(57)【要約】【課題】表裏のレンズ面周縁にそれぞれ環状平面部を有する被検レンズの波面収差を干渉計により測定する波面収差測定方法において、被検レンズを実装するときの環状平面部（Ｒ２平面部）を基準にして、被検レンズの光軸を干渉計光軸と一致させ、その後に干渉計による透過波面収差の測定ができる方法及び装置を得る。【解決手段】試料台に載置した被検レンズの表裏の環状平面部のうち、該被検レンズを実装するときにレンズホルダに当接させる載置基準環状平面部に向けて傾き測定光を入射させ、該傾き測定光の被検レンズからの反射光により被検レンズの干渉計光軸からの傾き量を検知するステップと；  この傾き検知量に基づき、上記試料台の傾きを調整し、被検レンズ光軸を干渉計光軸に一致させるステップと；  この光軸一致状態で干渉計による波面収差測定を行うステップと；を有する被検レンズの透過波面収差測定方法。【選択図】図５
2009192249.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表裏のレンズ面周縁にそれぞれ環状平面部を有する被検レンズの波面収差を干渉計により測定する波面収差測定方法において、
試料台に載置した被検レンズの表裏の環状平面部のうち、該被検レンズを実装するときにレンズホルダに当接させる載置基準環状平面部に向けて傾き測定光を入射させ、該傾き測定光の被検レンズからの反射光により被検レンズの干渉計光軸からの傾き量を検知するステップと；
この傾き検知量に基づき、上記試料台の傾きを調整し、被検レンズ光軸を干渉計光軸に一致させるステップと；
この光軸一致状態で上記干渉計による波面収差測定を行うステップと；
を有することを特徴とする被検レンズの透過波面収差測定方法。
【請求項２】
請求項１記載の被検レンズの透過波面収差測定方法において、上記干渉計は、被検レンズに向けて干渉縞測定光を発する干渉光光源と、この干渉光光源から出射され該被検レンズを透過した干渉縞測定光を元の光路に反射する凹反射面を有する反射手段と、該反射手段上のカバーガラスと、上記被検レンズの環状平面部で反射した干渉縞測定直接反射光及び上記反射手段で反射し被検レンズを透過した干渉縞測定透過反射光を入射させて干渉縞を観察する干渉縞観察撮像装置と、を備えており、
上記被検レンズの傾きを検知するステップの前に、干渉計の上記反射手段とカバーガラスを被検レンズの傾き測定光の光路から退避させるステップを含む被検レンズの透過波面収差測定方法。
【請求項３】
請求項２記載の被検レンズの透過波面収差測定方法において、干渉計の上記反射手段とカバーガラスは一体であり、カバーガラスの干渉計光軸から傾きを検知し上記反射手段とカバーガラスの傾きを修正するステップを含む被検レンズの透過波面収差測定方法。
【請求項４】
請求項２記載の被検レンズの透過波面収差測定方法において、干渉計の上記反射手段とカバーガラスは、個別に移動可能であり、さらに、カバーガラスの干渉計光軸から傾きを検知し修正するステップを含む被検レンズの透過波面収差測定方法。
【請求項５】
請求項１記載の被検レンズの透過波面収差測定装置において、干渉計の上記反射手段及びカバーガラスの径は、被検レンズの傾き量検知装置の傾き測定光の径及び干渉計の干渉縞測定光の径より小径であり、該反射手段及びカバーガラスを移動させることなく、試料台に載置した被検レンズの干渉計光軸からの傾き量を検知する上記ステップが実行される透過波面収差測定方法。
【請求項６】
表裏のレンズ面周縁にそれぞれ環状平面部を有する対物レンズの波面収差を干渉計により測定する被検レンズの波面収差測定装置において、
上記被検レンズを載置する試料台と；
上記試料台に載置した被検レンズの表裏の環状平面部のうち、該被検レンズを実装するときの載置面側の載置基準環状平面部に向けて傾き測定光を入射させる傾き光検知光源と、その反射光を検知する撮像装置とを有する被検レンズの傾き量検知装置と；
上記試料台の傾きを調整するαβステージと；
を備え、
上記被検レンズの傾き量検知装置による被検レンズの傾き量に基づき、αβステージにより試料台の傾きを調整して該試料台上の被検レンズ光軸を上記干渉計光軸に一致させ、この光軸一致状態で該干渉計による波面収差測定を行うことを特徴とする被検レンズの透過波面収差測定装置。
【請求項７】
