(57)【要約】【課題】高さの異なる3次元パターンを、低コストで自在に形成できるパターン形成方法を提供する。【解決手段】光硬化型感光性組成物塗布膜にスポット状に集光した活性光線を走査させ照射した後に現像することにより３次元パターンを形成する方法であって、スポットの円相当径が最も小さくなる位置の高さを変化させながら活性光線を走査させ照射することによって、位置によって高さの異なる３次元パターンを形成する。【選択図】図１
2009058709.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化型感光性組成物塗布膜にスポット状に集光した活性光線を走査させ照射した後に現像することにより３次元パターンを形成する方法であって、スポットの円相当径が最も小さくなる位置の高さを変化させながら活性光線を走査させ照射することによって、位置によって高さの異なる３次元パターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
活性光線としてレンズで集光したレーザー光線を用いることを特徴とする請求項１記載のパターン形成方法。
【請求項３】
活性光線の光硬化型感光性組成物塗布膜への入射角が１５〜８０°であることを特徴とする請求項1または２に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
光硬化型感光性組成物が、少なくとも、（Ａ）酸性基を有するポリマー、（Ｂ）光反応性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）紫外線吸収剤、および（Ｅ）無機成分、を含有することを特徴とする請求項1〜３のいずれか記載のパターン形成方法。
【請求項５】
（Ｅ）無機成分の含有量が３０〜９５重量％であることを特徴とする請求項４記載のパターン形成方法。
【請求項６】
高さの異なる3次元パターンが、ストライプ状の主隔壁と、該主隔壁と交差するストライプ状の補助隔壁からなる格子状の隔壁パターンであって、該主隔壁と該補助隔壁の高さが異なることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項７】
請求項６に記載のパターンの形成方法を用いて隔壁パターンを形成する工程を含む平面ディスプレイ用パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイ、および蛍光表示管等などの平面ディスプレイに好適なパターンの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイ、蛍光表示管、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、発光ダイオードなどの平面ディスプレイの開発が急速に進められている。このうち、プラズマディスプレイは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で対向するアノード電極とカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体に照射することにより表示を行うものである。プラズマディスプレイや蛍光表示管などのガス放電タイプのディスプレイは、放電空間を仕切るための隔壁を必要とする。また、フィールドエミッションディスプレイなどの電界放射型ディスプレイは、ゲート電極とカソードを隔絶するための隔壁を必要とする。これらガス放電タイプのディスプレイや電界放射型ディスプレイの隔壁の形成においては、ガラスなどの無機材料を高精度かつ自在にパターン加工ができる加工方法が必要である。
【０００３】
プラズマディスプレイに関して、隔壁の形状は従来ストライプ状であったが、放電の漏れを防いで発光効率を上げるために、ワッフル状や格子状などセルを区切った複雑な形状をとるものが多くなっている。一方、セルを区切った場合、前面板と背面板を封着、排気する際の気体の通り道が確保されにくい。そこで、排気の際の気体の通り道を確保するため、隔壁の高さを部分的に低くする方法がある（特許文献１、２）。
【０００４】
従来、無機材料の微細パターン加工を行う方法として、感光性ペースト法によりパターンを形成する方法が提案されている（特許文献３）が、この方法を用いてストライプ状の主隔壁と、該主隔壁と交差するストライプ状の補助隔壁からなる格子状の隔壁パターンであって、該主隔壁と該補助隔壁の高さが異なる隔壁パターンを形成する場合、例えば、次のようにして形成することが出来る。基板上に、焼成後に主隔壁と補助隔壁のうち高さが低い方の隔壁の高さになるような厚みに感光性ペーストを塗布、乾燥して、低い方の隔壁のパターンに露光を行う。次に、前述の基板上に、焼成後に高い方の隔壁と低い方の隔壁の高さの差になる厚みに感光性ペーストを塗布、乾燥して、高い方の隔壁パターンに露光を行う。続いて、現像により未露光部を除去し、さらに高温で焼成することにより有機成分を除去して、無機材料のみからなる高さの異なる隔壁を得ることができる。この方法では、工程が非常に煩雑でコストがかかる上、不良が発生する確率も高くなっていた。また、感光性ペーストを塗布できる厚みの範囲が限られるため、高さの割合を自在に変化させることができなかった。
【特許文献１】特開２００１−１１８５１２(請求項1)
【特許文献２】特開２００１−２３６８９１(請求項１)
