(57)【要約】【課題】良好なコントラストが得られる投影スクリーン及び投影システムを提供する。【解決手段】支持基材、円偏光分離層、及び位相差層をこの順に備える投影スクリーンであって、前記円偏光分離層と前記位相差層との間に、光拡散剤、特に傾斜屈折率粒子を含有する光拡散性粘着層をさらに備えることを特徴とする投影スクリーン；並びに前記投影スクリーンと画像プロジェクターとを備えることを特徴とする投影システムが提供される。【選択図】        図１
2009223012.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材、円偏光分離層、及び位相差層をこの順に備える投影スクリーンであって、
前記円偏光分離層と前記位相差層との間に、光拡散剤を含有する光拡散性粘着層をさらに備えることを特徴とする投影スクリーン。
【請求項２】
前記光拡散剤が、傾斜屈折率粒子であることを特徴とする請求項１に記載の投影スクリーン。
【請求項３】
前記位相差層が、面内方向のリターデーションＲｅが透過光の略四分の一であり、厚み方向のリターデーションＲｔｈが０ｎｍ未満である光学異方性素子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の投影スクリーン。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の投影スクリーンと、画像プロジェクターとを備える投影システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影スクリーン及び投影システムに関し、特に反射型の投影スクリーン及び当該投影スクリーンを備える投影システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
画像プロジェクターからの映像光を投影して画像を表示するための投影スクリーンは、良好なコントラストを得るために、映像光を多く反射し、それ以外の環境光の反射が少ないことが求められる。
【０００３】
そのために、例えば特許文献１では、投影スクリーンを構成する層の一部に、反射偏光要素を設けることが提案されている。つまり、スクリーン上に所定の偏光のみを反射する層を設け、それにより液晶プロジェクターからの偏光を選択的に反射し、一方非偏光である環境光についてはそれらのうち一部の所定の偏光のみが反射されるようにすることで、スクリーン上の画像のコントラストを向上させている。しかしながら、このような反射偏光要素による鏡面反射では、投影スクリーンに必要な反射光の散乱性が得がたいという問題がある。
【０００４】
反射光の散乱性を得るために、例えば特許文献２では、反射偏光要素であるコレステリック液晶構造を有する層の、コレステリック液晶構造を不均一なものとすることが提案されている。しかしこのような不均一な構造を有する反射偏光層では、映像光を選択的に反射する割合が低下し、結局良好なコントラストが得がたい。
【０００５】
【特許文献１】特表２００２−５４０４４５号公報
【特許文献２】特開２００５−３８２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、良好なコントラストが得られる投影スクリーン及び投影システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決すべく検討した結果、本発明者らは、所定の偏光を反射する層に、位相差層を、光拡散性粘着層を介して貼付することにより上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の〔１〕〜〔４〕を提供するものである。
〔１〕  支持基材と、前記支持基材上に設けられた円偏光分離層と、前記円偏光分離層上に設けられた位相差層を備える投影スクリーンであって、前記円偏光分離層と前記位相差層との間に、光拡散剤を含有する光拡散性粘着層をさらに備えることを特徴とする投影スクリーン。
〔２〕  前記光拡散剤が、傾斜屈折率粒子であることを特徴とする前記投影スクリーン。
〔３〕  前記位相差層が、面内方向のリターデーションＲｅが透過光の略四分の一であり、厚み方向のリターデーションＲｔｈが０ｎｍ未満である光学異方性素子であることを特徴とする前記投影スクリーン。
〔４〕  前記投影スクリーンと、画像プロジェクターとを備える投影システム。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の投影スクリーン及びそれを備えた本発明の投影システムは、所定の光拡散性粘着層を有することにより、円偏光分離層が均一な鏡面反射をするものでありながらスクリーンとして良好な拡散性を得ることができ、環境光によるコントラストの低下が抑制され、良好なコントラストの画像を表示することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の投影スクリーンは、支持基材、円偏光分離層、及び位相差層をこの順に備え、前記円偏光分離層と前記位相差層との間に、光拡散剤を含有する光拡散性粘着層をさらに備える。
図１は、本発明の投影スクリーンの一例を示す断面図である。図１において、投影スクリーン１００は、支持基材１５０、円偏光分離層１１０、位相差層１３０、及び円偏光分離層１１０と位相差層１３０との間の光拡散性粘着層１２０を備え、光拡散性粘着層１２０は、粘着性の樹脂１２１と、その中に分散された、光拡散剤としての傾斜屈折率粒子１２５を含有している。
【００１０】
投影スクリーン１００は、位相差層１３０側の面１３１を投影面として使用する。液晶プロジェクターから出射した直線偏光である映像光を投影面１３１に投影すると、映像光は位相差層を透過する。この際、位相差層を適宜設計することにより、直線偏光を円偏光に変換することができる。
【００１１】
円偏光に変換された映像光は、円偏光分離層１１０により反射されることにより、投影面を観察する観察者へ出射する。ここで、円偏光分離層において映像光が鏡面反射すると、映像が良好に観察できずスクリーンが良好な機能を果たさないが、円偏光分離層１１０で反射される前後において、映像光が光拡散性粘着層１２０で拡散されることにより、円偏光分離層で所望の反射光が得られ、鏡面反射が抑制され、投影面において良好に映像を観察することができ、且つコントラストが高い映像の映写が可能となる。
【００１２】
一方、映像光以外の光である環境光は、非偏光であるため、円偏光分離層１１０において反射されるのはその一部のみとなり、残りは透過し支持基材１５０に達し、吸収等されるため、環境光の反射が抑制され、コントラストの高い映像の映写が可能となる。
【００１３】
以下、投影スクリーンを構成する各層について順次説明する。
【００１４】
（円偏光分離層）
本発明に用いる円偏光分離層は、所定の円偏光のみを選択的に透過し、他の光を反射させる性質を有する素子である。具体的には、コレステリック規則性を有する樹脂層（以下、単に「コレステリック樹脂層」という場合がある。）を有する素子を用いることができる。当該コレステリック樹脂層は、非液晶性の層であることが好ましい。より具体的には、コレステリック規則性を持った分子配向が固定された樹脂層であることが好ましい。コレステリック樹脂層の好ましい例としては、棒状液晶性化合物を含有するコレステリック液晶組成物を硬化させたものを挙げることができる。
【００１５】
（コレステリック液晶組成物）
本発明に用いるコレステリック液晶組成物としては、Δｎが０．１８以上であって、１分子中に少なくとも２つ以上の反応性基を有する棒状液晶性化合物を含有するものを好ましく挙げることができる。
【００１６】
前記棒状液晶性化合物としては、（式２）で表される化合物を挙げることができる。
Ｒ3−Ｃ3−Ｄ3−Ｃ5−Ｍ−Ｃ6−Ｄ4−Ｃ4−Ｒ4  （式２）
（式中、Ｒ3及びＲ4は反応性基であり、それぞれ独立して（メタ）アクリル基、（チオ）エポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、ビニル基、アリル基、フマレート基、シンナモイル基、オキサゾリン基、メルカプト基、イソ（チオ）シアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される基を表す。Ｄ3及びＤ4は単結合、炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、及び炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレンオキサイド基からなる群より選択される基を表す。Ｃ3〜Ｃ6は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、及び−ＣＨ2ＯＣＯ−からなる群より選択される基を表す。Ｍはメソゲン基を表し、具体的には、非置換又は置換基を有していてもよい、アゾメチン類、アゾキシ類、フェニル類、ビフェニル類、ターフェニル類、ナフタレン類、アントラセン類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類の群から選択された２〜４個の骨格を、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、及び−ＣＨ2ＯＣＯ−等の結合基によって結合されて形成される。）
【００１７】
