(57)【要約】【課題】ハードコート層と反射防止層との密着性が高いレンズ、および、その製造方法を提供する。【解決手段】レンズ基材１１と、レンズ基材１１上に形成されたハードコート層１２と、ハードコート層１２上に形成された反射防止層１４と、ハードコート層１２と反射防止層１４との間に設けられた密着層１３と、を備え、密着層１３は、ハードコート層１２と同一または略同一の屈折率を有することを特徴とするレンズ１。密着層１３の厚さは、０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。また、密着層１３は、固形分重量比で５質量％以上２０質量％以下のシリカゾルを含む組成物から形成されることが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ基材と、
前記レンズ基材上に形成されたハードコート層と、
前記ハードコート層上に形成された反射防止層と、
前記ハードコート層と前記反射防止層との間に設けられた密着層と、を備え、
前記密着層は、前記ハードコート層と同一または略同一の屈折率を有する
ことを特徴とするレンズ。
【請求項２】
請求項１に記載のレンズにおいて、
前記密着層の厚さは、０．５μｍ以上５μｍ以下である
ことを特徴とするレンズ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のレンズにおいて、
前記レンズ基材と前記ハードコート層との間にプライマー層を備える
ことを特徴とするレンズ。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のレンズおいて、
前記密着層は、固形分重量比で５質量％以上２０質量％以下のシリカゾルを含む組成物から形成される
ことを特徴とするレンズ。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のレンズを製造する方法であって、
前記ハードコート層を前記レンズ基材上に形成するハードコート層形成工程と、
前記ハードコート層形成工程の後に前記密着層を形成する密着層形成工程と、を備え、
前記ハードコート層形成工程および前記密着層形成工程は、使用する材料を除き同一または略同一の手順で実施される
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載のレンズの製造方法において、
前記ハードコート層形成工程および前記密着層形成工程は、ディッピングで実施される
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層および反射防止層を備えたレンズ、および、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチックレンズは、ガラスレンズに比べて軽量であり、成形性、加工性、染色性等に優れ、割れにくく安全性が高い。このため、特にメガネレンズ分野において急速に普及し、その大部分を占めている。
しかし、プラスチックレンズはガラスレンズに比べて傷つきやすいため、一般に、レンズ基材上にハードコート層を形成し、表面硬度を向上させている。また、表面反射を防止する目的でハードコート層上に反射防止層が設けられる。さらに、反射防止層上に防汚層を形成することも多い。
【０００３】
ここで、ハードコート層の硬さが不足すると、レンズに傷が付きやすくなり、レンズ基材からハードコート層が剥離するおそれがある。そこで、より硬いハードコート層が求められている。
例えば、高硬度のハードコート層を得る方法としては、アセチルアセトンＡｌ（III）塩触媒を用いる方法が知られている。
しかし、アセチルアセトンＡｌ（III）塩触媒により架橋度が上がることで、未反応基が減少し、ハードコート層と反射防止層との密着性が悪くなるという問題があった。
【０００４】
ここで、特許文献１に記載の反射防止フィルムにおいては、ハードコート層と反射防止層との間にプライマー層を設けることで、ハードコート層と反射防止層との密着性を向上している。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−６１０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の反射防止フィルムでは、プライマー層の屈折率を抑え、プライマー層を反射防止層の一部として兼用することを意図している。このため、プライマー層の厚さを薄くする必要があり、ハードコート層との密着性が低下するおそれがあった。
また、仮に反射防止層として兼用をあきらめてプライマー層を厚くしたとしても、ハードコート層との屈折率の差により、干渉縞が発生するおそれがあった。
【０００７】
そこで、本発明は、上述のような問題を解消し、ハードコート層と反射防止層との密着性が高いレンズ、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のレンズは、レンズ基材と、前記レンズ基材上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層上に形成された反射防止層と、前記ハードコート層と前記反射防止層との間に設けられた密着層と、を備え、前記密着層は、前記ハードコート層と同一または略同一の屈折率を有することを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、ハードコート層と反射防止層との間に密着層を設けるので、ハードコート層と反射防止層との密着性を向上することができる。
ここで、密着層の屈折率とハードコート層の屈折率とを、同一または略同一としたので、干渉縞の発生を防止できる。これにより、密着層を厚くすることが可能になり、ハードコート層と反射防止層との密着性をさらに向上することができる。
