(57)【要約】【課題】屈折率、可視領域での透明性及び耐熱性が高いマイクロレンズ及びマイクロレンズ用感光性組成物を提供する。【解決手段】感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤、溶剤を含有する感光性組成物を用いて形成されるマイクロレンズ。2009157038.tif 000038［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤、溶剤を含有する感光性組成物を用いて形成されるマイクロレンズ。
2009157038.tif 000033
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【請求項２】
式（Ｉ）で表される構成単位が、式（ＩＩＩ）で表される構成単位及び式（ＩＶ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位であることを特徴とする請求項１記載のマイクロレンズ。
2009157038.tif 000034
［式（ＩＶ）中、Ｒ3は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【請求項３】
重合体が、さらに式（ＩＩ）で表される構成単位を有する重合体である請求項１又は２記載のマイクロレンズ。
2009157038.tif 000035
［式（ＩＩ）中、Ｒ2は、水素原子、Ｃ1-12の炭化水素基、Ｃ７-12のアラルキル基、分岐してもよいＣ1-12のハロゲン化アルキル基、分岐してもよいＣ1-12のアルコキシル基、アリル基を表す。］
【請求項４】
式（Ｉ）で表される構成単位の重合比が、重合体の全構成単位の合計モル数を１００モル％としたときに、２５〜５０モル％である請求項１〜３いずれか記載のマイクロレンズ。
【請求項５】
式（ＩＶ）で表される構成単位の重合比が、重合体の全構成単位のモル数に対して、２０〜５０モル％である請求項２〜４いずれか記載のマイクロレンズ。
【請求項６】
感光性化合物が、キノンジアジド基含有化合物である請求項１〜５いずれか記載のマイクロレンズ。
【請求項７】
硬化剤がメラミンである、請求項１〜６いずれか記載のマイクロレンズ。
【請求項８】
以下の工程を有するマイクロレンズの製造方法。
（１）感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤、溶剤を含有する感光性組成物を支持体上に塗布する工程
（２）溶剤を除去する工程
（３）塗布により得られた被膜に目的のパターンに対応するマスクパターンを介して露光する工程
（４）現像工程
（５）得られたパターンに紫外線を照射する工程
（６）パターンを加熱する工程
2009157038.tif 000036
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【請求項９】
感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤及び溶剤を含有することを特徴とするマイクロレンズ用感光性組成物。
2009157038.tif 000037
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマイクロレンズ及びマイクロレンズ用感光性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサに代表される固体撮像素子の需要は急速に拡大している。これらの固体撮像素子には、受光感度を高くするためにマイクロレンズが用いられており、該マイクロレンズには、高い屈折率が求められている。
マイクロレンズの形成材料としては、ヒドロキシスチレンとメチルメタクリレートとの共重合体を含有する感光性組成物を用いて形成されたマイクロレンズが知られている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開平５−１５８２３２  請求項１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、刊行物１に記載されたヒドロキシスチレンとメチルメタクリレートとの共重合体を含有する感光性組成物を用いて形成されたマイクロレンズは、熱により着色し透明性の低下を招くことがあり、改善が求められていた。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、前記の課題を解決し得る新たなマイクロレンズについて鋭意検討の結果、本発明のマイクロレンズが前述の課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【０００６】
すなわち本発明は、以下の発明を提供する。
１．感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤及び溶剤を含有する感光性組成物を用いて形成されるマイクロレンズを提供する。
【０００７】
2009157038.tif 000002
【０００８】
［式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【０００９】
２．式（Ｉ）で表される構成単位が、式（ＩＩＩ）で表される構成単位及び式（ＩＶ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位であることを特徴とする前１項記載のマイクロレンズ。
【００１０】
2009157038.tif 000003
【００１１】
［式（ＩＶ）中、Ｒ3は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【００１２】
３．重合体が、さらに式（ＩＩ）で表される構成単位を有する重合体である前１項又は２項記載のマイクロレンズ。
【００１３】
2009157038.tif 000004
【００１４】
［式（ＩＩ）中、Ｒ2は、水素原子、Ｃ1-12の炭化水素基、Ｃ７-12のアラルキル基、分岐してもよいＣ1-12のハロゲン化アルキル基、分岐してもよいＣ1-12のアルコキシル基、アリル基を表す。］
【００１５】
４．式（Ｉ）で表される構成単位の重合比が、重合体の全構成単位の合計モル数を１００モル％としたときに、２５〜５０モル％である前１〜３項いずれか記載のマイクロレンズ。
【００１６】
