(57)【要約】【課題】パネルの放電効率、発光効率、信頼性を向上させるプラズマディスプレイの製造方法を提供する。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイの製造方法では、アライメント工程を乾燥ガス雰囲気で行い、搬送工程から封着工程まで、前面基板又は背面基板に設けられた孔を通じて前記空間に連続的に乾燥ガスを導入する。この方法によれば、比較的小型・単純な設備構成で、前面基板保護膜形成後、保護膜表面が晒される雰囲気を、ドライ雰囲気に保持したまま封着までを行うことができるため、前面基板保護膜が不純ガスを吸着せず、放電効率、発光効率および信頼性の高いプラズマディスプレイを製造することができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面基板と背面基板をアライメントするアライメント工程と、前記前面基板と背面基板を重ね合わせた状態で搬送する搬送工程と、前記前面基板と背面基板の間に設けられた封着材を加熱して前記前面基板と前記背面基板の間の空間を封止する封着工程とを備えたプラズマディスプレイの製造方法であって、
前記アライメント工程を乾燥ガス雰囲気で行い、
前記搬送工程から前記封着工程まで、前記前面基板又は前記背面基板に設けられた孔を通じて前記空間に連続的に乾燥ガスを導入することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記乾燥ガス中の水分含有量が１１ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記乾燥ガス中の二酸化炭素含有量が５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項２のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記空間に連続的に乾燥ガスを供給するとき、
第１の乾燥ガス供給部から前記前面基板又は背面基板に設けられた第１の孔と第２の孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
次に、前記第２の孔を開放した状態で、前記第１の乾燥ガス供給部から前記第１の孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
次に、前記第１の乾燥ガス供給部から前記第１の孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給しつつ第２の乾燥ガス供給部から前記第２の孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
次に、前記第１の孔を開放した状態で、前記第２の乾燥ガス供給部から前記第２の孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
次に、前記第２の乾燥ガス供給部から前記第１と第２の孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給することを特徴とする請求項１のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記空間に連続的に乾燥ガスを供給するとき、
前記孔の周囲にチャンバを形成するハウジングと上記ハウジングの一部に設けられて外部からの力によって前記チャンバが強制的に開放される蓋部とを備えたコネクタを前記前面基板又は背面基板に取り付けて前記孔の周囲に前記チャンバを配置し、
第１の乾燥ガス供給部から前記チャンバ及び前記孔を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
前記蓋を強制的に開放して第２の乾燥ガス供給部の乾燥ガス供給管を前記チャンバに貫通して前記孔に接続し、前記第２の乾燥ガス供給部から前記空間に乾燥ガスを供給し、
前記第２の乾燥ガス供給部から前記空間に乾燥ガスを供給している間に前記コネクタを取り除くことを特徴とする請求項１のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記空間に連続的に乾燥ガスを供給するとき、
一つの乾燥ガス出口と２つの乾燥ガス入口を備えた乾燥ガス供給管を用意し、
前記乾燥ガス供給管の前記乾燥ガス出口を前記孔に接続し、
