(57)【要約】【課題】  投影システム、液体供給システム、及びリサイクルシステムを有する液浸リソグラフィ装置が開示される。【解決手段】  投影システムは、基板テーブルによって支持された基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影する。液体供給システムは、投影システムと基板又は基板テーブルの間の空間に液浸液を提供する。リサイクルシステムは、液体供給システムから液浸液を収集し、液浸液を液体供給システムに供給する。リサイクルシステムは、液浸液から有機汚染物質を除去する繊維を含む。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムであって、基板テーブルが前記基板を支持する、該投影システムと、
前記投影システムと前記基板又は前記基板テーブルとの間の空間に液体を提供する液体供給システムと、
前記液体供給システムから液体を収集し、前記液体を前記液体供給システムに供給するリサイクルシステムとを含み、
前記リサイクルシステムが、有機粒子を濾過する繊維を含む、
液浸リソグラフィのリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記繊維が紡糸繊維を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記繊維が実質的にＳｉＯ2を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記繊維が実質的にＡｌ2Ｏ3を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記繊維が実質的に４：１の比率でＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記繊維が前記液体との接触表面を増加させる粗面を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記繊維が前記粗面を獲得するために化学処理される、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記繊維が十字形の糸巻線パターンで構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記リサイクルシステムが、前記繊維を保持し且つ前記リサイクルシステムから取り出せるカートリッジをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記リサイクルシステムが、
前記カートリッジを保持するハウジングをさらに含み、前記ハウジングが、液体を受け取るための弁を有する第一入口、濾過済み液体を前記ハウジングから出させるための弁を有する第一出口、前記液体を排出するための第二出口、及び前記繊維を洗浄するために第二流体を受けるための弁を有する第二入口を含む、請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記第一入口と第二入口が組み合わされて１つのさらなる入口とされる、又は前記第二出口と第二出口が組み合わされて１つのさらなる出口とされる、又はその両方である、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記第二流体がアセトン、イソプロパノール、オゾン及び窒素のうち少なくとも１つを含む、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記液体の品質を示す前記液体の物理的特性を測定するセンサをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記センサが、（ｉ）前記液体を通過する放射ビームの強度、又は（ｉｉ）前記液体の光吸収、又は（ｉｉｉ）前記液体の屈折率、又は（ｉｖ）前記液体を通過する放射ビームの波面位置の誤差、又は（ｖ）（ｉ）から（ｉｖ）の任意の組合せを測定する、請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
（ｉ）前記センサの出力を使用して、前記リサイクルシステムのパラメータを調節し、前記液体の所望の特性を達成する、又は（ｉｉ）前記センサの出力を使用して、前記リソグラフィ装置の結像パラメータを調節する、又は（ｉｉｉ）（ｉ）と（ｉｉ）の両方である、請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
投影システムと基板の間の空間に設けられた液体を通して、パターン付き放射ビームを基板に投影し、
液体を前記空間から除去し、繊維を含む粒子フィルタを使用して前記液体を濾過し、
前記濾過した液体の少なくとも一部を前記空間に提供することを含む、
デバイス製造方法。
【請求項１７】
前記液体の品質を示す前記液体の物理的特性を測定することをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項１８】
前記液体の前記物理的特性の前記測定に基づいて、前記液体の前記濾過を調節することをさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層へＵＶ放射ビームを使用してパターンを結像することにより行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる互いに近接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  投影システムの最終要素と基板の間の空間を充填するように、リソグラフィ投影装置内の基板を水又は炭化水素液などの比較的高い屈折率を有する液体に液浸することが提案されている。液体は蒸留水でよいが、別の液体を使用することもできる。本明細書の説明は液体を基準としている。しかし、別の流体、特に湿潤性流体、非圧縮性流体及び／又は屈折率が空気より高い、望ましくは屈折率が水より高い流体が適切なことがある。そのポイントは、露光放射は液体中の方が波長が短いので、結像する形体の小型化を可能にすることができることである（液体の効果は、システムの有効開口数（ＮＡ）を大きくでき、焦点深さも大きくすることと見なすこともできる）。有機流体は、水の代わりに液浸リソグラフィに使用するよう考えられている液体の１つである。これらの有機流体は、水より高い屈折率を有し、有機溶剤中に分散したデカヒドロナフタレン（デカリンとしても知られる）、フッ化炭化水素及びクバンなどの炭化水素を含むことができる。固体粒子（例えば石英）が懸濁している水などの他の液浸液も提案されている。
【０００４】
[0004]  ツインまたはデュアルステージ液浸に、基板を支持する２つのステージを設けることができる。第一位置にあるステージにて、液浸液がない状態でレベリング測定を実行され、液浸液が存在する第二位置にあるステージにて、露光が実行される。あるいは、１つのステージしかなくてもよい。
【０００５】
[0005]  基板を、又は基板と基板テーブルを液体の浴槽に浸すことは、スキャン露光中に加速すべき大きい塊の液体があることでもある。これには、追加のモータ又はさらに強力なモータが必要であり、その結果、液体中の乱流が望ましくない予測不能な効果を引き起こすことがある。
【０００６】
