(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの安定浮上を可能とする磁気ディスクを提供すること。【解決手段】所定のサーボパターンをなし、周方向ｘに配置された複数のサーボ単位部２１と、これらの複数のサーボ単位部２１間に配置された複数の分離部２２と、を備えたサーボ領域２が形成された記録層を有し、各サーボ単位部２１は、所定厚みをなし、磁性体からなる１または複数の磁性部２１Ａを含んでいるとともに、分離部２２は、所定厚みをなし、所定の材料からなる１または複数の島部２２Ａを含んでいる磁気ディスクＡ１であって、上記磁性体の磁気特性は、島部２２Ａを構成する材料の磁気特性と異なっており、サーボ領域２における磁性部２１Ａおよび島部２２Ａが占める領域以外の領域は、所定厚みの非磁性体からなる非磁性部２Ｊが形成されており、かつ、上記磁性体、および、島部２２Ａを構成する材料は、上記非磁性体よりも硬質である。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のサーボパターンをなし、周方向に配置された複数のサーボ単位部と、これらの複数のサーボ単位部間に配置された複数の分離部と、を備えたサーボ領域が形成された記録層を有し、上記各サーボ単位部は、所定厚みをなし、磁性体からなる１または複数の磁性部を含んでいるとともに、上記分離部は、所定厚みをなし、所定の材料からなる１または複数の島部を含んでいる磁気ディスクであって、
上記磁性体の磁気特性は、上記島部を構成する材料の磁気特性と異なっており、
上記サーボ領域における上記磁性部および上記島部が占める領域以外の領域は、所定厚みの非磁性体からなる非磁性部が形成されており、かつ、
上記磁性体、および、上記島部を構成する材料は、上記非磁性体よりも硬質であることを特徴とする、磁気ディスク。
【請求項２】
所定のサーボパターンをなし、周方向に配置された複数のサーボ単位部と、これらの複数のサーボ単位部間に配置された複数の分離部と、を備えたサーボ領域が形成された記録層を有し、上記各サーボ単位部は、所定厚みをなし、磁性体からなる１または複数の磁性部を含んでいるとともに、上記分離部は、所定厚みをなし、所定の材料からなる１または複数の島部を含んでいる磁気ディスクであって、
上記磁性体の磁気特性は、上記島部を構成する材料の磁気特性と異なっており、
上記各磁性部および上記各島部は、それぞれ、空間を介在させて配置されていることを特徴とする、磁気ディスク。
【請求項３】
上記島部を構成する材料は、磁性体である、請求項１または２に記載の磁気ディスク。
【請求項４】
上記島部を構成する材料は、非磁性体である、請求項１または２に記載の磁気ディスク。
【請求項５】
所定のサーボパターンをなし、周方向に配置された複数のサーボ単位部と、これらの複数のサーボ単位部間に配置された複数の分離部と、を備えたサーボ領域が形成された記録層を有し、上記各サーボ単位部は、所定厚みをなし、磁性体からなる複数の磁性部を含んでいるとともに、上記分離部は、所定厚みをなし、磁性体からなる複数の島部を含んでいる磁気ディスクであって、
上記磁性部は上記周方向に第１の間隔で、上記島部は上記周方向に上記第１の間隔と異なる第２の間隔でそれぞれ並んでおり、または、上記磁性部はディスク径方向に第３の間隔で、上記島部は上記径方向に上記第３の間隔と異なる第４の間隔でそれぞれ並んでおり、
上記島部の形状は、上記磁性部の形状と略同一であることを特徴とする、磁気ディスク。
【請求項６】
上記サーボ領域における上記磁性部および上記島部が占める領域以外の領域は、所定厚みの非磁性体からなる非磁性部が形成されている、請求項５に記載の磁気ディスク。
【請求項７】
上記各磁性部および上記各島部は、それぞれ、空間を介在させて配置されていることを特徴とする、請求項５に記載の磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、いわゆるディスクリートトラックメディアやパターンドメディアなどと称される磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクの技術分野においては、高記録密度化を図るのに好ましい媒体として、ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）やパターンドメディア（ＰＭ）などが知られている。
