(57)【要約】【課題】右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる縦型熱処理装置を提供する。【解決手段】支持部は、支持部ベース９と、支持部ベース９上に配置されたベース石英１１と、ベース石英１１上に配置された石英フィン保温筒１３と、石英フィン保温筒１３上に配置されたＳＩＣ保温筒１５を備えている。ウエハ保持部はウエハ挿入口がＳＩＣ保温筒１５に対して所定の方向に位置決めされてＳＩＣ保温筒１５上に配置される。ＳＩＣ保温筒１５は、ＳＩＣ保温筒１５の石英フィン保温筒１３に接する面に設けられた２つの凹部１５ａ，１５ｂと、石英フィン保温筒１３のＳＩＣ保温筒１５に接する面に設けられた、凹部１５ａ，１５ｂに嵌合する凸部１３ｄによって、石英フィン保温筒１３に対して２方向に位置決め可能になっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応管と、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れするためのウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えた縦型熱処理装置において、
前記支持部は、前記ウエハ保持部の前記ウエハ挿入口を互いに異なる２方向に切り換えて位置決め可能になっていることを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項２】
前記支持部は、支持部ベースと、前記支持部ベース上に配置されたベース石英と、前記ベース石英上に配置された石英フィン保温筒と、前記石英フィン保温筒上に配置されたＳＩＣ保温筒を備え、
前記ウエハ保持部は前記ウエハ挿入口が前記ＳＩＣ保温筒に対して所定の方向に位置決めされて前記ＳＩＣ保温筒上に配置されており、
前記ＳＩＣ保温筒は、前記ＳＩＣ保温筒の前記石英フィン保温筒に接する面に設けられた凹部又は凸部と、前記石英フィン保温筒の前記ＳＩＣ保温筒に接する面に設けられた、前記凹部又は前記凸部に嵌合する凸部又は凹部によって、前記石英フィン保温筒に対して２方向に位置決め可能になっている請求項１に記載の縦型熱処理装置。
【請求項３】
前記石英フィン保温筒は、上方から見て周縁部に同じ大きさの２つの切欠きを備えている請求項２に記載の縦型熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ（以下、ウエハという）等の基板に熱処理を施すための熱処理装置に関し、特に、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れ可能なウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えた縦型熱処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ウエハに熱処理を施す熱処理装置の一例として、複数枚のウエハをバッチで処理する縦型熱処理装置が知られている（例えば特許文献１，２を参照。）。
図５は従来の縦型熱処理装置の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。
縦型熱処理装置は、内部でウエハを加熱するための反応管３１を備えている。反応管３１の周囲に反応管３１を加熱するためのヒータ３３が設けられている。反応管３１の開口部には、反応管３１の内径と同程度の環状の石英フランジ３５が設けられている。
【０００３】
反応管３１内に収容されるウエハを保持するためのＳＩＣ（炭化珪素）ボート３７が設けられている。ＳＩＣボート３７は、昇降可能なシールキャップ３９上に、ベース石英４１、フィン保温筒４３及びＳＩＣ保温筒４５を介して配置されている。
【０００４】
