(57)【要約】【課題】発光バランスが良く効率が高いフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの提供【解決手段】基板と、基板上に設けられた、複数の発光部を有する有機ＥＬ素子とを含み、有機ＥＬ素子は、基板側から、第１電極と、少なくとも有機発光層を含む有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順に含み、複数の発光部は複数の第１発光部および複数の第２発光部を有し、第１発光部に位置する有機発光層は５４０ｎｍよりも短波長の光を発する第１発光層を有し、第２発光部に位置する有機発光層は、第１発光層と５７０ｎｍよりも長波長の光を発光し５ｎｍ以上の膜厚を有する第２発光層とを有し、第２発光部においては第２発光層が発光する有機ＥＬディスプレイパネル。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、基板上に設けられた、複数の発光部を有する有機ＥＬ素子とを含む有機ＥＬディスプレイパネルであって、
有機ＥＬ素子は、基板側から、第１電極と、少なくとも有機発光層を含む有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順に含み、
複数の発光部は、複数の第１発光部および複数の第２発光部を有し、
第１発光部に位置する有機発光層は、５４０ｎｍよりも短波長の光を発する第１発光層を有し、
第２発光部に位置する有機発光層は、第１発光層と、５７０ｎｍよりも長波長の光を発光し、５ｎｍ以上の膜厚を有する第２発光層とを有し、
第２発光部においては、第２発光層が発光する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
基板は透明基板であり、第１電極は透明電極であり、基板と有機ＥＬ素子との間に複数種のカラーフィルタ層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
有機ＥＬ素子の第２発光部に対応する位置に赤色カラーフィルタ層を有し、有機ＥＬ素子の第１発光部に対応する位置に青色または緑色カラーフィルタ層を有することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
緑色カラーフィルタ層と有機ＥＬ素子との間に緑色変換層をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
第１発光層が４８０ｎｍよりも短波長の光を発することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項６】
第１電極が第１の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から構成され、第２電極が第２の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から構成され、第１の方向は第２の方向と交差する方向であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項７】
基板上に複数のスイッチング素子が配置され、第２電極が一体に構成される共通電極であり、第１電極が該複数のスイッチング素子と１対１で接続される複数の部分電極から構成されることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項８】
第２発光部において、第１発光層が第１電極側にあり、第２発光層が第２電極側にあることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項９】
第２発光部において、第１発光層が第２電極側にあり、第２発光層が第１電極側にあることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項１０】
有機ＥＬ層は、正孔注入輸送性層および電子注入輸送性層をさらに有することを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、マルチメディア指向の商品を初めとする機械の小型化に伴い、表示素子の小型化および薄型化に対する要求が日々高まっている。そのため、フラットディスプレイパネルを初めとする様々な表示素子について研究が行われている。
【０００３】
たとえば、バックライトを必要とする表示素子として、液晶ディスプレイがある。従来の液晶ディスプレイは、視野角が狭いため、大型ディスプレイ等の大型表示素子には適していない。また、液晶ディスプレイは、液晶分子の配向状態による表示方法であるので、視野角の中においても角度によりコントラストが変化してしまうのも大きな問題であると考えられる。
【０００４】
これに対し、自発光性の表示素子として、プラズマ表示素子、無機電界発光素子および有機ＥＬ発光素子等が研究されている。
【０００５】
プラズマ表示素子は、低圧ガス中でのプラズマ発光を表示に用いたもので、大型化および大容量化に適しているが、薄型化およびコストの面での問題を抱えている。また、駆動に高電圧の交流バイアスを必要とするため、携帯用デバイスには適していない。
【０００６】
無機電界発光素子として、緑色発光ディスプレイ等が商品化されている。また、技術の発展により、カラーディスプレイの表示に必要なＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色発光に成功している。しかし、無機材料のために、分子設計などによる発光波長等の制御は困難である。さらに、無機電界発光素子は、プラズマ表示素子と同様に交流バイアス駆動であり、駆動には数百ボルトの電圧が必要である。
【０００７】
一方、１９８７年にＥａｓｔｍａｎ  Ｋｏｄａｋ社のＴａｎｇらが、低電圧駆動および高輝度発光が可能なアモルファス発光層を有する積層構造の有機ＥＬ発光素子を発表した。それ以来、各方面で、Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色の発光、安定性、輝度向上、積層構造、作製方法等についての研究開発が盛んに行われている。
【０００８】
従来、フルカラー有機ＥＬディスプレイを実現するために、以下の方法が提案されている。
【０００９】
１つはマスク蒸着法である（特許文献１および２参照）。以下に、製膜用マスクによる有機層のパターン作製について説明する。有機ＥＬ素子の発光領域は、一般に、基板上に作製された絶縁膜で区画されている。この発光領域よりやや広めの開口幅を有する開口部を備える製膜用マスクによって、発光領域上に有機層の製膜パターンが作製される。特に、複数色のカラー表示を行う場合には、発光色毎のパターンに応じた開口部を有する製膜用マスクが用いられる。このマスクを随時交換またはスライドさせて、各色の有機層を位置選択的に製膜する。マスクを随時交換またはスライドさせるマスク蒸着法では、作製したパネルの良品率は低く、高精細ディスプレイの製作が困難である等の課題がある。
【００１０】
また、複数色のカラー表示を行う方式として、前述したような発光色毎の位置選択的製膜を行う方式以外に、白色や青色等の単色有機層を作製してカラーフィルタまたは蛍光材料による色変換層を組み合わせる方式（カラーフィルタ（ＣＦ）方式、色変換層（ＣＣＭ）方式）、あるいは単色の有機層における特定領域に電磁波や紫外線を照射する等して多色発光を実現する方式（フォトブリーチング方式）がある。しかし、これらの方式においても、色毎の位置選択的製膜は行わないまでも、表示領域内に特定パターンを有する有機層を作製するために所望のパターンを備える製膜用マスクが用いられる場合がある。
【００１１】
