(57)【要約】【課題】記録領域における現像むらを生じにくく均質性の高いプリフォーマットパターンを形成可能な原盤の現像装置を提供する。【解決手段】  露光済みの原盤を載置する水平な上面を備え載置された露光済みの原盤１の中心を通り上下方向の延びる軸Ｏを回転中心にして回転するテーブル３１と、現像液１３が原盤１の表面を層流としてまた遷移状態で流れるように、テーブル３１に載置され回転している原盤１のフォトレジスト層２に現像液を供給する供給する現像液供給手段５３とを有する。【選択図】  図１
2009117004.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む原盤の現像方法において、
前記供給した現像液を、前記原盤の表面で定常流れで流して、前記現像をすることを特徴とする原盤の現像方法。
【請求項２】
露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む現像方法において、
前記供給した現像液を、前記原盤の表面で層流としてまたは遷移流として流して、前記現像をすることを特徴とする原盤の現像方法。
【請求項３】
露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを、露光パターン域として形成する記録パターン形成工程を含む原盤の現像方法において、
前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する滴下位置が単数もしくは複数あり、
前記滴下位置が単数の場合には、前記露光パターン域の境界もしくはこの境界の近傍もしくは前記露光パターン域に前記滴下位置が位置しており、
前記滴下位置が複数の場合には、前記露光パターン域の境界、この境界の近傍、前記露光パターン域のいずれかに前記各滴下位置が位置していると共に、前記各滴下位置で滴下された現像液が前記原盤の表面を広がってお互いに干渉して干渉領域が形成されるときに、この干渉領域で現像液に乱流が発生しないようなところに、前記各滴下位置が位置していることを特徴とする原盤の現像方法。
【請求項４】
平らな円板状に形成されている露光済みの光ディスク原盤を回転駆動しつつ、前記光ディスク原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記光ディスク原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記光ディスク原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む光ディスク原盤の現像方法において、
前記記録パターンが形成されている面は、リング状の面として形成されており、
前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する第１の滴下位置が、前記リング状の記録パターン形成面の内側の境界に位置しており、
前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する第２の滴下位置が、前記リング状の記録パターン形成面の外側の境界に位置していることを特徴とする光ディスク原盤の現像方法。
【請求項５】
露光済みの原盤を載置する水平な上面を備え、載置された前記露光済みの原盤の中心を通り上下方向の延びる軸を回転中心にして回転するテーブルと；
現像液が前記原盤の表面を層流としてまたは遷移流として流れるように、前記テーブルに載置され回転している原盤のフォトレジスト層に現像液を供給する供給する現像液供給手段と；
を有することを特徴とする原盤の現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光済みの原盤を現像して、原盤に創成される微細な凹凸状のプリフォーマットパターンを形成する原盤の現像装置および現像方法に係り、特に、現像液供給ノズルの配置を工夫したものに関する。
【背景技術】
【０００２】
添付図面を参照して従来の技術を説明する。まず、光ディスクの製造方法の概略を述べる。図１１は、本発明の現像装置および現像方法の一実施例、並びに従来例の現像装置によって製造される光ディスクを説明するための第１の製造工程図である。図１２は、本発明の現像装置および現像方法の一実施例および従来例の現像装置によって製造される光ディスクを説明するための第二の製造工程図である。図１１および図１２において、２０はガラス基板を、２１はフォトレジストを、２２はレーザー光を、２３は集光レンズを、２４は露光部を、２５はニッケルを、２６はポリカーボネイト樹脂を、２７は反射膜および保腹膜をそれぞれ示している。
【０００３】
まず、精密に研磨された円盤状のガラス基板２０の表面に、密着剤を介して、スピンコート法によりフォトレジスト２１を均一に塗布し、その後、ホットプレート等によりベーキングする（図１１（ａ）参照）。なお、フォトレジスト２１が均一に塗布されたところが、後述するフォトレジスト層２になる（図１、図２等参照）。
【０００４】
次に、記録されるべき信号により変調されたレーザー光２２をレンズ２３により集光し、これをフォトレジスト２１上に照射して、所定部分を露光する（図１１（ｂ）参照）。この露光部２４のパターンは、再生専用光ディスク（ＣＤ、ＬＤ、ＣＤ−ＲＯＭ等）の場合には、ピット群であり、記録再生可能な光ディスク（光磁気ディスク、相変化型光ディスク、ＣＤライトワンス等）の場合には、グルーブ群である。なお、露光部２４は、フォトレジスト２１が均一に塗布されたところ（フォトレジスト層２）のうちのたとえば一部に形成されるものであり、露光部２４が形成されているところが、後述する露光パターン域Ａになる（図２等参照）。
【０００５】
次に、アルカリ溶液を用いて、フォトレジスト２１の現像を行い、露光部２４を溶解し、ピット群またはグルーブ群からなるフォトレジスト２１の微細凹凸パターンを得る（図１１（ｃ）参照）。
【０００６】
次に、このフォトレジスト２１上に、スパッタリング法等により、ニッケル等の導電膜を形成し、更に、この導電謨を電極とし、ニッケル２５を所定の厚さにメッキする（図１１（ｄ）参照）。これにより、フォトレジスト２１の微細な凹凸パターンの逆パターンが、ニッケル２５に写しとられる。
【０００７】
次に、ニッケル２５を、ガラス基板２０より剥離して、スタンパとする（図１２（ａ）参照）。続いて、このスタンパを、射出成型用の金型として用いて、ポリカーボネート樹脂２６等を射出成型する（図１２（ｂ）参照）。ポリカーボネート樹脂２６には、所定の微細な凹凸パターンが形成されている。最後に、スタンパより取り外されたポリカーボネート樹脂２６の微細な凹凸パターンが形成されている表面に、スパッタリング法等により、反射膜および保護膜２７等が形成されて、光ディスクが出来上がる（図１２（ｃ）参照）。
【０００８】
ところで、光ディスクにおいては、近年、記録再生可能な情報用光ディスクのみでなく、再生専用光ディスクにおいても、高記録密度化が進んでいる。この高記録密度化を達成する手段としては、トラックピッチを狭くすることと、線記録密度を大きくすることがあげられる。すなわち、情報の記録されているピットまたはグループのサイズを小さくする必要がある。
【０００９】
しかしながら、従来の製造方法により光ディスクを製造し、ピットまたはグループのサイズを小さくすると、製造工程では避けられないこれらの物理寸法の微小な歪みやバラツキが、相対的に大きな影響を与える事になり、光ディスクの性能を劣化させることになり、製造の歩留まりは低下し生産性が悪くなる。
【００１０】
ピットまたはグループの物理寸法の微小な歪みやバラツキは、光ディスクの製造工程において、ピットまたはグループの形成に係わる工程の総てにおいて発生し得るが、特に、フォトレジストにピットまたはグルーブのパターンを形成するときに発生する物理寸法の微小な歪みやパラツキの影響が最も大きい。ここで発生した物理寸法の微小な歪みやバラツキは、総ての後工程に影響する。
