(57)【要約】【課題】基板に流動性材料を塗布する塗布装置において、複数の吐出口からの流動性材料の吐出により基板上に塗布された流動性材料の複数のラインの乾燥後における断面形状を均一化する。【解決手段】塗布装置１は、基板９に有機ＥＬ液を吐出する複数のノズル１７、および、複数のノズル１７よりも基板９の副走査方向における移動方向前側に位置する光照射部１９を備える。塗布装置１では、複数のノズル１７の主走査方向への移動時に吐出口から吐出されて基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のラインが流動性を有する間に、光照射部１９から当該複数のラインの全体に光を照射して乾燥を促進することにより、有機ＥＬ液の複数のラインの乾燥速度の均一性を向上することができる。その結果、複数の吐出口からの有機ＥＬ液の吐出により基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のラインの乾燥後における断面形状を均一化することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板の前記主面に向けて流動性材料を連続的に吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
前記吐出機構に対して前記副走査方向における相対位置が固定され、前記複数の吐出口から吐出された前記流動性材料が流動性を有する間に前記流動性材料に光を照射して前記流動性材料の乾燥を促進する光照射部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記光照射部からの光の前記基板上における照射領域が、前記複数の吐出口よりも前記基板の前記副走査方向への相対移動方向前側において、または、前記副走査方向において前記複数の吐出口と重なる位置にて、前記基板の前記主走査方向の幅全体に亘ることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項２に記載の塗布装置であって、
前記吐出機構が前記主走査方向に１回移動することにより前記基板上に形成される前記流動性材料の複数のラインの全体が、前記基板の前記副走査方向への１回の相対移動が行われることにより前記照射領域に含まれることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記光照射部が、前記吐出機構に固定されることを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項４に記載の塗布装置であって、
前記光照射部が、前記吐出機構の前記主走査方向における両側から前記基板に光を照射することを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記光照射部からの光の波長が、３８０ｎｍ以上であることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項６に記載の塗布装置であって、
前記光照射部からの光の波長が、７８０ｎｍ以上であることを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項９】
基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
ａ）基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板の前記主面に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ、前記複数の吐出口を前記副走査方向に垂直な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、
ｂ）前記基板を前記副走査方向に前記複数の吐出口に対して相対的に移動する工程と、
ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程と、
ｄ）前記ａ）工程ないし前記ｃ）工程と並行して、前記複数の吐出口から吐出された前記流動性材料が流動性を有する間に前記流動性材料に光を照射して前記流動性材料の乾燥を促進する工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の塗布方法であって、
前記ｄ）工程において、前記基板上における前記光の照射領域が、前記複数の吐出口よりも前記基板の前記副走査方向への相対移動方向前側において、または、前記副走査方向において前記複数の吐出口と重なる位置にて、前記基板の前記主走査方向の幅全体に亘ることを特徴とする塗布方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の塗布方法であって、
前記ｄ）工程において、前記複数の吐出口が前記主走査方向に１回移動することにより前記基板上に形成される前記流動性材料の複数のラインの全体が、前記基板の前記副走査方向への１回の相対移動が行われることにより前記照射領域に含まれることを特徴とする塗布方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の塗布方法であって、
前記ｄ）工程において、前記基板上における前記光の照射領域が、前記複数の吐出口に対して相対的に固定されていることを特徴とする塗布方法。
【請求項１３】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の塗布方法であって、
前記光の波長が、３８０ｎｍ以上であることを特徴とする塗布方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の塗布方法であって、
前記光の波長が、７８０ｎｍ以上であることを特徴とする塗布方法。
【請求項１５】
請求項９ないし１４のいずれかに記載の塗布方法であって、
前記流動性材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含むことを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に流動性材料を塗布する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機ＥＬ材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ表示装置の製造では、ガラス基板（以下、単に「基板」という。）に対して、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路の形成、陽極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）の塗布、加熱処理による有機ＥＬ層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の製造において、正孔輸送液または有機ＥＬ液を基板に塗布する装置の１つとして、特許文献１に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを主走査方向に移動するとともに、主走査方向へのノズルの移動が行われる毎に基板を副走査方向にステップ移動することにより、基板上の塗布領域に形成された複数の隔壁間の溝に流動性材料をストライプ状に塗布する装置が知られている。
