(57)【要約】【課題】  遮蔽体の製造コストの低減を図ることにより、装置全体の製造コスト低減を図ることができるエネルギ線照射装置を提供する。【解決手段】  エネルギ線を被照射体Ｍに向けて照射する照射部２と、被照射体Ｍにおけるエネルギ線の照射領域と、照射部２におけるエネルギ線が出射される部分との間を、エネルギ線の周囲を覆って配置される内側遮蔽体６Ａと、が設けられていることを特徴とする。【選択図】  図１
2009058280.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギ線を被照射体に向けて照射する照射部と、
前記被照射体における前記エネルギ線の照射領域と、前記照射部における前記エネルギ線が出射される部分との間を、前記エネルギ線の周囲を覆って配置される内側遮蔽体と、
が設けられていることを特徴とするエネルギ線照射装置。
【請求項２】
前記被照射体、前記照射部および前記内側遮蔽体を覆う外側遮蔽体が設けられていることを特徴とする請求項１記載のエネルギ線照射装置。
【請求項３】
前記内側遮蔽体には、前記エネルギ線の照射方向に向かって延びるとともに、前記エネルギ線の周囲を覆って隣接して配置される複数の遮蔽板部と、該板部を前記照射方向に沿って移動可能に支持するスライド支持部と、が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載のエネルギ線照射装置。
【請求項４】
前記内側遮蔽体における前記被照射体側の端部に、柔軟性を有する材料から形成された遮蔽接触部が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載のエネルギ線照射装置。
【請求項５】
前記内側遮蔽体には、前記照射部から前記被照射体に向かって垂れ下がるとともに、前記エネルギ線の周囲を覆って隣接して配置される複数の袋部と、該袋部の内部に配置された複数の遮蔽粒状部と、が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載のエネルギ線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エネルギ線照射装置に関し、特に、金属製の大型構造物にエネルギ線を照射して構造物表面に焼入れ等の処理を施すエネルギ線照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、電子線などのエネルギ線が被照射体に照射されると、被照射体の照射領域からＸ線などの電磁波が発生することが知られている。Ｘ線などは、人体に対して有害であるため、遮蔽体などを配置して人体に照射されないように遮蔽されている。
【０００３】
例えば、金属製の構造物に対して焼入れ等の表面処理を施す場合には、電子線の発生部に供給されるエネルギが約１００ｋＶ以上という高い値となる。このような状況において発生するＸ線などの電磁波を遮蔽するためには、例えば鉛などの重金属から形成され必要な厚さを有する遮蔽体によりＸ線などの発生源を覆うことが行われている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００４−１９１３０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、被照射体が大型の構造物である場合には、被照射体を移動させる駆動機構まで遮蔽体で覆うことになる。すると、重金属から形成され極めて厚い板厚（例えば十数ｍｍ）を有する遮蔽体が大型化することとなり、遮蔽体の製造コスト、ひいてはエネルギ線照射装置の製造コストが高くなるという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、遮蔽体の製造コストの低減を図ることにより、装置全体の製造コスト低減を図ることができるエネルギ線照射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