第１の乾燥ガス供給部から前記２つの乾燥ガス入口の一方を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
次に、第１の乾燥ガス供給部から前記２つの乾燥ガス入口の一方を通じて前記空間に乾燥ガスを供給しつつ、第２の乾燥ガス供給部から前記２つの乾燥ガス入口の他方を通じて前記空間に乾燥ガスを供給し、
次に、第１の乾燥ガス供給部からの乾燥ガスの供給を停止することを特徴とする請求項１のプラズマディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイの製造プロセスは、ディスプレイパネルを構成する前面基板と背面基板をアライメント（整列）するアライメント工程、アライメントされたパネルを搬送する搬送工程、前面基板と背面基板の間に配置された封着材を加熱溶融して両基板の間に密封空間を形成する封着工程を有する。ところが、これらの工程を大気中で行うと、大気中の水分子を含む不純ガスが密封空間に入る。不純ガスが密封空間に入ると、水分子が誘電体膜や保護膜に吸着してそれらの膜を形成している材料と化学反応し、パネルの放電効率、発光効率、発光信頼性を低下する。特に、酸化マグネシウム、酸化カルシウムといった金属酸化物の保護膜が表面に形成された前面基板は、薄膜プロセスによって成膜された後に大気に晒される工程を通ると、その金属酸化物が大気中の不純ガス（特に、二酸化炭素）や水分を吸着して水酸化化合物や炭酸化合物を形成する。水酸化化合物や炭酸化合物は、金属酸化物に比べて２次電子放出効率が低いという性質を有する。そのため、水酸化化合物や炭酸化合物が形成されたパネルでは、放電開始電圧が上昇し、また、放電効率や発光効率が低下し、さらに、耐スパッタ特性が低下して発光信頼性が低下する。
【０００３】
このような問題を解消するため、従来、吸着した不純ガスを除去するために、封着中に、ガラス管を通してパネル内に乾燥ガスを導入する方法が特許文献１に開示されている。この方法では、前面基板と背面基板を重ね合わせた封着前のパネルについて、前面基板と背面基板の間には、外縁に沿って低融点ガラスの封着材が連続的に配置され、その内側に空間が形成される。背面基板には２つの孔が形成され、一方の孔に第１のガラス管が連結され、他方の孔に第２のガラス管が連結される。背面基板に当接したガラス管の端部は、封着材で封止される。このようにして用意されたパネルに対し、封着工程では、第１のガラス管に排気装置が接続され、第２のガラス管に乾燥ガス導入装置が接続され、加熱炉の中で加熱される。加熱温度は、封着材の軟化点以上である。これにより、封着材が軟化して、空間の周囲とガラス管の端部が封止される。封着材が軟化すると、排気装置により、第１のガラス管を通じて空間内の不純ガスが排気される。代わりに、乾燥ガス導入装置から供給される乾燥ガスが、第２のガラス管を通じて空間内に導入される。これにより、空間内のガス（不純ガスを含む空気）が清浄な乾燥ガスに置換される。
【０００４】
別の方法として、基板の加工工程から封着工程に至るまで、前面基板と背面基板及びそれらを重ね合わせたパネルを不活性雰囲気内に保持しながら運搬する方法が特許文献２に開示されている。この方法では、パネル密閉容器を用意し、このパネル密閉容器の内部を減圧不活性ガス雰囲気に置換し、その状態でパネルをパネル密閉容器と共に組立工程等に搬送する。
【特許文献１】特開2002-150938号公報
【特許文献２】特開2006-278148号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の技術では、酸化マグネシウムのように比較的不純ガスを吸着しにくい保護膜材料では不純物を除去することが可能であるものの、酸化カルシウムのように容易に不純ガスを吸着して水酸化化合物や炭酸化合物を形成する保護膜材料では封着中のみ乾燥ガスを導入しても不純物を十分に除去できず、放電効率、発光効率、信頼性の低下は避けられない。また、特許文献２の技術は、基板の加工工程から封着工程までの非常に長い工程間の雰囲気をすべて不活性ガスで維持する必要があり、設備の大型化や複雑化が避けられない。
【０００６】