シールキャップ３９上に円盤状のベース石英４１が配置されている。ベース石英４１上に、石英からなりフィンを備えたフィン保温筒４３が設置されている。フィン保温筒４３上にＳＩＣ保温筒４５が配置され、さらにその上にＳＩＣボート３７が設置されている。
【０００５】
シールキャップ３９は例えばボールスクリューとガイドレールを備えた昇降機構４７に支持されている。
昇降機構４７によりシールキャップ３９が上昇されてＳＩＣボート３７が反応管３１内に配置される。このとき、シールキャップ３９の上面が石英フランジ３５に接触して反応管３１は封止される。
【０００６】
図６は縦型熱処理装置の全体を模式的に示す平面図である。
縦型熱処理装置４９の筐体５１の前面５１ａに前面扉５３ａが設けられ、前面５１ａ側から見て右側面５１ｂに右側面扉５３ｂが設けられ、背面５１ｃに背面扉５３ｃが設けられている。
【０００７】
筐体５１内に反応管３１及び昇降機構４７が配置されている。図６ではヒータ３３の図示は省略している。反応管３１は筐体５１内で筐体５１の中央部よりも背面５１ｃ側に配置されている。昇降機構４７は反応管３１に対して左側面５１ｄ側に配置されている。
【０００８】
筐体５１内の前面５１ａ近傍にウエハ搬送機構５５が設けられている。ウエハ搬送機構５５と反応管３１の間に、ウエハ搬送機構５５を昇降させるための昇降機構５７が設けられている。昇降機構５７は左側面５１ｄ近傍に配置されている。
【０００９】
縦型熱処理装置には、反応管３１、ＳＩＣボート３７、フィン保温筒４３等の構成部品の脱着作業や、ウエハをＳＩＣボート３７に搭載又は回収する際に発生する搬送トラブルの処置を容易に行なえるように、筐体５１の背面５１ｃに背面扉５３ｃが設置されている。
しかし、背面扉５３ｃだけではウエハの搬送トラブルの処置や構成部品の脱着時の確認が困難であり、それらの作業を容易に行なえるように、背面扉５３ｃ以外に例えば右側面５１ｂに側面扉５３ｂが設けられている。
【００１０】
また、搬送トラブルの処置をしやすくするために、図６に示すように、ＳＩＣボート３７は、ウエハを出し入れするためのウエハ挿入口２７ａが筐体５１の前面５１ａに対して、側面扉５３ｂが設けられた右側面５１ｂ側に傾斜するように配置されている。
【００１１】
ところで、縦型熱処理装置は、クリーンルームにおける占有面積軽減を図るため、複数台の設置においては間隔を空けることなく密着した設置が可能となっている。
しかし、同じ側の筐体側面に側面扉が設けられた装置を並べて設置した場合、一方の装置の側面扉は開閉不能となる。
そこで、装置メーカーは、側面扉の位置について左右どちら側のタイプも用意し、図７に示すように、２台の装置を並べて設置できるようにしている。図７において、右側面５１ｂに右側面扉５３ｂが設けられた縦型熱処理装置４９ａでは、左側面５１ｄ近傍に昇降機構４７及び昇降機構５７が設置され、ＳＩＣボート３７のウエハ挿入口２７ａは筐体５１の前面５１ａに対して右側面５１ｂ側に傾斜するように配置されている。左側面５１ｄに側面扉５３ｄが設けられた縦型熱処理装置４９ｂでは、右側面５１ｂ近傍に昇降機構４７及び昇降機構５７が設置され、ＳＩＣボート３７のウエハ挿入口２７ａは筐体５１の前面５１ａに対して左側面５１ｄ側に傾斜するように配置されている。
【００１２】
【特許文献１】特許第３１１６９０５号公報
【特許文献２】特許第３３７８２４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
縦型熱処理装置において、側面扉の位置は自由に左右どちらでも設置可能という訳ではなく、装置の構造上、必然的に限定される。その構造上の理由とは、反応管３１内にＳＩＣボート３７を出し入れするための昇降機構４７と、ウエハが収納されたカセットからＳＩＣボート３７にウエハを移載するウエハ搬送機構５５の上下動作を行なうための昇降機構５７が装置正面から見て左右のどちら側に設置されているかによる。図６において、仮に昇降機構４７及び昇降機構５７が設置してある左側面５１ｄに側面扉を設け、開閉できる構造にした場合、昇降機構４７及び昇降機構５７が邪魔になり、その側面扉を介してのウエハの搬送トラブルの処置や構成部品の脱着時の確認等の作業が困難になる。
