(57)【要約】【課題】スライダと光学素子の結合力が低下することなく、スライダと光学素子の位置合わせを容易に行うことができる光学素子を提供する。【解決手段】光導波路と、該光導波路と所定の位置関係にある第１のマークと、を備えたスライダの上面に搭載され、光源から記録媒体に向かって射出された光を前記光導波路に導く光学素子であって、前記光源からの光を前記光導波路に向けて偏向する偏向部と、前記第１のマークに対向する面であり、且つ光学素子の底面に対して略平行な面である上面部と、を備え、光を透過する材料で形成されている。【選択図】図３
2009176354.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路と、該光導波路と所定の位置関係にある第１のマークと、を備えたスライダの上面に搭載され、光源から記録媒体に向かって射出された光を前記光導波路に導く光学素子であって、
前記光源からの光を前記光導波路に向けて偏向する偏向部と、
前記第１のマークに対向する面であり、且つ光学素子の底面に対して略平行な面である上面部と、を備え、光を透過する材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記偏向部で偏向した光が前記光導波路に向けて射出される光射出位置と所定の位置関係にある第２のマークが、少なくとも２つ以上前記上面部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記偏向部で偏向した光が前記光導波路に向けて射出される光射出位置と所定の位置関係にある第２のマークが、少なくとも２つ以上前記上面部に対向する前記底面の位置に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項４】
前記上面部は、前記偏向部を挟む両側にあることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記偏向部を挟む両側にある前記上面部のそれぞれに、前記第２のマークが少なくとも１つ以上設けられていることを特徴とする請求項４の光学素子。
【請求項６】
前記偏向部を挟む両側にある前記上面部それぞれに対向する前記底面の位置に、前記第２のマークが少なくとも１つ以上設けられていることを特徴とする請求項４の光学素子。
【請求項７】
光源からの光を導光する光学素子を搭載し、
前記光学素子が射出する光を導波して記録媒体に向かって射出する光導波路を備えたスライダであって、
前記光導波路と所定の位置関係にある第１のマークが、少なくとも２つ以上前記光学素子を搭載する面に設けられていることを特徴とするスライダ。
【請求項８】
前記第１のマークの少なくとも２つ以上と前記光導波路とは、一直線上に配置され、
前記一直線上に前記第１のマークと前記光導波路が配置されている方向は、前記記録媒体が回転することによって該記録媒体と相対移動する方向に対して垂直であることを特徴とする請求項７に記載のスライダ。
【請求項９】
前記第１のマークは、前記光導波路を挟む両側それぞれに少なくとも１つ以上設けられていることを特徴とする請求項７又は８に記載のスライダ。
【請求項１０】
前記第１のマークの材料の屈折率は、該第１のマークの周囲の材料の屈折率と異なることを特徴とする請求項７乃至９の何れか一項に記載のスライダ。
【請求項１１】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の光学素子と、
請求項７乃至１０の何れか一項に記載のスライダと、を備えたことを特徴とする光ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子、スライダ及び光ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録方式では、記録密度が高くなると磁気ビットが外部温度等の影響を顕著に受けるようになる。このため高い保磁力を有する記録媒体が必要になるが、そのような記録媒体を使用すると記録時に必要な磁界も大きくなる。記録ヘッドによって発生する磁界は飽和磁束密度によって上限が決まるが、その値は材料限界に近づいており飛躍的な増大は望めない。そこで、記録時に局所的に加熱して磁気軟化を生じさせ、保磁力が小さくなった状態で記録し、その後に加熱を止めて自然冷却することにより、記録した磁気ビットの安定性を保証する方式が提案されている。この方式は熱アシスト磁気記録方式と呼ばれている。
【０００３】
