(57)【要約】【課題】本発明は高分子基材上に位相差層などのコーティングによる機能性層を有し、塗布面の貼り付きを防止することにより長尺ロールを開示する。【解決手段】本発明は透明高分子基材の一方の面に機能性層を有し、該機能性層が０〜４０℃の温度範囲においてλの変化量が小さなことを特徴とする光学積層体（ここで、λは剛体振り子の振動振幅の対数減衰率）である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、光学機能層とを備えてなる、光学積層体であって、
前記光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率をλと定義し、
−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、及び、
０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とした場合に、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜≧０．０４      （Ｉ）
を充足するものである、光学積層体。
【請求項２】
前記光学機能性層が位相差層である、請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
前記位相差層が光学異方性剤を含んでなる、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記光学異方性剤が棒状化合物である、請求項１〜３の何れか一項に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記棒状化合物がランダムホモジニアス配向を形成してなる、請求項１〜４の何れか一項に記載の光学積層体。
【請求項６】
光透過性基材と、光学機能層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、
前記光透過性基材を用意し、
前記光透過性基材の上に、前記光学機能層を付与することを含んでなり、
前記付与された光学機能層が、
前記光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率をλと定義し、
−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、及び、
０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とした場合に、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜≧０．０４      （Ｉ）
を充足するものである、製造方法。
【請求項７】
前記光透過性基材がロール体であり、前記光学積層体もまたロール体で形成されることを含んでなる、請求項６に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製造工程において、滑り性、ブロッキング防止性に優れた、光学積層体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、その基本構成として、反射防止体、液晶セル、偏光素子および位相差体（光学補償シート）等の光学積層体を備えてなる。光学積層体の中でも、位相差体は、ディスプレイに表示される画像の着色を防止し、また、ディスプレイに表示される画像の視野角を広げるために、使用されるものである（特許文献１：特開２００７−３０４３７５）。位相差体は、一般に、光透過性基材に、位相差層、配向層等の任意の機能層を形成させることにより製造される。光学積層体の製造にあっては、生産効率及び運搬性、ディスプレイ生産高率の向上等の観点から、比較的幅広（１ｍ乃至２ｍ）で、かつ、薄膜な板状体のものを形成し、ロール状に巻き取ることが一般的である。特に、ロール状の光透過性基材を用意し、その上に、光学機能層を形成させて、ロール状の光学積層体を形成させる方法、いわゆるロール：トウ：ロール(roll to roll)方法が採用されている。
【０００３】
しかし、ディスプレイの大画面化に伴う幅広化、ディスプレイの薄型に伴う薄膜化等に対応した光学積層体を製造する場合に、その製造工程中において、或いは製造後に光学積層体をロール状に巻き取る際に、ブロッキング又はロール状体の円周上に黒い帯状に見えるブラックバンドが生じることがあり、歩留まり低下の原因となることがあった。また、ブロッキング現象により、巻き取り形状に異常が生じ、ロール状の光学積層体自体が変形を生ずることがあった。この為、ロール状態から切り出した光学積層体自体が使用できないものであるか、または、ディスプレイへの実装が困難となることがあった。
【０００４】
従って、光学積層体の製造において、特に、巻き取り工程において、ブロッキング及びブラックバンドの発生を防止することが急務となっている。
【特許文献１】特開２００７−３０４３７５
【発明の開示】
【０００５】
本発明者は、本発明時において、光学機能層の物理特性に着目した所、光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率λと温度の関係を調整することにより、光学積層体の巻き取り工程において、ブロッキング及びブラックバンドの発生を有効に防止することができることを見出した。本発明は係る知見に基づいてなされたものである。
【０００６】
従って、本発明は、
光透過性基材と、光学機能層とを備えてなる、光学積層体であって、
前記光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率をλと定義し、
−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、及び、
０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とした場合に、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜≧０．０４      （Ｉ）
を充足するものである。
【０００７】
また、本発明で提案される別の態様は、光透過性基材と、光学機能層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、
前記光透過性基材を用意し、
前記光透過性基材の上に、前記光学機能層を付与することを含んでなり、
前記付与された光学機能層が、
