(57)【要約】【課題】帯状基材に対して塗膜の膜厚分布を精度良く測定し、また、塗膜を精度良く形成すること。【解決手段】膜厚分布測定装置１００は、センサ１１０によって検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する。塗膜形成装置３００は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知するセンサ１１０で検知された帯状基材の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する膜厚分布測定部１００を備えている。そして、当該膜厚分布測定部１００で測定された塗膜２０の膜厚分布に基づいて、帯状基材１０に形成される塗膜２０が、塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さについて、精度良く形成されるように、塗工部４００を適切に制御する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状基材の長さ方向に塗液を塗工して形成された塗膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定装置であって、
ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するセンサを備え、前記センサで検知された帯状基材の幅方向端部の位置を基準として、前記帯状基材の幅方向に沿って、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する、膜厚分布測定装置。
【請求項２】
前記ローラで搬送される帯状基材に対して、表裏に対向して配置された変位計を備え、前記変位計を帯状基材の幅方向に走査して、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚を測定する、請求項１に記載の膜厚分布測定装置。
【請求項３】
前記ローラで搬送される帯状基材に対して、帯状基材がローラ上を通過する位置において、帯状基材に対向して配置された変位計を備え、前記変位計を帯状基材の幅方向に走査して、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する、請求項１に記載の膜厚分布測定装置。
【請求項４】
前記センサは、前記膜厚分布測定装置が帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する測定位置の近傍において、前記ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するように配設された、請求項１から３の何れかに記載の膜厚分布測定装置。
【請求項５】
帯状基材を搬送するローラと、
前記帯状基材の長さ方向に塗膜を形成する塗工部と
を備えた塗膜形成装置において、
前記ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するセンサと、
前記センサで検知された帯状基材の幅方向端部の位置を基準として、前記帯状基材の幅方向に沿って、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定部と、
前記膜厚分布測定部で測定された塗膜の膜厚分布に基づいて、前記塗工部によって帯状基材に形成される塗膜の位置、塗膜の幅および塗膜の厚さをそれぞれ制御する制御部と
を備えた塗膜形成装置。
【請求項６】
前記ローラで搬送される帯状基材に対して、表裏に対向して配置された変位計を備え、前記変位計を帯状基材の幅方向に走査して、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する、請求項５に記載の塗膜形成装置。
【請求項７】
前記ローラで搬送される帯状基材に対して、帯状基材がローラ上を通過する位置において、帯状基材に対向して配置された変位計を備え、前記変位計を帯状基材の幅方向に走査して、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する、請求項５に記載の塗膜形成装置。
【請求項８】
前記センサは、前記膜厚分布測定部が帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する測定位置の近傍において、前記ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するように配設された、請求項５から７の何れかに記載の塗膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状基材の長さ方向に塗液を塗工して形成された塗膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定装置、および、帯状基材に塗膜を形成する塗膜形成装置に関する。なお、ここでは、「塗膜の膜厚分布」は、帯状基材に形成された塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さをいう。
【背景技術】
【０００２】