５．式（ＩＶ）で表される構成単位の重合比が、重合体の全構成単位のモル数に対して、２０〜５０モル％である前２〜４項いずれか記載のマイクロレンズ。
【００１７】
６．感光性化合物が、キノンジアジド基含有化合物である前１〜５項いずれか記載のマイクロレンズ。
【００１８】
７．硬化剤がメラミンである、前１〜６項いずれか記載のマイクロレンズ。
【００１９】
８．以下の工程を有するマイクロレンズの製造方法。
（１）感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤、溶剤を含有する感光性組成物を支持体上に塗布する工程
（２）溶剤を除去する工程
（３）塗布により得られた被膜に目的のパターンに対応するマスクパターンを介して露光する工程
（４）現像工程
（５）得られたパターンに紫外線を照射する工程
（６）パターンを加熱する工程
【００２０】
2009157038.tif 000005
【００２１】
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【００２２】
９．感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤及び溶剤を含有することを特徴とするマイクロレンズ用感光性組成物。
【００２３】
2009157038.tif 000006
【００２４】
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、屈折率、可視領域での透明性及び耐熱性が高いマイクロレンズ及びマイクロレンズ用感光性組成物を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明のマイクロレンズを形成するために用いられる感光性組成物において用いられる式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体について、詳細に説明する。
【００２７】
2009157038.tif 000007
【００２８】
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【００２９】
本明細書中、Ｃ1-12の表記は、炭素数１〜１２を意味する。
【００３０】
ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、Ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、クロロエチル基、ブロモエチル基、ヨードエチル基、クロロプロピル基、ブロモプロピル基、ヨードプロピル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、Ｎ−プロピル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモプロピル基が挙げられる。
Ｃ７-12のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられ、好ましくはベンジル基が挙げられる。
Ｒ１として、好ましくは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基が挙げられる。
【００３１】
式（Ｉ）で表される構成単位としては、好ましくは式（ＩＩＩ）で表される構成単位、式（ＩＶ）で表される構成単位などが挙げられる。
【００３２】
2009157038.tif 000008
【００３３】
［式（ＩＶ）中、Ｒ３は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【００３４】
ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基、Ｃ７-12のアラルキル基としては、式（Ｉ）において例示されたものと同じ基が挙げられる。
Ｒ３として、好ましくはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基が挙げられる。
【００３５】
式（ＩＩＩ）で表される構成単位としては、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−３）で表される構成単位が挙げられ、好ましくは式（ＩＩＩ−３）で表される構成単位が挙げられる。これらは、単独でも、２種以上を混合して用いられてもよい。
【００３６】
2009157038.tif 000009
【００３７】
式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−３）で表される構成単位を導く化合物としては、式（ＩＩＩ−１Ａ）〜式（ＩＩＩ−３Ａ）で表される化合物が挙げられ、好ましくは式（ＩＩＩ−３Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００３８】
2009157038.tif 000010
【００３９】
式（ＩＶ）で表される構成単位としては、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−４１５）で表される構成単位化合物が挙げられ、好ましくは、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−７）、式（ＩＶ−１６）〜式（ＩＶ−２２）、式（ＩＶ−３１）〜式（ＩＶ−３７）で表される構成単位が挙げられる。
【００４０】
2009157038.tif 000011
【００４１】
2009157038.tif 000012
【００４２】
2009157038.tif 000013
【００４３】
式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−４５）で表される構成単位を導く化合物としては、式（ＩＶ−１Ａ）〜〜式（ＩＶ−４５Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００４４】
2009157038.tif 000014
【００４５】
2009157038.tif 000015
【００４６】
2009157038.tif 000016
【００４７】
式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体は、式（ＩＩ）で表される構成単位を有していてもよい。
【００４８】
2009157038.tif 000017
