(57)【要約】【課題】表面の汚染除去を効率的にかつ慎重に行なうことができること。【解決手段】表面を処理および／または汚染除去するための装置であって、少なくとも１つの発生装置（１）と、方向性の波（８）を発生させることができ、汚染された表面沈積物(１０)への、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造物（１２）の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こすことができ、および／またはこれらの表面沈積物を溶解および／または昇華することができる手段とが設けられている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面を処理および／または汚染除去するための装置であって、少なくとも１つの発生装置（１）と、方向性の波（８）を発生させることができ、汚染された表面沈積物(１０)への、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造物の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こすことができ、および／またはこれらの表面沈積物を溶解および／または昇華することができる手段とが設けられている。
【請求項２】
前記発生装置（１）は、１つまたは複数の構成要素を有し、構成要素としては、少なくとも１つの源および／または導波路あるいはビームガイド装置および／または出力要素が設けられておりおよび／または前記複数の構成要素は互いに作用接続していることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記発生装置（１）は、源として少なくとも１つのレーザ（２）および／または、出力要素として、特に焦点を有する少なくとも１つの光学系および／または導波路として少なくとも１つのグラスファイバ（２０）またはミラー装置を有し、前記レーザ（２）および前記出力要素は、前記少なくとも１つのグラスファイバ（２０）または前記ミラー装置によって、協働および／または接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記発生装置は、固体レーザまたはエキシマー・レーザであり、しかし、パルス型の固体レーザであることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
レーザ（２）を有する前記少なくとも１つの発生装置（１）は、発生されたレーザビームによって、単位時間当たり、所定の表面領域へ従ってまたこの表面領域に存在する汚染された表面沈積物（１０）への事前設定可能なエネルギ伝達を引き起こしおよび／または、特に酸化物層の形態をとる各々の表面沈積物を加熱し、溶解および昇華することを特徴とする請求項３または４に記載の装置。
【請求項６】
前記発生装置（１）は、少なくとも１つの超音波源またはマイクロ波発生器、あるいは、レントゲン線源またはγ線源または両者の組合せを有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
少なくとも１つの走査手段（６）が、特に、事前設定可能な表面領域を電磁波（８）で均一に走査することができるスキャン手段またはラスタ手段として形成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１に記載の装置。
【請求項８】
少なくとも１つの走査手段（６）が、少なくとも１つの偏向要素、特に可動のミラーまたはプリズムまたはフィールド発生器、例えば特に磁石、コイルまたはコンデンサあるいはこれらの要素の組合せを有することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
少なくとも１つの制御手段（３４）が設けられており、この制御手段は、前記少なくとも１つの発生装置（１）および／または前記少なくとも１つの走査手段（６）と協働して、各々の波（８）のエネルギおよび／または波のエネルギの伝達および／または波の伝播手段および／または波の衝突点が制御可能であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１に記載の装置。
【請求項１０】
前記制御手段（３４）によって、前記少なくとも１つの偏向要素との協働で、特に、前記少なくとも１つの可動のミラーの動きと、少なくとも１つの可変の磁界のおよび／または可変の電界のおよび／または電磁界の強さとを制御することによって、事前設定可能な表面領域を走査することができることを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