【０００４】
特許文献１の塗布装置では、基板が載置されるステージにヒータが設けられることにより、基板に塗布された処理液の溶剤の乾燥、蒸発が促進され、処理液が流動しない程度に硬化する。これにより、基板の搬送時に基板上の塗布物の膜厚が変動してしまうことが防止される。
【０００５】
一方、特許文献２では、有機ＥＬ表示装置用の基板上において格子状の隔壁に囲まれて２次元マトリクス状に配列された微小な矩形状の画素開口部に、溶液化された有機ＥＬ材料（以下、「インク」という。）の液滴をインクジェット方式により吐出配置する装置が開示されている。
【０００６】
インクジェット方式の装置では、各画素開口部に着弾したインクの表面形状は、インクの表面張力により基板表面に対して凸状（すなわち、インク表面のうち、隔壁と接する周囲の部位よりも中央部が高い状態）となる。そして、インクが自然乾燥して溶媒がインクから次第に蒸発すると、各画素開口部においてメニスカス形状（すなわち、中央部が窪んでいる形状）を有する有機ＥＬ材料の膜が形成される、このように、各画素開口部における有機ＥＬ材料の膜厚が中央部と周囲とで大きく異なると、基板に電界を印加した場合に膜厚の薄い中央部のみが発光し、周囲では発光が生じない恐れがある。
【０００７】
そこで、特許文献２では、インクの液滴を吐出するノズルと共に移動する赤外線ヒータを設け、当該ヒータにより各画素開口部に配置された直後のインクを加熱して迅速に乾燥することにより、各画素開口部の中央部と周囲とにおける有機ＥＬ材料の膜厚差を緩和することが図られている。
【特許文献１】特開２００６−１６４９０５号公報
【特許文献２】特開２００４ー１６５１４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、特許文献１のような塗布装置では、流動性材料が塗布された基板上において、流動性材料の各ラインから溶媒成分が蒸発し、これらのラインが塗布された順に乾燥して画素形成材料が基板上に定着していく。このとき、流動性材料の乾燥に要する時間が他のラインと異なるラインがあると、当該ライン中における画素形成材料の分散状態が他のラインと異なった状態で乾燥が終了するため、当該ラインの乾燥により基板上に定着する画素形成材料の断面形状が、他のラインの乾燥により基板上に定着する画素形成材料の断面形状と異なってしまう。
【０００９】
特許文献１の塗布装置では、基板のステップ移動方向の後側には流動性材料が塗布されていないため、複数のノズルのうち、ステップ移動方向（すなわち、副走査方向）に関して最も後側に位置するノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲では、他のノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲に比べて雰囲気中の溶媒成分の濃度が低くなってしまう。
【００１０】
このため、最も後側のノズルにより塗布された流動性材料のラインが、他のノズルにより塗布された流動性材料のラインよりも早く乾燥し、これにより、基板上に定着する画素形成材料の断面形状が他のラインと異なってしまう。その結果、基板上に塗布された流動性材料の複数のラインの乾燥後の断面形状が不均一となって塗布ムラが発生し、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう場合がある。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に流動性材料を塗布する塗布装置において、複数の吐出口からの流動性材料の吐出により基板上に塗布された流動性材料の複数のラインの乾燥後における形状を均一化することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板の前記主面に向けて流動性材料を連続的に吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、前記吐出機構に対して前記副走査方向における相対位置が固定され、前記複数の吐出口から吐出された前記流動性材料が流動性を有する間に前記流動性材料に光を照射して前記流動性材料の乾燥を促進する光照射部とを備える。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記光照射部からの光の前記基板上における照射領域が、前記複数の吐出口よりも前記基板の前記副走査方向への相対移動方向前側において、または、前記副走査方向において前記複数の吐出口と重なる位置にて、前記基板の前記主走査方向の幅全体に亘る。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の塗布装置であって、前記吐出機構が前記主走査方向に１回移動することにより前記基板上に形成される前記流動性材料の複数のラインの全体が、前記基板の前記副走査方向への１回の相対移動が行われることにより前記照射領域に含まれる。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記光照射部が、前記吐出機構に固定される。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の塗布装置であって、前記光照射部が、前記吐出機構の前記主走査方向における両側から前記基板に光を照射する。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、前記光照射部からの光の波長が、３８０ｎｍ以上である。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の塗布装置であって、前記光照射部からの光の波長が、７８０ｎｍ以上である。
【００１９】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む。
【００２０】
請求項９に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板の前記主面に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ、前記複数の吐出口を前記副走査方向に垂直な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、ｂ）前記基板を前記副走査方向に前記複数の吐出口に対して相対的に移動する工程と、ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程と、ｄ）前記ａ）工程ないし前記ｃ）工程と並行して、前記複数の吐出口から吐出された前記流動性材料が流動性を有する間に前記流動性材料に光を照射して前記流動性材料の乾燥を促進する工程とを備える。
【００２１】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の塗布方法であって、前記ｄ）工程において、前記基板上における前記光の照射領域が、前記複数の吐出口よりも前記基板の前記副走査方向への相対移動方向前側において、または、前記副走査方向において前記複数の吐出口と重なる位置にて、前記基板の前記主走査方向の幅全体に亘る。
