(57)【要約】      （修正有）【課題】基板処理装置から受信したデータの発生順序を正確に表現することが可能な群管理装置を備える基板処理システムを提供する。【解決手段】基板を処理する基板処理装置１００と、基板処理装置とデータ交換可能なように接続される群管理装置５００と、を備える基板処理システムであって、群管理装置は、基板処理装置の状態を示すデータを基板処理装置から受信し、基板処理装置内のデータ発生箇所から群管理装置へと至るデータ転送経路Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を、データを受信した時刻に加減して時刻を補正し、補正後の時刻に基づいて受信したデータを時系列に並び替え、並び替え後のデータのうち補正後の時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示する。【選択図】図２
2009290158.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する基板処理装置と、前記基板処理装置とデータ交換可能なように接続される群管理装置と、を備える基板処理システムであって、
前記群管理装置は、
前記基板処理装置の状態を示すデータを前記基板処理装置から受信し、
前記基板処理装置内のデータ発生箇所から前記群管理装置へと至るデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を、前記データを受信した時刻に加減して前記時刻を補正し、
前記補正後の時刻に基づいて前記受信したデータを時系列に並び替え、
前記並び替え後のデータのうち前記補正後の時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示する
ことを特徴とする基板処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理する基板処理装置と、前記基板処理装置とデータ交換可能なように接続される群管理装置と、を備える基板処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
基板を処理する基板処理装置内には、温度、ガス流量、圧力その他基板処理装置の状態を示すデータの発生箇所（例えば温度センサ、ガス流量計、圧力計など、以下データ発生箇所と呼ぶ）が多数存在する。基板処理装置が複数存在する場合には、これら基板処理装置群の状態を統合的かつ効率的に管理するため、各基板処理装置とデータ交換可能なように接続された群管理装置（上位管理装置）が用いられることがある。かかる群管理装置は、基板処理装置から温度、ガス流量、圧力等の各種データを受信し、受信したデータに時刻を付し（タイムスタンプを付し）、かかる時刻に基づいてグラフ等を作成して群管理装置の操作画面に表示していた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、群管理装置が受信したデータを受信時に時刻を付し、かかる時刻に基づいてグラフ等を作成する従来の方法では、データの発生順序を正確に表現することが困難な場合があった。
【０００４】
本発明は、基板処理装置から受信したデータの発生順序を正確に表現することが可能な群管理装置を備える基板処理システムを提供することが可能となる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様によれば、基板を処理する基板処理装置と、前記基板処理装置とデータ交換可能なように接続される群管理装置と、を備える基板処理システムであって、前記群管理装置は、前記基板処理装置の状態を示すデータを前記基板処理装置から受信し、前記基板処理装置内のデータ発生箇所から前記群管理装置へと至るデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を、前記データを受信した時刻に加減して前記時刻を補正し、前記補正後の時刻に基づいて前記受信したデータを時系列に並び替え、前記並び替え後のデータのうち前記補正後の時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示する基板処理システムが提供される。
【発明の効果】
【０００６】
本発明にかかる基板処理システムが備える群管理装置によれば、基板処理装置から受信したデータの発生順序を正確に表現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
上述したとおり、群管理装置が基板処理装置から温度、ガス流量、圧力等の各種データを受信し、受信したデータに時刻を付し、かかる時刻に基づいてグラフ等を作成する従来の方法では、データの発生順序を正確に表現することが困難な場合があった。
【０００８】
発明者は、鋭意研究の結果、基板処理装置内の各データ発生箇所にて発生したデータが、さまざまなデータ転送経路を経て群管理装置へと転送されることにあることに一要因があることを突き止めた。例えば、データ発生箇所にて発生したデータは、該基板処理装置が備えるコントローラを経由して群管理装置へと転送されたり、あるいは群管理装置へと直接転送されたりする場合がある。このように、データ転送経路が異なると、それに伴っ
て所要転送時間も異なってくる場合が多い。群管理装置がデータに付与する時刻は、データの発生時刻にデータ転送経路の所要転送時間を加えたものになるため、データ転送経路が異なるとデータの発生順序を正確に表現することが困難となってしまうのである。
【０００９】
そして発明者は、データ転送経路が異なる場合の転送時間差を予め測定しておき、かかる測定結果を用いて受信時刻（群管理装置がデータを受信した時刻）を補正することにより、上述の課題を解決可能であるとの知見を得た。本発明は、発明者が得たかかる知見を基になされた発明である。
【００１０】
以下に、本発明の一実施形態について説明する。
【００１１】
（１）基板処理システムの構成
まず、図１を用いて、本発明の一実施形態にかかる基板処理システムの構成について説明する。図１は、本発明の一実施形態にかかる基板処理システムの概要構成図である。
【００１２】
図１に示すとおり、本実施形態にかかる基板処理システムは、基板に処理を行う少なくとも一台の基板処理装置１００と、基板処理装置１００とデータ交換可能なように接続される群管理装置５００とを備えている。基板処理装置１００と群管理装置５００との間は、例えば構内回線（ＬＡＮ）や広域回線（ＷＡＮ）等のネットワーク４００により接続されている。
【００１３】
（２）基板処理装置の構成
続いて、本実施形態にかかる基板処理装置１００の構成について、図７，図８を参照しながら説明する。図７は、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置の斜透視図である。図８は、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置の側面透視図である。なお、本実施形態にかかる基板処理装置１００は、例えばウエハ等の基板に酸化、拡散処理、ＣＶＤ処理などを行なう縦型の装置として構成されている。
【００１４】
図７、図８に示すように、本実施形態にかかる基板処理装置１００は、耐圧容器として構成された筐体１１１を備えている。筐体１１１の正面壁１１１ａの正面前方部には、メンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口１０３が開設されている。正面メンテナンス口１０３には、正面メンテナンス口１０３を開閉する一対の正面メンテナンス扉１０４が設けられている。シリコン等のウエハ（基板）２００を収納したポッド（基板収容器）１１０が、筐体１１１内外へウエハ２００を搬送するキャリアとして使用される。
