(57)【要約】【課題】処理チャンバのメンテナンスを簡単且つ短時間で行うことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置１は、処理チャンバ１１と、シリコン基板Ｋが載置される基台１５と、処理ガスを処理チャンバ１１内に供給するガス供給装置２３と、コイル２６と、コイル用高周波電源２７と、処理チャンバ１１の環状部材１３ａを加熱する加熱装置３０とを備える。加熱装置３０は、環状部材１３ａの外側に２重構造に配置された環状のシート体３１及び支持体３２と、シート体３１に埋め込まれた発熱体と、圧縮空気供給装置３３とから構成される。シート体３１は、耐熱ゴムから構成されており、内周面が環状部材１３ａの外周面と間隔を隔てるように支持体３２の内側に配置され、支持体３２との間に気密空間が形成されるように支持体３２の内周面に上部及び下部が固着される。圧縮空気供給装置３３は、気密空間内に圧縮空気を供給する。【選択図】図１
2009224420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が収容される内部空間を備えた処理チャンバであって、その一部分に環状部を有し、この環状部の内周側に前記内部空間が形成された処理チャンバと、前記処理チャンバ内に処理ガスを供給するガス供給手段と、前記処理チャンバ内に供給された処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ生成手段と、前記プラズマ生成手段に高周波電圧を印加する電圧印加手段と、前記処理チャンバの環状部外周面を加熱する加熱手段とを備えたプラズマ処理装置において、
前記加熱手段は、
弾性を有するシート状の部材からなり、表面が前記環状部の外周面と間隔を隔てて配置されるシート体と、
前記シート体の、前記環状部側とは反対側に配置され、前記シート体側にその縁部が固着される固着面を有する支持体と、
前記シート体に設けられた発熱体と、
加圧流体を供給する加圧流体供給手段とを備え、
前記シート体は、前記支持体との間に気密空間を形成するように縁部が前記固着面に固着され、
前記加圧流体供給手段は、前記気密空間内に加圧流体を供給し、前記シート体を前記環状部側に膨らませて当接させるように構成されてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記シート体及び支持体は、それぞれ環状に形成されて、前記環状部の外側にこれを取り囲むように２重構造に配置され、
前記シート体は、その内周面が前記環状部の外周面と間隔を隔てるように前記支持体の内側に配置され、前記気密空間が形成されるようにこの支持体の内周面に固着されてなることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
基板が収容される内部空間を備えた処理チャンバであって、その一部分に環状部を有し、この環状部の外周側に前記内部空間が形成された処理チャンバと、前記処理チャンバ内に処理ガスを供給するガス供給手段と、前記処理チャンバ内に供給された処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ生成手段と、前記プラズマ生成手段に高周波電圧を印加する電圧印加手段と、前記処理チャンバの環状部内周面を加熱する加熱手段とを備えたプラズマ処理装置において、
前記加熱手段は、
弾性を有するシート状の部材からなり、表面が前記環状部の内周面と間隔を隔てて配置されるシート体と、
前記シート体の、前記環状部側とは反対側に配置され、前記シート体側にその縁部が固着される固着面を有する支持体と、
前記シート体に設けられた発熱体と、
加圧流体を供給する加圧流体供給手段とを備え、
前記シート体は、前記支持体との間に気密空間を形成するように縁部が前記固着面に固着され、
前記加圧流体供給手段は、前記気密空間内に加圧流体を供給し、前記シート体を前記環状部側に膨らませて当接させるように構成されてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記支持体は、前記固着面が外周に形成された部材から構成されて前記環状部の内周面と間隔を隔てるように配置され、
