(57)【要約】  【課題】本発明は、耐光性や耐熱性に優れたカラーフィルタを製造することができるインクジェット用インク、このようなインクジェット用インクにより得られるカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、ならびに画像表示デバイスを提供することを目的とする。  【解決手段】一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、および一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物および溶媒を含むインクジェット用インクであって、該化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃であるインクジェット用インク。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、および一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物および溶媒を含むインクジェット用インクであって、該化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃であるインクジェット用インク。
【化１】
2009144149.tif 000082
（一般式（１）中、ＺａおよびＺｂは、それぞれ独立に、−Ｎ＝または−Ｃ（Ｒ８）＝を表す。Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ６〜Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ７、および／またはＲ６とＲ７とが互いに結合して、それぞれ独立に、５員環、６員環、または７員環を形成してもよい。）
【化２】
2009144149.tif 000083
（一般式（４）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ａはアリール基または芳香族へテロ環基を表し、Ｚ１〜Ｚ３は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５は水素原子、または置換基を表す。）
【化３】
2009144149.tif 000084
（一般式（７）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ただし、ｗ，ｘ、ｙおよびｚの総和（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０ではない。Ｚ１〜Ｚ４は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子から選ばれる原子群で、結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環を形成する原子群を表す。Ｍ１は金属原子、または金属酸化物を表す。）
【化４】
2009144149.tif 000085
（一般式（ａ）中、Ｒ３０は、水素原子または置換基を表す。Ｒ３１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｘ３０は、−ＯＭ基、または−Ｎ（Ｒ３２）（Ｒ３３）を表し、Ｍは、水素原子、アルキル基、または、電荷を中和する為に必要な金属原子若しくは有機塩基対を表し、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ａ３０は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化５】
2009144149.tif 000086
（一般式（ｂ）中、Ｒ３４は、水素原子または置換基を表す。Ｒ３５は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｚ３０およびＺ３１は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ３６）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ３６は、水素原子または置換基を表す。Ａ３１は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化６】
2009144149.tif 000087
（一般式（ｃ）中、Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９およびＲ４０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｚ３２、Ｚ３３およびＺ３４は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ４１）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒ４１は、水素原子または置換基を表す。Ａ３２は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化７】
2009144149.tif 000088
（一般式（ｄ）中、Ｒ４２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ａ３３は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化８】
2009144149.tif 000089
（一般式（ｅ）中、Ｒ４５、Ｒ４６およびＲ４７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。ａおよびｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。）
【化９】
2009144149.tif 000090
（一般式（ｆ）中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ５０は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基を表す。Ｒ５１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｚ３５、Ｚ３６、Ｚ３７およびＺ３８は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５２）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５２は水素原子または置換基を表す。）
【請求項２】
重合性モノマーをさらに含有する請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
前記重合性モノマーの重合性基が、エポキシ基、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選択されるいずれかである請求項２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
界面活性剤をさらに含有する請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
吐出時における粘度が２〜３０ｍＰａ・ｓである請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
２５℃における表面張力が２０〜４０ｍＮ／ｍである請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
基板上に形成された隔壁により区画された凹部にインクジェット法により請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インクの液滴を付与して、カラーフィルタの色画素を形成する画素形成工程を有するカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記画素形成工程は、前記インクジェット法により液滴として前記凹部に前記インクを付与する描画工程と、前記凹部に付与された前記インクを硬化させて前記色画素を形成する硬化工程とを有する請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記硬化工程は、前記インクに含まれる溶剤を除去してインク残部とした後に、前記インク残部に活性エネルギー線を照射する照射工程および／または前記インク残部を加熱する加熱工程とを備え、前記照射工程および／または前記加熱工程により前記インク残部を重合して前記色画素を形成する請求項８に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記描画工程は、インクジェットヘッドの吐出ノズルから前記インクジェット用インクの液滴を吐出して前記基板の前記凹部に付与するものであり、
さらに、前記描画工程の前に、前記インクジェットヘッドの吐出ノズルの吐出状態を検査する検査工程と、
前記吐出状態の検査結果が所定規定範囲外の場合に、前記インクジェットヘッドによる描画領域外で、前記所定規定範囲外に該当する吐出ノズルについてインク吐出動作を実施する前処理工程とを有し、
この前処理工程の後、前記検査工程に戻り、前記吐出状態を再度検査して、前記所定規定範囲内である場合に、前記描画工程により前記色画素の描画を開始する請求項８または９に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記描画工程は、インクジェットヘッドの吐出ノズルから前記インクジェット用インクの液滴を吐出して前記基板の前記凹部に付与するものであり、
さらに、前記描画工程の前に、前記インクジェットヘッドの吐出ノズルの吐出状態を検査する検査工程と、
前記検査工程における検査により、前記インクジェットヘッドに不吐出ノズルがある場合に、前記インクジェットヘッドの複数の吐出ノズルの内の前記不吐出ノズルを含む一部あるいは全部に対して、ヘッド加圧による前記吐出ノズルのインクパージ、前記吐出ノズルからのインク吸引、前記インクジェットヘッドのノズル面のワイピングのうち一部あるいは全部を実施する前処理工程と、
この前処理工程の後、前記検査工程に戻り、前記吐出状態を再度検査して、前記所定規定範囲内である場合に、前記描画工程により前記色画素の描画を開始する請求項８または９に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
さらに、前記前処理工程における前記インク吐出動作により吐出されたインク、前記インクパージによりパージされたインクおよび前記インク吸引により吸引されたインクを回収する回収工程と、
回収された回収インクを保管する保管工程と、
保管されている回収インクの濃度を含むインク特性を評価する評価工程と、
評価された回収インクの評価結果に基づいて前記回収インクを前記色画素を形成するための前記インクジェット用インクとして再調液する再調液工程とを有する請求項１０または１１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】
さらに、予め、高濃度インクを高濃度インク保存タンクに、希釈用インクを希釈用インク保存タンクに保存しておく第１保存工程と、
前記高濃度インク保存タンクから前記高濃度インクを供給し、前記希釈用インク保存タンクから前記希釈用インクを供給する供給工程と、
供給された前記高濃度インクと供給された前記希釈用インクとを調液して前記色画素を形成するための前記インクジェット用インクとして調液インクを生成する調液工程と、
前記インクジェット用インクとして調液された前記調液インクを調液インク保存タンクに保存する第２保存工程とを有し、
前記描画工程において、前記調液インク保存タンクに保存された前記調液インクを前記インクジェット用インクとして供給する請求項７〜１２のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１４】
前記希釈用インクが、前記溶媒である請求項１３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
請求項７〜１４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタ。
【請求項１６】
請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インクを用いてインクジェット法により製造されるカラーフィルタ。
【請求項１７】
請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インクを用いて形成された色画素を備えるカラーフィルタ。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれかに記載のカラーフィルタを備える液晶ディスプレイ。
【請求項１９】
請求項１５〜１７のいずれかに記載のカラーフィルタを備える画像表示デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット用インク、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびにそれを用いる液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ、特に大画面液晶テレビの発達に伴い、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、カラー液晶ディスプレイが高価であることから、コストダウンの要求が高まっている。特にコスト的に比重の高いカラーフィルタに対するコストダウンの要求が高い。このようなカラーフィルタは、通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色パターンを備える。このカラーフィルタを備える液晶ディスプレイにおいては、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素に対応する電極をＯＮ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッタとして作動し、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素を光が通過してカラー表示が行われる。
【０００３】
従来のカラーフィルタの製造方法としては、例えば、染色法が挙げられる。この染色法は、まず、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００４】
また、他の方法としては、顔料分散法がある。この方法は、まず、基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらに、この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００５】
しかしながら、いずれの方法も、Ｒ、Ｇ、およびＢの３色を着色するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になるという問題や、同様の工程を繰り返すため歩留まりが低下するという問題がある。これらの問題を解決するカラーフィルタの製造方法として、インクジェット法で着色インクを吹き付けして着色層（色画素）を形成する方法が提案されている（特許文献１、２）。
【０００６】
インクジェット法は、非常に微細なノズルからインク液滴を記録部材に直接吐出、付着させて、文字や画像を得る記録方式である。インクジェット法は、インクジェットヘッドを順次移動させることにより、大面積のカラーフィルタを高生産性で製造でき、低騒音で操作性がよいという利点をもつ。
このようなインクジェット法によるカラーフィルタの製造には、顔料を使用したインクジェット用インクが用いられている。このような顔料を使用したインクジェット用インクとしては、例えば、バインダー成分、顔料、および、沸点が１８０℃〜２６０℃でかつ常温での蒸気圧が０．５ｍｍＨｇ以下の溶剤を含むカラーフィルタ用インクジェットインクが提案されている（特許文献３）。
【０００７】
このような顔料を使用したインクジェット用インクをカラーフィルタの製造に用いた場合、製造されたカラーフィルタは、耐光性、耐熱性に優れるが、一方で、顔料粒子による散乱のためコントラストの低下や、ヘイズの増加といった問題が生じる。また、インクの顔料凝集によるノズル目詰まりが頻繁に発生するため、吐出安定性という点からも好ましくない。さらに、凝集した顔料のために、ワイピングやパージといった吐出回復動作によるインク吐出状態の回復機能も悪化する。加えて、ワイピング時、凝集した顔料によりノズル面がこすれて、インクの吐出方向の曲がりを引き起こすこともある。
【０００８】
一方、染料を使用したインクの場合、カラーフィルタのコントラストやヘイズなど光学特性の向上が期待される。また、概して吐出安定性も高く、インク粘度の増加などに伴うノズル目詰まりがあった場合でも、ワイピングやパージにより容易にインク吐出状態が回復することが期待される。しかしながら、色画素の耐光性や耐熱性といった堅牢性に関しては未だ不十分であり、実用上必ずしも満足できるものではなかった。
そのため、近年の高輝度バックライトへの対応が困難であるなどの問題があった。
また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などのＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）向けの電極として多用されているＩＴＯ（酸化インジウムスズ）の成膜時の高温により、上記光学特性などの特性が変化してしまうという問題があった。
【０００９】
例えば、現在までに種々の染料を使用したインクが知られているが、上述のように色画素の耐光性や耐熱性などのレベルは十分ではなく、更なる改良が望まれていた。
【００１０】
【特許文献１】特開昭５９−７５２０５号公報
【特許文献２】特開２００４−３３９３３２号公報
【特許文献３】特開２００２−２０１３８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、良好な色相を呈し、耐光性、耐熱性、耐薬品性に優れた色画素を形成することができ、特に、コントラストやヘイズなどの光学特性に優れ、かつ耐光性や耐熱性に優れたカラーフィルタを製造することができ、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、このようなインクジェット用インクにより得られる上述の光学特性、耐光性、耐熱性、耐薬品性などの特性に優れたカラーフィルタ、およびこのような特性を持つカラーフィルタを安定して、コストアップを招くことなく製造することができるカラーフィルタの製造方法、ならびに高輝度バックライトに対応できる、高コントラスト、高彩度の液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、上記課題が下記の＜１＞〜＜１９＞の構成により解決されることを見出した。
【００１３】
＜１＞  一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、および一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物および溶媒を含むインクジェット用インクであって、該化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃であるインクジェット用インク。
【化１】
2009144149.tif 000002
（一般式（１）中、ＺａおよびＺｂは、それぞれ独立に、−Ｎ＝または−Ｃ（Ｒ８）＝を表す。Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ６〜Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ７、および／またはＲ６とＲ７とが互いに結合して、それぞれ独立に、５員環、６員環、または７員環を形成してもよい。）
【化２】
2009144149.tif 000003
（一般式（４）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ａはアリール基または芳香族へテロ環基を表し、Ｚ１〜Ｚ３は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５は水素原子、または置換基を表す。）
【化３】
2009144149.tif 000004
（一般式（７）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ただし、ｗ，ｘ、ｙおよびｚの総和（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０ではない。Ｚ１〜Ｚ４は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子から選ばれる原子群で、結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環を形成する原子群を表す。Ｍ１は金属原子、または金属酸化物を表す。）
【化４】
2009144149.tif 000005
（一般式（ａ）中、Ｒ３０は、水素原子または置換基を表す。Ｒ３１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｘ３０は、−ＯＭ基、または−Ｎ（Ｒ３２）（Ｒ３３）を表し、Ｍは、水素原子、アルキル基、または、電荷を中和する為に必要な金属原子若しくは有機塩基対を表し、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ａ３０は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化５】
2009144149.tif 000006
（一般式（ｂ）中、Ｒ３４は、水素原子または置換基を表す。Ｒ３５は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｚ３０およびＺ３１は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ３６）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ３６は、水素原子または置換基を表す。Ａ３１は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化６】
2009144149.tif 000007
（一般式（ｃ）中、Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９およびＲ４０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｚ３２、Ｚ３３およびＺ３４は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ４１）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒ４１は、水素原子または置換基を表す。Ａ３２は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化７】
2009144149.tif 000008
（一般式（ｄ）中、Ｒ４２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ａ３３は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【化８】
2009144149.tif 000009
（一般式（ｅ）中、Ｒ４５、Ｒ４６およびＲ４７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。ａおよびｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。）
【化９】
2009144149.tif 000010
（一般式（ｆ）中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ５０は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基を表す。Ｒ５１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｚ３５、Ｚ３６、Ｚ３７およびＺ３８は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５２）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５２は水素原子または置換基を表す。）
＜２＞  重合性モノマーをさらに含有する＜１＞に記載のインクジェット用インク。
＜３＞  前記重合性モノマーの重合性基が、エポキシ基、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選択されるいずれかである＜２＞に記載のインクジェット用インク。
＜４＞  界面活性剤をさらに含有する＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載のインクジェット用インク。
＜５＞  吐出時における粘度が２〜３０ｍＰａ・ｓである＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載のインクジェット用インク。
＜６＞  ２５℃における表面張力が２０〜４０ｍＮ／ｍである＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載のインクジェット用インク。
＜７＞  基板上に形成された隔壁により区画された凹部にインクジェット法により＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載のインクジェット用インクの液滴を付与して、カラーフィルタの色画素を形成する画素形成工程を有するカラーフィルタの製造方法。
＜８＞  前記画素形成工程は、前記インクジェット法により液滴として前記凹部に前記インクを付与する描画工程と、前記凹部に付与された前記インクを硬化させて前記色画素を形成する硬化工程とを有する＜７＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜９＞  前記硬化工程は、前記インクに含まれる溶剤を除去してインク残部とした後に、前記インク残部に活性エネルギー線を照射する照射工程および／または前記インク残部を加熱する加熱工程とを備え、前記照射工程および／または前記加熱工程により前記インク残部を重合して前記色画素を形成する＜８＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１０＞  前記描画工程は、インクジェットヘッドの吐出ノズルから前記インクジェット用インクの液滴を吐出して前記基板の前記凹部に付与するものであり、
さらに、前記描画工程の前に、前記インクジェットヘッドの吐出ノズルの吐出状態を検査する検査工程と、
前記吐出状態の検査結果が所定規定範囲外の場合に、前記インクジェットヘッドによる描画領域外で、前記所定規定範囲外に該当する吐出ノズルについてインク吐出動作を実施する前処理工程とを有し、
この前処理工程の後、前記検査工程に戻り、前記吐出状態を再度検査して、前記所定規定範囲内である場合に、前記描画工程により前記色画素の描画を開始する＜８＞または＜９＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１１＞  前記描画工程は、インクジェットヘッドの吐出ノズルから前記インクジェット用インクの液滴を吐出して前記基板の前記凹部に付与するものであり、
さらに、前記描画工程の前に、前記インクジェットヘッドの吐出ノズルの吐出状態を検査する検査工程と、
前記検査工程における検査により、前記インクジェットヘッドに不吐出ノズルがある場合に、前記インクジェットヘッドの複数の吐出ノズルの内の前記不吐出ノズルを含む一部あるいは全部に対して、ヘッド加圧による前記吐出ノズルのインクパージ、前記吐出ノズルからのインク吸引、前記インクジェットヘッドのノズル面のワイピングのうち一部あるいは全部を実施する前処理工程と、
