(57)【要約】【課題】表示画像の色再現性を高めることが可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】この液晶表示装置は、白表示に対応する副画素１０ｃと、複数の副画素１０ｂとを含む画素１０ａと、液晶４０を挟むように設けられた一対の基板２０および３０と、副画素１０ｂおよび副画素１０ｃの反射領域１０ｅに対応する領域に設けられ、基板２０および３０間の距離を調整するトップコート層３２ａ（３２ｂ）とを備え、副画素１０ｃの反射領域１０ｅに対応するトップコート層３２ｂは、平面的に見て、副画素１０ｂの反射領域１０ｅに対応するトップコート層３２ａよりも突出した形状になるように構成されている。【選択図】図２
2009134212.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも反射領域を有するとともに白色の表示に対応する第１副画素と、透過領域お
よび反射領域を有するとともに、白色以外の色の表示に対応する少なくとも１つ以上の第
２副画素とを含む画素と、
液晶を挟むように設けられた一対の基板と、
前記第１副画素および前記第２副画素の反射領域に対応する領域に設けられ、前記反射
領域における前記基板間の距離を調整するギャップ調整部とを備え、
前記ギャップ調整部の前記第１副画素の反射領域に対応する領域は、平面的に見て、前
記ギャップ調整部の前記第２副画素の反射領域に対応する領域よりも突出した形状になる
ように構成されている、液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１副画素は、反射領域のみにより構成されている、請求項１に記載の液晶表示装
置。
【請求項３】
前記ギャップ調整部は、前記第１副画素に対応する第１ギャップ調整部と、前記第２副
画素に対応する第２ギャップ調整部とを含み、
前記第１ギャップ調整部は、平面的に見て、前記第２ギャップ調整部よりも突出した形
状になるとともに、前記第１ギャップ調整部の前記第２ギャップ調整部に対して突出した
形状の部分は、前記第２副画素の透過領域に隣接するように構成されている、請求項１ま
たは２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２副画素は、白色以外で、かつ、互いに異なる色に対応するように複数構成され
るとともに、前記第１副画素は、前記複数の第２副画素の間に配置され、
平面的に見て、少なくとも、前記第１ギャップ調整部の突出した形状の部分と前記第２
副画素の透過領域との境界部分を遮光する遮光膜をさらに備える、請求項３に記載の液晶
表示装置。
【請求項５】
前記遮光膜は、前記第１副画素の第１ギャップ調整部と前記第２副画素の透過領域との
前記液晶のラビング工程の進行方向の先端側の境界部分に設けられる第１遮光膜と、前記
第１副画素の第１ギャップ調整部と前記第２副画素の透過領域との前記液晶のラビング工
程の進行方向の先端側とは反対側の境界部分に設けられる第２遮光膜とを含み、
前記第１遮光膜および前記第２遮光膜は、平面的に見て、それぞれ、前記第１ギャップ
調整部の縁部に重なるとともに、前記第１ギャップ調整部の縁部から所定の長さはみ出す
ように配置され、
前記第１遮光膜の前記第１ギャップ調整部の縁部からはみ出す部分のはみ出し長さは、
前記第２遮光膜の前記第１ギャップ調整部の縁部からはみ出す部分のはみ出し長さよりも
大きい、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１副画素および前記第２副画素は、それぞれ、前記液晶に階調信号を印加するた
めの画素電極を有し、
前記第１遮光膜および前記第２遮光膜は、前記画素電極に階調信号を供給するための信
号線により構成されている、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記遮光膜は、第２ギャップ調整部における前記第１ギャップ調整部が突出する方向と
直交する方向の一方端部および他方端部にそれぞれ重なるように設けられるとともに、前
記一方端部から所定の長さはみ出すように配置された第３遮光膜および前記他方端部から
所定の長さはみ出すように配置された第４遮光膜をさらに含み、
前記第２ギャップ調整部の一方端部は、前記液晶のラビング工程の進行方向の先端側の
端部であるとともに、前記第２ギャップ調整部の他方端部は、前記液晶のラビング工程の
進行方向の先端側とは反対側の端部であり、
