(57)【要約】【課題】スループットが向上された基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１００は、インデクサＩＤおよび処理部ＰＲを有する。インデクサＩＤと処理部ＰＲとの間に隔壁Ｄが形成されている。インデクサＩＤと処理部ＰＲとの間で基板Ｗの受け渡しを行う受け渡し部３は、処理部ＰＲ内に設けられている。インデクサＩＤでは、インデクサロボットＩＲがキャリア１と受け渡し部３との間でハンドにより基板Ｗを搬送する。インデクサロボットＩＲは、第１の軸Ｓａに沿った移動動作および回転動作を行う。ハンドは前進動作および後退動作を行う。受け渡し部３の一端部（第１の受け渡し位置）３５１は隔壁Ｄの中央部からインデクサＩＤ内に突出している。第１の受け渡し位置３５１の両側方には、通路スペースＳＰが形成されている。通路スペースＳＰは、インデクサロボットＩＲのハンドが前進した状態で通過できるように形成されている。【選択図】図１
2009049233.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理するための処理部と、
前記処理部に対して基板を搬入および基板を搬出するための搬入搬出部と、
前記処理部に配置され、前記搬入搬出部と前記処理部との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部と、
前記処理部、前記搬入搬出部および受け渡し部を制御する制御手段とを備え、
前記搬入搬出部は、
基板を収納する収納容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部に載置される収納容器と前記受け渡し部との間で基板を搬送する第１の搬送手段とを含み、
前記第１の搬送手段は、略水平な第１の軸に沿って移動可能かつ略鉛直方向の軸の周りで回転可能に設けられた移動機構部と、略水平方向に前進および後退可能に前記移動機構部に設けられた第１の基板保持手段とを含み、
前記容器載置部および前記受け渡し部は、前記第１の軸に関して一方側および他方側にそれぞれ位置し、
前記受け渡し部は、前記第１の軸と略直交する略水平な第２の軸に沿って移動可能に設けられる第２の基板保持手段を含むとともに、前記搬入搬出部側の端部に受け渡し位置を有し、
前記受け渡し位置において前記第１の基板保持手段が前記第２の基板保持手段に対して上または下に重なる状態で前記第１の基板保持手段と前記第２の基板保持手段との間で基板の受け渡しが行われ、
前記第２の軸に関して前記受け渡し位置の側部は前記第１の基板保持手段が通過可能に構成され、
前記制御手段は、
前記第１の基板保持手段から前記第２の基板保持手段への基板の受け渡し時に、前記移動機構部を移動および回転させつつ、前記移動機構部から前進しながら前記受け渡し位置の前記側部を通過して前記受け渡し位置に移動するように前記第１の基板保持手段を制御し、
前記第２の基板保持手段から前記第１の基板保持手段への基板の受け渡し時に、前記移動機構部を移動および回転させつつ、後退しながら前記受け渡し位置から前記受け渡し位置の前記側部を通過するように前記第１の基板保持手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記第２の基板保持手段は、前記第１の基板保持手段との基板の受け渡し時に、前記搬入搬出部内に突出するように設けられたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記移動機構部は、移動および回転と並行して昇降可能に設けられ、
前記制御手段は、
前記収納容器から前記受け渡し部への基板の搬送時に、前記第１の基板保持手段の前進前に昇降するように前記移動機構部を制御し、
前記受け渡し部から前記収納容器への基板の搬送時に、前記第１の基板保持手段の後退後に昇降するように前記移動機構部を制御することを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、
前記収納容器から前記受け渡し部への基板の搬送において、一方向の回転が開始される角度を基準として０度から９０度まで回転する間に前記移動機構部を昇降させ、
前記受け渡し部から前記収納容器への基板の搬送において、前記一方向と逆方向の回転が開始される角度を基準として９０度から１８０度まで回転する間に前記移動機構部を昇降させることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記受け渡し部を除いて前記処理部と前記搬入搬出部とを仕切る隔壁をさらに備え、
前記受け渡し位置は前記処理部にあり、
前記隔壁の一部は、前記受け渡し位置の側部を前記第１の基板保持手段が通過可能なように前記受け渡し位置の前記側部に沿って前記処理部の内側に配置されることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記制御部は、
前記第１の基板保持手段から前記第２の基板保持手段への基板の受け渡し時において、前記移動機構部が前記第１の軸と前記第２の軸との交差位置よりも前記収納容器に近い位置にあるときに前記第１の基板保持手段が前記受け渡し位置に達するように、前記移動機構部を移動および回転させるとともに前記第１の基板保持手段を前進させ、
前記第２の基板保持手段から前記第１の基板保持手段への基板の受け渡し時において、前記移動機構部が前記第１の軸と前記第２の軸との交差位置よりも前記収納容器に近い位置にありかつ前記第１の基板保持手段が前記受け渡し位置にある状態から、前記移動機構部を移動および回転させるとともに前記第１の基板保持手段を後退させることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。
【０００３】
図９は、特許文献１に記載の基板処理装置を示す平面図である。この基板処理装置９００においては、インデクサ部９０１および処理部９０２が互いに隣接するように設けられている。
【０００４】
インデクサ部９０１は、キャリア載置部９０４、インデクサロボット９０６および搬送路９０５を含む。キャリア載置部９０４は、基板処理装置９００の一端部側に設けられ、複数の基板Ｗを収容可能なキャリア９０３を保持する。
【０００５】
インデクサロボット９０６は、２つのアームＡａ，Ａｂおよび２つのハンドＨａ，Ｈｂを有する。ハンドＨａ，Ｈｂは、それぞれアームＡａ，Ａｂの先端部に接続され、搬送する基板Ｗを保持する。
【０００６】
処理部９０２は、主搬送ロボット９１１、４つの洗浄処理ユニット９１２、シャトル搬送機構９１５および搬送路９１６を含む。主搬送ロボット９１１は、処理部９０２のほぼ中央に設けられている。主搬送ロボット９１１を取り囲むように４つの洗浄処理ユニット９１２および搬送路９１６が設けられている。シャトル搬送機構９１５は、インデクサ部９０１に隣接する搬送路９１６を移動する。