上記カラーフィルタ（ＣＦ）方式によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造においては、パネル全体の発光効率が悪く、色再現性および色バランスが悪いという課題がある。一方、色変換層（ＣＣＭ）方式によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造においては、色変換層用の基板（ＣＣＭ基板）の製造工程が複雑であり、赤色発光効率が悪いという課題がある。
【００１２】
また、有機ＥＬ層中のキャリア伝導制御層のマスク蒸着により、キャリアを異なるＥＬ発光層において再結合させ、ＲＧＢ三色を実現する提案がある（特許文献３参照）。この提案は、複数の発光層の間に発光層の巾と同じ／または発光層の巾より狭いキャリア輸送層を挿入して、電子およびホールの再結合位置を制御し、複数の発光層のいずれを発光させるかを規定し、白色発光を得るものである。
【００１３】
たとえば、陰極側から橙色発光層および青緑発光層を有する積層構造が開示されている（特許文献３、図２ｂ参照）。２つの発光層の間に、パターン化された正孔輸送層が挟持されている。正孔輸送層が挟持された領域では、青緑色発光層への電子の移動が制限されてキャリア再結合が橙色発光層にて行われ、橙色発光層のみ発光し、および正孔輸送層のない領域では、青緑色発光層へ電子が移動して、そこでキャリア再結合が行われて、青緑色発光層が発光する。このように、正孔輸送層を挟持することで、積層した発光層の個別な発光を制御している。
【００１４】
この発明では、キャリア伝導制御層を複数種の発光層間に挟持することにより、多色（白色発光）を実現する。しかしながら、この構成においても、キャリア伝導制御層のマスク蒸着が不可欠であった。
【００１５】
また、青色発光性正孔輸送層および緑色発光性電子輸送層を含む有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、赤色発光層およびホールブロック層を位置選択的に挿入することによって、各サブピクセルにおいて所望の発光色を得ることが提案されている（特許文献４）。提案の構成において、基本的には、緑色発光性電子輸送層中でキャリア再結合を行い、緑色光を得るものである（緑色発光素子部）。一方、赤色発光素子部においては、青色発光性正孔輸送層と緑色発光性電子輸送層との間に赤色発光層を挿入し、赤色発光層中でキャリア再結合を行い、赤色光を得ている。また、青色発光素子部においては、青色発光性正孔輸送層と緑色発光性電子輸送層との間にホールブロック層を挿入し、青色発光性正孔輸送層中でキャリア再結合を行い、青色光を得ている。
【００１６】
上記のいずれの方法も、マスク蒸着における金属マスクの使用回数を減らすことによって、簡便なプロセスで容易かつ低コストにディスプレイを製作することを目的とするものであった。しかし、有機ＥＬ素子の構成中にキャリア伝導制御層、追加の発光層またはキャリアブロック層を導入することによって、キャリアの伝達性が悪化し、または素子の駆動電圧が高くなることがあり、ディスプレイのパフォーマンスを低下させる可能性があった。
【００１７】
【特許文献１】特開２００１−２３７０６８号公報
【特許文献２】特開２０００−４８９５４号公報
【特許文献３】特開２００５−２９２７００号公報
【特許文献４】特開平１１−２０４２５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明者は、上記のような実情を鋭意検討し、各色の発光を提供する複数の発光部を有する有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、有機ＥＬ素子の少なくとも２種の積層体に、それぞれ共通の材料を用いることにより、簡便かつ廉価に有機ＥＬディスプレイパネルを作製できることをつきとめ、本発明に到達した。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記課題を解決するため、本発明は、基板と、基板上に設けられた、複数の発光部を有する有機ＥＬ素子とを含む有機ＥＬディスプレイパネルであって、
有機ＥＬ素子は、基板側から、第１電極と、少なくとも有機発光層を含む有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順に含み、
複数の発光部は、複数の第１発光部および複数の第２発光部を有し、
第１発光部に位置する有機発光層は、５４０ｎｍよりも短波長の光を発する第１発光層を有し、
第２発光部に位置する有機発光層は、第１発光層と、５７０ｎｍよりも長波長の光を発光し、５ｎｍ以上の膜厚を有する第２発光層とを有し、
第２発光部においては、第２発光層が発光する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルを提供する。
【００２０】
本発明において、基板は透明基板であり、第１電極は透明電極であり、基板と有機ＥＬ素子との間に複数種のカラーフィルタ層をさらに含むことができる。
【００２１】
本発明において、有機ＥＬ素子の第２発光部に対応する位置に赤色カラーフィルタ層を有し、有機ＥＬ素子の第１発光部に対応する位置に青色または緑色カラーフィルタ層を有することができる。
【００２２】
本発明において、緑色カラーフィルタ層と有機ＥＬ素子との間に緑色変換層をさらに含んでいてもよい。
【００２３】
本発明において、第１発光層が４８０ｎｍよりも短波長の光を発するものであってもよい。
【００２４】
本発明において、第１電極が第１の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から構成され、第２電極が第２の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から構成され、第１の方向は第２の方向と交差する方向であってもよい。
【００２５】
本発明において、基板上に複数のスイッチング素子が配置され、第２電極が一体に構成される共通電極であり、第１電極が該複数のスイッチング素子と１対１で接続される複数の部分電極から構成されていてもよい。
【００２６】
本発明において、第２発光部において、第１発光層が第１電極側にあり、第２発光層が第２電極側にあることができる。また、第２発光部において、第１発光層が第２電極側にあり、第２発光層が第１電極側にあることができる。
【００２７】
本発明において、有機ＥＬ層は、正孔注入輸送性層および電子注入輸送性層をさらに有することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明は、これまでの色変換層（ＣＣＭ）方式およびカラーフィルタ（ＣＦ）方式の有機ＥＬディスプレイパネル作製法の利点を有効的に融合したものである。本発明によれば、簡便かつ廉価に、発光効率、色バランスおよび色再現性が良く、しかも歩留まりの高いフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図を参照して、本発明について詳細に説明する。
【００３０】
図１に本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの１つの実施形態を示す。本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板１０、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、平坦化層３０、ガスバリア層４０、第１電極５０、正孔注入輸送性層８０、有機発光層９０、電子注入輸送性層１００および第２電極１１０をこの順に含む。
【００３１】
本実施形態において、基板１０は透明基板である。第１電極５０から第２電極１１０までの層は、有機ＥＬ素子を構成する。本実施形態において、有機ＥＬ素子の第１電極５０は透明電極であり、第２電極は反射電極である。有機ＥＬ素子は、第１電極５０と第２電極１１０との間に有機発光層９０を有する。本実施形態において、有機発光層９０は、第１電極５０との間に正孔注入輸送性層８０を挟持し、第２電極１１０との間に電子注入輸送性層１００を挟持する。正孔注入輸送性層８０および電子注入輸送性層１００は、任意選択的な層である。