前記第３遮光膜の前記第２ギャップ調整部からはみ出す部分のはみ出し長さは、前記第
４遮光膜の前記第２ギャップ調整部からはみ出す部分のはみ出し長さよりも大きい、請求
項４〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１副画素および前記第２副画素は、それぞれ、画素トランジスタと、保持容量電
極とを有し、
前記第３遮光膜および前記第４遮光膜は、前記画素トランジスタのゲートに接続される
ゲート線と、前記保持容量電極に接続される保持容量線とからなる、請求項７に記載の液
晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、複数の副画素を含む画素を備えた液晶表示装置
に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数の副画素を含む画素を備えた液晶表示装置が知られている（たとえば、特許
文献１参照）。
【０００３】
上記特許文献１には、透過領域および反射領域を有する複数の副画素（サブピクセル）
により構成された画素（１ピクセル）を備えた液晶表示装置が開示されている。上記特許
文献１に記載の液晶表示装置では、１つの画素が、赤、緑および青の各色にそれぞれ対応
する副画素と、表示画像の色再現性を高めるための白（透明）の色に対応する副画素とに
より構成されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００７―４１５２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載の液晶表示装置では、赤、緑および青の各色と、
白（透明）の色とに対応する全ての副画素が半透過反射型（半透過型）に構成されている
。この場合、透過領域が配置された分だけ反射領域は小さくなるので、その分、反射率が
低下する。したがって、反射率が低下するために画像表示の際に白（透明）の反射光を十
分照射できないという不都合がある。その結果、表示画像の色再現性を高めることが困難
であるという問題点がある。
【０００６】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つ
の目的は、表示画像の色再現性を高めることが可能な液晶表示装置を提供することである
。
【課題を解決するための手段および発明の効果】
【０００７】
この発明の一の局面による液晶表示装置は、少なくとも反射領域を有するとともに白表
示に対応する第１副画素と、透過領域および反射領域を有するとともに、白以外の色の表
示に対応する少なくとも１つの第２副画素とを含む画素と、液晶を挟むように設けられた
一対の基板と、第１副画素および第２副画素の反射領域に対応する領域に設けられ、反射
領域における基板間の距離を調整するギャップ調整部とを備え、ギャップ調整部の第１副
画素の反射領域に対応する領域は、平面的に見て、ギャップ調整部の第２副画素の反射領
域に対応する領域よりも突出した形状になるように構成されている。
【０００８】
この一の局面による液晶表示装置では、上記のように、反射領域に対応する領域にギャ
ップ調整部を設けるとともに、ギャップ調整部の第１副画素の反射領域に対応する領域を
、平面的に見て、ギャップ調整部の第２副画素の反射領域に対応する領域よりも突出した
形状になるように構成することによって、ギャップ調整部の第１副画素に対応する領域を
突出させた分、第２副画素の反射領域の範囲に対して第１副画素の反射領域の範囲をより
大きくすることができる。これにより、反射領域を大きくした分、反射率を高くすること
ができるので、画像表示の際に白（透明）の反射光を十分照射することができる。その結
果、液晶表示装置における表示画像の色再現性を高めることができる。
【０００９】
上記一の局面による液晶表示装置において、好ましくは、第１副画素は、反射領域のみ
により構成されている。このように構成すれば、白表示に対応する第１副画素の反射領域
をさらに大きくすることができるので、画像を表示させる際に、より色再現性を高めるこ
とができる。
【００１０】
上記一の局面による液晶表示装置において、好ましくは、ギャップ調整部は、第１副画
素に対応する第１ギャップ調整部と、第２副画素に対応する第２ギャップ調整部とを含み
、第１ギャップ調整部は、平面的に見て、第２ギャップ調整部よりも突出した形状になる
とともに、第１ギャップ調整部の第２ギャップ調整部に対して突出した形状の部分は、第
２副画素の透過領域に隣接するように構成されている。このように構成すれば、第２副画