【００１５】
筐体１１１の正面壁１１１ａには、ポッド搬入搬出口（基板収容器搬入搬出口）１１２が、筐体１１１内外を連通するように開設されている。ポッド搬入搬出口１１２は、フロントシャッタ（基板収容器搬入搬出口開閉機構）１１３によって開閉されるようになっている。ポッド搬入搬出口１１２の正面前方側には、ロードポート（基板収容器受渡し台）１１４が設置されている。ロードポート１１４上には、ポッド１１０を載置されると共に位置合わせされるように構成されている。ポッド１１０は、工程内搬送装置（図示せず）によってロードポート１１４上に搬送されるように構成されている。
【００１６】
筐体１１１内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５が設置されている。回転式ポッド棚１０５上には複数個のポッド１１０が保管されるように構成されている。回転式ポッド棚１０５は、垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱１１６と、支柱１１６に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板（基板収容器載置台）１１７と、を備えている。複数枚の棚板１１７は、ポッド１１０を複数個それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。
【００１７】
筐体１１１内におけるロードポート１１４と回転式ポッド棚１０５との間には、ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８が設置されている。ポッド搬送装置１１８は、ポッド１１０を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ（基板収容器昇降機構）１１８ａと、搬送機構としてのポッド搬送機構（基板収容器搬送機構）１１８ｂとで構成されている。ポッド搬送装置１１８は、ポッドエレベータ１１８ａとポッド搬送機構１１８ｂとの連続動作により、ロードポート１１４、回転式ポッド棚１０５、ポッドオープナ（基板収容器蓋体開閉機構）１２１との間で、ポッド１１０を相互に搬送するように構成されている。
【００１８】
筐体１１１内の下部には、サブ筐体１１９が、筐体１１１内の前後方向の略中央部から後端にわたって設けられている。サブ筐体１１９の正面壁１１９ａには、ウエハ２００をサブ筐体１１９内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が、垂直方向に上下二段に並べられて設けられている。上下段のウエハ搬入搬出口１２０には、ポッドオープナ１２１がそれぞれ設置されている。
【００１９】
各ポッドオープナ１２１は、ポッド１１０を載置する一対の載置台１２２と、ポッド１１０のキャップ（蓋体）を着脱するキャップ着脱機構（蓋体着脱機構）１２３とを備えている。ポッドオープナ１２１は、載置台１２２上に載置されたポッド１１０のキャップをキャップ着脱機構１２３によって着脱することにより、ポッド１１０のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
【００２０】
サブ筐体１１９内には、ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５等が設置された空間から流体的に隔絶された移載室１２４が構成されている。移載室１２４の前側領域にはウエハ移載機構（基板移載機構）１２５が設置されている。ウエハ移載機構１２５は、ウエハ２００を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置（基板移載装置）１２５ａと、ウエハ移載装置１２５ａを昇降させるウエハ移載装置エレベータ（基板移載装置昇降機構）１２５ｂとで構成されている。図７に示すように、ウエハ移載装置エレベータ１２５ｂは、サブ筐体１１９の移載室１２４前方領域右端部と筐体１１１右側端部との間に設置されている。ウエハ移載装置１２５ａは、ウエハ２００の載置部としてのツイーザ（基板保持体）１２５ｃを備えている。これらウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ及びウエハ移載装置１２５ａの連続動作により、ウエハ２００をボート（基板保持具）２１７に対して装填（チャージング）及び脱装（ディスチャージング）することが可能なように構成されている。
【００２１】
移載室１２４の後側領域には、ボート２１７を収容して待機させる待機部１２６が構成されている。待機部１２６の上方には、基板処理系としての処理炉２０２が設けられている。処理炉２０２の下端部は、炉口シャッタ（炉口開閉機構）１４７により開閉されるように構成されている。
【００２２】
図７に示すように、サブ筐体１１９の待機部１２６右端部と筐体１１１右側端部との間には、ボート２１７を昇降させるためのボートエレベータ（基板保持具昇降機構）１１５が設置されている。ボートエレベータ１１５の昇降台には、連結具としてのアーム１２８が連結されている。アーム１２８には、蓋体としてのシールキャップ２１９が水平に据え付けられている。シールキャップ２１９は、ボート２１７を垂直に支持し、処理炉２０２の下端部を閉塞可能なように構成されている。
【００２３】
ボート２１７は複数本の保持部材を備えている。ボート２１７は、複数枚（例えば、５０枚〜１２５枚程度）のウエハ２００を、その中心を揃えて垂直方向に整列させた状態でそれぞれ水平に保持するように構成されている。
【００２４】
図７に示すように、移載室１２４のウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ側及びボートエレベータ１１５側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア１３３を供給するよう供給フアン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット１３４が設置されている。ウエハ移載装置１２５ａとクリーンユニット１３４との間には、図示はしないが、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置が設置されている。
【００２５】
クリーンユニット１３４から吹き出されたクリーンエア１３３は、図示しないノッチ合わせ装置、ウエハ移載装置１２５ａ、待機部１２６にあるボート２１７の周囲を流通した後、図示しないダクトにより吸い込まれて筐体１１１の外部に排気されるか、もしくはクリーンユニット１３４の吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環されてクリーンユニット１３４によって移載室１２４内に再び吹き出されるように構成されている。
【００２６】
（３）基板処理装置の動作
次に、本実施形態にかかる基板処理装置１００の動作について、図７，図８を参照しながら説明する。
【００２７】
図７、図８に示すように、ポッド１１０がロードポート１１４に供給されると、ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放される。そして、ロードポート１１４の上のポッド１１０が、ポッド搬送装置１１８によってポッド搬入搬出口１１２から筐体１１１内部へと搬入される。
【００２８】
