(57)【要約】【課題】従来に比べ、白濁モード時における色目を白色に近づけることが可能な調光シートを提供すること。【解決手段】互いの透明電極同士が対向するように配置された一対の透明電極フィルムと、上記透明電極間に挟持された液晶層とを有する調光シートにおいて、視認側に配置される透明電極フィルムとして、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、金属酸化物薄膜と、金属薄膜と、金属酸化物薄膜とがこの順に積層されたものを用いる。また、視認側と反対側に配置される透明電極フィルムとして、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、インジウムとスズとの複合酸化物薄膜が積層されたものを用いる。【選択図】図４
2009229946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いの透明電極同士が対向するように配置された一対の透明電極フィルムと、前記透明電極間に挟持された液晶層とを有する調光シートであって、
視認側に配置される透明電極フィルムは、
透明高分子フィルムの液晶層側の面に、金属酸化物薄膜と、金属薄膜と、金属酸化物薄膜とがこの順に積層されており、
視認側と反対側に配置される透明電極フィルムは、
透明高分子フィルムの液晶層側の面に、インジウムとスズとの複合酸化物薄膜が積層されていることを特徴とする調光シート。
【請求項２】
前記金属酸化物薄膜は、チタン酸化物薄膜であることを特徴とする請求項１に記載の調光シート。
【請求項３】
前記金属薄膜は、銀薄膜または銀合金薄膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の調光シート。
【請求項４】
前記金属酸化物薄膜は、有機分を含有していることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の調光シート。
【請求項５】
前記金属薄膜の少なくとも一方面に、さらに金属酸化物より主に構成されるバリア薄膜が形成されていることを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の調光シート。
【請求項６】
前記バリア薄膜を構成する金属酸化物は、チタン酸化物であることを特徴とする請求項５に記載の調光シート。
【請求項７】
前記視認側と反対側に配置される透明電極フィルムは、透明高分子フィルムの液晶層側の面と反対側の面に、反射薄膜が積層されていることを特徴とする請求項１から６の何れかに記載の調光シート。
【請求項８】
表示装置の前面に配置されることを特徴とする請求項１から７の何れかに記載の調光シート。
【請求項９】
前記表示装置は壁内に設置されていることを特徴とする請求項８に記載の調光シート。
【請求項１０】
前記金属酸化物薄膜の膜厚は、５〜６０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１から９の何れかに記載の調光シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光シートに関し、さらに詳しくは、液晶材を利用する調光シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、一対の透明電極フィルムの間に液晶層が挟持された調光シートが知られている。調光シートは、通常、透明電極間に印加する電圧のオン／オフにより、透明モード／白濁モードの切り替えを行うことが可能に構成されている。
【０００３】
上記調光シートは、例えば、表示装置（液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなど）等の前面に配置される。そして、調光シートに印加する電圧をオン／オフすることで、調光シートの後ろ側にある表示装置等を見える状態／見えない状態に切り替える電子カーテン等の用途に好適に使用されている。
【０００４】
これまで、上記調光シートとしては、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム上にＩＴＯスパッタ薄膜を成膜して得た２枚のＩＴＯフィルムの間に、液晶層を挟み込んだ調光シートが広く使用されてきた（特許文献１）。
【０００５】
【特許文献１】特開平２−２０５８２２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の調光シートは、以下のような問題があった。
【０００７】
すなわち、調光シートが白濁モードのときに、調光シートの視認者は、調光シートで反射した反射光を主に見ていることになる。一般に、調光シートの色目は、白色に近い（白色〜青色）ほど視認者に好まれる。
【０００８】
しかしながら、従来の調光シート（一対のＩＴＯフィルムを使用したもの）は、例えば、表示装置の電源がオフになっている場合など、調光シートの向こう側（視認側と反対側）が暗いまたは黒い場合に、白濁モードにすると視認者には黄色っぽく見えてしまう。そのため、調光シートの色目を意匠的に改善することが求められていた。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、本発明が解決しようとする課題は、従来に比べ、白濁モード時における色目を白色に近づけることが可能な調光シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明に係る調光シートは、互いの透明電極同士が対向するように配置された一対の透明電極フィルムと、上記透明電極間に挟持された液晶層とを有しており、視認側に配置される透明電極フィルムは、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、金属酸化物薄膜と、金属薄膜と、金属酸化物薄膜とがこの順に積層されており、視認側と反対側に配置される透明電極フィルムは、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、インジウムとスズとの複合酸化物薄膜が積層されていることを要旨とする。
【００１１】
ここで、上記金属酸化物薄膜は、チタン酸化物薄膜であることが好ましい。
【００１２】
また、上記金属薄膜は、銀薄膜または銀合金薄膜であることが好ましい。
【００１３】
また、上記金属酸化物薄膜は、有機分を含有していることが好ましい。
【００１４】
また、上記金属薄膜の少なくとも一方面に、さらに金属酸化物より主に構成されるバリア薄膜が形成されていることが好ましい。
【００１５】
また、上記バリア薄膜を構成する金属酸化物は、チタン酸化物であることが好ましい。
【００１６】
また、上記視認側と反対側に配置される透明電極フィルムは、透明高分子フィルムの液晶層側の面と反対側の面に、反射薄膜が積層されていることが好ましい。
【００１７】
また、上記調光シートは、表示装置の前面に配置されるものであると良い。この際、上記表示装置は壁内に設置されていることが好ましい。
【００１８】
また、上記金属酸化物薄膜の膜厚は、５〜６０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る調光シートは、視認側に配置される透明電極フィルムが、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、金属酸化物薄膜と、金属薄膜と、金属酸化物薄膜とがこの順に積層されて構成されている。また、視認側と反対側（非視認側）に配置される透明電極フィルムが、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、インジウムとスズとの複合酸化物薄膜が積層されて構成されている。
【００２０】
上述した構成の視認側の透明電極フィルムは、ＩＴＯフィルムに比較して、赤成分・黄成分の透過が少ない。そのため、視認者側から入射し、液晶層にて散乱反射して視認者側に戻ってくる散乱反射光の赤成分・黄成分を少なくすることができる。
【００２１】
また、上述した構成の非視認側の透明電極フィルムは、反射率が比較的高いうえ、その反射光は青成分を多く含んでいる。そのため、視認者側から入射し、非視認側の透明電極フィルムで反射して視認者側に戻ってくる散乱反射光の青成分を多くすることができる。
