(57)【要約】【課題】本発明は電磁波遮蔽用フィルターおよびこれを備えた表示装置に関する。【解決手段】前記電磁波遮蔽用フィルターは、一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板、および前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ（ｍｅｓｈ）形態に形成された電磁波遮蔽部材を含み、プラズマディスプレイパネルに電磁波を遮蔽するように適用され、錫面（ｔｉｎ面）と電磁波遮蔽部材中の導電性金属の適切な黄変現象によって、外光反射減少効果および黒度向上効果をはかることができ、最終製品で印刷層が外気に露出するようにしても耐湿性の問題を最少化できる。【選択図】図２
2009295980.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板、および
前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ（ｍｅｓｈ）形態に形成された電磁波遮蔽部材を含むことを特徴とする電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項２】
前記透明強化ガラス基板は、フロート（ｆｌｏａｔ）工法で製造された板ガラスを強化して製作されたものであり、
前記フロート工法は溶融したガラス物を溶融金属である錫の上に流れるようにしながら、浮遊されたガラス物が錫に浮かんでいる状態にして、板ガラスを製造する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項３】
前記透明強化ガラス基板の空気面の下部には順次形成された色補正および近赤外線遮断層;および反射防止層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項４】
前記近赤外線遮断層は８５０〜１２５０ｎｍ波長の近赤外線吸収機能を有する近赤外線遮蔽色素、およびネオン波長遮断と色補正のための選択的吸光物質を含むことを特徴とする請求項３に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項５】
前記近赤外線遮蔽色素はニッケル錯体系、フタロシアニン系、シアニン系、ジイモニウム系化合物およびこれらの混合物からなる群より選択された物質を含み、
前記ネオン波長遮断と色補正のための選択的吸光物質はアゾ系、スチリルスチリル系、シアニン系、アントラキノン系およびテトラアザポピリン系化合物からなる群より選択された１種以上の物質を含むことを特徴とする請求項４に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項６】
前記反射防止層は低屈折率物質を含む低屈折層および高屈折率物質を含む高屈折層を含むことを特徴とする請求項４に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項７】
前記低屈折率物質はフッ素系化合物、酸化ケイ素、フッ化マグネシウムおよび酸化アルミニウムからなる群より選択された１種以上の物質を含み、
前記高屈折率物質は二酸化チタン、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛、アンチモン、酸化錫、酸化セリウム、酸化ジルコニウムおよび酸化アンチモンからなる群より選択された１種以上の無機微粒子を含むことを特徴とする請求項６に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項８】
前記電磁波遮蔽部材は、
一方向に延長された一つ以上の第１遮蔽部と、
前記第１遮蔽部と交差する一つ以上の第２遮蔽部を含むことを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項９】
前記電磁波遮蔽部材は多角形状の開口部を有し、前記開口部は面取りされたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１０】
前記透明強化ガラス基板の周縁に沿って形成されたエッジ層をさらに含み、前記電磁波遮蔽部材は前記エッジ層上に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１１】
前記電磁波遮蔽部材の端部に連結されて前記電磁波遮蔽部材を接地させるための接地部材をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１２】
前記電磁波遮蔽部材は、黒色導電性ペースト組成物を前記透明強化ガラス基板の錫面上にオフセット印刷し焼成して形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１３】
前記黒色導電性ペースト組成物は、
ａ）アクリレート高分子樹脂およびオリゴマーまたはモノマー、ｂ）溶剤、ｄ）ガラス粉末、ｅ）導電性金属およびｆ）黒色顔料を含むことを特徴とする請求項１２に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１４】
アクリレート高分子樹脂およびオリゴマーまたはモノマー５ないし１５重量部、溶剤５ないし１５重量部、ガラス粉末１ないし１０重量部、導電性金属５０ないし９０重量部および黒色顔料１ないし１０重量部を含むことを特徴とする請求項１２に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１５】
前記組成物は分散剤０．０５ないし１重量部をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１６】
前記黒色顔料はコバルト、銅、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロムまたは鉄系の化合物を含むことを特徴とする請求項１３に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１７】
前記黒色顔料は銅、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロムまたは鉄の補助顔料をさらに含むことを特徴とする請求項１６に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１８】
前記アクリレート高分子樹脂は、重量平均分子量が５，０００ないし１００，０００であることを特徴とする請求項１３に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項１９】
前記溶剤は沸点が２００℃以上である高沸点溶剤の少なくとも１種以上と、沸点が２００℃未満である低沸点溶剤の少なくとも１種以上を含むことを特徴とする請求項１３に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項２０】
前記ガラス粉末はＰｂ系粉末、Ｐｂ-ｆｒｅｅ系の粉末、黒色または有色顔料を混入して製造された有色のガラス粉末およびＶ２Ｏ５の有色成分を含有するガラス粉末からなる群より１種以上選択されたことを特徴とする請求項１３に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項２１】
前記導電性金属は銀、銅、ニッケル、錫およびこれらの合金からなる群より１種以上選択される電極用金属粉末であることを特徴とする請求項１０に記載の電磁波遮蔽用フィルター。
【請求項２２】
メッシュ形態の溝が形成されたグラビアロール（ｇｒａｖｕｒｅｒｏｌｌ）を提供する段階、
前記溝に黒色導電性ペースト組成物を充填する段階、
前記グラビアロールと対向し前記グラビアロールの回転方向と反対方向に回転するブランケットロール（ｂｌａｎｋｅｔ  ｒｏｌｌ）を提供する段階、
前記グラビアロールを回転させながら前記ブランケットロールに前記導電性ペースト組成物を転移させる段階、
一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板を提供する段階、
前記ブランケットロールが前記透明強化ガラス基板上に移動しながら前記導電性ペースト組成物を前記透明強化ガラス基板の錫面上に塗布する段階、および
前記導電性ペースト組成物を焼成して前記透明強化ガラス基板の錫面上に電磁波を遮蔽する単一層からなる遮蔽部材を形成する段階を含むことを特徴とする電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２３】
前記透明強化ガラス基板はフロート（ｆｌｏａｔ）工法で製造された板ガラスを強化して製作されたものであることを特徴とする請求項２２に記載の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２４】
前記グラビアロールを提供する段階で、前記溝は、
一方向に延長された一つ以上の第１溝部、および
前記第１溝部と交差する一つ以上の第２溝部を含むことを特徴とする請求項２２に記載の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２５】
前記一つ以上の第１溝部は複数の第１溝部を含み、前記複数の第１溝部の平均ピッチは０より大きく５００μｍ以下であることを特徴とする請求項２４に記載の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２６】
前記複数の第１溝部の平均ピッチは２００μｍ乃至４００μｍであることを特徴とする請求項２５に記載の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２７】
前記溝は斜線方向に延長されたことを特徴とする請求項２４に記載の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２８】
前記グラビアロールおよび前記ブランケットロールが会合して形成される接線と前記第１溝部がなす角は２０°乃至７０°であることを特徴とする請求項２４に記載の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法。
【請求項２９】
一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板、
前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ（ｍｅｓｈ）形態に形成された電磁波遮蔽部材、および
