(57)【要約】      （修正有）【課題】プラスチックパネル用部材の製造方法であって、高精細化に対応でき、且つ、フィルム基板を支持基板から剥離する際の剥離性を良くできる、プラスチックパネル用部材の製造方法を提供する。【解決手段】フィルム基板３０を剛直な支持基板１０の一面上に液層２０を介して密着させて固定して、支持基板１０にフィルム基板３０を積層した積層基材４０を形成した後、積層基材４０を単位の処理基材として、そのフィルム基板３０に、所定のプロセス処理を施し、処理後に、フィルム基板３０を支持基板１０から剥離するものであり、支持基板１０は、所定のプロセス処理に対して剛直な状態を維持できるもので、液層２０は、フィルム基板３０を支持基板１０に積層する際に、フィルム基板３０との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体で、且つ、所定のプロセス処理に対して液体の状態を維持できる沸点を有するものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基板をベース基材として用いたプラスチックパネル用部材を作製する、プラスチックパネル用部材の製造方法であって、フィルム基板を剛直な支持基板の一面上に液層を介して密着させて固定して、支持基板にフィルム基板を積層した積層基材を形成した後、該積層基材を単位の処理基材として、そのフィルム基板に、所定のプロセス処理を施し、処理後に、該フィルム基板を支持基板から剥離するものであり、前記支持基板は、前記所定のプロセス処理に対して剛直な状態を維持できるもので、前記液層は、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体で、且つ、前記所定のプロセス処理に対して液体の状態を維持できる沸点を有するものであることを特徴とするプラスチックパネル用部材の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラスチックパネル用部材の製造方法であって、前記液層は、粘度５４ｃＰ以下で、且つ、単体の液体、あるいは、複数の単体の液体の混合液であることを特徴とするプラスチックパネル用部材の製造方法。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれか１項に記載のプラスチックパネル用部材の製造方法であって、前記所定のプロセス処理が、洗浄工程、感光材塗布工程、露光工程、現像工程、熱処理工程のいずれか１を含むものであることを特徴とするプラスチックパネル用部材の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載のプラスチックパネル用部材の製造方法であって、所定のプロセス処理が、少なくとも前記フィルム基板にカラーフィルタ形成のための各色の着色材の配設工程を行うものであることを特徴とするプラスチックパネル用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム基板をベース基材としたプラスチックパネル用部材を作製する、プラスチックパネル用部材の製造方法に関し、特に、少なくともフィルム基板にカラーフィルタ形成のための各色の着色材の配設工程を行う、プラスチックパネル用部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＦＤＰ（フラットディスプレイパネル）の発展はめざましい中、近年では、例えば、液晶表示パネルにおいては、薄型化の要求と、割れないという理由や低コスト化の要求等から、フィルム基板をベース基材としてその一面に各色の着色層を配設したカラーフィルタ（ＣＦとも言う）部材が、プラスチックパネル用部材として開発が求められ、一部使用されるようになってきた。
しかし、プラスチックパネル用部材の作製において、現状で、汎用化されている、ベース基板をガラス基板として１枚ずつ処理して、液晶パネル用部材を作製するための、枚葉の製造装置を、そのまま利用する場合には、フィルム基板は、剛性が低く、撓みが大きく、また、加熱工程における基板のソリ、撓み等の熱膨張、収縮等の変形が大きいため、フィルム基板を剛性の大きなガラス等の支持基板に固定して保持する形態として、フィルム基板面に、プロセス処理を行ない、プラスチックパネル用の部材を作製している。
