(57)【要約】【課題】基板の汚れ状況に対応して、不必要な洗浄時間を費やすことのないノズル方式による基板洗浄装置を提供することにある。【解決手段】基板８０を設置して回転させる回転駆動部６０と、基板８０の表面に洗浄液７５を供給するノズル１０と、ノズル１０に洗浄液７５を供給する洗浄液供給部７０と、ノズル１０の基板８０の表面上での位置を検出するノズル位置検出部２０と、ノズル１０を基板８０の表面上で移動させるノズル移動部３０と、ノズル位置検出部２０の位置検出信号と外部から入力される基板８０の汚れ検査情報信号とからノズル移動部３０を制御するノズル移動制御部４０とを有する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を設置して回転させる回転駆動部と、
前記基板の表面に洗浄液を供給するノズルと、
前記ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記ノズルの前記基板の表面上での位置を検出するノズル位置検出部と、
前記ノズルを前記基板の表面上で移動させるノズル移動部と、
前記ノズル位置検出部の位置検出信号と外部から入力される前記基板の汚れ検査情報信号とから前記ノズル移動部を制御するノズル移動制御部とを有し、
前記ノズル移動制御部は、前記位置検出信号と前記汚れ検査情報とを基に、前記ノズルの位置に応じて前記ノズルの移動速度をステップ状に切り替えて移動させることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記ステップ状の移動速度が、高速、中速及び低速の３段階の移動速度から成ることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記汚れ検査情報信号が、前記基板のロット管理による汚れ検査装置のロット毎の検査結果を基に生成されることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記汚れ検査情報信号が、前記基板の枚葉管理による汚れ検査装置の枚葉毎の検査結果を基に生成されることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイス用の基板類を洗浄する基板洗浄装置に係り、詳しくは、基板面の汚れの度合いの大きい箇所に応じて、洗浄液の供給量を制御する基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子デバイス用の基板類を洗浄する基板洗浄装置としては、基板を回転させ、その表面に向けてノズルから洗浄液を供給し、基板の洗浄を行うものがある。特許文献１には、回転している基板に対して、気体と液体の混合物をノズルから吐出させ、その吐出された混合物の基板面内における供給位置が、基板中心と基板周縁との間を移動するように、ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄方法において、混合物が基板面内に吐出されたときに、洗浄度合いに起因する複数の因子のうち少なくともいずれか一つを、基板面内における混合物の供給位置に応じて変化させる、旨の記載がある。
【特許文献１】特開２００２−１１３４２９号公報
【０００３】
この場合、洗浄度合いに起因する複数の因子である、ノズルから吐出される混合物を組成する気体又は液体の流量の少なくともいずれか一つ、ノズルの移動速度、又は基板の回転速度を、基板面内の混合物を供給する位置に応じてそれぞれ制御し、基板面内の単位面積当たりの混合物の供給量を一定にすること、又は、ノズルから吐出される混合物を組成する気体又は液体の圧力の少なくともいずれか一つ、基板面からノズルまでの高さ、又は基板面に対するノズルの角度を、基板面の混合物の供給する位置に応じて制御し、基板面内の混合物の供給位置に応じて基板に衝突する混合物の衝突レベルを調整することにより、基板の全面にわたって均一に洗浄を行う。
【０００４】
ノズルの移動速度を制御し、基板面内の単位面積当たりの混合物の供給量を一定にした場合を次に説明する。図３は、ノズルの駆動部の概略構成図である。図３において、ノズル７は、混合物Ｋの供給開始位置Ｓから、回転中心Ｐに向かうにつれて移動速度を速くし、逆に回転中心Ｐから供給終了位置Ｆに向かうにつれて連続して移動速度を遅くする。そうすることで、ノズル７に対する相対速度の速い基板周縁部側と相対速度の遅い回転中心Ｐ側の基板Ｗ面内での単位面積当たりの混合物Ｋの供給量が均一に保たれ、基板Ｗの全面にわたって洗浄度合いが一定となる。
【０００５】
図４は、基板に対するノズルの位置と移動速度の関係を示す移動速度図である。ノズル７の移動速度は、基板Ｗ面内の相対速度の速い基板周縁部側（混合物Ｋの供給開始位置Ｓ）から相対速度の遅い回転中心Ｐ側向かうにつれて移動速度は速くなり、逆に回転中心Ｐから供給終了位置Ｆに向かうにつれて移動速度は遅くなっている。
【０００６】
ところがこれは汚れが均一である場合は有効であるが、例えば、汚れが中心部に集中し、周辺に殆んど汚れがない場合は、洗浄時間が延びる原因となる。これは、中心部の汚れがひどい場合は、図４のノズルの移動速度の中心部の値を下げる必要が生じ、速度傾斜は一定に保たれるため、汚れの殆んどない周辺部分に、不必要な洗浄時間を費やすこととなるためである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板の汚れ状況に対応して、不必要な洗浄時間を費やすことのないノズル方式による基板洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板洗浄装置は、基板を設置して回転させる回転駆動部と、基板の表面に洗浄液を供給するノズルと、ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給部と、ノズルの基板の表面上での位置を検出するノズル位置検出部と、ノズルを基板の表面上で移動させるノズル移動部と、ノズル位置検出部の位置検出信号と外部から入力される基板の汚れ検査情報信号とからノズル移動部を制御するノズル移動制御部とを有し、ノズル移動制御部は、位置検出信号と汚れ検査情報とを基に、ノズルの位置に応じてノズルの移動速度をステップ状に切り替えて移動させることを特徴とする。
