(57)【要約】【課題】これまで知られているものより改善した配置精度を有する基板搬送方法および搬送システムを提供する。【解決手段】本発明は、基板を第１基板ホルダ、例えばプリアライメントユニットから、第２基板ホルダ、例えばリソグラフィ装置内の基板テーブルへ、搬送ユニットによってそれに利用できる搬送データに基づいて搬送する方法に関する。第１に、基板が第１基板ホルダ上に提供される。引き続いて、基板の位置誤差が測定され、位置調整データが測定された位置誤差に基づいて計算される。次いで、第２基板ホルダを位置調整データに従って、それの基準位置に関して移動させる。最後に、基板を搬送データに従って第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送ユニットによって搬送し、移動した第２基板ホルダ上に基板を配置する。【選択図】図３
2009135442.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を、第１基板ホルダから第２基板ホルダへ、搬送ユニットを用いてそれに利用可能な搬送データに基づいて搬送する方法であって、
前記基板を前記第１基板ホルダ上に提供し、
前記基板の位置誤差を測定し、
前記測定された位置誤差に基づいて位置調整データを計算し、
前記第２基板ホルダを、その基準位置に対して、前記位置調整データに従って移動し、
前記基板を、前記搬送ユニットを使用して、前記第１基板ホルダから前記第２基板ホルダへ、前記搬送データに従って搬送し、かつ前記基板を、前記移動した第２基板ホルダ上にを配置することを含む方法。
【請求項２】
前記測定の後に、
前記測定された位置誤差を第１部分および第２部分に分割し、
前記搬送データおよび前記第１部分の前記位置誤差に基づいて修正搬送データを計算することをさらに含み、
前記位置調整データの計算は、前記第２部分の前記測定された位置誤差に基づいており、前記搬送は、前記修正搬送データに従って実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分割は、
前記位置誤差が所定の閾値誤差未満にとどまる場合、前記全位置誤差を前記第１部分にアサインし、それ以外では、
前記所定の閾値誤差を前記第１部分に割り当て、前記全位置誤差と前記所定の閾値誤差の差を前記第２部分に割り当てること
によって実行される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記位置誤差は、偏心センサにより測定される偏心誤差である、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記位置誤差は、前記偏心センサにより測定される偏心誤差と、方向センサにより測定される方向誤差に分解できる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
コンピュータアセンブリにロードされるとコンピュータアセンブリによる請求項１から５のいずれか一項に記載の前記搬送方法の制御を可能にするコンピュータ実行可能コードを用いて符号化されるコンピュータ読み取り可能媒体。
【請求項７】
利用可能な搬送データに基づいて基板を搬送する搬送システムであって、
前記基板を保持する第１基板ホルダと、
前記第１基板ホルダ上に配置した前記基板の位置誤差を測定する位置センサと、
前記基板を保持する第２基板ホルダと、
前記基板を前記第１基板ホルダから前記第２基板ホルダへ前記搬送データに従って搬送する搬送ユニットと、
前記位置センサと通信し、前記測定された位置誤差に基づいて位置調整データを計算するプロセッサと、
前記プロセッサと通信し、前記計算された位置調整データに従って前記第２基板ホルダをその基準位置に対して移動させる制御ユニットとを含む搬送システム。
【請求項８】
前記第２基板ホルダは第１可動ステージモジュール上に配置され、前記第１可動ステージモジュールは第２可動ステージモジュール上に配置されて、前記第１および第２可動ステージモジュールは共に前記制御ユニットと通信し、前記制御ユニットは、さらに、前記第２基板ホルダが前記基準位置に配置できるように前記第２可動ステージモジュールと前記第１可動ステージを移動させるように構成され、さらに、前記第２基板ホルダが前記計算された位置調整データに従って前記基準位置に関して移動するように前記第１可動ステージモジュールを移動させるように構成される、請求項７に記載の搬送システム。
【請求項９】
前記プロセッサは、さらに、
前記測定された位置誤差を第１部分および第２部分に分割し、
前記搬送データおよび前記第１部分の前記位置誤差に基づいて修正搬送データを計算し、
前記第２部分の前記測定された位置誤差に基づいて位置調整データを計算するように構成され、
前記搬送ユニットは、前記プロセッサと通信し、前記修正搬送データに従って前記基板を前記第１基板ホルダから前記第２基板ホルダに搬送するように構成される、請求項７または８に記載の搬送システム。
【請求項１０】
前記位置センサは、偏心誤差を測定する偏心センサを含む、請求項７から９のいずれか一項に記載の搬送システム。
【請求項１１】
前記位置センサは、方向誤差を測定する方向センサをさらに含む、請求項１０に記載の搬送システム。
【請求項１２】
前記第１基板テーブルは、その中心の周りに回転できる、請求項７から１１のいずれか一項に記載の搬送システム。
【請求項１３】
前記搬送ユニットは、前記第２基板テーブルに配置された少なくとも３つの伸縮可能なピンを含む、請求項７から１２のいずれか一項に記載の搬送システム。
【請求項１４】
前記搬送システムは、前記少なくとも３つの伸縮可能なピンの伸長を制御するアクチュエータをさらに含む、請求項１３に記載の搬送システム。
【請求項１５】
リソグラフィ投影装置であって、