【０００３】
磁気ディスクへのデータ記録に際しては、磁気ディスクの記録面に対して記録用の磁気ヘッドが近接配置（浮上配置）され、当該磁気ヘッドにより、記録層に対し、その保磁力より強い記録磁界が印加される。磁気ディスクに対して磁気ヘッドを相対移動させつつ磁気ヘッドからの記録磁界の向きを適宜反転させることにより、記録層において、磁化方向が適宜反転する複数の記録マークがディスク周方向に沿って形成される。このとき、記録磁界方向を反転させるタイミングが制御されることにより、各々に所定の長さで記録マークが形成される。このようにして、記録層において、磁化方向の変化として所定のデータが記録される。
【０００４】
磁気ディスクは、同心円状に形成されたトラックを有し、各トラックはセクタを単位として周方向に細分化されている。各セクタには、磁気ヘッドの位置決め等に用いられるサーボ領域と、データを記録するためのデータ領域とが設けられている。サーボ領域は、たとえばプリアンブル部、サーボマーク部、アドレスマーク部、などの領域を含んで構成されている。
【０００５】
近年、サーボ領域において、サーボパターンの描画精度向上を図るべく、磁性部が非磁性部によって分離された磁気ディスクが提案されている（特許文献１参照）。図１１に、このようなサーボ領域の要部平面図を示している。サーボ領域９２は、プリアンブルパターンをなす複数のサーボ単位部９２１、および、分離部９２２を備えている。各サーボ単位部９２１は、ディスク周方向ｘに並んで配置されている。各サーボ単位部９２１には、所定厚みをなす磁性体からなる複数の磁性部９２１Ａが配置されている。一方、分離部９２２は、複数のサーボ単位部９２１の間に配置されている。サーボ領域９２において、磁性部９２１Ａが占める領域以外の部分には、非磁性体からなる非磁性部９２Ｊが配置されている。
【０００６】
ところで、サーボ領域９２は、たとえばナノインプリントリソグラフィ法を利用して形成される。当該手法においては、まず、スタンパを作製する。スタンパの作製においては、電子線リソグラフィ法により、たとえばシリコン基板上のレジスト膜をパターニングしてレジストパターンを形成する。レジストパターンは、磁性部となるべき部位に対応したパターン形状を有する。次に、このレジストパターンをマスクとしてシリコン基板にエッチングを施して凹部を形成し、レジストパターンを除去する。次に、凹部が形成されたシリコン基板に対して電鋳処理を行うことにより、ニッケルなどの金属からなるスタンパが得られる。スタンパは、非磁性部９２Ｊを形成するための部位を凸部とする所定の凹凸パターンを有する。
【０００７】
次に、このスタンパを、たとえば磁気ディスク９Ａのサーボ領域９２における磁性膜上に形成された熱可塑性樹脂からなるレジストに加熱下で押圧することにより、当該スタンパの凹凸パターンがレジストに一括転写される。ここで、レジストにおいては、スタンパの凸部に対応する部位に凹部が形成される。次に、レジストの凹部の残渣をたとえば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去し、レジストパターン（レジストの凸部）をマスクとして磁性膜にエッチングを施すことにより、磁性膜の露出部が除去されて凹部が形成される。この凹部が上述の非磁性部９２Ｊとなる部分に相当し、磁性膜の凹部間に残存する凸部が上述の磁性部９２１Ａとなる部分に相当する。
【０００８】
そして、磁性膜の凹部に非磁性体を堆積させる。具体的には、例えばスパッタリング法により、サーボ領域９２全体にわたって非磁性体を堆積させる。堆積される非磁性体が硬いと研磨速度が遅くなり、処理時間は長くなる傾向にある。そのため、この非磁性体としては、磁性部９２１Ａを構成する磁性体と比べて相対的に軟質なものが用いられている。そして、サーボ領域９２における記録層表面を平坦化すべく、堆積された非磁性体のうち上層側の不要部分を研磨除去し、サーボ単位部９２１の磁性部９２１Ａの頂部を露出させる。
【０００９】
しかしながら、上記従来の磁気ディスクの製造においては、分離部９２２における記録層の表面を完全に平坦化できないといった問題があった。図１２（ａ）は、非磁性体９２Ｂ’が、サーボ領域９２全体にわたって堆積している状態を示している。
【００１０】