[0006]  液浸リソグラフィ装置で遭遇する１つの問題は、液浸システム内及びウェーハの表面上に汚染粒子が発生することである。液浸システム内に粒子が存在すると、粒子が投影システムと露光中の基板との間に粒子が存在する場合に、露光プロセス中に欠陥が生じることがある。液浸流体として有機流体を使用する場合、ＵＶ放射ビームからの放射に露光すると、有機流体が分解して、汚染物質になることがある。汚染物質は、投影レンズの最終要素及び基板の表面に粘着性付着物を形成する。液浸液を再生して浄化し、汚染物質の量を減少させて、液体の光学的透過を改良するために、浄化技術が使用可能である。このような浄化技術では、ＳｉＯ2粒子のベッド(bed)に液体を通すことによって、液体からこれらの汚染物質を濾過することが知られている。しかし、このようなベッドに伴う問題は、微粒子の発生である。液浸流体がベッドを通って流れるにつれて、ベッドのグレイン(grains)が相互に擦れ、したがってグレインに粒子を落とさせる。粒子は、流体がベッドを通って流れるにつれて、その中に放出され、液浸流体が液浸システムに入る前に、それを汚染してしまう。粒子は、微粒子汚染を引き起こし、ナノ粒子のサイズとなる。フィルタを使用して、粒子の大部分を捕捉するが、このようなフィルタは、大量の発生粒子により容易に詰まってしまう。このような場合、粒子は液浸システム及び露光後のウェーハを汚染し得る。
【発明の概要】
【０００７】
[0007]  したがって、必要とされているのは液浸リソグラフィシステム内の汚染粒子の存在を、追加の粒子を発生させずに減少させる装置及び方法である。
【０００８】
[0008]  １つの実施形態では、投影システム、液体供給システム、及びリサイクルシステムを備えるリソグラフィ装置が提供される。投影システムは、パターン付き放射ビームを、基板テーブルによって支持された基板のターゲット部分に投影する。液体供給システムは、投影システムと基板又は基板テーブルとの間の空間に液体を提供する。リサイクルシステムは、液体供給システムから液体を収集し、液体を液体供給システムに供給する。リサイクルシステムは、有機粒子を濾過する繊維を含む。
【０００９】
[0009]  さらなる実施形態では、投影システムと基板の間の空間に設けられた液体を通して、パターン付き放射ビームを基板に投影するステップと、液体を空間から除去し、繊維を備える粒子フィルタを使用して液体を濾過するステップと、濾過した液体の少なくとも一部を空間に提供するステップとを含む、放射ビームの偏光状態を制御する方法が提供される。実施形態では、方法は液体の品質を示す液体の物理的特性を測定することをさらに含む。さらに別の実施形態では、方法は液体の物理的特性の測定に基づいて、液体の濾過を調節することをさらに含む。
【００１０】
[0010]  本発明のさらなる実施形態、特徴、及び利点、さらに本発明の様々な実施形態の構造及び動作を、添付図面を参照しながら以下で詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
[0011]  本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を形成する添付図面は、本発明の１つ又は複数の実施形態を図示し、記述とともに本発明の原理を説明し、当業者が本発明を作成し、使用できるようにする働きをする。
【００１２】
【図１】[0012]本発明の実施形態によるリソグラフィを示した図である。
【図２】[0013]リソグラフィ投影装置で使用される液体供給システムの第一実施形態を示した図である。
【図３】[0013]リソグラフィ投影装置で使用される液体供給システムの第一実施形態を示した図である。
【図４】[0014]リソグラフィ投影装置で使用される液体供給システムの第二実施形態を示した図である。
【図５】[0015]リソグラフィ投影装置で使用される液体供給システムの第三実施形態を示した図である。
【図６】[0016]リソグラフィ投影装置で使用されるリサイクルシステムの第一実施形態を示した図である。
【図７】[0017]リソグラフィ投影装置のリサイクルシステムで使用する液体処理ユニットの実施形態を示した図である。
【図８】[0018]リソグラフィ投影装置で使用するリサイクルシステムの第二実施形態を示した図である。
【００１３】
[0019]  次に、添付図面を参照しながら本発明の１つ又は複数の実施形態について説明する。図面では、同様の参照番号が同一の、又は機能的に類似した要素を示すことができる。また、参照番号の左端の桁は、その参照番号が最初に現れる図面を識別することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
[0020]  本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ１つ又は複数の実施形態を開示する。開示される実施形態は本発明を例示するにすぎない。本発明の範囲は開示される実施形態に限定されない。本発明は請求の範囲によって規定される。
【００１５】
[0021]  記載される実施形態、及び「１つの実施形態」、「実施形態」、「例示的実施形態」などへの本明細書における言及は、記載される実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含むことができるが、それぞれの実施形態が必ずしも特定の特徴、構造、又は特性を含むことができない、又は含まないことを示す。さらに、このようなフレーズは、必ずしも同じ実施形態に言及するものではない。さらに、ある実施形態に関連して特定の特徴、構造、又は特性について記載している場合、明示的に記載されているか、記載されていないかにかかわらず、このような特徴、構造、又は特性を他の実施形態との関連で実行することが当業者の知識にあることが理解される。
【００１６】
[0022]  本発明の実施形態はハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア又はその任意の組合せで実現することができる。本発明の実施形態は、１つ又は複数の処理装置で読み取り、実行することができる機械読み取り式媒体に記憶した命令として実現することができる。機械読み取り式媒体は、機械（例えば計算デバイス）で読み取り可能な形態で情報を記憶するか、伝送する任意の機構を含むことができる。例えば、機械読み取り式媒体は読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響又は他の形態の伝搬信号（例えば搬送波、赤外線信号、デジタル信号など）、及びその他を含むことができる。さらに、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを、本明細書では特定の行為を実行するものとして記述することができる。しかし、このような記述は便宜的なものにすぎず、このような行為は実際には計算デバイス、処理装置、制御装置、又はファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行する他のデバイスの結果であることを認識されたい。
【００１７】
