(57)【要約】【課題】環境負荷の大きい６価クロムに代表されるクロムを含有せず、なおかつ基材との密着性の良好なフレキシブルプリント配線板用銅箔を提供する。【解決手段】銅箔２と、その銅箔２の表面に形成されたニッケル層またはニッケル合金層３と、そのニッケル層またはニッケル合金層３の表面に形成された酸化ニッケル層４と、その酸化ニッケル層４の表面に形成されたシランカップリング処理層５とを備えるものである。【選択図】図１
2009117706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅箔と、その銅箔の表面に形成されたニッケル層またはニッケル合金層と、そのニッケル層またはニッケル合金層の表面に形成された酸化ニッケル層と、その酸化ニッケル層の表面に形成されたシランカップリング処理層とを備えることを特徴とするフレキシブルプリント配線板用銅箔。
【請求項２】
前記銅箔の表面と前記ニッケル層またはニッケル合金層との間に、粗化めっき層を備える請求項１記載のプリント配線板用銅箔。
【請求項３】
前記シランカップリング処理層は、アミノ基を有する請求項１または２記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔。
【請求項４】
銅箔の表面に、ニッケル層またはニッケル合金層を形成し、これを加熱乾燥させて、前記ニッケル層またはニッケル合金層の表面に酸化ニッケル層を形成し、その酸化ニッケル層の表面にシランカップリング処理層を形成することを特徴とするフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法。
【請求項５】
前記銅箔の表面に粗化めっき層を形成した後、前記ニッケル層またはニッケル合金層、前記酸化ニッケル層、および前記シランカップリング処理層を順次形成する請求項４記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法。
【請求項６】
前記シランカップリング処理層は、アミノ基を有するシランカップリング剤を用いて形成される請求項４または５記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法。
【請求項７】
基材と、その基材上に形成された請求項１〜３いずれかに記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔からなる回路とを備えることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クロムを含有せず、なおかつプリント配線板用基材との密着性が良好なフレキシブルプリント配線板用銅箔及びその製造方法、並びにフレキシブルプリント配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
銅箔は導電体用途としてよく用いられている。特にフレキシブルプリント配線板の分野では、ポリイミドフィルムとラミネート、あるいはポリアミック酸を主成分とするポリイミドワニスを塗布するなどの方法でフレキシブルプリント配線板として製造される。このとき、銅箔には基材との密着性を高めるために粗化処理や防錆処理が施される。
【０００３】
銅箔への防錆処理は、一般に電気めっきで行われる。その内容は銅箔によって様々であるが、ニッケル、亜鉛、銅などの金属を単独もしくは合金としてめっきしている。一般的には、この後、銅箔にはクロメート処理と呼ばれる化成処理が行われる。この化成処理皮膜は不動体皮膜として銅箔表面を保護すると同時に、多量に含むＯＨ基の存在によって基材と化学的な接合を起こしやすくし、基材との接着力を高める役割を持っている。
【０００４】
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、次のものがある。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３５３９１８号公報
【特許文献２】特開平８−３０９９１８号公報
【特許文献３】特開２００６−２８９９５９号公報
【特許文献４】特開２００４−４７６８１号公報
【特許文献５】特開２００６−３１９２８６号公報
【特許文献６】特開２００５−３５３９１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に、クロメート処理は６価クロムを含む処理液に浸漬もしくは電解することで行われ、そのクロメート皮膜には６価クロムが含有される。６価クロムはその自己修復作用により高い耐食性を有する反面、発がん性の疑いがあることが指摘されており、ＥＵ（欧州連合）のＥＬＶ指令（使用済み廃車指令：Ｅｎｄ−ｏｆ−Ｌｉｆｅ  Ｖｅｈｉｃｌｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｖｅ）やＲｏＨＳ（電気電子機器の特定有害物質使用規制：Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｕｓｅ  ｏｆ  ｃｅｒｔａｉｎ  Ｈａｚａｒｄｏｕｓ  Ｓｕｂｓｔａｎｃｅｓ  ｉｎ  ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  ａｎｄ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）などによって規制されるようになってきた。
