(57)【要約】【課題】記録磁界の強度マージンが大きく、記録される磁気パターンは磁気ヘッドで記録される磁気パターンとリードチャネルの互換性が高い磁気転写方法や磁気転写マスタを提供する。【解決手段】  情報を表した凹凸パターンを表面に有し、その凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条にその凹凸パターンの凸部の上面が分割されている磁気転写マスタを、垂直磁気記録媒体に表面が近接あるいは接触した状態に配置する配置過程と、上記磁気転写マスタに、上記表面に沿い上記突条に交わる方向の磁界を印加する印加過程とを有する。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を表した凹凸パターンを表面に有し、該凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に該凹凸パターンの凸部の上面が分割されている磁気転写マスタを、垂直磁気記録媒体に該表面が近接あるいは接触した状態に配置する配置過程と、
前記磁気転写マスタに、前記表面に沿い前記突条に交わる方向の磁界を印加する印加過程とを有することを特徴とする磁気転写方法。
【請求項２】
前記凹凸パターンが、所定のラインに沿って凹凸が交互に並んだパターンであり、
前記突条は、前記ラインに対して交わる方向に延びたものであることを特徴とする請求項１記載の磁気転写方法。
【請求項３】
前記突条が、前記凹凸パターンにおける最短のパターン長の４分の１以下の間隔で並んだものであることを特徴とする請求項１または２記載の磁気転写方法。
【請求項４】
前記突条が、前記垂直磁気記録媒体における結晶粒径の平均粒径以上の幅を有し、該平均粒径以上の間隔で並んだものであることを特徴とする請求項１から３のうちいずれか１項記載の磁気転写方法。
【請求項５】
情報を表した凹凸パターンを表面に有した、該表面が垂直磁気記録媒体に近接あるいは接触され磁界が印加されることで該凹凸パターンが表す情報が該垂直磁気記録媒体に磁気パターンとして転写される磁気転写マスタであって、
前記磁界が、この磁気転写マスタの表面に沿った方向の磁界であることと、
前記凹凸パターンの凸部の上面が、該凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に分割されていることとを特徴とする磁気転写マスタ。
【請求項６】
情報を表した凹凸パターンを表面に有した、該表面が垂直磁気記録媒体に近接あるいは接触されて磁界が印加されることで該凹凸パターンが表す情報が該磁気記録媒体に磁気パターンとして転写される磁気転写マスタを製造するマスタ製造方法であって、
前記磁気転写マスタの元となる基板に前記凹凸パターンを形成するパターン形成過程と、
ステンシルマスクを用いて前記基板の表面全体に、前記磁界の方向に交わる方向に延びた複数の溝を刻むことにより、該表面を、前記凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に分割する、前記パターン形成過程の前あるいは後に実行される突条分割過程とを有することを特徴とするマスタ製造方法。
【請求項７】
請求項１から４のうちいずれか１項記載の磁気転写方法により制御情報が磁気パターンで記録されている、該制御情報に基づいた制御下で任意情報が磁気パターンとして記録される垂直磁気記録媒体から該制御情報および該任意情報を再生する情報再生装置であって、
前記垂直磁気記録媒体の磁気パターンを読取り、その磁気パターンにおける磁化反転に応じた信号反転を生じる読取信号を得るパターン読取部と、
前記パターン読取部で得られた読取信号のうち、前記制御情報の磁気パターンから得られた読取信号のピークを保持するピークホールド部と、
前記パターン読取部で前記任意情報の磁気パターンから得られた読取信号、および前記ピークホールド部でピークが保持された読取信号に対して信号処理を施すことでそれらの読取信号から前記制御情報および前記任意情報を再生する情報再生部とを備えたことを特徴とする情報再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、垂直磁気記録媒体に情報を磁気パターンとして転写する磁気転写方法、磁気転写に用いられる磁気転写マスタ、磁気転写マスタを製造するマスタ製造方法、および磁気転写で情報が転写された垂直磁気記録媒体から情報を再生する情報再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
パーソナルコンピュータや携帯音楽端末などに組み込まれる大容量の情報記憶装置としてハードディスクドライブ（ＨＤＤ）が広く普及している。このＨＤＤには、情報を記憶する記憶媒体として磁気ディスクが備えられており、近年では、ＨＤＤのさらなる大容量化に伴って、従前の水平（面内）磁気記録方式から垂直磁気記録方式へと主流が移行してきている。
【０００３】
このＨＤＤの磁気ディスクには、環状のトラックが多数設けられ、そのトラックに沿って情報が記憶される。またトラックは複数のセクタに区分されており、各セクタの先頭には、セクタに対する磁気ヘッドによる情報の読み書きを制御するためのサーボ情報が磁気パターンとして書き込まれている。そして、セクタの、サーボ情報が書き込まれている先頭に続く部分には、情報記憶装置が本来の目的として記憶する任意の情報が磁気ヘッドにより磁気パターンとして書き込まれる。この任意の情報は、情報記憶装置のユーザが記録を望んだ情報という意味でユーザ情報とも呼ばれる。
【０００４】
上記サーボ情報は、ＨＤＤの出荷以前にメーカー側で書き込む情報であり、通常は、ＳＴＷ（サーボトラックライター）と称される装置で書き込まれているが、ＨＤＤの大容量化に伴ってサーボ情報の量も増大し、生産性の向上などのために、磁気転写によるサーボ情報の書込みが提案されている。この磁気転写では、サーボ情報として記録するべき磁気パターンに対応した凹凸パターンが記録されたマスタディスク（磁気転写マスタ）を用意し、そのマスタディスクを磁気ディスクに接触させて記録磁場を印加することで凹凸パターンの情報が磁気パターンとして磁気ディスクに転写される。このマスタディスク（磁気転写マスタ）は、マスタディスクの基板に細かい凹凸パターンを作り磁性膜を製膜して作成する。
【０００５】
垂直磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写方法としては、垂直磁気記録媒体の表面に対して垂直に記録磁界を印加する垂直印加方式（例えば特許文献１参照）と、垂直磁気記録媒体の表面に沿って（水平に）記録磁界を印加する水平印加方式がある。これらの方式を、図を参照して以下説明する。
【０００６】
図１は、垂直印加方式の概念図である。
【０００７】
垂直印加方式では、サーボ情報の記録に先立って、垂直磁気記録媒体２に均一な磁界を印加することによって垂直磁気記録媒体２の全面を一方向に磁化する初期化を行う（図示は省略）。この図１に示す例では、図の下向きに初期化されているものとする。そして、サーボ情報に対応する凹凸パターンの付いたマスタディスク１を垂直磁気記録媒体２に密着させ、初期化の方向とは逆方向に記録磁界を印加する。この記録磁界の磁束３はマスタディスク１の凸部に集中するため、この凸部に接触している部分では垂直磁気記録媒体２の磁化が反転する。この図１に示す磁化２ａ，２ｂのうち、図の下側を向いた磁化２ａは初期化方向の磁化であり、図の上側を向いた磁化２ｂは記録磁界によって方向が反転した磁化である。