【００２２】
請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載の塗布方法であって、前記ｄ）工程において、前記複数の吐出口が前記主走査方向に１回移動することにより前記基板上に形成される前記流動性材料の複数のラインの全体が、前記基板の前記副走査方向への１回の相対移動が行われることにより前記照射領域に含まれる。
【００２３】
請求項１２に記載の発明は、請求項９に記載の塗布方法であって、前記ｄ）工程において、前記基板上における前記光の照射領域が、前記複数の吐出口に対して相対的に固定されている。
【００２４】
請求項１３に記載の発明は、請求項９ないし１２のいずれかに記載の塗布方法であって、前記光の波長が、３８０ｎｍ以上である。
【００２５】
請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の塗布方法であって、前記光の波長が、７８０ｎｍ以上である。
【００２６】
請求項１５に記載の発明は、請求項９ないし１４のいずれかに記載の塗布方法であって、前記流動性材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む。
【発明の効果】
【００２７】
本発明では、複数の吐出口からの流動性材料の吐出により基板上に塗布された流動性材料の複数のラインの乾燥後における形状を均一化することができる。また、請求項２および１０の発明では、塗布装置の構造を簡素化することができる。さらに、請求項３ないし５、並びに、請求項１１および１２の発明では、複数の吐出口からの流動性材料の吐出に対する光の影響を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る塗布装置１の構成を示す平面図であり、図２は塗布装置１の正面図（図１中の（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向を向いてみた図）である。塗布装置１は、平面表示装置用のガラス基板９（以下、単に「基板９」という。）に、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置１において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板９に、揮発性の溶媒、および、一の色の発光材料として基板９上に付与される有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。
【００２９】
塗布装置１は、図２に示すように、基板９の（−Ｚ）側の主面に当接して基板９を保持する基板保持部１１を備え、図１および図２に示すように、基板保持部１１を基板９の（＋Ｚ）側の主面９０に平行な所定の方向（すなわち、図１および図２中のＹ方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動するとともに垂直方向（すなわち、Ｚ方向）に向く軸を中心として回転する基板移動機構１２を備える。
【００３０】
基板９の（＋Ｚ）側の主面９０（以下、「上面９０」という。）上の塗布領域９１（図１中において細線の矩形にて示す。）には、それぞれが図１中のＸ方向に伸びる複数の隔壁がＹ方向に一定のピッチ（例えば、１００〜１５０マイクロメートル（μｍ）のピッチ）にて配列形成されている。
【００３１】
図１および図２に示す塗布装置１は、また、基板保持部１１（図２参照）に保持された基板９の上面９０に向けて流動性材料を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板９の上面９０に平行かつ副走査方向に垂直な方向（すなわち、図１および図２中のＸ方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構１５、および、塗布ヘッド１４の移動方向（すなわち、Ｘ方向）に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６を備え、ヘッド移動機構１５および受液部１６は、図示省略のフレームに固定されている。
【００３２】
塗布装置１では、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が、塗布ヘッド１４を基板９に対して主走査方向に相対的に移動する（すなわち、主走査する）とともに基板９を塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動する（すなわち、副走査する）移動機構となる。
【００３３】
図１および図２に示すように、塗布ヘッド１４は複数（本実施の形態では、４本）のノズル１７を備える。各ノズル１７の（−Ｚ）側の端面には吐出口（図２中では２つのノズル１７の吐出口のみに符号１７１を付している。）が形成され、複数の吐出口１７１から同一種類の有機ＥＬ液が連続的に吐出される。４本のノズル１７は、Ｘ方向（すなわち、主走査方向）に略直線状に配列されるとともにＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。塗布装置１では、複数のノズル１７のＹ方向の位置が個別に調整可能とされており、４本のノズル１７の吐出口１７１は副走査方向に関して等間隔にて配列される。互いに隣接する２本のノズル１７の吐出口１７１の副走査方向の中心間距離は、基板９上の隔壁のＹ方向のピッチの３倍に等しくされる。なお、図１では、図示の都合上、４本のノズル１７の副走査方向の間隔を実際よりも大きく描いている（図５．Ａおよび図５．Ｂにおいても同様）。
【００３４】
塗布装置１は、さらに、図１および図２に示すように、塗布ヘッド１４の複数のノズル１７よりも（＋Ｙ）側にて上記フレームに固定されるとともに基板９の上面９０の一部に光を照射する光照射部１９を備え、また、図１に示すように、塗布ヘッド１４に流動性材料を供給する流動性材料供給部１８、並びに、塗布装置１の各構成を制御する制御部２を備える。上述のように、ヘッド移動機構１５および光照射部１９は、フレームを介して互いに固定されているため、光照射部１９は、塗布ヘッド１４に対して副走査方向における相対位置が固定されているといえる。
【００３５】
塗布装置１では、光照射部１９からの光の基板９上における照射領域が、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１よりも（＋Ｙ）側（すなわち、基板９の副走査方向への相対移動方向前側）において、基板９の主走査方向の幅全体に亘る。本実施の形態では、光照射部１９から基板９へと照射される光は、波長が７８０ｎｍ以上である赤外光とされる。
【００３６】
図３は、主走査方向に垂直な基板９の断面を示す図である。基板９の上面９０に有機ＥＬ液が塗布される際には、塗布ヘッド１４の各ノズル１７（図１および図２参照）から、基板９の上面９０上において互いに隣接する２つの隔壁９２間の領域９３（すなわち、主走査方向に伸びる領域であり、以下、「線状領域９３」という。）に有機ＥＬ液が吐出されて有機ＥＬ液のライン（すなわち、線状要素）９４が形成される。
【００３７】
