(57)【要約】【課題】熱伝導性、耐衝撃性、加工性、耐腐食性、摺動性に優れたスライダを提供する。【解決手段】回転する情報記録媒体上を所定の浮上量で浮上するスライダ１であって、耐衝撃性及び加工性に優れている珪素を主成分とするスライダ本体１ａの表面に、珪素及び炭素を含む保護膜（炭化珪素膜１ｂ）が形成されている。この炭化珪素膜１ｂは、スライダ本体１ａの情報記録媒体に対向する空気軸受け面（ＡＢＳ面２）に形成されており、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満の膜厚を有している。炭化珪素膜１ｂは、情報記録媒体表面の潤滑層の主成分であるフッ素と反応しにくいため耐腐食性に優れ、且つ、情報記録媒体表面の潤滑層との間で摺動性に優れている。さらに、スライダ本体１ａの表面に形成される炭化珪素膜１ｂの熱伝導率は、スライダ材料として一般的に広く用いられているアルチック焼結体の熱伝導率よりも高い。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する情報記録媒体上を所定の浮上量で浮上するスライダであって、
珪素を主成分とするスライダ本体の少なくとも前記情報記録媒体に対向する空気軸受け面に、珪素及び炭素を含む保護膜が形成されていることを特徴とする、スライダ。
【請求項２】
前記珪素及び炭素を含む保護膜は、前記スライダ本体の表面に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のスライダ。
【請求項３】
前記珪素及び炭素を含む保護膜の膜厚は、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満であることを特徴とする、請求項２に記載のスライダ。
【請求項４】
回転する情報記録媒体上を所定の浮上量で浮上するスライダの製造方法であって、
珪素を主成分とするスライダ本体の少なくとも情報記録媒体に対向する空気軸受け面に対して、炭素及びフッ素を含む混合ガスを用いてプラズマエッチングを行うことにより、そのスライダ本体の少なくとも空気軸受け面に珪素及び炭素を含む保護膜を形成することを特徴とする、スライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スライダ及びスライダの製造方法に関し、特に、回転する情報記録媒体上を所定の浮上量で浮上するスライダ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高度情報化社会の到来により、取り扱う情報量が膨大になり、記録装置の大容量化高密度化が求められている。特に、ビット単価が安く、不揮発かつ大容量記録可能な磁気記録装置は広く普及している記憶装置の1つであり、高密度記録可能な磁気記録媒体の開発が強く要求されている。記録密度の向上に伴い、情報記録媒体中に記録される記録ビットのサイズも小さくなってくる。上記微細化された記録ビットを記録再生するためには、一定の速度で回転している情報記録媒体上を、スライダは、わずかな隙間を隔てて浮上しなければならない。上記隙間は、現在のスライダにおいては、１０ｎｍ以下と非常に小さなものとなっている。
【０００３】
上記のように、スライダを情報記録媒体に近づければ、スライダが情報記録媒体に接触する回数も増し、その接触回数が増えれば、当然情報記録媒体とスライダとの両者共に、破損原因となる。上記接触による損傷防止策として、情報記録媒体においては、記録層上部に硬質で摺動性に優れたカーボン保護層が設けられている。一方、スライダの損傷防止策として、情報記録媒体表面に、フッ素系有機化合物よりなる潤滑層を設け、スライダと情報記録媒体との接触時の損傷を低減している。しかしながら、上述したように、スライダと情報記録媒体の記録層との距離を狭めることは重要であり、スライダの潤滑層の膜厚を徐々に薄くしていく傾向にある。そのために、スライダ自身で接触時の損傷を低減する対策を講じることは重要である。
【０００４】
現在、スライダ材料としては、アルチック（Ａｌ２Ｏ３-ＴｉＣ）焼結体を用いることが主流となっている（例えば、特許文献１参照）。上記アルチック焼結体を用いることにより、硬度が高く、耐磨耗性に優れたスライダを提供することができている。上記特許文献１では、加圧、焼結、或いは、熱圧された酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）及び炭化チタン（ＴｉＣ）の細かい粒状混合物を用いたスライダを提案している。