【００２２】
したがって、本発明に係る調光シートによれば、従来に比べ、白濁モード時における色目を白色に近づけることが可能になる。
【００２３】
ここで、上記金属酸化物薄膜がチタン酸化物薄膜である場合には、可視光透過率を比較的高くしやすい。そのため、視認者側に戻ってくる散乱反射光量を増加させやすくなり、白濁モード時における色目の白色化に寄与しやすくなる。
【００２４】
また、上記金属薄膜が銀薄膜または銀合金薄膜である場合には、可視光透過性、導電性に優れる。また、視認者側に戻ってくる散乱反射光量を増加させやすくなり、白濁モード時における色目の白色化に寄与しやすくなる。さらに、電圧オン時の面内電圧均一性が高く、色むらが発生し難くなる。
【００２５】
また、上記金属酸化物薄膜が有機分を含有している場合には、調光シートの柔軟性を向上させることができる。
【００２６】
また、上記金属薄膜の少なくとも一方面に、さらに金属酸化物より主に構成されるバリア薄膜が形成されている場合には、金属薄膜を構成する金属元素の金属酸化物薄膜中への拡散を抑制することができる。
【００２７】
そのため、熱環境下に曝された場合等でも、白濁モード時における色目を白色に維持しやすく、調光シートの耐久性向上に寄与することができる。
【００２８】
この際、上記バリア薄膜を構成する金属酸化物がチタン酸化物である場合には、銀などの金属薄膜の構成元素の拡散を抑制しやすい。
【００２９】
また、非視認側の透明電極フィルムの表面のうち、透明高分子フィルムの液晶層側の面と反対側の面に、反射薄膜が積層されている場合には、非視認側の透明電極フィルムの反射率を向上させることができる。そのため、白濁モード時における色目の白色化に寄与しやすくなる。
【００３０】
また、上記調光シートが表示装置の前面に配置されて使用される場合には、表示装置の目隠しとして、意匠性に優れる。
【００３１】
この際、上記表示装置が壁内に設置されている場合には、上記調光シートの白濁モード時の色目が白色に近いことから、表示装置の電源がオフになっているときに表示装置の存在をより目立ち難くできる。
【００３２】
また、上記金属酸化物薄膜の膜厚が５〜６０ｎｍの範囲内にある場合には、透過光の赤成分・黄成分の低下量と、可視光透過率とのバランスに優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
本実施形態に係る調光シート（以下、「本シート」という。）について詳細に説明する。
【００３４】
１．本シート
本シートは、一対の透明電極フィルムと、液晶層とを有している。透明電極フィルムは、ともに、透明高分子フィルムの片面に透明電極を有している。液晶層は、互いの透明電極同士が対向するように配置された一対の透明電極フィルムの透明電極間に挟持されている。
【００３５】
１．１  透明電極フィルム
両透明電極フィルムのうち、一方は、視認者がいる視認側に配置される。他方は、視認者とは反対側（非視認側）に配置される。非視認側には、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の表示装置などを置くことができる。
【００３６】
両透明電極フィルムを構成する透明高分子フィルムは、透明電極を形成するためのベースとなるものである。その材料としては、可視光領域において透明性を有し、その表面に薄膜を支障なく形成できるものであれば、何れのものでも用いることができる。
【００３７】
透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマーなどの高分子材料を例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、２種以上積層して用いることもできる。なお、両透明電極フィルムを構成する透明高分子は同じ材料からなっていても良いし、異なる材料からなっていても良い。
【００３８】
これら材料のうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性等に優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマーなどを好適なものとして例示することができる。
【００３９】
また、上記透明高分子フィルムは、片面または両面に易接着層などが形成されていても良い。
【００４０】
上記透明高分子フィルムの厚みは、本シートの用途、光学特性、耐久性などを考慮して種々調節することができる。上記透明高分子フィルムの厚みの下限値は、取扱いのしやすさ、強度などの観点から、好ましくは、１０μｍ以上、より好ましくは、２５μｍ以上であると良い。一方、上記透明高分子フィルムの厚みの上限値は、透明性や経済性などの観点から、好ましくは、５００μｍ以下、より好ましくは、２５０μｍ以下であると良い。
【００４１】
ここで、視認側の透明電極フィルムと、非視認側の透明電極フィルムとは、それぞれが有する透明電極の構成が異なっている。以下、詳細に説明する。
【００４２】
１．１．１  視認側の透明電極フィルムが備える透明電極
＜積層構造＞
視認側の透明電極フィルムは、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、金属酸化物薄膜（以下、「ＭＯ」と略表記することがある。）、金属薄膜（以下、「Ｍ」と略表記することがある。）、金属酸化物薄膜（ＭＯ）とがこの順に積層された３層構造の透明電極を基本的に有している。
【００４３】
金属薄膜（Ｍ）の片面または両面には、さらに、バリア薄膜（以下、「Ｂ」と略表記することがある。）が形成されていても良い。なお、バリア薄膜を形成する場合、バリア薄膜は、各金属薄膜に付随させる薄膜であるため、本願では、バリア薄膜を含めた金属薄膜を１層として積層数を数える。
【００４４】
したがって、視認側の透明電極が採りうる積層構造としては、具体的には、例えば、透明高分子フィルム側から、ＭＯ│Ｂ／Ｍ／Ｂ│ＭＯ、ＭＯ│Ｂ／Ｍ│ＭＯ、ＭＯ│Ｍ／Ｂ│ＭＯ、ＭＯ│Ｍ│ＭＯなどを例示することができる。なお、「│」が層の区切りを意味する。
【００４５】
これらのうち、視認側の透明電極の好適な積層構造としては、熱環境下に曝された場合に、金属薄膜（Ｍ）を構成する金属元素が金属酸化物薄膜（ＭＯ）中へ拡散するのを抑制しやすく、耐久性を向上させることができるなどの観点から、金属薄膜（Ｍ）の少なくとも一方面にバリア薄膜（Ｂ）が形成されたものが好ましい。より好ましくは、金属薄膜（Ｍ）の両面にバリア薄膜（Ｂ）が形成されたものが良い。
【００４６】
なお、視認側の透明電極は、３層目の金属酸化物薄膜の上に、金属薄膜、金属酸化物薄膜がこの順にさらに積層された５層構造や、３層目の金属酸化物薄膜の上に、金属薄膜、金属酸化物薄膜、金属薄膜、金属酸化物薄膜がこの順にさらに積層された７層構造などであっても良い。これらの場合も、金属薄膜の片面または両面には、バリア薄膜が形成されていても良い。好ましくは、色目、視認性、製造コストのバランスに優れることから、視認側の透明電極は、上述した各種の３層構造であると良い。
【００４７】
視認側の透明電極において、各薄膜は、一度に形成されたものであっても良いし、分割形成されたものであっても良い。また、積層構造中に含まれる各薄膜のうち、一部または全部が分割形成されていても良い。各薄膜が、複数の分割層よりなる場合、その分割数は、各薄膜ごとに同じであっても良いし、異なっていても良い。なお、分割層は積層数として数えず、複数の分割層が集合して形成された１つの薄膜を１層として数える。
【００４８】
各薄膜の組成または材料は、それぞれ同一の組成または材料から形成されていても良いし、異なる組成または材料から形成されていても良い。なお、この点は、各薄膜が複数の分割層よりなる場合も同様である。
【００４９】
各薄膜の膜厚は、色目、透明性、導電性などを考慮して異ならせることができる。
【００５０】
視認側の透明電極フィルムは、概略、上述した積層構造の透明電極を有している。以下、この透明電極の各構成についてより詳細に説明する。
【００５１】
＜金属酸化物薄膜（ＭＯ）＞