【特許文献３】特開２００１−０２３５１５（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来技術の問題点に着目し、高さの異なる3次元パターンを、低コストで自在に形成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために本発明は以下の構成を有する。光硬化型感光性組成物塗布膜にスポット状に集光した活性光線を走査させ照射した後に現像することにより３次元パターンを形成する方法であって、スポットの円相当径が最も小さくなる位置の高さを変化させながら活性光線を走査させ照射することによって、位置によって高さの異なる３次元パターンを形成することを特徴とするパターン形成方法によって達成される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、高さの異なる3次元パターンを、低コストで自在に形成できるパターン形成方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
発明者らは、高さの異なる3次元パターンの形成について鋭意検討を行った結果、以下に述べるようなパターン形成方法によって達成されることを見出した。
【０００９】
すなわち、本発明は、光硬化型感光性組成物塗布膜を形成し、スポット状に集光した活性光線を照射することにより、光照射部分の光硬化型感光性組成物を硬化させる。このとき、スポットの円相当径が最も小さくなる位置の高さを焦点高さとする。焦点高さを光硬化型感光性組成物塗布膜の表面付近に合わせ活性光線を照射すると、光硬化型感光性組成物塗布膜が表面から硬化し、表面は硬化しているが底部は硬化していない状態になる。逆に、焦点高さを基板付近に合わせ活性光線を照射すると、底部から硬化し、表面は硬化していない状態になる。このように、焦点高さを変化させることで、光硬化型感光性組成物塗布膜の高さ方向の硬化度を制御することができる。この状態で現像処理を行えば、光硬化型感光性組成物塗布膜の表面と底部で現像液に対する溶解性が異なるため、高さの異なる3次元パターンを形成することができる。例えば、高さの高い主隔壁と低い補助隔壁からなる格子状隔壁を形成する場合、主隔壁パターンは、焦点高さを表面付近に合わせて適正露光量で露光し、補助隔壁パターンは、焦点高さを底部付近に合わせて低い露光量で露光することで、所望の形状に硬化することができる。さらに、現像処理により未硬化部分を除去し、続いて４５０〜９００℃程度の高温で焼成して有機成分を除去することで、高さの高い主隔壁と低い補助隔壁からなる格子状隔壁を形成することができる。
【００１０】
ここで言う活性光線とは、このような化学反応を起こさしめる２５０〜１１００ｎｍの波長領域の光線を指し、具体的には超高圧水銀灯、メタルハライドランプなどの紫外光線、ハロゲンランプなどの可視光線、ヘリウム−カドミウムレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザーなどの特定波長のレーザー光線等を挙げることができるが、特に好ましいのは、ヘリウム−カドミウムレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザーである。このようなレーザーを用いることにより、焦点高さを容易に変化させることができる。また、活性光線の光硬化型感光性組成物塗布膜に対する入射角を適切に選択することにより、焦点高さによる光硬化型感光性組成物塗布膜高さ方向の照射強度をより容易に制御することが可能となる。
【００１１】
活性光線の光硬化型感光性組成物塗布膜に対する入射角は、１５〜８０°であることが好ましい。入射角を１５〜８０°とすることで、焦点高さが光硬化型感光性組成物塗布膜の高さ方向の化学変化度におよぼす影響を、十分大きくすることが可能である。さらに好ましくは、２０〜５０°である。入射角は、例えば、活性光線照射装置に適切な対物レンズを取り付けることで選択できる。
【００１２】
本発明に好適に用いられる光硬化型感光性組成物は、（Ａ）酸性基を有するポリマーを含有することが好ましい。酸性基を有することで、アルカリ現像液への可溶性を付与することができる。（Ａ）酸性基を有するポリマーの含有量は、溶剤を除く光硬化型感光性組成物中の１〜７０重量％であることが好ましい。さらに好ましくは、５〜３０重量％である。（Ａ）酸性基を有するポリマーの含有量をこの範囲とすることで、現像液耐性と現像液溶解性を適正に保つことができる。
【００１３】
（Ａ）酸性基を有するポリマーの酸性基としては、ヒドロキシル基、フェノール基、カルボキシル基、スルホニル基、リン酸基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。カルボキシル基は、極性が十分に大きく、かつ焼成時にNOｘやSOｘなどの有害ガスを発生しない観点から、特に好ましく用いられる。酸性基の含有量は、ポリマー酸価にして４０〜２００ｍｇ／ｇである。ここで言うポリマー酸価とは、ポリマー１ｇを中和するのに必要なＫＯＨの重量である。ポリマー酸価をこの範囲とすることで、アルカリ可溶性を十分に保ち、かつ貯蔵安定性に優れたポリマーを得ることができる。
【００１４】
本発明においては、酸性基を有するポリマーの側鎖に酸性基を導入するために、ポリマーの共重合成分として、エチレン性不飽和カルボン酸などのエチレン性不飽和酸を用いる事が好ましい。エチレン性不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸やこれらの酸無水物を挙げることができる。中でも、ポリマーを容易に作製できるラジカル重合やアニオン重合、カチオン重合法を用いて酸性基を有するポリマーを作製する場合は、反応性が高いアクリル酸やメタクリル酸を用いることが好ましい。
【００１５】