【００３２】
有機発光層９０は、第１発光層９０ＢＧおよび第２発光層９０Ｒを有することができる。第１発光層９０ＢＧは、青から緑色に発光することができる有機発光材料を含む。第２発光層９０Ｒは、赤色に発光することができる有機発光材料を含む。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、複数の発光部１２０を有する。複数の発光部１２０は、青から緑色の発光を提供する発光部１２０Ｂおよび１２０Ｇと、赤色の発光を提供する発光部１２０Ｒとを含む。発光部１２０Ｂおよび１２０Ｇに位置する有機発光層９０は、第１発光層９０ＢＧを有する。発光部１２０Ｒに位置する有機発光層９０は、第１発光層９０ＢＧに加えて、第２発光層９０Ｒをさらに有する。
【００３３】
本実施形態において、第２発光層９０Ｒは、正孔注入輸送性層８０に接触して配設されている。すなわち、第２発色層９０Ｒが第１電極５０の側に存在する。
【００３４】
この構成において、第２発光層９０Ｒの膜厚を適切に設定することによって、発光部１２０Ｒにおいては、赤色の発光のみが得られる。ここで、第２発光層９０Ｒの材料のエネルギーバンド準位は、接触する正孔注入輸送性層８０および第１発光層９０ＢＧの材料のエネルギーバンド準位よりも小さいことがあり、その場合には、正孔注入輸送性層８０および第１発光層９０ＢＧの間、すなわち第２発光層９０Ｒにエネルギートラップが形成される可能性がある。そして、電極から注入されるキャリアは、第２発光層９０Ｒで再結合して赤色の発光をもたらすか、あるいは第１発光層９０ＢＧで再結合して発生した励起子が第２発光層９０Ｒに移動して赤色発光をもたらす。この場合に、第２発光層９０Ｒの膜厚が極端に小さい場合、キャリア再結合によって生じたエネルギーを第２発光層９０Ｒのみで消費することができず、隣接する正孔注入輸送性層８０および／または第１発光層９０ＢＧにおける発光をもたらし、赤色光の色純度が低下する原因となる。本発明者らの検討によれば、第２発光層９０Ｒの膜厚を５ｎｍ以上とすることによって、第２発光層９０Ｒにおいてのみ発光が起こり、色純度の高い赤色光が得られることが分かった。
【００３５】
有機発光材料の発光効率は発光色毎に異なる。従来、赤色ＥＬ発光素子よりも青色ＥＬ発光素子の駆動電圧の方が高いが、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の各色に対応する発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の有機発光層９０の膜厚を、所望の発光色にしたがって設定することにより、同一駆動電圧および電圧印加時間に対して色毎の発光量に違いが生じないように設定することができる。たとえば、赤色発光部１２０Ｒに位置する有機発光層９０の全体膜厚を厚く調節して、各色の発光部１２０（Ｒ，Ｂ，Ｇ）で発光量に違いが生じないように設定することができる。膜厚の設定は、マスク蒸着による有機発光層９０作製時の、蒸着時間を調整することで行うことができる。
【００３６】
本実施形態において、有機ＥＬディスプレイパネルの複数の発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のそれぞれは、共通する第１電極５０上にこの順に設けられた絶縁層６０および隔壁７０により、領域が画定されている。この構造をとることにより、各発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に位置する正孔注入輸送性層８０、第１発光層９０ＢＧ、電子注入輸送性層１００および第２電極１１０を、それぞれ共通する材料およびプロセスで作製することができる。これにより、有機ＥＬディスプレイパネルの作製のプロセスの簡便化および低コスト化が可能となる。また、有機ＥＬディスプレイパネルの有効画素領域全面に、上記の各層を、大開口マスクを用いたマスク蒸着法で作製する場合には、各層の製膜性または段差皮膜性が良好となり、第１電極５０および第２電極１１０間の漏れ電流を低減することができる。
【００３７】
本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板１０と有機ＥＬ素子の第１電極５０との間に、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を含む。カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、各発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の発光の色純度を向上させるために、任意選択的に作製される層である。
【００３８】
本実施形態により、青色発光部１２０Ｂでは、有機ＥＬ素子の青緑色の発光は、青色カラーフィルタ層２０Ｂにより緑色領域の光が遮断されて、有機ＥＬディスプレイパネルの表面からは青色の発光が観察される。また、緑色発光部１２０Ｇでは、有機ＥＬ素子の青緑色の発光は、緑色カラーフィルタ層２０Ｇにより青色領域の光が遮断されて、有機ＥＬディスプレイパネルの表面からは緑色の発光が観察される。
【００３９】
カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）により、本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの三原色を含み、発光効率が良好で、かつ色純度が高いフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを実現することができる。
【００４０】
図２に本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの別の実施形態を示す。本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板１０、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、平坦化層３０、ガスバリア層４０、第１電極５０、正孔注入輸送性層８０、有機発光層９０、電子注入輸送性層１００および第２電極１１０をこの順に含む。図１に示す実施形態と同様に、本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの複数の発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のそれぞれは、共通する第１電極５０上にこの順に設けられた絶縁層６０および隔壁７０により、領域が画定されている。
【００４１】
本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、赤色発光部１２０Ｒに位置する有機発光層９０において、第２発光層９０Ｒが電子注入輸送性層１００に接して配設されている点、すなわち、第２発色層９０Ｒが第２電極１１０の側に配設されている点のみが、図１に示す実施形態と異なる。
【００４２】
この構成において、第２発光層９０Ｒの膜厚を適切に設定することによって、発光部１２０Ｒにおいては、赤色の発光のみが得られる。ここで、第２発光層９０Ｒの材料のエネルギーバンド準位は、接触する電子注入輸送性層１００および第１発光層９０ＢＧの材料のエネルギーバンド準位よりも小さいことがあり、その場合には、電子注入輸送性層１００および第１発光層９０ＢＧの間、すなわち第２発光層９０Ｒにエネルギートラップが形成される可能性がある。そして、電極から注入されるキャリアは、第２発光層９０Ｒで再結合して赤色の発光をもたらすか、あるいは第１発光層９０ＢＧで再結合して発生した励起子が第２発光層９０Ｒに移動して赤色発光をもたらす。この場合に、第２発光層９０Ｒの膜厚が極端に小さい場合、キャリア再結合によって生じたエネルギーを第２発光層９０Ｒのみで消費することができず、隣接する電子注入輸送性層１００および／または第１発光層９０ＢＧにおける発光をもたらし、赤色光の色純度が低下する原因となる。本発明者らの検討によれば、第２発光層９０Ｒの膜厚を５ｎｍ以上とすることによって、第２発光層９０Ｒにおいてのみ発光が起こり、色純度の高い赤色光が得られることが分かった。
