(57)【要約】【課題】屈曲耐久性、透明性、及び伝送特性に優れたフィルム状光導波路を提供する。【解決手段】フィルム状光導波路２４は、下部クラッド層１２と、下部クラッド層１２の上面に形成された、特定の幅を有するコア部分２０と、下部クラッド層１２及びコア部分２０の上に積層して形成された上部クラッド層２２とからなる。下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２のうち少なくとも１つは、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（Ｂ）反応性希釈モノマー、（Ｃ）数平均粒径が１〜１００ｎｍであるエラストマー粒子、及び（Ｄ）光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。【選択図】図１
2009157125.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記クラッド層が、下記の成分（Ａ）〜(Ｄ)を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー
（Ｂ）反応性希釈モノマー
（Ｃ）数平均粒径が１〜１００ｎｍであるエラストマー粒子
（Ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
上記光硬化性樹脂組成物中、成分（Ａ）〜（Ｄ）の各々の配合割合が、３０〜８０質量％、１５〜６８．９質量％、１〜３５質量％、及び０．１〜１０質量％（ただし、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計量を１００質量％とする。）である請求項１に記載のフィルム状光導波路。
【請求項３】
（Ｃ）エラストマー粒子が、重合性不飽和基を２個以上有する架橋性モノマーと、該架橋性モノマー以外のモノマーとを共重合してなるエラストマー粒子を含む請求項１又は２に記載のフィルム状光導波路。
【請求項４】
上記架橋性モノマー以外のモノマーが、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するモノマーを含む請求項３に記載のフィルム状光導波路。
【請求項５】
成分（Ａ）が、（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含む請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム状光導波路。
【請求項６】
上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後、厚みが１０μｍである場合に、４０５ｎｍの波長の光に対して８０％以上の透過率を有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルム状光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム状光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路としては、石英系光導波路が代表的であった。しかし、石英系光導波路は、製造時に石英膜の堆積のために高温で長時間の処理が必要であるなど、製造時間が長いこと、光導波路のパターン形成には、光レジストを用いる工程と、危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれ、かつ、それらの工程に特殊な装置を必要とするなど、多数の複雑な工程及び特殊な装置を要すること、及び、歩留まりが低いこと等の問題がある。
これらの問題を改善するため、光導波路の工程数の削減、製造時間の短縮化、歩留まりの増大等の生産性の向上を目的に、コア部分とクラッド層の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー系光導波路が、近年提案されている。
一例として、テトラカルボン酸二無水物とジアミンから得られるポリイミドを構成要素とするポリイミド系光導波路において、該ポリイミドが特定の構造式で表されるフッ素化ジアミン若しくはそれを含むジアミンからのポリイミド、又はその混合物であることを特徴とするポリイミド系光導波路が提案されている（特許文献１）。
このポリイミド系光導波路は、良好な伝送特性（低導波路損失）を有し、優れた耐熱性を有するものである。
また他の例として、（Ａ）ウレタン結合を介在させて結合された、ラジカル重合性反応基を含む側鎖部分を有する構成単位と、重合性を有しない側鎖を有する構成単位とを含む共重合体、（Ｂ）分子内に１個以上のエチレン性不飽和基を有し、分子量が１，０００未満であり、０．１ＭＰａにおける沸点が１３０℃以上である化合物、及び（Ｃ）光ラジカル重合開始剤を含有する光導波路用感光性樹脂組成物が提案されている（特許文献２）。
この感光性樹脂組成物によると、形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性の低下を抑えた光導波路を形成することができる。
【特許文献１】特開平４−９８０７号公報
【特許文献２】特開２００６−１４６１６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の光導波路は、光導波路に必要な諸特性（優れた伝送特性等）を有するものの、屈曲耐久性が低いという問題がある。すなわち、従来の光導波路では、フィルム状の硬化物（フィルム状光導波路）の状態で繰り返し屈曲させると、破断やクラックを生じ、伝送特性等を維持することができないという問題がある。
一方、フィルム状光導波路の下面に、発光素子等の他の部材を固着させる時に、フィルム状光導波路を上方から透視して位置合わせをすることから、フィルム状光導波路は、高い透明性を有することが望まれている。
そこで、本発明は、光導波路に必要な諸特性（優れた伝送特性等）を有し、かつ、屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、クラッド層が、複数種の特定の成分を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるフィルム状光導波路によれば、本発明の上記目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の［１］〜［６］を提供するものである。
［１］  コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記クラッド層が、下記の成分（Ａ）〜(Ｄ)を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー
（Ｂ）反応性希釈モノマー
（Ｃ）数平均粒径が１〜１００ｎｍであるエラストマー粒子
（Ｄ）光重合開始剤
［２］  上記光硬化性樹脂組成物中、成分（Ａ）〜（Ｄ）の各々の配合割合が、３０〜８０質量％、１５〜６８．９質量％、１〜３５質量％、及び０．１〜１０質量％（ただし、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計量を１００質量％とする。）である上記［１］に記載のフィルム状光導波路。
［３］  （Ｃ）エラストマー粒子が、重合性不飽和基を２個以上有する架橋性モノマーと、該架橋性モノマー以外のモノマーとを共重合してなるエラストマー粒子を含む上記［１］又は［２］に記載のフィルム状光導波路。
［４］  上記架橋性モノマー以外のモノマーが、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するモノマーを含む上記［３］に記載のフィルム状光導波路。
［５］  成分（Ａ）が、（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含む上記［１］〜［４］のいずれか１つに記載のフィルム状光導波路。
［６］  上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後、厚みが１０μｍである場合に、４０５ｎｍの波長の光に対して８０％以上の透過率を有する上記［１］〜［５］のいずれか１つに記載のフィルム状光導波路。
【発明の効果】
【０００５】
本発明のフィルム状光導波路は、クラッド層（下部クラッド層、上部クラッド層）が複数種の特定の成分を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、優れた伝送特性を有する。
また、本発明フィルム状光導波路は、クラッド層が特定の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、優れた屈曲耐久性を有する。本発明のフィルム状光導波路は、繰り返し屈曲しても破断やクラックを生じることがなく、上記優れた伝送特性を維持することができる。
