(57)【要約】【課題】本発明は、表示素子の視認性を向上させつつ、表示装置の耐水性向上に寄与する防眩性基板を有する表示装置を提供することを課題とする。【解決手段】表示素子、及び該表示素子と対向して配置される防眩性基板を有する表示装置であり、該防眩性基板の外表面には、略平面の表面上に、触針式表面走査計で表面状態を観察したときに、正面視で平均面積が８０〜４００μｍ2の円状である小丘体状の凸状体が配置され、該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置され、該凸状体が配置された表面の表面粗さが０．１〜０．４μｍである凹凸のパターンが形成され、さらに該外表面が水滴の保持性に優れ、且つ該外表面の水滴の静的接触角を８０〜１３０°のものとすること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子、及び該表示素子と対向して配置される防眩性基板を有する表示装置であり、該防眩性基板の外表面には、略平面の表面上に、触針式表面走査計で表面状態を観察したときに、正面視で平均面積が８０〜４００μｍ2の円状である小丘体状の凸状体が配置され、該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置され、該凸状体が配置された表面の表面粗さが０．１〜０．４μｍである凹凸のパターンが形成され、さらに該外表面が水滴の保持性に優れ、且つ該外表面の水滴の静的接触角が８０〜１３０°であることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記凸状体がアリール基を有するケイ素酸化物の網目架橋構造物により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
防眩性基板の外表面が、フルオロアルキルシランから形成されている層からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示素子、及び該表示素子と対向して配置される防眩性基板を有する表示装置、特にはタブレットＰＣに使用される表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルや有機ＥＬパネル等の平面表示パネル等の表示パネルにタブレット板等を設けることで、文字、パターン等を入力ペン等のデータ入力装置で手書き入力できるようにするとともに、その入力内容を表示パネルに表示するようにした表示装置が市販されている。
【０００３】
該表示装置は、入力時に生ずる局所的な圧力を回避して表示品位を保つために視認側に透明な保護板が設けられている（例えば、特許文献１の図４、又は特許文献２の図１を参照）。
【０００４】
そして、ＬＣＤの視認性を向上させるために観察者側面に防眩性（Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ；ＡＧ）の機能が要求されている。該防眩機能は、ガラス基板に適当な凹凸形状を設けることによって得られる。そして、非特許文献１では、防眩機能を得る凹凸形状について液晶表示装置（以下、ＬＣＤと表示する場合あり）のギラツキ、像鮮明性、白ボケの観点から、該凹凸の表面粗さと凹凸間距離との適正関係について紹介している。
【特許文献１】特開平６−７５２１３号公報
【特許文献２】特開２００４−２４０５４８号公報
【非特許文献１】北川篤、松永卓也、“高精細ＬＣＤ用表面処理技術の開発”、日東技法４０巻１号May、2002、29-31頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
文字、パターン等を入力ペン等のデータ入力装置で手書き入力できるようにするとともに、その入力内容を表示パネルに表示するようできるような機能の発現は、表示装置の様々な場所での使用を導きだした。例えば、湿度の高い場所、水の飛散が多い場所、雨雪環境になりうる外部環境等の水環境である。
【０００６】
水環境で表示装置の使用するためには、耐水性が良い表示装置が提供されなければならない。本発明は、表示素子の視認性を向上させつつ、表示装置の耐水性向上に寄与する防眩性基板を有する表示装置を提供することを課題とする。    
【課題を解決するための手段】
【０００７】
防眩性基板と表示素子とは枠体等により一体化されて表示装置を構成する。表示装置の耐水性を向上させるために枠体と防眩性基板との密閉部の水密性を向上させることが大切である。しかしながら、この水密性に１００％頼る設計だけでは、密閉部の経時劣化を考慮すると、表示装置の耐水性の信頼性に疑問が生じる。
【０００８】
本発明では、防眩性基板に接触した水が密閉部に到達し難い設計とすれば、表示装置の耐水性向上に寄与するのではないかと着想し、本発明をなすに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の表示装置は、表示素子、及び該表示素子と対向して配置される防眩性基板を有する表示装置であり、該防眩性基板の外表面には、略平面の表面上に、触針式表面走査計で表面状態を観察したときに、正面視で平均面積が８０〜４００μｍ2の円状である小丘体状の凸状体が配置され、該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置され、該凸状体が配置された表面の表面粗さが０．１〜０．４μｍである凹凸のパターンが形成され、さらに該外表面が水滴の保持性に優れ、且つ該外表面の水滴の静的接触角が８０〜１３０°であることを特徴とする。
