(57)【要約】【課題】カラーフィルタ層を形成する際の有機溶媒による位相差層の品質低下と、位相差層に含まれる水分や有機溶媒によるカラーフィルタ層の品質低下と、を防止し、優れた表示特性を有する液晶装置を提供すること。【解決手段】液晶装置１００は、第１の基板１１と、第２の基板３１と、第１の基板１１と第２の基板３１との間に位置する液晶層４０と、第１の基板１１の液晶層４０側の面上の少なくとも一部に形成された位相差層２０と、少なくとも位相差層２０を覆う透明な無機材料からなる保護層１４と、保護層１４上に形成されたカラーフィルタ層１６と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図２
2009058714.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置する液晶層と、
前記第１の基板の前記液晶層側の面上の少なくとも一部に形成された第１の位相差層と、
少なくとも前記第１の位相差層を覆う透明な無機材料からなる第１の保護層と、
前記第１の保護層上に形成されたカラーフィルタ層と、
を備えたことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置であって、
複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれに設けられた反射表示領域と透過表示領域と、
前記第１の位相差層と同一の層に形成された第１の透明層と、をさらに備え、
前記第１の位相差層は、少なくとも前記反射表示領域に配置され、
前記第１の透明層は、前記透過表示領域と、前記複数の画素間のうち少なくとも前記透過表示領域同士が隣り合う領域と、に配置され、
前記第１の保護層は、前記第１の位相差層および前記第１の透明層を覆うように配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶装置であって、
前記第１の透明層は、前記透過表示領域と前記複数の画素間の領域とに亘って配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の液晶装置であって、
前記第１の透明層は、透明な樹脂で形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項２または３に記載の液晶装置であって、
前記第１の透明層は、前記第１の位相差層の材料が光学的に等方化された状態で硬化されて形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
請求項２から５のいずれか１項に記載の液晶装置であって、
前記第２の基板の前記液晶層側の面上に形成された第２の位相差層と、
前記第２の位相差層と同一の層に形成された第２の透明層と、
前記第２の位相差層と前記第２の透明層とを覆う透明な無機材料からなる第２の保護層と、
前記第２の保護層上に形成された回路素子層と、をさらに備え、
前記第２の位相差層は、少なくとも前記反射表示領域に配置され、
前記第２の透明層は、前記透過表示領域と、前記複数の画素間のうち少なくとも前記透過表示領域同士が隣り合う領域と、に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置する液晶層と、を備えた液晶装置の製造方法であって、
前記第１の基板の前記液晶層側の面上の少なくとも一部に第１の位相差層を形成する工程（Ａ）と、
少なくとも前記第１の位相差層を覆うように透明な無機材料からなる第１の保護層を形成する工程（Ｂ）と、
前記第１の保護層上にカラーフィルタ層を形成する工程と、を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記液晶装置は、複数の画素と、前記複数の画素のそれぞれに設けられた反射表示領域と透過表示領域と、をさらに備え、
前記工程（Ａ）では、前記第１の基板の前記液晶層側の面上の所定の領域に第１の透明層を配置して、前記第１の位相差層とで同一の層を構成し、
前記工程（Ｂ）では、前記第１の位相差層と前記第１の透明層とを覆うように前記第１の保護層を形成し、
前記所定の領域は、前記透過表示領域と、前記複数の画素間のうち少なくとも前記透過表示領域同士が隣り合う領域と、を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記所定の領域は、前記透過表示領域と前記複数の画素間の領域とを含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記工程（Ａ）は、
前記第１の基板の面上に、前記第１の位相差層の材料を配置する工程と、
前記所定の領域以外の前記第１の位相差層の材料を配向させた状態で硬化させる工程と、
前記所定の領域の前記第１の位相差層の材料を除去する工程と、
前記所定の領域に、透明な樹脂を配置する工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項８または９に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記工程（Ａ）は、
前記第１の基板の面上に、前記第１の位相差層の材料を配置する工程と、
前記所定の領域以外の前記第１の位相差層の材料を配向させた状態で硬化させる工程と、
前記所定の領域の前記第１の位相差層の材料を光学的に等方化した状態で硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項８または９に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記工程（Ａ）は、
前記第１の基板の面上の前記所定の領域に、透明な樹脂を配置する工程と、
前記第１の基板の面上の前記所定の領域以外に、前記第１の位相差層の材料を配置する工程と、
前記第１の位相差層の材料を配向させた状態で硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項８から１２のいずれか１項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第２の基板の前記液晶層側の面上の、前記所定の領域に第２の透明層を形成し、前記第２の透明層と同一の層の前記所定の領域以外に第２の位相差層を形成する工程と、
前記第２の位相差層と前記第２の透明層とを覆うように透明な無機材料からなる第２の保護層を形成する工程と、
前記第２の保護層上に回路素子層を形成する工程と、
をさらに含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１から６のいずれか１項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置およびその製造方法、ならびに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一つの画素領域内に透過表示部と反射表示部とを有する半透過反射型液晶装置において、位相差層を液晶セル内の反射表示領域に選択的に配置する構成が提案されている。このような構成によれば、位相差層を液晶セル外の両側かつ全面に配置する構成に比べ、透過表示領域の表示品位を低下させることがなく、液晶装置全体を薄くすることができる。
【０００３】
