(57)【要約】      （修正有）【課題】プレート上にパターンを精度良く形成する。【解決手段】Ｙ軸方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数のコア群（コアＣＲ1,1、ＣＲ1,2、ＣＲ1,3…、ＣＲ1,Mから成るコア群、コアＣＲ2,1、ＣＲ2,2、ＣＲ2,3…、ＣＲ2,Mから成るコア群、…）が、Ｘ軸方向に関して互いに異なる位置に配置され、これら複数のコア列のうちの１つのコアが、Ｙ軸方向に関して、その他のコアのいずれとも異なる位置に配置されている。これにより、複数のコアが、Ｙ軸方向に関して、重複無く存在することから、各コアから照明光を射出させたりさせなかったりするのと並行して、プレートを走査することにより、プレート上にパターンを精度良く形成する（露光する）ことができる。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を露光する露光装置の構成部品であって、
第１方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数の光ファイバー端面を有する配列ファイバー束を複数備え、
前記複数の配列ファイバー束は、前記第１方向と直交する第２方向に関して互いに異なる位置に配置されるとともに、前記複数の配列ファイバー束のうちの１つに含まれる光ファイバー端面内の少なくとも特定領域が、前記第１方向に関して、前記複数の配列ファイバー束のうちの前記１つを除いた他の配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面いずれの前記特定領域とも異なる位置に配置されている露光装置の構成部品。
【請求項２】
前記配列ファイバー束を構成する前記複数の光ファイバー端面は所定面上で前記第１方向に沿って配置され、
前記複数の配列ファイバー束は、前記所定面上で前記第１方向と直交する前記第２方向に関して互いに異なる位置に配置される請求項１に記載の露光装置の構成部品。
【請求項３】
前記複数の配列ファイバー束のうちのいずれを構成する光ファイバー端面の前記特定領域も、前記第１方向に関して、前記複数の配列ファイバー束のうちの他を構成する光ファイバー端面の前記特定領域と異なる位置に配置されている請求項１又は２に記載の露光装置の構成部品。
【請求項４】
前記配列ファイバー束内において、前記光ファイバー端面同士の間隔が等間隔である請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置の構成部品。
【請求項５】
前記複数の配列ファイバー束内での前記複数の光ファイバー端面、および、前記複数の配列ファイバー束同士の位置関係を固定する固定部材を更に備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項６】
前記光ファイバー端面内の特定領域は、前記光ファイバー端面から射出される光束のサイズを定める光ファイバーのコア部分である請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項７】
前記複数の配列ファイバー束の内の第１配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面と、前記第１配列ファイバー束と前記第２方向に関して隣り合う第２配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面とは、前記第１方向に関して、前記コア部分のサイズに応じた距離ずつずれて配置される請求項６に記載の露光装置の構成部品。
【請求項８】
前記配列ファイバー束内において、前記光ファイバー端面同士の間隔が等間隔であって、前記配列ファイバー束の数は、前記第１方向に隣接する光ファイバー端面のコア部分間の距離を、前記コア部分の前記第１方向に関するサイズで除した数である請求項６又は７に記載の露光装置の構成部品。
【請求項９】
前記光ファイバー端面から射出される光を生成する光源を更に備える請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１０】
前記光源は、平行光を生成し、
前記配列ファイバー束に含まれる光ファイバーは、前記光ファイバー端面から射出される光が入射する入射端を有し、
前記入射端と、前記光源との間に設けられ、前記光源で生成された平行光を集光して前記入射端へ入射させる集光部材を更に備える請求項９に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１１】
前記光源は、レーザダイオードを含む請求項１０に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１２】
前記光源は、波長３５５ｎｍ程度の固体レーザ光源である請求項１１に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１３】
前記集光部材は、ＧＲＩＮレンズ及び凸レンズのいずれかである請求項１１又は１２に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１４】
前記配列ファイバー束に含まれる光ファイバーは、シングルモードファイバーである請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１５】
前記複数の配列ファイバー束に含まれる複数の光ファイバー端面それぞれに対応して設けられ、対応する前記光ファイバー端面から光を射出させる第１状態と、射出させない第２状態との間で個別にスイッチングするスイッチング機構を更に備える請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１６】
前記複数の配列ファイバー側に含まれる光ファイバーは、前記光ファイバー端面を含む第１ファイバー部と、前記第１ファイバー部それぞれに対応し、前記第１ファイバー部とは機械的に分離された複数の第２ファイバー部とを含み、
前記スイッチング機構は、前記第２ファイバー部を通過した光が、対応する前記第１ファイバー部に入射する状態と、入射しない状態との間で状態を切り替える請求項１５に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１７】
前記スイッチング機構は、前記第１ファイバー部と、これに対応する前記第２ファイバー部との位置関係を変更する請求項１６に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１８】
前記スイッチング機構は、前記第１ファイバー部及び前記第２ファイバー部の少なくとも一方を移動させる駆動素子を含む請求項１７に記載の露光装置の構成部品。
【請求項１９】
前記第１ファイバー部と、これに対応する前記第２ファイバー部との間に、液体が満たされている請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項２０】
前記光ファイバー束は、分岐型光ファイバーを含む請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品。
【請求項２１】
対象物を露光する露光装置であって、
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品を備え、
前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する露光装置。
【請求項２２】
対象物を所定パターンに応じた光で露光する露光装置であって、
請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品と；
前記所定パターンに関する情報に基づいて、前記スイッチング機構を制御する制御装置と；を備え、
前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する露光装置。
【請求項２３】
前記対象物と前記光ファイバー端面とを前記第２方向へ相対移動させる相対移動装置を更に備え、
前記制御装置は、前記所定パターンに関する情報に基づいて、前記スイッチング機構と前記相対移動装置とを同期して制御する請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記光ファイバー端面と前記対象物との間に配置され、前記所定パターンの像を前記対象物上に形成する光学系をさらに備える請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
対象物を露光する露光方法であって、