フィルムシートを含む帯状基材の厚さを測定する装置としては、例えば、特開平９−４９７２５号公報に記載された装置がある。同公報の図１に示されているように、この装置１００は、金属製タッチロール（１）の外周面に樹脂フィルムシート（Ｓ）の裏面を接した状態で、樹脂フィルムシートの厚さを測定する。その測定方法は、基準位置（２１）から金属製タッチロール（１）の外周面までの第１の距離（Ａ）を電磁気的に測定すると共に、基準位置（２１）から樹脂フィルムシート（Ｓ）の表面までの第２の距離（Ｂ）を光学的に測定し、第１の距離（Ａ）と第２の距離（Ｂ）との差に基づいて樹脂フィルムシート（Ｓ）の厚さ（Ｘ）を算出するというものである（括弧内の符号は、同公報の図１参照）。
【０００３】
また、特開２００２−２５７５０６号公報では、金属板上に塗工された塗工膜厚を測定する非接触膜厚測定装置が記載されている。塗工膜厚を測定する非接触膜厚測定装置としては、レーザー変位計が用いられており、金属板の幅方向に移動しつつ膜厚を測定する構造を備えている。
また、特開２００５−４１５６０号公報にはフィルム移送の際の蛇行および位置ずれを抑制、補正する装置が記載されている。同公報では、単に、フィルムが蛇行した際に、蛇行量を検出し、検出した蛇行量に基づいて、補正手段を制御することが開示されている。
また、特開平５−１４１９５７号公報には、接触型の塗工膜厚測定装置が開示されている。
【特許文献１】特開平９−４９７２５号公報
【特許文献２】特開２００２−２５７５０６号公報
【特許文献３】特開２００５−４１５６０号公報
【特許文献４】特開平５−１４１９５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、例えば、リチウムイオン二次電池を製造する場合においては、帯状基材に電極活物質を塗工して塗膜を形成している。この際、歩留まりを低減させるため、帯状基材に、塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどの精度が良い塗膜を形成したい。
【０００５】
本発明者は、帯状基材に形成された塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどを精度良く測定し、その測定結果を基に塗膜を形成する塗工装置をフィードバック制御することによって、帯状基材に、塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどの精度が良い塗膜を形成することを考えている。このためには、帯状基材に形成された塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどを精度良く測定できることが前提となる。また、特に、帯状基材に形成される塗膜は、帯状基材をローラで搬送しつつ、連続して塗工することを考えているが、上記の塗膜の種々の測定についても、塗工工程を止めずに行なえることが好ましい。
本発明者は上述したような既存装置を検討したが、帯状基材の幅方向に塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどを十分に満足できる程度に精度良く測定できる装置はなかった。
【０００６】
例えば、特開平９−４９７２５号公報に記載された技術は、樹脂フィルムシート（Ｓ）がタッチロール（１）に対して蛇行するなど、位置ずれが生じた場合には、測定精度が悪くなる可能性がある。
また、特開２００２−２５７５０６号公報では、塗工膜厚を測定する非接触膜厚測定装置は、レーザー変位計が用いられており、測定対象に対して幅方向に移動しつつ膜厚を測定する。しかし、この場合においても、帯状基材がローラで搬送される際、帯状基材が蛇行するなどして、帯状基材がローラに対して幅方向にずれる場合がある。このような場合には、測定装置と、帯状基材との相対的な位置がずれるので、塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどを精度良く測定することができないという問題がある。
また、特開２００５−４１５６０号公報に記載された技術は、フィルムの蛇行が生じるのを抑制するものに過ぎず、現実には、数μｍレベルでの蛇行を完全に防止できない。本発明者は、数μｍレベルでの測定精度を向上させることを目的としており、同公報の技術により蛇行を抑制するのみでは、帯状基材に形成される塗膜の膜厚分布について、本発明者が求める精度を達成できない。
【０００７】
すなわち、本発明は、帯状基材に形成される塗膜に関し、帯状基材に対する塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さなどを高精度に測定することが第１の課題である。さらに、本発明は、帯状基材に形成される塗膜を、塗膜の位置、塗膜の幅、塗膜の厚さについて精度良く形成することが第２の課題である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る膜厚分布測定装置は、帯状基材の長さ方向に塗液を塗工して形成された塗膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定装置であって、ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するセンサを備えている。そして、当該センサで検知された帯状基材の幅方向端部の位置を基準として、帯状基材の幅方向に沿って、帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する。
かかる膜厚分布測定装置によれば、センサによって、帯状基材の幅方向端部の位置が検知される。そして、当該センサによって検知された帯状基材の幅方向端部の位置を基準として、帯状基材の幅方向に沿って、帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定するので、例えば、蛇行などの現象によって帯状基材が搬送時に位置がずれた場合でも、その影響を受けず、幅方向の膜厚分布を測定することができる。
