(57)【要約】【課題】露光用基板の露光領域の面積より、小さな面積の露光マスクを、露光用基板に複数対向させて、露光用基板を露光する近接露光装置に供給する多面取り露光用基板を提供する。【解決手段】露光用基板の露光領域の面積より、小さな面積の露光マスクを、露光用基板に複数対向させて、露光用基板を露光する近接露光装置に供給する多面取り露光用基板であって、該多面取り露光基板が、複数のアクティブ領域と複数の非アクティブ領域を有し、夫々の非アクティブ領域の寸法が該アクティブ領域の画素ピッチの整数倍の寸法であることを特徴とする【選択図】図１
2009251572.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光用基板の露光領域の面積より小さな面積の露光マスクを用いて、露光用基板を露光する露光装置に供給する多面取り露光用基板であって、該多面取り露光基板が、複数のアクティブ領域と複数の非アクティブ領域を有し、夫々の非アクティブ領域の寸法が該アクティブ領域の画素ピッチの整数倍の寸法であることを特徴とする多面取り露光用基板
【請求項２】
露光用基板の露光領域の面積より小さな面積の露光マスクを用いて、露光用基板を露光する近接露光装置に供給する多面取り露光用基板であって、該多面取り露光基板が、複数のアクティブ領域と複数の非アクティブ領域を有し、夫々の非アクティブ領域の寸法が該アクティブ領域の画素ピッチの整数倍の寸法であることを特徴とする多面取り露光用基板
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接露光装置に供給する露光用基板に関するものであり、詳しくは、露光用基板の露光領域より小さな露光マスクを用いて、露光用基板の露光面を走査しながら露光を行うに適した、多面取り露光用基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の基板（例えば、カラーフィルタ基板など）は、図１に示すように１枚の多面取り露光用基板上に、露光形成された、複数のアクティブ領域（以下、単に「カラー表示領域」という。）とカラー表示領域の間の赤、青、緑の有色画素が存在しない領域（以下、単に「非アクティブ領域」という。）から、カラー表示領域を分割することによって得ている。
【０００３】
そして、上記露光に用いられる露光装置には、（１）露光用基板と同等な大きさの露光マスクを用いて一括露光を行う方式のもの（特許文献１）、（２）前記カラー表示領域の１つの領域を同等な露光マスクを多面取り露光用基板に対し、相対的にステップ移動をさせて逐次露光する方式のもの（特許文献２）がある。
また、近年の多面取り露光用基板の大型化に対応するため、（３）露光用基板の露光領域より小さな露光マスクを、多面取り露光用基板に対し相対的に連続移動させながら露光する方式のもの（特許文献３）も用いられている。
【特許文献１】特開平０７−２０１７１１号
【特許文献２】特開２００３−２７０７９５号
【特許文献３】特開２００６−２９２９５５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、前記（１）、（２）の方式では、上記多面取り露光用基板の非アクティブ領域と非アクティブ領域に合わせた露光マスクを用いる必要があり、非アクティブ領域と非アクティブ領域の夫々の位置、割合が異なる多面取り露光用基板ごとに露光マスク全体を交換しなければならないという問題があった。
一方、前記（３）の方式では、露光マスクを、多面取り露光用基板に対し相対的に連続移動させながら、露光を行うものであるが、赤、青、緑の有色画素が千鳥に配列されたものの他、前記有色画素がストライプ状に配列されたものであっても、露光形成されるカラーフィルタの平坦度をよくするために、前記露光マスクの露光パターンは、図３に示すような形状のものが用いられ、露光光には、多面取り露光用基板の移動に合せて、間欠照射を行うフラッシュランプが用いられている。
【０００５】
しかし、前記（３）の方式では、前記露光マスクの下方を前記カラー表示領域と非アクティブ領域とが連続して通過する際ため、前記露光マスクが前記カラー表示領域と非アクティブ領域を跨る際に、前記露光マスクの前記非アクティブ領域に相当する部分を遮光し、それ以外の部分は遮光をしないように、前記露光マスクに設けたシャッターを作動させる必要がある。
【０００６】
ところが、図１０に示すよう、前記露光マスクが前記カラー表示領域と非アクティブ領域を跨る際に、前記非アクティブ領域に続く前記カラー表示領域の画素部の位置と、これに対応する露光マスクの露光パターンの位置が一致せず、露光タイミングがずれるという問題がある。