また、密着層の存在により、密着性の不足が問題となっていた高硬度のハードコート層を採用することが可能になる。高硬度のハードコート層を採用すれば、傷や剥離の発生しにくい高品質のレンズを提供することができる。
【００１０】
本発明のレンズにおいて、前記密着層の厚さは、０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
このような構成によれば、密着層の適度な厚さにより、ハードコート層と反射防止層との間の十分な密着性を得ることができる。
ここで、密着層の厚さが０．５μｍ未満であると、十分な密着性が得られなくなるので好ましくない。一方、密着層の厚さが５μｍを超えると、レンズ表面の平滑性が損なわれたり、光学的歪みが発生する場合があるため好ましくない。
【００１１】
本発明のレンズにおいて、前記レンズ基材と前記ハードコート層との間にプライマー層を備えることが好ましい。
このような構成によれば、プライマー層により、レンズ基材とハードコート層との間の密着性を向上することができる。
密着層によるハードコート層と反射防止層との間のみならず、レンズ基材とハードコート層との間の密着性をも向上することができるので、より一層、傷や剥離の発生しにくい高品質のレンズを提供することができる。
【００１２】
本発明のレンズにおいて、前記密着層は、固形分重量比で５質量％以上２０質量％以下のシリカゾルを含む組成物から形成されることが好ましい。
このような構成によれば、ハードコート層と反射防止層との間の十分な密着性を得ることができる。
【００１３】
本発明のレンズの製造方法は、上述のレンズを製造する方法であって、前記ハードコート層を前記レンズ基材上に形成するハードコート層形成工程と、前記ハードコート層形成工程の後に前記密着層を形成する密着層形成工程と、を備え、前記ハードコート層形成工程および前記密着層形成工程は、使用する材料を除き同一または略同一の手順で実施されることを特徴とする。
【００１４】
本発明によれば、ハードコート層形成工程および密着層形成工程を、使用する材料を除き同一または略同一の手順で実施するので、製造工程を簡略化して効率的にレンズを製造することができる。
【００１５】
本発明のレンズの製造方法において、前記ハードコート層形成工程および前記密着層形成工程は、ディッピングで実施されることが好ましい。
このような構成によれば、簡易かつ一般的な方法であるディッピングにより、ハードコート層形成工程および密着層形成工程を実施するので、レンズをより効率的に製造することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、密着層により、ハードコート層と反射防止層との密着性を向上することができる。
そして、密着層の屈折率とハードコート層の屈折率とを、同一または略同一としたので、干渉縞の発生を防止でき、密着層を厚くして密着性をさらに向上することが可能となる。
また、密着性の向上により、高硬度のハードコート層が採用可能となり、傷や剥離の発生しにくい高品質のレンズを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明による光学物品およびその製造方法は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１８】
［レンズの構成］
図１に、本実施形態のレンズ１の積層構造の概略を示す。図１（Ａ）は、レンズ１の概略積層構造を、図１（Ｂ）は、反射防止層１４の概略積層構造を示す。
なお、本実施形態のレンズ１は、眼鏡レンズである。
【００１９】
レンズ１は、図１（Ａ）に示すように、レンズ基材１１と、レンズ基材１１上に形成されたハードコート層１２と、ハードコート層１２上に形成された反射防止層１４と、ハードコート層１２と反射防止層１４との間に設けられた密着層１３と、反射防止層１４上に設けられた防汚層１５と、を備える。
【００２０】
レンズ基材１１は、プラスチック製であればよく、特に限定されないが、屈折率が１．６以上の透明な素材を使用することが好ましい。
例えば、イソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物を反応させることによって製造されるポリチオウレタン系プラスチックや、エピスルフィド基を持つ化合物を含む原料モノマーを、重合硬化して製造される、エピスルフィド系プラスチック等をレンズ基材１１の素材として使用することができる。
【００２１】
ハードコート層１２は、レンズ基材１１上に形成され、レンズ１の耐擦傷性を向上させる。
ハードコート層１２の厚さは、１．５μｍ以上1０μｍ以下の範囲が好ましい。
ここで、ハードコート層１２の厚さが１．５μｍ未満であると、レンズ１の強度を十分に高めることができず好ましくない。
【００２２】
密着層１３は、ハードコート層１２と反射防止層１４との間に設けられ、両者の間の密着性を向上させる。
密着層１３の屈折率は、ハードコート層１２の屈折率と同一または略同一である。
密着層１３の厚さは、０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
ここで、密着層１３の厚さが０．５μｍ未満であると、十分な密着性が得られなくなるので好ましくない。一方、密着層１３の厚さが５μｍを超えると、レンズ１表面の平滑性が損なわれたり、光学的歪みが発生する場合があるため好ましくない。
【００２３】
反射防止層１４は、無機系組成物により構成される単層または多層の構造である。反射防止層１４により光線反射率の低減、光線透過率の向上が図られる。反射防止層１４を構成する無機材料としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3等を用いることができる。これらの無機材料は単独でまたは２種以上の混合物として用いることができる。