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品における前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する露光方法。
【請求項２６】
対象物を所定パターンに応じた光で露光する露光方法であって、
前記所定パターンに関する情報に基づいて、請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品における前記スイッチング機構を制御し、
前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する露光方法。
【請求項２７】
前記対象物と前記光ファイバー端面とを前記第２方向へ相対移動させ、
前記所定パターンに関する情報に基づいて、前記相対移動と同期して前記スイッチング機構を制御する請求項２６に記載の露光装置。
【請求項２８】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
【請求項２９】
請求項２８に記載のデバイス製造方法により製造されたデバイス。
【請求項３０】
光ファイバーの端面より射出される光で対象物を露光する露光装置であって、
第１光ファイバーおよび第２光ファイバーを含み、前記第１光ファイバーの端面内の第１特定領域と前記第２光ファイバーの端面内の第２特定領域とを所定間隔を隔てて配置した配列ファイバー束と；
前記第１特定領域と前記第２特定領域との間を通り、前記第１特定領域と前記第２特定領域との両方に接する第１接線と平行な方向に、前記第１および第２特定領域と前記対象物とを相対移動する駆動装置と；を備える露光装置。
【請求項３１】
前記配列ファイバー束は、前記第１接線と平行で前記第１接線との間に前記第２特定領域を挟む第２接線が接する第３特定領域をその端面内に有する第３光ファイバーを更に含み、
前記第３特定領域は、前記第２特定領域との間に前記第２接線が挟まれるように配置されている請求項３０に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記配列ファイバー束は、前記第１接線と直交し前記第１特定領域を通る交線上にその端面が配置される第４光ファイバーを更に含む請求項３０又は３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記光ファイバー端面内の特定領域は、前記光ファイバー端面から射出される光束のサイズを定める光ファイバーのコア部分である請求項３０〜３２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記複数の配列ファイバー束に含まれる複数の光ファイバー端面それぞれに対応して設けられ、対応する前記光ファイバー端面から光を射出させる第１状態と、射出させない第２状態との間で個別にスイッチングするスイッチング機構を更に備える請求項３０〜３３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記スイッチング機構は、前記対象物に形成すべき所定パターンに基づいて前記スイッチングを行う請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記配列ファイバー束は、分岐型光ファイバーを含む請求項３０〜３５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３７】
前記光ファイバー端面と前記対象物との間に配置され、前記対象物に形成すべき所定パターンの像を前記対象物上に形成する光学系を更に備える請求項３０〜３６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３８】
請求項３０〜３７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記対象物を露光する露光方法。
【請求項３９】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項３８に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
【請求項４０】
請求項３９に記載のデバイス製造方法により製造されたデバイス。
【請求項４１】
対象物を露光する露光装置の構成部品の製造方法であって、
第１方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数の光ファイバー端面を有する配列ファイバー束を複数用意し、
前記複数の配列ファイバー束を、前記第１方向と直交する第２方向に関して互いに異なる位置に配置するとともに、前記複数の配列ファイバー束のうちの１つに含まれる光ファイバー端面内の少なくとも特定領域が、前記第１方向に関して、前記複数の配列ファイバー束のうちの前記１つを除いた他の配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面いずれの前記特定領域とも異なる位置に配置する露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４２】
前記配列ファイバー束を構成する複数の光ファイバー端面を所定面上で前記第１方向に沿って配置し、
前記複数の配列ファイバー束を、前記所定面上で前記第１方向と直交する前記第２方向に関して互いに異なる位置に配置する請求項４１に記載の露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４３】
前記複数の配列ファイバー束のうちのいずれを構成する光ファイバー端面の前記特定領域も、前記第１方向に関して、前記複数の配列ファイバー束のうちの他を構成する光ファイバー端面の前記特定領域と異なる位置に配置する請求項４１又は４２に記載の露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４４】
前記配列ファイバー束内において、前記光ファイバー端面同士の間隔を等間隔に配置する請求項４１〜４３のいずれか一項記載の露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４５】
前記複数の配列ファイバー束内での前記複数の光ファイバー端面、および、前記複数の配列ファイバー束同士の位置関係を固定部材で固定する請求項４１〜４４のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４６】
前記光ファイバー端面内の特定領域は、前記光ファイバー端面から射出される光束のサイズを定める光ファイバーのコア部分である請求項４１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４７】
前記複数の配列ファイバー束の内の第１配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面と、前記第１配列ファイバー束と第２方向に関して隣り合う第２配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面とを、前記第１方向に関して、前記コア部分のサイズに応じた距離ずつずれて配置する請求項４６に記載の露光装置の構成部品の製造方法。
【請求項４８】
光ファイバーの端面より射出される光で対象物を露光する露光方法であって、
第１光ファイバーおよび第２光ファイバーを含み、前記第１光ファイバーの端面内の第１特定領域と前記第２光ファイバーの端面内の第２特定領域とを所定間隔を隔てて配置した配列ファイバー束を使用し、
前記第１特定領域と前記第２特定領域との間を通り、前記第１特定領域と前記第２特定領域との両方に接する接線と平行な方向に、前記第１および第２特定領域と前記対象物とを相対移動することを含む露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置の構成部品、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法及びデバイスに係り、更に詳しくは、対象物を露光する露光装置の構成部品、対象物を露光する露光装置及び露光方法、並びにリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法及び該デバイス製造方法により製造されたデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子又は液晶表示素子等の電子デバイスを製造するリソグラフィ工程では、マスク（レチクル、フォトマスク等）に形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等の感応剤が塗布された基板（ガラスプレート、ウエハ等）上に転写する投影露光装置が用いられている。
【０００３】
