(57)【要約】【課題】薄膜材料の真空排気系への拡散を抑制しながら、ガス排気抵抗の低減、摩擦磨耗粉の生成抑制および駆動機構のコンパクト化を適切に行えるバッフル駆動機構を提供する。【解決手段】バッフル駆動機構５０は、真空槽１０のガス排気に用い、真空槽１０の壁部に配された排気管１８と、排気管１８内に配され、複数の遮蔽板１１Ｂを有する板状のバッフル１１と、バッフル１１と連結してバッフル１１に回転駆動力を伝達する回転軸２０と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空槽のガス排気に用い、前記真空槽の壁部に配された排気管と、
前記排気管内に配され、複数の遮蔽板を有するバッフルと、
前記バッフルと連結して前記バッフルに回転駆動力を伝達する回転軸と、を備えるバッフル駆動機構。
【請求項２】
前記バッフルの縁部により囲まれた前記バッフルの主面が前記排気管の長手方向と平行になる第１回転形態と、前記バッフルの主面が前記排気管の長手方向と交差する第２回転形態と、を備え、
前記第１回転形態における前記排気管の実効排気速度は、前記第２回転形態における前記排気管の実効排気速度よりも速い請求項１記載のバッフル駆動機構。
【請求項３】
前記バッフルは、前記真空槽と前記真空槽をガス排気可能な真空排気系の冷却部材との間の前記排気管に配されている請求項１記載のバッフル駆動機構。
【請求項４】
前記バッフルは、前記真空槽側の前記排気管の端部に配されている請求項３記載のバッフル駆動機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バッフル駆動機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空成膜装置に用いる真空槽内の残留ガスは、真空槽と真空排気系とを連通する排気管を介して適宜の真空ポンプによって排気される。このような真空排気系に、真空成膜での薄膜形成用の材料（以下、「薄膜材料」と略す）が進入すると、薄膜材料は空気や水分を抱き込んでいるので、真空排気系の排気時間を遅延させる場合がある。このため、排気管の入口付近に、複数の遮蔽板からなる薄膜材料の防着用のバッフル（以下、「バッフル」と略す）が配置され、これにより、真空槽で生成された薄膜材料をバッフルの遮蔽板に積極的に付着させ、当該薄膜材料の真空排気系への進入（回り込み）を防止している。
【０００３】
例えば、特許文献１では、遮蔽板を固定させた形態の固定式のバッフル（特許文献１の図１参照）、および、アクチュエータによってこの遮蔽板の角度を適宜可変させる形態の遮蔽板可動式のバッフル（特許文献１の図２参照）が記載されている。
【０００４】
しかしながら、特許文献１（図１）記載の固定式バッフルの場合、遮蔽板間に形成された隙間を広げれば、バッフルによるガス排気抵抗を少なくできる一方で、薄膜形成中の薄膜粒子の回り込み（排気室への進入）抑制効果が損なわれる。逆に、遮蔽板間に形成された隙間を狭めれば、薄膜形成中の薄膜材料の回り込み抑制効果を適切に発揮できる一方で、バッフルによるガス排気抵抗を増加させる。
【０００５】
つまり、固定式バッフルでは、ガス排気抵抗の抑制および薄膜材料の回り込み抑制の両方を適切に行える遮蔽板の設計が困難である。
【０００６】
これに対し、特許文献１（図２）記載の遮蔽板可動式のバッフルの場合、遮蔽板の角度を適時に変更できるので、固定式バッフルに比べてガス排気抵抗の抑制および薄膜材料の回り込み抑制を改善できる。しかし、この遮蔽板可動式のバッフルでも、排気管内に配されたバッフルによって排気の流れが乱されることには変わりなく、ガス排気抵抗の抑制効果には自ずと限界がある。また、遮蔽板可動式のバッフルでは、バッフルの遮蔽板自体を可動式にしているので、遮蔽板の枚数と同数の可動点が真空領域内に存在する。このような可動点が多数存在すると、部材間の摩擦によって真空中に摩擦磨耗粉が生じるという不都合が起こる。
【０００７】