上述のような位相差層は、一般的に高分子液晶が硬化されて構成されるが、位相差層中に吸湿された水分や位相差層中に残留した重合開始剤等を含む有機溶媒が、時間経過とともに液晶層側に供給されて、液晶層の電圧保持特性の劣化を招くという課題があった。これに対して、位相差層の液晶層側を保護膜で覆う構成が提案されている（例えば特許文献１）。このような構成によれば、位相差層から水分や有機溶媒が液晶層側に供給されるのを保護膜により防止することができる。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１５１３１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、高分子液晶を用いた位相差層がカラーフィルタ層上に配置される構成では、カラーフィルタ層の表面が平坦でないために位相差層の層厚にばらつきが生じ、位相差層の光学補償特性が低下することがある。また、カラーフィルタ層上に位相差層を形成する工程において、高分子液晶を配向する配向膜の焼成を行う際や高分子液晶を液晶相化する際に加わる熱でカラーフィルタ層が劣化したり、位相差層の材料に含まれる有機溶媒や位相差層の現像に用いる有機溶媒によりカラーフィルタ層の一部が溶解したりする場合があり、このような場合カラーフィルタ層の品質が低下するという課題があった。
【０００６】
一方、位相差層上にカラーフィルタ層を配置する構成では、カラーフィルタ層を形成する際の有機溶媒により、位相差層の一部が溶解することがある。位相差層とカラーフィルタ層との間に保護膜があったとしても、保護膜が有機材料からなる場合、有機溶媒により保護層の一部が溶解して位相差層の一部が溶解することがある。このような場合、位相差層の光学補償特性が低下するという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］本適用例に係る液晶装置は、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置する液晶層と、前記第１の基板の前記液晶層側の面上の少なくとも一部に形成された第１の位相差層と、少なくとも前記第１の位相差層を覆う透明な無機材料からなる第１の保護層と、前記第１の保護層上に形成されたカラーフィルタ層と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、第１の位相差層は第１の基板の面上に配置されているので、第１の位相差層が形成される面はほぼ平坦である。このため、第１の位相差層の層厚をより均一にできるので、優れた光学補償特性を有する第１の位相差層を形成できる。また、第１の位相差層は無機材料からなる第１の保護層で覆われているので、液晶装置の製造工程において、第１の位相差層上にカラーフィルタ層を形成する際に有機溶媒を用いても、有機溶媒は第１の保護層に遮られ第１の位相差層に供給されない。このため、有機溶媒で第１の位相差層の一部が溶解することによる光学補償特性の低下を防止できる。
【００１０】
一方、第１の位相差層が無機材料からなる第１の保護層で覆われていることにより、第１の位相差層中に吸湿された水分や第１の位相差層中に残留した有機溶媒は第１の保護層に遮られ、液晶層側に供給されない。このため、第１の位相差層中の水分や有機溶媒によるカラーフィルタ層や液晶層の特性劣化を防止できる。
【００１１】
さらに、カラーフィルタ層は第１の位相差層より後に形成されるので、第１の位相差層の材料である光硬化性材料または熱硬化性材料を配向させた状態で硬化させる際に加えられる熱がカラーフィルタ層に加えられることはない。このため、液晶装置の製造工程において、カラーフィルタ層の品質を低下させる熱の影響を受ける機会を少なくすることができる。これらにより、優れた光学補償特性を有する第１の位相差層と、優れた品質を有するカラーフィルタ層と、を備えた液晶装置を提供できる。
【００１２】
［適用例２］上記適用例に係る液晶装置であって、複数の画素と、前記複数の画素のそれぞれに設けられた反射表示領域と透過表示領域と、前記第１の位相差層と同一の層に形成された第１の透明層と、をさらに備え、前記第１の位相差層は、少なくとも前記反射表示領域に配置され、前記第１の透明層は、前記透過表示領域と、前記複数の画素間のうち少なくとも前記透過表示領域同士が隣り合う領域と、に配置され、前記第１の保護層は、前記第１の位相差層および前記第１の透明層を覆うように配置されていてもよい。
【００１３】
この構成によれば、複数の画素のそれぞれにおいて、透過表示領域に第１の透明層が配置され、反射表示領域には優れた光学補償特性を有する第１の位相差層が配置される。これにより、薄型で優れた表示品質を有する半透過反射型の液晶装置を提供できる。
【００１４】
［適用例３］上記適用例に係る液晶装置であって、前記第１の透明層は、前記透過表示領域と前記複数の画素間の領域とに亘って配置されていてもよい。
【００１５】
この構成によれば、第１の透明層が反射表示領域以外に配置されるので、第１の位相差層を実質的に反射表示に寄与する領域のみに配置できる。
【００１６】
［適用例４］上記適用例に係る液晶装置であって、前記第１の透明層は、透明な樹脂で形成されていてもよい。
【００１７】
この構成によれば、透明な樹脂を配置することにより、第１の透明層を形成できる。
【００１８】
［適用例５］上記適用例に係る液晶装置であって、前記第１の透明層は、前記第１の位相差層の材料が光学的に等方化された状態で硬化されて形成されていてもよい。
【００１９】
この構成によれば、第１の透明層は第１の位相差層の材料が光学的に等方化された状態で硬化されて形成されているので、第１の透明層が配置される領域の第１の位相差層の材料を除去する工程を不要にできる。
【００２０】
［適用例６］上記適用例に係る液晶装置であって、前記第２の基板の前記液晶層側の面上に形成された第２の位相差層と、前記第２の位相差層と同一の層に形成された第２の透明層と、前記第２の位相差層と前記第２の透明層とを覆う透明な無機材料からなる第２の保護層と、前記第２の保護層上に形成された回路素子層と、をさらに備え、前記第２の位相差層は、少なくとも前記反射表示領域に配置され、前記第２の透明層は、前記透過表示領域と、前記複数の画素間のうち少なくとも前記透過表示領域同士が隣り合う領域と、に配置されていてもよい。
【００２１】
この構成によれば、第２の位相差層は第２の基板の面上に配置されているので、第２の位相差層が形成される面はほぼ平坦である。このため、第２の位相差層の層厚をより均一にできるので、優れた光学補償特性を有する第２の位相差層を形成できる。また、第２の位相差層は無機材料からなる第２の保護層で覆われているので、液晶装置の製造工程において、第２の位相差層上に回路素子層を形成する際に有機溶媒を用いても、有機溶媒は第２の保護層に遮られ第２の位相差層に供給されない。このため、有機溶媒で第２の位相差層の一部が溶解することによる光学補償特性の低下を防止できる。
【００２２】
一方、第２の位相差層が無機材料からなる第２の保護層で覆われていることにより、第２の位相差層中に吸湿された水分や第２の位相差層中に残留した有機溶媒は第２の保護層に遮られ、液晶層側に供給されない。このため、第２の位相差層中の水分や有機溶媒による回路素子層や液晶層の特性劣化を防止できる。
【００２３】