前記、メソゲン基Ｍが有しうる置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｒ5、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ5、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ5、−ＮＲ5−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ5Ｒ７、または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ5Ｒ5を表す。ここで、Ｒ5及びＲ７は、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、アルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ6−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ6−、−ＮＲ6−、または−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ6は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。前記「置換基を有してもよい炭素数１〜１０個のアルキル基」における置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、炭素原子数２〜８個のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数３〜１５個のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素原子数２〜７個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７個のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数２〜７個のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００１８】
本発明において、該棒状液晶性化合物は非対称構造であることが好ましい。ここで非対称構造とは、一般式（２）において、メソゲン基Ｍを中心としてＲ3−Ｃ3−Ｄ3−Ｃ5−と−Ｃ6−Ｄ4−Ｃ4−Ｒ4が異なる構造のことをいう。該棒状液晶性化合物として、非対称構造のものを用いることにより、配向均一性をより高めることができる。
【００１９】
本発明において、前記棒状液晶性化合物は、そのΔｎ値が好ましくは０．１８以上、より好ましくは０．２２以上である。Δｎ値が０．３０以上の化合物を用いると、紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合があるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。このような高いΔｎ値を有することにより、高い光学的性能（例えば、円偏光分離特性）を有する円偏光分離層を与えることができる。
【００２０】
本発明において、前記棒状液晶性化合物は、１分子中に少なくとも２つ以上の反応性基を有することが好ましい。前記反応性基としては、具体的にはエポキシ基、チオエポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、フマレート基、シンナモイル基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、オキサゾリン基、メルカプト基、ビニル基、アリル基、メタクリル基、及びアクリル基が挙げられる。これらの反応性基を有することにより、本発明に用いるコレステリック液晶組成物を硬化させた際に、安定した硬化物を得ることができる。１分子中に反応性基が１つ以下の化合物を用いると、コレステリック液晶組成物を硬化させた際に、架橋した硬化物が得られないため実用に耐えうる膜強度が得られない。後述する架橋剤を使用した場合でも、膜強度が不足してしまい実用は困難である。実用に耐えうる膜強度とは鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５４００）でＨＢ以上、好ましくはＨ以上である。膜強度がＨＢより低いと傷がつきやすくハンドリング性に欠けてしまう。好ましい鉛筆硬度の上限は、光学的性能や耐久性試験に悪影響を及ぼさなければ特に限定されない。
【００２１】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物は、好ましくは、前記棒状液晶性化合物に加えて、下記一般式（１）で表される化合物を含有する。
Ｒ1−Ａ1−Ｂ−Ａ2−Ｒ2  （１）
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状の、非置換又はハロゲン原子で１つ以上置換されていてもよいアルキル基；炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状の、非置換又はハロゲン原子で１つ以上置換されていてもよいアルキレンオキサイド基；水素原子；炭素原子数１〜２個のアルキル基又はアルキレンオキサイド基と結合していてもよい、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、（メタ）アクリル基、エポキシ基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、及びシアノ基；からなる群より選択される基であり、
Ａ1及びＡ2は、それぞれ独立して、非置換若しくはハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、ハロゲン化アルキル基で１つ以上置換されていてもよい、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、４，４’−ビフェニレン基、４，４’−ビシクロヘキシレン基、及び２，６−ナフチレン基；からなる群より選択される基を表し、
Ｂは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、及び−ＣＨ2ＯＣＯ−からなる群より選択される。）
【００２２】
一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレンオキサイド基、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、（メタ）アクリル基、エポキシ基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、及びシアノ基からなる群より選択される基である。ここで、（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタクリルの意味である。
【００２３】
前記アルキル基及びアルキレンオキサイド基は置換されていないか若しくはハロゲン原子で１つ以上置換されていてもよい。前記ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、（メタ）アクリル基、エポキシ基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、及びシアノ基は炭素原子数１〜２個のアルキル基、アルキレンオキサイド基と結合していてもよい。
【００２４】
Ｒ1及びＲ2として好ましいものとしては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、（メタ）アクリル基、エポキシ基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、及びシアノ基が挙げられる。
【００２５】
また、Ｒ1及びＲ2の少なくとも一方は反応性基であることが好ましい。Ｒ1及び／又はＲ2として反応性基を有することにより、前記一般式（１）で表される化合物が硬化時に液晶層中に固定され、より強固な膜を形成することができる。ここで反応性基とは、カルボキシル基、（メタ）アクリル基、エポキシ基、メルカプト基、イソシアネート基、及びアミノ基を挙げることができる。
【００２６】
一般式（１）において、Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、４，４’−ビフェニレン基、４，４’−ビシクロヘキシレン基、及び２，６−ナフチレン基からなる群より選択される基を表す。前記１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、４，４’−ビフェニレン基、４，４’−ビシクロヘキシレン基、及び２，６−ナフチレン基は、置換されていないか若しくはハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数１〜１０個のアルキル基、ハロゲン化アルキル基で１つ以上置換されていてもよい。Ａ1及びＡ2のそれぞれにおいて、２以上の置換基が存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００２７】
Ａ1及びＡ2として特に好ましいものとしては、１，４−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、及び２，６−ナフチレン基からなる群より選択される基が挙げられる。これらの芳香環骨格は脂環式骨格と比較して比較的剛直であり、本発明の液晶組成物が含有する棒状液晶性化合物のメソゲンとの親和性が高く、配向均一能がより高くなる。
【００２８】
一般式（１）において、Ｂは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＯＯ−、及び−ＣＨ2ＯＣＯ−からなる群より選択される。
【００２９】
Ｂとして特に好ましいものとしては、単結合、−ＯＣＯ−及び−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−が挙げられる。
【００３０】
一般式（１）の化合物は、少なくとも一種が液晶性を有することが好ましく、また、キラリティを有することが好ましい。また、本発明に用いるコレステリック液晶組成物は、一般式（１）の化合物として、複数の光学異性体の混合物を含有することが好ましい。例えば、複数種類のエナンチオマー及び／又はジアステレオマーの混合物を含有することができる。一般式（１）の化合物の少なくとも一種は、その融点が、５０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましい。
【００３１】
一般式（１）の化合物が液晶性を有する場合には、高Δｎであることが好ましい。高Δｎ液晶を含有させることによって、コレステリック液晶組成物としてのΔｎを向上させることができ、広帯域の円偏光分離層を作製することができる。一般式（１）の化合物の少なくとも一種のΔｎは好ましくは０．１８以上、より好ましくは０．２２以上とすることができる。
【００３２】
