(57)【要約】      （修正有）【課題】６００℃以下の空気雰囲気で焼成可能で、反復的な焼成工程を経るとしても、抵抗の絶対値及び抵抗の増加が微小な電極形成用組成物を提供する。【解決手段】下記の式（１）で表される粒度分布幅が２．０以下で、Ｄ５０値が０．１≦Ｄ５０≦２０μｍであるアルミニウム系粉末５〜９５質量％、有機バインダー３〜６０質量％及び溶剤を含んで電極形成用組成物を構成する。2009135101.tif 000010（前記式（１）において、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、全体質量を１００％にして粒度分布の累積曲線を求めるとき、この累積曲線がそれぞれ１０％、５０％、９０％になる点の粒径を意味する。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される粒度分布幅が２．０以下で、Ｄ５０値が０．１≦Ｄ５０≦２０μｍである、アルミニウムを含む粉末５〜９５質量％；
有機バインダー３〜６０質量％；及び
溶剤を含む、電極形成用組成物；
【数１】
2009135101.tif 000008
前記式（１）において、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、アルミニウムを含む粉末の全体質量を１００％にして粒度分布の累積曲線を求めるとき、この累積曲線がそれぞれ１０％、５０％、９０％になる点の粒径を意味する。
【請求項２】
前記アルミニウムを含む粉末は、アルミニウムまたはアルミニウム合金である、請求項１に記載の電極形成用組成物。
【請求項３】
前記アルミニウム合金は、銀、銅、ケイ素、錫、クロム、およびゲルマニウムからなる群から選択される１種以上の元素とアルミニウムとの合金である、請求項２に記載の電極形成用組成物。
【請求項４】
前記粒度分布幅が０．５〜１．７である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項５】
前記有機バインダーは、カルボキシル基含有モノマーと、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとの共重合によって得られた共重合体、セルロース、および水溶性セルロース誘導体からなる群から選択される１種以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項６】
前記溶剤は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、脂肪族アルコール、α−テルピネオール、β−テルピネオール、ジヒドロテルピネオール、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエーテルエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グリセロール、ブチルアセテート、エチルアセテート、シクロヘキサノール、ブチルセロソルブアセテート、テキサノール、ミネラルスピリット、有機酸、およびオレイン酸からなる群から選択される１種以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項７】
前記組成物は、全体組成物１００質量部に対して１〜３０質量部のガラスフリットをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項８】
前記ガラスフリットは、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、ＺｎＯ、およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選ばれる一つ以上の成分を含む金属酸化物系ガラスである、請求項７に記載の電極形成用組成物。
【請求項９】
前記ガラスフリットのガラス転移温度（Ｔｇ）は、３００〜６００℃である、請求項８に記載の電極形成用組成物。
【請求項１０】
前記有機バインダーの分解温度は、３００〜５００℃である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項１１】
前記組成物は、全体組成物１００質量部に対して０．１〜２０質量部の光重合性化合物及び０．０１〜１０質量部の光重合開始剤をさらに含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項１２】
前記組成物は、消泡剤、レベリング剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、粘度安定剤、分散税及び熱重合禁止剤からなる群から選択される一つ以上の添加剤をさらに含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の電極形成用組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物を用いて製造されてなる、電極。
【請求項１４】
前記電極は、ＤＦＲ法、コーター法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法及びフォトリソグラフィ法から選択される方法を用いて、４５０〜６００℃の温度での焼成工程を施すことで形成される、請求項１３に記載の電極。