前記シート体は、環状に形成されて、外周面が前記環状部の内周面と間隔を隔てるように前記支持体と環状部との間に配置され、前記気密空間が形成されるように前記固着面に固着されてなることを特徴とする請求項３記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記シート体は、耐熱性及び弾性を有する樹脂から構成されてなることを特徴とする請求項１乃至４記載のいずれかのプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理チャンバ内に所定の処理ガスを供給してプラズマ化し、プラズマ化した処理ガスによって、処理チャンバ内に配置された基板を処理するプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、前記プラズマ処理装置として、例えば、特開２００３−１２４２０２号公報に開示されたものが知られており、このプラズマ処理装置は、処理チャンバと、処理チャンバ内に配置され、上面に基板を吸着，保持する静電チャックと、静電チャックに吸着，保持された基板を冷却する第１冷却機構と、処理チャンバ内に処理ガスを供給するガス供給機構と、処理チャンバ内に供給された処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ生成機構と、プラズマ生成機構に高周波電圧を印加する高周波電源と、処理チャンバ内にその内面から所定間隔を隔てて配置されたカバーと、カバーを冷却する第２冷却機構などを備える。
【０００３】
前記第２冷却機構は、カバーの外面に設けられたペルチェ素子と、ペルチェ素子に直流電流を流す直流電源とから構成され、直流電源によりペルチェ素子に直流電流を流してこのペルチェ素子の温度を低下させることによりカバーを冷却する。
【０００４】
そして、このようなプラズマ処理装置では、ガス供給機構により処理チャンバ内に供給された処理ガスが、高周波電源により高周波電圧が印加されたプラズマ生成機構によってプラズマ化され、静電チャック上に吸着，保持された基板が処理される。その際、基板は、生成されたプラズマの熱や、プラズマの熱によって昇温せしめられたカバーにより加熱されるが、第１冷却機構によって基板が冷却され、また、第２冷却機構によってカバーが冷却されることで、基板の温度上昇が防止され、これにより、基板上に形成された、熱に弱い膜（例えば、レジスト膜）などの損傷が防止される。
【０００５】
また、プラズマ処理を行うと、カバーの内面には、例えば、フロロカーボンガス（ＣｘＦｙガス）のプラズマ化によって生成される重合物など各種の生成物が付着し、この付着物は、パーティクルとなって処理対象の基板に付着する原因となるため、カバーは、定期的に洗浄されて付着物が除去されるようになっている。
【０００６】
前記生成物の付着量は、カバーの温度によって変動し、温度が高いとあまり付着せず、温度が低いと多く付着する。このため、例えば、処理チャンバ内に供給されるフロロカーボンガスが所定流量に制御されている場合において、カバー内面に付着する重合物が多いと、基板上に保護膜として堆積する重合物が少なくなり、逆にカバー内面に付着する重合物が少ないと、基板上に保護膜として堆積する重合物が多くなる。そして、重合物の堆積量が変化すると、均一且つ効率的に基板処理を行うことができない。特に、プラズマ処理開始後の一定時間は、生成されたプラズマの熱によってカバー温度が上昇するので、カバー温度が一定でなく、このために、重合物の堆積量も一定せず、安定したプラズマ処理を実施することができない。
【０００７】
そこで、例えば、前記第２冷却機構に代えて、カバーを加熱するヒータをプラズマ処理装置に設け、このヒータによってプラズマ処理の開始前に予めカバーを加熱し、その温度を前もって所定温度に上昇させておくといったことも行われている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−１２４２０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、前記カバーの洗浄は、例えば、所定の洗浄液や純水を用いて行われ、その際、カバーが洗浄液や純水中に浸漬されるようになっている。したがって、ペルチェ素子やヒータなどの部品がカバーに取り付けられた上記従来のプラズマ処理装置では、このような部品を洗浄時に取り外さなければならず、非常に煩わしい。また、部品着脱のためにメンテナンス時間が長くなるという問題や、装置の稼働時間が短くなるという問題もある。
【００１０】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、処理チャンバのメンテナンスを簡単且つ短時間で行うことができるプラズマ処理装置の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するための本発明は、