前記光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率をλと定義し、
−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、及び、
０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とした場合に、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜≧０．０４      （Ｉ）
を充足するものである。
【０００８】
本発明による光学積層体及びその製造方法によれば、製造工程において、滑り性を向上させると伴に、位相差体の巻き取り時におけるブロッキング（貼り付き）及びブラックバンドの発生を有効に抑制することができ、また、異物の混入を回避し、優れた液晶構造を構成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
Ｉ．光学積層体
本発明における光学積層体は、光透過性基材と、光学機能層とを備えてなるものである。
対数減衰率
本発明における光学積層体にあっては、光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率をλと定義し、−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、及び、０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とした場合に、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜≧０．０４（好ましくは０．０３５）      （Ｉ）
を充足するものである。
ここで、「対数減衰率λ」は、減衰自由波動波形の隣り合う振幅の比の自然対数をいう。
【００１０】
（１）光学機能層
本発明における光学機能層は、位相差層、ハードコート層、防眩層、屈折率層、帯電防止層、汚れ付着防止層等の様々なものとすることができる。
【００１１】
１）位相差層
本発明にあっては、光学機能層として位相差層が挙げられる。位相差層の材料としては、様々なものが用いられるが、光学異方性剤が好ましくは利用される。
基本特性
層厚
位相差層の厚みは、光学的特性を付与できる範囲内であれば特に限定されない。位相差層の厚みは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．５μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましく、特に１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。位相差層の厚みが上記範囲内にあることにより、光学異方性を発揮することが可能となり、かつ、ランダムホモジニアス配向の特徴の一つである「面内配向性」が十分達成される結果、所望の光学的特性が得ることが可能性となる。ここで、位相差層に厚みには、位相差層と光透過性基材との接着部に両者が「混合」した混合領域を有する場合、混合領域の厚みを含まないものとする。
【００１２】
Ｒｅ、Ｒｔｈ
位相差層の面内方向のレターデーション（Ｒｅ）は、ランダムホモジニアス配向が具備する「不規則性」および「面内配向性」の観点から、上述した通り０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内が好ましく、なかでも０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内が好ましく、特に０ｎｍ〜１ｎｍの範囲内が好ましい。本発明における位相差層は、位相差層のレターデーション値（Ｒｅ（ｎｍ））を位相差層の厚み（ｄ（μｍ））で除した値（Ｒｅ／ｄ）が、０〜０．２の範囲内であることが好ましく、なかでも０〜０．１の範囲内であることが好ましく、特に０〜０．０５の範囲内であることが好ましい。
【００１３】
位相差層の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、ランダムホモジニアス配向が具備する「面内配向性」の観点から、上述した通り５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、なかでも５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内が好ましく、特に５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内が好ましい。本発明における位相差層は、位相差層の厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ（ｎｍ））を位相差層の厚み（ｄ（μｍ））で除した値（Ｒｔｈ／ｄ）が、０．５〜１３の範囲内であることが好ましく、なかでも０．５〜１０の範囲内であることが好ましく、特に０．５〜７の範囲内であることが好ましい。
【００１４】
ヘイズ値
位相差層のヘイズ値は、ランダムホモジニアス配向が具備する「分散性」の観点から、上述した通り、０％〜５％の範囲内が好ましく、なかでも０％〜１％の範囲内が好ましく、特に０％〜０．５％の範囲内が好ましい。
【００１５】
組成及び形成
位相差層の構成は、単一又は複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一又は異なる組成であってもよい。なお、位相差層が複数層から構成される場合は、少なくとも基材上に直接積層された位相差層が、ランダムホモジニアス配向を形成した棒状化合物を有すれば良い。
【００１６】
光学異方性剤（液晶材料）
本発明に用いられる光学異方性剤は、所望の位相差性を発現できる材料であれば特に限定されない。本発明にあっては、ネマチック相を示す光学異方性剤が好適に用いられる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す光学異方性剤と比較して規則的に配列させることが可能なものである。位相差層は、光学異方性剤と、樹脂等のその他の材を含んでなる位相差層用組成物を用いて形成することができる。
【００１７】
棒状化合物