少なくとも１つの操作装置が設けられており、この操作装置には、少なくとも１つの発生装置（１）またはこの発生装置の構成要素、例えば、特に、導波路（２０）の一端および／または出力要素および／または少なくとも１つの他の手段、例えば特に走査手段（６）を設けることができることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１に記載の装置。
【請求項１２】
前記発生装置（１）またはこの発生装置の構成要素および／または前記走査手段（６）は、操作装置（１８）によって案内可能でありおよび／または汚染除去される表面（１２）に対し位置決め可能であることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記操作装置は、前記発生装置（１）またはこの発生装置の構成要素および／または前記走査手段（６）を手動で案内および／または位置決めするためのレバーまたはハンドルを有することを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記操作装置は、マニピュレータまたはロボット（１８）、特に、多軸の産業用ロボットを有することを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記発生装置（１）またはこの発生装置の構成要素および／または前記走査手段（６）および／または前記光学系の案内および／または位置決めを、自動的に行なうことができることを特徴とする請求項１１，１２または１４のいずれか１に記載の装置。
【請求項１６】
前記溶解および／または昇華された汚染された沈積物（１０）を吸引するための吸引手段（２４）が設けられていることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１に記載の装置。
【請求項１７】
前記吸引手段（２４）は、可撓性のある吸引チューブ（２６）および／またはノズル（２８）を有し、このノズルは、特に、前記各々の吸引チューブ（２６）の末端部に設けられていることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記ノズル（２８）は、表面用ノズルとして形成されておりおよび／または各々の走査手段の走査領域またはラスタ領域に適合されており、特に、この領域の面が包摂または覆われているようになっていることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記表面用ノズルは、密封手段（３２）を有し、この密封手段は、汚染除去過程の間に、周囲に対して走査領域またはラスタ領域を閉じまたは密封し、従って、周囲空気を汚染に対して最も広範囲に防止することを特徴とする請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記ノズル（２８）は、少なくとも１つの光ファイバ管（２０）またはビームガイド装置またはレーザ（２）またはレーザビーム（１６）を導くための挿入開口部を有することを特徴とする請求項１６ないし１９のいずれか１に記載の装置。
【請求項２１】
前記ノズル（２８）は、少なくとも部分的に、透明な材料から、特にプラスチックから形成されていることを特徴とする請求項１７ないし１９のいずれか１に記載の装置。
【請求項２２】
前記吸引手段（２４）は、溶解されかつ汚染された固体(２２)を周囲空気から濾過および／または分離するための少なくとも１つのフィルタ（３０）を有することを特徴とする請求項１６ないし２１のいずれか１に記載の装置。
【請求項２３】
表面を処理および／または汚染除去するための方法であって、請求項１ないし２２のいずれか１に記載の少なくとも１つの装置によって、特に、電磁的な種類の、方向性の波（８）を発生させ、汚染された表面沈積物(１０)への、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造物（１２）の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こして、これらの表面沈積物を溶解および／または昇華することができるようにすることを特徴とする方法。
【請求項２４】
波として、レーザビーム（１６）を、レーザ（２）、特に、固体レーザ、エキシマー・レーザまたはパルス型の固体レーザによって、発生させることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記発生されたレーザビーム（１６）を、集束のために意図された光学系によって集束させることを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
