(57)【要約】【課題】装置の大型化を抑制可能な光学走査装置及びこれを備えた画像形成装置を提供する。【解決手段】レーザユニット１と、レーザユニット１からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向装置５と、偏向装置５により偏向走査される走査光束Ｌ２を感光体ドラムに結像する走査レンズ４とを有し、レーザユニット１を走査レンズ４の光軸方向に配置して、レーザユニット１からの光束を偏向装置５に対して正面斜入射させる光学走査装置において、レーザユニット１からの光束Ｌを副走査方向において走査光束Ｌ２側へ内面反射させ、更に１回内面反射させて偏向装置５へ光束Ｌを入射させる多角形プリズム３を有し、偏向装置５により偏向走査された後の走査光束Ｌ２は、副走査方向においてレーザユニット１に当たらない位置を通過し、レーザユニット１を境にして偏向装置５側とは反対側に出射する。【選択図】図１
2009186693.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源及び前記光源を発光駆動する駆動回路基板を有する光源ユニットと、
前記光源からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向装置と、
前記偏向装置により偏向走査される走査光束を被走査面に結像する走査レンズと、を有し、
前記光源が前記走査レンズの光軸方向に配置され、前記光源からの光束を前記偏向装置に対して正面斜入射させる光学走査装置において、
前記光源からの光束を前記主走査方向と直交する副走査方向において前記走査光束の側へ内面反射させ、更に少なくとも１回の内面反射をさせて前記偏向装置へ前記光束を入射させる多角形プリズムを有し、
前記偏向装置により偏向走査された後の走査光束は、前記副走査方向において前記光源ユニットに当たらない位置を通過し、前記光源ユニットを境にして前記偏向装置の側とは反対側に出射する  ことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】
前記光源からの光束は、前記多角形プリズムによって内面反射されて、前記走査レンズを通過した後、前記偏向装置によって偏向走査されて、前記走査レンズを再度通過することを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
【請求項３】
前記多角形プリズムの内面反射はすべて、全反射であることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の光学走査装置と、
前記光学走査装置から出射された走査光束が照射する被走査面を有する像担持体と、を有し、
前記走査レンズを通過した後の走査光束は、長尺状の反射ミラーを介することなく、前記像担持体の被走査面上に照射することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シート等の転写材（記録媒体）上に画像を形成する機能を備えた、例えば、複写機、プリンタ、あるいは、ファクシミリ装置などの画像形成装置に用いられる光学走査装置及びこれを備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザプリンタ等の画像形成装置に用いられる光学走査装置は、画像信号に応じて光源手段から光変調され出射した光束を偏向手段により偏向走査し、得られた走査光束を感光体ドラム上に結像させて静電潜像を形成する。次いで、感光体ドラム上の静電潜像を現像装置によってトナー像に顕像化し、これを記録シート等の記録媒体に転写して定着装置へ送り、記録媒体上のトナーを加熱定着させることで印刷（プリント）が行われる。
【０００３】
光学走査装置の具体的な構成としては、半導体レーザなどの光源から出射したレーザ光束を、コリメータレンズによって平行光束に変換し、揺動振動子ミラーである偏向装置に対して正面から斜入射させる形態がある（特許文献１、特許文献２）。レーザ光束を正面から入射させるメリットとして、偏向装置の反射面を主走査方向にて小型化できる。また、走査レンズに対して、正面からレーザ光束が入射するので、光学性能の左右対称性が確保される。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２３５３４５