請求項６記載の被検レンズの透過波面収差測定装置において、上記干渉計は、被検レンズに向けて干渉縞測定光を発する干渉光光源と、この干渉光光源から出射され該被検レンズを透過した干渉縞測定光を元の光路に反射する凹反射面を有する反射手段と、該反射手段上のカバーガラスと、上記被検レンズの環状平面部で反射した干渉縞測定直接反射光及び上記反射手段で反射し被検レンズを透過した干渉縞測定透過反射光を入射させて干渉縞を観察する干渉縞観察撮像装置と、を備え、さらに、この干渉計の上記反射手段とカバーガラスを、上記被検レンズの傾き量検知装置による被検レンズの傾き検知時に、該被検レンズ傾き検知装置の傾き光検知光路から退避させる退避機構を備えている被検レンズの透過波面収差測定装置。
【請求項８】
請求項６記載の被検レンズの透過波面収差測定装置において、干渉計の上記反射手段とカバーガラスは一体である被検レンズの透過波面収差測定装置。
【請求項９】
請求項８記載の被検レンズの透過波面収差測定装置において、上記試料台は、カバーガラスでの反射光が透過する貫通穴を備えている被検レンズの透過波面収差測定装置。
【請求項１０】
請求項７記載の被検レンズの透過波面収差測定方法において、干渉計の上記反射手段とカバーガラスは個別に移動可能である被検レンズの透過波面収差測定装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の被検レンズの透過波面収差測定装置において、さらに上記カバーガラスの傾きを調整するαβステージが備えられている透過波面収差測定装置。
【請求項１２】
請求項６ないし１１のいずれか１項記載の被検レンズの透過波面収差測定装置において、干渉計の上記反射手段及びカバーガラスの径は、被検レンズの傾き量検知装置の傾き測定光の径及び干渉計の干渉縞測定光の径より小径に設定されている透過波面収差測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検レンズの透過波面収差を測定する方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、光ピックアップの対物レンズ（被検レンズ）の諸収差は、干渉計を用いて、該対物レンズの透過光と基準面からの反射光による干渉縞を観察することで透過波面収差として測定されている。被検対物レンズは一般に、表裏のレンズ面Ｒ１、Ｒ２の周縁にそれぞれ光軸と直交するように設計された互いに平行をなす環状平面部を備えており、実際の装置に実装するときには、表裏のいずれか一方の載置基準環状平面部（Ｒ２面平面部）をレンズホルダに当接させる。一方、干渉計による透過波面収差の測定時には、Ｒ２面平面部を試料台に当接させ、その反対側の面（Ｒ１面平面部）の反射光を観察して被検対物レンズの光軸を干渉計光軸に一致させる調整を行っている。
【特許文献１】特許第３５８１７０２号公報
【特許文献２】特開平１０-１１６４３８号公報
【特許文献３】特開２００１-３４９９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、この従来の測定方法では、被検対物レンズのＲ２平面部に微細なごみが付着していたり、Ｒ２平面部に成形時のバリが存在すると、Ｒ２平面部が試料台の支持面に密着せず、測定した透過波面収差は不正確なものとなる。つまり、従来方法は、Ｒ２平面部を試料台に置くと、被検対物レンズの光軸と試料台光軸が一致するとの前提（期待）の元に成り立っており、この関係が成立しない状態では、被検対物レンズ固有の正しい透過波面収差を測定することができなかった。また、Ｒ１平面部とＲ２平面部は、ともに光軸と直交する互いに平行な面として設計製造されているが、製造工程で両平面部間にチルト（楔）が発生すると、同様に正しい透過波面収差を測定することができない。
【０００４】