【０００９】
また、膜厚分布測定装置は、例えば、ローラで搬送される帯状基材に対して、表裏に対向して配置された変位計を備え、前記変位計を帯状基材の幅方向に走査して、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定してもよい。この場合、帯状基材の表裏で計測できるので、例えば、ローラに振動が生じ、帯状基材が微妙に振れる場合などでもこれに影響されず、精度良く幅方向の膜厚分布を測定できる。
また、膜厚分布測定装置は、ローラで搬送される帯状基材に対して、帯状基材がローラ上を通過する位置において、帯状基材に対向して配置された変位計を備え、前記変位計を帯状基材の幅方向に走査して、前記帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定してもよい。この場合、変位計の数を低減でき、装置構成を簡単にできる。
【００１０】
また、センサは、膜厚分布測定装置が帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する測定位置の近傍において、ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するように配設されていてもよい。
この場合、センサが膜厚分布測定装置が帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する測定位置の近傍において、ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するので、センサの測定位置と、膜厚分布測定装置の測定位置との差が小さく、例えば、帯状基材が搬送時に位置が急にずれた場合でも、その影響を受けず、幅方向の膜厚分布を精度良く測定することができる。
【００１１】
また、本発明に係る塗膜形成装置は、帯状基材を搬送するローラと、帯状基材の長さ方向に塗膜を形成する塗工部とを備えている。この塗膜形成装置は、ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するセンサと、当該センサで検知された帯状基材の幅方向端部の位置を基準として、帯状基材の幅方向に沿って、帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定部とを備えている。さらに、塗膜形成装置は、膜厚分布測定部で測定された塗膜の膜厚分布に基づいて、塗工部が帯状基材に形成する塗膜の位置、塗膜の幅および塗膜の厚さをそれぞれ制御する制御部を備えている。
かかる塗膜形成装置によれば、ローラで搬送される帯状基材の幅方向端部の位置を検知するセンサで検知された帯状基材の幅方向端部の位置を基準として、帯状基材の幅方向に沿って、帯状基材に形成された塗膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定部を備えている。そして、当該膜厚分布測定部で測定された塗膜の膜厚分布に基づいて、塗工部が帯状基材に形成する塗膜の位置、塗膜の幅および塗膜の厚さがそれぞれ制御される。このため、帯状基材に対して塗膜の位置、塗膜の幅および塗膜の厚さを精度良く形成することができる。
【００１２】
かかる塗膜形成装置の膜厚分布測定部は、上述した膜厚分布測定装置と同様に、種々の変更が可能であり、その変更による作用効果については、同様な作用効果を奏する。そして、膜厚分布測定部について適宜に上述した膜厚分布測定装置と同様の変更を行なうことにより、上述した塗膜形成装置に適用することにより、帯状基材に対して塗膜の位置、塗膜の幅および塗膜の厚さをさらに精度良く形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に係る膜厚分布測定装置、および、塗膜形成装置を図面に基づいて説明する。なお、同じ作用を奏する部材又は部位には、同じ符号を付している。また、下記の実施形態は本発明の実施の一形態を例示するに過ぎず、本発明は下記の実施形態には限定されない。
【００１４】
この実施形態に係る膜厚分布測定装置１００は、図１に示すように、帯状基材１０の長さ方向に塗液を塗工して形成された塗膜の膜厚分布を測定する。この膜厚分布測定装置１００は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知するセンサ１１０を備えている。
【００１５】
この実施形態では、センサ１１０は、光学的なセンサで構成されている。当該センサ１１０は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１が挿通する位置に対して、上下に対向するように配設された投光部１１１と、受光部１１２とを備えている。投光部１１１は、図２に示すように、帯状基材１０の幅方向端部１１に、幅方向に沿ってレーザー光１１３を照射する。受光部１１２は当該投光部１１１が照射したレーザー光１１３をそれぞれ検知する受光体を備えている。
【００１６】
このセンサ１１０は、帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検出することができる。すなわち、投光部１１１から照射されるレーザー光１１３は、一部が帯状基材１０によって遮られる。そして、帯状基材１０の幅方向端部１１よりも外側に照射された一部のレーザー光１１３が、受光部１１２に到達する。そして、受光部１１２ではレーザー光１１３が到達した領域、および、帯状基材１０でレーザー光１１３が遮られた領域を検知することができる。これにより帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検出することができる。