【０００７】
この基板処理装置９００においては、インデクサロボット９０６が、いずれかのキャリア９０３に収容された処理前の基板Ｗを取り出し、処理部９０２のシャトル搬送機構９１５に渡す。シャトル搬送機構９１５は、搬送路９１６を移動することにより、処理前の基板Ｗを主搬送ロボット９１１の近傍に移動させる。そして、主搬送ロボット９１１がシャトル搬送機構９１５に保持された処理前の基板Ｗを受け取る。
【０００８】
主搬送ロボット９１１は、基板Ｗをいずれかの洗浄処理ユニット９１２に搬入する。これにより、洗浄処理ユニット９１２内で基板Ｗの処理が行われる。
【０００９】
上記洗浄処理ユニット９１２において基板Ｗの処理が終了すると、主搬送ロボット９１１は、当該基板Ｗを洗浄処理ユニット９１２から取り出し、他の洗浄処理ユニット９１２内に搬入するか、またはシャトル搬送機構９１５に渡す。
【００１０】
シャトル搬送機構９１５は、搬送路９１６を移動することにより、処理後の基板Ｗをインデクサロボット９０６の近傍に移動させる。そして、インデクサロボット９０６がシャトル搬送機構９１５に保持された処理後の基板Ｗを受け取る。インデクサロボット９０６は、処理後の基板Ｗをキャリア９０３に収納する。これにより、基板処理装置９００による基板処理が終了する。
【特許文献１】特開２００６−２７８５０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
図９のインデクサロボット９０６は、搬送路９１６に沿って水平方向に直線移動する往復移動動作、アームＡａ，Ａｂを鉛直方向の軸の周りで回転させる回転動作、アームＡａ，Ａｂを鉛直方向に昇降させる昇降動作、およびアームＡａ，ＡｂによりハンドＨａ，Ｈｂを水平方向に進退させる進退動作を行う。それにより、キャリア９０３とシャトル搬送機構９１５との間で基板Ｗを搬送することができる。また、インデクサロボット９０６はキャリア９０３に対してアームＡａ，ＡｂによりハンドＨａ，Ｈｂを順次（異なるタイミングで）進入、退出させる。
【００１２】
一方、主搬送ロボット９１１は、回転動作、昇降動作および進退動作を行うことによりシャトル搬送機構９１５と各処理部９０２との間で基板Ｗを搬送することができる。また、主搬送ロボット９１１は各処理部９０２に対して基板取り出し側アームの退出動作と、基板搬入側アームの進入動作を同時に行う。
【００１３】
このように、インデクサロボット９０６のアームの同時動作の数が主搬送ロボット９１１のアームの同時動作の数よりも少ないため、インデクサロボット９０６による基板Ｗの搬送時間が主搬送ロボット９１１による基板Ｗの搬送時間に比べて長くなる。その結果、基板処理装置におけるスループットの向上が妨げられる。
【００１４】
本発明の目的は、スループットが向上された基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
（１）第１の発明に係る基板処理装置は、基板を処理するための処理部と、処理部に対して基板を搬入および基板を搬出するための搬入搬出部と、処理部に配置され、搬入搬出部と処理部との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部と、処理部、搬入搬出部および受け渡し部を制御する制御手段とを備え、搬入搬出部は、基板を収納する収納容器が載置される容器載置部と、容器載置部に載置される収納容器と受け渡し部との間で基板を搬送する第１の搬送手段とを含み、第１の搬送手段は、略水平な第１の軸に沿って移動可能かつ略鉛直方向の軸の周りで回転可能に設けられた移動機構部と、略水平方向に前進および後退可能に移動機構部に設けられた第１の基板保持手段とを含み、容器載置部および受け渡し部は、第１の軸に関して一方側および他方側にそれぞれ位置し、受け渡し部は、第１の軸と略直交する略水平な第２の軸に沿って移動可能に設けられる第２の基板保持手段を含むとともに、搬入搬出部側の端部に受け渡し位置を有し、受け渡し位置において第１の基板保持手段が第２の基板保持手段に対して上または下に重なる状態で第１の基板保持手段と第２の基板保持手段との間で基板の受け渡しが行われ、第２の軸に関して受け渡し位置の側部は第１の基板保持手段が通過可能に構成され、制御手段は、第１の基板保持手段から第２の基板保持手段への基板の受け渡し時に、移動機構部を移動および回転させつつ、移動機構部から前進しながら受け渡し位置の側部を通過して受け渡し位置に移動するように第１の基板保持手段を制御し、第２の基板保持手段から第１の基板保持手段への基板の受け渡し時に、移動機構部を移動および回転させつつ、後退しながら受け渡し位置から受け渡し位置の側部を通過するように第１の基板保持手段を制御するものである。
【００１６】
この基板処理装置においては、搬入搬出部の第１の搬送手段は、第１の軸に沿って移動可能に設けられている。また、受け渡し部の第２の搬送手段は、第１の軸に略直交する第２の軸に沿って移動可能に設けられている。容器載置部および受け渡し部は、第１の軸に関して一方側および他方側にそれぞれ位置する。
【００１７】
第１の搬送手段は、容器載置部に載置された収納容器から処理前の基板を取り出し、受け渡し部の端部の受け渡し位置に搬送する。
【００１８】
ここで、第２の軸に関して受け渡し位置の側部は、第１の基板保持手段が通過可能に構成されている。そのため、第１の基板保持手段から第２の基板保持手段に基板が受け渡される際には、制御部により第１の搬送手段の移動機構部が第１の軸に沿って移動および回転しつつ、第１の基板保持手段が前進する。このとき、第１の基板保持手段は受け渡し位置の側部を通過して受け渡し部に移動する。そして、第１の搬送手段と受け渡し部との間の基板の受け渡しは、第１の搬送手段の第１の基板保持手段が受け渡し部の第２の基板保持手段に対して上または下に重なる状態で行われる。
【００１９】
受け渡し部は、第２の基板保持手段により処理前の基板を受け取り、第２の基板保持手段を第２の軸に沿って移動させることにより基板を処理部に搬送する。処理部は、受け渡し部から渡された基板に処理を行う。
【００２０】
また、受け渡し部は、第２の基板保持手段により処理部による処理後の基板を受け取り、第２の基板保持手段を第２の軸に沿って移動させることにより基板を受け渡し位置に搬送する。受け渡し部と第１の搬送手段との間の基板の受け渡しは、第１の搬送手段の第１の基板保持手段が受け渡し部の第２の基板保持手段に対して上または下に重なる状態で行われる。
【００２１】
