(57)【要約】      （修正有）【課題】従来の溶融はんだ槽はインペラ噴流式のため、回転羽根が高速回転し渦流等による酸化物発生の問題がある。また渦流等による脈流で噴出量が不安定となる。【解決手段】はんだ槽躯体１の中にはんだ回収槽２と、密閉されたはんだ室４と、はんだ室４の上面を貫通し、先端部が大気に開放された噴出口３を持つ送液筒８を有する。前記噴出口３より噴出したはんだで、はんだ付けに使用されない余剰の溶融はんだは、傾斜板を流れてはんだ回収槽２に溜まる。はんだ回収槽２の下面には、逆止弁９が取り付けられはんだ室４に連通する給液筒７を設ける。はんだ回収槽２の下面には、逆止弁９が取り付けられ給液筒７に連通する補給筒１０が設ける。送液手段であるピストン１１によりはんだ回収槽２のはんだを給液筒７を介してはんだ室に注入させることにより、溶融はんだが送液筒８を通り噴出口３から吐出する。【選択図】図２
2009224744.tif 000002
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、プリント基板等をはんだ付けするはんだ付け装置に関している。
【背景技術】
【０００２】  プリント基板等のはんだ付けに使用する従来のインペラ噴流式はんだ槽は、図６に示す様に、はんだ槽の上部にモータａ２３があり、はんだ槽の中に設けてあるケーシング１９のなかに回転羽根２１を具備し、ベルト、駆動軸２０を介してモータａ２３と回転羽根２１は連結されており、回転羽根２１（インペラ）を高速回転させ、ケーシング１９下面の吸い込み口２６からはんだを吸い込み、強力な動圧によりケーシング１９上面に設けてあるノズル２４（噴出口）からはんだを噴出させてプリント基板にはんだを供給する構成となっている。（文献１を参照）【０００３】  近年環境問題の関係で鉛フリーはんだが義務付けられており、スズ、銀、銅等の合金がはんだとして利用されるようになってきている。
鉛フリーはんだは、スズの含有量が多くなり、溶融温度が高くなり、従来のはんだに比べて摺動部の腐食の問題が多くなる。
従来のインペラ噴流式はんだ槽では、一年以内の短期間でのインペラ等の部品の交換が必要となっている。
また、鉛フリーはんだは、コストが高く、インペラの高速回転による酸化物の発生によりはんだの減少を来たし、はんだ消耗によるコストアップを招くのが深刻な問題となっている。【０００４】  一般的にはインペラ噴流式はんだ槽が多く使用されているが、その他ピストン噴流式はんだ槽が提案されている。（文献２を参照）
このピストン噴流式はんだ槽は、噴流はんだ槽内にシリンダーが設置されたものである。
シリンダーは下部が噴流ノズルの下部とダクトで接続されており、シリンダー内のピストンを押し下げることによりシリンダー内にあった溶融ハンダがダクト内に押し出され、それが噴流ノズルから噴流するものである。
インペラ噴流式はんだ槽に比べて摺動部の腐食や酸化物の発生が少なく、ピストンが一定速度で押し下げられるために脈動が少ないという優れた特徴を有している。
更にこのピストン噴流式に生産性の改善を施したものが提案されている。（文献３を参照）【０００５】
【特許文献１】  特開２００３−２９０９１６号公報
【特許文献２】  特開昭４９−７０８４９号公報
【特許文献３】  特開２００２−４３７３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  従来のインペラ噴流式はんだ槽は、前記モータａ２３により回転羽根２１を回転させ、ケーシング１９下面の吸い込み口２６からはんだを吸い込み、強力な動圧によりフロー方向のケーシング１９において一定の距離を確保して立ち上げたノズル２４からはんだを噴出させる構成となっている。【０００７】  強力な動圧を発生させるために回転羽根２１が高速回転し、渦流等により酸化物が発生してはんだの減少を来す問題がある。