[0023]  図１は、本発明で使用するのに適切なリソグラフィ装置の実施形態を概略的に示したものである。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナＰＭに接続された支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Ｗを正確に位置決めするように構成された第二ポジショナＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ又は複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００１８】
[0024]  照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００１９】
[0025]  支持構造はパターニングデバイスを支持、つまりその重量を支えている。支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」又は「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００２０】
[0026]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００２１】
[0027]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型(alternating)位相シフトマスク、ハーフトーン(attenuated)位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。このような実施形態では、傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００２２】
[0028]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。
【００２３】
[0029]  ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。
【００２４】
[0030]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に１つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００２５】
[0031]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源ＳＯとリソグラフィ装置とは、例えば放射源ＳＯがエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源ＳＯはリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源ＳＯが水銀ランプの場合は、放射源ＳＯがリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２６】
[0032]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータＩＬの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータＩＬを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２７】
[0033]  放射ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスＭＡによってパターンが与えられる。放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二ポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一ポジショナＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、又はスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、支持構造ＭＴの移動は、第一位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第二ポジショナＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを使用して実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、パターニングデバイスＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２８】
[0034]  図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００２９】
[0035]  １．ステップモードにおいては、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００３０】
[0036]  ２．スキャンモードにおいては、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームＢに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００３１】
[0037]  ３．別のモードでは、支持構造ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動又はスキャンさせながら、放射ビームＢに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００３２】
[0038]  上述した使用モードの組合せ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００３３】
[0039]  １つの実施形態では、液浸リソグラフィ装置が、液体封じ込めシステムを使用して、基板の局所区域に、及び投影システムの最終要素と基板の間にのみ液体を提供する液体供給システムを含む（基板は通常、投影システムの最終要素より大きい表面積を有する）。このような実施形態が、図２及び図３に図示されている。図２では、液体が少なくとも１つの入口ＩＮによって基板Ｗ上に、望ましくは最終要素に対する基板Ｗの動作方向に沿って供給され、投影システムＰＬの下を通過した後に少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。したがって、基板Ｗが−Ｘ方向にて要素の下でスキャンされると、液体が要素の＋Ｘ側にて供給され、−Ｘ側にて取り上げられる。液体は入口ＩＮを介して供給され、低圧源に接続された出口ＯＵＴによって要素の他方側で取り上げられる。
【００３４】
[0040]  図２の実施形態では、液体が最終要素に対する基板Ｗの動作方向に沿って供給されるが、本発明はこのような構成に限定されない。追加の実施形態では、本発明の精神又は範囲から逸脱することなく、最終要素の周囲に配置された入口及び出口の様々な方向及び数が可能である。例えば、図３は、各側に４組の入口ＩＮと出口ＯＵＴが、最終要素の周囲の規則的パターンで設けられている入口及び出口の例示的な方向を示す。
【００３５】