さらに、本発明のフィルム状光導波路は、クラッド層が特定の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、クラッド層が高い透明性を有し、フィルム状光導波路と発光素子等の他の部材とを固着させる際に、フィルム状光導波路を透視して、容易かつ正確に位置合わせを行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明のフィルム状光導波路は、コア部分と、クラッド層（下部クラッド層及び上部クラッド層）とを含み、かつ、クラッド層が複数種の特定の成分を含む光硬化性樹脂組成物の硬化体からなるものである。
まず、クラッド層を形成する光硬化性樹脂組成物について説明する。
上記光硬化性樹脂組成物は、成分（Ａ）〜（Ｄ）及び必要に応じて配合される他の任意成分を含む。
以下、各成分ごとに詳述する
［成分（Ａ）］
成分（Ａ）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。
成分（Ａ）として用いられるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させることにより製造される。具体的には、以下の製法１〜製法４のいずれかの方法で製造される。
製法１：ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法２：ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法３：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法４：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法。
【０００７】
以下、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの製造に用いられる（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートについて詳しく説明する。
［（ａ）ポリオール化合物］
（ａ）ポリオール化合物としては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも１種の化合物を開環（共）重合することにより得られるもの等が挙げられる。これらの具体例としては、ポリエチレングリコール、１，２−ポリプロピレングリコール、１，３−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと１，２−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
【０００８】
脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂社製）；ＰＰＴＧ４０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ１０００、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧＬ２０００、ＰＴＧＬ１０００（以上、保土谷化学社製）；ＥＸＥＮＯＬ４０２０、ＥＸＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＥＮＯＬ１０２０（以上、旭硝子社製）；ＰＢＧ３０００、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ１０００、Ｚ３００１（以上、第一工業製薬社製）；ＡＣＣＬＡＩＭ
２２００、３２０１、４２００、６３００、８２００（以上、住化バイエルウレタン社製）；ＮＰＭＬ−２００２、３００２、４００２、８００２（以上、旭硝子社製）等が挙げられる。
【０００９】
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニオールＤＡ４００、ＤＡ７００、ＤＡ１０００（以上、日本油脂社製）等が挙げられる。
ポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等の多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸を反応して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。市販品としては、クラポールＰ−２０３０、Ｐ−１０３０、Ｐ−２０１０、Ｐ−５０１０、Ｐ−２０５０、Ｆ−２０１０、Ｐ−２０１１、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ−Ａ、ＰＫＡ−Ａ２、ＰＮＡ−２０００（以上、クラレ社製）等が挙げられる。
【００１０】
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールポリカーボネート、１，６−ヘキサンジオールと１，５−ペンタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、１，３−プロパンジオールと１，４−ブタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール等が挙げられる。市販品としてはＰＣＤＬ  Ｔ５６５２、Ｇ３４５２、Ｇ３４５０Ｊ（以上、旭化成社製）；ＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）；クラレポリオールＣ−５９０、Ｃ１０５０、Ｃ−１０９０、Ｃ−２０５０、Ｃ−２０９０、Ｃ−３０９０、Ｃ−５０９０、Ｃ−１０６５Ｎ、Ｃ−２０６５Ｎ、Ｃ−１０１５Ｎ、Ｃ−２０１５Ｎ（以上、クラレ社製）；ＰＬＡＣＣＥＬ−ＣＤ２０５、ＣＤ−９８３、ＣＤ２２０（以上、ダイセル化学工業社製）；ＰＣ−８０００（米国ＰＰＧ社製）等が挙げられる。
ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、ＰＬＡＣＣＣＥＬ２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業社製）等が挙げられる。
本発明で使用しうる他のポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。
【００１１】
これらポリオール化合物のうち、ポリエーテルポリオールが好ましく、アルキレンオキシ構造を有する脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオールがより好ましい。アルキレンオキシ構造を有する脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド共重合ジオール、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオール、プロピレンオキサイド／テトラヒドロフラン共重合ジオールがより好ましく、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオールが特に好ましい。芳香族ポリエーテルポリオールとしては、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、
ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオールがより好ましい。
（ａ）ポリオール化合物は、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００１２】
（ａ）ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは１００〜１５，０００、さらに好ましくは１５０〜１４，０００、最も好ましくは２００〜１２，０００である。（ａ）ポリオール化合物の数平均分子量が１００未満であると、組成物を硬化させてなる硬化物（クラッド層）の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を得ることができない。一方、数平均分子量が１５，０００を超えると、組成物の粘度が上昇し、塗布性が悪化することがある。
【００１３】
［（ｂ）ポリイソシアネート化合物］
（ｂ）ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。（ｂ）ポリイソシアネート化合物は、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００１４】
［（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート］
（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等は、好ましく用いられる。
（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートは、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、（ａ）ポリオール化合物０．５〜２モル、（ｂ）ポリイソシアネート化合物１〜２．５モルである。