そこで、本発明は、比較的小型で単純な設備構成をもって、パネルの放電効率、発光効率、信頼性を向上させるプラズマディスプレイの製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的を達成するため、本発明に係るプラズマディスプレイの製造方法では、前記アライメント工程を乾燥ガス雰囲気で行い、前記搬送工程から前記封着工程まで、前記前面基板又は前記背面基板に設けられた孔を通じて前記空間に連続的に乾燥ガスを導入する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のプラズマディスプレイ製造方法によれば、比較的小型・単純な設備構成で、前面基板保護膜形成後、保護膜表面が晒される雰囲気を、ドライ雰囲気に保持したまま、封着までを行うことができるため、前面基板保護膜が不純ガスを吸着せず、放電効率、発光効率および信頼性の高いプラズマディスプレイを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、添付図面参照して本発明に係るプラズマディスプレイの製造方法の複数の実施形態を説明する。
【００１０】
（実施の形態１）
図１は、プラズマディスプレイの製造プロセスの搬送工程におけるパネル１０を示す。搬送工程は、前面基板と背面基板を整列して重ね合わせるアライメント工程と、アライメントされた前面基板と背面基板の間に密封された放電空間を形成する封着工程の間に設けられる工程である。
【００１１】
アライメント工程において、パネル１０の前面基板１２と背面基板１４は重ね合わされ、図示しない固定具（例えば、クリップ）で固定される。アライメント工程の作業（整列、重ね合わせ）は乾燥ガス雰囲気内で行われ（図３の工程Ｓ１）、前面基板１２と背面基板１４の間には、それらの外周縁に沿って、パネル１０の放電領域及び放電空間１８を囲むように、封着材１６が連続的に配置される。封着材１６は低融点のガラスからなる。封着材１６は、後の封着工程で加熱軟化されて前面基板１２と背面基板１４の間を完全に封止するが、この段階では放電空間の周囲は完全に封止されていない。実施の形態では、図の上方に配置された背面基板１４に、内外を連通する２つの孔（第１の孔２０と第２の孔２２）が形成されている。孔２０，２２は前面基板１２に設けてもよいし、背面基板と前面基板にそれぞれ一つずつ設けてもよい。
【００１２】
孔２０，２２は、前面基板１２と背面基板１４の間に形成され、封着材１６で囲まれた領域にある放電空間１８に連通しており、以下に説明する構成によって第１の乾燥ガス供給装置２４に接続される。例えば、第１の孔２０には第１のガラス管２６の一端が連結され、第２の孔２２には第２のガラス管２８の一端が連結される（図３の工程Ｓ２）。孔２０，２２に連結されたガラス管２６，２８の端部の周囲には封着材３０が配置される。封着材３０は、後の封着工程で加熱軟化されてガラス管２６，２８の端部を完全に封止するが、この段階ではガラス管２６，２８の端部を完全に封止していない。ガラス管２６，２８の他端は、乾燥ガス供給管（乾燥ガス導入配管）３２，３４を介して、乾燥ガス供給部（第１の乾燥ガス供給源）３６に接続される。このとき、ガラス管２６，２８の他端と乾燥ガス供給管３２，３４の間は、適当な封止手段（例えばＯリングパッキン）で封止する。
【００１３】
このような構成により、アライメント工程から封着工程に搬送される搬送工程のパネル１０は、乾燥ガス供給部３６から乾燥ガス供給管３２，３４、ガラス管２６，２８を通じて、放電空間１８に乾燥ガスが供給される（図３の工程Ｓ３、Ｓ４）。乾燥ガス中の水分含有量は１１ｐｐｍ以下、二酸化炭素含有量は５００ｐｐｍ以下とすることが好ましい。供給された乾燥ガスは放電空間１８に充満し、放電空間１８の内部を正圧に保ち、不純ガスの侵入を阻止する。したがって、搬送工程を搬送されるパネル１０の放電空間１８は乾燥ガスによって乾燥雰囲気に維持される。
【００１４】
上述のように、この時点で封着材１６は基板の間の完全に封止していない。したがって、放電空間１８に供給された乾燥ガスの一部は、封着材１６と基板の僅かな隙間を通り、外部に流出する。例えば、乾燥ガスの供給量は、毎分５リットル程度に設定され、それにより、放電空間１８は外部より１ｋPa程度高い圧力に維持され、外部空気の侵入が防止される。
【００１５】
図２（ａ）〜図２（ｅ）は、搬送工程から封着工程に移動するパネル１０の放電空間１８に連続的に乾燥ガスを供給する手順を示す。具体的に、図２（ａ）は、パネル１０が搬送工程から封着工程に到着した直後の状態を示す。図示するように、封着工程の加熱炉３８に導入された直後の時点では、上述のように、第１の乾燥ガス供給部３６から乾燥ガスが供給されている。その後、以下に説明する手順により、放電空間１８への乾燥ガス供給源が、第１の乾燥ガス供給装置２４から封着工程に設けた第２の乾燥ガス供給装置４０に切り替えられる。
