(57)【要約】【課題】半導体や、光学ヘッド、液晶ディスプレイ、ブラウン管ディスプレイ、陰極線管、青板ガラス、タッチセンサ、モニターフィルタ及びプラスチックスクリーン板コーティング層等に好適に適用することができる青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供する。【解決手段】基板Ｓとコーティング層モジュールＭとを備え、前記コーティング層モジュールＭは、前記基板Ｓの表面に形成され、複数層の炭素・ケイ素化合物コーティング層と、複数層のアルミニウム系酸化物コーティング層と、複数層の金属コーティング層とを互いに積層させて構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
基板の表面に形成され、複数層の炭素・ケイ素化合物コーティング層と、複数層のアルミニウム系酸化物コーティング層と、複数層の金属コーティング層とが互いに積層されてなるコーティング層モジュールとを備えていることを特徴とする青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造。
【請求項２】
前記コーティング層モジュールは、
前記基板の表面に形成される第１コーティング層と、
前記第１コーティング層上に形成される第１色変換層と、
前記第１色変換層上に形成される第２コーティング層と、
前記第２コーティング層上に形成される第２色変換層と、
前記第２色変換層上に形成される第３コーティング層と、
前記第３コーティング層上に形成される第３色変換層と、
前記第３色変換層上に形成される第４コーティング層と、
前記第４コーティング層上に形成される第４色変換層と、
前記第４色変換層上に形成される第５コーティング層と、
前記第５コーティング層上に形成される第５色変換層と、
前記第５色変換層上に形成される第６コーティング層と、
前記第６コーティング層上に形成される第６色変換層と、
前記第６色変換層上に形成される第７コーティング層と、
前記第７コーティング層上に形成される第７色変換層と、
前記第７色変換層上に形成される第８コーティング層と、
前記第８コーティング層上に形成される第８色変換層と、
前記第８色変換層上に形成される第９コーティング層とを備え、
前記第１コーティング層、第３コーティング層、第５コーティング層、第７コーティング層及び第９コーティング層が、いずれも、炭素・ケイ素化合物コーティング層であり、
前記第１色変換層、第２色変換層、第３色変換層、第４色変換層、第５色変換層、第６色変換層、第７色変換層及び第８色変換層が、いずれも、アルミニウム系酸化物コーティング層であり、
前記第２コーティング層、第４コーティング層、第６コーティング層及び第８コーティング層が、いずれも、金属コーティング層であることを特徴とする請求項１記載の青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造。
【請求項３】
前記炭素・ケイ素化合物コーティング層は炭化ケイ素、前記アルミニウム系酸化物コーティング層はアルミナ、前記金属コーティング層は銀であることを特徴とする請求項２記載の青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造。
【請求項４】
前記炭素・ケイ素化合物コーティング層の屈折率は、前記金属コーティング層よりも高いことを特徴とする請求項２記載の青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造。
【請求項５】
前記第１コーティング層の厚さは３０ｎｍ、
前記第２コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、
前記第３コーティング層の厚さは６６ｎｍ、
前記第４コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、
前記第５コーティング層の厚さは６０ｎｍ、
前記第６コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、
前記第７コーティング層の厚さは７０ｎｍ、
前記第８コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、
前記第９コーティング層の厚さは４０ｎｍであり、
前記第１色変換層、第２色変換層、第３色変換層、第４色変換層、第５色変換層、第６色変換層、第７色変換層及び第８色変換層の厚さは、いずれも、３〜６ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項２記載の青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造。
【請求項６】
さらに、前記コーティング層モジュールの上面の周縁に塗布された接地するための導電層を備えていることを特徴とする請求項１記載の青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造。
【請求項７】
基板を用意する工程と、
前記基板の表面に、複数層の炭素・ケイ素化合物コーティング層と、複数層のアルミニウム系酸化物コーティング層と、複数層の金属コーティング層とを互いに積層してなるコーティング層モジュールを形成する工程とを備えていることを特徴とする青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の作製方法。
【請求項８】