一般式（１）の化合物として特に好ましい具体例としては、例えば下記の化合物（Ａ１）〜（Ａ３）及び（Ａ５）〜（Ａ１０）が挙げられる：
【００３３】
【化１】
2009223012.tif 000003
【００３４】
【化２】
2009223012.tif 000004
【００３５】
上記化合物（Ａ３）において、「＊」はキラル中心を表す。
【００３６】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物において、（前記一般式（１）の化合物の合計重量）／（棒状液晶性化合物の合計重量）の重量比は０．０５〜１、好ましくは０．１〜０．６５、より好ましくは０．１５〜０．４５である。前記重量比が０．０５より少ないと配向均一性が不十分となる場合があり、また逆に１より多いと配向均一性が低下したり、液晶相の安定性が低下したり、液晶組成物としてのΔｎが低下して所望する光学的性能（例えば、円偏光分離特性）が得られない場合があり好ましくない。なお、合計重量とは、１種を用いた場合にはその重量を、１種以上用いた場合には合計の重量を示す。
【００３７】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物において、前記一般式（１）の化合物の分子量が６００未満、前記棒状液晶化合物の分子量が６００以上であることが好ましい。一般式（１）の化合物の分子量が６００未満であることにより、それよりも分子量の大きい棒状液晶化合物の隙間に入り込むことができ、配向均一性を向上させることができる。
【００３８】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物は、硬化後の膜強度向上や耐久性向上のために、任意に架橋剤を含有することができる。当該架橋剤としては、液晶組成物を塗布した液晶層の硬化時に同時に反応したり、硬化後に熱処理を行って反応を促進したり、又は湿気により自然に反応が進行して液晶層の架橋密度を高めることができ、かつ配向均一性を悪化させないものを適宜選択し用いることができ、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。架橋剤の具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス[３−（１−アジリジニル）プロピオネート]、４，４−ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型イソシアネート、ビウレット型イソシアネート、アダクト型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン等のアルコキシシラン化合物；が挙げられる。また、該架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度や耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。
前記架橋剤の配合割合は、コレステリック液晶組成物を硬化して得られる硬化膜中に０．１〜１５重量％となるようにすることが好ましい。該架橋剤の配合割合が０．１重量％より少ないと架橋密度向上の効果が得られず、逆に１５重量％より多いと液晶層の安定性を低下させてしまうため好ましくない。
【００３９】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物は、任意に光開始剤を含有することができる。当該光開始剤としては、紫外線又は可視光線によってラジカル又は酸を発生させる公知の化合物が使用できる。具体的には、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノ（ジ）スルフィド、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、２，２−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐｐ’−ジクロロベンゾフェノン、ｐｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス（２，６−メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、１−クロルメチルナフタリン、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）]や１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]エタノン１−（ｏ−アセチルオキシム）、（４−メチルフェニル）[４−（２−メチルプロピル）フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、３−メチル−２−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−（ｐ−フェニルチオフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。また、所望する物性に応じて２種以上の化合物を混合することができ、必要に応じて公知の光増感剤や重合促進剤としての三級アミン化合物を添加して硬化性をコントロールすることもできる。
該光開始剤の配合割合はコレステリック液晶組成物中０．０３〜７重量％であることが好ましい。該光開始剤の配合量が０．０３重量％より少ないと重合度が低くなってしまい膜強度が低下してしまう場合があるため好ましくない。逆に７重量％より多いと、液晶の配向を阻害してしまい液晶相が不安定になってしまう場合があるため好ましくない。
【００４０】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物は、任意に界面活性剤を含有することができる。当該界面活性剤としては、配向を阻害しないものを適宜選択して使用することができる。当該界面活性剤としては、具体的には、疎水基部分にシロキサン、フッ化アルキル基を含有するノニオン系界面活性剤が好適に使用でき、１分子中に２個以上の疎水基部分を持つオリゴマーが特に好適である。これらの界面活性剤は、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘのＰＦ−１５１Ｎ、ＰＦ−６３６、ＰＦ−６３２０、ＰＦ−６５６、ＰＦ−６５２０、ＰＦ−３３２０、ＰＦ−６５１、ＰＦ−６５２、ネオス社フタージェントのＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ、セイミケミカル社サーフロンのＫＨ−４０等を用いることができる。界面活性剤の配合割合はコレステリック液晶組成物を硬化して得られる硬化膜中０．０５重量％〜３重量％となるようにすることが好ましい。該界面活性剤の配合割合が０．０５重量％より少ないと空気界面における配向規制力が低下して配向欠陥が生じる場合があるため好ましくない。逆に３重量％より多い場合には、過剰の界面活性剤が液晶分子間に入り込み、配向均一性を低下させる場合があるため好ましくない。
【００４１】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物は、必要に応じてさらに他の任意成分を含有することができる。当該他の任意成分としては、カイラル剤、溶媒、ポットライフ向上のための重合禁止剤、耐久性向上のための酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤等を挙げることができる。これらの任意成分は、所望する光学的性能を低下させない範囲で添加できる。
【００４２】
本発明に用いるコレステリック液晶組成物の調製方法は、特に限定されず、上記必須成分及び任意成分を混合することにより製造することができる。
【００４３】
（円偏光分離層の調製）
本発明に用いる円偏光分離層の調製方法は、特に限定されないが、前記コレステリック液晶組成物を基材に塗布して液晶層を得、次いで少なくとも１回の、光照射及び／又は加温処理により硬化して調製することができる。
ここで、かかる基材として、本発明の投影スクリーンを構成する支持基材を用い、この上に直接コレステリック樹脂層を形成し円偏光分離層とすることができる。または、支持基材とは別の樹脂基材を用い、その上にコレステリック樹脂層を形成し円偏光分離層とし、それを支持基材に貼付してもよい。
【００４４】
基材として支持基材と別の基材を用いる場合、不透明な基材を用いることもできるが、後述する光照射の工程の便宜の観点から、透明な樹脂基材を用いることもできる。透明樹脂基材は、特に限定されず１ｍｍ厚で全光透過率８０％以上の基材を使用することができる。
【００４５】
基材を構成する材料としては、具体的には、脂環式オレフィンポリマー、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィンポリマー、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、変性アクリルポリマー、エポキシ樹脂、ポリスチレン、アクリル樹脂などの合成樹脂からなる単層又は積層のフィルムが挙げられる。これらの中でも、脂環式オレフィンポリマー又は鎖状オレフィンポリマーが好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、脂環式オレフィンポリマーが特に好ましい。
【００４６】
円偏光分離層の成膜にあたり、基材には、必要に応じて、配向膜を設けることができる。配向膜を有することにより、その上に塗布されたコレステリック液晶組成物を所望の方向に配向させることができる。配向膜は、基材表面上に、必要に応じてコロナ放電処理等を施した後、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレンなどを水又は溶剤に溶解させた溶液等を、リバースグラビアコーティング、ダイレクトグラビアコーティング、ダイコーティング、バーコーティング等の公知の方法を用いて塗布し、乾燥させ、その後乾燥塗膜にラビング処理を施すことにより形成することができる。配向膜の厚さは、所望する液晶層の配向均一性が得られる膜厚であればよく、０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．０１〜２μｍであることがさらに好ましい。