ここで、第２の軸に関して受け渡し位置の側部は、第１の基板保持手段が通過可能に構成されている。そのため、第２の基板保持手段から第１の基板保持手段に基板が受け渡される際には、制御部により第１の搬送手段の移動機構部が第１の軸に沿って移動および回転しつつ、第１の基板保持手段が後退する。このとき、第１の基板保持手段は受け渡し位置の側部を通過して受け渡し部から離れる。そして、第１の搬送手段は、第１の基板保持手段により保持した基板を収納容器へ搬送する。
【００２２】
上記のように、この基板処理装置においては、第１の基板保持手段と第２の基板保持手段との間での基板の受け渡し時に、第１の搬送手段の移動機構部による移動動作および回転動作と、第１の基板保持手段の前進動作または後退動作とが並行して行われる。これにより、第１の搬送手段による基板の搬送時間が短縮される。その結果、基板処理装置におけるスループットが向上する。
【００２３】
（２）第２の基板保持手段は、第１の基板保持手段との基板の受け渡し時に、搬入搬出部内に突出するように設けられてもよい。
【００２４】
この場合、第１の基板保持手段が通過可能となるように受け渡し位置の側部を容易に構成することができる。これにより、簡単な構成でスループットを向上させることができる。
【００２５】
（３）移動機構部は、移動および回転と並行して昇降可能に設けられ、制御手段は、収納容器から受け渡し部への基板の搬送時に、第１の基板保持手段の前進前に昇降するように移動機構部を制御し、受け渡し部から収納容器への基板の搬送時に、第１の基板保持手段の後退後に昇降するように移動機構部を制御してもよい。
【００２６】
この場合、収納容器から受け渡し部に基板が搬送される際には、第１の基板保持手段の前進前に移動機構部が昇降する。それにより、第１の基板保持手段が受け渡し位置に進入する際に、第１の基板保持手段が第２の基板保持手段に接触することが確実に防止される。また、第１の基板保持手段の前進前に移動機構部の回転動作、移動動作および昇降動作が並行して行われるので、基板の搬送時間がより短縮される。
【００２７】
一方、受け渡し部から収納容器に基板が搬送される際には、第１の基板保持手段の後退後に移動機構部が昇降する。それにより、第１の基板保持手段が受け渡し位置から退出する際に、第１の基板保持手段が第２の基板保持手段に接触することが確実に防止される。また、第１の基板保持手段の後退後に移動機構部の回転動作、移動動作および昇降動作が並行して行われるので、基板の搬送時間がより短縮される。
【００２８】
（４）制御手段は、収納容器から受け渡し部への基板の搬送時において、一方向の回転が開始される角度を基準として０度から９０度まで回転する間に移動機構部を昇降させ、受け渡し部から収納容器への基板の搬送時において、一方向と逆方向の回転が開始される角度を基準として９０度から１８０度まで回転する間に移動機構部を昇降させてもよい。
【００２９】
この場合、収納容器からから受け渡し部に基板が搬送される際には、移動機構部が一方向に０度から９０度まで回転する間に移動機構部が移動しつつ昇降する。それにより、第１の基板保持手段が受け渡し位置に進入する際に、第１の基板保持手段が第２の基板保持手段に接触することがより確実に防止される。また、移動機構部が一方向に０度から９０度まで回転する間に回転動作、移動動作および昇降動作が並行して行われるので、基板の搬送時間がより短縮される。
【００３０】
一方、受け渡し部から収納容器に基板が搬送される際には、移動機構部が逆方向に９０度から１８０度まで回転する間に移動機構部が移動しつつ昇降する。それにより、第１の基板保持手段が受け渡し位置から退出する際に、第１の基板保持手段が第２の基板保持手段に接触することがより確実に防止される。また、移動機構部が逆方向に９０度から１８０度まで回転する間に回転動作、移動動作および昇降動作が並行して行われるので、基板の搬送時間がより短縮される。
【００３１】
（５）基板処理装置は、受け渡し部を除いて処理部と搬入搬出部とを仕切る隔壁をさらに備え、受け渡し位置は処理部にあり、隔壁の一部は、受け渡し位置の側部を第１の基板保持手段が通過可能なように受け渡し位置の側部に沿って処理部の内側に配置されてもよい。
【００３２】
この場合、隔壁の一部を処理部の内側に配置することにより、搬入搬出部の面積を増大させることなく、第１の基板保持手段が通過可能となるように受け渡し位置の側部を構成することができる。これにより、基板処理装置全体のフットプリントを低減しつつスループットを向上させることができる。
【００３３】
（６）制御部は、第１の基板保持手段から第２の基板保持手段への基板の受け渡し時において、移動機構部が第１の軸と第２の軸との交差位置よりも収納容器に近い位置にあるときに第１の基板保持手段が受け渡し位置に達するように、移動機構部を移動および回転させるとともに第１の基板保持手段を前進させ、第２の基板保持手段から第１の基板保持手段への基板の受け渡し時において、移動機構部が第１の軸と第２の軸との交差位置よりも収納容器に近い位置にありかつ第１の基板保持手段が受け渡し位置にある状態から、移動機構部を移動および回転させるとともに第１の基板保持手段を後退させてもよい。
【００３４】
この場合、第１の搬送手段の第１の基板保持手段は、第１の軸と第２の軸との交差位置よりも収納容器に近い位置で受け渡し位置に進入する。また、第１の搬送手段の第１の基板保持手段は、第１の軸と第２の軸との交差位置よりも収納容器に近い位置で受け渡し位置から退出する。これにより、基板の搬送時間をさらに短縮することができる。その結果、基板処理装置におけるスループットをさらに向上させることができる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、基板処理のスループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
本発明の一実施の形態に係る基板処理装置について説明する。以下の説明において、基板とは、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板等をいう。
【００３７】
（１）  第１の実施の形態
（１−１）  基板処理装置の構成
図１は第１の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。図２は図１のＫ１−Ｋ１線断面図であり、図３は図１のＫ２−Ｋ２線断面図である。
【００３８】
図１に示すように、この基板処理装置１００は、互いに隣接するインデクサＩＤおよび処理部ＰＲを有する。インデクサＩＤと処理部ＰＲとの間には、隔壁Ｄが形成されている。
【００３９】