この前処理工程の後、前記検査工程に戻り、前記吐出状態を再度検査して、前記所定規定範囲内である場合に、前記描画工程により前記色画素の描画を開始する＜８＞または＜９＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１２＞  さらに、前記前処理工程における前記インク吐出動作により吐出されたインク、前記インクパージによりパージされたインクおよび前記インク吸引により吸引されたインクを回収する回収工程と、
回収された回収インクを保管する保管工程と、
保管されている回収インクの濃度を含むインク特性を評価する評価工程と、
評価された回収インクの評価結果に基づいて前記回収インクを前記色画素を形成するための前記インクジェット用インクとして再調液する再調液工程とを有する＜１０＞または＜１１＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１３＞  さらに、予め、高濃度インクを高濃度インク保存タンクに、希釈用インクを希釈用インク保存タンクに保存しておく第１保存工程と、
前記高濃度インク保存タンクから前記高濃度インクを供給し、前記希釈用インク保存タンクから前記希釈用インクを供給する供給工程と、
供給された前記高濃度インクと供給された前記希釈用インクとを調液して前記色画素を形成するための前記インクジェット用インクとして調液インクを生成する調液工程と、
前記インクジェット用インクとして調液された前記調液インクを調液インク保存タンクに保存する第２保存工程とを有し、
前記描画工程において、前記調液インク保存タンクに保存された前記調液インクを前記インクジェット用インクとして供給する＜７＞〜＜１２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１４＞  前記希釈用インクが、前記溶媒である＜１３＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１５＞  ＜７＞〜＜１４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタ。
＜１６＞  ＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載のインクジェット用インクを用いてインクジェット法により製造されるカラーフィルタ。
＜１７＞  ＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載のインクジェット用インクを用いて形成された色画素を備えるカラーフィルタ。
＜１８＞  ＜１５＞〜＜１７＞のいずれかに記載のカラーフィルタを備える液晶ディスプレイ。
＜１９＞  ＜１５＞〜＜１７＞のいずれかに記載のカラーフィルタを備える画像表示デバイス。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、良好な色相を呈し、耐光性、耐熱性、耐薬品性に優れた画像を形成することができ、特に、コントラストやヘイズなどの光学特性に優れ、かつ耐光性や耐熱性に優れたカラーフィルタを製造することができ、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、このようなインクジェット用インクにより得られる上述の光学特性、耐光性、耐熱性、耐薬品性などの特性に優れたカラーフィルタ、およびこのような特性を持つカラーフィルタを安定して、コストアップを招くことなく製造することができるカラーフィルタの製造方法、ならびに高輝度バックライトに対応できる、高コントラスト、高彩度の液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明に係るインクジェット用インク、このインクジェットインクを用いたカラーフィルタおよびその製造方法、ならびにそれを用いる液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスについて詳細に説明する。
【００１６】
＜インクジェット用インクおよびその製造方法＞
まず、本発明のインクジェット用インク、その構成成分およびその製造方法について詳細に説明する。
本発明のインクジェット用インクは、一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、および一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物および溶媒を含むインクジェット用インクであって、該化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃である。
【００１７】
本発明のインクジェット用インクの好ましい第一の実施形態は、一般式（１）で表される化合物および溶媒を少なくとも含み、該一般式（１）で表される化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃である。
本発明のインクジェット用インクの好ましい第二の実施形態は、一般式（４）で表される化合物および溶媒を少なくとも含み、該一般式（４）で表される化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃である。
本発明のインクジェット用インクの好ましい第三の実施形態は、一般式（７）で表される化合物および溶媒を少なくとも含み、該一般式（７）で表される化合物の含有量が１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃である。
本発明のインクジェット用インクの好ましい第四の実施形態は、一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つおよび溶媒を少なくとも含み、該一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物の総含有量の１〜２０質量％で、該溶媒の含有量が３０〜９０質量％で、該溶媒の沸点が１３０〜２８０℃である。
【００１８】
＜一般式（１）で表される化合物＞
以下に、一般式（１）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【００１９】
【化１０】
2009144149.tif 000011
（一般式（１）中、ＺａおよびＺｂは、それぞれ独立に、−Ｎ＝または−Ｃ（Ｒ８）＝を表す。Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ６〜Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ７、および／またはＲ６とＲ７とが互いに結合して、それぞれ独立に、５員環、６員環、または７員環を形成してもよい。）
【００２０】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜２８の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、１−ノルボルニル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基である。例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、２−オキサゾリル、２−チアゾリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜２４、より好ましくは炭素数３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ））、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、
【００２１】
アシル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、
【００２２】
アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、
【００２３】
スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）を表す。
【００２４】
Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基は、それぞれさらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００２５】
一般式（１）中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイルアミノ基、アニリノ基が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基がより好ましい。さらに好ましくは、アルキル基であり、最も好ましくは、三級アルキル基である。
【００２６】
一般式（１）中、Ｒ２〜Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルホンアミド基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基がより好ましい。
【００２７】
一般式（１）中、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、好ましくはアルキル基である。また、Ｒ６およびＲ７で表される各基は、上記Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００２８】
一般式（１）中、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ７、および／またはＲ６とＲ７とは互いに結合して、それぞれ独立に、５員環、６員環、または７員環を形成してもよい。５員環、６員環、または７員環としては、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、ジヒドロピロール、テトラヒドロピリジンなどが挙げられる。該各環は、上記Ｒ１〜Ｒ５で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００２９】
一般式（１）中、ＺａおよびＺｂは、それぞれ独立に、＝Ｎ−または＝Ｃ（Ｒ８）−を表し、Ｒ８は水素原子または置換基を表す。Ｒ８で表される好ましい置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基である。Ｒ８で表される置換基は、上記Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００３０】
一般式（１）中、Ｚａが＝Ｎ−で、Ｚｂが＝Ｃ（Ｒ８）−であることが好ましく、更に好ましくは、Ｚａが＝Ｎ−で、Ｚｂが＝Ｃ（Ｒ８）−で、Ｒ８がアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基である。
【００３１】
一般式（１）で表される化合物のうち、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【００３２】
【化１１】
2009144149.tif 000012
【００３３】
一般式（２）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ１〜Ｒ４で表される置換基は、上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒ１〜Ｒ４で表される置換基は、それぞれさらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００３４】
一般式（２）中、Ｒ６は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。また、Ｒ６で表される各基は、さらに上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００３５】
一般式（２）中、Ｒ９〜Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ９〜Ｒ１４で表される置換基は、上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒ９〜Ｒ１４で表される置換基は、それぞれさらに上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００３６】
一般式（２）中、ＺａおよびＺｂは、それぞれ独立に、＝Ｎ−または＝Ｃ（Ｒ８）−を表し、Ｒ８は水素原子または置換基を表す。Ｒ８で表される好ましい置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基である。Ｒ８で表される置換基は、上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００３７】
一般式（２）中、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ６、Ｒ６とＲ９、および／またはＲ４とＲ１４とは互いに結合して、それぞれ独立に、５員環、６員環、または７員環を形成してもよい。５員環、６員環、または７員環としては、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、ジヒドロピロール、テトラヒドロピリジンなどが挙げられる。該各環は、上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００３８】
一般式（１）で表される化合物のうち、下記一般式（３）で表される化合物がさらに好ましい。
【００３９】
【化１２】
2009144149.tif 000013
【００４０】
一般式（３）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｒ６、Ｒ９〜Ｒ１４は、上記一般式（２）中のＲ１〜Ｒ４、Ｒ６、Ｒ９〜Ｒ１４とそれぞれ同義であり、これらの好ましい態様もそれぞれ同様である。
【００４１】
一般式（３）中、Ｒ１５は、水素原子または置換基を表す。Ｒ１５で表される好ましい置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基である。Ｒ１５で表される置換基は、上記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ５およびＲ８で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００４２】
一般式（３）で表される化合物の好ましい範囲は、以下の通りである。一般式（３）中のＲ１が、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、カルバモイルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスホニル基、またはホスフィノイルアミノ基であり、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスホニル基、またはホスフィノイルアミノ基であり、Ｒ６がアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基であり、Ｒ９〜Ｒ１４が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基であり、Ｒ１５が、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基である化合物が好ましい。
【００４３】
さらに、一般式（３）中のＲ１が、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基であり、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基であり、Ｒ６がアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基であり、Ｒ９〜Ｒ１４が、それぞれ独立に、水素原子、またはアルキル基であり、Ｒ１５が、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基である化合物がより好ましい。
【００４４】
またさらに、一般式（３）中のＲ１がアルキル基であり、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、ウレイド基、またはアルコキシカルボニルアミノ基であり、Ｒ６がアルキル基であり、Ｒ９〜Ｒ１４が、それぞれ独立に、水素原子、またはアルキル基であり、Ｒ１５がアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基である化合物がより好ましい。
【００４５】
またさらに、一般式（３）中のＲ１が三級アルキル基（好ましくは炭素数４〜１６、より好ましくは炭素数４〜８の三級アルキル基である。例えば、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチル、１−アダマンチル、エチルシクロヘキシル）であり、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子または塩素原子である。）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル）、またはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ）であり、Ｒ６がアルキル基（好ましくは炭素数１〜１８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、オクチル、２−エチルヘキシル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル）であり、Ｒ９およびＲ１０がアルキル基（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、最も好ましくはメチル）であり、Ｒ１１〜Ｒ１３が水素原子であり、Ｒ１４がアルキル基（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、最も好ましくはメチル）であり、Ｒ１５がアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基である化合物が最も好ましい。
【００４６】
以下に、上記一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４７】
【化１３】
2009144149.tif 000014
【００４８】
【化１４】
2009144149.tif 000015
【００４９】
【化１５】
2009144149.tif 000016
【００５０】
【化１６】
2009144149.tif 000017
【００５１】
【化１７】
2009144149.tif 000018
【００５２】
【化１８】
2009144149.tif 000019
【００５３】
【化１９】
2009144149.tif 000020
【００５４】
【化２０】
2009144149.tif 000021
【００５５】
【化２１】
2009144149.tif 000022
【００５６】
上記一般式（１）、（２）および（３）で表される化合物は、特開２００５−１８９８０２号公報の段落番号[００５８]〜[００６８]に記載の方法を参照して合成することができる。
【００５７】
＜一般式（４）で表される化合物＞
以下に、一般式（４）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【００５８】
【化２２】
2009144149.tif 000023
【００５９】
（一般式（４）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ａはアリール基または芳香族へテロ環基を表し、Ｚ１〜Ｚ３は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５は水素原子または置換基を表す。）
【００６０】
一般式（４）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。Ｒ１〜Ｒ４で表される置換基は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜２８の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、１−ノルボルニル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基である。芳香族または非芳香族のいずれでもよい。例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、２−オキサゾリル、２−チアゾリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜２４、より好ましくは炭素数３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ））、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、
【００６１】
アシル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、
【００６２】
アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、
【００６３】
スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）を表す。これらの置換基は、さらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００６４】
Ｒ１〜Ｒ４は、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルバモイル基、またはアリールスルホニル基であり、より好ましくは、Ｒ１およびＲ３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基で、Ｒ２およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基である。
【００６５】
Ｒ１とＲ２、Ｒ１とＲ５（Ｚ１またはＺ２が−Ｃ（Ｒ５）＝の場合）、Ｒ３とＲ４、Ｒ３とＲ５（Ｚ１が−Ｃ（Ｒ５）＝の場合）とが互いに結合して、５員環、または６員環を形成していてもよい。
【００６６】
一般式（４）中、Ｚ１〜Ｚ３は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５は水素原子、または置換基を表す。Ｒ５で表される置換基は、記述の一般式（４）のＲ１〜Ｒ４で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。また、Ｒ５で表される置換基は、さらに記述の一般式（４）のＲ１〜Ｒ４で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００６７】
Ｚ１が、−Ｎ＝で、Ｚ２が−Ｃ（Ｒ５）＝または−Ｎ＝で、Ｚ３が−Ｃ（Ｒ５）＝であることが好ましく、Ｚ１が−Ｎ＝で、Ｚ２およびＺ３が、−Ｃ（Ｒ５）＝であることがさらに好ましい。
【００６８】
一般式（４）中、Ａは、アリール基または芳香族へテロ環基を表す。Ａで表されるアリール基およびへテロ環基は、更に、上述のＲ１〜Ｒ４で表される置換基を有していてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。Ａで表されるアリール基は、これらのＲ１〜Ｒ４で表される置換基に列挙されたアリール基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ａで表される芳香族ヘテロ環基は、これらのＲ１〜Ｒ４で表される置換基に列挙されたヘテロ環基に含まれる芳香族へテロ環基と同義である。
【００６９】
一般式（４）中、Ａは芳香族へテロ環基が好ましい。さらに好ましくは、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ベンゾピラゾール環、ベンゾチアゾール環である。
【００７０】
一般式（４）で表される化合物のうち、下記一般式（５）で表される化合物が好ましい。
【００７１】
【化２３】
2009144149.tif 000024
【００７２】
一般式（５）中、Ｒ１〜Ｒ４は、上述した一般式（４）のＲ１〜Ｒ４とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００７３】
一般式（５）中、Ｒａは、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２以上の電子求引性基を表す。Ｒａは、σｐ値が０．３〜１．０の電子求引性基であるのが好ましい。中でも、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアルキルカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１２のアリールスルホニル基、炭素数１〜１２のカルバモイル基、または、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基が好ましい。特に好ましい置換基は、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１２のアリールスルホニル基であり、最も好ましいものはシアノ基である。
【００７４】
本明細書中で用いられているハメットの置換基定数σｐ値について説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずる為に、１９３５年に、Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔによって提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数には、σｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編、「Ｌａｎｇ‘ｓ  ａｎｄ  ｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版、１９７９年（南光堂）に詳しく述べられている。尚、本発明に置いて各置換基をハメットの置換基定数σｐ値により限定したり、説明したりするが、これは上記に成書で見出せる文献既知の値が有る置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合に、その範囲内に含まれるであろう置換基をも含むものである。また、上述した一般式（４）および一般式（５）の中には、ベンゼン誘導体でないものも含まれるが、置換基の電子効果を示す尺度として置換位置に関係なくσｐ値を使用する。本発明においては、σｐ値をこのような意味で使用する。
【００７５】
Ｒｂは、水素原子または置換基を表す。Ｒｂで表される置換基は、上述の一般式（４）のＲ１〜Ｒ４で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。また、Ｒｂで表される置換基は、さらに一般式（４）のＲ１〜Ｒ４で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００７６】
Ｒｂは、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基で、より好ましくは、アルキル基、またはアリール基で、さらに好ましくは、アルキル基で、最も好ましくは三級アルキル基である。
【００７７】
Ｒｃはアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒｃで表される各基は、一般式（４）のＲ１〜Ｒ４で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒｃで表される各基は、さらに一般式（４）のＲ１〜Ｒ４で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００７８】
以下に、上述の一般式（４）および一般式（５）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７９】
【化２４】
2009144149.tif 000025
【００８０】
【化２５】
2009144149.tif 000026
【００８１】
【化２６】
2009144149.tif 000027
【００８２】
【化２７】
2009144149.tif 000028
【００８３】
【化２８】
2009144149.tif 000029
【００８４】
−合成例−
次に、上述の一般式（４）で表される化合物は、特開２００６―５８７０１号公報の段落番号[００９９]〜[０１１１]、特開２００２―３２２１５１号公報の段落番号[００７０]〜[００８４]、特開２００２―３７１０７９号公報の段落番号[００９３]〜[０１１５]に記載の方法で合成することができる。
【００８５】
＜一般式（７）で表される化合物＞
一般式（７）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【００８６】
【化２９】
2009144149.tif 000030
【００８７】
（一般式（７）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ただし、ｗ，ｘ、ｙおよびｚの総和（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０ではない。Ｚ１〜Ｚ４は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子から選ばれる原子群で、結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環を形成する原子群を表す。Ｍ１は金属原子、または金属酸化物を表す。）
【００８８】
一般式（７）および後述する一般式（８）の各基の説明において「置換基」は、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜２８の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、１−ノルボルニル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基である。例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、２−オキサゾリル、２−チアゾリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜２４、より好ましくは炭素数３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ））、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、
【００８９】
アシル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、
【００９０】
アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、
【００９１】
スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）を表す。
【００９２】
これらの置換基は、さらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００９３】
一般式（７）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ１〜Ｒ４で表される各基は、上記で説明した置換基を有していてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１〜Ｒ４は、好ましくはアルキル基、またはアリール基である。Ｒ１〜Ｒ４で表される各基は、上記で説明した置換基で列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【００９４】
一般式（７）中のＲ１〜Ｒ４の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００９５】
【化３０】
2009144149.tif 000031
【００９６】
【化３１】
2009144149.tif 000032
【００９７】
【化３２】
2009144149.tif 000033
【００９８】
一般式（７）中、ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。ｗ、ｘ、ｙおよびｚの総和（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０ではなく、好ましくは４、３、または２であり、さらに好ましくは３または４である。
【００９９】
一般式（７）中、Ｚ１〜Ｚ４は、それぞれ独立に、炭素原子または窒素原子から選ばれる原子群で、結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環を形成する原子群を表す。５員環または６員環は、芳香族または非芳香族のどちらでもよい。結合している２個の炭素原子と共に構成される５員環または６員環としては、例えば、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環などが挙げられ、好ましくはベンゼン環、またはピリジン環である。形成される５員環または６員環には、さらにベンゼン環などの環が縮合していてもよい。形成される５員環または６員環は、上記で説明した置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有する場合は、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１００】
一般式（７）中のＭ１は、金属原子、または金属酸化物を表す。金属原子としては、Ａｌ，Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、およびＦｅなどが挙げられる。金属酸化物としては、ＴｉＯ、ＶＯなどが挙げられる。金属水酸化物としては、ＡｌＯＨなどが挙げられる。好ましくは、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎである。
【０１０１】
上述の一般式（７）の化合物のうち、好ましくは下記一般式（８）で表される化合物である。
【０１０２】
【化３３】
2009144149.tif 000034
【０１０３】
一般式（８）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｗ、ｘ、ｙ、ｘ、およびＭ１は、上述の一般式（７）中のそれらの定義と同一である。
【０１０４】
一般式（８）中、Ｒ６〜Ｒ９は、それぞれ独立に置換基を表す。該置換基の定義は、上記で説明した置換基の定義と同一である。Ｒ６〜Ｒ９で表される置換基が、更に置換可能な基である場合には、上記の置換基で説明した基で置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
【０１０５】
一般式（８）中、ｍ、ｎ、ｐおよびｑは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。ただし、ｍとｗとの和（ｍ＋ｗ）、ｎとｘとの和（ｎ＋ｘ）、ｐとｙとの和（ｐ＋ｙ）、ｑとｚとの和（ｑ＋ｚ）が、それぞれ４以下である。
【０１０６】
一般式（８）で表される化合物は、好ましくはＲ１がアルキル基またはアリール基で、Ｍ１がＣｕ、Ｃｏ、ＺｎまたはＶ＝Ｏで、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。より好ましくは、Ｒ１がアルキル基  またはアリール基で、Ｍ１がＣｕ、Ｃｏ、ＺｎまたはＶ＝Ｏで、ｗ、ｘ、ｙ、ｚのうち２つが１で、他の２つは０で、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。さらに好ましくは、Ｒ１がアルキル基またはアリール基で、Ｍ１がＣｕ、Ｃｏ、ＺｎまたはＶ＝Ｏで、ｗ、ｘ、ｙ、ｚのうち３つ以上が１で、他の１つは０で、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。最も好ましくは、Ｒ１がアルキル基またはアリール基で、Ｍ１がＣｕで、ｗ、ｘ、ｙ、ｚのうち３つ以上が１で、他の１つは０で、ｍ、ｎ、ｐ、ｑがすべて０である。
【０１０７】
以下に一般式（７）および一般式（８）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１０８】
【化３４】
2009144149.tif 000035
【０１０９】
【化３５】
2009144149.tif 000036
【０１１０】
【化３６】
2009144149.tif 000037
【０１１１】
【化３７】
2009144149.tif 000038
【０１１２】
【化３８】
2009144149.tif 000039
【０１１３】
【化３９】
2009144149.tif 000040
【０１１４】
【化４０】
2009144149.tif 000041
【０１１５】
上述した一般式（７）および（８）で表される化合物は、特開２００６−０４７４９７号公報の段落番号[００６０]〜[００６６]、または特開２００６−０４７７５２号公報の段落番号[００５５]〜[００６５]に記載の方法を参照して合成することができる。
【０１１６】
＜一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物＞
一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物（アゾ系染料、アゾメチン系染料、メチン系染料、キノフタロン系染料など）は、可視光部の最大吸収波長が４００〜５００ｎｍ、好ましくは４２０〜４８０ｎｍであり、イエロー色調用のインクとして好適である。なお、一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物の互変異性体も好適に使用される。
【０１１７】
＜一般式（ａ）で表される化合物＞
以下に、一般式（ａ）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【０１１８】
【化４１】
2009144149.tif 000042
【０１１９】
（一般式（ａ）中、Ｒ３０は、水素原子または置換基を表す。Ｒ３１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｘ３０は、−ＯＭ基、または−Ｎ（Ｒ３２）（Ｒ３３）を表し、Ｍは、水素原子、アルキル基、または、電荷を中和する為に必要な金属原子若しくは有機塩基対を表し、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ａ３０は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【０１２０】
一般式（ａ）中、Ｒ３０は水素原子、または置換基を表す。Ｒ３０で表される置換基とは、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜２８の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、１−ノルボルニル、シクロヘキシル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２４、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基である。例えば、チオフェン環、ピリジン環、フラン環、ピリミジン環、ベンゾトリアゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環）、シリル基（好ましくは炭素数３〜２４、より好ましくは炭素数３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ））、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３６、よりこの好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニルオキシ基である。例えば、フェニルスルホニルオキシ）、
【０１２１】
アシル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアニリノ基である。例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３６、より好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは炭素数７〜１８のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１８のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１８のアリールチオ基である。例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、
【０１２２】
アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３６、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜３６、より好ましくは炭素数６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数１２以下のスルファモイル基である。例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、
【０１２３】
スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは炭素数１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）を表す。これらの置換基は、さらに該置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合は、それら置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１２４】
一般式（ａ）中、Ｒ３１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。なかでも、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が好ましく、アリール基、ヘテロ環基がより好ましく、特に、含窒素へテロ環基、電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。電子求引性基としては、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが好ましく、例えば、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、ハロゲン化アルキル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、ハロゲン原子などが挙げられる。ハメットの置換基定数については、例えば、J. A. Dean編、「Lange's Handbook of Chemistry 」第１２版、１９７９年（Mc Graw-Hill）や「化学の領域」増刊、１２２号、９６〜１０３頁、１９７９年（南光堂）に詳しく述べられている。なお、本発明に置いて各置換基をハメットの置換基定数σｐ値により限定したり、説明したりするが、これは上記に成書で見出せる文献既知の値が有る置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合に、その範囲内に含まれるであろう置換基をも含むものである。Ｒ３１で表される各基は、上記Ｒ３０で表される置換基に列挙された各基と同義である。Ｒ３１で表される各基は、さらに上記のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１２５】
一般式（ａ）中、Ｘ３０は、−ＯＭ基、または−Ｎ（Ｒ３２）（Ｒ３３）を表す。Ｍは、水素原子、アルキル基、または、電荷を中和する為に必要な金属原子若しくは有機塩基対を表し、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｍで表される金属原子としては、金属カチオン種、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、亜鉛などが挙げられる。また、Ｍで表される有機塩基対としては、有機カチオン種、例えば、４級アンモニウム、グアニジニウムカチオン、トリアルキルアンモニウムなどが挙げられる。Ｒ３２およびＲ３３で表される各基は、上記Ｒ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、その好ましい態様も同様である。一般式（ａ）中、Ｘ３０はヒドロキシル基、または無置換のアミノ基が好ましく、中でも無置換のアミノ基が好ましい。
【０１２６】
一般式（ａ）中、Ａ３０は、アリール基、または芳香族ヘテロ環基を表す。中でも、５員または６員の含窒素へテロ環基、もしくは電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。好ましい電子求引性基は、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが挙げられる。Ａ３０で表されるアリール基は、上記Ｒ３０で表される置換基に列挙されたアリール基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ａ３０で表される芳香族へテロ環基は、上記Ｒ３０で表される置換基に列挙されたヘテロ環基のうち芳香族性のものを意味する。Ａ３０で表される各基は、さらに上記のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１２７】
＜一般式（ｂ）で表される化合物＞
以下に、一般式（ｂ）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【０１２８】
【化４２】
2009144149.tif 000043
【０１２９】
（一般式（ｂ）中、Ｒ３４は水素原子または置換基を表す。Ｒ３５は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｚ３０およびＺ３１は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ３６）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ３６は水素原子または置換基を表す。Ａ３１は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【０１３０】
一般式（ｂ）中、Ｒ３４は水素原子または置換基を表す。Ｒ３４で表される置換基は、上記一般式（ａ）中のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【０１３１】
一般式（ｂ）中、Ｒ３５は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表し、水素原子が好ましい。Ｒ３５で表される各基は、上記一般式（ａ）中のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１３２】
一般式（ｂ）中、Ｚ３０およびＺ３１は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ３６）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ３６は水素原子または置換基を表す。Ｒ３６で表される置換基は、上記一般式（ａ）中のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【０１３３】
一般式（ｂ）中、Ａ３１は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。中でも、５員若しくは６員の含窒素へテロ環基、または電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。好ましい電子求引性基は、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが挙げられる。Ａ３１で表されるアリール基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙されたアリール基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ａ３０で表される芳香族へテロ環基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙されたヘテロ環基のうち芳香族性のものを意味する。Ａ３１で表される各基は、さらに前述のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１３４】
＜一般式（ｃ）で表される化合物＞
以下に、一般式（ｃ）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【０１３５】
【化４３】
2009144149.tif 000044
【０１３６】
（一般式（ｃ）中、Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９およびＲ４０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｚ３２、Ｚ３３およびＺ３４は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ４１）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒ４１は、水素原子または置換基を表す。Ａ３２は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【０１３７】
一般式（ｃ）中、Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９およびＲ４０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表し、中でもアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基が好ましく、特にアルキル基、アリール基、アシル基が好ましい。Ｒ３７、Ｒ３８、Ｒ３９およびＲ４０で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１３８】
一般式（ｃ）中、Ｚ３２、Ｚ３３およびＺ３４は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ４１）＝または−Ｎ＝を表し、中でもＺ３２、Ｚ３３、Ｚ３４のうちの少なくとも１つが−Ｎ＝であることが好ましい。Ｒ４１は、水素原子または置換基を表す。Ｒ４１で表される置換基は、上記一般式（ａ）中のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【０１３９】
一般式（ｃ）中、Ａ３２は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。中でも、５員若しくは６員の含窒素へテロ環基、または電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。好ましい電子求引性基は、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが挙げられる。Ａ３２で表されるアリール基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙されたアリール基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ａ３２で表される芳香族へテロ環基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙されたヘテロ環基のうち芳香族性のものを意味する。Ａ３２で表される各基は、さらに前述のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１４０】
＜一般式（ｄ）で表される化合物＞
以下に、一般式（ｄ）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【０１４１】
【化４４】
2009144149.tif 000045
【０１４２】
（一般式（ｄ）中、Ｒ４２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ａ３３は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。）
【０１４３】
一般式（ｄ）中、Ｒ４２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、中でもアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基が好ましい。Ｒ４２で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１４４】
一般式（ｄ）中、Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、中でもＲ４３は電子求引性の置換基であることが好ましい。Ｒ４３およびＲ４４で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１４５】
一般式（ｄ）中、Ａ３３は、アリール基または芳香族ヘテロ環基を表す。中でも、５員若しくは６員の含窒素へテロ環基、または電子求引性基が置換したアリール基が好ましい。好ましい電子求引性基は、ハメットの置換基定数σｐが０．２０以上のものが挙げられる。Ａ３３で表されるアリール基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙されたアリール基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ａ３３で表される芳香族へテロ環基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙されたヘテロ環基のうち芳香族性のものを意味する。Ａ３３で表される各基は、さらに前述のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１４６】
＜一般式（ｅ）で表される化合物＞
以下に、一般式（ｅ）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【０１４７】
【化４５】
2009144149.tif 000046
【０１４８】
（一般式（ｅ）中、Ｒ４５、Ｒ４６、およびＲ４７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。ａおよびｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。）
【０１４９】
一般式（ｅ）中、Ｒ４５、Ｒ４６、およびＲ４７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ４５、Ｒ４６、およびＲ４７で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１５０】
