(57)【要約】【課題】位置精度よく混色や白ぬけ等のない画素を形成することが可能な離画壁、この離画壁を有するカラーフィルタ及びこのカラーフィルタを備える液晶表示装置の提供。【解決手段】基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素を離画する離画壁であって、金属微粒子を含有し、上表面が撥インク性を有し、前記基板からの高さが１．０μｍ以上であることを特徴とする離画壁、この離画壁を有するカラーフィルタ及びこのカラーフィルタを備える液晶表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素を離画する離画壁であって、
金属微粒子を含有し、上表面が撥インク性を有し、前記基板からの高さが１．０μｍ以上であることを特徴とする離画壁。
【請求項２】
前記金属微粒子の少なくとも一種が、周期律表の第２族〜第１４族からなる群から選ばれる１種又は２種以上の金属を含有する金属微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の離画壁。
【請求項３】
前記金属微粒子の少なくとも一種が、銀微粒子又は銀を含有する合金微粒子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の離画壁。
【請求項４】
前記上表面に撥インク性を発現させるための撥インク性化合物が、含フッ素化合物及び／又は含ケイ素化合物であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の離画壁。
【請求項５】
前記含フッ素化合物が、炭素数４以上１０以下のパーフルオロアルキル基を含む化合物であることを特徴とする請求項４に記載の離画壁。
【請求項６】
ＥＳＣＡで測定した前記上表面のフッ素原子数／炭素原子数が、０．１０以上であることを特徴とする請求項４又は５に記載の離画壁。
【請求項７】
前記含ケイ素化合物が、シリコーンであることを特徴とする請求項４に記載の離画壁。
【請求項８】
ＥＳＣＡで測定した前記上表面のケイ素原子数／炭素原子数が、０．１０以上であることを特徴とする請求項４又は７に記載の離画壁。
【請求項９】
基板と、前記基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素と、前記着色画素を離画する離画壁と、を有するカラーフィルタであって、
前記離画壁が請求項１乃至８のいずれか１項に記載の離画壁であることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１０】
前記液滴の付与が、インクジェット法により行われることを特徴とする請求項９に記載のカラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属微粒子を含み撥インク性を有する離画壁、離画壁を有するカラーフィルタ及びカラーフィルタを備える表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の基板上に赤色、緑色、青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界をブラックマトリックス等の離画壁で区分した構造である。このようなカラーフィルタの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）（例えば、特許文献１、２及び３参照。）、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法（例えば、特許文献４、５及び６参照。）、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法（転写方式）（例えば、特許文献７参照。）が知られている。またインクジェット法を用いる方法（例えば、特許文献８参照。）も知られている。
【０００３】
これらの方法のうち、着色レジスト法は位置精度高くカラーフィルタを作製できるものの、感光層樹脂液の塗布にロスが多くコスト的には有利とは言えない。一方インクジェット法は樹脂液のロスが少なくコスト的に有利ではあるものの、画素の位置精度が悪いという問題がある。これらを克服すべく、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法も提案されているが、後に打滴された各色インクがブラックマトリックスをのり越えやすいために、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどが起こる恐れがある。これを防ぐ為、ブラックマトリックスとインクとの間に、お互いはじきあう性質を持たせたり、ブラックマトリックス間隙部のインクの濡れ性を高めたりする方法が開示されている（例えば、特許文献９、１０及び１１参照）。
また、プラズマ処理により離画壁を撥インク処理する方法が知られている（例えば、特許文献１２参照。）。
【特許文献１】特開昭６３−２９８３０４号公報
【特許文献２】特開昭６３−３０９９１６号公報
【特許文献３】特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献４】特開昭６１−９９１０３号公報
【特許文献５】特開昭６１−２３３７０４号公報
【特許文献６】特開昭６１−２７９８０２号公報
【特許文献７】特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献８】特開平８−２２７０１２号公報
【特許文献９】特開平６−３４７６３７号公報
【特許文献１０】特開平７−３５９１５号公報
【特許文献１１】特開平１０−１４２４１８号公報
【特許文献１２】特開２００１−３４３５１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、位置精度よく混色や白ぬけ等のない画素を形成することが可能な離画壁、この離画壁を有するカラーフィルタ及びこのカラーフィルタを備える表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
即ち、本発明は、
＜１＞  基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素を離画する離画壁であって、金属微粒子を含有し、上表面が撥インク性を有し、前記基板からの高さが１．０μｍ以上であることを特徴とする離画壁である。
【０００６】
＜２＞  前記金属微粒子の少なくとも一種が、周期律表の第２族〜第１４族からなる群から選ばれる１種又は２種以上の金属を含有する金属微粒子であることを特徴とする＜１＞に記載の離画壁である。
【０００７】
＜３＞  前記金属微粒子の少なくとも一種が、銀微粒子又は銀を含有する合金微粒子であることを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の離画壁である。
【０００８】
＜４＞  前記上表面に撥インク性を発現させるための撥インク性化合物が、含フッ素化合物及び／又は含ケイ素化合物であることを特徴とする＜１＞乃至＜３＞のいずれか１つに記載の離画壁である。
【０００９】
＜５＞  前記含フッ素化合物が、炭素数４以上１０以下のパーフルオロアルキル基を含む化合物であることを特徴とする＜４＞に記載の離画壁である。
【００１０】
＜６＞  ＥＳＣＡで測定した前記上表面のフッ素原子数／炭素原子数が、０．１０以上であることを特徴とする＜４＞又は＜５＞に記載の離画壁である。
【００１１】
＜７＞  前記含ケイ素化合物が、シリコーンであることを特徴とする＜４＞に記載の離画壁である。
【００１２】
＜８＞  ＥＳＣＡで測定した前記上表面のケイ素原子数／炭素原子数が、０．１０以上であることを特徴とする＜４＞又は＜７＞に記載の離画壁である。
【００１３】
＜９＞  基板と、前記基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素と、前記着色画素を離画する離画壁と、を有するカラーフィルタであって、前記離画壁が＜１＞乃至＜８＞のいずれか１つに記載の離画壁であることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１４】
＜１０＞  前記液滴の付与が、インクジェット法により行われることを特徴とする＜９＞に記載のカラーフィルタである。
【００１５】
＜１１＞  ＜９＞又は＜１０＞に記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、位置精度よく混色や白ぬけ等のない画素を形成することが可能な離画壁、この離画壁を有するカラーフィルタ及びこのカラーフィルタを備える表示装置が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の離画壁、カラーフィルタ及び表示装置について詳細に説明する。
【００１８】
＜離画壁＞
本発明の離画壁は、基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素を離画する離画壁であって、金属微粒子を含有し、上表面が撥インク性を有し、前記基板からの高さが１．０μｍ以上であることを特徴とするものである。
【００１９】
離画壁を上記構成とすることにより、位置精度よく混色や白ぬけ等のない画素を形成することが可能な離画壁を得ることが可能となる。
【００２０】
本発明の離画壁においては、上表面が撥インク性を有する。離画壁の上表面に撥インク性を有さないと、インクの混色が生じることがあるため好ましくない。なお、本発明において上表面とは、離画壁の表面であって該表面の接線と基板表面とのなす角度が１０°以下の範囲をいう。
本発明における撥インク性とは、離画壁の間隙に付与する液体（インク）を弾く性質のことである。インクとの接触角で１５°以上が好ましく、２５°以上がより好ましく、３０°以上が最も好ましい。本発明における接触角とは２３℃、５０％ＲＨにおいて粒径１．５ｍｍのインクを滴下し２０秒後の離画壁と液滴との角度とした。
所望の場所以外（隔壁の間隙部分など）が撥インク化されない限り、前述のインク接触角の上限は特に無い（接触角なので１８０°以下ではある）。なお、前記接触角は隔壁に撥インク化処理をした後の隔壁のインク接触角である。
【００２１】
本発明の離画壁の基板からの高さは１．０μｍ以上であるが、１．０μｍ未満であると、混色が生じることがあるため、好ましくない。本発明の離画壁の基板からの高さは１．５μｍ以上が好ましく、２．０μｍ以上が更に好ましい。
【００２２】
−金属微粒子−
本発明の離画壁は、着色剤（濃色体）として金属微粒子を含有する。
本発明における金属微粒子を構成する金属としては、特に限定されず、いかなる金属であってもよい。また、本発明における金属微粒子としては、２種以上の金属を組み合わせて用いてもよく、合金として用いることも可能である。
本発明における金属微粒子としては、金属又は金属および金属化合物との複合微粒子であってもよい。
特に本発明において好ましく用いられる金属微粒子の種類としては、特開２００６−２５１２３７号公報の段落番号［００３８］から［００３９］に記載の金属微粒子が本発明においても好適に用いることができる。
【００２３】
本発明の離画壁に用いられる金属微粒子の少なくとも一種は、周期律表の第２族〜第１４族からなる群から選ばれる１種又は２種以上の金属を含有する金属微粒子であることが好ましい。
中でも、好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウムまたはこれらの合金から選ばれる少なくとも１種であり、より好ましい金属は、銅、銀、金、白金、錫及びこれらの合金から選ばれる少なくとも１種であり、更に好ましくは銀又は銀を含有する合金である。
【００２４】
本発明の離画壁に用いられる金属微粒子の少なくとも一種は、銀微粒子又は銀を含有する合金微粒子であることが特に好ましい。
【００２５】
本発明における金属微粒子は、後述の分散ポリマーの存在下で、金属イオンを還元することによって得られる。
具体的には、分散ポリマーの存在下に、前記金属を有する金属塩を含む溶液と還元剤とを添加し、混合して、金属イオンを還元することによって得られる。
前記金属塩は、特に制限なく用いることができ、例えば、塩化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、アンモニウム塩、酢酸塩等の金属塩が挙げられ、これらの中でも、粒子形成の過程で粒子に吸着しないという観点から、硝酸塩、亜硝酸塩、酢酸塩が好ましく、硝酸塩、酢酸塩がより好ましく、硝酸塩が特に好ましい。
【００２６】