【０００７】
また、図１０のように多面取り露光用基板の移動方向（図２の矢印イの方向）（各図において同じ）に対し直角な方向に沿って、前記露光用基板の露光領域より小さな露光マスクを複数配列して、一群の露光マスクを形成するため、非アクティブ領域に対応する露光マスクを非アクティブ領域の位置、幅に合わせた専用の露光マスクを用意しなければならない問題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は、露光用基板の露光領域の面積より、小さな面積の露光マスクを用いて、露光用基板を露光する露光装置に供給する多面取り露光用基板であって、該多面取り露光基板が、複数のアクティブ領域と複数の非アクティブ領域を有し、夫々の非アクティブ領域の寸法が該アクティブ領域の画素ピッチの整数倍の寸法であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、以下の優れた効果を有する。
請求項１及び２に係る発明によれば、前記多面取り露光用基板の搬送方向に直角な方向の複数のアクティブ領域とアクティブ領域の間の複数の非アクティブ領域の幅が、該アクティブ領域の画素ピッチの整数倍の寸法となっているため、前記露光マスクが、前記カラー表示領域と非アクティブ領域を跨る際に、前記非アクティブ領に続く前記カラー表示領域の画素部の位置と、これに対応する前記露光マスクの露光パターンの位置が一致するため、前記多面取り露光用基板を一定速度で前記露光マスクの下方を通過させながら露光光を間欠照射しても、露光の位置及びタイミングがずれることなく露光が行える。
【００１０】
また、前記多面取り露光用基板の搬送方向に直角な方向に沿って配列する前記露光マスクを非アクティブ領域の幅に合わせた遮光部分を有する専用の前記露光マスクを用意する必要がなく、前記非アクティブ領域に対応する前記露光マスクの非アクティブ領域の幅に対応する露光パターンの部分に遮光板を載置固定するだけで、容易に非アクティブ領域の露光が防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施の形態に係る多面取り露光用基板１を示す平面図である。
そして、図２は本発明の一実施の形態に係る多面取り露光用基板１を用いる近接露光装置１０を示す概略図であって、その要部の構成の概念を模式的に示したものである。
多面取り露光用基板（以下、単に「ワーク」という。）１は、液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板であって、透明なガラス基板２の一面にクロム等からなる不透明膜で構成されたブラックマトリックス（以下、単に「ＢＭ」という。）３と、このＢＭ３に略碁盤目状（碁盤目の縦横の比が１でない）に設けられた多数の画素予定部（以下、単に「ピクセル」という）４とから構成される複数のカラー表示領域５と、各カラー表示領域５とカラー表示領域５の間の非アクティブ領域６Ｘ、６Ｙ（ＢＭ部分でもある）とを有しており、上面に感光性樹脂（以下、単に「レジスト」という。）が塗布されているものである。
【００１２】
そして、非アクティブ領域６Ｘの幅Ｌｘはカラー表示領域５のピクセル４のＸ軸方向のピッチＰｘの整数倍の長さに等しくなっており、非アクティブ領域６Ｙの幅６Ｌｙはカラー表示領域５のピクセル４のＹ軸方向のピッチＰｙの整数倍の長さに等しくなっている。
【００１３】
また、ワーク１には、カラー表示領域５の外側であって、ワーク１の搬送方向（図１の矢印イの方向）の手前側にマーク７、８が付されている。このマーク７、８は後述のワーク１とラインセンサ２２Ａとの成す角度αを検知するためのものである。
【００１４】
近接露光装置１０は、ワーク１の上方に設けられて、ワーク１に紫外線を照射する露光ユニット１１と、ワーク１を載置して図２の矢印イの方向に連続的に移動させるステージユニット１８と、撮像手段２２と、これらを制御する制御装置２３と、を備えている。
【００１５】
露光ユニット１１は、露光用光源１２と、光学系１３と、露光マスクユニット１４と、を備えている。
露光用光源１２は、露光光を間欠的に放射するものであり、具体的には、紫外光を間欠的に放射するフラッシュランプであって、後述のランプ制御部２４を経て制御部２８に接続されている。
そして、ランプ制御部２４は、制御部２８からの信号を受けて、露光用光源１２を作動させるようになっている。
露光用光源１２の作動タイミング（フラッシュランプのフラッシュのタイミング）は、後述のようにワーク１が露光マスクユニット１４の下側を通過する際に、ピクセル４の１ピッチ（図１のＰｘ、ただし有色画素が千鳥配列になっている場合は、Ｐｘの３倍のピッチ）ごとに発光されるように制御部２８によって制御されるようになっている。
