(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを好適に検査し得る方法を提供する。【解決手段】液晶表示装置の製造方法は、液晶層３０中に重合性組成物を含む液晶表示パネル１００ａを複数枚含むマザーパネル１００Ａを用意する工程（Ａ）と、液晶表示パネル１００ａの液晶層３０に所定の電圧が印加された状態で液晶層３０に光を照射することによって、液晶層３０中の重合性組成物を重合してポリマー構造物を形成する工程（Ｂ）と、ポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを検査する工程（Ｃ）とを包含する。工程（Ｃ）は、第１の領域Ｒ１内の画素の表示特性と、第２の領域Ｒ２内の画素の表示特性とを測定することによって行われる。【選択図】図８
2009192715.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた垂直配向型の液晶層とを含む液晶表示パネルを備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有し、
前記液晶表示パネルは、前記液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有する、液晶表示装置の製造方法であって、
（Ａ）前記液晶層中に重合性組成物を含む前記液晶表示パネルを複数枚含むマザーパネルを用意する工程であって、
（Ａ１）前記第１基板を複数枚含む第１マザー基板と、前記第２基板を複数枚含む第２マザー基板とを用意する工程と、
（Ａ２）前記第１マザー基板と前記第２マザー基板とを貼り合わせる工程とを包含する工程と、
（Ｂ）前記液晶表示パネルの前記液晶層に所定の電圧が印加された状態で前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中の重合性組成物を重合して前記ポリマー構造物を形成する工程と、
（Ｃ）前記ポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを検査する工程と、
を包含し、
前記工程（Ｂ）は、前記マザーパネルに含まれる複数枚の前記液晶表示パネルのうちの少なくとも１枚の液晶表示パネルについて、所定の第１の領域内の前記液晶層に光が照射され、前記第１の領域と異なる所定の第２の領域内の液晶層には光が照射されないように行われ、
前記工程（Ｃ）は、前記第１の領域内の画素の表示特性と、前記第２の領域内の画素の表示特性とを測定することによって行われる、液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ｃ）は、前記第１の領域内の画素の電圧−透過率特性と、前記第２の領域内の画素の電圧−透過率特性とを測定することによって行われる、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記工程（Ｂ）は、前記少なくとも１枚の液晶表示パネルの前記第２の領域を遮光マスクで覆った状態で行われる、請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記工程（Ｃ）における検査結果に応じて前記工程（Ｂ）が再び行われる、請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記工程（Ｂ）と前記工程（Ｃ）との間に、
（Ｄ）前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程をさらに包含し、
前記工程（Ｄ）も、前記少なくとも１枚の液晶表示パネルについて、前記第１の領域内の前記液晶層に光が照射され、前記第２の領域内の液晶層には光が照射されないように行われる、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に、ＰＳＡ方式の液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータのディスプレイや携帯情報端末機器の表示部に用いられる表示装置として、薄型軽量の液晶表示装置が利用されている。しかしながら、従来のツイストネマチック型（ＴＮ型）やスーパーツイストネマチック型（ＳＴＮ型）の液晶表示装置は、視野角が狭いという欠点を有しており、それを解決するために様々な技術開発が行われている。
