(57)【要約】 【課題】エピタキシャルウェーハの生産性を向上させる、ウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法を提供する。【解決手段】エピタキシャル成長装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするためのウェーハ自動移載装置であって、可動アームと、この可動アームに取り付けられるウェーハ保持ハンドと、このウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタとの相対位置をモニタする位置センサと、ウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタ間の距離を計測する距離センサを有することを特徴とするウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法。【選択図】図１
2009123860.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エピタキシャル成長装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするためのウェーハ自動移載装置であって、
可動アームと
前記可動アームに取り付けられるウェーハ保持ハンドと、
前記ウェーハ保持ハンドに固定され、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタとの相対位置をモニタする位置センサと、
前記ウェーハ保持ハンドに固定され、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタ間の距離を計測する距離センサを有することを特徴とするウェーハ自動移載装置。
【請求項２】
前記エピタキシャル成長装置がバレル型エピタキシャル成長装置であって、前記ウェーハ保持ハンドに、前記ウェーハの接する部分がテーパ形状を有する１対のウェーハガイドを備えることを特徴とする請求項１記載のウェーハ自動移載装置。
【請求項３】
前記ウェーハガイドの前記ウェーハに接する部分がポリイミドであることを特徴とする請求項２記載のウェーハ自動移載装置。
【請求項４】
請求項１記載のウェーハ自動移載装置を用いたウェーハ移載方法であって、
前記ウェーハを前記ウェーハ保持ハンドに保持するステップと、
前記位置センサと、前記サセプタ上のパターンを用いて、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに対して所望の位置に移動するステップと、
前記距離センサを用いて、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタ間の距離を計測しながら、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに接近させるステップと、
前記サセプタに設けられた座ぐりに、前記ウェーハを載置するステップを有することを特徴とするウェーハ移載方法。
【請求項５】
請求項２記載のウェーハ自動移載装置を用いたウェーハ移載方法であって、
前記ウェーハを前記ウェーハ保持ハンドに保持するステップと、
前記位置センサと、前記サセプタ上のパターンを用いて、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに対して所望の位置に移動するステップと、
前記距離センサを用いて、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタ間の距離を計測しながら、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに接近させるステップと、
前記サセプタに設けられた座ぐりに、前記ウェーハを、前記ウェーハガイド上をスライドさせて載置するステップを有することを特徴とするウェーハ移載方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法に関し、特にエピタキシャル成長装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするためのウェーハ自動移載装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
