(57)【要約】【課題】塵埃を容易に除去することができる撮像装置および光学機器を提供する【解決手段】光学系による像を撮像する撮像部（３８）と、前記撮像部（３８）よりも前記光学系側に備えられ前記光学系から射出された光を透過させる透過部（３４）と、前記透過部（３４）を振動させる振動部（３２）とを備える撮像装置であって、前記透過部（３４）は、撥水性を有することを特徴とする撮像装置（３０）。【選択図】図４
2009049453.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系による像を撮像する撮像部と、
前記撮像部よりも前記光学系側に備えられ前記光学系から射出された光を透過させる透過部と、
前記透過部を振動させる振動部とを備える撮像装置であって、
前記透過部は、撥水性を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
請求項１に記載された撮像措置であって、
前記透過部の撥水性を有する部分は、フッ素、シリコン及び炭素の少なくとも１つを含有することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載された撮像装置であって、
前記振動部は、前記透過部を屈曲振動させることを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までの何れか１項に記載された撮像装置であって、
前記透過部が、特定周波数成分を減衰させる第１透過部と、当該第１透過部に対して前記撮影光学系側に配置される第２透過部とを有し、
前記第２透過部は撥水性を有し、前記振動部によって振動させられることを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までの何れか１項に記載された撮像装置であって、
前記透過部が、導電性を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項６】
請求項５に記載された撮像装置であって、
前記透過部は、導電性を有する第１層と、撥水性を有する第２層とを含み、
前記第１層と前記第２層とは対向して備えられていることを特徴とする撮像装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までの何れか１項に記載された撮像装置であって、
前記透過部は、前記光学系側の面の少なくとも一部の水滴接触角が９０度以上であることを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７までの何れか１項に記載された撮像装置を備えたことを特徴とする光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置および光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル一眼レフカメラに代表される撮像装置を有する光学機器では、光路中の透光部材に塵埃が付着し、撮影された像に前記塵埃が写り込むという問題が発生する場合がある。
【０００３】
このような問題を解決する従来技術としては、撮像素子の前方に配置され、透過部を有する防塵フィルタを、圧電素子によって振動させ、防塵フィルタに付着した塵埃を除去するものが知られている（特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、このような従来技術においては、防塵の付着状態によっては、それを除去することが困難な場合がある。すなわち、光学機器内を浮遊する塵埃の中には、乾燥しているものだけでなく、水分を含むものが存在する。このような水分を含む塵埃は、透光部材として広く用いられているガラス材等の表面に付着した場合、乾燥している塵埃に比べて強固に付着するおそれがある。また、防塵フィルタ等の光学部材が帯電することによって、帯電による静電力の影響により、塵埃が強固に付着するおそれもある。したがって水分を含む塵埃が透光部材に強固に付着したり、帯電による静電力の影響により塵埃が透光部材に強固に付着した場合には、従来技術では容易に除去できない場合があり、問題となっている。
【特許文献１】特開２００７−６５１９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、塵埃を容易に除去することができる撮像装置および光学機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明に係る撮像装置は、