基板が収容される内部空間を備えた処理チャンバであって、その一部分に環状部を有し、この環状部の内周側に前記内部空間が形成された処理チャンバと、前記処理チャンバ内に処理ガスを供給するガス供給手段と、前記処理チャンバ内に供給された処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ生成手段と、前記プラズマ生成手段に高周波電圧を印加する電圧印加手段と、前記処理チャンバの環状部外周面を加熱する加熱手段とを備えたプラズマ処理装置において、
前記加熱手段は、
弾性を有するシート状の部材からなり、表面が前記環状部の外周面と間隔を隔てて配置されるシート体と、
前記シート体の、前記環状部側とは反対側に配置され、前記シート体側にその縁部が固着される固着面を有する支持体と、
前記シート体に設けられた発熱体と、
加圧流体を供給する加圧流体供給手段とを備え、
前記シート体は、前記支持体との間に気密空間を形成するように縁部が前記固着面に固着され、
前記加圧流体供給手段は、前記気密空間内に加圧流体を供給し、前記シート体を前記環状部側に膨らませて当接させるように構成されてなることを特徴とするプラズマ処理装置に係る。
【００１２】
この発明によれば、加圧流体供給手段によってシート体と支持体との間の気密空間内に加圧流体が供給されると、シート体が弾性変形して処理チャンバの環状部側に膨らむ。これにより、シート体又は発熱体が環状部と当接し、環状部が発熱体により直接或いはシート体を介して間接的に加熱され、環状部、即ち、処理チャンバが所定温度に上昇する。尚、前記シート体と環状部との間の間隔は、シート体が膨らんだときに環状部に当接するような間隔に設定される。また、このような加熱は、プラズマ処理の開始前だけ行うようにしても、プラズマ処理の開始前から行ってプラズマ処理の開始後も引き続き行うようにしても、プラズマ処理の開始後から行うようにしても、いずれでも良く、処理チャンバの加熱制御態様は特に限定されるものではない。
【００１３】
また、ガス供給手段によって処理チャンバ内に供給された処理ガスは、電圧印加手段によって高周波電圧が印加されたプラズマ生成手段によりプラズマ化され、プラズマ化された処理ガスによって、処理チャンバ内に適宜搬入された基板（例えば、シリコン基板やガラス基板など）が処理（例えば、エッチング処理，アッシング処理及び成膜処理など）される。尚、プラズマ処理により処理チャンバの内面には各種の生成物が付着する。
【００１４】
そして、処理チャンバの環状部などを洗浄する際には、加圧流体供給手段の作動を停止させれば、シート体が元の形状に戻り、このシート体又は発熱体が環状部から簡単に離れるため、環状部を含む処理チャンバを容易にメンテナンスすることができる。
【００１５】
斯くして、本発明に係るプラズマ処理装置によれば、発熱体が設けられたシート体を加圧流体により膨らませ、シート体又は発熱体を環状部に当接させてこれを加熱しているので、処理チャンバの環状部を洗浄する際に何の部品も着脱する必要がなく、容易に且つ短時間で洗浄作業を行ったり、当該プラズマ処理装置の稼働時間が低下するのを防止することができる。
【００１６】
また、シート体の弾性変形を利用してシート体又は発熱体を環状部に当接させているので、環状部外周面の形状に関係なくシート体又は発熱体と環状部とを密着させることができ、環状部を効果的に加熱することができる。
【００１７】
尚、前記シート体及び支持体は、それぞれ環状に形成されて、前記環状部の外側にこれを取り囲むように２重構造に配置され、前記シート体は、その内周面が前記環状部の外周面と間隔を隔てるように前記支持体の内側に配置され、前記気密空間が形成されるようにこの支持体の内周面に固着されていても良い。
【００１８】
このようにすれば、処理チャンバの環状部を効率的に加熱することができる。また、環状部の温度変化に伴う熱膨張を吸収することができるので、シート体又は発熱体と環状部とを密着させて環状部の加熱効率を高めることができる。
【００１９】
また、前記加熱手段は、処理チャンバの環状部外周面ではなく、環状部内周面を加熱するように構成されていても良い。
【００２０】
また、前記シート体は、耐熱性及び弾性を有する樹脂から構成されていても良い。このようにすれば、気密空間内に供給した加圧流体で容易に弾性変形させることができ、また、発熱体の発熱によってシート体が損傷するのを防止することができる。
