(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス基板間へ混入した異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッジピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層と支持ガラス基板とを容易かつ短時間で分離できるようにする。【解決手段】第１主面および第２主面を有する前記薄板ガラス基板３２ａ，３２ｂの第１主面に、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板３９ａ，３９ｂの第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層３８ａ，３８ｂが密着している支持体付き表示装置用パネル３０を、有機溶媒４０に浸漬する浸漬工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルの製造方法であって、
第１主面および第２主面を有する前記薄板ガラス基板の第１主面に、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着している支持体付き表示装置用パネルを、有機溶媒に浸漬する浸漬工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。
【請求項２】
前記有機溶媒と前記樹脂層との溶解パラメータの差が３以下である、請求項１に記載の表示装置用パネルの製造方法。
【請求項３】
前記樹脂層がシリコーン樹脂層である、請求項１または２に記載の表示装置用パネルの製造方法。
【請求項４】
前記有機溶媒に浸漬した前記支持体付き表示装置用パネルへ超音波振動を与える、請求項１〜３のいずれかに記載の表示装置用パネルの製造方法。
【請求項５】
前記支持体付き表示装置用パネルにおいて、前記薄板ガラス基板の第１主面の面積が、前記樹脂層の表面面積よりも大きく、
前記薄板ガラス基板の前記第１主面における前記樹脂層と接していない部分と、それに対向する前記支持ガラス基板とが、前記支持体付き表示装置用パネルの端面と繋がる隙間部を形成している、請求項１〜４のいずれかに記載の表示装置用パネルの製造方法。
【請求項６】
前記薄板ガラス基板の前記端面からの前記隙間部の深さが１〜１５ｍｍである、請求項５に記載の表示装置用パネルの製造方法。
【請求項７】
さらに、前記浸漬工程の後に、前記支持体付き表示装置用パネルの前記端面へ、流体を吹き付けて前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを剥離する剥離工程を具備する、請求項１〜６のいずれかに記載の表示装置用パネルの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の浸漬工程および／または剥離工程を具備する、表示装置の製造方法。
【請求項９】
表示装置用パネルの一部である薄板ガラス基板の第１主面に、支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着している支持体付き表示装置用パネルであって、
前記薄板ガラス基板の第１主面の面積が前記樹脂層の表面面積よりも大きく、前記薄板ガラス基板の前記第１主面における前記樹脂層と接していない部分と、それに対向する前記支持ガラス基板とが、端面と繋がる隙間部を形成している、支持体付き表示装置用パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用パネルの製造方法、支持体付き表示装置用パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）が表示装置として広く利用されている。特にモバイルや携帯電話等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が求められている。
これに対応するために、表示装置に用いるガラス基板の薄板化がすすんでいる。板厚を薄くする方法としては、一般に、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前または形成した後に、フッ酸等を用いてガラス基板の外表面をエッチング処理し、必要に応じて、さらに物理研磨して薄くする方法が行われる。
【０００３】
しかしながら、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前に、エッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、ガラス基板の強度が低下し、たわみ量も大きくなる。そのため既存の製造ラインで処理することができないという問題が生じる。
また、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成した後にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する過程においてガラス基板の表面に形成された微細な傷が顕在化する問題、すなわちエッジピットと呼ばれる問題が発生する。
【０００４】
そこで、このような問題を解決することを目的として、板厚の薄いガラス基板（以下では「薄板ガラス基板」ともいう。）を他の支持ガラス基板と貼り合わせて積層体とし、その状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、その後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する方法等が提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１には、製品用のガラス基板と補強用ガラス基板とを、ガラス基板同士の静電気吸着力または真空吸着力を利用して張り合わせて一体化し、製品用のガラス基板を用いた表示装置を製造する方法が記載されている。
また、特許文献２には、液晶表示装置の基板と支持体との端部をガラスフリット系の接着剤を用いて接着して、その後、電極パターン等を形成する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
特許文献３には、２枚のガラス基板の少なくとも周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して前記２枚のガラス基板を融合させる工程を有する表示装置用基板の製造方法が記載されている。
【０００６】
特許文献４には、粘着材層が支持体上に設けられている基板搬送用治具に基板を貼り付け、液晶表示素子の製造工程を通して基板搬送用治具を搬送することにより、基板搬送用治具に貼り付いている基板に対して液晶表示素子形成処理を順次行い、所定の工程を終了後、基板搬送用治具から基板を剥離する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
特許文献５には、液晶表示素子用電極基板を紫外線硬化型粘着剤が支持体上に設けられた治具を用いて、液晶表示素子用電極基板に所定の加工を施した後、紫外線硬化型粘着剤に紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化型粘着剤の粘着力を低下させ、前記液晶表示素子用電極基板を前記治具から剥離することを特徴とする液晶表示素子の製造方法が記載されている。
特許文献６には、粘着材によって薄板を支持板に仮固定し、前記粘着材の周縁部をシール材によって封止し、薄板を仮固定した支持板を搬送する搬送方法が記載されている。
【０００７】
特許文献７には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラスと、前記支持ガラスと、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離するには、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から垂直方向に引き離す力を与えればよく、剃刀の刃等で端部に剥離のきっかけを与えたり、積層界面へエアーを注入したりすることによって、より容易に剥離することが可能であることが記載されている。
また、特許文献８には、シリコーンを用いた半導体製造用の両面密着シートが記載されている。
【特許文献１】特開２０００−２４１８０４号公報
【特許文献２】特開昭５８−５４３１６号公報
【特許文献３】特開２００３−２１６０６８号公報
【特許文献４】特開平８−８６９９３号公報
【特許文献５】特開平９−１０５８９６号公報
【特許文献６】特開２０００−２５２３４２号公報
【特許文献７】国際公開第２００７／０１８０２８号パンフレット
【特許文献８】特開２００４−２６９５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載のガラス基板同士を静電吸着力や真空吸着力を利用して固定する方法、特許文献２に記載のガラス基板の両端をガラスフリットによって固定する方法、または特許文献３に記載の周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して２枚のガラス基板を融合させる方法では、ガラス基板同士を何らの中間層を介さず積層密着させるので、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によってガラス基板にゆがみ欠陥が生じる。そのため、表面が平滑なガラス基板積層体を得ることは困難である。