筐体１１１内部へと搬入されたポッド１１０は、ポッド搬送装置１１８によって回転式ポッド棚１０５の棚板１１７上へ自動的に搬送されて一時的に保管された後、棚板１１７上から一方のポッドオープナ１２１の載置台１２２上に移載される。なお、筐体１１１内部へと搬入されたポッド１１０は、ポッド搬送装置１１８によって直接ポッドオープナ１２１の載置台１２２上に移載されてもよい。この際、ポッドオープナ１２１のウエハ搬入搬出口１２０はキャップ着脱機構１２３によって閉じられており、移載室１２４内にはクリーンエア１３３が流通され、充満されている。例えば、移載室１２４内にクリーンエア１３３として窒素ガスが充満することにより、移載室１２４内の酸素濃度が例えば２０ｐｐｍ以下となり、大気雰囲気である筐体１１１内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定されている。
【００２９】
載置台１２２上に載置されたポッド１１０は、その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され、ウエハ出し入れ口が開放される。その後、ウエハ２００は、ウエハ移載装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてポッド１１０内からピックアップされ、ノッチ合わせ装置にて方位が整合された後、移載室１２４の後方にある待機部１２６内へ搬入され、ボート２１７内に装填（チャージング）される。ボート２１７内にウエハ２００を装填したウエハ移載装置１２５ａは、ポッド１１０に戻り、次のウエハ２００をボート２１７内に装填する。
【００３０】
この一方（上段または下段）のポッドオープナ１２１におけるウエハ移載機構１２５によるウエハのボート２１７への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ１２１の載置台１２２上には、別のポッド１１０が回転式ポッド棚１０５上からポッド搬送装置１１８によって搬送されて移載され、ポッドオープナ１２１によるポッド１１０の開放作業が同時進行される。
【００３１】
予め指定された枚数のウエハ２００がボート２１７内に装填されると、炉口シャッタ１
４７によって閉じられていた処理炉２０２の下端部が、炉口シャッタ１４７によって開放される。続いて、ウエハ２００群を保持したボート２１７は、シールキャップ２１９がボートエレベータ１１５によって上昇されることにより処理炉２０２内へ搬入（ローディング）されていく。
【００３２】
ローディング後は、処理炉２０２内にてウエハ２００に任意の処理が実施される。処理後は、ノッチ合わせ装置１３５でのウエハの整合工程を除き、上述の手順とほぼ逆の手順で、処理後のウエハ２００を格納したボート２１７が処理室２０１内より搬出され、処理後のウエハ２００を格納したポッド１１０が筐体１１１外へと搬出される。
【００３３】
（４）処理炉の構成
続いて、本実施形態にかかる処理炉２０２の構成について、図９を用いて説明する。図９は、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置の処理炉の縦断面図である。
【００３４】
図９に示すように、処理炉２０２は、反応管としてのプロセスチューブ２０３を備えている。プロセスチューブ２０３は、内部反応管としてのインナーチューブ２０４と、その外側に設けられた外部反応管としてのアウターチューブ２０５と、を備えている。インナーチューブ２０４は、例えば石英（ＳｉＯ２）または炭化シリコン（ＳｉＣ）等の耐熱性材料からなり、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。インナーチューブ２０４内の筒中空部には、基板としてのウエハ２００を処理する処理室２０１が形成されている。処理室２０１内は後述するボート２１７を収容可能なように構成されている。アウターチューブ２０５は、インナーチューブ２０４と同心円状に設けられている。アウターチューブ２０５は、内径がインナーチューブ２０４の外径よりも大きく、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。アウターチューブ２０５は、例えば石英または炭化シリコン等の耐熱性材料からなる。
【００３５】
プロセスチューブ２０３の外側には、プロセスチューブ２０３の側壁面を囲うように、加熱機構としてのヒータ２０６が設けられている。ヒータ２０６は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース２５１に支持されることにより垂直に据え付けられている。
【００３６】
アウターチューブ２０５の下方には、アウターチューブ２０５と同心円状になるように、マニホールド２０９が配設されている。マニホールド２０９は、例えばステンレス等からなり、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド２０９は、インナーチューブ２０４の下端部とアウターチューブ２０５の下端部とにそれぞれ係合しており、これらを支持するように設けられている。なお、マニホールド２０９とアウターチューブ２０５との間には、シール部材としてのＯリング２２０ａが設けられている。マニホールド２０９がヒータベース２５１に支持されることにより、プロセスチューブ２０３は垂直に据え付けられた状態となっている。プロセスチューブ２０３とマニホールド２０９により反応容器が形成される。
【００３７】
後述するシールキャップ２１９には、ガス導入部としてのノズル２３０が処理室２０１内に連通するように接続されている。ノズル２３０には、ガス供給管２３２が接続されている。ガス供給管２３２の上流側（ノズル２３０との接続側と反対側）には、ガス流量制御器としてのＭＦＣ（マスフローコントローラ）２４１を介して、図示しない処理ガス供給源や不活性ガス供給源等が接続されている。ＭＦＣ２４１には、ガス流量制御部２３５が電気的に接続されている。ガス流量制御部２３５は、処理室２０１内に供給するガスの流量が所望のタイミングにて所望の流量となるように、ＭＦＣ２４１を制御するように構成されている。
【００３８】
マニホールド２０９には、処理室２０１内の雰囲気を排気する排気管２３１が設けられ
ている。排気管２３１は、インナーチューブ２０４とアウターチューブ２０５との隙間によって形成される筒状空間２５０の下端部に配置されており、筒状空間２５０に連通している。排気管２３１の下流側（マニホールド２０９との接続側と反対側）には、圧力検出器としての圧力センサ２４５、例えばＡＰＣ（Ａｕｔｏ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｃｏｎｔｏｒｏｌｌｅｒ）として構成された圧力調整装置２４２、真空ポンプ等の真空排気装置２４６が上流側から順に接続されている。圧力調整装置２４２及び圧力センサ２４５には、圧力制御部２３６が電気的に接続されている。圧力制御部２３６は、圧力センサ２４５により検出された圧力値に基づいて、処理室２０１内の圧力が所望のタイミングにて所望の圧力となるように、圧力調整装置２４２を制御するように構成されている。
【００３９】