【００１４】
そこで、装置メーカーは、図７に示したように、側面扉の位置を左右それぞれ異なるタイプを設計し密着して設置できるように、装置における扉の設置位置は左右選択可能となるよう用意している。
しかし、ここで問題となるのが、同一プロセスを行なうための２台の縦型熱処理装置であって、左右、側面扉位置の異なるものをユーザーが保有している場合である。
【００１５】
図７に示したように、右側面５１ｂに側面扉５３ｂが設けられた縦型熱処理装置４９ａでは、ＳＩＣボート３７はそのウエハ挿入口２７ａが筐体５１の前面５１ａに対して右側面５１ｂ側に傾斜するように配置されている。また、左側面５１ｄに側面扉５３ｄが設けられた縦型熱処理装置４９ｂでは、ＳＩＣボート３７はそのウエハ挿入口２７ａが筐体５１の前面５１ａに対して左側面５１ｄ側に傾斜するように配置されている。したがって、ＳＩＣボート３７のウエハ挿入口２７ａの向きを位置決めするためのシールキャップ３９、ベース石英４１、フィン保温筒４３及びＳＩＣ保温筒４５のうち、いずれか１つ又は複数について、側面扉位置に合わせて形状が異なり、左右、側面扉の向きの異なる装置同士の共用は行なえないという問題があった。
【００１６】
そこで本発明は、右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる縦型熱処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明にかかる縦型熱処理装置は、反応管と、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れするためのウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えたものであって、上記支持部は、上記ウエハ保持部の上記ウエハ挿入口を互いに異なる２方向に切り換えて位置決め可能になっているものである。
【００１８】
本発明の縦型熱処理装置において、上記支持部は、支持部ベースと、上記支持部ベース上に配置されたベース石英と、上記ベース石英上に配置された石英フィン保温筒と、上記石英フィン保温筒上に配置されたＳＩＣ保温筒を備えている例を挙げることができる。そして、上記ウエハ保持部は上記ウエハ挿入口が上記ＳＩＣ保温筒に対して所定の方向に位置決めされて上記ＳＩＣ保温筒上に配置されており、上記ＳＩＣ保温筒は、上記ＳＩＣ保温筒の上記石英フィン保温筒に接する面に設けられた凹部又は凸部と、上記石英フィン保温筒の上記ＳＩＣ保温筒に接する面に設けられた、凹部又は凸部に嵌合する凸部又は凹部によって、上記石英フィン保温筒に対して２方向に位置決め可能になっている例を挙げることができる。
【００１９】
ところで、縦型熱処理装置において、フィン保温筒については、右側面扉用、左側面扉用で形状が異なっていることがある。形状が互いに異なるフィン保温筒が必要な理由として、図８に示すように、フィン保温筒４３における半円状にカットされた２箇所の切欠き４３ａ，４３ｂにある。
切欠き４３ａはフィン保温筒４３を搭載するとシールキャップ３９に設けられた温度センサ挿入口３９ａを塞いでしまうので、反応管内に熱電対を挿入できるようにカットした箇所である。反応管内に熱電対を挿入する際にはベース石英４１はシールキャップ３９に設けられた温度センサ挿入口３９ａに対応する位置に貫通穴を備えたものに交換される。
切欠き４３ｂは石英フランジ３５（図５参照）に取り付けられたガス導入口４８とフィン保温筒４３との間にクリアランスがないため、キャップ昇降時の干渉を防ぐためにカットされた箇所である。