【０００９】
また、特許文献４〜６に記載のガラス基板間に粘着層等を配置する方法では、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥の発生を回避し得るものの、両ガラス基板を分離することが困難であり、分離する際に薄板ガラス基板が破損するおそれがある。また分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存も問題となる。
【００１０】
これに対して特許文献７に記載の薄板ガラス積層体によれば、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥は発生し難い。また、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを剥離することも可能である。さらに分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存の問題は解決される。しかし、両ガラス基板の分離は、より容易に、より短時間で行うことが望まれる。特にガラス基板が大型の場合は、工業的に利用する上で重要な点となる。
【００１１】
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッジピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層と支持ガラス基板とを容易かつ短時間に分離することができる表示装置用パネルの製造方法を提供することを目的とする。また、そのような表示装置用パネルの製造方法を含む、表示装置の製造方法を提供することを目的とする。さらにそのような表示装置用パネルの製造方法で処理できる支持体付き表示装置用パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を重ね、本発明を完成した。
本発明は以下の（１）〜（９）である。
（１）薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルの製造方法であって、
第１主面および第２主面を有する前記薄板ガラス基板の第１主面に、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着している支持体付き表示装置用パネルを、有機溶媒に浸漬する浸漬工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。
（２）前記有機溶媒と前記樹脂層との溶解パラメータの差が３以下である、上記（１）に記載の表示装置用パネルの製造方法。
（３）前記樹脂層がシリコーン樹脂層である、上記（１）または（２）に記載の表示装置用パネルの製造方法。
（４）前記有機溶媒に浸漬した前記支持体付き表示装置用パネルへ超音波振動を与える、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の表示装置用パネルの製造方法。
（５）前記支持体付き表示装置用パネルにおいて、前記薄板ガラス基板の第１主面の面積が、前記樹脂層の表面面積よりも大きく、
前記薄板ガラス基板の前記第１主面における前記樹脂層と接していない部分と、それに対向する前記支持ガラス基板とが、前記支持体付き表示装置用パネルの端面と繋がる隙間部を形成している、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の表示装置用パネルの製造方法。
（６）前記薄板ガラス基板の前記端面からの前記隙間部の深さが１０ｍｍ以上である、上記（５）に記載の表示装置用パネルの製造方法。
（７）さらに、前記浸漬工程の後に、前記支持体付き表示装置用パネルの前記端面へ、流体を吹き付けて前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを剥離する剥離工程を具備する、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の表示装置用パネルの製造方法。
（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載の浸漬工程および／または剥離工程を具備する、表示装置の製造方法。
（９）表示装置用パネルの一部である薄板ガラス基板の第１主面に、支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着している支持体付き表示装置用パネルであって、
前記薄板ガラス基板の第１主面の面積が前記樹脂層の表面面積よりも大きく、前記薄板ガラス基板の前記第１主面における前記樹脂層と接していない部分と、それに対向する前記支持ガラス基板とが、端面と繋がる隙間部を形成している、支持体付き表示装置用パネル。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス基板のゆがみ欠陥の発生を容易に抑制することができ、エッジピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層と支持ガラス基板とを容易かつ短時間に分離することができる表示装置用パネルの製造方法を提供することができる。また、そのような表示装置用パネルの製造方法を含む、表示装置の製造方法を提供することができる。さらにそのような表示装置用パネルの製造方法で処理できる支持体付き表示装置用パネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明について説明する。
本発明は、薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルの製造方法であって、第１主面および第２主面を有する前記薄板ガラス基板の第１主面に、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着している支持体付き表示装置用パネルを、有機溶媒に浸漬する浸漬工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法である。
このような製造方法を、以下では「本発明のパネル製造方法」ともいう。
また、本発明のパネル製造方法において浸漬工程に供する支持体付き表示装置用パネル、すなわち、第１主面および第２主面を有する前記薄板ガラス基板の第１主面に、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着している支持体付き表示装置用パネルを、以下では「本発明の支持体付きパネル」ともいう。
【００１５】
初めに、本発明の支持体付きパネルについて説明する。本発明の支持体付きパネルにおいて薄板ガラス基板は、その厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されず、例えば従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板と同様であってよい。
【００１６】
薄板ガラス基板の厚さは０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。また、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０７ｍｍ以上であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
【００１７】
薄板ガラスの形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
【００１８】
薄板ガラスの大きさは限定されないが、例えば矩形の場合は１００〜２０００ｍｍ×１００〜２０００ｍｍであってよく、５００〜１０００ｍｍ×５００〜１０００ｍｍであることがより好ましい。
【００１９】
このような厚さおよび大きさであっても、本発明のパネル製造方法における浸漬工程、または浸漬工程および剥離工程によって、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易に剥離することができる。
【００２０】
薄板ガラス基板の熱収縮率、表面形状、耐薬品性等の特性も特に限定されず、製造する表示装置の種類により異なる。
熱収縮率は小さいことが好ましい。具体的には熱収縮率の指標である線膨張係数が５００×１０−７／℃以下であることが好ましく、３００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、２００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、４５×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。
なお、本発明において線膨張係数はＪＩＳ  Ｒ３１０２（１９９５年）に規定のものを意味する。