一般式（ｅ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を表す。
【０１５１】
＜一般式（ｆ）で表される化合物＞
以下に、一般式（ｆ）で表される化合物について、各基の説明を述べる。
【０１５２】
【化４６】
2009144149.tif 000047
【０１５３】
（一般式（ｆ）中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ５０は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基を表す。Ｒ５１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｚ３５、Ｚ３６、Ｚ３７、およびＺ３８は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５２）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５２は水素原子または置換基を表す。）
【０１５４】
一般式（ｆ）中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ４８およびＲ４９で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１５５】
一般式（ｆ）中、Ｒ５０は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基を表し、中でも水素原子が好ましい。Ｒ５０で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１５６】
一般式（ｆ）中、Ｒ５１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表し、中でも水素原子が好ましい。Ｒ５１で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１５７】
一般式（ｆ）中、Ｚ３５、Ｚ３６、Ｚ３７、およびＺ３８は、それぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ５２）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５２は水素原子または置換基を表す。Ｒ５２で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【０１５８】
一般式（ａ）〜一般式（ｆ）におけるＲ３０〜Ｒ５２で表される各置換基は、さらに上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１５９】
一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物の中で、好ましくは、一般式（ａ）〜一般式（ｄ）中のＡ３０〜Ａ３３が、それぞれ独立に、以下一般式（イ）〜一般式（ホ）である化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、および一般式（ｆ）で表される化合物である。
【０１６０】
【化４７】
2009144149.tif 000048
【０１６１】
一般式（イ）中、Ｒ５３およびＲ５４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、またはアシル基を表す。Ｒ５３およびＲ５４で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。）
【０１６２】
【化４８】
2009144149.tif 000049
【０１６３】
一般式（ロ）および一般式（ハ）中、Ｒ５５は、水素原子または置換基を表す。Ｒ５５で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【０１６４】
一般式（ロ）および一般式（ハ）中、Ｒ５６は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒ５６で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。
【０１６５】
一般式（ロ）および一般式（ハ）中、Ｚ３９は、−Ｃ（Ｒ５７）＝または−Ｎ＝を表し、Ｒ５７は、水素原子または置換基を表す。Ｒ５７で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である
【０１６６】
【化４９】
2009144149.tif 000050
【０１６７】
一般式（ニ）および一般式（ホ）中、Ｒ５８は水素原子または置換基を表す。Ｒ５８で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【０１６８】
一般式（ニ）および一般式（ホ）中、Ｘ３１は、酸素原子または硫黄原子を表す。
【０１６９】
一般式（イ）〜一般式（ホ）における＊は、一般式（ａ）〜一般式（ｄ）における窒素原子と結合する位置を表す。
【０１７０】
一般式（イ）〜一般式（ホ）において説明した各基は、さらに上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１７１】
さらに好ましくは、一般式（ｃ）中のＡ３２が一般式（ロ）〜一般式（ホ）で表される化合物、一般式（ｄ）中のＡ３３が一般式（イ）で表される化合物、一般式（ｅ）中のＲ４５が水素原子で、Ｒ４６が水素原子または置換基で、Ｒ４７がアルコキシカルボニル基またはカルバモイル基で表される化合物、一般式（ｆ）中のＲ５０が水素原子で、Ｒ５１が水素原子またはアルキル基で、Ｚ３５およびＺ３６のいずれか一方が−Ｎ＝で、他方が−Ｃ（Ｒ５２）で、Ｚ３７およびＺ３８のいずれか一方が−Ｎ＝で、他方が−Ｃ（Ｒ５２）で、Ｒ５２が水素原子または置換基で表される化合物が挙げられる。
【０１７２】
さらに好ましくは、一般式（ｃ）中のＺ３３が−Ｃ（Ｒ４１）＝で、Ｒ４１が水素原子または置換基で、Ｚ３２およびＺ３４の少なくとも一方は−Ｎ＝で、Ａ３２が一般式（ロ）〜一般式（ホ）のいずれかで表される化合物、一般式（ｄ）中のＲ４２がアルキル基またはアリール基で、Ｒ４３がシアノ基で、Ｒ４４がアルキル基またはアリール基で、Ａ３３が一般式（イ）で表される化合物、一般式（ｅ）中のＲ４５が水素原子で、Ｒ４６がアルキル基で、ａが０または１で表される化合物、一般式（ｆ）中のＲ５０が水素原子で、Ｒ５１が水素原子またはアルキル基で、Ｚ３５およびＺ３６のいずれか一方は−Ｎ＝で、他方は−Ｃ（Ｒ５２）＝で、Ｚ３７およびＺ３８のいずれか一方は−Ｎ＝で、他方は−Ｃ（Ｒ５２）＝で、Ｒ５２は水素原子または置換基で、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立に、３級アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で表される化合物が挙げられる。
【０１７３】
さらに好ましくは、下記一般式（ｇ）〜一般式（ｊ）で表される化合物が挙げられる。
【０１７４】
【化５０】
2009144149.tif 000051
【０１７５】
一般式（ｇ）中、Ｒ６０、Ｒ６１、Ｒ６２、およびＲ６３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、Ｒ６０とＲ６１とが同時に水素原子であることはなく、Ｒ６２とＲ６３とが同時に水素原子であることはない。一般式（ｇ）中、Ｒ６４は、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、またはカルバモイル基を表す。Ｒ６５は、水素原子または置換基を表す。Ｒ６５で表される置換基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基と同義であり、好ましい態様も同様である。一般式（ｇ）中、Ｒ６７は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。一般式（ｇ）中、Ｒ６８は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。一般式（ｇ）中、Ｒ６９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒ６０、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６７、Ｒ６８、およびＲ６９で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒ６０、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６７、Ｒ６８、およびＲ６９で表される各置換基は、さらに上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１７６】
【化５１】
2009144149.tif 000052
【０１７７】
一般式（ｈ）中、Ｒ７０、Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、およびＲ７５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、Ｒ７０とＲ７１とが同時に水素原子であることはなく、Ｒ７２とＲ７３とが同時に水素原子であることはなく、さらに、Ｒ７４とＲ７５とが同時に水素原子であることはない。Ｒ７６は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ７７は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒ７８は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基を表す。Ｒ７０、Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、Ｒ７７、およびＲ７８で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒ７０〜Ｒ７８で表される各置換基は、さらに上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１７８】
【化５２】
2009144149.tif 000053
【０１７９】
一般式（ｉ）および一般式（ｊ）中、Ｒ７９およびＲ８０は、それぞれ独立に、三級アルキル基を表す。Ｒ８１およびＲ８２は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ８３は水素原子、またはアルキル基を表す。Ｒ７９〜Ｒ８３で表される各基は、上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基に列挙された各基と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒ７９、Ｒ８０、Ｒ８１、Ｒ８２、およびＲ８３で表される各置換基は、さらに上記一般式（ａ）のＲ３０で表される置換基で置換されていてもよく、２以上の置換基で置換されている場合、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。
【０１８０】
一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらによって限定されない。
【０１８１】
【化５３】
2009144149.tif 000054
【０１８２】
【化５４】
2009144149.tif 000055
【０１８３】
【化５５】
2009144149.tif 000056
【０１８４】
【化５６】
2009144149.tif 000057
【０１８５】
【化５７】
2009144149.tif 000058
【０１８６】
【化５８】
2009144149.tif 000059
【０１８７】
【化５９】
2009144149.tif 000060
【０１８８】
【化６０】
2009144149.tif 000061
【０１８９】
【化６１】
2009144149.tif 000062
【０１９０】
【化６２】
2009144149.tif 000063
【０１９１】
上記一般式（ａ）および（ｂ）で表される化合物は、特開平６−３０１１７９号公報の段落番号[０１０４]〜[０１１７]に記載の方法を参照して合成することができる。上記一般式（ｃ）で表される化合物は、特開２００７−３１６１６号公報の段落番号[００５０]〜[００６９]、および特開２００７−３９４７８号公報の段落番号[００４９]〜[００６３] に記載の方法を参照して合成することができる。上記一般式（ｄ）で表される化合物は、特開２００６−１２４６３４号公報の段落番号[０１７５]〜[０１９９]に記載の方法を参照して合成することができる。上記一般式（ｅ）で表される化合物は、特開平６−９８９１号公報の段落番号[００１５]〜[００３４]に記載の方法を参照して合成することができる。上記一般式（ｆ）で表される化合物は、特開２００５−２５０４２０号公報の段落番号[００７１]〜[００７７]に記載の方法を参照して合成することができる。
【０１９２】
上述した一般式（１）〜一般式（８）、および一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物は、耐光性、耐熱性に優れると共に、カラーフィルタの製造時の洗浄、配向膜のリペアなどに使用されるアルカリ性溶剤に対する耐性（耐アルカリ性）を有している。また、該化合物は後述する重合性モノマーの重合反応を禁止する作用がほとんどなく、従来よりも小さな熱・光エネルギー量を加えることにより重合反応を進行させることができる。
さらに、これらの化合物を用いたインクジェット用インクは、保存安定性に優れ、化合物の凝集や分解などが抑制される。また、これらのインクジェット用インクは、連続的および断続的な吐出の際にも、飛翔曲がり不吐出等の吐出の乱れが生じにくく、吐出安定性に優れ、一定期間休止後の回復性、さらに不吐出等が生じた場合の回復性に優れる。
【０１９３】
一般式（１）〜一般式（８）、および一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物は染料であり、これら染料のインクジェット用インク中の総含有量は、インク全量に対して、１〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。１質量％未満の場合、カラーフィルタとして必要な光学濃度を達成するために、膜厚が厚くなる場合がある。そのためブラックマトリクスも厚くする必要があり、ブラックマトリクス形成が困難になるので好ましくない。２０質量％を超える場合、インク粘度が高くなり吐出が困難になること、また溶媒への溶解が困難になることがある。
【０１９４】
＜溶媒＞
本発明のインクジェット用インクは、溶剤を含有する。溶剤としては、各成分の溶解性や後述する溶媒の沸点を満足すれば基本的に特に限定されないが、特に後述するバインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。溶剤の具体例としては、エステル類、例えば、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチルなど；３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチルなど；２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチルなど；ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチルなど；エーテル類、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなど；ケトン類、例えば、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノンなど；芳香族炭化水素類、例えば、キシレンなど；ジシクロヘキシルメチルアミンなどが好適に挙げられる。これらは１種または２種以上を併用して使用しても構わない。
【０１９５】
本発明のインクジェット用インク中の該溶剤の含有量は、インク全量に対して、３０〜９０質量％が好ましく、５０〜９０質量％がさらに好ましい。３０質量％以上であると１画素内に打滴されるインク量が保たれ、画素内でのインクの濡れ広がりが良好である。また、９０質量％以下であると、インク中の機能膜（例えば画素など）を形成するための溶剤以外の成分量を所定量以上に保つことができる。これより、カラーフィルタを形成する場合には、１画素当たりのインク必要量が多くなり過ぎることがなく、例えば隔壁で区画された凹部にインクジェット法でインクを付与する場合に、凹部からのインク溢れや隣の画素との混色の発生を抑制することができる。
【０１９６】
本発明のインクジェット用インクは、ノズルに対するインクの吐出性および基板に対する濡れ性の点で、上述した溶剤のうち、沸点の高い溶剤を含有していることが好ましい。沸点の低い溶剤は、インクジェットヘッド上でもすばやく蒸発するため、ヘッド上でのインクの粘度上昇や固形分の析出等を容易に引き起こし、吐出性の悪化を伴う場合が多い。また、インクが基板面に着弾し、基板面上を濡れ拡がる場合も、濡れ拡がりの縁の部分において溶剤が蒸発することでインクの粘度上昇が起こり、ピニング（ＰＩＮＮＩＮＧ）という現象により、濡れ拡がりが抑えられる場合がある。
【０１９７】
本発明で用いられる溶媒の沸点は、１３０〜２８０℃であることが好ましい。１３０℃より低いと、面内の画素の形状の均一性の点で好ましくない場合がある。２８０℃より高いと、プリベークによる溶媒除去の点で好ましくない場合がある。なお、溶媒の沸点は、圧力１ａｔｍのもとでの沸点を意味し、化合物辞典（Ｃｈａｐｍａｎ ＆ Ｈａｌｌ 社）などの物性値表により知ることができる。これらは１種または２種以上を併用してもよい。
【０１９８】
なお、上述のインクジェット用インクが後述する重合性モノマーなどを含まない場合、インクに含まれる溶剤を除去して得られるインク残部（色画素）の厚みが薄くなるため、混色などの防止目的で基板上に形成された隔壁の高さを低くすることができ、コスト・生産性の面から好ましい。
【０１９９】
＜重合性モノマー＞
本発明のインクジェット用インクは、重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーの添加により、インク液滴と基板との密着性が向上する。併せて、上述した各一般式で表される化合物のインク中での分散均一性の向上や、耐候性・耐熱性などの堅牢性の向上が期待できる。この重合性モノマーとしては、特に制限は無いが、各種置換基のバリエーションが多く、入手が容易な点で、（メタ）アクリル系モノマー、エポキシ系モノマー、およびオキセタニル系モノマーから選択される１種以上を含有することが好ましい。
【０２００】
重合性モノマーとしては、重合性基を２つ以上有するモノマー（以下、「２官能以上のモノマー」ともいう）が好ましい。重合性モノマーとしては、活性エネルギー線および／または熱により重合反応可能であれば特に限定されるものではないが、膜の強度や耐溶剤性などの点から、重合性基を３つ以上有するモノマー（以下、「３官能以上のモノマー」ともいう）がより好ましい。
【０２０１】
上述した重合性基の種類としては、特に制限はないが、上記の通り、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基が特に好ましい。重合性モノマーの具体例としては、特開２００１−３５００１２号公報の段落番号［００６１］〜［００６５］に記載のエポキシ基含有モノマー、特開２００２−３７１２１６号公報の段落番号［００１６］に記載のアクリレートモノマーおよびメタクリレートモノマー、特開２００１−２２０５２６号公報、特開２００１−３１０９３７号公報、特開２００３−３４１２１７号公報の段落番号［００２１］〜［００８４］および特開２００４ −９１５５６号公報の段落番号［００２２］〜［００５８］などに記載のオキセタニル基含有モノマー、並びに、シーエムシー出版「反応性モノマーの市場展望」に記載のモノマーなどが挙げられる。
【０２０２】
また、（メタ）アクリル系モノマーであるアクリレートモノマーおよびメタクリレートモノマーとしては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、などの単官能のアクリレートやメタアクリレートや、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレートなどのアクリレートまたはメタクリレートや、グリセリンやトリメチロールエタンなどの多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化して得られるトリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレートやトリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類などの多官能のアクリレートやメタアクリレート、およびこれらの混合物を挙げることができる。またさらに、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものが挙げられる。単管能モノマー、２官能モノマー、３官能以上の多官能モノマー、オリゴマーを適宜組み合わせて粘度を調整することが好ましい。単官能モノマーや２官能モノマーを併用すると、インクの粘度が低下し、ノズル詰まりを防止できる効果が得られる。膜の強度を補ったり、基板との密着を付与するために、２５℃での粘度が７００ｍＰａ・ｓ以上の高粘度の多官能モノマーやウレタンアクリレートなどの高極性モノマー、オリゴマーなどを少量併用しても構わない。
【０２０３】
上述した重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インクの固形分中の３０〜８０量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましく。モノマーの使用量が上記範囲内であれば、画素部の重合が十分となるため、画素部の膜強度の不足に起因する傷の発生が起こりにくくなる。さらには、透明導電膜を付与する際にクラックやレチキュレーションが発生しにくくなったり、配向膜を設ける際の耐溶剤性が向上したり、電圧保持率を低下させない等の効果が得られる。ここで、配合割合を特定するためのインクジェット用インクの固形分とは、溶剤を除く全ての成分を含み、液状の重合性モノマーなども固形分に含まれる。
【０２０４】
＜バインダー樹脂＞
本発明のインクジェット用インクには、粘度の調整やインク硬度の調整などの目的で、バインダー樹脂を入れてもよい。バインダー樹脂としては、それ自体は重合反応性のない樹脂のみから構成されるような単に乾燥固化するバインダー樹脂を用いてもよい。しかしながら、塗工膜に十分な強度、耐久性、密着性を付与するためには、インクジェット法により基板上に画素のパターンを形成後、該画素を重合反応により硬化させることのできるバインダー樹脂を用いるのが好ましく、例えば、可視光線、紫外線、電子線等により重合硬化させることができる光硬化性のバインダー樹脂や、加熱により重合硬化させることができる熱硬化性のバインダー樹脂のような、重合硬化可能なバインダー樹脂を用いることができる。
【０２０５】
＜重合開始剤＞
本発明のインクジェット用インクは、重合性モノマーおよびバインダー樹脂の重合反応を促進する目的で、重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、インクジェット用インクに用いる重合性モノマーおよびバインダーの種類、重合経路にあわせて選択することができる。
【０２０６】
＜硬化剤＞
エポキシ系モノマー（エポキシ基含有モノマー）、熱硬化性バインダー樹脂には、通常、硬化剤を組み合わせて配合することができる。硬化剤としては、エポキシ樹脂技術協会発行の「総説エポキシ樹脂基礎編Ｉ」２００３年１１月１９日発行、第３章に記載の硬化剤、促進剤を好適に用いることができ、例えば、多価カルボン酸無水物または多価カルボン酸を用いることができる。
【０２０７】
＜界面活性剤＞
本発明のインクジェット用インクには、さらに界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例として、特開平７−２１６２７６号公報の段落番号［００２１］や、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。界面活性剤の含有量は、着色組成物全量に対して５質量％以下が好ましい。
【０２０８】
その他の添加剤としては、特開２０００−３１０７０６号公報の段落番号［００５８］〜［００７１］に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【０２０９】
本発明のインクジェット用インクの色調を整えるために、上述した染料とともに、他の着色剤を併用してもよい。
【０２１０】
本発明のインクジェット用インクの各成分の含有量としては、一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、および一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の合計含有量は１〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましく、溶媒の含有量は３０〜９０質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、重合性モノマーの含有量は５〜５０質量％が好ましく、７〜３０質量％がより好ましく、界面活性剤の含有量が０．１〜５質量％が好ましい。
【０２１１】
＜インクジェット用インクの製造方法＞
本発明のインクジェット用インクの製造には、公知のインクジェット用インクの製造方法を適用することが可能である。例えば、溶剤中に一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、または、一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物を溶解した後、インクジェット用インクに必要な各成分（例えば重合性モノマーやバインダーなど）を溶解させてインクジェット用インクを調製することができる。
【０２１２】
モノマー液を作製する際には、溶剤に対して使用する素材の溶解性が低い場合には、モノマー液が重合反応を起こさない範囲内で、加熱や超音波処理等の処理を適宜行うことが可能である。
【０２１３】
一般式（１）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物、一般式（７）で表される化合物、または、一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物を水性媒体に分散させる場合は、特開平１１−２８６６３７号、特開２００１−２４０７６３（特願２０００−７８４９１）号、特開２００１−２６２０３９（特願２０００−８０２５９）号、特開２００１−２４７７８８（特願２０００−６２３７０）号のように各一般式で表される化合物と油溶性ポリマーとを含有する着色微粒子を水性媒体に分散させたり、特開２００１−２６２０１８（特願２０００−７８４５４）号、特開２００１−２４０７６３（特願２０００−７８４９１）号、特開２００１−３３５７３４（特願２０００−２０３８５６）号のように高沸点有機溶媒に溶解した各一般式で表される化合物を水性媒体中に分散させてもよい。各一般式で表される化合物を水性媒体に分散させる場合の具体的な方法、使用する油溶性ポリマー、高沸点有機溶剤、添加剤およびそれらの使用量は、前記特許文献に記載されたものを好ましく使用することができる。あるいは、各一般式で表される化合物を固体のまま微粒子状態に分散してもよい。分散時には、分散剤や界面活性剤を使用することができる。
【０２１４】