従って本発明は、被検レンズを実装するときの環状平面部（Ｒ２平面部）を基準にして、被検レンズの光軸を干渉計光軸と一致させ、その後に干渉計による透過波面収差の測定ができる方法及び装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、表裏のレンズ面周縁にそれぞれ環状平面部を有する被検レンズの波面収差を干渉計により測定する波面収差測定方法の態様においては、試料台に載置した被検レンズの表裏の環状平面部のうち、該被検レンズを実装するときにレンズホルダに当接させる載置基準環状平面部に向けて傾き測定光を入射させ、該傾き測定光の被検レンズからの反射光により被検レンズの干渉計光軸からの傾き量を検知するステップと；この傾き検知量に基づき、上記試料台の傾きを調整し、被検レンズ光軸を干渉計光軸に一致させるステップと；この光軸一致状態で上記干渉計による波面収差測定を行うステップと；を有することを特徴としている。
【０００６】
干渉計は、具体的には、被検レンズに向けて干渉縞測定光を発する干渉光光源と、この干渉光光源から出射され該被検レンズを透過した干渉縞測定光を元の光路に反射する凹反射面を有する反射手段と、該反射手段上のカバーガラスと、上記被検レンズの環状平面部で反射した干渉縞測定直接反射光及び上記反射手段で反射し被検レンズを透過した干渉縞測定透過反射光を入射させて干渉縞を観察する干渉縞観察撮像装置と、を備えており、被検レンズの傾きを検知するステップの前に、干渉計の反射手段とカバーガラスを被検レンズの傾き測定光の光路から退避させるステップを含む。
【０００７】
干渉計の反射手段とカバーガラスは一体であっても別体で個別に移動可能でも本発明は対応できる。一体型の場合には、カバーガラスの干渉計光軸から傾きを検知し反射手段とカバーガラスの傾きを修正するステップを含ませることができ、個別に移動可能な場合には、カバーガラスの干渉計光軸から傾きを検知し修正するステップを含ませることができる。
【０００８】
あるいは、干渉計の反射手段及びカバーガラスの径を、被検レンズの傾き量検知装置の傾き測定光の径及び干渉計の干渉縞測定光の径より小径とし、該反射手段及びカバーガラスを移動させることなく、試料台に載置した被検レンズの干渉計光軸からの傾き量を検知するステップを実行させることができる。
【０００９】
本発明は、表裏のレンズ面周縁にそれぞれ環状平面部を有する対物レンズの波面収差を干渉計により測定する被検レンズの波面収差測定装置の態様においては、被検レンズを載置する試料台と；試料台に載置した被検レンズの表裏の環状平面部のうち、該被検レンズを実装するときの載置面側の載置基準環状平面部に向けて傾き測定光を入射させる傾き光検知光源と、その反射光を検知する撮像装置とを有する被検レンズの傾き量検知装置と；試料台の傾きを調整するαβステージと；を備え、被検レンズの傾き量検知装置による被検レンズの傾き量に基づき、αβステージにより試料台の傾きを調整して該試料台上の被検レンズ光軸を上記干渉計光軸に一致させ、この光軸一致状態で該干渉計による波面収差測定を行うことを特徴としている。
【００１０】
干渉計は、具体的には、被検レンズに向けて干渉縞測定光を発する干渉光光源と、この干渉光光源から出射され該被検レンズを透過した干渉縞測定光を元の光路に反射する凹反射面を有する反射手段と、該反射手段上のカバーガラスと、上記被検レンズの環状平面部で反射した干渉縞測定直接反射光及び上記反射手段で反射し被検レンズを透過した干渉縞測定透過反射光を入射させて干渉縞を観察する干渉縞観察撮像装置と、を備えており、さらに、この干渉計の反射手段とカバーガラスを、被検レンズの傾き量検知装置による被検レンズの傾き検知時に、該被検レンズ傾き検知装置の傾き光検知光路から退避させる退避機構を備えることができる。
【００１１】
干渉計の反射手段とカバーガラスを一体とする態様では、試料台に、カバーガラスでの反射光が透過する貫通穴を設けることができる。
【００１２】
干渉計の反射手段とカバーガラスは、個別に移動可能としてもよい。このとき、カバーガラスの傾きを調整するαβステージを備えるのがよい。
【００１３】