光学系による像を撮像する撮像部（３８）と、
前記撮像部（３８）よりも前記光学系側に備えられ前記光学系から射出された光を透過させる透過部（３４）と、
前記透過部（３４）を振動させる振動部（３２）とを備える撮像装置であって、
前記透過部（３４）は、撥水性を有することを特徴とする。
【０００７】
また、例えば、前記透過部（３４）の撥水性を有する部分は、フッ素、シリコン及び炭素の少なくとも一つを含有することを特徴とするものであってもよい。
【０００８】
また、例えば、前記振動部（３２）は、前記透過部（３４）を屈曲振動させることを特徴とするものであってもよい。
【０００９】
また、本願発明に係る撮像装置は、例えば前記透過部が、
特定周波数成分を減衰させる第１透過部（３６）と、当該第１透過部に対して前記撮影光学系側に配置される第２透過部（３４）とを有し、
前記第２透過部（３４）は撥水性を有し、前記振動部によって振動させられることを特徴とするものであっても良い。
【００１０】
また、本願発明に係る撮像装置は、前記透過部（３４）が、導電性を有することを特徴とするものであっても良い。
【００１１】
また、例えば、前記透過部は、導電性を有する第１層（４８）と、撥水性を有する第２層（４６）とを含み、前記第１層と前記第２層とは対向して備えられていることを特徴とするものであっても良い。
【００１２】
また、例えば、前記透過部（３４）は、前記光学系側の面の少なくとも一部の水滴接触角が９０度以上であっても良い。
【００１３】
本願発明に係る光学機器は、上記の何れかの撮像装置を備えたことを特徴とする。
【００１４】
なお上述の説明では、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明は、これに限定されるものでない。後述の実施形態の構成を適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替させてもよい。さらに、その配置について特に限定のない構成要件は、実施形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図１（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る撮像ユニットを備えたカメラに関する概略断面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の部分拡大図、
図２は、図１に係る撮像ユニットにおける振動光学部材付近の拡大断面図、
図３は、図２に係る振動光学素子の表面微細構造を示した拡大模式図、
図４は、本発明の第２実施形態に係る撮像ユニットを備えたカメラに関する概略断面図、
図５は、本発明の第３実施形態に係る撮像ユニットを備えたカメラに関する概略断面図、
図６は、振動光学素子の実施形態を説明する図、
図７は、振動光学素子の別の実施形態を説明する図である。
第１実施形態
【００１６】
図１（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る撮像ユニットを備えたデジタル一眼レフ型カメラに関する概略断面図であり、カメラボディ４の側断面を表している。カメラボディ４の筐体６には開口部８が形成されており、開口部８の周辺にはレンズマウント１０が形成されている。撮影時には、開口部８を覆うように交換レンズ（不図示）が設置され、交換レンズによって導かれた撮影光が、筐体６内部に導入される。
【００１７】
カメラボディ４の筐体６内部には、クイックリターンミラー１２，ファインダスクリーン１４、ペンタプリズム１６、接眼レンズ２２、シャッタ２０および撮像ユニット３０等が具備してある。
【００１８】
撮像ユニット３０は、振動光学素子３４、光学ローパスフィルタ３６および撮像素子３８を有する。撮像素子３８は、その交換レンズ側の表面に、撮影光を受光する受光面を有している。光学ローパスフィルタ３６は、撮像素子３８の受光面を覆うように、撮像素子３８の前面に配置されている。光学ローパスフィルタ３６は、撮像に際して偽色（色モアレ）の発生を防止する役割を有する。なお、撮像ユニット３０を構成する各部材については、交換レンズが取り付けられる開口部８側の面を前面とし、前面に対して撮影光の進行方向にある反対面を背面とする。
【００１９】
光学ローパスフィルタ３６とシャッタ２０との間には、振動光学素子３４が配置されている。したがって、撮影時において撮影光は、振動光学素子３４を透過した後、撮像素子３８に導かれる。