また、前記還元剤としては、通常使用されるものであれば特に限定されず用いることができる。例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムなどの水素化ホウ素金属塩；水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化アルミニウムセシウム、水素化アルミニウムベリリウム、水素化アルミニウムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウム等の水素化アルミニウム塩；亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、クエン酸およびその塩、コハク酸およびその塩、アスコルビン酸およびその塩等；ジエチルアミノエタノール、エタノールアミン、プロパノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノプロパノールなどのアルカノールアミン；プロピルアミン、ブチルアミン、ジプロピレンアミン、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミンなどの脂肪族アミン；ピペリジン、ピロリジン、Ｎメチルピロリジン、モルホリンなどのようなヘテロ環式アミン；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、トルイジン、アニシジン、フェネチジンのような芳香族アミン；ベンジルアミン、キシレンジアミン、Ｎ−メチルベンジルアミンのようなアラルキルアミン；等が挙げられ、金属微粒子の形状制御の観点から、これらの中でも、亜硫酸ナトリウム、ハイドロキノン、アスコルビン酸またはその塩から選択される１種以上を用いることが好ましく、亜硫酸ナトリウムとハイドロキノンとの組み合わせ、亜硫酸ナトリウムとアスコルビン酸との組み合わせがより好ましく、亜硫酸ナトリウムとハイドロキノンとの組み合わせが更に好ましい。
【００２７】
前記金属塩／前記還元剤当量比は０．２〜５であることが好ましく、０．５〜２であることがより好ましく、０．８〜１．５であることが特に好ましい。
【００２８】
分散ポリマーとしては、チオール基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類及び多糖類由来の天然高分子、合成高分子及びこれらに由来するゲル等の高分子類等が挙げられる。
【００２９】
前記高分子類としては、保護コロイド性のあるポリマーでゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプルピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、及びポリビニルピロリドン共重合体などが挙げられる。
分散ポリマーとして使用可能なポリマーについては、例えば「顔料の事典」（伊藤征司郎編、（株）朝倉書院発行、２０００年）の記載を参照できる。
【００３０】
本発明の金属微粒子の製造方法において、金属塩および還元剤の添加方法や反応温度等は特に制限はなく、調製する目的の金属微粒子組成に合わせて、適宜調整することが出来る。
金属微粒子の形状制御の観点から、反応時の温度は６０度以下が好ましく、５０度以下であることがより好ましい。また、添加方法は特に限定されないが、金属イオンの添加開始を還元剤よりも早くすることが好ましい。そして、粒子形成時には均一系を形成する観点から攪拌することが好ましく、その回転数は２００ｒｐｍ以上が好ましく、４００ｒｐｍ以上がより好ましい。粒子形成時のｐＨに特に制限は無いが、水酸化物を経由して金属塩を還元させる観点から金属塩添加前のｐＨが１０以上であることが好ましい。
【００３１】
−複合微粒子−
前記「金属および金属化合物との複合微粒子」とは、金属と金属化合物が結合して１つの粒子になったものをいう。
該複合微粒子としては、特開２００６−２５１２３７号公報の段落番号［００４０］から［００４３］に記載の金属化合物微粒子、複合微粒子、及びコアシエル型の複合粒子が本発明においても好適に用いることができる。
【００３２】
−金属微粒子の分散−
本発明における金属微粒子は、金属微粒子分散物中において分散されていることが好ましい。分散時における金属微粒子の存在状態は特に限定されないが、金属微粒子が安定な分散状態で存在していることが好ましく、例えば、コロイド状態であることがより好ましい。
【００３３】
本発明の離画壁は、金属微粒子を含有すればその他いかなる有機顔料、無機顔料、染料等を併用しても良い。これら有機顔料、無機顔料、染料等としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。
【００３４】
離画壁に遮光性が要求される際には、金属微粒子の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。公知の着色剤（染料、顔料）を使用することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、離画壁中に均一に分散されていることが好ましい。
【００３５】
濃色体のうち、黒色の濃色体として、更に例示すると、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【００３６】
本発明の離画壁は、離画壁用組成物から形成される。
離画壁用組成物はかかる濃色体以外に、重合開始剤、及び多官能性モノマーを少なくとも含んでなることが好ましい。また、必要に応じて更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに離画壁用組成物は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
【００３７】
離画壁用組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、光開始系を用いることが好ましい。以下、本発明において光開始系の離画壁用組成物を離画壁用感光性組成物と称する。
【００３８】
離画壁用感光性組成物で用いられる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【００３９】
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００４０】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００４１】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００４２】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
【００４３】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【００４４】
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【００４５】
前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の離画壁用感光性組成物における総量としては、離画壁用感光性組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が、０．１質量％未満であると、組成物の光硬化の効率が低く露光に長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、現像する際に、形成された画像パターンが欠落したり、パターン表面に荒れが生じやすくなることがある。
【００４６】
前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【００４７】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００４８】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００４９】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００５０】
前記水素供与体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に基板上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００５１】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００５２】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の離画壁用感光性組成物における総量としては、離画壁用感光性組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【００５３】
離画壁用感光性組成物に用いられる多官能性モノマーとしては、下記化合物を単独で又は他のモノマーと組み合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【００５４】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【００５５】
多官能性モノマーの離画壁用感光性組成物における含有量としては、離画壁用感光性組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量が、５質量％未満であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性が劣ることがあり、８０質量％を越えると、離画壁用感光性組成物としたときのタッキネスが増加してしまい、取扱い性に劣ることがある。
【００５６】
本発明の離画壁はいかなる方法により製造されたものであってもよいが、離画壁用感光性組成物を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像することにより形成することが好ましい。
かかる離画壁用感光性組成物を光硬化させる際の貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層下から選ばれる１又は２以上のことを指しており、これらは詳しくは以下の通りである。
【００５７】
不活性ガスとは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Ｎ２が好適に利用される。
【００５８】
減圧下とは５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。
【００５９】
酸素を遮断しうる保護層とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。
【００６０】
これらの中でも特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量はアルカリ可溶な樹脂層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
【００６１】
また、酸素を遮断しうる層としては各種フィルムを用いることもでき、たとえばＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。また、離画壁を転写材料を用いて作製する場合、下記に記載の仮支持体を酸素を遮断しうる層として好適に用いることが可能である。
【００６２】
このようにして作製された酸素を遮断しうる保護層の酸素透過係数は２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、もっとも好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）より多い場合は効率的に酸素を遮断することができないため、離画壁を所望の形状にすることが困難となることがある。
【００６３】
基板上において、上記で説明したような離画壁用感光性組成物を、同じく上記で説明した貧酸素雰囲気下で光重合した場合、組成物自身の吸収により組成物表面から基板方向への露光量は減衰するため、結果として表面の硬化がより進む。さらに、貧酸素雰囲気下であるために組成物表面での重合阻害が抑制され、こちらも結果として表面の硬化がより進む。
こうして得られた離画壁形状を固定化する工程を経ることで、一旦その空隙に打滴されたインクは離画壁を乗り越えにくくなり、その結果、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどを防いで良好なカラーフィルタを得ることができる。
【００６４】
本発明の離画壁を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に少なくとも酸素を遮断しうる保護層（以下、酸素遮断層と称することがある。）と、離画壁用感光性組成物からなる層（離画壁用感光性組成物層）とを、この順に有してなる感光性転写材料を使用するという手法がある。このような材料を用いた場合、離画壁用感光性組成物層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため露光工程を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。感光性転写材料における酸素遮断層及び離画壁用感光性組成物層を構成する材料は上述の通りである。
また、仮支持体上に少なくとも離画壁用感光性組成物層を有する感光性転写材料を用い、該仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよい。この場合は、上記酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数を削減することが可能である。
【００６５】
上記の感光性転写材料は、必要に応じて仮支持体と酸素遮断層との間に熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、離画壁の基板との良好な密着性を発揮することができる。
