(57)【要約】【課題】簡便な方法で製造可能である有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基板ＧＬ１と、基板ＧＬ１上に配置された第１電極Ｅ１と、第１電極Ｅ１と対向するように配置された第２電極Ｅ２と、第１電極Ｅ１と第２電極Ｅ２との間に配置され第１電極Ｅ１と第２電極Ｅ２とに印加される信号に応じて発光する疑個体層ＢＬと、を有し、疑固体層ＢＬは、有機化学ゲル状物質、有機物理ゲル状物質、有機トポロジカルゲル、有機／無機ハイブリット型ゲル状物質のいずれかからなる有機ＥＬ表示装置。【選択図】      図２
2009123830.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された第１電極と、
前記第１電極と対向するように配置された第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に配置され前記第１電極と前記第２電極とに印加される信号に応じて発光する疑個体層と、を有し、
前記疑固体層は、有機化学ゲル状物質、有機物理ゲル状物質、有機トポロジカルゲル、有機／無機ハイブリット型ゲル状物質のいずれかからなる有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記疑固体層は感光性基を有している請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
基板上に第１電極を形成する工程と、
前記第１電極の上層に疑固体層を形成する工程と、
前記疑固体層の上層に第２電極を形成する工程と、を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
前記疑固体層を形成する工程は、有機化学ゲル状物質、有機物理ゲル状物質、有機トポロジカルゲル、有機/無機ハイブリット型ゲル状物質のいずれかとなる溶液からなる液体層を形成する工程と、
前記液体層を固化させる工程と、を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記液体層を固化させる工程は、前記液体層を焼成する工程を有する請求項３記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記液体層は、感光性基を有し、
前記液体層を固化させる工程は、感光プロセスによって前記液体層を固化させる工程を有する請求項３記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記液体層を固化させる工程は、前記液体層を濃縮して固化させる工程を有する請求項３記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等のディスプレイに比べて高速応答及び広視野角化が可能な自己発光型のディスプレイとしてエレクトロルミネセンス（ＥＬ：electroluminescence）表示装置の開発が盛んに行われている。有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示パネルと有機ＥＬ表示パネルを駆動する駆動回路とから構成される。
【０００３】
有機ＥＬ表示パネルは、ガラス等の支持基板上に、表示画素をマトリクス状に配置して構成される表示部を有するアレイ基板と、アレイ基板と対向して配置される封止基板とを備えている。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子に使用する有機材料によって、低分子系と高分子系とに分類される。低分子系の有機ＥＬ表示装置では、主として真空蒸着法で有機材料を成膜するのに対し、高分子系の有機ＥＬ表示装置では、スピンコーティング法等の湿式成膜法で有機ＥＬ素子を形成することが出来るため、有機ＥＬ素子の成膜が簡便である。
【０００５】
従来、高分子系の有機ＥＬ表示装置では、有機材料として、例えば高分子材料には高沸点溶剤と高分子材料との化合物を採用し、この化合物を塗布した後に焼成することにより有機ＥＬ発光素子を形成していた。（特許文献１参照）
【特許文献１】特開２００２−２０２７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
低分子系の有機ＥＬ表示製造装置は、真空蒸着装置による成膜方法で作成されており、大型の基板を用いて有機ＥＬ表示装置を製造する場合には、大型の真空装置が必要であり工程が煩雑になる場合があった。
【０００７】
本発明は上記問題点に鑑みて成されたものであって、簡便な方法で製造可能である有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１態様による有機ＥＬ表示装置は、基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された複数の表示画素とを有する有機ＥＬ表示装置であって、前記複数の表示画素のそれぞれは、第１電極と、前記第１電極と対向するように配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に配置され前記第１電極と前記第２電極とに印加される信号に応じて発光する疑個体層と、を有し、前記疑固体層は、有機化学ゲル状物質、有機物理ゲル状物質、有機トポロジカルゲル、有機／無機ハイブリット型ゲル状物質のいずれかからなる有機ＥＬ表示装置。
【０００９】