【００１０】
表示装置を構成する防眩性基板の外表面の水滴の静的接触角が高いものとすることで、防眩性基板の接触した水が、水滴として基板表面に保持され、前記密閉部に水滴を到達しづらくさせ、結果的に表示装置の耐水性向上に繋がる。本発明では、この観点から、水滴の静的接触角を８０°、好ましくは８５°以上、さらに好ましくは９０°以上としている。他方、１３０°超の場合、適度な高度を    を保持した凹凸パターンの形成が難しい。この観点から、該接触角の上限は、１２５°、好ましくは１２０°とすることが好ましい。
【００１１】
また、前記凸状体がアリール基を有するケイ素酸化物の網目架橋構造物により形成されたものとすることが好ましく、さらには、防眩性基板の最外表面を、フルオロアルキルシランから形成されている層からなるものとしてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の表示装置は、使用される防眩性基板が撥水性に優れ、且つその表面が水滴の保持性も優れるので、防眩性基板に接触した水が表示装置の密閉部に到達し難く、耐水性に優れたものとできる。また、該基板が、撥水性の効果により、易洗浄性も付与されるので、汚染防止にも効果を奏す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の表示装置を、一例をあげて説明する。図１は、表示装置１の一例の要部の断面を説明するものである。表示素子２、及び防眩性基板３は、対向して配置される。枠材４と、液晶表示装置２及び防眩性基板３とは、緩衝材５を密閉された水密構造とされる。液晶表示装置２の背後には、図示しないタブレット板を配置することで、表示装置１をペン入力可能な表示装置としてもよい。
【００１４】
表示素子２、金属、プラスチック等からでなる枠材４、シリコーンシーラント、ブチルゴム等、フッ素樹脂、ポリビニルブチラール等からなる緩衝材５には、市中から入手できる汎用品を使用してもよい。そして、表示素子２には、薄型の表示素子として利用される液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示素子、無機ＥＬ素子、ＰＤＰ、ＦＥＤ素子等が好適に使用される。
【００１５】
防眩性基板３には、ガラス板の金型成型、又は、ガラス板をアブレーションする、ことで作製されうるが、作製の容易性を考慮すると、ガラス板に塗布液を塗布、乾燥し、好ましくは、これを加熱して作製し、略平面の表面を有する薄膜を有し、凸状体が該薄膜上に配置されてなる防眩性基板３とすることが好ましい。
【００１６】
上記のような形状を有する防眩性基板は、酸化ケイ素が架橋の構造単位であるオリゴマーを有するシリカゾルを複種混合して塗布液を得る工程、及び該塗布液をスピンコート等でガラス板に塗布する工程、塗布後の膜を加熱硬化させる工程により作製することができる。
【００１７】
前記シリカゾルは、アルコキシシラン等の酸化ケイ素前駆体物質、有機溶媒、及び酸性触媒、水等を所定量混合、攪拌することで得られる。前記攪拌のための時間は、１０分から２０日が好ましく、特に１時間から４日が好ましいが、室温以外で攪拌する場合はこれに限定されるわけではない。また、加熱することで、反応を促進させ、攪拌時間を短くすることが可能である。
【００１８】
以上のように酸化ケイ素前駆体物質の加水分解は、少量の水と酸触媒を添加し行うことができ、その加水分解物を室温、又は加熱しながら攪拌することにより重縮合させ、シリカゾルを得ることができる。尚、水の添加量については、Ｈ２Ｏ／酸化ケイ素前駆体物質のモル比が０．１〜２０、好ましくは、４〜８となるように調整されることが好ましい。この水の添加量を調整することにより、シリカゾル中のオリゴマーの分子量を調整でき、水の添加量が多くなると、オリゴマーの分子量が小さくなる傾向がある。
【００１９】
０．１未満では、オリゴマーの平均分子量が大きくなりやすく、白濁化したシリカゾルが得られやすくなり、不均質な薄膜となりやすい。  従って、均一な防眩性薄膜を得るためには、該モル比は０．１〜２０となるように調整されることが好ましい。
【００２０】
尚、シリカゾルの調製方法としては、上記の方法に限定されるものではないが、上記のような酸化ケイ素前駆体物質を溶媒で希釈したものと、溶媒で希釈した酸性水溶液を徐々に混合する方法は、急激な反応を避けることができ、より均質な反応が得られるので好ましい。酸触媒には、用いられるアルコキシシランのアルコキシ基の加水分解速度に応じて、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸、酢酸、フタル酸、コハク酸などの有機酸等を使用することができる。そして、シリカゾル溶液中でのｐＨ値が０乃至５となるように酸触媒が添加されることが好ましい。
【００２１】