本実施形態の反射防止層１４は、図１（Ｂ）に示すように、５層の無機系組成物層１４Ａ〜１４Ｅを有する。反射防止層１４においては、高屈折率の無機系組成物と、低屈折率の無機系組成物とが交互に積層されている。例えば、無機系組成物層１４Ａ，１４Ｃ，１４Ｅは、ＳｉＯ２で形成し、無機系組成物層１４Ｂ，１４Ｄは、ＺｒＯ２で形成することができる。
防汚層１５は、例えば、水滴をはじくための撥水層である。撥水層を形成するための撥水剤としては、例えば、フッ素系撥水剤等が好適に用いられる。
【００２４】
［レンズの製造方法］
図２に、本実施形態のレンズ１の製造方法のフローチャートを示す。
本実施形態のレンズ１の製造方法は、図２に示すように、ハードコート層１２をレンズ基材１１上に形成するハードコート層形成工程Ｓ１２と、ハードコート層形成工程の後に密着層１３を形成する密着層形成工程Ｓ１３と、反射防止層を成膜する反射防止層成膜工程Ｓ１４と、防汚層を成膜する防汚層成膜工程Ｓ１５と、を備える。
【００２５】
［１．ハードコート層形成工程Ｓ１２および密着層形成工程Ｓ１３］
ハードコート層形成工程Ｓ１２は、レンズ基材１１に後述するハードコート層形成用組成物を塗布する第１塗布工程Ｓ１２１と、塗布したハードコート層形成用組成物を乾燥させる乾燥工程Ｓ１２２と、を有する。
密着層形成工程Ｓ１３は、乾燥工程Ｓ１２２後のハードコート層形成用組成物が塗布されたレンズ基材１１に後述する密着層形成用組成物を塗布する第２塗布工程Ｓ１３１と、塗布した密着層形成用組成物を乾燥させレンズ基材１１を加熱してハードコート層および密着層を完成する本焼成工程Ｓ１３２と、を有する。
このように、ハードコート層形成工程Ｓ１２および密着層形成工程Ｓ１３は、使用する材料を除き同一ないし略同一の手順で実施される。
【００２６】
［１−１．第１塗布工程Ｓ１２１および第２塗布工程Ｓ１３１］
図３に、第１塗布工程Ｓ１２１および第２塗布工程Ｓ１３１に用いるディッピング装置１００を示す。
第１塗布工程Ｓ１２１および第２塗布工程Ｓ１３１は、ディッピング装置１００を用いたディッピングで実施される。
ディッピング装置１００は、図３に示すように、ハードコート層形成用組成物または密着層形成用組成物（以下、塗布組成物と略記する。）を貯めておく第１貯液槽１０１と、第１貯液槽１０１から溢れてくる塗布組成物を受ける第２貯液槽１０２および第３貯液槽１０３と、第３貯液槽１０３から塗布組成物を第１貯液槽１０１に還流するためのポンプ１０４と、異物を濾過するためのフィルタ１０５と、レンズ基材１１を保持して上下動する保持治具１０６とを備える。
【００２７】
第１貯液槽１０１の液面は、常に一定の高さに保たれる。
また、第２貯液槽１０２と第３貯液槽１０３はつながっており、第２貯液槽１０２に溜まった塗布組成物は、傾斜によって第３貯液槽１０３に流れ込む。第３貯液槽１０３に溜まった塗布組成物は、ポンプ１０４によって強制的に第１貯液槽１０１に還流される。その際、フィルタ１０５によりコートブツの原因となるゴミ等の異物が濾過される。異物は、主に塗布組成物の液面に集まるため、オーバーフローした塗布組成物を濾過することにより、効果的に異物を除去できる。
【００２８】
レンズ基材１１は、板面が第１貯液槽１０１の液面に対して略垂直になるように保持治具１０６によって三箇所を保持される。
保持治具１０６は、図示しない昇降可能な支持部によって支持されており、支持部の昇降速度は、図示しない制御装置により適宜設定することができる。
好ましい引き上げ速度は、５０〜５００ｍｍ／ｍｉｎ程度であり、より好ましくは、１００〜４００ｍｍ／ｍｉｎ程度である。
レンズ基材１１は、第１貯液槽１０１に貯められている塗布組成物に浸漬されて暫く放置された後に引き上げられ、塗布膜が形成される。好ましい浸漬時間は１０〜６０秒程度である。
【００２９】
なお、塗布の対象となるレンズ基材１１に対しては、ディッピングを行う前に、塗布膜との密着性を向上させる目的で、表面を予めアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処理、無機あるいは有機物の微粒子による研磨処理、プライマー処理またはプラズマ処理を実施することが好ましい。また、超純水による洗浄を行うことが好ましい。
【００３０】
［１−２．乾燥工程Ｓ１２２および本焼成工程Ｓ１３２］
乾燥工程Ｓ１２２および本焼成工程Ｓ１３２における塗布膜の乾燥は、自然乾燥や乾燥機等の適宜の手段により実施することができる。４０℃以上２００℃以下、好ましくは８０℃以上１３０℃以下の温度で３０分以上８時間以下の乾燥を施すことにより、塗布膜を適切に乾かすことができる。
本焼成工程Ｓ１３２は、加熱炉等の一般的な加熱装置を用いて実施することができる。
焼成温度は、５０〜２５０℃が好ましく、８０〜１５０℃がより好ましい。
【００３１】
［２．反射防止層成膜工程Ｓ１４および防汚層成膜工程Ｓ１５］
反射防止層成膜工程Ｓ１４では、上述の無機系組成物層１４Ａ〜１４Ｅを、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等で成膜する。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いても良い。
防汚層成膜工程Ｓ１５では、真空蒸着等により、反射防止層１４上にフッ素系撥水剤からなる撥水層としての防汚層１５を成膜する。
【００３２】
［３．ハードコート層形成用組成物および密着層形成用組成物］