【０００９】
本発明の基板洗浄装置のステップ状の移動速度が、高速、中速及び低速の３段階の移動速度から成ることを特徴とする。
【００１０】
本発明の基板洗浄装置の汚れ検査情報信号が、基板のロット管理による汚れ検査装置のロット毎の検査結果を基に生成されることを特徴とする。
【００１１】
本発明の基板洗浄装置の汚れ検査情報信号が、基板の枚葉管理による汚れ検査装置の枚葉毎の検査結果を基に生成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板の汚れ状況に対応して、不必要な洗浄時間を費やすことのないノズル方式による基板洗浄装置が可能となる。これにより、基板のロット管理による汚れ検査を基に、洗浄効果を低下させることなく、短時間の洗浄処理が可能となり、ロット管理で外れた基板も、枚葉管理による汚れ検査を基に、同様に短時間の洗浄処理が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図１は、本発明による基板洗浄装置を示す構成図である。図１において、基板洗浄装置１００は、基板８０を設置して回転させる回転駆動部６０と、基板８０の表面に洗浄液７５を供給するノズル１０と、ノズル１０に洗浄液７５を供給する洗浄液供給部７０と、ノズル１０の基板８０の表面上での位置を検出するノズル位置検出部２０と、ノズル１０を基板８０の表面上で移動させるノズル移動部３０と、ノズル位置検出部２０の位置検出信号と外部から入力される基板８０の汚れ検査情報信号とからノズル移動部３０を制御するノズル移動制御部４０とを有している。汚れ検査情報信号は、ロット管理による周知の汚れ検査装置の検査結果を基に生成される。
【００１４】
洗浄液７５は、洗浄液供給部７０からノズル１０に供給され、且つ、ノズル１０の先端から、回転駆動部６０上に設置され、回転している基板８０の表面に供給される。ノズル移動制御部４０は、ノズル位置検出部２０が検出したノズル１０の位置検出信号と、汚れ検査情報信号入力端子５０に入力される汚れ検査情報信号とからノズル移動部３０を制御し、基板８０のエッジの開始点１５から中心を経てエッジの終了点１７まで、ノズル１０の位置に応じてノズル１０の移動速度をステップ状に切り替えて移動させる。
【００１５】
基板の汚れはロットに依存する場合が多く、例えばロットにより、汚れが基板のエッジ領域に集中したり、センター領域に集中したりする。このため汚れ検査情報信号は、ロット管理により洗浄するロットの基板の汚れの位置が、エッジ領域か、センター領域か、または中間領域かの情報をロット毎に含んでいる。ノズル移動制御部４０は、この汚れ検査情報信号と現在のノズルの位置を示す位置検出信号とから、ノズル１０の移動速度が高速Ｓ１、中速Ｓ２及び低速Ｓ３の３段階の移動速度に切り替わるようノズル移動部３０を制御する。
【００１６】
図２は、本発明による基板洗浄装置のノズルの位置と移動速度の関係を示す移動速度図である。図２ａは、ロット毎の汚れ検査情報信号がエッジ領域に汚れが集中している情報を含んでいる場合を示す。図１のノズル１０は、開始点１５から洗浄を開始し、所定のエッジ領域では低速Ｓ３で移動し、中間領域において中速Ｓ２、センター領域において高速Ｓ１に切り替わり、再び中間領域において中速Ｓ２、エッジ領域において低速Ｓ３に切り替わって移動し、終了点１７で停止する。
【００１７】
図２ｂは、ロット毎の汚れ検査情報信号がセンター領域に汚れが集中している情報を含んでいる場合を示す。図１のノズル１０は、開始点１５から洗浄を開始し、所定のエッジ領域では高速Ｓ１で移動し、中間領域において中速Ｓ２、センター領域において低速Ｓ３に切り替わり、再び中間領域において中速Ｓ２、エッジ領域において高速Ｓ１に切り替わって移動し、終了点１７で停止する。
【００１８】
このように、汚れ検査情報とノズルの位置情報に応じて、汚れの度合いが大きい領域ではノズルの移動速度を低速にすることにより、その単位面積当たりの洗浄液７５の供給量を増やすことができる。また、汚れの度合いが小さい領域ではノズルの移動速度を高速にすることにより、その単位面積当たりの洗浄液７５の供給量を減らし、洗浄時間を短縮することができる。このためロット管理された基板の洗浄は、洗浄効果を低下させることなく、より短時間で行なわれることが可能となる。
【００１９】
また、ロット管理による汚れ検査装置の検査結果から外れた基板は、所定の枚数毎に集められ、枚葉管理による汚れ検査装置の検査結果を基に生成された枚葉毎の汚れ検査情報信号を用いて、本発明の基板洗浄装置１００により枚葉洗浄することができる。
【００２０】
以上説明したように本発明によれば、基板の汚れ状況に対応して、不必要な洗浄時間を費やすことのないノズル方式による基板洗浄装置が可能となる。これにより、基板のロット管理による汚れ検査を基に、洗浄効果を低下させることなく、短時間の洗浄処理が可能となる。また、ロット管理で外れた基板も、枚葉管理による汚れ検査を基に、同様に短時間の洗浄処理が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明による基板洗浄装置を示す構成図。
【図２】本発明によるノズルの位置と移動速度の関係を示す移動速度図。
【図３】従来のノズルの駆動部の概略構成図。
【図４】従来のノズルの位置と移動速度の関係を示す移動速度図。
【符号の説明】
【００２２】
１０  ノズル
１５  開始点
１７  終了点
２０  ノズル位置検出部
３０  ノズル移動部
４０  ノズル制御部
５０  汚れ検査情報信号入力端
６０  回転駆動部
７０  洗浄液供給部
７５  洗浄液
８０  基板
１００  基板洗浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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