【００４７】
基材への液晶組成物の塗布は、リバースグラビアコーティング、ダイレクトグラビアコーティング、ダイコーティング、バーコーティング等の公知の方法により行うことができる。液晶組成物の塗布層の厚さは、後述する所望の液晶層乾燥膜厚が得られるよう、適宜調整することができる。
【００４８】
前記塗布により得られた塗布層を硬化する前に、必要に応じて、配向処理を施すことができる。配向処理は、例えば塗布層を５０〜１５０℃で０．５〜１０分間加温することにより行うことができる。当該配向処理を施すことにより、コレステリック液晶層を良好に配向させることができる。
【００４９】
必要に応じて配向処理を施した後、コレステリック液晶組成物を硬化させることにより、コレステリック液晶組成物の硬化層（以下単に「硬化液晶層」ということがある。）を有する円偏光分離層を得ることができる。前記硬化の工程は、１回以上の光照射と加温処理との組み合わせにより行うことができる。加温条件は、具体的には例えば、温度４０〜２００℃、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは５０〜１４０℃、時間は１秒〜３分、好ましくは５〜１２０秒とすることができる。本発明において光照射に用いる光とは、可視光のみならず紫外線及びその他の電磁波をも含む。光照射は、具体的には例えば波長２００〜５００ｎｍの光を０．０１秒〜３分照射することにより行うことができる。また、例えば０．０１〜５０ｍＪ／ｃｍ2の微弱な紫外線照射と加温とを複数回交互に繰り返し、反射帯域の広い円偏光分離層とすることもできる。上記の微弱な紫外線照射等による反射帯域の拡張を行った後に、５０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ2といった比較的強い紫外線を照射し、液晶性化合物を完全に重合させ、硬化液晶層とすることができる。上記の反射帯域の拡張及び強い紫外線の照射は、空気下で行ってもよく、又はその工程の一部又は全部を、酸素濃度を制御した雰囲気（例えば、窒素雰囲気下）中で行うこともできる。
【００５０】
本発明において、基材上へのコレステリック液晶組成物の塗布及び硬化の工程は、１回に限られず、塗布及び硬化を複数回繰り返し２層以上の硬化液晶層を形成することもできる。ただし本発明においては、１回のみのコレステリック液晶組成物の塗布及び硬化によっても、良好に配向したΔｎが０．１８以上の棒状液晶性化合物を含む５μｍ以上の厚みの硬化液晶層を容易に形成することができる。
【００５１】
本発明に用いる円偏光分離層において、硬化液晶層の乾燥膜厚は好ましくは３．０μｍ〜１０．０μｍ、より好ましくは３．５〜８μｍとすることができる。前記硬化液晶層の乾燥膜厚が３．０μｍより薄いと反射率が低下してしまい、逆に１０．０μｍより厚いと、硬化液晶層に対して斜め方向から観察した時に着色してしまうため、それぞれ好ましくない。なお、前記乾燥膜厚は、硬化液晶層が２以上の層である場合は、各層の膜厚の合計を、硬化液晶層が１層である場合にはその膜厚をさす。
【００５２】
（支持基材）
支持基材は、円偏光分離層等の他の層を支持するためのものである。支持基材を構成する材料としては、前述の円偏光分離層の調製時に用いる透明樹脂基材等の基材と同様の材料を挙げることができる他、他のプラスチックフィルムや金属、紙材、布材、ガラスなどの材料を用いて形成することができる。
【００５３】
支持基材は、可視光域の光を吸収する光吸収層を含むことが好ましい。
【００５４】
具体的には例えば、黒い顔料を練りこんだプラスチックフィルム（例えばカーボンを練りこんだ黒色ＰＥＴフィルム）などを用いて支持基材を形成することができる。
または、プラスチックフィルム等の表面上に、黒い顔料を塗布した積層構造を有する支持基材とすることもできる。
このような構成とすることにより、環境光等の反射されることが好ましくない光が、円偏光分離層を透過した後に反射して再び円偏光分離層を通過して出射することを防ぐことができる。
【００５５】
支持基材の厚さは、巻き取りできるようにすることを考慮するならば１５〜３００μｍが好ましく、２５〜１００μｍがより好ましい。一方、パネルとして用いられる場合のように支持基材に可撓性が必要とされない場合には制限なく厚くすることができる。
【００５６】
また、支持基材の材料として、前記透明樹脂基材と同様の材料以外のプラスチックを用いる場合、かかるプラスチックとしては、ポリカーボネート系高分子、ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル系高分子、ポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンのようなポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子などの熱可塑性ポリマーなどを用いることができる。
【００５７】
（位相差層）
本発明の投影スクリーンは、前記円偏光分離層及び支持基材に加えて、位相差層を備える。
【００５８】
本発明に用いる位相差層としては、(i)フィルム状のポリマーを延伸したもの、又は(ii)液晶性の材料を透明樹脂基材上に塗布し、配向させ、硬化させたものを用いることができる。(ii)の位相差層を用いる場合は、適当な基材上に液晶性の材料を塗布し、配向させ、硬化させて得た当該位相差層を円偏光分離層と一体化させて選択反射素子とすることもでき、あるいは、前記円偏光分離層上に、必要に応じて配向膜を設け種々の配向処理を行なって、その上に液晶性の材料を塗布し、配向させ、硬化させることで、円偏光分離層と一体化した位相差層を設けることもできる。
【００５９】
本発明に用いる位相差フィルムの好ましい例として、以下に述べる光学異方性素子を挙げることができる。
本発明に用いる光学異方性素子は、その正面方向のリターデーションＲｅ（以下、「Ｒｅ」と略記することがある。）が透過光の略１／４波長である素子である。ここで、透過光の波長範囲は、本発明の投影スクリーンが表示することが求められる所望の範囲とすることができ、具体的には例えば４００ｎｍ〜７００ｎｍである。また、正面方向のリターデーションＲｅが透過光の略１／４波長であるとは、Ｒｅ値が、透過光の波長範囲の中心値において、中心値の１／４の値から±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲であることをいう。
【００６０】
また、光学異方性素子は、厚み方向のリターデーションＲｔｈ（以下、「Ｒｔｈ」と略記することがある。）が０ｎｍ未満であることが望ましい。厚み方向のリターデーションＲｔｈの値は、透過光の波長範囲の中心値において、好ましくは−３０ｎｍ〜−１０００ｎｍ、より好ましくは−５０ｎｍ〜−３００ｎｍとすることができる。このようなＲｅ値及びＲｔｈを有する光学異方性素子を採用することにより、正面方向のみならず、斜め方向からスクリーンを観察した際にも、ムラのない表示が得られる。
ここで、前記正面方向のリターデーションＲｅは、式Ｉ：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（式中、ｎｘは厚み方向に垂直な方向（正面方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙは厚み方向に垂直な方向（面内方向）であってｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。）で表される値であり、厚み方向のリターデーションＲｔｈは、式ＩＩ：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（式中、ｎｘは厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙは厚み方向に垂直な方向（面内方向）であってｎｘに直交する方向の屈折率であり、ｎｚは厚み方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。）で表される値である。
なお、前記正面方向のリターデーションＲｅ及び厚み方向のリターデーションＲｔｈは、市販の位相差測定装置を用いて、光学異方性素子を長手方向及び幅方向に１００ｍｍ間隔（長手方向又は横方向の長さが２００ｍｍに満たない場合は、その方向へは等間隔に３点指定する）で、全面にわたり、格子点状に測定を行い、その平均値とする。
【００６１】
前記光学異方性素子を構成する材質は、特に限定されないが、スチレン系樹脂からなる層を有するものを好ましく用いることができる。ここでスチレン系樹脂とは、スチレン構造を繰り返し単位の一部又は全部として有するポリマー樹脂であり、ポリスチレン、又は、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ニトロスチレン、ｐ−アミノスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、ｐ−フェニルスチレンなどのスチレン系単量体と、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、酢酸ビニルなどのその他の単量体との共重合体などを挙げることができる。これらの中で、ポリスチレン又はスチレンと無水マレイン酸との共重合体を好適に用いることができる。
【００６２】
光学異方性素子に用いるスチレン系樹脂の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンの重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００〜３００，０００、好ましくは１５，０００〜２５０，０００、より好ましくは２０，０００〜２００，０００である。
【００６３】