放射ビームを提供する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与する働きをするパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板上に浴びせる投影システムとを含み、
請求項７から１４のいずれか一項による搬送システムをさらに含み、前記基板テーブルが前記第２基板ホルダである、リソグラフィ投影装置。
【請求項１６】
請求項１５に述べた前記リソグラフィ投影装置を使用してパターン付き放射ビームを基板上に投影することを含むデバイス製造方法。
【請求項１７】
コンピュータアセンブリにロードされるとコンピュータアセンブリによる請求項１６に記載のデバイス製造方法の制御を可能にするコンピュータ実行可能コードを用いて符号化されるコンピュータ読み取り可能媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、基板を第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送ユニットによってそれに利用可能な搬送データに基づいて搬送する方法および上記方法の実行を可能にするためのコンピュータ実行可能コードを用いて符号化されたコンピュータ読み取り可能媒体に関する。本発明はさらに、搬送データに基づいて基板を搬送する搬送システム、このような搬送システムを含むリソグラフィ投影装置、このようなリソグラフィ投影装置を使用するデバイス製造方法および上記デバイス製造方法の実行を可能にするためのコンピュータ実行可能コードを用いて符号化されたコンピュータ読み取り可能媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に利用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いて、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる互いに近接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンしながら、同期的に基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置を使用するデバイス製造では、歩留まり、つまり正確に製造されたデバイスのパーセンテージにおいて重要なファクタは、先に形成された層に関して層がプリントされる精度である。これはオーバーレイとして知られ、オーバーレイエラーバジェットは、多くの場合１０ｎｍ以下である。このような精度を達成するには、基板は転写されるべきマスクパターンに高い精度で位置合わせされなければならない。
【０００４】
[0004]  良好なイメージ解像度と層オーバーレイを達成するためには、基板の被照射表面は支持表面、つまり基板ホルダ上に正確に位置決めされ、露光中は基板ホルダ上に可能な限り平坦で、静止して維持されなければならない。このため一般に基板ホルダは、複数のバール(burl)またはピンプル(pimple)とも呼ばれる突起を含むプレートを備える。このような基板ホルダ上に基板を配置でき、その結果、基板の裏側はすべてが明確に画定された平面内にあるバールに接触することになる。基板ホルダ内の開口を真空生成デバイスへ接続することによって、基板の背面をバールに対して確実にクランプできる。このようにバールを使用することで、確実に裏側領域の一部のみが実際に固体表面に押し付けられることが保障され、こうして、ウェーハ裏側上の微粒子汚染による歪効果は最小になる。というのは、このような汚染は、バールの頂部表面に押し付けられることよりも、むしろバール間の空いたスペースにある可能性が最も高いからである。
【０００５】
[0005]  しかし、基板が上述したように基板テーブルに固定されると、基板はバール上でたわむことになる。その結果、基板に露光される像は局所的にシフトすることになる。現像後、基板が再び第２露光のために基板テーブル上に位置決めされると、複数のバールに対して位置が異なるので、第２露光中の局所的な像のシフトが第１露光中とは異なってしまう。その結果、オーバーレイ誤差が導入される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
[0006]  より高いコンポーネント密度を有するデバイスを生成するために常により小さなパターンを結像しようとする継続的な要望に伴って、オーバーレイエラーを減少させたいという強い要請があり、これがバールを備えた基板テーブルへの基板の改善した配置を求める要望につながる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
[0007]  これまで知られているものより改善した配置精度を有する基板搬送方法および搬送システムを提供することが望ましい。そのために、本発明は、基板を第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送ユニットを用いてそれに利用可能な搬送データに基づいて搬送する方法を提供し、この方法は、
第１基板ホルダ上に基板を提供し、
基板の位置誤差を測定し、
測定された位置誤差に基づいて位置調整データを計算し、
位置調整データに従って第２基板ホルダをその基準位置に対して移動し、
基板を搬送ユニットによって第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送データに従って搬送し、かつ基板を移動した第２基板ホルダ上に配置することを含む。
【０００８】
[0008]  一実施形態において、本発明は、コンピュータアセンブリにロードされるとコンピュータアセンブリによる前記搬送方法の制御を可能にするコンピュータ実行可能コードを用いて符号化されるコンピュータ読み取り可能媒体を提供する。
【０００９】