【００１５】
また、成分（Ａ）として、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることもできる。この場合、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有（メタ）アクリレートの例としては、それぞれ、上記（ｂ）ポリイソシアネート化合物、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートと同様のものが挙げられる。
【００１６】
成分（Ａ）としては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
成分（Ａ）は、屈曲耐久性の観点から、（ａ）ポリオール化合物と（ｂ）ポリイソシアネート化合物と（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
成分（Ａ）中、（ａ）ポリオール化合物と（ｂ）ポリイソシアネート化合物と（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの含有量は、成分（Ａ）の全量を１００質量％として、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上である。
成分（Ａ）の数平均分子量は、好ましくは１００〜１５，０００、より好ましくは３００〜１２，０００である。該値が１００未満では、組成物の粘度が小さくなり過ぎて、塗布性が劣ることがある。一方、該値が１５，０００を超えると、粘度が高くなり、取り扱いが難しくなる。
光硬化性樹脂組成物中、成分（Ａ）の配合割合は、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計量を１００質量％として、好ましくは３０〜８０質量％、より好ましくは３２〜７５質量％、特に好ましくは３５〜７０質量部％である。上記配合割合が３０質量部未満では、組成物を硬化させてなる硬化物（クラッド層）のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、上記配合割合が８０質量部を超えると、組成物の粘度が大きくなり、均一な厚みを有するクラッド層を形成することが困難となる。
【００１７】
［成分（Ｂ）］
成分（Ｂ）は、反応性希釈モノマーである。本明細書において、反応性希釈モノマーとは、光重合可能な他の反応性の成分に対して希釈剤として作用する、すなわち、粘度を低下させる作用を有するモノマーをいう。
反応性希釈モノマーとしては、（Ｂ１）分子内にエチレン性不飽和基を１つ有するモノマー（以下、単官能モノマーともいう。）、及び（Ｂ２）分子内にエチレン性不飽和基を２つ以上有するモノマー（以下、多官能モノマーともいう。）が挙げられる。上記エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等が挙げられるが、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
上記（Ｂ１）単官能モノマーとしては、例えば、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、イソボルニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、３−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、２−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、フェノキシエチルアクリレート等を挙げることができる。
これらの中でも、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン及びＮ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物、及び炭素数１０以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性（メタ）アクリレートが好ましい。ここで炭素数１０以上の脂肪族炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖および脂環式のいずれも含まれる。前記炭素数１０以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性（メタ）アクリレートとしては、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートが好ましい。
（Ｂ１）成分の市販品としてはＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ（以上、興人社製）、ニューフロンティアＩＢＡ（第一工業製薬社製）；ＩＢＸＡ（大阪有機化学社製）；ＦＡ５１１Ａ、ＦＡ５１２Ａ、ＦＡ５１３Ａ、ＦＡ５４４Ａ、５１２Ｍ、５１２ＭＴ、５１３Ｍ（以上、日立化成社製）；ライトエステルＭ、Ｅ、ＢＨ、ＴＢ、ＩＢ−Ｘ、ＩＢ−ＸＡ（以上、共栄社化学社製）；アロニックス  Ｍ１５０、Ｍ１５６、ＴＯ１３１５、ＴＯ１３１６（以上、東亞合成社製）等が挙げられる。
【００１８】
上記（Ｂ２）多官能モノマーのうち、分子内にエチレン性不飽和基を２つ有するモノマー（以下、２官能モノマーともいう。）としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
中でも、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
【００１９】
２官能モノマーの市販品としては、例えば、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業社製）；アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成社製）；ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学社製）；ライトアクリレート１，６−ＨＸ−Ａ、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学社製）；ＫＡＹＡＲＡＤ
Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬社製）；ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬社製）；リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子社製）；ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（以上、日本ユピカ社製）；ＵＨ−１００ＤＡ（宇部興産社製）等が挙げられる。
【００２０】
また、（Ｂ２）多官能モノマーのうち、エチレン性不飽和基を３個以上有するモノマー（３官能以上のモノマー）としては、例えば、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（以下「ＥＯ」という。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド（以下「ＰＯ」という。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリス（メタ）アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、２，２，２−トリス（メタ）アクリロイロキシメチルエチルコハク酸、ＥＯ変性トリス（アクリロキシ）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（アクリロキシ）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリアクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。
中でも、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００２１】
３官能以上のモノマーの市販品としては、例えば、アロニックスＭ−３１５、Ｍ−３２５、Ｍ−３２７、ＴＯ−７５６、ＴＯ−１３８２（以上、東亞合成社製）；ＮＫエステルＴＭ−４ＥＬ、ＣＢＸ−Ｏ、ＣＢＸ−１Ｎ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｈ、Ａ−９３００、Ａ−ＤＰＨ、Ａ−９３００−１ＣＬ、ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＡＴＭ−４Ｐ、ＡＴＭ−４Ｅ、ＡＴＭ−３５Ｅ、ＡＤ−ＴＭＰ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＰＯ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ（以上、新中村化学工業社製）；ライトエステルＴＭＰ、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＢＡ−１３４、ＴＭＰ−３ＥＯ−Ａ（以上、共栄社化学社製）；ビスコート２９５、３６０、３ＰＡ、４００（以上、大阪有機化学工業社製）；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＤＰＨＡ（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。