尚、現状で、汎用化されている、ベース基板をガラス基板とする液晶パネル用部材を作製するための各製造装置には、真空吸着台を用いるものが多く、更にまた、該製造装置のローダー部やアンローダー部、さらには、搬送部において、基板の向きを整列させるために、自動ピン当てによる整列機構を備えていることが多いため、プラスチック基板をそのままガラス基板用の製造装置に流すと、例えば、ガラス基板の場合にはほとんど見られない、基板のソリ、撓み等の変形により、装置の真空吸着台で基板を吸着できずに、工程エラ−により停止してしまう。
また、プラスチックパネル用部材の製造方法としては、将来的には、タクトが高く低コストで作製可能なロールツーロールが主流になると予測されるが、この方法を採用するには新規に製造ライン構築を行わなければならず、膨大なコストがかかってしまうため、暫定的に、あるいは、コスト的に、先に述べたガラス基板にフィルム基板を貼り付ける方式の、枚葉プロセスで既存のガラス基板を用いたプラスチックパネル用部材の製造方法が採られるのである。
この方式では、ガラス基板にフィルムを貼り付ける接着層に接着剤及び粘着剤を使用した場合、熱処理工程においてフィルム／接着層間の応力による寸法変化により、高精細なプラスチックパネル用部材の作製が困難である。
【０００３】
例えば、特開２００１−１２５０８２号公報（特許文献１）に記載のものは、図４に示すように、支持基板１１０上に感温性粘着剤を用いて粘着層１２０を形成し、フィルム基板１３０を支持基板１１０に貼り付けている形態のもので、感温性粘着剤からなる粘着層１２０によりフィルム基板１３０を支持基板１１０に貼り付けたまま、液晶パネル工程などの所定の処理を行う。
しかし、この形態のものでは粘着剤を使用しているため、粘着層１２０の粘度が高く、フィルム基板１３０と粘着層１２０間に応力が発生し、ラミネート時にフィルム基板１３０の寸法変化が起こるため、剥離後に設計寸法からずれるといった問題があった。
また、熱処理によるフィルム基板１３０の粘着層１２０からの剥離及び寸法変化により、高精細が要求されるプラスチックパネル用部材の製造が困難であるといった問題があった。
また、熱膨張係数の高いフィルム基板を用いた場合、熱処理によりフィルム基板のズレ応力による剥離を防ぐため高粘着力の粘着層を用いる必要があるが、この場合剥離時にフィルム基板が割れる可能性があるといった問題があった。
また、フィルム基板１３０の剥離時に、フィルム基板１３０に粘着層１２０が付着もしくは粘着層ごと支持基板１１０から剥離する可能性があるといった問題があった。
【特許文献１】特開２００１−１２５０８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のように、最近では、ＦＤＰ（フラットディスプレイパネル）の発展はめざましく、液晶表示パネルにおいては、薄型化の要求と、割れないという理由や低コスト化の要求等から、フィルム基板をベース基材としてその一面に各色の着色層を配設したカラーフィルタ部材が、プラスチックパネル用部材として開発が求められ、一部使用されるようになってきている中、従来のベース基板をガラス基板として１枚ずつ処理して、液晶パネル用部材を作製するための、枚葉の製造装置を、そのまま利用する際、フィルム基板を剛性の大きなガラス等の支持基板に粘着層で固定して保持する形態として、フィルム基板面に、プロセス処理を行なっていたが、粘着層の粘度が高く、フィルム基板と粘着層間に応力が発生し、ラミネート時にフィルム基板の寸法変化が起こり、剥離後に設計寸法からずれるという問題があり、また、熱処理によるフィルム基板の粘着層からの剥離及び寸法変化により高精細生産が難しいという問題があり、また、熱膨張係数の大きいフィルム基板を用いた場合、熱処理によるフィルム基板のズレ応力による剥離を防ぐために高粘着力の粘着層を用いることで剥離時にフィルム基板が割れるという問題があり、更にまた、フィルム基板の剥離時に、フィルム基板に粘着剤が付着して剥離、もしくは、粘着剤ごと支持基板から剥離しまうという問題があり、これらの対応が求められていた。
