(57)【要約】【課題】液体を密閉することなく液体からの気体の気散を抑制することが可能な被処理物の処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】第２図のように被処理物９を貯留部１内の液体８に浸漬した後、弁３ａ、弁５ａを開とし、弁６ａ、弁４ａを閉とする。これにより、液体供給配管３から貯留部１に供給された液体７は、貯留部１の開放部１ａから溢出して副貯留部２内に貯留され、第３図のように液面が配管５の接続高さまで上昇する。その後、第４図の通り、弁３ａ、弁６ａ、弁４ａを開とする。これにより、副貯留部２内の液体７は、液体排出配管６から排出され、該副貯留部２内の液位が徐々に下降し、該開放部１ａの上方に存在していたボール７は、やがて該貯留部１内に挿入される。この過程において、貯留部１及び副貯留部２の液面にボール７が密に浮くことになり、液面からガスが大気中に気散することが抑制される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体中に被処理物を浸漬して該液体と該被処理物とを接触させる被処理物の処理装置において、
該被処理物が浸漬される該液体の貯留部と、
該貯留部の上方に設けられた、該貯留部への該被処理物の出し入れ用の開放部と、
該液体の液面に浮遊させる浮遊物と
を有することを特徴とする被処理物の処理装置。
【請求項２】
請求項１において、前記貯留部の上部と連通している副貯留部と、
該貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させることが可能な貯留部用液位調節手段と、
該副貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させることが可能な副貯留部用液位調節手段と
を有しており、
該貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、該副貯留部用液位調節手段によって該副貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該貯留部内の該浮遊物を該副貯留部に移動させることが可能となっており、
該副貯留部用液位調節手段によって該副貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、該貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該副貯留部内の該浮遊物を該貯留部に移動させることが可能となっていることを特徴とする被処理物の処理装置。
【請求項３】
請求項２において、前記貯留部用液位調節手段は、該貯留部に液体を供給する液体供給手段と、該貯留部内の液体を排出する液体排出手段とを有しており、
前記副貯留部用液位調節手段は、該副貯留部に液体を供給する液体供給手段と、該副貯留部内の液体を排出する液体排出手段とを有していることを特徴とする被処理物の処理装置。
【請求項４】
請求項２又は３において、前記貯留部と前記副貯留部とは、上下移動可能な仕切り壁によって仕切られており、
該貯留部及び該副貯留部の一方から他方に前記浮遊物を移動させるときに、該仕切り壁を下方に移動させ、該仕切り壁の上部を該浮遊物が移動することが可能となっていることを特徴とする被処理物の処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、前記浮遊物は複数個の球状体であることを特徴とする被処理物の処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、前記浮遊物がフッ素樹脂製であることを特徴とする被処理物の処理装置。
【請求項７】
液体中に被処理物を浸漬して液体と該被処理物とを接触させる被処理物の処理方法において、
該液体から気体が気散するのを抑制するために、該液体の液面に浮遊物を浮遊させることを特徴とする被処理物の処理方法。
【請求項８】
請求項７において、前記液体中に前記被処理物を浸漬する浸漬工程と、
該液体に前記浮遊物を供給して浮遊させる浮遊物供給工程と、
該液体の液面から該浮遊物を除去する浮遊物除去工程と、
該被処理物を該液体から取り出す取出工程と
を有することを特徴とする被処理物の処理方法。
【請求項９】
請求項８において、請求項２ないし６のいずれか１項の被処理物の処理装置を用いて被処理物の処理を行う方法であり、
前記浸漬工程において、前記開放部から前記被処理物を前記貯留部内の前記液体に浸漬し、