【００２１】
尚、前記環状部は、平面視円形であっても、平面視矩形であっても、いずれでも良く、特に限定されるものではない。また、前記発熱体は、シート体の中に埋め込んでも、シート体の表面や裏面に貼り付けても、いずれでも良い。また、前記シート体を構成する樹脂材料には、天然樹脂，合成樹脂，天然ゴム及び合成ゴムといった各種樹脂材料が含まれるが、具体例としては、例えば、フッ素ゴムやシリコンゴムなどの耐熱ゴムが挙げられる。
【発明の効果】
【００２２】
以上のように、本発明に係るプラズマ処理装置によれば、処理チャンバのメンテナンスを簡単且つ短時間で行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の具体的な実施形態について、添付図面に基づき説明する。尚、図１は、本発明の一実施形態に係るエッチング装置の概略構成を示した断面図であり、図２は、図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図である。
【００２４】
図１及び図２に示すように、本例のプラズマ処理装置たるエッチング装置１は、閉塞空間を有する処理チャンバ１１と、処理チャンバ１１内に昇降自在に配設され、エッチング対象であるシリコン基板Ｋが載置される基台１５と、基台１５を昇降させる昇降シリンダ１８と、処理チャンバ１１内の圧力を減圧する排気装置２０と、処理チャンバ１１内に処理ガスを供給するガス供給装置２３と、処理チャンバ１１の外部に配設されたコイル（プラズマ生成機構）２６と、コイル２６に高周波電圧を印加するコイル用高周波電源２７と、基台１５に高周波電圧を印加する基台用高周波電源２８と、処理チャンバ１１を加熱する加熱装置３０と、昇降シリンダ１８，排気装置２０，ガス供給装置２３，コイル用高周波電源２７，基台用高周波電源２８及び加熱装置３０の作動を制御する制御装置（図示せず）などを備える。
【００２５】
前記処理チャンバ１１は、相互に連通した内部空間を有する下部容器１２及び上部容器１３から構成され、上部容器１３は、下部容器１２よりも小さく形成される。下部容器１２及び上部容器１３は、その側壁が平面視円形の環状部材１２ａ，１３ａによりそれぞれ構成されている。下部容器１２の側壁（環状部材１２ａ）には、シリコン基板Ｋを搬入したり、搬出するための開口部１２ｂが形成されており、この開口部１２ｂは、シャッタ１４によって開閉される。尚、上部容器１３は、環状部材１３ａの下端に形成されたフランジ部１３ｂが、下部容器１２に取り付けられる環状の固定部材１２ｃと係合することによって固定される。
【００２６】
前記基台１５は、上下に配設された上部材１６及び下部材１７からなり、上部材１６上にシリコン基板Ｋが載置され、下部材１７には前記昇降シリンダ１８が接続される。
【００２７】
前記排気装置２０は、排気ポンプ２１と、排気ポンプ２１と下部容器１２とを接続する排気管２２とから構成され、排気ポンプ２１により排気管２２を介して下部容器１２内の気体を排気し、処理チャンバ１１の内部を所定圧力に減圧する。
【００２８】
前記ガス供給装置２３は、処理ガスとして、エッチングガス（例えば、ＳＦ６ガス）及び耐エッチング層形成ガス（例えば、Ｃ４Ｆ８ガス）を供給する処理ガス供給部２４と、処理ガス供給部２４と上部容器１３の天井部とを接続する処理ガス供給管２５とから構成され、処理ガス供給部２３から処理ガス供給管２５を介して上部容器１３内にエッチングガス及び耐エッチング層形成ガスを供給する。
【００２９】
前記コイル２６は、渦巻き形状に形成され、上部容器１３の天板の上側に配設される。前記コイル用高周波電源２７は、コイル２６に高周波電圧を印加することで、上部容器１３内に磁界を形成し、この磁界によって誘起される電界により、上部容器１３内に供給されたエッチングガス及び耐エッチング層形成ガスをプラズマ化する。前記基台用高周波電源２８は、基台１５に高周波電圧を印加することで、基台１５と生成されたプラズマとの間に電位差（バイアス電位）を生じさせる。
【００３０】
前記加熱装置３０は、上部容器１３の側壁（環状部材１３ａ）の外周面を加熱するもので、環状部材１３ａの外側に２重構造且つ上下方向に配置された環状のシート体３１及び支持体３２と、シート体３１に埋め込まれた発熱体（図示せず）と、発熱体（図示せず）に電流を流す発熱体用電源（図示せず）と、シート体３１と支持体３２との間に圧縮空気を供給する圧縮空気供給装置３３と、環状部材１３ａの温度を検出する温度検出センサ（図示せず）とから構成される。