本発明はこれらに対応するもので、従来のベース基板をガラス基板として１枚ずつ処理して、液晶パネル用部材を作製するための、枚葉の製造装置を、そのまま利用し、フィルム基板を剛性の大きなガラス等の支持基板に粘着層で固定して保持して処理する、プラスチックパネル用部材の製造方法であって、高精細化に対応でき、且つ、フィルム基板を支持基板から剥離する際の剥離性を良くできる、プラスチックパネル用部材の製造方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法は、フィルム基板をベース基材として用いたプラスチックパネル用部材を作製する、プラスチックパネル用部材の製造方法であって、フィルム基板を剛直な支持基板の一面上に液層を介して密着させて固定して、支持基板にフィルム基板を積層した積層基材を形成した後、該積層基材を単位の処理基材として、そのフィルム基板に、所定のプロセス処理を施し、処理後に、該フィルム基板を支持基板から剥離するものであり、前記支持基板は、前記所定のプロセス処理に対して剛直な状態を維持できるもので、前記液層は、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体で、且つ、前記所定のプロセス処理に対して液体の状態を維持できる沸点を有するものであることを特徴とするものである。
そして、上記のプラスチックパネル用部材の製造方法であって、前記液層は、粘度５４ｃＰ以下で、且つ、単体の液体、あるいは、複数の単体の液体の混合液であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのプラスチックパネル用部材の製造方法であって、前記所定のプロセス処理が、洗浄工程、感光材塗布工程、露光工程、現像工程、熱処理工程のいずれか１を含むものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのプラスチックパネル用部材の製造方法であって、所定のプロセス処理が、少なくとも前記フィルム基板にカラーフィルタ形成のための各色の着色材の配設工程を行うものであることを特徴とするものである。
ここで、「液層は、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体」とは、フィルム基板を支持基板に積層する際に、ソリ、撓み等、問題となる変形を起こす応力が発生しない低粘度の液体のことである。
また、ここでは、プロセス処理においても、支持基板、フィルム基板、液層が化学的に変化しないことを前提としている。
尚、液層が、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体であるという条件下では、支持基板にフィルム基板を積層した積層基材の状態において、プロセス処理中においてフィルム基板に寸法変化が生じたとしても、プロセス処理後、プロセス処理前の環境条件下に戻った場合には、フィルム基板の寸法は元の寸法に戻ることを、ここでは前提としている。
また、ここで言う、プラスチックパネル用部材とは、最終製品、中間製品を含むものとする。
【０００６】
（作用）
本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法は、このような構成とすることにより、従来のベース基板をガラス基板として１枚ずつ処理して、液晶パネル用部材を作製するための、枚葉の製造装置を、そのまま利用し、フィルム基板を剛性の大きなガラス等の支持基板に粘着層で固定して保持して処理する、プラスチックパネル用部材の製造方法であって、高精細化に対応でき、且つ、フィルム基板を支持基板から剥離する際の剥離性を良くできる、プラスチックパネル用部材の製造方法の提供を可能としている。
具体的には、フィルム基板を剛直な支持基板の一面上に液層を介して密着させて固定して、支持基板にフィルム基板を積層した積層基材を形成した後、該積層基材を単位の処理基材として、そのフィルム基板に、所定のプロセス処理を施し、処理後に、該フィルム基板を支持基板から剥離するものであり、前記支持基板は、前記所定のプロセス処理に対して剛直な状態を維持できるもので、前記液層は、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体で、且つ、前記所定のプロセス処理に対して液体の状態を維持できる沸点を有するものであることにより、これを達成している。