分散装置としては、簡単なスターラーやインペラー攪拌方式、インライン攪拌方式、ミル方式（例えば、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテーターミル等）、超音波方式、高圧乳化分散方式（高圧ホモジナイザー；具体的な市販装置としてはゴーリンホモジナイザー、マイクロフルイダイザー、ＤｅＢＥＥ２０００等）を使用することができる。上記のインクジェット用インクの調製方法については、先述の特許文献以外にも特開平５−１４８４３６号、同５−２９５３１２号、同７−９７５４１号、同７−８２５１５号、同７−１１８５８４号、特開平１１−２８６６３７号、特開２００１−２７１００３（特願２０００−８７５３９）号の各公報に詳細が記載されていて、本発明のインクジェット用インクの調製にも利用できる。
【０２１５】
＜インクジェット用インクの物性値＞
本発明のインクジェット用インクの物性値としては、インクジェットヘッドで吐出可能な範囲であれば特に限定されないが、吐出時における粘度は安定吐出観点から、２〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２０ｍＰａ・ｓがより好ましく。また、装置で吐出する際には、インクジェットインクの温度を２０〜８０℃の範囲でほぼ一定温度に保持することが好ましい。装置の温度を高温に設定すると、インクの粘度が低下し、より高粘度のインクを吐出可能となるが、温度が高くなることにより、熱によるインクの変性や熱重合反応がヘッド内で発生したり、インクを吐出するノズル表面で溶剤が蒸発しやすくなり、ノズル詰まりが起こりやすくなるため、装置の温度は２０〜８０℃の範囲が好ましい。
【０２１６】
なお、粘度は、２５℃にインクジェット用インクを保持した状態で、一般に用いられるＥ型粘度計（例えば、東機産業（株）製Ｅ型粘度計（ＲＥ−８０Ｌ）を用いることにより測定される値である。
【０２１７】
また、インクジェット用インクの２５℃の表面張力（静的表面張力）としては、非浸透性の基板に対する濡れ性を向上、吐出安定性の点で、２０〜４０ｍＮ／ｍが好ましく、２０〜３５ｍＮ／ｍがより好ましい。また、装置で吐出する際には、インクジェット用インクの温度を２０〜８０℃の範囲で略一定温度に保持することが好ましく、そのときの表面張力を２０〜４０ｍＮ／ｍとすることが好ましい。インクジェット用インクの温度を所定精度で一定に保持するためには、インク温度検出手段と、インク加熱または冷却手段と、検出されたインク温度に応じて加熱または冷却を制御する制御手段とを備えていることが好ましい。あるいは、インク温度に応じてインクを吐出させる手段への印加エネルギーを制御することにより、インク物性変化に対する影響を軽減する手段を有することも好適である。
【０２１８】
上述の表面張力は、一般的に用いられる表面張力計（例えば、協和界面科学（株）製、表面張力計ＦＡＣＥ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＥＮＳＩＯＭＥＴＥＲ  ＣＢＶＢ−Ａ３など）を用いて、ウィルヘルミー法で液温２５℃、６０％ＲＨにて測定される値である。
【０２１９】
また、インクジェット用インクが基板着弾後に濡れ拡がる形状を適正に保つためには、基板に着弾後のインクジェット用インクの液物性を所定に保持することが好ましい。このためには、基板および／または基板の近傍を所定温度範囲内に保持することが好ましい。あるいは、基板を支持する台の熱容量を大きくするなどにより、温度変化の影響を低減することも有効である。
【０２２０】
＜カラーフィルタおよびその製造方法＞
次に、図面に示す好適実施形態を参照して、本発明のインクジェット用インクを用いたカラーフィルタおよびその製造方法について詳細に説明する。
本発明のカラーフィルタは、本発明のインクジェット用インクを用いてインクジェット法により形成された色画素を備えることを特徴とするものであり、すなわち、本発明のインクジェット用インクを用いてインクジェット法により製造されたことを特徴とするものである。また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に形成された隔壁により囲まれた凹部に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット法により付与して画素を形成する工程（以下、「画素形成工程」という）を有することを特徴とする。好ましくは、画素形成工程は、基板上の隔壁により区画された凹部にインクジェット法により液滴としてインクを付与する描画工程と、さらに、描画された少なくとも１色の画素（凹部内のインク）を活性エネルギー線の照射により硬化して色画素を形成する照射工程や、所望の色相の画素（凹部内のインク）の全てを形成した後に熱により硬化して色画素を形成する加熱工程を含む硬化工程を有し、必要に応じてベーク処理などの他の工程を設けて構成することができる。
【０２２１】
図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態における製造工程を示すフローチャートであり、図２（ａ）〜（ｆ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法における基板からカラーフィルタに至る製造工程順に示す基板およびカラーフィルタの模式的断面図である。
図１および図２（ａ）〜（ｆ）に示すように、本発明のカラーフィルタ１０の製造方法は、基板１２にブラックマトリックス（ＢＭ）となる隔壁（バンク）１４を形成する隔壁形成工程Ｓ１０２（図２（ｂ）参照）と、隔壁１４に撥液性（撥インク性）を付与する撥液処理工程Ｓ１０４と、隣接する隔壁１４間の凹部１６に、本発明のインクジェット用インク１８をインクジェット法により付与して色画素２０を形成する画素形成工程Ｓ１０６（図２（ｃ）〜（ｅ）参照）と、形成された色画素２０を保護する保護膜２２を形成してカラーフィルタ１０を製造する保護膜形成工程Ｓ１０８（図２（ｆ）参照）とを有する。
【０２２２】
また、画素形成工程Ｓ１０６は、上述したように、隔壁１４間の凹部１６にインク１８をインクジェット法により液滴として吐出して付与する描画工程Ｓ１１０（図２（ｃ）参照）と、凹部１６に付与されたインク１８を乾燥させてインク１８内の溶剤を除去してインク残部１８ａとする予備処理工程Ｓ１１２（図２（ｄ）参照）と、基板１２上の凹部１６内のインク残部１８ａに活性エネルギー線を照射する照射工程および／またはインク残部１８ａを加熱する加熱工程によりインク残部１８ａを重合して硬化させ、色画素２０を形成する硬化工程Ｓ１１４（図２（ｅ）参照）とを有する。
なお、隔壁１４は、画素形成工程Ｓ１０６の前の隔壁形成工程Ｓ１０２において、予め基板１２上に形成されたものであり、隔壁１４の隔壁形成工程Ｓ１０２およびその形成方法の詳細については後述し、まず始めに、画素形成工程Ｓ１０６について説明する。
【０２２３】
＜画素形成工程＞
図２（ｃ）〜（ｅ）に示すように、画素形成工程Ｓ１０６では、描画工程Ｓ１１０において、隔壁（色離隔壁）１４間の凹部１６に、本発明のインクジェット用インク１８の液滴をインクジェット法で付与して、硬化工程Ｓ１１４で付与されたインク１８を硬化して画素２０を形成する。この画素２０は、カラーフィルタ１０を構成する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）などの色画素となるものである。本発明で使用されるインクジェット法および描画工程Ｓ１１０の詳細については後述する。本発明のインクジェット用インクを用いることにより、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色画素を有するカラーフィルタ１０を製造することができる。なお、カラーフィルタの基板１２としては、特に限定されず、ガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板を用いることができる。
【０２２４】
本発明のインクジェット用インクを用いて製造するカラーフィルタとしては、単色のカラーフィルタのみならず、イエロー（Ｙ）とマゼンタ（Ｍ）とでなる赤色（Ｒ）の色画素、イエロー（Ｙ）とシアン（Ｃ）とでなる緑色（Ｇ）の色画素、マゼンタ（Ｍ）とシアン（Ｃ）とでなる青色（Ｂ）の色画素を有する３色のカラーフィルタや、さらに、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の色画素を有する４〜６色の色画素を有するカラーフィルタなどが挙げられる。
【０２２５】
青色（Ｂ）のインクジェット用インクとして、一般式（１）で表される化合物と、後述する一般式（６）で表される化合物および／または一般式（７）で表される化合物とを含むインクジェット用インクが好適に用いられる。赤色（Ｒ）のインクジェット用インクとして、一般式（４）で表される化合物および／またはイエロー（Ｙ）として使用される一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１以上を含むインクジェット用インクが好適に用いられる。緑色（Ｇ）のインクジェット用インクとして、一般式（７）で表される化合物、および／または一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１以上を含むインクジェット用インクが好適に用いられる。
【０２２６】
一般式（４）で表される化合物を含むインクジェット用インクの構成は、本発明のインクジェット用インクに含まれる一般式（１）で表される化合物を一般式（４）で表される化合物に代えた以外は同一であり、インクジェット用インク中での含有量や他の構成成分については上記と同様である。一般式（７）で表される化合物を含むインクジェット用インクについても同様である。一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１以上を含むインクジェット用インクについても同様であり、それらの総含有量が上述のインクジェット用インクでの含有量（１〜２０質量％）の範囲内にあればよい。
なお、一般式（１）で表される化合物と、一般式（７）で表される化合物とを含む場合、一般式（１）で表される化合物と一般式（７）で表される化合物とのインクジェット用インク中での総含有量が、１〜２０質量％の範囲内にあればよい。一般式（４）で表される化合物と、一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１以上とを含む場合、一般式（７）で表される化合物と、一般式（ａ）〜一般式（ｆ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１以上とを含む場合も同様である。
【０２２７】
＜一般式（６）で表される化合物＞
青色（Ｂ）のインクジェット用インクに、以下の一般式（６）で表される化合物が好適に使用される。
【０２２８】
【化６６】
2009144149.tif 000064
【０２２９】
カラーフィルタを形成するためのそれぞれの着色用インクとしては、公知のものも使用することができる。例えば、マゼンタ色調インクの場合は、カップリング成分（以降、カプラー成分と呼ぶ）として、フェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラジンのようなヘテロ環類、開鎖型活性メチレン化合物類などを有するアリールまたはヘテリルアゾ染料；例えば、カプラー成分として開鎖型活性メチレン化合物類などを有するアゾメチン染料；アントラピリドン染料（例えばＵＳ２００４／０２３９７３９Ａ１明細書記載のＴａｂｌｅ １中のＮｏ．２０の化合物や、国際公開第０４／１０４１０８号パンフレット記載の化合物（１３）など）などを含んだインクを挙げることができる。
【０２３０】
イエロー色調用インクとしては、例えば、カプラー成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラゾロンやピリドン等のような複素環類、開鎖型活性メチレン化合物類、などを有するアリールもしくはヘテリルアゾ染料；例えば、カプラー成分として開鎖型活性メチレン化合物類などを有するアゾメチン染料；例えば、ベンジリデン染料やモノメチンオキソノール染料等のようなメチン染料；例えば、ナフトキノン染料、アントラキノン染料等のようなキノン系染料などがあり、これ以外の染料種としてはキノフタロン染料、ニトロ・ニトロソ染料、アクリジン染料、アクリジノン染料などを含んだインクを挙げることができる。
【０２３１】
シアン色調用染料としては、例えば、カプラー成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類などを有するアリールまたはヘテリルアゾ染料；例えば、カプラー成分としてフェノール類、ナフトール類、ピロロトリアゾールのような複素環類などを有するアゾメチン染料；シアニン染料、オキソノール染料、メロシアニン染料などのようなポリメチン染料；ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料などのようなカルボニウム染料；フタロシアニン染料；アントラキノン染料；インジゴ・チオインジゴ染料などを含んだインクを挙げることができる。
【０２３２】
カラーフィルタパターンの形状については、特に限定はなく、ブラックマトリックス形状として一般的なストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。
【０２３３】
本発明においては、図２（ｃ）に示すように、描画工程Ｓ１１０において基板１２上の凹部１６にインク１８の液滴を付与してインク１８の層を形成した後、図２（ｄ）に示すように、予備処理工程Ｓ１１２でインク１８内に含まれる有機溶剤を乾燥して除去してインク残部１８ａとした後に、図２（ｅ）に示すように、このインク残部１８ａに活性エネルギー線を照射する照射工程（以下、第１の硬化工程ともいう）および／またはインク残部を加熱する加熱工程（以下、第２の硬化工程ともいう）からなる硬化工程Ｓ１１４によりインク残部１８ａを重合して画素２０を形成してもよい。また、インク残部の熱重合が開始する温度をＴ℃としたときに、予備処理工程Ｓ１１２において、Ｔ℃未満の温度で予備加熱（以下、予備加熱工程ともいう）を行ってインク１８内に含まれる有機溶剤を強制的に乾燥させて除去してインク残部１８ａとした後に、インク残部１８ａに活性エネルギー線を照射する照射工程および／またはインク残部１８ａをＴ℃以上の温度で加熱する加熱工程によりインク残部１８ａを重合して硬化させて、画素２０を形成してもよい。
【０２３４】
＜第１の硬化工程＞
描画工程Ｓ１１０で形成された少なくとも１色の画素形成のための凹部１６内のインク残部（以下、未硬化画素インクという）１８ａに活性エネルギー線を照射して硬化する工程（第１の硬化工程）を設けることができる。第１の硬化工程では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、および青色（Ｂ）を含む各色のインクを硬化させることにより、硬化した画素２０を形成することができる。硬化は、１色の未硬化画素インク１８ａを形成するごとに行ってもよいし、複数色または全色の未硬化画素インク１８ａを形成した後に行うようにしてもよい。
【０２３５】
第１の硬化工程において、１色または複数色毎に凹部１６内のインク、すなわち未硬化画素インク１８ａを硬化させる場合、硬化させる順序は、特に制限的ではなく、どのような順序でも良い。
また、Ｒ，Ｇ，Ｂなどのインクの硬化は、インクの持つ感光波長に対応する波長領域の活性エネルギー線を発するエネルギー源を用いて重合硬化を促進する露光処理を施すことにより行うことができる。
【０２３６】
エネルギー源としては、例えば、４００〜２００ｎｍの紫外線、遠紫外線、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、電子線、Ｘ線、分子線、またはイオンビームなど、既述の重合開始剤が感応するものを適宜選択して用いることができる。具体的には、２５０〜４５０ｎｍ、好ましくは３６５±２０ｎｍの波長領域に属する活性光線を発する光源、例えば、ＬＤ、ＬＥＤ（発光ダイオード）、蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、キセノンランプ、ケミカルランプなどを用いて好適に行うことができる。好ましい光源には、ＬＥＤ、高圧水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。
【０２３７】
活性エネルギー線の照射時間としては、モノマーと重合開始剤との組合せに応じて適宜設定することができるが、例えば、１〜３０秒とすることができる。
【０２３８】
＜第２の硬化工程＞
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、および青色（Ｂ）など所望の色相の未硬化画素インク１８ａを、熱により硬化する工程（第２の硬化工程）を設けることができる。上記のように、第１の硬化工程を設けると共に第２の硬化工程を設けることによって、カラーフィルタ１０の製造効率と表示特性とを両立させことができる。また、第２の硬化工程のみで硬化させてもよい。
【０２３９】
本第２の硬化工程では、隔壁および所望の色相からなる未硬化画素インクを形成し、第１の硬化工程を行った後に、さらに加熱処理（いわゆるベーク処理）を行って、熱による硬化を施すことができる。すなわち、隔壁および光照射により光重合した画素が形成されている基板を、電気炉、乾燥器などに入れて加熱する、あるいは赤外線ランプを照射して加熱することができる。
【０２４０】
このときの加熱温度および加熱時間は、インクジェット用インクの組成や画素の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、および紫外線吸光度を確保する観点から、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【０２４１】
また、本発明のインクジェット用インクを用いたカラーフィルタの製造方法では、活性エネルギー線の露光および／または熱処理による画素形成用凹部（未硬化画素）内のインクの重合を行う前に、予備処理工程Ｓ１１２として、予備加熱工程を設けても良い。予備加熱工程における加熱温度は特に制限は無いが、未硬化画素インクの熱重合が開始する温度をＴ℃とした場合に、Ｔ℃未満であり、未硬化画素インクの重合が起きない温度が好ましく、５０〜１００℃がより好ましく、６０〜９０℃がさらに好ましい。本予備加熱工程を入れることで、インクジェット法により付与されたインク中の有機溶剤の蒸発が促進され、カラーフィルタを効率的に作製することができる上に、インク残部の粘度が熱により低下するため、より高い流動性が得られ、高い平坦性の画素を有するカラーフィルタを得ることが可能になる。
【０２４２】
上記予備加熱工程は、本発明のごときインク残部が流動性を有するインクであれば、画素内が熱によって重合するインクのみならず、光によって重合するインクにおいても有効である。光によって重合するインクの場合、上述のインクが熱重合を開始する温度Ｔは、熱によって光重合開始剤などが分解して重合反応が開始する温度または、モノマー自体が熱によって分解し、重合反応が開始する温度を意味する。予備加熱工程の時間は特に制限が無いが、１〜５分間行うことが好ましい。
【０２４３】
温度Ｔは、以下のようにして求めることができる。インクを加熱し、加熱によりインクの重合が開始し、インクのゲル化などが観察される温度をＴとする。より具体的には、加熱前のインク粘度に対して、加熱後のインク粘度の上昇が５ｍＰａ・ｓ以上の場合の加熱温度をＴとする。
【０２４４】
本発明のインクを用いたカラーフィルタの製造方法においては、描画工程Ｓ１１０から予備加熱工程（Ｓ１１２）および第１の硬化工程と第２の硬化工程とからなる硬化工程（Ｓ１１４）までの画素形成工程Ｓ１０６を、２４時間以内で行う事が好ましく、１２時間以内で行う事がより好ましく、６時間以内に行う事がさらに好ましい。描画工程Ｓ１１０から、最終の硬化工程（第２の硬化工程）Ｓ１１４までの画素の形成を２４時間以内で行うことにより、画素の面状を向上させることができる。
なお、本発明のカラーフィルタの製造方法においては、画素形成工程Ｓ１０６、すなわち描画工程Ｓ１１０から予備加熱工程（Ｓ１１２）、第１の硬化工程および第２の硬化工程（Ｓ１１４）までを、１色毎に行っても良いし、複数色毎に行っても良いし、または描画工程Ｓ１１０で全色について描画を行い、予備加熱工程（Ｓ１１２）による予備加熱、硬化工程Ｓ１１４による硬化を全色について行っても良い。また、画素形成工程Ｓ１０６を１色または複数色毎に行う場合、形成する画素の色の順序は、特に制限的ではなく、どのような色の順序でも良い。
【０２４５】
＜隔壁形成工程＞
本発明のカラーフィルタの製造方法では、上述した画素形成工程Ｓ１０６において、図２（ｃ）〜（ｅ）に示すように、基板１２上に形成された隔壁１４により囲まれた凹部１６に、インクジェット法により本発明のインクジェット用インク１８の液滴を付与して画素２０が形成される。
この隔壁１４は、特に制限的ではなく、公知の隔壁を用いることができ、どの様なものでもよいが、カラーフィルタを作製する場合は、ブラックマトリクスの機能を持った遮光性を有する隔壁であることが好ましい。
そのため、図１に示す例では、隔壁形成工程Ｓ１０２において、図２（ｂ）に示すように、図２（ａ）に示す基板１２上に、このようなブラックマトリクスの機能を持つ遮光性のある隔壁１４を形成する。
【０２４６】
なお、この隔壁１４は、公知のカラーフィルタ用ブラックマトリクスと同様の素材を用い、同様の公知の方法により作製することができる。例えば、特開２００７−１９３０９０号公報の段落番号［０１０８］〜［０１２６］や、特開２００５−３８６１号公報の段落番号[００２１]〜[００７４]や、特開２００４−２４００３９号公報の段落番号[００１２]〜[００２１]に記載のブラックマトリクス（いわゆる樹脂ブラックマトリックス）や、特開２００６−１７９８０号公報の段落番号[００１５]〜[００２０] や、特開２００６−１０８７５号公報の段落番号[０００９]〜[００４４]に記載のインクジェット用ブラックマトリクスなどが挙げられる。また、隔壁１４は、ブラックマトリクス機能と隔壁機能とを別々に持つ層からなる２層構造であっても良い。例えば、特開２００４−３６１４９１号公報の段落番号［００５４］〜［００５７］や、特開２００４−２９５０３９号公報の段落番号[００６７]〜[００６９]や、特開２００６−８６１２８号公報の段落番号[００６８]〜[００６９]、 [０１０３]、 [０１０９]〜[０１１０]に記載の金属遮光膜とその上に形成された樹脂製、好ましくは、撥液性の樹脂製の隔壁（バンク）層とからなる２層構造であっても良い。
本発明法では、上述した公知の作製方法の中でも、コスト削減の観点から感光性樹脂転写材料を用いることが好ましい。感光性樹脂転写材料は、仮支持体上に少なくとも遮光性を有する樹脂層を設けたものであり、基板に圧着して、遮光性を有する樹脂層を基板に転写することができる。
【０２４７】
感光性樹脂転写材料は、特開平５−７２７２４号公報に記載されている感光性樹脂転写材料、すなわち一体型となったフイルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フイルムの構成の例としては、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層（本発明において「感光性樹脂層」とは光照射により硬化しうる樹脂をいい、それが遮光性を有するときには「遮光性を有する樹脂層」ともいい、目的の色に着色されているときには「着色樹脂層」ともいう。）／保護フイルムを、この順に積層した構成が挙げられる。感光性樹脂転写材料を構成する仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルムや、転写材料の作製方法については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号[００２３]〜[００６６] や特開２００７−１９３０９０号公報の段落番号［０１０８］〜［０１２６］に記載のものが好適なものとして挙げられる。
【０２４８】
また、このような隔壁１４は、インクジェット用インクの混色を防ぐために、撥インク処理を施してもよい。
このため、図１に示す例では、隔壁形成工程Ｓ１０２の後、撥液処理工程Ｓ１０４において、図２（ｂ）に示す基板１２上の隔壁１４に、撥液処理、すなわち撥インク処理を施す。
なお、このような撥インク処理としては、例えば、特開２００７−１８７８８４号公報の段落番号［００８６］〜［００８７］に記載された撥インク処理方法、具体的には、（１）撥インク性物質を隔壁に練りこむ方法（例えば、特開２００５−３６１６０号公報参照）、（２）撥インク層を新たに設ける方法（例えば、特開平５−２４１０１１号公報参照）、（３）プラズマ処理により撥インク性を付与する方法（例えば、特開２００２−６２４２０号公報参照）、（４）隔壁の壁上面に撥インク材料を塗布する方法（例えば、特開平１０−１２３５００号公報参照）、などが挙げられ、特に（３）基板上に形成された隔壁にプラズマによる撥インク化処理を施す方法が好ましい。
【０２４９】
これらの他、本発明法に適用可能な撥インク処理方法として、特開２００４−３６１４９１号公報の段落番号［００５８］に記載された撥インク処理方法（例えば、特開平９−２０３８０３号公報、特開平９−２３０１２９号公報および特開平９−２３０１２７号公報参照）や、特開２００６−８６１２８号公報の段落番号［００７４］〜［００７５］、［０１１１］〜［０１１８］、［０１３０］に記載された撥インク処理方法などを挙げることができる。
なお、上述した例では、基板１２上の隔壁１４に撥インク処理を施しているが、本発明はこれに限定されず、同時に基板１２上の凹部１６内に親インク処理を施しても良い。
なお、隔壁１４が撥インク性を備えている場合には、撥液処理工程Ｓ１０４は不要であるが、その場合においても、基板１２上の凹部１６内に親インク処理を施しても良い。
【０２５０】
図２（ｅ）に示すように、基板１２上に隔壁１４および画素２０を形成して、カラーフィルタ１０を作製した後には、耐性向上の目的で、図２（ｆ）に示すように、画素２０および隔壁の１４の全面を覆うように保護層としてオーバーコート層２２を形成することができる。オーバーコート層２２は、Ｒ，Ｇ，Ｂなどの画素２０および隔壁１４を保護すると共に表面を平坦にすることができる。但し、工程数が増える点からは設けないことが好ましい。オーバーコート層２２は、樹脂（ＯＣ剤）を用いて構成することができ、樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、インクジェット用インクの樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れることから、アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、オーバーコート剤の市販品として、ＪＳＲ社製のオプトマーＳＳ６６９９Ｇが挙げられる。
【０２５１】
本発明のカラーフィルタは、さらに透明導電膜として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層を有していてもよい。ＩＴＯ層の形成方法としては、例えば、インライン低温スパッタ法や、インライン高温スパッタ法、バッチ式低温スパッタ法、バッチ式高温スパッタ法、真空蒸着法、およびプラズマＣＶＤ法などが挙げられ、特にカラーフィルタに対するダメージを少なくするため、低温スパッタ法が好ましく用いられる。
【０２５２】
本発明のカラーフィルタは、例えば、液晶ディスプレイ、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクタ、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの画像表示、特にカラー画像表示の用途に特に制限なく好適に適用できる。
また、本発明のカラーフィルタは、電子ペーパや有機ＥＬ素子デバイスなどの画像表示デバイス、特にカラー画像表示デバイスにも適用可能である。
【０２５３】
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法の描画工程、これに用いられるインクジェット描画方法、これを実施するインクジェット描画装置、およびこれに用いられるインクジェットヘッドについて説明する。
図３は、本発明のカラーフィルタの製造方法の描画工程を実施するのに用いられるインクジェット描画装置の一実施形態の一部分を示す斜視図であり、図４は、図３に示すインクジェット描画装置の部分断面図であり、図５は、図３に示すインクジェット描画装置におけるインク循環系の一実施形態の概略構成を示す模式図である。