さらに、前記コーティング層モジュールの上面に、該コーティング層モジュールの上面の周縁を露出させるように、前記コーティング層モジュールよりもサイズが小さい遮断板を設ける工程と、
前記コーティング層モジュールの上面の露出した周縁に、接地するための導電層を塗布する工程とを備えていることを特徴とする請求項７記載の青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コーティング層構造及びその作製方法に関し、特に、青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造及びその作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の反射防止光学コーティング層の多層構造は、いずれも、光学コーティング層の表層の物質が低屈折率を有するという通則を利用しており、例えば、ＳｉＯ2は屈折率が１．４６、また、ＭｇＦ2は屈折率が１．３８である。
しかしながら、該反射防止コーティング層を、ディスプレイ工業、例えば、静電気防止効果のあるコンピュータモニタ、液晶ディスプレイまたはプラズマディスプレイに用いられる低反射ガラスに適用する場合、大量生産の工程では、前記光学コーティング層構造の導電層が、絶縁層（例えば、ＳｉＯ2またはＭｇＦ2）で焼結するという課題を有していた。
【０００３】
反射防止コーティング層の基本的な設計ルールは、基板表面に形成される第１層が高屈折率（Ｈと表記する）の物質からなり、その上に、低屈折率（Ｌと表記する）の物質からなる第２層を形成するというものである。
したがって、従来の反射防止コーティング層の多層構造の設計ルールは、ＨＬＨＬまたはＨＬＨＬＨＬであり、例えば、高屈折率（Ｈ）の物質をＩＴＯ、低屈折率（Ｌ）の物質をＳｉＯ2とすると、前記４層構造の場合は、ガラス／ＩＴＯ／ＳｉＯ2／ＩＴＯ／ＳｉＯ2となる。
前記ＩＴＯは、透明な導電物質であるため、該多層構造のコーティング層は１００Ω／ｍ2未満であり、該導電コーティング層が接地される際に、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽または静電気放電に用いることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような従来の光学多層構造は、表面物質がＳｉＯ2であり、かつ、その厚さが１０００Åであり、該ＳｉＯ2は、高密度で、不活性で、電気絶縁性に優れていることから、反射防止コーティング層をディスプレイ工業に適用する過程において、外層のＳｉＯ2層を、隔てられている焼結ＩＴＯ層に電気的に接続することは困難である。
【０００５】
このため、金属を前記ＩＴＯ層に接続する接地工程においては、超音波溶接プロセスにより、該ＳｉＯ2層を破って、ハンダボールと前記ＩＴＯ層との良好な接触を確保する必要がある。
【０００６】
しかしながら、このプロセスは、反射防止コーティング層の大量生産には適しているとは言えない。
しかも、前記超音波溶接プロセスでは、液体錫及び超音波の出力エネルギーにより、微細の汚染物が生じ、また、該超音波溶接プロセスでは、前記該絶縁層を均一な深さで破り、均一な接触抵抗を得られるとは限らないため、バスライン毎に非永続型の接触抵抗を発生する場合がある。
【０００７】
このような問題点は、従来の電磁干渉防止及び反射防止コーティング層を用いるプロセスでの歩留まり及び信頼性を低下させる。
【０００８】
図６Ａに、従来の加工されていないガラスを光が透過する時の透過率と光波長の特性曲線図を示す。図６Ａから、加工されていない（ガラス上にコーティング層が形成されていない場合）ガラスを光線が透過する時、異なる光波長で、いずれも約９２％と同じ光透過率であることが分かる。
【０００９】
また、図６Ｂに、従来の加工済みのガラスを光が透過する時の透過率と光波長の特性曲線図を示す。図６Ｂから、加工済み（ガラス上に予め設定された電磁干渉（ＥＭＩ）防止コーティング層が形成されている場合）のガラスを光が透過する時、異なる光波長では、光透過率が異なることが分かる。特に、青色光の近辺（最も左側の領域）と赤色光の近辺（最も右側の領域）の光波長は、その透過率が、１０％程度まで低下することが明らかである。
【００１０】
本発明は、上記技術的課題を解決するためになされたものであり、半導体や、光学ヘッド、液晶ディスプレイ、ブラウン管ディスプレイ、青板ガラス、タッチセンサ、モニターフィルタ及びプラスチックスクリーン板コーティング層等に好適に適用することができる青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供することを主な目的とする。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、表層の物質が透過可能な表面導電層であり、該表面導電層の光反射率が０．５％未満であり、低抵抗光減衰反射防止コーティング層の抵抗が０．５〜０．７Ω／ｍ2であり、その透過率が５５〜７０％である青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の他の目的は、高導電性であり、プラズマディスプレイの製造に適用される際に、電磁干渉遮蔽、光学的視野角低反射、高表面硬度耐摩耗性、適度な光減衰効果等の利点が得られる青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供することにある。例えば、前記コーティング層構造の表面抵抗が、０．５〜０．７Ω／ｍ2であり、かつ、十分な硬度を有し、米軍標準規格ＭＩＬ−Ｃ−４８４９７の耐磨耗テストを満たすものである。