熱アシスト磁気記録方式では、記録媒体の加熱を瞬間的に行うことが望ましい。また、加熱する機構と記録媒体とが接触することは許されない。このため、加熱は光の吸収を利用して行われるのが一般的であり、加熱に光を用いる方法は光アシスト式と呼ばれている。光アシスト式で超高密度記録を行う場合、必要な光スポット径は２０ｎｍ程度になるが、通常の光学系では回折限界のため、光をそこまで集光することはできない。
【０００４】
そのため、入射光波長以下の大きさの光学的開口から発生する近接場光（近視野光とも称する。）を利用する光ヘッドが利用されている。
【０００５】
光ヘッドの例として、以下の近接場光ヘッドがある。近接場光ヘッドは、光ファイバを固定するＶ溝を有するミラー基板と、近接場光発生素子を有するスライダ基板からなる。Ｖ溝は、１側面を起点にしてミラー基板内に終端しており、その終端の面がミラーとなっている。スライダ基板の上面とミラー基板の下面が接合されており、Ｖ溝に固定された光ファイバより射出された光はミラーにより折り曲げられミラー基板に対して垂直に下面から射出する。この射出光は、スライダの上面にあるレンズを介して、その下面の近視野光発生素子に導かれている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−９９９３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図８に従来の光ヘッド３００を示す。図８（ａ）は光ヘッド３００の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は光ヘッド３００を構成する光学素子８０の斜視図を示している。光ヘッド３００は、光学素子８０とスライダ８５とを備えている。光学素子８０は、特許文献１のミラー基板に該当し、１側面を起点にして光学素子８０内に終端するＶ溝８４と、その終端の先に偏向面８２とを備えている。先端に集光素子２０を備えた光ファイバ１１がＶ溝８４に固定され、光ファイバ１１から射出する光ＬＢは、偏向面８２で偏向されて光学素子８０から射出する。この射出した光は、スライダ８５が備えている光導波路１６の一方の端面から入射し、記録媒体であるディスク２に対向する他方の端面から射出する。尚、スライダ８５には、光導波路１６の他、磁気記録部及び磁気再生部を備えているが図８では省略している。
【０００７】
光ヘッド３００の製造において、光学素子８０とスライダ８５とを結合する際、光学素子８０の偏向面８２で偏向した光ＬＢがスライダ８５の光導波路１６に効率良く入射できるように光学素子８０とスライダ８５の位置合わせを行う必要がある。光を効率良く入射させるためには、光学素子８０の偏向面８２で偏向された光の射出位置をスライダ８５の光導波路１６の入射面の中心により近い位置にすることが望ましい。例えば、光学素子８０から射出する光や光導波路１６の仕様にもよるが、光学素子８０の光射出位置と光導波路１６の入射位置との位置合わせに必要な精度は±１μｍ程度が望まれている。
【０００８】
また、スライダ８５の光導波路１６の材料の屈折率は、光導波路１６の周囲の材料の屈折率との差が小さく、顕微鏡等を用いた観察によって光導波路１６の境界を判別し難いため、入射位置を特定することが困難である。スライダ８５に光学素子８０を重ねた状態で、光学素子８０の上から顕微鏡等で光導波路１６の入射位置を観察すると、偏向面８２の斜面による光の屈折作用が加わるため、スライダ８５に光学素子８０を重ねた状態で光導波路１６の入射位置を特定することはより一層困難である。
【０００９】
このため、光学素子８０とスライダ８５との位置合わせは以下の方法により行われることが考えられる。光導波路１６を設けているスライダ８５に光ファイバ１１を設けた光学素子８０を搭載し、光ファイバ１１に実際に光を入射し、光導波路１６から射出される光量を測定しながら所望の光量が得られる位置を定めて固定する方法である。しかし、光ファイバ１１に光を入射して行う位置合わせは、作業が繁雑であり多くの時間を費やしてしまうという課題があった。このような光学素子８０とスライダ８５を結合する際の両者間の位置合わせは、特許文献１に記載されている光ヘッドにおいても必要である。すなわち、ミラー基板とスライダ基板の接合時、ミラー基板に対して垂直に射出する光の位置とスライダ基板の上面のレンズの位置を合わせる必要がある。しかし、特許文献１にはこうした位置合わせに関することは言及されていない。