また、回転羽根２１とケーシング１９下面の吸い込み口２６の接触部分にスッラジ等の異物の粉が付着して回転羽根２１が回転しない等のトラブルが発生する例がある。【０００８】  また、インペラ噴流式では回転羽根２１の回転を回転させることにより溶融はんだを吸い込むものであるが、一枚の羽根が溶融はんだを吸い込んだ後に次の羽根が溶融はんだを吸い込む様になっているため、羽根と羽根との間では吸い込みがなく、それが脈流となる。脈流の発生により、噴出量が不安定となりノズル２４からの噴出高さが変動し、はんだ付けのはんだ量のバラつきが起こる。【０００９】  また、腐食対策としてセラミックのコーティング等を行っているが、回転羽根２１の高速回転での衝撃力や摺動部等の磨耗によりコーティング材が剥がれて腐食が発生し、部品交換を余儀なくされている。【００１０】  ところでピストン噴流式はんだ槽は、ピストンが一定速度で押し下げられるために脈動が少ないというインペラ噴流式にはない優れた特徴を有している。
しかしながらピストン噴流式はんだ槽は、ピストンを押し下げてノズルから溶融はんだを噴流させた後、ピストンを上昇させてシリンダー内に溶融はんだを充填するときに時間がかかり、次のはんだ付けを行うまでの待機時間が長くなって生産性が悪いという問題があり、余り使用されていない。
これらの改善策として考案された文献３の様にピストンに開閉自在弁を設けたものが提案されているが、ピストンの機構が複雑になり実用的でなく、待機時間も若干短縮される程度である。
また、機構上ピストンが大きくなり、押し出し量が多く、速度の制約を受ける等課題が多い。
また、シリンダーは下部が噴流ノズルの下部とダクトで接続されており、ピストンが上昇する時にシリンダー下部が負圧になって逆流が起こり、噴流ノズル側の溶融はんだを吸い込みノズル高さが乱れる問題もある。
そのために更にピストンの上下速度を遅くする必要があり生産性が改善されない。【００１１】  その外に、ピストン噴流式はんだ槽、及びインペラ噴流式共にノズル部分がはんだ槽より距離があるために外気により冷却されて温度降下して、ノズルから吐出するはんだの表面が酸化する問題がある。【００１２】  この発明は、上記課題を解決するためになされたもので、はんだの酸化物発生を防止し、ノズル（噴出口）からの噴出高さ、量を安定させ、摺動部等の腐食トラブルをなくし、生産性が良く、ノズルから吐出するはんだ表面の酸化を防止するはんだ付け装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】  本発明に係わるはんだ付け装置は請求項１に記載のように、
溶融はんだが封入された密閉のはんだ室と、はんだ室の壁面を貫通し、先端部の噴出口に連結された送液筒と、前記噴出口より噴出された溶融はんだを回収するはんだ回収槽と、該はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、逆止弁が取り付けられた給液筒と、前記はんだ回収槽から前記給液筒にはんだを補給するためのもので、逆止弁が取り付けられた補給筒と、から構成されたはんだ槽であって、
送液手段として前記給液筒内にピストンを設け、該ピストンが往復運動してはんだ回収槽からはんだをはんだ室に注入させることにより、
溶融はんだが前記送液筒を通り噴出口から噴出されることを特徴とする。【００１４】  また、請求項２に記載のように、
溶融はんだが封入された密閉のはんだ室と、はんだ室の壁面を貫通し、先端部の噴出口に連結された送液筒と、前記噴出口より噴出された溶融はんだを回収するはんだ回収槽と、該はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、逆止弁が取り付けられた吸液口を持つ２組の給液筒と、から構成されたはんだ槽であって、
送液手段として前記給液筒の各々の内部にピストンを設け、該ピストンが２組の給液筒内部をお互い逆方向に往復運動して溶融はんだをはんだ室に注入させることにより、溶融はんだが前記送液筒を通り噴出口から噴出されることを特徴とする。【００１５】  また、請求項３に記載のように、