画像を表示し、前記透明強化ガラス基板に対向する表示パネルを含む表示装置であって、
前記電磁波遮蔽部材は前記表示パネルから放出される電磁波を遮蔽するように適用され、黒色導電性ペースト組成物を透明強化ガラス基板の錫面上にオフセット印刷し焼成して形成されたものであることを特徴とする表示装置。
【請求項３０】
前記透明強化ガラス基板はフロート（ｆｌｏａｔ）工法で製造された板ガラスを強化して製作されたものであることを特徴とする請求項２９に記載の表示装置。
【請求項３１】
前記透明強化ガラス基板の下部には外気に露出するように順次形成された空気面;色補正および近赤外線遮断層;および反射防止層をさらに含むことを特徴とする請求項２９に記載の表示装置。
【請求項３２】
前記表示パネルは、
相互対向する第１基板と第２基板、および
前記第１基板および前記第２基板の間に位置する黒色層を含み、
前記電磁波遮蔽部材は前記黒色層と立体交差することを特徴とする請求項２９に記載の表示装置。
【請求項３３】
前記電磁波遮蔽部材が前記第２基板に接することを特徴とする請求項２９に記載の表示装置。
【請求項３４】
前記表示パネルはプラズマ表示パネルであることを特徴とする請求項２９に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルなどの表示装置の電磁波遮蔽用フィルターに適用して、パターンの品質向上、印刷性および連続工程の向上をはかり、特に、プラズマディスプレイの光学特性に優れて、印刷面が外気に露出しても耐湿性を有することができる電磁波遮蔽用フィルターとその製造方法、およびこれを備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、多様な種類の表示装置が開発されている。例えば、プラズマ表示装置（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ、ＰＤＰ）、液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙａｙ  ｄｅｖｉｃｅ、ＬＣＤ）および有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｄｉｓｐｌａｙｄ  ｅｖｉｃｅ、ＯＬＥＤ）等が開発されている。これらの表示装置は、その厚さが薄くてその重量が軽いので、画像表示が必要な多くの製品に用いられている。
【０００３】
一方、表示装置に含まれる多数の電子素子からＥＭＩ（ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ、電磁波妨害）が放出される。ＥＭＩは表示装置の誤作動を起こしたり人体に害を及ぼす。したがって、ＥＭＩを遮蔽するように表示装置に電磁波遮蔽用フィルターを取り付ける。
【０００４】
前記電磁波遮蔽フィルターは電磁波遮断以外に、色を補正し、外光反射減少および近赤外線遮断でリモコンの誤作動を防止し、外部の衝撃からモジュールを保護し、全面ガラスの破損の際、ガラスの飛散を防止することができる。
【０００５】
従来の電磁波遮蔽フィルターの製造方法は、図１ａに示されているように、一般にＣｕ基板を利用して通常の方法で積層工程、露光および現像工程、エッチング工程およびストリップ工程を通してＥＭＩメッシュパターンを形成して行われている。前記方法で形成されたＥＭＩフィルターはガラス基板に加圧接着層（ＰＳＡ  ：  ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｏｎ）およびＰＥＴフィルムが形成された基板上部にＣｕメッシュパターンを含み、また、近赤外線層（Ｎｅａｒ  Ｉｎｆｒａｒｅｄ、以下、ＮＩＲという）および色補正層と反射防止層（Ａｎｔｉ-ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ、以下、ＡＲという）が備えられて、通常、ベース基板を基準に機能層らとＣｕメッシュの両面積層形態をなしている。前記方法で形成されたＣｕメッシュパターンは、図１ｂのような形態を現わすことができる。この時、図面と異なるように光学機能層は必要に応じて位置が変更されることができる。例えば、ＮＩＲおよび色補正層とＡＲ層は、ＰＥＴフィルムを含む基板でＰＥＴフィルムの両面に形成されることもある。しかしながら、Ｃｕメッシュなど既存のフィルムメッシュタイプはフィルターの製造時両面積層をし、光学特性を満たすために透明化工程をさらに進行しなければならないので、工程が複雑であるという問題がある。
また、オフセット工程を利用した電磁波遮蔽フィルターの製造方法の中、ガラス基板の空気面（Ａｉｒ面）に導電性ペーストを印刷し焼成した後、印刷層の反対面に反射防止層、色補正および近赤外線層などを構成した後、透明化工程を行う場合、最終製品でフィルターの印刷層（Ａｉｒ面）全体が外気に露出できる。かかる場合、弱い耐湿性を有して白濁現象でガラス基板がぼやけるように変わって、製品の品質および光学特性を低下せしめるという問題がある。したがって、前記方法は、印刷面の保護のために機能フィルムを両面積層しなければならないが、前記両面積層は工程が複雑になるという問題をもたらす。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、オフセット工程の適用で透明強化ガラス基板の錫面（ｔｉｎ面）に直接的に電磁波遮蔽層を形成し、その反対面である空気面（Ａｉｒ面）に機能フィルムを断面積層で形成してディスプレイ光学特性に優れるようにし、耐湿性を有することができる電磁波遮蔽用フィルターおよびその製造方法を提供する。また、本発明は前記電磁波遮蔽用フィルターを含む表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、
一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板、および
前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ（ｍｅｓｈ）形態に形成された電磁波遮蔽部材を含む、電磁波遮蔽用フィルターを提供する。
前記透明強化ガラス基板は、フロート（ｆｌｏａｔ）工法で製造された板ガラスを強化して製作されたものであって、本発明では錫面（ｔｉｎ面）と空気面（Ａｉｒ面）とに区分して印刷するのである。
【０００８】
前記透明強化ガラス基板の印刷反対面である空気面には順次形成された色補正および近赤外線遮断層；および反射防止層をさらに含むことができる。つまり、前記色補正および近赤外線遮断層は、下部にＰＥＴのようなフィルムを含むガラス基板で、フィルムを中心にその両面に形成されたり、またはフィルムのある一面にそれぞれ形成された後積層して用いられる。
【０００９】
前記色補正および近赤外線遮断層は、８５０〜１２５０ｎｍ波長の近赤外線吸収機能を有する近赤外線遮蔽色素およびネオン波長遮断および色補正のための選択的吸光物質を含むことができる。前記近赤外線遮蔽色素はニッケル錯体系、フタロシアニン系、シアニン系、ジイモニウム系およびこれらの混合物などからなる群から選択された１種以上の物質を含むことができる。前記ネオン波長遮断および色補正のための選択的吸光物質はアゾ系、スチリル系、シアニン系、アントラキノン系およびテトラアザポピリン系からなる群より選択された１種以上の物質を含むことができる。前記近赤外線遮断層および色補正層は前述した近赤外線吸収物質と選択的吸光物質を高分子樹脂および溶媒に混合し、フィルムを含むガラス基板のような透明基材にコーティングすることによって製造することができる。
【００１０】
前記反射防止層は、低屈折率物質を含む低屈折層および高屈折率物質を含む高屈折層を含むことができる。前記低屈折率物質としてはフッ素系、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウムなどからなる群から選択された１種以上の物質を含むことができる。前記高屈折率物質としては二酸化チタン、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛、アンチモン、酸化錫、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンなどの無機微粒子からなる群より選択された１種以上の物質を含むことができる。前記反射防止層は、基材上にハードコーティング層を形成してハードコーティング層上に高屈折率物質を含むコーティング液と低屈折率物質を含むコーティング液を交互にコーティングして形成することができる。
【００１１】
前記電磁波遮蔽部材は、黒色導電性ペースト組成物を前記基板に印刷し焼成して形成されたのが望ましい。この時、前記黒色導電性ペースト組成物はプラズマディスプレイパネルなどの表示装置に適用される電磁波遮蔽フィルター用ペースト組成物であって、好ましくは、ガラス基板に前記黒色導電性ペースト組成物を印刷（例えば、オフセット印刷）し焼成して前記表示装置用電磁波遮蔽フィルターを提供することができる。
【００１２】
前記黒色導電性ペースト組成物は、アクリレート高分子樹脂およびモノマーまたはオリゴマー５ないし１５重量部、溶剤５ないし１５重量部、ガラス粉末１ないし１０重量部、導電性金属５０ないし９０重量部および黒色顔料１ないし１０重量部を含むことができる。また、このような本発明のペースト組成物は分散剤０．０５ないし１重量部をさらに含むのが好ましい。
【００１３】
また、本発明は、
メッシュ形態の溝が形成されたグラビアロール（ｇｒａｖｕｒｅ  ｒｏｌｌ）を提供する段階、
前記溝に黒色導電性ペースト組成物を充填する段階、
前記グラビアロールと対向し、前記グラビアロールの回転方向と反対方向に回転するブランケットロール（ｂｌａｎｋｅｔ  ｒｏｌｌ）を提供する段階、
前記グラビアロールを回転させながら前記ブランケットロールに前記導電性ペースト組成物を転移させる段階、
一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板を提供する段階、
前記ブランケットロールが前記透明強化ガラス基板上に移動しながら前記導電性ペースト組成物を前記透明強化ガラス基板の錫面上に塗布する段階、および
前記導電性ペースト組成物を焼成して前記透明強化ガラス基板の錫面上に電磁波を遮蔽する単一層からなる遮蔽部材を形成する段階を含む電磁波遮蔽用フィルターの製造方法を提供する。
【００１４】
