(57)【要約】【課題】残留電圧の増大を抑えると共に、前履歴が残ることで生じる残像現象（ゴースト）を抑制し、良好な画質を長期間にわたって安定的に得られる電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供すること。【解決手段】導電性支持体１上に下引き層２及び感光層３が順次積層されてなり、下引き層２が、金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子を含むことを特徴とする電子写真感光体である。金属酸化物粒子は、酸化亜鉛粒子であることが望ましい。【選択図】図１
2009058603.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に下引き層及び感光層が順次積層されてなり、
前記下引き層が、金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子を含むことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記金属酸化物粒子が、酸化亜鉛粒子であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段、及び前記静電潜像をトナーにより現像する現像手段から選択される１種と、
を有し、画像形成装置本体に脱着されることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記静電潜像をトナーにより現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写する転写手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式は高速でかつ高印字の品質が得られることから、複写機およびレーザービームプリンター等の画像形成装置において利用されている。該画像形成装置において用いられる電子写真感光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機電子写真感光体が主流となっており、電子写真感光体の構成も電荷輸送材料や電荷発生材料を別個の層として積層した機能分離型の電子写真感光体へと変遷し、性能が向上している。
【０００３】
この機能分離型の電子写真感光体の場合、現在ではアルミニウム基体（導電性基体）の上に下引き層をまず形成し、その後、電荷発生層及び電荷輸送層からなる感光層を形成する場合が多い。
【０００４】
この場合、電子写真感光体の繰り返し使用時の安定性や環境安定性の改善に関しては、電荷発生層や電荷輸送層のみならず下引き層にも依存する部分が多く、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下引き層が要求されている。
また、画質欠陥の防止に関して下引き層が果たす役割は大きく、基体の欠陥や汚れあるいは電荷発生層等上層の塗膜欠陥やむらに起因する画質欠陥を抑制するために下引き層は重要な機能層である。
【０００５】
下引き層を厚膜化し基体の欠陥を隠蔽し、かつ電気特性上の安定を得るために、導電性微粉末を含有する層を基体上に塗布形成する方法がこれまで講じられてきている。
その一つはアルミニウム基体上に導電粉分散型の導電層を形成しさらにその上層に下引き層を形成する方法である。この場合、導電層で基材隠蔽を行うとともに抵抗調整を行い、ブロッキング（電荷注入制御）機能は下引き層で持たせる。
【０００６】
また別の方法として、ブロッキング（電荷注入制御）能と抵抗調整能との機能を両有する導電粉分散層を基体上に塗布し、ブロッキング（電荷注入制御）層と抵抗調整層との機能を両有する下引き層として使用する方法である。前者の下引き層の方法に比べ後者の下引き層の方が積層数は１層少なくてすむため、電子写真感光体の製造プロセスを簡略化することができコストも低減される。
【０００７】
ところで、下引き層に関しては、エレクトロンおよびホールを問わず、深いトラップサイトがなく、導電性の高い下引き層が望まれることから、最近多くの検討が行われてきている。例えば、下引き層から感光層へのホール注入阻止性を向上させる手段としては、アミノ基を含有するシランカップリング剤を用いてホールブロッキング性を向上させる手段などが提案されてきている（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００８】
また、感光層から下引き層へのエレクトロン注入性を向上させる手段としては、下引き層に電子受容性物質や電子輸送性物質などの添加剤を含有させる手法について提案されている（例えば、特許文献３乃至５参照）。
【特許文献１】特開平０８―１６６６７９号公報
【特許文献２】特開平１１―１３３６４９号公報
【特許文献３】特開平０７−１７５２４９号公報
【特許文献４】特開平０８−４４０９７号公報
【特許文献５】特開平０９−１９７７０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の課題は、繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく、前履歴が残ることで生じる残像現象（以下、ゴーストと称する）の発生が抑えられる電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性支持体上に下引き層及び感光層が順次積層されてなり、
前記下引き層が、金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子を含むことを特徴とする電子写真感光体。
【００１１】
請求項２に係る発明は、
前記金属酸化物粒子が、酸化亜鉛粒子であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１２】
請求項３に係る発明は、
請求項１又は２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段、及び前記静電潜像をトナーにより現像する現像手段から選択される１種と、
を有し、画像形成装置本体に脱着されることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【００１３】
請求項４に係る発明は、
請求項１又は２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記静電潜像をトナーにより現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写する転写手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく、ゴーストの発生が抑えられる電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（電子写真感光体）
実施形態に係る電子写真感光体は、導電性支持体上に下引き層及び感光層が順次積層されてなり、下引き層が、金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子を含むことを特徴としている。
【００１６】
実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成とすることで、繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく、ゴーストの発生が抑えられる。この理由の詳細は不明であるものの、推定される理由としては次のようなものである。酢酸亜鉛粒子は、通常、有機溶剤中で有機合成により作製されることから、水中で合成する金属酸化物粒子に比べ、不純物の混入が抑制されて作製され、純度が高いものであると考えられる。このため、金属酸化物粒子と共に酢酸亜鉛粒子を併用することで、当該酢酸亜鉛が下引き層中の結着樹脂（結着樹脂）や当該下引き層上に形成される感光層の有機材料との接触性を改善し、電荷の移動をスムーズに行わせることが可能となるからと推測している。すなわち、下引き層中において、酢酸亜鉛粒子を存在させることで、導電材となる金属（即ち酢酸亜鉛粒子）と感光層との接触がより確保されていることを示唆しているものと思われる。この如く、理由により、実施形態に係る電子写真感光体は、上記効果が奏されると考えられる。
以下、実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ説明する。図１は、実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。図２乃至図４は、他の実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。図１に示す電子写真感光体７は、導電性基材１と、この基材上に形成された下引き層２と、当該下引き層２の上に形成された感光層３（単層型の感光層）と、から構成されている。図２に示す電子写真感光体７は、図１に示す電子写真感光体における感光層３が電荷発生層４と電荷輸送層５との２層構造である形態である。また、図３乃至図４に示す電子写真感光体７は、図１乃至図２に示す電子写真感光体における感光層３上にさらに保護層６を設けた形態である。