ところで、近年になって、デバイスパターンの大小にかかわらず、高価なマスク（固定のパターン原版であるマスク）に代えて、可変成形マスク（アクティブマスクとも呼ばれる）を用いたいわゆるマスクレスタイプの走査型露光装置が種々提案されている。このマスクレスタイプの走査型露光装置の一種として、反射型の空間光変調器の一種であるＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス（Digital Micro-mirror Device））を可変成形マスクとして用いる走査型露光装置が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
しかるに、ＤＭＤにおいては、マイクロミラーを駆動する駆動機構をマイクロミラーの裏面側などに配置する必要があるため、駆動機構の大きさに起因してＤＭＤの大型化や複雑化を招くおそれがある。したがって、今後、このような大型化や複雑化を回避することができる、新規な構成のマスクレスタイプの走査型露光装置の出現が期待される。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３２７６６０号公報
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、対象物を露光する露光装置の構成部品であって、第１方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数の光ファイバー端面を有する配列ファイバー束を複数備え、前記複数の配列ファイバー束は、前記第１方向と直交する第２方向に関して互いに異なる位置に配置されるとともに、前記複数の配列ファイバー束のうちの１つに含まれる光ファイバー端面内の少なくとも特定領域が、前記第１方向に関して、前記複数の配列ファイバー束のうちの前記１つを除いた他の配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面いずれの前記特定領域とも異なる位置に配置されている露光装置の構成部品である。
【０００７】
これによれば、第１方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数の光ファイバー端面を有する複数の配列ファイバー束が、第１方向と直交する第２方向に関して互いに異なる位置に配置され、これら複数の配列ファイバー束のうちの１つに含まれる光ファイバー端面内の少なくとも特定領域が、第１方向に関して、複数の配列ファイバー束のうちの前記１つを除いた他の配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面いずれの特定領域とも異なる位置に配置されている。これにより、複数の光ファイバー端面の特定領域が、第１方向に関して、重複無く存在することから、例えば、各光ファイバー端面の特定領域から光を射出させたりさせなかったりするのと並行して、対象物を走査することにより、対象物上に種々のパターンを精度良く生成することができる。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、対象物を露光する露光装置であって、本発明の露光装置の構成部品を備え、前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する第１の露光装置である。
【０００９】
これによれば、対象物上に種々のパターンを精度良く生成することができる本発明の露光装置の構成部品を備えているので、対象物を高精度に露光することが可能となる。
【００１０】
本発明は、第３の観点からすると、対象物を所定パターンに応じた光で露光する露光装置であって、スイッチング機構を備える本発明の露光装置の構成部品と；前記所定パターンに関する情報に基づいて、前記スイッチング機構を制御する制御装置と；を備え、前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する第２の露光装置である。
【００１１】
これによれば、制御装置が、所定パターンに関する情報に基づいて、スイッチング機構を制御するので、対象物を所定パターンに応じた光で精度良く露光することが可能となる。
【００１２】
本発明は、第４の観点からすると、対象物を露光する露光方法であって、本発明の露光装置の構成部品における前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する第１の露光方法である。
【００１３】
これによれば、対象物上に種々のパターンを精度良く生成することができる本発明の露光装置の構成部品の光ファイバー端面から、露光光が射出されるので、種々のパターンに応じた露光光で精度良く対象物を露光することが可能となる。
【００１４】
本発明は、第５の観点からすると、対象物を所定パターンに応じた光で露光する露光方法であって、前記所定パターンに関する情報に基づいて、スイッチング機構を備える本発明の露光装置の構成部品の前記スイッチング機構を制御し、前記光ファイバー端面から射出される露光光で前記対象物を露光する第２の露光方法である。
【００１５】
これによれば、所定パターンに関する情報に基づいて、スイッチング機構を制御するので、対象物を所定パターンに応じた光で精度良く露光することが可能となる。
【００１６】
本発明は、第６の観点からすると、光ファイバーの端面より射出される光で対象物を露光する露光装置であって、第１光ファイバーおよび第２光ファイバーを含み、前記第１光ファイバーの端面内の第１特定領域と前記第２光ファイバーの端面内の第２特定領域とを所定間隔を隔てて配置した配列ファイバー束と；前記第１特定領域と前記第２特定領域との間を通り、前記第１特定領域と前記第２特定領域との両方に接する第１接線と平行な方向に、前記第１および第２特定領域と前記対象物とを相対移動する駆動装置と；を備える第３の露光装置である。
【００１７】
これによれば、第１特定領域と第２特定領域とが、第１接線に垂直な方向に関して隙間無く配置されるので、駆動装置が、第１、第２特定領域と対象物とを第１接線と平行な方向に相対移動することにより、光ファイバーの端面より射出される光で精度良く対象物を露光することが可能となる。
【００１８】
本発明は、第７の観点からすると、本発明の第３の露光装置を用いて、前記対象物を露光する第３の露光方法である。
【００１９】
これによれば、本発明の第３の露光装置を用いることにより、精度良く対象物を露光することが可能となる。
【００２０】
また、リソグラフィ工程において、本発明の露光方法を用いて露光を行うことにより、高集積度のマイクロデバイスの生産性を向上することが可能である。従って、本発明は、第８の観点からすると、本発明の露光方法を用いるデバイス製造方法及び該デバイス製造方法を用いて製造されたデバイスであるとも言える。
【００２１】
本発明は、第９の観点からすると、対象物を露光する露光装置の構成部品の製造方法であって、第１方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数の光ファイバー端面を有する配列ファイバー束を複数用意し、前記複数の配列ファイバー束を、前記第１方向と直交する第２方向に関して互いに異なる位置に配置するとともに、前記複数の配列ファイバー束のうちの１つに含まれる光ファイバー端面内の少なくとも特定領域が、前記第１方向に関して、前記複数の配列ファイバー束のうちの前記１つを除いた他の配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面いずれの前記特定領域とも異なる位置に配置する露光装置の構成部品の製造方法である。
【００２２】
これによれば、第１方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数の光ファイバー端面を有する複数の配列ファイバー束が、第１方向と直交する第２方向に関して互いに異なる位置に配置され、これら複数の配列ファイバー束のうちの１つに含まれる光ファイバー端面内の少なくとも特定領域が、第１方向に関して、複数の配列ファイバー束のうちの前記１つを除いた他の配列ファイバー束に含まれる光ファイバー端面いずれの特定領域とも異なる位置に配置される。これにより、複数の光ファイバー端面の特定領域が、第１方向に関して、重複無く存在することから、例えば、この露光装置の構成部品の各光ファイバー端面の特定領域から光を射出させたりさせなかったりするのと並行して、対象物を走査することにより、対象物上に種々のパターンを精度良く生成することができる。
【００２３】