【００４３】
図３に本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの別の実施形態を示す。本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板１０、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、緑色変換層２５Ｇ，平坦化層３０、保護層４０、第１電極５０、正孔注入輸送性層８０、有機発光層９０、電子注入輸送性層１００および第２電極１１０をこの順に含む。図１に示す実施形態と同様に、本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの複数の発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のそれぞれは、共通する第１電極５０上にこの順に設けられた絶縁層６０および隔壁７０により、領域が画定されている。
【００４４】
本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、緑色発光部１２０Ｇに位置する緑色カラーフィルタ層２０Ｇと有機ＥＬ素子との間に、緑色変換層２５Ｇがさらに配設されている点のみが、図１に示す実施形態と異なる。緑色変換層２５Ｇをさらに含むことにより、有機ＥＬディスプレイパネルの緑色発光部１２０Ｇにおいて、純度のより高い緑色発光を観察することができる。そして、本実施形態においては、第１発光層９０ＢＧを、純粋な青色発光をもたらす材料を用いて作製した場合にも、その青色光を変換して緑色の発光を得ることができる。
【００４５】
図４に本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの別の実施形態を示す。本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板１０、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、緑色変換層２５Ｇ，平坦化層３０、ガスバリア層４０、第１電極５０、正孔注入輸送性層８０、有機発光層９０、電子注入輸送性層１００および第２電極１１０をこの順に含む。図１に示す実施形態と同様に、本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの複数の発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のそれぞれは、共通する第１電極５０上にこの順に設けられた絶縁層６０および隔壁７０により、領域が画定されている。また、図３に示す実施形態と同様に、緑色発光部１２０Ｇに位置する緑色カラーフィルタ層２０Ｇと有機ＥＬ素子との間に、緑色変換層２５Ｇがさらに配設されている。
【００４６】
本実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルは、赤色発光部１２０Ｒに位置する有機発光層９０において、第２発光層９０Ｒが電子注入輸送性層１００に接して配設されている点、すなわち、第２発色層９０Ｒが第２電極１１０の側に配設されている点のみが、図３に示す実施形態と異なる。
【００４７】
以下に、本発明の有機ＥＬデバイスの各層について説明する。
【００４８】
基板１０
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの基板１０としては、当該技術において知られている、表面が平滑である様々な基板を用いることができる。基板１０は、後述するカラーフィルタ層２０、平坦化層３０、ガスバリア層４０、および有機ＥＬ素子（第１電極５０、有機ＥＬ層、第２電極１１０）等の積層される層の作製に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐え、寸法安定性に優れていることが必要とされる。たとえば、ガラス基板などの透明基板を用いることができる。透明基板は、光透過性に優れている（４００〜７００ｎｍの波長域において８０％以上の透過率を有する）ことが好ましい。透明基板の例としては、ガラス基板の他、ポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、あるいはポリイミド樹脂などの各種プラスチックで作製された剛直性樹脂基板もしくは可撓性フィルム等が挙げられる。
【００４９】
カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルで用いるカラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、任意選択的な層である。後述する有機ＥＬ素子からの発光を、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に通すことによって、特定の波長の光が透過され、それぞれ色純度の向上した赤色発光、緑色発光、青色発光を得ることができる。各カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の膜厚は好ましく０．５μｍ〜１０μｍであってもよい。なお、各カラーフィルタ層の厚さが同一ではなくてもよい。
【００５０】
カラーフィルタ層２０は、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられる材料を用いて作製することができ、近年はフォトレジストに顔料を分散させた顔料分散型材料がよく用いられる。フラットパネルディスプレイ用のカラーフィルタ層は、４００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長を透過する青色カラーフィルタ層、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を透過する緑色カラーフィルタ層、６００ｎｍ以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層のそれぞれを配列したものが一般的である。
【００５１】
また、任意選択的に、各カラーフィルタ層の間に可視域を透過しないブラックマトリクス（不図示）を配設して、コントラストの向上を図ることができる。ブラックマトリクスは、通常のフラットパネルディスプレイ用の材料を用いて作製することができる。
【００５２】
色変換層２５
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルにおいては、緑色カラーフィルタ層２０Ｇ上に、緑色変換層２５Ｇをさらに設けてもよい。緑色変換層２５Ｇは、有機ＥＬ素子からの発光の波長を変換して、緑色の発光を得るための層である。この性能を実現できる材料としては、たとえば通常のレジスト材料（光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂）中に、無機または有機蛍光体を分散することによって作製したものが挙げられる。このように作製された色変換材料を、光および／または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させて、緑色変換層２５Ｇを形成する。該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、パターニングを行うために、硬化をする前は有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００５３】