【００１７】
以下、各部材について説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００１８】
まず、導電性基体について説明する。導電性基体としては、例えば、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属ドラム；シート、紙、プラスチック、ガラス等の基材上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、インジウム等の金属を蒸着したり、酸化インジウム、酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着したりしたもの；上記基材に金属箔をラミネートしたもの又はカーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン粉、金属粉、沃化銅等を結着樹脂に分散し、それを塗布することによって導電処理したもの；等が用いられる。
【００１９】
導電性基体１の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。尚、導電性基体１を金属パイプとした場合、表面は素管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング等の処理が行われていてもよい。
【００２０】
次に、下引き層について説明する。下引き層には、金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子が含まれる。
【００２１】
金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子の合計の含有量は任意に設定できるが、結着樹脂に対する体積比で２０％以上６０％以下程度が望ましく、より望ましくは、３０％以上５０％以下であり、さらに望ましくは３５％以上４５％以下である。この含有量が少なすぎる場合は、導電性を確保できなかったり、酢酸亜鉛粒子の効果を十分に期待でききないことがあり、多すぎる場合は、残留電位の上昇等の影響が悪化したり。均一な分散性を確保できないことがある。
【００２２】
下引き層には、酢酸亜鉛粒子と金属酸化物粒子とを併用することで、より繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく、ゴーストの発生が抑えられる。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化亜鉛粒子、酸化錫粒子、酸化チタン粒子が挙げられる。これらの中でも、より繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく、ゴーストの発生が抑えられる点から、酸化亜鉛粒子が特に望ましい。
【００２３】
特に、より、電気特性の変動が少なく、ゴーストの発生が抑えられる点から、酢酸亜鉛粒子と金属酸化物粒子との組み合わせとしては、酢酸亜鉛粒子と酸化亜鉛粒子との組み合わせである。
【００２４】
酢酸亜鉛粒子と共に金属酸化物粒子の含有量は、全体量が上記含有量を満たすことがよい。また、金属酸化物粒子と酢酸亜鉛粒子との比は任意に設定できるが、酢酸亜鉛粒子の含有量は、金属酸化物粒子に対して体積比で０.１％以上２０％以下程度が望ましく、より望ましくは、１％以上１０％以下である。この含有量が少ない場合、金属酸化粒子の効果が十分に期待できないことがあり、多すぎると導電性が悪化する場合がある。
【００２５】
金属酸化物粒子としては、体積抵抗率が１×１０２Ω・ｃｍ以上１×１０１３Ω・ｃｍ以下の範囲の粉体が望ましく用いられる。その理由は、下引き層が、リーク耐性獲得のために適切な抵抗を有していることが望ましいためである。なお、金属酸化物粒子の体積抵抗率が１×１０２Ω・ｃｍより低いと十分なリーク耐性が得られにくい傾向があり、１×１０１１Ω・ｃｍよりも高いと残留電位の上昇を引き起こしやすくなる傾向がある。
【００２６】
酢酸亜鉛粒子及び金属酸化物粒子としては、表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなどを２種以上混合して用いることもできる。金属酸化物粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０以上１０００以下）の範囲であることが望ましい。
【００２７】
酢酸亜鉛粒子及び金属酸化物粒子は、所望の電子写真特性を得るために適当ならば、表面処理を施して下引き層に含有させてもよい。表面処理剤としては所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択することができる。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。さらに、アミン系シランカップリング剤は層の体積抵抗率を適当に調整でき、なおかつ抵抗の環境変動が小さくなることから、より望ましく用いられる。
【００２８】
アミン系シランカップリング剤としては所望の電子写真感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いることができるが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。上記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
チタネート系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート等が挙げられる。
【００３１】
アルミネート系カップリング剤としては、例えば、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
【００３２】
酢酸亜鉛粒子及び金属酸化物粒子の表面処理剤としてシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤を用いる場合、これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
【００３４】
例えば、乾式法にて表面処理を施す場合には酢酸亜鉛粒子及び金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接あるいは有機溶媒に溶解させたシランカップリング剤を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。添加あるいは噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があり、望ましくない。添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００３５】
湿式法としては、酢酸亜鉛粒子及び金属酸化物粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加し攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理される。溶剤除去方法はろ過あるいは蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては表面処理剤を添加する前に金属酸化物粒子含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いることもできる。
【００３６】
以上、シランカップリング剤における表面処理方法を記載したが、チタネート系カップリング剤やアルミニウム系カップリング剤等の表面処理剤についても同様の方法で表面処理を施すことができる。
【００３７】
下引き層に含有されるアミン系シランカップリング材としては、所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。また、添加系であっても、表面処理系であってもかまわない。公知のアミン系シランカップリング剤を用いることができる。具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
下引き層に含有される結着樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いることができる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特に、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。
【００３９】