溶融はんだが封入された密閉のはんだ室と、はんだ室の壁面を貫通し、先端部の噴出口に連結された送液筒と、前記噴出口より噴出された溶融はんだを回収するはんだ回収槽と、該はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、逆止弁が取り付けられた給液筒と、前記はんだ回収槽から前記給液筒にはんだを補給するためのもので、逆止弁が取り付けられた補給筒と、から構成されたはんだ槽であって、
送液手段として、前記給液筒に設けられたスクリュウ及びスクリュウの回転軸と、スクリュウの回転軸と連結されたモーターと、を備えてモーターによりスクリュウを回転させることにより、前記はんだ回収槽にある溶融はんだが給液筒を通り逆止弁を介して前記はんだ室に給液されることを特徴とする。【００１６】  また、請求項４に記載のように、
前記はんだ室に超音波振動子を備えてはんだ室の溶融はんだに高い超音波を印加してキャビテーションを加え、溶融はんだを前記送液筒を通り噴出口から噴出させることを特徴とする【００１７】  また、請求項５に記載のように、
前記送液筒を複数設け、送液筒の噴出口側に高さ調整可能なキャップを装着して噴出口から溶融はんだを噴出させる高さを調整できることを特徴とする
【発明の効果】
【００１８】  請求項１、請求項２による発明の効果を説明する。
ピストンの移動等による送液手段によりはんだをはんだ室に注入させて充填することにより、溶融はんだが前記送液筒を通り大気開放の噴出口から噴出される。
従来のインペラ噴流式の羽根車等の高速回転噴流による方式に比べて、渦流等による酸化物の発生がなく、はんだの減少が少なくなり経済的である。
また、従来のような回転羽根とケーシング下面の吸い込み口の接触部分に酸化カス（ドロス）、スラッジ等の粉が付着して回転羽根２１の回転が止まるトラブルもない。【００１９】  送液手段によりはんだ回収槽からはんだをはんだ室に注入させて充填することにより、溶融はんだが前記送液筒を通り大気開放の噴出口から噴出される。
送液手段によるはんだの給液量は、噴出口から吐出量だけで良く、小規模の駆動で済む。また、はんだ室のはんだ容積に比較し、給液筒から流入量は少ないために乱れの影響はほとんど無い。
強力な動圧を要するために高速回転するインペラ噴流式に比べて脈流が少なく、噴出口の噴出高さが変動しないのではんだ付けのはんだ量が安定する。【００２０】  また、従来の回転羽根の高速回転による衝撃力がなく、摺動部等の磨耗が少ないので、セラミック等が剥がれることがなくて腐食が発生しにくい。
腐食等による部品交換の頻度が少ない。
はんだ槽のメンテナンスが容易である。【００２１】  はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、途中に逆止弁が取り付けられた給液筒と、前記はんだ回収槽から前記給液筒にはんだを補給するためのもので、途中に逆止弁が取り付けられた補給筒が設けてあり、給液筒内をピストンが上下等して給液筒の溶融はんだをはんだ室に注入する。
ピストンが下降する時に給液筒の溶融はんだを逆止弁を介してはんだ室に注入する。
補給筒側の逆止弁は、給液筒から補給筒への流れを阻止する様に取り付けられているので、補給筒を介して給液筒からはんだ回収槽へは流出しない。
ピストンが上昇する時に給液筒が負圧になり、はんだ回収槽の溶融はんだが逆止弁を介して補給筒を通り給液筒に補給される。
給液筒とはんだ室の間の逆止弁は、はんだ室から給液筒への流れを阻止する様に取り付けられているので給液筒が負圧になってもはんだ室から給液筒へは逆流しない。
従来のピストン噴流式はんだ槽の様にピストンが上昇する時に逆流が起こりノズル高さが乱れるということがないので、ピストン速度が制限されることがない。