【００１１】
光ディスク基板は、この現像済み光ディスク原盤１から作製されるスタンパと呼称される金型をマスタとして複製される。
【００１２】
従来、露光済み光ディスク原盤１の現像装置として、図１４および図１５に示すものが知られている。前記従来の現像装置は、光ディスク原盤１の回転部１１と、現像液／純水供給ノズル１４と、電磁弁１７と、跳ね返り防止リング１８と、排水受け１６とを備えて構成されている。
【００１３】
現像液／純水供給ノズル１４は、筒状に形成されており、配列された複数個のノズル孔（現像液／純水吐出口）１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆから現像液１３または純水１５を光ディスク原盤１のフォトレジスト層２に向けて吐出するようになっている。また、現像液／純水供給ノズル１４は、軸ＣＬ１を旋回中心として旋回可能になっている。
【００１４】
電磁弁１７は、各ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆから吐出する液体を現像液１３または純水１５に切り換えるための電磁弁である。跳ね返り防止リング１８は、金網等で構成され回転部１１の周囲に設けられ現像液１３や純水１５の跳ね返り防止するためのものである。排水受け１６は、リング容器状に形成されており、跳ね返り防止リング１８の外側で現像液１３や純水１５を受けるために設けられている。
【００１５】
回転部１１は、露光済み光ディスク原盤１を載置するターンテーブル３１と、ターンテーブル３１を回転駆動するモータ３２と、露光済み光ディスク原盤１をターンテーブル３１に吸着するための真空吸引装置３３とからなる。現像液／純水供給ノズル１４は、図１４に示すように、回転部１１に取り付けられた露光済み光ディスク原盤１と平行に配置されており、露光済み光ディスク原盤１と対向する部分に各のノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆが開設されている。
【００１６】
露光済み光ディスク原盤１の現像処理に際しては、まず、現像液／純水供給ノズル１４を退避した状態（軸ＣＬ１を中心にしてノズル１４を旋回してターンテーブル３１の上方から退避させた状態）で、ターンテーブル３１上にフォトレジスト層２を上向きにして露光済み光ディスク原盤１を装着する。次いで、現像液／純水供給ノズル１４を退避位置から旋回し、現像液／純水供給ノズル１４の軸線方向を、図１５に示すようにする。すなわち、現像液／純水供給ノズル１４を旋回してターンテーブル３１の上方に移動する。
【００１７】
続いて、モータ３２を起動し、回転数が安定した段階で、各ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆからフォトレジスト層２に向けて現像液１３を吐出し、フォトレジスト層２の全面に現像液１３を広げて、フォトレジスト層２（露光パターン域Ａ）を現像する。
【００１８】
現像終了後は、現像液／純水供給ノズル１４からの吐出液体を電磁弁１７により切り換えて純水１５とし、各ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆからフォトレジスト層２に向けて純水１５を吐出し、フォトレジスト層２の全面に純水１５を広げて、フォトレジスト層２を水洗いする。
【００１９】
水洗い終了後、モータ３２の回転数を上昇してフォトレジスト層２に付着した純水１５を振り切り、所望とする現像済み光ディスク原盤１を得る。
【００２０】
なお、上記説明では現像終了後の純水１５による水洗に、電磁弁１７で切り換えることにより、現像液吐出口と同じ各ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆを使用して純水１５を吐出しているが、図示していない純水専用のノズルを用いてもよい。また現像工程で、いきなり現像液１３で現像しているが、現像液吐出前に純水１５によるゴミの除去等のために前水洗いをすることもある。
【００２１】
なお、上述した技術に係る特許文献として次のものを掲げることができる。
【特許文献１】特開平８−３１５４３１号公報
【特許文献２】特開昭６１−８７５１号公報
【特許文献３】特開平４−３６２５４８号公報
【特許文献４】特開昭６０−１７９９５７号公報
【特許文献５】特開平６−２４３５１４号公報
【特許文献６】特開平６−６０４３７号公報
【特許文献７】特開平１−２２０１５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
従来の現像方法および現像装置で、露光済み光ディスク原盤１の現像処理を行うと、図１５の露光済み光ディスク原盤１の露光範囲（リング状の露光範囲）Ａの部分において、光ディスク原盤１に相対している現像液滴下ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆが多く存在しており、また、各ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆの間隔（距離）が近いことによって、各ノズル孔１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆから層流状に流れ出た現像液１３の水流が、露光済み光ディスク原盤１の上で円形状に広がるときに、隣り同士の円形状の広がりの接点部が激しく干渉して水流（現像液１３の流れ）が乱れた状態になる（図１５に示す斜線の領域ＤＭ１５参照）。
【００２３】
このように水流が乱れた状態では、現像進行が過激になる。このため露光部分におけるこの領域（現像液１３の水流が乱れた領域）では過現像になりやすく、結果として目視できるほどのリング状に、過現像の状態が発生することがある。
【００２４】
また、傾向として、スピン現像では現像液１３が光ディスク原盤１の内周から外周に向かって流れ出ていくが、このとき内周に供給された現像液１３が活性度の落ちた状態で外周部に流れていき、外周部に供給された現像液１３と混ざってしまい、現像液１３の活性度を下げる結果となり、外周部に至るにしたがって現像の進行が緩慢になる。このようなリング状の過現像および外周にむかっての緩慢現像によって、露光済み光ディスク原盤１の現像処理を一様に進行させることが困難になる。
【００２５】
このため、ある時間を基準として現像液１３の供給を停止すると、適正現像域と現像不足域または現像過多域が光ディスク原盤１上に形成され、設計値よりも寸法（大きさおよび深さ）が小さなプリフォーマットパターン、または設計値よりも寸法が大きなプリフォーマットパターンが形成されてしまうことがある。
【００２６】
光ディスクからの再生信号レベルは、再生用光の強度および光スポットの大きさが一定の場合プリフォーマットパターンの寸法に応じて変動するので、現像むらによって内外周に均質性の高いプリフォーマットパターンを形成できないと、再生信号レベルの変動が大きくなって、再生エラーが生じやすくなるため、回路構成が複雑な記録再生装置が必要になる等の不都合を生じることがある。
【００２７】
また、特許文献６で示すデータにもあるように、スピン現像法において、現像液滴下位置と現像進行度の関係は、図１６の正常現像を示す線（実線）のように現像液滴下位置で現像進行度が高く時間と共に進行度が低くなる傾向にある。つまり現像液１３の現像活性性能を充分に発揮させるには、光ディスク原盤１の記録領域に滴下直後の現像液１３を出来るだけ早く供給するように滴下の位置を近づける必要がある。しかし現像液滴下高さが高かったり、現像液滴下量が過度になると落下エネルギーが加味されたり流れが乱流気味となり活性度が上がり現像進行度が異常に上がり（図１６の異常現像を示す破線参照）、結果として現像液滴下位置が目視できるほどのリング状に過現像の状態なる異常現像となることがある。