【００２１】
薄板ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラスや無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００２２】
本発明の支持体付きパネルは、前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を有する。
表示装置用部材とは、従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板がその表面上に有する発光層、保護層、ＴＦＴアレイ（以下、アレイという。）、カラーフィルタ、液晶、ＩＴＯからなる透明電極等、各種回路パターン等を意味する。前記薄板ガラス基板の第２主面上の表示装置用部材の種類は特に限定されない。
このような表示装置用部材と前記薄板ガラス基板とから、表示装置用パネルがなる。
【００２３】
本発明の支持体付きパネルは、前記薄板ガラス基板の第１主面に、支持体として、樹脂層が固定された支持ガラス基板を有する。支持ガラス基板は樹脂層を介して薄板ガラス基板と密着して、薄板ガラス基板の強度を補強する。
【００２４】
支持ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されない。
支持ガラス基板の厚さは特に限定されないが、本発明の支持体付きパネルが現行の製造ラインで処理できるような厚さであることが必要である。
例えば０．１〜１．１ｍｍの厚さであることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。
例えば、現行の製造ラインが厚さ０．５ｍｍの基板を処理するように設計されたものであって、薄板ガラス基板の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとあわせて０．４ｍｍである。また、現行の製造ラインは厚さが０．７ｍｍのガラス基板を処理するように設計されているものが最も一般的であるが、例えば薄板ガラス基板の厚さが０．４ｍｍならば、樹脂層の厚さとあわせて０．３ｍｍとする。
支持ガラス基板の厚さは、前記薄板ガラス基板よりも厚いことが好ましい。
【００２５】
支持ガラス基板の形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
【００２６】
支持ガラス基板の大きさ限定されないが、前記薄板ガラス基板と同程度であることが好ましく、前記ガラス基板よりもやや大きいことが好ましい。たとえば、具体的には縦方向または横方向の各々が０．０５〜１０ｍｍ程度大きいことが好ましい。理由は、表示装置用パネル製造時の位置決めピン等のアライメント装置の接触から前記薄板ガラス基板の端部を保護しやすいこと、および薄板ガラス基板と支持ガラス基板との剥離をより容易に行うことができるからである。
【００２７】
支持ガラス基板は線膨張係数が前記薄板ガラス基板と実質的に同一であってよく、異なってもよい。実質的に同一であると、本発明のパネル製造方法で処理した際に、薄板ガラス基板または支持ガラス基板に反りが発生し難い点で好ましい。
薄板ガラス基板と支持ガラス基板との線膨張係数の差は３００×１０−７／℃以下であることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、５０×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。
【００２８】
支持ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００２９】
このような支持ガラス基板の第１主面に固定された樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面と付き、密着しているが、容易に剥離することができる。すなわち樹脂層は、前記薄板ガラス基板に対して易剥離性を有する。
本発明の支持体付きパネルにおいて、樹脂層と薄板ガラス基板とは粘着剤が有するような粘着力によっては付いていないと考えられ、固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって付いていると考えられる。
【００３０】
樹脂層の厚さは特に限定されない。１〜１００μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、７〜２０μｍであることがさらに好ましい。樹脂層の厚さがこのような範囲であると、薄板ガラス基板と樹脂層との密着が十分になるからである。また、気泡や異物が介在しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるからである。また、樹脂層の厚さが厚すぎると、形成するのに時間および材料を要するため経済的ではない。
【００３１】
なお、樹脂層は２層以上からなっていてもよい。その場合、「樹脂層の厚さ」は全ての層の合計の厚さを意味するものとする。
また、樹脂層が２層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。
【００３２】
樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面に対する樹脂層の表面の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下あることがさらに好ましい。このような表面張力であると、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
また、樹脂層は、ガラス転移点が室温（２５℃程度）よりも低いまたはガラス転移点を有しない材料からなることが好ましい。非粘着性の樹脂層となり、より易剥離性を有し、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
また、樹脂層が耐熱性を有していることが好ましい。本発明のパネル製造方法では、例えば前記薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合に、薄板ガラス基板と樹脂層と支持ガラス基板とのガラス積層体を熱処理に供し得るからである。
また、樹脂層の弾性率が高すぎると薄板ガラス基板との密着性が低くなるので好ましくない。また弾性率が低すぎると易剥離性が低くなるので好ましくない。
【００３３】
樹脂層を形成する樹脂の種類は特に限定されない。例えばアクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。前記樹脂の群の中では、シリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は耐熱性に優れかつ薄板ガラス基板に対する易剥離性の程度が好ましいからである。また、支持ガラス基板の第１主面のシラノール基との縮合反応によって、支持ガラス基板に固定し易いからである。シリコーン樹脂層は、例えば３００〜４００℃程度で１時間程度処理しても、易剥離性がほぼ劣化しない点も好ましい。
【００３４】
また、樹脂層はシリコーン樹脂の中でも剥離紙用シリコーンからなることが好ましく、その硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とするものである。この主剤と架橋剤とを含む組成物を、触媒、光重合開始剤等を用いて前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に硬化させて形成した樹脂層は、優れた易剥離性を有するので好ましい。また、柔軟性が高いので、薄板ガラス基板と樹脂層との間へ気泡や塵介等の異物が混入しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができる。
【００３５】
このような剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーンおよび電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型シリコーンが好ましい。硬化反応のし易さ、樹脂層を形成した際に易剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。
【００３６】
また、剥離紙用シリコーンは形態的に溶剤型、エマルジョン型および無溶剤型があり、いずれの型も使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。生産性、安全性、環境特性の面が優れるからである。また、樹脂層を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化または電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留しにくいからである。
【００３７】
