(57)【要約】【課題】簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉において対象物のプラズマ処理を可能とする。【解決手段】熱処理室３の内部に第１の絶縁材１１を介して導電材料からなるワーク台１２を設置する工程と、電源装置１３の電極１３１を第２の絶縁材１５を介して熱処理室３を貫通させてワーク台１２と接続する工程と、熱処理室３を接地する工程と、少なくとも電源装置１３及びガス供給装置５を制御することによって熱処理室３の内部にプラズマを発生させる第２の制御装置１４を設置する工程とを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電材料からなると共に内部に収容した対象物に対する熱処理が行われる熱処理室と、該熱処理室の内部を真空引きする真空ポンプと、前記熱処理室に処理ガスを供給するガス供給装置と、少なくとも前記真空ポンプ及び前記ガス供給装置を制御する第１の制御装置とを備える既設の真空熱処理炉への機能付加方法であって、
前記熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台を設置する工程と、
電源装置の電極を第２の絶縁材を介して前記熱処理室を貫通させて前記ワーク台と接続する工程と、
前記熱処理室を接地する工程と、
少なくとも前記電源装置及び前記ガス供給装置を制御することによって熱処理室の内部にプラズマを発生させる第２の制御装置を設置する工程と
を有することを特徴とする真空熱処理炉への機能付加方法。
【請求項２】
熱処理室の内部に前記対象物を案内するレールが既設されている場合に、前記第１の絶縁材が前記レール上に配置されることを特徴とする請求項１記載の真空熱処理炉への機能付加方法。
【請求項３】
導電材料からなると共に内部に収容した対象物に対する熱処理が行われる熱処理室と、該熱処理室の内部を真空引きする真空ポンプと、前記熱処理室に処理ガスを供給するガス供給装置とを備える真空熱処理炉における処理方法であって、
前記熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台を設置すると共に該ワーク台上に前記対象物を載置し、
前記真空ポンプによって前記熱処理室を真空引きすると共に前記ガス供給装置によって前記熱処理室にプラズマ処理ガスを供給し、
前記熱処理室を接地すると共に前記ワーク台に電圧を印加することによって前記プラズマ処理ガスを励起させてプラズマを発生させて前記対象物に対してプラズマ処理を行う
ことを特徴とする真空熱処理炉における処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物に対して真空雰囲気にて熱処理を行う真空熱処理炉への機能付加方法及び真空熱処理炉における処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、金属からなる部品等の対象物を真空雰囲気にて加熱処理した後に冷却処理することによって、いわゆる焼入れ処理を行う真空熱処理炉が知られている。
真空熱処理炉は、導電材料からなると共に内部に収容した対象物に対する熱処理が行われる熱処理室と、該熱処理室の内部を真空引きする真空ポンプと、熱処理室に浸炭ガス等の処理ガスを供給するガス供給装置とを備えており、真空ポンプにて熱処理室の内部を真空引きすると共にガス供給装置にて処理ガスを熱処理室に供給した状態にて対象物の熱処理が行われる。
そして、このような真空熱処理炉は、多くの工場に既に設置されており、稼動されている。
【特許文献１】特開２００５−２９８７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで近年においては、工場において、対象物を焼入れ処理するのみでなく、その表面に対してプラズマ処理を行いたいという要望がある。
しかしながら、対象物に対してプラズマ処理を行う場合には、真空熱処理炉の他に、プラズマ処理炉を設置する必要がある。このため、対象物に対してプラズマ処理を行う場合には、プラズマ処理炉を設置するための膨大なコストと時間が必要となる。
【０００４】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉において対象物のプラズマ処理を可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明の真空熱処理炉への機能付加方法は、導電材料からなると共に内部に収容した対象物に対する熱処理が行われる熱処理室と、該熱処理室の内部を真空引きする真空ポンプと、上記熱処理室に処理ガスを供給するガス供給装置と、少なくとも上記真空ポンプ及び上記ガス供給装置を制御する第１の制御装置とを備える既設の真空熱処理炉への機能付加方法であって、上記熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台を設置する工程と、電源装置の電極を第２の絶縁材を介して上記熱処理室を貫通させて上記ワーク台と接続する工程と、上記熱処理室を接地する工程と、少なくとも上記電源装置及び上記ガス供給装置を制御することによって熱処理室の内部にプラズマを発生させる第２の制御装置を設置する工程とを有することを特徴とする。