視認側の透明電極において、金属酸化物薄膜は、可視光領域において透明性を有し、主として高屈折率薄膜として機能しうるものである。ここで、高屈折率とは、６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．７以上ある場合をいう。
【００５２】
上記金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物（ＴｉＯ２、チタン酸塩等）、亜鉛の酸化物（ＺｎＯ等）、インジウムの酸化物、スズの酸化物（ＳｎＯ２等）、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ等）、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。
【００５３】
上記金属酸化物としては、好ましくは、酸化チタン（IV）（ＴｉＯ２）、チタン酸塩等のチタン酸化物であると良い。可視光透過率を比較的高くしやすいため、視認者側に戻ってくる散乱反射光量を増加させやすくなり、白濁モード時における色目の白色化に寄与しやすくなるなどの利点があるからである。
【００５４】
ここで、金属酸化物薄膜は、主として上述した金属酸化物より構成されているが、金属酸化物以外にも、有機分を含有していても良い。有機分を含有することで、本シートの柔軟性をより向上させることができるためである。この種の有機分としては、具体的には、例えば、ゾル−ゲル法の出発原料に由来する成分等、金属酸化物薄膜の形成材料に由来する成分などを例示することができる。
【００５５】
上記有機分としては、より具体的には、例えば、上述した金属酸化物を構成する金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどといった有機金属化合物（その分解物なども含む）や、上記有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物（後述する）等の各種添加剤などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００５６】
金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の下限値は、柔軟性を付与しやすいなどの観点から、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、５質量％以上、さらに好ましくは、１０質量％以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の上限値は、高屈折率を確保しやすくなる、耐溶剤性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、３０質量％以下、より好ましくは、２５質量％以下、さらに好ましくは、２０質量％以下であると良い。
【００５７】
なお、上記有機分の含有量は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）などを用いて調べることができる。また、上記有機分の種類は、赤外分光法（ＩＲ）（赤外吸収分析）などを用いて調べることができる。
【００５８】
金属酸化物薄膜の膜厚は、色目、可視光透明性などを考慮して調節することができる。
【００５９】
金属酸化物薄膜の膜厚の下限値は、可視光透明性などの観点から、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは７ｎｍ以上、さらに好ましくは、１０ｎｍ以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜の膜厚の上限値は、透過光の色目、可視光透明性などの観点から、好ましくは、６０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ以下、さらに好ましくは、４０ｎｍ以下であると良い。
【００６０】
以上のような構成を有する金属酸化物薄膜は、気相法、液相法の何れでも形成することができる。液相法は、気相法と比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がない。そのため、その分、コスト的に有利であり、生産性にも優れているので好適である。
【００６１】
上記液相法としては、有機分を残存させやすいなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に利用することができる。
【００６２】
上記ゾル−ゲル法としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の有機金属化合物を含有するコーティング液を薄膜状にコーティングし、これを必要に応じて乾燥させ、金属酸化物薄膜の前駆体膜を形成した後、この前駆体膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させ、有機金属化合物を構成する金属の酸化物を合成するなどの方法を例示することができる。これによれば、金属酸化物を主成分として含み、有機分を含有する金属酸化物薄膜を形成することができる。以下、上記方法について詳細に説明する。
【００６３】
上記コーティング液は、上記有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製することができる。この際、有機金属化合物としては、具体的には、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００６４】
上記有機金属化合物としては、具体的には、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。好ましくは、空気中での安定性などの観点から、金属キレートであると良い。
【００６５】
上記有機金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の有機化合物を好適に用いることができる。このような有機金属化合物としては、例えば、有機チタン化合物などを例示することができる。
【００６６】
上記有機チタン化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのＭ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのＭ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。また、これらは単量体、多量体の何れであっても良い。
【００６７】
上記コーティング液中に占める有機金属化合物の含有量は、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、１〜２０質量％、より好ましくは、３〜１５質量％、さらに好ましくは、５〜１０質量％の範囲内にあると良い。
【００６８】
また、上記有機金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００６９】
この際、上記溶媒量は、上記有機金属化合物の固形分重量に対して、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、５〜１００倍量、より好ましくは、７〜３０倍量、さらに好ましくは、１０〜２０倍量の範囲内であると良い。
【００７０】
上記溶媒量が１００倍量より多くなると、一回のコーティングで形成できる膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回のコーティングが必要となる傾向が見られる。一方、５倍量より少なくなると、膜厚が厚くなり過ぎ、有機金属化合物の加水分解・縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。
【００７１】
また、上記コーティング液中には、ゾル−ゲル法による加水分解が促進され、高屈折率化が図りやすくなるなどの観点から、必要に応じて水が含まれていても良い。
【００７２】
上記コーティング液の調製は、例えば、所定割合となるように秤量した有機金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、撹拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、１度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。