【０００８】
これらの磁化２ａ，２ｂの反転パターンは、マスタディスク１の凹凸の反転パターンと同じパターンとなっており、この磁化２ａ，２ｂによる磁気パターンが、図の奥行き方向に幅を有する磁気ヘッドで図の右側へと読み取られると、読取信号４は図１の下段に示すような矩形波形の信号となる。この読取信号４における信号反転のパターンも、磁気パターンにおける磁化の反転パターンと同じパターンとなっている。
【０００９】
図２は、水平印加方式の概念図である。
【００１０】
水平印加方式では初期化は不要であり、サーボ情報に対応する凹凸パターンの付いたマスタディスク１を垂直磁気記録媒体２に密着させ、マスタディスク１や垂直磁気記録媒体２の表面に沿った方向（いわゆる水平方向）に記録磁界を印加する。この記録磁界の磁束５は、マスタディスク１の凸部のエッジ（立ち上がり）でマスタディスク１から垂直磁気記録媒体２中へと進入して垂直磁気記録媒体２中を通り、次のエッジ（立ち下がり）で垂直磁気記録媒体２から抜けてマスタディスク１に戻ることを繰り返す。垂直磁気記録媒体２に対して磁束５が出入りする箇所では、垂直磁気記録媒体２の表面に対して垂直な磁束成分（垂直成分）が存在するので、その垂直成分によって磁化２ａ，２ｂの向きが決められる。この図２に示す例では、エッジの立ち上がりで図の上向きの磁化２ｂに揃い、エッジの立ち下がりで図の下向きの磁化２ａに揃う。マスタディスク１のエッジとエッジに挟まれた部分では磁束５には垂直成分が無いため、その部分での垂直磁気記録媒体２の磁化２ａ，２ｂの向きは、記録磁界が存在する間は磁束５に沿った向きに一時的に揃っているが、記録磁界が消えると上向きと下向きがランダムに混ざり合った状態となる。
【００１１】
このような磁気パターンが、図の奥行き方向に幅を有する磁気ヘッドで図の右側へと読み取られると、磁化２ａ，２ｂの向きがランダムな部分では再生ヘッドのコア幅で平均化されて実質的に磁化がゼロとなるため、読取信号６は、図２の下段に示すようなスパイク状の信号となる。この読取信号６の波形は、いわば、図１の下段に示す読取信号４を微分した波形に相当する波形となっている。
【特許文献１】特開２００６−７３０５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述した垂直印加方式の場合は、記録磁界が弱いと磁化反転が起こらず、強すぎるとマスタディスク１の凸部から凹部側に磁束が洩れてしまい、磁化反転領域が本来の領域を越えて広がってしまう。つまり、垂直印加方式では記録磁界の強度について最適点が存在し、しかもマージンが狭いという問題がある。さらに、サーボ情報のうちトラックを区別するためのアドレス情報を表した凹凸パターンは、隣接するトラック間での連続性がない不均一なパターンとなるため、このアドレス情報を記録する部分では、マスタディスク１上での凹凸反転の位置と垂直磁気記録媒体２上での磁気反転の位置（即ち磁壁の位置）とのズレが大きくなりやすくて記録磁界の強度マージンが特に小さいという問題がある。
【００１３】
一方、水平印加方式の場合は、記録磁界が弱すぎると磁化反転を起こさないが、強い分にはマスタディスク１のエッジの無い部分に磁束が通り問題は起こらないため、記録磁界強度のマージンが垂直印加方式に比べてはるかに大きいという利点がある。また向きが揃って磁化２ａ，２ｂが並ぶ位置もマスタディスク１のエッジのほぼその通りに出来るという利点もある。
【００１４】
しかし、上述したユーザ情報や、サーボ情報のうち、ユーザ情報の読み取りで磁気ヘッドの制御を補正するための補正情報については磁気ヘッドで媒体上に記録され、この磁気ヘッドで記録される磁気パターンは、図１の下段に示す矩形波形と同様の矩形波形の読取信号が得られる磁気パターンとなる。このため、水平印加方式の磁気転写で得られる磁気パターンと、磁気ヘッドで記録される磁気パターンとでは、読取信号を処理して情報を再生するリードチャネルの互換性が低く、複数系統のリードチャネルが必要となるという問題がある。
【００１５】
本件は上記事情に鑑み、記録磁界の強度マージンが大きく、磁気ヘッドで記録される磁気パターンとのリードチャネルの互換性も高い磁気転写方法、そのような磁気転写方法を実現可能な磁気転写マスタ、そのような磁気転写マスタを製造するのに適したマスタ製造方法、およびサーボ情報が正確でリードチャネルは単系統で済む情報再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成する磁気転写方法の基本形態は、
情報を表した凹凸パターンを表面に有し、その凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条にその凹凸パターンの凸部の上面が分割されている磁気転写マスタを、垂直磁気記録媒体に表面が近接あるいは接触した状態に配置する配置過程と、
上記磁気転写マスタに、上記表面に沿い上記突条に交わる方向の磁界を印加する印加過程とを有する。
【００１７】
このような磁気転写方法によれば、図２で説明した水平印加方式の利点を基本的に享受することができるので、記録磁界の強度マージンが大きい。また、磁気転写マスタの凹凸パターンの凸部に対応した垂直磁気記録媒体の部分では、凸部の上面の分割に対応した複数のエッジそれぞれの箇所で、図２で説明したように磁化が揃い、その結果、垂直磁気記録媒体の磁気パターンが磁気ヘッドで読み取られたときの読取信号には、凸部に対応した部分でスパイク状の複数のピークが生じることとなる。そして、このような複数のピークは、ピークホールド回路を用いて容易に矩形形状に変換することが出来るので、この磁気転写方法によって記録される磁気パターンは、磁気ヘッドによって記録される磁気パターンの再生に対応したリードチャネルに簡単な回路を付加しただけのリードチャネルによって再生することが出来、リードチャネルの互換性が高い。
【００１８】
上記目的を達成する磁気転写マスタの基本形態は、
情報を表した凹凸パターンを表面に有した、その表面が垂直磁気記録媒体に近接あるいは接触され磁界が印加されることでその凹凸パターンが表す情報が垂直磁気記録媒体に磁気パターンとして転写される磁気転写マスタであって、
上記磁界が、この磁気転写マスタの表面に沿った方向の磁界であることと、
上記凹凸パターンの凸部の上面が、その凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に分割されていることとを特徴とする。
【００１９】
このような磁気転写マスタを用いることで、上述したような、記録磁界の強度マージンが大きく、磁気ヘッドで記録される磁気パターンとのリードチャネルの互換性も高い磁気転写が実現する。
【００２０】
上記目的を達成するマスタ製造方法の基本形態は、
情報を表した凹凸パターンを表面に有した、その表面が垂直磁気記録媒体に近接あるいは接触されて磁界が印加されることでその凹凸パターンが表す情報がその磁気記録媒体に磁気パターンとして転写される磁気転写マスタを製造するマスタ製造方法であって、
上記磁気転写マスタの元となる基板に上記凹凸パターンを形成するパターン形成過程と、
ステンシルマスクを用いて上記基板の表面全体に、上記磁界の方向に交わる方向に延びた複数の溝を刻むことにより、その基板の表面を、上記凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に分割する、上記パターン形成過程の前あるいは後に実行される突条分割過程とを有することを特徴とする。