本発明は、第１０の観点からすると、光ファイバーの端面より射出される光で対象物を露光する露光方法であって、第１光ファイバーおよび第２光ファイバーを含み、前記第１光ファイバーの端面内の第１特定領域と前記第２光ファイバーの端面内の第２特定領域とを所定間隔を隔てて配置した配列ファイバー束を使用し、前記第１特定領域と前記第２特定領域との間を通り、前記第１特定領域と前記第２特定領域との両方に接する接線と平行な方向に、前記第１および第２特定領域と前記対象物とを相対移動することを含む露光方法。
【００２４】
これによれば、第１特定領域と第２特定領域とが、第１特定領域と第２特定領域との間を通り、第１特定領域と第２特定領域との両方に接する接線に垂直な方向に関して隙間無く配置されるので、第１、第２特定領域と対象物とを前記接線と平行な方向に相対移動することにより、光ファイバーの端面より射出される光で精度良く対象物を露光することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図１３（Ｆ）に基づいて説明する。図１には、一実施形態の露光装置１０の概略構成が示されている。露光装置１０は、液晶表示素子製造用の露光装置である。
【００２６】
露光装置１０は、複数（ここでは５つ）のパターンジェネレータ２２Ａ、２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｄ，２２Ｅを含むパターンジェネレータモジュール１４、各パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅの図１における下方に配置された複数（ここでは５つ）の投影光学ユニット１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ、１６Ｄ、１６Ｅを含む投影光学系モジュールＰＬＭ、及び該投影光学系モジュールＰＬＭの下方に配置されたプレートステージ１８等を含んでいる。
【００２７】
パターンジェネレータモジュール１４のうち、パターンジェネレータ２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃは、Ｙ軸方向に沿って所定間隔で配置され、残りのパターンジェネレータ２２Ｄ、２２Ｅはこれらの＋Ｘ側（図１における右側）に少しずれてＹ軸方向に沿って所定間隔で配置されている。すなわち、本実施形態では、５つのパターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅをいわゆる千鳥状に配置することにより、パターンジェネレータのアレイを構成している。
【００２８】
パターンジェネレータモジュール１４のうちの１つのパターンジェネレータ２２Ａは、図１に示されるように、光源１２と、該光源１２から射出された照明光を投影光学ユニット１６Ａに導く多数のファイバーを含むファイバー束２３と、ファイバー束２３を構成する多数のファイバーの一側の端部を所定の位置関係に固定する固定機構２７と、ファイバー束２３の中間部分に設けられたスイッチング機構２５と、を含んでいる。
【００２９】
光源１２としては、例えば波長３６５ｎｍのレーザ光を射出する固体レーザ光源（例えばＮｄ−ＹＡＧレーザの３倍高調波光源）が用いられている。この光源１２から射出される照明光（平行光）は、ファイバー束２３に向けて照射される。
【００３０】
ファイバー束２３は、図３に示されるような多数（ここでは例えば１０００００）本のファイバーＦs,t（ｓ＝１〜Ｎ（Ｎは例えば５０）、ｔ＝１〜Ｍ（Ｍは例えば２０００））を含んでいる。ファイバーＦs,tは、該ファイバーＦs,tの端部を示す図２から分かるように、ファイバーから射出される光束のサイズを定める断面円形（直径Ｌｃ（例えば２μｍ））の形状を有するコアＣＲs,tと、直径Ｌｆ（例えば１００μｍ）の断面円形形状を有し、コアＣＲs,tより屈折率の低い物質から成るクラッドＣＬs,tとを含む、シングルモードファイバーである。以下においては、各ファイバーの、光源１２側の端部を「入射側の端部」と呼び、投影光学系１６Ａ側の端部を「射出側の端部」と呼ぶものとする。なお、各ファイバーの射出側の端部の開口数（Ｎ．Ａ．）は、投影光学ユニット１６Ａの開口数（光が入射する側の開口数）とほぼ一致するように設定されている。なお、本実施形態では、ファイバーＦs,tにおけるｓの上限値Ｎを、Ｙ軸方向に並ぶコアの間隔Ｌｆ（例えば１００μｍ）をコアのＹ軸方向に関するサイズＬｃ（例えば２μｍ）で除した数（Ｌｆ／Ｌｃ＝１００／２＝５０）に設定することとしている。
【００３１】
ファイバーＦs,tそれぞれは、図３に示されるようにＹ軸方向に沿って配列されており、各ファイバーＦs,tの入射側の端部それぞれには、ＧＲＩＮレンズ（セルフォックレンズ）５２が設けられている。このＧＲＩＮレンズ５２は、図４に拡大して示されるように、ファイバーＦs,tとほぼ同径（ここでは、直径１００μｍ）の略円柱形状を有し、Ｘ軸方向に関して屈折率が一様で無いレンズ媒質により構成されている。このため、ＧＲＩＮレンズ５２内では、光線が放物線状に屈折される。このように、ファイバーＦs,tの入射側の端部にＧＲＩＮレンズ５２を設けることで、光源１２から射出され、ＧＲＩＮレンズ５２に入射した照明光（平行光）が、ＧＲＩＮレンズ５２内で屈折することにより、ファイバー束２３の入射側の端部において集光し、コアＣＲs,tに入射するようになっている。なお、上では、説明の便宜上、各ファイバーＦs,tの入射側の端部がＹ軸方向に一列に配置されているものとして説明しているが、各ファイバーＦs,tの入射側の端部を束ね、該束ねられた入射側の端部に、光源１２から照明光を照射することとしても良い。
【００３２】
図３に戻り、各ファイバーＦs,tは、その途中部分において切断された状態となっている。以下においては、紙面左側（−Ｘ側）のファイバー部分を「第１ファイバー部分４１Ａ」と呼び、紙面右側（＋Ｘ側）のファイバー部分を「第２ファイバー部分４１Ｂ」と呼ぶものとする（図３のファイバーＦ1,1参照）。これら第１ファイバー部分４１Ａ，第２ファイバー部分４１Ｂとの境界部分に、前記スイッチング機構２５が設けられている。
【００３３】
スイッチング機構２５は、各ファイバーＦs,tの第１ファイバー部分４１Ａの＋Ｘ側の端部近傍の下側（−Ｚ側）それぞれに設けられたピエゾ素子４３と、第２ファイバー部分４１Ｂの−Ｘ側の端部近傍の下側（−Ｚ側）それぞれに設けられた支持部材４４と、これら多数のピエゾ素子４３及び多数の支持部材４４を保持する基台４５とを含んでいる。このスイッチング機構２５は、例えば、ＭＥＭＳ技術により製造することができる。
【００３４】
スイッチング機構２５では、ピエゾ素子４３に対して、基台４５に形成された配線（不図示）を介して電流を供給することが可能である。そして、ピエゾ素子４３に基台４５の配線を介して電流が供給されることにより、ピエゾ素子４３自体がＺ軸方向に微小に伸張する。また、ピエゾ素子４３に電流を供給しない状態では、ピエゾ素子４３のＺ軸方向の高さと支持部材４４のＺ軸方向の高さが一致するように設定されている。
【００３５】
すなわち、ピエゾ素子４３に電流を供給しない状態では、図５（Ａ）に示されるように、第１ファイバー部分４１Ａのコア（図５（Ａ）においてハッチングを付した部分）と、第２ファイバー部分４１Ｂのコア（図５（Ａ）においてハッチングを付した部分）のＺ軸方向に関する位置が一致するので、第１ファイバー部分４１Ａのコアを通過した光が、第２ファイバー部分４１Ｂのコア内に入射する。なお、以下では、図５（Ａ）の状態を「オン状態」とも呼ぶものとする。
【００３６】
一方、ピエゾ素子４３に電流を供給した場合、図５（Ｂ）に示されるように、ピエゾ素子４３がＺ軸方向に関して数μｍ（例えば５μｍ程度）伸張する。これにより、第２ファイバー部分４１Ｂの端部が、数μｍ（５μｍ）程度＋Ｚ方向に移動するため、第１ファイバー部分４１Ａのコアと、第２ファイバー部分４１ＢのコアのＺ軸方向に関する位置がずれる。この状態では、第２ファイバー部分４１Ｂのコアを通過した光が、第１ファイバー部分４１Ａのコアに入射しなくなる。なお、以下では、図５（Ｂ）状態を「オフ状態」とも呼ぶものとする。
【００３７】
本実施形態では、前述のように、ピエゾ素子４３は、全てのファイバーＦs,tの射出側の端部に対応して設けられていることから、主制御装置３０（図１０参照）からの指示に応じてスイッチング制御装置４０（図１０参照）が、各ピエゾ素子４３への電流供給を個別に制御（オン状態とオフ状態との切り替えを制御）することにより、ファイバー束２３の全ての射出側の端部からの照明光の射出を制御（スイッチング）することが可能である。
【００３８】
図１に戻り、ファイバー束２３（ファイバーＦs,t）の射出側の端部側に設けられた固定機構２７は、投影光学ユニット１６Ａの上方に配置され、不図示の保持装置により保持されている。この固定機構２７は、ファイバー束２３を構成する全てのファイバーＦs,tの射出側の端部を、略マトリクス状に配列した状態で固定（維持）するものである。
【００３９】