前記浮遊物供給工程において、前記副貯留部用液位調節手段によって前記副貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、前記貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該副貯留部内の該浮遊物を該貯留部に移動させ、
前記浮遊物除去工程において、該貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、該副貯留部用液位調節手段によって該副貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該貯留部内の該浮遊物を該副貯留部に移動させ、
前記取出工程において、該被処理物を該開放部から取り出すことを特徴とする被処理物の処理方法。
【請求項１０】
請求項７ないし９のいずれか１項において、前記液体は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であることを特徴とする被処理物の処理方法。
【請求項１１】
請求項７ないし９のいずれか１項において、前記液体は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする被処理物の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体中に被処理物を浸漬して該液体と該被処理物とを接触させる被処理物の処理装置及び処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
洗浄液や薬液を用いて被処理物の洗浄や表面処理を行う方法としては、種々のものが知られている。
【０００３】
例えば、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などを、ＲＣＡ洗浄法によって洗浄することが知られている。ＲＣＡ洗浄法においては、過酸化水素水と硫酸の混合液、過酸化水素水と塩酸と水の混合液、過酸化水素水とアンモニア水と水の混合液などの、過酸化水素をベースとする濃厚な薬液を用いて、上記基板を高温で洗浄した後、超純水で濯ぐことにより、洗浄が行われる。
【０００４】
しかし、ＲＣＡ洗浄法によると、過酸化水素水、高濃度の酸、アルカリなどを多量に使用するために薬液コストが高く、また、リンス用の超純水のコスト、廃液処理コスト、薬品蒸気を処理する空調コストなど、多大なコストを要すると共に、環境への負荷も高い。
【０００５】
また、水にオゾンや水素等のガスを溶存させたガス溶解水中に被処理物を浸漬し、該被処理物を洗浄する方法も知られている。例えば、特開平１１−０７７０２３号には、超純水を脱気して溶存気体の飽和度を低下させたのち、水素ガスを供給して超純水に水素ガスを溶解させた水素含有超純水を洗浄水として用いることが記載されている。このようなガス溶解水を用いた洗浄方法によると、コストの削減及び環境負荷の削減を図ることができる。
【特許文献１】特開平１１−０７７０２３号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように被処理物をガス溶解水に浸漬して洗浄する場合、ガス溶解水中のガスが気散するという問題がある。ガス溶解水中のガスが気散すると、ガス溶解水の溶存ガス濃度が低下し、洗浄能力が低下する。また、ガス溶解水としてオゾン溶解水を用いる場合、オゾンが気散すると、現場にオゾン特有の臭気が生じる。ガス溶解水として水素溶解水を用いる場合、水素ガスが気散すると、引火のおそれが生じる。
【０００７】
また、洗浄液や薬液として揮発性の高い成分を含むものを用いる場合にも、これら洗浄液や薬液から揮発成分が気散し、洗浄液や薬液の濃度が低下したり、臭気が生じたりするなどの問題がある。
【０００８】
一方、これら溶解ガスや揮発成分の気散を防止するために、これらガス溶解水や揮発成分を含有する洗浄液などを密閉容器に入れ、該密閉容器内で被処理物の処理を行うことも考えられるが、この場合、該密閉容器への被処理物の出し入れが困難になるという問題がある。
【０００９】
本発明は、液体を密閉容器内に入れることなく液体からの気体の気散を抑制することが可能な被処理物の処理装置及び処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明（請求項１）の被処理物の処理装置は、液体中に被処理物を浸漬して該液体と該被処理物とを接触させる被処理物の処理装置において、該被処理物が浸漬される該液体の貯留部と、該貯留部の上方に設けられた、該貯留部への該被処理物の出し入れ用の開放部と、該液体の液面に浮遊させる浮遊物とを有することを特徴とするものである。
【００１１】