塗布装置１では、副走査方向に一定のピッチ（隔壁のピッチに等しいピッチであり、以下、「領域ピッチ」という。）にて配列される複数の線状領域９３において、副走査方向に２つおきに存在する線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布される。すなわち、塗布装置１にて有機ＥＬ液が塗布される２つの線状領域９３の間には、他の塗布装置により他の種類の有機ＥＬ液が塗布される２つの線状領域９３が挟まれている。
【００３８】
次に、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布について説明する。図４は、有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図であり、図５．Ａおよび図５．Ｂは、有機ＥＬ液の塗布途上の基板９を塗布ヘッド１４と共に示す平面図である。図１および図２に示す塗布装置１では、基板９が基板保持部１１に載置されて保持されると、基板移動機構１２が駆動されて基板９が移動および回転し、図１中に実線にて示す塗布開始位置に位置する（ステップＳ１１）。このとき、塗布ヘッド１４は、副走査方向に関して基板９の（＋Ｙ）側の端部近傍であり、主走査方向において、図１および図２中に実線にて示す待機位置（すなわち、図１および図２中の（−Ｘ）側の受液部１６の上方）に予め配置されている。
【００３９】
続いて、制御部２により塗布ヘッド１４が制御されて、４本のノズル１７から有機ＥＬ液の吐出が開始され（ステップＳ１２）、さらに、ヘッド移動機構１５が制御されて塗布ヘッド１４の主走査方向の移動（すなわち、図２中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）方向への主走査）が開始される。これにより、複数の吐出口１７１のそれぞれから基板９の上面９０に向けて有機ＥＬ液を一定の流量にて連続的に（途切れることなく）吐出しつつ、塗布ヘッド１４（すなわち、複数の吐出口１７１）が主走査方向に連続的に一定の速度にて移動し、図３に示すように、基板９の塗布領域９１の４個の線状領域９３に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布されて４本のライン９４が形成される（ステップＳ１３）。
【００４０】
そして、塗布ヘッド１４が、図１および図２中に二点鎖線にて示す待機位置（すなわち、（＋Ｘ）側の受液部１６の上方）まで移動することにより、有機ＥＬ液によるストライプ状の４本のライン９４（図３参照）が基板９上に形成される。なお、図１中における塗布領域９１の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の非塗布領域（並びに、必要に応じて（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側の非塗布領域）は、図示省略のマスクにより覆われているため、基板９上の非塗布領域に有機ＥＬ液は塗布されない。
【００４１】
塗布ヘッド１４が待機位置まで移動すると基板移動機構１２が駆動され、基板９が、図５．Ａ中に二点鎖線にて示す位置から実線にて示す位置へと、（＋Ｙ）方向（すなわち、副走査方向）に領域ピッチの１２倍に等しい距離だけ移動する（ステップＳ１４）。このとき、塗布ヘッド１４では、４本のノズル１７から受液部１６（図１参照）に向けて有機ＥＬ液が連続的に吐出されている。
【００４２】
基板９上では、基板９の副走査方向への１回の相対移動が行われることにより、塗布ヘッド１４が主走査方向に１回移動することにより基板９上に形成された４本のライン９４（すなわち、直前のステップＳ１３において形成された４本のライン９４）の全体が、光照射部１９（図１および図２参照）から基板９に照射される光の照射領域１９１（図５．Ａにおいて二点鎖線にて示す。）に含まれる。そして、有機ＥＬ液の４本のライン９４に対して光照射部１９からの光が照射されてこれらのライン９４が加熱されることにより、流動性を有する有機ＥＬ液のライン９４の乾燥が促進される（ステップＳ１５）。なお、図５．Ａでは、図示の都合上、複数のライン９４の副走査方向の間隔を実際よりも大きく描いており、また、隔壁９２の図示を省略している（図５．Ｂ、図８、図１２．Ａおよび図１２．Ｂにおいても同様）。
【００４３】
副走査方向における基板９のステップ移動が終了すると、基板９が図１中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認される（ステップＳ１６）。そして、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ１３に戻って塗布ヘッド１４が４本のノズル１７から有機ＥＬ液を吐出しつつ基板９の（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向（すなわち、主走査方向）に移動することにより、基板９上の線状領域９３（図４参照）に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１３）。
【００４４】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の２回目の主走査の間（すなわち、上記の（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向への移動と並行して）、１回目の主走査により塗布された図５．Ａに示す有機ＥＬ液の４本のライン９４に対して光照射部１９（図１および図２参照）からの光が照射されてこれらのライン９４が加熱されることにより、流動性を有する有機ＥＬ液のライン９４の乾燥が促進され、図６の断面図に示すように、各ライン９４から溶媒が蒸発して各ライン９４に含まれる有機ＥＬ材料が基板９上に定着する。
【００４５】
塗布ヘッド１４の２回目の主走査が終了すると、基板９が図５．Ｂ中に二点鎖線にて示す位置から実線にて示す位置へと副走査方向に移動し、これにより、２回目の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のライン９４が、光照射部１９から基板９に照射される光の照射領域１９１に含まれる（ステップＳ１４）。そして、当該４本のライン９４に光が照射されてこれらのライン９４の乾燥が促進されるとともに基板９が塗布終了位置まで移動したか否かが確認される（ステップＳ１５，Ｓ１６）。
【００４６】
塗布装置１では、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向における移動、および、基板９の（＋Ｙ）側へのステップ移動が交互に繰り返される（すなわち、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１の主走査方向への移動が行われる毎に、基板９が塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１に対して副走査方向に相対的に移動される。）。また、塗布ヘッド１４の主走査と並行して、直前の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のライン９４（すなわち、塗布途上の４本のラインの（＋Ｙ）側に隣接する塗布完了後の４本のライン９４）に光が照射されて乾燥が促進され、さらに、基板９の副走査と並行して、照射領域１９１の基板９に対する副走査方向への相対移動が行われる（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。これにより、基板９上にて主走査方向に伸びるとともに副走査方向に一定のピッチ（すなわち、領域ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列された有機ＥＬ液の複数のライン９４が形成される。