【００２０】
これらの２箇所の切欠き４３ａ，４３ｂは干渉を防ぐという目的も半円状にカットされた形状も同じであるが、その大きさが異なる。大きさの違いについてはガス導入口４８との干渉防止にカットされた切欠き４３ｂの方が直径で例えば４ｍｍ（ミリメートル）だけ切欠き４３ａよりも大きい。その理由については、単純にガス導入口４８の大きさが熱電対の大きさより大きいという事も勿論であるが、干渉物同士（石英フランジ３５とフィン保温筒４３）のセット時の位置変化とシールキャップ３９の昇降動作とを合わせて考慮の上、マージンを持たせた若干大きめのカットがされていることにある。
【００２１】
装置内におけるガス導入口４８と温度センサ挿入口３９ａの位置は、どちらの装置側面に側面扉が設けられているかによって異なる、すなわち、ガス導入口４８と温度センサ挿入口３９ａの位置が右側面扉５３ｂを備えた装置と左側面扉５３ｄを備えた装置で互いに反対になるので、フィン保温筒４３はそれぞれ左右専用品を保有する必要があった。
【００２２】
そこで、本発明の縦型熱処理装置において、上記石英フィン保温筒は、上方から見て周縁部に同じ大きさの２つの切欠きを備えている例を挙げることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の縦型熱処理装置では、反応管と、反応管の周囲に設置された加熱部と、反応管内に収容されるウエハを出し入れするためのウエハ挿入口をもちウエハを保持するためのウエハ保持部と、ウエハ保持部を反応管内に出し入れするために昇降可能であってウエハ保持部が反応管内に配置された状態で反応管を封止するための支持部とを備えたものであって、支持部は、上記ウエハ保持部の上記ウエハ挿入口を互いに異なる２方向に切り換えて位置決め可能になっているようにしたので、一方の位置決めを右側面扉用とし、他方の位置決めを左側面扉用とすることができ、右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる。
【００２４】
本発明の縦型熱処理装置において、支持部は、支持部ベースと、支持部ベース上に配置されたベース石英と、ベース石英上に配置された石英フィン保温筒と、石英フィン保温筒上に配置されたＳＩＣ保温筒を備え、ウエハ保持部はウエハ挿入口がＳＩＣ保温筒に対して所定の方向に位置決めされてＳＩＣ保温筒上に配置されており、ＳＩＣ保温筒は、ＳＩＣ保温筒の石英フィン保温筒に接する面に設けられた凹部又は凸部と、石英フィン保温筒のＳＩＣ保温筒に接する面に設けられた、凹部又は凸部に嵌合する凸部又は凹部によって、石英フィン保温筒に対して２方向に位置決め可能になっているようにすれば、石英フィン保温筒上にＳＩＣ保温筒を搭載する際に２方向に位置決めのうち一方の位置決めを選択することにより、容易に２方向に位置決めの切り替えが可能になる。
【００２５】
さらに、石英フィン保温筒は、上方から見て周縁部に同じ大きさの２つの切欠きを備えているようにすれば、ガス導入口と温度センサ挿入口の位置が右側面扉を備えた装置と左側面扉を備えた装置で互いに反対になる場合であっても、同じ大きさの２つの切欠きは、ガス導入口と温度センサ挿入口のどちらにも対応することができるので、右側面扉用と左側面扉用で石英フィン保温筒を共有することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は縦型熱処理装置の一実施例における支持部を模式的に示す斜視図である。図２はこの実施例の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。図３はこの実施例の石英フィン保温筒を模式的に示す平面図である。この実施例の反応管近傍について図１から図３を参照して説明する。
【００２７】