[0009]  さらに一実施形態において、本発明は、使用可能な搬送データに基づいて基板を搬送する搬送システムを提供し、この搬送システムは、
基板を保持する第１基板ホルダと、
第１基板ホルダ上に配置した基板の位置誤差を測定する位置センサと、
基板を保持する第２基板ホルダと、
基板を第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送データに従って搬送する搬送ユニットと、
位置センサに通信可能に接続され、測定された位置誤差に基づいて位置調整データを計算するプロセッサと、
プロセッサに通信可能に接続され、計算された位置調整データに従って第２基板ホルダをその基準位置に対して移動させる制御ユニットとを含む。
【００１０】
[0010]  さらに、一実施形態において、本発明は、リソグラフィ投影装置であって、
放射ビームを提供する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与する働きをするパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付きビームを基板上に浴びせる投影システムとを含み、
上記搬送システムをさらに含み、基板テーブルが第２基板ホルダであるリソグラフィ投影装置を提供する。
【００１１】
[0011]  一実施形態において、本発明は、前記リソグラフィ投影装置を使用してパターン付き放射ビームを基板に投影することを含むデバイス製造方法を提供する。
【００１２】
[0012]  最後に、一実施形態において、本発明は、コンピュータアセンブリにロードされるとコンピュータアセンブリによる前記製造方法の制御を可能にするコンピュータ実行可能コードを用いて符号化されるコンピュータ読み取り可能媒体を提供する。
【００１３】
[0013]  次に、本発明の実施形態を、添付の概略図を参照しながら、単に一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部分を指している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
[0020]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、
−  放射ビームＢ（例えばＵＶ放射またはＥＵＶ放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、
−  パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１ポジショナＰＭに接続されている支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、
−  基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２ポジショナＰＷに接続されている基板ホルダ、例えば基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、
−  パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００１５】
[0021]  照明システムは、放射を誘導し、整形し、または制御するための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、または他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１６】
[0022]  支持構造は、パターニングデバイスを支持する、つまりその重量を担う。支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計、および、例えばパターニングデバイスが真空環境に保持されるか否かなどの他の条件に応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械式、真空式、静電気式、または他のクランプ技術を使用できる。支持構造は、例えば、必要に応じて固定式とも可動式ともすることができるフレームまたはテーブルであってよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにすることができる。本明細書における用語「レチクル」または「マスク」の使用は、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００１７】
[0023]  本明細書にて用いられる用語「パターニングデバイス」は、基板のターゲット部分にパターンを生成するよう、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できる任意のデバイスを指すものと広く解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しない場合があることに留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイス中の特定の機能層に対応することになる。
【００１８】
[0024]  パターニングデバイスは、透過型でも反射型でもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知であり、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフト、ハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例は、それぞれが入射する放射ビームを別の方向に反射するように個々に傾斜可能である小さなミラーのマトリックス配列を使用する。この傾斜したミラーが、ミラーマトリックスによって反射される放射ビーム中にパターンを与える。
【００１９】