【００４７】
そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、４本のノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が停止され（ステップＳ１７）、塗布装置１による基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、塗布装置１では、副走査方向に関し、基板９上において有機ＥＬ液の塗布が進行する方向（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動方向）は、基板移動機構１２による基板９の移動方向とは反対向きとなっている。
【００４８】
ところで、基板９上では、４本のノズル１７のうち中央近傍の２本のノズル１７により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなり、（＋Ｙ）側のノズル１７により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲においても、直前の塗布ヘッド１４の主走査にて最も（−Ｙ）側のノズル１７により塗布された有機ＥＬ液のラインの影響により、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなる。
【００４９】
しかしながら、（−Ｙ）側のノズル１７（すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向後側のノズルであり、以下、「後側ノズル」という。ただし、塗布ヘッドの相対移動方向に着目した場合、前側のノズルとなる。）により塗布された有機ＥＬ液のライン（以下、後側ノズルにより形成されるラインを「後側ライン」という。）の（−Ｙ）側には、他の有機ＥＬ液のラインは形成されておらず、（＋Ｙ）側にのみ、他のノズル１７により並行して塗布された有機ＥＬ液のラインが配置されることとなる。
【００５０】
このため、（−Ｙ）側の後側ノズルにより塗布された後側ラインの周囲では、他の３本のノズル１７により塗布されたラインの周囲と比べて有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が低くなる。正確には、後側ラインの周囲では、後側ラインの（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が、後側ラインの（＋Ｙ）側における濃度よりも低くなる。
【００５１】
ここで、仮に光照射部が設けられない塗布装置を想定すると、このような塗布装置（以下、「比較例の塗布装置」という。）では、有機ＥＬ液の４本のラインが自然乾燥する際に、後側ラインの（−Ｙ）側の部位が（＋Ｙ）側の部位よりも大幅に早く乾燥してしまう。そして、図７に示すように、半乾燥状態の有機ＥＬ材料にて形成される（−Ｙ）側の後側ライン９４ａにおいて、（−Ｙ）側の部位（角状の突起を含む部位。（＋Ｙ）側の部位において同様。）の膜厚と（＋Ｙ）側の部位の膜厚との差Ｄ１（以下、「縁部膜厚差」という。）が、縁部膜厚差がほぼ０となっている他のライン９４ｂに比べて大きくなり、複数のラインにおいて主走査方向に垂直な断面の形状である有機ＥＬ材料の分散状態が一定ではなくなる。
【００５２】
このように厚さに偏りがある有機ＥＬ材料の後側ライン９４ａが、塗布領域に周期的に（すなわち、４本毎に）形成された状態の塗布ムラを有する基板を、そのまま後工程において焼結処理して製品に使用すると、製品となった後の有機ＥＬ表示装置における表示の質が低下してしまう場合がある。なお、後側ラインでは、必ずしも同時に形成される他のライン側の部位の膜厚が当該部位とは反対側の部位の膜厚よりも小さくなる訳ではなく、比較例の塗布装置において塗布に用いられる有機ＥＬ液の種類によっては、同時に形成される他のライン側の部位の膜厚が当該部位とは反対側の部位の膜厚よりも大きくなることもある。
【００５３】
これに対し、第１の実施の形態に係る塗布装置１では、複数のノズル１７の吐出口１７１から吐出されて基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のライン９４が流動性を有する間に、当該複数のライン９４に光を照射して乾燥を促進することにより、塗布ヘッド１４の１回の主走査により同時に塗布された有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥速度の均一性を向上することができるとともに、（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）のノズル１７の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、複数の吐出口１７１からの有機ＥＬ液の吐出により基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状（すなわち、主走査方向に垂直な断面形状）を均一化することができる。
【００５４】
なお、有機ＥＬ液の複数のラインの乾燥を促進するという観点では、基板保持部の内部にヒータを設けることにより基板全体を均一に加熱することも考えられるが、基板保持部は、開放空間に設けられているため周囲の環境からの熱影響を受けやすく、また、副走査方向に移動することにより周囲に生じる空気流の影響を受けるため、基板全体を所定の温度に維持して塗布ムラを防止しようとすると装置の製造コストが増大してしまう。
【００５５】
ところで、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の基板に対する塗布では、仮に塗布ムラが発生すると、製品となった後の平面表示装置の表示の質が低下する恐れがある。本実施の形態に係る塗布装置１では、上述のように、流動性材料の複数のライン９４の乾燥後における断面形状を均一化することができるため、塗布装置１は、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の塗布に特に適しているといえる。
【００５６】
塗布装置１では、光照射部１９からの光の基板９上における照射領域１９１が基板９の主査方向の幅全体に亘っているため、光照射部１９を主走査方向に移動する構成が必要なく、塗布装置１の構造を簡素化することができる。さらに、基板９の塗布ヘッド１４に対する副走査方向の相対移動が、基板移動機構１２による基板９の移動により実現されているため、光照射部１９を副走査方向に移動する構成も必要なく、光照射部１９をフレームに固定することができ、塗布装置１の構造をより簡素化することができる。
【００５７】