【０００５】
また、上記したアルチック焼結体以外の材料を使用したスライダも種々提案されている（例えば、特許文献２及び３参照）。この特許文献２では、スライダ材料として珪素を用い、情報記録媒体と対向する面に酸化膜が設けられているものが開示されている。上記のようにスライダ材料を、加工性に優れた珪素とすることで、チッピング発生率は低減され、また、熱伝導率の良い珪素により、記録再生素子から発生する熱はスライダを伝わり外部へと放出される。加えて、酸化膜は、硬度が高く耐衝撃性に優れているため、スライダと情報記録媒体との接触時、スライダが損傷することも抑制することができる。また、特許文献３では、潤滑性に優れ、熱伝導性も良好な炭化珪素（ＳｉＣ）焼結体をスライダ材料として採用する技術が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開昭５５−１６３６６５号公報
【特許文献２】特開２００６−２９４０７６公報
【特許文献３】特開平１０−２５１０８６公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１のようにアルチック焼結体を用いたスライダは、情報記録媒体との間での潤滑性の点で、必ずしも安定した材料とは言えず、また、熱伝導性が悪いため、記録再生時の記録再生素子から発生する熱を放熱しにくくなっている。また、上記アルチックは焼結体であるため、ウエハからスライダ形状に加工する時やＡＢＳ加工対象面を鏡面に加工する時に、構成粒子の脱落が起こり、チッピング発生率が高く、上記チッピングによるクラックは、スライダ作製上の歩留まりの悪さの原因となっている。
【０００８】
また、特許文献２のスライダにおいては、アルチック焼結体を用いたスライダに比べ、チッピング発生率は低減されるが、上記スライダ表面に設けられた酸化膜は、情報記録媒体の潤滑層との潤滑性の観点で、必ずしも良好な膜になっているとは言えない。加えて、上記酸化膜は、熱伝導率も低く、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ２）では１．６［Ｗ/ｍ/Ｋ］、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）では３０［Ｗ/ｍ/Ｋ］である。そのため、スライダ材料として珪素を用い、記録再生時の熱を放熱しようとしても、上記酸化膜に熱が蓄積され、蓄積された熱が、情報記録媒体に伝わってしまう。
【０００９】
また、特許文献３のスライダにおいては、確かに、熱伝導性の良好なスライダではある。しかしながら、上記特許文献１のスライダのアルチック焼結体と同様に、焼結体であるため、ウエハからスライダ形状に加工する時や空気軸受け面となる面を鏡面に加工する時に、構成粒子の脱落が多発し、チッピング発生率が高くなってしまっている。特に、特許文献３で採用されているＳｉＣ焼結体は、粒径が大きく、チッピングによるクラックは、浮上特性に大きく影響することから、不良素子が増加し、歩留まりを悪くしていることから、上記問題は無視できない。
【００１０】
そこで、本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、熱伝導性、耐衝撃性、加工性、耐腐食性、摺動性に優れたスライダを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段および発明の効果】
【００１１】
上記目的を達成するために、この発明のスライダは、回転する情報記録媒体上を所定の浮上量で浮上するスライダであって、珪素を主成分とするスライダ本体の少なくとも情報記録媒体に対向する空気軸受け面に、珪素及び炭素を含む保護膜が形成されている。ここで、空気軸受け面（以下、適宜、ＡＢＳ面という）には、一般にＡＢＳ(Ａｉｒ Ｂｅａｒｉｎｇ Ｓｕｒｆａｃｅ)形状と呼ばれるサブミクロンからミクロンオーダーの凹凸形状が形成されている。上記ＡＢＳ形状により、情報記録媒体とスライダとの間の空気の流れや発生圧力がコントロールされて、スライダが、情報記録媒体上を所定の浮上量で安定に浮上することが可能となる。また、スライダは、その表面の一部に設けられた情報記録再生素子が情報記録媒体上を浮上するのをサポートしている。
