(57)【要約】【課題】アライメントマークと着色レジストとのコントラストを高め、アライメントの精度を高める。【解決手段】カラーフィルタ基板の製造方法は、基板（１０ｍ）の基板面における着色層が形成される有効領域（１１ａ）を除く非有効領域（３１ａ）に、エッチング処理を施すことにより、段差（４０ｓ）を有するアライメントマーク（４０）を形成する工程と、アライメントマークを形成する工程の後に、基板上に着色レジスト（５０ｂ）を塗布する工程と、アライメントマークを光学的に読み取ることで、基板とフォトマスク（２００ｂ）とのアライメントを行った後に、塗布された着色レジストを露光及び現像することにより着色層（５５ｂ）を形成する工程とを含む。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に着色層を有するカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板の基板面における前記着色層が形成される有効領域を除く非有効領域に、エッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成する工程と、
前記アライメントマークを形成する工程の後に、前記基板上に着色レジストを塗布する工程と、
前記アライメントマークを光学的に読み取ることで、前記基板とフォトマスクとのアライメントを行った後に、前記塗布された着色レジストを露光及び現像することにより前記着色層を形成する工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
前記アライメントマークを形成する工程は、前記アライメントマークを前記基板における凹部として形成することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
基板上に赤、緑及び青の３色の着色層を有するカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板の基板面における前記３色の着色層が形成される有効領域を除く非有効領域にエッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成する工程と、
前記アライメントマークを形成する工程の後に、前記基板上に青の着色レジストを塗布する工程と、
前記アライメントマークを光学的に読み取ることで、前記基板とフォトマスクとのアライメントを行った後に、前記塗布された青の着色レジストを露光及び現像することにより前記青の着色層を形成する工程と、
前記青の着色層を形成する工程の後に、前記赤及び緑の着色層を形成する工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板の製造方法、及び該製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種のカラーフィルタ基板は、例えば、透明基板上に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３色の着色層、並びに遮光層を有する。その製造工程は、一般に、透明基板上に、クロム等の金属を蒸着させることにより遮光層を所定パターンで形成すると同時にカラーフィルタ基板の有効画素領域外にアライメントマークを形成する。その後、顔料等を含む着色レジストを塗布し、露光し、現像する工程を３回繰り返し、赤、緑及び青の着色層のパターンを形成する。この際、露光の直前にアライメントマークを用いてフォトマスクの位置を調整することにより、精度良く各色の着色層のパターンを形成するようにしている。
【０００３】
上述したようなカラーフィルタの製造工程においては、遮光層の形成と同時にアライメントマークを形成した後、青の着色層を形成するための青の着色レジストを塗布し、露光の直前にフォトマスクとの位置調整を行うためにアライメントマークを識別しようとしても、アライメントマークと青の着色レジストとのコントラストが低いため、正確なアライメントが行えないという技術的問題点がある。
【０００４】
例えば特許文献１では、青の着色層（着色フィルタ）の形成に先立って、赤の着色レジストから赤の着色層及びアライメントマークを形成し、青の着色層を形成する際には、赤のアライメント光を用いることで、アライメントマークと青の着色レジストとのコントラストを高める技術が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２１１９０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、カラーフィルタ基板の製造工程は様々な条件により３色の着色層の形成順序が変わってくるため、必ずしも青の着色層の形成に先立って赤の着色層を形成できるとは限らず、上述した特許文献１に開示された技術では、例えば青の着色層を最初に形成する場合には、上述したアライメントマークと青の着色レジストとのコントラストがとれないという問題点を解決できない。