この固定機構２７は、図６に示されるように、多数（ここでは、４９枚）のスペーサＳＰ1〜ＳＰ49と、スペーサＳＰ1の−Ｘ側に配置された押さえ基板ＳＰDと、スペーサＳＰ49の＋Ｘ側に配置された押さえ基板ＳＰUとを含んでいる。
【００４０】
スペーサＳＰ1は、スペーサＳＰ1を取り出して斜視図にて示す図７から分かるように、＋Ｘ側の面及び−Ｘ側の面それぞれに多数（例えば各面に２０００個）のＶ溝５１が形成された基板から成る。Ｖ溝５１は、基板に対してエッチング加工を施すなどして形成されている。
【００４１】
スペーサＳＰ1の＋Ｘ側の面に形成されたＶ溝５１の最下部（最も−Ｘ側の部分）と、これに隣接するＶ溝５１の最下部（最も−Ｘ側の部分）とのＹ軸方向に関する間隔は、図７に示されるように、ファイバーＦs,tの射出側の端部の直径Ｌｆ（図２参照）と一致している。また、同様に、−Ｘ側の面に形成されたＶ溝５１の最上部（最も＋Ｘ側の部分）と、これに隣接するＶ溝５１の最上部（最も＋Ｘ側の部分）とのＹ軸方向に関する間隔も、ファイバーＦs,tの射出側の端部の直径Ｌｆと一致している。また、−Ｘ側の面に形成されたＶ溝５１と、＋Ｘ側の面に形成されたＶ溝５１とは、Ｙ軸方向に関して、コアＣＲs,tの直径と同一距離（Ｌｃ）だけずれた状態となっている。
【００４２】
図６に戻り、その他のスペーサＳＰ2〜ＳＰ49も、スペーサＳＰ1と同様の構成となっている。
【００４３】
また、スペーサＳＰ1の−Ｘ側に配置された押さえ基板ＳＰDは、基板の＋Ｘ側の面にのみＶ溝５１と同様のＶ溝が形成されたものであり、スペーサＳＰ49の＋Ｘ側に配置された押さえ基板ＳＰUは、基板の−Ｘ側の面にのみＶ溝５１と同様のＶ溝が形成されたものである。
【００４４】
上記のように構成される固定機構２７では、以下のようにして、ファイバーＦs,tの端部を所定の位置関係で固定する。
(1) まず、押さえ基板ＳＰDの＋Ｘ側の面に形成されたＶ溝とスペーサＳＰ1の−Ｘ側の面に形成されたＶ溝との間にファイバーＦ1,1，Ｆ1,2，Ｆ1,3，…，Ｆ1,M-1，Ｆ1,M（Ｍは、例えば２０００）の端部を順に配列する。すなわち、ファイバーＦ1,1，Ｆ1,2，Ｆ1,3，…，Ｆ1,M-1，Ｆ1,M（Ｍは、例えば２０００）がＹ軸方向に沿って等間隔で配置される（以下、これを「第１配列ファイバー束」とも呼ぶ）。
(2) 次いで、スペーサＳＰ1の＋Ｘ側の面に形成されたＶ溝とスペーサＳＰ2の−Ｘ側の面に形成されたＶ溝との間にファイバーＦ2,1、Ｆ2,2、Ｆ2,3、…、Ｆ2,M（例えば、Ｍ＝２０００）の端部を順に配列する。すなわち、ファイバーＦ1,1，Ｆ1,2，Ｆ1,3，…，Ｆ1,M-1，Ｆ1,M（Ｍは、例えば２０００）がＹ軸方向に沿って等間隔で配置される（以下、これを「第２配列ファイバー束」とも呼ぶ）。
(3) そして、上記(1)(2)と同様にして、全てのスペーサＳＰ1〜ＳＰ49と押さえ基板ＳＰUとの間にファイバーＦs,tの端部を配置して積層する。これにより、第１配列ファイバー束、第２配列ファイバー束、…第Ｎ（Ｎは例えば５０）配列ファイバー束が用意され、それら配列ファイバー束が、押さえ基板ＳＰD、ＤＰU、スペーサＳＰ1〜ＳＰ49によって、Ｘ軸方向に関して互いに異なる位置に配置されるとともに、任意のコアが、Ｙ軸方向に関して、それ以外のいずれのコアとも異なる位置に配置されるようになる。
(4) その後、ファイバーＦs,tと押さえ基板ＳＰD、ＳＰU及びスペーサＳＰ1〜ＳＰ49との間に存在する隙間に、充填材（不図示）を注入し、充填材が乾燥した段階で、図６における−Ｚ側の面を研磨して、余分な充填材を除去する。
【００４５】
このようにして固定機構２７により固定された多数のファイバーＦs,tにおいては、図８（Ａ）に示されるように、コアＣＲ1,1、ＣＲ1,2、ＣＲ1,3…、ＣＲ1,M（例えば、Ｍ＝２０００）がＹ軸方向に関して所定間隔Ｌｆ（例えば、１００μｍ）で配列された第１コア群を形成し、コアＣＲ2,1、ＣＲ2,2、ＣＲ2,3…、ＣＲ2,M（例えば、Ｍ＝２０００）がＹ軸方向に関して所定間隔Ｌｆ（例えば、１００μｍ）で配列された第２コア群を形成し、…、コアＣＲ50,1、ＣＲ50,2、ＣＲ50,3…、ＣＲ50,M（例えば、Ｍ＝２０００）がＹ軸方向に関して所定間隔Ｌｆ（例えば、１００μｍ）で配列された第５０コア群を形成している。このうち、第ｋコア群（ｋは２〜５０の整数のうちの任意の数）は、第（ｋ−１）コア群よりもＹ軸方向に関して所定距離Ｌｃ（例えば２μｍ）だけ＋Ｙ側にずれた状態で配列されている。
【００４６】
上記のようにコア群が配列された結果、任意のコアＣＲd,eとコアＣＲd+1,eとの間を通り、コアＣＲd,eとコアＣＲd+1,eとの両方に接する２本の接線のうちの一本は、Ｘ軸に対して平行となっている。すなわち、本実施形態においては、図８（Ｂ）からも分かるように、コアＣＲ1,1、ＣＲ2,1、ＣＲ3,1、…、ＣＲ50,1が、Ｙ軸方向に関して見れば、隙間無くかつ重複無く配列され、同様に、コアＣＲ1,2、ＣＲ2,2、ＣＲ3,2、…、ＣＲ50,2が、Ｙ軸方向に関して見れば、隙間無くかつ重複無く配列され、…、コアＣＲ1,M、ＣＲ2,M、ＣＲ3, M、…、ＣＲ50, Mが、Ｙ軸方向に関して見れば、隙間無くかつ重複無く配列されているので、結果的に、コアＣＲs,tの全てが、Ｙ軸方向に関して見れば、隙間無くかつ重複無く配列されていると言える。ここで、本実施形態では、前述したように、ファイバーＦs,tにおけるｓの上限値Ｎとして、Ｙ軸方向に並ぶコアの間隔Ｌｆ（例えば１００μｍ）を、コアのＹ軸方向に関するサイズＬｃ（例えば２μｍ）で除した数（Ｌｆ／Ｌｃ＝１００／２＝５０）に設定していることから、コアＣＲ50,1とコアＣＲ1,2の間、コアＣＲ50,2とコアＣＲ1,3の間…にも隙間が生じないようになっている。
【００４７】
図１に戻り、その他４つのパターンジェネレータ２２Ｂ〜２２Ｅも同様の構成となっている。これら５つのパターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅは、前述したように、千鳥配置となっている。これについて、更に詳述すると、パターンジェネレータ２２Ａとパターンジェネレータ２２Ｄを下方（−Ｚ側）から見た状態を示す図９からわかるように、パターンジェネレータ２２Ａのうちの最も＋Ｙ側のコアＣＲ50,Mの＋Ｙ側端の位置と、パターンジェネレータ２２Ｄのうちの最も−Ｙ側のコアＣＲ1,1の−Ｙ側端の位置とが一致した配置となっている。
【００４８】
また、同様に、パターンジェネレータ２２Ｄのうちの最も＋Ｙ側のコアの＋Ｙ側端と、パターンジェネレータ２２Ｂのうちの最も−Ｙ側の射出側のコアの−Ｙ側端の位置が一致し、パターンジェネレータ２２Ｂのうちの最も＋Ｙ側のコアの＋Ｙ側端と、パターンジェネレータ２２Ｅのうちの最も−Ｙ側のコアの−Ｙ側端の位置が一致し、パターンジェネレータ２２Ｅのうちの最も＋Ｙ側のコアの＋Ｙ側端と、パターンジェネレータ２２Ｃのうちの最も−Ｙ側のコアの−Ｙ側端の位置が一致した配置となっている。
【００４９】
すなわち、パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅ全体で見れば、パターンジェネレータ２２Ａの最も−Ｙ側に存在するコアＣＲ1,1からパターンジェネレータ２２Ｃの最も−Ｙ側に存在するコアＣＲ50,Mにかけて、Ｙ軸方向に関して隙間無くかつ重複無く、配列されていることになる。
【００５０】
図１に戻り、前記投影光学系モジュールＰＬＭの５つの投影光学ユニット１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ、１６Ｄ、１６Ｅとしては、例えば光軸に沿って光学部品を複数配置した屈折光学系を用いることもできるが、ここでは、反射光学系を一部に有し、等倍の正立像を形成するダイソン型光学系が用いられている。このうち、投影光学ユニット１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃは、図１に示されるように、Ｙ軸方向に沿って所定間隔で配置され、残りの投影光学ユニット１６Ｄ、１６Ｅはこれらの＋Ｘ側（図１における右側）に少しずれてＹ軸方向に沿って所定間隔で配置されている。すなわち、本実施形態では、５つの投影光学ユニット１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ、１６Ｄ、１６Ｅをいわゆる千鳥状に配置することにより、投影光学ユニットのアレイを構成し、プレートステージ１８がＸ軸方向に走査されたときに、５つの投影光学ユニット１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ、１６Ｄ、１６Ｅのイメージフィールド（投影領域）がプレートＰの露光対象の矩形領域（ショット領域）の全面を網羅することができるように構成されている。本実施形態の投影光学系モジュールＰＬＭと同様の構成については、例えば特開２００１−２１５７１８号公報（対応する米国特許第６，５５２，７７５号明細書）などに詳細に開示されている。
