(57)【要約】【課題】メルトフロー性を制御した感放射線性ドライフィルムの提供。【解決手段】ベースフィルム、ベースフィルム上に積層された厚さ２〜２００μｍの感放射線性樹脂組成物層および感放射線性樹脂組成物層上に積層されたカバーフィルムからなり、上記感放射線性樹脂組成物層は（Ａ）アルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤および（Ｄ）連鎖移動剤を含有する、ドライフィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルム、ベースフィルム上に積層された厚さ２〜２００μｍの感放射線性樹脂組成物層および感放射線性樹脂組成物層上に積層されたカバーフィルムからなり、上記感放射線性樹脂組成物層は（Ａ）アルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤および（Ｄ）連鎖移動剤を含有する、ことを特徴とするドライフィルム。
【請求項２】
（Ｄ）連鎖移動剤の使用量が（Ａ）共重合体１００重量部に対して０．０１〜１０重量部である請求項１に記載のドライフィルム。
【請求項３】
（Ａ）アルカリ可溶性共重合体が（ａ）酸性官能基を有する重合性不飽和化合物５〜６０重量％と（ｂ）（ａ）以外の重合性不飽和化合物４０〜９５重量％（但し、（ａ）＋（ｂ）＝１００重量％）の共重合体である請求項１または２に記載のドライフィルム。
【請求項４】
（ｂ）（ａ）以外の重合性不飽和化合物がＮ位−置換マレイミドを含有する請求項３に記載のドライフィルム。
【請求項５】
マイクロレンズ形成用である請求項１〜４のいずれかに記載のドライフィルム。
【請求項６】
請求項５に記載のマイクロレンズ形成用ドライフィルムを用いて形成されたマイクロレンズ。
【請求項７】
少なくとも下記（イ）〜（ニ）の工程を含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
（イ）請求項５に記載のドライフィルムからカバーフィルムを剥し、感放射線性樹脂組成物層をガラス基板へ転写して塗膜を形成する工程。
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
（ハ）照射後の塗膜を現像する工程。
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程。
【請求項８】
可とう性のベースフィルム上に請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物を塗布し、乾燥して感放射線性塗膜を形成することを特徴とする感放射線性ドライフィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項６に記載のマイクロレンズを具備する液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はドライフィルムおよびマイクロレンズとその製法ならびにマイクロレンズを具備する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示素子の中でも、特に液晶表示素子は、低消費電力、高い信頼性、幅広いサイズに対応できる柔軟性、その高精彩な表示特性、薄型軽量などの優れた特徴から、フラットパネルディスプレイの中で最も広く使用されているが、パソコン、ワープロなどのＯＡ機器、液晶テレビ、携帯電話、プロジェクターなどの普及に伴い、近年その性能に対する要求がますます厳しくなっている。これらの要求に応えるものとして、特許文献１〜５に、マイクロレンズアレイを設け、開口部に外光またはバックライトの光を集光させることにより、液晶表示素子の輝度やコントラストを向上させる方法が提案されている。これらの方法では多くの場合、マイクロレンズが存在する集光層から液晶画素開口部への焦点距離が非常に短いため、マイクロレンズを形成する材料と平坦化膜との屈折率差を大きくとり、かつレンズの曲率半径を精密に制御する必要がある。
このような液晶表示素子用のマイクロレンズを形成する方法としては、ガラス基板をドライエッチングして凹みを形成させ、これに高屈折率の紫外線硬化型樹脂で埋める方法、レンズパターンを形成したのち加熱処理することによって、パターンをメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法、感放射線性樹脂組成物からパターンを形成してメルトフローさせることにより、所定形状のマスクを作製し、このマスクを介しドライエッチングして、下地に所定のレンズ形状を転写させる方法等が挙げられる。しかし、このような方法では何れの場合も、マイクロレンズの形成プロセスが煩雑で高コストであり、工業的に十分とはいえなかった。
【０００３】
そこで、マイクロレンズに要求される諸特性、例えば、膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等を満足でき、また保存安定性が良好であり、かつ簡便な方法でマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物の開発が強く求められている。
また、感放射線性樹脂組成物を用いた液晶表示素子用のマイクロレンズを形成する方法には、その多くが樹脂組成物に有機溶剤を含んでおり、その組成物をスピンコート法やディッピング法、スプレー法などの手法によって、基材に組成物層を積層させるものである。それらの手法では、所定の膜厚を得るための条件出しに要する時間が必要であったり、溶剤の揮発など環境面でも問題が見られたりしていた。よって、従来のマイクロレンズの製造方法と比較して、フィルムを基材に積層し所定量の放射線を照射した後に現像するだけで、短時間、かつ低コストである感放射線性樹脂組成物のドライフィルムを用いたマイクロレンズの製造方法の開発の要請もある。
【０００４】
感放射線性樹脂組成物のドライフィルムを用いたマイクロレンズの製造においては、通常、感放射線性樹脂組成物層がベースフィルムで外気と遮断された状態で露光工程が行われるため、感放射線性樹脂組成物層の露光部は、ラジカル重合反応の際、酸素障害を受けず、極度に硬化する傾向にある。そのため、ポストベーク後に適度なメルトフロー性を有し、所望のレンズ形状を得ることがこれまで困難であった。
【０００５】
以上に記したように、簡便なドライフィルム法を用いて高精彩なマイクロレンズを高い歩留まりで大量に作製する手法の開発において、ドライフィルム法を用いるとき、ポストベーク後のレンズ形状を制御できる感放射線性樹脂組成物層の確立が強く求められている。
【特許文献１】特開２００３−２５５３１８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５４１８１号公報
【特許文献３】特開２００１−１１７１１４号公報
【特許文献４】特開平１１−１０９４１７号公報
【特許文献５】特開平１０−２６８３０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的は、乾燥後の感放射線性樹脂組成物層に十分なメルトフロー性を持つことで目的のレンズ形状を形成し得るドライフィルムレジストを提供することにある。
【０００７】
本発明の他の目的は、上記ドライフィルムレジストの製造方法を提供することにある。
【０００８】
本発明のさらに他の目的は、上記ドライフィルムレジストを用いたマイクロレンズおよびその製造法を提供することにある。
【０００９】
本発明のさらに他の目的は、上記マイクロレンズを備えた液晶表示素子を提供することにある。
本発明の他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明者は、ベースフィルム上に連鎖移動剤を含有する感放射線性樹脂組成物層を積層させることで、メルトフロー性を制御できることを見出し、本発明の感放射線性ドライフィルムに到達したものである。
【００１１】
すなわち、本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
ベースフィルム、ベースフィルム上に積層された厚さ２〜２００μｍの感放射線性樹脂組成物層および感放射線性樹脂組成物層上に積層されたカバーフィルムからなり、上記感放射線性樹脂組成物層は（Ａ）アルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤および（Ｄ）連鎖移動剤を含有する、ことを特徴とするドライフィルムによって達成される。
【００１２】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第２に、
可とう性のベースフィルム上に本発明の感放射線性樹脂組成物を塗布し、乾燥して感放射線性塗膜を形成することを特徴とする感放射線性ドライフィルムの製造方法によって達成される。
【００１３】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第３に、
本発明のドライフィルムを用いて形成されたマイクロレンズによって達成される。
【００１４】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第４に、
少なくとも下記（イ）〜（ニ）の工程を含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法によって達成される。
（イ）本発明のドライフィルムからカバーフィルムを剥し、感放射線性樹脂組成物層をガラス基板へ転写して塗膜を形成する工程。
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
（ハ）照射後の塗膜を現像する工程。
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程。
【００１５】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第５に、
本発明のマイクロレンズを具備する液晶表示素子によって達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に本発明について詳述する。
本発明に用いられるベースフィルムの厚さは特に限定されないが、例えば５〜１２５μｍが好ましい。より好ましくは、１０〜５０μｍの厚さである。このような厚さのベースフィルムとしては、例えばＰＥＴフィルム「Ｒ３４０Ｇ１６」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、１６μｍ厚、）、「Ｅ２」（帝人デュポンフィルム（株）製）、「Ｘ８３」（帝人デュポンフィルム（株）製）、ダイアホイル「Ｒ３１０」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、１６μｍ厚）、コスモシャイン「Ａ４１００」（東洋紡績（株）製、５０μｍ厚、）、「Ａ４３００」（東洋紡績（株）製、５０μｍ）、ダイアホイル「Ｔ１００Ｂ２５」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、２５μｍ厚）、「Ｔ１００Ｇ３８」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、３８μｍ厚）などが市販品として入手できる。
【００１７】
本発明のドライフィルムは、上記ベースフィルムの上に感放射線性樹脂組成物層を有し、この組成物層をさらにカバーフィルムがカバーしている。
カバーフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムおよびポリエチレン（ＰＥ）フィルムが好ましく用いられる。さらには、自己粘着性樹脂層を有するＰＥＴおよびＰＥフィルムがより好ましく用いられる。
カバーフィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば５〜２００μｍが好ましい。
【００１８】
