(57)【要約】      （修正有）【課題】従来のスパッタリングＩＴＯフィルムと同等の透明性と導電性を有すると同時に、フレキシビリティにも優れるフレキシブル透明導電フィルム、及びそのフレキシブル透明導電フィルムを用いたフレキシブル機能性素子、並びにその製造方法を提供する。【解決手段】ベースフィルム１上に塗布法により導電性酸化物微粒子層を形成した後、更に該導電性酸化物微粒子層上に同じく塗布法により導電性オーバーコート層３を形成して得られるフレキシブル透明導電フィルムであって、前記導電性酸化物微粒子層には圧縮処理が施されており、前記透明導電層は、前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成され、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分としており、前記導電性オーバーコート層は、導電性成分とバインダーマトリックスを主成分とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルム上に塗布法により導電性酸化物微粒子層を形成した後、更に該導電性酸化物微粒子層上に同じく塗布法により導電性オーバーコート層を形成して得られる透明導電層と導電性オーバーコート層を有するフレキシブル透明導電フィルムであって、
・前記導電性酸化物微粒子層には圧縮処理が施されており、
・前記透明導電層は、前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成され、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分としており、
・前記導電性オーバーコート層は、導電性成分とバインダーマトリックスを主成分とし、且つ、厚さが０．１〜０．５μｍであること、
を特徴とするフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項２】
前記導電性酸化物微粒子層には、更にバインダーマトリックスが主成分として含有されていることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項３】
前記導電性オーバーコート層の導電性成分が、導電性酸化物微粒子、イオン性液体、イオン導電性化合物のいずれか一つ以上であることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項４】
前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項５】
前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項６】
前記ベースフィルムは、該ベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちされており、且つ該ベースフィルムの厚さは３〜５０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項７】
前記バインダーマトリックスは、架橋されており、有機溶剤耐性を有していることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項８】
前記圧縮処理が、ロールの圧延処理により行われることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８に記載のフレキシブル透明導電フィルムの導電性オーバーコート層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルのいずれかの機能性素子を形成し、微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちしている場合には、該支持フィルムをベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去したことを特徴とするフレキシブル機能性素子。
【請求項１０】
ベースフィルム上に塗布法により導電性酸化物微粒子層を形成した後、更に該導電性酸化物微粒子層上に同じく塗布法により導電性オーバーコート層を形成して得られる透明導電層と導電性オーバーコート層を有するフレキシブル透明導電フィルムの製造方法であって、
・前記導電性酸化物微粒子層は、前記ベースフィルム表面に、導電性酸化物微粒子と溶剤を主成分とする導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該塗布層が形成されたベースフィルムに対し圧縮処理を施すことにより形成され、
・前記導電性オーバーコート層は、該導電性酸化物微粒子層上に、導電性成分とバインダーを主成分とする導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布し硬化させて、厚さ０．１〜０．５μｍに形成され、
・前記透明導電層は、前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成されたこと、
を特徴とするフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記導電性酸化物微粒子層形成用塗布液には、更にバインダーが含有されていることを特徴とする請求項１０に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記塗布層が形成されたベースフィルムに対する圧縮処理後、前記導電性オーバーコート層形成用塗布液の塗布前に、該圧縮処理された塗布層を硬化させることを特徴とする請求項１１記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記導電性オーバーコート層形成用塗布液の導電性成分が、導電性酸化物微粒子、イオン性液体、イオン導電性化合物のいずれか一つ以上であることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１４】
前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする請求項１０〜１３のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１５】
前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１６】
前記ベースフィルムの厚さが３〜５０μｍで、且つ、ベースフィルムの透明導電層を形成する面と反対の面に、予めベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちしておくことを特徴とする請求項１０〜１５のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記圧縮処理をロールの圧延処理で行うことを特徴とする請求項１０〜１６のいずれか1項に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１８】
前記圧延処理は、線圧：２９．４〜４９０Ｎ／ｍｍ（３０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ）であることを特徴とする請求項１７に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
【請求項１９】
請求項１０〜１８のフレキシブル透明導電フィルムの導電性オーバーコート層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルのいずれかの機能性素子を形成し、微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちしている場合には、該支持フィルムをベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去することを特徴とするフレキシブル機能性素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とする透明導電層と導電性成分とバインダーマトリックスを主成分とする導電性オーバーコート層がベースフィルム上に塗布法によって順次形成されたフレキシブル透明導電フィルム、及び、そのフレキシブル透明導電フィルムを用いて得られる液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルのいずれかのフレキシブル機能性素子及びそれらの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶を始めとする各種ディスプレイや携帯電話等の電子デバイスにおいては、軽薄短小化の動きが加速しており、それに伴って従来用いられてきたガラス基板をプラスチックフィルムに代替する研究が盛んに行われている。プラスチックフィルムは軽くかつフレキシビリティに優れているため、プラスチックフィルムを、例えば、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下「有機ＥＬ素子」と略称する）、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子（以下「分散型ＥＬ素子」と略称する）、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネル等に適用できれば、極めて軽量でかつフレキシブルな機能性素子を得ることが可能となる。そのため、プラスチックフィルム上に透明導電層が形成された透明導電フィルムのフレキシビリティがますます重要な課題となっている。
【０００３】
上記いずれの機能性素子においても、それらの素子のフレキシブル化を図るための一般な製造方法としては、スパッタリング法、あるいはイオンプレーティング法等の物理的成膜法を用い、インジウム錫酸化物（以下「ＩＴＯ」と略称する）の透明導電層（以下「スパッタリングＩＴＯ層」と略称する）が形成されたプラスチックフィルム（以下「スパッタリングＩＴＯフィルム」と略称する）上に、液晶層、発光層、表示層等の機能性層を形成し、背面電極層で挟み込むように形成する方法が広く行われている。
ここで、上記スパッタリングＩＴＯフィルムは、ベースフィルムとしてのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明プラスチックフィルムの上に無機成分であるＩＴＯ単独層を上記物理的成膜法で厚さ２０〜５０ｎｍ程度となるように形成したものであり、これにより、表面抵抗値１００〜３００Ω／□（オーム・パー・スクエアと読む）程度の低抵抗な透明導電層を得ることが可能となる。
【０００４】
しかし、上記スパッタリングＩＴＯ層は、無機成分の薄膜であって極めて脆いため、基本的にマイクロクラック（割れ）を生じやすいという問題がある。したがって、基材となるプラスチックフィルムには十分な強度と剛性を備えさせる必要があり、その厚みを少なくとも５０μｍ以上、通常は１００μｍ以上としているのが実情であった。厚みが５０μｍ未満（例えば２５μｍ等）の薄いプラスチックフィルムを用いたスパッタリングＩＴＯフィルムの場合、ベースフィルムのフレキシビリティ（柔軟性）が高すぎて、ハンドリングの最中にスパッタリングＩＴＯ層に容易にクラックが生じ、膜の導電性が著しく損ねられる。
【０００５】
そこで、ハンドリングを良くするために、厚さ５０μｍ未満の薄いベースフィルムに、厚さ７５μｍから１２５μｍ程度の支持フィルムを裏打ちした後、該ベースフィルム上にスパッタリングＩＴＯ膜を形成することも試みられたが、この場合にもスパッタリングＩＴＯ層自体のフレキシビリティが乏しいため、支持フィルムを剥離除去するとスパッタリングＩＴＯ層の導電特性とフレキシビリティを両立できないという問題があった。
【０００６】
したがって、スパッタリングＩＴＯフィルムでは十分な強度と剛性を備える厚さ１００μｍ程度のベースフィルムを用いることとなるが、このスパッタリングＩＴＯフィルムを用いて得られる上記機能性素子は、素子を少し曲げただけで（特にＩＴＯ層に引張り応力が働くスパッタリングＩＴＯ膜面を外側にした曲げ）、スパッタリングＩＴＯ層に容易にクラックが生じて機能性素子の動作不良を生じるという問題があり、フレキシビリティに優れるとは言えなかった。
【０００７】
このため、上記スパッタリングによるＩＴＯ層形成に代えて、例えば特許文献１〜５にあるように、プラスチックベースフィルム上へ比較的フレキシブルな透明導電層を形成する方法として、導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を、ベースフィルム上に塗布・乾燥後した後、金属ロールによる圧縮（圧延）処理を行い、次いで、バインダー成分を硬化させる方法が知られている。
この方法では、金属ロールによる圧延処理により透明導電層中の導電性微粒子の充填密度を高め、優れたフレキシビリティを有すると同時に、膜の電気（導電）特性、及び光学特性を大幅に高めることができるという利点がある。
【０００８】
しかし、これら従来の塗布法による透明導電膜を形成する方法をもってしても、樹脂バインダーマトリックス中に充填した導電性酸化物微粒子同士の接触点を介した導電性の発現であるため、スパッタリングＩＴＯフィルムに匹敵する透明性と導電性が両立できないという課題があり、フレキシブル機能性素子の極めて限られた範囲内でしか実用化されていないのが実情であった。
このため、前述の液晶表示素子、有機ＥＬ素子、分散型ＥＬ素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネル等のフレキシブル機能性素子の製造に必要とされる、薄いベースフィルム（プラスチックフィルム）上に形成された透明導電層を有する透明導電フィルムであって、スパッタリングＩＴＯフィルムと同等の透明性と導電性を有し、且つ、フレキシビリティにも優れるフレキシブル透明導電フィルムが求められていた。特許文献６には、ベースフィルム表面上に順次形成された、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層とからなる分散型エレクトロルミネッセンス素子において、前記透明導電層が、導電性酸化物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該透明コーティング層の表面上に塗布して形成された塗布膜に対し圧縮処理を施したものが開示されている。