また、剥離紙用シリコーンとして、具体的には、一般市販されている商品または型番として、ＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン社製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ビニルシリコーン「８５００」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６４」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６５」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ等が挙げられる。なお、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＳ−８４７およびＴＰＲ６７００は、あらかじめ主剤と架橋剤とを含有しているシリコーンである。
【００３８】
また、樹脂層を形成するシリコーン樹脂は、シリコーン樹脂中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい性質、すなわち低シリコーン移行性を有することが好ましい。
【００３９】
次に、本発明の支持体付きパネルを、図を用いて説明する。
図１は、本発明の支持体付きパネルの一態様を示す概略断面図である。
図１において表示装置用パネル１６は、層状の表示装置用部材１４および薄板ガラス基板１２からなり、これらは積層している。ここで表示装置用部材１４は薄板ガラス基板１２の第２主面上に形成されている。そして、薄板ガラス基板１２の第１主面と、支持ガラス基板１９の第１主面に固定された樹脂層１８の表面とが密着して付いて、本発明の支持体付きパネル１０を形成している。
図１に示す態様の本発明の支持体付きパネル１０は、薄板ガラス基板１２と樹脂層１８と支持ガラス基板１９とが同じ大きさである。
【００４０】
図２は、本発明の支持体付きパネルの別の態様を示す概略正面図であり、図３はそのＡ−Ａ’断面図（概略断面図）である。
図２および図３において、表示装置用パネル２６は、層状の表示装置用部材２４および薄板ガラス基板２２からなり、これらは積層している。ここで表示装置用部材２４は薄板ガラス基板２２の第２主面上に形成されている。そして、薄板ガラス基板２２の第１主面と、支持ガラス基板２９の第１主面に固定された樹脂層２８とが密着して付いており、本発明の支持体付きパネル２０を形成している。
図２および図３に示す態様の本発明の支持体付きパネル２０は、薄板ガラス基板２２よりも支持ガラス基板２９の主面面積が大きい。
【００４１】
また、図２および図３に示す態様の本発明の支持体付きパネル２０は、樹脂層２８の表面（薄板ガラス基板２２と接する面）の面積（以下、樹脂層における「表面面積」ともいう。）よりも薄板ガラス基板２２の第１主面の面積の方が大きい。後述する隙間部２５が形成されている分、樹脂層２８の表面面積は薄板ガラス基板２２の第一主面の面積よりも小さい。そして、薄板ガラス基板２２の第１主面における樹脂層２８と接していない部分αと、それに対向する支持ガラス基板２９の一部分βとが、本発明の支持体付きパネル２０の端面（γ１、γ２）と繋がる隙間部２５を形成している。
このような隙間部２５が形成されていると、後述する本発明のパネル製造方法における浸漬工程および／または剥離工程において、薄板ガラス基板と樹脂層とをより容易に剥離できるので好ましい。
【００４２】
また、隙間部２５の深さが１ｍｍ以上であることが好ましく、３ｍｍ以上であることがより好ましく、５ｍｍ以上であることがさらに好ましい。また、１５ｍｍ以下であることが好ましく、１０ｍｍ以下であることがより好ましい。後述する本発明のパネル製造方法における浸漬工程および／または剥離工程において、薄板ガラス基板と樹脂層とをより容易に剥離できるからである。
なお、「隙間部の深さ」とは薄板ガラス基板の端面（γ２）から、当該端面の垂直方向に、樹脂層の端面までの長さを意味する。図２、図３に示す場合であれば、αで示す部分の長さを意味する。なお、後述する図５に示す態様のように、薄板ガラス基板の端面から樹脂層の端面までのその端面に垂直方向の長さが、起点となる薄板ガラス基板の端面の箇所によって異なる場合、最大の長さを「隙間部の深さ」とする。
【００４３】
また、隙間部２５の位置は、図２に示すような矩形の薄板ガラス基板２２の一辺の中心部分であってよく、図４に示すような矩形の薄板ガラス基板２２の一辺の全てであってよい。また、図５に示すような矩形の薄板ガラス基板２２が有する角のうちの１つを欠くように形成されたものであってもよい。なお、図４、図５は、各々、本発明の支持体付きパネルのさらに別の態様を示す概略正面図である。
【００４４】
また、本発明の支持体付きパネルは図６に概略断面図を示すように、表示装置用部材３４の両主面を、薄板ガラス基板（３２ａ、３２ｂ）と樹脂層（３８ａ、３８ｂ）と支持ガラス基板（３９ａ、３９ｂ）との積層体で挟み込む態様であってもよい。このような態様であっても、本発明のパネル製造方法で処理できる本発明の支持体付きパネルである。
【００４５】
次に、本発明の支持体付きパネルの製造方法を説明する。
薄板ガラス基板および支持ガラス基板の製造方法は特に限定されない。例えば従来公知の方法で製造することができる。例えば従来公知のガラス原料を溶解し溶融ガラスとした後、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等によって板状に成形して得ることができる。
【００４６】
このようにして製造した支持ガラス基板の表面（第１主面）に樹脂層を形成する方法も特に限定されない。
例えばフィルムを支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的にはフィルムの表面に高い接着力を付与するために表面改質の処理を行いし、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。表面改質の処理方法としては、シランカップリング剤のような化学的に密着力を向上させる化学的方法や、フレーム（火炎）処理のように表面活性基を増加させる物理的方法、サンドブラスト処理のように表面の粗度を増加させることにより引っかかりを増加させる機械的方法などが例示される。
【００４７】
また、例えば公知の方法によって樹脂層となる樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする方法が挙げられる。公知の方法としてはスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法が挙げられる。このような方法の中から、樹脂組成物に種類に応じて適宜選択することができる。
例えば、無溶剤型の剥離紙用シリコーンを樹脂組成物として用いた場合、ダイコート法、スピンコート法またはスクリーン印刷法が好ましい。
【００４８】
なお、図２〜５を用いて説明したような隙間部を有する本発明の支持体付きパネルを製造する場合、隙間部を形成する箇所に予めマスキングしておき、その上で樹脂組成物をコートすることが好ましい。マスキングとは樹脂組成物をコートする際にあらかじめ隙間部を形成する箇所に再剥離可能なフィルム等を貼っておき樹脂組成物がその箇所にコートされないようにしておき、後にそのフィルムを剥離するという方法である。
【００４９】
また、樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする場合、その塗工量は１〜１００ｇ／ｍ２であることが好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
【００５０】
また、他の方法としては、例えば付加反応型シリコーンから樹脂層を形成する場合、直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーン（主剤）、架橋剤および触媒を含む樹脂組成物を、上記のスプレーコート法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、主剤および架橋剤の合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で反応させる。また、この場合の反応時間は５〜６０分間、好ましくは１０〜３０分間とする。低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることが好ましいが、このような反応温度および反応時間であると、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができるので好ましい。上記した反応時間よりも長すぎる場合や反応温度が高すぎる場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり低分子量のシリコーン成分が生成するため、シリコーン移行性が高くなる可能性がある。シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。
【００５１】
このような方法で支持ガラス基板の第１主面上に樹脂層を形成した後、樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層する。
