(57)【要約】【課題】光学的に適切な設計がなされたＰＤＰ用の前面板、および、このＰＤＰ用の前面板を組み込んだＰＤＰを提供する。【解決手段】プラズマディスプレイパネル用の前面板１１は、透明な基板３０と、前記基板に形成された複数の表示電極（４１、４２）と、前記表示電極（４１、４２）を覆うように前記基板３０に形成された透明な誘電体層３４と、前記誘電体層３４上に形成された透明な保護層３５と、を備え、前記誘電体層３４が、互いに屈折率が異なる第１層および第２層を含む積層構造をなすように、構成されている。【選択図】図１
2009231214.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な基板と、
前記基板に形成された複数の表示電極と、
前記表示電極を覆うように前記基板に形成された透明な誘電体層と、
前記誘電体層上に形成された透明な保護層と、
を備え、
前記誘電体層が、互いに屈折率が異なる第１層および第２層を含む積層構造をなしているプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項２】
前記積層構造は、前記第１層と、前記第１層よりも屈折率が高い前記第２層と、を交互に積層している請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項３】
前記第１層は、フッ化マグネシウムからなる層である、請求項２記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項４】
前記第２層は、酸化タンタルからなる層である、請求項２または３記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項５】
前記表示電極は、前記誘電体層に接触する透明電極を含み、前記透明電極の屈折率が、前記第１層の屈折率と異なる、請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項６】
前記表示電極は、前記誘電体層に接触する透明電極を含み、前記透明電極の屈折率が、前記第１層の屈折率と同等である、請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項７】
前記第１層の厚みが前記透明電極の厚みに等しく、前記第１層が、前記透明電極が形成された領域以外の前記基板にのみ形成されている、請求項６記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項８】
前記第１層が、前記表示電極を覆うように前記基板上に形成され、前記基板の全面にわたって、前記基板の電極形成面と前記第１層の表面との間の距離が一定になっている、請求項６記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項９】
前記保護層は、酸化マグネシウムからなる層である、請求項１乃至８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板と、
前記プラズマディスプレイパネル用の前面板と対向して配され、前記表示電極に交差する複数のデータ電極が形成されたプラズマディスプレイパネル用の背面板と、
を備えるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用の前面板およびプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガス放電のプラズマ発光を利用した薄型テレビの表示パネルとして、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が商品化されている。ＰＤＰには、放電形成手法の相違から直流（ＤＣ）型と交流（ＡＣ）型があるが、ＡＣ型ＰＤＰが、輝度、発光効率および寿命の点でＤＣ型ＰＤＰに比べて優れている。このため、現在、大画面薄型テレビの表示パネルとしてＡＣ型ＰＤＰが普及している。
【０００３】