[0025]  本明細書にて用いられる用語「投影システム」は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書における用語「投影レンズ」の使用は、より一般的な用語「投影システム」と同義と見なすことができる。
【００２０】
[0026]  ここに図示したように、装置は透過型（例えば、透過マスクを使用する）のものである。代替的に装置は反射型（例えば、上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用するか、反射マスクを使用する）でもよい。
【００２１】
[0027]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）またはそれより多い基板テーブル（および／または２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでもよい。このような「マルチステージ」機械では、追加のテーブルを並行して使用することができ、１つ又は複数のテーブルで予備工程を実行しつつ１つ又は複数の他のテーブルを露光に使用することができる。
【００２２】
[0028]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすために、少なくとも基板の一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆うことができるタイプのものとすることができる。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に用いてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野では周知である。本明細書で用いられる用語「液浸」は、基板などの構造が液体中に浸漬されなければならないことを意味するのでなく、むしろ露光中に投影システムと基板の間に液体が存在することを意味するだけである。
【００２３】
[0029]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエクスパンダを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の場合では、例えば放射源が水銀ランプの場合、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２４】
[0030]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、少なくともイルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれσ-outer、およびσ-innerと呼ばれる）を調整することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの種々の他のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータは、放射ビームをその断面に所望の均一性と強度分布が得られるように調整するのに使用できる。
【００２５】
[0031]  放射ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。放射ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第２ポジショナＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）を使って、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第１ポジショナＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１ポジショナＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現できる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２ポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を用いて位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（これらはスクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２６】
[0032]  図示された装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００２７】
[0033]  １．ステップモードでは、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが本質的に静止状態に維持される一方で、放射ビームに与えられたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向および／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静止露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限する。
【００２８】
[0034]  ２．スキャンモードでは、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが同期的にスキャンされる一方で、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち単一動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）率および像反転特性によって決定される。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅を制限し、一方、スキャン動作の長さが、ターゲット部分の（スキャン方向における）高さを決める。