【０００３】
視野角特性が改善された液晶表示装置として、垂直配向型の液晶層を備えた配向分割型液晶表示装置が知られている。このような液晶表示装置は、ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶表示装置と呼ばれる。ＶＡモードの１つとして、特許文献１には、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モードが開示されている。ＭＶＡモードでは、液晶層を介して対向する一対の基板のそれぞれに、液晶分子の配向を規制する配向規制構造が設けられる。配向規制構造は、具体的には、凸部や、電極に形成されたスリットである。凸部やスリットのような配向規制構造が設けられていることにより、液晶層に電圧が印加されたときに、液晶分子の傾斜する方位が互いに異なる複数の領域が形成されるので、視野角特性が向上する。
【０００４】
また、特許文献２には、他のＶＡモードとして、ＣＰＡ（Continuous Pinwheel Alignment）モードが提案されている。ＣＰＡモードでは、液晶層を介して対向する一対の電極の一方に開口部や切欠き部を形成し、開口部や切欠き部上に生成される斜め電界を用いて液晶分子を放射状に傾斜配向させることによって、広視野角を実現する。
【０００５】
さらに、特許文献３には、ＣＰＡモードにおける液晶分子の放射状傾斜配向を安定化させる技術が開示されている。この技術によれば、一方の基板に設けた配向規制構造（斜め電界を生成する電極の開口部や切欠き部）によって形成される放射状傾斜配向が、他方の基板に設けた配向規制構造（例えば凸部）によって安定化される。
【０００６】
一方、液晶分子のプレチルト角およびプレチルト方向を規定するためのポリマー構造物を形成する方式が特許文献４や特許文献５などに提案されている。この方式はＰＳＡ（Polymer-Sustained Alignment）方式と呼ばれる。ポリマー構造物は、予め液晶層に混入しておいた重合性組成物を光重合や熱重合することによって形成される。このようなポリマー構造物をＶＡモードの液晶表示装置に設けることにより、配向の安定性や応答特性を向上させることができる。
【０００７】
特許文献６には、ＰＳＡ方式の液晶表示装置を製造する際にポリマー構造物が形成されていることを検査する手法が記載されている。特許文献６に記載されている手法では、紫外線の照射により重合を行った後の液晶表示パネルを分解して配向膜上をアセトンで洗浄し、ポリマーが配向膜上に残っていることを確認する。また、ポリマー構造物の形成を検査する手法としては、液晶分子のプレチルト角を測定する手法も考えられる。
【特許文献１】特開平１１−２４２２２５号公報
【特許文献２】特開２００３−４３５２５号公報
【特許文献３】特開２００２−２０２５１１号公報
【特許文献４】特開２００３−２７９９９３号公報
【特許文献５】特開２００３−３０７７２０号公報
【特許文献６】特開２００６−９１５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、配向膜上のポリマーの残存を確認する手法では、液晶表示パネルを分解する必要がある。また、プレチルト角を測定する手法では、自動化が困難であるし、マザーパネルの状態（個々の液晶表示パネルへの分断が行われる前の状態）での測定も困難である（プレチルト角を測定するためにはサンプルを種々の角度に傾ける必要があるため）。そのため、これらの手法では、製造工程の途中での検査およびその検査結果に基づいたフィードバックが困難である。また、これらの手法では、最終製品における表示品位と相関のある検査を行うこともできない。さらに、これらの手法を用いた検査は、自動化することが困難である。このように、ＰＳＡ方式の液晶表示装置を製造するに際してポリマー構造物の形成を好適に検査できる方法は、未だ確立されていない。