上記共重合成分と重合可能なその他の共重合成分としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、シクロへキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、アリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および上記化合物のアクリレートをメタクリレートに変えたものが挙げられる。本発明ではこれらを１種または２種以上組み合わせて使用することができる。
【００１６】
本発明の（Ａ）酸性基を有するポリマーは、さらに、側鎖にエチレン性不飽和基を有することが好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有することで、ポリマーに感光性を付与することができる。光硬化型感光性組成物中のポリマー成分が感光性を有することで、塗布膜における露光部分の架橋密度が増すので、現像液耐性が強化される。その結果、露光部と未露光部の現像液に対する溶解性のコントラストが向上するので、高精細なパターンを精度良く形成することができる。
【００１７】
エチレン性不飽和結合を導入する方法として、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、ヒドロキシル基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド、マレイン酸などのカルボン酸を反応させて作る方法がある。特に簡易的にエチレン性不飽和基を導入する好ましい方法として、ポリマー側鎖の酸性基に対してグリシジル基やイソシアネート基を有するチレン性不飽和化合物を反応させる方法を以下に説明する。
【００１８】
グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどが挙げられる。とりわけ、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。
【００１９】
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアナート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネートなどがある。また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中の酸性基に対して０．０５〜１モル当量添加させることが好ましく、さらに好ましくは０．１〜１．０モル当量である。添加量が０．０５モル当量未満では感光特性が不良となり、高精細パターンの形成が困難となりやすく、１モル当量より大きい場合は、残存酸性基数が不足となり、未露光部の溶解性が低下する傾向があるので好ましくない。
【００２０】
本発明の（Ａ）酸性基を有するポリマーの重量平均分子量は、好ましくは５０００〜５００００、さらに好ましくは８０００〜３５０００である。ポリマーの重量平均分子量をこの範囲とすることで、光硬化型感光性組成物に所望の流動性を付与することができるとともに、未露光部の現像液耐性と露光部の現像液可溶性を両立することができる。
【００２１】
本発明で好適に用いられる光硬化型感光性組成物は、さらに（Ｂ）光反応性化合物を含有することが好ましい。光反応性化合物の含有量は、溶剤を除く光硬化型感光性組成物中、１〜４０重量％であることが好ましい。光反応性化合物の含有量をこの範囲とすることにより、光硬化型感光性組成物の化学変化による現像液溶解性のコントラストを適度に保つことができるとともに、保存安定性の良好な光硬化型感光性組成物を得ることができる。さらに好ましくは、３〜３０重量％である。
【００２２】
光反応性化合物としては、光硬化を有する炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物を用いることができ、例えばアルコール類（例えば、エタノール、プロパノール、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなど）のアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル、カルボン酸（例えば、酢酸プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸など）とアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジル、またはテトラグリシジルメテキシリレンジアミンとの反応生成物、アミド誘導体（例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、メチレンビスアクリルアミドなど）、エポキシ化合物とアクリル酸またはメタクリル酸との反応物などを挙げることができる。また、多官能光反応性化合物において、不飽和基は、アクリル、メタクリル、ビニル、アリル基が混合して存在しても良い。
【００２３】
その具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換した化合物、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに置換したもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。また、多官能化合物において、不飽和結合を有する基はアクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基が混在していてもよい。本発明ではこれらを１���または２種以上使用することができる。
【００２４】