【００１３】
さらに、本発明の他の目的は、コーティング層モジュールを作製した後、まず、前記コーティング層モジュールの上面に、サイズが前記コーティング層モジュールより小さい遮断板を設置し、前記コーティング層モジュールの上面の周縁を露出させ、その後、導電層を前記コーティング層モジュールの上面の周縁に塗布して、接地に供することにより、良好な電気接続が得られ、また、前記導電層が銀ペーストである青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供することにある。
【００１４】
さらにまた、本発明の他の目的は、複数層のアルミニウム系酸化物コーティング層を使用することにより、色が青色に近い透過光が生成される青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、上記目的を達成するため、基板と、基板の表面上に形成され、複数層の炭素・ケイ素化合物コーティング層と、複数層のアルミニウム系酸化物コーティング層と、複数層の金属コーティング層とが互いに積層されてなるコーティング層モジュールとを備えていることを特徴とする青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を提供する。
【００１６】
また、本発明は、基板を用意する工程と、前記基板の表面に、複数層の炭素・ケイ素化合物コーティング層と、複数層のアルミニウム系酸化物コーティング層と、複数層の金属コーティング層とを互いに積層してなるコーティング層モジュールを形成する工程とを備えていることを特徴とする青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の作製方法を提供する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造は、表層が良好な導電特性を有しているため、接地工程のための作業負荷を低減させることができ、大量生産の収率や信頼度の向上を図ることができる。このため、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイのガラス基板またはプラスチック基板上に好適に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、添付図面を参照して、上記目的を達成するための本発明の技術、手段及び効果を、より詳細に説明するが、本発明は、添付図面及び実施例によって、制限されるものではない。
【００１９】
図１は、本発明に係る低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造であり、基板Ｓとコーティング層モジュールＭを備えている。
基板Ｓは、プラスチックフィルムやガラスであることが好ましい。コーティング層モジュールＭは、プラズマディスプレイや液晶ディスプレイの基本コーティング層とすることができる。
【００２０】
前記コーティング層モジュールＭは、基板Ｓの表面に形成された第１コーティング層１と、該第１コーティング層１上に形成された第１色変換層Ｃ１と、該第１色変換層Ｃ１上に形成された第２コーティング層２と、該第２コーティング層２上に形成された第２色変換層Ｃ２と、該第２色変換層Ｃ２上に形成された第３コーティング層３と、該第３コーティング層３上に形成された第３色変換層Ｃ３と、該第３色変換層Ｃ３上に形成された第４コーティング層４と、該第４コーティング層４上に形成された第４色変換層Ｃ４と、該第４色変換層Ｃ４上に形成された第５コーティング層５と、該第５コーティング層５上に形成された第５色変換層Ｃ５と、該第５色変換層Ｃ５上に形成された第６コーティング層６と、該第６コーティング層６上に形成された第６色変換層Ｃ６と、該第６色変換層Ｃ６上に形成された第７コーティング層７と、該第７コーティング層７上に形成された第７色変換層Ｃ７と、該第７色変換層Ｃ７上に形成された第８コーティング層８と、該第８コーティング層８上に形成された第８色変換層Ｃ８と、該第８色変換層Ｃ８上に形成された第９コーティング層９とを備えている。
【００２１】
前記第１コーティング層１、前記第３コーティング層３、前記第５コーティング層５、前記第７コーティング層７及び前記第９コーティング層９は、いずれも、炭素・ケイ素化合物のコーティング層である。前記第１色変換層Ｃ１、前記第２色変換層Ｃ２、前記第３色変換層Ｃ３、前記第４色変換層Ｃ４、前記第５色変換層Ｃ５、前記第６色変換層Ｃ６、前記第７色変換層Ｃ７及び前記第８色変換層Ｃ８は、いずれも、アルミニウム系酸化物のコーティング層である。前記第２コーティング層２、前記第４コーティング層４、前記第６コーティング層６及び前記第８コーティング層８は、いずれも、金属コーティング層である。
【００２２】
上記のように、コーティング層モジュールＭは、基板Ｓの表面に形成され、複数層の炭素・ケイ素化合物のコーティング層と、複数層のアルミニウム系酸化物のコーティング層と、複数層の金属コーティング層とを互いに積層することにより構成される。
また、前記炭素・ケイ素化合物のコーティング層は炭化ケイ素（ＳｉＣ）、前記アルミニウム系酸化物のコーティング層はアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、前記金属コーティング層は銀（Ａｇ）からなる。
【００２３】
