(57)【要約】【課題】表面の平滑性が高く、また水蒸気などのガスの遮断性が高く、加えて反射防止機能を有する透明基板を提供する。【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２，３が複数層積層して透明積層板に形成されていると共に、複数層の平滑化層２，３が、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層２と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層３からなる。【選択図】図１
2009244758.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板を備え、表面を平滑に形成するための透明な平滑化層が複数層積層して透明積層板に形成されていると共に、複数層の平滑化層が、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層からなることを特徴とする透明基板。
【請求項２】
低屈折平滑化層が、二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素から少なくとも１種選ばれる材料からなるガスバリア性を有する層であることを特徴とする請求項１に記載の透明基板。
【請求項３】
低屈折平滑化層の光学膜厚が、１２０〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明基板。
【請求項４】
表面の粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の透明基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイなどに用いられる透明基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明積層板によって形成される透明基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイなどにおいて、ガラス板に代わる材料として検討されている（例えば特許文献１等）。
【０００３】
透明基板として用いられるこのような透明積層板の一例として、ガラスクロスなどガラス繊維からなる基材に、ガラス繊維と屈折率が近似する透明熱硬化性樹脂を含浸してプリプレグを調製し、このプリプレグを加熱加圧成形することによって作製したものを挙げることができる。透明熱硬化性樹脂としては一般にエポキシ樹脂が使用されているが、樹脂の屈折率をガラス繊維の屈折率に近似させるために、ガラス繊維より屈折率の大きいエポキシ樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さいエポキシ樹脂とを混合し、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように混合比率を調整した樹脂組成物を用いるようにしている。このように基材のガラス繊維とマトリクス樹脂の屈折率を合わせることによって、透明積層板内での光の屈折を抑え、視認性に優れたディスプレイの透明基板として使用することができるものである。
【０００４】
図２はこのような透明積層板によって形成される透明基板Ａを用いて作製した液晶ディスプレイの概略構成の一例を示すものであり、一対の透明基板Ａを平行に配置し、この透明基板Ａ間に駆動素子１０が搭載されるようになっている。この駆動素子１０は、一方の透明基板Ａに設けられた画素電極１１とＴＦＴ１２、他方の透明基板Ａに設けられた共通電極１３、透明基板Ａ間に充填される液晶分子１４などを備えて形成されるものである。
【特許文献１】特開２００４−３０７８５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような液晶ディスプレイにあって、対向して配置される透明基板Ａの間隔が不均一であると、充填されている液晶分子１４の厚みが不均一になって、液晶分子１４の配向性が部分的に乱れ、光の散乱が生じるおそれがある。また液晶分子１４は水蒸気や酸素などが作用すると劣化し易く、水蒸気などの作用で液晶ディスプレイの寿命が低下するおそれがある。
【０００６】
しかし透明基板Ａは、ガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているため、表面の平滑性をガラス基板のように高く形成することは困難であり、特にガラスクロスなどで形成されるガラス基材の凹凸が表面に表れて、平滑性が低くなる傾向にある。従ってこのような透明基板Ａを液晶ディスプレイの駆動素子を搭載する基板として用いる場合、対向して配置される透明基板Ａの間隔が不均一になって、充填されている液晶分子１４に配向の乱れが生じて光の散乱が起こり、鮮明な画像を得ることができなくなるおそれがあるという問題があった。
【０００７】
また透明基板Ａは、ガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているものであり、樹脂をマトリクスとするため、ガラス板のような高いガス遮断性を有するものではない。従ってこのような透明基板Ａを液晶ディスプレイの基板として用いると、水蒸気や酸素などのガスが透明基板Ａを透過することを完全に遮断することはできず、液晶分子に水蒸気や酸素などが作用して劣化させるおそれがあるという問題があった。
【０００８】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、表面の平滑性が高く、また反射防止機能を有し、さらに水蒸気などのガスの遮断性が高い透明基板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る透明基板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備え、表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２，３が複数層積層して透明積層板に形成されていると共に、複数層の平滑化層２，３が、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層２と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層３からなることを特徴とするものである。