【００７３】
また、上記コーティング液のコーティング法としては、均一なコーティングが行いやすいなどの観点から、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種のウェットコーティング法を好適なものとして例示することができる。これらは適宜選択して用いることができ、１種または２種以上併用しても良い。
【００７４】
また、コーティングされたコーティング液を乾燥する場合、公知の乾燥装置などを用いて乾燥させれば良く、この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、８０℃〜１２０℃の温度範囲、０．５分〜５分の乾燥時間などを例示することができる。
【００７５】
また、前駆体膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段としては、具体的には、例えば、紫外線照射、電子線照射、加熱など、各種の手段を例示することができる。これらは１種または２種以上組み合わせて用いても良い。これらのうち、とりわけ、紫外線照射を好適に用いることができる。他の手段と比較した場合、低温、短時間で金属酸化物を生成できるし、熱劣化など、熱による負荷を透明高分子フィルムに与え難いからである。また、有機分として、有機金属化合物（その分解物なども含む）などを残存させやすい利点もあるからである。
【００７６】
この際、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。これらは１種または２種以上組み合わせて用いても良い。
【００７７】
また、照射する紫外線の光量は、前駆体膜を主に形成している有機金属化合物の種類、コーティング層の厚みなどを考慮して種々調節することができる。もっとも、照射する紫外線の光量が過度に小さすぎると、金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する紫外線の光量が過度に大きすぎると、紫外線照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形することがある。したがって、これらに留意すると良い。
【００７８】
照射する紫外線の光量は、金属酸化物薄膜の屈折率、透明高分子フィルムが受けるダメージなどの観点から、測定波長３００〜３９０ｎｍのとき、好ましくは、３００〜８０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは、５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であると良い。
【００７９】
なお、前駆体膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段として、紫外線照射を用いる場合、上述したコーティング液中に、有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物等の添加剤を添加しておくと良い。出発溶液であるコーティング液中に上記添加剤が添加されている場合には、予め紫外線吸収性キレートが形成されたところに紫外線照射がなされるので、比較的低温下において金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り得やすくなるからである。
【００８０】
上記添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシ−２−プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００８１】
これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。
【００８２】
また、上記添加剤の配合割合としては、屈折率の上がりやすさ、塗膜状態での安定性などの観点から、上記有機金属化合物における金属原子１モルに対して、好ましくは、０．１〜２倍モル、より好ましくは、０．５〜１．５倍モルの範囲内にあると良い。
【００８３】
＜金属薄膜（Ｍ）＞
視認側の透明電極において、金属薄膜は、主として導電性層として機能しうる。
【００８４】
上記金属としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウム、インジウムなどの金属や、これら金属の合金などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００８５】
上記金属としては、導電性、積層時の可視光透過性、黄〜赤色光の低透過性などに優れるなどの観点から、銀または銀合金が好ましい。より好ましくは、熱、光、水蒸気などの環境に対する耐久性が向上するなどの観点から、銀を主成分とし、ビスマス、金、パラジウム、白金、銅などの金属元素を少なくとも１種以上含んだ銀合金であると良い。さらに好ましくは、銀の拡散抑制効果が大きい、コスト的に有利であるなどの観点から、ビスマスを含む銀合金（Ａｇ−Ｂｉ系合金）であると良い。
【００８６】
ビスマスを含む銀合金を用いる場合、銀、ビスマス以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。
【００８７】
上記他の元素としては、具体的には、例えば、Ｍｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｌｉ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＡｓなどのＡｇに固溶可能な元素；Ｂｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔｌ、Ｐｂなど、Ａｇ−Ｂｉ系合金中に単相として析出可能な元素；Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓ、Ｓｅ、ＴｅなどのＡｇとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは１種または２種以上含有されていても良い。
【００８８】
ビスマスを含む銀合金を用いる場合、ビスマスの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、０．０１原子％以上、より好ましくは、０．０５原子％以上、さらに好ましくは、０．１原子％以上であると良い。
【００８９】
一方、ビスマスの含有量の上限値は、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、５原子％以下、より好ましくは、２原子％以下、さらに好ましくは、１原子％以下であると良い。
【００９０】
なお、上記ビスマスの割合は、ＩＣＰ分析法を用いて測定することができる。
【００９１】
金属薄膜の膜厚の下限値は、安定性、導電性などの観点から、好ましくは、３ｎｍ以上、より好ましくは、４ｎｍ以上、さらに好ましくは、５ｎｍ以上であると良い。一方、金属薄膜の膜厚の上限値は、可視光の透明性、経済性などの観点から、好ましくは、３０ｎｍ以下、より好ましくは、２０ｎｍ以下、さらに好ましくは、１５ｎｍ以下であると良い。
【００９２】
ここで、金属薄膜を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などの気相法などを例示することができる。金属薄膜は、これらのうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【００９３】
これら方法のうち、緻密な膜質が得られる、膜厚制御が比較的容易であるなどの観点から、好ましくは、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【００９４】
＜バリア薄膜（Ｂ）＞
視認側の透明電極において、バリア薄膜は、主として、金属薄膜を構成する元素が、金属酸化物薄膜中へ拡散するのを抑制するバリア的な機能を有している。また、金属酸化物薄膜と金属薄膜との間に介在することで、両者の密着性の向上にも寄与しうる。
