(57)【要約】【課題】正孔輸送層に代表される発光補助層および有機発光層を、従来の凸版印刷法を用いて基板上に形成した場合の、アニロックスロールのパターンと印刷版のパターンとの干渉によるモアレの発生を防止し、均一な発光が可能な有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。【解決手段】少なくとも基板上に陽極と陰極とを備え、両電極間に有機発光層と発光補助層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、有機発光層形成材料若しくは発光補助層形成材料を溶媒に溶解または分散させたインキをキャピラリーコート法により印刷版へインキ供給し、版の凸部に載せられたインキを凸版印刷法により基板へ転移させ、有機発光層と発光補助層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とした。【選択図】図１
2009230882.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともシリンダーと、該シリンダーに取り付けられた印刷版と、昇降装置により昇降可能なキャピラリーコート式塗布装置とを備え、
前記キャピラリーコート式塗布装置は、インキタンクと該インキタンク内から外部に突出するスリット状のノズルとを有し、該ノズルのスリット方向を前記シリンダー円筒方向と平行に、ノズル先端を版面に向けて配置されていることを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記インキタンクが、密閉されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
毛細管現象によってインキタンクから吸い上げられノズルの先端に突出したインキを、ノズルを印刷版に近接させることにより該印刷版の凸部表面に供給する工程と、
印刷版の凸部表面に供給されたインキを基体に転移させる工程と、
を有するパターン形成方法。
【請求項４】
前記インクタンク内のインクは密閉状態であることを特徴とする請求項３に記載のパターン形成方法。
【請求項５】
請求項３又は４に記載のパターン形成方法により製造したことを特徴とする印刷物の製造方法。
【請求項６】
少なくとも基板上に陽極と陰極とを備え、両電極間に有機発光層と発光補助層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、有機発光層形成材料若しくは発光補助層形成材料を溶媒に溶解または分散させたインキを請求項３又は４に記載のパターン形成方法により基板上にパターン形成し、有機発光層又は発光補助層の少なくともいずれか一層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸版印刷法を用いた微細パターン印刷装置及び印刷方法及び透明電極と対向電極の両電極間に有機発光層と発光補助層とを備え、両電極から有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機ＥＬ素子の製造方法に関し、特に有機発光層と発光補助層を凸版印刷法により形成する際の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機発光デバイスは、二つの対向する電極の間に正孔輸送材料からなる正孔輸送層及び有機発光材料からなる有機発光層が形成される。有機発光デバイスはこれらの有機発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには有機発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。
【０００３】
有機発光層を形成する正孔輸送材料及び有機発光材料には、低分子材料と高分子材料が有り、一般に低分子材料は真空蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出にくいという問題がある。また、真空中で成膜するためにスループットが悪いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では高分子材料を溶剤に溶かして塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。高分子材料の塗液を用いてウェットコーティング法で有機発光層や正孔輸送層を含む有機発光媒体層を形成する場合の層構成は、陽極側から正孔輸送層、有機発光層と積層する二層構成が一般的であるが、最近ではより長寿命化した有機EL素子を作製するためこの二層の間に有機発光層の補助層としてインターレイヤ層を挟む。このとき、有機発光層はカラーパネル化するために赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のそれぞれの発光色をもつ有機発光材料を溶剤中に溶解または安定して分散してなる有機発光インキを用いて塗り分ける必要がある。
【０００５】
一方、正孔輸送層はパターニングせずに、有機ＥＬディスプレイパネルの画像形成に関わる部分全体に全面塗布、いわゆるベタ塗りする方法が一般的であり、スピンコート法やダイコート法といったコーティング法を用いて形成されてきた。また、インターレイヤ層および有機発光層はこれまで凸版印刷法やインクジェット法、凹版オフセット印刷法、凸版反転オフセット印刷法等を用いて形成されてきた。
