(57)【要約】【課題】容易にエッチングの終点を検出することができ、形成される振動子の振動特性を一定に保つことが容易且つ確実にできる振動子の製造方法、及びウェットエッチング装置を提供する。【解決手段】ウェットエッチングによりエッチング液102中で基板111に振動子112を形成して、目標の振動特性を持つ振動子112を達成できたところで、ウェットエッチングを停止する。ウェットエッチングの停止点を検出するために、励振手段104で励振された振動子112の目標の振動数に対する振動状態を、検出手段105によって、エッチング液102中で少なくとも1回検出する。【選択図】図1-1
2009290169.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェットエッチングによりエッチング液中で基板に振動子を形成する第1の工程と、
前記ウェットエッチングを停止する第2の工程と、
を有する振動子の製造方法であって、
前記第1の工程と前記第2の工程との間に、前記振動子を励振し、当該励振された前記振動子の目標の振動数に対する振動状態を前記エッチング液中で少なくとも1回検出する第3の工程を有することを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項２】
請求項1に記載の振動子の製造方法であって、
前記第3の工程では、前記振動子を励振する励振手段と、前記励振手段による前記振動子の振動状態を検出する検出手段と、を用いて、前記振動子の振動状態を検出し、
前記第2の工程では、前記振動子が目標の振動数で共振状態となったことを前記第3の工程において検出した時に前記ウェットエッチングを停止することを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項３】
請求項1または2に記載の振動子の製造方法であって、
前記励振の振動数は前記目標の振動数と一致し且つ一定であることを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項４】
請求項1または2に記載の振動子の製造方法であって、
前記励振の振動数は前記目標の振動数を含み且つ周期的に変化することを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項５】
請求項1から4のいずれか1つに記載の振動子の製造方法であって、
前記励振のエネルギーは、前記エッチング液を媒体として前記振動子へ伝えることを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項６】
請求項1から4のいずれか1つに記載の振動子の製造方法であって、
前記励振のエネルギーは、前記振動子を支持する支持部を媒体として前記振動子へ伝えることを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項７】
請求項1から6のいずれか1つに記載の振動子の製造方法であって、
前記検出手段は光学的に前記振動子の振動状態を検出することを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項８】
請求項1から6のいずれか1つに記載の振動子の製造方法であって、
前記検出手段は前記エッチング液の振動を検出することを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項９】
請求項1から8のいずれか1つに記載の振動子の製造方法であって、
前記エッチング液として、アルカリ溶液を用いることを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項１０】
請求項1から8のいずれか1つに記載の振動子の製造方法であって、
前記エッチング液として、フッ酸と硝酸とを含む混酸を用いることを特徴とする振動子の製造方法。
【請求項１１】
エッチング液を保持するためのエッチング槽と、
被エッチング物を励振するための励振手段と、
前記励振手段により前記エッチング液中で励振される前記被エッチング物の振動状態を検出するための検出手段と、