本発明のハードコート層形成用組成物および密着層形成用組成物（以下、塗布組成物と略記する。）は、（Ａ）一分子中に重合性基と加水分解性基とを含む有機けい素化合物と、（Ｂ）金属酸化物微粒子と、（Ｃ）低粘度有機溶剤と、必要により（Ｄ）硬化触媒およびジシランと、を含有する。
【００３３】
（Ａ）成分は、塗布組成物における、いわゆるバインダーと呼ばれるものである。
（Ａ）成分に含まれる重合性基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基等を例示できる。
また、（Ａ）成分に含まれる加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等を例示できる。
【００３４】
（Ａ）成分としては、例えば、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等を例示することができる。
【００３５】
（Ａ）成分の配合量は、固形分重量比で塗布組成物の１０質量％以上９０質量％以下、特に２０質量％以上８０質量％以下、最適には３０質量％以上７０質量％以下の範囲が好ましい。
配合量が少なすぎるとレンズ１や反射防止層１４との密着性が悪くなる場合があり、一方、配合量が多すぎると硬化被膜にクラックが生じる場合がある。
【００３６】
（Ｂ）成分は、ハードコート層１２および密着層１３において、いわゆるフィラーとして機能する。
（Ｂ）成分としては、一般に、粒径が１μｍ以上１００μｍ以下程度のものが用いられる。
（Ｂ）成分として、具体的には、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｔｉから選ばれる１種の金属酸化物の微粒子、または２種以上の金属酸化物の複合微粒子を例示することができる。金属酸化物の具体例としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＷＯ３、ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＴｉＯ２を例示することができる。
【００３７】
また、（Ｂ）成分の塗布組成物中での分散安定性を高めるために、（Ｂ）成分の微粒子表面を有機珪素化合物またはアミン系化合物で処理したものを使用することも可能である。
この表面処理に用いられる有機珪素化合物としては、単官能性シラン、三官能性シラン、四官能性シラン等を例示できる。
処理に際しては、加水分解基が微粒子の水酸基と反応した状態が好ましいが、一部残存した状態でも安定性にはなんら問題はない。
アミン化合物としては、アンモニウム、エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン等のアルキルアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、ピペリジン等の脂環式アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン等を例示できる。
これらの有機珪素化合物とアミン化合物の添加量は（Ｂ）成分の重量に対して１質量％以上１５質量％以下程度の範囲が好ましい。
【００３８】
なお、（Ｂ）成分として用いる金属酸化物微粒子は、一般に、水、アルコール、セロソルブ類等の分散媒にコロイド状に分散されたもので供給される。この分散媒の選択により本発明の塗布組成物の粘度に影響を与えるために、後に有機溶媒の説明と共にその種類を説明する。
【００３９】
塗布組成物における（Ｂ）成分の配合量は、固形分重量比で２０質量％以上８０質量％以下、特に３０質量％以上７０質量％以下、最適には４０質量％以上６０質量％以下程度が好ましい。
配合量を少なくすると、組成物の粘度が低くなるが、ハードコート層および密着層被膜を形成するために十分な厚さの被膜の膜厚を確保できなくなる場合があり、一方、配合量が多すぎると、被膜にクラックが発生する場合がある。
【００４０】
（Ｃ）成分は、塗布組成物の粘度を低下させるためのものである。
（Ｃ）成分として、具体的には、メタノール（粘性率０．５９）、エタノール（粘性率１．１７）等のアルコール類、アセトン（粘性率０．３１６）、ＭＥＫ（粘性率０．４２３（１５℃））、２−ペンタノン（粘性率０．４７３（２５℃））、ＭＩＢＫ（粘性率０．５４２（２５℃））、２−ヘプタノン（粘性率０．８０）等のケトン類、酢酸メチル（粘性率０．３８５）、酢酸エチル（粘性率０．４４９）、酢酸プロピル（粘性率０．５８５）、酢酸イソプロピル（粘性率０．５６９）、酢酸ブチル（粘性率０．６９７）、酢酸イソブチル（粘性率０．６９７）、酢酸ｓｅｃブチル、酢酸イソペンチル（粘性率０．８７）、プロピオン酸メチル（粘性率０．５０（２５℃））、プロピオン酸ブチル（粘性率０．７６（２５℃））、３−メトキシブチルアセテート（粘性率０．９６）等のエステル類、１，４−ジオキサン（粘性率１．３１）等を例示でき、これらの１種を単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００４１】
希釈される高粘度の溶媒としては、メチルセロソルブ（粘性率１．７２）、エチルセロソルブ（粘性率２．０５）、ブチルセロソルブ（粘性率３．１５（１５℃））、イソプロピルセロソルブ等のセロソルブ類が塗膜性能の点から好ましい。これらの低粘度溶媒と高粘度溶媒は、上述したコロイド状の金属酸化物微粒子の分散媒として、あるいは塗布組成物の希釈剤として用いられる。
【００４２】
また、塗布組成物中における（Ｃ）成分の量は、ハードコート層１２および密着層１３として必要な膜厚を確保するため、６０質量％以上９０質量％以下、特に７０質量％以上８０質量％以下が適当である。