バイポーラ、ＣＭＯＳあるいはディスクリート等、さまざまな半導体デバイスの製造工程において、半導体ウェーハ（以下、単に「ウェーハ」ともいう）上に単結晶の半導体膜を成長させるエピタキシャル成長装置が用いられるようになっている。
【０００３】
エピタキシャル成長を行うエピタキシャル成長装置には、縦型エピタキシャル成長装置（またはパンケーキ型装置、例えば、特許文献１、以下単に「縦型装置」ともいう）、バレル型エピタキシャル成長装置（またはシリンダー装置、例えば、特許文献２、以下単に「バレル型装置」ともいう）、枚葉装置等がある。この中で、縦型装置やバレル型装置は、多くの枚数のウェーハを一括して処理することが可能であることから量産性に優れているため、幅広くエピタキシャルウェーハの製造に用いられている。
【０００４】
このような、エピタキシャル成長装置においては、サセプタに設けられた円形凹状の座ぐり（またはザグリ）にウェーハを載置することで半導体単結晶膜のエピタキシャル成長が行われる。そして、ウェーハのサセプタへのロード、アンロードは従来、手作業によって行われてきた。これは、サセプタにウェーハを載置する際に、自動移送装置を用いると、ウェーハや自動移送装置のウェーハ保持ハンドが、サセプタ表面や座ぐりの端部と衝突することによるウェーハの欠けや発塵による汚染を回避することが困難なことによる。また、ウェーハの欠けや発塵をある程度抑制できたとしても、ウェーハのサセプタに対する位置精度が悪く、ウェーハが座ぐり中心からずれたり、極端な場合は、座ぐりに収まらなかったりして、ウェーハ不良につながっていたことにもよる。
【０００５】
このように、ウェーハのロード、アンロードを手作業で行うことが、エピタキシャルウェーハの生産性向上の阻害要因となっていた。また、作業者の熟練度の差異に起因する製品特性のばらつきも問題であった。
【特許文献１】特開平８−２５０４２９号公報
【特許文献２】特開平１０−８７３９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、エピタキシャルウェーハの生産性を向上させる、ウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様のウェーハ自動移載装置は、エピタキシャル成長装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするためのウェーハ自動移載装置であって、可動アームと前記可動アームに取り付けられるウェーハ保持ハンドと、前記ウェーハ保持ハンドに固定され、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタとの相対位置をモニタする位置センサと、前記ウェーハ保持ハンドに固定され、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタ間の距離を計測する距離センサを有することを特徴とする。
【０００８】
ここで、前記エピタキシャル成長装置がバレル型エピタキシャル成長装置であって、前記ウェーハ保持ハンドに、前記ウェーハの接する部分がテーパ形状を有する１対のウェーハガイドを備えることが望ましい。
【０００９】
ここで、前記ウェーハガイドの前記ウェーハに接する部分がポリイミドであることが望ましい。
【００１０】
本発明の一態様のウェーハ移載方法は、上述の本発明の一態様のウェーハ自動移載装置を用いたウェーハ移載方法であって、前記ウェーハを前記ウェーハ保持ハンドに把持するステップと、前記位置センサと、前記サセプタ上のパターンを用いて、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに対して所望の位置に移動するステップと、前記距離センサを用いて、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタ間の距離を計測しながら、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに接近させるステップと、前記サセプタに設けられた座ぐりに前記ウェーハを載置するステップを有することを特徴とする。
【００１１】