【００１０】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、スライダと光学素子との結合力が低下することなく、スライダと光学素子の位置合わせを容易に行うことができる光学素子、スライダ及びこの光学素子とスライダを備えた光ヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題は、以下の構成により解決される。
【００１２】
１．  光導波路と、該光導波路と所定の位置関係にある第１のマークと、を備えたスライダの上面に搭載され、光源から記録媒体に向かって射出された光を前記光導波路に導く光学素子であって、
前記光源からの光を前記光導波路に向けて偏向する偏向部と、
前記第１のマークに対向する面であり、且つ光学素子の底面に対して略平行な面である上面部と、を備え、光を透過する材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【００１３】
２．  前記偏向部で偏向した光が前記光導波路に向けて射出される光射出位置と所定の位置関係にある第２のマークが、少なくとも２つ以上前記上面部に設けられていることを特徴とする１に記載の光学素子。
【００１４】
３．  前記偏向部で偏向した光が前記光導波路に向けて射出される光射出位置と所定の位置関係にある第２のマークが、少なくとも２つ以上前記上面部に対向する前記底面の位置に設けられていることを特徴とする１に記載の光学素子。
【００１５】
４．  前記上面部は、前記偏向部を挟む両側にあることを特徴とする１乃至３の何れか一項に記載の光学素子。
【００１６】
５．  前記偏向部を挟む両側にある前記上面部のそれぞれに、前記第２のマークが少なくとも１つ以上設けられていることを特徴とする４の光学素子。
【００１７】
６．  前記偏向部を挟む両側にある前記上面部それぞれに対向する前記底面の位置に、前記第２のマークが少なくとも１つ以上設けられていることを特徴とする４の光学素子。
【００１８】
７．  光源からの光を導光する光学素子を搭載し、
前記光学素子が射出する光を導波して記録媒体に向かって射出する光導波路を備えたスライダであって、
前記光導波路と所定の位置関係にある第１のマークが、少なくとも２つ以上前記光学素子を搭載する面に設けられていることを特徴とするスライダ。
【００１９】
８．  前記第１のマークの少なくとも２つ以上と前記光導波路とは、一直線上に配置され、
前記一直線上に前記第１のマークと前記光導波路が配置されている方向は、前記記録媒体が回転することによって該記録媒体と相対移動する方向に対して垂直であることを特徴とする７に記載のスライダ。
【００２０】
９．  前記第１のマークは、前記光導波路を挟む両側それぞれに少なくとも１つ以上設けられていることを特徴とする７又は８に記載のスライダ。
【００２１】
１０．  前記第１のマークの材料の屈折率は、該第１のマークの周囲の材料の屈折率と異なることを特徴とする７乃至９の何れか一項に記載のスライダ。
【００２２】
１１．  １乃至６の何れか一項に記載の光学素子と、
７乃至１０の何れか一項に記載のスライダと、を備えたことを特徴とする光ヘッド。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係わる光学素子、スライダ及び光学ヘッドによれば、スライダと光学素子との結合力が低下することなく、スライダと光学素子の位置合わせを容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明を図示の実施形態である光ヘッドに磁気記録素子を有する光アシスト式磁気記録ヘッドとそれを備えた光記録装置に基づいて説明するが、本発明は該実施形態に限られない。尚、各実施形態の相互で同一の部分や相当する部分には同一の符号を付して重複の説明を適宜省略する。
【００２５】
図１に光アシスト式磁気記録ヘッドを搭載した光記録装置（例えばハードディスク装置）の概略構成例を示す。この光記録装置１００は、以下（１）〜（６）を筐体１の中に備えている。
（１）記録用のディスク（記録媒体）２
（２）支軸５を支点として矢印Ａの方向（トラッキング方向）に回転可能に設けられたサスペンション４
（３）サスペンション４に取り付けられたトラッキング用アクチュエータ６
（４）サスペンション４の先端に取り付けられた光アシスト式磁気記録ヘッド３（以下、光ヘッド３と称する。）
（５）ディスク２を矢印Ｂの方向に回転させるモータ（図示しない）
（６）トラッキング用アクチュエータ６、モータ及び記録等の制御を行う制御部７
こうした光記録装置１００は、光ヘッド３がディスク２の上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。