前記有機溶媒は、原料液を構成するアルコキシシラン、およびアルコキシシランの加水分解後に生成するシラノール基、水に相溶性を有するものが好ましく用いられる。使用可能な有機溶媒としては、炭素数１〜４の一価アルコール、炭素数１〜４の二価アルコール、グリセリンやペンタエリスリトールなどの多価アルコール等のアルコール類；ジエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、２−エトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等、前記アルコール類のエーテルまたはエステル化物；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ, Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ, Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ−アセチルモルホリン、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−アセチルピペリジン、Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ−アセチルピロリジン、Ｎ, Ｎ’−ジホルミルピペラジン、Ｎ, Ｎ’−ジアセチルピペラジンなどのアミド類；γ−ブチロラクトンのようなラクトン類；テトラメチルウレア、Ｎ, Ｎ’−ジメチルイミダゾリジンなどのウレア類；ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
【００２２】
これらの有機溶媒を、単独または混合物として用いても良い。この中で、防眩性に必須な相分離現象を際立たせるために好ましい有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、炭素数１〜４の一価アルコールなどが挙げられる。中でも、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、アセトンが更に好ましく、メタノールまたはエタノールが最も好ましい。
【００２３】
そして、複種のシリカゾルを混合する工程としては、［SiO4/2］を架橋単位として架橋が形成されてなるシリカゾル（以下、シリカゾル（Ａ）と表記する場合有り）と、さらにアリール基とケイ素の結合を有する酸化ケイ素が架橋単位として架橋が形成されてなることで、適度な疎水性を帯びたシリカゾル（以下、シリカゾル（Ｂ）と表記する場合有り）とを混合して得られるものとすることが好ましい。
【００２４】
この混合シリカゾルからなる塗布液を基板上に塗布すると、溶媒の乾燥に伴い、親水的な［SiO4/2］を主成分とするシリカ構造体とアリール基とケイ素の結合を有する疎水的なシリカ構造体との相分離が生じる。その際SiO4/2を主成分とするシリカゾルとアリール基とケイ素の結合を有し疎水性を帯びたシリカゾルの混合比を適切に設定することにより、バイノーダル的に分相したような薄膜となる。結果、本発明の防眩性基板を形成できるようになる。尚、ここで言う［SiO4/2］とは、一つのケイ素原子に４つの酸素原子が結合したシロキサンの基本構成単位のことである。
【００２５】
さらに分相を形成した後の熱処理時に薄膜内の亀裂の発生を抑制するための成分として、アルキル基とケイ素との結合を有する酸化ケイ素が架橋構造単位として架橋が形成されてなるシリカゾル（以下、シリカゾル（Ｃ）と表記する場合有り）をも混合して混合シリカゾルを形成して塗布液を得てもよい。
【００２６】
シリカゾル（Ａ）は、シリカ架橋によるオリゴマーがポリスチレン換算での数平均分子量が３００〜１０００、好ましくは、５００〜９００の範囲となるように加水分解・重縮合反応して得ることが好ましい。そして、シリカゾル（Ａ）の好ましい原料としては、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ(ｎ−プロポキシ)シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ(ｎ−ブトキシ)シラン等が挙げられる。
【００２７】
また、シリカゾル（Ｂ）は、シリカ架橋によるオリゴマーがポリスチレン換算での数平均分子量が５００〜１０００、好ましくは、７００〜９００の範囲となるように加水分解・重縮合反応して得ることが好ましい。そして、シリカゾル（Ｂ）の好ましい原料としては、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ナフチルトリクロロシラン、ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジナフチルジクロロシラン、ジナフチルジメトキシシラン、ジナフチルジエトキシシラン等のケイ素原子１つに対しアリール基を１つないし２つ有するシラン類等を加水分解・重縮合させることにより得ることができる。
【００２８】
またさらには、シリカゾル（Ｃ）は、シリカ架橋によるオリゴマーがポリスチレン換算での数平均分子量が５００〜１０００、好ましくは、７００〜９００の範囲となるように加水分解・重縮合反応して得ることが好ましい。そして、シリカゾル（Ｃ）の好ましい原料としては、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジクロロシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等のケイ素原子１つに対しアルキル基を１つないし２つ有するシラン類等を加水分解・重縮合させることにより得ることができる。