【００２２】
成分（Ｂ）としては、上記単官能モノマー及び上記多官能モノマーのいずれかを単独で使用してもよいし、併用して用いることもできる。好ましくは、成分（Ｂ）は多官能モノマーを含む。
光硬化性樹脂組成物中、成分（Ｂ）の配合割合は、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計量を１００質量％として、１５〜６８．９質量％、好ましくは２０〜６０質量％、より好ましくは２５〜５０質量％である。上記配合割合が１５質量％未満では、硬化物の耐湿熱性が低下し、フィルム状光導波路を高温高湿雰囲気中で使用した場合に、伝送特性、屈曲耐久性を良好に維持することが困難となる。一方、上記配合割合が、６８．９質量％を超えると、組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的特性を有する硬化物（下部クラッド層、上部クラッド層）を形成することが困難となる。
【００２３】
［成分（Ｃ）］
成分（Ｃ）は、電子顕微鏡法で測定した数平均粒径が１〜１００ｎｍであるエラストマー粒子である。成分（Ｃ）を添加することにより、光硬化性樹脂組成物の硬化物の屈曲耐久性を向上させることができる。成分（Ｃ）の数平均粒径は、１〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜９０ｎｍ、特に好ましくは２０ｎｍ〜８０ｎｍである。数平均粒径が１ｎｍ未満であると、組成物の粘度が増大し、塗工不良を生じることがある。数平均粒径が１００ｎｍを超えると、透明性または伝送特性が低下したり、また、屈曲耐久性を向上させる効果が小さくなる場合がある。
【００２４】
（Ｃ）エラストマー粒子の好適な例としては、重合性不飽和基を２個以上有する架橋性モノマー（以下、「架橋性モノマー（ｃ１）」ともいう。）と、架橋性モノマー（ｃ１）以外のモノマー（以下、「その他のモノマー（ｃ２）」ともいう。）との共重合体であるエラストマー粒子が挙げられる。
【００２５】
架橋性モノマー（ｃ１）としては、例えば、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を２個以上有する化合物が挙げられる。これらの中では、ジビニルベンゼンが好ましい。
架橋性モノマー（ｃ１）は、上記共重合体に用いられる全モノマーを１００質量％として、好ましくは１〜２０質量％、より好ましくは２〜１０質量％の範囲で用いられる。
【００２６】
その他のモノマー（ｃ２）としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、１，３−ペンタジエン等のジエン化合物；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール等の芳香族ビニル化合物；（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリル等の不飽和ニトリル化合物類；ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、グリコールのジグリシジルエーテルなどと（メタ）アクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどとの反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとポリイソシアナートとの反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレート類、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有不飽和化合物；（メタ）アクリル酸、イタコン酸、コハク酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、マレイン酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、フタル酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸−β−（メタ）アクリロキシエチル等の不飽和酸化合物；（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド等の不飽和アミド類；ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート等のアミノ基含有不飽和化合物；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有不飽和化合物等が挙げられる。中でも、ブタジエン、イソプレン、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール、（メタ）アクリロニトリル、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類等が好ましく用いられる。
【００２７】
その他のモノマー（ｃ２）は、官能基を含まない単量体（具体的には、上記ジエン化合物、（メタ）アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物等）を少なくとも１種含むことが好ましく、より好ましくはジエン化合物を少なくとも１種、さらに好ましくはブタジエンを含む。ジエン化合物は、上記共重合体に用いられる全モノマーを１００質量％として、好ましくは２０〜８０質量％、より好ましくは３０〜７０質量％の範囲で用いられる。ジエン化合物の使用割合が上記範囲内であると、共重合体（エラストマー粒子）の性状がゴム状で軟らかいものとなるため、光硬化性樹脂組成物の硬化物（クラッド層）においてクラックの発生を防止することができ、フィルム状光導波路の屈曲耐久性を向上させることができる。
また、その他のモノマー（ｃ２）は、官能基を有する単量体を少なくとも１種含むことが好ましく、より好ましくはカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び、水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有する化合物を含む。官能基を有するモノマーは、上記共重合体に用いられる全モノマーを１００質量％として、好ましくは1〜５０質量％、より好ましくは１〜４０質量％の範囲で用いられる。
【００２８】
成分（Ｃ）エラストマー粒子の平均粒径のコントロール方法は、特に限定されず、たとえば、乳化重合によりエラストマー粒子を合成する場合であれば、使用する乳化剤の量により、乳化重合中のミセルの数を制御し、粒径をコントロールすることができる。
【００２９】
光硬化性樹脂組成物中、成分（Ｃ）の配合割合は、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計を１００質量％として、好ましくは１〜３５質量％、より好ましくは５〜２５質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。上記配合割合が１質量％未満であると、フィルム状光導波路の屈曲耐久性が低下するため好ましくない。一方、上記配合割合が３５質量％を超えると、組成物の粘度が増大し、塗工精度が低下する傾向がある。
【００３０】
［成分（Ｄ）］
成分（Ｄ）は、成分（Ａ）〜（Ｃ）を重合しうる活性種（ラジカル）を光によって発生することのできる光重合開始剤である。
ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びＸ線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。
光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。中でも１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等は、重合速度、溶液安定性の観点から好ましく用いられる。
【００３１】