インデクサＩＤにおいては、処理部ＰＲの一端に隣接するように、第１の軸Ｓａに沿って延びる基板搬送路１９０が形成されている。隔壁Ｄと対向するように基板搬送路１９０の側辺に沿ってキャリア載置部１Ｓが設けられている。キャリア載置部１Ｓには、複数の基板Ｗを収納する４つのキャリア１が載置される。
【００４０】
基板搬送路１９０内には、４つのキャリア１と処理部ＰＲとの間で基板Ｗを搬送するインデクサロボットＩＲが設けられている。インデクサロボットＩＲは、基板搬送路１９０内で第１の軸Ｓａに沿って移動可能に構成されている。
【００４１】
インデクサＩＤの一部には、制御部４が配置されている。制御部４は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）を含むコンピュータ等からなり、基板処理装置１００の各構成要素を制御する。
【００４２】
処理部ＰＲの中央部には、基板搬送ロボットＣＲが設けられている。基板搬送ロボットＣＲを取り囲むように洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈおよび受け渡し部３が設けられている。
【００４３】
洗浄処理ユニット５ａ〜５ｄは洗浄処理ユニット５ｅ〜５ｈ上に積層されており、洗浄処理ユニット５ａ，５ｂ，５ｅ，５ｆと洗浄処理ユニット５ｄ，５ｃ，５ｈ，５ｇとは基板搬送ロボットＣＲを挟んでそれぞれ対向している。洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈは、例えばＢＨＦ（バッファードフッ酸）、ＤＨＦ（希フッ酸）またはフッ酸等の処理液を用いて基板Ｗの洗浄処理を行う。
【００４４】
処理部ＰＲの四隅には、流体ボックス部２ａ〜２ｄが設けられている。流体ボックス部２ａ〜２ｄの各々は、洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈへの処理液の供給および洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈからの処理液の廃棄等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調整器、処理液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。
【００４５】
受け渡し部３は、上記第１の軸Ｓａに直交する水平方向の第２の軸Ｓｂに沿って延びるように配置されている。受け渡し部３は、搬送レール３０１およびシャトル搬送機構３１０を含む。受け渡し部３の一端部は隔壁Ｄの中央部開口からインデクサＩＤ内に突出している。
【００４６】
搬送レール３０１は、第２の軸Ｓｂに沿って延びている。シャトル搬送機構３１０は、基板Ｗを保持しつつ搬送レール３０１上を往復移動する。これにより、シャトル搬送機構３１０は、受け渡し部３の一端部（以下、第１の受け渡し位置と呼ぶ）３５１と他端部（以下、第２の受け渡し位置と呼ぶ）３５２との間で基板Ｗを搬送する。第１の受け渡し位置３５１の両側部には、通路スペースＳＰが形成されている。通路スペースＳＰの詳細は後述する。
【００４７】
図２に示すように、図１のインデクサロボットＩＲは、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０、第１および第２の昇降機構１３０，１４０、回転機構１５０および移動機構１６０を備える。
【００４８】
第１および第２の基板保持機構１１０，１２０は、それぞれ第１および第２の昇降機構１３０，１４０上に設けられている。第１および第２の昇降機構１３０，１４０は、回転機構１５０上に設けられている。回転機構１５０は、移動機構１６０上に設けられている。
【００４９】
図３に示すように、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０は、それぞれアームＡＲ１，ＡＲ２を有する。アームＡＲ１，ＡＲ２の先端部には、それぞれ水平方向に延びるハンドＩＨ１，ＩＨ２が取り付けられている。基板Ｗの搬送時には、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の上面側で基板Ｗが保持される。
【００５０】
図３に示すように、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０は、それぞれアームＡＲ１，ＡＲ２およびハンドＩＨ１，ＩＨ２を有する。ハンドＩＨ１，ＩＨ２は水平方向に延び、それぞれアームＡＲ１，ＡＲ２により支持されている。ハンドＩＨ１は、ハンドＩＨ２の上方に重なるように配置される。アームＡＲ１，ＡＲ２が屈伸することによってハンドＩＨ１，ＩＨ２が水平方向に進退動作する。基板Ｗの搬送時には、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の上面側で基板Ｗが保持される。
【００５１】
図２に戻り、第１および第２の昇降機構１３０，１４０は、それぞれ独立して第１および第２の基板保持機構１１０，１２０を昇降動作させる。回転機構１５０は、矢印θで示すように第１および第２の昇降機構１３０，１４０を鉛直方向の軸の周りで回転させる。移動機構１６０は、インデクサレール１６１および移動台１６２を有する。インデクサレール１６１は、第１の軸Ｓａに沿って基板処理装置１００の底面に取り付けられている。移動台１６２は、インデクサレール１６１上で第１の軸Ｓａに沿って移動する。
【００５２】
上記構成により、このインデクサロボットＩＲは、第１の軸Ｓａに沿って水平方向に移動する往復移動動作、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０を鉛直方向の軸の周りで回転させる回転動作、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０を鉛直方向に昇降させる昇降動作、およびハンドＩＨ１，ＩＨ２を進退させる進退動作を行う。
【００５３】
図３に示すように、受け渡し部３のシャトル搬送機構３１０は、移動台３２０および２つのハンドＳＨ１，ＳＨ２を有する。２つのハンドＳＨ１，ＳＨ２は、それぞれ水平方向に延びている。基板Ｗの搬送時には、ハンドＳＨ１，ＳＨ２の上面側で基板Ｗが保持される。
【００５４】
ハンドＳＨ１，ＳＨ２は、一定の間隔を保ちつつ上下に重なるように移動台３２０に固定されている。ハンドＳＨ１はハンドＳＨ２の上側に位置する。
【００５５】
インデクサＩＤのインデクサロボットＩＲと受け渡し部３との間で基板Ｗの受け渡しが行われる際には、移動台３２０が第１の受け渡し位置３５１に移動する。一方、受け渡し部３とセンターロボットＣＲとの間で基板Ｗの受け渡しが行われる際には、移動台３２０が第２の受け渡し位置３５２に移動する。
【００５６】