【特許文献１】特開平４−２３７９０９号
【特許文献２】特開平５−０３６３１４号
【特許文献３】特開２００１−３２１７１７号
【特許文献４】特開２００２−３６４１１号
【特許文献５】特開２００２−４２５５８号
【特許文献６】特開２００６−２０２７３９号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムと同等の透明性と導電性を有すると同時に、フレキシビリティにも優れるフレキシブル透明導電フィルム、及びそのフレキシブル透明導電フィルムを用いた液晶表示素子、有機ＥＬ素子、分散型ＥＬ素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネル等の各種フレキシブル機能性素子、並びにそれらの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明が提供するフレキシブル透明導電フィルムは、ベースフィルム上に、塗布法によって順次形成された導電性酸化物微粒子層（最終的には透明導電層となる）と導電性オーバーコート層を有するフレキシブル透明導電フィルムであって、前記導電性酸化物微粒子層は圧縮処理が施されており、前記透明導電層は前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成され導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、前記導電性オーバーコート層は導電性成分とバインダーマトリックスを主成分とし、且つ、厚さ０．１〜０．５μｍであることを特徴とするものである。上記構成とすることにより、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムと同等の透明性と導電性を有すると同時に、フレキシビリティにも優れるフレキシブル透明導電フィルムが得られる。
【００１１】
即ち、本発明の第１の発明は、ベースフィルム上に塗布法により導電性酸化物微粒子層を形成した後、更に該導電性酸化物微粒子層上に同じく塗布法により導電性オーバーコート層を形成して得られる透明導電層と導電性オーバーコート層を有するフレキシブル透明導電フィルムであって、前記導電性酸化物微粒子層は圧縮処理が施されており、前記透明導電層は、前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成され導電性酸化物微粒子を主成分としており、前記導電性オーバーコート層は、導電性成分とバインダーマトリックスを主成分とし、且つ、厚さが０．１〜０．５μｍであることを特徴とするフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第２の発明は、前記導電性酸化物微粒子層には、更にバインダーマトリックスが主成分として含有されていることを特徴とするフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第３の発明は、前記導電性オーバーコート層の導電性成分が、導電性酸化物微粒子、イオン性液体、イオン導電性化合物のいずれか一つ以上であることを特徴とする第１の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第４の発明は、前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする第１〜３の発明のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第５の発明は、前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とする第１〜４の発明のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第６の発明は、前記ベースフィルムは、該ベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちされており、且つ該ベースフィルムの厚さは３〜５０μｍであることを特徴とする第１の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第７の発明は、前記バインダーマトリックスは、架橋されており、有機溶剤耐性を有していることを特徴とする第１〜６の発明のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第８の発明は、前記圧縮処理が、ロールの圧延処理により行われることを特徴とする第１〜７の発明のいずれか１項に記載のフレキシブル透明導電フィルムを提供する。
本発明の第９の発明は、第１〜８の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの導電性オーバーコート層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルのいずれかの機能性素子を形成し、微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちしている場合には、該支持フィルムをベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去したことを特徴とするフレキシブル機能性素子を提供する。
本発明の第１０の発明は、ベースフィルム上に塗布法により導電性酸化物微粒子層を形成した後、更に該導電性酸化物微粒子層上に同じく塗布法により導電性オーバーコート層を形成して得られる透明導電層と導電性オーバーコート層を有するフレキシブル透明導電フィルムの製造方法であって、前記導電性酸化物微粒子層は、前記ベースフィルム表面に、導電性酸化物微粒子と溶剤を主成分とする導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該塗布層が形成されたベースフィルムに対し圧縮処理を施すことにより形成され、前記導電性オーバーコート層は、該導電性酸化物微粒子層上に、導電性成分とバインダーを主成分とする導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布し硬化させて、厚さ０．１〜０．５μｍに形成され、前記透明導電層は、前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成されたこと、を特徴とするフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１１の発明は、前記導電性酸化物微粒子層形成用塗布液には、更にバインダーが含有されていることを特徴する第１０の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１２の発明は、前記塗布層が形成されたベースフィルムに対する圧縮処理後、前記導電性オーバーコート層形成用塗布液の塗布前に、該圧縮処理された塗布層を硬化させることを特徴する第１１の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１３の発明は、前記導電性オーバーコート層形成用塗布液の導電性成分が、導電性酸化物微粒子、イオン性液体、イオン導電性化合物のいずれか一つ以上であることを特徴とする第１０〜１２の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１４の発明は、前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする第１０〜１３の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１５の発明は、前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とする第１０〜１４の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１６の発明は、前記ベースフィルムの厚さが３〜５０μｍで、且つ、ベースフィルムの透明導電層を形成する面と反対の面に、予めベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちしておくことを特徴とする第１０〜１５の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１７の発明は、前記圧縮処理をロールの圧延処理で行うことを特徴とする第１０〜１６の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法。
本発明の第１８の発明は、前記圧延処理は、線圧：２９．４〜４９０Ｎ／ｍｍ（３０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ）であることを特徴とする第１７の発明に記載のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法を提供する。
本発明の第１９の発明は、第１０〜１８の発明のフレキシブル透明導電フィルムの導電性オーバーコート層上に、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機分散型エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルのいずれかの機能性素子を形成し、微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちしている場合には、該支持フィルムをベースフィルムと微粘着層の界面にて剥離除去することを特徴とするフレキシブル機能性素子の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のフレキシブル透明導電フィルムは、ベースフィルム上に塗布法により導電性酸化物微粒子層を形成した後、更に該導電性酸化物微粒子層上に同じく塗布法により導電性オーバーコート層を形成して得られる透明導電層と導電性オーバーコート層を有するフレキシブル透明導電フィルムであって、前記導電性酸化物微粒子層は圧縮処理が施されており、前記透明導電層は、前記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に前記導電性オーバーコート層のバインダー成分が染込んで形成され導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分としており、前記導電性オーバーコート層は、導電性成分とバインダーマトリックスを主成分とし、且つ、厚さが０．１〜０．５μｍとしている。
従って、これにより、高い導電性を維持したまま、膜強度や耐溶剤擦過性を高めることができ、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムと同等の透明性と導電性を有すると同時に、フレキシビリティにも優れるフレキシブル透明導電フィルムを得ることができる。
また、得られたフレキシブル透明導電フィルムを用いれば、液晶表示素子、有機ＥＬ素子、分散型ＥＬ素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネル等の各種フレキシブル機能性素子を安価に提供することができ、工業的に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
１．フレキシブル機能性素子
まず、本発明のフレキシブル透明導電フィルムが適用可能なフレキシブル機能性素子としては、液晶表示素子、有機ＥＬ素子、分散型ＥＬ素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルがあげられる。
【００１４】
上記液晶表示素子は、携帯電話、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、ＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）等のディスプレイに広く用いられている非発光型の電子表示素子であり、単純マトリクス方式（パッシブマトリックス方式）とアクティブマトリクス方式があり、画質や応答スピードの点でアクティブマトリクス方式が優れている。その基本構造は、液晶を透明電極で挟み込み電圧駆動で液晶分子を配向させて表示を行うものであるが、実際の素子は、上記透明電極に加え、更にカラーフィルター、位相差フィルム、偏光フィルム等を積層して用いられている。
また、別のタイプの液晶表示素子には、窓等の光シャッターやディスプレイ等に用いられている高分子分散型液晶表示素子（以下、「ＰＤＬＣ素子」と略称する場合がある）やポリマーネットワーク液晶表示素子（以下、「ＰＮＬＣ素子」と略称する場合がある）も含まれる。いずれもその基本構造は、上述のように、液晶層を電極（少なくとも一方は透明電極で、本発明の透明導電層が対応する）で挟み込み、電圧駆動で液晶分子を配向させて、液晶層の透明／不透明の外観変化を生じさせる構造体であるが、上記液晶表示素子と異なり、実際の素子において、位相差フィルム、偏光フィルムを必要とせず、素子の構造を単純にできるという特徴がある。ここで、ＰＤＬＣ素子は、高分子樹脂マトリックス中にマイクロカプセル化した液晶が分散した構造で、ＰＮＬＣ素子は、樹脂の網目状ネットワークの網目の部分に液晶が充填した構造であり、一般にＰＤＬＣ素子は液晶層の樹脂含有割合が高いため数十Ｖ以上（例えば、８０Ｖ程度）の交流駆動電圧が必要なのに対し、ＰＮＬＣ素子は液晶層の樹脂含有割合が低いため数〜１５Ｖ程度の交流電圧で駆動できるという特徴がある。
【００１５】