ＰＥＴフィルムは離形処理してあるものが好ましい。市販品の離形処理済みＰＥＴフィルムとしては、例えばピューレックスフィルム「Ａ３１」（帝人デュポンフィルム（株）製、２５μｍ厚および３８μｍ厚）、ピューレックスフィルム「Ａ５４」（帝人デュポンフィルム（株）製、２５μｍ厚および３８μｍ厚）、ダイアホイル「ＭＲＦ」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、２５μｍ厚および３８μｍ厚）、「ＭＲＡ５０」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、５０μｍ厚）などを挙げることができる。
また、市販品のＰＥフィルムとしては、例えば「ワコークリーンフィルムＰＥ」（ワコー樹脂（株）製、２１μｍ厚および４０μｍ厚）、「ＧＦ−１」（タマポリ（株）製）、「ＧＦ−３」（タマポリ（株）製、３０μｍ厚）、「ＰＥ−ＬＤ」（旭化成ケミカルズ（株）製）、「ＰＥ−ＨＤ」（旭化成ケミカルズ（株）製）などを挙げることができる。  
また、自己粘着性樹脂層を有するカバーフィルムとしては、例えばＰＥフィルム「トレテック７７２１」（東レフィルム加工（株）製、６０μｍ厚）などが市販品として入手でき、好適に用いられる。
【００１９】
次に、感放射線性樹脂組成物層の感放射性樹脂組成物について説明する。感放射性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤および（Ｄ）連鎖移動剤を含有する。
−（Ａ）アルカリ可溶性共重合体−
本発明における（Ａ）成分は、マイクロレンズを製造する際に、その現像処理工程において用いられる現像液であるアルカリ現像液に対して可溶性を有し、特に好ましくは可視光波長の光が良好に透過するものであれば、特に限定されるものではない。特に、（ａ）分子内に１個以上の酸性官能基を有する重合性不飽和化合物（以下、「（ａ）重合性不飽和化合物」という。）５〜６０重量％、および（ｂ）他の重合性不飽和化合物４０〜９５重量％（ただし、（ａ）＋（ｂ）＝１００重量％）からなるアルカリ可溶性共重合体（以下、「（Ａ）共重合体」という。）が好ましく、さらには、（ｂ）他の重合性不飽和化合物としてＮ位−置換マレイミドを含有するアルカリ可溶性共重合体を含有することが特に好ましい。
（ａ）重合性不飽和化合物の酸性官能基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基などを挙げることができ、特に好ましくはカルボキシル基である。
【００２０】
カルボキシル基を有する（ａ）重合性不飽和化合物（以下、「（ａ１）重合性不飽和化合物」という。）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸や、アクリル酸またはクロトン酸のα−位がハロアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの置換基で置換された化合物などの不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸またはその酸無水物；上記不飽和ジカルボン酸中の一方のカルボキシル基の水素原子がメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基などの置換基で置換されたハーフエステル；上記不飽和ジカルボン酸中の一方のカルボキシル基がアミド基に変換されたハーフアミド；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとコハク酸とのモノエステル化物、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとマレイン酸とのモノエステル化物、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとヘキサヒドロフタル酸とのモノエステル化物（以下、「２−モノ（ヘキサヒドロフタロイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート」と表記する。）などのカルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができる。
【００２１】
これらの（ａ１）重合性不飽和化合物のうち、（メタ）アクリル酸、２−モノ（ヘキサヒドロフタロイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどが特に好ましい。
本発明において、（ａ）重合性不飽和化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。特に、（メタ）アクリル酸と２−モノ（ヘキサヒドロフタロイルオキシ）エチル（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。
【００２２】
（Ａ）共重合体中に占める（ａ）重合性不飽和化合物の含有率は、好ましくは５〜６０重量％であり、さらに好ましくは１０〜５０重量％であり、特に好ましくは１５〜４０重量％である。（ａ）重合性不飽和化合物の含有率が５重量％未満であると、得られる共重合体がアルカリ現像液に溶解し難くなって現像後に膜残りを生じ、十分な解像度を得ることが困難となるおそれがあり、一方６０重量％を超えると、得られる共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が大きくなりすぎて、放射線照射部の膜減りが大きくなる傾向がある。
（ｂ）他の重合性不飽和化合物は、主として（Ａ）共重合体の機械的特性をコントロールする目的で使用されるものである。
（ｂ）他の重合性不飽和化合物としては、Ｎ位−置換マレイミド（以下、「（ｂ−１）重合性不飽和化合物」という。）を、（Ａ）共重合体中、５〜４０重量％含有することが好ましく、１０〜３５重量％含有することがより好ましい。
【００２３】
（ｂ−１）重合性不飽和化合物としては、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（アクリジニル）マレイミド等を挙げることができる。
これらの（ｂ−１）重合性不飽和化合物のうち、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドが特に好ましい。（Ａ）共重合体において、（ｂ−１）重合性不飽和化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２４】
Ｎ位−置換マレイミド以外の（ｂ）他の重合性不飽和化合物（以下、「（ｂ−２）重合性不飽和化合物」という。）としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル、不飽和カルボン酸グリシジルエステル、上記（ａ）重合性不飽和化合物について例示した不飽和ジカルボン酸のジエステル、芳香族ビニル化合物、共役ジオレフィン、ニトリル基含有不飽和化合物、塩素含有不飽和化合物、アミド結合含有不飽和化合物、不飽和イミド、不飽和エーテル、脂肪酸ビニルエステル、脂環式炭化水素含有不飽和化合物、重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマーなどを挙げることができる。
【００２５】
上記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ネオペンチル（メタ）アクリレート、４−ｉ−ペンチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、プロパルギル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、アントラセニル（メタ）アクリレート、アントラキノニル（メタ）アクリレート、ピペロニル（メタ）アクリレート、サリチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート、クレシル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、トリフェニルメチル（メタ）アクリレート、クミル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロエチル（メタ）アクリレート、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ヘプタフルオロ−ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル（メタ）アクリレート、フリル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、α−（メタ）アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトン、β−（メタ）アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンなどを挙げることができる。
【００２６】
上記不飽和カルボン酸アミノアルキルエステルとしては、例えば、２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、３−アミノプロピル（メタ）アクリレート、３−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。
上記不飽和カルボン酸グリシジルエステルとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートを挙げることができる。
上記不飽和ジカルボン酸のジエステルとしては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチルなどを挙げることができる。
【００２７】
上記芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、安息香酸ビニルなどを挙げることができる。
上記共役ジオレフィンとしては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどを挙げることができる。
上記ニトリル基含有不飽和化合物としては、例えば、（メタ）アクリロニトリル、シアン化ビニリデン、α−クロロアクリロニトリルなどを挙げることができる。
上記塩素含有不飽和化合物としては、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどを挙げることができる。
【００２８】
上記アミド結合含有不飽和化合物としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、マレイン酸ジアミド、フマル酸ジアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドなどを挙げることができる。
上記不飽和イミドとしては、例えば、マレイミドを挙げることができる。
上記不飽和エーテルとしては、例えば、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどを挙げることができる。
上記脂肪酸ビニルエステルとしては、例えば、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピロン酸ビニルなどを挙げることができる。
【００２９】
上記脂環式炭化水素基含有不飽和化合物としては、例えば、シクロペンチル（メタ）アクリレート、１−メチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、２−ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。
【００３０】