【００２８】
上記異常現象から現像液滴下位置を半径方向の光ディスク原盤１の記録範囲中に持ってくるのはさけるべきであり、かといって半径方向の記録範囲中から離すと、現像液１３の現像活性性能を充分に発揮させることが困難になり、高価な現像液１３の大量使用につながり不経済的である。
【００２９】
また、光ディスクにおいては、記録範囲のスタート部や終了部に、リードインエリア(リードイン領域)やリードアウトエリア（リードアウト領域）が設けられており、この各エリアの信号品質はメイン信号領域に比べてアバウト的である。このことから、現像液滴下位置としては記録領域のリードインエリア、リードアウトエリア付近が良いことがわかる。
【００３０】
また、特許文献７のような現像方法が提案されている（図１３参照）。この方法は２個の現像液滴下ノズル３Ａ、３Ｂを用いているが、外側のノズル３Ａが信号記録領域の真ん中あたりに設けられており、現像液滴下ノズル直下が過現像になりやすい。また、内外周の２つのセンサー７Ａ、７Ｂでモニターして、外周側が現像進行不足の場合は、この信号記録領域に設けられている外側のノズル３Ａからの現像液滴下量を増加させる提案であるが、このときの流量増加により現像液１３の流れが層流状から乱流気味になり、ますます現像液滴下ノズル直下の過現像の状態が進み、目視できるほどのリング状にオーバー現像部が発生するおそれが増大する。
【００３１】
また、内外周の２つのセンサー７Ａ、７Ｂでモニターして現像進行に補正をかける方法であるが、実際の現像進行の過不足の領域とセンサー７Ａ、７Ｂの位置がうまく合っていれば良いが、記録時のレーザー露光パワー変動ならびにレジストの感度変動は一様ではなく単純に２点で補正を掛けるのには無理がある。
【００３２】
本発明は、かかる課題を解決するためになされたものであって、その目的は、記録領域における現像むらを生じにくく均質性の高いプリフォーマットパターンを形成可能な原盤の現像装置および現像方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００３３】
（１）の発明は、露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む原盤の現像方法において、前記供給した現像液を、前記原盤の表面で定常流れで流して、前記現像をすることを原盤の現像方法である。
【００３４】
（２）の発明は、露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む現像方法において、前記供給した現像液を、前記原盤の表面で層流としてまたは遷移流として流して、前記現像をする原盤の現像方法である。
【００３５】
（３）の発明は、露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを、露光パターン域として形成する記録パターン形成工程を含む原盤の現像方法において、前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する滴下位置が単数もしくは複数あり、
前記滴下位置が単数の場合には、前記露光パターン域の境界もしくはこの境界の近傍もしくは前記露光パターン域に前記滴下位置が位置しており、前記滴下位置が複数の場合には、前記露光パターン域の境界、この境界の近傍、前記露光パターン域のいずれかに前記各滴下位置が位置していると共に、前記各滴下位置で滴下された現像液が前記原盤の表面を広がってお互いに干渉して干渉領域が形成されるときに、この干渉領域で現像液に乱流が発生しないようなところに、前記各滴下位置が位置している原盤の現像方法である。
【００３６】
（４）の発明は、平らな円板状に形成されている露光済みの光ディスク原盤を回転駆動しつつ、前記光ディスク原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記光ディスク原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記光ディスク原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む光ディスク原盤の現像方法において、前記記録パターンが形成されている面は、リング状の面として形成されており、前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する第１の滴下位置が、前記リング状の記録パターン形成面の内側の境界に位置しており、前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する第２の滴下位置が、前記リング状の記録パターン形成面の外側の境界に位置している光ディスク原盤の現像方法である。
【００３７】
（５）の発明は、露光済みの原盤を載置する水平な上面を備え、載置された前記露光済みの原盤の中心を通り上下方向の延びる軸を回転中心にして回転するテーブルと、現像液が前記原盤の表面を層流としてまたは遷移流として流れるように、前記テーブルに載置され回転している原盤のフォトレジスト層に現像液を供給する供給する現像液供給手段とを有する原盤の現像装置である。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む原盤の現像方法および現像装置において、原盤の記録領域における現像むらを生じにくく均質性の高いプリフォーマットパターンを形成することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
図１は、本発明の実施形態に係る光ディスク原盤１の現像に使用する現像装置５１の概略構成を示す図であり、図２は、光ディスク原盤１の現像に使用する現像装置５１の平面図であって、特に、現像液／純水供給ノズル１４と光ディスク原盤１と現像液１３の流れを示したものである。
【００４０】
光ディスク原盤１の現像に使用する現像装置５１は、図１４に示す従来の現像装置において、現像液／純水供給ノズル１４ａの形態が異なる点を除いては、従来の現像装置とほぼ同様に構成されている。したがって、図１４に示す従来の現像装置と同様に構成されているものには同一の符号を付してある。
【００４１】
現像装置５１は、ベース部材（図示せず）と、テーブル（ターンテーブル）３１と、現像液供給手段５３とを備えて構成されている。
【００４２】
テーブル３１は、平らな円板状に形成されている露光済みの光ディスク原盤１を、この光ディスク原盤１のフォトレジスト層２が上になるようにして載置する水平な上面５５を備えている。そして、モータ３２等のアクチュエータによって、載置された露光済みの光ディスク原盤１の中心を通り上下方向の延びる中心軸Ｏを回転中心にして、前記ベース部材に対し、たとえば、図２に示す矢印ＡＲ１の方向に回転するようになっている。なお、テーブル３１の中心とテーブル３１に載置された光ディスク原盤１の中心とはお互いに一致している。
【００４３】
テーブル３１に載置された光ディスク原盤１は、たとえば、真空吸引装置３３を用いた保持手段によりテーブル３１に一体的に保持されるようになっている。
【００４４】