サーボ単位部９２１に対応する部分において、非磁性体９２Ｂ’よりも相対的に硬い磁性体からなる磁性部９２１Ａが、この非磁性体９２Ｂ’の下層側に存在している。一方、分離部９２２に対応する部分において、ディスク基板９Ｂの真上に非磁性体９２Ｂ’が堆積している。つまり、ここでは、磁性部９２１Ａなどが当該非磁性体９２Ｂ’の下層側に存在していない。そのため、磁性部９２１Ａの頂部を露出させるために非磁性体９２Ｂ’を研磨する際、分離部９２２に対応する部分において、サーボ単位部９２１に対応する部分よりも非磁性体９２Ｂ’の研磨が促進される。そのため、研磨後、図１２（ｂ）に示すように、分離部９２２において、記録層９Ｌの表面が凹状になり、平坦とならない。このことは、磁気ヘッドの安定浮上を阻害する要因となり、好ましくない。
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−３３８７９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、磁気ヘッドの安定浮上を可能とする磁気ディスクを提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１の側面によって提供される磁気ディスクは、所定のサーボパターンをなし、周方向に配置された複数のサーボ単位部と、これらの複数のサーボ単位部間に配置された複数の分離部と、を備えたサーボ領域が形成された記録層を有し、上記各サーボ単位部は、所定厚みをなし、磁性体からなる１または複数の磁性部を含んでいるとともに、上記分離部は、所定厚みをなし、所定の材料からなる１または複数の島部を含んでいる磁気ディスクであって、上記磁性体の磁気特性は、上記島部を構成する材料の磁気特性と異なっており、上記サーボ領域における上記磁性部および上記島部が占める領域以外の領域は、所定厚みの非磁性体からなる非磁性部が形成されており、かつ、上記磁性体、および、上記島部を構成する材料は、上記非磁性体よりも硬質であることを要件とする。
【００１４】
このような構成によれば、上記磁性部の頂部を露出させる研磨の際には、上記分離部において、上記非磁性部を構成する材質より硬い材料からなる上記島部の存在によって、上記記録層の表面が過度に研磨されることがなくなる。これにより、上記記録層の表面が、高い表面平坦性を有することとなる。
【００１５】
その結果、磁気ヘッドと上記記録層の表面との間の気流が乱れにくくなる。したがって、磁気ヘッドが安定して浮上することが可能となる。
【００１６】
本発明の第２の側面によって提供される磁気ディスクは、所定のサーボパターンをなし、周方向に配置された複数のサーボ単位部と、これらの複数のサーボ単位部間に配置された複数の分離部と、を備えたサーボ領域が形成された記録層を有し、上記各サーボ単位部は、所定厚みをなし、磁性体からなる１または複数の磁性部を含んでいるとともに、上記分離部は、所定厚みをなし、所定の材料からなる１または複数の島部を含んでいる磁気ディスクであって、上記磁性体の磁気特性は、上記島部を構成する材料の磁気特性と異なっており、上記各磁性部および上記各島部は、それぞれ、空間を介在させて配置されていることを要件とする。
【００１７】
このような構成によれば、上記サーボ領域全体にわたって、上記磁性部以外かつ上記島部以外の部分に、非磁性体を充填する工程を省略できる。その結果、上記磁気ディスクの生産効率の向上を図ることができる。
【００１８】
また、上記島部の存在によって、上記分離部における、磁気ヘッドと上記記録層の表面との間の気流が乱れを抑制できる。その結果、磁気ヘッドが安定して浮上することが可能となる。
【００１９】
好ましくは、上記島部を構成する材料は、磁性体である。
【００２０】
好ましくは、上記島部を構成する材料は、非磁性体である。このような構成によれば、上記分離部に磁性体が存在しない。そのため、上記島部が磁性体から構成されている場合と比較して、ＳＮ比の低下を抑えることができる。
【００２１】
本発明の第３の側面によって提供される磁気ディスクは、周方向に配置された複数のサーボ単位部と、これらの複数のサーボ単位部間に配置された複数の分離部と、を備えたサーボ領域が形成された記録層を有し、上記各サーボ単位部は磁性体からなる複数の磁性部を含んでいるとともに、上記分離部は磁性体からなる複数の島部を含んでいる磁気ディスクであって、上記磁性部は上記周方向に第１の間隔で、上記島部は上記周方向に上記第１の間隔と異なる第２の間隔で並んでおり、または、上記磁性部は径方向に第３の間隔で、上記島部は上記径方向に上記第３の間隔と異なる第４の間隔で並んでおり、上記島部の形状は上記磁性部の形状と略同一であること、を要件とする。