【００１６】
光学系１３は、露光用光源１２と露光マスクユニット１４の間に配置されて、露光用光源１２から放射される光を、略平行光に偏向して、露光マスク１５に照射するためのものである。
【００１７】
露光マスクユニット１４には、複数の露光マスク１５（図１０）と、露光マスク１５の一部を遮蔽可能にするシャッター部１６と、を備えている。
露光マスクユニット１４は、図２に示すごとく、ワーク１を所定方向（図２の矢印イの方向）に移動させながら露光を可能にするもので、露光マスク１５は図３のように透明基材１５ａと、遮光膜１５ｂと、複数の透光孔（以下、単に「露光パターン」という。）１５ｃを有している。
透明基材１５ａは、紫外線及び可視光を高効率で透過する透明なガラス基材であり、例えば石英ガラスからなり、透明基材１５ａの一方の面には、遮光膜１５ｂが形成されている。
【００１８】
遮光膜１５ｂは、露光光を遮光するものであり、不透明な例えばクロミウム（Ｃｒ）の薄膜で形成されており、遮光膜１５ｂには露光パターン１５ｃがマトリックス状に複数形成配列されている。
露光用光源１２から放射される光は、露光パターン１５ｃを経て、露光マスクユニット１４の下方のワーク１上のピクセル４上に照射されて、露光パターン１５ｃの形状がワーク１に転写されるものである。
【００１９】
また、露光マスク１５の露光パターン１５ｃは、ワーク１の搬送方向イに直角な方向には、ピクセル４（後述）の３ピッチ間隔（図１のＰｙの３倍のピッチ）ｐ１５ｘで配列されており、多面取り露光基板１の搬送方向イに平行な方向には、ピクセル４と同じピッチ間隔（図１のＰｘ）ｐ１５ｙで３列（１５ｃ１、１５ｃ２、１５ｃ３）に配列されている。
なお、露光パターン１５ｃの、ワーク１の搬送方向に平行な方向の配列数は、前記レジスト膜の露光特性、一露光パターンあたりの露光用光源１２のフラッシュ回数及びフラッシュ光の強度等によって最適列数が異なる。
【００２０】
露光マスク１５は、遮光膜１５ｂを形成した面を下にして搬送されるワーク１の上方に図１０に示すような配列で、近接対向して配置されており、マスク駆動手段１７によって、図３に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θ軸（露光マスク１５のＸＹ平面の中心周りの回転）の各軸で露光マスク１５の位置、姿勢（露光マスク１５のＸＹ平面の中心周りの回転角度）の制御が可能になっている。
そして、非アクティブ領域６Ｘに対応する露光マスク１５には、非アクティブ領域６Ｙの幅Ｌｙの幅に合わせて遮光板Ｗ０が取り付けられている。
また、マスク駆動手段１７は制御装置２３に接続されており、後述のように、制御部２８からの信号を受けて、前記露光マスク１５の位置、姿勢制御するようになっている。
なお、以下、露光マスク１５のＸＹ平面の中心周りの回転角度を、単に「マスク姿勢」という。
【００２１】
シャッター部１６は、図４に示すように遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３から構成されており、露光マスク１５の上方に近接して、図５に示すようにワーク１の搬送方向（矢印イの方向）手前側の位置（撮像手段２２のラインセンサ２２Ａと距離Ｌ１隔てた、ワーク１の搬送方向の下流側）に設けられており、遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を図４の矢印ロ（矢印イと同じ方向）、ハの方向（矢印ロと逆の方向）に前記シャッター駆動手段によって移動されるようになっている。尚矢印ハの方向には、前記シャッター駆動手段によって前記早戻りできるようになっている。
遮光幅の調整は、これら遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を、前記シャッター駆動手段によって、図４の矢印ロの方向に順に移動させることにより、露光パターン１５ｃの前記３列（１５ｃ１、１５ｃ２、１５ｃ３）が順に遮光されるようになっている。
また、遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３の枚数は、これに限られず、露光マスク１５の露光パターン１５ｃのＸ軸方向の個数と非アクティブ領域６Ｘの幅Ｌｘによって枚数を変えるものである。
【００２２】