レーザ光を、グラスファイバまたはグラスファイバ束（２０）またはビームガイド装置を介して、前記レーザ（２）から前記光学系へ導くことを特徴とする請求項２４または２５に記載の方法。
【請求項２７】
１５７ｎｍないし１０６０±４ｎｍの波長範囲の電磁波（８）を発生および／または使用することを特徴とする請求項２３ないし２６のいずれか１に記載の方法。
【請求項２８】
前記発生されたレーザビーム（１６）によって、単位時間当たり、所定の表面領域へ従ってまたこの表面領域に存在する汚染された表面沈積物（１０）へ事前設定可能なエネルギ量を伝達しおよび／または、特に酸化物層の形態をとる、各々の表面領域に生じる汚染された沈積物を加熱し、溶解および／または昇華することを特徴とする請求項２３ないし２７のいずれか１に記載の方法。
【請求項２９】
少なくとも１つの走査手段（６）によって、前記各々の表面の事前設定可能な領域を、波、特に電磁波で均一に走査することを特徴とする請求項２３ないし２８のいずれか１に記載の方法。
【請求項３０】
前記各々の表面領域の走査を、少なくとも１つの偏向要素、特に可動のミラーまたはプリズムを動かすことによって、あるいは、特に、電束線および／または磁束線のグラディエントに関しておよび／または電界のおよび／または磁界のおよび／または電磁界の強さに関して、フィールドの適合によって行なうことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
各々の電磁波のエネルギおよび／または引き起こされたエネルギ伝達および／または電磁波の伝播手段および／または電磁波の衝突点および／または前記走査された表面領域の大きさおよび形状を、制御手段（３４）によって、前記発生装置（１）および／または前記走査手段（６）と協働で制御することを特徴とする請求項２３ないし３０のいずれか１に記載の方法。
【請求項３２】
前記発生装置（１）またはこの発生装置の構成要素および／または前記走査手段（６）を、前記汚染された表面（１２）に対し、少なくとも１つの操作装置によって、手動でまたは自動で移動および／または案内、整列および位置決めすることを特徴とする請求項２３ないし３１のいずれか１に記載の方法。
【請求項３３】
前記発生装置（１）またはこの発生装置の構成要素および／または前記走査手段（６）ならびにその時々に発生された波（８）を、前記少なくとも１つの操作装置によって、事前設定可能な間隔でおよび／または事前設定可能な整列で、汚染除去される表面領域に亘って案内しおよび／またはこれらの表面領域に亘って動かすことを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記整列、位置決めおよび／または案内を、少なくとも１つのマニピュレータまたはロボット（１８）、特に多軸の産業用ロボットによって行なうことを特徴とする請求項３２または３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記溶解および／または昇華された沈積物（１０）を、吸引手段（２４）によって直接吸引することを特徴とする請求項２３ないし３４のいずれか１に記載の方法。
【請求項３６】
前記吸引を、可撓性のある吸引チューブ（２６）または可撓性のある吸引導管およびノズル（２８）によって行ない、このノズルを、前記波の衝突領域の隣におよび／またはこの衝突領域を覆うように設けることを特徴とする請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
吸引のために、表面用ノズルとして形成されたノズル（２８）を用い、このノズルは、前記各々の走査手段（６）の走査領域またはラスタ領域に適合されており、特に、この領域の面が包摂または覆われていることを特徴とする請求項２９ないし３６のいずれか１に記載の方法。
【請求項３８】
前記吸引された空気を濾過し、前記溶解および／または昇華された汚染された固体または沈積物をフィルタ（３０）の中で分離することを特徴とする請求項３５ないし３７のいずれか１に記載の方法。
【請求項３９】
前記フィルタ（３０）を規則的に洗浄し、分離した固体を取り出し、かつ専門的に廃棄処理しまたは貯蔵することを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
超音波、マイクロ波、レントゲン線またはγ線の形態をとる波（８）を発生させ、および／または、前記発生された波によって、単位時間当たり、所定の表面領域へ従ってまたこの表面領域に存在する汚染された表面沈積物へ、事前設定可能なエネルギ量を伝達しおよび／または、特に酸化物層の形態をとる、各々の表面領域に生じる汚染された沈積物を加熱し、溶解および／または昇華することを特徴とする請求項２３および２９ないし３９のいずれか１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面、特に、原子炉構造物の、例えば原子炉圧力容器の表面を処理および／または汚染除去するための装置および方法に関する。溶剤および／または腐食性の化学薬品を省略することができる。