成分（Ｄ）の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、３７９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ−１７００、−１７５０、−１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ  １１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャリテイ・ケミカルズ社製）；Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ、ＬＲ８８９３、ＬＲ８９７０（以上、ＢＡＳＦ社製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
本発明においては、光重合開始剤と共に光増感剤を用いることができる。光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。光増感剤の市販品としては、例えば、ユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００３２】
光硬化性樹脂組成物中、成分（Ｄ）の配合割合は、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計量を１００質量％として、０．１〜１０質量％、好ましくは０．２〜７質量％、より好ましくは０．５〜６質量％である。上記配合割合が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、十分な機械的特性を有する硬化物（クラッド層）を形成することが困難となることがある。また、上記配合割合が１０質量％を超えると、光重合開始剤が、フィルム状光導波路の長期の特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
【００３３】
［任意成分］
光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、有機溶媒（成分（Ｅ））を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有する硬化物（クラッド層）を形成することができる。
有機溶媒の種類は、本発明の目的、効果を損なわない範囲で適宜選択することができるが、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有し、かつ、各構成成分を均一に溶解させるものが好ましい。
有機溶媒の好ましい例としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、及びケトン類が挙げられる。有機溶媒の好ましい化合物名としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、トルエン、キシレン、及びメタノールからなる群より選択される少なくとも１つの溶剤が挙げられる。
有機溶媒の配合量は、成分（Ａ）〜（Ｄ）の合計量１００質量部に対し、好ましくは５〜５００質量部、より好ましくは１０〜３００質量部、特に好ましくは２０〜２００質量部である。上記配合量が５質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が５００質量部を超えると、十分な厚さを有するクラッド層を形成することが困難なことがある。
【００３４】
また、光硬化性樹脂組成物には、前記の成分（Ａ）〜（Ｅ）以外に、必要に応じて本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、上記成分以外の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂（例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー）等を配合することができる。
さらにまた、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。
光硬化性樹脂組成物は、前記の各成分を混合撹拌することにより製造することができる。なお、撹拌時の温度は、通常３０〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃であり、撹拌時間は、通常１〜６時間、好ましくは１〜２時間である。
上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後に高い透明性を有する。具体的には、上記光硬化性樹脂組成物の硬化物は、厚さが１０μｍである場合に、波長４０５ｎｍの光に対して、８０％以上、好ましくは９０％以上の透過率を有する。
【００３５】
次に、本発明のフィルム状光導波路のコア部分を形成するための光硬化性樹脂組成物（以下、コア形成用光硬化性樹脂組成物という。）について説明する。
コア形成用光硬化性樹脂組成物の好適な例としては、下記成分（イ）〜（ニ）を含む光硬化性組成物が挙げられる。
【００３６】
［成分（イ）］
成分（イ）は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体（以下、単にビニル系重合体ともいう。）である。
上記エチレン性不飽和基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
上記ビニル系重合体の具体例としては、下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位とを含む重合体（例えば、ランダム共重合体）が挙げられる。
【化１】
2009157125.tif 000003
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子またはメチル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｘは２価の有機基であり、Ｙは重合性を有しない有機基である。）
【００３７】
上記ビニル系重合体は、例えば、（イ−１）水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び（イ−２）成分（一般式（２）に対応するラジカル重合性化合物）を、溶媒中でラジカル重合用の触媒存在下でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、（イ−３）（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネートを付加させて得られるものが挙げられる。
上記（イ−１）成分（水酸基を有するラジカル重合性化合物）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記（イ−２）成分（一般式（２）に対応するラジカル重合性化合物）としては、例えば、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。上記（イ−３）成分（（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート）としては、例えば、２−メタクリロキシエチルイソシアネート等が挙げられる。
【００３８】
成分（イ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは８，０００〜７０，０００、特に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。
【００３９】
［成分（ロ）］
成分（ロ）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分（Ａ）と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分（ロ）の配合量は、成分（イ）１００質量部に対して、好ましくは１０〜１００質量部、より好ましくは２０〜８０質量部、特に好ましくは３５〜７０質量部である。上記配合量が１０質量部未満であると、光硬化性組成物層の硬化物（コア部分）について十分な屈曲耐久性が得られないことがある。一方、上記配合量が１００質量部を超えると、成分（イ）との相溶性が悪くなり、コア形成用光硬化性樹脂組成物層の硬化物（コア部分）の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。
【００４０】
［成分（ハ）］
成分（ハ）は、反応性希釈モノマーである。
上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分（Ｂ）と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分（ハ）の配合量は、成分（イ）１００質量部に対して、好ましくは５〜１００質量部、より好ましくは１０〜７０質量部、特に好ましくは２０〜５０質量部である。上記配合量が５質量部未満であると、フィルム状光導波路を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがある。一方、上記配合量が１００質量部を超えると、成分（イ）との相溶性が悪くなり、光硬化性樹脂組成物の硬化物（コア部分）の表面に膜荒れを生じることがある。
【００４１】
［成分（ニ）］
成分（ニ）は、光重合開始剤である。