本発明にあっては、光学異方性剤は、屈折率異方性を有する棒状化合物が好ましくは利用される。好ましくは、この棒状化合物は、位相差層内においてランダムホモジニアス配向を形成してなる。このような配向状態を有することにより本発明の位相差体を光学的特性に優れたものにできるものである。このランダムホモジニアス配向は、少なくとも、次の３つの特徴を有するものである。即ち、１］第１に位相差層の表面に対して垂直方向から位相差層を正視した場合において、棒状化合物の配列方向がランダムであること、２］第２に位相差層において棒状化合物が形成するドメインの大きさが可視光領域の波長よりも小さいこと、３］第３に位相差層において棒状化合物が面内配向していること、というものである。
【００１８】
棒状化合物の例
棒状化合物は、位相差層においてランダムホモジニアス配向を形成できるものであれば特に限定されない。本発明における「棒状化合物」とは、分子構造の主骨格が棒状となってものを指し、このような棒状の主骨格を有する化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類をあげることができる。また、以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【００１９】
棒状化合物は、分子量が比較的小さい化合物が好適に用いられる。具体的には、分子量が２００〜１２００の範囲内、特に４００〜８００の範囲内の化合物が好適に用いられる。分子量が上記範囲内であることにより、棒状化合物が後述する基材へ浸透しやすくなるため、基材と位相差層との接着部位における「混合」状態を形成し易くなり、基材と位相差層との密着性を向上することができる。
【００２０】
棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。棒状化合物が液晶性材料であることにより、位相差層を、単位厚み当たりの光学的特性の発現性に優れたものにできる。また、棒状化合物は、液晶性材料の中でもネマチック相を示すものが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、ランダムホモジニアス配向を形成することが比較的容易だからである。さらに、ネマチック相を示す液晶性材料は、メソゲン両端にスペーサを有する分子であることが好ましい。このような液晶性材料は、柔軟性に優れるため、本発明における位相差層が白濁することを効果的に防止することができる。
【００２１】
棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものが好ましい。棒状化合物が重合性官能基を有することにより、棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、棒状化合物がランダムホモジニアス配向を形成している状態で固定化することにより、配列安定性に優れ、光学的特性の変化が生じにくい位相差体を得ることができるからである。また、本発明においては重合性官能基を有する棒状化合物と、重合性官能基を有さない棒状化合物とを混合して用いても良い。ここで、「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。
【００２２】
このような重合性官能基としては、特に限定されるものではなく、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が用いられる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。又、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和三重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００２３】
本発明にあって、棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であって、末端に重合性官能基を有するものが特に好ましい。例えば両末端に重合性官能基を有するネマチック液晶性材料を用いれば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができ、配列安定性を備え、かつ、光学的特性の発現性に優れた位相差層を得ることができる。また、片末端に重合性官能基を有するものであっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。このような棒状化合物として、下記式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【００２４】
【化１】
2009251448.tif 000002
【００２５】
化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５０（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。
また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。
【００２６】
【化２】
2009251448.tif 000003
【００２７】
棒状化合物は、１種又は２種以上を混合して用いても良い。例えば、棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学的特性を任意に調整できる点から好ましい。
【００２８】
その他の化合物
位相差層には、棒状化合物以外に他の化合物を含んでも良い。このような他の化合物としては、棒状化合物のランダムホモジニアス配向を乱すものでなければ特に限定されない。このような他の化合物としては、例えば、重合可能な材料をあげることができる。
【００２９】
重合可能な材料としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等を挙げることができる。
【００３０】
２）その他の光学機能層
その他の光学機能層は、導電剤、屈折率調製剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬度化剤、硬度調製剤（緩衝性付与剤）、粘着剤、紫外線吸収剤および流動性調整剤からなる群から選択される一種または二種以上の混合物を材料として使用する。光学機能層は上記材料と、樹脂と、溶剤と、任意の添加剤を混合し光学機能層用組成物を調整した上で、形成されてよい。
【００３１】
帯電防止層（導電層）
帯電防止剤（導電剤）を含んだ光学機能層（帯電防止層）が積層されることにより、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤（導電剤）の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【００３２】