【００９５】
なお、バリア薄膜は、連続膜であることが好ましいが、上記拡散を抑制できれば、浮島状など、不連続な部分があっても良い。
【００９６】
バリア薄膜を構成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。なお、バリア薄膜は、上記金属酸化物以外に不可避不純物などを含んでいても良い。
【００９７】
ここで、バリア薄膜としては、金属薄膜を構成する金属の拡散抑制効果に優れる、密着性に優れるなどの観点から、金属酸化物薄膜を構成する金属の酸化物より主に構成されていると良い。
【００９８】
より具体的には、例えば、金属酸化物薄膜としてＴｉＯ２薄膜を選択した場合、バリア薄膜は、ＴｉＯ２薄膜を構成する金属であるＴｉの酸化物より主に構成されるチタン酸化物薄膜であると良い。
【００９９】
このバリア薄膜（Ｂ）は、金属酸化物薄膜（ＭＯ）と同じように主に金属酸化物から構成されるが、金属酸化物薄膜（ＭＯ）よりも膜厚が薄く設定される。これは、金属薄膜（Ｍ）を構成する金属の拡散は、原子レベルで生じるので、屈折率を十分確保するのに必要な膜厚まで厚くする必要性が低いからである。また、薄く形成することで、その分、成膜コストが安価になり、本シートの製造コストの低減にも寄与することができる。
【０１００】
バリア薄膜の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、１ｎｍ以上、より好ましくは、１．５ｎｍ以上、さらに好ましくは、２ｎｍ以上であると良い。一方、バリア薄膜の膜厚の上限値は、経済性などの観点から、好ましくは、１５ｎｍ以下、より好ましくは、１０ｎｍ以下、さらに好ましくは、８ｎｍ以下であると良い。
【０１０１】
バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ｔｉ／Ｏの下限値は、バリア性などの観点から、１．０／４．０以上、より好ましくは、１．０／３．８以上、さらに好ましくは、１．０／３．５以上、さらにより好ましくは、１．０／３．０以上、最も好ましくは、１．０／２．８以上であると良い。
【０１０２】
バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ｔｉ／Ｏの上限値は、可視光の透明性などの観点から、好ましくは、１．０／０．５以下、より好ましくは、１．０／０．７以下、さらに好ましくは、１．０／１．０以下、さらにより好ましくは、１．０／１．２以下、最も好ましくは、１．０／１．５以下であると良い。
【０１０３】
上記Ｔｉ／Ｏ比は、当該膜の組成から算出することができる。当該膜の組成分析方法としては、極めて薄い薄膜の組成を比較的正確に分析することが可能な観点から、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析（ＥＤＸ）を好適に用いることができる。
【０１０４】
具体的な組成分析方法について説明すると、先ず、超薄切片法（ミクロトーム）などを用いて、分析対象となる当該膜を含む積層構造の断面方向の厚みが１００ｎｍ以下の試験片を作製する。次いで、断面方向から積層構造と当該膜の位置を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により確認する。次いで、ＥＤＸ装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となる当該膜の膜厚中央部近傍に入射させる。試験片表面から入射した電子は、ある深さまで入り込み、各種の電子線やＸ線を発生させる。この際の特性Ｘ線を検出して分析することで、当該膜の構成元素分析を行うことができる。
【０１０５】
上記バリア薄膜は、緻密な膜を形成できる、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の薄膜を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法により好適に形成すると良い。
【０１０６】
上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などを例示することができる。
【０１０７】
この際、バリア薄膜は、主に金属酸化物より形成されているので、上記各薄膜形成法による成膜時には、その雰囲気中に酸素を含むガスを導入する必要がある。
【０１０８】
なお、上記積層構造中に含まれうる各バリア薄膜は、これら気相法のうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【０１０９】
上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【０１１０】
但し、バリア薄膜を成膜する場合には、例えば、スパッタリングガスとしてのアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させながら薄膜を形成することになる（反応性スパッタリング法）。
【０１１１】
また、反応性スパッタリング法を用いて、例えば、上記Ｔｉ／Ｏ比を有するチタン酸化物薄膜を得る場合、雰囲気中の酸素濃度（不活性ガスに対する酸素を含むガスの体積割合）は、上述した膜厚範囲を考慮して最適な割合を適宜選択すれば良い。
【０１１２】
＜各薄膜の積層方法＞
視認側の透明電極を形成するにあたり、上記金属酸化物薄膜（ＭＯ）の形成方法と、上記金属薄膜（Ｍ）の形成方法と、上記バリア薄膜（Ｂ）の形成方法とを適宜組み合わせ、透明高分子フィルムの表面に、金属酸化物薄膜（ＭＯ）、金属薄膜（Ｍ）、バリア薄膜（Ｂ）を積層していく方法としては、具体的には、例えば、次のような方法を例示することができる。以下、透明高分子フィルムの表面に、ＭＯ│Ｂ／Ｍ／Ｂ│ＭＯの積層構造を備えた透明電極を形成する場合を用いて説明する。
【０１１３】
先ず、透明高分子フィルムの表面上に、上述したゾル−ゲル法などの液相法により金属酸化物薄膜（ＭＯ）を形成した後、これをロールに巻き取る。
【０１１４】
次に、このロールを、上述した反応性スパッタリング法などの気相法による薄膜形成装置の成膜室内に装着し、ロールを繰り出しながら、酸素を含む雰囲気中で、金属酸化物薄膜（ＭＯ）の表面上にバリア薄膜（Ｂ）を形成する。次いで、このフィルム体を他の成膜室に移動させ、引き続き、酸素を実質的に含まない雰囲気中で、バリア薄膜（Ｂ）の表面上に金属薄膜（Ｍ）を形成する。次いで、このフィルム体を他の成膜室に移動させ、上記と同様にして、酸素を含む雰囲気中で金属薄膜（Ｍ）の表面上にバリア薄膜（Ｂ）を形成し、これをロールに巻き取る。
【０１１５】
次に、このロールを繰り出しながら、上記と同様にして、バリア薄膜（Ｂ）の表面上に金属酸化物薄膜（ＭＯ）を形成し、これをロールに巻き取る。
【０１１６】
基本的には、このような操作を行えば、視認側の透明電極フィルムを連続的に製造することができる。各薄膜を複数の分割層より形成する場合には、各操作を分割数だけ繰り返し行えば良い。
【０１１７】
なお、視認側の透明電極において、上記金属酸化物薄膜（ＭＯ）、金属薄膜（Ｍ）およびバリア薄膜（Ｂ）の各材料は、必要に応じて上述したものから適宜選択して用いることができる。好適な膜材料の組み合わせとしては、上記金属酸化物薄膜（ＭＯ）がチタン酸化物薄膜、好ましくは、ＴｉＯ２薄膜、金属薄膜（Ｍ）が銀または銀合金薄膜、好ましくは、銀合金薄膜、バリア薄膜（Ｂ）がチタン酸化物薄膜の組み合わせを例示することができる。白濁モード時の色目、調光性、可視光透明性などのバランスが良いからである。
【０１１８】
１．１．２  非視認側の透明電極フィルムが備える透明電極
非視認側の透明電極フィルムは、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、インジウムとスズとの複合酸化物薄膜（ＩＴＯ薄膜）よりなる透明電極を有している。
【０１１９】
非視認側の透明電極は、１層のＩＴＯ薄膜から構成されていても良いし、２層以上のＩＴＯ薄膜から構成されていても良い。好ましくは、経済性などの観点から、１層のＩＴＯ薄膜から構成されていると良い。
【０１２０】
