(57)【要約】【課題】光路差調整層上に反射表示の着色画素が設けられた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタにて、透過表示の着色画素と、光路差調整層上に所望する厚さの反射表示の着色画素を同時に形成するカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】１）光路差調整層を形成する工程、２）透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）を設け、光路差調整層上には所望する厚さ以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）を設ける工程、３）露光、現像により、透過表示の着色画素と、反射表示の着色画素を光路差調整層上に形成する工程、４）研磨処理により、反射表示の着色画素の厚さ（Ｄ４）を選択的に厚さ（Ｄ２）とする工程、を具備する。【選択図】図１０
2009020150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に少なくとも、光路差調整層、透過表示の着色画素、該光路差調整層上に反射表示の着色画素が設けられた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上の、透過表示の着色画素が設けられる部位を囲むように、光路差調整層を形成する工程、
２）該光路差調整層が形成されたガラス基板上の全面に着色フォトレジストを塗布し、ａ）透過表示の着色画素が設けられる部位には、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）を設け、また、ｂ）光路差調整層上には、反射表示の着色画素として所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ前記透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）の上面からその上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）を設ける工程、
３）該透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）及び反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）への、着色画素形成用フォトマスクを介した露光、及び現像処理により、ａ）所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）をガラス基板上に、また、ｂ）所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ透過表示の着色画素の上面から反射表示の着色画素の上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を光路差調整層上に形成する工程、
４）研磨処理により、反射表示の着色画素の厚さ（Ｄ４）を選択的に所望する厚さ（Ｄ２）とする工程、
を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光路差調整層上に反射表示の着色画素が設けられた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものであり、特に、ガラス基板上には所望する厚さを有する透過表示の着色画素を、また、光路差調整層上には所望する厚さを有する反射表示の着色画素を、同一の着色フォトレジストを用い、同時に形成する製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は自発光型の表示装置ではないので、その表示には他からの光を必要とし、例えば、その後方にバックライトを設け、後方からの光によって表示を行っている。このような液晶表示装置は透過型液晶表示装置と称され、主に屋内のような暗い環境下で用いられる。
また、例えば、その後方に光反射層を設け、液晶表示装置を観視する際の周囲からの外光によって表示を行う液晶表示装置がある。このような液晶表示装置は反射型液晶表示装置と称され、主に屋外のような周囲が明るい環境下で用いられる。
【０００３】
上記透過型液晶表示装置においては、その後方に設けられたバックライトからの光はカラーフィルタの着色画素を透過し、液晶表示装置が観視される前方の外部へ射出されるようになっている。
この際の着色画素の分光透過率は、例えば、図５における実線で示すように、赤色の着色画素の分光透過率は波長４００〜６００ｎｍにおいては透過率が低く、波長６００〜７００ｎｍにおいては透過率が高いものが好ましいものである。
【０００４】
図６は、従来法の反射型液晶表示装置の一例を断面で示す説明図である。図６に示すように、反射型液晶表示装置（６０）は、対向基板（６８）、液晶（６５）、カラーフィルタ（６９）などで構成されている。図６において、対向基板（６８）は、画素表示に必要な駆動素子（図示せず）や光拡散反射性の電極層（６６）などが基板（６７）上に形成されたもので構成されている。
また、カラーフィルタ（６９）は、ガラス基板（６１）、着色画素（６２）、オーバーコート層（６３）、透明電極層（６４）などで構成されている。
【０００５】
図６において、外光（Ｌ１）は着色画素（６２）を通過し色光となり、光拡散反射性の電極層（６６）にて反射され、再び着色画素（６２）を通過して、外部へ反射光（Ｌ２）として射出されるようになっている。
このような反射型液晶表示装置用カラーフィルタの着色画素（６２）の色濃度は、透過型液晶表示装置用カラーフィルタのカラーフィルタ画素の色濃度より低い色濃度のものである。
【０００６】
これは、上記のように外部からの光は、入射の際と反射の際の２回にわたり赤色の着色画素を透過し、外部へ射出されるので、例えば、図５における点線で示すように、赤色の着色画素の分光透過率は波長４００〜６００ｎｍにおいて透過率がやや高く、波長６００〜７００ｎｍにおいても透過率がやや高いものを用いることにより、実線で示す透過型に用いられる赤色の着色画素の分光透過率と同様の効果が得られるようにしているのである。
【０００７】
液晶表示装置用カラーフィルタの着色画素の形成は、種々な方法により行われているが、感光性樹脂組成物に顔料を分散させた感光性着色樹脂組成物（着色フォトレジスト）を材料として用い、フォトリソグラフィ法により着色画素を形成する顔料分散法が広く採用されている。
【０００８】
この顔料分散法、すなわち、着色フォトレジストを用いフォトリソグラフィ法により、上記のような反射型液晶表示装置用カラーフィルタの着色画素を形成する場合には、画素の色濃度を低くするために、ａ）着色画素の厚さを薄く形成したり、ｂ）着色画素の厚さは薄くせずに、その着色画素に含まれる顔料の含有量を少なくしたり、ｃ）或いは、着色画素にスルーホール部を設け、白色と混色させるなどの手法が用いられている。