【請求項１５】
前面基板及び前記前面基板と対向する背面基板と；
前記前面基板と背面基板とが互いに対向する面の前面基板上に横方向に配列されている透明電極と；
前記透明電極上に形成されるバス電極と；
前記前面基板と前記背面基板とが互いに対向する面の背面基板上に縦方向に形成されるアドレス電極と；を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記バス電極および前記アドレス電極の少なくとも１方は、請求項１３または１４に記載の電極である、プラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
下記式（１）で表される粒度分布幅が２．０以下で、Ｄ５０値が０．１≦Ｄ５０≦２０μｍである、アルミニウムを含む粉末５〜９５質量％；
有機バインダー３〜６０質量％；及び溶剤を含む、電極形成用組成物をＤＦＲ法、コーター法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法及びフォトリソグラフィ法から選択される方法を用いて、４５０〜６００℃の温度での焼成を行う工程を含む、電極の製造方法。
【数２】
2009135101.tif 000009
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極形成用組成物及びこれを用いて製造される電極に関するもので、より詳細には、粒度分布及び大きさが制御されたアルミニウム系粉末を含み、抵抗の大きな変化なしに６００℃以下の温度で焼成可能なプラズマディスプレイパネルのバス電極やアドレス電極形成用組成物及びこれを用いて製造される電極に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
抵抗体素子、セラミックコンデンサー、サーミスター、バリスター、ＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）などの素子は、導電性フィラーとして銀粉末を含む組成物を用いてスクリーン印刷、オフセット印刷、フォトリソグラフィなどの方法を通してパターニングした後、焼成工程を通して電極を形成する。
【０００３】
このように、電極形成用組成物において導電性フィラーとして銀粉末を用いると、製造コストが高くなる。また、銀粉末を使用して組成された電極パターンにおいて、銀成分が電子の移動によるマイグレーション（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）によって隣接した電極とショットをもたらし、電極信頼性が低下するという問題があった。
【０００４】
上記のような問題を解決するために、相対的に低価でありながら銀粉末に取って代わる導電性フィラー材料について検討されている。
【０００５】
そのうち一つが、アルミニウムを導電性フィラーとして用いることであるが、アルミニウムは、空気中で焼成工程を経ることで酸化し、最終的に製造される電極の電気伝導度が急激に減少するという欠点があった。
【０００６】
また、一般的に、組成物を用いて電極を形成するとき、反復的な焼成工程を経るという点を勘案すると、アルミニウムを導電性フィラーとして使用すると、焼成工程を経るごとにアルミニウムの酸化度が増加し、導電性が急激に低下するという短所があった。
【０００７】
上記のような導電性フィラーとしてアルミニウムを使用するときに発生する問題点を克服するために、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる球状粉末を用いる方法も提案されている。しかしながら、銀粉末を使用した電極形成用組成物に比べると、最終的に形成される電極の抵抗値が数千倍以上に高く、反復的に焼成した後の抵抗値も焼成時ごとに１０％以上の抵抗値上昇を示すので、実際のデバイスへの適用が困難であった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、初期抵抗値が低く、反復的な焼成工程を経ても、抵抗の絶対値及び抵抗の増加が少ない電極を得るための、電極形成用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る電極形成用組成物は、下記で表される式（１）の粒度分布幅が２．０以下である、アルミニウムを含む粉末（以下、アルミニウム系粉末とも称する）５〜９５質量％と、有機バインダー３〜６０質量％と、溶剤とを含む。
【００１０】
【数１】
2009135101.tif 000002
【００１１】
前記式（１）において、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、アルミニウム系粉末全体質量を１００％にして粒度分布の累積曲線を求めるとき、この累積曲線がそれぞれ１０％、５０％、９０％になる点の粒径を意味する。
【００１２】
また、前記組成物を用いて形成された電極及びＰＤＰ素子も提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の電極形成用組成物を用いて得られる電極は、反復的な焼成工程を経ても、抵抗の絶対値及び抵抗の増加が少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明に係る電極形成用組成物は、アルミニウム系粉末、有機バインダー及び溶剤を含む。場合によって、ガラスフリットを含む。アルミニウム系粉末は、導電性フィラーとしての役割を果たす。