【０００９】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＰＳＡ方式の液晶表示装置を製造するに際してポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを好適に検査し得る方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた垂直配向型の液晶層とを含む液晶表示パネルを備え、マトリクス状に配列された複数の画素を有し、前記液晶表示パネルは、前記液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有する、液晶表示装置の製造方法であって、（Ａ）前記液晶層中に重合性組成物を含む前記液晶表示パネルを複数枚含むマザーパネルを用意する工程であって、（Ａ１）前記第１基板を複数枚含む第１マザー基板と、前記第２基板を複数枚含む第２マザー基板とを用意する工程と、（Ａ２）前記第１マザー基板と前記第２マザー基板とを貼り合わせる工程とを包含する工程と、（Ｂ）前記液晶表示パネルの前記液晶層に所定の電圧が印加された状態で前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中の重合性組成物を重合して前記ポリマー構造物を形成する工程と、（Ｃ）前記ポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを検査する工程と、を包含し、前記工程（Ｂ）は、前記マザーパネルに含まれる複数枚の前記液晶表示パネルのうちの少なくとも１枚の液晶表示パネルについて、所定の第１の領域内の前記液晶層に光が照射され、前記第１の領域と異なる所定の第２の領域内の液晶層には光が照射されないように行われ、前記工程（Ｃ）は、前記第１の領域内の画素の表示特性と、前記第２の領域内の画素の表示特性とを測定することによって行われる。
【００１１】
ある好適な実施形態において、前記工程（Ｃ）は、前記第１の領域内の画素の電圧−透過率特性と、前記第２の領域内の画素の電圧−透過率特性とを測定することによって行われる。
【００１２】
ある好適な実施形態において、前記工程（Ｂ）は、前記少なくとも１枚の液晶表示パネルの前記第２の領域を遮光マスクで覆った状態で行われる。
【００１３】
ある好適な実施形態において、前記工程（Ｃ）における検査結果に応じて前記工程（Ｂ）が再び行われる。
【００１４】
ある好適な実施形態において、本発明による液晶表示装置の製造方法は、前記工程（Ｂ）と前記工程（Ｃ）との間に、（Ｄ）前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程をさらに包含し、前記工程（Ｄ）も、前記少なくとも１枚の液晶表示パネルについて、前記第１の領域内の前記液晶層に光が照射され、前記第２の領域内の液晶層には光が照射されないように行われる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によると、ＰＳＡ方式の液晶表示装置を製造するに際してポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを好適に検査し得る方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１７】
図１および図２に、本実施形態におけるＣＰＡモードの液晶表示装置１００を示す。図１は、液晶表示装置１００の１つの画素に対応した領域を模式的に示す平面図である。図２は、図１中の２Ａ−２Ａ’線に沿った断面図であり、液晶層に電圧が印加されていない状態（しきい値電圧未満の電圧が印加されている状態）を示している。
【００１８】
液晶表示装置１００は、液晶表示パネル１００ａを備え、マトリクス状に配列された複数の画素を有している。液晶表示パネル１００ａは、アクティブマトリクス基板（第１基板）１０と、アクティブマトリクス基板１０に対向するカラーフィルタ基板（第２基板）２０と、アクティブマトリクス基板１０とカラーフィルタ基板２０との間に設けられた垂直配向型の液晶層３０とを含んでいる。
【００１９】