即ち、従来の粘着層に代え、液層を用いることで、フィルム基板を支持基板に積層する際に変形を起こすことなく、また、熱処理等を含むプロセス処理でも、温度変化に起因する変形を起こすことなく処理を行え、これにより、既存の、ガラス基板をベース基板として用いたパネル用部材を作製する場合の製造装置（ガラス基板用の製造装置）にて、高精度でのプラスチックパネル用部材の作製を可能にし、且つ、プラスチック基板の支持基板からの剥離を変形なく容易に行えるものとしている。
詳しくは、本発明は、支持基板への液層を介してのフィルム基板の密着、固定が、支持基板とフィルム基板との間に液層を配して大気がない状態とするもので、これにより、支持基板とフィルム基板の外側からの大気圧により密着され、支持基板とフィルム基板とが液層を介した状態で相対的に移動しようとする際には、応力を受けるものであり、また、温度変化に対応した、支持基板、フィルム基板の伸縮に対しては、応力は小さくフィルム基板はソリ、撓み等の変形を発生させないことに基づいている。
勿論、液層は、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体である。
これにより、既存の、ガラス基板をベース基板として用いたパネル用部材を作製する場合の製造装置を、そのまま使用することを可能としている。
【０００７】
そして、具体的には、前記液層は、粘度５４ｃＰ以下で、且つ、単体の液体、あるいは、複数の単体の液体の混合液であることを特徴とするものである、請求項２の発明の形態とすることにより、確実に、フィルム基板の支持基板への固定を十分なものとし、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力を発生させず、また、温度変化に対応した支持基板、フィルム基板の伸縮に対しての、応力を小さいものとして、フィルム基板のソリ、撓み問うの変形を発生させないものとしている。
そして、剥離性を良くし、フィルム基板の剥離時にフィルム基板が割れない程度に容易に９０°剥離できるものとしている。
更に、剥離時にフィルム基板に残留物が残らないものとしている。
このようにすることにより、支持基板にフィルム基板をソリ、撓み等の変形がなく密着固定でき、且つ、密着固定したソリ、撓み等の変形のない状態で保持することを可能とし、更に、支持基板からのフィルム基板の剥離を容易に行えるものとし、これにより、このような積層基材を単位の処理基板として扱うことを、作業面、精度面からも実用レベルで可能としている。
更に具体的には、このような液層としては、粘度の他、フィルム基板や支持基板と非反応性であることや、プロセス処理における沸点等の耐熱性や、廃液面で好ましいものがよく、汎用アルコール系（メタノール、エタノール、ＩＰＡ、イソブチルアルコール）を使用することが望ましい。
特にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を使用するのが望ましいが、これに限定はされない。
【０００８】
また、前記所定のプロセス処理としては、洗浄工程、感光材塗布工程、露光工程、現像工程、熱処理工程のいずれか１を含むものが挙げられる。
特に、所定のプロセス処理が、少なくとも前記フィルム基板にカラーフィルタ形成のための各色の着色材の配設工程を行うものが挙げられる。
この場合は、特に、３色のカラーフィルタの位置精度面で、実用レベルで、既存の、枚葉のガラス基板用の製造装置を利用できる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、上記のように、ベース基板をガラス基板として１枚ずつ処理して液晶パネル用部材を作製するための、従来の枚葉の製造装置を、そのまま利用し、フィルム基板を剛性の大きなガラス等の支持基板に粘着層で固定して保持して処理する、プラスチックパネル用部材の製造方法であって、高精細化に対応でき、且つ、フィルム基板を支持基板から剥離する際の剥離性を良くできる、プラスチックパネル用部材の製造方法の提供を可能とした。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法のフィルム基板の状態とプロセス処理との関係を示した概略図で、図２は本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法の実施の形態の１例のプロセス処理の工程を示した工程フロー図で、図３（ａ）、図３（ｂ）は枚葉処理のローダー部とコロ搬送を説明するための図である。