【００１５】
アルミニウム系粉末は、粉末の形態、好適には、アルミニウムを主成分とする球状の粉末形態となっている。そして、アルミニウム系粉末は、下記の式（１）によって定義される粒度分布幅が２．０以下で、Ｄ５０が０．１≦Ｄ５０≦２０μｍの範囲を有するものである。
【００１６】
【数２】
2009135101.tif 000003
【００１７】
前記式（１）において、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、アルミニウム系粉末全体質量を１００％にして粒度分布の累積曲線を求めるとき、この累積曲線がそれぞれ１０％、５０％、９０％になる点の粒径を意味する。
【００１８】
一般的に、Ｄ１０、Ｄ９０、Ｄ５０値は、一定の値を有するものと定義されるが、上記のようにＤ１０、Ｄ９０、Ｄ５０値が一定の範囲を有することは、粉末試料の大きさで本願発明の権利範囲を取るためであり、前記範囲内のアルミニウム系粉末を導電性フィラーとして使用する本願発明の権利範囲に属することを意味する。
【００１９】
導電性フィラーとしてアルミニウム系粉末をＤ５０が０．１≦Ｄ５０≦２０μｍの範囲であることに加えて、上記のような粒度分布幅を有するものを使用して電極形成用組成物を製造すると、６００℃以下の温度で焼成した後、再焼成工程を通して電極を形成するとしても、最終的に形成される電極の抵抗値に大きな変化がない。
【００２０】
導電性フィラーとして使用されるアルミニウム系粉末としては、純粋アルミニウムまたはアルミニウム合金を使用可能であり、アルミニウム合金は、銀、銅、ケイ素、錫、クロム、ゲルマニウムなどから選択される１種以上の元素をアルミニウムと合金化させたものである。アルミニウム合金におけるアルミニウムと合金化する元素の含有量は、特に制限されるものではなく適宜調整される。
【００２１】
本発明の全体組成物においてアルミニウム系粉末が占める比率は、質量％を基準にして５〜９５質量％の値を有し、より好ましくは３０〜９０質量％である。上記のような含量比を有する理由は、５質量％未満である場合、組成物を用いて製造される電極が所望の程度の導電性を得ることが難しく、９５質量％以上である場合、基板との密着性及び印刷性が良好でないためである。
【００２２】
本発明において導電性フィラーとして使用されるアルミニウム系粉末を分級処理し、アルミニウム系粉末のＤ５０値が０．１≦Ｄ５０≦２０μｍである範囲下で、（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０の値、すなわち、粒度分布幅を２．０以下、好ましくは０．５〜１．７に制御することで、本願発明で達成しようとする目的、すなわち、６００℃以下の温度で焼成可能で、反復的に焼成するとしても、絶対的な抵抗値の増加が少なく、抵抗値に大きな変化のない電極形成用組成物を製造することができる。
【００２３】
前記アルミニウム系粉末の粒度分布測定は、一般的に粒度分布計を用いたり、ＳＥＭ測定を通して確認することができる。本発明においては、実施例に記載の方法により、測定された値を採用する。
【００２４】
本願発明の組成物に使用される有機バインダーは、本発明の組成物における導電性フィラーと場合によっては添加されるガラスフリットとを混合し、一定の粘性を有する組成物を製造するために添加するもので、これによって、焼成工程を経る電極パターンの製造が可能になる。
【００２５】
本発明で使用される有機バインダーは、電極用組成物に用いられるものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、カルボキシル基含有モノマーとエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとの共重合によって得られた共重合体、セルロース、水溶性セルロース誘導体が挙げられる。これらのバインダーは、単独で用いても、２種以上併用してもよい。カルボキシル基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などが挙げられる。エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとしては、アクリル酸エステル（アクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなど）、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどが挙げられる。水溶性セルロース誘導体としては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウムおよび結晶セルロース・カルメロースナトリウムなどが挙げられる。
【００２６】