［適用例７］本適用例に係る液晶装置の製造方法は、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置する液晶層と、を備えた液晶装置の製造方法であって、前記第１の基板の前記液晶層側の面上の少なくとも一部に第１の位相差層を形成する工程（Ａ）と、少なくとも前記第１の位相差層を覆うように透明な無機材料からなる第１の保護層を形成する工程（Ｂ）と、前記第１の保護層上にカラーフィルタ層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、第１の位相差層を第１の基板の面上に配置するので、第１の位相差層を形成する面はほぼ平坦である。このため、第１の位相差層の層厚をより均一にできるので、優れた光学補償特性を有する第１の位相差層を形成できる。また、第１の位相差層を無機材料からなる第１の保護層で覆うので、カラーフィルタ層を形成する工程において有機溶媒を用いても、有機溶媒は第１の保護層に遮られ第１の位相差層に供給されない。このため、有機溶媒で第１の位相差層の一部が溶解することによる光学補償特性の低下を防止できる。
【００２５】
一方、第１の位相差層を無機材料からなる第１の保護層で覆うことにより、第１の位相差層中に吸湿された水分や第１の位相差層中に残留した有機溶媒は第１の保護層に遮られ、液晶層側に供給されない。このため、第１の位相差層中の水分や有機溶媒によるカラーフィルタ層や液晶層の品質低下を防止できる。
【００２６】
さらに、カラーフィルタ層を第１の位相差層より後に形成するので、第１の位相差層の材料である光硬化性材料または熱硬化性材料を配向させた状態で硬化させる際に加えられる熱がカラーフィルタ層に加えられることはない。このため、液晶装置の製造工程において、カラーフィルタ層の品質を低下させる熱の影響を受ける機会を少なくすることができる。これらにより、優れた光学補償特性を有する第１の位相差層と、優れた品質を有するカラーフィルタ層と、を備えた液晶装置を提供できる。
【００２７】
［適用例８］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記液晶装置は、複数の画素と、前記複数の画素のそれぞれに設けられた反射表示領域と透過表示領域と、をさらに備え、前記工程（Ａ）では、前記第１の基板の前記液晶層側の面上の所定の領域に第１の透明層を配置して、前記第１の位相差層とで同一の層を構成し、前記工程（Ｂ）では、前記第１の位相差層と前記第１の透明層とを覆うように前記第１の保護層を形成し、前記所定の領域は、前記透過表示領域と、前記複数の画素間のうち少なくとも前記透過表示領域同士が隣り合う領域と、を含んでいてもよい。
【００２８】
この構成によれば、複数の画素のそれぞれにおいて、透過表示領域に第１の透明層を配置し、反射表示領域に優れた光学補償特性を有する第１の位相差層を配置するので、薄型で優れた表示品質を有する半透過反射型の液晶装置を提供できる。
【００２９】
［適用例９］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記所定の領域は、前記透過表示領域と前記複数の画素間の領域とを含んでいてもよい。
【００３０】
この構成によれば、第１の透明層が反射表示領域以外に配置されるので、第１の位相差層を実質的に反射表示に寄与する領域のみに配置できる。
【００３１】
［適用例１０］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記工程（Ａ）は、前記第１の基板の面上に、前記第１の位相差層の材料を配置する工程と、前記所定の領域以外の前記第１の位相差層の材料を配向させた状態で硬化させる工程と、前記所定の領域の前記第１の位相差層の材料を除去する工程と、前記所定の領域に、透明な樹脂を配置する工程と、を含んでいてもよい。
【００３２】
この構成によれば、透明な樹脂を配置することにより、第１の透明層を形成できる。
【００３３】
［適用例１１］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記工程（Ａ）は、前記第１の基板の面上に、前記第１の位相差層の材料を配置する工程と、前記所定の領域以外の前記第１の位相差層の材料を配向させた状態で硬化させる工程と、前記所定の領域の前記第１の位相差層の材料を光学的に等方化した状態で硬化させる工程と、を含んでいてもよい。
【００３４】
この構成によれば、第１の透明層を、第１の位相差層の材料を光学的に等方化した状態で硬化させて形成するので、第１の透明層が配置される領域の第１の位相差層の材料を除去する工程を不要にできる。
【００３５】
［適用例１２］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記工程（Ａ）は、前記第１の基板の面上の前記所定の領域に、透明な樹脂を配置する工程と、前記第１の基板の面上の前記所定の領域以外に、前記第１の位相差層の材料を配置する工程と、前記第１の位相差層の材料を配向させた状態で硬化させる工程と、を含んでいてもよい。
【００３６】
この構成によれば、第１の透明層を形成した後に第１の位相差層の材料を配置するので、第１の位相差層の材料を第１の位相差層を形成する領域に選択的に配置できる。
【００３７】
［適用例１３］上記適用例に係る液晶装置の製造方法であって、前記第２の基板の前記液晶層側の面上の、前記所定の領域に第２の透明層を形成し、前記第２の透明層と同一の層の前記所定の領域以外に第２の位相差層を形成する工程と、前記第２の位相差層と前記第２の透明層とを覆うように透明な無機材料からなる第２の保護層を形成する工程と、前記第２の保護層上に回路素子層を形成する工程と、をさらに含んでいてもよい。
【００３８】
この構成によれば、第２の位相差層を第２の基板の面上に配置するので、第２の位相差層を形成する面はほぼ平坦である。このため、第２の位相差層の層厚をより均一にできるので、優れた光学補償特性を有する第２の位相差層を形成できる。また、第２の位相差層を無機材料からなる第２の保護層で覆うので、回路素子層を形成する工程において有機溶媒を用いても、有機溶媒は第２の保護層に遮られ第２の位相差層に供給されない。このため、有機溶媒で第２の位相差層の一部が溶解することによる光学補償特性の低下を防止できる。
【００３９】
一方、第２の位相差層を無機材料からなる第２の保護層で覆うことにより、第２の位相差層中に吸湿された水分や第２の位相差層中に残留した有機溶媒は第２の保護層に遮られ、液晶層側に供給されない。このため、第２の位相差層中の水分や有機溶媒による回路素子層や液晶層の特性劣化を防止できる。
【００４０】
［適用例１４］本適用例に係る電子機器は、上記記載の液晶装置を備えたことを特徴とする。
【００４１】
この構成によれば、薄型で優れた表示品質を有する電子機器を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下に、本実施形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率は適宜異ならせてある。また、参照する各図面において、素子、配線、接続部等を省略してある。
【００４３】
（第１の実施形態）
＜液晶装置＞
まず、第１の実施形態に係る液晶装置の構成について図を参照して説明する。図１は、第１の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図である。図２は、第１の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図１のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。本実施形態に係る液晶装置１００は、ＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式の半透過反射型の液晶装置である。