【０００７】
フレキシブルプリント配線板用銅箔としては含有されるクロム量が微量であるために、現状では注目されることも少ないが、将来的に６価クロムフリー技術が必要となることは確実であり、近年では６価クロムフリーな銅箔の製造技術として、例えば特許文献５のように、３価クロムを用いた化成処理を行うことも考案されている。
【０００８】
しかしながら、３価クロム化成処理は外的環境因子による６価クロムへの再酸化についての懸念も拭いきれておらず、クロムを含有しない表面処理の開発は急務となっている。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、クロムを含有せず、なおかつ基材との密着性が良好であるフレキシブルプリント配線板用銅箔及びその製造方法、並びにフレキシブルプリント配線板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は上記目的を達成するために創案されたものであり、請求項１の発明は、銅箔と、その銅箔の表面に形成されたニッケル層またはニッケル合金層と、そのニッケル層またはニッケル合金層の表面に形成された酸化ニッケル層と、その酸化ニッケル層の表面に形成されたシランカップリング処理層とを備えるフレキシブルプリント配線板用銅箔である。
【００１１】
請求項２の発明は、前記銅箔の表面と前記ニッケル層またはニッケル合金層との間に、粗化めっき層を備える請求項１記載のプリント配線板用銅箔である。
【００１２】
請求項３の発明は、前記シランカップリング処理層は、アミノ基を有する請求項１または２記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔である。
【００１３】
請求項４の発明は、銅箔の表面に、ニッケル層またはニッケル合金層を形成し、これを加熱乾燥させて、前記ニッケル層またはニッケル合金層の表面に酸化ニッケル層を形成し、その酸化ニッケル層の表面にシランカップリング処理層を形成するフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法である。
【００１４】
請求項５の発明は、前記銅箔の表面に粗化めっき層を形成した後、前記ニッケル層またはニッケル合金層、前記酸化ニッケル層、および前記シランカップリング処理層を順次形成する請求項４記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法である。
【００１５】
請求項６の発明は、前記シランカップリング処理層は、アミノ基を有するシランカップリング剤を用いて形成される請求項４または５記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法である。
【００１６】
請求項７の発明は、基材と、その基材上に形成された請求項１〜３いずれかに記載のフレキシブルプリント配線板用銅箔からなる回路とを備えるフレキシブルプリント配線板である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、環境負荷の大きい６価クロムに代表されるクロムを含有せず、なおかつ基材との密着性の良好なフレキシブルプリント配線板用銅箔を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施形態を添付図面にしたがって説明する。
【００１９】
図１は、本発明の好適な実施形態を示すフレキシブルプリント配線板用銅箔の断面図である。
【００２０】
図１に示すように、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１は、銅箔２の基材と接着する側（図１では下側）の表面Ｓ１に、粗化めっき層６、ニッケル層３、酸化ニッケル層４、シランカップリング処理層５を順次形成したものである。銅箔２の基材と接触しない側（図１では上側）の表面Ｓ２には、ニッケル層３、酸化ニッケル層４が順次形成される。
【００２１】
銅箔２としては、圧延銅箔あるいは電解銅箔を用いるとよい。
【００２２】
銅箔２の基材と接着する側の表面Ｓ１には、基材との接着面積を増加させるため、粗化めっき層６が形成される。
【００２３】