本発明の一態様のウェーハ移載方法は、上述のウェーハガイドの備える本発明の一態様のウェーハ自動移載装置を用いたウェーハ移載方法であって、前記ウェーハを前記ウェーハ保持ハンドに保持するステップと、前記位置センサと、前記サセプタ上のパターンを用いて、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに対して所望の位置に移動するステップと、前記距離センサを用いて、前記ウェーハ保持ハンドと前記サセプタ間の距離を計測しながら、前記ウェーハ保持ハンドを前記サセプタに接近させるステップと、前記サセプタに設けられた座ぐりに、前記ウェーハを、前記ウェーハガイド上をスライドさせて載置するステップを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、エピタキシャルウェーハの生産性を向上させる、ウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法を提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に関するウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法についての実施の形態につき、添付図面に基づき説明する。
【００１４】
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態のウェーハ自動移載装置は、エピタキシャル成長装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするためのウェーハ自動移載装置である。そして、可動アームと、この可動アームに取り付けられるウェーハ保持ハンドと、このウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタとの相対位置をモニタする位置センサと、ウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタ間の距離を計測する距離センサを有することを特徴とする
【００１５】
本実施の形態においては、エピタキシャル成長装置が縦型装置である場合を例に説明する。
【００１６】
図２は、第１の実施の形態で用いられる縦型装置の断面図である。図２に示すように、この縦型装置６０は、反応炉となる容積の大きな半球状の石英ベルジャー６２の中に、回転式のディスク状のサセプタ６４を有している。そして、このサセプタ６４上に複数のウェーハ６６が水平に配置される。反応ガスは、サセプタ６４中心に設けられたガス供給管６８のガス噴出孔７０からサセプタ６４上面に沿って、放射状に噴出される。そして、反応ガスおよび反応により生成された反応生成ガスは、サセプタ６４外周の石英ベルジャー６２下部に、例えば２箇所設けられた排気孔２から石英ベルジャー６２外へ排出される。また、石英ベルジャー６２の内部に設けられたコイル６４による高周波誘導加熱でウェーハ６６が加熱される。そして、ディスク状のサセプタ６４が回転することにより、ウェーハ６６の加熱およびウェーハ６６への反応ガスの供給を均一化している。
【００１７】
図３は、図２に示したような縦型装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするための本実施の形態のウェーハ自動移載装置の説明図である。本実施の形態のウェーハ自動移載装置１０は、架台１２上に可動アーム１４が設けられている。そして、この可動アーム１４の先端に、ウェーハ６６を保持することが可能なウェーハ保持ハンド１６が取り付けられている。
【００１８】
このウェーハ自動移載装置１０は、ウェーハ受け渡しユニット４０と縦型装置６０のサセプタ６４に、複数設けられた円形凹状の座ぐり６８内との間で、ウェーハ６６をロードまたはアンロードする。ここで、ウェーハ受け渡しユニット４０には、ウェーハカセット４２が載置され、ウェーハ受け渡し部４４との間でウェーハ６６の移動が可能となっている。
【００１９】
図１は、本実施の形態のウェーハ保持ハンドの説明図である。図１（ａ）が、側面図、図１（ｂ）が正面図である。
【００２０】
ウェーハ保持ハンド１６には、ウェーハ６６を保持するための、３つの爪１８設けられている。この爪１８は、ウェーハ６６を保持するために、それぞれ可動に設けられている。この爪１８のウェーハ６６に接する部分は、ウェーハ６６を保持する動作の際に、ウェーハに損傷を与えないために、セラミックスや金属よりも弾性の高い材料、例えば、ポリイミドなどの樹脂でできていることが望ましい。
【００２１】
なお、ここでは、ウェーハを保持する機構として、爪１８を用いているが、例えば、ウェーハ面を吸着することで保持する機構を適用してもかまわない。
【００２２】