上記有機ＥＬ素子は、液晶表示素子と違って自発光素子であり、低電圧駆動で高輝度が得られるためディスプレイ等の表示装置として期待されている。その構造は、アノード電極層としての透明導電層上に、ポリチオフェン誘導体等の導電性高分子からなる正孔注入層（ホール注入層）、有機発光層（蒸着形成される低分子発光層や塗布形成される高分子発光層）、カソード電極層（発光層への電子注入性の良い、仕事関数の低いマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属層）、ガスバリアコーティング層（あるいは金属やガラスでの封止処理）を順次形成したものである。
【００１６】
上記分散型ＥＬ素子は、蛍光体粒子を含む層に強い交流電界を印加して発光させる自発光素子であり、従来から、携帯電話、リモートコントローラー等の液晶ディスプレイのバックライト等に用いられてきたが、近年の新しい用途として、例えば、携帯電話、リモートコントローラー、ＰＤＡ、ラップトップＰＣ等の携帯情報端末等の各種デバイスのキイ入力部品（キイパッド）の光源として組み込まれている。上記キイパッドに適用した場合には、素子をできるだけ薄く、フレキシブルにして、打鍵耐久性やキイ操作の良好なクリック感の確保が求められている。
その基本構造は、透明電極としての透明導電層上に、少なくとも蛍光体層、誘電体層、背面電極層がスクリーン印刷等により順次形成されており、実際のデバイスでは、銀等の集電電極や、絶縁保護層等が更に形成されているのが、一般的である。
【００１７】
上記電子ペーパー素子は、自らは発光しない非発光型の電子表示素子であり、電源を切っても表示がそのまま残るメモリ効果を備えており、文字表示のためのディスプレイとして期待されている。その表示方式には、電気泳動法により着色粒子を電極間の液体中を移動させる電気泳動方式や、二色性を有する粒子を電場で回転させることにより着色させるツイストボール方式、例えばコレステリック液晶を透明電極で挟み込んで表示を行う液晶方式、着色粒子（トナー）や電子粉流体（ＱｕｉｃｋＲｅｓｐｏｎｓｅ Ｌｉｑｕｉｄ Ｐｏｗｄｅｒ）を空気中を移動させて表示を行う粉体系方式、電気化学的な酸化・還元作用に基づき発色を行うエレクトロクロミック方式、電気化学的な酸化・還元により金属を析出・溶解させ、これに伴う色の変化で表示を行うエレクトロデポジション方式等を挙げることができる。
【００１８】
上記太陽電池は、太陽光線を電気エネルギーに変換する発電素子であり、シリコン太陽電池、ＣＩＳ太陽電池（銅−インジウム−セレン薄膜）、ＣＩＧＳ太陽電池（銅−インジウム−ガリウム−セレン薄膜）、色素増感型太陽電池、有機薄膜太陽電池等があり、例えば、アモルファスシリコン太陽電池であれば、透明基材上に透明電極、半導体発電層（アモルファスシリコン）、金属電極を順次形成したものである。
【００１９】
上記タッチパネルは、位置入力素子であり、抵抗方式や静電容量方式等がある。例えば、抵抗方式タッチパネルでは、座標を検出するための座標検出用抵抗膜としての２枚の透明導電フィルムがドット状の透明スペーサーを介して貼り合わされている構造を有している。透明導電フィルムには打点耐久性が必要とされ、透明導電層はクラックが生じないようなフレキシビリティが求められる。
【００２０】
上記いずれのフレキシブル機能性素子においても、素子の薄型化、軽量化、フレキシビリティ付与がますます重要な課題となっており、本発明のフレキシブル透明導電フィルムを適用すればこれらの課題を達成できる。
尚、上記フレキシブル機能性素子においてディスプレイ機能を有する液晶表示素子、有機ＥＬ素子、電子ペーパー素子では、その表示方式は前述の単純マトリクス方式（パッシブマトリックス方式）とアクティブマトリクス方式のいずれであっても良い。例えば、単純マトリクス方式では、ラインパターン電極を有する２枚の電極付フィルムで、そのラインパターン電極が互いに直交し、かつ電極面が対向するように機能性層（表示層）を挟み込めばよく、本発明のフレキシブル透明導電フィルムの適用では、透明導電層と導電性オーバーコート層からなる２層膜がライン状にパターニングしたものを上記２枚の電極付フィルムの少なくとも一方に用いれば良い。
一方、アクティブマトリクス方式では、全面に透明導電層（コモン電極）が形成された透明導電フィルムと表示画素ごとに走査配線と信号配線に接続したＴＦＴ（薄膜トランジスタ）と画素電極が形成された背面フィルム（バックプレーン）で、電極面が対向するように機能性層（表示層）を挟み込めばよく、本発明のフレキシブル透明導電フィルムの適用では、そのままコモン電極側のフィルムとして、あるいは、透明導電層と導電性オーバーコート層からなる２層膜を画素電極形状にパターニングして背面フィルムとして用いることができる。尚、上記ＴＦＴには、シリコンＴＦＴに比べてフレキシビリティに優れる有機ＴＦＴを用いることが好ましい。有機ＴＦＴは、プラスチックフィルム上に塗布（印刷）形成できる点で、コスト的にもシリコンＴＦＴより優れている。
【００２１】
２．フレキシブル透明導電フィルム
ａ）ベースフィルム
本発明で用いられるベースフィルムは、その厚さが３μｍ以上（例えば３〜１８８μｍ）であることが必要で、好ましくは６〜１２５μｍ、更に好ましくは６〜５０μｍである。ベースフィルムが、例えば１８８μｍを超えて厚くなるとその剛性が高くなり、フレキシブル機能性素子のフレキシビリティが損なわれ、ベースフィルムが薄くなるとフレキシブル機能性素子のフレキシビリティは向上するが、製造工程において取扱いに困難をきたし易く、生産性が悪化する場合がある。
一方、ベースフィルムの厚さが３μｍよりも薄くなると、一般に流通している汎用のフィルムが得られにくくなること、ベースフィルム自体の取扱いが極めて難しくなり支持フィルムによる裏打ちが困難になること、ベースフィルム自体の強度が低下するため、フレキシブル機能性素子の透明導電層を含めた素子の構成要素にダメージが発生することがあるなどの問題があるため好ましくない。
また、ベースフィルムの厚さが１２５μｍよりも厚くなると、そのフレキシビリティは十分高いとは言えないため、適用するデバイスによってはフレキシビリティが不足する可能性があり、十分注意する必要がある。更に、ベースフィルムの厚さが５０μｍまでだと、そのフレキシビリティは十分に高く、またＲｏｌｌ−ｔｏ−Ｒｏｌｌ方式での生産においては、１ロール当たりのフィルム長さを長くできるため、生産性を高くできるという長所もあり、より好ましい。
本発明で用いられるベースフィルムの材質は、透明性又は透光性であり、かつ、その上に透明導電層が形成できれば特に限定されず、各種プラスチックを用いることができる。具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ウレタン、フッ素系樹脂等のプラスチックを用いることができる。その中でも、安価で且つ、強度に優れ、透明性と柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ＰＥＴフィルムが好ましい。
ベースフィルムとして、可視光線透過性の無機および／または有機（プラスチック）繊維（針状、棒状、ウィスカー微粒子も含む）やフレーク状微粒子（板状も含む）で強化されたフィルムを用いても良い。繊維やフレーク状微粒子で強化されたベースフィルムは、より薄いフィルムでも良好な強度を有することが可能となる。
【００２２】
尚、上記ベースフィルムには、透明導電層との密着力を高めるために、易接着処理、具体的には、プラズマ処理、コロナ放電処理、短波長紫外線照射処理等を予め施しておくこともできる。
上記ベースフィルムの透明導電層と導電性オーバーコート層が形成されない面には、ハードコーティング、アンチグレアコーティング、アンチリフレクション（低反射）コーティング、ガスバリアコーティング等を施してもよい。上記透明導電層と導電性オーバーコート層が形成されない面は、最終的に、本発明に係るフレキシブル機能性素子（フレキシブル透明導電フィルムの導電性オーバーコート層上に機能性素子を形成したもの）の最外表面となって外部に露出するため、この面にハードコーティングが施されていると耐擦傷性が向上するため、例えば、上記フレキシブル機能性素子の表示性能の低下を効果的に防止すること等が可能となる。同様に、アンチグレアコーティング、アンチリフレクションコーティングが施されていると、上記フレキシブル機能性素子の最外表面での外光反射が抑制されるため、表示性能を一層向上することが可能となる。また、酸素バリアや水蒸気バリア等のガスバリアコーティングが施されていると、例えば上記フレキシブル機能性素子が酸素や水蒸気で劣化しやすい素子の場合には、素子の機能低下を効果的に防止することが可能となる。
【００２３】
ｂ）支持フィルム
上記ベースフィルムの厚さが３〜５０μｍ（特に、３〜２５μｍ）と薄い場合には、フレキシブル透明導電フィルムの製造工程での取扱いや生産性を考慮すると、ベースフィルムにベースフィルムとの界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムを裏打ちすることが望ましい。
一般的とは言えないが、支持フィルムの素材自体が微粘着性を有する場合は、支持フィルムが微粘着層の働きを兼ね備えるため、特に微粘着層を支持フィルム上に形成する必要はない。
ここで、本発明で用いられる支持フィルムはその厚さが５０μｍ以上、好ましくは７５μｍ以上、更に好ましくは１００μｍ以上であることが好ましい。支持フィルムの厚さが５０μｍ未満だとフィルムの剛性が低下し、各種フレキシブル機能性素子の製造工程での取扱い、基材のそり（カール）、機能性素子層の形成（例えば、分散型ＥＬ素子における蛍光体層等の積層印刷）等に問題を生じやすくなるからである。一方、本発明で用いられる支持フィルムはその厚さが２００μｍ以下であることが好ましい。２００μｍを超えると、支持フィルムが硬く、かつ重くなって扱いづらくなると同時に、コスト的にも好ましくない。
【００２４】
本発明で用いられる支持フィルムには、その材質は特に限定されず、各種プラスチックを用いることができる。具体的には、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ウレタン、フッ素系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）等のプラスチックを用いることができる。その中でも、安価で且つ、強度に優れ、柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ＰＥＴフィルムが好ましい。支持フィルムの透明性は、フレキシブル機能性素子の形成とは直接関係しないが、支持フィルムを通して製品としての素子の特性検査（輝度、外観、表示性能等）を行う場合があるため、透明な方が好ましく、この点でもＰＥＴフィルムは好ましい。
【００２５】
ｃ）微粘着層
本発明で用いられる支持フィルムは、ベースフィルムと密着しながらフレキシブル透明導電フィルムおよびフレキシブル機能性素子の作製工程を経て、最後にベースフィルムから剥離されるので、一般的には片面にアクリル系またはシリコン系の微粘着層が塗布・形成される。シリコン系の微粘着層は耐熱性に優れる点で好ましい。
ここで、本発明で用いられる微粘着層は、ベースフィルムとの関係で剥離強度（１８０°剥離試験[引張り速度＝３００ｍｍ／ｍｉｎ]における、剥離部における単位長さ当りの剥離に必要な力）が１〜４０ｇ／ｃｍ、好ましくは２〜２０ｇ／ｃｍ、更に好ましくは２〜１０ｇ／ｃｍの範囲内にあることが好ましい。剥離強度が１ｇ／ｃｍ未満では支持フィルムとベースフィルムとを接着したとしても、フレキシブル透明導電フィルムや分散型ＥＬ素子の製造工程において剥がれ易くなるため好ましくなく、また、剥離強度が４０ｇ／ｃｍを超えると、支持フィルムとベースフィルムが剥がしづらくなるため、フレキシブル機能性素子が支持フィルムから剥がれにくくなって、素子の剥離工程の作業性の悪化、無理に剥がすことによる素子の伸びや透明導電層の劣化（亀裂等）、ベースフィルム面への微粘着層の一部の付着等が生ずる危険性が高くなる場合があるからである。
【００２６】
ところで、本発明のフレキシブル機能性素子によっては、機能性層の形成過程で、フレキシブル透明導電フィルムに対し数度の加熱処理工程（例えば１２０〜１４０℃程度）を経て製造されるため、これらの処理工程を経た後でも上記剥離強度を維持している必要があり、そのためには、上記微粘着層の材質には、耐熱性が要求される。また、フレキシブル透明導電フィルムの製造時には、紫外線硬化工程が適用される場合があるため、その場合は微粘着層の材質には、耐紫外線性も必要である。
【００２７】
上記、微粘着層に関する剥離強度の説明で述べた通り、本発明のフレキシブル機能性素子によっては、フレキシブル透明導電フィルムに対し数度の加熱処理工程を経て製造される場合があるため、これら加熱処理工程の前後で、上記フレキシブル透明導電フィルムの縦方向（ＭＤ）および横方向（ＴＤ）の寸法変化率は共に０．３％以下、好ましくは０．１５％以下、更に好ましくは０．１％以下であることが好ましい。ここで、プラスチックフィルムにおいては、加熱処理に伴う寸法変化率は一般的に収縮率を示し、例えば２軸延伸ＰＥＴフィルムでは、加熱処理の縦方向（ＭＤ）の収縮率は横方向（ＴＤ）の収縮率の数倍程度大きい値となる。
上記縦方向（ＭＤ）および横方向（ＴＤ）のいずれかの寸法変化率が０．３％を超えると、例えばフレキシブル機能性素子としてフレキシブル分散型ＥＬ素子の場合であれば、フレキシブル透明導電フィルム上に蛍光体層、誘電体層、背面電極層等の各層をそれぞれの層の形成用ペーストを順次パターン印刷・乾燥・加熱硬化させて形成していく各積層過程で、各加熱硬化処理の度に寸法変化（収縮）が起こり印刷ずれを生じ、そのずれの大きさが分散型ＥＬ素子の製造における許容範囲を超える可能性があり、好ましくない。
上記寸法変化率を低減させる方法としては、予め熱収縮させた低熱収縮タイプのベースフィルム、又は、低熱収縮タイプの支持フィルムで裏打ちされたベースフィルムを用いる方法、あるいは、ベースフィルム、又は支持フィルムで裏打ちされたベースフィルムを予め熱収縮させておく方法、フレキシブル透明導電フィルムごと熱収縮させる方法等が考えられるがこれらに限定されない。
【００２８】
３．フレキシブル透明導電フィルムの製造方法
ａ）導電性酸化物微粒子層（最終的には透明導電層となる）、及び導電性酸化物微粒子層の形成方法