また、給液筒にはんだを補給するため途中に逆止弁が取り付けられた補給筒が別に設けてあるので、従来の改善例の様に補給のためにピストンに開閉自在弁を設け機構上ピストンが大きくなり、速度の制約を受けるということもない。
ピストンの上下速度が速く出来るので、従来の様なピストンを押し下げてノズルから溶融はんだを噴流させた後、ピストンを上昇させてシリンダー内に溶融はんだを充填する時に時間がかかり、次のはんだ付けを行うまでの待機時間が長くなって生産性が悪いという様な問題が起こらない。【００２２】  請求項２による発明の効果を説明する。
ピストンを給液筒内部に押し下げて回収槽から溶融はんだをはんだ室に注入させて充填させた後、ピストンを上昇させて給液筒内に溶融はんだを充填させる間は溶融はんだのはんだ室への注入が停止する。
２組の給液筒から交互にはんだをはんだ室に注入させて充填することにより、一方のピストンが上昇し給液筒内に溶融はんだを充填させる間にもう一つのピストンが下降して溶融はんだをはんだ室に注入させる。
連続して回収槽から溶融はんだをはんだ室に注入させて充填させることが出来る。
従来のピストン噴流式はんだ槽は、ピストンを押し下げてノズルから溶融はんだを噴流させた後、ピストンを上昇させてシリンダー内に溶融はんだを充填するときに時間がかかり、次のはんだ付けを行うまでの待機時間が長くなって生産性が悪いという問題があったが、この問題が解消する。
なお給液筒は、逆止弁が取り付けられた吸液口を持っておりピストン速度が速くても吸液口から補給できる。【００２３】  請求項３による発明の効果を説明する。
スクリュウを回転させることにより、前記はんだ回収槽にある溶融はんだが給液筒を通り逆止弁を介して前記はんだ室に流れて充填されることにより、溶融はんだが前記送液筒を通り大気開放の噴出口から噴出される。
送液手段によるはんだの給液量は、噴出口から吐出量だけで良く、小規模の軸流で済むので高速回転を要しない。
また、はんだ室のはんだ容積に比較し、給液筒から流入量は少ないために乱れの影響はほとんど無い。
強力な動圧を要するために高速回転するインペラ噴流式に比べて脈流が少なく、噴出口の噴出高さが変動しないのではんだ付けのはんだ量が安定する。【００２４】  はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、途中に逆止弁が取り付けられた給液筒内をスクリュウが回転して給液筒の溶融はんだを連続してはんだ室に注入する。
従来のピストン噴流式はんだ槽の様にピストンが上昇する時に逆流が起こりノズル高さが乱れるということがない。【００２５】  請求項４による発明の効果を説明する。
はんだ室に超音波振動子を備えてはんだ室の溶融はんだに高い超音波を印加してキャビテーションを発生させて、キャビテーション効果によって酸化被膜を破壊し、溶融はんだの気泡も除去し濡れ性を進行する。
噴出口（ノズル）から吐出する溶融はんだが酸化被膜がなく、はんだ付きがよくて常に高質のはんだ付けが行える。
その他、キャビテーションによって拡散促進、浸透促進の効果も得られることから、ガラス部品、セラミック部品等への溶融はんだのはんだ付け、及び金属、ガラス部品、セラミック部品等への塗料、コーティング材等の接着にも適用出来る。【００２６】  プリント基板等のはんだ付けを行う場合に複数の基盤端子を同時にはんだ付け出来れば効率が上がる。
この様な場合は送液筒を複数設ければ可能となるが、噴出口よりの流出速度が遅くなると送液筒の断面サイズにより表面張力の違いが発生して噴出高さが異なってくる。
送液筒の噴出口側の高さ調整可能な構造にすることで、噴出口より溶融はんだを噴出させる高さを調整できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】  以下、この発明の各実施の形態は、はんだ付け装置の図に基づいて説明する。