【００４４】
図１に示すように、液晶装置１００の表示領域には、赤、緑、青の表示に寄与する画素４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂ（以下では、対応する色について区別しない場合には単に画素４２とも呼ぶ）が複数配置されている。画素４２は、液晶装置１００の表示の最小単位であり、隣り合う画素４２同士の間に間隔が空くように、Ｘ軸およびＹ軸に沿ってマトリクス状に配置されている。隣り合う画素４２同士の間には、図示しないが、遮光層（ブラックマスク）が配置されている。遮光層は、画素４２同士の間から漏れる光を遮って表示のコントラストを向上させる役割を果たす。なお、Ｘ軸は画素４２の行方向を示し、Ｙ軸は画素４２の列方向を示している。
【００４５】
それぞれの画素４２は、反射表示に寄与する反射表示領域Ｒと、透過表示に寄与する透過表示領域Ｔと、を有している。Ｘ軸に沿った方向には反射表示領域Ｒ同士または透過表示領域Ｔ同士が対向するように配列され、Ｙ軸に沿った方向には反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとが互いに対向するように配列されている。画素４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂから画素群４４が構成されている。液晶装置１００では、画素群４４において画素４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂのそれぞれの表示の輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。
【００４６】
図２に示すように、液晶装置１００は、素子基板３０と、対向基板１０と、液晶層４０と、を備えている。対向基板１０は第１の基板１１を基体として構成されており、素子基板３０は第２の基板３１を基体として構成されている。液晶層４０は、対向基板１０と素子基板３０との間に位置している。
【００４７】
対向基板１０は、液晶装置１００の観察側に位置している。対向基板１０は、第１の基板１１と、配向膜１２と、第１の位相差層としての位相差層２０と、第１の透明層としての透明層２２と、第１の保護層としての保護層１４と、カラーフィルタ層１６と、オーバーコート層１７と、を備えている。第１の基板１１は、透明な材料からなり、例えばガラスからなる。第１の基板１１の液晶層４０側の面上には、配向膜１２が設けられている。配向膜１２には、位相差層２０を形成する材料の配向を規制するための処理、例えばラビング処理が施されている。
【００４８】
位相差層２０と透明層２２とは、同一の層を構成している。位相差層２０は、第１の基板１１の液晶層４０側の面上に、配向膜１２を介して設けられている。位相差層２０は、それぞれの画素４２の反射表示領域Ｒと、複数の画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域と、に配置されている（図１参照）。位相差層２０は、複屈折性を有しており、光硬化性材料または熱硬化性材料の分子が配向膜１２により配向された状態で硬化されて形成されている。位相差層２０の材料は、例えば光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶である。位相差層２０は入射される可視光の波長に対し所定の位相差、例えば１／２波長分の位相差を付与する。
【００４９】
透明層２２は、それぞれの画素４２の透過表示領域Ｔと、複数の画素４２の間のうち透過表示領域Ｔ同士が隣り合う領域および透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとが隣り合う領域と、に配置されている（図１参照）。透明層２２は、複屈折性を有していない。透明層２２は、位相差層２０を形成する材料が光学的に等方化された状態で硬化されて形成されている。
【００５０】
保護層１４は、位相差層２０と透明層２２とを覆うように設けられている。保護層１４は、透明な無機材料からなり、例えば酸化シリコンからなる。保護層１４の材料は、窒化シリコンであってもよい。保護層１４の厚さは、例えば１００ｎｍ〜４００ｎｍ程度である。
【００５１】
カラーフィルタ層１６は、保護層１４上に形成されている。カラーフィルタ層１６は、赤、緑、青の３色の色要素を含んでいる。オーバーコート層１７は、カラーフィルタ層１６上に形成されている。オーバーコート層１７は、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで層厚が異なっている。より詳細には、反射表示領域Ｒにおけるオーバーコート層１７の層厚は、透過表示領域Ｔにおけるオーバーコート層１７の層厚よりも厚くなっている。
【００５２】
対向基板１０の液晶層４０側には、オーバーコート層１７を覆うように配向膜１８が設けられている。対向基板１０の液晶層４０とは反対側、すなわち観察側には、偏光板４６が配置されている。
【００５３】
素子基板３０は、第２の基板３１と、回路素子層３３と、反射層３４と、共通電極３５と、絶縁層３６と、画素電極３７と、を備えている。第２の基板３１は、透明な材料からなり、例えばガラスからなる。回路素子層３３は、第２の基板３１の液晶層４０側に位置している。回路素子層３３は、図示しないが、液晶層４０を駆動するための素子、各種配線、接続部、層間絶縁層等を含んで構成されている。反射表示領域Ｒに位置する回路素子層３３の上面には、図示しないが、外光を散乱させるための凹凸形状が形成されている。反射層３４は、回路素子層３３上のうち反射表示領域Ｒに設けられている。反射層３４は、反射率の高い金属膜からなり、例えばアルミニウムからなる。反射層３４の材料は、ＡＰＣ（銀−パラジウム−銅の合金）であってもよい。
【００５４】
共通電極３５は、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとに亘って形成されており、反射表示領域Ｒにおいては反射層３４上に形成され、透過表示領域Ｔにおいては回路素子層３３上に形成されている。共通電極３５は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。共通電極３５上には、その上面を覆うように絶縁層３６が形成されている。さらに、絶縁層３６上には、複数のスリット状の開口部３７ａを有する画素電極３７が形成されている。画素電極３７は、例えばＩＴＯからなる。
【００５５】
図１に示すように、画素電極３７は、それぞれの画素４２の全体に亘って配置されており、より詳しくは反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとにまたがって配置されている。複数の画素電極３７は、マトリクス状に配置されている。
【００５６】
画素電極３７は、カラーフィルタ層１６（図２参照）の赤、緑、青の３色のいずれかに対応している。これらの３色のそれぞれと対応する３つの画素電極３７との組み合わせにより、３色の画素４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂがそれぞれ構成される。
【００５７】
図２に示すように、素子基板３０の液晶層４０側には、絶縁層３６と画素電極３７とを覆うように配向膜３８が設けられている。素子基板３０の液晶層４０とは反対側には、偏光板４８が配置されている。そして、偏光板４８に対向する位置には、バックライト４９が配置されている。