上記マクロモノマーとしては、例えば、ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサンなどの重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有する化合物などを挙げることができる。
【００３１】
これらの（ｂ−２）重合性不飽和化合物のうち、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、１，３−ブタジエン、イソプレン等が好ましい。
【００３２】
本発明において、（ｂ−２）重合性不飽和化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。（Ａ）共重合体の具体例としては、
（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／イソプレン／トリシクロデカニル（メタ）アクリレート／２−モノ（ヘキサヒドロキシフタロイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／１，３‐ブタジエン／トリシクロデカニル（メタ）アクリレート／２−モノ（ヘキサヒドロキシフタロイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体
等を挙げることができる。
【００３３】
（Ａ）共重合体中に占める（ｂ）他の重合性不飽和化合物の含有率は、好ましくは４０〜９５重量％であり、さらに好ましくは５０〜９０重量％であり、特に好ましくは６０〜８５重量％である。
（Ａ）共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは２，０００〜１００，０００、さらに好ましくは５，０００〜５０，０００である。（Ａ）共重合体のＭｗが２，０００未満であると、アルカリ現像性、残膜率、パターン形状、耐熱性などが低下する傾向があり、一方１００，０００を超えると、感度やパターン形状が低下する傾向がある。
また、（Ａ）共重合体のＭｗとポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０〜５．０、より好ましくは１．０〜３．０である。
（Ａ）共重合体は、（ａ）重合性不飽和化合物と（ｂ）他の重合性不飽和化合物を、適当な溶剤中で重合することによって製造することができる。
【００３４】
上記重合に用いられる溶剤としては、例えば、
メタノール、エタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコールアルキルエーテル；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルモノエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；
【００３５】
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ｎ−プロピル、ヒドロキシ酢酸ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ−ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ｎ−プロピル、メトキシ酢酸ｎ−ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸ｎ−プロピル、エトキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−プロポキシ酢酸メチル、ｎ−プロポキシ酢酸エチル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−ブトキシ酢酸メチル、ｎ−ブトキシ酢酸エチル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチルなどの他のエステル
などを挙げることができる。
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３６】
上記ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物や、過酸化水素などを挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、還元剤を併用してレドックス型開始剤としてもよい。
本発明において、（Ａ）共重合体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３７】
−（Ｂ）重合性不飽和化合物−
本発明における（Ｂ）重合性不飽和化合物は、（Ｃ）光重合開始剤の存在下における放射線の照射により重合する化合物である。
（Ｂ）重合性不飽和化合物としては、例えば、１個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、２個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、３個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物などを挙げることができる。
上記１個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、１価アルコールもしくはフェノールのモノ（メタ）アクリレート、好ましくは、下記式（１）で表わされる化合物を挙げることができる。
【００３８】
【化１】
2009047789.tif 000002
【００３９】
〔式（１）中、ｌは０〜８の整数であり、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜９の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕
式（１）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスＭ−１０１（ｌ＝約２、Ｒ１＝Ｈ）、同Ｍ−１０２（ｌ＝約４、Ｒ１＝Ｈ）、同Ｍ−１１１〔ｌ＝約１、Ｒ１＝ｎ−Ｃ９Ｈ１９（ｎ−ノニル基、以下同様。）〕、
同Ｍ−１１３（ｌ＝約４、Ｒ１＝ｎ−Ｃ９Ｈ１９）、
同Ｍ−１１４（ｌ＝約８、Ｒ１＝ｎ−Ｃ９Ｈ１９）、
同Ｍ−１１７（ｌ＝２．５、Ｒ１＝ｎ−Ｃ９Ｈ１９）〔以上、東亜合成化学工業（株）製〕、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５６４（ｌ＝約２．３、Ｒ１＝Ｈ）〔日本化薬（株）製〕などを挙げることができる。
また、式（１）で表わされる化合物以外の１個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、商品名で、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同  ＴＣ−１２０Ｓ〔以上、日本化薬（株）製〕、Ｖ−１５８、Ｖ−２３１１〔以上、大阪有機化学工業（株）製〕などを挙げることができる。
【００４０】
また、上記以外の１個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、その他マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸ジエステルなど、（Ａ）共重合体における（ａ）重合性不飽和化合物、および（ｂ）他の重合性不飽和化合物について例示した化合物と同様のものを使用することができる。
【００４１】
次に、上記２個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、２価アルコールもしくは２価のフェノールのジ（メタ）アクリレート、好ましくは、下記式（２）で表わされる化合物、下記式（３）で表わされる化合物および下記式（４）で表わされる化合物などを挙げることができる。
【００４２】
【化２】
2009047789.tif 000003
【００４３】
〔式（２）中、ｎおよびｍはそれぞれ０〜８の整数であり、各Ｒ２は相互に独立に水素原子またはメチル基を示す。〕
式（２）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスＭ−２１０（ｎ＝約２、ｍ＝約２、Ｒ２＝ＣＨ３）〔東亜合成化学工業（株）製〕、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１（ｎ＋ｍ＝約４、Ｒ２＝ＣＨ３）、同  Ｒ−７１２（ｎ＋ｍ＝約４、Ｒ２＝Ｈ）〔以上、日本化薬（株）製〕などを挙げることができる。
【００４４】
【化３】
2009047789.tif 000004
【００４５】
〔式（３）中、Ｒ３は炭素数２〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を示し、ｐは１〜１０の整数である。〕
式（３）で表わされる化合物の具体例として、商品名で、アロニックスＭ−２２０〔Ｒ３＝−（ＣＨ２)３−、ｐ＝約３〕、同Ｍ−２２５〔Ｒ３＝−（ＣＨ２)３−、ｐ＝約７〕、同Ｍ−２７０〔Ｒ３＝−（ＣＨ２)３−、ｐ＝約１２〕、同Ｍ−２４０〔Ｒ３＝−ＣＨ２ＣＨ２−、ｐ＝約４〕、同Ｍ−２４５〔Ｒ３＝−ＣＨ２ＣＨ２−、ｐ＝約９〕〔以上、東亜合成化学工業（株）製〕、
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ〔Ｒ３＝−（ＣＨ２) ６−、ｐ＝１〕、
同  ＮＰＧＤＡ〔Ｒ３＝−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、ｐ＝１〕、
同  ＴＰＧＤＡ〔Ｒ３＝−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、ｐ＝１〕、
同  ＰＥＧ４００ＤＡ〔Ｒ３＝−ＣＨ２ＣＨ２−、ｐ＝約８〕、
同  ＭＡＮＤＡ〔Ｒ３＝−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、ｐ＝１〕、
同  Ｒ−１６７〔Ｒ３＝−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２)６Ｏ  ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２-、ｐ＝１〕〔以上、日本化薬（株）製〕、ライトアクリレート１．９−ＮＤＡ〔Ｒ３＝−（ＣＨ２)８−、ｐ＝１〕などを挙げることができる。
【００４６】
【化４】
2009047789.tif 000005
【００４７】
〔式（４）中、各Ｒ４は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｍは２価アルコールの残基を示し、Ｎは２塩基酸の残基を示し、ｑは０または１である。〕
式（４）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスＭ−６１００、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６２５０、同Ｍ−６３００、同Ｍ−６４００、同Ｍ−６５００〔以上、東亜合成化学工業（株）製〕、ライトエステルＥＧ（ｑ＝０、Ｍ＝−ＣＨ２ＣＨ２−、Ｒ４＝ＣＨ３）、同２ＥＧ（ｑ＝１、Ｍ＝−（ＣＨ２ＣＨ２）−、Ｎ＝−Ｏ−、Ｒ４＝ＣＨ３）、同１．４ＢＧ（ｑ＝０、Ｍ＝−（ＣＨ２）４−、Ｒ４＝ＣＨ３）、同１．６ＨＸ（ｑ＝０、Ｍ＝−（ＣＨ２）６−、Ｒ４＝ＣＨ３）、同１．９ＮＤ（ｑ＝０、Ｍ＝−（ＣＨ２）９−、Ｒ４＝ＣＨ３）、同Ｇ−１０１Ｐ（ｑ＝０、Ｍ＝−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、Ｒ４＝ＣＨ３）、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ（ｑ＝２、Ｍ＝−（ＣＨ２ＣＨ２）−、Ｎ＝−Ｏ−、Ｒ４＝Ｈ）、同４ＥＧ−Ａ（ｑ＝約３、Ｍ＝−（ＣＨ２ＣＨ２）−、Ｎ＝−Ｏ−、Ｒ４＝Ｈ）、同９ＥＧ−Ａ（ｑ＝約８、Ｍ＝−（ＣＨ２ＣＨ２）−、Ｎ＝−Ｏ−、Ｒ４＝Ｈ）、同１４ＥＧ−Ａ（ｑ＝約１３、Ｍ＝−（ＣＨ２ＣＨ２）−、Ｎ＝−Ｏ−、Ｒ４＝Ｈ）、同１．６ＨＸ−Ａ（ｑ＝０、Ｍ＝−（ＣＨ２）６−、Ｒ４＝Ｈ）、同１．９ＮＤ−Ａ（ｑ＝０、Ｍ＝−（ＣＨ２）９−、Ｒ４＝Ｈ）〔以上、共栄社化学（株）製〕などを挙げることができる。