ＩＴＯ薄膜の膜厚の下限値は、導電性、安定性などの観点から、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上、さらに好ましくは、２０ｎｍ以上であると良い。一方、ＩＴＯ薄膜の膜厚の上限値は、割れ難さ、経済性などの観点から、好ましくは、２００ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは、５０ｎｍ以下であると良い。
【０１２１】
上記ＩＴＯ薄膜は、緻密な膜を形成できる、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の薄膜を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法により好適に形成すると良い。
【０１２２】
上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などを例示することができる。
【０１２３】
上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【０１２４】
１．２  液晶層
本シートにおいて、液晶層は、上述した一対の透明電極フィルムの透明電極間に挟持されている。
【０１２５】
ここで、液晶層は、液晶分子を含んでおり、かつ、調光可能であれば、層全体が液晶分子で満たされていても良いし、液晶分子と高分子との混合物よりなっていても良い。後者の場合としては、具体的には、例えば、高分子中に液晶分子を分散したものなどを例示することができる。
【０１２６】
用いる液晶分子は特に限定されるものではない。具体的には、例えば、ネマチック型、コレステリック型、スメチック型などの何れの液晶分子も適用可能である。好ましくは、ネマチック型液晶分子を含んでいると良い。これらは１種または２種以上混合して用いても良い。
【０１２７】
ネマチック型液晶分子としては、具体的には、例えば、ポリ（ｐ−フェニレンテレフタルアミド）、ポリ（ｐ−ベンズアミド）、ポリ（ｐ−フェニレンベンゾビスオキサゾール）、ポリ（ｐ−フェニレンベンゾビスチアゾール）などの高分子液晶化合物、４’−メトキシベンジリデン−４’ブチルアニリン、４−シアノ−４’−ヘキソキシビフェニル、シアノビフェニル化合物、シアノフェニルシクロヘキサン化合物、シアノシクロヘキシルシクロヘキサン化合物などを例示することができる。
【０１２８】
コレステリック型液晶分子としては、具体的には、例えば、コレステリルリノレート、コレステリルオレエート、セルロース、セルロース誘導体、ポリペプチドなどを例示することができる。
【０１２９】
スメクチック型液晶分子としては、具体的には、例えば、ポリエステルなどを例示することができる。
【０１３０】
また、上記高分子としては、透明性を有し、液晶分子の配向に悪影響を及ぼさないものであれば、何れのものでも用いることができる。具体的には、例えば、ビニルエーテルアクリレート、ビニルエーテルアクリレートと他のモノマーとの共重合体などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【０１３１】
これらのうち、好ましくは、透明性に優れる、液晶分子との屈折率との関係が良好であるなどの観点から、ビニルエーテルアクリレート共重合体である。
【０１３２】
また、液晶分子と高分子とを混合する場合、両者の割合は特に限定されるものではなく、調光性、コストなどを考慮して最適な割合を選択することができる。具体的には、例えば、液晶分子の割合としては、５０〜９０質量％、高分子の割合としては、１０〜５０質量％などを好ましい範囲として例示することができる。
【０１３３】
なお、液晶層中には、必要に応じて、紫外線開始剤などの光開始剤、酸化防止剤などの添加剤が１種または２種以上含まれていても良い。
【０１３４】
上記液晶層の厚みは、白濁モード時の色目、駆動電圧、経済性などを考慮して種々調節することができる。基本的には、厚くするほど、視認者側に戻ってくる可視光の散乱反射光量が増加し、色目の改善効果が大きい傾向がある。
【０１３５】
上記液晶層の厚みの下限値は、視認者側に戻ってくる可視光の散乱反射光量を増加させるなどの観点から、好ましくは、３μｍ以上、より好ましくは、５μｍ以上、さらに好ましくは、７μｍ以上であると良い。一方、上記液晶層の厚みの膜厚の上限値は、駆動電圧、経済性などの観点から、好ましくは、１００μｍ以下、より好ましくは、５０μｍ以下、さらに好ましくは、３０μｍ以下であると良い。
【０１３６】
なお、上記液晶層は、水分などを遮断する、液晶材の漏れを防ぐなどの観点から、例えば、調光領域の外周にシール材を設けることにより封止されていても良い。他にも、調光領域の外周に透明電極がない領域を形成し、２枚の透明高分子フィルム同士を熱融着して封止されていても良い。
【０１３７】
この場合、上記シール材としては、具体的には、例えば、熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂などの光硬化樹脂、これらの混合物などを例示することができる。
【０１３８】
液晶層を形成する方法としては、具体的には、例えば、一対の透明電極フィルムの透明電極面を対向させ、所定の隙間を形成し、この隙間に液晶材を自然または真空注入する方法、一方の透明電極フィルムの透明電極面に液晶材を滴下または塗布し、その後、他方の透明電極フィルムの透明電極面を貼り合わせる方法などを例示することができる。なお、上記隙間を均一に形成するため、スペーサーなどを散布しても良い。
【０１３９】
また、高分子を含む液晶層を形成する場合、液晶分子と高分子との混合物を当初より用い、これを上記隙間に注入などしても良いし、当該高分子を生成可能なモノマを上記隙間に注入などした後、熱や光などを用いて、上記モノマを重合させて高分子を生成させても良い。
【０１４０】
低分子量であり、流動性が大きく、注入などを行いやすいなどの観点から、後者を好適に用いることができる。
【０１４１】
１．３  反射薄膜
本シートは、非視認側の透明電極フィルムの液晶層側とは反対側の面に、反射薄膜が積層されていても良い。この場合には、非視認側の透明電極フィルムの反射率を向上させることができる。そのため、白濁モード時における色目の白色化に寄与しやすくなる利点がある。
【０１４２】
反射薄膜としては、具体的には、例えば、ＴｉＯ２薄膜等の高屈折率薄膜とＳｉＯ２薄膜等の低屈折率薄膜とが交互に積層された積層膜（好ましくは、下層が高屈折率薄膜、上層が低屈折率薄膜の２層構造の積層膜）などを例示することができる。
【０１４３】
反射薄膜の膜厚としては、可視光波長のうち、特に青色光の反射率を高めるなどの観点から、好ましくは、上記高屈折薄膜が２０〜６０ｎｍ、低屈折率薄膜が５０〜２００ｎｍ、より好ましくは、上記高屈折率薄膜が３０〜５０ｎｍ、低屈折率薄膜が６０〜１５０ｎｍの範囲内であると良い。
【０１４４】
２．本シートの用途
本シートは、例えば、各透明電極フィルムの調光領域の外周から、電圧を印加するための取り出し電極をそれぞれ取り出し、これを使用して透明電極間の電圧をオン・オフ制御することにより、透明モード・白濁モードとを切り替えることが可能である。
【０１４５】
本シートの用途としては、例えば、電子カーテン、ディスプレイ演出、視野角切替シートなどを例示することができる。
【０１４６】
以下、本シートを電子カーテンとして利用する場合の一例について説明する。すなわち、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどの表示装置の前面に、本シートを配置する。
【０１４７】
そして、表示装置の電源がオフのときには、本シートの電源をオフにして白濁モードとする。この際、表示装置が暗くなるまたは黒くなるが、本シートは白濁モード時の色目が白色化されている。そのため、本シートひいては表示装置の存在を視認者にあまり感じさせ難くすることができる。
【０１４８】
一方、表示装置の電源がオンのときには、本シートの電源をオンにして透明モードとする。この際、表示装置からの透過光は、非視認側の透明電極フィルム→液晶層→視認側の透明電極フィルムの順に通過し、視認者によって視認されることになる。
【０１４９】
この際、表示装置が壁内に埋め込まれておれば、壁面に本シートを配置することで、表示装置の存在をより目立たせ難くすることができる。