【０００７】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、着色層を形成する際、アライメントマークと着色レジストとのコントラストを高めることができ、アライメントの精度を高めることが可能なカラーフィルタ基板の製造方法、及び該製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る第１のカラーフィルタ基板の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に着色層を有するカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記基板の基板面における前記着色層が形成される有効領域を除く非有効領域に、エッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成する工程と、前記アライメントマークを形成する工程の後に、前記基板上に着色レジストを塗布する工程と、前記アライメントマークを光学的に読み取ることで、前記基板とフォトマスクとのアライメントを行った後に、前記塗布された着色レジストを露光及び現像することにより前記着色層を形成する工程とを含む。
【０００９】
本発明に係る第１のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、フォトリソグラフィ法によって、例えばガラス基板等である基板上に着色層を形成することでカラーフィルタ基板を製造する。即ち、基板上に着色レジスト（即ち、所定の色相を呈する顔料や染料を分散させてなる感光性材料）を塗布した後、該着色レジストを露光及び現像することによって基板上に着色層を形成することでカラーフィルタ基板を製造する。
【００１０】
本発明では特に、基板の基板面における非有効領域に、エッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成する。より具体的には、例えば、基板面における非有効領域のうち例えばアライメントマークを形成すべき領域に対してエッチング処理を施すことにより、アライメントマークを、例えば所定パターンの凹部として形成するなど、段差を有するように形成する。よって、アライメントマークを形成した後に典型的には基板上の全面に塗布されることでアライメントマークを覆う着色レジストとアライメントマークとのコントラストを高めることができる。
【００１１】
即ち、仮に、アライメントマークを、基板上に典型的には形成される遮光層と同一膜から形成した場合には、アライメントマークは、厚さが例えば０．１ｕｍ程度の比較的小さな黒色の凸部として形成されるため、例えば青の着色レジストなど透過率が比較的低い着色レジストとアライメントマークとのコントラストを、アライメントマークを光学的に読み取ることができる程度に十分に高めることが困難となってしまうおそれがある。尚、ここに「透過率」とは、可視光域（即ち、波長が４００〜７００ｎｍの範囲内）の光に対する平均透過率を意味する。
【００１２】
しかるに本発明によれば、アライメントマークを、基板の基板面に対してエッチング処理を施すことにより、段差を有するように形成するので、アライメントマークを、例えば１〜２ｕｍ程度の比較的大きな段差を有するように容易に形成できる。よって、アライメントマークと着色レジストとのコントラストを高めることができ、アライメントマークを光学的に確実に読み取ることが可能となる。従って、着色レジストを露光する際に行う、基板とフォトマスクとのアライメント（即ち、位置合わせ或いは位置調整）の精度を高めることができる。この結果、高品質なカラーフィルタ基板を製造することが可能となる。
【００１３】
以上説明したように、本発明に係る第１のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、基板の基板面における非有効領域に、エッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成するので、着色レジストとアライメントマークとのコントラストを高めることができ、基板とフォトマスクとのアライメントの精度を高めることが可能となる。
【００１４】
本発明のカラーフィルタ基板の一態様では、前記アライメントマークを形成する工程は、前記アライメントマークを前記基板における凹部として形成する。
【００１５】
この態様によれば、アライメントマークを形成する工程は、基板の基板面に対してエッチング処理を施すことにより、アライメントマークを例えば所定平面パターンを有する凹部として形成する。よって、例えば、非有効領域のうちアライメントマークを形成すべき領域を除く領域に対してエッチング処理を施すことにより、アライメントマークを凸部として形成する場合と比較して、基板に対するエッチング処理の量を少なくすることができる。但し、アライメントマークを形成する工程は、アライメントマークを基板における凸部として形成してもよい。この場合にも、着色レジストとアライメントマークとのコントラストを高めることができる。
【００１６】
本発明に係る第２のカラーフィルタ基板の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に赤、緑及び青の３色の着色層を有するカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記基板の基板面における前記３色の着色層が形成される有効領域を除く非有効領域にエッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成する工程と、前記アライメントマークを形成する工程の後に、前記基板上に青の着色レジストを塗布する工程と、前記アライメントマークを光学的に読み取ることで、前記基板とフォトマスクとのアライメントを行った後に、前記塗布された青の着色レジストを露光及び現像することにより前記青の着色層を形成する工程と、前記青の着色層を形成する工程の後に、前記赤及び緑の着色層を形成する工程とを含む。