【００４９】
［式（ＩＩ）中、Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基、Ｃ７-12のアラルキル基、Ｃ1-12のアルコキシル基又はアリル基を表す。］
【００５０】
ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基、Ｃ７-12のアラルキル基としては、式（Ｉ）におけるものと同じものが挙げられる。
Ｃ1-12のアルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。
【００５１】
式（ＩＩ）で表される構成単位としては、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−）で表される構成単位などが挙げられ、好ましくは式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−１０）で表される構成単位が挙げられる。
【００５２】
2009157038.tif 000018
【００５３】
2009157038.tif 000019
【００５４】
2009157038.tif 000020
【００５５】
2009157038.tif 000021
【００５６】
2009157038.tif 000022
【００５７】
これらの構成単位は、式（Ｉ）で表される構成単位と同様に、対応するビニル化合物から導かれる。
【００５８】
式（Ｉ）で表される構成単位を含む重合体としては、具体的には、式（ＩＩＩ）で表される構成単位と式（ＩＶ）で表される構成単位とを有する、以下のような重合体が挙げられる。
【００５９】
2009157038.tif 000023
【００６０】
前記の各構成単位の組合せにおいて、式（ＩＩＩ）で表される構成単位の比率（ｍ）は、全構成単位の合計モル数に対して、好ましくは４０〜８０モル％、より好ましくは６０〜７５モル％である。比率（ｍ）が前記の範囲にあると、
現像時の現像性が良好で、かつパターンの膜減りも低い傾向にあり、好ましい。
【００６１】
式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体は、さらに、式（Ｉ）で表される構成単位を導く化合物と共重合可能な化合物と共重合していてもよい。
式（Ｉ）で表される構成単位を導く化合物と共重合可能な化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル類；
シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イルアクリレート（当該技術分野で慣用名としてジシクロペンタニルアクリレートといわれている。）、ジシクロペンタオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状アルキルエステル類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリールエステル類；
フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；
メチルスチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、プロポキシスチレン、ブトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどが挙げられ、好ましくはメトキシスチレン、エトキシスチレン、プロポキシスチレン、ブトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルが挙げられる。
なお、本明細書中、（メタ）アクリルの記載は、アクリル、メタアクリル、およびそれらの混合を意味する。
【００６２】
又、脂肪族エポキシ基及び脂環式エポキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物又は、オキセタニル基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物（ｂ）との共重合体（イ１）や、前述の不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくも一種（ａ）と、（ａ）と共重合可能な単量体（ｃ）（ただし、（ａ）を除く。）との共重合体における、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（ａ）に由来するカルボキシル基の一部を、前述の脂肪族エポキシ基や脂環式エポキシ基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物又は、オキセタニル基を有し、かつ不飽和結合を有する物（ｂ）に由来するエポキシ基又は、オキセタニル基と反応させることで得られる共重合体（イ２）が挙げられる。
（ｂ）のうち、脂肪族エポキシ基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、グリシジルビニルエーテルなどが挙げられる。
（ｂ）のうち、脂環式エポキシ基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）又は、式（Ｖ）で表される化合物及び式（ＶＩ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。
【００６３】
2009157038.tif 000024
【００６４】
［式（Ｖ）及び式（ＶＩ）において、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子又は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｘは、それぞれ独立に、単結合又はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。］
【００６５】
Ｒとしては、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基；
ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、２−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、１−ヒドロキシ−イソプロピル基、２−ヒドロキシ−イソプロピル基、１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、２−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、３−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基などの水酸基含有アルキル基が挙げられる。中でも、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。
【００６６】
Ｘとして、単結合や、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基；
オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、チオメチレン基、チオエチレン基、チオプロピレン基、アミノメチレン基、アミノエチレン基、アミノプロピレン基などのヘテロ原子含有アルキレン基などが挙げられる。中でも、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、オキシメチレン基、オキシエチレン基が挙げられ、より好ましくは単結合、オキシエチレン基が挙げられる。
【００６７】
式（Ｖ）で表される化合物としては、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−１５）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは式（Ｖ−１）、式（Ｖ−３）、式（Ｖ−５）、式（Ｖ−７）、式（Ｖ−９）、式（Ｖ−１１）〜式（Ｖ−１５）が挙げられ、より好ましくは式（Ｖ−１）、式（Ｖ−７）、式（Ｖ−９）、式（Ｖ−１５）が挙げられる。
【００６８】
2009157038.tif 000025
【００６９】
式（ＶＩ）で表される化合物としては、式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−１５）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは式（ＶＩ−１）、式（ＶＩ−３）、式（ＶＩ−５）、式（ＶＩ−７）、式（ＶＩ−９）、式（ＶＩ−１１）〜式（ＶＩ−１５）が挙げられ、より好ましくは式（ＶＩ−１）、式（ＶＩ−７）、式（ＶＩ−９）、式（ＶＩ−１５）が挙げられる。
【００７０】
2009157038.tif 000026
【００７１】
式（Ｖ）で表される化合物及び式（ＶＩ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは式（Ｉ）：式（ＩＩ）で、５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、とりわけ好ましくは２０：８０〜８０：２０である。
【００７２】
（ｂ）のうち、オキセタニル基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物としては、例えば、３−メチル−３−メタクリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−アクリロキシエチルオキセタンなどが挙げられる。
本発明における感光性化合物は、一般に感光剤と称されており、公知のものが種々使用できる。より具体的には感光剤として、フェノール化合物とｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸化合物（ｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸、ｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸など）とのエステルが例示できる。
【００７３】
上記フェノール化合物としては、例えば、ジ、トリ、テトラ又はペンタヒドロキシベンゾフェノン（２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンなど）、下記式（１０１）〜（１１１）で表される化合物などが挙げられる。
【００７４】
2009157038.tif 000027
【００７５】
本発明の感光性組成物中で使用する硬化剤としては、熱硬化作用を有する化合物を用いることができ、例えば、メラミン化合物が挙げられる。前記のメラミン化合物としては、式（３０１）で表されるメラミン化合物などが挙げられる。
【００７６】
2009157038.tif 000028
【００７７】
［式（３０１）中、Ｒ300〜Ｒ305は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖状Ｃ1-10アルキル基又は分岐鎖状Ｃ3-10アルキル基を表す。但し、Ｒ300〜Ｒ305のうち少なくとも２個は水素原子ではない。］
【００７８】
直鎖状Ｃ1-10アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基が挙げられる。
分岐鎖状Ｃ3-10アルキル基としては、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ヘキシル基などが挙げられ、好ましくはイソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。
【００７９】
式（３０１）で表されるメラミン化合物としては、具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、などが挙げられ、好ましくはヘキサメトキシメチルメラミン（ヘキサメトキシメチロールメラミンともいう）、ヘキサエトキシメチルメラミンが挙げられる。
【００８０】
また、本発明における硬化剤としては、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン、テトラエトキシメチルベンゾグアナミン、テトラプロポキシメチルベンゾグアナミン、テトラブトキシメチルベンゾグアナミン、及び式（３２）〜（３７）で表される化合物が挙げられる。
【００８１】
2009157038.tif 000029
【００８２】