素の透過領域に第１副画素の反射領域が隣接するので、第２副画素の透過領域による画像
表示を行う場合であっても第１副画素からの白表示の反射光によって色再現性を高めるこ
とができる。
【００１１】
この場合、好ましくは、第２副画素は、白色以外で、かつ、互いに異なる色に対応する
ように複数構成されるとともに、第１副画素は、複数の第２副画素の間に配置され、平面
的に見て、少なくとも、第１ギャップ調整部の突出した形状の部分と第２副画素の透過領
域との境界部分を遮光する遮光膜をさらに備える。このように構成すれば、第１副画素は
第２副画素の間に配置されるので、複数の第２副画素に同程度の量の反射光を照射するこ
とができる。したがって、容易に複数の第２副画素の色再現性を高めることができる。ま
た、少なくとも第１ギャップ調整部の突出した形状の部分と第２副画素の透過領域との境
界部分を遮光する遮光膜をさらに備えることによって、この境界部分が光源からの光によ
り表示されるのを抑制することができる。これにより、液晶の配向膜にラビング工程を行
う際に、ギャップ調整部によるギャップ長の差に起因してギャップ調整部が配置される領
域とギャップ調整部が配置されない領域との境界に配向不良（配向の乱れ）が発生した場
合に、この配向不良の領域に光が入射して表示されるのを抑制することができる。その結
果、表示画像の画質の低下を抑制することができる。
【００１２】
上記遮光膜を備える構成において、好ましくは、遮光膜は、第１副画素の第１ギャップ
調整部と第２副画素の透過領域との液晶のラビング工程の進行方向の先端側の境界部分に
設けられる第１遮光膜と、第１副画素の第１ギャップ調整部と第２副画素の透過領域との
液晶のラビング工程の進行方向の先端側とは反対側の境界部分に設けられる第２遮光膜と
を含み、第１遮光膜および第２遮光膜は、平面的に見て、それぞれ、第１ギャップ調整部
の縁部に重なるとともに、第１ギャップ調整部の縁部から所定の長さはみ出すように配置
され、第１遮光膜の第１ギャップ調整部の縁部からはみ出す部分のはみ出し長さは、第２
遮光膜の第１ギャップ調整部の縁部からはみ出す部分のはみ出し長さよりも大きい。ここ
で、液晶のラビング工程では、ギャップ調整部が配置される領域からギャップ調整部が配
置されない領域に向かう場合の境界領域（ラビング工程の進行方向の先端側の境界部分）
では、ラビング処理のローラは、配向膜との接触面に対してギャップ調整部の上面の平坦
な面からギャップ調整部の端部の下り勾配の面に進むようにラビング処理が行われるので
、ラビング処理のためのローラと配向膜とが確実に接触することができず、その結果、配
向不良が発生しやすい。したがって、配向不良が発生しやすい側であるラビング工程の進
行方向の先端側の境界部分に配置される第１遮光膜の第１ギャップ調整部の縁部からはみ
出す部分のはみ出し長さを、第２遮光膜の第１ギャップ調整部の縁部からはみ出す部分の
はみ出し長さよりも大きくなるように構成することによって、配向不良が発生しやすい領
域を第１遮光膜により確実に遮光することができるので、表示画像の画質の低下を確実に
抑制することができる。
【００１３】
この場合、好ましくは、第１副画素および第２副画素は、それぞれ、液晶に階調信号を
印加するための画素電極を有し、第１遮光膜および第２遮光膜は、画素電極に階調信号を
供給するための信号線により構成されている。このように構成すれば、第１遮光膜および
第２遮光膜を別途形成することなく透過領域および反射領域の境界部分を遮光することが
できる。
【００１４】
上記遮光膜を備える構成において、好ましくは、遮光膜は、第２ギャップ調整部におけ
る第１ギャップ調整部が突出する方向と直交する方向の一方端部および他方端部にそれぞ
れ重なるように設けられるとともに、一方端部から所定の長さはみ出すように配置された
第３遮光膜および他方端部から所定の長さはみ出すように配置された第４遮光膜をさらに
含み、第２ギャップ調整部の一方端部は、液晶のラビング工程の進行方向の先端側の端部
であるとともに、第２ギャップ調整部の他方端部は、液晶のラビング工程の進行方向の先
端側と反対側の端部であり、第３遮光膜の第２ギャップ調整部からはみ出す部分のはみ出
し長さは、第４遮光膜の第２ギャップ調整部からはみ出す部分のはみ出し長さよりも大き
い。このように構成すれば、第３遮光膜および第４遮光膜によって、第２ギャップ調整部
が配置された領域と第２ギャップ調整部が配置されない領域との境界部分における配向不