本発明のエネルギ線照射装置は、エネルギ線を被照射体に向けて照射する照射部と、前記被照射体における前記エネルギ線の照射領域と、前記照射部における前記エネルギ線が出射される部分との間を、前記エネルギ線の周囲を覆って配置される内側遮蔽体と、が設けられていることを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば、Ｘ線などの電磁波を発生させるエネルギ線の周囲であって、被照射体と照射部との間という限定された領域に内側遮蔽体を配置するため、被照射体および照射部の全てを遮蔽体で覆う方法と比較して、電磁波の遮蔽性を損なうことなく遮蔽体の小型化を図ることができる。そのため、遮蔽体の製造に用いる材料の削減を図ることができ、遮蔽体の製造コストの低減を図ることができる。
【０００８】
上記発明においては、前記被照射体、前記照射部および前記内側遮蔽体を覆う外側遮蔽体が設けられていることが望ましい。
【０００９】
本発明によれば、内側遮蔽体と、外側遮蔽体とを組み合わせて設けることにより、内側遮蔽体のみを設けた場合と比較して、さらに電磁波の遮蔽性向上を図ることができる。さらに、外側遮蔽体のみを設けた場合と比較して、外側遮蔽体に求められる厚さが薄くなるため、内側遮蔽体および外側遮蔽体の製造に用いる材料の全体量が少なくなる。
【００１０】
上記発明においては、前記内側遮蔽体には、前記エネルギ線の照射方向に向かって延びるとともに、前記エネルギ線の周囲を覆って隣接して配置される複数の遮蔽板部と、該板部を前記照射方向に沿って移動可能に支持するスライド支持部と、が設けられていることが望ましい。
【００１１】
本発明によれば、遮蔽板部はエネルギ線の照射方向に沿って移動可能に支持されるため、被照射体と照射部との間隔が変更されても、遮蔽板部が照射部に対してスライド移動する。そのため、被照射体と照射部との間におけるエネルギ線の周囲を、複数の遮蔽板部により隙間を空けることなく覆うことができる。
さらに、複数の遮蔽板部は、エネルギ線の周囲を覆うように隣接して配置されているため、被照射体に傾斜面がある場合であっても、複数の遮蔽板部のそれぞれが傾斜面に合わせてスライド移動することにより、エネルギ線の周囲を、隙間を空けることなく覆うことができる。
【００１２】
上記発明においては、前記内側遮蔽体における前記被照射体側の端部に、柔軟性を有する材料から形成された遮蔽接触部が設けられていることが望ましい。
【００１３】
本発明によれば、内側遮蔽体の被照射体側の端部に遮蔽接触部を設けることにより、被照射体におけるエネルギ線が照射される面に凹凸や傾斜が設けられていても、エネルギ線の周囲を、隙間を空けることなく覆うことができる。
ここで、遮蔽接触部を形成する柔軟性を有する遮蔽用の材料としては、鉛などを挙げることができる。
【００１４】
上記発明においては、前記内側遮蔽体には、前記照射部から前記被照射体に向かって垂れ下がるとともに、前記エネルギ線の周囲を覆って隣接して配置される複数の袋部と、該袋部の内部に配置された複数の遮蔽粒状部と、が設けられていることが望ましい。
【００１５】
本発明によれば、袋部の内部に複数の遮蔽粒状部を配置することにより、袋部は電磁波の遮蔽性と、柔軟性とを両立することができる。そのため、被照射体におけるエネルギ線が照射される面に凹凸や傾斜が設けられていても、エネルギ線の周囲を、隙間を空けることなく覆うことができる。
ここで、遮蔽粒状部は、電磁波の遮蔽性を有する材料で形成された粒状の部材である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のエネルギ線照射装置によれば、Ｘ線などの電磁波を発生させるエネルギ線の周囲であって、被照射体と照射部との間という限定された領域に内側遮蔽体を配置するため、遮蔽体の製造コストの低減を図ることにより、装置全体の製造コスト低減を図ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
〔第１の実施形態〕
以下、本発明の第１の実施形態について図１から図４を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係る電子線照射装置の概略構成を説明する模式図である。