前記光学異方性素子は、好ましくは、前記スチレン系樹脂からなる層と、他の熱可塑性樹脂を含む層との積層構造を有する。当該積層構造を有することにより、スチレン系樹脂による光学的特性と、他の熱可塑性樹脂による機械的強度とを兼ね備えた素子とすることができる。他の熱可塑性樹脂としては、脂環式オレフィンポリマー、メタクリル樹脂、ポリカーボネート、アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、メタクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、ポリエーテルスルホンなどを挙げることができる。これらの中で、脂環式構造を有する樹脂やメタクリル樹脂を好適に用いることができる。
【００６４】
脂環式オレフィンポリマーは、主鎖及び／または側鎖にシクロアルカン構造又はシクロアルケン構造を有する非晶性のオレフィンポリマーである。具体的には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィン系重合体、（３）環状共役ジエン系重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物などが挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。これらの脂環式構造を有する樹脂は、特開平０５−３１０８４５号公報、特開平０５−０９７９７８号公報、米国特許第６，５１１，７５６号公報に記載されているものが挙げられる。
【００６５】
ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。
【００６６】
メタクリル樹脂は、メタクリル酸エステルを主成分とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体や、メタクリル酸エステルとその他の単量体との共重合体が挙げられる、メタクリル酸エステルとしては、通常、メタクリル酸アルキルが用いられる。共重合体とする場合は、メタクリル酸エステルと共重合するその他の単量体としては、アクリル酸エステルや、芳香族ビニル化合物、ビニルシアン化合物などが用いられる。
【００６７】
本発明に用いる光学異方性素子の好ましい具体的態様として、ポリスチレン樹脂からなるフィルム（ａ層）の両面に、他の熱可塑性樹脂からなるフィルム（ｂ層）を積層してなる複層フィルムを延伸してなる延伸複層フィルムを挙げることができる。以下、この具体的態様について説明する。
【００６８】
前記ａ層を構成するポリスチレン樹脂しては、上記「スチレン系樹脂」と同様のものを用いることができる。
【００６９】
ａ層を構成するポリスチレン樹脂は、ガラス転移温度が１２０℃以上であることが好ましく、１２０〜２００℃であることがより好ましく、１２０〜１４０℃であることがさらに好ましい。
【００７０】
本発明において、前記ポリスチレン樹脂及び前記他の熱可塑性樹脂は、それらのガラス転移温度をそれぞれＴｇ（ａ）（℃）及びＴｇ（ｂ）（℃）としたとき、Ｔｇ（ａ）＞Ｔｇ（ｂ）＋２０℃の関係を満たすことが好ましい。このような関係を満たすことにより、延伸した際にポリスチレン樹脂からなるａ層に有効に光学的異方性を与え、良好な光学異方性素子を得ることができる。
【００７１】
ａ層の材料である前記ポリスチレン樹脂及びｂ層の材料である前記他の熱可塑性樹脂を積層して、複層フィルムに成形する方法は、特に限定されないが、共押出Ｔダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等の共押出による成形方法、ドライラミネーション等のフィルムラミネーション成形方法、及びコーティング成形方法などの公知の方法が適宜利用され得る。中でも、製造効率や、フィルム中に溶剤などの揮発性成分を残留させないという観点から、共押出による成形方法が好ましい。押出し温度は、使用する前記ポリスチレン樹脂、及び前記他の熱可塑性樹脂の種類に応じて適宜選択され得る。
【００７２】
複層フィルムは、前記ａ層の両面に、前記ｂ層を積層してなる。ａ層とｂ層の間には、接着層や粘着層を設けることができるが、ａ層とｂ層とを直接に積層させる（つまり、ｂ層／ａ層／ｂ層の３層構成の積層体とする）ことが好ましい。また、複層フィルムにおいて、前記ａ層及びその両面に積層されたｂ層の厚みは特に制限はないが、好ましくはそれぞれ１０〜３００μｍ及び１０〜４００μｍとすることができる。
【００７３】
前記延伸複層フィルムは、前記複層フィルムを延伸してなる。前記延伸複層フィルムは、ａ層の延伸により設けられたＡ層、及びｂ層の延伸により設けられたＢ層を含むことができる。前記延伸複層フィルムは、前記複層フィルムのｂ層／ａ層／ｂ層の３層構造の積層体を延伸してなり、Ｂ層／Ａ層／Ｂ層の３層構造の延伸フィルムであることが好ましい。
当該延伸は、好ましくは一軸延伸又は斜め延伸により行うことができ、さらに好ましくはテンターによる一軸延伸又は斜め延伸により行うことができる。
【００７４】
光学異方性素子の正面方向リターデーションＲｅや厚み方向のリターデーションＲｔｈは、延伸温度や延伸倍率等の延伸条件を適宜調整することにより製造することができる。延伸温度は、前記Ｔｇ（ａ）−１０℃〜前記Ｔｇ（ａ）＋２０℃が好ましく、前記Ｔｇ（ａ）−５℃〜前記Ｔｇ（ａ）＋１５℃の範囲であることがより好ましい。延伸倍率は、１．０５〜３０倍が好ましく、１．１〜１０倍であることがより好ましい。延伸温度や延伸倍率が、上記範囲を外れると、配向が不十分で屈折率異方性、ひいてはリターデーションの発現が不十分になったり、積層体が破断したりするおそれがある。
【００７５】
光学異方性素子の厚みは、好ましくは５０〜１０００μｍ、より好ましくは５０〜６００μｍである。
【００７６】
（光拡散性粘着層）
本発明の投影スクリーンは、前記位相差層及び前記円偏光分離層の間に設けられた光拡散性粘着層を備える。位相差層と光拡散性粘着層との間、及び光拡散性粘着層と円偏光分離層との間には、さらに他の層が介在してもよいが、好ましくは、位相差層及び円偏光分離層は光拡散性粘着層の材料を介して貼付され、図１に示す例の通り、位相差層及び円偏光分離層は光拡散性粘着層に直接接して設けられる。
光拡散性粘着層の材料としては、常温（２０±１５℃：ＪＩＳ規格）において粘着性を示すものが好ましい。ここで粘着性を示すとは、ＪＩＳ  Ｚ０２３７の傾斜式ボールタック測定による測定で、ボールナンバーで２以上の粘着性を示すことをいう。
【００７７】
本発明において、光拡散性粘着層は、光拡散剤を含有し、好ましくは光拡散剤と粘着性の樹脂とを含有する。
【００７８】
光拡散性粘着層材料における光拡散剤の好ましい配合割合は、粘着性樹脂１００重量部に対して０．１〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１０重量部とすることができる。
【００７９】
光拡散性粘着層に含まれる光拡散剤の平均一次粒（図２における矢印１４１）ｄと、光拡散性粘着層の厚みｌの比は、好ましくは０．０５≦ｄ／ｌ≦０．７５、特に好ましくは、０．０７≦ｄ／ｌ≦０．６５である。０．０５未満であると、粒子の粒径が小さすぎるか、光拡散性粘着層の膜厚が厚すぎるため、前者であれば必要な散乱特性が得られないおそれが、後者では光拡散性粘着層が不要な位相差を発生させるおそれがあり、０．７５を超えると、必要な接着面積が得られず、粘着力が不足し光拡散性粘着層が剥離するおそれがある。なお光拡散性粘着層の厚みｌは、特に限定されないが、２〜５０μｍの範囲とすることができ、５〜３０μｍが好ましい。
【００８０】
光拡散性粘着層のヘイズは、好ましくは１０％〜９０％、特に好ましくは３０％〜８０％である。ヘイズをこの範囲とすることにより、フィルム全体が白化することなく高い透明度を維持した状態で、光拡散性粘着層内の光を平均化することができる。ヘイズを上記範囲にするための方法としては、光拡散剤の配合割合を適宜調節することが挙げられる。なお、ヘイズの測定は、ヘイズメータ（例えば、ヘイズガードＩＩ（東洋精機社製））を用いて行う。
【００８１】
光拡散性粘着層を構成する粘着性の樹脂としては、以下に述べる特定の粘着性樹脂組成物を好ましく用いることができる。
【００８２】
（粘着性樹脂組成物）
本発明における粘着性樹脂組成物は、少なくとも粘着剤を構成する主ポリマーを含有する。
該主ポリマーとしては、アクリル系重合体およびアクリル系共重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、ポリビニルアルコール、エチレン／酢酸ビニル共重合体、エチレン／アクリル酸エステル共重合体、エチレン／塩化ビニル共重合体、熱可塑性エラストマー、エポキシ系、天然ゴム系、合成ゴム系などが挙げられる。これらの中でも、透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集力を示し、耐候性に優れる点で、熱可塑性エラストマー、エチレン／酢酸ビニル共重合体、エチレン／アクリル酸エステル共重合体が好ましい。熱可塑性エラストマーとは、加硫処理をしなくても、室温でゴム弾性を有する樹脂であり、具体的には、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレンブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレンプロピレン−スチレンブロック共重合体、エチレン−プロピレン共重合体およびエチレン−プロピレンターポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびこれらにカルボキシル基、スルホニル基を導入したものが挙げられる。また、これらの主ポリマーの分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンの重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００〜５００，０００であり、好ましくは２０，０００〜４００，０００である。
【００８３】
前記粘着性樹脂組成物には、主ポリマーの種類に応じて、他の配合剤を配合することができる。他の配合剤としては、粘着付与剤、架橋剤又は硬化剤、酸化防止剤、消泡剤、安定剤が挙げられる。
【００８４】