【００４８】
さらに、上記以外の２個のエチレン性不飽和結合を有する化合物として、下記式（５−１）で表される化合物〔商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−２２０、日本化薬（株）製〕、式（５−２）で表される化合物〔商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−６２０、日本化薬（株）製〕や、商品名で、Ｒ−６０４〔日本化薬（株）製〕、Ｖ−２６０、Ｖ−３１２、Ｖ−３３５ＨＰ〔以上、大阪有機化学工業（株）製〕などを挙げることができる。
【００４９】
【化５】
2009047789.tif 000006
【００５０】
〔式（５−１）中、ｒおよびｓはそれぞれ０〜２の整数で、ｒ＋ｓ＝２である。〕
〔式（５−２）中、ｔおよびｕはそれぞれ０〜４の整数で、ｔ＋ｕ＝４である。〕
次に、上記３個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、３価以上のアルコールのポリ（メタ）アクリレート、好ましくは、下記式（６）で表わされる化合物、下記式（７）で表わされる化合物、下記式（８）で表わされる化合物、下記式（９）で表わされる化合物などを挙げることができる。
【００５１】
【化６】
2009047789.tif 000007
【００５２】
〔式（６）中、ｖは０〜８の整数であり、Ｒ５は水素原子、水酸基またはメチル基を示す。〕
【００５３】
【化７】
2009047789.tif 000008
【００５４】
〔式（７）中、Ｒ６は酸素原子またはメチレン基を示す。〕
【００５５】
【化８】
2009047789.tif 000009
【００５６】
〔式（８）中、各Ｒ７は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｘは３価アルコールの残基を示し、Ｙは２塩基酸の残基を示し、ｗは０〜１５の整数である。〕
【００５７】
【化９】
2009047789.tif 000010
【００５８】
〔式（９）中、ＡはＣＨ２＝ＣＨＣＯ−を示し、ｘは１または２であり、ａは２〜６の整数、ｂは０〜４の整数で、ａ＋ｂ＝６である。〕
式（６）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスＭ−３０５（ｖ＝０、Ｒ５＝ＯＨ）、同Ｍ−３０９（ｖ＝０、Ｒ５＝ＣＨ３）、同Ｍ−３１０（ｖ＝約１、Ｒ５＝ＣＨ３）、同Ｍ−３２０（ｖ＝約２、Ｒ５＝ＣＨ３）、同Ｍ−４５０（ｖ＝０、Ｒ５＝ＣＨ２ＣＨＣＯＯ）、同Ｍ−４０２（ｖ＝０、Ｒ５＝（ＣＨ２ＣＨＣＯＯＣＨ２）２（ＲａＣＨ２Ｏ）ＣＣＨ２−Ｏ−、Ｒa=“Ｈ”または“ＣＯＣＨ＝ＣＨ２”）〔以上、東亜合成化学工業（株）製〕、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（ｖ＝０、Ｒ５＝ＣＨ３）〔日本化薬（株）製〕、Ｖ−２９５（ｖ＝０、Ｒ５＝ＣＨ３）、Ｖ−３００（ｖ＝０、Ｒ５＝ＯＨ）〔以上、大阪有機化学工業（株）製〕などを挙げることができる。
【００５９】
また、式（７）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスＭ−４００〔東亜合成化学工業（株）製〕などを挙げることができる。
また、式（８）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスＭ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−９０５０〔以上、東亜合成化学工業（株）製〕、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｔ−１４２０（Ｔ）（Ｘ＝Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）−、Ｙ＝−（ＣＨ２ＯＣＨ２）−）、日本化薬（株）製〕などを挙げることができる。
また、式（９）で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−２０（ｘ＝約１、ａ＝約２、ｂ＝約４）、同  ＤＰＣＡ−３０（ｘ＝約１、ａ＝約３、ｂ＝約３）、同  ＤＰＣＡ−６０（ｘ＝約１、ａ＝約６、ｂ＝約０）、同  ＤＰＣＡ−１２０（ｘ＝約２、ａ＝約６、ｂ＝約０）〔以上、日本化薬（株）製〕、Ｖ−３６０、Ｖ−ＧＰＴ、Ｖ−３ＰＡ、Ｖ−４００〔以上、大阪有機化学工業（株）製〕などを挙げることができる。
【００６０】
これらの（Ｂ）重合性不飽和化合物のうち、２個のエチレン性不飽和結合を有する化合物および３個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましく、さらに好ましくは、式（４）で示される化合物および式（８）で示される化合物などである。
本発明において、（Ｂ）重合性不飽和化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明における（Ｂ）重合性不飽和化合物の使用量は、（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは３０〜１５０重量部、さらに好ましくは５０〜１００重量部である。（Ｂ）重合性不飽和化合物の使用量が３０重量部未満であると、放射線の照射時の感度が低下しやすく、一方１５０重量部を超えると、（Ａ）共重合体との相溶性が悪くなり、塗膜表面に膜荒れを生じるおそれがある。
【００６１】
−（Ｃ）光重合開始剤−
本発明における（Ｃ）成分は、放射線の照射により、（Ｂ）重合性不飽和化合物の重合を開始しうる活性種例えば、ラジカルなどを生じる光重合開始剤からなる。
このような（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン；ベンゾインなどのアシロイン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのアシロインエーテル；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸などのチオキサントン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α，α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類；アントラキノン、１，４−ナフトキノンなどのキノン；フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのハロゲン化合物；ジ−ｔ−ブチルペルオキシドなどの過酸化物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド；１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル）−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル）−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル）−ペンタン−１，２−ペンタン−２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル）−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−〔９−エチル−６−（１，３，５−トリメチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−〔９−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１，２−オクタジオン−１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１，２−ブタンジオン−１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１，２−ブタンジオン−１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−２−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタジオン−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１，２−オクタジオン−１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−２−〔Ｏ−（４―メチルベンゾイルオキシム）〕などのＯ−アシルオキシムなどを挙げることができる。
【００６２】
また、（Ｃ）光重合開始剤の市販品としては、商品名で、イルガキュア１８４、同５００、同６５１、同９０７、同３６９、同３７９、同ＣＧ２４−６１（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ルシリンＬＲ８７２８、ルシリンＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）、ダロキュア１１１６、同１１７３（以上、メルク社製）、ユベクリルｐ３６（ＵＣＢ社製）などを挙げることができる。
【００６３】
これらの（Ｃ）光重合開始剤のうち、好ましくは、２−メチル〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンなどのアセトフェノン類や、フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどである。
（Ｃ）光重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また１種以上の放射線増感剤と併用することもできる。
【００６４】
（Ｃ）光重合開始剤の使用量は、（Ｂ）重合性不飽和化合物１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１００重量部、より好ましくは０．０１〜５０重量部、さらに好ましくは０．５〜４０重量部である。（Ｃ）光重合開始剤の使用量が０．０１重量部未満であると、感度が低下する傾向があり、一方１００重量部を超えると、（Ａ）共重合体や（Ｂ）重合性不飽和化合物との相溶性が悪くなったり、得られる樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向がある。
【００６５】
−（Ｄ）連鎖移動剤−
本発明における（Ｄ）連鎖移動剤は、放射線の照射による（Ｂ）重合性不飽和化合物の重合度を調節し、ポストベーク後のマイクロレンズ形状を制御する成分である。このような（Ｄ）成分としては、例えば、アセトアルデヒド、アセトン、酢酸エチル等のカルボニル化合物あるいはカルボン酸エステル；トルエン、エチルベンゼン、ｔ−ブチルベンセン、トリフェニルメタン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等の芳香族炭化水素；ｐ−ベンゾキノン、ヒドロキノン等のキノン；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタン等のハロゲン化炭化水素；ニトロメタン、トリニトロメタン、１，１，１−トリニトロエタン等のニトロ化合物；ｐ−メトキシフェノール、２，３，４，６―テトラメチルフェノール等のフェノール類；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジビニルアニリン等のアミノ化合物；オクチルメルカプタン、ｎ―ブチルメルカプタン、ｎ―ペンチルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメル、ｎ―ドデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタン、ｔ―ドデシルメルカプタン等のメルカプタン；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィドなどのキサントゲンジスルフィド；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドなどのチウラムジスルフィド；ペンタフェニルエタン、α−メチルスチレンダイマーなどの炭化水素；およびアクロレイン、メタクロレイン、アリルアルコール、２−エチルヘキシルチオグリコレート、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテンなどを挙げることができる