良の発生した領域を遮光することができる。また、液晶のラビング工程の進行方向の先端
側である第３遮光膜の第２ギャップ調整部からはみ出す領域（配向不良がより発生しやす
い領域）の長さを、第４遮光膜の第２ギャップ調整部からはみ出す領域の長さよりも大き
くなるように構成することによって、これによっても表示画像の画質の低下を確実に抑制
することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。本発明はスイッチング素子を有す
る液晶表示装置に関するものである。
【００１６】
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の平面図である。図２〜図６は、本発
明の一実施形態による液晶表示装置の構成を説明するための図である。図１〜図６を参照
して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の構成について説明する。
【００１７】
本実施形態による液晶表示装置は、表示部に、複数の画素１０ａがマトリックス状に配
置されている。また、画素１０ａは、図２に示すように、それぞれ、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）
および青（Ｂ）の色に対応する３つの副画素（サブピクセル）１０ｂと、白（透明）（Ｗ
）の色に対応する副画素（サブピクセル）１０ｃとにより、１ピクセル（１画素）として
構成されている。また、１ピクセル内の副画素１０ｂおよび１０ｃは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ
）、白（Ｗ）および青（Ｂ）の順で一列に配置されている。なお、図２は、図面の簡略化
のために９画素分の画素１０ａを図示している。なお、副画素１０ｂおよび副画素１０ｃ
は、本発明の「第２副画素」および「第１副画素」の一例である。
【００１８】
ここで、本実施形態では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）に対応する副画素１０ｂ
は、透過領域１０ｄおよび反射領域１０ｅにより構成されているとともに、白（透明）（
Ｗ）に対応する副画素１０ｃは、反射領域１０ｅのみにより構成されている。すなわち、
本実施形態における液晶表示装置では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）に対応する各
副画素１０ｂは半透過反射型（半透過型）に構成されているとともに、白（Ｗ）に対応す
る副画素１０ｃは、全反射型に構成されている。
【００１９】
次に、画素１０ａおよび副画素１０ｂの詳細な構成を説明する。まず、図２および図３
（図２における２００−２００線に沿った断面図）に示すように、赤（Ｒ）に対応する副
画素１０ｂでは、基板２０上にゲート電極２１および保持容量配線２２が形成されている
。ゲート電極２１および保持容量配線２２を覆うように、たとえば、ＳｉＮからなる絶縁
膜２３が形成されている。また、ゲート電極２１上には、絶縁膜２３を介してアモルファ
スシリコン（ａ−Ｓｉ）からなる半導体層２４が形成されている。ここで、絶縁膜２３は
ゲート絶縁膜としての機能を有するとともに、半導体層２４は、チャネル領域、ソース領
域およびドレイン領域を構成する能動層としての機能を有する。また、半導体層２４のソ
ース領域およびドレイン領域の表面上には、それぞれ、半導体層２４よりもｎ型の不純物
濃度の高いアモルファスシリコン（ｎ＋ａ−Ｓｉ）からなる半導体層２５ａおよび２５ｂ
が形成されている。この半導体層２５ａは、半導体層２４のソース領域とともにソース領
域を構成し、半導体層２５ｂは、半導体層２４のドレイン領域とともにドレイン領域を構
成する。なお、このｎ型の不純物濃度の高い半導体層２５ａおよび２５ｂは、半導体層２
４におけるキャリアの転送効率を上げるために形成されている。これらのゲート電極２１
、絶縁膜２３（ゲート絶縁膜）、半導体層２４および半導体層２５により画素トランジス
タ１１ａが構成されている。また、半導体層２５ａ上には、ＡｌおよびＭｏなどからなる
ソース電極２６ａが形成されている。また、半導体層２５ｂ上および絶縁膜２３上には、
ＡｌおよびＭｏなどからなるドレイン電極２６ｂが形成されている。また、図２に示すよ
うに、ソース電極２６ａは、データ線２０ａと接続されている。また、ドレイン電極２６
ｂは、保持容量配線２２の上方を覆う位置にまで伸びるように形成されている。これによ