を有することを特徴とするウェットエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェットエッチングによる振動子の製造方法、振動子をウェットエッチングにより形成するためのウェットエッチング装置などに関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェットエッチングによる振動子の加工において、エッチングの終点検出は重要な技術事項である。ウェットエッチングにおける終点の検出は、従来、時間管理による方法や、図7（a）に示すように厚みセンサ51を設け、半導体ウェハ41のエッチング部分の厚みをモニタしながらエッチング処理を行う方式が知られている（特許文献1参照）。尚、図7（a）において、kは所定の測定点、Bは赤外線などの光ビーム、41aは回路面などの下面、41bはエッチング面、42aは凹部、43はマスクである。
【０００３】
一方、被エッチング物の動作特性をモニタしながらエッチングする方法としては、図7（b）に示すような方法が知られている（特許文献2参照）。この技術では、ドライエッチング手段1とハウジング4を有するドライエッチング装置において、被エッチング材料5と同一条件でエッチングされるように水晶振動子2を配置する。膜厚制御装置3は、エッチング作業中に水晶振動子2の振動数をモニタし、振動数の変化に基づいて、水晶振動子2から除去された重量を求め、これが所定値に達したときにエッチングを停止させる。
【特許文献１】特開2001-144068号公報
【特許文献２】特開2007-115939号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献1の技術では、エッチング処理中において、エッチング部分の厚みをモニタしているに過ぎない。また、特許文献1の技術では、被エッチング材料のエッチング量を間接的にモニタしてその量を一定に制御することはできるが、被エッチング材料が振動子である場合にその共振振動数を制御することは容易ではない。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題に鑑み、本発明の振動子の製造方法は、ウェットエッチングによりエッチング液中で基板に振動子を形成する第1の工程と、前記ウェットエッチングを停止する第2の工程と、を有する。更に、前記第1の工程と前記第2の工程との間に、前記振動子を励振し、当該励振された前記振動子の目標の振動数に対する振動状態を前記エッチング液中で少なくとも1回検出する第3の工程を有する。
【０００６】
また、上記課題に鑑み、本発明のウェットエッチング装置は、エッチング液を保持するためのエッチング槽と、被エッチング物を励振するための励振手段と、検出手段と、を有する。前記検出手段は、前記励振手段により前記エッチング液中で励振される前記被エッチング物の振動状態を検出する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ウェットエッチングにより被エッチング物を加工して振動子を形成する際に、エッチング液中で励振される被エッチング物の振動状態を検出する。よって、目標の振動状態を検出することで簡単にエッチングの終点を決定でき、形成される振動子の振動特性、特に、振動子の共振振動数を一定に保つことが容易且つ高精度に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の振動子の製造方法の基本的な実施形態は、ウェットエッチングによりエッチング液中で基板に振動子を形成する第1の工程と、前記ウェットエッチングを停止する第2の工程と、を有する。そして、前記第1の工程と前記第2の工程との間に、前記振動子を励振し、当該励振された前記振動子の振幅、共振振動数などの目標の振動数に対する振動状態を前記エッチング液中で少なくとも1回検出する第3の工程を有する。これにより、エッチングの進行中に振動子の振動状態を検出でき、基板の厚さなどにばらつきがありエッチング量を一定に制御しても振動子の振動特性を一定に制御できない場合でも、形成される振動子の振動特性を均一に保つことが容易にできる。そして、振動子が目標の振動数で共振状態となるようにエッチング加工することができる。
【０００９】
より具体的には、前記第3の工程では、振動子を励振する励振手段と、この励振手段による振動子の振動状態を検出する検出手段と、を用いて、振動子の振動状態を検出する。そして、前記第2の工程では、振動子が目標の振動数で共振状態となったことを前記第3の工程において検出した時に前記ウェットエッチングを停止する。これにより、エッチング液中で振動子を実際に振動させて振動状態を検出でき、振動子が目標の振動数で共振状態なったときにエッチングを確実に停止できる。
【００１０】