本発明の第２態様による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に第１電極を形成する工程と、前記第１電極の上層に疑固体層を形成する工程と、前記疑固体層の上層に第２電極を形成する工程と、を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、前記疑固体層を形成する工程は、有機化学ゲル状物質、有機物理ゲル状物質、有機トポロジカルゲル、有機/無機ハイブリット型ゲル状物質のいずれかとなる溶液からなる液体層を形成する工程と、前記液体層を固化させる工程と、を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、簡便な方法で製造可能である有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について、図面を参照して説明する。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、図１に示すように、アレイ基板１００と、アレイ基板１００上に配置されたカバーガラス２００とを有している。
【００１２】
アレイ基板１００は、支持基板としてガラス等の絶縁性基板ＧＬ１（図２に示す）を有している。支持基板上には、マトリクス状に配置された複数の表示画素ＰＸを有している。これら複数の表示画素ＰＸは、表示部ＤＹＰを構成している。アレイ基板１００とカバーガラス２００とは、表示部ＤＹＰの周囲を囲むように配置されたシール材４００によって一体となっている。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、シール材４００は例えば紫外線硬化樹脂によって形成された樹脂シールである。
【００１３】
複数の表示画素ＰＸは、複数種類の色画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。表示部ＤＹＰには、表示画素ＰＸの配列する行に沿って配置された走査線Ｙ（Ｙ１、Ｙ２、・・・）と、表示画素ＰＸの配列する列に沿って配置された信号線Ｘ（Ｘ１、Ｘ２、・・・）とが配置されている。
【００１４】
表示部ＤＹＰの周囲を囲む外周部１０４には、外部駆動回路からの信号に基づいて各表示画素を駆動する走査線駆動回路１０７、および信号線駆動回路１０８を有している。走査線駆動回路１０７は、走査線Ｙに接続し、表示画素ＰＸを行毎に順次駆動する。信号線駆動回路１０８は、走査線Ｙによって駆動された表示画素ＰＸに画像信号を送信する。
【００１５】
さらに、表示部ＤＹＰには、走査線Ｙと略平行に延びる電源ラインＰが配置されている。表示画素ＰＸは、走査線Ｙにそのゲート電極において接続された第1スイッチ１０と、ゲート電極が第1スイッチ１０のドレイン電極に接続されている第２スイッチ２０と、を有している。
【００１６】
第２スイッチ２０のソース電極は、電源ラインＰに接続され、第２スイッチ２０のドレイン電極は、発光素子４０に接続されている。第２スイッチ２０のゲート電極およびソース電極間はキャパシタ３０によって結合されている。
【００１７】
発光素子４０は、自発光素子である有機ＥＬ素子４０（４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ）によって構成されている。すなわち、赤色画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００１８】
図２に示すように、有機ＥＬ素子４０は、絶縁性基板ＧＬ１上に配置された第１電極Ｅ１（陽極）と、第１電極Ｅ１と対向するように配置された第２電極Ｅ２（陰極）と、第１電極Ｅ１と第２電極Ｅ２との間に配置された疑固体層ＢＬと、疑固体層ＢＬと第２電極Ｅ２との間に配置された電子注入層Ｌ１を有している。また、第１電極Ｅ１と疑固体層ＢＬとの間には厚さ１０ｎｍのアモルファスカーボンの層が配置されている。
【００１９】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、第１電極Ｅ１は、厚さが約１００ｎｍのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の層である。第２電極Ｅ２は、その厚さが約１００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）層である。電子注入層Ｌ１は、厚さが１ｎｍのＬｉＦ層である。
【００２０】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、疑固体層ＢＬは、有機化学ゲル状物質、有機物理ゲル状物質、有機トポロジカルゲル、有機／無機ハイブリット型ゲル状物質のいずれかである。
【００２１】
具体的には、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の疑固体層ＢＬは有機／無機ハイブリッド型ゲル状物質であって、有機ポリマーである透明ポリイミド樹脂に、シリカゲル、および有機電界発光機能分子を分散させた疑固体層である。
【００２２】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、透明ポリイミド樹脂にシリカゲルを約１０％分散させている。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、有機電界発光機能分子として、例えばアルミキノリノール錯体を採用している。
【００２３】
以下に上記のＥＬ表示装置の製造方法について説明する。最初に、アレイ基板１００を製造する。すなわち、有機ポリマーである透明ポリイミド樹脂前駆体溶液中にシリカゲルを１０％分散し、その溶液中に有機電界発光機能分子を分散させて、疑固体層ＢＬとなる溶液を形成した。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、有機電界発光機能分子として、例えばアルミキノリノール錯体を採用している。
【００２４】
次に、絶縁性基板ＧＬ１上に、スパッタリング法にて、第１電極Ｅ１として透明電極を、例えば、透明な陽極電極材料であるＩＴＯ等で形成した後、アモルファスカーボン１０ｎｍを順次積層した。さらに、必要に応じて発光部以外において短絡するのを防止するために絶縁性材料でリブ層（図示せず）を形成した。