また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、オリアズレン等；芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）等；複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソシアナフテン等；含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン等；混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）等が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体、これら導電性ポリマー誘導体等が挙げられる。取り分け、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント（電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。
【００３３】
本発明の好ましい態様によれば、帯電防止剤は、光学機能層用組成物全量に対して、０．０１重量％以上３０重量％以下であり、好ましくは下限値が０．１重量％以上であり上限値が１０重量％以下程度である。上記数値範囲に調整することにより、光学積層体としての透明性を保ち、また反射防止性に影響を与えることなく、帯電防止性能を付与することができる点で好ましい。
【００３４】
屈折率調製層
屈折率調製剤を添加した光学機能層（屈折率層）を光学積層体に積層させることにより、光学積層体の光学特性を調製することが可能となる。屈折率調製剤には、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等が挙げられる。低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等により形成された複数の積層体を光学機能層として採用してもよい。
【００３５】
低屈折率剤
低屈折率剤を添加した低屈折率層の屈折率は、１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。低屈折率剤の好ましいものとしては、シリカ、フッ化マグネシウムなどの低屈折率無機超微粒子（多孔質、中空など全ての種類の微粒子）、及び低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂が挙げられる。フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。
【００３６】
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００３７】
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合成化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。
【００３８】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００３９】
また、含フッ素重合体の具体例としては、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体等が挙げられる。
【００４０】
これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００４１】
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
【００４２】
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は光学機能層（廷屈折率層）の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
【００４３】
空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。その他、特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して表面調整層表面調整層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
【００４４】
塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００４５】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。
【００４６】
高屈折率層／中屈折率層
高屈折率剤、中屈折率剤を含んでなる光学機能層（高屈折率層、中屈折率層）は、反射防止性をさらに向上させるために用いられる。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は１．５５〜２．００の範囲内で設定されてよく、中屈折率剤は、その屈折率が１．５５〜１．８０の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が１．６５〜２．００の範囲内のものを意味する。
【００４７】
これら屈折率剤は、微粒子が挙げられ、その具体例（かっこ内は屈折率を示す）としては、酸化亜鉛（１．９０）、チタニア（２．３〜２．７）、セリア（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５）、アンチモンドープ酸化スズ（１．８０）、イットリア（１．８７）、ジルコニア（２．０）が挙げられる。
【００４８】
レベリング層
レベリング剤を含んでなる光学機能層は光学積層体に、滑り性、防汚性及び耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。レベリング剤の好ましいものとしては、フッ素系またはシリコーン系等が挙げられる。
【００４９】
防汚染層
防汚染剤を含んでなる光学機能層は光学積層体に、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効である。より具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、２−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。