尚、図２中、Ｓ１１〜Ｓ１６は処理ステップを示す。
また、図３（ａ）のＡ１側から見た状態が図３（ｂ）で、図３（ｂ）のＡ２−Ａ３から見た状態が図３（ａ）であり、図３中、点線矢印は移動方向を示している。
図１〜図３中、１０は支持基板、２０は液層、３０はフィルム基板、４０は積層基材（処理基材とも言う）、５０は処理形成部（機能層とも言う）、７０はカセット、７１は支持部、７５はカセット載置部、７６は位置決め部、８０はコロ搬送部、８１はコロ部（ロール部とも言う）、８２は軸部である。
【００１１】
はじめに、本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法の実施の形態の１例を図に基づいて説明する。
本例のプラスチックパネル用部材の製造方法は、フィルム基板をベース基材とし、該一面に、カラーフィルタを配設した、液晶表示パネル用のカラーフィルタ基板（ＣＦ基板とも言う）を、プラスチックパネル用部材として作製する、プラスチックパネル用部材の製造方法で、簡単には、図１（ａ）に示すように、剛直な支持基板１０の一面上に液層２０を配し、図１（ｂ）に示すように、フィルム基板３０を剛直な支持基板１０の一面上に液層２０を介して密着させて固定して、支持基板１０にフィルム基板３０を積層した積層基材４０を形成した後、該積層基材４０を単位の処理基材として、そのフィルム基板３０に、所定のプロセス処理（図１（ｃ）、図２参照）を施し、図１（ｄ）に示すように、その上に処理形成部（機能層とも言う）５０を配設し、プロセス処理後に、該フィルム基板３０を処理形成部５０と共に支持基板１０から剥離するものである。（図１（ｅ））
ここでは、積層基材４０を単位の処理基材として、ガラス基板をベース基板として用いたパネル用部材を作製する場合の製造装置（ガラス基板用の製造装置）を、そのまま使用し、枚葉方式でＲＧＢ各色のカラーフィルタの形成を行うものであるが、これを可能とするのは、先にも述べたが、支持基板への液層を介してのフィルム基板の密着、固定が、支持基板とフィルム基板との間に液層を配して大気がない状態とするもので、これにより、支持基板とフィルム基板の外側からの大気圧により密着され、支持基板とフィルム基板とが液層を介した状態で相対的に移動しようとする際には、応力を受けるものであり、また、温度変化に対応した、支持基板、フィルム基板の伸縮に対しては、応力は小さくフィルム基板はソリを発生させないことに基づいている。
勿論、液層は、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体である。
【００１２】
ここでのプロセス処理は、既存のガラス基板用の製造装置にて、枚葉方式で、ＲＧＢ各色のカラーフィルタの形成を行うものである。
ＲＧＢ各色のカラーフィルタの形成は、ここでは、顔料分散型の感光材を塗布して、フォトリソ法により行うが、各色のカラーフィルタ形成後の感光材のポリマー硬化の熱処理は、フィルム基板３０のガラス転移点以下で３０分程度で行う。
通常、この感光材のポリマー硬化の熱処理の温度が、プロセス処理の最高温度となる。  支持基板１０への液層２０の配設は、所定のダイコーターやスピンナー等で行うことができる。
また、フィルム基板３０を剛直な支持基板１０の一面上に液層２０を介して密着させて固定する方法としては、通常、ラミネータを用いて行うが、これに限定はされない。
プロセス処理後の、フィルム基板３０を処理形成部５０と共に支持基板１０から剥離は、ここでは、人手で９０°方向に引っ張り剥離する９０°剥離としているが、これを自動で行っても良い。
【００１３】
支持基材１０としては、処プロセス処理に対して、耐熱性を有し、剛直性を維持できる、ガラスもしくは樹脂基板、金属基板などが望ましい。
既存のガラス基板用の製造装置を使用するため、ここでは、実績のある、厚さが０．５ｍｍ〜１ｍｍの範囲のガラス基板を用いている。
支持基板１０に配設する液層２０としては、剥離時に残留物が残らないということからは、好ましくは単体の液体が用いられるが、反応せずに混合できる複数の単体の液体を混合した混合液も適用できる。
液層２０は、粘度５４ｃＰ以下で、且つプロセス処理に対して液体の状態を維持できる沸点を有するものが用いられる。