次に、本発明のフレキシブル透明導電フィルムの製造方法について説明する。上記ベースフィルム上への導電性酸化物微粒子層の形成は、前述の特許文献１〜５に記載の形成方法を用い、以下の様に行うことができる。
まず、導電性酸化物微粒子を溶剤、又は、必要に応じてバインダー成分を含む溶剤に分散させた導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を、プラスチックフィルム等のベースフィルム上に塗布・乾燥して塗布層を形成した後、この塗布層をベースフィルムごと又は、支持フィルムで裏打ちされたベースフィルムごと圧縮処理を行う（導電性酸化物微粒子層形成用塗布液がバインダー成分を含む場合は、次いで圧縮処理された塗布層のバインダー成分を硬化させても良い）。
更に、上記圧縮処理された塗布層上に、導電性成分とバインダーを主成分とする導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布し硬化させて厚さ０．１〜０．５μｍの導電性オーバーコート層を形成する。
即ち、本発明に係るフレキシブル透明導電フィルムの製造方法は、端的に言えば導電性酸化物微粒子を主成分とする圧縮処理が施された導電性酸化物微粒子層を形成する工程と、導電性酸化物微粒子層上に導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布する工程と、導電性酸化物微粒子層に電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分を染込ませた後硬化させて、透明導電層（導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックス）と導電性オーバーコート層を形成する工程とから構成されている。
ここで、導電性酸化物微粒子層への導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分の染込みについて詳しく説明する。まず、導電性オーバーコート層形成用塗布液を導電性酸化物微粒子層上に塗布すると、導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に導電性オーバーコート層のバインダー成分と溶剤が染込んだ状態となる。次に、乾燥を行うと、溶剤の揮発が進み、導電性酸化物微粒子の間隙におけるバインダー成分濃度が上昇し、最終的に乾燥が終了した時点では、導電性酸化物微粒子の間隙をバインダー成分だけで埋めることとなる。そして、バインダー成分を硬化させることで、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とする透明導電層が形成される。
従って、本明細書にいう「導電性酸化物微粒子層」とは、導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込む前の圧縮処理された塗布層のことをいい、また、本明細書にいう「透明導電層」とは、導電性酸化物微粒子層に導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込んで最終的に得られる導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスからなる層のことをいう。
【００２９】
上記圧縮処理を行うと導電性酸化物微粒子層中の導電性微粒子の充填密度が上昇するため、光の散乱を低下させて膜の光学特性を向上させるだけでなく、導電性を大幅に高めることができる。圧縮処理としては、例えば、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液が塗布・乾燥されたベースフィルムをハードクロムメッキされた金属ロール等により圧延すればよく、この場合のロールの圧延圧力は線圧：２９．４〜４９０Ｎ／ｍｍ（３０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ）が良く、９８〜２９４Ｎ／ｍｍ（１００〜３００ｋｇｆ／ｃｍ）がより好ましい。線圧：２９．４Ｎ／ｍｍ（３０ｋｇｆ／ｃｍ）未満では、圧延処理による導電性酸化物微粒子層の抵抗値改善の効果が不十分で、線圧：４９０Ｎ／ｍｍ（５００ｋｇｆ／ｃｍ）を超えると、圧延設備が大型化すると同時に、ベースフィルムや支持フィルムが歪んでしまう場合があるからである。
上記ロールの圧延処理における単位面積当りの圧延圧力（Ｎ／ｍｍ２）は、線圧をニップ幅（金属ロールと導電性酸化物微粒子層の接触部分においてロールで導電性酸化物微粒子層がつぶされる領域の幅）で割った値であって、ニップ幅は、ロールの径と線圧にもよるが、１５０ｍｍ程度のロール直径であれば、０．７〜２ｍｍ程度である。本発明では、厚さ３〜５０μｍと薄いベースフィルムを用いる場合には、支持フィルムを裏打ちした後上記圧延処理を施しているため、ベースフィルムの歪みやしわの発生を効果的に防止できる。更に、ハードクロムメッキされた金属ロールによる圧延処理では、その金属ロール表面の凹凸が極めて小さい鏡面ロールを用いることで、上記圧延処理後に得られる導電性酸化物微粒子層の表面を極めて平滑にすることができる。これは、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を塗布して得られる塗布層に凸部分があった場合でも、その凸部分を上記金属ロールによる圧延処理で物理的に平らにできるからである。導電性酸化物微粒子層の表面の平滑性が良いと最終的に表面となる導電性オーバーコート層の表面平滑性も向上するため、前述の各種機能性素子において、電極間のショートや素子の欠陥の発生を防止する効果があり、非常に好ましい。
【００３０】
ここで、例えばバインダー成分を含まない導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を用いて得られた上記圧縮処理された塗布層は、圧縮処理により導電性酸化物微粒子が緻密に充填した構造のため、高い導電性は示すものの、導電性酸化物微粒子の間隙にバインダー成分が含まれていないため膜強度は著しく弱く、そのままでは実用に適さない。ところが、導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布すると、導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が上記導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に染込むことで、透明導電層のバインダーマトリックスを形成するため、上記した高い導電性を維持したまま、膜強度や耐溶剤擦過性を高めることが可能となる。更に、導電性オーバーコート層形成用塗布液の導電性酸化物微粒子層上への塗布により、上記導電性酸化物微粒子の間隙の空気（屈折率＝１）がバインダーマトリックス（樹脂バインダーであれば、通常、屈折率＝１．４〜１．６）で埋められるため、可視光線の散乱が抑制され、透明導電層の透明性（ヘイズ値）が高められる。そして、透明導電層は導電性酸化物粒子とバインダーマトリックスを主成分とする膜構造を有し、導電性オーバーコート層は導電成分とバインダーマトリックスを主成分とする膜構造を有するため、透明導電層と導電性オーバーコート層からなる２層膜は、前述のスパッタリングＩＴＯ層と比べ、膜にクラックが生じず、非常に優れた柔軟性を有するという特徴がある。
必要に応じて、上記導電性酸化物微粒子層形成用塗布液にバインダー成分を加えても良いが、塗布層の圧縮処理工程において、導電性酸化物微粒子同士の間にバインダー成分が介在しやすくなるため、バインダー成分を加えない場合と比べて、導電性酸化物微粒子層の抵抗値が幾分悪化する欠点がある。ただし、圧縮処理された塗布層の硬化を行うことが可能なため、該塗布層の段階での強度を向上でき、以後の製造工程において傷等の欠陥が生じにくくなる長所もあるため、バインダー成分の添加に関しては、適宜決めればよい。
尚、導電性酸化物微粒子層は、ベースフィルム上の全面に形成しても良いし、必要な部分にだけパターン形成しても良い。導電性酸化物微粒子層の厚さは、通常、０．５〜１．５μｍ程度［導電性酸化物微粒子層の透過率（ベースフィルムを含まない導電性酸化物微粒子層だけの透過率）に換算すると、約８８〜９６％に相当する］であり、上記圧縮処理が施される際のベースフィルムの厚さ（ベースフィルム単独で圧縮処理される場合は通常５０〜１８８μｍ）や支持フィルムで裏打ちされたベースフィルムの厚さ（５３〜２５０μｍ；厚さ３〜５０μｍのベースフィルムが厚さ５０〜２００μｍの支持フィルムで裏打ちされる）と較べて薄いため、パターン印刷により導電性酸化物微粒子層がパターンを有していても上記圧縮処理時の圧力を均等に印加することができる。
【００３１】
ｂ）導電性オーバーコート層、導電性オーバーコート層の形成方法
上記したように、上記圧縮処理された塗布層上に、導電性成分とバインダーを主成分とする導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布し硬化させて厚さ０．１〜０．５μｍの導電性オーバーコート層を形成する。
上記導電性オーバーコート層の厚さは０．１〜０．５μｍの範囲が良く、０．１〜０．３が更に好ましい。０．１μｍ未満での膜厚制御は困難で、無理に０．１μｍ未満の厚さを得ようと導電性オーバーコート層形成用塗布液を薄く塗布すると、導電性オーバーコート層形成用塗布液中のバインダー成分の量が導電性酸化物微粒子層の間隙をぎりぎり埋める程度しかないため、導電性酸化物微粒子層の厚さのバラツキや、導電性オーバーコート層形成用塗布液の塗布膜厚のバラツキによって、導電性酸化物微粒子層の間隙を完全に埋めることができない不均一な部分的が生じるため好ましくない（即ち、上記不均一な部分では、透明導電層や導電性オーバーコート層はバインダーマトリックスが不足したポーラスな膜となり、透明性が低く（ヘイズ値が高く）、膜強度の弱い脆い膜となる。）。一方、導電性オーバーコート層の厚さが０．５μｍを越えると導電性オーバーコート層を介した透明導電層の抵抗値が大きくなりやすく、ひどい場合にはオーミック接続が取れなくなるため好ましくない。
【００３２】
導電性オーバーコート層形成用塗布液の導電性成分は、導電性酸化物微粒子、イオン性液体、イオン導電性化合物のいずれか一つ以上であることを要する。これらの導電成分によって導電性オーバーコート層に例えば１０２〜１０６Ω・ｃｍ程度の導電性を付与できる。導電性成分として導電性酸化物微粒子を用いる場合は、少量の配合割合で効果的に導電性オーバーコート層に導電性を付与するために、塗布膜の乾燥過程でバインダーマトリックス中に導電性酸化物微粒子の３次元導電ネットワーク構造を有するように導電性オーバーコート層形成用塗布液の溶剤組成等を工夫することが好ましい。この場合における、導電性オーバーコート層形成用塗布液中の導電性酸化物微粒子とバインダー成分の割合は、仮に導電性酸化物微粒子とバインダー成分の比重をそれぞれ７．２程度（ＩＴＯの比重を記す）と１．２程度（通常の有機樹脂バインダーの比重を記す）と仮定した場合、重量比で、導電性酸化物微粒子：バインダー成分＝５：９５〜２５：７５、好ましくは１０：９０〜１５：８５が好ましい。
その理由は、５：９５よりバインダー成分が多いと導電性オーバーコート層中の導電性酸化物微粒子が少なくなりすぎて、導電性オーバーコート層の全面に導電性酸化物微粒子の導電ネットワーク構造が形成できなくなり、導電性オーバーコート層面内に絶縁性領域が点在するようになって、得られる透明導電層と導電性オーバーコート層からなる２層膜の抵抗値の面内均一性が悪化するからである（例えば、導電性オーバーコート層面内にミクロンオーダーサイズの絶縁領域が生じると、上記領域では導電性オーバーコート層を介して下層の透明導電層との導通が極めて取りにくくなるため、電子ペーパー等の表示素子の透明電極に適用した場合には、その領域で表示エラーが発生する可能性が高くなる）。
一方、２５：７５よりバインダー成分が少ないと、導電性オーバーコート層中の導電性酸化物微粒子が多くなりすぎて、導電性オーバーコート層中のバインダーマトリックスの量が不足し（導電性オーバーコート層形成用塗布液中のバインダー成分は、導電性酸化物微粒子層の導電性酸化物微粒子の間隙に染込むため、導電性オーバーコート層では、上記２５：７５よりも更にバインダー成分は少なくなる）、導電性オーバーコート層がポーラスとなると共に、表面に導電性酸化物微粒子の凹凸をそのまま反映した凹凸が形成され、導電性オーバーコート層の強度や透明性（ヘイズ値）が大幅に悪化するからである。
尚、前述の導電性酸化物微粒子層をパターン形成した場合に、そのパターン形成された導電性酸化物微粒子層上に形成される導電性オーバーコート層は、導電性酸化物微粒子層と同様のパターン形成を行ってもよいが、必ず行わなければならないという訳ではない。すなわち、図３に示すように、パターン形成された導電性酸化物微粒子層上、及び導電性酸化物微粒子層が形成されていないベースフィルム上の全面に導電性オーバーコート層形成用塗布液を塗布して導電パターンを形成しても良い。この場合、パターン形成された導電性酸化物微粒子層上の導電性オーバーコート層は、バインダー成分が導電性酸化物微粒子層の間隙に染込んで導電性酸化物微粒子の導電ネットワーク構造を形成して導電性を発現する一方で、導電性酸化物微粒子層が形成されていないベースフィルム上は、導電性オーバーコート層形成用塗布液中のバインダー成分が導電性酸化物微粒子層の間隙に全く染込まず導電性酸化物微粒子に対してバインダー成分が過剰となって導電性酸化物微粒子の導電ネットワーク構造を形成できず絶縁性となる。ただし、上記メカニズムが機能するように、導電性オーバーコート層形成用塗布液中の導電性酸化物微粒子とバインダー成分の割合や、溶剤組成などを十分に最適化しておく必要がある。
【００３３】
ｃ）導電性酸化物微粒子