【背景技術】
【０００２】
従来では、非付着性のおよび付着性の放射性の汚染物質、特に放射性の表面酸化物を除去するために、機械的なおよび／または化学的な処理過程、例えばブラッシング、払拭、研磨を省略するために、部分的に、洗剤および／または溶剤、例えば、有機酸または無機酸、カ性アルカリ溶液、超音波によって、蒸気または水による高圧洗浄を用いる。
【０００３】
しかしながら、機械的な方法が余り効率的でないことは不都合である。何故ならば、このような方法が、特に、作動手段、作業物質、廃棄処理される廃棄物ならびに費やされる処理時間に関してかなりのコストをかけてのみ、実現されるからである。更に、従来では、選択的な処置はあり得ない。何故ならば、知られた方法論は、基礎原料、例えば、実際の原子炉圧力容器材料と、基礎原料に沈積された汚染された酸化物層とを区別せず、汚染除去過程または洗浄過程の際に、２つの材料を等しく腐食しおよび／または損なうからである。更に、機械的な作業用ツールが、通例、処理の痕跡を残し、自らの構造方式によって、作業用ツールの使用が限定される。表面の同時に効率的かつ慎重な汚染除去が、これまでは不可能である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って、表面の汚染除去を効率的にかつ慎重に行なうことができるという課題が、本発明の基礎になっている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この課題は、請求項１の特徴を有する、表面を処理および／または汚染除去するための装置によって解決される。好都合な実施の形態および装置に対応する方法は、他の請求項および以下の明細書に記載されている。
【０００６】
従って、本発明に係わる装置は、少なくとも１つの発生装置と、特に電磁的な種類の、方向性の波、しかしまた超音波および／またはレントゲン線および／またはガンマ線を発生させることができ、汚染された表面沈積物への、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造物の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こすことができ、および／またはこれらの表面沈積物、特に、汚染された酸化物層を溶解および／または昇華することができる手段とを有する。
【０００７】
提示された課題を同様に解決する、表面を処理および／または汚染除去するための方法では、方法に対応する装置を用いて、特に電磁的な種類の、方向性の波、しかしまた超音波および／またはレントゲン線および／またはガンマ線を発生させ、汚染された表面沈積物への、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造物の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こすことができ、これらの表面沈積物を溶解および／または昇華する。
【０００８】
好都合な実施の形態では、発生装置は、１つまたは複数の構成要素を有し、構成要素としては、少なくとも１つの源および／または導波路あるいはビームガイド装置および／または出力要素（Auskoppelelement）が設けられておりおよび／または複数の構成要素は互いに作用接続している。
【０００９】
好ましい実施の形態では、発生装置は、従って、源として少なくとも１つのレーザおよび／または、出力要素として、特にレンズおよび／または絞りおよびまたは焦点を有する少なくとも１つの光学系および／または導波路および／またはビームガイド装置として、少なくとも１つのグラスファイバを有し、レーザおよび出力要素は、少なくとも１つのグラスファイバによって、協働および／または接続されている。この場合、用いられたレーザは、特に固体レーザまたはパルス型の固体レーザとして、例えば、Ｔｉｔａｎ：ＳａｐｈｉｒレーザまたはＮｄ：ＹＡＧ／ＹＬＦレーザとして形成されており、約２６６ないし１０６４ｎｍの範囲の波長および／または約１０ｎｓないし１００ｎｓのパルス幅を有し、あるいは、μｍの範囲の波長、特に約１０．６μｍの波長を有するＣＯ２レーザとしても形成されていてもよい。この場合、このようなレーザでは、数ｍＪから数１００ｍＪの範囲のパルスエネルギが得られる。
【００１０】