平坦化層３０
本発明のカラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）上の平坦化層３０は、カラーフィルタ層２０（色変換層２５が配設されている場合は、色変換層２５）以下の層の膜面の平坦化する目的で、任意選択的に配設される層である。平坦化層３０の作製には、光透過性に富み且つカラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を劣化させることなく配設できる材料およびプロセスを選択する必要がある。平坦化層３０は、一般的にはスピンコート法等の塗布法で作製される。平坦化層３０の膜厚は、好ましくは、１μｍ〜１０μｍである。
【００５４】
平坦化層３０の材料としては、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を用いることができる。これらの材料を、一般に、光および／または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させて、平坦化層３０を作製する。該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、パターニングを行うために、硬化をする前は有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。具体的に、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂とは、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物、（２）ポリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物、（４）エポキシ基を有するモノマーと光酸発生剤からなる組成物などが挙げられる。特に（１）の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂が高精細でパターニングが可能であり、耐溶剤性、耐熱性等の信頼性の面でも好ましい。その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルホン、ポリビニルブチラール、ポリフェニレンエーテル、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ノルボルネン系樹脂、メタクリル樹脂、イソブチレン無水マレイン酸共重合樹脂、環状オレフィン系等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニルエステル樹脂、イミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいはポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート等と３官能性、あるいは４官能性のアルコキシシランを含むポリマーハイブリッド等も利用することができる。
【００５５】
ガスバリア層４０
本発明において、ガスバリア層４０は、平坦化層３０と、後述する有機ＥＬ素子との間に任意選択的に配設される層である。ガスバリア層４０は、水分・酸素に弱い有機物材料を使用した層を水分・酸素から保護し、有機ＥＬディスプレイパネルのダークスポットまたはダークエリアの発生を防止するために有効である。
【００５６】
ガスバリア層４０の材料としては、可視域における透明性が高い材料（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）を用いることができる。ガスバリア層４０のために、後述する第１電極５０の製膜に耐えうる硬度として、好ましくは２Ｈ以上の膜硬度を有する材料を用いてもよい。なお、膜硬度は、ＪＩＳ  Ｋ5600-5-4により測定したものである。たとえば、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＩＺＯ、亜鉛−アルミニウム酸化物、亜鉛−ガリウム酸化物等の無機酸化物、無機窒化物等が使用できる。該ガスバリア層４０の作製方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の手法により作製できる。上述のガスバリア層４０は単層でも、あるいは複数の層が積層されたものでもよい。ガスバリア層４０の膜厚は、好ましくは０．０５μｍ〜３μｍである。
【００５７】
有機ＥＬ素子
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの有機ＥＬ素子は、基板１０上に配設され、基板１０の側から、第１電極５０、有機ＥＬ層、および第２電極１１０をこの順に有するように構成される。
【００５８】
第１電極５０
本発明の第１電極５０は、有機ＥＬ素子の基板１０側に位置する電極である。第１電極５０は、透明電極または反射電極のいずれかであることができる。
【００５９】
第２電極１１０
本発明の第２電極１１０は、有機ＥＬ素子の基板１０とは反対側に位置する電極である。第２電極１１０は、透明電極または反射電極のいずれかであることができる。ただし、第１電極５０と第２電極１１０の両方が反射電極であることはなく、少なくともいずれか１つは透明電極である。
【００６０】
［透明電極］
透明電極は、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＺＯ、酸化亜鉛、亜鉛−アルミニウム酸化物、亜鉛−ガリウム酸化物、またはこれらの酸化物に対してＦ、Ｓｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて作製することができる。透明電極は、蒸着法、スパッタ法または化学気相堆積（ＣＶＤ）法を用いて製膜した後に、フォトリソグラフ法等を用いてパターニングして作製される。好ましくはスパッタ法を用いて作製される。透明電極は、陽極であっても陰極であってもよい。
【００６１】
透明電極を陰極として使用する場合には、透明電極と有機ＥＬ層との間に陰極バッファ層を設けて、電子注入効率を向上させてもよい。陰極バッファ層は、Ｌｉ，Ｎａ，ＫまたはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ，Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などから作製することができる。透明性を確保する観点から、陰極バッファ層の膜厚を１０ｎｍ以下とすることが望ましい。
【００６２】
［反射電極］
反射電極は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて作製されることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。反射電極を、陰極として用いてもよいし、陽極として用いてもよい。
【００６３】
反射電極を陰極として用いる場合には、反射電極と有機ＥＬ層との界面に、前述の陰極バッファ層を設けて有機ＥＬ層に対する電子注入の効率を向上させてもよい。あるいはまた、前述の高反射率金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。一方、反射電極を陽極として用いる場合には、反射電極と有機ＥＬ層との界面に、前述の導電性透明金属酸化物の層を設けて有機ＥＬ層に対する正孔注入の効率を向上させてもよい。
【００６４】
反射電極は、用いる材料に依存して、真空蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて作製することができる。複数の部分電極からなる反射電極が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極を作製してもよい。