また、塗布装置１では、光照射部１９からの光の基板９上における照射領域１９１が、複数のノズル１７の吐出口１７１よりも基板９の副走査方向への相対移動方向前側（すなわち、（＋Ｙ）側）にのみ位置することにより、ノズル１７に対する光照射部１９からの光の照射が防止される。これにより、複数のノズル１７の吐出口１７１からの有機ＥＬ液の吐出に対する光照射部１９からの光の影響（例えば、ノズル１７の温度上昇による有機ＥＬ液の粘度変化や吐出口１７１近傍における有機ＥＬ液の硬化）が防止され、有機ＥＬ液の塗布の質の低下が防止される。
【００５８】
さらに、塗布ヘッド１４の１回の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のライン９４が、当該１回の主走査の直後に行われる基板９の１回の副走査により光照射部１９からの光の照射領域１９１に含まれることにより、有機ＥＬ液の塗布から光の照射による乾燥促進開始までの時間を短くすることができる。その結果、有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状の均一性が向上される。
【００５９】
なお、光照射部１９からの光が複数のノズル１７に照射されたとしても有機ＥＬ液の吐出に対する光の影響がほとんどない場合には、光照射部１９からの光の基板９上における照射領域１９１は、図８に示すように、副走査方向において複数の吐出口１７１と重なる位置に位置してもよい。光照射部１９は、例えば、塗布ヘッド１４の移動経路の上方（すなわち、（＋Ｚ）側）に配置されて（−Ｚ）方向に向けて光を照射する。この場合、有機ＥＬ液の塗布から光の照射による乾燥促進開始までの時間をより短くすることができ、その結果、有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状の均一性がさらに向上される。なお、図８では、図の理解を容易とするために、塗布ヘッド１４の４本のノズル１７の吐出口１７１のみを示しており、また、図示の都合上、４つの吐出口１７１の副走査方向の間隔を実際よりも大きく描いている（図１２．Ａおよび図１２．Ｂにおいても同様）。
【００６０】
光照射部１９では、基板９に照射される光の波長が７８０ｎｍ以上とされることにより、波長が７８０ｎｍ未満とされる場合に比べて、光照射部１９からの熱放射が増大され、また、有機ＥＬ液による光の吸収の効率が向上されるため、照射領域１９１に含まれる有機ＥＬ液の複数のライン９４が効率良く加熱され、これらのライン９４の乾燥がより促進される。その結果、有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状の均一性がより向上される。
【００６１】
次に、本発明の第２の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図９は、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａの平面図であり、図１０は、塗布装置１ａの正面図である。図９および図１０に示すように、塗布装置１ａは、図１および図２に示す塗布装置１の光照射部１９に代えて、塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側（すなわち、主走査方向の両側）に固定される２つの光照射部１９ａを備える。塗布装置１ａのその他の構成は図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において対応する構成に同符号を付す。
【００６２】
図９および図１０に示す塗布装置１ａでは、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動による有機ＥＬ液の塗布の際に、塗布ヘッド１４と共にヘッド移動機構１５により主走査方向に移動する２つの光照射部１９ａにより、塗布ヘッド１４の主走査方向における両側から、基板９上における複数のノズル１７の吐出口１７１の移動経路に対応する領域の一部に光が照射される。
【００６３】
塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布は、第１の実施の形態（図４参照）とほぼ同様であり、図４中のステップＳ１３〜Ｓ１６に代えて、図１１に示すステップＳ２１〜Ｓ２３が行われる点のみが異なる。以下、塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布の流れについて説明する。図１２．Ａおよび図１２．Ｂは、有機ＥＬ液の塗布途上の基板９を複数のノズル１７の吐出口１７１と共に示す平面図である。
【００６４】
図９および図１０に示す塗布装置１ａでは、第１の実施の形態と同様に、基板９が塗布開始位置に位置し、塗布ヘッド１４の４本のノズル１７から有機ＥＬ液の吐出が開始される（図４：ステップＳ１１，Ｓ１２）。
【００６５】
続いて、塗布ヘッド１４が基板９の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）方向へと連続的に移動することにより、図１２．Ａに示すように、基板９上に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。このとき、図９および図１０に示す２つの光照射部１９ａは塗布ヘッド１４と共に（＋Ｘ）方向に移動し、塗布ヘッド１４の（−Ｘ）側の光照射部１９ａ（すなわち、２つの光照射部１９ａのうち、塗布ヘッド１４の主走査方向における相対移動方向の後側の光照射部１９ａ）からの光の照射領域１９１ａ（図１２．Ａ参照）が、複数のノズル１７の吐出口１７１から吐出されて基板９上に塗布された直後の有機ＥＬ液上を走査する。これにより、図１２．Ａに示すように、塗布途上の有機ＥＬ液の４本のライン９４において、吐出口１７１近傍の吐出直後の部位（すなわち、塗布直後の有機ＥＬ液）に光が照射されて乾燥が促進される（ステップＳ２１）。
【００６６】
そして、塗布ヘッド１４および光照射部１９ａが、図９および図１０中に二点鎖線にて示す待機位置まで移動することにより、有機ＥＬ液によるストライプ状の４本のライン９４（図１２．Ａ参照）が基板９上に形成される。次に、基板９が（＋Ｙ）方向に領域ピッチの１２倍に等しい距離だけステップ移動し（ステップＳ２２）、制御部２により、基板９が図９中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが確認される（ステップＳ２３）。
【００６７】
基板９が塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ２１に戻って塗布ヘッド１４が４本のノズル１７から有機ＥＬ液を吐出しつつ基板９の（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向に移動することにより、図１２．Ｂに示すように、基板９上に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。このとき、塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側の光照射部１９ａ（すなわち、２つの光照射部１９ａのうち、塗布ヘッド１４の主走査方向における相対移動方向の後側の光照射部１９ａ）からの光の照射領域１９１ａが、複数のノズル１７の吐出口１７１から吐出されて基板９上に塗布された直後の有機ＥＬ液上を走査する。これにより、塗布途上の有機ＥＬ液の４本のライン９４において、吐出口１７１近傍の吐出直後の部位（すなわち、塗布直後の有機ＥＬ液）に光が照射されて乾燥が促進される（ステップＳ２１）。