【０００９】
透過型液晶表示装置は、主に屋内のような暗い環境下で用いられるものであり、屋外のような周囲が明るい環境下では、その表示が見にくいといった欠点がある。また、上記反射型液晶表示装置は、主に屋外のような周囲が明るい環境下で用いられるものであり、屋内のような暗い環境下では、その表示が見にくいといった欠点がある。
【００１０】
このような透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置に対し、半透過型液晶表示装置と称される液晶表示装置は、１基の液晶表示装置において透過型と反射型の両機能を兼ね備えた液晶表示装置である。
この半透過型液晶表示装置は、屋外のような非常に明るい環境下でも、また、屋内のような暗い環境下でも用いることができ、モバイル機器に用いられる液晶表示装置である。
【００１１】
図１は、半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を示したものであり、一画素に対応する部位を拡大して示す断面図である。
図１に示すように、この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（図示せず）、着色画素（５２）、透明導電膜（５３）が形成されたものである。
【００１２】
一画素の領域（Ｐｘ）は、透過表示領域（Ｔｒ）と反射表示領域（Ｒｅ）で構成されている。着色画素（５２）は、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）で構成されている。
透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）は、透過表示用として適切な分光特性のものである。反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さ（Ｄ２）を、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）より薄く設けることによって、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の分光特性は反射表示用として適切な分光特性に調節された例である。
透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は連続しており、同一の着色フォトレジストを用い、フォトリソグラフィ法によって同時に形成されたものである。
【００１３】
図２は、図１に示す半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す断面図である。図２に示すように、ブラックマトリックス（図示せず）が形成されたガラス基板（５０）上には、ネガ型の着色フォトレジストの塗膜（７０）が設けられている。着色画素形成用のフォトマスク（ＰＭ１）を介した露光（Ｅｘ）を行う。
フォトマスク（ＰＭ１）は、透明基板（８０）に、ハーフトーン部（８２）及び透明部（８１）が設けられたものである。図２中、点線は現像処理後に得られる透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）及び反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を表している。
【００１４】
ハーフトーン部（８２）は、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さを所望する厚さ（Ｄ２）に形成するためのハーフトーン部である。また、透明部（８１）は、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さを所望する厚さ（Ｄ１）に形成するための透明部である。
ハーフトーン部（８２）の光学濃度は、ガラス基板（５０）上に形成される反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さに対応した光学濃度を有し、透明部（８１）の光学濃度はゼロである。このようなフォトマスク（ＰＭ１）は、例えば、透明基板（８０）上に成膜され
たクロム膜をフォトエッチングすることによって得られる。或いは、透明基板（８０）上に紫外光を減衰させる薄膜、例えば、ＩＴＯなどの金属酸化物膜を成膜することによって得られる。このようなクロム膜或いはＩＴＯ膜が設けられたハーフトーン部を有するフォトマスクは、グレートーンマスクとも称される。
【００１５】
図２に示すように、フォトマスク（ＰＭ１）の上方からの、白太矢印で示す紫外光はフォトマスクの全域を均一に照射するが、透明部（８１）では略その全量が透過し、ハーフトーン部（８２）では、その光学濃度に応じて減衰した、矢印で示す紫外光が透過することになる。
【００１６】
図３は、ハーフトーン部を有するフォトマスクの他の例を説明する断面図である。図３に示すように、他の例のフォトマスク（ＰＭ２）は、透明基板（８０）に、ラインアンドスペースパターンからなるハーフトーン部（８３）、及び紫外光の略全量が透過する透明部（８１）が設けられたものである。
ハーフトーン部（８３）のラインアンドスペースパターンは、前記図２に示すガラス基板（５０）上の反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の形成に応じた紫外光を透過するように設定される。このフォトマスク（ＰＭ２）を用いることによって、図２に示す例と同様にして、ガラス基板（５０）上に、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）及び反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）が形成される。
【００１７】
図４（ａ）は、図３に示すハーフトーン部（８３）の一部分を拡大して示す平面図である。また、図４（ｂ）は、図４（ａ）におけるＸ−Ｘ’線の断面図である。図４（ａ）、（ｂ）に示すように、このハーフトーン部（８３）は光を遮光するライン（Ｌ）と光を透過するスペース（Ｓ）で構成されるラインアンドスペースパターンである。
このフォトマスク（ＰＭ２）は、ハーフトーン部（８３）のラインアンドスペースパターンが、用いるフォトリソグラフィ法の系の解像度以下となっているフォトマスクである。これにより、フォトマスク上のハーフトーン部（８３）のラインアンドスペースパターンをラインアンドスペースの像を形成させるパターンとして機能させるのではなく、均一な光学濃度のハーフトーン部として機能させるものである。
【００１８】