【０００６】
このような特徴を有する本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によれば、導電材料からなるワーク台が第１の絶縁材を介して熱処理室の内部に設置され、このワーク台に第２の絶縁材を介して熱処理室を貫通された電源装置の電極が接続され、熱処理室が接地され、さらには少なくとも電源装置及びガス供給装置を制御する第２の制御装置が設置される。
【０００７】
また、本発明の真空熱処理炉への機能付加方法においては、熱処理室の内部に上記対象物を案内するレールが既設されている場合に、上記第１の絶縁材が上記レール上に配置されるとうい構成を採用する。
【０００８】
次に、本発明の真空熱処理炉における処理方法は、導電材料からなると共に内部に収容した対象物に対する熱処理が行われる熱処理室と、該熱処理室の内部を真空引きする真空ポンプと、上記熱処理室に処理ガスを供給するガス供給装置とを備える真空熱処理炉における処理方法であって、上記熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台を設置すると共に該ワーク台上に上記対象物を載置し、上記真空ポンプによって上記熱処理室を真空引きすると共に上記ガス供給装置によって上記熱処理室にプラズマ処理ガスを供給し、上記熱処理室を接地すると共に上記ワーク台に電圧を印加することによって上記プラズマ処理ガスを励起させてプラズマを発生させて上記対象物に対してプラズマ処理を行うことを特徴とする。
【０００９】
このような特徴を有する本発明の真空熱処理炉における処理方法によれば、熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台が設置され、このワーク台に対象物が載置され、熱処理室が真空引きされると共に熱処理室にプラズマ処理ガスが供給され、熱処理室が設置されると共にワーク台に電圧が印加されることによってプラズマが発生され、当該プラズマによって対象物に対してプラズマ処理が行われる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によれば、導電材料からなるワーク台が第１の絶縁材を介して熱処理室の内部に設置され、このワーク台に第２の絶縁材を介して熱処理室を貫通された電源装置の電極が接続され、熱処理室が接地され、さらには少なくとも電源装置及びガス供給装置を制御する第２の制御装置が設置される。
このような簡易な構成を追加することによって、真空ポンプによって熱処理室を真空引きし、ガス供給装置によって熱処理室にプラズマ処理ガスを供給し、ワーク台に電圧を印加することによってプラズマを発生させることができるため、ワーク台に対象物を載置することによって対象物に対してプラズマ処理を行うことが可能となる。すなわち、簡易な構成を追加することによって、真空熱処理炉に対象物のプラズマ処理という新たな機能を付加することができる。
したがって、本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によれば、簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉において対象物のプラズマ処理を行うことが可能となる。
【００１１】
また、本発明の真空熱処理炉における処理方法によれば、熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台が設置され、このワーク台に対象物が載置され、熱処理室が真空引きされると共に熱処理室にプラズマ処理ガスが供給され、熱処理室が設置されると共にワーク台に電圧が印加されることによってプラズマが発生され、当該プラズマによって対象物に対してプラズマ処理が行われる。
つまり、既設の真空熱処理炉に対して、熱処理室の内部に第１の絶縁材を介して導電材料からなるワーク台を設置すると共に該ワーク台上に対象物を載置し、真空ポンプによって熱処理室を真空引きすると共にガス供給装置によって熱処理室にプラズマ処理ガスを供給し、熱処理室を接地すると共にワーク台に電圧を印加することのみで、既設の真空熱処理炉において対象物に対するプラズマ処理を行うことが可能となる。
したがって、本発明の真空熱処理炉における処理方法によれば、簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉において対象物のプラズマ処理を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本発明に係る真空熱処理炉への機能付加方法及び真空熱処理炉における処理方法の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１３】