【００６５】
有機ＥＬ層
本発明において、有機ＥＬ層は、少なくとも有機発光層９０を含み、必要に応じて正孔注入輸送性層および／または電子注入輸送性層を介在させた構造を有する。具体的には、有機ＥＬ層は、陽極および陰極と共に、下記のような層構造からなる有機ＥＬ素子を構成しうる。
（１）陽極／有機発光層９０／陰極
（２）陽極／正孔注入輸送性層８０／有機発光層９０／陰極
（３）陽極／有機発光層９０／電子注入輸送性層１００／陰極
（４）陽極／正孔注入輸送性層８０／有機発光層９０／電子注入輸送性層１００／陰極
【００６６】
有機発光層９０
本発明の有機ＥＬ層の有機発光層９０は、第１発光層９０ＢＧおよび第２発光層９０Ｒを有することができる。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の各色の発光に対応するところ、それぞれの有機発光層９０は、第１発光層９０ＢＧを共通して有する。また、発光部１２０Ｒの有機発光層９０は、第１発光層９０ＢＧに加えて、第２発光層９０Ｒをさらに有する。
【００６７】
第１発光層９０ＢＧ
本発明の有機ＥＬ層の有機発光層９０の第１発光層９０ＢＧは、５４０ｎｍよりも短波長の光を発することができる有機材料を含む層である。第１発光層９０ＢＧにおける電子−正孔の再結合（キャリア再結合）により、青色成分および緑色成分を含む青緑色発光を得ることができる。本発明は、有機ＥＬディスプレイパネルの各発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に共通して第１発光層９０ＢＧを有することを特徴とする。
【００６８】
第１発光層９０ＢＧの材料としては、たとえばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。発光の波長が４８０ｎｍより短い材料を選択して、純粋な青色発色を得ることもできる。これらの材料を、蒸着法、塗布法等の公知の方法により適用して、第１発光層９０ＢＧを製膜することができる。
【００６９】
第２発光層９０Ｒ
本発明の有機ＥＬ層の有機発光層９０の第２発光層９０Ｒは、５７０ｎｍよりも長波長の光を発することができる有機材料を含む層である。第２発光層９０Ｒにおけるキャリア再結合により、赤色成分を含む赤色発光を得ることができる。第２発光層９０Ｒの材料としては、たとえば４−ジシアノメチレン−２メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリン）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）等のジシアニン系色素；１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピリジウム−パーコラレイト（ピリジン１）等のピリジン系材料、ローダミン系のキサンテン系材料；その他オキサジン系などの材料が好ましく使用される。これらの材料を、蒸着法、塗布法等の公知の方法により適用して、第２発光層９０Ｒを製膜することができる。
【００７０】
第２発光層９０Ｒを第１電極５０側に設けるか、あるいは第２電極１１０側に設けるかは、第１発光部の第１発光層９０ＢＧにおいて、キャリア再結合がいずれの側において起こるかに依存して決定される。有機ＥＬ層の構成、印加する電圧および電流密度などに依存して、第１発光層９０ＢＧにおけるキャリア再結合が第１電極５０側で起こる場合、第１および第３の実施形態に示すように、第２発光層９０Ｒを、第１発光層９０ＢＧの第１電極５０側に設けることが望ましい。逆に、第１発光層９０ＢＧにおけるキャリア再結合が第２電極１１０側で起こる場合、第２および第４の実施形態に示すように、第２発光層９０Ｒを、第１発光層９０ＢＧの第２電極１１０側に設けることが望ましい。
【００７１】
正孔注入輸送性層８０
本発明において、正孔注入輸送性層８０は、第１電極５０に接触する層である。正孔注入輸送性層８０は、単一の層であってもよく、複数の層を有していてもよい。たとえば、第１電極５０側から、正孔注入層と正孔輸送層とをこの順に有することができる。正孔注入輸送性層８０の材料としては、公知のものが使用される。たとえば、公知のフェニルアミン多量体材料系のＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン；Ｎ，Ｎ−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´−（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；４，４’−ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル等の化合物、ヒドラゾン化合物、シラザン化合物，キナクリドン化合物、フタロシアニン誘導体などを用いることができる。また、正孔注入輸送性８０は、蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて作製することができる。
【００７２】
電子注入輸送性層１００
本発明において、電子注入輸送性層１００は、第２電極１１０に接触する層である。電子注入輸送性層１００は、単一の層であってもよく、複数の層を有していてもよい。たとえば、第２電極１１０側から、電子注入層と電子輸送層とをこの順に有することができる。電子注入輸送性層１００の材料としては、公知のものが使用される。たとえば、フルオレン、バソフェナントロリン、バソクプロイン、アントラキノジメタン、ジフェノキノン、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、アントラキノジメタン等やそれらの化合物、金属錯体化合物もしくは含窒素五員環誘導体であり、金属錯体化合物としては、トリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム、トリ（２−メチル−８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム、トリス（８−ヒドロキシキノリナート）ガリウム、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナート）ベリリウム、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナート）亜鉛、ビス（２−メチル−８−キノリナート）（ｏ−クレゾラート）ガリウム、ビス（２−メチル−８−キノリナート）（１−ナフトラート）アルミニウム等があり、また、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾールもしくはトリアゾール誘導体を挙げられる。また、電子注入輸送性１００は、蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて作製することができる。
【００７３】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの有機ＥＬ素子は、パッシブマトリクス駆動型であっても、アクティブマトリクス駆動型であってもよい。
【００７４】
（パッシブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子）
上述のように、本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、第１電極５０、有機ＥＬ層および第２電極１１０によって構成される。ここで、本構成における有機ＥＬ素子は、独立して制御される複数の発光部を有してもよい。たとえば、第１電極５０および第２電極１１０の両方を複数のストライプ状部分電極から作製し、第１電極５０を構成するストライプ状部分電極が延びる方向と第２電極１１０を構成するストライプ状部分電極が延びる方向とを交差させて、パッシブマトリクス駆動される独立した複数の発光部を有する有機ＥＬ素子を作製することができる。前記の交差は直交とすることが好ましい。第２電極１１０を構成するストライプ状部分電極は、たとえば、以下のような絶縁層６０および隔壁７０を用いて作製することができる。