粘度５４ｃＰ以下とすることにより、確実に、フィルム基板の支持基板への固定を十分なものとし、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力を発生させず、また、温度変化に対応した支持基板、フィルム基板の伸縮に対しての、応力を小さいものとして、フィルム基板のソリ、撓み問うの変形を発生させないものとしている。
そして、剥離性を良くし、フィルム基板の剥離時にフィルム基板が割れない程度に容易に９０°剥離できるものとし、容易にプロセス処理後に、フィルム基板３０を処理形成部５０と共に支持基板１０からフィルム基板の割れがなく剥離できるものとしている。
更に、剥離時にフィルム基板に残留物が残らないものとしている。
単体の液体を液層２０とする場合、単体の液体としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ＰＥＧＭＥＡ等の高沸点かつ低粘度の液体が望ましいが、廃液の問題を考慮すると、汎用アルコール系（メタノール、エタノール、ＩＰＡ、イソブチルアルコール）を使用することが望ましい。
特にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を使用するのが望ましい。
勿論、液層２０は、フィルム基板３０を支持基板１０に積層する際に、フィルム基板３０との間で問題となるほどの応力が発生しない低粘度の液体であり、且つ、フィルム基板の割れがなく容易に９０°剥離でき、且つ剥離時に残留物が残らないものである。
ここでは、粘度５４ｃＰ以下のＩＰＡを用いている。
フィルム基材３０としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーノネート、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンナフトール、シクロオレフィンポリマー系樹脂が挙げられる。
フィルム基板３０の厚さは、既存の、ガラス基板用の製造装置の仕様に合わせるが、特にフィルム基板３０の作製が容易、かつ、プロセス中の扱いが容易な、５０μｍ〜２５０μｍの厚さが望ましい。
【００１４】
尚、表１に、液層として、ＩＰＡに樹脂（ＰＶＤＮ：ポリビニルピロリジノン）を添加混合して粘度を調整した各液体を用い、ポリエチレンナフトールからなるフィルム基板を、剛直なソーダガラス基板からなる支持基板の一面上に、液層を介して密着させて固定して、支持基板にフィルム基板を積層した積層基材を形成した場合の前後における寸法変化、及び、該積層基材からフィルム基材を９０°剥離した際の剥離性の評価結果を示す。
尚、表１においては、寸法変化は、
１２０ｍｍあたりの寸法変化絶対値１０μｍ（表記：１０μｍ／１２０ｍｍ）を許容範囲とし、許容範囲内のものをＯＫとし、そうでないものをＮＧとしている。
また、剥離性については、ソーダガラス基板からなる支持基板を割らずに９０°剥離を容易にできるものをＯＫとし、そうでないものをＮＧとしている。
【表１】
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表１より、上記寸法変化、剥離性の面から液層２０としては、５４ｃＰ以下が好ましいことが分かる。
また、剥離後にフィルム基板に残留物が残ることは好ましくない。
残留物の観点からは、液体単体への樹脂等の添加は好ましくなく、液体単体の使用が好ましい。
勿論、液層が５４ｃＰ以下の条件下であれば、支持基板にフィルム基板を積層した積層基材の状態において、プロセス処理中においてフィルム基板に寸法変化が生じたとしても、プロセス処理後、プロセス処理前の環境条件下に戻った場合には、フィルム基板の寸法は元の寸法に戻る。
【００１５】
各部をこのような材質として、液層２０を介してフィルム基板３０を支持基板１０に密着させて固定することにより、フィルム基板を支持基板に積層する際に、フィルム基板との間で問題となるほどの応力が発生しないものとしており、また、積層後、温度変化に対応して、フィルム基板はソリ、撓み等の変形を発生させずに伸縮できるため、アライメントマークによる各色のカラーフィルタの形成を、ガラス基板をベース基板とする場合と同程度に、位置精度良く行うことを可能としている。
また、フィルム基板の剥離性を良いものとしており、結局、フィルム基板をベース基板とするＣＦ基板の作製を、高精度で、既存の、ガラス基板用のＣＦ製造装置を用いて可能としている。