現像液供給手段５３は、テーブル３１に載置され回転している光ディスク原盤１のフォトレジスト層２に現像液１３を供給するように構成されている。現像液供給手段５３によって供給された現像液１３は、光ディスク原盤１の表面（光ディスク原盤１上）を層流（ｌａｍｉｎａｒ  ｆｌｏｗ）としてまたは遷移状態（ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ  ｒｅｇｉｏｎ）で流れる（遷移流として流れる）ようになっている。そして、供給された現像液１３によって、光ディスク原盤１のフォトレジスト層２（より精確には露光パターン）が現像処理され、光ディスク原盤１の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターン（露光パターン域Ａにおける記録パターン）が形成されるようになっている。
【００４５】
現像液供給手段５３によって供給された現像液１３が光ディスク原盤１の表面を流れるときに、層流と遷移状態とが混在していてもよい。すなわち、一部が層流で他の部分が遷移状態でもよく、乱流が発生しなければよい。
【００４６】
ところで、遷移状態とは、現像液１３において粘性低層が残っている状態である。粘性低層（ｖｉｓｃｏｕｓ  ｓｕｂｌａｙｅｒ）とは、流体分子（現像液１３の分子）の粘性の影響が著しいために壁面（光ディスク原盤１の表面）の近傍で現像液１３の流れの乱れが小さくなっている層である。遷移状態では、粘性低層が所定の厚さをもって存在しており、光ディスク原盤１の表面（現像）に関しては、層流の場合と作用効果がほぼ同様になる。すなわち、光ディスク原盤１の過現像を回避することができる。これに対して、光ディスク原盤１で現像液１３が乱流になると、ごくわずかな厚さの粘性低層しか残っておらず、光ディスク原盤１に過現像が発生してしまうおそれがある。
【００４７】
現像液供給手段５３は、現像液／純水供給ノズル１４ａを備えて構成されている。なお、電磁弁１７等の切り換え弁が、現像液／純水供給ノズル１４ａの上流側に設けられており、電磁弁１７を切り換えることによって、現像液１３または純水１５を、現像液／純水供給ノズル１４ａを介して、テーブル３１に載置されている光ディスク原盤１に供給することができるようになっている。
【００４８】
現像液／純水供給ノズル１４ａは、細長い円筒状に形成されたノズル本体５７と、ノズル本体５７の周方向下側に突出してノズル本体５７に一体的に設けられた２つの突出部位５９Ａ、５９Ｂとを備えて構成されている。ノズル本体５７の基端部側は、配管を介して電磁弁１７に接続されており、ノズル本体５７の先端部（図１では左端）には蓋がされている。
【００４９】
また、ノズル本体５７は、テーブル３１に載置されている光ディスク原盤１の上側で光ディスク原盤１から離れ、各突出部位５９Ａ、５９Ｂが下方に向くようにして水平方向に延びて設けられている。また、テーブル３１の外側に位置しているノズル本体５７の基端部側の部位を通って上下方向に延びている旋回軸ＣＬ１を中心にして、ノズル本体５７（現像液／純水供給ノズル１４ａ）が旋回するようになっている。
【００５０】
上記旋回をする範囲は、図２に示す位置から、旋回軸ＣＬ１を中心にして９０°等の所定の角度だけ旋回した位置との間の範囲である。図２に示す位置から所定の角度旋回することにより、テーブル３１に光ディスク原盤１を着脱するときにノズル本体５７（現像液／純水供給ノズル１４ａ）が邪魔にならないようになっている。
【００５１】
図２に示すノズル本体５７（現像液／純水供給ノズル１４ａ）位置は、テーブル３１に載置されている光ディスク原盤１に現像液１３もしくは純水１５を供給するときの位置である。平面視である図２に示す状態では、ノズル本体５７がテーブル３１に載置されている光ディスク原盤１の中心（回転中心軸Ｏ）を通って延びている。また、ノズル本体５７の基端部は、テーブル３１の外側に位置しており、ノズル本体５７の先端部側は、回転中心軸Ｏに対してノズル本体５７の基端部とは反対側に延びている。そして、ノズル本体５７の先端部はたとえば露光パターン域Ａの中程まで延びている。
【００５２】
ところで、記録領域（露光パターン域；記録パターンが形成される面）Ａは、露光パターンが形成されている面（図１１（ｂ）参照）であり、図２に示すように、たとえばリング状の面として形成されている。すなわち、光ディスク原盤１の厚さ方向の一方の平面に描かれた第１の円であって直径が光ディスク原盤１の直径よりも小さく中心が光ディスク原盤１の中心（回転中心軸）Ｏと一致している第１の円から、前記一方の平面に描かれた第２の円であって直径が前記第１の円よりも小さく中心が前記第１の円と一致している第２の円を取り除いた形状の領域に、記録領域Ａが形成されている。そして、現像するときには、記録領域Ａが水平な上面になるようにして、光ディスク原盤１が回転するようになっている。
【００５３】
ノズル本体５７に一体的に設けられた突出部位５９Ａは、ノズル本体５７（現像液／純水供給ノズル１４ａ）が図２に示すところに位置しているとき（記録領域Ａを含むフォトレジスト層２に現像液１３を供給する際）には、平面視において、リング状の露光パターン（記録パターン）形成面Ａの内側の境界に位置している。
【００５４】
また、ノズル本体５７に一体的に設けられた突出部位５９Ｂは、ノズル本体５７（現像液／純水供給ノズル１４ａ）が図２に示すところに位置しているときには、平面視において、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界であって光ディスク原盤１の回転中心軸Ｏに対して突出部位５９Ａとは反対側に位置している。
【００５５】
また、突出部位５９Ａには、円形状のノズル孔（現像液吐出口）１２ｉが設けられており、突出部位５９Ｂには、円形状のノズル孔（現像液吐出口）１２ｏが設けられている。したがって、平面視では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、ノズル孔１２ｉが、リング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界に位置しており、ノズル孔１２ｏが、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界に位置していることになる。そして前記各境界に現像液１３が滴下されるようになっている。
【００５６】
現像液１３の滴下位置についてさらに詳しく説明する。
【００５７】
前述したように、光ディスク原盤１の上方に位置している円形の吐出口（現像液吐出口）１２ｉから真下方向に向かって現像液１３が吐出される。この吐出され落下する現像液１３は、層流であり水平な平面により断面が円形状をしている。また、吐出口１２ｉの近傍では前記円形断面（吐出された現像液１３の断面）の直径が吐出口１２ｉの直径とほぼ等しいが、吐出口１２ｉから光ディスク原盤１に近づくにしたがって（下側にいくにしたがって）、前記円形断面の直径が小さくなる。しかし、前記円形断面の直径の変化はわずかであるので、次の滴下位置の説明においては、理解を容易にするために、円形の吐出口１２ｉから吐出された現像液１３は、前記円形断面の直径が吐出口１２ｉの内径と等しくほぼ一定であるものとする。吐出口１２ｏについても同様である。
【００５８】
したがって、現像液１３の滴下位置が露光パターン域Ａの境界に位置している場合とは、平面視において、光ディスク原盤１の露光パターン域Ａと非露光パターン域との境界線が、吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円を貫通しているか（図２参照）もしくは吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円に接触している場合をいう。
【００５９】