この場合、発生されたレーザビームによって、単位時間当たり、所定の表面領域への従ってまたこの表面領域に存在する汚染された表面沈積物への事前設定されたエネルギ伝達、パルス持続時間当たり最大限のパルスエネルギの伝達が引き起こされおよび／または、特に酸化物層の形態をとる各々の表面沈積物が加熱され、溶解されかつ昇華される。種々の材料、例えば、原子炉圧力容器の基礎材料へのならびにその基礎材料上に沈積された汚染された酸化物層へのエネルギ伝達が、この場合、例えば、その都度用いられた電磁波および／または放射に関する種々の材料の吸収特性によっても、共に定められる。エネルギ伝達の高さに関する他のファクタとしては、ビーム焦点面および／またはビーム横断面も考慮されねばならない。例えば、基礎材料および酸化物層の異なった吸収特性に基づいて、焦点は、酸化物層が溶解および昇華されるが、基礎材料は損なわれずおよび／または腐食されないように、選択される。基礎材料の既に存在する亀裂または損傷も、かようにして、ほぼ無接触で、更なる損傷なしに、汚染除去および／または処理することができる。この場合、このような処理を、各々のレーザエネルギおよび／またはパルスエネルギの適切な選択および／または集束によって、深度の選択においても、行なうことができる。かくして、表面処理および／または汚染除去が、複数の作業段階で、層状に可能である。このことは、基礎材料、例えば原子炉圧力容器およびその構造物への慎重な取り扱いを可能にする。
【００１１】
更に、実施の形態では、特にスキャン手段またはラスタ手段として形成される少なくとも１つの走査手段を設けることができる。この走査手段を用いて、事前設定可能な表面領域を、電磁波で均一に走査することができる。各々の表面領域の大きさおよび／または形状ならびにラスタ速度および／または分解能(Aufloesung)が、この場合、事前設定可能である。
【００１２】
大きな表面を、この場合、複数のこのような表面領域の並列によって処理および／または汚染除去することができる。表面領域の数および表面領域の配置は、この場合、処理されるおよび／または汚染除去される表面の形状および／または大きさに適合されている。
【００１３】
この代わりに、各々のラスタ領域および／またはスキャン領域の画定によって、小さい表面領域ならびに個々の沈積物も、選択的に処理および／または溶解し、ならびに昇華することができる。
【００１４】
従って、他の実施の形態では、走査手段は、例えば、レーザビームを制御しつつ転向または偏向するための、少なくとも１つの偏向要素、特に可動のミラーまたはプリズム、あるいはフィールド発生器、例えば特に磁石、コイルまたはコンデンサあるいはこれらの要素の組合せを有する。
【００１５】
実施の形態では、少なくとも１つの制御手段が設けられていることは好都合である。この制御手段は、前記少なくとも１つの発生装置および／または少なくとも１つの走査手段と協働して、各々の電磁波の、特にレーザ光のエネルギ、および／または電磁波のエネルギの伝達および／または電磁波の伝播手段および／または電磁波の衝突点および／または事前設定可能な表面領域の大きさおよび／またはジオメトリが、制御可能である。
【００１６】
これに応じて、制御手段によって、走査手段および特に少なくとも１つの偏向要素との協働で、特に、少なくとも１つの可動のミラーまたはプリズムの動きと、少なくとも１つの可変の磁界のおよび／または可変の電界のおよび／または電磁界の強さとを制御することによって、事前設定可能な表面領域を走査することができる。この場合、走査は、連続的にまたは断続的に行なうことができる。
【００１７】
伝達可能な、あるいは電磁波によって供給されるエネルギ量を、この場合、その都度事前設定可能な表面領域に亘って、均一に分配することができる。
【００１８】
簡単な操作のために、好都合な実施の形態では、少なくとも１つの操作装置が設けられていることが可能である。この操作装置には、少なくとも１つの発生装置またはこの発生装置の構成要素、例えば、特に、導波路の一端および／または出力要素および／または少なくとも１つの他の手段、例えば特に走査手段が設けられていることができ、および／または操作装置を用いて、これらの手段は、汚染除去されおよび／または処理される表面に対し案内可能でありおよび／または位置決め可能である。
【００１９】
操作装置は、この場合、少なくとも１つの発生装置またはこの発生装置の構成要素および／または少なくとも１つの走査手段を手動で案内および／または位置決めするためのレバーまたはハンドルを有することが可能である。
【００２０】
この代わりにまたはこれに補足して、発生装置および／または走査手段を自動的に案内および／または位置決めすることができる、少なくとも１つのマニピュレータまたはロボット、特に、多軸の産業用ロボットが設けられていてよい。
【００２１】