【００５１】
なお、投影光学ユニット１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ、１６Ｄ、１６Ｅは、等倍系に限らず、縮小系は勿論、拡大系をも用いることができ、その投影像は倒立像でも構わない。
【００５２】
プレートステージ１８上には、矩形板状の大型ガラス基板（以下、「プレート」という）Ｐが載置されている。このプレートＰは、表示デバイス用の基板である。プレートステージ１８は、リニアモータ等を含むプレートステージ駆動系１９（図１では不図示、図１０参照）によって、ＸＹ平面内で自在に駆動（Ｚ軸回りの回転（θｚ回転）を含む）される。また、プレートステージ１８は、プレートステージ駆動系１９によって、Ｚ軸方向の微小駆動、ＸＹ平面に対する傾斜駆動（Ｘ軸回りの回転（θｘ回転）、及びＹ軸回りの回転（θｙ回転））が可能である。
【００５３】
プレートステージ１８の位置情報（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の位置情報の他、回転情報（θｚ回転、θｘ回転、及びθｙ回転）を含む）は、プレートステージ１８に形成された（又は設けられた）反射面に計測ビームをそれぞれ照射する複数の干渉計を含む干渉計システム２０（図１では不図示、図１０参照）によって計測され、計測された位置情報が主制御装置３０（図１では不図示、図１０参照）に供給される。また、プレートステージ１８のＺ軸方向の位置情報は、プレートＰ表面の面位置情報を計測する計測系２１（図１では不図示、図１０参照）によって間接的に計測される。計測系２１としては、例えば特開２００１−１６８０２４号公報（対応米国特許第６，３８１，００４号明細書）などに開示されるものを用いることができる。なお、干渉計システム２０を構成する少なくとも一部の干渉計の代わりに、エンコーダを用いても良いし、あるいは干渉計システム２０に加えてエンコーダシステムを設け、干渉計システム２０とエンコーダシステムとのハイブリッドシステムによって、プレートステージ１８の位置情報を計測するようにしても良い。
【００５４】
さらに、露光装置１０は、オフアクシス方式のアライメント系ＡＬＧ（図１では図示せず、図１０参照）を備えている。アライメント系ＡＬＧは、複数のアライメントセンサを備え、各アライメントセンサとして、例えばプレートＰ上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標の像とを撮像素子（ＣＣＤ）等を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のセンサがそれぞれ用いられている。
【００５５】
図１０には、露光装置１０の制御系の主要な構成がブロック図にて示されている。
【００５６】
次に、露光装置１０のパターンジェネレータモジュール１４を用いた露光動作の原理について、図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）に基づいて説明する。なお、本実施形態の露光装置１０のパターンジェネレータモジュール１４は、５つのパターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅを具備しているが、説明を分かりやすくするため、そのうちの２つのパターンジェネレータ２２Ａ、２２Ｄのみを採り挙げて説明するものとする。
【００５７】
図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）には、パターンジェネレータ２２Ａ，２２Ｄ及びプレートＰが簡略化して模式的に示されている。なお、パターンジェネレータ２２Ａ、２２Ｄは、実際には、前述したように、多数（例えば、１０００００本）のファイバーＦs,tを有しているが、図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）では、８本のファイバーのみが代表的に示されている。ただし、パターンジェネレータにおけるファイバーの射出側の端部（コア）の配列方法（Ｙ軸方向に関しては、隙間無くかつ重複無く、配列する配列方法）は図６、図８（Ａ）、図８（Ｂ）等の場合と同様となっている。
【００５８】
また、プレートＰ表面には、ポジ型のフォトレジストが塗布されているものとし、照明光ＩＬが照射された部分が現像液によって溶解されるものとする。また、以下においては、照明光ＩＬをプレートＰ上のフォトレジストに照射することを、露光又は描画と呼ぶものとする。
【００５９】
露光動作の際には、図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）に示されるように、パターンジェネレータ２２Ａ，２２Ｄの位置を固定したまま、プレートＰをＸ軸方向に走査する。そして、この走査を行っている間に、例えば、図１１（Ｆ）では、描画したいパターン（アルファベット「Ｆ」形状を有するパターン（抜きパターン）であるものとする）上方に位置するファイバーの射出側の端部（コア）（図１１（Ｂ）では、パターンジェネレータ２２Ｄの最も−Ｘ側に位置するファイバーの射出側の端部（コア）（この射出側の端部（コア）が、図１１（Ｂ）では白抜き丸印にて示されている））から照明光を透過させる。すなわち、スイッチング制御装置４０は、主制御装置３０の指示の下、これら射出側の端部（コア）以外の端部（コア）からの照明光の射出が行われないように、対応するピエゾ素子４３を駆動する。
【００６０】
更に、図１１（Ｃ）〜図１１（Ｆ）に示されるように、プレートＰを走査する間に、描画したいパターン上方に位置するファイバーの射出側の端部（コア）から照明光が射出するように、主制御装置３０の指示の下、スイッチング制御装置４０が各ピエゾ素子４３に対する電流供給を個別に制御する。これにより、プレートＰ上に所望のパターン（アルファベット「Ｆ」形状のパターン（現像後にレジストが除去された部分に形成される））を描画することが可能である。
【００６１】
ここで、図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）では、プレートＰがＸ軸方向に走査されるとともに、パターンジェネレータ２２Ａ、２２Ｄを構成するファイバーの射出側の端部のコアが、Ｙ軸方向に関しては、重複無くかつ隙間無く配列されているので、機能的には、図１２（Ａ）〜図１２（Ｆ）に示されるようにファイバーの射出側の端部のコアがＹ軸方向に沿って配列されたものと等価であるとみなすことができる。すなわち、図１２（Ａ）〜図１２（Ｆ）に示されるように、パターンジェネレータ２２Ａ、２２Ｄには、ファイバーの射出側の端部のコアがＹ軸方向に沿って重複無く、かつ隙間無く配列されていると看做すことができる。従って、パターンジェネレータ２２Ａ，２２ＤとプレートＰの位置関係に応じて、ピエゾ素子４３への電流供給及び電流供給停止を制御する（オン状態とオフ状態とを切り替える）だけで、プレートＰ上に様々なパターンを簡易に描画することができる。
【００６２】
本実施形態のパターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅを用いることで、図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）、及び図１２（Ａ）〜図１２（Ｆ）で説明した場合と同様に露光動作を行うことが可能である。すなわち、本実施形態では、１つのパターンジェネレータ（例えばパターンジェネレータ２２Ａ）には、直径がＬｃ（例えば、２μｍ）の円形のコアが、Ｙ軸方向にＭＮ個（例えば１０００００）個配列されたものと看做すことができ（図８（Ｂ）参照）、更には、パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅ全体では、円形のコアがＹ軸方向に５ＭＮ個（例えば５０００００（＝１０００００×５）個）配列されたものと看做すことができる。従って、主制御装置３０は、プレートステージ１８のＸ軸方向の走査に同期して、スイッチング制御装置４０を介して、５ＭＮ個（例えば５０００００個）のコアのうち、描画すべき所望のパターンに対応するコアのみから照明光を射出させることで、プレートＰ上に所望のパターンを描画することが可能である。
【００６３】
なお、説明は前後するが、本実施形態では、上記露光動作に先立って、プレートＰのプレートステージ１８に対するロード（又は交換）、アライメント系ＡＬＧを用いた、プレートＰ上の対象マークの位置情報の検出動作（アライメント動作）等が、主制御装置３０によって行われる。
【００６４】
