(57)【要約】【課題】例えば、簡便な製造プロセスで製造可能であり、且つヘイズを低減しつつ、光学補償が可能である位相差板を提供する。【解決手段】無機膜２０５は、凸部２０２ｂから無機物の蒸着方向Ｄに沿って延び、且つ凹部２０２ａに重なる柱状部分２０５ａを有している。位相差板２１０によれば、互いに隣り合う凸部２０２ｂから成長した柱状部分２０５ａの隙間、即ち凹部２０２ａ上の空間が確保されたままで無機膜２０５が形成されている。このような柱状部分２０５ａ間に確保された隙間によれば、凹部２０２ａ上の空間、即ち互いに隣り合う凸部２０２ｂ間の隙間に無機物が充填されている場合に比べて、光の補償効果を大きくすることが可能である。【選択図】図６
2009020383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成されており、可視光の波長より小さいピッチで交互に並ぶ凹部及び凸部を有する凹凸部と、
前記基板の基板面に対して斜め方向から前記凹凸部に無機物が供給されることによって前記凹凸部上に形成された無機膜と
を備えたことを特徴とする位相差板。
【請求項２】
前記凹凸部は、前記表面に樹脂を塗布することによって形成された樹脂層をパターニングすることによって形成されていること
を特徴とする請求項１に記載の位相差板。
【請求項３】
基板と、
前記基板の基板面の側から前記基板を部分的に除去することによって形成されており、可視光の波長より小さいピッチで交互に並ぶ凹部及び凸部を有する凹凸部と、
前記基板面に対して斜め方向から前記凹凸部に無機物が供給されることによって前記凹凸部上に形成された無機膜と
を備えたことを特徴とする位相差板。
【請求項４】
前記無機膜は、前記凸部から前記斜め方向に沿って延び、且つ前記凹部に重なる柱状部分を有すること
を特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の位相差板。
【請求項５】
前記ピッチは、前記可視光の波長の１／３より小さいこと
を特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の位相差板。
【請求項６】
光を変調する液晶装置と、
前記液晶装置の光入射側又は光出射側に配置された、請求項１から５の何れか一項に記載の位相差板と
を備えたことを特徴とする投写型液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶プロジェクタ等の投写型表示装置が備えるライトバルブと共に用いられ、ライトバルブを構成する液晶装置に入射する入射光或いは液晶装置から出射される出射光の位相を補償する位相差板の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の位相差板としては、斜方蒸着法によって基板上に無機膜を形成し、有機膜に比べて光に対する劣化が低減された高耐光性を有する位相差板が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。このような位相差板では、液晶の旋光性及び複屈折率に起因して生じる光の位相差を補償するために無機膜の膜厚を厚くする必要があり、無機膜の白濁化、即ちヘイズが発生し、光を拡散させてしまう問題点があり、表示画像のコントラストを低下させる一因になっている。
【０００３】
このような問題点を解消するために、例えば、特許文献２によれば、基板の両面の夫々に無機膜を蒸着することによって全体の厚みを薄くできる位相差板が提案されている。また、特許文献３によれば、斜方蒸着及び垂直蒸着を交互に行うことによって形成された無機膜を有する位相差板が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１１９４４４号公報
【特許文献２】特開平８−１２２５２３号公報
【特許文献３】特開平１０−８１９５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献２及び３に開示された位相差板によれば、斜方蒸着法による無機膜の形成を複数の工程に分けて行うことになる。したがって、ヘイズは低減できるが、位相差板の製造プロセスが煩雑化する製造プロセス上の問題点である。加えて、斜方蒸着法を複数の工程に分けて行うことによって、位相差板から発生する位相差の制御が難しくなる技術的問題点もある。
【０００６】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、簡便な製造プロセスで製造可能であり、且つ光学補償が可能な位相差板を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の発明に係る位相差板は上記課題を解決するために、基板と、前記基板上に形成されており、可視光の波長より小さいピッチで交互に並ぶ凹部及び凸部を有する凹凸部と、前記基板の基板面に対して斜め方向から前記凹凸部に無機物が供給されることによって前記凹凸部上に形成された無機膜とを備える。
【０００８】
本発明に係る位相差板によれば、凹凸部は、ガラス基板等の透明な基板上において交互に並ぶ凹部及び凸部を有している。これら凹部及び凸部を一組とする複数の凹凸部は可視光の波長より小さいピッチで形成されている。
【０００９】