下引き層には、フェノール系材料（例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノール（ＢＨＴ）等）やフェニルアミン系材料（例えば、トリフェニルアミン等）を含んでもよい。但し、フェノール系材料やフェニルアミン系材料を含ませる下引き層に含ませる場合、下引き層の厚みは５μｍ以上であることが望ましい。
下引き層に、フェノール系材料やフェニルアミン系材料を含ませることで、従来の発想とは逆に積極的に適当な量のホールトラップサイトが下引き層に形成され、ゴーストの発生が抑制されやすくなる。形成されるホールトラップサイトは、容易に解消される浅いエネルギー順位のトラップサイトであることがよい。エネルギー的に深いトラップサイトでは、電子写真感光体の前サイクルの電気的履歴を打ち消すように電荷移動できないので、ゴースト改善機能が低減される。また、トラップサイトの量があまりに多すぎると、残留電位上昇やかぶり、黒点等で画像品質を落とすことにつながるので、適当量であることが望ましいが、ゴースト解消という観点から考えた場合、どのような量でも改善効果が確認できる。
【００４０】
このゴースト改善効果は、理由は必ずしも明確ではないが以下の通り推察される。下引き層中に存在するフェノール系材料やフェニルアミン系材料は、ホール輸送を繰り返す下引き層中では、エネルギー順位の低いホールトラップサイトを形成する。厚膜の下引き層で、適当量のトラップサイトを形成した場合が、２次障害なく改善できる。導電粉があることで、トラップされたホールキャリアは、容易に移動できる。前サイクルの履歴で、マイナス電荷が感光層中に残留する場合は、それらを打ち消すように下引き層中のホールトラップサイトからプラス電荷が移動することで、前サイクルの履歴を打ち消す。一方で、前サイクルの履歴で、プラス電荷が感光層中に残留する場合は、下引き層中のプラス電荷の影響でそのプラス電荷の差がわかりにくくなることで、前サイクルの履歴が発生しなくなると考える。
【００４１】
ここで、フェノール系材料又はフェニルアミン系材料の量は任意に設定できるが、結着樹脂との質量比で０．０１％以上１０％程度が望ましい。それより少ない場合は、ホールトラップサイト量として十分な量を確保できないことがある。一方、それよりも多い場合は、残留電位上昇、かぶり・微小黒点等の２次障害が発生する懸念が発生することがある。
【００４２】
下引き層は、下引き層を構成する各成分を溶媒に分散させて得られる下引き層形成用塗布液を用いて形成することができる。なお、下引き層形成用塗布液中の導電性粒子と結着樹脂との配合比（体積比）は、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できるが、２０：８０乃至６０：４０とすることが望ましい。
【００４３】
下引き層形成用塗布液には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を加えることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、アリザリン等のアントラキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【００４４】
シランカップリング剤は、抵抗調整や下引き層から感光層３への注入障壁形成を狙いとして上記金属酸化物粒子の表面処理や下引き層への添加のために用いることができるが、分散性改善や感光層３の塗れ性改善や環境安定性を高める添加剤として、下引き層形成用塗布液に更に添加して用いることもできる。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、等が挙げられる。
【００４５】
ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００４６】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００４７】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００４８】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。
【００４９】
下引き層形成用塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。より具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。これらの溶剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。２種以上混合して用いる場合、混合溶媒として結着樹脂とフェノール系材料又はフェニルアミン系材料を溶かすことができる溶媒であれば、いかなる組み合わせでも使用することが可能である。
【００５０】
下引き層形成用塗布液の作製は、結着樹脂、導電性粒子、シランカップリング剤、電子受容性物質等の各成分を溶剤とともに混合することで行うことができる。この際、先に結着樹脂を溶剤に溶解した後、導電性粒子、シランカップリング剤、電子受容性物質等を加えてもよい。
【００５１】
下引き層形成用塗布液中に導電性粒子等を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。
【００５２】
本実施形態においては、酢酸亜鉛粒子や金属酸化物粒子と共に、必要に応じて添加される電子受容性物質等の固形物を下引き層中にできる限り均一に分散させることが望ましく、その観点からは一定以上のせん断力で一定時間以上分散させることが望ましい。
【００５３】
上記分散条件としては、例えば直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルによる分散では、ガラスビーズの充填率を７０体積％以上９５体積％以下程度として、０．１時間以上１００時間以下分散させることが望ましい。
【００５４】
さらに、下引き層を形成する際の下引き層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【００５５】
なお、下引き層形成用塗布液に電子受容性物質を配合した際に、導電性粒子と電子受容性物質とを反応させる場合には、上述した下引き層形成用塗布液の分散工程において、導電性粒子と、この導電性粒子と反応可能な基を有する電子受容性物質とを反応させても、塗布膜の乾燥、硬化中に反応させても良いが、塗布液中で反応させた方が均一に反応させることができるため望ましい。
【００５６】
下引き層は、下引き層形成用塗布液を導電性基体上に塗布し、乾燥により溶剤を除去することで形成することができる。
【００５７】
下引き層は、ビッカース強度が３５以上であることが望ましい。また、下引き層の体積抵抗率は１×１０６Ω・ｃｍ以上１×１０１３Ω・ｃｍ以下の範囲であることが望ましく、１×１０８Ω・ｃｍ以上１×１０１２Ω・ｃｍ以下の範囲であることがより望ましい。体積抵抗率が１×１０６Ω・ｃｍ未満では、十分な帯電電位が得られなかったり、リークが発生したりする傾向がある。また、体積抵抗率が１×１０１３Ω・ｃｍを超えると、繰り返し使用時に安定した電位特性を得ることが困難となる傾向がある。
【００５８】
下引き層は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定することができるが、厚さが１５μｍ以上であることが望ましく、１５μｍ以上５０μｍ以下であることがより望ましい。下引き層の厚さが１５μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることが困難となる傾向にあり、５０μｍを超えるときには、長期使用時に残留電位が増大しやすくなり、画像濃度異常を招きやすい傾向がある。
【００５９】
下引き層の表面粗さは、モアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）以上１／２λ以下に調整されることが望ましい。表面粗さ調整のために下引き層ａ中に樹脂などの粒子を添加することもできる。こうした樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等を用いることができる。また、表面粗さ調整のために下引き層ａを研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることができる。
【００６０】
次に、電荷発生層について説明する。電荷発生層は、例えば、電荷発生物質を下引き層上に真空蒸着する、或いは、電荷発生物質を含む分散液を下引き層に塗布することにより形成される。分散液の塗布により電荷発生層を形成する場合、電荷発生物質を有機溶剤、結着樹脂及び添加剤等とともに分散し、得られた分散液（電荷発生層形成用塗布液）を用いることができる。
【００６１】