前記励振の振動数は前記目標の振動数と一致し且つ一定である様に設定することができる。この場合、振動子は常に前記目標の振動数で励振されて常に前記目標の振動数で振動するので、前記検出手段は振動子の振動数を検出する必要がなく、振動子の振幅が極大となったときに振動子が前記目標の振動数で共振状態となったと判断できる。そのため、エッチングの停止をより高精度且つ容易にできる。
【００１１】
前記励振の振動数は前記目標の振動数を含み且つ周期的に変化する様に設定することもできる。この場合、振動子の共振振動数の変化をエッチング中に随時検出でき、振動子のエッチングの進行状態を検出できるため、振動子が前記目標の振動数で共振状態となったと判断できた時にエッチングを停止すればよい。よって、エッチングの停止をより高精度且つ容易にできる。
【００１２】
前記励振のエネルギーは、前記エッチング液を媒体として振動子へ伝えることができる。この場合、振動子と前記エッチング液とを同時に振動させることができて、エッチング液を攪拌できるため、振動子をより高精度且つ短時間でエッチングできる。
【００１３】
前記励振のエネルギーは、振動子を支持する支持部を媒体として振動子へ伝えることもできる。この場合、前記エッチング液の流れ等の影響を受けることなく振動子に振動を効率良く伝えることができ、振動子の振動振幅をより大きくすることもできるため、振動子の振動状態の検出をより高精度且つ容易にできる。
【００１４】
前記エッチング液として、アルカリ溶液を用いることができる。アルカリ溶液を用いて振動子を加工することで、結晶異方性エッチングによる高精度な加工が可能となるため、振動子をより高精度且つ容易にエッチングできる。
【００１５】
前記エッチング液として、フッ酸と硝酸とを含む混酸を用いることもできる。フッ酸と硝酸とを含む混酸を用いて振動子を加工することで、この混酸のエッチング速度が比較的速い特徴を活かし、振動子をより短時間で加工することができる。そのため、振動子をより安価に提供することができる。
【００１６】
エッチング液を保持するエッチング槽と、被エッチング物を励振する励振手段と、この励振手段によりエッチング液中で励振される被エッチング物の振動状態を検出する検出手段と、を有するウェットエッチング装置を用いて、前記振動子を形成できる。こうしたエッチング装置であれば、より高性能の良好な振動特性を持つ振動子を容易且つ安価に提供することができる。
【００１７】
以下、図面を用いて、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００１８】
（第1の実施形態）
本発明に係る振動子の製造方法の第1の実施形態を用いたエッチング装置100について、図面を用いて説明する。図1-1（a）は正面図、図1-1（b）は図1-1（a）におけるA-A’断面図である。
【００１９】
エッチング槽101に満たされたエッチング液102に、所定のパターンのエッチングマスクを有する基板111が、支持部103に支持された状態で浸漬されている。基板111は、例えば、シリコン基板である。エッチング液102は、例えば、フッ酸と硝酸とを含む混酸を用いる。シリコンとフッ酸と硝酸とを含む混酸との組み合わせであれば、エッチング速度が比較的速く、例えば図1-1（a）に示す如き形態の振動子112をより短時間で加工することができる。振動子112を短時間で大量に加工可能となるため、振動子112をより安価に作製することができる。弾性支持部を介して支持体で支持される振動子112の振動板の大きさ（弾性支持部で構成される振動軸に直交する方向の長さ）は、例えば5mm程度である。前記基板がシリコンであることで、ウェットエッチングによる振動子の作製をより安価にできる。
【００２０】
図1-1（b）に示す様に、検出手段105がエッチング槽101に配置され、エッチング液102中の振動子112の振動数と振幅の少なくとも1つを検出する。また、励振手段104が支持部103に配置される。励振手段104は、振動することにより振動子112を励振する。すなわち、励振手段104は、振動子112を支持する支持部103を媒体として振動子112へ振動を伝える。励振手段104の振動方向は、振動子112をより効率良く励振する方向に設定される。例えば、振動子112がねじれ振動する場合、振動子112に、ねじれ振動軸（例えば図1-1（a）のA-A’線に沿った軸）回りのねじれ運動を加えると良い。振動子112がねじれ振動すれば、振動子112の該ねじれ運動の振幅を他の振動モードより大きくできるため、振動子112の振動状態の検出が、検出手段105でより高精度且つ容易にできる。