無機膜は、基板の基板面に対して斜め方向から凹凸部にＴａ２Ｏ５等の無機物が供給されることによって凹凸部上に形成されている。より具体的には、無機膜の形成方法としては、例えば、斜方蒸着法、或いは、斜め方向に沿って無機物を原子レベルで供給するスパッタ法を用いることが可能である。無機膜は、微視的にみれば、無機物が斜め方向に沿って成長した膜構造を有している。このような無機膜によれば、無機膜の膜構造及び凹凸部のピッチに応じた凹凸部全体の構造に応じて屈折率に異方性が生じ、凹凸部のみを形成した場合、或いは平坦な面に無機膜を斜め方向から蒸着させた場合に比べて、当該位相差板に入射する光の位相を補償することが可能である。
【００１０】
したがって、平坦な基板面に斜方蒸着法をもちいて無機膜を蒸着する場合、或いは凹凸部のみを形成する場合に比べて、位相差板の厚みを薄くしたままで光の位相差を補償する機能を確保することが可能である。加えて、本発明に係る位相差板によれば、基板の一方の基板面から無機物を蒸着すればよいため、基板の両面の夫々の側から無機膜を形成する場合に比べて、位相差板の製造プロセスを簡便にすることが可能である。また、本発明に係る位相差板によれば、無機膜を薄く形成できるため、ヘイズの発生を低減できる。
【００１１】
本発明の第１の発明に係る位相差板の一の態様では、前記凹凸部は、前記表面に樹脂を塗布することによって形成された樹脂層をパターニングすることによって形成されていてもよい。
【００１２】
この態様によれば、ガラス基板等の基板上に樹脂層を形成した後、ナノプリント法を用いて可視光より小さいピッチで凹凸部を形成することが可能である。
【００１３】
本発明の第２の発明に係る位相差板は上記課題を解決するために、基板と、前記基板の基板面の側から前記基板を部分的に除去することによって形成されており、可視光の波長より小さいピッチで交互に並ぶ凹部及び凸部を有する凹凸部と、前記基板面に対して斜め方向から前記凹凸部に無機物が供給されることによって前記凹凸部上に形成された無機膜とを備える。
【００１４】
本発明に係る位相差板によれば、例えば、異方性エッチング法を用いることによって、ピッチが可視光の波長より小さくなるように凹凸部を形成しておくことが可能である。このような凹凸部を下地として、上述の第１の発明に係る位相差板と同様に無機膜が形成されている。
【００１５】
したがって、本発明に係る位相差板によれば、上述の位相差板と同様に、平坦な基板面に斜方蒸着法をもちいて無機膜を蒸着する場合、或いは凹凸部を形成する場合に比べて、位相差板の厚みを薄くしたままで光の位相差を補償する機能を確保することが可能である。加えて、本発明に係る位相差板によれば、基板の一方の基板面から無機物を蒸着すればよいため、基板の両面の夫々の側から無機膜を形成する場合に比べて、位相差板の製造プロセスを簡便にすることが可能である。加えて、ヘイズの発生を低減できる。
【００１６】
本発明の第１の発明及び第２の発明に係る位相差板の一の態様では、前記無機膜は、前記凸部から前記斜め方向に沿って延び、且つ前記凹部に重なる柱状部分を有していてもよい。
【００１７】
この態様によれば、互いに隣り合う凸部から成長した柱状部分の隙間、即ち凹部上の空間が確保されたままで無機膜が形成されている。このような柱状部分間に確保された隙間によれば、凹部上の空間、即ち互いに隣り合う凸部間の隙間に無機物が充填されている場合に比べて、光の補償効果を大きくすることが可能である。
【００１８】
本発明の第１の発明及び第２の発明に係る位相差板の他の態様では、前記ピッチは、前記可視光の波長の１／３より小さくてもよい。
【００１９】
この態様によれば、より一層光の位相を補償する効果が大きくなる。より具体的には、例えば、光の３原色である赤色、緑色、及び青色のうち最も波長が小さい青色の波長よりピッチを小さいほうがこれらすべての色光に対する補償効果が得られるだけでなく、青色光の波長の１／３よりピッチが小さいほうがすべての色光に対する高い補償効果が得られる。
【００２０】
本発明の第３の発明に係る投写型表示装置は上記課題を解決するために、光を変調する液晶装置と、前記液晶装置の光入射側又は光出射側に配置された上述の位相差板とを備える。
【００２１】
本発明に係る投写型表示装置によれば、高品位の表示が可能な液晶プロジェクタ等の投写型表示装置を実現できる。
【００２２】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照しながら、本発明の第１及び第２の発明に係る位相差板、及び第３の発明に係る投写型表示装置の各実施形態を説明する。
【００２４】
＜１：液晶装置の構成＞
先ず、図１及び図２を参照しながら、後述する本実施形態に係る位相差板と共に本発明の第３の発明に係る投写型表示装置の一実施形態に搭載される液晶装置を説明する。本実施形態に係る液晶装置は、液晶プロジェクタ等の投写型表示装置のライトバルブに用いられる液晶装置である。図１は、本実施形態に係る液晶装置を対向基板側から見た平面図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ´断面図である。ここでは、液晶装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げている。
【００２５】