そこで、遮蔽板固定式のバッフルを真空槽内に配置させ、このバッフル全体を真空槽の壁部に形成された排気入口を塞ぐように移動できるバッフル駆動機構が提案されている（特許文献２参照）。この特許文献２では、真空槽内での可動点がバッフルの単一の駆動軸に限定されるので、特許文献１に記載の遮蔽板可動式のバッフルのように多数の遮蔽板を揺動させる場合と比べて、真空槽内の部材間の摩擦による摩擦磨耗粉の生成を適切に抑制できるとされている。
【特許文献１】特開２００１−２３９１４３号公報（図１、図２）
【特許文献２】特開２００５−１７９７０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献２に記載のバッフル駆動機構を用いると、バッフル全体を真空槽内において動かす必要があるので、駆動機構の大型化（ひいては、真空槽の大型化）や複雑化を招くという不都合がある。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、薄膜材料の真空排気系への拡散を抑制しながら、ガス排気抵抗の低減、摩擦磨耗粉の生成抑制および駆動機構のコンパクト化を適切に行えるバッフル駆動機構を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明は、真空槽のガス排気に用い、前記真空槽の壁部に配された排気管と、前記排気管内に配され、複数の遮蔽板を有するバッフルと、前記バッフルと連結して前記バッフルに回転駆動力を伝達する回転軸と、を備えるバッフル駆動機構を提供する。
【００１１】
また、本発明では、前記バッフルの縁部により囲まれた前記バッフルの主面が前記排気管の長手方向と平行になる第１回転形態と、前記バッフルの主面が前記排気管の長手方向と交差する第２回転形態と、を備え、前記第１回転形態における前記排気管の実効排気速度を、前記第２回転形態における前記排気管の実効排気速度よりも速める方が好ましい。
【００１２】
以上の構成により、本発明の第１回転形態では、真空槽の排気を短時間で行える。
【００１３】
また、本発明の第２回転形態では、真空槽内で生成された薄膜材料の排気管への拡散を適切に防止できるので、真空槽の真空成膜時において、例えば、排気管の内壁面などへの薄膜材料の付着を防止できる。
【００１４】
つまり、本発明のバッフル駆動機構は、バッフルを単一の回転軸を用いて回転させているので、特許文献１の図２に記載のバッフル駆動装置に比較して、真空槽内の部材間の摩擦による摩擦磨耗粉の生成を抑制できるという有利な効果を奏する。
【００１５】
また、本発明のバッフル駆動機構は、バッフルを排気管内において回転できるので、特許文献２記載のバッフル駆動装置と比較しても、駆動機構の大型化や複雑化という不都合が招かないという有利な効果を奏する。
【００１６】
このようにして、本発明のバッフル駆動機構では、薄膜材料の真空排気系への拡散を抑制しながら、ガス排気抵抗の低減、摩擦磨耗粉の生成抑制および駆動機器のコンパクト化を適切に行える。
【００１７】
また、本発明では、前記バッフルを、前記真空槽と前記真空槽をガス排気可能な真空排気系の冷却部材との間の前記排気管に配してもよい。
【００１８】
これにより、冷却部材の表面に、真空槽の真空成膜時に生じる薄膜材料が付着しなくなり、冷却部材の性能低下を防止できる。
【００１９】
また、本発明では、前記バッフルを、前記真空槽側の前記排気管の端部に配してもよい。
【００２０】
これにより、排気口の直後の排気管にバッフルを配することになるので、バッフルによる排気管への材料の回り込み抑制効果を適切に発揮できて都合がよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、薄膜材料の真空排気系への拡散を抑制しながら、ガス排気抵抗の低減、摩擦磨耗粉の生成抑制および駆動機構のコンパクト化を適切に行えるバッフル駆動機構が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２３】