【００６６】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【００６７】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【００６８】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【００６９】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００７０】
上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが５μｍ未満では、仮支持体を剥離する際に破れやすくなる傾向があり、また、仮支持体を介して露光する場合は、３００μｍを超えると解像度が低下する傾向がある。上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００７１】
離画壁用感光性組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、離画壁用感光性組成物層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【００７２】
（基板）
カラーフィルタを構成する基板（永久支持体）、即ち離画壁が形成される基板としては、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００７３】
以下、感光性転写材料を用いて、離画壁を形成する場合を説明する。仮支持体上に、酸素遮断層、離画壁用感光性組成物層、更に該離画壁用感光性組成物層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した離画壁用感光性組成物層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
【００７４】
次いで、仮支持体を酸素遮断層との間で剥離し、仮支持体を除去する。続いて、仮支持体除去後の除去面の上方に所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該酸素遮断層の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する。次いで、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、離画壁を得る。
また、仮支持体を酸素を遮断しうる保護層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体の上方に所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する。次いで、仮支持体を除去し、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、離画壁を得る。
【００７５】
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）等で行い、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２）選択することができる。
照射後所定の処理液を用いて現像処理する。現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００７６】
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、該離画壁用感光性組成物層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【００７７】
適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【００７８】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００７９】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。離画壁用感光性組成物層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から４０℃が好ましい。現像時間は、離画壁用感光性組成物の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、離画壁形状を好適なものとすることが困難となる。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。この現像工程にて、離画壁が形成される。
【００８０】
本発明の離画壁の上表面は、撥インク性を有する。本発明では、離画壁に撥インク処理を施す事で該離画壁の上表面が撥インク性を帯びた状態（撥インク性化合物が存在する状態）とすることが好ましい。これにより、インクジェットなどの方法でインクを該離画壁間に付与した時に、インクが該離画壁を乗り越えて、隣の色と混色するなどの不都合を無くすことができる。
本発明におけるインクとは、離画壁形成後に該離画壁の凹部（画素部分）に付与される液体のことで特に制限は無い。該インクには、顔料を分散させることや、熱で硬化あるいは光で硬化したりする仕組みを組み込むことなどで着色液体組成物とすることが好ましい。
本発明における撥インク性化合物とは、離画壁上面に存在させた場合に該離画壁上面が上記インクを弾く性質をもつようになる化合物のことであり、それ以外に特に制限は無い。撥インク性化合物としては、含フッ素化合物及び／又は含ケイ素化合物が好ましい。
該撥インク処理として、離画壁上面に撥インク材料を塗布する方法や、撥インク層を新たに設ける方法、プラズマ処理により撥インク性を付与する方法、上記金属微粒子や光重合開始剤と共に撥インク性物質を離画壁に混合する方法、隣接層に撥インク性化合物を含有させる方法、重合性基を有する撥インク性化合物溶液に浸して露光する方法などが挙げられる。
【００８１】
以下に、撥インク処理について詳細に説明する。
（１）  ＜撥インク性物質を離画壁に混合する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、上述した離画壁用感光性組成物に含フッ素樹脂を含有させる方法がある。
本発明における前記含フッ素樹脂は、下記式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【００８２】
−（Ｘ−Ｏ）ｎ−Ｙ・・・式１
式１中、Ｘは、炭素数１〜１０の２価飽和炭化水素基又は炭素数１〜１０のフルオロ化された２価飽和炭化水素基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、水素原子（Ｙに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る）、炭素数１〜２０の１価飽和炭化水素基又は炭素数１〜２０のフルオロ化された１価飽和炭化水素基を示し、ｎは２〜５０の整数を示す。ただし、式１におけるフッ素原子の総数は２以上である。
【００８３】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキレン基又は炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキル基又は炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
式１におけるＸ、Ｙの態様として、より好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
Ｘ、Ｙの態様が上記のものであることにより、含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏する。
式１においてｎは２〜５０の整数を示す。ｎは２〜３０が好ましく、２〜１５がより好ましい。ｎが２以上であると、インク転落性が良好である。ｎが５０以下であると、含フッ素樹脂が、Ｒｆ基（ａ）を有する単量体と、酸性基（ｂ）を有する単量体やその他の単量体と、の共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
また、式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）における炭素原子の総数は２〜５０が好ましく、２〜３０がより好ましい。当該範囲では、含フッ素樹脂は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を奏する。また、Ｒｆ基（ａ）を有する単量体、酸性基（ｂ）を有する単量体及びその他の単量体との共重合によって含フッ素樹脂を合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【００８４】
Ｘの具体例としては、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、及びＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−が挙げられる。
Ｙの具体例としては、−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、（ＣＦ２）１１ＣＦ３、及び−（ＣＦ２）１５ＣＦ３が挙げられる。
【００８５】
式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）の好ましい態様としては、式２で表されるＲｆ基（ａ）が挙げられる。
【００８６】
−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式２
式２中、ｐは２又は３の整数を示し、ｎで括られた単位毎に同一であり、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【００８７】
式２で表されるＲｆ基（ａ）として、具体的には、−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは２〜９）、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）が合成の容易さの点から好ましく挙げられる。
含フッ素樹脂内のＲｆ基（ａ）は、全て同一でもよいし、異なっていてもよい。
含フッ素樹脂におけるフッ素原子の含有量は１〜６０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、離画壁用感光性組成物の現像性が良好となる。
【００８８】
含フッ素樹脂は、酸性基（ｂ）を有する。
酸性基（ｂ）としては、カルボキシル基、フェノール性水酸基、及びスルホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも１つの酸性基又はその塩が好ましい。
【００８９】
含フッ素樹脂は、エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体であって、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであるものが好ましい。エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
【００９０】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体としては、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＣＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＨ２ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＳＯ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＲｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＯＱ１Ｒｆ等が挙げられる。ただし、Ｒ１は水素原子又はメチル基を、Ｑ１は単結合又は炭素数１〜６の２価有機基を、Ｑ２は炭素数１〜６の２価有機基を、それぞれ示す。Ｑ１、Ｑ２は環状構造を有していてもよい。
【００９１】
Ｑ１、Ｑ２の具体例としては、
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−等が挙げられる。Ｑ１は単結合であってもよい。
合成の容易さの観点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−が好ましい。
【００９２】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体として具体的には以下のものが挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３  （ｎは３〜９）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３  （ｎは２〜６）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７  （ｎは２〜６）。
【００９３】