以上詳細に説明したように、本実施形態によると、Ｙ軸方向に沿って所定間隔を隔てて配置された複数のコア群（コアＣＲ1,1、ＣＲ1,2、ＣＲ1,3…、ＣＲ1,M（例えば、Ｍ＝２０００）から成るコア群、コアＣＲ2,1、ＣＲ2,2、ＣＲ2,3…、ＣＲ2,Mから成るコア群、コアＣＲ50,1、ＣＲ50,2、ＣＲ50,3…、ＣＲ50,Mから成るコア群）が、Ｘ軸方向に関して互いに異なる位置に配置され、これら複数のコア列のうちの１つのコアが、Ｙ軸方向に関して、その他のコアのいずれとも異なる位置に配置されている。これにより、複数のコアが、Ｙ軸方向に関して、重複無くかつ一定間隔で存在することから、各コアから照明光を射出させたりさせなかったりするのと並行して、プレートＰを走査することにより、プレートＰ上にパターンを精度良く形成する（露光する）ことができる。
【００６５】
また、本実施形態では、任意のコアＣＲd,eとコアＣＲd+1,eとの間を通り、コアＣＲd,eとコアＣＲd+1,eとの両方に接する接線方向にプレートＰを走査すると、コアＣＲd,eとコアＣＲd+1,eとは、Ｙ軸方向に関して隙間無く配置されることになる。この接線方向は本実施形態ではＸ軸方向と平行となっており、プレートＰをＸ軸方向に走査することにより、プレートＰ上にパターンを隙間無く形成する（露光する）ことができる。言い換えると、任意に配置された２つのコアの間を通り、両方に接する接線方向にプレートＰを走査することで、接線方向と交差する方向に少なくとも２つのコア分の幅を持つパターンをプレートＰ上に形成することができる。
【００６６】
また、本実施形態によると、各ファイバーに対応して設けられた多数のピエゾ素子４３を含むスイッチング機構２５により、各ファイバーの射出側の端部のコアから照明光を射出させるかさせないかをスイッチングするので、簡単な構成で高速にスイッチングを行うことが可能である。また、本実施形態では、主制御装置３０によって、プレートＰ上に形成すべきパターン情報に基づいて、プレートステージ１８のＸ軸方向の走査と同期して、スイッチング機構２５のピエゾ素子４３を個別に制御する、シャッタ制御装置４０が制御される。このため、形成すべきパターン情報を種々変更する場合であっても、簡易にプレートＰ上にパターンを形成することが可能である。
【００６７】
なお、上記実施形態におけるファイバー束（ファイバー）の各部の寸法、本数、配置等は例示であって、本発明がこれらに限定されるものではない。例えば、コアＣＲs,tが、必ずしもＹ軸方向に関して隙間無く配置されている必要はない。例えば、コアＣＲs,tが、Ｙ軸方向に関して所定の隙間を隔てて配置されている場合には、プレートＰをＸ軸方向に走査する動作と、Ｙ軸方向に所定距離だけステップ移動する動作とを、交互に繰り返すことで、上記実施形態と同様に、プレートＰ上に種々のパターンを精度良く生成することができる。さらに、上記実施形態では複数のコアが、Ｙ軸方向に関して一定間隔で存在する場合について説明したが、これに限らず、複数のコアが不等間隔で存在していても良い。
【００６８】
また、上記実施形態では、任意のコアＣＲd,eのＹ軸方向に関する位置が、コアＣＲd+1,eよりも−Ｙ側に距離Ｌｃだけずれた配置、すなわち、図８（Ａ）に示されるように、コアＣＲ1,k（ｋは１〜２０００のうちの任意の数）、ＣＲ2,k、ＣＲ3,k…ＣＲ50,kの順にＹ軸方向に関する位置が距離Ｌｃずつずれた配置を採用する場合について説明したが、これに限らず、任意のコアＣＲd,eのＹ軸方向に関する位置が、コアＣＲd+1,eよりも−Ｙ側に任意の距離だけずれていても良いし、順不同で所定距離（例えば、Ｌｃ）ずつずれていても良い。また、上記実施形態では、Ｙ軸方向に並ぶコア（例えばコアＣＲk,1、ＣＲk,2、ＣＲk,3…）は、所定距離Ｌｆ毎に等間隔に配置されるが、これが不等間隔であっても良い。要は、Ｙ軸方向の所定間隔Ｌｆ内の任意の点を、コアＣＲ1,k（ｋは１〜２０００のうちの任意の数）、ＣＲ2,k、ＣＲ3,k…ＣＲ50,kのいずれかが通過するようになっていればよい。さらには、Ｙ軸方向の所定間隔Ｌｆ内の任意の点を、ＣＲ1,k（ｋは１〜２０００のうちの任意の数）、ＣＲ2,k、ＣＲ3,k…ＣＲ50,kのいずれかが通過するようになっているならば、Ｙ軸方向の所定間隔Ｌｆ内のある１点を通過するコアが複数となっていても構わない。ただし、Ｙ軸方向の所定間隔Ｌｆ内の１点を通過するコアを１つのみに設定した方が、制御（例えば、照明光を射出させたりさせなかったりする制御や照明光の光量の制御）の面でシンプルであるし、部品点数が少なくなるという利点もある。
【００６９】
なお、上記実施形態における第１ファイバー部分４１Ａと第２ファイバー部分４１Ｂとの間を、純水などの液体で満たすこととしても良い。
【００７０】
なお、上記実施形態では、ファイバーとして、分岐型の光ファイバーを用いることとしても良い。この場合、例えば、図１３に示されるように、入射側の端部１２３ａを１箇所有し、その途中から２本ずつｐ回（ここではｐ＝１０とする）分岐されることにより、射出側の端部１２３ｂを２p（ここでは、２10＝１０２４）箇所有する分岐型の光ファイバー１２３を用いることが可能である。この光ファイバー１２３を用いることにより、上記実施形態と同様、射出側の端部１２３ｂを１０００００箇所用意する必要がある場合であっても、入射側の端部は９８箇所（≒１０００００÷１０２４）しか存在しないので、光源１２から射出される照明光を各入射側の端部に容易に入射させることが可能である。
【００７１】
また、ファイバーとしては、シングルモードファイバーに限らず、マルチモードファイバーを採用することとしても良い。また、各射出側の端部から射出する照明光の光量を個別に調整するための調整機構を設けることとしても良い。
【００７２】
なお、上記実施形態では、パターンジェネレータモジュール１４が、５つのパターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅを有する場合について説明したが、これに限らず、パターンジェネレータモジュール１４は、１つ、２つ、３つ、４つ、又は６つ以上のパターンジェネレータを有していても良い。また、上記実施形態では、投影光学系モジュールＰＬＭを構成する投影光学ユニット１６Ａ〜１６Ｅの配置に合わせて、パターンジェネレータモジュール１４上に図１に示されるような千鳥状の配置で５つのパターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅが設けられるものとした。しかし、投影光学ユニット及びパターンジェネレータは、５つ設ける必要は無く、その配置も上述のような配置に限られるものでない。例えば、パターンジェネレータ及び投影光学ユニットを、Ｙ軸方向に複数所定間隔で並べることとしても良いし、Ｘ軸方向に複数所定間隔で並べることとしても良い。これらの場合には、１度のスキャン動作（プレートＰのＸ軸方向に沿った移動）によっては、プレートＰ全面を露光できない場合も考えられるが、プレートＰをＹ軸方向にずらして、複数回スキャン動作を行うことで、プレートＰ全面を露光すれば良い。特に後者では、プレートＰのＸ軸方向のスキャン長を短くすることが可能となる。
【００７３】
また、投影光学ユニット及びパターンジェネレータの少なくとも一方は、１つのみ設けられていても良い。投影光学ユニットのイメージフィールドの非走査方向の長さが、パターンジェネレータの非走査方向の長さの数倍あれば、投影ユニットは１つのみ設ければ良い。反対に、パターンジェネレータの非走査方向の長さが、投影光学ユニットのイメージフィールドの非走査方向の長さの数倍あれば、パターンジェネレータは１つのみ設ければ良い。
【００７４】
なお、上記実施形態においては、押さえ基板ＳＰD、ＳＰU及びスペーサＳＰ1〜ＳＰ49のそれぞれにＶ溝を形成する場合について説明したが、これに限られるものではない。例えば、図１４（Ａ）に示されるような構成を採用することも可能である。この図１４（Ａ）に示される構成では、例えば、スペーサＳＰ1を拡大して示す図１４（Ｂ）から分かるように、スペーサＳＰ1の−Ｘ側の面と＋Ｘ側の面それぞれに凹部１５１ａ，１５１ｂが形成されている。これら凹部１５１ａと凹部１５１ｂとは、Ｙ軸方向に関して距離Ｌｃだけずれた状態となっている。なお、その他のスペーサＳＰ2〜ＳＰ49も同様の構成となっている。また、押さえ基板ＳＰDにおいては、その＋Ｘ側の面にのみ凹部１５１ｂが形成され、不図示ではあるが、押さえ基板ＳＰUには、その−Ｘ側の面にのみ凹部１５１ａが形成されている。このような構成を採用しても、多数のファイバーの射出側の端部を、上記実施形態と同様に配列することが可能である。
【００７５】
なお、固定機構としては、図１４（Ａ），図１４（Ｂ）の変形例及び上記実施形態の固定機構２７に限らず、ファイバーの射出側の端部を同様に配置できる構成であれば、種々の構成を採用することが可能である。
【００７６】
