(57)【要約】【課題】耐溶剤性を有する絶縁膜を与える有機トランジスタ絶縁膜用組成物を提供する。【解決手段】〔１〕イオン液体（Ａ）および親水性ユニットと架橋性基とを有するポリマー（Ｂ）を含有する有機トランジスタ絶縁膜用組成物。〔２〕前記ポリマー（Ｂ）の親水性ユニットが、（エチレンオキサイド）ユニットである〔１〕に記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物。〔３〕前記ポリマー（Ｂ）の架橋性基が、下記（１）〜（４）で表される官能基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋性基である〔１〕または〔２〕に記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物、（１）カチオン開環重合性を有する官能基（２）不飽和結合を有する官能基（３）活性水素を有する官能基（４）活性水素と反応し得る官能基【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン液体（Ａ）および親水性ユニットと架橋性基とを有するポリマー（Ｂ）を含有することを特徴とする有機トランジスタ絶縁膜用組成物。
【請求項２】
前記ポリマー（Ｂ）の親水性ユニットが、（エチレンオキサイド）ユニットである請求項１に記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物。
【請求項３】
前記ポリマー（Ｂ）の架橋性基が、下記（１）〜（４）で表される官能基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋性基である請求項１または２に記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物。
（１）カチオン開環重合性を有する官能基
（２）不飽和結合を有する官能基
（３）活性水素を有する官能基
（４）活性水素と反応し得る官能基
【請求項４】
前記請求項１〜３のいずれかに記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物から得られる絶縁膜を有することを特徴とする有機トランジスタ。
【請求項５】
さらに、自己組織化単分子層を有する請求項４記載の有機トランジスタ。
【請求項６】
前記請求項４〜５のいずれかに記載の有機トランジスタを有するディスプレイ用部材。
【請求項７】
前記請求項６に記載のディスプレイ用部材を備えるディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機トランジスタの絶縁膜用組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機材料を用いたトランジスタ（有機トランジスタ）は、柔軟性を有するので、フレキシブルディスプレイなどに用いる半導体として、例えばアクティブ駆動回路用半導体としてその実用化が求められている。有機トランジスタの製法として、真空プロセスを用いる蒸着法と、印刷法、インクジェット法等の溶液を用いる方法が開発されている。後者の方法によると、より低温で有機半導体を製造できる。
近年、ゲート絶縁膜として、イオン液体を有機高分子でゲル化したイオンゲルを用いた有機トランジスタが良好なトランジスタ特性を示すことが報告された。（非特許文献１）
【０００３】
【非特許文献１】Journal of the American Chemical Society 2007,129,4532
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、イオン液体を有機高分子でゲル化したイオンゲル絶縁膜には耐溶剤性がないため、印刷法、インクジェット法等により絶縁膜上に有機半導体層を形成するような有機トランジスタの製造プロセスには適用できないという問題があった。
本発明の目的は、上記問題を解決し、耐溶剤性を有する絶縁膜を与える有機トランジスタ絶縁膜用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記問題を解決する絶縁膜用組成物を見出すべく、鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、〔１〕イオン液体（Ａ）および親水性ユニットと架橋性基とを有するポリマー（Ｂ）を含有することを特徴とする有機トランジスタ絶縁膜用組成物に係るものである。
【０００６】
さらに、本発明は、〔２〕前記ポリマー（Ｂ）の親水性ユニットが、（エチレンオキサイド）ユニットであることを特徴とする〔１〕に記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物、に係るものである。
〔３〕前記ポリマー（Ｂ）の架橋性基が、下記（１）〜（４）で表される官能基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋性基であることを特徴とする〔１〕または〔２〕に記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物、
（１）カチオン開環重合性を有する官能基
（２）不飽和結合を有する官能基
（３）活性水素を有する官能基
（４）活性水素と反応し得る官能基
に係るものである。
【０００７】
また、本発明は、〔４〕前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の有機トランジスタ絶縁膜用組成物から得られる絶縁膜を有することを特徴とする有機トランジスタ、
〔５〕さらに、自己組織化単分子層を有する前記〔４〕記載の有機トランジスタ、
〔６〕前記〔４〕〜〔５〕のいずれかに記載の有機トランジスタを有するディスプレイ用部材、
〔７〕前記〔６〕に記載のディスプレイ用部材を備えるディスプレイ、
に係るものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、有機トランジスタ、特に有機薄膜トランジスタに好適な耐溶剤性を有する絶縁膜、特に耐溶剤性を有するゲート絶縁膜を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
次に、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の有機トランジスタ絶縁膜用組成物は、イオン液体（Ａ）と、親水性ユニットと架橋性基を有するポリマー（Ｂ）とを含有することを特徴とする。
【００１０】
本発明におけるイオン液体（Ａ）のカチオン部としては、イミダゾリウム系カチオン、ピロリジニウム系カチオン、ピペリジニウム系カチオンが挙げられる。
該イミダゾリウム系カチオンとしては、３−ブチル−１−メチルイミダゾリウム  カチオン、３−エチル−１−メチルイミダゾリウム  カチオン等が例示できる。
該ピロリジニウム系カチオンとしては、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピロリジニウム  カチオン、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピロリジニウム  カチオン等が例示できる。
該ピペリジニウム系カチオンとしては、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピペリジニウム  カチオン、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピペリジニウム  カチオン等が例示できる。