アクティブマトリクス基板１０は、各画素に配置された画素電極１２、画素電極１２に電気的に接続された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１３、ＴＦＴ１３に走査信号を供給する走査配線（ゲートバスライン）１４およびＴＦＴ１３に表示信号を供給する信号配線（ソースバスライン）１５を有する。画素電極１２、ＴＦＴ１３、走査配線１４および信号配線１５は、透明基板（例えばガラス基板やプラスチック基板）１１上に設けられている。また、透明基板１１上には、補助容量配線１６も設けられている。
【００２０】
画素電極１２は、複数のサブ画素電極１２ａを有している。なお、本実施形態では、２つのサブ画素電極１２ａを有する画素電極１２を例示しているが、１つの画素電極１２に含まれるサブ画素電極１２ａの個数はこれに限定されるものではない。また、各サブ画素電極１２ａの形状も、例示しているような略長方形に限定されるものではなく、高い回転対称性を有する形状（略正方形や略円形、円弧状の角部を有する略矩形等）が好適に用いられる。
【００２１】
カラーフィルタ基板２０は、画素電極１２に対向する対向電極２２を有する。対向電極２２は、透明基板２１（例えばガラス基板やプラスチック基板）上に設けられている。画素電極１２が複数の画素のそれぞれに配置されているのに対し、対向電極２２は、典型的には、すべての画素電極１２に対向する１つの透明導電膜として形成される（そのため「共通電極」とも呼ばれる。）。また、ここでは図示していないが、透明基板２１と対向電極２２との間にカラーフィルタが設けられている。
【００２２】
アクティブマトリクス基板１０およびカラーフィルタ基板２０の液晶層３０側の表面には、垂直配向膜（不図示）が設けられている。また、典型的には、アクティブマトリクス基板１０およびカラーフィルタ基板２０の外側に、それぞれ位相差板や偏光板が設けられる。
【００２３】
垂直配向型の液晶層３０は、負の誘電異方性を有する液晶分子３１を含み、必要に応じてさらにカイラル剤を含んでいる。液晶層３０内の液晶分子３１は、液晶層３０に電圧が印加されていないときに、垂直配向膜の表面に対してほぼ垂直に配向する。ただし、本実施形態では、後述するポリマー構造物３２が設けられているので、液晶分子３１は垂直配向膜の表面に対して厳密に９０°の角度では配向しない。
【００２４】
図３および図４に、画素電極１２と対向電極２２との間に所定の電圧（しきい値電圧以上の電圧）が印加されたときの液晶分子３１の配向状態を示す。画素電極１２と対向電極２２との間に所定の電圧が印加されると、図３および図４に示すように、各サブ画素電極１２ａ上に液晶ドメインが形成される。液晶ドメイン内で液晶分子３１は放射状に傾斜した配向（放射状傾斜配向）をとる。
【００２５】
サブ画素電極１２ａごとに、放射状傾斜配向をとる液晶ドメインが形成されるのは、サブ画素電極１２ａが独立した島に近い外縁を有し、このサブ画素電極１２ａのエッジ部に生成される斜め電界の配向規制力が液晶分子３１に作用するからである。サブ画素電極１２ａのエッジ部に生成される電界は、サブ画素電極１２ａの中心に向かって傾斜し、液晶分子３１を放射状に傾斜配向させるように作用する。
【００２６】
また、本実施形態では、カラーフィルタ基板２０に、放射状傾斜配向を安定化させるための凸部２３が設けられている。凸部２３は、液晶ドメインの中心に対応する領域（つまり各サブ画素電極１２ａの中心に対応する領域）に配置されている。凸部２３は、透明な誘電体材料（例えば樹脂）から形成されている。なお、必ずしも凸部２３を設ける必要はなく、各画素内に設けられた複数の凸部２３の一部あるいはすべてを省略してもよい。また、凸部２３に代えて、他の配向規制構造（例えば対向電極２２に形成した開口部など）を設けてもよい。
【００２７】
さらに、液晶表示装置１００の液晶層３０は、図２中に模式的に示しているように、液晶分子３１の配向方向を規定するためのポリマー構造物３２を含んでいる。ポリマー構造物３２は、液晶層３０を構成する液晶材料に重合性組成物（重合性を有するモノマーやオリゴマー）を予め混入しておき、この重合性組成物を光重合することによって垂直配向膜上に形成される。ポリマー構造物３２は、電圧印加時と同じように液晶分子３１を配向させる配向規制力を有しており、ポリマー構造物３２周辺の液晶分子３１は、電圧無印加状態においても、電圧印加時の傾斜方向と同じ方向にプレチルトしている。つまり、ポリマー構造物３２が形成されていることによって、液晶分子３１は、電圧無印加状態においても、電圧印加時の放射状傾斜配向と整合するようにプレチルト方位を規定されている。そのため、配向の安定性や応答特性が向上する。