電荷発生物質としては、公知の電荷発生物質のいずれも使用できる。具体的には、例えば、赤外光用の電荷発生物質としてフタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ系顔料、ペリレン及びジチオケトピロロピロールなどが挙げられ、可視光用の電荷発生物質として縮合多環顔料、ビスアゾ顔料、ペリレン、トリゴナルセレン及び色素増感した酸化亜鉛粒子等が挙げられる。これらの中で、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料を用いることが望ましい。このような顔料を用いることにより、高感度で、且つ、繰り返し安定性に優れる電子写真感光体を得ることができる。
【００６２】
フタロシアニン顔料及びアゾ系顔料は一般に数種の結晶型を有しているが、目的にあった電子写真特性が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に望ましく用いられる電荷発生物質としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン及びクロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。
【００６３】
フタロシアニン顔料結晶は、公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００６４】
上記の処理において使用される溶剤としては、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、及び、これら有機溶剤を複数種混合したもの、並びに、水と上記の有機溶剤とを混合したものが挙げられる。
【００６５】
溶剤は、顔料結晶１質量部に対して、１質量部以上２００質量部以下の範囲で用いるのが望ましく、１０質量部以上１００質量部以下の範囲で用いるのがより望ましい。処理温度は、−２０℃以上溶剤の沸点以下の範囲であることが望ましく、−１０℃以上６０℃以下の範囲であることが望ましい。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。磨砕助剤は顔料の質量に対して０．５倍以上２０倍以下用いることが望ましく、１倍以上１０倍以下用いることがより望ましい。
【００６６】
また、フタロシアニン顔料結晶は、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕とを組み合わせる処理により、結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が望ましく、濃度７０％以上１００％以下、望ましくは９５％以上１００％以下のものが使用され、溶解温度は、−２０℃以上１００℃以下、望ましくは−１０℃以上６０℃以下の範囲に設定される。硫酸の量は、フタロシアニン顔料結晶の質量に対して、１倍以上１００倍以下、望ましくは３倍以上５０倍以下の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが望ましい。
【００６７】
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は１種を単独で或いは２種以上混合して用いることができる。これらの中では、特にポリビニルアセタール樹脂が望ましく用いられる。
【００６８】
電荷発生層形成用塗布液における電荷発生物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。
【００６９】
電荷発生層形成用塗布液に含まれる有機溶剤としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。また、これらの溶剤は１種を単独で或いは２種以上混合して用いることができる。なお、溶剤を混合して用いる場合、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かすことができる溶剤であればいかなるものでも使用することが可能である。
【００７０】
電荷発生物質、結着樹脂及び有機溶剤を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等を使用した方法を用いることができる。更に、この分散の際に、電荷発生物質の粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることで、感光体の感度・安定性を向上させることができる。
【００７１】
また、電荷発生物質には、電気特性の安定性向上、画質欠陥防止などのために表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはシランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物などを用いることができるがこれに限定されるものではない。これらの具体例としては、上述した下引き層形成用塗布液の添加剤に用いる有機金属化合物が同様に用いられる。
【００７２】
電荷発生層形成用塗布液には、電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加することもできる。添加剤の具体例としては、上述の下引き層形成用塗布液に用いた添加剤を同様に用いることができる。
【００７３】
電荷発生層形成用塗布液を下引き層上に塗布する方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【００７４】
電荷発生層の膜厚は、０．０１μｍ以上３μｍ以下の範囲が望ましく、０．１μｍ以上１μｍ以下の範囲がより望ましい。
【００７５】
次に、電荷輸送層について説明する。電荷輸送層は、例えば、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有して構成される。
【００７６】
電荷輸送物質は特に限定されず、公知のものをいずれも使用できる。具体的な電荷輸送物質としては下記に示すものが挙げられる。
【００７７】
すなわち、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質、及び、以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。また、これらの電荷輸送物質は、１種又は２種以上を組み合せて使用できる。
【００７８】
また、電荷輸送物質としては、モビリティーの観点から、下記一般式（ａ−１）、（ａ−２）又は（ａ−３）で示される化合物が望ましい。
【００７９】
【化１】
2009058603.tif 000003
【００８０】
上記式（ａ−１）中、Ｒ３４はメチル基を、ｋ１０は０以上２以下の整数を示す。また、Ａｒ６及びＡｒ７はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。また、Ｒ３８、Ｒ３９、Ｒ４０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は、置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【００８１】
【化２】
2009058603.tif 000004
【００８２】
上記式（ａ−２）中、Ｒ３５及びＲ３５’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を、Ｒ３６、Ｒ３６’、Ｒ３７及びＲ３７’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ’）２を、Ｒ３８、Ｒ３９及びＲ４０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒ’は置換又は未置換のアリール基を示す。また、ｍ４及びｍ５はそれぞれ独立に０以上２以下の整数を示す。
【００８３】
【化３】
2009058603.tif 000005
【００８４】
ここで、上記式（ａ−３）中、Ｒ４１は水素原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ’’）２を示す。Ａｒ’’は、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ４２、Ｒ４２’、Ｒ４３、及びＲ４３’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【００８５】
電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、公知のものであればいかなるものでも使用することができるが、電気絶縁性のフィルム形成可能な樹脂が望ましい。例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリアクリルアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等の絶縁性樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材などの高分子電荷輸送材が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらのうち、電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が望ましく用いられる。