【特許文献２】特開２００５−３０８８６３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら上記従来技術によれば、光学走査装置に関して次のような課題がある。
【０００６】
半導体レーザは、光学走査装置に位置決め固定を行うために、樹脂または金属などで構成されるホルダで保持される。また、半導体レーザを発光駆動するためのレーザ駆動回路基板が半導体レーザのリード線に半田付けされユニット化されている。したがって、上記構成の半導体レーザユニットを偏向装置の正面に配置すると、偏向装置で偏向走査されるレーザ光束が、ホルダやレーザ駆動回路基板に遮光される可能性がある。
【０００７】
これを回避するためには、従来例のような正面斜入射の構成では半導体レーザユニットを走査レンズ光軸方向にて偏向装置から遠ざけた位置に配置すれば良いが、これでは走査レンズの光軸方向に光学走査装置が大型化する。また、走査レンズと半導体レーザユニットとの間に長尺状の反射ミラーを配置して、走査レンズを通過した後のレーザ光束を反射させレーザ光束の角度を変えれば良い。しかし、長尺状の反射ミラーは高価である。また、長尺状の反射ミラーを用いると、走査光束の反射領域外となる反射ミラーの長手方向両端部付近に固定部を設ける必要があるため光学走査装置が大型化してしまう。したがって、なるべく長尺状の反射ミラーの使用は避けたい。
【０００８】
また、別の回避手段として半導体レーザユニットと偏向装置との間に入射ミラーを配置して、半導体レーザユニットを偏向装置の正面に配置しない形態がある（特許文献２）。この構成であれば、入射ミラーは長尺状である必要はないので、長尺状の反射ミラーを用いる場合に比べてコストやスペースの面でメリットがある。しかしながら、入射ミラーは、揺動振動子ミラーの反射面に対して副走査方向における規定の位置にレーザ光束を入射させるために、入射ミラーの反射面の倒れ方向において高精度な位置決めが必要である。
【０００９】
そのため、入射ミラーの固定方法としてはセットビスなどを用いて入射ミラーの反射面の倒れ方向における姿勢を調整して、その姿勢で弾性部材などを用いて固定する手段などが用いられる。また入射ミラーを組立工具で保持するために、反射面以外にも保持領域が必要となりある程度の大きさも必要となる。
【００１０】
したがって、調整位置決めして固定するまでに多大な組立工数がかかってしまう。
【００１１】
更に、入射ミラーの固定手段として紫外線硬化樹脂などの接着剤を用いていると、光学走査装置の周囲の温度や湿度の環境変動により接着剤の微小な変形が生じ、入射ミラーの反射面の倒れ方向における姿勢が変化するおそれがある。
【００１２】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、偏向装置に対して正面斜入射の構成にて、長尺状の反射ミラーを用いないことにより、走査レンズの光軸方向における装置の大型化とコスト増加を抑制可能な光学走査装置を提供するものである。
【００１３】
また、本発明の他の目的は、従来の入射ミラーを用いないことにより、煩雑な組立作業を廃止し、かつ、偏向装置へ入射するレーザ光束の副走査方向における角度変化を極力抑えることにある。その結果、安価で高信頼性の光学走査装置を実現することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するための本発明における代表的な手段は、光源及び前記光源を発光駆動する駆動回路基板を有する光源ユニットと、前記光源からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向装置と、前記偏向装置により偏向走査される走査光束を被走査面に結像する走査レンズと、を有し、前記光源が前記走査レンズの光軸方向に配置され、前記光源からの光束を前記偏向装置に対して正面斜入射させる光学走査装置において、前記光源からの光束を前記主走査方向と直交する副走査方向において前記走査光束の側へ内面反射させ、更に少なくとも１回の内面反射をさせて前記偏向装置へ前記光束を入射させる多角形プリズムを有し、前記偏向装置により偏向走査された後の走査光束は、前記副走査方向において前記光源ユニットに当たらない位置を通過し、前記光源ユニットを境にして前記偏向装置の側とは反対側に出射することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明にあっては、多角形プリズムを用いることにより、長尺状の反射ミラーを用いなくともレーザ光束を光学走査装置から出射させることができ、かつ、走査レンズ光軸方向への光学走査装置の大型化を防ぐことができる。