[0041]  実施形態では、液体供給システムが、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間にある空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するシール部材を含む。シール部材は、投影システムに対してＸＹ面では実質的に静止していてよいが、Ｚ方向（つまり光軸の方向）には多少の相対運動があってよい。シール部材と基板の表面との間にシールが形成される。シールは、ガスシールなどの非接触シールであることが望ましい。
【００３６】
[0042]  局所液体供給システムがある液浸リソグラフィ装置が、図４に図示されている。液体が、投影システムＰＬのいずれかの側にある２つの溝入口ＩＮによって供給され、入口ＩＮの半径方向外側に構成された複数の別個の出口ＯＵＴによって除去される。入口ＩＮ及びＯＵＴは、中心に穴があり、投影される投影ビームが通る板に配置することができる。液体は、投影システムＰＬの一方側にある１つの溝入口ＩＮによって供給されて、投影システムＰＬの他方側にある複数の別個の出口ＯＵＴによって除去される。図４の実施形態では、溝入口ＩＮが投影システムＰＬと投影システムＰＬの間に液体の薄膜の流れを生成し、これは投影システムＰＬの他方側にある複数の別個の出口ＯＵＴによって除去され、したがって投影システムＰＬと基板Ｗの間に液体の薄膜の流れを生成する。様々な実施形態で、どの組合せの入口ＩＮと出口ＯＵＴかの選択は、基板Ｗの動作方向によって決定することができる（他の組合せの入口ＩＮ及び出口ＯＵＴは不活性である）。
【００３７】
[0043]  局所液体供給システムの解決法がある、別の提案された液浸リソグラフィ装置は、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間にある空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するシール部材（又は液浸フード）を液体供給システムに設ける。このような実施形態が図５に図示されている。シール部材は、投影システムに対してＸＹ面では実質的に静止していてよいが、Ｚ方向（つまり光軸の方向）には多少の相対運動があってよい。シール部材と基板の表面との間にシールが形成される。
【００３８】
[0044]  図５を参照すると、シール部材１２が、投影システムＰＬの像フィールドの周囲で基板とともに非接触シールを形成し、したがって液体が封じ込められて、基板表面と投影システムＰＬの最終要素との間のリザーバ又は液浸空間１１を充填する。リザーバ１１は、投影システムＰＬの最終要素の下方に配置され、それを囲むシール部材１２によって形成される。液体を、投影システムＰＬの下方で、シール部材１２内に入れる。シール部材１２は投影システムＰＬの最終要素の少し上まで延在し、液体のバッファが提供されるように、液体が最終要素の上まで上昇する。実施形態では、シール部材１２は、その上端が投影システムＰＬ又はその最終要素の形状に非常に一致することができる内周を有し、内周は例えば円形でよい。底部では、内周が像フィールドの形状に非常に一致し、例えば長方形でよいが、そうである必要はない。
【００３９】
[0045]  液体は、シール部材１２の底部と基板Ｗの表面との間のガスシール１６によってリザーバ１１内に封じ込められる。１つの実施形態では、ガスシール１６は、気体、例えば空気又は合成空気によって形成される。追加の実施形態では、窒素（Ｎ2）又は他の不活性ガスを、圧力下で入口１５を介してシール部材１２と基板の間のギャップに提供し、第一出口１４を介して抽出することができる。気体入口１５への過剰圧力、第一出口１４の真空レベル、及びギャップの幾何学的形状は、液体を封じ込める内側への高速の気体流があるように構成することができる。例示的システムが、米国特許第６，９５２，２５３号で開示されている。
【００４０】
[0046]  他の解決法も可能であり、本発明の１つ又は複数の実施形態が、等しくそれに適用可能である。例えば、ガスシール１６の代わりに、液体のみを抽出する単相抽出器を有することが可能である。このような単相抽出器の半径方向外側には、液体を空間に閉じ込めるのに役立つ気体の流れを生成する１つ又は複数の形体があってよい。このような形体の１つの実施形態が、薄い気体のジェットを基板Ｗへと下方向に誘導するガスナイフである。投影システム及び液体供給システムの下方で基板がスキャン動作をしている間に、基板に向かって液体に下方向の圧力を加えることになる流体静力学的及び流体力学的な力を生成することができる。
【００４１】
[0047]  局所区域液体供給システムがある状態で、基板Ｗが投影システムＰＬ及び液体供給システムの下方で移動する。テーブルの相対運動によって、感知目的で、又は基板を交換するために基板テーブル上の基板Ｗ又はセンサの縁部を結像可能にすることができる。基板交換とは、異なる基板の露光と露光の間に、基板Ｗを基板テーブルＷＴから外して、交換することである。基板交換中に、液体を液体封じ込めシステム１２内に維持することが望ましいことがある。これは、液体封じ込めシステムを、基板Ｗから離れた基板テーブルＷＴの表面に載せるように、基板テーブルＷＴに対して液体封じ込めシステム１２を、又はその逆を動かすことによって達成することができる。１つの実施形態では、このような表面はシャッタ部材である。ガスシール１６を操作するか、シャッタ部材の表面を液体封じ込めシステム１２の下面に締め付けることによって、液体封じ込めシステム内に液浸液を保持することができる。締め付けは、液体封じ込めシステム１２の下面に提供される流体の流れ及び／又は圧力を制御することによって達成することができる。例えば、入口１５から供給される気体の圧力及び／又は第一出口１４から加えられる低圧を制御することができる。
【００４２】
[0048]  液体封じ込めシステム１２が配置された基板テーブルの表面は、基板テーブルの一体部品でよい、あるいは追加の実施形態では、この表面は基板テーブルの着脱式及び又は交換可能なコンポーネントでよい。このような着脱式コンポーネントを、閉鎖ディスク又はダミー基板と呼んでもよい。着脱式又は分離式コンポーネントは別個のステージでよい。デュアル又はマルチステージ構成では、基板の交換中に基板テーブル全体を取り替える。このような構成では、着脱式コンポーネントを基板テーブル間で移送することができる。シャッタ部材は、基板交換前に基板テーブルの隣で動かすことができる中間テーブルでよい。次に、基板交換中に液体封じ込めシステムを中間テーブル上に、又はその逆に動かすことができる。シャッタ部材は、基板交換中にステージ間に配置することができる後退可能なブリッジなどの基板テーブルの可動コンポーネントでよい。基板交換中にシャッタ部材の表面を液体封じ込め構造の下で、又はその逆で動かすことができる。
【００４３】
[0049]  基板交換中に、基板Ｗの縁部が空間１１の下方を通過し、液体が基板Ｗと基板テーブルＷＴの間のギャップ内に漏れることがある。この液体は、流体静力学的又は流体力学的圧力で、又は代替的又は追加的にガスナイフ又は他の気体流を生成するデバイスの力によって押しやることができる。基板Ｗの縁部の周囲に、例えばギャップ内に、ドレインを設けることができる。追加の実施形態では、ドレインを基板テーブル上の別の物体の周囲に配置することができる。このような物体は、１つ又は複数のセンサ、及び／又は例えば基板交換などの間に液体供給システムの底部に取り付けることによって液体供給システム内に液体を維持するために使用されるシャッタ部材を含むが、それに限定されない。したがって、基板Ｗに言及した場合、それはセンサ又はシャッタ部材、例えば閉鎖プレートを含む任意のこのような他の物体と同義と見なされたい。