【００１７】
本発明に係る第２のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、フォトリソグラフィ法によって、例えばガラス基板等である基板上に、赤、青及び緑の３色の着色層を形成することでカラーフィルタ基板を製造する。
【００１８】
本発明では特に、基板の基板面における非有効領域に、エッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成する。よって、上述した本発明に係る第１のカラーフィルタ基板の製造方法と同様に、アライメントマークと着色レジストとのコントラストを高めることができる。
【００１９】
更に、本発明では特に、青の着色層を形成する工程の後に、赤及び緑の着色層を形成する。即ち、赤、緑及び青の３色の着色層のうち青の着色層を最初に形成する。よって、青の着色層の基板に対する密着性を高めることができる。即ち、赤及び緑の着色層に比べて光感度が低いために、基板に対する密着性が低くなってしまいやすい青の着色層を、赤及び緑の着色層が形成される前に形成することで、基板に対して確実に密着させることができる。
【００２０】
以上説明したように、本発明に係る第２のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、基板の基板面における非有効領域にエッチング処理を施すことにより、段差を有するアライメントマークを形成するので、着色レジストとアライメントマークとのコントラストを高めることができる。更に、赤、緑及び青の３色の着色層のうち青の着色層を最初に形成するので、青の着色層の基板に対する密着性を高めることができる。これらの結果、高品質なカラーフィルタ基板を製造することが可能となる。
【００２１】
本発明のカラーフィルタ基板は上記課題を解決するために、本発明に係る第１又は第２のカラーフィルタ基板の製造方法（但し、その各種態様を含む）により製造される。
【００２２】
本発明のカラーフィルタ基板は、上述した本発明のカラーフィルタの製造方法（但し、その各種態様を含む）によって製造されるため、基板とフォトマスクとのアライメントの精度が低いことに起因する表示不良が殆ど或いは全く発生しない。
【００２３】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法について、図１から図６を参照して説明する。
【００２５】
先ず、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法におけるアライメントマークについて、図１から図３を参照して説明する。ここに図１は、マザー基板におけるアライメントマーク形成領域及び有効領域を示す平面図である。図２は、アライメントマークを示す平面図である。図３は、図２のＡ−Ａ’線断面図である。
【００２６】
図１において、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法では、ガラス等からなる透明なマザー基板１０ｍの基板面におけるアライメントマーク形成領域３１ａに、エッチング処理を施すことによりアライメントマーク４０（後述する図２及び図３参照）を形成する。マザー基板１０ｍの基板面には、着色層及び遮光層が形成される有効領域１１ａが複数設けられている。アライメントマーク形成領域３１ａは、マザー基板１０ｍの基板面のうち有効領域１１ａを除く非有効領域の一部として、互いに隣り合う有効領域１１ａ間に設けられている。
【００２７】
尚、本実施形態では、マザー基板１０ｍ上の有効領域１１ａに着色層及び遮光層等を形成した後、最終的に、有効領域１１ａ毎にマザー基板１０ｍを切断することにより、１つの有効領域１１ａを夫々含むカラーフィルタ基板を複数個形成することができる。
【００２８】
図２及び図３に示すように、アライメントマーク形成領域３１ａには、アライメントマーク４０を所定パターンで形成する。本実施形態では、アライメントマーク４０を、複数の長手状の凹部からなるように形成する。この際、各アライメントマーク４０（即ち各凹部）は、長さＬ１が例えば４００ｕｍ程度であって、幅Ｗ１が例えば４ｕｍ程度であって、深さＤ１が例えば１ｕｍ〜２ｕｍ程度となるように形成する。尚、アライメントマーク４０を、１つの凹部からなるように形成してもよい。
【００２９】
このようにアライメントマーク４０を凹部から形成することで、アライメントマーク４０は、段差部４０ｓ（図３参照）を有することになる。よって、後に詳細に説明するように、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法において、アライメントマーク４０を形成した後にマザー基板１０ｍ上の全面に塗布されることでアライメントマーク４０を覆う着色レジストとアライメントマーク４０とのコントラストを高めることができる。
【００３０】
次に、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法について、図４から図６を参照して詳細に説明する。ここに図４から図６は、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法の各工程を順を追って示す工程図である。尚、本実施形態では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３色の着色層を有するカラーフィルタ基板を製造する場合を例にとって説明する。また、図４から図６では、図１を参照して上述したアライメントマーク形成領域３１ａ及び有効領域１１ａにおけるマザー基板１０ｍ上の各構成要素の断面を示している。