粗化めっき層６の表面、および銅箔２の基材と接着しない側の表面Ｓ２には、ニッケル層３が形成される。このニッケル層３は、銅箔２に耐加熱変色性、耐湿変色性を付与すると共に、銅箔２の銅原子の拡散を防止するバリア層としても機能する。
【００２４】
ニッケル層３は、そのエッチング性を高めるためコバルトを添加したり、逆に耐食性を高めるためタングステンやモリブデンを添加するなどしてニッケル合金層としてもよい。
【００２５】
また、ニッケル層３のニッケル（またはニッケル合金）の重量は、５μｇ／ｃｍ２以上２０μｇ／ｃｍ２以下であることが望ましい。これは、ニッケル（またはニッケル合金）の重量が５μｇ／ｃｍ２未満では、銅箔２表面に銅が露出する部分が多くなり、基材との接着時に銅箔２の銅が酸化して接着力の妨げになるためである。また、ニッケル（またはニッケル合金）の重量が２０μｇ／ｃｍ２を超えると、回路形成時にエッチング残りが発生し、フレキシブルプリント配線板のマイグレーション不良などの原因となるおそれがあるためである。
【００２６】
ニッケル層３の表面には、そのニッケル層３を大気中で加熱乾燥させて、酸化ニッケル層４が形成される。
【００２７】
基材と接着する側の酸化ニッケル層４の表面には、シランカップリング処理層５が形成される。シランカップリング処理層５は、酸化ニッケル層４を下地とし、シランカップリング剤を用いて形成される。
【００２８】
一般に、シランカップリング剤は、その構造から様々な種類に分類され、接合する基材によって使い分けされる。特にフレキシブルプリント配線板用途では、基材にポリイミドを用いるため、ポリイミドとの接着性および長期安定性のよい、アミノ基を有するシランカップリング剤を用いるとよい。すなわち、シランカップリング処理層５はアミノ基を有するとよい。
【００２９】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシランなどを用いると良い。
【００３０】
次に、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法を説明する。
【００３１】
まず、前処理として、銅箔２のアルカリ電解脱脂処理および酸洗処理を行う（図２（ａ）参照）。
【００３２】
本実施形態では、水酸化ナトリウムおよび炭酸ナトリウムの水溶液を用いてアルカリ電解脱脂処理を行い、その後、硫酸の水溶液に銅箔２を浸漬して酸洗処理を行う。
【００３３】
アルカリ電解脱脂処理と酸洗処理を行った後、銅箔２の基材と接着する側の表面Ｓ１に粗化めっき処理を行い、銅箔２に粗化めっき層６を形成する（図２（ｂ）参照）。
【００３４】
粗化めっき処理では、エッチングやめっきなど、公知の技術を用いて粗化めっき層６を形成するとよい。本実施形態では、めっき浴として硫酸銅５水和物および硫酸の水溶液を用い、ヤケめっきにより粗化めっき層６を形成する。
【００３５】
粗化めっき層６を形成した後、粗化めっき層６の表面および銅箔２の基材と接着しない面Ｓ２に、電解めっきによりニッケル層３（またはニッケル合金層）を形成する（図２（ｃ）参照）。本実施形態では、電解めっきに用いるめっき浴として、硫酸ニッケル６水和物およびクエン酸１水和物の水溶液を用いる。
【００３６】
ニッケル層３を形成した後、このニッケル層３を大気中で熱風などにより加熱乾燥させる。ニッケル層３を大気中に曝すことにより、ニッケル層３の表面に酸化ニッケル層４を形成する（図２（ｄ）参照）。
【００３７】
酸化ニッケル層４を形成した後、基材と接着する側の酸化ニッケル層４を下地として、シランカップリング処理を行い、シランカップリング処理層５を形成する（図２（ｅ）参照）。本実施形態では、アミノ基を有するシランカップリング剤の水溶液を用い、この水溶液を基材と接着する側の酸化ニッケル層４に接触させた後、これを大気中で乾燥させて、シランカップリング処理層５を形成する。
【００３８】
シランカップリング剤の水溶液を基材と接着する側の酸化ニッケル層４に接触させる際は、例えば、上方を解放した水槽を用い、この水槽の上方からシランカップリング剤の水溶液をオーバーフロー（溢れ）させ、このオーバーフローした水溶液を基材と接着する側の酸化ニッケル層４に接触させるとよい。あるいは、基材と接着する側の酸化ニッケル層４に、シランカップリング剤の水溶液をスプレーすることで接触させてもよい。
【００３９】
本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法では、ニッケル層３を形成した後と、シランカップリング処理層５を形成した後の合計２回の乾燥工程を行う。
【００４０】
以上により、図１のフレキシブルプリント配線板用銅箔１が得られる。
【００４１】
本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板は、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１を導電体として用い、このフレキシブルプリント配線板用銅箔１からなる回路を基材上に形成したものである。