図１〜図３は、対象物であるワークＷのプラズマ処理という新たな機能が付加される前の真空熱処理炉１の概略構成を示す図である。なお、図１が真空熱処理炉１の側断面図、図２が真空熱処理炉１の正断面図、図３が真空熱処理炉１の機能構成を示すブロック図である。
【００１４】
真空熱処理炉１は、１つの熱処理室の内部においてワークＷ（対象物）に対して加熱処理及び冷却処理を行う、いわゆるバッチ式の真空熱処理炉であり、図１〜図３に示すように、チャンバ２と、熱処理室３と、真空ポンプ４と、ガス供給装置５と、主制御装置６（第１の制御装置）とを備えている。
【００１５】
チャンバ２は、チャンバ２の内部の圧力状態が変化した場合であってもその圧力に耐えられるように本体部２１が略円筒形状に形状設定されており、この本体部２１の中心軸が水平となるように複数の脚２２によって支持されている。また、チャンバ２の片側端部はクラッチ式扉２３として構成されており開閉可能とされている。
そして、このように構成されるチャンバ２は、導電性の材料によって形成されている。
【００１６】
熱処理室３は、その内部においてワークＷを加熱処理及び冷却処理するものである。
この熱処理室３の上記クラッチ式扉２３側の側壁部３１は、脱着可能とされており、クラッチ式扉２３の内側と接続されている。そして、クラッチ式扉２３を開けることによって側壁部３１が脱離され、熱処理室３の内部にワークＷを搬入あるいは熱処理室３の内部からワークを搬出することができる構成とされている。また、クラッチ式扉２３が閉じられている場合には、熱処理室３は、側壁部３１が装着された状態となり、熱処理室３が閉じられた状態となる。
また、熱処理室３の天井部３２と床部３３とは、後述する冷却ガスを通過可能とするために格子状に形状設定されている。
そして、熱処理室３は、導電材料によって形成されており、チャンバ２の内部を上下に二分すると共に同じく導電材料によって形成された仕切り板７によってチャンバ２に固定されることによって支持されている（図２参照）。
【００１７】
また、この熱処理室３の内部には、ワークＷを載置するための載置台３４が配置されており、この載置台３４にはワークＷの搬出入を容易にするためのレール３５が複数設置されている。
さらに、熱処理室３の内部には、ワークＷを加熱処理するためのヒータ３６、熱処理室３の内部温度を測定する温度計３７、及び熱処理室３の内部圧力を測定する圧力計３８が設置されている。そして、ヒータ３６、温度計３７及び圧力計３８は、不図示の配線によってチャンバ２の外部に設置される主制御装置６と電気的に接続されている（図３参照）。
【００１８】
真空ポンプ４は、チャンバ２の本体部２１に対して接続されており、チャンバ２の内部を真空引きすることによって同時に熱処理室３の内部の真空引きを行うものである。
そして、真空ポンプ４は、図３に示すように主制御装置６と電気的に接続されており、主制御装置６によって制御される。
【００１９】
ガス供給装置５は、熱処理室３の内部に挿通された供給配管５１を介して浸炭ガス等の処理ガスを熱処理室３に供給するものである。
そして、ガス供給装置５は、図３に示すように主制御装置６と電気的に接続されており、主制御装置６によって制御される。
【００２０】
主制御装置６は、真空熱処理炉１の動作の全体を統括的に制御するものであり、上述のように、ヒータ３６、温度計３７、圧力計３８、真空ポンプ４及びガス供給装置５と電気的に接続されている。
そして、主制御装置６は、自らが予め記憶するワークＷの熱処理のためのプログラム、温度計３７からの入力信号及び圧力計３８からの入力信号に基づいてヒータ３６、真空ポンプ４及びガス供給装置５を制御する。
【００２１】
なお、チャンバ２の内部には、熱交換器８及びファン９が設置されており、ワークＷの冷却処理の際に供給される冷却ガスを熱交換器８にて冷却すると共にファン９によって循環させるように構成されている。  
これらの熱交換器８及びファン９も主制御装置６と電気的に接続され（図３においては不図示）、主制御装置６によって制御される。
【００２２】
このように構成された真空熱処理炉１においては、主制御装置６の制御の下、ワークＷが熱処理室３に載置された状態にて加熱処理及び冷却処理が行われ、ワークＷに対して焼入れ処理を行う。
具体的には、主制御装置６は、真空ポンプ４にてチャンバ２及び熱処理室３の内部の真空引きをした後に、ヒータ３６を発熱させると共にガス供給装置５から浸炭ガス等を熱処理室３に供給することによって、加熱処理を行う。
このような加熱処理の後、主制御装置６は、ガス供給装置５から冷却ガスを熱処理室３に供給すると共に熱交換器８によって冷却ガスを冷却し、さらにファン９によって冷却ガスを循環させ、これによってワークＷの冷却処理を行う。
なお、主制御装置６は、加熱処理及び冷却処理を行うにあたり、温度計３７及び圧力計３８からの入力信号に基づいて、熱処理室３の温度及び圧力を管理する。
【００２３】
次に、このような真空熱処理炉１に対してワークＷに対するプラズマ処理を行う機能を追加する方法（本発明の真空熱処理炉への機能付加方法）及び真空熱処理炉１にてプラズマ処理を行う方法（本発明の真空熱処理炉における処理方法）について、図４〜７を参照して説明する。