請求項２の被処理物の処理装置は、請求項１において、前記貯留部の上部と連通している副貯留部と、該貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させることが可能な貯留部用液位調節手段と、該副貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させることが可能な副貯留部用液位調節手段とを有しており、該貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、該副貯留部用液位調節手段によって該副貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該貯留部内の該浮遊物を該副貯留部に移動させることが可能となっており、該副貯留部用液位調節手段によって該副貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、該貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該副貯留部内の該浮遊物を該貯留部に移動させることが可能となっていることを特徴とする。
【００１２】
請求項３の被処理物の処理装置は、請求項２において、前記貯留部用液位調節手段は、該貯留部に液体を供給する液体供給手段と、該貯留部内の液体を排出する液体排出手段とを有しており、前記副貯留部用液位調節手段は、該副貯留部に液体を供給する液体供給手段と、該副貯留部内の液体を排出する液体排出手段とを有していることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の被処理物の処理装置は、請求項２又は３において、前記貯留部と前記副貯留部とは、上下移動可能な仕切り壁によって仕切られており、該貯留部及び該副貯留部の一方から他方に前記浮遊物を移動させるときに、該仕切り壁を下方に移動させ、該仕切り壁の上部を該浮遊物が移動することが可能となっていることを特徴とする。
【００１４】
請求項５の被処理物の処理装置は、請求項１ないし４のいずれか１項において、前記浮遊物は複数個の球状体であることを特徴とする。
【００１５】
請求項６の被処理物の処理装置は、請求項１ないし５のいずれか１項において、前記浮遊物がフッ素樹脂製であることを特徴とする。
【００１６】
本発明（請求項７）の被処理物の処理方法は、液体中に被処理物を浸漬して液体と該被処理物とを接触させる被処理物の処理方法において、該液体から気体が気散するのを抑制するために、該液体の液面に浮遊物を浮遊させることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項８の被処理物の処理方法は、請求項７において、前記液体中に前記被処理物を浸漬する浸漬工程と、該液体に前記浮遊物を供給して浮遊させる浮遊物供給工程と、該液体の液面から該浮遊物を除去する浮遊物除去工程と、該被処理物を該液体から取り出す取出工程と
を有することを特徴とする。
【００１８】
請求項９の被処理物の処理方法は、請求項８において、請求項２ないし６のいずれか１項の被処理物の処理装置を用いて被処理物の処理を行う方法であり、前記浸漬工程において、前記開放部から前記被処理物を前記貯留部内の前記液体に浸漬し、前記浮遊物供給工程において、前記副貯留部用液位調節手段によって前記副貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、前記貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該副貯留部内の該浮遊物を該貯留部に移動させ、前記浮遊物除去工程において、該貯留部用液位調節手段によって該貯留部内の液位を該貯留部の上部まで上昇させると共に、該副貯留部用液位調節手段によって該副貯留部内の液位を該貯留部の上部よりも下位にすることにより、該貯留部内の該浮遊物を該副貯留部に移動させ、前記取出工程において、該被処理物を該開放部から取り出すことを特徴とする。
【００１９】
請求項１０の被処理物の処理方法は、請求項７ないし９のいずれか１項において、前記液体は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であることを特徴とする。
【００２０】
請求項１１の被処理物の処理方法は、請求項７ないし９のいずれか１項において、前記液体は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１〜６の被処理物の処理装置及び請求項７〜１１の処理方法によると、液体の液面に浮遊物を浮遊させるため、該液面のうち液体が気体に露呈する面積が小さくなり、液体からの気体の気散が抑制される。