マニホールド２０９の下方には、マニホールド２０９の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体としてのシールキャップ２１９が設けられている。シールキャップ２１９は、マニホールド２０９の下端に垂直方向下側から当接されるようになっている。シールキャップ２１９は、例えばステンレス等の金属からなり、円盤状に形成されている。シールキャップ２１９の上面には、マニホールド２０９の下端と当接するシール部材としてのＯリング２２０ｂが設けられている。シールキャップ２１９の中心部付近であって処理室２０１と反対側には、ボートを回転させる回転機構２５４が設置されている。回転機構２５４の回転軸２５５は、シールキャップ２１９を貫通してボート２１７を下方から支持している。回転機構２５４は、ボート２１７を回転させることでウエハ２００を回転させることが可能なように構成されている。シールキャップ２１９は、プロセスチューブ２０３の外部に垂直に設備された昇降機構としてのボートエレベータ１１５によって、垂直方向に昇降されるように構成されている。シールキャップ２１９を昇降させることにより、ボート２１７を処理室２０１内外へ搬送することが可能なように構成されている。回転機構２５４及びボートエレベータ１１５には、駆動制御部２３７が電気的に接続されている。駆動制御部２３７は、回転機構２５４及びボートエレベータ１１５が所望のタイミングにて所望の動作をするように、これらを制御するように構成されている。
【００４０】
上述したように、基板保持具としてのボート２１７は、複数枚のウエハ２００を水平姿勢でかつ互いに中心を揃えた状態で整列させて多段に保持するように構成されている。ボート２１７は、例えば石英や炭化珪素等の耐熱性材料からなる。ボート２１７の下部には、例えば石英や炭化珪素等の耐熱性材料からなる円板形状をした断熱部材としての断熱板２１６が水平姿勢で多段に複数枚配置されており、ヒータ２０６からの熱がマニホールド２０９側に伝わりにくくなるように構成されている。
【００４１】
プロセスチューブ２０３内には、温度検出器としての温度センサ２６３が設置されている。ヒータ２０６と温度センサ２６３とには、電気的に温度制御部２３８が接続されている。温度制御部２３８は、温度センサ２６３により検出された温度情報に基づいて、処理室２０１内の温度が所望のタイミングにて所望の温度分布となるように、ヒータ２０６への通電具合を調整するように構成されている。
【００４２】
ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８は、基板処理装置全体を制御する主制御部２３９に電気的に接続されている（以下、ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８をＩ／Ｏ制御部とも呼ぶ）。これら、ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８、及び主制御部２３９は、基板処理装置用コントローラ２４０として構成されている。基板処理装置用コントローラ２４０の構成や動作については、後述する。
【００４３】
（５）処理炉の動作
続いて、半導体デバイスの製造工程の一工程として、上記構成に係る処理炉２０２を用いてＣＶＤ法によりウエハ２００上に薄膜を形成する方法について、図９を参照しながら
説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作は基板処理装置用コントローラ２４０により制御される。
【００４４】
複数枚のウエハ２００がボート２１７に装填（ウエハチャージ）されると、図９に示すように、複数枚のウエハ２００を保持したボート２１７は、ボートエレベータ１１５によって持ち上げられて処理室２０１に搬入（ボートローディング）される。この状態で、シールキャップ２１９はＯリング２２０ｂを介してマニホールド２０９の下端をシールした状態となる。
【００４５】
処理室２０１内が所望の圧力（真空度）となるように、真空排気装置２４６によって真空排気される。この際、圧力センサ２４５が測定した圧力値に基づき、圧力調整装置２４２（の弁の開度）がフィードバック制御される。また、処理室２０１内が所望の温度となるように、ヒータ２０６によって加熱される。この際、温度センサ２６３が検出した温度値に基づき、ヒータ２０６への通電量がフィードバック制御される。続いて、回転機構２５４により、ボート２１７及びウエハ２００が回転させられる。
【００４６】
次いで、処理ガス供給源から供給されてＭＦＣ２４１にて所望の流量となるように制御されたガスは、ガス供給管２３２内を流通してノズル２３０から処理室２０１内に導入される。導入されたガスは処理室２０１内を上昇し、インナーチューブ２０４の上端開口から筒状空間２５０内に流出して排気管２３１から排気される。ガスは、処理室２０１内を通過する際にウエハ２００の表面と接触し、この際に熱ＣＶＤ反応によってウエハ２００の表面上に薄膜が堆積（デポジション）される。
【００４７】
予め設定された処理時間が経過すると、不活性ガス供給源から不活性ガスが供給され、処理室２０１内が不活性ガスに置換されるとともに、処理室２０１内の圧力が常圧に復帰される。
【００４８】
その後、ボートエレベータ１１５によりシールキャップ２１９が下降されてマニホールド２０９の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ２００を保持するボート２１７がマニホールド２０９の下端からプロセスチューブ２０３の外部へと搬出（ボートアンローディング）される。その後、処理済のウエハ２００はボート２１７より取り出され、ポッド１１０内へ格納される（ウエハディスチャージ）。
【００４９】
（６）基板処理装置用コントローラの構成
続いて、本実施形態にかかる基板処理装置用コントローラ２４０の構成について、図２を用いて説明する。図２は、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置１００及び群管理装置５００のブロック構成図である。
【００５０】
基板処理装置用コントローラ２４０は、処理炉２０２を制御する上述のＩ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８）と、上記Ｉ／Ｏ制御部とデータ交換可能なように接続された上述の主制御部２３９と、を備えている。主制御部２３９は、Ｉ／Ｏ制御部を介して処理炉２０２の動作を制御するとともに、処理炉２０２の状態（温度、ガス流量、圧力等）を示すデータを収集する（読み出す）ように構成されている。
【００５１】
基板処理装置用コントローラ２４０は、主制御部２３９にデータ交換可能なように接続された表示装置制御部２３９ａを備えている。表示装置制御部２３９ａには、ディスプレイ等のデータ表示部２４０ａとキーボード等の入力手段２４０ｂとがそれぞれ接続されるように構成されている。表示装置制御部２３９ａは、操作員による入力手段２４０ｂからの入力（操作コマンドの入力等）を受け付けると共に、基板処理装置１００の状態表示画
面や操作入力受付画面等をデータ表示部２４０ａに表示するように構成されている。
【００５２】
また、基板処理装置用コントローラ２４０は、表示装置制御部２３９ａにデータ交換可能なように接続されたメカ制御部２３９ｃと、メカ制御部２３９ｃにデータ交換可能なように接続されたメカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄと、を備えている。メカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄには、基板処理装置１００を構成する各部（例えばポッドエレベータ１１８ａ、ポッド搬送機構１１８ｂ、ポッドオープナ１２１、ウエハ移載機構１２５、ボートエレベータ１１５等）が接続されている。メカ制御部２３９ｃは、メカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄを介して基板処理装置１００を構成する各部の動作を制御するとともに、基板処理装置１００を構成する各部の状態（例えば位置、開閉状態、動作中であるかウエイト状態であるか等）を示すデータを収集する（読み出す）ように構成されている。
【００５３】