【００１１】
本発明におけるイオン液体（Ａ）のアニオン部としては、テトラフルオロボレート  アニオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド  アニオン、ヘキサフルオロホスフェート  アニオン等が例示できる。
【００１２】
本発明におけるイオン液体（Ａ）としては、３−ブチル−１−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−ブチル−１−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、３−ブチル−１−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，３−ジアリルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１，３−ジアリルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−ブチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド等が例示できる。
【００１３】
本発明の組成物におけるイオン液体（Ａ）の割合は、イオン液体（Ａ）と親水性ユニットと架橋性基とを有するポリマー（Ｂ）との合計量に対して、５重量％〜７０重量％の範囲が好ましく、より好ましくは、１０重量％〜６０重量％であり、さらに好ましくは、２０重量％〜６０重量％である。
【００１４】
本発明におけるポリマー（Ｂ）は、親水性ユニットと架橋性基を有することを特徴とし、ホモポリマーでもコポリマーでもよい。
該ポリマー（Ｂ）が、分子内に親水性ユニットを含有することにより、前記イオン液体に該ポリマー（Ｂ）を均一に溶解させることができる。
【００１５】
該親水性ユニットとしては、例えば下記の構造単位が挙げられる。以下この構造単位を（エチレンオキサイド）ユニットということがある。ｎは、通常１〜４０であり、５〜２０が好ましい。
【００１６】
2009049396.tif 000002
【００１７】
該（エチレンオキサイド）ユニットは、前記ポリマー（Ｂ）の主鎖中に存在してもよく、また、側鎖として存在してもよい。
【００１８】
前記ポリマー（Ｂ）は、分子内に架橋性基を含有する架橋性ポリマーである。
前記ポリマー（Ｂ）の架橋性基として、下記（１）〜（４）で表される官能基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋性基が挙げられる。
（１）カチオン開環重合性を有する官能基
（２）不飽和結合を有する官能基
（３）活性水素を有する官能基
（４）活性水素と反応し得る官能基
【００１９】
前記（１）カチオン開環重合性を有する官能基としては、環状エーテル基、環状エステル基等が挙げられる。
【００２０】
前記環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基等が挙げられ、グリシジル基、１，２−エポキシシクロヘキシル基、オキセタニルエチル基等が例示できる。
該環状エーテル基を含有する架橋性ポリマーとしては、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジオキセタニルエチルエーテル等が挙げられる。
該環状エステル基としては、ラクトニル基等が挙げられ、β−プロピオラクトニル基、β−ブチロラクトニル基、δ−バレロラクトニル基、ε−カプロラクトニル基等が例示できる。
該環状エステル基を含有する架橋性ポリマーとしては、ポリエチレングリコールジブチロラクトニルエチルエーテル、ポリエチレングリコールジカプロラクトニルエチルエーテル等が挙げられる。
【００２１】
前記（２）不飽和結合を有する官能基としては、炭素−炭素二重結合基が挙げられ、ビニル基、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチレニル基等が例示できる。
該炭素−炭素二重結合基を含有する架橋性ポリマーとしては、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルベンジルエーテル等が挙げられる。
【００２２】
前記（３）活性水素を有する官能基としては、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基等が挙げられる。
該フェノール性水酸基としては、ヒドロキシフェニル基、１，３−ジヒドロキシフェニル基、１，３，５−トリヒドロキシフェニル基等が例示できる。
該フェノール性水酸基を含有する架橋性ポリマーとしては、ポリエチレングリコールジヒドロキシフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジヒドロキシベンジルエーテル、ポリエチレングリコールジ３,５−ジヒドロキシベンジルエーテル等が例示できる。
【００２３】
前記（４）活性水素と反応し得る官能基としては、イソシアネート基、酸無水物基等が挙げられる。
該イソシアネート基を含有する架橋性ポリマーとしては、ポリエチレングリコールジ（カルボニルアミノヘキシルイソシアネート）等が挙げられる。
該酸無水物基を含有する架橋性ポリマーとしては、ポリエチレングリコールジ（２−エチルマレイン酸無水物）等が挙げられる。
本発明の組成物におけるポリマー（Ｂ）の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量に対して、３０重量％〜９５重量％の範囲が好ましく、より好ましくは、４０重量％〜９０重量％であり、さらに好ましくは、４０重量％〜８０重量％である。
【００２４】
本発明の絶縁膜用組成物には、適宜、硬化剤、硬化触媒、架橋剤（本発明におけるポリマー（Ｂ）を除く。）、光重合開始剤、熱重合開始剤、光酸発生剤、増感剤、有機溶媒（本発明におけるイオン液体（Ａ）を除く。）等を添加することができる。
【００２５】
該硬化剤としては、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ジアミノジフェニルスルフォン、ポリアミド樹脂、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、液状ポリメルカプタン、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、ジシアンジアミド、等が挙げられる。
本発明の組成物における該硬化剤の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量を１００重量部としたときに、０．１〜１０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、０．５〜５重量部である。また、該硬化剤は、それぞれ２種類以上を使用してもよい。
該硬化触媒としては、２−メチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、等が挙げられる。
【００２６】
該架橋剤としては、分子内に２つ以上の架橋性基を含有する低分子化合物または分子内に２つ以上の架橋性基を含有するポリマーが挙げられる。