【００３１】
前記シート体３１は、耐熱性及び弾性を有する樹脂（例えば、フッ素ゴムやシリコンゴムなどの耐熱ゴム）から構成されており、内周面が環状部材１３ａの外周面と間隔を隔てるように支持体３２の内側に配置され、支持体３２との間に気密空間Ｓ（図３及び図４参照）が形成されるようにこの支持体３２の内周面に上部及び下部が固着されている。尚、シート体３１は、上記耐熱ゴムではなく、天然樹脂，合成樹脂，天然ゴム及び合成ゴムといった各種樹脂材料で耐熱性及び弾性を有するものから構成しても良い。また、シート体３１と環状部材１３ａとの間の間隔は、シート体３１が膨らんだときに環状部材１３ａに当接するような間隔に設定されている。
【００３２】
前記支持体３２は、外周面から内周面に貫通する供給孔３２ａを備えており、下端が前記固定部材１２ｃの上面に取り付けられる。前記発熱体（図示せず）は、例えば、ニクロム線など、電流を流したときに発熱するものから構成される。前記温度検出センサ（図示せず）は、例えば、環状部材１３ａに埋め込まれた熱電対から構成され、検出した温度を制御装置（図示せず）に送信する。
【００３３】
前記圧縮空気供給装置３３は、圧縮空気を供給するコンプレッサ３４と、コンプレッサ３４と支持体３２の供給孔３２ａとを接続する圧縮空気供給管３５とから構成され、コンプレッサ３４から圧縮空気供給管３５及び供給孔３２ａを介して気密空間Ｓ内に圧縮空気を供給する。
【００３４】
この加熱装置３０によれば、発熱体用電源（図示せず）により発熱体（図示せず）に電流が流されると、発熱体（図示せず）が発熱し、また、圧縮空気供給装置３３からシート体３１と支持体３２との間の気密空間Ｓ内に圧縮空気が供給されると、図３及び図４に示すように、シート体３１が弾性変形して環状部材１３ａ側に膨らむ。これにより、シート体３１が環状部材１３ａの外周面と当接し、環状部材１３ａが発熱体（図示せず）によりシート体３１を介して加熱される。一方、圧縮空気の供給が停止されると、シート体３１が元の形状に戻り、環状部材１３ａから離れ、環状部材１３ａの加熱が停止される。
【００３５】
前記制御装置（図示せず）は、昇降シリンダ１８，排気装置２０，ガス供給装置２３，コイル用高周波電源２７，基台用高周波電源２８及び加熱装置３０の作動を制御する。具体的には、コイル用高周波電源２７及び基台用高周波電源２８によってコイル２６及び基台１５に高周波電圧をそれぞれ印加し、処理ガス供給部２４から処理チャンバ１１内にエッチングガスを供給し、排気ポンプ２１によって処理チャンバ１１内を所定圧力にするエッチング工程と、コイル用高周波電源２７によってコイル２６に高周波電圧を印加し、処理ガス供給部２４から処理チャンバ１１内に耐エッチング層形成ガスを供給し、排気ポンプ２１によって処理チャンバ１１内を所定圧力にする耐エッチング層形成工程とを交互に繰り返して実行する。
【００３６】
また、制御装置（図示せず）は、処理チャンバ１１の加熱時には、発熱体用電源（図示せず）により発熱体（図示せず）に電流を流すとともに、圧縮空気供給装置３３から気密空間Ｓ内に圧縮空気を供給し、シート体３１を環状部材１３ａの外周面に当接させてこれを加熱する。このとき、温度検出センサ（図示せず）による検出温度を基に発熱体用電源（図示せず）から発熱体（図示せず）に流される電流値を制御して発熱体（図示せず）の発熱量を制御し、環状部材１３ａ（処理チャンバ１１）を所定の温度範囲内にする。
【００３７】
以上のように構成された本例のエッチング装置１によれば、例えば、加熱装置３０により処理チャンバ１１が加熱されて所定の温度まで昇温せしめられた後、前記エッチング工程と耐エッチング層形成工程とが交互に繰り返し実行される。
【００３８】
エッチング工程では、エッチングガスがプラズマ化され、プラズマ中のラジカルがシリコン原子と化学反応したり、プラズマ中のイオンがバイアス電位により基台１５側に向けて移動してシリコン基板Ｋと衝突することで、シリコン基板Ｋがエッチングされる。一方、耐エッチング層形成工程では、耐エッチング層形成ガスがプラズマ化され、プラズマ中のラジカルから生成された重合物が、シリコン基板Ｋの表面（エッチングによって形成される溝や穴の側壁及び底面など）に堆積し、耐エッチング層（フロロカーボン膜）が形成される。このようにしてシリコン基板Ｋのエッチングが進行する。
【００３９】