【００２４】
まず、図４〜図６は、ワークＷに対するプラズマ処理を行う機能が追加された真空熱処理炉１（以下、機能付加型真空熱処理炉１０と称する）の概略構成を示す図である。なお、図３が機能付加型真空熱処理炉１０の側断面図、図２が機能付加型真空熱処理炉１０の正断面図、図３が機能付加型真空熱処理炉１０の機能構成を示すブロック図である。
【００２５】
これらの図に示すように、機能付加型真空熱処理炉１０は、真空熱処理炉１に対して、絶縁材１１（第１の絶縁材）と、ワーク台１２と、電源装置１３と、副制御装置１４（第２の制御装置）とを新たな構成として追加された構成を有している。
【００２６】
絶縁材１１は、セラミックス等の絶縁材料によって形成されており、熱処理室３のレール３５上に複数配置されている。またワーク台１２は、導電材料によって形成されており、複数の絶縁材１１を介して熱処理室３の内部に収容されている。すなわち、ワーク台１２は、絶縁材１１を介して熱処理室３の内部に収容されることにより熱処理室３及びチャンバ２に対して電気的に絶縁された状態とされている。
【００２７】
電源装置１３は、チャンバ２の外部に副制御装置１４と一体に設置されており、電極１３１を介してワーク台１２と電気的に接続されている。そして、電源装置１３は、副制御装置１４と電気的に接続されており（図６参照）、副制御装置１４の制御の下に、ワーク台１２に対して電圧を印加する。
また、電源装置１３の電極１３１は、チャンバ２に接続されたフランジ２４及び熱処理室３の壁部を貫通してワーク台１２に対して接続されている。なお、電極１３１とチャンバ２との間及び電極１３１と熱処理室３との間には、セラミックス等の絶縁材料によって形成される絶縁材１５が配置されており、電極１３１と、チャンバ２及び熱処理室３とが電気的に絶縁された状態とされている。
【００２８】
副制御装置１４は、ワークＷに対するプラズマ処理を行うためのプログラムを記憶すると共に、電源装置１３と直接接続されると共に、主制御装置６を介してヒータ３６、温度計３７、圧力計３８、真空ポンプ４及びガス供給装置５と間接的に接続されている。
そして、副制御装置１４は、電源装置１３及びガス供給装置５を制御することによって、ワークＷに対するプラズマ処理を行う。
【００２９】
なお、機能付加型真空熱処理炉１０においては、チャンバ２及び熱処理室３が設置されており、またガス供給装置５から熱処理室３の内部にプラズマ処理ガスが供給可能とされている。
【００３０】
そして、このような構成を有する機能付加型真空熱処理炉１０は、例えば、図７に示すフローチャートに示す、ワーク台設置工程（ステップＳ１）、電極接続工程（ステップＳ２）、及び副制御装置設置工程（ステップＳ３）を経て、真空熱処理炉１に対して上記構成を付加することによって形成される。
詳細には、ワーク台設置工程（ステップＳ１）にて、熱処理室３のレール３５上に複数の絶縁材１１を嵌め合いにより配置し、これらの絶縁材１１上にワーク台１２を設置する。
そして、電極接続工程（ステップＳ２）にて、電源装置１３の電極１３１を絶縁材１５を介してチャンバ２及び熱処理室３を貫通させてワーク台１２と接続する。
その後、副制御装置設置工程（ステップＳ３）にて、電源装置１３及びガス供給装置５を制御することによって熱処理室３の内部にプラズマを発生させる副制御装置１４を設置する。
【００３１】
このような図７に示す簡易な工程を経ることによって、機能付加型真空熱処理炉１０が形成される。
そして、真空熱処理炉１においてプラズマ処理を行う場合には、図７に示す工程にて真空熱処理炉１を機能付加型真空熱処理炉１０とし、ワーク台１２上にワークＷを載置し、真空ポンプ４によって熱処理室３を真空引きすると共にガス供給装置５によって熱処理室３にプラズマ処理ガスを供給し、チャンバ２及び熱処理室３を接地した状態にて電源装置１３によりワーク台１２に電圧（負極）を印加することによってプラズマ処理ガスを励起させてプラズマを発生させ、このプラズマによってワークＷの表面処理を行う。
【００３２】
なお、本実施形態においては、ワークＷに対するプラズマ処理を行う場合には、主制御装置６によって真空ポンプ４が制御され、副制御装置１４によって電源装置１３及びガス供給装置５が制御される。なお、副制御装置１４は、ガス供給装置５と直接電気的に接続されていないため、主制御装置６を介してガス供給装置５を制御する。
【００３３】
ここで、図８を参照して、プラズマ処理における真空ポンプ４、電源装置１３及びガス供給装置５の具体的な制御タイミングについて説明する。
なお、図８において、Ａがチャンバ２（熱処理室３）内部の時間による圧力変化を示すグラフであり、ＢがワークＷの温度を示すグラフである。
【００３４】
この図に示すように、まず主制御装置６によって真空ポンプ４が稼動させることによってチャンバ２（熱処理室３）の圧力を、副制御装置１４が予め記憶する第１の設定圧力Ｐ１まで低下させる。なお、チャンバ２内の圧力は、熱処理室３の内部に配置された圧力計３８を介して主制御装置６が取得する。
【００３５】