【００２６】
図２は、光ヘッド３の一例を断面図で示している。光ヘッド３は、ディスク２に対する情報記録に光を利用する光ヘッドであって、光学素子１４とスライダ１５を備え、光学素子１４はスライダ１５に搭載されている。
【００２７】
光学素子１４は、光ファイバ１１の先端の集光素子２０を固定する固定部である１側面が開放して断面形状がＶ字形状のＶ溝２４、集光素子２０から射出する光を偏向する偏向部２１を有している。偏向部２１には光が入射する入射面２３と入射した光を略直角に偏向する偏向面２２がある。Ｖ溝２４には、光源（図示しない）から光を導光する線状導光体である先端に集光素子２０を備えた光ファイバ１１が固定されている。光源は、例えば半導体レーザーがある。
【００２８】
集光素子２０は屈折率分布型レンズ１２、１３（ＧＲＩＮレンズとも称される。）から構成され、光源から光ファイバ１１により導かれ集光素子２０から射出する光は、光アシスト部である光導波路１６の上端面に光スポットを形成する。集光素子２０と光導波路１６との間には、偏向部２１があり、集光素子２０から射出した光ＬＢは、偏向部２１に入射面２３から入射し、偏向面２２で略９０度偏向され、スライダ１５が備えている光導波路１６へ向かって射出する。偏向面２２は、偏向部２１を形成している光を透過する材料、すなわち図２が示す光学素子１４を形成している材料と空気との屈折率差による全反射を利用した内面反射面としている。
【００２９】
スライダ１５は、上端面に形成された光スポットをディスク２に向けて下端面より射出する光導波路１６、ディスク２の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う磁気記録部１７、ディスク２に記録されている磁気情報の読み取りを行う磁気再生部１８を備えている。なお、図２ではディスク２の記録領域の進入側から退出側（図の→方向）にかけて、磁気再生部１８、光導波路１６、磁気記録部１７の順に配置されているが、配置順はこれに限らない。光導波路１６の退出側直後に磁気記録部１７が位置すればよいので、例えば、光導波路１６、磁気記録部１７、磁気再生部１８の順に配置してもよい。
【００３０】
スライダ１５は浮上しながら磁気記録媒体であるディスク２に対して相対的に移動するが、媒体に付着したごみや、媒体に欠陥がある場合には接触する可能性がある。その場合に発生する摩耗を低減するため、スライダ１５の材質には耐摩耗性の高い硬質の材料を用いることが望ましい。例えば、Ａｌ2Ｏ3を含むセラミック材料、例えばＡｌＴｉＣやジルコニア、ＴｉＮなどを用いれば良い。また、摩耗防止処理として、スライダ１５のディスク２側の面に耐摩耗性を増すために表面処理を行っても良い。例えば、ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）被膜を用いると、光の透過率も高く、ダイヤモンドに次ぐＨｖ＝３０００以上の硬度が得られる。
【００３１】
また、スライダ１５のディスク２と対向する面には、浮上特性向上のための空気ベアリング面（ＡＢＳ（Ａｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅ）面とも称する。）を有している。スライダ１５の浮上はディスク２に近接した状態で安定させる必要があり、スライダ１５に浮上力を抑える圧力を適宜加える必要がある。このため、光学素子１４の上に固定されるサスペンション４は、光ヘッド３のトラッキングを行う機能の他、スライダ１５の浮上力を抑える圧力を適宜加える機能を有している。
【００３２】
光ヘッド３から射出したレーザー光が微小なスポットとしてディスク２に照射されると、ディスク２の照射された部分の温度が一時的に上昇してディスク２の保磁力が低下する。その光が照射されて保磁力の低下した部分に対して、磁気記録部１７により磁気情報が書き込まれる。
【００３３】
図３（ａ）は光ヘッド３の光学素子１４とスライダ１５とを分離した状態を示す分解図、（ｂ）は、スライダ１５に光学素子１４を重ねて位置合わせをする途中の光ヘッド３の状態を示す平面図である。図３においては、説明の便宜上、光学素子１４の集光素子２０、スライダ１５の磁気記録部１７及び磁気再生部１８を省略している。
【００３４】
ここで、スライダ１５にある光導波路１６の構造の一例を図４を用いて説明する。図４はスライダ１５の光導波路１６の周辺を拡大して示している。図４の手前側が、光学素子１４を搭載する上面側で、奥側がディスク２と対向する下面側である。光導波路１６は、コア３１ａ、サブコア３３ａ及びサブコア３３ａを包むクラッド３４ａで構成されている。この構成は、上面側から入射する光スポット径を下面からの射出時に小さくする光スポット径変換機能を備えている。