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３  （ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７  （ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３  （ｎは２〜６）。
【００９４】
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３  （ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３  （ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７  （ｎは２〜６）。
【００９５】
含フッ素樹脂におけるエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、１〜９５％が好ましく、５〜８０％がより好ましく、２０〜６０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、離画壁用感光性組成物の現像性が良好となる。
【００９６】
酸性基（ｂ）を有する単量体として、カルボキシル基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基、水酸基を有する単量体が挙げられる。
【００９７】
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９８】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９９】
スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、もしくはそれらの塩等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１００】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【０１０１】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０２】
含フッ素樹脂における酸性基（ｂ）を有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、０．１〜４０％等が好ましく、０．５〜３０％がより好ましく、１〜２０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、離画壁用感光性組成物の現像性が良好となる。
【０１０３】
含フッ素樹脂がエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを有する共重合体である場合、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない単量体（以下、「その他の単量体」という。）に基づく単量体単位を有していてもよい。
【０１０４】
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、フルオロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えば水酸基、カルボニル基、アルコキシ基、アミド基等が挙げられる。またポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。ただし、これらのその他の単量体に基づく単量体単位は、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。特に（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、離画壁用感光性組成物から形成される塗膜の耐熱性に優れるので好ましい。
【０１０５】
含フッ素樹脂において、その他の単量体に基づく単量体単位の割合は８０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましい。当該範囲であると離画壁用感光性組成物の現像性が良好となる。
【０１０６】
本発明における含フッ素樹脂は、上記のエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体を合成することによって得られるほか、反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物及び／又は酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法によっても得られる。
【０１０７】
反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物を反応させる方法、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１０８】
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【０１０９】
Ｒｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物としては、下記式３で表される化合物が挙げられる。
ＨＯＯＣ−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１    式３
式３中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１１０】
Ｒｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物としては、下記式４で表される化合物が挙げられる。
ＨＯＣＨ２−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１  式４
式４中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１１１】
反応部位を有する重合体に酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に酸無水物を反応させる方法が挙げられる。また、エチレン性二重結合を有する酸無水物をあらかじめ共重合させ、後に水酸基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１１２】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【０１１３】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１４】
酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水３−メチルフタル酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。
【０１１５】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルスシニックアンハイドライド等が挙げられる。
【０１１６】
水酸基を有する化合物としては、１つ以上の水酸基を有している化合物であれば良く、前記に示した水酸基を有する単量体の具体例や、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類等が挙げられる。分子内に１個の水酸基を有する化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
含フッ素樹脂あるいは含フッ素樹脂の前駆体となる前記反応部位を有する重合体は、単量体を必要に応じて連鎖移動剤と共に、溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて反応させる方法によって合成できる。
【０１１８】
含フッ素樹脂の酸価は、１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。この範囲であると離画壁用感光性組成物の現像性が良好となる。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）であり、本明細書においては単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。
【０１１９】
含フッ素樹脂の数平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。当該範囲であると離画壁用感光性組成物の現像性が良好である。数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定される。
【０１２０】
（含ケイ素化合物）
本発明に用いうる含ケイ素化合物としては、Ｓｉ−ＣＨ３基もしくは−Ｏ−Ｓｉ−ＣＨ３基を有するシリコン系モノマーを挙げることが出来る。具体的にはシリコーンアクリレートまたはシリコーンメタクリレートであり、一般式（ＣＨ３Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）３−ｎ−Ｒ３−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ４＝ＣＨ２で表されるものでり、Ｒ３は連結基であり、Ｒ４はメチルもしくは水素であり、ｎは０〜３の整数である。その他、例えば、特開２００３−３３５９８４公報の段落番号〔００２５〕に記載されるシリコーン系モノマーもまた、好適なものとして挙げることができる。
【０１２１】
含フッ素樹脂及び／又は含ケイ素化合物の配合量は、離画壁用感光性組成物中の固形分に対し、０．０１〜５０％が好ましく、０．１〜３０％がより好ましく、０．２〜１０％が特に好ましい。当該範囲であると離画壁用感光性組成物は良好な撥インク性、インク転落性を奏し、現像性が良好となる。
【０１２２】
上記の以外に、特開平７−３５９１５号公報の段落番号０００７〜００４４に記載の撥水性物質を離画壁に混合する方法でも撥インク処理を達成できる。
【０１２３】
（２）＜撥インク層を設ける方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板上の離画壁に合致した位置にインキ反発性を有する撥インク層（仕切り壁）を作製する方法がある。
【０１２４】
インキ反発性を有する仕切り壁として、シリコーンゴム層を用いることが好ましい。表層に塗設されるシリコーンゴム層は、着色に用いる溶液およびインクに対して反発効果を有することが必須であり、これに限定されるものではないが、次の様な繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
【０１２５】
【化１】
2009058871.tif 000002
【０１２６】
ここでｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。この様な線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋することによりシリコーンゴムが得られる。架橋剤は、いわゆる室温（低温）硬化型のシリコーンゴムに使われるアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン、アルケニオキシシランなどであり、通常線状の有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱アミド型、脱ケトン型のシリコーンゴムとなる。また、シリコーンゴムには、触媒として少量の有機スズ化合物などが添加される。離画壁用感光性組成物層とシリコーンゴム層の接着のために層間に接着層として種々のものを用いることがあり、特にアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が好ましい。離画壁用感光性組成物層とシリコーンゴム層間に接着層を設ける代わりにシリコーンゴム層に接着成分を添加しておくこともできる。この添加接着成分としてもアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が使用できる。
【０１２７】
仕切り壁を作製するための露光は離画壁をマスクとし、基板の離画壁の設けられた面とは反対の面から行い、さらに照射ＵＶ光を散乱させて入射光を透過部位の大きさより拡大して感光性樹脂に作用させて、光反応して可溶化する樹脂の部分をシリコーンゴム表層側の方が大きくなる様にする。この様に露光した後、ｎ−ヘプタン／エタノール混合液で現像してシリコーンゴム表層を有する仕切り壁を作製できる。
【０１２８】
（３）＜プラズマ処理により撥インク性を付与する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板に、プラズマによる撥インク化処理をする方法がある。
【０１２９】
本工程において導入する、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８から選択されるハロゲンガスを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ５Ｆ８（オクタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０であると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（ＣＦ４：５万年、Ｃ４Ｆ８：３２００年）０．９８年と非常に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ２＝２とした１００年積算値）と、従来のガスに比べて（ＣＦ４：６５００、Ｃ４Ｆ８：８７００）非常に小さく、オゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