例えばＳＩＣからなる反応管１を備えている。反応管１は内部にウエハが配置され、ウエハを加熱するためのものである。反応管１の周囲に反応管１を加熱するためのヒータ（加熱部）３が設けられている。反応管１の開口部に、反応管１の内径と同程度の内径をもつ環状の石英フランジ５が設けられている。
【００２８】
反応管１内に収容されるウエハを保持するためのＳＩＣボート（ウエハ保持部）７が設けられている。ＳＩＣボート７は、昇降可能なシールキャップ９上に、ベース石英１１、石英フィン保温筒１３及びＳＩＣ保温筒１５を介して配置されている。シールキャップ９、ベース石英１１、石英フィン保温筒１３及びＳＩＣ保温筒１５は本発明の縦型熱処理装置の支持部を構成する。シールキャップ９は例えばボールスクリューとガイドレールを備えた昇降機構１７に支持されている。
【００２９】
シールキャップ９は例えばＳＵＳによって形成されている。シールキャップ９はシールキャップ９及びベース石英によって反応管１が封止された状態で反応管１内に温度センサを挿入するための貫通孔からなる温度センサ挿入口９ａを備えている。温度センサ挿入口９ａは、ベース石英１１上にＳＩＣボート７が搭載された状態で温度センサを反応管１内に挿入可能な位置に設けられている。なお、縦型熱処理装置の使用時には、温度センサ挿入口９ａを塞ぐべく、図３に示すようにベース石英１１として温度センサ挿入口９ａに対応する位置に貫通穴が形成されていないものが用いられる。そして縦型熱処理装置の試験運転時には、ベース石英１１に代えて、温度センサ挿入口９ａに対応する位置に貫通穴を備えたものが用いられ、その貫通穴及び温度センサ挿入口９ａを介して反応管１内に温度センサが挿入される。
【００３０】
シールキャップ９上に円盤状のベース石英１１が配置されている。ベース石英１１は、例えばベース石英１１の下面に設けられた凸部とシールキャップ９の上面に設けられた凹部によってシールキャップ９の所定の位置及び向きに配置されている。
【００３１】
ベース石英１１上に、例えば石英からなる石英フィン保温筒１３が設置されている。石英フィン保温筒１３は、例えば下段石英フィン保温筒１３ａ、上段外側石英フィン保温筒１３ｂ、上段内側石英フィン保温筒１３ｃによって構成されている。
【００３２】
下段石英フィン保温筒１３ａは例えば下段石英フィン保温筒１３ａに設けられた支柱とベース石英１１の上面に設けられた凹部によってベース石英１１の所定の位置及び向きに配置されている。
【００３３】
上段外側石英フィン保温筒１３ｂ及び上段内側石英フィン保温筒１３ｃは下段石英フィン保温筒１３ａ上に配置されている。上段外側石英フィン保温筒１３ｂは上方から見てドーナツ状であり、上段内側石英フィン保温筒１３ｃは上段外側石英フィン保温筒１３ｂとは間隔をもって下段石英フィン保温筒１３ａ上に配置されている。上段外側石英フィン保温筒１３ｂ及び上段内側石英フィン保温筒１３ｃは、例えば、上段外側石英フィン保温筒１３ｂ及び上段内側石英フィン保温筒１３ｃにそれぞれ設けられた支柱とベース石英１１の上面に設けられた凹部によってベース石英１１の所定の位置及び向きに配置されている。
【００３４】
図３に示すように、下段石英フィン保温筒１３ａ及び上段外側石英フィン保温筒１３ｂは、上方から見て周縁部に同じ大きさの２つの切欠き１３ｅ，１３ｆ（図１及び図２での図示は省略）を備えている。切欠き１３ｅ，１３ｆはガス導入口１８（図１での図示は省略）と温度センサ挿入口９ａの位置に対応して設けられている。図３では、例えば右側面扉を備えた縦型熱処理装置用に、切欠き１３ｅがガス導入口１８の位置に対応し、切欠き１３ｆが温度センサ挿入口９ａの位置に対応している。左側面扉を備えた縦型熱処理装置では、切欠き１３ｅが温度センサ挿入口９ａに対応し、切欠き１３ｆがガス導入口１８の位置の位置に対応して配置される。なお、石英フィン保温筒１３と石英フランジ５の間に十分な隙間がある場合には、下段石英フィン保温筒１３ａ及び上段外側石英フィン保温筒１３ｂは切欠き１３ｅ，１３ｆを備えていなくてもよい。