【００５８】
液晶層４０は、配向膜１８と配向膜３８とに施された配向処理によって配向方向が規制されており、ホモジニアス配向している。液晶層４０は、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで層厚が異なっている。より詳細には、液晶層４０の反射表示領域Ｒにおける層厚は、液晶層４０の透過表示領域Ｔにおける層厚のほぼ１／２となっている。このことにより、液晶層４０は入射される可視光の波長に対して、反射表示領域Ｒにおいて１／４波長分の位相差を付与し、透過表示領域Ｔにおいて１／２波長分の位相差を付与する。
【００５９】
本実施形態では、図示しないが、位相差層２０の遅相軸は、偏光板４６側から見て、偏光板４６の透過軸に対して時計回りに２２．５°ずれており、液晶層４０の配向方向は偏光板４６の透過軸に対して時計回りに９０°ずれている。偏光板４８の透過軸は、偏光板４６の透過軸に対して直交している。
【００６０】
このような半透過反射型の液晶装置１００では、光学設計上、反射表示領域Ｒにおいて暗表示を行う際に反射層３４に到達する外光がすべての可視波長域でほぼ円偏光である必要がある。反射層３４に到達した外光が楕円偏光であると暗表示の際に光漏れが生じ、高コントラストな反射表示を得ることが困難になるからである。
【００６１】
本実施形態では、反射表示領域Ｒに選択的に位相差層２０を配置し、液晶層４０は、入射される可視光の波長に対して、反射表示領域Ｒにおいて１／４波長分の位相差を付与し、透過表示領域Ｔにおいて１／２波長分の位相差を付与する。これにより、偏光板４８と位相差層２０と反射表示領域Ｒ内の液晶層４０とで広帯域円偏光を作り出せるようにして、反射層３４に到達する外光をすべての可視波長域で円偏光に近づけている。
【００６２】
＜製造方法＞
次に、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を図を参照して説明する。図３は、液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。図４は、このうち位相差層および透明層の形成方法を示すフローチャートである。
【００６３】
図３において、工程Ｐ１１から工程Ｐ１４は素子基板３０を製造する工程であり、工程Ｐ２１から工程Ｐ２４は対向基板１０を製造する工程である。工程Ｐ３１から工程Ｐ３３は、素子基板３０と対向基板１０とを組み合わせて液晶装置１００を製造する工程である。工程Ｐ１１から工程Ｐ１４と、工程Ｐ２１から工程Ｐ２４とは、それぞれ独立に行われる。
【００６４】
なお、本実施形態では、素子基板３０と対向基板１０とは複数枚取りできる大型の基板（マザー基板）の状態で加工が行われ、最終的にそのマザー基板を切断して個片化することにより、複数の素子基板３０または対向基板１０が得られる。図５は、対向基板１０のマザー基板を示す図である。図６は、対向基板１０の製造に用いるマスクを説明する図である。
【００６５】
まず、素子基板３０を製造する工程を説明する。工程Ｐ１１では、第２の基板３１上に、素子、各種配線、接続部、層間絶縁層等を含む回路素子層３３を形成する。このとき、回路素子層３３の上面の反射表示領域Ｒに位置する部分に、外光を散乱させるための凹凸形状を形成する。次に、工程Ｐ１２では、回路素子層３３上のうち反射表示領域Ｒに反射層３４を形成する。次に、工程Ｐ１３では、回路素子層３３と反射層３４との上に共通電極３５を形成する。次に、工程Ｐ１４では、共通電極３５上に絶縁層３６を形成し、絶縁層３６上に画素電極３７を形成する。
【００６６】
次に、対向基板１０を製造する工程を説明する。工程Ｐ２１では、第１の基板１１上に、位相差層２０と透明層２２を形成する。工程Ｐ２１は、図４に示す工程Ｓ１０から工程Ｓ４０をさらに含んでいる。以下、図４を用いて工程Ｐ２１についてより詳しく説明する。なお、本実施形態では、位相差層２０の材料として、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶を用いる場合を例にとり説明する。
【００６７】
まず、工程Ｓ１０では、第１の基板１１の表面に配向膜１２を形成し配向処理を施す。そして、配向膜１２が形成された第１の基板１１の面上の透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒと画素４２の間とに亘って、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶と反応開始剤を含む有機溶媒とからなる液晶材料を配置する。液晶材料を配置する方法は、例えばスピンコート法を適用する。
【００６８】
次に、工程Ｓ２０では、反射表示領域Ｒと画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域とに位置する部分の液晶材料を配向させた状態で硬化させて、位相差層２０を形成する。この工程Ｓ２０は、液晶材料が液晶相となる温度下、例えば室温において行う。このとき、液晶材料は液晶相となり、液晶材料中の液晶分子が配向膜１２の配向規制力によって配向する。この状態で、反射表示領域Ｒと画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域とに位置する液晶材料のみに紫外光が照射されるように、液晶材料のうち前述の部分以外をマスクによりマスキングする。
【００６９】
ここで、工程Ｓ２０で用いるマスクについて説明する。前述の通り、対向基板１０の製造は、図５に示すマザー基板１０ａの状態で行われる。図５は、マザー基板１０ａに含まれる対向基板１０のそれぞれにおける、位相差層２０が形成される領域２０ａと透明層２２が形成される領域２２ａとを示している。Ｘ軸は画素４２（図１参照）の反射表示領域Ｒ同士または透過表示領域Ｔ同士が対向するように配列された方向であり、Ｙ軸は反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとが互いに対向するように配列された方向である。
【００７０】
位相差層２０が形成される領域２０ａは、反射表示領域Ｒと、画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域と、で構成される。透明層２２が形成される領域２２ａは、透過表示領域Ｔと、画素４２の間のうち透過表示領域Ｔ同士が隣り合う領域および透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとが隣り合う領域と、で構成される。
【００７１】
図６に示すマスク８は、開口部８ａと遮光部８ｂとを有している。開口部８ａは、図５に示すマザー基板１０ａ上の位相差層２０が形成される領域２０ａに対応して、スリット状に配置されている。遮光部８ｂは、マザー基板１０ａ上の透明層２２が形成される領域２２ａに対応して配置されている。
【００７２】
工程Ｓ２０において、マスク８を通して紫外光を照射することにより、開口部８ａを通過した紫外光で、液晶材料のうち反射表示領域Ｒと画素４２の間の反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域とに位置する部分のみが露光される。これにより、露光された部分の液晶分子のアクリル基が光重合により硬化されて、位相差層２０が形成される。なお、この時点では、液晶材料のうち位相差層２０が形成された領域以外の部分は液晶状態を維持している。
【００７３】