【００２１】
このようなマスタ製造方法によれば、ステンシルマスクを用いた精巧な溝の形成と、磁気転写マスタに応じた凹凸パターンの形成とを別々の過程に分けることで、上述した磁気転写マスタを効率よく製造することが出来、複数種類の磁気転写マスタへの対応性も高い。
【００２２】
上記目的を達成する情報再生方法や情報再生装置の基本形態は、
上述した磁気転写方法により制御情報が磁気パターンで記録されている、その制御情報に基づいた制御下で任意情報が磁気パターンとして記録される垂直磁気記録媒体からそれらサーボ情報および任意情報を再生する情報再生方法（情報再生装置）であって、
上記垂直磁気記録媒体の磁気パターンを読取り、その磁気パターンにおける磁化反転に応じた信号反転を生じる読取信号を得るパターン読取過程（パターン読取部）と、
上記パターン読取過程（パターン読取部）で得られた読取信号のうち、上記制御情報の磁気パターンから得られた読取信号のピークを保持するピークホールド過程（ピークホールド部）と、
上記パターン読取過程（パターン読取部）で上記任意情報の磁気パターンから得られた読取信号、および上記ピークホールド過程でピークが保持された読取信号に対して信号処理を施すことでそれらの読取信号から上記制御情報および上記任意情報を再生する情報再生過程（情報再生部）とを有することを特徴とする。
【００２３】
また、上記目的を達成する情報記憶装置の基本形態は、
上述した磁気転写方法により制御情報が磁気パターンで記録されている垂直磁気記録媒体と、
上記制御情報に基づいた制御下で上記垂直磁気記録媒体に任意情報を磁気パターンで記録する記録ヘッドと、
上記垂直磁気記録媒体の磁気パターンを読取り、その磁気パターンにおける磁化反転に応じた信号反転を生じる読取信号を得る読取ヘッドと、
上記読取ヘッドで得られた読取信号のうち、上記制御情報の磁気パターンから得られた読取信号のピークを保持するピークホールド部と、
上記読取ヘッドで上記任意情報の磁気パターンから得られた読取信号、および上記ピークホールド部でピークが保持された読取信号に対して信号処理を施すことでそれらの読取信号から上記制御情報および上記任意情報を再生する情報再生部とを備えたことを特徴とする。
【００２４】
このような情報再生方法や情報再生装置や情報記憶装置によれば、上述した磁気転写方法で正確に記録された制御情報とヘッドで記録される任意情報との双方の再生を、ピークホールドという簡易な違いだけでほぼ同一の手順で再生することが出来るので、リードチャネルが単系統で済む。
【発明の効果】
【００２５】
以上説明したように、上記基本形態の磁気転写方法や磁気転写マスタによれば、記録磁界の強度マージンが大きく、記録される磁気パターンは磁気ヘッドで記録される磁気パターンとリードチャネルの互換性が高い。また、上記基本形態のマスタ製造方法によれば、磁気転写マスタを効率よく製造することが出来、複数種類の磁気転写マスタへの対応性も高い。さらに、上記基本形態の情報再生方法や情報再生装置や情報記憶装置によれば、リードチャネルが単系統で済む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下図面を参照して上述した基本形態に対する具体的な実施の形態を説明する。
【００２７】
図３は、上述した基本形態の情報再生装置や情報記憶装置に対する具体的な一実施形態を示す図である。
【００２８】
この図３には、情報再生装置や情報記憶装置の一実施形態に相当するハードディスク装置１００が示されている。
【００２９】
この図に示すハードディスク装置１００は、パーソナルコンピュータなどといった上位装置に組み込まれ、その上位装置における情報記憶手段として利用されるものである。
【００３０】
このハードディスク装置１００には、表面に対して垂直な方向の磁化による磁気パターンで情報が記録されるいわゆる垂直磁気記録媒体である磁気ディスク１０が、図の奥行き方向に重なって複数枚備えられている。これらの磁気ディスク１０はディスク軸１０ａを中心に回転する。
【００３１】
また、ハードディスク装置１００には、各磁気ディスク１０の表裏面それぞれについて、各面に対して情報の書き込みと読み出しとを行う磁気ヘッド２０も備えられている。この磁気ヘッド２０は、磁気ディスク１０の表裏面に沿って延びたアーム３０に保持されており、このアーム３０がアーム軸３０ａを中心にして回転移動することで磁気ヘッド２０は磁気ディスク１０上を移動する。この磁気ヘッド２０は、上述した基本形態の情報生成装置におけるパターン読取部の一例に相当する。
【００３２】
磁気ヘッド２０による情報の読み書きやアーム３０の移動は制御回路４０によって制御されており、上位装置との情報の遣り取りもこの制御回路４０を介して行われる。
【００３３】
磁気ディスク１０上には、磁気ヘッド２０による情報の読み書きやアーム３０の移動を制御するために必要な制御情報（サーボ情報）が製造時に予め磁気的なパターンとして書き込まれている。この制御情報を表した磁気的なパターンのことを以下ではサーボパターンと称する。但し、サーボパターンの全てが製造時に予め書き込まれているわけではなく、サーボパターン中の、後述する補正信号を表した部分については、ハードディスク装置１００が使用された際に磁気ヘッド２０によって書き込まれることとなる。
【００３４】
磁気ディスク１０上には、ハードディスク装置１００のユーザがハードディスク装置１００に入力するデータ（ユーザデータ）が磁気パターンとして書き込まれる。このユーザデータの書込みは磁気ヘッド２０による書込みであり、サーボパターンが表すサーボ情報に基づいた制御によって書き込まれる。このユーザデータを表した磁気パターンのことを以下ではユーザデータパターンと称する。
【００３５】
図４は、磁気ディスク１０上のサーボパターンを表す図であり、図５は、サーボパターンが表している制御情報を表す図である。
【００３６】
図４の上段に示すように、磁気ディスク１０上には、アーム３０の回転による移動で磁気ヘッド２０が描く円弧に沿った弧状の領域にサーボパターン１１が記録され、このサーボパターン１１は、磁気ディスク１０上の複数箇所（この図では１２カ所）に記録されている。
【００３７】
サーボパターン１１を構成している磁気パターンの形状例が図４の下段に示されており、ここには一例としてトラックＴの４本分が示されている。但し、磁気パターンの形状が図示されているのは、サーボパターン１１のうち、製造時に磁気転写方式で予め磁気ディスク１０上に記録されている部分１２，１３，１４であり、実際の使用時に磁気ヘッド２０によって書き込まれる部分１５については、使用時の状況などで変化するものであるので位置だけが示されていて形状は図示されていない。
【００３８】
磁気ディスク１０上には、磁気ディスク１０の中心を共通の中心とした同心円状の多数のトラックＴが存在し、そのトラックＴに沿った方向（いわゆる円周方向）にデータが記録されるが、各トラックＴの位置には特別な物理構造は存在せず、上述したサーボパターン１１が磁気ディスク１０上に記録されることでトラックＴの位置が決まる。
【００３９】