これらの連鎖移動剤のうち、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、ｐ−メトキシフェノール、ｔ―ドデシルメルカプタン等が好ましい。前記連鎖移動剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６６】
本発明において、連鎖移動剤の使用量は、（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１０重量部、さらに好ましくは０．０５〜１０重量部、特に好ましくは０．１〜５重量部である。連鎖移動剤の使用量が０．０１重量部未満であると、所望の効果が得られないおそれがある。一方１０重量部を超えると、露光による硬化が十分進行せず、現像後溶解性が非常に高くなってしまう傾向がある。
【００６７】
−添加剤−
感放射線性樹脂組成物には、（Ｅ）シランカップリング剤を添加することができる。
（Ｅ）成分は、基板との接着性を向上させるための接着助剤として働くものである。
【００６８】
このような（Ｅ）成分としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤が好ましく、より具体的には、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
これらのシランカップリング剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
シランカップリング剤の添加量は、（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは０．１〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部である。
【００６９】
感放射線性樹脂組成物には、加熱により重合するが、放射線の照射によっては重合しない（Ｆ）熱重合性化合物を添加することができる。
このような（Ｆ）熱重合性化合物としては、好ましくは８０〜２５０℃、さらに好ましくは８０〜１６０℃、特に好ましくは１００〜１５０℃で熱重合するものが望ましい。
レンズ形成用感放射線性樹脂組成物には、特に加熱処理の温度を１６０℃以下としてレンズを形成する場合には、（Ｆ）熱重合性化合物を添加することが好ましい。
（Ｆ）熱重合性化合物は、一般的には単量体であるが、その分子量は特に制限されず、オリゴマー程度の分子量を有していてもよい。
（Ｆ）熱重合性化合物としては、分子内に熱重合性の官能基、例えば、エポキシ基、エピスルフィド基、オキセタニル基などを、１個以上あるいは１種以上有する化合物を挙げることができる。ただし、後述する接着助剤のうち、エポキシ基を有する官能性シランカップリング剤も、エポキシ基を有する熱重合性化合物に含まれる。
【００７０】
（Ｆ）熱重合性化合物のうち、エポキシ基を１個有する化合物としては、例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ｎ−プロピルグリシジルエーテル、ｉ−プロピルグリシジルエーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、ｓｅｃ−ブチルグリシジルエーテル、ｔ−ブチルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエーテル；エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールモノグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールモノグリシジルエーテルなどのアルキレングリコールモノグリシジルエーテル；ポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリプロピレンモノグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールモノグリシジルエーテル；フェニルグリシジルエーテル、ｏ−トリルグリシジルエーテル、ｍ−トリルグリシジルエーテル、ｐ−トリルグリシジルエーテル、ｏ−エチルフェニルグリシジルエーテル、ｍ−エチルグリシジルエーテル、ｐ−エチルフェニルグリシジルエーテルなどのアリールグリシジルエーテルなどのグリシジル基を有する化合物や、
〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕メチルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エチルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｎ−プロピルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｉ−プロピルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｎ−ブチルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｓｅｃ−ブチルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｔ−ブチルエーテルなどの〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕アルキルエーテル；エチレングリコールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル、プロピレングリコールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル、１，４−ブタンジオールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル、１，６−ヘキサンジオールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテルなどのアルキレングリコールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル；ポリエチレングリコールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル、ポリプロピレングリコールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテルなどのポリアルキレングリコールモノ〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル；〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕フェニルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｏ−トリルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｍ−トリルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｐ−トリルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｏ−エチルフェニルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｍ−エチルフェニルエーテル、〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕ｐ−エチルフェニルエーテルなどの〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕アリールエーテルなどの３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物
などを挙げることができる。
【００７１】
また、エポキシ基を２個以上有する化合物としては、例えば、
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテルなどのビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル；
エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの多価アルコールのポリグリシジルエーテル；
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイド（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなど）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル；
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；他の脂環族エポキシ樹脂、他の脂肪族ポリグリシジルエーテル、高級多価脂肪酸のポリグリシジルエステル；エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油や、
以下、商品名で、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート８２５、同８２８、同８３４、同１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８０００、同８０３４〔以上、ジャパンエポキシレジン（株）製〕など；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７〔ジャパンエポキシレジン（株）製〕など；フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５〔以上、ジャパンエポキシレジン（株）製〕、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）など；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、同１０２０、同１０２５、同１０２７〔以上、日本化薬（株）製〕、エピコート１８０Ｓ７５〔ジャパンエポキシレジン（株）製〕など；ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００〔以上、ジャパンエポキシレジン（株）製〕など；他の脂環族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４〔以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製〕、ＥＲＬ−４２０６、同−４２２１、同−４２３４、同−４２９９（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９〔昭和電工（株）製〕、エピクロン２００、同４００〔以上、大日本インキ（株）製〕、エピコート８７１、同８７２〔以上、ジャパンエポキシレジン（株）製〕、ＥＤ−５６６１、同−５６６２〔以上、セラニーズコーティング社製〕など；他の脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エポライト１００ＭＦ〔共栄社化学（株）製〕、エピオールＴＭＰ〔日本油脂（株）製〕などのほか、