【００４２】
本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板を作製する際は、まず、フレキシブルプリント配線板用銅箔１の粗化めっき層６を有する面を基材Ｐ側として基材Ｐと加熱圧着する（図２（ｆ１）参照）、もしくはフレキシブルプリント配線板用銅箔１の粗化めっき層６を有する面に直接ポリイミドワニスを塗布して、基材Ｐとフレキシブルプリント配線板用銅箔１を接着する（図２（ｆ２）参照）。
【００４３】
その後、フレキシブルプリント配線板用銅箔１にフォトレジストによる回路を印刷し、不要の銅部をエッチングにより除去して回路を形成すると、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板が得られる。また、配線のファイン化のため、プリント配線板用銅箔１を酸により溶解する処理を行ってもよい。
【００４４】
次に、本実施形態の作用を説明する。
【００４５】
本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１は、銅箔２の表面に、ニッケル層３（またはニッケル合金層）を形成し、そのニッケル層３の表面に酸化ニッケル層４を形成し、その酸化ニッケル層４の表面にシランカップリング処理層５を形成している。
【００４６】
一般に、シランカップリング処理に用いるシランカップリング剤は水溶液中で加水分解し、シラノールの状態で存在する。シラノールは銅箔２表面のＯＨ基に吸着して水素結合し、この水素結合が乾燥によって脱水し、強固な金属結合を形成する。
【００４７】
また、シラノールは水溶液中で特有の電位を持ち、銅箔２表面とゼータ電位と呼ばれる電位差を発生する。ゼータ電位はシラノールの種類と銅箔２表面の状態によって決まる。ゼータ電位は静電的な反発の大きさに対応していることから、ゼータ電位の値が大きいほどシラノールと銅箔２表面の間には反力が発生する。
【００４８】
発生した反力が大きいと、シラノールは銅箔２表面に近づくことができず、銅箔２表面への吸着するシラノールの量は減少する。すなわち、シラノールと銅箔２表面との電位差（ゼータ電位）を小さくすることで、銅箔２表面へのシラノールの吸着量を増やすことができる。
【００４９】
本実施形態では、酸化ニッケル層４の表面にシランカップリング処理層５を形成している。一般に、酸化ニッケルは、銅、亜鉛、クロムおよびそれらの酸化物などと比較して、シラノールとの電位差が小さいと言われている。よって、バリア層として特にニッケルを用い、これを酸化させてシランカップリング処理の下地となる酸化ニッケル層４を形成することにより、より多くのシラノールを吸着することができる。他の金属では本実施形態と同等の効果を得ることは難しい。
【００５０】
すなわち、ニッケルめっき後に一度加熱乾燥させて酸化ニッケル層４を形成し、その後シランカップリング処理を行うことで、シランカップリング処理の効果を最大限に得ることができる。これにより、例えば、防錆層としてモリブデン化合物皮膜を形成するなどのクロメート代替の処理をしなくても、フレキシブルプリント配線板用銅箔１と基材との接着性を十分に高めることができる。
【００５１】
さらに、クロメート代替の処理を行う必要がないため、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１を容易に製造することができ、製造コストを抑えることができる。
【００５２】
また、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１は、銅箔２の一方の表面Ｓ１に粗化めっき層６を形成した後に、ニッケル層３（またはニッケル合金層）、酸化ニッケル層４、およびシランカップリング処理層５を順次形成している。
【００５３】
粗化めっき層６を形成することにより、基材との接着面積を増加させることができるので、フレキシブルプリント配線板用銅箔１と基材との接着性をより向上させることができる。
【００５４】
さらに、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１のシランカップリング処理層５は、アミノ基を有している。
【００５５】
アミノ基を有するシランカップリング処理層５は、例えば、チオール系のシランカップリング剤を用いて形成した処理層などと比べると、ポリイミドとの接着性および長期安定性が高い。よって、シランカップリング処理層５がアミノ基を有することで、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１と基材との接着性をさらに向上させることができ、長期安定性を得ることができる。
【００５６】