【００４４】
[0050]  他の例示的なリソグラフィシステムについては、概ね米国特許第４，５０９，８５２号、国際出願第９９／４９５０４号、及び欧州特許ＥＰ−Ａ−１，４２０，２９８号を参照されたい。
【００４５】
[0051]  本発明の例示的実施形態を、前述した図で説明したような液体処理構造及びドレインがある液浸システムを有するリソグラフィ装置に関して以上及び以下で説明している。しかし、実施形態を任意の種類の液浸装置に適用できることは明白である。特に、これは、例えば欠陥カウント密度などの欠陥が、軽減することが最適であり、最小限に抑えることが望ましい問題となる任意の液浸リソグラフィ装置にも適用可能である。したがって、以前の記述で述べたシステム及びコンポーネントは例示的なシステム及びコンポーネントである。このような実施形態は液浸システムの他の形体にも適用することができ、これはインライン及びオフラインで実行する洗浄システム及び洗浄ツール、超純水供給システムなどの液浸液供給及び液浸液回収システム、及び気体供給及び除去システム（例えば真空ポンプ）を含むが、それに限定されない。実施形態を、以下では液浸液を供給するために最適化された液浸リソグラフィ装置に関して説明する。しかし、この実施形態は、液浸媒体として液体以外の流体を供給する流体供給システムを使用する液浸システムでの使用にも、同等に適用可能である。
【００４６】
[0052]  図６は、リソグラフィ投影装置で使用するリサイクルシステムを示す。図６では、基板Ｗを支持することができる基板テーブルＷＴと同様に、液体供給システムＩＨも概略的に図示されている。実線の矢印は、リサイクルシステム１０００内の液浸液の様々な流路を示す。ここで見られるように、液体は液体準備モジュール１１５０内で準備される。液体はライン１０５０を通って液体供給システムＩＨに供給される。液体供給システムＩＨは、投影システムＰＳと基板Ｗ及び／又は基板テーブルＷＴの間の空間に液体を充填する。
【００４７】
[0053]  図６の実施形態では、その空間から除去される３タイプの液浸液が図示されているが、３タイプより少ない、又は多くてもよい。３タイプの液体は、基板テーブルＷＴを通して空間から抽出される液体１００２、例えばガスナイフ抽出器を通して空間から抽出される液体１００４、及び例えばバリア部材１２の側部の出口を通して抽出される液体１００６を含む。これらのタイプの液体はそれぞれ、各液体タイプが異なる特徴的タイプの汚染物質を有することがあるので、リサイクルシステム内に独自の個別液体処理ユニット１１０２、１１０４、１１０６を有する。液体中に存在する可能性が高い汚染物質のタイプに合わせて液浸液の個々の流れを処理するために、並列の液体処理ユニット１１０２、１１０４、１１０６が個々に最適化される。
【００４８】
[0054]  したがって、基板テーブルＷＴからの液浸液を処理する並列液体処理ユニット１１０２は、脱ガスユニット及び清浄器を有する。脱ガスユニットは、自身を通過する液浸液を脱気する。清浄器は液浸液を浄化する。清浄器は、基板テーブルＷＴに接触した液浸液を浄化するように最適化される。並列液体処理ユニット１１０２は、基板テーブルＷＴ内の液浸液を汚染した可能性が高い粒子を抽出するために最適化された１つ又は複数の粒子フィルタを含む。並列液体処理ユニット内では、粒子フィルタの孔が非常に粗い粒子を除去するようなサイズにされる。
【００４９】
[0055]  例えば液体供給システムのガスナイフ抽出器などを出る液体１００４の並列液体処理ユニット１１０４は、脱ガスユニット、清浄器及び１つ又は複数の粒子フィルタを有する。並列液体処理ユニット１１０４の清浄器及び１つ又は複数の粒子フィルタは、液体供給システムＩＨ（例えばバリア部材１２）と接触した液浸液に合わせて最適化される。ユニット１１０４は、例えばガスナイフなどの作用を受けた液浸液の粒子を除去して、これを浄化するために最適化され、その結果、独自の特定のタイプの不純物及び粒子にすることができる。
【００５０】
[0056]  認識されるように、液体１００２は液体供給システムＩＨに接触していることがあり、液体１００４は基板テーブルＷＴの上面と接触していることがある。
【００５１】
[0057]  液体１００６は単に、投影レンズの下方でシール部材１２内の空間を通過し、したがって液体１００６は単相として空間から除去される可能性が高い。図６の実施形態では、液体１００６は液体処理ユニット１１０６によって処理され、脱ガスユニットを通過しないことがある。というのは、気体が導入される機会がなかったので、液体中に気体がない可能性が高いからである。しかし、液体処理ユニット１１０６は、液体供給システム内に存在する可能性が高い粒子を除去するように最適化された清浄器及び１つ又は複数の粒子フィルタを備えることができる。
【００５２】
[0058]  上述した３つの流れは、例示のみを目的とする。追加の実施形態では、本発明の精神又は範囲から逸脱することなく、他の流れに対応することができる。例えば、図６の実施形態は、液体供給システムＩＨと基板Ｗの間で抽出器を通して抽出される単相の流れを含むことができる。
【００５３】
[0059]  並列液体処理ユニット１１０２、１１０４、１１０６からの液体の流れは、流体循環インテグレータ１１１０によって混合される。液体は流れ１０１０としてコンテナ又はバッファ１１２０にさらに供給される。ここで、液体は流体準備ユニット１１５０が使用するまで保存される。流体準備ユニット１１５０は、それ自身が液体を液体供給システムＩＨに供給する前に液体を処理する幾つかのユニットを備えることができる。流体準備ユニット１１５０は、直列液体処理ユニットと見なすことができる。リサイクルされた液浸液は全て、コンテナ１１２０から流れ１０２０を介して流体準備ユニット１１５０を通過する。流体準備ユニット１１５０は、脱ガスユニット、温度制御ユニット、流量制御ユニット、及び屈折率制御ユニットのうち１つ又は複数を含むことができる。図６の実施形態では、流体準備ユニット１１５０は、並列液体処理ユニット１１０２、１１０４及び１１０６の１つ又は複数の粗いフィルタの後に、最終濾過用の微細粒子フィルタユニットを有する。追加の実施形態では、流体準備ユニット１１５０の任意の部分を流路１０１０又は１０２０内に別個に配置することができる。
【００５４】
[0060]  流体準備ユニット１１５０の要素は、センサ１２１２及び１２１４を使用して基板テーブルＷＴで取得した測定値に基づいて、フィードバック式に制御することができる。センサ１２１２は、例えば波面センサでよい。追加的又は代替的に、センサ１２１４は強度（吸収）センサでよい。これらの測定結果に基づいて、制御信号２２１２及び２２１４を使用して流体準備ユニット１１５０及びリソグラフィ装置の残りの部分を制御し、正確な波面の位置及び線量を達成することができる。また、最終準備ユニット１１５０は、液体供給システムＩＨに入る前に液浸液の準備方法を変更することができる。したがって、最終準備ユニット１１５０は（例えば温度の変動によって）屈折率を制御する。上述したセンサの一方又は両方は、回路１０００内で液浸液をいつ新しくするかを判断する際にも使用することができる。１つの実施形態では、吸収率が予め決定された最高許容レベルより下に維持され、屈折率が安定したままであり、そうでない場合は、必要な光学的補正を実行できるように屈折率が分かることを保証することが望ましい。代替的又は追加的に、回路１０００内で液体を定期的に交換する代わりに、標準的なプログラムがあってよい。