各図において、同一または相当部材、部位について同符号を付して説明する。
【実施例１】
【００２８】  図１は、はんだ付け装置１００の平面図の説明図であり、図２は、図１のＡ−Ａ方向からの断面Ａ−Ａにおける説明図である。
はんだ槽躯体１の中にはんだ回収槽２と、密閉されたはんだ室４と、はんだ室４の上面を貫通し、先端部が大気に開放された噴出口３を持つ送液筒８がある。
前記噴出口３より噴出したはんだで、はんだ付けに使用されない余剰の溶融はんだは、傾斜板を流れてはんだ回収槽２に溜まる。
はんだ回収槽２とはんだ室４にはヒータ５があり、３００℃程度に加熱してはんだを溶かしている。
また、噴出口３の回りにもヒータ５が備えられており、噴出時の溶融はんだの温度低下を防ぐようになっている。
はんだ回収槽２とはんだ室４には、熱センサ６が組み込まれており、溶融はんだの温度を管理する。
はんだは２２０℃程度以下では固着するので、ヒータ調整器１５が熱センサ６からの温度を測りながら電線１７に通電し、ヒータ５により３００°程度に加熱してはんだを溶融させる。【００２９】  はんだ回収槽２の下面には、逆止弁９が取り付けられはんだ室４に連通する給液筒７が設けてある。
逆止弁９は、はんだ室４からの溶融はんだの流出を防ぐ様に取り付けられており、バネにより弁が閉じられてはんだ室４が密閉されている。
また、はんだ回収槽２の下面には、逆止弁９が取り付けられ給液筒７に連通する補給筒１０が設けてある。
逆止弁９は、給液筒７からはんだ回収槽２への溶融はんだの流出を防ぐ様に取り付けられており、バネにより弁が閉じられている。
送液手段によりはんだ回収槽２のはんだを給液筒７を介してはんだ室に注入させることにより、溶融はんだが送液筒８を通り噴出口３から吐出する。【００３０】  送液手段としては、ピストン１１及びピストン１１のシャフトと、ピストンを上下させる駆動装置としてのソレノイド１２を備えている。
給液筒７の内部を上下するピストン１１は、シャフトを介して駆動装置であるソレノイド１２と連結している。
また、ソレノイド１２にはバネ１３が装着されている。
ソレノイド１２は、プッシュ型を採用し、図示しないソレノイド内部にある移動部のプランジャがシャフトとつながり、通電するとシャフトを押し下げる。
押し下げた後は、プランジャがフリーとなるのでバネ１３にて原点に復帰させる。
この繰り返しによりシャフトと連結したピストン１１が上下の往復運動をする。
前記はんだ回収槽２にある溶融はんだがピストン１１の上下運動により給液筒７を通り逆止弁９を介して前記はんだ室に給液される。
逆止弁９は、はんだ室４からの流出を防ぐ様に取り付けられており、バネにより弁が閉じてはんだ室４が密閉されているが、ピストン１１による給液筒７からはんだ室４の流れの圧力は、逆止弁９のバネ力とはんだ室の水頭圧の和より強いので溶融はんだがはんだ室４に流入する。【００３１】  ピストン１１は、下降過程において給液筒７の内部の溶融はんだを送り出す。
上昇過程において、はんだ室４からの逆流がないので給液筒７の内部は負圧になる。
はんだ回収槽２の下面には、逆止弁９が取り付けられ給液筒７に連通する補給筒１０が設けてある。
逆止弁９は、給液筒７からはんだ回収槽２への流入を防ぐ様に取り付けられているが、はんだ回収槽２から給液筒７へは流れる様になっている。
給液筒７の内部が負圧になることにより、補給筒１０を介し、はんだ回収槽２から給液筒７へ溶融はんだが補給される。【００３２】  このように実施例１では、
ピストン運動ではんだ室４内へ溶融はんだを流入させることにより、送液筒８の下穴から溶融はんだを流入させて噴出口３より吐出させる静圧式であり、従来の羽根車等の回転式の噴流による方式と異なる。
渦流等による酸化物の発生がなくてはんだの減少が少なく経済的である。
また、渦流、キャビテーション等の発生がないため脈流が発生せず、噴出口３からの噴出高さが変動しないのではんだ付けのはんだ量が安定する。