前記グラビアロールを提供する段階において、前記溝は、一方向に延長された一つ以上の第１溝部、および前記第１溝部と交差する一つ以上の第２溝部を含むのが好ましい。前記一つ以上の第１溝部は複数の第１溝部を含み、前記複数の第１溝部の平均ピッチは０より大きく５００μｍ以下であるのが好ましい。前記複数の第１溝部の平均ピッチは２００μｍ乃至４００μｍであることができる。前記溝は斜線方向に延長されており、前記グラビアロールおよび前記ブランケットロールが会合して形成される接線と前記第１溝部がなす角は２０°乃至７０°であることができる。
【００１５】
また、本発明は透明強化ガラス基板、および前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ（ｍｅｓｈ）形態に形成された電磁波遮蔽部材、および画像を表示し、前記透明強化ガラス基板に対向する表示パネルを含み、
前記電磁波遮蔽部材は前記表示パネルから放出される電磁波を遮蔽するように適用され、黒色導電性ペースト組成物を透明強化ガラス基板の錫面上にオフセット印刷し焼成して形成されたものである表示装置を提供する。
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１７】
本発明はパターンの外形品質に優れて連続工程の向上をはかることができ、特に、印刷性および光学的特性に優れた電磁波遮蔽用フィルターおよびこれを利用した表示装置に関する。
【００１８】
まず、本発明で“透明強化ガラス基板”は、フロート（ｆｌｏａｔ）工法で製作された板ガラスを通常の方法で強化した透明強化ガラス基板を使用する。また、板ガラスの製造工程上、溶融金属（ｔｉｎ）と接するようになる面を錫面（ｔｉｎ面）とし、その反対面を空気面（ａｉｒ面）に区分して印刷/焼成することを特徴とする。
【００１９】
この時、本発明で錫面（ｔｉｎ面）とは、透明強化ガラス基板上に所定量の錫が分布した面を意味し、錫分布量が相対的に多くの面をいい、空気面とは、前記錫面の反対側で空気と接触し、錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない面を意味する。
【００２０】
つまり、前記フロート工法で製造された板ガラスを強化した透明強化ガラスにおいて、暗室条件で錫検出器（ｔｉｎ  ｄｅｔｅｃｔｏｒ）を利用して光源を照らした時、照射された光が拡散して相対的にぼやけるように見える面を錫面と定義し、相対的に透明に見える層を空気面に区分してオフセット工程に適用して使用するのである。
【００２１】
本発明者らの実験の結果、黒色導電性ペースト組成物を利用したオフセット印刷工程において、前記透明強化ガラス基板の錫面にペースト組成物を印刷する場合、印刷面が露出したフィルター構造を有する製品が可能であることを発見した。つまり、前記のような方法はフィルター化の際、Ｃｕメッシュなどの既存のフィルム製品と違って、電磁波遮蔽メッシュをガラス基板に直接的に形成するので、光学的透明性に優れて、錫面に電磁波遮蔽メッシュを形成し、反射防止層（ＡＲ）と近赤外線（ＮＩＲ）遮断および色補正層を印刷面の反対面にだけ形成しても耐湿性を有することができるので、フィルターの構造および工程の単純化がなされる。また、印刷層である電磁波遮蔽部材に含まれる導電性金属と錫面との反応で黄変現象が発生するが、本発明は驚いたことにかかる黄変現象がむしろ外光反射効果および黒度向上を現わすことを発見した。言い換えると、既存には黄変現象が問題視されたが、本発明は空気面より相対的に大きく発生する黄変現象を適切に利用することによって、空気面に比べて外光反射の減少効果および黒度の向上をはかることができるので、光学特性にも有利であることを確認した。したがって、本発明の電磁波遮蔽用フィルターはパネルに適用の際、印刷層がパネル部に向かい、ガラス層および光学機能層は外部に露出した構造を有することになる。
【００２２】
したがって、本発明の黒色導電性ペースト組成物を利用して特定の強化ガラス基板に印刷後、焼成して形成された電磁波遮蔽フィルターは形態、厚さおよび線幅が一定のメッシュパターンを含み、特に工程の単純化を実現でき、プラズマディスプレイの光学特性を顕著に向上させることによって、品質の向上と共に連続工程の向上をはかることができる。
【００２３】
このような本発明の電磁波遮蔽用フィルターは、ｉ）一面には錫分布量が相対的に多くの錫面を含み、他面には前記錫面に比べて錫分布量が相対的に少ない空気面を有する透明強化ガラス基板、およびｉｉ）前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ形態に形成した電磁波遮蔽部材を含むことを特徴とする。前記電磁波遮蔽部材は電磁波を遮蔽するように適用される。
【００２４】
前記透明強化ガラス基板の空気面の下部には順次形成された色補正層および近赤外線遮断層；および反射防止層をさらに含むことができる。したがって、前記反射防止層は外気に露出する形態になる。
【００２５】
また、前記色補正および近赤外線遮断層と反射防止層は、前記透明強化ガラス基板の空気面の下部にＰＥＴなどのようなフィルムを含む形態において、フィルムを中心に両面に形成することができる。この時、前記反射防止層は、ガラス基板の最下部に位置するのが望ましい。このような構造を有する一例を挙げると、前記透明強化ガラス基板の空気面の下部には近赤外線遮断層、ＰＥＴフィルムおよび色補正層を含み、その下部に反射防止層が位置できる。前記構造を有するフィルムは、前記透明強化ガラス基板の空気面の下部に粘着剤などを利用して積層することができる。また他の、例えば、本発明の方法は、前記ガラス基板の下部にコーティングのような方法を利用して順次近赤外線遮断層、ＰＥＴフィルム、色補正層および反射防止層を形成することができる。
【００２６】
また、前記色補正および近赤外線遮断層と反射防止層は、前記透明強化ガラス基板の空気面の下部にＰＥＴなどのようなフィルムを含む形態において、フィルムのある一面にそれぞれ一つ以下に形成した後、形成された二つのフィルムを積層して使用する。この時、前記反射防止層はガラス基板の最下部に位置するのが望ましい。このような構造を有する一例を挙げると、ＰＥＴフィルムの上部に色補正層を形成し、ＰＥＴフィルムの上部に近赤外線遮断層を形成した後、二つのフィルムを積層して使用する。したがって、前記構造は前記透明強化ガラス基板の空気面の下部にはＰＥＴフィルム、色補正層、ＰＥＴフィルムおよび近赤外線遮断層を含み、その下部に反射防止層が位置できる。または、二つの層の積層順序を逆にして、前記透明強化ガラス基板の空気面の下部にはＰＥＴフィルム、近赤外線遮断層、ＰＥＴフィルムおよび色補正層を含み、その下部に反射防止層が位置できる。ここで、前記二つのフィルムにおいて、ＰＥＴフィルムの残りの一面にはガラス基板を全て含んだり、いずれか一つだけガラス基板を含むことができる。前記構造を有するフィルムは前記透明強化ガラス基板の空気面の下部に粘着剤などを利用して積層することができる。また他の、例えば、本発明の方法は、前記ガラス基板の下部にコーティングのような方法を利用して順次に各層を形成することができる。
【００２７】
前記色補正および近赤外線遮断層は８５０〜１２５０ｎｍ波長の近赤外線吸収機能を有する近赤外線遮蔽色素およびネオン波長遮断と色補正のための選択的吸光物質を含むことができる。前記近赤外線遮蔽色素の、例えば、ニッケル錯体系、フタロシアニン系、シアニン系、ジイモニウム系化合物およびこれらの混合物からなる群より選択された物質を含むことができる。また、前記ネオン波長遮断および色補正のための選択的吸光物質としてはアゾ系、スチリル系、シアニン系、アントラキノン系、テトラアザポピリン系化合物からなる群より選択された１種以上の物質を含むことができる。前記近赤外線遮断層と色補正層は前述した近赤外線吸収物質と選択的吸光物質を高分子樹脂および溶媒に混合し、下部にフィルムを含むガラス基板のような透明基材にコーティングすることによって製造することができる。
【００２８】
前記反射防止層は、低屈折率物質を含む低屈折層および高屈折率物質を含む高屈折層を含むことができる。前記低屈折単一層で形成したのは製造が容易であるが、多層積層に比べて反射防止性能が低下できる。前記低屈折率物質としてはフッ素系、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウムなどからなる群より選択された１種以上の物質を含むことができる。前記高屈折率物質としては、例えば、二酸化チタン、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛、アンチモン、酸化錫、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンなどの無機微粒子からなる群より選択された１種以上の物質を含むことができる。また、前記反射防止層は基材上にハードコーティング層を形成して、ハードコーティング層上に高屈折率物質を含むコーティング液と低屈折率物質を含むコーティング液とを交互にコーティングして形成することができる。
【００２９】
前記電磁波遮蔽部材は黒色導電性ペースト組成物を透明強化ガラス基板の錫面に印刷し焼成して形成することができ、好ましくは、前記ペースト組成物をオフセット（ｏｆｆｓｅｔ）印刷（特に、グラビアオフセット印刷）し焼成して形成することができる。
【００３０】
前記黒色導電性ペースト組成物は、アクリレート高分子樹脂およびモノマーまたはオリゴマー、溶剤、分散剤、ガラス粉末、導電性金属および黒色顔料を含む。
【００３１】