本実施形態では、本発明をエネルギ線に含まれる粒子線のうちの電子線を出射する装置であって、金型（被照射体）Ｍの表面に電子線を照射して焼き入れなどの表面処理を施す電子線照射装置（エネルギ線照射装置）１に適用して説明する。
【００１８】
電子線照射装置１には、図１に示すように、金型Ｍに電子線を照射する照射部２と、照射部２を移動可能に支持する支持部３と、差動排気部４と、照射部２および支持部３を制御する制御部５と、金型Ｍと照射部２との間に配置された内側遮蔽体６Ａと、金型Ｍ、照射部２および支持部３を内部に収納する外側遮蔽体６Ｂと、が設けられている。
【００１９】
照射部２は、照射ステージ７の上に配置された金型Ｍに対して電子線を照射し、金型Ｍに対して焼き入れなどの表面処理を施すものである。照射部２は、図１に示すように、支持部３の門型駆動部１１に、左右方向であるＸ方向（図１の左右方向）および上下方向であるＺ方向（図１の上下方向）に移動可能に支持されている。
【００２０】
支持部３は、図１に示すように、金型Ｍに対して照射部２を３次元方向に移動可能に支持するものである。
支持部３には、照射部２を支持する門型駆動部１１と、門型駆動部１１がその上を移動する走行部１２と、が設けられている。
【００２１】
門型駆動部１１には、間に照射ステージ７および金型Ｍを挟んで配置されたＺ方向に沿って延びる柱部１３と、柱部１３の上端を繋ぐＸ方向に沿って延びる梁部１４とが設けられている。梁部１４における金型Ｍと対向する面である下面には、照射部２が梁部１４に沿う方向、つまりＸ方向およびＺ方向へ移動可能に取り付けられている。
梁部１４と照射部２との接続部の構成は、照射部２がＸ方向およびＺ方向に移動可能な構成であれば、公知の構成を用いることができ、特に限定するものではない。
【００２２】
走行部１２は、照射ステージ７と隣接した領域に、前後方向であるＹ方向に沿って延びる部材であって、その上を門型駆動部１１が走行するものである。例えば、走行部１２としてはレールなどの公知の部材を用いることができる。
【００２３】
なお、門型駆動部１１は、上述のように走行部１２に沿って走行してＹ方向に移動しても良いし、Ｙ方向に移動するその他の公知の機構を備えていればよく、特に限定するものではない。
【００２４】
差動排気部４は、照射部２の内部に圧力勾配を形成し、電子線発生部（図示せず）を真空状態に保つものである。差動排気部４の本体は外側遮蔽体６Ｂの外側に配置され、本体から延びる排気管１５が外側遮蔽体６Ｂの内部に配置された照射部２に接続されている。
なお、差動排気部４の構成としては、公知の構成を用いることができ、特に限定するものではない。
【００２５】
制御部５は、照射部２および支持部３の移動および電子線の照射を制御することにより、金型Ｍの所定領域に電子線を照射するものである。
制御部５は外側遮蔽体６Ｂの外側に配置され、制御部５から延びる信号線１６が外側遮蔽体６Ｂの内部に配置された支持部３および照射部２に接続されている。
なお、制御部５による照射部２等の移動制御方法などについては、本実施形態の電子線照射装置１における金型Ｍの焼入れ方法の説明において併せて説明する。
【００２６】
図２は、図１の内側遮蔽体の構成を説明する模式図である。図３は、図２の内側遮蔽体の構成を説明する断面図である。
内側遮蔽体６Ａは、図１から図３に示すように、照射部２と金型Ｍとの間であって、照射される電子線ＥＢの周囲を覆うように配置されたものであって、電子線ＥＢにより発生したＸ線などの電磁波を遮蔽するものである。
内側遮蔽体６Ａには、電子線ＥＢの周囲を覆うように配置される複数の遮蔽板（遮蔽板部）２１と、遮蔽板２１を照射部２に対してスライド移動可能に支持するスライド支持部２２とが設けられている。
【００２７】
遮蔽板２１は、図２および図３に示すように、略矩形状に形成された板部材であって、Ｘ線などの電磁波を遮蔽する鉛などの重金属から形成された部材である。複数の遮蔽板２１は、電子線ＥＢの照射方向に沿って延びるように配置され、かつ、電子線ＥＢの周囲を覆うように隣接して配置されている。
【００２８】
