(57)【要約】【課題】金属ブロック同士の間に形成される流路にろう材をはみ出させずに、複数の金属ブロックを密着させて接合させることにより、高品質のガス供給部材を製造する。【解決手段】複数の金属ブロック６０〜６２同士の接合面において、接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペースト７５を塗布し、複数の金属ブロック６０〜６２同士を圧接させ、加熱することにより、複数の金属ブロック６０〜６２同士をろう付けさせてガス供給部材４０を製造する。【選択図】図１
2009231558.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの流路が形成されたガス供給部材であって、
複数の金属ブロックが、ろうペーストを用いてろう付けされており、ろうペーストの塗布位置が、複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域であることを特徴とする、プラズマ処理装置のガス供給部材。
【請求項２】
前記複数の金属ブロックは板状であり、上下に重ね合わせた状態でろう付けされていることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置のガス供給部材。
【請求項３】
前記接合面の外縁近傍に、外縁に沿って１または２以上の溝が設けられていることを特徴とする、請求項１または２に記載のガス供給部材。
【請求項４】
前記接合面において、下方に配置される金属ブロックの壁面上部に、外側に広がるテーパ面部が設けられていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のガス供給部材。
【請求項５】
内部に、熱媒の流路が形成されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のガス供給部材。
【請求項６】
処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの供給流路が形成されたガス供給部材を製造する方法であって、
複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペーストを塗布し、
前記複数の金属ブロック同士を圧接させ、加熱することにより、前記複数の金属ブロック同士をろう付けさせて前記ガス供給部材を製造することを特徴とする、ガス供給部材の製造方法。
【請求項７】
前記複数の金属ブロックは板状であり、上下に重ね合わせた状態でろう付けされることを特徴とする、請求項６に記載のガス供給部材の製造方法。
【請求項８】
前記ガス供給部材の内部に、熱媒の流路が形成されていることを特徴とする、請求項６または７に記載のガス供給部材の製造方法。
【請求項９】
処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置であって、
基板を収納する処理容器を備え、
前記処理容器内に配置された、基板を載置させる載置台と、請求項１〜５のいずれかに記載のガス供給部材を備えることを特徴とする、プラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理容器内にプラズマを生成して基板を処理するプラズマ処理装置に配置されるガス供給部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、例えば成膜処理やエッチング処理においては、例えばマイクロ波を用いたプラズマ処理装置が使用されている。さらにマイクロ波を用いたプラズマ処理装置においては、処理容器内に水平に配置された、シャワープレートと呼ばれるガス供給部材が用いられている。このシャワープレートの内部には、処理ガスの流路が形成されており、シャワープレートの下面には、処理容器内に処理ガスを供給するためのガス供給孔が多数形成されている。
【０００３】
ところで、このように処理容器の内部にシャワープレートを有するプラズマ処理装置を用いて、例えばプラズマＣＶＤ処理を行う場合、シャワープレートがプラズマの熱で加熱されて変形するのを防止したり、シャワープレートに反応生成物が付着するのを防止するため、シャワープレート自体の温度を一定温度にコントロールすることが望ましい。また、シャワープレートの温度が一定でないと、シャワープレートの下方に配置されている基板の温度が変わり、安定した均一な処理ができなくなる恐れがある。そこで従来より、処理ガスの流路とは別に、ガスや液体などの冷媒を流通させる流路をシャワープレートの内部に設け、シャワープレート内に冷媒を循環させることによって冷却することが行われている。
【０００４】