【００５０】
粘着層
粘着剤の具体例としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、ゴム系樹脂が挙げられる。粘着剤を含んでなる光学機能層（粘着層）は、本発明の光学積層体を、画像表示装置の表面に、偏光板の表面に付着する際にその機能を発揮する。
【００５１】
紫外線・赤外線吸収層
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物等が挙げられる。また、赤外線吸収剤としては、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等があげられる。
【００５２】
樹脂
光学機能層は、上記光学機能性を有する材料と樹脂とを混合した光学機能性層用組成物により形成されてよい。樹脂は、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂など、塗工時に固形分を調製するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００５３】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、（メタ）アクリレート基等のラジカル重合成性官能基を有する化合物、例えば（メタ）アクリレート系のオリゴマー、プレポリマー、あるいはモノマーが挙げられる。具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリル酸エステルから成るオリゴマー又はプレポリマーが挙げられる。又、モノマーとして具体的には、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレート、又はメタアクリレートを意味する。
（メタ）アクリレート系化合物以外の例としては、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能または多官能単量体、あるいはビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、芳香族ビニルエーテル、脂肪族ビニルエーテル等のオリゴマー、プレポリマー等のカチオン重合性官能基を有する化合物が挙げられる。
【００５４】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。
【００５５】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、粘度調製剤として組成物の粘度を調製することができ、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
【００５６】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調製剤等をさらに添加して使用することができる。
【００５７】
溶剤
光学機能層用組成物には、溶剤を混合して調整されてよい。溶剤は、光学機能材料、樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよく、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
【００５８】
（２）光透過性基材
光透過性基材は、透明性を有するものであり、位相差層及びその他層を支持する機能を有するものである。また、必要に応じて、添加剤を含有する光透過性基材であっても好適に用いることができる。
【００５９】
本発明に用いられる光透過性基材の透明度は、好ましくは、可視光領域における透過率が８０％以上であり、好ましくは９０％以上である。透過率が上記範囲であることにより、例えば、本発明の位相差体を液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いた場合に、液晶表示装置の表示輝度が低下すること等を防止することができる。光透過性基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００６０】
光透過性基材は、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材であってもよく、フレキシブル材を用いることが好ましい。フレキシブル材を用いることにより、本発明の位相差体の製造工程をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ（基材を帯状の薄膜（ウェブの形態とし、巻芯上に巻き取ったＲｏｌｌの状態から巻き出して、加工し、その後再度巻芯上に巻き取る加工形態）プロセスとすることが可能になるため、生産性に優れた光学積層体を得ることができる。
【００６１】
フレキシブル材を構成する材料としては、後述の各種セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、アモルファスポリオレフィン等のポリオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、変性アクリル系ポリマー等のアクリル系ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができ、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系ポリマーが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れ、シクロオレフィン系ポリマーは耐久性に優れるからである。
【００６２】
セルロース誘導体としては、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く生産され、入手が容易である。
【００６３】
セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。このような低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであっても良い。
【００６４】
本発明においては、低級脂肪酸エステルのなかでもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。また、セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
【００６５】