２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物として、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸の〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エステル、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサンメタジオキサン、ビス〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕アジペート、ビス〔（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）メチル〕アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボン酸の（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）エステル、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのビス〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エーテル、エチレングリコールのビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸）エステル、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸の〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エステルとカプロラクトンとの反応生成物など；
エポキシ基と３，４−エポキシシクロヘキシル基とを有する化合物として、１，２：８，９−ジエポキシリモネンなど
などを挙げることができる。
【００７２】
また、エピスルフィド基を有する化合物としては、例えば、上記エポキシ基を１個または２個以上有する化合物中のエポキシ基を、例えば「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ.,Ｖｏｌ．２８，ｐ．２２９（１９６３）」に示された方法に準拠して、エピスルフィド基に変換した化合物などを挙げることができる。
【００７３】
また、オキセタニル基を１個有する化合物としては、例えば、３−メチル−３−メトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メトキシメチルオキセタン、３−メチル−３−エトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−エトキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ベンジルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ベンジルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−〔（２−エチルヘキシルオキシ）メチル〕オキセタン、３−エチル−３−〔（２−エチルヘキシルオキシ）メチル〕オキセタン、３−メチル−３−（Ｎ−ｎ−ブチルアミドメトキシ）オキセタン、３−エチル−３−（Ｎ−ｎ−ブチルアミドメトキシ）オキセタンを挙げることができる。
【００７４】
また、オキセタニル基を２個以上有する化合物としては、例えば、
３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン、３，３’−〔１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン）〕ビス（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル〕ベンゼン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕テレフタレート、１，２−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル〕エタン、１，３−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル〕プロパン、エチレングリコールビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ジエチレングリコールビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、トリエチレングリコールビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、テトラエチレングリコールビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ジシクロペンテニルビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレンビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、トリメチロールプロパントリス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕ブタン、１，６−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ポリエチレングリコールビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、
ジペンタエリスリトールヘキサキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとカプロラクトンとの反応生成物、ジペンタエリスリトールペンタキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとカプロラクトンとの反応生成物、ジトリメチロールプロパンテトラキス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテル、ビスフェノールＡビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物、ビスフェノールＡビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとプロピレンオキサイドとの反応生成物、水添ビスフェノールＡビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物、水添ビスフェノールＡビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとプロピレンオキサイドとの反応生成物、ビスフェノールＦビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物
などを挙げることができる。
【００７５】
これらの（Ｆ）熱重合性化合物のうち、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸の〔（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル〕エステル、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メチル〕テレフタレートなどが好ましい。
上記（Ｆ）熱重合性化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
（Ｆ）熱重合性化合物の添加量は、（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは１００重量部以下、さらに好ましくは５０重量部以下である。（Ｆ）熱重合性化合物の添加量が１００重量部を超えると、得られる樹脂組成物の現像性が損なわれるおそれがある。
【００７６】
本発明の感放射線性樹脂組成物には、プレベーク時の熱かぶりによる現像性の低下を抑えるために、熱重合禁止剤を添加することができる。
このような熱重合禁止剤としては、例えば、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔ−ブチルカテコール、メチルヒドロキノン、ｎ−アミルキノン、ｎ−アミロイロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノ−ｎ−プロピルエーテル、４，４’−〔１−｛４−（１−[４−ヒドロキシフェニル]−１−メチルエチル）フェニル｝エチリデン〕ジフェノール、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパンなどを挙げることができる。
これらの熱重合禁止剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
熱重合禁止剤の添加量は、（Ｆ）熱重合性化合物１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは３重量部以下である。
【００７７】
また、感放射線性樹脂組成物には、塗布性、消泡性、レベリング性などを向上させるために、界面活性剤を添加することができる。
このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などを挙げることができる。
【００７８】
上記フッ素系界面活性剤としては、商品名で、例えば、ＦＴＸ−２１２Ｄ、同−２１８、同−２０８Ｄ（以上、ネオス社製）、ＢＭ−１０００、同−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＩＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３〔以上、大日本インキ化学工業（株）製〕、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１〔以上、住友スリーエム（株）製〕、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１，同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２，同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６〔以上、旭硝子（株）製〕などを挙げることができる。
【００７９】
また、上記シリコーン系界面活性剤としては、商品名で、例えば、ＳＨ−２８ＰＡ、同−１９０、同−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、同−１９０〔以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製〕、ＫＰ３４１〔信越化学工業（株）製〕、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２〔以上、新秋田化成（株）製〕などを挙げることができる。
【００８０】
また、上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステルなどを挙げることができる。
さらに、上記以外の界面活性剤として、商品名で、例えば、ポリフローＮｏ．５７、同Ｎｏ．９０〔以上、共栄社化学（株）製〕などを挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８１】