図１は、本発明の実施形態のバッフル駆動機構を用いて成膜できる真空成膜装置の構成例を示した図である。
【００２４】
図２は、本発明の実施形態のバッフル駆動機構を平面視した図である。つまり、図２では、図１のII-II断面線に沿った断面において、回転バッフル１１を平面視した状態の回転バッフル１１が描かれている。但し、図面を簡略化する趣旨から、図１では、図２のバッフル駆動機構５０を、代表的にバッフル１１で表している。
【００２５】
図１に示すように、真空成膜装置１００は、減圧可能な内部１０Ａを有する真空槽１０と、この真空槽１０内の残留ガスを真空排気可能な真空排気系３０と、を備える。
【００２６】
なお、真空槽１０の内部１０Ａは、公知の真空蒸着プロセスやスパッタリングプロセスなどの成膜プロセス用の空間として用いられるが、この内部１０Ａの具体的な構成の説明は省略する。
【００２７】
本実施形態では、真空排気系３０は、真空槽１０のガス排気に用い、真空槽１０の壁部に配された筒状の排気管１８を有しており、この排気管１８内に、板状のバッフル１１を回転可能に配したことを特徴としている（以下、このような回転可能なバッフル１１のことを「回転バッフル１１」という）。
【００２８】
ここでの排気管１８の形状として、図１および図２に示すように、長方形断面の中空が形成された矩形状が想定されているが、これは飽くまで一例に過ぎない。このような排気管の形状は、矩形状に限らず、例えば、円筒形であってもよい。
【００２９】
なお、この回転バッフル１１を駆動するバッフル駆動機構５０の構成（図２参照）および回転バッフル１１の動作（図３参照）の詳細については後述する。
【００３０】
真空排気系３０の粗引きポンプ１５（例えば、油回転ポンプとメカニカルブースタポンプと、を組合せた低真空用のポンプ）は、排気管１８に配されたラフバルブ１７を介して、真空槽１０の壁部に形成された排気口１０Ｂ、ひいては真空槽１０の内部１０Ａに接続している。よって、ラフバルブ１７を開くと、この粗引きポンプ１５を用いて、真空槽１０内を大気圧から所定圧力（例えば５Ｐａ程度の圧力）にまで減圧できる。
【００３１】
真空排気系３０の主ポンプ１４（例えば、油拡散ポンプなどの高真空用のポンプ）は、排気管１８に配されたメインバルブ１６を介して、真空槽１０の壁部に形成された排気口１０Ｂ、ひいては真空槽１０の内部１０Ａに接続している。よって、メインバルブ１６を開くと、この主ポンプ１４を用いて、真空槽１０内を成膜プロセス可能な圧力（例えば６×１０-5Ｐａ程度の圧力）にまで減圧できる。
【００３２】
図１に示すように、メインバルブ１６の前段の排気管１８に、第１冷却コイル１２（冷却部材）が配置されている。また、主ポンプ１４およびメインバルブ１６の間に、第２冷却コイル１３（冷却部材）が配置されている。
【００３３】
第１および第２冷却コイル１２、１３に適宜の冷媒（例えば、代替フロンやヘリウム）を流すと、第１および第２冷却コイル１２、１３に排気ガス中の水分や油などが凍結トラップされる。これにより、真空槽１０に残留する水分の排気速度が速まり、主ポンプ１４（油拡散ポンプの場合）からの真空槽１０への油逆拡散が抑制される。
【００３４】
なお、ここで、第１冷却コイル１２の表面に真空槽１０の真空成膜時に生じる薄膜材料が付着すると、第１冷却コイル１２の性能が低下するので、図１に示すように、回転バッフル１１（詳細は後述）の後段の排気管１８に第１冷却コイル１２を配する方が好ましい。つまり、回転バッフル１１を、真空槽１０と上述の第１冷却コイル１２との間の排気管１８に配するとよい。特に、図１に示すように、回転バッフル１１を、真空槽１０側の排気管１８の端部（排気口１０Ｂの直後の排気管１８の中空領域）に配すると、回転バッフル１１による排気管１８への薄膜材料の回り込み抑制効果を適切に発揮できて都合がよい。
【００３５】
次に、バッフル駆動機構５０の構成について図面を参照しながら説明する。