【００２９】
上記で使用されるガラス板は、ソーダライム珪酸塩ガラス、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、バリウム硼珪酸ガラス、石英ガラス等の板状のガラス基板で特にはフロート法で製造されたものが好ましい。さらには、これらガラス板は、クリアガラス品、グリーン、ブロンズ等の着色ガラス品、ＵＶ、ＩＲカットガラス等の機能性ガラス品、強化ガラス、半強化ガラス、合せガラス等の安全ガラス品等も使用されうる。また、これら無機系のガラス以外にも、有機系ガラスとして使用されうるポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスティックガラス種も使用されうる。使用されるガラス板の厚みは、例えば、０．１〜１０ｍｍの厚みを有するガラス板が使用され得る。特にガラスの強度および重量のバランスの観点から、タブレットＰＣ等のＬＣＤ用途としては０．１〜１．３ｍｍの板厚を有するガラス板が好ましい。
【００３０】
そして塗布液は、スピンコートでガラス板に塗布される。この塗布時のスピンの回転速度を制御することで、凸状体の平均高さ等を調整することができる。回転速度と該平均高さとは、逆比例する傾向がある。さらに、塗布液に導入されるシリカゾルのうち、アリール基とケイ素の結合を有する適度な疎水性を帯びたシリカゾルの割合の増加によって凸状体の平均高さは大きくなる傾向がある。
【００３１】
従って、凸状体が前項「課題を解決する手段」で述べたような所望な大きさ、配置度合いとなるように制御することを容易とするために、塗布液の塗布時の回転速度を１００〜２０００ｒｐｍ、好ましくは、１００〜１０００ｒｐｍとすることが好ましい。また、同様の観点から、塗布液を得る工程にて、塗布液に導入される固形分である総オリゴマー量が、塗布液中の濃度として１〜３０重量％、好ましくは、５〜１０重量％の範囲に調整されることが好ましい。さらには、塗布液の塗布後に塗布された液がレベリングされるようにレベリング工程が設けられることが好ましい。該レベリング工程では、スピンの回転速度を０(回転停止)〜１００ｒｐｍとすることが好ましい。そして、これら工程が終了後に乾燥を促進させ、膜を加熱硬化するための加熱工程が好適に行われ、防眩性基板が得られる。
【００３２】
前記加熱工程では、ガラス板を１００〜７００℃、好ましくは１００〜６００℃  で加熱することが好ましい。加熱温度が１００℃未満では、薄膜の緻密化が不十分となりやすく、７００℃以上では、薄膜の緻密化が促進されすぎて薄膜の凸状体を本発明で規定したような形状及び配置度合いとすることが難しくなるからである。
【００３３】
そして、ガラス板に塗布液を塗布した後の乾燥工程での加熱で、図２に示すような凸状体の中央部が頂上付近となるような小丘体状の凸状体が配列された防眩性基板が得られる。
【００３４】
この好ましい形態である薄膜を使用した場合の防眩性基板では、該薄膜の厚みは、平坦面を基準として、好ましくは、０．２〜５μｍ、より好ましくは、０．５〜２μｍである。
【００３５】
以上で、防眩性基板３を得るための例を詳細に述べてきたが、次に防眩性基板の表面形状について詳細に述べていく。基板３の略平面の表面上に、触針式表面走査計で表面状態を観察したときに、正面視で平均面積が８０〜４００μｍ2の円状である小丘体状の凸状体が配置され、該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置され、該凸状体が配置された表面の表面粗さが０．１〜０．４μｍであることが好ましい。
【００３６】
尚、本発明での防眩性とは、ＪＩＳ−Ｚ８７４１（１９９７年）に準拠して測定される６０°鏡面光沢度が７５以下の場合を指すものである。ここで、「正面視」とは、ガラス基板を、凸状体が配置された面に対して、垂直方向から観察したときに得られる２次元的な観察結果のことを指す。また、本発明の防眩性基板では、「略平面の表面」とは、凸状体が配置された面において、「平坦面」として現れ、該平坦面は、ガラス基板の対向する面と略平行な関係を形成するものである。
【００３７】
上記形状を有する防眩性基板は、従来のように表面を粗い状態にするという技術思想ではなく、略平面の表面上に上記形状の小丘体状の凸状体を配置するという新たな表面の構造設計でなされたものである。
【００３８】
凹凸構造で防眩機能を発揮させるためには、例えば特許文献１によれば、表面粗さ（Ｒａ）は、０．０１〜０．５μｍ必要となる。防眩性とＬＣＤ素子の像鮮明性について論じた非特許文献１によれば、「表面粗さ／凸状体間距離≦０．００８」の関係を満たす必要がある。これより、前記表面粗さ値から適切な凸状体の距離を導き出すと、凸状体距離は、１．２５〜６２．５μｍ以上必要となる。
【００３９】
しかしながら、これら表面による防眩処理は、表面を粗い状態にするという技術思想のみでなされたものなので、凹凸形状の各場所での高さ、各深さはランダムである。また、光の反射の波長依存性を低減させるために、凹凸構造は、非周期的とされなければならない。
【００４０】