そして、チャンバ２の圧力が第１の設定圧力Ｐ１まで低下されると、副制御装置１４が主制御装置６を介してガス供給装置５を制御することにより、副制御装置１４が予め記憶する第２の設定圧力Ｐ２となるまでプラズマ処理ガスを熱処理室３内に供給する。
【００３６】
このようにして熱処理室３の圧力が第２の設定圧力Ｐ２となると、副制御装置１４が電源装置１３を制御してワーク台１２に負極電圧を印加する。
この結果、ワークＷの温度が上昇すると共に熱処理室３の内部のプラズマ処理ガスが励起されてプラズマが発生し、当該プラズマによってワークＷの表面処理が行われる。
そして、副制御装置１４は、ワークＷの温度が予め記憶する設定温度Ｔに維持されるように電源装置１３を制御する。なお、ワークＷの温度は、熱処理室３の内部に配置された温度計３７を介して主制御装置６が取得する。
【００３７】
続いて、副制御装置１４が、予め記憶する処理時間が経過したことを確認した後、電源装置１３の電圧を切断する。この結果、プラズマが消滅すると共にワークＷが冷却される。なお、副制御装置１４は、ワークＷが冷却されるまでの間は、熱処理室３の圧力を第２の設定圧力Ｐ２に維持する。
そして、ワークＷが冷却されると、チャンバ２のクランプ式扉２３が開放されて、熱処理室３からワークＷが取り出される。
【００３８】
なお、具体的には、プラズマ処理ガスとして、例えばアンモニア等の窒化ガスを用いることによって、ワークＷの表面を窒化処理することができる。
【００３９】
以上のような本実施形態の真空熱処理炉１へワークＷに対するプラズマ処理を行う機能を追加する方法（本発明の真空熱処理炉への機能付加方法）によれば、導電材料からなるワーク台１２が絶縁材１１を介して熱処理室３の内部に設置され、このワーク台１２に絶縁材１５を介して熱処理室３を貫通された電源装置１３の電極１３１が接続され、熱処理室３が接地され、さらには少なくとも電源装置１３及びガス供給装置５を制御する副制御装置１４が設置される。
そして、このような簡易な構成を追加することによって、真空ポンプ４によって熱処理室３を真空引きし、ガス供給装置５によって熱処理室３にプラズマ処理ガスを供給し、ワーク台１２に電圧を印加することによってプラズマを発生させることができるため、ワーク台１２に対象物を載置することによってワークＷに対してプラズマ処理を行うことが可能となる。すなわち、簡易な構成を追加することによって、真空熱処理炉１にワークＷのプラズマ処理という新たな機能を付加することができる。
したがって、本実施形態の真空熱処理炉１へワークＷに対するプラズマ処理を行う機能を追加する方法によれば、別途プラズマ処理炉を設置することなく、簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉１において対象物のプラズマ処理を行うことが可能となる。
【００４０】
また、本実施形態の真空熱処理炉１にてプラズマ処理を行う方法（本発明の真空熱処理炉における処理方法）によれば、熱処理室３の内部に絶縁材１１を介して導電材料からなるワーク台１２が設置され、このワーク台１２にワークＷが載置され、熱処理室３が真空引きされると共に熱処理室３にプラズマ処理ガスが供給され、熱処理室３が設置されると共にワーク台１２に電圧が印加されることによってプラズマが発生され、当該プラズマによってワークＷに対してプラズマ処理が行われる。
つまり、既設の真空熱処理炉１に対して、熱処理室３の内部に絶縁材１１を介して導電材料からなるワーク台１２を設置すると共に該ワーク台１２上にワークＷを載置し、真空ポンプ４によって熱処理室３を真空引きすると共にガス供給装置５によって熱処理室３にプラズマ処理ガスを供給し、熱処理室３を接地すると共にワーク台１２に電圧を印加することのみで、既設の真空熱処理炉１において対象物に対するプラズマ処理を行うことが可能となる。
したがって、本発明の真空熱処理炉における処理方法によれば、別途プラズマ処理炉を設置することなく、簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉１においてワークＷのプラズマ処理を行うことが可能となる。
【００４１】
以上、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４２】
例えば、上記実施形態においては、真空熱処理炉１としてバッチ式の真空熱処理炉を挙げて説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、連続式の真空熱処理炉に適用することもできる。
【００４３】
また、上記実施形態においては、プラズマ処理においてガス供給装置５から供給されるプラズマ処理ガスとして窒化ガスを挙げて説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、他のプラズマ処理ガスを用いることも可能である。
【００４４】