【００１６】
また、多角形プリズムは、反射面の倒れ方向に仮に回転した場合でも、光束を内面反射させる複数の反射面が一体で回転するため、反射されたレーザ光束の角度はほとんど変わらない。このため、多角形プリズムは高精度に位置決め固定する必要がないため煩雑な調整組付けが不要となり、かつ、偏向装置へ入射するレーザ光束の副走査方向における角度変化を極力抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
次に本発明に係る一実施形態に係る光学走査装置について、これを用いた画像形成装置を例示して説明する。
【００１８】
〔第１実施形態〕
［画像形成装置］
まず、図４を用いて本発明の実施の形態に係る光学走査装置を備えた画像形成装置について説明する。図４は第１実施形態に係る画像形成装置を示す模式断面図である。
【００１９】
本実施形態に係る画像形成装置は、後述する光学走査装置を具備し、該光学走査装置からの光により感光体ドラムなどの像担持体を走査し、この光走査された画像に基づいて記録シート等の記録媒体に画像形成を行う画像形成手段を備える画像形成装置である。ここでは、画像形成装置としてプリンタを例示して説明する。
【００２０】
図４に示すように、画像形成装置（プリンタ）は、得られた画像情報に基づいたレーザ光を、光学走査装置101から出射し、プロセスカートリッジ102に内蔵された像担持体としての感光体ドラム103の被走査面上に照射する。すると感光体ドラム103上に潜像が形成され、プロセスカートリッジ102によってこの潜像が現像剤としてのトナーによりトナー像として顕像化される。なお、プロセスカートリッジ102とは、感光体ドラム103と、感光体ドラム103に作用するプロセス手段として、帯電手段や現像手段等を一体的に有するものである。図４において、111はプロセスカートリッジの着脱スペースである。
【００２１】
一方、記録媒体積載板104上に積載された記録媒体Ｐは、給送ローラ105、及び分離パッド106によって１枚ずつ分離されながら給送され、次に搬送ローラ107によって、さらに下流側に搬送される。搬送された記録媒体Ｐ上には、感光体ドラム103上に形成されたトナー像が転写ローラ108によって転写される。この未定着のトナー像が形成された記録媒体Ｐは、さらに下流側に搬送され、内部に加熱体を有する定着器109により、トナー像が記録媒体Ｐに定着される。その後、記録媒体Ｐは、排出ローラ110によって機外に排出される。
【００２２】
なお、本実施形態では感光体ドラム103に作用するプロセス手段としての前記帯電手段及び前記現像手段をプロセスカートリッジ102中に感光体ドラム103と一体的に有することとした。しかし、各プロセス手段を感光体ドラム103と別体に構成することとしてもよい。
【００２３】
［光学走査装置］
次に図１を用いて前記画像形成装置における光学走査装置について説明する。図１は第１実施形態に係る光学走査装置の模式断面図である。
【００２４】
図１において、光源である半導体レーザを有する半導体レーザユニット１（光源ユニット）からはレーザ光束Ｌを発生させている。半導体レーザユニット１から発生したレーザ光束Ｌ前方の光路上にはコリメータレンズとシリンドリカルレンズとを一体に成形したアナモフィックコリメータレンズ２、多角形プリズム３、走査レンズ４、偏向装置５が順に配置されている。
【００２５】
多角形プリズム３は、入射面と出射面の少なくとも一方の面にパワーを持つ面を有している。本実施形態ではコリメータレンズとシリンドリカルレンズとを一体に成形したアナモフィックコリメータレンズ２を用いる構成としているが、コリメータレンズとシリンドリカルレンズを別体で構成してもよい。
【００２６】