【００１２】
本願発明者らは、スライダ材料として一般的に広く用いられているアルチック（Ａｌ２０３-ＴｉＣ）焼結体の熱伝導率（２０［Ｗ/ｍ/Ｋ］）より高い熱伝導率（１４８［Ｗ/ｍ/Ｋ］）を有する珪素を主成分とするスライダ本体のＡＢＳ面を、珪素よりも十分に高い熱伝導率（４９０［Ｗ/ｍ/Ｋ］）を有する珪素及び炭素を含む保護膜（以下、適宜、「炭化珪素膜」と略する）により被覆することによって、このスライダ本体のＡＢＳ面から熱が放熱するのを促進することができることに着目し、記録再生時に、情報記録再生素子により発生する熱が、スライダ表面に蓄積されることを抑制することができることを見出した。なお、「記録再生素子により発生する熱」とは、情報の記録再生時、上記素子内に流れる電流による素子の発熱のことを言う。これにより、熱伝導性に優れたスライダを提供することが可能となる。
また、本願発明者らは、スライダ本体の主成分である珪素が硬質であり耐衝撃性に優れ、且つ、加工性も高いという点にも着目し、スライダ本体の材料として適用した。これにより、耐衝撃性及び加工性に優れたスライダを提供することが可能となる。
また、スライダ本体の主成分である珪素は、フッ素化合物と反応しやすい材料であるが、本願発明者らは、上記のようにスライダのＡＢＳ面を炭化珪素膜で被覆することにより、スライダと情報記録媒体とが接触した場合でも、情報記録媒体表面の潤滑層の主成分であるフッ素とスライダ本体の主成分である珪素とが反応してしまうのを抑制することが可能であることを見出した。したがって、スライダが、情報記録媒体表面の潤滑層のフッ素により侵食され、スライダが変形してしまうのを抑制することができる。上記の点からも、珪素を用いて作製されたスライダ本体のＡＢＳ面を、化学的に安定な炭化珪素膜で被覆することは有用である。これにより、耐腐食性に優れたスライダを提供することが可能となる。
さらに、本願発明者らは、炭化珪素膜は、情報記録媒体表面の潤滑層との間で摺動性に優れている点にも着目し、スライダ本体のＡＢＳ面に形成する保護膜の材料として適用した。これにより、摺動性に優れたスライダを提供することが可能となる。
以上より、本発明では、珪素を主成分としてスライダ本体を作製し、且つ、上記スライダ本体のＡＢＳ面を少なくとも炭化珪素膜で被覆することにより、熱伝導性、耐衝撃性、加工性、耐腐食性、摺動性に優れたスライダを提供することが可能となる。
【００１３】
上記スライダにおいて、好ましくは、珪素及び炭素を含む保護膜は、スライダ本体の表面に形成されている。
【００１４】
上記構成によれば、スライダ本体の表面に珪素よりも十分に熱伝導率の高い（４９０［Ｗ/ｍ/Ｋ］）炭化珪素膜を形成することによって、スライダの表面から熱が放熱することをさらに促進することができ、記録再生時に、情報記録再生素子により発生する熱が、スライダ表面に蓄積されることを抑制することができる。
【００１５】
この場合、好ましくは、珪素及び炭素を含む保護膜の膜厚は、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満である。
【００１６】
上記構成によれば、珪素及び炭素を含む保護膜の膜厚は、０．４３６ｎｍ以上である。「０．４３６ｎｍ」は、炭化珪素の結晶の格子定数であり、炭化珪素結晶の最小単位である。したがって、０．４３６ｎｍ以上の膜厚を有する珪素及び炭素を含む保護膜であれば、炭化珪素の物性を満たすことができ、上記した効果を奏することができる。
情報記録媒体中に記録された記録ビットサイズは、高密度化するにつれて、徐々に小さくなってきている。そのため、記録ビットからの漏れ磁界は非常に小さく、情報再生時に、再生素子により記録ビットをセンシングするためには、上記再生素子を情報記録媒体に近づける必要がある。再生素子と情報記録媒体との距離は１０．０ｎｍ以下であることが求められているので、その再生素子が具備されるスライダ本体も、情報記録媒体との間に、１０．０ｎｍ以下の間隔を保つ必要がある。ここで、本発明では、スライダ本体のＡＢＳ面に形成される炭化珪素膜の膜厚を１０．０ｎｍ未満にすることにより、上記炭化珪素膜の分だけ、情報記録媒体と情報記録再生素子との距離が離れたとしても、スライダ浮上時に情報記録媒体と情報記録再生素子との距離を１０．０ｎｍ未満に保つことが可能となる。
【００１７】