図１及び図２において、液晶装置１では、ＴＦＴアレイ基板１０と、対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００２６】
液晶層５０は、ＴＮ液晶を含んで構成されている。液晶層５０は、その駆動時に応じて画像のコントラスト及び液晶装置１の透過率が可変となるように構成されている。
【００２７】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材５６が散布されている。
【００２８】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、対向基板２０上において、電極より上層側に配置されて形成されてもよいし、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として形成されてもよい。
【００２９】
画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１、及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って複数設けられている。液晶装置１を駆動させるための電源及び各種信号は、外部回路に電気的に接続された外部回路端子１０２を介して液晶装置１に供給される。これにより液晶装置１が動作状態となる。尚、本実施形態に係る液晶装置１は、透過型表示方式を採用しており、その動作時には、液晶層５０から見て図２中上側である対向基板２０の上面の側が、液晶装置１に光を入射させる光入射面側となり、図２中下側、即ち液晶層５０から見てＴＦＴアレイ基板１０の下面の側が、液晶装置１を透過した透過光が出射される光出射面側になる。したがって、後述する本実施形態に係る位相差板は、液晶装置１と共に液晶プロジェクタに搭載された際に、図２中の光入射側、又は光出射側に配置される。
【００３０】
走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺のいずれかに沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。尚、走査線駆動回路１０４を、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が設けられたＴＦＴアレイ基板１０の一辺に隣接する２辺に沿って設けるようにしてもよい。この場合、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿って設けられた複数の配線によって、二つの走査線駆動回路１０４は互いに接続されるようにする。
【００３１】
対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナー部に対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３２】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor；以下適宜、“ＴＦＴ”と称する。）や走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜１６が形成されている。他方、詳細な構成については省略するが、液晶装置１において、対向基板２０に形成された電極が、画素電極９ａと対向するように配置されており、この電極上には、配向膜２２が形成されている。尚、ＴＦＴアレイ基板１０には、例えば、石英やプラスチック等の透明基板が用いられる。
【００３３】
ＴＦＴアレイ基板１０又は対向基板２０上において、配向膜１６又は２２は、例えばポリイミド等の有機材料により形成される。本実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のいずれか一方上にのみ配向膜を形成するか、或いはこれらのいずれか一方上に形成される配向膜を無機材料により形成するようにしてもよい。
【００３４】
図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００３５】
＜２：位相差板＞
次に、図３乃至図６を参照しながら、本発明の第１の発明に係る位相差板の一例である位相差板を説明する。図３は、本例に係る位相差板の平面図である。図４は、図３のＩＶ−ＩＶ´断面図である。図５は、図４中点線で示した領域Ｃの拡大図である。
【００３６】
図３及び図４に示すように、本例に係る位相差板２００は、透明なガラス基板等から構成された基板２０１と、基板２０１上に形成された凹部２０２ａ及び凸部２０２ｂからなる複数の凹凸部２０２と、凹凸部２０２上に形成された無機膜２０４とを備えている。
【００３７】
凹凸部２０２は、凹部２０２ａ及び凸部２０２ｂを一組として基板２０１上に複数形成されている。したがって、基板２０１上には、複数の凹凸部２０２からなる凹凸構造が形成されていることになる。尚、本例では、凹凸部２０２のピッチＬ、即ち凹凸構造における凹凸部２０２の周期は、可視光の波長λより小さい１００ｎｍである。また、深さｔは、５０乃至２００ｎｍである。
【００３８】