このように、シャワープレートの内部には、処理ガスの流路や冷媒の流路が別々に設けられており、しかも、シャワープレートの全体に処理ガスや冷媒を流通させるために、各流路は複雑な形状を有している。このため、特許文献１に示されるように、複数の板状の金属ブロックを上下に重ね合わせて、シャワープレートを製造することが行われている。この方法によれば、金属ブロック同士の間に、複雑な形状の流路を容易に形成させることができる。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２４７０７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のようにシャワープレートの内部には、処理ガスの流路や冷媒の流路といった複数の流路が設けられるが、各流路はシャワープレートの内部においてそれぞれ密閉させることが必要であり、各流路同士は互いに連通しないようにしなければならない。例えば冷媒の流路には、約０．６ＭＰａの状態で冷媒が循環供給されるが、冷媒の流路が密閉されていないと、処理時に真空にされる処理容器の内部に冷媒が漏れ出てしまう。そのため、複数の板状の金属ブロックを接合してシャワープレートを製造する場合、各金属ブロック同士を気密に密着させた状態で接合させることが必要になる。
【０００７】
そこで、上記特許文献１には、複数の金属ブロック同士をボルトで仮止めし、更に金属拡散接合によって各金属ブロック同士を密着させる技術が開示されている。しかしながら、金属拡散接合によって金属ブロック同士を密着させて真空シールすることは相当に困難である。
【０００８】
一方、金属ブロック同士を密着させるために、金属ブロック同士の接合面をろう箔やろうペーストによって隙間なくろう付けさせることも考えられる。しかしながら、従来のろう付けでは、金属ブロック同士の間に形成される流路に、ろう箔やろうペーストといったろう材がはみ出てしまう問題があった。例えば、処理ガスの流路にろう材がはみ出ると、流路内においてろう材が壁面から剥離して、パーティクルの原因となる恐れがある。
【０００９】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、金属ブロック同士の間に形成される流路にろう材をはみ出させずに、複数の金属ブロックを密着させて接合させることにより、高品質のガス供給部材を製造することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記目的を達成するため、本発明によれば、処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの流路が形成されたガス供給部材であって、複数の金属ブロックが、ろうペーストを用いてろう付けされており、ろうペーストの塗布位置が、複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域であることを特徴とする、プラズマ処理装置のガス供給部材が提供される。
【００１１】
このガス供給部材において、例えば、前記複数の金属ブロックは板状であり、上下に重ね合わせた状態でろう付けされている。前記接合面の外縁近傍に、外縁に沿って１または２以上の溝が設けられていても良い。また、前記接合面において、下方に配置される金属ブロックの壁面上部に、外側に広がるテーパ面部が設けられていても良い。また、ガス供給部材の内部に、熱媒の流路が形成されていても良い。
【００１２】
また、本発明によれば、処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの供給流路が形成されたガス供給部材を製造する方法であって、複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペーストを塗布し、前記複数の金属ブロック同士を圧接させ、加熱することにより、前記複数の金属ブロック同士をろう付けさせて前記ガス供給部材を製造することを特徴とする、ガス供給部材の製造方法が提供される。
【００１３】
また、本発明によれば、処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置であって、基板を収納する処理容器を備え、前記処理容器内に配置された、基板を載置させる載置台と、前述のガス供給部材を備えることを特徴とする、プラズマ処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、金属ブロック同士の接合面において、接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペーストを塗布しているので、金属ブロック同士の間に形成される処理ガスや冷媒の流路にろう材をはみ出さずに、金属ブロックを密着させて接合させることができる。本発明によれば、ろう付けにより、金属ブロック同士を気密に接合させた高品質のガス供給部材を容易に製造できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかるガス供給部材としてのシャワープレート４０を備えたプラズマ処理装置１の概略的な構成を示す縦断面図である。図２は、このプラズマ装置１が備えるシャワープレート４０の上面図、図３は、シャワープレート４０の下面図である。図４は、図２中のＸ−Ｘ断面における拡大断面図である。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１６】