上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分（Ｄ）と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分（ニ）の配合割合は、コア形成用光硬化性樹脂組成物の全量を１００質量％として、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％である。上記配合割合が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、フィルム状光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が１０質量％を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
【００４２】
［任意成分］
コア形成用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒（成分（ホ））を含有することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分（Ｅ）と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分（ホ）（有機溶媒）の配合割合は、コア形成用光硬化性樹脂組成物の全量を１００質量％として、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１５〜５５質量％である。上記配合割合が５質量％未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。一方、上記配合割合が８０質量％を超えると、十分な厚さを有するフィルム状光導波路等を形成することが困難なことがある。
【００４３】
また、コア形成用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含むことができる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
【００４４】
次に、図面を参照しつつ、本発明のフィルム状光導波路の一例を説明する。
図１は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。
図２は、本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
【００４５】
［フィルム状光導波路の構造］
図１中、フィルム状光導波路２４は、基板１０と、コア部分２０と、クラッド層（下部クラッド層１２、及び上部クラッド層２２）とから構成されている。下部クラッド層１２は、基板１０の上面に積層して形成されており、この下部クラッド層１２の上面には、特定の幅を有するコア部分２０が形成されている。コア部分２０及び下部クラッド層１２の上面には、上部クラッド層２２が積層して形成されている。なお、コア部分２０は、光導波路２４の外形を形成する下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２の中に埋設されている。
コア部分２０の厚さは、特に限定されないが、例えば３〜２００μｍである。下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２の各々の厚さは、通常１〜２００μｍ、好ましくは１〜５０μｍ、より好ましくは１〜２５μｍ、特に好ましくは１〜１５μｍである。コア部分２０の幅は、特に限定されないが、例えば、１〜２００μｍである。
下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２のうち少なくとも１つは、上述の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。好ましくは、下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２が上述の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。また、コア部分２０は、上述のコア用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。
コア部分２０の屈折率は、下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長４００〜１，６００ｎｍの光に対して、コア部分２０の屈折率が１．４２０〜１．６５０、下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２の屈折率が１．４００〜１．６４８であり、かつ、コア部分２０の屈折率が、２つのクラッド層のいずれの屈折率よりも少なくとも０．１％大きな値であることが好ましい。
【００４６】
クラッド層（下部クラッド層１２、上部クラッド層２２）は、高い透明性を有するものである。具体的には、クラッド層は、１０μｍの厚みを有する場合に、４０５ｎｍの波長の光に対して、８０％以上、好ましくは９０％以上の透過率を有する。
クラッド層が高い透明性を有することによって、フィルム状光導波路の下面に、面発光レーザ等の発光素子や、フォトダイオード等の受光素子を接合して、電気／光信号を変換するインターフェースを形成するときに、フィルム状光導波路を上方から透視して、発光素子や受光素子の位置と、フィルム状光導波路中のコア部分の位置とを正確に合わせることができる。
また、クラッド層が高い透明性を有することによって、光信号に使用される波長領域の光に対して高い透過率を発現することができ、発光素子からの光信号がクラッド層を通過してコア部分に到達する際の、光の損失、及び、コア部分からの光信号がクラッド層を通過して受光素子に到達する際の、光の損失を極めて小さくすることができる。
【００４７】
［フィルム状光導波路の製造方法］
本発明のフィルム状光導波路２４の製造方法は、下部クラッド層１２を形成する工程と、コア部分２０を形成する工程と、上部クラッド層２２を形成する工程とを含む。
なお、光導波路を構成する下部クラッド層１２、コア部分２０、及び上部クラッド層２２の各部を形成するための光硬化性樹脂組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物及び上層用組成物と称する。
（１）光硬化性樹脂組成物の調製
下層用組成物及び上層用組成物の各々の成分組成は、特に限定されるものではないが、経済上及び製造管理上、同一の光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
下部クラッド層及び上部クラッド層形成用の光硬化性樹脂組成物の粘度は、好ましくは１〜１０，０００ｃｐｓ（２５℃）、より好ましくは５〜８，０００ｃｐｓ（２５℃）、特に好ましくは１０〜５，０００ｃｐｓ（２５℃）である。粘度がこの範囲外であると、光硬化性樹脂組成物の取り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが困難なことがある。なお、粘度は、有機溶媒等の配合量を変えることによって、適宜調整することができる。
また、下層用組成物、コア用組成物及び上層用組成物の各々の成分組成は、下部クラッド層１２、コア部分２０、及び上部クラッド層２２の各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような二種または三種の光硬化性樹脂組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える光硬化性樹脂組成物をコア用組成物とし、他の光硬化性樹脂組成物を下層用組成物及び上層用組成物として用いる。
【００４８】
（２）基板の準備
図２中の（ａ）に示すように、平坦な表面を有する基板１０を用意する。この基板１０の種類としては、特に限定されないが、例えば、シリコン基板、ガラス基板、ＰＥＴフィルム、ポリイミドフィルム等を用いることができる。
【００４９】
（３）下部クラッド層の形成工程
基板１０の上面に、下部クラッド層１２を形成する工程である。具体的には、基板１０の表面に下層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして下層用薄膜を形成する。この下層用薄膜に光を照射して硬化させ、硬化体である下部クラッド層１２を形成する（図２中の（ｂ）参照）。なお、下部クラッド層１２の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
下層用組成物の塗布方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等のいずれかの方法を用いることができる。このうち、均一な厚さの下部層用薄膜が得られることから、スピンコート法を採用することが好ましい。
また、下層用組成物のレオロジー特性を塗布方法に応じた適切なものとするために、下層用組成物には、各種レベリング剤、チクソ付与剤、フィラー、有機溶媒、界面活性剤等を必要に応じて配合することが好ましい。下層用組成物からなる下層用薄膜は、塗布後、有機溶剤等を除去する目的で必要に応じて５０〜１５０℃の温度でプリベークすることが好ましい。