【００２９】
[0035]  ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴがプログラマブルパターニングデバイスを保持しながら本質的に静止状態に維持され、そして基板テーブルＷＴが移動またはスキャンされる一方で、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影される。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルＷＴの移動毎にまたはスキャン中の連続放射パルスの間に、プログラマブルパターニングデバイスが必要に応じて更新される。この動作モードは、上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００３０】
[0036]  上述した使用モードの組合せおよび／または変形、あるいは全く異なる使用モードも利用できる。
【００３１】
[0037]  図２ａから２ｃは、当技術分野で知られているような基板テーブル上への基板の配置を概略的に図示している。基板テーブルＷＴには、ピンプル(pimple)またはバール(burl)とも呼ばれる複数の突起１が設けられる。本明細書ではバールという表現を用いる。
【００３２】
[0038]  図２ａに示されるように、基板Ｗは、基板テーブル表面に設けられた複数のバールに接触するまで、基板テーブルＷＴに向かって移動する。
【００３３】
[0039]  これで基板Ｗは、その裏側が基板テーブルＷＴの表面上の複数のバール１と接触した状態で、基板テーブルＷＴ上に載り、これが図２ｂに概略的に図示されている。
【００３４】
[0040]  この段階で、基板テーブルＷＴの開口３を真空生成デバイス５に接続することによって、複数のバール間の空間から空気が吸い出される。空気の吸引は、図２ｃにて矢印で概略的に図示されている。
【００３５】
[0041]  図２ｄは、基板テーブルＷＴ上に配置した基板Ｗの細部、つまり図２ｃの点線円内に示されたものを概略的に示す。基板Ｗと基板テーブルＷＴの間の真空、および複数のバール１による基板テーブルＷＴの不均一な表面に起因して、基板Ｗは局所的に変形する。その結果、基板Ｗに露光されている像が、所望の像に対して局所的にシフトすることになる。基板が現像後に第２露光のために再び基板テーブルＷＴに配置されるとき、複数のバール１に対する位置が異なるので、第２露光中の局所的な像のシフトが第１露光中とは異なることになる。その結果、オーバーレイ誤差が導入されている。
【００３６】
[0042]  図３は、本発明の実施形態にて使用できる搬送システムを概略的に示す。図３に示した搬送システムは、リソグラフィ投影装置での使用に適している。それは、それに使用可能な搬送データに基づいて基板を搬送するように構成される。搬送システムは、第１基板ホルダ１１、第２基板ホルダ１３、搬送ユニット１５、プロセッサ１９、および制御ユニット２１を備える。
【００３７】
[0043]  第１基板ホルダ１１は、基板１２を保持するように構成される。一実施形態では、第１基板ホルダ１１は、その中心、つまり基板を保持できる表面の中心の回りに回転可能である。したがって、回転軸は前述した表面に対して実質的に垂直である。
【００３８】
[0044]  第２基板ホルダ１５もまた、その表面上に基板１２を保持するように構成される。第２基板ホルダ１５の前述した表面には、複数のバールが設けられてよい。
【００３９】
[0045]  搬送システムがリソグラフィ投影装置にて使用される場合、第２基板ホルダ１５は基板テーブルＷＴに相当し、保持される基板１２は基板Ｗに相当する。さらに第１基板ホルダ１１は、プリアライメントユニットに使用される基板テーブルに相当し得る。
【００４０】
[0046]  位置センサ１３は、第１基板ホルダ１１上に配置された基板１２の位置誤差を測定するように構成されている。位置誤差は、第１基板ホルダ１１上の基板１２の測定位置と、第１基板ホルダ１１上の基板１２の所望の位置との間の差に対応する。図３において、第１基板ホルダ１１はプリアライメントユニットにおける基板ホルダに相当する。このようなプリアライメントユニットは、リソグラフィ投影装置と連動して使用されて、基板をリソグラフィ投影装置にて基板テーブルＷＴへ搬送可能にし且つその上にて所定の領域内に配置可能にするように、基板１２を位置合わせすることができる。プリアライメントユニットにおける位置センサ１３は、偏心センサ、より詳細にはエッジセンサであってよい。偏心センサは、基板１２の異なる方向に向けて基板１２の端部を測定することによって基板の偏心を決定する。異なる方向において基板上で測定可能とするために、通常基板テーブルは回転できる。
【００４１】
[0047]  搬送ユニット１７は、基板１２を第１基板ホルダ１１から第２基板ホルダ１５へ搬送するように構成される。搬送は、前述した搬送データに従って実行される。図３に概略的に図示した実施形態では、搬送ユニット１７は、２つのサブユニット、すなわち、基板１２を第１基板ホルダ１１から取り上げて、基板１２を第２基板ホルダ１５の方へ移動させるように構成されたグリッパユニット１８と、第２基板テーブル１５に存在する３つ以上の伸縮可能ピン、いわゆるＥピン２３とを備える。Ｅピン２３の位置および動作は、Ｅピンアクチュエータ２５、例えばローレンツモータによって制御することができ、これはローカル電子機器で制御することができる。電源異常が発生した場合の安全措置として、Ｅピン２３は、重力という自然の力で最も低い位置に落ちるように構成できる。これにより、Ｅピン２３が損傷を受けないことを確実ならしめることができる。