しかしながら、フォトマスクとして、薄膜が設けられたハーフトーン部（８２）を有する前記グレートーンマスクを用いた場合には、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の透過率５０％以下にすることは困難である。また、フォトマスクとして、上記ラインアンドスペースパターンのハーフトーン部（８３）を有するフォトマスクを用いた場合には、マスクの膜質、膜厚の管理が困難である。
【００１９】
一方、図７は、半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの他の例を示す断面図である。図７に示すように、この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（図示せず）、光路差調整層（５４）、着色画素（５２）、透明導電膜（５３）が形成されたものである。このカラーフィルタは、図１に示す半透過型液晶表示装置用カラーフィルタと同様に、一画素の領域（Ｐｘ）は、透過表示領域（Ｔｒ）と反射表示領域（Ｒｅ）で構成されている。着色画素（５２）は、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）で構成されている。
【００２０】
透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）は、透過表示用として適切な分光特性のものである。反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さ（Ｄ２）を、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）より薄く設けることによって、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の分光特性は反射表示用として適切な分光特性に調節された例である。透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は連続しており、同一の着色フォトレジストを用い、フォトリソグラフィ法によって同時に形成されたものである。
【００２１】
反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）下には、光路の差を調整するための光路差調整層（５４）が設けられており、ブラックマトリックス、光路差調整層（５４）、着色画素（５２）が形成されたガラス基板（５０）上の全面に、透明導電膜（５３）が形成されている。
【００２２】
この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、液晶層中の透過表示領域（Ｔｒ）を通過した光の位相と、反射表示領域（Ｒｅ）を通過した光の位相をそろえるために、基板間の間隔を、透過表示領域：反射表示領域＝略２：１としている半透過型液晶表示装置用カラーフィルタである。すなわち、図７において、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）上の透明導電膜（５３）上面から対向基板の上部（４０）までの高さ（Ｈ２）と、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）上の透明導電膜（５３）上面から対向基板の上部（４０）までの高さ（Ｈ１）の比を略２：１としている（Ｈ２：Ｈ１＝２：１）。具体的には、４μｍ：２μｍ程度のものである。
【００２３】
この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、先ず、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックスを形成する。次に、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を設ける部位に光路差調整層（５４）を設ける。次に、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）で構成されている着色画素（５２）を同時に形成する。反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は光路差調整層（５４）上に設ける。
次に、ブラックマトリックス、光路差調整層（５４）、着色画素（５２）が形成されたガラス基板（５０）上の全面に、透明導電膜（５３）を形成する。
【００２４】
透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は、同一の着色フォトレジストを用い、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さ（Ｄ２）を透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）より薄く、フォトリソグラフィ法によって同時に形成する。
これは、パターン（光路差調整層（５４））が既に設けられたガラス基板（５０）上の全面に塗液を塗布すると、既存のパターン（光路差調整層（５４））上に塗布される塗膜の厚さ（Ｄ２）は、ガラス基板（５０）上に塗布される塗膜の厚さ（Ｄ１）より薄くなるといった塗液（着色フォトレジスト）の性向を利用したものである。
【００２５】
しかしながら、光路差調整層（５４）上に塗布される塗膜の厚さは、光路差調整層の厚さ（Ｄ３）や幅（面積）によって変動するものであり、所望する厚さを有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と、所望する厚さを有する反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を同時に形成することは困難なことである。
【００２６】
従って、実際の作業においては、着色画素（５２）を形成した後に、研磨によって反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さを補正するといった手法を採用することになる。
例えば、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さには所望する厚さ（Ｄ１）が得られ、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さには所望する厚さ（Ｄ２）よりやや厚めの塗膜が得られるように塗膜を設け、着色画素として形成した後に、選択的に反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を研磨し、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ、及び反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さを共に所望する厚さとする手法である。