【００２２】
請求項１〜６の被処理物の処理装置によると、被処理物を開放部から容易に出し入れすることができる。
【００２３】
請求項２によると、貯留部の液位と副貯留部の液位に差を生じさせることにより、貯留部と副貯留部との間の浮遊物の移動を簡易かつ迅速に行うことができる。
【００２４】
請求項３によると、液体供給手段から液体を供給することにより、貯留部ないし副貯留部内の液位を容易に上昇させることができる。また、液体排出部から液体を排出することにより、貯留部ないし副貯留部内の液位を容易に下降させることができる。
【００２５】
請求項４によると、仕切り板を下降させることにより、貯留部と副貯留部との間の浮遊物の移動をより簡易かつ迅速に行うことができる。
【００２６】
請求項５の通り、浮遊物が複数個の球状体よりなる場合、迅速かつ容易に、該球状体を液面に密に充填することができる。
【００２７】
請求項６の通り、この浮遊物がフッ素樹脂製である場合、液体としてオゾン溶解水を用いても、浮遊物がオゾンによって劣化することが防止ないし抑制される。
【００２８】
請求項８によると、液体中への被処理物の浸漬及び取り出しの際に、液面から浮遊物が除去されるため、該浮遊物によって該被処理物の浸漬及び取り出しが阻害されることがない。また、浸漬中及び取り出し後において、液面に浮遊物を浮遊させるため、液体からの気体の気散が抑制される。
【００２９】
請求項１０の通り、液体は、オゾン、水素、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、アンモニア及び希ガスよりなる群から選択される少なくとも一種を水中に溶存させたガス溶解水であってもよい。これらガス溶解水中のガスの気散が、浮遊物によって十分に抑制される。
【００３０】
請求項１１の通り、液体は、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種であってもよい。これらの液体からのガスの気散も、浮遊物によって十分に抑制される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００３２】
第１図〜第６図は本発明の処理装置及び処理方法の一態様を説明する図面である。
【００３３】
まず、処理装置の構成について説明する。第１図の通り、副貯留部２内に貯留部１が配置されている。
【００３４】
この貯留部１は、その上端が開放した開放部１ａとなっており、底面に設けられた脚部１ｂを介して副貯留部２の底面に設置されている。
【００３５】
この貯留部１に液体を供給するための液体供給配管３が、副貯留部２の底面から副貯留部２内に配管され、貯留部１の底面に接続されている。この液体供給配管３には弁３ａが設けられている。また、この貯留部１から液体８を排出するためのオーバーフロー配管４が、副貯留部２の側面から副貯留部２内に配管され、貯留部１の側面の上部側に接続されている。このオーバーフロー配管４には弁４ａが設けられている。
【００３６】
この副貯留部２は、その上端が開放した開放部２ｂとなっている。この副貯留部２の側面のうち貯留部１の開放部１ａよりも高い位置に、弁５ａを備えたオーバーフロー配管５が接続されている。また、この副貯留部２の底面に、液体排出配管６が接続されている。この液体排出配管６に、上記オーバーフロー配管４，５が接続されている。この液体排出配管６のうち、これらオーバーフロー配管４，５との接続箇所よりも副貯留部２側に、弁６ａが設けられている。
【００３７】
この副貯留部２内に、複数個のボール７が収容されている。
【００３８】
このボール７としては、液体７よりも比重が小さく、かつ液体８と反応しないものが用いられる。このボール７は中空であってもよく、中実であってもよい。このボール７の直径は、取扱い易さを考慮すると、５〜５０ｍｍ、特に１０ｍｍ〜２０ｍｍであることが好ましい。ボール７は均一な直径のもののみからなってもよく、上記範囲で種々の直径のものが混在していてもよい。
【００３９】
ボール７の材質は、液体と反応しないものであればよく、特に限定されず、合成樹脂、ゴム、木材、金属など各種の材料を用いることができる。液体８として、水にオゾンを溶存させたオゾン水を用いる場合には、耐オゾン性を有するフッ素樹脂を用いるのが好ましい。
【００４０】
ボール７は、第３図のように、液位が開放部１ａよりも上位となったときに、液面の全面に該ボール７が密に浮く程度の量となるように該副貯留部２内に収容されているのが好ましい。
【００４１】