なお、固形分の量を減らせば、従来の粘度の高い溶媒でも塗布組成物の粘度を低下させることができるが、そうするとハードコート層１２および密着層１３として必要な膜厚を確保できなくなる。したがって、塗布組成物において、全体に占める固形分の量は、１０質量％以上４０質量％以下、特に２０質量％以上３０質量％以下の範囲が適当である。
【００４３】
（Ｄ）成分としては、例えば次の（１）〜（４）の群を挙げることができる。
すなわち、
（１）Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ａｌ（ＩＩＩ）、Ｓｎ（ＩＶ）またはＴｉ（ＩＶ）の金属元素を中心原子とするアセチルアセトネート、
（２）過塩素酸マグネシウムまたは過塩素酸アンモニウム、
（３）脂肪酸の飽和または不飽和カルボン酸、芳香族カルボン酸、あるいはこれらの酸の無水物、
（４）ＬＩ（Ｉ）、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）またはＭｎ（ＩＩＩ）の金属原子を中心原子とするアセチルアセトネート、
から選ばれる１種または２種以上を併用して用いることができる。
特に、（１）〜（３）の群の硬化触媒と（４）の群の硬化触媒との併用触媒が、ポットライフが向上するため、（Ｄ）成分として好ましい。
【００４４】
（Ｄ）成分の配合量は、固形分重量比で塗布組成物の０．２質量％以上１０質量％以下、特に０．５質量％以上３質量％以下の範囲とすることが好ましい。
配合量が少なすぎると配合の効果が現れない場合があり、一方、配合量を多くしてもそれ以上硬化速度が向上しないため不経済になる場合がある。
【００４５】
また、硬化速度を更に上げるために、硬化触媒と共に、硬化促進剤として機能するジシラン化合物を配合することが好ましい。硬化触媒とジシラン化合物とを併用することにより、後述するエポキシ化合物等の染色成分のために硬化速度が遅くなる場合でも、十分に硬化速度を速めることができる。
ジシラン化合物としては、例えば、下記式（１）で表される化合物が例示できる。
【００４６】
【化１】
2009157304.tif 000003
【００４７】
式（１）中、Ｒ３、Ｒ４は炭素数１〜６の炭化水素基であり、Ｘ２、Ｘ３は加水分解性基であり、Ｙはカーボネート基またはエポキシ基を含有する有機基であり、ｋおよびｍは０または１である。
Ｒ３、Ｒ４の炭素数１〜６の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。Ｘ２、Ｘ３の加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
また、Ｙのカーボネート基またはエポキシ基を含有する有機基としては、下記のものを例示することができる。
【００４８】
【化２】
2009157304.tif 000004
【００４９】
これらのジシラン化合物は、従来公知の方法で合成することができる。
例えば、ジアリルカーボネートとトリクロロシラン等を付加反応させ、その後、アルコキシ化させることにより得ることができる。
あるいは、両末端に付加可能な置換基を持ち、更にその内部にエポキシ化可能な官能基を含む化合物に、トリクロロシラン等を付加反応させ、その後アルコキシ化させることにより得ることができる。
【００５０】
ジシラン化合物の配合により硬化速度を向上させ、塗布膜のシワやカブリ等の不良を防止することができる。
また、硬化速度が向上して硬化時間が短くなれば、第１塗布工程Ｓ１２１および第２塗布工程Ｓ１３１における塗布膜表面へのゴミや不純物の付着の可能性を少なくして歩留まりを向上させることができる。
さらに、染色性を向上させる効果や、次に述べる多官能性エポキシ化合物の配合量を少なくする効果、あるいは塗布する対象物の表面に存在する傷等の不良個所の存在を目立たなくする効果を奏する。
【００５１】
このジシラン化合物の配合量は、固形分重量比で塗布組成物の３質量％以上４０質量％以下、特に５質量％以上２０質量％以下の範囲が好ましい。
配合量が少なすぎると反応促進効果が現れない場合があり、一方、配合量が多すぎると塗布膜の耐水性が悪くなったり、塗布組成物のポットライフが短くなる場合がある。
【００５２】
塗布組成物にはさらに、染色成分として、また、耐水性、耐温水性を向上させるために、多官能性エポキシ化合物を配合することがある。
この多官能性エポキシ化合物は、塗料、接着剤、注型用等に広く用いられている。
多官能性エポキシ化合物としては、例えば、過酸化法で合成されるポリオレフィン系エポキシ樹脂、シクロペンタジエンオキシドやシクロヘキセンオキシド、更にヘキサヒドロフタル酸とエピクロルヒドリンから得られるポリグリシジルエステル等の脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールＡやカテコール、レゾシノール等の多価フェノール、あるいは（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ソルビトール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンから得られるポリグリシジルエーテル、エポキシ化植物油、ノボラック型フェノール樹脂とエピクロルヒドリンから得られるエポキシノボラック、フェノールフタレインとエピクロルヒドリンから得られるエポキシ樹脂、グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートアクリル系モノマーあるいはスチレン等の共重合体、更には上記エポキシ化合物とモノカルボン酸含有（メタ）アクリル酸とのグリシジル基開環反応により得られるエポキシアクリレート等が挙げられる。
【００５３】