干渉計の反射手段及びカバーガラスの径は、被検レンズの傾き量検知装置の傾き測定光の径及び干渉計の干渉縞測定光の径より小径に設定すると、反射手段及びカバーガラスの退避機構は不要である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置は、被検レンズを実装するときの環状平面部（Ｒ２平面部）を基準に該被検レンズの傾きを検出して、被検レンズの光軸を干渉計光軸と一致させ、その後に干渉計による透過波面収差の測定を行うので、被検レンズ固有の諸収差を正確に測定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１ないし図７は、本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置の第一の実施形態を示すもので、図６は、本発明の対象とする被検レンズとして示した、光ピックアップ用被検対物レンズＬの形状例を示している。この被検対物レンズＬは、表裏のレンズ面の周縁に、それぞれ光軸と直交するように設計された互いに平行をなす環状のＲ１平面部と、Ｒ２平面部を備えている。Ｒ２平面部は、実際の装置（光ピックアップ）に実装するときに該装置のレンズホルダに当接させて光学的基準とする基準面である。
【００１６】
まず、通常の干渉計（透過波面測定装置）の要素を説明する。干渉計は、干渉光光源としての半導体レーザ光源（ＬＤ）１１の光路上に順に、コリメートレンズ１２、干渉縞観察用ハーフミラー１３、基準平面板１４、点像観察用ハーフミラー１５、試料台（αβＸＹＺステージ）１６、及びカバーガラス１７Ｃを有する凹面反射鏡１７を備えている。
【００１７】
干渉縞観察用ハーフミラー１３からの分岐光路上には、干渉縞観察用撮像装置１８とそのモニタ（干渉縞観察モニタ）１８Ｍが配置され、点像観察用ハーフミラー１５からの分岐光路上には点像観察用撮像装置１９とそのモニタ（点像観察モニタ）１９Ｍが配置されている。試料台１６は、被検対物レンズＬ等を載置するものであり、載置要素の光軸に対する傾き、光軸直交平面内での平面位置及び光軸方向位置を調整する（ことができる）。このようなステージは周知であり、厳密には被検対物レンズＬ等の載置部と調整部（αβステージ及びＸＹＺステージ）は別構成である。αβステージは、光軸に対する傾きを調整する（ことができる）ステージ、ＸＹＺステージは光軸直交平面内での平面位置及び光軸方向位置を調整する（ことができる）ステージである。
【００１８】
本実施形態は、以上の通常の干渉計の要素に加えて、試料台１６に載置した被検対物レンズＬのＲ１平面部とＲ２平面部のうち、Ｒ２平面部に向けて傾き測定レーザを投光する半導体レーザ光源（ＬＤ）（傾き光検知光源）２１と、その反射光を検知するＲ２面点像用撮像装置２２とを有している。Ｒ２面点像用撮像装置２２にはモニタ（Ｒ２面点像観察用モニタ）２２Ｍが接続されている。加えて、凹面反射鏡１７は、αβステージ１７Ａによる傾き調整のみならず、凹面鏡退避ステージ１７Ｂによる干渉計主光軸方向または光軸垂直方向への退避運動（試料台１６に接離する方向の移動）が可能である。凹面反射鏡１７が凹面鏡退避ステージ１７Ｂにより光軸方向または光軸垂直方向に移動できる点は従来干渉計にはない構成である。
【００１９】
また試料台１６には、図７に模式的に示すように、被検対物レンズＬのレンズ面を落とし込む円形貫通穴１６Ｈと、その周囲のＲ２平面部載置面が形成されており、この載置面に、Ｒ２平面部より径が大きい不連続な貫通穴１６Ｒが形成されている。この不連続貫通穴１６Ｒは、半導体レーザ光源２１からのレーザ光を通過させてＲ２平面部に照射し、かつ凹面反射鏡１７のカバーガラス１７Ｃからの反射光を通過させる作用を有する。カバーガラス１７Ｃは、光ピックアップ装置の記録メディアの光透過保護層に相当する光学要素であり、被検対物レンズＬの光学性能は、カバーガラス１７Ｃとの合成性能として測定される。凹面反射鏡１７は、凹反射面を有する反射手段として、半球鏡に置き換えることができる。
【００２０】
以上の構成の被検対物レンズの透過波面収差測定装置を利用して、本実施形態では被検対物レンズの透過波面収差の測定を次のステップで行う。
【００２１】
干渉計基準点決定ステップ
図１に示すように、試料台１６上にコーナキューブプリズム３１を置き、半導体ＬＤ光源１１からレーザ光（干渉縞測定光）を発する。すると、同レーザ光は、基準平面板１４で反射して干渉縞観察用ハーフミラー１３を介して干渉縞観察用撮像装置１８に入射すると同時に、コーナキューブプリズム３１に入射して同光路を戻り、干渉縞観察用ハーフミラー１３を介して干渉縞観察用撮像装置１８に入射するため、干渉縞観察モニタ１８Ｍによって干渉縞を観測することができる。そして、この干渉縞がワンカラーになるよう基準平面板１４の傾きを調整し、このときの点像観察モニタ１９Ｍ上の点像位置を基準点Iと
して記録する。