この発明のスライダの製造方法は、回転する情報記録媒体上を所定の浮上量で浮上するスライダの製造方法であって、珪素を主成分とするスライダ本体の少なくとも情報記録媒体に対向する空気軸受け面に対して、炭素及びフッ素を含む混合ガスを用いてプラズマエッチングを行うことにより、そのスライダ本体の少なくとも空気軸受け面に珪素及び炭素を含む保護膜を形成する。
【００１８】
上記方法によれば、スライダ本体の少なくともＡＢＳ面を、炭素及びフッ素を含む混合ガスを用いてプラズマエッチングすることにより、珪素を主成分とするスライダ本体の表面に炭化珪素膜が強固に結合されたスライダを得ることができる。珪素を主成分とするスライダ本体のようにバルク上の珪素は通常の成膜により形成される珪素膜に比べ、より強固に結合されている。本発明では、炭素及びフッ素を含む混合ガスを、高周波プラズマ中で電離し、フッ素イオン、フッ素ラジカル及び炭素ラジカルを発生させる。上記フッ素イオンは、スライダ本体の珪素と結合し、揮発性化合物であるフッ化珪素（ＳｉＦ）を作り出し、当該ＳｉＦ分子はバルクの珪素表面から脱離する。そして、ＳｉＦ分子が脱離した後のスライダ本体のＡＢＳ面の珪素原子は、炭素原子と結合し、炭化珪素膜を形成する。当該炭化珪素膜は化学的に安定であるため、被覆膜として残留する。上記のように、バルクの強固な珪素と炭素とが強固な化学結合で結合することによって、スライダ本体のＡＢＳ面に強固に結合する炭化珪素膜を形成することが可能となる。その結果、上記した発明に係るスライダと同様に、熱伝導性、耐衝撃性、加工性、耐腐食性、摺動性に優れたスライダを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２０】
（スライダの構成）
図１は、本発明の一実施形態に係るスライダの俯瞰図であり、図２は、図１に示したスライダの側面図である。まず、図１及び図２を参照して、本発明の一実施形態によるスライダ１の構成について説明する。
【００２１】
本実施形態のスライダ１は、図１及び図２に示すように、珪素を主成分とする材料で構成されるスライダ本体１ａと、そのスライダ本体１ａの表面に形成される炭化珪素膜１ｂ（図１に示す斜線領域）とを有している。なお、珪素を主成分とする材料で構成されるスライダ本体として、ＳｉＣ焼結体、Ｓｉ単結晶、石英などのスライダ本体が挙げられる。そして、スライダ１には、情報記録媒体（図示せず）に記録される情報を再生し且つ情報記録媒体に情報を記録する情報記録再生素子５が取り付けられている。そして、スライダ１が情報記録媒体上を浮上することにより、情報記録再生素子５が情報記録媒体上を浮上するのをサポートしている。具体的には、スライダ１は、回転する情報記録媒体との間の空気流や発生圧力により、情報記録媒体上を１０ｎｍ以下の非常に小さな間隔を隔てて浮上し、情報記録再生素子５による微細化された記録ビットの記録再生を可能とする。なお、情報記録再生素子５として、記録時は、磁気コイル素子を用い、再生時は、磁気抵抗素子を用いた。上記磁気コイルは、電流を流し磁界を発生させ記録をし、上記磁気抵抗素子に電流を流し、情報記録媒体中からの漏洩磁界により、磁気抵抗素子の抵抗値の変化をセンシングしている。
【００２２】
スライダ本体１ａは、上記したように主成分が珪素で構成され、その熱伝導率は、スライダ本体１ａの材料として一般的に用いられているアルチック（Ａｌ２０３-ＴｉＣ）焼結体の熱伝導率（２０［Ｗ/ｍ/Ｋ］）と比べ、１４８［Ｗ/ｍ/Ｋ］と高い。また、珪素は、硬質であり耐衝撃性にも優れ、加工性も高い材料であるため、スライダ本体１ａの材料として適している。
【００２３】
また、スライダ本体１ａの情報記録媒体に対向する面には、空気軸受け面（以下、ＡＢＳ面とする）２が設けられている。このＡＢＳ面２には、サブミクロンからミクロンオーダーのＡＢＳ(Ａｉｒ Ｂｅａｒｉｎｇ Ｓｕｒｆａｃｅ)形状と呼ばれる凹凸形状が形成されており、この凹凸形状を最適化することにより、空気流や発生圧力をコントロールして、情報記録媒体上を、一定の浮上量で安定に浮上させることが可能となる。
【００２４】