こうして、支持部103が弾性支持部の軸回りに往復振動を与えると、効率的に振動子112のねじり振動を起こすことができ、振動子112は目標の振動数で共振状態となったときに大きくねじれ振動する。これにより、この共振状態の検出が確実にできる。本実施形態では、励振手段104の振動数はエッチング停止振動数fsで、その振動数は、例えば、1000Hzから20000Hzの間である。目標の振動数となる該エッチング停止振動数fsは、例えば、振動子112に磁石などが装着されて振動子112が最終的に持つべき最終目標の共振振動数に基づいて、理論的にシミュレーションにより求めることができる。
【００２１】
次に、検出手段105による振動数と振幅の検出方法について説明する。図1-2（a）は本実施形態の検出手段105の構成を示している。検出手段105は、光源105aと光検出器105bとで構成される。光源105aと光検出器105bとは、エッチング液102中の振動子112に対し角度θDをなすように配置される。光源105aから振動子112に向けてレーザー光が照射され、振動子112で反射したレーザー光は光検出器105bに入射する。光源105aからのレーザー光が、図1-2（a）に示す如く中立位置にあるときの振動子112の振動板に垂直に入射する様に設定されている場合、該振動板が図1-2（a）で左側に角度θD/2振れた状態の時にレーザー光は光検出器105bに入射する。検出手段として光源と光検出器とを用いることで、振動子の振動状態の検出をより高精度且つ容易にできる。
【００２２】
図1-2（b）は、振動子112の振動状態と光検出器105bの出力の関係を示すグラフである。ここで、θAは振動子112の振幅（振幅角）、θDは光源105aと光検出器105bとのなす角度、Tは振動子112の振動周期、TSは光検出器105bのレーザー光通過時間である。また、TLはレーザー光が光検出器105bの外側（図1-2（a）で光検出器105bの左側）を通過する時間、TRはレーザー光が光検出器105bの内側（図1-2（a）で光検出器105bの右側）を通過する時間を表す。光検出器105bにレーザー光が入射すると、光検出器105bの出力が変化する。TSが十分に小さいとき（これは通常満足される）、振動子112の振動数ｆと振幅θAは次の式（1-1）、（1-2）で夫々表すことができる。従って、検出手段は、振動子112の振動数と振幅を得たければ、光検出器105bで検出される時間信号と式（1-1）、（1-2）とにより振動数と振幅を算出して検出することができる。
【００２３】
【数１】
2009290169.tif 000003
【００２４】
本実施形態における、エッチング液102中の振動子112の検出手段105による共振状態の検出とエッチング停止方法について説明する。図2（a）は、本実施形態の励振手段104の振動数の時間変化（ここでは一定）を示すグラフ、図2（b）はエッチング途中の振動子112の共振振動数の時間変化を示すグラフである。また、図2（c）はエッチング途中の振動子112の振幅の時間変化を示すグラフである。図2（a）では励振手段104が上記fsで連続動作している様に表しているが、上記fsで間欠動作する様にしてもよい。エッチング過程において、例えば、基板111に振動子112が適当なところまで形成された後、振動子112は励振手段104により励振され振動する。振動子112は、励振手段104により励振されるため、励振手段104と等しい振動数で振動する。本実施形態では、励振手段104はエッチング停止振動数fsで振動するため、振動子112の振動数は常にエッチング停止振動数fsと等しい。しかし、図2（b）に示す様に変化する振動子112の共振振動数とエッチング停止振動数fsとが大きく異なる場合、振動子112の振幅は極めて小さい（図2（c）参照）。
【００２５】
振動子112のエッチングが進むと振動子112の寸法ないし形状が変化し、図2（b）に示す様に振動子112の共振振動数が変化する。時間tsに近づくにつれて、図2（b）及び（c）に示す様に、振動子112の共振振動数と励振手段104の振動数fsとの差が減少し、振動子112の振幅が増加する。時間tsで、振動子112の共振振動数とエッチング停止振動数fsとが一致し、振動子112の振幅は極大値Amaxとなる。これは、共振振動数の特性である。従って、この特性に基づき、検出手段105は、振動子112の振幅が極大値Amaxとなったとき、振動子112がエッチング停止振動数fsで共振状態にあると判断し、エッチングを停止させる。本実施形態では、検出手段105において、振動子112の振幅は、光検出器105bで検出される上記時間と上記式（1-2）とにより算出して検出することができる。本実施形態では、振動子112の振動数ｆは一定で分かっているので、振幅をモニタしてこれが極大となったときに振動子が共振状態になったと高精度且つ容易に判断できる。