ＡＣ型ＰＤＰの前面板は、対をなして互いに平行な走査電極と維持電極とからなる表示電極の対が前面ガラス基板の裏面に複数対形成されている。また、これらの表示電極の対を覆うように、前面ガラス基板の裏面に誘電体層および保護層が形成されている。そして、表示電極の対の間に適宜の交流電圧を印加することにより、両電極間で前面板に略平行に維持放電（面放電）が形成される。これにより、ＰＤＰの適切な輝度が確保されている。
【０００４】
ところで、以上に述べたＰＤＰでは、ＰＤＰの輝度向上を図るための様々な取り組みが従来からなされている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１に記載のＰＤＰによれば、上述のＰＤＰの前面板に対向する背面板に、反射性を有する誘電層が形成されている。これにより、ＰＤＰの背面板側に向かった光をこの誘電層によりＰＤＰの前面板の方向に反射できるので、光の無駄な放射が少なくなり、ＰＤＰの輝度向上を図れる。
【特許文献１】特開２００１−１５０３５公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、ＰＤＰの輝度向上の観点における従来の取り組みには、本件発明者の知る限り、重大な見落としがあると考えている。その重大な見落としとは、ＰＤＰの前面ガラス基板に形成された誘電体層の光学的な最適設計である。
【０００６】
従来の誘電体層は、例えば鉛系或いは非鉛系の低融点ガラスや酸化シリコン（ＳｉＯ2層）を材料とした透明な膜であり、厚みが数μｍ〜数十μｍの範囲に調整されて前面ガラス基板３０の裏面（放電セル側）に設けられている。これにより、ＡＣ型ＰＤＰに特有の電流制限機能を発揮して、ＤＣ型ＰＤＰに比べて長寿命が実現される。
【０００７】
図６は、従来のＰＤＰ用の前面板の一構成例を示した断面図である。図７は、横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、従来の前面板の反射率の計算結果を示した図である。この数値計算は、市販の光学用シミュレータ（テックウェーブ社製の「Ｏｐｔｃａｌｃ」）を用いてなされている。また、この数値計算では、前面ガラス基板６０の屈折率を、中心波長（λ0）が５５０ｎｍにおいて、１．５４と設定しており、この前面ガラス基板６０の入射光と反対側の裏面による反射を無視している。
【０００８】
前面板６１の前面ガラス基板６０には、誘電体層６４としての２００００ｎｍの酸化シリコン層（ＳｉＯ2層）と、保護層６５としての２００ｎｍの酸化マグネシウム層（ＭｇＯ層）と、が、この順番に形成されている。従来の前面板６１の各層の材料、屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および「ｎｄ×４／λ」が、以下の表１にまとめて示されている。
【０００９】
なお、光学膜の設計では、物質の堆積の厚み（物理的な膜厚（ｄ））と、物質の屈折率（ｎ）との積である光学薄膜（ｎｄ）を波長（λ）の１／４で割った値「ｎｄ×４／λ」が位相のずれを表すため、よく用いられている。
【００１０】
表１  従来のＰＤＰ用の前面板の構成
【００１１】
【表１】
2009231214.tif 000003
【００１２】
図７によれば、従来の前面板６１の反射率が、波長４５０ｎｍ近傍で１２％にも達しており、前面板６１の光反射ロスが極めて大きいことが確認された。
【００１３】
つまり、従来の前面板６１では、誘電体層６４の材料として、たかだか、光透過性が良好な、屈折率が低い酸化シリコンが選択されているに過ぎない。そして、これでは、上述の誘電体層６４を光学的に最適設計しているとは到底言えない。
【００１４】
また、屈折率が低い酸化シリコンを選択した悪影響として、誘電体層６４の比誘電率が低くなる。このため、放電セル内に壁電荷を適切に保持できるように誘電体層６４の厚みが厚くなるという欠点も内包している。
【００１５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、光学的に適切な設計がなされた誘電体層を備えたＰＤＰ用前面板、および、このＰＤＰ用の前面板を組み込んだＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明は、透明な基板と、前記基板に形成された複数の表示電極と、前記表示電極を覆うように前記基板に形成された透明な誘電体層と、前記誘電体層上に形成された透明な保護層と、を備え、