【００１０】
この発明によれば、平滑化層２，３で透明積層板１の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができるものであり、また平滑化層２，３は高屈折平滑化層２と低屈折平滑化層３からなるものであり、表面を平滑にするための平滑化層２，３を利用して反射防止の機能を付与することができるものである。さらに平滑化層２，３によって水蒸気などのガスが透過することを抑制することができ、ガスの遮断性を高めることができるものである。
【００１１】
また本発明において、上記低屈折平滑化層３は、二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素から少なくとも１種選ばれる材料からなるガスバリア性を有する層であることを特徴とするものである。
【００１２】
このように低屈折平滑化層３をガスバリア性を有する層で形成することによって、水蒸気などのガスを遮断する効果を一層高く得ることができるものである。
【００１３】
また本発明において、上記低屈折平滑化層３は、光学膜厚が１２０〜１５０ｎｍであることを特徴とするものである。
【００１４】
この発明によれば、反射率をより低下させることができ、光の透過率の高い透明基板を得ることができるものである。
【００１５】
また本発明は、平滑化層２，３によって形成される表面の粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１６】
透明基板の表面の平滑性が粗さ（Ｒａ）３０ｎｍ以下であることによって、透明基板を平行に配置してディスプレイの駆動素子１０の液晶分子１４を充填するにあたって、液晶分子に配向の乱れが生じることをより有効に防いで光の散乱を防止することができ、鮮明な画像を得ることができるものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、平滑化層２，３で透明積層板１の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができるものであり、また平滑化層２，３は高屈折平滑化層２と低屈折平滑化層３からなるものであり、表面を平滑にするための平滑化層２，３を利用して反射防止の機能を付与することができるものである。さらに、平滑化層２，３によって水蒸気などのガスが透過することを抑制することができ、ガスの遮断性を高めることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１９】
まず、本発明において使用する透明積層板について説明する。この透明積層板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製されるものである。
【００２０】
上記のガラス繊維より高屈折率の樹脂として、シアネートエステル樹脂を用いるのが好ましい。シアネートエステル樹脂は、１分子中に２個以上のシアネート基を有するシアネートエステル化合物が３量化でトリアジン環を生成して重合したものであり、シアネートエステル化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４−シアナートフェニル）メタン、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）エタン等、あるいはこれらの誘導体など、芳香族シアネートエステル化合物を用いることができる。これらは単独で用いる他、複数種を組み合わせて用いるようにしてもよい。このシアネートエステル樹脂は剛直な分子骨格を有するものであり、このため、硬化物に高いガラス転移温度を与えるものである。またシアネートエステル樹脂は常温で固形であるので、後述のように樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸して乾燥することによってプリプレグを調製する際に、指触乾燥することが容易になるので、プリプレグの取り扱い性が良好になるものである。
【００２１】
ここで、ガラス繊維の屈折率が例えば１．５６２である場合、高屈折率樹脂として用いるシアネートエステル樹脂は屈折率が１．６前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ＋０．０３〜ｎ＋０．０６の範囲のものであることが望ましい。尚、本発明において、樹脂の屈折率は、いずれも硬化した樹脂の状態での屈折率をいうものであり、ＡＳＴＭ  Ｄ５４２で試験した値である。
【００２２】
一方、上記のガラス繊維より低屈折率の樹脂としては、低屈折率であれば任意のエポキシ樹脂を用いることができるが、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。ガラス繊維の屈折率が例えば１．５６２である場合、この低屈折率のエポキシ樹脂としては屈折率が１．５前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０４〜ｎ−０．０８の範囲のものであることが望ましい。
【００２３】
低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂において、ビスフェノール型としては、ビスフェノールＡ型の他に、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型などを用いることもできる。
【００２４】