本発明で用いられる透明導電層形成用塗布液や導電性オーバーコート層形成用塗布液に適用される導電性酸化物微粒子としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分とする導電性酸化物微粒子であって、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）微粒子、インジウム−タングステン酸化物（ＩＷＯ）微粒子、インジウム−チタン酸化物（ＩＴｉＯ）微粒子、インジウムジルコニウム酸化物微粒子、錫アンチモン酸化物（ＡＴＯ）微粒子、フッ素錫酸化物（ＦＴＯ）微粒子、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）微粒子、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）微粒子等が挙げられるが、透明性と導電性を具備していれば良く、これらに限定されない。ただし、上記中でもＩＴＯ微粒子が最も高特性であり、好ましい。
【００３４】
本発明で用いられる導電性酸化物微粒子の平均粒径は、１〜５００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍが更に好ましい。平均粒径が１ｎｍ未満では導電性酸化物微粒子層形成用塗布液の製造が困難となり、また得られる導電性酸化物微粒子層の抵抗値が高くなる。一方、５００ｎｍを超えると、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液中で導電性酸化物微粒子が沈降し易く取扱いが容易でなくなると同時に、導電性酸化物微粒子層において高透過率と低抵抗値を同時に達成することが困難になるからである。尚、上記導電性酸化物微粒子の平均粒径は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察された値を示している。
【００３５】
ｄ）導電性酸化物微粒子層形成用塗布液、導電性オーバーコート層形成用塗布液中のバインダー成分
ここで、導電性オーバーコート層形成用塗布液中のバインダー成分は、導電性酸化物微粒子層中に染込んで導電性酸化物微粒子同士を結合させ膜の導電性と強度を高める働きや、ベースフィルムと透明導電層の密着力を高める働きを有している。バインダーとしては、有機及び／又は無機バインダーを用いることが可能であり、上記役割を満たすように、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を適用するベースフィルム、導電性酸化物微粒子層や導電性オーバーコート層形成用塗布液の膜形成条件等を考慮して、適宜選定することができる。
また、上記バインダー成分で導電性オーバーコート層の強度や高度、耐溶剤擦過性等の特性が決まるため、バインダーは架橋性で耐溶剤性を有し、かつハードコート機能を有する硬度のものが好ましい。
ところで、前述したように、導電性オーバーコート層形成用塗布液の塗布・乾燥において、まず導電性酸化物微粒子層中へバインダー成分が染込み、その後の溶剤の揮発に伴い、導電性酸化物微粒子の間隙をバインダー成分だけで埋めるという観点からすると、バインダーとしては、硬化する前は単体で流動可能な液状で、架橋等の硬化によって強固なバインダーマトリックスを形成するものが好ましい。
【００３６】
本発明で用いられる有機バインダーとしては、アクリル樹脂やポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂も適用できなくはないが、一般的には耐溶剤性を有することが好ましく、そのために架橋可能な樹脂であることが必要で、熱硬化性樹脂、常温硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等から選定することができる。例えば、熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹脂、フッ素樹脂など、常温硬化性樹脂としては２液性のエポキシ樹脂やウレタン樹脂など、紫外線硬化性樹脂としては各種オリゴマー、モノマー、光重合開始剤を含有する樹脂など、電子線硬化性樹脂としては各種オリゴマー、モノマーを含有する樹脂などを挙げることができるが、これら樹脂に限定されるものではない。
【００３７】
また、本発明で用いられる無機バインダーとしては、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル等を主成分とするバインダーを挙げることができる。例えば、上記シリカゾルとしては、テトラアルキルシリケートに水や酸触媒を加えて加水分解し、脱水縮重合を進ませた重合物、あるいは既に４〜５量体まで重合を進ませた市販のアルキルシリケート溶液を、更に加水分解と脱水縮重合を進行させた重合物等を利用することができる。
【００３８】
尚、脱水縮重合が進行し過ぎると、溶液粘度が上昇して最終的に固化してしまうので、脱水縮重合の度合いについては、透明基板上に塗布可能な上限粘度以下に調整する。ただし、脱水縮重合の度合いは上記上限粘度以下のレベルであれば特に限定されないが、膜強度、耐候性等を考慮すると、重量平均分子量で５００〜５００００程度が好ましい。そして、このアルキルシリケート加水分解重合物（シリカゾル）は、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液や導電性オーバーコート層形成用塗布液の塗布・乾燥後の加熱時において脱水縮重合反応（架橋反応）がほぼ完結し、硬いシリケートバインダーマトリックス（酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックス）になる。上記脱水縮重合反応は膜の乾燥直後から始まり、時間が経過すると導電性酸化物微粒子同士が動けなくなる程強固に固めてしまうため、無機バインダーを用いた場合には、上述の圧縮処理は、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液の塗布・乾燥後、可能な限り速やかに行う必要がある。
【００３９】
本発明で用いられるバインダーとして、有機−無機のハイブリッドバインダーを用いることもできる。例えば、前述のシリカゾルを一部有機官能基で修飾したバインダーや、シリコンカップリング剤等の各種カップリング剤を主成分とするバインダーが挙げられる。
【００４０】
本発明で用いられる無機バインダーや有機−無機のハイブリッドバインダーを用いた透明導電層や導電性オーバーコート層は、必然的に優れた耐溶剤性を有しているが、ベースフィルムとの密着力や、透明導電層や導電性オーバーコート層の柔軟性等が悪化しないように、適宜選定する必要がある。
【００４１】
前述のように、本発明で用いられる導電性酸化物微粒子層形成用塗布液は、バインダー成分を含まなくても良いため、導電性酸化物微粒子とバインダー成分の割合は、仮に導電性酸化物微粒子とバインダー成分の比重をそれぞれ７．２程度（ＩＴＯの比重を記す）と１．２程度（通常の有機樹脂バインダーの比重を記す）と仮定した場合、重量比で、導電性酸化物微粒子：バインダー成分＝８５：１５〜１００：０、好ましくは９５：５〜１００：０が好ましい。その理由は、８５：１５よりバインダー成分が多いと導電性酸化物微粒子層、及び最終的に得られる透明導電層の抵抗が高くなりすぎるからである。
【００４２】
ｅ）導電性酸化物微粒子層形成用塗布液の製造方法
次に、本発明で用いられる導電性酸化物微粒子層形成用塗布液の製造方法を説明する。まず、導電性酸化物微粒子を溶剤、及び必要に応じて分散剤、と混合した後、分散処理を行い導電性酸化物微粒子分散液を得る。
分散剤としては、シランカップリング剤等の各種カップリング剤、各種高分子分散剤、アニオン系・ノニオン系・カチオン系等の各種界面活性剤が挙げられる。これら分散剤は、用いる導電性酸化物微粒子の種類や分散処理方法に応じて適宜選定することができる。また、分散剤を全く用いなくても、適用する導電性酸化物微粒子と溶剤の組合せ、及び分散方法の如何によっては、良好な分散状態を得ることができる場合がある。分散剤の使用は膜の抵抗値や耐候性を悪化させる可能性があるので、分散剤を用いない導電性酸化物微粒子層形成用塗布液が最も好ましい。
分散処理としては、超音波処理、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ビーズミル等の汎用の方法を適用することができる。
【００４３】
得られた導電性酸化物微粒子分散液に、必要に応じてバインダー成分を添加し、更に導電性酸化物微粒子濃度、溶剤組成等の成分調整を行うことにより、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液が得られる。バインダー成分を添加する場合には、導電性酸化物微粒子の分散液に加えても良いし、前述の導電性酸化物微粒子の分散工程前に予め加えてもよく、特に制約はない。導電性酸化物微粒子濃度は、用いる塗布方法に応じて、適宜設定すればよい。
【００４４】
本発明で用いられる導電性酸化物微粒子層形成用塗布液や導電性オーバーコート層形成用塗布液に用いる溶媒としては、特に制限はなく、塗布方法、製膜条件、ベースフィルムの材質により適宜に選定することができる。例えば、水、メタノール（ＭＡ）、エタノール（ＥＡ）、１−プロパノール（ＮＰＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）等のアルコール系溶剤、アセトン、アセチルアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（ＥＣＳ）、エチレングリコールイソプロピルエーテル（ＩＰＣ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコールエチルエーテル（ＰＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭ−ＡＣ）、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート（ＰＥ−ＡＣ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、ホルムアミド（ＦＡ）、Ｎ−メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド(ＤＭＳＯ)、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、クロロホルム、ミネラルスピリッツ、ターピネオール等の中から適宜選択できるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
本発明に係る液晶表示素子、有機ＥＬ素子、分散型ＥＬ素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネルのいずれかのフレキシブル機能性素子の製造方法は、本発明のフレキシブル透明導電フィルムの透明導電層上に、上記各機能性素子を形成して実施することができる。微粘着層を有する支持フィルムで裏打ちされたベースフィルムを用いた場合は、各機能性素子を形成した後、ベースフィルムと微粘着層の界面にて支持フィルムを剥離除去する。
【００４６】
本発明に係るフレキシブル透明導電フィルムは、スパッタリングＩＴＯフィルムと同等の透明性と導電性を有すると同時に、薄いベースフィルム上への透明導電層の形成が可能でフレキシビリティにも優れているため、それを用いて得られる本発明に係る液晶表示素子、有機ＥＬ素子、分散型ＥＬ素子、電子ペーパー素子、太陽電池、タッチパネル等の各種フレキシブル機能性素子も優れたフレキシビリティに有しており、例えば各種表示デバイスの薄型化や軽量化に極めて有用である。
［実施例］
【００４７】
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００４８】
平均粒径０．０３μｍの粒状のＩＴＯ微粒子（商品名：ＳＵＦＰ−ＨＸ、住友金属鉱山製）４０ｇを溶剤としてのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）２０ｇとシクロヘキサノン３９．９ｇと混合し、分散剤０．１ｇを添加して分散処理を行って、平均分散粒径１３０ｎｍのＩＴＯ微粒子が分散した導電性酸化物微粒子層形成用塗布液（導電性酸化物微粒子：バインダー成分＝１００：０[重量比]）を得た。
【００４９】
平均粒径０．０３μｍの粒状のＩＴＯ微粒子（商品名：ＳＵＦＰ−ＨＸ、住友金属鉱山製）５ｇを溶剤としてのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）２０ｇとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）４９．９８ｇと混合し、分散剤０．０２ｇを添加して分散処理を行った後、ウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂バインダー２２．５ｇと光重合開始剤（ダロキュアー１１７３）２．５ｇを加えて良く攪拌して、平均分散粒径１４０ｎｍのＩＴＯ微粒子が分散した導電性オーバーコート層形成用塗布液（導電性酸化物微粒子：バインダー成分（紫外線硬化性樹脂＋光重合開始剤）＝１６．７：８３．３[重量比]）を得た。
【００５０】
まず、フレキシブル透明導電フィルムの製造に先立って、易接着処理（コロナ放電処理）を施したベースフィルム（東レ製、Ｕ３４；ＰＥＴ：厚さ１００μｍ、透過率：９３．０％、ヘイズ値：０．６％）の加熱収縮処理（１５０℃×３分、テンションフリー）を行った。上記ベースフィルムの上に、上記導電性酸化物微粒子層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング（線径：０．１５ｍｍ）し、６０℃で２分間乾燥した後、直径１００ｍｍのハードクロムめっきした金属ロールによる圧延処理（線圧：２００ｋｇｆ／ｃｍ＝１９６Ｎ／ｍｍ、ニップ幅：０．９ｍｍ）を行い、ベースフィルム上に緻密に充填されたＩＴＯ微粒子で構成される導電性酸化物微粒子層（膜厚：約１．３μｍ）を形成した。上記導電性酸化物微粒子層の膜特性は、可視光透過率：９０．３％、ヘイズ値：３．６％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。
【００５１】