【００２２】
Ｒ２面側基準点決定ステップ
図２に示すように、試料台１６上に、コーナキューブプリズム３１に代えてオプチカルパラレル３２を載置し、オプチカルパラレル３２による反射光の点像位置が、点像観察モニタ１９Ｍ上で基準点Iに一致するように、試料台１６
を調整する。あるいは、干渉縞観察モニタ１８Ｍによって観察される干渉縞がワンカラーになるように、試料台１６の傾きを調整する。この調整で、オプチカルパラレル３２平面（試料台１６のレンズ載置面）は干渉計光軸と直交する。
【００２３】
次に、図３に示すように、試料台１６（オプチカルパラレル３２）から凹面反射鏡１７を退避させ、半導体レーザ光源２１によるオプチカルパラレル３２へのレーザ光（傾き測定光）の照射を可能とする。そして、半導体レーザ光源２１からオプチカルパラレル３２裏面へレーザ光を照射すると、その反射光がＲ２面点像用撮像装置２２に入射し、Ｒ２面点像観察用モニタ２２Ｍで点像が観察される。このＲ２面点像観察用モニタ２２Ｍ上の点像位置を基準点IIとし
て記録する。この基準点は、干渉計光軸と直交するオプチカルパラレル３２（試料台１６のレンズ載置面）に対応している。
【００２４】
測定レンズ傾き調整ステップ
図４に示すように、凹面反射鏡１７を退避させたまま、オプチカルパラレル３２に代えて、Ｒ２平面部を下方に向けた被検対物レンズＬを試料台１６上に載置する。この状態で、試料台１６の不連続貫通穴１６Ｒを介して、被検対物レンズＬのＲ２平面部に半導体レーザ光源２１からの傾き測定光を入射させ、Ｒ２面点像観察用モニタ２２Ｍで観察される点像を観察し、同点像が基準点IIに重なるように、試料台１６を調整する。この調整が終了すると、被検対物レンズＬのＲ２平面部と試料台１６のレンズ載置面との間に、ゴミが挟まっていたり、Ｒ２平面部に成形バリが生じていたとしても、被検対物レンズＬの光軸は干渉計光軸と一致することになる。
【００２５】
カバーガラス傾き調整ステップ
図５に示すように、凹面反射鏡１７を元の観察位置に戻し、半導体ＬＤ光源１１による点像観察モニタ１９Ｍの点像位置を観察し、凹面反射鏡１７のカバーガラス１７Ｃからの反射点像の位置が基準点Iと一致するように調整する
。この調整で干渉計側の調整が終了する。
【００２６】
透過波面収差測定ステップ
試料台１６により被検対物レンズＬをオートコリメーションにし、透過波面計測を行なう。すなわち、半導体ＬＤ光源１１からのレーザ光（干渉縞測定光）を被検対物レンズＬに入射させると、被検対物レンズＬを透過し凹面反射鏡１７で反射して元の光路を戻る干渉縞測定透過反射光が干渉縞観察用撮像装置１８に入射し、同時に、基準平面板１４で反射された反射光が干渉縞観察用撮像装置１８に入射する。干渉縞観察モニタ１８Ｍで、この両光で発生した干渉縞を観察することにより、被検対物レンズＬの正しい波面収差、つまり、被検対物レンズＬの光軸を正しく干渉計光軸と一致させた状態での波面収差を測定することができる。縞解析の手法は周知である。
【００２７】
図８から図１２は、本発明による被検対物レンズＬの透過波面収差測定方法及び装置の第二の実施形態を示すもので、図８、図９、図１０、図１１及び図１２はそれぞれ、図１、図２、図３、図４及び図５に対応している。この実施形態は、図１ないし図５の装置構成の上下を逆転させ、試料台１６上のレンズ載置面に、被検対物レンズＬのＲ１平面部を当接させ、半導体レーザ光源２１によるＲ２平面部への照射を試料台１６の不連続貫通穴１６Ｒを介することなく行うようにした実施形態である。つまり、被検対物レンズＬのＲ２平面部は、試料台１６上に載置されたとき、上を向いていて開放されており、半導体レーザ光源２１による傾き測定光はこのＲ２平面部に照射される。試料台１６の不連続貫通穴１６Ｒは、カバーガラス１７Ｃの傾き検出調整の際に、該カバーガラス１７Ｃに半導体ＬＤ光源１１からのレーザ光を与えて反射光を点像観察用撮像装置１８に戻すために用いられる（図１２）。この他の構成及び各調整測定ステップは、第一の実施形態と同様である。
【００２８】