り、保持容量配線２２とドレイン電極２６ｂとが対向する領域において保持容量１１ｄが
構成されている。なお、データ線２０ａは、本発明における「信号線」の一例であり、保
持容量１１ｄは、本発明の「保持容量電極」の一例である。
【００２０】
また、ソース電極２６ａおよびドレイン電極２６ｂ上には、ＳｉＮからなるとともに、
ソース電極２６ａおよびドレイン電極２６ｂの保護膜としての機能を有するパッシベーシ
ョン層２７が形成されている。パッシベーション層２７上には、透明樹脂からなる層間絶
縁膜２８が形成されている。また、層間絶縁膜２８の表面は、透過領域１０ｄに対応する
領域が平坦に形成されているとともに、反射領域１０ｅに対応する領域は凹凸形状に形成
されている。また、層間絶縁膜２８には、コンタクトホール２８ａが形成されている。そ
して、層間絶縁膜２８の凹凸形状の表面上およびコンタクトホール２８ａの内表面上に、
Ａｌなどからなる反射層２９が形成されている。また、パッシベーション層２７には、反
射層２９の表面からドレイン電極２６ｂの上面に達するコンタクトホール２７ａが形成さ
れている。そして、ドレイン電極２６ｂの上面上、コンタクトホール２７ａの内表面上お
よび反射層２９の表面上に、画素電極１１ｂが形成されている。このようにコンタクトホ
ール２７ａおよび２８ａを介して、ドレイン電極２６ｂおよび画素電極１１ｂが電気的に
接続されている。なお、画素電極１１ｂは、たとえば、ＩＴＯなどからなる透明導電材料
により形成されている。また、画素電極１１ｂを覆うように、配向膜（図示せず）が形成
されている。
【００２１】
また、基板（対向基板）３０の基板２０側の表面上には、各副画素１０ｂ毎に対応する
色（赤、緑および青）のカラーフィルタ３１（図３参照）が形成されている。また、カラ
ーフィルタ３１を覆うように、トップコート層３２ａが形成されている。このトップコー
ト層３２ａは、副画素１０ｂにおける基板２０および基板３０間のセルギャップを調整す
るために形成されている。なお、本実施形態では、トップコート層３２ａおよび後述する
トップコート層３２ｂを反射領域１０ｅに対応する領域に形成することにより、反射領域
１０ｅにおける液晶４０の厚みｔ１（セルギャップ）が、透過領域１０ｄにおける液晶４
０の厚みｔ２（セルギャップ）の約１／２になるように構成されている。また、トップコ
ート層３２ａの表面上には、共通電極１１ｃが形成されているとともに、共通電極１１ｃ
を覆うように、配向膜（図示せず）が形成されている。また、基板２０と基板３０との間
には液晶４０が充填されている。また、基板２０および基板３０の液晶４０が充填されて
いる側とは反対の面には、それぞれ、位相差板（図示せず）が形成されているとともに、
位相差板を覆うように、それぞれ、偏光板（図示せず）が形成されている。なお、トップ
コート層３２ａおよび３２ｂは、それぞれ、本発明における「第２ギャップ調整部」およ
び「第１ギャップ調整部」の一例である。
【００２２】
また、図４に示すように、全反射型の構成である白（透明）の色に対応する副画素１０
ｃ（Ｗ）が形成された領域近傍の断面構造（図２における３００―３００線に沿った断面
構造）としては、基板２０上に、絶縁膜２３が形成されているとともに、絶縁膜２３上に
は、ソース電極２６ａと接続されるデータ線２０ａ（図２参照）が形成されている。また
、データ線２０ａ上および絶縁膜２３上には、パッシベーション層２７が形成されている
とともに、パッシベーション層２７上には、凹凸形状を有する層間絶縁膜２８が形成され
ている。そして、層間絶縁膜２８の凹凸形状の上面上には、反射層２９が形成されるとと
もに、反射層２９上および層間絶縁膜２８上には、画素電極１１ｂが形成されている。ま
た、この白（透明）の色に対応する副画素１０ｃ（Ｗ）では、基板（対向基板）３０の基
板２０側の表面上には、カラーフィルタが設けられておらず、オーバーコート層３３が形
成されている。また、オーバーコート層３３の表面上の反射領域１０ｅに対応する位置に
は、トップコート層３２ｂが形成されている。
【００２３】
ここで、本実施形態では、図５に示すように、白（透明）の色に対応する副画素１０ｃ
（Ｗ）に設けられるトップコート層３２ｂは、平面的に見て、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および
青（Ｂ）に対応する副画素１０ｂ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に設けられるトップコート層３２ａより