搬送ユニット１７は、それぞれ矢印５１および５２によって概略的に図示されている、Ｅピン２３の動きと協働してグリッパユニット１８により保持された基板１２の動きを制御するように構成することができる。搬送ユニット１７は、Ｅピン２３に向かう方向のグリッパユニット１８の動作、図３では左側への動作を制御することができ、したがって基板１２をＥピン２３の上方に適切に位置決めすることができる。次いで搬送ユニット１７は、Ｅピンが基板１２と接触するまで基板１２に向かって、図３では上方向に伸長するのを、制御することができる。搬送ユニット１７は続いて、グリッパユニット１８がもはや第２基板ホルダ１５に向かう基板１２の動きをブロックしなくなるまで、基板１２のグリッパユニット１８からの切り離しおよびその後のグリッパユニット１８のＥピン２３から離れる動作、例えば図３では右側への動き、制御する。最後に、搬送ユニット１７は、基板１２が第２基板ホルダ１５上に配置されるまで、Ｅピン２３の収縮を制御することができる。 
【００４２】
[0048]  プロセッサ１９は、位置センサ１３に通信可能に接続される。プロセッサ１９は、矢印５３によって概略的に示された、位置センサ１３によって測定されそこから受け取った位置誤差に基づいて位置調整データを計算するように構成されている。一実施形態では、プロセッサ１９はさらに、測定された位置誤差を第１部分および第２部分に分割し、搬送データおよび位置誤差の第１部分に基づいて修正搬送データを計算し、測定された位置誤差の第２部分に基づいて位置調整データを計算するように構成される。この実施形態では、搬送ユニット１７は、プロセッサ１９と通信可能に接続されて、上記修正搬送データに従って第１基板ホルダ１１から第２基板ホルダ１５へ基板１２を搬送するように構成される。プロセッサ１９から搬送ユニット１７への上記修正搬送データの通信は図３に矢印５４によって概略的に示されている。
【００４３】
[0049]  制御ユニット２１は、プロセッサ１９に通信可能に接続される。制御ユニット２１は、プロセッサ１９で計算した位置調整データに従って、第２基板ホルダ１５をその基準位置に対して移動させるように構成されている。プロセッサ１９から制御ユニットに向けた位置調整データの通信は、図３の矢印５５によって概略的に示されている。
【００４４】
[0050]  図３ではプロセッサ１９と制御ユニット２１が別々の要素として図示されているが、例えば図５に関連して説明されるように制御ユニット２１がコンピュータアセンブリの形態をとる場合、プロセッサ１９は制御ユニット２１内に組み込まれてよいことも理解されたい。
【００４５】
[0051]  リソグラフィ投影装置における基板テーブルＷＴの位置決めは通常、図３の参照番号２７および２９によってそれぞれ示したいわゆるロングストロークステージモジュールおよびいわゆるショートストロークステージモジュールによって実施される。これら２つのステージモジュール２７、２９を組み合わせた位置決め能力は、正確かつ迅速な位置決めをもたらす。ロングストロークステージモジュール２９は通常、複数の方向、通常は３つの方向でショートストロークステージモジュール２７の粗い位置決めおよび動作を提供する。ショートストロークステージモジュール２７は通常、それに配置された基板Ｗの６自由度での正確な動作および位置決めを提供する。ショートストロークステージモジュール２７は、エアベアリング３１によってロングストロークステージモジュール２９から分離でき、１つまたは複数のローレンツモータ(図示なし)によって駆動することができる。
【００４６】
[0052]  制御ユニット２１は、ショートストロークステージモジュール２７とロングストロークステージモジュール２９の動作および位置決めを別々に制御するために別個の制御モジュールを備えることができる。リソグラフィ投影装置における搬送システムに関する本発明の実施形態では、プロセッサ１９で計算した位置調整データに従って第２基板ホルダ１５の移動を制御するように構成されている制御ユニット２１について参照する場合、実際にはショートストロークステージモジュール２７の移動と位置決めを制御するように構成される制御モジュールが参照される。代替的に、同じ制御ユニット２１を、ロングストロークステージモジュール２９とショートストロークステージモジュール２７両方の動作と位置決めを制御するように構成してもよく、この状況が図３の矢印５６および５７によってそれぞれ図示されている。しかし、この場合にも、最も正確な結果は位置調整データがショートストロークステージモジュール２７の動きに関するときに獲得される。
【００４７】
[0053]  図３に概略的に図示したように、第２基板テーブル１５はショートストロークステージモジュール２７だけでなく、追加要素３３も備えることができる。追加要素には、基板１２を収容するのに十分大きい凹部領域を備えてよい。凹部表面は複数のバールを含み、図２ａ〜ｄを参照して説明したように真空環境を確立する目的で前記複数のバール間に開口を備えることができる。液浸リソグラフィ投影装置では、追加要素３３の凹部は、液浸液を収容し制御する目的も有してよい。
【００４８】
[0054]  図４は、本発明の実施形態による、基板を第１ホルダから第２ホルダへ搬送する方法を概略的に示す。搬送は、搬送ユニットによってそれに利用できる搬送データに基づいて実行される。
【００４９】
[0055]  第１に、アクション６１において、基板が第１基板ホルダ上に提供される。次いで、アクション６３において、基板の位置誤差が位置センサによって測定される。
【００５０】
[0056]  一実施形態において、位置誤差は偏心誤差である。この実施形態では、位置センサは偏心センサを含む。
【００５１】