上記導電性酸化物微粒子層の上に上記導電性オーバーコート層形成用塗布液をスリットコーターで塗布し、室温で５分間、６０℃で２分間乾燥した後、更に高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化（窒素中、１００ｍＷ／ｃｍ２×２秒間）を行って、バインダーマトリックス中にＩＴＯ微粒子の導電ネットワーク構造を有する導電性オーバーコート層（膜厚：約０．１５μｍ）を形成し、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなる実施例１に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルム、加熱時の寸法変化率（収縮率）は、約０．０５％であった。ここで、寸法変化率（収縮率）は、上記実施例１に係るフレキシブル透明導電フィルムを加熱処理（１５０℃×３０分）して求めたフィルムの縦方向（ＭＤ）と横方向（ＴＤ）の寸法変化率（収縮率）の内、値の大きい縦方向（ＭＤ）の寸法変化率（収縮率）を示す。
尚、上記透明導電層は、緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーマトリックスで構成されており、そのバインダーマトリックス部分は、導電性酸化物微粒子層中のＩＴＯ微粒子の間隙に導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込むことで、形成されたものである。
上記透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性は、可視光透過率：９１．０％、ヘイズ値：１．３％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
【００５２】
尚、上述の導電性酸化物微粒子層、及び透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の透過率及びヘイズ値は、導電性酸化物微粒子層、及び２層膜だけの値であり、それぞれ下記計算式１及び２により求められる。
［計算式１］
導電性酸化物微粒子層、又は２層膜の透過率（％）＝［（導電性酸化物微粒子層、又は２層膜とベースフィルムごと測定した透過率）／ベースフィルムの透過率］×１００
［計算式２］
導電性酸化物微粒子層、又は２層膜のヘイズ値（％）＝（導電性酸化物微粒子層、又は２層膜とベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（ベースフィルムのヘイズ値）
【００５３】
また、導電性酸化物微粒子層、及び透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の表面抵抗は、三菱化学(株)製の表面抵抗計ロレスタＡＰ（ＭＣＰ−Ｔ４００）を用い測定した。ヘイズ値と可視光透過率は、日本電色製のヘイズメーター（ＮＤＨ５０００）を用いＪＩＳＫ７１３６（ヘイズ値）、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（透過率）に基づいて測定した。
更に、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層と導電性オーバーコート層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面、透明導電層と導電性オーバーコート層の界面は強く密着していることが確認された。
【００５４】
次に、上記フレキシブル透明導電フィルムの透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜上に、白色微粒子と黒色微粒子を含むマイクロカプセルからなる電気泳動方式の表示層（層厚４０μｍ）を形成し、更にその表示層にカーボン導電ペーストを塗布したＰＥＴフィルム（厚さ２５μｍ）のカーボン導電層面を貼り合せた。
【００５５】
上記表示層を介して貼り合わされた透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成した後、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／透明導電層（厚さ：約１．３μｍ）／導電性オーバーコート層（厚さ：約０．１５μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる実施例１に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。尚、電極間ショート、感電等を防止するために、必要に応じて、透明導電層やカーボン導電層や電圧印加用Ａｇリード線上に絶縁保護コーティングとして、絶縁ペーストを用いて絶縁層を形成したが、本発明の本質に係る部分ではないので、詳細は省略する。
また、機能性素子の信頼性確保のために素子のフレキシブル透明導電フィルム面にはガスバリアフィルム（凸版印刷製、ＧＸ−Ｐ−Ｆフィルム；以下「ＧＸフィルム」と略称する）（厚さ：約１３μｍ）、フィルム構成：ＰＥＴフィルム（厚さ１２μｍ）／蒸着アルミナガスバリア層（厚さ：１０〜数十ｎｍ）／シリケート・ポリビニルアルコールハイブリッドコーティング層；水蒸気透過率＝０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ（測定雰囲気：４０℃×９０％ＲＨ）、酸素透過率＝約０．２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ（測定雰囲気：３０℃×７０％ＲＨ）、透過率＝８８．５％、ヘイズ値＝２．３％）を貼り合せ、逆の面にも防湿ラミネート処理を施したが、詳細は省略する。
【００５６】
上記フレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。
【実施例２】
【００５７】
まず、フレキシブル透明導電フィルムの製造に先立って、耐熱性シリコーン微粘着層を介して支持フィルム（ＰＥＴ：厚さ１００μｍ）が裏打ちされたベースフィルム（ＰＥＴ：厚さ１６μｍ）の加熱収縮処理（１５０℃×３分、テンションフリー）を行った。上記支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムに易接着処理（コロナ放電処理）を施した後、その処理面上に、導電性酸化物微粒子層形成用塗布液を塗布した以外は実施例１と同様に行い、支持フィルム／ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなる実施例２に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
上記透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性は、可視光透過率：９１．１％、ヘイズ値：１．２％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。
尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
【００５８】
尚、上述の透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の透過率及びヘイズ値は、２層膜だけの値であり、それぞれ下記計算式３及び４により求められる。
［計算式３］
２層膜の透過率（％）＝［（２層膜と支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムごと測定した透過率）／支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムの透過率］×１００
［計算式４］
２層膜のヘイズ値（％）＝（２層膜と支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムのヘイズ値）
更に、支持フィルム／ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層と導電性オーバーコート層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面、透明導電層と導電性オーバーコート層の界面は強く密着していることが確認された。ところで、上記テープ剥離試験（クロスカット試験）では、ベースフィルムの厚さが１６μｍと薄いため、そのままクロスカットすると透明導電層や導電性オーバーコート層と一緒にベースフィルムまでも切断されてしまうため、透明導電層と導電性オーバーコート層が形成されたベースフィルムを一旦支持フィルムから剥離し、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムにエポキシ系接着剤で貼り合せてから、評価を行っている。
【００５９】
次に、上記フレキシブル透明導電フィルムの透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜上に、白色微粒子と黒色微粒子を含むマイクロカプセルからなる電気泳動方式の表示層（層厚４０μｍ）を形成し、更にその表示層にカーボン導電ペーストを塗布したＰＥＴフィルム（厚さ２５μｍ）のカーボン導電層面を貼り合せた。
【００６０】
上記表示層を介して貼り合わされた透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成した後、支持フィルムを剥離した以外は実施例１と同様に行い、ベースフィルム（厚さ：約１６μｍ）／透明導電層（厚さ：約１．３μｍ）／導電性オーバーコート層（厚さ：約０．１５μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる実施例２に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００６１】
上記フレキシブル機能性素子の作製工程において、ベースフィルムは支持フィルムとの界面で簡単に剥離できた。支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、３．０ｇ／ｃｍであった。ここで、上記剥離強度は、１８０°剥離強度（ベースフィルムを３００ｍｍ／ｍｉｎの引張り速度で１８０°の方向に剥離）である。
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。
【実施例３】
【００６２】
実施例１で、ベースフィルム上に導電性酸化物微粒子層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング（線径：０．１５ｍｍ）し、６０℃で２分間乾燥した後、四角形状（５ｃｍ×５ｃｍ）を残して導電性酸化物微粒子を拭取った以外は同様に行い、ベースフィルム上に四角形状の導電性酸化物微粒子層を形成した。上記四角形状の導電性酸化物微粒子層を含むベースフィルムの全面に、導電性オーバーコート層形成用塗布液をスリットコーター塗布条件を変えて塗布し、バインダーマトリックス中にＩＴＯ微粒子の導電ネットワーク構造を有する導電性オーバーコート層（膜厚：約０．５μｍ）を上記四角形状の導電性酸化物微粒子層上に形成した以外は、実施例１と同様に行い、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなる実施例３に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
尚、上記透明導電層は、緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーマトリックスで構成されており、そのバインダーマトリックス部分は、導電性酸化物微粒子層中のＩＴＯ微粒子の間隙に導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込むことで、形成されたものである。
上記透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性は、可視光透過率：９０．８％、ヘイズ値：１．５％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
更に、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層と導電性オーバーコート層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面、透明導電層と導電性オーバーコート層の界面は強く密着していることが確認された。
尚、ベースフィルム上の四角形状の導電性酸化物微粒子層が形成されていない領域（すなわちベースフィルムが露出している領域）は、導電性オーバーコート層形成用塗布液が直接ベースフィルム上に塗布・乾燥・紫外線硬化されて透明膜が形成され、ベースフィルム／導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスからなる透明膜の膜構造であったが、この透明膜は絶縁性であった。これは、前述の図３に示されるように、上記領域では、導電性オーバーコート層形成用塗布液中のバインダー成分が、導電性酸化物微粒子層の間隙に全く染込むことがないため、導電性酸化物微粒子に対してバインダー成分が過剰となり導電性酸化物微粒子の導電ネットワーク構造を形成できなかったためと考えられる。したがって、導電性酸化物微粒子層だけをパターン形成するだけで透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜のパターン形成が可能となる。
【００６３】
上記透明導電層／導電性オーバーコート層の２層膜が形成されたフレキシブル透明導電フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして行い、表示層を介して貼り合わされた透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成して、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／透明導電層（厚さ：約１．３μｍ）／導電性オーバーコート層（厚さ：約０．５μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる実施例３に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００６４】