【００３６】
バッフル駆動機構５０は、図２に示すように、排気管１８内に配された回転バッフル１１と、この回転バッフル１１の枠体１１Ｃの側面１１Ｄ（後述）に連結して回転バッフルに回転駆動力を伝達する回転軸２０と、回転軸２０を中心にして回転バッフル１１を回転させる駆動装置２２（モータなど）と、を備える。
【００３７】
なお、ここでの回転バッフル１１の回転は、駆動装置２２を用いた機械式回転であるが、これに限らず、回転バッフル１１の回転を手動で行ってもよい。
【００３８】
回転バッフル１１は、図１および図２に示すように、複数の帯状の遮蔽板１１Ｂを備える。これらの遮蔽板１１Ｂは、所定の隙間１１Ａを開けて、その長手方向が揃うように並んでおり、額縁状（矩形かつ環状）の枠体１１Ｃに適宜の固定手段（図示せず）により固定されている。
【００３９】
これらの複数の遮蔽板１１Ｂは、図１および図２に示すように、回転バッフル１１の主面４００と交差しており、この主面４００に対し一定の傾斜角度α（詳細は後述）を保つようにして枠体１１Ｃに固定されている。換言すると、回転バッフル１１が排気管１８の長手方向４０１（排気ガスの管内流れ方向）に垂直に立設する状態（図１に示した回転バッフル１１の状態）にあるとき、遮蔽板１１Ｂと垂直方向との間のなす角が上述の傾斜角度αとなる。なお、本明細書において、回転バッフルの「主面」とは、回転バッフルの縁部に囲まれた仮想の平面を指すものとする。
【００４０】
本実施形態の回転バッフル１１では、図２に示すように、枠体１１Ｃの短辺部分は、枠体１１Ｃの側面１１Ｄの対により形作られ、枠体１１Ｃの長辺部分は、枠体１１Ｃの端面１１Ｅの対により形作られている。このため、回転バッフル１１の枠体１１Ｃの両側面１１Ｄおよび両端面１１Ｅ（つまり、枠体１１Ｃの外周面）が、上述の回転バッフル１１の縁部に相当する。よって、本実施形態では、図１および図２に示すように、回転バッフル１１の厚み方向の略中心部において枠体１１Ｃの両側面１１Ｄおよび両端面１１Ｅに直交しており、これらの面１１Ｄ、１１Ｅに囲まれた仮想の平面を、回転バッフル１１の主面４００として例示している。
【００４１】
ここで、回転バッフル１１を平面視した外形は、図２に示すように、排気管１８の内壁面の周囲に沿っており、これにより、回転バッフル１１の主面４００（図２では図示せず；図１参照）は、排気管１８の断面と略同一形状（正確には若干小さめの長方形）をなしている。
【００４２】
回転軸２０は、図２に示すように、枠体１１Ｃの側面１１Ｄの略中央部から側面１１Ｄに対して鉛直方向に、排気管１８の内部を気密に保つようにして排気管１８を貫通して排気管１８の外部に延びている。そして、この回転軸２０は、駆動装置２２の駆動軸（図示せず）に連結している。よって、回転バッフル１１は、回転軸２０が回転することにより、排気管１８を流れる排気ガスの流れ状態を変更できる（図３参照）。
【００４３】
次に、バッフル駆動機構５０による回転バッフル１１の動作について図面を参照しながら説明する。
【００４４】
図３は、本実施形態のバッフル駆動機構による回転バッフル１１の動作の説明に用いる図である。但し、図３では、図面を簡素化する趣旨から、回転バッフル１１を遮蔽板１１Ｂおよび回転軸２０並びに主面４００によって略記している。
【００４５】
バッフル駆動機構５０の回転バッフル１１は、真空槽１０内を真空排気する際の回転形態と、真空槽１０内で真空成膜する際の回転形態と、を取ることができる。
【００４６】
具体的には、真空槽１０の真空排気時には、図３（ａ）に示す如く、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と平行になるように、回転軸２０（図２参照）を用いて回転バッフル１１を回転させる。すると、排気ガスの流れ２００は、回転バッフル１１において主面４００に平行な一様流れとなる。
【００４７】