このようなセンサ１１０には、例えば、株式会社キーエンス製の外径測定型変位計ＶＧを用いることができる。この実施形態では、当該株式会社キーエンス製の外径測定型変位計ＶＧを用いており、１μｍの分解能で高精度に帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検出している。
【００１７】
この膜厚分布測定装置１００は、図１に示すように、当該センサ１１０で検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する。
この実施形態では、膜厚分布測定装置１００は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０に対して、表裏にそれぞれ対向して配置された変位計１２１、１２２を備えている。当該変位計１２１、１２２には、例えば、市販されるような一般的なレーザー変位計（例えば株式会社キーエンス製品）を用いることができる。
【００１８】
当該変位計１２１、１２２は、それぞれ帯状基材１０の幅方向に平行に配設された走査機構１２３、１２４（scanner）に取り付けられている。そして、走査機構１２３、１２４を駆動させて、帯状基材１０の幅方向に移動しながら、帯状基材１０の全幅に渡って帯状基材１０の幅方向の表面形状を測定する。これにより、塗膜２０の膜厚分布、すなわち帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さについて、帯状基材１０の幅方向に測定することができる。
また、この際、帯状基材１０の表裏の変位計１２１、１２２が常に対向するように、走査機構１２３、１２４を調整している。このように、例えば、表面形状から裏側の表面形状の差分を取ることにより、表面に塗工された塗膜２０の膜厚分布を測定することができる。この場合、例えば、ローラ２００に振動が生じ、帯状基材１０が微妙に振れる場合などでも、これに影響されず、精度良く幅方向の膜厚分布を測定できる。
【００１９】
上述したセンサ１１０は、図１に示すように、膜厚分布測定装置１００が帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する測定位置（この実施形態では、変位計１２１、１２２が配設された位置）の近傍において、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知するように配設されている。
この実施形態では、センサ１１０を構成する投光部１１１と受光部１１２は、帯状基材１０の幅方向端部１１の位置に対して表裏に対向するように、それぞれ走査機構１２３、１２４に固定されている。また、この実施形態では、上述したセンサ１１０は、帯状基材１０の搬送方向において、変位計１２１、１２２よりも上流側に配設されている。
【００２０】
この実施形態では、膜厚分布測定装置１００は、図１に示すように、センサ１１０によって検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、変位計１２１、１２２で測定された測定結果を補正する補正部１３０を備えている。
補正部１３０には、センサ１１０で検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置の検知結果が、センサ１１０の受光部１１２から送られる。補正部１３０は、センサ１１０から送られてきた帯状基材１０の幅方向端部１１の位置の検知結果を記憶部１３１に記憶する。
また、補正部１３０には、帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さについて、変位計１２１、１２２の測定結果が、変位計１２１、１２２から送られる。補正部１３０は、変位計１２１、１２２から送られてきた測定結果を記憶部１３１に記憶する。
【００２１】
補正部１３０では、記憶部１３１に記憶されたセンサ１１０の帯状基材１０の幅方向端部１１の位置の検知結果を基準にして、変位計１２１、１２２の測定結果を補正する。
すなわち、変位計１２１、１２２の測定結果は、帯状基材１０の位置が走査機構１２３、１２４に対してずれた場合には、相当量幅方向にずれる。帯状基材１０は、ローラ２００に対してずれる場合があり、そのような事象が生じてしまう。この実施形態では、センサ１１０は、常に、帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知している。補正部１３０は、常に、センサ１１０で検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準にして、変位計１２１、１２２で得られた帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さの測定結果を補正する。
これにより、帯状基材１０が走査機構１２３、１２４に対してずれても、当該ずれをセンサ１１０で検知できる。そして、変位計１２１、１２２で得られた帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さの測定結果を、常に、帯状基材１０の幅方向端部１１を基準にして補正することができる。これにより、帯状基材１０の幅方向端部１１を基準にして、正確に、帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さを測定することができる。