また、上記実施形態においては、副制御装置１４が主制御装置６と電気的に接続され、プラズマ処理の際に副制御装置１４及び主制御装置６によって真空熱処理炉１（機能付加型真空熱処理炉１０）を制御する構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、主制御装置６の機能の一部（例えば、真空ポンプ４の制御、温度計３７から熱処理室３の内部温度を取得する機能、及び圧力計３８から熱処理室３の内部圧力を取得する機能）を予め副制御装置１４に備えさせると共に副制御装置１４を主制御装置６を介さずに各種装置と直接電気的に接続することで、プラズマ処理の際に副制御装置１４のみによって真空熱処理炉１（機能付加型真空熱処理炉１０）を制御することができる。
【００４５】
また、上記実施形態においては、絶縁材１１を熱処理室３のレール３５上に配置し、この絶縁材１１上にワーク台１２を載置する構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、熱処理室３内に絶縁材１１を組み上げ、この組み上げた絶縁材１１上にワーク台１２を配置しても良い。
【００４６】
また、上記実施形態においては、電極１３１とチャンバ２との間、及び電極１３１と熱処理室３との間の各々に絶縁材１５を配することによって、電極１３１とチャンバ２及び熱処理室３との絶縁を確保している。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、電極１３１を予め絶縁材１５で包み、この絶縁材１５で包まれた電極１３１をチャンバ２及び熱処理室３に挿通させることによって、電極１３１とチャンバ２及び熱処理室３との絶縁を確保しても良い。
【００４７】
また、上記実施形態においては、予め設置された温度計３７及び圧力計３８を用いてプラズマ処理における熱処理室３の内部環境を取得しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、別途温度計及び圧力計を設置し、当該温度計及び圧力計を用いてプラズマ処理における熱処理室３の内部環境を取得しても良い。
【００４８】
また、上記実施形態においては、熱処理室３が導電材料によって形成され、チャンバ２及び仕切り板７を介して接地している構成、すなわち既に本発明における熱処理室を接地する工程が完了している真空熱処理炉１について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、熱処理室が非導電材料によって形成された真空熱処理炉へ適用することもできる。
なお、このような場合には、本発明の熱処理室を接地する工程として、例えば導電板を熱処理室の内壁に取り付けることによって、熱処理室に導電性を付与させる工程を行う必要がある。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加される真空熱処理炉の概略構成を示した側断面図である。
【図２】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加される真空熱処理炉の概略構成を示した正断面図である。
【図３】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加される真空熱処理炉の機能構成を示す機能ブロック図である。
【図４】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加された機能付加型真空熱処理炉の概略構成を示した側断面図である。
【図５】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加された機能付加型真空熱処理炉の概略構成を示した正断面図である。
【図６】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加された機能付加型真空熱処理炉の機能構成を示すブロック図である。
【図７】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法を示すフローチャートである。
【図８】本発明の真空熱処理炉への機能付加方法によって機能が付加された機能付加型真空熱処理炉によるプラズマ処理を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
１……真空熱処理炉、２……チャンバ、３……熱処理室、４……真空ポンプ、５……ガス供給装置、６……主制御装置（第１の制御装置）、１０……機能追加型真空熱処理炉、１１……絶縁材（第１の絶縁材）、１２……ワーク台、１３……電源装置、１３１……電極、１４……副制御装置（第２の制御装置）、１５……絶縁材（第２の絶縁材）、Ｗ……ワーク（対象物）
【図１】
2009149961.tif 000003
【図２】
2009149961.tif 000004
【図３】
2009149961.tif 000005
【図４】
2009149961.tif 000006
【図５】
2009149961.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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