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。
【実施例４】
【００６５】
実施例１のベースフィルム（易接着処理面）上に、実施例１で用いた導電性酸化物微粒子層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング（線径：０．０７５ｍｍ）し、６０℃で２分間乾燥した後、直径１００ｍｍのハードクロムめっきした金属ロールによる圧延処理（線圧：２００ｋｇｆ／ｃｍ＝１９６Ｎ／ｍｍ、ニップ幅：０．９ｍｍ）を行い、ベースフィルム上に緻密に充填されたＩＴＯ微粒子で構成される導電性酸化物微粒子層（膜厚：約０．５μｍ）を形成した。上記導電性酸化物微粒子層の膜特性は、可視光透過率：９５.５％、ヘイズ値：２．６％、表面抵抗値：約１０００Ω／□であった。
【００６６】
上記導電性酸化物微粒子層の上に上記導電性オーバーコート層形成用塗布液をスリットコーターで塗布し、室温で５分間、６０℃で２分間乾燥した後、更に高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化（窒素中、１００ｍＷ／ｃｍ２×２秒間）を行って、バインダーマトリックス中にＩＴＯ微粒子の導電ネットワーク構造を有する導電性オーバーコート層（膜厚：約０．１μｍ）を形成し、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなる実施例４に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
尚、上記透明導電層は、緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーマトリックスで構成されており、そのバインダーマトリックス部分は、導電性酸化物微粒子層中のＩＴＯ微粒子の間隙に導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込むことで、形成されたものである。
上記透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性は、可視光透過率：９６．０％、ヘイズ値：３．０％、表面抵抗値：約１０００Ω／□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
更に、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層と導電性オーバーコート層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面、透明導電層と導電性オーバーコート層の界面は強く密着していることが確認された。
【００６７】
上記透明導電層／導電性オーバーコート層の２層膜が形成されたフレキシブル透明導電フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして行い、表示層を介して貼り合わされた透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成して、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／透明導電層（厚さ：約０．５μｍ）／導電性オーバーコート層（厚さ：約０．１μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる実施例４に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００６８】
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。
［比較例１］
【００６９】
溶剤としてのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）２０ｇとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）５５ｇとウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂バインダー２２．５ｇと光重合開始剤（ダロキュアー１１７３）２．５ｇを加えて良く攪拌して、絶縁性オーバーコート層形成用塗布液を得た。
導電性オーバーコート層形成用塗布液の代わりに絶縁性オーバーコート層形成用塗布液を用いた以外は、実施例１と同様に行いベースフィルム／透明導電層／絶縁性オーバーコート層からなる比較例１に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
上記透明導電層／絶縁性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性は、可視光透過率：９１．６％、ヘイズ値：１．０％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
更に、ベースフィルム／透明導電層／絶縁性オーバーコート層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層と絶縁性オーバーコート層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面、透明導電層と絶縁性オーバーコート層の界面は強く密着していることが確認された。
【００７０】
上記透明導電層／絶縁性オーバーコート層の２層膜が形成されたフレキシブル透明導電フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして行い、表示層を介して貼り合わされた透明導電層／絶縁性オーバーコート層からなる２層膜の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成して、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／透明導電層（厚さ：約１．３μｍ）／絶縁性オーバーコート層（厚さ：約０．１５μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる比較例１に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００７１】
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返されものの、白表示、及び黒表示において、まだら模様が生じ、表示が不均一であった。
［比較例２］
【００７２】
平均粒径０．０３μｍの粒状のＩＴＯ微粒子（商品名：ＳＵＦＰ−ＨＸ、住友金属鉱山製）３６ｇを溶剤としてのメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）２４ｇとシクロヘキサノン３５．９ｇと混合し、分散剤０．１ｇを添加して分散処理を行って、分散処理を行った後、ウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂バインダー３．８ｇと光重合開始剤（ダロキュアー１１７３）０．２ｇを加えて良く攪拌して、平均分散粒径１３０ｎｍのＩＴＯ微粒子が分散した透明導電層形成用塗布液を得た。
【００７３】
実施例１のベースフィルム（易接着処理面）上に、上記透明導電層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング（線径：０．１５ｍｍ）し、６０℃で２分間乾燥した後、直径１００ｍｍのハードクロムめっきした金属ロールによる圧延処理（線圧：２００ｋｇｆ／ｃｍ＝１９６Ｎ／ｍｍ、ニップ幅：０．９ｍｍ）を行い、更に高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化（窒素中、１００ｍＷ／ｃｍ２×２秒間）を行って、ベースフィルム上に緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーで構成される透明導電層（膜厚：約１．０μｍ）を形成し、ベースフィルム／透明導電層からなる比較例２に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
上記透明導電層の膜特性は、可視光透過率：８９．９％、ヘイズ値：３．０％、表面抵抗値：約５００Ω／□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
更に、ベースフィルム／透明導電層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面は強く密着していることが確認された。
【００７４】
尚、上述の透明導電層の透過率及びヘイズ値は、透明導電層だけの値であり、それぞれ下記計算式５及び６により求められる。
［計算式５］
透明導電層の透過率（％）＝［（透明導電層とベースフィルムごと測定した透過率）／ベースフィルムの透過率］×１００
［計算式６］
透明導電層のヘイズ値（％）＝（透明導電層とベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（ベースフィルムのヘイズ値）
【００７５】
上記透明導電層が形成されたフレキシブル透明導電フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして行い、表示層を介して貼り合わされた透明導電層の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成して、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／透明導電層（厚さ：約１．０μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる比較例２に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００７６】
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。ただし、表示層を介して貼り合わされた透明導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成するに際し、上記表示層をアセトンを浸した綿棒で強く擦って除去し透明導電層面を露出させる作業を施したところ、透明導電層にはベースフィルムまで達する多くの擦り傷が見られ、中には導電性が完全に失われた領域も観察された。
［比較例３］
【００７７】
比較例２で、緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーで構成される透明導電層を有するＰＥＴフィルムの代わりに、スパッタリング法によりアモルファスＩＴＯ層（厚さ：約０．０２μｍ）がＰＥＴフィルム（膜厚１００μｍ）上に形成された市販のスパッタリングＩＴＯフィルム（可視光透過率：９６．５％、ヘイズ値：０．８％、表面抵抗値：約３００Ω／□）を用いた。
上記スパッタリングＩＴＯフィルムにおけるスパッタリングＩＴＯ層のＰＥＴフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ＰＥＴフィルムとスパッタリングＩＴＯ層の界面強く密着していることが確認された。
上記以外は、比較例２と同様にして行い、表示層を介して貼り合わされたスパッタリングＩＴＯ層の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成して、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／スパッタリングＩＴＯ層（厚さ：約０．０２μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる比較例３に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００７８】
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。
【００７９】
尚、上述のスパッタリングＩＴＯフィルムの透過率及びヘイズ値は、ＩＴＯ層だけの値であり、それぞれ下記計算式７及び８により求められている。
［計算式７］
ＩＴＯ層の透過率（％）＝［（ＩＴＯ層が形成されたベースフィルムごと測定した透過率）／ベースフィルムの透過率］×１００
［計算式８］
透明導電層のヘイズ値（％）＝（ＩＴＯ層が形成されたベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（ベースフィルムのヘイズ値）
［比較例４］
【００８０】
実施例２の支持フィルムが裏打ちされたベースフィルム（易接着処理面）上に、スパッタリング法でアモルファスＩＴＯ膜（膜厚：約０．０２μｍ）を形成して、支持フィルム／ベースフィルム／スパッタリングＩＴＯ層からなる比較例４に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
【００８１】
このスパッタリングＩＴＯ層の膜特性は、可視光透過率：９６．４％、ヘイズ値：０．８％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。
【００８２】
尚、上記スパッタリングＩＴＯ層の透過率及びヘイズ値は、ＩＴＯ層だけの値であり、それぞれ下記計算式９及び１０により求められている。
［計算式９］
ＩＴＯ層の透過率（％）＝［（ＩＴＯ層と支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムごと測定した透過率）／支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムの透過率］×１００