また、ウェーハ保持ハンド１６には、このウェーハ保持ハンド１６に固定され、ウェーハ保持ハンド１６とサセプタとの相対位置をモニタする位置センサ２０が設けられている。この位置センサ２０は、サセプタ面を光学的に認識する撮像デバイスであり、例えば、ＴＶカメラ、ＣＣＤ、ＣＭＯＳセンサなどが適用できる。
【００２３】
また、ウェーハ保持ハンド１６には、ウェーハ保持ハンド１６に固定され、ウェーハ保持ハンド１６とサセプタ間の距離を計測する距離センサ２２が設けられている。この距離センサとしては、例えば、レーザ干渉計等が適用可能である。
【００２４】
次に、本実施の形態のウェーハ自動移載装置を用いたウェーハ移載方法について、図１および図３を参照しつつ説明する。
【００２５】
本実施の形態のウェーハ移載方法は、ウェーハをウェーハ保持ハンドに保持するステップと、位置センサとサセプタ上のパターンを用いて、ウェーハ保持ハンドをサセプタに対して所望の位置に移動するステップと、距離センサを用いて、ウェーハ保持ハンドとサセプタ間の距離を計測しながら、ウェーハ保持ハンドをサセプタに接近させるステップと、サセプタに設けられた座ぐりにウェーハを載置するステップを有することを特徴とする。
【００２６】
まず、ウェーハ６６を縦型装置６０にロードする場合について説明する。ウェーハ６６は図３に示すウェーハ受け渡しユニット４０のウェーハカセット４２に導入される。そして、ウェーハ受け渡しユニット４０の搬送アームにより、ウェーハ６６は、ウェーハ受け渡し部４４に移動される。
【００２７】
その後、ウェーハ自動移載装置１０の可動アーム１４を動かし、ウェーハ保持ハンド１６がウェーハ受け渡し部４４の直上にくるよう移動させる。その後、爪１８（図１）を外方に開いた状態で、ウェーハ保持ハンド１６をウェーハ６６まで降下させ、爪１８を閉じることによって、ウェーハ６６を水平に保持する。
【００２８】
その後、可動アーム１４を動かすことで、ウェーハ６６を保持したウェーハ保持ハンド１６を上昇および水平移動させ、縦型装置６０のサセプタ６４表面の所定の座ぐり６８直上まで移動させる。この時、位置センサ２０（図１）を用いて、ウェーハ６６が所定の座ぐり６８の中心に確実に載置されるようにする。
【００２９】
例えば、ＣＣＤである位置センサ２０により、サセプタ６４上のパターン、例えば、位置合わせ専用に設けられた基準マークを画像認識させてウェーハ保持ハンド１６位置を調整し、例えば、機械精度に頼るだけの方法よりも精度の高い位置合わせを行う。
【００３０】
そして、所定の座ぐり６８直上まで移動させた後、可動アーム１４を動作させることによって、ウェーハ保持ハンド１６をサセプタ６４面まで降下させる。この時、例えば、レーザ干渉計である距離センサ２２（図１）で、距離をモニタすることでウェーハ保持ハンド１６の上下位置を調整し、ウェーハ保持ハンド１６やこれに保持されるウェーハ６６がサセプタ６４表面や座ぐり６８に衝突しないように制御する。
【００３１】
そして、ウェーハ保持ハンド１６の爪１８を外方に開き、ウェーハ６６を離脱させ、所定の座ぐり６８にソフトランディングさせる。
【００３２】
なお、ウェーハ６６のサセプタ６４からのアンロードに関しては、上述のロードと逆の手順により行う。
【００３３】
また、上述のウェーハのロードおよびアンロードは、ウェーハ自動移載装置１０に接続されるコンピュータ（図示せず）によって制御される。
【００３４】
本実施の形態のウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法によれば、ウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタとの相対位置をモニタする位置センサと、同じくウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタ間の距離を計測する距離センサにより、ウェーハ保持ハンドのサセプタに対する水平および上下位置を極めて精度よくモニタし、かつ、制御することが可能となる。したがって、ウェーハやウェーハ自動移載装置のウェーハ保持ハンドが、サセプタ表面や座ぐりの端部と衝突することによるウェーハの欠けや発塵による汚染を回避することが可能となる。また、ウェーハが座ぐり中心からずれることによるウェーハ不良も回避することが可能となる。
【００３５】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態のウェーハ自動移載装置は、バレル型装置に用いられる点、および、ウェーハ保持ハンドに、ウェーハの接する部分がテーパ形状を有する１対のウェーハガイドを備える点以外は、第１の実施の形態と同様である。
【００３６】