[0057]  他の実施形態では、位置誤差は偏心誤差と方向誤差に分解できる。このような実施形態では、位置センサは、偏心誤差を測定するように構成された偏心センサと、方向誤差、つまり第１基板テーブルに提供されている間の基板方向と第１基板テーブル上の基板の所望の方向との間の誤差を測定するように構成された方向センサとを含んでよい。代替的に、しばしばエッジセンサと呼ばれる単一のセンサがある。エッジセンサは、測定されたエッジデータ、すなわち曲がり(sinus)を生成する回転中の基板半径の測定値を、偏心データ、すなわち上記曲がりのオフセットと、方向すなわち上記曲がりにおける基板の特定要素の位置、例えばノッチとを表すデータへ変換するように構成することができる。
【００５２】
[0058]  続いてアクション６５において、位置調整データが計算され、この位置調整データは測定した位置誤差に基づいている。
【００５３】
[0059]  次いで、アクション６７において、第２基板ホルダを、その基準位置に関して移動させる。第２基板ホルダを上記基準位置に配置できるような第２基板ホルダの移動は、それぞれ図３に示したロングストロークモジュール２９とショートストロークモジュール２７のように、ショートストロークモジュールと組み合わせてロングストロークモジュールの動作を制御することによって実行でき、これは当業者には周知であろう。図３に示したリソグラフィ投影装置の場合には、基準位置は、並進オフセットがない場合に、基板が実質的に中心位置にあるＥピンの頂部に位置決めされることになる位置と一致する。一実施形態では、その基準位置に関する移動が、例えば図３に示したようなショートストロークモジュール２７のみの、ショートストロークモジュールの移動を制御することによって実行される。第２基板ホルダの基準位置に関する移動は計算した位置調整データに従って実行される。移動は、基板を保持する基板ホルダ表面に平行な方向の並進に必ずしも限定されないことを理解されたい。本発明の実施形態では、回転移動も、例えば第１基板テーブル上の基板の方向誤差を補償するために実行されてよい。
【００５４】
[0060]  最後に、アクション６９において、基板を、搬送ユニットを用いて、第１基板ホルダから第２基板ホルダへ搬送データに従って搬送し、移動した第２基板ホルダ上に配置する。
【００５５】
[0061]  一実施形態では、アクション６３において、位置誤差を測定した後、最初にアクション７１において測定された位置誤差が第１部分と第２部分に分割される。次いで、アクション７３において修正搬送データが、搬送データおよび第１部分の位置誤差に基づいて計算される。引き続き、アクション６５において、今度は位置調整データの計算は、第２部分の位置誤差に基づく。さらに、アクション６９において、第１基板ホルダから第２基板ホルダへの基板搬送は、今度は修正搬送データに従って行われることに留意されたい。
【００５６】
[0062]  位置誤差を第１部分と第２部分に分割するのは以下の手順に従う。位置誤差が、所定の閾値誤差未満にとどまる場合、全位置誤差は第１部分に割り当てられる。それ以外では、つまり位置誤差が所定の閾値誤差を超える場合、所定の閾値誤差は第１部分に割り当てられ、全位置誤差と、所定の閾値誤差の差が第２部分に割り当てられる。
【００５７】
[0063]  図５は、本発明の実施形態において使用できるコンピュータアセンブリの一実施形態を概略的に示す。このようなコンピュータアセンブリ１００は、例えば制御ユニット２１などの制御ユニットの形態の専用コンピュータであってもよい。コンピュータアセンブリ１００は、コンピュータ実行可能コードを用いて符号化されるコンピュータ読み取り可能媒体をロードするように構成することができる。これによりコンピュータアセンブリ１００は、コンピュータ読み取り可能媒体上のコンピュータ実行可能コードがロードされると、基板を、第１基板ホルダから第２基板ホルダへ、搬送ユニットによってそれに利用可能な搬送データに基づいて搬送する上記方法の実施形態を実行できるようになる。追加的または代替的に、これによりコンピュータアセンブリ１００は、コンピュータ読み取り可能媒体がロードされると、このような搬送システムを備えるリソグラフィ投影装置の実施形態によって、基板のターゲット部分をパターニングするデバイス製造方法を実行できるようになる。
【００５８】
[0064]  コンピュータアセンブリ１００は、プロセッサ１０１、例えば制御ユニット２１と通信するプロセッサ１９を含み、さらにメモリ１０５を含んでよい。メモリ１０５は、プロセッサ１０１に接続され、ハードディスク１１１、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）１１２、電気的消去書込み可能読み出し専用メモリ（ＥＥＰＲＯＭ）１１３およびランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）１１４のような複数のメモリコンポーネントを含んでよい。前記メモリコンポーネントのすべてが存在する必要はない。さらに、前記メモリコンポーネントがプロセッサ１０１に、または互いに物理的にごく近接していることも必須ではない。それらは、離れて配置されてもよい。
【００５９】
[0065]  プロセッサ１０１は、何らかの種類のユーザインタフェース、例えばキーボード１１５またはマウス１１６に接続されてもよい。タッチスクリーン、トラックボール、音声変換器または当業者に知られている他のインタフェースも使用してよい。
【００６０】
[0066]  プロセッサ１０１は、読み取りユニット１１７に接続することができ、ここれは、フロッピディスク１１８やＣＤＲＯＭ１１９のようなコンピュータ読み取り可能媒体から、例えばコンピュータ実行可能コード形式のデータを読み取り、そして何らかの状況ではコンピュータ読み取り可能媒体にデータを保存するように構成される。また、ＤＶＤまたは当業者に知られている他のコンピュータ読み取り可能媒体も使用することができる。
【００６１】