なお、現像液１３の滴下位置が露光パターン域Ａの境界の近傍に位置している場合とは、平面視において、光ディスク原盤１の露光パターン域Ａと非露光パターン域との境界線が、吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円のごく近くに位置して場合（たとえば、前記境界線と吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円の外周との間の距離が、吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円の直径よりも小さい場合）をいう。なおこの場合、吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円が、露光パターン域Ａ内に存在していてもよいし、非露光パターン域内に存在していてもよい。吐出口１２ｉ（１２ｏ）の円が、非露光パターン域内に存在していることにより、露光パターン形成面Ａにおける過現像（図１６に破線で示すような過現像）を抑制することができる。
【００６０】
現像液１３の滴下位置が露光パターン域Ａに位置している場合とは、平面視において、吐出口１２ｉ（１２ｏ）円が光ディスク原盤１の露光パターン域Ａ内に位置している場合をいう。また、現像液１３の滴下位置が非露光パターン域に位置している場合とは、たとえば、図２の破線で示すような各位置ＰＳｉ、ＰＳｏに滴下位置が位置している場合をいう。この場合であっても、滴下位置はフォトレジスト層２（光ディスク原盤１の上面）内に存在している。
【００６１】
なお、現像液１３の滴下位置に相当する吐出口１２ｉが、露光パターン形成面Ａのうちのリードイン領域に位置していてもよい。これにより、リードイン領域を除く露光パターン形成面Ａにおける過現像（図１６に破線で示すような過現像）を抑制することができる。同様に、現像液１３の滴下位置に相当する吐出口１２ｏが、露光パターン形成面Ａのうちのリードアウト領域に位置していてもよい。
【００６２】
また、すでに理解されるように、純水１５を滴下する場合も、現像液１３を滴下する場合と同様であるが、図１や図２に示す現像液／純水供給ノズル１４ａに加えて、純水専用のノズル（たとえば、従来のような多数の吐出口を備えているもの１４）を設けておいて、ノズル１４ａから現像液１３を滴下して現像をした後に、多数の吐出口を備えたノズル１４から純水１５を滴下して、光ディスク原盤１のすすぎを行ってもよい。
【００６３】
次に、光ディスク原盤１の現像方法について説明する。以下に説明する現像法方法は、たとえば、上述した現像装置（光ディスク原盤１の現像装置）５１によってなされるようになっている。
【００６４】
光ディスク原盤１の現像方法は、平らな円板状に形成されている露光済みの光ディスク原盤１を、この中心軸Ｏを中心にして回転駆動しつつ、光ディスク原盤１のフォトレジスト層２に現像液１３を供給し、光ディスク原盤１のフォトレジスト層２を現像処理し、光ディスク原盤１の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含むものである。
【００６５】
光ディスク原盤１の現像方法では、露光パターンが形成されている面Ａは、前述したように、リング状に形成されている。また、フォトレジスト層２に現像液１３を供給（滴下）する際、現像液１３を吐出してフォトレジスト層２に現像液１３を滴下する第１の滴下位置が、リング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界に位置しており、また、フォトレジスト層２に現像液１３を供給（滴下）する際、現像液１３を吐出してフォトレジスト層２に現像液１３を滴下する第２の滴下位置が、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界であって光ディスク原盤１の回転中心軸Ｏに対して前記第１の滴下位置とは反対側に位置している。
【００６６】
光ディスク原盤１の現像方法では、光ディスク原盤１のフォトレジスト層２に現像液１３を供給する際に現像液１３を吐出しフォトレジスト層２に滴下する位置を、露光パターン域Ａの内周側の境界位置と外周側の露光パターン域Ａの境界位置との２箇所としたので、従来の多ノズル孔採用の方式（多数の現像液吐出孔から現像液１３を吐出する方式）とは異なる。すなわち、露光パターン域Ａの境界位置の内周側および外周側のノズル孔１２ｉ、１２ｏから層流状に流れ出た現像液１３の水流が、露光済み光ディスク原盤１の上で記録領域Ａの範囲を円形状にスムーズに広がり現像液１３の水流が激しくぶつかり合うこともなく、光ディスク原盤１の回転により扇状に外周に向かって流れ出ていく。
【００６７】
つまり、図２に示す円形状の各領域（各吐出口１２ｉ、１２ｏの真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ２１、ＤＭ２２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。また、各領域ＤＭ２３、ＤＭ２４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ２３、ＡＲ２４で示すように光ディスク原盤１の上をこの外周に流れる。さらに、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ２１や矢印ＡＲ２２のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【００６８】
なお、図２に示す線Ｌ１は、現像液／純水供給ノズル１４ａの中心線（水平な方向に延びた中心線）であって、平面視においてテーブル３１の中心軸Ｏを通っている。また、図２に示す線Ｌ２は、中心線Ｌ１に垂直であり、平面視においてテーブル３１の中心軸Ｏを通り、かつ、水平方向の延びた線である（以下、図４〜図１０において同じ）。各中心線Ｌ１、Ｌ２を描いてある理由は、各中心線Ｌ１、Ｌ２を基準として、現像液１３の流れの状態を見やすくするためである。
【００６９】
図２に示すような現像液１３の流れが形成されることによって、フォトレジスト層２の全域を、ほぼ均等に現像することができる。よって、現像むらに起因する不都合、すなわち再生信号レベルの変動が大きくなって再生エラーが生じやすくなるといった不都合や、回路構成が複雑な記録再生装置が必要になるといった不都合を回避できるという効果を得ることができる。
【００７０】
また、図１６の正常現像を示す線（実線）のようにスピン現像特有の外周部が現像不足になる傾向を抑制することができる。すなわち、露光パターン域Ａの境界位置の外周側のノズル孔１２ｏから新鮮な現像液１３が円形状に広がるので、図３に示すように、光ディスク原盤１の外周部における現像不足の問題を克服することができる。図３は、光ディスク原盤１内外周のそれぞれのノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３の現像進行の程度を表している。内周側ノズル１２ｉによる外周側の現像進行の遅れを外周側ノズル１２ｏが補正していることを表している。
【００７１】
ところで、光ディスク原盤１の現像装置５１では、現像液／純水供給ノズル１４ａのノズル本体５７として、たとえば、外径が６ｍｍであって内径が４ｍｍのステンレスパイプを採用してある。また、各吐出口１２ｉ、１２ｏの内径は、４ｍｍにしてある。吐出口１２ｉから滴下される現像液１３の流量と吐出口１２ｏから滴下される現像液１３の流量とはたとえばお互いにほぼ等しく、各吐出口１２ｉ、１２ｏから滴下される現像液１３の合計流量は、光ディスク原盤１の種類にもよるが、５００ｃｍ３／ｍｉｎ〜１０００ｃｍ３／ｍｉｎにしてある。光ディスク原盤１のフォトレジスト層２に向けて現像液１３が吐出するときの露光済み光ディスク原盤１を載置するターンテーブル３１の回転数は１００ｒｅｖ／ｍｉｎ〜３００ｒｅｖ／ｍｉｎにしてある。
【００７２】