【００１６】
第２の乾燥ガス供給装置４０は、第１の乾燥ガス供給装置２４と同様に、第２の乾燥ガス供給部４２と、乾燥ガス供給管（乾燥ガス導入配管）４４，４６を有する。そして、乾燥ガス供給源の切替時、まず図２（ｂ）に示すように、一方のガラス管２６が第１の乾燥ガス供給装置２４から切り離される（図３の工程Ｓ５）。このとき、他方のガラス管２８は乾燥ガス供給管３４を介して第１の乾燥ガス供給部３６に接続されており、乾燥ガス供給部３６から供給された乾燥ガスによって放電空間１８の内部は乾燥ガス雰囲気に維持される。次に、図２（ｃ）に示すように、ガラス管２６は、第２の乾燥ガス供給装置４０の乾燥ガス供給管４４が接続され、第２の乾燥ガス供給部４２からガラス管２６を通じて放電空間１８に乾燥ガスが供給される（図３の工程Ｓ６）。したがって、この時点では、２つのガラス管２６，２８は第１と第２の乾燥ガス供給装置２４，４０に接続され、２つの乾燥ガス供給部３６，４２から乾燥ガスが供給される。次に、図２（ｄ）に示すように、他方のガラス管２８が第１の乾燥ガス供給装置２４から切り離される（図３の工程Ｓ７）。このとき、一方のガラス管２６は乾燥ガス供給管４４を介して第２の乾燥ガス供給部４２に接続されており、この乾燥ガス供給部４２から供給された乾燥ガスによって放電空間１８の内部は乾燥ガス雰囲気に維持される。次に、図２（ｅ）に示すように、ガラス管２８は、第２の乾燥ガス供給装置４０の乾燥ガス供給管４６が接続され、第２の乾燥ガス供給部４２からガラス管２６，２８を通じて放電空間１８に乾燥ガスが供給される（図３の工程Ｓ８）。その後、加熱炉３８の中で加熱されることにより、封着材１６，３０が軟化し、基板１２，１４の間にある放電空間１８を完全に封止するとともに、ガラス管２６，２８の端部が完全に封止される。
【００１７】
このように、上述したプラズマディスプレイ製造方法によれば、アライメント工程から封着工程に至るまで、常にパネル内部を乾燥雰囲気に保ち、基板表面に吸着された不純ガスを除去し、放電効率、発光効率、および信頼性の高いプラズマディスプレイが製造できる。なお、乾燥ガス中の水分含有量は１１ｐｐｍ以下、二酸化炭素含有量は５００ｐｐｍ以下に調整されているので、酸化カルシウムが水や二酸化炭素を吸着して水酸化カルシウムや炭酸カルシウムを形成することはない。この点は、本発明者らが行った表面分析およびパネル特性評価結果から確認された。また、既設の工程に第１と第２の乾燥ガス供給装置を組み入れるだけでよいことから、設備の改良も最小限で済む。
【００１８】
（実施の形態２）
図４〜図５（ａ）、（ｂ）を参照して本発明の実施の形態２を説明する。図４は乾燥ガス導入コネクタ（乾燥ガス導入治具）５０を用いた乾燥ガスの供給状態を示す。コネクタ５０は、ハウジング５２を有する。実施の形態では、ハウジング５２は中空円筒体で形成されており、内側に乾燥ガス供給チャンバ５４が形成されている。ハウジング５２の上端には上部ゴムパッキン（蓋部）５６が取り付けてあり、ハウジング５２の下端には下部ゴムパッキン５８が取り付けてあり、上部ゴムパッキン５６の中央には十字状の切り目６０が形成され、下部ゴムパッキン５８の中央には開口６２が形成されている。実施の形態では、図５（ａ）に示すように、コネクタ５０はハウジング５２の中心軸を含む上下方向の面に沿って２つ割としてある。具体的に、ハウジング５２、上部及び下部のゴムパッキン５６，５８はそれぞれ左右対称の２つの部分５２ａ,５２ｂ、５６ａ,５６ｂ、５８ａ,５８ｂからなり、２つの対称なコネクタ部分５０ａ，５０ｂを形成している。そして、一方のコネクタ部分５０ｂのハウジング部に、乾燥ガス供給部２４が接続されている。
【００１９】
コネクタ５０を用いた場合、アライメント工程から封着工程に搬送されるパネル１０の各孔２０の上にコネクタ５０が装着される（図６の工程Ｓ２）。このとき、コネクタ部分５０ａ，５０ｂは組み合わされており、下部ゴムパッキン５８の開口６２が孔２０に一致し、パネル１０の放電空間１８が孔２０を通じてコネクタ５０の乾燥ガス供給チャンバ５４に接続される。そして、第１の乾燥ガス供給部３６から供給された乾燥ガスが、乾燥ガス供給チャンバ５４から、孔２０を通じて放電空間１８に供給される（図６の工程Ｓ３）。このとき、他方の孔にもコネクタ５０を取り付け、このコネクタ５０を通じて乾燥ガスを供給してもよい。または、他方の孔にはコネクタ５０を取り付けるだけで、乾燥ガス供給部に接続しなくてもよい。この場合、一方の孔を通じて供給される乾燥ガスは、他方の孔を通じて他方のコネクタ５０内に入り、このコネクタ５０の上部ゴムパッキン切り目６０から外部に流れるので、放電空間１８の内部は乾燥ガス雰囲気に維持される。