該分子内に２つ以上の架橋性基を含有する低分子化合物としては、ビスフェノール−Ａ−エポキシ、１，４−ビス｛〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕メチル｝ベンゼン、３−エチル−３−｛〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕メチル｝オキセタン、１，３−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ベンゼン、オキセタニルシリケート、オキセタニルシルセスキオキサン等が挙げられる。
該分子内に２つ以上の架橋性基を含有するポリマーとしては、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノールノボラックオキセタン樹脂等が挙げられる。
本発明の組成物における該架橋剤の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量を１００重量部としたときに、１〜１５０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、５〜１００重量部である。また、該架橋剤は、それぞれ２種類以上を使用してもよい。
【００２７】
該光重合開始剤として、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が挙げられる。
該熱重合開始剤として、熱ラジカル重合開始剤と熱カチオン重合開始剤が挙げられる。
該光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、メチル（ｏ−ベンゾイル）ベンゾエート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル化合物、メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノンまたはチオキサントン誘導体、ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の硫黄化合物が挙げられる。
【００２８】
本発明の組成物における該光ラジカル重合開始剤の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量を１００重量部としたときに、５〜６０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、１０〜５０重量部である。また、該光ラジカル重合開始剤は、それぞれ２種類以上を使用してもよい。
【００２９】
該光カチオン重合開始剤、該熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩、スルフォニウム塩、ホスフェート塩、アンチモネート塩などを挙げることができる。
該光カチオン重合開始剤として、具体的には、商品名ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製）、商品名アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、商品名アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、商品名アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、商品名アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、前記のもののほかに、特開平９−１１８６６３号公報記載の化合物も使用することができる。
本発明の組成物における該光カチオン重合開始剤の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量を１００重量部としたときに、５〜６０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、１０〜５０重量部である。また、該光カチオン重合開始剤は、それぞれ２種類以上を使用してもよい。
該熱カチオン重合開始剤として、具体的には、商品名アデカオプトンＣＰシリーズ（株式会社ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
【００３０】
該熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリックアシッド）、１、１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロパン）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）２塩酸塩等のアゾ系化合物；メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド類；イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類；２，４，４−トリメチルペンチル−２−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド類；ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、トリス（ｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン等のジアルキルパーオキシド類；１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール類；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシアゼレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル類；ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーカーボネート類が挙げられる。
【００３１】
該光酸発生剤としては、例えば、［シクロヘキシル−（２−シクロヘキサノニル）−メチル］スルホニウム  トリフルオロメタンスルフォネート、ビス（ｐ−トリルスルフォニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルフォニル）ジアゾメタン、ターシャリーブチルカルボニルメチル−テトラヒドロチオフェニウム  トリフルオロメタンスルフォネート等が挙げられる。
該光酸発生剤としては、前記のもののほかに、特開平１１―２０２４９５号公報記載の化合物などを使用することもできる。
本発明の組成物における該光酸発生剤の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量を１００重量部としたときに、５〜６０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、１０〜５０重量部である。また、該光酸発生剤は、それぞれ２種類以上を使用してもよい。
該増感剤としては、ナフトキノン化合物、アントラキノン化合物が挙げられ、具体的には、商品名ＤＢＡ（川崎化成工業製）などが挙げられる。
【００３２】
該有機溶媒としては、イオン液体（Ａ）およびポリマー（Ｂ）を溶解し得るものであれば特に制限はないが、常圧での沸点が１００℃〜２００℃のものが好ましく、たとえば、トルエン、キシレン、２−ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート等が挙げられる。