上記オーバーフロー配管４の貯留部１への接続口には、ボール７が該配管４内に流入しないように、格子やスリット等のボール流入防止手段が設けられているのが好ましい。この接続口のボール７による閉塞を防止するため、該接続口の径はボール７の径の２倍以上であることが好ましい。また、配管５，６と副貯留部２との接続口についても、ボール流入防止手段が設けられ、接続口の径がボール７の径の２倍以上であることが好ましい。
【００４２】
液体８としては、ガス溶解水のほか、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種などが用いられる。溶解させるガスとしては、オゾン、水素、酸素、窒素、二酸化炭素、アンモニア及びアルゴン等の希ガスの１種又は２種以上の混合ガスが挙げられる。
【００４３】
この処理装置によって処理される被処理物９は、吊支部材９ａによって吊支され、副貯留部２の上方から開放部２ａ，１ａを通して貯留部１内に出し入れ可能とされ、かつ吊り下げられた状態で液体８内に浸漬され、保持され得るようになっている。
【００４４】
吊支部材９ａとしては、金属、合成樹脂などの線状体が好適である。吊支部材９ａは、フック、網篭、真空チャックなどの保持手段を介して被処理物９を吊り下げるよう構成されている。
【００４５】
被処理物９としては、ガラスなどのセラミックス、金属、合成樹脂、ゴム、シリコン基板等が挙げられる。
【００４６】
次に、このように構成された処理装置を用いた被処理物の処理方法について説明する。
【００４７】
［浸漬工程（第１図及び第２図）］  
第１図の通り、弁３ａ及び弁６ａを開とし、弁４ａを閉とする。なお、第１図では弁５ａを閉としているが、弁５ａは開でもよい。
【００４８】
これにより、液体供給配管３から貯留部１内に液体８が供給されて該貯留部１内の液位が上昇し、やがて開放部１ａから液体８が溢出する。
【００４９】
この貯留部１から溢出した液体８は、液体排出配管６から排出される。
【００５０】
この状態において、第２図の通り、吊支部材９ａを用い、副貯留部２の上方から開放部２ａ及び開放部１ａを通して、被処理物９を貯留部１の液体８内に浸漬する。
【００５１】
［浮遊物供給工程（第３図及び第４図）］
次いで、第３図の通り、弁３ａ及び弁５ａを開とし、弁４ａ及び弁６ａを閉とする。
【００５２】
これにより、液体供給配管３から供給された液体７は、貯留部１の開放部１ａから溢出して副貯留部２内に貯留され、副貯留部２内の液位が徐々に上昇する。このとき、副貯留部２の底面に存在していたボール７は、液体の液面まで浮上し、液面と共に上昇する。
【００５３】
このとき、副貯留部２の液面にボール７が密に浮くことになる。その結果、該副貯留部２の液面のうち大気に露出している面積は小さくなり、該液面からガスが大気中に気散することが抑制される。
【００５４】
副貯留部２の液位が貯留部１の開放部１ａの高さよりも上位となると、副貯留部２内のボール７の一部が貯留部１の上方に移動する。
【００５５】
副貯留部２の液位がオーバーフロー配管５の接続高さにまで達すると、液体７がオーバーフロー配管５から排出されることになり、該副貯留部２の液位はオーバーフロー配管５の接続高さに維持される。このようにして、第３図に示すように、液面の全面にボール７が密に浮くことになる。その結果、該副貯留部２の液面のうち大気に露出している面積は小さくなり、該液面からガスが大気中に気散したり、液体が蒸発したりすることが抑制される。
【００５６】
その後、第４図の通り、弁３ａ、弁４ａ及び弁６ａを開とする。なお、第４図では、弁５ａは閉としているが、開としてもよい。
【００５７】
これにより、副貯留部２内の液体８は、液体排出配管６から排出され、該副貯留部２内の液位が徐々に下降する。ここで、該開放部１ａの上方に存在していたボール７は、該副貯留部２内の液位と共に下降し、やがて該貯留部１内に挿入される。
【００５８】
その後、この貯留部１内の液体は、オーバーフロー配管４からさらに排出され、該貯留部１内の液位がオーバーフロー配管４の接続高さにまで下降したところで、該液位が維持される。
【００５９】
一方、副貯留部２内の液位はさらに下降し、やがて該副貯留部２内の液体７の総てが該液体排出配管６から排出される。その結果、第４図の状態となる。
【００６０】
なお、第３図の状態から第４図の状態に移行する過程において、貯留部１の液面及び副貯留部２の液面にボール７が密に浮くことになる。その結果、貯留部１の液面及び副貯留部２の液面のうち大気に露出している面積は小さくなり、これら液面からガスが大気中に気散したり、液体が蒸発したりすることが抑制される。
【００６１】
この第４図の状態を所定時間継続し、被処理物９の液体７による処理を行う。この浸漬時間は、被処理物、汚染物質及び液体の種類、汚れの程度等によって適宜決められるが、例えば１〜６０分間、特に３〜３０分間程度である。このようにして所定時間浸漬することにより、被処理物９が液体８によって洗浄される。