【００３５】
光導波路１６を構成する材料は、例えば、コア３１ａはＳｉ（屈折率３．５）、サブコア３３ａはＳｉＯＮ（屈折率１．５）、クラッド３４ａ（屈折率１．４７）はＳｉＯ2が挙げられる。このような光導波路１６を上面側（図４手前側）から見たとき、サブコア３３ａとクラッド３４ａとの屈折率差がほとんどないため、その境界は容易に判別することが難しい。このため、顕微鏡等を用いて観察しても光導波路１６の光入射位置を特定することは容易でない。一方、後述する光導波路１６の製造時に同時に形成することができる、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂは、例えばＳｉを材料として構成することができ、周囲のクラッド３４ａの材料との屈折率差が大きくその境界は容易に判別することができる。尚、境界を判別できる屈折率差は、概ね０．１以上が好ましい。
【００３６】
光学素子１４には、図３（ａ）に示すように、偏向面２２の斜面の面内であって斜面傾斜方向に垂直な方向で斜面を挟む両側に位置し、スライダ１５と接する底面１４ｄと略平行な上面部２５ａ、２５ｂがある。この上面部２５ａ、２５ｂそれぞれに対向する底面１４ｄの位置で接するスライダ１５の上面には、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂが設けてある。第１のマークをなす材料はＳｉとし、その周囲をなす材料はＳｉＯＮとしているため、その境界は容易に判別することができる。第１のマーク１９Ａ、１９Ｂは、光導波路１６を中点位置とする直線の両端に位置している。言い換えると、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを直線で結び、その直線上で第１のマーク１９Ａ及び１９Ｂから等距離の位置に光導波路１６の中心が位置する位置関係となっている。よって、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂより、光導波路１６の中心位置（光入射位置）を特定することができる。尚、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを結ぶ直線上の中点位置が必ずしも光導波路１６の中心となるようにする必要はない。例えば中点位置から上記の直線に対して垂直方向に所定の距離離れた位置としても、光導波路１６の中心位置（光入射位置）を容易に特定することができる。
【００３７】
スライダ１５に重ねた光学素子１４の上面側から顕微鏡により光ヘッド３を観察すると、上記で説明した光導波路１６を構成する材料とその周囲の材料との屈折率差が小さいことに、偏向面２２の斜面による光の屈折作用が加わることにより、直接光導波路１６の位置を特定することは困難である。
【００３８】
一方、上面部２５ａ、２５ｂは、スライダ１５と接する底面１４ｄと略平行としているため、顕微鏡のフォーカス位置の変動や観察位置のずれといった屈折作用の影響を受けない。よって、光学素子１４の上面部２５ａ、２５ｂに対向する底面１４ｄに接するスライダ１５の上面を良好に観察することができる。図３（ｂ）に示すように、スライダ１５の上面の第１のマーク１９Ａ、１９Ｂに対向する位置に上述の光学素子１４の上面部２５ａ、２５ｂを設けることにより、スライダ１５の上面に設けてある第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを容易に観察することができる。そして、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂの位置に基づいて、偏向面２２の下に位置する光導波路１６の位置を容易に特定することできる。
【００３９】
上記より、光学素子１４とスライダ１５とを結合して光ヘッド３を製造する際に、まず、スライダ１５の上に光学素子１４を重ね合わせて両者の位置を粗調整し、上面部２５ａ、２５ｂを通して第１のマーク１９Ａ、１９Ｂの位置を確認する。次に、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを結ぶ一直線上の中点位置に光学素子１４から光が射出する射出位置を合わせることにより、スライダ１５と光学素子１４との位置関係を光の伝達効率が良好な状態とすることができる。
【００４０】