【００３１】
図４（ａ）に示す工程において、先ず、マザー基板１０ｍの基板面における有効領域１１ａに、遮光性膜を例えばストライプ状、マトリクス状等の所定形状にパターニングすることにより遮光層６０を形成する。この際、遮光層６０は、後に形成される赤、緑及び青の３色の着色層５５ｒ、５５ｇ及び５５ｂ（図６参照）の間を隔てるように形成される。
【００３２】
続いて、マザー基板１０ｍの基板面におけるアライメントマーク形成領域３１ａに、エッチング処理を施すことによりアライメントマーク４０を形成する。この際、図２及び図３を参照して上述したように、アライメントマーク４０を、複数の長手状の凹部からなるように形成する。よって、アライメントマーク４０は、段差部４０ｓを有する。
【００３３】
尚、図４（ａ）に示す工程において、アライメントマーク４０を、遮光層６０よりも先に形成してもよい。
【００３４】
次に、図４（ｂ）に示す工程において、マザー基板１０ｍ上の全面に、青色を呈する顔料を分散させてなる感光性樹脂材料である青の着色レジストを塗布することで青の着色レジスト膜５０ｂを形成する。よって、アライメントマーク４０及び遮光層６０は、青の着色レジスト膜５０ｂによって覆われる。
【００３５】
次に、図５（ａ）に示す工程において、アライメントマーク４０をアライメント光Ｐａを用いて光学的に読み取る（言い換えれば、検出する）ことで、青用のフォトマスク２００ｂとマザー基板１０ｍとのアライメント（即ち、位置合わせ）を行う。尚、アライメントマーク４０を例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ等のカメラを用いて光学的に読み取ることで、青用のフォトマスク２００ｂとマザー基板１０ｍとのアライメントを行ってもよい。
【００３６】
ここで本実施形態では特に、図４（ａ）を参照して上述したように、アライメントマーク４０は、段差部４０ｓを有するので、アライメントマーク４０を覆う青の着色レジスト膜５０ｂとアライメントマーク４０とのコントラストが比較的高い。
【００３７】
即ち、仮に、アライメントマークを、マザー基板１０ｍ上に形成される遮光層６０と同一膜から形成した場合には、アライメントマークは、厚さが例えば０．１ｕｍ程度の比較的小さな黒色の凸部として形成されるため、青の着色レジスト膜５０ｂのように透過率が比較的低い着色レジスト膜とアライメントマークとのコントラストを、アライメントマークを光学的に読み取ることができる程度に十分に高めることが困難となってしまうおそれがある。
【００３８】
しかるに本実施形態では、図４（ａ）に示す工程において、アライメントマーク４０を、マザー基板１０ｍの基板面に対してエッチング処理を施すことにより、段差部４０ｓを有するように形成するので、アライメントマーク４０を、例えば１〜２ｕｍ程度の比較的大きな段差を有するように容易に形成できる。よって、アライメントマーク４０と青の着色レジスト膜５０ｂとのコントラストを高めることができる。
【００３９】
よって、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法によれば、アライメントマーク４０をアライメント光Ｐａを用いて光学的に確実に読み取ることができる。従って、マザー基板１０ｍとフォトマスク２００ｂとのアライメントの精度を高めることができる。
【００４０】
次に、図５（ｂ）に示す工程において、青の着色レジスト膜５０ｂを青用のフォトマスク２００ｂを用いて露光し、その後、現像することにより、有効領域１１ａにおいて所定パターンを有する青の着色層５５ｂを形成する。
【００４１】
次に、図６に示す工程において、上述した青の着色層５５ｂを形成するのと概ね同様に、赤の着色層５５ｒ及び緑の着色層５５ｇを順に形成する。即ち、先ず、マザー基板１０ｍ上の全面に、赤の着色レジストを塗布することで赤の着色レジスト膜を形成する。続いて、アライメントマーク４０を光学的に読み取ることで、赤用のフォトマスクとマザー基板１０ｍとのアライメントを行う。続いて、赤の着色レジスト膜を赤用のフォトマスクを用いて露光し、その後、現像することにより、有効領域１１ａにおいて所定パターンを有する赤の着色層５５ｒを形成する。次に、マザー基板１０ｍ上の全面に、緑の着色レジストを塗布することで緑の着色レジスト膜を形成する。続いて、アライメントマーク４０を光学的に読み取ることで、緑用のフォトマスクとマザー基板１０ｍとのアライメントを行う。続いて、緑の着色レジスト膜を緑用のフォトマスクを用いて露光し、その後、現像することにより、有効領域１１ａにおいて所定パターンを有する緑の着色層５５ｇを形成する。尚、赤の着色層５５ｒ及び緑の着色層５５ｇは、どちらを先に形成してもよい。
【００４２】
ここで、本実施形態では特に、青の着色層５５ｂを形成した後に、赤の着色層５５ｒ及び緑の着色層５５ｇを形成する。即ち、赤の着色層５５ｒ、緑の着色層５５ｇ及び青の着色層５５ｂのうち青の着色層５５ｂを最初に形成する。よって、青の着色層５５ｂのマザー基板１０ｍに対する密着性を高めることができる。即ち、赤の着色層５５ｒ及び緑の着色層５５ｇに比べて光感度が低いために、マザー基板１０ｍに対する密着性が低くなってしまいやすい青の着色層５５ｂを、赤の着色層５５ｒ及び緑の着色層５５ｇが形成される前に形成することで、マザー基板１０ｍに対して確実に密着させることができる。
【００４３】