さらに、羽根車等の摺動部の磨耗よる不具合が少なく、摺動部の磨耗によりセラミック等のコーティング材が剥がれることがないので腐食が発生しにくく、部品交換の頻度が少ない。【００３３】  また、給液筒７とはんだ室４の間の逆止弁９は、はんだ室４から給液筒７への流れを阻止する様に取り付けられているので、給液筒へ逆流しない。
従来のピストン噴流式はんだ槽の様にピストン１１が上昇する時に逆流が起こりノズル高さが乱れるということがないので、ピストン速度を速くすることが出来る。
また、給液筒７にはんだを補給するため途中に逆止弁９が取り付けられた補給筒１０が別に設けてあるので、従来の改善例の様にピストン１１に開閉自在弁を設け機構上ピストン１１が大きくなり、速度の制約を受けるということもない。
ピストン１１の上下速度が速く出来るので、従来の様にピストン１１を押し下げてノズルから溶融はんだを噴流させた後、ピストン１１を上昇させて給液筒７内に溶融はんだを充填する時に時間がかかり、次のはんだ付けを行うまでの待機時間が長くなって生産性が悪いという様な問題が起こらない。
なお、ピストン１１を上下させる駆動装置をソレノイド１２としたが、エヤーシリンダー、モーターとボールネジの組み合わせ、ラックアンドピニオン、及び他の歯車、例えばウォームギヤとウォームホイールの組み合わせでも良い。
【実施例２】
【００３４】  図３は、実施例２におけるはんだ付け装置１００の平面図の説明図であり、図４は、図３のＢ−Ｂ方向からの断面Ｂ−Ｂにおける説明図である。
はんだ回収槽２内部に、
密閉されたはんだ室４と、はんだ室４の上面を貫通し、先端部が大気に開放された噴出口３を持つ送液筒８、及び、吸液口１４、逆止弁９が取り付けられてはんだ室４に連通する給液筒７が２セット設けてある。
送液手段によりはんだ回収槽２のはんだを吸液口１４から吸入して給液筒７を介してはんだ室４に注入させることにより、溶融はんだが送液筒８を通り噴出口３から噴出される。
また、前記噴出口３より噴出したはんだで、はんだ付けに使用されない余剰の溶融はんだは、はんだ回収槽２に回収される。【００３５】  送液手段としてモータ３０及びモータ３０の軸と連結したシャフトと、シャフトに取り付けられたカム３２を２個備えている。
２個の同形状のカム３２はシャフトを中心に偏心し、お互いが、長径部分が１８０°ずれた位置に取り付けられている。
モータ３０の回転によりカム３２も回転し、ピストン１１のシャフトのヘッド３３を打撃することでピストン１１が給液筒７の内部を下降する。
給液筒７にある溶融はんだが、ピストン１１の下降によりはんだ室４に給液される。
カム３２は偏心しており、回転により回転軸からの距離が変化するので、打撃後にヘッド３３はバネ１３により元の位置に復帰する。
ピストン１１は、下降過程において給液筒７の内部の溶融はんだを送り出す。
上昇過程において、逆止弁９によりはんだ室４のはんだが逆流しないので給液筒７の内部は負圧になる。
はんだ回収槽２から吸液口１４、逆止弁９が取り付けられた給液筒７には連通している。
逆止弁９は、給液筒７からはんだ回収槽２への流入を防ぐ様に取り付けられているが、はんだ回収槽２から給液筒７へは流れる様になっている。
給液筒７の内部は負圧になることにより、はんだ回収槽２の溶融はんだが、吸液口１４から給液筒７へ補給される。【００３６】  ピストン１１とカム３２の組み合わせが２組あり、偏心した２組のカム３２は、長径部分がシャフト中心にお互い１８０°ずれている。
一つのピストン１１が下降して下限に達する時、別のピストン１１は上昇して上限に達する様に逆の動きをする。
一方が下降しはんだ室４に給液した後上昇し始めると、別のピストン１１が下降し始めてはんだ室４に給液する。
モータ３０の回転により常にどちらかのピストン１１がはんだ室４に給液する。
モータ３０の回転速度は調整可能であるので、噴出速度を変化させて良好な噴出口３よりのはんだの吐出が可能となる。【００３７】  ところで、はんだ室４の底面には、振動子を設けた振動ボックス３４が設けてある。