【０００６】
以下に公知の文献を記す。
【特許文献１】特開２００６−２６９５９９号公報
【特許文献２】特開２００７−４２３１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、インターレイヤ層および有機発光層の形成において従来のアニロックスロールを用いた凸版印刷法を用いた場合、
（１）アニロックスロールのパターンと印刷版のパターンとの干渉によりモアレを引き起こす。
（２）アニロックスロールをドクターで掻いた際に発生する酸化クロム等の異物がインキ中に混入する。
（３）アニロックスチャンバーが常に大気に対し開放されているため、印刷中にインキの濃度が変化する。
等の問題点が発生する。
【０００８】
本発明は上記の問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、ムラのないパターン形成が可能であり、また異物の混入を防止し、印刷中のインキの濃度変化を解消することが可能な印刷物の製造方法及び印刷装置を提供し、ひいてはインターレイヤ層および有機発光層の成膜において均一な膜形成を行ない、欠陥やムラのない有機ＥＬ素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するためになされた第１の発明は、少なくともシリンダーと、該シリンダーに取り付けられた印刷版と、昇降装置により昇降可能なキャピラリーコート式塗布装置とを備え、前記キャピラリーコート式塗布装置は、インキタンクと該インキタンク内から外部に突出するスリット状のノズルとを有し、該ノズルのスリット方向を前記シリンダー円筒方向と平行に、ノズル先端を版面に向けて配置されていることを特徴とする印刷装置である。
また第２の発明は、上記印刷装置において、前記インキタンクが、密閉されていることを特徴とする印刷装置である。
【００１０】
さらに第３の発明は、毛細管現象によってインキタンクから吸い上げられノズルの先端に突出したインキを、ノズルを印刷版に近接させることにより該印刷版の凸部表面に供給する工程と、印刷版の凸部表面に供給されたインキを基体に転移させる工程とを有するパターン形成方法である。
また第４の発明は、上記パターン形成方法において、前記インクタンク内のインクは密閉状態であることを特徴とする請求項３に記載のパターン形成方法である。
また第５の発明は、上記パターン形成方法により製造したことを特徴とする印刷物の製造方法である。
【００１１】
さらに第６の発明は、少なくとも基板上に陽極と陰極とを備え、両電極間に有機発光層と発光補助層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、有機発光層形成材料若しくは発光補助層形成材料を溶媒に溶解または分散させたインキを上記のパターン形成方法により基板上にパターン形成し、有機発光層又は発光補助層の少なくともいずれか一層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明において、キャピラリーコート法によって印刷版へインキを供給することで印刷した後の基板に対してアニロックスロールのパターンと印刷版のパターンとの干渉によるモアレを防ぎ、且つ完全密閉型のタンクによりインキを供給できるため長時間印刷においてもインキの濃度変化を防ぐことが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
＜印刷装置＞
図１（Ａ）、（Ｂ）に本発明の印刷装置及び印刷方法を説明する模式図を示した。
本発明の印刷装置は、シリンダー１５及びシリンダーに取り付けられた印刷版１６と、キャピラリーコート式塗布装置１１を具備し、キャピラリーコート式塗布装置は図１では図示されていない昇降装置により、版に近接させることが可能となっている。後述のように通常の凸版印刷装置に必要なアニロックスロール、ドクターを介さずに、基体１７上にパターンを形成することが可能である。また、被印刷物を搬送するステージ等は、図では省略されているが、公知の構成を取ることが可能である。
【００１４】
キャピラリーコート式塗布装置１１は、インキ１４を貯めておくインキタンク１２、及び、タンク１２内から外部に突出するスリット状のノズル１３から構成されている。ノズルは印刷版が取り付けられたシリンダーの下方に、スリット方向をシリンダー円筒方向と平行に、ノズル先端を版面に向けて配置されている。インキタンク１２は図示しない昇降装置の作動によって上昇、下降することが可能である。また、後述のように、インキタンクはノズル以外の部分で密閉されていることが好ましい。図２の（Ａ）に概念図を示すように、キャピラリーコート式塗布装置のノズルは十分に狭いスリットを有するために、毛細管現象によってノズル１３の先端部のスリットからインキ１４が吸い上げられ、ノズル先端まで上昇した状態となる。
【００１５】
＜パターン形成方法＞
キャピラリーコート式塗布装置１１のノズル１３先端までインキが上昇し、突出した状態で、昇降装置によって、突出したインキが印刷版１６に接触するように調整し、印刷版の凸部にインキを供給することができる。次に、シリンダー１５に取り付けられた版１６を図中のシリンダー回転方向に向かって、図示しない回転機構によって移動させると、毛細管現象によってノズル１３の先端部のスリットから突出した状態のインキ１４が基体１７に着液（塗布）させられる。同時に、タンク１３内のインキ１４が毛細管現象によって、ノズル１３の先端部のスリットへと供給され続ける。