図４は、第２の実施の形態で用いるバレル型装置の断面図である。
【００３７】
例えば、透明石英で形成される円筒形状容器７２内には、その側面にウェーハ（図示せず）をほぼ直立した状態で載置する、複数の円形凹状の座ぐり７８を備えたサセプタ７４が吊り下げられている。
【００３８】
ここで、サセプタ７４は、図５（ａ）の斜視図に示すように多角錘台状、ここでは六角錘台状である。そして、図５（ｂ）の展開図に示すように、サセプタ７４は複数の台形状パネル８４、ここでは６枚の台形状パネルによって構成されている。このサセプタ７４は、例えば、表面が炭化珪素（ＳｉＣ）でコーティングされたカーボン（Ｃ）で形成されている。
【００３９】
そして、図４に示すように、円筒形状容器７２はサセプタ７４を同軸に覆っている。円筒形状容器７２上部には、反応ガスを導入するためのガス導入口７６が設けられている。また、円筒形状容器７２下部には、未反応の反応ガスあるいは反応により生成されたガスを排出するためのガス排出口８０が設けられている。ガス導入口７６から導入された反応ガスは、図中点線矢印で示すように、サセプタ７４と円筒状容器７２との間に導入され、下方へと流れる。
【００４０】
また、円筒形状容器７２の外部には、ハロゲンランプ等のヒータ２２が設けられている。このヒータ８２により、サセプタ７４上に載置されたウェーハが加熱可能になっている。
【００４１】
そして、角錐台形のサセプタは、それ自体の軸の周りを回転可能となっている。このように回転することによって、ウェーハの加熱およびウェーハへの反応ガスの供給を均一化している。このように、ウェーハを加熱しながら、反応ガスを供給することで、サセプタ７４上に載置されたウェーハ上に単結晶膜のエピタキシャル層を形成することが可能である。
【００４２】
図５は、図４に示したようなバレル型装置のサセプタにウェーハをロードまたはアンロードするための本実施の形態のウェーハ自動移載装置の説明図である。本実施の形態のウェーハ自動移載装置１０は、第１の実施の形態同様、架台１２上に可動アーム１４が設けられている。そして、この可動アーム１４の先端に、ウェーハ６６を保持することが可能なウェーハ保持ハンド１６が取り付けられている。
【００４３】
このウェーハ自動移載装置１０は、ウェーハ受け渡しユニット４０とバレル型装置７０のサセプタ７４に、複数設けられた円形凹状の座ぐり７８（図５）内との間で、ウェーハ６６をロードまたはアンロードする。ここで、ウェーハ受け渡しユニット４０には、ウェーハカセット４２が載置され、ウェーハ受け渡し部４４との間でウェーハ６６の移動が可能となっている。
【００４４】
図７は、本実施の形態のウェーハ保持ハンド１６の説明図である。図７（ａ）が、側面図、図７（ｂ）が正面図である。
【００４５】
ウェーハ保持ハンド１６には、ウェーハ６６を保持するための、３つの爪１８設けられている。この爪１８は、ウェーハ６６を保持するために、３つのうちの１つが可動に設けられている。この爪１８のウェーハ６６に接する部分は、ウェーハ６６を保持する動作の際に、ウェーハに損傷を与えないために、セラミックスや金属よりも弾性の高い材料、例えば、ポリイミドなどの樹脂でできていることが望ましい。
【００４６】
なお、ここでは、ウェーハを保持する機構として、爪１８を用いているが、例えば、ウェーハ面を吸着することで保持する機構を適用してもかまわない。
【００４７】
さらに、ウェーハ保持ハンド１６に、ウェーハ６６の接する部分がテーパ形状を有する１対のウェーハガイド２６を備えている。このウェーハガイド２６のウェーハ６６に接する部分に関しても、ウェーハ６６を保持動作の際に、ウェーハに損傷を与えないために、セラミックスや金属よりも弾性の高い材料、例えば、ポリイミドなどの樹脂でできていることが望ましい。
【００４８】
また、第１の実施の形態同様、ウェーハ保持ハンド１６には、このウェーハ保持ハンド１６に固定され、ウェーハ保持ハンド１６とサセプタとの相対位置をモニタする位置センサ２０が設けられている。この位置センサ２０は、サセプタ面を光学的に認識する撮像デバイスであり、例えば、ＴＶカメラ、ＣＣＤ、ＣＭＯＳセンサなどが適用できる。
【００４９】
また、ウェーハ保持ハンド１６には、ウェーハ保持ハンド１６に固定され、ウェーハ保持ハンド１６とサセプタ間の距離を計測する距離センサ２２が設けられている。この距離センサとしては、例えば、レーザ干渉計等が適用可能である。
【００５０】
次に、本実施の形態のウェーハ自動移載装置を用いたウェーハ移載方法について、図６、図７および図８を参照しつつ説明する。