【実施例】
【０１５０】
以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。なお、以下における屈折率は、波長６３３ｎｍのときの値である。
【０１５１】
１．透明電極フィルムの準備
１．１  Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５に係る透明電極フィルム
実施例に係る調光フィルムの視認側に適用する透明電極フィルムとして、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５に係る透明電極フィルムを作製した。
【０１５２】
ここで、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５に係る透明電極フィルムは、基本的には、それぞれ、ＰＥＴフィルムの片面に、１層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜、２層目として、チタン酸化物薄膜（バリア薄膜）／Ａｇ−Ｂｉ合金薄膜／チタン酸化物薄膜（バリア薄膜）、３層目として、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜が順に積層された３層構造の透明電極を有している。
【０１５３】
なお、バリア薄膜は、Ａｇ−Ｂｉ合金薄膜に付随する薄膜として、Ａｇ−Ｂｉ合金薄膜に含めて積層数を数えている。
【０１５４】
以下、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５に係る透明電極フィルムの具体的な作製手順を示す。
【０１５５】
（コーティング液の調製）
先ず、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜の形成に使用するコーティング液を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体（日本曹達（株）製、「Ｂ４」）と、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトンとを、ｎ−ブタノールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒に配合し、これを撹拌機を用いて１０分間混合することにより、コーティング液を調製した。この際、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体／アセチルアセトン／ｎ−ブタノール／イソプロピルアルコールの配合は、それぞれ６．７５質量％／３．３８質量％／５９．８７質量％／３０．００質量％とした。
【０１５６】
（透明電極の作製）
透明高分子フィルムとして、易接着層が片面に形成された厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）を用い、このＰＥＴフィルムの易接着層面側とは反対側の面（ＰＥＴ面）側に、１層目として、ＴｉＯ２薄膜を以下の手順により成膜した。
【０１５７】
すなわち、ＰＥＴフィルムのＰＥＴ面側に、マイクログラビアコーターを用いて、所定の線速で上記コーティング液を連続的に塗工した。次いで、インラインの乾燥炉を用いて、塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥させ、ＴｉＯ２薄膜の前駆体膜を形成した。次いで、インラインの紫外線照射機〔高圧水銀ランプ（１６０Ｗ／ｃｍ）〕を用いて、上記塗工時と同線速で、上記前駆体膜に対して連続的に紫外線を１．５秒間照射した。これによりＰＥＴフィルム上に、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜を成膜した。
【０１５８】
次に、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、２層目を構成する各薄膜を成膜した。
【０１５９】
すなわち、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、下側のチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）を反応性スパッタリングにより成膜した。次いで、この下側のチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）上に、Ａｇ−Ｂｉ合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このＡｇ−Ｂｉ合金薄膜上に、上側のチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）を反応性スパッタリングにより成膜した。
【０１６０】
この際、上側および下側のチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）の成膜条件は、Ｔｉターゲット（純度４Ｎ）、真空到達圧：５×１０−６（Ｔｏｒｒ）、不活性ガス：Ａｒ、反応性ガス：Ｏ２、ガス流量比：Ａｒ／Ｏ２＝１００／２０、ガス圧：２．５×１０−３（Ｔｏｒｒ）、投入電力：８．３（Ｗ／ｃｍ２）、成膜時間：１．５秒とした。
【０１６１】
また、Ａｇ−Ｂｉ合金薄膜の成膜条件は、Ａｇ−Ｂｉ合金ターゲット（Ｂｉ含有量０．５原子％）、真空到達圧：５×１０−６（Ｔｏｒｒ）、不活性ガス：Ａｒ、ガス圧：２．５×１０−３（Ｔｏｒｒ）、投入電力：１．１（Ｗ／ｃｍ２）、成膜時間：１．５秒とした。
【０１６２】
次に、３層目として、２層目の上側のチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）上に、それぞれゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜を成膜した。ここでは、１層目に準じた成膜手順を１回行うことにより、所定の膜厚とした。
【０１６３】
以上により、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５に係る透明電極フィルムを作製した。
【０１６４】
なお、各ＴｉＯ２薄膜の屈折率（測定波長は６３３ｎｍ）を、ＦｉｌｍＴｅｋ３０００（Scientific Computing International社製）により測定した。また、各ＴｉＯ２薄膜中に含まれる有機分の含有量を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した。
【０１６５】
また、各チタン酸化物薄膜（バリア薄膜）についてＥＤＸ分析を行い、Ｔｉ／Ｏ比を次のようにして求めた。
【０１６６】
すなわち、透明電極フィルムをミクロトーム（ＬＫＢ（株）製、「ウルトロームＶ２０８８」）により切り出し、分析対象となるチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）を含む積層構造の断面方向の厚みが１００ｎｍ以下の試験片を作製した。
【０１６７】
次いで、この試験片の断面を、電界放出型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）（日本電子（株）製、「ＪＥＭ２００１Ｆ」）により確認した。
【０１６８】
次いで、ＥＤＸ装置（分解能１３３ｅＶ以下）（日本電子（株）製、「ＪＥＤ−２３００Ｔ」）を用い、この装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となるチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）の膜厚中央部近傍に入射させ、発生した特性Ｘ線を検出して分析することにより、チタン酸化物薄膜（バリア薄膜）の構成元素分析を行った。
【０１６９】
また、Ａｇ−Ｂｉ合金薄膜中のＢｉ含有量を次のようにして求めた。すなわち、上述した成膜条件において、別途、ガラス基板上にＡｇ−Ｂｉ合金薄膜を形成した試験片を作製し、この試験片を６％ＨＮＯ３溶液に浸漬し、２０分間超音波による溶出を行った後、得られた試料液を用いて、ＩＣＰ分析法の濃縮法により測定した。
【０１７０】