レーザ光束Ｌは偏向装置５に副走査方向において角度αで正面から入射し、偏向装置５の反射面で反射される。すなわち、本実施形態の光学系は、正面斜入射光学系である。ここで、副走査方向とは、偏向装置５によってレーザ光束Lが偏向走査される主走査方向に対して直交する方向である。また、偏向装置５によって偏向走査された後のレーザ光束Ｌ２の光路上には走査レンズ４、被走査面となる前述の感光体ドラム（図１には不図示）が配置されている。半導体レーザからの光束は、多角形プリズム３によって内面反射されて、走査レンズ４を一度通過した後、偏向装置５によって偏向走査されて、走査レンズを再度通過する構成である。すなわち、レーザ光束Ｌは走査レンズ４を２回通過しており、本実施形態の光学系は所謂ダブルパス光学系である。斜入射角度αは、レーザ光束の感光体ドラム上でのスポット形状の変形と副走査方向のピッチムラ等を抑制するために、なるべく小さく設定するのが良く、本実施形態では約３°に設定している。
【００２７】
図２は偏向装置５の斜視図である。この図において、６はレーザ光束Ｌを反射する反射子、７は駆動子である。８，９はねじりバネ、10はプレート部材、11は鉄心と巻線とから成るアクチュエータ部、12はホルダ、13は回路基板である。
【００２８】
アクチュエータ部11は、ホルダ12に固定されている。アクチュエータ部11に電力を供給するための回路基板13はホルダ12に対してビス等で固定され、画像形成装置に具備された制御回路（不図示）と電気的に接続される。
【００２９】
プレート部材10は、Ｓｉ単結晶のウェハをエッチング加工して製作されており、ホルダ12に一体に固定されている。反射子６と駆動子７はプレート部材10と一体に形成されており、それぞれねじりバネ８，９によって支持されている。
【００３０】
反射子６の反射面にはアルミが蒸着されており、レーザ光束を反射するのに好適な反射膜が形成されている。駆動子７には棒状の永久磁石（不図示）が一体に固定されており、対向するアクチュエータ部11と共に磁気回路を形成している。
【００３１】
アクチュエータ部11の巻線に電流を印加することによって反射子６と駆動子７とが駆動する。反射子６と駆動子７とは、揺動の振動モードとして複数の固有振動モードを有している。本実施形態における駆動子７と反射子６とは、走査周期に応じた基本周波数と少なくとも基本周波数の２倍の周波数の振動モードを有しており各々の周波数を重ね合わせて駆動される。そして、駆動子７が駆動すると、光束を偏向させる反射子６の偏向面が回転軸を中心とした揺動により往復運動する。これにより、反射子６で反射された光束が感光体ドラムの主走査方向に走査される。
【００３２】
図１において、半導体レーザユニット１から発生させたレーザ光束Ｌは、アナモフィックコリメータレンズ２と多角形プリズム３と走査レンズ４とによって偏向装置５の反射子６上に焦線を結像する。そして、このレーザ光束Ｌは偏向装置５の反射子６によって偏向され、走査レンズ４を通過し感光体ドラム上に結像される。このとき、走査レンズ４を通過した走査光束は長尺状の反射ミラーを介さずに被走査面である感光体ドラムに到達する。つまり、偏向装置５により偏向走査される走査光束は、副走査方向において半導体レーザユニット１に当たらない位置を通過し、半導体レーザユニット１を境にして偏向装置５側とは反対側に出射する構成である。
【００３３】
走査レンズ４は、レーザ光束を感光体ドラム上にスポットを形成するように集光し、かつスポットの走査速度が等速に保たれるように設計されている。このような走査レンズ４の特性を得るために、走査レンズ４は非球面レンズで形成されている。また、本実施形態では走査レンズ４は１枚で構成しているが、２枚のレンズで構成してもよい。
【００３４】
偏向装置５の反射子６、駆動子７の揺動によって、感光体ドラムの主走査方向（回転軸線方向）に光束による走査が行われる。また感光体ドラムがその円筒の軸線まわりに回転駆動することによって前記主走査方向と直交する副走査方向への光走査が行われる。このようにして感光体ドラムの表面には静電像が形成される。
【００３５】
更に第１実施形態に係る光学走査装置の主要部について、図３（ａ）、図３（ｂ）を用いて説明する。
【００３６】
半導体レーザ１ｃは、光学走査装置内で位置決め固定を行うために、樹脂または金属などで構成されるホルダ１ａで保持されている。また、半導体レーザ１ｃのリード線は、前記半導体レーザ1ｃを発光駆動するための駆動回路基板１ｂに半田付けされている。ここで、半導体レーザ１ｃと、ホルダ1ａと、駆動回路基板１ｂとは、光源ユニットである半導体レーザユニット１としてユニット化されている。多角形プリズム３は、反射面３ａ，３ｂを一体的に有しており、光学走査装置への突き当て面として、突き当て面３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ，３ｇ，３ｈが形成されている。突き当て面３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆは図３（ｂ）のＡ矢視面側に設けられ、突き当て面３ｇ，３ｈは底面側に設けられている。半導体レーザユニット１から出射されたレーザ光束Ｌは、反射面３ａで偏向装置によって偏向された後の走査光束Ｌ２の側へ内面反射され、次に反射面３ｂで内面反射されて多角形プリズム３を通過していく。本実施形態では、多角形プリズム３によって、レーザ光束ＬをＺ軸方向へ反射させているため、半導体レーザユニット１を走査光束Ｌ２から遠ざけることが可能となる。