【００２０】
振動光学素子３４は、保持部材によって周辺を保持されており、光学ローパスフィルタおよび撮像素子３８に対して開口部側に、密封空間４０を挟んで配置されている。このような構成とすることにより、密封空間４０の内部には塵埃が侵入せず、密封空間４０内部に存在する光学ローパスフィルタ３６等の表面には塵埃が付着するおそれがほとんどない。また、撮像素子３８に、直接振動光学素子３４の振動が伝わることを防止している。振動光学素子３４の面積は、撮像素子３８の面積よりも大きいことが好ましい。
【００２１】
図１（ｂ）は、図１（ａ）の部分拡大図である。図１（ｂ）において、振動光学素子３４の前面両端部には振動子３２が取り付けられている。振動子３２は、振動光学素子３４の表面部３４ｂに付着した塵埃を除去するために、振動光学素子３４に振動を与えることができる。振動子３２は、例えば圧電素子等によって構成されており、配線４２を介して制御部４４によって制御される。なお、振動子３２は、振動光学素子３４の振動による塵埃の落下方向（図１（ａ）のＺ方向）とは異なる方向（例えば、落下方向に直交する方向（図１（ａ）のＹ方向））に配置することが好ましい。
【００２２】
図２は、第１実施形態に係る振動光学素子３４の拡大図である。振動光学素子３４の素子本体部３４ａは可視光を透過する材料によって形成されている。図２（ｂ）に示すように、第１実施形態に係る振動光学素子３４の表面部３４ｂは、導電性を有する導電層４８と、撥水性を有する撥水層４６とによって構成され、導電層４８の背面は素子本体部３４ａと密着しており、前面には撥水層４６を有している。撥水層４６は、水分を含有する塵埃の強い付着を防ぐことができる。
【００２３】
表面部３４ｂの撥水層４６は充分に薄く、好ましくは５×１０−６ｍ未満の厚みとする。この充分に薄い撥水層４６の下には導電層４８を有しており、このことから表面部３４ｂは低抵抗となり、言い換えれば表面は若干の導電性となり、したがって帯電にともなう静電気力による塵埃の強い付着を防ぐことができる。
【００２４】
あるいは図３（Ａ）に示すように、第１実施形態に係る振動光学素子３４の表面部３４ｂは、導電性を付与する導電層４８を最上層とし、撥水性を付与する撥水層４６を第２層とすることによって構成することもできる。撥水層４６は、その背面が素子本体部３４ａと密着しており、前面には導電層４８が形成されている。撥水層４６の前面には、微細な凹凸４６ａが形成されており、表面が平滑な場合に比べて、水滴や塵埃が直接に接する面積が小さくなる。
【００２５】
凹凸４６ａの大きさは、撮影光への影響が大きくならないように充分に微細にすることが望ましく、凹凸４６ａを微細にすることで、撥水性を向上させながら、撮影光の散乱を防止することができる。例えば、凹凸４６ａに係る突起の高さは１０−９〜１０−６ｍとすることができる。凹凸４６ａの構造としては、撥水層４６の表面積をより増大させるものが好ましく、たとえばフラクタル構造であっても良い。
【００２６】
導電層４８は、撥水層４６の凹凸４６ａを埋めてしまわないように、撥水層４６の前面に形成されている。導電層４８は、完全な連続膜である必要はなく、例えば微細な孔を有していてもよいが、少なくとも層全体が立体的に繋がっていることが好ましい。導電層４８の厚さとしては、撥水層４６の凹凸４６ａを埋めてしまわない厚さが好ましく、例えば１μｍ未満である。
【００２７】
本実施形態において、導電層４８は、ＩＴＯ膜によって形成されているが、導電層４８を構成する材料としてはこれに限られず、導電性を有しかつ撮影光を透過する材料であればなんでも良い。ＩＴＯ以外の材料としては、例えば酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、ＡＴＯ等を用いることができる。また、金属単体、合金等を用いても良い。導電層４８の導電率は、例えば撥水層４６の導電率より大きく、好ましくは１０−５（１／Ωｃｍ）以上、さらに好ましくは１０２（１／Ωｃｍ）以上である。
【００２８】
撥水層４６は、フッ素、シリコン及び炭素の少なくとも１つを含有することが好ましい。撥水層４６の形成方法としては、アルキルケテンダイマー溶液を素子本体部３４ａ上にスピンコートした後乾燥させる方法や、フッ素系シランカップリング剤やフッ素含有ポリマーおよびこれらの混合溶液を、素子本体部３４ａ上にスピンコート成膜した後に、熱処理する方法等が挙げられる。凝固時等に凹凸４６ａを形成させる方法の他にも、例えばフッ素系樹脂膜やシリコン膜を素子本体部３４ａ上に形成したのち、ラビング等の物理的手法やエッチング等により、凹凸４６ａを形成しても良い。あるいは、ダイヤモンド・ライク・カーボンを、化学気相成長法やスパッタリング法により形成した後、エッチング等により凹凸４６ａを形成しても良い。