前記黒色導電性ペースト組成物において、アクリレート高分子樹脂としてはＭＡ（ｍｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、メチルアクリレート）、ＢＭ（ｂｕｔｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ブチルメタクリレート）、ＨＥＭＡ（ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ヒドロキシエチルメタクリレート）、ＭＭＡ（ｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、メチルメタクリレート）、アクリル酸エチル（ｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、ＥＡ）、エチルヘキシルアクリレート（ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ）、ノニルアクリレート（ｎｏｎｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ）およびこれらのメタクリレートからなる群より選択されたいずれか一つの重合体または二以上の共重合体が用いられる。好ましくは、前記アクリレート高分子樹脂として、ＭＡ（ｍｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、メチルアクリレート）、ＢＭ（ｂｕｔｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ブチルメタクリレート）、ＨＥＭＡ（ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ヒドロキシルメタクリレート）、およびＭＭＡ（ｍｅｔｈｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、メチルメタクリレート）が、［１０ないし３０］:［３０ないし６０］:［１０ないし２０］:［１０ないし２０］の重量比で共重合された共重合体が用いられる。ただし、前記アクリレート高分子樹脂がこれに限って用いられるのではなく、その他、電磁波遮蔽フィルター用導電性ペースト組成物に結合剤樹脂として使用可能であると知られた任意のアクリレート高分子樹脂を特別な制限なしに用いることができる。
【００３２】
かかるアクリレート高分子樹脂は、前記黒色導電性ペースト組成物の他の成分、つまり、ガラス粉末、導電性金属および黒色顔料などを均一に分散させて、前記黒色導電性ペースト組成物で形成された電磁波遮蔽フィルターが均一な電磁波遮蔽性能および光学的特性を現わすようにする役割をする。
【００３３】
前記アクリレート高分子樹脂は、重量平均分子量が５、０００ないし１００、０００であるのが好ましく、より好ましくは５、０００ないし６０、０００である。前記アクリレート高分子樹脂の重量平均分子量が５、０００未満である場合、高分子のガラス転移温度が低くて高分子の流動特性が増加するので、前記黒色導電性ペースト組成物の印刷工程（例えば、グラビアオフセット印刷工程）の際、グラビア溝からブランケットへのパターン伝達が難しくなり、１００、０００を超えれば高分子の過多な弾性特性によってグラビア溝への組成物の投入が難しくなる。
【００３４】
前記モノマーまたはオリゴマーはアクリレート系化合物、アルコキシルレート系化合物、ジメチルスルホキシドおよび不飽和ポリエステル系化合物からなる群から選択された１種以上を含むのが好ましい。
【００３５】
前記モノマーまたはオリゴマーの例をみると、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ブチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、エチルトリグリコールメタクリレート、ノニルアクリレート、ノニルメタクリレート、アクリル酸エチル、エチルメタクリレート、エチルヘキシルアクリレート、エチルヘキシルメタクリレート、ウレタンアクリレート、ラウリルアクリレート、オリゴエーテルアクリレート（Ｏｌｉｇｏｅｔｈｅｒ  ａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリエーテルアクリレート系化合物、ポリエステルアクリレート系化合物、シリコンアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレート変性カプロラクトン（Ｎｅｏｐｅｎｔｙｌｇｌｙｃｏｌ  ｈｙｄｒｏｘｙｐｉｖａｌａｔｅ  ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ  ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅ）、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート（Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ  ｔｒｉａｃｙｌａｔｅ）、トリメチロールプロパントリアクリレート変性エチレンオキシド（ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ＥＯ）、トリメチロールプロパントリアクリレート変性ポリプロピレンオキシド（ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ＰＯ）、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（Ｄｉｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ  ｈｅｘａａｃｒｙｌａｔｅ）変性カプロラクトン（ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅ）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールエトキシル化されたトリアクリレート（Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ  ｅｔｈｏｘｙｌａｔｅｄ  Ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ウレタンメタクリレート、ラウリルメタクリレート、オリゴエーテルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート系化合物、ポリエステルメタクリレート系化合物、シリコンメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、ペンタエリトリトールエトキシル化されたトリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ビスフェノールＡエトキシル化されたジメタクリレート（Ｂｉｓｐｈｅｎｏｌ  Ａ  ｅｔｈｏｘｙｌａｔｅｄ  Ｄｉｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、トリメチロールプロパンエトキシレート（４/１５  ＥＯ/ＯＨ）、トリメチロールプロパンエトキシレート（２０/３  ＥＯ/ＯＨ）、トリメチロールプロパンプロポキシレート（１  ＰＯ/ＯＨ）、ジメチルスルホキシドおよび不飽和ポリエステルからなる群か���選択された１種以上を含む。この時、前記ジメチルスルホキシドは一般に溶剤として用いられるが、本発明の場合、モノマー代替用として利用可能である。より好ましくは、前記モノマーまたはオリゴマーはウレタンアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート変性エチレンオキシド、トリメチロールプロパントリアクリレート変性プロピレンオキシドおよびビスフェノールＡエトキシル化されたジメタクリレートからなる群から１種以上選択されることができる。
【００３６】
また、前記モノマーまたはオリゴマーは前記した例に特に限定せず、オフセット工法で乾燥を防止し、ペーストの転移性を向上させることができ、電磁波遮蔽フィルター用導電性ペースト組成物に使用可能な任意のモノマーやオリゴマーも使用できる。
【００３７】
このようなモノマーまたはオリゴマーの含有量は、アクリレート高分子樹脂とモノマーまたはオリゴマーの総合計１００に対して、１０ないし９０重量部で含まれるのが望ましい。したがって、アクリレート高分子樹脂とモノマーまたはオリゴマーの重量比は１０:９０ないし９０:１０であることができる。この時、前記モノマーまたはオリゴマーの含有量が１０重量部未満であれば乾燥防止効果が減少し、ペースト組成物の乾燥速度が速くなるという問題があり、９０重量部を超えればペースト組成物の弾性が減少してパターンの広がり現象が深刻化したり印刷性が悪化して、自分の形状を有しない場合もある。
【００３８】
前記アクリレート高分子樹脂およびモノマーまたはオリゴマーの含有量は、全体ペースト組成物中に、５ないし１５重量部で含まれるのが望ましい。前記アクリレート高分子樹脂およびモノマーまたはオリゴマーの含有量が５重量部未満であればペースト組成物の弾性減少によって印刷工程時に問題が発生する可能性があり、１５重量部を超過すると前記ペースト組成物で形成されたパターンの電気抵抗が増加するという問題が発生することがある。
【００３９】
一方、前記黒色導電性ペースト組成物において溶剤は他の成分を溶解させるための媒質であって、全体ペースト組成物中に、５ないし１５重量部で含まれるのが望ましい。前記溶剤の含有量が５重量部未満であればペースト組成物の乾燥速度が速くなって、連続印刷を進行し難くなるという問題があり、１５重量部を超えればペースト組成物の粘度が低くなって印刷性が悪化するという問題がある。
【００４０】
このような溶剤としては、電磁波遮蔽フィルター用導電性ペースト組成物に使用可能であると知られた任意の溶剤を特別な制限なしに使用できるが、好ましくは、沸点が２００℃以上である高沸点溶剤の少なくとも１種以上と、沸点が２００℃未満である低沸点溶剤の少なくとも１種以上とを含むことができる。
【００４１】
前記高沸点溶剤および低沸点溶剤を共に含むことによって、前記ペースト組成物の粘度および流動性を望ましい水準に維持することができ、これによって、前記ペースト組成物をガラス基板に印刷する工程で前記ペースト組成物のパターンへの転移が容易になるだけでなく、パターンの広がり現象が抑制されてパターンの直進度がより向上することができる。
【００４２】
前記高沸点溶剤としては、例えば、ガンマブチロラクトン、ブチルカルビトールアセテート、カルビトール、メトキシメチルエーテルプロピオン酸塩およびテピノールからなる群から選択された１種以上の溶剤が使用でき、その他にも、２００℃以上の沸点を有しかつ電磁波遮蔽フィルター用導電性ペースト組成物に使用可能であると知られた任意の有機溶剤を用いることができる。
【００４３】
また、前記低沸点溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオン酸塩、エチルエーテルプロピオン酸塩、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトンおよび乳酸エチルからなる群から選択された１種以上の溶剤を用いることができ、その他、２００℃未満の沸点を有しかつ電磁波遮蔽フィルター用導電性ペースト組成物に使用可能であると知られた任意の有機溶剤を用いることができる。