また、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、常温で固形の固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。常温で液状の液状型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用することもできるが、プリプレグを調製する際に、指触で粘着性のある状態にまでしか乾燥することができず、プリプレグの取り扱い性が悪くなるので、固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用するのが好ましいのである。さらに、低屈折率のエポキシ樹脂として、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂以外のものを併用することも可能であり、例えば１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂を併用することができる。このエポキシ樹脂は屈折率を微調整するために併用するものであり、また常温で固体であるために透明積層板の製造を容易にするためにも最適な樹脂である。
【００２５】
そして、上記の高屈折率のシアネートエステル樹脂と、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂とを混合して、ガラス繊維の屈折率に近似した樹脂組成物を調製して用いるものである。高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率のエポキシ樹脂の混合比率は、ガラス繊維の屈折率に近似させるように、任意に調整されるものである。ここで、樹脂組成物の屈折率はガラス繊維の屈折率にできるだけ近いことが望ましいが、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲で近似するように調整するのが好ましい。
【００２６】
またこの樹脂組成物は、その硬化樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上になるように調製されるのが好ましい。ガラス転移温度が１７０℃以上であることによって、透明積層板の耐熱性を高めることができるものである。ガラス転移温度の上限は特に設定されるものではないが、実用的には２８０℃程度がガラス転移温度の上限である。ガラス転移温度の調整は、樹脂組成物中の上記のシアネートエステル樹脂の配合比率を変えることによって行なうことができるものであり、併用する低屈折率樹脂の種類に左右されるが、樹脂組成物の樹脂分中、シアネートエステル樹脂が約３０質量％以上であれば、樹脂組成物のガラス転移温度を１７０℃以上に調整することができる。
【００２７】
さらに樹脂組成物には、硬化開始剤（硬化剤）を配合することができる。この硬化開始剤としては、有機金属塩を用いることができる。この有機金属塩としては、例えば、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸と、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ等の金属との塩を挙げることができる。これらは一種を単独で用いる他に、二種以上を併用することもできるが、中でも、オクタン酸亜鉛が好ましい。硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を用いることによって、硬化樹脂のガラス転移温度を高めることができるものである。樹脂組成物中のオクタン酸亜鉛など有機金属塩の含有量は、特に限定されるものではないが、０．０１〜０．１ＰＨＲの範囲が好ましい。
【００２８】
また硬化開始剤として、カチオン系硬化剤を用いることもできる。このようにカチオン系硬化剤を用いることによって樹脂の透明性を高めることができるものである。カチオン系硬化剤としては、特に限定されるものではないが、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体などを用いることができる。樹脂組成物中のカチオン系硬化剤の含有量は、特に限定されるものではないが、０．２〜３．０ＰＨＲの範囲が好ましい。
【００２９】
さらに硬化開始剤として、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の３級アミン、２−エチル−４−イミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−イミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）などの硬化触媒を用いることもできる。樹脂組成物中の硬化触媒の含有量は、特に限定されるものではないが、０．５〜５ＰＨＲの範囲が好ましい。
【００３０】
上記のように高屈折率のシアネートエステル樹脂、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂、硬化開始剤を配合することによって樹脂組成物を調製することができるものである。この樹脂組成物は、必要に応じて溶剤に溶解乃至分散して樹脂ワニスとして使用するものである。この溶剤としては、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、２−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。
【００３１】
一方、ガラス繊維としては、透明積層板の耐衝撃性を高める効果の点からＥガラスやＮＥガラスであることが好ましい。Ｅガラスは無アルカリガラスとも称され、樹脂強化用ガラス繊維として汎用されるガラスであり、ＮＥガラスはＮｅｗＥガラスのことである。またガラス繊維には、耐衝撃性を向上させる目的で、ガラス繊維処理剤として通常使用されているシランカップリング剤によって表面処理しておくことが好ましい。ガラス繊維の屈折率は１．５５〜１．５７の範囲であることが好ましく、１．５５５〜１．５６５の範囲であることがさらに好ましい。ガラス繊維の屈折率がこの範囲であれば、視認性に優れた透明積層板を得ることができるものである。ガラス繊維の基材としては、ガラス繊維の織布あるいは不織布を使用することができる。