【００２９】
導電層４８の形成方法としては、撥水層４６が形成された表面に、導電性を有する物質を、スピンコート法、メッキ法、蒸着法、スパッタリング法、ディッピング法等を用いて膜形成する方法が挙げられる。
【００３０】
ただし、撥水層４６および導電層４８の形成方法は、上述の方法に限定されず、他の方法を用いることも可能である。上述のように、図３（Ａ）に示す振動光学素子３４の表面部３４ｂは、撥水層４６により撥水性を有しており、かつ、導電層４８によって導電性を有している。
【００３１】
このような構成からなる第１実施形態における撮像ユニット３０では、所定の条件において、図１に示す駆動部４４が、振動子３２を例えばＸ軸方向（図１参照）に駆動し、振動光学素子３４を屈曲振動させ、振動光学素子３４の表面に付着している塵埃などを飛ばして除去する動作を行う。ただし、塵埃除去時における振動光学素子３４の振動としては、屈曲振動に限られず、表面部３４ｂを振動させるものであればどのような振動でもよい。
【００３２】
以上のように、第１実施形態に係る撮像ユニット３０の振動光学素子３４は、撥水層４６により撥水性を有しており、かつ、導電層４８によって導電性を有している。振動光学素子３４は、撥水性によって、水分を含む塵埃が、その表面部３４ｂに強固に付着することを防止できる。また、振動光学素子３４は、導電性によって帯電による静電力の発生を抑制できるため、表面部３４ｂに塵埃が強固に付着することを防止できる。
【００３３】
第１実施形態に係る撮像ユニット３０では、振動光学素子３４の表面部３４ｂに塵埃が強固に付着することを防止できるため、振動子３２によって振動光学素子３４を振動させることによって、表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができる。
【００３４】
またさらに、第１実施形態に係る撮像ユニット３０では、撮影光が透過する振動光学素子３４の表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができるため、塵埃除去後に撮影を行うことによって、撮影された像に塵埃が写り込むことを効果的に防止できる。
【００３５】
また、第１実施形態に係る撮像ユニット３０を有するカメラは、振動光学素子３４の表面部３４ｂに塵埃が付着したとしても、振動子３２よる振動によって容易に除去できるため、カメラの分解清掃等が必要となる頻度が下がり、メンテナンスが容易である。
第２実施形態
【００３６】
図４は、本発明の第２実施形態に係る撮像ユニット３０を備えたカメラに関する概略断面図である。第２実施形態に係る撮像ユニット３０では、振動光学素子３４の素子本体部３４ａが光学ローパスフィルターとなっており、振動光学素子３４が撮像素子３８の受光面を覆うように、撮像素子３８の前面に配置されている以外は、第１実施形態と同様である。
【００３７】
第２実施形態に係る撮像ユニット３０では、振動光学素子３４が光学ローパスフィルタを兼ねているため、部品点数が少なく、構造がシンプルである。
【００３８】
しかも、第１実施形態と同様に、第２実施形態に係る撮像ユニット３０では、振動光学素子３４の表面部３４ｂに塵埃が強固に付着することを防止できるため、振動子３２によって振動光学素子３４を振動させることによって、表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができる。
【００３９】
また、第２実施形態に係る撮像ユニット３０では、撮影光が透過する振動光学素子３４の表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができるため、塵埃除去後に撮影を行うことによって、撮影された像に塵埃が写り込むことを効果的に防止できる。
【００４０】
またさらに、第２実施形態に係る撮像ユニット３０を有するカメラは、振動光学素子３４の表面部３４ｂに塵埃が付着したとしても、振動子３２よる振動によって容易に除去できるため、カメラの分解清掃等が必要となる頻度が下がり、メンテナンスが容易である。
第３実施形態
【００４１】