【００４４】
そして、前記溶剤は高沸点溶剤の１２ないし８８重量％および低沸点溶剤の１２ないし８８重量％を含むことができる。万一、前記溶剤中に高沸点溶剤が１２重量％未満で含まれてしまい、低沸点溶剤の含有量が過度に増加して、前記ペースト組成物の流動性減少速度が過度に速くなり、パターンへの転移が容易にならないこともある。逆に、高沸点溶剤の含有量が８８重量％を超えて過度に増加すると、ペースト組成物の流動性抑制が困るようになることによってパターンの広がり現象が深刻化して、ペースト組成物の印刷を通して形成されたパターンの直進度が低下することができる。
【００４５】
一方、本発明の黒色導電性ペースト組成物において、前記ガラス粉末（ｇｌａｓｓ  ｐｏｗｄｅｒ）としては、Ｐｂ系およびＰｂ-ｆｒｅｅ系の粉末を用いることができるが、環境規制の側面でＰｂ系よりはＰｂ-ｆｒｅｅ系の粉末を利用して、有機物の除去温度およびガラス基板に対するパターン接着力の向上を考慮した方が望ましい。このようなＰｂ-ｆｒｅｅ系の粉末には、例えば、Ｂｉ２Ｏ３系ガラス粉末などのＢｉ系ガラス粉末がある。また、ガラス粉末の製造時、黒色または有色顔料を混入して製造された有色のガラス粉末や、Ｖ２Ｏ５のような有色成分を含有するガラス粉末と同様に望ましく使用することができる。
【００４６】
前記ガラス粉末の含有量は全体ペースト組成物中に、１ないし１０重量部、好ましくは２ないし７重量部にできる。前記ガラス粉末の含有量が１重量部未満であるとペースト組成物のガラス基板に対する接着力が弱化するという問題があり、１０重量部を超えるとペースト組成物で形成されたパターンの電気抵抗が高くなって電磁波遮蔽効率が低下するという問題がある。
【００４７】
また、前記黒色導電性ペースト組成物において、前記導電性金属としては電極用金属粉末が用いられるが、より具体的に、銀、銅、ニッケル、錫またはその合金などを単独または１種以上混合して使用することができる。
前記導電性金属の含有量は全体ペースト組成物の中に、５０重量部ないし９０重量部にした方が望ましい。前記導電性金属の含有量が９０重量部を超える場合、ペースト組成物の粘度が上昇し分散が難しくなって印刷特性が低下し、５０重量部未満である場合、ペースト組成物で形成されたパターンの電気抵抗の増加によって表示装置用電磁波遮蔽フィルターに求められる電磁波遮蔽性能が低下することがある。
【００４８】
また、前記導電性金属として使用される金属粉末は、好ましくは０．３〜３０μｍの平均粒子サイズを有することができ、より好ましくは０．５〜１０μｍの平均粒子サイズ、最も好ましくは０．５〜５μｍの平均粒子サイズを有することができる。万一、前記金属粉末が０．３μｍ未満の小さすぎる平均粒子サイズを有する場合、分散が難しくなり、ペースト組成物が高い粘度を有するかゲル化することがあるので、印刷特性が低下し、前記ペースト組成物の印刷を通して良好なパターンを形成し難い。また、前記金属粉末が３０μｍを超える大きすぎる平均粒子サイズを有する場合には、前記ペースト組成物を印刷して形成されたパターン内に前記金属粉末が均一に満たされず、これによって電磁波遮蔽フィルターが均一な電磁波遮蔽性能を示し難く、パターン内にホールなどが発生して望ましいパターンおよび電磁波遮蔽フィルターを形成し難い。これと違って、前記金属粉末が０．３〜３０μｍの平均粒子サイズ、より好ましくは０．５〜１０μｍの平均粒子サイズ、最も好ましくは０．５〜５μｍの平均粒子サイズを有する場合には、前記ペースト組成物の印刷特性および電磁波遮蔽性能をさらに向上させることができ、前記パターン内にホールが発生することを防止できることもある。
【００４９】
一方、前記黒色導電性ペースト組成物で、前記黒色顔料は表示装置の外光反射の減少およびコントラスト向上のために使用されるものであって、コバルト、銅、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロムまたは鉄系の化合物を含むことができ、好ましくは、コバルト系の化合物を含むことができる。また、前記黒色顔料は前記コバルト系の化合物に加えて、黒度向上などのために銅、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロムまたは鉄のような補助顔料が混入した形態で用いた方がより望ましい。
【００５０】
前記黒色顔料の含有量は、全体ペースト組成物の中に１ないし１０重量部、好ましくは２ないし７重量部で含むことができる。前記黒色顔料の含有量が１重量部未満である場合、十分なコントラスト向上を期待できず、１０重量部を超過すると電気抵抗が高くなって電磁波遮蔽特性が悪化することがある。
【００５１】
また、前記黒色導電性ペースト組成物は必要に応じて分散剤をさらに含むことができる。前記分散剤は、当業系で広く知られたり商業的に入手可能な重合体を特別な制限なしに用いられる。前記分散剤の含有量は、全体ペースト組成物の中に０．０５重量部ないし１．０重量部で含むのが望ましい。前記分散剤の含有量が０．０５重量部未満である場合、十分な分散性およびコントラスト向上を期待できず、１．０重量部を超過すると電気抵抗が高くなって電磁波遮蔽特性が悪化することがある。
【００５２】
また、前記電磁波遮蔽部材は、ｉ）一方向に延長された一つ以上の第１遮蔽部、およびｉｉ）第１遮蔽部と交差する一つ以上の第２遮蔽部を含むことができる。この時、第１遮蔽部の幅は０より大きく５０μｍ以下であることができ、好ましくは１５μｍ乃至３０μｍであることができる。そして、前記一つ以上の第１遮蔽部は複数の第１遮蔽部を含むことができ、これら複数の第１遮蔽部の平均ピッチは０より大きく５００μｍ以下であることができる。好ましくは、前記複数の第１遮蔽部の平均ピッチは２００μｍ乃至４００μｍであることができる。
【００５３】
また、第１遮蔽部および第２遮蔽部が交差して作る角は６０°乃至１２０°であることができ、好ましくは８０°乃至１００°であることができる。最も好ましくは、前記第１遮蔽部および第２遮蔽部が交差して作る角は実質的に９０°であることができる。
【００５４】
そして、第１遮蔽部とガラス基板の一辺がなす角は２０°乃至７０°であることができ、好ましくは３５°乃至５５°であることができる。
【００５５】
また、前記電磁波遮蔽部材は多角形状の開口部を有することができ、開口部は面取りされることができる。多角形を形成する全ての辺の長さは実質的に同一であることができ、さらには、前記多角形は実質的に正四角形であることができる。
【００５６】
そして、前記電磁波遮蔽部材は導電性金属を含むことができる。導電性金属は銀、銅、錫およびニッケルを含む群から選択された一つ以上の金属であることができる。
【００５７】
また、前述した電磁波遮蔽用フィルターは前記透明強化ガラス基板の周縁に沿って形成されたエッジ層をさらに含むことができる。このようなエッジ層上に電磁波遮蔽部材が形成されることができる。この時、前記電磁波遮蔽用フィルターは電磁波遮蔽部材の端部に連結されて電磁波遮蔽部材を接地させるための接地部材をさらに含むことができる。
【００５８】
一方、本発明は前述したペースト組成物を用いて形成される表示装置を提供する。
このような表示装置はｉ）前記透明強化ガラス基板、ｉｉ）前記透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ形態に形成された電磁波遮蔽部材、およびｉｉｉ）画像を表示し、ガラス基板に対向する表示パネルを含む。この時、前記電磁波遮蔽部材は前記表示パネルから放出される電磁波を遮蔽するように適用され、黒色導電性ペースト組成物を透明強化ガラス基板の錫面上にオフセット印刷し焼成して形成される。
【００５９】
前記表示装置で、表示パネルは、ｉ）相互対向する第１基板と第２基板、およびｉｉ）第１基板および第２基板の間に位置する黒色層を含むことができる。この時、前記電磁波遮蔽部材が黒色層と立体交差することができる。また、前記電磁波遮蔽部材は第２基板に接することができる。そして、前記電磁波遮蔽部材が形成された透明強化ガラス基板の厚さは、第１基板の厚さ以上であることができる。また、電磁波遮蔽部材は多角形状の開口部を有することができ、開口部は面取りされることができる。多角形を形成する全ての辺の長さは実質的に同一であることができ、さらには、前記多角形は実質的に正四角形であることができる。
【００６０】
前記電磁波遮蔽部材は、前記ペースト組成物を透明強化ガラス基板の錫面上にオフセット印刷（特に、グラビアオフセット印刷）し焼成して形成することができる。また、前記電磁波遮蔽部材は、ｉ）一方向に延長された一つ以上の第１遮蔽部、およびｉｉ）第１遮蔽部と交差する一つ以上の第２遮蔽部を含むことができる。この時、第１遮蔽部の幅は０より大きく５０μｍ以下であることができ、好ましくは、１５μｍ乃至３０μｍである。そして、一つ以上の第１遮蔽部は複数の第１遮蔽部を含むことができ、これら複数の第１遮蔽部の平均ピッチは０より大きく５００μｍ以下であることができる。好ましくは、前記複数の第１遮蔽部の平均ピッチは２００μｍ乃至４００μｍである。
【００６１】
そして、第１遮蔽部および第２遮蔽部が交差しながらなす角は６０°乃至１２０°であることができ、好ましくは８０°乃至１００°である。最も好ましくは、前記第１遮蔽部および第２遮蔽部が交差しながらなす角は実質的に９０°である。
【００６２】
また、第１遮蔽部と透明強化ガラス基板の一辺がなす角は２０°乃至７０°であることができ、好ましくは３５°乃至５５°である。
【００６３】
そして、前記表示パネルはプラズマディスプレイパネルであることができる。
【発明の効果】
【００６４】
前述のように、本発明はオフセット印刷工程を通して、電磁波遮蔽フィルターを製造する工程で透明強化ガラス基板の錫面上に前記ペースト組成物を印刷して、錫面と電磁波遮蔽部材中の導電性金属の適切な黄変現象によって、外光反射減少効果および黒度向上効果をはかることができ、また最終製品で印刷層が外気に露出しても耐湿性の問題を最少化できる。
【００６５】
したがって、本発明はメッシュパターンの形態、線幅および厚さが均一で品質に優れた電磁波遮蔽フィルターを提供することができる。また、このような電磁波遮蔽フィルターは表示装置に適用されて、外形特性をさらに向上させることができる。
【００６６】
また、本発明は他の工程に比べて製造工程が簡単でかつ廉価のオフセット印刷方法を利用して、連続工程で電磁波遮蔽用フィルターを製造することができる。
【００６７】