【００８６】
電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、電気特性低下や膜強度低下に注意して設定することが望ましく、例えば１０：１乃至１：５が望ましい。
【００８７】
電荷輸送層の形成に高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上述した結着樹脂と混合して成膜してもよい。この場合も、電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（質量比）は１０：１乃至１：５が望ましい。
【００８８】
電荷輸送層は、電荷輸送物質及び結着樹脂、並びに必要に応じてその他の添加剤を適当な溶剤に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布し乾燥することにより形成できる。
【００８９】
電荷輸送層形成用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、及び、これらの混合溶剤等が挙げられる。
【００９０】
電荷輸送物質、結着樹脂及び溶剤を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。
【００９１】
また、電荷輸送層形成用塗布液には塗膜の平滑性向上のためのシリコーンオイル等のレベリング剤を微量添加することもできる。更に、塗布液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時の凝集を防止するために分散助剤を少量添加することも有効である。分散助剤としては、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。
【００９２】
電荷輸送層形成用塗布液は、溶媒、結着樹脂及び電荷輸送材料を含む溶液の温度を０℃以上５０℃以下に維持しながら混合して調製することが望ましい。液温をかかる温度範囲内に制御する方法としては、例えば、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、塗布液を製造する室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗布液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗布液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗布液製造設備を作るなどの方法が利用できる。
【００９３】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、ワイヤーバー塗布法、グラビアコータ塗布法、ビード塗布法、カーテン塗布法、ブレード塗布法、エアーナイフ塗布法等の方法を用いることができる。
【００９４】
電荷輸送層の膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲が望ましく、１０μｍ以上４５μｍ以下の範囲がより望ましい。
【００９５】
ここで、電荷輸送層が電子写真感光体の最外層（感光層の導電性基体から最も遠い側に配置される層）である場合、すなわち、感光体が護層を備えていない場合、電荷輸送層が潤滑性粒子を含むことが望ましい。このように感光体の最外層に潤滑性を付与することで、感光体を磨耗しにくくしたり、傷がつきにくくすることができ、また、感光体表面に付着した現像剤のクリーニング性を高めることができる。潤滑性粒子としては、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子やポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子などが挙げられる。これらの潤滑性粒子は、２種以上を混合して用いることもできる。特に、フッ素系樹脂粒子は望ましく用いられる。
【００９６】
フッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体が挙げられる。これらは、１種あるいは２種以上を適宜選択して用いることができる。中でも、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が望ましい。
【００９７】
フッ素系樹脂粒子の一次粒径は、０．０５μｍ以上１μｍ以下の範囲内であることが望ましく、０．１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲内であることがより望ましい。一次粒径が０．０５μｍを下回るものは、分散時あるいは分散後の凝集が進みやすくなる。一方、１μｍを上回るものでは画質欠陥が発生し易くなる。
【００９８】
電荷輸送層におけるフッ素系樹脂粒子の含有量は、電荷輸送層の構成成分全量に対して０．１質量％４０質量％以下の範囲内であることが望ましく、１質量％以上３０質量％以下の範囲内であることがより望ましい。フッ素系樹脂粒子の含有量が０．１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による改質効果が十分に得られにくくなり、一方、４０質量％を越えると光通過性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じやすくなる。
【００９９】
フッ素系樹脂粒子を含む電荷輸送層は、上述の電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成することができる。
【０１００】
電荷輸送層形成用塗布液中にフッ素系樹脂粒子を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。
【０１０１】
また、フッ素系樹脂粒子を含む電荷輸送層形成用塗布液を調製する場合、フッ素系樹脂粒子と上記分散助剤とを少量の分散溶剤中であらかじめ混合、攪拌して分散させたものを、電荷輸送物質と結着樹脂と溶剤との混合液と混合し、攪拌した後、上記方法により更に分散させることも有効な調製手段である。
【０１０２】
次に保護層について説明する。保護層は、積層構造からなる電子写真感光体における帯電時の感光層（電荷輸送層）の化学的変化を防止したり、感光層（電荷輸送層）の機械的強度を向上させ、表面層の磨耗、傷などへの耐性をさらに改善したりするために設けられる。
【０１０３】
保護層としては、硬化性樹脂及び電荷輸送性化合物を含んで構成される樹脂硬化膜や、導電性材料を含む結着樹脂から形成される膜などが挙げられる。本実施形態においては、硬化性樹脂及び電荷輸送性化合物を含んで構成される樹脂硬化膜が望ましい。
【０１０４】
硬化性樹脂としては、公知の樹脂をいずれも使用できるが、膜の強度、感光体の電気特性及び画質維持性などの観点から、架橋構造を形成できるものが望ましい。このような樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シロキサン系樹脂等が挙げられる。
【０１０５】
保護層には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、電子写真感光体表面に対する放電生成物、現像剤および紙粉などの付着を防止する効果も有し、電子写真感光体の寿命向上に役立つ。
【０１０６】
フッ素含有化合物は、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。ポリマーの微粒子としては、上述した、電荷輸送層が最外層である場合に好適に含有されるフッ素系樹脂粒子が挙げられる。
【０１０７】
また、フッ素含有化合物としては、硬化性樹脂の成分（例えばアルコキシシラン）と反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。
【０１０８】
そのようなフッ素原子含有化合物の具体例としては、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、などが挙げられる。
【０１０９】
上記フッ素含有化合物の添加量は、保護層中の固形分全量を基準として２０質量％以下とすることが望ましい。添加量が２０質量％を越えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１１０】