本実施形態では、図２に示すように、１２枚の遮蔽板２１が電子線ＥＢの周囲を覆うように隣接して配置されている例に適用して説明しているが、遮蔽板２１の枚数は、１２枚より多くてもよいし、少なくてもよく、特に限定するものではない。
【００２９】
スライド支持部２２は、図３に示すように、遮蔽板２１を照射部２に対して、電子線ＥＢの照射方向にスライド移動可能に支持するものである。など、スライド支持部２２の構成としては、公知の構成を用いることができ、特に限定するものではない。
【００３０】
外側遮蔽体６Ｂは、図１に示すように、内部に照射ステージ７、金型Ｍ、支持部３および照射部２を収納し、内側遮蔽体６Ａから漏れたＸ線などの電磁波を遮蔽するものである。外側遮蔽体６Ｂを構成する材料としては鉛などを例示することができる。
【００３１】
外側遮蔽体６Ｂの大きさは、内部に照射ステージ７およい金型Ｍを配置した上で、支持部３が移動可能な空間を確保できる大きさであればよく、金型ＭをＸ方向およびＹ方向に移動させる空間を確保する必要はない。
外側遮蔽体６Ｂの上面には、金型Ｍを搬入および搬出する開口部３１が形成され、開口部３１を塞ぐ蓋体３２が開口部３１に配置されている。
【００３２】
次に、上記の構成からなる電子線照射装置１における作用について説明する。
最初に、図１に示すように、外側遮蔽体６Ｂの内部に焼き入れなどの表面処理を施す金型Ｍを搬入する。具体的には、外側遮蔽体６Ｂの上面に配置された蓋体３２を取り外し、門型駆動部１１をＹ方向に移動させ、照射ステージ７の上方に金型Ｍを搬入する空間を形成する。開口部３１から金型Ｍを外側遮蔽体６Ｂの内部に搬入した後、蓋体３２により開口部３１を閉じる。
【００３３】
その後、照射部２における電子線発生部に設けられたフィラメントに加速電圧等が供給され、電子線が生成される。生成された電子線ＥＢは、照射部２から内側遮蔽体６Ａの内側をとおして金型Ｍに向けて出射される。
金型Ｍにおける電子線ＥＢが照射された領域では、電子線ＥＢの有するエネルギが熱に変換されるため、焼き入れ処理が施されることになる。
【００３４】
ここで、内側遮蔽体６Ａおよび外側遮蔽体６ＢによるＸ線などの電磁波の遮蔽ついて説明する。
照射部２から出射された電子線ＥＢは、金型Ｍとの間の大気雰囲気中を通過して、金型Ｍに照射される。電子線ＥＢの有するエネルギの一部は、金型Ｍの照射領域において熱に変換され、別の一部は、Ｘ線などの電磁波の発生により消費される。さらには、大気中の気体分子との衝突により、熱に変換されたり、電磁波の発生に消費されたりするエネルギも若干ながら含まれる。
【００３５】
電子線ＥＢは、図２および図３に示すように、内側遮蔽体６Ａに囲まれた領域内を通って金型Ｍに照射される。そのため、電子線ＥＢにより発生する電磁波は、全て内側遮蔽体６Ａに覆われた領域の内側で発生する。つまり、これらの電磁波の大半は内側遮蔽体６Ａにより遮蔽され、一部のみが内側遮蔽体６Ａの外側に漏れる。
内側遮蔽体６Ａの外側に漏れた電磁波は、内側遮蔽体６Ａの外側に配置された外側遮蔽体６Ｂにより遮蔽され、本実施形態の電子線照射装置１の外側に上述の電磁波はほとんど漏れ出さない。
【００３６】
一方、照射部２が金型Ｍに対して移動されると、照射部２と金型Ｍとの間隔が変わる場合がある。この場合には、図３に示すように、内側遮蔽体６Ａの各遮蔽板２１が照射部２に対して相対的にスライド移動して、間隔の変化に対応する。
【００３７】
具体的には、各遮蔽板２１の下端は金型Ｍと接触しており、上述の間隔の変化にともない、各遮蔽板２１は、電子線ＥＢの照射方向に沿って移動する。各遮蔽板２１と照射部２との間にはスライド支持部２２が配置されており、各遮蔽板２１は、スライド支持部２２により、照射部２に対してスライド移動可能に支持されている。
そのため、金型Ｍにおける電子線ＥＢが照射される面に、局所的に凹凸や傾斜が形成されていても、分割された各遮蔽板２１が上述の凹凸や傾斜に対応してスライド移動し、金型Ｍと内側遮蔽体６Ａの間に隙間が形成されることを防止できる。
【００３８】