【００２５】
次に、リブ層間において、第１電極Ｅ１の上層に疑固体層ＢＬを形成する。すなわち、先に作成した溶液をリブ層等が形成された基板上に塗布して液体層を形成し、その後、焼成により透明ポリイミド前駆体をイミド化させて疑固体層ＢＬを形成した。
【００２６】
その後、真空上蒸着法にて電子注入層となるＬｉＦ１ｎｍと、第２電極Ｅ２となるアルミニウム１００ｎｍとを連続的に積層し、有機ＥＬ素子４０を形成した。
【００２７】
上記の工程において、必要に応じて、複数の導電層を成膜およびパターンニングし、表示画素ＰＸの第１および第２スイッチ１０、２０、外周部１０４に配置された走査線駆動回路１０７、および信号線駆動回路１０８等を形成してアレイ基板を形成する。次に、図１に示すように、アレイ基板１００と対向するように、カバーガラス２００をシール４００によって固定して有機ＥＬ表示装置を形成した。
【００２８】
上記のように形成した有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖで駆動して輝度を測定した結果を図３に示す。図３に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、７２０ｃｄ／ｍ２で発光し、実用するために十分な発光輝度が得られた。
【００２９】
上記のように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、疑固体層を形成する際に有機ポリマーにシリカゲルおよび有機電界発光機能分子を分散させた溶液を塗布することによって液体層を形成し、この液体層を焼成することによって疑固体層ＢＬを形成するため、疑固体層ＢＬを形成するために真空蒸着を行うための大掛かりな設備を必要しない。したがって、上記のように有機ＥＬ表示装置を形成することによって、製造工程が煩雑になることを防止し、簡便な方法で製造可能である有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。
【００３０】
また、上記のように疑固体層ＢＬを設けることによって、疑固体層ＢＬ上に真空蒸着法によって電子注入層を形成する際に、疑固体層ＢＬが応力によって破壊されることを防止することができ、有機電界発光機能分子を含む疑個体層が破壊されず良好な表示品位の有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【００３１】
次に、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について以下に説明する。なお、以下の説明において、上記の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００３２】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ発光素子４０の疑固体層ＢＬの構成が上記の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置と異なっている。すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、疑固体層ＢＬは、シングルナノシリカ粒子を含んだプロパノール溶液に、有機電界発光機能分子を分散させた溶液を濃縮により固化した有機/無機ハイブリット型からなる疑固体層である。
【００３３】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、最初に、１％のシングルナノシリカ粒子を含んだプロパノール溶液に有機電界発光機能分子を分散させ、疑固体層ＢＬとなる溶液を形成する。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、有機電界発光機能分子として、例えばアルミキノリノール錯体を採用している。
【００３４】
次に、絶縁性基板ＧＬ１上にスパッタリング法にて、第１電極Ｅ１となるＩＴＯを１００ｎｍ、アモルファスカーボンを１０ｎｍ、順次積層する。さらに、必要に応じて発光部以外において短絡するのを防止するために絶縁性材料でリブ層（図示せず）を形成した。
【００３５】
次に、リブ層間において、第１電極Ｅ１の上層に疑固体層ＢＬを形成する。すなわち、先に作成した溶液をリブ層等が形成された基板上に塗布して液体層を形成し、その後、塗布された液体層の溶剤を濃縮して固化させて疑固体層ＢＬを形成した。
【００３６】
その後、真空上蒸着法にて電子注入層となるＬｉＦ１ｎｍと、第２電極Ｅ２となるアルミニウム１００ｎｍとを連続的に積層し、有機ＥＬ素子４０を形成した。
【００３７】
上記の工程において、必要に応じて、複数の導電層を成膜およびパターンニングし、表示画素ＰＸの第１および第２スイッチ１０、２０、外周部１０４に配置された走査線駆動回路１０７、および信号線駆動回路１０８等を形成してアレイ基板を形成する。次に、図１に示すように、アレイ基板１００と対向するように、カバーガラス２００をシール４００によって固定して有機ＥＬ表示装置を形成した。
【００３８】
上記のように形成した有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖで駆動して輝度を測定した結果を図３に示す。図３に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、５６０ｃｄ／ｍ２で発光し、実用するために十分な発光輝度が得られた。
【００３９】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、上述の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様に、疑固体層ＢＬを形成するために真空蒸着を行うための大掛かりな設備を必要しない。したがって、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、上述の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様の効果が得られる。