上記粘着付与剤は、軟らかくなりかつ固体表面が濡れやすくなった主ポリマーに、粘着力を付与するものである。このような粘着付与剤としては、ロジンおよびロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、クマロン-インデン樹脂、石油樹脂、水素化石油樹脂などが挙げられる。これらの中でも、透明性や主ポリマーとの相溶性に優れる点で、石油樹脂、水素化石油樹脂、テルペンフェノール樹脂が好ましい。粘着付与剤の配合量は、主ポリマー１００重量部に対して、好ましくは２〜５０重量部であり、より好ましくは５〜２０重量部である。粘着付与剤の添加量が２重量部より少ないと、粘着付与剤の効果が発現せず、逆に添加量が５０重量部を超えると、接着剤の凝集力の低下による接着力の低下が見られる傾向がある。
【００８５】
上記架橋剤又は硬化剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート、ジフェニルメタントリイソシアネートなどの多官能イソシアネート架橋剤又は硬化剤；エチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、などのエポキシ系架橋剤又は硬化剤；ビニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン，２−（３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシランなどのシラン系架橋剤又は硬化剤；メラミン樹脂系架橋剤；金属キレート系架橋剤；アミン系架橋剤が用いられる。架橋剤又は硬化剤の配合量は、主ポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜１０重量部であり、より好ましくは０．０１〜３重量部である。架橋剤又は硬化剤の添加量が０．００１重量部より少ないと、架橋剤の効果が発現せず、耐候性試験などで発泡や剥離が目立つ。逆に架橋剤又は硬化剤の添加量が１０重量部より多くなると、接着剤の応力緩和性が低下し、ソリなどが目立つようになる。
【００８６】
上記酸化防止剤としては、テトラキス（メチレン−３−（３，５ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン等のフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤の配合量は、接着層の透明性や接着力が低下しない範囲である。
【００８７】
前記粘着性樹脂組成物は、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が０．１〜１０ＭＰａであることが好ましい。かかる範囲のせん断貯蔵弾性率とすることにより、粘着剤組成物が適度な粘着性（即ち、被着体を容易に貼り合わせる貼着力を保持し、且つ剥離時に容易に剥離できる性質）を有し得る。
【００８８】
前記粘着性樹脂組成物の屈折率は、１．４５〜１．５５の範囲内であることが好ましい。かかる範囲の屈折率とすることにより、円偏光分離層−光拡散性粘着層−位相差層の構成において界面反射を防止できる。
【００８９】
（光拡散剤）
本発明において、特に好ましい光拡散剤として、以下に述べる傾斜屈折率粒子を用いることができる。
【００９０】
（傾斜屈折率粒子）
本発明において、光拡散性粘着層に含まれる傾斜屈折率粒子とは、その表面から中心への深さが深くなるにつれて変化する、屈折率の勾配を有する粒子をいう。ここで、屈折率の勾配は、粒子の表面から中心までの深さ方向の全ての範囲において存在していてもよいが、粒子の表面から中心までの深さ方向の一部の範囲において存在していてもよい。具体的には例えば、均一な屈折率を有する核と、かかる核を被覆する、厚さ方向に屈折率の勾配を有する被覆層を有するものとすることができる。
【００９１】
かかる傾斜屈折率粒子の一例を、図２を参照して説明する。図２において、傾斜屈折率粒子１２５は、核１２５Ｃと、その周囲を被覆する被覆層１２５Ｄとからなる球状の粒子である。核１２５Ｃは、実質的に均一な屈折率を有しているので、その半径方向（即ち粒子表面からの深さ方向）１４２における屈折率の勾配はない。一方、被覆層１２５Ｄは、その厚さ方向（即ち粒子表面からの深さ方向）１４３に沿って、屈折率の勾配を有する。
【００９２】
かかる被覆層の勾配は、核１２５Ｃと被覆層１２５Ｄとの界面１２５Ｂで核に近く、粒子１２５の表面１２５Ｓで、その周囲を取り囲む他の材料（粘着性樹脂組成物等）に近い勾配であることが好ましい。例えば、光拡散性粘着層材料が、前記粘着性樹脂組成物からなるバインダーと、傾斜屈折率粒子からなるフィラーとを含む場合において、粘着性樹脂組成物の屈折率が核１２５Ｃの屈折率より小さい場合、被覆層１２５Ｄの屈折率の勾配は、表面１２５Ｓから界面１２５Ｂへ向かうにつれて屈折率が大きくなるような勾配とすることが好ましい。
【００９３】
さらに好ましくは、界面１２５Ｂにおける被覆層１２５Ｄの屈折率、表面１２５Ｓにおける被覆層１２５Ｄの屈折率、核１２５Ｃの屈折率、及び粘着性樹脂組成物の屈折率をそれぞれｎＢ、ｎＳ、ｎＣ及びｎｏとすると、これらは下記式（ＩＩＩ）〜式（ＶＩ）の関係を満たすことが好ましい。
０．０５≦｜ｎＢ−ｎＳ｜・・・（ＩＩＩ）
０．０５≦｜ｎＣ−ｎｏ｜≦０．５・・・（ＩＶ）
０≦｜ｎＣ−ｎＢ｜≦０．１・・・（Ｖ）
０≦｜ｎＳ−ｎｏ｜≦０．２・・・（ＶＩ）
ｎＢ及びｎＳは、式（ＩＩＩ）の如くその差の絶対値が０．０５以上であることが好ましく、０．１以上であることがさらに好ましい。粘着剤組成物から被覆層を介し核に至るまでの間になだらかに屈折率傾斜（勾配）を有することがさらに好ましい。
【００９４】
ｎＣ及びｎｏは、式（ＩＶ）の如くその差の絶対値が０．０５以上０．５以下であることが好ましく、さらに０．０５以上０．３以下であることがさらに好ましい。屈折率の差の絶対値が０．０５よりも小さいと十分な光拡散効果が得られず、また、０．５よりも大きいと透明性が悪くなり、スクリーンとしての機能が低下するため好ましくない。
【００９５】
ｎＣ及びｎＢは、式（Ｖ）の如くその差の絶対値が０以上０．１以下であることが好ましく、さらに０以上０．０６以下であることがさらに好ましい。屈折率の差の絶対値が０．１よりも大きいと粒子内部での散乱性が大きくなり偏光維持拡散機能が低下するため好ましくない。
【００９６】
ｎＳ及びｎｏは、式（ＶＩ）の如くその差の絶対値が０以上０．２以下であることが好ましく、さらに０以上０．１２以下であることがさらに好ましい。屈折率の差の絶対値が０．２よりも大きいと光拡散性粘着層内部の散乱性が大きくなり偏光維持拡散機能が低下するため好ましくない。
【００９７】
傾斜屈折率粒子の形状は、球状であることが、光の拡散方向を等方的にできる点で好ましいが、球状の形状から逸脱した楕円回転体状等の形状であってもよい。傾斜屈折率粒子の粒径１４１は、特に限定されないが、平均一次粒径として０．５〜２０μｍであることが好ましい。尚、ここでいう直径は、完全な球状ではない場合は、同一体積の球の直径で代用される。また、核１２５Ｄの半径１４２と被覆層１２５Ｄの厚さ１４３との比は、２：３〜３：２であることが好ましい。
【００９８】
傾斜屈折率粒子は、透明な粒子状のものであれば特に制限されないが、より優れた光拡散効果を得ることが出来る観点から、微粒子状のものが好ましい。微粒子としては、屈折率の傾斜構造を形成させることができるものであれば特に限定されない。例えば有機微粒子、無機微粒子が挙げられる。
有機微粒子として、例えばアクリル微粒子、スチレン微粒子、シリコーン微粒子、スチレン−ブタジエン微粒子、アクリル−アクリルコアシェル型微粒子、アクリル−スチレン−ブタジエンコアシェル型微粒子等が挙げられる。特にコアシェル型微粒子が傾斜屈折率を形成させる上で好ましい。
無機微粒子として、例えば酸化チタン等の高屈折率を示す微粒子表面に組成の異なる金属アルコキシド溶液をコーティングすることにより、コーティング層の屈折率が連続的または段階的に傾斜した無機微粒子を作製することができる。
【００９９】
傾斜屈折率を有する有機微粒子は、乳化重合法、シード重合法、懸濁重合法などを用いて作製することができる。具体的には初期にそのホモポリマーが高屈折率を示すモノマー（Ａ）を重合し、微粒子中央部に高屈折率を形成させる。その後、そのホモポリマーが、前記（Ａ）のホモポリマーより屈折率が小さく、かつマトリックスとなる粘着性の樹脂と同じ屈折率、またはマトリックスとなる粘着性の樹脂よりも屈折率が小さいモノマー（Ｂ）と前記（Ａ）の混合物を、（Ａ）及び（Ｂ）の比率を変化させて重合系に添加することにより、中央部が高屈折率でかつ粒子被覆層部に行くに従い屈折率が連続的または段階的に傾斜した有機微粒子を作製することができる。
【０１００】
本発明において、光拡散性粘着層が、光拡散性粘着層を透過する光を拡散させる拡散剤として、上記の傾斜屈折率粒子を含有することにより、光の偏光状態の変化を少ないものとしながら、拡散を達成することができる。即ち、傾斜屈折率粒子に入射した光は、粒子内部において、傾斜屈折率を有する層を通過するにつれてその進行方向及び偏光状態を変化させ、偏光状態の変化は、光の経路が粒子の中心に最も近づいたときに最大となる。しかし、その後光の経路が粒子の中心から遠ざかり再び粒子表面から出射するまでに、偏光状態の変化が打ち消され、出射に際しては入射時と同じ偏光状態で光の進行方向のみが変化した光が出射される。
このように、偏光状態の変化が少ない状態で光の進行方向が変化することにより、円偏光分離層での映像光の良好な選択反射を得ることができ、同時に、映像スクリーンとして望ましい映像光の散乱を得ることが可能となる。
【０１０１】
（その他の光拡散剤）
光拡散性粘着層は、光拡散剤として、傾斜屈折率粒子に加えて又は傾斜屈折率粒子に代えて、その他の光拡散剤を含有することもできる。かかるその他の光拡散剤としては、無機、および有機のフィラーがある。無機フィラーとしては、ガラス、酸化ケイ素、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケート等からなるもの；有機フィラーとしては、フッ素樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリシロキサン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、またはこれらの架橋物等からなるものが挙げられる。
【０１０２】
（任意の構成要素の層）