前記誘電体層が、前記誘電体層が、互いに屈折率が異なる第１層および第２層を含む積層構造をなしているプラズマディスプレイパネル用の前面板を、提供する。
【００１７】
前記積層構造は、前記第１層と、前記第１層よりも屈折率が高い前記第２層と、を交互に積層してもよい。
【００１８】
このように誘電体層は、屈折率が異なる層を積層されていることから、光干渉効果を利用して入射光線（可視光）の反射を防止させ、光反射ロスを適切かつ充分に減少できる。
【００１９】
前記第１層は、フッ化マグネシウムからなる層であってもよい。
【００２０】
これにより、第１層の屈折率を適切かつ充分に低減でき好適である。
【００２１】
前記第２層は、酸化タンタルからなる層であってもよい。
【００２２】
これにより、第２層の比誘電率を適切かつ充分に高くでき、その結果、誘電体層の厚みを薄くでき好適である。
【００２３】
また、前記表示電極は、前記誘電体層に接触する透明電極を含んでもよく、前記透明電極の屈折率が、前記第１層の屈折率と異なってもよい。
【００２４】
これにより、透明電極の屈折率も考慮に入れた光学設計を行うことができ、その結果、ＰＤＰ用の前面板の光反射ロスが適切かつ充分に低減される。
【００２５】
また、前記表示電極は、前記誘電体層に接触する透明電極を含んでもよく、前記透明電極の屈折率が、前記第１層の屈折率と同等であってもよい。
【００２６】
これにより、透明電極の屈折率も考慮に入れた光学設計を行うことができ、その結果、ＰＤＰ用の前面板の光反射ロスが適切かつ充分に低減される。
【００２７】
具体的な構成例としては、前記第１層の厚みが前記透明電極の厚みに等しくてもよく、前記第１層が、前記透明電極が形成された領域以外の前記基板にのみ形成されてもよい。この場合、透明電極の屈折率および第１層の屈折率が同等となるように両者の材料を適切に選ぶと、透明電極が第１層と同等の光学的な機能を発揮できるので都合がよい。
【００２８】
他の構成例として、前記第１層が、前記表示電極を覆うように前記基板上に形成されてもよく、前記基板の全面にわたって、前記基板の電極形成面と前記第１層の表面との間の距離が一定になっていてもよい。この場合、透明電極の屈折率および第１層の屈折率が同等となるように両者の材料を適切に選ぶと、透明電極は、見かけ上、第１層の一部として光学的に機能できるので都合がよい。
【００２９】
また、前記保護層は、酸化マグネシウムからなる層であってもよい。
【００３０】
また、本発明は、上述のプラズマディスプレイパネル用の前面板と、前記プラズマディスプレイパネル用の前面板と対向して配され、前記表示電極に交差する複数のデータ電極が形成されたプラズマディスプレイパネル用の背面板と、を備えるプラズマディスプレイパネルを、提供する。
【００３１】
上述の誘電体層は、光透過率を向上させる反射防止膜として適切に機能できる。このため、前面板の可視光の光透過率が高まり、ひいては、プラズマディスプレイパネルの輝度向上が図れる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明は、以上に説明した構成を有し、光学的に適切な設計がなされた誘電体層を備えたＰＤＰ用の前面板、および、このＰＤＰ用の前面板を組み込んだＰＤＰを提供できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
まず、本実施形態のプラズマディスプレイパネルの概略構成について、図面を用いて説明する。
【００３４】
図１は、本発明の実施の形態に用いるプラズマディスプレイパネルの要部を示した斜視図である。図１では、プラズマディスプレイパネル１００（以下、「ＰＤＰ１００」という）の構造の理解を容易にするため、ＰＤＰ１００の厚み方向に前面板１１と背面板１０とを分離した形態が描かれている。
【００３５】
ＰＤＰ１００は、主として、図１に示す如く、矩形状の背面板１０と、矩形状の前面板１１と、背面板１０および前面板１１の間に設けられたストライプ状の隔壁１２と、を備える。なお、背面板１０は、透明な背面ガラス基板２０を有し、前面板１１は、透明な前面ガラス基板３０を有している。
【００３６】