そして、このようなプラズマ処理を行うと、環状部材１３ａを含む処理チャンバ１１の内面に各種の生成物が付着するため、定期的に処理チャンバ１１を洗浄液や純水を用いて洗浄する必要がある。その際、処理チャンバ１１を分解しなければならないが、加熱装置３０は、処理チャンバ１１に直接取り付けられていないので、この加熱装置３０を処理チャンバ１１から取り外す作業が不要であり、処理チャンバ１１を容易にメンテナンスすることができる。
【００４０】
斯くして、本例のエッチング装置１によれば、発熱体（図示せず）が埋め込まれたシート体３１を圧縮空気により膨らませ、シート体３１を環状部材１３ａに当接させてこれを加熱しているので、処理チャンバ１１の環状部材１３ａなどを洗浄する際に加熱装置３０の部品を着脱する必要がなく、容易に且つ短時間で洗浄作業を行ったり、当該エッチング装置１の稼働時間が低下するのを防止することができる。
【００４１】
また、シート体３１の弾性変形を利用してシート体３１を環状部材１３ａに当接させているので、環状部材１３ａの温度変化に伴う熱膨張を吸収してシート体３１と環状部材１３ａとを密着させることができ、環状部材１３ａを効果的に加熱することができる。また、シート体３１を環状に形成したので、環状部材１３ａの全周を加熱することができ、加熱効率を高めることができる。
【００４２】
また、シート体３１を耐熱性及び弾性を有する樹脂から構成したので、気密空間Ｓ内に供給した圧縮空気で容易に弾性変形させることができ、また、発熱体（図示せず）の発熱によってシート体３１が損傷するのを防止することができる。
【００４３】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。
【００４４】
上例では、シート体３１に発熱体（図示せず）を埋め込んだが、これに限られるものではなく、図５及び図６に示すように、発熱体（図示せず）を埋め込んだ複数の円弧状の加熱板３６をシート体３１の内周面に貼り付けるようにしても良い。前記加熱板３６は、円弧状に形成され、円弧内周面が環状部材１３ａの外周面と間隔を隔てて対峙するように且つ環状部材１３ａの円周方向に一定間隔で配置される。このようにしても、気密空間Ｓ内に圧縮空気が供給され、シート体３１が弾性変形して環状部材１３ａ側に膨らむと、加熱板３６の円弧内周面が環状部材１３ａの外周面に当接して環状部材１３ａを加熱することができ（図７及び図８参照）、一方、圧縮空気の供給が停止されると、シート体３１が元の形状に戻り、加熱板３６が環状部材１３ａから離れ、環状部材１３ａの加熱が停止される。
【００４５】
尚、加熱板３６は、シート体３１の内周面ではなく、シート体３１の外周面に貼り付けられて気密空間Ｓ内に配置されるようにしても良い。但し、加熱板３６は、シート体３１の外周面に設けるよりも内周面に設けた方が、環状部材１３ａに直接当接するので、効果的に加熱することができる。また、加熱板３６は、円弧状ではなく平板状でも良いが、この場合には、より多くの加熱板３６を設けることが好ましい。
【００４６】
また、前記上部部材１３を構成する環状部材１３ａは平面視円形であったが、平面視矩形形状の場合には、加熱装置３０を以下のように構成すると良い。即ち、加熱装置は、環状部材１３ａの４側面（外周面）とそれぞれ間隔を隔てて配置される４つのシート体と、シート体を取り囲むように配置された矩形状且つ枠状の部材からなり、シート体との間に気密空間が形成されるように各シート体の縁部が枠内周面に固着される支持体と、各シート体に設けられた発熱体と、各気密空間内に圧縮空気を供給してシート体を環状部材１３ａ側にそれぞれ膨らませる圧縮空気供給装置などを主な構成として備える。このようにすれば、環状部材１３ａが平面視矩形形状の場合でも、平面視円形形状の場合と同様にして、環状部材１３ａの外周面を加熱することができる。
【００４７】
また、前記加熱装置３０は、図９及び図１０に示すような加熱装置４０とすることもできる。尚、この場合において、前記上部容器１３は、その天井部中央下面が下方に突出して上部容器１３の上面が下方に凹んだ形状となっており、この下方に凹んだ部分の側壁は平面視円形の環状部材１３ｃから構成される。また、前記処理ガス供給管２５は、上部容器１３側の端部が分岐してそれぞれ上部容器１３の天井部に接続している。また、前記コイル２６は、環状に形成され、その複数が上部容器１３の外周部に上下に並設される。
【００４８】