凹凸部２０２は、基板２０１上に樹脂を塗布することによって形成された平坦な樹脂層２０３をパターニングすることによって形成されている。より具体的には、凹凸部２０２は、例えば、ナノプリント法を用いて樹脂層２０３をパターニングすることによって形成されている。このようなパターニング法によれば、可視光より小さいピッチで凹凸部２０２を形成することが可能である。
【００３９】
無機膜２０４は、基板２０１の基板面２０１ｓに対して斜め方向である蒸着方向Ｄから凹凸部２０２にＴａ２Ｏ５等の無機物が蒸着されることによって凹凸部２０２上に形成されている。
【００４０】
ここで、図５に示すように、無機膜２０４は、微視的にみれば、無機物が蒸着方向Ｄに沿って成長したカラム構造が形成された部分２０４ａを含む膜構造を有している。このような構造を有する無機膜はその微細構造に起因して大なり小なり位相差が発生している。尚、図４の段階では膜厚が薄すぎるために液晶パネルの光学補償を充分におこなう程の位相差は発生しない場合もある。そこで、図４の段階からさらに蒸着をおこなった場合、図６に簡易的に示すことが可能な構造の無機膜が形成される。次に、本例に係る位相差板の構成を説明する。尚、以下では、上述した位相差板と共通する部分に共通の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。図６は、本例に係る位相差板２１０における図４に対応する断面図である。
【００４１】
図６において、位相差板２１０が備える無機膜２０５は、断面上において、凸部２０２ｂから無機物の蒸着方向Ｄに沿って延び、且つ凹部２０２ａに重なる柱状部分２０５ａを有している。
【００４２】
位相差板２１０によれば、互いに隣り合う凸部２０２ｂから成長した柱状部分２０５ａの隙間、即ち凹部２０２ａ上の空間が確保されたままで無機膜２０５が形成されている。このような柱状部分２０５ａ間に確保された隙間によれば、凹部２０２ａ上の空間、即ち互いに隣り合う凸部２０２ｂ間の隙間に無機物が充填されている場合に比べて、光の補償効果を高めることが可能である。
【００４３】
次に、図７乃至図１０を参照しながら、本発明の第２の発明に係る位相差板の一例を説明する。
【００４４】
先ず、図７を参照しながら、本例に係る位相差板２２０の構造を説明する。図７は、本例に係る位相差板２２０の断面図である。
【００４５】
図７において、位相差板２２０は、透明なガラス基板等から構成された基板２２１と、基板２２１の基板面２２１ｓの側から基板２２１を部分的に除去することによって形成されており、可視光の波長λより小さいピッチＬで交互に並ぶ凹部２２２ａ及び凸部２２２ｂを有する複数の凹凸部２２２と、基板面２２１ｓに対して斜め方向である蒸着方向Ｄから凹凸部２２２に無機物が蒸着されることによって凹凸部２２２上に形成された無機膜２２５とを備えている。
【００４６】
凹凸部２２２は、基板面２２１ｓの側から異方性エッチング法を用いて基板２２１を部分的に除去することによって形成されている。このような凹凸部２２２を下地として、上述の無機膜２０５と同様の膜形成法を用いて無機膜２２５が形成されている。尚、無機膜２２５は、下地となる凹凸部２２２の形状に応じたカラム構造を有している。
【００４７】
無機膜２２５は、凸部２２２ｂから蒸着方向Ｄに沿って延び、且つ凹部２２２ａに重なる柱状部分２２５ａを有している。したがって、位相差板２２０によれば、位相差板２１０と同様に、互いに隣り合う凸部２２２ｂから成長した柱状部分２２５ａの隙間、即ち凹部２２２ａ上の空間が確保されたままで無機膜２２５が形成されている。このような柱状部分２２５ａ間に確保された隙間によれば、凹部２２２ａ上の空間、即ち互いに隣り合う凸部２２２ｂ間の隙間に無機物が充填されている場合に比べて、光の補償効果を高めることが可能である。
【００４８】
したがって、本例に係る位相差板２２０によれば、上述の位相差板２１０と同様に、平坦な基板面に無機物を斜方蒸着させる場合、或いは凹凸部２２２のみを形成する場合に比べて、位相差板の厚みを薄くしたままで光の位相差を補償する機能を確保することが可能である。加えて、位相差板２２０によれば、基板２２１の一方の基板面から無機物を蒸着すればよいため、基板２２１の両面の夫々の側から無機膜を形成する場合に比べて、位相差板の製造プロセスを簡便にすることが可能である。また、ヘイズの発生も低減できる。
【００４９】
尚、本例に係る位相差板では、位相差板２００と同様に、凹凸部上に形成され、且つ蒸着方向に沿ってカラム構造が成長した無機膜を有していれば光の補償効果は相応に得られる。
【００５０】
また、上述した位相差板２００、２１０及び２２０では、ピッチＬは、可視光の波長λの１／３より小さいほうが光の補償効果を高めるためには好ましい。より具体的には、例えば、光の３原色である赤色、緑色、及び青色のうち最も波長が小さい青色の波長よりピッチを小さいほうがこれらすべての色光に対する補償効果が得られるだけでなく、青色光に波長の１／３よりピッチＬが小さいほうがすべての色光に対する補償効果は格段に大きくなる。
【００５１】
次に、図７乃至図１０を参照しながら、本願発明者が行った実験結果を説明する。以下の説明では、図７に示した位相差板を試料２と称し、図８を参照しながら説明する位相差板を試料１と称する。
【００５２】
先ず、図８を参照しながら、以下で説明する実験において試料２の比較例となる試料１に係る位相差板２３０を説明する。図８は、位相差板２３０の断面図である。
【００５３】