図１３から図１８は、本発明による被検対物レンズＬの透過波面収差測定方法及び装置の第三の実施形態を示している。この実施形態は、凹面反射鏡１７のカバーガラス１７Ｃを反射鏡本体部１７Ｘとは独立して移動調整可能とした点、及びカバーガラス１７Ｃの傾き検出を半導体レーザ光源２１とＲ２面点像用撮像装置２２（Ｒ２面点像観察用モニタ２２Ｍ）で行うことができるようにした点が第一の実施形態と異なる。すなわち、カバーガラス１７Ｃは、図１３ないし図１５に示すように反射鏡本体部１７Ｘと一体に移動することだけでなく、図１７に示すように、反射鏡本体部１７Ｘとは離れて移動することができ、単独でその傾きを調整することができる（αβステージ上に載っている）。
【００２９】
この実施形態では、図１３、図１４、図１５、図１６及び図１８はそれぞれ、図１、図２、図３、図４及び図５に対応している。図１７は、カバーガラス１７Ｃが単独で（反射鏡本体部１７Ｘから離れて）、試料台１６に接近した干渉計測位置にあるとき（反射鏡本体部１７Ｘのみを退避させたとき）、半導体レーザ光源２１によりカバーガラス１７Ｃに傾き測定光を入射させ、その反射光をＲ２面点像用撮像装置２２で受光した状態を示している。Ｒ２面点像観察用モニタ２２Ｍで観察されるカバーガラス１７Ｃの反射光の点像位置が、オプチカルパラレル３２の反射光のＲ２面点像観察用モニタ２２Ｍ上での点像位置（基準位置II）に一致するように調整することで、カバーガラス１７Ｃを干渉計光軸と直交させることができる。
【００３０】
図１９から図２４は、本発明による被検対物レンズＬの透過波面収差測定方法及び装置の第四の実施形態を示すもので、図１９、図２０、図２１、図２２、図２３及び図２４はそれぞれ、図１３、図１４、図１５、図１６、図１７及び図１８に対応している。この実施形態は、図１３ないし図１８の装置構成の上下を逆転させ、試料台１６上のレンズ載置面に、被検対物レンズＬのＲ１平面部を当接させ、半導体レーザ光源２１によるＲ２平面部への照射を試料台１６の不連続貫通穴１６Ｒを介することなく行うようにした実施形態である。第三と第四の実施形態の関係は、第一と第二の実施形態の関係と対応しており、基本的な構成及び各調整測定ステップは、第三の実施形態と同様である。
【００３１】
図２５から図２９は、本発明による被検対物レンズＬの透過波面収差測定方法及び装置の第五の実施形態を示している。この実施形態では、凹面反射鏡１７及びカバーガラス１７Ｃの径を被検対物レンズＬの径より十分小さくして不動とし、半導体レーザ光源２１を干渉計光軸上に位置させて半導体ＬＤ光源１１の反対側に配置し、試料台１６と半導体レーザ光源２１の間に、キューブハーフミラー２３を配置し、このキューブハーフミラー２３の分岐光軸上に、Ｒ２面点像用撮像装置２２を配置している。図２５、図２６、図２７、図２８及び図２９はそれぞれ、図１、図２、図３、図４及び図５に対応している。
【００３２】
この実施形態において、図２５と図２６のステップは、図１と図２のステップと同じである。これに対し、図２７のステップでは、凹面反射鏡１７及びカバーガラス１７Ｃの径を被検対物レンズＬより十分小径にしているため、凹面反射鏡１７とカバーガラス１７Ｃを光軸から退避させることなく、Ｒ２面点像用撮像装置２２からのレーザ光（傾き測定光）を干渉計光軸上に照射することができる。同傾き測定光は、試料台１６の不連続貫通穴１６Ｒを介して、前のステップで干渉計光軸に垂直に配置されたオプチカルパラレル３２に照射されるから、その反射点像をＲ２面点像観察用モニタ２２Ｍに基準点IIとして記憶
することができる。以下の図２８と図２９のステップは、図４と図５のステップと同様である。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置の第一の実施形態を示す光学配置図である。
【図２】同第一の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図３】同第一の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図４】同第一の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図５】同第一の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図６】本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置が対象とする被検レンズの形状例を示す縦断面図である。