本発明に用いる光重合開始剤は、ラジカル種を発生するものから選んで用いられる。光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、アルキル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロペンアミニウムクロリド一水塩、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２ーヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イロキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパナミニウムクロリド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、メチルフェニルグリオキシエステル、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフルオロフォスフェイト（１−）、ジフェニルスルフィド誘導体、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ベンジルメトキシエチルアセタール、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、Ｎ−フェニルグリシン、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイルおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせなどが挙げられる。
【００２５】
本発明では、これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、溶剤を除く光硬化型感光性組成物に対し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは、０．１〜１０重量％である。重合開始剤の量が少なすぎると光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎる場合には露光部の残存率が小さくなる恐れがある。
【００２６】
光重合開始剤と共に増感剤を使用して感度を向上し、反応に有効な波長範囲を拡大することができる。増感剤の具体例としては、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニルビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。
【００２７】
また、増感色素を用いることも好ましい。例えば、クマリン系色素、ケトクマリン系色素、キサンテン系色素、チオキサンテン系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、ローダシアニン系色素、スチリル系色素、ベーススチリル系色素、オキソノール系色素などを挙げることができる。
【００２８】
本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の光硬化型感光性組成物に添加する場合、その添加量は溶剤を除く光硬化型感光性組成物に対して好ましくは０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなる恐れがある。
【００２９】
本発明に好適に用いられる光硬化型感光性組成物は、（Ｄ）紫外線吸収剤を含有する。紫外線吸収剤を含有することで、露光光によるペースト内部の散乱光を吸収し、露光部と未露光部のコントラストを高め、活性光線照射時の焦点高さによる硬化度を容易に制御することができる。（Ｄ）紫外線吸収剤の具体例としてはベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物、無機系の微粒子酸化金属などが挙げられる。これらの中でもベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物が特に有効である。これらの具体例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｎ−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−エチルへキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、インドール系の紫外線吸収剤であるＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０１（オリエント化学社製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０２（オリエント化学社製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９１１（オリエント化学社製）、ＳＯＭ−２−０００８（オリエント化学社製）、ベーシックブルー、スダンブルー、スダンＲ、スダンI、スダンII、スダンIII、スダンIV、オイルオレンジＳＳ、オイルバイオレット、オイルイエローＯＢ（以上、アルドリッチ社）などが挙げられるがこれらに限定されない。さらに、これら紫外線吸収剤の骨格にメタクリル基などを導入し反応型として用いても良い。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。
【００３０】
本発明における紫外線吸収剤として、光褪色性化合物を用いることもできる、光褪色性化合物とは、活性光線の波長領域の光を照射したときに、活性光線の波長領域の光を吸収し、光分解や光変性などの化学構造の変化を通し、活性光源の波長領域での吸光度が照射前に比べて小さくなるものをいう。光褪色性化合物を光硬化型感光性組成物に添加することによって、パターン設計上、露光光の照射を受けない部分である非露光部への露光光の侵入を防ぐことができる。光褪色性化合物としては、具体的には光褪色性染料、光酸発生剤、光塩基発生剤、ニトロン化合物などの光分解性化合物や、アゾ系染料、フォトクロミック化合物などの光変性化合物が挙げられる。