保護層は耐酸化性を有しているが、さらに強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤等の公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、保護層中の固形分全量を基準として１５質量％以下が望ましく、１０質量％以下がさらに望ましい。
【０１１１】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１１２】
保護層には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、等公知のものを用いることができる。
【０１１３】
保護層は、上述した各種材料及び各種添加剤を含有する保護層形成用塗布液を感光層（電荷輸送層）上に塗布し、加熱処理することで形成することができる。これにより、例えば、硬化性樹脂が３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜が形成される。加熱処理の温度は、下層である感光層３に影響しなければ特に制限はないが、望ましくは室温（例えば２５℃）以上２００℃以下、より望ましくは１００℃以上１６０℃以下である。
【０１１４】
保護層の形成において、架橋硬化反応は、無触媒で行なってもよく、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、オクエ酸第一スズ等の有機スズ化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１１５】
保護層形成用塗布液には、塗布を容易にするために、必要に応じて溶剤を添加することができる。溶剤として具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で、又は２種以上混合して用いることができる。
【０１１６】
保護層の形成において、保護層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【０１１７】
保護層の膜厚は０．５μｍ２０μｍ以下であることが望ましく、２μｍ以上１０μｍ以下であることがより望ましい。
【０１１８】
次に、単層型の感光層について説明する。単層型の感光層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含んで構成され、必要に応じて電荷輸送性材料を含む。単層型の感光層中の電荷発生材料の含有量は、１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。単層型の感光層の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのがさらに望ましい。
【０１１９】
なお、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。
【０１２０】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、感光層には、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等や、上記保護層に用いる硬化性樹脂をあげることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に望ましい。
【０１２１】
次に、感光層（電荷発生層、電荷輸送層、単層型の感光層）のその他添加剤について説明する。例えば、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による電子写真感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。
【０１２２】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
【０１２３】
より具体的には、フェノール系の酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル−アクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ−［５，５］−ウンデカン等が挙げられる。
【０１２４】
ヒンダードアミン系化合物としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【０１２５】
有機イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【０１２６】
有機燐系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィート等が挙げられる。
【０１２７】
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１２８】
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【０１２９】
より具体的には、ベンゾトリアゾール系の光安定剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１３０】
上記の化合物以外の光安定剤としては、例えば、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等が挙げられる。
【０１３１】
また、感光層中には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。
【０１３２】
電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【０１３３】
なお、実施形態に係る電子写真感光体においては、より高い解像度を得る観点から、感光層及び保護層の合計の膜厚は５０μｍ以下であることが望ましく、４０μｍ以下であることがより望ましい。
【０１３４】
（画像形成装置）
実施形態に係る画像形成装置は、上記実施形態に係る電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記静電潜像をトナーにより現像する現像手段と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写する転写手段と、を有するものである。
【０１３５】
実施形態に係る画像形成装置について図面を参照しつつ説明する。図５は、実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【０１３６】
図５に示す画像形成装置１００は、回転するように設けられた電子写真感光体７を備えている。この電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の外周面の移動方向に沿って、帯電装置（帯電手段）８、露光装置１０、現像装置１１、転写装置１２、クリーニング装置１３及び除電器（イレーズ装置）１４がこの順で配置されている。
【０１３７】
帯電装置８は、コロナ帯電方式の帯電装置であり、電子写真感光体７を帯電させる。帯電装置８としては、コロトロン帯電器やスコロトロン帯電器が挙げられる。この帯電装置８は、電源９に接続されている。
露光装置１０は、帯電した電子写真感光体７を露光して電子写真感光体７上に静電潜像を形成する。
【０１３８】
現像装置１１は、静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する。現像剤は、重合法により得られる例えば体積平均粒子径が３μｍ以上９μｍ以下のトナー粒子を含有することが望ましい。
転写装置１２は、電子写真感光体７上に現像されたトナー像を被転写媒体に転写する。
【０１３９】
クリーニング装置１３は、転写後の電子写真感光体７上に残存するトナーを除去する。クリーニング装置１３は、電子写真感光体７に対して線圧１０ｇ／ｃｍ以上１５０ｇ／ｃｍ以下で接するブレード部材を有することが望ましい。
除電器（イレーズ装置）１４は、電子写真感光体７の残存電荷を消去する。
また、画像形成装置１００は、転写工程後の被転写媒体にトナー像を定着させる定着装置１５を備えている。
【０１４０】
図６は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
図６に示す画像形成装置１１０は、電子写真感光体７を接触方式により帯電させる帯電装置８を備えていること以外は、図５に示した画像形成装置１００と同様の構成を有する。特に、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電装置（帯電手段）を採用する画像形成装置１１０において、電子写真感光体７は、優れた耐リーク性を有するため、望ましく使用できる。なお、この場合には、除電器１４が設けられていないものもある。
【０１４１】
接触帯電方式では、ローラー状、ブレード状、ベルト状、ブラシ状、磁気ブラシ状等の帯電部材が適用可能である。特に、ローラー状やブレード状の帯電部材については電子写真感光体７に対し、接触状態又はある程度の空隙（例えば１００μｍ以下）を有した非接触状態として配置してもよい。