光学素子１４から射出する光は、これまで説明した通り、集光素子２０より射出した光が偏向面２２に入射し、略直角に偏向されて、底面１４ｄより射出される。光学素子１４の上面側から観察すると、光学素子１４の光射出位置は、偏向面２２に位置する。
【００４１】
光学素子１４の光射出位置を示すマークを、偏向面２２にて偏向された光に影響を及ぼさないように偏向面２２に記すことは容易でない。また、光学素子１４から光が射出する光射出位置は、外形を基準にして割り出すことも可能であるが、外形の精度を位置合わせ精度に見合った高精度にすることは容易でない。上記より、光学素子１４に光射出位置を特定することができる第２のマークを偏向された光に影響を及ぼさない上面部２５ａ、２５ｂに設けておくことが好ましい。図３、図５の符号１４Ａ、１４Ｂが第２のマークを示している。
【００４２】
スライダ１５の第１のマークと光学素子１４の第２のマークの関係を図５を例にして説明する。図５（ａ）は上面部２５ａ、２５ｂに第２のマーク１４Ａ、１４Ｂを備えた光学素子１４の平面図、図５（ｂ）は光学素子が搭載される面に第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを備えたスライダ１５の平面図、図５（ｃ）はスライダ１５に光学素子１４を載せて、スライダ１５の第１のマークと光学素子１４の第２のマーク１４Ａ、１４Ｂを重ね合わせ、両マークを一致させた状態の光ヘッド３の平面図を示している。
【００４３】
スライダ１５の第１のマーク１９Ａ、１９Ｂは、光導波路１６を中点位置とする直線上に位置している。また、光学素子１４の第２のマーク１４Ａ、１４Ｂの位置は、光射出位置２６（図中の光射出位置２６を示す黒点は実際には存在しない。）を中点位置とする直線上にある位置関係としている。図５の符号Ｌ１は、光導波路１６の中心から第１のマーク１９Ａ、１９Ｂそれぞれの中心までの距離、及び、光射出位置２６の中心から第２のマーク１４Ａ、１４Ｂの中心までの距離を示している。従って、両者のマークの位置を一致させることにより、光学素子１４からの光射出位置２６とスライダ１５の光導波路１６の光入射位置とを一致させることが出来る。
【００４４】
上記の様に、両者のマークの位置を顕微鏡を用いて一致させるには、顕微鏡の焦点位置の差があるものの同一の光学顕微鏡を用いて、両者のマークを観察することにより容易に行うことができる。尚、第２のマーク１４Ａ、１４Ｂは、図３、図５に示す十字に限定することはなく、例えば第１のマークを同心で囲む円形や正方形としてもよい。また、このような第２のマーク１４Ａ、１４Ｂは、光学素子１４を後述の成形法により製造する場合、金型に第２のマークの形状に対応する型を設けることにより光学素子１４に精度良く容易に設けることが出来る。
【００４５】
スライダ１５に設ける第１のマーク１９Ａ、１９Ｂ、光学素子１４に設ける第２のマーク１４Ａ、１４Ｂの別の例を図６に示す。光学素子１４の底面に略平行な上面部２５ｃは、偏向面２２である斜面の片側にある。（ａ）は上面部２５ｃに第２のマーク１４Ａ、１４Ｂを備えた光学素子１４の平面図、（ｂ）は光学素子が搭載される面に第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを備えたスライダ１５の平面図、図６（ｃ）はスライダ１５に光学素子１４を載せて、スライダ１５の第１のマーク１９Ａ、１９Ｂと光学素子１４の第２のマーク１４Ａ、１４Ｂを重ね合わせ、両マークを一致させた状態の光ヘッド３の平面図を示している。
【００４６】
光導波路１６は、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを結ぶ直線上に位置し、第１のマーク１９Ｂから所定の距離離れた位置としている。また、光射出位置２６は、第２のマーク１４Ａ、１４Ｂを結ぶ直線上に位置し、第２のマーク１４Ｂから所定の距離離れた位置としている。図６の符号Ｌ２は、第１のマーク１９Ｂの中心から光導波路１６の中心までの距離、及び、第２のマーク１４Ｂの中心から光射出位置２６の中心までの距離を示している。従って、両マークを一致させることにより、光学素子１４からの光射出位置２６とスライダ１５の光導波路１６の光入射位置とを一致させることが出来る。尚、より精度良く光学素子１４の光射出位置、スライダ１５の光導波路１６の光入射位置を示すには、図５に示す様に第１のマーク１９Ａとマーク１９Ｂとの距離、第２のマーク１４Ａとマーク１４Ｂとの距離それぞれが長い方が好ましい。
【００４７】