【００２７】
しかし、この手法は、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の選択的な研磨ではあるが、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）も研磨されてしまう傾向にあり、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ、及び反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さを共に所望する厚さとすることは困難なことである。
【特許文献１】特許２００４−２６４７１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、光路差調整層（５４）上に反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）が設けられた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造において、光路差調整層（５４）が設けられたガラス基板（５０）上の、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を設ける部分に、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を、また、光路差調整層（５４）上には透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）より薄い、所望する厚さ（Ｄ２）を有する反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を、同一の着色フォトレジストを用い、同時に、共に良好に形成することのできる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
本発明は、ガラス基板上に少なくとも、光路差調整層、透過表示の着色画素、該光路差調整層上に反射表示の着色画素が設けられた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上の、透過表示の着色画素が設けられる部位を囲むように、光路差調整層を形成する工程、
２）該光路差調整層が形成されたガラス基板上の全面に着色フォトレジストを塗布し、ａ）透過表示の着色画素が設けられる部位には、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）を設け、また、ｂ）光路差調整層上には、反射表示の着色画素として所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ前記透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）の上面からその上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）を設ける工程、
３）該透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）及び反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）への、着色画素形成用フォトマスクを介した露光、及び現像処理により、ａ）所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）をガラス基板上に、また、ｂ）所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ透過表示の着色画素の上面から反射表示の着色画素の上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を光路差調整層上に形成する工程、
４）研磨処理により、反射表示の着色画素の厚さ（Ｄ４）を選択的に所望する厚さ（Ｄ２）とする工程、
を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００３０】
本発明は、１）ガラス基板上の、透過表示の着色画素が設けられる部位を囲むように、光路差調整層を形成する工程、２）該光路差調整層が形成されたガラス基板上の全面に着色フォトレジストを塗布し、ａ）透過表示の着色画素が設けられる部位には、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）を設け、また、ｂ）光路差調整層上には、反射表示の着色画素として所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ前記透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）の上面からその上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）を設ける工程、３）該透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）及び反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）への、着色画素形成用フォトマスクを介した露光、及び現像処理により、ａ）所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）をガラス基板上に、また、ｂ）所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ透過表示の着色画素の上面から反射表示の着色画素の上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を光路差調整層上に形成する工程、４）研磨処理により、反射表示の着色画素の厚さ（Ｄ４）を選択的に所望する厚さ（Ｄ２）とする工程、を具備する半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であるので、
光路差調整層（５４）上に反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）が設けられた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造において、光路差調整層（５４）が設けられたガラス基板（５０）上の、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を設ける部分に、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を、また、光路差調整層（５４）上には透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）より薄い、所望する厚さ（Ｄ２）を有する反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を、同一の着色フォトレジストを用い、同時に、共に良好に形成することのできる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に本発明による半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を、その一実施形態に基づいて説明する。