【００７５】
絶縁層６０
本発明において、任意選択的に、絶縁層６０および後述する隔壁７０を用いて、有機ＥＬ素子の複数の発光部１２０のそれぞれの領域を画定することができる。絶縁層６０は、有機ＥＬ素子の第１電極５０に接合され、第１電極５０上に配設される有機ＥＬ発光素子の各発光部１２０の構成要素を電気的に絶縁する。絶縁層６０は、たとえば、無機材料であるガラス、酸化珪素、窒化珪素または酸窒化珪素、金属酸化物など、あるいは、有機材料であるテフロン（登録商標）樹脂、エポキシ樹脂、またはポリイミッド樹脂などの絶縁材料により薄膜として作製される。これらの材料を、レーザーパターニング法、ドライエッチング法、フォトリソグラフィ法等の公知の方法により適用して、絶縁層６０を第１電極５０上にパターン状に作製することができる。
【００７６】
隔壁７０
隔壁７０の材料には、上記絶縁層６０の材料と同様の機能を発揮する一方、隔壁７０によって区切られた各空間において異なる色の発光部１２０が発光するのを可能にすることが必要とされる。たとえば、上記絶縁層６０に利用されるのと同様の材料を利用することができる。これらの材料を、レーザーパターニング法、ドライエッチング法、フォトリソグラフィ法等の公知の方法により適用して、隔壁７０を絶縁層６０上にパターン状に作製することができる。なお、アクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子においては、各発光部１２０をスイッチング素子によって選択的に駆動することができるため、隔壁７０が不要となる場合もある。
【００７７】
（アクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子）
また、有機ＥＬ素子は、アクティブマトリクス駆動型の素子とすることができる。アクティブマトリクス駆動型有機ＥＬ素子は、基板１０上に複数のスイッチング素子を設け、第１電極５０を発光部のサブピクセルに対応する複数の部分電極から作製し、該複数のスイッチング素子を複数の部分電極と１対１に接続し、および第２電極１１０を一体型の共通電極とすることによって作製することができる。
【実施例】
【００７８】
以下、実施例および比較例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
（実施例１）
以下の（１）から（７）の工程に従い、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを、Ｒ、Ｇ、およびＢの３種のサブピクセルからなる画素１６０×１２０個を、画素ピッチ０．３３ｍｍで配列して作製した。
【００７９】
（１）カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の作製
透明基板１０としての１７３７ガラス（５０×５０×１．１ｍｍ、コーニング社製）の上に、赤色カラーフィルタ用材料（カラーモザイクＣＲ−７００１：富士フイルム株式会社より入手可能）、緑色カラーフィルタ用材料（カラーモザイクＣＧ−７００１：富士フイルム株式会社より入手可能）、および青色カラーフィルタ用材料（カラーモザイクＣＢ−７００１：富士フイルム株式会社より入手可能）を用いて、カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を作製した。それぞれのカラーフィルタ層を、用いた材料の固形分濃度および製膜条件を最適化し、当該材料をスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングして、線幅０．１ｍｍおよび膜厚５μｍのストライプ形状部分をピッチ０．３３ｍｍで配列して作製した。
【００８０】
（２）平坦化層３０の作製
前記カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を覆うように、ＵＶ硬化型樹脂（エポキシ変性アクリレート：ＪＳＲ−８０１（商品名、ＪＳＲ株式会社）をスピンコート法により塗布し、高圧水銀灯の照射により硬化させて、平坦化層３０を作製した。平坦化層３０の膜厚は、カラーフィルタ層２０上で１μｍ、基板１０上で３μｍとなるように設定した。カラーフィルタ層２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のラインパターンに変形はなかった。得られた平坦化層３０の上面は、その上に第１電極５０等の層を作製するのに十分な程度に平坦であった。
【００８１】
（３）ガスバリア層４０の作製
前記平坦化層３０の上面に、ＲＦマグネトロンスパッタ法により、室温において、膜厚３００ｎｍのＳｉＯｘ膜からなるガスバリア層４０を作製した。スパッタターゲットにはＳｉを用い、スパッタガスとしてＡｒおよび酸素の混合ガスを用いた。
【００８２】
（４）第１電極５０の作製
ガスバリア層４０の上面に、ＤＣマグネトロンスパッタ法により、室温において、膜厚２００ｎｍのＩｎ−Ｚｎ酸化物膜を全面製膜した。スパッタターゲットにはＩｎ−Ｚｎ酸化物を用い、スパッタガスとしてＡｒおよび酸素の混合ガスを用いた。Ｉｎ−Ｚｎ酸化物膜上にレジスト剤ＪＥＭ−７００−Ｒ２（商品名、ＪＳＲ株式会社）を塗布した後、フォトリソグラフ法にてパターニングを行い、その後シュウ酸を用いてエッチングをして、配線幅１００μｍのパターンを有する第１電極５０を作製した。第１電極５０は、外部駆動回路との接続部位から表示パネル内中央まで配線されるように配設した。
【００８３】
（５）絶縁膜６０の作製
第１電極５０以下の層を覆うように、絶縁膜材料としてＪＥＭ−７００−Ｒ２（ＪＳＲ株式会社製）をスピンコート法により製膜し、フォトリソグラフ法によりパターニングを行って、線幅２０μｍの格子状パターンを有する絶縁膜６０を作製した。格子状パターンは、９０μｍ×３１０μｍの長方形の開口部を第１電極５０上に設けるように設定した。得られた積層体を、２００℃に設定したホットプレート上に２０分間にわたって保持して、現像後のポストベークを行った。このポストベークによって、絶縁膜６０中の水分および残留溶媒を蒸発させた。ポストベーク後の絶縁膜６０の膜厚は、１．０μｍであった。
【００８４】
（６）隔壁７０の作製
絶縁膜６０上に、フォトレジストＡＺ１５００（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ製）をスピンコート法により製膜し、フォトリソグラフ法によりパターニングを行って、第１電極５０のラインと直交する方向に伸びる絶縁膜６０上に、幅５μｍのライン状の開口部を有する、ダミー層パターンを作製した。得られた積層体を１３０℃に設定したホットプレート上に７分間保持して、ダミー層のポストベークを行った。ポストベーク後のダミー層の膜厚は、０．８μｍであった。次いで、プラズマＣＶＤを用いて、基板加熱を行わずに、膜厚１．０μｍの酸化珪素膜を作製した。酸化珪素膜上に、再び、フォトレジストＡＺ１５００をスピンコート法によって製膜し、フォトリソグラフ法によりパターニングを行って、ダミー層パターンの開口部上に、幅１２μｍのラインパターンを作製した。得られた積層体について、ダミー層作製時と同様のポストベークを行った。ポストベーク後のフォトレジストの膜厚は、２．４μｍであった。
【００８５】
このフォトレジストのラインパターンをマスクとして、ＣＦ4と酸素との混合ガスを用いて、酸化珪素膜のドライエッチングを行った。その後、８０℃に加熱した剥離液１０４（東京応化工業株式会社製）を用いて、酸化珪素膜上のフォトレジストおよびダミー層パターンを同時に剥離して、酸化珪素からなる隔壁を作製した。得られた隔壁の線幅は、上部で１０μｍ、下部で５μｍあり、隔壁ラインの両サイドに、幅２．５μｍ、高さ０．４μｍのアンダーカットが作製されていた。