本発明の感光性組成物における、感光性化合物、樹脂及び硬化剤の含有量（感光性化合物、アルカリ可溶性樹脂及び硬化剤の合計１００質量部に対する量）は、それぞれ以下の通りである。
【００８３】
感光性化合物：好ましくは０．００１〜５０質量部程度、より好ましくは０．０１〜４０質量部程度、さらに好ましくは０．１〜３０質量部程度、さらにより０．１〜１０質量部程度。感光性化合物の量を前記範囲にすることで、パターン形成時の現像工程での膜減りを小さくでき、またフォトリソグラフィー法でパターンを形成する際の投影露光時間を短くできる。
【００８４】
式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体：好ましくは１〜９９質量部程度、より好ましくは５〜９５質量部程度、さらに好ましくは１０〜９０質量部程度。アルカリ可溶性樹脂の量が前記範囲であれば、現像液に対する溶解度が充分であり、また現像工程での膜減りを生じにくく、フォトリソグラフィー法でパターンを形成する際の露光量が少なくなり好ましい。
【００８５】
硬化剤：好ましくは１〜４０質量部程度、より好ましくは５〜３０質量部程度、さらに好ましくは１０〜２５質量部程度。硬化剤の量が前記範囲であれば、フォトリソグラフィー法でパターンを形成する際の露光量を少なくできる。また現像後のパターンの形状が良好であり、該パターンを加熱して硬化させた後のパターンの機械的強度も充分である。
【００８６】
溶剤は、感光性組成物中に含まれる感光性化合物、樹脂、及び硬化剤などの溶解度や塗布性によって、適宜選択される。
溶剤としては、例えば、エチレングリコール類（メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセルソルブアセテート、エチルセルソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルなど）、プロピレングリコール類（プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど）、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ケトン類（４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（別名ジアセトンアルコール）、シクロヘキサノンなど）、カルボン酸エステル類（酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチルなど）などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。
【００８７】
溶剤の含有量は、感光性組成物に対して、好ましく４０〜９５質量％程度、より好ましくは７０〜９０質量％程度である。溶剤量が上記範囲にあると、塗布膜の均一性が良好となる。
【００８８】
本発明の感光性組成物は、必要に応じて、界面活性剤なども含有していてもよい。界面活性剤には、シリコーン系界面活性剤［例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同２９ＳＨＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ８４００（以上はトーレシリコーン（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（以上は信越シリコーン製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上はジーイー東芝シリコーン（株）製）などのシロキサン結合を有する界面活性剤など］；フッ素系界面活性剤［例えば、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上は住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｒ３０（以上は大日本インキ化学工業（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上は新秋田化成（株）製）、サーフロンＳ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（以上は旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上はＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）などのフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤など］；フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤［メガファックＲ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（以上は大日本インキ化学工業（株）製）などのシロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤など］が含まれる。これらの界面活性剤は、単独でも２種類以上を組合せて用いてもよい。
【００８９】
界面活性剤を用いる場合、その使用量は、感光性組成物に対して、好ましくは０．０００５質量％〜０．６質量％程度、より好ましくは０．００１質量％〜０．５質量％程度である。界面活性剤の使用量が前記の範囲であると、感光性組成物の塗布時における平坦性がさらに良好になる傾向があり好ましい。
【００９０】
さらに本発明にかかる感光性組成物は、本発明の効果を損なわない程度で、種々の添加成分（エポキシ系樹脂、オキセタン化合物、紫外線吸収剤、酸化防止剤、キレート剤など）を含んでいてもよい。
【００９１】
上記の感光性組成物は、溶剤中で各成分を混合することにより調製できる。この調製された感光性組成物は、通常、ポアサイズが０．２μｍ以下程度のフィルタでろ過する。ろ過により、感光性組成物を塗布する際の均一性が向上する。
【００９２】
本発明における、マイクロレンズの製造方法は、以下の工程を有する。
（１）感光性化合物、式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体、硬化剤、溶剤を含有する感光性組成物を支持体上に塗布する工程
（２）溶剤を除去する工程
（３）塗布により得られた被膜に目的のパターンに対応するマスクパターンを介して露光する工程
（４）現像工程