図８は、本発明による半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法によって製造された半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの一例を示す平面図である。図８は、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを構成する一画素中の中央部分を拡大して示すものである。また、図９は、図８のＸ−Ｘ線での断面図である。
【００３２】
図８、及び図９に示すように、この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス、光路差調整層（５４）、着色画素（５２）、透明導電膜が形成されたものである。ブラックマトリックス、及び透明導電膜の表示は省略してある。
【００３３】
このカラーフィルタは、図７に示す半透過型液晶表示装置用カラーフィルタと同様に、一画素の領域（Ｐｘ）は、透過表示領域（Ｔｒ）と反射表示領域（Ｒｅ）で構成されている。着色画素（５２）は、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）で構成されている。
本発明における半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（５０）上の透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を囲むように光路差調整層（５４）が設けられていることを特徴としている。
【００３４】
透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）は、透過表示用として適切な分光特性のものである。反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さ（Ｄ２）を、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）より薄く設けることによって、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の分光特性は反射表示用として適切な分光特性に調節された例である。透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）と、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は連続しており、同一の着色フォトレジストを用い、フォトリソグラフィ法によって同時に形成されたものである。
【００３５】
反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は、光路の差を調整するための光路差調整層（５４）上に設けられており、ブラックマトリックス、光路差調整層（５４）、着色画素（５２）が形成されたガラス基板（５０）上の全面に、透明導電膜が形成されている。
【００３６】
この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、液晶層中の透過表示領域（Ｔｒ）を通過した光の位相と、反射表示領域（Ｒｅ）を通過した光の位相をそろえるために、基板間の間隔を、透過表示領域：反射表示領域＝略２：１としている半透過型液晶表示装置用カラーフィルタである。
【００３７】
図１０（ａ）〜（ｃ）は、本発明による半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す断面図である。この半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、先ず、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックスを形成する。次に、ガラス基板（５０）上の、透過表示の着色画素が設けられる部位を囲むように、厚さ（Ｄ３）を有する光路差調整層（５４）を形成する（図１０（ａ））。
【００３８】
次に、光路差調整層（５４）が形成されたガラス基板上の全面に着色フォトレジストを塗布し、透過表示の着色画素を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）及び反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）を設ける。
【００３９】
透過表示の着色画素を設ける部位には、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）を設け、また、光路差調整層（５４）上には、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）として所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）の上面から、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）の上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある、反射表示の着色画素を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）を設ける。
【００４０】
次に、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）を形成する塗膜（Ｔｒ−Ｍ）、及び反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を形成する塗膜（Ｒｅ−Ｍ）へ、着色画素形成用フォトマスクを介した露光（図示せず）、及び現像処理により、所望する厚さ（Ｄ１）を有する透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）をガラス基板（５０）上に、また、所望する厚さ（Ｄ２）以上の厚さ（Ｄ４）で、且つ透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の上面から反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の上面までの段差（Ｄｓ）が２．０μｍ以上ある、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）を光路差調整層上に形成する（図１０（ｂ））。