なお、上記実施形態では、スイッチング機構として、ピエゾ素子を含む構成を採用したが、ピエゾ素子に代えて、例えば電磁力を用いる駆動素子など、その他の駆動素子を含む構成を採用することとしても良い。
【００７７】
また、上記実施形態では、スイッチング機構として、ファイバーの一部の切断された部分（第１ファイバー部分４１Ａ及び第２ファイバー部分４１Ｂ）の位置関係を変更する構成を採用することとしたが、これに限られるものではなく、例えば、第１ファイバー部分４１Ａと第２ファイバー部分４１Ｂとの間に、図１５に示されるようなスイッチング機構１２５を設けることとしても良い。このスイッチング機構１２５は、各ファイバーに対応した多数のミラーＭと、各ミラーを個別に図１５の紙面直交方向に移動する不図示の移動機構とを含んでいる。このような構成を採用することにより、不図示の移動機構がミラーＭを個別に移動することで、第１ファイバー部分４１Ａから射出した照明光が、対応する第２ファイバー部分４１Ｂへ入射する状態と、入射しない状態との間でスイッチングすることが可能である。なお、移動機構としては、ミラーＭを、図１５の紙面直交方向に移動する機構に代えて、ミラーＭの設置角度を変更する機構を採用することとしても良い。また、スイッチング機構としては、第１ファイバー部分４１Ａから射出した光が第２ファイバー部分４１Ｂに入射する状態と、入射しない状態との間でスイッチングできるのであれば、種々の構成を採用することが可能である。
【００７８】
なお、上記実施形態では、図３に示されるように、各光ファイバーの入射側の端部１２３ａに、ＧＲＩＮレンズ５２を設けることとしたが、これに限られるものではなく、少なくとも一部に凸レンズを有する集光部材を設けることとしても良い。
【００７９】
なお、上記実施形態では、パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅそれぞれが、個別に光源を有する場合について説明したが、これに限られるものではなく、一つの光源から射出される照明光を、パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅを構成する複数（又は全て）のファイバー束に入射させる構成を採用しても良い。
【００８０】
なお、上記実施形態では、パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅ同士（より正確にはコア同士）が、Ｙ軸方向に関して重ならないように配置された場合（図９参照）について説明したが、本発明がこれに限定されないことは勿論である。例えば、パターンジェネレータ２２Ａ〜２２Ｅそれぞれを、コア同士が、Ｙ軸方向に関して重なるように配置することとしても良い。この場合、Ｙ軸方向に関して重なる部分では、相互に重なるコアから射出される照明光の光量の総和が、その他のコアを通過する照明光の光量と一致するようにする。この場合、少なくともＹ軸方向に関して重なる部分には、コアから射出する照明光の光量を個別に調整するための調整機構を設けておく必要がある。
【００８１】
なお、光源としては、例えば、紫外域の輝線（例えば波長３６５ｎｍのｉ線、波長４３６ｎｍのｇ線など）を射出する超高圧水銀ランプを用いることも可能である。
【００８２】
また、本発明は、液晶表示素子を製造するための露光装置への適用に限定されることなく、例えば、プラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、半導体デバイス製造用の露光装置、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をリソグラフィ工程を用いて製造する露光装置にも適用することができる。以上のように、上記実施形態で照明光が照射される露光対象の物体はガラスプレートに限られるものではなく、ウエハ、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。
【００８３】
なお、これまでは、本発明が、プレート（基板）のスキャン動作を伴う走査型露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば、投影光学系を用いない、プロキシミティ方式の露光装置にも適用することができる。
【００８４】
この他、例えば国際公開第２００４／０５３９５５号パンフレット（対応する米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書）などに開示される、投影光学系とウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などに本発明を適用しても良い。
【００８５】
例えば、液晶表示素子を製造する場合、上述した各種露光装置を用いてパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に形成する、いわゆる光リソグラフィ工程（感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成する工程）、露光された基板の現像工程、エッチング工程、及びレジスト剥離工程等の各処理工程を含むパターン形成ステップ、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列した、又はＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成ステップ、パターン形成ステップにて得られた所定パターンを有する基板、及びカラーフィルタ形成ステップにて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てるセル組み立てステップ、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、及びバックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させるモジュール組立ステップを経る。この場合、パターン形成ステップにおいて、上述した各種露光装置（上記実施形態の露光装置１０を含む）を用いて高スループットでプレートの露光が行われるので、結果的に、液晶表示素子の生産性を向上させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
以上説明したように、本発明のパターンジェネレータは、照明光を部分的に透過させて所定の面上に形成すべきパターンを生成するのに適している。また、本発明のパターン生成方法及びパターン生成装置は、所定の面上に形成すべきパターンを生成するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】一実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
【図２】ファイバーの射出側の端部を示す図である。
【図３】スイッチング機構の構成を示す図である。
【図４】ＧＲＩＮレンズの作用を説明するための図である。
【図５】図５（Ａ）、図５（Ｂ）は、スイッチング機構の作用を説明するための図である。
【図６】ファイバーの射出側の端部の配列状態を示す図である。
【図７】スペーサＳＰ1を示す斜視図である。
【図８】ファイバーの射出側の端部の配列状態を説明するための拡大図である。
【図９】パターンジェネレータ２２Ａと２２Ｄとの位置関係を示す図である。
【図１０】一実施形態の露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図１１】図１１（Ａ）〜図１１（Ｆ）は、一実施形態の露光原理を説明するための図（その１）である。
【図１２】図１２（Ａ）〜図１２（Ｆ）は、一実施形態の露光原理を説明するための図（その２）である。
【図１３】変形例にかかる分岐型のファイバーを示す図である。
【図１４】図１４（Ａ）は、スペーサ及び押さえ基板の変形例を示す図であり、図１４（Ｂ）は、スペーサＳＰ1を取り出して拡大して示す図である。
【図１５】スイッチング機構の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００８８】
１０…露光装置、１２…光源、１６Ａ〜１６Ｅ…光学系（投影光学ユニット）、２２Ａ〜２２Ｅ…パターンジェネレータ（露光装置の構成部品）、２５…スイッチング機構、３０…主制御装置（制御装置の一部）、４０…スイッチング制御装置（制御装置の一部）、４１Ａ…第１ファイバー部、４１Ｂ…第２ファイバー部、５２…ＧＲＩＮレンズ（集光部材）、１２３ｂ…射出側の端部（光ファイバー端面）、ＣＲs,t…コア（特定領域）、Ｐ…プレート（対象物）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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