（５）得られたパターンに紫外線を照射する工程
（６）パターンを加熱する工程
【００９３】
2009157038.tif 000030
【００９４】
［式（I）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1-12の炭化水素基又はＣ７-12のアラルキル基を表す。］
【００９５】
感光性組成物が塗布される支持体としては、公知のものが使用でき、例えばＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体結合素子などイメージセンサが形成されたシリコンウエハ、透明なガラス板、石英ウエハなどが使用できる。
【００９６】
支持体上に感光性組成物の被膜を形成する方法は特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、ディップ法、流延塗布法、ロール塗布法、スリット＆スピンコート法、スリットコート法などの通常の塗布方法を適宜採用できる。
本発明の感光性組成物を支持体上に塗布した後、溶剤などの揮発成分を加熱（例えば７０〜１２０℃の加熱）などによって除去することにより、被膜を形成できる。
【００９７】
被膜を露光する際には、目的のパターンに対応するマスクパターンを介して、被膜に光線を照射する。光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線などを用いることができ、これらにはｇ線ステッパー、ｉ線ステッパーなどの露光機を利用すればよい。照射領域における光線の照射量は、感光性化合物の種類及び含有量、硬化剤の種類及び含有量、並びにアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量、単量体比及び含有量などによって適宜選択される。また、こうして作成した被膜は加熱してもよい。加熱することで、硬化剤が硬化して、被膜の機械的強度が向上する。加熱する場合の加熱温度は、例えば８０〜１５０℃程度である。
【００９８】
現像では、通常の感光性組成物を用いた場合と同様に、被膜が設けられた支持体を通常の現像液に接触させればよい。現像液としては、特に制限は無いが、例えばアルカリ水溶液などが用いられ、必要に応じて界面活性剤を混合してもよい。現像液を振り切り、次いで水洗して現像液を除去することにより、パターンを形成する。なお現像液を振り切った後、リンス液でリンスをしてから、水洗する場合もある。このリンスにより、現像時に支持体上に残った感光性組成物の残渣を取り除くことができる。こうして、被膜からパターンが形成される。
【００９９】
得られたパターンには、紫外線が照射される。前記の紫外線照射により、パターン中に残存する感光成分が分解される。
ついで、水洗後又はパターンへの紫外線照射後に、パターンは加熱される。加熱により、パターンの機械的強度を向上させることができ、かつマイクロレンズとしての形状が得られる。加熱温度は、通常、１６０℃〜２２０℃程度である。加熱温度が上記の範囲にあると、硬化剤による硬化が充分に進行する。
【０１００】
上記のようにして得られるマイクロレンズの厚みは、例えば０．４〜３．０μｍ程度である。また各マイクロレンズの縦及び横の長さは、それぞれ独立に１．０〜２０μｍ程度の範囲で設定できる。
【０１０１】
本発明のマイクロレンズは、固体撮像素子（ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサなど）や液晶表示素子などの素子上に形成でき、入射光の集光効率を上げるのに有用である。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１０３】
合成例１
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（１１３ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、スチレン（６９ｇ；０．６６ｍｏｌ）及びビニル安息香酸（４２ｇ；０．２８ｍｏｌ）、２，２’−アゾビス（イソブチロ二トリル）（３．１ｇ；０．０１８９ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（４５０ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して４時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、無色上澄み液を傾斜によって除いた。得られた白色沈殿を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、７４ｇの樹脂Ａを得た。得られたポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は５７００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５３００、分散度は２．７であった。
【０１０４】
共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定については、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行なった。
装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ  Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶離溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ
被検液；濃度２重量％ＴＨＦ溶液
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比を分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）とした。
【０１０５】
合成例２