本発明の投影スクリーンは、前記支持基材、円偏光分離層、位相差層及び光拡散性粘着層に加えて、任意にさらに他の層を備えることができる。具体的には例えば、位相差層よりも投影面側に、粘着層を介して、ハードコート層、反射防止層等の機能を有する層、又はこれらの組み合わせを設けることができる。
【０１０３】
前記ハードコート層を構成する材料としては、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有する組成物を光重合硬化したものが挙げられる。前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリアクリレート、ポリメチロールプロパントリメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ヘキサンジオールメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。
この場合の光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤とは、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を単独又は混合して用いることができる。更に、五酸化アンチモン、酸化スズ、リンがドープされた酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＡＴＯ）、スズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛がドープされた酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等の金属酸化物微粒子を含んだ組成物等を挙げることができる。
また、前記反射防止層を構成する材料としては、一般式、Ｒ１ＨｎＳｉ（ＯＲ２Ｈ）ｍ（式中、Ｒ１Ｈは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基、ＯＲ２は加水分解性基を表し、ｎ、ｍは整数を表し、ｍは１〜４であり、ｍ＋ｎは４である。）で表されるケイ素化合物を、全部又は部分的に加水分解して得られるものを用いることができる。置換基を有してもよい一価の炭化水素基Ｒ１Ｈとしては、アルキル基、フェニル基、シクロアルキル基、アリール基、ハロアルキル基；アルケニルカルボニルオキシアルキル基；エポキシ基を有するアルキル基、メルカプト基を有するアルキル基、アミノ基を有するアルキル基、パーフルオロアルキル基等を挙げることができる。
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ１Ｊ（Ｒ２Ｊ））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ１Ｊ）＝Ｃ（Ｒ２Ｊ）Ｒ３Ｊ）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ１Ｊ）Ｒ２Ｊ）、アミド基（−Ｎ（Ｒ１Ｊ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２Ｊ）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ１Ｊ、Ｒ２Ｊ、Ｒ３Ｊは、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。
Ｒ１ＨｎＳｉ（ＯＲ２Ｈ）ｍで表されるケイ素化合物としては、ｎが０〜２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。ｎが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ｎが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。ｎが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を挙げることができる。
【０１０４】
さらに、支持基材と円偏光分離層との間にも、必要に応じて粘着層等の他の層を設けてもよい。粘着層の材料としては、上で述べた粘着性の拡散層樹脂組成物と同様の樹脂組成物を用いることができる。
【０１０５】
任意の構成要素の層の別の例として、支持基材とは別に、円偏光分離層を透過して入射した光を吸収する吸収層を設けることができる。かかる吸収層は、例えば、図１に示す投影スクリーンの例１００において、支持基材１５０の、投影面１３１の反対側に設けることができる。かかる吸収層の材料は特に限定されないが、カーボンなどの黒色の顔料を含んだ樹脂組成物等とすることができる。
【０１０６】
（投影スクリーンの製造）
本発明の投影スクリーンの製造方法は、特に限定されないが、（イ)円偏光分離層を、支持基材の上に調製した後、円偏光分離層と位相差層とを貼付する方法、及び（ロ）支持基材、円偏光分離層及び位相差層を別々に調製し、これらを任意の順序で貼付する方法を挙げることができる。
【０１０７】
前記方法（イ）の場合、上述の円偏光分離層の調製方法において、基材として支持基材を用い、その上に必要に応じて配向膜を設け、その上に上述の方法で円偏光分離層を設け、それをさらに別途調製した位相差層と貼付することができる。
【０１０８】
前記方法（ロ）の場合、上述の円偏光分離層の形成方法において、基材として支持基材以外のものを用い、得られた円偏光分離層とその他の層を任意の順序で貼付することができる。
【０１０９】
前記方法（イ）及び（ロ）のいずれの場合も、円偏光分離層と位相差層との貼付に際して、粘着剤として上述の光拡散性粘着層材料を用いてこれらを貼付することにより、これらの間に光拡散性粘着層を形成することができる。具体的には、光拡散性粘着層材料をこれらのうちの一方又は両方の面に塗工し、さらに必要に応じて硬化させることにより、光拡散性粘着層を形成することができる。
【０１１０】
光拡散性粘着層材料の塗工方法は特に制限されず、例えば、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、バーコート法などが挙げられる。また、円偏光分離層又は位相差層に光拡散性粘着層材料を直接塗工する場合には、濡れ性および密着性を高めるために、塗工に先立ち、塗工面を適宜プラズマ放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、又は火炎処理等の処理に供してもよい。
【０１１１】
位相差層及び円偏光分離層を貼り合わせた後の、必要に応じて光拡散性粘着層材料の層を硬化させる工程は、４０℃〜１１０℃、好ましくは６０℃〜１００℃の温度範囲での加熱等により行なうことができる。
【０１１２】
さらに、前記方法（イ）及び（ロ）のいずれの場合も、方法（イ）及び（ロ）を行なう前又は後に、吸収層等の任意の他の層を適宜形成することができる。
【０１１３】
（投影システム）
本発明の投影システムは、前記本発明の投影スクリーンと、画像プロジェクターとを備える。前記画像プロジェクターとしては、映像光として偏光を出射するものとすることができ、液晶セルにより映像光を制御し、映像光として直線偏光を出射する液晶プロジェクターが特に好ましい。
【実施例】
【０１１４】
以下に、本発明を実施例により説明する。なお、以下の実施例により本発明が限定されるものではない。
【０１１５】
＜製造例１：傾斜屈折率粒子の調製  その１＞
以下の手順で、図２に示す態様の、球状の傾斜屈折率粒子を得た。
撹拌機を取り付けたステンレス製反応器に、脱イオン水７５重量部、分散剤であるポリビニルアルコール１．０重量部、ラジカル開始剤である過酸化ベンゾイル０．６重量部を入れ、減圧脱気で窒素置換した後に、α−メチルスチレン４０重量部およびジビニルベンゼン３重量部を入れ、撹拌してエマルジョン化した。このエマルジョンを別に脱気されたオートクレーブに移し、ホモジナイザーで撹拌しながら６５℃に昇温して２時間重合を行った。
【０１１６】
次に、重合液Ａ（脱イオン水２５０重量部、分散剤であるポリビニルアルコール３重量部、ラジカル開始剤である過酸化ベンゾイル２．５重量部を入れ、減圧脱気で窒素置換した後に、α−メチルスチレン１００重量部、ジビニルベンゼン１０重量部を撹拌することによりエマルジョン化したもの）、重合液Ｂ（重合液Ａのモノマーをメチルメタクリレートに変えたもの）の混合液１００重量部（重合液Ａは８８重量部、重合液Ｂは１２重量部）を前記オートクレーブに加え、３０分間重合を行った。次いで、２回目の混合液１００重量部（重合液Ａは７５重量部、重合液Ｂは２５重量部）を前記オートクレーブに加え、３０分間重合を行なった。続いて、３回目の混合液１００重量部（重合液Ａは６２重量部、重合液Ｂは２８重量部）、４回目の混合液１００重量部（重合液Ａは５０重量部、重合液Ｂは５０重量部）、５回目の混合液１００重量部（重合液Ａは４０重量部、重合液Ｂは６０重量部）、６回目の混合液１００重量部（重合液Ａは２８部、重合液Ｂは７２重量部）、７回目の混合液１００重量部（重合液Ａは２０重量部、重合液Ｂは８０重量部）、及び８回目の混合液１００重量部（重合液Ａは１２重量部、重合液Ｂは８８重量部）を順次用いて、２回目の混合液による重合と同様の作業をそれぞれ実施した。続いて、９回目の混合液１００重量部（重合液Ａは７重量部、重合液Ｂは９３重量部）を前記オートクレーブに加え、２時間重合を行った時点で冷却して重合を終了して、ポリマービーズ分散液を得た。
得られたポリマービーズ分散液を濾別、洗浄、乾燥し、篩別（５０μｍ以上の粒子を除去）することにより、図２に示す態様の、球状の傾斜屈折率粒子１２５を得た。
得られた傾斜屈折率粒子１２５の粒径１４１の平均は１８．５μｍであり、核１２５Ｃの半径１４２の平均は８．５μｍであり、傾斜屈折率被覆層１２５Ｄの厚さ１４３の平均は１０．０μｍであった。粒子１２５の表面１２５Ｓにおける被覆層１２５Ｄの屈折率は１．５０であり、核１２５Ｃと被覆層１２５Ｄとの境界１２５Ｂにおける被覆層１２５Ｄの屈折率は１．６７であり、また、核１２５Ｃの屈折率は１．７３であった。屈折率分布は差分干渉顕微鏡（Ｉｎｔｅｒｐｈａｋｏ、Ｃａｒｌ−Ｚｅｉｓｓ社製）を用いて測定した。
【０１１７】
＜製造例２：傾斜屈折率粒子の調製  その２＞
モノマーのα−メチルスチレンをビニルナフタレンに変更した以外は、製造例１と同様にして傾斜屈折率粒子を得た。