また、前述した外形品質に優れた電磁波遮蔽用フィルターを備えた表示装置を製造する場合、表示装置の電磁波遮蔽効果を最大化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１ａ】従来の電磁波遮蔽用フィルターの製造工程の概略的な工程図である。
【図１ｂ】図１ａの方法で形成されたＣｕメッシュパターンを示す電子顕微鏡写真である。
【図２】本発明の一実施例による電磁波遮蔽用フィルターの概略的な斜視図である。
【図３】図２のＩＩ-ＩＩ線に沿って切断した部分断面図である。
【図４】図２の電磁波遮蔽用フィルターの製造方法を示す概略的な図である。
【図５】前記方法で製造された本発明による電磁波遮蔽フィルターの構成図を示す断面図である。
【図６】本発明による電磁波遮蔽フィルターのメッシュパターンを示す電子顕微鏡写真でる。
【図７】図２の電磁波遮蔽用フィルターを備えた表示装置の概略的な斜視図である。
【図８】図４のＶ-Ｖ線に沿って切断した部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００６９】
以下、添付図面を参照して、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者が容易に実施できるように前記電磁波遮蔽用フィルターおよび表示装置を説明する。本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者が容易に理解できるように、後述する実施例は本発明を単に例示するためであり、本発明の概念および範囲を逸脱しない限度内で多様な形態で変更できる。できる限り、同一または類似の部分については同一符号を付ける。
【００７０】
以下で使用される技術用語および科学用語を含むすべての用語は、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者が一般に理解する意味と同一の意味を有する。辞典に定義された用語は、関連技術文献と現在開示された内容に符合する意味を有するものであると追加解釈され、定義されない限り理想的であるか非常に公式的な意味で解釈されることはない。
【００７１】
第１、第２および第３などの用語は多様な部分、成分、領域、層および/またはセクション等を説明するために用いられるが、これらに限定されることはないことを理解できる。これらの用語はある部分、成分、領域またはセクションを他の部分、成分、領域またはセクションと区別するためにだけ用いられる。したがって、後述する第１部分、成分、領域、層またはセクションは本発明の範囲を逸脱しない範囲内で第２部分、成分、領域、層またはセクションに言及されることができる。
【００７２】
図２は、本発明の一実施例による電磁波遮蔽用フィルター１００を概略的に示すものである。図２の拡大円には電磁波遮蔽用フィルター１００の内部を拡大して示す。
【００７３】
図２に示すように、電磁波遮蔽用フィルター１００は最上部に光学機能層である反射防止層６０が配置され、色補正および近赤外線遮断層５０が透明強化ガラス基板２０の空気面（Ａｉｒ面）に配置されて、光学機能層が外気に露出する構造を有する。また、図示していないが、下部に色補正および近赤外線遮断層と反射防止層を有する透明強化ガラス基板２０の上部には錫面（ｔｉｎ面）を含む。また、前記錫面の上に電磁波遮蔽部材１０、エッジ層３０、および接地部材４０を含み、パネル部に向かっている。本発明は、前記電磁波遮蔽部材１０をオフセット印刷（特に、グラビアオフセット印刷）方法で形成するために前述した透明強化ガラス基板２０を使用する。透明強化ガラス基板２０の長辺はｘ軸に並んでおり、短辺はｙ軸に並んでいる。
【００７４】
電磁波遮蔽部材１０は接地部材４０と連結して接地される。したがって、前記電磁波遮蔽部材１０は電磁波を吸収して除去することができる。その結果、電磁波遮蔽部材１０は電磁波を遮蔽するフィルターとして機能する。エッジ層３０は透明強化ガラス基板２０の周縁に沿って形成され、接地部材４０は電磁波遮蔽部材１０を接地させるために透明強化ガラス基板２０のｘ軸方向の両端に位置する。また、印刷層である電磁波遮蔽部材１０が形成された透明強化ガラス基板の反対面に色補正および近赤外線遮断層５０および反射防止層６０の光学機能層が順次形成される。
【００７５】
図２の拡大円に示すように、電磁波遮蔽部材１０はメッシュ形態に形成される。電磁波遮蔽用フィルター１００は主に表示装置に用いられる。したがって、表示装置から射出する画像を外部に表示するように電磁波遮蔽部材１０をメッシュ形態に形成する。電磁波遮蔽部材１０は開口部１０９を有するので、開口部１０９を通じて画像を通過させながら、電磁波を遮断することができる。
【００７６】
電磁波遮蔽部材１０は、第１遮蔽部１０１および第２遮蔽部１０３を含む。第１遮蔽部１０１はｘ軸方向に延長しており、第２遮蔽部１０３と交差する。つまり、図１の拡大円に示すように、第１遮蔽部１０１および第２遮蔽部１０３は互いに会合して角α１を形成する。角α１は６０°乃至１２０°であることができる。角α１が大きすぎるか小さすぎる場合、第１遮蔽部１０１および第２遮蔽部１０３の間の距離が近くなりすぎて、開口率が小さくなりすぎることがある。より好ましくは、角α１は８０°乃至１００°であることができる。この場合、第１遮蔽部１０１および第２遮蔽部１０３の間の距離を適切に維持できる。また、角α１が実質的に９０°であれば最も望ましい。
【００７７】
電磁波遮蔽用フィルターの製造方法は、ｉ）メッシュ形態の溝が形成されたグラビアロール（ｇｒａｖｕｒｅ  ｒｏｌｌ）を提供する段階、ｉｉ）前記溝に黒色導電性ペースト組成物を充填する段階、ｉｉｉ）前記グラビアロールと対向し、前記グラビアロールの回転方向と反対方向に回転するブランケットロール（ｂｌａｎｋｅｔ  ｒｏｌｌ）を提供する段階、ｉｖ）前記グラビアロールを回転させながら前記ブランケットロールに前記導電性ペースト組成物を転移させる段階、ｖ）透明強化ガラス基板を提供する段階、ｖｉ）前記ブランケットロールが前記透明強化ガラス基板上に移動しながら前記導電性ペースト組成物を前記透明強化ガラス基板の錫面上に塗布する段階、およびｖｉｉ）前記導電性ペースト組成物を焼成して前記透明強化ガラス基板の錫面上に電磁波を遮蔽する単一層からなる遮蔽部材を形成する段階を含むことができる。
【００７８】
この時、基板は印刷前に通常の洗浄装置を通して水で洗浄する。
【００７９】
前記透明強化ガラス基板は、前述のようにフロート工法で製造された板ガラスを強化して製作されたものであって、本発明では錫面（ｔｉｎ面）と空気面（Ａｉｒ面）とに区分して印刷する。
【００８０】
本発明の実施例では、メッシュ形態の電磁波遮蔽部材１０を形成するためにメッシュ形態の溝５５１（図４に図示）が斜線方向に形成されたグラビアロール５５（図４に図示）を使用する。もし、溝５５１が斜線方向に形成されずグラビアロール５５の回転方向と直交する場合、溝５５１に収容された電磁波遮蔽部材１０の原料であるペースト組成物１０ａ（図４に図示）が溝５５１からよく離れていない。つまり、ペースト組成物１０ａがグラビアロール５５の回転力の影響をよく受けないので、ペースト組成物１０ａをグラビアロール５５から落とすことが容易でない。
【００８１】
反面、グラビアロール５５の回転方向と溝５５１が延長された方向とが一致する場合、グラビアロール５５の回転力によって、ペースト組成物１０ａが溝５５１からよく離れることができる。したがって、溝５５１をグラビアロール５５の回転方向と一致する方向に形成する場合、均一な大きさの開口部１０９を有する電磁波遮蔽部材１０を形成することができる。
【００８２】
より具体的に、グラビアロールの回転方向と一致する方向にだけ溝を形成する場合、メッシュ形態の遮蔽部材を形成するのは不可能である。つまり、メッシュ形態は長方形状を有することができるが、グラビアロールの回転方向と直交する方向にも溝を形成しなければならないので、ペースト組成物をブランケットロールに移転し難い。
【００８３】
図２の拡大円に示すように、前述した方法を利用して電磁波遮蔽部材１０を透明強化ガラス基板２０の錫面上に形成する場合、第１遮蔽部１０１はｘ軸方向と一定の角度α２を形成する。ここで、角度α２はグラビアロールおよびブランケットロールが会合して形成する接線と前記第１溝部がなす角であって、２０°乃至７０°であることができる。角α２が小さすぎるか大きすぎる場合、第１遮蔽部１０１および第２遮蔽部１０３が密集して電磁波遮蔽効果が低下することもある。また、電磁波遮蔽用フィルター１００が表示装置２００（図７に図示）に用いられる場合、表示装置２００の黒色層６５１と重なりながらモアレ形状を起こすことができる。より詳しくは、角α２は３５°乃至５５°であってもよい。
【００８４】
図２の拡大円に示すように、電磁波遮蔽部材１０の幅Ｗを小さく形成して開口部１０９の面積を最大化することにより、画像の解像度を高くできる。このため、電磁波遮蔽部材１０の幅Ｗは０より大きく５０μｍ以下にすることができる。この場合、肉眼では電磁波遮蔽部材１０を観察できない。電磁波遮蔽部材１０の幅Ｗが大きすぎる場合、開口部１０９の大きさが小さくなって、画像の解像度が低くなる。より詳しくは、電磁波遮蔽部材１０の幅Ｗは、１５μｍ乃至３０μｍである方が好ましい。
【００８５】
一方、電磁波遮蔽部材１０の平均ピッチＰは０より大きく５００μｍ以下になるようにすることができる。電磁波遮蔽部材１０の平均ピッチＰが大きすぎる場合、電磁波遮蔽部材１０が密に形成されないので、電磁波が吸収されず外部に放出されることがある。その結果、電磁波遮蔽効果が低下する。より詳しくは、遮蔽部材１０の平均ピッチＰは２００μｍ乃至４００μｍであることが好ましい。
【００８６】
電磁波遮蔽部材１０は電磁波遮蔽効果を最大化するために導電性金属を含むことができる。導電性金属は電磁波遮蔽用フィルター１００を通過する電磁波を捕集することができるので、電磁波遮蔽効果が優れている。導電性金属としては銀、銅、ニッケル、錫またはこれらの合金を用いられる。このような導電性金属は電気伝導度が優れているので、電磁波を効率的に遮蔽することができる。
【００８７】
図３には図２のＩＩ-ＩＩ線に沿って切断した電磁波遮蔽用フィルター１００の断面構造を部分的に示す。
【００８８】