【００２２】
以上のように、この膜厚分布測定装置１００によれば、上述したセンサ１１０によって、帯状基材１０の幅方向端部１１の位置が検知される。そして、当該センサ１１０によって検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定することができる。このため、例えば、蛇行などによって帯状基材１０がローラ２００に対して位置がずれた場合でも、正確に、帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さを測定することができる。
また、この実施形態では、センサ１１０は、膜厚分布測定装置１００が帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する測定位置の近傍に配設されており、当該近傍位置において、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知している。これによって、センサ１１０の測定位置と、膜厚分布測定装置１００の測定位置との差が小さくなるから、例えば、帯状基材１０が搬送時に位置が急にずれた場合でも、その影響を小さくすることができ、正確に、帯状基材１０に対する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅、塗膜２０の厚さを測定することができる。
【００２３】
以上、本発明の一実施形態に係る膜厚分布測定装置を説明したが、本発明に係る膜厚分布測定装置は上述した実施形態に限定されない。
【００２４】
例えば、センサ１１０は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置が検知できるセンサであればよい。このため、センサ１１０の具体的構成については、種々の変更が可能である。特に、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を高精度に検知できるセンサを用いるのがよい。
【００２５】
また、上述した実施形態では、膜厚分布測定装置１００は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０に対して、表裏側面にそれぞれ対向して配置された変位計１２１、１２２で構成されているものを例示した。本発明では、膜厚分布測定装置１００の構成はこれに限定されない。図３に示す膜厚分布測定装置１００Ａは、ローラ２００で搬送される帯状基材１０に対して、帯状基材１０がローラ２００上を通過する位置において、帯状基材１０に対向して配置された変位計１２５で構成してもよい。この場合も、変位計１２５は、帯状基材１０の幅方向に走査されるように走査機構１２６に取り付けるとよい。この場合、変位計の数を低減でき、装置構成を簡単にできる。また、変位計については、レーザー光を用いた光学的なセンサを例示したが、これに限定されず、帯状基材の塗膜の表面形状を測定できるセンサであれば、種々のセンサが適用できる。
このように本発明は膜厚分布測定装置の構成について種々の変更が可能である。
【００２６】
次に、本発明の一実施形態に係る塗膜形成装置を説明する。
【００２７】
この塗膜形成装置３００は、図４に示すように、ローラ２００と、塗工部４００と、センサ１１０と、膜厚分布測定部１００と、制御部４１０とを備えている。
【００２８】
ローラ２００は、図１に示すように、帯状基材１０を搬送する装置である。この実施形態では、図示は省略するが、帯状基材１０は複数のローラ２００に順に架け渡され、帯状基材１０にテンションが掛けられている。一部のローラ２００には、ローラ２００を転動させる駆動装置２１０が取り付けられている。塗膜形成装置３００は、ローラ２００を転動させることにより、帯状基材１０を搬送している。
【００２９】
塗工部４００は、図４に示すように、帯状基材１０の長さ方向に塗膜２０を形成する。この実施形態では、塗工部４００は、塗膜２０を形成する材料をペースト状にした塗液を吐出する吐出孔を有するダイ４０１と、ダイ４０１に塗液を所定の圧力で供給する塗液供給部４０５とを備えている。
また、この実施形態では、塗膜２０の形成は、帯状基材１０を搬送しながら行なっている。塗工部４００は、帯状基材１０に塗液を吐出するダイ４０１を備える。ダイ４０１と帯状基材１０との間には塗液が溜まったビード４０２が形成される。この塗工部４００では、帯状基材１０に対するダイ４０１の幅方向の位置を調整することにより、帯状基材１０に形成される塗膜２０の幅方向の位置を調整することができる。また、ダイ４０１の塗液の吐出孔と帯状基材１０の距離を調整することによって、ビード４０２の形状を調整でき、塗膜２０の厚さ、および、塗膜２０の幅が調整することができる。さらに、帯状基材１０に対するダイ４０１の傾きを調整することにより、塗膜２０の厚さ（塗膜の高さ）が幅方向に一定な塗膜２０を形成することができる。この実施形態では、帯状基材１０に対して当該塗工部４００を動かすアクチュエータ４０３を備えている。
【００３０】