【００２２】
好ましくは、上記サーボ領域における上記磁性部および上記島部が占める領域以外の領域は、所定厚みの非磁性体からなる非磁性部が形成されている。
【００２３】
好ましくは、上記各磁性部および上記各島部は、それぞれ、空間を介在させて配置されている。
【００２４】
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しつつ具体的に説明する。図１は、本発明の第一実施形態にかかる磁気ディスクの平面図である。図２に、本発明の第１実施形態にかかる磁気ディスクにおけるサーボ領域の要部平面図を示している。図３は、図２に示した部分の要部断面図である。
【００２６】
磁気ディスクＡ１は、図３に表れているように、ディスク基板Ｂ、記録層Ｌおよび保護層（図示略）を含む積層構造を有している。
【００２７】
ディスク基板Ｂは、主に磁気ディスクＡ１の剛性を確保するためのものであり、例えば、アルミニウム合金またはガラスよりなる。
【００２８】
記録層Ｌは、図１に表れているように、データ領域Ｄとサーボ領域２とを備えている。データ領域Ｄおよびサーボ領域２は、ディスク周方向ｘに沿って交互に配置されている。
【００２９】
データ領域Ｄは、磁性体からなる複数の記録磁性部、および非磁性体からなる非磁性部を有する。記録磁性部においては、磁気ヘッド（図示略）からの記録磁界の印加によって磁化方向が制御されることによりデータが記録される。
【００３０】
サーボ領域２は、磁気ヘッドの位置決め等に用いられるものである。サーボ領域２は、例えばプリアンブル部、サーボマーク部およびアドレスマーク部などを含み、磁気ヘッドによって所定のサーボ情報やアドレス情報を読み取り可能に構成されたものである。
【００３１】
図２に、本発明にかかる磁気ディスクにおけるサーボ領域の要部平面図を示している。図２および図３に表されているように、サーボ領域２には、複数のサーボ単位部２１と分離部２２とを備えている。複数のサーボ単位部２１は、プリアンブルパターンを形成しており、ディスク径方向ｙに延びる線状である。各サーボ単位部２１は、ディスク周方向ｘにおいて物理的に孤立し、並んで設けられている。各サーボ単位部２１には、ＣｏＰｔなどの磁性体からなる複数の磁性部２１Ａが配置されている。複数の磁性部２１Ａは、ディスク径方向ｙおよびディスク周方向ｘに沿ってマトリックス状に配列されている。また、各磁性部２１Ａは、ディスク径方向ｙおよびディスク周方向ｘのいずれにおいても物理的に孤立した状態で配列されている。これにより、微細で複雑な凹凸パターンを高精度で形成することが可能となっている。
【００３２】
分離部２２は、各サーボ単位部２１に挟まれるように形成されており、径方向ｙに延びる線状である。分離部２２は、この分離部２２の一部分に形成された島部２２Ａを有している。本実施形態において、島部２２Ａを構成する材料は、非磁性体であり、たとえばアルミナである。このため、島部２２Ａを構成する材料の磁気特性と、磁性部２１Ａを構成する磁性体の磁気特性とが、異なっている。
【００３３】
本実施形態において、各磁性部２１Ａおよび各島部２２Ａは、周方向ｘにおける大きさが略同一である。さらに、各磁性部２１Ａおよび各島部２２Ａは、周方向ｘに一定間隔で配置されている。
【００３４】
サーボ領域２における、磁性部２１Ａおよび島部２２Ａが占める領域以外の領域に、非磁性体からなる所定の厚みの非磁性部２Ｊが、配置されている。非磁性部２Ｊを構成する材料は、非磁性体であり、たとえばＳｉＯ2である。また、非磁性部２Ｊを構成する材質より、島部２２Ａを構成する材質の方が硬質である。複数の磁性部２１Ａ、島部２２Ｂおよび非磁性部２Ｊの頂部が、サーボ領域２における記録層Ｌの表面となっている。この記録層Ｌの表面は平坦となっている。
【００３５】
次に、磁気ディスクＡ１の製造方法の一例を図４〜６を参照して説明する。
【００３６】