防眩機能は、表面の凹凸構造により達成されるが、該凹凸はＬＣＤからの表示光をも散乱する。ＬＣＤを表示する各画素の面積は、４０〜８０×１５０〜２５０μｍ２程度であり、前記凸状体距離の制御だけでは、非周期的に配列される凹凸構造の配列状況によっては、各画素上に配列された凸状体の数にバラツキが生じる。これは、各画素での光の散乱状態にバラツキを生じせしめるもので、結果、干渉によって生じる部分的な光彩が観察者に観察されるようになる。
【００４１】
上記を考慮すると、各画素での光の散乱状態にバラツキに起因する干渉によって生じる部分的な光彩が観察されることを抑制することに適した防眩性基板が好ましい。
【００４２】
本発明の防眩性基板は、この好ましい防眩性基板を満たしうるものであり、本発明の防眩性基板の使用は、ＬＣＤの観察者にもたらす部分的な光彩が観察されることを抑制するガラス基板表面の設計を提供できるに至った。ここでの小丘体状の凸状体とは、平面から盛り上がった形状のもので、正面視において中央部が頂上となる滑らかに盛り上がったドーム形状のことである。
【００４３】
前記光彩抑制の観点から、前記凸状体は、略平面の表面上に触針式表面走査計で表面状態を観測したときに正面視で平均面積が８０〜４００μｍ2、好ましくは、１００〜２００μｍ2の断面円形である凸状体が配置され、円状である凸状体が配置され、且つ該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置されなければならない。
【００４４】
本発明では、表面粗さ値に加え、凸状体の面積、及び配列度合いを前記ように設定することで、防眩性と前記のような部分的な光彩の抑制を達成できる。例えば、各区画に配置される凸状体の数を４個以下として、防眩性を有する基板を得ようとすると、凸状体の面積を大きくせざるを得なくなる。この場合、基板は、防眩性を有するようになるが、各区画での散乱度合いにバラツキが生じ、結果、部分的な光彩が生じるようになる。他方、表面粗さ値を前記範囲外とした場合、基板に防眩性が得られなくなるか、基板の透視性が悪いものとなる。
【００４５】
本発明の防眩性基板の表面を、触針式表面走査計により１００×１００μｍ２の面内の形状を測定し、実測した高さの数値データを２次元面に対してプロットすると、例えば、図２に示すような形状が描画される。本発明の防眩性基板の防眩機能は発揮せしめている表面は、このような形状が表面の全域に形成されている。そして本発明の防眩性基板を白表示されたＬＣＤパネル上に設置すると、表示光の干渉が生じ難くなり、部分的な光彩が観察者に観測されないようになる。加えて、ＬＣＤパネルの表示も観察者に問題なく観察される。
【００４６】
尚、前記平均面積の「平均」とは、画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合の区画内に観察される凸状体の全部のデータを算術平均して得られるものとして定義される。小丘体状の凸状体が、正面視において中央部が陥没した形状の場合、該陥没部についても計測される面積として加えられる。
【００４７】
また、前記表面粗さは、触針式表面走査計等で測定された表面の高さデータを「ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１年）」に準拠して得られた算術平均の表面粗さとして定義されるものである。又、該表面粗さは、凸状体が略平面上に配置されていることから、凸状体の高さのデータと同義のものと考えてもよい。
【００４８】
さらには、前記区画、すなわち液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画したときの各区画サイズは、ＬＣＤの画素面積の相当する面積であり、４０〜８０×１５０〜２５０μｍ２程度の面積が区画のサイズとして認識され、好適には、１００×１００μｍ２サイズで議論される。
【００４９】
本発明では、前記凸状体が、各区画内にランダムに５個以上配置させられるが、前記部分的な光彩を抑制する観点から１０個以上とすることが好ましい。さらには、表面粗さが０．１〜０．４μｍ、好ましくは、０．１〜０．３μｍのものを作製するときの容易性を考慮すると、該配置は、各区画内に１００個以下、好ましくは、５０個以下、より好ましくは２５個以下、さらに好ましくは２０個以下とすることが好ましい。
【００５０】
前記ランダムとは、次のようなものとして定義される。任意の凸状体を１点選択し、該選択された凸状体を中心に前記区画を形成する。そして、該区画を中心区画とし、中心区画と同一面積を持って中心区画の周囲に配置される周辺区画を８個設定する。中心区画の正面視画像と周辺区画の正面視画像とを重ね合わせたときに８個の組み合わせとも凸状体部の重なりに不一致部があるものをランダムに配置されているものとする。
【００５１】
そして、本発明の防眩性基板をペン入力装置に組み込まれたＬＣＤのカバーガラスとして使用される場合、ペンの書き具合に引っかかり感がなく滑らかな書き具合感が得られることが好ましい。これを考慮すると、前記凸状体は、正面視したときの円状体の平均直径を、前記表面粗さに対して２５〜５００倍、好ましくは、５０〜２００倍とすることで、小丘状体の凸状体は、ドーム形状のようにすることが好ましい。該形状とすることで、凸状体が平面から滑らかに盛り上がるドーム形状（図２）を有したものとなるので、本発明でのより好適な防眩性基板をペン入力装置のカバーガラスとして使用した場合、ペンの書き具合に引っかかり感がなく滑らかな書き具合感が得られる。
【００５２】