図５は、本発明の第３実施形態に係る撮像ユニット３０を備えたカメラに関する概略断面図である。第３実施形態に係る撮像ユニット３０では、振動光学素子３４の表面部３４ｂが、筐体６のフレーム部５０と配線５２によって接続されており、表面部３４ｂとフレーム部５０が同電位となっている。また、第３実施形態では、撮像ユニット３０に、塵埃捕獲部材５６が取り付けられている。その他の構成は、第１実施形態と同様である。
【００４２】
振動光学素子３４の表面部３４ｂは、筐体６のフレーム部５０と、配線５２によって導通しているため、表面部３４ｂが帯電するのを、さらに効果的に防止することができる。
【００４３】
また、振動光学素子３４の表面部３４ｂ上に配置された振動子３２が圧電素子である場合、表面部３４ｂの導電層４８には、圧電素子の基準電極が接続されていても良い。ここで圧電素子の基準電極とは、圧電素子の圧電体を挟んで配置される電極のうち、駆動部４４によって、素子を振動させるための電圧波形を印加されない側の電極である。またこの場合、フレーム部５０へ電気的に接続される配線５２は、表面部３４ｂおよび圧電素子の基準電極のどちらに配線されていても良く、また表面部３４ｂと基準電極との両方に配線されていてもよい。このような構成とすることにより、振動光学素子３４の表面部３４ｂ、振動子３２の基準電極および筐体６のフレーム部５０が同電位となる。
【００４４】
また、塵埃捕獲部材５６は、図５に示すように、振動光学素子３４の周辺を囲うように配置されている。塵埃捕獲部材５６は、たとえば粘着テープを有しており、粘着テープの粘着面によって、振動光学素子３４近傍の空間に浮遊する塵埃を捕獲できるようになっている。塵埃捕獲部材５６は、振動光学素子３４に接近する塵埃を減少させることができるとともに、振動子３２におる除塵動作によって表面部３４ｂを離れた塵埃も捕獲できるため、これらの塵埃の再付着も防止することができる。なお、塵埃捕獲部材５６としては、粘着テープを有するものに限られず、集塵フィルタを有するものや、静電力によって塵埃を捕獲するものであっても良い。
【００４５】
以上のように、第３実施形態に係る撮像ユニット３０では、振動光学素子３４の表面部３４ｂと筐体６のフレーム部５０とを導通させ、表面部３４ｂが帯電することを防止している。したがって、静電力によって表面部３４ｂに塵埃が強固に付着する現象を、より効果的に防止することができる。また、第３実施形態に係る振動光学素子３４は、第１実施形態同様に、表面部３４ｂの撥水性によって、水分を含む塵埃が、表面部３４ｂに強固に付着することを防止できる。
【００４６】
また、第３実施形態に係る撮像ユニット３０では、第２実施形態と同様に、振動子３２によって振動光学素子３４を振動させることによって、表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去できる。さらに、塵埃捕獲部材５６によって、一度表面部３４ｂを離れた塵埃が再付着することも防止できる。
その他の実施形態
【００４７】
振動光学素子３４の表面部３４ｂとしては、第１実施形態等において説明した図３（Ａ）に示す態様に限られず、様々なものを採用することができる。たとえば、図３（Ｂ）に示すように、振動光学素子３４の素子本体部３４ａ前面に、混合層５８が形成されている態様であってもよい。
【００４８】
図３（Ｂ）に示す混合層５８は、単層構造であって微細構造による撥水性と導電性との両方を有する。混合層５８は、その背面が素子本体部３４ａと密着しており、前面には凹凸５８ａが形成されている。凹凸５８ａの大きさおよび凹凸の構造は、第１実施形態に係る撥水層４６の凹凸４６ａと同様である。
【００４９】
混合層５８は、例えば、第１実施形態における導電層４８と同じ物質を用いて作製することができる。あるいは、混合層４８は、上述した表面部３４ｂの撥水層４４の材料に、金属単体、合金等の導電性を有する物質を所定量ドーピングしたものを用いて作製することもできる。混合層５８の凹凸５８ａは、撥水層４６ａと同様に、スピンコート成膜、ラビングもしくはエッチング等により形成される。混合層５８の導電率は、好ましくは１０−５（１／Ωｃｍ）以上、さらに好ましくは１０２（１／Ωｃｍ）以上である。
【００５０】
図３（Ｂ）に示す振動光学素子３４の表面部３４ｂも、混合層５８によって撥水性と導電性とを有する。したがって、第１実施形態と同様に、その表面部３４ｂに塵埃が強固に付着することを防止でき、さらに振動子３２によって振動光学素子３４を振動させることによって、表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができる。
【００５１】