図４及び図５に示すように、サーボパターン１１は、プリアンブルおよびサーボマークが書き込まれた部分１２と、アドレスが書き込まれた部分１３と、バーストが書き込まれた部分１４と、補正信号が書き込まれる部分１５とで構成されており、補正信号の部分１５の後ろには、ユーザによって任意のユーザデータが書き込まれるユーザデータ領域１６が続いている。
【００４０】
プリアンブルは、データを読み取るタイミングを表したセルフクロックを生成するための基準信号となるものであり、サーボマークは、サーボデータの開始位置を表したものである。アドレスはトラックを相互に識別するための情報であり、バーストは、トラックと磁気ヘッドとの位置ズレを検出するためのパターンであり、補正信号は、ユーザのデータを読み出すときの信号を補正するために用いる信号である。
【００４１】
なお、図５に示す情報内容を記録するための磁気パターンの形状としては、図４に例示した形状以外にも、図６に示すようないわゆる千鳥格子パターンと称されるパターンも知られている。
【００４２】
上述したように、図４に示す磁気パターンは磁気転写方式で磁気ディスク上に書き込まれる。磁気転写では、書き込まれる磁気パターンの形状と同じ形状の凹凸パターンを有する磁気転写マスタが用いられる。
【００４３】
図７は、磁気転写に用いられる磁気転写マスタの全体図である。
【００４４】
図７に示す磁気転写マスタ２００は、上述した基本形態の磁気転写マスタに対する具体的な第１の実施形態に相当するものであり、上述した磁気ディスク１０と同じ大きさを有している。この磁気転写マスタ２００上には、サーボパターンの領域に対応したパターン形成領域２１０とユーザデータ領域に対応したパターン未形成領域２２０が存在し、パターン形成領域２１０の形状は、図４に示すサーボパターン１１の領域の形状とは鏡像関係となっている。
【００４５】
磁気転写マスタ２００上では、磁気ディスク１０に記録されるべきサーボ情報が凹凸パターンで表現されている。サーボ情報はビット値で表されており、ビット値の一方（例えば値「０」）が凹凸の一方（例えば凹部）に対応し、ビット値の他方（例えば値「１」）が凹凸の他方（例えば凸部）に対応している。
【００４６】
図８は、磁気転写マスタ上のパターン形成領域２１０に形成された凹凸パターンの拡大図である。
【００４７】
上述したように、磁気転写マスタ上には凹凸パターンを形成した凸部２３０と凹部２４０が存在する。この図８の横方向は、磁気ディスクにおけるトラックが延びる方向に相当し、磁気転写マスタ上の凹凸パターンは、このトラックに沿って凸部２３０と凹部２４０が交互に並んだパターンとなっている。この図８に示した凸部２３０と凹部２４０は、凹凸パターンにおける最短のパターン長に相当する長さとなっているが、実際の凹凸パターンでは、凸部２３０と凹部２４０の長さは情報に応じた長さとなっており、磁気転写マスタ表面における凸部２３０と凹部２４０の平面形状は、図４に示す磁気パターンの形状と鏡面関係になっている。このような凸部２３０と凹部２４０のパターンが、上述した基本形態の磁気転写マスタにおける凹凸パターンの一例に相当する。
【００４８】
この図に示すように、凹凸パターンの凸部２３０は、さらに複数の突条２３１に分割されている。この突条２３１の間隔は、凸部２３０の長さにかかわらず、最短のパターン長よりも短い間隔となっている。従って、それらの突条２３１と、その突条２３１の間の溝２３２からなるパターンは情報を表してはいない。また、各突条２３１や各溝２３２が延びる方向は、磁気ディスクにおけるトラックに対して交わる方向となっており、ここでは特に、磁気ディスクや磁気転写マスタの中心に向かう方向（いわゆる半径方向）となっている。このような突条２３１が、上述した基本形態の磁気転写マスタにおける突条の一例に相当する。
【００４９】
このような磁気転写マスタの凹凸パターンが、磁気パターンとして磁気ディスク上に転写される。
【００５０】
図９は、磁気転写マスタの凹凸パターンを磁気ディスクに転写する磁気転写方法を説明する説明図である。
【００５１】
磁気転写方法では、まず、図９のパート（Ａ）に示すように、まだデータが書き込まれていない磁気ディスク１０上に磁気転写マスタ２００が乗せられ、磁気ディスク１０の表面に磁気転写マスタ２００の表面に形成された凹凸パターンの凸部が接触する。このパート（Ａ）に示す過程が、上述した基本形態の磁気転写方法における配置過程の一例に相当する。
【００５２】
更にその磁気転写マスタ２００上に磁石３００が乗せられる。この磁石３００は、磁気転写マスタ２００上に並ぶ２つの磁極２１０を有しており、これらの磁極２１０間に磁界が形成される。この磁界の向きは、磁気転写マスタ２００や磁気ディスク１０の表面に沿った向きとなっている。このような向きの磁界が転写磁界として印加された結果、磁界の磁束３２０は、磁気転写マスタ２００側と磁気ディスク１０側とを行き来する状態となる。
【００５３】
このような配置状態で、図９のパート（Ｂ）に示すように、円盤状の磁気転写マスタ２００および磁気ディスク１０の縁に沿って一周するように磁石３００が動かされる。このように磁石３００が一周することにより、表面に沿った向きの転写磁界が、磁気転写マスタ２００および磁気ディスク１０の全体に印加されることとなる。このパート（Ｂ）に示す過程が、上述した基本形態の磁気転写方法における印加過程の一例に相当する。
【００５４】
図１０は、図９に示すように転写磁界が印加されることで磁気ディスク１０上に形成される磁化状態を表す図である。
【００５５】
転写磁界の磁束３２０は、磁気転写マスタ２００が磁気ディスク１０の表面に接触している部分、即ち凸部２３０の突条２３１の部分では磁気ディスク１０中を通り、磁気転写マスタ２００が磁気ディスク１０の表面から離れている部分、即ち凹部２４０や溝２３２の部分では磁気ディスク１０から磁気転写マスタ２００側に抜け出ている。このように磁束３２０は磁気転写マスタ２００側と磁気ディスク１０側とを行き来するため、磁束３２０は、磁気転写マスタ２００のエッジの部分で、磁気ディスク１０表面に対して垂直な成分（垂直成分）を有する。そして、上述したように磁気ディスク１０は垂直磁気記録媒体であるため、このような垂直成分によって磁化されることとなる。詳細には、磁束３２０が磁気転写マスタ２００側から磁気ディスク１０側へと入る部分で磁気ディスク１０の磁化は図の上向きの磁化２ｂに揃い、磁束３２０が磁気ディスク１０側から磁気転写マスタ２００側へと戻る部分で磁気ディスク１０の磁化は図の下向きの磁化２ａに揃う。このような磁束３２０の出入りは、転写磁界の強度に拘わらず、磁気転写マスタ２００のエッジの箇所で生じるので、この磁束３２０によって磁化２ａ，２ｂが揃うの位置も正確にエッジの位置となり、ここに示した磁気転写方式によれば正確な磁気パターンが磁気ディスク１０に形成されることとなる。
【００５６】
磁気転写マスタ２００の凸部２３０に対応する箇所における磁気ディスク１０の磁化は、上向きの磁化２ｂと下向きの磁化２ａとに交互に揃う。これらの磁化２ａ，２ｂが揃っている箇所は凸部２３０に形成されている突条２３１が延びている方向（即ち半径方向）に直線的に延びている。
【００５７】
一方、磁気転写マスタ２００の凹部２４０に対応する箇所における磁気ディスク１０の磁化は、磁束３２０が磁気ディスク１０の表面に沿った向きとなっているため、転写磁界が存在している間は一時的に磁束３２０に沿った方向の磁化となるが、転写磁界が無くなると、磁化のエネルギーが最小となるように、上向きの磁化２ｂと下向きの磁化２ａとがランダムに混じり合った状態となる。
【００５８】