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（１０５ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、スチレン（６０ｇ；０．５８ｍｏｌ）及びビニル安息香酸（４６ｇ；０．３１ｍｏｌ）、２，２’−アゾビス（イソブチロ二トリル）（３．７ｇ；０．０２２ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（４２０ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して４時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、無色上澄み液を傾斜によって除いた。得られた白色沈殿を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、７４ｇの樹脂Ｂを得た。得られた樹脂Ｂの数平均分子量（Ｍｎ）は５８００、重量平均分子量（Ｍｗ）は２３０００、分散度は４．１であった。
【０１０６】
合成例３
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（１０９ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、スチレン（５２ｇ；０．５０ｍｏｌ）及びビニル安息香酸（４９ｇ；０．３３ｍｏｌ）、２，２’−アゾビス（イソブチロ二トリル）（４．１ｇ；０．０２５ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（４５０ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して４時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、無色上澄み液を傾斜によって除いた。得られた白色沈殿を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、６０ｇの樹脂Ｃを得た。得られた樹脂Ｃの数平均分子量（Ｍｎ）は７６００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５６００、分散度は２．１であった。
【０１０７】
合成例４
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（４９ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、ビニル安息香酸メチル（１０．０ｇ；６２ｍｍｏｌ）及びビニル安息香酸（２１ｇ；１４４ｍｍｏｌ）、２，２'−アゾビス（イソブチロ二トリル）（３．４ｇ；２１ｍｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（１９６ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して４．５時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、得られた白色沈殿と無色上澄み液を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、３６ｇの樹脂Ｄを得た。得られたポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は３０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は２８０００、分散度は９．４であった。
【０１０８】
合成例５
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（４９ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、ビニル安息香酸メチル（１０．０ｇ；６２ｍｍｏｌ）及びビニル安息香酸（２１ｇ；１４４ｍｍｏｌ）、２，２'−アゾビス（イソブチロ二トリル）（１．０２ｇ；６．２ｍｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（２１０ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して４時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、得られた白色沈殿と無色上澄み液を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、３４ｇの樹脂Ｅを得た。得られたポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は７７００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４４０００、分散度は１８．７であった。
【０１０９】
合成例６
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（３４ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、ビニル安息香酸メチル（１６．０ｇ；９９ｍｍｏｌ）及びビニル安息香酸（１４．７ｇ；９９ｍｍｏｌ）、２，２'−アゾビス（イソブチロ二トリル）（０．９９ｇ；６．１ｍｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（１３２ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して４時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、得られた白色沈殿と無色上澄み液を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、３３ｇの樹脂Ｆを得た。得られたポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は７６００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４１０００、分散度は１８．６であった。
【０１１０】
合成例７