さらに、詳しく一実施例として、外径が２００ｍｍの光ディスク原盤１を使用して、直径が１２０ｍｍのＤＶＤまたはＢＤ（ブルーレイディスク）の各種フォーマット盤を現像する場合について述べる。露光範囲（露光パターン域）Ａは半径２３ｍｍから５９ｍｍとなり、平面視における吐出口１２ｉの位置を、半径２３ｍｍ（中心軸Ｏからの距離が２３ｍｍ）とし、平面視における吐出口１２ｏの位置を、半径５９ｍｍ（中心軸Ｏからの距離が５９ｍｍ）としてある。
【００７３】
各吐出口１２ｉ（１２ｏ）の内径を、４ｍｍにし、吐出口１２ｉから滴下される現像液１３の流量を、２５０ｃｍ３／ｍｉｎにし、吐出口１２ｏから滴下される現像液１３の流量を、２５０ｃｍ３／ｍｉｎにした。この場合、吐出口１２ｉ（１２ｏ）流れ出る現像液１３の流速は、３２ｃｍ／ｓｅｃになる。なお、吐出口１２ｉ（１２ｏ）から流れ出る現像液１３の流量は、図８、図９、図１０に示すものの場合（吐出口を二つ設けたもの）においては同様であり、吐出口１２から流れ出る現像液１３の流量は、図５、図６、図７に示すものの場合（吐出口を一つ設けたもの）においては、５００ｃｍ３／ｍｉｎである。
【００７４】
上記設定により３０秒間の現像をして、現像で適正溝（図１１（ｃ）に示す各フォトレジスト２１の間の溝）形状になるように露光パワーを決めている。この条件で現像液滴下位置の半径２３ｍｍ、半径５９ｍｍの位置が過現像になることはないが、現像液滴下位置をノズル孔１２ｉ（１２ｏ）のサイズである４ｍｍ程度ずらして、ノズル孔１２ｉの位置を半径１９ｍｍ、ノズル孔１２ｏの位置を半径６３ｍｍとすればさらに安全度が増す。すなわち、露光範囲Ａにおける過現像を一層確実に防止することができる。
【００７５】
露光済み光ディスク原盤１の表面（上面）とノズル孔１２ｉ、１２ｏ（突出部位５９Ａ、５９Ｂの下端）との隙間（現像液１３の落下距離）は１５ｍｍとした。現像液落下距離は光ディスク原盤１に取り付け等における操作性および現像液１３の跳ね返りによる現像液／純水供給ノズル１４ａの汚染防止の観点から１５ｍｍ前後が適正である。
【００７６】
ターンテーブル３１の回転数を１００ｒｅｖ／ｍｉｎとすると、ノズル孔１２ｉ、１２ｏから光ディスク原盤１の上に落下した層流状で円形状の現像液１３の流れは直径３０ｍｍ程度に広がりその後、回転力と対峙する方向の広がりはやがて回転力に負けて円形状に沿って方向反転して扇状に外周方向に広がって行く。一方、回転力と同じ方向の広がりは、スムーズに層流状のまま回転力により扇状に外周方向に広がって行く。
【００７７】
かようにしたときに、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏからフォトレジスト層２上に供給される現像液１３のお互いの流れが激しく干渉して乱れることもなくスムーズな現像液１３の扇状の流れとなり、現像液１３が膜切れをおこすこともなく、露光済みの光ディスク原盤１の露光パターン域（記録範囲）Ａが常に新鮮な活性の高い現像液１３で現像されることになる。よって、フォトレジスト層２の露光パターン域の記録範囲Ａの全域が、ほぼ均等に現像され、現像むらに起因する不都合を回避できる。
【００７８】
ところで、図４に示すように、現像液１３の滴下位置を変更してもよい。
【００７９】
図４に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）は、現像液１３の滴下位置が図１や図２に示すものと異なる点を除いては、図１や図２に示すものとほぼ同様である。
【００８０】
すなわち、図４に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、平面視において、ノズル孔１２ｉが、リング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界に位置しており、ノズル孔１２ｏが、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界であって光ディスク原盤１の回転中心軸Ｏに対してノズル孔１２ｉと同じ側に位置している。すなわち、図２に示すものに比べて、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏがお互いに近づいている。
【００８１】
図４示す場合であっても、ノズル孔１２ｉ、１２ｏからフォトレジスト層２上に供給された現像液１３のお互いの流れが激しく干渉して乱れることがない。そして、スムーズな現像液１３の扇状の流れとなるので、図１や図２に示す装置とほぼ同様の効果を得ることができる。
【００８２】
すなわち、図４に示す円形状の各領域（各吐出口１２ｉ、１２ｏの真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ４１、ＤＭ４２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。また、各領域ＤＭ４３、ＤＭ４４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ４３、ＡＲ４４で示すように光ディスク原盤１の外周に流れる。さらに、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ４１や矢印ＡＲ４２のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【００８３】
図５に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）も、現像液１３の滴下位置が図１や図２に示すものと異なる点を除いては、図１や図２に示すものとほぼ同様であり、図１や図２に示すものとほぼ同様の効果を得ることができる。
【００８４】
すなわち、図５に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、ノズル孔１２を１つとして、平面視において、ノズル孔１２の位置をリング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界としてある。
【００８５】
図５に示す円形状の領域（吐出口１２の真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ５２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。なお、吐出口１２から流れ出る現像液１３の吐出量（５００ｃｍ３／ｍｉｎ）が図２に示すもの（２５０ｃｍ３／ｍｉｎ）の場合よりも多いので、領域ＤＭ５２は、領域ＤＭ５１（吐出口１２から流れ出る現像液１３の吐出量を２５０ｃｍ３／ｍｉｎとした場合に形成される領域であり、参考として掲げたものである。）より大きくなっている。
【００８６】
また、境界線Ｌ３の両側における各領域ＤＭ５３、ＤＭ５４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ５３、ＡＲ５４で示すように光ディスク原盤１の外周に流れる。なお、領域ＤＭ５４の現像液１３の膜厚のほうが、領域ＤＭ５３の現像液１３の膜厚よりも厚くなっている。さらに、ノズル孔１２から滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ５１のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【００８７】
図６に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）は、現像液１３の滴下位置が図５に示すものと異なる点を除いては、図５に示すものとほぼ同様であり、図５（図１や図２）に示すものとほぼ同様の効果を得ることができる。
【００８８】
すなわち、図６に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、ノズル孔１２を１つとして、平面視において、ノズル孔１２の位置をリング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界としてある。