【００２０】
次に、封着工程に搬送される（図６の工程Ｓ４）と、図４に示すように、上部ゴムパッキン５６の切り目６０を突き抜けて、第２の乾燥ガス供給部４２に接続されたガラス管（乾燥ガス供給管）６４を乾燥ガス供給チャンバ５４に挿入し、ガラス管６４の下端を孔２０に一致させる。このとき、ガラス管６４の下端には環状の封着材６６が取り付けてあり、ガラス管６４と孔２０は封着材６６を介して対向する（図５（ｂ）参照）。この状態で、ガラス管６４はパネル１０に固定される。次に、第２の乾燥ガス供給部４２からガラス管６４を通じて放電空間１８に乾燥ガスを供給する（図６の工程Ｓ５，Ｓ６）。そして、また、コネクタ５０を２つのコネクタ部分５０ａ，５０ｂに分離して取り外す。
【００２１】
このように、コネクタ５０を用いた乾燥ガスの連続供給方法によれば、実施の形態１と同様に、アライメント工程から封着工程に至るまで、常にパネル内部を乾燥雰囲気に保ち、基板表面に吸着された不純ガスを除去し、放電効率、発光効率、および信頼性の高いプラズマディスプレイが製造できる。また、この方法によれば、パネルに設ける孔は一つでよい。
【００２２】
図７は、コネクタの他の形態を示す。図示するコネクタ７０のハウジング７２は、下部に開口７４を有する。このコネクタ７０を使用する場合、まず図８に示すように、コネクタ５０でパネル１０の孔２０を覆う。次に、第１の乾燥ガス供給装置２４からハウジング７２のチャンバ７６に乾燥ガスを供給する。供給された乾燥ガスは、コネクタ７０で覆われた孔２０を通じて、放電空間１８に供給される。次に、封着工程では、コネクタ７０の横にガラス管７８を配置する。このとき、ガラス管７８の一端（放電ガス流出口）の回りには封着材８０が配置され、この封着材８０を介してガラス管７８の一端がパネル１０に当接している。次に、パネルの表面に沿って、図８に矢印８２で示す方向に、コネクタ７０とガラス管７８を移動し、ガラス管７８の一端を孔２０に一致させる。その後、第２の乾燥ガス供給装置４０からガラス管７８を通じて放電空間１８に乾燥ガスを供給する。この方法によれば、コネクタ７０のチャンバ７６が孔２０に対向している状態からガラス管７８の一端が孔２０に対向するまでの間、放電空間１８に乾燥ガスの供給されない状態が一時的に発生するが、その間も孔２０はコネクタ５０と封着材８０によって塞がれているので、大気が放電空間に侵入することはない。
【００２３】
（実施の形態３）
図９を参照して、実施の形態３を説明する。実施の形態３は、ガラス管９０の構成に特徴がある。具体的に、実施の形態３の２股ガラス管９０は、一端に乾燥ガス出口９２を有し、他端に２つの乾燥ガス入口９４，９６を有する。このガラス管９０は、アライメントされたパネル１０に取り付けられる（図１０の工程Ｓ２）。このとき、一端の乾燥ガス出口９２が封着材６６（図５（ｂ）参照）を介して孔２０に接続される。次に、アライメント工程から封着工程に搬送されるまでの間、ガラス管９０の乾燥ガス入口９４，９６は第１の乾燥ガス供給装置２４に接続され、第１の乾燥ガス供給装置２４から供給された乾燥ガスがガラス管９０を介して放電空間１８に供給される（図１０の工程Ｓ３）。次に、封着工程に入ると（図１０の工程Ｓ４）、一方の乾燥ガス入口９４が第１の乾燥ガス供給部３６から分離される（図１０の工程Ｓ５）。しかし、他方の乾燥ガス入口９６は依然として第１の乾燥ガス供給部３６に接続されているので、分離された乾燥ガス入口９４から大気が侵入することはない。次に、分離された乾燥ガス入口９４が第２の乾燥ガス供給装置４０に接続され、第２の乾燥ガス供給装置４０から乾燥ガスが供給される（図１０の工程Ｓ６）。その後、乾燥ガス入口９６を第１の乾燥ガス供給装置２４から分離し、この乾燥ガス入口９６を封止する（図１０の工程Ｓ７）。したがって、封着工程では、第２の乾燥ガス供給装置４０から乾燥ガスが供給される。
【００２４】