滴下ロート及びジムロート冷却菅、温度計、メカニカルスターラーを備えた１Ｌの４つ口フラスコに、メチルイソブチルケトン（２０ｇ）を仕込み、攪拌しながら１５分間窒素ガスをフラスコ内に流した後、そのまま９０℃まで昇温した。１Ｌビーカーに、ビニル安息香酸メチル（２２ｇ；１３７ｍｍｏｌ）及びビニル安息香酸（８．８ｇ；５９ｍｍｏｌ）、２，２'−アゾビス（イソブチロ二トリル）（０．７０ｇ；４．３ｍｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（７９ｇ）を加え、室温で攪拌して均一溶液にした。この溶液を滴下ロートに加え、９０℃に保温した４つ口フラスコ内に１時間かけて滴下した。滴下終了後、４つ口フラスコ内を９０℃に保温して５時間攪拌したところ、白色沈殿と無色上澄み液が得られた。４つ口フラスコ内を室温まで冷却し、得られた白色沈殿と無色上澄み液を１Ｌナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、６０℃で減圧乾燥して、３２ｇの樹脂Ｇを得た。得られたポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は１１２００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１９５００、分散度は１．７４であった。
【０１１１】
実施例１
合成例１で得られた樹脂Ａを４９質量部、感光性化合物として式（４）で表されるフェノール化合物とｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステルを４０質量部、硬化剤としてヘキサメトキシメチロールメラミンを１１質量部、溶剤として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを４００質量部を混合した後、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過して感光性組成物１を得た。
【０１１２】
2009157038.tif 000031
【０１１３】
＜マイクロレンズの形成＞
イメージセンサが形成されたシリコン基板上に、感光性組成物１をスピンコート法で膜厚が１μｍとなるよう塗布し、９０℃で１分間加熱して揮発成分を除去して塗布膜を形成した。
次いでｉ線ステッパー〔Ｎｉｋｏｎ  ＮＳＲ２００５ｉ９Ｃ；（株）ニコン製；ＮＡ＝・０．５０〕を用いて２．０μｍの市松模様のマスクパターンを介して、露光量を２５〜４７５ｍＪ／ｃｍ２の範囲で段階的に変化させて、パターンを露光した。
次いで得られた露光後の塗布膜を、現像液〔０．１質量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液〕に６０秒間浸漬して現像した。
現像後、水洗し、乾燥後、紫外線／ｃｍ２を照射し、１８０℃で３分間加熱し、線幅２．０μｍのマイクロレンズを得た。
【０１１４】
＜屈折率測定＞
シリコンウエハ上にスピンコート法で、後述の１８０℃での加熱工程後に膜厚が１．０μｍとなるように、感光性組成物１を塗布し、９０℃で１分間加熱して揮発成分を除去して被膜を形成した。
次いで、得られた被膜に波長３００〜４５０ｎｍである紫外光２００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、１８０℃で３分間加熱し、得られた被膜を、分光エリプソメータ（Ｍ−２２０；日本分光（株）製）を用いて、５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。屈折率は、高いほどレンズ材として好ましい。
【０１１５】
＜透明性＞
石英ウエハ上にスピンコート法で膜厚が１．０μｍとなるように、感光性組成物１を塗布し、９０℃で１分間加熱して揮発成分を除去して被膜を形成した。
次いで、得られた被膜に、波長３００〜４５０ｎｍである紫外光２００ｍＪ／ｃｍ２を照射後、１８０℃で３分間加熱し、得られた１８０℃３分間加熱後の塗膜を、分光光度計（ＤＵ−６４０；ＢＥＣＫＭＡＮ社製）を用いて、その可視領域（４００〜７００ｎｍ）の透過率を測定し、平均透過率（Ｔ０）値を算出した。透明性は、前記の平均透過率が高いほどレンズ材として好ましい。
【０１１６】
＜耐熱性＞
石英ウエハ上にスピンコート法で膜厚が１．０μｍとなるように、感光性組成物１を塗布し、９０℃で１分間加熱して揮発成分を除去して被膜を形成した。
次いで、波長３００〜４５０ｎｍである紫外光２００ｍＪ／ｃｍ２照射し、１８０℃で３分間加熱し、得られた被膜の４００〜７００ｎｍにおける透過率を分光光度計を用いて測定し、平均透過率（Ｔ０）を算出した。
次いで、前記の１８０℃３分間加熱後の被膜を、さらにオーブン中で２４０℃で３０分間加熱した。得られた２４０℃３０分間加熱後の被膜の可視領域（４００〜７００ｎｍ）における透過率を分光光度計を用いて測定し、平均透過率（Ｔａ）を算出し、ＴａからＴ０を差し引いた値を耐熱性とした。耐熱性は、前記の数値が小さいほど、加熱前後の変化が少なく、好ましい。
【０１１７】
実施例２
樹脂Ａに代えて、樹脂Ｂを用いる以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物２を得た。感光性組成物１に代えて、感光性組成物２を用いる以外は実施例１と同様にして、評価を行なった。ただし、現像時として、１．０質量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液を用いた。
【０１１８】
実施例３
樹脂Ａに代えて、樹脂Ｃを用いる以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物３を得た。感光性組成物１に代えて、感光性組成物３を用いる以外は実施例１と同様にして、評価を行なった。
【０１１９】
実施例４
樹脂Ａに代えて、樹脂Ｄを用いる以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物４を得た。感光性組成物１に代えて、感光性組成物４を用いる以外は実施例１と同様にして、評価を行なった。
【０１２０】
比較例１
樹脂Ａに代えて、マルカリンカーＣＭＭ（丸善石油化学（株）製）を用いる以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物５を得た。感光性組成物１に代えて、感光性組成物５を用いる以外は実施例１と同様にして、評価を行なった。
【０１２１】
【表１】
2009157038.tif 000032
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明によれば、屈折率、可視領域での透明性及び耐熱性が高いマイクロレンズ及びマイクロレンズ用感光性組成物を提供できる。