【００３７】
なお、本実施形態では半導体レーザユニット１からの光束を多角形プリズム３の反射面３ａで走査光束Ｌ２側へ内面反射させた後、更に反射面３ｂによって内面反射させて偏向装置５に光束を入射させるようにしている。しかし、多角形プリズム３の反射面によって光束を走査光束Ｌ２側へ内面反射させた後、更に複数回内面反射させて偏向装置５へ入射させるようにしてもよい。
【００３８】
また、多角形プリズム３を用いる利点として、仮に多角形プリズム３が規定の姿勢からＹ軸周りに（反射面３ａ、３ｂの倒れ方向に）回転した場合でも、反射面３ａと反射面３ｂは一体で回転するため、反射面３ｂで反射されたレーザ光束の角度は変わらない。よって、環境変動によって多角形プリズムがＹ軸周りに回転しても、偏向装置へ入射するレーザ光束の副走査方向における角度変化を抑えることができる。ここで、多角形プリズムがＹ軸周りに回転する環境変動要因として、光学走査装置に対する多角形プリズムの固定手段として接着剤を用いた場合には、光学走査装置の周囲の温度や湿度の変化による接着剤の微小な変形があげられる。
【００３９】
なお、Ｚ軸周りの回転は、偏向装置へ入射するレーザ光束の主走査方向における入射位置のずれに繋がるが、これは一般的な光学走査装置であれば感光体ドラム上の主走査方向における照射開始位置を補正する手段を有しているので、光学系に与える影響は少ない。また、Ｘ軸周りの回転は、偏向装置へ入射するレーザ光束の入射位置ずれには繋がらない。よって、Ｚ軸周りの回転規制は、突き当て面３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆを光学走査装置に突き当てて固定することで行っている。Ｘ軸周りの回転規制も同様で、突き当て面３ｇ，３ｈを光学走査装置に突き当てて固定することで行っている。したがって、多角形プリズム３を光学走査装置に対してＸ軸及びＺ軸周りにずれ難く安定した姿勢で固定するためには、多角形プリズム３の形状としてはＹ軸方向の突き当て面間スパンが最も必要となるため、Ｙ軸方向が長手になる形状となっている。
【００４０】
更に、多角形プリズム３を用いる他の利点を以下に述べる。レーザ光束は反射面３ａに入射角度θ１で入射し、反射面３ｂに入射角度θ２で入射している。本実施形態の多角形プリズム３は樹脂で成形しており、屈折率は約1.5である。入射角度θ１、θ２は約45°としており、臨界角約41.8°（＝ｓｉｎ−１（１／1.5））よりも大きく、各反射面３ａ，３ｂでのレーザ光束は全反射となっている。この構成により、多角形プリズム３の反射面３ａ，３ｂで全反射してレーザ光束の光量低下がないため、より少ない出力の半導体レーザを用いることが可能である。
【００４１】
このように、多角形プリズム３を用いることにより、偏向装置によって偏向走査された後の走査光束Ｌ２と半導体レーザユニット１との干渉を回避することができる。このため、長尺状の反射ミラーなどの高価な光学部品を用いずに、レーザ光束を光学走査装置から出射させることができる。また、環境変動によって多角形プリズム３の反射面３ａ、３ｂの倒れ方向における姿勢変化が生じた場合も、多角形プリズム３で反射されるレーザ光束の角度変化はほとんどない。したがって、多角形プリズム３は反射面３ａ、３ｂの倒れ方向において高精度に固定するための煩雑な調整組付けが不要である。更に、多角形プリズム３の反射面３ａ，３ｂで全反射してレーザ光束の光量低下がないため、より少ない出力の半導体レーザを用いることが可能である。
【００４２】
したがって、光学走査装置の大型化の抑制、高価な光学部品の削減、組立工数の削減により安価な光学走査装置にできるとともに、レーザ光束の副走査方向における角度変化による光学性能の悪化を低減した高信頼性の光学走査装置を実現することができる。
【００４３】