も突出した形状になるとともに、トップコート層３２ｂのトップコート層３２ａに対して
突出した形状の部分は、副画素１０ｂ（Ｇ）および１０ｂ（Ｂ）の透過領域１０ｄに隣接
するように構成されている。
【００２４】
また、本実施形態では、副画素１０ｃ（Ｗ）と、副画素１０ｂ（Ｇ）および１０ｂ（Ｂ
）との境界部分に、データ線２０ａが配置されるように構成されている。具体的には、平
面的に見て、緑（Ｇ）に対応する副画素１０ｂ（Ｇ）の透過領域１０ｄと、副画素１０ｃ
（Ｗ）上のトップコート層３２ｂとの間の境界部分において、データ線２０ａは、トップ
コート層３２ｂの端部分（縁部分）に重なるとともに、トップコート層３２ｂから長さＬ
１（図４および図５参照）だけはみ出すように配置されている。また、青（Ｂ）に対応す
る副画素１０ｂ（Ｂ）の透過領域１０ｄと、副画素１０ｃ（Ｗ）上のトップコート層３２
ｂとの間の境界部分において、データ線２０ａは、トップコート層３２ｂの端部分（縁部
分）に重なるとともに、トップコート層３２ｂから長さＬ２（図４および図５参照）だけ
はみ出すように配置されている。これにより、バックライトからの光（図４の矢印Ａ）が
、データ線２０ａにより遮光されて、副画素１０ｂおよび副画素１０ｃ間の境界部分（遮
光領域１０ｆ）に光が入射しないように構成されている。また、液晶４０の配向膜（図示
せず）に対するラビング方向側（図の矢印Ｂ方向）におけるはみ出し長さＬ２の大きさの
方が、ラビング方向とは反対方向側のはみ出し長さＬ１の大きさよりも、たとえば、約２
μｍ程度大きくなるように構成されている。なお、データ線２０ａは、本発明の「第１遮
光膜」および「第２遮光膜」の一例である。
【００２５】
また、図６に示すように、半透過反射型の緑（Ｇ）に対応する副画素１０ｂ（Ｇ）が形
成された領域近傍の断面構造（図２における４００―４００線に沿った断面構造）として
は、基板２０上に、ゲート電極２１および保持容量配線２２が形成されているとともに、
ゲート線２０ｂおよび保持容量配線２２上に絶縁膜２３が形成されている。そして、絶縁
膜２３上の保持容量配線２２と対向する位置に、ドレイン電極２６ｂが形成されている。
また、絶縁膜２３上および導電層２６上には、パッシベーション層２７が形成されている
とともに、パッシベーション層２７上には、凹凸形状を有する層間絶縁膜２８が形成され
ている。そして、層間絶縁膜２８の凹凸形状の上面には、反射層２９が形成されるととも
に、反射層２９および層間絶縁膜２８上には、画素電極１１ｂが形成されている。また、
基板（対向基板）３０の基板２０側の表面上には、カラーフィルタ３１が形成されている
。また、カラーフィルタ３１上の反射領域１０ｅに対応する位置にはトップコート層３２
ａが形成されている。
【００２６】
ここで、本実施形態では、図５に示すように、平面的に見て、副画素１０ｂ（Ｇ）の反
射領域１０ｅと透過領域（Ｇ）１０ｄとの境界部分に保持容量配線２２が配置されるよう
に構成されている。具体的には、保持容量配線２２は、平面的に見て、副画素１０ｂ（Ｇ
）の反射領域上に配置されたトップコート層３２ａの端部分（縁部分）に重なるとともに
、トップコート層３２ａから長さＬ３だけはみ出すように配置されている。また、副画素
１０ｂ（Ｇ）のトップコート層３２ａと、この副画素１０ｂ（Ｇ）に隣接する副画素１０
ｂ（Ｇ）の透過領域１０ｄとの間の境界部分には、ゲート線２０ｂが配置されるように構
成されている。具体的には、ゲート線２０ｂは、平面的に見て、トップコート層３２ａの
端部分（縁部分）に重なるとともに、トップコート層３２ａから長さＬ４だけはみ出すよ
うに配置されている。これにより、バックライトからの光（図６の矢印Ａ）が、保持容量
配線２２およびゲート線２０ｂにより遮光されて、副画素１０ｂの反射領域１０ｅおよび
透過領域１０ｄの境界部分（遮光領域１０ｆ）と、隣接する副画素１０ｂの互いの反射領
域１０ｅおよび透過領域１０ｄの境界部分（遮光領域１０ｆ）には、光が入射しないよう
に構成されている。また、ラビング方向側（図の矢印Ｂ方向）におけるはみ出し長さＬ４
の大きさの方が、ラビング方向とは反対方向側のはみ出し長さＬ３の大きさよりも、約２
μｍ程度大きくなるように構成されている。なお、ゲート線２０ｂおよび保持容量配線２
２は、それぞれ、本発明の「第３遮光膜」および「第４遮光膜」の一例である。
【００２７】
本実施形態では、上記のように、副画素１０ｃの反射領域１０ｅに対応するトップコー
ト層３２ｂを、平面的に見て、副画素１０ｂの反射領域１０ｅに対応するトップコート層