凸状体がアリール基により形成される場合、それの凸状体に起因して撥水性と水滴の保持性が付与されるが、水滴の静的接触角をより高いものとして、易洗浄性の高いものとするために、外表面をフルオロアルキルシランから形成される層としてもよい。
【００５３】
フルオロアルキルシランから形成される層は、上記の凸状体が形成された面にフルオロアルキルシランを含む溶液を塗布し、乾燥、好ましくは加熱を行うことで得ることができおる。
【００５４】
フルオロアルキルシランは、アルコキシ基、ハロゲン含有基等の加水分解性基を有するフルオロアルキルシランを原料とすることが好ましく、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ等の片末端に加水分解性基を有するフルオロアルキルシランや、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣ��3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ等の両末端に加水分解性基を有するフルオロアルキルシランを用いることができる。
【００５５】
フルオロアルキルシランを含む溶液は、フルオロアルキルシラン原料、酸、水、アルコール等を混合し、室温で数時間攪拌することで調製することができる。その際のフルオロアルキルシランの濃度は０．１〜１０重量％の濃度範囲とすることが好ましい。
【００５６】
前記アルコールにはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等が適宜採用できる。このようにして得た反応性フルオロアルキルシランを含む溶液を、凸状体が形成された面に塗布する。
【００５７】
塗布方法としては、手塗り、ノズルフローコート法、ディッピング法、スプレー法、リバースコート法、フレキソ法、印刷法、フローコート法、スピンコート法、それらの併用等各種被膜の形成方法が適宜採用し得る。
【００５８】
次に、好適には加熱することで、フルオロアルキル基を凸状体が形成された面に固定化する。このときの加熱温度は２００℃〜４００℃が好ましい。
【００５９】
また、前記凸状体がアリール基により形成された場合、これに起因して凸状体が形成された面が撥水性を呈するようになるため、フルオロアルキルシランを含む溶液の塗布が難しい場合がある。
【００６０】
この場合、凸状体が形成された面を、紫外線照射、プラズマ処理、コロナ放電、フレーム処理の群から選ばれるいずれかの処理を行うことが好ましい。本発明では、紫外線照射が最も好ましい。この処理方法は、連続生産が可能で、経済性および作業性に優れるからである。
【実施例】
【００６１】
以下に本発明の表示装置で使用される防眩性基板の実施例について説明する。尚、本実施例では、防眩性基板は、ガラス板に塗布液を塗布することで得られたものであり、本実施例の防眩性基板の表面形状、光学特性は、以下の評価方法で評価された。
【００６２】
１．薄膜表面の観察
薄膜の表面形状は触針式表面走査計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ  ＥＴ４０００Ａ；小坂研究所製）により１００μｍ×１００μｍの面内の形状を測定した。高さデータは１μｍ刻みで取得し、１００μｍ×１００μｍ面内で合計１００００ポイントの高さデータを取得した。実測した高さの数値データを２次元面に対してプロットし、表面形状を３次元的に描画した。これを図２に示す。凸状体の平均面積はこの観察結果をもとに行った。
【００６３】
２．表面粗さの測定
前記１の薄膜表面観察による１００μｍ×１００μｍ面内の合計１００００ポイントの高さデータから「ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１年）」に準拠して得られる算術平均の表面粗さＲａ値を表面粗さ値とした。
【００６４】
３．単位面積当たりでの凸状体の数
前記１の薄膜表面観察による１００μｍ×１００μｍの面内の高さデータから、平均面よりも高い部分を凸部とし、凸部を正面視した場合に観測される円の同面内に配置される凸状体の数を数えた。
【００６５】
４．凸状体の平均直径
前記１の薄膜表面観察による１００μｍ×１００μｍの面内の高さデータから、平坦面よりも高い部分を凸部とし、凸部を正面視した場合に観測される円の直径を一つの凸状体の直径とし、同面内に観察されるすべての凸状体の直径を合計し、これを同面内に観察される凸状体の数で除すことにより、凸状体の平均直径とした。
【００６６】
５．凸状体の平均面積
前記１の薄膜表面観察による１００μｍ×１００μｍの面内の高さデータから、平坦面よりも高い部分を凸部とし、凸部を正面視した場合に観測される円の面積を一つの凸状体の面積とし、同面内に観察されるすべての凸状体の面積を合計し、これを同面内に観察される凸状体の数で除すことにより、凸状体の平均面積とした。
【００６７】
６．６０°鏡面光沢度
ＪＩＳ−Ｚ８７４１（１９９７年）に記載の方法により、日本電色製鏡面光沢度測定機（Σ８０ＣＯＬＯＲ ＭＥＡＳＵＲＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭ ＶＧＳ）を用いて、ガラス基板の裏面に黒色塗料を塗り裏面の反射防止処理を行った上で、試料の中心点の６０°鏡面光沢度を測定した。
【００６８】