このような乾燥ガスの連続供給方法によれば、上述した実施の形態１、２と同様に、アライメント工程から封着工程に至るまで、常にパネル内部を乾燥雰囲気に保ち、基板表面に吸着された不純ガスを除去し、放電効率、発光効率、および信頼性の高いプラズマディスプレイが製造できる。また、この方法によれば、パネルに設ける孔は一つでよい。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本願発明のプラズマディスプレイ製造方法によれば、放電空間を常に乾燥ガス雰囲気に保ち、基板面に不純物ガスを吸着させることがないので、放電効率、発光効率、および信頼性を向上させたプラズマディスプレイパネルを、小型から大型の薄型テレビジョン、高精細テレビジョンあるいは薄型情報機器端末など、映像機器産業、情報機器産業、宣伝機器産業、産業機器やその他の産業分野に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施の形態１に係るプラズマディスプレイ製造方法を説明する図で、アライメントされたパネルの断面と第１の乾燥ガス供給装置を示す。
【図２（ａ）】図２（ｂ）〜（ｅ）と共に本発明の実施の形態１に係るプラズマディスプレイ製造方法を説明する図である。
【図２（ｂ）】図２（ａ）、（ｃ）〜（ｅ）と共に本発明の実施の形態１に係るプラズマディスプレイ製造方法を説明する図である。
【図２（ｃ）】図２（ａ）、（ｂ）、（ｄ）、（ｅ）と共に本発明の実施の形態１に係るプラズマディスプレイ製造方法を説明する図である。
【図２（ｄ）】図２（ａ）〜（ｃ）、（ｅ）と共に本発明の実施の形態１に係るプラズマディスプレイ製造方法を説明する図である。
【図２（ｅ）】図２（ａ）〜（ｄ）と共に本発明の実施の形態１に係るプラズマディスプレイ製造方法を説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態１における、プラズマディスプレイ製造方法を示すフローチャートである。
【図４】本発明の実施の形態２に係るプラズマディスプレイ製造方法を示し、そこでは乾燥ガス導入治具（コネクタ）を使用している。
【図５（ａ）】実施の形態２に係る乾燥ガス導入治具の分解斜視図である。
【図５（ｂ）】ガラス管と封着材を示す斜視図である。
【図６】実施の形態２に係るプラズマディスプレイ製造方法を示すフローチャートである。
【図７】実施の形態２の改変例を示す斜視図である。
【図８】図７と共に実施の形態２の改変例を示す斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態３に係るプラズマディスプレイ製造方法に使用する２股ガラス管を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態１における、プラズマディスプレイ製造方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００２７】
１０：プラズマディスプレイパネル
１２：前面基板
１４：背面基板
１６：封着材
１８：放電空間
２０、２２：孔
２４：第１の乾燥ガス供給装置
２６，２８：ガラス管
３０：封着材
３２，３４：乾燥ガス供給管
３６：乾燥ガス供給部
３８：加熱炉
４０：第２の乾燥ガス供給装置
４２：乾燥ガス供給部
４４，４６：乾燥ガス供給管
５０：コネクタ
５２：ハウジング
５４：チャンバ
５６：上部ゴムパッキン
５８：下部ゴムパッキン
６０：切り目
６２：開口
６４：ガラス管
６６：封着材
７０：コネクタ
９０：ガラス管
【図１】
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【図２（ａ）】
2009295520.tif 000004
【図２（ｂ）】
2009295520.tif 000005
【図２（ｃ）】
2009295520.tif 000006
【図２（ｄ）】
2009295520.tif 000007
【図２（ｅ）】
2009295520.tif 000008
【図３】
2009295520.tif 000009
【図４】
2009295520.tif 000010
【図５（ａ）】
2009295520.tif 000011
【図５（ｂ）】
2009295520.tif 000012
【図６】
2009295520.tif 000013
【図７】
2009295520.tif 000014
【図８】
2009295520.tif 000015
【図９】
2009295520.tif 000016
【図１０】
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