図３に示すように、電磁波遮蔽部材１０は透明強化ガラス基板２０の上部に錫面（ｔｉｎ面）２３を有し、下部には空気面（ａｉｒ面）２５を有し、錫面２３の上部および前記錫面上部の周縁に形成されたエッジ層３０の上に形成する。エッジ層３０は黒色セラミックを含むので、電磁波遮蔽用フィルター１００の外形を向上させることができる。また、エッジ層３０は接地部材４０を電磁波遮蔽部材１０に効率的に連結することができる。エッジ層３０の厚さは、約１５μｍ乃至２０μｍであることができる。接地部材４０は透明強化ガラス基板２０の錫面２３の上部および前記錫面２３の上部に形成されたエッジ層３０の上にペースト組成物をオフセット方法で印刷して電磁波遮蔽部材１０を形成した後、その上に前記接地部材４０を形成する。接地部材４０としては導電膜テープが用いられる。その後、空気面２５の下部には色補正および近赤外線遮断層５０および反射防止層６０を形成する。
【００８９】
図４には、図２の電磁波遮蔽用フィルター１００を製造する過程を概略的に示す。オフセット印刷装置５００を利用して、電磁波遮蔽用フィルター１００を製造することができる。以下、オフセット印刷方法について詳細に説明する。
【００９０】
図４に示すように、オフセット印刷装置５００はディスペンサ（ｄｉｓｐｅｎｓｅｒ）５１、ドクター（ｄｏｃｔｏｒ）５３、グラビアロール５５およびブランケットロール５７を含む。オフセット印刷方法はオフセット印刷装置５００を利用したものであって、オフ（ｏｆｆ）工程およびセット（ｓｅｔ）工程を含む。オフ工程ではグラビアロール５５からペースト組成物１０ａを引き離す。セット工程では引き離したペースト組成物１０ａを基板２０の上に塗布する。ディスペンサ５１は予め設定された時間間隔でペースト組成物１０ａを吐き出す。ディスペンサ５１から吐き出されたペースト組成物１０ａはグラビアロール５５に形成された溝５５１に収容される。ペースト組成物１０ａは、すでに前述のように、弾性を有する有機物、導電性金属、溶剤、結合剤および所定の分散剤などを含むことができる。溶剤としては、沸点が２００℃以上である有機溶剤および２００℃未満である有機溶剤と共に用いることができ、結合剤としては、ガラス粉末、つまり、ガラスフリット（ｇｌａｓｓ  ｆｒｉｔ）が用いられる。有機物としては、通常のアクリレート樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、オリゴマーおよびモノマーなどを含むことができる。溶剤および有機物は基板２０を焼成する工程で除去できる。ペースト組成物１０ａは黒色顔料および所定の分散剤をさらに含む。
【００９１】
溝５５１に収容されたペースト組成物１０ａの量が多いので、ペースト組成物５０ａは溝５５１の外部にオーバーフロー（ｏｖｅｒｆｌｏｗ）させることができる。したがって、グラビアロール５５を矢印方向（反時計方向）に回転させながら、ドクター５３によってオーバーフローされたペースト組成物１０ａを除去する。ドクター５３はグラビアロール５５の外表面に接しているので、溝５５１の外部にオーバーフローされたペースト組成物１０ａを効率的に除去することができる。したがって、グラビアロール５５の溝５５１にペースト組成物１０ａがオーバーフローされないようにしながら適切に満たされる。
【００９２】
ブランケットロール５７はグラビアロール５５に対向して位置する。ブランケットロール５７はグラビアロール５５の回転方向と反対方向（時計方向）に回転する。その結果、溝５５１に収容されたペースト組成物１０ａはグラビアロール５５がブランケットロール５７と会合しながらブランケットロール５７の上に転移する。したがって、ブランケットロール５７の外表面にペースト組成物１０ａが付着する。
【００９３】
ブランケットロール５７は矢印方向に前述した透明強化ガラス基板２０の上を移動しながらペースト組成物１０ａを透明強化ガラス基板２０の上に塗布する。透明強化ガラス基板２０は洗浄されて準備される。これによって、電磁波遮蔽部材１０（図２に図示）を形成するためのメッシュ形態のペースト組成物１０ａを透明強化ガラス基板２０の錫面上に形成する。この時、透明強化ガラス基板はフロート工法で製造された板ガラスを強化して製作されたものであって、本発明では錫面と空気面とに区分して錫面にペースト組成物を印刷することであり、図面では便宜上、ガラス基板２０上の錫面は示していない。このような印刷を通してフィルター最終製品で印刷層は外気に露出することになり、前記印刷層は表示素子のパネル部に向かうことになる。
【００９４】
次に、基板２０を加熱炉（図示省略）に入れて加熱することによって、ペースト組成物１０ａに含まれた溶剤や有機物を除去する。このような焼成工程前にペースト組成物１０ａを乾燥することができる。また、透明強化ガラス基板２０を加熱して溶剤や有機物を除去することによって、電磁波遮蔽部材を直接形成することができる。つまり、ペースト組成物１０ａをエッチングするなどの別途の工程を行わず、すぐ電磁波遮蔽用フィルターを直ちに製造する。したがって、本発明は工程が簡単であるので、電磁波遮蔽用フィルターの製造原価を節減できる。
【００９５】
また、焼成工程で温度は５００ないし５４０℃であるのが好ましく、焼成の際、１０ないし３０分間の基板を前記温度で保持（ｈｏｌｄｉｎｇ）した後、徐々に冷却する。この時、前記焼成温度が高温であるほど強化ガラス基板の強化焼鈍が大きくなって、耐衝撃性が弱くなるので、焼成を低くするほど有利である。また、焼成温度が高くなるほど電磁波遮蔽部材中の導電性金属粒子が錫層と反応して移動（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）の程度が激しくなって、黄変（ｙｅｌｌｏｗｄｉｓｈ）が大きくなる。つまり、焼成温度が非常に高温であれば、黄変の程度が激しくなって、フィルターの製品化の際、色補正が難しくなるという問題が発生するので、黄変を減らすためには温度を適正な範囲に下げる必要がある。したがって、本発明は錫面の印刷時、焼成温度を前記のような適正な範囲に調節することによって、抵抗値および光学特性を適切に調節することができる。
【００９６】
本発明でオフセット印刷方法の他の内容は本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者が容易に理解できるので、その詳細な説明を省略する。
【００９７】
オフセット印刷方法の代わりにフォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）方法を用いて電磁波遮蔽用フィルターを製造する場合、まず、銅箔を樹脂フィルムに接着する。次に、ドライフィルムレジストを銅箔の上に積層し、パターンを形成するために露光、現像、エッチングおよび剥離工程などを実施する。したがって、製造工程が複雑で、生産性が良くない。
【００９８】
また、本発明は電磁波フィルターとしての役割のために印刷層の反対面に色補正および近赤外線遮断層５０および反射防止層６０を積層形成し、この時、その形成方法は、通常の方法によって行われるので、その詳細な説明は省略する。
【００９９】
図５は、前記方法で製造された本発明による電磁波遮蔽フィルターの構成図を示す断面図である。図６は、本発明による電磁波遮蔽フィルターのメッシュパターンを示す電子顕微鏡写真である。
【０１００】
図５に示されているように、本発明の電磁波遮蔽フィルターは透明強化ガラス基板２０に錫面２３と空気面２５とに区分し、前記錫面２３の上にペースト組成物１０ａが形成され、前記ガラス基板２０の下部には空気面２５を保護し、フィルターとしての機能のために光学機能層である色補正および近赤外線遮断層５０と反射防止層６０とが形成される。本発明では錫面に印刷されたガラス基板を直ちに提供するので、光学機能層らを除いて比較した時、従来のＣｕメッシュのようなフィルムメッシュと違ってＰＥＴフィルムと粘着層が除外された構造が可能になることによって、光学特性（透明性）の向上および構造の単純化をなして、工程の単純化がなされる。また、本発明の印刷フィルターはパネルに適用の際、印刷層がパネル部に向かい、フィルム層５０、６０は外部に露出した構造を有する。
【０１０１】
反面、メッキ方法を用いて電磁波遮蔽用フィルターを製造する場合、パターンを樹脂フィルムに形成し、銅をメッキして所望の電気伝導度を得なければならない。しかしながら、メッキ中に発生する廃液が環境汚染を起こす。
【０１０２】
前述したフォトリソグラフィ方法がやメッキ方法は基板上に直接パターンを形成することができない。例えば、メッキ方法は母材をロール形態に巻いてメッキ浴に浸漬して実施するが、基板はロール形態に巻くことができないので、基板をメッキして電磁波遮蔽部材を形成するのは不可能である。また、基板を用いる場合、パターンを基板に接着しなければならないので、工程が複雑である。オフセット印刷方法は前述した問題点を解決することができる。つまり、オフセット印刷方法では透明強化ガラス基板２０の錫面の上にすぐ電磁波遮蔽部材１０を形成するので、工程が単純化されて製造費用を節減することができる。また、オフセット印刷方法では有害物質が排出されないので、公害をもたらさない。
【０１０３】
図７には、図２の電磁波遮蔽用フィルター１００を備えた表示装置２００を概略的に示す。図７の拡大円にはｚ軸方向からみた表示装置２００を拡大して示す。
【０１０４】
図７に示すように、固定部材１１０を利用して電磁波遮蔽用フィルター１００を表示パネル６００（図８に図示）の上に固定させる。したがって、電磁波遮蔽用フィルター１００を表示装置２００の内部に安定的に受納することができる。
【０１０５】
図７の拡大円に示すように、電磁波遮蔽部材１０は表示パネル６００（図８に図示）に含まれた黒色層６５１の上に位置する。また、前記黒色層６５１は表示パネルの第１基板６１０および第２基板６２０の間に位置する。そして、図７の拡大円には示していないが、電磁波遮蔽部材１０および黒色層６５１の間には第２基板６２０（図８に図示）が位置し、前記電磁波遮蔽部材１０の上にガラス部材２０（図８に図示）が位置する。
【０１０６】
電磁波遮蔽部材１０は表示パネル６００から放出される電磁波を遮蔽する。
【０１０７】
図７の拡大円に示すように、電磁波遮蔽部材１０はひし形状の開口部１０９を有する。図７には示していないが、電磁波遮蔽部材１０は実質的に正四角形であることが好ましい。この場合、電磁波遮蔽部材１０の形状を最適化して、電磁波遮蔽効果を最大化することができる。
【０１０８】
開口部１０９を形成する四つの辺の長さは実質的に同一である。四つの辺の長さが実質的に同一であるので、電磁波遮蔽部材１０の形状が規則的である。その結果、開口部１０９を通じて射出する光の強さが均一であるので、均一な画像を表示することができる。一方、図７の拡大円には開口部１０９をひし形状に示しているが、これは、単に本発明を例示するためであり、本発明がここに限定されるものではない。したがって、開口部１０９は多角形状であればできる。