このような磁化状態となった磁気ディスク１０の磁気パターンは磁気ヘッドで読み取られる。
【００５９】
磁気ヘッドは、磁気ディスク１０上のトラックに沿っていわゆる周回方向（この図１０の横方向）に移動し、磁気ディスク１０の磁化の向きに応じた読取信号を生成する。磁気ヘッドのコアの寸法は、磁気ヘッドの進行方向に沿ったコア長よりも、進行方向に垂直なコア幅の方が大きく、コア幅方向は磁気ディスク１０の半径方向を向いている。
【００６０】
図１１は、磁気ヘッドによって磁気ディスク１０から磁気パターンが読み取られて得られる読取信号を示す図である。
【００６１】
この図の上段には、図１０に示すように磁化された磁気ディスク１０が示されており、図の下段には、この磁気ディスク１０から磁気パターンが読み取られて得られる読取信号４００が示されている。
【００６２】
磁気ヘッドのコアが、この図１１の横方向に移動しながら磁気ディスク１０の磁化２ａ，２ｂに応じた読取信号を生成するので、図の上向きの磁化２ｂが揃って半径方向に並んでいる部分では正の側の信号ピーク４１０が生じ、図の下向きの磁化２ａが揃って半径方向に並んでいる部分では負の側の信号ピーク２０が生じる。そして、磁化２ａ，２ｂがランダムに混じり合った状態の部分では、磁気ヘッドのコア幅に相当する範囲で磁化２ａ，２ｂが平均化されることとなり、正にも負にも信号値が現れないフラットな信号部分４３０が生じる。
【００６３】
このような読取信号４００は、フラットな信号部分４３０がビット値の一方（例えば値「０」）を表しており、正と負の信号ピーク４１０，４２０が交互に並んで生じる部分がビット値のもう一方（例えば値「１」）を表している。
【００６４】
この図１１に示すような、磁気転写で書き込まれた磁気パターンから得られる読取信号４００に対し、磁気ヘッドによって磁気ディスク１０に書き込まれ磁気ヘッドで読み出されて得られる読取信号は、図１に示す読取信号４によく似た矩形波形の信号となる。そして、どちらの読取信号も図３に示す制御回路４０に入力されて処理されることで情報が再生される。
【００６５】
以下、制御回路内の再生処理回路について説明する
図１２は、制御回路内の再生処理回路の機能ブロック図である。
【００６６】
磁気ヘッド２０によって磁気パターンが読み取られて得られた読取信号はプリアンプ２１で増幅されて再生処理回路５００に入力される。再生処理回路５００に入力された読取信号は、まず前置フィルタ５１０に取り込まれる。この図１２には前置フィルタ５１０として２つの機能ブロックが示されているが、これは、時分割で変わる２つの設定それぞれで規定されたフィルタを概念的に示した機能ブロックであり、実際には１つの回路で実現されている。前置フィルタ５１０の設定は、読取信号がサーボパターンに由来するサーボ信号かユーザデータの磁気パターンに由来するデータ信号かで変更される。
【００６７】
データ信号の場合は、データ復調回路５２０に送られてユーザデータが復調され、ＨＤＣ（ハードディスクコントローラ）５３０を経てインターフェース５４０へとユーザデータが出力される。
【００６８】
一方、サーボ信号の場合は、サーボ復調回路５５０に送られてサーボ情報が復調され、ＳＶＣ（サーボコントローラ）５６０によってサーボ情報に基づいた制御信号が生成される。この制御信号は、ＤＡコンバータ５７０を経て電流アンプ５８０へと入力され、これによりヘッドアクチュエータなどに電流が流れて磁気ヘッドの位置制御が行われる。
【００６９】
また、サーボコントローラ５６０は、データ信号とサーボ信号とが切り替わるタイミングを監視しており、そのタイミングが来たらサーボ・データセレクタ５９０を経て前置フィルタ５１０の設定を変更する。
【００７０】
この再生処理回路５００における前置フィルタ５１０以後の部分が、上述した基本形態の情報生成装置における情報再生部の一例に相当する。
【００７１】
図１３は、前置フィルタの構成を示す図である。
【００７２】
この図のパート（Ａ）には、前置フィルタ５１０の構成が示されており、パート（Ｂ）には、前置フィルタ５１０に組み込まれているピークホールド回路５１２の構成が示されている。ここに示すピークホールド回路５１２は、上述した基本形態の情報再生装置におけるピークホールド部の一例に相当する。
【００７３】
上述したプリアンプ２１からの信号はＶＧＡ（ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｇａｉｎ  Ａｍｐ）５１１に入り、ＶＧＡ５１１からの信号はピークホールド回路５１２を経てセレクタ５１３に入力される。またＶＧＡ５１１からセレクタ５１３には、ピークホールド回路５１２を経ない信号も直接入力される。
【００７４】
セレクタ５１３はサーボ・データセレクタ５９０の信号によって切り替えられ、サーボ信号の場合はピークホールド回路５１２を経由した信号が選択され、データ信号の場合はＶＧＡ５１１から直接来る信号が選択される。
【００７５】
このようにセレクタ５１３で選択された信号は、サーボ・データセレクタ５９０の信号によりフイルタの設定値を設定されたアナログのバンドパスフィルタ５１４を通り、ＡＤコンバータ５１５でデジタル信号へ変換される。このＡＤコンバータ５１５はサーボ・データセレクタ５９０の信号により周波数を選択されたクロックでサンプリングを行う。ＡＤコンバータ５１５で変換されたデジタル信号は、サーボ・データセレクタ５９０の信号により特性が設定されたＦＩＲフィルタ５１６を通って出力される。またこのＦＩＲフィルタ５１６からの信号はＶＧＡコントローラに入力されてＶＧＡ５１１のゲイン調整に用いられる。
【００７６】
ピークホールド回路５１２はパート（Ｂ）に示す回路構成を有しており、信号が立ち上がる時はトランジスタの入力波形Ｉｎに対し電源Ｖｃｃから電流増幅率β倍の電流が供給されコンデンサＣに十分な電荷が速やかに供給されるため入力波形Ｉｎと同時に出力波形Ｏｕｔが立ち上がる。一方、信号が立ち下がる時はトランジスタのｉβが小さく（≒ｏｆｆ）なり、コンデンサＣの電荷が抵抗Ｒを通してゆっくりと放電されるため、コンデンサＣと抵抗Ｒとの組み合わせで規定される時定数で信号ピークがホールドされる。
【００７７】
図１４は、ピークホールド回路による信号波形の変形を説明する図である。
【００７８】
図１１に示す波形の読取信号４００がピークホールド回路を通ると、この図１４の上段に示すように読取信号４００のピーク４１０がホールドされ、この図の下段に示すように、矩形波形として信号処理が可能な信号波形４００’となる。このため、磁気転写によって記録されたサーボパターンから得られる読取信号だけピークホールド回路に通し、磁気ヘッドによって記録された磁気パターンから得られる矩形波形の読取信号についてはピークホールド回路を迂回させることにより、磁気転写と磁気ヘッドとのいずれによって記録された情報であっても矩形波形の信号を処理するための従来よく知られた処理回路によって同様に再生することができる。
【００７９】
このように、図８に示す構造を有する磁気転写マスタを使った図９および図１０に示す磁気転写によって形成される磁気パターンは、磁気ヘッドによって書き込まれる磁気パターンと相性が良く、再生処理回路（リードチャネル）は単系統で済む。
【００８０】
次に、図８に示す構造を有する磁気転写マスタの製造方法について説明する。
【００８１】
図１５は、磁気転写マスタの製造方法を示す図である。
【００８２】