【００６２】
［浮遊物除去工程］  
次いで、第５図の通り、弁３ａ及び弁６ａを開とし、弁４ａを閉とする。なお、第５図では弁５ａを閉としているが、開としてもよい。
【００６３】
これにより、貯留部１内の液位は開放部１ａの高さまで上昇し、やがて開放部１ａから液体８及びボール７が溢出する。副貯留部２に溢出した液体８は、液体排出配管６から出され、ボール７は副貯留部２の底面に留まる。
【００６４】
第６図のように、貯留部１内の総てのボール７が該貯留部１から除去された後、吊支部材９ａによって被処理物９を引き上げる。
【００６５】
その後、別の被処理物について、上記浸漬工程〜取出工程を繰り返す。
【００６６】
第７図〜第１１図を参照して本発明の装置及び処理方法の別態様を説明する。
【００６７】
まず、処理装置の構成について説明する。第７図の通り、この処理装置は、槽体１０と、この槽体１０内を貯留部１１と副貯留部１２とに仕切る仕切り壁１３と、槽体１０内に収容されたボール２１と、被処理物２２を吊支する吊支部材２２ａと、槽体１０に接続された配管類とを有している。
【００６８】
この槽体１０の上端は開放し、開放部１０ａとなっている。この槽体１０内に設置された仕切り壁１３の上端は、槽体１０の開放部１０ａの位置よりも低位となっている。
【００６９】
この開放部１０ａの上方から、吊支部材２２ａによって、被処理物２２を該貯留部１１内に出し入れ可能になっている。
【００７０】
この槽体１０に液体を供給する主配管３１が、液体供給配管３２とスイープ液体供給配管３３に分岐し、この液体供給配管３２が槽体１０の貯留部１１の底面に接続され、このスイープ液体供給配管３３が槽体１０の貯留部１１の側面に接続されている。このスイープ液体供給配管３３の貯留部１１側面への接続部の高さ位置は、仕切り壁１３の上端の高さと略同一高さとなっている。これら配管３２，３３には、弁３２ａ、弁３３ａが設けられている。
【００７１】
この槽体１０の貯留部１１の側面のうち、仕切り壁１３の上端の高さよりも低位に、弁３４を備えたオーバーフロー配管３４が設けられている。
【００７２】
この槽体１０の副貯留部１２の底面に、弁３５ａを備えた副貯留部用配管３５が接続されている。この副貯留部用配管３５は、オーバーフロー配管３４と合流して液体排出配管３６となっている。
【００７３】
この副貯留部用配管３５のうち弁３５ａよりも副貯留部１２側の箇所と主配管３１とが、弁３７ａを備えた液体供給配管３７を介して接続されている。
【００７４】
液体２３としては、上記実施の形態の液体８と同様のものを用いることができる。
【００７５】
次に、このように構成された処理装置を用いた被処理物の処理方法について説明する。
【００７６】
［浸漬工程（第７図）］  
第７図の通り、弁３２ａを開とし、弁３３ａ、弁３４ａ、弁３７ａを閉とする。なお、第７図では弁３５ａは開としてあるが、閉としてもよい。
【００７７】
これにより、液体２３が、主配管３１及び液体供給配管３２を通って貯留部１１に供給され、仕切り壁１３の上端から溢出して副貯留部１２に流入する。この副貯留部１２内に流入した液体２３は、副貯留部用配管３５及び液体排出配管３６を介して排出される。このようにして、貯留部１１内の液位は仕切り壁１２の上端の高さに維持されている。また、ボール２１は、副貯留部１２内にのみ存在している。
【００７８】
この状態において、吊支部材２２ａによって被処理物２２を槽体１０の上方から貯留部１１内に挿入し、該被処理物を液体２３に浸漬する。
【００７９】
［浮遊物供給工程（第８図及び第９図）］  
次いで、第８図の通り、弁３２ａ、弁３３ａ、弁３５ａを閉とし、弁３４ａ、弁３７ａを開とする。
【００８０】
これにより、貯留部１１内の液体２３は、オーバーフロー配管３４及び液体排出配管３６を介して排出され、該貯留部１１内の液位は下降して、該オーバーフロー配管３４の設置箇所の高さで維持される。
【００８１】
また、主配管３１、液体供給配管３７及び副貯留部用配管３５を通って、液体２３が副貯留部１２内に供給される。これにより、副貯留部１２内の液位が徐々に上昇し、副貯留部１２の下部に存在していたボール２１も液面と共に上昇する。
【００８２】
副貯留部１２の液位が仕切り壁１３の上端の高さにまで達すると、液体２３及びボール２１が副貯留部１２から貯留部１１に溢出する（第８図）。
【００８３】
総てのボール２１が副貯留部１２から貯留部１１に移動した後、第９図の通り、弁３２ａ、弁３４ａ、弁３５ａを開とし、弁３３ａ、弁３７ａを閉とする。
【００８４】