【０１３０】
さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。本工程においては、上記ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８から選択されるハロゲンガスを１種以上とＯ２との混合ガスを用いると、本工程において処理される離画壁表面の撥インク性の程度を制御することが可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ２の混合比率が３０％を超えるとＯ２による酸化反応が支配的になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、Ｏ２混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージが顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ２の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。
【０１３１】
また、プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いることができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができる。
【０１３２】
（４）＜離画壁上面に撥インク材料を塗布する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板に、撥インク性を有する材料を全面に塗布する方法がある。
撥インク性を有する材料としてはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーンゴム、パーフルオロアルキルアクリレート、ハイドロカーボンアクリレート、メチルシロキサン等、一般に撥インク材料と考えられるもので着色液体組成物に対する接触角が５０°以上のものであれば特に限定されるものではない。
【０１３３】
撥インク材料の塗布の方法としては基板、離画壁などに影響を及ぼさない方法であれば、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択することが可能である。
【０１３４】
次に、基板の離画壁の設けられた面とは反対の面側から離画壁を介してＵＶＯ３処理を行い、離画壁以外の部分の撥インク膜を選択的に除去または親インク化処理（着色剤に対する接触角が処理前後で３０°以上の開きがある）する。
【０１３５】
撥インク材料を除去または親水化処理することが可能ならば、パターニングの方法はレーザーアブレーション、プラズマアッシング、コロナ放電処理等のドライ処理およびアルカリを用いたウェット処理等材料に応じて最適の方法を選択することが可能である。また、離画壁上に撥インク材料をパターン形成することが可能であればリフトオフ法等も有効である。
【０１３６】
（５）＜隣接層に撥インク性化合物を含有させる方法＞
「混色」を防ぐ手段として、仮支持体上に少なくとも隣接層と離画壁用感光性組成物層をこの順で有してなる感光性転写材料（以下、撥インク処理用多層フィルムと称することがある。）を用いることにより本発明の離画壁を形成する方法がある。熱可塑性樹脂層を仮支持体と隣接層間に設けることが、圧着時の密着性をよくする点で好ましい。撥インク処理用多層フィルムを用いて離画壁を形成することで、離画壁の上表面のみに撥インク性を付与することが可能である。
【０１３７】
撥インク処理用多層フィルムにおいては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合の防止と、離画壁上表面への撥インク処理をする目的から、重合性基を有する撥インク性化合物を含有させている隣接層を設けることが好ましい。該隣接層は、離画壁用感光性組成物層との塗り分けの観点で、水系（溶媒の２５％以上が水）が好ましい。
【０１３８】
隣接層の塗布液に重合性基を有するフッ素化合物を含ませて塗布することにより、該重合性基を有するフッ素化合物を空気界面に密集させ、この上に離画壁用感光性組成物層を形成して、該隣接層中の離画壁用感光性組成物層側の界面に重合性基を有するフッ素化合物をより多く含有させることができる。この重合性基含有フッ素化合物と離画壁用感光性組成物層中の開始剤により、離画壁用感光性組成物層（＝離画壁）の上面のみに撥インク性を付与することができる。
好ましい、重合性基を有するフッ素化合物として、下記のものが挙げられる。
【０１３９】
＜フッ素原子と重合性不飽和二重結合とアルカリ可溶性基／水溶性基を有する高分子化合物＞
フッ素原子と重合性不飽和二重結合を有する高分子化合物は、アルカリ水溶液に可溶とすることが好ましく、その場合、現像工程で未反応の高分子化合物を除去することが可能となり、手間が少なく、環境適合性に優れたプロセスを提供することが可能となる。さらに隣接層の塗布溶液に溶解するために水溶性基を含有することが好ましい。
このような本発明で使用される高分子化合物は、フッ素含有モノマー部と二重結合含有部との共重合体であり、さらに親水性モノマー部を含むことが好ましい。
該高分子化合物は以下のようにして合成することができる。
【０１４０】
合成方法としては、まず、フッ素含有モノマーなどの撥油性モノマーを使用し、（ａ）フッ素含有モノマー、親水性モノマーおよび側鎖にエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーを共重合する方法、（ｂ）フッ素含有モノマー、親水性モノマーと二重結合前駆体を有するモノマーを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、（ｃ）カルボン酸などの親水性官能基を有するフッ素ポリマーとエチレン付加重合性不飽和基を有する化合物とを反応させる方法、が挙げられる。これらの中でも、特に好ましいのは、合成適性の観点から、（ａ）フッ素含有モノマー、親水性モノマーとエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる方法である。
【０１４１】
（ａ）の方法でラジカル重合性基含有含フッ素高分子化合物を合成する際、共重合するエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、アリル基含有モノマーがあり、具体的には、アリル（メタ）アクリレート、２−アリルオキシエチルメタクリレートが挙げられる。
また（ｂ）の方法に用いる、二重結合前駆体を有するモノマーとしては、例えば２−（３−クロロ−１−オキソプロポキシ）エチルメタクリレー卜、２−（２−ブロモ−２−メチル−１−オキソプロポキシ）エチルメタクリレー卜が挙げられる。
尚、「塩基などの処理により二重結合を導入」する方法をより詳細に説明すると、塩基を作用させることにより、フッ素含有モノマー、親水性モノマー及び二重結合前駆体を有するモノマーの共重合体から脱酸反応を促進し、二重結合前駆体を二重結合に変換する方法である。ここで、前記塩基としては無機・有機塩基を用いることができ、有機塩基が好ましく、特に、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネンなどの３級アルキルアミン類等を用いることができる。
更に、（ｃ）の方法で含フッ素高分子化合物を合成する際、フッ素ポリマー中のカルボキシル基、アミノ基若しくはそれらの塩と、水酸基及びエポキシ基などの官能基と、の反応を利用して不飽和基を導入するために用いられる付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートなど挙げられる。
一般に、エチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、撥インク化反応の高感度化という観点から、反応性のより高いエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーや、より長鎖のモノマーが好ましい。
【０１４２】
上記、含フッ素高分子化合物の合成方法についてさらに詳しく述べる。
（フッ素含有モノマー）
含フッ素高分子化合物の原料として使用されるフッ素含有モノマーとしては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種のフッ素含有モノマーが挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＲ２Ｒｆ・・・（Ｉ）
〔式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基、Ｒ２は−ＣｐＨ２ｐ−、−Ｃ（ＣｐＨ２ｐ＋１）Ｈ−、−ＣＨ２Ｃ（ＣｐＨ２ｐ＋１）Ｈ−又は−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、Ｒｆは−ＣｎＦ２ｎ＋１、−（ＣＦ２）ｎＨ、−ＣｎＦ２ｎ＋１−ＣＦ３、−（ＣＦ２）ｐＯＣｎＨ２ｎＣｉＦ２ｉ＋１、−（ＣＦ２）ｐＯＣｍＨ２ｍＣｉＦ２ｉＨ、−Ｎ（ＣｐＨ２ｐ＋１）ＣＯＣｎＦ２ｎ＋１、−Ｎ（ＣｐＨ２ｐ＋１）ＳＯ２ＣｎＦ２ｎ＋１である。但し、ｐは１〜１０、ｎは１〜１６、ｍは０〜１０、ｉは０〜１６の整数である。〕
【０１４３】
ＣＦ２＝ＣＦＯＲｇ  ・・・（ＩＩ）
（式中Ｒｇは炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を表わす。）
ＣＨ２＝ＣＨＲｇ・・・（ＩＩＩ）
（式中Ｒｇは炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を表わす。）
ＣＨ２＝ＣＲ３ＣＯＯＲ５ＲｊＲ６ＯＣＯＣＲ４＝ＣＨ２  ・・・（ＩＶ）
〔式中、Ｒ３、Ｒ４は水素原子又はメチル基、Ｒ５、Ｒ６は−ＣｑＨ２ｑ−、−Ｃ（ＣｑＨ２ｑ＋１）Ｈ−、−ＣＨ２Ｃ（ＣｑＨ２ｑ＋１）Ｈ−又は−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、Ｒｊは−ＣｔＦ２ｔである。但し、ｑは１〜１０、ｔは１〜１６の整数である。〕
ＣＨ２＝ＣＨＲ７ＣＯＯＣＨ２（ＣＨ２Ｒｋ）ＣＨＯＣＯＣＲ８＝ＣＨ２・・・（Ｖ）
（式中、Ｒ７、Ｒ８は水素原子又はメチル基、Ｒｋは−ＣｙＦ２ｙ＋１である。但し、ｙは１〜１６の整数である。）
【０１４４】
以下、本発明に用いうるフッ素含有モノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれに制限されるものではない。
一般式（Ｉ）で示されるモノマーとしては、例えば、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｃ７Ｆ１５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６（ＣＨ２）３ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）３ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＨ（ＣＨ３）ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＨ２）５ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）２ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）６Ｃ（Ｃ２Ｈ５）ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）１０ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ（Ｃ２Ｈ５）ＨＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２等が挙げられる。
【０１４５】
また、一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表わされるフルオロアルキル化オレフィンとしては、例えばＣ３Ｆ７ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ４Ｆ９ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ１０Ｆ２１ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ７Ｆ１５ＯＣＦ＝ＣＦ２及びＣ８Ｆ１７ＯＣＦ＝ＣＦ２などが挙げられる。
【０１４６】
一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）で表わされるモノマーとしては例えば、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）３ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７）ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２などが挙げられる。