【００８９】
図６に示す円形状の領域（吐出口１２の真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ６２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。なお、図５で示した場合と同様に、領域ＤＭ６２は、領域ＤＭ６１より大きくなっている。
【００９０】
また、各領域ＤＭ６３、ＤＭ６４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ６３、ＡＲ６４で示すように光ディスク原盤１の外周に流れる。なお、領域ＤＭ６３の現像液１３の膜厚のほうが、領域ＤＭ６４の現像液１３の膜厚よりも厚くなっている。さらに、ノズル孔１２から滴下された現像液１３において、矢印ＡＲ６２や矢印ＡＲ６２のようにやや乱れた遷移状態の流れが発生する。
【００９１】
図７に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）は、現像液１３の滴下位置が図５に示すものと異なる点を除いては、図５に示すものとほぼ同様であり、図５（図１や図２）に示すものとほぼ同様の効果を得ることができる。
【００９２】
すなわち、図７に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、ノズル孔１２を１つとして、平面視において、ノズル孔１２の位置をリング状の露光パターン形成面Ａの領域内（たとえば、リング状の露光パターン形成面Ａの幅のほぼ中央部）としてある。
【００９３】
図７に示す円形状の領域（吐出口１２の真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ７２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。なお、図５で示した場合と同様に、領域ＤＭ７２は、領域ＤＭ７１より大きくなっている。
【００９４】
また、境界線Ｌ４の両側における各領域ＤＭ７３、ＤＭ７４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ７３、ＡＲ７４で示すように光ディスク原盤１の外周側に流れる。なお、領域ＤＭ７３の現像液１３の膜厚のほうが、領域ＤＭ７４の現像液１３の膜厚よりも厚くなっている。さらに、ノズル孔１２から滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ７１のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【００９５】
図８に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）は、現像液１３の滴下位置が図１や図２に示すものと異なる点を除いては、図１や図２に示すものとほぼ同様である。
【００９６】
すなわち、図８に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、平面視において、ノズル孔１２ｉが、リング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界に位置しており、ノズル孔１２ｏが、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界であって光ディスク原盤１の回転中心軸Ｏに対してノズル孔１２ｉに対して９０°ずれたところに位置している。すなわち、図２に示すものに比べて、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏがお互いに近づいているが、図４に示すものに比べて、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏがお互いに離れている。
【００９７】
図８に示す場合であっても、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏからフォトレジスト層２上に供給される現像液１３のお互いの流れが激しく干渉して乱れることがない。そして、スムーズな現像液１３の扇状の流れとなるので、図１や図２に示す場合とほぼ同様の効果を得ることができる。
【００９８】
すなわち、図８に示す円形状の各領域（各吐出口１２ｉ、１２ｏの真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ８１、ＤＭ８２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。また、各領域ＤＭ８３、ＤＭ８４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ８３、ＡＲ８４で示すように光ディスク原盤１の外周に流れる。さらに、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ８１や矢印ＡＲ８２のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【００９９】
図９に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）は、現像液１３の滴下位置が図８に示すものと異なる点を除いては、図８（図１や図２）に示すものとほぼ同様である。
【０１００】
すなわち、図９に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、平面視において、ノズル孔１２ｉが、リング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界の近傍であって、リング状の露光パターン形成面Ａ内に位置しており、ノズル孔１２ｏが、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界の近傍であって、リング状の露光パターン形成面Ａ内に位置している。さらに、ノズル孔１２ｏが、光ディスク原盤１の回転中心軸Ｏに対してノズル孔１２ｉに対して９０°ずれたところに位置している。
【０１０１】
図９に示す場合であっても、ノズル孔１２ｉ、１２ｏからフォトレジスト層２上に供給される現像液１３のお互いの流れが激しく干渉して乱れることがない。そして、スムーズな現像液１３の扇状の流れとなるので、図８（図１や図２）に示す場合とほぼ同様の効果を得ることができる。
【０１０２】
すなわち、図９に示す円形状の各領域（各吐出口１２ｉ、１２ｏの真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ９１、ＤＭ９２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。また、各領域ＤＭ９３、ＤＭ９４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ９３、ＡＲ９４で示すように光ディスク原盤１の外周に流れる。さらに、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ９１や矢印ＡＲ９２のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【０１０３】
図１０に示す光ディスク原盤１の現像装置（光ディスク原盤１の現像方法）は、現像液１３の滴下位置が図９に示すものと異なる点を除いては、図９（図１や図２）に示すものとほぼ同様である。
【０１０４】