また、多官能性エポキシ化合物としては、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ノナエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールヒドロキシヒバリン酸エステルのジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物、イソホロンジオールグリシジルエーテル、ビス−２，２−ヒドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等の脂環族エポキシ化合物、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、オルトフタル酸ジグリシジルエーテル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物等を例示することができる。
【００５４】
この中でも、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物が好ましい。
【００５５】
多官能性エポキシ化合物の配合量は、固形分重量比で塗布組成物の５質量％以上４０質量％以下、特に５質量％以上２０質量％以下の範囲が好ましい。
配合量が少なすぎると塗布膜の耐水性が不十分となる場合があり、一方、配合量が多すぎると、反射防止層１４との密着性が不十分となる場合がある。
【００５６】
また、一般式がＳｉ（ＯＲ）４で表される四官能性シラン化合物を添加することも有用である。
四官能性シラン化合物として、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラン、テトラキス（２−エチルヘキシロキシ）シラン等を例示できる。これらは単独で用いても、２種以上を混合して用いても良い。また、これらは無溶媒下またはアルコール等の有機溶媒中で、酸の存在下で加水分解して使用する方が好ましい。
【００５７】
塗布組成物には、上記成分以外に、必要に応じて、少量の界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、分散染料、油染料、蛍光染料、顔料等の染料、フォトクロミック化合物、ヒンダードアミン・ヒンダードフェノール系等の耐光耐熱安定剤等を配合してもよい。これにより、塗布組成物の塗布性、硬化後の被膜性能を改良することができる。
【００５８】
なお、ハードコート層形成用組成物と、密着層形成用組成物とは、密着力を向上させるシリカゾルの有無において異なる。
ここで、例えば、ハードコート層形成用組成物および密着層形成用組成物における、（Ｂ）成分（フィラー）の屈折率、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の比率を共通にすることで、ハードコート層１２および密着層１３の屈折率を同一または略同一とすることができる。
【００５９】
密着層形成用組成物は、固形分重量比で５質量％以上２０質量％以下のシリカゾルを含むことが好ましい。
ここで、密着層形成用の組成物におけるシリカゾルの含有量が５質量％未満であると、密着性の向上効果が低く好ましくない。
【００６０】
［実施形態の作用効果］
本実施形態によれば、以下のような優れた作用効果を得ることができる。
（１）密着層１３を設けることにより、ハードコート層１２と反射防止層１４との密着性を向上できる。しかも、密着層１３の屈折率とハードコート層１２の屈折率とを、同一または略同一としたので、干渉縞の発生を防止でき、密着層１３を厚くすることが可能になって、ハードコート層１２と反射防止層１４との密着性をさらに向上することができる。
このような密着層１３の存在により、密着性の不足が問題となっていた高硬度のハードコート層１２を採用することが可能となり、傷や剥離の発生しにくい高品質のレンズ１を提供できる。
【００６１】
（２）密着層１３の適度な厚さにより、ハードコート層１２と反射防止層１４との間の十分な密着性を得ることができる。
（３）密着層１３が、固形分重量比で５質量％以上２０質量％以下のシリカゾルを含む密着層形成用組成物から形成されるので、ハードコート層１２と反射防止層１４との間の十分な密着性を得ることができる。
【００６２】
（４）ハードコート層形成工程Ｓ１２および密着層形成工程Ｓ１３を、使用する材料を除き略同一の手順で実施するので、製造工程を簡略化して効率的にレンズ１を製造することができる。
（５）簡易かつ一般的な方法であるディッピングにより、ハードコート層形成工程Ｓ１２および密着層形成工程Ｓ１３を実施するので、レンズ１をより効率的に製造することができる。
【００６３】
［変形例］
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる他の構成等を含み、以下に示すような変形等も本発明に含まれる。
例えば、上述の実施形態のレンズ１において、レンズ基材１１とハードコート層１２との間に、プライマー層を設けてもよい。
ここで、プライマー層は、レンズ基材１１とハードコート層１２双方の界面に存在して、レンズ基材１１とハードコート層１２双方への密着性を両立する性質を有し、レンズ基材１１上の層構造の耐久性を向上させる役割を担う。加えて、プライマー層は、外部からの衝撃吸収層としての性質も併せ持ち、レンズ１の耐衝撃性を向上させる。
【００６４】
このようなプライマー層は、例えば、極性基を有する有機樹脂ポリマーや酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ケイ素等の金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