撥インク能を上げるという観点から、パーフルオロ基の主鎖炭素原子数は多いほうが好ましい。６個以上が特に有効である。具体的には、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ７Ｆ１５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６（ＣＨ２）３ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）３ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）６Ｃ（Ｃ２Ｈ５）ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）１０ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ１０Ｆ２１ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ７Ｆ１５ＯＣＦ＝ＣＦ２及びＣ８Ｆ１７ＯＣＦ＝ＣＦ２、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７）ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２などが挙げられる。
【０１４７】
また、パーフルオロ基の末端がフッ素原子であることも好ましい。具体的には一般式（Ｉ）で示されるモノマーとしては、例えば、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｃ７Ｆ１５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６（ＣＨ２）３ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）３ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＨ（ＣＨ３）ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＨ２）５ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）２ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｈ（ＣＦ２）６Ｃ（Ｃ２Ｈ５）ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）１０ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ（Ｃ２Ｈ５）ＨＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ３Ｆ７ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ４Ｆ９ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ１０Ｆ２１ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ７Ｆ１５ＯＣＦ＝ＣＦ２、Ｃ８Ｆ１７ＯＣＦ＝ＣＦ２などが挙げられる。
【０１４８】
このほか、隣接層中の他の成分との相溶性がよいという観点から、ＳやＮなどを含むことも好ましい。具体的にはＣ７Ｆ１５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）、Ｃ２Ｆ５ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）２ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）１０ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ（Ｃ２Ｈ５）ＨＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２等が挙げられる。
【０１４９】
（親水性モノマー）
本発明の撥油及び撥インク性の官能基と重合性不飽和二重結合を有し、且つアルカリ水、もしくは水に膨潤可能な高分子化合物を合成する際に使用される親水性モノマーとしては次のモノマーを挙げることができる。
本発明で有用な親水性モノマーとは、アンモニウム、ホスホニウムなどの正の荷電を有するモノマー、若しくは、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基などの負の荷電を有するか負の荷電に解離し得る酸性基を有するモノマーが挙げられるが、その他にも、例えば、水酸基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシ基、シアノ基、エチレンオキシド基などの非イオン性の基を有する親水性モノマーを用いることもできる。
【０１５０】
本発明において、特に有用な親水性モノマーの具体例としては、次のモノマーを挙げることができる。例えば、（メタ）アクリル酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、イタコン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン酸塩、アリルアミン若しくはそのハロゲン化水素酸塩、３−ビニルプロピオン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、ビニルスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、スチレンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、２−スルホエチレン（メタ）アクリレート、３−スルホプロピレン（メタ）アクリレート若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート若しくはそれらの塩、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート若しくはそのハロゲン化水素酸塩、３−トリメチルアンモニウムプロピル（メタ）アクリレート、３−トリメチルアンモニウムプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）アンモニウムクロライド、などを使用することができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モノメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートなども有用である。
このうち非イオン性のものが液晶層への不純物混入の懸念が少ない点でより好ましい。具体的には、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モノメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートをあげることができる。
【０１５１】
（その他のモノマー）
本発明のフッ素原子と重合性不飽和二重結合を有する高分子化合物は構成要素としてフッ素原子、および重合性不飽和二重結合基の他にも他のモノマーが共重合されていても良い。これらのモノマーは本発明の高分子化合物の溶剤溶解性などを上げるのに使用される。このような目的で使用されるモノマーとしては、特に限定されないが、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸メトキシエチルエステル、などのアクリル酸エステルを使用することができる。
また、本発明のフッ素原子と重合性不飽和二重結合を有する高分子化合物は、そのＴｇが低い方が、撥インク化が進行しやすくなるため、そのようなモノマーが共重合されていることも好ましい。アルキル（炭素数３以上）アクリレートを使用することができる。
【０１５２】
以下に本発明で使用されるフッ素原子と重合性不飽和二重結合を側鎖に有する高分子化合物の例〔例示化合物（１）〜（１５）〕を示す。ただし、本発明はこれらに限定するものではない。
【０１５３】
【化２】
2009058871.tif 000003
【０１５４】
【化３】
2009058871.tif 000004
【０１５５】
【化４】
2009058871.tif 000005
【０１５６】
【化５】
2009058871.tif 000006
【０１５７】
本発明に使用しうるフッ素原子と重合性不飽和二重結合を有する高分子化合物の分子量（Ｍｗ）としては０．１万から１００万の範囲が好ましく、２０００から１０万の範囲がより好ましく、２０００から４万が最も好ましい。この分子量の範囲において、優れた撥インク性効果と、溶液に対する溶解性を達成し得る。分子量が１０００未満では撥インク性と溶解性の両立が困難となり好ましくない。１００万より大きいと溶解性が劣り、好ましくない。
【０１５８】
（６）＜重合性基を有する撥インク性化合物溶液に浸して露光する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、パターン形成後の離画壁を、重合性基を有する撥インク性化合物に接触させ、接触させた状態で基板の離画壁の形成された側から離画壁上面を露光する方法がある。露光することにより、重合性基を有する撥インク性化合物を離画壁上面に固定することができる。
【０１５９】
〔重合性基を有する撥インク性化合物〕
本工程において、パターンを形成した基板に接触させる撥インク性化合物は、重合性基と、撥インク性の官能基を有する化合物であれば、如何なるものも用いることができるが、それらは、モノマー、マクロマー、オリゴマーなどのいずれの形態を有するものであってよい。
【０１６０】
上記の要件を満足するような重合性撥インク性化合物としては、前述のフッ素含有モノマーや上述した含ケイ素化合物を挙げることができる。
【０１６１】
フッ素含有モノマー、シリコーン含有モノマーなどの重合性撥インク性化合物を、離画壁上面に固定する方法について説明する。
離画壁上面に重合性撥インク性化合物を接触させ、露光すればよい。このとき、重合性撥インク性化合物を単独で付与するいわゆる無溶媒で実施してもよいが、他の溶剤や添加剤を含有する組成物として接触させてもよい。ハンドリング性の観点から、このような重合性撥インク性化合物が溶解するような溶媒で希釈することもできる。ここで用いる溶媒には特に制限はないが、メタノール、アセトン、メチルエチルケトン、エタノール、プロパノール、等が好ましい。
離画壁上面に重合性撥インク性化合物を接触させる方法としてはパターン形成後の離画壁基板を重合性撥インク性化合物の液（溶液）に浸すのが簡便である。この場合、露光後、基板の洗浄を行うことが好ましい。
【０１６２】
本発明の離画壁においては、撥インク性化合物が含フッ素化合物及び／又は含ケイ素化合物であることが好ましい。
撥インク性化合物として含フッ素化合物を用いる場合、炭素数４以上１０以下のパーフルオロアルキル基を含む化合物を含フッ素化合物として用いることが好ましい。この場合、ＥＳＣＡで測定した離画壁の上表面のフッ素原子数／炭素原子数は０．１０以上であることが好ましく、０．３０以上であることがさらに好ましい。
【０１６３】
撥インク性化合物として含ケイ素化合物を用いる場合、シリコーンを含ケイ素化合物として用いることが好ましい。この場合ＥＳＣＡで測定した離画壁の上表面のケイ素原子数／炭素原子数は０．１０以上であることが好ましく、０．３０以上であることがさらに好ましい。
【０１６４】
上記（１）〜（６）の撥インク処理方法の中でも、「工程の簡便さ」という観点では（１）と（５）が、撥インク性に異方性を持たせるという観点では（５）が、強力な撥インク性という観点では（６）がそれぞれ好ましい。
【０１６５】
＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタは、基板と、前記基板上に着色液体組成物の液滴を付与して形成された複数の着色画素と、前記着色画素を離画する本発明の離画壁と、を有する。
本発明のカラーフィルタの製造方法は特に限定されるものではなく上記現像工程にて形成された離画壁の空隙に対し、ＲＧＢ各画素を形成する為の着色液体組成物の液滴をその空隙に付与する工程を有するものであれば特に限定されるものではない。この着色液体組成物の液滴を空隙に付与する方法としては、インクジェット法やストライプギーサー塗布法など公知のものを使用することができ、インクジェット法がコスト的に好ましい。
【０１６６】
また、このように各画素を形成する前に、離画壁の形状を固定化してもよく、その手段は特に限定されないが以下のようなものが挙げられる。すなわち、１）現像後、再露光を行う（ポスト露光と呼ぶことがある）２）現像後、加熱処理を行う等である。ここで言う加熱処理とは離画壁を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射するということをさす。
【０１６７】
