ１）の場合と同様にして、ガラス基板の不良品の管理が行われる。
【００４１】
上述のように、本発明における基板回収装置に３個設けられているカセットポート（ＣＳＰ）の数を２個に減少させても、良品のガラス基板の収納するカセット（ＣＳ）に、良品のガラス基板を、処理ラインの処理能力を低下させることなく、連続して収納することができ、また、不良品のガラス基板を収納するカセット（ＣＳ）に、不良品のガラス基板を連続して収納することができるものとなる。これにより、予備のカセットの個数を削減することが可能となり、また、ストッカーの容積を縮小することができる。
更には、カセットポートへのカセットの供給に起因する処理ラインの一時停止が発生することのないカラーフィルタ製造ラインシステムとなる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】各種の処理ラインの内、着色画素の処理ラインの一例を示す説明図である。
【図２】図１に示す、着色画素の処理ラインの一例における基板投入装置と基板回収装置の配置を説明する平面図である。
【図３】本発明による処理ラインの一例における基板投入装置と基板回収装置の配置を説明する平面図である。
【図４】（ａ）は、収納するカセットポートが決定され、ガラス基板は当該カセットポートへと搬送されている状態を示したものである。（ｂ）は、当該カセットポートに収納すると判定された、以降のガラス基板を基板仮置き装置内に待機・蓄積させている状態を示したものである。
【符号の説明】
【００４３】
１１・・・塗布装置
１２・・・露光装置
１３・・・現像装置
１４・・・焼成装置
１５・・・検査装置
ＢＦ・・・基板仮置き装置
ＣＳ・・・カセット
ＣＳＰ・・・カセットポート
ＣＳＰ１、ＣＳＰ２、ＣＳＰ３・・・第１、第２、第３カセットポート
ＣＶ１、ＣＶ２・・・基板搬送装置
ＬＤ・・・基板投入装置
Ｐ・・・プロセス装置
Ｐ−２・・・本発明におけるプロセス装置
Ｒ１、Ｒ２・・・ロボット
ＲＢ・・・基板判定装置
ＲＢ−２・・・本発明における基板判定装置
ＵＬＤ・・・基板回収装置
ＵＬＤ−２・・・本発明における基板回収装置
【図１】
2009282100.tif 000003
【図２】
2009282100.tif 000004
【図３】
2009282100.tif 000005
【図４】
2009282100.tif 000006