これにより、副貯留部１２内の液体２３は、副貯留部用配管３５及び液体排出配管３６を通って排出される。なお、副貯留部１２内の総ての液体２３を排出した後、弁３５ａを閉としてもよい。
【００８５】
また、主配管３１及び液体供給配管３２を通って貯留部１１内に液体２３が供給され、さらに該貯留部１１内の液体２３は、オーバーフロー配管３４及び液体排出配管３６を通って排出される。その結果、第９図の状態となる。
【００８６】
この第９図の状態を所定時間継続し、被処理物２２の液体２３による処理を行う。
【００８７】
なお、第９図の通り、貯留部１１内の液面にはボール２１が密に浮くことになる。その結果、貯留部１１の液面のうち大気に露出している面積は小さくなり、これら液面からガスが大気中に気散したり、液体が蒸発したりすることが抑制される。
【００８８】
［浮遊物除去工程（第１０図及び第１１図）］
その後、第１０図の通り、弁３２ａ、弁３５ａを開とし、弁３３ａ、弁３４ａ、弁３７ａを閉とする。
【００８９】
これにより、液体２３が、主配管３１及び液体供給配管３２を通って貯留部１１に供給され、やがて貯留部１１内の液位が仕切り壁１３にまで上昇する（第１０図）。
【００９０】
この状態で、第１１図の通り、弁３３ａ、弁３５ａを開とし、弁３２ａ、弁３４ａ、弁３７ａを閉とする。
【００９１】
これにより、オーバーフロー配管３４から貯留部１１に液体２３が供給される。このオーバーフロー配管３４からの液体２３によって、液面に存在するボール２１が、副貯留部１２に押し出される。このボール２１と共に副貯留部１２に流入した液体２３は、副貯留部用配管３５及び液体排出配管３６を通って排出される。
【００９２】
［取出工程］  
総てのボール２１が貯留部１１から副貯留部１２に移動した後、吊支部材２２ａによって被処理物２２を貯留部１１から取り出す。
【００９３】
その後、別の被処理物について、上記浸漬工程〜取出工程を繰り返す。
【００９４】
上記実施の形態はいずれも本発明の一例であり、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。
【００９５】
例えば、第１の実施の形態（第１図〜第６図）において、浸漬工程（第１図、第２図）において、弁４ａを開としてもよい。この場合、貯留部１内の液位が開放部１ａよりも下位となるため、貯留部１内に被処理物９を浸漬するときに貯留部１内の液体８が溢出しないため、溢出時に溶存ガスが気散することが防止され、溶存ガスの気散がより抑制される。
【００９６】
また、副貯留部２の下部又は底面に、副貯留部用の液体供給配管を設けてもよい。この場合、浮遊物供給工程（第３図）で副貯留部２内に液体を溜めるときに、弁３ａを開として貯留部１の開放部１ａから液体を溢出させることに代えて、この副貯留部用の液体供給配管から副貯留部２に液体を供給することにより、液体８が開放部１ａから溢出する際に溶存ガスが気散することが防止され、溶存ガスの気散がより抑制される。
【００９７】
浮遊物供給工程（第２図）の終期に弁４ａを開とし、貯留部１内の液位を開放部１ａの高さよりも下位としてから、浮遊物供給工程（第３図）に移行するようにしてもよい。この場合、次の浮遊物供給工程（第３図）において、副貯留部２内の液位が開放部１ａの高さにまで上昇した際に、浮遊物が貯留部１内に速やかに移動する。
【００９８】
第２の実施の形態（第７図〜第１１図）において、仕切り壁１３の上部を上下移動可能としてもよい。この場合、浮遊物供給工程（第８図、第９図）や浮遊物除去工程（第１０図、第１１図）において、浮遊物を貯留部１１と副貯留部１２の一方から他方に移動させるときに、仕切り壁１３を下方に移動させることにより、浮遊物２１の移動を速やかに行うことができる。
【００９９】
液体排出配管６，３６から排出された液体は、必要に応じて汚染物質の除去、ガスの溶存等を行って循環使用してもよい。
【０１００】
本発明では、貯留部の上方にエアカーテン（図示略）を設けてもよい。これにより、液体中のガスの外部への気散や液体の蒸発がより確実に防止される。
【０１０１】
本発明では、液体としてガス溶解水を用い、被処理物の洗浄を行うことができる。このような洗浄の具体例としては、基板表面の有機物を除去するためや基板表面を親水性に改質するためオゾンガス溶解水で洗浄する方法などが例示される。液体として、アルコール類、ケトン類、酸、アルカリ、レジスト現像液及び過酸化水素水よりなる群から選択される少なくとも一種を用いてもよい。この場合の洗浄の具体例としては、金属の脱脂洗浄などが例示される。また、被処理物の洗浄の他、次亜塩素酸やオゾン水による対象物表面の殺菌等の処理を行ってもよい。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例及び比較例を参照して、本発明をより詳細に説明する。
