(57)【要約】【課題】半導体処理工程における移載容器中の部品支持構造の改良。【解決手段】  移載容器は、基台５０及び蓋６０からなり、該基台上の２つの抵触台５２と抵触部品５８で”コ“の字状にレチクル７０の支持部を構成する。抵触台の内側両端に相対してそれぞれ硬質の支持部品５５を設け、各支持部品はそれぞれ高低差のある高い第一突出片及低い第二突出片を具え、これらの頂上をアーチ状として支持接触面を点接触とし、同一抵触台上の二つの支持部品は、低い第二突出片を相対的に内側に配置して、レチクルが変位して第一突出片から滑り落ちても、第二突出片が受ける。【選択図】図2
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台及び蓋から構成し、
該基台は、上面両側の両端にそれぞれ物品の支持部品を設け、各支持部品はそれぞれの側で支持位置に応じた間隔で配置し、各支持部品上に相互に間隔を置いて第一突出片及び第二突出片を設けて第一突出片は第二突出片の高さより高くすると共に高さの低い第二突出片は同じ側の支持部品の相対する内側に配置し、
蓋は、基台を覆い、かつ分離可能としたことを特徴とする半導体レチクル或いはウェハーなどの物品の移載容器。
【請求項２】
前記蓋は、取っ手を具有するプラスティックの外殻と、金属の内型によって構成することを特徴とする請求項1記載の移載容器。
【請求項３】
該基台上に二つの相互に相対して平行に配列する抵触台を設け、上記支持部品はそれぞれ該二つの抵触台の両端に設けられ、また、抵触台の外側縁にそれぞれ物品両側縁にあてがう逆L字型片を具有し、該基台上の二つの抵触台間の側端に、物品をあてがうための抵触部品を配置し、
蓋は、その内側に部品をプレス及び支えるホールド部品を設け、前述の抵触部品と反対側に位置してプッシュ片を設け、
プッシュ片により部品が基台の抵触台及び抵触部品に正しく位置決めされるするようガイドすることを特徴とする請求項1記載の移載容器。
【請求項４】
前記支持部品の第一、第二突出片の頂上端をアーチ状に形成して該部品を支持する接触面積が小さくしたことを特徴とする請求項1記載の移載容器。
【請求項５】
前記支持部品の後側に固定ブロックを形成し、該固定ブロックの両側にそれぞれネックを形成して支持部品が接触台と共に一体射出成型時に、しっかりと抵触台と固定されるようにしたことを特徴とする請求項1記載の移載容器。
【請求項６】
前記支持部品は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、又はベスペル（VESPEL）などの摩耗に強く、高い硬度を持つ材質で作られたことを特徴とする請求項1或いは請求項4或いは請求項5記載の移載容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体を製造する過程において、半導体レチクル或いはウェハーなどの物品を各工程間で移送するための移載容器内部の支持物品の技術に関し、特に、支持接触面積を小さくし、且つ二箇所の支持ポイントのある移載容器の支持構造によって物品と支持構造が摩擦により生じるダスト現象が減少し、更に物品が滑る或いは衝撃を受けて損傷することを防止する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子製品は絶えず薄く、短く小さく、短波長、高周波化などの特徴で発展しており、電子製品の核心となるチップは更にマイクロ化および高性能化する必要がある。そのためには、チップ上の集積回路線幅を小さくすれば、更に多くの集積回路導線および部品を設置することができる。現有の集積回路線幅は既に早期の0.25マイクロメートルから今の90〜45ナノメートルに縮小しているため、チップの集積回路線幅を小さくする成否の鍵は、主として半導体製造過程の光リソグラフィ製造過程技術にある。これらの設備ではスキャナーとレチクルが使用されるため、光リソグラフィ製造過程の物品、例えばレチクル或いはウェハーの表面にダスト或いは水分があると、製造の良品率に直接且つ厳重な影響を及ぼす。ゆえに、光リソグラフィ製造過程は極めてレベルの高い無塵室の中で行う必要がある。これらの問題を解決するために、アメリカ特許申請案第US 4,532,970号およびアメリカ特許申請案第US 4,534,389号では、ウェハー、レチクルを密閉した環境状態で移送するシステムを開発し、周囲環境のダスト、水分或いは有害物質がレチクルとウェハーの環境に入り込まないよう確保するものが発明された。
【０００３】
しかし、従来のレチクルボックスの例を見ると、図1に示すように、該レチクルボックス(10)は、枠(11)、基台(12)、蓋(13)、数本のガイドアーム（14）及び数本のプッシュアーム（15）を具有する。該基台(12)は、蓋(13)と連結する枠(11)と嵌合し、且つ該基台(12)は数個の支持ブロック(16)を介してレチクル(20)の下面を支持し、該支持ブロック(16)はレチクル(20)を載せる水平支持面(160)を具有する。
【０００４】
前述のレチクルボックス(10)の基台(12)は、支持面(160)を具有する支持ブロック(16)が該レチクル(20)を支える構造は、支持面(160)とレチクル(20)の接触面積が大きく、硬度が低く、摩擦に耐えることができないため摩擦してダストが生じやすく、レチクル(20)底面の配線パターンのレジスト層を損傷しやすい。これらのダストは、レチクル露光時に影響を及ぼすため、不良品を作り、生産効率にも直接影響を与える。よって、ダストが一定の量に達すると、レチクルボックス(10)及びレチクル(20)の清掃を行う、または新しいレチクル(20)の保護フィルムを交換、或いはレチクル(20)図形を新たに製作しなければならないなど、運営コストが増加し、工場の競争力及び経済利益を下げることになる。