【００１６】
インキ１４の版１６への着液（塗布）が完了したならば、図示しない昇降装置の作動によってタンク１２を下降位置に位置させ, 図２の（Ｂ）に概念図を示すように版１６に着液（塗布）させられたインキ１８を基体１７に印刷する。こうして、１枚の基体の所望の領域へのインキの印刷が完了する。尚、版１６に着液（塗布）させられたインキをインキ１８、その後基体１７に印刷され転移したインキをインキ１９で示した。
【００１７】
このように、本願発明の印刷装置では、アニロックスロールを介さず直接印刷版の凸部にインキを載せることが可能であるため、アニロックスロールをドクターで掻いた際に発生する酸化クロム等の異物がインキ中に混入することを防ぐことができる。またアニロックスロールを用いないため、印刷版のパターンとの干渉により発生するモアレがなく欠陥やムラのない印刷膜の製造を可能にする。
【００１８】
また上記印刷工程において、キャピラリーコート式塗布装置のインキタンク１２は、常に密閉状態としておくことが好ましい。密閉されたインキタンクから、スリットによる毛細管現象を利用し、ノズルを上昇してきたインキを突出させる。このときタンク内のインキは常に密閉空間にあるため、溶媒の揮発による濃度変化を抑制することができる。
【００１９】
本発明の印刷装置及びパターン形成方法は、上述のように、塗膜のムラや、異物の混入を抑制することが可能であるため、後述の有機ＥＬ素子や、カラーフィルタ等各種の電子部品、光学部品における高精度・高精細な印刷物の製造に適している。
【００２０】
＜有機ＥＬ素子＞
次に本発明の有機ＥＬ素子について説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
図２に本発明の有機ＥＬ素子の断面模式図を示した。図２の有機ＥＬ素子においては基板１上に、陽極２、正孔輸送層４、インターレイヤ層５、有機発光層６、陰極７を備える。陽極２、陰極７間には有機発光層６が設けられ、陽極２と有機発光層５の間に正孔輸送層４とインターレイヤ層５が設けられる。また、陽極２パターン間には、隔壁３が設けられる。基板１上に、陽極２、隔壁３、正孔輸送層４、インターレイヤ層５、有機発光層６、陰極７が設けられた有機ＥＬ構成体は、電極や有機発光層を外部の環境から保護するための封止体８が設けられる。封止体８は、封止キャップ８ａ、接着剤８ｂ、乾燥剤８ｃを備える。
【００２２】
また、本発明の有機ＥＬ素子にあっては、陽極と陰極の間には有機発光層の他に発光補助層を備える。発光補助層としては、図２に示した正孔輸送層の他に、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。これらの発光補助層は適宜選択されるが、複数選択してもよい。正孔輸送層は陽極と有機発光層の間に設けられる。電子注入層、電子輸送層は有機発光層、陰極間に設けられる。また、本発明の有機ＥＬ素子にあっては、陽極、陰極、有機発光層、正孔輸送層は単層構造ではなく、多層構造としてもよい。
【００２３】
また、本発明の有機ＥＬ素子にあっては、パッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子のどちらにも適用可能である。パッシブマトリックス方式とはストライプ状の陽極及び陰極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成した、いわゆるＴＦＴ基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。アクティブマトリックス方式有機ＥＬ素子の場合、陽極、陰極の一方の電極はＴＦＴ基板上に画素毎に設けられ、もう一方の電極は画素全体に設けられる。
【００２４】
また、本発明の有機ＥＬ素子にあっては、発光した光を基板側から取り出すボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子、発光した光を基板と反対側から取り出すトップエミッション方式の有機ＥＬ素子のどちらでもかまわない。ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子とする場合には、基板及び陽極が光透過性を有する必要があり、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子とするためには、陰極及び封止体が光透過性を有する必要がある。
【００２５】
また、本発明の有機ＥＬ素子においては、図２とは逆に、基板上に、陰極、有機発光層、正孔輸送層、陽極の順に設けてもよい。
【００２６】
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、図２に示した本発明の有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２７】
本発明にかかる基板１としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板も使用することができる。この基板側から光を出射するボトムエミッション素子の場合には、基板として透明なものを使用する必要がある。
【００２８】
例えば、このような基板としては、ガラス基板や石英基板が使用できる。また、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートであっても良い。これら、プラスチックフィルムやシートに、金属酸化物薄膜、金属フッ化物薄膜、金属窒化物薄膜、金属酸窒化膜薄膜、あるいは高分子樹脂膜を積層したものを基板として利用してもよい。