【００５５】
[0061]  １つの実施形態では、液浸リソグラフィ装置の主要部分内にリサイクルシステム１０００の部分を供給することができる。他の部分、特に並列処理ユニットは、液浸リソグラフィ装置の大部分とは別個のユニットとして設けることができる。
【００５６】
[0062]  この実施形態及び他の実施形態の装置は、閉じたシステム又は部分的に閉じたシステムの一部でよい。これは、リソグラフィ装置から除去された液浸液が廃棄されるか、オフラインで再加工され、その後にリソグラフィ装置へと再供給される開いたシステムに接触している。閉じたシステムでは、装置内の液体は連続的にリサイクルされ、使用時に液体に新鮮な液体を補充しない。閉じたシステム及び部分的に閉じたシステムでは、リサイクルシステムの部品の潜在的な故障を補償するために流体をリサイクルすることができる２本の経路を含む必要があることがある。したがって、事実上、液体を例えば液体処理ユニット１１０２、１１０４及び１１０６、流体循環インテグレータ１１１０、コンテナ１１２０、及び流体準備ユニット１１５０のうち１つ又は複数から、同じコンポーネントを備える別個の回路へと分流するために、１つ又は複数の弁がある。弁は適宜、１つ又は複数のこのような装置の部分であるか、１つ又は複数のこのような装置の前方又は後方にある流路内にあってよい。部分的に閉じたシステムでは、新鮮な液体を（例えばリサイクルシステムの動作中にコンテナ１１２０へと）加えることができる。液体供給ＩＨ又は基板テーブルＷＴを出た液体は、廃棄するか、コンテナ１１２０に再供給する前にオフラインで再加工するために分流することができる。このようなシステムを使用すると、液浸液の流れを中断せずに、新しい液浸液を回路１０００に追加し、したがって装置全体の停止時間をなくすか、大幅に削減することができる。
【００５７】
[0063]  図７は液体処理ユニット１１０６の実施形態を示す。液体処理ユニット１１０６は、液体を受ける入口１０２、処理済みの液体を出す第一出口１０３、及び繊維(fiber)１０５を備えるカートリッジ１０４を有するハウジング１０１を備える。カートリッジ１０４は、カートリッジ内の繊維１０５を保持しながら、共同して液体がカートリッジを通って流れることができるようにするフィルタバリア１１１及び１１２を備える。ハウジング１０１は、支持フランジ１０６によってカートリッジ１０４を支持する。圧力パッド１０８を有する頂部１０７がハウジング１０１内のカートリッジ１０４を締め付ける。ハウジング１０１は、気体又は第二液体をハウジングに導入する第二入口１０９、及び液体及び気体をハウジングから排出する第二出口１１０をさらに備える。
【００５８】
[0064]  １つの実施形態では、入口は液体を受ける弁を含むことができ、第一出口は処理済み液体を出す弁を含むことができ、第二入口は気体又は第二液体をハウジングに導入する弁を含むことができる。第二液体は、繊維１０５などの繊維を洗浄する流体を含んでよいが、それに限定されない。追加の実施形態では、第一入口と第二入口を組み合わせて１つのさらなる入口にするか、第一出口と第二出口を組み合わせて１つのさらなる出口にする、又はその両方を実行することができる。
【００５９】
[0065]  図７の実施形態では、液体処理ユニットが、放射ビームに露光している液体を入口１０２を通して受ける。液体はフィルタバリア１１１を通ってカートリッジに入り、フィルタバリア１１２を通ってカートリッジを出る。フランジ１０６は、液体がカートリッジを迂回するのを防止するシールを形成する。処理済みの液体は、カートリッジを通過して、カートリッジ内で処理された後、出口１０５を通って液体処理ユニットを出る。入口１０２を通して受けた液体は、放射ビームに露光していることがあり、したがって有機汚染粒子を含むことがある。カートリッジを通過時に、液体は繊維と接触し、繊維が有機汚染粒子を吸収する。汚染粒子が繊維の表面に集まる。繊維を使用することの利点は、液体と繊維との相互作用にて粒子が生じないことである。カートリッジ内の繊維の固定した静止構成により、液体の流れの力が繊維に加えられても、繊維の一部が擦り合わされない。したがって、異なる繊維間の力が最小限になるか、減少し、粒子の発生を防止する。
【００６０】
[0066]  １つの実施形態では、ハウジングをステンレス鋼で作成することができる。カートリッジはテフロン（登録商標）で作成することができる。追加の実施形態では、繊維は紡糸繊維(spun fiber)で、実質的にＳｉＯ2、石英、Ａｌ2Ｏ3、又は任意の比率のＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3で作成することができる。実施形態では、ＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3との比率は約４：１でよい。あるいは、液体に適合する（つまり液体で溶解しない、又は液体と化学的に相互作用しない）他の繊維材料を使用することができる。繊維材料は、天然繊維材料又は合成繊維材料でよく、綿を含むが、それに限定されない。繊維は１．５μｍから１５０μｍの範囲の直径を有してよい。繊維は、カートリッジ内で糸巻線パターンで構成する、つまり紡いでより粗いロープにするか、任意のランダム構成で構成することができる。あるいは、繊維は、糸巻き上で紡ぐか、十字形の糸巻線パターン(crisscross-thread-winding pattern)などの艶消し構成(matting arrangement)に紡ぎ、ロールまたは所定の形状を有する別の胴体に巻き付けることができる。
【００６１】
[0067]  実施形態では、液体と接触する繊維の表面積を増加させるために、繊維の表面を粗くすることができる。例えば、表面はあばた状(pitted)でよい。繊維の粗面は、エッチング又は機械的研磨などの繊維の化学処理によって獲得することができる。粗面は、１５０μｍなどの大きい直径の繊維を有する実施形態では、特に有利である。表面を粗くすることにより表面積が増加すると、直径が大きい方の繊維の表面積が小さくなることが補償される。処理した表面を有するＳｉＯ2繊維を活性化ＳｉＯ2と呼ぶことができ、表面を処理していないＳｉＯ2繊維を非活性化ＳｉＯ2と呼ぶことができる。
【００６２】
[0068]  実施形態では、カートリッジは約３０ｃｍの長さ及び約１５ｃｍの直径を有してよい。より大きいカートリッジを使用するか、代替的又は追加的に例えばカートリッジを並列に配置するかカスケード接続する場合にように、複数のカートリッジを使用してもよい。カートリッジは流れバッフルを含んでよく、これは繊維材料を通って流れる液体の路長を増加させることができる。この効果を獲得するために、１つの実施形態では、カートリッジの内側にバッフルを配置する。流れバッフルの構成は、液体の半径方向の流れを妨害し、液体の接線方向の流れを促進する。このようなバッフルは巻線パターンで配置することができる。
【００６３】