基板搬送ロボットＣＲは、ハンドＣＲＨ１，ＣＨＲ２および搬送アーム３２１，３２２を有する。ハンドＣＲＨ１，ＣＲＨ２は、それぞれ水平方向に延び、一定の間隔で互いに上下に重なるようにそれぞれ搬送アーム３２１，３２２により支持されている。
【００５７】
搬送アーム３２１，３２２は、図示しない昇降機構によって一体的に昇降するとともに、図示しない回転機構によって鉛直方向の軸の周りで一体的に回転する。
【００５８】
（１−２）  基板処理装置の動作の概略
次に、図１〜図３を参照しながらインデクサロボットＩＲ、シャトル搬送機構３１０および基板搬送ロボットＣＲの動作を順に説明する。以下に説明する各構成要素の動作は、制御部４により制御される。
【００５９】
インデクサロボットＩＲは、ハンドＩＨ２によりキャリア１から未処理の基板Ｗを取り出す。続いて、インデクサロボットＩＲは、シャトル搬送機構３１０に対向する位置に移動し、ハンドＩＨ１によりシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１から処理後の基板Ｗを受け取るとともに、ハンドＩＨ２に保持する未処理の基板Ｗをシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ２に渡す。
【００６０】
続いて、インデクサロボットＩＲ１は、いずれかのキャリア１に対向する位置に移動し、ハンドＩＨ２によりキャリア１から未処理の基板Ｗを取り出すとともに、ハンドＩＨ１に保持する処理後の基板Ｗをキャリア１に収納する。インデクサロボットＩＲはこのような動作を連続的に行う。
【００６１】
シャトル搬送機構３１０は、第１の受け渡し位置３５１においてハンドＳＨ２によりインデクサロボットＩＲのハンドＩＨ２から未処理の基板Ｗを受け取った後、第２の受け渡し位置３５２に移動する。そして、ハンドＳＨ１により基板搬送ロボットＣＲのハンドＣＲＨ１から処理後の基板Ｗを受け取るとともに、ハンドＳＨ２に保持する未処理の基板Ｗを基板搬送ロボットＣＲのハンドＣＲＨ２に渡す。
【００６２】
続いて、シャトル搬送機構３１０は、第１の受け渡し位置に移動し、ハンドＳＨ２によりインデクサロボットＩＲのハンドＩＨ２から未処理の基板Ｗを受け取るとともに、ハンドＳＨ１に保持する処理後の基板ＷをインデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１に渡す。シャトル搬送機構３１０はこのような動作を連続的に行う。
【００６３】
基板搬送ロボットＣＲは、ハンドＣＲＨ２によりシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ２から未処理の基板Ｗを受け取った後、洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈのいずれかに対向するように回転する。そして、ハンドＣＲＨ１により洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈから処理後の基板Ｗを搬出するとともに、その洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈにハンドＣＲＨ２に保持する未処理の基板Ｗを搬入する。
【００６４】
続いて、基板搬送ロボットＣＲは、シャトル搬送機構３１０に対向するように回転し、ハンドＣＲＨ２によりシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ２から未処理の基板Ｗを受け取るとともに、ハンドＣＲＨ１に保持する処理後の基板Ｗをシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１に渡す。基板搬送ロボットＣＲはこのような動作を連続的に行う。
【００６５】
このようなインデクサロボットＩＲ、シャトル搬送機構３１０および基板搬送ロボットＣＲの動作によって、未処理の基板Ｗがキャリア１から洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈに順次搬送され、処理後の基板Ｗが洗浄処理ユニット５ａ〜５ｈからキャリア１に順次搬送される。
【００６６】
（１−３）  インデクサロボットによる基板の搬送動作
インデクサロボットＩＲによる基板Ｗの搬送動作の詳細を説明する。図４は第１の実施の形態におけるインデクサロボットＩＲの搬送動作を説明するための平面図である。図４では、基板搬送路１９０を第１の軸Ｓａの方向に拡大して図示する。
【００６７】
ここでは、インデクサロボットＩＲが図３のハンドＩＨ２を用いてキャリア１から受け渡し部３に基板Ｗを搬送する際の動作を説明する。
【００６８】
キャリア１内の基板Ｗを受け取る場合、インデクサロボットＩＲは図２の移動機構１６０によりキャリア１の開口部に対向する位置Ｐ１に移動する。このとき、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の先端がキャリア１に対向する。
【００６９】
図５はインデクサロボットＩＲがキャリア１から基板Ｗを受け取る状態を示す側面図である。図５においては、キャリア１内の基板Ｗを太線により図示する。
【００７０】
図５に示すように、キャリア１は内面に形成された複数の棚（図示せず）により複数の基板Ｗを多段かつ水平に保持する。
【００７１】
インデクサロボットＩＲは、位置Ｐ１でハンドＩＨ１，ＩＨ２をキャリア１内へ前進させる。そして、図２の第２の昇降機構１４０によりハンドＩＨ２を上昇させる。これにより、キャリア１内の基板ＷがハンドＩＨ２により保持される。
【００７２】
ここで、予めハンドＩＨ１に基板Ｗが保持されている場合、インデクサロボットＩＲは、図２の第１の昇降機構１３０によりハンドＩＨ１を下降させる。これにより、ハンドＩＨ１に保持された基板Ｗがキャリア１内に収容される。
【００７３】
その後、インデクサロボットＩＲはハンドＩＨ１，ＩＨ２を後退させる。このようにして、キャリア１内の基板ＷがハンドＩＨ２により受け取られる。
【００７４】
図４に戻り、キャリア１から基板Ｗを受け取った後、インデクサロボットＩＲは矢印Ｍで示すように第１の軸Ｓａに沿って基板搬送路１９０を移動する。
【００７５】
移動開始とともに、インデクサロボットＩＲは、矢印θで示すように、図２の回転機構１５０によりハンドＩＨ１，ＩＨ２を反時計回りに回転させる。また、インデクサロボットＩＲは図２の第１および第２の昇降機構１３０，１４０によりハンドＩＨ１，ＩＨ２を上昇または下降させる。
【００７６】
以下の説明においては、回転開始時におけるハンドＩＨ１，ＩＨ２の向きを基準角度（０度）とし、反時計回りにハンドＩＨ１，ＩＨ２の回転角度を表記する。
【００７７】