ここで、上記１）を行う場合の露光量は、５００ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく１０００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく３０００ｍＪ／ｃｍ２以上が最も好ましい。５００ｍＪ／ｃｍ２以下では形状が丸くなって、インクはみだしや混色、画素境界乱れが起こりやすくなり好ましくない。再露光を行う際の露光量に上限は無いが、露光量が多いと露光に時間がかかりすぎるという点で１００００ｍＪ／ｃｍ２以下とすることが好ましい。貧酸素雰囲気下である場合にはそれより低い露光量で露光することも可能である。
また、同じく２）を行う場合の加熱温度は１００〜２５０℃、好ましくは１２０〜２４０℃程度であり、その加熱時間は、１０〜２０分程度である。温度が１００℃より低い場合には離画壁の硬化が進まない懸念があり、２５０℃より大きい場合には離画壁形状が崩れてしまう懸念がある。
【０１６８】
各画素形成のために用いるインクジェット法に関しては、インクを熱硬化させる方法、光硬化させる方法、あらかじめ基板上に透明な受像層を形成しておいてから打滴する方法など、公知の方法を用いることができる。
【０１６９】
好ましくは、各画素を形成した後、加熱処理（いわゆるベーク処理）する加熱工程を設ける。即ち、画素形成後の基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時間は、離画壁用感光性組成物の組成や形成された層の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、強度を獲得する観点から、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【０１７０】
このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、図１に示すような一般的なデルタ配列（図１（Ａ））であっても格子構造もしくはストライプ構造（図１（Ｂ））であってもよい。
【０１７１】
本発明に用いるインクジェット方式としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色材は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開平１０−１９５３５８号公報［０００９］〜［００２６］に記載のインクジェット用組成物を使用することもできる。
本発明におけるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、顔料などの着色剤を含有させた離画壁用感光性組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１７２】
また、本発明において用いることができるインクとしては、少なくともバインダー、及び、２官能乃至３官能のエポキシ基含有モノマーを含有するカラーフィルタ用熱硬化性インクも好適なものとして用いることができる。
【０１７３】
本発明におけるカラーフィルタは、インクジェット方式で画素形成されたカラーフィルタであることが好ましく、ＲＧＢ３色のインクを吹き付けて３色のカラーフィルタを形成することが好ましい。
このカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０１７４】
カラーフィルタ作製後、全面に耐性向上のためにオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、インクＲ，Ｇ，Ｂの画素を保護するとともに、表面を平坦にすることができるが、工程数が増えるという観点から、設けないことが好ましい。
【０１７５】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、また、カラーフィルタ用光硬化性組成物の樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れていることからアクリル系樹脂組成物が望ましい。
オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号００１８〜００２８に記載のものや、オーバーコート剤の市販品として、ＪＳＲ社製「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」）が挙げられる。
【０１７６】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、本発明のカラーフィルタを備えることを特徴とする。
本発明の表示装置としては液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０１７７】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明の離画壁はこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行  ）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【０１７８】
本発明の表示装置はテレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０１７９】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表し、分子量とは重量平均分子量のことを示す。
【０１８０】
［離画壁用顔料分散液の製法］
＜銀微粒子分散液（分散液Ｋ−１）の調製＞
１ＮのＮａＯＨ溶液によりｐＨ９．０に調整された水１０００ｍＬに下記のアルカリ溶解性ポリマーＰＯ−１を６．０×１０−３％（Ｗ／Ｗ）となるように添加して攪拌した。その後、１．０モル／Ｌ硝酸銀水溶液５０ｍＬを３０秒かけて添加し、その後１．０モル／Ｌ亜硫酸ナトリウム水溶液５０ｍＬと１．０モル／Ｌハイドロキノン水溶液２５ｍＬを３０秒かけ添加して銀微粒子液を得た。
前記銀微粒子液に、硝酸を滴下してｐＨ４に調整し銀微粒子を凝集沈降させた。
上記銀微粒子液の上澄み液を除去し、これに蒸留水７５０ｍＬを加えて１２０分静置し再び上澄みを除去した。これを４回繰り返した。
【０１８１】
【化６】
2009058871.tif 000007
【０１８２】
上記銀微粒子にメチルエチルケトンを銀が８質量％となるよう加え、ブランソン社製「ソニファー（Ｓｏｎｉｆｉｅｒ）ＩＩ型」超音波ホモジナイザーを用いて２０ｋＨｚの超音波を５分間照射した。
その後、ブランソン社製「モデル（Ｍｏｄｅｌ）２０００ｂｄｃ−ｈ  ４０：０．８型超音波ホモジナイザー」で４０ｋＨｚの超音波を１０分間照射して、銀微粒子分散液（分散液Ｋ−１）を得た。
上記超音波照射の間は、上記液が２５℃に維持されるよう、ヤマト科学社製クールニクスＣＴＷ４００により冷却した。
【０１８３】
＜銀錫合金微粒子分散液（分散液Ｋ−２）の調製＞
純水１０００ｍｌに、酢酸銀（Ｉ）２３．１ｇ、酢酸スズ（ＩＩ）６５．１ｇ、グルコン酸５４ｇ、ピロリン酸ナトリウム４５ｇ、ポリエチレングリコール（分子量３，０００）２ｇ、及びＥ７３５（アイエスピー・ジャパン（株）製；ビニルピロリドン／酢酸ビニルコポリマー）５ｇを溶解し、溶液１を得た。  別途、純水５００ｍｌにヒドロキシアセトン３６．１ｇを溶解して、溶液２を得た。
【０１８４】
上記より得た溶液１を２５℃に保ちつつ激しく攪拌しながら、これに上記の溶液２を２分間かけて添加し、緩やかに６時間攪拌を継続した。すると、混合液が黒色に変化し、銀錫合金部を有する金属粒子（以下、「銀錫合金部含有粒子」ということがある。）を得た。次いで、（Ａ）の操作により銀錫合金部含有粒子を分散した。
（Ａ）操作
前記金属粒子を含有する液を遠心分離して銀錫合金部含有粒子を沈殿させた。遠心分離は、１５０ｍｌの液量に小分けして、卓上遠心分離機Ｈ−１０３ｎ（（株）コクサン製）により回転数２，０００ｒ．ｐ．ｍ．で３０分間行なった。そして、上澄みを捨て全液量を１５０ｍｌにし、これに純水１３５０ｍｌを加え、１５分間攪拌して銀錫合金部含有粒子を再び分散させた。この操作（Ａ）を２回繰り返して水相の可溶性物質を除去した。
【０１８５】
その後、この液に対して更に遠心分離を行ない、銀錫合金部含有粒子を再び沈殿させた。遠心分離は前記同様の条件にて行なった。遠心分離した後、前記同様に上澄みを捨て全液量を１５０ｍｌにし、これに純水８５０ｍｌ及びアセトン５００ｍｌを加え、さらに１５分間攪拌して銀錫合金部含有粒子を再び分散させた。
【０１８６】
再び前記同様にして遠心分離を行ない、銀錫合金部含有粒子を沈殿させた後、前記同様に上澄みを捨て液量を１５０ｍｌにし、これに純水１５０ｍｌ及びアセトン１２００ｍｌを加えて更に１５分間攪拌し、銀錫合金部含有粒子を再び分散させた。そして再び、遠心分離を行なった。このときの遠心分離の条件は、時間を９０分に延ばした以外は前記同様である。  その後、上記銀錫合金微粒子にメチルエチルケトンを銀錫合金が８質量％となるよう加えた。これをアイガーミル（アイガーミルＭ−５０型（メディア：直径０．６５ｍｍジルコニアビーズ１３０ｇ、アイガー・ジャパン（株）製）を用いて６時間分散し、銀錫合金部含有粒子の分散液（分散液Ｋ−２）を得た。
この銀錫合金部含有粒子は、ＡｇＳｎ合金（２θ＝３９．５°）とＳｎ金属（２θ＝３０．５°）とからなる複合体であることがＸ線散乱により確認された。ここで、カッコ内の数字はそれぞれの（ＩＩＩ）面の散乱角である。この微粒子分散液を透過型電子顕微鏡で観察した結果、分散平均粒径は数平均粒子サイズで約４０ｎｍであった。
【０１８７】
＜カーボンブラック分散液（分散液Ｋ−３）の調製＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０ｃｃ中に下記ＰＯ−２を０．５ｇとポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）を入れ３０分間攪拌した。そして、攪拌しながらカーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）１３ｇを入れ、３０分間攪拌し、カーボンブラック分散液を得た。
【０１８８】
【化７】
2009058871.tif 000008
【０１８９】
［離画壁用組成物（Ｂ−１）の製法］
離画壁用組成物Ｂ−１は、まず表１記載の量の分散液Ｋ−１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭで１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）アミノ−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）において１５０ＲＰＭで３０分間攪拌することによって得られる。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０１９０】
【表１】
2009058871.tif 000009
【０１９１】
＜バインダー１＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比
のランダム共重合物、分子量３．８万）                            ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３％
【０１９２】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）                                                    ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ２４％
【０１９３】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                                  ３０％
【０１９４】
【化８】
2009058871.tif 000010
【０１９５】
・メチルエチルケトン                                                  ７０％
【０１９６】
［離画壁用組成物（Ｂ−２）の製法］
分散液Ｋ−１の代わりに分散液Ｋ−２を用い、表１の組成とする以外は［離画壁用組成物（Ｂ−１）の製法］と同様にして離画壁用組成物Ｂ−２を得た。
【０１９７】
［離画壁用組成物（Ｂ−３）の製法］
分散液Ｋ−１の代わりに分散液Ｋ−３を用い、表１の組成とする以外は［離画壁用組成物（Ｂ−１）の製法］と同様にして離画壁用組成物Ｂ−３を得た。
【０１９８】
［実施例１］（転写法）
［感光性転写材料Ｋ１の製法］
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる酸素遮断層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記離画壁用組成物Ｂ−１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの酸素遮断層と、乾燥膜厚が３．０μｍの離画壁用感光性組成物層を設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断層とブラック（Ｋ）の離画壁用感光性組成物層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料Ｋ１とした。
【０１９９】
＜熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１＞