[0069]  液体処理ユニットがある期間動作した後、繊維１０５が有機粒子で飽和することがある。この時に、繊維１０５を備えるカートリッジ１０４を異なるカートリッジと交換するか、その時に使用しているカートリッジ１０４を溶剤で洗浄することができる。この交換及び／又は洗浄は、リソグラフィ装置の停止時間を最小限に抑えることができる。
【００６４】
[0070]  カートリッジは、入口１０２を通って液体処理ユニットに入る液体の流れを中断し、残っている液体があれば第二出口１１０を開くことによって全て排出し、頂部１０７を外し、カートリッジを取り出すことによって交換することができる（この動作中に、液浸システムを通る液浸流体の流れを停止することができる）。代替的又は追加的に、液体を排出する間に、第二入口１０９を通してハウジングに気体を導入することができる。気体はＮ2などの不活性ガスでよく、液体の排出中にカートリッジを乾燥させ、したがってリサイクルシステムの他の部品を汚染せずに、カートリッジを外すことができる。この実施形態では、第二出口１１０は、液体と気体との両方を出せるように構成される。
【００６５】
[0071]  カートリッジ１０４を新鮮な繊維を備える新しいカートリッジと交換する代わりに、使用済みカートリッジ１０４の繊維１０５を洗浄することができる。使用済みカートリッジ１０４を洗浄するために、汚染物質が溶解する溶剤で繊維１０５を逆洗(backwash)することができる。溶剤は、アセトン、イソプロパノール（ＩＰＡ）、オゾン、過酸化水素、又は繊維及びハウジングを溶解しない任意の他の溶剤を含む任意の流体でよい。代替的又は追加的に、使用済みカートリッジの繊維は、周囲空気、Ｏ2、オゾン、又はＨ2Ｏ2などの液体を繊維材料に通しながら、繊維をＵＶ放射で照射することによって洗浄することができる。
【００６６】
[0072]  実施形態では、繊維を洗浄するためにハウジングからカートリッジを外す必要があることがある。液体処理ユニットは、溶剤をハウジング１０１に導入するように構成することができる。繊維及びハウジングは、インシチュ（in-situ）で洗浄することができる。
【００６７】
[0073]  １つの実施形態では、繊維は、（ｉ）入口１０２を通って液体処理ユニットに入る液体の流れを中断し、（ｉｉ）残っている液体があれば、第二出口１１０を開くことによってそれを排出し、（ｉｉｉ）第二入口１０９を通ってハウジングに溶剤材料を導入することによって洗浄することができる。この実施形態では、第二出口１１０は、液体と溶剤との両方を出せるように構成される。洗浄後に、不活性ガスを導入することによって、繊維及びハウジングの内側を乾燥させることができる。
【００６８】
[0074]  上述したカートリッジの交換又は繊維の洗浄は、定期的に実行することができる。洗浄は、リソグラフィ装置の所定の量だけ動作した後に実行することができる。代替的又は追加的に、洗浄は、液体中の汚染物質粒子の量を判断した後に、又は任意の他の事象で実行することができる。
【００６９】
[0075]  図８は、液体の品質を示す液体の物理的特性を測定するために使用することができるセンサ１２１５を含むリサイクルシステムの実施形態を示す。センサは、例えば化学分析を実行することによって、液体の有機汚染物質の量を直接測定するように構成することができる。代替的又は追加的に、有機汚染物質の量は、液体を通過する放射ビームの強度又は強度の変化、液体の光吸収、又は液体の屈折率、又は液体を通過する放射ビームの波面位置誤差など、液体の物理的特性に及ぼす汚染物質の影響を測定することによって割り出すことができる。さらに、これらの測定値の１つ又は複数を組み合わせることができる。センサは、液体処理ユニット１１０６、流体循環インテグレータ１１１０、バッファ１１２０、流体準備ユニット１１５０の中、又は図８に示すようにこれらのユニットからその後のユニットへのライン内に配置することができる。センサの出力を使用して、リサイクルシステムのパラメータを調節し、液体の所望の特性を達成するか、リソグラフィ装置の結像パラメータを調節する、又はその両方のために、制御ユニットを構成することができる。実施形態では、制御ユニットは液体の物理的特性の所定の値を検出すると起動することができる。代替的又は追加的に、制御ユニットは、液体中にある量の測定汚染物質を検出すると起動することができる。制御ユニットは、警報を開始するように起動することができ、これはカートリッジの交換又は繊維の洗浄を促す。制御ユニットは、自動的な交換又は洗浄プロセスを開始するように起動することもできる。制御ユニットは、汚染物質の測定値、液体の物理的特性の測定値、任意の以前のこのような測定値、測定された汚染物質で検出された変化、及び／又は液浸液の１つ又は複数の物理的特性で検出された変化に応じて、どの選択肢をとるかを選択することができる。
【００７０】
[0076]  液体処理ユニット１１０６の上述した実施形態では、液体処理ユニットは別個の入口１０２及び１０９、及び対応する別個の出口１０３及び１１０を備える。例えば入口を１つの入口内で組み合わせるか、複数の出口を１つの入口内で組み合わせるなど、任意の他の構成を使用してよいことが、当業者には認識される。２つ以上の入口又は出口を組み合わせる場合は、１つの入口を使用してハウジングと接続するように組み合わされた別個のパイプを使用することができる。
【００７１】
[0077]  液体処理ユニットの上述した実施形態では、繊維がカートリッジ内にある。繊維がカートリッジ内にあり、カートリッジが繊維を保持できることが好ましい。さらなる実施形態では、繊維はカートリッジ内に保持されず、ハウジング１０１に直接取り付けられる。上述した統合された洗浄ステップにより繊維を交換する必要がない、あるいは紡糸繊維材料がカートリッジなしで取り扱うことが可能であるような材料である場合、このような実施形態を使用することができる。
【００７２】
[0078]  リサイクルシステムの上述した実施形態では、液体処理ユニット１１０６は有機汚染物質を吸収する繊維を備える。しかし、液体処理ユニット１１０２及び１１０４、流体循環インテグレータ１１１０、コンテナ１１２０、又は流体準備ユニット１１５０のいずれも、有機汚染物質を吸収するこのような繊維を備えてよい。
【００７３】
[0079]  実施形態では、新鮮な繊維が液浸液の流れに所定の速度で導入されるように、液浸液の流れを通して繊維を一定に供給することができる。同様に、繊維が液浸液に曝露したために繊維の表面に付着した汚染物質粒子を有する繊維材料を、所定の速度で液浸液の流れから除去することができる。繊維を洗浄するために、表面に付着した汚染物質粒子を有する繊維材料を洗浄ステーションに通して供給することができる。その後、繊維を液浸液の流れに再導入することができる。
【００７４】