また、基板処理装置用コントローラ２４０は、表示装置制御部２３９ａに接続されたデータ保持部２３９ｅを備えている。データ保持部２３９ｅには、基板処理装置用コントローラ２４０に種々の機能を実現するプログラムや、処理炉２０２にて実施される基板処理工程の設定データ（レシピデータ）や、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８）やメカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄから読み出した各種データ等が保持（記憶）されるように構成されている。
【００５４】
また、基板処理装置用コントローラ２４０は、表示装置制御部２３９ａに接続された通信制御部２３９ｂを備えている。また、図示しないが、上述のＩ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８）やメカ制御部２３９ｃは、主制御部２３９や表示装置制御部２３９ａを介さずに通信制御部２３９ｂと直接データ交換可能なようにも接続されている。なお、通信制御部２３９ｂは、後述する基板処理装置１００とネットワーク４００を介してデータ交換可能なように接続されている。
【００５５】
（データ転送経路Ｒ１について）
通信制御部２３９ｂは、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８）を介して読み出した処理炉２０２の状態（温度、ガス流量、圧力等）を示すデータを、主制御部２３９及び表示装置制御部２３９ａを介して受信し、群管理装置５００へ送信することが可能なように構成されている。また、通信制御部２３９ｂは、メカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄを介して読み出した基板処理装置１００を構成する各部の状態（位置、開閉状態、動作中であるかウエイト状態であるか等）を示すデータを、メカ制御部２３９ｃ及び表示装置制御部２３９ａを介して受信し、群管理装置５００へ送信することが可能なように構成されている。これらのデータ転送経路を図中のＲ１にて示す。
【００５６】
（データ転送経路Ｒ２について）
通信制御部２３９ｂは、Ｉ／Ｏ制御部を介して読み出した処理炉２０２の状態（温度、ガス流量、圧力等）を示すデータを、主制御部２３９及び表示装置制御部２３９ａを介さずに直接受信して群管理装置５００へ送信することが可能なように構成されている。また、通信制御部２３９ｂは、メカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄを介して読み出した基板処理装置１００を構成する各部の状態（位置、開閉状態、動作中であるかウエイト状態であるか等）を示すデータを、表示装置制御部２３９ａを介さずに直接受信して群管理装置５００へ送信することが可能なように構成されている。これらのデータ転送経路を図中のＲ２にて示す。かかるデータ転送経路Ｒ２は、主制御部２３９による処理や表示装置制御部２３９ａによる表示処理が不要であるようなデータ（データ表示部２４０ａに表示する必要のないデータ）の転送に用いられる。
【００５７】
（データ転送経路Ｒ３について）
図示しないが、上述のＩ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８）やメカ制御部２３９ｃは、主制御部２３９、表示装置制御部２３９ａ、及び通信制御部２３９ｂを介さずに、群管理装置５００と直接データ交換可能なようにも構成されている。そして、Ｉ／Ｏ制御部は、読み出した処理炉２０２の状態（温度、ガス流量、圧力等）を示すデータを、主制御部２３９、表示装置制御部２３９ａ、通信制御部２３９ｂを介さずに直接に群管理装置５００へ送信することが可能なように構成されている。また、メカ機構Ｉ／Ｏ２４０ｄは、読み出した基板処理装置１００を構成する各部の状態（位置、開閉状態、動作中であるかウエイト状態であるか等）を示すデータを、表示装置制御部２３９ａや通信制御部２３９ｂを介さずに直接に群管理装置５００へ送信することが可能なように構成されている。これらのデータ転送経路を図中のＲ３にて示す。かかるデータ転送経路Ｒ３は、主制御部２３９、表示装置制御部２３９ａ、メカ制御部２３９ｃ、通信制御部２３９ｂによる処理がいずれも不要であるようなデータの転送に用いられる。
【００５８】
なお、上述のデータ転送経路Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３における所要転送時間は互いに異なる場合が多い。例えば、主制御部２３９やメカ制御部２３９ｃや表示装置制御部２３９ａや通信制御部２３９ｂ等による処理が介在するデータ転送経路Ｒ１の所要転送時間は、介在する処理の少ないデータ転送経路Ｒ２やデータ転送経路Ｒ３の所要転送時間よりも大きくなることが多い。又、図２では明示していないが、経路長（通信回線の長さ）の差も受信時間に差異が生じる原因になり得る。データ転送経路は、実際はＲ１，Ｒ２，Ｒ３に限定されないが、本実施形態ではデータ転送経路をＲ１，Ｒ２，Ｒ３に仮定して以下に説明する。
【００５９】
（７）群管理装置の構成
続いて、上述の基板処理装置１００とデータ交換可能なように構成された本実施形態にかかる群管理装置５００の構成について、図２〜図５を参照しながら説明する。図３は、本発明の一実施形態にかかるデータ保存手段が保存するデータ履歴テーブルの構成例である。図４は、本発明の一実施形態にかかる参照テーブルの構成例である。図５（ａ）は補正前の受信時刻に基づいて作成した温度及びバルブ開閉の変化を例示するグラフ図であり、（ｂ）は補正後の受信時刻に基づいて作成した温度及びバルブ開閉の変化を例示するグラフ図である。
【００６０】
群管理装置５００は、中央処理装置（ＣＰＵ）として構成された制御部５０１と、内部に共有メモリ５０２領域を有するメモリと、ＨＤＤなどの記憶装置として構成されたデータ保持部５０３と、ディスプレイ装置などのデータ表示部５０５と、キーボード等の入力手段５０６と、通信制御部５０４と、を有するコンピュータとして構成されている。上述のメモリ、データ保持部５０３、データ表示部５０５、入力手段５０６、通信制御部５０４は、内部バス等を介して制御部５０１とデータ交換可能なように構成されている。また、制御部５０１は、図示しない時計機能を有している。
【００６１】
（通信制御部）
通信制御部５０４は、基板処理装置用コントローラ２４０の通信制御部２３９ｂに接続されていると共に、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５、圧力制御部２３６、駆動制御部２３７、温度制御部２３８）及びメカ制御部２４０ｃに接続されている。通信制御部５０４は、基板処理装置１００からデータを受信した際、該データが転送されてきたデータ転送経路を特定するための情報、すなわち、該データが転送されてきたデータ転送経路がデータ転送経路Ｒ１〜Ｒ３のうちいずれであるかを示す情報を、後述する時刻補正手段５１２に対して通知することが可能なように構成されている。
【００６２】
（データ保持部）
データ保持部５０３には、図４に例示するような参照テーブル５０３ｔが格納されている。参照テーブル５０３ｔには、基板処理装置１００内のデータ発生箇所から群管理装置５００へと至るデータ転送経路の所要転送時間と、基準転送時間と、の転送時間差が予め登録されている。図４に示す構成例では、データ転送経路Ｒ１の所要転送時間を基準転送時間としている。そして、例えば温度データ、ガス流量などのデータ種別毎に、該データが、データ転送経路Ｒ１で転送される場合の所要転送時間（基準転送時間）と、データ転送経路Ｒ２で転送される場合の所要転送時間と、の転送時間差Ｔ１が予め登録されている。また、該データが、データ転送経路Ｒ１で転送される場合の所要転送時間（基準転送時間）と、データ転送経路Ｒ３で転送される場合の所要転送時間と、の転送時間差Ｔ２が予め登録されている。