得られた傾斜屈折率粒子の粒径１４１の平均は１５．５μｍであり、核１２５Ｃの半径１４２の平均は７．５μｍであり、傾斜屈折率被覆層１２５Ｄの厚さ１４３の平均は８．０μｍであった。粒子１２５の表面１２５Ｓにおける被覆層１２５Ｄの屈折率は１．４２であり、核１２５Ｃと被覆層１２５Ｄとの境界１２５Ｂにおける被覆層１２５Ｄの屈折率は１．６５であり、また、核１２５Ｃの屈折率は１．６８であった。
【０１１８】
＜製造例３：光拡散剤の調製＞
撹拌機を取り付けたステンレス製反応器に、脱イオン水３００重量部、分散剤であるポリビニルアルコール１．０重量部、ラジカル開始剤である過酸化ベンゾイル０．６重量部を入れ、減圧脱気で窒素置換した後に、α−メチルスチレン４０重量部およびジビニルベンゼン３重量部を入れ、撹拌してエマルジョン化した。このエマルジョンを別に脱気されたオートクレーブに移し、ホモジナイザーで撹拌しながら６５℃に昇温して２時間重合を行った。
次に、重合液Ａ（脱イオン水２５０重量部、分散剤であるポリビニルアルコール３重量部、ラジカル開始剤である過酸化ベンゾイル２．５重量部を入れ、減圧脱気で窒素置換した後に、α−メチルスチレン６０重量部、ジビニルベンゼン４０重量部を撹拌することによりエマルジョン化したもの）、重合液Ｂ（重合液Ａのモノマーをメチルメタクリレートに変えたもの）の混合液１００重量部（重合液Ａは５０重量部、重合液Ｂは５０重量部）を前記オートクレーブに加え、２時間重合を行った時点で冷却して重合を終了して、ポリマービーズ分散液を得た。
得られたポリマービーズ分散液を濾別、洗浄、乾燥し、篩別（５０μｍ以上の粒子を除去）することにより、コアシェル構造を有する粒子を得た。
得られた粒子の粒径の平均は９．５μｍであり、核の半径の平均は４．５μｍであり、被覆層の厚さの平均は５．０μｍであった。粒子の表面における被覆層の屈折率は１．５２であり、核と被覆層との境界における被覆層の屈折率は１．５３であり、また、核の屈折率は１．６５であった。
【０１１９】
＜製造例４：円偏光分離層の調製＞
厚さ１００μｍ、幅５０ｍｍ、長さ２００ｍｍの脂環式オレフィンポリマーからなるフィルム（株式会社オプテス製）の片面を、表面の濡れ指数が５６ｄｙｎｅ／ｃｍになるように、コロナ放電処理を施した。これを円偏光分離層作製のための基材フィルムとして用いた。
前記基材フィルムのコロナ放電処理を施した面に、ワイヤーバー＃２を用いて５％の変性ポリアミド（ＦＲ１０５／ＣＭ４０００の７０／３０混合物、ＦＲ１０５：株式会社鉛市製  メトキシメチル化ナイロン  ＣＭ４０００：東レ株式会社製  共重合ポリアミド）の水溶液を塗布した。塗布後１２０℃にて５分間乾燥し、膜厚０．１μｍの乾膜を作製した。
【０１２０】
該乾膜を一方向にラビング処理することで、配向膜を得た。作製した配向膜上に、下記組成の塗布液をワイヤーバー＃６を用いて塗布し、１００℃にて５分間乾燥および配向熟成した。
【０１２１】
〔コレステリック樹脂層形成用塗布液組成〕
固形分率：４０重量％
棒状液晶性化合物（Δｎ（＝ｎｅ−ｎｏ）＝０．１８を有する棒状液晶性化合物）  ２９．０重量部
Ａ１化合物（前記（Ａ１）で表される化合物；融点６６℃）  ７．５部
光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  ＩＲＧ９０７）１．２重量部
界面活性剤（セイミケミカル（株）製  ＫＨ−４０）  ０．０４重量部
カイラル剤（ＢＡＳＦ社製  ＬＣ７５６）  ２．３重量部
メチルエチルケトン（ＳＰ値：９．３）  ６０重量部
【０１２２】
塗布膜に紫外線を７０ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶ−Ａ）を照射し、１００℃にて１〜５分間保持し、次いで紫外線を照射して塗布膜を硬化させて、膜厚３μｍのコレステリック樹脂層（光学機能層）を有する円偏光分離シート１を得た。このコレステリック樹脂層は、４００ｎｍ〜５７０ｎｍまでの光線透過率の平均値がおよそ５５％であり、界面反射も含めて、残るおよそ４５％が反射していることが分かった。
【０１２３】
前記円偏光分離シート１の作製において、重合性液晶性化合物２９．０重量部を２９．４重量部に、カイラル剤２．３重量部を１．９重量部に変更した以外は、同様にして、円偏光分離シート２を得た。このコレステリック樹脂層は５６０〜７３０ｎｍまでの光線透過率の平均値はおよそ５５％であり、界面反射も含めて、残るおよそ４５％が反射していることが分かった。
作製した円偏光分離シート２のコレステリック樹脂層側を、円偏光分離シート１の基材フィルム側と、粘着剤（住友スリーエム社製、「８１４２」）を介して貼り合せ固着し、円偏光分離層を得た。
【０１２４】
＜製造例５：光学異方性素子の製造＞
メタクリル酸メチル９７．８重量％とアクリル酸メチル２．２重量％とからなるモノマー組成物を、バルク重合法により重合させ、樹脂ペレットを得た。
【０１２５】
特公昭５５−２７５７６号公報の実施例３に準じて、ゴム粒子を製造した。このゴム粒子は、球形３層構造を有し、芯内層が、メタクリル酸メチル及び少量のメタクリル酸アリルの架橋重合体であり、内層が、主成分としてのアクリル酸ブチルとスチレン及び少量のアクリル酸アリルとを架橋共重合させた軟質の弾性共重合体であり、外層が、メタクリル酸メチル及び少量のアクリル酸エチルの硬質重合体である。また、内層の平均粒子径は０．１９μｍであり、外層をも含めた粒径は０．２２μｍであった。
【０１２６】
上記樹脂ペレット７０重量部と、上記ゴム粒子３０重量部とを混合し、二軸押出機で溶融混練して、メタクリル酸エステル重合体組成物Ａ（ガラス転移温度１０５℃）を得た。
【０１２７】
上記メタクリル酸エステル重合体組成物Ａ（ｂ層）、及びスチレン無水マレイン酸共重合体（ガラス転移温度１３０℃）（ａ層）を温度２８０℃で共押出成形することにより、ｂ層／ａ層／ｂ層の三層構造で、各層が４５／７０／４５（μｍ）の平均厚みを有する複層フィルムを得た。この積層フィルムを、テンター延伸機で、遅相軸がＭＤ方向に対して４５度傾いた方向になるように、延伸温度１３４℃、延伸倍率１．８倍で斜め延伸し、光学異方性素子を得た。
【０１２８】
光学異方性素子の正面方向のリターデーションは、１４０ｎｍ、厚み方向のリターデーションは−８５ｎｍ（各数値は斜め延伸後の測定値である。）であった。さらにこの光学異方性層の両面を、濡れ指数が５６ｄｙｎｅ／ｃｍになるようにコロナ放電処理を施した。
【０１２９】
＜実施例１＞
（１−１：円偏光分離層と光学異方性層との積層体の調製）
アクリルエマルジョン系粘着剤（大同化成製；ビニゾールＥ−５３０１、屈折率１．５３）に、製造例１で得た傾斜屈折率粒子を混合し、光拡散性粘着層材料を得た。傾斜屈折率粒子の配合割合は、前記粘着剤１００重量部に対して３重量部とした。この光拡散性粘着層材料を、製造例４で得た円偏光分離層のコレステリック樹脂層上に平均厚みが３０μｍとなるように積層し、この層と、製造例５で得た光学異方性層のコロナ処理面とを、ラミネーターを用いて、８０℃において、２ｋｇｆ／５０ｍｍのニップ圧にて貼り合わせ、積層体を得た。光拡散粘着層のヘイズは６０％であった。
【０１３０】
（１−２：投影スクリーンの製造）
支持基材（ルミラー／ＡＣ−Ｘ、パナック社製、黒色ＰＥＴフィルム上に易接着層を成膜した基材）の片面にアクリルエマルジョン系粘着剤（大同化成製；ビニゾールＥ−５３０１）を平均厚みが２５μｍとなるように塗布し、これと上記（１−１）で得た積層体の、円偏光分離層の基材側の面とを貼り合わせ、投影スクリーンを得た。
【０１３１】
（１−３：投影スクリーンの評価）
環境光は天井に設置された蛍光灯（無偏光状態の光を出射するもの）で、天井から約４５度の角度で投影スクリーン上に照明光が照射されるように配置し、投影スクリーンの真下での明るさは、照度計（デジタル照度計５１００１、横河メータ＆インスツルメンツ社製）により測定したところ、１２０ルクス（ｌｘ）であった。
室内の照明（環境光）を点灯したまま、（１−２）で得られた投影スクリーンを、床に対して垂直に設置した。また、画像プロジェクター（ＰＲＯ xtra Ｘ  ;三洋電機製）を投影スクリーンから垂直な方向（床に平行な方向）に約２ｍ離れたところに配置した。この状態で、画像プロジェクターにより投影スクリーン上に映像光（白と黒のエリアがある静止映像）を投射し、画像プロジェクターを配置した位置の近傍の投影スクリーン正面から目視により観察した。
その結果、明るく鮮明でコントラストの高い映像が得られ、かつ、画像プロジェクター光源の映り込みが見えない状態となった。
【０１３２】
＜実施例２＞
傾斜屈折率粒子として、製造例１で得たものに代えて、製造例２で得たものを用いた他は、実施例１と同様にして投影スクリーンを得て評価した。なお、光拡散粘着層のヘイズは６０％であった。その結果、実施例１同様に明るく鮮明でコントラストの高い映像が得られ、かつ、画像プロジェクター光源の映り込みが見えない状態となった。
【０１３３】
＜実施例３＞
製造例１で得た傾斜屈折率粒子の代わりに製造例３で得た粒子を用いた他は、実施例１と同様にして投影スクリーンを得て評価した。なお、光拡散粘着層のヘイズは６０％であった。その結果、実施例１及び実施例２よりも明るさは劣るものの、鮮明で、かつコントラストの高い映像が得られ、かつ、画像プロジェクター光源の映り込みが見えない状態となった。
【０１３４】
＜比較例１＞
光拡散性粘着層材料に傾斜屈折率粒子を添加しなかった他は、実施例１と同様にして投影スクリーンを得て評価した。その結果、画像プロジェクター光源の映り込みは観察されなかったものの、映像が暗くなり、コントラストが低下して、十分に視認ができなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明の投影スクリーンの一例を示す断面図である。
【図２】本発明の投影スクリーンにおける光拡散剤粒子の一例を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１００  投影スクリーン
１１０  円偏光分離層
１２０  光拡散性粘着層
１２５  光拡散剤粒子
１３０  位相差層
１５０  支持基材
【図１】
2009223012.tif 000005
【図２】
2009223012.tif 000006