位置Ｐ２でハンドＩＨ１，ＩＨ２の回転角度は９０度となる。インデクサロボットＩＲは、位置Ｐ１から位置Ｐ２に移動するまでの間に、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の昇降動作を完了する。
【００７８】
位置Ｐ２において、インデクサロボットＩＲはハンドＩＨ１，ＩＨ２を前進させる。これにより、インデクサロボットＩＲは、基板搬送路１９０の移動動作、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の回転動作およびハンドＩＨ１，ＩＨ２の前進動作を並行して行いつつ、図４の位置Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５を順に移動して受け渡し部３に近づく。
【００７９】
上述のように、第１の受け渡し位置３５１の両側部には通路スペースＳＰが形成されている。この通路スペースＳＰは、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２が前進した状態で通過できるように形成されている。
【００８０】
これにより、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２はシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２の上または下に重なるように、側部から第１の受け渡し位置３５１に進入する。
【００８１】
インデクサロボットＩＲが、受け渡し部３の第１の受け渡し位置３５１に対向する位置Ｐ６に到達したときに、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は、第１の受け渡し位置３５１のハンドＳＨ１，ＳＨ２の上または下に重なり合う。ここで、位置Ｐ６は、図１の第１の軸Ｓａと第２の軸Ｓｂとの交差位置である。
【００８２】
図６はインデクサロボットＩＲが受け渡し部３に基板Ｗを渡す状態を示す側面図である。インデクサロボットＩＲは、基板Ｗを保持するハンドＩＨ２をシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ２よりも高い位置から低い位置まで下降させる。これにより、ハンドＩＨ２に保持された基板Ｗが、シャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ２上に保持される。
【００８３】
ここで、予めシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１に基板Ｗが保持されている場合、インデクサロボットＩＲは、ハンドＩＨ１をシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１よりも低い位置から高い位置まで上昇させる。
【００８４】
これにより、ハンドＳＨ１に保持された基板Ｗが、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１上に保持される。インデクサロボットＩＲは、このようにして受け取った基板Ｗを、上記と逆の動作を行うことによりキャリア１に搬送する。
【００８５】
この搬送動作を説明する。図４の位置Ｐ６において、インデクサロボットＩＲは、シャトル搬送機構３１０から基板Ｗを受け取った後、ハンドＩＨ１，ＩＨ２を時計回りに回転させる。この場合の回転開始時におけるハンドＩＨ１，ＩＨ２の向きを基準角度（０度）とする。
【００８６】
インデクサロボットＩＲは、位置Ｐ６から位置Ｐ２に移動する間にハンドＩＨ１，ＩＨ２を時計回りに９０度回転させるとともに、ハンドＩＨ１，ＩＨ２を後退させる。また、インデクサロボットＩＲは、位置Ｐ２から位置Ｐ１に移動する間にハンドＩＨ１，ＩＨ２を時計回りに９０度から１８０度まで回転させるとともに、ハンドＩＨ１，ＩＨ２を上昇または下降させる。
【００８７】
その後、位置Ｐ１において、インデクサロボットＩＲは基板Ｗを保持するハンドＩＨ１，ＩＨ２をキャリア１内に前進させる。そして、インデクサロボットＩＲは、ハンドＩＨ１を下降させることにより、ハンドＩＨ１に保持された基板Ｗをキャリア１内に収容する。
【００８８】
（１−４）  第１の実施の形態における効果
上記基板処理装置１００においては、第１の受け渡し位置３５１の側部に通路スペースＳＰが形成されている。通路スペースＳＰは、第２の軸Ｓｂに関してハンドＩＨ１，ＩＨ２が通過可能に構成されている。そのため、インデクサロボットＩＲは、ハンドＩＨ１，ＩＨ２を第１の受け渡し位置３５１の側方からハンドＳＨ１，ＳＨ２の上または下に容易に進入または退出させることが可能となっている。
【００８９】
インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２からシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２に基板Ｗが渡される際には、インデクサロボットＩＲの移動機構１６０が第１の軸Ｓａに沿って移動し、回転機構１５０が回転しつつ、ハンドＩＨ１，ＩＨ２が前進する。このとき、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は第１の受け渡し位置３５１の側部を通過して受け渡し部３に移動する。
【００９０】
また、シャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２からインデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２に基板Ｗが渡される際には、インデクサロボットＩＲの移動機構１６０が第１の軸Ｓａに沿って移動し、回転機構１５０が回転しつつ、ハンドＩＨ１，ＩＨ２が後退する。このとき、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は第１の受け渡し位置３５１の側部を通過して受け渡し部３から離れる。
【００９１】
上記のように、この基板処理装置１００においては、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２とシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２との間の基板Ｗの受け渡し時に、第１の軸Ｓａに沿って水平方向に移動する往復移動動作、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０を鉛直方向の軸の周りで回転させる回転動作、およびハンドＩＨ１，ＩＨ２の前進または後退動作が並行して行われる。これにより、インデクサロボットＩＲによる基板Ｗの搬送時間が短縮される。その結果、基板処理装置１００におけるスループットが向上する。