【００２９】
前記金属酸化物薄膜としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等が例示できる。前記金属フッ化物薄膜としては、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム等が例示できる。金属窒化物薄膜としては、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等が例示できる。また、前記高分子樹脂膜としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂等が例示できる。また、トップエミッション素子の場合には、不透明な基板を使用することもできる。
【００３０】
また、これらの基板は、あらかじめ加熱処理を行うことにより、基板内部や表面に吸着した水分を極力低減することがより好ましい。また、基板上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理などの表面処理を施してから使用することが好ましい。
【００３１】
また、前記基板上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成して、駆動用基板としても良い。ＴＦＴの材料としては、ポリチオフェンやポリアニリン、銅フタロシアニンやペリレン誘導体等の材料を用いてもよく、また、アモルファスシリコンやポリシリコンを用いてもよい。また、前記基板のどちらかの面にカラーフィルタ層や光散乱層、光偏光層等を基板に設けてもよい。
【００３２】
次に、この基板１上に、陽極２を形成する。陽極形成材料として、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物が利用できる。被膜形成方法としてはドライコーティング方式が利用できる。例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等である。そして、真空製膜された金属酸化物被膜にフォトレジストを塗布して露光・現像し、ウェットエッチング又はドライエッチングして、パターン状に加工することができる。パッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の場合には、陽極はストライプ状に形成される。アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の場合には、陽極はドット状にパターン形成される。
【００３３】
陽極２を形成後、隣接する陽極パターンの間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィー法により隔壁３が形成される。さらに詳しくは、感光性樹脂組成物を基板に塗布する工程と、パターン露光、現像、焼成して隔壁パターンを形成する工程と、を少なくとも有する。
【００３４】
隔壁３を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。隔壁が十分な絶縁性を有さない場合には隔壁を通じて隣り合う画素電極に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。また、ＴＦＴの誤作動により適正な表示ができないことがある。感光性材料としては、具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といったものが挙げられるがこれに限定するものではない。また、有機ＥＬディスプレイパネルの表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。
【００３５】
隔壁３を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の公知の塗布方法を用いて塗布される。次に、パターン露光、現像して隔壁パターンを形成する工程では、従来公知の露光、現像方法により隔壁部のパターンを形成できる。また焼成に関してはオーブン、ホットプレート等での従来公知の方法により焼成を行うことができる。
【００３６】
隔壁３は、厚みが０．５μｍから５．０μｍの範囲にあることが望ましい。隔壁３を隣接する画素電極間に設けることによって、電極パターン上に塗布された正孔輸送インキはレベリングとともに隔壁上の膜厚は薄くなることから隣接画素間のリーク等が発生しにくく、また陽極端部からのショート発生を防ぐことが出来る。また、異なる発光色を有する有機発光材料を溶媒に溶解または分散させた有機発光インキを用いて画素ごとに塗り分けをおこなう場合、隣接する画素との混色を防止することが出来る。隔壁が低すぎると隣接画素間で正孔輸送層経由でのリーク電流の発生やショートの防止、有機発光インキの混色防止の効果が得られないことがあり注意が必要である。正孔輸送層を無機材料としても良い。
【００３７】
隔壁３形成後、正孔輸送層４を形成する。正孔輸送層４の形成材料としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の金属酸化物等の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。
【００３８】