【００３２】
そしてガラス繊維の基材に樹脂組成物のワニスを含浸し、加熱して乾燥することによって、プリプレグを調製することができる。乾燥条件は特に限定されるものではないが、乾燥温度１００〜１６０℃、乾燥時間１〜１０分間の範囲が好ましい。
【００３３】
次にこのプリプレグを１枚、あるいは複数枚重ね、加熱加圧成形することによって、樹脂組成物を硬化させて、透明積層板を得ることができるものである。加熱加圧成形の条件は、特に限定されるものではないが、温度１５０〜２００℃、圧力１〜４ＭＰａ、時間１０〜１２０分間の範囲が好ましい。
【００３４】
上記のようにして得られる透明積層板にあって、高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が重合して形成される樹脂マトリクスは、シアネートエステル樹脂を含有することによってガラス転移温度が高いものであり、耐熱性に優れた透明積層板を得ることができるものである。またシアネートエステル樹脂や水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂はいずれも透明性に優れるものであり、高い透明性を確保した透明積層板を得ることができるものである。この透明積層板において、ガラス繊維の基材の含有率は２５〜６５質量％の範囲であることが好ましく、この範囲であれば、ガラス繊維による補強効果で高い耐衝撃性を得ることができると共に、十分な透明性を得ることができるものである。
【００３５】
ここで、ガラス繊維の基材としては、透明性を高く得るために、厚みの薄いものを複数枚重ねて用いるのが好ましい。具体的には、ガラス繊維基材として厚み５０μｍ以下のものを用い、この５０μｍ以下の厚みのガラス繊維基材を２枚以上重ねて使用するのが好ましい。ガラス繊維基材の厚みの下限は特に限定されるものではないが、１０μｍ程度が実用上の下限である。またガラス繊維基材の枚数も特に限定されるものではないが、２０枚程度が実用上の上限である。このように複数枚のガラス繊維基材を用いて透明積層板を製造する場合、各ガラス繊維基材に樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを複数枚重ねて加熱加圧成形することによって透明積層板を得ることができるが、複数枚のガラス繊維基材を重ねた状態で樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを加熱加圧成形して透明積層板を得るようにしてもよい。
【００３６】
そして、上記のように作製した透明積層板１の表面に透明な平滑化層２，３を複数層重ねて形成することによって、図１に示すような本発明に係る透明基板Ａを得ることができるものである。複数層重ねて形成する平滑化層２，３のうち、少なくとも隣り合う平滑化層２，３のうち、一方は高屈折率の高屈折平滑化層２として、他方は低屈折率の低屈折平滑化層３として形成されるものである。
【００３７】
高屈折平滑化層２は屈折率が１．５６以上に形成されるものである。屈折率の上限は特に設定されるものではないが、実用的には１．８程度が屈折率の上限である。高屈折平滑化層２の膜厚は特に限定されるものではないが、１〜１０μｍ程度の範囲が好ましい。
【００３８】
この高屈折平滑化層２を形成する材料としては、特に限定されるものではないが、ベンゼン環等の高屈折率構成単位を持つアクリル、エポキシ、ウレタン、ポリイミドなどの樹脂を挙げることができる。また屈折率が小さい樹脂の場合でも、透明性を低下させない範囲で酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどのナノフィラーを添加して高屈折率にすることによって、高屈折率層２を作製することができる。
【００３９】
また低屈折平滑化層３は屈折率が１．４９未満に形成されるものである。低屈折平滑化層３の下限は特に設定されるものではないが、実用的には１．３５程度が屈折率の下限である。低屈折平滑化層３の膜厚は特に限定されるものではないが、光学膜厚（屈折率×膜厚）が１２０〜１５０ｎｍになるように設定するのが好ましい。
【００４０】
この低屈折平滑化層３を形成する材料は、特に限定されるものではないが、二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素から選ばれるものを用いることができる。これらは１種を単独で用いる他、２種以上を併用することもできる。
【００４１】
二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素から選ばれる材料で低屈折平滑化層３を形成するにあたっては、上記した樹脂にこれら二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素の微粒子を混合して調製したコーティング剤を塗装することによって行なうことができる。また気相蒸着によって、二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素からなる膜を成膜して、低屈折平滑化層３を形成することもできる。気相蒸着法としては、例えば、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザＣＶＤなどの化学蒸着法（ＣＶＤ）や、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、レーザアブレーションなどの物理蒸着法（ＰＶＤ）を採用することができる。
【００４２】
二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素から選ばれる材料で形成される低屈折平滑化層３は、ガスバリア性が高いので、ガスバリア性を有する低屈折平滑化層３を形成することができるものである。