スライダ本体１ａのＡＢＳ面２には、テーパ・フラット型のＡＢＳ形状１１が形成されている。このテーパ・フラット型のＡＢＳ形状１１は、ＡＢＳ面２の両端にレール状に形成され、その先端には、浮上時に空気の流入端となるテーパ形状の気体流入端部パット１１ａ（図１参照）が設けられている。気体流入端部パット１１ａから流入した空気は、テーパ形状の気体流入端部パット１１ａにおいて徐々に圧縮され、情報記録媒体上においてスライダ１を持ち上げる正圧を生じさせる。その後、空気は、気体流入端部パット１１ａの反対側の気体流出端部パット１１ｂに進むにつれ、圧力が変化し、スライダ１全体として、情報記録媒体に対して１０ｎｍ以下の微小な間隔を有した状態で安定して浮上させる。
【００２５】
ここで、本実施形態では、ＡＢＳ面２の表面には、炭素及び珪素から構成される炭化珪素膜１ｂが形成されている。この炭化珪素膜１ｂは、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満の膜厚（本実施形態では、約５．０ｎｍ）を有している。炭化珪素膜１ｂは、スライダ１の主成分である珪素よりも十分に高い熱伝導率（４９０［Ｗ/ｍ/Ｋ］）を有している。したがって、炭化珪素膜１ｂでスライダ本体１ａのＡＢＳ面２を被覆することにより、スライダ１のＡＢＳ面２から熱が放熱することを促進し、記録再生時に、情報記録再生素子５により発生する熱が、スライダ１の表面に蓄積されることを抑制することができる。上記した「情報記録再生素子５により発生する熱」とは、情報の記録再生時に、当該情報記録再生素子５内に流れる電流による素子の発熱のことをいう。また、炭化珪素膜１ｂは、化学的に安定であり、情報記録媒体表面の潤滑層の主成分であるフッ素と反応しにくく、耐腐食性に優れた材料である。さらに、炭化珪素膜１ｂは、情報記録媒体表面の潤滑層との間で摺動性に優れている材料でもある。
【００２６】
（スライダの製造方法）
図３は、図１に示したスライダの製造方法を説明するための図である。次に、図３を参照して、本発明の一実施形態に係るスライダ１の製造方法について説明する。
【００２７】
まず、図３（Ａ）に示すように、情報記録再生素子５が全面に設けられた３インチの珪素基板８を準備する。そして、図３（Ａ）に示した点線Ｌに沿って、複数個の情報記録再生素子５を含む棒状の珪素バー１０（図３（Ｂ）参照）に切り出す。この時、切り出し方法として、ダイシング、化学エッチング、物理エッチングなどが挙げられる。なお、化学エッチング、物理エッチングの場合、エッチング対象部以外の部分は、フォトリソグラフィ技術などを用いてマスクしておく必要がある。
【００２８】
次に、上記方法によって切り出された珪素バー１０の切断面を、ＡＢＳ形状１１の加工対象面（図３（Ｂ）のＡＢＳ加工面９）として、アルミナ研磨剤などを用いて精密に研磨する。この時、平均表面粗度が数ｎｍオーダーになるまで均一に研磨する（図３（Ｂ）参照）。
【００２９】
その後、図３（Ｃ）に示すように、ＡＢＳ加工面９に、フォトリソグラフィ技術を用いてＡＢＳ形状１１をパターニングし、イオンミリング法により、ＡＢＳ形状１１を形成する。
【００３０】
その後、ＩＣＰエッチング装置により、以下の条件にて、ＡＢＳ面２の全面に対してＳｉエッチングを行いながら、ＡＢＳ面２の表面に炭化珪素膜１ｂを成膜する。エッチング条件は、ＳＦ６ガスとＣ４Ｆ８ガスとの混合ガスを用い、ＳＦ６ガス流量を８５ＳＣＣＭ、Ｃ４Ｆ８ガス流量を９０ＳＣＣＭとし、ＩＣＰコイルの電力値を６００Ｗ、基板８側のバイアス電力値を１０Ｗとする。また、エッチング時のガス圧は３．０Ｐａである。また、エッチング時間は、３ｍｉｎ３０ｓｅｃである。この際、本実施形態では、炭素及びフッ素を含む混合ガス（ＳＦ６ガスとＣ４Ｆ８ガスとの混合ガス）を、高周波プラズマ中で電離し、フッ素イオン、フッ素ラジカル及び炭素ラジカルを発生させる。上記フッ素イオンは、スライダ本体１ａの主成分である珪素と結合し、揮発性化合物であるフッ化珪素（ＳｉＦ）を作り出し、ＳｉＦ分子はバルクの珪素表面から脱離する。そして、このＳｉＦ分子が脱離した後のスライダ本体１ａの表面の珪素原子は、炭素原子と結合し、炭化珪素膜１ｂを形成する。このようにして、約５．０ｎｍの厚みを有する炭化珪素膜１ｂが成膜される。上記製法により炭化珪素膜１ｂを成膜することにより、スライダ本体１ａの主成分である珪素と炭素との間で、強固な化学結合が形成される。珪素を主成分とする本実施形態に係るスライダ１のように、バルク上の珪素は通常の成膜により形成される珪素膜に比べ、より強固に結合されている。この炭化珪素膜１ｂは化学的に安定であるため、被覆膜として残留する。上記の通り、バルクの強固な珪素との結合により、上記珪素と結合している炭化珪素膜もより強固な結合を形成することが可能となる。また、上記の通り、本実施形態に係るスライダ１の炭化珪素膜１ｂは、膜厚が約５．０ｎｍであり、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満となっている。