また、前記第１コーティング層、前記第３コーティング層、前記第５コーティング層、前記第７コーティング層及び前記第９コーティング層の屈折率は、いずれも、２．６である。
また、前記第２コーティング層、前記第４コーティング層、前記第６コーティング層及び前記第８コーティング層の屈折率は、０．１〜０．５の範囲内である。
【００２４】
また、前記第１コーティング層の厚さは３０ｎｍ、前記第２コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、前記第３コーティング層の厚さは６６ｎｍ、前記第４コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、前記第５コーティング層の厚さは６０ｎｍ、前記第６コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、前記第７コーティング層の厚さは７０ｎｍ、前記第８コーティング層の厚さは１０〜１８ｎｍ、前記第９コーティング層の厚さは４０ｎｍである。
また、前記第１色変換層Ｃ１、前記第２色変換層Ｃ２、前記第３色変換層Ｃ３、前記第４色変換層Ｃ４、前記第５色変換層Ｃ５、前記第６色変換層Ｃ６、前記第７色変換層Ｃ７及び前記第８色変換層Ｃ８の厚さは、いずれも、３〜６ｎｍである。
【００２５】
また、前記第１コーティング層１、前記第３コーティング層３、前記第５コーティング層５、前記第７コーティング層７及び前記第９コーティング層９の炭素・ケイ素化合物コーティング層は、いずれも、直流または交流マグネトロンスパッタリング法により形成される。また、前記第２コーティング層２、前記第４コーティング層４、前記第６コーティング層６及び前記第８コーティング層８の金属コーティング層塗布層も、いずれも、直流または交流マグネトロンスパッタリング法により形成される。また、前記第１コーティング層１〜前記第９コーティング層９は、インライン方式またはロール・ツー・ロール方式による真空蒸着またはスパッタリングで形成される。
【００２６】
図２は、本発明に係る低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の上面図である。図２に示すコーティング層モジュールＭは、上面の周縁に塗布された接地するための導電層Ｃを備えている。
このように、接地するための導電層Ｃは、前記コーティング層モジュールＭの第９コーティング層９の上面の周面に塗布される。
具体的には、コーティング層モジュールＭを作製した後、まず、遮断板Ｂを、前記コーティング層モジュールＭの上面に設置する。この遮断板Ｂは、前記コーティング層モジュールＭよりもサイズが小さいため、前記コーティング層モジュールＭの上面の周縁が露出する。その後、導電層Ｃをコーティング層モジュールＭの上面の周縁に塗布して、接地させることにより、良好な電気接続が得られる。最後に、遮断板Ｂを除去する。ここで、前記導電層Ｃには、銀ペーストを用いる。
【００２７】
図３Ａ及び図３Ｂは、本発明に係る低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の作製方法のフローチャートである。なお、図３Ａに示す工程と、図３Ｂに示す工程とは、Ｓで連続している。
本発明に係る低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を作製する方法は、以下の工程を備えている。
Ｓ１００：基板Ｓを用意する工程と、
Ｓ１０２：基板Ｓの表面に、炭素・ケイ素化合物のコーティング層である第１コーティング層１を形成する工程と、
Ｓ１０４：第１コーティング層１上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第１色変換層Ｃ１を形成する工程と、
Ｓ１０６：第１色変換層Ｃ１上に、金属コーティング層である第２コーティング層２を形成する工程と、
Ｓ１０８：第２コーティング層２上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第２色変換層Ｃ２を形成する工程と、
Ｓ１１０：第２色変換層Ｃ２上に、炭素・ケイ素化合物のコーティング層である第３コーティング層３を形成する工程と、
Ｓ１１２：第３コーティング層３上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第３色変換層Ｃ３を形成する工程と、
Ｓ１１４：第３色変換層Ｃ３上に、金属コーティング層である第４コーティング層４を形成する工程と、
Ｓ１１６：第４コーティング層４上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第４色変換層Ｃ４を形成する工程と、
Ｓ１１８：第４色変換層Ｃ４上に、炭素・ケイ素化合物のコーティング層である第５コーティング層５を形成する工程と、
Ｓ１２０：第５コーティング層５上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第５色変換層Ｃ５を形成する工程と、
Ｓ１２２：第５色変換層Ｃ５上に、金属コーティング層である第６コーティング層６を形成する工程と、
Ｓ１２４：第６コーティング層６上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第６色変換層Ｃ６を形成する工程と、
Ｓ１２６：第６色変換層Ｃ６上に、炭素・ケイ素化合物のコーティング層である第７コーティング層７を形成する工程と、