図１に示すように、このプラズマ処理装置１は例えばアルミニウムからなる、上部が開口した有底円筒状の処理容器１０を備えている。処理容器１０の内壁面には、例えばアルミナなどの保護膜が被覆されている。処理容器１０は電気的に接地されている。
【００１７】
処理容器１０内の底部には、基板として例えば半導体ウェハ（以下ウェハという）Ｗを載置するための載置台としてのサセプタ１１が設けられている。このサセプタ１１は例えばアルミニウムからなり、その内部には、外部電源１２からの電力の供給によって発熱するヒータ１３が設けられている。これによって、サセプタ１１上のウェハＷを所定温度に加熱することが可能である。
【００１８】
処理容器１０の底部には、真空ポンプなどの排気装置１５によって処理容器１０内の雰囲気を排気するための排気管１６が設けられている。
【００１９】
処理容器１０の上部開口には、気密性を確保するためのＯリングなどのシール材２０を介して、たとえば誘電体の石英部材からなる透過窓２１が設けられている。透過窓２１は略円盤形状である。石英部材に代えて、他の誘電体材料、たとえばＡｌ２Ｏ３、ＡｌＮ等のセラミックスを使用してもよい。
【００２０】
透過窓２１の上方には、平面状のアンテナ部材、例えば円板状のラジアルラインスロットアンテナ２２が設けられている。ラジアルラインスロットアンテナ２２は、導電性を有する材質、たとえばＡｇ、Ａｕ等でメッキやコーティングされた銅の薄い円板からなり、多数のスリット２３が、例えば渦巻状や同心円状に整列して形成されている。
【００２１】
ラジアルラインスロットアンテナ２２の上面には、マイクロ波の波長を短縮するための遅波板２５が配置されている。遅波板２５は導電性のカバー２６によって覆われている。カバー２６には円環状の熱媒流路２７が設けられ、この熱媒流路２７を流れる熱媒によって、カバー２６と透過窓２２を所定温度に維持するようになっている。
【００２２】
カバー２６の中央には同軸導波管３０が接続されており、この同軸導波管３０は、内側導体３１と外管３２とによって構成されている。内側導体３１は、上述のラジアルラインスロットアンテナ２２と接続されている。内側導体３１のラジアルラインスロットアンテナ２２側は円錐形に形成されて、ラジアルラインスロットアンテナ２２に対してマイクロ波を効率よく伝播するようになっている。
【００２３】
マイクロ波供給装置３５で発生させた、たとえば２．４５ＧＨｚのマイクロ波が、矩形導波管３６、モード変換器３７、同軸導波管３０、遅波板２５、ラジアルラインスロットアンテナ２２を介して、透過窓２１に放射される。そして、その際のマイクロ波エネルギーによって透過窓２１の下面に電界が形成され、処理容器１０内の処理ガスがプラズマ化される。
【００２４】
処理容器１０内には、ガス供給部材としてのシャワープレート４０が、処理容器１０内を上下に区分するように水平に配置されている。図２、３に示すように、このシャワープレート４０は、複数の縦桟４０ａと複数の横桟４０ｂとが格子状に配置された構成を有している。これら格子状に配置された縦桟４０ａと横桟４０ｂとの間には、複数の四角形の開口４１が上下に貫通して形成されており、これら複数の開口４１を通じて、処理容器１０内は上下に流通した状態になっている。
【００２５】
この実施の形態では、複数の横桟４０ｂのうち、３本の横桟４０ｂの内部には、熱媒を流通させる熱媒流路４５と処理ガスを流通させる処理ガス流路４６が設けられている。図４に示すように、これら熱媒流路４５と処理ガス流路４６は、横桟４０ｂの内部において上下に重なるように配置されている。
【００２６】
図２に示す熱媒供給機構５０から供給された熱媒が、往配管５１および復配管５２を通じて、シャワープレート４０内の熱媒流路４５に循環させられる。この場合、熱媒には、例えば、シャワープレート４０を冷却するための冷媒として、ガス中に粒子状の液体を分散させたミスト状流体、空気、Ｎ２などのガス（気体）、水など液体が用いられる。このように、シャワープレート４０内の熱媒流路４５に熱媒が循環させられることによって、シャワープレート４０の温度が所望の温度に維持される。
【００２７】
図３に示すように、シャワープレート４０の下面には、多数の処理ガス吐出孔５５が開口している。各処理ガス吐出孔５５は、シャワープレート４０内に形成された処理ガス流路４６に連通している。シャワープレート４０内の処理ガス流路４６には、プラズマ処理用のガスを供給する処理ガス供給機構５６が、配管５７を通じて接続されている。処理ガス供給源５６には、プラズマ処理用のガスとして例えばフッ素ガス、酸素ガスなどが貯留されている。これにより、処理ガス供給機構５６からシャワープレート４０内に導入されたプラズマ処理用のガスが、複数の処理ガス吐出孔５５を通じて処理容器１０内に供給される。
【００２８】
シャワープレート４０は、いずれもアルミニウムからなる３枚の板状の金属ブロック６０、６１、６２を上下に重ね合わせ、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面をろう付けし、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面をろう付けした構成になっている。