【００５１】
本実施の形態のウェーハ移載方法は、ウェーハをウェーハ保持ハンドに保持するステップと、位置センサとサセプタ上のパターンを用いて、ウェーハ保持ハンドをサセプタに対して所望の位置に移動するステップと、距離センサを用いて、ウェーハ保持ハンドとサセプタ間の距離を計測しながら、ウェーハ保持ハンドをサセプタに接近させるステップと、サセプタに設けられた座ぐりに、前記ウェーハを、前記ウェーハガイド上をスライドさせて載置するステップを有することを特徴とする。
【００５２】
まず、ウェーハ６６を縦型装置７０にロードする場合について説明する。ウェーハ６６は図６に示すウェーハ受け渡しユニット４０のウェーハカセット４２に導入される。そして、ウェーハ受け渡しユニット４０の搬送アームにより、ウェーハ６６は、ウェーハ受け渡し部４４に移動される。
【００５３】
その後、ウェーハ自動移載装置１０の可動アーム１４を動かし、ウェーハ保持ハンド１６がウェーハ受け渡し部４４の直上にくるよう移動させる。その後、可動な爪１８（図７）を開いた状態で、ウェーハ保持ハンド１６をウェーハ６６まで降下させ、爪１８を閉じることによって、ウェーハ６６を保持する。
【００５４】
その後、可動アーム１４を動かすことで、ウェーハ６６を保持したウェーハ保持ハンド１６を上昇および水平移動させ、ほぼ垂直となっている縦型装置７０のサセプタ７４表面の所定の座ぐり７８（図５）正面まで移動させる。この時、位置センサ２０（図７）を用いて、ウェーハ６６が所定の座ぐり７８の中心に確実に載置されるようにする。
【００５５】
例えば、ＣＣＤである位置センサ２０により、サセプタ７４上のパターン、例えば、位置合わせ専用に設けられた基準マークを画像認識させてウェーハ保持ハンド１６位置を調整し、例えば、機械精度に頼るだけの方法よりも精度の高い位置合わせを行う。
【００５６】
そして、所定の座ぐり７８正面まで移動させた後、可動アーム１４を動作させることによって、ウェーハ保持ハンド１６をサセプタ７４面まで接近させる。この時、例えば、レーザ干渉計である距離センサ２２（図７）で、距離をモニタすることでウェーハ保持ハンド１６の水平位置を調整し、ウェーハ保持ハンド１６やこれに保持されるウェーハ６６がサセプタ７４表面や座ぐり７８に衝突しないように制御する。
【００５７】
そして、ウェーハ保持ハンド１６の可動な爪１８を下方に開き、ウェーハ６６を離脱させ、所定の座ぐり７８にウェーハガイド２６を用いてソフトランディングさせる。
【００５８】
図８はウェーハガイドの作用を説明する図である。図８（ａ）に示すように、ウェーハ保持ハンドに保持したウェーハ６６を、可動アームを用いて、座ぐり７８まで移動する。その後、ウェーハ保持ハンド１６の可動な爪１８（図７）を下方に動かすことで、ウェーハ６６を矢印のように下方へ移動させる。
【００５９】
これによって、図８（ｂ）に示すように、ウェーハ６６がウェーハガイド２６上に載置される。
【００６０】
この後、図８（ｃ）に示すように、可動アームを矢印の方向に動かすことによってウェーハガイド２６を引き出す。この時、ウェーハ６６は、ウェーハガイド２６上をスライドして、座ぐり７８に載置される。
【００６１】
従来、特に、サセプタ面が垂直に近いバレル型装置においては、自動ウェーハ移載装置を用いたウェーハ移載が困難であった。これは、ウェーハを、ウェーハを保持する爪から離脱する際に、ウェーハが下方に落下し、ウェーハの下部１箇所で座ぐりの下部側面に接触するため、ウェーハへの衝撃が大きくウェーハ損傷が生じやすいためである。
【００６２】
本実施の形態のウェーハ自動移載装置によれば、ウェーハが下方に落下する際の衝撃を緩和する。なぜなら、まず、ウェーハ保持状態で、既に近接しているウェーハガイド２６上に落下するため、座ぐりの下部側面に落下する場合に比して、衝撃が小さくなるからである。このため、ウェーハ損傷が生じにくい。そして、テーパ形状をした表面を滑らせて、最終的に、座ぐりの下部側面とウェーハ下端が近接した状態で、座ぐりの下部側面にウェーハを載置するため、落下距離が小さくなるためソフトランディングが可能である。
【００６３】
また、座ぐり部分とは異なり、ウェーハガイド部分は高温にさらされることはない。このため、上述のように、セラミックスや金属よりも熱的には不安定であるが弾性の高いポリイミド等の樹脂を適用することが可能である。したがって、一層、ウェーハ落下の衝撃を吸収することが可能となる。
【００６４】
なお、ウェーハ６６のサセプタ７４からのアンロードに関しては、上述のロードと逆の手順により行う。