３２ａよりも突出した形状になるように構成することによって、副画素１０ｃに対応する
トップコート層３２ｂを突出させた分、副画素１０ｃの反射領域１０ｅの範囲は大きくな
るので、その分、反射率を高くすることができる。これにより、画像表示の際に白（透明
）の反射光を十分照射することができるので、その結果、液晶表示装置における表示画像
の色再現性を高めることができる。
【００２８】
また、本実施形態では、副画素１０ｃを、反射領域１０ｅのみにより構成することによ
って、白表示に対応する副画素１０ｃの反射領域１０ｅをさらに大きくすることができる
ので、画像を表示させる際に、より色再現性を高めることができる。
【００２９】
また、本実施形態では、トップコート層３２ｂを、平面的に見て、トップコート層３２
ａよりも突出した形状に構成するとともに、トップコート層３２ｂのトップコート層３２
ａに対して突出した形状の部分を、副画素１０ｂの透過領域１０ｄに隣接するように構成
することによって、副画素１０ｂの透過領域１０ｄに副画素１０ｃの反射領域１０ｅが隣
接するので、副画素１０ｂの透過領域１０ｄによる画像表示を行う場合であっても副画素
１０ｃからの白表示の反射光によって色再現性を高めることができる。
【００３０】
また、本実施形態では、副画素１０ｃを、複数の副画素１０ｂの間に配置するように構
成することによって、副画素１０ｃは複数の副画素１０ｂの間に配置されるので、各副画
素１０ｂに対して同程度の白表示の反射光を照射することができる。したがって、容易に
複数の副画素１０ｂの色再現性を高めることができる。また、平面的に見て、トップコー
ト層３２ｂの突出した形状の部分と副画素１０ｂの透過領域１０ｄとの境界部分を遮光す
る遮光膜（データ線２０ａ）を備えることによって、この境界部分がバックライトからの
光により表示されるのを抑制することができる。これにより、液晶４０の配向膜にラビン
グ工程を行う際に、トップコート層３２ａおよび３２ｂによるギャップ長の差に起因して
トップコート層３２ａおよび３２ｂが配置される領域と、トップコート層３２ｂが配置さ
れない領域との境界に配向不良（配向の乱れ）が発生した場合に、この配向不良の領域に
光が入射して表示されるのを抑制することができる。その結果、表示画像の画質の低下を
抑制することができる。
【００３１】
また、本実施形態では、各データ線２０ａを、平面的に見て、それぞれ、トップコート
層３２ｂの縁部に重なるとともに、トップコート層３２ｂの各縁部から、それぞれ、所定
の長さＬ１およびＬ２だけはみ出すように配置し、データ線２０ａのトップコート層３２
ｂの一方の縁部からはみ出す部分のはみ出し長さＬ１を、データ線２０ａのトップコート
層３２ｂの他方の縁部からはみ出す部分のはみ出し長さＬ２よりも大きくするように構成
する。ここで、液晶のラビング工程では、トップコート層３２ａおよび３２ｂが配置され
る領域からトップコート層３２ａおよび３２ｂが配置されない領域に向かう場合の境界領
域（矢印Ｂ方向の境界部分）では、ラビング処理のローラは、配向膜との接触面に対して
トップコート層３２ａおよび３２ｂの上面の平坦な面からトップコート層３２ａおよび３
２ｂの端部の下り勾配の面に進むようにラビング処理が行われるので、ラビング処理のた
めのローラと配向膜とが確実に接触することができず、その結果、配向不良が発生しやす
い。したがって、配向不良が発生しやすい側である矢印Ｂ方向（ラビング方向）の境界部
分に配置されるデータ線２０ａのトップコート層３２ｂの縁部からはみ出す部分のはみ出
し長さＬ２を、データ線２０ａのトップコート層３２ｂの縁部からはみ出す部分のはみ出
し長さＬ１よりも大きくなるように構成することによって、配向不良が発生しやすい領域
をデータ線２０ａにより確実に遮光することができるので、表示画像の画質の低下を確実
に抑制することができる。
【００３２】
また、本実施形態では、データ線２０ａにより透過領域１０ｄおよび反射領域１０ｅの
境界部分を遮光するように構成することによって、遮光膜を別途形成することなく配向不
良が発生する領域を遮光することができる。
【００３３】
また、本実施形態では、ゲート線２０ｂのトップコート層３２ａからはみ出す部分のは
み出し長さＬ４を、保持容量配線２２のトップコート層３２ａからはみ出す部分のはみ出
し長さＬ３よりも大きくなるように構成することによって、ゲート線２０ｂと保持容量配
線２２とにより、トップコート層３２ａが配置された領域とトップコート層３２ａが配置