【０００５】
公知の台湾特許申請案第TWI224719号の「レチクルサポート装置」は、主にレチクルボックスの中で、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)製の突出ブロックでレチクルを支える。該突出ブロックの頂面に中央に傾斜したアーチ型の保持部を形成する。該特許申請案のデザインは、従来のダストが発生しやすい問題を克服するが、該接触面積が尚も広すぎる上、基台との結合がベストでないため、温度差による膨張収縮のある環境においては、緩んで外れやすくなるため、使用しにくい。
【０００６】
更に、従来技術或いは前述の特許申請案のレチクルボックスは、使用過程において人手により該レチクル(20)を該基台(12)の支持ブロック(16)或いは突出ブロックに置く場合、視線が遮られ、或いは位置が変位するなどの場合、レチクル(16)の置かれた位置に大きな誤差が生じると、該レチクル(16)の片側が一つの支持ブロック(16)或いは突出ブロックの上から落ちて該レチクル(20)の底面が直接該基台(12)の表面にぶつかり、該レチクル(20)の底面が損傷してしまうため、更なる改善する必要があった。
【特許文献１】特開２００２−２９９４３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の第1の目的は、支持物品が直接滑り落ちるのを防止し、物品が守られる移載容器及び移載容器の支持構造に応用する構造を提供することにある。
本発明の第2の目的は、摩擦面積及びダストの発生を減少し、物品が傷つくのを避けられる移載容器及び移載容器の支持構造に応用する構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的を解決するために、本発明は移載容器及び移載容器の支持構造を提供することにあり、該移載容器は半導体レチクル或いはウェハーなどの物品を載せるために使用し、基台及び蓋で構成される。基台の頂上両側の両端にそれぞれ物品を支持する支持部品を設け、両端の両側の支持部品は同一直線上に配列する。各支持部品の頂上縁に第一突出片及び第二突出片を具有し、第一突出片及び第二突出片は互いに間に距離を形成する。且つ、第一突出片は第二突出片より高く、同側の支持部品により、低い第二突出片を相対する内側に位置させる。該蓋は前述の基台を覆う或いは分離することができる。
【発明の効果】
【０００９】
第一及び第二突出片を設けることにより、物品を支持する際、物品の位置が比較的高い第一突出片より変位する場合、第二突出片も支持できることで、二次のプロテクトを形成し、物品が直接滑り落ちるのを避けることができ、更に物品と支持部品の摩擦面積を減少することができるため、ダストの発生及び損傷する現象を減らすことで、全体的の製造良品率を上げ、製品の付加価値を増すことで、競争力及び経済利益をアップさせることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、半導体の製造工程におけるレチクル或いはウェハーなどの物品の移載容器の支持構造を明確に示すために図に沿って詳細な説明を行う。図2に示すように、レチクル(70)を収容する移載容器(5)は、基台(50)及び蓋(60)からなる。レチクル(70)が基台(50)の上に置かれ、且つ蓋(60)は該基台(50)を覆って結合することより、移載容器(5)を構成する。
【００１１】
図2及び図3に示すのは、基台(50)の周囲に複数個の蓋(60)を結合するための溝(51)を形成し、また基台(50)上に二つの相対応し、且つ平行に配列する抵触台(52)を設け、該二つの抵触台(52)の外側縁にそれぞれ複数枚の突出片(53)を設ける。各突出片(53)は、内側に逆L字型の片(54)を設けてレチクル(70)を挟む。また、二つの抵触台(52)の間の基台(50)端縁に抵触部品(58)を設け、該抵触部品(58)の外側縁に上向きに突出する複数枚のレチクル(70)を宛がう突出片(59)を設ける。よって、レチクル(70)は抵触台(52)と抵触部品(58)により、基台(50)に固定される。更に、二つの抵触台(52)は相対する内側縁の両端にそれぞれ支持部品(55)を設けることで、確実に該レチクル(70)を支持する。
【００１２】
図4及び図5に示すのは、該支持部品(55)の詳細であって、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)或いはベスペル（VESPEL）などの摩擦に強く、高い硬度の材質で作られる。支持部品(55)は、頂上縁に第一突出片(551)と第二突出片(553)を具有し、第一突出片(551)及び第二突出片(553)は互いに間隔を形成する。また、第一突出片(551)は第二突出片(553)より高く、また同一の抵触台(52)両端にある支持部品(55)は、高さの低い第二突出片(553)を相対的に内側に配置し、第一突出片(551)及び第二突出片(553)の段差のある構成によって、該レチクル(70)の片側が抵触台(52)より脱落しても、そこにとどまって該レチクル(70)が直接該基台(50)の抵触台(52)の表面に落ちるのを防止することができる(図9参照)。更に、第一、第二突出片(551)(553)の頂上端をアーチ型(552)(554)に形成することによって、該レチクル(70)を支持する接触面積を減少する。また、支持部品(55)の後側に固定ブロック(56)を形成し、該固定ブロック(56)の支持部品(55)の背面に接する位置にネック(560)を形成し、支持部品(55)を抵触台(52)と一体に射出成型する際にしっかりと抵触台(52)に固定するようにして支持部品(55)が任意に緩んで外れるのを防止し、使用寿命を延長することができる。