【００２９】
図５（ａ）は、シャワープレート４０を構成する一番上の金属ブロック６０の平面図、図５（ｂ）は、一番上の金属ブロック６０の底面図、図５（ｃ）は、一番上の金属ブロック６０の側面図である。
【００３０】
一番上の金属ブロック６０は、シャワープレート４０の縦桟４０ａと横桟４０ｂに対応するように、縦桟６０ａと横桟６０ｂが格子状に配置された構成を有している。一番上の金属ブロック６０にも、処理容器１０内を上下に流通させるための複数の四角形の開口６５が上下に貫通して形成されている。一番上の金属ブロック６０は、上面および下面のいずれも平坦な形状（平面形状）になっている。
【００３１】
図６（ａ）は、シャワープレート４０を構成する上から二番目の金属ブロック６１の平面図、図６（ｂ）は、上から二番目の金属ブロック６１の底面図、図６（ｃ）は、図６（ａ）中のＹ−Ｙ断面における拡大断面図である。
【００３２】
上から二番目の金属ブロック６１も同様に、シャワープレート４０の縦桟４０ａと横桟４０ｂに対応するように、縦桟６１ａと横桟６１ｂが格子状に配置された構成を有している。上から二番目の金属ブロック６１にも、処理容器１０内を上下に流通させるための複数の四角形の開口６６が上下に貫通して形成されている。上から二番目の金属ブロック６１の上面には、熱媒流路４５を形成させるための溝６７が設けられている。上から二番目の金属ブロック６１の下面は、平坦な形状（平面形状）になっている。
【００３３】
図７（ａ）は、シャワープレート４０を構成する一番下の金属ブロック６２の平面図、図７（ｂ）は、一番下の金属ブロック６２の底面図、図７（ｃ）は、図７（ａ）中のＺ−Ｚ断面における拡大断面図である。
【００３４】
一番下の金属ブロック６２も同様に、シャワープレート４０の縦桟４０ａと横桟４０ｂに対応するように、縦桟６２ａと横桟６２ｂが格子状に配置された構成を有している。一番下の金属ブロック６２にも、処理容器１０内を上下に流通させるための複数の四角形の開口７０が上下に貫通して形成されている。一番下の金属ブロック６２の上面には、処理ガス流路４６を形成させるための溝７１が設けられている。一番下の金属ブロック６２の下面には、溝７１に連通する多数の処理ガス吐出孔５５が開口している。
【００３５】
以上のような３枚の金属ブロック６０、６１、６２を上下に重ね合わせ、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面を、ろうペーストを用いてろう付けすることにより、シャワープレート４０が作成される。こうして作成されたシャワープレート４０の内部には、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間において、溝６７が密閉されて熱媒流路４５が形成され、同様に、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間において、溝７１が密閉されて処理ガス流路４６が形成される。
【００３６】
このようにロウ付けによってシャワープレート４０が作成される際、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の接合面（上から二番目の金属ブロック６１の上面および／または一番上の金属ブロック６０の下面）と、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の接合面（一番下の金属ブロック６２の上面および／または二番目の金属ブロック６１の下面）には、ろうペースト７５が塗布される。この場合、ろうペースト７５には、シャワープレート４０の材料と同じアルミニウムからなる粉末と溶剤、バインダーの混合物が用いられる。
【００３７】
この場合、ろうペースト７５の塗布位置は、各接合面において、接合面の外縁よりも内側に離れた領域とされる。即ち、図８に示すように、例えば上から二番目の金属ブロック６１の上面にろうペースト７５が塗布される場合、縦桟６１ａの上面においては、縦桟６１ａの外縁までは達しないように縦桟６１ａの上面中央部にろうペースト７５が塗布される。また、横桟６１ｂの上面においては、横桟６１ｂの外縁と溝６７の外縁の間の領域において、横桟６１ｂの外縁と溝６７の外縁までは達しないように、横桟６１ｂの外縁と溝６７の外縁の間の中央部にろうペースト７５が塗布される。同様に、例えば一番下の金属ブロック６２の上面にろうペースト７５が塗布される場合、縦桟６２ａの上面においては、縦桟６２ａの外縁までは達しないように縦桟６２ａの上面中央部にろうペースト７５が塗布される。また、横桟６２ｂの上面においては、横桟６２ｂの外縁と溝７１の外縁の間の領域において、横桟６２ｂの外縁と溝７１の外縁までは達しないように、横桟６２ｂの外縁と溝６７の外縁の間の中央部にろうペースト７５が塗布される。
【００３８】