図８において、位相差板２３０は、平坦な基板面２３１ｓを有する基板２３１上に斜方蒸着法によって蒸着方向Ｄに沿って無機物が蒸着された無機膜２３５を備えている。したがって、無機膜２３５は、蒸着方向Ｄに沿って成長したカラム構造からなる構成されているが、下地となる凹凸部に応じたカラム構造を有していない。
【００５４】
次に、図９を参照しながら、本願発明者が行った実験方法を説明する。図９は、光の位相差を測定する測定方向を模式的に示した位相差板２２０（２３０）の斜視図である。
【００５５】
図９に示すように、光の位相差を測定する測定方向Ｑを規定する角度θは、基板面２２１ｓの法線Ｐに対して傾いた角度である。本例では、法線Ｐから蒸着方向Ｄに向かって傾く角度θをプラスとし、これと逆に傾く角度θをマイナスとして定義する。尚、測定方向Ｑの方位角方向、即ち基板面２２１ｓ内の面内方向は、蒸着方向Ｄを基板面２２１ｓに射影した方向に揃えている。
【００５６】
次に、図１０を参照しながら、本願発明者が行った実験の実験結果を説明する。図１０（ａ）は、試料１における角度θに対する位相差の変化を示しており、図１０（ｂ）は、試料２における角度θに対する位相差の変化を示している。
【００５７】
図１０（ａ）及び（ｂ）に示すように、角度θが−５０から＋５０°の範囲内で試料２における光の位相差の方が試料１における光の位相差より大きくなっていることが確認された。
【００５８】
したがって、本発明に係る位相差板によれば、基板上に形成された凹凸部に対して正面から無機膜を蒸着する場合、或いは凹凸部のみを形成する場合に比べて、位相差板の厚みを薄くしたままで光の位相差を補償する機能を確保することが可能である。
【００５９】
以上、説明したように、本実施形態に係る位相差板によれば、位相差板の厚みを薄くしたままで光の位相差を補償する機能を確保しつつ、ヘイズの発生も低減でき、且つ位相差板の製造プロセスを簡便にすることが可能である。
【００６０】
＜３：投写型表示装置＞
次に、上述した液晶装置及び位相差板を用いた投写型表示装置の一例を説明する。本実施形態に係る投写型表示装置は、上述した液晶装置をライトバルブに用い、当該ライトバルブの光入射側及び光出射側の夫々の側に上述の位相差板を配置した光学系を有するプロジェクタである。図１０は、本実施形態に係るプロジェクタの構成例を示す平面図である。
【００６１】
図１０に示すように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【００６２】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルに入射する光或いは出射される光は上述の位相差板によって光学補償されている。液晶パネル及び位相差板を含む光学系から出射された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００６３】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００６４】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【００６５】
このようなプロジェクタは、上述した位相差板を具備してなるので、スクリーン等の投写面に投写される投写画像のコントラストが高められており、高品位の画像を表示可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ´の断面図である。
【図３】本発明の第１の発明に係る位相差板の一例である位相差板の構成を示す平面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ´の断面図である。
【図５】図４中点線で示した領域Ｃの拡大図である。
【図６】本発明の第１の発明に係る位相差板の変形例の構成を示した断面図である。
【図７】本発明の第２の発明に係る位相差板の一例の構成を示した断面図である。
【図８】本願発明者が行った実験の比較例である位相差板の構成を示した断面図である。
【図９】光の位相差を測定する測定方向を模式的に示した位相差板の斜視図である。
【図１０】本願発明者が行った実験結果を示すグラフである。
【図１１】本実施形態に係る投写型表示装置の一例であるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１・・・液晶装置、２００，２１０，２２０，２３０・・・位相差板、２０１，２２１，２３１・・・基板、２０２，２２２・・・凹凸部、２０４，２０５，２２５，２３５・・・無機膜、１１００・・・プロジェクタ
【図１】
2009020383.tif 000003
【図２】
2009020383.tif 000004
【図３】
2009020383.tif 000005
【図４】
2009020383.tif 000006
【図５】
2009020383.tif 000007
【図６】
2009020383.tif 000008
【図７】
2009020383.tif 000009
【図８】
2009020383.tif 000010
【図９】
2009020383.tif 000011
【図１０】
2009020383.tif 000012
【図１１】
2009020383.tif 000013