【００６３】
また、データ保持部５０３には、図示しない群管理プログラムが格納されている。群管理プログラムは、データ保持部５０３から上述のメモリに読み出されて制御部５０１に実行されることにより、後述するデータ保存手段５１１、時刻補正手段５１２、データ並替手段５１３、及びデータ表示手段５１４を群管理装置５００に実現するように構成されている。
【００６４】
（データ保存手段）
データ保存手段５１１は、基板処理装置１００の状態を示す上述の各種データ（データ転送経路Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３により転送されてきたデータ）を、通信制御部５０４を介して基板処理装置１００から受信すると共に、前記データと前記データを受信した時刻とを保存するように構成されている。
【００６５】
データ保存手段５１１の動作例を、図３を参照しながら説明する。図３において、Ｉ／Ｏ制御部（温度制御部２３８）による温度データＤ１１の読み出し時刻と、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５）によるガス流量データＤ１２の読み出し時刻と、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５）によるデータＤ２１（例えばバルブ開閉状態をＯＮ／ＯＦＦで示す情報等）の読み出し時刻と、メカ機構Ｉ／Ｏ２３９ｄによるデータＤ２２（ポッドエレベータ１１８ａ、ポッド搬送機構１１８ｂ、ポッドオープナ１２１、ウエハ移載機構１２５、ボートエレベータ１１５等の作動状態をＯＮ／ＯＦＦで示す情報等）の読み出し時刻は同一時刻であるものとする。すなわち、各データ発生箇所におけるデータ発生時刻は同一時刻であるものとする。
【００６６】
図３によれば、データ保存手段５１１は、Ｉ／Ｏ制御部（温度制御部２３８）が読み出した温度データＤ１１と、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５）が読み出したガス流量データＤ１２とを、同一のデータ転送経路（例えばデータ転送経路Ｒ２）を介して受信しており、その時刻は共に１２：０３：４４である。そして、データ保存手段５１１は、データＤ１１とその受信時刻（１２：０３：４４）との対、及びデータＤ１２とその受信時刻（１２：０３：４４）との対を、共有メモリ５０２内のデータ履歴テーブル５０２ｔ内に時系列に格納するように構成されている。データ履歴テーブル５０２ｔは、例えばサイズが１００００行程度のリング型テーブルとして構成されており、受信した最新のデータを最古のデータに上書き保存するとともに、過去１００００件程度のデータを保持するように構成されている。
【００６７】
その後、データ保存手段５１１は、Ｉ／Ｏ制御部（ガス流量制御部２３５）が読み出したデータＤ２１と、メカ機構Ｉ／Ｏ２３９ｄが読み出したデータＤ２２とを、温度データＤ１１やガス流量データＤ１２のデータ転送経路よりも所要転送時間の長いデータ転送経路（例えばデータ転送経路Ｒ１）にて受信しており、その時刻は共に１２：０３：４５である。そして、データ保存手段５１１は、データＤ２１とその受信時刻（１２：０３：４
５）との対、及びデータＤ２２とその受信時刻（１２：０３：４５）との対を、共有メモリ５０２内のデータ履歴テーブル５０２ｔ内に時系列に格納するように構成されている。なお、データ保存手段５１１は、１２：０３：４５の時点では温度データＤ１１及びガス流量データＤ１２については受信していない。そのため、データ保存手段５１１は、１２：０３：４４の時点のデータ履歴テーブル５０２ｔ内の温度データＤ１１及びガス流量データＤ１２を、１２：０３：４５の時点の温度データＤ１１及びガス流量データＤ１２としてそれぞれ継承するように構成されている。
【００６８】
このように、データＤ１１，Ｄ１２，Ｄ２１，Ｄ２２のデータ発生時刻は互いに同一でありながら、データ転送経路が異なることに伴いデータ保存手段５１１により付された時刻は異なっており（データＤ２１，Ｄ２２の受信時刻の方が、データＤ１１，Ｄ１２の受信時刻よりも１秒早くなっており）、データ履歴テーブル５０２ｔはデータの発生順序を正確に表現できていない。
【００６９】
（時刻補正手段）
時刻補正手段５１２は、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されるデータのデータ転送経路を特定し、前記特定したデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を参照テーブル５０３ｔから読み出し、前記読み出した転送時間差を、前記保存されている前記受信時刻に対して加減して前記受信時刻を補正するように構成されている。
【００７０】
具体的には、時刻補正手段５１２は、データ履歴テーブル５０２ｔに新規に保存されたデータの時刻をデータ履歴テーブル５０２ｔから読み出すとともに、該データが転送されてきたデータ転送経路を特定するように構成されている。図３に示す例においては、時刻補正手段５１２は、データＤ１１，Ｄ１２のデータ転送経路が共にデータ転送経路Ｒ１であり、データＤ２１，Ｄ２２のデータ転送経路が共にデータ転送経路Ｒ２であることを特定するように構成されている。上述したように、通信制御部５０４は、基板処理装置１００からデータを受信した際、該データが転送されてきたデータ転送経路を特定するための情報（例えば、該データが転送されてきたデータ転送経路がデータ転送経路Ｒ１〜Ｒ３のうちいずれであるかを示す情報）を、時刻補正手段５１２に対して伝達するように構成されているため、時刻補正手段５１２は、通信制御部５０４からの通知を受信することによりデータ転送経路を特定することが可能である。また、データ転送経路がデータの種別毎に予め定められている場合には、時刻補正手段５１２は、該データのデータ種別に基づいてデータ転送経路を特定可能なように構成されていてもよい。
【００７１】
時刻補正手段５１２は、データ転送経路を特定した後、データ保持部５０３内に格納されている参照テーブル５０３ｔから、該データ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を読み出すように構成されている。例えば、データ転送経路Ｒ１の所要転送時間を基準転送時間としている場合において、該データのデータ転送経路がデータ転送経路Ｒ２であれば、時刻補正手段５１２は、転送時間差Ｔ１（＝（データ転送経路Ｒ１の所要転送時間）−（データ転送経路Ｒ２の所要転送時間））を参照テーブル５０３ｔから読み出すように構成されている。また、同様に、該データのデータ転送経路がデータ転送経路Ｒ３であれば、時刻補正手段５１２は、転送時間差Ｔ２（＝（データ転送経路Ｒ１の所要転送時間）−（データ転送経路Ｒ３の所要転送時間））を参照テーブル５０３ｔから読み出すように構成されている。また、該データがデータ転送経路Ｒ１（基準転送経路）にて転送されていれば、該データに関する転送時間差は０秒と読み出される。図３、図４に示す例に基づけば、時刻補正手段５１２は、データＤ１１，Ｄ１２の転送時間差を１．０秒と読み出し、データＤ２１，Ｄ２２の転送時間差を０秒と読み出だすように構成されている。
【００７２】
時刻補正手段５１２は、読み出した転送時間差を、保存されている時刻に加減して受信