【００１６】
更に、図１、図２に基づいて、本例のプラスチックパネル用部材の製造方法を説明する。
先ず、支持基板１０に液体を滴下し、所定のダイコーターやスピンナーにて、図１（ａ）に示すように、液層を全面に形成し、更に、形成するＣＦ基板のベース基板となるフィルム基材をラミネートして積層し、支持基材１０に液層２０を介してフィルム基板３０を積層した積層機材４０を得る。（図１（ｂ））
フィルム基板３０をラミネートするときの大きさは、支持基板１０と同じ大きさとし、気泡が内部に発生しないように貼る。
支持基板１０よりフィルム基板３０が小さいとラミネート時に液体がフィルム基板３０上面に侵入し、感光材及び配設されたブラックマトリクスや各色のカラーフィルタと反応するといった問題がある。
また、支持基板１０よりフィルム基板３０が大きいと、既存の、ガラス基板用の製造装置を用いているため、搬送やアライメントの障害になるといった問題がある。
液層２０を形成する際の滴下量としてはフィルム基板のラミネート時に全面に液体による接着層が形成されるものである。
先にも述べたが、液層２０として使用する液体はラミネート時にフィルム基板との応力が発生しない低粘度の液体が望ましい。
ラミネート時のソリ、撓み等の変形の面から５ｃＰ以下の粘度が望ましい。
また、プロセス中に液層が蒸発してしまうとフィルム基材３０の搬送が困難になるだけでなく、支持基板１０からフィルム基材３０がズレてソリ、高精細なＣＦ基板の製造が困難になるため、液層に用いる液体にはプロセス処理の温度以上の沸点を有した液体が望ましく、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ＰＥＧＭＥＡ等の高沸点かつ低粘度の液体が挙げられるが、廃液の問題を考慮すると、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を使用するのが望ましい。
【００１７】
次いで、必要に応じて、積層基材４０のフィルム基板３０の表面を洗浄する洗浄工程を行う。
この洗浄工程は、例えば、以下のように行う。
先ず、フィルム基板３０の表面に対して、弱アルカリ性の界面活性剤および中性洗剤等で油脂分の汚れを落とし、更にそれらをリンスするための水および純水のシャワー洗浄を行う。
次いで、エアナイフを通過し、乾燥させる。
次にフィルム基板３０の表面にＵＶ洗浄を施す。
ＵＶ洗浄は低圧水銀ランプの波長（２５４ｎｍ、３６５ｎｍ）を使用し、２Ｊ／ｃｍ2 程度施す。
【００１８】
次いで、ブラックマトリクスの形成、ＲＧＢ各色のカラーフィルタの形成を、図２に示す、フォトリソ法の各処理Ｓ１１〜Ｓ１６を、各色形成毎に行い、且つ、各色については、所定のアライメントマークを用いて位置合わせする。（図１（ｃ））
各処理ステップを行う装置への搬送やセットは、既存のガラス基板用の製造装置での搬送やセットと同じように行う。
例えば、図３（ａ）に示すように、積層基板４０を、多数、カセット７０にセットしておき、最下段側から、コロ搬送部８０を相対的に上昇させ、所定の位置で最下の積層基板４０をカセット７０の支持部７１から浮かせた状態とし、且つ、搬出方向にコロ部８１回転させて、図３（ａ）の点線矢印の方向に搬出し、更に搬送される。
図３（ｂ）に示すように、通常は、カセット７０は、載置部７５上に位置きめ部７６により位置きめされた状態で載置され、載置部７５の上下移動により、上下移動する形態を採り、コロ搬送部の位置は固定されている。
上記は、処理基板４０のカセット７０からの搬出動作であり、処理基板４０のカセット７０への搬入動作は、基本的には、同様の装置形態で、カセット移動方向やコロ搬送部の回転方向を上記搬出動作と反対として行うが、ここでは、詳細は省く。
【００１９】
ここでは、はじめに、ブラックマトリクスと位置合わせ用のアライメントマークを形成する。
ブラックマトリクス形成用の感光材をスピンナーもしくはダイコータにて塗布し、塗布後、減圧下で乾燥し、温度８０〜１００℃、時間１〜５分間、プリベークを行い、感光材中の溶剤分を除去するとともに、感光材のフィルム基板への密着性を向上させる。（Ｓ１１〜Ｓ１３）
ここでは、汎用の顔料分散型のネガ型の感光材を用いる。
減圧乾燥工程は液層が蒸発しない程度の真空度０．１５Ｔｏｒｒ程度とする。