上記の構成によれば、Ｘ線などの電磁波を発生させる電子線ＥＢの周囲であって、金型Ｍと照射部２との間という限定された領域に内側遮蔽体６Ａを配置するため、金型Ｍおよび照射部２の全てを遮蔽体で覆う方法と比較して、電磁波の遮蔽性を損なうことなく遮蔽体の軽量化を図ることができる。そのため、遮蔽体の製造に用いる材料の削減を図ることができ、遮蔽体の製造コストの低減を図ることができる。
【００３９】
内側遮蔽体６Ａと、外側遮蔽体６Ｂとを組み合わせて設けることにより、内側遮蔽体６Ａのみを設けた場合と比較して、さらに電磁波の遮蔽性向上を図ることができる。さらに、外側遮蔽体６Ｂのみを設けた場合と比較して、外側遮蔽体６Ｂに求められる厚さが薄くなるため、内側遮蔽体６Ａおよび外側遮蔽体６Ｂの製造に用いる材料の全体量が少なくなる。
【００４０】
例えば、電子線エネルギが約１５０ｋＶの場合、遮蔽体を構成する鉛の厚さは約１２ｍｍが必要となる。この板厚を有する遮蔽体であって、金型Ｍの全体を覆う遮蔽体を製造すると、約１０ｔから約２０ｔの鉛が必要となる。
一方で、本実施形態のように内側遮蔽体６Ａおよび外側遮蔽体６Ｂに分けて遮蔽体を設けて、内側遮蔽体６Ａの板厚のみを約１２ｍｍとすると、内側遮蔽体６Ａの製造に必要な鉛は約１００ｋｇとなる。外側遮蔽体６Ｂの板厚は約２ｍｍから約３ｍｍで十分となり、必要な鉛は約２ｔから約５ｔとなる。つまり、内側遮蔽体６Ａおよび外側遮蔽体６Ｂの全体として必要な鉛の量が、上述の場合と比較して約１／５まで減らすことが可能となる。
【００４１】
内側遮蔽体６Ａの遮蔽板２１は電子線ＥＢの照射方向に沿って移動可能に支持されるため、金型Ｍと照射部２との間隔が変更されても、遮蔽板２１が照射部２に対してスライド移動する。そのため、金型Ｍと照射部２との間における電子線ＥＢの周囲を、複数の遮蔽板２１により隙間を空けることなく覆うことができる。
【００４２】
さらに、複数の遮蔽板２１は、電子線ＥＢの周囲を覆うように隣接して配置されているため、金型Ｍに傾斜面がある場合であっても、複数の遮蔽板２１のそれぞれが傾斜面に合わせてスライド移動することにより、電子線ＥＢの周囲を、隙間を空けることなく覆うことができる。
【００４３】
図４は、図３の照射部の別の実施形態を説明する模式図である。
なお、上述の実施形態のように、照射部２は電子線ＥＢを金型Ｍに照射するのみのものであってもよいし、図４に示すように、電子線ＥＢの照射された領域の状態、例えば、金型Ｍの焼き入れ状況を確認する観察部５１が設けられていてもよい。
観察部５１には、電子線ＥＢの照射領域の像を反射するミラー５２と、ミラー５２に反射された照射領域の像を撮影する観察用カメラ５３と、が設けられている。観察用カメラ５３は、内側遮蔽体６Ａの外側に配置され、ミラー５２は照射部２の内部に配置されている。このように配置することで、観察用カメラ５３に照射領域から発生する電磁波が照射されにくくなり、撮影された画像にノイズが混入したり、観察用カメラ５３が故障したり、誤作動を起こしたりすることを防止することができる。
【００４４】
〔第２の実施形態〕
次に、本発明の第２の実施形態について図５および図６を参照して説明する。
本実施形態の電子線照射装置の基本構成は、第１の実施形態と同様であるが、第１の実施形態とは、内側遮蔽体の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図５および図６を用いて内側遮蔽体の構成のみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
図５は、本実施形態に係る電子線照射装置における内側遮蔽体の概略構成を説明する模式図である。図６は、図５の内側遮蔽体における遮蔽部の構成を説明する模式図である。
なお、第１の実施形態と同一の構成については同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００４５】
電子線照射装置（エネルギ線照射装置）１０１の内側遮蔽体１０６Ａには、図５に示すように、電子線ＥＢの周囲を覆うように配置される複数の遮蔽部（遮蔽板部）１２１が設けられている。
【００４６】