また振動光学素子３４の表面部３４ｂとしては、図３（Ｃ）に示すように、導電層４８の前面に撥水層４６が形成されているものであっても良い。図３（Ｃ）における導電層４８および撥水層４６の特性は、図３（Ａ）における導電層４８および撥水層４６と同様である。ただし、図３（Ｃ）に示すように、導電膜４８は完全な連続膜であっても良く、またそれに対して、撥水膜４６は連続膜である必要はなく、導電層４８上に不連続に分布していても良い。あるいは、図３（Ｄ）に示すように連続膜として構成することも可能である。
【００５２】
図３（Ｃ）および図３（Ｄ）に示す表面部３４ｂの導電層４８および撥水層４６は、第１実施形態で説明した図３（Ａ）に係る導電層４８および撥水層４６と同様の方法で形成することができる。すなわち、導電層４８と撥水層４６の形成順序を、図３（Ａ）に係る場合と逆にすることによって形成することができる。
【００５３】
図３（Ｃ）および図３（Ｄ）に示す振動光学素子３４の表面部３４ｂも、撥水性によって、水分を含む塵埃が強固に付着することを防止でき、導電性によって帯電による静電力の発生を抑制し、塵埃が強固に付着することを防止できる。したがって、第１実施形態と同様に、振動子３２によって振動光学素子３４を振動させることによって、表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができる。
【００５４】
また、振動光学素子３４の表面部３４ｂとしては、微細な凹凸構造を有するものに限定されず、例えばフッ素系薄膜、シリカ系薄膜、または両者の混合薄膜によって形成されてもよく、また、ダイヤモンドライクカーボン膜でもよい。このような表面部３４ｂによっても、その撥水性によって、水分を含む塵埃が強固に付着することを防止でき、さらに振動子３２によって振動光学素子３４を振動させることによって、表面部３４ｂに付着した塵埃を容易に除去することができる。
【００５５】
振動光学素子３４の表面部３４ｂについて、例えば、以下の形態も好ましい。図６（ａ）および（ｂ）のように、振動光学素子３４は、振動子３２（図１参照）が配置される配置部３２ｘ及び、端部や稜部以外の部分に表面部３４ｂが備えられおり、振動光学素子３４の端部や稜部に表面部３４ｂが備えられていない領域を有していてもよい。表面部３４ｂが備えられていない領域には、素子本体部３４ａ（図２（ａ）参照）が露出している。表面部３４ｂが備えられている領域を限定することにより、塵埃付着によって撮影画像品質に影響を与える部分の表面を効率良く振動させ、塵埃除去効果を高められるからである。
【００５６】
また、図７（ａ），（ｂ），（ｃ）において、振動光学素子３４の表面部３４ｂは、撥水層４６（図２（ｂ）参照）と導電層４８（図２（ｂ）参照）とを有しているが、一部に撥水層４６を備えず導電層４８が露出している領域を有する。露出した導電層４８に配線５２（図５参照）の一端を接合することにより、振動光学素子３４とフレーム部５０（図５参照）とを容易かつ確実に電気的に接続することができる。導電層４８が露出する部分は、振動光学素子の端部や稜部など撮影画像品質に影響を与えない部分であることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】図１（ａ）は、本発明の第１実施形態に係る撮像ユニットを備えたカメラに関する概略断面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の部分拡大図である。
【図２】図２は、図１に係る撮像ユニットにおける振動光学部材付近の拡大断面図である。
【図３】図３は、図２に係る振動光学部材の表面微細構造を示した拡大模式図である。
【図４】図４は、本発明の第２実施形態に係る撮像ユニットを備えたカメラに関する概略断面図である。
【図５】図５は、本発明の第３実施形態に係る撮像ユニットを備えたカメラに関する概略断面図である。
【図６】図６は、振動光学素子の実施形態を説明する図である。
【図７】図７は、振動光学素子の別の実施形態を説明する図である。
【符号の説明】
【００５８】
４…  カメラボディ
６…  筐体
３２…  振動子
３４…  振動光学素子
３８…  撮像素子
４８…  撥水層
【図１】
2009049453.tif 000003
【図２】
2009049453.tif 000004
【図３】
2009049453.tif 000005
【図４】
2009049453.tif 000006
【図５】
2009049453.tif 000007
【図６】
2009049453.tif 000008
【図７】
2009049453.tif 000009