勿論、ここでは、このような減圧下でも蒸発しない高沸点の液体を液層として採用する。
次いで、感光材が配設された処理基板（図１（ｂ）の４０に相当）に対して、ブラックマトリクスとアライメントマーク形成用のフォトマスクを用いて、露光を行う。（Ｓ１４）
積層基板（処理基板）４０、フォトマスク（図示していない）を、所定の露光機にセットして露光を行う。
例えば、プロキシミティー露光の場合、処理基板４０とフォトマスクとの隙間の間隔は５０〜３００μｍ程度となる。
この状態で露光を行い、つぎの工程へと基板を搬送する。
次いで、所定の現像液で現像を行い（Ｓ１５）、ブラックマトリクス部とアライメントマーク部とを形成した後、残った感光材を更に硬化させるための熱処理としてポストベーキングを行う。（Ｓ１６）
現像液としては、通常、水酸化カリウム（ＫＯＨ）の３〜１０％溶液を用いる。
熱処理の温度は、フィルムのガラス転移点以下で３０分間行う。
ガラス転移点はフィルム基板の材質にもよるが、およそ１００〜２３０℃で熱処理を行う。
このようにして、ブラックマトリクスの形成のために、処理ステップＳ１１〜Ｓ１６を行う。
【００２０】
次に、フィルム基板３０の表面にブラックマトリクスとアライメントマークが形成された積層基板４０に対して、各色用の感光材を用いて、各色毎に、順次、上記と同様に、処理ステップＳ１１〜Ｓ１６を行い、ＲＧＢの各色のカラ−フィルタを配設したＣＦ基板を形成する。
基本的には、上記と同じであるが、ここでは、露光の際、処理基板４０に形成されたアライメントマークとフォトマスクのアライメントマークとが一致するように調整して露光する。  
このようにして、積層基板４０のフィルム基板３０の表面にブラックマトリクスと各色のカラ−フィルタを機能層５０として形成する。（図１（ｄ））
【００２１】
次いで、フィルム基板３０と処理形成部（機能層）５０とを一体として、支持基板１０から９０°剥離を行う。
ここでは、支持基板に直行する方向（９０°方向）に容易に剥がれる。
剥離後にフィルム基板に液層に用いた液体が付着する場合があるが、その場合は液体が蒸発する程度の減圧乾燥、もしくは純水洗浄にて除去する。
このようにして、フィルム基板をベース基板とするＣＦ基板を形成する。
【００２２】
上記、プロセス処理においては、処理の温度変化によりフィルム基板３０は、支持基板１０に対して相対的に伸縮するが、フィルム基板３０を液層２０を介して支持基板１０に密着固定していることにより、温度変化に起因してフィルム基板３０はソリ、撓み等の変形を起こさずに伸縮できるため、アライメントマークを用いた位置合わせによる露光の位置精度を、ガラス基板をベース基板とした場合と、同程度に良く行うこと可能としている。
【００２３】
上記の本例のプラスチックパネル用部材の製造方法は１例で、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、機能層の配設をフォトリソ法でない工程も採ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法のフィルム基板の状態とプロセス処理との関係を示した概略図である。
【図２】本発明のプラスチックパネル用部材の製造方法の実施の形態の１例のプロセス処理の工程を示した工程フロー図である。
【図３】図３（ａ）、図３（ｂ）は枚葉処理のローダー部とコロ搬送を説明するための図である。
【図４】従来の方法における積層状態を示した図である。
【符号の説明】
【００２５】
１０            支持基板
２０            液層
３０            フィルム基板
４０            積層基材（処理基材とも言う）
５０            処理形成部（機能層とも言う）
７０            カセット
７１            支持部
７５            カセット載置部
７６            位置決め部
８０            コロ搬送部
８１            コロ部（ロール部とも言う）
８２            軸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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