本発明の組成物における該有機溶媒の割合は、イオン液体（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計量を１００重量部としたときに、１０〜１０００重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、１００〜１０００重量部である。該有機溶媒は、２種類以上を使用してもよい。
【００３３】
本発明の絶縁膜用組成物を用いて、絶縁膜を形成する方法について、説明する。
本発明の絶縁膜用組成物を例えばプラスチック基板上に塗布する。該絶縁膜用組成物の塗布は、例えば、絶縁膜用組成物を有機溶媒に溶解した溶液の状態で行うことができる。
絶縁膜用組成物を含む溶液の塗布は、スピンコート法、ダイコーター法、スクリーン印刷法、インクジェット法等によって行うことができる。
次に、上記のようにして塗布された絶縁膜用組成物の溶液を、乾燥させて有機溶媒を除去し、これにより絶縁膜用組成物からなる層を形成する。乾燥は、有機溶媒が揮発する程度に加熱することによって行うことができる。この際、低温でトランジスタを形成する観点からは、過度には高温としないことが望ましい。
そして、絶縁性組成物からなる層を硬化させることによって、絶縁膜を形成することができる。硬化は、上述したように、電磁線の照射又は加熱によって行うことができる。
【００３４】
本発明の絶縁膜用組成物から形成された絶縁膜上に、自己組織化単分子膜層を形成しても良い。
該自己組織化単分子膜層は、例えば、有機溶媒中にアルキルクロロシラン化合物もしくはアルキルアルコキシシラン化合物を１〜１０重量％溶解した溶液でゲート絶縁膜を処理することにより形成することができる。
【００３５】
該アルキルクロロシラン化合物としては、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ブチルトリクロロシラン、デシルトリクロロシラン、オクタデシルトリクロロシラン等を例示できる。
該アルキルアルコキシシラン化合物としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン等を例示できる。
【００３６】
該有機溶媒としては、トルエン、キシレン、ヘキサン、クロロホルム等が例示できる。
【００３７】
本発明の有機トランジスタは、前記の有機トランジスタ用絶縁膜組成物から得られる絶縁膜を有することを特徴とし、さらに、前記の自己組織化単分子膜層を有してもよい。該絶縁膜と該自己組織化単分子膜層とは、接していることが好ましい。
本発明の有機トランジスタ絶縁膜用組成物を用いることにより、例えば、次のように有機トランジスタを作製できる。ここでは、ＮＭＯＳ型の例を示す。ＰＭＯＳ型もＣＭＯＳ型も同様にして作製できる。
【００３８】
有機ｐ型半導体層を公知の方法で作製した上に、ｎ型ソース電極、ｎ型ドレイン電極を公知の方法で作製する。ｎ型ソース電極とｎ型ドレイン電極の間の、有機ｐ型半導体層の上に、本発明の有機トランジスタ絶縁膜用組成物を塗布し、乾燥後、その上に、ゲート電極層とする有機組成物を塗布し、乾燥する。このようにして、ＮＭＯＳ型半導体を作製できる。
【００３９】
本発明の有機トランジスタを用いて、好適に有機トランジスタを有するディスプレイ用部材を作製できる。該有機トランジスタを有するディスプレイ用部材を用いて、ディスプレイ用部材を備えるディスプレイを好適に作製できる。
【実施例】
【００４０】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は実施例により限定されるものではない。
【００４１】
実施例１
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）１．２５ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）１．００ｇ、
【００４２】
2009049396.tif 000003
オルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．２５ｇ、光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｇをマグネチックスタラバーが入った、３０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００４３】
得られた溶液をガラス基板上にスピンコートして塗膜を形成した。得られた塗膜に高圧水銀灯を用いて紫外線を５分照射したのち、８０℃で１０分ポストベークを行い、更に１５０℃で１０分ポストベークを行い硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００４４】
実施例２
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）の添加量を１．８８ｇとした以外は、実施例１と同様にして絶縁膜組成物溶液を調製し、硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００４５】
実施例３
オルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂をノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）とした以外は、実施例１と同様にして絶縁膜組成物溶液を調製し、硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００４６】
実施例４
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）１．４１ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０）１．００ｇ、酸無水物エポキシ硬化剤（新日本理化（株）製：商品名リカシッドＴＭＥＧ−１００）０．４１ｇ、エポキシ硬化触媒（日本化学工業（株）製：商品名ヒシコーリンＰＸ−４ＥＴ）の５重量％テトラヒドロフラン溶液６．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、３０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な溶液を得た。
【００４７】
得られた溶液をガラス基板上にスピンコートして塗膜を形成した。得られた塗膜を１５０℃で３０分ベークを行い硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００４８】
実施例５
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）の添加量を０．８５ｇとした以外は、実施例４同様にして絶縁膜組成物溶液を調製し、硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００４９】
実施例６
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）の添加量を０．５６ｇとした以外は、実施例４同様にして絶縁膜組成物溶液を調製し、硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００５０】
実施例７
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、