ローラー状の帯電部材、ブレード状の帯電部材、ベルト状の帯電部材は帯電部材として有効な電気抵抗（１０3Ω以上１０8Ω以下）に調整された材料から構成される物であり、単層又は複数の層から構成されていても構わない。
【０１４２】
図７は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。図７に示す画像形成装置２００は、タンデム式中間転写方式の画像形成装置であり、筐体２２０内において４つの電子写真感光体２０１ａ乃至２０１ｄ（例えば、２０１ａがイエロー、２０１ｂがマゼンタ、２０１ｃがシアン、２０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト２０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０１４３】
従来、紙等の被転写紙に画像を転写する方式として、転写ドラム上に紙等の被転写紙を巻き付け、感光体上の顕画像を各色毎に被転写紙に転写する転写ドラム方式等が知られている。この場合には、タンデム式中間転写方式に比べ、感光体から中間転写体（中間転写手段）への顕画像の転写が、中間転写体が複数回回転する必要があったが、タンデム式中間転写方式は中間転写ベルト２０９が１回転することで複数の感光体２０１ａ乃至２０１ｄから転写でき転写速度の向上が実現でき、また転写ドラム方式のように被転写媒体を選ばないという利点がある。
【０１４４】
ここで、画像形成装置２００に搭載されている電子写真感光体２０１ａ乃至２０１ｄは、それぞれ電子写真感光体７と同様のものである。
電子写真感光体２０１ａ乃至２０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール２０２ａ乃至２０２ｄ、現像装置２０４ａ乃至２０４ｄ、１次転写ロール２１０ａ乃至２１０ｄ、クリーニング装置２１５ａ乃至２１５ｄが配置されている。現像装置２０４ａ乃至２０４ｄのそれぞれには、トナーカートリッジ２０５ａ乃至２０５ｄに収容されたイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のトナーが供給可能である。また、１次転写ロール２１０ａ乃至２１０ｄは、それぞれ中間転写ベルト２０９を介して電子写真感光体２０１ａ乃至２０１ｄに接触している。
【０１４５】
さらに、筐体２２０内の所定の位置にはレーザー光源２０３が配置されている。レーザー光源２０３から出射されたレーザー光は、帯電後の電子写真感光体２０１ａ乃至２０１ｄの表面に照射できるようになっている。これにより、電子写真感光体２０１ａ乃至２０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト２０９上に重ねて転写される。
【０１４６】
中間転写ベルト２０９は、駆動ロール２０６、バックアップロール２０８及びテンションロール２０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール２１３は、中間転写ベルト２０９を介してバックアップロール２０８と接触するように配置されている。バックアップロール２０８と２次転写ロール２１３との間を通った中間転写ベルト２０９は、例えば駆動ロール２０６の近くに配置されたクリーニングブレード２１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０１４７】
また、筐体２２０内の所定の位置には媒体受け２１１が設けられており、媒体受け２１１内の紙等の被転写媒体２３０が移送ロール２１２により中間転写ベルト２０９と２次転写ロール２１３との間、さらには相互に接触する２個の定着ロール２１４の間に順次移送された後、筐体２２０の外部に排紙される。
【０１４８】
上述の説明においては、中間転写体（中間転写手段）として中間転写ベルト２０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト２０９のようにベルト状（例えば、無端ベルト状のもの）であってもよく、ドラム状であってもよい。中間転写体として中間転写ベルト２０９の如くベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの膜厚は５０μｍ以上５００μｍ以下の範囲が望ましく、６０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲がより望ましい。なお、ベルトの膜厚は、材料の硬度に応じて選択することができる。また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、銅等で形成された円筒状基材を用いることが望ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に表面層を形成することができる。
【０１４９】
なお、被転写媒体とは、電子写真感光体状に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０１５０】
（プロセスカートリッジ）
実施形態に係るプロセスカートリッジは、上記実施形態に係る電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段、及び前記静電潜像をトナーにより現像する現像手段から選択される１種と、を有し、画像形成装置本体に脱着されるものである。
【０１５１】
実施形態に係るプロセスカートリッジについて図面を参照しつつ説明する。図８は、実施形態に係るプロセスカートリッジを示す概略構成図である。
【０１５２】
図８に示すプロセスカートリッジ３００は、筐体３０１内に、電子写真感光体３０７とともに帯電装置（帯電手段）３０８、現像装置３１１、クリーニング装置３１３及び除電器３１４を取り付けレール３０３を用いて組み合わせて一体化したものである。プロセスカートリッジ３００には、露光装置が設けられていないが、筐体３０１に露光のための開口部３０５が形成されている。
【０１５３】
係るプロセスカートリッジ３００は、転写装置３１２と、定着装置３１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【実施例】
【０１５４】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。
【０１５５】
（実施例１）
先ず、円筒状のアルミニウム基体（直径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍ）を用意した。
【０１５６】
酸化亜鉛（テイカ社製「ＭＺ１５０」、体積平均粒子径７０ｎｍ）９９質量部と酢酸亜鉛２水和物（関東化学製）１質量部を、トルエン４００質量部と、メタノール１００質量部とを攪拌混合し、シランカップリング剤（「ＫＢＭ６０３」、信越化学社製）を１．３質量部添加し、２時間攪拌した。その後溶剤を減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子とシランカップリング剤表面処理酢酸亜鉛２水和物との混合物を得た。
【０１５７】
次に、上記で得られたシランカップリング剤表面処理酸化亜鉛とシランカップリング剤表面処理酢酸亜鉛２水和物との混合物６０質量部、ＢＨＴ（ベンゾヒドロキシトルエン）を０．５質量部、アリザリンを０．３質量部、添加して、硬化剤としてブロック化イソシアネート（「スミジュール３１７５」、住友バイエルンウレタン社製）を１３．５質量部、ブチラール樹脂（「ＢＭ−１」、積水化学社製）を１０質量部及びメチルエチルケトンを９０質量部混合した。次に、この溶液５７質量部に対して、１ｍｍφのガラスビーズを用い（ガラスビーズ充填率８０体積％）、サンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液１００質量部に触媒としてジオクチルスズジラウレートを０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（「トスパール１４５」、ＧＥ東芝シリコーン社製）を４．０質量部を添加し、下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にて下引き層上に塗布し、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、膜厚２５μｍの下引き層を形成した。
【０１５８】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部を、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部及び酢酸ｎ−ブチル２００質量部と混合し、これを外径１ｍｍのガラスビーズと共にサンドミルで４時間分散処理した。得られた分散液に、酢酸ｎ−ブチル１７５質量部及びメチルエチルケトン１８０質量部を添加することにより電荷発生層形成用塗布液を調製した。得られた塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１５９】