【０２５４】
図３および図４に示すインクジェット描画装置（以下、単に、描画装置ともいう）３０は、基板１２を載置して支持するプラテン３２と、基板１２にカラーフィルタ製造用インクを吐出するインクジェットヘッド３４を備えるキャリッジタイプのヘッドユニット３６と、プラテン３２上に支持された基板１２上においてヘッドユニット３６を主走査方向（図３中矢印Ｘで示す方向）に移動させるヘッド移動機構３８と、プラテン３２に載置された基板１２を主走査方向（Ｘ方向）と略直交する副走査方向（図３および図４中矢印Ｙで示す方向）に搬送する基板搬送機構４０と、ヘッドユニット３６のインクジェットヘッド３４にインクを供給するインク供給系５０（図５参照）と、基板搬送機構４０を介してプラテン３２に基板１２を供給する図示しない基板供給手段とを有する。なお、基板供給手段は、基板搬送機構４０が基板１２をプラテン３２に搬送できるように、基板１２を基板搬送機構４０に供給できれば、どのような基板供給手段でも良く、例えば、公知の基板供給手段や、基板１２を基板搬送機構４０を介してプラテン３２に自動的に供給する自動給版装置であっても良い。
【０２５５】
ここで、プラテン３２は、平板形状を有し、基板供給手段から供給された基板１２をその表面上に載置して支持するものである。ここで、プラテン３２の表面には、空気吸引孔を設けてヘッドユニット３６による描画中、すなわちヘッドユニット３６のインクジェットヘッド３４による描画中に基板１２を吸着するのが好ましい。これにより、基板１２の平面性を適正に維持できる。また、基板搬送機構４０によって基板１２を副走査方向（Ｙ方向）に搬送する際には、プラテン３２の表面は、基板１２の裏面との摩擦が小さいものであるのが好ましい。なお、プラテン３２は、描画装置３０の筐体（図示せず）に取り付けられる。
【０２５６】
ヘッドユニット３６は、インクジェットヘッド３４を有し、プラテン３２に対向して配置され、後述するヘッド移動機構３８により、プラテン３２の表面と平行に移動可能な状態で支持されている。また、ヘッドユニット３６には、インク供給系５０のインクタンク５２（図５参照）内のインクをインクジェットヘッド３４に供給するためのインク供給管５４が接続される。
インクジェットヘッド３４は、カラーフィルタ形成のための所定色のインク吐出信号に応じて、上述した本発明のカラーフィルタ製造のためのインクジェット用インク１８を吐出し、基板１２上に画素（未硬化画素１８ａ）を描画し、硬化画素２０（図２（ｅ）および（ｆ）参照）を形成するためのものである。ここで、吐出信号とは、画像信号に基づいて、カラーフィルタの画素となる部分に選択的にインクを塗布するように液滴を吐出させる吐出信号である。
インクジェットヘッドとしては、コンティニュアス型やオンデマンド型のピエゾ方式、サーマル方式、ソリッド方式、静電吸引方式等の種々の方式のインクジェットヘッド（吐出ヘッド）を用いることができ、オンデマンド型の種々の方式のインクジェットヘッドを用いることが好ましく、特に、オンデマンド型のピエゾ方式のインクジェットヘッドを用いることが好ましい。また、インクジェットヘッドの吐出部（ノズル）は、単列配置に限定されず、複数列としても千鳥格子状に配置としてもよい。なお、インクジェットヘッドのノズルの配置およびそれに応じた描画方法については後述する。
【０２５７】
なお、図３および図４に示す描画装置３０においては、１色、例えばマゼンタのインクを用いてカラーフィルタのＲ画素を形成するものであるが、カラーフィルタの２色以上、例えば３色のＲＧＢ画素を形成するために、１台の描画装置３０によって色の異なるインクに取り替えて順次他の色の画素を形成してもよいし、それぞれ異なる色のインクを用いる３台の描画装置３０によってそれぞれ異なる色の画素を形成してもよいし、もしくは図３および図４に示す描画装置３０において、２次元方向に移動可能な２以上のヘッドユニットを備える構成としても良い。
また、図示例においては、ヘッドユニット３６は、１色のインクを吐出する１種のインクジェットヘッド３４を備えるものであるが、本発明はこれに限定されず、２色以上、例えば、３色または４色のフルカラーのインクをそれぞれ吐出する２種以上、例えば、３種または４種のインクジェットヘッド３４を備えるものであっても良い。この場合には、３種または４種のインクジェットヘッド３４のそれぞれに対して、それぞれのインク供給系５０、すなわち３色または４色のフルカラーのインクをそれぞれ供給する３種または４種のインク供給系５０が必要であり、それらの各々に応じて３つまたは４つのインク供給管５４がヘッドユニット３６には接続される。
【０２５８】
ヘッド移動機構３８は、ヘッドユニット３６を、主走査方向（図３中矢印Ｘ方向）に走査移動するものであり、ドライブスクリュ４２と、ガイドレール４３と、駆動支持部４４と、支持部４５とを有する。ドライブスクリュ４２およびガイドレール４３は、互いに所定間隔離間して、共に基板１２の搬送方向（図３中Ｙ方向）と直交する主走査方向（図３中Ｘ方向）と平行に、また、使用可能な最大（主走査方向の長さが最長）の基板１２をその左端から右端まで跨ぐように配置されている。
【０２５９】
ドライブスクリュ４２は、ヘッドユニット３６に形成された雌ねじ部（図示せず）と螺合する雄ねじ部を持つボールねじ（図示せず）等からなり、回転することによりヘッドユニット３６を移動させる。ガイドレール４３は、ヘッドユニット３６に形成された貫通孔に挿通され、ドライブスクリュ４２の回転により移動するインクジェットヘッド３４の姿勢が変わらないように案内するガイドである。
また、駆動支持部４４は、ドライブスクリュ４２およびガイドレール４３の一方の端部に、支持部４５は、それらの他方の端部に設けられ、ドライブスクリュ４２を正逆回転可能な状態で支持し、ガイドレール４３を移動しないように支持している。駆動支持部４４は、ドライブスクリュ４２を駆動するモータ等の駆動源（図示せず）を備える。なお、駆動支持部４４および支持部４５は、共に、上述した図示しない描画装置３０の筐体に支持される。
【０２６０】
ヘッドユニット３６は、ドライブスクリュ４２およびガイドレール４３によって移動可能に支持されており、駆動支持部４４により、ドライブスクリュ４２を正逆回転させることで、ガイドレール４３に案内されつつ、主走査方向（Ｘ方向）に往復移動（走査）される。なお、ヘッド移動機構３８は、ヘッドユニット３６の姿勢を保つために、複数のガイドレールを備えていても良いし、その他の姿勢保持手段を有していても良い。なお、ヘッドユニット３６は、ガイドレール４３により、インク液滴を吐出させる部分、つまり、インクジェットヘッド３４のインク液滴吐出面がプラテン３２と対向した所定の姿勢を維持して移動される。
【０２６１】
ここで、ヘッドユニット３６の移動機構としては、上記のヘッド移動機構３８に限定されず、種々の公知のヘッド移動機構を用いることができる。例えば、ドライブスクリュをガイドレールなどの棒状部材とし、インクジェットヘッドのＸ方向の端部の両側にそれぞれガイドワイヤーをつけた構成として、移動方向のガイドワイヤを巻き取り、ガイドレールに沿って移動させる構成も用いることができる。また、ガイドワイヤの代りに、タイミングベルトで移動させても良い。この場合には、ワイヤーリールに代えてタイミングベルト用スプロケットを用いればよい。また、ラックアンドピニオン機構を用いても良い。また、自走式としても良い。さらに、リニアモータを用いてもよい。
【０２６２】
基板搬送機構４０は、ヘッドユニット３６に対して、プラテン３２に載置された基板１２を副走査方向（Ｙ方向）に搬送するものであり、副走査方向（Ｙ方向）に所定間隔、例えば、使用可能な最小（副走査方向の長さが最短）の基板１２の長さより少し短い間隔だけ離間して、主走査方向（Ｘ方向）延在して配置され、図示しない駆動源と接続する１対の送りローラ４６と、各送りローラ４６上に載置された基板１２の主走査（Ｘ）方向の両端部をそれぞれ挟む位置に配置される、各送りローラ４６に付き１組の小幅の抑えローラ４８とを有し、送りローラ４６と抑えローラ４８との間に基板１２を挟持して副走査（Ｙ）方向に搬送する。１対の送りローラ４６は、使用可能な最大（主走査方向に最長）の基板１２の主走査方向の長さより長い２つの長尺の駆動ローラで構成され、この２つの駆動ローラの駆動軸は、駆動ベルトなど同期駆動手段により、互いに連結されて同期駆動される。一方、抑えローラ４８は、各送りローラ４６に対して２つ、合計４つ設けられる小幅の短尺の従動ローラで構成され、使用可能な主走査方向に最長の基板１２の両端の位置から使用可能な主走査方向に最短の基板１２の両端の位置の間で主走査方向に移動可能であり、使用される基板１２の両端の位置に適切調整できるようになっているのが好ましい。１つの送りローラ４６と２つの抑えローラ４８とは、基板１２の搬送経路を上下に挟んで配置されている。自動給版装置から供給された基板１２は、送りローラ４６と抑えローラ４８との間に所定のニップ圧で挟持され、送りローラ４６を駆動源（図示せず）によって所定方向（図４において反時計回り）に回転させることで、副走査（Ｙ）方向に搬送される。
【０２６３】
ここで、ヘッドユニット３６による描画中に、基板１２をプラテン３２の表面に吸着させる場合には、全ての送りローラ４６および抑えローラ４８を回転を停止させ、ヘッドユニット３６による描画が行われていない間に、送りローラ４８が図示しない駆動源によって回転駆動され、抑えローラ４８との間に挟持している基板１２を副走査（Ｙ）方向に搬送するように構成するのが好ましい。すなわち、基板搬送機構４０は、基板１２を間欠的に副走査搬送するものであるのが好ましい。なお、送りローラ４６および抑えローラ４８は、共に、図示しない描画装置３０の筐体に回転可能に支持される。なお、本発明に用いられる基板搬送機構４０は、基板１２を副走査方向に搬送できるものであればどのような形式のものでも良く、公知の全ての副走査搬送機構が適用可能である。
このようにして、基板搬送機構４０は、基板１２を副走査方向に搬送することにより、基板１２に対してへッドユニット３６を副走査方向に相対的に移動させることができる。
【０２６４】
以上のようにして、ヘッド移動機構３８および基板搬送機構４０は、へッドユニット３６を基板１２に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動させることができ、へッドユニット３６のインクジェットヘッド３４による基板１２の２次元走査（ＸＹ走査）を実現することができる。なお、本発明において、ヘッド移動機構３８および基板搬送機構４０の駆動源は、カラーフィルタなどの製造のための描画を正確にできれば、特に制限的ではないが、ステップモータであるのが好ましい。
なお、ヘッド移動機構３８は、ヘッドユニット３６を、インクジェットヘッド３４の不使用時には所定のヘッド退避位置に、メンテナンス時には所定のメンテナンス位置に移動させる。また、所定のヘッド退避位置や、所定のメンテナンス位置は、プラテン３２上の基板１２から外れた位置、あるいはプラテン３２から外れた位置であるのが好ましく、より好ましくは、所定のヘッド退避位置は、プラテン３２上の基板１２から外れた位置であるのが良く、所定のメンテナンス位置は、プラテン３２から外れた位置であるのが良い。
なお、図示例では、ヘッド移動機構３８によるへッドユニット３６の主走査方向の移動および基板搬送機構４０による基板１２の副走査方向の搬送により、へッドユニット３６のインクジェットヘッド３４による基板１２に対する２次元走査（ＸＹ走査）を実現しているが、本発明はこれに限定されず、基板１２を支持台としてのプラテン３２に載置して固定しておき、ヘッドユニット走査手段などにより、ヘッドユニット３６を主走査（Ｘ）方向および副走査（Ｙ）方向に移動走査させて、固定された基板１２に対する２次元走査（ＸＹ走査）を行うようにしても良い。
ヘッドユニット３６による基板の２次元走査については、本発明のカラーフィルタ製造のためのインクジェット描画方法とともに後に詳細に説明する。
【０２６５】
図５に、インクジェット描画装置３０におけるインク供給系５０の概略構成を示す。
インク供給系５０は、インクジェットヘッド３４に供給するインクを貯留するインクタンク５２と、インクジェットヘッド３４とインクタンク５２とを接続するインク供給管５４と、インク供給管５４の途中に設けられるフィルタ５６と、インクジェットヘッド３４のノズル領域を覆うキャップ５８と、インクジェットヘッド３４のノズル面３４ａのクリーニングを行うクリーニングブレード６０と、キャップ５８に接続され、インクジェットヘッド３４のノズル吸引を行う吸引ポンプ６２と、吸引ポンプ６２で吸引したインクを回収する回収タンク６４と、キャップ５８と回収タンク６４とを吸引ポンプ６２を介して接続するインク回収管６６と、インク供給管５４に分岐して設けられ、インクジェットヘッド３４のノズルの圧力室（図示せず）を加圧して強制吐出を行うためのヘッド加圧ポンプ６８と、インクタンク５２にインクを補充するインク補充系７０とを有する。
なお、キャップ５８、クリーニングブレード６０、吸引ポンプ６２およびヘッド加圧ポンプ６８は、インクジェットヘッド３４のメンテナンス系を構成し、キャップ５８、回収タンク６４、インク回収管６６ならびに後述するインク補充系７０の回収インク補充管８２、フィルタ８４および濃度検出部８６は、インク回収系を構成する。
ここでは、インク供給系５０は、インクタンク５２からインクジェットヘッド３４にインクを供給する狭義の供給系のみならず、インクジェットヘッド３４のメンテナンス系、インク回収系およびインク補充系７０をも含むものである。
【０２６６】
インクタンク５２は、インクジェットヘッド３４にインクを供給するためのメインタンクであり、上述したカラーフィルタ製造のための本発明のインクジェット用インクを始めとして、種々のインクを貯留するためのものである。なお、図示例においては、インクタンク５２の形態として、インク補充系７０を備え、インクタンク５２内のインク残量が少なくなった場合には、インク補充系７０から補充口（図示せず）からインクを補充する方式を採用しているが、本発明はこれに限定されず、インクタンク５２をインクカートリッジとしてインクタンクごと交換するカートリッジ方式を採用してもよい。
カラーフィルタを大量生産する場合など、各色、各種類ごとにインクジェットヘッド３４およびインク供給系５０を備え、大量のインクを消費する場合には、インク交換やコストの点からも、インク補充方式が適しているが、少量のインク消費で、使用用途に応じてインク種類を替える場合には、カートリッジ方式が適している。このカートリッジ方式の場合、インクの種類情報をバーコード等で識別して、インク種類に応じて吐出制御を行うことが好ましい。
【０２６７】
図５に示したように、インクタンク５２とインクジェットヘッド３４を繋ぐインク供給管５４の途中には、異物や気泡を除去するためにフィルタ５６が設けられている。フィルタ５６のメッシュサイズは、インクジェットヘッド３４のノズル径と同等、もしくはノズル径以下（一般的には、２０μｍ程度）とするのが好ましい。なお、詳細は後述するが、さらに、インク供給管５４の途中に分岐して設けられ、インクジェットヘッド３４にインクの吐出不良が発生した場合に、インクジェットヘッド３４のノズルの圧力室（図示せず）を強制的に加圧して強制吐出を行うためのヘッド加圧ポンプ６８が設けられる。また、インク供給管５４は、インクジェットヘッド３４に接続されている部分、例えば、ヘッド加圧ポンプ６８よりインクジェットヘッド３４の側の部分は、ヘッドユニット３６の二次元的（ＸＹ方向）移動の際にスムーズな移動を実現するために、フレキシブルチューブとするのが良い。
なお、図５には示さないが、インクジェットヘッド３４の近傍またはインクジェットヘッド３４と一体にサブタンクを設ける構成とするのもまた好ましい。サブタンクは、ヘッドの内圧変動を防止するダンパー効果およびリフィルを改善する機能を有する。
【０２６８】
また、図示例のインクジェット描画装置３０には、インクジェットヘッド３４の各ノズルからインクを適切に吐出させるため、インクジェットヘッド３４を適切な吐出状態を維持するための、キャップ５８およびクリーニングブレード６０などを含むメンテナンスユニットを備える。これらのメンテナンスユニットは、図示しない移動機構によってインクジェットヘッド３４に対して相対移動可能であり、必要に応じて、その所定の退避位置からメンテナンス位置にあるインクジェットヘッド３４の下方に移動される。図３に示すインクジェット描画装置３０の場合、メンテナンスユニットの退避位置も、メンテナンス位置も、プラテン３２上の基板１２から外れた位置、好ましくは、プラテン３２から外れた位置であるのが良い。
【０２６９】
キャップ５８は、インクジェットヘッド３４のノズル面３４ａのノズル領域を覆うように被着され、インクジェットヘッド３４の不使用時のノズルの乾燥防止またはノズル近傍のインク粘度上昇を防止するための手段として設けられる。また、キャップ５８は、インクジェットヘッド３４のノズル（図示せず）の吐出状態の検査および／または吐出不良の解消のための予備吐出（以下、ダミー吐出ともいう）や、ヘッド加圧ポンプ６８によるノズルからの強制的な吐出や、吸引ポンプ６２によるインクジェットヘッド３４のノズル吸引の際にも、吐出されたインクを回収するために、また、吸引ポンプ６２によるノズル吸引を可能とし、かつ吸引されたインクを回収するために、ノズル面３４ａを覆うようにインクジェットヘッド３４に被着されて用いられる。
このキャップ５８は、メンテナンス位置において、図示しない昇降機構によって、インクジェットヘッド３４に対して相対的に昇降変位される。昇降機構は、電源オフ（ＯＦＦ）時や描画待機時にキャップ５８を所定の上昇位置まで上昇させ、インクジェットヘッド３４に密着させることにより、ノズル面３４ａのノズル領域をキャップ５８で覆うようになっている。
【０２７０】
クリーニングブレード６０は、インクジェットヘッド３４のノズル面３４ａの清掃手段として設けられ、ゴムなどの弾性部材で構成されており、メンテナンス位置において、図示しないブレード移動機構によりインクジェットヘッド３４のインク吐出面（ノズル面３４ａ）に摺動可能である。ノズル面３４ａにインク液滴または異物が付着した場合、クリーニングブレード６０をノズル面３４ａに摺動させることでノズル面３４ａを拭き取り、ノズル面３４ａを清浄するようになっている。
吸引ポンプ６２は、インク回収管６６によってキャップ５８に接続される。この吸引ポンプ６２は、初期のインクのインクジェットヘッド３４の各ノズルへの装填時、あるいは長時間の停止後の使用開始時に、インクジェットヘッド３４のノズル面３４ａにキャップ５８を当接させて吸引動作（ノズル吸引動作）を行い、粘度が上昇して固化した劣化インクを吸い出して除去するために用いられるものである。なお、吸引ポンプ６２は、吸い出して除去した劣化インクを回収タンク６４へ送液して回収する。
【０２７１】
また、印字中または待機中において、特定のノズルの使用頻度が低くなり、そのノズル近傍のインク粘度が上昇した場合、粘度が上昇して劣化したインクを排出すべく、キャップ５８に向かって予備吐出が行われる。しかしながら、インクジェットヘッド３４の各ノズルから予備吐出を行っても、各ノズルの吐出状態の検査の結果、吐出不良のノズルが存在する場合がある。
このように、予備吐出でも吐出不良ノズルが容易に吐出できるように回復しない場合、すなわち、容易に吐出不良が解消しない場合、例えば、インクジェットヘッド３４内（圧力室内）のインクに気泡が混入した場合や、ノズル内でインクが高粘度となりあるいは固化して劣化インクとなった場合にも、インクジェットヘッド３４にキャップ５８を当接させて、吸引ポンプ６２は、圧力室内の（気泡が混入した）インクや、高粘度のあるいは固化した劣化インクを吸引（ノズル吸引）により除去するために用いられる。もちろん、この場合も、吸引ポンプ６２は、吸引除去した気泡混入インクや劣化インクを回収タンク６４へ送液して回収する。
【０２７２】
ヘッド加圧ポンプ６８は、インクジェットヘッド３４に接続されたインク供給管５４に分岐して設けられる。このヘッド加圧ポンプ６８は、上述した吸引ポンプ６２と同様に、初期のインクの装填時、あるいは長時間の停止後の使用開始時に、予備吐出でも容易に吐出不良が解消しない場合などに、インクジェットヘッド３４のノズルの圧力室を加圧して圧力室内の気泡混入インクやノズル内の劣化インクを含むインクを各ノズルから強制的に吐出させる（強制吐出を行う）ためのものである。この場合にも、キャップ５８は、インクジェットヘッド３４に押し当てられ、ヘッド加圧ポンプ６８によって強制吐出された気泡混入インクや劣化インクを含むインクを受け、吸引ポンプ６２およびインク回収管６６を介して回収タンク６４に送液して回収する。
なお、吸引ポンプ６２とヘッド加圧ポンプ６８とは、同様の機能を有するので、いずれか一方のみを備えていれば良いが、図示例のように両方を有していても良い。
【０２７３】
回収タンク６４は、予備吐出されたインク、吸引ポンプ６２によって吸引除去したインクや劣化インクや、ヘッド加圧ポンプ６８によって強制的に吐出された気泡混入インクやノズル内の劣化インクを含むインクを回収し、回収インクとして保管するためのものである。
なお、この回収タンク６４に回収され、保管され、所定量となった回収インクは、廃棄されても良いが、後述するように、インク補充系７０に送られ、インク濃度や電気伝導度などのインク特性が検出されて評価された後、その評価結果に基づいて、カラーフィルタ製造のために、再使用可能なインクとして再調液された後に、インクタンク５２に補充されるのが好ましい。
【０２７４】
ところで、インクジェットヘッド３４は、ある時間以上吐出しない状態が続くと、ノズル近傍のインク溶媒が蒸発してノズル近傍のインクの粘度が高くなってしまい、吐出駆動用の圧力発生手段（図示せず）が動作してもノズルからインクが吐出しなくなる。したがって、この様な状態になる手前で（圧力発生手段の動作によってインク吐出が可能な粘度の範囲内において）、インク受けとなるキャップ５８に向かって圧力発生手段を動作させて、粘度が上昇したノズル近傍のインクを吐出させる「予備吐出」が行われる。また、ノズル面３４ａの清掃手段として設けられているクリーニングブレード６０等のワイパーによってノズル面３４ａの汚れを清掃した後に、このワイパー摺擦動作によってノズル内に異物が混入するのを防止するためにも予備吐出が行われる。なお、予備吐出は、「ダミー吐出」、「空吐出」、「パージ」、「唾吐き」などと呼ばれる場合もある。
【０２７５】
また、インクジェットヘッド３４のノズルや圧力室内に気泡が混入したり、ノズル内のインクの粘度上昇があるレベルを超えたりすると、上記予備吐出ではインクを吐出できなくなるため、上述したような吸引ポンプ６２による吸引動作やヘッド加圧ポンプ６８によるヘッド加圧動作を行う。
すなわち、インクジェットヘッド３４のノズルや圧力室のインク内に気泡が混入した場合、あるいはノズル内のインク粘度があるレベル以上に上昇した場合には、圧力発生手段を動作させてもノズルからインクを吐出できなくなる。このような場合、インクジェットヘッド３４のノズル面３４ａに、キャップ５８を当接させて圧力室内の気泡が混入したインクまたは増粘インクもしくは固化インクを吸引ポンプ６２で吸引する動作、またはヘッド加圧ポンプ６８で圧力室内を強制的に加圧してノズルから強制的に吐出させる動作が行われる。
【０２７６】
ただし、上記の吸引動作やヘッド加圧による強制吐出動作は、圧力室内のインク全体に対して行われるためインク消費量が大きい。したがって、粘度上昇が少ない場合は、なるべく予備吐出を行うことが好ましい。なお、図５で説明したキャップ５８は、吸引手段として機能するとともに、予備吐出のインク受けとしても機能し得るのはいうまでもない。
また、キャップ５８の内側が仕切壁によってノズル列に対応した複数のエリアに分割されており、これら仕切られた各エリアをセレクタ等によって選択的に吸引できる構成とするのが好ましい。
【０２７７】
次に、インク補充系７０は、図５に示すように、コンクインクを貯留するコンクインク補充タンク７２と、希釈液を貯留する希釈液補充タンク７４と、インクタンク５２のインクの濃度を検出する濃度検出部７６と、インクタンク５２のインクの貯留量を検出するレベル検出部７８と、濃度検出部７６からの検出濃度およびレベル検出部７８からのインクの貯留量の情報を受け、コンクインク補充タンク７２からのコンクインクの補充量および希釈液補充タンク７４からの希釈液の補充量を制御する補充制御部８０とを有する。
また、図５に示すインク補充系７０においては、インクタンク５２と回収タンク６４とは、回収インク補充管８２によって接続される。この回収インク補充管８２に途中には、回収タンク６４内に回収された回収インクに含まれる固化インクなどの劣化インクを除去するためのフィルタ８４が設けられ、回収インク補充管８２のインクタンク５２に近い側には、濃度検出部８６が設けられている。ここで、補充制御部８０は、濃度検出部８６からの回収インクの検出濃度の情報をも受け取り、コンクインクの補充量および希釈液の補充量に加え、回収タンク６４からの回収インク補充量を制御する。
【０２７８】
コンクインク補充タンク７２は、コンクインク（高濃度インク）を充填するタンクであり、コンクインク補充タンク７２内のコンクインクをインクタンク５２に供給するポンプ（図示せず）などを備えるものであり、補充制御部８０からの指示に従って、コンクインクをインクタンク５２に補充する。
他方、希釈液補充タンク７４は、インクを補充する際のインクの希釈液として用いる溶媒を充填するタンクであり、希釈液をインクタンク５２に供給するポンプなどを有するものであり、補充制御部８０からの指示に従って、希釈液をインクタンク５２に補充する。
ここで、本発明においては、コンクインクの濃度には、特に限定的ではなく、インクの目標濃度より高濃度であれば良い。好ましくは色材量として、１．５倍〜５倍の濃度範囲、更に好ましくは２倍〜４倍の濃度範囲である。すなわち、補充用の所定濃度のインクとして、インクの目標濃度より高濃度のインクを用いればよい。また、希釈液も、特に限定的ではなく、インクの目標濃度より低濃度のインクを用いても良い。すなわち、本発明においては、コンクインクおよび希釈液として、インクの目標濃度より高濃度であるインクおよび低濃度であるインクを含む互いに濃度の異なる複数の所定濃度のインクを用いて補充を行ってもよい。
【０２７９】
濃度検出部７６は、光学的な検出手段を用いてインクの濃度を検出し、補充制御部８０に供給するものである。
例えば、インクジェット描画装置３０のインク供給系５０において、インク供給管５４は、一部、ガラス等の光透過性部材で形成される透過部を有し、濃度検出部７６は、発光素子から出射した測定光を光透過部に入射し、光透過部を透過した透過光の光量を受光素子で測定する。濃度検出部７６は、実験等で予め作成した、透過光の測定結果とインク濃度との関係を示すルックアップテーブル（ＬＵＴ）を有しており、このＬＵＴを用いて、透過光の測定結果からインクの濃度を求める。あるいは、ＬＵＴに変えて、透過光の測定結果をパラメータとする演算式でインクの濃度を求めてもよい。
なお、本発明において、濃度検出部７６におけるインク濃度の検出方法や手段は、光学的な方法や手段には限定されず、各種の方法や手段が利用可能であり、例えば、インクタンク５２内のインクの電気伝導度などのインク特性を検出して、インク濃度を求めるようにしても良い。なお、本発明においては、インクの濃度を直接的に、かつ高精度に検出できる等の点で、このような光学的な濃度検出方法や手段を好ましく用いることができる。
【０２８０】
レベル検出部７８は、インクタンク５２内のインクレベル（インクの液面高さ、すなわちインクの量）を検出し、補充制御部８０に供給するためのものである。すなわち、図示例においては、インクタンク５２内のインクレベルを検出することによって、インク供給系５０内のインク量を検出している。
本発明において、インクレベルの検出手段や方法には、特に限定はなく、電極棒等を用いる電気的なレベル検出手段、フロートを用いるレベル検出手段、超音波式のレベル検出手段、静電容量式のレベル検出手段やこれらの手段を用いる検出方法等、公知の各種の手段や方法が利用可能である。また、インクレベルの検出ではなく、インクタンク内のインク重量の測定等によって、インクタンク５２内におけるインク量を直接的に検出するようにしてもよい。
【０２８１】