遮蔽部１２１は、図５および図６に示すように、略シート状に形成された部材であって、Ｘ線などの電磁波を遮蔽する鉛などの重金属から形成された部材である。複数の遮蔽部１２１は、電子線ＥＢの照射方向に沿って延びるように照射部２から垂れ下げて配置され、かつ、複数の遮蔽部１２１が重ねて配置されている。本実施形態では、２枚の遮蔽部１２１が重ねて配置されている例に適用して説明するが、遮蔽部１２１を重ねる枚数は、２枚より多くてもよく特に限定するものではない。
【００４７】
遮蔽部１２１の金型Ｍ側の端部には、図６に示すように、複数の切れ目が設けられ、当該切れ目により暖簾状の分割部（遮蔽接触部）１２２が形成されている。本実施形態では、１枚の遮蔽部１２１に３つの分割部１２２が形成されている例に適用して説明するが、分割部１２２の数は、３つより多くても少なくてもよく、特に限定するものではない。
電子線ＥＢに近い側の遮蔽部１２１と、遠い側の遮蔽部１２１は、図６における左右方向にずらして配置され、上記近い側の遮蔽部１２１における切れ目を、上記遠い側の遮蔽部１２１の分割部１２２が覆うように配置されている。
【００４８】
遮蔽部１２１は照射部２から金型Ｍまでの距離よりも長く形成されているため、金型Ｍと接触する分割部１２２は、金型Ｍの面に沿って延びている。
さらに、少なくとも金型Ｍと接触する分割部１２２には、滑り性を確保するためのコーティングが施されていることが好ましい。コーティングの材料としては、例えばポリ４フッ化エチレン（テフロン（登録商標））などの材料が好ましい。
このようなコーティングを施すことにより、金型Ｍにおける電子線ＥＢを照射する表面に、遮蔽板２１を構成する材料が付着することを防止することができる。
【００４９】
次に、上記の構成からなる電子線照射装置１０１における内側遮蔽体１０６ＡによるＸ線などの電磁波の遮蔽ついて説明する。
なお、第１の実施形態と同一の作用効果については、その説明を省略する。
【００５０】
照射部２が金型Ｍに対して移動されると、照射部２と金型Ｍとの間隔が変わる場合がある。この場合には、図６に示すように、内側遮蔽体１０６Ａにおける各遮蔽部１２１の分割部１２２が変形することにより、間隔の変化に対応する。
【００５１】
例えば、照射部２と金型Ｍとの間隔が広がると、金型Ｍの面に沿って延びていた分割部１２２が引上げられ、照射部２と金型Ｍとの間隔が狭くなると、照射部２から垂れ下がっていた分割部１２２が金型Ｍの面に接触し、当該面に沿って延びることとなる。
そのため、金型Ｍにおける電子線ＥＢが照射される面に、局所的に凹凸や傾斜が形成されていても、分割部１２２が上述の凹凸や傾斜に対応して変形し、金型Ｍと内側遮蔽体１０６Ａの間に隙間が形成されることを防止できる。
【００５２】
上記の構成によれば、内側遮蔽体１０６Ａの金型Ｍ側の端部に分割部１２２を設けることにより、金型Ｍにおける電子線ＥＢが照射される面に凹凸や傾斜が設けられていても、電子線ＥＢの周囲を、隙間を空けることなく覆うことができる。
【００５３】
なお、上述の実施形態のように、遮蔽部１２１における金型Ｍ側の端部に切れ目を設けて分割部１２２を形成してもよいし、ブラシ状の鉛毛を遮蔽部１２１における金型Ｍ側の端部に設けてもよく、特に限定するものではない。
【００５４】
〔第２の実施形態〕
次に、本発明の第２の実施形態について図７を参照して説明する。
本実施形態の電子線照射装置の基本構成は、第１の実施形態と同様であるが、第１の実施形態とは、内側遮蔽体の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図７を用いて内側遮蔽体の構成のみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
図７は、本実施形態に係る電子線照射装置における内側遮蔽体の概略構成を説明する模式図である。
なお、第１の実施形態と同一の構成については同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００５５】
電子線照射装置（エネルギ線照射装置）２０１の内側遮蔽体２０６Ａには、図７に示すように、電子線ＥＢの周囲を覆うように配置される複数の遮蔽部（袋部）２２１が設けられている。
【００５６】