極性基を有する有機樹脂ポリマーとしては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の各種樹脂を使用することが可能である。この内、硫黄原子を含むレンズ基板に対する密着性とフィラーとなる金属酸化物微粒子の分散性の点から、ポリエステル樹脂を好ましく用いることができる。
【００６５】
ポリエステル樹脂では、樹脂中のエステル結合および側鎖に付いたヒドロキシル基やエポキシ基がレンズ基材１１（レンズ基材１１の表面分子）と相互作用を生じ易く、高い密着性を発現する。一方、ポリエステル樹脂のｐＨは弱酸性を示す場合が多く、フィラーとなる金属酸化物微粒子が安定に存在できるｐＨと合致する場合が多い。よってプライマー樹脂中に金属酸化物微粒子が局在化せずに均質に分散した状態となり、プライマー層の架橋密度を安定化もしくは向上させ、耐水性および耐光性が向上する。
プライマー層は、例えば、第１塗布工程Ｓ１２１および第２塗布工程Ｓ１３１と同様のディッピングにより形成することができる。
【００６６】
このようなプライマー層により、ハードコート層１２と反射防止層１４との間のみならず、レンズ基材１１とハードコート層１２との間の密着性をも向上することができるので、より一層、傷や剥離の発生しにくい高品質のレンズ１を提供することができる。
【００６７】
［実施例］
以下に実施例、比較例を示して本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例、比較例に何ら限定されるものではない。
【００６８】
［実施例１］
［１．プライマーコート液の調製］
撹拌子を備えた反応容器に、メタノール６４０ｇ、ポリエステル樹脂（高松油脂株式会社製、商品名「ペスレジンＡ−１６０Ｐ」、固形分濃度２７％）１００ｇを投入する。
ここに、アナターゼ型酸化チタン・酸化珪素・酸化鉄の複合ゾル（触媒化成工業株式会社製、商品名「オプトレイク１１３０Ｆ−２（Ａ−８）」）８４ｇ、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー製、商品名「ＳＩＬＷＥＴ Ｌ−７７」）１ｇを混合し、充分攪拌して、これをプライマーコート液とした。
【００６９】
［２．プライマーコート液の塗布］
得られたプライマーコート液を、図３に示したディッピング装置１００を用いて、レンズ基材１１（セイコーエプソン（株）製プラスチック眼鏡レンズ、セイコースーパーソブリン用レンズ生地、屈折率１．６７）に塗布した。膜厚は０．８μｍとした。
塗布後、１００℃で１５分間風乾した。
【００７０】
［３．ハードコート層形成用組成物の調製］
撹拌子を備えた反応容器に、（Ａ）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１２３．６５ｇ、（Ｃ）メタノール２００．０ｇと、エポキシ樹脂（ナガセ化成工業株式会社製、商品名「デナコールＥＸ４２１」）５０．００ｇ、０．１規定塩酸水溶液５６．６３ｇを投入し、６０分撹拌した。
その後、（Ｂ）アナターゼ型酸化チタン・酸化ジルコニウム・酸化珪素の複合ゾル（触媒化成工業株式会社製、商品名「オプトレイク１８２０Ｚ（Ｕ−２５・Ａ８）」）５６２．５０ｇ、（Ｄ）アセチルアセトンＡｌ（III）塩３．０ｇと、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７６０４」）３．００ｇを添加し、充分撹拌して、ハードコート層形成用組成物とした。
【００７１】
［４．ハードコート層形成工程Ｓ１２］
得られたハードコート液を、図３に示したディッピング装置１００を用いて、プライマーコート液が塗布されたレンズ基材１１に塗布した（第１塗布工程Ｓ１２１）。膜厚は２μｍとした。
なお、ディッピング装置１００のフィルタ１０５として、ポリプロピレン製カートリッジ式フィルタ（日本ミリポア（株）製、商品名「ＣＮ１２」、孔径１．２μｍ）を使用した。
塗布後、８０℃で２０分間風乾した（乾燥工程Ｓ１２２）。
【００７２】
［５．密着層形成用組成物の調製］
撹拌子を備えた反応容器に、（Ａ）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５８．９８ｇ、（Ｃ）メタノール１１７．１１ｇと、（Ｅ）メタノール分散コロイド状シリカ（触媒化成工業株式会社製、商品名「オスカル１４３２」）８３．３３ｇ、（Ｆ）０．１規定塩酸水溶液７２．８２ｇを投入し、６０分撹拌した。
その後、（Ｂ）ルチル型酸化チタン・酸化ジルコニウム・酸化珪素・酸化スズの複合ゾル（触媒化成工業株式会社製、商品名「オプトレイク１１２０Ｚ（１１ＲＵ−７／Ａ８）」）５６２．５０ｇ、（Ｄ）アセチルアセトンＦｅ（III）塩２．２６ｇと、（Ｇ）シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７６０４」）３．００ｇを添加し、充分撹拌して密着層形成用組成物とした。
【００７３】
［６．密着層形成工程Ｓ１３］
得られた密着層形成用組成物を、図３に示したディッピング装置１００を用いて、プライマーコート液およびハードコート層形成用組成物を塗布したレンズ基材１１に塗布した（第２塗布工程Ｓ１３１）。膜厚は１．５μｍとした。
塗布後、８０℃で２０分間風乾し、１３０℃で６０分間の焼成を実施した（本焼成工程Ｓ１３２）。
これにより、レンズ基材１１に、プライマー層、ハードコート層１２、密着層１３が形成された。
【００７４】
［７．反射防止層成膜工程Ｓ１４］
密着層１３までの各層が形成されたレンズ基材１１の表面に、プラズマ処理（アルゴンプラズマ４００Ｗ×６０秒）を施した。
その後、酸化ケイ素、酸化ジルコニウムからなる反射防止層１４を真空蒸着法（真空器械工業（株）製、ＢＭＣ−１０００）で多層被覆した。
層構成は、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素の順に５層である。