【００２６】
エッチングを停止するために、例えば、何らかの手段で、支持部103に支持された基板111をエッチング液102から速やかに引き揚げ、洗浄する。こうして、振動子112の共振振動数を直接測定することなく、振動子112の振幅を測定することで、作製される振動子112の共振振動数をエッチング停止振動数fsに揃えることができる。
【００２７】
以上の製造方法であれば、基板111の厚さなどにばらつきがある場合でも、所定の共振振動数を持つ振動子が確実に作製可能である。
【００２８】
本実施形態では、エッチング液中で振動子に振動を与え、この振動状態を検知して、共振状態に達した時点をエッチングの終点とする。この様な方法で終点を検知することにより、エッチングの進行具合を確認するためにエッチング途中で被エッチング物をエッチング液から取り出す必要がなく、また達成されるエッチングの進行度合いの過不足もなくなる。従って、エッチング工程を簡略化することができると共に、エッチングの達成精度も向上させることができる。
【００２９】
（第2の実施形態）
本発明に係る振動子の製造方法の第2の実施形態を用いたエッチング装置200について、図面を用いて説明する。図3（a）は正面図、図3（b）は図3（a）におけるB-B’断面図である。基本的な構成は前述の第1の実施形態とほぼ同じであり、同機能の部分には同符号が付してある。
【００３０】
本実施形態においては、基板111には複数の振動子112が形成される。また、励振手段104はエッチング槽101に配置されている。励振手段104は振動することによりエッチング液102に振動を伝え、エッチング液102から振動子112に振動が伝わることで振動子112が振動する。すなわち、励振手段104は、エッチング液102を媒体として振動子112へ振動を伝える。励振手段104と検出対象の振動子112とは、出来る限り近接するように配置されることで、励振手段104の振動を振動子112へより効率良く伝えることができ、振動子112をより効率的により大きな振幅で励振することができる。また、振動子112近傍のエッチング液102をより効果的に攪拌できて、エッチングを促進することができる。同一の基板111において厚さが均一な場合、同一基板内の1つの振動子112の振動状態を代表して検出すれば、複数の振動子112のエッチングを制御することができる。励振手段104としては、適当な周波数の音波ないし振動波を出力するスピーカーなどを用いることができる。
【００３１】
次に、支持部103で支持された基板111の適当な振動子112を挟んで励振手段104と対向して配置された検出手段105による振動状態の検出方法について説明する。図4（a）は、励振手段104の振動状態の振動数の時間変化を表すグラフであり、横軸は時間を示し、縦軸は振動数を示す。図4（b）は、振動子112の1周期における振動状態の振動数を表すグラフであり、横軸は時間を示し、縦軸は振動子112の振動数を示す。図4（c）は、振動子112の1周期における振動状態の振幅を表すグラフであり、横軸は時間を示し、縦軸は振動子112の振幅を示す。図4（a）に示す様に、本実施形態では、励振手段104の振動数は周期Tで変化し、時間をt=nT+ta（nは自然数、0≦ta<T）と表すと、励振手段104の振動数は次の式（2）で表すことができる。
【００３２】
【数２】
2009290169.tif 000004
【００３３】
例えば、fminは1000Hz、fmaxは20000Hz、周期Tは10秒である。振動子112は励振手段104によって励振されるため、図4（b）に示す様に励振手段104と同じ振動数で振動する。図4（c）において、時間nT+t1で振動子112の振幅が最大となったとき、振動子112の振動数は、その時の共振振動数である。振動子112の共振振動数はエッチングの進行と共に徐々に変化し、エッチング停止振動数fsに近づく。こうして、検出手段105は、各周期において、振幅が最大となる共振振動数をモニタしつつ、或る周期の振動子112の共振振動数とエッチング停止振動数fsとが一致したとき、エッチングを停止させる。振幅と振動数の検出は、検出手段105からの時間信号に基づき、上記式（1-1）、（1-2）を用いて行なうことができる。エッチングの停止方法は、第1の実施形態で述べた様に行えばよい。