この図には、上述した基本形態のマスタ製造方法に対する具体的な第１の実施形態に相当する製造方法が５つの工程（ａ）、（ｂ）、（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）に分けて示されている。
【００８３】
この製造方法では、まず、描画・現像工程（ａ）で、光ディスクのスタンパの製造工程と同様に、基板となる直径６インチのシリコンウエハ６００上に電子線レジスト６１０（日本ゼオン製ｚｅｐ−５２０）を塗布し、電子ビーム描画装置で、図４に示すサーボパターン１１に対応する形状を、図８に示す突条２３１や溝２３２も含めて描画し現像する。
【００８４】
図１６は、電子ビーム描画装置を表す図である。
【００８５】
電子ビーム描画装置７００には、電子ビームを発する電子銃７１０と、電子ビームのオンオフを制御する第１の電極７２０と、電子ビームに対してレンズのように作用して電子ビームの収束拡散を制御する第２の電極７３０と、シリコンウエハの基板が搭載されて回転される回転ステージ７４０と、回転ステージ７４０ごとシリコンウエハの基板を図の左右方向に移動させる直線ステージ７５０が備えられている。
【００８６】
上述した描画・現像工程では、第２の電極７３０によって電子ビームが細く絞られ、回転ステージ７４０と直線ステージ７５０の動きによって、その電子ビームが各トラックを１本ずつ辿って行くようにシリコンウエハが回転され移動させられる。そして、図８に示す突条２３１や溝２３２も含めた磁気転写マスタの凹凸形状に合わせて第１の電極７２０によって電子ビームがオンオフ制御される。
【００８７】
図１５に戻って説明を続ける。
【００８８】
図１５の描画・現像工程（ａ）で磁気転写マスタの凹凸形状に応じた形状の電子線レジスト６１０が形成されると、次に、ＲＩＥ（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｉｏｎ  ｅｔｃｈｉｎｇ）工程（ｂ）では、シリコンに反応するＳＦ６ガスでＲＩＥを行い、シリコンウエハ６００の、電子線レジスト６１０で覆われていない箇所に深さ１００ｎｍの溝を形成する。その後、酸素ガスで電子線レジスト６１０をアッシング除去する。なお、ＲＩＥの条件は、ＳＦ６ガスの量を１５ｃｃ／ｍｉｎ、１Ｐａとして６０秒間実行する。また、アッシングの条件は、酸素量を１００ｃｃ／ｍｉｎ、１０Ｐａとして３分間実行する。このＲＩＥ工程（ｂ）によってシリコンウエハ６００が型となる。
【００８９】
次に、Ｎｉメッキ工程（ｆ）で、このシリコンウエハ６００の型を元にＮｉメッキ層６２０を０．３ｍｍ形成し、剥離工程（ｇ）でそのメッキ層６２０を剥離する。そして最後に磁性膜形成工程（ｈ）で、スパッタによってＮｉメッキ層６２０上にＦｅＣｏ膜６３０を１００ｎｍ製膜して磁気転写マスタ２００が完成する。
【００９０】
このような製造方法で磁気転写マスタを製造することが出来るが、磁気転写マスタの構造や製造方法としては、図８に示す構造や図１５に示す製造方法以外の構造や製造方法が考えられる。以下では、上述した第１の実施形態以外の他の実施形態について説明する。
【００９１】
図１７は、第２の実施形態の磁気転写マスタの構造を示す図である。
【００９２】
この第２の実施形態の磁気転写マスタ７６０でも、第１の実施形態と同様に凸部２３０と凹部２４０が形成される。これら凸部２３０および凹部２４０の平面形状（凹凸パターン）は、第１の実施形態における平面形状（凹凸パターン）と同様であり、図４に示す磁気パターンの形状と鏡面関係になっている。
【００９３】
一方、この第２の実施形態の磁気転写マスタ７６０では、第１の実施形態とは異なり、凸部２３０と凹部２４０の双方に突条７７０と溝７８０が形成され、溝７８０の深さは凸部２３０の高さよりも小さい。このように、この第２の実施形態では凹部２４０にも突条７７０と溝７８０が形成されるが、この凹部２４０に形成された突条７７０や溝７８０は、磁気転写の際には磁束に何ら影響せず、磁気転写によって形成される磁気パターンは、第１の実施形態と第２の実施形態とで全く同一となる。この突条７７０は、上述した基本形態の磁気転写マスタにおける突条の一例に相当する。
【００９４】
次に、このような第２の実施形態の磁気転写マスタ７６０の製造方法について説明する。
【００９５】
図１８は、第２の実施形態の磁気転写マスタの製造方法を示す図である。
【００９６】
この図には、第２の実施形態の磁気転写マスタを製造する製造方法が８つの工程（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）に分けて示されている。
【００９７】
この第２の実施形態の製造方法では、まず、描画・現像工程（ａ）で、基板となる直径６インチのシリコンウエハ６００上に電子線レジスト６１０（日本ゼオン製ｚｅｐ−５２０）を塗布し、電子ビーム描画装置で、図４に示すサーボパターン１１に対応する形状を、図１７に示す凸部２３０と凹部２４０の凹凸パターンのみについて描画し現像する。つまりこの第２の実施形態の描画・現像工程（ａ）では、図１７に示す突条７７０や溝７８０の形状は描画されない。この第２の実施形態の描画・現像工程（ａ）は、上述した基本形態のマスタ製造方法におけるパターン形成過程の一例に相当する。
【００９８】
次に、ＲＩＥ工程（ｂ）で、シリコンに反応するＳＦ６ガスでＲＩＥを行い、シリコンウエハ６００の、電子線レジスト６１０で覆われていない箇所に深さ１００ｎｍの溝を形成する。その後、酸素ガスで電子線レジスト６１０をアッシング除去する。
【００９９】
次に、レジストコート工程（ｃ）で、シリコンウエハ６００の全面に再び電子線レジスト６３０（日本ゼオン製ｚｅｐ−５２０）を塗布する。
【０１００】
次に、２度目の描画・現像工程（ｄ）で、電子線レジスト６３０の全面に、図１７に示す突条７７０や溝７８０の形状を描画し現像する。この描画・現像工程（ｄ）は、マスタ製造方法の上述した基本形態における突条分割過程の一例に相当し、この描画・現像工程（ｄ）における描画では、図１６に示す電子ビーム描画装置７００と、以下に示すステンシルマスクが用いられる。
【０１０１】
図１９は、ステンシルマスクを示す図である。
【０１０２】
このステンシルマスク８００の大きさは、上述したシリコンウェハと同じ大きさであり、このステンシルマスク８００には、図１７に示す突条７７０の幅および間隔と同じ幅および間隔の溝８１０がステンシルマスク８００全体に均等に多数形成されている。この溝８１０はステンシルマスク８００の中心に向かう方向（即ち半径方向）に延びている。この図１９に示すステンシルマスク８００は、マスタ製造方法の上述した基本形態におけるステンシルマスクの一例に相当する。
【０１０３】
図１８に示す２度目の描画・現像工程（ｄ）では、図１６に示す電子ビーム描画装置７００の回転ステージ７４０上にシリコンウエハ６００が載せられ、そのシリコンウエハ６００上の電子線レジスト６１０の上に図１９に示すステンシルマスク８００が載せられる。そして、電子ビーム描画装置７００の第２の電極７３０によって電子ビームが拡散されてステンシルマスク８００およびシリコンウエハ６００の全面に一度に電子ビームが照射される。この結果、ステンシルマスク８００の溝８１０の部分だけ電子ビームが電子線レジスト６３０に照射されることとなる。
【０１０４】