【００３１】
本実施形態では、上記のように、スライダ本体１ａの主成分である珪素の熱伝導率が、スライダ材料として一般的に広く用いられているアルチック（Ａｌ２０３-ＴｉＣ）焼結体の熱伝導率２０［Ｗ/ｍ/Ｋ］と比べ、１４８［Ｗ/ｍ/Ｋ］と高いので、スライダの表面に備え付けられている情報記録再生素子５で発生する熱を放熱しやすい。これに加え、スライダ本体１ａのＡＢＳ面２を、珪素よりも十分に熱伝導率の高い（４９０［Ｗ/ｍ/Ｋ］）炭化珪素膜１ｂで被覆することにより、このスライダ１の表面から熱が放熱することを促進することができ、記録再生時に、情報記録再生素子５により発生する熱が、スライダ１の表面に蓄積されることを抑制することができる。これにより、熱伝導性に優れたスライダを提供することが可能となる。
【００３２】
また、スライダ本体１ａの主成分である珪素は、硬質であり耐衝撃性に優れ、且つ、加工性も高いので、スライダ本体１ａに用いるのに適した材料である。これにより、耐衝撃性及び加工性に優れたスライダ１を提供することが可能となる。
【００３３】
また、スライダ本体１ａの主成分である珪素は、フッ素化合物と反応しやすい材料であるが、上記のようにスライダ本体１ａの情報記録媒体に対向するＡＢＳ面２を炭化珪素膜１ｂで被覆することにより、スライダ１と情報記録媒体とが接触した場合でも、情報記録媒体表面の潤滑層の主成分であるフッ素とスライダ本体１ａの主成分である珪素とが反応してしまうのを抑制することができる。したがって、スライダ１が、情報記録媒体表面の潤滑層のフッ素により侵食され、スライダ１が変形してしまうのを抑制することができる。上記の点からも、珪素を用いて作製されたスライダ本体１ａの表面を、化学的に安定な炭化珪素膜１ｂで被覆することは有用である。その結果、耐腐食性に優れたスライダ１を提供することが可能となる。
【００３４】
加えて、炭化珪素膜１ｂは、情報記録媒体表面の潤滑層との間で摺動性に優れているので、摺動性に優れたスライダ１を提供することが可能となる。
【００３５】
以上より、本実施形態では、珪素を主成分としてスライダ本体１ａを作製し、且つ、上記スライダ本体のＡＢＳ面２を炭化珪素膜で被覆することにより、熱伝導性、耐衝撃性、加工性、耐腐食性、摺動性に優れたスライダを提供することが可能となる。
【００３６】
また、本実施形態では、炭化珪素膜１ｂの膜厚が約５．０ｎｍであるので、炭化珪素の結晶の格子定数であり、炭化珪素結晶の最小単位である「０．４３６ｎｍ」以上の膜厚を確保することができる。したがって、本実施形態に係るスライダが、炭化珪素の物性を満たすことができ、上記した効果を奏することができる。
【００３７】
情報記録媒体中に記録された記録ビットサイズは、高密度化するにつれて、徐々に小さくなってきており、記録ビットサイズは、面記録密度１ＴＢ/ｉｎｃｈ２では、約２５ｎｍとなる。そのため、記録ビットからの漏れ磁界は非常に小さく、情報再生時に、情報記録再生素子５により記録ビットをセンシングするためには、情報記録再生素子５を情報記録媒体に近づける必要がある。そのため、情報記録再生素子５と情報記録媒体との距離は１０．０ｎｍ以下であることが求められており、その情報記録再生素子５が具備されるスライダ本体１ａも、情報記録媒体との間に、１０．０ｎｍ以下の間隔を保つ必要がある。ここで、本実施形態では、スライダ本体１ａのＡＢＳ面２に形成される炭化珪素膜１ｂの膜厚を１０．０ｎｍ未満にすることにより、上記炭化珪素膜１ｂの分だけ、情報記録媒体と情報記録再生素子５との距離が離れたとしても、スライダ浮上時に情報記録媒体と情報記録再生素子との距離を１０．０ｎｍ未満に保つことが可能となる。
【００３８】
［実施例］
以上説明した本実施形態のスライダ１について、より具体的な実施例と比較例とにより検証した。
【００３９】
（実施例：Ｓｉ-ＳｉＣスライダ）
本発明の実施例として、上記した製造方法により、珪素を主成分とするスライダ本体のＡＢＳ面に炭化珪素膜が形成されたスライダ（以下、Ｓｉ-ＳｉＣスライダという）を製造した。