磁気ディスクＡ１は、例えばスタンパを用いたナノインプリント法を利用して製造される。ナノインプリント法においては、まず、スタンパを作製する。スタンパの作製においては、例えば基板上のレジスト膜に電子ビーム描画装置によって所定パターンを露光形成した後、当該レジスト膜に現像処理を施してレジストパターンを形成する。次に、このレジストパターンをマスクとして上記基板にＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）などのドライエッチングを施して凹部を形成し、レジストパターンを除去する。これにより、所定パターンの凹部を有する基板（スタンパの原盤）が得られる。次に、当該基板に対して電鋳処理を行うことにより、Ｎｉなどの金属からなるスタンパが得られる。スタンパの表面には、上記基板の凹凸形状が転写されており、上記基板の凹部に対応する箇所において凸部が形成される。本実施形態においては、上記の方法により、凹凸パターンを有するスタンパ３（図４（ａ）参照）が作製される。スタンパ３の凹部３ａは、サーボ単位部２１を形成するための部分である。一方、スタンパ３の凸部３ｂは、分離部２２を形成するための部分である。
【００３７】
次に、図４（ａ）に示すように、ディスク基板Ｂ上に磁性膜Ｌ’およびレジスト膜４１を順次形成する。磁性膜Ｌ’の形成は、例えばスパッタリング法により所定の磁性体を成膜することにより行う。当該磁性体としては、例えばＣｏＰｔが挙げられる。レジスト膜４１を構成する材料として、例えばＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）が挙げられる。
【００３８】
次に、レジスト膜４１をガラス転移点以上の温度に加熱したうえで、図４（ｂ）に示すように、スタンパ３を当該レジスト膜４１に押圧することにより、当該スタンパ３の凹凸パターンが転写される。
【００３９】
次に、図５（ａ）に示すように、レジスト残渣を例えば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去し、磁性膜Ｌ’表面を部分的に露出させて、レジストパターン４２を形成する。次に、図５（ｂ）に示すように、レジストパターン４２をマスクとして磁性膜Ｌ’に対して例えばドライエッチングを施すことにより、磁性膜Ｌ’の露出部が除去される。これにより、サーボ単位部２１になる部位がパターン形成される。
【００４０】
次に、レジストパターン４２を例えば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去したうえで、図５（ｃ）に示すように、非磁性体２Ｂを堆積させる。具体的には、例えばスパッタリング法により、分離部２２となるべき凹部、およびサーボ単位部２１上に非磁性体２Ｂが堆積される。本実施形態において、非磁性体２Ｂとしてアルミナが用いられる。
【００４１】
次に、図５（ｄ）に示すように、堆積された非磁性体２Ｂのうち上層側の不要部分を研磨除去し、サーボ単位部２１となる部分の頂部を露出させる。当該研磨の手法としては、例えばケミカルメカニカルポリッシング（ＣＭＰ）を採用することができる。ＣＭＰによる研磨では、例えば、非磁性体２Ｂの表面に対して定盤に張られた研磨布を所定の加工面圧で押圧しつつ、研磨布と非磁性体２Ｂとの間に研磨スラリを供給することにより行う。当該研磨スラリとしては、一般に、酸化セリウム砥粒を主成分とするものが用いられる。このような研磨工程を経て、サーボ単位部２１と分離部２２とが形成される。
【００４２】
次に、スタンパ３と凹部および凸部の大きさが異なるスタンパ３’を用いて、上述した方法と同様にして、図３に示した磁性部２１Ａや島部２２Ａを設ける。図６（ａ）に示すように、スタンパ３’の 凸部３’ａは、非磁性部２Ｊを形成するための部分である。一方、スタンパ３’の凹部３’ｂは、磁性部２１Ａや島部２２Ａを形成するための部分である。
【００４３】
サーボ単位部２１および分離部２２の上にレジストパターンを順次形成するなど上述の方法と同様にして、図６（ｂ）に示すように、サーボ単位部２１における磁性部２１Ａになる部位や、分離部２２における島部２２Ａになる部位がパターン形成される。次に、レジストパターン４２を除去する。
【００４４】
次に、図６（ｃ）に示すように、磁性部２１Ａと島部２２Ａとの間、および、磁性部２１Ａ上や島部２２Ａ上に、非磁性体２Ｂ’を堆積する。本実施形態において、この非磁性体２Ｂ’はＳｉＯ2である。そのため、ここで用いられた非磁性体２Ｂ’は、既に用いられた島部２２Ａを構成する非磁性体２Ｂであるアルミナより軟質なものとなっている。
【００４５】
次に、図６（ｄ）に示すように、堆積された非磁性体２Ｂ’のうち上層側の不要部分を研磨除去し、サーボ単位部２１における磁性部２１Ａ、および、分離部２２における島部２２Ａの頂部を露出させる。複数の磁性部２１Ａ、島部２２Ｂおよび非磁性部２Ｊの頂部が、記録層Ｌの表面となっている。この記録層Ｌの表面は平坦となっている。記録層Ｌの表面上に、保護膜（図示略）を形成する。これにより、磁気ディスクＡ１を得ることができる。