補充制御部８０は、インクタンク５２にインク補充を行う際に、濃度検出部７６および８６からのインクおよび回収インクの濃度の情報ならびにレベル検出部７８からのインクタンク５２内におけるインク量の情報を受け、コンクインクおよび希釈液の補充量、または回収インク、コンクインクおよび希釈液の補充量を決定し、コンクインク補充タンク７２に対しコンクインクの補充量、希釈液補充タンク７４に対し希釈液の補充量を、回収タンク６４に対し回収インクの補充量、それぞれ指示するためのものである。
なお、本発明を用いる記録装置１０において、インク補充のタイミングには、特に限定的ではなく、例えば、所定時間や期間毎や所定枚数の基板への描画毎等に自動的に行ってもよく、レベル検出部７８で検出されたインクタンク５２内のインクの量に応じて自動的に行ってもよく、描画した画素を観察したオペレータ等の判断による入力指示に応じて行ってもよく、複数のタイミング決定手段を有し、選択的に行ってもよい。
【０２８２】
図３〜図５に示すインクジェット描画装置は、基本的に以上のように構成されるものであるが、以下に、このインクジェット描画装置の作用およびインクジェット描画装置によるカラーフィルタ製造のためのインクジェット描画方法を説明する。
図６は、図３〜図５に示すインクジェット描画装置においてカラーフィルタ製造のための描画工程として実施されるインクジェット描画方法の描画開始前の一実施形態のフローを示すフローチャートである。
【０２８３】
まず、図６に示すように、ステップＳ１２０において、図３に示すインクジェット描画装置３０で、図示しない基板供給手段により、基板搬送機構４０を介してプラテン３２上に隔壁１４が形成されている基板１２を供給する。次に、ステップＳ１２２において、供給された基板１２を基板搬送機構４０の送りローラ４６および抑えローラ４８によってプラテン３２上に搬送してその所定の位置に位置決めして停止させ、基板１２をプラテン３２上に、例えば吸着等により、装着し、固定する。次いで、ステップＳ１２４において、基板１２上のアラインメントマークを用いて基板アラインメントが採られ、描画開始位置が設定される。
【０２８４】
一方、ステップＳ１３０において、図３に示すように、ヘッド移動機構３８によりドライブスクリュ４２を駆動してヘッドユニット３６をガイドレール４３に沿って移動させ、ヘッドユニット３６を基板１２の領域またはプラテン３２の領域から外れた、インクジェットヘッド３４の吐出状態の検査を行うためのメンテナンス位置（吐出検査位置；図示せず）に移動させ、図５に示すように、インクジェットヘッド３４のノズル面３４ａをキャップ５８と対向させる。このとき、ヘッドユニット３６は、キャップ５８と対向する所定位置に移動されている。
次に、ステップＳ１３２において、キャップ５８を上昇させてインクジェットヘッド３４のノズル面３４ａに当接させ、各ノズルからインクを吐出させてインクの吐出検出を行う。このインクの吐出検出、すなわち吐出状態の検査は、キャップ５８内にインクジェットヘッド３４の各ノズル毎に設けられた光センサ、例えば発光受光素子に吐出インク液滴の有無を検出することによって行えばよい。あるいは、インクジェットヘッド３４の各ノズル毎に吐出インク液滴の量を計測し、その量が予め設定された仕様、すなわち所定範囲内にあるか否によって各ノズルの吐出状態を検査するようにしても良い。なお、吐出検出の際の吐出インクは、インク回収管６６を通って回収タンク６４に回収される。
【０２８５】
次いで、ステップＳ１３４において、インクジェットヘッド３４の全ノズルが、予め設定された仕様内にある、すなわち、適正な吐出状態にあるか否かの判断がなされる。
このステップＳ１３４の判断において、インクジェットヘッド３４の全ノズルが、上記設定仕様内（適正な吐出状態）にある場合（Ｙ）には、ステップＳ１２６に移り、キャップ５８をインクジェットヘッド３４のノズル面３４ａから外し、図３に示すように、ヘッド移動機構３８によりドライブスクリュ４２を駆動してヘッドユニット３６をガイドレール４３に沿って移動させ、ヘッドユニット３６を基板アラインメントによる基板１２上の所定の描画開始位置に移動させる。
次いで、ステップＳ１２８において、基板１２上に描画を行う。
【０２８６】
一方、上記ステップＳ１３４の判断において、インクジェットヘッド３４の１つのノズルでも、上記設定仕様（適正な吐出状態）から外れている場合（Ｎ）には、ステップＳ１３６に移り、インクジェットヘッド３４の各ノズルからダミー吐出（予備吐出）を行う。
次に、ステップＳ１３８において、ステップＳ１３２と同様に、インクジェットヘッド３４の各ノズルでのインクの吐出検出を行い、各ノズルの吐出状態を検査する。なお、ダミー吐出および吐出検出の際の吐出インクは、インク回収管６６を通って回収タンク６４に回収される（図５参照）。
次いで、ステップＳ１４０において、ステップＳ１３４と同様に、インクジェットヘッド３４の全ノズルが上記設定仕様内にあるか否かの判断がなされ、上記設定仕様内にある場合（Ｙ）には、ステップＳ１２６に移り、上述のように、キャップ５８をインクジェットヘッド３４のノズル面３４ａから外し、ヘッド移動機構３８によりドライブスクリュ４２を駆動してヘッドユニット３６をガイドレール４３に沿って移動させ（図３参照）、ヘッドユニット３６を基板アラインメントによる基板１２上の所定の描画開始位置に移動させる。
次いで、ステップＳ１２８において、基板１２上に描画を行う。
【０２８７】
一方、上記ステップＳ１４０の判断において、インクジェットヘッド３４の１つのノズルでも、上記設定仕様から外れている場合（Ｎ）には、ステップＳ１４２に移り、インクジェットヘッド３４の各ノズルを、吸引ポンプ６２によって各ノズル内のインクを吸引するか、または、ヘッド加圧ポンプ６８によって各ノズルにヘッド加圧を行って各ノズル内のインクを強制的に吐出させる（図５参照）。なお、吸引ポンプ６２によるノズル吸引動作およびヘッド加圧ポンプ６８による強制吐出動作の両方を行っても良い。
次に、ステップＳ１４４において、キャップ５８をインクジェットヘッド３４のノズル面３４ａから外し、クリーニングブレード６０によってノズル面３４ａのワイピングを行い、ノズル面３４ａに付着している固化インクや高粘度インクなどの劣化インクを擦り取り、ノズル面３４ａをクリーニングする（図５参照）。
【０２８８】
その後、ステップＳ１４６において、ステップＳ１３６と同様に、インクジェットヘッド３４の各ノズルからダミー吐出を行う。
次に、ステップＳ１４８において、ステップＳ１３８と同様に、インクジェットヘッド３４の各ノズルでのインクの吐出検出を行い、各ノズルの吐出状態を検査する。なお、ノズル吸引動作および／または強制吐出動作、ダミー吐出および吐出検出の際の吐出インクは、インク回収管６６を通って回収タンク６４に回収される（図５参照）。
次いで、ステップＳ１５０において、ステップＳ１４０と同様に、インクジェットヘッド３４の全ノズルが上記設定仕様内にあるか否かの判断がなされ、上記設定仕様内にある場合（Ｙ）には、ステップＳ１２６に移り、上述のように、キャップ５８をインクジェットヘッド３４のノズル面３４ａから外し、ヘッド移動機構３８によりドライブスクリュ４２を駆動してヘッドユニット３６をガイドレール４３に沿って移動させ、ヘッドユニット３６を基板アラインメントによる基板１２上の描画開始位置に移動させる（図３参照）。
次いで、ステップＳ１２８において、基板１２上に描画を行う。
【０２８９】
一方、上記ステップＳ１５０の判断において、インクジェットヘッド３４の１つのノズルでも、上記設定仕様から外れている場合（Ｎ）には、再びステップＳ１４２に戻り、上述した吸引ポンプ６２によるノズル吸引動作および／またはヘッド加圧ポンプ６８による強制吐出動作を行い、ステップＳ１４４におけるクリーニングブレード６０によるノズルワイピング、ステップＳ１４６におけるダミー吐出、ステップＳ１４８における吐出検出、およびステップＳ１５０における全ノズルが上記設定仕様内にあるか否かの判断が順次行われる。
ステップＳ１５０において、全ノズルが上記設定仕様内にある場合（Ｙ）には、ステップＳ１２６に移り、同様にして、ヘッドユニット３６を基板アラインメントによる基板１２上の描画開始位置に移動させ（図３参照）、ステップＳ１２８において、基板１２上に描画が行われるが、インクジェットヘッド３４の１つのノズルでも、上記設定仕様から外れている場合（Ｎ）には、再び、上述したステップＳ１４２に戻り、ステップＳ１４２、Ｓ１４４、Ｓ１４６、Ｓ１４８およびＳ１５０の各動作が、全ノズルが上記設定仕様内（Ｙ）となるまで、繰り返される。なお、この繰り返し回数が、予め設定された所定回数を超えた場合には、エラーとして、この描画方法の実施を停止するのが良い。
【０２９０】
なお、ステップＳ１２８の描画ステップにおいては、図３に示すインクジェット描画装置３０において、ヘッド移動機構３８によりヘッドユニット３６を主走査（Ｘ）方向に移動（走査）させつつ、基板１２の所定位置、すなわち基板１２上の隔壁１４間の所定の凹部１６にインクジェットヘッド３４からインク１８の液滴を吐出させて描画し、カラーフィルタの画素（未硬化画素インク１８ａ）を形成する。
こうして、ヘッドユニット３６を基板１２の描画領域（隔壁１４が形成されている領域）主走査（Ｘ）方向の始端から終端および／または終端から始端に移動走査させて、主走査方向の画素形成を終了する。
この後、プラテン３２への基板１２の吸着固定を解除し、基板移動機構４０により送りローラ４６を回転させて、基板１２を副走査方向に所定距離（例えば、描画領域分の長さΔＹ（カラーフィルタのセルの１ピッチ（片道）または２ピッチ（往復）））だけ搬送し移動させて、プラテン３２上に停止させ、再び、プラテン３２に基板１２を吸着固定させる。これにより、基板１２の主走査方向の始端または終端に到達したヘッドユニット３６は、副走査方向に一定量（描画領域分の長さΔＹ）移動された状態となる。
続いて、こうしてプラテン３２上に吸着固定された基板１２に、主走査方向の描画開始位置から、上述したように、再び、ヘッド移動機構３８によりヘッドユニット３６を主走査（Ｘ）方向に移動させて、インクジェットヘッド３４による描画を行い、基板１２の主走査方向の描画を終了する。
その後、再び、プラテン３２への基板１２の吸着解除、基板１２の副走査方向に所定距離ΔＹだけの搬送、プラテン３２への基板１２の吸着固定、インクジェットヘッド３４による基板１２の主走査方向の描画を繰り返して、基板１２を副走査方向の始端から終端まで描画領域分の長さΔＹずつ移動させながら、ヘッドユニット３６を主走査（Ｘ）方向に移動させて、インクジェットヘッドのノズルから吐出信号に応じてインクを吐出させて基板１２の全面に１色について描画し、カラーフィルタの画素（未硬化画素インク１８ａ）を形成する。
【０２９１】
このようにして、カラーフィルタの他の色についても、基板１２上でヘッドユニット３６を主走査方向に移動させながらインクの吐出を行い、その後、基板１２を副走査方向に一定距離移動させることを繰り返し、基板１２上に順次他の色について描画し、カラーフィルタの画素（未硬化画素インク１８ａ）を形成し、カラーフィルタの全色について全画素（未硬化画素インク１８ａ）を形成することができる。
なお、本発明においては、ヘッドユニット３６のインクジェットヘッド３４のノズル配列は特に制限的ではなく、単列であっても、複数列であっても良いし、各ノズル列のノズル数も特に制限的ではなく、１個であっても、複数であっても良い。また、このようなノズル配列を持つインクジェットヘッド３４によるカラーフィルタのセルや画素への描画形式は特に制限的ではなくどのようなものであっても良い。
【０２９２】
例えば、図９（ａ）に示すように、ノズル部に４列のノズル列を持ちＲインクを吐出するインクジェットヘッド３４Ｒと、ノズル部に４列のノズル列を持ちＧインクを吐出するインクジェットヘッド３４Ｇと、ノズル部に４列のノズル列を持ちＧインクを吐出するインクジェットヘッド３４Ｂを用い、その各インクジェットヘッド３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂの各ノズル列のノズル間隔に対して、図９（ｂ）に示すように、カラーフィルタの各色の１つのセル（画素）２０Ｒ、２０Ｇ、２０Ｂ内に描画すべきドット間隔が小さい場合、インクジェットヘッド３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂをその主走査（Ｘ）方向とカラーフィルタのセルの長手方向とが直交するように走査して、１つのインクジェットヘッドからカラーフィルタの１つのセルに対して４列の各列の２個のノズルを用い、合計８個のノズルからインク液滴を吐出してカラーフィルタの１つのセルに８個のドットを形成して、各色毎のセル（つまり、セル２０Ｒ、２０Ｇ、２０Ｂ）を形成しても良い。また、図９（ｃ）に示すように、ノズル部にＲインクを吐出するノズルを配置したノズル列３５Ｒ、Ｇインクを吐出するノズルを配置したノズル列３５Ｇ、Ｂインクを吐出するノズルを配置したノズル列３５Ｂの３列のノズル列を持つインクジェットヘッド３４’を用い、インクジェットヘッド３４’をその主走査（Ｘ）方向とカラーフィルタのセルの長手方向とが一致するように走査して、カラーフィルタの１つのセルに対して１つのノズル列（つまり、ノズル列３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂのいずれか１つのノズル列）の１つのノズルを用い、１つのノズルから合計８個のインク液滴を吐出して、図９（ｄ）に示すカラーフィルタの１つのセル、つまり、図９（ｄ）中ではセル２０Ｒ、２０Ｇ、２０Ｂ、２０Ｒ’のうちの対応する１つのセルに８個のドットを形成しても良い。図９（ｄ）に示す例では、カラーフィルタの４つのセルの内、３つのセル（具体的には、セル２０Ｒ、２０Ｇ、２０Ｂ）には、それぞれ異なる３種のインクによる８個ずつのドットが形成されていることを示し、図９（ｄ）の最上と最下の２つのセル（具体的には、セル２０Ｒとセル２０Ｒ’）は、図９（ｃ）に示すインクジェットヘッド３４’のノズル列３５Ｒの異なるノズルによって形成され、それぞれ同種のインクによる８個ずつのドットが形成されていることを示す。
【０２９３】
ここで、図３〜図５に示すインクジェット描画装置３０を用い、図６に示すインクジェット描画方法によって形成されるカラーフィルタの画素配列（画素パターン）の形状を、ブラックマトリックス形状として、図７（ａ）に示すストライプ状、図７（ｂ）に示す格子状、あるいは図７（ｃ）に示すデルタ配列状とすることができるが、本発明は、特に制限的ではない。
【０２９４】
また、図７（ａ）〜図７（ｃ）に示すカラーフィルタの色画素配列（色画素パターン）を描画し、硬化して形成する場合、１色、例えば、まず、Ｒの色画素パターンを描画・硬化して色画素２０を形成し、順次他の色を１色ずつ、例えば、Ｇ、次にＢの順で、色画素パターンを描画・硬化して形成して、全色の色画素２０の色画素パターンを形成しても良いし、始めに、２色以上、例えば、ＲＧＢの３色の色画素パターンを順次もしくは同時にまたは複数色ずつ描画した後に、描画された２色以上、例えば、ＲＧＢの３色の色画素パターンの未硬化画素１８ａを硬化させて、複数色または全色の色画素パターンの硬化色画素２０のを形成しても良い。
このように、カラーフィルタの製造においては、例えば、ＲＧＢなどの３原色の画素配列、すなわち画素パターンが規則的であるので、ランダムな色画素パターンからなる通常の画像をインクジェットヘッドで描画する場合よりも、またはこれらと異なり、インクジェットヘッドにおいて使用されるノズルが決まってしまい、インクジェットヘッドの全ノズルの中で長期間使用されないノズルが発生する。このため、本発明のカラーフィルタの製造方法におけるインクジェット描画方法においては、図６に示すように、インクジェットヘッドの各ノズルの吐出状態の検査し、吐出を確認しながらインクジェット描画を実施するのが好ましい。
【０２９５】
なお、上述した実施形態では、ヘッドユニットを主走査方向および副走査方向に移動させて画素を形成したが、これに限定されず、例えば、ヘッドユニットは、主走査方向のみに移動させ、基板を副走査方向に一定距離ずつ移動させるようにしてもよい。
また、インクジェットヘッドをフルラインヘッドとして、ヘッドユニットの一回の走査で、印刷版原版の全面に画素を形成するようにしてもよい。ここで、インクジェットヘッドをフルラインヘッドとする場合は、インクジェットヘッドを走査させても、基板を走査させてもよい。
【０２９６】
図５に示す例では、インクタンク５２をインク供給管５４によって直接インクジェットヘッド３４に接続する構成としているが、本発明はこれに限定されず、ヘッドの内圧変動を防止するダンパー効果およびリフィルを改善する機能を与えるために、インクタンク５２とインクジェットヘッド３４との間に供給サブタンクを設ける構成としても良い。
図８に、図５に示すインク供給系に代えて、図３および図４に示すインクジェット描画装置に適用されるインク供給系の他の実施形態の概略構成を模式的に示す。
図８に示すように、インクジェット描画装置３１およびこれに用いられるインク供給系９０は、基本的に、インクジェットヘッド（吐出ヘッド）１２と、キャップ５８と、インクタンク５２と、供給サブタンク９２と、回収タンク６４と、補充タンク９４と、を有する。
【０２９７】
図８に示すインクジェット描画装置３１およびインク供給系９０は、図３〜図５に示すインクジェット描画装置３０およびインク供給系５０と、供給サブタンク９２を有し、回収タンク６４とインクタンク５２とをオーバーフロー管９８で接続している点で異なっている以外は、同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には、同一の参照符号を付し、その詳細な説明は省略する。なお、図８に示されていないインクジェット描画装置３１の走査系は、図３および図４に示すインクジェット描画装置３０の走査系が適用されるものであっても良いし、従来公知の走査系が適用されるものであっても良い。
【０２９８】
インク供給系９０は、主に、インクタンク５２のインクをインクジェットヘッド３４に供給する狭義のインク供給系と、キャップ５８にパージされたインクを回収し、再利用するためのインク回収系とから構成される。インク供給系は、インクポンプ９６、供給サブタンク９２、インクポンプ９６と供給サブタンク９２とを接続する第１インク供給管５４ａ、供給サブタンク９２とインクジェットヘッド３４とを接続する第２インク供給管５４ｂ、および供給サブタンク９２内のインクをオーバーフローさせてインクタンク５２に送液回収する第３インク回収管（流路）９８としても機能する供給サブタンク９２の内部において開口するオーバーフロー管９８ａから主に構成される。また、インク回収系は、回収タンク６４、キャップ５８と回収タンク６４とを接続する第１インク回収管６６、回収タンク６４内のインクをオーバーフローさせてインクタンク５２に送液回収する第２インク回収管１００としても機能する回収タンク６４の内部において開口するオーバーフロー管１００ａから主に構成される。なお、第２インク回収管１００（オーバーフロー管１００ａ）には、内部を流れる回収インクを濃度を検出するために回収インクの透過率を計測する濃度検出部８６が取り付けられている。また、供給サブタンク９２には、大気開放弁１０２と圧力調整弁１０４とが取り付けられている。インク供給流路となるインク供給管やインク回収流路となるインク回収管は、例えば、パイプや可撓性を有するチューブなどから構成することができる。
【０２９９】
なお、図８は、本発明の特徴的な部位を主に示しているが、インクジェット描画装置３１およびインク供給系９０は、図に示した以外にも、例えば、インクジェットヘッド３４を駆動してインク液滴を吐出させるドライバ、インクジェットヘッド３４の走査手段やインクジェットヘッド３４と対面する所定の経路で、後述するノズル列方向（行方向）と直交する方向に記録媒体Ｐを搬送（走査搬送）する走査搬送手段など公知のインクジェット描画装置が有する各種の構成要素を有しているのは、もちろんのことである。
【０３００】
キャップ５８は、インクの循環停止時や長時間描画を行わない間に、インクジェットヘッド３４のノズル側に装着されて、インクジェットヘッド３４の全てのノズルを外気との連通を断った状態にし、ノズルに残存するインクの蒸発による乾燥固着を防止するものである。 このようなキャップ５８は、各種のインクジェット記録装置で通常に使用されているものが各種利用可能である。
インクタンク５２は、補充タンク９４からの溶媒、コンクインク、回収タンク６４からの回収されたインクを混合して、液物性、光学特性を一定にする機能およびインクを保管する機能を有する。インクタンク５２は、染料の析出を防止するための撹拌手段や、インク吐出の安定性を向上するための温度調節手段を有するのが好ましい。
第１インク供給管５４ａ上には、インクタンク５２から供給サブタンク９２にインクを送液するためのインクポンプ９６が配置される。インクポンプ９６による送液量は、供給サブタンク９２からインクジェットヘッド３４へのインク供給量よりも多く設定される。
【０３０１】
供給サブタンク９２は、第１インク供給管５４ａおよび第２インク供給管５４ｂが接続される密閉型のインクタンクであり、鉛直方向においてインクジェットヘッド３４よりも下方に配置される。供給サブタンク９２に接続された第２インク供給管５４ｂの他端は、インクジェットヘッド３４に接続されている。
供給サブタンク９２には、第１インク供給管５４ａによってインクタンク５２から供給されたインクが貯留され、貯留されたインクは第２インク供給管５４ｂを介してインクジェットヘッド３４に供給される。
また、供給サブタンク９２内には、第３インク回収管９８となるオーバーフロー管９８ａが配置され、かつ、第２インク供給管５４ｂは、オーバーフロー管９８ａの上端よりも下方に接続される。図示例では、第２インク供給管５４ｂとの接続部を供給サブタンク９２の底面に設けた構成としている。
【０３０２】
供給サブタンク９２に貯留されたインクは、ノズルメニスカスに表面張力や供給サブタンク圧力調整機構により供給サブタンク９２を加圧することで第２インク供給管５４ｂからインクジェットヘッド３４に供給される。
また、供給サブタンク９２では、インクポンプ９６により供給されたインクがオーバーフロー管９８ａの高さを超えても、オーバーフロー管９８ａからオーバーフローして排出されるので、タンク内の液面の高さは一定に保たれる。その結果、供給サブタンク９２を大気開放にすれば、供給サブタンク９２の圧力は一定に保たれる。
なお、オーバーフロー管９８からオーバーフローして排出されたインクは、第３インク回収管９８を経て、インクタンク５２に戻され、再度、循環に供される。
【０３０３】
回収タンク６４は、キャップ５８に接続される密閉型のインクタンクであり、インクジェットヘッド３４よりも鉛直方向において下方に配置される。前述のように、第１インク回収管６６の他端は、キャップ５８に、第２インク回収管１００の他端は、インクタンク５２に、それぞれ接続される。
回収タンク６４には、パージ、ダミー吐出によりキャップ５８に排出されたインクが貯留される。回収タンク６４に貯留されたインクは、第２インク回収管１００からインクタンク５２に戻される。
【０３０４】
インクの補充タンク９４は、消費したインクをインクタンク５２に補充する密閉型のタンクであり、インク補充管１０６によって、インクタンク５２と接続される。
補充タンク９４は、インクタンク５２内のインクが、所定濃度で、かつ所定量となるように、インクタンク５２にインクを補充する。補充タンク９４の構成は特に限定されず、例えば、図５に示すインク補充系７０のように、コンクインク（高濃度インク）を貯留するコンクタンクと、インクの希釈液を貯留する希釈液タンクとを有し、所定濃度で、かつ所定量となるように、決定された量のコンクインクおよび希釈液をインクタンクに補充するようにしてもよい。なお、希釈液としては、溶媒を用いればよい。
【０３０５】
インクジェット描画装置３１およびインク供給系９０において、インクの補充タイミングには、特に限定はない。例えば、所定枚数の描画毎等に自動的に行ってもよく、インクタンク５２内のインクの量を検出して自動的に行ってもよく、描画した画素を観察したオペレータ等の判断による入力指示に応じて行ってもよく、複数のタイミング決定手段を有し、選択的に行ってもよい。
また、コンクインクおよび希釈液の補充量の決定方法にも、特に限定はない。例えば、インク予想蒸発量に加え、画素データ等から検出した総インク吐出回数、循環しているインクの濃度測定結果、インクタンク５２内のインク量などを用いて、インクの消費量を予測し、インクタンク５２内のインクＱ所定濃度で所定量となるように、インクの補充量を決定すればよい。
【０３０６】
希釈液、コンクインク、回収インクの混合方法は、以下の方法で行うこともできる。回収タンク６４からインクタンク５２への流路となる第３インク回収管１００の途中にインク濃度測定エリアとして透明な部分を設け、その部分に濃度検出部８６を配置する。濃度検出部８６においては、測定エリア内のインクの光透過率を測定することで、インクタンクに回収されるインクの溶媒蒸発量を計算する。光透過率と溶媒蒸発量との関係は、事前に染料濃度の異なるインクと光透過率との関係を測定しておくことや光透過率exp(−α・t)（α：吸収係数（染料濃度に比例）、t：厚み）であることから算出できる。透過率測定のため、インク濃度測定エリアには、光源、受光センサーおよびガラス等の透明部材の流路を具備する。流路は、測定光が透過する部分については、平面であることが望ましく、表面はＡＲコートされていること、光軸に対して垂直から数度傾いていることが望ましい。反射光による測定精度悪化防止のためである。
回収されたインクの濃度から希釈液、コンクインク、回収インクの混合比を決定する。
図８に示すインクジェット描画装置３１およびインク供給系９０は、基本的に以上のように構成される。
【０３０７】
以上のようにして製造されたカラーフィルタは、液晶ディスプレイ、電子ペーパや有機ＥＬなどのカラー画像表示デバイスのカラーフィルタとして好適に用いることができる。
【０３０８】
以上、本発明のインクジェット用インク、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびにそれを用いる液晶ディスプレイおよび画像表示デバイスついて、種々の実施形態や実施例を挙げて詳細に説明したが、本発明は、上記実施例や実施形態には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんのことである。
【実施例】
【０３０９】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の範囲から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表し、分子量とは重量平均分子量のことを示す。
【０３１０】
（隔壁形成用の濃色組成物の調製）
濃色組成物Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、さらに攪拌しながら、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスジエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍで３０分間攪拌することによって得られる。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０３１１】
＜Ｋ顔料分散物１＞、
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）                    １３．１％
・分散剤（下記化合物１）                                              ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比
のランダム共重合物、分子量３．７万）                                  ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ７９．５３％
【０３１２】
【化６７】
2009144149.tif 000065
【０３１３】
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比
のランダム共重合物、分子量３．８万）                                      ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                        ７３％