【００３１】
紫外線吸収剤の含有量は、溶剤を除く光硬化型感光性組成物に対し０．０１〜１０重量％であることが好ましい。含有量をこの範囲とすることで、非露光部と露光部の光硬化のコントラストを明確して露光量マージンを向上させる効果が十分得られると同時に、低感度になることを防ぐことができる。さらに好ましくは、０．０３〜３重量％である。
【００３２】
本発明で用いられる光硬化型感光性組成物は、さらにウレタン化合物を含有することが好ましい。ウレタン化合物を含有することにより、感光性組成物塗布膜の柔軟性が向上し、焼成時の応力を小さくでき、亀裂や断線などの欠陥を効果的に抑制できるためである。また、ウレタン化合物を含有することにより、熱分解性が向上し、焼成工程において焼成残渣が発生しにくくなる。
【００３３】
本発明で好ましく用いられるウレタン化合物の具体例としては、ＵＡ−３４０Ｐ（分子量３００００）、ＵＡ−２２３５ＰＥ（分子量１８０００）、ＵＡ−３２３８ＰＥ（分子量１９０００、ＥＯ含有率）、ＵＡ−３３４８ＰＥ（分子量２２０００）、ＵＡ−５３４８ＰＥ（分子量３９０００）（以上、新中村化学（株）製）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物は混合して用いてもよい。
【００３４】
ウレタン化合物の含有量は、光硬化型感光性組成物中の０．１〜１０重量％であることが好ましい。含有量を０．１重量％以上とすることで、光硬化型感光性組成物塗布膜の柔性を十分に向上することができ、焼成時の焼成収縮応力を緩和することができる。また、１０重量％以内とすることで、有機成分と無機成分の分散性を維持することができ、かつ、光反応化合物および光重合開始剤の相対濃度を低下しすぎず、欠陥を抑制することができる。
【００３５】
感光性組成物を基板に塗布する時の粘度を塗布方法に応じて調整するために、有機溶媒を用いることができる。このとき使用される有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００３６】
本発明に用いられる（Ｅ）無機成分は、溶剤を除く感光性組成物中の３０〜９０重量％であることが好ましい。無機成分をこの範囲とすることで、感光性組成物中の感光成分の濃度を十分高く維持し感光性を維持するとともに、焼成収縮応力を低減し、焼成時欠陥を抑制することができる。（Ｅ）無機成分として、低軟化点ガラス粉末を含有することが好ましい。本発明において低軟化点ガラス粉末とは、荷重軟化温度が４００〜６００℃の範囲であるガラス粉末を指す。荷重軟化温度がこの範囲にあることで焼結時にパターンの変形がなく、溶融性も適切となるためである。より好ましい荷重軟化温度の範囲は４５０〜５５０℃である。また、低軟化温度ガラス粉末の無機成分に占める割合は６０体積％〜９０体積％が好ましい。含有割合が６０体積％より小さくなると、焼成時の焼結が困難になり、焼成後のパターンの空隙率の大きくなるため好ましくない。９０体積％より大きくなると、焼成時の無機成分全体の流動性が大きくなってしまうため焼成後のパターン形状の制御が困難になる、焼成後のパターンの機械的強度が小さく衝撃によってパターンの欠けが発生する、などの問題が発生する場合があるため好ましくない。
【００３７】
低軟化点ガラス粉末の屈折率は１．５０〜１．６５であることが好ましい。無機成分と有機成分の屈折率を整合させ、光散乱を抑制することにより高精度のパターン加工が容易になる。また、低軟化点ガラス粉末の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、重量分布曲線における５０％粒子径（平均粒子径）が０．１〜３．０μｍ、最大粒子経（トップサイズ）が２０μｍ以下であることが好ましい。
【００３８】
好ましく使用できる低軟化点ガラス粉末は例えば酸化物表記で下記の組成を有するものである。
【００３９】
酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウム  ３〜１５質量％
酸化ケイ素                                      ５〜３０質量％
酸化ホウ素                                    ２０〜４５質量％
酸化バリウムまたは酸化ストロンチウム            ２〜１５質量％
酸化アルミニウム                              １０〜２５質量％
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム            ２〜１５質量％
上記のように、酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を用い、その合計量が３〜１５質量％、さらには３〜１０質量％であることが好ましい。
【００４０】
また、上記の組成には表記されていないが、酸化亜鉛や酸化チタン、酸化ジルコニウムなどを含有させることも好ましい。
【００４１】
低軟化点ガラス粉末の作製法としては、例えば原料である酸化リチウム、酸化ケイ素、酸化ホウ素、酸化バリウム、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムなどを所定の配合組成となるように混合し、９００〜１２００℃で溶融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕して１〜５μｍの微細な粉末にする。原料は高純度の炭酸塩、酸化物、水酸化物などを使用できる。また、ガラス粉末の種類や組成によっては９９．９９％以上の超高純度なアルコキシドや有機金属の原料を使用し、ゾルゲル法で均質に作製した粉末を使用すると、高電気抵抗かつ緻密で気孔の少ない、高純度な焼成膜が得られるので好ましい。