【００４１】
この露光、及び現像処理により、塗膜（Ｔｒ−Ｍ）、及び塗膜（Ｒｅ−Ｍ）は、着色画素（５２）として形成され、塗膜は硬化したものとなる。
次に、研磨処理を施し、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さ（Ｄ４）を選択的に所望する厚さ（Ｄ２）とする（図１０（ｃ））。
透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）は、２．０μｍ以上の段差（Ｄｓ）を有する反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）で囲まれているので、研磨処理を施しても透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）は研磨されず、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）が選択的に研磨される。
【００４２】
尚、本願においては、着色フォトレジストの塗膜へのフォトマスクを介した露光、現像処理に伴う、所謂、膜減りと称する塗膜の膜厚の減少への対応については、適宜に補正が行われるものとして説明をしている。
【００４３】
図１１は、研磨時間と、研磨量（着色画素の厚さの減少）の関係の一例を示すグラフである。また、図１２は、研磨による透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）及び反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さの挙動を模式的に表したものである。
図１２に示すように、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の上面から反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の上面までの段差（Ｄｓ）として２．０μｍを設け、着色画素（５２）に研磨を施すと、図１１に示すように、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）は、符号（ｔ2 ）で示す研磨時間までは直線的に研磨される。
【００４４】
一方、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）は、符号（ｔ1 ）で示す研磨時間までは研磨されることはない。仮に、光路差調整層（５４）上に設けた反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さ（Ｄ４）を１．０μｍとして、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の研磨が開始される符号（ｔ1 ）で示す研磨時間の直前まで着色画素（５２）に研磨を施すと、透過表示の着色画素（５２Ｔｒ）の厚さ（Ｄ１）は変化せずに、反射表示の着色画素（５２Ｒｅ）の厚さは、厚さ（Ｄ４）の１．０μｍから厚さ（Ｄ２）の０．２μｍ（研磨時間（ｔ1 ）にて、研磨量０．８μｍ、１．０μｍ−０．８μｍ＝０．２μｍ）へと薄くなることを示している。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を示したものである。
【図２】図１に示す半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す断面図である。
【図３】ハーフトーン部を有するフォトマスクの他の例を説明する断面図である。
【図４】（ａ）は、図３に示すハーフトーン部の一部分を拡大して示す平面図である。（ｂ）は、図４（ａ）におけるＸ−Ｘ’線の断面図である。
【図５】透過型液晶表示装置用及び反射型液晶表示装置用カラーフィルタの赤色の着色画素の分光透過率を示した説明図である。
【図６】従来法における反射型液晶表示装置の一例を断面で示す説明図である。
【図７】半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの他の例を示す断面図である。
【図８】本発明による半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法によって製造された半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの一例を示す平面図である。
【図９】図８のＸ−Ｘ線での断面図である。
【図１０】（ａ）〜（ｃ）は、本発明による半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す断面図である。
【図１１】研磨時間と研磨量（着色画素の厚さの減少）の関係の一例を示すグラフである。
【図１２】研磨による透過表示の着色画素及び反射表示の着色画素の厚さの挙動を模式的に表したものである。
【符号の説明】
【００４６】
５０、６１・・・ガラス基板
５２、６２・・・着色画素
５２Ｔｒ・・・透過表示の着色画素
５２Ｒｅ・・・反射表示の着色画素
５３・・・透明導電膜
５４・・・光路差調整層
６０・・・反射型液晶表示装置の一例
６３・・・オーバーコート層
６４・・・透明電極層
６５・・・液晶
６６・・・光拡散反射性の電極層
６７・・・基板
６８・・・対向基板
６９・・・カラーフィルタ
７０・・・着色フォトレジストの塗膜
８０・・・透明基板
８１・・・透明部
８２、８３・・・ハーフトーン部
Ｄ１・・・透過表示の着色画素の厚さ
Ｄ２・・・反射表示の着色画素の厚さ
Ｄ３・・・光路差調整層の厚さ
Ｄ４・・・反射表示の着色画素の厚さ以上の厚さ
Ｄｓ・・・透過表示の着色画素の上面から反射表示の着色画素の上面までの段差Ｅｘ・・・露光
Ｈ１・・・反射表示の着色画素上の透明導電膜上面から対向基板の上部までの高さ
Ｈ２・・・透過表示の着色画素上の透明導電膜上面から対向基板の上部までの高さ
Ｌ・・・ライン
Ｌ１・・・入射光
Ｌ２・・・反射光
ＬS ・・・スペースの幅
Ｌｗ・・・ラインの幅
ＰＭ１、ＰＭ２・・・ハーフトーン部を有するフォトマスク
Ｐｘ・・・一画素の領域
Ｒｅ・・・反射表示領域
Ｒｅ−Ｍ・・・反射表示の着色画素を形成する塗膜
Ｓ・・・スペース
Ｔｒ・・・透過表示領域
Ｔｒ−Ｍ・・・透過表示の着色画素を形成する塗膜
ｔ1 〜ｔ3 ・・・研磨時間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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