【０３１４】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ
ＤＰＨＡ）                                                                ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                        ２４％
【０３１５】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                                            ３０％
・メチルエチルケトン                                                      ７０％
【０３１６】
【化６８】
2009144149.tif 000066
【０３１７】
【表１】
2009144149.tif 000067
【０３１８】
（隔壁の形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上述のように調製した濃色組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃で３分間プリベークして膜厚２．３μｍの濃色組成物層Ｋ１を得た。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と濃色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２で隔壁幅２０μｍ、スペース幅１００μｍにパターン露光した。
【０３１９】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、濃色組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製を１００倍希釈したもの）を２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２５００ｍＪ／ｃｍ２にて基板の濃色組成物層Ｋ１が形成された面側からポスト露光を行って、オーブンにて２４０℃で５０分加熱し、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の隔壁を得た。
【０３２０】
（撥インク化プラズマ処理）
隔壁を形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にて撥インク化プラズマ処理を行った。
使用ガス  ：ＣＦ４
ガス流量  ：８０ｓｃｃｍ
圧力      ：４０Ｐａ
ＲＦパワー：５０Ｗ
処理時間  ：３０ｓｅｃ
【０３２１】
＜赤色（Ｒ）用インク＞の調製法
下記の成分を混合し、１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルターで減圧濾過して赤色用インク液（インクＲ−１、およびインクＲ−２）を調製した。
【０３２２】
用いた素材の詳細を以下に示す。
・染料：一般式（４）で表される化合物の例示化合物Ｉ−２０
・染料：一般式（ｄ）で表される化合物の例示化合物ｄ−４
・ＤＰＣＡ−６０（日本化薬社製（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０））：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＫＦ−３５３（信越シリコーン社製）：ポリエーテル変性シリコーンオイル
【０３２３】
【表２】
2009144149.tif 000068
【０３２４】
＜青色（Ｂ）用インク＞の調製法
下記の成分を混合し、１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルターで減圧濾過して青色用インク液（インクＢ−１、およびインクＢ−２）を調製した。
【０３２５】
用いた素材の詳細を以下に示す。
・染料：一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ｍ−３０
・染料：一般式（６）で表される化合物
・ＤＰＣＡ−６０（日本化薬社製（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０））：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＫＦ−３５３（信越シリコーン社製）：ポリエーテル変性シリコーンオイル
【０３２６】
【表３】
2009144149.tif 000069
【０３２７】
＜緑色（Ｇ）用インク＞の調製法
下記の成分を混合し、１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルターで減圧濾過して緑色用インク液（インクＧ−１、およびインクＧ−２）を調製した。
【０３２８】
用いた素材の詳細を以下に示す。
・染料：一般式（ｃ）で表される化合物の例示化合物ｃ−２０
・染料：一般式（８）で表される化合物の例示化合物Ａ−１３
・ＤＰＨＡ（日本化薬社製（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ））：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＫＦ−３５３（信越シリコーン社製）：ポリエーテル変性シリコーンオイル
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２００００（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社製）（レベリング性改良のため添加）
・Ｆ７８１−Ｆ（大日本インキ化学工業製（メガファックＦ７８１Ｆ））
【０３２９】
【表４】
2009144149.tif 000070
【０３３０】
（粘度、表面張力の測定）
得られたインクを２５℃に調温したまま、東機産業（株）製Ｅ型粘度計（ＲＥ−８０Ｌ）を用いて以下の条件で測定した。
（測定条件）
・使用ロータ：１°  ３４’×Ｒ２４
・測定時間  ：２分間
・測定温度  ：２５℃
【０３３１】
得られたインクを２５℃に調温したまま、協和界面科学（株）製表面張力計（ＦＡＣＥ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＥＮＳＩＯＭＥＴＥＲ  ＣＢＶＢ−Ａ３）を用いて測定した。
【０３３２】
＜コントラスト測定方法＞
バックライトユニットとして冷陰極管光源（図１０に示す波長スペクトル分布の光を射出する光源）に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（ルケオ製  ＰＯＬＡＸ−１５Ｎ）の間に単色基板を設置し、偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の色度のＹ値を、クロスニコルに設置したときに通過する光の色度のＹ値で割ることでコントラストを求めた。色度の測定には色彩輝度計（（株）トプコン製ＢＭ−５Ａ）を用いた。単色基板は以下の方法で作製した。カラーフィルタを構成するＲインク（インクＲ―１、インクＲ−２）、Ｇインク（インクＧ―１、インクＧ−２）、Ｂインク（インクＢ―１、インクＢ−２）のうち一色のインクを用いて、ガラス基板上にインクジェット法あるいはスピンコート法によってベタ膜を形成して、カラーフィルタ形成と同じようにプリベーク（予備加熱）（温度１００℃、２分）、ポストベーク（後加熱）（温度２２０℃、３０分）を行い、膜厚２um（μｍ）を形成した。
【０３３３】
色彩輝度計の測定角は１°に設定し、サンプル上の視野φ５ｍｍで測定した。バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が４００ｃｄ／ｍ2になるように設定した。
【０３３４】
上記で得た単色基板（６種類）のコントラストを測定したところ、いずれの単色基板でも５００００以上の値を得た。
【０３３５】
＜ＩＴＯ層作製＞
次に、上記で得た単色基板上にスパッタ装置を用い、膜面温度２００℃にて１５分間、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）をスパッタして、膜厚１５００ÅのＩＴＯ膜を形成し、ＩＴＯ付きのカラーフィルタ基板を作製した。
【０３３６】
＜ＩＴＯスパッタ前後における分光特性変化＞
ＩＴＯスパッタ前後において、紫外可視吸収分光装置（日本分光製Ｖ−５７０）を用いて、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲における分光透過率曲線を得た。スパッタ前後での、最大ピークにおける分光透過率変化量が小さい場合、耐熱性がよいことを意味する。
【０３３７】
図１１は上述の作製した単色基板（インクＧ―１）のＩＴＯスパッタ前後における紫外可視吸収スペクトルを示す。図より、ＩＴＯスパッタ前後においてスペクトル形状はほとんど変化しておらず、高い耐熱性を有することがわかる。他のＢインク（インクＢ―１、インクＢ−２）の単色基板、Ｇインク（インクＧ−２）の単色基板、Ｒインク（インクＲ−１、インクＲ−２）の単色基板においても同様に、ＩＴＯスパッタ前後においてスペクトル形状はほとんど変化しなかった。
【０３３８】
＜赤色（Ｒ）用インクの調製法＞
下記の成分を表５に記載の配合割合で混合し、１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルターで減圧濾過して赤色用インク液（Ｒ実施例１〜１６）を調製した。なお、表中の数値は質量％を表す。
【０３３９】
赤色（Ｒ）用インクの調製に用いた各材料の詳細を以下に示す。
（有機溶剤）
・シクロヘキサノン（和光純薬社製）
・Ｎ−メチルピロリドン（和光純薬社製）
・ベンジルアルコール（和光純薬社製）
・ＭＭＰＧＡＣ（ダイセル工業社製）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・１,３−ＢＧＤＡ（ダイセル工業社製）：１,３−ブチレングリコールジアセテート
・ＤＣＨＭＡ（東京化成社製）：ジシクロヘキシルメチルアミン
（重合性モノマー）
・ＤＰＣＡ−６０（日本化薬社製（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０）：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＤＰＨＡ（日本化薬社製（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ））：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＡＤ−ＴＭＰ（新中村化学工業社製（ＮＫエステルＡＤ−ＴＭＰ））：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
（界面活性剤）
・ＫＦ−３５３（信越シリコーン社製）：ポリエーテル変性シリコーンオイル
・ＢＹＫ−３７７（ビックケミー社製）：ポリエーテル変性ジメチルシロキサン混合物
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２００００（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社製）
・Ｆ７８１−Ｆ（大日本インキ化学工業製（メガファックＦ７８１Ｆ））
（染料）
・染料Ｍ−１（上記一般式（ａ）で表される化合物の例示化合物ａ−７に該当）
・染料Ｍ−２（上記一般式（ａ）で表される化合物の例示化合物ａ−１５に該当）
・染料Ｍ−３（上記一般式（ｂ）で表される化合物の例示化合物ｂ−１２に該当）
・染料Ｍ−４（上記一般式（ｆ）で表される化合物の例示化合物ｆ−２１に該当）
・染料Ｙ−１（上記一般式（ｄ）で表される化合物の例示化合物ｄ−４に該当）
・染料Ｙ−２（上記一般式（ｄ）で表される化合物の例示化合物ｄ−１０に該当）
・染料Ｙ−３（上記一般式（ｃ）で表される化合物の例示化合物ｃ−２６に該当）
・染料Ｙ−４（上記一般式（ｅ）で表される化合物の例示化合物ｅ−３に該当）
【０３４０】
【表５】
2009144149.tif 000071
【０３４１】
＜緑色（Ｇ）用インクの調製法＞
下記の成分を表６に記載の配合割合で混合し、１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルターで減圧濾過して緑色用インク液（Ｇ実施例１〜１６）を調製した。なお、表中の数値は質量％を表す。
【０３４２】
緑色（Ｇ）用インクの調製に用いた各材料の詳細を以下に示す。有機溶剤、重合性モノマー、界面活性剤は、上記赤色（Ｒ）用インクの調製に使用した各材料と同じ材料を使用した。
染料としては、以下の染料を使用した。
・染料Ｃ−１（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ａ−１３に該当）
・染料Ｃ−２（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ａ−１７に該当）
・染料Ｃ−３（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ｂ−７に該当）
・染料Ｃ−４（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ｂ−１５に該当）
・染料Ｙ−５（上記一般式（ｃ）で表される化合物の例示化合物ｃ−２０に該当）
・染料Ｙ−６（上記一般式（ｃ）で表される化合物の例示化合物ｃ−１２に該当）
・染料Ｙ−７（上記一般式（ｄ）で表される化合物の例示化合物ｄ−２に該当）
・染料Ｙ−８（上記一般式（ｄ）で表される化合物の例示化合物ｄ−１０に該当）
【０３４３】
【表６】
2009144149.tif 000072
【０３４４】
＜青色（Ｂ）用インクの調製法＞
下記の成分を表７に記載の配合割合で混合し、１時間撹拌した。その後、平均孔径０．２５μｍのミクロフィルターで減圧濾過して青色用インク液（Ｂ実施例１〜１６）を調製した。なお、表中の数値は質量％を表す。
【０３４５】
青色（Ｂ）用インクの調製に用いた各材料の詳細を以下に示す。有機溶剤、重合性モノマー、界面活性剤は、上記赤色（Ｒ）用インクの調製に使用した各材料と同じ材料を使用した。
染料としては、以下の染料を使用した。
・染料Ｃ−５  ＶＡＬＩＦＡＳＴ  ＢＬＵＥ２６２０（オリエント化学工業社製）
・染料Ｃ−６（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ｃ−４に該当）
・染料Ｃ−７（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ｄ−８に該当）
・染料Ｃ−８（上記一般式（７）で表される化合物の例示化合物Ｆ−２に該当）
・染料Ｍ−５（上記一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ｍ−３０に該当）
・染料Ｍ−６（上記一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ｍ−９に該当）
・染料Ｍ−７（上記一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ｍ−５８に該当）
・染料Ｍ−８（上記一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ｍ−８４に該当）
【０３４６】
【表７】
2009144149.tif 000073
【０３４７】
＜顔料分散液の調製＞
ブロム化フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ３６、商品名：Ｒｉｏｎｏｌ  Ｇｒｅｅｎ  ６ＹＫ、東洋インキ製造（株）製）に顔料分散剤（下記化合物１）および溶剤（１，３−ブタンジオールジアセテート）（以下１，３−ＢＧＤＡと略す）を下記の表８に示す如く配合し、プレミキシングの後、モーターミルＭ−５０（アイガー・ジャパン社製）で、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％で用い、周速９ｍ／ｓで２５時間分散し、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）を調製した。Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）において、顔料及びその他の成分を表に示す如く配合した以外はＧ用顔料分散液（Ｇ１）と同様にして、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２）、Ｒ用顔料分散液（Ｒ１）、（Ｒ２）、Ｂ用顔料分散液（Ｂ１）、（Ｂ２）を調製した。尚、日機装社製ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０を用いて、この顔料分散液の数平均粒径を測定した。
【０３４８】
【表８】
2009144149.tif 000074
【０３４９】
なお、顔料分散液の作製に使用した着色剤は、以下の通りである。
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．２５４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：Ｉｒｇａｐｈｏｒ  Ｒｅｄ  Ｂ−ＣＦ
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ  Ｒｅｄ  Ａ２Ｂ
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１５０（バイエル社製）：Ｂａｙｐｌａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ５ＧＮ  ０１
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．１５：６（東洋インキ製造社製）：Ｒｉｏｎｏｌ  Ｂｌｕｅ  ＥＳ（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．２３（クラリアントジャパン社製）：Ｈｏｓｔａｐｅｒｍ  Ｖｉｏｌｅｔ  ＲＬ−ＮＦ
【０３５０】
＜比較例用インク＞
比較例として、上記の顔料分散液を用いて、下記の表９の分量で作製した顔料インクを調製した。なお、使用した材料は、以下の通りである。
・ＤＰＳ１００（日本化薬社製）：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＳ１００
・ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ
・界面活性剤：化合物２に記載の構造物
・Ｖ−４０（和光純薬社製）：アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）
【０３５１】
【表９】
2009144149.tif 000075
【０３５２】
＜評価用カラーフィルタの作製方法＞
上記で調製されたインクを用いて、上記で得られた基板上の隔壁で区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、富士フイルムDimatix社製インクジェットプリンターＤＭＰ−２８３１を用い、吐出を行い、その後、１００℃オーブン中で２分間加熱を行った。
次に、２２０℃のオーブン中で３０分間静置することにより、単色のカラーフィルタを作製した。
【０３５３】
＜インク保存安定性評価＞
上記で調製された各色インクを５０℃の恒温室に保管し、３０日後の粘度を測定し、インク調製直後の値との差（％）［（３０日後の粘度−調製直後の粘度）／調製直後の粘度］により評価を行った。評価基準は以下の様に分類した。
◎：インク調製直後の粘度との差が１０％未満
○：インク調製直後の粘度との差が１０％以上２０％未満
△：インク調製直後の粘度との差が２０％以上３０％未満
×：インク調製直後の粘度との差が３０％以上
【０３５４】
＜連続吐出安定性評価＞
上記で調製されたインクを用いて、吐出安定性の評価を行った。評価方法は、富士フイルムDimatix社製インクジェットプリンターＤＭＰ−２８３１、打滴量１０ｐｌのヘッドカートリッジ、打滴周波数１０ｋＨｚで行い、３０分間連続吐出をした際の状態を観察した。評価基準は以下の様に分類した。
◎：問題なく連続吐出が可能
○：吐出中に、少々不吐出、吐出乱れなど観察されるが、吐出中に復帰し、概ね問題の無い状態
△：吐出中に不吐出、吐出乱れが生じ、吐出中に復帰しないが、メンテナンスによって正常な状態に復帰する状態
×：吐出中に不吐出、吐出乱れが生じ、正常に吐出ができず、メンテナンスによっても吐出が復帰しない状態
メンテナンスは、DMP-2831によるパージ（ヘッド内インクを加圧してノズルからインクを強制的に吐き出す）、ブロット（ヘッドノズル面をクリーニングパッドに僅かに接触させて、ノズル面のインクを吸い取る）を実施した。
【０３５５】
＜休止後吐出安定性評価＞
上記で調製されたインクを用いて、吐出安定性の評価を行った。評価方法は連続吐出安定性評価同様に、富士フイルムDimatix社製インクジェットプリンターＤＭＰ−２８３１、打滴量１０ｐｌのヘッドカートリッジを用い、打滴周波数１０ｋＨｚで一度５分間の吐出を行い、２４時間の休止後、再び同条件で吐出を開始した際の状態を観察した。評価基準は以下の様に分類した。
◎：打滴指示と同時に問題なく吐出が可能
○：打滴指示直後は少々不吐出、吐出乱れなど観察されるが、吐出中に復帰し、概ね問題の無い状態
△：不吐出、吐出乱れが生じ、吐出中に復帰しないが、メンテナンスによって正常な状態に復帰する状態
×：不吐出、吐出乱れが生じ、正常に吐出ができず、メンテナンスによっても吐出が正常なレベルまで復帰しない状態
メンテナンスは、DMP-2831によるパージ（ヘッド内インクを加圧してノズルからインクを強制的に吐き出す）、ブロット（ヘッドノズル面をクリーニングパッドに僅かに接触させて、ノズル面のインクを吸い取る）を実施した。
【０３５６】
＜耐熱性評価＞
上記で作製した各色のカラーフィルタを、２３０℃に加熱したオーブン内に入れ、１時間放置した後、色相を測定した。色相の測定は、ＵＶ−５６０（日本分光社製）を用い、評価前後のΔＥａｂが５未満を○とした。ΔＥａｂが５以上１５未満を△と、ΔＥａｂが１５以上を×とした。なお、ΔＥａｂは、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編 新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ）2＋（Δａ）2＋（Δｂ）2｝1/2
【０３５７】
＜耐薬品性評価＞
上記で作製した各色のカラーフィルタを、評価を行う薬品（Ｎ−メチルピロリドン、２−プロパノール、５％硫酸水溶液、５％水酸化ナトリウム水溶液）中に２０分間浸し、その前後の色相を測定した。色相の測定は、ＵＶ−５６０（日本分光社製）を用い、ΔＥａｂが５未満を○とした。ΔＥａｂが５以上１５未満を△と、ΔＥａｂが１５以上を×とした。ΔＥａｂの評価方法は、上記と同様である。
【０３５８】
以下の表１０〜１５に、各インクジェット用インクおよびカラーフィルタの評価結果をまとめて示す。
なお、表１３中、「Ｒ実施例１〜１６」は、それぞれＲ実施例１〜１６に記載のインクを使用して作製されたカラーフィルタの評価結果をさす。Ｒ比較例１および２も、同様に、Ｒ比較例１および２に記載のインクを使用して作製されたカラーフィルタの評価結果をさす。表１４および表１５も同様に各インクを使用して、作製されたカラーフィルタの評価結果をさす。
【０３５９】
【表１０】
2009144149.tif 000076
【０３６０】
【表１１】
2009144149.tif 000077
【０３６１】
【表１２】
2009144149.tif 000078
【０３６２】
【表１３】
2009144149.tif 000079
【０３６３】
【表１４】
2009144149.tif 000080
【０３６４】
【表１５】
2009144149.tif 000081
【０３６５】
表１０〜表１２に示すように、本発明に記載のインクジェット用インクは、保存性に優れるとともに、吐出安定性の点からも優れていた。また、本発明に記載のインクジェット用インクを用いて製造されたカラーフィルタは、顔料インクを使用した場合と同等程度の優れた耐薬品性、耐熱性を有していた。
一方、顔料インクを使用した比較例においては、吐出安定性が悪く、実用性に欠いていた。
【図面の簡単な説明】
【０３６６】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態における製造工程を示すフローチャートである。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は、それぞれ本発明のカラーフィルタの製造方法における基板からカラーフィルタに至る製造工程順に示す基板およびカラーフィルタの模式的断面図である。
【図３】本発明のカラーフィルタの製造方法の描画工程を実施するのに用いられるインクジェット描画装置の一実施形態の一部分を示す斜視図である。
【図４】図３に示すインクジェット描画装置の部分断面図である。
【図５】図３に示すインクジェット描画装置におけるインク循環系の一実施形態の概略構成を示す模式図である。
【図６】図３に示すインクジェット描画装置において実施される描画方法の一実施形態のフローを示すフローチャートである。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ図３に示すインクジェット描画装置によって描画されたカラーフィルタの画素配列を示す模式図である。
【図８】図３に示すインクジェット描画装置に適用されるインク循環系の他の実施形態の概略構成を示す模式図である。
【図９】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ図３に示すインクジェット描画装置のインクジェットヘッドのノズル配列の一実施例およびそのノズル配列を持つインクジェットヘッドによって描画されたカラーフィルタの画素のドット形成を示す模式図である。
【図１０】コントラスト測定において使用される冷陰極管光源から射出される光の波長スペクトル分布を示す図である。
【図１１】単色基板（インクＧ−１）のＩＴＯスパッタ前後における分光特性を示す図である。
【符号の説明】
【０３６７】
１０  カラーフィルタ
１２  基板
１４  隔壁
１６  凹部
１８  インク
１８ａ  未硬化画素インク
２０  画素
２２  保護膜
３０，３１  インクジェット描画装置
３２  プラテン
３４  インクジェットヘッド
３６  ヘッドユニット
３８  ヘッド移動機構
４０  基板搬送機構
４２  ドライブスクリュ
４３  ガイドレール
４４  駆動支持部
４５  支持部
４６  送りローラ
４８  抑えローラ
５０，９０  インク供給系
５２  インクタンク
５４，５４ａ，５４ｂ  インク供給管
５６，８４  フィルタ
５８  キャップ
６０  クリーニングブレード
６２  吸引ポンプ
６４  回収タンク
６６，１００  インク回収管
６８  ヘッド加圧ポンプ
７０  インク補充系
７２  コンクインク補充タンク
７４  希釈液補充タンク
７６，８６  濃度検出部
７８  レベル検出部
８０  補充制御部
８２  回収インク補充管
９２  供給サブタンク
９４  補充タンク
９６  インクポンプ
９８  オーバーフロー管
１０２  大気開放弁
１０４  圧力調整弁
【図１】
2009144149.tif 000091
【図２】
2009144149.tif 000092
【図３】
2009144149.tif 000093
【図４】
2009144149.tif 000094
【図５】
2009144149.tif 000095
【図６】
2009144149.tif 000096
【図７】
2009144149.tif 000097
【図８】
2009144149.tif 000098
【図９】
2009144149.tif 000099
【図１０】
2009144149.tif 000100
【図１１】
2009144149.tif 000101