前記シャッター駆動手段は、制御装置２３に接続されており、後述のように、制御部２８からの信号を受けて、ワーク１の搬送速度Ｖに合わせて、遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を順に図４の（ａ）〜（ｈ）のように移動させるようになっており、（ｈ）以降は遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３が再び（ａ）の位置に早戻りして（ａ）〜（ｈ）を繰り返すものである。
なお、遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３の夫々の幅は、図４（ｄ）に示すように露光マスク１５の露光パターン１５ｃの各列を覆うことができるものであり、遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３が全て広がった状態で、露光マスク１５の露光パターン１５ｃが全て遮光されるようになっている。
【００２３】
ステージユニット１８は、露光ユニット１１の下方に配置されて、ステージ１９と撮像手段２２と搬送手段２１とから構成されている。
ステージ１９は上面に気体を噴出する多数の噴出孔（図示せず）と気体を吸引する多数の吸引口（図示せず）を有し、図示しない圧縮気体供給装置及び気体吸引装置に接続されて、気体の噴出、吸引のバランスによりワーク１をステージ１９の上に浮上させるようになっており、露光マスク１５に対向する部分は、開口しており、この開口部分２０には、露光マスク１５による露光位置の手前側の位置で、ワーク１を下側から撮像するための撮像手段２２が、ワーク１に向かって設けられている。
【００２４】
搬送手段２１は、ワーク１の一部（ワーク１の搬送方向に平行な縁の一方）を図示しない把持手段で把持した状態で、ワーク１を矢印イの方向にステージ１９上を搬送できるようになっており、更に、ワーク１のステージ１９上のＸ軸方向の位置を検出する露光基板位置センサ（図示せず）を備えている。
【００２５】
また、撮像手段２２は、図６に示すように、前記搬送方向イに直角な方向に多数の受光素子２２ａを一列に配列したラインセンサ２２Ａと、このラインセンサに平行な直線上に設けられた、２個のフォトセンサ２２ｂ１、２２ｂ２を備えており、ワーク１を下側から撮像して、フォトセンサ２２ｂ１、２２ｂ２でマーク７、８を撮像し、更に、前記ラインセンサ２２Ａで図８に示すようにピクセル４の前記ライン４Ａ１（ワーク１の搬送方向下流側（図１に向かって左側））、４Ａ２（ワーク１の搬送方向上流側（図１に向かって右側））及びライン４Ｂを撮像するものである。
【００２６】
そして、ラインセンサ２２Ａは、前記一列に配列された多数の受光素子２２ａのうちの所定の受光素子２２ａ１が、露光マスク１５の露光パターン１５ｃのライン１５ｂのＹ軸方向の位置に対応するように配置されている。（図７）
更に、ラインセンサ２２Ａは、初期設定時（露光作業開始前）において、露光マスク１５とＸ軸方向の距離Ｌを隔てて、平行に、ワーク１の前記搬送方向上流側に配設されている。この距離Ｌはラインセンサ２２ＡのＹ軸方向の中心と、露光マスク１５の露光パターン１５ｃ１のＸ軸方向の中心位置との距離である。（図５、８）
尚、前記Ｌ１とＬはＬ＞Ｌ１の関係にある。
【００２７】
制御装置２３は、露光用光源１２を駆動するランプ制御部２４と、マスク駆動手段１７をコントロールするマスクコントロール部２５と、搬送手段２１をコンロールする搬送コントローラ部２６と、画像処理部２７と、これらに接続して制御する制御部２８とから構成されている。そして、制御部２８には、前記露光基板位置センサと外部入力手段２９が接続されている。
【００２８】
画像処理部２７では、撮像手段２２のフォトセンサ２２ｂ１、２２ｂ２で撮像されたマーク７、８の画像データと、ラインセンサ２２Ａによって撮像されたワーク１のピクセル４の画像データを受け取ってから、夫々の画像データを処理して、マーク７、８の夫々の前記ワーク１の搬送方向下流側のエッジ７Ａ、８Ａ及びライン４Ａ１、４Ａ２、４Ｂが検出されるようになっている。
【００２９】
制御部２８では、画像処理部２７で検出された夫々のエッジ８Ａ、９Ａのデータに基づいてエッジ７Ａ、８Ａの検出時間の差異が算出されるとともに、予め制御部２２に入力されているワーク１の搬送速度Ｖとから、図９に示すように、ラインセンサ２２Ａに対するエッジ７Ａ、８Ａを結ぶライン（Ｙ軸に平行）の成す角度αが算出される。
そして、この角度αは、前記初期設定時において、ワーク１と露光マスク５との成す角度でもあることから、この角度αが予め決められた範囲（α１）内にない場合は、制御部２８からマスクコントロール部２５に制御信号が送られて、前記ワーク１と露光マスク５との成す角度が前記α１内になるように、露光マスク１５の前記姿勢が制御されるようになっている。