【００５０】
下部クラッド層１２を形成する際の光の照射量は、特に限定されるものではないが、波長２００〜４５０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ2の光を、照射量が１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射して露光することが好ましい。
照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。
また露光の際、必要に応じて露光雰囲気を窒素気流下にすることで、硬化性を向上させることができる。
また、露光後に、さらに加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、３０〜２５０℃、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは１００〜１５０℃で、例えば５分間〜７２時間の加熱時間とすればよい。加熱処理（ポストベーク）を行なうことによって、塗膜全面を十分に硬化させることができる。
なお、下部クラッド層１２の形成工程における組成物の塗布方法、光の照射量、種類、及び光（紫外線）の照射装置等の条件は、後述するコア部分２０の形成工程、上部クラッド層２２の形成工程においても同様である。また、下部クラッド層１２の形成工程におけるプリベーク及びポストベークの条件は、後述する上部クラッド層２２の形成工程においても同様である。
【００５１】
（５）コア部分の形成工程
次に、下部クラッド層１２の上面に、コア部分２０を形成する。具体的には、図２中の（ｃ）に示すように、下部クラッド層１２の上面にコア用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークしてコア用薄膜１４を形成する。その後、図２中の（ｄ）に示すように、コア用薄膜１４の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスク１８を介して光１６の照射（露光）を行う。これにより、コア用薄膜１４のうち、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像処理して除去することにより、図２中の（ｅ）に示すように、下部クラッド層１２上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分２０を形成することができる。
本工程において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスク１８を用いる方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法のいずれかを採用してもよい。
ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用して、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
ｃ．レーザー光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を、走査させながら光硬化性樹脂組成物に照射する方法。
【００５２】
本工程における現像処理の詳細は、次のとおりである。
現像処理は、所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対して、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像液を用いて未硬化部分のみの除去を行なうものである。つまり、パターン露光後、未硬化部分を除去し、かつ、硬化部分を残存させて、結果的にコア部分を形成させるものである。
現像処理に用いる現像液としては、有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の例としては、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
現像時間は、通常３０〜６００秒間である。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法等の公知の方法を採用することができる。現像後、そのまま風乾することによって、有機溶媒が除去されて、パターン状の薄膜が形成される。
パターン状の薄膜（パターニング部）の形成後、このパターニング部を加熱処理（ポストベーク）する。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、３０〜２５０℃、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは１００〜１５０℃の加熱温度で、例えば５分間〜１０時間の加熱時間とすればよい。加熱処理（ポストベーク）を行なうことによって、塗膜全面を十分に硬化させることができる。
【００５３】
（６）上部クラッド層の形成工程
次いで、下部クラッド層１２及びコア部分２０の上面に、上部クラッド層２２を形成する。具体的には、下部クラッド層１２及びコア部分２０の上面に上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして上層用薄膜を形成し、この上層用薄膜に光を照射して硬化させることによって、硬化体である上部クラッド層２２を形成する（図２（ｆ）参照）。なお、上部クラッド層２２の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。露光後に、さらに、加熱処理（ポストベーク）を行ってもよい。
その後、基板１０を剥離せずにそのまま（図２中の（ｆ））とするか、あるいは基板１０を剥離すると（図示しない）、フィルム状光導波路２４が得られる。
【実施例】
【００５４】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【００５５】
［１．下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の調製］
成分（Ａ）〜（Ｅ）として、以下の材料を用意した。
［成分（Ａ）］
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート１６．６質量部、数平均分子量が２，０００のポリプロピレングリコール７４．７質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０１質量部を仕込み、５〜１０℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０５質量部を加え、温度が３０℃以下に保たれるように調整しながら２時間撹拌した後、５０℃まで昇温しさらに２時間撹拌した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート８．７質量部（以上の合計量１００質量部）を滴下し、滴下終了後、５０℃で１時間反応させ、さらに６５℃まで昇温し２時間反応させた。残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーＡ−１を得た。
同様の方法にてＡ−２を得た。
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーＡ−１及びＡ−２の製造に用いた原料名及び配合量を、表１に示す。
【００５６】
【表１】
2009157125.tif 000004
【００５７】
［成分（Ｂ）］
（１）ポリカーボネートジオールジアクリレート；宇部興産社製、ＵＨ−１００ＤＡ（１，６−ヘキサンジオールベースジアクリレート：分子量１，０００）
（２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート；日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ
（３）トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート；東亞合成社製、アロニックスＭ−３１５
［成分（Ｃ）］
（１）エラストマー粒子Ａ；ブタジエン／ヒドロキシブチルメタクリレート／メタクリル酸／ジビニルベンゼン＝６０／３２／６／２(質量％)が乳酸エチルに分散してなるもの（表中の配合量は固形分換算）：数平均粒径６５ｎｍ
（２）エラストマー粒子Ｂ；ブタジエン／ヒドロキシブチルメタクリレート／メタクリル酸／ジビニルベンゼン＝６０／３２／６／２(質量％)が乳酸エチルに分散してなるもの（表中の配合量は固形分換算）：数平均粒径２００ｎｍ
［成分（Ｄ）］
Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９；２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノンー１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