【００６８】
塗布ヘッド１４が（−Ｘ）側の待機位置に位置すると、基板９が（＋Ｙ）方向にステップ移動し、基板９が塗布終了位置まで移動したか否かが確認される（ステップＳ２２，Ｓ２３）。塗布装置１ａでは、基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４および光照射部１９ａの主走査方向における移動、並びに、基板９の（＋Ｙ）側へのステップ移動が交互に繰り返される（すなわち、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１、および、２つの光照射部１９ａの主走査方向への移動が行われる毎に、基板９が塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１、および、２つの光照射部１９ａに対して副走査方向に相対的に移動される。）（ステップＳ２１〜Ｓ２３）。これにより、基板９上にて主走査方向に伸びるとともに副走査方向に一定のピッチ（すなわち、領域ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列された有機ＥＬ液の複数のラインが形成される。
【００６９】
そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、４本のノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が停止され（図４：ステップＳ１７）、塗布装置１ａによる基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００７０】
塗布装置１ａでは、複数のノズル１７の吐出口１７１から吐出されて基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のライン９４に対し、当該複数のライン９４の塗布直後に（すなわち、有機ＥＬ液のライン９４が流動性を有する間に）光を照射してこれらのライン９４の乾燥が促進される。これにより、第１の実施の形態と同様に、有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥速度の均一性を向上することができるとともに、（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）のノズル１７の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、複数の吐出口１７１からの有機ＥＬ液の吐出により基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状（すなわち、主走査方向に垂直な断面形状）を均一化することができる。
【００７１】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、光照射部１９ａが塗布ヘッド１４に固定されており、塗布ヘッド１４と共に移動しつつ有機ＥＬ液に光を照射するため、ノズル１７に対する光照射部１９ａからの光の照射が防止される。これにより、複数のノズル１７の吐出口１７１からの有機ＥＬ液の吐出に対する光照射部１９ａからの光の影響（例えば、ノズル１７の温度上昇による有機ＥＬ液の粘度変化や吐出口１７１近傍における有機ＥＬ液の硬化）が防止され、有機ＥＬ液の塗布の質の低下が防止される。
【００７２】
また、塗布装置１ａでは、塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側（すなわち、主走査方向における両側）に光照射部１９ａが設けられ、複数の吐出口１７１の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側において基板９に光が照射される。これにより、塗布ヘッド１４の主走査方向における移動方向（すなわち、（＋Ｘ）方向または（−Ｘ）方向）に関わらず、塗布直後の有機ＥＬ液（すなわち、塗布途上の有機ＥＬ液のライン９４の塗布直後の部位）に対して光を照射することができる。その結果、有機ＥＬ液の塗布から光の照射による乾燥促進開始までの時間がより短縮され、有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状の均一性がさらに向上される。
【００７３】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００７４】
第１の実施の形態に係る塗布装置１では、基板９の１回の副走査により、当該副走査の直前の塗布ヘッド１４の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のラインに、光照射部１９からの光が照射されるが、光照射部１９からの光の照射は、複数のノズル１７の吐出口１７１から基板９上に塗布された有機ＥＬ液が流動性を有する間に当該有機ＥＬ液に対して行われるのであれば、必ずしも塗布直後の有機ＥＬ液のライン（すなわち、基板９上における（−Ｙ）側の４本のライン）のみに対して行われる必要はない。
【００７５】
例えば、照射領域の副走査方向の幅が有機ＥＬ液のラインの８本分にほぼ等しくされ、基板９の１回の副走査により、当該副走査の直前の塗布ヘッド１４の主走査、および、その１回前の主走査により塗布された有機ＥＬ液の８本のラインに、光照射部１９からの光が照射されてもよい。また、基板９の１回の副走査により、当該副走査の１回前の副走査の直前に行われた塗布ヘッド１４の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のラインに対して光の照射が行われてもよい。
【００７６】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、２つの光照射部１９ａのうち、塗布ヘッド１４の副走査方向における相対移動方向前側の光照射部１９ａ（すなわち、塗布ヘッド１４が（＋Ｘ）方向に移動している場合には、塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側の光照射部１９ａであり、塗布ヘッド１４が（−Ｘ）方向に移動している場合には、塗布ヘッド１４の（−Ｘ）側の光照射部１９ａ）において、基板９に対する光の照射が停止されてもよい。このように、有機ＥＬ液の乾燥に寄与しない方の光照射部１９ａからの光の照射を停止することにより、塗布装置１ａの駆動に要するコストを低減することができる。
【００７７】
塗布装置１ａでは、光照射部１９ａからの光の照射は、基板９上に塗布された有機ＥＬ液が流動性を有する間に当該有機ＥＬ液に対して行われるのであれば、必ずしも塗布途上の有機ＥＬ液のラインのみに対して行われる必要はない。例えば、２つの光照射部１９ａに代えて、塗布ヘッド１４の（＋Ｙ）側（すなわち、基板９の副走査方向における相対移動方向前側）に１つの光照射部が固定され、塗布ヘッド１４の１回の主走査により、当該主走査の直前の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のライン上を、光照射部からの光の照射領域が走査されてもよい。
【００７８】