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子（ダイキン工業株式会社社製「ルブロンＬ−２」、体積平均粒子径０．２μｍ）１質量部及びフッ素系グラフトポリマー（東亜合成株式会社社製「ＧＦ３００」）０．０２質量部を、テトラヒドロフラン５質量部及びトルエン２質量部とともに十分攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。一方、電荷輸送材料としてＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４０，０００）６質量部を、テトラヒドロフラン２３質量部及びトルエン１０質量部に混合溶解した。この溶液に上記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（ナノマイザー株式会社製、商品名ＬＡ−３３Ｓ）を用いて、４００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し、４フッ化エチレン樹脂粒子分散液を得た。さらに、これに２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布して１１５℃で４０分間乾燥し、膜厚３２μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１６０】
以上の如く、アルミニウム基体上に、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に備える電子写真感光体を得た。この電子写真感光体を実施例１とした。
【０１６１】
（実施例２乃至４）
実施例１における酢酸亜鉛２水和物（関東化学製）と酸化亜鉛の量を、表１に従って変更して下引き層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、それぞれ電子写真感光体を得た。この電子写真感光体を実施例２乃至４とした。
【０１６２】
（実施例５）
実施例１における酸化亜鉛を、表１に従って変更して下引き層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、それぞれ電子写真感光体を得た。この電子写真感光体を実施例５とした。
【０１６３】
（比較例１）
実施例１における酢酸亜鉛を添加せずに、酸化亜鉛の添加量を１００質量部に変更して下引き層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。この電子写真感光体を比較例１とした。
【０１６４】
(比較例２)
比較例１における酸化亜鉛を、表１に従って変更して下引き層を形成したこと以外は比較例１と同様にして、電子写真感光体を得た。この電子写真感光体を比較例２とした。
【０１６５】
（実機走行試験）
上記各例で得られた電子写真感光体を、それぞれ接触帯電装置及び中間転写装置を備える富士ゼロックス社製フルカラープリンタＤｏｃｕ  Ｃｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  Ｃ４００に装着して画像形成装置を作製し、下記の実機走行試験を行った。
【０１６６】
上記で作製した画像形成装置を用い、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）及び低温低湿（１５℃、１０％ＲＨ）の環境を１０枚の画像形成毎に変更しながら、かかる環境下で連続して１０万枚の画像形成（Ａ４サイズ）を行った。その前後につき、ゴースト、及び、かぶり・黒点の評価を下記の方法に基づいて行った。得られた結果を表１に示す。
【０１６７】
−ゴーストの評価−
２０℃、４０％ＲＨの環境下で、ゴースト評価用の画像として１５ｍｍ角の四角パターンを電子写真感光体１周分任意の数だけ印字した後、次のサイクルで全面ハーフトーン画像を印字し、ハーフトーン画像上に浮き出たゴースト画像を以下の基準に基づいて評価した。
Ａ：画像内にゴーストが見られない。
Ｂ：画像内にゴーストがわずかに見られる。
Ｃ：画像内にゴーストがはっきり見られる。
上記のゴーストの評価を、初期の感光体及び１０万枚画像形成後について行い、それぞれ評価した。得られた結果を表１に示す。
【０１６８】
−かぶり、黒点−
上記実機走行試験を行った後、２８℃、８５％ＲＨの環境下での画像形成を行い、そのときの画質（白地）を、以下の評価基準に基づいて評価した。
Ａ：画像内にかぶり及び黒点が見られない。
Ｂ：画像内にかぶり又は黒点がわずかに見られる。
Ｃ：画像内にかぶり又は黒点がはっきり見られる。
上記のかぶり、黒点の評価を、初期の感光体及び１０万枚画像形成後について行い、それぞれ評価した。得られた結果を表１に示す。
【０１６９】
−サイクル特性の評価−
上記実機走行試験の前後において、電子写真感光体表面の残留電位を以下のようにして測定した。
常温常湿下（２０℃、４０％ＲＨ）において、感光体を１００ｒｐｍで回転させた状態で、スコロトロン帯電器により感光体を−７００Ｖに帯電させ、帯電の１秒後に波長７８０ｎｍの半導体レーザを用いて１０．０ｅｒｇ／ｃｍ２の光を照射して放電させ、さらに帯電後の３秒後に５０．０ｅｒｇ／ｃｍ２の赤色ＬＥＤ光を照射して除電し、除電から１００ｍｓｅｃ後の電位ＶＲＰを表面電位計測用プローブにより測定し、これを残留電位とした。
上記の残留電位の測定を、初期の感光体及び１０万枚画像形成後の感光体について行い、それぞれ残留電位Ｖ（Ｖ）を求めた。得られた結果を表１に示す。
【０１７０】
【表１】
2009058603.tif 000006
【０１７１】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、ゴーストの発生が抑制されていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１７２】
【図１】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。
【図２】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。
【図３】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。
【図４】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す概略断面図である。
【図５】実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図６】他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図７】他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図８】実施形態に係るプロセスカートリッジを示す概略構成図である。
【符号の説明】
【０１７３】
１     導電性基材
２     下引き層
３     感光層
４     電荷発生層
５     電荷輸送層
６     保護層
７     電子写真感光体
８     帯電装置
９     電源
１０   露光装置
１１   現像装置
１２   転写装置
１３   クリーニング装置
１４   除電器
１５   定着装置
１００ 画像形成装置
１１０ 画像形成装置
２００ 画像形成装置
２０１ａ乃至２０１ｄ 電子写真感光体
２０２ａ乃至２０２ｄ 帯電ロール
２０３ レーザー光源
２０４ａ乃至２０４ｄ 現像装置
２０５ａ乃至２０５ｄ トナーカートリッジ
２０６ 駆動ロール
２０７ テンションロール
２０８ バックアップロール
２０９ 中間転写ベルト
２１０ａ乃至２１０ｄ １次転写ロール
２１２ 移送ロール
２１３ ２次転写ロール
２１４ 定着ロール
２１５ａ乃至２１５ｄ クリーニング装置
２１６ クリーニングブレード
２２０ 筐体
２３０ 被転写媒体
３００ プロセスカートリッジ
３０１ 筐体
３０３ レール
３０５ 開口部
３０７ 電子写真感光体
３１１ 現像装置
３１２ 転写装置
３１３ クリーニング装置
３１４ 除電器
３１５ 定着装置
【図１】
2009058603.tif 000007
【図２】
2009058603.tif 000008
【図３】
2009058603.tif 000009
【図４】
2009058603.tif 000010
【図５】
2009058603.tif 000011
【図６】
2009058603.tif 000012
【図７】
2009058603.tif 000013
【図８】
2009058603.tif 000014