【００２８】
続いて、本実施形態における液晶表示装置１００の製造方法を説明する。
【００２９】
まず、図５（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶表示パネル１００ａを複数枚含むマザーパネル１００Ａを用意する。マザーパネル１００Ａは、アクティブマトリクス基板１０を複数枚含む第１マザー基板１０Ａと、カラーフィルタ基板２０を複数枚含む第２マザー基板２０Ａとが貼り合わされて構成されている。各アクティブマトリクス基板１０と対応するカラーフィルタ基板２０との間には、垂直配向型の液晶層３０が設けられている。液晶層３０は、シール部３４によって包囲されている。マザーパネル１００Ａに含まれる複数枚の液晶表示パネル１００ａのそれぞれは、液晶層３０中に重合性組成物を含んでいる。
【００３０】
マザーパネル１００Ａを用意する（作製する）工程は、第１マザー基板１０Ａおよび第２マザー基板２０Ａを用意する工程と、第１マザー基板１０Ａと第２マザー基板２０Ａとを貼り合わせる工程とを包含する。第１マザー基板１０Ａおよび第２マザー基板２０Ａは、それぞれ公知の種々の方法により作製することができる。
【００３１】
第１マザー基板１０Ａのアクティブマトリクス基板１０と第２マザー基板２０Ａのカラーフィルタ基板２０との間に設けられる液晶層３０も、公知の種々の方法により形成することができる。例えば、いわゆる滴下法により液晶層３０を形成することができる。滴下法を用いる場合、具体的には、まず、第１マザー基板１０Ａおよび第２マザー基板２０Ａのうちの一方の基板上に、液晶層３０を形成する領域を包囲するようにシール剤でパターンを形成し、次に、シール剤のパターンで包囲された領域内に重合性組成物を含む液晶材料を滴下する。重合性組成物としては、ＰＳＡ方式のポリマー構造物の形成に用いられる種々の材料（例えば特開２００３−３０７７２０号公報に開示されている材料）を用いることができる。その後、両方の基板を互いに貼り合わせ、シール剤を硬化させることにより、シール部３４によって包囲された液晶層３０が形成される。
【００３２】
次に、上述したようにして用意されたマザーパネル１００Ａに対し、ポリマー構造物３２を形成する工程を行う。具体的には、液晶層３０に光を照射することによって、液晶層３０中の重合性組成物を重合してポリマー構造物３２を形成する。この工程は、各液晶表示パネル１００ａの液晶層３０に所定の電圧が印加された状態、すなわち、液晶分子３１が垂直配向した状態ではなく、傾斜配向した状態で行われる。本願明細書では、ポリマー構造物３２の形成を「ＰＳＡ化」と呼び、ポリマー構造物３２を形成する工程を「ＰＳＡ化工程」と呼ぶ。
【００３３】
重合性組成物の重合は、具体的には、液晶層３０に紫外線を照射することによって行われる。紫外線の照射は、図６に示すように、第１マザー基板１０Ａ側（すなわちアクティブマトリクス基板１０側）から行うことが好ましい。紫外線の照射を第２マザー基板２０Ａ側（すなわちカラーフィルタ基板２０側）から行うと、紫外線がカラーフィルタによって吸収されてしまうので、液晶層３０への紫外線の照射を効率よく行うことができないからである。
【００３４】
ＰＳＡ化工程では、垂直配向膜近傍の液晶分子３１（つまり垂直配向膜表面のアンカリング効果を直接受ける液晶分子３１）も十分に傾斜させる必要があるので、液晶層３０への印加電圧は、十分に高いことが好ましい。典型的には、白表示（ノーマリブラックモードにおける白表示）状態における印加電圧以上の電圧が液晶層３０に印加される。また、ＰＳＡ化工程における液晶層３０への電圧印加は、液晶層３０にＤＣ電圧が印加されないように、電圧の極性が周期的に反転するように行われる（つまり交流駆動）。
【００３５】