表１に、作製したＮｏ．１〜Ｎｏ．５に係る透明電極フィルムの詳細な透明電極の層構成を示す。
【０１７１】
【表１】
2009229946.tif 000003
【０１７２】
１．２  ＩＴＯフィルム
実施例に係る調光フィルムの非視認側、ならびに、比較例に係る調光シートの視認側および非視認側に適用する透明電極フィルムとして、以下の手順により、ＩＴＯフィルムを作製した。
【０１７３】
すなわち、透明高分子フィルムとして、易接着層が片面に形成された厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）を用い、このＰＥＴフィルムの易接着層面側とは反対側の面（ＰＥＴ面）側に、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）薄膜（膜厚３０ｎｍ）をスパッタ蒸着法により成膜し、ＩＴＯフィルムを作製した。
【０１７４】
１．３  透明電極フィルム単体の特性
（透明電極フィルム単体の透過・反射スペクトル）
Ｎｏ．１〜５に係る透明電極フィルムおよびＩＴＯフィルム単体につき、透過・反射スペクトルを事前に測定した。
【０１７５】
この際、透過・反射スペクトルは、分光光度計（島津製作所（株）製、「ＵＶ３１００」を用いて、波長３００〜１０００ｎｍを１ｎｍ毎に測定することにより求めた。
【０１７６】
図１に、各透明電極フィルム単体の透過スペクトルの測定結果を示す。図２に、各透明電極フィルム単体の反射スペクトルの測定結果を示す。これらによれば、Ｎｏ．１〜５の透明電極フィルムは、ＩＴＯフィルムに比較して、赤成分・黄成分の透過が少ないことが分かる。また、反射率も低い。一方、ＩＴＯフィルムは、赤成分・黄色成分の透過が多いことが分かる。また、反射率が高く、その反射光は青成分を多く含んでいることが分かる。
【０１７７】
（透明電極フィルム単体の耐久性）
Ｎｏ．１〜５に係る透明電極フィルム単体につき、その可視光透過率、表面抵抗値を事前に評価した。また、Ｎｏ．１に係る透明電極フィルム単体については、さらに、１００℃にて１２５時間加熱処理した後の、可視光透過率、表面抵抗値を事前に評価した。
【０１７８】
この際、可視光透過率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠し、分光光度計（島津製作所（株）製、「ＵＶ３１００」）を用いて、波長３００〜１０００ｎｍの透過スペクトルを測定し、可視光透過率を計算することにより行った。また、表面抵抗値の測定には、渦電流計（コペル電子（株）製、「非接触抵抗率計モデル７１７」）を用いた。
【０１７９】
表２に、Ｎｏ．１〜５の透明電極フィルム単体について得られた結果をまとめて示す。
【０１８０】
【表２】
2009229946.tif 000004
【０１８１】
上記表２によれば、次のことが分かる。すなわち、Ｎｏ．１に係る透明電極フィルムは、透明電極中に銀合金薄膜を有するにも関わらず、その加熱後も、可視光透過率がほとんど変動していないことが分かる。また、初期、加熱後も表面抵抗値が低いことが分かる。
【０１８２】
銀は、加熱環境下に曝されると他の薄膜中に拡散しやすいことが知られている。上記バリア薄膜を設けた場合には、銀合金薄膜を構成する銀の拡散を抑制しやすくなり、可視光に対する透明性、導電性を長期に亘り維持しやすく、耐久性、耐熱性に優れることが確認できた。
【０１８３】
なお、Ｎｏ．２〜５の透明電極フィルムについても、上記Ｎｏ．１の透明電極フィルムと同等の耐久性を有することは、Ｎｏ．２〜５の透明電極フィルムの透明電極構成、Ｎｏ．１の透明電極フィルムの結果から容易に類推可能である。
【０１８４】
２．調光シートの作製
（実施例１〜１０）
次に、視認側の透明電極フィルムとして各透明電極フィルム（実施例１および実施例６はＮｏ．１、実施例２および実施例７はＮｏ．２、実施例３および実施例８はＮｏ．３、実施例４および実施例９はＮｏ．４、実施例５および実施例１０はＮｏ．５）を用いるとともに、非視認側の透明電極フィルムとしてＩＴＯフィルムを用い、これらフィルム間に液晶層を挟持（実施例１〜５は厚み１０μｍ、実施例６〜１０は厚み３０μｍ）し、実施例１〜１０に係る調光シートを作製した。
【０１８５】
具体的には、先ず、液晶材（Ｍｅｒｃｋ（株）製、「ネマチック液晶ＴＬ２１３」）８０重量部に、３，５，５−トリメチルヘキシルアクリレート１７．５重量部、ヘキサンジオールビニルエーテルアクリレート２．５重量部を加え、さらに、紫外線開始剤として、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部を添加し、液体状の液晶組成物を調製した。
【０１８６】
次いで、視認側に配置される所定の透明電極フィルムの透明電極面と、非視認側に配置される所定のＩＴＯフィルムの透明電極面とを所定の隙間を隔てて対向させた。
【０１８７】
次いで、上記隙間に上記液晶組成物を自然注入した。その後、紫外線光を面全体に均一に照射し、モノマーの重合を行った。
【０１８８】
以上により、実施例１〜１０に係る調光シートを作製した。
【０１８９】
（比較例１、２）
視認側および非視認側の透明電極フィルムとしてＩＴＯフィルムを用いた以外は、実施例１〜５に係る調光シート（液晶層の厚み：１０μｍ）と同様にして、比較例１に係る調光シートを作製した。
【０１９０】
また、視認側および非視認側の透明電極フィルムとしてＩＴＯフィルムを用いた以外は、実施例６〜１０に係る調光シート（液晶層の厚み：３０μｍ）と同様にして、比較例２に係る調光シートを作製した。
【０１９１】
３．調光シートの色目確認
各調光シート（５ｃｍ×１０ｃｍ）の短辺の一方から電極を取り出し、交流６０Ｈｚ・１２Ｖを印加し、各調光シートを白濁モードとした。
【０１９２】
その後、白濁モードの各調光シートの可視光散乱反射スペクトルを分光光度計を用いて測定した。その結果を図３、図４に示す。
【０１９３】
また、ＪＩＳ  Ｒ３１０６、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠し、可視光散乱反射率および反射色の色座標を測定した。その結果を表３に示す。
【０１９４】
【表３】
2009229946.tif 000005
【０１９５】
４．考察
図１〜４および表３によれば、以下のことが分かる。すなわち、比較例に係る調光シートは、何れも視認側および非視認側の両方の透明電極フィルムとしてＩＴＯフィルムを用いている。
【０１９６】
そのため、可視光散乱反射光は黄成分・赤成分を多くんでおり、その結果、白濁モード時に視認者には黄色っぽく見えてしまうことが分かる。
【０１９７】
これに対して、実施例に係る調光シートは、何れも特定の透明電極を有する透明電極フィルムを視認側に用い、ＩＴＯフィルムを非視認側に用いている。そのため、可視光散乱反射光中に含まれる黄成分・赤成分が少なく、かつ、青成分が多くなった。その結果、白濁モード時における反射色が青色側に移行し、黄色味が消え、色目を白色化することができた。
【０１９８】
また、実施例同士を比較すると、液晶層を厚くすることで、可視光散乱反射率が高くなり、見た目の白さをより向上させることができた。
【０１９９】
また、視認側の透明電極フィルムにおける金属酸化物薄膜の膜厚を薄くすると、より赤・黄色光の反射率を低くできることが分かった。
【０２００】
以上、本発明の実施形態・実施例について説明したが、本発明は上記実施形態・実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２０１】
【図１】Ｎｏ．１〜５の透明電極フィルム単体、ＩＴＯフィルム単体の透過スペクトルの測定結果を示した図である。
【図２】Ｎｏ．１〜５の透明電極フィルム単体、ＩＴＯフィルム単体の反射スペクトルの測定結果を示した図である。
【図３】実施例１〜５および比較例１に係る調光シートの可視光散乱反射率の測定結果を示した図である。
【図４】実施例６〜１０および比較例２に係る調光シートの可視光散乱反射率の測定結果を示した図である。
【図１】
2009229946.tif 000006
【図２】
2009229946.tif 000007
【図３】
2009229946.tif 000008
【図４】
2009229946.tif 000009