【００１３】
また、蓋(60)は、プラスティックの外ケース(61)及び金属の内型(65)によって構成する。取っ手(62)を具有する外ケース(61)内部の底縁に、前述基台(50)の溝(51)と対応する嵌合部品(63)を具有し、蓋(60)は嵌合部品(63)によって基台(50)と嵌合或いは分離する。内型(65)の内側に複数のレチクル(70)をプレス及び支えるホールド部品(66)を設ける。また、基台(50)の抵触部品(58)の反対側に相当する内型の位置に設けたホールド部品(66)にプッシュ片(68)を具有し、該プッシュプ片と抵触部品との間で、レチクル(70)を正しく基台(50)の抵触台(52)と抵触部品(58)の上に位置させ、ホールド部品(66)により、蓋(60)が基台(50)にかぶせる際にレチクル(70)の位置を修正し、レチクル(70)が滑って位置がずれるのを防止する。
【００１４】
以上の構成によって、支持接触面積が小さく、且つ二重のプロテクト作用を具有する移載容器の支持構造が完成する。
【００１５】
前述の構造により、本発明を具体的に実施する際、図6、7及び図9に示すように、本発明の移載容器(5)に該レチクル(70)を置く際、人手により或いは機械のアームで入れる、或いは其の他の適切な方法で、該レチクル(70)を該基台(50)の抵触台(52)の支持部品(55)の上に置き、各支持部品(55)の比較的高い第一突出片(551)上に該レチクル(70)の下面を宛がうと共に、該レチクル(70)を、蓋(60)のホールド部品(66)のプッシュ片(67)と、基台(50)にある抵触部品(58)の突出片(59)の間に位置させて、該レチクル(70)が水平に支持し、変位するのを防止する。本発明の移載容器(5)の中に該レチクル(70)を置くと同時に、該レチクル(70)が適切な位置に置かれる調整機能を提供する。
【００１６】
図1の従来技術のレチクルボックスと比較すると、本発明の基台(50)にある抵触台(52)の支持部品(55)が該レチクル(70)を支える際、比較的高い第一突出片(551)のみと接触し、また第一突出片(551)の頂上縁がアーチ状(552)になっているため、該レチクル(70)とは点で接触し、接触面積が大幅に減少できる。よって摩擦によるダストが減少し、同時にレチクル(70)が傷つくのを防止して製造の良品率を上げることができる。更にレチクル(70)が異なる要素により片側に変位して落ちる場合も、該支持部品(55)の比較的低い第二突出片(553)が補助して該レチクル(70)を支えることによって、二次のプロテクトを形成し、該レチクル(70)の底面が直接該基台(50)或いは抵触台(52)の表面にぶつかるのを防止することにより、確実に該レチクル(70)の底面がぶつかって損傷するのを防止する機能を具える。
【００１７】
更に、本発明の支持部品(55)に固定ブロック(56)を具有し、また、支持部品(55)は抵触台(52)を射出成型するときに、支持部品(55)の固定ブロック(56)と一体化しているため、大幅に支持部品(55)と抵触台(52) の結合力をアップし、支持部品(55)が製造過程の温度差により緩むことなく、使用寿命が延長される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】従来技術のレチクルボックスの組み立て断面略図である。
【図２】本発明の立体分解略図である。
【図３】本発明の基台立体分解略図である。
【図４】本発明の基台局部拡大略図である。
【図５】本発明の支持部品局部拡大略図である。
【図６】本発明の蓋と基台が結合する前の平面断面図である。
【図７】本発明の支持部品がレチクルを支える状態を前から見た平面略図である。
【図８】本発明の支持部品がレチクルを支える状態をサイドから見た平面略図である。
【図９】本発明のレチクルが変位して滑り落ちた後の断面図であり、レチクルが直接抵触部品にぶつかるのを防止する説明である。
【符号の説明】
【００１９】
10レチクルボックス
11枠
12基台
13蓋
14ガイドアーム
15プッシュアーム
16支持ブロック
160支持面
20レチクル
5移載容器
50基台
51溝
52抵触台
53突出片
54逆L字型片
55支持部品
551第一突出片
552アーチ
553第二突出片
554アーチ
56固定ブロック
560ネック
58  抵触部品
59突出片
60蓋
61外ケース
62取っ手
63嵌合部品
65  内型
66  ホールド部品
67プッシュ片
70  レチクル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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