【００３５】
下段石英フィン保温筒１３ａの上面に例えば石英からなる位置決め用凸部１３ｄが形成されている。位置決め用凸部１３ｄは上方から見て上段外側石英フィン保温筒１３ｂと上段内側石英フィン保温筒１３ｃの間に設けられている。
【００３６】
下段石英フィン保温筒１３ａ上にＳＩＣ保温筒１５が搭載されている。ＳＩＣ保温筒１５は、円筒状であり、上方から見て上段外側石英フィン保温筒１３ｂと上段内側石英フィン保温筒１３ｃの間に配置される。また、ＳＩＣ保温筒１５は、下段石英フィン保温筒１３ａに接する面に、位置決め用凸部１３ｄに嵌合する２つの位置決め用凹部１５ａ，１５ｂを備えている。位置決め用凹部１５ａ，１５ｂのいずれか一方が位置決め用凸部１３ｄに嵌合されることにより、ＳＩＣ保温筒１５は下段石英フィン保温筒１３ａに対して２方向に位置決め可能になっている。
【００３７】
ＳＩＣ保温筒１５上にＳＩＣボート７が搭載されている。ＳＩＣボート７は、例えばＳＩＣボート７の下面に設けられた凸部とＳＩＣ保温筒１５の上面に設けられた凹部によって、ＳＩＣボート７のウエハ挿入口がＳＩＣ保温筒１５に対して所定の方向に位置決めされてＳＩＣ保温筒１５上に配置されている。
【００３８】
図４はこの実施例の縦型熱処理装置の全体を模式的に示す平面図である。図４には２つの縦型熱処理装置を示す。
縦型熱処理装置１９ａ，１９ｂにおいて、筐体２１の前面２１ａに前面扉２３ａが設けられ、背面２１ｃに背面扉２３ｃが設けられている。筐体２１内に反応管１、昇降機構１７、ウエハ搬送機構２５、及び、ウエハ搬送機構２５を昇降させるための昇降機構２７が配置されている。図４ではヒータ３の図示は省略している。反応管１は筐体２１内で筐体２１の中央部よりも背面２１ｃ側に配置されている。ウエハ搬送機構２５は筐体２１内の前面２１ａ近傍に配置されている。
【００３９】
縦型熱処理装置１９ａは正面から見て右側面２１ｂに右側面扉２３ｂを備えている。縦型熱処理装置１９ａにおいて、昇降機構１７及び昇降機構２７は反応管１に対して左側面２１ｄ側に配置されている。
【００４０】
縦型熱処理装置１９ｂは正面から見て左側面２１ｄに左側面扉２３ｄを備えている。縦型熱処理装置１９ｂにおいて、昇降機構１７及び昇降機構２７は反応管１に対して右側面２１ｂ側に配置されている。
【００４１】
縦型熱処理装置１９ａにおいて、図１に示した位置決め用凹部１５ａと位置決め用凸部１３ｄが嵌合されて、ＳＩＣボート７は、ウエハを出し入れするためのウエハ挿入口７ａが筐体２１の前面２１ａに対して、右側面扉２３ｂが設けられた右側面２１ｂ側に傾斜するように配置されている。
【００４２】
これに対し、縦型熱処理装置１９ｂにおいて、図１に示した位置決め用凹部１５ｂと位置決め用凸部１３ｄが嵌合されて、ＳＩＣボート７は、ウエハ挿入口７ａが筐体２１の前面２１ａに対して、左側面扉２３ｄが設けられた左側面２１ｄ側に傾斜するように配置されている。
【００４３】
このように、右側面扉用と左側面扉用で共通のシールキャップ９、ベース石英１１、石英フィン保温筒１３及びＳＩＣ保温筒１５により、ＳＩＣボート７のウエハ挿入口７ａを互いに異なる２方向に切り換えて右側面扉用と左側面扉用に合わせて位置決め可能になっている。
【００４４】
また、ガス導入口（図示は省略）と温度センサ挿入口（図示は省略）の位置が縦型熱処理装置１９ａと１９ｂで互いに反対になっているが、図３に示したように、下段石英フィン保温筒１３ａ及び上段外側石英フィン保温筒１３ｂは、上方から見て周縁部に同じ大きさの２つの切欠き１３ｅ，１３ｆを備えているので、右側面扉用と左側面扉用で下段石英フィン保温筒１３ａ及び上段外側石英フィン保温筒１３ｂも共有することができる。
【００４５】