このようなＰＤＰ１００では、背面板１０のうちの背面ガラス基板２０の電極形成面（裏面）と前面板１１のうちの前面ガラス基板３０の電極形成面（裏面）とを、双方の電極（後述）が直交するように対向させている。そして、背面板１０および前面板１１を重ね合わせた状態において、隔壁１２の高さに両者間のギャップが規制され、このギャップに放電ガスが封止されている。
【００３７】
上述の背面ガラス基板２０に裏面には、銀（Ａｇ）などを含有する電極材料からなる第１方向に延びた帯状（ストライプ状）の複数のデータ電極２１が、設けられている。このデータ電極２１は、走査電極４１（後述）との間で、壁電荷形成のための書込み放電を発生させる書込み電圧印加用の電極として機能する。
【００３８】
また、鉛系或いは非鉛系の低融点ガラスや酸化シリコン（ＳｉＯ2）からなる透明な誘電体層２２が、データ電極２１を覆うように厚み数μｍ〜数十μｍの範囲に調整されて背面ガラス基板２０の裏面に設けられている。これにより、ＡＣ型ＰＤＰに特有の電流制限機能を発揮して、ＤＣ型ＰＤＰに比べて長寿命が実現される。
【００３９】
上述の前面ガラス基板３０の表面には、図示しない反射防止用フィルムが貼り付けられている。
【００４０】
一方、前面ガラス３０の裏面には、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）または酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなる高抵抗のストライプ状の一対の透明電極３２が、約１００ｎｍの厚みに調整されて第２方向に延びている。なお、各透明電極３２は、隣接する各透明電極３２同士が、短絡しないように一定の隙間Ｇを確保しつつ、前面ガラス基板３０の裏面に幅広に形成されている。そして、一対の透明電極３２の各々の表面に、電極抵抗を下げる目的で銀（Ａｇ）やアルミニウム（Ａｌ）系の電極材料からなる低抵抗の帯状の一対のバス電極（不透明電極）３３が、数μｍの厚みに調整されて第２方向に延びている。各バス電極３３の幅は、低抵抗特性を維持できるとともに、放電セル２３から外部に放出する発光を遮ってＰＤＰ１００の輝度低下を不必要にきたさない観点から設定されている。このため、バス電極３３の幅は、少なくとも透明電極３２の幅よりも狭くなっている。
【００４１】
また、誘電体層３４が、透明電極３２およびバス電極３３を覆うように、所定の厚みに調整されて前面ガラス基板３０の裏面に設けられる。これにより、ＡＣ型ＰＤＰに特有の電流制限機能を発揮して、ＤＣ型ＰＤＰに比べて長寿命が実現される。なお、この誘電体層３４の詳細な構成については、後述する。
【００４２】
また、誘電体層３４の表面上には、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）などの金属酸化物材料を用いた透明な保護層３５が設けられている。このＭｇＯ材料は、放電開始電圧低下を可能にするために２次電子放出係数γが大きく、放電イオン衝撃から誘電体層３４を保護するように耐スパッタ性が高く、しかも透明性および絶縁耐性に優れている。なお、保護層３５は、厚み数百ｎｍ調整されている。
【００４３】
このようにして、一対の透明電極３２と一対のバス電極３３を積層させた帯状の表示電極の対５０うちの走査電極４１は、上述のデータ電極２１との間で、壁電荷形成のための書込み放電を発生させる書込み電圧印加用の電極として機能する。また、走査電極４１は、表示電極の対５０うちの維持電極４２との間の維持放電（ＰＤＰ輝度確保のための面放電）を発生させる維持電圧印加用の表示電極としても機能する。言い換えれば、表示電極の対５０うちの維持電極４２は、走査電極４１との間の維持放電を発生させる維持電圧印加用の表示電極として機能する。
【００４４】
また、図１に示すように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のうちの何れかの色に対応した蛍光体材料ペーストが、背面板１０の適所にスクリーン印刷法により塗布されている。これにより、各蛍光体２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂが、維持放電（放電プラズマ）に直接曝されない領域、例えば、放電セル２３の放電空間の底面に相当する誘電体層２２の表面および隔壁１２の両側面に、パターンニング形成されている。