【００３０】
また、制御部２８では、画像処理部２７でライン４Ａ１が検出されてから、ワーク１が、前記距離Ｌを搬送されるに要する時間が算出されて、その得られた時間（Ｔ０）後に、制御部２８からランプ制御部２４にフラッシュランプ１２の発光のための信号が送るようになっている。
【００３１】
更に、制御部２８では、画像処理部２７で検出されたライン４Ａ２が非アクティブ領域６Ｘのとの境界（以下、「特定ライン４Ａ２」という）であるか否かの判断がされる。
尚、前記判断は、ライン４Ａ２を検出後、所定の時間（各ピクセル４の間のワーク１の搬送方向のＢＭ３の幅分をワーク１が通過する時間）経過後においても、ラインセンサ２２Ａが新たなライン４Ａ１を検出するか否かによって判断される。すなわち、前記所定の時間経過後に、新たなライン４Ａ１が検出されない場合に、前記検出されたライン４Ａ２は特定ライン４Ａ２であると判断される。
【００３２】
そして、制御部２８では、ワーク１の搬送速度Ｖと前記距離Ｌ１から、ワーク１が距離Ｌ１を移動するに必要な時間（Ｔ１）が算出され、ラインセンサ２２Ａが特定ライン４Ａ２を検出してからＴ１時間後に、前記シャッター部１６の各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を図４の（ａ）〜（ｈ）まで矢印ロの方向に順次移動させるための信号が、制御部２８から前記シャッター駆動手段に送られるようになっている。
また、ラインセンサ２２Ａによって前記特定ライン４Ａ２が検出された後、新たな特定ライン４Ａ１が検知された後、前記時間Ｔ１以内にシャッター部１６の各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を一体的に図４の（ａ）の状態の位置（図５のＬ１の位置と同じ）まで矢印ハの方向に早戻りさせるための信号が前記シャッター駆動手段に送られるようになっている。
【００３３】
前記早戻りの速度は、露光作業中に、各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３が、前記ロの方向に露光光束を横切ることによって、ワーク１の露光に支障をきたさない速度である。
尚、上記早戻りの速度は、各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３の重量、ワーク１の搬送速度Ｖ、露光光の強度、一露光パターン当たりの露光光のフラッシュ回数、ワーク１のレジストの感光特性等によって、最適速度が異なるものである。
【００３４】
次に、上記のように構成された近接露光装置の露光動作について、図１２に基づいて、図１〜図１１も用いて説明する。
まず、ステップ１（ＳＴ１）において、非アクティブ領域６のＸ軸方向位置に対応する露光マスク１５の露光パターン１５ｃの部分に遮光板Ｗ０が取り付けられてから、外部入力手段２９から露光条件（露光光の強度、露光パターン１５ｃ  に対するフラッシュの回数、ワーク１の搬送速度Ｖ、非アクティブ領域６の幅６ｙ等）及び前記L、L１の値、前記角度αの許容角度α１が制御部２８に入力された後、ワーク１が搬送方向（矢印イの方向）に沿って、ステージユニット１８の所定の位置にセットされる。
【００３５】
次に、ステップ２（ＳＴ２）において、ワーク１が所定の速度Vで図２の矢印イの方向に連続的に搬送され、ステージ１９の開口部２０の通過時において、撮像手段２２によってワーク１のマーク７、８及びピクセル４のライン４Ａ１、４Ｂ、４Ａ２が撮像されて、これらの撮像データが画像処理部２７に送信される。
【００３６】
次に、ステップ３（ＳＴ３）において、前記撮像データが画像処理部２７で２値化処理されて、それぞれのエッジ７Ａ、８Ａ及びライン４Ａ１、４Ｂ、４Ａ２が検出されて、それらのデータが制御部２８に送信されて、前記露光基板位置センサからのワーク１の位置データとエッジ７Ａ、８Ａの検出位置からワーク１の角度αが演算され、その結果が予め設定されている許容角度α１との比較がなされると共に、ライン４Ｂを検出した受光素子２２ａが予定の受光素子２２ａ１であるか否かの判断がなされる。
【００３７】
そして、前記ワーク１の角度αが許容範囲でない場合は、制御部２８からマスク駆動手段１７に信号が送られて、前記ワーク１の角度αと露光マスク１５のマスク姿勢が一致するように制御される。また、ライン４Ｂを検知した受光素子２２ａが予定の受光素子２２ａ１でない場合は、ライン４Ｂを検知した受光素子２２ａと受光素子２２ａ１との距離を両者の間に存在する受光素子１２ａの数から算出して、その結果に基づいた信号がマスク駆動手段１７に送信されて、露光マスク１５がＹ軸方向に移動される。