【００４２】
本発明における無機成分は、フィラー成分を含有することが好ましい。ここでいうフィラー成分とは、パターンの強度や、焼成収縮率を改善するために添加されるものであり、焼成温度でも溶融流動しにくい無機粒子を指す。具体的には、６００℃以下で軟化温度や融点、分解温度を有さず、６００℃において固体として存在するような無機粒子をいう。フィラー成分を添加することで、パターンの焼成による収縮を抑制するとともに、パターンの強度を向上させることができる。本発明におけるシリカ系複合酸化物粒子は、パターン形成性の改良効果に加え、フィラー成分としての機能を併せ持つ。
【００４３】
本発明では、フィラー成分として、シリカ系複合酸化物粒子や、荷重軟化温度が６００〜１２００℃である高軟化点ガラス粉末、コーディエライト、アルミナ、シリカ、マグネシア、ジルコニアなどのセラミックス粉末から選ばれた少なくとも１種をシリカ系複合酸化物粒子と同時に用いることができるが、平均粒子径や平均屈折率の調節のしやすさの点からシリカ系複合酸化物、あるいは高軟化点ガラス粉末から１つ以上選択することが好ましい。
【００４４】
フィラー成分は光硬化型感光性組成物中への分散性や充填性、露光時の光散乱の抑制を考慮し、平均粒子径０．１〜３．０μｍ、平均屈折率１．５０〜１．６５であるものを好ましく使用することができる。
【００４５】
フィラー成分の含有割合は全無機成分に対して１５〜４０体積％となる組成範囲で添加することが好ましい。１５体積％より少ない場合は焼成時にパターンのエッジが崩れやすくなり、良好な形状のパターンが得られない場合がある。また４０体積％より多い場合は形成するパターンの緻密性が低下しやすくなるので好ましくない。
【００４６】
次に、本発明のパターン形成方法について説明する。本発明の光硬化型感光性組成物は、各成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラーなどの混練機器を用いて本混練を行って均質分散し、作製する。また、本混練を終えた光硬化型感光性組成物を適宜、濾過、脱泡しておくことも好ましい。
【００４７】
次に本発明の光硬化型感光性組成物を用いて、ストライプ状の主隔壁と、該主隔壁と交差するストライプ状の補助隔壁からなる格子状の隔壁パターンであって、該主隔壁が該補助隔壁より高い隔壁パターンの作製方法の例を説明する。
【００４８】
まず、基板上に本発明の光硬化型感光性組成物塗布膜を形成する。形成方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いて塗布し、乾燥することができる。塗布厚みは、所望の隔壁の高さと光硬化型感光性組成物の焼成による収縮率を考慮して決めることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、光硬化型感光性組成物の粘度等によって調整できる。乾燥は熱風乾燥機、ＩＲ乾燥機等を用いて行い、乾燥温度や時間は用いた光硬化型感光性組成物の溶剤や塗布膜厚によって調整できる。
【００４９】
次に作製した光硬化型感光性組成物塗布膜を露光する。露光は、フォトマスクを用いずに、直接描画を行う。この際使用される光源は、例えば、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられる。これらの中で、パターン加工性が良好で、かつ焦点高さを容易に制御できるという点から、レーザー光が好ましく最も好ましいのは、半導体レーザーである。描画方法としては、ＤＭＤ（デジタル・ミラー・デバイス）方式、ポリゴンミラー方式などを用いることができる。高さの異なる格子状パターンの形状に露光するためには、例えば、焦点高さを基板面に合わせて高さの低い横隔壁のパターンに描画し、次に焦点高さを膜面に合わせて高さの高い縦隔壁のパターンに描画する。露光条件は塗布厚みにより異なるが、通常、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力のレーザー光源を用いて０．０１〜３０分間露光を行う。
【００５０】
露光後、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度の差を利用して現像を行うが、通常、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行う。現像液としては、アルカリ水溶液が好適に用いられる。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウムや、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム水溶液等を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的にはテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜５質量％、より好ましくは０．１〜１質量％である。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部が除去されにくく、アルカリ濃度が高すぎればパターンが剥離や腐食するおそれがあり好ましくない。また、現像時の現像温度は２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００５１】