一方、真空槽１０の真空成膜時には、図３（ｂ）に示す如く、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と交差（ここでは、直交）するように、回転軸２０（図２参照）を用いて回転バッフル１１を回転させる。すると、排気ガスの流れ２００は、一旦、複数の遮蔽板１１Ｂにより遮られ（流れ２００の向きを変えられ）、回転バッフル１１において複数の遮蔽板１１Ｂ間に形成された隙間１１Ａを通る隙間流れとなる。
【００４８】
以上の回転バッフル１１の回転動作により、真空槽１０の真空排気時においては排気管１８の排気口１０Ｂ付近での実効排気速度を速めることができる。
【００４９】
具体的には、真空排気系３０の設計排気速度をＳ1（Ｌ／ｍｉｎ）とし、回転バッフル１１でのコンダクタンスをＣ（Ｌ／ｍｉｎ）とすると、排気管１８の排気口１０Ｂ付近での実効排気速度Ｓ（Ｌ／ｍｉｎ）は、次式（１）により表される。
【００５０】
１／Ｓ＝１／Ｓ1＋１／Ｃ・・・（１）
回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と平行になるように、回転バッフル１１を回転させると、回転バッフル１１による排気ガスに対する流体抵抗は、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と直交するように、回転バッフル１１を回転させた場合に比べて減少する。このため、図３（ａ）の回転バッフル１１でのコンダクタンスＣは、図３（ｂ）のそれよりも大きくなる。その結果、上述の式（１）によれば、図３（ａ）の排気管１８の排気口１０Ｂ付近での実効排気速度Ｓ（Ｌ／ｍｉｎ）は、図３（ｂ）のそれよりも充分に速くなる。
【００５１】
また、以上の回転バッフル１１の回転動作により、真空槽１０の真空成膜時においては真空槽１０内で生成された薄膜材料の排気管１８への拡散を適切に防止できる。
【００５２】
具体的には、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と直交するように、回転バッフル１１を回転させた場合、排気口１０Ｂに向かって飛散する薄膜材料の殆どが、これらの遮蔽板１１Ｂに当たることになり、薄膜材料の排気口１０Ｂへの進入を適切に阻止できる。
【００５３】
なお、ここで、回転バッフル１１の主面４００と遮蔽板１１Ｂとの間のなす角α（遮蔽板１１Ｂの回転バッフル１１に対する傾斜角度α）の好適な設定値は、３０°以上、６０°以下の範囲にある。特に、この傾斜角度αを、図３（ｂ）の拡大図に示すように、４５°に設定することが最も好ましい。
【００５４】
つまり、傾斜角度αが小さ過ぎると（例えば、３０°未満の場合）、排気ガスの流れ２００の向きの急激な変化により、排気ガスをスムーズに流し難くなると考えられる。逆に、傾斜角度αが大き過ぎると（例えば、６０°を超える場合）、排気ガスに同伴する薄膜材料が、遮蔽板１１Ｂ間の隙間１１Ａを通り抜け易くなり、薄膜材料の排気管１８への拡散防止を適切に担保し難くなると考えられる。
【００５５】
図４は、本実施形態のバッフル駆動機構を有する真空成膜装置による成膜開始から成膜終了までの処理動作例を示したフローチャートである。
【００５６】
なお、図４では、バッチ式の真空成膜装置１００が、真空槽１０内に薄膜形成用の基板（図示せず）を配して真空槽１０の扉（図示せず）を閉めた直後の状態にあるものとし、粗引きポンプ１５および主ポンプ１４は連続運転しているものとしている。
【００５７】
まず、回転バッフル１１を、図３（ａ）に示す如く、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と平行な真空槽１０の真空排気時の回転形態にする（ステップＳ１）。
【００５８】
この場合、上述のとおり、排気管１８の排気口１０Ｂ付近での実効排気速度を速くできるので、以下に述べる真空排気系３０による真空槽１０の排気を短時間で行える。
【００５９】
