(57)【要約】【課題】樹脂がはみ出してチップを損壊する事態を低減させることを可能にする半導体のパッケージング方法を提供する。【解決手段】基板１１の正面１２の上にチップ配置区１３を形成する。正面１２の上方に遮断層１４を配置し、遮断層１４の下表面１５をチップ配置区１３に跨るように配置する。遮断層１４の上表面１７にＵＶ樹脂層１６を塗布する。露光および現像により、ＵＶ樹脂層１６の中のチップ配置区１３に対応する区域を除去する。遮断層１４の中のチップ配置区１３に対応する区域を除去し、ＵＶ樹脂層１６を遮断層１４の上方に位置させることにより開放的な収容室１８を構成する。ＵＶ樹脂層１６の上にキャップ層２２を被せ、キャップ層２２によって開放的な収容室１８を封じ、ＵＶ樹脂層１６を加熱することによりキャップ層２２を遮断層１４の上に固着する。【選択図】図１
2009224742.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正面を有する基板を用意し、前記正面の上にチップ配置区を形成するステップ（ａ）と、
前記正面の上方に遮断層を配置し、前記遮断層の下表面を前記チップ配置区に跨るように配置するステップ（ｂ）と、
前記遮断層の上表面にＵＶ樹脂層を塗布し、固化させるステップ（ｃ）と、
前記ＵＶ樹脂層の露光および現像を行い、かつ前記ＵＶ樹脂層の中の前記チップ配置区に対応する区域を除去するステップ（ｄ）と、
前記遮断層の中の前記チップ配置区に対応する区域を除去し、前記ＵＶ樹脂層を前記遮断層の上方に位置させることにより開放的な収容室を構成するステップ（ｅ）と、
前記開放的な収容室の前記チップ配置区にチップを配置し、かつワイヤボンディングによって前記基板及び前記チップの間に導線を配置するステップ（ｆ）と、
前記ＵＶ樹脂層の上にキャップ層を被せ、前記キャップ層によって前記開放的な収容室を封じ、前記ＵＶ樹脂層を加熱することにより前記キャップ層を前記遮断層の上に固着するステップ（ｇ）と、
を含むことを特徴とする半導体のパッケージング方法。
【請求項２】
前記ステップ（ｅ）において、前記遮断層の中の前記チップ配置区に対応する区域は研磨方法によって除去されることを特徴とする請求項１に記載の半導体のパッケージング方法。
【請求項３】
前記ＵＶ樹脂層はB-stage epoxyであることを特徴とする請求項１に記載の半導体のパッケージング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体パッケージングに関し、特に半導体パッケージングのステップを改良する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
チャンバーを有する従来のパッケージングユニット、例えばマイクロ機電チップまたはＣＭＯＳチップのパッケージング方法は基板のチップ配置区にチップを接着し、チップ配置区の周りに塀状の遮断層（dam）を形成し、遮断層の底面と基板の配置区の周辺との接合によってチップを中央に位置させて囲み、そののちチップと基板とを電気的に接続し、続いて遮断層の上表面に樹脂を塗布し、ガラスなどのキャップを遮断層の上方に貼り付ければ上述のチップを密閉空間内にパッケージングすることが可能である。
【０００３】
チャンバーを有する従来のマイクロ機電チップのパッケージング工程において、樹脂は膠状を呈し、物性が不安定であるため、塀状の遮断層の上方に樹脂を均質に塗布することは容易でない。また、遮断層に樹脂を塗布し、キャップを被せる場合、樹脂がはみ出してチップを汚染するような事態が発生することがある。また、遮断層にキャップを接着する場合、樹脂がまだ凝固していないことが原因でキャップのスライド現象が起こり、密封効果を低減させてしまうという事態が発生する。従って、上述の様々な事態は改善すべきである。
【０００４】
上述した通り、チャンバーを有する従来の半導体のパッケージング方法は設計および構造上の欠点が明らかであるため、改善すべきである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の主な目的は樹脂がはみ出してチップを損壊する事態を低減させることを可能にする半導体のパッケージング方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述の目的を達成するために、本発明による半導体のパッケージング方法は次のステップを含む。ステップ（ａ）は基板を用意し、基板の正面の上にチップ配置区を形成する。ステップ（ｂ）は正面の上方に遮断層（dam）を配置し、方形の塊状を呈する遮断層の下表面をチップ配置区に跨るように配置する。ステップ（ｃ）は遮断層の上表面にＵＶ樹脂層を塗布する。ステップ（ｄ）はＵＶ樹脂層に露光および現像を行い、ＵＶ樹脂層の中のチップ配置区に対応する区域を除去する。ステップ（ｅ）は遮断層の中のチップ配置区に対応する区域を除去し、ＵＶ樹脂層を遮断層の上方に位置させることにより開放的な収容室を構成する。ステップ（ｆ）は開放的な収容室のチップ配置区にチップを配置し、ワイヤボンディングによって基板及びチップの間に導線を配置し、導線によってチップと基板とを電気的に接続する。ステップ（ｇ）はＵＶ樹脂層の上にキャップ層を被せ、キャップ層によって開放的な収容室を封じ、ＵＶ樹脂層を加熱することによりキャップ層を遮断層の上に固着する。
【０００７】