７．干渉によって生じる部分的な光彩の評価
干渉によって生じる部分的な光彩は次に示す官能試験により評価した。防眩性ガラス基板の防眩のための凸状体が形成されていない面側を、ＬＣＤパネル上に接触させ、ＬＣＤパネルが白表示時の干渉によって生じる部分的な光彩の程度を５段階（１〜５点）で評価した。評価は、１０人の被験者の平均値が１．５未満であれば良（○）とし、１．５以上３未満であれば可（△）とし、３以上であれば不合格（×）とした。尚、本試験でのＬＣＤパネルには、富士通株式会社製のノートパソコン(型式：FMV-830NU/L)に搭載されたＬＣＤパネルを使用し、評価は、照度が１０００ルックスの室内にて行った。
【００６９】
８．ＬＣＤの表示像の見え方評価
防眩性ガラス基板の防眩のための凸状体が形成されていない面側を、ＬＣＤパネル上に接触させ、ＬＣＤパネル上に接触させ、表示像の見栄えを５段階（１〜５点）で評価した。評価は、防眩性ガラス基板がない場合を３点とし、これとの比較で評価付けを行い、１０人の被験者の平均値が１．５未満であれば良（○）とし、１．５以上３未満であれば可（△）とし、３以上であれば不合格（×）とした。尚、本試験でのＬＣＤパネルには、富士通株式会社製のノートパソコン(型式：FMV-830NU/L)に搭載されたＬＣＤパネルを使用し、評価は、照度が１０００ルックスの室内にて行った。
【００７０】
９．易洗浄性の評価
汚れとして、ほこりや指紋などの有機汚れを意図的に付着させた後、(1)濡れ雑巾で軽く払拭(５往復)→(2)濡れ雑巾で強く払拭(１０往復)→(3)硬いスポンジで強く払拭(１００往復)→(4)スチールウール研磨(1分)→(5)セリア研磨(2分)の順で表面を洗浄し、汚れを完全に除去できる作業レベルにより易洗浄性と定義し、本防眩膜の評価としては(1)の場合に優（○）とし、それ以外を可（△）とした。
【００７１】
１０．水滴の静的接触角（撥水性）の評価
基板を水平に静置し、凸状体が形成された面に、純水約２μｌを置いたときの水滴と基板面とのなす角を接触角計で測定した。尚、接触角計には協和界面科学製ＣＡ−Ｘ型を用い、大気中（約２５℃）で測定した。
【００７２】
１１．水滴の保持性評価
防眩性基板の凸状体が形成された面上に所定量秤量した水滴を滴下し、その後基板を地表面に対して垂直となるように保持し、水滴が重力により落ちるかどうかを観察した。そして、水滴が滑落するときの水滴容量を計測した。この水滴容量が８μｌ以上、好適には９μｌ以上、より好適には１０μｌ以上のものが水滴の保持性が良いものとして評価してよい。この容量は、大きい程良いが、防眩性基板の製造コスト等を考慮し、本発明での上限は２０μｌ、好適には１５μｌとしてもよい。
【００７３】
１２．膜硬度の評価
「ＪＩＳ Ｋ５４００（１９９０年）」に準じて、鉛筆芯の硬さによる傷の有無を評価した。なお、傷の付かない一番硬い鉛筆芯を鉛筆硬度とし、６Ｈ以上を優（○）、５Ｈ以上を可（△）とした。
【００７４】
１３．薄膜の厚み評価
薄膜形成後に膜表面をカッターナイフで傷付けることにより、薄膜からガラス板表面が露出する部分を形成した。触針式表面走査計(SURFCORDER ET4000A;小坂研究所製)で該露出する部分を含めて薄膜を走査することにより、薄膜の平坦面を基準とする薄膜の厚みを測定した。
【００７５】
実施例１
Ａ．ガラス板を防眩性基板とするための塗布液の調製
シリカゾル（Ａ）の調製：テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）を出発アルコキシドとし、加水分解用の水を水/アルコキシドのモル比が８となるよう加え、さらに酸触媒としての硝酸を硝酸/水のモル比が０．０１となるよう加え、さらに加水分解後のSiO2換算の固形分濃度が９ｗｔ％となるように溶媒としてのエタノールを加えた。この混合液を室温で２４時間攪拌することにより加水分解・重縮合反応させることでシリカゾル（Ａ）を得た。得られたシリカゾル（Ａ）の数平均分子量は６１３であった。
【００７６】
シリカゾル（Ｂ）の調製：フェニルトリエトキシシラン（Ｃ6Ｈ5Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3）を出発アルコキシドとし、加水分解用の水を水/アルコキシドのモル比が８となるよう加え、さらに酸触媒としての硝酸を硝酸/水のモル比が０．０１となるよう加え、さらに加水分解後のＣ6Ｈ5SiO3/2換算の固形分濃度が９ｗｔ％となるように溶媒としてのエタノールを加えた。この混合液を６０℃で２４時間攪拌することにより加水分解・重縮合反応させることでシリカゾル（Ｂ）を得た。得られたシリカゾル（Ｂ）の数平均分子量は８６１であった。
【００７７】
シリカゾル（Ｃ）の調製：メチルトリエトキシシラン（ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3）を出発アルコキシドとし、加水分解用の水を水/アルコキシドのモル比が８となるよう加え、さらに酸触媒としての酢酸を硝酸/水のモル比が０．０１となるよう加え、さらに加水分解後のＣＨ3SiO3/2換算の固形分濃度が９ｗｔ％となるように溶媒としてのエタノールを加えた。この混合液を６５℃で２４時間攪拌することにより加水分解・重縮合反応させることでシリカゾル（Ｃ）を得た。得られたシリカゾル（Ｃ）の数平均分子量は８１２であった。
【００７８】