正孔輸送層４形成後、ＥＬ駆動の長寿命化を目的とした発光層保護膜としてインターレイヤ層５を形成し、有機発光層６を形成する。有機発光層６は電流を通すことにより発光する層であり、有機発光層６を形成する有機発光材料は、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’―ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系、ポリフェニレンビニレン系やポリフルオレン系の高分子材料が挙げられる。
【００３９】
これらの有機発光材料は溶媒に溶解または安定に分散させ有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。又、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されても良い。
【００４０】
上記インターレイヤ層５および有機発光層６の形成方法として、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、プレコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗布法や、凸版印刷法、インクジェット印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法等の印刷法から選択することができる。また、有機発光補助層についても、高分子正孔輸送材料等のウェットプロセスにより形成することが可能な場合には、同様の塗布法、印刷法から選択することができる。本願発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、特にウェットプロセスにて有機発光層又は有機発光補助層が形成される場合おいて、そのうち少なくとも一層を前述の本願発明のパターン方法を用いて形成することを特徴とする。当該パターン形成方法を適用して層形成を行うことで、印刷ムラ、インキの濃度ムラ、異物の混入を改善することができるため、高品質な有機ＥＬ素子の製造が可能となる。
【００４１】
次に、陰極７を形成する。陰極層７の材料としては、有機発光層６への電子注入効率の高い物質を用いる。具体的には、Ｍｇ、Ａｌ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉや酸化Ｌｉ，ＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いてもよい。または、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数が低いＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属１種以上と、安定なＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属元素との合金系を用いてもよい。具体的にはＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。陰極層６を透光性電極層として利用する場合には、仕事関数が低いＬｉ、Ｃａを薄く設けた後に、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物を積層してもよく、前記有機発光層６に、仕事関数が低いＬｉ，Ｃａなどの金属を少量ドーピングして、ＩＴＯなどの金属酸化物を積層してもよい。
【００４２】
陰極７の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。陰極の厚さに特に制限はないが、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。陰極の膜厚が１０ｎｍ未満であると膜のピンホールが十分に埋められずショートの原因となる。また１０００ｎｍより大きいと成膜時間が長くなり生産性が悪くなる。なお、陰極のパターニングについては、成膜時にマスクを用いることによりパターン形成をおこなうことができる。
【００４３】
最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、封止体８を用いて有機ＥＬ構成体を封止する。封止体８としては、凹部を有する封止キャップ８ａを用い、封止キャップ８ａと基板１を接着剤８ｂを介して貼りあわせる方法を用いることができる。また、封止キャップ８ａと基板１で密封させた空間には乾燥剤８ｃを備えることが出来る。
【００４４】
封止キャップ８ａとしては、金属キャップ、ガラスキャップを用いることができる。接着剤８ｂとしては、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、アクリル樹脂アクリレート等のアクリレート、ウレタンポリエステル等の樹脂を用いたラジカル系接着剤や、エポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を用いたカチオン系接着剤、チオール・エン付加型樹脂系接着剤等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂を用いることが出来る。また、紫外線硬化型エポキシ系接着剤も利用できる。乾燥剤８ｃとしては、酸化バリウムや酸化カルシウムを用いることができる。
【００４５】