2009049396.tif 000004
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．４０ｇ、
【００５１】
2009049396.tif 000005
オルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．１０ｇ、
2009049396.tif 000006
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２０ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００５２】
得られた溶液をガラス基板上にスピンコートして塗膜を形成した。得られた塗膜にＵＶ＆Ｏｚｏｎｅ  Ｄｒｙ  Ｓｔｒｉｐｐｅｒ（Ｍｏｄｅｌ  ＵＶ−１；ＳＡＭＣＯ製）を用いて７０℃で紫外線を４分照射したのち、１００℃で５分ポストベークを行い、硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００５３】
実施例８
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．２７ｇ、
【００５４】
オルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．０７ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．１７ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０１７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２．５ｇを、マグネチックスタラバーが入った１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００５５】
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００５６】
実施例９
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．４０ｇ、
【００５７】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．２０ｇ、
2009049396.tif 000007
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２０ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００５８】
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００５９】
実施例１０
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．２７ｇ、
【００６０】
フェノールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＰＮ−６３８）０．０７ｇ、
2009049396.tif 000008
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．１７ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０１７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２．５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００６１】
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００６２】
実施例１１
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．１０ｇ、
【００６３】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．４０ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２０ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００６４】
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００６５】
実施例１２
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．１９ｇ、
【００６６】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．５６ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００６７】
実施例１３
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．２５ｇ、
【００６８】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．５０ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００６９】
実施例１４
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．５６ｇ、
オルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．１０ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇを、マグネチックスタラバーが入った１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００７０】
実施例１５
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．４０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．２０ｇ、
【００７１】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２７ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００７２】
実施例１６
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．１９ｇ、
【００７３】
１，４−ビス｛〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕メチル｝ベンゼン（東亞合成（株）製：商品名OXT−１２１）０．５６ｇ、
2009049396.tif 000009
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００７４】
実施例１７
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ/eqから算出）０．１９ｇ、
【００７５】