【００４３】
透明積層板１の表面に高屈折率と低屈折率の平滑化層２，３を形成するにあたっては、透明積層板１の表面に高屈折平滑化層２を形成し、この高屈折平滑化層２の上に低屈折平滑化層３を形成するようにして、低屈折平滑化層２が外側になる図１のような層構成に形成するのが好ましい。勿論、高屈折率と低屈折率の平滑化層２，３は図１の実施の形態のように１層ずつ形成する他、複層の構成に形成することもできる。
【００４４】
上記のように透明積層板１の表面に平滑化層２，３を積層することによって形成される透明基板Ａにあって、平滑化層２，３を形成することによって透明積層板１の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、平滑化層２，３によって高い平滑性を有する透明基板Ａを得ることができるものである。このように透明基板Ａの表面の平滑性を高めることによって、既述の図２のように一対の透明基板Ａを平行に配置して駆動素子１０の液晶分子１４を充填するにあたって、透明基板Ａ間の間隔を均一な寸法に設定することができ、液晶分子１４に配向の乱れが生じることを防いで、光の散乱が発生することを防止することができるものであり、鮮明な画像のディスプレイを作製することができるものである。
【００４５】
平滑化層２，３によって形成される透明基板Ａの表面の平滑性は、表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることが望ましい。表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることによって、透明基板Ａ間の間隔をより均一に設定することができ、液晶分子１４に配向の乱れが生じることをより確実に防いで、光の散乱が発生することを防止することができるものである。表面粗さＲａは小さいほど好ましいものであり、表面粗さＲａの下限は特に設定されない。ここで、表面粗さＲａはＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４）で規定される算術平均粗さである。
【００４６】
そしてこの積層した平滑化層２，３は、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層２と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層３からなるので、平滑化層２，３の屈折率の差から、反射防止機能を有するものであり、透明基板Ａの表面平滑性を高めるために形成した平滑化層２，３に反射防止膜としての機能を持たせることができるものである。反射防止性能を高く得るために、高屈折平滑化層２と低屈折平滑化層３の屈折率の差が０．１５〜０．３０の範囲になるように設定するのが好ましい。またこのとき、低屈折平滑化層３の光学膜厚が上記のように１２０〜１５０ｎｍになるように設定することによって、可視光の１／４波長の光学膜厚である低屈折平滑化層３の作用で反射率を低下させることができ、光の透過率が高い透明基板Ａを得ることができるものである。
【００４７】
また、上記のように透明積層板１の表面に積層した平滑化層２，３によって、水蒸気や酸素などのガスが透明基板Ａを透過することを抑制することができるものであり、特に低屈折平滑化層３をガスバリア性の高い二酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素で形成することによって、外気の水蒸気や酸素等のガスを遮断することができるものであり、これらのガスが透明基板Ａを透過することを防ぐことができるものである。従って、透明基板Ａにディスプレイの駆動素子１０を搭載するにあたって、これらのガスが駆動素子１０に作用し、駆動素子１０の液晶分子１４を劣化させたりすることを防ぐことができるものである。
【００４８】
透明積層板１に平滑化層２を積層して形成される透明基板Ａのガス透過性は、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが望ましい。透明基板Ａの水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることによって、水蒸気などのガスが駆動素子１０に作用して劣化させることを有効に防ぐことができるものである。水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）は低いほど好ましいものであり、その下限は特に設定されない。尚、本発明において水蒸気透過率は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８（１９７６）に準拠した方法で測定された値である。
【実施例】
【００４９】
次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００５０】
（実施例１）
高屈折率樹脂として、固形型のシアネートエステル樹脂（Ｌｏｎｚａ社製「ＢＡＤＣｙ」、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン：屈折率１．５９）を５２質量部、低屈折率樹脂として、固形型の１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂（ダイセル化学工業（株）製「ＥＨＰＥ３１５０」：屈折率１．５１）を４８質量部配合し、さらに硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を０．０２質量部配合し、これにトルエン５０質量部、メチルエチルケトン５０質量部を添加して、温度７０℃で攪拌溶解することによって、樹脂組成物のワニスを調製した。この樹脂組成物の硬化物の屈折率は１．５６であった。
【００５１】
