(57)【要約】【課題】点欠陥修復等の際、液晶層に安定した気泡を一時的に発生させることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、半透過型の画素を有する液晶表示装置であって、画素は、少なくとも第１方向に整列配置された画素配列により配列され、各画素は、透過部１に対応する広ギャップ部と、反射部２に対応する狭ギャップ部とを備え、第１方向に隣接する画素間に於いて、広ギャップ部の位置と狭ギャップ部の位置とが逆である。【選択図】図１
2009282102.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半透過型の画素を有する液晶表示装置であって、
前記画素は、少なくとも第１方向に整列配置された画素配列により配列され、
各前記画素は、透過部に対応する広ギャップ部と、反射部に対応する狭ギャップ部とを備え、
前記第１方向に隣接する画素間に於いて、前記広ギャップ部の位置と前記狭ギャップ部の位置とが逆である、
液晶表示装置。
【請求項２】
前記画素は、第２方向にも整列配置されたストライプ画素配列、あるいは第２方向にジグザグ配置されたデルタ画素配列により配列される、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
全透過型または全反射型の画素を有する液晶表示装置であって、
前記画素は、所定の画素配列により配列され、
各前記画素は、全透過型の場合の透過部または全反射型の場合の反射部に対応する第１領域と、前記第１領域を取り囲む第２領域とを備え、
前記第１領域は狭ギャップ部であり、前記第２領域は広ギャップ部である、
液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置に於ける点欠陥画素修復の画素構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、カラーアクティブマトリクス型液晶表示装置は、点欠陥と呼ばれる動作異常画素が発生する事があった。この点欠陥の修復方法として、レーザ光を用いて、液晶層の配向を乱す事で異常画素上のカラーフィルタに光を入射させなくするという方法が知られている。この方法では、液晶層に気泡を一時的に安定して生じさせる必要があった。又、液晶表示装置の構造には、半透過型、全透過型および全反射型といった異なる画素構造を持ったものが知られており、その画素配列もまたストライプ画素配列およびデルタ画素配列のような異なる画素配列が知られている。
【０００３】
尚、欠陥画素修復の方法については、下記の特許文献１に開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２５１０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の方法では、レーザ光を用いて、異常画素上の液晶層に安定した気泡を一時的に生じさせる必要がある。しかしながら、カラーアクティブマトリクス型液晶表示装置は、画素上に赤、緑、青等のような異なる色のカラーフィルタを用いることから、どうしても各画素の液晶層のギャップが異なり、ギャップの狭い部分と広い部分を有する事になってしまう。又、レーザ照射により発生させた気泡は、ギャップの狭い領域から広い領域へと移動してしまう性質があるので、狭ギャップ部となっている画素には安定した気泡を生じさせる事が難しいという問題点があった。
【０００６】
又、これにより、点欠陥修復もまた難しくなり、その結果、生産工程に於ける歩留りが低下していた。又、液晶表示装置の構造（半透過、全透過、全反射）毎にも、この狭ギャップ部あるいは広ギャップ部の有り方が異なり、気泡の安定発生ができなかった。又、画素配列もまたストライプ画素配列あるいはデルタ画素配列等のように複数ある為、狭ギャップ部あるいは広ギャップ部の関係を更に複雑にしていた。
【０００７】
本発明は、これらの問題を解決する為になされたもので、液晶層に安定した気泡を一時的に生じさせる事ができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この態様１にかかる液晶表示装置は、半透過型の画素を有する液晶表示装置であって、画素は、少なくとも第１方向に整列配置された画素配列により配列され、各画素は、透過部に対応する広ギャップ部と、反射部に対応する狭ギャップ部とを備え、第１方向に隣接する画素間に於いて、広ギャップ部の位置と狭ギャップ部の位置とが逆である。
【０００９】
この態様２にかかる液晶表示装置は、全透過型または全反射型の画素を有する液晶表示装置であって、画素は、所定の画素配列により配列され、各画素は、全透過型の場合の透過部または全反射型の場合の反射部に対応する第１領域と、第１領域を取り囲む第２領域とを備え、第１領域は狭ギャップ部であり、第２領域は広ギャップ部である。
【発明の効果】
【００１０】
この態様１にかかる液晶表示装置は、半透過型の画素を有する液晶表示装置であって、画素は、少なくとも第１方向に整列配置された画素配列により配列され、各画素は、透過部に対応する広ギャップ部と、反射部に対応する狭ギャップ部とを備え、第１方向に隣接する画素間に於いて、広ギャップ部の位置と狭ギャップ部の位置とが逆であるので、液晶層に安定した気泡を一時的に生じさせる事ができる。これにより、点欠陥の修復率が向上し、その結果、生産工程に於ける歩留りもまた向上させる事ができる。
【００１１】
この態様２にかかる液晶表示装置は、全透過型または全反射型の画素を有する液晶表示装置であって、画素は、所定の画素配列により配列され、各画素は、全透過型の場合の透過部または全反射型の場合の反射部に対応する第１領域と、第１領域を取り囲む第２領域とを備え、第１領域は狭ギャップ部であり、第２領域は広ギャップ部であるので、液晶層に安定した気泡を一時的に生じさせる事ができる。これにより、点欠陥の修復率が向上し、その結果、生産工程に於ける歩留りもまた向上させる事ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（実施の形態１）