真空排気系３０による真空槽１０の排気では、ラフバルブ１７を開けて（ステップＳ２）、粗引きポンプ１５を用いて真空槽１０の内部１０Ａを排気する。そして、主ポンプ１４の使用可能な真空度まで真空槽１０の内部１０Ａが減圧されると、ラフバルブ１７を閉めて（ステップＳ３）、メインバルブ１６を開ける（ステップＳ４）。これにより、主ポンプ１４を用いて真空槽１０の内部１０Ａを排気できる。
【００６０】
次に、回転バッフル１１を、図３（ｂ）に示す如く、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と直交する、真空槽１０の真空成膜時の回転形態にする（ステップＳ５）。
【００６１】
この場合、上述のとおり、真空槽１０内で生成された薄膜材料の排気管１８への拡散を適切に防止できるので、以下のステップＳ６での真空槽１０の真空成膜時において、排気管１８の内壁面、第１冷却コイル１２およびメインバルブ１６などへの薄膜材料の付着を適切に防止できる。
【００６２】
真空槽１０が真空成膜を行える真空度に到達すると、真空槽１０内において適宜の真空成膜のプロセス（例えば、真空蒸着やスパッタリング）が実行される（ステップＳ６）。そして、真空槽１０内の基板への成膜がなされた後、メインバルブ１６を閉じる（ステップＳ７）。
【００６３】
その後、真空槽１０内を大気開放して、基板が入れ替えられ、真空成膜装置１００での一連の処理動作が終了する。
【００６４】
以上のとおり、本実施形態のバッフル駆動機構５０は、真空槽１０のガス排気に用い、真空槽１０の壁部に配された排気管１８と、板状の回転バッフル１１と、この回転バッフル１１の枠体１１Ｃの側面１１Ｄに連結して回転バッフル１１に回転駆動力を伝達できる回転軸２０とを備える。また、本実施形態では、回転バッフル１１は、上述の排気管１８内（ここでは、排気口１０Ｂの直後の排気管１８の中空領域）に配されている。更に、回転バッフル１１は、真空槽１０内で生成された薄膜材料の排気管１８への拡散防止に用いる複数の遮蔽板１１Ｂを有する。
【００６５】
以上のバッフル駆動機構５０の構成において、本実施形態では、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と直交するように、回転軸２０を用いて回転バッフル１１を回転できる。すると、複数の遮蔽板１１Ｂが排気管１８内の排気ガスの流れ２００を一時的に遮り（流れ２００の向きを変え）、排気ガスの流れ２００が複数の遮蔽板１１Ｂ間に形成された隙間１１Ａを通る隙間流れとなるように、回転バッフル１１を制御できる。
【００６６】
これにより、真空槽１０内で生成された薄膜材料の排気管１８への拡散を適切に防止できるので、真空槽１０の真空成膜時において、排気管１８の内壁面、第１冷却コイル１２およびメインバルブ１６などへの薄膜材料の付着を防止できる。
【００６７】
また、本実施形態では、回転バッフル１１の主面４００が排気管１８の長手方向４０１と平行になるように、回転軸２０を用いて回転バッフル１１を回転できる。すると、排気ガスの流れ２００が回転バッフル１１において主面４００に平行な一様流れとなるように、回転バッフル１１を制御できる。
【００６８】
これにより、排気管１８の排気口１０Ｂ付近での実効排気速度を速くできるので、真空排気系３０による真空槽１０の排気を短時間で行える。
【００６９】
つまり、本実施形態のバッフル駆動機構５０は、回転バッフル１１を単一の回転軸２０を用いて回転させているので、特許文献１の図２に記載のバッフル駆動装置に比較して、真空槽内の部材間の摩擦による摩擦磨耗粉の生成を抑制できるという有利な効果を奏する。
【００７０】
また、本実施形態のバッフル駆動機構５０は、回転バッフル１１を排気管１８内において回転できるので、特許文献２記載のバッフル駆動装置と比較しても、駆動機構の大型化や複雑化という不都合が招かないという有利な効果を奏する。
【００７１】
このようにして、本実施形態のバッフル駆動機構５０では、薄膜材料の真空排気系３０への拡散を抑制しながら、ガス排気抵抗の低減、摩擦磨耗粉の生成抑制および駆動機器のコンパクト化を適切に行える。