上述したステップにより、本発明は半導体をパッケージングする際に樹脂がはみ出すという現象を大幅に低減させ、製造工程のコストを削減することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施例によるステップ及び特徴を説明するため、図１および図２Ａ〜２Ｇに基づいて説明を進める。
本発明の一実施例による半導体のパッケージング方法は次のステップを含む。
【０００９】
ステップ（ａ）は、正面１２を有する基板１１を用意し、正面１２の上にチップ配置区１３を形成する。
ステップ（ｂ）は、基板１１の正面１２の上方に遮断層（dam）１４を配置する。遮断層１４は方形のプロップ状を呈し、かつ遮断層１４はチップ配置区１３に跨るように配置されるため、チップ配置区１３は遮断層１４の下表面１５によって完全に被覆される。
【００１０】
ステップ（ｃ）は、遮断層１４の上表面１７に厚さが適切なＵＶ樹脂層１６を塗布し、ＵＶ樹脂層１６を上表面１７に分布させ、硬化させる。
ステップ（ｄ）は、ＵＶ樹脂層１６の上のチップ配置区１３に対応する区域を除去するため、まずＵＶ樹脂層１６の上の保留したい部位にマスクを被せ、続いて露光および現像によってＵＶ樹脂層１６の上のマスクを被せた部位以外の部位をエッジングすることによりＵＶ樹脂層１６の上のチップ配置区１３に対応する区域を除去し、そののちマスクを取り外す。
【００１１】
ステップ（ｅ）は、ＵＶ樹脂層１６の上のチップ配置区１３に対応する区域が除去されたため、ＵＶ樹脂層１６の下方に位置する遮断層１４が露出する。続いて遮断層１４の中のチップ配置区１３に対応する区域を除去する。除去方法は研磨、エッジング、穴あけなどの方法を採用することが可能である。またＵＶ樹脂層１６の中の除去された部分と遮断層１４の中の除去された部分とはチップ配置区１３に対応するため、ＵＶ樹脂層１６と遮断層１４とは開放的な収容室１８を構成することが可能である。開放的な収容室１８の底部はチップ配置区１３となる。
【００１２】
ステップ（ｆ）は、開放的な収容室１８のチップ配置区１３にチップ１９を配置し、ワイヤボンディングによって基板１１及びチップ１９の間に導線２１を配置することによりチップ１９と基板１１とを電気的に接続する。
ステップ（ｇ）は、開放的な収容室１８の上方にキャップ層２２を被せる。開放的な収容室１８は内部にチップ１９を有し、キャップ層２２は開放的な収容室１８の中にチップ１９を封じることが可能である。また開放的な収容室１８はＵＶ樹脂層１６と遮断層１４から構成され、ＵＶ樹脂層１６は遮断層１４の上方に位置付けられるため、キャップ層２２をＵＶ樹脂層１６に被せて接合し、そののちＵＶ樹脂層１６を加熱することによりＵＶ樹脂層１６を軟化させてキャップ層２２の上に固着すれば、チャンバーを有する半導体パッケージングが完成する。
【００１３】
なお、ＵＶ樹脂層１６はB-stage epoxy接合剤を採用することが可能であり、キャップ層２２はガラス層を採用することが可能である。
上述した通り、本発明は製造過程においてＵＶ接合層１６を遮断層１４の上に予め固着することにより、半導体をパッケージングする際に樹脂がはみ出すという現象を大幅に減少させる、パッケージングのステップを簡単化する、パッケージングのプロセスをよりスムーズにするなどの効果を達成することが可能である。また本発明のパッケージングのプロセスには特別な技術を導入する必要がないため、製造上のコストを増加させることなく、パッケージング作業をより簡単に実施することが可能である。
【００１４】
これにより、本発明は従来のものの欠点および使用に不便な点を解決することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施例のプロセスを示すフロー図である。
【図２Ａ】本発明の一実施例の基板の上にチップ配置区を形成するステップにおける状態を示す模式図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施例の基板と遮断層とを積層するステップにおける状態を示す模式図である。
【図２Ｃ】本発明の一実施例の遮断層の上方にＵＶ樹脂層を塗布するステップにおける状態を示す模式図である。
【図２Ｄ】本発明の一実施例のＵＶ樹脂層の中のチップ配置区に対応する区域を除去するステップにおける状態を示す模式図である。
【図２Ｅ】本発明の一実施例の遮断層の中のチップ配置区に対応する区域を除去するステップにおける状態を示す模式図である。
【図２Ｆ】本発明の一実施例のチップ配置区にチップを配置するステップにおける状態を示す模式図である。
【図２Ｇ】本発明の一実施例のＵＶ樹脂層の上にキャップ層を被せて接着するステップにおける状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００１６】
１１：基板、１２：正面、１３：チップ配置区、１４：遮断層、１５：下表面、１６：ＵＶ樹脂層、１７：上表面、１８：開放的な収容室、１９：チップ、２１：導線、２２：キャップ層
【図１】
2009224742.tif 000003
【図２Ａ】
2009224742.tif 000004
【図２Ｂ】
2009224742.tif 000005
【図２Ｃ】
2009224742.tif 000006
【図２Ｄ】
2009224742.tif 000007
【図２Ｅ】
2009224742.tif 000008
【図２Ｆ】
2009224742.tif 000009
【図２Ｇ】
2009224742.tif 000010