半透過型の画素構造を有する液晶表示装置の場合の方法を説明する。図１は、本実施の形態１に係る液晶表示装置のストライプ画素配列の平面図を示す一例である。図１に示すように、各画素はバックライト光源からの光を透過する透過部１に対応する広ギャップ部と、パネルに対する外光又はフロントライト光源からの光を反射する反射部２に対応する狭ギャップ部を有している。
【００１３】
図１に於いて、例えば、各画素の短辺側をｘ方向とし、各画素の長辺側をｙ方向とすると、図１のストライプ画素配列は、ｘ方向およびｙ方向に整列配置された画素配列により配列されている。そして、各画素は、ｘ方向に隣接する画素間に於いて、透過部１である広ギャップ部の位置と反射部２である狭ギャップ部の位置とが逆である。そして、ｘ方向と同様の各画素がｙ方向の各々に配列された構造となっている。すなわち、広ギャップ部と狭ギャップ部は、いわゆる、千鳥の配列の関係である。これにより、各画素の透過部１である広ギャップ部が、各同一画素内の反射部２である狭ギャップ部と隣接する画素の反射部２である狭ギャップ部とに取り囲まれるようになっている。
【００１４】
図２は、図１に示した画素の側面図を示す一例である。図２のように、各画素はカラーフィルタ（ＣＦ）側ガラス基板３とＴＦＴ側ガラス基板４との間に、液晶層の透過部１である広ギャップ部と反射部２である狭ギャップ部を有している。尚、各画素は半透過型であるので、透過部１である広ギャップ部と反射部２である狭ギャップ部の光路差を補うように設計されている。ここで、透過部１である広ギャップ部のギャップをｄ１とし、反射部２である狭ギャップ部のギャップをｄ２とすると、ギャップｄ１およびギャップｄ２の関係は、ｄ１＞ｄ２となる。
【００１５】
上述したように、画素修復する為にレーザ照射し一時的に液晶層に発生させる気泡は、ギャップの狭い領域から広い領域へと移動しようと性質があるので、レーザ照射を広ギャップ部にして気泡を発生させることにより、気泡発生部が気泡発生部周辺よりもギャップが広いため、気泡の移動が抑制される。
【００１６】
これは、各画素の配列がストライプ画素配列でない場合、例えば、図３のように、ｘ方向には図１のストライプ画素配列と同様に配列され、ｙ方向には各画素がジグザグ配置されたデルタ画素配列の場合にも有効である。又、透過部１である広ギャップ領域と反射部２である狭ギャップ領域が千鳥に配列する方法は、全透過構造および全反射構造にもそのまま適用可能である。
【００１７】
この様に、半透過型に於いて、各画素は、広ギャップ部を狭ギャップ部で取り囲むようにし、広ギャップ部の位置と狭ギャップ部の位置を逆にすることで、任意の画素上のみに液晶層に安定した気泡を一時的に発生させる事ができる。よって、レーザ照射による点欠陥画素修復の成功率が向上する。
【００１８】
（実施の形態２）
本実施の形態２では、全透過型あるいは全反射型の画素構造の場合の方法について説明する。通常、全反射型の場合は、画素全体が反射部となっており、外光またはフロントライト光源からの光を画素反射部全体で反射する構造となっている。これに対して、全透過型の場合は、画素全体が透過部となっており、バックライト光源からの光を画素開口部全体で透過する構造となっている。この様に、全反射型あるいは全透過型の場合、基本的に実施の形態１で述べたような狭ギャップ部と広ギャップ部を有していない。
【００１９】
そこで、図４は本実施の形態２に係る液晶表示装置の全反射型あるいは全透過型の画素構造（ストライプ画素配列）の一例を示したものである。図４では、例えば、各画素の短辺側をｘ方向とし、各画素の長辺側をｙ方向とすると、図４のストライプ画素配列は、ｘ方向およびｙ方向に整列配置された画素配列により配列されている。各画素は、全透過型の場合の透過部、または全反射の場合の反射部に対応する第１領域６よりなる狭ギャップ部を有しており、狭ギャップ部である各画素周辺部を取り囲むように第２領域５よりなる広ギャップ部を堀のように設ける。又、図４の画素配列はストライプ画素配列であるが、デルタ画素配列であっても良い。
【００２０】
次に、画像修復する為に、レーザ照射を狭ギャップ部に行った場合、発生した気泡は、狭ギャップ部から広ギャップ部へと移動しようとするが、各画素周辺部に堀のように設けた広ギャップ部にトラップされ、隣接画素への気泡の移動が抑制される。
【００２１】
この様に、全透過型あるいは全反射型の画素構造に於いて、各画素は、全透過型の場合の透過部または全反射型の場合の反射部である狭ギャップ部の各画素周辺部に堀のように広ギャップ部を設けるようにしたので、任意画素上のみに安定した気泡を一時的に発生させる事が容易となる。よって、実施の形態１と同様に、レーザ照射による点欠陥画素修復の成功率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の半透過型のストライプ画素配列の平面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の半透過型のストライプ画素配列の側面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の半透過型のデルタ画素配列の平面図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の全透過型あるいは全反射型のストライプ画素配列の平面図である。
【符号の説明】
【００２３】
１  透過部、２  反射部、３  ＣＦ側ガラス基板、４  ＴＦＴ側ガラス基板、５  第２領域、６  第１領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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