１，４−ビス｛〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕メチル｝ベンゼン（東亞合成（株）製：商品名OXT−１２１）０．３８ｇ、３−エチル−３−｛〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕メチル｝オキセタン（東亞合成（株）製：商品名OXT-221）０．１９ｇ、
2009049396.tif 000010
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００７６】
実施例１８
１、３−ジアリルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（和光純薬製）０．５０ｇ、
2009049396.tif 000011
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．１９ｇ、
【００７７】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２７ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００７８】
実施例１９
１、３−ジアリルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（和光純薬製）０．４０ｇ、
2009049396.tif 000012
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．２０ｇ、
【００７９】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２７ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００８０】
実施例２０
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート（東洋合成製）０．４０ｇ、
2009049396.tif 000013
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．２０ｇ、
【００８１】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２７ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００８２】
実施例２１
１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（東洋合成製）０．４０ｇ、
2009049396.tif 000014
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．２０ｇ、
【００８３】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．７５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００８４】
実施例２２
Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（東洋合成製）０．４０ｇ、
2009049396.tif 000015
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．２０ｇ、
【００８５】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．７５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００８６】
実施例２３
Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（東洋合成製）０．４０ｇ、
2009049396.tif 000016
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．２０ｇ、
【００８７】
フェノールノボラックオキセタン樹脂（東亞合成（株）製：商品名ＰＮＯＸ）０．７３ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．７５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４．００ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００８８】
実施例２４
１、３−ジアリルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート（和光純薬製）０．５０ｇ、
2009049396.tif 000017
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．１９ｇ、
【００８９】
クレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．５６ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００９０】
実施例２５
Ｎ−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート（東洋合成製）０．５０ｇ、
2009049396.tif 000018
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．１９ｇ、
【００９１】
クレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．５６ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００９２】
実施例２６
Ｎ−ブチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（東洋合成製）０．５０ｇ、
2009049396.tif 000019
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（大日本インキ工業（株）製：商品名ＥＸＡ−４８５０  ｎ＝１７．５；エポキシ当量＝４５０ｇ／ｅｑから算出）０．１９ｇ、
【００９３】
クレゾールノボラックエポキシ樹脂（東都化成（株）製：商品名エポトートＹＤＣＮ−７０４）０．５６ｇ、
光カチオン重合開始剤（ローディアジャパン製：商品名フォトイニシエーターＰＩ−２０７４）０．２５ｇ、増感剤（川崎化成工業製：商品名ＤＢＡ）０．０２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）３．７５ｇをマグネチックスタラバーが入った、１０ｍｌのサンプル管に入れ、マグネチックスターラーを用いて室温で、１時間攪拌し、均一な絶縁膜組成物溶液を得た。
【００９４】
実施例７と同様にして硬化膜を得た。
得られた硬化膜上にトルエンを滴下しても膜の溶解、膨潤、剥離は、起きなかった。
【００９５】
このようにして得られる膜を、有機トランジスタ絶縁膜として、好適に用いることができ、特に有機トランジスタゲート絶縁膜として好適に用いることができる。
【００９６】
該有機トランジスタ絶縁膜用組成物を絶縁膜に用いて、有機トランジスタを作製できる。該有機トランジスタを用いて、好適に有機トランジスタを有するディスプレイ用部材を作製できる。該有機トランジスタを有するディスプレイ用部材を用いて、ディスプレイ用部材を備えるディスプレイを好適に作製できる。