紫外線の照射エネルギーおよび液晶層３０への印加電圧の大きさに応じて、プレチルト角（電圧無印加状態における液晶分子３１の基板面に対する傾斜角度）の大きさが決定される。従って、所望するプレチルト角の大きさに応じて、紫外線の照射エネルギーおよび液晶層３０への印加電圧の大きさを設定すればよい。プレチルト角が小さいほど、つまり、電圧無印加状態における液晶分子３１の表示面法線方向に対する傾斜角度が大きいほど、応答速度は速くなる。ただし、プレチルト角を過剰に小さくすると、黒表示状態の輝度が高くなってコントラスト比が低下してしまうので、プレチルト角を過剰に小さくすることは好ましくない。例えば、液晶層３０に６Ｖ〜１２Ｖ程度の電圧を印加しながら約２０Ｊ〜４０Ｊの紫外線を照射すると、プレチルト角を約８６°にすることができる。液晶層３０に６Ｖの交流電圧を印加するためには、例えば、対向電極２２を接地し（つまり０Ｖの電位を与え）、すべてのＴＦＴ１３をオン状態にした上で、信号配線１５への出力電圧を＋６Ｖと−６Ｖに振ればよい。
【００３６】
本実施形態の製造方法では、ＰＳＡ化工程は、マザーパネル１００Ａに含まれる複数枚の液晶表示パネル１００ａのうちの少なくとも１枚（典型的には１枚のみ）について、図７に示すように、所定の第１の領域Ｒ１内の液晶層３０に光が照射され、第１の領域Ｒ１と異なる所定の第２の領域Ｒ２内の液晶層３０には光が照射されないように行われる。そのため、第１の領域Ｒ１では他の液晶表示パネル１００ａと同様にポリマー構造物３２の形成が行われるのに対し、第２の領域Ｒ２ではポリマー構造物３２の形成が実質的に行われない。以下では、第１の領域Ｒ１を「ＰＳＡ化領域」とも呼び、第２の領域Ｒ２を「非ＰＳＡ化領域」とも呼ぶ。
【００３７】
このようにある液晶表示パネル１００ａについて局所的な非ＰＳＡ化を行うためには、例えば、図８に示すように、液晶表示パネル１００ａの第２の領域Ｒ２を遮光マスク１で覆った状態でＰＳＡ化工程を行えばよい。このような状態でＰＳＡ化工程を実行すると、第２の領域Ｒ２に向かう紫外線が遮光マスク１によって遮られるので、第２の領域Ｒ２内の液晶層３０には紫外線は照射されない。遮光マスク１は、第２の領域Ｒ２への光の照射を防止できるものであればどんな部材であってもよく、例えば、銅箔テープなどの金属製テープである。
【００３８】
上述したようにしてＰＳＡ化工程が行われた後、ポリマー構造物３２が所望通りに形成されたか否かを検査する。この検査工程は、ＰＳＡ化領域Ｒ１内の画素の表示特性と、非ＰＳＡ化領域Ｒ２内の画素の表示特性とを測定することによって行われる。紫外線が照射されてポリマー構造物３２が形成されたＰＳＡ化領域Ｒ１と、紫外線が照射されずポリマー構造物３２が形成されなかった非ＰＳＡ化領域Ｒ２とでは、当然ながら画素の表示特性に差が生じる。そのため、ＰＳＡ化領域Ｒ１および非ＰＳＡ化領域Ｒ２のそれぞれについて画素の表示特性を測定し、比較することにより、ポリマー構造物３２が所望通りに形成されたか否かを検査することができる。
【００３９】
検査工程において測定される画素の表示特性としては、種々の表示特性を用いることができる。例えば、ＰＳＡ化領域Ｒ１内の画素および非ＰＳＡ化領域Ｒ２内の画素のそれぞれについて電圧−透過率特性（Ｖ−Ｔ特性）を測定することにより、ポリマー構造物３２の形成が好適に行われたか否かを容易に判断することができる。
【００４０】
図９を参照しながら、電圧−透過率特性の測定方法の一例を説明する。検査工程は、図９に示すように、紫外線の照射を行うためのチャンバー２からマザーパネル１００Ａを搬出した状態で行われる。マザーパネル１００Ａの背面側および前面側には、一対の偏光板３ａおよび３ｂをクロスニコル状態で配置しておく。この状態でバックライト４から光を照射し、測定対象の液晶表示パネル１００ａの画素の輝度を、液晶層３０への印加電圧を変化させながら輝度測定装置（例えば、株式会社ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５）５で測定する。このようにして、ＰＳＡ化領域Ｒ１と非ＰＳＡ化領域Ｒ２のそれぞれについて、画素の電圧−透過率特性を測定することができる。
【００４１】
図１０に、ＰＳＡ化領域Ｒ１内の画素および非ＰＳＡ化領域Ｒ２内の画素の電圧−透過率特性の例を示す。図１０からわかるように、ＰＳＡ化領域Ｒ１における電圧−透過率特性を示す曲線は、非ＰＳＡ化領域Ｒ２における電圧−透過率特性を示す曲線に比べて低電圧側にシフトしている。そのため、電圧−透過率特性を示す曲線のシフト量に基づいて、ポリマー構造物３２が所望通りに形成されたか否かを判定することができる。
【００４２】