［成分（Ｅ）］
メトキシプロピルアセテート
【００５８】
表２に示す配合処方に従って各成分を攪拌容器内に仕込み、６０℃で３時間攪拌することにより、下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物Ｊ−１〜Ｊ−４を得た。
【００５９】
【表２】
2009157125.tif 000005
【００６０】
［２．コア形成用の光硬化性樹脂組成物の調製］
コア形成用の光硬化性樹脂組成物として、下記成分（イ）〜（ホ）を用意し、成分（イ）３３質量部、成分（ロ）１４質量部、成分（ハ）１４質量部、成分（ニ）２質量部、成分（ホ）３７質量部の割合で均一に混合して、コア形成用光硬化性樹脂組成物を得た。
［成分（イ）］
ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３ｇ、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン１００ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、スチレン２５ｇ、アクリル酸ブチル３５ｇ、８−（メタクリロイルオキシ）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン１０ｇ、メタクリル酸１０ｇを、仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行い、室温まで冷却した後、得られた溶液に２−ヒドロキシエチルメタクリレートと当量のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート２３．７ｇ、ジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１３ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、溶液の温度を６０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行い、側鎖にメタクリロイル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、共重合体（成分（イ））を得た。
［成分（ロ）］
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート１３．６質量部、数平均分子量が２，０００のポリプロピレングリコール８１．７質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０１質量部を仕込み、５〜１０℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０５質量部を加え、温度が３０℃以下に保たれるように調整しながら２時間撹拌した後、５０℃まで昇温しさらに２時間撹拌した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート４．７質量部（以上の合計量１００質量部）を滴下し、滴下終了後、５０〜７０℃で１時間反応させた。残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、ウレタンアクリレートオリゴマー（成分（ロ））を得た。
［成分（ハ）］
９，９−ビス［４−（２−アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン
［成分（ニ）］
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
［成分（ホ）］
メチルイソブチルケトン
【００６１】
［３．フィルム状光導波路の形成］
［実施例１］
（１）下部クラッド層の形成
光硬化性樹脂組成物Ｊ−１をシリコン基板の上面に、スピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１０分間の条件でプリベークして光硬化性樹脂組成物Ｊ−１からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を７５秒間照射して、光硬化させた。そして、この硬化膜を１５０℃、１時間の条件で、ポストベークをすることにより、厚さ１０μｍの下部クラッド層を形成した。
【００６２】
（２）コア部分の形成
コア形成用光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層上に、スピンコータで塗布し、１００℃、１０分間の条件でプリベークして、厚さ５０μｍのコア形成用光硬化性樹脂組成物からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、幅５０μｍのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を７５秒間照射して、光硬化させた。そして、硬化させた塗膜を有する基板をアセトンからなる現像液中に浸漬して、塗膜の未露光部を溶解させた。その後、１５０℃、１時間の条件で、ポストベークをすることにより、幅５０μｍのライン状パターンを有するコア部分を形成した。
【００６３】
（３）上部クラッド層の形成
コア部分を有する下部クラッド層の上面に、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１をスピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１０分間の条件でプリベークして、光硬化性樹脂組成物Ｊ−１からなる塗膜を形成した。その後、該塗膜に、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を７５秒間照射して光硬化させ、コア部分の上面からの厚さが１０μｍの上部クラッド層を形成した。
（４）基板の剥離
上記（１）〜（３）の工程で形成した硬化物を、基板から剥離し、下部クラッド層、コア部分、及び上部クラッド層をこの順に積層してなるフィルム状光導波路を得た。
【００６４】
［実施例２、比較例１、２］
下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物を表３に記載の組成物に変えたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルム状光導波路を形成した。
【００６５】
［４．フィルム状光導波路の評価］
フィルム状光導波路（実施例１、２、比較例１、２）を次のようにして評価した。
［屈曲耐久性］
作製したフィルム状光導波路（幅１ｃｍ、長さ１０ｃｍ、厚み７０μｍ）に対して、温度２３℃、湿度５０％の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、屈曲半径１ｍｍ、屈曲角度±１３５°、屈曲速度１００回／分、荷重１００ｇとした。なお、屈曲回数は、はじめの０度の位置（フィルム状光導波路が水平の状態）から、＋１３５度の位置へ屈曲し、さらに再度０度の位置を経由して−１３５度の位置へ屈曲した後、０度の位置へ戻ってくる動作を１回とする。フィルム状光導波路に破断が生じるまでの回数を測定し、屈曲回数が１万回を超えても破断やクラックが発生しない場合を「○」、屈曲回数が１万回以内で破断やクラックが発生する場合を「×」とした。
［透明性］
クラッド層（厚さ：１０μｍ）の透明性を分光光度計で測定した。具体的には、下部及び上部クラッド層の形成に用いた光硬化性樹脂組成物を、上記（１）の下部クラッド層の形成と同様の条件にて硬化させてなる硬化膜（厚さ１０μｍ）について、波長４０５ｎｍの光に対する透過率を測定した。透過率が８０％以上の場合を「○」、８０％未満の場合を「×」とした。
［伝送特性］
作製したフィルム状光導波路の一端から波長８５０ｎｍの光を入射させ、他端から出射する光量を測定した。カットバック法により求めた単位長さ当たりの導波路損失が０．５ｄＢ／ｃｍ以下である場合を「○」、０．５ｄＢ／ｃｍ未満である場合を「×」とした。
結果を表３に示す。
【００６６】
【表３】
2009157125.tif 000006
【００６７】
表３から、本発明のフィルム状光導波路（実施例１、２）は、屈曲耐久性、伝送特性に優れ、クラッド層の透明性が高いことがわかる。一方、成分（Ｃ）を含まない比較例１は屈曲耐久性に劣り、また、数平均粒径が２００ｎｍであるエラストマー粒子を用いた比較例２は伝送特性が劣ることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０    基板
１２    下部クラッド層
１４    コア用薄膜
１６    光
１８    フォトマスク
２０    コア部分
２２    上部クラッド層
２４    フィルム状光導波路
【図１】
2009157125.tif 000007
【図２】
2009157125.tif 000008