汚染除去過程および／または処理過程中に、周囲に、ビームを負荷した放射性の固体または粒子を暴露することを最も十分に避けるために、好都合の実施の形態では、溶解および／または昇華された沈積物を吸引するための吸引手段が設けられていてもよい。
【００２２】
この場合、吸引手段は、可撓性のある吸引チューブおよび／またはノズルを有してもよい。各々のノズルは、各々の吸引チューブの末端部に設けられていてもよい。
【００２３】
ノズルが、好都合にも、表面用ノズルとして形成されておりおよび／または各々の走査手段のラスタ領域に適合されており、特に、この領域の面が包摂または覆われているようになっている。
【００２４】
他の実施の形態では、表面用ノズルは、密封手段を有し、この密封手段は、汚染除去過程の間に、周囲に対して走査領域またはラスタ領域を出来る限り完全に閉じまたは密封し、従って、周囲空気を汚染に対して最も広範囲に防止する。
【００２５】
他の変形例では、ノズルは、通過させるためのリセス、および／または、発生装置の、特にビームガイド装置のおよび／または導波路の、光学系の、レーザのまたはレーザビームの少なくとも１つの構成要素を導く（Einkopplung）ための挿入開口部を有する。
【００２６】
移動制御および／または位置決め制御の改善のためには、ノズルを、少なくとも部分的に、透明な材料から、特にプラスチックから形成することは好都合である。
【００２７】
更に、吸引手段が、溶解されかつ汚染された固体を周囲空気から濾過および／または分離するための少なくとも１つのフィルタを有することが意図されている。
【００２８】
レーザの代わりにまたはレーザに補足して、発生装置は、少なくとも１つの超音波源、レントゲン源、ガンマ線源（γ源）またはマイクロ波発生器を有することができる。
【００２９】
更に、提示された課題は、表面を処理および／または汚染除去するための方法によって解決される。前記複数の装置の少なくとも１つの装置によって、方向性の電磁波を発生させ、汚染された表面沈積物への、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉反応炉構造物の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こして、これらの表面沈積物を溶解および／または昇華する。
【００３０】
電磁波としてレーザビームが用いられることは好都合である。レーザビームは、レーザによって、特に、固体レーザまたはパルス型の固体レーザまたはエキシマー・レーザ（１５７ｎｍ≦λ≦２４８ｎｍ；ＡｒＦエキシマー・レーザλ＝１９３ｎｍ）によって発生されることができる。更に、発生されたレーザビームは、集束のために意図された光学系によって集束可能である。レーザビームは、導波路またはビームガイド装置を介して、特に、グラスファイバまたはグラスファイバ束および／またはミラー装置またはプリズム装置を介して、レーザから光学系へ導かれおよび／または光学系を介して出力される(ausgekoppelt werden)。
【００３１】
このようなレーザビームは、通常、約１５７ｎｍないし１０６０±４ｎｍおよび／または約４ｎｓないし約１００ｎｓのパルス幅および／または約６ｍＪないし約３５５ｍＪのパルスエネルギを有する電磁波からなる。パルス幅およびパルスエネルギは、使用されたレーザの波長および種類および／または各々のビームの集束に従う。
【００３２】
方法では、これに応じて、発生されたレーザビームによって、単位時間当たり、所定の表面領域へ従ってまたこの表面領域に存在する汚染された表面沈積物へ事前設定可能なエネルギ量を伝達しおよび／または、特に酸化物層の形態をとる、各々の表面領域に生じる汚染された沈積物を加熱し、溶解および／または昇華する。
【００３３】
変形例では、少なくとも１つの走査手段によって、各々の表面の事前設定可能な領域を、電磁波で均一に走査する。この場合、各々の表面領域の走査を、少なくとも１つの偏向要素、特に可動のミラーまたはプリズムを動かすことによって、あるいは、特に、電束線および／または磁束線のグラディエント(Feldlinienverlauf)および／または、電界のおよび／または磁界のまたは電磁界の強さに関して、フィールドの適合によって、行なう。
【００３４】
更に、各々の電磁波のエネルギおよび／または引き起こされたエネルギ伝達および／または電磁波の伝播手段および／または電磁波の衝突点および／または走査された表面領域の大きさおよび形状を、制御手段によって、発生装置および／または走査手段と協働で制御することが意図されている。
【００３５】
他の実施の形態では、発生装置またはこの発生装置の構成要素および／または前記走査手段を、汚染された表面に対し、少なくとも１つの操作装置によって、手動でまたは自動で移動または案内、整列および位置決めすることが意図されている。