このようなステンシルマスク８００を用いる描画・現像工程では、電子ビーム描画装置で電子ビームをオンオフさせて描画する場合よりも高い精度での描画が可能であり、図１７に示すような狭い間隔の突条７７０や溝７８０の形成に適している。また、このような突条７７０のパターンのみに対応したステンシルマスク８００は、データパターンが異なる別の磁気転写マスタを作成する場合であっても使い回すことが出来るので磁気転写マスタの製造に用いられる器具の汎用性が高い。
【０１０５】
図１８に戻って説明を続ける。
【０１０６】
２度目の描画・現像工程（ｄ）で、図１７に示す突条７７０や溝７８０の形状が電子線レジスト６３０に描画されると、次に、２度目のＲＩＥ工程（ｅ）で、シリコンに反応するＳＦ６ガスでＲＩＥを行い、シリコンウエハ６００の、電子線レジスト６３０で覆われていない箇所に深さ２０ｎｍの溝を形成する。その後、酸素ガスで電子線レジスト６３０をアッシング除去する。この２度目のＲＩＥ工程（ｅ）によってシリコンウエハ６００が型となる。
【０１０７】
次に、Ｎｉメッキ工程（ｆ）で、このシリコンウエハ６００の型を元にＮｉメッキ層６２０を０．３ｍｍ形成し、剥離工程（ｇ）でそのメッキ層６２０を剥離する。そして最後に磁性膜形成工程（ｈ）で、スパッタによってＮｉメッキ層６２０上にＦｅＣｏ膜６３０を１００ｎｍ製膜して第２の実施形態の磁気転写マスタ７６０が完成する。
【０１０８】
次に、第３の実施形態について説明する。
【０１０９】
図２０は、第３の実施形態の磁気転写マスタの構造を示す図である。
【０１１０】
この第３の実施形態の磁気転写マスタ７９０でも、第１の実施形態や第２の実施形態と同様に凸部２３０と凹部２４０が形成される。これら凸部２３０および凹部２４０の平面形状（凹凸パターン）は、第１の実施形態や第２の実施形態における平面形状（凹凸パターン）と同様であり、図４に示す磁気パターンの形状と鏡面関係になっている。
【０１１１】
また、この第３の実施形態の磁気転写マスタ７９０では、第１の実施形態と同様に、凸部２３０に突条７７０と溝７８０が形成され凹部２４０には突条や溝は形成されない。この溝７８０の深さは第２の実施形態と同様に凸部２３０の高さよりも小さい。この突条７７０も、上述した基本形態の磁気転写マスタにおける突条の一例に相当する。
【０１１２】
次に、このような第３の実施形態の磁気転写マスタ７９０の製造方法について説明する。
【０１１３】
図２１は、第３の実施形態の磁気転写マスタの製造方法を示す図である。
【０１１４】
この図には、第３の実施形態の磁気転写マスタを製造する製造方法が８つの工程（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）に分けて示されている。
【０１１５】
この第３の実施形態の製造方法では、まず、描画・現像工程（ａ）で、基板となる直径６インチの、熱酸化膜６４０付きのシリコンウエハ６００上に電子線レジスト６１０（日本ゼオン製ｚｅｐ−５２０）を塗布し、電子ビーム描画装置で、図４に示すサーボパターン１１に対応する形状を、図１７に示す凸部２３０と凹部２４０の凹凸パターンのみについて描画し現像する。つまりこの第３の実施形態の描画・現像工程（ａ）でも、図１７に示す突条７７０や溝７８０の形状は描画されない。この第３の実施形態の描画・現像工程（ａ）は、上述した基本形態のマスタ製造方法におけるパターン形成過程の一例に相当する。
【０１１６】
次に、ＲＩＥ工程（ｂ）で、ＣＨＦ３とＯ２との混合ガスを用い、ＣＨＦ３：２０ｓｃｃｍ、Ｏ２：５ｓｃｃｍでＲＩＥを行うことにより、熱酸化膜６４０の、電子線レジスト６１０で覆われていない箇所に深さ１００ｎｍの溝を形成する。その後、酸素ガスで電子線レジスト６１０をアッシング除去する。
【０１１７】
次に、レジストコート工程（ｃ）で、シリコンウエハ６００および熱酸化膜６４０の全面に再び電子線レジスト６３０（日本ゼオン製ｚｅｐ−５２０）を塗布する。
【０１１８】
次に、２度目の描画・現像工程（ｄ）で、図２０に示す突条７７０や溝７８０の形状と同様な形状を電子線レジスト６３０の全面に描画し現像する。この工程では、図２０に示す凹部２４０に相当する箇所にも突条７７０や溝７８０の形状が描画される。この描画・現像工程（ｄ）も、マスタ製造方法の上述した基本形態における突条分割過程の一例に相当し、この描画・現像工程（ｄ）における描画でも、図１６に示す電子ビーム描画装置７００と図１９に示すステンシルマスク８００が用いられる。
【０１１９】
次に、２度目のＲＩＥ工程（ｅ）で、シリコンに反応するＳＦ６ガスでＲＩＥを行い、シリコンウエハ６００の、電子線レジスト６３０で覆われていない箇所に深さ２０ｎｍの溝を形成する。このとき熱酸化膜６４０はＳＦ６ガスに反応しないため、熱酸化膜６４０には溝が形成されない。その後、酸素ガスで電子線レジスト６３０をアッシング除去する。この２度目のＲＩＥ工程（ｅ）によってシリコンウエハ６００および熱酸化膜６４０が型となる。
【０１２０】
次に、Ｎｉメッキ工程（ｆ）で、このシリコンウエハ６００および熱酸化膜６４０からなる型を元にＮｉメッキ層６２０を０．３ｍｍ形成し、剥離工程（ｇ）でそのメッキ層６２０を剥離する。そして最後に磁性膜形成工程（ｈ）で、スパッタによってＮｉメッキ層６２０上にＦｅＣｏ膜６３０を１００ｎｍ製膜して第３の実施形態の磁気転写マスタ７９０が完成する。
【０１２１】
以上説明したように、磁気転写マスタの細部の構造についてはいくつかのタイプが考えられる。
【０１２２】
次に、磁気転写マスタの凸部に形成される突条や溝の数について検討する。ここでは、図２０に示す第３実施形態の構造を用いて、突条７７０および溝７８０の数が異なるいくつかの磁気転写マスタを作成し、各磁気転写マスタを用いて磁気転写を行って磁気ディスクに情報を記録した。そして、各磁気ディスクをハードディスク装置に組み込み、図１２に示す再生処理回路５００によって各磁気ディスクからサーボ情報が復調可能かどうか確認した。なお磁気転写マスタの凸部の幅は、最短のパターン長に相当する１００ｎｍとして、使用したハードディスク装置の回転数は５４００ｒｐｍで、使用した磁気ディスクを構成する磁性体における結晶粒径の平均粒径は６ｎｍであった。
【０１２３】
図２２は、溝の形成数を変えたときの復調の可否を表した表である。
【０１２４】
この図２２の表に示すように、凸部の溝が２本（即ち突条が３本）の場合にはサーボ情報が復調不能となり、凸部の溝が３本以上（即ち突条が４本以上）でサーボ情報が復調可能となった。つまり、突条は、凹凸パターンにおける最短のパターン長の４分の１以下の間隔で並んだものであることが好適であることが確認された。
【０１２５】
突条の間隔が最短のパターン長の４分の１を越えてしまうと、凹凸パターンの凸部の１つに属して１つの矩形波につながるべき信号ピークと、別々の凸部に属して別々の矩形波に分かれるべき信号ピークとをピークホールド回路によって適切に処理し分けることが困難となるからと考えられる。
【０１２６】
また、凸部の溝が７本以下（即ち突条が８本以下）ではサーボ情報が復調可能であったが、凸部の溝が８本以上（即ち突条が９本以上）ではサーボ情報が復調不能となった。これは、突条や溝の幅が磁性体の平均の結晶粒径よりも小さくなってしまったためにエッジの間隔が狭くなりすぎて、エッジに沿った磁化の並びが崩れてしまってパターンの転写に不具合を生じたからと考えられる。従って、突条は、垂直磁気記録媒体における結晶粒径の平均粒径以上の幅を有し、その平均粒径以上の間隔で並んだものであることが好適であることが確認された。
【０１２７】
以下、上述した基本形態や実施形態を含む種々の形態について付記する。