【００３４】
以上の製造方法における共振状態の検出方法であれば、エッチング途中の振動子112の共振振動数の変化がより的確に検出できるため、振動子112の共振振動数がエッチング停止振動数fsに至った時点でのエッチングの停止をより確実に行うことができる。よって、エッチング後の振動子の共振振動数をより高精度に揃えることができる。
【００３５】
（第3の実施形態）
本発明に係る振動子の製造方法の第3の実施形態を用いたエッチング装置200について、図面を用いて説明する。図3（a）は正面図、図3（b）は図3（a）におけるB-B’断面図である。基本的な構成は前述の第2の実施形態とほぼ同じであり、同機能の部分には同符号が付してある。
【００３６】
本実施形態においては、励振手段104は振動することによりエッチング液102に振動を伝え、エッチング液102から振動子112に振動が伝わることで振動子112が振動する。すなわち、励振手段104は、エッチング液102を媒体として振動子112へ振動を伝える。また、励振手段104は複数の振動数で振動する。検出手段105はエッチング液102の振動を検出する。例えば、励振手段104としては、適当な周波数の音波ないし振動波を出力するスピーカーなど、検出手段105としては、励振手段104の音波ないし振動波を入力するマイクロホンなどを用いることができる。
【００３７】
次に、励振手段104及び検出手段105を用いた振動子112の振動状態の検出方法について説明する。励振手段104から出力された振動エネルギーはエッチング液102を媒体として振動子112へ伝わる。振動子112はエッチング液102から振動エネルギーを受け、或る共振振動数で共振する。このとき、振動子112はエッチング液102から振動エネルギーを吸収するため、エッチング液102の振動から振動子112の共振振動数帯域の振動が減少する。検出手段105はエッチング液102の振動を検出し、励振手段104の出力する周波数帯域と検出された周波数帯域とを比較し、減少した振動数帯域を振動子112の共振振動数として検出する。このように検出される振動子112の共振振動数はエッチングの進行と共に徐々に変化し、エッチング停止振動数fsに近づく。こうして、検出手段105は振動子112の共振振動数をモニタしつつ、振動子112の共振振動数とエッチング停止振動数fsとが一致したとき、エッチングを停止させる。エッチングの停止方法は、第1の実施形態で述べた様に行えばよい。
【００３８】
以上の製造方法における共振状態の検出方法であれば、エッチング途中の振動子112の共振振動数の変化がより的確に検出できるため、振動子112の共振振動数がエッチング停止振動数fsに至った時点でのエッチングの停止をより確実に行うことができる。また、第1の実施形態及び第2の実施形態のような光学的な検出手段が適用困難な場合でも振動子112の共振振動数を検出することができる。よって、エッチング後の振動子の共振振動数をより高精度に揃えることができる。
【００３９】
（第4の実施形態）
本発明の製造方法を用いて製造された振動子300について、図面を用いて説明する。図5（a）は正面図、図5（b）はC-C’断面図、図5（c）はD-D’断面図である。振動子300の大きさは、例えば、縦15mm、横5mm、厚さ0.3mm程度である。
【００４０】
振動子300は、振動板201が2つのねじりバネ202を介して支持体203で支持され、基板211により一体で形成されている。基板211は単結晶シリコンからなる。単結晶シリコンは、ヤング率が大きい、比重が小さい、塑性変形しないなど、機械的特性に優れているため、振動板201に大きい共振振動数を持たせることが可能である。ねじりバネ202は、どちらか1つにして、振動板201を片持ち梁式に支持してもよい。振動板201には永久磁石214が実装され、永久磁石214に対して固定側の適当な位置に電磁石（不図示）を配置することで振動板201を駆動する。永久磁石214は複数でもよく、また、振動板201の両面に実装されてもよい。前述した様に、こうした永久磁石の実装形態を予め考慮して、上記エッチング停止振動数fsは決定されるので、永久磁石を実装後の振動子の最終的な共振振動数は最終目標の値に確実に設定されることになる。
【００４１】
次に、振動子300の作製方法について説明する。図6は振動子300の作製方法の工程を示す断面図である。まず、シリコン単結晶を材料とする基板211の両面に窒化シリコン216を成膜する（図6（a））。