上記シクロオレフィン系ポリマーとしては、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）またはシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）を挙げることができ、シクロオレフィンポリマーが好ましい。シクロオレフィンポリマーは、水分の吸収性および透過性が低いため、位相差体の光学特性を経時的に安定させることが可能となる。シクロオレフィンポリマーの具体例としては、例えば、ＪＳＲ株式会社製、商品名：ＡＲＴＯＮや日本ゼオン株式会社製、商品名ゼオノア等を挙げることができる。
【００６６】
光透過性基材の厚みは、特に限定されないが、２５μｍ以上１０００μｍ以下程度の範囲内であり、好ましくは下限値が３０μｍ以上であり上限値が１００μｍ以下程度であることが好ましい。光透過性基材の厚みが上記の範囲内にあることにより、支持体としての性能を発揮することができると共に、裁断工程等において加工屑が少なく、又裁断刃の磨耗を防止することが可能となる。光透過性基材は、単一又は複数の層から構成されてよく、また、同一又はことなる組成のもので構成されてもよい。
(基材自体が延伸化されたものを下記に記載しました。)
【００６７】
延伸化
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材それ自体が延伸化されたものであっても用いることができる。延伸化された光透過性基材は、それ自体が配向能を有するものであり、その延伸方向に沿って液晶材料を配向させることが可能となる。従って、延伸化された光透過性基材は、上記した光透過性基材を延伸処理したものを使用することができる。
【００６８】
また、市販の延伸化光透過性基材を用いることも可能であり、また必要に応じて種々の材料の光透過性基材を延伸化処理することも可能である。具体的には、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレートやポリエチレンテレフタレートの如きポリエステル系高分子、ポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子等の熱可塑性ポリマーなどからなるフィルムや、液晶ポリマーからなるフィルムなどを挙げることができる。
【００６９】
本発明においては、中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが、延伸倍率のレンジ幅が広い点、さらには入手のしやすさ等の観点から好ましく用いられる。
【００７０】
本発明に用いられる延伸フィルムの延伸率としては、配向能が発揮し得る程度の延伸率であれば特に限定されるものはない。したがって、２軸延伸フィルムであっても２軸間で延伸率が異なるものであれば用いることが可能である。
【００７１】
（３）その他の層
本発明にあっては、光透過性基材及び光学機能層以外に、配向層、表面処理層、遮蔽層、応力緩和層等の他の層、光学機能層で説明した層を備えてなるものであってもよい。本発明にあっては、配向層について以下に説明する。
【００７２】
配向層
配向層は、位相差層に含有される液晶材料に対する配向規制力を備えたものである。本発明に用いられる配向膜としては、高分子フィルムの表面をラビング処理することにより配向規制力を発現させたラビング膜、または、光配向法により配向規制力を発現する光配向材料を含有する光配向膜が挙げられ、光配向膜を用いることが好ましい。光配向膜を用いることにより液晶材料の配列方向を調整することが容易となるため、任意方向の遅相軸を有する位相差体を得ることが容易になるからである。また、上記ラビング膜は、配向規制力を発現させるためのラビング処理で発生する塵に起因して、例えば、本発明の光学積層体（位相差体）を液晶表示装置等に用いた場合に輝点欠陥が生じる可能性があるが、上記光配向膜は光を照射することにより非接触で配向規制力を発現することが可能であるためそのような問題が少ないからである。「光配向法」とは、任意の偏光状態を有する光（偏光）を配向層に照射することにより配向層の配向規制力（異方性）を発現させる方法である。
【００７３】
光配向材料は、偏光を照射することにより分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能にとなり、配向規制力の経時安定性が優れる。
【００７４】
光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては光二量化型材料を用いることがより好ましい。
【００７５】
光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。なかでも本発明においては光二量化反応を生じる光の波長が２００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００７６】
光二量化型材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーを挙げることができ、シンナメート、または、クマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表１０−５０６４２０号公報、および、特表２００３−５０５５６１号公報に記載された化合物を挙げることができる。シンナメート、および、クマリンとしては、下記一般紙式Ｉａ、Ｉｂで表されるものが好適に用いられる。
【００７７】
【化３】
2009251448.tif 000004
〔上記式中、
Ａは、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェニレン、２，５−フラニレン、１，４−もしくは２，６−ナフチレンを表すか、非置換であるか、フッ素、塩素または炭素原子１〜１８個の環式、直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル残基（非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、１個以上の隣接しない−ＣＨ2−基が独立して基Ｃによって置換されていてもよい）によって一または多置換されているフェニレンを表し、
Ｂは、水素原子を表すか、第二の物質、たとえばポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマーおよび／または光活性モノマーもしくは表面と反応または相互作用することができる基を表し、