【００６５】
また、上述のウェーハのロードおよびアンロードは、ウェーハ自動移載装置１０に接続されるコンピュータ（図示せず）によって制御される点は第１の実施の形態と同様である。
【００６６】
そして、本実施の形態のウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法によれば、ウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタとの相対位置をモニタする位置センサと、同じくウェーハ保持ハンドに固定され、ウェーハ保持ハンドとサセプタ間の距離を計測する距離センサにより、ウェーハ保持ハンドのサセプタに対する水平および上下位置を極めて精度よくモニタし、かつ、制御することが可能となる。したがって、ウェーハや自動移送装置のウェーハ保持ハンドが、サセプタ表面や座ぐりの端部と衝突することによるウェーハの欠けや発塵による汚染を回避することが可能となる。また、ウェーハが座ぐり中心からずれることによるウェーハ不良も回避することが可能となる点についても第１の実施の形態と同様である。
【００６７】
以上、具体例を参照しつつ本発明の実施の形態について説明した。実施の形態の説明においては、ウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法等で、本発明の説明に直接必要としない部分等については記載を省略したが、必要とされるウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法等に関わる要素を適宜選択して用いることができる。
【００６８】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全てのウェーハ自動移載装置およびこれを用いたウェーハ移載方法は、本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】第１の実施の形態のウェーハ保持ハンドの説明図。
【図２】第１の実施の形態で用いる縦型装置の断面図。
【図３】第１の実施の形態のウェーハ自動移載装置の説明図。
【図４】第２の実施の形態で用いるバレル型装置の断面図。
【図５】第２の実施の形態で用いるバレル型装置のサセプタを示す斜視図。
【図６】第２の実施の形態のウェーハ自動移載装置の説明図。
【図７】第２の実施の形態のウェーハ保持ハンドの説明図。
【図８】第２の実施の形態のウェーハガイドの作用を説明する図。
【符号の説明】
【００７０】
１０                  ウェーハ自動移載装置
１４                  可動アーム
１６                  ウェーハ保持ハンド
２０                  位置センサ
２２                  距離センサ
２６                  ウェーハガイド
６４、７４            サセプタ
６６                  ウェーハ
【図１】
2009123860.tif 000003
【図２】
2009123860.tif 000004
【図３】
2009123860.tif 000005
【図４】
2009123860.tif 000006
【図５】
2009123860.tif 000007
【図６】
2009123860.tif 000008
【図７】
2009123860.tif 000009
【図８】
2009123860.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月21日(2007.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
まず、ウェーハ６６をバレル型装置７０にロードする場合について説明する。ウェーハ６６は図６に示すウェーハ受け渡しユニット４０のウェーハカセット４２に導入される。そして、ウェーハ受け渡しユニット４０の搬送アームにより、ウェーハ６６は、ウェーハ受け渡し部４４に移動される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
その後、可動アーム１４を動かすことで、ウェーハ６６を保持したウェーハ保持ハンド１６を上昇および水平移動させ、ほぼ垂直となっているバレル型装置７０のサセプタ７４表面の所定の座ぐり７８（図５）正面まで移動させる。この時、位置センサ２０（図７）を用いて、ウェーハ６６が所定の座ぐり７８の中心に確実に載置されるようにする。