【００４０】
（比較例１：Ｓｉ−Ａｌ２Ｏ３スライダ）
比較例１として、上記した実施例と同様、珪素を主成分とするスライダ本体を用い、ＡＢＳ面に、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）の保護膜が形成されたスライダ（以下、Ｓｉ−Ａｌ２Ｏ３スライダという）を製造した。比較例１に係るスライダの製造方法は、ＡＢＳ面の保護膜を形成する工程以外は上記実施例と同様の製造方法に従う。即ち、実施例に係るスライダの炭化珪素膜を成膜する箇所を酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）膜に変更し、スパッタ法によりＡｌ２Ｏ３膜を５．０ｎｍ作製した。なお、スライダの形状は、実施例（図１参照）のスライダと同様、テーパ・フラット型のものを用いた。
【００４１】
（比較例２：Ｓｉスライダ）
比較例２として、上記した実施例及び比較例１と同様、珪素を主成分とするスライダ本体を用い、ＡＢＳ面に保護膜を設けていないスライダ（以下、Ｓｉスライダという）を製造した。比較例２に係るスライダの製造方法は、ＡＢＳ面の保護膜を形成する工程以外は上記実施例と同様の製造方法に従い、炭化珪素膜を成膜する工程を省略している。なお、スライダの形状は、実施例（図１参照）のスライダと同様、テーパ・フラット型のものを用いた。
【００４２】
（比較例３：ＳｉＣ焼結体スライダ）
比較例３として、炭化珪素焼結体を主成分とするスライダ本体を用い、ＡＢＳ面に保護膜を設けていないスライダ（以下、ＳｉＣ焼結体スライダという）を製造した。比較例３に係るスライダの製造方法は、炭化珪素焼結体を主成分とするスライダ本体を用いること以外は上記比較例２と同様の製造方法に従う。なお、スライダの形状は、実施例（図１参照）のスライダと同様、テーパ・フラット型のものを用いた。
【００４３】
（比較例４：Ａｌ２Ｏ３-ＴｉＣ焼結体スライダ）
比較例４として、アルチック（Ａｌ２Ｏ３-ＴｉＣ）焼結体を主成分とするスライダ本体を用い、ＡＢＳ面に保護膜を設けていないスライダ（以下、Ａｌ２Ｏ３-ＴｉＣ焼結体スライダという）を製造した。比較例４に係るスライダの製造方法は、アルチック（Ａｌ２Ｏ３-ＴｉＣ）焼結体を主成分とするスライダ本体を用いること以外は上記比較例２と同様の製造方法に従う。なお、スライダの形状は、実施例（図１参照）のスライダと同様、テーパ・フラット型のものを用いた。
【００４４】
（評価方法及び評価結果）
上記実施例に係るスライダと上記比較例１〜４に係るスライダに関して、「歩留まり率」、「表面熱伝導率」、「ＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ-Ｓｔａｒｔ-Ｓｔｏｐ）回数」の３つの評価を行った。
【００４５】
まず、３インチウエハを用いて、上述した製造方法にて、実施例及び比較例１〜４に係るスライダをそれぞれ作製し、良品を取り出し、歩留まり率［％］の算出を行った。この算出した歩留り率を表１に示した。なお、スライダの作製時、研磨剤を用い、ＡＢＳ面を研磨する工程において、ＡＢＳ面に発生したクラックや、スライダ素子切り出し時のチッピングが発生したものを不良品として取り除いた。
【表１】
2009020921.tif 000003
【００４６】
表１に示すように、「歩留まり率」に関しては、シリコンを主成分とする部材で構成されている実施例、比較例１及び２に係るスライダが、焼結体で形成された比較例３及び４に係るスライダに比べ、歩留まり率が非常に高くなっていることが確認できた。上記「歩留まり率」の評価により、実施例、比較例１及び２に係るスライダは、加工性に優れたスライダとなっていることが確認できた。
【００４７】
次に、実施例及び比較例１〜４に係るスライダのＡＢＳ面の「表面熱伝導率」を、ＪＩＳ Ｒ １６１１に準拠して測定し、上記した表１に示した。
【００４８】
表１に示すように、「表面熱伝導率」に関しては、実施例に係るＳｉ−ＳｉＣスライダと、比較例３に係るＳｉＣ焼結体スライダにおいて、非常に高い値を示していることが確認できた。上記「表面熱伝導率」の評価により、実施例及び比較例３に係るスライダは、熱伝導性に優れたスライダとなっていることが確認できた。
【００４９】