【００３８】
次に、ステップ４（ＳＴ４）において、ライン４Ａ１の検出後の時間Ｔ０に、露光光源１２のランプ制御部２４に制御部２８から発光信号が送信されて、露光光源１２のフラッシュランプがフラッシュされて、ワーク１のピクセル４の１ピッチごとに、フラッシュが繰り返される。
【００３９】
次に、ステップ５（ＳＴ５）において、ラインセンサ２２Ａによって特定ライン４Ａ２が検出されてから、前記時間Ｔ１後に、制御部２８から前記シャッター駆動手段に信号が送信されて、シャッター部１６の各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３が図４の（ａ）〜（ｈ）に示すように順次移動される。
尚、シャッター部１６の各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３の動きとは係わりなく、露光光源１２のフラッシュランプは、ワーク１のピクセル４の１ピッチごとに、フラッシュが繰り返される。
【００４０】
次に、ステップ６（ＳＴ６）において、ラインセンサ２２Ａによって新たな特定ライン４Ａ１が検出されてから、時間Ｔ１後に、制御部２８から前記シャッター駆動手段に信号が送信されて、シャッター部１６の各遮光板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３が一括的に図４の（ａ）に示す位置に早戻りされる。
【００４１】
その後は、ステップ２（ＳＴ２）からステップ６（ＳＴ６）が繰り返されて、ワーク１の露光対象領域が全て露光された後、露光作業が終了する。
【００４２】
以上の実施の形態では、本発明に係る多面取り露光用基板を近接露光装置について述べたが、投影露光装置に対しても、本発明に係る多面取り露光用基板を用いることができる。
また、以上の実施の形態では、露光用光源に紫外線フラッシュランプを用いているが、紫外領域のレーザ光を放射できるレーザ発振器を用いてもよい。
更に、多面取り露光用基板にはマーク７、８が付されているが、このマーク７、８は付さなくてもよく、その場合は、フォトセンサ２２ｂ１、２２ｂ２またはラインセンサ２２Ａでライン４Ａを撮像した画像データに基づいて、ワーク１の角度αを算出して、前述のようにマスク姿勢の制御を行ってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施の形態の多面取り露光用基板（ワーク）を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施の形態のワークを供給する近接露光装置の構成を示す模式図である。
【図３】図２の近接露光装置の露光マスクを示す概略図であって、夫々（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は露光マスクの姿勢の説明のための鳥瞰図である。
【図４】シャッター部の動きと露光マスク及びワークの位置関係を説明するための概念図である。
【図５】撮像手段とシャッター部及び露光マスクとのＸ軸方向の位置関係を説明するための概略図である。
【図６】撮像手段を示す概略図である。
【図７】ラインセンサと露光マスクの関係を説明するための概念図である。
【図８】ラインセンサとワークのＹ軸方向の位置関係を説明するための概念図である。
【図９】ラインセンサとワークの成す角度を説明するための概念図である。
【図１０】ワークの非遮光領域を跨って、露光マスクが配置される場合を説明するための概略図である。
【図１１】露光マスクがワークの非遮光領域を跨って相対的に移動する場合の問題を説明するための概念図である。
【図１２】本発明の一実施の形態のワークを図２の近接露光装置で露光する露光方法を説明するためのフローである。
【符号の説明】
【００４４】
１  多面取り露光用基板（ワーク）
３  ブラックマトリックス
４  ピクセル
５  アクティブ領域（カラー表示領域）
６  非アクティブ領域
７  マーク
８  マーク
１０  近接露光装置
１１  露光ユニット
１２  露光用光源
１３  光学系
１５  露光マスク
１６  シャッター部
１８  ステージユニット
２２  撮像手段
２２Ａ  ラインセンサ
２２ａ  受光素子
２７  画像処理部
２８  制御部
Ｗ０〜Ｗ３  遮光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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