[0080]  ある態様では、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを備え、基板テーブルは基板を支持するように構成され、投影システムと基板又は基板テーブルの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、液体供給システムから液体を収集し、液体を液体供給システムに供給するように構成されたリサイクルシステムとをさらに備え、リサイクルシステムが有機粒子を濾過する繊維を備える液浸リソグラフィのリソグラフィ装置が提供される。任意選択で、繊維は紡糸繊維を備える。任意選択で、繊維は実質的にＳｉＯ2を備える。任意選択で、繊維は実質的にＡｌ2Ｏ3を備える。任意選択で、繊維は実質的に４：１の割合でＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3を備える。任意選択で、繊維は液体との接触表面を増加させるために粗くした表面を備える。繊維は、粗面を獲得するために化学処理することが望ましい。任意選択で、繊維は十字形の糸巻線パターンで構成される。任意選択で、リサイクルシステムは、繊維を保持するように構成され、リサイクルシステムから外せるように構成されたカートリッジをさらに備える。リサイクルシステムは、カートリッジを保持するように構成され、液体を受けるための弁を有する第一入口、濾過済み液体をハウジングから出させるための弁を有する第一出口、液体を排出するための第二出口、及び繊維を洗浄するために第二流体を受けるための弁を有する第二入口を備えるハウジングをさらに備える。第一入口と第二入口が組み合わあれて１つのさらなる入口にされる、又は第一出口と第二出口が組み合わされて１つのさらなる入口にされる、又はその両方とされることが望ましい。第二流体は、アセトン、イソプロパノール、オゾン及び窒素のうち少なくとも１つを含むことが望ましい。任意選択で、リソグラフィ装置は、その品質を示す液体の物理的特性を測定するように構成されたセンサをさらに備える。センサは、（ｉ）液体を通過する放射ビームの強度、又は（ｉｉ）液体の光吸収、又は（ｉｉｉ）液体の屈折率、（ｉｖ）液体を通過する放射ビームの波面位置の誤差、又は（ｖ）（ｉ）から（ｉｖ）の任意の組合せを測定するように構成することが望ましい。（ｉ）センサの出力を使用してリサイクルシステムのパラメータを調節し、液体の所望の特性を達成する、又は（ｉｉ）センサの出力を使用して、リソグラフィ装置の結像パラメータを調節する、又は（ｉｉｉ）（ｉ）と（ｉｉ）の両方であることが望ましい。
【００７５】
[0081]  ある態様では、投影システムと基板の間の空間に設けた液体を通してパターン付き放射ビームを基板に投影し、繊維を備える粒子フィルタを使用して空間から液体を除去して液体を濾過し、濾過した液体の少なくとも一部を空間に提供することを含むデバイス製造方法が提供される。任意選択で、方法は、液体の品質を示す液体の物理的特性を測定することをさらに含む。方法は、液体の物理的特性の測定に基づいて、液体の濾過を調節することをさらに含むことが望ましい。
【００７６】
[0082]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００７７】
[0083]  本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はその辺りの波長を有する）又は極端紫外線放射を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００７８】
[0084]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折及び反射光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか一つ、又はその組合せを指す。
【００７９】
[0085]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明の実施形態は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。さらに機械読み取り式命令は、２つ以上のコンピュータプログラムで実現することができる。２つ以上のコンピュータプログラムを、１つ又は複数の異なるメモリ及び／又はデータ記憶媒体に記憶することができる。
【００８０】
[0086]  上述した制御装置は、信号を受信、処理及び送信するのに適切な任意の構成を有することができる。例えば、各制御装置は、上述した方法の機械読み取り式命令を含むコンピュータプログラムを実行するために、１つ又は複数の処理装置を含んでよい。制御装置は、このようなコンピュータプログラムを記憶するデータ記憶媒体及び／又はこのような媒体を受信するハードウェアを含んでよい。
【００８１】
[0087]  実施形態は任意の液浸リソグラフィ装置に適用することができ、例示的装置はこれらの上述したタイプを含むが、それに限定されない。
【００８２】
[0088]  本発明の１つ又は複数の実施形態は、液浸液が槽の形態で提供されるか、基板の局所的な表面区域に封じ込められるか、封じ込められない任意の液浸リソグラフィ装置に適用することができる。封じ込められない構成では、液浸液は基板及び／又は基板テーブルの表面上に流れることができ、したがって実質的に基板テーブル及び／又は基板の覆われていない表面全体が濡れる。このように封じ込められていない液浸システムでは、液体供給システムが液浸液を封じ込めることができない、又はある割合の液浸液封じ込めを提供することができるが、実質的に液浸液の封じ込めを完成しない。
【００８３】
[0089]  本明細書で想定するような液体処理システムは、広義に解釈されたい。特定の実施形態では、これは、液体を投影システムと基板及び／又は基板テーブルの間の空間に提供する機構又は構造の組合せでよい。このような液体供給システムは、１つ又は複数の構造、１つ又は複数の液体入口、１つ又は複数の気体入口、１つ又は複数の気体出口、及び／又は液体を空間に提供する１つ又は複数の液体出口の組合せを備えてよい。実施形態では、空間の表面が基板及び／又は基板テーブルの一部でよいか、空間の表面が基板及び／又は基板テーブルの表面を完全に覆ってよいか、空間が基板及び／又は基板テーブルを囲んでよい。液体処理システムは任意選択で、液体の位置、量、品質、形状、流量又は任意の他の特徴を制御する１つ又は複数の要素をさらに含むことができる。
【００８４】
[0090]  装置に使用される液浸液は、使用される露光放射の所望の特性及び波長に従って様々な組成を有することができる。１９３ｎｍという露光波長では、超純水又は水性組成を使用することができ、この理由から、液浸液を水と呼ぶことがあり、親水性、疎水性、湿度などの水に関連する用語を使用することができるが、より包括的であると見なされたい。このような用語は、フッ素を含む炭化水素など、使用可能な他の屈折率が高い液体にも拡張されるものとする。
【００８５】
（結論）
[0091]  以上で本発明の様々な実施形態について説明してきたが、これは例示によってのみ提示されたものであり、制限するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、その形態及び詳細を様々に変更できることが、当業者には明白である。したがって、本発明の幅及び範囲は、上述した実施形態のいずれによっても制限されず、請求の範囲及びその同等物によってのみ規定されるものである。
【００８６】
[0092]  発明の概要及び要約の項目は、発明者が想定するような本発明の１つ又は複数の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって本発明及び請求の範囲をいかなる意味でも制限しないものとする。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【外国語明細書】
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