遮蔽部２２１は、図７に示すように、略袋状に形成された部材であって、電子線ＥＢの照射方向に沿って延びるように照射部２から垂れ下げて配置されたものである。遮蔽部２２１の金型Ｍ側の端部は金型Ｍと接触し、照射部２と金型Ｍとの間隔が変化しても、金型Ｍから遮蔽部２２１が離れないように余裕を持った長さに設定されている。
遮蔽部２２１の内部には粒状に形成された複数の遮蔽粒状部２２２が詰められている。
遮蔽粒状部２２２は、Ｘ線などの電磁波を遮蔽する鉛などの重金属から形成された粒状の部材である。
【００５７】
次に、上記の構成からなる電子線照射装置２０１における内側遮蔽体２０６ＡによるＸ線などの電磁波の遮蔽ついて説明する。
なお、第１の実施形態と同一の作用効果については、その説明を省略する。
【００５８】
照射部２が金型Ｍに対して移動されると、照射部２と金型Ｍとの間隔が変わる場合がある。この場合には、図７に示すように、内側遮蔽体２０６Ａにおける各遮蔽部２２１が変形することにより、間隔の変化に対応する。
【００５９】
例えば、照射部２と金型Ｍとの間隔が広がると、金型Ｍの面に沿って延びていた遮蔽部２２１が引上げられ、照射部２と金型Ｍとの間隔が狭くなると、照射部２から垂れ下がっていた遮蔽部２２１が金型Ｍの面に接触し、当該面に沿って延びることとなる。
そのため、金型Ｍにおける電子線ＥＢが照射される面に、局所的に凹凸や傾斜が形成されていても、遮蔽部２２１が上述の凹凸や傾斜に対応して変形し、金型Ｍと内側遮蔽体２０６Ａの間に隙間が形成されることを防止できる。
【００６０】
上記の構成によれば、遮蔽部２２１の内部に複数の遮蔽粒状部２２２を詰めることにより、遮蔽部２２１は電磁波の遮蔽性と、柔軟性とを両立することができる。そのため、金型Ｍにおける電子線ＥＢが照射される面に凹凸や傾斜が設けられていても、電子線ＥＢの周囲を、隙間を空けることなく覆うことができる。
【００６１】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記の実施の形態においては、この発明を、電子線を照射する電子線照射装置に適用して説明したが、この電子線照射装置に限られることなく、レーザ等のエネルギ線を照射するその他各種の照射装置に適用することができるものである。
また、この発明を、金型に電子線を照射して焼き入れ処理を施す電子線照射装置に適用して説明したが、電子線を照射する対象は金型に限られるものではなく、特に限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る電子線照射装置の概略構成を説明する模式図である。
【図２】図１の内側遮蔽体の構成を説明する模式図である。
【図３】図２の内側遮蔽体の構成を説明する断面図である。
【図４】図３の照射部の別の実施形態を説明する模式図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る電子線照射装置における内側遮蔽体の概略構成を説明する模式図である。
【図６】図５の内側遮蔽体における遮蔽部の構成を説明する模式図である。
【図７】本発明の第３の実施形態に係る電子線照射装置における内側遮蔽体の概略構成を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００６３】
１，１０１，２０１  電子線照射装置（エネルギ線照射装置）
２  照射部
６Ａ，１０６Ａ，２０６Ａ  内側遮蔽体
６Ｂ  外側遮蔽体
２１  遮蔽板（遮蔽板部）
２２  スライド支持部
１２１  遮蔽部（遮蔽板部）
１２２  分割部（遮蔽接触部）
２２１  遮蔽部（袋部）
２２２  遮蔽粒状部
Ｍ  金型（被照射体）
【図１】
2009058280.tif 000003
【図２】
2009058280.tif 000004
【図３】
2009058280.tif 000005
【図４】
2009058280.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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