【００４５】
次に、本実施形態の特徴部である、前面ガラス基板３０に形成された誘電体層３４の一構成例について図面を用いて説明する。
【００４６】
図２は、本実施形態のＰＤＰ用の前面板の一構成例を示した断面図である。図２では、図１のギャップＧの部分を第１方向から見た断面が描かれている。
【００４７】
前面ガラス基板３０に形成された誘電体層３４は、図２に示すように、屈折率が異なる複数の材料（ここでは２種類）からなり、ＡＲコート膜（反射防止膜）として機能する積層構造を有している。この積層構造は、前面ガラス基板３０に接触する層である低屈折率層３４ａと、この低屈折率層３４ａよりも屈折率が高い高屈折率層３４ｂと、有している。そして、低屈折率層３４ａと高屈折率層３４ｂとが、前面ガラス基板３０に交互に積層されている。
【００４８】
なお、ここでは、低屈折率層３４ａおよび高屈折率層３４ｂの各々が４層であって、積層構造のトータル層数は８層である。また、最後に積層された高屈折率層３４ｂの表面に保護層３５（ＭｇＯ層）が設けられている。
【００４９】
低屈折率層３４ａの材料として、屈折率が約１．３８であり、比誘電率が約５．０であるフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を用いると、低屈折率層３４ａの屈折率を適切かつ充分に低減でき好適である。但し、このフッ化マグネシウムに代えて、屈折率が１．４７であり、比誘電率が約３．９である酸化シリコン（ＳｉＯ2）を用いてもよい。
【００５０】
高屈折率層３４ｂの材料として、屈折率が約２．２２であり、比誘電率が約２５．０である５酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）を用いると、高屈折率層３４ｂの比誘電率を適切かつ充分に高くでき、その結果、誘電体層３４の厚みを薄くでき好適である。但し、この５酸化タンタルに代えて、屈折率が２．４であり、比誘電率が約８．０である２酸化チタン（ＴｉＯ2）を用いてもよい。
【００５１】
なお、ここで、誘電体層３４は、真空蒸着やスパッタリングなどの真空プロセス（ドライプロセス）を用いて多層に成膜してもよく、スクリーン印刷法などの塗布プロセス（ウェットプロセス）を用いて多層に成膜してもよい。
【００５２】
また、ここでは上述の低屈折率層３４ａと高屈折率層３４ｂとの組合せにより、ＡＲコート膜を実現しているが、これに代えて、中屈折率の材料からなる中屈折率層を用いてもよい。このような中屈折率層の材料例として、酸化マグネシウム（ＭｇＯ；屈折率：約１．７、比誘電率：約１０．０）や酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3；屈折率：約１．７、比誘電率：約１０．０）がある。
【００５３】
次に、ＰＤＰ１００の動作について説明する。
【００５４】
まず、放電セル２３の放電空間に、Ｘｅ（キセノン）とＮｅ（ネオン）からなる混合希ガスやＸｅとＨｅ（ヘリウム）からなる混合希ガスが、約数十ｋＰａのガス圧力に保って充填される。そして、走査電極４１と維持電極４２の間に適宜の交流電圧としての維持放電の電圧パルスを印加することにより、適量の壁電荷が形成された放電セル２３には、パルス放電（維持放電）が発生する。そうすると、この維持放電による放電ガスプラズマ生成に基づき、放電セル２３の放電空間に存在する励起キセノン原子から１４７ｎｍの共鳴線（紫外線）が放射され、励起キセノン分子から１７３ｎｍ主体の分子線（紫外線）が放射される。
【００５５】
次いで、これらの紫外線が、放電セル２３の各蛍光体２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂに当って各蛍光体２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂの色に対応した可視光に変換され、この可視光が各蛍光体２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂから前面板１１を透って外部に放射される。これにより、放電セル２３が、Ｒ、ＧおよびＢのうちの何れかの発光最小領域として機能することになる。なお、適量の壁電荷が形成されなかった放電セル２３では、維持放電を発生することがなく、このような放電セル２３は、ブラックを表示することになる。