剥離紙用シリコーンを用いて樹脂層を製造した場合、支持ガラス基板上に塗工した剥離紙用シリコーンを加熱硬化してシリコーン樹脂層を形成した後、支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる。剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラスと化学的に結合する。また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラスと結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に強固に固定される。
【００５２】
薄板ガラス基板と樹脂層とは、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって樹脂層と密着する。この場合、支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを積層させた状態に保持することができる。また、この場合、支持ガラス基板と分離した後の薄板ガラス基板の表面に、樹脂層中の成分が移行することが防止される。
【００５３】
支持ガラス基板に固定された樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる方法は特に限定されない。例えば公知の方法を用いて実施することができる。例えば、常圧環境下で樹脂層の表面に薄板ガラス基板を重ねた後、ロールやプレスを用いて樹脂層と薄板ガラス基板とを圧着させる方法が挙げられる。ロールやプレスで圧着することにより樹脂層と薄板ガラス基板とがより密着するので好ましい。また、ロールまたはプレスによる圧着により、樹脂層と薄板ガラス基板との間に混入している気泡が容易に除去されるので好ましい。真空ラミネート法や真空プレス法により圧着すると気泡の混入の抑制や良好な密着の確保がより好ましく行われるのでより好ましい。真空下で圧着することにより、微少な気泡が残存した場合でも加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥につながりにくいという利点もある。
【００５４】
支持ガラス基板の樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが好ましい。異物は存在しても樹脂層が変形することにより薄板ガラス基板の表面の平坦性に影響を与えることはないが、クリーン度が高いほどその平坦性は良好となり好ましいからである。
【００５５】
このようにして薄板ガラス基板と樹脂層と支持ガラス基板とが積層したガラス積層体（以下、「薄板ガラス積層体」ともいう。）を得た後、この薄板ガラス積層体における薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する。
表示装置用部材を形成するに当たり、必要に応じて薄板ガラス基板の第２主面を研磨することによりその平坦度を向上させることも好ましい。
表示装置用部材は特に限定されない。例えばＬＣＤが有するアレイやカラーフィルタが挙げられる。また、例えばＯＬＥＤが有する透明電極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層が挙げられる。
【００５６】
このような表示装置部材を形成する方法も特に限定されず、従来公知の方法と同様であってよい。
例えば表示装置としてＬＣＤを製造する場合、従来公知のガラス基板上にアレイを形成する工程、カラーフィルタを形成する工程、アレイが形成されたガラス基板とカラーフィルタが形成されたガラス基板とを貼り合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程）等の各種工程と同様であってよい。より具体的には、これらの工程で実施される処理として、例えば純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングおよびレジスト除去が挙げられる。さらに、アレイ側基板・カラーフィルタ側基板の貼り合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程および該処理の実施後に行われる注入口の封止工程があり、これらの工程で実施される処理が挙げられる。
【００５７】
また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板の第１主面上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。
【００５８】
このようにして本発明の支持体付きパネルを製造することができる。
【００５９】
次に、本発明のパネル製造方法について説明する。
本発明のパネル製造方法は、上記のような方法で本発明の支持体付きパネルを製造し、その後、浸漬工程にて本発明の支持体付きパネルを有機溶媒に浸漬する。
浸漬することで、薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを分離する。または薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱め、この工程の後に行われる剥離工程において容易に剥離ができるようにする。
【００６０】
本発明の支持体つきパネルを有機溶媒に浸漬する浸漬工程について説明する。
本発明の支持体付きパネルを有機溶媒に浸漬する方法は特に限定されない。例えば有機溶媒が注ぎ込まれた浴槽に、最低限薄板ガラス基板と樹脂層との界面が漬かる深さまで浸漬する方法が挙げられる。そうすると、もともと易剥離性を有する樹脂層と薄板ガラス基板との界面は、上記のように相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によってのみ固定されていると考えられるため、当該界面に薄板ガラス基板と樹脂層との界面の端部から有機溶媒が毛細管現象により浸透し、ファンデルワールス力を切断すると考えられる。そして、薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを分離することができる。または薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱め、この工程の後に行われる剥離工程において容易に剥離ができるようにすることができる。
【００６１】
また、有機溶媒中に浸漬した本発明の支持体付きパネルへ超音波振動を与えることが好ましい。薄板ガラス基板と樹脂層との分離が促進されるからである。これは薄板ガラス基板と樹脂層との間への有機溶媒の浸透が促進されるためと考えられる。
超音波の周波数は特に制限はないが、２０〜１２０ｋＨｚであることが好ましく、３０〜１００ｋＨｚであることがより好ましく、４０〜８０ｋＨｚであることがさらに好ましい。このような周波数で超音波を付与できる装置が入手のし易いからである。
図７に浸漬工程の概要を模式的に示す。図７は有機溶媒４０が注ぎ込まれた浴槽４２に、図６で示した態様の本発明の支持体付きパネル３０が浸漬されていることを示す概略断面図である。浴槽４２の底部には、超音波振動を発生させる超音波発生装置４１が設置されている。
【００６２】
なお、本発明の支持体付きパネルを有機溶媒に浸漬する際には、表示装置用部材における有機溶媒と接触しない方が好ましい部材は、適宜、シーリングやマスキング処理することが好ましい。例えば表示装置用部材が液晶注入孔を有すると、表示装置側に液体が進入する可能性があるので、適宜シーリングやマスキング処理を施しておくことが好ましい。
【００６３】
有機溶媒は特に限定されないが、樹脂層を形成する物質と溶解度パラメータが近いものが好ましい。溶解度パラメータの差が３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１．５以下であることがさらに好ましい。例えば樹脂層がシリコーン樹脂層である場合、溶解度パラメータが１０以下の有機溶媒であることが好ましい。
有機溶媒と樹脂層の種類との好ましい組合せを、第１表に示す。
【００６４】
【表１】
2009186916.tif 000003
【００６５】
樹脂層がシリコーン樹脂層である場合、キシレン、酢酸ブチルまたはｎ-オクタンがシリコーン樹脂層をよく膨潤させることができ、界面への浸透が速やかに進行し、かつ沸点が１００℃以上あって有機溶媒の揮散量が抑制できるので好ましい。
【００６６】
本発明のパネル製造方法はこのような浸漬工程を具備するが、浸漬工程の後に、さらに剥離工程を具備することが好ましい。
【００６７】
剥離工程について説明する。
剥離工程は、前記浸漬工程の後に、本発明の支持体付きパネルの前記端面へ、流体を吹き付けて前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを剥離する工程である。
上記のように前記浸漬工程によって薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを分離するが、処理条件や樹脂材料の種類等によっては、分離に時間がかかる場合がある。そのような場合、浸漬工程では薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱めるだけとし、薄板ガラス基板と樹脂層とが分離する前に有機溶媒中から本発明の支持体付きパネルを取り出し、その後の剥離工程において薄板ガラス基板と樹脂層とを剥離する方が、処理効率が向上するので好ましい。