これまでの説明において、第２のマーク１４Ａ、１４Ｂは光学素子１４の上面部２５ａ、２５ｂ、２５ｃに設けているが、これに代わり、上面部２５ａ、２５ｂ、２５ｃに対向する底面の位置に設けてもよい。底面に第２のマークを設けた場合、第１のマークと第２のマークが設けてあるそれぞれの面が接しているため、両マークはほぼ同一面にある状態となる。このため、光学素子１４の上側から顕微鏡で第１のマークと第２のマークの両方のマークを観察する際、光学素子１４の底面と上面部との平行度に依存した屈折作用による観察位置のずれが生じることがなく、またフォーカス調整が容易となる。従って、光学素子１４とスライダ１５の位置調整を容易に行うことができる。
【００４８】
光導波路１６と共に第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを有するスライダ１５の作製方法の一例を図７の工程図を用いて説明する。図７（Ｈ）、（Ｉ）は完成品であるスライダ１５を表す。図７（Ｈ）は、ディスク２と対向する側から見たスライダ１５の様子を示し、図７（Ｉ）は、光学素子１４を搭載する側から見たスライダ１５の様子を示す。また、図７（Ｈ）、（Ｉ）において、ディスク２の記録領域の進入側から退出側の方向を矢印で示す。以下の説明において、光導波路１６は、図４で説明した構成と同じく、クラッド３４ａ、サブコア３３ａ及びコア３１ａで構成している。
【００４９】
図７（Ａ）に示す様に、基板３５（材料：ＡｌＴｉＣ）に磁気再生部１８を作製した後、平坦化する。（Ｂ）に示す様にＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を用いてＳｉＯ2層３０を３μｍ成膜し、続いてＳｉ層３１を３００ｎｍ成膜する。その上にレジストを塗布し、（Ｃ）に示すように、電子ビームリソグラフィ（或いは露光によるフォトリソグラフィ）によりコア形状をパターニングしてレジストパターン３２を形成する。ＲＩＥ法（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）を用いてＳｉ層３１を加工し、（Ｄ）に示すようにコア３１ａを形成する。中央に位置するコア３１ａの両隣のコア３１ａは、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂとして機能する。
【００５０】
（Ｅ）に示す様にＣＶＤ法を用いてＳｉＯＮ層３３を３μｍ積層する。フォトリソグラフィ工程でＳｉＯＮ３３を３μｍ幅に加工し、（Ｆ）に示すようにサブコア３３ａ形成する。（Ｇ）に示すように、ＣＶＤを用いてＳｉＯ2層３４を５μｍ成膜した後、平坦化し、磁気記録部１７を作製する。クラッド３４ａはＳｉＯ2層３０とＳｉＯ2層３４とで構成される。この後、ディスク２と対峙する面に対して、浮上特性向上のための空気ベアリング面（以下、ＡＢＳと称する）加工を行う。図７では、１個のスライダ１５を示しているが、例えば上記と同じ工程でスライダを複数個並べた状態で製造し、最後に、ダイシング、ミリング等の加工方法により個々のスライダに切断して分離すると効率良くスライダを製造することができる。尚、基板３５はＡｌＴｉＣとしているがシリコンを用いてもよい。
【００５１】
上述のように、スライダ１５における光導波路１６は、磁気再生部１８や磁気記録部１７と同じく、クラッド及びコアとなる材料を積層し、電子ビームリソグラフィやフォトリソグラフィ技術を用いた一般的な半導体プロセスにより容易に形成することができる。
【００５２】
光導波路１６を形成した同じ面内、すなわち記録媒体であるディスク２が回転することによってディスク２と相対移動する方向に対して垂直方向に、光導波路１６に平行する配置で、Ｓｉ層３１から第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを形成することは、光導波路１６を形成する工程を特に変える必要はなく容易である。また、製造プロセスがフォトリソグラフィ等の所謂微細加工を得意とするものであることから、形成される光導波路１６と第１のマーク１９Ａ、１９Ｂとの位置関係は、例えば１μｍを下回る高い精度とすることができる。よって、例えば図５に示すように、光導波路１６が第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを結ぶ線上の中点に高い精度で位置するように構成することは容易である。図７（Ｉ）から分かるように、光学素子１４を搭載する側の光導波路１６は材料がＳｉＯ2のクラッド３４ａと屈折率がＳｉＯ2に近いＳｉＯＮを材料とするサブコア３３ａで構成される。このため光導波路１６の視認性が悪い。一方、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂは、ＳｉＯ2を材料とするクラッド３４ａ部分に、ＳｉＯ2との屈折率差が大きいＳｉを材料とするコア３１ａで構成されるため、第１のマーク１９Ａ、１９Ｂは容易に周囲との境界を判別して観察することができる。