前記有機バインダーの含量は、組成物１００質量％に対して、３〜６０質量％、好ましくは５〜５０質量％である。有機バインダーの含量が３質量％未満である場合、ペースト製造後に粘度が過度に低くなるか、印刷及び乾燥後に接着力が低下し、有機バインダーの含量が６０質量％を超えると、有機バインダーが過多に存在することで、焼成時に有機バインダーの分解が円滑に行われず、抵抗が高くなるという短所がある。また、本発明で使用される有機バインダーとしては、分解温度が３００〜５００℃、好ましくは４００〜４８０℃であるものを使用すると良い。前記分解温度範囲内では、焼成工程中にアルミニウム系粉末の酸化速度を調節することができ、優れた抵抗値を有するようになる。
【００２７】
また、前記有機バインダーのうちガラス転移点が２０℃以下の粘着性を有するものを使用すると、本発明で製造される組成物を用いたオフセット印刷が容易になる。
【００２８】
本発明の組成物には残量として溶剤が含まれるが、溶剤は、有機バインダーを溶解させ、製造される組成物の粘性を調節することで、塗布が容易なペーストの製造を可能にする。
【００２９】
本発明で使用される溶剤は、好適には電極形成用組成物で汎用的に使用される１２０℃以上の沸点を有するものである。具体的には、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、脂肪族アルコール、α−テルピネオール、β−テルピネオール、ジヒドロテルピネオール、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエーテルエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グリセロール、ブチルアセテート、エチルアセテート、シクロヘキサノール、ブチルセロソルブアセテート、テキサノール、ミネラルスピリット、有機酸、オレイン酸などがある。これらを単独に使用したり、２種以上を混合して使用することができる。
【００３０】
前記溶剤の含量は、具体的に適用される場合によって変わるもので、溶剤の添加量を調節することで粘度の調節を容易にすることができる。前記溶剤の含量は、組成物１００質量％に対して、好ましくは１〜６８質量％の範囲である。
【００３１】
さらに、本発明においては、基板との接着性を向上させるために、無機バインダーとしてのガラスフリットを全体組成物１００質量部に対して１〜３０質量部含むことができる。前記ガラスフリットの添加量が１質量部未満であると、本発明で期待する効果を具現することが難しく、前記ガラスフリットの添加量が３０質量部を超えると、相対的に導電性フィラーの量が減少し、形成される電極で所望の水準の導電性を得ることが難しい。
【００３２】
前記ガラスフリットは、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３成分のうち一つ以上の成分を含む金属酸化物系ガラスであることが好ましい。また、ガラスフリットのガラス転移温度（Ｔｇ）は３００〜６００℃であることが好ましい。ガラスフリットが上記のようなガラス転移温度値を有する理由は、軟化点が３００℃より低いと、収縮率が過度に大きくなることで、形成された電極のエッジカールが大きくなり、軟化点が６００℃より高いと、導電成分の焼結が充分に起こらず、抵抗が上昇するという問題が発生する虞れがあるためである。
【００３３】
ただし、本発明の組成物にガラスフリットをさらに含んで組成物を製造した場合、レーザー粒度分布計を用いて測定したとき、ガラスフリットの影響によって粒度分布が小幅に増加または減少しうる。
【００３４】
また、本発明では、電極組成物の流動特性、工程特性及び安定性を向上させるために、必要に応じて紫外線安定剤、粘度安定剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤などから選択された１種以上の添加剤を追加的に含むことができる。好ましくは、紫外線安定剤、消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤などから選択された１種以上の添加剤を追加的に含む。これらの全ては、当該技術分野で通常の知識を有する者が商用的に購入して使用可能な程度に公知なので、これに対する具体的な例及び説明は省略する。
【００３５】
本発明の電極形成用組成物を用いると、得られる電極は、反復的な焼成工程を経ても、抵抗の絶対値及び抵抗の増加が少ない。したがって、本発明には、上記電極形成用組成物を用いて製造されてなる電極が包含される。電極の製造方法は、特に限定されず、従来公知の方法によって製造することができる。
【００３６】
上述した電極形成用組成物は、ＤＦＲ（ｄｒｙ  ｆｉｌｍ  ｒｅｓｉｓｔｏｒ）法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、コーター法、フォトリソグラフィ法のうち少なくとも一つの方法を用いて電極を製造することができる。
【００３７】
特に、電極製造時にフォトリソグラフィ法を用いる場合、本発明は、前記組成物に光重合性化合物及び光開始剤を追加的に含むことが好ましい。
【００３８】
本発明における前記光重合性化合物は、感光性樹脂組成物に使用される多官能性モノマーまたはオリゴマーとして、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ノボラックエポキシアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、及び１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートからなる群から１種以上選択されたものを使用することができる。