【００６８】
具体的な剥離方法としては、前記浸漬工程の後に、本発明の支持体付きパネルの前記端面へ流体を吹き付けて、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを剥離する方法が好ましい。
ここで流体とは、主として気体および／または液体であって、薄板ガラス基板の端面に吹き付けることで当該端面にキズをつけることがないものを意味する。つまり、粉体を含んでいてもよいが、薄板ガラス基板の端面にキズをつけてしまうような粉体は含まない。流体は水および／または空気であることが好ましく、水および空気の混合物であることがより好ましく、水と空気との混合比が体積比で１：１０〜１０：１であることがさらに好ましい。より効率的に剥離することができるからである。
このほか有機溶媒への浸漬で密着力が低下している本発明の支持体付きパネルの前記端面へ、かみそり等を挿入して物理的に剥離させることもできる。
【００６９】
本発明の支持体付きパネルの前記端面へ流体を吹き付けると、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層との界面に前記流体が入り込み、同時に前記端面に残存する前記有機溶媒も前記界面に入り込むので、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とを剥離することができるので好ましい。
特に本発明の支持体付きパネルが前記隙間部を有する態様である場合、前記流体を前記隙間部と繋がる前記端面に吹き付けることで、前記流体が前記隙間部に入り込み、そこから前記界面に入り込み易くなるので、より剥離が容易となるので好ましい。
【００７０】
前記樹脂層としてシリコーン樹脂層を用いた場合、剥離した前記支持ガラス基板および前記シリコーン樹脂層からなる支持体を、再利用することができる。このような剥離後の支持体におけるシリコーン樹脂が低シリコーン移行性を有する場合、このシリコーン樹脂層は高い残留接着率を有している傾向がある。よって、再利用を問題なく行うことができる。
【００７１】
このように本発明のパネル製造方法では、本発明の支持体付きパネルを前記浸漬工程に供することで前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離して、表示装置用パネルを得ることができる。または、前記浸漬工程の後、さらに前記剥離工程に供することで表示装置用パネルを得ることができる。または、前記浸漬工程もしくは前記剥離工程に供した後、さらに所望の工程に供することで、表示装置用パネルを得ることができる。所望の工程とは、例えばＬＣＤの場合であれば、所望の大きさのセルに分断する工程、液晶を注入しその後注入口を封止する工程、偏光板を貼付する工程、モジュール形成工程が挙げられる。また、例えばＯＬＥＤの場合であれば、これらの工程に加えて、有機ＥＬ構造体が形成された薄板ガラス基板と対向基板とを組み立てる工程が挙げられる。なお、所望の大きさのセルに分断する工程は、切断処理によって薄板ガラス基板の強度が低下せず、またカレットも出ないことからレーザカッタによる切断が好ましい。
【００７２】
本発明のパネル製造方法の具体例をフローチャートを用いて説明する。
図８は、本発明のパネル製造方法の具体例を示すフローチャートである。
【００７３】
初めに、本発明のパネル製造方法における本発明の支持体付きパネルの製造方法を説明する。
まず、薄板ガラス基板および支持ガラス基板を用意し、これらの表面を洗浄する。洗浄としては、例えば純水洗浄、ＵＶ洗浄が挙げられる。
次に、支持ガラス基板の第１主面上に樹脂層を形成する。例えば、支持ガラス基板の第１主面上にスクリーン印刷機を用いてシリコーン樹脂を塗工する。そして、加熱硬化して、支持ガラス基板の第１主面上に樹脂層を形成し、樹脂層が固定された支持ガラス基板を得る。
次に、樹脂層と薄板ガラスの第１主面とを付けて貼り合せる。例えば、樹脂層と薄板ガラス基板とを室温下真空プレスして貼り合わせることができる。そして支持ガラス基板と樹脂層と薄板ガラス基板との積層体である薄板ガラス積層体を得ることができる。
次に、必要に応じて、薄板ガラス積層体における薄板ガラス基板の第２主面を研磨してもよく、洗浄してもよい。洗浄としては例えば純水洗浄、ＵＶ洗浄が挙げられる。
このような方法で薄板ガラス積層体を２個製造した後、各々の薄板ガラス積層体における薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を形成する。１個の薄板ガラス積層体は、公知のカラーフィルタ形成工程に供することで、その薄板ガラスガラス基板の第２主面にカラーフィルタアレイを形成する。そして、もう１個の薄板ガラス積層体は、公知のアレイ形成工程に供することで、その薄板ガラスガラス基板の第２主面にＴＦＴアレイを形成する。
このような方法によって、本発明の支持体付きパネルを２個製造することができる。
なお、以下では、ここで得られたカラーフィルターアレイを有する本発明の支持体付きパネルを「支持体付きパネルｘ」、ＴＦＴアレイを有する本発明の支持体付きパネルを「支持体付きパネルｙ」ともいう。
【００７４】
本発明のパネル製造方法では、このようにして製造した支持体付きパネルｘおよび支持体付きパネルｙを、例えば次に示すケース１〜ケース４の方法でさらに処理して、表示装置用パネルを製造する。
【００７５】
（ケース１）
ケース１では、上記のようにして支持体付きパネルｘおよび支持体付きパネルｙの各々におけるカラーフィルタアレイとＴＦＴアレイとを対向させ、セル形成用紫外線硬化型シール剤等のシール剤を用いて貼り合わせる。ここで得られた本発明の支持体付きパネルを、以下では「支持体付きパネルｚ１」ともいう。支持体付きパネルｚ１は、未だ液晶を封入されていない状態のものである。
次に、支持体付きパネルｚ１の液晶注入孔をシールする。例えば紫外線硬化型水溶性シール剤等を用いて、その外側をさらにシールしてもよい。
そして、シールした後の支持体付きパネルｚ１を浸漬工程に供する。具体的には有機溶剤を蓄えた浴槽中に支持体付きパネルｚ１を浸漬する。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱め、支持体付きパネルｚ１が有する２つの支持体を分離する。ここで分離が完了する前に有機溶媒中から取り出し、さらに剥離工程に供することで、２つの支持体を剥離してもよい。ここで２つの支持体を分離して得られたパネルを、以下では「パネルｗ１」ともいう。分離した２つの支持体は別の支持体付パネルの製造に再利用する。
次に、パネルｗ１を個別セルに切断する。
次に、切断した個別セルに液晶を注入し、その後封止して液晶セルを形成する。
そして、さらに偏光板を付け、バックライトその他を形成して、ＬＣＤ１を得ることができる。
【００７６】
（ケース２）
ケース２では、上記のようにして支持体付きパネルｘおよび支持体付きパネルｙの各々におけるカラーフィルタアレイとＴＦＴアレイとを対向させ、液晶を封入し、その後、セル形成用紫外線硬化型シール剤等のシール剤を用いて貼り合わせる。ここで得られた本発明の支持体付きパネルを、以下では「支持体付きパネルｚ２」ともいう。
次に、支持体付きパネルｚ２を浸漬工程に供する。具体的には有機溶剤を蓄えた浴槽中に支持体付きパネルｚ２を浸漬する。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱め、支持体付きパネルｚ２が有する２つの支持体を分離する。ここで分離が完了する前に有機溶媒中から取り出し、さらに剥離工程に供することで、２つの支持体を剥離してもよい。ここで２つの支持体を分離して得られたパネルを、以下では「パネルｗ２」ともいう。分離した２つの支持体は別の支持体付パネルの製造に再利用する。
次に、パネルｗ２を個別セルに切断する。
そして、さらに偏光板を付け、バックライトその他を形成して、ＬＣＤ２を得ることができる。
【００７７】
（ケース３）
ケース３では、上記のようにして支持体付きパネルｘおよび支持体付きパネルｙの各々におけるカラーフィルタアレイとＴＦＴアレイとを対向させ、液晶を封入し、その後、セル形成用紫外線硬化型シール剤等のシール剤を用いて貼り合わせる。そして、支持体とともに個別セルに切断する。ここで切断して得られた本発明の支持体付きパネルを、以下では「支持体付きパネルｚ３」ともいう。
次に、支持体付きパネルｚ３を浸漬工程に供する。具体的には有機溶剤を蓄えた浴槽中に支持体付きパネルｚ３を浸漬する。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱め、支持体付きパネルｚ３が有する２つの支持体を分離する。ここで分離が完了する前に有機溶媒中から取り出し、さらに剥離工程に供することで、２つの支持体を剥離してもよい。ここで２つの支持体を分離して得られたパネルを、以下では「パネルｗ３」ともいう。
そして、さらに偏光板を付け、バックライトその他を形成して、ＬＣＤ３を得ることができる。
【００７８】
（ケース４）