【００５６】
以上に述べたように、本実施形態のＰＤＰ用の前面板１１は、前面ガラス基板３０に形成され、それぞれ対をなす走査電極４１および維持電極４２からなる複数の表示電極の対５０と、この表示電極の対５０を覆うように前面ガラス基板３０に形成された透明な誘電体層３４と、この誘電体層３４上に形成された透明な保護層３５と、を備え、誘電体層３４が、低屈折率材料（例えばフッ化マグネシウム）からなる低屈折率層３４ａと、高屈折率材料（例えば５酸化タンタル）からなる高屈折率層３４ｂと、を交互に積層させた積層構造をなしている。
【００５７】
このように、誘電体層３４は、前面ガラス基板３０上に、互いに屈折率が異なる２種類の薄膜を交互に複数枚重ねた構成を採用したことにより、従来の誘電体層６４に比べて、光干渉効果を利用して入射光線（可視光）の反射を防止させ、光反射ロスを適切かつ充分に減少できる。つまり、この誘電体層３４は、光透過率を向上させる反射防止膜として適切に機能できる。このため、ＰＤＰ用の前面板１１の可視光の光透過率が高まり、ひいては、ＰＤＰの輝度向上が図れる。
【００５８】
また、誘電体層３４中の高屈折率層３４ｂの比誘電率が高いので、誘電体層３４の厚みを薄くしても、放電セル２３内に壁電荷を適切に保持できるという利点もある。
【００５９】
なお、ここでは、前面ガラス基板３０を用いた例を述べたが、このようなガラス製以外の基板（例えば樹脂基板）であっても、低屈折率層３４ａや高屈折率層３４ｂの厚みを調整することにより、前面板の光透過率を適切に向上できる。また、低屈折率層３４ａと高屈折率層３４ｂに必要な耐圧や比誘電率に応じて、低屈折率層３４ａと高屈折率層３４ｂの層数を変えることもできる。また、図２では、低屈折率層３４ａの層数と高屈折率層３４ｂの層数を同じにしている例が図示されているが、必ずしもこれに限らない。例えば、図２において、低屈折率層３４ａの層数を高屈折率層３４ｂの層数よりも１層分多くして、誘電体層３４の最上層（最後に積層される層）を低屈折率層３４ａとしてもよい（後述の実施例参照）。
（変形例）
本実施形態では、走査電極４１および維持電極４２を覆う誘電体層３４の光反射ロス低減の観点から、前面板１１の光学設計を説明したが、誘電体層３４に接触する透明電極３２の部分の反射防止膜への応用も可能である。つまり、走査電極４１および維持電極４２（表示電極）を構成する透明電極３２の材料には、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）があり、このような酸化インジウムスズの層をも考慮に入れて、前面板１１の光学設計を行ってもよい。この場合、透明電極３２の屈折率が低屈折率層３４ａの屈折率と異なればよいが、酸化インジウムスズは、高屈折率の部類に属しているので（酸化インジウムスズの屈折率は２．０〜２．１程度）、前面ガラス基板３０に接触する層をＴａ2Ｏ5（屈折率：２．２２）またはＴｉＯ2（屈折率：２．４）などの酸化インジウムスズと同等の高屈折率を有する材料により構成してもよい。
【００６０】
そこで、本変形例では、図８を用いて以下に説明する如く、透明電極３２の屈折率が、前面ガラス基板３０に接触する層の屈折率とほぼ同等となるよう、透明電極３２の材料（具体的には酸化インジウムスズ）および前面ガラス基板３０に接触する層の材料（具体的には上述のＴａ2Ｏ5またはＴｉＯ2）を選択している。このように、前面ガラス基板３０に接触する層を高屈折率層３４ｂとして、高屈折率層３４ｂと低屈折率層３４ａとを前面ガラス基板３０に交互に積層しても、多層の誘電体層３４の層数や各層の厚みの調整により、従来の誘電体層６４に比べて光干渉効果を利用して入射光線（可視光）の反射を防止でき、光反射ロスを適切かつ充分に減少できる。
【００６１】
なお、この場合、誘電体層３４の最上層（最後に積層される層）は、高屈折率層３４ｂであっても、低屈折率層３４ａであってもよい。
【００６２】