【００４６】
このような構成によれば、磁性部２１Ａの頂部を露出させる研磨の際には、分離部２２において、非磁性部２Ｊを構成する材質より硬い材料からなる島部２２Ａの存在によって、記録層Ｌの表面が過度に研磨されることがなくなる。これにより、記録層Ｌの表面が、高い表面平坦性を有することとなる。
【００４７】
その結果、磁気ヘッドと記録層Ｌの表面との間の気流が乱れにくくなる。したがって、磁気ヘッドの浮上がより安定する。
【００４８】
また、このような構成によれば、分離部２２に磁性体が存在しない。そのため、島部２２Ａが磁性体から構成されている場合と比較して、ＳＮ比の低下を抑えることができる。
【００４９】
本実施形態におけるものと異なり、本発明にかかる島部２２Ａを構成する非磁性体と、非磁性部２Ｊを構成する非磁性体は、同じ物質であってもよい。たとえば、いずれの非磁性体もＳｉＯ2であることが挙げられる。ただし、島部２２Ａを構成する材料は、非磁性部２Ｊを構成する材質よりも硬質でなければならない。ＳｉＯ2の硬さを変えるには、スパッタリングをする際のガス圧を制御すればよい。
【００５０】
また、島部２２Ａを構成する非磁性体と、非磁性部２Ｊを構成する非磁性体とが、同じ物質である他の例として、いずれの非磁性体もＳＯＧ(スピンオンガラス)であることが考えられる。このとき、ＳＯＧは、スピンコーティング法により成膜される。ＳＯＧの硬さを変えるには、ＳＯＧが塗布された後の加熱温度を制御すればよい。
【００５１】
図７は、本発明の第２実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。
【００５２】
図７に示された磁気ディスクＡ２において、分離部２２における島部２２Ａの形状が、第１実施形態の磁気ディスクＡ１とは異なっている。本実施形態では、島部２２Ａのディスク周方向ｘにおける大きさが、磁性部２１Ａのディスク周方向における大きさの２倍程度となっている。ディスク周方向ｘにおける各島部２２Ａの間隔が、ディスク周方向ｘにおける各磁性部２１Ａの間隔と異なっている。また、各分離部２２におけるディスク周方向ｘの単位長さあたりの島部２２Ａの個数が、第１実施形態と比べ減少している。また、図７には表されていないが、各磁性部２１Ａや各島部２２Ａの大きさ、形状は、それぞれ異なっていてもよい。たとえば、円形であるものや長方形であるものが、混在していてもよい。また、ディスク周方向ｘにおける、各磁性部２１Ａや各島部２２Ａの間隔は、それぞれ異なっていてもよい。
【００５３】
図８は、本発明の第３実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。
【００５４】
図８に示された磁気ディスクＡ３においては、サーボ領域２において、磁性部２１Ａと島部２２Ａとの間に、非磁性体が充填されていないことが、上記実施形態の磁気ディスクＡ１およびＡ２と異なっている。本実施形態では、非磁性体を磁性部２１Ａと島部２２Ａとの間に充填する必要がない。そのため、磁気ディスクＡ３の製造工程を簡略化できる。また、磁気ディスクＡ３において、ディスク周方向ｘの大きさが略一定である磁性部２１Ａおよび島部２２Ａが、ディスク周方向ｘに略一定間隔で形成されている。これにより、磁気ヘッドが安定して浮上することが可能となる。
【００５５】
第１実施形態ないし第３実施形態において、本発明にかかる島部２２Ａを構成する材料が、磁性部２１Ａを構成する磁性体と同一のＣｏＰｔであってもよい。このとき、島部２２Ａを構成するＣｏＰｔの磁気特性と、磁性部２１Ａを構成するＣｏＰｔの磁気特性とが、異なっている必要がある。そのために、たとえばＣｏＰｔにおけるＰｔの組成比を変えればよい。
【００５６】
図９および図１０は、本発明の第４実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。
【００５７】
図９に示された磁気ディスクＡ４において、磁性部２１Ａおよび島部２２Ａの形状が略同一であり、同一の磁性体から構成されている。磁性部２１Ａおよび島部２２Ａはいずれも長方形である。本実施形態では、ディスク周方向ｘにおける各島部２２Ａの間隔が、ディスク周方向ｘにおける各磁性部２１Ａの間隔の２倍程度である。ディスク周方向ｘにおける各島部２２Ａの間隔は、たとえば、磁気ディスクＡ４を備えたハードディスク装置における磁気記録読取ヘッドのギャップ長以下である。