【０１０９】
電磁波遮蔽部材１０は、互いに交差する遮蔽部によってオフセット印刷方法で形成される。したがって、複数の遮蔽部が互いに会合する交差部では電磁波遮蔽部材１０の幅が若干厚くなる。その結果、開口部１０９が面取りされた形状を有する。つまり、電磁波遮蔽部材１０の交差部で電磁波遮蔽部材１０の幅が若干大きくなるので、開口部１０９はその隅がなくなった形状を有する。このような開口部１０９の形状によって電磁波遮蔽部材１０が切れずに連続形成されるので、電磁波遮蔽部材１０の全面にわたって電磁波を遮蔽することができる。
【０１１０】
図７の拡大円に示すように、電磁波遮蔽部材１０は黒色層６５１と立体交差しながら形成される。したがって、画像が曇る現象を防止することができる。さらに、電磁波遮蔽部材１０は肉眼では認識し難いほど微細な幅を有するので、画像品質にほとんど影響を与えない。したがって、図７の拡大円に示すように、電磁波遮蔽部材１０が黒色層６５１の上に位置しても高い解像度を有する画像を表示することができる。
【０１１１】
図８には、図７のＶ-Ｖ線に沿って切断した断面を部分的に示す。
【０１１２】
図８に表示パネル６００としてプラズマ表示パネルを示す。図８に示しているプラズマ表示パネルは、単に本発明を例示するためであり、本発明がここに限定されるものではない。したがって、電磁波遮蔽用フィルターが必要な他の表示パネルも用いられる。
【０１１３】
表示パネル６００は第１基板６１０、第２基板６２０、表示電極６８０、アドレス電極６４０、隔壁６６０、蛍光体層６７０、誘電体層６３０、保護膜６３５および黒色層６５１を含む。表示パネル６００の内部は放電ガスで充填されている。第１基板６１０および第２基板６２０は相互対向する。隔壁６６０は多数の放電セルを形成し、放電セルの内部には蛍光体層が形成されている。誘電体層６３０は、電子からアドレス電極６４０および表示電極６８０を保護する。保護膜６３５は、上部に位置した誘電体層６３０を保護する。
【０１１４】
アドレス電極６４０および表示電極６８０に電圧が印加される場合、アドレス電極６４０および表示電極６８０の間に放電が起こる。放電によって生成された紫外線が蛍光体層６７０に衝突して、蛍光体層６７０から可視光線が射出する。一方、明暗比を向上させるために隔壁６６０の上には黒色層６５１を形成する。黒色層６５１は、第１基板６１０および第２基板６２０の間に位置する。黒色層６５１は光が射出しない隔壁６６０の上に形成されるので、蛍光体層６７０から射出する光の損失を減らすことができる。より具体的に、黒色層６５１は図８に示されているように、隔壁６６０の上に接するように形成されたり、他の例として、隔壁６６０上の誘電体層６３０上に形成されることもできる。
【０１１５】
図８に示すように、電磁波遮蔽用フィルター１００は表示パネル６００の上に位置する。したがって、電磁波遮蔽用フィルター１００は表示パネル６００から放出される電磁波を遮蔽することができる。電磁波遮蔽部材１０は第２基板６２０に向かうので、外部に露出しない。したがって、電磁波遮蔽部材１０が損傷されることを防止でき、電磁波遮蔽部材１０による外形低下を防止することができる。また、色補正および近赤外線遮断層５０と反射防止層６０を含む光学機能層だけ外部に露出する。
【０１１６】
一方、第１基板６１０および第２基板６２０の厚さが薄い場合、表示パネル６００が外部衝撃に弱い。したがって、基板２０を含む電磁波遮蔽用フィルター１００を用いて表示装置２００の強度を補強する。つまり、電磁波遮蔽用フィルター１００の厚さが表示装置２００の厚さに含まれるので、表示装置２００が厚くなって外部衝撃に非常に強い。例えば、基板２０の厚さｔ２０を第２基板６２０の厚さｔ６２０より厚く形成することによって、電磁波遮蔽用フィルター１００によって表示装置２００の耐久性を向上させることができる。
【０１１７】
以下、実験例を通して本発明をより詳細に説明する。かかる実験例は単に本発明を例示するためであり、本発明がここに限定されるものではない。
【０１１８】
製造例
【０１１９】
以下のような組成と含有量でアクリレート高分子樹脂に溶剤、ガラス粉末、導電性金属、黒色顔料および分散剤を常温で攪拌し、最終的に３-ロールミルを用いて、所望するグラビアオフセット印刷用黒色導電性ペースト組成物を製造した。
【０１２０】
６６．７:３３．３の重量比で混合されたアクリレート高分子樹脂およびモノマー６重量％、ブチルカビトールアセテート（ｂｕｔｙｌｃａｔｂｉｔｏｌ  ａｃｅｔａｔｅ、ＢＣＡ）７重量％、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル２．２重量％、分散剤０．３ｗｔ％、導電性金属７５重量％、黒色粉末５．５重量％およびガラス粉末４重量％を含む黒色導電性ペーストを製造した。
【０１２１】
ここで、アクリレート高分子樹脂は重量平均分子量１５,０００であって、ＭＡ（ｍｅｔｈｙｌａｃｒｙｌａｔｅ、メチルアクリレート）、ＢＭ（ｂｕｔｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ブチルメタクリレート）、ＨＥＭＡ（ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ヒドロキシエチルメタクリレート）、およびＭＭＡ（ｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、メチルメタクリレート）が、それぞれ３０:４０:１０:２０の重量比で共重合されたものである。
【０１２２】
また、モノマーはトリメチロールプロパントリアクリレート変性エチレンオキシドである。
【０１２３】
また、分散剤は塩基顔料親和グループを含むブロック共重合体はＢＹＫ社製ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ-２０５０である。導電性金属は球状の銀粉末であり、平均粒子の大きさは１．５μｍである。黒色顔料はＣｏである。ガラス粉末はＢｉ２Ｏ３系ガラス粉末を用いた。
【０１２４】
実施例
（電磁波遮蔽フィルターの形成）
【０１２５】
前記製造例で製造されたペースト組成物を利用して、電磁波遮蔽フィルター用として用いられるパターン規格に合うようにグラビアオフセット印刷を行った。
【０１２６】
つまり、図４に示すオフセット印刷装置と同一のオフセット印刷装置を用いて、ペースト組成物を透明強化ガラス基板の錫面上にメッシュ形態で印刷した。この時、前記メッシュ形態パターンの線幅は２５μｍであり、パターン規格ピッチは２７０μｍであった。
【０１２７】
次に、焼成工程で前記透明強化ガラス基板の錫面に形成されたペースト組成物を５００〜５４０℃で２０分間維持して、電磁波遮蔽フィルター用メッシュパターンを形成した。
【０１２８】
比較例
（電磁波遮蔽フィルターの形成）
【０１２９】
実施例と同一の組成物を利用して、透明強化ガラス基板の空気面の上にメッシュパターンを形成し、同一の温度で焼成工程を行って電磁波遮蔽フィルター用メッシュパターンを形成した。
【０１３０】
実験例
（電磁波遮蔽フィルターの特性評価）
【０１３１】
実施例および比較例の電磁波遮蔽フィルターの黒度および黄変などの光学値を以下の基準に比較評価し、その結果を下記の表１に表す。それぞれの基板面に応じた光学値差テストは総６ロットに実施し、各ロット当たり３０回ずつ印刷して平均した。また、実施例および比較例の電磁波遮蔽メッシュ印刷物の耐久性を評価し、評価基準は、以下のようである。
【０１３２】
（光学特性評価基準）
白色光源条件で電磁波遮蔽メッシュが印刷/焼成した透明強化ガラス基板の印刷面の反対面に接触してＤ６５光源を照射して、黒度（Ｌ）、黄変（ｂ）、全体反射（ＳＣＩ  Ｙ）、拡散反射（ＳＣＥ  Ｙ）値を、１サンプル当たりそれぞれ３ポイントを測定し、ロット当たり３０個（総６ロット）にして平均した。この時、測定に使用された装備は分光測色計（モデル名ミノルタＣＭ２６００ｄ）であった。
【０１３３】
（耐湿性評価基準）
形成されたメッシュパターン基板の印刷反対面に保護フィルムを付着して、恒温抗湿条件で放置し、光学値変化および外形変化は保護フィルムを除去した後、比較評価した。
【０１３４】
つまり、以下の高温高湿条件で実施例および比較例のサンプルを放置して光学値の変化、外形変化を比較評価し、この時、表２に実施例の光学値の変化を表す。光学値の変化に透過色座標および反射率をＵＮ/ＶＩＳ/ＮＩＲ分光器（Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）（モデル名日立Ｕ４１００）で測定し、透過率およびヘーズを濁度測定器（モデル名日本デンショクＮＤＨ）で測定した。
*高温/高湿条件:６０°Ｃ、９０％ＲＨ、１０００ｈ
*耐湿性○:外形変化Ｘ/透過色座標変化±０．０１/透過率変化１０％以内
【０１３５】
【表１】
2009295980.tif 000003
【０１３６】
【表２】
2009295980.tif 000004
【０１３７】
前記表１の結果を通して、空気面にペースト組成物を印刷する比較例より、錫面にペースト組成物を印刷する実施例の場合、黒度値（Ｌ）の減少および反射値（Ｙ）の減少を示した。これは錫面印刷および焼成を通して、ガラス基板の黄変を相対的にもっと起こして黒度および反射値を減少させる効果があることを確認した。したがって、本発明による方法は錫面印刷を通して、適正の焼成温度で適当な黄変を起こすことによって光学値を低くすることに用いられる。また、空気面に印刷時、白濁現象が発生した反面、錫面の印刷時には外形特性および特性値の変化が殆どないことを確認した。
【０１３８】
以上、本発明の好ましい実施例について記載したが、本発明がこれに限定されるものではなく、当該技術分野の熟練した技術者は、前記記載された範囲および下記の特許請求の範囲に記載された本発明の思想および領域から逸脱しない範囲内では本発明を多様に変更および修正できることがわかる。
【図１ａ】
2009295980.tif 000005
【図１ｂ】
2009295980.tif 000006
【図２】
2009295980.tif 000007
【図３】
2009295980.tif 000008
【図４】
2009295980.tif 000009
【図５】
2009295980.tif 000010
【図６】
2009295980.tif 000011
【図７】
2009295980.tif 000012
【図８】
2009295980.tif 000013