次に、実施例及び比較例１〜４に係るスライダについて「ＣＳＳ回数」により評価を行った。ＣＳＳ回数を測定するためのＣＳＳ試験は、表面に潤滑剤を塗布した磁性媒体上に、実施例及び比較例１〜４に係るスライダをそれぞれ設置し、上記磁性媒体を回転させ、スライダを浮上させ、上記磁性媒体の回転数を定常状態（３６００ｒｐｍ）で８秒間保ち、その後、その磁性媒体を停止させ、スライダの浮上安定性を測定する試験である。上記ＣＳＳ試験を繰り返し、スライダの浮上特性に以上が見られたところを、スライダの寿命とした。上記「ＣＳＳ試験」により、比較例２に係るＳｉスライダ以外のスライダは、２０万回以上の試験に耐えることが確認でき、摺動性、耐衝撃性、耐腐食性に優れたスライダとなっていることが確認できた。
【００５０】
以上、３つの評価結果から、実施例に係るＳｉ−ＳｉＣスライダが、他の比較例１〜４に係るスライダに比べ、加工性、熱伝導性、摺動性、耐衝撃性、耐腐食性に優れたスライダであることが確認できた。したがって、高密度化に伴い情報記録媒体と記録再生素子との隙間が狭小になったときでも、安定して浮上可能な信頼性に優れたスライダを提供することが可能となる。
【００５１】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００５２】
例えば、本実施形態では、スライダ本体１ａのＡＢＳ形状１１としてテーパ・フラット型のものを用いる例について説明したが、本発明はこれに限らず、テーパ・フラット型以外のＡＢＳ形状を有したスライダ本体であって、スライダ本体の大きさ、材質、重さなどにより、別の凹凸形状をＡＢＳ形状に適用することも可能である。すなわち、ＡＢＳ形状は、スライダが、情報記録媒体上を浮上することが可能な形状であれば、テーパ・フラット型以外の凹凸形状以外の形状でも良い。テーパ・フラット型以外のＡＢＳ形状の一例として、図４に示すようなものがある。図４に示す本発明の一実施形態の変形例に係るスライダ１０１では、気体流入端部パット１１１ａ及び気体流出端部パット１１１ｂによりスライダ１０１を情報記録媒体から離間させようとする正圧を発生させると共に、ＡＢＳ面１０２の中央部に負圧発生部ポケット１１２を形成することによりスライダを情報記録媒体に近接させようとする負圧を発生させる。上記気体流入端部パット１１１ａ及び気体流出端部パット１１１ｂと、負圧発生部ポケット１１２との段差を適切に設計することで、正圧及び負圧の釣り合いを調節し、スライダ１０１及び情報記録再生素子１０５が情報記録媒体上を１０ｎｍ以下の狭小な隙間で浮上可能となる。
【００５３】
また、本実施形態では、スライダのＡＢＳ面にのみ炭化珪素膜を形成する例について説明したが、本発明はこれに限らず、スライダの表面全体を被覆するように炭化珪素膜を形成してもよい。この場合でも、ＡＢＳ面に形成される炭化珪素膜の膜厚は、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満にするのが好ましい。なお、ＡＢＳ面以外の炭化珪素膜の膜厚は、上記膜厚に限定されない。
【００５４】
また、本実施形態では、スライダに具備されている記録再生素子として、記録時は、磁気コイル素子を用い、再生時は、磁気抵抗素子を用いたが、本発明はこれに限らず、上記記録再生素子以外の素子が具備されているスライダであっても良い。例えば、半導体レーザーのような光学素子や局所加熱素子のようなものが具備されていても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の一実施形態に係るスライダの全体構成を示す俯瞰図である。
【図２】図１に示したスライダの側面図である。
【図３】図１に示したスライダの製造方法を説明するための図である。
【図４】本発明の一実施形態の変形例に係るスライダの全体構成を示す俯瞰図である。
【符号の説明】
【００５６】
１，１０１  スライダ
１ａ  スライダ本体
１ｂ  炭化珪素膜
２，１０２  ＡＢＳ面
５，１０５  情報記録再生素子
８  珪素基板
９  ＡＢＳ加工面
１０  珪素バー
１１  ＡＢＳ形状
１１ａ，１１１ａ  気体流入端部パット
１１ｂ，１１１ｂ  気体流出端部パット
１１２  負圧発生部ポケット
【図１】
2009020921.tif 000004
【図２】
2009020921.tif 000005
【図３】
2009020921.tif 000006
【図４】
2009020921.tif 000007