【００５３】
光学素子１４において、スライダ１５と接する底面１４ｄと略平行な上面部２５ａ、２５ｂを備えないで、スライダ１５の第１のマーク１９Ａ、１９Ｂの位置に対応する部分を切り欠くことによって、光学素子１４をスライダ１５に搭載した状態でもスライダ１５の第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを観察することができる。しかしながら、切り欠いた場合、光学素子１４とスライダ１５とを対向させて両者を接着する接着面が狭くなるため結合力が低下してしまう。
【００５４】
光学素子１４の材料は、上記のレーザー光を透過し、上記で説明したスライダ１５の第１のマーク１９Ａ、１９Ｂを顕微鏡等で観察できる、例えば、熱可塑性樹脂を材料として射出成形法やプレス成形法により形成することが出来る。熱可塑性樹脂としては、例えば、ＺＥＯＮＥＸ（登録商標）４８０Ｒ（屈折率１．５２５、日本ゼオン（株））、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート、例えば、スミペックス（登録商標）ＭＧＳＳ、屈折率１．４９、住友化学（株））、ＰＣ（ポリカーボネート、例えば、パンライト（登録商標）ＡＤ５５０３、屈折率１．５８５、帝人化成（株））等が挙げられる。光学素子１４の材料は、上記以外に、シリコンやガラス等でもよい。
【００５５】
これまで説明した光ヘッドは、ディスク２に対する情報記録に光を利用する光アシスト式磁気記録ヘッドであるが、記録媒体に対する情報記録に光を利用する光ヘッドであって、磁気再生部１８と磁気記録部１７を有しない、例えば、近接場光記録、相変化記録等の記録を行う光記録ヘッドとすることができる。また、光ヘッドは、近接場光を発生する微小な金属構造体（プラズモンプローブとも称する。）を光導波路１６の光射出位置又はその近傍に設けてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】光アシスト式磁気記録ヘッド（光ヘッド）を搭載した光記録装置の概略構成の例を示す図である。
【図２】光ヘッドの一例の断面を示す図である。
【図３】（ａ）は光ヘッドを光学素子とスライダとに分離した状態で示す図である。（ｂ）はスライダに光学素子を重ねて位置合わせをする途中の光ヘッドの状態を示す平面図である。
【図４】光導波路の構造の一例を示す図である。
【図５】（ａ）は偏向部を挟む両側の上面部に第２のマークを備えた光学素子の平面図、（ｂ）は光学素子が搭載される面に第１のマークを備えたスライダの平面図、（ｃ）はスライダに光学素子を載せて、スライダの第１のマークと光学素子の第２のマークを重ね合わせ、両者の位置が一致した光ヘッドの平面図である。
【図６】（ａ）は斜面の片側の上面部に第２のマークを備えた光学素子の平面図、（ｂ）は光学素子が搭載される面に第１のマークを備えたスライダの平面図、（ｃ）はスライダに光学素子を載せて、スライダの第１のマークと光学素子の第２のマークを重ね合わせ、両者の位置が一致した光ヘッドの平面図である。
【図７】光導波路と第１のマークとを有するスライダの作製方法の一例の工程を示す図である。
【図８】（ａ）は従来の光ヘッドの一例の断面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は光ヘッドを構成する光学素子の斜視図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  筐体
２  ディスク
３、３００  光ヘッド
４  サスペンション
１１  光ファイバ（線状導光体）
１２、１３  屈折率分布型レンズ
１４、８０  光学素子
１４Ａ，１４Ｂ  第２のマーク
１５、８５  スライダ
１６  光導波路
１７  磁気記録部
１８  磁気再生部
１９Ａ、１９Ｂ  第１のマーク
２０  集光素子
２１  偏向部
２２、８２  偏向面
２３  入射面
２４、８４  Ｖ溝
２５ａ、２５ｂ、２５ｃ  上面部
２６  光射出位置
１００  光記録装置
Ｌ１、Ｌ２  距離
ＬＢ  光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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