【０１０３】
［実施例１］
第１図〜第６図の装置を用い、第１図〜第６図の手順に従って被処理物の処理を行った。
【０１０４】
ここで、液体としては、放電式オゾナイザでオゾンガスを発生させ、該オゾンガスをオゾン溶解装置に導入して純水中に溶存させたオゾン水（オゾン濃度４０ｍｇ／Ｌ）を用いた。
【０１０５】
また、装置及び被処理物の仕様ないし処理条件は以下の通りとした。
【０１０６】
貯留部の容積：４０Ｌ
副貯留部の容積：１００Ｌ
ボール：フッ素樹脂製中空ボール（直径１０〜１５ｍｍ）
浸漬時間：５分間
貯留部内への液体の供給流量：２０Ｌ／ｍｉｎ
被処理物：有機汚染（有機物：機械油）したガラス板
処理を行っている間に、アプリクス社製環境オゾンモニター「ＯＺＧ−ＥＭ−０１」を用い、処理装置の外部の雰囲気中における環境オゾン濃度を測定したところ、０．０ｐｐｍ（ｖ／ｖ）であった。
【０１０７】
また、処理を行っている間に、アプリクス社製溶存オゾンモニター「ＯＭ−１０１Ｐ−１２０」を用い、装置から排出されたオゾン水中の溶存オゾン濃度を測定したところ、３８ｍｇ／Ｌであった。
【０１０８】
さらに、処理の前後において、ガラス板の接触角を測定したところ、処理前の接触角は６０°、処理後の接触角は１２°であった。
【０１０９】
［比較例１］
ボールを用いなかったことの他は実施例１と同様にして、被処理物の処理を行った。
【０１１０】
処理を行っている間に環境オゾン濃度を測定したところ、２．２ｐｐｍ（ｖ／ｖ）と高濃度であった。
【０１１１】
また、処理を行っている間に、アプリクス社製溶存オゾンモニター「ＯＭ−１０１Ｐ−１２０」を用い、装置から排出されたオゾン水中の溶存オゾン濃度を測定したところ、２８ｍｇ／Ｌであった。
【０１１２】
さらに、処理の前後において、ガラス板の接触角を測定したところ、処理前の接触角は６０°、処理後の接触角は２０°であった。
【０１１３】
実施例１及び比較例１の比較から明らかな通り、実施例１によると、オゾン水中のオゾンの気散が十分に抑制されていた。また、オゾン水中のオゾン濃度が高濃度に維持された結果、被処理物を良好に洗浄することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】第１の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図２】第１の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図３】第１の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図４】第１の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図５】第１の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図６】第１の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図７】第２の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図８】第２の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図９】第２の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図１０】第２の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【図１１】第２の実施の形態に係る処理装置及び処理方法を説明する図面である。
【符号の説明】
【０１１５】
１、１１  貯留部
２，１２  副貯留部
３  液体供給配管
４，５  オーバーフロー配管
６  液体排出配管
７，２１  ボール
８，２３  液体
９，２２  被処理物
９ａ，２２ａ  吊支部材
１０  槽体
１２  仕切り壁
３１  主配管
３２，３７  液体供給配管
３３  スイープ液体供給配管
３４  オーバーフロー配管
３５  副貯留部用葉遺憾３５
３６  液体排出配管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2009117772.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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