【００３９】
前記光重合性化合物の含量は、前記電極形成用組成物１００質量部に対して０．１乃至２０質量部であることが好ましい。前記光重合性化合物の含量が０．１質量部未満である場合、光硬化が完璧に行われず、現像時にパターン脱落の問題が発生し、前記光重合性化合物の含量が２０質量部を超えると、多官能性モノマーまたはオリゴマーの量が多くて、焼成時に有機物の分解問題が発生し、抵抗上昇問題をもたらす。
【００４０】
また、本発明における前記光重合開始剤としては、２００乃至４００ｎｍの紫外線波長帯で優れた光反応を示すものであれば、如何なるものも使用可能であり、一般的に、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、トリアジン系化合物からなる群から選択された１種以上を使用することができる。
【００４１】
前記光重合開始剤は、前記電極形成用組成物１００質量部に対して０．０１乃至１０質量部添加することが好ましい。
【００４２】
上記のような工程を通して所望の位置にパターニングした後、１次的に常温乾燥工程を経て、１００〜２００℃の温度でベーキング工程を経ると、一定の強度を有する電極パターンが形成される。
【００４３】
その後、４５０〜６００℃の温度で焼成工程を経ると、パターニングされた組成物膜内部の有機バインダーと溶剤が全て脱離し、無機バインダーであるガラスフリットが溶けて導電性フィラーをバインディングするようになる。
【００４４】
焼成工程は、１回実施されるものでなく、その後、誘電体などの工程によって２〜３回反復的に行われることもある。
【００４５】
焼成雰囲気は、特に限定されるものではないが、空気雰囲気であることが好ましい。また、焼成時間は特に限定されるものではないが、通常、５５０℃以上の温度で０．５〜３時間であることが好ましい。
【００４６】
図１は、本発明の実施例に係る組成物を使用して製造されたプラズマディスプレイパネルを示した分解斜視図である。
【００４７】
図１に示すように、本発明の実施例に係る組成物を使用して製造されたプラズマディスプレイパネル１０は、前面基板１００及び背面基板１５０を含む。
【００４８】
前記前面基板１００と背面基板１５０とが互いに対向する面の前面基板１００上には、横方向に配列されている透明電極１１０が形成されており、透明電極１１０上にはバス電極１１２が形成されている。また、バス電極１１２上には、パネル内部で発生した電荷を保存するための第１誘電体層１１４が形成されており、第１誘電体層１１４上には、第１誘電体層１１４を保護し、電子放出を容易にするためのＭｇＯ層１１８が形成されている。
【００４９】
前記前面基板１００と背面基板１５０とが互いに対向する面の背面基板１５０上には、縦方向にアドレス電極１１７が形成されている。また、アドレス電極１１７が形成された背面基板１５０上には第２誘電体層１１５が形成されており、前記第２誘電体層１１５上には、内部にＲＧＢにそれぞれ該当する蛍光物質１３２を備える隔壁１２０が形成されることで、画素領域が定義される。
【００５０】
これら前面基板１００と背面基板１５０との間の空間にＮｅ＋Ａｒ、Ｎｅ＋Ｘｅなどの不活性ガスが注入され、前記電極に臨界電圧以上の電圧が印加されると、放電によって光が発生するようになる。
【００５１】
上記のようなＰＤＰ構造において、バス電極１１２または／及びアドレス電極１１７は、本発明の実施例に係る組成物を用いて形成されうる。具体的に、スクリーン印刷法、オフセット印刷法及びフォトリソグラフィ法のうち一つの方法によって形成されることが好ましい。
【００５２】
代表的に、フォトリソグラフィ法によって電極を形成する方法は、次のような段階によって行われる。
【００５３】
（ａ）本発明の組成物をガラス基板上に５〜４０μｍの厚さで塗布する段階、
（ｂ）塗布された前記組成物を８０〜１５０℃の温度で約２０〜６０分間乾燥する段階、
（ｃ）乾燥された前記組成物膜上にフォトマスクを使用して紫外線露光工程を実施する段階、
（ｄ）現像工程を通して前記組成物膜の露光された領域（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）または露光されていない領域（ｎｅｇａｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）を除去する段階、
（ｅ）残留する前記組成物膜を５００〜６００℃の温度で乾燥及び焼成する段階。
【実施例】
【００５４】
以下、本発明に係る電極形成用組成物を用いて電極を形成する場合、６００℃以下の温度で焼成可能であり、反復的な焼成工程を経ても抵抗値にほとんど変化がなく、最終的に形成される電極の伝導性が非常に優秀であることを具体的な実験例に基づいて説明する。しかしながら、本発明の範囲は下記実施例に限定されるものではない。ここに記載されていない内容は、この技術分野で熟練した者であれば充分に技術的に類推可能であるので、それに対する説明を省略する。
【００５５】
１．アルミニウム粉末の製造
ガスアトマイズまたは水アトマイズなどの金属粉末を得られる方法を用いて製造される球状のアルミニウム粉末を出発原料として使用し、これを分極器（ＣＩＳＡ、ＲＰ０９）を用いて実施例に示した様々な粒度分布幅（Ｄ９０−Ｄ１０）とＤ５０を有するアルミニウム球状粉末を製造した。