【００９２】
また、キャリア１から受け渡し部３への基板Ｗの搬送時において、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２は回転開始角度を基準として反時計回りに０度から９０度の範囲で昇降動作し、９０度から１８０度の範囲で前進する。
【００９３】
これにより、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２が、第１の受け渡し位置３５１に進入する際に、シャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２に接触することが確実に防止される。また、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の前進前に、インデクサロボットＩＲの移動動作、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の回転動作およびハンドＩＨ１，ＩＨ２の昇降動作が並行して行われるので、基板Ｗの搬送時間がより短縮される。
【００９４】
一方、受け渡し部３からキャリア１への基板Ｗの搬送時において、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２は回転開始角度を基準として時計回りに０度から９０度の範囲で後退し、９０度から１８０度の範囲で昇降動作する。
【００９５】
これにより、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２が、第１の受け渡し位置３５１から退出する際に、シャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２に接触することが確実に防止される。また、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の後退後に、インデクサロボットＩＲの移動動作、ハンドＩＨ１，ＩＨ２の回転動作およびハンドＩＨ１，ＩＨ２の昇降動作が並行して行われるので、基板Ｗの搬送時間がより短縮される。
【００９６】
上述のように、図１の基板処理装置１００においては、受け渡し部３の第１の受け渡し位置３５１が隔壁Ｄの中央部開口からインデクサＩＤ内に突出している。
【００９７】
この場合、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２が通過可能となるように、通路スペースＳＰを容易に構成することができる。これにより、簡単な構成で、スループットを向上させることができる。
【００９８】
（１−５）  他の動作例
本実施の形態に係る基板処理装置１００において、インデクサロボットＩＲは、キャリア１から受け渡し部３に基板Ｗを搬送する際に、以下の動作を行ってもよい。
【００９９】
図７は第１の実施の形態におけるインデクサロボットＩＲの搬送動作の他の例を示す平面図である。図７においても、図４と同様に、基板搬送路１９０を第１の軸Ｓａの方向に拡大して図示する。
【０１００】
図７に示すように、インデクサロボットＩＲは、キャリア１から受け渡し部３に基板Ｗを搬送する場合、キャリア１に対向する位置Ｐ１から位置Ｐ４にかけて図４の例と同様に動作する。
【０１０１】
さらに、インデクサロボットＩＲは、位置Ｐ４から位置Ｐ５に移動する間に、基板搬送路１９０の移動動作、回転機構１５０による回転動作、およびハンドＩＨ１，ＩＨ２の前進動作を並行して行う。ここで、位置Ｐ５は、第１の軸Ｓａと第２の軸Ｓｂとの交差位置である位置Ｐ６よりもキャリア１に近い位置である。
【０１０２】
図７の点線で示すように、インデクサロボットＩＲが位置Ｐ５に到達したときに、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は受け渡し部３の第１の受け渡し位置３５１のハンドＳＨ１，ＳＨ２の上または下に重なり合う。なお、本実施形態はハンドＳＨ１，ＳＨ２は平面位置が同じである。
【０１０３】
この場合においても、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は側部から第１の受け渡し位置３５１に進入する。そして、ハンドＩＨ２に保持された基板Ｗが受け渡し部３に渡される。
【０１０４】
このように、本例では、インデクサロボットＩＲは、第１の軸Ｓａと第２の軸Ｓｂとの交差位置である位置Ｐ６よりもキャリア１に近い位置Ｐ５からハンドＩＨ１，ＩＨ２を第１の受け渡し位置３５１に進入させる。
【０１０５】
受け渡し部３からキャリア１に基板Ｗを搬送する際には、インデクサロボットＩＲは、上記と逆の動作を行う。まず、図７の位置Ｐ５において、インデクサロボットＩＲは、シャトル搬送機構３１０から基板Ｗを受け取った後、位置Ｐ５から位置Ｐ４に移動する間に、ハンドＩＨ１，ＩＨ２を時計回りに回転させつつ、後退させる。これにより、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は第１の受け渡し位置３５１の側部から退出する。
【０１０６】
このように、本例では、インデクサロボットＩＲは、第１の軸Ｓａと第２の軸Ｓｂとの交差位置である位置Ｐ６よりもキャリア１に近い位置Ｐ５でハンドＩＨ１，ＩＨ２を第１の受け渡し位置３５１から退出させる。
【０１０７】
なお、位置Ｐ４からキャリア１に対向する位置Ｐ１までの間の基板Ｗの搬送は、図４の例と同様である。
【０１０８】
この場合、インデクサロボットＩＲは、第１の軸Ｓａと第２の軸Ｓｂとの交差位置である位置Ｐ６まで移動することなく受け渡し部３に基板Ｗを渡すことができ、位置Ｐ６まで移動することなく受け渡し部３から基板Ｗを受け取ることができる。これにより、基板Ｗの搬送時間が短縮され、基板処理装置１００におけるスループットがさらに向上する。
【０１０９】
なお、上記のようにインデクサロボットＩＲの搬送動作が行われる場合、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２、およびシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２は互いに干渉しないように形成することが好ましい。
【０１１０】
（２）  第２の実施の形態
図８は、第２の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。図８に示すように、第２の実施の形態に係る基板処理装置１００ａの構成が第１の実施の形態に係る基板処理装置１００の構成と異なる点を説明する。
【０１１１】