【０１２８】
（付記１）
情報を表した凹凸パターンを表面に有し、該凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に該凹凸パターンの凸部の上面が分割されている磁気転写マスタを、垂直磁気記録媒体に該表面が近接あるいは接触した状態に配置する配置過程と、
前記磁気転写マスタに、前記表面に沿い前記突条に交わる方向の磁界を印加する印加過程とを有することを特徴とする磁気転写方法。
【０１２９】
（付記２）
前記凹凸パターンが、所定のラインに沿って凹凸が交互に並んだパターンであり、
前記突条は、前記ラインに対して交わる方向に延びたものであることを特徴とする付記１記載の磁気転写方法。
【０１３０】
（付記３）
前記突条が、前記凹凸パターンにおける最短のパターン長の４分の１以下の間隔で並んだものであることを特徴とする付記１または２記載の磁気転写方法。
【０１３１】
（付記４）
前記突条が、前記垂直磁気記録媒体における結晶粒径の平均粒径以上の幅を有し、該平均粒径以上の間隔で並んだものであることを特徴とする付記１から３のうちいずれか１項記載の磁気転写方法。
【０１３２】
（付記５）
情報を表した凹凸パターンを表面に有した、該表面が垂直磁気記録媒体に近接あるいは接触され磁界が印加されることで該凹凸パターンが表す情報が該垂直磁気記録媒体に磁気パターンとして転写される磁気転写マスタであって、
前記磁界が、この磁気転写マスタの表面に沿った方向の磁界であることと、
前記凹凸パターンの凸部の上面が、該凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に分割されていることとを特徴とする磁気転写マスタ。
【０１３３】
（付記６）
情報を表した凹凸パターンを表面に有した、該表面が垂直磁気記録媒体に近接あるいは接触されて磁界が印加されることで該凹凸パターンが表す情報が該磁気記録媒体に磁気パターンとして転写される磁気転写マスタを製造するマスタ製造方法であって、
前記磁気転写マスタの元となる基板に前記凹凸パターンを形成するパターン形成過程と、
ステンシルマスクを用いて前記基板の表面全体に、前記磁界の方向に交わる方向に延びた複数の溝を刻むことにより、該表面を、前記凹凸パターンにおける最短のパターン長よりも短い間隔で並んで延びた複数の突条に分割する、前記パターン形成過程の前あるいは後に実行される突条分割過程とを有することを特徴とするマスタ製造方法。
【０１３４】
（付記７）
付記１から４のうちいずれか１項記載の磁気転写方法により制御情報が磁気パターンで記録されている、該制御情報に基づいた制御下で任意情報が磁気パターンとして記録される垂直磁気記録媒体から該サーボ情報および該任意情報を再生する情報再生方法であって、
前記垂直磁気記録媒体の磁気パターンを読取り、その磁気パターンにおける磁化反転に応じた信号反転を生じる読取信号を得るパターン読取過程と、
前記パターン読取過程で得られた読取信号のうち、前記制御情報の磁気パターンから得られた読取信号のピークを保持するピークホールド過程と、
前記パターン読取過程で前記任意情報の磁気パターンから得られた読取信号、および前記ピークホールド過程でピークが保持された読取信号に対して信号処理を施すことでそれらの読取信号から前記制御情報および前記任意情報を再生する情報再生過程とを有することを特徴とする情報再生方法。
【０１３５】
（付記８）
付記１から４のうちいずれか１項記載の磁気転写方法により制御情報が磁気パターンで記録されている、該制御情報に基づいた制御下で任意情報が磁気パターンとして記録される垂直磁気記録媒体から該制御情報および該任意情報を再生する情報再生装置であって、
前記垂直磁気記録媒体の磁気パターンを読取り、その磁気パターンにおける磁化反転に応じた信号反転を生じる読取信号を得るパターン読取部と、
前記パターン読取部で得られた読取信号のうち、前記制御情報の磁気パターンから得られた読取信号のピークを保持するピークホールド部と、
前記パターン読取部で前記任意情報の磁気パターンから得られた読取信号、および前記ピークホールド部でピークが保持された読取信号に対して信号処理を施すことでそれらの読取信号から前記制御情報および前記任意情報を再生する情報再生部とを備えたことを特徴とする情報再生装置。
【０１３６】
（付記９）
付記１から４のうちいずれか１項記載の磁気転写方法により制御情報が磁気パターンで記録されている垂直磁気記録媒体と、
前記制御情報に基づいた制御下で前記垂直磁気記録媒体に任意情報を磁気パターンで記録する記録ヘッドと、
前記垂直磁気記録媒体の磁気パターンを読取り、その磁気パターンにおける磁化反転に応じた信号反転を生じる読取信号を得る読取ヘッドと、
前記読取ヘッドで得られた読取信号のうち、前記制御情報の磁気パターンから得られた読取信号のピークを保持するピークホールド部と、
前記読取ヘッドで前記任意情報の磁気パターンから得られた読取信号、および前記ピークホールド部でピークが保持された読取信号に対して信号処理を施すことでそれらの読取信号から前記制御情報および前記任意情報を再生する情報再生部とを備えたことを特徴とする情報記憶装置。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】垂直印加方式の概念図である。
【図２】水平印加方式の概念図である。
【図３】基本形態の情報再生装置や情報記憶装置に対する具体的な一実施形態を示す図である。である。
【図４】磁気ディスク上のサーボパターンを表す図である。
【図５】サーボパターンが表している制御情報を表す図である。
【図６】いわゆる千鳥格子パターンのパターン形状を表す図である。
【図７】磁気転写に用いられる磁気転写マスタの全体図である。
【図８】磁気転写マスタ上のパターン形成領域に形成された凹凸パターンの拡大図である。
【図９】磁気転写マスタの凹凸パターンを磁気ディスクに転写する磁気転写方法を説明する説明図である。
【図１０】磁気ディスク上に形成される磁化状態を表す図である。
【図１１】磁気ヘッドによって磁気ディスクから磁気パターンが読み取られて得られる読取信号を示す図である。
【図１２】制御回路内の再生処理回路の機能ブロック図である。
【図１３】前置フィルタの構成を示す図である。
【図１４】ピークホールド回路による信号波形の変形を説明する図である。
【図１５】磁気転写マスタの製造方法を示す図である。
【図１６】電子ビーム描画装置を表す図である。
【図１７】第２の実施形態の磁気転写マスタの構造を示す図である。
【図１８】第２の実施形態の磁気転写マスタの製造方法を示す図である。
【図１９】ステンシルマスクを示す図である。
【図２０】第３の実施形態の磁気転写マスタの構造を示す図である。
【図２１】第３の実施形態の磁気転写マスタの製造方法を示す図である。
【図２２】溝の形成数を変えたときの復調の可否を表した表である。
【符号の説明】
【０１３８】
１０    磁気ディスク
２０    磁気ヘッド
１００    ハードディスク装置
２００，７６０，７９０    磁気転写マスタ
２３０    凸部
２４０    凹部
２３１,７７０    突条
２３２，７８０    溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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