なお、本実施形態では、偏向装置５に揺動振動子ミラーを用いて説明しているが、回転多面鏡を用いて偏向走査しても良い。
【００４４】
〔第２実施形態〕
図５は第２の実施形態による光学走査装置の模式断面図である。
【００４５】
図５において、14はアナモフィックコリメータレンズと多角形プリズムとを一体にした複合レンズである。入射面14ａと出射面14ｄは少なくとも一方の面が、主走査方向と副走査方向とで異なるパワーを有するレンズで構成されており、14ｂと14ｃは反射面である。その他の構成は第１実施形態と同様であるため説明は省略する。
【００４６】
上述の構成において、半導体レーザユニット１から出射したレーザ光束Ｌは、複合レンズ14の入射面14ａに入射し、反射面14ｂと14ｃとで内面反射して出射面14ｄから出射される。その後の動作は第１実施形態と同等である。
【００４７】
このように、複合レンズ14を用いることにより、半導体レーザユニット１を偏向装置５へ近づけることができ、光学走査装置を小型化できる。また、光学素子として第１実施形態で用いたアナモフィックコリメータレンズ２を用いずに多角形プリズム３のみを配置することで、部品点数を削減することができる。反射面14ｂ，14ｃについては、第１実施形態と同様のプリズムであるため、第１実施形態と同様の作用を得ることができる。
【００４８】
〔第３実施形態〕
図６は第３の実施形態による光学走査装置の模式断面図である。
【００４９】
図６において、15はアナモフィックコリメータレンズと多角形プリズムとを一体にした複合レンズである。入射面15ａと出射面15ｄは少なくとも一方の面が、主走査方向と副走査方向とで異なるパワーを有するレンズで構成されており、15ｂと15ｃは反射面である。半導体レーザユニット１は複合レンズ15よりも偏向装置５側へ設置している。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００５０】
上述の構成において、半導体レーザユニット１から出射したレーザ光束Ｌは、複合レンズ15の入射面15ａに入射し、反射面15ｂと15ｃとで内面反射して出射面15ｄから出射される。その後の動作は第１実施形態と同等である。
【００５１】
このように、走査レンズ４の光軸方向において半導体レーザユニット１を複合レンズ15よりも偏向装置５側へ設置することにより、走査レンズ４の光軸方向にて光学走査装置の大きさを縮小することができる。
【００５２】
図７に示す画像形成装置では、111はプロセスカートリッジの着脱スペースであり、縮小できないスペースである。しかしながら、光学走査装置113を走査レンズ光軸方向に縮小して、より短焦点距離の走査レンズを用いることにより、外装面112を矢印Ｂ方向へ移動させることが可能となる。つまり、画像形成装置本体の大きさを縮小できる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】第１実施形態による光学走査装置の模式断面図である。
【図２】第１実施形態による偏向装置の斜視図である。
【図３】（ａ）は第１実施形態による光学走査装置の主要部を示す模式断面図である。（ｂ）は第１実施形態による光学走査装置の主要部を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施形態に係る画像形成装置を示す模式断面図である。
【図５】第２実施形態による光学走査装置の模式断面図である。
【図６】第３実施形態による光学走査装置の模式断面図である。
【図７】第３実施形態に係る画像形成装置を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
Ｌ    …レーザ光束
１    …半導体レーザユニット（光源ユニット）
１ｂ  …駆動回路基板
１ｃ  …半導体レーザ（光源）
３    …多角形プリズム
３ａ，３ｂ …反射面
４    …走査レンズ
５    …偏向装置
101   …光学走査装置
【図１】
2009186693.tif 000003
【図２】
2009186693.tif 000004
【図３】
2009186693.tif 000005
【図４】
2009186693.tif 000006
【図５】
2009186693.tif 000007
【図６】
2009186693.tif 000008
【図７】
2009186693.tif 000009