(57)【要約】【課題】ペン書き耐久性及びフレキシブル性を高めるとともに、額縁周辺部でのペン書き耐久性を改善する透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供すること【解決手段】透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、密着層上に形成された第１の透明導電膜と、を備え、密着層の膜厚は５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性フィルム。【選択図】図１
2009218034.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、
前記透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、
前記クッション層上に形成されたハードコート層と、
前記透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、
前記密着層上に形成された第１の透明導電膜と、
を備えることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記密着層の膜厚は５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記クッション層の弾性係数が１×１０４Ｎ／ｍ２以上１×１０６Ｎ／ｍ２以下であり、前記クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
前記第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
透明基材と、
前記透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、
前記クッション層上に形成されたハードコート層と、
前記透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、
前記密着層上に形成された第１の透明導電膜と、
前記第１の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第２の透明導電膜と、
を備えることを特徴とするタッチパネル。
【請求項６】
前記密着層の膜厚は５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記クッション層の弾性係数が１×１０４Ｎ／ｍ２以上１×１０６Ｎ／ｍ２以下であり、前記クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルム及びタッチパネルに関する。特に、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜として有用な透明導電性フィルム及びタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているため、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜、反射防止膜等として使用されている。近年、透明導電膜はタッチパネル向け電極として注目を集めている。
【０００３】
タッチパネルには静電容量結合方式、光学式等及び抵抗膜方式等多様な方式が存在する。その中で、透明導電膜が使用されるのは、上下の電極が接触することでタッチ位置を特定する抵抗膜式や静電容量の変化を感知する静電容量結合方式である。特に抵抗膜方式は、ペン入力が可能であり、比較的安価であることから、携帯用端末及び携帯ゲーム機等幅広く利用されている。この抵抗膜方式は動作原理上導電膜同士の接触がさけられず、タッチパネルの打点寿命を延ばすため、打点耐久性の高い透明導電性フィルムの開発が進められてきている。また、携帯端末の細額縁化に伴い、額縁近傍の入力耐久のあるフレキシブル性の高い透明導電性フィルムが望まれている。
【０００４】
液晶パネルの細額縁化や使用環境の多様化により、ディスプレイに組み込まれるタッチパネルの高耐久化が求められている。そのためには、電極となる透明導電性フィルムの高耐久化が必要不可欠である（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００７−２１３８８６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、ペン書き耐久性及びフレキシブル性を高めるとともに、額縁周辺部でのペン書き耐久性を改善する透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、密着層上に形成された第１の透明導電膜と、を備えることを特徴とする透明導電性フィルムとしたものである。
【０００７】
本発明の請求項２に係る発明は、密着層の膜厚は５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。
【０００８】
本発明の請求項３に係る発明は、クッション層の弾性係数が１×１０４Ｎ／ｍ２以上１×１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。
【０００９】
本発明の請求項４に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。
【００１０】
本発明の請求項５に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、密着層上に形成された第１の透明導電膜と、第１の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第２の透明導電膜と、を備えることを特徴とするタッチパネルとしたものである。
【００１１】
本発明の請求項６に係る発明は、密着層の膜厚は５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。
【００１２】
本発明の請求項７に係る発明は、クッション層の弾性係数が１×１０４Ｎ／ｍ２以上１×１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。
【００１３】
本発明の請求項８に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ペン書き耐久性及びフレキシブル性を高めるとともに、額縁周辺部でのペン書き耐久性を改善する透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を、図面を参照しつつ詳細に説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、重複する説明は省略する。
【００１６】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、透明基材２の一方の面にクッション層３、クッション層３上にハードコート層４、透明基材２のもう一方の面に密着層５、密着層５上に第１の透明導電膜６を備えている。
【００１７】
本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、ハードコート層４と透明基材２との間にクッション層３を備えている。ハードコート層４と透明基材２との間にクッション層３を備えることにより、透明導電性フィルム１をタッチパネル１１に搭載したときの、ペン書き耐久性を高めることができる。
【００１８】
本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、透明基材２と第１の透明導電膜６との間に密着層５を備えている。透明基材２と第１の透明導電膜６との間に密着層５を備えることにより、透明導電性フィルム１のフレキシブル性が向上され、タッチパネル１１に搭載したときの、額縁部のペン書き耐久性を高めることができる。
【００１９】