現像後、焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や温度は、光硬化型感光性組成物や基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉などを用いることができ、５２０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。
【実施例】
【００５２】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
光硬化型感光性組成物に用いた原料は次の通りである。
酸性基を有するポリマーI：メタクリル酸／メタクリル酸メチル＝１０／９０からなる共重合体（重量平均分子量４２０００、酸価８０）
酸性基を有するポリマーII：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン＝４０／３０／３０からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたもの（重量平均分子量２７０００、酸価１００）
光反応性化合物I：トリメチロールプロパントリメタクリレート
光反応性化合物II：ポリプロピレングリコールジアクリレート
光重合開始剤：ＩＣ３６９（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、チバスペシャリティーケミカルズ社製）
紫外線吸収剤I：スダンIV（東京応化工業株式会社製、吸収波長；３５０ｎｍおよび５２０ｎｍ）
紫外線吸収剤II：ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０１（オリエント化学工業株式会社製、吸収極大波長；３９５ｎｍ）
低融点ガラス：酸化リチウム７質量％、酸化ケイ素２２質量％、酸化ホウ素３３質量％、酸化亜鉛３質量％、酸化アルミニウム１９質量％、酸化マグネシウム６質量％、酸化バリウム５質量％、酸化カルシウム５質量％（荷重軟化点５２９℃、屈折率１．５６）
フィラー：以下の組成からなる高融点ガラス粉末。酸化ナトリウム１質量％、酸化ケイ素／４０質量％、酸化ホウ素／１０質量％、酸化アルミニウム／３３質量％、酸化亜鉛／４質量％、酸化カルシウム／９質量％、酸化チタン／３質量％（荷重軟化点７２８℃、屈折率１．５６）
Ａ．光硬化型感光性組成物の作成
光硬化型感光性組成物は以下の要領で作製した。
【００５３】
酸性基を有するポリマー、光反応性化合物、光重合開始剤、紫外線吸収剤、ウレタン化合物を所定量秤量後、溶媒としてγ−ブチロラクトンを適宜添加して粘度を調整し、低軟化点ガラス、フィラーを添加後、３本ローラー混練機にて混練し、光硬化型感光性組成物とした。各実施例、比較例で用いた添加量を表１に示した。
【００５４】
【表１】
2009058709.tif 000003
【００５５】
Ｂ．プラズマディスプレイの作成方法
作製した光硬化型感光性組成物を用い、プラズマディスプレイ背面版を以下の手順にて作製した。旭硝子株式会社製“ＰＤ−２００”ガラス基板（４２インチ）上に、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィ法により、ピッチ３００μｍ、線幅８０μｍのアドレス電極パターンを形成した。次いで、アドレス電極が形成されたガラス基板上に誘電体層をスクリーン印刷法により２０μｍの厚みで形成した。しかる後、光硬化型感光性組成物をダイコート塗布法によりアドレス電極パターンおよび誘電体層が形成された背面板ガラス基板上に所望の厚みになるように均一に塗布し、１００℃で１０分間乾燥した。乾燥後の光硬化型感光性塗布膜の厚みは１８０μｍであった。
【００５６】
引き続き、ＧａＮ半導体レーザー１（主波長４０５ｎｍ、露光強度１００ｍＷ／ｃｍ２、ＤＭＤ方式、入射角４０°）、あるいは、ＧａＮ半導体レーザー２（主波長４０５ｎｍ、ポリゴンスキャン方式、入射角１０°）を用い、各実施例中に示す焦点高さ、露光パターン、露光量でレーザー露光を行った。露光パターンとしては、主隔壁をピッチ３００μｍ、線幅５０μｍで露光し、補助隔壁をピッチ８００μｍ、幅１００μｍで露光した。焦点高さとは、光硬化型感光性組成物塗布膜表面を０μｍとし、そこから基板面に近づく方向を＋として、光硬化型感光性組成物塗布膜表面からの距離で表した。すなわち、光硬化型感光性組成物塗布膜表面から基板面に１００μｍ近づいた高さを＋１００μｍとした。なお、露光しない部分ではシャッターを閉じ露光量を０mJ/cm2とした。
【００５７】
次に、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．３質量％水溶液をシャワーで１８０秒間かけることにより現像し、シャワースプレーを用いて水洗浄して光硬化していない部分を除去した。さらに、５６０℃で３０分保持して焼成することにより隔壁を形成した。焼成後の主隔壁および補助隔壁の高さは、表面形状測定顕微鏡（株式会社キーエンス製、ＶＦ−７５００）を用いてそれぞれ１０点測定し、平均した値を用いた。なお、主隔壁の高さの測定は交差する隣り合った補助隔壁の中間点で、補助隔壁の高さは交差する隣り合った主隔壁の中間点で測定した。
【００５８】
次に蛍光体層をディスペンサー法にて厚さ２０μｍに形成し、焼成して背面板を得た。
【００５９】
図１は実施例１で作成した背面板の、蛍光体層を形成する前の構造を模式的に示したものである。基板４上にストライプ状のアドレス電極３が形成され、これを覆うように誘電体層２が形成されている。誘電体層２上にアドレス電極３と略平行なストライプ状の主隔壁１ａと、主隔壁１ａと交差し、主隔壁１ａよりも高さの低い補助隔壁１ｂからなる格子状の隔壁が形成されたものである。
【００６０】