また、２つの光照射部１９ａに代えて、照射領域の副走査方向の幅が有機ＥＬ液のラインの８本分にほぼ等しい１つの光照射部が、塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側または（−Ｘ）側に固定され、塗布ヘッド１４の１回の主走査により、当該主走査の直前の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のライン（および、光照射部が固定される側とは反対方向に塗布ヘッド１４が移動している場合には、塗布途上の有機ＥＬ液の４本のライン）に光が照射されてもよい。なお、当該光照射部が塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の双方に固定されることにより、塗布ヘッド１４の主走査方向における移動方向に関わらず、塗布途上の有機ＥＬ液に対して光を照射することができるため、この場合、有機ＥＬ液の複数のライン９４の乾燥後における形状の均一性がさらに向上される。
【００７９】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、塗布ヘッド１４の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側に固定される２つの光照射部１９ａに加えて、第１の実施の形態に係る塗布装置１の光照射部１９と同様に、塗布ヘッド１４の複数のノズル１７の（＋Ｙ）側にて、ヘッド移動機構１５が固定されたフレームに固定される（すなわち、塗布ヘッド１４に対して副走査方向における相対位置が固定されている）光照射部が設けられてもよい。これにより、塗布ヘッド１４の主走査による塗布途上の有機ＥＬ液の４本のライン、および、当該主走査の直前の主走査により塗布された有機ＥＬ液の４本のラインに光が照射される。
【００８０】
上記実施の形態に係る塗布装置では、基板９上に塗布された有機ＥＬ液の乾燥を促進することができるのであれば、光照射部から基板９上の有機ＥＬ液に照射される光の波長は７８０ｎｍ以上には限定されず、例えば、波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の可視光が基板９に照射されてもよい。有機ＥＬ液に含まれる有機ＥＬ材料（特に、分子量が１００００以上のいわゆる高分子有機ＥＬ材料）は、紫外光（すなわち、波長３８０ｎｍ未満の光）の照射により変質してしまうものが多いため、光照射部１９から基板９に照射される光の波長が３８０ｎｍ以上とされることにより、有機ＥＬ材料の変質を防止することができる。なお、後述するように、有機ＥＬ材料以外の塗布材料を含む流動性材料が基板に塗布される場合等、流動性材料に対する紫外光の影響を考慮する必要がない場合には、光照射部から基板上の流動性材料に照射される光の波長が３８０ｎｍ未満とされてもよい。
【００８１】
塗布装置では、例えば、塗布ヘッド１４に３本のノズル１７が設けられ、これらのノズル１７から赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。また、塗布ヘッド１４では、流動性材料を吐出するノズル１７は２本以上とされるのであれば、他の本数とされてもよい。
【００８２】
さらには、これらのノズル１７から吐出される有機ＥＬ液は、隔壁が設けられていない塗布領域９１にストライプ状に塗布されてもよい。この場合、主走査方向に伸びる複数の線状領域が、最終製品である表示装置の画素の間隔に従って副走査方向に一定の領域ピッチにて仮想的に基板９の上面９０上に配列設定されていると捉えた上で、塗布装置による流動性材料の塗布が行われる。
【００８３】
塗布装置では、正孔輸送材料を塗布材料として含む流動性材料が基板９に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。
【００８４】
また、塗布装置では、基板移動機構１２による基板９および基板保持部１１の移動に代えて、塗布ヘッド１４が副走査方向に移動することにより、副走査方向における基板９の塗布ヘッド１４に対する相対移動が行われてもよい。この場合、第１の実施の形態に係る塗布装置１では、光照射部１９が塗布ヘッド１４と共に副走査方向に移動する。また、ヘッド移動機構１５による塗布ヘッド１４の移動に代えて、基板９および基板保持部１１が主走査方向に移動することにより、主走査方向における塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動が行われてもよい。
【００８５】
塗布装置は、１枚の基板から複数の有機ＥＬ表示装置を製造する（いわゆる、多面取りを行う）場合にも利用できる。また、塗布装置は、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の他の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。さらには、塗布装置は、平面表示装置用の基板以外に、半導体基板等の様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】第１の実施の形態に係る塗布装置を示す平面図である。
【図２】塗布装置を示す正面図である。
【図３】基板の断面を示す図である。
【図４】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図５．Ａ】有機ＥＬ液の塗布途上の基板を示す平面図である。
【図５．Ｂ】有機ＥＬ液の塗布途上の基板を示す平面図である。
【図６】基板の断面を示す図である。
【図７】比較例の塗布装置により有機ＥＬ液が塗布された基板の断面を示す図である。
【図８】有機ＥＬ液の塗布途上の基板を示す平面図である。
【図９】第２の実施の形態に係る塗布装置を示す平面図である。
【図１０】塗布装置を示す正面図である。
【図１１】有機ＥＬ液の塗布の流れの一部を示す図である。
【図１２．Ａ】有機ＥＬ液の塗布途上の基板を示す平面図である。
【図１２．Ｂ】有機ＥＬ液の塗布途上の基板を示す平面図である。
【符号の説明】
【００８７】
１，１ａ    塗布装置
９    基板
１１    基板保持部
１２    基板移動機構
１４    塗布ヘッド
１５    ヘッド移動機構
１９，１９ａ    光照射部
９０    上面
９４    ライン
１７１    吐出口
１９１，１９１ａ    照射領域
Ｓ１１〜Ｓ１７，Ｓ２１〜Ｓ２３    ステップ
【図１】
2009123585.tif 000003
【図２】
2009123585.tif 000004
【図３】
2009123585.tif 000005
【図４】
2009123585.tif 000006
【図５．Ａ】
2009123585.tif 000007
【図５．Ｂ】
2009123585.tif 000008
【図６】
2009123585.tif 000009
【図７】
2009123585.tif 000010
【図８】
2009123585.tif 000011
【図９】
2009123585.tif 000012
【図１０】
2009123585.tif 000013
【図１１】
2009123585.tif 000014
【図１２．Ａ】
2009123585.tif 000015
【図１２．Ｂ】
2009123585.tif 000016