ケース４では、上記のようにして支持体付きパネルｘおよび支持体付きパネルｙの各々におけるカラーフィルタアレイとＴＦＴアレイとを対向させ、セル形成用紫外線硬化型シール剤等のシール剤を用いて貼り合わせる。そして、支持体とともに個別セルに切断する。ここで切断して得られた本発明の支持体付きパネルを、以下では「支持体付きパネルｚ４」ともいう。支持体付きパネルｚ４は、未だ液晶を封入されていない状態のものである。
次に、支持体付きパネルｚ４の液晶注入孔をシールする。例えば紫外線硬化型水溶性シール剤等を用いて、その外側をさらにシールしてもよい。
そして、シールした後の支持体付きパネルｚ４を浸漬工程に供する。具体的には有機溶剤を蓄えた浴槽中に支持体付きパネルｚ４を浸漬する。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との密着力を弱め、支持体付きパネルｚ４が有する２つの支持体を分離する。ここで分離が完了する前に有機溶媒中から取り出し、さらに剥離工程に供することで、２つの支持体を剥離してもよい。ここで２つの支持体を分離して得られたパネルを、以下では「パネルｗ４」ともいう。
次に、パネルｗ４にのセルに液晶を注入し、その後封止する。
そして、さらに偏光板を付け、バックライトその他を形成して、ＬＣＤ４を得ることができる。
【００７９】
本発明のパネル製造方法は、例えば図８のフローチャートで示すケース１〜ケース４の製造方法である。
【００８０】
本発明のパネル製造方法が具備する前記浸漬工程またはさらに前記剥離工程によれば、薄板ガラス基板が大きい場合、例えば７３０×９２０ｍｍであっても、前記薄板ガラス基板を容易に剥離することができる。
【００８１】
次に、本発明の表示装置の製造方法について説明する。
本発明の表示装置の製造方法は、本発明のパネル製造方法を含む製造方法である。
本発明のパネル製造方法によって表示装置用パネルを得た後、さらに従来公知の工程に供することで、表示装置を得ることができる。
【００８２】
本発明の表示装置の製造方法は、携帯電話やＰＤＡのようなモバイル端末に使用される小型の表示装置の製造に好適である。表示装置は主としてＬＣＤまたはＯＬＥＤであり、ＬＣＤとしては、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型、ＩＰＳ型、ＶＡ型等を含む。基本的に、本発明はパッシブ駆動型、アクティブ駆動型のいずれの表示装置の場合でも適用することができる。
【実施例】
【００８３】
（実施例１）
初めに、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。
次に、支持ガラス基板上に、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン（信越シリコーン社製、ＫＮＳ−３２０Ａ、粘度：０．４０Ｐａ・ｓ、溶解パラメータ（ＳＰ値）＝７．３）１００質量部と白金系触媒（信越シリコーン社製、ＣＡＴ−ＰＬ−５６）２質量部との混合物を、縦７０５ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさでスクリーン印刷機にて塗工した（塗工量３０ｇ／ｍ２）。
次に、これを１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して、支持ガラス基板の表面に厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を得た。
【００８４】
次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の薄板ガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）のシリコーン樹脂層と接触させる側の面を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した後、シリコーン樹脂層と薄板ガラス基板とを室温下真空プレスにて貼り合わせ、薄板ガラス積層体（薄板ガラス積層体Ａ１）を得た。
なお、樹脂層の形成および薄板ガラス基板の積層は、薄板ガラス積層体の端部に深さ１５ｍｍの隙間部が形成されるように行った。
得られた薄板ガラス積層体Ａ１において両ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、ゆがみ状欠点もなく平滑性も良好であった。
【００８５】
次に、上記のようにして得た薄板ガラス積層体Ａ１とは別に、さらに薄板ガラス基板Ａ１を大気中で３００℃で１時間加熱処理して薄板ガラス積層体Ａ２を得た。薄板ガラス積層体Ａ２の樹脂層の熱による劣化はなく、耐熱性が良好であることが確認できた。
【００８６】
次に、形成した薄板ガラス積層体Ａ１およびＡ２の剥離性を下記のとおり評価した。
＜剥離試験１＞
初めに、超音波振動板を底部にセットした１ｍ角で深さ１００ｍｍのバットにキシレン（溶解パラメータ値（ＳＰ値）＝８．８）を深さ５０ｍｍになるように蓄え、この中に薄板ガラス積層体Ａ１を１０枚浸漬した。浸漬は１枚ずつ行った。浸漬直後から薄板ガラス積層体Ａ１の端部より、薄板ガラス基板と樹脂層との境界へ溶剤が浸透している様子が確認できた。
次に、４０ｋＨｚの超音波を３０秒間加振した。そして取り出し、薄板ガラス積層体Ａ１における薄板ガラス基板および支持ガラス基板の各々を、上下から吸引パッドで支持しながら隙間部を有する端部に圧縮空気を吹き付けたところ、薄板ガラス基板が剥離できた。この操作を２０分以内に１０回繰り返し、１０枚とも問題なく剥離することができた。
また、同様の試験を薄板ガラス積層体Ａ２についても行ったところ、Ａ１の場合と同様の結果を得た。
【００８７】
＜剥離試験２＞
超音波を加振しないこと以外は、剥離試験１と同様の手順で薄板ガラス積層体Ａ１を１０枚連続で剥離試験を実施した。その結果１０枚とも問題なく剥離することができたが、１０枚を剥離するのに３５分を要した。
【００８８】
＜剥離試験３＞
用いる溶剤をイソプロピルアルコール（ＳＰ値＝１１．５）に変えたこと以外は、剥離試験１と同様の手順で薄板ガラス積層体Ａ１を１０枚連続で剥離試験を実施した。その結果１０枚とも問題なく剥離することができたが、１０枚を剥離するのに６０分を要した。
【００８９】
＜比較剥離試験１＞
薄板ガラス積層体Ａ１を１０枚用意した。そしてそのうちの１枚を支持ガラス基板が上側になるように設置し、薄板ガラス基板側を定盤上で真空吸着した。この状態で薄板ガラス積層体Ａ１の端部のシリコーン樹脂層と薄板ガラス基板との界面に鋭利な剃刀を挿入して、両界面の端部をこじ開け、徐々に端部から剥離した。この操作を１０回繰り返すのに１時間を要し、１０枚のうち２枚において薄板ガラス基板の端部が損傷した。
【００９０】
（実施例２）
縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．６ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）を純水洗浄、ＵＶ洗浄で清浄化した後、前記支持ガラス基板上に、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン（荒川化学工業株式会社製、商品名「８５００」）、分子内にハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン（荒川化学工業株式会社製、商品名「１２０３１」）と白金系触媒（荒川化学工業株式会社製、商品名「ＣＡＴ１２０７０」）との混合物を、縦７０５ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさで、スクリーン印刷機にて塗工し（塗工量２０ｇ／ｍ２）、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して膜厚２０μｍのシリコーン樹脂層を得た。
ここで、ハイドロシリル基とビニル基とのモル比が１／１となるように、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの混合比を調整した。白金系触媒は、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの合計１００質量部に対して５質量部とした。
【００９１】
次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数５０×１０−７／℃の薄板ガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）のシリコーン樹脂層と接触させる側の面を純水洗浄、ＵＶ洗浄で清浄化した後、支持ガラス基板のシリコーン樹脂層形成面と薄板ガラス基板とを室温下で真空プレスにて貼り合わせ、薄板ガラス積層体（薄板ガラス積層体Ｂ）を得た。
なお、樹脂層の形成および薄板ガラス基板の積層は、薄板ガラス積層体の端部に深さ１５ｍｍの隙間部が形成されるように行った。
薄板ガラス積層体Ｂにおいて、ガラス基板はシリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、ゆがみ状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、形成した薄板ガラス積層体Ｂの剥離性を下記のとおり評価した。