【００７２】
なお、本実施形態では、回転バッフル１１の主面４００を排気管１８の長手方向４０１に直交させた場合に、排気口１８Ｂに向かって飛散する薄膜材料の殆どが遮蔽板１１Ｂに当たるように、回転バッフル１１の遮蔽板１１Ｂの方向（具体的には上述の傾斜角度α）が設定されている。しかし、回転バッフル１１の主面４００により排気管１８の断面の略全域を覆うことができれば、回転バッフル１１の主面４００は排気管１８の長手方向４０１に対して直交してなくてもよい。但し、この場合、回転バッフル１１の主面４００の、垂直方向を基準とした傾き角に合わせて、上述の傾斜角度αの最適範囲（３０°以上、６０°以下の範囲）を適切にずらす必要がある。
（変形例）
本実施形態では、枠体１１の側面１１Ｄの中央部から側面１１Ｄに対して鉛直方向に延びる回転軸２０を用いて回転バッフル１１を回転させる例を述べたが、回転バッフル１１の回転方法はこれに限らない。
【００７３】
図５は、本発明の変形例のバッフル駆動機構による回転バッフルの回転方法の説明に用いる図である。但し、図５では、図面を簡素化する趣旨から、回転バッフル１１の遮蔽板の図示は省略している。
【００７４】
図５に示すように、回転軸２０を用いた回転バッフル１１の回転に代えて、枠体１１Ｃの両端面１１Ｅ上の長手方向に延びるライン３０１、３０２を回転中心にして回転バッフル１１を回転（正確には略１８０°のスイング運動）させてもよい。
【００７５】
また、回転軸２０を用いた回転バッフル１１の回転に代えて、枠体１１Ｃの端面１１Ｅの略中央部から端面１１Ｅに対して鉛直に延ばした中心ライン３０３を回転中心にして回転バッフル１１を回転させてもよい。
【００７６】
また、回転軸２０を用いた回転バッフル１１の回転に代えて、枠体１１Ｃの両側面１１Ｄ上の長手方向に延びるライン３０４、３０５を回転中心にして回転バッフル１１を回転（正確には略１８０°のスイング運動）させてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明は、薄膜材料の真空排気系への拡散を抑制しながら、ガス排気抵抗の低減、摩擦磨耗粉の生成抑制および駆動機構のコンパクト化を適切に行えるバッフル駆動機構を提供する。よって、本発明は、例えば、真空成膜装置に用いるバッフル駆動機構として利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の実施形態のバッフル駆動機構を用いて成膜できる真空成膜装置の構成例を示した図である。
【図２】本発明の実施形態のバッフル駆動機構を平面視した図である。
【図３】本発明の実施形態のバッフル駆動機構による回転バッフルの動作の説明に用いる図である。
【図４】本発明の実施形態のバッフル駆動機構を有する真空成膜装置による成膜開始から成膜終了までの処理動作例を示したフローチャートである。
【図５】本発明の変形例のバッフル駆動機構による回転バッフルの動作の説明に用いる図である。
【符号の説明】
【００７９】
１０  真空槽
１０Ａ  内部
１０Ｂ  排気口
１１  回転バッフル
１１Ａ  隙間
１１Ｂ  遮蔽板
１１Ｃ  枠体
１１Ｄ  側面
１１Ｅ  端面
１２  第１冷却コイル
１３  第２冷却コイル
１４  主ポンプ
１５  粗引きポンプ
１６  メインバルブ
１７  ラフバルブ
１８  排気管
２０  回転軸
２２  駆動装置
３０  真空排気系
５０  バッフル駆動機構
１００  真空成膜装置
２００  排気ガスの流れ
４００  回転バッフルの主面
４０１  排気管の長手方向
α  バッフルの主面と遮蔽板との間のなす角（遮蔽板の傾斜角度）
【図１】
2009274038.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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