また、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板１は、６価クロムや３価クロムなどのクロムを含有しないため、ＥＬＶ指令やＲｏＨＳなどの規制をクリアでき、環境負荷を低減できる。
【００５７】
本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法によれば、シラノールを吸着しやすい酸化ニッケル層４を、ニッケル層３を加熱乾燥するという簡単な方法で形成できるため、本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔１を容易に作製できる。
【実施例】
【００５８】
（実施例１）
厚さ１６．３μｍの圧延銅箔を、水酸化ナトリウム１ｍｏｌ／Ｌ、炭酸ナトリウム０．２ｍｏｌ／Ｌの水溶液において、浴温４０℃、陰極電流密度５Ａ／ｄｍ２、処理時間３０秒にてアルカリ電解脱脂処理した後、硫酸１．３ｍｏｌ／Ｌの水溶液を用いて、浴温２５℃、処理時間３０秒で浸漬することにより酸洗処理を行った。
【００５９】
この銅箔２の基材との接着面Ｓ１に対して、硫酸銅５水和物０．３６ｍｏｌ／Ｌ、硫酸１．３３ｍｏｌ／Ｌの水溶液を用いて浴温４０℃、陰極電流密度４０Ａ／ｄｍ２、処理時間２秒で粗化めっき処理を行った。
【００６０】
粗化めっき処理に連続して、ニッケルめっきを施した。その浴組成は、硫酸ニッケル６水和物０．６７ｍｏｌ／Ｌ、クエン酸１水和物０．０７０ｍｏｌ／Ｌを用い、浴温４０℃、電流密度２Ａ／ｄｍ２、処理時間４秒とした。このとき得られためっき量は誘導結合高周波プラズマ発光分光分析装置（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ  Ａｔｏｍｉｃ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＩＣＰ−ＡＥＳ、島津製作所製ＩＣＰＳ−７５１０）を用いて測定した。
【００６１】
この銅箔２を大気中にて温度２００℃で熱風乾燥した。熱風乾燥した銅箔２に対し、シランカップリング処理を行った。シランカップリング剤は、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（γ−ＡＰＳ、信越化学社製ＫＢＭ−９０３）を水溶液とし、これを銅箔の基材と接触する側に接触させた。この後、水洗することなく大気中にて温度２００℃で１分間熱風乾燥し、シランカップリング処理層５の脱水を行った。
【００６２】
このフレキシブルプリント配線板用銅箔１の粗化処理面に対してポリイミドワニス（宇部興産社製Ｕ−ワニスＡ）を乾燥後の厚みとして２０μｍとなるように塗布し、窒素ガス環境下で３５０℃、１０分乾燥加熱した。これを用いて塩化第二鉄液エッチングによって幅１ｍｍの直線回路を形成した。
【００６３】
評価はピール強度によって行った。オートグラフ（島津製作所製ＡＧＳ−５００Ａ）を用いて、９０°方向に引き剥がし速度５０ｍｍ／ｍｉｎの速さで直線回路を引き剥がし、その際に発生した荷重を測定した。また、直線回路形成後に３％硫酸、浴温５０℃、処理時間１時間で浸漬処理した後の試料についても同様の方法でピール強度を測定した。
【００６４】
（実施例２）
実施例１と同様に、厚み１６．３μｍの圧延銅箔に対してアルカリ電解脱脂、酸洗、粗化めっき処理を行った後、連続してニッケル−コバルト合金めっきを行った。ニッケル−コバルト合金めっきは、浴組成として硫酸ニッケル６水和物０．６７ｍｏｌ／Ｌ、硫酸コバルト７水和物０．０９０ｍｏｌ／Ｌ、クエン酸１水和物０．０７０ｍｏｌ／Ｌを用い、浴温４０℃、陰極電流密度２Ａ／ｄｍ２、処理時間４秒とした。
【００６５】
この銅箔２を、大気中にて温度２００℃で熱風乾燥した。熱風乾燥した銅箔２に対し、シランカップリング処理を行った。シランカップリング剤は、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（γ−ＡＰＳ、信越化学社製ＫＢＭ−９０３）を水溶液とし、これを銅箔の基材と接触する側に接触させた。この後、水洗することなく大気中にて温度２００℃で１分間熱風乾燥し、シランカップリング処理層５の脱水を行った。
【００６６】
以上により得られた実施例２のフレキシブルプリント配線板用銅箔１に対し、実施例１と同様に評価を行った。
【００６７】
（実施例３）
実施例１と同様に厚み１６．３μｍの圧延銅箔に対してアルカリ電解脱脂、酸洗、粗化めっき処理を行った後、連続してニッケルめっきを行った。
【００６８】
この銅箔２を、大気中にて温度２００℃で熱風乾燥した。熱風乾燥した銅箔２に対し、シランカップリング処理を行った。シランカップリング剤は、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＥＡＰＳ、信越化学社製ＫＢＭ−６０３）を水溶液とし、これを銅箔の基材と接触する側に接触させた。この後、水洗することなく大気中にて温度２００℃で１分間熱風乾燥しシランカップリング処理層５の脱水を行った。