これにより、レンズ基材１１に、プライマー層、ハードコート層１２、密着層１３、反射防止層１４が形成された。
【００７５】
［８．防汚層成膜工程Ｓ１５］
フッ素含有有機ケイ素化合物（信越化学工業株式会社製、商品名「ＫＹ−１３０」）を用いた。
このＫＹ−１３０を、フッ素系溶剤（住友スリーエム株式会社製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）に希釈して固形分濃度３％の溶液を調製した。これを多孔質セラミックス製のペレットに１ｇ含浸させ乾燥させて、防汚層成膜用蒸着源とした。
この防汚層成膜用蒸着源を用い、反射防止層１４までの各層が形成されたレンズ基材１１に、真空蒸着を実施した。
このようにして、プライマー層、ハードコート層１２、密着層１３、反射防止層１４、防汚層１５を備えるレンズ１を得た。
【００７６】
［実施例２〜９，比較例１〜３］
密着層形成組成物の配合および密着層１３の膜厚を、以下の表１のように変更した以外は、実施例１と同様にしてレンズ１を製造した。
なお、実施例８および比較例２においては、膜厚を薄くするため、ディッピングによらずマイクログラビア法により密着層１３を形成した。
また、比較例２および比較例３では、（Ｂ）成分を省略したため、密着層１３の屈折率が１．５０となり、ハードコート層１２の屈折率との差が大きくなった。
【００７７】
【表１】
2009157304.tif 000005
【００７８】
［試験および評価結果］
得られたレンズ１につき、次に述べる方法で試験を行った。
【００７９】
［耐摩耗性］
ボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール（株）製）で、１ｋｇの荷重をかけ、１０往復、表面を摩擦した。傷がついた程度を、目視で、次の５段階に分けて評価した。
Ａ：１ｃｍ×３ｃｍの範囲に全く傷が付かない。
Ｂ：上記範囲内に１〜１０本の傷が付く。
Ｃ：上記範囲内に１０〜１００本の傷が付く。
Ｄ：無数の傷が付いているが、平滑な表面が残っている。
Ｅ：表面に付いた傷のため、平滑な表面が残っていない。
【００８０】
［初期密着性］
ＪＩＳ  Ｄ−０２０２に準じたクロスカットテープ試験により、レンズ基材１１とハードコート層１２と反射防止層１４との密着性を評価した。
すなわち、ナイフを用いてレンズ１の表面に１ｍｍ間隔に切れ目をいれ、１平方ｍｍのマス目を１００個形成する。次に、その上へセロファン粘着テープ（ニチバン（株）製  商品名「セロテープ(登録商標)」）を強く押しつけた後、表面から９０度方向へ急に引っ張り剥離する。このとき、ハードコート層１２から防汚層１５までの各層の残っているマス目をもって密着性の指標とした。
【００８１】
［耐候性、耐湿性、光学特性、外観］
キセノンランプによるサンシャインウエザーメーターに２５０時間暴露した後の表面状態に変化がなく、また、暴露後にクロスカットテープ試験を実施し、剥がれのないものを耐候性良（○）とした。また、一部剥がれが生じたものを△、半分以上剥がれが生じたものを×とした。
６０℃×９９％ＲＨの雰囲気に１０日間暴露した後の表面状態に変化がなく、また、暴露後にクロスカットテープ試験を実施し、剥がれのないものを耐湿性良（○）とした。また、一部剥がれが生じたものを△、半分以上剥がれが生じたものを×とした。
Ｕ−４１００形分光光度計（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、可視光波長域の反射率を測定した。その際、可視光域の反射率が低いものを光学特性良（○）とした。可視光域の反射率が高いものを×とした。
レンズ１の外観を評価した。干渉縞がひどい、クラックが入っている等眼鏡レンズとして使用できないものを×とした。干渉縞が多少見られる、あるいは、クラックが外周部に多少見られるが、眼鏡レンズとして使用可能なものを△とした。外観に特に問題のないものを○とした。
これらの評価の結果を以下の表２に示す。
【００８２】
【表２】
2009157304.tif 000006
【００８３】
表２から明らかなように、本発明の構成を備える実施例１〜９のレンズ１は、耐摩耗性、初期密着性、耐候性、耐湿性、光学特性および外観のいずれにおいても優れていることがわかる。
これに対し、密着層１３を備えない比較例１では、耐摩耗性、初期密着性、耐候性、耐湿性が劣る。
また、（Ｅ）成分（シリカゾル）の配合量が５質量％未満の実施例６では、耐摩耗性、初期密着性、耐候性、耐湿性がやや低い。一方、（Ｅ）成分の配合量が２０質量％を超える実施例７では、外観不良が見られた。
密着層の厚さが０．５μｍ未満の実施例８、および、密着層の厚さが５μｍを超える実施例９では、初期密着性、耐候性、耐湿性がやや低い。また、実施例８では、耐摩耗性もやや低く、実施例９では、外観不良も見られた。
密着層１３の屈折率が１．５０で、ハードコート層１２の屈折率との差が大きい比較例２および３では、光学特性と外観に不良が見られた。特に、密着層１２の膜厚が０．５μｍ未満の比較例２は、耐摩耗性、初期密着性、耐候性、耐湿性にも劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の実施形態に係るレンズの積層構造を示す概略図。
【図２】本発明の実施形態に係るレンズの製造方法のフローチャート。
【図３】本発明に係る実施形態の第１塗布工程および第２塗布工程に用いるディッピング装置の概略図。
【符号の説明】
【００８５】
１…レンズ、１１…レンズ基材、１２…ハードコート層、１３…密着層、１４…反射防止層
【図１】
2009157304.tif 000007
【図２】
2009157304.tif 000008
【図３】
2009157304.tif 000009