Ｓ１２８：第７コーティング層７上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第７色変換層Ｃ７を形成する工程と、
Ｓ１３０：第７色変換層Ｃ７上に、金属コーティング層である第８コーティング層８を形成する工程と、
Ｓ１３２：第８コーティング層８上に、アルミニウム系酸化物コーティング層である第８色変換層Ｃ８を形成する工程と、
最後に、Ｓ１３４：第８色変換層Ｃ８上に、炭素・ケイ素化合物のコーティング層である第９コーティング層９を形成する工程とを備えている。
【００２８】
図４は、本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の透過率と光波長の特性曲線図である。図４から分かるように、本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を光が透過する際に、異なる光波長では、光透過率が異なっている。特に、青色光の近辺（最も左側の領域）の光波長は、その透過率が、明らかに、従来の１０％程度から３０％程度まで増加している。
【００２９】
また、図５を参照すると、本発明は、スパッタリングによるアルミニウム系酸化物コーティング層（Ａｌ2Ｏ3）のコーティングを追加したため、色度領域のｘｙ座標が、元のＡ（０．３２〜０．３３，０．３５〜０．３６）からＢ（０．２８〜０．３０，０．３２〜０．３４）になり、座標色が、黄緑色から青色に近い色になる。
【００３０】
上記のような低抵抗光減衰反射防止コーティング層は、半導体や光学ヘッド、液晶ディスプレイ、ブラウン管ディスプレイ、青板ガラス、タッチセンサ、モニターフィルタ及びプラスチックスクリーン板コーティング層等の工業用途に適用することができる。
【００３１】
また、該低抵抗光減衰反射防止コーティング層の表層の物質は、透過可能な表面導電層であり、該透過可能の表面導電層の光反射率は０．５％未満であり、前記低抵抗光減衰反射防止コーティング層の抵抗が、０．５〜０．７Ω／ｍ2であり、その透過率は５５〜７０％である。
【００３２】
さらに、本発明に係るコーティング層構造は、高導電性であり、プラズマディスプレイ製造に適用される際に、電磁干渉遮蔽、光学的視野角低反射、高表面硬度耐摩耗性、適度な光減衰効果等の利点を有している。
例えば、本発明のコーティング層構造の表面抵抗は、０．５〜０．７Ω／ｍ2であり、かつ、十分な硬度を有し、米軍標準規格ＭＩＬ−Ｃ−４８４９７の耐磨耗テストを満たす。
【００３３】
また、前記コーティング層構造の表層は、良好な導電特性を有しているため、該青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造は、接地工程に要する作業負荷を低減させることができ、また、大量生産時の収率や信頼度の向上を図ることができ、したがって、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイのガラス基板またはプラスチック基板上に好適に適用することができる。
【００３４】
以上は、本発明の好ましい実施例に過ぎず、本発明を制限するものではない。本発明に係る特許請求の範囲や明細書の記載に基づいて行った、当業者が適宜なし得る程度の変更や修飾等も、本発明の特許請求の範囲内に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を示す構成図である。
【図２】本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造を示す上面図である。
【図３Ａ】本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の作製方法のフローチャートである。
【図３Ｂ】本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の作製方法のフローチャートである。
【図４】本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造の透過率と光波長の特性曲線図である。
【図５】本発明に係る青色光透過率を向上させる低抵抗光減衰反射防止コーティング層構造のＣＩＥ  ｘｙ色度座標図である。
【図６Ａ】従来の加工されていないガラスの光透過率と光波長の特性曲線図である。
【図６Ｂ】従来の加工済みのガラスの光透過率と光波長の特性曲線図である。
【符号の説明】
【００３６】
Ｓ    基板
Ｍ    コーティング層モジュール
１    第１コーティング層
２    第２コーティング層
３    第３コーティング層
４    第４コーティング層
５    第５コーティング層
６    第６コーティング層
７    第７コーティング層
８    第８コーティング層
９    第９コーティング層
Ｃ１  第１色変換層
Ｃ２  第２色変換層
Ｃ３  第３色変換層
Ｃ４  第４色変換層
Ｃ５  第５色変換層
Ｃ６  第６色変換層
Ｃ７  第７色変換層
Ｃ８  第８色変換層
Ｂ    遮断板
Ｃ  導電層
【図１】
2009282255.tif 000003
【図２】
2009282255.tif 000004
【図３Ａ】
2009282255.tif 000005
【図３Ｂ】
2009282255.tif 000006
【図４】
2009282255.tif 000007
【図５】
2009282255.tif 000008
【図６Ａ】
2009282255.tif 000009
【図６Ｂ】
2009282255.tif 000010