本実施形態における製造方法では、上述したように、ＰＳＡ化工程において特定の液晶表示パネル１００ａにＰＳＡ化領域Ｒ１と非ＰＳＡ化領域Ｒ２とを混在させておき、ＰＳＡ化領域Ｒ１内の画素の表示特性と、非ＰＳＡ化領域Ｒ２内の画素の表示特性とを測定することによって、検査工程を行う。従って、ポリマー構造物３２が所望通りに形成されたか否かを、液晶表示パネル１００ａを分解することなく検査することができるし、また、マザーパネル１００Ａを個々の液晶表示パネル１００ａに分断する前に検査することができる。そのため、本実施形態における製造方法によれば、製造工程の途中での検査およびその検査結果に基づいたフィードバックが容易である。また、例示している電圧−透過率特性のような表示特性を測定するので、最終製品における表示品位と相関のある検査を行うことができる。さらに、光学特性を評価する装置（例えば図９に示したような輝度測定装置５）を用いた非破壊検査が可能であるので、検査の自動化も容易である。
【００４３】
なお、ＰＳＡ化工程と検査工程との間に、液晶層３０に光（具体的には紫外線）を照射することによって液晶層３０中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程を行うことが好ましい。ＰＳＡ化工程における紫外線の照射を「一次照射」と呼び、この工程における紫外線の照射を「二次照射」と呼ぶこともある。二次照射は、液晶層３０に電圧を印加していない状態で行われる。二次照射は、例えば１時間〜３時間程度行われる。二次照射も、第２の領域（非ＰＳＡ化領域）Ｒ２には光（紫外線）が照射されないように行われることが好ましい。
【００４４】
また、検査工程における検査結果に応じてＰＳＡ化工程を再び行うことが好ましい。つまり、検査工程においてポリマー構造物３２が所望通りに形成されていないと判定された場合には、二度目のＰＳＡ化工程を行うことが好ましい。二度目のＰＳＡ化工程の条件（液晶層３０への印加電圧や紫外線の照射エネルギーの大きさなど）は、ＰＳＡ化領域Ｒ１内の画素と非ＰＳＡ化領域Ｒ２内の画素との表示特性の差（例えば電圧−透過率曲線のシフト量）に基づいて設定すればよく、一度目のＰＳＡ化工程の条件と同じである必要はない。
【００４５】
さらに、二度目のＰＳＡ化工程の後に再び検査工程を行ってもよい。再び検査工程を行う場合には、二度目のＰＳＡ化工程も第２の領域（非ＰＳＡ化領域）Ｒ２には光が照射されないように行われることが好ましい。
【００４６】
本実施形態では、検査工程において測定する表示特性として電圧−透過率特性を例示したが、勿論、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、検査工程において液晶表示パネル１００ａの表面に圧力を加えてその反応（つまり外圧に対する表示状態の変化）を観察してもよい。
【００４７】
また、言うまでもないが、非ＰＳＡ化領域Ｒ２は、液晶表示パネル１００ａの表示領域内に設けられている必要がある。非ＰＳＡ化領域Ｒ２の大きさに特に制限はないが、検査工程において用いる測定装置（例えば図９に示した輝度測定装置５）の測定スポットの大きさよりも大きい必要がある。例えば、３型ＶＧＡパネルで遮光マスク１の大きさが１ｃｍ×１ｃｍ程度である場合、非ＰＳＡ化領域Ｒ２の大きさは、表示領域の約１／２０であり、非ＰＳＡ化領域Ｒ２には約１２０×１２０個の画素が含まれる。このように、典型的には、非ＰＳＡ化領域Ｒ２は複数の画素を含んでいる。
【００４８】
なお、マザーパネル１００Ａに含まれる複数枚の液晶表示パネル１００ａのうちの非ＰＳＡ化領域Ｒ２が設けられた液晶表示パネル１００ａは、ポリマー構造物３２が形成されていない画素を含んでいるので、最終的には不良品扱いとなることがある。しかしながら、中小型の液晶表示装置を製造する場合には、１枚のマザーガラス１００Ａに多数の液晶表示パネル１００ａが含まれている。例えば４．３型（縦１００．５４ｍｍ×横６３．４０ｍｍ×厚さ０．４５ｍｍ）や３．２型（縦７５．７８ｍｍ×横４９．３６ｍｍ×厚さ０．７０ｍｍ）の場合、１枚のマザーパネル１００Ａは１００〜２００枚程度の液晶表示パネル１００ａを含んでいる。そのため、特定の（典型的にはただ１枚の）液晶表示パネル１００ａが不良品扱いになってしまっても、その液晶表示パネル１００ａを用いた検査工程によってその他の多くの液晶表示パネル１００ａを不良品でなくすことができるため、結果的にはＰＳＡ化方式の液晶表示装置１００を効率よく製造することができる。また、本実施形態における製造方法は、毎回の製造における品質管理にも用いることができるし、ＰＳＡ化工程の条件出しにも用いることができる。つまり、本実施形態の製造方法によれば、単に不良品の発生を防止するだけでなく、ＰＳＡ化工程におけるより好ましい条件を決定して次回以降の製造に反映させることも可能となる。