図８は、本発明の変形例の前面板の一構成例を示した断面図である。但し、説明の便宜上、図８では、前面ガラス基板３０上に形成された表示電極の対５０および高屈折率層３４ｂの１番目の層のみが図示されており、前面板１１Ａ、１１Ｂの他の層の図示は省略されている。
【００６３】
図８（ａ）では、表示電極の対５０を構成する透明電極３２の厚みが高屈折率層３４ｂの厚みに等しい場合の前面板１１Ａの断面が示されている。図８（ａ）に示すように、高屈折率層３４ｂは、透明電極３２が形成された領域以外（ここでは、ストライプ状の一対の透明電極３２に挟まれたストライプ状の領域）の前面ガラス基板３０にのみ形成されている。この場合、上述のとおり、透明電極３２および高屈折率層３４ｂの材料として、両者の材料の屈折率が同等となる材料を選ぶと、透明電極３２が高屈折率層３４ｂと同等の光学的な機能を発揮できるので都合がよい。
【００６４】
図８（ｂ）では、高屈折率層３４ｂが、表示電極の対５０を覆うように前面ガラス基板３０上に形成されている場合の前面板１１Ｂの断面が示されている。図８（ｂ）に示すように、前面ガラス基板３０の全面にわたって、前面ガラス基板３０の電極形成面（裏面）と高屈折率層３４ｂの表面との間の距離「ｌ」が一定になっている。この場合、上述のとおり、透明電極３２および高屈折率層３４ｂの材料として、両者の材料の屈折率が同等となる材料を選ぶと、透明電極３２は、見かけ上、高屈折率層３４ｂの一部として光学的に機能できるので都合がよい。
【実施例】
【００６５】
以下、低屈折率層（ＭｇＦ2層）と、高屈折率層（Ｔａ2Ｏ5層）と、を交互に積層させた多層誘電膜（第１実施例および第２実施例）の反射率の計算結果を述べる。また、低屈折率層（ＭｇＦ2層）の単層誘電膜（比較例）の反射率の計算結果も述べる。
【００６６】
なお、以下に述べる各数値計算は、市販の光学用シミュレータ（テックウェーブ社製の「Ｏｐｔｃａｌｃ」）を用いてなされている。また、各数値計算では、前面ガラス基板の屈折率を、中心波長５５０ｎｍにおいて１．５４と設定しており、この前面ガラス基板の入射光と反対側の裏面による反射を無視している。
（第１実施例）
下記表２に、第１実施例の多層誘電膜の各層の材料、屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および「ｎｄ×４／λ」が示されている。つまり、誘電層としてのＭｇＦ2層とＴａ2Ｏ5層とが、表２中に記載の厚みに調整され、前面ガラス基板上にこの順番に交互に積層されている。なお、ここでは、ＭｇＦ2層が８層で、Ｔａ2Ｏ5層が７層であって、多層誘電膜のトータル層数が１５層である。また、最後に積層されたＭｇＦ2層の表面に、保護層としての約２１ｎｍのＭｇＯ層が設けられている。
【００６７】
表２  第１実施例のＰＤＰ用の前面板の構成
【００６８】
【表２】
2009231214.tif 000004
【００６９】
図３は、横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、第１実施例による前面板の多層誘電膜の反射率の計算結果を示した図である。
【００７０】
図３によれば、第１実施例による前面板の多層誘電膜の反射率は、可視波長域のほぼ全域（約４１０ｎｍ〜７５０ｎｍ）おいて１％以下になり、ＰＤＰ用の前面板の光反射ロスを適切かつ充分に低減できることが分かった。
（第２実施例）
下記表３に、第２実施例の多層誘電膜の各層の材料、屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および「ｎｄ×４／λ」が示されている。つまり、誘電層としてのＭｇＦ2層とＴａ2Ｏ5層とが、表３中に記載の厚みに調整され、前面ガラス基板上にこの順番に交互に積層されている。なお、ここでは、ＭｇＦ2層が８層で、Ｔａ2Ｏ5層が７層であって、多層誘電膜のトータル層数が１５層である。また、最後に積層されたＭｇＦ2層の表面に、保護層としての約１５５ｎｍのＭｇＯ層が設けられている。
【００７１】
表３  第２実施例のＰＤＰ用の前面板の構成
【００７２】
【表３】
2009231214.tif 000005
【００７３】
図４は、横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、第２実施例による前面板の多層誘電膜の反射率の計算結果を示した図である。