【図７】同被検レンズを載置する試料台の形状例を示す平面図である。
【図８】本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置の第二の実施形態を示す光学配置図である。
【図９】同第二の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１０】同第二の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１１】同第二の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１２】同第二の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１３】本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置の第三の実施形態を示す光学配置図である。
【図１４】同第三の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１５】同第三の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１６】同第三の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１７】同第三の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１８】同第三の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図１９】本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置の第四の実施形態を示す光学配置図である。
【図２０】同第四の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２１】同第四の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２２】同第四の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２３】同第四の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２４】同第四の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２５】本発明による被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置の第五の実施形態を示す光学配置図である。
【図２６】同第五の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２７】同第五の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２８】同第五の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【図２９】同第五の実施形態の次のステップの光学配置図である。
【符号の説明】
【００３４】
Ｌ  被検対物レンズ（被検レンズ）
Ｒ１  環状平面部
Ｒ２  載置基準環状平面部
１１  半導体ＬＤ光源（干渉縞観察用）
１２  コリメートレンズ
１３  干渉縞観察用ハーフミラー
１４  基準平面板
１５  点像観察用ハーフミラー
１６  試料台（αβＸＹＺステージ）
１７  凹面反射鏡
１７Ｃ  カバーガラス
１７Ａ  αβステージ
１７Ｂ  凹面鏡退避ステージ
１７Ｘ  反射鏡本体部
１８  干渉縞観察用撮像装置
１８Ｍ  干渉縞観察モニタ
１９  点像観察用撮像装置
１９Ｍ  点像観察モニタ
２１  半導体レーザ光源（傾き検出用）
２２  Ｒ２面点像用撮像装置
キューブハーフミラー２３
３１  コーナキューブプリズム
３２  オプチカルパラレル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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