そして、このように一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間に、それぞれろうペースト７５を介在させ、各金属ブロック６０〜６２を適当な圧力で互いに圧接させ、例えば５４０〜５５０℃に加熱することにより、各金属ブロック６０〜６２同士がろう付けされ、シャワープレート４０が製造される。なお、ろうペースト７５を用いたろう付けを行うことにより、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間の接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間の接合面をいずれも気密に密着させた状態で、シャワープレート４０が製造される。
【００３９】
こうして製造されたシャワープレート４０にあっては、上述のように一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間に形成された接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間に形成された接合面において、ろうペースト７５の塗布位置が、各接合面において接合面の外縁よりも内側に離れた領域となっているので、ロウ付けされた後の状態では、図９に示すように、ろうペースト７５が、各接合面の内部に閉じ込められた状態となっている。このため、シャワープレート４０内に形成されている熱媒流路４５や処理ガス流路４６、開口４１の側面などにろうペースト７５がはみ出ない。
【００４０】
次に、以上のように構成されたシャワープレート４０を備えるプラズマ処理装置１の作用について説明する。
【００４１】
プラズマ処理装置１において例えばプラズマ成膜処理を行う際には、図１に示すように先ずウェハＷが処理容器１０内に搬入され、サセプタ１１上に載置される。そして、排気管１６から排気が行われて処理容器１０内が減圧される。更に、シャワープレート４０の処理ガス吐出孔５５からは処理ガス供給源５６から供給されたプラズマ成膜用の処理ガスが処理容器１０内に供給される。そして、マイクロ波供給装置３５の作動により、透過窓２１の下面に電界が発生し、前記処理ガスがプラズマ化され、その際に発生した活性種によって、ウェハＷ上に成膜処理がなされる。
【００４２】
そして、所定時間成膜処理が行われた後、マイクロ波供給装置３５の作動と、処理容器１０内への処理ガスの供給が停止され、ウェハＷが処理容器１０内から搬出されて、一連のプラズマ成膜処理が終了する。
【００４３】
プラズマ成膜処理中、プラズマ発生に伴う熱によって、シャワープレート４０における特に中心領域の温度が上昇する。しかしながらこのプラズマ処理装置１においては、シャワープレート４０を構成する横桟４２の内部に熱媒流路４５が設けられており、熱媒供給機構５０によって、この熱媒流路４５に熱媒（冷媒）を流通させ、シャワープレート４０全体を冷却することができる。このため、シャワープレート４０の温度を所望の温度に維持すると共に面内温度の均一性を向上させ、処理の際のシャワープレート４０の変形、歪みの発生を抑えることができる。
【００４４】
また、このプラズマ処理装置１のシャワープレート４０にあっては、上述したように、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間に形成された接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間に形成された接合面において、ろうペースト７５が、各接合面の内部に閉じ込められた状態となっている。このため、熱媒流路４５や処理ガス流路４６内において、ろう材が壁面から剥離してパーティクルを発生させるといった問題を回避できるようになる。また、ろうペースト７５を用いたろう付けによってシャワープレート４０が製造されているので、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間の接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間の接合面は、いずれも気密に密着された状態となっている。このため、例えば熱媒流路４５を流通する熱媒が処理容器１０内に漏れ出ることがない。このため、処理容器１０内は適切な圧力に維持されることになる。
【００４５】
以上、本発明の好ましい実施の形態の一例を説明したが、本発明はここに例示した形態に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００４６】
図１０に示すように、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の接合面と、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の接合面において、接合面の外縁近傍に、外縁に沿って１または２以上の溝８０が設けられていても良い。このように、接合面の外縁近傍に溝８０が設けられていれば、ロウ付けされる際に、各接合面の中央部に塗布されたろうペースト７５が溝８０の位置から外側に流れ出にくくなり、熱媒流路４５や処理ガス流路４６、開口４１の側面などにろうペースト７５がより確実にはみ出なくなる。
【００４７】