前記でえられたシリカゾル（Ａ）、シリカゾル（Ｂ）、シリカゾル（Ｃ）の数平均分子量を表１にも示す。そして、前記のシリカゾル（Ａ）、シリカゾル（Ｂ）、シリカゾル（Ｃ）を、重量比率でシリカゾル（Ａ）：シリカゾル（Ｂ）：シリカゾル（Ｃ）＝４：３：２となるように混合し１０分間攪拌を行い、防眩薄膜を形成するための塗布液を得た。
【００７９】
尚、シリカゾル（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）中のオリゴマーの平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(ＧＰＣ)により、ポリスチレン換算の数平均分子量として測定を行って得られたものである。ＧＰＣ測定は東ソー製高速ＧＰＣ装置ＨＬＣ−８０２０を用いた。カラムは東ソー製ＴＳＫgel Ｇ４０００Ｈ−ＨＲ、Ｇ３０００Ｈ−ＨＲ、Ｇ２０００Ｈ−ＨＲおよびＧ２０００Ｈ−ＨＲの４つのカラム(各３０ｃｍ)を直列に繋いだものを用い、検出器は示差屈折計を用いた。また、カラムおよび検出器の温度を４０．０℃および３８．０℃に保持した。溶出液はテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)で流量を１ｍｌ／分とした。得られたＧＰＣチャートからポリスチレン換算の数平均分子量としての値を求めた。これら分子量も表１に合わせて表記する。
【００８０】
【表１】
2009047915.tif 000003
【００８１】
Ｂ．防眩性ガ基板の作製
縦２００ｍｍ、横２００ｍｍ、厚み０．７ｍｍの長方形のフロート法によるソーダ石灰ケイ酸塩ガラスからなるガラス物品をガラス板とし、該ガラス板の中央部に前記Ａで得た塗布液を３０ｍｌ滴下した後、３００ｒｐｍで１００秒間の条件で基板を回転させるスピンコートにより塗布を行った。塗布後、３００℃で１０分間加熱し、防眩性基板を得た。
【００８２】
このようにして得た防眩性ガラス基板の薄膜に対して、前記１乃至１３の評価を行った。薄膜表面を観察した結果を図２に、その他の結果を表１に示す。本実施例で得られた防眩性基板は、表１に示すように良好な性能を有し、表示装置に好適に使用でき、また、表示装置の耐水性向上にも寄与できるものであった。尚、本実施例での薄膜の厚みは、１．７μｍであった。
【００８３】
実施例２（比較例１）
実施例１で得られた防眩性基板の凸状体が形成された面に対して、低圧水銀灯(ランプ型式：EUV２００ＷＳ−６０)を光源とする紫外線照射装置［セン特殊光源株式会社製］を用い、ランプと基板との距離を３０ｍｍ(紫外線照度が14mW/cm2)として１分間、紫外線を照射した。該処理にて、膜厚の変動は生じなかった。この照射で得られたものを比較例１とする。
【００８４】
次に、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン〔ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕；１重量部、イソプロピルアルコール；５０重量部、０．１Ｎの硝酸水溶液を０．３重量部の割合で混合し、２時間攪拌することでフルオロアルキルシランを含む溶液を得た。この溶液を前記紫外線が照射された基板の凸状体が形成された面にスピンコートで塗布し、室温で５分程度乾燥させた後、２００℃で１０分間加熱処理を行って、外表面がフルオロアルキルシランから形成されている層からなる防眩性基板を得た。
【００８５】
本実施例で得られた防眩性基板は、表１に示すように良好な性能を有し、表示装置に好適に使用でき、また、表示装置の耐水性向上にも寄与できるものであった。尚、本実施例での薄膜の厚みは、１．７μｍであった。
【００８６】
他方、比較例１の基板は、易洗浄性が低く、また、撥水性が低く、表示装置の耐水性向上にも寄与できるものと言えないものであった。
【００８７】
比較例２
紫外線が照射された基板に対して塗布した溶液を、平均重合度が３００のジメチルシリコーン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}３００Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕０．１重量部、イソプロピルアルコール；５０重量部、０．１Ｎの硝酸水溶液を０．１重量部の割合で混合し、２時間攪拌することで得たジメチルシリコーンを含む溶液とした以外は、実施例２と同様の操作を実施し、防眩性基板を得た。結果、水滴の保持性が低く、表示装置の耐水性向上にも寄与できるものと言えないものであった。尚、本比較例での薄膜の厚みは、１．７μｍであった。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の好適例の表示装置１の要部の断面を説明するものである。
【図２】本発明の防眩性基板について、小丘体状の凸状体を有する面を、触針式表面走査計で測定したときの高さの数値データを２次元面に対してプロットして得られる形状を３次元的に描画したときの描画像を示す図面である。尚、図中の軸の数字の単位はμｍである。
【符号の説明】
【００８９】
１  表示装置
２  表示素子
３  防眩性基板
４  枠材
５  緩衝材
【図１】
2009047915.tif 000004
【図２】
2009047915.tif 000005