次に、工程Ｓ３０では、工程Ｓ１０で配置した液晶材料のうち、位相差層２０が形成された領域以外に位置する部分を光学的に等方化した状態で硬化させて透明層２２を形成する。まず、液晶材料を、例えば１２０℃〜１８０℃の温度で加熱する。これにより、液晶材料のうち位相差層２０が形成された領域以外の部分が光学的に等方化する。続いて、液晶材料に紫外光を照射する。これにより、液晶材料のうち、透過表示領域Ｔと、画素４２の間の透過表示領域Ｔ同士が隣り合う領域および透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとが隣り合う領域と、に位置する部分が光学的に等方化した状態、すなわち透明な状態で硬化され、透明層２２が形成される。
【００７４】
次に、工程Ｓ４０では、位相差層２０と透明層２２とを、例えば１８０℃の温度で６０分間焼成する。
【００７５】
図３に戻って、工程Ｐ２２では、位相差層２０と透明層２２とを覆う保護層１４を形成する。保護層１４を形成する方法は、例えばスパッタリング法を適用する。次に、工程Ｐ２３では、保護層１４上にカラーフィルタ層１６を形成する。次に、工程Ｐ２４では、カラーフィルタ層１６上にオーバーコート層１７を形成する。カラーフィルタ層１６およびオーバーコート層１７を形成する方法は、例えばスピンコート法やフォトリソグラフィ法等を適用する。以上で対向基板１０が製造される。
【００７６】
工程Ｐ３１では、素子基板３０と対向基板１０とを貼り合わせを行う。貼り合わせは、素子基板３０または対向基板１０にシール剤を塗布し、アライメント（位置合わせ）をした後、素子基板３０と対向基板１０とを接触させ、圧着して行われる。
【００７７】
次に、工程Ｐ３２では、シール剤の開口部（注入口）から素子基板３０と対向基板１０との間に液晶を注入し、注入口を封止する。
【００７８】
次に、工程Ｐ３３では、対向基板１０の外側に偏光板４６を、素子基板３０の外側に偏光板４８を、それぞれ貼り付ける。その後、適宜バックライト４９を取り付けて液晶装置１００が完成する。
【００７９】
上記第１の実施形態の構成によれば、位相差層２０は第１の基板１１の面上に配向膜１２を介して配置されているので、位相差層２０が形成される面はほぼ平坦である。このため、位相差層２０の層厚をより均一にできるので、優れた光学補償特性を有する位相差層２０を形成できる。また、位相差層２０は無機材料からなる保護層１４で覆われているので、液晶装置１００の製造工程において、位相差層２０上にカラーフィルタ層１６を形成する際に有機溶媒を用いても、有機溶媒は保護層１４に遮られ位相差層２０に供給されない。このため、有機溶媒で位相差層２０の一部が溶解することによる位相差層２０の光学補償特性の低下を防止できる。
【００８０】
一方、位相差層２０が無機材料からなる保護層１４で覆われていることにより、位相差層２０中に吸湿された水分や位相差層２０中に残留した有機溶媒は保護層１４に遮られ、液晶層４０側に供給されない。このため、位相差層２０中の水分や有機溶媒によるカラーフィルタ層１６や液晶層４０の品質低下を防止できる。
【００８１】
さらに、カラーフィルタ層１６は位相差層２０より後に形成されるので、位相差層２０を配向させるための配向膜１２を焼成する際に加えられる熱や、位相差層２０の材料を配向させた状態で硬化させる際に加えられる熱がカラーフィルタ層１６に加えられることはない。このため、液晶装置１００の製造工程において、カラーフィルタ層１６の品質を低下させる熱の影響を受ける機会を少なくすることができる。これらにより、優れた光学補償特性を有する位相差層２０と、優れた品質を有するカラーフィルタ層１６と、を備えた液晶装置１００を提供できる。
【００８２】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態について図を参照して説明する。図７は、第２の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図である。図８は、第２の実施形態に係る対向基板１０のマザー基板を示す図である。なお、第１の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【００８３】
第２の実施形態に係る液晶装置２００は、第１の実施形態に係る液晶装置１００に対して、位相差層が反射表示領域に配置され、透明層が透過表示領域と複数の画素の間とに配置されている点が異なっているが、その他の構成は同じである。すなわち、液晶装置２００は、図２に示す液晶装置１００に対して、位相差層２０の代わりに位相差層５０を備え、透明層２２の代わりに透明層５２を備えている点のみが異なっている。
【００８４】
図７に示すように、位相差層５０は、それぞれの画素４２の反射表示領域Ｒに配置されている。透明層５２は、それぞれの画素４２の透過表示領域Ｔと、複数の画素４２の間の領域と、に配置されている。
【００８５】
次に、第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。第２の実施形態に係る液晶装置２００の製造方法は、第１の実施形態に係る液晶装置１００の製造方法に対し、工程Ｓ２０において液晶材料を硬化させる部分が異なっているが、その他の工程は同じである。
【００８６】
第２の実施形態では、図４に示す工程Ｓ２０において、液晶材料のうち反射表示領域Ｒに位置する部分のみが硬化されるように、液晶材料のうち反射表示領域Ｒ以外に位置する部分をマスキングして紫外光を照射する。図８は、第２の実施形態のマザー基板１０ａに含まれる対向基板１０のそれぞれにおける、位相差層５０が形成される領域５０ａと透明層５２が形成される領域５２ａとを示している。図示しないが、第２の実施形態において用いるマスクでは、開口部は図８に示すマザー基板１０ａ上の位相差層５０が形成される領域５０ａに対応して配置され、遮光部はマザー基板１０ａ上の透明層５２が形成される領域５２ａに対応して配置される。
【００８７】
工程Ｓ２０において、マスクを通して紫外光を照射することにより、開口部を通過した紫外光で、液晶材料のうち反射表示領域Ｒに位置する部分のみが露光される。これにより、液晶材料のうち反射表示領域Ｒに位置する部分の液晶分子のアクリル基が光重合され硬化されて、位相差層５０が形成される。
【００８８】
次に、工程Ｓ３０で、液晶材料のうち位相差層５０以外の部分を光学的に等方化した状態で硬化させることにより、透明層５２が形成される。
【００８９】
第２の実施形態の構成によれば、透明層５２が反射表示領域Ｒ以外に配置されるので、位相差層５０を実質的に反射表示に寄与する領域のみに配置できる。
【００９０】
（第３の実施形態）
次に、第３の実施形態について図を参照して説明する。図９は、第３の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。なお、第１の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【００９１】
第３の実施形態に係る液晶装置３００は、第１の実施形態に係る液晶装置１００に対して、素子基板にも位相差層と透明層とを備えている点が異なっているが、その他の構成は同じである。
【００９２】
図９に示すように、液晶装置３００は、素子基板６０と、対向基板１０と、液晶層４０と、を備えている。素子基板６０は、第２の基板３１と、配向膜３２と、第２の位相差層としての位相差層７０と、第２の透明層としての透明層７２と、第２の保護層としての保護層７４と、回路素子層３３と、反射層３４と、共通電極３５と、絶縁層３６と、画素電極３７と、を備えている。