発振器３５により高電圧を振動子に通電すると超音波振動を起こす。
はんだ室の溶融はんだに高い超音波を印加してキャビテーションを加え、溶融はんだを噴出口３から噴出させることにより表面の酸化被膜の発生を防止することが出来る。
また、溶融はんだに超音波振動を与えはんだ付けすると濡れ性を向上させる効果があることが知られており、はんだ付きが良くなり品質が改善する。【００３８】  このように実施例２では、
シャフト中心に１８０°ずれているカム３２とピストン１１の組み合わせを２組設けて、モータ３０の回転により連続して回収槽２のはんだを給液筒７を介してはんだ室に注入させることが出来る。
従来のピストン１１を押し下げてノズルから溶融はんだを噴流させた後、ピストン１１を上昇させてシリンダー内に溶融はんだを充填する時に時間がかかり、次のはんだ付けを行うまでの待機時間が長くなって生産性が悪いという様な問題が起こらない。
また、はんだ回収槽２の内部に給液筒７、はんだ室４等を設けてヒータ５により一体で熱することにより熱効率を高めることが出来る。
ヒータの数を減じ、消費電力を軽減出来、コストダウンとなる。
また、はんだ室４に取っ手１６を設け、内部の装置を一括取り出せる様にしてメンテナンス性を向上させることが出来る。
また、超音波を印加してはんだ表面の酸化被膜を除去することが出来る。
その他、超音波によるキャビテーション印加により、酸化膜の破壊、脱泡、拡散促進、浸透促進の効果を得られる。
ガラス部品、セラミック部品等への溶融はんだのはんだ付けのみならず、塗料、コーティング材等の鉄、ガラス部品、セラミック部品等へ接着にも適用出来る。
なお、ピストン１１を上下させる駆動装置をモータ３０とカム３２の組み合わせとしたが、モータ３０とリンク機構の組み合わせ、及びエヤーシリンダー、モーターとボールネジの組み合わせ等でも良い。
【実施例３】
【００３９】    図５は、実施例３におけるはんだ付け装置１００の断面の説明図である。
送液手段として給液筒７の内部にスクリュウ２９とスクリュウ２９の回転軸、及び回転軸に連結したモータ３０が設けられている。
モータ３０により回転軸を介してスクリュウ２９を回転させることにより、はんだ回収槽２にある溶融はんだが給液筒７、逆止弁９を通りはんだ室４に給液される。
はんだ室４の内圧を増加させて溶融はんだを噴出口３より流出させながら、余剰の溶融はんだがはんだ回収槽２に溜まり、スクリュウ２９の回転によりはんだ回収槽２から給液筒７に流入し、強制的にはんだ室４に給液される。【００４０】  また、大きさの異なる２個の送液筒８の頂部にはキャップ３１が装着されている。
キャップ３１は図示しないネジにて上下に移動出来る。
噴出口よりの流出速度が遅くなると送液筒８の断面サイズ等の大小で表面張力が異なり噴出高さが違ってくる。
キャップ３１を回転させると噴出口の高さ調整が可能であり、噴出口より溶融はんだを噴出させる高さを調整できる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】  本発明の実施形態１における、はんだ付け装置１００の平面図の説明図である。
【図２】  図１のＡ−Ａ方向からの断面Ａ−Ａにおける説明図である。
【図３】  実施例２におけるはんだ付け装置１００の断面の説明図である。
【図４】  図３のＢ−Ｂ方向からの断面Ｂ−Ｂにおける説明図である。
【図５】  実施例３におけるはんだ付け装置１００の断面の説明図である。
【図６】  従来例の断面の説明図である。
【符号の説明】
【００４２】  １        はんだ槽躯体
２        はんだ回収槽
３        噴出口
４        はんだ室
５        ヒータ
６        熱センサ
７        給液筒
８        送液筒
９        逆止弁
１０      補給筒