【００４９】
なお、本実施形態では、ＣＰＡモードの液晶表示装置１００を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、垂直配向型の液晶層を備え、液晶層に電圧が印加されたときに液晶分子の傾斜する方位が互いに異なる複数の領域が形成される（つまり配向分割型の）液晶表示装置に広く用いることができ、例えばＭＶＡモードの液晶表示装置にも好適に用いられる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明によれば、ＰＳＡ方式の液晶表示装置を製造するに際してポリマー構造物が所望通りに形成されたか否かを好適に検査し得る方法が提供される。本発明の製造方法により製造された液晶表示装置は、携帯電話、ＰＤＡ、ノートＰＣ、モニタおよびテレビジョン受像機などの種々の電子機器の表示部として好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００を模式的に示す図であり、１つの画素に対応した領域を示す平面図である。
【図２】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００を模式的に示す図であり、図１中の２Ａ−２Ａ’線に沿った断面図である。
【図３】液晶表示装置１００の液晶層に電圧が印加されたときの液晶分子の配向状態を模式的に示す平面図である。
【図４】液晶表示装置１００の液晶層に電圧が印加されたときの液晶分子の配向状態を模式的に示す断面図であり、図３中の４Ａ−４Ａ’線に沿った断面図である。
【図５】（ａ）は、液晶表示パネルを複数枚含むマザーパネルを模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中の５Ｂ−５Ｂ’線に沿った断面図である。
【図６】ポリマー構造物を形成する工程における液晶層への紫外線の照射を模式的に示す図である。
【図７】ポリマー構造物を形成する工程において特定の液晶表示パネルに混在するＰＳＡ化領域と非ＰＳＡ化領域を模式的に示す図である。
【図８】非ＰＳＡ化領域への光の照射を防止するための手法の一例を示す図である。
【図９】画素の電圧−透過率特性を測定する方法を模式的に示す図である。
【図１０】ＰＳＡ化領域内の画素および非ＰＳＡ化領域内の画素の電圧−透過率特性の例を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５２】
１    遮光マスク
２    チャンバー
３ａ、３ｂ    偏光板
４    バックライト
５    輝度測定装置
１０    アクティブマトリクス基板（第１基板）
１０Ａ    第１マザー基板
１１    透明基板
１２    画素電極
１２ａ    サブ画素電極
１３    薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１４    走査配線
１５    信号配線
１６    補助容量配線
２０    カラーフィルタ基板（第２基板）
２０Ａ    第２マザー基板
２１    透明基板
２２    対向電極
２３    凸部
３０    液晶層
３１    液晶分子
３２    ポリマー構造物
３４    シール部
１００    液晶表示装置
１００ａ    液晶表示パネル
１００Ａ    マザーパネル
Ｒ１    ＰＳＡ化領域（第１の領域）
Ｒ２    非ＰＳＡ化領域（第２の領域）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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