Ｃは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｓｉ（ＣＨ3）2−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−（Ｒ1は水素原子または低級アルキルを表す）から選択される基を表し、
Ｄは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＮＲ1−ＣＯ−ＮＲ1−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｓｉ（ＣＨ3）2−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−（Ｒ1は水素原子または低級アルキルを表す）から選択される基、芳香族基または脂環式基を表し、
Ｓ1およびＳ2は、互いに独立して、単結合またはスペーサー単位、たとえば炭素原子１〜４０個の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基（非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、１個以上の隣接しない−ＣＨ2−基が独立して基Ｄによって置換されていてもよいが、酸素原子が互いに直接的には結合していない）を表し、
Ｑは、酸素原子または−ＮＲ1−（Ｒ1は水素原子または低級アルキルを表す）を表し、
ＸおよびＹは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、シアノ、炭素原子１〜１２個のアルキル（場合によってはフッ素によって置換されており、場合によっては１個以上の隣接しない−ＣＨ2−基が−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および／または−ＣＨ＝ＣＨ−によって置換されている）を表す。〕
【００７８】
本発明においては、上記式で表されるシンナメート、および、クマリンのなかでも、特表２００４−５３６１８５号公報に記載のものを用いることが好ましい。
光配向膜を用いる場合、光配向材料以外に他の材料が含まれていても良い。このような他の材料としては、通常、一つ以上の官能基を持つモノマー又はオリゴマーが用いられる。このようなモノマー又はオリゴマーとしては、例えば、アクリレート系の官能基を有する単官能モノマー（例えば、反応性エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン）及び多官能モノマー（例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリエチレン（ポリプロピレン）グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ポリ(メタ）アクリレート（例えば、イソシアヌル酸ＥＯジアクリレート等））や、ビスフェノールフルオレン誘導体（例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキシアクリレート）等を単体もしくは混合したものとして用いることができる。
【００７９】
モノマー又はオリゴマーは重合性液晶材料であることが好ましい。位相差層に重合性液晶材料が含まれる場合、重合性液晶材料は、位相差層に含まれる重合性液晶材料と同一種類のものを含むことが好ましい。モノマー又はオリゴマーは、本発明に用いられる位相差体を製造する方法として、光透過性基材上に配向層が積層された時点でロール巻きされる方法を用いる場合は、配向層が常温（２０〜２５℃）で固体になるものを用いることが好ましい。この場合、モノマー又はオリゴマーの種類としては、常温（２０〜２５℃）において固体であるものを用いることが好ましい。これにより、光透過性基材上に配向層が積層された時点でロール巻きされる場合でも、光透過性基材の裏面に配向層が貼り付くことに起因するブロッキングが生じることを防止できる。
【００８０】
モノマー又はオリゴマーの含有量は、配向層と位相差層とを所望の強度で密着できる範囲内であれば特に限定されるものではない。光反応材料の質量に対して０．０１倍〜３倍の範囲内が好ましく、特に０．０５倍〜１．５倍の範囲内であることが好ましい。含有量が上記範囲内にあることにより、配向層と、位相差層とを所望の強度で密着することが可能となり、かつ、配向層の配向規制力を十分に発揮することが可能となる。配向層の厚みは、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下程度の範囲内、好ましくは下限値が０．０２μｍ以上であり上限値が０．２μｍ以下程度が好ましい。
【００８１】
配向層形成用組成物として、溶媒を使用することができる。溶剤は、光配向材料およびモノマー又はオリゴマーを所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものではない。例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、本発明に用いられる溶媒は、１種類でもよく、２種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。
【００８２】
光学積層体の物性／用途
本発明による光学積層体は、液晶表示層において使用することができる。光学積層体はその薄膜（フィルム）、板、シート等の形態として形成することができる。本発明による光学積層体が位相差体の場合、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム（例えば、視野角補償フィルム）、楕円偏光板、輝度向上板等として利用される。光学積層体の厚さは、３０μｍ以上２００μｍ以下程度の範囲内、好ましくは下限値が３０μｍ以上であり上限値が１００μｍ以下程度が好ましい。
【００８３】
光学積層体が位相差体の場合、Ｒｅの波長分散は、波長が短くなるほどＲｅ値が小さくなる逆分散型であっても良く、波長が短くなるほどＲｅ値が大きくなる正分散型であっても良く、または、Ｒｅ値に波長依存性を有さないフラット型であっても良い。
【００８４】
II.光学積層体の製造方法
本発明における光学積層体の製造方法は、光透過性基材と、光学機能層又は（それ用組成物）、その他の層（それ用組成物）を用意する。そして、光透過性基材の上に、光学機能層を付与することにより達成される。そして、形成された光学機能層は、
光学機能性層における剛体振り子の振動振幅の対数減衰率をλと定義し、
−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、及び、