本発明の実施の形態に係る透明基材２を形成する材料としては、例えば、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド；ポリイミド；ポリアリレート；ポリカーボネート；ポリアクリレート；ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、これらの共重合体の無延伸あるいは延伸されたプラスチックフィルムを用いることができる。また、透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることもできる。透明基材２の厚さは透明基材２の可撓性を考慮し、１０μｍ以上２００μｍのものを用いることができる。上記、透明基材２の材料において、ポリエチレンテレフタレートなどを好ましく用いることができる。
【００２０】
なお、これらの透明基材２は、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理などの表面処理を施して、密着性を向上させることができる。
【００２１】
本発明の実施の形態に係るクッション層３を形成する透明樹脂材料としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂、またこれらの共重合体を用いることができる。また後述するクッション層３の特性を満たす他の透明樹脂を用いることができる。
【００２２】
また、クッション層３には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等の光重合開始剤や、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤が含有されていても構わない。
【００２３】
クッション層３の硬さは、弾性係数において１×１０４Ｎ／ｍ２以上１×１０６Ｎ／ｍ２以下の範囲内であり、クッション層３の膜厚は１μｍ以上５０μｍ以下の範囲であることを特徴としている。より好ましくはクッション層３の膜厚が５μｍ以上１０μｍとする。
【００２４】
クッション層３の硬さを表す弾性係数が１×１０６Ｎ／ｍ２を超えると、クッション層３が硬くなり、クッション性を得られなくなり、第１の透明導電膜６であるＩＴＯ（後述する）にクラックが発生する。一方、１×１０４Ｎ／ｍ２未満ではクッション層３が非弾性となり、加圧により容易に変形してしまう。
【００２５】
クッション層３の膜厚が１μｍ未満では、良好なクッション性を得られず、クッション層３の膜厚が５０μｍより厚くなると透明性を損なうことになる。
【００２６】
本発明の実施の形態に係るハードコート層４を形成する材料としては、２官能以上の（メタ）アクリレートと多感能アクリレートとを用いることができる。反応性アクリル基が分子内に２個以上持つ化合物ならばどの材料も好適に用いることができる。例えばポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００２７】
また、ハードコート層４を形成する材料には、多官能（メタ）アクリレートしてウレタン（メタ）アクリレートを使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレートとしては分子内にウレタン結合と（メタ）アクリレート構造とを持つものであればどの材料も好適に用いることができる。例えば、ジイソシアネートとジオールと水酸基含有（メタ）アクリレートとから生成されるものを使用することができる。例えば、ジイソシアネートとしてはテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、きしりレンジイソシアネート等が挙げられる。例えば、ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール、ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。また、水酸基を持ったアクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、２−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、２−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を例として挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００２８】
ハードコート層４を形成する材料の多官能アクリレートとしてはポリエステルアクリレートも用いることができる。ポリエステルアクリレートとしては、例えば一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００２９】
また、ハードコート層４を形成する材料にはエポキシアクリレートも使用することができる。エポキシアクリレートとしては、エポキシ樹脂のエポキシ基を開環しアクリル酸でアクリル化することにより得られるアクリレートであり、芳香環、脂環式のエポキシを用いたものがより好ましく用いることができる。
【００３０】
上記アクリレートは１種類のみを用いても２種以上混合して使用しても好適に用いることができる。
【００３１】
さらに、ハードコート層４には光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【００３２】
これらの樹脂および光重合開始剤は溶媒に溶かし固形分を３０重量％以上８０重量％以下、より好ましくは４０重量％以上６０重量％以下に調整し基材上に塗工することができる。
【００３３】
クッション層３及びハードコート層４の塗布方法としては、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法などの方法を用いることができる。
【００３４】
本発明の実施の形態に係る密着層５を形成する材料としては、例えば、酸化物、硫化物、フッ化物等の無機化合物を用いることができる。好ましくは酸化珪素、酸化アルミニウムなどを好適に用いることができる。
【００３５】
密着層５の膜厚としては５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が好適である。密着層５の膜厚が５ｎｍ未満になると、膜の均一性が得にくくなり、密着層５の膜厚が１５ｎｍを超えると透明性が低下してしまう。
【００３６】
本発明の実施の形態に係る第１の導電性薄膜６を形成する導電性材料としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛等の酸化物及びその混合酸化物等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。特に酸化インジウムと酸化錫との混合酸化物（ＩＴＯ）を好適に用いることができる。
【００３７】
第１の導電性薄膜６の導電性材料には、必要に応じて、Ａｌ、Ｚｒ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｗ等の添加物を含有させることができる。
【００３８】
第１の透明導電膜６の膜厚としては、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好適である。第１の透明導電膜６の膜厚が５ｎｍ未満になると、膜の均一性が得られにくくなってしまい、第１の透明導電膜６の膜厚が５０ｎｍを超えると透明性の低下が起こってしまう。
【００３９】
本発明の密着層５及び第１の透明導電膜６の製造方法については特に限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の真空成膜法を用いて好ましく製造することができる。
【００４０】
図４に示すように、本発明の実施の形態に係るタッチパネル１１は、透明基材２の一方の面にクッション層３、クッション層３上にハードコート層４、透明基材２のもう一方の面に密着層５、密着層５上に第１の透明導電膜６を備える透明導電性フィルム１、透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜６にスペーサ９を介して対向配置された第２の透明導電膜７及び基板８を備えている。
【００４１】
本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、タッチパネルの中でも抵抗膜方式のタッチパネルに好適に用いることができる。抵抗膜方式のタッチパネル１１にあっては、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜６と対向配置される第２の透明導電膜７と基板８とを備えている。第１の透明導電膜６と第２の透明導電膜７とは、スペーサ９により接触しない距離が保たれる。透明導電性フィルム１のハードコート層４側が、タッチパネル１１の前面となり、ペン１０により文字等が入力される。