続いて、プラズマディスプレイ前面板を以下の手順にて作製した。旭硝子株式会社製“ＰＤ−２００”ガラス基板（４２インチ）上に、フォトエッチング法によりＩＴＯ電極を１μｍの厚みで形成した後、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィ法によりバス電極パターンを形成した。しかる後、透明誘電体層をスクリーン印刷法により３０μｍの厚みで形成した。最後に、５００ｎｍ厚のＭｇＯ膜を電子ビーム蒸着により形成して、前面板を得た。
【００６１】
作製した前面板と背面板を封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、キセノンが５体積％のキセノン−ネオン混合ガスの希ガスを４５０ｍｍＨｇの圧力で封入することによって、プラズマディスプレイのパネル部分を作製した。さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、プラズマディスプレイを作製した。
【００６２】
Ｃ．ディスプレイ特性の評価方法
パネルを隔壁方向に沿って、１列おきに点灯させ、誤放電による点灯、不灯、またはちらつきがないか目視で評価した。評価は、誤放電による点灯セルや不灯セルの数が１個以内ならばディスプレイ特性はＡＡ、２〜４個以内であればディスプレイ特性はＡ、５〜７個以内であればディスプレイ特性はＢ、８個以上でディスプレイパネルとしては不可であり、Ｃとした。
【００６３】
実施例１〜７、比較例１〜３の露光条件および評価結果を表２に示す。
【００６４】
【表２】
2009058709.tif 000004
【００６５】
（実施例１）
表1に示す光硬化型感光性組成物を用い、レーザー１を用い、基板面（＋１８０μｍ）に焦点を合わせて、主隔壁、補助隔壁パターンに露光したあと、光硬化型感光性組成物塗布膜表面に焦点を合わせて、主隔壁を露光した。現像、焼成すると、高さ９０μｍの横隔壁と高さ１２０μｍの縦隔壁を有する格子状隔壁を得ることができた。得られた格子状隔壁は、形状が良好であり、欠陥もなく、パネル特性も良好であった。
【００６６】
（実施例２）
用いる光硬化型感光性組成物と露光条件を変更した以外は実施例１と同様に行った。主隔壁パターンの露光を1回にしても、現像、焼成後に、高さ１００μｍの補助隔壁と高さ１２０μｍの主隔壁を有する格子状隔壁を得ることができた。実施例1と比較して露光量が大きく、焦点高さが高いため、補助隔壁の高さが２０μｍ高くなった。得られた格子状隔壁は、形状が良好であり、欠陥もなく、パネル特性も良好であった。
【００６７】
（実施例３）
用いる光硬化型感光性組成物と露光条件を変更した以外は実施例１と同様に行ったところ、現像、焼成後に、高さ１００μｍの補助隔壁と高さ１２０μｍの主隔壁を有する格子状隔壁を得ることができた。得られた格子状隔壁は、形状が良好であり、欠陥もなく、パネル特性も良好であった。
【００６８】
（実施例４）
用いる光硬化型感光性組成物を変更し、実施例１と同様に行ったところ、現像、焼成後に、高さ９０μｍの補助隔壁と高さ１２０μｍの主隔壁を有する格子状隔壁を得ることができた。得られた格子状隔壁は、形状が良好であった。焼成時に欠陥が２箇所発生したが、ディスプレイとしては良好であった。
【００６９】
（実施例５）
用いる光硬化型感光性組成物と露光条件を変更した以外は実施例１と同様に行ったところ、現像、焼成後に、高さ１１６μｍの補助隔壁と高さ１２０μｍの主隔壁を有する格子状隔壁を得ることができた。得られた格子状隔壁は、形状が良好であり、欠陥もなかった。補助隔壁と主隔壁の高さの差が小さかったため、排気が十分でなく、不灯セルが４箇所発生したが、ディスプレイとしては良好であった。
【００７０】
（実施例６）
用いる光硬化型感光性組成物と露光条件を変更して行った。酸性基を有するポリマー側鎖にエチレン性不飽和基を有さないため、露光量が大きくなった他は、実施例１と同様であった。
【００７１】
（実施例７）
使用レーザーをレーザー２とした他は、実施例１を繰り返した。レーザー2の光硬化型感光性組成物塗布膜への入射角が１０°と小さいため、塗布膜面と基板面の光硬化度のコントラストが低く、補助隔壁と主隔壁の高さの差が小さくなった。そのため、排気が十分でなく、不灯セルが７箇所発生したが、ディスプレイとしては良好であった。
【００７２】
（比較例１）
実施例１と同じ光硬化型感光性組成物を用い、主隔壁、補助隔壁ともに焦点高さを０μｍ、すなわち光硬化型感光性組成物塗布膜表面に合わせた以外は、実施例１と同様に露光を行った。現像時に補助隔壁パターンがはがれ、格子状隔壁は得られなかった。
【００７３】
（比較例２）
比較例1において補助隔壁パターンがはがれたので、補助隔壁の露光量を２倍とした。現像、焼成後に得られた隔壁の高さはどちらも１２０μｍであり、高さが異ならなかった。そのため、排気が十分でなく、不灯セルが８個以上であり、ディスプレイとしては不可であった。
【００７４】
（比較例３）
実施例２と同じ光硬化型感光性組成物を用い、主隔壁、補助隔壁ともに焦点高さを１８０μｍ、すなわち基板表面に合わせた以外は、実施例２と同様に露光を行ったところ、現像後に主隔壁パターン間が埋まり、格子状隔壁は得られなかった。そのため、不灯セルが８個以上であり、ディスプレイとしては不可であった。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】実施例１で作成した背面板の蛍光体層を形成する前の構造を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７６】
１ａ：主隔壁
１ｂ：補助隔壁
２：誘電体層
３：アドレス電極
４：基板
【図１】
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