界面活性剤の添加量は、（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは２重量部以下である。界面活性剤の添加量が５重量部を超えると、塗布時に塗膜の膜荒れが生じやすくなる傾向がある。
【００８２】
感放射線性樹脂組成物には、（Ａ）共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性を調節するために、溶解促進剤や溶解制御剤を添加することができる。すなわち、（Ａ）共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が低すぎる場合は、その溶解性を高めて、アルカリ現像時の（Ａ）共重合体の溶解速度を適度に増大させる作用を有する溶解促進剤を配合することができる。逆に、（Ａ）共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が高すぎる場合は、その溶解性を制御し、アルカリ現像時の（Ａ）共重合体の溶解速度を適度に減少させる作用を有する溶解制御剤を配合することができる。
【００８３】
上記溶解促進剤および溶解制御剤としては、特に限定されるものではないが、感放射線性樹脂組成物のプレベーク、露光、現像などの工程において化学変化しない化合物が好ましい。
溶解促進剤としては、例えば、ベンゼン環数が２〜６個程度の低分子量のフェノール性化合物を挙げることができ、より具体的には、ビスフェノール類、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン類などを挙げることができる。
また、溶解制御剤としては、例えば、ナフタレン、フェナントレン、アントラセン、アセナフテンなどの芳香族炭化水素；アセトフェノン、ベンゾフェノン、フェニルナフチルケトンなどのケトン；メチルフェニルスルホン、ジフェニルスルホン、ジナフチルスルホンなどのスルホンなどを挙げることができる。
これらの溶解促進剤および溶解制御剤はそれぞれ、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
溶解促進剤および溶解制御剤の添加量は、使用される（Ａ）共重合体の種類に応じて適宜調整することができるが、それぞれ（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、さらに好ましくは３０重量部以下である。
【００８４】
感放射線性樹脂組成物には、アルカリ現像液に対する溶解性を微調整するために、カルボキシル基および／またはカルボン酸無水物基を有する化合物（以下、「カルボン酸系添加剤」という。）を添加することができる。
カルボン酸系添加剤としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、ｎ−酪酸、イソ酪酸、ｎ−吉草酸、イソ吉草酸、安息香酸、けい皮酸などのモノカルボン酸類；乳酸、２−ヒドロキシ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｏ−ヒドロキシけい皮酸、ｍ−ヒドロキシけい皮酸、ｐ−ヒドロキシけい皮酸、５−ヒドロキシイソフタル酸、シリンギン酸などのヒドロキシモノカルボン酸類；シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸、１，２，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸などの多価カルボン酸類；無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、ドデセニルコハク酸無水物、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、３，４，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（トリメリテート）二無水物、グリセリントリス（トリメリテート）三無水物などの酸無水物を挙げることができる。
これらのカルボン酸系添加剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
カルボン酸系添加剤の添加量は、（Ａ）共重合体１００重量部に対して、好ましくは１０重量部以下、さらに好ましくは５重量部以下である。
【００８５】
さらに、感放射線性樹脂組成物には、充填材、着色剤、粘度調整剤などを、感放射線性樹脂組成物の本来の特性を損なわない範囲、好ましくは合計添加量が、得られる組成物全体の５０重量％以下となる範囲で添加することもできる。
上記充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、タルク、ベントナイト、ジルコニウムシリケート、粉末ガラスなどを挙げることができる。
これらの充填材は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８６】
また、上記着色剤としては、例えば、アルミナ白、クレー、炭酸バリウム、硫酸バリウムなどの体質顔料；亜鉛華、鉛白、黄鉛、鉛丹、群青、紺青、酸化チタン、クロム酸亜鉛、ベンガラ、カーボンブラックなどの無機顔料；ブリリアントカーミン６Ｂ、パーマネントレッド６Ｂ、パーマネントレッドＲ、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの有機顔料；マゼンタ、ローダミンなどの塩基性染料；ダイレクトスカーレット、ダイレクトオレンジなどの直接染料；ローセリン、メタニルイエローなどの酸性染料などを挙げることができる。
これらの着色剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８７】
また、上記粘度調整剤としては、例えば、ベントナイト、シリカゲル、アルミニウム粉末などを挙げることができる。
これらの粘度調整剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８８】
感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）連鎖移動剤および必要に応じて使用される添加剤を均一に混合し、また基板上への塗布作業を容易とする目的で、有機溶媒で希釈して、液状組成物とすることが好ましい。
上記有機溶媒としては、感放射線性樹脂組成物を構成する各成分を均一に溶解ないし分散させることができ、該各成分と反応せず、適度の揮発性を有するものが好ましい。
【００８９】
このような有機溶媒としては、例えば、上記（Ａ）アルカリ可溶性共重合体を製造する重合について例示した溶剤と同様の有機溶媒のほか、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテートなどの高沸点溶媒を挙げることができる。
【００９０】
これらの有機溶媒のうち、溶解性、各成分との反応性および塗膜形成の容易性から、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどの多価アルコールのアルキルエーテル；エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルアセテート；乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチルなどの他のエステル；ジアセトンアルコールなどのケトンなどが好ましい。
上記有機溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機溶媒の使用量は、感放射線性樹脂組成物の具体的な用途、塗布方法などに応じて適宜選定することができる。
【００９１】
感放射線性樹脂組成物を調製する際には、充填材や顔料を添加しない場合は、通常の方法で撹拌混合するだけでよく、充填材や顔料を添加する場合は、ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミルなどの分散機を用いて分散混合させればよい。また、感放射線性樹脂組成物は、必要に応じて、調製後にメッシュ、メンブレンフィルターなどによりろ過して使用に供してもよい。
【００９２】
ドライフィルムの製造法
本発明のドライフィルムは、前記ベースフィルムの表面上に、感放射線性樹脂組成物を塗布しそして乾燥して該感放射線性樹脂組成物の層を積層し、次いで該層をカバーフィルムでカバーすることによって製造することができる。本発明の優れた感放射線性ドライフィルムは、図１に示すように、ベースフィルムの上に感放射線性樹脂組成物層が２〜２００μｍの厚さに積層され、そしてさらにカバーフィルムでカバーされて一体化された構造を持っている。
塗膜の形成には、例えばアプリケーター、バーコーター、ロールコーター、カーテンフローコーターなどが使用される。
乾燥温度は低すぎると乾燥に時間がかかり、高すぎるとベースフィルムの熱収縮や感放射線性樹脂組成物の気化等が生じてしまう。乾燥温度は、４０〜１８０℃の範囲が適当であり、さらに好ましくは６０〜１３０℃である。
カバーフィルムは室温で感放射線樹脂組成物層に貼り付けることができるが、４０〜６０℃程度に加熱しながら貼り付けることもできる。
【００９３】
マイクロレンズの製造法
本発明のドライフィルムは、マイクロレンズの形成に用いられる。
本発明のマイクロレンズは、各種のＯＡ機器、液晶テレビ、携帯電話、プロジェクター等の液晶表示素子を始めとして、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系、光ファイバコネクタ等に極めて好適に使用することができる。
マイクロレンズの形成は、下記（ｉ）〜（ｉｖ）の工程からなる。
（ｉ）本発明のドライフィルムの感放射線性樹脂組成物層をガラス基板へ転写し、塗膜を基板上に形成する工程。
（ｉｉ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射（以下、「露光」という。）する工程。
（ｉｉｉ）露光後の塗膜を現像する工程。
（ｉｖ）現像後の塗膜を加熱（以下、「ベーク」という。）する工程。
【００９４】
以下、これらの工程について説明する。
−（ｉ）工程−
この工程においては、上記ドライフィルム製造工程に従ってマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物を可とう性のベースフィルム上に予め塗布・乾燥して感放射線性の塗膜（感放射線性樹脂組成物層）を形成し、これを基板に貼り付けて使用する。
作製したドライフィルムを使用する場合は、まず、カバーフィルムを除去し、例えば常圧熱ロール圧着法、真空熱ロール圧着法、真空熱プレス圧着法等の圧着手法を用いて、適当な熱と圧力を加えながら、ドライフィルムを基板上に転写する。
形成される塗膜の膜厚は３〜５０μｍ程度が好ましく、さらに好ましくは１０〜３０μｍ程度である。
使用できる基板の種類としては、ガラス基板、シリコンウエハーや、これらの表面に各種の金属層が形成された基板等を挙げることができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物層を基板に塗布する方法としては、ドライフィルムを作製してから基板に貼り付ける方法以外にも、例えば、スピンコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等の適宜の方法を採用することができる。
【００９５】
−（ｉｉ）工程−
この工程においては、形成された塗膜の少なくとも一部に露光する。塗膜の一部に露光する際には、所定パターンのマスクを介して露光する。
露光に用いられる放射線としては、特に限定されるものではないが、使用される感放射線性重合開始剤の種類等に応じて、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線等を適宜選択する。
これらの放射線のうち、紫外線が好ましく、特にｇ線および／またはｉ線を含む放射線が好ましい。