また、図１１に示すように、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の接合面と、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の接合面において、下方に配置される金属ブロック６１（６２）の壁面上部（熱媒流路４５や処理ガス流路４６を構成する溝６７，７１の側壁面上部）に、外側に広がるテーパ面部８１が設けられていても良い。このようなテーパ面部８１が設けられていれば、ロウ付けされる際に、各接合面の間からろうペースト７５がはみ出たとしても、接合面の外縁でろうペースト７５が止まり、接合面の外縁を超えて熱媒流路４５や処理ガス流路４６内にろうペースト７５が流れ込まなくなる。
【００４８】
また、例えば、シャワープレート４０の横桟４０ａのうち、中央に配置された３本の横桟４０ｂの内部に熱媒流路４５と処理ガス流路４６を設けた形態を説明したが、複数の横桟４０ｂのうち一部または全部の内部に熱媒流路４５や処理ガス流路４６を設けて良い。また、熱媒流路４５や処理ガス流路４６を縦桟４０ａの内部に設けても良いし、縦桟４０ａと横桟４０ｂの両方の内部に熱媒流路４５や処理ガス流路４６を設けても良い。また、熱媒流路４５を省略しても良い。
【００４９】
また、以上の実施の形態では、ガス供給部材としてのシャワープレート４０が、処理容器１０内を上下に区分するように配置されている例を説明したが、シャワープレート４０は、処理容器１０の上面に配置されても良い。また、シャワープレート４０が３枚の金属ブロック６０〜６２で構成される例を示したが、シャワープレート４０を構成する金属ブロックの形状、数は任意である。
【００５０】
また、以上説明した実施の形態では、マイクロ波を用いたプラズマ処理装置を例にとって説明したが、これに限定されず、高周波電圧を用いたプラズマ処理装置についても本発明を適用できるのは勿論である。また、本発明は、成膜処理以外の基板処理、例えばエッチング処理を行うプラズマ処理装置にも適用できる。また、本発明のプラズマ処理装置で処理される基板は、半導体ウェハ、有機ＥＬ基板、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用の基板等のいずれのものであってもよい。
【００５１】
なお、シャワープレート４０を製造するに際し、各金属ブロック６０、６１，６２を、ろう材を用いずに接合する表面処理法（表面改質法）によって接合することも考えられる。表面処理法は、製品形状の影響を受けにくく、細かい形状（流路）への対応が可能である。また、表面処理法によれば、真空炉のみで接合が可能であり、ろう材の流れ出しも無いため、流路部分の表面粗さの変化が無く、かつ、流路断面積も変化しない。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明は、処理容器内にプラズマを生成して基板を処理するプラズマ処理に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本実施の形態にかかるプラズマ処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。
【図２】シャワープレートの上面図である。
【図３】シャワープレートの下面図である。
【図４】図２中のＸ−Ｘ断面における拡大断面図である。
【図５】（ａ）は、シャワープレートを構成する一番上の金属ブロックの平面図、（ｂ）は、一番上の金属ブロックの底面図、（ｃ）は、一番上の金属ブロックの側面図である。
【図６】（ａ）は、シャワープレートを構成する上から二番目の金属ブロックの平面図、（ｂ）は、上から二番目の金属ブロックの底面図、（ｃ）は、図６（ａ）中のＹ−Ｙ断面における拡大断面図である。
【図７】（ａ）は、シャワープレートを構成する一番下の金属ブロックの平面図、（ｂ）は、一番下の金属ブロックの底面図、（ｃ）は、図７（ａ）中のＺ−Ｚ断面における拡大断面図である。
【図８】ろうペーストの塗布位置の説明図である。
【図９】図２と同様の拡大断面図であり、ろうペーストが接合面の内部に閉じ込められた状態を示している。
【図１０】各金属ブロック同士の接合面の外縁近傍に、外縁に沿って溝８０を設けた実施の形態の説明図である。
【図１１】各金属ブロック同士の接合面において、下方に配置される金属ブロックの壁面上部に、外側に広がるテーパ面部を設けた実施の形態の説明図である。
【符号の説明】
【００５４】
Ｗ  ウェハ
１  プラズマ処理装置
１０  処理容器
１１  サセプタ（載置台）
１５  排気装置
２１  透過窓
３０  同軸導波管
３５  マイクロ波供給装置
４０  シャワープレート（ガス供給部材）
４５  熱媒流路
４６  処理ガス流路
５０  熱媒供給機構
５５  処理ガス吐出孔
５６  処理ガス供給機構
６０、６１、６２  金属ブロック
６７、７１  溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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