【００５６】
さらに、アルミニウムを含む合金粉末を出発原料として用いても、同一の方法で様々な粒度分布幅と平均粒径を有するアルミニウム合金粉末を得ることができる。
【００５７】
ここで、粒度分布幅と平均粒径の測定には、ＣＩＬＡＳ社製（型番：＃１０６４）レーザ散乱・回折式粒度分布計を使用し、分散溶剤としてはイソプロピルアルコールを使用した。
【００５８】
下記の表１は、上記のような方法によって製造されるアルミニウム粉末の粒度分布データを記載した詳細表である。
【００５９】
【表１】
2009135101.tif 000004
【００６０】
２．電極形成用組成物の製造
（１）実施例１〜８、比較例１〜２
導電性フィラーとして上記のようにそれぞれ製造されたアルミニウム粉末とガラスフリット（非鉛系としてＢｉ−Ｚｎ−Ｂを成分とし、ガラス転移温度４８０℃、平均粒径１．５μｍ）、有機バインダーとしてのアクリル系共重合体（Ｇｅｏｍｙｕｎｇ社、ＳＰＮ＃３０−１；分解温度＝４４７℃）、及び溶剤としてのテキサノール（Ｅａｓｔｍａｎ  ｃｈｅｍｉｃａｌ社）を混合・攪拌した後、セラミック３−ロールミールで混練・分散した組成物を得た。その組成比を表２に記載した
【００６１】
【表２】
2009135101.tif 000005
【００６２】
（２）実施例９〜１０
フォトリソグラフィ工程で電極パターンを形成するために、実施例１及び実施例７で各成分の含量を異にし、ここに光開始剤（Ｃｉｂａ社、ＩＣ３６９）及び光重合性化合物（サトマー社、ＳＲ４９４）を追加的に混合・攪拌した後、セラミック３−ロールミールで混練・分散した組成物を得た。その組成比を表３に記載した。
【００６３】
【表３】
2009135101.tif 000006
【００６４】
３．各組成物を用いた厚膜電極の形成
上記の実施例１〜８及び比較例１〜２によって製造された組成物を１０ｃｍ×１０ｃｍ大きさの高融点ガラス板にテスター産業社のＰＩ１２１０コーターを用いて塗布した後、これを常温乾燥及び１１０℃でのベーキング工程後に５６０℃、ピーク１５分、インアウト１時間半のベルト炉で焼成し、２５μｍのパターンを形成した後、抵抗値を測定した。その結果を表４に示した。
【００６５】
また、前記実施例９〜１０の組成物に次のような段階を施すことで、電極を製造した。
【００６６】
（ａ）組成物を基板上に２５μｍ厚さで塗布する段階、
（ｂ）塗布された前記組成物を１１０℃の温度で約２０分間乾燥する段階、
（ｃ）乾燥された前記組成物膜上にフォトマスクを使用して紫外線露光工程を実施する段階、
（ｄ）現像工程を通して前記組成物膜の露光された領域または露光されていない領域を除去する段階、
（ｅ）残留する前記組成物膜を５６０℃の温度で焼成する段階。
【００６７】
このとき、製造される電極の抵抗値を測定し、その測定結果を表４に記載した。
【００６８】
４．電極の再焼成による抵抗値変化率測定
上記の実施例１〜１０及び比較例１〜２の組成物を用いて製造された電極パターンの初期抵抗値を測定した後、追加的に１〜２回反復的に焼成し、その抵抗値の変化を測定した。その結果を表４に示した。
【００６９】
【表４】
2009135101.tif 000007
【００７０】
前記表４を参照すると、（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０の値が２．０以下になる実施例１〜１０の場合、比較例１〜２の場合に比べて、非常に低い初期抵抗値を有することが分かる。
【００７１】
また、実施例１の場合にはＤ５０値が４で、比較例２の場合にはＤ５０値が４．０６であり、非常に類似した値を有するが、粒度分布幅によって初期抵抗値及び再焼成時の抵抗値に著しい差があることが分かる。
【００７２】
また、実施例６を参照すると、（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０値が１．７を超えると、それ以下である場合に比べて、再焼成による抵抗値に変化が大きいことが分かる。
【００７３】
上記のような結果を総合すると、導電性フィラーとして使用されるアルミニウム粉末のＤ５０値を調整するだけでは、本発明のような初期抵抗値、及び焼成・再焼成過程を経るとしても抵抗にほとんど変化のない結果を得ることが難しく、粒度分布幅（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０を本願発明で提示するように２．０以下の値に調整したときのみに、上記のような結果を得られることを確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の実施例に係る組成物を使用して製造されたプラズマディスプレイパネルを示した分解斜視図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０    プラズマディスプレイパネル、
１００    前面基板、
１１０    透明電極、
１１２    バス電極、
１１４    第１誘電体層、
１１５    第２誘電体層、
１１７    アドレス電極、
１１８    ＭｇＯ層、
１２０    隔壁、
１３２    蛍光物質、
１５０    背面基板。
【図１】
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