【００４０】
次に、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について以下に説明する。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、疑固体層ＢＬの構成が上記の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置と異なっている。
【００４１】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ発光素子４０の疑固体層ＢＬは、有機／無機ハイブリッド型ゲル状物質であって、付加型シリコーンゲルの主剤中に有機電界発光機能分子を分散させ、さらに付加硬化剤を混ぜ合わせた溶液を固化させた疑固体層である。
【００４２】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、最初に、有機／無機ハイブリッド型ゲルポリマーを形成する付加型シリコーンゲルの主剤中に有機電界発光機能分子を分散させ、さらにその後付加硬化剤を混ぜ合わせて、疑固体層ＢＬのとなる溶液を形成する。
【００４３】
次に、絶縁性基板ＧＬ１上にスパッタリング法にて、第１電極Ｅ１となるＩＴＯを１００ｎｍ、アモルファスカーボンを１０ｎｍ、順次積層する。さらに、必要に応じて発光部以外において短絡するのを防止するために絶縁性材料でリブ層（図示せず）を形成した。
【００４４】
次に、リブ層間において、第１電極Ｅ１の上層に疑固体層ＢＬを形成する。すなわち、先に作成した溶液をリブ層等が形成された基板上に塗布して液体層を形成し、その後、塗布された液体層の溶剤を焼成してシリコーンゲル付加反応を完結させ、疑固体層ＢＬを形成した。
【００４５】
その後、真空上蒸着法にて電子注入層となるＬｉＦ１ｎｍと、第２電極Ｅ２となるアルミニウム１００ｎｍとを連続的に積層し、有機ＥＬ素子４０を形成した。
【００４６】
上記の工程において、必要に応じて、複数の導電層を成膜およびパターンニングし、表示画素ＰＸの第１および第２スイッチ１０、２０、外周部１０４に配置された走査線駆動回路１０７、および信号線駆動回路１０８等を形成してアレイ基板を形成する。次に、図１に示すように、アレイ基板１００と対向するように、カバーガラス２００をシール４００によって固定して有機ＥＬ表示装置を形成した。
【００４７】
上記のように形成した有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖで駆動して輝度を測定した結果を図３に示す。図３に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、４９０ｃｄ／ｍ２で発光し、実用するために十分な発光輝度が得られた。
【００４８】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、上述の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様に、疑固体層ＢＬを形成するために真空蒸着を行うための大掛かりな設備を必要しない。したがって、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、上述の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様の効果が得られる。
【００４９】
次に、本発明の第４実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について以下に説明する。本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置では、疑固体層の構成が上記の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置と異なっている。
【００５０】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ発光素子４０の疑固体層ＢＬは、有機／無機ハイブリッド型ゲル状物質であって、感光性を付与した付加型シリコーンゲルの主剤中に有機電界発光機能分子を分散させ、さらに付加硬化剤を混ぜ合わせた溶液を固化させた疑固体層である。
【００５１】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、最初に、有機／無機ハイブリッド型ゲルポリマーを形成する感光性の付加型シリコーンゲルの主剤中に有機電界発光機能分子を分散させ、さらにその後付加硬化剤を混ぜ合わせて溶液を形成する。
【００５２】
次に、絶縁性基板ＧＬ１上にスパッタリング法にて、第１電極Ｅ１となるＩＴＯを１００ｎｍ、アモルファスカーボンを１０ｎｍ、順次積層する。さらに、必要に応じて発光部以外において短絡するのを防止するために絶縁性材料でリブ層（図示せず）を形成した。
【００５３】
次に、リブ層間において、第１電極Ｅ１の上層に疑固体層ＢＬを形成する。すなわち、先に作成した溶液をリブ層等が形成された基板上に塗布して液体層を形成し、その後、塗布された液体層の溶剤を所定のマスクを用いて露光することによってシリコーンゲル付加反応を完結させ、所定の形状にパターンニングされた疑固体層ＢＬを形成した。
【００５４】
その後、真空上蒸着法にて電子注入層となるＬｉＦ１ｎｍと、第２電極Ｅ２となるアルミニウム１００ｎｍとを連続的に積層し、有機ＥＬ素子４０を形成した。
【００５５】