センサ１１０は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知する。膜厚分布測定部１００は、センサ１１０で検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する。当該センサ１１０および膜厚分布測定部１００は、上述した膜厚分布測定装置１００の実施形態と同じ構成を備えている。この実施形態では、膜厚分布測定部１００で測定された塗膜２０の膜厚分布の測定値は、センサ１１０で検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、変位計１２１による塗膜２０の膜厚分布の測定値を補正する補正部１３０に記憶されている。
【００３１】
制御部４１０は、膜厚分布測定部１００で測定された塗膜２０の膜厚分布に基づいて、塗工部４００が帯状基材１０に形成する塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さをそれぞれ制御する。この実施形態では、膜厚分布測定部１００で測定された塗膜２０の膜厚分布に関するデータは、膜厚分布測定部１００の補正部１３０から制御部４１０に送られる。制御部４１０は、当該塗膜２０の膜厚分布に関するデータに基づいて、上述した塗工部４００のアクチュエータ４０３を適切に操作して、帯状基材１０に形成される塗膜２０が、塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さについて、精度良く形成されるように、各ダイ４０１の位置や姿勢をそれぞれ制御する。
【００３２】
この塗膜形成装置３００は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知するセンサ１１０で検知された帯状基材の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する膜厚分布測定部１００を備えている。そして、当該膜厚分布測定部１００で測定された塗膜２０の膜厚分布に基づいて、帯状基材１０に形成される塗膜２０が、塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さについて、精度良く形成されるように、塗工部４００を適切に制御する。これにより、帯状基材１０に対して塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さを精度良く形成することができる。
【００３３】
以上、本発明の一実施形態に係る塗膜形成装置を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。
【００３４】
当該塗膜形成装置の膜厚分布測定部１００については、上述した膜厚分布測定装置１００と同様の構成であり、同様の変更が可能である。
上述した膜厚分布測定装置および塗膜形成装置は、例えば、リチウムイオン二次電池などの電池の捲回電極体の構成要素となる帯状電極（正極および負極のいずれにも適用できる。）に電極活物質の塗膜を形成する工程に適用することができる。
この際、上述した膜厚分布測定装置および塗膜形成装置を用いることにより帯状基材に形成される塗膜２０を、塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さについて精度良く形成することができる。
【００３５】
例えば、図５に示すように、一枚の帯状基材１０に長さ方向に３列の塗膜２０を所定の間隔で形成し、当該塗膜２０の中央部、および、塗膜２０の間に、それぞれスリットを形成する（スリットを形成する位置は、図５中の一転鎖線Ａ〜Ｅで示す）。そして、当該スリットＡ〜Ｅで帯状基材１０切断して、それぞれ６枚の帯状電極を製造する。
このような場合において、上述した塗膜形成装置３００によれば、帯状基材１０に形成する塗膜２０を、塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さを精度良く形成することができるので、スリットＡ〜Ｅを形成する切断しろを適切に設けるのみで、歩留まりを略ゼロにできる。これにより、廃棄物を低減でき、材料コスト、材料の使用効率などの面でも極めて効率よく改善され、製品コストを低減できる。
本発明に係る膜厚分布測定装置および塗膜形成装置は、リチウムイオン二次電池などの電池の捲回電極体の構成要素となる、帯状電極に電極活物質の塗膜を形成する工程に限らず、帯状基材に塗膜を形成する用途に広く適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の一実施形態に係る膜厚分布測定装置を示す斜視図。
【図２】本発明の一実施形態に係る膜厚分布測定装置のセンサを示す斜視図。
【図３】本発明の他の実施形態に係る膜厚分布測定装置を示す正面図。
【図４】本発明の一実施形態に係る塗膜形成装置を示す正面図。
【図５】帯状電極を製造する中間体を示す平面図。
【符号の説明】
【００３７】
１０  帯状基材
１１  幅方向端部
２０  塗膜
１００、１００Ａ  膜厚分布測定装置(膜厚分布測定部)
１１０  センサ
１１１  投光部
１１２  受光部
１１３  レーザー光
１２１、１２２、１２５  変位計
１２３、１２４、１２６  走査機構
１３０  補正部
１３１  記憶部
２００  ローラ
２１０  駆動装置
３００  塗膜形成装置
４００  塗工部
４０１  ダイ
４０２  ビード
４０３  アクチュエータ
４０５  塗液供給部
４１０  制御部
Ａ〜Ｅ  スリット
【図１】
2009047665.tif 000003
【図２】
2009047665.tif 000004
【図３】
2009047665.tif 000005
【図４】
2009047665.tif 000006
【図５】
2009047665.tif 000007