前記加熱装置４０は、上部容器１３の側壁（環状部材１３ｃ）の内周面を加熱するように構成されており、環状部材１３ｃの内側に上下方向に配置された環状のシート体４１及びこのシート体４１の内側に上下方向に配置された支持軸４２と、シート体４１に埋め込まれた発熱体（図示せず）と、発熱体（図示せず）に電流を流す発熱体用電源（図示せず）と、シート体４１と支持軸４２との間に圧縮空気を供給する圧縮空気供給装置４３と、環状部材１３ｃの温度を検出する温度検出センサ（図示せず）とから構成される。
【００４９】
前記シート体４１は、耐熱性及び弾性を有する樹脂から構成されており、外周面が環状部材１３ｃの内周面と間隔を隔てるように支持軸４２の外側に配置され、支持軸４２との間に気密空間Ｓ（図１０参照）が形成されるようにこの支持軸４２の外周面に上部及び下部が固着される。前記支持軸４２は、その上端に鍔部４２ａが形成されており、環状部材１３ｃ内に上側から挿入されてこの鍔部４２ａが上部容器１３の天板と係合している。また、支持軸４２には、上面及び下部外周面に開口する供給孔４２ｂが形成されている。
【００５０】
前記圧縮空気供給装置４３は、圧縮空気を供給するコンプレッサ４４と、コンプレッサ４４と支持軸４２の供給孔４２ｂとを接続する圧縮空気供給管４５とから構成され、コンプレッサ４４から圧縮空気供給管４５及び供給孔４２ｂを介して気密空間Ｓ内に圧縮空気を供給する。
【００５１】
この加熱装置４０では、発熱体用電源（図示せず）により発熱体（図示せず）に電流が流されると、発熱体（図示せず）が発熱し、また、圧縮空気供給装置４３からシート体４１と支持軸４２との間の気密空間Ｓ内に圧縮空気が供給されると、図１０に示すように、シート体４１が弾性変形して環状部材１３ｃ側に膨らむ。これにより、シート体４１が環状部材１３ｃの内周面と当接し、環状部材１３ｃが発熱体（図示せず）によりシート体４１を介して加熱される。一方、圧縮空気の供給が停止されると、シート体４１が元の形状に戻り、環状部材１３ｃから離れ、環状部材１３ｃの加熱が停止される。したがって、このように加熱装置４０を構成した場合には、環状部材１３ｃの内周面を加熱することができる。また、処理チャンバ１１のメンテナンスを簡単且つ短時間で行うことができる点については、上記加熱装置３０と同様である。
【００５２】
また、上例では、プラズマ処理の一例としてエッチング処理を挙げたが、これに限定されるものではなく、アッシング処理や成膜処理などにも本発明のプラズマ処理装置を適用することができる。また、プラズマ処理対象となる基板は、シリコン基板Ｋに限られず、ガラス基板など、どのような基板であっても良い。また、前記上部容器１３ではなく、前記下部容器１２を加熱するようにしても良い。また、前記シート体３１，４１や支持体３２は、環状のものに限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の一実施形態に係るエッチング装置の概略構成を示した断面図である。
【図２】図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図である。
【図３】気密空間内に圧縮空気が供給されたときの状態を示す断面図である。
【図４】気密空間内に圧縮空気が供給されたときの状態を示す断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係るエッチング装置の概略構成を示した断面図である。
【図６】図２における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。
【図７】気密空間内に圧縮空気が供給されたときの状態を示す断面図である。
【図８】気密空間内に圧縮空気が供給されたときの状態を示す断面図である。
【図９】本発明の他の実施形態に係るエッチング装置の概略構成を示した断面図である。
【図１０】気密空間内に圧縮空気が供給されたときの状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１    エッチング装置（プラズマ処理装置）
１１  処理チャンバ
１２  下部容器
１３  上部容器
１５  基台
２０  排気装置
２３  ガス供給装置
２６  コイル
２７  コイル用高周波電源
２８  基台用高周波電源
３０  加熱装置
３１  シート体
３２  支持体
３３  圧縮空気供給装置
Ｋ    シリコン基板
Ｓ    気密空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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