１１      ピストン
１２      ソレノイド
１３      バネ
１４      吸液口
１５      ヒーター調整器
１６      取っ手
１７      電線
１８      熱コントローラ
１９      ケーシング
２０      駆動軸
２１      回転羽根
２２      空気遮断用ボックス
２３      モータａ
２４      ノズル
２５      耐熱シール材
２６      吸い込み口
２７      溶融はんだ
２８      保持部材
２９      スクリュウ
３０      モータ
３１      キャップ
３２      カム
３３      ヘッド
３４      振動ボックス
３５      発振器
【図１】
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【図２】
2009224744.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年5月22日(2008.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融はんだが封入された密閉のはんだ室と、はんだ室の壁面を貫通し、先端部の噴出口に連結された送液筒と、前記噴出口より噴出された溶融はんだを回収するはんだ回収槽と、該はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、逆止弁が取り付けられた給液筒と、前記はんだ回収槽から前記給液筒にはんだを補給するためのもので、逆止弁が取り付けられた補給筒と、から構成されたはんだ槽であって、
送液手段として前記給液筒内にピストンを設け、該ピストンが往復運動して溶融はんだをはんだ回収槽からはんだ室に注入させることにより、溶融はんだが前記送液筒を通り噴出口から噴出されることを特徴とするはんだ付け装置。
【請求項２】
溶融はんだが封入された密閉のはんだ室と、はんだ室の壁面を貫通し、先端部の噴出口に連結された送液筒と、前記噴出口より噴出された溶融はんだを回収するはんだ回収槽と、該はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、逆止弁が取り付けられた吸液口を持つ２組の給液筒と、から構成されたはんだ槽であって、
送液手段として前記給液筒の各々の内部にピストンを設け、該ピストンが２組の給液筒内部をお互い逆方向に往復運動して溶融はんだをはんだ室に注入させることにより、溶融はんだが前記送液筒を通り噴出口から噴出されることを特徴とするはんだ付け装置。
【請求項３】
溶融はんだが封入された密閉のはんだ室と、はんだ室の壁面を貫通し、先端部の噴出口に連結された送液筒と、前記噴出口より噴出された溶融はんだを回収するはんだ回収槽と、該はんだ回収槽と前記はんだ室に連通し、逆止弁が取り付けられた給液筒と、前記はんだ回収槽から前記給液筒にはんだを補給するためのもので、逆止弁が取り付けられた補給筒と、から構成されたはんだ槽であって、
送液手段として、前記給液筒に設けられたスクリュウ及びスクリュウの回転軸と、スクリュウの回転軸と連結されたモーターと、を備えてモーターによりスクリュウを回転させることにより、前記はんだ回収槽にある溶融はんだが給液筒を通り逆止弁を介して前記はんだ室に給液されることを特徴とするはんだ付け装置。
【請求項４】
前記はんだ室に超音波振動子を備えてはんだ室の溶融はんだに高い超音波を印加してキャビテーションを加え、溶融はんだを前記送液筒を通り噴出口から噴出させることを特徴とする請求項１乃至３の内いずれか１項に記載のはんだ付け装置。
【請求項５】
前記送液筒の内部に流量調整手段を設け、送液筒の噴出口側に高さ調整可能なキャップを装着して噴出口から溶融はんだを噴出させる高さを調整できることを特徴とする請求項１乃至５の内いずれか１項に記載のはんだ付け装置。