[0067]  プロセッサ１０１は、出力データを紙に印刷するプリンタ１２０、ならびにディスプレイ１２１、例えばモニタもしくはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、または当業者に知られている任意の他のタイプのディスプレイにも接続することができる。
【００６２】
[0068]  プロセッサ１０１は、入力／出力（Ｉ／Ｏ）１２３の働きをする送信器／受信器によって、通信ネットワーク１２２、例えば公衆交換電話網（ＰＳＴＮ）、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、ワイドエリアネットワーク（ＷＡＮ）などに接続することができる。プロセッサ１０１は、通信ネットワーク１２２を介して他の通信システムと通信するように構成されてよい。本発明の一実施形態では、外部コンピュータ（図示なし）、例えば、オペレータのパーソナルコンピュータが、通信ネットワーク１２２を介してプロセッサ１０１にログインすることもできる。
【００６３】
[0069]  プロセッサ１０１は、独立したシステムとして、または各処理ユニットがより大きなプログラムのサブタスクを実行するように構成される並列動作する複数の処理ユニットとして実施することができる。処理ユニットは、幾つかのサブ処理ユニットを有する１つまたは複数のメイン処理ユニットに分割されてもよい。プロセッサ１０１の幾つかの処理ユニットはさらに、他の処理ユニットから離れて配置され、通信ネットワーク１２２を介して通信することもできる。
【００６４】
[0070]  本明細書では、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して特に言及しているかもしれないが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスおよびディテクションパターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などの、他の用途もあることを理解されたい。このような代替用途の文脈においては、本明細書で用語「ウェーハ」または「ダイ」を用いる場合、それぞれ「基板」または「ターゲット部分」というより一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に理解されよう。本明細書で言う基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（一般にレジスト層を基板に設け、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジツールおよび／またはインスペクションツールにおいて処理することができる。適宜、本発明の開示は、このようなおよび他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数化処理することができ、したがって本明細書で用いられる基板という用語は、複数処理層を既に含む基板を指すこともある。
【００６５】
[0071]  本明細書で用いられる用語「放射」および「ビーム」は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、３５５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍもしくは１２６ｎｍ、またはその辺りの波長を有する）を含む、あらゆる種類の電磁放射を包含する。
【００６６】
[0072]  用語「レンズ」は、文脈が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学コンポーネントを含む、様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか、またはその組合せを指す。
【００６７】
[0073]  以上、本発明の特定の実施形態を説明してきたが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解されるであろう。例えば、本発明は、上で開示した方法を記述する機械読み取り可能命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、あるいはこのようなコンピュータプログラムを記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００６８】
[0074]  上記の説明は例示を意図したものであって、限定するものでない。したがって、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、説明した本発明に対して変更が為され得ることは当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】[0014]  図１は、本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示す。
【図２】[0015]  図２ａ〜ｃは、当技術分野で知られている基板テーブル上の基板の配置を概略的に示す。[0016]  図２ｄは、図２ｃに示したように基板テーブル上に配置された基板の細部を示す。
【図３】[0017]  図３は、本発明による実施形態において使用できる移動システムを概略的に示す。
【図４】[0018]  図４は、本発明の実施形態による基板を第１ホルダから第２ホルダへ搬送する方法を概略的に示す。
【図５】[0019]  図５は、本発明の実施形態において使用できるコンピュータアセンブリの一実施形態を概略的に示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2009135442.tif 000006
【図５】
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【外国語明細書】
2009135442000001.pdf