【００８６】
（７）有機ＥＬ素子の作製
[有機ＥＬ層の作製]
次いで、前記隔壁まで作製した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を、真空を破らずに順次製膜した。製膜に際して、真空槽内圧を１×１０-4Ｐａにまで減圧した。正孔注入層には、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を膜厚１００ｎｍで積層した。正孔輸送層には、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を膜厚２０ｎｍで積層した。正孔輸送層に引き続いて、真空を破らずに、真空中でメタルマスクをあわせて、赤色発光部１２０Ｒに対応する位置にのみ、赤色発光色素ＤＣＪＴＢ（４−（２，２−ジシアノメチレン）−２−ｔ−ブチル−６（ｐ−（１，１，７，７−テトラメチル）ジュロリジスチリル−４Ｈ−ピラン）を５％の重量比でＤＢＣ１（テトラキス（ジフェニルアミノ）−ジベンゾクリセン）にドープした材料を積層し、膜厚２０ｎｍの第２発光層を得た。続いて、メタルマスクを外して、有機ＥＬディスプレイパネルの全発光部１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する位置に、ＤＢＣ１のみを膜厚３０ｎｍで積層して、第１発光層９０ＢＧを得た。電子輸送層には、Ａｌｑ3（トリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体）を膜厚２０ｎｍで積層した。
【００８７】
[第２電極の作製]
正孔注入層から電子輸送層までの製膜に引き続いて、真空を破らずに、電子注入層および第２電極を抵抗加熱蒸着によって製膜した。電子注入層にはフッ化リチウムを膜厚１ｎｍで、第２電極にはアルミニウムを膜厚１００ｎｍで製膜した。第２電極は、前記隔壁によってストライプ状に分離されていた。
【００８８】
（実施例２）
緑色カラーフィルタ層２０Ｇを作製する工程の次に、緑色変換層２５Ｇを作製する工程を行った以外は、実施例１と同様にして、実施例２の有機ＥＬディスプレイパネルを得た。ただし、実施例２において、それぞれのカラーフィルタ層を、用いた材料の固形分濃度および製膜条件を最適化し、当該材料をスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングして、線幅０．１ｍｍおよび膜厚Ｒ（１０μｍ）、Ｇ（１．５μｍ）、Ｂ（１０μｍ）のストライプ形状部分をピッチ０．３３ｍｍで配列して作製した。
緑色変換層２５Ｇは、以下のようにして作製した。
【００８９】
［緑色変換層２５Ｇの作製］
緑色変換層２５Ｇの作製にあたり、蛍光色素としてクマリン６（０．７重量部）を溶剤としてのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ＰＧＭＥＡ)１２０重量部へ溶解させた。光重合性樹脂の「ＶＰＡ１００／Ｐ５」（商品名、新日鐵化学株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布溶液を、青色フィルタのラインパターンが作製済である、透明基板１０上に、スピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフィ法により、パターニングを実施し，緑色変換フィルタの線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚８．５μmのラインパターンを得た。
【００９０】
このように作製した、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、印加電圧１２Ｖ、デューティ比１／６０の駆動で、表面輝度１２０ｃｄ／ｍ2を実現した。実施例１のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルについて、駆動電流密度５０ｍＡ／ｃｍ2で観察された各発光色の発光スペクトルの色度座標（ＣＩＥ座標ｘ；ｙ）はＲ（０．６２０；０．３７７）、Ｇ（０．３０２；０．６７２）、およびＢ（０．１３３；０．１３６）であった。
【００９１】
（比較例３）
第２発光層９０Ｒの膜厚を２ｎｍとした以外は実施例１と同様にして、比較例３の有機ＥＬディスプレイパネルを得た。
【００９２】
比較例３の有機ＥＬディスプレイパネルの赤色発光部を発光させた場合、青色成分が観察された。これは第２発光層９０Ｒ中に含まれた赤色発光材料であるＤＣＪＴＢが、生成した励起子のエネルギーをすべて吸収できないことに起因すると考えられる。比較例３のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルについて、駆動電流密度５０ｍＡ／ｃｍ2で赤色発光部を発光させた場合の色度座標（ＣＩＥ座標ｘ；ｙ）は（０．３１；０．４２）であった。
【００９３】
（比較例４）
工程（７）において第２発光層９０Ｒおよび第１発光層９０ＢＧの作製順を入れ替えた以外は比較例３と同様にして、比較例４の有機ＥＬディスプレイパネルを得た。
【００９４】
比較例４の有機ＥＬディスプレイパネルの赤色発光部を発光させた場合、青色成分に加え、緑色成分も観察された。この緑色成分はＡｌｑ3由来であると推測される。比較例４の有機ＥＬ発光素子の発光メカニズムは以下のように推測される。キャリアは、第２発光層９０Ｒ近傍の第１発光層９０ＢＧ中のＤＢＣ上で再結合し、励起子が第２発光層９０Ｒ中に拡散された。しかし、第２発光層９０Ｒは極端に薄いため、励起子のエネルギーはここですべて吸収されずに、第１発光層９０ＢＧにおける青色発光とともに緑色発光性を持つ電子注入輸送性材料であるＡｌｑ3まで拡散し、これにより、Ａｌｑ3も励起され、緑色光が発生した。比較例４のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルについて、駆動電流密度５０ｍＡ／ｃｍ2で赤色発光部を発光させた場合、その色度座標（ＣＩＥ座標ｘ；ｙ）は（０．４２；０．５３）であった。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の１つの実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの概略断面図である。
【図２】本発明の別の実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの概略断面図である。
【図３】本発明の別の実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの概略断面図である。
【図４】本発明の別の実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの概略断面図である。
【符号の説明】
【００９６】
１０  基板
２０  カラーフィルタ層
２０Ｒ  赤色カラーフィルタ層
２０Ｇ  緑色カラーフィルタ層
２０Ｂ  青色カラーフィルタ層
２５  色変換層
２５Ｇ  緑色変換層
３０  平坦化層
４０  ガスバリア層
５０  第１電極
６０  絶縁層
７０  隔壁
８０  正孔注入輸送性層
９０  発光層
９０ＢＧ  第１発光層
９０Ｒ  第２発光層
１００  電子注入輸送性層
１１０  第２電極
１２０  発光部
１２０Ｒ  赤色発光部
１２０Ｇ  緑色発光部
１２０Ｂ  青色発光部
【図１】
2009205929.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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