図６に示す工程において、着色層５５ｒ、５５ｇ及び５５ｂを形成した後、マザー基板１０ｍの全面に透明樹脂を塗布することにより保護膜７０を形成する。保護膜７０は、例えば、カラーフィルタ基板が液晶装置の一部として用いられる場合における、液晶装置の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層５５ｒ、５５ｇ及び５５ｂを保護する機能を有する。
【００４４】
これらの工程の後、有効領域１１ａ毎にマザー基板１０ｍを切断することにより、有効領域１１ａに着色層５５ｒ、５５ｇ及び５５ｂが所定パターンで形成されたカラーフィルタ基板を複数個形成することができる。
【００４５】
以上説明したように、本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法によれば、マザー基板１０ｍの基板面にエッチング処理を施すことにより、段差部４０ｓを有するアライメントマーク４０を形成するので、着色レジスト５５ｒ、５５ｇ及び５５ｂとアライメントマーク４０とのコントラストを高めることができる。更に、着色層５５ｒ、５５ｇ及び５５ｂのうち青の着色層５５ｂを最初に形成するので、青の着色層５５ｂのマザー基板１０ｍに対する密着性を高めることができる。これらの結果、高品質なカラーフィルタ基板を製造することが可能となる。
【００４６】
また、上述した本実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板によれば、マザー基板１０ｍとフォトマスクとのアライメントの精度が低いことに起因する表示不良が殆ど或いは全く発生しない。
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法について、図７を参照して説明する。ここに図７は、第２実施形態における図４（ａ）と同趣旨の工程図である。尚、図７において、図１から図６に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の構成要素を付し、それらの説明は適宜省略する。
【００４７】
第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、上述した第１実施形態におけるアライメントマーク４０に代えてアライメントマーク４２を形成する点で、上述した第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法と異なり、その他の点については、上述した第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法と概ね同様である。
【００４８】
図７に示す工程において、先ず、マザー基板１０ｍの基板面におけるアライメントマーク形成領域３１ａ及び有効領域１１ａに、エッチング処理を施すことにより、凸部からなるアライメントマーク４２を形成する。言い換えれば、マザー基板１０ｍの基板面におけるアライメントマーク４２として形成すべき凸部を除く領域をエッチング処理により例えば１ｕｍ〜２ｕｍ程度の深さだけ掘り下げることで、凸部からなるアライメントマーク４２を形成する。この際、アライメントマーク４２を、上述した第１実施形態におけるアライメントマーク４０と概ね同様に、複数の長手状の平面パターンを有するように形成する。よって、アライメントマーク４２は、段差部４２ｓを有する。従って、上述した第１実施形態と同様に、アライメントマーク４２と青の着色レジスト膜５０ｂとのコントラストを高めることができる。尚、アライメントマーク４２と赤及び緑の着色レジスト膜とのコントラストも高めることができる。
【００４９】
続いて、マザー基板１０ｍの基板面における有効領域１１ａに、遮光性膜を所定形状にパターニングすることにより遮光層６０を形成する。
【００５０】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴うカラーフィルタ基板の製造方法及び該製造方法により製造されたカラーフィルタ基板もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】マザー基板におけるアライメントマーク形成領域及び有効領域を示す平面図である。
【図２】アライメントマークを示す平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ’線断面図である。
【図４】第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法の各工程を順を追って示す工程図（その１）である。
【図５】第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法の各工程を順を追って示す工程図（その２）である。
【図６】第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法の各工程を順を追って示す工程図（その３）である。
【図７】第２実施形態における図４（ａ）と同趣旨の工程図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０ｍ…マザー基板、１１ａ…有効領域、３１ａ…アライメントマーク形成領域、４０…アライメントマーク、５５ｒ、５５ｇ、５５ｂ…着色層、６０…遮光層、２００ｂ…フォトマスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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