０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とした場合に、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜≧０．０４      （Ｉ）
を充足するものとして製造される。
【００８５】
位相差体の製造方法
本発明における光学積層体（位相差体）の製造方法は、光透過性基材に、位相差層と、その他の層を形成させることを含んでなるものである。本発明による製造方法の概要を以下に説明する。
（１）材料の準備工程
光透過性基材、位相差層及びその他の層形成用組成物を用意する。
（２）位相差層と、その他の層形成工程
位相差層形成組成物の塗膜を形成した後、当該塗膜に含まれる液晶材料を配列させることにより位相差層を形成する。本工程において液晶材料を配列させる方法としては、通常、上記塗膜を液晶材料の液晶層形成温度以上に加温する方法が用いられる。また、位相差層を形成する前に、配向層を形成することができる。本発明にあっては、配向層は、配向膜用組成物の吸収波長をカットしながら、モノマーもしくはオリゴマーを硬化させ、その後、任意の偏光状態を持つ紫外線を照射して配向規制力を発現させることにより配向層とすることができる。
【００８６】
光透過性基材の上に、位相差層、又はその他の層形成用組成物を塗工する方法の具体例としては、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などを例示することができる。
【００８７】
乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
【００８８】
（３）延伸化処理
本発明においては、位相差層及びその他の層を形成した後に、光透過性基材を延伸化してもよい。本発明にあっては、延伸化した光透過性基材を用いる以外に、偏光体を構成した後に、延伸化することが可能であり、より好ましい。各層が形成された光透過性基材を延伸することから、延伸条件のバラツキによる屈折率異方性の発現の程度のバラツキを少なくして、屈折率異方性を安定化させやすいという利点を有する。
【００８９】
本発明においては、上記乾燥工程の後に、上記高分子フィルムを延伸する延伸工程を有し、さらに当該延伸工程の後に、前記高分子フィルム内に浸透した上記屈折率異方性材料を固定化する固定化工程を有しても良い。このように上記屈折率異方性材料を固定化する前に延伸する場合には、延伸工程において位相差体のリタデーション値の変化を大きくすることが可能である。
【００９０】
また、本発明においては、上記高分子フィルムを延伸する延伸工程の後に、前記位相差強化領域形成用塗工液を塗布する塗布工程を有しても良い。このような場合にも、面内方向及び厚み方向の両方のリタデーション値を強化することが可能であり、延伸後に屈折率異方性材料を塗布、浸透させることにより、塗布後に延伸したものよりも、後に行われる高温高湿試験において延伸戻りが少なくなるというメリットを有する。
【実施例】
【００９１】
本発明の内容を下記の例により詳細に説明するが、本発明の内容は下記例により限定して解釈されるものではない。
【００９２】
光学積層体（位相差体）の調製
例１
位相差層用組成物の調製
下記式（Ｉ）で表される重合性液晶材料２０重量部、光重合開始剤（商品名：ルシリンＴＰＯ；BASF社製）を固形分に対して２重量部、反応禁止剤（商品名：2.6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール；関東化学社製）０．０１重量部、シクロヘキサノン７８重量部を混合して、位相層用組成物を調製した。
【化４】
2009251448.tif 000005
【００９３】
位相差体の調製
光透過性基材として、フィルム厚８０μｍのＴＡＣフィルム（商品名：ＴＦ８０ＵＬ、富士フィルム株式会社製）の表面に、バーコーティングにより乾燥後の塗工量が２．５ｇ／ｍ２となるように位相差層用組成物を塗布し、５０℃で２分加熱して溶剤を除去した後、塗布面に紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ２照射することにより、上記光重合性液晶を固定した位相差体を得た。
【００９４】
例２
紫外線の照射量を２００ｍＪ／ｃｍ２にした以外は実施例１と同様の方法により位相差体を得た。
例３
紫外線の照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ２にした以外は実施例１と同様の方法により位相差体を得た。
【００９５】
比較例１
紫外線の照射量を１０ｍＪ／ｃｍ２にした以外は実施例１と同様の方法により位相差体を得た。
比較例２
紫外線の照射量を６０ｍＪ／ｃｍ２にした以外は実施例１と同様の方法により位相差体を得た。
比較例３
紫外線の照射量を１００ｍＪ／ｃｍ２にした以外は実施例１と同様の方法により位相差体を得た。
比較例４
紫外線の照射量を１２０ｍＪ／ｃｍ２にした以外は実施例１と同様の方法により位相差体を得た。
【００９６】
評価試験
例と比較例の位相差体について以下の評価試験を行い、その結果を下記表１に記載した。
【００９７】
評価１：対数減衰率測定評価試験
剛体振り子型物性試験機（A&D（株）製 ＲＰＴ―α１００）で、パイプエッジ型（REP-080）、フレーム（FRB-100）を用い、塗膜上にて振動の振幅の対数減衰率を測定する。このとき、塗膜は加熱冷却装置により−50℃まで冷却後フレームを降下、−５０℃で10分間保持させ、−５０〜１２０℃まで１０℃／ｍｉｎの昇温速度でスイープし、各温度における対数減衰率を測定した。そして、−３０℃以上０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ−３０〜０と、０℃以上４０℃以下の温度範囲における対数減衰率の平均値をλ０〜４０とし、下記一般式（Ｉ）：
｜λ−３０〜０  −  λ０〜４０｜                  （Ｉ）
に導入して、数値を求めた。
【００９８】
評価２：ブロッキング評価試験
ＪＩＳＫ６４０４−１４の規格に基づいてブロッキング試験を行って、下記基準で評価した。
評価基準
評価◎：全く貼り付きは見られなかった。
評価○：若干の貼り付きがあったものの、光学積層体として全く問題がなかった。
評価△: 貼り付きがあり、光学積層体としての機能に影響があった。
評価×：貼り付き、光学積層体として使用不可能であった。
【００９９】
【表１】
2009251448.tif 000006