【００６９】
以上により得られた実施例３のフレキシブルプリント配線板用銅箔１に対し、実施例１と同様に評価を行った。
【００７０】
（比較例１）
実施例１と同様に厚み１６．３μｍの圧延銅箔に対してアルカリ電解脱脂、酸洗、粗化めっき処理を行った後、連続してニッケルめっきを行った。
【００７１】
この銅箔に対し、連続してシランカップリング処理を行った。シランカップリング剤は、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（γ−ＡＰＳ、信越化学社製ＫＢＭ−９０３）を水溶液とし、これを銅箔の基材と接触する側に接触させた。この後、水洗することなく大気中にて温度２００℃で１分間熱風乾燥しシランカップリング処理層の脱水を行った。
【００７２】
以上により得られた比較例１の銅箔に対し、実施例１と同様に評価を行った。
【００７３】
（比較例２）
実施例１と同様に厚み１６．３μｍの圧延銅箔に対してアルカリ電解脱脂、酸洗、粗化めっき処理を行った後、連続して亜鉛めっきを行った。亜鉛めっきは、浴組成として硫酸亜鉛７水和物０．３３ｍｏｌ／Ｌ、クエン酸１水和物０．０８０ｍｏｌ／Ｌを用い、浴温２５℃、陰極電流密度１Ａ／ｄｍ２、処理時間４秒とした。
【００７４】
この銅箔を、大気中にて温度２００℃で熱風乾燥した。熱風乾燥した銅箔に対し、シランカップリング処理を行った。シランカップリング剤は、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（γ−ＡＰＳ、信越化学社製ＫＢＭ−９０３）を水溶液とし、これを銅箔の基材と接触する側に接触させた。この後、水洗することなく大気中にて温度２００℃で１分間熱風乾燥し、シランカップリング処理層の脱水を行った。
【００７５】
以上により得られた比較例２の銅箔に対し、実施例１と同様に評価を行った。
【００７６】
（比較例３）
実施例１と同様に厚み１６．３μｍの圧延銅箔に対してアルカリ電解脱脂、酸洗、粗化めっき処理を行った後、連続してニッケルめっきを行った。
【００７７】
この銅箔を、大気中にて温度２００℃で熱風乾燥した。熱風乾燥した銅箔に対し、シランカップリング処理を行った。シランカップリング剤は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（γ−ＧＰＳ、信越化学社製ＫＢＭ−４０３）を水溶液とし、これを銅箔の基材と接触する側に接触させた。この後、水洗することなく大気中にて温度２００℃で１分間熱風乾燥しシランカップリング処理層の脱水を行った。
【００７８】
以上により得られた実施例３の銅箔に対し、実施例１と同様に評価を行った。
【００７９】
実施例１〜３、および比較例１〜３の評価結果をまとめて表１に示す。
【００８０】
【表１】
2009117706.tif 000003
【００８１】
表１に示すように、実施例１〜３のフレキシブルプリント配線板用銅箔１は初期、硫酸浸漬後ともにピール強度が高く、基材との接着性がよいことが分かる。
【００８２】
一方、ニッケルめっき後に熱風乾燥せず、酸化ニッケル層を形成しなかった比較例１では、初期、硫酸浸漬後ともにピール強度が低かった。
【００８３】
また、ニッケルめっきではなく亜鉛めっきを行った比較例２では初期のピール強度が低く、硫酸浸漬により亜鉛めっき層およびシランカップリング層が剥離した。
【００８４】
シランカップリング剤にアミノ基を含まない３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用いた比較例３では、比較例１と同様に初期、硫酸浸漬後ともにピール強度が低かった。
【００８５】
以上の実験結果より、酸化ニッケル層を形成することで接着性が向上することが分かった。さらに、シランカップリング剤としてアミノ基を有するものを用いるとよいことが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の好適な実施形態を示すフレキシブルプリント配線板用銅箔の断面図である。
【図２】本実施形態に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔の製造方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００８７】
１  フレキシブルプリント配線板用銅箔
２  銅箔
３  ニッケル層（またはニッケル合金層）
４  酸化ニッケル層
５  シランカップリング処理層
６  粗化めっき層
【図１】
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【図２】
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