上記の工程において、必要に応じて、複数の導電層を成膜およびパターンニングし、表示画素ＰＸの第１および第２スイッチ１０、２０、外周部１０４に配置された走査線駆動回路１０７、および信号線駆動回路１０８等を形成してアレイ基板を形成する。次に、図１に示すように、アレイ基板１００と対向するように、カバーガラス２００をシール４００によって固定して有機ＥＬ表示装置を形成した。
【００５６】
上記のように形成した有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖで駆動して輝度を測定した結果を図３に示す。図３に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、６２５ｃｄ／ｍ２で発光し、実用するために十分な発光輝度が得られた。
【００５７】
すなわち、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、上述の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様に、疑固体層ＢＬを形成するために真空蒸着を行うための大掛かりな設備を必要しない。したがって、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、上述の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様の効果が得られる。
【００５８】
次に本発明の比較例に係る有機ＥＬ表示装置について以下に説明する。本比較例に係る有機ＥＬ表示装置は、有機材料として低分子系材料を採用している。絶縁性基板ＧＬ１上にスパッタリング法にて、第１電極Ｅ１となるＩＴＯを１００ｎｍ、アモルファスカーボン１０ｎｍを順次積層する。さらに、必要に応じて発光部以外において短絡するのを防止するために絶縁性材料でリブ層（図示せず）を形成した。
【００５９】
次に、リブ層間において、第１電極Ｅ１の上層に真空蒸着法にてホール輸送層として例えばα―ＮＰＤを１００ｎｍを積層し、その上に、発光層として例えばクマリンを１０％ドープしたアルミキノリノール錯体を５０ｎｍ、さらにその上へ電子輸送層として例えばアルミキノリノール錯体を２０ｎｍ、電子注入層として例えばＬｉＦを１ｎｍ、陰極として例えばアルミニウムを５０ｎｍ、連続的に積層した。
【００６０】
上記の工程において、必要に応じて、複数の導電層を成膜およびパターンニングし、表示画素ＰＸの第１および第２スイッチ１０、２０、外周部１０４に配置された走査線駆動回路１０７、および信号線駆動回路１０８等を形成してアレイ基板を形成する。次に、図１に示すように、アレイ基板１００と対向するように、カバーガラス２００をシール４００によって固定して有機ＥＬ表示装置を形成した。
【００６１】
上記のように形成した有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖで駆動をしたところ、発光輝度は１０５０ｃｄ／ｍ２であった。
【００６２】
すなわち、第１乃至第４実施形態に係る有機ＥＬ表示装置によれば、上記の比較例にかかる有機ＥＬ表示装置のように、真空蒸着法によって疑固体層ＢＬを形成することがないため、疑固体層ＢＬを形成する際に真空蒸着を行うための大掛かりな設備を必要しない。また、図３に示すように、第１乃至第４実施形態に係る有機ＥＬ表示装置によれば十分な発光輝度の有機ＥＬ表示装置を得ることができる。
【００６３】
したがって、上記のように有機ＥＬ表示装置を形成することによって、製造工程が煩雑になることを防止し、簡便な方法で製造可能である有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。
【００６４】
また、上記のように疑固体層ＢＬを疑固体層とすることによって、疑固体層ＢＬ上に真空蒸着法によって電子注入層を形成する際に、疑固体層ＢＬが応力によって破壊されることを防止することができ、良好な表示品位の有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【００６５】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。例えば、上記の第１乃至第４実施形態で記載した疑固体層ＢＬ以外の材料を用いても良い。上述したもの以外であっても、有機化学ゲル状物質としてポリ（Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、ポリアクリルアミド、テトラメトキシシラン、ポリ（スチリル・ジビニルベンゼン）共重合体、有機物理ゲル状物質としてポリビニルアルコール/コンゴーレッド錯体、ゼラチン、カラギーナン、ブロック共重合体＋ゲル化剤（アミノ三誘導体ゲル化剤）、有機トポロジカルゲルとして高分子ポリエチレングリコールに、直径約1nmの環状分子シクロデキストリンを混入したようなポリロタキサン化合物、有機／無機ハイブリット型ゲル状物質としてポリ（Ｎ−イソプロピルアクリルアミド）に無機微粒子（シリカ、チタニア、ジルコニア、マグネタイト）を加えたものを用いて疑固体層ＢＬを形成することができる。
【００６６】
また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の一構成例を概略的に示す図。
【図２】図１に示す有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ発光素子の一構成例を説明するための図。
【図３】本発明の第１実施形態乃至第４実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について、駆動電圧１０Ｖで駆動した際の輝度の測定結果の一例を示す図。
【符号の説明】
【００６８】
Ｅ１…第１電極、Ｅ２…第２電極、ＢＬ…疑固体層、ＧＬ１…絶縁性基板
【図１】
2009123830.tif 000003
【図２】
2009123830.tif 000004
【図３】
2009123830.tif 000005