【００３６】
他の変形例では、発生装置またはこの発生装置の構成要素および／または走査手段ならびにその時々に発生された電磁波を、少なくとも１つの操作装置によって、事前設定可能な間隔でおよび／または事前設定可能な整列で、汚染除去される表面領域に亘って案内しおよび／またはこれらの表面領域に亘って動かす。
【００３７】
この場合、整列、位置決めおよび／または案内を、少なくとも１つのマニピュレータまたはロボット、特に多軸の産業用ロボットによって行なうことができる。
【００３８】
方法の他の実施の形態では、溶解および／または昇華された沈積物を、吸引手段によって直接吸引する。この場合、吸引を、可撓性のある吸引チューブまたは可撓性のある吸引導管およびノズルによって行なうことができる。このノズルを、電磁波の衝突領域の隣におよび／またはこの衝突領域を覆うように設ける。
【００３９】
吸引のために、表面用ノズルとして形成されたノズルを用いることができる。このノズルは、特に、各々の走査手段の走査領域またはラスタ領域に適合されていて、この領域の面が包摂または覆われている。
【００４０】
実施の形態で、方法では、吸引された空気を濾過して、特に、溶解および／または昇華された汚染された固体または沈積物をフィルタの中で分離する。フィルタを規則的に洗浄し、および／または分離した固体を取り出し、かつ専門的に廃棄処理しまたは貯蔵する。
【００４１】
他の実施の形態では、超音波、マイクロ波、レントゲン線またはγ線の形態をとる波およびこれらの波の組合せを発生させ、および／または、その都度発生された波によって、単位時間当たり、所定の表面領域へ従ってまたこの表面領域に存在する汚染された表面沈積物へ、事前設定可能なエネルギ量を伝達しおよび／または、特に酸化物層の形態をとる、各々の表面領域に生じる汚染された沈積物を加熱し、溶解および／または昇華する。
【００４２】
これに従って、機械的な処理用ツールおよびその結果として生じる処理痕跡を回避しつつ、および方向性の電磁波を使用しつつ、表面の、特に原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造体の、特に均一な、効率的かつ慎重な汚染除去を可能にする。比較的多くの量の溶剤および汚染された残滓の（使用後の）コストのかかる利用および廃棄処理も、省略することができることは好都合である。
【００４３】
他の利点は、比較的に僅かなコストおよび／または、方法を実施するために必要な、僅かのかつコンパクトな周辺ユニットにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
本発明の好都合な実施の形態を、図１を参照して詳述する。図１は、処理および／または汚染除去、詳しくは表面の汚染除去のための、例として形成された装置を示す。少なくとも１つの発生装置１は、レーザ、例えば短波のエキシマー・レーザまたは短波の固体レーザ２と、ビームガイド装置と、固体レーザ２の使用の場合には、例えばグラスファイバ束４と、焦点を有する光学系（詳細には図示せず）とを有する。光学系は、例えば、保護されるように、適切なハウジングに設けられている。発生装置およびビームガイド装置を用いて、方向性の電波８を発生させることができ、汚染された表面沈積物１０、特に、原子炉圧力容器のおよび／または原子炉構造物１２の表面沈積物へのエネルギの伝達を引き起こすことができ、および／またはこれらの表面沈積物１０を溶解および／または昇華することができる。
【００４５】
適切な強さおよび持続時間を有するレーザパルスによって、この場合、適切に照射された沈積物を溶解および／または蒸発させおよび／またはプラズマへ移行させる。
【００４６】
更に、スキャン手段またはラスタ手段（詳細に図示せず）が設けられている。このような手段を、同様に、ハウジングへ組み入れることができ、この手段を用いて、事前設定可能な表面領域を、特に電磁波８で、均一に走査することができる。例えば各々のレーザ光１６を偏向するために、１つのまたは複数の軸で可動なミラーまたはプリズムおよび／またはフィールド発生器および／または磁界形レンズが設けられている（図１では、詳細には図示せず）。
【００４７】