【００９３】
位相差層７０と透明層７２とは、同一の層を構成している。位相差層７０は、第２の基板３１の液晶層４０側の面上に、配向膜３２を介して設けられている。位相差層７０は、それぞれの画素４２（図１参照）の反射表示領域Ｒと、複数の画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域と、に配置されている。位相差層７０は、複屈折性を有しており、光硬化性材料または熱硬化性材料の分子が配向膜３２により配向された状態で硬化されて形成されている。位相差層７０の材料は、例えば光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶である。位相差層７０は入射される可視光の波長に対し所定の位相差、例えば１／４波長分の位相差を付与する。
【００９４】
透明層７２は、それぞれの画素４２の透過表示領域Ｔと、複数の画素４２の間のうち透過表示領域Ｔ同士が隣り合う領域および透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとが隣り合う領域と、に配置されている。透明層７２は、複屈折性を有していない。透明層７２は、位相差層７０を形成する材料が光学的に等方化された状態で硬化されて形成されている。
【００９５】
保護層７４は、位相差層７０を覆うように設けられている。保護層７４は、透明な無機材料からなり、例えば酸化シリコンからなる。保護層７４の材料は、窒化シリコンであってもよい。保護層７４の厚さは、例えば１００ｎｍ〜４００ｎｍ程度である。回路素子層３３は、保護層７４の液晶層４０側に位置している。
【００９６】
次に、第３の実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。図１０は、第３の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。第３の実施形態に係る液晶装置３００の製造方法は、第１の実施形態に係る液晶装置１００の製造方法に対し、素子基板を形成する工程において、工程Ｐ１１の前に位相差層・透明層形成工程Ｐ０１と保護層形成工程Ｐ０２を行う点が異なっているが、その他の工程は同じである。
【００９７】
素子基板６０を形成する工程において、工程Ｐ０１では、第２の基板３１上に、位相差層７０と透明層７２とを形成する。工程Ｐ０１は工程Ｐ２１に含まれる工程Ｓ１０から工程Ｓ４０と同様の工程で行われ、これらの工程において、第１の基板１１が第２の基板３１に、配向膜１２が配向膜３２に、位相差層２０が位相差層７０に、透明層２２が透明層７２に、それぞれ置き換わる以外は同じである。
【００９８】
次に、工程Ｐ０２では、位相差層７０と透明層７２とを覆う保護層７４を形成する。工程Ｐ０２は工程Ｐ２２と同様の工程で行われ、位相差層７０が位相差層２０に対応し、透明層７２が透明層２２に対応し、保護層７４が保護層１４に対応する。
【００９９】
第３の実施形態の構成によれば、位相差層７０は第２の基板３１の面上に配向膜３２を介して配置されているので、位相差層７０が形成される面はほぼ平坦である。このため、位相差層７０の層厚をより均一にできるので、優れた光学補償特性を有する位相差層７０を形成できる。また、位相差層７０は無機材料からなる保護層７４で覆われているので、液晶装置３００の製造工程において、位相差層７０上に回路素子層３３を形成する際に有機溶媒を用いても、有機溶媒は保護層７４に遮られ位相差層７０に供給されない。このため、有機溶媒で位相差層７０の一部が溶解することによる位相差層７０の光学補償特性の低下を防止できる。
【０１００】
一方、位相差層７０が無機材料からなる保護層７４で覆われていることにより、位相差層７０中に吸湿された水分や位相差層７０中に残留した有機溶媒は保護層７４に遮られ、液晶層４０側に供給されない。このため、位相差層７０中の水分や有機溶媒による回路素子層３３や液晶層４０の特性劣化を防止できる。
【０１０１】
また、位相差層７０が第２の基板３１と回路素子層３３との間に配置されるので、反射表示領域Ｒにおいては位相差層７０が偏光板４８と反射層３４との間に配置される。ここで、偏光板４８に対向して位置するバックライト４９から出射された光のうち反射表示領域Ｒに入射する光は、偏光板４８の透過軸に平行な直線偏光となり、位相差層７０を通過する際に１／４波長分の位相差が付与されて円偏光になる。この円偏光は反射層３４の偏光板４８の側の面で反射されて回転方向が反転し、再び位相差層７０を通過する際に偏光板４８の透過軸に直交する直線偏光となるため、偏光板４８に吸収される。これにより、偏光板４８の側から反射表示領域Ｒに入射し反射層３４で反射された光が、バックライト４９で反射されて透過表示領域Ｔに入射するのを防止できるので、透過表示領域Ｔのコントラストを向上できる。
【０１０２】
なお、液晶装置３００に、第２の実施形態の特徴を組み合わせてもよい。すなわち、位相差層２０および透明層２２、または位相差層７０および透明層７２を、第２の実施形態における位相差層５０および透明層５２と同様に配置してもよい。このようにすれば、実質的に反射表示に寄与する領域のみに位相差層２０または位相差層７０を配置できる。
【０１０３】
（第４の実施形態）
次に、第４の実施形態について図を参照して説明する。第４の実施形態に係る液晶装置は、第１の実施形態における液晶装置１００に対して、透明層の材料が異なっている点以外は同じ構成を有している。
【０１０４】
第４の実施形態では、透明層２２は透明な樹脂で形成されている。透明な樹脂として、例えばＪＳＲ株式会社のＮＮ５２５Ｅを用いることができる。
【０１０５】
第４の実施形態に係る液晶装置の製造方法は、第１の実施形態における液晶装置の製造方法に対して、位相差層・透明層形成工程Ｐ２１における透明層を形成する方法が異なっているが、その他の工程は同じである。図１１は、第４の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。図１１に示すように、第４の実施形態における工程Ｐ２１は、工程Ｓ１０と工程Ｓ２０と工程Ｓ５０と工程Ｓ６０とを含んでいる。
【０１０６】
工程Ｓ１０と工程Ｓ２０とが終了した時点では、表面に配向膜１２が形成された第１の基板１１上に位相差層２０が形成され、液晶材料のうち位相差層２０以外の部分は液晶状態を維持している。次に、工程Ｓ５０では、液晶材料のうち位相差層２０以外の硬化していない部分を、有機溶媒を用いて現像し除去する。有機溶媒は、例えば、プロピレングリコールメチルエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、あるいはシクロペンタノンを用いることができる。現像の時間は、例えば９０秒である。
【０１０７】
次に、工程Ｓ６０では、第１の基板１１上の液晶材料が除去された部分、すなわち位相差層２０が配置された領域以外の部分に、例えば液滴吐出法により透明層２２の材料を配置する。これにより透明層２２が形成される。このとき、透明層２２の層厚が位相差層２０の層厚と同じになるように調整する。
【０１０８】
第４の実施形態の構成によれば、透明層２２を透明な樹脂で形成しても第１の実施形態と同等の効果が得られる。
【０１０９】
なお、第４の実施形態の構成および製造方法は、第２の実施形態の透明層５２、または第３の実施形態の透明層２２，７２に適用してもよい。これらの場合においても同等の効果が得られる。
【０１１０】
（第５の実施形態）