また、露光量は、５０〜１０，０００Ｊ／ｍ２程度が好ましい。
（ｉ）工程でドライフィルム法を用いたとき、感放射線性転写層上のベースフィルムは、露光工程の前に剥離除去してもよく、また、露光工程後、現像工程の前に剥離除去してもよい。
【００９６】
−（ｉｉｉ）工程−
この工程においては、露光された塗膜を現像液、好ましくはアルカリ現像液により現像して、未露光部を除去することにより、所定形状のパターンを形成する。
前記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]−５−ノネン等の塩基性化合物の水溶液を挙げることができる。
前記塩基性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加することもできる。
なお、アルカリ現像液で現像したのちは、通常、例えば流水洗浄等により洗浄する。
また、顔料や充填材等の不溶性成分を含有しない感放射線性樹脂組成物の場合には、当該組成物を構成する各成分を溶解する各種の有機溶媒を現像液として使用することもできる。
【００９７】
現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を採用することができる。
現像時間は、感放射線性樹脂組成物の組成によって異なるが、通常、常温で３０〜３００秒間程度である。本発明で用いられる感放射線性樹脂組成物の場合、現像液の温度を３０〜３５℃程度とすることで現像時間を短くしても、良好なパターンおよびマイクロレンズを形成でき、タクトタイム短縮の面で有利である。
マイクロレンズの形成に用いられる従来の感放射線性樹脂組成物では、現像時間が最適条件から２０〜２５秒程度超過すると、形成されたパターンに剥がれが生じるため、現像時間を厳密に制御する必要があったが、本発明における感放射線性樹脂組成物の場合、最適現像時間からの超過時間が３０秒以上となっても、良好なパターンを形成でき、製品歩留りの面で有利である。
【００９８】
−（ｉｖ）工程−
この工程においては、現像後の塗膜を、例えば、ホットプレート、オーブン等の加熱装置によりベークすることにより、該パターンをメルト、硬化させてレンズ形状を得る。
ベーク条件は、感放射線性樹脂組成物を構成する各成分の種類や使用割合、所望するパターン形状、加熱装置等によっても異なるが、ホットプレートの場合は、例えば、１５０〜２４０℃で１０〜３０分間程度であり、オーブンの場合は、１５０〜２４０℃で３０〜９０分間程度である。また、ベークに際しては、２回以上加熱処理するステップベーク法等を採用することもできる。また、現像して得られたパターンをべーク前もしくはベーク後に露光するポスト露光法を採用することもできる。
【００９９】
以上のように、本発明で用いられる感放射線性樹脂組成物は、解像度が高く、保存安定性、塗布性等に優れ、優れた特性バランスを有する高精細なマイクロレンズおよびマイクロレンズアレイを形成することができる。
また、本発明のマイクロレンズは、膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐熱変色性、耐溶剤性等の特性バランスに優れており、特に、各種のＯＡ機器、液晶テレビ、携帯電話、プロジェクター等の液晶表示素子に極めて好適に使用することができる。
また、本発明のドライフィルム製造方法およびマイクロレンズ製造方法によると、優れた特性を有する高精細なマイクロレンズおよびマイクロレンズアレイを感放射線性ドライフィルムを用いる簡便なプロセスで形成することができる。
【実施例】
【０１００】
以下に実施例および比較例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
合成例１
フラスコを窒素置換したのち、ラジカル重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３ｇおよび溶剤として３−メトキシプロピオン酸メチル１００ｇを仕込み、ラジカル重合開始剤が溶解するまで撹拌した。その後、メタクリル酸１９ｇ、２−モノ（ヘキサヒドロフタロイルオキシ）エチルメタクリレート１５ｇ、スチレン１５ｇおよびトリシクロデカニルメタクリレート４６ｇを仕込んでゆるやかに撹拌を始め、さらにイソプレン５ｇを加えた。その後、反応溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で４時間重合を行ない、メタクリル酸／２−モノ（ヘキサヒドロフタロイルオキシ）エチルメタクリレート／スチレン／トリシクロデカニルメタクリレート／イソプレンの共重合体（共重合重量比＝１９／１５／１５／４６／５、Ｍｗ＝１３，０００、Ｍｎ＝８，０００）を得た。この共重合体を、共重合体（Ａ１)とする。
【０１０１】
合成例２
合成例１と同様に、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート／グリセロールモノメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミドを共重合（共重合重量比＝１５／１５／３５／１０／２５、Ｍｗ＝７，０００、Ｍｎ＝４，０００）させ、共重合体（Ａ２)を得た。
下記表１に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを（Ｓ−１）とする。
【０１０２】
【表１】
2009047789.tif 000011
【０１０３】
実施例１
ドライフィルムの作製およびカバーフィルムの剥離、転写、露光は以下のごとく行った。
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のフィルムであるコスモシャイン「Ａ４１００−５０」（東洋紡（株）製）上に、アプリケーターを用いて表１の感放射線性樹脂組成物（Ｓ−１）を均一に塗布し、塗膜を１２０℃で８分間加熱し、厚さ２０μｍの感放射線性樹脂組成物層を形成し、その上から自己粘着樹脂層を有するポリエチレン（ＰＥ）製のフィルムであるトレテック７７２１（フィルムＡ・東レフィルム加工（株）製）を感放射線性樹脂組成物層と自己粘着樹脂層が接触するように、室温で圧着法にて密着させ、ドライフィルムを作製した。次に、カバーフィルムを剥離し、感放射線性樹脂組成物層の表面をガラス基板の表面に当接し、熱圧着法で感放射線性ドライフィルムをガラス基板に転写した。
次いで、得られた基板に所定パターンのマスクを介して、波長３６５ｎｍにおける強度が２００Ｗ／ｍ２の紫外線を５秒間露光した。その後、基板上の感放射線性ドライフィルムからベースフィルムを剥離除去し、０．３重量％水酸化カリウム水溶液により、２５℃で２分間現像したのち、純水で１分間洗浄して、パターンを形成し、膜厚１８．７μｍのパターン状薄膜を得た。その後、塗膜を１５０℃のオーブン中で６０分間ベークしてメルトおよび硬化させることにより、マイクロレンズを形成した。得られたマイクロレンズの評価は、下記の要領で行った。結果を表７に示す。
【０１０４】
−残膜率の評価−
現像後の膜厚について、残膜率が８０％を越える場合を○、７０％以上８０％未満の場合を△、７０％未満の場合を×として評価した。
−解像度の評価−
現像後のパターン状薄膜について、ライン／スペース＝１０μｍ／１０μｍのパターンが解像できている場合を○、ライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍのパターンを解像できている場合を△、両者のパターンが解像できていない場合を×として、評価した。
−レンズ形状の評価−
ポストベーク後のマイクロレンズを形成した薄膜について、ライン／スペース＝５０μｍ／５０μｍあるいは３０μｍ／３０μｍのパターンを透過型電子顕微鏡で観察し、図２のいずれの形状に該当するかを評価した。（ａ）のような半球形状でレンズ形状が良好な場合を○とし、特に良好な場合を◎とする。（ｂ）のようにメルト不足によりレンズ形状とならず逆皿形状である場合を△とし、（ｃ）のように全くメルトせず角張っている形状の場合を×とした。
【０１０５】
実施例２
下記表２に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを（Ｓ−２）とする。
実施例１に準じて（Ｓ−２）をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムＡを感放射線樹脂組成物層に圧着し、ドライフィルム作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。得られたマイクロレンズの評価を実施例１と同様に行い、結果を表７に示した。
【０１０６】
【表２】
2009047789.tif 000012
【０１０７】
実施例３
下記表３に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを（Ｓ−３）とする。
実施例１に準じて（Ｓ−３）をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムＡを感放射線樹脂組成物層に圧着し、ドライフィルム作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。得られたマイクロレンズの評価を実施例１と同様に行い、結果を表７に示した。
【０１０８】
【表３】
2009047789.tif 000013
【０１０９】
実施例４
下記表４に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを（Ｓ−４）とする。
実施例１に準じて（Ｓ−４）をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムＡを感放射線樹脂組成物層に圧着し、ドライフィルム作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。得られたマイクロレンズの評価を実施例１と同様に行い、結果を表７に示した。
【０１１０】
【表４】
2009047789.tif 000014
【０１１１】
比較例１
下記表５に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを（Ｓ−５）とする。
実施例１に準じて（Ｓ−５）をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムＡを感放射線樹脂組成物層に圧着し、ドライフィルム作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。得られたマイクロレンズの評価を実施例１と同様に行い、結果を表７に示した。
【０１１２】
【表５】
2009047789.tif 000015
【０１１３】
比較例２
下記表６に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを（Ｓ−６）とする。
実施例１に準じて（Ｓ−６）をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムＡを感放射線樹脂組成物層に圧着し、ドライフィルム作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。得られたマイクロレンズの評価を実施例１と同様に行い、結果を表７に示した。
【０１１４】
【表６】
2009047789.tif 000016
【０１１５】
【表７】
2009047789.tif 000017
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明の感放射線性ドライフィルムの層構成の説明図。
【図２】レンズの断面形状を示す模式図。
【図１】
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【図２】
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