【００７４】
図４によれば、第２実施例による前面板の多層誘電膜の反射率は、可視波長域のほぼ全域（約４１０ｎｍ〜７４０ｎｍ）において５％以下になり、ＰＤＰ用の前面板の光反射ロスを適切かつ充分に低減できることが分かった。
【００７５】
また、図４によれば、ＭｇＯ層の厚み（１５５ｎｍ）が、従来の前面板のＭｇＯ層の厚み（２００ｎｍ）と同等レベルであっても、誘電体層を、フッ化マグネシウムからなる低屈折率層および５酸化タンタルからなる高屈折率層を交互に積層させた積層構造とすることにより、前面板の光反射ロスを低減できることも分かった。
（比較例）
下記表４に、比較例の単層誘電膜の各層の材料、屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および「ｎｄ×４／λ」が示されている。つまり、誘電層としての２００００ｎｍのＭｇＦ2層が前面ガラス基板に形成され、このＭｇＦ2層の表面に、保護層としての２００ｎｍのＭｇＯ層が形成されている。
【００７６】
表４  比較例のＰＤＰ用の前面板の膜構成
【００７７】
【表４】
2009231214.tif 000006
【００７８】
図５は、横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、比較例による前面板の単層誘電膜の反射率の数値計算結果を示した図である。
【００７９】
図５によれば、比較例による前面板の単層誘電膜の反射率は、波長４５０ｎｍ近傍で１６％にも達しており、従来の前面板６１の誘電体層６４の反射率と同等レベルであることが分かった。このことから、ＭｇＦ2層の単層では、前面板の光反射ロス低減の効果を発揮できないことが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明のＰＤＰ用の前面板およびＰＤＰによれば、ＰＤＰの輝度が向上でき、例えば薄型テレビ用表示デバイスとしてのＰＤＰに適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施の形態に用いるプラズマディスプレイパネルの要部を示した斜視図である。
【図２】本発明の実施形態のＰＤＰ用の前面板の一構成例を示した断面図である。
【図３】横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、第１実施例による前面板の多層誘電膜の反射率の計算結果を示した図である。
【図４】横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、第２実施例による前面板の多層誘電膜の反射率の計算結果を示した図である。
【図５】横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、比較例による前面板の単層誘電膜の反射率の数値計算結果を示した図である。
【図６】従来のＰＤＰ用の前面板の一構成例を示した断面図である。
【図７】横軸に光の波長（ｎｍ）をとり、縦軸に光反射率（％）をとって、従来の前面板の反射率の計算結果を示した図である。
【図８】本発明の変形例の前面板の一構成例を示した断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１０  背面板
１１、１１Ａ、１１Ｂ  前面板
１２  隔壁
２０  背面ガラス基板
２１  データ電極
２２  誘電体層
２３  放電セル
２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂ  蛍光体
３０  前面ガラス基板
３２  透明電極
３３  バス電極
３４  誘電体層
３５  保護層
４１  走査電極
４２  維持電極
５０  表示電極の対
【図１】
2009231214.tif 000007
【図２】
2009231214.tif 000008
【図３】
2009231214.tif 000009
【図４】
2009231214.tif 000010
【図５】
2009231214.tif 000011
【図６】
2009231214.tif 000012
【図７】
2009231214.tif 000013
【図８】
2009231214.tif 000014