次に、第５の実施形態について図を参照して説明する。第５の実施形態に係る液晶装置は第４の実施形態における液晶装置と同じ構成を有しているが、液晶装置の製造方法が異なっている。図１２は、第５の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。
【０１１１】
第５の実施形態に係る液晶装置の製造方法は、第４の実施形態に係る液晶装置の製造方法に対して、位相差層を形成する前に透明層を形成する点が異なっているが、その他の工程は同じである。図１２に示すように、第５の実施形態における工程Ｐ２１は、工程Ｓ６１と工程Ｓ７０と工程Ｓ１１と工程Ｓ２１とを含んでいる。
【０１１２】
まず工程Ｓ６１では、表面に配向膜１２が形成された第１の基板１１上に透明層２２の材料である透明な樹脂を配置する。透明な樹脂を配置する方法は、例えばスピンコート法を適用する。透明な樹脂を配置する方法は、液滴吐出法を適用してもよい。このとき、透明な樹脂の層厚が、後の工程で形成される位相差層２０の層厚と同じになるように調整する。
【０１１３】
次に、工程Ｓ７０では、第１の基板１１上に配置された透明層２２の材料である透明な樹脂のうち透明層２２が形成される領域以外の部分、すなわち反射表示領域Ｒと画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域とに位置する部分を、例えばフォトリソグラフィ法により除去する。これにより、第１の基板１１上の透過表示領域Ｔと、画素４２の間のうち透過表示領域Ｔ同士が隣り合う領域および透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとが隣り合う領域と、に透明層２２が形成される。
【０１１４】
次に、工程Ｓ１１では、第１の基板１１上の透明な樹脂が除去された部分、すなわち反射表示領域Ｒと画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域とに、例えば液滴吐出法により液晶材料を選択的に配置する。このとき、先に形成されている透明層２２をバンクとして用いてもよい。
【０１１５】
次に、工程Ｓ２１では、工程Ｓ１１で配置位置された液晶材料に紫外光を照射して硬化させる。このとき、液晶材料が反射表示領域Ｒと画素４２の間のうち反射表示領域Ｒ同士が隣り合う領域とに選択的に配置されているので、マスキングは不要となる。これにより、位相差層２０が形成される。
【０１１６】
第５の実施形態の構成によれば、先に透明層２２を形成するので、位相差層２０を形成する液晶材料を、位相差層２０を形成する領域のみに選択的に配置できる。
【０１１７】
なお、第５の実施形態の構成および製造方法は、第２の実施形態の位相差層５０および透明層５２、または第３の実施形態の位相差層２０，７０および透明層２２，７２に適用してもよい。これらの場合においても同等の効果が得られる。
【０１１８】
（電子機器）
上述した液晶装置１００，２００，３００は、例えば、図１３（ａ）に示すように、電子機器としての携帯電話機５００に搭載して用いることができる。電子機器は、図１３（ｂ）に示すように、電子ビューファインダ５１０であってもよい。携帯電話機５００、電子ビューファインダ５１０は、それぞれの表示部５０２，５１２に液晶装置１００，２００，３００を備えている。この構成により、表示部５０２を有する携帯電話機５００および表示部５１２を有する電子ビューファインダ５１０は優れた表示品質を有している。
【０１１９】
また、電子機器は、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、オーディオ機器、液晶プロジェクタであってもよい。
【０１２０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【０１２１】
（変形例）
以上の実施形態の液晶装置は、ＦＦＳ方式の半透過反射型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、例えば、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式の液晶装置、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式の液晶装置、ＶＡ（Vertical Alignment）方式の液晶装置であってもよい。また、液晶装置は、反射型の液晶装置であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】第１の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図。
【図２】第１の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図。
【図３】液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図４】位相差層と透明層との製造方法を示すフローチャート。
【図５】対向基板のマザー基板を示す図。
【図６】対向基板の露光に用いるマスクを説明する図。
【図７】第２の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図。
【図８】第２の実施形態に係る対向基板のマザー基板を示す図。
【図９】第３の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図。
【図１０】第３の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図１１】第４の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図１２】第５の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図１３】本実施の形態における電子機器を示す図。
【符号の説明】
【０１２３】
８…マスク、８ａ…開口部、８ｂ…遮光部、１０…対向基板、１０ａ…マザー基板、１１…第１の基板、１２…配向膜、１４…保護層、１６…カラーフィルタ層、１７…オーバーコート層、１８…配向膜、２０…位相差層、２０ａ…位相差層が形成される領域、２２…透明層、２２ａ…透明層が形成される領域、３０…素子基板、３１…第２の基板、３２…配向膜、３３…回路素子層、３４…反射層、３５…共通電極、３６…絶縁層、３７…画素電極、３７ａ…開口部、３８…配向膜、４０…液晶層、４２…画素、４４…画素群、４６…偏光板、４８…偏光板、４９…バックライト、５０…位相差層、５０ａ…位相差層が形成される領域、５２…透明層、５２ａ…透明層が形成される領域、６０…素子基板、７０…位相差層、７２…透明層、７４…保護層、１００…液晶装置、２００…液晶装置、３００…液晶装置、５００…携帯電話機、５０２…表示部、５１０…電子ビューファインダ、５１２…表示部、Ｒ…反射表示領域、Ｔ…透過表示領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図７】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図５】
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【図６】
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【図８】
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