時刻を補正するように構成されている。すなわち、「読み出した転送時間差」を、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されている「データの受信時刻」に対して加減することにより、データの発生順序を正確に示す「補正後の受信時刻」を得るように構成されている。例えば、図３、図４に示す例に基づけば、「データＤ１１，Ｄ１２に関する転送時間差１．０秒」を、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されている「データＤ１１，Ｄ１２の受信時刻１２：０３：４４」に加えて「補正後の受信時刻１２：０３：４５」を得るとともに、「データＤ２１，Ｄ２２に関する転送時間差０秒」を、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されている「データＤ２１，Ｄ２２の受信時刻１２：０３：４５」に加えて「補正後の受信時刻１２：０３：４５（変更なし）」を得るように構成されている。或いは、「データＤ１１，Ｄ１２に関する転送時間差１．０秒」を、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されている「データＤ２１，Ｄ２２の受信時刻１２：０３：４５」から差し引いて「補正後の受信時刻１２：０３：４４」を得るとともに、「データＤ２１，Ｄ２２に関する転送時間差０秒」を、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されている「データＤ１１，Ｄ１２の受信時刻１２：０３：４４」から差し引いて「補正後の受信時刻１２：０３：４４（変更なし）」を得るように構成されている。すなわち、データ転送経路の転送時間差を補正する（データ転送経路の所要転送時間を揃える）ように各データの受信時刻を補正することにより、データの発生順序を正確に表現することが「補正後の受信時刻」を得るように構成されている。
【００７３】
（データ並替手段）
データ並替手段５１３は、「補正後の受信時刻」に基づいて、共有メモリ５０２（データ履歴テーブル５０２ｔ）に記録されたデータを時系列に並び替えてデータ保持部５０３内に保存するように構成されている。具体的には、データ並替手段５１３は、「補正後の受信時刻」が時系列になるようデータ履歴テーブル５０２ｔ内の各データを並び替えて「補正後のデータ履歴テーブル５０２ｔ’」を作成し、データ履歴テーブル５０２ｔに上書きして共有メモリ５０２に保存するとともに、データ保持部５０３内に保存するように構成されている。
【００７４】
（データ表示手段）
データ表示手段５１４は、操作員による入力手段からの表示要求コマンドの入力に応じて、補正後のデータ履歴テーブル５０２ｔ’に記録されたデータ（並び替え後のデータ）を共有メモリ５０２或いはデータ保持部５０３から読み出すように構成されている。そして、データ表示手段５１４は、読み出したデータを例えば表形式やグラフ形式にて表示するとともに、並び替え後のデータのうち、「補正後の受信時刻」が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示するように構成されている。例えば、図３、図４に示す例では、データＤ１１，Ｄ１２，Ｄ２１，Ｄ２２の「補正後の受信時刻」は全て１２：０３：４５（或いは１２：０３：４４）であるから、データ表示手段５１４は、これらデータＤ１１，Ｄ１２，Ｄ２１，Ｄ２２を、同一時刻に発生したデータとして表示するように構成されている。かかる様子を図５に示す。受信時刻の補正を行っていない図５（ａ）によれば、データＤ１１，Ｄ１２，Ｄ２１，Ｄ２２のデータ発生時刻は互いに同一でありながらデータ保存手段５１１により付された時刻は異なっており（すなわち、データＤ２１，Ｄ２２の受信時刻の方が、データＤ１１，Ｄ１２の受信時刻よりも１秒早くなっており）、データの発生順序を正確に表現していない。これに対し、受信時刻の補正を行った図５（ｂ）によれば、データ転送経路の転送時間差に基づいて時刻が補正され、データの発生順序が正確に表され、同一時刻に発生したデータとして表示されていることが分かる。
【００７５】
（８）群管理装置の動作
続いて、本実施形態にかかる群管理装置５００の動作について、図６を参照しながら説明する。図６は、本実施形態にかかる群管理装置５００の動作フローを例示する概略図で
あり、（ａ）は基板処理装置からデータを受信したときの動作フローを、（ｂ）は補正後の受信時刻に基づいてデータを表示するときの動作フローをそれぞれ例示する。
【００７６】
図６（ａ）に示すとおり、群管理装置５００のデータ保存手段５１１は、基板処理装置１００の状態を示す各種データ（データ転送経路Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３により転送されてきたデータ）を、通信制御部５０４を介して基板処理装置１００から受信する（Ｓ１１）と共に、前記データと前記データを受信した時刻とを保存する（Ｓ１２）。
【００７７】
そして、群管理装置５００の時刻補正手段５１２は、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されるデータのデータ転送経路を特定し、前記特定したデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を参照テーブル５０３ｔから読み出す（Ｓ１３）。そして、時刻補正手段５１２は、前記読み出した転送時間差を、保存されている時刻に対して加減して前記受信時刻を補正する（Ｓ１４）。
【００７８】
そして、群管理装置５００のデータ並替手段５１３は、「補正後の受信時刻」に基づいて、共有メモリ５０２（データ履歴テーブル５０２ｔ）に記録されたデータを時系列に並び替えて「補正後のデータ履歴テーブル５０２ｔ’」を作成する（Ｓ１５）。そして、データ並替手段５１３は、補正後のデータ履歴テーブル５０２ｔ’をデータ履歴テーブル５０２ｔに上書して共有メモリ５０２に保存するとともに、データ保持部５０３内に保存する（Ｓ１６）。
【００７９】
また、本実施形態にかかる群管理装置５００のデータ表示手段５１４は、操作員による入力手段からの表示要求コマンドの入力に応じて、補正後のデータ履歴テーブル５０２ｔ’に記録されたデータ（並び替え後のデータ）を共有メモリ５０２或いはデータ保持部５０３から読み出す（Ｓ２１）。
【００８０】
そして、データ表示手段５１４は、読み出したデータを例えば表形式やグラフ形式にて表示するとともに、並び替え後のデータのうち、「補正後の受信時刻」が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示する（Ｓ２２）。
【００８１】
なお、上述のＳ１１〜Ｓ１６の工程と、Ｓ２１〜Ｓ２２の工程とは互いに独立しており、いずれかのみを実行してもよく、また、これらを同時に或いは連続して実行してもよい。
【００８２】
（９）本発明の一実施形態による効果
本実施形態によれば、以下のうち一つまたは複数の効果を奏する。
【００８３】
本実施形態にかかる時刻補正手段５１２は、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されるデータのデータ転送経路を特定し、前記特定したデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を参照テーブル５０３ｔから読み出し、前記読み出した転送時間差を、保存されている受信時刻に加減して前記受信時刻を補正するように構成されている。すなわち、すなわち、「読み出した転送時間差」を、データ履歴テーブル５０２ｔに保存されている「データの受信時刻」に対して加減することにより、データの発生順序を正確に示す「補正後の受信時刻」を得ることが可能となる。データ転送経路の転送時間差を補正する（データ転送経路の所要転送時間を揃える）ように各データの受信時刻を補正することにより、基板処理装置内の各データ発生箇所にて発生したデータが、さまざまなデータ転送経路を経て群管理装置へと転送される場合であっても、データの発生順序を正確に表現することが可能となる。