更に、多軸のロボット１８の形態をとる操作装置が設けられている。このロボットには、光学系、レーザ２と光学系とを光学的に接続するためのグラスファイバ束２０の一端ならびに走査手段が設けられており、このロボットを用いて、これらの要素は自動的に案内可能でありおよび／または汚染された表面に対し位置決め可能である。この場合、レーザビームを、操作装置によって、表面に亘って、垂直方向および／または水平方向に動かすことができる。このような動きの最中に、光学系と表面との間の均等な中間の距離が制御されることは好都合である。沈積物は、当該の構造および表面領域を何度も除去することによって、層状におよび／または断続的に除去されることが可能である。更に、手動による案内および位置決めのために、レバーまたはハンドルが用いられることが可能である。この代わりに、操作装置は、手動装置として、手動の操作および案内のためにのみ形成されていることが可能である。このことは、局所的な作業のみの際におよび小さな殆ど点状の表面領域でのみ、適切であるように思われる。
【００４８】
このような手動装置をも自動式に使用することができるためには、マニピュレータまたはロボット１８に連結するための連結装置を用いることができる。
【００４９】
前記沈積物１０の、レーザビーム１６によって溶解および／または昇華された成分２２を、吸引手段２４によって直接吸引する。より良い操作のために、可撓性のある吸引チューブ２６または可撓性のある吸引導管および吸引チューブまたは吸引導管の端部に設けられたノズルによって吸引がなされる。ここに示した実施の形態では、このノズルは、漏斗状の表面用ノズル(Flaechenduese)２８として形成されている。この表面用ノズルは、走査装置によって検出された表面領域または走査領域に適合されており、この領域を完全に覆っている。この代わりに、使用されるノズルは、任意の他のジオメトリ（形状寸法）および形状を有してもよく、例えば、レーザビームおよび／または電磁波の衝突領域に対し側方隣に設けられてもよい。
【００５０】
更に、この表面用ノズルは、密封手段３２、例えば、軟質ゴムまたはブラシからなるシールリップを有する。密封手段は、ノズルの一端で、ノズルと表面の間に設けられており、ノズルの開口領域を有する。汚染除去工程の間に、このような密封手段が、周囲に対して走査領域またはラスタ領域を出来る限り完全に閉じおよび／または密封する。その目的は、周囲空気を、汚染された粒子による汚染に対して最も広範囲に防止し、負荷を出来る限り低く保つためである。
【００５１】
図１に示すように、ノズルには、光ファイバ管および／またはグラスファイバ束２０および光学系および／または走査手段６を通しおよび／または導くための少なくとも１つの挿入開口部、特にリセスが設けられている。
【００５２】
移動の制御および／または位置制御の改善のために、ノズル２８を、少なくとも部分的に、透明な材料から、特にプラスチックから形成し、あるいは、透明な覗き窓を用いることは好都合である。
【００５３】
吸引された空気は、濾過のために意図されたフィルタ３０の中で濾過される。それ故に、溶解および／または昇華された固体すなわち成分２２が、フィルタ３０の中で分離されおよび／またはフィルタ３０が規則的に洗浄されおよび／または分離された固体２２が取り出されかつ専門的に廃棄処理されまたは貯蔵される。
【００５４】
更に、少なくとも１つの制御手段３４が設けられている。この制御手段は、レーザ２、光学系および走査手段６と協働して、レーザビームのエネルギ、特にパルスエネルギおよび／またはレーザビームのエネルギの各々の伝達は、例えば適切な集束および／またはレーザビームの伝播手段および／またはレーザビームの衝突点およびまたは走査面ならびに走査速度によって制御可能である。
【００５５】
吸引手段２４も、制御手段と協働することは好都合である。
【００５６】
グラスファイバ束２０および吸引チューブ２６の使用によって、エネルギ供給手段を有する実際のレーザ２およびフィルタ３０を有する実際の吸引手段２４は、処理されまたは汚染除去される表面１２から空間的に離隔して設けられていてもよい。
【００５７】
このことは、特に、スペース(Raumangebot)が限定されているとき、利点であり、動きの自由を増大し、操作を容易にする。何故ならば、導波路および／またはビームガイド装置、特に光ガイドおよび／またはグラスファイバ２０、ならびに光学系および場合によっては走査手段６、ならびにノズル２８を有する吸引チューブ２６が、動かされおよび／または案内されるからである。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】処理および／または汚染除去、例えば表面の汚染除去のための、例として形成された装置を示す。
【符号の説明】
【００５９】
１  発生装置
２  レーザ
６  走査手段
８  波、電磁波
１０  表面沈積物
１２  表面
１６  レーザビーム
１８  操作装置
２０  光ファイバ管
２２  固体、成分
２４  吸引手段
２６  チューブ
２８  ノズル
３０  フィルタ
３２  密封手段
３４  制御手段
【図１】
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