また、この他にも有機ＥＬ構成体にバリア層を形成し、バリア層を封止体とすることも可能である。このとき、バリア層としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素等を用いることができ、これらは、ＣＶＤ法等の真空成膜法により有機ＥＬ構成体全面を覆うように形成される。また、バリア層が形成された有機ＥＬ素子は接着層を介して封止基板と貼りあわせ、これらを封止体とすることも可能である。
【実施例】
【００４６】
本実施例は、本発明のインターレイヤ層及び有機発光層の形成方法、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。以下、印刷装置の模式図である図１の（Ａ）及び（Ｂ）を参照して、実施例１の有機膜形成方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を説明する。
【００４７】
本実施例におけるキャピラリーコート式塗布装置１１は、インキ１４を貯めておくタンク１２、及び、タンク１２内に配置されるノズル１３から構成されている。タンク１２は図示しない昇降装置の作動によって上昇、下降する。ノズル１３の先端部にはスリットが設けられ、図１の（Ａ）に概念図を示すように、毛細管現象によってノズル１３の先端部のスリットからインキ１４が突出した状態となる。
【００４８】
この状態で、シリンダー１５に取り付けられた版１６を図面の回転方向に向かって、図示しない印刷装置によって移動させると、毛細管現象によってノズル１３の先端部のスリットから突出した状態のインキ１４が基体１７に着液（塗布）させられる。ノズル１４の先端部と版１６との間の距離（ギャップ）を０．２ｍｍに保持し、シリンダーを回転させる。尚、版１６に着液（塗布）させられたインキをインキ１８、その後基体１７に印刷され転移したインキをインキ１９で示す。同時に、タンク１３内のインキ１４が毛細管現象によって、ノズル１３の先端部のスリットへと供給され続ける。インキ１４の版１６への着液（塗布）が完了したならば、図示しない昇降装置の作動によってタンク１２を下降位置に位置させ, 図１の（Ｂ）に概念図を示すように版１６に着液（塗布）させられたインキ１８を基体１７に印刷する。こうして、１枚の基体の所望の領域へのインキの印刷が完了する。尚、インターレイヤ層形成材料インキ印刷前の基板に前処理としてオーク製作所製ＵＶ／Ｏ３洗浄装置にて３分間紫外線照射を行った。印刷後速やかに２００℃のオーブンに移し１５分間ベーク、同様に有機発光層の印刷後速やかに１３０℃のオーブンに移し１０分間ベークした。このとき乾燥後のインターレイヤ層、有機発光層の膜厚はそれぞれ４０ｎｍ,８０ｎｍとなった。
【００４９】
その上にＢａ、Ａｌからなる電子注入／陰極層を抵抗加熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップとエポキシ系の
接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬ素子を作製した。
【００５０】
得られた有機ＥＬ素子の表示部の周辺部には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、有機ＥＬディスプレイパネルを得た。
【００５１】
実施例において得られたインターレイヤ層、有機発光層が形成された基板及び有機ＥＬディスプレイパネルについて、以下の評価をおこなった。
【００５２】
（１）画素内のインターレイヤ層、有機発光層の形状
インターレイヤ層またはインターレイヤ層の上に有機発光層が形成された基板に対し、画素内における有機膜の膜厚を、触針式膜厚計を用いて測定した。このとき、画素中心部の膜厚を基準として、その膜厚の変化量が±１０ｎｍの範囲に収まる幅をａとし、隔壁間の幅をｂとしたときの、（ａ／ｂ）×１００を平坦率（％）として算出した。よって、平坦率の値が高いほど画素内においてが均一に発光する部分が大きく、画素内での発光ムラの少ない有機ＥＬ素子とすることが出来る。尚、測定は基板中央の箇所について行なった。
【００５３】
（２）発光状態確認
得られた有機ＥＬディスプレイに対し、電流を流すことにより有機ＥＬディスプレイを発光させ、目視により発光状態の確認を行なった。
【００５４】
以下に評価結果を示す。
【００５５】
画素内に形成されたインターレイヤ層及びインターレイヤ層上の有機発光層の隔壁内形状は基板中心部においてそれぞれ平坦率８４％、８９％であり、従来の凸版印刷法と同等の平坦率が得られた。有機発光層形成後の蛍光顕微鏡確認の結果、ほぼ基板全面に対しムラは確認されなかった。また、有機ＥＬディスプレイパネルの発光状態を目視で確認した結果、印刷時起因のモアレやムラは確認されなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】図１は本発明のキャピラリーコート式塗布装置の模式図である。
【図２】図２は本発明の有機ＥＬ素子の断面模式図である。
【符号の説明】
【００５７】
１：基板
２：陽極
３：隔壁
４：正孔輸送層
５：インターレイヤ層
６：有機発光層
７：陰極
８：封止体
８ａ：封止キャップ
８ｂ：接着剤
８ｃ：乾燥剤
１１：キャピラリーコート式塗布装置
１２：インキタンク
１３：ノズル
１４：インキ
１５：シリンダー
１６：印刷版
１７：基体
１８：版に着液したインキ
１９：基体に印刷したインキ
【図１】
2009230882.tif 000003
【図２】
2009230882.tif 000004