【００８４】
本実施形態にかかるデータ表示手段５１４は、補正後のデータ履歴テーブル５０２ｔ’
に記録されたデータ（並び替え後のデータ）を、例えば表やグラフ形式にて表示するように構成されている。「補正後の受信時刻」に基づいて表示するため、データの発生順序が正確に表現することが可能となり、補正後の受信時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示することが可能となる。
【００８５】
＜他の実施の形態＞
なお、上記では基板処理装置の一例として半導体製造装置を示しているが、半導体製造装置に限らず、ＬＣＤ装置のようなガラス基板を処理する装置であってもよい。また、基板処理の具体的内容は不問であり、成膜処理だけでなく、アニール処理、酸化処理、窒化処理、拡散処理等の処理であってもよい。また、成膜処理は、例えばＣＤＶ、ＰＶＤ、酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理であってもよい。
【００８６】
＜本発明の好ましい態様＞
以下に本発明の望ましい態様について付記する。
【００８７】
本発明の第１の態様は、
基板を処理する基板処理装置と、前記基板処理装置とデータ交換可能なように接続される群管理装置と、を備える基板処理システムであって、
前記群管理装置は、
前記基板処理装置の状態を示すデータを前記基板処理装置から受信し、
前記基板処理装置内のデータ発生箇所から前記群管理装置へと至るデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を、前記データを受信した時刻に加減して前記時刻を補正し、
前記補正後の時刻に基づいて前記受信したデータを時系列に並び替え、
前記並び替え後のデータのうち前記補正後の時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示する
基板処理システムである。
【００８８】
好ましくは、
前記群管理装置は、
前記基板処理装置の状態を示すデータを前記基板処理装置から受信すると共に、前記データと前記データを受信した時刻とを保存するデータ保存手段と、
前記基板処理装置内のデータ発生箇所から前記群管理装置へと至るデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差が登録される参照テーブルと、
前記保存されるデータのデータ転送経路を特定し、前記特定したデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を前記参照テーブルから読み出し、前記読み出した転送時間差を、前記保存されている前記時刻に加減して前記時刻を補正する時刻補正手段と、
前記補正後の時刻に基づいて前記保存されたデータを時系列に並び替えるデータ並替手段と、
前記並び替え後のデータのうち前記補正後の時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示するデータ表示手段と、を備える。
【００８９】
好ましくは、
前記群管理装置は、前記共有メモリに保存された時刻あるいは前記データ保存部に保存された補正後の時刻を修正する操作画面を有する
基板処理システムである。
【００９０】
本発明の第２の態様は、
基板を処理する基板処理装置とデータ交換可能なように接続される群管理装置であって
、
前記基板処理装置の状態を示すデータを前記基板処理装置から受信し、
前記基板処理装置内のデータ発生箇所から前記群管理装置へと至るデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を、前記データを受信した時刻に加減して前記時刻を補正し、
前記補正後の時刻に基づいて前記受信したデータを時系列に並び替え、
前記並び替え後のデータのうち前記補正後の受信時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示する群管理装置である。
【００９１】
好ましくは、
前記基板処理装置の状態を示すデータを前記基板処理装置から受信すると共に、前記データと前記データを受信した時刻とを共有メモリに保存するデータ保存手段と、
前記基板処理装置内のデータ発生箇所から前記群管理装置へと至るデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差が登録される参照テーブルと、
前記共有メモリに保存されるデータのデータ転送経路を特定し、前記特定したデータ転送経路の所要転送時間と基準転送時間との転送時間差を前記参照テーブルから読み出し、前記読み出した転送時間差を、前記共有メモリに保存されている前記時刻に加減して前記時刻を補正する時刻補正手段と、
前記補正後の時刻に基づいて前記共有メモリに記録されたデータを時系列に並び替えてデータ保持部に保存するデータ並替手段と、
前記並び替え後のデータのうち、前記補正後の時刻が同一であるデータを同一時刻に発生したデータとして表示するデータ表示手段と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の一実施形態にかかる基板処理システムの概要構成図である。
【図２】本発明の一実施形態にかかる基板処理システム及び群管理装置のブロック構成図である。
【図３】本発明の一実施形態にかかるデータ保存手段が保存するデータ履歴テーブルの構成例である。
【図４】本発明の一実施形態にかかる参照テーブルの構成例である。
【図５】（ａ）は補正前の受信時刻に基づいて作成した温度及びバルブ開閉の変化を例示するグラフ図であり、（ｂ）は補正後の受信時刻に基づいて作成した温度及びバルブ開閉の変化を例示するグラフ図である。
【図６】本発明の一実施形態にかかる群管理装置の動作フローを例示する概略図であり、（ａ）は基板処理装置からデータを受信したときの動作フローを、（ｂ）は補正後の受信時刻に基づいてデータを表示するときの動作フローをそれぞれ例示する。
【図７】本発明の一実施形態にかかる基板処理装置の斜透視図である。
【図８】本発明の一実施形態にかかる基板処理装置の側面透視図である。
【図９】本発明の一実施形態にかかる基板処理装置の処理炉の縦断面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１００    基板処理装置
２００    ウエハ（基板）
２４０    基板処理装置用コントローラ
５００    群管理装置
５０２    共有メモリ
５０３ｔ  参照テーブル
５１１    データ保存手段
５１２    時刻補正手段
５１３    データ並替手段
５１４    データ表示手段
Ｄ１１    基板処理装置の状態を示すデータ
Ｄ１２    基板処理装置の状態を示すデータ
Ｄ２１    基板処理装置の状態を示すデータ
Ｄ２２    基板処理装置の状態を示すデータ
Ｒ１      データ転送経路
Ｒ２      データ転送経路
Ｒ３      データ転送経路
【図１】
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【図２】
2009290158.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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