次に、厚み２５μｍのガラス繊維クロス（旭化成エレクトロニクス（株）製品番「１０３７」、Ｅガラス、屈折率１．５６２）に、上記の樹脂組成物のワニスを含浸し、１５０℃で５分間加熱することによって、溶剤を除去すると共に樹脂を半硬化させてプリプレグを調製した。
【００５２】
そしてこのプリプレグを２枚重ね、離型処理をしたガラス板に挟んでプレス機にセットし、１７０℃、２ＭＰａ、１５分の条件で加熱加圧成形することによって、樹脂の含有率が６３質量％、厚みが８０μｍの透明積層板１を得た。
【００５３】
一方、紫外線硬化型アクリル樹脂（アデカ（株）製「ＨＣ２０２」)にジルコニア粒子分散液（シーアイ化成（株）製「ＺＲＤＭＡ２０ＷＴ２０％−Ｇ２２」）を固形分で４５質量％配合することによって、硬化物の屈折率が１．６５になるように調整して、コーティング剤を調製した。そして上記の透明積層板１の表面に、このコーティング剤をグラビアコート法により、線数９０本／インチのグラビアを用いて、搬送速度５ｍ／分の条件で塗布し、３５℃で１２秒、６０℃で１２秒、１２０℃で１２秒、１３０℃で１２秒乾燥した後、紫外線を照射して硬化させることによって、厚さ２μｍの高屈折平滑化層２を形成した。
【００５４】
次に、この高屈折率平滑化層２の上に、中空シリカ含有シリコン系樹脂塗布液（松下電工（株）製「エアロセラ」、硬化物の屈折率：１．３７）を、グラビアコート法により、線数１８０本／インチのグラビアを用いて、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で１２秒、１３０℃で１２秒乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させることによって、厚さ１００ｎｍの低屈折平滑層３を形成した。
【００５５】
このように透明積層板１の表面に高屈折平滑化層２と低屈折平滑化層３を積層して設けることによって、透明基板Ａを得た。
【００５６】
（実施例２）
実施例１と同様にして、透明積層板１の表面に高屈折平滑化層２を形成した。次に、この高屈折平滑化層２の上に、中外炉工業（株）製の真空成膜装置「ＳＵＰＬａＤＵＯ」を用いて、次の方法でガスバリア性を有する低屈折平滑化層３を形成した。
【００５７】
蒸着材料にはＳｉＯを用い、設定圧力０．１２Ｐａ、酸素導入量１２０ｓｃｃｍ、製膜時間６０秒、放電出力５ｋｗの条件で、膜厚１００ｎｍのＳｉＯ２膜からなるガスバリア性を有する低屈折平滑化層３を形成した。この低屈折平滑化層３の屈折率は１．４７であった。
【００５８】
このように透明積層板１の表面に高屈折平滑化層２と低屈折平滑化層３を積層して設けることによって、透明基板Ａを得た。
【００５９】
（実施例３）
実施例１で作製した透明積層板１の表面に、アルバック（株）製の真空製膜装置「ＰＭＥ２００」を用いて、蒸着重合法でポリ尿素膜を成膜することによって、膜厚３μｍの高屈折平滑化層２を形成した。この高屈折平滑化層２の屈折率は１．６０であった。
【００６０】
次に同じ装置を用いて、高屈折平滑化層２の上に、スパッタ法によって二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を成膜することによって、膜厚０．１μｍのガスバリア性を有する低屈折平滑化層３を形成した。この低屈折平滑化層３の屈折率は１．４７であった。
【００６１】
このように透明積層板１の表面に高屈折平滑化層２と低屈折平滑化層３を積層して設けることによって、透明基板Ａを得た。
【００６２】
（比較例１）
実施例１で作製した透明積層板１に平滑化層を形成しないものをそのまま用いた。
【００６３】
（比較例２）
実施例１と同様にして、透明積層板１の表面に高屈折平滑化層２を形成したものを、低屈折平滑化層３を形成しないで用いた。
【００６４】
（比較例３）
高屈折平滑化層２を形成しないで、実施例１で作製した透明積層板１の表面に、実施例２と同様にして低屈折平滑化層２を形成したものを用いた。
【００６５】
上記の実施例１〜３及び比較例１〜３の透明基板について、視感反射率、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）、平滑化層を形成した側の表面の表面粗さＲａを評価した。結果を表１に示す。
【００６６】
尚、視感反射率は、（株）島津製作所製分光光度計「ＵＶ−２４５０」により測定した反射スペクトルを用い、ＸＹＺ表色系の三刺激値のＹを計算し、これを視感反射率とした。計算方法は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２（２０００）によった。
【００６７】
また表面粗さＲａの測定は、株式会社東京精密製の蝕針式表面粗さ計「ＳＵＲＦＣＯＭ  １３０Ａ」を用いて、透明積層板の表面凹凸を縦、横、４５°バイアス方向についてそれぞれ３点測定して行ない、合計９点の測定値の平均値をＲａ値とした。
【００６８】
【表１】
2009244758.tif 000003
【００６９】
表１にみられるように、平滑化層を形成した各実施例のものは、表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であって表面平滑性が高いものであった。
【００７０】
また高屈折平滑化層と高屈折率平滑化層を積層して形成した各実施例のものは視感反射率が低く、反射防止効果が高いものであった。
【００７１】
さらに平滑化層を形成した各実施例のものは水蒸気透過率が低くなっているものであり、特に実施例２，３のように、低屈折平滑化層をガスバリア性の高い二酸化ケイ素膜で形成することによって、水蒸気透過率を大きく低下させることができるものであった。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。
【図２】液晶ディスプレイの概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００７３】
１  透明積層板
２  高屈折平滑化層
３  低屈折平滑化層
【図１】
2009244758.tif 000004
【図２】
2009244758.tif 000005