このように、右側面扉２３ｂを備えた縦型熱処理装置１９ａと左側面扉２３ｄを備えた縦型熱処理装置１９ｂでシールキャップ９、ベース石英１１、石英フィン保温筒１３及びＳＩＣ保温筒１５を共有することができるので、部品管理が容易になる。
さらに、２種類の部品を購入する必要がなくなり、製造コストの大幅な削減が可能となる。
【００４６】
上記の実施例では、下段石英フィン保温筒１３ａに位置決め用凸部１３ｄを設け、ＳＩＣ保温筒１５に２つの位置決め用凹部１５ａ，１５ｂを設けることにより、ＳＩＣボート７のウエハ挿入口７ａの向きを２方向に位置決めできるようにしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ＳＩＣボートを支持するための支持部は、ＳＩＣボートのウエハ挿入口を互いに異なる２方向に切り換えて位置決め可能になっているものであればどのような構成であってもよい。
例えば、下段石英フィン保温筒１３ａに２つの位置決め用凹部を設け、ＳＩＣ保温筒１５に１つの位置決め用凸部を設けるようにしてもよい。
【００４７】
また、縦型熱処理装置の試験運転時に用いる、温度センサ挿入口９ａに対応する位置に貫通穴を備えた試験運転時用ベース石英について、右側面扉２３ｂを備えた縦型熱処理装置１９ａにおける温度センサ挿入口９ａの位置と、左側面扉２３ｄを備えた縦型熱処理装置１９ｂにおける温度センサ挿入口９ａの位置に、温度センサ挿入用の貫通穴をそれぞれ備えたものを準備してもよい。これにより、試験運転時用ベース石英についても、右側面扉用と左側面扉用で共用することが可能になり、２種類の試験運転時用ベース石英を準備する必要がなくなる。なお、試験運転時に、２箇所に温度センサ挿入用の貫通穴を備えた試験運転時用ベース石英を用いる場合、一方の貫通穴がシールキャップ９の温度センサ挿入口９ａに連通して配置される。このとき、他方の貫通穴はシールキャップ９により反応管１の外部雰囲気とは遮断されるので、問題なく縦型熱処理装置の試験運転を行なうことができる。
【００４８】
以上、本発明の実施例を説明したが、材料、形状、配置等は一例であり、本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】縦型熱処理装置の一実施例における支持部を模式的に示す斜視図である。
【図２】同実施例の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。
【図３】同実施例の石英フィン保温筒を模式的に示す平面図である。
【図４】同実施例の縦型熱処理装置の全体を２台並べて模式的に示す平面図である。
【図５】従来の縦型熱処理装置の反応管近傍を一部断面で模式的に示す側面図である。
【図６】従来の縦型熱処理装置の全体を模式的に示す平面図である。
【図７】従来の縦型熱処理装置の全体を２台並べて模式的に示す平面図である。
【図８】従来の縦型熱処理装置における石英フィン保温筒を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１  反応管
３  ヒータ（加熱部）
７  ＳＩＣボート（ウエハ保持部）
９  シールキャップ（支持部ベース）
９ａ  温度センサ挿入口
１１  ベース石英
１３  フィン保温筒
１３ａ  下段石英フィン保温筒
１３ｂ  上段外側石英フィン保温筒
１３ｃ  上段内側石英フィン保温筒
１３ｄ  位置決め用凸部
１３ｅ，１３ｆ  切欠き
１５  ＳＩＣ保温筒
１５ａ，１５ｂ  位置決め用凹部
【図１】
2009295782.tif 000003
【図２】
2009295782.tif 000004
【図３】
2009295782.tif 000005
【図４】
2009295782.tif 000006
【図５】
2009295782.tif 000007
【図６】
2009295782.tif 000008
【図７】
2009295782.tif 000009
【図８】
2009295782.tif 000010