【００９２】
＜剥離試験４＞
剥離試験１と同様の方法で、薄板ガラス積層体Ｂを１０枚連続で剥離試験を実施した。その結果１０枚とも問題なく剥離することができた。１０枚を剥離するのに２０分を要した。
【００９３】
＜比較剥離試験２＞
薄板ガラス積層体Ｂを１０枚用意し、支持ガラス基板が上側になるように設置し、薄板ガラス基板側を定盤上に真空吸着した。この状態で薄板ガラス積層体Ｂの端部のシリコーン樹脂層と薄板ガラス基板の界面に鋭利な剃刀を挿入し、両界面の端部を外力により分離させ、徐々に端部から剥離した。この操作を１０回繰り返すのに２時間を要し、１０枚のうち２枚においてガラス基板の端部が損傷した。
【００９４】
（例−１）
実施例２で得た薄板ガラス積層体Ｂを用いてＬＣＤを製造する。
２枚の薄板ガラス積層体Ｂを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。アレイが形成された薄板ガラス積層体Ｂと、カラーフィルタが形成された薄板ガラス積層体Ｂとをセル形成用紫外線硬化型シール剤を用いて貼り合わせ支持体付きパネルＣを得る。ここで、液晶注入孔をシールし、さらにその外側に紫外線硬化型水溶性シール剤を用いてシールする。
そして、超音波振動板を底部にセットした１ｍ角で深さ１００ｍｍのバットにキシレン（ＳＰ値＝８．８）を深さ５０ｍｍになるように蓄えた中に支持体付きパネルＣを浸漬する。続いて４０ｋＨｚの超音波で３０秒間加振した後に取り出し、支持体付きパネルＣの上下のガラスをそれぞれ吸引パッドで支持しながら、支持体付きパネルＣの隙間部と繋がる端面に空気を吹き付ける。すると、２枚の支持ガラス基板および樹脂層を薄板ガラス基板から剥離し、表示装置用パネルＣを得ることができる。
【００９５】
続いて、パネルＣを熱水に浸漬して水溶性シール剤を除去した後切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入孔の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。この結果、対向する二つの基板のそれぞれの外表面の間の総厚が約０．２ｍｍの液晶表示装置を得ることができる。
【００９６】
（例−２）
実施例１で得た薄板ガラス積層体Ａ１を用いてＬＣＤを製造する。
２枚の薄板ガラス積層体Ａ１を準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。アレイが形成された薄板ガラス積層体Ａ１と、カラーフィルタが形成された薄板ガラス積層体Ａ１とをセル形成用紫外線硬化型シール剤を用いて貼り合わせ支持体付きパネルＤを得る。ここで、液晶注入孔をシールし、さらにその外側に紫外線硬化型水溶性シール剤を用いてシールする。
そして、超音波振動板を底部にセットした１ｍ角で深さ１００ｍｍのバットにキシレン（ＳＰ値＝８．８）を深さ５０ｍｍになるように蓄えた中に支持体付きパネルＤを浸漬する。続いて４０ｋＨｚの超音波を加振した後に取り出し、支持体付きパネルＤの上下のガラスをそれぞれ吸引パッドで支持しながら、支持体付きパネルＤの隙間部と繋がる端面に空気を吹き付ける。すると、２枚の支持ガラス基板および樹脂層を薄板ガラス基板から剥離し、パネルＤを得ることができる。
【００９７】
続いて、パネルＤを熱水に浸漬して水溶性シール剤を除去した後、ケミカルエッチング処理して薄板ガラス基板の厚みを０．１５ｍｍとする。ケミカルエッチング処理後のガラス基板表面には光学的に問題となるようなエッジピットの発生はみられない。
そして、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入孔の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。この結果、対向する二つの基板のそれぞれの外表面の間の総厚が約０．３ｍｍの液晶表示装置を得ることができる。
【００９８】
（例−３）
実施例２で得た薄板ガラス積層体Ｂと、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板とを用いてＬＣＤを製造する。
薄板ガラス積層体Ｂを準備して、カラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス積層体Ｂの薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。一方、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子製ＡＮ−１００）はアレイ形成工程に供して、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板の表面にアレイを形成する。
次に、カラーフィルタが形成された薄板ガラス積層体Ｂと、アレイが形成された無アルカリガラス基板とをセル形成用紫外線硬化型シール剤を用いて貼り合わせ、支持体付きパネルＥを得る。ここで、液晶注入孔をシールし、さらにその外側に紫外線硬化型水溶性シール剤を用いてシールする。
【００９９】
そして、超音波振動板を底部にセットした１ｍ角で深さ１００ｍｍのバットにキシレン（ＳＰ値＝８．８）を深さ５０ｍｍになるように蓄えた中に支持体付きパネルＥを浸漬する。続いて４０ｋＨｚの超音波で加振した後に取り出し、支持体付きパネルＥの上下のガラスをそれぞれ吸引パッドで支持しながら、支持体付きパネルＥの隙間部と繋がる端面に圧縮空気を吹き付ける。すると、薄板ガラス積層体Ｂにおける支持ガラス基板を剥離することができる。ここで得られる積層体を薄板ガラス基板−無アルカリガラス基板貼合体Ｅという。
【０１００】
続いて、薄板ガラス基板−無アルカリガラス基板貼合体Ｅを縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルにレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて分断する。その後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。この結果、対向する二つの基板のそれぞれの外表面の間の総厚が約０．８ｍｍの液晶表示装置を得ることができる。
【０１０１】
（例−４）
実施例２で得た薄板ガラス積層体Ｂを用いてＯＬＥＤを製造する。
透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程を実施して、薄板ガラス積層体Ｂの薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成し、支持体付きパネルＦを得る。
そして、超音波振動板を底部にセットした１ｍ角で深さ１００ｍｍのバットにキシレン（ＳＰ値＝８．８）を深さ５０ｍｍになるようにはった中に支持体付きパネルＦを浸漬する。続いて４０ｋＨｚの超音波を加振した後に取り出し、支持体付きパネルＦの上下のガラスをそれぞれ吸引パッドで支持しながら、支持体付きパネルＦの隙間部と繋がる端面に圧縮空気を吹き付ける。すると、１枚のシリコーン樹脂が形成された支持ガラス基板をＯＬＥＤから剥離することができる。
分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、薄板ガラス基板をレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの２８８個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成されたガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは特性上問題は生じない。
上記の例では、表示のパネル単位に分断した後に、ガラス基板を切断したが、複数のパネル同士が繋がった構造を単位として処理することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の支持体付きパネルの一態様を示す概略断面図である。
【図２】本発明の支持体付きパネルの別の一態様を示す概略正面図である。
【図３】本発明の支持体付きパネルの別の一態様を示す概略断面図である。
【図４】本発明の支持体付きパネルの別の一態様を示す概略正面図である。
【図５】本発明の支持体付きパネルの別の一態様を示す概略正面図である。
【図６】本発明の支持体付きパネルの別の一態様を示す概略断面図である。
【図７】本発明のパネル製造方法における浸漬工程を説明するための概略断得面図である。
【図８】本発明のパネル製造方法の具体例を説明するための図（フローチャート）である。
【符号の説明】
【０１０３】
１０、２０、３０  本発明の支持体付きパネル
１２、２２、３２  薄板ガラス基板
１４、２４、３４  表示装置用部材
１６、２６  表示装置用パネル
１８、２８、３８  樹脂層
１９、２９、３９  支持ガラス基板
２５  隙間部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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