図８に示すように、この基板処理装置１００ａにおいては、受け渡し部３が処理部ＰＲ内に配置されている。そして、流体ボックス２ａ，２ｂの隅部を切り欠くように、隔壁Ｄの一部が処理部ＰＲの内側斜めに向かって形成されている。それにより、受け渡し部３の第１の受け渡し位置３５１の両側部に、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２が前進した状態で通過できる通路スペースＳＰが形成されている。
【０１１２】
したがって、インデクサロボットＩＲは、第１の実施の形態で説明した図４のインデクサロボットＩＲと同様の動作を行うことができる。
【０１１３】
すなわち、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２からシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２に基板Ｗが渡される際には、インデクサロボットＩＲの移動機構１６０が第１の軸Ｓａに沿って移動し、回転機構１５０が回転しつつ、ハンドＩＨ１，ＩＨ２が前進する。このとき、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は第１の受け渡し位置３５１の側部を通過して受け渡し部３に移動する。
【０１１４】
また、シャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２からインデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２に基板Ｗが渡される際には、インデクサロボットＩＲの移動機構１６０が第１の軸Ｓａに沿って移動し、回転機構１５０が回転しつつ、ハンドＩＨ１，ＩＨ２が後退する。このとき、ハンドＩＨ１，ＩＨ２は第１の受け渡し位置３５１の側部を通過して受け渡し部３から離れる。このように、この基板処理装置１００ａにおいては、インデクサロボットＩＲのハンドＩＨ１，ＩＨ２とシャトル搬送機構３１０のハンドＳＨ１，ＳＨ２との間の基板Ｗの受け渡し時に、第１の軸Ｓａに沿って水平方向に移動する往復移動動作、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０を鉛直方向の軸の周りで回転させる回転動作、およびハンドＩＨ１，ＩＨ２の前進または後退動作が並行して行われる。これにより、インデクサロボットＩＲによる基板Ｗの搬送時間が短縮され、基板処理装置１００ａにおけるスループットが向上する。
【０１１５】
本実施の形態に係る基板処理装置１００ａにおいては、受け渡し部３の第１の受け渡し位置３５１が処理部ＰＲに配置されるので、インデクサＩＤの大きさを小さくすることができる。これにより、基板処理装置１００ａ全体のフットプリントが低減される。
【０１１６】
また、隔壁Ｄの一部を処理部ＰＲの内側に配置することにより、受け渡し位置３５１の側部をハンドＩＨ１，ＩＨ２が通過可能となるように処理部ＰＲを容易に構成することができる。
【０１１７】
（３）  請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【０１１８】
上記の各実施の形態においては、インデクサＩＤが搬入搬出部の例であり、キャリア１が収納容器の例であり、キャリア載置部１Ｓが容器載置部の例であり、インデクサロボットＩＲが第１の搬送手段の例であり、第１および第２の昇降機構１３０，１４０、回転機構１５０、ならびに移動機構１６０が移動機構部の例である。
【０１１９】
また、第１および第２の基板保持機構１１０，１２０が第１の基板保持手段の例であり、シャトル搬送機構３１０が第２の基板保持手段の例であり、第１の受け渡し位置３５１が受け渡し位置の例であり、通路スペースＳＰが受け渡し位置の側部の例であり、図７の位置Ｐ５が第１の軸と第２の軸との交差位置よりも収納容器に近い位置の例である。
【０１２０】
なお、請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることも可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明は、半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、および光ディスク用基板等の種々の基板に処理を行うため等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】第１の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。
【図２】図１のＫ１−Ｋ１線縦断面図である。
【図３】図１のＫ２−Ｋ２線縦断面図である。
【図４】第１の実施の形態におけるインデクサロボットの搬送動作を説明するための平面図である。
【図５】インデクサロボットがキャリアから基板を受け取る状態を示す側面図である。
【図６】インデクサロボットが受け渡し部に基板Ｗを渡す状態を示す側面図である。
【図７】第１の実施の形態におけるインデクサロボットの搬送動作の他の例を示す平面図である。
【図８】第２の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。
【図９】特許文献１に記載の基板処理装置を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１２３】
ＩＤ  インデクサ
１  キャリア
４  制御部
１Ｓ  キャリア載置部
ＩＲ  インデクサロボット
１３０  第１の昇降機構
１４０  第２の昇降機構
１５０  回転機構
１６０  移動機構
１００  基板処理装置
１１０  第１の基板保持機構
１２０  第２の基板保持機構
３１０  シャトル搬送機構
３５１  第１の受け渡し位置
ＳＰ  空間
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５  位置
ＰＲ  処理部
Ｓａ  第１の軸
Ｓｂ  第２の軸
【図１】
2009049233.tif 000003
【図２】
2009049233.tif 000004
【図３】
2009049233.tif 000005
【図４】
2009049233.tif 000006
【図５】
2009049233.tif 000007
【図６】
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【図７】
2009049233.tif 000009
【図８】
2009049233.tif 000010
【図９】
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