【００４２】
表面の窒化シリコン216上に、ノボラック系のレジストを厚さ約1μm塗布し、フォトリソグラフィーでレジストマスク（不図示）を形成する。その後、CF4などのフッ素系ガスを用いてRIEを行い、窒化シリコン216をエッチングして窒化シリコンマスク216を形成し、レジストマスクを除去する。同様にして、裏面の窒化シリコンマスク216も形成する（図6（b））。
【００４３】
上述した様に、アルカリ水溶液に漬けることで基板211のエッチングを行い、振動板201、ねじりバネ202（図6では不図示）、支持体203を形成する。本実施形態では、水酸化カリウム水溶液を用いている。水酸化カリウム水溶液のようなアルカリ水溶液は、単結晶シリコンの（111）等価面のエッチング速度が他の面に比べて遅い異方性エッチングを可能とするため、（111）等価面に囲まれた形状を形成することができる。本実施形態では、この特徴を用いて、振動板201、ねじりバネ202、支持体203の側壁形状を作製できる（図6（c））。エッチングの停止点は前述した様にして決定する。この後に、第1の実施形態で用いた混酸（この粘性はアルカリ水溶液の粘性より大きい）などを使用して等方性エッチングを若干行う工程を実行することもできる。この場合は、エッチングの停止点はこの工程で決めてもよい。
【００４４】
続いて、窒化シリコン216を、CF4などのフッ素系ガスを用いてRIEにて除去する（図6（d））。また、直径0.3mm、長さ1.8mmの硬磁性体の線材を振動板201に配置して接着剤で固定する。更に、これを磁化することで永久磁石114とする（図6（e））。
【００４５】
本発明の振動子の製造方法では、振動子の形状が微妙に理想的なものと違っていても、目標の共振振動数が達成されていればよい。本発明はその点に着目して、エッチング途中の振動子の振動状態を少なくとも1回検知してエッチングの停止点を決める。こうすれば、確実に目標の共振振動数を持つ振動子を作製することができる。また、本発明の製造方法によれば、たとえ、実現した共振振動数が目標のものと多少違ったとしても、その相異量は小さく、その後の軽微な調整で容易に目標の共振振動数とできる調整可能範囲内のものとできる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１−１】本発明の製造方法の第1の実施形態を説明する図であり、（a）は正面図、（b）は断面図。
【図１−２】本発明の製造方法の第1の実施形態を説明する図であり、（a）は検出手段の構成を示す図、（b）は振動子の振動状態と光検出器の出力の関係を示す図。
【図２】第1の実施形態のエッチング液中における検出手段による共振状態の検出とエッチング停止方法について説明する図であり、（a）は励振手段の振動数と時間との関係を示す図、（b）は振動子の共振振動数と時間との関係を示す図、（c）は振動子の振幅と時間との関係を示す図。
【図３】本発明の製造方法の第2の実施形態、および第3の実施形態を説明する図であり、（a）は正面図、（b）は断面図。
【図４】第2の実施形態のエッチング液中における検出手段による共振状態の検出とエッチング停止方法について説明する図であり、（a）は励振手段の振動数と時間との関係を示す図、（b）は1周期における振動子の振動数と時間との関係を示す図、（c）は1周期における振動子の振幅と時間との関係を示す図。
【図５】本発明の第4の実施形態を説明する図であり、（a）は上面図、（b）は断面図、（c）は他の断面図。
【図６】第4の実施形態の振動子の作製方法の工程を説明する断面図。
【図７】本発明の背景技術を説明する図。
【符号の説明】
【００４７】
100、200：エッチング装置
101：エッチング槽
102：エッチング液
103：支持部
104：励振手段
105：検出手段
105a：光源（検出手段）
105b：光検出器（検出手段）
111、211：基板
112、300：振動子
201：振動板
202：ねじりバネ（弾性支持部）
203：支持体
214：永久磁石
216：窒化シリコン
【図１−１】
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【図１−２】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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