【００５８】
図１０に示された磁気ディスクＡ４’においても、磁性部２１Ａおよび島部２２Ａの形状が略同一であり、同一の磁性体から構成されている。磁性部２１Ａおよび島部２２Ａはいずれも円形である。本実施形態では、ディスク周方向ｘおよびディスク径方向ｙにおける各島部２２Ａの間隔が、ディスク周方向ｘおよびディスク径方向ｙにおける各磁性部２１Ａの間隔のそれぞれ２倍程度である。ディスク周方向ｘにおける各島部２２Ａの間隔は、たとえば、磁気ディスクＡ４’を備えたハードディスク装置における磁気記録読取ヘッドのギャップ長以下である。一方、ディスク径方向ｙにおける各島部２２Ａの間隔は、たとえば、磁気ディスクＡ４’を備えたハードディスク装置における磁気記録読取ヘッドのリードコア幅以下である。
【００５９】
また、サーボ領域２における磁性部２１Ａおよび島部２２Ａが占める領域以外の領域には、非磁性部が形成されていなくてもよい。
【００６０】
このような構成によれば、磁気ディスクＡ４および磁気ディスクＡ４’を製造する際、インプリントの均一性が向上するという利点がある。また、磁性部２１Ａおよび島部２２Ａが同一の材料で構成されているため、一度インプリントすることにより、これらを形成する事が可能となる。つまり、第１実施形態で示したような二度のインプリントが不要になるという利点がある。
【００６１】
なお、磁気ディスクＡ４、Ａ４’が、非磁性領域を挟んでデータ記録のための複数の最小磁性単位部が配列されてなるパターンドメディアであるとき、これらの最小磁性単位部、各磁性部２１Ａおよび各島部２２Ａの形状が、全て同一であることも考えられる。
【００６２】
本発明に係る磁気ディスクは、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る磁気ディスクの各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。本実施形態では、プリアンブル部において、島部が形成されている例を示したが、サーボ領域内のプリアンブル部以外において、島部が形成されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明にかかる磁気ディスクの第１実施形態の平面図である。
【図２】本発明にかかる磁気ディスクの第１実施形態におけるサーボ領域を示す要部平面図である。
【図３】図２に示した部分の要部断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を示す要部断面図である。
【図５】図４の後に続く工程を示す要部断面図である。
【図６】図５の後に続く工程を示す要部断面図である。
【図７】本発明にかかる磁気ディスクの第２実施形態におけるサーボ領域を示す要部平面図である。
【図８】本発明にかかる磁気ディスクの第３実施形態におけるサーボ領域の要部断面図である。
【図９】本発明にかかる磁気ディスクの第４実施形態におけるサーボ領域の要部平面図である。
【図１０】本発明にかかる磁気ディスクの第４実施形態におけるサーボ領域の要部平面図である。
【図１１】従来の磁気ディスクにおけるサーボ領域を示す要部平面図である。
【図１２】従来の磁気ディスク製造方法における一部の工程を示す要部断面図である。
【符号の説明】
【００６４】
Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４，Ａ４’    磁気ディスク
Ｂ          ディスク基板
Ｄ          データ領域
２          サーボ領域
２１        サーボ単位部
２１Ａ      磁性部
２２        分離部
２２Ａ      島部
２Ｊ        非磁性部
３，３’    スタンパ
４１        レジスト膜
４２        レジストパターン
Ｌ          記録層
Ｌ’        磁性膜
ｘ          周方向
ｙ          径方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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