【００４２】
本発明の実施の形態に係るタッチパネル１１において、ペン１０とハードコート層４とがタッチしていない状態では、スペーサ９により２枚の電極（第１の透明導電膜６と第２の透明導電膜７）が接触していないために電流は流れない。一方、ペン１０によりハードコート層４をタッチすると、圧力によりハードコート層４がたわみ、基板８（ガラス面）側の電極（第２の透明導電膜７）と接触して電流が流れる。このとき、透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜６と基板８の第２の透明導電膜７との抵抗による分圧比を測定することで、ペン９により入力された位置を検出することができる。
【００４３】
透明導電性フィルム１の材料は前述しているために省略し、基板８及び第２の透明導電膜７の材料について述べることにする。基板８の材料は、ガラスに限らず透明であれば使用でき、さらに、前述した透明基材２と同じ材料及び同じ形成方法を用いることができる。第２の透明導電膜７は、第１の透明導電膜６と同一材料及び同一製造方法を用いることができ、さらに、第２の透明導電膜７の膜厚は第１の透明導電膜６と同一にしてもよい。
【００４４】
なお、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、ハードコート層４の表面に他の機能層を備えてもよい。他の機能層としては、例えば、反射防止層、防汚層を挙げることができる。
【実施例１】
【００４５】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
【００４６】
まず、図１に示すように透明導電膜性フィルム１の透明基材２には、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。
【００４７】
次に、透明基材２上の一方の面にクッション層３を形成した。クッション層３は、新中村化学工業株式会社製、商品名「Ｕ−２ＰＰＡ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー９０７を５重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚１０μｍになるように塗布、乾燥させ、４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し半硬化させて形成した。
【００４８】
次に、クッション層３上にハードコート層４を形成した。ハードコート層４は、日本合成化学社製、商品名「１７００Ｂ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー１８４を３重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、ダロキュアーＴＰＯを２重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚５μｍになるように塗布、乾燥させ、４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して形成した。
【００４９】
次に、透明基材２のもう一方の面（クッション層３とは反対側）に密着層５を形成した。密着層５は、酸化珪素を用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。
【００５０】
次に、密着層５上に第１の透明導電膜６を形成した。第１の透明導電膜６は、酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるＩＴＯを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。
【００５１】
［比較例１］
図２に示すように、第１の透明導電膜６を、透明基材２のもう一方の面（クッション層３と反対側）に直接成膜することにより形成した以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。
【００５２】
［比較例２］
まず、図３に示すように透明導電膜性フィルム１の透明基材２には、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。
【００５３】
次に、透明基材２の一方の面にハードコート層４を形成した。ハードコート層４は、日本合成化学社製、商品名「１７００Ｂ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー１８４を３重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、ダロキュアーＴＰＯを２重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚１５μｍになるように塗布、乾燥させ、４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して形成した。
【００５４】
次に、透明基材２のもう一方の面（ハードコート層４とは反対側）に第１の透明導電膜６を形成した。第１の透明導電膜６は、酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるＩＴＯを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。
【００５５】
以上の実施例及び比較例により形成した透明導電膜性フィルム１を用いて、図４に示すように、タッチパネル１１を形成して、ペン書き耐久性の評価を行った。ペン書きのペン１０には、ポリアセタールからなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンを用いて、ハードコート層４の上面から、プロッターにより２２０ｇ加重して、アからンまでのカタカナ文字を１０万字の筆記を行い、ペン書き前の抵抗値Ｒｏとペン書き後の抵抗値Ｒとの比Ｒ／Ｒｏで評価を行った。その結果を表１に示す。
【００５６】
以上の実施例及び比較例により形成した透明導電膜性フィルム１を用いて、図４に示すように、タッチパネル１１を形成して、屈曲耐久性の評価を行った。屈曲耐久性は透明導電膜を外側にして、φ５ｍｍの円柱状の棒に２００ｇの加重をかけて１分間静止した後、元に戻して抵抗値Ｒを測定し、屈曲前の抵抗値Ｒｏとの比Ｒ／Ｒｏの値で評価を行った。その結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
2009218034.tif 000003
【００５８】
表１に示す結果から、クッション性のある層を有する実施例１及び比較例１の構成の透明導電性フィルム１は、クッション性のある層の無い比較例２と比べ、ペン書き耐久性に優れていることがわかる。また、密着層５を有する実施例１は、密着層５を持たない比較例１及び比較例２に比べて屈曲耐久性が優れており、フレキシブル性を向上することができた。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルムを示す概略断面図である。
【図２】比較例１の透明導電性フィルムを示す概略断面図である。
【図３】比較例２の透明導電性フィルムを示す概略断面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るタッチパネルを示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  透明導電性フィルム
２  透明基材
３  クッション層
４  ハードコート層
５  密着層
６  第１の透明導電膜
７  第２の透明導電膜
８  基板
９  スペーサ
１０  ペン
１１  タッチパネル
【図１】
2009218034.tif 000004
【図２】
2009218034.tif 000005
【図３】
2009218034.tif 000006
【図４】
2009218034.tif 000007