・メタノール                                                        １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ６．３６部
・メチルエチルケトン                                                ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート
／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                  １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）                                                        ９．１部
・フッ素系ポリマー（Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２  ４０部と
Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２  ５５部と
Ｈ（ＯＣＨ２ＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２  ５部との共重合体、平均分子量３万、メチルエチルケトン３０％溶液、大日本インキ化学工業製、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ）                                                              ０．５４部
【０２００】
＜酸素遮断層用塗布液：処方Ｐ１＞
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）                                                                ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）      １４．９部
・蒸留水                                                              ５２４部
・メタノール                                                          ４２９部
【０２０１】
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
得られたシランカップリング処理ガラス基板に、上記の製法にて作製された感光性転写材料Ｋ１から保護フィルムを除去し、除去後に露出した離画壁用感光性組成物層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と熱可塑性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０２０２】
次いで、０．５％ＫＯＨ水溶液にて現像して、離画壁用感光性組成物層の未露光部分及び酸素遮断層、熱可塑性樹脂層を除去しガラス基板上にブラックマトリックスパターン様離画壁を得た。次に、基板の離画壁の形成された面側から露光量３１００ｍＪ／ｃｍ２で全面露光した（ポスト露光）。つづいて、２２０℃で１０分間熱処理し、光学濃度４．０の離画壁を得た。
【０２０３】
次いで、下記の方法により撥インク処理を行った。
フッ素系モノマー２−（パーフルオロオクチル）−エチルメタクリレート（ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣ−８、ユニマテック製）をプロパノールに溶かして５％の溶液とした。
離画壁基板に上記ＦＡＭＡＣ−８／プロパノール溶液を落とし上から石英板をかぶせて均一な液膜とした。  この状態で、超高圧水銀灯を有す露光機（ウシオ電機（株）製）で、全面露光した。露光量は３０００ｍＪ／ｃｍ２とした。
露光後に石英版をはずし、離画壁基板をプロパノールで洗浄した。
その結果、離画壁上表面だけにフッ素化合物が存在する離画壁を形成することができた。
【０２０４】
−画素用着色インク（着色液体組成物）の調製−
下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
〈赤色画素用着色インク組成物の組成〉
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                                  ５部
・高分子分散剤（ＡＶＥＣＩＡ社製ソルスパース２４０００）                  １部
・バインダー（グリシジルメタクリレート−スチレン共重合体）                ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、
油化シェル社製エピコート１５４）                ２部
・第二エポキシ樹脂（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）          ５部
・硬化剤（トリメリット酸）                                                ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                                  ８０部
【０２０５】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２０６】
次に上記記載のＲ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、上記で得られたカラーフィルタ基板の離画壁で区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルタを作製した。画像着色後のカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることでブラックマトリックス、各画素ともに完全に硬化させた。
【０２０７】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは離画壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。別途、対向基板としてガラス基板を用意し、カラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施した。
このカラーフィルタのＩＴＯ抵抗を測定した（三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定）ところ、１２Ω／□という非常に低い値を示した。これは、本発明を用いることで予期せずブラックマトリックス表面の平坦性が高まったためと考えられる。
【０２０８】
前記ＩＴＯの透明電極上の離画壁の上部に相当する部分にフォトスペーサを設け、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置にエポキシ樹脂のシール剤を印刷すると共に、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板を熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０２０９】
［実施例２］
離画壁用組成物Ｂ−１を用いる代わりに離画壁用組成物Ｂ−２を用いること以外は実施例１と同様の方法で離画壁、カラーフィルタ及び液晶表示装置を得た。
【０２１０】
［実施例３］
「ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣ−８」の代わりにケイ素含有モノマーＦＭ０７５５（信越化学工業株式会社製）を用いること以外は実施例１と同様の方法で離画壁、カラーフィルタ及び液晶表示装置を得た。
【０２１１】
［実施例４］（塗布法）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上表に記載の組成よりなる離画壁用組成物Ｂ−１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）にて基板周囲の不要な塗布液を除去し、１２０℃３分間プリベークして離画壁用感光性組成物層を得た。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と離画壁用感光性組成物層との間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０２１２】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、離画壁用感光性組成物層の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍希釈したものにて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量１０５０ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光を行って光学濃度４．０の離画壁を得た。
この離画壁を用いた以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ及び液晶表示装置を得た。
【０２１３】
［比較例１］
離画壁用組成物Ｂ−１を用いる代わりに離画壁用組成物Ｂ−３を用いること以外は実施例１と同様の方法で離画壁、カラーフィルタ及び液晶表示装置を得た。
【０２１４】
［比較例２］
「ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣ−８」を用いた撥インク処理を行わないこと以外は実施例１と同様の方法で離画壁、カラーフィルタ及び液晶表示装置を得た。
【０２１５】
［比較例３］
離画壁用感光性組成物層の乾燥膜厚を１．０μｍとした以外は実施例１と同様の方法で離画壁、カラーフィルタ及び液晶表示装置を得た。
【０２１６】
［評価］
上述のようにして得られた離画壁、カラーフィルタ及び液晶表示装置を用いて下記評価を実施した。得られた結果を表２に示す。
【０２１７】
〔混色、白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタの１００個の画素について下記の評価を行った。混色の評価は、光学顕微鏡による２００倍の観察によって行った。混色はＧヘッドの画素開口部中心からのずれ量ｘを０から４０μｍまでずらして描画したカラーフィルタのうち混色あるいは離画壁表面のインク残りが観察されないカラーフィルタの最大の着弾位置ずれ量を混色の目安として評価した。
混色の評価基準は以下の通りである。
◎：インク残りが観察される着弾位置ずれ量が２５μｍ以上。
○：インク残りが観察される着弾位置ずれ量が２０μｍ以上。
△：インク残りが観察される着弾位置ずれ量が１０μｍ以上。
×：インク残りが観察される着弾位置ずれ量が５μｍ未満。
【０２１８】
得られたカラーフィルタの５００個の画素について下記の評価を行った。白抜けの評価は、光学顕微鏡による２００倍の観察によって行った。
白抜けの評価基準は以下の通りである。
◎：白抜けが５箇所未満。
○：白抜けが５箇所以上１０箇所未満。
△：白抜けが１０箇所以上５０箇所未満。
×：白抜けが５０箇所以上。
【０２１９】
（表示装置の評価）
目視により、下記基準に基づいて液晶表示装置を評価した。
＜評価基準＞
良      ：  正常
難あり  ：  ムラ有り
【０２２０】
（撥インク性化合物の検出）
各実施例／比較例において、パターン露光と同じ露光量でベタ露光とした測定用ベタサンプルを作製し、その表面の原子数比をＥＳＣＡ（アルバック−ファイ製、ＰＨＩ−５３００、検出角度４５°）で測定した。実施例３においては、（ケイ素原子数／炭素原子数）、それ以外は（フッ素原子数／炭素原子数）を測定した。
【０２２１】
（接触角）
接触角は、協和界面科学（株）製の接触角計ＤＭ３００により測定することができる。測定条件は上述のとおりである。
【０２２２】
（離画壁の高さ）
接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いることにより、形成された離画壁の高さを測定することができる。
【０２２３】
【表２】
2009058871.tif 000011
【０２２４】
実施例のカラーフィルタは混色が無かった。これは、撥インク性化合物が離画壁の上表面に存在する効果（即ち、離画壁の上表面が撥インク性を有する効果）であると推察される。
また僅かなインクはみだしも観察されず、ＲＧＢ画素の境界はきわめてはっきりとした直線（マスクどおり）であった。
比較例のカラーフィルタは、混色が数多くあった。
【産業上の利用可能性】
【０２２５】
本発明によれば、各画素を形成するとき、各色インクのにじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良が防止でき、良好なカラーフィルタを得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０２２６】
【図１】カラーフィルタのパターンを示す概念図である。
【図１】
2009058871.tif 000012