すなわち、図１０に示す光ディスク原盤の現像装置（光ディスク原盤の現像方法）では、リング状の露光パターン形成面Ａを現像する場合、平面視において、ノズル孔１２ｉが、リング状の露光パターン形成面Ａの内側の境界の近傍であって、リング状の露光パターン形成面Ａから外れところ（リング状の露光パターン形成面Ａよりも内側）に位置しており、ノズル孔１２ｏが、リング状の露光パターン形成面Ａの外側の境界の近傍であって、リング状の露光パターン形成面Ａから外れところ（リング状の露光パターン形成面Ａよりも外側）に位置している。さらに、ノズル孔１２ｏが、光ディスク原盤１の回転中心軸Ｏに対してノズル孔１２ｉに対して９０°以上の鈍角（たとえば１２０°）だけずれたところに位置している。
【０１０５】
図１０に示す場合であっても、ノズル孔１２ｉ、１２ｏからフォトレジスト層２上に供給される現像液１３のお互いの流れが激しく干渉して乱れることがない。そして、スムーズな現像液１３の扇状の流れとなるので、図９（図１や図２）に示す装置とほぼ同様の効果を得ることができる。
【０１０６】
すなわち、図１０に示す円形状の各領域（各吐出口１２ｉ、１２ｏの真下に位置している光ディスク原盤１上の領域）ＤＭ１０１、ＤＭ１０２では現像液１３が厚めの層流で円の外周側に流れる。また、各領域ＤＭ１０３、ＤＭ１０４では、現像液１３が薄めの層流になって、たとえば、矢印ＡＲ１０３、ＡＲ１０４で示すように光ディスク原盤１の外周に流れる。さらに、各ノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３がお互いにぶつかり合う領域（光ディスク原盤１上の領域）では、矢印ＡＲ１０１や矢印ＡＲ１０２のようにやや乱れた遷移状態の現像液１３の流れが発生する。
【０１０７】
なお、上述した現像方法は、露光済みの光ディスク原盤１を回転駆動しつつ、前記光ディスク原盤のフォトレジスト層に現像液を供給し、前記光ディスク原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記光ディスク原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む光ディスク原盤の現像方法において、前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前記現像液を吐出して前記フォトレジスト層に前記現像液を滴下する滴下位置が単数（１箇所のみ）もしくは複数（２箇所以上）であり、前記滴下位置が単数の場合には、前記露光パターン域の境界もしくはこの境界の近傍もしくは前記露光パターン域に前記滴下位置が位置しており、前記滴下位置が複数の場合には、前記露光パターン域の境界、この境界の近傍、前記露光パターン域のいずれかに前記各滴下位置が位置していると共に、前記各滴下位置で滴下された現像液が前記光ディスク原盤の表面（前記原盤上）を広がってお互いに干渉して干渉領域が形成されるときに、この干渉領域で現像液に乱流が発生しない（干渉域においても現像液の層流もしくは遷移状態の流れが維持される）ような位置に前記各滴下位置（お互いが所定の距離だけ離れている各滴下位置）が位置している光ディスク原盤の現像方法の例である。
【０１０８】
また、上記実施形態では、光ディスク原盤を例に掲げて説明したが、光ディスク原盤以外のその他の原盤（たとえば、半導体やプリント基板等の製造工程で使用される印刷用の原板）にも、上記実施形態を適用することができる。
【０１０９】
さらに、上述した現像方法は、露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給して前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む現像方法において、前記供給した現像液を、前記原盤の表面（前記光ディスク原盤上）で層流としてまたは遷移状態で流して、前記現像処理をする原盤の現像方法の例である。
【０１１０】
この現像方法によれば、原盤のフォトレジスト層に供給された現像液が、前記原盤の表面を層流としてまた遷移状態で流れるので、原盤の記録領域における現像むらを生じにくく、たとえば均質性の高いプリフォーマットパターンを形成することができる。
【０１１１】
また、上述した現像方法は、露光済みの原盤を回転駆動しつつ、前記原盤のフォトレジスト層に現像液を供給して前記原盤のフォトレジスト層を現像処理し、前記原盤の表面に露光パターンに対応する微細な凹凸状の記録パターンを形成する記録パターン形成工程を含む原盤の現像方法において、前記供給した現像液を、前記原盤の表面（前記光ディスク原盤上）で定常流れ（ｓｔｅａｄｙ  ｆｌｏｗ）で流して、前記現像処理をする原盤の現像方法の例である。
【０１１２】
ここで定常流れとは、現像液の流路に沿って、異なった場所では流れの状態が異なるとしても、同一の場所（現像装置のベース部材や現像液／純水供給ノズル１４ａを基準とした同一の場所）現像液／純水供給ノズル１４ａ）では、流れの状態が時間に対して（時刻が経過しても）変化しない流れである。ちなみに、非定常流れは、定常流れではない流れであり、同一の場所においても、流れの状態が時間に対して（時刻の経過により）変化する流れである。
【０１１３】
この現像方法によっても、原盤のフォトレジスト層に供給された現像液が前記原盤の表面を定常流れで流れるので、原盤の記録領域における現像むらを生じにくく、たとえば均質性の高いプリフォーマットパターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】本発明の実施形態に係る光ディスク原盤１の現像に使用する現像装置５１の概略構成を示す図である。
【図２】光ディスク原盤１の現像に使用する現像装置５１の平面図であって、特に、現像液／純水供給ノズル１４と光ディスク原盤１と現像液１３の流れを示した図ある。
【図３】光ディスク原盤１内外周のそれぞれのノズル孔１２ｉ、１２ｏから滴下された現像液１３の現像進行の程度を表している図である。
【図４】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図５】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図６】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図７】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図８】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図９】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図１０】現像液１３の滴下位置を変更した図であり、図２に対応した図である。
【図１１】本発明の現像装置および現像方法の一実施例、並びに従来例の現像装置によって製造される光ディスクを説明するための第１の製造工程図である。
【図１２】本発明の現像装置および現像方法の一実施例および従来例の現像装置によって製造される光ディスクを説明するための第二の製造工程図である。
【図１３】従来の現像装置を示す図である。
【図１４】従来の現像装置を示す図である。
【図１５】従来の現像装置を示す平面図である。
【図１６】現像状態を示す図である。
【符号の説明】
【０１１５】
１  光ディスク原盤
２  フォトレジスト層
１２、１２ｉ、１２ｏ  ノズル孔
１３  現像液
１４ａ  ノズル
１５  純水
３１  テーンテーブル
５１  現像装置
５３  現像液供給手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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