されない領域との境界部分に発生した配向不良の領域を遮光することができる。また、表
示画像の画質の低下を確実に抑制することができる。また、ゲート線２０ｂおよび保持容
量配線２２により遮光することにより、遮光膜を別途形成することなく配向不良の発生し
た領域を遮光することができる。
【００３４】
また、本実施形態では、赤、緑および青に対応する３つの副画素１０ｂから画素１０ａ
を構成することによって、赤色、緑色および青色にそれぞれ対応する副画素１０ｂにより
、色の調節を行いながら、白色（透明）に対応する突出形状の副画素１０ｃにより、調節
された色の表示画像の色再現性を高めることができる。
【００３５】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと
考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範
囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が
含まれる。
【００３６】
たとえば、上記実施形態では、１つの画素に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の３
つの色に対応する副画素と、白（透明）（Ｗ）の色に対応する副画素とを含む例を示した
が、本発明はこれに限らず、１つの画素に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）および白（Ｗ
）に加えて、さらに異なる色に対応する副画素を含ませてもよい。
【００３７】
また、上記実施形態では、１つの画素において、各色に対応する副画素を、赤（Ｒ）、
緑（Ｇ）、白（Ｗ）および青（Ｂ）の順になるように１列に並べて配置する例を示したが
、本発明はこれに限らず、どのような順番に並べて配置させてもよい。なお、この場合に
、白（Ｗ）を端部に配置する場合には、平面的に見た場合のトップコートの形状がＬ字状
になる。
【００３８】
また、上記実施形態では、白（透明）（Ｗ）の色に対応する副画素を全反射型に構成す
る例を示したが、本発明はこれに限らず、反射領域が、画素内の他の副画素の反射領域に
対して突出するような構成であれば、半透過反射型であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の画素部分における平面図である。
【図２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の画素部分における詳細な平面図である。
【図３】本発明の一実施形態による液晶表示装置の図２の画素部分（赤色部分）における２００−２００線に沿った断面図である。
【図４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の図２の画素部分（白色部分、青色部分および緑色部分）における３００−３００線に沿った断面図である。
【図５】図２に示した本発明の一実施形態による液晶表示装置の平面図にトップコートを加えた図である。
【図６】本発明の一実施形態による液晶表示装置の図２の画素部分（緑色部分）における４００−４００線に沿った断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１０ａ        画素
１０ｂ        副画素（第２副画素）
１０ｃ        副画素（第１副画素）
１０ｄ        透過領域
１０ｅ        反射領域
１１ａ        画素トランジスタ
１１ｂ        画素電極
１１ｄ        保持容量（保持容量電極）
２０          基板
２０ａ        データ線（信号線、第１遮光膜、第２遮光膜（遮光膜））
２０ｂ        ゲート線（第３遮光膜（遮光膜））
２２          保持容量配線（保持容量線  第４遮光膜（遮光膜））
３０          基板
３２ａ        トップコート層（ギャップ調整部（第２ギャップ調整部））
３２ｂ        トップコート層（ギャップ調整部（第１ギャップ調整部））
４０          液晶  
【図１】
2009134212.tif 000003
【図２】
2009134212.tif 000004
【図３】
2009134212.tif 000005
【図４】
2009134212.tif 000006
【図５】
2009134212.tif 000007
【図６】
2009134212.tif 000008