［計算式１０］
ＩＴＯ層のヘイズ値（％）＝（ＩＴＯ層と支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムごと測定したヘイズ値）−（支持フィルムが裏打ちされたベースフィルムのヘイズ値）
【００８３】
また、支持フィルム／ベースフィルム／スパッタリングＩＴＯ層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおけるベースフィルムとスパッタリングＩＴＯ層の密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であった。ところで、上記テープ剥離試験（クロスカット試験）では、ベースフィルムの厚さが１６μｍと薄いため、そのままクロスカットするとスパッタリングＩＴＯ層と一緒にベースフィルムまでも切断されてしまうため、スパッタリングＩＴＯ層が形成されたベースフィルムを一旦支持フィルム（裏打ちフィルム）から剥離し、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムにエポキシ系接着剤で貼り合せてから、評価を行っている。
【００８４】
次に、上記フレキシブル透明導電フィルムを用いて、実施例１と同様にフレキシブル機能性素子の製造を行い、最後に支持フィルム（裏打ちフィルム）を剥離して、ベースフィルム（厚さ：１６μｍ）／スパッタリングＩＴＯ層（厚さ：約０．０２μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる比較例４に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００８５】
上記フレキシブル機能性素子の作製工程において、ベースフィルムは支持フィルムとの界面で簡単に剥離できた。支持フィルム／ベースフィルム間の剥離強度は、３．０ｇ／ｃｍであった。ここで、上記剥離強度は、１８０°剥離強度（ベースフィルムを３００ｍｍ／ｍｉｎの引張り速度で１８０°の方向に剥離）である。
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返された。
［比較例５］
【００８６】
実施例１で、導電性オーバーコート層形成用塗布液のスリットコーター塗布条件を変えてバインダーマトリックス中にＩＴＯ微粒子の導電ネットワーク構造を有する導電性オーバーコート層（膜厚：約０．７μｍ）を形成した以外は、実施例１と同様に行い、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなる比較例５に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
尚、上記透明導電層は、緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーマトリックスで構成されており、そのバインダーマトリックス部分は、導電性酸化物微粒子層中のＩＴＯ微粒子の間隙に導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込むことで、形成されたものである。
上記透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性は、可視光透過率：９０．７％、ヘイズ値：１．７％、表面抵抗値：約３００Ω／□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の１日後に測定している。
更に、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなるフレキシブル透明導電フィルムにおける透明導電層と導電性オーバーコート層のベースフィルムへの密着力を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６に準じたテープ剥離試験（クロスカット試験）で評価したところ、２５／２５（剥離しなかった個数／全体の個数[５×５＝２５個]）と良好であり、ベースフィルムと透明導電層の界面、透明導電層と導電性オーバーコート層の界面は強く密着していることが確認された。
【００８７】
上記透明導電層／導電性オーバーコート層の２層膜が形成されたフレキシブル透明導電フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして行い、表示層を介して貼り合わされた透明導電層／導電性オーバーコート層からなる２層膜の一端とカーボン導電層の一端に電圧印加用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成して、ベースフィルム（厚さ：約１００μｍ）／透明導電層（厚さ：約１．３μｍ）／導電性オーバーコート層（厚さ：約０．７μｍ）／表示層（厚さ：４０μｍ）／カーボン導電層（厚さ：約１０μｍ）／ＰＥＴフィルム（厚さ：２５μｍ）からなる比較例５に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を得た。
【００８８】
このフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）の電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返したところ、白黒の表示が繰り返されものの、白表示、及び黒表示において、まだら模様が生じ、表示が不均一であった。
［比較例６］
【００８９】
実施例４で、導電性オーバーコート層形成用塗布液のスリットコーター塗布条件を変えてバインダーマトリックス中にＩＴＯ微粒子の導電ネットワーク構造を有する導電性オーバーコート層（膜厚：約０．０５μｍ）を形成した以外は、実施例１と同様に行い、ベースフィルム／透明導電層／導電性オーバーコート層からなる比較例６に係るフレキシブル透明導電フィルムを得た。このフレキシブル透明導電フィルムの加熱時の寸法変化率（収縮率）は約０．０５％であった。
尚、上記透明導電層は、緻密に充填されたＩＴＯ微粒子とバインダーマトリックスで構成されており、そのバインダーマトリックス部分は、導電性酸化物微粒子層中のＩＴＯ微粒子の間隙に導電性オーバーコート層形成用塗布液のバインダー成分が染込むことで、形成されたものである。
ただし、上記導電性オーバーコート層は均一ではなく、導電性オーバーコート層中のバインダーマトリックスの量が不足してポーラスとなり、また表面に凹凸が生じて透明性（ヘイズ値）が著しく悪化した領域が全面に点在していた。更に、これらの領域では膜強度も弱く、爪で容易に傷ついた。
以上のように膜が不均一だったため、これ以上の評価は実施しなかった。
【００９０】
各実施例及び各比較例のベースフィルムと支持フィルムの厚さ、導電性酸化物微粒子層の厚さ、導電性オーバーコート層の厚さと導電性成分、透明導電層と導電性オーバーコート層からなる２層膜の膜特性（可視光線透過率、ヘイズ値、表面抵抗値）を表１に示す。
【００９１】
【表１】
2009135099.tif 000003
【００９２】
『フレキシブル透明導電フィルムの導電性評価（テスター測定）』
前述の三菱化学(株)製の表面抵抗計ロレスタＡＰ（ＭＣＰ−Ｔ４００）を用いた表面抵抗値の測定では、プローブへの印加電圧が高いこと、４探針プローブのため接触抵抗は抵抗測定値に含まれないこと、により、例えば透明導電層上に形成されたオーバーコート層の厚みが薄い場合には、オーバーコート層を介したオーミック接続が取れていない場合でも、透明導電層の測定値が測定できている可能性がある。フレキシブル透明導電フィルムを用いる場合、上記オーミック接続が不十分だと、適用するデバイスによっては、透明導電層から電流が流れなかったり、電圧印加が十分に行えなかったりして、デバイスの動作に支障をきたす恐れがあり好ましくない。
そこで、各実施例に係るフレキシブル透明導電フィルムと各比較例に係るフレキシブル透明導電フィルムの２点間抵抗値（間隔１ｃｍ）をテスタープローブ（直径：２ｍｍ、先端部曲率半径：約０．３ｍｍ）を用いてテスター（カスタム製、ＣＤＭ−０３Ｄ）で測定した。導電性オーバーコート層を有する実施例１、２のフレキシブル透明導電フィルムでは約６００Ω程度、実施例３では約１２００Ω程度、実施例４では約２０００Ω程度の安定した抵抗値が得られ、透明導電層は導電性オーバーコート層を介して容易にオーミック接続が可能なことが判る。一方、絶縁性オーバーコート層を有する比較例１のフレキシブル透明導電フィルムでは測定箇所によって約１ｋΩから数ＭΩ程度とバラツキが大きく、また測定値が安定しなかった。また、比較例５も同様に測定箇所によって数ｋΩから数十ｋΩ程度とバラツキが大きく、測定値が安定しなかったため、これら比較例１、５では完全なオーミック接続が取れていないことが判る。
【００９３】
『フレキシブル透明導電フィルムの耐溶剤擦過性評価』
各実施例のフレキシブル透明導電フィルムにおいて、アセトンを浸した綿棒で透明導電層／導電性オーバーコート層の２層膜表面を５０往復擦って外観変化を観察したが、全く変化が見られず、膜の抵抗値、及び光学特性にも大きな変化は見られなかった。また、比較例１、比較例３〜５のフレキシブル透明導電フィルムにおいても、膜の外観変化は全く見られなかった。一方、透明導電層上にオーバーコート層を形成していない比較例２のフレキシブル透明導電フィルムでは、評価を行った部分に擦り傷が多く見られ、一部はベースフィルムまで達する傷であり、導電性が完全に失われた領域も観察された。膜の抵抗値、及び光学特性にも著しい劣化が見られた。比較例６は、膜が不均一だったため評価していない。
尚、本発明に係るフレキシブル透明導電フィルムの耐溶剤擦過性評価においては、アセトンを浸した綿棒で表面を５０往復擦っており、通常の耐溶剤擦過性評価（表面を１０往復擦る）と比べ、より過酷な条件で評価している。
【００９４】
『フレキシブル透明導電フィルムのフレキシビリティ評価（１）』
実施例１〜４と比較例１〜５に係るフレキシブル透明導電フィルム（支持フィルムが裏打ちされている場合は、支持フィルムを剥離したもの）を、各々、直径８ｍｍの棒に、透明導電層を有する面が内側及び外側となるように１回ずつ巻きつけた後、その表面抵抗値を測定した。実施例１〜４の透明導電フィルムにおいては、いずれも、表面抵抗値（表面抵抗計による測定値）は初期値のままで変化せず、また、外観の変化も見られなかった。比較例１、２、４、５の透明導電フィルムも抵抗値の変化、外観の変化は見られなかった。比較例３では、スパッタリングＩＴＯ層にクラックが生じ、巻付けた方向の表面抵抗値は数十ｋΩ／□と大幅に上昇した。比較例６は、膜が不均一だったため評価していない。
『フレキシブル透明導電フィルムのフレキシビリティ評価（２）』
実施例２と比較例４のフレキシブル透明導電フィルム（支持フィルムを剥離除去したもの）では、図４に示すように、それぞれ導電面に銀導電ペーストを用いて平行電極を形成して、フレキシビリティ評価用の試験サンプルを得た。次に、実施例２と比較例４の試験サンプルの平行電極の抵抗値を測定した後、導電面が外側となるように完全に二つ折りした後、元の状態に広げてから再度平行電極の抵抗値を測定した。尚、上記試験方法は、曲率半径：ゼロで折り曲げるという極めて厳しいものであって、試験サンプルを図４に示す折り目のラインで二つに折り、更に折り目の上から指で押さえつけて行っている。実施例４の試験サンプルでは、抵抗値は初期の約３００Ωから約６００Ωまで悪化はしたものの、導電性は失われなかった。また、ベースフィルム自体に折り目の跡は残ったものの、それ以外に外観の著しい変化は見られなかった。一方、比較例４の試験サンプルでは、折り目部分のスパッタリングＩＴＯ層に生じた多数のクラックによって、抵抗値は初期の約３００Ωから１０Ｍ（メガ）Ω以上へと上昇し、折り目部分のＩＴＯ層の導電性が完全に失われた。
【００９５】
『フレキシブル機能性素子（電子ペーパー）のフレキシビリティ評価』
各実施例に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）（支持フィルムを剥離したもの）と各比較例に係るフレキシブル機能性素子（電子ペーパー）を直径８ｍｍの棒にその発光面がそれぞれ内側、及び外側となるように１回ずつ巻きつけた後、電圧印加用リード線間に１０Ｖの直流電圧を印加し、極性の反転を繰り返して白黒の表示を繰り返し、表示状態を観察した。各実施例においては、表示状態に変化は見られなかった。比較例３、４では、スパッタリングＩＴＯ層にクラックが生じ、一部しか表示しなくなった。比較例１、５は、もともと表示が不均一だったので評価していない。
尚、上記各実施例、及び各比較例に係るフレキシブル機能性素子のフレキシビリティ評価では、機能性素子の長期信頼性の調査を目的としていないため、便宜的に、機能性素子の信頼性確保のためのガスバリアフィルム貼り合せや防湿ラミネート処理を施さない状態で実施している。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】従来のフレキシブル透明導電フィルムの基本的構造を示す断面図である。
【図２】本発明に係るフレキシブル透明導電フィルムの基本構造を示す断面図である。
【図３】本発明に係るフレキシブル透明導電フィルムの別の構造を示す断面図である。
【図４】従来、及び、本発明に係るフレキシブル透明導電フィルムのフレキシビリティ評価（２）に用いた試験サンプルを示す概略図（上方及び側方から見た図）である。
【符号の説明】
【００９７】
１    ベースフィルム
２    透明導電層
２ａ  パターン形成された透明導電層
３    導電性オーバーコート層
４    導電性オーバーコート層の導電成分としての導電性酸化物微粒子
５    導電性オーバーコート層のバインダーマトリックス
６    支持フィルムが剥離除去されたフレキシブル透明導電フィルム
６ａ  導電面
７    銀導電ペーストを用いて形成された平行電極
８    二つ折りした際の折り目のライン
【図１】
2009135099.tif 000004
【図２】
2009135099.tif 000005
【図３】
2009135099.tif 000006
【図４】
2009135099.tif 000007